(57)【要約】【課題】ステージの移動距離が短くとも、振動等の悪影響を生じずに移動に要する時間を短縮することができるステージ制御装置、露光装置、ステージ制御方法を提供する。【解決手段】本発明のステージ制御装置は、被制御対象たるステージの移動距離に応じて、ステージの加速時間Ｔ１と、この加速時間内に占めるステージの加速度をほぼ一定に維持して移動する時間Ｔｂ１との比を可変する加速度制御を行う加速度制御部（制御コントローラ２）を備える。【選択図】　図７
2004014757.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージが移動する際の加速度を制御するステージ制御装置において、
前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速時間と、当該加速時間内に占める前記ステージの加速度をほぼ一定に維持して移動する一定加速度維持時間との比を可変する加速度制御を行う加速度制御部を備えることを特徴とするステージ制御装置。
【請求項２】
前記ステージ制御装置は、前記ステージの加速度の制御を切り替えるための第１移動距離と当該第１移動距離よりも短い第２移動距離とを算出する算出部を更に備え、
前記加速度制御部は、前記ステージの移動距離が前記第１移動距離よりも短く第２移動距離よりも長い場合に、前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速時間と当該加速時間内に占める前記一定加速度維持時間との比を可変し、前記ステージの移動距離が前記第２移動距離よりも短い場合に、前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速中に到達する最大加速度を可変する加速度制御を行うことを特徴とする請求項１記載のステージ制御装置。
【請求項３】
前記算出部は、前記移動距離に拘わらず予め定められた、前記ステージを加減速する第１基準加速時間と前記ステージの基準加速度と前記ステージの加速度が前記基準加速度となるように一定に維持して加速する基準一定加速度維持時間とを用いて、速度を上昇させる前記基準加速度を前記ステージに与えた場合の前記第１基準加速時間内における前記ステージの移動距離と、速度を下降させる前記基準加速度を前記ステージに与えた場合の前記第１基準加速時間内における前記ステージの移動距離との和を算出し、当該和を前記第１移動距離とすることを特徴とする請求項２記載のステージ制御装置。
【請求項４】
前記算出部は、前記基準加速度と、前記第１基準加速時間内の前記基準一定加速度維持時間をゼロとした第２基準加速時間とを用いて、速度を上昇させる前記基準加速度を前記ステージに与えた時の前記第２基準加速時間内における前記ステージの移動距離と、速度を下降させる前記基準加速度を前記ステージに与えたときの前記第２基準加速時間内における前記ステージの移動距離との和を算出し、当該和を前記第２移動距離とすることを特徴とする請求項３記載のステージ制御装置。
【請求項５】
マスクに形成されたパターンを感光基板に転写する露光装置であって、
前記マスクを載置するマスクステージと、
前記感光基板を載置する基板ステージと、
前記マスクステージと前記基板ステージとを制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方を制御する請求項１から請求項４の何れか一項に記載のステージ制御装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記露光装置は、前記マスクステージと前記基板ステージとが同期走査することにより前記パターンを前記感光基板に転写する走査型露光装置であり、
前記ステージ制御装置は、前記基板ステージが露光開始位置へ移動する際の加速度制御を行うことを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
ステージが移動する際の加速度を制御するステージ制御方法において、
前記ステージの移動距離と前記ステージの加速度の制御を切り替えるための第１移動距離とを比較する第１比較工程と、
前記ステージの移動距離と前記第１移動距離よりも短い距離に設定された第２移動距離とを比較する第２比較工程と、
前記第１比較工程及び前記第２比較工程の比較により、前記ステージの移動距離が前記第１移動距離よりも短く、且つ前記第２移動距離よりも長い場合には、前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速時間と当該加速時間内に占める一定加速度維持時間との比を可変する第１可変工程と、
前記第１比較工程及び前記第２比較工程の比較により、前記ステージの移動距離が前記第２移動距離よりも短い場合には、前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速中に到達する最大加速度を可変する第２可変工程と
を含むことを特徴とするステージ制御方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ステージ制御装置、露光装置、ステージ制御方法に係り、特にマスク又は基板等の物体を保持した状態で移動可能に構成されたステージの移動動作を制御するステージ制御装置及び方法、並びに、当該ステージを備える露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子、液晶表示素子、その他のマイクロデバイスの製造においては、露光装置を用いてフォトマスクやレチクル（以下、これらを総称する場合には、マスクという）に形成された微細なパターンをフォトレジスト等の感光剤が塗布された半導体ウェハやガラスプレート等（以下、これらを総称する場合には、感光基板という）の上に転写することが繰り返し行われる。
【０００３】
上記露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（所謂、ステッパ）又はステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置が用いられることが多い。ステッパは、マスクと感光基板との相対的な位置合わせを行った後で、マスクに形成されたパターンを感光基板上に設定された１つのショット領域に一括して転写し、転写後に感光基板をステップ移動させて他のショット領域の露光を行う露光装置である。また、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置は、マスクと感光基板とを相対的に移動（走査）させつつマスクに形成されたパターンを順次感光基板に転写した後、走査方向に対して直交する方向に感光基板を所定距離移動させた後で再度走査露光を行う露光装置である。
【０００４】
上記のステッパは、基板ステージがステップ移動すると共に、マスクを保持したマスクステージが基板ステージに追従して高精度な位置決めを行っているため、マスクを保持するマスクステージの位置と感光基板を保持する基板ステージの位置とを制御するステージ制御装置を備える。また、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置は、マスクと感光基板とを共に移動させる必要があるため、マスクを保持するマスクステージの位置と基板ステージの位置とを制御するステージ制御装置を備える。
【０００５】
上述したステージ制御装置の何れにおいても、基板ステージを移動させる場合には、加速により速度を上昇させ、減速により速度を下降させる制御を基本としている。基板ステージをある距離（例えば、感光基板上に設定されたショット領域の１辺の長さ程度の距離）よりも長い距離だけ移動させる場合には、ステージ制御装置は加速期間及び減速期間の長さ及びこれらの期間内における加速度曲線（加速度の時間的変化を規定する曲線）の形状を変えずに、加速期間と減速期間との間に基板ステージを等速で移動させる期間を設け、この期間の長さを移動距離に応じて可変させる制御を行っている。
【０００６】
図１４，図１５は、基板ステージを移動させる際に用いる従来の加速度曲線の例を示す図である。図１４に示した加速度曲線は加速度が三角形状に変化する加速度曲線であり、図１５に示した加速度曲線は台形形状に加速度が変化する加速度曲線である。尚、図１５に示す加速度曲線は、図１４に示す加速度曲線よりも平均加速度が高く設定された加速度曲線である。基板ステージの移動距離が上記のある距離以上に設定されている場合には、ステージ制御装置は、図１４（ａ），図１５（ａ）に示すように、加速期間Ｔ１００と減速期間Ｔ１０２との間に等速移動期間Ｔ１０１を設け、基板ステージの移動距離に応じて等速移動期間Ｔ１０１の長さを可変した加速度曲線を生成して基板ステージを制御する。
【０００７】
また、ステージ制御装置は、基板ステージを上述したある距離よりも短い距離移動させる場合には、加速期間及び減速期間を短縮するとともに、これらの期間を短縮した分だけ加速期間及び減速期間内における加速度曲線の形状を相似的に縮小して、最大加速度及び平均加速度を低下させる制御を行っている。図１４，図１５に示した例では、基板ステージの移動距離が上記のある距離と等しい距離に設定されている場合には、ステージ制御装置は、図１４（ｂ）中の加速度曲線Ａ１１又は図１５（ａ）中の加速度曲線Ａ２１を生成する。
【０００８】
基板ステージの移動距離が上記のある距離以下に設定されると、ステージ制御装置は、図１４（ｂ）に示すように設定された移動距離に応じて加速度曲線Ａ１１を相似的に縮小した加速度曲線Ａ１２を生成し、又は、図１５（ｂ）に示すように設定された移動距離に応じて加速度曲線Ａ２１を相似的に縮小した加速度曲線Ａ２２を生成する。尚、以下の説明においては、上述したある距離よりも長く設定された移動距離をロングステップ距離、短く設定された移動距離をショートステップ距離という。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述したように、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置及びステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置においては、基板ステージの移動距離がショートステップ距離に設定された場合には、ステージ制御装置は基板ステージの最大加速度及び平均加速度を低下させる制御を行っていため、ショートステップ距離分だけ基板ステージを移動させるときには、移動に要する時間が長くなる傾向がある。
【００１０】
かかる不具合を防止するためには、移動距離がショートステップ距離に設定されたときに加速度曲線の形状を変化させて加速期間及び減速期間における平均加速度を上昇させれば良いと考えられる。しかしながら、平均加速度を上昇させるために、例えば加速度の時間変化率を高く設定して加速度曲線の形状を変化させると、基板ステージに設けられたモータ（例えば、リニアモータ）に電流を供給するアンプの負荷が増大するとともに、急激な加速による高次の機械系の振動を誘発する虞があり、更にはステージの追従に遅れが生ずることも考えられる。このため、加速度の時間変化率を高く設定するような加速度曲線の形状変化を易々と行うことはできない。
【００１１】
近年においては、半導体素子のチップサイズが小型化しており、従来よりも基板ステージの移動距離がショートステップ距離に設定される機会が増大しているため、スループット（単位時間に処理（例えば、露光処理）することができる感光基板の枚数）の向上を図るためには、ショートステップ距離の移動に要する時間を短縮することが極めて重要になってきた。
【００１２】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ステージの移動距離が短くとも、振動等の悪影響を生じずに移動に要する時間を短縮することができるステージ制御装置、露光装置、ステージ制御方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のステージ制御装置は、ステージ（６）が移動する際の加速度を制御するステージ制御装置において、前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速時間（Ｔ１）と、当該加速時間内に占める前記ステージの加速度をほぼ一定に維持して移動する一定加速度維持時間（Ｔｂ１）との比（λ）を可変する加速度制御を行う加速度制御部（２）を備えることを特徴としている。
この発明によれば、ステージの移動距離に応じて、ステージの加速時間と、加速時間内に占めるステージの加速度をほぼ一定に維持して移動する一定加速度維持時間との比を可変する加速度制御を行っており、ステージの移動距離が短くなっても加速度時間内における平均加速度の低下が現れないか、現れても従来よりは僅かである。このため、ステージの移動距離が短くとも、振動等の悪影響を生じずに移動に要する時間を短縮することができる。
また、本発明のステージ制御装置は、ステージの加速度の制御を切り替えるための第１移動距離（Ｌ１）とその第１移動距離よりも短い第２移動距離（Ｌ２）とを算出する算出部（２１）を更に備え、その加速度制御部は、ステージの移動距離（Ｌ）が第１移動距離よりも短く第２移動距離よりも長い場合に、ステージの移動距離に応じて、ステージの加速時間（Ｔ１）と当該加速時間内に占める一定加速度維持時間（Ｔｂ１）との比（λ）を可変し、ステージの移動距離が第２移動距離よりも短い場合に、ステージの移動距離に応じて、ステージの加速中に到達する最大加速度（αｍａｘ）を可変する加速度制御を行うものとすることができる。これによればステージの移動距離に応じて最適な加速度曲線（α（ｔ））によってステージを駆動することができ、ステージの移動に要する時間を短縮することができる。
また、本発明のステージ制御装置の有する算出部は、移動距離（Ｌ）に拘わらず予め定められた、ステージを加減速する第１基準加速時間（Ｔ１）とステージの基準加速度とステージの加速度が基準加速度となるよう一定に維持して加速する基準一定加速度維持時間（Ｔｂ）とを用いて、速度を上昇させる基準加速度（αｍａｘ）をステージに与えた場合の第１基準加速時間内におけるステージの移動距離と、速度を下降させる基準加速度（−αｍａｘ）をステージに与えた場合の第１基準加速時間（Ｔ３）内におけるステージの移動距離との和を算出し、当該和を第１移動距離（Ｌ１）とすることができる。
また、本発明のステージ制御装置の有する算出部は、その基準加速度（αｍａｘ）と、その第１基準加速時間（Ｔ１）内の基準一定加速度維持時間（Ｔｂ）をゼロとした第２基準加速時間（Ｔａ＋Ｔｃ）とを用いて、速度を上昇させるその基準加速度をステージに与えた時の第２基準加速時間内におけるステージの移動距離と、速度を下降させる基準加速度（−αｍａｘ）をステージに与えたときの第２基準加速時間内におけるステージの移動距離との和を算出し、当該和を第２移動距離（Ｌ２）とすることができる。
上記課題を解決するために、本発明の露光装置は、マスク（Ｒ）に形成されたパターンを感光基板（Ｗ）に転写する露光装置であって、前記マスクを載置するマスクステージ（５８）と、前記感光基板を載置する基板ステージ（６５）と、前記マスクステージと前記基板ステージとを制御する制御装置（６２、６３、６９）とを備え、前記制御装置は、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方を制御する上記ステージ制御装置を備えることを特徴としている。露光装置はマスクのパターンを感光基板に転写する際に短い距離（例えば、数十ミリメートル）のステップ動作を繰り返す。この発明によれば、上述したステージ制御装置を備えてマスクステージ及びウェハステージの少なくとも一方の移動動作を制御しており、短い距離に設定された距離を移動するのに要する時間を短縮することができるため、スループットの向上を図ることができる。
また、本発明の露光装置は、マスクステージと基板ステージとが同期走査することによりパターンを前記感光基板に転写する走査型露光装置であり、そのステージ制御装置は、基板ステージが露光開始位置へ移動する際の加速度制御を行うことを特徴とするものである。これにより、基板上の一の領域を走査露光した後、次の領域の走査露光を開始するまでの間の基板ステージの移動時間を移動距離に応じて最適に短縮することができ、スループットの向上を図ることができる。上記課題を解決するために、本発明の露光方法は、ステージが移動する際の加速度を制御するステージ制御方法において、前記ステージの移動距離と前記ステージの加速度の制御を切り替えるための第１移動距離とを比較する第１比較工程（Ｓ２）と、前記ステージの移動距離と前記第１移動距離よりも短い距離に設定された第２移動距離とを比較する第２比較工程（Ｓ３）と、前記第１比較工程及び前記第２比較工程の比較により、前記ステージの移動距離が前記第１移動距離よりも短く、且つ前記第２移動距離よりも長い場合には、前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速時間と当該加速時間内に占める一定加速度維持時間との比を可変する第１可変工程（Ｓ１０）と、前記第１比較工程及び前記第２比較工程の比較により、前記ステージの移動距離が前記第２移動距離よりも短い場合には、前記ステージの移動距離に応じて、前記ステージの加速中に到達する最大加速度を可変する第２可変工程（Ｓ１１）とを含むことを特徴としている。
この発明によれば、ステージを移動すべき移動距離とステージの加速度の制御を切り替えるための第１移動距離及び第２移動距離とを比較し、この比較結果に応じてステージの加速時間と加速時間内に占める一定加速度維持時間との比を可変し、又はステージの加速中に到達する最大加速度を可変する加速度制御を行ってステージの移動距離に応じた平均加速度の低下を極力避けることができる。この結果として、ステージの移動距離が短くとも、振動等の悪影響を生じずに移動に要する時間を短縮することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態によるステージ制御装置、露光装置、ステージ制御方法について詳細に説明する。
【００１５】
〔ステージ制御装置〕
図１は、本発明の一実施形態によるステージ制御装置の構成を示すブロック図である。尚、本実施形態では、基板としてのウェハ（半導体ウェハ）Ｗを水平面内で移動させるステージ制御装置について説明する。また、ウェハＷが移動する水平面内に互いに直交するＸ軸及びＹ軸を設定して説明を進める。図１に示すように、本実施形態のステージ制御装置は、上位コントローラ１、制御コントローラ２、電流増幅部３ａ〜３ｃ、及び位置検出部４ａ，４ｂを含み、被制御対象としてのステージ装置５を制御する。
【００１６】
上位コントローラ１は、加速度制御部としての制御コントローラ２に対してＸＹ面内におけるウェハＷの位置を指示する制御信号を出力する。制御コントローラ２は、上位コントローラ１から出力される制御信号と後述する位置検出部４ａ，４ｂから出力される検出信号とに基づいて、ステージ装置５が備えるリニアモータ１０〜１２を駆動するための駆動信号を生成し、ウェハＷを載置するステージとしてのウェハステージ６の加速度を制御する。電流増幅部３ａ〜３ｃは、制御コントローラ２から出力される駆動信号の電流を所定の増幅率で増幅してステージ装置５に設けられるリニアモータ１０〜１２にそれぞれ供給する。位置検出部４ａ，４ｂは、ウェハステージ６のＸ方向の位置及びＹ方向の位置（ステージ位置）を検出する。
【００１７】
次に、ステージ装置５について詳細に説明する。図２は、ステージ装置５の構成例を示す斜視図である。図１及び図２に示すように、ステージ装置５は、ウェハステージ６、このウェハステージ６をＸＹ平面に沿った２次元方向に移動可能に支持するウェハ定盤７、ウェハステージ６と一体的に設けられウェハＷを吸着保持する試料台８、これらウェハステージ６及び試料台８を相対移動自在に支持するＸガイドバー９を主体に構成されている。ウェハステージ６の底面には、非接触ベアリングである不図示の複数のエアベアリング（エアパッド）が固定されており、これらのエアベアリングによってウェハステージ６がウェハ定盤７上に、例えば数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００１８】
ウェハ定盤７は、例えば不図示のベースプレートの上方に、不図示の防振ユニットを介してほぼ水平に支持されている。ここで、防振ユニットは、例えばウェハ定盤７の各コーナーに配置され、内圧が調整可能なエアマウントとボイスコイルモータとがベースプレート上に並列に配置された構成になっている。これらの防振ユニットによって、ベースプレートを介してウェハ定盤７に伝わる微振動がマイクロＧレベルで絶縁されるようになっている。
【００１９】
また、図２に示すように、Ｘガイドバー９は、Ｘ方向に沿った長尺形状を呈しており、その長さ方向の両端には電機子ユニットからなる可動子１０ａ及び可動子１１ａがそれぞれ設けられている。これらの可動子１０ａ，１１ａにそれぞれ対応する磁石ユニットを有する固定子１０ｂ，１１ｂは、不図示のベースプレートに突設された支持部に設けられている。
【００２０】
上記の可動子１０ａ及び固定子１０ｂによってリニアモータ１０が構成され、可動子１１ａ及び固定子１１ｂによってリニアモータ１１が構成されている。可動子１０ａが固定子１０ｂとの間の電磁気的相互作用により駆動され、なおかつ可動子１１ａが固定子１１ｂとの間の電磁気的相互作用により駆動されることでＸガイドバー９がＹ方向に移動し、リニアモータ１０とリニアモータ１１との駆動量を調整することで、ウェハステージ６はＸ軸及びＹ軸に直交するＺ軸周りに回転する。即ち、リニアモータ１０，１１によってＸガイドバー９とほぼ一体的にウェハステージ６（及び試料台８）がＹ方向及びＺ軸周りに駆動されるようになっている。
【００２１】
また、Ｘガイドバー９のＸ方向側には、Ｘトリムモータ１３の可動子が取り付けられている。このＸトリムモータ１３は、Ｘ方向に推力を発生することでＸガイドバー９のＸ方向の位置を調整するものであって、その固定子（不図示）はリアクションフレーム（不図示）に設けられている。このため、ウェハステージ６をＸ方向に駆動する際の反力は、リアクションフレームを介してベースプレートに伝達される機能になっている。
【００２２】
試料台８は、Ｘガイドバー９との間にＺ方向に所定量のギャップを維持する磁石及びアクチュエータからなる磁気ガイドを介して、Ｘガイドバー９にＸ方向に相対移動自在に非接触で支持・保持されている。また、ウェハステージ６は、Ｘガイドバー９に埋設された固定子を有するリニアモータ１２による電磁気的相互作用によりＸ方向に駆動される。リニアモータ１２の可動子は図示していないが、ウェハステージ６に取り付けられている。試料台８の上面には、不図示のウェハホルダを介してウェハＷが真空吸着等によって固定される。
【００２３】
尚、上記リニアモータ１０，１１よりもリニアモータ１２の方がウェハステージ６上に載置されるウェハＷに近い位置に配置されており、リニアモータ１２の可動子が試料台８に固定されている。このため、リニアモータ１２は発熱源であるコイルが固定子となりウェハＷから遠ざかり直接試料台８に固定されないムービングマグネット型のリニアモータを用いることが望ましい。
【００２４】
リニアモータ１０，１１は、リニアモータ１２、Ｘガイドバー９、及び試料台８を一体として駆動するため、Ｘリニアモータ１２より遙かに大きい推力を必要とする。そのため、多くの電力を必要とし発熱量もリニアモータ１２より大きくなる。従って、リニアモータ１０，１１は、ムービングコイル型のリニアモータを用いることが望ましい。しかしながら、ムービングコイル型のリニアモータは可動子１０ａ，１１ａに冷媒を循環させる必要があるため、装置構成上の不具合がある場合には、可動子１０ａ，１１ａ側にマグネットを設けるムービングマグネット型のリニアモータを用いても良い。
【００２５】
また、ウェハステージ６端部にはＹ方向に延びる移動鏡１４とＸ方向に延びる移動鏡１５が取り付けられている。これらの移動鏡１４，１５の鏡面に対面する位置にレーザ干渉計１６，１７（図１参照）がそれぞれ取り付けられており、ウェハステージ６のＸ方向の位置及びＹ方向の位置が所定の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能でリアルタイムに計測される。尚、レーザ干渉計１６，１７の少なくとも一方は、測長軸を２軸以上有する多軸干渉計であり、これらレーザ干渉計の計測値に基づいてウェハステージ６（ひいてはウェハＷ）のＸ方向の位置及びＹ方向の位置のみならず、Ｚ軸周りの回転量及びレベリング量をも求めることができるようになっている。
【００２６】
次に、制御コントローラ２について詳細に説明する。図３は、制御コントローラ２の構成を示すブロック図である。図３に示すように、制御コントローラ２は、加速度パラメータ記憶部２０、制御切替距離算出部２１、目標位置信号生成部２２、ステージ位置算出部２３、及び駆動信号出力部２４を含んで構成される。
【００２７】
加速度パラメータ記憶部２０は、ウェハステージ６を加速又は減速させる加速期間内における加速度の時間的な変化率、ウェハステージ６の加速期間内における最大加速度（基準加速度）、ウェハステージ６を加速又は減速させる加速期間内において最大加速度をほぼ一定にして維持する時間（基準一定加速度維持時間）等のパラメータを記憶する。尚、単位時間におけるウェハステージ６の加速度の変化率が一定の場合には、上記の加速度の時間的な変化率は、最大加速度と加速度を変化させる時間とが分かれば求められるため、加速度の時間的な変化率に変えて加速度を変化させる時間を記憶するようにしても良い。
【００２８】
ここで、ウェハステージ６を移動させる際に目標とする加速度の時間的変化を示す加速度曲線の一例について説明する。図４は、ウェハステージ６の移動距離が長い場合（ロングステップ距離の場合）における加速度曲線の一例を示す図である。尚、図４に示す加速度曲線は、同図に示すように、ウェハステージ６が静止している状態から速度が所定の最高速度ｖｍａｘとなるまで加速して所定の時間最高速度ｖｍａｘを維持した後、ウェハステージ６を減速させて停止させる加速度曲線である。
【００２９】
図４において、Ｔ０はウェハステージ６の移動時間を示しており、この移動時間Ｔ０は、加速期間Ｔ１、等速移動期間Ｔ２、及び減速期間Ｔ３に分類される。尚、本明細書においては、用語「加速」の意味としてウェハステージ６の速度を上昇させるだけの狭義の意味で用いる場合と、加速及び減速を含んでウェハステージ６の速度を変化させる広義の意味で用いる場合がある点に注意されたい。
【００３０】
加速期間Ｔ１は、時間の経過に従ってウェハステージ６の加速度を上昇させる加速度上昇期間Ｔａと、最大加速度αｍａｘを維持する最大加速度維持期間Ｔｂ（基準一定加速度維持時間）と、時間の経過に従ってウェハステージ６の加速度を下降させる加速度下降期間Ｔｃとからなる。尚、本実施形態では説明の簡単のために加速度上昇期間Ｔａの長さと加速度下降期間Ｔｃの長さとは等しいとしている。従って、加速度上昇期間Ｔａ内における加速度の上昇率と、加速度下降期間Ｔｃにおける加速度の下降率は等しくなる。
【００３１】
また、同様に減速期間Ｔ３は、時間の経過に従ってウェハステージ６の加速度の絶対値を上昇させる加速度上昇期間と、最大加速度−αｍａｘを維持する最大加速度維持期間Ｔｂ（基準一定加速度維持時間）と、時間の経過に従ってウェハステージ６の加速度の絶対値を下降させる加速度下降期間Ｔｃとからなる。図３に示した加速度パラメータ記憶部２０は、図４中の加速度上昇期間Ｔａの長さ及び加速度下降期間Ｔｃの長さ（又はこれらの期間内における加速度の変化率）と、最大加速度維持期間Ｔｂの長さと、最大加速度αｍａｘ（−αｍａｘ）を記憶する。
【００３２】
制御切替距離算出部２１は、本発明にいう算出部に相当し、加速度パラメータ記憶部２０に記憶された記憶内容に基づいて、加速制御を切り替える距離を算出する。詳細は後述するが、本実施形態のステージ装置５は、上記コントローラ１から出力される制御信号で示されるウェハステージ６の移動距離がロングステップ距離であるか又はショートステップ距離であるかに応じてウェハステージ６の加速制御を切り替えている。また、ウェハステージ６の移動距離がショートステップ距離である場合であっても、その長短に応じてウェハステージ６の加速制御を切り替えている。これは、主としてウェハステージ６の移動距離がショートステップ距離であるときのウェハステージ６の移動時間を短縮するためである。
【００３３】
前述したように、従来のステージ制御装置は、ウェハステージ６の移動距離がショートステップ距離に設定されている場合には、加速期間及び減速期間を短縮するとともに、これらの期間を短縮した分だけ加速期間及び減速期間内における加速度曲線の形状を相似的に縮小する制御を行っている。かかる制御を行う場合に移動時間が長くなる原因は、最大加速度及び平均加速度の低下にある。このため、本実施形態のステージ制御装置は最大加速度及び平均加速度の低下を極力防止する制御を行うことで、移動時間の短縮を図っている。
【００３４】
上述したロングステップ距離とショートステップ距離とを区分する距離が本発明にいう第１移動距離に相当する距離である。具体的には、図４に示した例においては、移動時間Ｔ０内における等速移動期間Ｔ２を零とした加速度曲線に基づいて駆動したときのウェハステージ６の移動距離、即ち加速期間Ｔ１内におけるウェハステージ６の移動距離と減速期間Ｔ３内におけるウェハステージ６の移動距離との和で示される距離である。また、ウェハステージ６の移動距離がショートステップ距離に設定されている場合において、加速制御の切り替えを区分する距離が本発明にいう第２移動距離に相当する距離である。具体的には、図４に示した例においては、移動時間Ｔ０内における等速移動期間Ｔ２並びに加速期間Ｔ１及び減速期間Ｔ３内における最大加速度維持期間Ｔｂを零とした加速度曲線で駆動したときのウェハステージ６の移動距離である。
【００３５】
目標位置信号生成部２２は、加速度パラメータ記憶部２０の記憶内容、及び、制御切替距離算出部２１で算出された第１移動距離及び第２移動距離と上位コントローラ１から出力される制御信号で示されるウェハステージ６の移動距離との大小関係との比較結果に基づいてウェハステージ６の移動を開始させてから停止させるまでの加速度曲線を生成する。また、生成した加速度曲線に基づいてウェハステージ６の目標移動位置を示す目標位置信号を求める。目標位置信号生成部２２の加速度曲線生成方法の詳細については後述する。
【００３６】
ステージ位置算出部２３は、位置検出部４ａ，４ｂから出力される検出信号に基づいて、ウェハステージ６のＸＹ平面内におけるステージ位置を算出する。駆動信号出力部２４は目標位置信号生成部２２から出力される目標位置信号とステージ位置算出部２３から出力されるステージ位置信号とに基づいて、ウェハステージ６をフィードフォワード制御及びフィードバック制御を行うための駆動信号を出力する。
【００３７】
ここで、駆動信号出力部２４について詳細に説明する。図５は、駆動信号出力部２４の構成の一例を示すブロック図である。図５に示すように、駆動信号出力部２４は、演算部３１、ＰＩＤ（比例積分微分）コントローラ３２、加算器３３、及びＦＦ（フィードフォワード）コントローラ３４を含んで構成される。演算部３１は、目標位置信号生成部２２から出力されるウェハステージ６の目標位置信号ＲＳ１とステージ算出２３から出力されるステージ位置信号ＦＳ１との差分に応じた偏差信号ＥＳ１を出力する。尚、図５においては、図１中の位置検出部４ａ，４ｂの図示は省略している。
【００３８】
ＰＩＤコントローラ３２は、演算部３１から出力される偏差信号ＥＳ１に基づいてフィードバック制御によるウェハステージ６の推力を示す駆動信号ＣＳ１を生成する。ＦＦコントローラ３４は、目標位置信号ＲＳ１に基づいてウェハステージ６の推力を示す駆動信号ＤＳ１を出力してフィードフォワード制御する。ここで、ＦＦコントローラ３４を用いてフィードフォワード制御するのは、フィードバック制御による制御遅れを補って、ウェハステージ６の位置決めに要する時間及び設定速度に達する時間を仕様で定められた時間内に収めるためである。加算器３３は、ＰＩＤコントローラ３２から出力される駆動信号ＣＳ１とＦＦコントローラ３４から出力される駆動信号ＤＳ１とを加算し、（電流増幅部３ａ〜３ｃを介して）ウェハステージ６に出力する。
【００３９】
〔ステージ制御方法〕
次に、上記構成における本発明の一実施形態によるステージ制御装置の動作、即ち本発明の一実施形態によるステージ制御方法について説明する。図６は、本発明の一実施形態によるステージ制御方法の一例を示すフローチャートである。尚、図６に示すフローチャートは、ウェハステージ６の１回のステップ（静止状態から加速してウェハステージ６の速度を上昇させ、減速した後で停止する動作）を行うフローチャートを示しており、かかる動作が繰り返される場合には、図６に示した処理が繰り返し行われる。また、以下の説明においては、図１中の上位コントローラ１から出力される制御信号で示されるウェハステージ６の移動距離をＬとし、前述した第１移動距離をＬ１、第２移動距離をＬ２とする。
【００４０】
本実施形態のステージ制御方法を概説すると、上位コントローラ１から出力される制御信号で示されるウェハステージ６の移動距離をＬに応じて、（１）Ｌ＞Ｌ１の場合、（２）Ｌ２＜Ｌ≦Ｌ１の場合、（３）０＜Ｌ≦Ｌ２の場合の各々において制御方法を切り替えている。
【００４１】
（１）Ｌ＞Ｌ１の場合
このの場合には、図４に示す加速期間Ｔ１内における加速度曲線及び減速期間Ｔ３内における加速度曲線の形状は変更せずに、ウェハステージ６の移動距離Ｌに応じて等速移動期間Ｔ２の長さを変更した加速度曲線を生成してウェハステージ６の移動動作を制御する。この処理を詳細に説明すると以下の通りである。
【００４２】
上位コントローラ１から制御信号が出力されると、制御コントローラ２は、制御信号で示される移動距離Ｌを受信する（ステップＳ１）。次に、制御コントローラ２中の目標位置信号生成部２２は、ステップＳ１で受信した移動距離Ｌが制御切替距離算出部２１で算出された第２移動距離Ｌ２より短いか否かを比較する（ステップＳ２：第１比較工程）。ここでは、移動距離Ｌが第２移動距離Ｌ２よりも長く設定されている場合を考えているため、ステップＳ２の判断結果は「ＮＯ」となる。
【００４３】
次に、目標位置信号生成部２２は、移動距離Ｌが制御切替距離算出部２１で算出された第１移動距離Ｌ１より短いか否かを比較する（ステップＳ３：第２比較工程）。ここでは、移動距離Ｌが第１移動距離Ｌ１よりも長く設定されている場合を考えているため、ステップＳ３の判断結果も「ＮＯ」となる。以上の判断が終了すると、目標位置信号生成部２２は移動距離Ｌに応じた等速移動期間を算出する（ステップＳ４）。
【００４４】
図４を参照すると、等速移動期間Ｔ２は、移動時間Ｔ０から加速期間Ｔ１及び減速期間Ｔ３を除いた期間である。一方、加速期間Ｔ１と減速期間３との和の期間におけるウェハステージ６の移動距離は第１移動距離Ｌ１であり、等速移動期間Ｔ２におけるステージの移動速度は、ｖｍａｘであるため、算出すべき等速移動期間Ｔ２１は以下の（１）式から求められる。
【数１】
2004014757.tif 000003
【００４５】
等速移動期間Ｔ２１を算出すると、目標位置信号生成部２２は加速度パラメータ記憶部２０の記憶内容に基づいて、ウェハステージ６の移動を開始させてから停止させるまでの時系列的な加速度曲線α（ｔ）を生成する（ステップＳ５）。ここで、生成される加速度曲線α（ｔ）は、例えば図４に示した加速度曲線のような時間変化をするものである。加速度曲線α（ｔ）を算出すると、目標位置信号生成部２２は時系列的な速度曲線ｖ（ｔ）を算出し（ステップＳ６）、次いで時系列的な目標位置Ｐ（ｔ）を算出する（ステップＳ７）。速度曲線ｖ（ｔ）及び目標位置Ｐ（ｔ）は、以下の（２）式及び（３）式を用いて算出される
【数２】
2004014757.tif 000004
【数３】
2004014757.tif 000005
【００４６】
目標位置Ｐ（ｔ）が算出されると、目標位置信号が制御コントローラ２から駆動信号出力部２４へ出力され、目標位置信号及び位置検出部４ａ，４ｂに基づいてウェハステージ６の位置制御が行われる（ステップＳ８）。尚、本実施形態では、駆動信号出力部２４はフィードフォワード制御及びフィードバック制御によりウェハステージ６を位置制御する。
【００４７】
ウェハステージ６のＸＹ面内における位置は、駆動信号出力部２４に常時入力されるため、駆動信号出力部２４はウェハステージ６が目標位置信号生成部２２から出力される目標位置信号で指定される位置に達したか否かを判断することができる（ステップＳ９）。移動が完了していない場合（ステップＳ９の判断結果が「ＮＯ」の場合）には、ステップＳ８に戻ってウェハステージ６の位置制御を行い、移動が完了した場合には、処理を終了する
【００４８】
（２）Ｌ２＜Ｌ≦Ｌ１の場合
この場合には、加速期間Ｔ１及び減速期間Ｔ３内における最大加速度維持期間Ｔｂをショートステップ距離に応じて変更した加速度曲線を生成してウェハステージ６の移動動作を制御する。換言すると、加速期間Ｔ１及び減速期間Ｔ３と、これらの期間内に占める最大加速度維持期間Ｔｂとの比を可変する加速度制御を行う。この処理を詳細に説明すると以下の通りである。
【００４９】
上位コントローラ１から制御信号が出力されると、制御コントローラ２は、制御信号で示される移動距離Ｌを受信する（ステップＳ１）。次に、制御コントローラ２中の目標位置信号生成部２２は、ステップＳ１で受信した移動距離Ｌが制御切替距離算出部２１で算出された第２移動距離Ｌ２より短いか否かを比較する（ステップＳ２：第１比較工程）。ここでは、移動距離Ｌが第２移動距離Ｌ２よりも長く設定されている場合を考えているため、ステップＳ２の判断結果は「ＮＯ」となる。
【００５０】
次に、目標位置信号生成部２２は、移動距離Ｌが制御切替距離算出部２１で算出された第１移動距離Ｌ１より短いか否かを比較する（ステップＳ３：第２比較工程）。ここでは、移動距離Ｌが第２移動距離Ｌ２よりも長く、第１移動距離Ｌ１以下に設定されている場合を考えているため、ステップＳ３の判断結果は「ＹＥＳ」となる。以上の判断が終了すると、目標位置信号生成部２２は移動距離Ｌに応じて最大加速度維持期間を算出する（ステップＳ１０：第１可変工程）。
【００５１】
最大加速度維持期間を算出するにあたり、図４に示す加速期間Ｔ１又は減速期間Ｔ３と、これらの期間内で占める最大加速度維持期間Ｔｂとの比をλと定義する。尚、以下の説明においては、便宜上この比λを飽和比λという。この飽和比λを用いると、図４に示す加速期間Ｔ１又は減速期間Ｔ３における平均加速度αａｖｅは以下の（４）式で表される。
【数４】
2004014757.tif 000006
また、加速を開始してから最大速度ｖｍａｘに達するまでの時間、即ち加速期間Ｔ１は上記平均加速度αａｖｅを用いて以下の（５）式で表される。
【数５】
2004014757.tif 000007
【００５２】
更に、加速期間Ｔ１内において、ウェハステージ６の加速度が変化する期間、即ち加速度上昇期間Ｔａは、飽和比λ及び上記加速期間Ｔ１を用いて以下の（６）式で表される。尚、本実施形態では、加速度下降期間Ｔｃ及び減速期間Ｔ３内における加速度上昇期間及び加速度下降期間は同一に設定されている点に注意されたい。
【数６】
2004014757.tif 000008
上記（６）式に示される加速度上昇期間Ｔａを用いると、算出すべき最大加速度維持期間Ｔｂ１は以下の（７）式から求められる。
【数７】
2004014757.tif 000009
【００５３】
最大加速度維持期間Ｔｂ１を算出すると、目標位置信号生成部２２は加速度パラメータ記憶部２０の記憶内容に基づいて、ウェハステージ６の移動を開始させてから停止させるまでの加速度曲線α（ｔ）を生成する（ステップＳ５）。ここで、生成される加速度曲線α（ｔ）は、例えば図７中の加速度曲線Ａ２となる。図７は、本発明の一実施形態によるステージ制御方法を用いて生成される加速度曲線の例を示す図である。尚、図７において、加速度曲線Ａ１は図４中の等速移動期間Ｔ２を零とした場合に生成される加速度曲線である。また、符号ｖ１を付した曲線は加速度曲線Ａ１で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合のウェハステージ６の速度変化を示す速度曲線であり、符号ｖ２を付した曲線は加速度曲線Ａ２で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合のウェハステージ６の速度変化を示す速度曲線である。
【００５４】
図７を参照すると、加速度曲線Ａ２で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合には、最大加速度維持期間Ｔｂ１が経過するまでは、最大加速度曲線Ａ１を与えた場合と同様にウェハステージ６の速度が上昇していることが分かる。しかしながら、加速度曲線Ａ２は最大加速度維持期間Ｔｂ１が経過すると加速度が減少する変化をするため、加速度曲線Ａ１で示される加速度を与えた場合に比べて到達する最大速度が低下していることが分かる。加速度曲線α（ｔ）を算出すると、目標位置信号生成部２２は前述した（２）式を用いて速度曲線ｖ（ｔ）を算出し（ステップＳ６）、次いで前述した（３）式を用いて目標位置Ｐ（ｔ）を算出する（ステップＳ７）。
【００５５】
目標位置Ｐ（ｔ）が算出されると、目標位置信号が制御コントローラ２から駆動信号出力部２４へ出力され、目標位置信号及び位置検出部４ａ，４ｂに基づいてウェハステージ６の位置制御が行われる（ステップＳ８）。そして、ウェハステージ６が目標位置信号生成部２２から出力される目標位置信号で指定される位置に達したか否かを判断し（ステップＳ９）、移動が完了していない場合には、ステップＳ８に戻ってウェハステージ６の位置制御を行い、移動が完了した場合には、処理を終了する
【００５６】
（３）０＜Ｌ≦Ｌ２の場合
この場合には、ウェハステージ６の移動中に到達する最大加速度を変更した加速度曲線を生成してウェハステージ６の移動動作を制御する。以下、図６を参照して具体的に説明する。上位コントローラ１から制御信号が出力されると、制御コントローラ２は、制御信号で示される移動距離Ｌを受信する（ステップＳ１）。次に、制御コントローラ２中の目標位置信号生成部２２は、ステップＳ１で受信した移動距離Ｌが制御切替距離算出部２１で算出された第２移動距離Ｌ２より短いか否かを比較する（ステップＳ２：第１比較工程）。ここでは、移動距離Ｌが０以上であって、第２移動距離Ｌ２よりも短く設定されている場合を考えているため、ステップＳ２の判断結果は「ＹＥＳ」となる。次に、目標位置信号生成部２２は移動距離Ｌに応じてウェハステージ６の移動中に到達する最大加速度を算出する（ステップＳ１１：第２可変工程）。
【００５７】
図４に示した加速度曲線の加速度上昇期間Ｔａ中における加速度の時間的な変化率Ｃは、以下の（８）式で表される。尚、以下の（８）式中における加速度上昇期間Ｔａは（６）式で表される。
【数８】
2004014757.tif 000010
算出すべき最大加速度αｍａｘ′は、上記（８）式に示された加速度変化率を用いて以下の（９）式から求められる。
【数９】
2004014757.tif 000011
最大加速度αｍａｘ′を算出すると、目標位置信号生成部２２は加速度パラメータ記憶部２０の記憶内容に基づいて、ウェハステージ６の移動を開始させてから停止させるまでの加速度曲線α（ｔ）を生成する（ステップＳ５）。ここで、生成される加速度曲線α（ｔ）は、例えば図７中の加速度曲線Ａ３となる。また、加速度曲線Ａ３で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合のウェハステージ６の速度変化は符号ｖ３を付した速度曲線となる。
【００５８】
図７に示すように、ウェハステージ６の移動距離Ｌが０以上であって第２移動距離Ｌ２よりも短いと、最大加速度維持時間が０となって加速度曲線は三角波形状になる。この加速度曲線Ａ２で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合には、加速度が最大加速度αｍａｘ′に達するまでは、最大加速度曲線Ａ１を与えた場合及び最大加速度曲線Ａ２を与えた場合と同様にウェハステージ６の速度が上昇している。しかしながら、ウェハステージ６の加速度が最大加速度αｍａｘ′に到達すると加速度が低下するため、到達する最大速度も低下することが分かる。
【００５９】
図６に示したステップＳ５の処理によって加速度曲線α（ｔ）を算出すると、目標位置信号生成部２２は前述した（２）式を用いて速度曲線ｖ（ｔ）を算出し（ステップＳ６）、次いで前述した（３）式を用いて目標位置Ｐ（ｔ）を算出する（ステップＳ７）。目標位置Ｐ（ｔ）が算出されると、目標位置信号が制御コントローラ２から駆動信号出力部２４へ出力され、目標位置信号及び位置検出部４ａ，４ｂに基づいてウェハステージ６の位置制御が行われる（ステップＳ８）。そして、ウェハステージ６が目標位置信号生成部２２から出力される目標位置信号で指定される位置に達したか否かを判断し（ステップＳ９）、移動が完了していない場合には、ステップＳ８に戻ってウェハステージ６の位置制御を行い、移動が完了した場合には、処理を終了する
【００６０】
以上説明した本発明の一実施形態によるステージ制御方法を用いてウェハステージ６を駆動した際のウェハステージ６の移動に要する時間は以下の（１０）式〜（１２）式で表される。
（１）Ｌ＞Ｌ１の場合
【数１０】
2004014757.tif 000012
（２）Ｌ２＜Ｌ≦Ｌ１の場合
【数１１】
2004014757.tif 000013
（３）０＜Ｌ≦Ｌ２の場合
【数１２】
2004014757.tif 000014
【００６１】
次に、最大加速度及び平均加速度について考察する。図８は、移動距離に応じて設定されるウェハステージ６の最大加速度及び平均加速度の一例を示す図である。図８においては、横軸にウェハステージ６の移動距離をとり、縦軸にウェハステージ６の加速度を取っている。図８中の符号Ｆ１１は本実施形態のステージ制御方法を用いたときにウェハステージ６の移動距離に応じて設定されるウェハステージ６の最大加速度を示す曲線であり、符号Ｆ２１は平均加速度を示す曲線である。
【００６２】
尚、比較のため、図１５に示す従来のステージ制御方法を用いた場合の移動距離に応じた最大加速度及び平均加速度を曲線Ｆ１２及び曲線Ｆ２２にそれぞれ示している。また、図１４に示す従来のステージ制御方法を用いた場合の移動距離に応じた最大加速度及び平均加速度を曲線Ｆ１３及び曲線Ｆ２３にそれぞれ示している。尚、図８においては、ロングステップ距離とショートステップ距離と区分する距離を２５ｍｍに設定している。また、図８に示した加速度は、ウェハステージ６の移動距離がロングステップ距離以上に設定されている場合に、本実施形態のステージ制御方法で設定される最大加速度を「１」に規格化して表している。
【００６３】
先ず、図８からショートステップ距離及びロングステップ距離の何れにおいても、図１４に示した加速度曲線の平均加速度（曲線Ｆ２３に示した平均加速度）は、曲線Ｆ２１に示した本実施形態の加速度曲線の平均加速度及び図１５に示した加速度曲線の平均加速度（曲線Ｆ２２に示した平均加速度）よりも低いことが分かる。また、ウェハステージ６の移動距離がロングステップ距離（２５ｍｍ）以上に設定されている場合には、図１５に示す加速度曲線の平均加速度（曲線Ｆ２２に示した平均加速度）と本実施形態で用いる加速度曲線の平均加速度（曲線Ｆ２１に示した平均加速度）とはほぼ同じになることが分かる。一方、ショートステップ距離においては、図１５に示す加速度曲線の平均加速度（曲線Ｆ２２に示した平均加速度）よりも本実施形態で用いる加速度曲線の平均加速度（曲線Ｆ２１に示した平均加速度）の方が高くなることが分かる。
【００６４】
次に、ウェハステージ６の移動距離が４０ｍｍ程度以上に設定されると、何れの加速度曲線においても最大加速度はほぼ同じになるが、ロングステップ距離に設定されていても、移動距離が２５〜４０ｍｍに設定された場合には、図１４に示す加速度曲線の最大加速度（曲線Ｆ１３に示した最大加速度）が設定された移動距離に応じて低下することが分かる。また、図１５に示す加速度曲線の最大加速度（曲線Ｆ１２に示した平均加速度）と本実施形態の加速度曲線の最大加速度（曲線Ｆ１１に示した平均加速度）とはウェハステージ６の移動距離がロングステップ距離に設定されている限りにおいて同じになる。しかしながら、ウェハステージ６の移動距離がショートステップ距離に設定されると、図１５に示す加速度曲線の最大加速度は、その移動距離に応じて低下する。これに対し、本実施形態の加速度曲線の最大加速度は、ショートステップ距離であっても移動距離が４ｍｍ〜２５ｍｍの範囲では、最大加速度がロングステップ距離に設定されたときの最大加速度に設定される。
【００６５】
このように、本実施形態においては、ウェハステージ６の移動距離がショートステップに設定された場合には、加速度曲線の平均加速度及び最大加速度が従来の加速度曲線における平均加速度及び最大加速度よりも高い値に設定される。このため、設定された移動距離を移動するために要する時間を短縮することができる。図９は、設定された移動距離を移動するのに要する移動時間の一例を示す図である。
【００６６】
図９において、符号Ｇ１を付した曲線は、本実施形態における加速度曲線で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合の移動距離と移動時間の関係を示す曲線である。また、符号Ｇ２，Ｇ３を付した曲線は、それぞれ図１５に示す従来の加速度曲線で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合、図１４に示す従来の加速度曲線で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合の移動距離と移動時間の関係を示す曲線である。尚、図９においては、ウェハステージ６の移動距離が２５ｍｍに設定されているときに、本実施形態における加速度曲線で示される加速度をウェハステージ６に与えた場合の移動時間を「１」として規格化している。
【００６７】
図９を参照すると、移動距離に拘わらず曲線Ｇ１，Ｇ２で示される移動時間よりも曲線Ｇ３で示される移動時間の方が長くなっている。これは図８に示したように、図１４に示した加速度曲線の平均加速度（図８において、曲線Ｆ２３に示した平均加速度）が他の加速度曲線の平均加速度（図８において、曲線Ｆ２１，Ｆ２２に示した平均加速度）よりも低く設定されていることに起因する。次に、曲線Ｇ１と曲線Ｇ２とを比較すると、ロングステップ距離においては移動時間がほぼ同一であるが、ショートステップ距離において曲線Ｇ１の方が曲線Ｇ２よりも移動時間が短縮されていることが分かる。これは、図８に示したように、本実施形態で用いる加速度曲線の平均加速度及び最大加速度が、図１５に示す加速度曲線の平均加速度及び最大加速度よりも高い値に設定されているためである。
【００６８】
このように、本実施形態においては、ウェハステージ６の移動距離に応じてウェハステージ６の加速時間と、加速時間内に占めるウェハステージ６の最大加速度をほぼ一定に維持して移動する速度維持時間との比を可変する加速度制御を行い、更にはウェハステージ６の移動距離に応じてウェハステージ６の加速中に到達する最大加速度を可変する加速度制御を行っている。このため、ウェハステージ６の移動距離がショートステップ距離に設定されても、ウェハステージ６に与える加速度曲線の加速期間及び減速期間における最大加速度及び平均加速度の低下が抑えられ、ウェハステージ６の移動時間を短縮することができる。
【００６９】
〔露光装置〕
次に、本発明の一実施形態による露光装置について詳細に説明する。図１０は、本発明の一実施形態による露光装置の概略構成を示す図である。本実施形態においては、図１０中の投影光学系ＰＬに対してマスクとしてのレチクルＲと感光基板としてのウェハＷとを相対的に移動させつつ、レチクルＲに形成されたパターンをウェハＷに転写して半導体素子を製造するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置に適用した場合を例に挙げて説明する。
【００７０】
尚、以下の説明においては、図１０中に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウェハＷに対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がウェハＷに対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。また、本実施形態ではレチクルＲ及びウェハＷを移動させる方向（走査方向ＳＤ）をＹ方向に設定している。
【００７１】
図１０において、露光光源４１としては断面が略長方形状の平行光束である露光光ＩＬを射出するＡｒＦエキシマレーザ光源（波長１９３ｎｍ）が用いられる。露光光源４１からの波長１９３ｎｍの紫外パルスよりなる露光光ＩＬ（露光ビーム）は、ビームマッチングユニット（ＢＭＵ）４２を通り、光アッテネータとしての可変減光器４３に入射する。可変減光器４３を通った露光光ＩＬは、レンズ系４４ａ，４４ｂよりなるビーム成形系４５を経て第１段のオプティカル・インテグレータ（ユニフォマイザ、又はホモジナイザ）としての第１フライアイレンズ４６に入射する。この第１フライアイレンズ４６から射出された露光光ＩＬは、第１レンズ系４７ａ、光路折り曲げ用のミラー４８、及び第２レンズ系４７ｂを介して第２段のオプティカル・インテグレータとしての第２フライアイレンズ４９に入射する。
【００７２】
第２フライアイレンズ４９の射出面、即ち露光対象のレチクルＲのパターン面に対する光学的なフーリエ変換面（照明系の瞳面）には開口絞り板５０が、駆動モータ５０ｅによって回転自在に配置されている。開口絞り板５０には、通常照明用の円形の開口絞り５０ａ、輪帯照明用の開口絞り５０ｂ、及び複数（例えば４極）の偏心した小開口よりなる変形照明用の開口絞り（不図示）や小さいコヒーレンスファクタ（σ値）用の小円形の開口絞り（不図示）等が切り換え自在に配置されている。露光装置の全体の動作を統括制御する主制御系６３が駆動モータ５０ｅを介して開口絞り板５０を回転させて、照明条件を設定する。
【００７３】
尚、変形照明（輪帯照明、４極照明等）を行うときに、露光光ＩＬの利用効率を高めて高い照度（パルスエネルギー）を得るには、露光光ＩＬが第２フライアイレンズ４９に入射する段階で、露光光ＩＬの断面形状をほぼ輪帯形状に整形しておくことが望ましい。このためには、第１フライアイレンズ４６を例えば多数の位相型の回折格子の集合体よりなる回折光学格子（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｖｅ　Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｅｌｅｍｅｎｔ：ＤＯＥ）で置き換えればよい。また、照明条件切り換え系は上記の構成に限られるものではなく、開口絞り板５０に組み合わせて又は単独で円錐プリズム（アキシコン）及び／又はズーム光学系と、回折光学素子とを用いるようにしても良い。尚、第２段のオプティカル・インテグレータとして内面反射型インテグレータ（ロッドインテグレータ等）を用いる場合には、例えばＤＯＥ、円錐プリズム、又は多面体プリズム等を用いて、照明系の光軸ＩＡＸに関して露光光ＩＬを傾けて内面反射型インテグレータに入射させるとともに、照明条件に応じてその入射面での露光光ＩＬの入射角度範囲を変更することが望ましい。
【００７４】
図１０において、第２フライアイレンズ４９から射出されて通常照明用の開口絞り５０ａを通過した露光光ＩＬは、光軸ＩＡＸに沿ってレンズ系５１，５２を順次経て、固定ブラインド（固定照明視野絞り）５３ａ及び可動ブラインド（可動照明視野絞り）５３ｂに入射する。固定ブラインド１６ｂは、例えば特開平４−１９６５１３号公報及び対応する米国特許題５，４７３，４１０号に開示されているように、後述する投影光学系ＰＬの円形視野内の中央で走査露光方向と直交した方向に直線スリット状、又は矩形状（以下、まとめて「スリット状」という）に伸びるように配置された開口部を有する。
【００７５】
可動ブラインド５３ｂは、ウェハＷ上の各ショット領域への走査露光の開始時及び終了時に不要な露光を防止するために、照明視野領域の走査方向の幅を可変とするために使用される。また、走査方向と直交した方向（非走査方向）に関してレチクルＲのバターン領域のサイズを可変するために使用される。固定ブラインド５３ａ及び可動ブラインド５３ｂは、レチクルＲのパターンが形成されている面（以下、レチクル面という）に対する共役面に設置されている。
【００７６】
露光時に固定ブラインド５３ａ及び可動ブラインド５３ｂを通過した露光光ＩＬは、光路折り曲げ用のミラー５４、結像用のレンズ系５５、コンデンサレンズ５６、及び主コンデンサレンズ系５７を介して、マスクとしてのレチクルＲのパターン面（下面）の照明領域（照明視野領域）ＩＲを照明する。
【００７７】
露光光ＩＬのもとで、レチクルＲの照明領域ＩＲ内の回路パターンの像が両側テレセントリックな投影光学系ＰＬを介して所定の投影倍率β（βは例えば１／４又は１／５等）で、投影光学系ＰＬの結像面に配置された基板としてのウェハＷ上のフォトレジスト層のスリット状の露光領域ＩＷに転写される。本実施形態の投影光学系ＰＬは、ジオプトリック系（屈折系）であるが、カタジオプトリック系（反射屈折系）や反射系も使用できることはいうまでもない。
【００７８】
また、レチクルＲは、マスクステージとしてのレチクルステージ５８上に吸着保持され、レチクルステージ５８は、レチクルベース５９上でＹ方向に等速移動できると共に、Ｘ方向、Ｙ方向、回転方向に傾斜できるように載置されている。レチクルステージ５８の一端には移動鏡６０が取り付けられており、移動鏡６０の鏡面に対面してレーザ干渉計６１が設けられている。このレーザ干渉計６１によってレチクルステージ５８（レチクルＲ）の２次元的な位置及び回転角がリアルタイムに計測されている。このレーザ干渉計６１の計測結果及び主制御系６３からの制御情報に基づいて、駆動制御ユニット６２がレチクルステージ５８の走査速度、及び位置の制御を行う。
【００７９】
一方、ウェハＷは、ウェハホルダ６４を介して基板ステージとしてのウェハステージ６５上に吸着保持され、ウェハステージ６５は、ウェハベース６６上で投影光学系ＰＬの像面と平行なＸＹ平面に沿って２次元移動する。即ち、ウェハステージ６５は、ウェハベース６６上でＹ方向に一定速度で移動すると共に、Ｘ方向、Ｙ方向にステップ移動する。更に、ウェハステージ６５には、ウェハＷのＺ方向の位置（フォーカス位置）、並びにＸ軸及びＹ軸の回りの傾斜角を制御するＺレベリング機構も組み込まれている。
【００８０】
また、図示は省略しているが、投影光学系ＰＬの側面に、ウェハＷの表面（ウェハ面）の複数の計測点に斜めにスリット像を投影する投射光学系と、そのウェハ面からの反射光を受光してそれらの複数の計測点のフォーカス位置に対応するフォ−カス信号を生成する受光光学系とからなる多点のオートフォーカスセンサも設けられており、それらのフォ−カス信号が主制御系６３中の合焦制御部に供給されている。走査露光時には、主制御系６３中の合焦制御部は、それらのフォーカス信号（フォーカス位置）の情報に基づいてオートフォーカス方式でウェハステージ６５中のＺレベリング機構を連続的に駆動する。これによって、ウェハＷの表面が投影光学系ＰＬの像面に合焦される。
【００８１】
ウェハステージ６５の一端には移動鏡６７が取り付けられており、移動鏡６７の鏡面に対面してレーザ干渉計６８が設けられている。このレーザ干渉計６８によってウェハステージ６５のＸ方向、Ｙ方向の位置、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の回りの回転角がリアルタイムに計測されている。レーザ干渉計６８の計測結果及び主制御系６３からの制御情報に基づいて、駆動制御ユニット６９がウェハステージ６５の走査速度、及び位置の制御を行う。尚、図１０中のウェハステージ６５は、図２に示したウェハステージ６に相当するものであり、駆動制御ユニット６９内に図１に示した制御コントローラ２、位置検出部４ａ，４ｂ、及び電流増幅部３ａ〜３ｂが設けられている。また、移動鏡６７は図２に示した移動鏡１４，１５に相当し、レーザ干渉計６８は図１に示したレーザ干渉計１６，１７に相当する。
【００８２】
主制御系６３は、レチクルステージ５８及びウェハステージ６５のそれぞれの移動位置、移動速度、移動加速度、位置オフセット等の各種情報を駆動制御ユニット６２，６９に送る。これに応じて、レチクルステージ５８を介して露光光ＩＬの照明領域ＩＲに対してレチクルＲが＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に速度Ｖｒで走査されるのに同期して、ウェハステージ６５を介してレチクルＲのパターン像の露光領域ＩＷに対してウェハＷが−Ｙ方向（又は＋Ｙ方向）に速度β・Ｖｒ（βはレチクルＲからウェハＷへの投影倍率）で走査される。この際の走査露光の開始時及び終了時に不要な部分への露光を防止するために、可動ブラインド５３ｂの開閉動作が制御される。レチクルＲとウェハＷとの移動方向が逆であるのは、本実施形態の投影光学系ＰＬが反転投影を行うためである。尚、主制御系６３は、図１に示す上位コントローラ１に相当するものである。
【００８３】
次に、以上説明した構成の露光装置の露光時の動作について簡単に説明する。露光動作が開始されると、主制御系６３から駆動制御ユニット６２，６９へ制御信号が出力され、駆動制御ユニット６２，６９はレチクルステージ５８及びウェハステージ６５の加速度を上昇させる。ウェハステージ６５の駆動に関する動作を具体的に説明すると、駆動制御ユニット６９は図６に示すフローチャートに従って主制御系６３から出力された制御信号に含まれる移動距離と第１移動距離及び第２移動距離との比較を行い、移動距離に応じた加速度曲線を生成した後、目標位置信号を生成する。駆動制御ユニット６９は、この目標位置信号とレーザ干渉計６８から出力される検出信号とに基づいてフィードフォワード制御及びフィードバック制御によりウェハステージ６５を加速してウェハＷの露光すべきショット領域を露光開始位置へ移動させる。尚、レチクルステージ５８についてもウェハステージ６５と同様に加速動作が行われる。
【００８４】
加速期間が終了して、ウェハステージ６５及びレチクルステージ５８各々の速度が一定の速度になると、スリット状の照明光をレチクルＲに照射しつつ、ウェハステージ６５を−Ｙ方向に速度Ｖｗ（＝β・Ｖｍ）で走査移動するとともに、レチクルステージユニットを＋Ｙ方向に速度Ｖｍで走査移動しつつ、レチクルに形成されたパターンを、投影光学系ＰＬを介してウェハＷ上に設定されたショット領域に転写する。１つのショット領域に対してレチクルのパターンの転写が終了すると、ウェハステージ６５及びレチクルステージ５８を減速させて、レチクルＲへの照明光の照射を停止させる。
【００８５】
次に、主制御系６３は、ウェハステージ６５を駆動して、次にパターンを転写するショット領域を投影光学系ＰＬの投影領域（レチクルＲのパターンが投影される領域）の近傍（露光開始位置）に移動させる。このときのウェハステージ６５の移動についても駆動制御ユニット６９は、図６に示したフローチャートに従って移動距離に応じた加速度曲線を生成して、ウェハステージ６５を駆動する。そして、上述した動作と同様に、ウェハステージ６５、並びに、レチクルステージ５８を加速して一定速度になった後、照明光をレチクルＲに照射して、レチクルのパターンをショット領域に逐次転写する。図１１は、パターン転写時における投影領域に対するウェハＷの移動経路の一例を示す図である。この図に示すように、ショット領域ＳＡにレチクルＲのパターンを転写する際には、ウェハＷをＹ方向（＋Ｙ方向又は−Ｙ方向）に沿って一定速度で移動させる。一方、１つのショット領域に対する露光処理が終了し、次に露光処理すべきショット領域の露光開始位置に移るときには、加速及び減速しつつＸ方向（または、Ｙ方向）にステップ移動する。このような動作を繰り返して、ウェハＷ上に設定された全てのショット領域に対する露光処理を行う。
【００８６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に制限されず、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。例えば、上記実施形態では露光光源４１として、ＡｒＦエキシマレーザ光源の場合を例に挙げて説明したが、これ以外に露光光源４１としては、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）を射出する超高圧水銀ランプ、又はＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（波長１４６ｎｍ）、ＹＡＧレーザの高周波発生装置、若しくは半導体レーザの高周波発生装置を用いることができる。
【００８７】
更に、光源としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイットリビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。例えば、単一波長レーザの発振波長を１．５１〜１．５９μｍの範囲内とすると、発生波長が１８９〜１９９ｎｍの範囲内である８倍高調波、又は発生波長が１５１〜１５９ｎｍの範囲内である１０倍高調波が出力される。
【００８８】
特に、発振波長を１．５４４〜１．５５３μｍの範囲内とすると、発生波長が１９３〜１９４ｎｍの範囲内の８倍高調波、即ちＡｒＦエキシマレーザ光とほぼ同一波長となる紫外光が得られ、発振波長を１．５７〜１．５８μｍの範囲内とすると、発生波長が１５７〜１５８ｎｍの範囲内の１０倍高調波、即ちＦ２レ−ザ光とほぼ同一波長となる紫外光が得られる。また、発振波長を１．０３〜１．１２μｍの範囲内とすると、発生波長が１４７〜１６０ｎｍの範囲内である７倍高調波が出力され、特に発振波長を１．０９９〜１．１０６μｍの範囲内とすると、発生波長が１５７〜１５８μｍの範囲内の７倍高調波、即ちＦ２レーザ光とほぼ同一波長となる紫外光が得られる。この場合、単一波長発振レーザとしては例えばイットリビウム・ドープ・ファイバーレーザを用いることができる。
【００８９】
また、本発明は半導体素子の製造に用いられる露光装置だけではなく、液晶表示素子（ＬＣＤ）等を含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられてデバイスパターンをセラミックウェハ上へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置等にも適用することができる。更には、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウェハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（遠紫外）光やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク（ステンシルマスク、メンブレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウェハなどが用いられる。
【００９０】
また、本発明のステージ制御装置は、露光装置に設けられるウェハステージの移動動作を制御するのみならず、レチクルステージの移動動作を制御するために用いても良い。更に、本発明は露光装置のみならず、物体を載置した状態で移動させる（１次元的な移動又は２次元的な移動に制限されない）ステージ装置を制御する場合一般について適用することが可能である。
【００９１】
次に、本発明の一実施形態による露光装置及び露光方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図１２は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。図１２に示すように、まず、ステップＳ２０（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ２１（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクル）を製作する。一方、ステップＳ２２（ウェハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
【００９２】
次に、ステップＳ２３（ウェハ処理ステップ）において、ステップＳ２０〜ステップＳ２２で用意したマスクとウェハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウェハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ２４（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ２３で処理されたウェハを用いてデバイス組立を行う。このステップＳ２４には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ２５（検査ステップ）において、ステップＳ２４で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００９３】
図１３は、半導体デバイスの場合における、図１２のステップＳ２３の詳細なフローの一例を示す図である。図１３において、ステップＳ３１（酸化ステップ）においてはウェハの表面を酸化させる。ステップＳ３２（ＣＶＤステップ）においてはウェハ表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ３３（電極形成ステップ）においてはウェハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ３４（イオン打込みステップ）においてはウェハにイオンを打ち込む。以上のステップＳ３１〜ステップＳ３４のそれぞれは、ウェハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【００９４】
ウェハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ２５（レジスト形成ステップ）において、ウェハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップ２６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置）及び露光方法によってマスクの回路パターンをウェハに転写する。次に、ステップ２７（現像ステップ）においては露光されたウェハを現像し、ステップ２８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ２９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００９５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ステージの移動距離に応じて、ステージの加速時間と、加速時間内に占めるステージの加速度をほぼ一定に維持して移動する一定加速度維持時間との比を可変する加速度制御を行っており、ステージの移動距離が短くなっても加速度時間内における平均加速度の低下が現れないか、現れても従来よりは僅かである。このため、ステージの移動距離が短くとも、振動等の悪影響を生じずに移動に要する時間を短縮することができるという効果がある。
また、本発明によれば、上述したステージ制御装置を備えてマスクステージ及びウェハステージの少なくとも一方の移動動作を制御しており、短い距離に設定された距離を移動するのに要する時間を短縮することができるため、マスクのパターンを感光基板に転写する際に短い距離（例えば、数十ミリメートル）のステップ動作を繰り返す露光装置においてスループットの向上を図ることができるという効果がある。
また、本発明によれば、ステージを移動すべき移動距離とステージの加速度の制御を切り替えるための第１移動距離及び第２移動距離とを比較し、この比較結果に応じてステージの加速時間と加速時間内に占める一定加速度維持時間との比を可変し、又はステージの加速中に到達する最大加速度を可変する加速度制御を行ってステージの移動距離に応じた平均加速度の低下を極力避けることができるという効果がある。この結果として、ステージの移動距離が短くとも、振動等の悪影響を生じずに移動に要する時間を短縮することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態によるステージ制御装置の構成を示すブロック図である。
【図２】ステージ装置５の構成例を示す斜視図である。
【図３】制御コントローラ２の構成を示すブロック図である。
【図４】ウェハステージ６の移動距離が長い場合（ロングステップ距離の場合）における加速度曲線の一例を示す図である。
【図５】駆動信号出力部２４の構成の一例を示すブロック図である。
【図６】本発明の一実施形態によるステージ制御方法の一例を示すフローチャートである。
【図７】本発明の一実施形態によるステージ制御方法を用いて生成される加速度曲線の例を示す図である。
【図８】移動距離に応じて設定されるウェハステージ６の最大加速度及び平均加速度の一例を示す図である。
【図９】設定された移動距離を移動するのに要する移動時間の一例を示す図である。
【図１０】本発明の一実施形態による露光装置の概略構成を示す図である。
【図１１】パターン転写時における投影領域に対するウェハＷの移動経路の一例を示す図である。
【図１２】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャートある。
【図１３】半導体デバイスの場合における、図１２のステップＳ２３の詳細なフローの一例を示す図である。
【図１４】基板ステージを移動させる際に用いる従来の加速度曲線の例を示す図である。
【図１５】基板ステージを移動させる際に用いる従来の加速度曲線の例を示す図である。
【符号の説明】
２　　　制御コントローラ（加速度制御部）
６　　　ウェハステージ（ステージ）
２１　　制御切替距離算出部（算出部）
５８　　レチクルステージ（ステージ、マスクステージ）
６２　　駆動制御ユニット（制御装置）
６３　　主制御系（制御装置）
６５　　ウェハステージ（ステージ、基板ステージ）
６９　　駆動制御ユニット（制御装置）
Ｒ　　　レチクル（マスク）
Ｔ１加速期間
Ｔ２減速期間
Ｔｂ１最大加速度維持期間（一定加速度維持時間）
Ｗ　　　ウェハ（感光基板）
【図１】
2004014757.tif 000015
【図２】
2004014757.tif 000016
【図３】
2004014757.tif 000017
【図４】
2004014757.tif 000018
【図５】
2004014757.tif 000019
【図６】
2004014757.tif 000020
【図７】
2004014757.tif 000021
【図８】
2004014757.tif 000022
【図９】
2004014757.tif 000023
【図１０】
2004014757.tif 000024
【図１１】
2004014757.tif 000025
【図１２】
2004014757.tif 000026
【図１３】
2004014757.tif 000027
【図１４】
2004014757.tif 000028
【図１５】
2004014757.tif 000029