(57)【要約】【課題】スタンパからの転写性に優れた光ディスク用基板の製造方法で、特に、従来のＣＤやＤＶＤより狭いトラックピッチで形成されたグルーブを有する基板を、精度よく成型することが可能な光ディスク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】一対の金型間に形成されるキャビティー５０内に溶融樹脂を射出し、型締め力を加えて前記溶融樹脂を圧縮し、スタンパ４０に形成された凹凸を転写する光ディスク用基板の製造方法であって、前記金型の型開き量を０．４ｍｍ〜１．０ｍｍとした状態で前記溶融樹脂をキャビティー５０内に射出し、前記溶融樹脂の射出量が前記キャビティー５０の容積の５０％以上となったときに、前記金型を閉じて３４３ｋＮ以上の型締力を加えることを特徴とする光ディスク用基板の製造方法である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の金型間に形成されるキャビティ内に溶融樹脂を射出し、型締め力を加えて前記溶融樹脂を圧縮し、スタンパに形成された凹凸を転写する光ディスク用基板の製造方法であって、
前記金型の型開き量を０．４ｍｍ〜１．０ｍｍとした状態で前記溶融樹脂をキャビティー内に射出し、前記溶融樹脂の射出量が前記キャビティーの容積の５０％以上となったときに、前記金型を閉じて３４３ｋＮ以上の型締力を加えることを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク用基板の製造方法に関し、特に、ＣＤやＤＶＤより記録密度の高い光ディスクに使用される基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
文字情報、画像情報、音声情報を大量に記録・再生するため、光情報記録媒体（例えば、ＤＶＤ−Ｒ等）の記録密度の更なる向上が要請されつつある。特にデジタル・ハイ・ビジョンＴＶ放送の録画に対応するため、光情報記録媒体（光ディスク）に対する一層の高密度記録化が研究されている。
そのような中、青紫色レーザーが開発されて以来、この青紫色レーザーと高ＮＡピックアップとを使用した光ディスクシステムの開発が検討されている。そして、「ＩＳＯＭ２０００」によりソニー（株）が、青紫色レーザーを使用した相変化記録媒体であるＤＶＲ−Ｂｌｕｅシステムを発表した。
このＤＶＲ−Ｂｌｕｅシステムに使用される光ディスク用基板の厚さは１．１ｍｍ前後であり、当該基板上に記録層、透明シート等が順次設けられ、透明シート側から情報を記録再生するためのレーザ光が照射される。
【０００３】
ところで、ＣＤ−Ｒ等に使用されるような厚さが１．０ｍｍ以上の基板は、２９４ｋＮ（３０ｔ）程度の型締力をかけた状態で、樹脂をキャビティー内に射出して成型し、製造される。
特に、基板表面に生じる複屈折を防止する等を目的として、キャビティー内に溶融樹脂を導入する際の金型の開き量を、基板の厚さに応じて設定する光ディスク用基板の成型方法が提案されている（例えば、特許文献１および２参照）。
しかし、当該成型方法では、基板の厚さを厚くする場合（例えば、厚さ１．０ｍｍ以上）、トラックピッチはＣＤ−Ｒの場合と同程度になってしまう。
また、上記成型方法も含め従来の成型方法では、基板の厚さを１．０ｍｍ以上としながら、既述のＤＶＲ−Ｂｌｕｅシステムのように記録密度を向上させるためにトラックピッチを狭くしようとすると、スタンパ溝等の基板への転写性が劣ってしまう。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−１１３７５４号公報
【特許文献２】
特開平８−１７０７８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
以上から、本発明は、スタンパからの転写性に優れた光ディスク用基板の製造方法で、特に、従来のＣＤやＤＶＤより狭いトラックピッチで形成されたグルーブを有する基板を、精度よく成型することが可能な光ディスク用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく本発明者は、下記本発明により当該目的が達成されることを見出した。すなわち、本発明は、一対の金型間に形成されるキャビティ内に溶融樹脂を射出し、型締め力を加えて前記溶融樹脂を圧縮し、スタンパに形成された凹凸を転写する光ディスク用基板の製造方法であって、
前記金型の型開き量（以下、「型開量」ということもある）を０．４ｍｍ〜１．０ｍｍとした状態で前記溶融樹脂をキャビティー内に射出し、前記溶融樹脂の射出量が前記キャビティーの容積の５０％以上となったときに、前記金型を閉じて３４３ｋＮ以上の型締力を加えることを特徴とする光ディスク用基板の製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の光ディスク用基板の製造方法に使用される射出成型機の一例を図１に示し、当該図面を参照して本発明の光ディスク用基板の製造方法を詳細に説明する。なお、図１は理解を容易にするため多少誇張して表現している。
【０００８】
図１に示す射出成型機は、可動側金型３０、固定側金型１０、スタンパ押え用金型２０からなり、これらを型締めすることでキャビティー５０が形成される。可動側金型３０のキャビティー５０側にはスタンパ４０を固定するためのスタンパ固定手段３１が設けられている。このスタンパ固定手段３１によりスタンパ４０の内周側が固定される。また、スタンパ押え用金型２０を型締めすることでスタンパ４０の外周側が固定される。このようにスタンパ４０を固定した状態で可動側金型３０の型締めを行うが、本発明では、その前にまず、可動側金型３０の型開量ｇを０．４ｍｍ〜１．０ｍｍとする。この状態で、固定側金型１０のスプルー部１１を通じて溶融樹脂をキャビティー５０内に射出（導入）する。
型開量ｇが０．４ｍｍ未満ではキャビティー５０内への溶融樹脂の充填が困難となり基板への転写性が悪化したり、複屈折が生じる等の問題が生じる。型開量ｇが１．０ｍｍを超えると、基板外周部でスタンパが設けられている側の反対側に大きなバリが発生し、後工程でのハンドリング時にこのバリが削れエラーの原因になったり、作製された光ディスクのレーベル面にきれいに印刷をすることが困難となる。上記問題をより有効に解決する観点から、型開量ｇは、０．４〜０．９ｍｍとすることが好ましく、０．５〜０．８ｍｍとすることがより好ましい。
また、樹脂充填をスムーズに行い転写性、反りの防止、過充填を防ぐ観点から、型開時間は、０．２〜０．４秒とすることが好ましく、０．２５〜０．３５秒とすることがより好ましい。なお、「型開時間」とは、溶融樹脂の充填開始時から、型締めを始めるまでの時間をいう。
【０００９】
型開量を０．４ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲で固定しながら、溶融樹脂の導入量がキャビティーの容積の５０％以上となったときに、可動側金型を閉じて型開量ｇを０とし、３４３ｋＮ以上の型締力を加えて溶融樹脂を圧縮する。
キャビティーの容積の５０％に満たない状態で型開量ｇを０とすると、スタンパ４０の凹部への樹脂の充填が不充分となり、特に基板の外側における転写性が劣ってしまう。好ましくは、キャビティーの容積の７０〜１００％の状態で型開量ｇを０とする。
【００１０】
型開量ｇを０としてから加える型締め力が３４３ｋＮ未満では、スタンパ４０の凹部へ樹脂を充填するための力が不足して転写性が劣ってしまう。好ましい型締め力は、３４３〜４９０ｋＮであり、より好ましくは３６３〜４４１ｋＮである。
また、樹脂充填をスムーズに行い転写性と反りを防止すること、および過充填を防ぐ観点から、型締め時間（上記型締め力を加えている時間）は、０．２〜０．４秒とすることが好ましく、０．２５〜０．３５秒とすることがより好ましい。
なお、当該型締め力は、作製される光ディスクの径が１２０ｍｍの場合の圧力である。
【００１１】
型締めした後は、その圧力を維持した状態とするか、または段階的に圧力を下げて冷却を行い、最後に型開きをして基板を取り出す。
以上のようにして作製された光ディスク用基板はスタンパに形成された凹凸（ランドおよびグルーブとなる部分）が精度よく良好に転写されている。
【００１２】
なお、基板用の材料としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
また、基板の厚さは、０．７〜１．４ｍｍとなるよう設定することが好ましく、１．０〜１．２ｍｍとなるように設定することが好ましい。なお、本発明の製造方法によれば、基板の厚さを上記のように厚くしても、トラックピッチが狭く記録密度が高い光ディスクに供する基板を精度よく作製することができる。
【００１３】
基板に凹凸を転写するためのスタンパには、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブまたはグルーブという）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプレグルーブが形成されたスタンパを用いることが好ましい。
具体的には、プレグルーブのトラックピッチは、３００〜６００ｎｍであることが好ましい。また、プレグルーブの深さ（溝深さ）は、３０〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００１４】
以上のような製造方法により作製される基板は、例えば、基板上に記録層が形成され、該記録層上に接着層を介して透明シートが設けられた光ディスク等に適用することができる。
以下、基板上に反射層、記録層、中間層、接着層が順次形成され、該接着層上に透明シートが設けられた構成の光ディスクを例として、本発明の製造方法により作製される基板が適用される光ディスクについて説明する。
【００１５】
（基板）
基板としては、本発明の製造方法により作製された基板を使用するが、後述する反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成してもよい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００１６】
（反射層）
反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率としては、７０％以上であることが好ましい。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。
これらのうち好ましいものとしては、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼が挙げられる。そして、さらに好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金が挙げられ、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇまたはこれらの合金が挙げられる。
【００１７】
反射層は、前述した光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板（グルーブが形成されている面）上に形成することができる。反射層の層厚は、１０〜３００ｎｍとすることが好ましく、５０〜２００ｎｍの範囲とすることがより好ましい。
なお、当該反射層は、以下の記録層の反射率が十分大きい場合には必ずしも必要ではない。
【００１８】
（記録層）
記録層は、基板のグルーブが形成された面（反射層が形成されている場合は当該反射層）上に形成される。
記録層は、有機色素を含有する層でも、相変化記録材料を含有する層（相変化記録層）でもよい。
【００１９】
前記有機色素としては、トリアゾール系化合物、フタロシアニン化合物、ポリフィリン系化合物、アミノブタジエン系化合物、メロシアニン化合物、シアニン系化合物等でこれらの少なくとも一種であることが好ましい。フタロシアニン化合物としては、アルコキシ置換体、スルホンアミド置換体、スルフォモイル置換体、スルホン酸置換体の少なくとも一種であることが好ましい。
【００２０】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素を併用することができる。
【００２１】
記録層は、上記色素（有機物等）等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して記録層塗布液を調製し、次いでこの記録層塗布液を基板もしくは基板上に形成された反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。記録層塗布液中の記録物質の濃度は、０．０１〜１５質量％の範囲であることが好ましく、０．１〜１０質量％の範囲であることがより好ましく、０．５〜５質量％の範囲であることがさらに好ましく、０．５〜３質量％の範囲であることが最も好ましい。
また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を適用することができる。
【００２２】
記録層塗布液を調製する際の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【００２３】
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２４】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；等を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００２５】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の厚さは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
また、塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５〜３７℃である。
【００２６】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２７】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２８】
一方、記録層として相変化記録層を使用することもできる。相変化記録層は、レーザー光の照射によって結晶相と非晶相との相変化を繰り返すことができる材料からなる層である。
例えば、以下のような方法により結晶相と非晶相の相変化を繰り返すものが挙げられる。即ち、情報記録時は、集中したレーザー光パルスを短時間照射し、相変化記録層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形成される。また、消去時には、記録マーク部分にレーザー光を照射し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱し、かつ除冷することによって、非晶状態の記録マークを結晶化し、もとの未記録状態に戻す。
【００２９】
相変化記録層を構成する材料の具体例としては、Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｖ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、等が挙げられる。なかでも、多数回の書き換えが可能であることから、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金が好ましい。
相変化記録層の層厚としては、１０〜５０ｎｍとすることが好ましく、１５〜３０ｎｍとすることがより好ましい
【００３０】
以上の相変化記録層は、スパッタ法、真空蒸着法などの気相薄膜堆積法、等によって形成することができる。
【００３１】
（中間層）
中間層は、上記記録層と後述する接着層との間に形成される任意の層である。記録層上に接着層を形成すると、接着層の接着剤もしくは粘着剤が記録層の有機物を溶解してしまうことがある。このような場合、中間層を設けることにより、接着剤等が記録層に直接接触することがなくなるため、記録層が接着剤もしくは粘着剤によって溶解されるのを防止することができる。
上記中間層の厚さは、１〜３００ｎｍが好ましく、３〜１１０ｎｍがより好ましい。
【００３２】
中間層を構成する材料としては、レーザー光を透過する材料であれば、特に制限はないが、誘電体であることが好ましく、より具体的には、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＧｅＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、Ｇｅ３Ｎ４、ＭｇＦ２、等の無機酸化物、窒化物、硫化物が挙げられ、なかでもＺｎＳ−ＳｉＯ２、もしくはＳｉＯ２が好ましい。
【００３３】
（接着層および透明シート）
透明シートは、光情報記録媒体内部を、化学的もしくは物理的変化から保護するために設けられる。
該透明シートは、記録層もしくは中間層上に接着剤もしくは粘着剤からなる接着層を介して設けられる。
【００３４】
接着剤を使用して接着層を形成する場合は、まず、記録層上などの透明シート貼り合わせ面に接着剤を塗布する。その後、透明シートを被せてスピンコートして透明シートを貼り合わせ面に固着させる方法等を適用することができる。
一方、粘着剤を使用して接着層を形成する場合は、上記粘着剤が付与された透明シートを使用し、粘着剤側を内側にして記録層（もしくは中間層）上に貼り合わせる方法を適用することができる。
接着後の接着層の厚さは、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜３０μｍであることがより好ましい。
【００３５】
透明シートの材料は、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。
また、透明シートの厚さは、好ましくは、０．０７〜０．０９ｍｍであり、より好ましくは、０．０８〜０．０９ｍｍである。透明シートの厚さが０．０５ｍｍ未満では、接着層の厚みが厚くなり、均一に塗布することが困難となり、厚みムラ±３μｍの規格を満足することができなくなることがある。また、０．０９ｍｍを超えると、カバー層の厚さの規格（０．１ｍｍ）を満足することが困難になることがある。
なお、「透明」とは、記録用レーザー光および再生レーザー光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００３６】
既述のように、以上に説明した光ディスクは例示であって、本発明の製造方法で作製される基板が適用される光ディスクはこれに限定されるものではない。例えば、接着層と透明シートの代わりに紫外線硬化樹脂等からなるカバー層を設けてもよい。
【００３７】
次に、当該光ディスクへの情報の記録方法および記録した情報の再生方法について説明する。
光ディスクへの情報の記録は、例えば、次のようにして行われる。
まず、光ディスクを定線速度にて回転させながら、透明シート側から記録用のレーザ光（波長：５００ｎｍ以下）を照射する。
【００３８】
記録層が、色素を含有する層である場合、このレーザ光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性が変化する。この光学的特性の変化により、情報が記録される。
一方、記録層が相変化記録材料を含有する層（相変化記録層）である場合、このレーザ光の照射と急冷により、照射箇所が結晶学的な相変化（結晶状態から非晶質への変化）を起こし、情報が記録される。
【００３９】
５００ｎｍ以下の発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約４３０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズの開口率（ＮＡ）は０．７以上が好ましく、０．８５以上がより好ましい。
【００４０】
一方、記録された情報の再生は、光ディスクを上記と同一の定線速度で回転させながら、情報の記録に使用したレーザ光と同一波長もしくはそれ以下の波長のレーザ光を透明シート側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００４１】
【実施例】
以下の実施例により、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４２】
〔実施例１〕
図１に示すように、スタンパ４０を可動側金型３０のスタンパ固定手段３１およびスタンパ押え用金型２０により固定した。可動側金型３０を固定側金型１０へ移動させて型開量ｇを０．６ｍｍとした。その後、ポリカーボネートからなる溶融樹脂をスプルー部１１を通じてキャビティー５０内に充填した。充填を開始してから０．３秒後に溶融樹脂の導入量がキャビティーの容積の９０％となったので、可動側金型３０を移動させて型締めを行った。型締めを行う際の圧力（型締力）を３４３ｋＮとし、かかる圧力で１秒間保持した。
【００４３】
その後、型締力を段階的に小さくして、型開きをするまで２００ｋＮの圧力を加えた。型開きを行って、光ディスク用基板を作製した。
なお、スタンパにはトラックピッチ０．３２μｍで溝深さ５０ｎｍのスパイラル状のグルーブが形成されたものを使用した。また、作製される基板の厚さは、１．１ｍｍとなるように設定した。
【００４４】
〔実施例２〕
型締めを行う際の圧力を３９２ｋＮとした以外は実施例１と同様にして光ディスク用基板を作製した。
【００４５】
〔比較例１〕
図１に示すように、スタンパ（実施例１と同様のスタンパ）４０を可動側金型３０のスタンパ固定手段３１およびスタンパ押え用金型２０により固定した。可動側金型３０を固定側金型１０へ移動させて型締めを行い、ポリカーボネートからなる溶融樹脂をスプルー部１１を通じてキャビティー５０内に充填した。２９４ｋＮの型締力を加えて１秒間保持した。その後、型締力を段階的に小さくして、型開きをするまで２００ｋＮの圧力を加えた。型開きを行って、光ディスク用基板を作製した。
【００４６】
〔比較例２〕
２９４ｋＮの型締力を３４３ｋＮとした以外は比較例１と同様にして光ディスク用基板を作製した。
【００４７】
〔比較例３〕
２９４ｋＮの型締力を３９２ｋＮとした以外は比較例１と同様にして光ディスク用基板を作製した。
〔比較例４〕
型締めを行う際の圧力（３４３ｋＮ）を２９４ｋＮとした以外は実施例１と同様にして光ディスク用基板を作製した。
【００４８】
実施例１および２、並びに比較例１〜４で作製された光ディスク用基板の転写性を評価するため、基板の内側部、中側部、外側部の３つの領域におけるグルーブ部の形状を、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡：セイコーインスツルメンツ社製  ＳＰＡ−５００）により測定した。評価結果を下記表１に示す。また、実施例１、２および比較例１のＡＦＭ像を図２に示す。
なお、基板の内側部とは中心から２５ｍｍの領域であり、中側部とは中心から３６ｍｍ（前記内側部から１１ｍｍまで）の領域であり、外側部とは中心から５５ｍｍ（前記中側部から１９ｍｍまで）の領域である。また、表１中の評価指標は以下の通りである。
○：基板の内側から外側にかけて溝深さが均一で転写性が良く実用上問題ない。
△：基板の外側の溝深さが内側より浅いため、転写性が良くなく実用に供することが困難である。
×：基板の外側の溝深さが上記「△」のレベルよりさらに浅いため、転写性が良くなく、実用に供することが不可能である。
また、ＡＦＭの測定条件は、カットオフ値４８０ｎｍ、測定長１５００ｎｍとした。
【００４９】
【表１】
2004306542.tif 000003
【００５０】
図２より、実施例１（図２（Ａ））および実施例２（図２（Ｂ））の光ディスク用基板は、内側部（図２（ａ））、中側部（図２（ｂ））、外側部（図２（ｃ））のいずれの領域でも溝深さが一定で均一であった。一方、比較例１の光ディスク用基板（図２（Ｃ））では、内側部および中側部の領域では、溝深さが一定でほぼ均一であったのに対し、外側部では上記２つの領域よりも浅く、全体としての溝深さが不均一であり、実施例１および２より転写性が低かった。
【００５１】
また、図２の結果を含むＡＦＭ測定により、実施例１および２では、内側部から外側部まで溶融樹脂が均一に充填されたため、いずれも均一な形状が得られ、実用上問題のない良好な転写性が確認された（表１）。一方、比較例１〜４では、外側部が内側部に比べて浅い溝が形成されているのが確認された（表１）。これは、溶融樹脂が内側部から外側部まで均一に充填されなかったためと考えられる。
【００５２】
【発明の効果】
以上、本発明の光ディスク用基板の製造方法によれば、スタンパからの転写性に優れた光ディスク用基板を製造することができる。特に、本発明の製造方法によれば、従来のＣＤやＤＶＤより狭いトラックピッチで形成されたグルーブを有する基板を精度よく成型することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ディスク用基板の製造方法に使用される射出成型機の一例を示す概略断面図である。
【図２】光ディスク用基板のＡＦＭ像を示す図であり、（Ａ）は実施例１の光ディスク用基板を示し、（Ｂ）は実施例２の光ディスク用基板を示し、（Ｃ）は比較例１の光ディスク用基板を示す。
【符号の説明】
１０・・・固定側金型
１１・・・スプルー部
２０・・・スタンパ押え用金型
３０・・・可動側金型
３１・・・スタンパ固定手段
４０・・・スタンパ
５０・・・キャビティー
ｇ・・・型開量
【図１】
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【図２】
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