(57)【要約】【課題】有機物の除去および基板表面のエッチングを効果的に行うことで、黄変のない高品質のプラズマディスプレイ装置を提供する。【解決手段】プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後透明電極を形成する。これにより、透明電極形成前に有機物および表面Ｓｎ層を除去することにより、有機物による透明電極形成不良を減少させると共に、基板表面のＳｎ層を完全に除去するため、透明電極の下にもＳｎ層が存在しないことにより透明電極形成後にバス電極を形成する際のＡｇとＳｎの酸化還元反応による黄変現象を完全に防止することが可能となる。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２】
プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後透明電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３】
プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、透明電極を形成した後、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後バス電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項４】
オゾンを含む溶液が、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ジクロロメタン、純水のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項５】
プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項６】
プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後透明電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項７】
プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、透明電極を形成した後、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後バス電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ装置の製造方法に関し、特に前面板の基板洗浄工程に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、薄型に適した表示装置として代表的なプラズマディスプレイ装置は、例えば図５に示す構成を有する。このプラズマディスプレイ装置は、互いに対向して配置された前面板と背面板とを備えている。前面板の基板となる前面基板１の上には、表示電極としての透明電極３及びバス電極４、ブラックストライプ５、誘電体層６、及びＭｇＯからなる誘電体保護層７が、順に形成されている。また、背面板の基板となる背面基板２の上には、アドレス電極８及び下地誘電体層９が形成されており、その上に隔壁１０が形成されている。そして、隔壁１０間には、蛍光体層１１が塗布形成されている。
【０００３】
この前面板と背面板との間には、放電ガス１２（例えばＮｅ−Ｘｅの混合ガス）が、５３２００Ｐａ（４００Ｔｏｒｒ）〜７９８００Ｐａ（６００Ｔｏｒｒ）の圧力で封入されている。この放電ガス１２を表示電極の間で放電させて紫外線を発生させ、その紫外線を蛍光体層１１に照射することによって、カラー表示を含む画像表示が可能になる。以上のような構成のプラズマディスプレイパネルに駆動回路を取り付けてプラズマディスプレイ装置が形成される。
【０００４】
なお、実際の製品における前面板と背面板は、アドレス電極８と表示電極３、４及びブラックストライプ５は互いの長手方向が直交するように対向させた状態で配置されるが、図５においては便宜的に前面板を背面板に対し９０°回転させて表記している。
【０００５】
次に、前面板の製造方法について説明する。まず前面板の基板となる前面基板１は、バス電極４、ブラックストライプ５、誘電体層６等の形成工程中に含まれる熱処理工程に耐えうるガラス材料で形成され、一般的にはフロート法により形成された高歪点ガラスが用いられる。この前面基板１を、少なくとも界面活性剤を含むアルカリ洗浄液等を用い、ブラシ洗浄、超音波洗浄などの手法により洗浄した後、ＩＴＯやＳｎＯ２等の材料を用いてスパッタ法等により成膜してエッチングなどによりパターニングして透明電極３を形成する。なお、透明電極３を形成した基板も同様に洗浄してもよい。次に、Ａｇを主剤とする感光性印刷ペースト等をスクリーン印刷法等により成膜し、露光によりパターニングした後、焼成してバス電極４を形成する。次に、黒色顔料やＲｕＯ等を顔料として黒色とした感光性印刷ペースト等をスクリーン印刷法等により成膜し、露光によりパターニングした後、焼成してブラックストライプ５を形成する。次にＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系のガラスを主剤としたペーストをスクリーン印刷法やダイコート法等の手法により成膜し、焼成して誘電体層６を形成する。次にＭｇＯをスパッタなどの方法により成膜し誘電体保護層７を形成して前面板が完成する。
【０００６】
次に、背面板の製造方法について説明する。背面板の基板となる背面基板２も前面基板１と同様の方法で形成される。背面基板２の洗浄方法も前面基板１の洗浄方法と同様の方法で実施される。次に、Ａｇを主剤とする感光性印刷ペースト等をスクリーン印刷法等により成膜し、露光によりパターニングした後、焼成してアドレス電極８を形成する。次に、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系のガラスを主剤としたペーストをスクリーン印刷法やダイコート法等の手法により成膜し、焼成して下地誘電体層９を形成する。
【０００７】
次に、Ａｌ２Ｏ３等の骨材とガラスフリットを主剤とするペーストを印刷法やダイコート法等により成膜し、その上にレジストを所望の隔壁パターンに形成した後、サンドブラスト法等により不要部分を除去してパターニングし焼成するか、もしくはＡｌ２Ｏ３等の骨材とガラスフリットを主剤とする感光性ペーストを印刷法やダイコート法等により成膜し、所望のパターンを有する露光マスクを介して露光して現像することによりパターニングした後、焼成する等の方法により隔壁１０を形成する。次に、赤色、緑色、青色の各色蛍光体ペーストを印刷法やディスペンサー法、ラインジェット法等の方法により隔壁１０の間に順に塗布し焼成して蛍光体層１１を形成して背面板が完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、プラズマディスプレイ装置の前面板に使用されるフロート法により形成した高歪点ガラスは、その製造方法から、ガラス表面にＳｎ層が形成されている。その理由は、フロート法は高温のＳｎ浴の上に溶融したガラス材料を流入させ、Ｓｎ浴上で所望の肉厚の板状に引き伸ばし、冷却した後所望のサイズに割断してガラス基板を形成するため、Ｓｎ浴と接した面のみならず反対の面までもＳｎが拡散し、ガラス基板の表面にＳｎ層が形成される。そのＳｎ層の膜厚は、Ｓｎ浴に接した面の反対面（膜形成表面）で最大５μｍ程度に達する。
【０００９】
このＳｎ層が形成されたガラス基板上にＡｇが存在し、かつ熱処理プロセスが加わると、ＳｎとＡｇの酸化還元反応によりＡｇがコロイド化し、更に凝集して基板を黄色に変色させてしまう（以後、この現象を黄変と称す）。プラズマディスプレイ装置として、黄変した基板を用いると、表示する映像が黄色味を増すばかりでなく、輝度を低下させる原因となるため、黄変を避ける必要がある。
【００１０】
黄変を避ける手段としては、ガラス基板表面のＳｎ層を機械研磨や化学エッチング等の方法により除去する方法（例えば特開平１１−２４６２３８号）や、基板表面に保護膜を設ける方法（例えば特開平１０−３０２６４８号）等が提案されている。しかしながら、機械研磨やパッシベート層は装置の巨大化や多数枚処理が不可能などの理由でコスト面に不利な点が多いため、多数枚同時に処理可能な化学エッチングがコスト面で有利であると考えられる。
【００１１】
しかし、化学エッチングも図６（Ａ）のように処理基板表面に何らかの異物が付着していると、異物１３、１４がマスクとなり、図６（Ｂ）のようにエッチングが不均一になったり、エッチングされない部分が生じたりするという問題がある。なお、図６において、１５、１６はＳｎ層である。
【００１２】
ところで、マスクとなりうる異物１３、１４としては、有機系と無機系があるが、除去が困難となるのは有機物である。無機系異物は物理的に吸着しているのみであるため、通常の洗浄で除去することが容易であるが、有機系異物は物理的のみならず化学的にも吸着している可能性があるため通常の洗浄では完全に除去するのは困難となる。有機物の除去方法として一般的であるのは、オゾンによるアッシングである。これはプラズマによりオゾンガスを発生させ有機物を除去する方法であるが、ドライ雰囲気で実施されるため再付着する可能性があり、完全に除去することが困難となるという問題がある。
【００１３】
本発明はこれらの課題に鑑みなされたものであり、有機物の除去及び基板表面のエッチングを効果的に行うことで、黄変のない高品質のプラズマディスプレイ装置を提供するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために本発明は、プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を有するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明の請求項１に記載の発明は、プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を有するもので、有機物を除去した後で基板表面をエッチングすることにより、有機物未除去でエッチングした場合の有機物によるエッチング不良を回避することが可能となる。さらに、有機物除去をオゾンを含む溶液により行うことにより、オゾンガスのみで行った場合よりも効果的に有機物を除去することが可能となる。さらに、密閉雰囲気中で処理することにより、処理中に揮発する有害なオゾンガスによる大気汚染を最小限に抑えることが可能となる。
【００１６】
また、請求項２に記載の発明は、プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後透明電極を形成することを特徴とし、透明電極形成前に有機物及び表面Ｓｎ層を除去することにより、有機物による透明電極形成不良を減少させると共に、基板表面のＳｎ層を完全に除去するため、透明電極の下にもＳｎ層が存在しないことにより透明電極形成後にバス電極を形成する際のＡｇとＳｎの酸化還元反応による黄変現象を完全に防止することが可能となる。
【００１７】
また、請求項３に記載の発明は、プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、透明電極を形成した後、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後バス電極を形成することを特徴とし、透明電極形成後に有機物とＳｎ層を除去することにより、透明電極パターン以外の基板表面が露出した部分のみのＳｎ層を除去することが可能となり、効果的に黄変を防止することが可能となる。
【００１８】
さらに、前記オゾンを含む溶液が、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ジクロロメタン、純水のうち少なくとも一つを含むことにより、オゾンを含む溶液中のオゾンの溶解量は多いほど有機物除去の効果が大きい。オゾンを効果的に溶解させることが可能な溶液として環境、衛生等に対する影響の面から好ましい溶液は、式：ＣｎＨ２ｎ＋１（ＣＯＯＨ）［ｎ＝１，２または３の整数］で表される脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）及びジクロロメタンであり、これらのうちの一つを用いると有効に溶液中にオゾンを溶解させることが可能となる。なお、一般的にオゾン水として使用されている純水にオゾンを溶解させた溶液も、効果は減少するが使用可能である。
【００１９】
また、請求項５に記載の発明は、プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を有することを特徴とし、有機物除去を炭酸エチレンを含む溶液により行うことにより、オゾンガスのみもしくはオゾンを含む溶液で行った場合よりも効果的に有機物を除去することが可能となる。また、炭酸エチレンは無臭で毒性も弱いため環境にもやさしく排気や廃液の管理が容易になる。
【００２０】
また、請求項６に記載の発明は、プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後透明電極を形成することを特徴とし、透明電極形成前に有機物および表面Ｓｎ層を除去することにより、有機物による透明電極形成不良を減少させると共に、基板表面のＳｎ層を完全に除去するため透明電極の下にもＳｎ層が存在しないことにより透明電極形成後にバス電極を形成する際のＡｇとＳｎの酸化還元反応による黄変現象を完全に防止することが可能となる。さらに、有機物除去を炭酸エチレンを含む溶液により行うことにより、オゾンガスのみもしくはオゾンを含む溶液で行った場合よりも効果的に有機物を除去することが可能で、炭酸エチレンは無臭で毒性も弱いため環境にもやさしく排気や廃液の管理が容易になる。
【００２１】
さらに、請求項７に記載の発明は、プラズマディスプレイ装置の前面板を製造する際に、透明電極を形成した後、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程を行い、その後バス電極を形成することを特徴とし、透明電極形成後に有機物とＳｎ層を除去することにより、透明電極パターン以外の基板表面が露出した部分のみのＳｎ層を除去することが可能となり、効果的に黄変を防止することが可能となる。さらに、有機物除去を炭酸エチレンを含む溶液により行うことにより、オゾンガスのみもしくはオゾンを含む溶液で行った場合よりも効果的に有機物を除去することが可能となる。また、炭酸エチレンは無臭で毒性も弱いため環境にもやさしく排気や廃液の管理が容易になる。
【００２２】
以上の方法により、プラズマディスプレイ用基板の表面に付着した有機物及び基板表面のＳｎ層を効果的に除去することで、黄変のない高品質なプラズマディスプレイ装置を提供することが可能となる。
【００２３】
以下、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイ装置の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
【００２４】
（実施の形態１）
図１は本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイ装置の前面板の製造方法における工程フロー概略図であり、図２はその製造方法において、要部の工程の状態を示す概略断面図である。
【００２５】
まず、フロート法により生成したプラズマディスプレイ用高歪点ガラス基板を準備し、受入れる（基板受入）。この高歪点ガラス基板は、溶融させたＳｎ浴の上に高歪点ガラスの材料を流し込み、平板状に引き伸ばした後所望のサイズに割断することにより得られる。なお、Ｓｎ浴上で成型されている際に、Ｓｎ浴とガラスの接した面のみならず反対面も高温となったＳｎの拡散により、図２（Ａ）に示すように、成型された前面基板１の表面にＳｎ層１５、１６が形成される。このＳｎ層１５、１６はＳｎ浴と接していない面でおよそ５μｍ程度である。なお、基板表面の平滑性を向上させるため、割断された後、軽く研磨してもよい。
【００２６】
次に、前記基板をオゾン酢酸溶液により有機物除去処理を行い、エッチングにより前面基板１表面のＳｎ層１５を除去する洗浄・エッチング工程を行う（洗浄・エッチング）。図２（Ｂ）に除去後の状態を示している。この洗浄・エッチング工程について、さらに詳細に説明すると、まずオゾン酢酸溶液は、放電により発生させたオゾンガスを酢酸中にバブリングにより溶解させ、オゾン濃度２００ｐｐｍに調整する。次に、基板を水洗し、その後前記オゾン酢酸溶液をシャワーにより噴出する有機物処理槽に移動させ、有機物除去処理を行う（有機物除去処理）。このときシャワーは基板前面にオゾン酢酸溶液が均一に当るために揺動させる。また、有機物処理槽を密閉雰囲気とするために、有機物処理槽の前後に基板が通過するとシャッターが閉じる機構を設け、処理中に発生するオゾンガスが大気中に漏れないようにする。なお、オゾン酢酸に曝露されている処理時間は約１分である。
【００２７】
ここで、オゾンを溶解する溶液は、酢酸に限られず、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ジクロロメタン、純水の中から選ばれる少なくとも１つを用いる。また、処理時間は有機物が除去される時間であればよく、処理時間は１分に限らない。
【００２８】
次に、有機物処理槽通過後、水洗処理を行い、エッチング処理槽に移動させてエッチング処理を行う。エッチング処理槽はディップ式で、フッ酸を満たしたエッチング処理槽に約２分間浸漬させる。なお一般的に表面Ｓｎ層は５μｍ程度であるため、５μｍ以上除去されることが望ましいが、表面Ｓｎ層全てを除去しなくても、一定量ムラなく除去できれば、黄変度合いは低減するため、５μｍに限定されない。またエッチング液はフッ酸でなくてもよく、処理時間も表面Ｓｎ層１５が一定量除去できる時間であれば２分とは限られない。次に、エッチング処理槽を通過した基板を水洗し、その後ダスト管理されたドライエアーを用いたエアナイフ等により乾燥を行うことにより、洗浄・エッチング工程を終了する。
【００２９】
次に、図２（Ｃ）に示すように、イオンスパッタ法等により基板上にＩＴＯ膜を成膜し、その上にレジストを形成して所望形状にパターニングした後、エッチングしてＩＴＯパターンを形成し、レジストを剥離して透明電極３を形成する（透明電極形成）。なお、透明電極材料としてはＳｎＯ２等も用いることができる。
【００３０】
次に、バス電極を形成する（バス電極形成）。このバス電極形成工程では、感光性黒色ペーストを用いスクリーン印刷法等により成膜した後、感光性Ａｇペーストを用い、スクリーン印刷法等により成膜し、所望のパターンを有する露光マスクを通して紫外光を照射した後、現像処理によりバス電極パターンを形成し、約６００℃程度の温度で焼成してペースト中の樹脂成分を脱媒すると共にガラスフリットを溶融させて、図２（Ｄ）に示すように、バス電極４を形成する。なお、Ａｇ層は１層でなくともよく複数層を積層してもよい。また、導電層がＡｇを主成分とするのであれば、ペーストを用いた形成方法でなくともよい。
【００３１】
次に、ブラックストライプを形成する（ブラックストライプ形成）。このブラックストライプ形成工程では、感光性黒色ペーストをスクリーン印刷法等により成膜した後、所望のパターンを有する露光マスクを通して紫外光を照射した後、現像処理によりバス電極パターンを形成し、約６００℃程度の温度で焼成してペースト中の樹脂成分を脱媒すると共にガラスフリットを溶融させて、図２（Ｅ）に示すように、ブラックストライプ５を形成する。なお、ブラックストライプはバス電極の下地黒色層と同時に形成してもよい。また、黒色であるならペーストを用いた形成方法でなくともよい。また、バス電極形成前にブラックストライプを形成してもよい。
【００３２】
次に、誘電体層を形成する（誘電体形成）。この誘電体形成工程では、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系のガラス等を主剤としたペーストをスクリーン印刷法やダイコート法等の手法により成膜し、約６００℃程度の温度で焼成することによりペースト中の樹脂成分を脱媒すると共にガラスフリットを溶融させて誘電体下層を形成する。同様にして誘電体層上層を形成して、図２（Ｆ）に示すように、誘電体層６を形成する。なお、誘電体層は２度に分けて形成しなくてもよい。また、ペーストを用いずに成型されたフィルム状の誘電体前駆体をラミネートして焼成することによって形成してもよい。
【００３３】
次に、誘電体保護層を形成する（誘電体保護層形成）。この誘電体保護層形成工程では、図２（Ｇ）に示すように、ＭｇＯ等を真空蒸着法やスパッタ法により成膜して誘電体保護層７を形成する。
【００３４】
以上のようにして前面板が完成する。そして、この前面板及び背面板を張り合わせ、Ｎｅ−Ｘｅ等の放電ガスを５３２００Ｐａ（４００Ｔｏｒｒ）〜７９８００Ｐａ（６００Ｔｏｒｒ）の圧力で封入してプラズマディスプレイパネルを形成した後、駆動回路を取り付けることにより、プラズマディスプレイ装置が完成する。
【００３５】
以上の方法により作製したプラズマディスプレイ装置は、有機物の除去及び基板表面のエッチングを効果的に行うことで、従来の方法で問題となっていた黄変のない高品質のプラズマディスプレイ装置となる。
【００３６】
ここで、上記説明では、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程について説明したが、この洗浄・エッチング工程として、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする工程を用いても同様な効果が得られる。
【００３７】
この炭酸エチレンを含む溶液による洗浄・エッチング工程について、さらに詳細に説明すると、まず基板を水洗し、その後炭酸エチレン溶液をシャワーにより噴出する有機物処理槽に移動させ、有機物除去処理を行う（有機物除去処理）。このときシャワーは基板前面に炭酸エチレン溶液が均一にあたるように揺動させるとともに、炭酸エチレン溶液の液温は７０〜８０℃に保持し、約１分間炭酸エチレン溶液に曝露されるように基板の移動速度を調節した。
【００３８】
なお液温は有機物が除去でき４０℃以上の温度であれば７０〜８０℃に限られず、また処理時間も有機物が除去される時間であればよく、処理時間は１分に限らない。さらに、液温と処理時間は有機物の除去される温度と時間により適宜選ばれる。また、炭酸エチレンのみではなく、炭酸エチレン溶液にオゾンをバブリング等により溶解させてもよい。さらに、オゾンを酢酸等の溶液に溶解させたものと炭酸エチレンを混合させてもよい。
【００３９】
次に、有機物処理槽通過後、水洗処理を行い、エッチング処理槽に移動させてエッチング処理を行う。エッチング処理槽はディップ式で、フッ酸を満たしたエッチング処理槽に約２分間浸漬させる。なお一般的に表面Ｓｎ層は５μｍ程度であるため、５μｍ以上除去されることが望ましいが、表面Ｓｎ層全てを除去しなくても、一定量ムラなく除去できれば、黄変度合いは低減するため、５μｍに限定されない。またエッチング液はフッ酸でなくてもよく、処理時間も表面Ｓｎ層１５が一定量除去できる時間であれば２分とは限られない。次に、エッチング処理槽を通過した基板を水洗し、その後ダスト管理されたドライエアーを用いたエアナイフ等により乾燥を行うことにより、有機物除去洗浄工程を終了する。
【００４０】
また、炭酸エチレンのみではなく、炭酸エチレン溶液にオゾンをバブリング等により溶解させてもよい。さらに、オゾンを酢酸等の溶液に溶解させたものと炭酸エチレンを混合させてもよい。
【００４１】
（実施の形態２）
図３は本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイ装置の前面板の製造方法における工程フロー概略図であり、図４はその製造方法において、要部の工程の状態を示す概略断面図である。
【００４２】
本実施の形態においては、実施の形態１と異なる点は、図３の工程フローから明らかなように、有機物除去及び表面Ｓｎ層の除去を透明電極３を形成した後に行うものである。これを図４の概略断面図を用いて説明する。
【００４３】
まず、実施の形態１で説明した前面基板１を通常の洗浄工程を通して洗浄した後、図４（Ｂ）に示すように透明電極３を形成する。このとき、表面Ｓｎ層１５が除去されないまま透明電極３が形成されるため、透明電極３の基板面直下にはＳｎ層１５が存在する。そして透明電極３を形成した後、図４（Ｃ）に示すように、前記前面基板１をオゾン酢酸溶液により有機物除去処理を行い、エッチングにより前面基板１表面のＳｎ層１５を除去する。このように有機物除去を行った後にエッチングを行うことで、効果的にエッチングを行い、Ｓｎ層１５を除去することができる。
【００４４】
このとき、有機物除去は前面基板１の表面全面にわたってなされるが、エッチングは透明電極３から表面のＳｎ層１５が露出した部分のみが選択的に除去される。これにより、エッチング液の劣化を抑えることができ、寿命を長くできる。なお、本実施の形態２では基板１と透明電極３の間にＳｎ層１５が残存しているため、界面のＳｎ層１５が露出する側面部では黄変の可能性が若干残る可能性があるが、従来の技術と比較すると、黄変が発生する可能性を大幅に減少させることができる。
【００４５】
この洗浄・エッチング工程を行った後のバス電極４、ブラックストライプ５、誘電体層６、誘電体保護層７及び封着、回路接続等のプラズマディスプレイ装置の製造工程は、実施の形態１と同様に行えばよい。また、上記説明では、密閉雰囲気中でオゾンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする洗浄・エッチング工程について説明したが、この洗浄・エッチング工程として、実施の形態１で説明したように、少なくとも炭酸エチレンを含む溶液を用いて基板上に付着した有機物を除去した後、基板表面をエッチングする工程を用いてもよい。
【００４６】
すなわち、本実施の形態においては、黄変防止の効果は実施の形態１に比べて若干劣るものの、洗浄・エッチング工程におけるエッチング液の劣化を抑えることができるため、製造工程における経費削減の効果が得られる。
【００４７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、有機物の除去を効果的に行ったあと基板表面のエッチングを行い、基板表面のＳｎ層を有機物によるエッチングムラがない状態で除去することで、基板が黄色に変色することのない高品質なプラズマディスプレイ装置を提供することが可能となる。なお、無臭で毒性の弱い炭酸エチレンを用いることにより、排気・廃液の管理が容易になるため、より簡易的な設備、方法で前記の効果を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１によるプラズマディスプレイ装置の製造方法における工程フロー概略図
【図２】（Ａ）〜（Ｇ）は同製造方法における要部の工程を示す概略断面図
【図３】本発明の実施の形態２によるプラズマディスプレイ装置の製造方法における工程フロー概略図
【図４】（Ａ）〜（Ｇ）は同製造方法における要部の工程を示す概略断面図
【図５】プラズマディスプレイ装置の構成を示す概略断面図
【図６】有機物未除去でのエッチング不良を示す斜視図
【符号の説明】
１　前面基板
２　背面基板
３　透明電極
４　バス電極
５　ブラックストライプ
６　誘電体層
７　誘電体保護層
８　アドレス電極
９　下地誘電体層
１０　隔壁
１１　蛍光体層
１２　放電ガス
１３、１４　異物
１５、１６　Ｓｎ層
【図１】
2004006173.tif 000003
【図２】
2004006173.tif 000004
【図３】
2004006173.tif 000005
【図４】
2004006173.tif 000006
【図５】
2004006173.tif 000007
【図６】
2004006173.tif 000008