(57)【要約】【課題】 有機汚濁物質を分解する加熱分解装置から排出されるガス中の有機物や有機塩素化合物を確実に除去し、排ガスの清浄化を図ることができる排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供すること。【解決手段】 汚染物に含まれる有機汚濁物質を分解処理する加熱分解装置１から排出されるガスを処理する。加熱分解装置１のガス排出口１８に引き続くガスを排出する経路に湿式ガス洗浄装置１９及び活性炭充填塔２２を順次配し、ガス排出経路に設けた排風機２１で加熱分解装置１内のガスを吸引する。【選択図】  図１
2004358468.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚染物に含まれる有機汚濁物質を分解処理する加熱分解装置から排出されるガスを処理する装置であって、加熱分解装置のガス排出口に引き続くガスを排出する経路に湿式ガス洗浄装置及び活性炭充填塔を順次配し、ガス排出経路に設けた排風機で加熱分解装置内のガスを吸引することを特徴とする排ガス処理装置。
【請求項２】
湿式ガス洗浄装置に後続した洗浄水貯留タンクを経由する洗浄水の循環経路を設けたことを特徴とする請求項１記載の排ガス処理装置。
【請求項３】
循環経路に凝集沈殿装置と膜分離装置のいずれか一方又は両方を有する水処理装置を配し、該水処理装置の処理水の少なくとも一部を循環経路に流入させることを特徴とする請求項２記載の排ガス処理装置。
【請求項４】
水処理装置から加熱分解装置に至る経路に蒸発固化装置を設けたことを特徴とする請求項３記載の排ガス処理装置。
【請求項５】
汚染物に含まれる有機汚濁物質を分解処理する加熱分解装置から排出されるガスを処理する方法であって、加熱分解装置から排出されるガスを湿式ガス洗浄装置を通過させて排ガス中の微粒子を洗浄水に吸収し、次いで、その排ガスを活性炭充填塔を通過させて排ガス中の微粒子を活性炭に吸着させることを特徴とする排ガス処理方法。
【請求項６】
湿式ガス洗浄装置に後続した洗浄水貯留タンクを経由して洗浄水を循環経路に返送することを特徴とする請求項５記載の排ガス処理方法。
【請求項７】
循環経路に凝集沈殿装置と膜分離装置のいずれか一方又は両方を有する水処理装置を配し、該水処理装置の処理水の少なくとも一部を循環経路に返送することを特徴とする請求項６記載の排ガス処理方法。
【請求項８】
水処理装置から排出される凝集汚泥と濃縮水を蒸発固化装置で蒸発固化し、蒸発固化後の乾燥固形物を加熱分解装置に供給して加熱分解することを特徴とする請求項７記載の排ガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機汚濁物質を分解する加熱分解装置から排出されるガスを処理する装置及びその方法に関する。
【０００２】
本発明は、特に、廃棄物処分場、焼却設備、焼却炉解体などで発生する有機塩素化合物等を含む浸出水、洗煙排水、廃棄物又は焼却設備等の洗浄排水や工場廃水の逆浸透膜処理で発生する高濃度塩類を含む濃縮水、汚泥の乾燥固化塩、及び脱水・乾燥後の汚泥の分解処理や再利用（回収精製塩の工業再資源化など）、焼却施設、工場地などの有機汚濁物質類で汚染された土壌や河川、湖沼、池、湾内の底部に堆積された汚泥（底質汚泥、ヘドロなど）の分解処理や再利用（土壌還元、路盤骨材、セメント原料など）に適用することができる加熱分解装置から排出されるガスを処理する装置及びその方法に関する。
【０００３】
本明細書において、有機汚濁物質類とは、有機塩素化合物として、主にダイオキシン類、ポリ塩化ビフェニル類をいい、環境ホルモン類、クロロベンゼン、クロロトルエンなどの有機溶剤、有機化合物として、全有機炭素化合物（ＴＯＣ）、難分解化学的酸素要求化合物（ＣＯＤ）、有機体窒素化合物などを含む意であり、本発明は、特に、この有機塩素化合物を高濃度で含有し且つ比較的高い含水率の汚染物を処理する加熱分解装置から排出されるガスを処理する装置及び方法として好適である。
【背景技術】
【０００４】
廃棄物処分場や、工場から排出される各種産業廃棄物や一般廃棄物の焼却場等の焼却炉から排出される多量の焼却残渣を埋立処分する最終処分場から流出する浸出水には、有機汚濁物質類が含まれており、そのまま河川等に放流することはできない。
【０００５】
この種の有機汚濁物質類分解装置として、飛灰を対象とする加熱還元分解装置は知られているが、飛灰には有機物はほとんど含まれていないため、この加熱還元分解装置には酸化処理設備は設けられていない。
【０００６】
また、有機汚濁物質類を溶融して処理する溶融法や、超臨界条件で処理する超臨界法は、そのための装置規模が大きく、運転費用も高額であり、製造コスト及びランニングコストが極めて高くなる。
【０００７】
そこで、汚染物に含まれる有機汚濁物質を所定温度で酸化及び還元する加熱分解装置であれば、酸化と還元が同一装置内で行われるので、熱の無駄が少なく、熱効率が向上するという効果があるが、従来の加熱分解装置から排出される排ガスはバグフィルター及び活性炭充填塔で処理されている。
【０００８】
しかし、上記加熱分解装置から排出されるガス中には、投入された汚染物中の乾燥及び酸化又は還元分解で生じる蒸気、揮発物質、有機物の焼却ガス、ならびに微細な粉塵等の微粒子が同伴することが多い。ところが、バグフィルター及び活性炭充填塔で処理する場合、バグフィルターが粉塵等の微粒子で汚染され、目詰まりする可能性が高く、その粉塵等が堆積した場合には、粉塵などの微粒子に付着又は吸着同伴される微量の有機汚濁物質によって、二次汚染源となりやすい。また、後続する活性炭吸着塔内の活性炭吸着剤への微粒子等の付着又は吸着は、活性炭のもつ本来の吸着処理能力を著しく低下させ、このような二次汚染されたバグフィルターや活性炭及び配管、機器類は廃棄物として別途廃棄物処分する必要があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は従来の技術の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は有機汚濁物質を分解する加熱分解装置から排出されるガス中の有機物や有機塩素化合物を確実に除去し、排ガスの清浄化を図ることができる排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明は、加熱分解装置のガス排出口に引き続くガスを排出する経路に湿式ガス洗浄装置及び活性炭充填塔を順次配し、ガス排出経路に設けた排風機で加熱分解装置内のガスを吸引する方法を採用することにより、加熱分解装置から排出されるガス中の有機物や有機塩素化合物や粉塵等の微粒子を洗浄水に吸収し、残った有機物や有機塩素化合物を含む微量の微粒子を活性炭に吸着させて、排ガスの清浄化を図ることができる。
【００１１】
本明細書において、有機汚濁物質とは、ダイオキシン等の有機塩素化合物及び有機化合物のことを言い、汚染物とは、それらの有機汚濁物質を含んだ処理対象物、例えば、汚染土壌を言う。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の要旨は、汚染物に含まれる有機汚濁物質を分解処理する加熱分解装置から排出されるガスを処理する装置であって、加熱分解装置のガス排出口に引き続くガスを排出する経路に湿式ガス洗浄装置及び活性炭充填塔を順次配し、ガス排出経路に設けた排風機で加熱分解装置内のガスを吸引することを特徴とする排ガス処理装置にある。
【００１３】
本発明では、加熱分解装置から排出されるガスを水洗浄により清浄化することを特徴としている。すなわち、排ガス中の有機物や有機塩素化合物を含む微粒子を湿式ガス洗浄装置により洗浄水中に取り込むことにより、汚染物を排ガスに同伴させることなく、清浄化することができる。さらに、湿式ガス洗浄装置に後続して活性炭充填塔が配置されているので、洗浄水に取り込まれなかった排ガス中の微量の微粒子は活性炭に吸着され、排ガス清浄度を大幅に向上することができる。また、活性炭に吸着される微粒子はごく僅かな量なので、活性炭が目詰まり等を起こすことはない。
【００１４】
湿式ガス洗浄装置に後続した洗浄水貯留タンクを経由する洗浄水の循環経路を設ければ、水洗浄におけるクローズドシステムを確立し、排ガス中の汚染物が外部に漏れることがないので好ましい。
【００１５】
循環経路に凝集沈殿装置と膜分離装置のいずれか一方又は両方を有する水処理装置を配し、該水処理装置の処理水の少なくとも一部を洗浄水の循環経路に流入させれば、処理水を湿式ガス洗浄装置のガス洗浄水として有効利用できるので好ましい。
【００１６】
凝集沈殿装置、膜分離装置のいずれか一方又は両方を有する水処理装置から加熱分解装置に至る経路に蒸発固化装置を設ければ、凝集沈殿装置で発生する凝集汚泥及び膜分離装置で透過水と分離された濃縮水などの処理物を蒸発固化装置で蒸発固化し、蒸発固化後の乾燥汚泥及び乾燥固化塩、又はこれらの混合乾燥固化物を汚染物と共に加熱分解装置で加熱分解することによって、汚染物の完全分解処理ができるので好ましい。なお、凝集装置は、凝集浮上装置、凝集濾過装置等を用いることができる。
【実施例】
【００１７】
以下に本発明の実施例を、図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１は、本発明の方法を実施するに好適である排ガス処理装置及び関連設備の一実施例の概略構成を示すフロー図である。図１において、円筒状の加熱分解装置１は、汚染物を装置内に受け入れる受入側に乾燥・酸化ゾーン２を有し、排出側に還元ゾーン３を有している。４は、汚染物を装置１内に定量投入するためにロードセルを具備したホッパーであり、５は汚染物を装置１内に定量投入するためのシール性に優れたロータリーバルブである。６は酸素含有ガスの供給経路であり、ロータリーバルブ５の下方の管路７に接続されている。図１では、乾燥ゾーンと酸化ゾーンは同一の場所に設けられているが、乾燥ゾーンと酸化ゾーンと別の装置として設けることもできる。
【００１９】
また、装置１の受入側と排出側には、それぞれ温度計８ａ、８ｂの先端センサ部が挿入されている。
【００２０】
９は、装置１を長手方向に貫通する回転軸であり、回転軸９には多段傾斜パドル翼１０が装着されている。回転軸９はモータ１１により回転駆動され、モータ１１は正逆方向に回転することが可能な機構と回転数制御機構を有しており、モータ１１の回転方向を切り換えることにより、回転軸９の回転方向を図１に示す方向１２又はその逆方向に変更することができる。図１に示す方向１２に回転軸９が回転する場合は、装置１内の汚染物を受入側から排出側に向けて移送し、その逆方向に回転軸９が回転する場合は、装置１内の物質は排出側から受入側に逆送される。
【００２１】
装置１の外周には外套１３が装着されており、外套１３内に経路１４から高温の（５００〜６００℃）のガスが通入されており、この高温ガスは外套１３内を流通した後、経路１５から排出される。
【００２２】
１６は、不活性ガス（窒素ガス）の通入経路であり、装置１内への酸素含有ガスの導入方向は汚染物の装置１内の移動方向と同じであるが、装置１内への不活性ガスの導入方向は汚染物の装置１内の移動方向と逆である。なお、不活性ガスとしては、窒素以外に、例えば、アルゴンガスを用いることもできる。
【００２３】
５ａは、還元処理後の処理物を、管路１７を経て装置１から定量排出するためのシール性に優れたロータリーバルブであり、後記する冷却装置に接続されている。
【００２４】
１８は、酸素含有ガスと不活性ガスを排出するガス排出口であり、図１では、排出口１８は装置１の中央付近に設けられているが、排出口の位置は汚染物の性状に合わせた乾燥時間、酸化時間と還元時間の比率に応じて決められるのが好ましい。
【００２５】
１９は、湿式ガス洗浄装置（で、図中には、散水式ガス吸収装置を示している）、２０は熱交換器（凝縮器）、２１は排風機、２２は活性炭吸着塔である。散水式ガス吸収装置１９内では、上部に設置された複数個のスプレー１９ａから洗浄水が散布され、排ガス中の微粒子がこの洗浄水に吸収される。熱交換器２０では、加熱分解装置１から排出される高温（約１００〜６００℃）の排ガスと、経路２３より通入される冷水との間で間接的な熱交換が行われ、排ガス中の水分は凝縮水として経路２４を経て散水式ガス吸収装置１９の補給水として回収される。排風機２１で排ガスを吸引することにより、加熱分解装置１内の圧力は−１００〜−５００mm水柱程度の負圧に保たれる。湿式ガス洗浄装置としては、散水式ガス吸収装置や水中曝気式吸収装置などの気液接触吸収装置の形で高温排ガスの耐熱構造を有していればよく、また、それらの組み合わせでも、複数並べてもよい。
【００２６】
２５は、加熱分解装置で加熱分解された高温の分解残渣を引き続き冷却する冷却装置であり、外套２６内には経路２７から冷水が通入されており、この冷水は外套２６内を流通した後、経路２８から排出される。
【００２７】
２９は、冷却装置２５を長手方向に貫通する回転軸であり、回転軸２９には多段傾斜パドル翼３０が装着されている。回転軸２９はモータ３１により回転駆動され、モータ３１は正逆方向に回転することが可能な機構と回転数制御機構を有しており、モータ３１の回転方向を切り換えることにより、回転軸２９の回転方向を図１に示す方向３２又はその逆方向に変更することができる。図１に示す方向３２に回転軸２９が回転する場合は、冷却装置２５内の処理物を受入側から排出側に向けて移送し、その逆方向に回転軸２９が回転する場合は、冷却装置２５内の処理物は排出側から受入側に逆送される。冷却装置２５の排出側には、温度計３３の先端センサ部が挿入されている。５ｂは、冷却後の処理物を、管路３４を経て冷却装置２５から定量排出するためのシール性に優れたロータリーバルブである。
【００２８】
冷却装置２５から排出された処理物は、梱包室３５内で袋詰めされる。すなわち、梱包室３５には経路３６から清浄な空気が通入されており、梱包室３５内の空気は、経路３７を経て酸素含有ガスの供給経路６に通じている。
【００２９】
散水式ガス吸収装置１９から排出される洗浄水は、洗浄水排出経路３８を経て洗浄水貯留タンク３９に貯留され、この洗浄水は後記する水処理装置４０で処理される。水処理装置４０で得られた透過水の一部は返送経路４１及び洗浄水供給経路４１ａを経て散水式ガス吸収装置１９に供給される。４０ａはポンプである。水処理装置４０で得られた汚泥等の固形物は、経路４２を経て乾燥装置４３に供給され、乾燥装置４３で必要な乾燥処理を施された後、経路４４を経て供給される汚染物とともに加熱分解装置１に供給されて加熱分解される。
【００３０】
また、排ガスの保有熱の有効利用を図るため、経路１５の一部の排ガスは、経路４５を経て乾燥装置４３に供給されており、ガス排出口１８から排出されて散水式ガス吸収装置１９に向かう排ガスの一部は、経路４６を経て酸素含有ガスの供給経路６に通じている。
【００３１】
図２は、水処理装置４０及び関連する主要設備の概略構成を示すフロー図である。図２において、４７は汚染物発生源を示し、４８は最終処分場で、４９はその浸出水、５０は焼却施設で、５１、５２はそれぞれ洗煙排水、洗浄廃液、５３は工場廃水、５４は廃棄物で、５５はその洗浄廃液、５６は解体炉及び同炉部品で、５７はその洗浄廃液、５８は汚染土壌及び汚泥で、５９はその現地廃液である。浸出水４９、洗煙排水５１、洗浄廃液５２、工場廃水５３、洗浄廃液５５、洗浄廃液５７及び現地廃液５９は、洗浄水貯留タンク３９に貯留された洗浄水とともに凝集沈殿装置６０に供給される。現地廃液とは、オンサイト場内（隔離室）の床、機器等の洗浄廃液及び、汚染土壌等のハンドリング（分級、選別等）の粉塵とに散水する必要があり、これらの浸出水など、現地分解処理作業時に発生する廃液をいう。凝集沈殿装置６０上部の上澄液は第一逆浸透膜分離装置６１と第二逆浸透膜分離装置６２を経て膜分離され、膜分離後の透過水は経路６３を経て排出される。透過水の一部は経路６４を経て汚染物発生源４７の洗浄水として利用され、透過水の残りの一部は返送経路４１及び洗浄水供給経路４１ａ（図１参照）を経て散水式ガス吸収装置１９のガス洗浄用補給水として利用される。
【００３２】
凝集沈殿装置６０底部の凝集汚泥は汚泥貯留槽６５に貯留される。また、第一逆浸透膜分離装置６１と第二逆浸透膜分離装置６２の膜を透過しなかった非透過液（濃縮水）は濃縮装置６６でさらに濃縮された後、濃縮水貯留槽６７に貯留される。汚泥貯留槽６５に貯留された汚泥と濃縮水貯留槽６７に貯留された濃縮水は蒸発固化装置６８で、それぞれ乾燥汚泥及び乾燥固化塩に転化され、汚染土壌及び汚泥５８とともに加熱分解装置１で加熱分解される。
【００３３】
以上のように構成される加熱分解装置及び排ガス処理装置により、汚染物に含まれる有機汚濁物質を酸化還元し、酸化還元によって発生する排ガスを処理する方法について説明する。
（１）対象とする汚染物の含水率が５％以上で、有機物の濃度が５００mg／kg以上である場合の一実施例を以下に示す。
（ａ）乾燥・酸化処理なお、汚染物の含水率が５０％を超える場合、あらかじめ含水率が５０％以下になるように別の設備で脱水処理をしておくことが好ましい。含水率が５０％以下であれば、装置内壁面に汚染物が付着する可能性が低く、連続処理が可能となるからである。
【００３４】
本実施例においては、処理対象である汚染物ｍとして、含水率が１５％で、有機物の濃度が１０００mg／kgで、ダイオキシン濃度が７ｎｇ−ＴＥＱ／ｇである模擬汚染土壌を使用した。
【００３５】
そして、経路１４から外套１３内に６００℃のガスを通入し、温度計８ａで装置１内の温度を計測し、装置内温度が４５０〜５５０℃に達した時点で上記汚染物（以下、被処理物質ともいう）をロードセル付きホッパー４で計量しつつ、１０kg／hr投入した。被処理物質中の水分の蒸発潜熱で温度降下が生じるので、装置１内温度が４５０〜５５０℃に維持されるように経路１４から外套１３内に６００℃のガスを通入し続けた。同時に、経路６より空気を通入し、また、装置内温度が４５０〜５５０℃に維持されるように経路１４から外套１３内に６００℃のガスを通入した。回転軸９は、約５０rpm の極めて低速で回転させ、被処理物質ｍを排出側に徐々に移動させつつ約６０分間酸化処理を行い、主として有機物を酸化分解した。乾燥・酸化処理中の装置１内温度は温度計８ａで測定した。
（ｂ）還元処理次に、経路１６より窒素ガスを通入し、また、装置１内温度が４５０〜５５０℃に維持されるように経路１４から外套１３内に６００℃のガスを通入した。回転軸９は、約５０rpm の極めて低速で回転させ、被処理物質ｍを排出側に徐々に移動させつつ約６０分間還元処理を行い、主としてダイオキシンを分解した。還元処理中の装置１内温度は温度計８ｂで測定した。
【００３６】
上記酸化・還元処理は同一装置内で連続して行うものであり、装置の前段部で酸化処理を、後段部で還元処理を行うものである。
（ｃ）排ガスの処理経路６から空気を通入すると同時に排風機２１を運転し、装置１内のガス（約５００℃）をガス排出口１８を経て排出し、ガス中の微粒子を散水式ガス吸収装置１９の洗浄水に吸収し、さらに、水洗浄後の排ガスと経路２３から通入される冷水との熱交換を熱交換器２０において行い、排ガス中の水分を凝縮させてこの凝縮水を経路２４から排出し、散水式ガス吸収装置１９のガス洗浄用補給水として回収した。熱交換器２０で熱交換した後のガスは、活性炭充填塔２２で有機物と有機塩素化合物を活性炭に吸着させた後、外部に排出した。排風機２１は、装置１の運転中常時駆動し、装置１内を負圧（−１００〜−５００mm水柱）に維持した。
（ｄ）冷却処理還元処理後の被処理物質は、管路１７を経てロータリーバルブ５ａにより一定量を冷却装置２５に向けて排出した。冷却装置２５の外套２６には経路２７から約３０℃の冷水が通入されている。管路１７から被処理物質とともに窒素ガスが冷却装置２５内に吸引され、しかも、冷却装置２５内の温度は加熱分解装置１内の温度に比べて約４００℃低いので、冷却によるガス容積の収縮に伴い、冷却装置２５内は負圧状態（約−２００mm水柱）が確保された。そして、多段傾斜パドル翼３０を備えた回転軸２９を低速（約５０rpm） で回転させることにより被処理物質を約５０℃以下に冷却した後、管路３４から排出した。冷却処理中の装置内温度は温度計３３で測定した。
（ｅ）処理済み物質の排出以上のようにして酸化還元処理を施された処理物を管路３４からロータリーバルブ５ｂを経て袋３５ａに袋詰めした。
（ｆ）排水処理及び蒸発固化処理散水式ガス吸収装置１９から排出された洗浄水は、貯留タンク３９を経て、図２に示す水処理装置で処理された。すなわち、汚染物発生源４７で発生する汚染水４９、５１、５２、５３、５５、５７及び５９とともに凝集沈殿装置６０で凝集沈殿され、凝集沈殿装置６０の底部の凝集汚泥は汚泥貯留槽６５に貯留され、凝集沈殿装置６０上部の上澄液は第一逆浸透膜分離装置６１と第二逆浸透膜分離装置６２で膜分離され、膜を透過した透過水の一部は汚染物発生源４７の洗浄水として利用され、また透過水の他の一部は散水式ガス吸収装置１９のガス洗浄用補給水として利用され、膜を透過しなかった非透過液（濃縮水）は濃縮装置６６で濃縮された後、濃縮水貯留槽６７に貯留された。汚泥貯留槽６５に貯留された汚泥と濃縮水貯留槽６７に貯留された濃縮水は蒸発固化装置６８で蒸発固化されて、それぞれ乾燥汚泥及び乾燥固化塩に転化され、汚染土壌及び汚泥５８とともに加熱分解装置１で加熱分解された。
【００３７】
以上のようにして得られた袋３５ａ中の処理物の含水率は０．１〜０．３％で、有機物の濃度は０．１〜０．５mg／kgで、ダイオキシン濃度は０．１ｎｇ−ＴＥＱ／ｇ未満であって、有機物及びダイオキシンともに極めて低濃度である処理物を得たことを確認した。また、活性炭充填塔２２から排出されるガスの性状は、ダイオキシンは０．１ng／ｍ3以下であり、硫黄酸化物、ばいじん等のばい煙に分類される物質と、ベンゼン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の有害大気汚染物質に分類される物質と、アンモニア、メチルメルカプタン等の悪臭物質に分類される物質の各濃度は規制値を大幅に下回っており、有機物及びダイオキシンともに極めて低濃度である高清浄度の排ガスであることを確認した。
（２）対象とする汚染物の含水率が５％以上で、有機物の濃度が５００mg／kg未満である場合有機物の濃度が５００mg／kg未満である場合は、必ずしも有機物を酸化する必要はなく、上記した酸化処理工程を省略することができる。すなわち、経路６から空気を通入しなくてもよい。
（３）対象とする汚染物の含水率が５％未満で、有機物の濃度が５００mg／kg未満である場合さらに、含水率が５％未満である汚染物には、乾燥処理を施す必要はなく、低含水率（含水率５％未満）で低有機物濃度（５００mg／kg未満）の場合、乾燥及び酸化処理工程を省略することができる。
【００３８】
以上のように、本発明によれば、例えば有機塩素化合物で汚染された土壌や河川や湖沼や池や海水中に堆積する汚泥を効率的に無害な物質に分解処理し、しかも、排ガスの清浄化を図ることができる。有機塩素化合物には、例えば、ダイオキシン、ＰＣＢ、クロロベンゼン、クロロトルエンなどが含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明は、上記のとおり構成されているので、次のように有用である。
（１）請求項１、５記載の発明によれば、有機汚濁物質を分解する加熱分解装置から排出されるガス中の有機物や有機塩素化合物を確実に除去し、排ガスの清浄化を図ることができる。
（２）請求項２、６記載の発明によれば、クローズド洗浄システムを形成し、排ガス中の汚染物が外部に漏れることはない。
（３）請求項３、７記載の発明によれば、透過水をガス洗浄水として有効利用することができる。
（４）請求項４、８記載の発明によれば、汚染物の完全分解処理ができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の排ガス処理装置及び関連設備の一実施例の概略構成を示すフロー図である。
【図２】本発明の水処理装置及び関連する主要設備の概略構成を示すフロー図である。
【符号の説明】
【００４１】
１…加熱分解装置
２…乾燥・酸化ゾーン
３…還元ゾーン
４…ホッパー
５、５ａ、５ｂ…ロータリーバルブ
６…空気の供給経路
７、１７、３４…管路
８ａ、８ｂ、３３…温度計
９、２９…回転軸
１０、３０…多段傾斜パドル翼
１１、３１…モータ
１３、２６…外套
１４…高温ガスの経路
１６…窒素ガスの経路
１８…ガス排出口
１９…散水式ガス吸収装置
２０…熱交換器
２１、７２…排風機
２２…活性炭充填塔
２３、２７…冷水の経路
２５…冷却装置
３５…梱包室
３５ａ…袋
３８…洗浄水排出経路
３９…洗浄水貯留タンク
４０…水処理装置
４１…返送経路
４１ａ…洗浄水供給経路
４３…乾燥装置
４７…汚染物発生源
４８…最終処分場
４９…浸出水
５０…焼却施設
５１…洗煙排水
５２…洗浄廃液
５３…工場廃水
５４…廃棄物
５５…洗浄廃液
５６…解体炉及び同炉部品
５７…洗浄廃液
５８…汚染土壌及び汚泥
５９…現地廃液
６０…凝集沈殿装置
６１…第一逆浸透膜分離装置
６２…第二逆浸透膜分離装置
６５…汚泥貯留槽
６６…濃縮装置
６７…濃縮水貯留槽
６８…蒸発固化装置
【図１】
2004358468.tif 000003
【図２】
2004358468.tif 000004