(57)【要約】【課題】光変調ユニットのサイズに関らず光源からの光を効果的に利用する。【解決手段】パターン描画装置の露光ユニット２０内に、照明光学系２４、ＤＭＤ２２を設け、照明光学系２４内にフロスト型拡散板２４Ａを設ける。ＤＭＤ２２のアスペクト比に従って、アルゴンレーザ２１から放射された光を、ＤＭＤ２２の縦横方向に応じた２軸方向それぞれに沿って所定の角度で発散させる。このとき、各方向の発散角は、アルゴンレーザ２１からの光が実質的にすべてＤＭＤ２２のエリア内に収まるように定められる。【選択図】　　　　図２
2004093624.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被パターン形成体の露光面にパターンを形成するため、光束断面において中心を通り互いに直交する２軸方向に沿ってそれぞれ対称性のある強度分布を有する光を放出する光源と、
それぞれ前記光源からの光を前記露光面へ導く第１の状態および前記露光面以外へ導く第２の状態いずれかの状態に定められる複数の光変調素子を２次元に規則的に配列した光変調ユニットと、
前記光源から放射される光を実質的にすべて前記光変調ユニットへ照射させるため、該２軸方向に関するアスペクト比を前記光変調ユニットの縦横方向のアスペクト比に合わせるように、該２軸方向それぞれの強度分布の相似性を独立して維持しながら光束断面形状を修正するビーム成形光学素子と
を備えたことを特徴とするパターン描画装置。
【請求項２】
前記光変調ユニットが、前記光変調素子としてマイクロミラーから構成されるＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｍｉｃｒｏ−ｍｉｒｒｏｒ　Ｄｅｖｉｃｅ）であることを特徴とする請求項１に記載のパターン描画装置。
【請求項３】
前記ビーム成形光学素子が、前記２軸方向に沿った発散角をそれぞれ別々に設定可能な拡散板であり、
前記光変調ユニットのアスペクト比に従って前記２軸方向の発散角が定められることを特徴とする請求項１に記載のパターン描画装置。
【請求項４】
前記拡散板が、フロスト型拡散板であることを特徴とする請求項３に記載のパターン描画装置。
【請求項５】
前記光源が、レーザビームを放出するレーザ発振器であり、前記２軸方向それぞれに沿った光の強度分布がガウス分布になる光を放射することを特徴とする請求項１に記載のパターン描画装置。
【請求項６】
被パターン形成体の露光面にパターンを形成するため、光束断面において中心を通り互いに直交する２軸方向に沿ってそれぞれ対称性のある強度分布を有する光を放出する光源と、それぞれ前記光源からの光を前記露光面へ導く第１の状態および前記露光面以外へ導く第２の状態いずれかの状態に定められる複数の光変調素子を規則的に配列した光変調ユニットとを備えたパターン描画装置において設けられる光学素子であって、
前記光源から放射される光を実質的にすべて前記光変調ユニットへ照射させるため、該２軸方向に関するアスペクト比を前記光変調ユニットの縦横方向のアスペクト比に合わせるように、該２軸方向それぞれの強度分布の相似性を独立して維持しながら光束断面形状を修正するビーム成形光学素子を備えたことを特徴とするパターン描画装置用ビーム成形光学素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、原版となるフォトマスク（レクチル）あるいは直接プリント基板やシリコンウェハといった被描画体へ回路パターンなどの描画パターンを形成するパターン描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、シリコンウェハやＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＷＢ（Ｐｒｉｎｔｅｄ　Ｗｉｒｉｎｇ　Ｂｏａｒｄ）など被描画体の表面に、フォトリソグラフィによって回路パターンを形成する描画装置が知られており、あらかじめ作成されたパターンデータに基づき、電子ビームやレーザビームによって露光面が走査される。フォトマスクの表面上において写真感材やフォトレジストなどの感光材料が光に反応し、その結果、回路パターンが形成される。また、フォトマスクを介さずにプリント基板やシリコンウェハなどの被描画体へ直接回路パターンを形成する描画装置（露光装置）も実現されており、光の強度変調素子としてＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｍｉｃｒｏ−ｍｉｒｒｏｒ　Ｄｅｖｉｃｅ）を使用した露光装置が知られている（例えば、特開２００１−１６８００３号公報参照）。ＤＭＤを使用する場合、光源から放射された光は照明光学系を介してＤＭＤに入射する。ＤＭＤに入射した光はマイクロミラー毎に選択的に反射され、反射光に基づき回路パターンが形成される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
レーザなどの光源から放射される光の光束断面形状は、一般的に円形状乃至楕円形状になる。一方、ＤＭＤなどの光変調ユニットの全体サイズは、テレビジョンの画面表示規格等に従って定められており、光束断面形状に合わせてサイズを定めていない。そのため、光束断面形状のサイズがＤＭＤサイズに対応していない場合、照明光の一部のみがＤＭＤに照射されることにより、光源からの光を有効に活用できず、照明効率が低下する。
【０００４】
そこで本発明では、ＤＭＤなどの光変調ユニットにおける縦横のアスペクト比に関らず光源からの光を効果的に利用することができるパターン描画装置を得ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明のパターン描画装置は、被パターン形成体の露光面にパターンを形成する装置で、光束断面において中心を通り互いに直交する２軸方向に沿ってそれぞれ対称性のある強度分布を有する光を放出する光源を使用する描画装置である。例えば、光源は、レーザビームを放出するレーザ発振器であり、２軸方向それぞれに沿った光の強度分布がガウス分布になる光を放射する。レーザ発振器の代わりにＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）を使用してもよい。描画装置は、それぞれ光源からの光を露光面へ導く第１の状態および露光面以外へ導く第２の状態いずれかの状態に定められる複数の光変調素子を規則的に配列した光変調ユニットと、光束断面形状を修正するビーム成形光学素子とを備える。そして、本発明のビーム成形光学素子は、該２軸方向に関するアスペクト比を光変調ユニットのアスペクト比に合わせるように、該２軸方向それぞれの強度分布の相似性を独立して維持しながら光束断面形状を修正する。その結果、光源から放射される光が実質的にすべて光変調ユニットへ照射される。光変調ユニットは、例えば、光変調素子としてマイクロミラーから構成されるＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｍｉｃｒｏ−ｍｉｒｒｏｒ　Ｄｅｖｉｃｅ）である。あるいは、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）を適用してもよい。
【０００６】
ＤＭＤなどの微小光変調素子を配列した光変調ユニットに関しては、該２軸方向に応じた縦横方向に関するアスペクト比が所定の規格に従って定められており、例えば、テレビジョンの表示規格（カラーＴＶ標準方式、ＶＧＡ、ＸＧＡ、ハイビジョンなど）に従って定められる。通常、光変調ユニットが長方形状となることから光変調ユニットの縦横長さは一致しない。アスペクト比と光束断面形状の２軸方向の比とが不一致である場合において、光変調ユニットより十分大きい照明形状にすると強度の高い中心部分の光のみを利用し、強度の低い周辺部分の光はカットしなければならない。あるいは、光変調ユニットより小さい照明形状にすると、外周部の微小光変調素子には光の当たらない部分が発生して全素子を有効に使用する事ができない為にタクト（描画に掛かる時間）が長くなる。本発明では、上記ビーム成形光学素子が設けられていることにより、光源からの光を実質的にカットすることなく光変調ユニットへ導くことができる。すなわち、強度分布の相似性を維持しながら光束断面形状が修正されるため、光全体がＤＭＤエリア内に収まるようにビーム成形される。これにより、光変調ユニットの微小な光変調素子を有効に使用しながら十分な照明光によってパターン形成することができる。
【０００７】
ビーム成形をするには、簡易な光学系の構成によって光束断面形状を修正するのが望ましい。そのため、ビーム成形光学素子は、好ましくは２軸方向に沿った発散角をそれぞれ別々に設定可能な拡散板である。すなわち、光を発散させる際に２軸方向それぞれの発散角を別々に設定することにより、光束断面形状を変えることができる。２軸方向の発散角は、光変調ユニットのアスペクト比に従って定められる。例えば、拡散板として、フロスト拡散板を適用するのがよい。フロスト拡散板は、通常、液晶表示などにおいて、単に光を均等に拡散させる目的で使用されているが、本発明においては、光束断面を光変調ユニットのアスペクト比に従って発散角を定めればよい。
【０００８】
本発明のパターン描画装置用ビーム成形光学素子は、被パターン形成体の露光面にパターンを形成するため、光束断面において中心を通り互いに直交する２軸方向に沿ってそれぞれ対称性のある強度分布を有する光を放出する光源と、それぞれ光源からの光を露光面へ導く第１の状態および露光面以外へ導く第２の状態いずれかの状態に定められる複数の光変調素子を規則的に配列した光変調ユニットを備えたことを特徴とするパターン描画装置に設けられる光学素子であって、光源から放射される光を実質的にすべて光変調ユニットへ照射させるため、該２軸方向に関するアスペクト比を光変調ユニットのアスペクト比に合わせるように、該２軸方向それぞれの強度分布の相似性を独立して維持しながら光束断面形状を修正するビーム成形光学素子を備えたことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下では、図面を参照して本発明の実施形態であるパターン描画装置について説明する。
【００１０】
図１は、本実施形態であるパターン描画装置を模式的に示した斜視図であり、図２は、パターン描画装置に設けられた露光ユニットを模式的に示した図である。そして、図３は、ステージの移動に伴う露光エリアの移動を示した図である。本実施形態のパターン描画装置は、フォトレジストを表面に塗布したプリント基板やシリコンウェハ等の基板へ直接光を照射することによって回路パターンを形成する描画装置である。
【００１１】
パターン描画装置１０は、ゲート状構造体１２、基台１４を備えており、基台１４には、Ｘ−Ｙステージ１８を支持するＸ−Ｙステージ駆動機構１９が搭載され、Ｘ−Ｙステージ１８上には基板ＳＷが設置されている。ゲート状構造体１２には、基板ＳＷの表面に回路パターンを形成するための露光ユニット２０が設けられており、Ｘ−Ｙステージ１８の移動に合わせて露光ユニット２０が動作する。また、描画装置１０は、Ｘ−Ｙステージ１８の移動および露光ユニット２０の動作を制御する描画制御部（ここでは図示せず）を備えている。
【００１２】
図２に示すように、露光ユニット２０は、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｍｉｃｒｏ−ｍｉｒｒｏｒ　Ｄｅｖｉｃｅ）２２、照明光学系２４、結像光学系２６を備えており、光源として使用されるアルゴンレーザ２１とＤＭＤ２２との間に照明光学系２４が配置され、ＤＭＤ２２と基板ＳＷとの間に結像光学系２６が配置されている。アルゴンレーザ２１から一定の強度で連続的に放射される光（レーザビーム）は、照明光学系２４へ導かれる。
【００１３】
照明光学系２４は、拡散板２４Ａとコリメータレンズ２４Ｂから構成されており、レーザビームＬＢが照明光学系２４を通過すると、ＤＭＤ２２を全体的に照明する光束からなる光が成形される。ＤＭＤ２２は、オーダがμｍである微小のマイクロミラーがマトリクス状に配列された光変調ユニットであり、各マイクロミラーは、静電界作用により回転変動する。本実施形態では、ＤＭＤ２２はＭ×Ｎ個のマイクロミラーがマトリクス状に配列されることによって構成されており、以下では配列（ｉ，ｊ）の位置に応じたマイクロミラーを“Ｘｉｊ”（１　（　　ｉ　（　　Ｍ，１　（　　ｊ　（　　Ｎ）と表す。
【００１４】
マイクロミラーＸｉｊは、アルゴンレーザ２１からの光ＬＢを基板ＳＷの露光面ＳＵの方向へ反射させる第１の姿勢と、露光面ＳＵ外の方向へ反射させる第２の姿勢いずれかの姿勢で位置決めされ、描画制御部からの制御信号に従って姿勢が切り替えられる。マイクロミラーＸｉｊが第１の姿勢で位置決めされている場合、マイクロミラーＸｉｊ上で反射した光は、結像光学系２６の方向へ導かれる。結像光学系２６は、２つの凸レンズ２６Ａ、２６Ｃとリフレクタレンズ２６Ｂから構成されており、結像光学系２６を通った光は、露光面ＳＵにおいて所定のスポットを照射する。一方、マイクロミラーＸｉｊが第２の姿勢で位置決めされた場合、マイクロミラーＸｉｊで反射した光は、光吸収板２９の方向へ導かれ、結像光学系２６から逸れることによって露光面ＳＵには光が照射されない。以下では、マイクロミラーＸｉｊが第１の姿勢で支持されている状態をＯＮ状態、第２の姿勢で支持されている状態をＯＦＦ状態と定める。また、本実施形態では、結像光学系２６の倍率は１倍に定められており、１つのマイクロミラーＸｉｊによって光が照射された投影スポットＹｉｊのサイズ（幅、高さ）は、マイクロミラーＸｉｊのサイズと一致する。
【００１５】
Ｘ−Ｙステージ１８が停止した状態ですべてのマイクロミラーがＯＮ状態である場合、露光面ＳＵ上には（Ｍ×ｈ）×（Ｎ×ｌ）のサイズを有する露光エリアＥＡ全面に光が照射される。ただし、マイクロミラーＸｉｊの高さをｈ、幅をｌで表す。ＤＭＤ２２ではマイクロミラーＸｉｊがそれぞれ独立してＯＮ／ＯＦＦ制御されるため、ＤＭＤ２２全体に照射した光は、各マイクロミラーにおいて選択的に反射された光の光束から構成される光となって分割される。その結果、露光面ＳＵの露光エリアＥＡに対応するスポットには、その場所に形成すべき回路パターンに応じた光が照射される。Ｘ−Ｙステージ１８が移動することにより、露光エリアＥＡは走査方向に沿って露光面ＳＵ上を相対的に移動する。これにより回路パターンが走査方向に沿って形成されていく。なお、基板ＳＷの表面ＳＵには、あらかじめ感光性のあるフォトレジスト層が形成されている。
【００１６】
本実施形態では、ラスタ走査に従い、Ｘ−Ｙステージ１８が走査方向に沿って一定の速度で移動する（図３参照）。ＤＭＤ２２のマイクロミラーＸｉｊは、回路パターンに応じたラスタデータに基づいてそれぞれ独立して制御されており、露光エリアＥＡに収まった投影スポットに対して所定の回路パターンが形成されるように、マイクロミラーＸｉｊが第１の姿勢もしくは第２の姿勢でそれぞれ位置決めされる。Ｘ−Ｙステージ１８の移動に伴う露光エリアＥＡの相対的移動に従って、マイクロミラーＸｉｊが順次ＯＮ／ＯＦＦ制御される。１ライン分の走査が終了すると、次のラインを露光できるようにＸ−Ｙステージ１８が副走査方向（Ｙ方向）へ移動し、折り返しＸ−Ｙステージ１８が走査方向に沿って移動する。すべてのラインが露光されることにより、基板ＳＷ上に回路パターンが形成される。
【００１７】
ＤＭＤ２２のサイズは、テレビジョンの表示規格に従って定められており、ＤＭＤ２２の走査方向（Ｘ方向）を横方向、副走査方向（Ｙ方向）を縦方向と定義し、幅（横方向長さ）および高さ（縦方向長さ）をそれぞれ「Ｗ」、「Ｋ」で表すと、本実施形態のＤＭＤ２２のアスペクト比（横縦比Ｗ：Ｋ）は３：４と定められている。
【００１８】
図４は、拡散板２４Ａを示した平面図である。
【００１９】
図４に示すように、拡散板２４Ａは、ガラス、フィルムあるいは樹脂などに所定の凹凸を形成配置させたフロスト型拡散板であり、後述するように、アルゴンレーザ２１から放出された光の光束断面形状を修正するように、入射した光を縦横方向に沿ってそれぞれ所定の角度で発散させる。ただし、拡散板２４Ａの縦横方向「Ｚ１」、「Ｚ２」は、ＤＭＤ２２の高さ、幅方向（Ｋ、Ｗ）にそれぞれ相当する。また、発散角度は、凹凸形状、ピッチなどに従って定められる。本実施形態では、アルゴンレーザ２１からの光を実質的にすべてＤＭＤ２２全面に照射させるように、縦横方向の発散角が定められている。
【００２０】
図５は、ＤＭＤ２２へ光が照射されるときの光束断面を示した図であり、図６は、光の強度分布のグラフを示した図である。図５、図６を用いて、拡散板２４Ａによる光束断面形状の修正について説明する。
【００２１】
図６に示すように、アルゴンレーザ２１から放射されるレーザビームＬＢの強度分布は、一般的にガウス分布（正規分布）に従う。すなわち、中心における光強度をＩ０、光束断面の有効半径を示すスポットサイズをωとした場合、光の強度は以下の式で表される。
Ｉ＝Ｉ０ｅ−２α　　　　（α＝（ｘ／ω）２）　　　　　・・・（１）
ただし、ｘは光軸からの距離を示し、スポットサイズωは、Ｉ＝Ｉ０×１／ｅ２＝０．１３５Ｉ０の強度によって規定されており、図６では、Ｉ０＝１、ω＝１とした場合の強度分布がグラフ化されている。
【００２２】
また、アルゴンレーザ２１からのレーザビームＬＢは、光束断面において規定される２軸方向に対し、強度分布が一致する。ここで、２軸方向は、光束断面における中心を通り、互いに直交する方向であり、拡散板２４Ａの縦横方向に相当する。以下では、２軸方向を符号「ｘ」、「ｙ」と表す。ただし、ｘはＤＭＤ２２の横（Ｘ）方向に対応し、ｙはＤＭＤ２２の縦（Ｙ）方向に対応する。強度分布がｘ、ｙ方向とも同じであるため、レーザビームＬＢの光束断面は円形状になり、スポットサイズωを径として光束断面が形成される。したがって、光束断面における２軸方向ｘ、ｙに関する比（以下では、光束断面のアスペクト比という）は、実質的に１：１の関係を維持する。
【００２３】
拡散板２４Ａを露光ユニット２０内に配置しない場合、ＤＭＤ２２のアスペクト比と光束断面のアスペクト比が一致しない。そのため、一般的に使用される拡散レンズおよびコリメータレンズ２４Ｂを通過する過程で拡大整形されたレーザビームＬＢに関し、ＤＭＤ２２の表面を含む平面上の光束断面を「ＬＦ０」と表すと、光束断面ＬＦ０のアスペクト比（Ｌ：Ｈ）は１：１となる。したがって、レーザビームＬＢの一部はＤＭＤ２２のエリア内に照射されない（図５参照）。
【００２４】
本実施形態では拡散板２４Ａが露光ユニット２０内に配置されており、拡散板２４Ａの縦横方向の発散角は、光束断面の横縦比（アスペクト比）がＤＭＤ２２のアスペクト比に対応するようにそれぞれ定められている。すなわち、レーザビームＬＢは、強度分布の相似関係を維持しながら縦方向および横方向へそれぞれ別々の変換率で拡大され、ｘ方向のスポットサイズωがω’に修正される。これにより、拡散板２４Ａを通過したレーザビームＬＢの光束断面のアスペクト比（＝Ｌ１／Ｈ１）は、ＤＭＤ２２のアスペクト比（＝Ｗ／Ｋ）と実質的に等しくなり、ＤＭＤ２２の表面を含む平面上におけるレーザビームＬＢの光束断面ＬＦ１は、ＤＭＤ２２のエリア内にすべて収まる（図５参照）。
【００２５】
図７は、ＤＭＤ２２に対するレーザビームＬＢの光束断面を示した図であり、図８は、光量変動および取得率を示すグラフを表した図である。
【００２６】
図７に示すように、ＤＭＤ２２の幅、高さをＳｘ、Ｓｙと表し、拡散板２４Ａによって修正された光束断面のｘ方向に沿った長さをＢｘ、ｙ方向に沿った長さをＢｙとする。ただし、ＢｘおよびＢｙは、スポットサイズ（Ｉ０／ｅ２）に従う。光がＤＭＤ２２に実質的に入射する条件を満たす限り、Ｂｘ、Ｂｙは、ＤＭＤ２２の幅、高さＳｘ、Ｓｙに応じて任意に設定可能である。
【００２７】
図８では、１走査終了後のＹ方向移動量をＳｙ／２としてオーバラップさせた場合において走査方向（Ｘ方向）における光量取込率を１００％とした場合の副走査方向（Ｙ方向）の照明比率による光量変動率および光量取込率が表されている。横軸はＢｙとＳｙとの比（Ｂｙ／Ｓｙ）を示し、縦軸は光量変動率および光量取込率をパーセンテージで示す。図８に示した光量変動率を表す曲線Ｊからわかるように、Ｂｙ／Ｓｙの比がおよそ０．９の場合、光量変動率がおよそ３％になり、光量取込率が高くなる。したがって、Ｂｙ／Ｓｙの比が０．９となるように、拡散板２４Ａの縦横方向の発散角をそれぞれ定めるのがよい。
【００２８】
このように本実施形態によれば、拡散板２４を露光ユニット２０内に設けることにより、アルゴンレーザ２１から放射されるレーザビームＬＢの光束断面形状が修正され、レーザ２１からの光を実質的にすべてＤＭＤ２２の反射エリア内に収めることができる。
【００２９】
本実施形態では、縦横方向のガウス分布が共に一致する（光束断面が円状）光を放出するアルゴンレーザを適用しているが、縦横それぞれ固有のガウス分布特性を有する光を放出するレーザを適用してもよい。この場合、フロスト拡散板２４Ａの縦横方向の発散角は、実質的にすべての光がＤＭＤ２２全面に入射するように定められる。また、レーザ以外の光源（例えば、ＬＥＤなど）を適用してもよく、あるいは、ガウス分布でなくても軸に対して対称性のある強度分布特性を有する光を放射する光源を使用してもよい。なお、本実施形態では、スポットサイズωを半径として光束断面を規定しているが、すべての光を取り込むように光束断面を規定して拡散板２４Ａを適用する構成にしてもよい。
【００３０】
ＤＭＤ２２のアスペクト比がテレビジョンの画面表示規格以外の規格に従って定められている場合、そのアスペクト比に従って発散角を定めればよい。
【００３１】
フロスト拡散板以外の光学素子を用いて、強度分布の相似関係を維持しながら光束断面におけるアスペクト比を調整する構成にしてもよい。例えば、縦横方向に沿って等倍に拡大投影する拡散板の前に、２軸の一方向に沿って縮小投影する光学系を配置する構成にしてもよい。光変調ユニットとして、ＤＭＤ２２の代わりにＳＬＭ（Ｓｐａｔｉａｌ　Ｌｉｇｈｔ　Ｍｏｄｕｌａｔｏｒｓ）デバイスを適用してもよい。
【００３２】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、光変調ユニットのサイズに関らず光源からの光を効果的に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態であるパターン描画装置を模式的に示した斜視図である。
【図２】パターン描画装置に設けられた露光ユニットを模式的に示した図である。
【図３】ステージの移動に伴う露光エリアの移動を示した図である。
【図４】拡散板を示した平面図である。
【図５】ＤＭＤへ光が照射されるときの光束断面を示した図である。
【図６】光の強度分布のグラフを示した図である。
【図７】ＤＭＤに対するレーザビームの光束断面を示した図である。
【図８】光量変動および取得率を示すグラフを表した図である。
【符号の説明】
１０　　パターン描画装置
２１　　アルゴンレーザ（光源）
２２　　ＤＭＤ（光変調ユニット）
２４Ａ　拡散板（ビーム成形光学素子）
Ｘｉｊ　マイクロミラー（光変調素子）
ｘ、ｙ　２軸方向
【図１】
2004093624.tif 000003
【図２】
2004093624.tif 000004
【図３】
2004093624.tif 000005
【図４】
2004093624.tif 000006
【図５】
2004093624.tif 000007
【図６】
2004093624.tif 000008
【図７】
2004093624.tif 000009
【図８】
2004093624.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月30日(2003.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図６に示すように、アルゴンレーザ２１から放射されるレーザビームＬＢの強度分布は、一般的にガウス分布（正規分布）に従う。すなわち、中心における光強度をＩ０、光束断面の有効半径を示すスポットサイズをωとした場合、光の強度は以下の式で表される。
Ｉ＝Ｉ０ｅ−２α　　　　（α＝（ｘ／ω）２）　　　　　・・・（１）
ただし、ｘは光軸からの距離を示し、スポットサイズωは、Ｉ＝Ｉ０×１／ｅ２＝０．１３５Ｉ０の強度によって規定されており、図６では、Ｉ０＝１、ω＝１とした場合の強度分布がグラフ化されている。