(57)【要約】【課題】被洗浄物に対して高い噴射圧力で洗浄液を吹付ける場合においても、支障なく被洗浄物を搬送することのできる洗浄装置を提供する。【解決手段】予め定める搬送方向に搬送されるガラス基板２８の表面２８ａをジェットノズル３３から噴射される洗浄液３９によって洗浄する洗浄装置２１には、高圧ジェット洗浄部２５が設けられる。高圧ジェット洗浄部２５に備わるジェットノズル３３は、ガラス基板２８の表面２８ａ側に、ガラス基板２８の搬送方向３８に対して直交する方向に洗浄液３９を噴射することができるように配置される。洗浄液３９の噴射方向がガラス基板２８の搬送方向に直交するので、洗浄液３９の噴射圧力によるガラス基板２８の搬送を抑止する作用が軽減される。【選択図】　　　図２
2004141807.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定める搬送方向に搬送される被洗浄物の洗浄すべき一方の表面を噴射ノズルから噴射される洗浄液によって洗浄する洗浄装置において、
前記噴射ノズルは、
前記被洗浄物の洗浄すべき一方の表面側に、前記被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に洗浄液を噴射することができるように配置され、
前記被洗浄物の他方の表面側には、前記被洗浄物の他方の表面に向けて超音波の印加された洗浄液を噴射する超音波ノズルが設けられることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記噴射ノズルは、
複数個設けられることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
複数個設けられる前記噴射ノズルは、
前記被洗浄物の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列と第２列とからなる２列に配列され、前記第１列の洗浄液を噴射する方向と前記第２列の洗浄液を噴射する方向とが反対になるように配置されることを特徴とする請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記噴射ノズルは、
前記噴射ノズルから噴射される洗浄液の噴射角度が、前記被洗浄物の一方の表面に対して１０〜６０度の傾斜角を有するように配置されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば半導体基板、液晶表示パネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板などの洗浄に用いられる洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体基板、液晶表示パネル用ガラス基板などの基板は、高い清浄度が必要とされるので、その製造工程において、基板の表面洗浄処理が行われている。基板の表面洗浄処理の一つに、基板表面に付着したパーティクルなどの汚れを除去する洗浄処理がある。この洗浄処理には、シャワー洗浄、高圧ジェット洗浄、超音波洗浄、スクラブ洗浄などの手段が用いられている。基板の洗浄に用いられている従来の高圧ジェット洗浄装置には、以下のようなものがある（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
図５は、従来の高圧ジェット洗浄装置１の構成を簡略化して示す図である。従来の高圧ジェット洗浄装置１は、被洗浄物であるたとえばガラス基板２を収めるカセット３ａを収容するローダ４と、ガラス基板２を洗浄するための２対のブラシ５を備えるスクラブ洗浄部６と、第１超音波ノズル７および洗浄液供給ノズル８を備える超音波洗浄部９と、ジェットノズル１０および第２超音波ノズル１１を備える高圧ジェット洗浄部１２と、エアナイフ１３によって洗浄液をガラス基板２の表面から除去して乾燥させる乾燥部１４と、洗浄が完了したガラス基板２を収めるカセット３ｂを収容するためのアンローダ１５とを備える。
【０００４】
また、高圧ジェット洗浄装置１のローダ４からアンローダ１５までの間には、複数の搬送ローラ１６が装置本体に回転自在に支持される。これらの搬送ローラ１６は、図示しない駆動源によって軸線まわりに回転駆動され、カセット３ａから抽出されてローラ上に乗載されるガラス基板２を、図５中に示す矢符１７方向すなわちローダ４からアンローダ１５へと搬送する。
【０００５】
以下高圧ジェット洗浄装置１による洗浄動作について説明する。まずガラス基板２は、ローダ４のカセット３ａから抽出されてスクラブ洗浄部６に投入される。ガラス基板２は、搬送ローラ１６によって搬送される過程において、ガラス基板２を介して対向するように配置される２対のブラシ５間を通過する。このとき、ブラシ５には洗浄液が供給されるとともに、ブラシ５は回転駆動しながらガラス基板２の表裏面に押当てられてガラス基板２の表裏面を洗浄する。
【０００６】
次に、ガラス基板２は、超音波洗浄部９に搬送される。超音波洗浄部９では、ガラス基板２の表面側にガラス基板２の表面から間隔をあけて洗浄液供給ノズル８が設けられ、ガラス基板２の裏面側にガラス基板２の裏面から間隔をあけて洗浄液供給ノズル８に対向するように第１超音波ノズル７が設けられる。ガラス基板２は、搬送ローラ１６によって搬送されて、洗浄液供給ノズル８と第１超音波ノズル７との間を通過し、このとき洗浄液供給ノズル８から噴射される洗浄液と、第１超音波ノズル７から噴射される洗浄液および洗浄液に印加される超音波の振動とによって、ガラス基板２の表面から粒径３μｍを超えるパーティクルの除去が行われる。
【０００７】
超音波洗浄部９で洗浄されたガラス基板２は、高圧ジェット洗浄部１２へ搬送される。図６は、高圧ジェット洗浄部１２におけるガラス基板２の洗浄状態を示す平面図である。高圧ジェット洗浄部１２では、ガラス基板２の表面側にガラス基板２の表面から間隔をあけてジェットノズル１０が設けられる。ジェットノズル１０は、ガラス基板２に対して搬送方向下流側から上流側に向けて洗浄液１８を噴射することができるように、また洗浄液１８の噴射がガラス基板２の表面に衝突した際のエネルギーロスを小さくするために、洗浄液１８の噴射方向がガラス基板２の表面に対して１０〜２０度の傾斜角度を有するように設けられる。
【０００８】
高圧ジェット洗浄部１２の第２超音波ノズル１１は、ガラス基板２の裏面側であって、ジェットノズル１０から噴射された高圧の洗浄液１８が、ガラス基板２の表面に吹付けられている吹付位置１９と、前記吹付位置１９に対して直近の搬送方向上流側に設けられる搬送ローラ１６との間に、超音波の付加された洗浄液を吹付けることができる位置に設けられる。
【０００９】
高圧ジェット洗浄部１２では、ジェットノズル１０からガラス基板２に対して噴射される高圧の洗浄液と、第２超音波ノズル１１から噴射される洗浄液に印加される超音波の振動とによって、ガラス基板２の表面に付着した粒径３μｍ以下のパーティクルの除去が行われる。
【００１０】
高圧ジェット洗浄部１２で洗浄されたガラス基板２は、乾燥部１４へ搬送される。乾燥部１４においてガラス基板２は、エアナイフ１３によってガラス基板２の表面に残留する洗浄液が除去されるとともに乾燥が行われ、乾燥後にアンローダ１５のカセット３ｂに収容されて一連の洗浄工程が終了する。
【００１１】
【特許文献１】
特開平７−２０４５９３号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
前述の従来の高圧ジェット洗浄装置１には、以下のような問題がある。高圧ジェット洗浄装置１の高圧ジェット洗浄部１２においては、高圧力の洗浄液１８をジェットノズル１０からガラス基板２の表面に対して斜め上方から吹付ける高圧洗浄と、第２超音波ノズル１１からガラス基板２の裏面に対して噴射される洗浄液に付加される超音波の振動とによって、粒径３μｍ以下のパーティクルがガラス基板２の表面を転がりながら除去される。
【００１３】
ガラス基板２を洗浄するためにジェットノズル１０からガラス基板２の表面に対して吹付けられる洗浄液の噴射圧力は、ガラス基板２に対して負荷されるので、この洗浄液の噴射圧力によってガラス基板２が搬送ローラ１６に対して押圧される。搬送用ローラ１６の搬送推進力が、洗浄液の噴射圧力によるガラス基板２の搬送ローラ１６に対する押圧力よりも小さいと、搬送用ローラ１６とガラス基板２との間で滑りを生じて搬送することができないという現象が発生する。
【００１４】
このような問題を解決する手段には、ガラス基板２の搬送が可能な程度にジェットノズル１０から噴射される洗浄液１８の噴射圧力を下げること、または搬送ローラ１６とは別途搬送機構を設け、ガラス基板２の搬送方向に直交する幅方向の端面を前記搬送機構で矢符１７方向に向けて押送することなどにより、ガラス基板２を搬送することが考えられる。
【００１５】
しかしながら、粒径３μｍ以下のパーティクルを除去するためには、ジェットノズル１０から噴射される洗浄液の流速が１５０ｍ／秒以上必要であり、１５０ｍ／秒未満になると粒径３μｍ以下のパーティクルを除去することが困難になるので、洗浄液の噴射圧力を下げることは好ましくない。また図５に示すような従来の高圧ジェット洗浄装置１において、ガラス基板２の幅方向端面を押送するためには、別途搬送機構をスクラブ洗浄部６または高圧ジェット洗浄部１２内に設けなければならないけれども、このような搬送機構の別途の設置は装置を大型化させるという問題がある。
【００１６】
さらに、従来の高圧ジェット洗浄装置１では、ジェットノズル１０から噴射される洗浄液１８が、表面張力の作用によってジェットノズル１０に形成されるノズル孔の幅に比べて数十ｍｍ内側に絞られた形状の水膜になるので、ジェットノズル１０のノズル孔の幅をガラス基板２の幅方向の寸法よりも大きくなるように形成しておかなければならない。たとえば幅方向の寸法が３２０ｍｍのガラス基板２を全面洗浄するには、ジェットノズル１０のノズル孔の幅が少なくとも４５０ｍｍであることを必要とし、このときジェットノズル１０の幅方向の寸法は５００ｍｍに形成される。このようにガラス基板２の幅方向の寸法が大きくなるのに伴って、ジェットノズル１０の幅方向の寸法が長くなり、また洗浄液１８の水膜をジェットノズル１０から均一に噴射させるには、ジェットノズル１０のノズル孔が高い精度の直線性を有するような加工を必要とするので、ジェットノズル１０の加工が難しくなり、ジェットノズルの製造コストが増大するという問題がある。
【００１７】
本発明の目的は、被洗浄物に対して高い噴射圧力で洗浄液を吹付ける場合においても、支障なく被洗浄物を搬送することのできる洗浄装置を提供することである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、予め定める搬送方向に搬送される被洗浄物の洗浄すべき一方の表面を噴射ノズルから噴射される洗浄液によって洗浄する洗浄装置において、
前記噴射ノズルは、
前記被洗浄物の洗浄すべき一方の表面側に、前記被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に洗浄液を噴射することができるように配置され、
前記被洗浄物の他方の表面側には、前記被洗浄物の他方の表面に向けて超音波の印加された洗浄液を噴射する超音波ノズルが設けられることを特徴とする洗浄装置である。
【００１９】
本発明に従えば、洗浄装置には、被洗浄物の一方の表面を洗浄するための洗浄液を噴射する噴射ノズルと、被洗浄物の他方の表面に向けて超音波の印加された洗浄液を噴射する超音波ノズルとが設けられる。被洗浄物の一方の表面を洗浄するために設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に洗浄液を噴射することができるように配置される。このことによって、被洗浄物を搬送する搬送機構を構成するたとえば搬送ローラに対し、噴射ノズルから噴射される洗浄液の被洗浄物を押圧する押圧力が軽減されるので、洗浄液の噴射圧力が高い場合においても被洗浄物を支障なく搬送することが可能になる。また噴射ノズルから噴射される高圧の洗浄液と、超音波ノズルから噴射される洗浄液に印加される超音波の振動とによって、被洗浄物の一方の表面に付着した微細な汚れを容易に除去することができる。
【００２０】
また本発明は、前記噴射ノズルは、複数個設けられることを特徴とする。
本発明に従えば、噴射ノズルは、複数個設けられるので、一層優れた洗浄機能を有する洗浄装置を実現することができる。
【００２１】
また本発明は、複数個設けられる前記噴射ノズルは、
前記被洗浄物の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列と第２列とからなる２列に配列され、前記第１列の洗浄液を噴射する方向と前記第２列の洗浄液を噴射する方向とが反対になるように配置されることを特徴とする。
【００２２】
本発明に従えば、複数個設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列と第２列とからなる２列に配列され、第１列の洗浄液を噴射する方向と第２列の洗浄液を噴射する方向とが反対になるように配置される。第１および第２列の噴射ノズルによる洗浄液の噴射方向を、たとえば被洗浄物の幅方向の中央部から端部へ向うようにそれぞれ配置することによって、各列の噴射ノズルは、被洗浄物の幅方向寸法の２分の１ずつをそれぞれ洗浄するだけで良いことになるので、充分な洗浄を行うことが可能になる。
【００２３】
また本発明は、前記噴射ノズルは、
前記噴射ノズルから噴射される洗浄液の噴射角度が、前記被洗浄物の一方の表面に対して１０〜６０度の傾斜角を有するように配置される。
【００２４】
本発明に従えば、噴射ノズルは、噴射ノズルから噴射される洗浄液の噴射角度が、被洗浄物の一方の表面に対して１０〜６０度の傾斜角を有するように配置される。このことによって、噴射ノズルから被洗浄物の一方の表面に対して吹付けられる洗浄液は、被洗浄物の一方の表面上に留まることなく、被洗浄物の外方に容易に流れ落ちることができる。したがって、一旦除去されたパーティクルが被洗浄物の一方の表面上に残留しにくく、高い洗浄効果を得ることが可能になる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の一形態である洗浄装置２１の構成を簡略化して示す図であり、図２は図１に示す洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５の構成を示す平面図である。本実施の形態の洗浄装置２１は、枚葉式の高圧ジェット洗浄装置であり、たとえば液晶表示パネル用ガラス基板などの被洗浄物の洗浄に用いられる。
【００２６】
洗浄装置２１は、被洗浄物であるガラス基板２８を収めるカセット２９ａを収容するローダ２２と、ガラス基板２８を洗浄するための２対のブラシ３０を備えるスクラブ洗浄部２３と、第１超音波ノズル３１および洗浄液供給ノズル３２を備える超音波洗浄部２４と、噴射ノズル３３であるジェットノズルおよび第２超音波ノズル３４を備える高圧ジェット洗浄部２５と、エアナイフ３５によって洗浄液をガラス基板２８の表面から除去して乾燥させる乾燥部２６と、洗浄が完了したガラス基板２８を収めるカセット２９ｂを収容するためのアンローダ２７とを備える構成である。また洗浄装置２１のローダ２２からアンローダ２７までの間には、複数の搬送ローラ３６が洗浄装置２１の装置本体３７に回転自在に支持される。これらの搬送ローラ３６は、図示しない駆動源によって軸線まわりに回転駆動され、カセット２９ａから抽出されて搬送ローラ３６上に乗載されるガラス基板２８を、図１中に示す矢符３８方向すなわち予め定める搬送方向であるローダ２２からアンローダ２７へ向けて搬送する。
【００２７】
カセット２９ａは、棚状に構成される内部空間を有する容器であり、洗浄工程に受入れるガラス基板２８を収容する。スクラブ洗浄部２３に設けられる２対のブラシ３０は、その回転軸線がガラス基板２８の搬送方向すなわち矢符３８方向に直交する方向に延びて、装置本体３７に回転自在に支持される。各対をなすブラシ３０は、搬送ローラ３６によって搬送されるガラス基板２８がブラシ間を通過することができるように配置される。なお図示を省略するけれども、スクラブ洗浄部２３には、前述のブラシ３０に対して洗浄液を供給する洗浄液供給手段が備えられる。
【００２８】
超音波洗浄部２４のガラス基板２８の洗浄すべき一方の表面２８ａ（以後、便宜上単に表面２８ａと呼ぶ）側には、表面２８ａから間隔をあけて、ガラス基板２８の搬送方向に直交する方向に延びて洗浄液供給ノズル３２が設けられ、ガラス基板２８の他方の表面２８ｂ（以後、便宜上裏面２８ｂと呼ぶ）側には、裏面２８ｂから間隔をあけて、ガラス基板２８の搬送方向に直交する方向に延び洗浄液供給ノズル３２に対向するように第１超音波ノズル３１が設けられる。洗浄液供給ノズル３２は、ガラス基板２８の表面２８ａに向けて洗浄液を噴射する。第１超音波ノズル３１は、ノズル孔から噴射される洗浄液に図示しない超音波振動子によって超音波を印加し、ガラス基板２８に対して吹付けられる洗浄液を介してガラス基板２８に超音波振動を与えて洗浄を促進する。
【００２９】
図２に拡大して示す高圧ジェット洗浄部２５において、噴射ノズル３３であるジェットノズルは、第１ジェットノズル３３ａと第２ジェットノズル３３ｂとの２個が設けられる。なおジェットノズルを総称する場合には、アルファベットの添字を付することなく表す。ジェットノズル３３は、ガラス基板２８の表面２８ａ側に、ガラス基板２８の搬送方向（矢符３８方向）に対して直交する幅方向（図２中に示す矢符４０方向）に洗浄液３９を噴射することができるように配置される。ジェットノズル３３のノズル孔の幅寸法（搬送方向に平行方向の寸法）は、任意に選定されてよいけれども、たとえばガラス基板２８の搬送速度が１８００ｍｍ／分であるとき、３０ｍｍに選定される。ノズル孔の幅寸法が３０ｍｍであるとき、ジェットノズル３３自体の搬送方向に平行方向の寸法は、約８０ｍｍであり、ジェットノズル３３の小型化が実現される。
【００３０】
さらに２個の第１および第２ジェットノズル３３ａ，３３ｂは、いずれも洗浄液３９の噴射角度が、ガラス基板２８の表面２８ａに対して１０〜６０度の範囲になるように配置される。
【００３１】
ガラス基板２８の裏面２８ｂ側には、ジェットノズル３３に対向するように第２超音波ノズル３４が設けられる。第２超音波ノズル３４から噴射される超音波の印加された洗浄液のガラス基板２８の裏面２８ｂに対して吹付けられる位置は、第１および第２ジェットノズル３３ａ，３３ｂからガラス基板２８の表面２８ａに対して洗浄液３９の吹付けられる位置に対応する。第２超音波ノズル３４を前述のように配置することによって、ジェットノズル３３から噴射される洗浄液３９による洗浄作用と、第２超音波ノズル３４から噴射される洗浄液に印加される超音波による振動作用とが重畳し、粒径の小さいパーティクルをも充分に除去することが可能になる。
【００３２】
乾燥部２６には、ガラス基板２８の表面２８ａから間隔をあけ、搬送方向に直交する方向に延びてエアナイフ３５が設けられる。エアナイフ３５は、ガラス基板２８の表面２８ａに対して高圧の空気を吹付けることによって、前記表面２８ａに残留する洗浄液を除去するとともに、前記表面２８ａを乾燥する。カセット２９ｂは、前述のカセット２９ａと同様に構成される容器であり、洗浄および乾燥の終了したガラス基板２８を収容する。
【００３３】
以下洗浄装置２１によるガラス基板２８を洗浄する一連の洗浄動作について説明する。洗浄すべきガラス基板２８は、ローダ２２に収容されるカセット２９ａから抽出されてスクラブ洗浄部２３に投入される。スクラブ洗浄部２３において、ガラス基板２８は、洗浄液供給手段から洗浄液を供給されて回転駆動するブラシ３０の間を通過することによって、その表裏面２８ａ，２８ｂが洗浄される。
【００３４】
スクラブ洗浄部２３で洗浄されたガラス基板２８は、搬送ローラ３６によって超音波洗浄部２４に搬送される。超音波洗浄部２４では、ガラス基板２８が対向して設けられる洗浄液供給ノズル３２と第１超音波ノズル３１との間を搬送されるとき、ガラス基板２８の表面２８ａには洗浄液供給ノズル３２から洗浄液が吹付けられ、ガラス基板２８の裏面２８ｂには第１超音波ノズル３１から吹付けられる洗浄液を介して超音波振動が付加されて、ガラス基板２８の表面２８ａから粒径３μｍを超えるパーティクルの除去が行われる。
【００３５】
超音波洗浄部２４で洗浄されたガラス基板２８は、搬送ローラ３６によって高圧ジェット洗浄部２５へ搬送される。高圧ジェット洗浄部２５では、ガラス基板２８が対向して設けられるジェットノズル３３と第２超音波ノズル３４との間を搬送されるとき、ガラス基板２８の表面２８ａにはジェットノズル３３からガラス基板２８の幅方向に洗浄液３９が吹付けられる。一方、ガラス基板２８の裏面２８ｂには、前述の表面２８ａ側においてジェットノズル３３から洗浄液３９が吹付けられる位置に対応する位置に、第２超音波ノズル３４から吹付けられる洗浄液を介して超音波振動が付加される。このように、表面２８ａに吹付けられる洗浄液３９と、裏面２８ｂに洗浄液を介して与えられる超音波振動とによって、ガラス基板２８の表面２８ａから粒径３μｍ以下のパーティクルの除去が行われる。
【００３６】
高圧ジェット洗浄部２５で洗浄されたガラス基板２８は、搬送ローラ３６によって乾燥部２６へ搬送される。乾燥部２６においてガラス基板２８は、エアナイフ３５によって表面２８ａに残留する洗浄液３９が除去されるとともに乾燥が行われ、乾燥後にアンローダ２７に搬送されてカセット２９ｂに収容され、一連の洗浄動作が終了する。
【００３７】
図３は、本発明の実施の第２形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５１の構成を示す平面図である。本実施の形態の洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５１は、実施の第１形態の洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。本実施の形態の高圧ジェット洗浄部５１において注目すべきは、第３〜第６ジェットノズル５２ａ，５２ｂ，５２ｃ，５２ｄの４個からなるジェットノズル５２の設けられることである。
【００３８】
ジェットノズル５２を、洗浄液３９の噴射方向が搬送方向に直交する矢符４０方向になるように配置するとき、１個のジェットノズルの有効洗浄距離が１５０〜２００ｍｍであるので、幅方向の寸法が大きいガラス基板２８の洗浄には、本実施の形態のように４個のジェットノズル５２を備える洗浄装置が好適に用いられる。
【００３９】
図４は、本発明の実施の第３形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５３の構成を示す平面図である。本実施の形態の洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５３は、実施の第１形態の洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。本実施の形態の高圧ジェット洗浄部５３において注目すべきは、４個設けられる第７〜第１０ジェットノズル５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄが、ガラス基板２８の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列５５と第２列５６とからなる２列に配列され、第１列５５を構成する第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂの洗浄液３９を噴射する矢符５７方向と、第２列５６を構成する第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄの洗浄液３９を噴射する矢符５８方向とが反対になるように配置されることである。
【００４０】
またガラス基板２８の裏面２８ｂ側には、第１列５５に対向して第３超音波ノズル５９が設けられる。第３超音波ノズル５９の配される位置は、第１列５５に備わる２つの第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂから噴射された洗浄液３９が表面２８ａに吹付けられる位置に対応する。さらにガラス基板２８の裏面２８ｂ側には、第２列５６に対向してもう一つの第４超音波ノズル６０が設けられる。第４超音波ノズル６０の配される位置は、第２列５６に備わる２つの第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄから噴射された洗浄液３９が表面２８ａに吹付けられる位置に対応する。このように配置される第３および第４超音波ノズル５９，６０は、実施の第１形態と同様にガラス基板２８に対して効果的に超音波振動を付加することができる。
【００４１】
第１列５５の第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂによる洗浄液３９の噴射方向が、ガラス基板２８の幅方向の中央部から一方の端部へ向うように選択し、第２列５６の第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄによる洗浄液３９の噴射方向が、ガラス基板２８の幅方向の中央部から他方の端部へ向うように選択することによって、第１列５５の第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂと第２列５６の第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄとは、ガラス基板２８の幅方向にその寸法の２分の１ずつをそれぞれ洗浄するだけで良いことになる。したがって、このような高圧ジェット洗浄部５３を備える洗浄装置は、幅方向寸法の大きいガラス基板２８の洗浄に対しても好適に用いることができ、充分な洗浄を行うことが可能である。
【００４２】
【発明の効果】
本発明によれば、洗浄装置には、被洗浄物の一方の表面を洗浄するための洗浄液を噴射する噴射ノズルと、被洗浄物の他方の表面に向けて超音波の印加された洗浄液を噴射する超音波ノズルとが設けられる。被洗浄物の一方の表面を洗浄するために設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に洗浄液を噴射することができるように配置される。このことによって、被洗浄物を搬送する搬送機構を構成するたとえば搬送ローラに対し、噴射ノズルから噴射される洗浄液の被洗浄物を押圧する押圧力が軽減されるので、洗浄液の噴射圧力が高い場合においても被洗浄物を支障なく搬送することが可能になる。また噴射ノズルから噴射される高圧の洗浄液と、超音波ノズルから噴射される洗浄液に印加される超音波の振動とによって、被洗浄物の一方の表面に付着した微細な汚れを容易に除去することができる。
【００４３】
また本発明によれば、噴射ノズルは、複数個設けられるので、一層優れた洗浄機能を有する洗浄装置を実現することができる。
【００４４】
また本発明によれば、複数個設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列と第２列とからなる２列に配列され、第１列の洗浄液を噴射する方向と第２列の洗浄液を噴射する方向とが反対になるように配置される。第１および第２列の噴射ノズルによる洗浄液の噴射方向を、たとえば被洗浄物の幅方向の中央部から端部へ向うようにそれぞれ配置することによって、各列の噴射ノズルは、被洗浄物の幅方向寸法の２分の１ずつをそれぞれ洗浄するだけで良いことになるので、充分な洗浄を行うことが可能になる。
【００４５】
また本発明によれば、噴射ノズルは、噴射ノズルから噴射される洗浄液の噴射角度が、被洗浄物の一方の表面に対して１０〜６０度の傾斜角を有するように配置される。このことによって、噴射ノズルから被洗浄物の一方の表面に対して吹付けられる洗浄液は、被洗浄物の一方の表面上に留まることなく、被洗浄物の外方に容易に流れ落ちることができる。したがって、一旦除去されたパーティクルが被洗浄物の一方の表面上に残留しにくく、高い洗浄効果を得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態である洗浄装置２１の構成を簡略化して示す図である。
【図２】図１に示す洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５の構成を示す平面図である。
【図３】本発明の実施の第２形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５１の構成を示す平面図である。
【図４】本発明の実施の第３形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５３の構成を示す平面図である。
【図５】従来の高圧ジェット洗浄装置１の構成を簡略化して示す図である。
【図６】高圧ジェット洗浄部１２におけるガラス基板２の洗浄状態を示す平面図である。
【符号の説明】
２１　洗浄装置
２２　ローダ
２３　スクラブ洗浄部
２４　超音波洗浄部
２５，５１，５３　高圧ジェット洗浄部
２６　乾燥部
２７　アンローダ
２８　ガラス基板
３０　ブラシ
３１　第１超音波ノズル
３２　洗浄液供給ノズル
３３，５２，５４　ジェットノズル
３４　第２超音波ノズル
３５　エアナイフ
３６　搬送ローラ
３９　洗浄液
５５　第１列
５６　第２列
５９　第３超音波ノズル
６０　第４超音波ノズル
【図１】
2004141807.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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