(57)【要約】【課題】トラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の高密度記録が可能な光ディスク用基板においても容易に偏心量測定可能な基板及びその基板を用いて製造した光ディスクを提供する。また、上記基板の製造に用いるスタンパ及びその製造方法を提供する。さらに、上記基板の偏心量を測定する方法を提供する。【解決手段】本発明の光ディスク用基板では、ユーザ情報記録領域における凹部よりも深さの深い凹部または幅の広い凹部を設けているので、ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが浅くトラックピッチが狭い場合でも、ディスクの偏心量を従来の方法を利用して測定することができる。これにより、偏心量が小さい光ディスク用基板を得ることができる。特に、上記光ディスク用基板の偏心量が３０μｍＰ−Ｐ以下であることが望ましい。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板であって、
該光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外における同一半径上に、上記トラック溝深さより深い連続溝または複数の凹部が形成されていることを特徴とする光ディスク用基板。
【請求項２】
ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板であって、
該光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外における同一半径上に、上記トラックピッチより幅の広い連続溝または複数の凹部が形成されていることを特徴とする光ディスク用基板。
【請求項３】
上記連続溝が上記同一半径上を周回するように形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光ディスク用基板
【請求項４】
上記光ディスク用基板の偏心量が３０μｍＰ−Ｐ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光ディスク用基板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光ディスク用基板を用いて作製した光ディスク。
【請求項６】
ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板を作製するためのスタンパであって、
該スタンパの上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外に対応する部分における同一半径上に、上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域に対応する部分に形成された凸部の高さより高い連続するランドまたは複数の凸部が形成されていることを特徴とするスタンパ。
【請求項７】
ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板を作製するためのスタンパであって、
該スタンパの上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外に対応する部分における同一半径上に、上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域に対応する部分に形成された凸部の幅より広い連続するランドまたは複数の凸部が形成されていることを特徴とするスタンパ。
【請求項８】
上記連続するランドが上記同一半径上を周回するように形成されていることを特徴とする請求項６または７に記載のスタンパ。
【請求項９】
請求項６に記載のスタンパを製造する方法であって、
原盤にレジストを塗布することと；
原盤上に塗布したレジストを所望のパターンで露光することと；
露光されたレジストを現像処理することと；
現像処理したレジストをマスクとして、上記原盤をエッチングすることと；
エッチングした原盤のパターン面上にさらにレジストを塗布することと；
さらにレジストを塗布した原盤をエッチングすることと；
エッチングした後に原盤上のレジストを除去することと；
レジストを除去した原盤のパターン面上に、ニッケルを堆積させることと；を含むスタンパを製造する方法。
【請求項１０】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光ディスク用基板の凹部における少なくとも３点の座標から上記同一半径の円の中心を求め、該円の中心と上記光ディスク用基板の回転中心との距離を求めることにより光ディスク用基板の偏心量を求めることを特徴とする光ディスク用基板の偏心量測定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、トラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の、高密度記録が可能な光ディスク用基板及びその基板製造に用いるスタンパに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
ＣＤ（コンパクトディスク）やＤＶＤ（ディジタルバーサタイルディスク）等の光ディスクでは、許容される光ディスクの偏心量が規格化されている。例えば、ＣＤやＣＤ−Ｒでは１４０μｍＰ−Ｐ（Ｐｅａｋ  ｔｏ  Ｐｅａｋ）以下、ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＷでは７０μｍＰ−Ｐ以下、ＤＶＤ−ＲＡＭでは５０μｍＰ−Ｐ以下となっている。これらの光ディスクの偏心は、光ディスクに用いる基板を射出成形する際に生じる基板の偏心が原因である。基板の偏心には、いくつかの要因があるが、主に基板の射出成形時に用いるスタンパの中心と基板内孔の打ち抜きに使用される射出成形機のカットパンチの中心とのずれと、スタンパ内周押さえの中心とスタンパ内周押さえを装着する射出成形機の金型の中心とのずれに起因している。この基板の偏心量は、基板の情報記録領域に形成されているトラック溝上の点の位置（座標）を光学顕微鏡を用いて測定し、その測定結果から求めることができる。同一半径上に形成されているトラック溝上の複数箇所（最低３ヵ所）を通る円の中心、即ち、基板の中心位置を算出する。この基板の中心位置と上記基板を回転させたときの回転中心位置との距離を求めることにより、その基板の偏心量を求めることができる。そして、求めた偏心量に基づいて射出成形機のスタンパの装着位置を調整した後、次の基板の射出成形を行なう。このように基板の射出成形、基板の偏心量測定及びスタンパの装着位置の調整を繰り返すことにより、偏心量の小さい光ディスク用基板を製造することができる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
高密度記録が可能な光ディスク用の基板、例えば、ユーザによる情報の記録あるいは再生が許容される領域（以下、ユーザ情報記録領域という）のトラック溝深さ３０ｎｍ以下、トラックピッチ４００ｎｍ以下の基板では、従来の基板に比べてトラック溝深さが浅く、狭トラックピッチである。このような基板では、ユーザ情報記録領域の溝パターンから十分な回折光を得ることは困難であるため、偏心量測定の基準となるトラック溝上の点の位置を光学顕微鏡で確認することはできない。したがって、前述のような光学顕微鏡を用いた偏心量測定方法を用いることはできず、偏心量測定用の特別な装置を用意する必要があった。これにより、光ディスク全体の製造コストが増大していた。
【０００４】
ところで、トラック溝部以外の部分にトラック溝部よりも高い凸部が形成された樹脂基板成形用のロール状スタンパが開示されている（例えば、特許文献２参照）。このロール状スタンパは、押し出し成形法による基板成形に用いられるスタンパであり、ロール状スタンパを用いて成形された基板には上記スタンパの凸部に対応する凹部が形成されている。この凹部は、成形した基板を切断または打ち抜く際に位置合わせを容易にするための案内溝として用いられる。しかしながら、この凹部を基板の偏心量測定用の基準（目印）として用いることは、この文献には開示されていない。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−２６０２９９号公報（第１−７頁、第１図−第９図）
【特許文献２】
特開平５−４７０４７号公報（第１−３頁、第１図及び第２図）
【０００６】
そこで、本発明の第１の目的は、前記従来技術の問題点を解決することであり、特別な装置を用いることなく容易に偏心量を測定が可能な基板及びその基板を用いた光ディスクを提供することにある。また、本発明の第２の目的は、上記基板の製造に用いるスタンパ及びその製造方法を提供することにある。さらに、本発明の第３の目的は、上記基板の偏心量を測定する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の態様によれば、ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板であって、該光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外における同一半径上に、上記トラック溝深さより深い連続溝または複数の凹部が形成されていることを特徴とする光ディスク用基板が提供される。
【０００８】
本発明の第２の態様によれば、ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板であって、該光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外における同一半径上に、上記トラックピッチより幅の広い連続溝または複数の凹部が形成されていることを特徴とする光ディスク用基板が提供される。
【０００９】
上記の態様の光ディスク用基板では、ユーザ情報記録領域における凹部よりも深さの深い溝若しくは凹部または幅の広い溝若しくは凹部が設けられているので、ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが浅くトラックピッチが狭い場合でも、上記凹部から十分な回折光を得ることができる。これにより、光学顕微鏡等を用いた従来の偏心量測定方法を利用して基板の偏心量を測定することができる。この偏心量の測定結果に基づいて基板の射出成形時のスタンパ装着位置を調整することにより、さらに偏心量が小さい光ディスク用基板を得ることができる。また、上記連続溝が上記同一半径上を周回するように形成されていることが望ましい。特に、上記光ディスク用基板の偏心量が３０μｍＰ−Ｐ以下であることが望ましい。
【００１０】
本発明の第３の態様によれば、第１または第２の態様における光ディスク用基板を用いて作製した光ディスクが提供される。本発明の光ディスクでは、偏心量を小さくすることができる。
【００１１】
本発明の第４の態様によれば、ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板を作製するためのスタンパであって、該スタンパの上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外に対応する部分における同一半径上に、上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域に対応する部分に形成された凸部の高さより高い連続するランドまたは複数の凸部が形成されていることを特徴とするスタンパが提供される。
【００１２】
本発明の第５の態様によれば、ユーザ情報記録領域のトラック溝深さが３０ｎｍ以下でトラックピッチが４００ｎｍ以下の光ディスク用基板を作製するためのスタンパであって、該スタンパの上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域外に対応する部分における同一半径上に、上記光ディスク用基板のユーザ情報記録領域に対応する部分に形成された凸部の幅より広い連続するランドまたは複数の凸部が形成されていることを特徴とするスタンパが提供される。
【００１３】
第４及び第５の態様のスタンパでは、ユーザ情報記録領域に対応する部分の凸部よりも高さの高いランド若しくは凸部または幅の広いランド若しくは凸部が形成されており、このスタンパを用いて基板を製造することにより、上記のようなトラック溝深さが浅く狭トラックピッチの光ディスク用基板でも、光学顕微鏡等を用いて回折光を十分確認することが可能な、偏心量測定用の凹部を設けることができる。また、上記連続するランドが上記同一半径上を周回するように形成されていることが望ましい。
【００１４】
本発明の第６の態様によれば、第４の態様におけるスタンパを製造する方法であって、
原盤にレジストを塗布することと；
原盤上に塗布したレジストを所望のパターンで露光することと；
露光されたレジストを現像処理することと；
現像処理したレジストをマスクとして、上記原盤をエッチングすることと；
エッチングした原盤のパターン面上にさらにレジストを塗布することと；
さらにレジストを塗布した原盤をエッチングすることと；
エッチングした後に原盤上のレジストを除去することと；
レジストを除去した原盤のパターン面上に、ニッケルを堆積させることと；を含むスタンパを製造する方法が提供される。これにより、第４の態様におけるスタンパを製造することができる。
【００１５】
本発明の第７の態様によれば、第１または第２の態様における光ディスク用基板の凹部における少なくとも３点の座標から上記同一半径の円の中心を求め、該円の中心と上記光ディスク用基板の回転中心との距離を求めることにより光ディスク用基板の偏心量を求めることを特徴とする光ディスク用基板の偏心量測定方法が提供される。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図を用いて説明するが、本発明はこれに限定されない。
【００１７】
【実施例１】
［スタンパの製造方法］
以下に、本実施例における基板成形に用いるスタンパの製造方法を、図１〜３を用いて説明する。図１（ａ）に示すように、直径２００ｍｍ、厚さ６ｍｍの石英ガラス原盤１を用意した。次いで、図１（ｂ）に示すように、ガラス原盤１の一方の表面１５上にポジ型フォトレジスト（以下、レジストと略す）３を、スピンコート法により厚さ８０ｎｍで均一に塗布した（図１（ｂ））。次いで、レジスト３が形成されたガラス原盤１を不図示の原盤露光装置の回転ステージ上に設置した。次いで、波長２５７ｎｍ、出力０．１ｍＷのレーザ光ＬＳ１を開口数０．９の対物レンズを用いて集光させ、図１（ｃ）に示すように、レジスト３に照射した。このとき、ステージに設置したガラス原盤１を、原盤の軸ＡＸを基準に所定の回転数で回転させ、レーザ光ＬＳ１を露光パターンに応じてオン・オフした。また、ガラス原盤１上のレーザ光ＬＳ１の照射位置を、ガラス原盤１の半径方向に沿ってガラス原盤１の内側から外側に向かって移動させた（矢印ＡＲ１）。このような操作により、レジスト３には、基板のユーザ情報記録領域に形成されるピットやグルーブ等に対応するパターンがスパイラル状に露光される。なお、基板のユーザ情報記録領域のグルーブ間ピッチが４００ｎｍとなるように、光照射を制御して露光した。また、ガラス原盤１のユーザ情報記録領域に対応する部分の外側の領域において、軸ＡＸを中心として同一半径上を周回するように、グルーブに相当するパターンを、グルーブ幅１８０ｎｍ、グルーブ間ピッチ４００ｎｍで、原盤半径方向の全体の幅が０．５ｍｍとなるように複数トラック分露光した。上記グルーブに相当するパターンがガラス原盤１のユーザ情報記録領域に対応する部分の内側に存在するように露光してもよい。
【００１８】
次に、レジストが感光されたガラス原盤を原盤露光装置から取り出し、ＰＥＢ（Ｐｏｓｔ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ）によりガラス原盤を加熱した。次いで、ガラス原盤が十分冷却した後にアルカリ現像液を用いて露光されたレジスト部分を除去した。これにより、図２（ａ）に示すように、ユーザ情報記録領域に対応する部分の原盤露出部１ａ及び溝形成部の原盤露出部１ｂが原盤１上に現れた。次いで、図２（ｂ）に示すように、残ったレジストをマスクとしてガラス原盤１のレジスト３形成面をリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）装置（不図示）を用いてエッチングした。このエッチングにより、ガラス原盤１の露出部１ａ及び１ｂを深さ２０〜３０ｎｍまで掘削した。次いで、露出部１ｂを、ステンレスのカバーでマスクし、露出部１ｂ以外の露出部、即ち、露出部１ａ上に耐エッチング性に優れたレジスト５を、スプレー法により厚さ５００ｎｍで塗布した（図２（ｃ））。なお、レジスト塗布時の露出部１ｂのマスクは、ステンレスに限らず、種々のマスクを用い得る。また、レジスト５を塗布する方法は、スプレー法に限らず、例えば、ガラス原盤上にレジストを垂らした後、ワイヤーを用いて引き延ばしてもよい。
【００１９】
さらに、再度ＲＩＥ装置を用いて、レジスト５が塗布されたガラス原盤１をエッチングした。これにより、図３（ａ）に示すように、露出部１ｂは露出部１ａより深く掘削され、深さ４５ｎｍとなった。次いで、ガラス原盤１上に形成されているレジスト３及び５を、レジストアッシング装置（不図示）を用いて除去した。これにより、図３（ｂ）に示すように、表面に基板のユーザ情報記録領域に対応するパターン及び基板の同一半径上に溝パターンが形成されたガラス原盤１’を得た。
【００２０】
ガラス原盤１’のパターン形成面上に無電解メッキを施し、このメッキ層を導電膜として厚さ３００μｍのニッケル層７を電鋳法により形成した（図３（ｃ））。次いで、ガラス原盤１’上に形成したニッケル層７の表面を不図示の研磨装置を用いて研磨し、さらに、ニッケル層７をガラス原盤１’から剥離することにより、図３（ｄ）に示すようなスタンパ７’を得た。露出部１ａに対応するスタンパ７’の凸部７ａの高さは２４ｎｍであり、露出部１ｂに対応する凸部７ｂの高さは４５ｎｍであった。凸部７ａは、基板のユーザ情報記録領域に相当する領域に存在する。
【００２１】
［光ディスク用基板］
次に、スタンパ７’を用いて作製した光ディスク用基板について、図４を用いて説明する。光ディスク用基板は、スタンパ７’を既存の射出成形機（不図示）に装着し、射出成形することにより作製した。これにより、図４に示すような、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製の光ディスク用基板１０を得た。基板１０には、基板中心ＡＸ１を基準として、半径１５ｍｍの内孔１１、半径２２ｍｍ〜５８ｍｍの範囲にピットやグルーブ等の所望のパターンが形成されているユーザ情報記録領域１２が位置し、半径５９ｍｍの位置には複数のグルーブで構成される領域１３が、基板半径方向の幅が０．５ｍｍとなるように形成されている。ユーザ情報記録領域１２に形成されたグルーブの溝深さは２４ｎｍであり、領域１３に形成されたグルーブの溝深さは４５ｎｍであった。また、ユーザ情報記録領域１２のグルーブ溝幅及び領域１３のグルーブ溝幅は、ともに１８０ｎｍであった。光学顕微鏡を用いてユーザ情報記録領域１２のグルーブ溝を確認することはできなかった。一方、領域１３のグルーブは、ユーザ情報記録領域１２のグルーブに対して深く形成されているので、トラックピッチが４００ｎｍ以下であるにもかかわらず光学顕微鏡を用いて確認することができた。この領域１３のグルーブが、基板の偏心量測定用のグルーブとなる。本実施例では、この領域１３における同一グルーブ上の複数点（３点以上）の座標位置を光学顕微鏡で確認することにより基板１０の偏心量を測定した。以下に、光ディスク用基板の偏心量の測定方法を説明する。
【００２２】
［光ディスク用基板の偏心量測定方法］
上記の光ディスク用基板１０の偏心量を、図５に示すような座標測定装置１００を用いて測定した。位置測定装置１００は、主に、光ディスク用基板１０を、基板に設けられた内孔１１を基準として載置するためのステージ１０１、ステージ１０１を回転させるための回転駆動系１０３及び光学顕微鏡を用いた座標測定系１０５で構成されている。位置測定装置１００では、座標測定系１０５を用いて基板上の所望の位置座標が得ることができる。この位置測定装置１００を用いて、基板１０の領域１３に形成された同一グルーブ上の複数点の座標位置（最低３ヵ所）を測定する。測定した複数点の座標から基板１０の中心座標を算出する。この基板１０の中心座標と位置測定装置１００の回転駆動系１０３における回転軸ＡＸ’中心の位置（即ち、基板１０の内孔１１の中心）との距離を算出することにより、基板１０の偏心量を求めることができる。
【００２３】
本発明における基板の偏心量データに基づき、次の基板の射出成形前に射出成形機に設置したスタンパの取り付け位置を調整する。この作業を繰り返すことにより、偏心量３０μｍＰ−Ｐ以下の基板を得ることができた。なお、表１に、複数回にわたる上記基板の偏心量の測定結果及びその平均値を示す。いずれの場合も、偏心量３０μｍＰ−Ｐ以下の条件を満たしていることが分かる。
【００２４】
【表１】
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【００２５】
また、上記光ディスク用基板１０のパターン形成面上に、誘電体膜、記録膜、誘電体膜及び反射膜をこの順でスパッタ法を用いて形成した。本実施例では、誘電体膜としてＺｎＳ−ＳｉＯ２を、記録膜としてＧｅＩｎＳｂＴｅを、また、反射膜としてＡｇをそれぞれ用いた。これにより、偏心量３０μｍＰ−Ｐ以下の高密度記録可能な光ディスクを製造することができる。
【００２６】
【実施例２】
本実施例における基板は、偏心量測定用のグルーブの深さをユーザ情報記録領域の溝の深さと同じにし、偏心量測定用グルーブの溝幅をユーザ情報記録領域の溝幅より広くした以外は実施例１と同様に構成した。以下に、本実施例における基板の作製に用いたスタンパの製造方法を、図６〜８を用いて説明する。図６（ａ）に示すように、直径２００ｍｍ、厚さ６ｍｍの石英ガラス原盤５１を用意した。次いで、図６（ｂ）に示すように、ガラス原盤５１の一方の表面上にレジスト５３を、スピンコート法により厚さ８０ｎｍで均一に塗布した（図６（ｂ））。次いで、レジスト５３が形成されたガラス原盤５１を不図示の原盤露光装置の回転ステージ上に設置した。次いで、波長２５７ｎｍ、出力０．１ｍＷのレーザ光ＬＳ２を開口数０．９の対物レンズを用いて集光させ、図６（ｃ）に示すように、レジスト５３に照射した。このとき、ステージに設置したガラス原盤５１を、原盤の軸ＢＸを基準に所定の回転数で回転させ、レーザ光ＬＳ２を露光パターンに応じてオン・オフした。また、ガラス原盤５１上のレーザ光ＬＳ２の照射位置を、ガラス原盤５１の半径方向に沿ってガラス原盤５１の内側から外側に向かって移動させた（矢印ＡＲ５）。このような操作により、レジスト５３には、基板のユーザ情報記録領域に形成されるピットやグルーブ等に対応するパターンがスパイラル状に露光される。さらに、ガラス原盤５１のユーザ情報記録領域に対応する部分の外側の領域において、軸ＢＸを中心として同一半径上を周回するように、グルーブに相当するパターンを、溝幅２５０ｎｍ、溝間ピッチ１．６μｍで、原盤の半径方向の全体の幅が０．５ｍｍとなるように複数トラック分露光した。
【００２７】
次に、レジスト５３が感光されたガラス原盤５１を原盤露光装置から取り出し、ＰＥＢによりガラス原盤５１を加熱した。次いで、ガラス原盤５１が十分冷却した後にアルカリ現像液を用いて露光されたレジスト部分を除去した。これにより、図７（ａ）に示すように、ユーザ情報記録領域に対応する部分の原盤露出部５１ａ及び溝形成部の原盤露出部５１ｂが原盤５１上に現れた。次いで、図７（ｂ）に示すように、残ったレジストをマスクとして、ガラス原盤５１のレジスト５３形成面をＲＩＥ装置（不図示）を用いてエッチングした。このエッチングにより、ガラス原盤５１の露出部５１ａ及び５１ｂを深さ２０〜３０ｎｍまで掘削した。次いで、ガラス原盤５１上に形成されているレジスト５３を、レジストアッシング装置（不図示）を用いて除去した。これにより、図７（ｃ）に示すように、表面に基板のユーザ情報記録領域に対応するパターン及び同一半径上に溝パターンが形成されたガラス原盤５１’を得た。
【００２８】
ガラス原盤５１’のパターン形成面上に無電解メッキを施し、このメッキ層を導電膜として厚さ３００μｍのニッケル層５７を電鋳法により形成した（図８（ａ））。電鋳法に代えて、スパッタリング法を用いてニッケル層を形成してもよい。次いで、ガラス原盤５１’上に形成したニッケル層５７の表面を不図示の研磨装置を用いて研磨し、さらに、ニッケル層５７をガラス原盤５１’から剥離することにより、図８（ｂ）に示すようなスタンパ５７’を得た。露出部５１ａに対応するスタンパ５７’の凸部５７ａの幅は１８０ｎｍであり、露出部５１ｂに対応する凸部５７ｂの幅は２５０ｎｍであった。凸部５７ａは、基板のユーザ情報記録領域に相当する領域に存在する。
【００２９】
実施例１と同様にして、上記スタンパ５７’を用いて射出成形することにより、図９に示すような光ディスク用基板２０を得た。基板２０には、基板中心ＡＸ２を基準として、半径１５ｍｍの内孔２１、半径２２ｍｍ〜５８ｍｍの範囲にピットやグルーブ等の所望のパターンが形成されているユーザ情報記録領域２２が位置し、半径５９ｍｍの位置には複数のグルーブで構成される領域２３が、基板半径方向の幅が０．５ｍｍとなるように形成されている。ユーザ情報記録領域２２に形成されたグルーブの溝幅は１８０ｎｍであり、領域２３におけるグルーブの溝幅は２５０ｎｍであった。また、ユーザ情報記録領域２２のグルーブ溝深さ及び領域２３のグルーブの溝深さは、ともに２４ｎｍであった。光学顕微鏡を用いてユーザ情報記録領域２２のグルーブを確認することはできなかった。一方、領域２３のグルーブは、ユーザ情報記録領域２２のグルーブに対して幅が広く形成されているので、溝深さが３０μｍ以下であるにもかかわらず光学顕微鏡を用いて確認することができた。実施例１と同様に、上記の位置測定装置を用いて領域２３における同一グルーブ上の複数点（３点以上）の座標位置を測定し、基板２０の中心位置と回転中心の位置との距離を算出することにより、基板２０の偏心量を求めることができる。
【００３０】
【変形例】
上記実施例では、基板の偏心量測定用のグルーブとして同一半径上を一周周回する連続溝を形成した領域を設けたが、図１０に示すように、基板３０のユーザ情報記録領域３２以外の所定領域における同一半径３３上に、連続溝を部分的に形成した領域を設けてもよい（領域３３ａ〜３３ｃ）。なお、図１０では、部分的な連続溝を形成した領域を３つ設けた状態を示しているが、測定する座標位置が３点以上得られるような長さの溝であれば１つでも、それ以上でも構わない。また、連続溝の代わりに点状の凹部を複数（３ヶ所以上）設けてもよい。領域３３ａ〜３３ｃにおけるグルーブは、実施例１におけるユーザ情報記録領域に形成された凹部より一層深い溝、実施例２におけるユーザ情報記録領域に形成された凹部より一層幅の広い溝、または、その組み合わせのいずれの構造にしてもよい。
【００３１】
【発明の効果】
本発明における基板を用いることにより、グルーブ溝深さが３０ｎｍ以下、トラックピッチ４００ｎｍ以下の高密度記録可能な光ディスク用基板の偏心量を、特別な装置を用いずに容易に測定することができる。これにより、光ディスク全体の製造コストの上昇を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１で用いたスタンパの製造工程を示した図である。
【図２】本発明の実施例１で用いたスタンパの製造工程を示した図である。
【図３】本発明の実施例１で用いたスタンパの製造工程を示した図である。
【図４】本発明の実施例１で作成した基板の概略図である。
【図５】本発明の実施例１における基板の偏心量測定に用いた座標測定装置の概略図である。
【図６】本発明の実施例２で用いたスタンパの製造工程を示した図である。
【図７】本発明の実施例２で用いたスタンパの製造工程を示した図である。
【図８】本発明の実施例２で用いたスタンパの製造工程を示した図である。
【図９】本発明の実施例２で作成した基板の概略図である。
【図１０】本発明の変形例における基板の概略図である。
【符号の説明】
１，５１  ガラス原盤
３，５，５３  レジスト
７，５７  ニッケル導電膜
７’，５７’  スタンパ
１０，２０，３０  基板
１１，２１，３１  内孔
１２，２２，３２  ユーザ情報記録領域
１３，２３，３３ａ〜３３ｃ  領域
１００  座標測定装置
ＡＸ，ＢＸ  回転軸
ＡＸ１，ＡＸ２，ＡＸ３  基板中心
ＬＳ１，ＬＳ２  レーザ光
【図１】
2004259309.tif 000004
【図２】
2004259309.tif 000005
【図３】
2004259309.tif 000006
【図４】
2004259309.tif 000007
【図５】
2004259309.tif 000008
【図６】
2004259309.tif 000009
【図７】
2004259309.tif 000010
【図８】
2004259309.tif 000011
【図９】
2004259309.tif 000012
【図１０】
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