(57)【要約】【課題】ハンドリング対象物と保持面との平行精度を高めることのできる静電保持装置を提供すること。【解決手段】電極面を保持面１０３として、電極面へ所定の電圧を印加して保持対象物１０４を静電気力により接触的に保持して又は非接触的に浮上させて保持する静電保持装置である。この保持面１０３を支持する電極支持体１０１は保持面１０３の傾きをハンドリング対象物１０４の面に平行する様に機能する姿勢制御機構（１０６及び１０７）を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極面を保持面として、該電極面へ所定の電圧を印加して保持対象物を静電気力により接触的に保持して又は非接触的に浮上させて保持する静電保持装置において、
前記保持面を支持する電極支持体は該保持面の傾きをハンドリング対象物面に平行する様に機能する姿勢制御機構を備えていることを特徴とする静電保持装置。
【請求項２】
前記姿勢制御機構は、ハンドリング対象物を受けている対象物受台の表面と前記保持面との距離が所定の距離となるように制御する距離制御機構であることを特徴とする請求項１記載の静電保持装置。
【請求項３】
前記距離制御機構は、保持面から突出して前記対象物受台の表面と前記保持面との距離が所定の距離となるように制限する距離制限手段を備えていることを特徴とする請求項２記載の静電保持装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の静電保持装置を用い、前記保持面をピンセット吸引部とする静電ピンセット。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の静電保持装置を用いた搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、静電気吸引力を用いて薄板などの保持対象物を接触又は非接触の状態で保持する静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット、搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、対象物を保持する保持装置としては真空チャックが一般に用いられているが、近年、静電力により対象物を保持することができる静電チャックなどの静電保持装置が提案された（例えば、特許文献１〜４参照）。
【０００３】
このような静電保持装置として、例えば、図１０及び図１１に示すようなものが知られている。
【０００４】
ここで、図１０に示す接触型の静電保持装置１１００においては、符号１０１は電極（静電電極）を取り付けるベース板などのベース部材であり、電極要素１０３ａと電極要素１０３ｂとからなる電極要素群が絶縁材に覆われてベース部材１０１に固定されて、電極要素１０３ａ、１０３ｂを有する保持面（電極面ということもある。）１０３が形成されている。
【０００５】
これらの電極要素１０３ａ、１０３ｂは制御部１１０９に接続され、この制御部１１０９はスイッチＳＷに接続されている。この制御部１１０９は、スイッチＳＷのオン（ｏｎ）、オフ（ｏｆｆ）操作により、オン時には一定の電圧（例えば、電極要素１０３ａには＋Ｖボルト、電極要素１０３ｂには−Ｖボルト）を出力し、オフ時には、これらの電圧は遮断される。これにより、スイッチＳＷがオン時に保持面１０３と受台１０５上のハンドリング対象物１０４との間に静電気吸引力が誘起されてハンドリング対象物１０４が矢印ａ方向に静電気吸引力で吸引される。これによりハンドリング対象物１０４は、図示のとおり、保持面１０３に吸引されて保持される。スイッチＳＷをオフ時には、これらの静電気吸引力は解消されてハンドリング対象物１０４が矢印ｂ方向に自然落下されて受台１０５上に載置される。
【０００６】
これにより、この静電保持装置１１００は導体、半導体又は高抵抗体などのハンドリング対象物を静電気吸引力により吸引する静電チャックとして機能する。また、吸引保持中に静電保持装置１１００を移動させるか又は受台１０５を交換する等を行うことにより、この静電保持装置１１００は種々のハンドリング対象物を搬送する搬送装置又は移載装置として利用できる。
【０００７】
また、図１１に示す浮上型の静電保持装置１２００では、各電極要素１０３ａ、１０３ｂ間が絶縁材で絶縁されて保持面１０３がベース部材１０１上に形成されている。電極面と導体、半導体又は高抵抗体などのハンドリング対象物１０４間のギャップ（離間距離）を実時間でフィードバックするように変位センサ１０２が設けられている。
【０００８】
変位センサ１０２はハンドリング対象物１０４と電極面との間のギャップ又はハンドリング対象物１０４の位置を測定し、コントローラ１２０９にフィードバックする。コントローラ１２０９は、測定された電極面とハンドリング対象物１０４のギャップに基づいて印加電圧等を制御し、ギャップを前もって指定した所定値に維持する。例えば、ギャップがターゲットギャップより大きい場合（ギャップ＞ターゲット）は、所定の直流電圧を印加して、静電気吸引力を誘起してハンドリング対象物を吸引してギャップを小さくする。一方、ギャップがターゲットギャップより小さい場合（ギャップ＜ターゲット）は、各電極の印加される電圧を遮断して（０Ｖとし）、ハンドリング対象物への吸引力を無くして自重でハンドリング対象物を下げギャップを大きくする。これを繰り返すことにより、所定のギャップにハンドリング対象物を保持することができる。
【０００９】
このような浮上型の静電保持装置１２００も同様にして搬送装置又は移載装置として利用される。
【００１０】
【特許文献１】
特開平７−２５７７５１号公報
【特許文献２】
特開平９−３２２５６４号公報
【特許文献３】
特開平１０−６６３６７号公報
【特許文献４】
特開２００１−９７６６号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の静電チャックでは、ハンドリング対象物を静電的に保持させるには、ハンドリング対象物の表面（ハンドリング対象面）と保持面１０３とが交差する面を形成する場合には、ハンドリング対象面と保持面１０３との距離が一様ではなくなる。
【００１２】
ここで、静電気力は電極面とハンドリング対象物１０４の間隔（ギャップ）の２乗に反比例して変化するので、絶縁層の厚みが均一であるとするとハンドリング対象物１０４と保持面１０３との間隔が一様でないとハンドリングが困難となる場合がある。
【００１３】
例えば、初期ギャップがターゲットギャップよりも著しく大き過ぎる状態では、制御回路１１０９の作動によりギャップがターゲットギャップよりも大きいと判断されて所定の直流電流が印加されて静電気力は働くが、その吸引力が弱すぎてハンドリング対象物１０４を引き寄せることが困難となる。これにより、結果として初期ギャップが大きい部分に対応するハンドリング対象物１０４の表面付近では制御が不能となり、ハンドリングが行えない場合が生じる。
【００１４】
また、一方、初期ギャップが小さすぎてターゲットギャップよりも初期ギャップが小さい場合には、メインスイッチをオンとして静電保持装置１２００の稼動を開始させても、（ギャップ＜ターゲット）であるので、制御回路１１０５の作用により各電極へ印加される電圧は遮断されるので、吸引力を働かすことができずに、同様に結果としてハンドリングを行えない場合が生じる。
【００１５】
ここで、半導体のウエハーを搬送する搬送装置として実際に利用する一例としては、１ＫＶの電圧を電極要素１０３ａ、１０３ｂに印加することによって、厚みが０．７ｍｍのウエハーを放置状態から吸引し持ち上げるための初期ギャップは、０．３ｍｍ≦初期ギャップ≦０．７ｍｍ、という条件を満たす場合のみ所定の浮上制御が行えるように設計されている。
【００１６】
このため、ハンドリング対象物１０４の面寸法が大きいほど、初期ギャップの許容範囲を満たすために、要求する平行度は高くなり、一例として、直径が３００ｍｍのシリコンウエハをハンドリング対象物とする場合、保持面１０３と受台１０５の表面１０５ａとの為す角度は０．０８度以下であることが必要条件となる。
【００１７】
それ故、このような静電保持装置１２００ではハンドリング対象物１０４と電極面（保持面）１０３との平行精度が極めて高いことが要求される。
【００１８】
また、接触式の静電保持装置では、保持面１０３とハンドリング対象物１０４との面が交差していると、静電吸引力が弱まり十分に吸着できない場合がある。
【００１９】
そこで、この発明は、ハンドリング対象物と保持面との平行精度を高めることのできる静電保持装置を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、電極面を保持面として、該電極面へ所定の電圧を印加して保持対象物を静電気力により接触的に保持して又は非接触的に浮上させて保持する静電保持装置において、前記保持面を支持する電極支持体は該保持面の傾きをハンドリング対象物面に平行する様に機能する姿勢制御機構を備えていることを特徴とする静電保持装置である。
【００２１】
この姿勢制御機構は、例えば、ハンドリング対象物を受けている対象物受台の表面と前記保持面との距離が所定の距離となるように制御する距離制御機構である。
【００２２】
このような距離制御機構は、例えば、保持面から突出して対象物受台の表面と保持面との距離が所定の距離となるように制限する距離制限手段を備えることにより構成される。
【００２３】
また、以上に記載の静電保持装置は、保持面をピンセット吸引部とする静電ピンセットとしたり、移載装置を含む搬送装置として利用できる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、従来技術と同一乃至均等な部位部材は、同一番号を付して詳細な説明は省略する。
【００２５】
図１〜図９は本発明に係る静電保持装置（静電チャック）の実施例を示す図である。図１〜図７では非接触支持型静電チャックを説明し、図８及び図９では接触支持型静電チャックを説明している。
【００２６】
先ず、第１実施例の静電チャック（静電保持装置）１００の構成について説明する。
【００２７】
図１は受台１０５上に載置されているハンドリング対象物１０４を静電チャック１００が吸引浮上しようとする初期状態を示す図であり、図２は、その静電チャック１００の外観を眺めた図である。
【００２８】
この図２において、静電チャック１００は、ベース部材１０１の表面には４カ所に分割されて電極面（保持面）１０３…が形成されている。このベース部材１０１は首振り機構１０７を介してロボットのツール先端などの移載手段構造体１０８にベース部材１０１の保持角度が自由になるように固定されている。
【００２９】
この首振り機構１０７は、この図では、３本のバネ又は伸縮可能なシリンダ１０７ａであるが、角度が所定範囲内で自由に調整できればこれに限定されない。例えば、ユニバーサルジョイント、その他のバネを含む弾性体、その他のシリンダを含む伸縮機構などの角度調整部材等が用いられる。外力を受けてベース部材１０１の角度が変更されるような構成が簡易な構造で好ましいが、ベース部材１０１の角度が調整可能で有れば、適宜の制御駆動機構により駆動制御されて所定の角度に調整できるように構成されていてもよい。
【００３０】
また、各保持面１０３…には、従来技術と同様に電極要素１０３ａ及び電極要素１０３ｂとが絶縁材により絶縁されて不図示のコントローラ１２０９にそれぞれ独立に接続されている。ここで、保持面１０３の表面は非接触式であるので絶縁層で被覆されていてもされていなくてもよい。
【００３１】
また、各保持面１０３の平面視略中央には変位センサ１０２…がそれぞれ設けられている。静電チャック１００が稼動状態では、各変位センサ１０２…の情報がコントローラ１２０９にフィードバックされてハンドリング対象物１０４と保持面１０３との距離（ギャップ）が所定の範囲内となるように制御されることにより、ハンドリング対象物１０４が浮上制御されるように構成されている。ここで、この各保持面１０３と変位センサとの組み合わせ単位を一つのモジュールと呼称する。
【００３２】
例えば、各電極モジュールとその対向するハンドリング対象物１０４の局所間のギャップに基づいて、電極モジュールへの印加電圧が実時間で制御され、対向局所のギャップを所定ターゲットギャップに維持する。これらの電極モジュールとその対向するハンドリング対象物１０４の局所とのギャップを所定値に維持することによって、浮上ハンドリングを実現する。保持面１０３の下に吊り下げた状態で浮上ハンドリングされているハンドリング対象物１０４はロボット等により静電チャック１００と共に移動させることができる。また、同様に受台１０５として新しい受台１０５に交換することもできる。
【００３３】
ここで、この発明に係る静電チャック１００では、図３に示すように、ベース部材１０１の周囲には、所定の長さｄ１の棒状の傾き調整基準部材（３個の突起物１０６…）が設けられている。これらの突起物１０６…の各先端１０６ａは、例えば半球状である。これにより、静電チャック１００を受台１０５の表面１０５ａに近づけても保持面１０３が所定の距離以内には近づかなくなるように設計され、半球状にすることにより設計精度が増大されている。
【００３４】
次にこのような構成の静電チャック１００の作用について説明する。
【００３５】
初期状態において、保持面１０３をハンドリング対象物１０４に近づけると、複数の突起１０６の一部の先端１０６ａが受台１０５の上面に当接してその間隔が突起物１０６の長さｄ１に応じて制限される。さらにこの状態で静電チャック１００を強制的に受台１０５に近づけると、このベース部材１０１と移載手段構造体１０８とは首振り機構１０７で連結しているので、首振り機構１０７の作用によりベース部材１０１が反作用力を受けた方向へ任意の角度で首を振り、先端面１０６ａが順次受台１０５の表面に当接される。
【００３６】
これにより、ベース部材１０１は移載手段構造体１０８の傾きに無関係に、受台１０５に先端１０６ａが当接した反作用力を受けて３個の突起物１０６…の全てが受台１０５の表面１０５ａに当接した状態では、ベース部材１０１の傾きが調整されて受台１０５とベース部材１０１とは平行となる。
【００３７】
この様に、静電チャック１００を受台１０５に押し付けるだけで、保持面１０３とハンドリング対象物１０４間の傾き誤差を首振り機構１０７に吸収させ、傾き許容範囲を突起物１０６の長さと設定位置で、簡単に満たすことができる。
【００３８】
このとき、突起物１０６の長さｄ１がハンドリング対象物１０４の厚みを考慮したコントローラ１２０９の制御許容範囲に設定されていれば、保持対象物１０４の位置はこの状態で常に制御可能な範囲に位置することになる。また、先端１０６ａが半球状に形成されているとより高精度に傾き及び初期ギャップを位置出しすることができる。
【００３９】
ついで、この状態で、静電チャックのコントローラ（図示していない）から吸引浮上動作開始を指示し、保持面１０３に所定の電圧を印加して、ハンドリング対象物１０４を静電気吸引力で引き上げる。
【００４０】
なお、この実施例では、保持面１０３は４分割された４分割モジュールを用いていたが、完全浮上ハンドリングを実現するためには、ハンドリング対象物の姿勢（２自由度）と上下方向の３自由度を制御することが好ましく、このため、保持面１０３は最低でも３モジュールに分割して３自由度以上の制御を行うことが好ましい。
【００４１】
なお、突起物１０６の長さｄ１の一例として、１ＫＶの電圧を電極面に印加することによって、厚みが０．７ｍｍのウエハー（ハンドリング対象物１０４）を放置状態から吸引し持ち上げるための初期ギャップは、０．３ｍｍ≦初期ギャップ≦０．７ｍｍ、という条件を満たすことが好ましい。なお、ここでの初期ギャップは、電極面が絶縁層で覆われている場合には、その絶縁層がない場合の裸の電極面からハンドリング対象物１０４までの距離である。
【００４２】
そこで、この長さｄ１は１．０ｍｍ≦ｄ１≦１．４ｍｍの範囲内に設定されている場合に、制御が可能となる。
【００４３】
また、受台１０５から別の受台１０５への移載においては、全受台と静電チャック１００間の平行度調整が要求されるが、本発明のように首振り機構を備えていれば、静電チャック１００の寸法精度に与える許容範囲が拡大される。
【００４４】
また、以上の実施例では説明されていないが、首振り機構の煽り動作に伴う静電チャックと受台間の相対平面移動をスムーズにするための付加的な構成を採用してもよい。例えば、静電チャック１００とロボットツール先端などの移載手段構造体１０８との間に、受動的に動く微小スライド機構を設けてもよい。これにより静電チャック１００の保持面１０３はスライド的に例えば前後に引き出されたり又は引き戻されて位置調整が行われる。
【００４５】
次に図４及び図５は別の実施例（第２の実施例）を示す構成模式図である。この第２実施例は、既に、本発明者らによって提案された静電気力と機構支持部材を組み合わせた静電チャック（詳細には、特開２００１−００９７６６号公報明細書等を参照。）へのこの発明の応用例を述べている。この第２実施例に従う局所接触支持型の静電チャック２００は、浮上式静電チャックの一例である。
【００４６】
この第２実施例に係る静電チャック２００では、第１実施例の静電チャック１００の突起物１０６に変えて、図６に示すような突起物２０６が設けられている。この突起物２０６の先端２０６ａは半球状であり、この突起物２０６の長さｄ１（先端２０６ａと保持面１０３距離）は第１実施例の距離ｄ１と同一に設計されているが、その突起物２０６の途中に円筒状の機構部材２０７が設けられている。
【００４７】
この機構部材２０７は、図７に示すように、受台１０５の表面に先端２０６ａが当接された状態で、ハンドリング対象物１０４を吸引させた場合に、その機構部材２０７により干渉させてハンドリング対象物１０４の近接距離をその厚みの長さｄ２に制限している。
【００４８】
このような突起物２０６は、径の異なる２つの円筒を連結してベース部材１０１から突設させて保持面から所定の長さを突出させることができる。これにより径の大きい円筒の端面の一部を浮上ハンドリング時の機構部材（接触支持部材）２０７として用いると共に、径の小さい円筒の先端２０６ａを浮上ハンドリング前の初期位置決めに役立たせることができる。なお、この細径円筒の側面は、横方向搬送時におけるハンドリング対象物のガイドとして利用してもよい。
【００４９】
このように構成すれば、第１実施例と同様に、初期状態において、静電チャック２００とハンドリング対象物１０４との初期ギャップ設定を容易に行える。
【００５０】
また、この突起物２０６は、その構造を工夫することによって、局所接触支持型の静電チャック２００で必要とする浮上ハンドリング時の接触支持部材として兼用させることができる。
【００５１】
なお、この第２実施例の構成によれば、ハンドリング対象物１０４の中心部当たりのギャップの１カ所のみを変位センサ１０２にて測定してフィードバック制御が可能である点は従来技術と同一である。
【００５２】
すなわち、このような静電チャック２００では、ハンドリング対象物１０４のエッジ部１０４ａの数箇所は、図７に示すように、機構部材２０７により機構的に拘束されているために、受動的にハンドリング対象物１０４の傾きが定まり、制御を必要とする自由度が少なくなり、ハンドリング対象物１０４の剛性によって、１モジュールの電極のみでハンドリングを実現できる。
【００５３】
ハンドリング対象物１０４を吸引し引寄せた場合、ハンドリング対象物１０４のエッジ部１０４ａが複数箇所の機構部材２０７…に当接されてそれ以上に近接されない。これにより姿勢制御が行えると同時に、ハンドリング対象物１０４の端部１０４ａ以外の重要部分が静電浮上されてハンドリングされる。
【００５４】
次に、図８は第３実施例を示す静電保持装置としての静電ピンセット３００の構成模式図である。ハンドリング対象物１０４の表面積に比べて小さい面積を有するベース部材１０１を用いている。このベース部材１０１の裏面には保持面１０３（ベース部材１０１の下面）が絶縁体で被覆されて形成されている。このベース部材１０１はユニバーサルジョイントなどの首振り機構１０７を介してハンドルなどのハンド部３０８に連結されている。保持面１０３は接触式であるので、電極要素１０３ａ、１０３ｂ（何れも不図示）が絶縁層に覆われるように形成されている。
【００５５】
作業者はハンドル３０８を握って小面積の保持面１０３を利用してハンドリング作業を行う。操作スイッチＳＷを押すと、電極要素１０３ａ、１０３ｂ（いずれも不図示）に所定の電圧が印加され、保持面１０３とハンドリング対象物１０４間に発生する静電吸引力でハンドリング対象物１０４を保持面１０３に吸着してハンドリングが行える。
【００５６】
また、このような構成とすれば、狭い空間に保持面１０３を差し入れてハンドリング操作を行う場合に好適に用いることができる。このような小面積の保持面１０３をピンセット保持部と称してこのような静電保持装置は、静電ピンセットと呼称されている。
【００５７】
これにより、このような静電ピンセット３００を用いれば、例えば、キャリア内に配列されているシリコンウエハーの中から一枚のみを抽出検査する場合等の摘みだし作業に好適に利用することができる。
【００５８】
ベース部材１０１が小面積であるので、隣接する他のウエハーに触れずに、ベース部材１０１を２枚のウエハー間に挿入して、目的ウエハーを電極面１０３に吸引して取り出す作業を行える。
【００５９】
挿入の容易さを考慮して、電極の面積を大きく取れなくても、この少ない電極面積で確実にハンドリング作業を行うには、保持面１０３とハンドリング対象物１０４間のギャップを最小にする必要がある。言い換えると、保持面１０３を確実に全面的にハンドリング対象物１０４に接触させることが最も好ましい吸引条件となる。
【００６０】
ここで、この発明の静電保持装置によれば、保持面１０３は首振り機構１０７を介してハンド部３０８に連結しているため、首振り機構１０７が受動的に煽られ、保持面１０３とハンドリング対象物１０４間の相対傾きを自動修正できる。これにより、手作業で角度調整を行っても、保持面１０３を簡単にハンドリング対象面に面合わせして完全接触状態で吸着作業を行うことができる。
【００６１】
次に、図９は第４実施例を示す小型のハンドリング対象物１０４に好適な静電ピンセット３００の構成模式図である。その基本構造は第３実施例の静電ピンセット３００と同じであるが、ハンドリング対象物が小さいため（例えばＬＳＩチップ）保持面１０３をさらに小さくする必要がある場合の実施例である。
【００６２】
また、保持面１０３を有するベース部材１０１は小さい故にハンドリング対象物面が保持面１０３に全面接触しているかどうかを作業者が的確に感じ取るのは困難である。本発明はこの様な小型電極を有するベース部材１０１を首振り機構１０７を介してハンド部３０８に連結しているため、局所的にハンドリング対象物１０４に当たるベース部材１０１は、その反力で首振り機構１０７が煽られ、自動的に面合わせを行えるので、作業者は面合わせをあまり意識せずにハンドリング作業を行える。
【００６３】
以上説明したように、本発明に従えば、首振り機構を電極面またはその連動部材に設けることによって、電極面またはその連動部材が基準面から受けた反力を利用して煽り動作を実現し、電極面とハンドリング対象物間の傾きを修正してハンドリング対象物と保持面との平行精度を高めることができる。
【００６４】
これにより、浮上型の静電保持装置に本発明を適用すれば、ハンドリングの初期ギャップ設定が簡易に行える。また、接触式の静電保持装置に本発明を適用すれば、ハンドリング対象物と保持面との接触を簡易に完全に行える。
【００６５】
以上、この発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、具体的な構成はこの実施の形態に限らず、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、首振り機構を取り付ける位置と首振り機構の実現形式は種々変更又は変形して設計することも可能である。
【００６６】
【発明の効果】
本発明に従えば、ハンドリング対象物と保持面との平行精度を高めることのできる静電保持装置を提供することができる。これにより、浮上型の静電保持装置では、浮上制御を行うことが容易となり、また、接触式の静電保持装置では、吸引力を増大させることができる。
【００６７】
また、本発明の静電保持装置は、静電チャックなどとして、または各種の移載装置を含む搬送装置や静電ピンセットなどとして応用することができる、という実用上有益な効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を示す浮上型の静電チャックによりハンドリング対象物を浮上させる初期状態の構成を断面により説明する模式図である。
【図２】図１の静電チャックの構成を説明する模式図である。
【図３】図２の部分拡大断面図である。
【図４】本発明の実施例を示す浮上型の静電チャックによりハンドリング対象物を浮上させる初期状態の構成を断面により説明する模式図である。
【図５】図４の静電チャックの構成を説明する模式図である。
【図６】図５の部分拡大断面図である。
【図７】図４の部分拡大断面図である。
【図８】本発明の実施例を示す接触型の静電保持装置としての静電ピンセットを説明する模式図である。
【図９】本発明の実施例を示す接触型の静電保持装置としての静電ピンセットを説明する模式図である。
【図１０】従来の接触型の静電チャックの構成を断面により説明する模式図である。
【図１１】従来の浮上型の静電チャックの構成を断面により説明する模式図である。
【符号の説明】
１０１：ベース部材（電極支持体）
１０２：変位センサ
１０３：電極面
１０３ａ、１０３ｂ：電極要素
１０４：ハンドリング対象物
１０５：受台
１０６、２０６：突起物（姿勢制御機構；傾き調整基準部材；距離制限手段）
１０７：首振り機構（姿勢制御機構）
１０８：移載手段構造体
２０７：機構部材（接触支持部材）
３０８：ハンドル部
ＳＷ：操作スイッチ
１１０９：制御回路
１２０９：コントローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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