(57)【要約】【課題】駆動装置の制御性を損なわせず、また装置のコンパクト化及び用力供給部材による発塵の抑制に寄与する。【解決手段】基板を保持するステージ本体７、１０、１１を第１方向に移動自在にガイドしてベース１上を第２方向に移動するガイド部材４と、ステージ本体７、１０、１１を第１方向に駆動する駆動装置ＹＬとを備える。駆動装置ＹＬの少なくとも一部２７が接続され、ガイド部材４と第２方向に移動する従動ステージ２５をガイド部材４とベース１との間に配設する。【選択図】　　　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するステージ本体を第１方向に移動自在にガイドしてベース上を第２方向に移動するガイド部材と、前記ステージ本体を前記第１方向に駆動する駆動装置とを備えたステージ装置であって、
前記駆動装置の少なくとも一部が接続され、前記ガイド部材と前記第２方向に移動する従動ステージが前記ガイド部材と前記ベースとの間に配設されることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
請求項１記載のステージ装置において、
前記従動ステージは、前記ステージ本体に用力を供給する用力供給部材を中継することを特徴とするステージ装置。
【請求項３】
請求項２記載のステージ装置において、
前記用力供給部材は、前記ベースに形成された貫通孔を介して前記従動ステージで中継されることを特徴とするステージ装置。
【請求項４】
請求項３記載のステージ装置において、
前記貫通孔を覆うカバー部材を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項５】
請求項４記載のステージ装置において、
前記カバー部材は、一端が前記ステージ本体に取り付けられ、該ステージ本体の移動に伴い伸縮することを特徴とするステージ装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のステージ装置において、
前記従動ステージは、前記ベースと振動的に分離して設けられることを特徴とするステージ装置。
【請求項７】
請求項６記載のステージ装置において、
前記従動ステージは、前記ベースに形成された第２貫通孔を貫通する支持部に支持されることを特徴とするステージ装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載のステージ装置において、
前記駆動装置は、前記ステージ本体に接続された可動子と前記従動ステージに接続された固定子とを有し、
前記可動子と前記固定子との間の間隙量を検出する検出装置と、
前記検出された間隙量に基づいて前記可動子と前記固定子との相対位置関係を調整する位置調整装置とを備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載のステージ装置において、
前記ガイド部材と前記従動ステージとを解除自在に一体化して連結させる連結装置を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載のステージ装置において、
前記ステージ本体を前記ガイド部材に対して、非接触で前記第１方向に移動自在、且つ前記基板の保持面に沿って回転自在に保持させる保持装置と、
前記ステージ本体を前記保持面に沿って回転させる回転装置とを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項１１】
請求項１０記載のステージ装置において、
前記回転装置は、前記ステージ本体を挟んだ両側に設けられた前記駆動装置と、
前記両側の駆動装置を互いに逆方向に駆動させる駆動制御装置とを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載のステージ装置において、
前記ガイド部材の前記第２方向への駆動は、第２固定子を有する第２駆動装置により行われ、
前記従動ステージの前記第２方向への駆動は、前記第２固定子を用いて行われることを特徴とするステージ装置。
【請求項１３】
請求項１２記載のステージ装置において、
前記ガイド部材に接続された第２可動子と前記従動ステージに接続された第３可動子との少なくともどちらか一方と、前記第２固定子との間の間隙量を検出する第２検出装置と、
前記検出された間隙量に基づいて前記第２可動子と前記第３可動子との少なくともどちらか一方と前記第２固定子との相対位置関係を調整する第２位置調整装置とを備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項１４】
マスクステージに保持されたマスクのパターンを基板ステージに保持された感光基板に露光する露光装置において、
前記マスクステージと前記基板ステージとの少なくとも一方のステージとして、請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載されたステージ装置が用いられることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を保持するステージ本体が複数の方向に移動するステージ装置、およびこのステージ装置に保持されたマスクと基板とを用いて露光処理を行う露光装置に関し、特に半導体集積回路や液晶ディスプレイ等のデバイスを製造する際に、リソグラフィ工程で用いて好適なステージ装置および露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、例えば液晶ディスプレイ（総称としてフラットパネルディスプレイ）を製造する工程においては、基板（ガラス基板）にトランジスタやダイオード等の素子を形成するために露光装置が多く使用されている。この露光装置は、感光剤を塗布した基板をステージ装置のホルダに載置し、マスクに描かれた微細な回路パターンを投影レンズ等の光学系を介して基板に転写するものである。基板上には、回路パターンの層を多数重ねることによってデバイスの配線回路が形成されるため、露光装置では、例えば２層目以降のパターン像を基板上に転写する際、既に形成された回路パターンに、これから露光するパターンを正確に重ね合わせる必要がある。
【０００３】
図１５には、一例として、液晶ディスプレイ製造用露光装置におけるプレートステージ（基板ステージ装置）の概略構成が示されている。定盤９１上の−Ｘ側端縁には、Ｙ方向に沿って固定ガイド９２が設置されている。さらに、定盤９１の表面には、Ｘ方向に延在するガイドビーム９３が第１のキャリッジ９４と結合された状態で設置されており、これらガイドビーム９３及びキャリッジ９４は、リニアモータ１００、１０１の駆動により定盤９１及び固定ガイド９２に沿ってＹ方向に移動自在に構成されている。
【０００４】
ガイドビーム９３には、リニアモータ９９の駆動により当該ガイドビーム９３及び定盤９１をガイドとしてＸ方向に移動自在に第２のキャリッジ９５が設けられている。定盤９１、固定ガイド９２、ガイドビーム９３とキャリッジ９４、９５との間には、非接触状態を維持するためのガスベアリング９６がそれぞれ介装されている。
【０００５】
第２のキャリッジ９５の上部には、上下（Ｚ軸）方向に微小移動可能なプレートテーブル９７と、Ｚ軸周りに微小角度回転可能なプレートホルダ９８が設置されている。プレートホルダ９８上には、不図示の基板（ガラスプレート）が真空吸着によりプレートホルダ９８の上面に矯正固定される構成になっている。これらキャリッジ９４、９５、プレートテーブル９７、プレートホルダ９８はプレートステージ９０を構成している。基板の上方には結像光学系（投影光学系）が配置され、結像光学系の上方にはマスクホルダとマスクが配置される。さらに、マスクの上方には照明光学系及び光源としてのランプが配置される（いずれも不図示）。これらは、定盤９１上に設置したコラムにより支持される。
【０００６】
上記の構成において、ランプと照明光学系による露光光の照射により、マスクに描画された微細回路パターンを結像光学系を介して基板に露光する。このとき、マスク及び基板に対して結像光学系を介して一度に結像できる露光エリアには限りがあるため、マスク及び基板は露光光に対してマスクホルダ及びプレートステージ９０のＸ方向またはＹ方向の走査移動により連続したスキャン露光を行っている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来のステージ装置及び露光装置には、以下のような問題が存在する。
露光装置における従来技術のステージ装置では、スキャン方向を固定ガイド方向（Ｙ軸方向）とした場合、プレートテーブル９７やプレートホルダ９８を含むメインステージとともにガイドビーム９３及びリニアモータ９９も移動させる必要があるため、スキャン方向の移動重量が大きくなりリニアモータ１００、１０１の制御性が悪くなるという問題が生じる。
【０００８】
また、メインステージには、電気ケーブルや空圧チューブ、冷却チューブ等、当該メインステージに各種用力を供給するための用力供給部材が接続されるが、メインステージの移動に伴ってこれら用力供給部材が定常的或いは衝撃的な抗力となって振動等の外乱を引き起こし制御性の低下の一因となっていた。そこで、メインステージに接続するこれら用力供給部材を中継し、メインステージに従動する従動ステージをスキャン方向（Ｙ軸方向）やクロススキャン方向（Ｘ軸方向）にメインステージに隣接して設ける構成も考えられるが、いずれの方向に配置しても定盤９１上に位置することになるので、定盤の面積が大きくなってしまう。このことは、定盤において精度が要求される箇所（支持面）が多くなり、コストが増すことに加えて装置が大型化するという問題を生じさせる。
【０００９】
さらに、従動ステージの従動方向と異なる方向にメインステージが移動した場合には、これら用力供給部材が動く際に互いに擦れて発塵し基板に異物として付着することで、基板に対する露光処理において不良品を生じさせる虞があった。そこで、上記用力供給部材をカバー等で覆って発塵を抑えることも考えられるが、カバーも移動する方向については、カバーの移動に伴って発生する振動が制御系の外乱となり、高速で高精度の位置決めに支障を来すという問題があった。
【００１０】
一方、上記のステージ装置では、基板をプレートホルダ９８に設置した後、当該プレートホルダ９８を基板表面（水平面）内で微小角度回転させてアライメントを行っているが、大型のプレートホルダ９８を回転させるために複雑な機構を別途必要とし、精密な位置決めを行うのに時間がかかるとともに、位置決め後のずれ防止対策が必要であり、プレートホルダ９８の平面度の悪化も懸念される。
【００１１】
また、大型化を続ける基板に対応した露光装置では、ステージ装置も大型化するため、輸送時の重量や装置寸法の制約から分解輸送を余儀なくされるケースが今後増えると予想される。このような場合では、現地組立を行う際に装置の立上に要する時間が延びることが懸念される。
【００１２】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、リニアモータ等の駆動装置の制御性を損なわせず、また装置のコンパクト化及び用力供給部材による発塵の抑制に寄与できるステージ装置および露光装置を提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明の別の目的は、複雑な機構を必要とせず、基板の位置ずれやプレートホルダの平面度悪化を生じることなく、精度よく、短時間で基板の位置決めを行えるステージ装置および露光装置を提供することである。さらに、本発明の目的は、大型化したステージ装置を分解することなく、精度を維持した状態で輸送できるとともに、現地立上時間も短縮できるステージ装置および露光装置を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１３に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のステージ装置は、基板（Ｐ）を保持するステージ本体（７、１０、１１）を第１方向（Ｙ）に移動自在にガイドしてベース（１）上を第２方向（Ｘ）に移動するガイド部材（４）と、ステージ本体（７、１０、１１）を第１方向（Ｙ）に駆動する駆動装置（ＹＬ）とを備えたステージ装置（３５）であって、駆動装置（ＹＬ）の少なくとも一部（２７）が接続され、ガイド部材（４）と第２方向（Ｘ）に移動する従動ステージ（２５）がガイド部材（４）とベース（１）との間に配設されることを特徴とするものである。
【００１５】
従って、本発明のステージ装置では、従動ステージ（２５）が駆動装置（ＹＬ）の少なくとも一部（２７）を備えることで、その分、ステージ本体（７、１０、１１）及びガイド部材（４）を第２方向（Ｘ）に移動させる際の重量を低減させることができ、リニアモータ等の制御性低下を抑えることが可能になる。また、本発明では、従動ステージ（２５）をガイド部材（４）とベース（１）との間に配設することで、ベース（１）を平面的に大きく（広く）する必要がなくなり、ベースにおいて精度が要求される箇所を少なくすることができるとともに、装置の大型化を防ぐことができる。さらに、従動ステージ（２５）に用力供給部材（１７）を中継させた場合には、用力供給部材同士が擦れて発塵した場合でも、ガイド部材（４）やカバー部材（８５、８６）の存在により基板（Ｐ）上に異物を付着しづらくすることができる。
【００１６】
また、本発明の露光装置は、マスクステージ（ＭＳＴ）に保持されたマスク（Ｍ）のパターンを基板ステージ（３５）に保持された感光基板（Ｐ）に露光する露光装置（３１）において、マスクステージ（ＭＳＴ）と基板ステージ（３５）との少なくとも一方のステージとして、請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載されたステージ装置（３５）が用いられることを特徴とするものである。
【００１７】
従って、本発明の露光装置では、マスク（Ｍ）、感光基板（Ｐ）を高い精度で位置制御及び速度制御することができ、パターンの転写精度を高めることが可能になるとともに、装置の低価格化及び小型化を実現することが可能になる。さらに、本発明では、感光基板（Ｐ）上に異物が付着する可能性を低くすることで、不良品の発生を抑制することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のステージ装置および露光装置の実施の形態を、図１ないし図１４を参照して説明する。ここでは、本発明のステージ装置を、例えばスキャン方式でマスクのパターンを、感光基板（基板）として、例えば角形のガラス基板に露光する走査型の露光装置に適用する場合の例を用いて説明する。また、この露光装置においては、本発明のステージ装置をガラス基板を保持して移動する基板ステージに適用するものとする。これらの図において、従来例として示した図１５と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００１９】
図１は、本発明に係る露光装置３１の概略構成図である。この露光装置３１は、照明光学系３２、マスク（レチクル）Ｍを保持して移動するマスクステージ装置３３、投影光学系ＰＬ、投影光学系ＰＬを保持する本体コラム３４、ガラス基板（基板、感光基板）Ｐを保持して移動する基板ステージ装置（ステージ装置）３５等を備えている。
【００２０】
照明光学系３２は、例えば特開平９−３２０９５６号公報に開示されているように、光源ユニット、シャッタ、２次光源形成光学系、ビームスプリッタ、集光レンズ系、レチクルブラインド、および結像レンズ系（いずれも不図示）から構成され、マスクステージ装置３３に保持されたマスクＭ上の矩形（あるいは円弧状）の照明領域を照明光ＩＬにより均一な照度で照明する。
【００２１】
本体コラム３４は、設置床ＦＤの上面に載置された装置の基準となるベースプレートＢＰの上面に複数（ここでは４つ、ただし図１では前面側の２つのみ図示）の防振台１２を介して保持された第１コラム３７と、この第１コラム３７上に設けられた第２コラム３８とから構成されている。この防振台１２は、ダンピング材としてゴム等の弾性材を用いたパッシブ型のものが配置されている。なお、ベースプレートＢＰを設けずに、本体コラム３４を直接設置床ＦＤ上に設けてもよい。
【００２２】
第１コラム３７は、４つの防振台１２によってほぼ水平に支持され、基板ステージ装置３５を構成する平面視略矩形の鋳鉄製のベッド（ベース）１と、このベッド１の上面の４隅の部分に鉛直方向に沿ってそれぞれ配設された４本の脚部４０と、これら４本の脚部４０の上端部を相互に連結するとともに第１コラム３７の天板部を構成する鏡筒定盤４１とを備えている。この鏡筒定盤４１の中央部には、平面視円形の開口部４１ａが形成され、この開口部４１ａ内に投影光学系ＰＬが上方から挿入されている。この投影光学系ＰＬには、その高さ方向の中央やや下方の位置にフランジＦＬが設けられており、該フランジＦＬを介して投影光学系ＰＬが鏡筒定盤４１によって下方から支持されている。
【００２３】
第２コラム３８は、鏡筒定盤４１の上面に投影光学系ＰＬを囲むように立設された４本の脚部４２と、これら４本の脚部４２の上端部相互間を連結する天板部、すなわちマスクステージ装置３３を構成するベース４３とを備えている。ベース４３の中央部には、照明光ＩＬの通路となる開口４３ａが形成されている。なお、ベース４３の全体または一部（開口４３ａに相当する部分）を光透過性材料により形成してもよい。
【００２４】
このようにして構成された本体コラム３４に対する設置床ＦＤからの振動は、防振台１２によってマイクロＧレベルで絶縁されている（Ｇは重力加速度）。
【００２５】
投影光学系ＰＬとしては、その光軸ＡＸの方向がＺ軸方向とされ、ここでは、両側テレセントリックな光学配置となるように光軸ＡＸ方向に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズエレメントから成る屈折光学系が使用されている。この投影光学系ＰＬは、所定の投影倍率、例えば等倍を有している。このため、照明光学系３２からの照明光ＩＬによってマスクＭの照明領域が照明されると、このマスクＭを通過した照明光により、投影光学系ＰＬを介してマスクＭ上の照明領域部分のパターンの等倍正立像が、表面にフォトレジストが塗布されたガラス基板Ｐ上の前記照明領域に共役な露光領域に露光される。
【００２６】
マスクステージ装置３３は、前記ベース４３と、ベース４３の上方に非接触で浮上支持されたマスクステージＭＳＴと、マスクステージＭＳＴを走査方向（相対移動方向）であるＸ軸方向（第１方向）に所定のストロークで駆動するとともに、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向（第２方向）に微少駆動するマスク駆動系４４と、このマスク駆動系４４によるマスクステージＭＳＴの駆動に伴って生じる反力を受ける反力遮断用フレーム４５、４６とを備えている。なお、マスクステージＭＳＴの駆動に伴う反力を受ける機構としては、反力遮断用フレームの他に、ボイスコイルモータを用いる構成としてもよい。
【００２７】
図２の斜視図に示されるように、マスクステージＭＳＴは、中央部に矩形の開口が形成された矩形状、すなわち矩形枠状の板状部材からなり、このマスクステージＭＳＴの上面には、３つのバキュームチャック４７ａ〜４７ｃが設けられている。これらのバキュームチャック４７ａ〜４７ｃによってマスクＭがマスクステージＭＳＴ上に吸着保持されている。
【００２８】
ベース４３の上面には、一対のＸガイド４８Ａ、４８Ｂが所定間隔を隔てて走査方向であるＸ軸方向に延設されている。これらのＸガイド４８Ａ、４８Ｂの上方にはマスクステージＭＳＴが配置され、該マスクステージＭＳＴは、その底面に設けられた複数のエアパッド（エアベアリング）４９によってＸガイド４８Ａ、４８Ｂ上に非接触で浮上支持されている。なお、転がりガイド等を用いることでマスクステージＭＳＴを接触状態でＸガイドに支持させる構成としてもよい。
【００２９】
マスクステージＭＳＴのＹ軸方向の両側面には、一対の可動子６０Ａ、６０ＢがＹ軸方向へ向けて突設されている。＋Ｙ側に設けられた可動子６０Ｂは、マスクステージＭＳＴの＋Ｙ側端部のＸ軸方向中央部に形成された切り欠き６２を挟んだ両側に分離して対で配置されている。そして、これらの可動子６０Ａ、６０Ｂに対応して、Ｘガイド４８Ａ、４８ＢのＹ軸方向両外側には、可動子６０Ａ、６０ＢとともにリニアモータとしてのＸモータ６１Ａ、６１Ｂを構成し、それぞれ可動子６０Ａ、６０Ｂを挟み込むようにマスクステージＭＳＴに向けて開口するコ字状を呈する固定子６３Ａ、６３ＢがＸ軸方向に沿って延設されている。可動子６０Ａ、６０Ｂは、マスクステージＭＳＴとともに、固定子６３Ａ、６３Ｂとの間の電磁気的相互作用の一種である電磁相互作用によって生じるローレンツ力によってＸ軸方向に駆動される。
【００３０】
Ｘモータ６１Ａ、６１Ｂとしては、ここでは公知のムービングコイル型のリニアモータが用いられている。なお、一対のＸモータ６１Ａ、６１Ｂとして、ムービングマグネット型のリニアモータを用いても構わない。Ｘモータ６１Ａ、６１Ｂは、主制御装置（不図示）によって制御される。
【００３１】
可動子６０Ａ、６０Ｂには、固定子６３Ａ、６３Ｂにそれぞれ対向して複数のギャップセンサ（不図示）が埋設されている。各ギャップセンサは、可動子６０Ａと固定子６３Ａとの間のギャップ量（間隙量）及び可動子６０Ｂと固定子６３Ｂとの間のギャップ量を非接触で検出するものであって、例えば光学式で２ｍｍ程度の作動範囲を有する反射型センサが用いられている。
【００３２】
固定子６３ＡはＸ軸方向両端側において、ベース４３がその一部を構成する本体コラム３４とは振動的に独立した反力遮断用フレーム４５の先端に、一対の位置調整装置６５Ａ、６５Ｂ（ただし、図２では６５Ｂは不図示）を介して支持されている。同様に、固定子６３ＢもＸ軸方向両端側において、本体コラム３４とは振動的に独立した反力遮断用フレーム４６の先端に、一対の位置調整装置６５Ａ、６５Ｂを介して支持されている。位置調整装置６５Ａ、６５Ｂとしては、例えばピエゾ素子を用いることができ、このピエゾ素子の駆動により可動子に対する固定子の姿勢を制御することができる。反力遮断用フレーム４５、４６の基端は、図１に示される鏡筒定盤４１、ベッド１、およびベースプレートＢＰにそれぞれ形成された開口部を介して床面ＦＤに固定されている。なお、反力遮断用フレーム４５、４６の基端は、鏡筒定盤４１、ベッド１及びベースプレートＢＰの外側に設けてもよい。
【００３３】
マスクステージＭＳＴの切り欠き６２の内部空間には、Ｘガイド４８Ｂ上に位置して、走査方向にのみ自由度を有するエアスライダ６６が設けられている。そして、このエアスライダ６６上にＹモータの固定子６７が設けられている。このＹモータとしては、例えばボイスコイルモータが用いられ、マスクステージＭＳＴ側に設けられた不図示の可動子を、電磁相互作用によって生じるローレンツ力によって非走査方向であるＹ軸方向に駆動することで、マスクステージＭＳＴをＹ軸方向に駆動するものである。
【００３４】
このエアスライダ６６には、固定子６３Ｂとともにエアスライダ６６を駆動するためのエアスライダ駆動用リニアモータを構成する可動子６８が設けられている。上記Ｙモータは、マスクステージＭＳＴの位置にかかわらず、マスクステージＭＳＴをＹ軸方向に駆動する必要があるため、不図示のギャップセンサによりＹモータ（例えば、エアスライダ６６や固定子６７）とマスクステージＭＳＴとの距離を検出してエアスライダ駆動用リニアモータを駆動することで、常にマスクステージＭＳＴの駆動に追従する構成になっている。このため、マスクステージＭＳＴをＹ方向に駆動する際の反力は、可動子６８、固定子６３Ｂを介して反力遮断用フレーム４６に伝達され、さらに設置床ＦＤに伝達される。
【００３５】
一方、マスクステージＭＳＴの−Ｘ側の側面には、一対のコーナーキューブ６９Ａ、６９Ｂが固定されており、これらのコーナーキューブ６９Ａ、６９Ｂに対向してベース４３の上面の−Ｘ方向端部にはＸ干渉計７０が固定されている。このＸ干渉計７０は、実際にはコーナーキューブ６９Ａ、６９Ｂに対して干渉ビームを投射し、それぞれの反射光を受光してコーナーキューブ６９Ａ、６９ＢのＸ軸方向の位置を所定の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する一対のダブルパス干渉計を含んで構成されている。
【００３６】
また、マスクステージＭＳＴ上面の−Ｙ側の端部には、不図示の偏光ビームスプリッタ、１／４波長板等を含む光学ユニット７１が固定されている。この光学ユニット７１に対向して、ベース４３上面の−Ｙ方向端部には、固定鏡７２がＸ軸方向に沿って延設されている。そして、光学ユニット７１および不図示の光源ユニット、レシーバ等を含むＹ干渉計システムによって、マスクステージＭＳＴ（ひいてはマスクＭ）のＹ軸方向の位置が固定鏡７２を介して所定の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される。
【００３７】
図３は、基板ステージ装置３５の全体構成を示す斜視図である。
ベッド１の上面には、Ｘ方向に延在するＸ軸ガイド２ａ、２ｂがＹ方向に間隔をあけて平行に敷設されており、これら各Ｘ軸ガイド２ａ、２ｂの両側部及び上部を跨ぐようにＸキャリッジ３ａ、３ｂがそれぞれ移動自在に設けられている。Ｘキャリッジ３ａ、３ｂの上部には、Ｙ方向に沿って延在し、両キャリッジ３ａ、３ｂを結ぶブリッジ状にＹビームガイド（ガイド部材）４が懸架されて締結固定されている。図４に示すように、Ｘキャリッジ３ａ、３ｂとＸガイド２ａ、２ｂの上面との間には、エアベアリング５（以下、ピッチベアリングと称する）が複数配置されており、Ｘキャリッジ３ａ、３ｂとＸガイド２ａ、２ｂの側面との間には、エアベアリング６（以下、ヨーベアリングと称する）が複数配置されている。エアベアリング５、６はＸキャリッジ３ａ、３ｂに固定されており、Ｘガイド２ａ、２ｂに対してフローティング（非接触）支持されたＸキャリッジ３ａ、３ｂ及びＹビームガイド４は、Ｘガイド２ａ、２ｂにガイドされてＸ方向に移動自在の構成となっている。なお、Ｘキャリッジ３ａ、３ｂのいずれか一方のエアベアリング６は、省略しても構わない。
【００３８】
Ｙビームガイド４の上部には、Ｙキャリッジ７が載置されている。図５に示すように、Ｙキャリッジ７とＹビームガイド４の上面との間には、エアベアリング８（以下、ベースベアリングと称する）が複数（図５では４つ）配置されており、Ｙキャリッジ７とＹビームガイド４の両側面との間には、エアベアリング９（以下、サイドベアリングと称する）が複数（図５では各面に２つ）配置されている。これらエアベアリング８、９はＹキャリッジ７に固定されており、Ｙビームガイド４にフローティング（非接触）支持されたＹキャリッジ７は、Ｙビームガイド４にガイドされてＹ方向に移動自在の構成となっている。
【００３９】
Ｙキャリッジ７上には、プレートテーブル１０が複数の支持機構（不図示）で支持されている。プレートテーブル１０上には、ガラス基板Ｐを吸着保持するプレートホルダ１１が設けられている。これらＹキャリッジ７、プレートテーブル１０及びプレートホルダ１１は、本発明に係るステージ本体を構成している。
【００４０】
図３に戻って、Ｙビームガイド４の両端部には、ＸリニアモータＸＬ１を構成する可動子（第２可動子）１３ａ、１３ｂが設けられている。可動子１３ａ、１３ｂは、Ｘ方向に延設された固定子（第２固定子）１４ａ、１４ｂ（１４ａは不図示）に沿って移動する。この固定子１４ａ、１４ｂは、マスクステージＭＳＴにおける固定子６３Ａ、６３Ｂと同様に、反力遮断用フレーム４６にピエゾ素子等から構成される位置調整装置（第２位置調整装置）を介して支持されている。そして、可動子１３ａ、１３ｂと固定子１４ａ、１４ｂとの間のＺ方向についてのギャップ量を検出する不図示のギャップセンサ（第２検出装置）を設け、第２検出装置の検出結果に基づいて第２位置調整装置をそれぞれＺ方向に駆動することで固定子１４ａ、１４ｂと可動子１３ａ、１３ｂとの相対位置関係を調整できる。
【００４１】
ベッド１の下方には、ベースフレーム２１が複数の高さ調整機構２０（図４参照）を介してベースプレートＢＰ上に設置されている。ベースフレーム２１の上面には、複数の支柱（支持部）２２がＺ方向に沿って立設されている。支柱２２は、ベッド１に形成された貫通孔（第２貫通孔）１ａを、ベッド１に対して非接触で貫通し、且つ上端がベッド１から突出した状態で設けられている。支柱２２の上端には、Ｘ方向に延在するフォロアガイドフレーム２３がＹ方向に間隔をあけて平行に配設されている。すなわち、フォロアガイドフレーム２３は、ベッド１に対して振動的に分離して設けられる構成となっている。
【００４２】
各フォロアガイドフレーム２３の上面には、Ｘ方向に延在するフォロアガイド２４ａが高い平行度をもって固設されている。各フォロアガイドフレーム２３にはスライダ２４ｂがＸ方向以外の移動を規制された状態で配置されている。スライダ２４ｂのガイド方式としては、ボールまたはローラ循環式の転がり接触によるリニアモーションガイド（いわゆるＬＭガイド）や、エアベアリング等の非接触式ガイド等を採用可能である。
【００４３】
スライダ２４ｂ上には、ベッド１とＹビームガイド４との間に位置してフォロアテーブル（従動ステージ）２５が取り付けられている。図６に示すように、フォロアテーブル２５は平面視矩形状に形成されており、そのＸ側両端縁にはＹ方向に延びるＹリニアモータ受け２６がそれぞれ設けられている。各Ｙリニアモータ受け２６には、Ｙリニアモータ（駆動装置）ＹＬを構成する固定子２７が取り付けられている。各Ｙリニアモータ受け２６の両端部には、フォロアＸリニアモータ（第２駆動装置）ＸＬ２の可動子（第３可動子）２８がそれぞれ設けられている。可動子２８は、上記Ｘ方向に延設された固定子１４ａ、１４ｂ（１４ａは不図示）に沿って移動する。すなわち、Ｙビームガイド４を駆動するＸリニアモータＸＬ１とフォロアテーブル２５を駆動するフォロアＸリニアモータＸＬ２とは、固定子１４ａ、１４ｂを共用している。なお、この可動子２８と固定子１４ａ、１４ｂとの間のギャップ量は、上記第２検出装置により検出される。そして、第２検出装置の検出結果に基づいて第２位置調整装置をそれぞれＺ方向に駆動することで固定子１４ａ、１４ｂと可動子２８との相対位置関係を調整できる。
【００４４】
また、フォロアテーブル２５のＸ方向中央近傍でＹ方向両端には、従動ステージ保持機構（連結装置）１５がそれぞれ設けられている（図４参照）。従動ステージ保持機構１５は、先端が球状に形成されたスピンドル１５ａ、スピンドル１５ａのＹ方向への移動をガイドする直線ガイド１５ｂ、スピンドル１５ａを駆動するエアシリンダ１５ｃ等から構成されている。そして、Ｘキャリッジ３ａ、３ｂにはスピンドル１５ａ（の球状部）に係合する円錐受け１６が形成されており、エアシリンダの駆動によりスピンドル１５ａが円錐受け１６に係合／係合解除することで、フォロアテーブル２５をＸキャリッジ３ａ、３ｂ及びＹビームガイド４に対して一体化して連結／連結解除することができる。
【００４５】
図７に示すように、Ｙキャリッジ７に取り付けられた上記エアベアリング９は、先端に球体を有する微調ネジ５１と円錐受け５２とによって、Ｚ軸と平行な軸周りに（ガラス基板Ｐの保持面に沿って）回転自在に支持されており、Ｙキャリッジ７の両側からＹビームガイド４に対してエアベアリング９を押し付けることで、エアベアリング９に要求される適正な剛性と負荷容量を得る構成となっている。これらエアベアリング９、微調ネジ５１によって本発明に係る保持装置が構成される。また、Ｙキャリッジ７の幅方向両側には、Ｙキャリッジ７（及びプレートテーブル１０、プレートホルダ１１）をＹ方向に駆動するＹリニアモータＹＬの可動子５３、５３が設けられており、可動子５３、５３は上記固定子２７、２７との電磁気的相互作用による推力でＹ方向に移動する。
【００４６】
なお、固定子２７と可動子５３とは、それぞれ独立してＸ方向に駆動されるものであるため、これら固定子２７と可動子５３との間のＸ方向についてのギャップ量（間隙量）は不図示のギャップセンサによりモニターされ、ギャップ量が所定値以下とならないように制御される。また、固定子２７と可動子５３との間のＺ方向についてのギャップ量を検出するギャップセンサ（検出装置）も別に設けられている。そして、固定子２７とＹリニアモータ受け２６との間には、固定子２７の両端近傍に位置してピエゾ素子等から構成される位置調整装置（不図示）が介装されており、検出装置の検出結果に基づいて位置調整装置をそれぞれＺ方向に駆動することで固定子２７と可動子５３との相対位置関係を調整できる。
【００４７】
さらに、図８に示すように、Ｙキャリッジ７には、Ｙビームガイド４の下方で可動子５３のそれぞれ近傍に位置して、可動子５３の位置制御用の２つのリニアエンコーダ５４が配置されている。また、プレートホルダ１１の＋Ｘ側端縁には、Ｙ方向に沿って移動鏡５７が設けられており、不図示のレーザ干渉計から照射されたＹ方向に離間した計測ビーム５６を移動鏡５７で反射させた反射光を受光することで、プレートホルダ１１（すなわちガラス基板Ｐ）のＸ方向の位置及びＺ軸周りの回転量を計測することが可能になっている。
【００４８】
一方、Ｙキャリッジ７、プレートテーブル１０及びプレートホルダ１１からなるメインステージ（ステージ本体）には、電気ケーブルや空圧チューブ、冷却チューブ等のケーブル類（用力供給部材）１７（図４参照）がステージ装置外部から各種用力を供給するために接続されるが、これらケーブル類１７は、図４及び図９〜１１に示されるように、ベースフレーム２１とフォロアテーブル２５とにおいて中継されてメインステージに接続される。
【００４９】
これを詳述すると、ベッド１にはＺ方向に貫通する貫通孔１ｂが形成されており、ベッド１の下方に導入されたケーブル類１７は、貫通孔１ｂを介してフォロアテーブル２５で中継される。図９に示すように、フォロアテーブル２５の下面側には、フォロアテーブル２５の移動用ガイド２４ａと略平行（Ｘ方向）に一組のリニアガイド８１が固定されている。リニアガイド８１には、スライダ８２がガイド方向（Ｘ方向）に移動自在に取り付けられている。また、このスライダ８２には、防塵シート（カバー部材）８５を巻き掛ける動滑車ローラ８３と、ケーブル類１７を巻き掛ける回転自在の複数のローラ８４ａがローラ保持板８４ｂに支持されて取り付けられている。そして、ケーブル類１７は、ベースフレーム２１の上方を引き回され貫通孔１ｂを貫通し、半円形に配置されたローラ８４ａに巻き掛けられた後に、折り返されてフォロアテーブル２５の端部８９に導かれる。
【００５０】
防塵シート８５は、一端がフォロアガイドフレーム２３に固定され、他端が動滑車ローラ８３に固定された両端固定のシートである。また、スライダ８２には、防塵シート８５と逆側に、別の防塵シート（カバー部材）８６の一端が固定されている。防塵シート８６の巻き取り部８７は、フォロアガイドフレーム２３等に固定される。
【００５１】
上記構成の露光装置３１の内、まず基板ステージ装置３５の動作について説明する。
ガラス基板ＰをＸ方向（スキャン方向）に移動させる際には、図３に示してあるＸリニアモータＸＬ１及びフォロアＸリニアモータＸＬ２を作動させる。これにより、Ｘキャリッジ３ａ、３ｂがＸ軸ガイド２ａ、２ｂにガイドされた状態で、Ｙビームガイド４がメインステージとともにＸ方向に移動する。また、スライダ２４ｂがフォロアガイド２４ａにガイドされた状態で、フォロアテーブル２５がＹビームガイド４とベッド１との間をＸ方向に移動する。
【００５２】
このとき、Ｙキャリッジ７に接続された可動子５３と、フォロアテーブル２５に接続された固定子２７とのＸ方向のギャップ量は、ギャップセンサの検出結果によりモニタされて一定値に維持される。従って、メインステージとフォロアテーブル２５とは所定の相対位置関係を保持した状態でＸ方向に移動することになり、メインステージとフォロアテーブル２５との間に配されるケーブル類１７も変形しないため、擦れや抗力を生じさせず振動等の外乱を引き起こさない。
【００５３】
また、フォロアテーブル２５とベースフレーム２１との間に配されるケーブル類１７については、図９〜図１１に示すように、ローラ保持板８４ｂで規定されるループ（円弧）形状を保持した状態でフォロアテーブル２５とともに移動するため、恒常的及び衝撃的な抗力を発生させることがない。また、ケーブル類１７はローラ保持板８４ｂでＸ方向（移動方向）で折り返されているため、ローラ保持板８４ｂの移動量はフォロアテーブル２５の移動量の１／２となる。そのため、ベッド１に形成すべき貫通孔１ｂの大きさを小さくすることができる。また、フォロアテーブル２５の移動時には、スライダ８２の位置に応じた長さで、動滑車ローラ８３、８７から防塵シート８６が引き出されて伸縮するため、ケーブル類１７から発塵した場合でも、これら防塵シート８５、８６及びフォロアテーブル２５で貫通孔１ｂを覆うことになり、Ｙビームガイド４上、即ちメインステージ上に発塵が舞い上がることを抑制できる。
【００５４】
なお、上記Ｙガイドビーム４及びフォロアテーブル２５のＸ方向への移動時には、従動ステージ保持機構１５におけるスピンドル１５ａをＸキャリッジ３ａ、３ｂの円錐受け１６に対して係合解除しているが、ＸリニアモータＸＬ１及びフォロアＸリニアモータＸＬ２のイニシャル動作時等には、スピンドル１５ａを円錐受け１６に係合させることで、Ｙガイドビーム４とフォロアテーブル２５とを機械的に一体化して連結することが可能である。この場合、リニアモータＸＬ１、ＸＬ２の動作が安定する前の状態であっても、固定子２７と可動子５３との相対位置関係を一定に保持可能である。
【００５５】
一方、ガラス基板ＰをＹ方向（非スキャン方向）に移動させる際には、ＹリニアモータＹＬを作動させる。このとき、可動子５３をリニアエンコーダ５４に従って同一方向（図７では−Ｙ方向）に同じタイミングで同じ距離だけ駆動することで、Ｙキャリッジ７（即ちメインステージ）はＹ方向に並進運動を行い、メインステージ（ガラス基板Ｐ）のステップ移動が可能になる。また、２つの可動子５３をリニアエンコーダ５４に従って、図１２に示すように、逆方向に同じタイミングで同じ距離だけ駆動すれば、Ｙガイドビーム４に対してＹキャリッジ７をＺ軸周りに微小回転させて、ガラス基板Ｐのθ回転（θＺ方向）アライメントが可能になる。
【００５６】
これを詳述すると、Ｙビームガイド４の両側面に対向するように配置された回転（首振り）自在のエアベアリング９は、２つの可動子５３の互いに逆方向の移動によりＹキャリッジ７がＹビームガイド４に対して傾いた場合でも、ベアリング表面をＹビームガイド表面に正対した状態を維持しながら互いに逆方向に移動する。このとき、対向するエアベアリング９同士の中間点を回転中心として、エアベアリング９の支持点である微調ネジ５１の球体が回転移動する。その結果、エアベアリング９とＹビームガイド４とのエアギャップ（空気膜の厚さ）は小さくなり、Ｙキャリッジの７の微小回転が達成される。
【００５７】
図１３に、Ｙキャリッジ７がＺ軸周りに回転したときのリニアモータＹＬとエアベアリング９との間に作用する力のつり合い関係を示す。互いに逆方向に作用する２つの推力Ｆと、対向するエアベアリング９がＹビームガイド４から受ける力Ｒとがモーメントのつり合い状態にあるとして、回転中心Ｏから可動子５３までの距離をＬ、エアベアリング９が受ける反力Ｒの位置から回転中心Ｏまでの距離をａとすると、
Ｆ×Ｌ−Ｒ×ａ＝０　の関係から
Ｆ＝Ｒ×ａ／Ｌ　…（１）　　となる。
【００５８】
ここで、Ｒはエアベアリング９の剛性に依存するが、剛性値は５００Ｎ／μｍ以下であることが多い。そこで、Ｙキャリッジ７の回転角度を２．５ｍｒａｄとして、そのときのエアベアリング９のギャップ変化が１μｍ、エアベアリング９の剛性を５００Ｎ／μｍ、距離Ｌを５００ｍｍ、距離ａを０．７ｍｍとすると、リニアモータＹＬの推力Ｆは、（１）式から、
Ｆ＝５００×０．７／５００＝０．７Ｎとなる。
つまり、各接触部の摩擦力を考慮しても、非常に小さい力でＹキャリッジ７を回転させることが可能である。
【００５９】
なお、エアベアリング９のエアギャップが０となると、それ以上はＹキャリッジ７を回転させることができないのでＹキャリッジ７の回転量は微小である。この他にも、リニアモータＹＬの可動子５３と固定子２７との間のギャップ量やリニアエンコーダのスケールとヘッドとの隙間がＹキャリッジ７の回転の制限となることがある。θ回転の回転量を検出する手段としては、プレートホルダ１１上に設けられている不図示の接触式または非接触式の基板端面計測装置でもよいし、メインステージ外部に設置した接触式または非接触式の基板端面計測装置でもよい。メインステージ外部の計測装置を用いる場合には、ガラス基板Ｐをプレートホルダ１１に載置する直前にガラス基板Ｐの傾き情報を不図示の駆動制御装置に出力する。駆動制御装置は、可動子５３とリニアエンコーダ５４の計測値とを用いてガラス基板Ｐの回転誤差を補正するように、Ｙキャリッジ７を予め回転させておく。
【００６０】
このとき、Ｙキャリッジ７を大きく回転させる必要がある場合には、メインステージの位置決め用計測手段であるレーザ干渉計の計測ビーム５６を受ける移動鏡５７が傾きすぎてレーザビーム（反射光）が不図示の干渉計に入射せず、エラーになる場合がある（図１２参照）。このような場合でも、上述した２つのリニアエンコーダ５４によってＹキャリッジＹの回転量を計測し、プレートホルダ１１がガラス基板Ｐを不図示の基板搬送装置から受け取った後にＹキャリッジ７を正規の位置に戻し、レーザ干渉計を復活させることができるので、高精度のアライメントを複雑な機構を用いることなく、迅速に、且つプレートホルダ１１の平面度を損なうことなく可能となる。
【００６１】
続いて、露光装置３１による露光動作について説明する。
露光処理が開始されると、不図示の走査用コントローラによって、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴと、ガラス基板Ｐを保持する基板ステージ装置３５のメインステージとが照明光ＩＬに対してＸ軸方向に同じ向き、同じ速度で同期移動する。これにより、照明光ＩＬに照明されたマスクＭのパターンがガラス基板Ｐ上に逐次露光される。このとき、フォロアテーブル２５もメインステージと同期して移動するが、フォロアテーブル２５を支持する支柱２２と、Ｙビームガイド４を介してメインステージを支持するベッド１とが振動的に分離して配置されているので、フォロアテーブル２５の移動に伴う振動がメインステージに伝達されることを回避できる。
【００６２】
また、この同期移動により、防振台１２に偏荷重が作用して沈み込み量が一定でなくなることで、マスクステージＭＳＴにおけるベース４３及び基板ステージ装置３５におけるベッド１が傾き、マスクステージＭＳＴにおけるＸモータ６１Ａ、６１Ｂ、基板ステージ装置３５におけるＸリニアモータＸＬ１及びＹリニアモータＹＬでは固定子と可動子とが相対的に傾くことになる。そのため、これら固定子と可動子との間のギャップ量が変動するが、各リニアモータに設けられたギャップセンサの検出結果に基づいて位置調整装置を駆動することで、各リニアモータの固定子の姿勢を調整する。これにより、各固定子と可動子との相対角度がゼロになり、これらの間のギャップ量を所定値に維持できる。
【００６３】
また、マスクステージＭＳＴのＸ方向及びＹ方向への移動に伴う反力は、固定子６３Ａ、６３Ｂを介して反力遮断用フレーム４６に伝達されるため、マスクステージＭＳＴには反力による外乱が作用することはない。同様に、基板ステージ装置３５におけるメインステージのＸ方向への移動に伴う反力は、固定子１４ａ、１４ｂを介して反力遮断用フレーム４６に伝達されるため、メインステージには反力による外乱が作用することはない。また、メインステージのＹ方向への移動に伴う反力は、固定子２７を介してフォロアテーブル２５に伝達されるが、既述のように、支柱２２とベッド１とが振動的に分離して配置されているので、反力による外乱がメインステージに作用することはない。
【００６４】
以上のように、本実施の形態では、フォロアテーブル２５がＹリニアモータＹＬの固定子２７を支持して移動するので、ＸリニアモータＸＬ１がメインステージ及びＹビームガイド４をＸ方向に駆動する際の移動重量を減らすことができ、モータの制御性低下を防止することができる。そのため、メインステージに保持されたガラス基板Ｐの位置制御性及び速度制御性を向上させることが可能になり、ガラス基板Ｐに転写されるパターンの転写精度向上も期待できる。
【００６５】
また、本実施の形態では、このフォロアテーブル２５をＹビームガイド４とベッド１との間に配置したので、ベッド１を平面的に大きくする必要がなくなり、ベッド１に要求される高精度部分を少なくすることができるとともに、装置の大型化も回避することができる。さらに、フォロアテーブル２５にケーブル類１７を中継させた場合でも、Ｙビームガイド４の存在によりケーブル類１７の擦れ等で発塵してもメインステージ上のガラス基板Ｐに異物が付着しづらくなり、露光処理における不良品の発生を抑えることが可能になる。特に、本実施の形態では、フォロアテーブル２５がＸ方向に移動しても、ケーブル類１７が貫通する貫通孔１ｂを防塵シート８５、８６及びフォロアテーブル２５で覆うことができるので、ガラス基板Ｐへの異物の付着をより確実に抑えることが可能である。
【００６６】
しかも、本実施の形態では、支柱２２とベッド１とを振動的に分離しているので、メインステージやフォロアテーブル２５、防塵カバー８５、８６の移動に伴う外乱がメインステージに悪影響を及ぼさず、また、ケーブル類１７もベッド１を非接触で貫通しているので、ケーブル類１７の変形がメインステージに対して恒常的及び衝撃的な抗力となることを防止できる。加えて、本実施の形態では、フォロアテーブル２５等の従動側の重量がベッド１に掛からないため、Ｘ軸ガイド２ａ、２ｂに変形を生じさせず、結果として、メインステージに関する制御ループのゲインを上げることが可能になり、応答性の高い高精度の位置決め及び位置追従性を実現することができる。
【００６７】
また、本実施の形態では、メインステージをＺ軸周りに回転可能としたので、ガラス基板Ｐに対するアライメントを容易に実施することができる。しかも本実施の形態では、可動子５３、５３を互いに逆方向に駆動することでメインステージを回転させるので、複雑な機構を別途用いることなく、迅速に、且つプレートホルダ１１の平面度を損なうことなくガラス基板Ｐの位置決め（アライメント）が可能となる。
【００６８】
そして、本実施の形態では、フォロアテーブル２５がベッド１と機械的（振動的）に分離されているが、ベッド１の下方に設置されるベースフレーム２１とは連結されており、ベースフレーム２１の位置を調整した後、ベースフレーム２１をベッド１に吊り下げて、ベッド１とベースフレーム２１との相対位置関係を維持した状態でベッド１の下部を支持して輸送できるので、基板ステージ装置を分解する必要がなく、現地での組立・立上時間も短縮することができる。
【００６９】
なお、上記実施の形態では、固定子と可動子との相対位置関係を維持するために、ギャップセンサの検出結果に基づいて固定子の位置を調整する構成としたが、これに限定されるものではなく、可動子の位置を調整したり、固定子及び可動子の双方の位置を調整する構成としてもよい。
【００７０】
また、上記実施の形態では、本発明に係るステージ装置を基板ステージ装置に適用する構成としたが、マスクステージのみに適用したり、基板ステージ装置及びマスクステージの双方に適用することも可能である。さらに、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置３１に適用する構成としたが、これに限定されるものではなく、露光装置３１以外にも転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機器にも適用可能である。
【００７１】
なお、本実施の形態の基板としては、液晶表示デバイス用のガラス基板Ｐのみならず、半導体デバイス用の半導体ウエハや、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００７２】
露光装置３１としては、マスクＭとガラス基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニング・ステッパー；ＵＳＰ５，４７３，４１０）の他に、マスクＭとガラス基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、ガラス基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパー）にも適用することができる。
【００７３】
露光装置３１の種類としては、液晶表示デバイス製造用の露光装置に限られず、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクルなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００７４】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、マスクＭを用いる構成としてもよいし、マスクＭを用いずに直接ガラス基板上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００７５】
投影光学系ＰＬの倍率は、等倍系のみならず縮小系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、マスクＭとガラス基板Ｐとを密接させてマスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００７６】
基板ステージ装置３５やマスクステージＭＳＴにリニアモータ（ＵＳＰ５，６２３，８５３またはＵＳＰ５，５２８，１１８参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ３５、ＭＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００７７】
各ステージ３５、ＭＳＴの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁石）と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ３５、ＭＳＴを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ３５、ＭＳＴに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージ３５、ＭＳＴの移動面側（ベース）に設ければよい。
【００７８】
以上のように、本願実施形態の露光装置３１は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００７９】
液晶表示デバイスや半導体デバイス等のデバイスは、図１４に示すように、液晶表示デバイス等の機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスクＭ（レチクル）を製作するステップ２０２、石英等からガラス基板Ｐ、またはシリコン材料からウエハを製作するステップ２０３、前述した実施の形態の走査型露光装置３１によりレチクルＲのパターンをガラス基板Ｐ（またはウエハ）に露光するステップ２０４、液晶表示デバイス等を組み立てるステップ（ウエハの場合、ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００８０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、リニアモータ等の駆動装置の制御性を損なわせず、また装置のコンパクト化及び用力供給部材による発塵の抑制に寄与することができる。また、本発明では、複雑な機構を必要とせず、基板の位置ずれやホルダの平面度悪化を生じることなく、精度よく、短時間で基板の位置決めを行うことができる。さらに、本発明では、ステージ装置を分解することなく、精度を維持した状態で輸送できるとともに、現地立上時間も短縮できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、露光装置の概略構成図である。
【図２】同露光装置を構成するマスクステージの外観斜視図である。
【図３】本発明に係る基板ステージ装置の全体構成を示す斜視図である。
【図４】図３における側面図である。
【図５】図３を簡略化した図である。
【図６】フォロアテーブルに関わる構成のみを示す外観斜視図である。
【図７】メインステージ部の概略構成図である。
【図８】図７における側面図である。
【図９】ケーブル類を中継するフォロアテーブルの部分詳細図である。
【図１０】ケーブル類を中継するフォロアテーブルの部分詳細図である。
【図１１】ケーブル類を中継するフォロアテーブルの部分詳細図である。
【図１２】図７においてＹキャリッジを回転させた図である。
【図１３】Ｙキャリッジが回転したときのリニアモータとエアベアリングに働くつり合い関係を示す図である。
【図１４】液晶表示デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図１５】従来技術による基板ステージ装置の一例を示す外観斜視図である。
【符号の説明】
Ｍ　マスク（レチクル）
Ｐ　ガラス基板（基板、感光基板）
ＸＬ２　フォロアＸリニアモータ（第２駆動装置）
ＹＬ　Ｙリニアモータ（駆動装置）
１　ベッド（ベース）
１ａ　貫通孔（第２貫通孔）
１ｂ　貫通孔
４　Ｙビームガイド（ガイド部材）
７　Ｙキャリッジ（ステージ本体）
９　エアベアリング（保持装置）
１０　プレートテーブル（ステージ本体）
１１　プレートホルダ（ステージ本体）
１３ａ、１３ｂ　可動子（第２可動子）
１４ａ、１４ｂ　固定子（第２固定子）
１５　従動ステージ保持機構（連結装置）
１７　ケーブル類（用力供給部材）
２２　支柱（支持部）
２５　フォロアテーブル（従動ステージ）
２７　固定子
２８　可動子（第３可動子）
３１　露光装置
３５　基板ステージ装置（ステージ装置）
５１　微調ネジ（保持装置）
５３　可動子
８５、８６　防塵シート（カバー部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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