(57)【要約】【課題】基板を平行に安定化させて搬送できる。【解決手段】基板１の一方側にばねの付勢力で圧接するローラ３の上下軸部は、板ばねよりなるローラ支持板４に回転自在に支承されている。ローラ支持板４は、ローラ３の上下軸部を上下より保持するローラ支持部４ａと、このローラ支持部４ａの基部より基板搬送方向に伸びた弾性変形可能な板ばね部４ｂとからなっている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方側をばねで付勢されたローラで押し付けて搬送する基板搬送用ガイド装置において、前記ローラは、水平方向に移動可能に設けられたローラ支持板で保持され、該ローラ支持板は、前記ローラが基板に圧接するように前記ばねで付勢されていることを特徴とする基板搬送用ガイド装置。
【請求項２】
前記ローラ支持板は、ローラの上下軸部を保持するローラ支持部と、このローラ支持部の基部より基板搬送方向と平行に伸び、端部が装置の固定部に固定された板ばね部とからなることを特徴とする請求項１記載の基板搬送用ガイド装置。
【請求項３】
前記ローラは、下方が小径の逆台形形状のローラ部と、このローラ部の下端に設けられた受け部とからなることを特徴とする請求項１記載の基板搬送用ガイド装置。
【請求項４】
前記ローラは、外周が該ローラの軸心に平行なローラ部と、このローラ部の下端に設けられた受け部とからなり、前記軸心の上端が前記基板側に傾斜するように配設されていることを特徴とする請求項１記載の基板搬送用ガイド装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置における基板搬送用ガイド装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ワイヤボンディング装置やダイボンディング装置等の半導体製造装置における基板搬送用ガイド装置は、一般的に、相対向して配置された一対のガイドレールのガイド溝によって基板の両側端部をガイドしている。（特許文献１参照）。
【０００３】
ところで、基板の幅が例えば７５ｍｍと大きく、寸法公差が大きいセラミック基板、又は熱膨張の大きい基板においては、一対のガイドレールのガイド溝間の幅を寸法公差の大きい基板又は熱膨張時の大きい基板に設定する必要がある。このため、寸法公差の小さい基板又は熱膨張前の基板をフィーダーで搬送すると、基板が傾いて搬送され、搬送ミスや基板の破壊等を引き起こすという問題があった。
【０００４】
従来、基板のばらつきに適合できるように、基板搬送幅を自動的に可変でき、基板を平行に搬送できる基板搬送用ガイド装置として、図７に示すものが知られている。（特許文献２参照）
【０００５】
図７に示すように、基板１の搬送方向に平行にガイド板４０が配設され、このガイド板４０に対向して複数のローラ４１が配設されている。ローラ４１は、偏心軸４２に回転自在に支承され、偏心軸４２は揺動台４３にねじ４４で固定されている。揺動台４３は、図示しない架台に固定されたシャフト４５に回転自在に支承されている。揺動台４３には、ピン４６が固定されており、ピン４６には、揺動台４３の上面をストッパ板４７に押し付けるようにばね４８が配設されている。基板１はベルト４９によって搬送される。
【０００６】
そこで、ローラ４１は、ばね４８の付勢力で基板１をガイド板４０に押し付けた状態で搬送できる。即ち、ローラ４１は、シャフト４５を中心として左右方向に揺動できるので、基板１の幅ばらつきをばね４８で吸収して対応することができる。
【０００７】
特許文献１：特公平２−５４６６４号公報
特許文献２：特開平７−７３５７９号公報の図４及び〔０００９〕項の説明参照
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献２は、ローラ４１の軸心が傾いて、即ちローラ４１の姿勢が変化して基板１のばらつきに対応する。このように、ローラ４１の上端が外側に傾いて基板１を搬送するので、基板１のローラ４１側が浮き上がり、搬送ミスが生じ、安定した状態で搬送できない。
【０００９】
本発明の課題は、基板を平行に安定化させて搬送できる基板搬送用ガイド装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の請求項１は、基板の一方側をばねで付勢されたローラで押し付けて搬送する基板搬送用ガイド装置において、前記ローラは、水平方向に移動可能に設けられたローラ支持板で保持され、該ローラ支持板は、前記ローラが基板に圧接するように前記ばねで付勢されていることを特徴とする。
【００１１】
上記課題を解決するための本発明の請求項２は、上記請求項１において、前記ローラ支持板は、ローラの上下軸部を保持するローラ支持部と、このローラ支持部の基部より基板搬送方向と平行に伸び、端部が装置の固定部に固定された板ばね部とからなることを特徴とする。
【００１２】
上記課題を解決するための本発明の請求項３は、上記請求項１において、前記ローラは、下方が小径の逆台形形状のローラ部と、このローラ部の下端に設けられた受け部とからなることを特徴とする。
【００１３】
上記課題を解決するための本発明の請求項４は、上記請求項１において、前記ローラは、外周が該ローラの軸心に平行なローラ部と、このローラ部の下端に設けられた受け部とからなり、前記軸心の上端が前記基板側に傾斜するように配設されていることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の第１の実施の形態を図１乃至図３により説明する。ガイド溝２ａを有するガイドレール２に対向して複数個のローラ３、３・・・が配設されており、このローラ３の上下軸部は板ばねよりなるローラ支持板４に回転自在に支承されている。ローラ３は、下方が小径に形成された逆台形形状のローラ部３ａと、このローラ部３ａの下端に設けられた受け部３ｂとからなっている。ローラ支持板４は、ローラ３の上下軸部に嵌挿されてローラ３を上下よりばね力で保持する逆コ字形状のローラ支持部４ａと、このローラ支持部４ａの基部より基板搬送方向に伸びた板ばね部４ｂとからなっている。
【００１５】
ローラ支持板４の板ばね部４ｂの端部は、ガイドレール２と平行に伸びたばね支持板１０に押さえ板１１を介してねじ１２で固定されており、ばね支持板１０には、ローラ支持板４のローラ支持部４ａに対応した位置に切り欠き溝１０ａが形成されている。ばね支持板１０は支持台１３に固定されており、支持台１３は図示しない架台に固定されている。またガイドレール２とローラ３間には、基板１を加熱するヒートブロック１４が配設されている。
【００１６】
次に作用について説明する。図１乃至図３は、幅の小さい基板１が供給されている状態を示す。従って、ローラ支持板４は、板ばね部４ｂの付勢力によって該板ばね部４ｂがばね支持板１０に圧接している状態にある。基板１は、図示しないフィーダーでガイドレール２とローラ３、３・・・間で搬送される。基板１のばらつきにより、幅の大きな基板１がガイドレール２とローラ３間に供給されると、ローラ支持板４の板ばね部４ｂが外側に弾性変形し、ローラ３は板ばね部４ｂの付勢力で基板１をガイドレール２に押し付ける。これにより、基板１の幅方向のばらつきを板ばね部４ｂで吸収し、基板１は傾くことなく平行に図示しないフィーダーによって搬送される。
【００１７】
このように、ローラ支持板４の板ばね部４ｂは水平方向に弾性変形し、ローラ３の姿勢が変化することがないので、基板１のローラ３側の端部が浮き上がることがなく、常に安定した状態で搬送される。また、本実施の形態のように、ローラ３の形状を下方が小径の逆台形形状となったローラ部３ａとすると、ローラ部３ａによって基板１は下方に押し下げられるので、更に基板１の浮き上がり防止効果が向上すると共に、基板１をヒートブロック１４に密着させることができる。またローラ部３ａの下端に受け部３ｂを設けると、基板１の下面に突起物がある場合、ヒートブロック１４を上下動させた時の受けとなると共に、ヒートブロック１４が上下動するものであっても、該ヒートブロック１４の下降によって基板１が落下することがない。
【００１８】
図４は本発明の第２の実施の形態を示す。なお、図１乃至図３と同じ又は相当部材には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。前記実施の形態は、ローラ３のローラ部３ａを逆台形形状に形成した。本実施の形態においては、ローラ３は、ローラ部３ａの外周がローラ３の軸心に平行となっており、ローラ３の軸心の上端が基板１側に傾斜するようにローラ支持板４のローラ支持部４ａに保持されている。
【００１９】
本実施の形態においても前記実施の形態と同様に、ローラ支持板４の板ばね部４ｂは水平方向に弾性変形し、ローラ３の姿勢が変化することがないので、基板１のローラ３側の端部が浮き上がることがなく、常に安定した状態で搬送される。またローラ部３ａの基板１に圧接する面は、上端が基板１側に傾いているので、前記実施の形態と同様に、ローラ部３ａによって基板１は下方に押し下げられ、更に基板１の浮き上がり防止効果が向上すると共に、基板１をヒートブロック１４に密着させることができる。
【００２０】
なお、上記各実施の形態は、ローラ支持板４全体を１つの板ばね部材で形成したが、ローラ支持部４ａと板ばね部４ｂを別体で形成し、ローラ支持部４ａは板ばね部材でなく、板ばね部４ｂのみを板ばね部材としてもよい。またローラ３は、基板１に圧接するローラ部３ａにベアリングを使用し、ベアリングを支軸に回転自在に支承させ、支軸をローラ支持板４のローラ支持部４ａに固定してもよい。
【００２１】
図５は本発明の第３の実施の形態を示す。支持台１３には支持板２０が固定され、支持板２０にはガイド棒２１、２１が水平移動可能に嵌挿されている。ガイド棒２１、２１には断面逆コ字形状のローラ支持板２２が固定されており、ローラ支持板２２にはローラ３が回転自在に支承されている。ローラ３は、前記第１の実施の形態と同様に、下方が小径の逆台形形状のローラ部３ａと、このローラ部３ａの下端に固定された受け部３ｂとからなっている。支持板２０にはばね収納穴２０ａが形成され、ローラ部３ａが基板１に圧接するように、ローラ支持板２２は、ばね収納穴２０ａに装着された圧縮ばね２３で付勢されている。
【００２２】
このように構成しても、ローラ３を支持するローラ支持板２２は、ガイド棒２１、２１と共に水平方向に移動し、ローラ３の姿勢が変化することがないので、前記第１の実施の形態と同様に、基板１のローラ３側の端部が浮き上がることがなく、常に安定した状態で搬送される。またローラ部３ａによって基板１は下方に押し下げられ、更に基板１の浮き上がり防止効果が向上すると共に、基板１をヒートブロック１４に密着させることができる。
【００２３】
図６は本発明の第４の実施の形態を示す。本実施の形態は、支持台１３には支持板３０が固定され、支持板３０には逆コ字形状の支持板３１が固定されている。支持板３１には、垂直に支軸３２が固定されており、支軸３２にはローラ支持ブロック３３が回転自在に支承されている。ローラ支持ブロック３３には、前記構成よりなるローラ３が回転自在に支承されている。そして、ローラ３のローラ部３ａが基板１に圧接するように、支持板３０とローラ支持ブロック３３には引っ張りばね３４が掛けられている。
【００２４】
このように構成しても、ローラ３を支持するローラ支持ブロック３３は支軸３２を中心として水平方向に揺動し、ローラ３の姿勢が変化することがないので、前記第１の実施の形態と同様に、基板１のローラ３側の端部が浮き上がることがなく、常に安定した状態で搬送される。またローラ部３ａによって基板１は下方に押し下げられ、更に基板１の浮き上がり防止効果が向上すると共に、基板１をヒートブロック１４に密着させることができる。
【００２５】
なお、図５及び図６の第３及び第４の実施の形態は、下方が小径の逆台形形状のローラ部３ａを有するローラ３を用いた。これらの実施の形態においても、図４の場合と同様に、ローラ部３ａの外周がローラ３の軸心に平行なローラ３を用い、軸心の上端が基板１側に傾斜するようにローラ支持板２２又は３３に保持されてもよい。
【００２６】
【発明の効果】
本発明は、基板の一方側をばねで付勢されたローラで押し付けて搬送する基板搬送用ガイド装置において、前記ローラは、水平方向に移動可能に設けられたローラ支持板で保持され、該ローラ支持板は、前記ローラが基板に圧接するように前記ばねで付勢されているので、基板を平行に安定化させて搬送できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の基板搬送用ガイド装置の第１の実施の形態を示す平面図である。
【図２】図１の正面図である。
【図３】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】本発明の基板搬送用ガイド装置の第２の実施の形態を示す断面図である。
【図５】本発明の基板搬送用ガイド装置の第３の実施の形態を示し、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は要部断面側面図である。
【図６】本発明の基板搬送用ガイド装置の第４の実施の形態を示し、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は要部断面側面図である。
【図７】従来の基板搬送用ガイド装置の説明図である。
【符号の説明】
１    基板
２    ガイドレール
３    ローラ
３ａ    ローラ部
３ｂ    受け部
４    ローラ支持板
４ａ    ローラ支持部
４ｂ    板ばね部
１０    ばね支持板
１２    ねじ
１３    支持台
１４    ヒートブロック
２０    支持板
２１    ガイド棒
２２    ローラ支持板
２３    圧縮ばね
３０、３１    支持板
３２    支軸
３３    ローラ支持ブロック
３４    引っ張りばね
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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