(57)【要約】      （修正有）【課題】時間の経過によっても、凝集して粗大な粒子を形成することのない表面処理金属ニッケル粉末の製造方法を提供する。【解決手段】本発明による表面処理金属ニッケル粉末は、金属ニッケル粉末を多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤で処理する表面処理工程とこのように表面処理した金属ニッケル粉末を温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程とジェットミルにて粉砕する粉砕工程とを含む方法によって得ることができる。特に好ましい態様によれば、例えば、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱及び粉砕工程として、温度１００〜３００℃の噴流流体を用いてジェットミルにて粉砕する。また、別の好ましい態様によれば、例えば、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程として、例えば、電気炉を用いて温度１００〜３００℃に加熱した後、粉砕工程として、ジェットミルにて粉砕する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤にて金属ニッケル粉末を表面処理してなることを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末。
【請求項２】
多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤にて金属ニッケル粉末を表面処理することを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末の製造方法。
【請求項３】
金属ニッケル粉末を多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤で処理する表面処理工程とこのように表面処理した金属ニッケル粉末を温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程と粉砕する粉砕工程とを含むことを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末の製造方法。
【請求項４】
金属ニッケル粉末を多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤で処理する表面処理工程とこのように表面処理した金属ニッケル粉末を温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程とジェットミルにて粉砕する粉砕工程とを含むことを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末の製造方法。
【請求項５】
表面処理した金属ニッケル粉末の加熱及び粉砕工程として、温度１００〜３００℃の噴流体を用いてジェットミルにて粉砕する請求項４に記載の表面処理金属ニッケル粉末の製造方法。
【請求項６】
表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程として、温度１００〜３００℃に加熱した後、粉砕工程として、ジェットミルにて粉砕する請求項４に記載の表面処理金属ニッケル粉末の製造方法。
【請求項７】
加熱工程における加熱温度が１２０〜２８０℃の範囲の温度である請求項３から６のいずれかに記載の表面処理金属ニッケル粉末の製造方法。
【請求項８】
平均粒径０．１〜５μｍの金属ニッケル粉末を表面処理する請求項２から７のいずれかに記載の表面処理金属ニッケル粉末の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面処理金属ニッケル粉末とその製造方法に関し、詳しくは、時間が経過しても、凝集して、粗大な粒子を形成することのない高分散性の表面処理金属ニッケル粉末とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、積層セラミックコンデンサは、内部電極材料であるパラジウム、銀−パラジウム合金、白金等の貴金属の粉末を有機バインダーに分散させてペーストとし、これを主としてチタン酸バリウムからなるセラミック誘電体のグリーンシート上にスクリーン印刷等の手段によって塗布し、乾燥させた後、これらのセラミック誘電体のグリーンシートを多数、その内部電極が交互に重なるように積層し、熱圧着し、次いで、この積層体を適宜の寸法に裁断した後、約１３００℃の温度で焼成して、脱バインダーしつつ、内部電極とセラミック誘電体とを焼結させ、この後、このようにして得られた焼結体の表裏両面に上記内部電極と導通する外部電極を焼き付けることによって製造されている。
【０００３】
従って、内部電極材料としては、セラミック誘電体が焼結する上記温度において溶融せず、しかも酸化されないものでなければならず、かくして、従来、内部電極材料としては、上述したように、パラジウム、銀−パラジウム合金、白金等の貴金属が用いられているので、積層セラミックコンデンサも高価とならざるを得ない。
【０００４】
他方、近年、電子部品の小型化高容量化の要請のなかで、積層セラミックコンデンサも、小型化高容量化が一層強く求められるに至っている。このような積層セラミックコンデンサの小型化のためには、セラミック誘電体の薄層化が必要不可欠であり、高容量化のためには、セラミック誘電体の積層数の増加が必要不可欠である。
【０００５】
そこで、近年、積層セラミックコンデンサの製造費用の低減を目的として、内部電極材料として、上記高価な貴金属材料に代わって、卑金属である金属ニッケルを用いると共に、上述したような電子部品の小型化高容量化の要請を受けて、積層セラミックコンデンサの小型化高容量化を実現しようとする種々の試みが提案されている。
【０００６】
このような積層セラミックコンデンサの小型化高容量化のためには、上記焼結体の製造に際して、クラックやデラミネーション等のような構造欠陥を生じることなく、セラミック誘電体の間に均一で緻密な連続した内部電極層を形成することが必須であり、このような内部電極を金属ニッケル粉末を用いて形成するには、用いるニッケル金属の粒子が好ましくは０．１〜１．０μｍの範囲の平均粒径を有する球状で滑らかな表面を有する粒子であって、粒径が２μｍ以上の粗大な凝集粒子やこれらが更に変形された巨大粒子の混在がなく、高分散性であることが必要である。
【０００７】
そこで、従来、このような金属ニッケル粉末の焼結性や分散性を改善するために、金属ニッケル粉末の種々の表面処理が提案されている。例えば、金属ニッケル粉末の表面に種々の金属酸化物や複合酸化物の被覆を形成して、特に、９００〜１１００℃における熱収縮性を低減することが提案されており（例えば、特許文献１参照）、更に、このような金属酸化物や複合酸化物の被覆の上に更に不飽和脂肪酸で表面処理することも提案されている（例えば、特許文献２参照）。チタネート系カップリング剤で表面処理して、金属ニッケル粉末の焼結性を制御することが提案されている（特許文献３参照）。
【０００８】
これらのほかにも、積層セラミックコンデンサの製造に際して、脱バインダー時の金属ニッケル粉末の酸化の防止を図るために、種々の金属酸化物からなる被覆を設けることが提案されており（特許文献４参照）、また、同様に、積層セラミックコンデンサの製造に際して、すぐれた焼結挙動を示し、導電性ペーストを形成する際には、すぐれた分散性を有するように、金属ニッケル粉末の表面を非イオン系界面活性剤で表面処理することも提案されている（特許文献５参照）。
【０００９】
しかしながら、従来、積層セラミックコンデンサの内部電極材料として用いられている金属ニッケル粉末は、時間の経過と共に凝集しやすいので、製造後、保管時に、通常、凝集して、一部は、粒径数十μｍの粗大な粒子を生成することがある。上述したように、積層セラミックコンデンサの製造には、内部電極材料である金属粉末を有機バインダーに分散させてペーストとし、これをセラミック誘電体のグリーンシート上に塗布する工程が含まれるが、金属ニッケル粉末のぺーストは、通常、ニッケル粉末をビーズミルやロールミル等を用いて有機バインダー中に分散させ、これに希釈溶剤を加えることによって製造される。
【００１０】
そこで、ニッケル粉末のペーストの製造の際に、用いる金属ニッケル粉末に凝集した粗大な粒子が混在している場合には、球状のニッケル粒子の変形や潰れを防止すると共に、上記粗大な粒子を解きほぐすために、比較的弱い剪断条件下にロールミルやボールミルを用いて、ニッケル粒子を有機バインダー中に分散させることが行われている。しかし、このような剪断条件によっては、上記粗大な粒子を解きほぐすことができず、他方、例えば、ロールミルを用いて金属ニッケル粉末を有機バインダー中に分散させたような場合には、金属ニッケルは、柔らかく、展性を有するので、前記粗大な粒子がロール間の間隙で更に圧延されて、偏平な巨大粒子を生成することさえある。
【００１１】
かくして、このような粗大粒子や巨大粒子は、金属ニッケル粉末のペースト化の後、篩による異物除去の段階において、捕集され、除去されるが、しかし、粗大粒子や巨大粒子は篩を目詰まりさせ、篩の頻繁な交換を必要とするので、金属ニッケル粉末のペーストの製造、延いては、積層セラミックコンデンサの生産性を著しく低下させることとなる。
【００１２】
しかし、従来、時間の経過によっても、凝集して、粗大な粒子を形成しない高分散性の表面処理金属ニッケル粉末は知られていない。
【００１３】
【特許文献１】特開平１１−３４３５０１号公報
【特許文献２】特開２００１−１３１６０１号公報
【特許文献３】特開２００１−０５９１０１号公報
【特許文献４】特開２００１−２４７９０１号公報
【特許文献５】ＷＯ００／０３８２３号公報
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、積層セラミックコンデンサの内部電極材料として用いられる従来の金属ニッケル粉末における上述した問題を解決するためになされたものであって、時間の経過によっても、凝集して、粗大な粒子を形成することのない高分散性の表面処理金属ニッケル粉末とその製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤にて金属ニッケル粉末を表面処理してなることを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末が提供される。
【００１６】
また、多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤にて金属ニッケル粉末を表面処理することを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末の製造方法が提供される。
【００１７】
特に、本発明によれば、金属ニッケル粉末を多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤で処理する表面処理工程とこのように表面処理した金属ニッケル粉末を温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程と粉砕する粉砕工程とを含むことを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末の製造方法が提供される。
【００１８】
本発明の特に好ましい態様として、金属ニッケル粉末を多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤で処理する表面処理工程とこのように表面処理した金属ニッケル粉末を温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程とジェットミルにて粉砕する粉砕工程とを含むことを特徴とする表面処理金属ニッケル粉末の製造方法が提供される。
【００１９】
このような本発明の方法において、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程と粉砕工程は、同時に行ってもよく、また、別々に行ってもよい。従って、本発明の好ましい態様によれば、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱及び粉砕工程として、温度１００〜３００℃の噴流体を用いてジェットミルにて粉砕することによって、目的とする表面処理金属ニッケル粉末を得ることができ、また、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程として、例えば、電気炉を用いて、温度１００〜３００℃に加熱した後、粉砕工程として、ジェットミルにて粉砕することによっても、目的とする表面処理金属ニッケル粉末を得ることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明において、原料として用いる金属ニッケル粉末は、その製造方法においては、特に限定されるものではなく、例えば、ニッケル塩の蒸気の気相水素還元法のような乾式法や、ニッケル塩を含む水溶液を還元剤で還元し、析出させる湿式法によるものでもよいが、好ましくは、０．１〜５μｍ、より好ましくは、０．１〜２μｍ、特に好ましくは、０．１〜１μｍの範囲の平均粒径を有する。
【００２１】
しかし、本発明によれば、特に、特開平１２−４４２５２号公報や特開２００１−１５２２１４号に記載されているように、エマルジョン法にて微細球状の塩基性ニッケル炭酸塩又はニッケル炭酸塩（以下、（塩基性）ニッケル炭酸塩という。）を製造し、これを酸化、還元して得られる金属ニッケル粉末や、また、上記（塩基性）ニッケル炭酸塩をアルカリ土類元素、アルミニウム、ケイ素、希土類元素等の化合物からなる融着防止剤の存在下で水素雰囲気下に加熱して、上記（塩基性）ニッケル炭酸塩を還元して得られる金属ニッケル粉末が好ましく用いられる。このようにして得られる金属ニッケル粉末は、エマルジョン法による（塩基性）ニッケル炭酸塩の形態を承継して、微細球状の形態を有する。
【００２２】
本発明による表面処理金属ニッケル粉末は、多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤にて金属ニッケル粉末を表面処理してなるものであり、このような表面処理金属ニッケル粉末は、多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤にて金属ニッケル粉末を表面処理することによって得ることができる。
【００２３】
好ましくは、本発明によれば、そのような表面処理金属ニッケル粉末は、金属ニッケル粉末を多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤で処理する表面処理工程とこのように表面処理した金属ニッケル粉末を温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程と粉砕する粉砕工程とを含む方法によって得ることができる。
【００２４】
特に好ましくは、本発明によれば、そのような表面処理金属ニッケル粉末は、金属ニッケル粉末を多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤で処理する表面処理工程とこのように表面処理した金属ニッケル粉末を温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程とジェットミルにて粉砕する粉砕工程とを含む方法によって得ることができる。
【００２５】
上記多価アルコールは、特に、限定されるものではないが、しかし、炭素原子数２〜６、ヒドロキシル基数２〜５のものが好ましく、従って、例えば、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、１，２−ペンタンジオール、トリエチレングリコール、３−ブテン−１，２−ジオール、１，２，３−ブタントリオール、２−メチル−２，３，４−ブタントリオール等が好ましく用いられる。
【００２６】
アルカノールアミンも、特に、限定されるものではないが、しかし、炭素原子数２〜６、ヒドロキシル基数１〜３アミノ基数１〜３のものが好ましく、従って、例えば、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、１−アミノプロパン−２−オール、２−アミノブタン−１−オール、２−アミノ−２−メチルプロパン−１−オール、２−アミノ−２−メチルプロパン−１，３−ジオール、１，２−ジアミノプロパン−３−オール、１−アミノ−２，２−ジアミノメチルプロパン−１−オール、Ｎ−（２−オキシプロピル）エチレンジアミン等が好ましく用いられる。しかし、上記に限定されるものではない。
【００２７】
また、シランカップリング剤も、特に限定されるものではないが、しかし、一般式（Ｉ）
Ｘｍ−Ｓｉ−（ＯＲ）４−ｍ          …（Ｉ）
（式中、Ｘは反応性有機官能基を有する有機基を示し、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基を示し、ｍは０〜３の整数を示す。）
で表されるものが好ましく用いられる。上記有機基における反応性有機官能基としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、塩素原子、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等を挙げることができ、従って、このような反応性有機官能基を有する有機基Ｘとしては、例えば、ビニル基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−アミノプロピル基、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピル基、Ｎ−２−（アミノエチル−３−アミノプロピル基、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピル基、γ−メルカプトプロピル基、３−クロロプロピル基、３−メタクリロキシプロピル基等を挙げることができ、また、アルキル基Ｒとして、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、メトキシエトキシル基等を挙げることができる。
【００２８】
従って、本発明によれば、このようなシランカップリング剤の好ましい具体例として、例えば、テトラエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００２９】
本発明において、金属ニッケル粉末をこのような表面処理剤で処理するには、乾式法と湿式法のいずれによってもよい。乾式法によるときは、例えば、金属ニッケル粉末を表面処理剤と混合し、必要に応じて、乾燥すればよい。他方、湿式法によるときは、例えば、金属ニッケル粉末を適宜の媒体中に分散させてスラリーとし、このスラリーに表面処理剤を加え、攪拌、混合した後、上記媒体を除去し、必要に応じて、乾燥すればよい。上記媒体としては、通常、水が好ましく用いられる。
【００３０】
このように、金属ニッケル粉末を表面処理剤で表面処理するに際して、表面処理剤は、必要に応じて、適宜の溶剤中に分散させ、又は溶解させて、用いることができる。上記溶剤としては、特に限定されるものではないが、通常、水が好ましく用いられる。金属ニッケル粉末を湿式法にて表面処理した場合に、金属ニッケル粉末のスラリーから上記媒体を除去するための手段、方法は、特に限定されるものではないが、効率の点から、噴霧乾燥によるのが好ましい。但し、この噴霧乾燥は、金属ニッケル粉末が噴霧乾燥機の出口において、１００〜３００℃の範囲内の温度となる場合には、本発明における「温度１００〜３００℃で加熱する加熱工程」に含めるものとする。また、この場合において、このような噴霧乾燥による加熱は、他の手段による加熱、例えば、後述するようなジェットミルによる加熱や電気炉を用いる加熱と重複して行ってもよい。
【００３１】
かくして、本発明によれば、金属ニッケル粉末を湿式法にて表面処理した後、金属ニッケル粉末の温度が１００〜３００℃の範囲となるように噴霧乾燥し、この噴霧乾燥を本発明における加熱工程とし、この後、金属ニッケル粉末を粉砕することによっても、本発明による表面処理金属ニッケル粉末を得ることができる。本発明によれば、上記金属ニッケル粉末を粉砕することは、好ましくは、ジェットミルを用いて行うことが好ましく、従って、この態様においては、金属ニッケル粉末をジェットミルにて粉砕するに際しては、常温の噴流体を用いてもよく、また、必要に応じて、加熱した噴流体を用いてもよい。
【００３２】
本発明によれば、表面処理剤は、金属ニッケル粉末１００重量部に対して、通常、０．１〜５重量部、好ましくは、０．２〜１重量部の範囲で用いられる。
【００３３】
本発明によれば、このように金属ニッケル粉末を表面処理剤にて表面処理した後、これを加熱工程と粉砕工程とに付すが、この加熱工程と粉砕工程は、同時に行ってもよく、また、別々に行ってもよい。
【００３４】
従って、本発明によれば、第一の好ましい態様として、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱及びジェットミルによる粉砕工程として、温度１００〜３００℃、好ましくは、１２０〜２８０℃の噴流体を用いてジェットミルにて粉砕することによって、目的とする表面処理金属ニッケル粉末を得ることができる。この第一の態様においては、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程と粉砕工程を同時に行うものである。即ち、ジェットミルは、流体エネルギーを利用する超微粉粉砕機であって、流体エネルギーミルとも呼ばれており、この第一の態様によれば、特に、限定されるものではないが、例えば、圧縮空気、過熱蒸気、燃焼ガス、窒素ガス等の温度１００〜３００℃の噴流体を用いて、表面処理した金属ニッケル粉末をジェットミルにて粉砕することによって、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程と粉砕工程を同時に行うのである。
【００３５】
第二の好ましい態様として、表面処理した金属ニッケル粉末を適宜の加熱手段を用いて温度１００〜３００℃、好ましくは、１２０〜２８０℃に加熱した後、ジェットミルにて粉砕することによっても、目的とする表面処理金属ニッケル粉末を得ることができる。上記加熱手段は、特に、限定されるものではないが、例えば、電気炉が好ましく用いられる。この第二の態様においては、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程と粉砕工程を別々に行うものである。従って、この第二の態様においては、金属ニッケル粉末をジェットミルにて粉砕するに際しては、常温の噴流体を用いてもよく、また、必要に応じて、加熱した噴流体を用いてもよい。
【００３６】
このように、本発明によれば、金属ニッケル粉末を表面処理剤で処理した後、温度１００〜３００℃で加熱しながら、又は加熱した後、粉砕することによって、時間の経過によっても、凝集して、粗大粒子を形成せず、高分散性の金属ニッケル粉末を得ることができる。
【００３７】
本発明においては、表面処理剤で表面処理した金属ニッケル粉末を粉砕するには、上述したように、好ましくは、ジェットミルを用いて行われる。即ち、ジェットミルは、粉砕媒体を用いず、高圧でノズルから噴出させた流体に粉体を巻き込みながら、粒子相互や粒子と衝撃板との衝突によって粉砕するものであるので、粉砕媒体との衝突による粒子の変形が生じ難く、また、その分級によって粉砕の不十分な粗粒を系外に出さないからである。しかし、本発明において、粉砕手段はこれに限定されるものではなく、例えば、金属ニッケルが柔らかく、展性を有することから、その条件を適宜に調節すれば、ハンマーミル、ピン型ミル、ボールミル、ロールミル等の粉砕手段も用いることもできる。
【００３８】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。
【００３９】
参考例１
（金属ニッケル粉末の製造）
（第１段階）
市販の塩基性炭酸ニッケル（ＮｉＣＯ３・Ｎｉ（ＯＨ）２・４Ｈ２Ｏ）４７００ｇと炭酸水素アンモニウム（ＮＨ４ＨＣＯ３  ）８０６６ｇとを２８％アンモニア水／水混合物に加え、よく攪拌して、ｐＨ９．５の塩基性炭酸ニッケルの炭酸水素アンモニウム水溶液を調製した。このようにして得られたニッケル塩の水溶液６６６６ｇにノニオン系界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート（花王（株）製レオドールＴＷ−Ｏ１２０）１０００ｇを加え、５０℃にて攪拌して溶解させた。別に、有機溶媒であるスクワラン（スクアテック（株）製スーパースクワラン）２６６６４ｇにノニオン系界面活性剤ソルビタンモノオレエート（花王（株）製レオドールＳＲ−Ｏ１０）１６６７ｇを加え、８０℃にて撹拌して、溶解させた。
【００４０】
次に、上記界面活性剤を溶解させたニッケル塩水溶液と上記界面活性剤を溶解させた有機溶媒とを混合し、ホモミキサー（特殊機化工業（株）製）を用いて１５００ｒｐｍで３分間攪拌し、Ｗ／Ｏ型のエマルジョンを調製した。
【００４１】
温度５０℃において、このエマルジョンを２０〜３０ｍｍＨｇの減圧下に吸引して、アンモニアを蒸発させ、この後、アンモニア臭がなくなった後も、吸引を続けて、炭酸ガスと水を蒸発させたところ、エマルジョンが破壊されて、油層と水層に分離し、水層に炭酸ニッケルの淡緑色の沈殿を得た。この沈殿を濾過し、へキサン、メタノール及び水の順序にて洗浄した後、温度１００℃で２時間乾燥させて、球状の炭酸ニッケル粒子５００ｇを得た。
【００４２】
（第２段階）
このようにして得られた炭酸ニッケルを５０℃／時の速度で昇温し、空気雰囲気中、６００℃で２時間焼成して、均一微細な球状の酸化ニッケル粒子を得た。次に、この酸化ニッケル粒子を水素気流中１００℃／時の速度で昇温し、６００℃で６時間還元して、平均粒径０．２μｍの球状の金属ニッケル粉末を得た。
【００４３】
参考例２
（金属ニッケル粉末の製造）
参考例１の第２段階と同様にして得られた球状の酸化ニッケル６３６ｇとイオン交換水２０００ｍＬに直径１ｍｍのジルコニアビーズ７０００ｇを加え、遊星ミルを用いて、２００ｒｐｍで１０分間粉砕処理した。この粉砕処理の後、ジルコニアビーズを分離し、十分に洗浄して、酸化ニッケルを全量回収し、この酸化ニッケルを水に分散させて、スラリーを調製した。
【００４４】
この酸化ニッケルのスラリーに酢酸マグネシウム四水和物（Ｍｇ（ＣＨ３ＣＯＯ）２・４Ｈ２Ｏ）１３３ｇと硝酸イットリウム六水和物（Ｙ（ＮＯ３）３・６Ｈ２Ｏ）８４．８ｇを加え、攪拌し、溶解させた。このスラリーを攪拌しながら氷冷し、これに２％アンモニア水をゆっくり滴下して、中和し、沈殿を生成させた。得られた沈殿を含む固形分を濾過、水洗し、１１０℃で一晩乾燥して、ニッケルに対して酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を６％、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）を５％有する酸化ニッケル粉末を得た。
【００４５】
次に、この酸化ニッケル粉末を瑪瑙乳鉢を用いて粉砕した後、水素気流中、９００℃で３時間還元して、粒子表面に酸化マグネシウム５％と酸化イットリウム５％を有する平均粒径０．２μｍの球状の金属ニッケル微粉末を得た。
【００４６】
（表面処理金属ニッケル粉末の製造）
実施例１
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをポリエチレンシート上に広げ、これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液２５ｍＬを噴霧器にて吹き付けながら、攪拌、混合した。このように処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、温度２００℃、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００４７】
実施例２
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをポリエチレンシート上に広げ、これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液５０ｍＬを噴霧器にて吹き付けながら、攪拌、混合した。このように処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、温度１５０℃、圧力７ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量１．０％の金属ニッケル粉末を得た。
【００４８】
実施例３
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをポリエチレンシート上に広げ、これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液５０ｍＬを噴霧器にて吹き付けながら、攪拌、混合した。このように処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、温度１００℃、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量１．０％の金属ニッケル粉末を得た。
【００４９】
実施例４
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをポリエチレンシート上に広げ、これに２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールの１０％水溶液２５ｍＬを噴霧器にて吹き付けながら、攪拌、混合した。このように処理した金属ニッケル粉末を電気炉に仕込み、温度２５０℃で７時間加熱した後、ジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、常温、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５０】
実施例５
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをイオン交換水２Ｌに投入し、ミクロアジターを用いて、１０００ｒｐｍで３０分間、攪拌して分散させた。これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液２５ｍＬを加えた後、スラリー供給量２５０ｍＬ／分、熱風入口温度２１０℃、噴霧乾燥機出口温度９０℃の条件にて噴霧乾燥して、出口における温度が８０℃の金属ニッケル粉末を得た。このようにして処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、温度２００℃、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５１】
実施例６
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをイオン交換水２Ｌに投入し、ミクロアジターを用いて、１０００ｒｐｍで３０分間、攪拌して分散させた。これに２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールの１０％水溶液２５ｍＬを加えた後、スラリー供給量２５０ｍＬ／分、熱風入口温度２１０℃、噴霧乾燥機出口温度９０℃の条件にて噴霧乾燥して、出口における温度が８０℃の金属ニッケル粉末を得た。このようにして処理した金属ニッケル粉末を電気炉に仕込み、温度２５０℃で７時間加熱した後、ジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、温度１００℃、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５２】
実施例７
参考例２にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをポリエチレンシート上に広げ、これにテトラメトキシシランの１０％水溶液２５ｍＬを噴霧器にて吹き付けながら、攪拌、混合した。このように処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、温度２００℃、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、テトラメトキシシラン処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５３】
実施例８
湿式反応で製造された市販の平均粒径０．４μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをポリエチレンシート上に広げ、これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液２５ｍＬを噴霧器にて吹き付けながら、攪拌、混合した。このように処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、温度２００℃、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５４】
実施例９
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをイオン交換水２Ｌに投入し、ミクロアジターを用いて、１０００ｒｐｍで３０分間、攪拌して分散させた。これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液２５ｍＬを加えた後、スラリー供給量２５０ｍＬ／分、熱風入口温度３００℃、噴霧乾燥機出口温度１８０℃の条件にて噴霧乾燥して、出口における温度が１７０℃の金属ニッケル粉末を得た。このようにして処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、常温、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５５】
比較例１
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、常温、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕した。
【００５６】
比較例２
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをポリエチレンシート上に広げ、これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液２５ｍＬを噴霧器にて吹き付けながら、攪拌、混合した。このように処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、常温、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５７】
比較例３
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをイオン交換水２Ｌに投入し、ミクロアジターを用いて、１０００ｒｐｍで３０分間、攪拌して分散させた。これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液５０ｍＬを加えた後、スラリー供給量２５０ｍＬ／分、熱風入口温度２１０℃、噴霧乾燥機出口温度９０℃の条件にて噴霧乾燥機を用いて乾燥させた。このようにして処理した金属ニッケル粉末を電気炉に仕込み、温度１５０℃で７時間加熱して、トリメチロールプロパン処理量１．０％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５８】
比較例４
参考例１にて得られた平均粒径０．２μｍの金属ニッケル粉末５００ｇをイオン交換水２Ｌに投入し、ミクロアジターを用いて、１０００ｒｐｍで３０分間、攪拌して分散させた。これにトリメチロールプロパンの１０％水溶液２５ｍＬを加えた後、スラリー供給量２５０ｍＬ／分、熱風入口温度２１０℃、噴霧乾燥機出口温度９０℃の条件にて噴霧乾燥して、出口における温度が８０℃の金属ニッケル粉末を得た。このようにして処理した金属ニッケル粉末をジェットミル（日本ニューマチック（株）製ＰＪＭ−２００ＳＰ型）に３ｋｇ／時の割合で供給しながら、常温、圧力６ｋｇ／ｃｍ２  の圧縮空気を噴流体として用いて、粉砕して、トリメチロールプロパン処理量０．５％の金属ニッケル粉末を得た。
【００５９】
（表面処理金属ニッケル粉末の分散性試験）
５００ｍＬ容量ビーカー中のイオン交換水３００ｍＬにヘキサメタリン酸ナトリウム２ｇを加え、溶解させた後、この溶液に上記実施例又は比較例で得られた表面処理金属ニッケル粉末（試料）２０ｇを投入し、ＴＫホモディスパー（特殊機化工業（株）製）を用いて、１５００ｒｐｍで５分間、攪拌、混合した。このようにして得られた表面処理金属ニッケル粉末の分散液を重量が予め知られている標準篩（目開き４５μｍ）に通し、水洗後、標準篩と篩上の残分を乾燥機中、１１０℃で２時間乾燥させた。放冷後、標準篩と篩上の残分（弱分散篩残分）を計量して、初期弱分散篩残分を求めた。更に、表面処理金属ニッケル粉末を調製してから、それぞれ２週間及び１か月が経過した表面処理金属ニッケル粉末についても、同様にして、弱分散篩残分を求めた。結果を表１に示す。
【００６０】
弱分散篩残分Ｒは次式にて定義される。即ち、用いた試料の重量をＷ０、篩残分をＷとするとき、Ｒ＝（Ｗ／Ｗ０）×１００（％）である。
【００６１】
【表１】
2004218030.tif 000002
【００６２】
表１に示す結果から明らかなように、比較例１においては、金属ニッケル粉末を表面処理することなく、常温で粉砕したので、粉砕直後は、目開き４５μｍ篩残分となる粗大粒子はないが、時間の経過と共に著しく凝集して、篩残分が著しく増加する。比較例２においては、金属ニッケル粉末を表面処理しても、その後の加熱処理がないので、比較例１によるものと同様に、粉砕直後は、粗大粒子がないが、時間の経過と共に著しく凝集する。比較例３においては、金属ニッケル粉末を表面処理した後、加熱処理もなされるが、ジェットミルによる粉砕がなされないので、処理の直後から凝集が著しい。比較例４においては、比較例２と同様に、金属ニッケル粉末を表面処理しても、その後の加熱処理がないので、粉砕直後は、粗大粒子がないが、時間の経過と共に著しく凝集する。
【００６３】
これに対して、本発明によれば、金属ニッケル粉末はいずれも、初期は勿論、時間が経過しても、実質的に凝集せず、高分散性を有している。
【００６４】
【発明の効果】
以上のように、本発明に従って、多価アルコール、シランカップリング剤及びアルカノールアミンから選ばれる表面処理剤にて金属ニッケル粉末を表面処理してなる表面処理金属ニッケル粉末は、時間の経過によっても、実質的に凝集せず、弱分散篩残分（４５μｍ）でみられる粗大粒子がなく、高分散性を有しているので、金属ニッケル粉末のペーストの製造時の巨大粒子の生成もなく、生産性が向上し、延いては、積層セラミックコンデンサの生産性を高めることができる。