(57)【要約】【課題】ラビング処理時に、基板表面に形成された配向膜面に、脂肪酸アミド成分が転写することなくラビング処理を行うことのできるラビング装置とそれに用いるラビングローラを提供する。【解決手段】脂肪酸アミド成分を含む滑剤が塗布され、裏面を樹脂等の補強剤でコートされたラビングクロスで、周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、上記脂肪酸アミド成分を５％以下好ましくは含有しないラビングクロスを用いて構成したラビングローラを用いてラビング処理を行うことを特徴とする。【選択図】  図２
2004212783.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
滑剤が塗布されたラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置であって、
上記滑剤は、脂肪酸アミド成分の含有が５％以下であることを特徴とするラビング装置。
【請求項２】
滑剤が塗布されたラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置であって、
上記滑剤は、脂肪酸アミド成分を含有しないことを特徴とするラビング装置。
【請求項３】
基板上に形成された配向膜に、ラビング処理を施すラビング装置に用いるラビングローラであって、
上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスは、脂肪酸アミド成分の含有が５％以下であることを特徴とするラビング装置に用いるラビングローラ。
【請求項４】
基板上に形成された配向膜に、ラビング処理を施すラビング装置に用いるラビングローラであって、
上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスには、脂肪酸アミド成分が含有されていないことを特徴とするラビング装置に用いるラビングローラ。
【請求項５】
上記パイル糸は、レーヨン、コットン、ナイロン等の有機高分子で構成されていることを特徴とする請求項２に記載のラビング装置に用いるラビングローラ。
【請求項６】
格子状に編んだ地糸にパイル糸を織り込んで織り上げる原糸織り上げ工程と、
この織り上げられたクロスを規定の大きさにカットするシャーリング工程と、上記カットされたクロスに脱脂処理及び汚染除去クリーニング処理を施す精錬処理工程と、
上記クロスを乾燥する乾燥工程と、
上記乾燥したクロスにアミドレス滑剤を塗布する仕上樹脂加工工程と、
この仕上樹脂加工の終わったクロスの起毛処理を行う起毛工程と、の各工程を経て作製されたラビングクロスを用いて構成されたラビングローラ。
【請求項７】
基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施すためのラビング装置を用いた製造方法であって、
脂肪酸アミド成分の含有が５％以下の滑剤が塗布されたラビングクロスをラビングローラに貼り付ける工程と、
前記ラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す工程と、
を有することを特徴とするラビング装置用いた製造方法。
【請求項８】
基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す工程を有する液晶装置の製造方法であって、
脂肪酸アミド成分の含有が５％以下の滑剤が塗布されたラビングクロスが貼り付けられたラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施すことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ラビング装置とこれに用いるラビングローラに関し、特に、周面がラビングクロスで構成されたラビングローラに関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＴＦＴと称す）をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【０００４】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、ＴＦＴ基板と対向基板とを対向させ、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール部を設け、このシール部を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【０００５】
ここで、ラビング処理とは、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板表面に形成された配向膜上に回転しながら接触させ直線的に移動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、このように配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００６】
ところで、このような配向膜形成時のラビング処理に用いるラビングローラにおいて、上記ラビングローラ周面を形成するラビングクロスは、図５に示すように、格子状に編んだキュプラ繊維等の地糸１０５に、レーヨン等の有機高分子１００を織り上げ、この織り上げたクロスにメチロール，ステアロアミド等の脂肪酸アミド（Ｃ１８Ｈ３５ＣＯＮＨＣＨ２ＯＨ）の滑材１２０を塗布し、上記クロスの裏面をアクリル樹脂等の補強剤１１０でコートする（以下、バックコートと称す）ことにより構成されている。
【０００７】
上記脂肪酸アミド等の滑材１２０を上記織り上げたクロスに塗布することで、クロスの表面を柔らかくし、ラビング処理時に、ラビングローラが基板表面を接触移動する際、基板表面に形成された配向膜面に、上記ローラのクロスによって傷が生じることを防止している。また、上記裏面補強剤１１０は、上記織り上げたクロスをバックコートすることにより、上記クロスのほつれを防止している。
【０００８】
このように周面がラビングクロスで構成されたラビングローラを用いてラビング処理を行うラビング装置は、特許文献１に開示されている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平５−２８９０８３号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１に開示されているラビング装置に用いるラビングローラでは、上記織り上げたクロスに脂肪酸アミド成分を含む滑材１２０を塗布することにより、ラビングローラの周面を形成するラビングクロスの表面を柔らかくし、ラビング処理時に、ラビングローラが基板表面を接触移動する際、基板表面に形成された配向膜面に、上記ローラのクロスによって傷が生じることを防止している。
【００１１】
しかしながら、ラビング処理時には、ラビングローラが基板表面を接触移動することから、滑材１２０に含まれる脂肪酸アミド成分が基板に転写されてしまう。
【００１２】
この転写物が液晶パネル表示時に視認されてしまい、表示異常となる問題があった。
【００１３】
本発明は上記問題に着目してなされたものであり、その目的は、ラビング処理時に、基板表面に形成された配向膜面に脂肪酸アミド成分が転写することなくラビング処理を行うことのできるラビング装置とそれに用いるラビングローラを提供するにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係るラビング装置の一つの態様としては、滑剤が塗布されたラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置であって、上記滑剤は、脂肪酸アミド成分の含有が５％以下であることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明のラビング装置は、滑剤が塗布されたラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置であって、上記滑剤は、脂肪酸アミド成分を含有しないことを特徴とする。
【００１６】
本発明のラビング装置によれば、ラビングローラ周面を形成するラビングクロスに、脂肪酸アミド成分が５％以下好ましくは含有されていないことにより、ラビング処理時に脂肪酸アミド成分が基板に転写することにより発生する基板の表示不良を防止することができるという効果を有する。
【００１７】
本発明に係るラビング装置に用いるラビングローラの一つの態様としては、基板上に形成された配向膜に、ラビング処理を施すラビング装置に用いるラビングローラであって、上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスは、脂肪酸アミド成分の含有が５％以下であることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明のラビング装置は、基板上に形成された配向膜に、ラビング処理を施すラビング装置に用いるラビングローラであって、上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスには、脂肪酸アミド成分が含有されていないことを特徴とする。
【００１９】
さらに、本発明のラビング装置に用いるラビングローラとしては、格子状に編んだ地糸にパイル糸を織り込んで織り上げる原糸織り上げ工程と、この織り上げられたクロスを規定の大きさにカットするシャーリング工程と、上記カットされたクロスに脱脂処理及び汚染除去クリーニング処理を施す精錬処理工程と、上記クロスを乾燥する乾燥工程と、上記乾燥したクロスにアミドレス滑剤を塗布する仕上樹脂加工工程と、この仕上樹脂加工の終わったクロスの起毛処理を行う起毛工程と、の各工程を経て作製されたラビングクロスを用いて構成されたことを特徴とする。
【００２０】
本発明のラビング装置に用いるラビングローラによれば、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されたラビングクロスに、脂肪酸アミド成分が５％以下好ましくは含まれていないことにより、上記ラビングローラを用いて行うラビング処理時に、脂肪酸アミド成分が基板に転写することにより発生する基板の表示不良を防止することができるという効果を有する。
【００２１】
また、本発明のラビング装置に用いるラビングローラとしては、上記パイル糸は、レーヨン、コットン、ナイロン等の有機高分子で構成されていることを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、ラビングクロスを構成するパイル糸に、レーヨン、コットン、ナイロン等の有機高分子を用いることにより、ラビング効果を大きくすることができ、また、上記パイル糸に脂肪酸アミド成分が５％以下好ましくは含まれていないことで、ラビング処理時に、アミド成分が基板に転写することで発生する基板の表示不良を防止することができるという効果を有する。
【００２３】
また、本発明のラビング装置用いた製造方法は、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施すためのラビング装置を用いた製造方法であって、脂肪酸アミド成分の含有が５％以下の滑剤が塗布されたラビングクロスをラビングローラに貼り付ける工程と、前記ラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す工程と、を有することを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す工程を有する液晶装置の製造方法であって、脂肪酸アミド成分の含有が５％以下の滑剤が塗布されたラビングクロスが貼り付けられたラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施すことを特徴とする。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の一実施の形態であるラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、図２は、ラビングローラの周面を形成するラビングクロスの製造工程の一例を示すフローチャート、図３及び図４は、ラビングクロスの製造工程の一部を示した要部拡大斜視図である。
【００２６】
図１に示すように、ラビング装置１は、基台４の上面（以下、基準平面と称す）に固定されたラビングローラ２と、ラビング処理時に基板３を載置して上記基準平面上を移動するステージ５と、このステージ５に載置した基板３がラビングローラ２に当接するよう、ステージ５を上記基準平面上で移動するガイド６とで、その主要部が構成されている。
【００２７】
上記ラビングローラ２は、ラビングクロスで形成されたローラ周面２ｂを有するローラ部２ａと、ローラ回転軸２ｃとで構成されており、ローラ回転軸２ｃは、一対の軸受け２ｄにより上記基準平面に平行な平面上に回転自在に軸支されている。この一対の軸受け２ｄは、上記基準平面に対し図示しない高さ調節機構を有していて、ローラ回転軸２ｃを基準平面に対して任意の高さに調節し得るようになっている。また、ローラ回転軸２ｃは図示されない駆動源によって回転駆動されるようになっている。このように構成されたラビングローラ２は、軸受け２ｄで支持された回転軸２ｃを中心に一方向に回転しながら基板３の表面に形成された配向膜に当接し、基板３の配向膜表面に細かい溝を形成して前記配向膜を配向異方性の膜にする。
【００２８】
次に、このように構成されたラビング装置１に用いるラビングローラ２のローラ部２ａの周面２ｂを形成するラビングクロスの製造方法について、図２のフローチャート及び図３、図４の斜視図を用いて説明する。
【００２９】
まず、図２に示すように、ステップＳ１の原糸（繊維）織り上げ工程では、キュプラ繊維で構成された地糸に、ワックス等の潤滑油を付着させて、図３に示すように、地糸を縦糸１０並びに横糸１１で格子状に編み、この格子状に編んだ上記地糸に、レーヨン、コットン、ナイロン等の有機高分子で構成されたパイル糸１５をＷ状に織り込み、クロス２０を織り上げる。その後、ステップＳ２に移行する。ステップＳ２では、クロス２０を規定の大きさにカット（シャーリング）し、ステップＳ３に移行する。
【００３０】
ステップＳ３では、規定の大きさにカットしたクロス２０に、上記ステップＳ１の織り上げ工程で付着したワックス等を除去する脱脂処理や、その他の汚染を除去するクリーニング等の精錬処理が既知の技術により行われ、ステップＳ４に移行し、ステップＳ４では、クロス２０の乾燥が行われ、ステップＳ５に移行する。
【００３１】
ステップＳ５では、図４に示すように、ステップＳ４で乾燥処理の行われたクロス２０に、メチロール，ステアロアミド等の脂肪酸アミドの成分が５％以下好ましくは含有されていないアミドレス滑剤３０を、既知のディップ処理により塗布する仕上げ樹脂加工を行う。これにより、クロス２０に脂肪酸アミド成分が５％以下好ましくは含まれていないことで、このラビングクロス２０により周面２ｂが形成されたローラ部２ａを有するラビングローラ２（図１参照）を用いてラビング処理を行う際、脂肪酸アミド成分が基板に転写することで発生する基板汚染を防止することができる。仕上げ樹脂加工を行った後、ステップＳ６に移行する。
【００３２】
ステップＳ６では、不図示のブラシを用いて、ラビングクロス２０のレーヨン等のパイル糸１５に起毛処理を実施する。この処理で、ラビングクロス２０は、表面がパイル糸１５で起毛した状態となる。
【００３３】
ここで、従来のクロス製造工程においては、この起毛処理後の前記クロス２０の裏面を樹脂等の補強剤でバックコートすることにより、クロス２０のほつれを防止していた。
【００３４】
ところが、本実施の形態においては、上述したステップＳ５に示したように、クロス２０に、メチロール，ステアロアミド等の脂肪酸アミド成分が５％以下好ましくは含有されていないアミドレス滑剤３０を塗布したことにより、クロス２０自体が十分柔らかくなっていない。このことにより、糸のほつれは殆ど生じなくなる。
【００３５】
よって、本実施の形態においては、ラビングクロス２０のバックコートは行わない。このように、クロス２０の裏面を硬化しないことにより、脂肪酸アミド成分を含有する滑剤を塗布しなくともクロス２０を柔らかい状態に保つことができる。
【００３６】
最後にステップＳ７では、上述したステップＳ１〜ステップＳ６までの工程で製造したラビングクロスの検査が行われ、脂肪酸アミド成分の含有量、クロス２０のほつれ等の確認が行われる。アミド成分の含有量の確認は、ガスクロマトグラフ質量分析装置を用いた既知のＧＣ／ＭＳ（Ｇａｓ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）解析法により行われ、有機溶媒中濃度５％以下であれば、アミド成分が基板に転写することで発生する基板の表示不良を防止することができる。
【００３７】
このように、ラビング装置１に用いるラビングローラ２（図１参照）のローラ部２ａの周面を形成する、脂肪酸アミド成分を５％以下好ましくは含有していないアミドレスクロスが製造され、これによりラビングローラ２のローラ部２ａの周面２ｂが形成される。
【００３８】
尚、上記実施形態においては、ラビングクロス２０を構成するパイル糸１５は、レーヨン、コットン、ナイロン等で構成したが、これに限らず、ラビング効果を高め、ラビング処理時に、基板３にダメージを与えない有機高分子であれば、どのような材質のものであっても良いことは勿論である。
【００３９】
また、従来のラビングクロス２０に塗布する滑剤で、基板３に転写する成分は、メチロール，ステアロアミド等の脂肪酸アミドであるとしたが、他の脂肪酸アミド（例えば、ステアリン酸アミド等）であっても、基板表面にアミド成分を転写してしまう。よって、本発明のラビングロールに用いられるラビングクロス２０に塗布する滑剤は、どのような脂肪酸アミド成分をも５％以下好ましくは含有しないものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態であるラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、
【図２】ラビングローラの周面を形成するラビングクロスの製造工程を示すフローチャート、
【図３】クロスの製造工程において、地糸にパイル糸を織り上げた状態を示したクロスの要部拡大斜視図、
【図４】クロスの製造工程において、クロスに滑剤を塗布した状態を示したクロスの要部拡大斜視図、
【図５】従来のクロスの製造工程の一例を示したクロスの要部拡大斜視図。
【符号の説明】
１…ラビング装置
２…ラビングローラ
２ａ…ラビングローラ周面
１０…地糸（縦糸）
１１…地糸（横糸）
２０…ラビングクロス
【図１】
2004212783.tif 000003
【図２】
2004212783.tif 000004
【図３】
2004212783.tif 000005
【図４】
2004212783.tif 000006
【図５】
2004212783.tif 000007