(57)【要約】【課題】設備費及び維持経費を抑えることができ、不純物混入や発生要因をより無くすことができるウエット処理装置と軸受ユニットを実現する。【解決手段】軸部１５を有した基板用収容カセット１と、槽内の処理液Ｓに浸して収容カセット内の基板Ｗを液処理する槽本体２と、収容カセット１を軸部１５を介し回転自在に保持する左右の軸受部材６と、軸受部材６に保持される収容カセット１を回転する回転手段４と、槽本体内の処理液の一部を槽外へ取り出し、該取り出した処理液を槽内へ戻す液循環経路部３とを備えたウエット処理装置において、回転手段４は、液循環経路部３に接続されて槽本体内から取り出した処理液を軸受部材に保持された収容カセット側へ噴射する液吐出部４を有し、該液吐出部４から噴射される処理液の吐出流により収容カセット１を回転する。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
両端面に軸部を有した基板用収容カセットと、槽内の処理液に前記収容カセットを浸して該収容カセット内の基板を液処理する槽本体と、前記槽本体内に設けられて前記収容カセットを前記軸部を介し回転自在に保持する左右の軸受部材と、前記軸受部材に保持される前記収容カセットを回転する回転手段と、前記槽本体内の処理液の一部を槽外へ取り出し、該取り出した処理液を槽内へ戻す液循環経路部とを備えたウエット処理装置において、
前記回転手段は、前記液循環経路部に接続されて前記槽本体内から取り出した処理液を前記軸受部材に保持された前記収容カセット側へ噴射する液吐出部を有し、該液吐出部から噴射される処理液の吐出流により前記収容カセットを回転することを特徴とするウエット処理装置。
【請求項２】
前記液吐出部が前記軸受部材に設けられて、前記液循環経路部と接続されている請求項１に記載のウエット処理装置。
【請求項３】
前記収容カセットが端面に固定水車部を有し、前記液循環経路部が前記液吐出部から前記固定水車部へ向けて処理液を噴射する請求項１又は２に記載のウエット処理装置。
【請求項４】
前記軸受部材が軸受面に設けられて前記液循環経路部と接続されている上吐出部を有し、前記液循環経路部が前記槽本体内から取り出した処理液を前記上吐出部より前記軸受面上の前記軸部の周面へ噴射して、該処理液の吐出流により前記収容カセットを浮上可能にする請求項１から３の何れかに記載のウエット処理装置。
【請求項５】
前記液循環経路部が前記軸受部材に保持される前記収容カセットの両端面と対向する左右の横吐出部を有し、該横吐出部から噴射される前記処理液の吐出流により前記収容カセットの端面と前記軸受部材との隙間を維持可能にする請求項１から４の何れかに記載のウエット処理装置。
【請求項６】
前記横吐出部が前記両軸受部材に設けられて、前記液循環経路部と接続されている請求項５に記載のウエット処理装置。
【請求項７】
請求項１から６のウエット処理装置に用いられて、前記槽本体内の下部に配設される設置板と、前記設置板上の左右に取り付けられた前記軸受部材と、前記設置板に設けられて前記液循環経路部と接続されている配管部と、前記軸受部材に設けられて前記配管部と接続される下流配管部とを有している軸受ユニット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体やＬＣＤ製造工程等において、処理対象の基板を入れた収容カセットを、槽本体内の薬液やリンス液等の処理液に浸した状態で回転して収容カセット内の基板をエッチングや洗浄等の液処理する回転式のウエット処理装置及びそれに用いられる軸受ユニットに関する。
【０００２】
【従来の技術】
回転式のウエット処理装置では、基板用収容カセットを槽本体内の処理液に浸した状態で回転するため、収容カセット内の基板に対するエッチング等の液処理を均一化したり処理効率を向上できる。また、装置構造としては、槽本体内の処理液の一部を槽外へ取り出し、該取り出した処理液を濾過したり再生処理して槽内へ戻す液循環手段を設けることにより、使用している処理液の寿命を長くしたり連続稼動を維持できるようにしている。
【０００３】
従来装置例としては下記文献１〜３に開示のものがある。このうち、文献１の装置は、槽本体内において、収容カセットを支持台に回転自在に保持した状態で、槽内底部に設けられたノズルから不活性ガスを収容カセット、又は、支持台に保持される収容カセットの軸部に設けられた風車に向けて噴射し、該噴射力つまり気泡圧力により回転する構造である。文献２の装置は、収容カセットを槽本体内に回転自在に保持した状態で、槽本体外に設けられて、回転駆動される磁石、及び収容カセットの端面に設けられた磁石の磁気作用により回転する構造である。文献３の装置要部は、槽本体内の収容カセットを槽外部に設けられた回転モータ及びギヤ構造体等を介して機械的に回転したり、槽外部に設けられたＸ−Ｙ−Ｚ方向の各回転モータにより収容カセットを揺動したり、槽内に設けられたノズルから収容カセットに向けて不活性ガス等を噴射させるものである。
【０００４】
【特許文献１】
特開昭５５−６８６３３号公報（第２頁、第１図〜第３図）
【特許文献２】
特開２０００−３６４８２号公報（第３〜第５頁、図１〜図５）
【特許文献３】
特開２０００−６８４２６号公報（第７頁〜第９頁、図１〜図５）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
以上の従来処理装置では、収容カセットを回転する動力源として、気泡圧力を利用する場合は大量の不活性ガスが必要となり、磁気作用の場合は磁石回転駆動機構が必要となり、回転モータの場合は動力伝達機構が複雑化するため、設備費が何れも高く稼動経費も増大し、不純物が槽外から処理液中に混入し易い。また、従来構造では、収容カセットが処理液に浸されて支持台や軸受部材に対応軸部を保持した状態で回転されるため、軸保持部が回転摩擦で不純物を生じ易く、該不純物により処理精度が悪くなり歩留まり低下要因となる。
【０００６】
本発明の目的は、以上のような問題を一掃して、例えば、設備費及び維持経費を抑えることができ、又、不純物混入や発生要因をより無くすことができ、それにより処理精度を向上したりウエット処理方式の適用機会を増大できるウエット処理装置及びそれに好適な軸受ユニットを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
以上の目的を達成するため本発明は、図面の例で特定すると、両端面に軸部１５を有した基板用収容カセット１と、槽内の処理液Ｓに前記収容カセット１を浸して該収容カセット内の基板Ｗを液処理する槽本体２と、前記槽本体内に設けられて前記収容カセット１を前記軸部１５を介し回転自在に保持する左右の軸受部材６と、前記軸受部材６に保持される前記収容カセット１を回転する回転手段４と、前記槽本体内の処理液の一部を槽外へ取り出し、該取り出した処理液を槽内へ戻す液循環経路部３とを備えたウエット処理装置において、前記回転手段４は、前記液循環経路部３に接続されて前記槽本体内から取り出した処理液を前記軸受部材に保持された前記収容カセット側へ噴射する液吐出部を有し、該液吐出部から噴射される処理液の吐出流により前記収容カセット１を回転することを特徴としている。
【０００８】
（工夫点等）以上の装置において、要部の回転手段は、既設の液循環経路部に接続された液吐出部から、槽本体内から取り出した処理液のうち、再び槽本体内へ戻す処理液（一部又は全部）を収容カセット側へ噴射して、その処理液の吐出流（吐出圧と同じ）により収容カセットを回転させるようにしたものである。従って、この回転手段では、例えば、軸受部材に保持される収容カセット側へ液を噴射可能な液吐出部を追加し、該液吐出部に対し既設の液循環経路部のうち戻り配管側を接続するだけでよいため、従来構造に比べて、極めて簡易であり、設備費を大幅に低減でき、既設の液循環経路部に設けられている液圧送用ポンプをそのまま利用して稼動経費を抑えることができる利点がある。同時に、噴射流体が槽本体内で使用している処理液であることから、不活性ガス等を噴射する従来構造に比べ当該処理液への不純物混入の虞が一切なくなる点でも優れている。ここで、本発明の収容カセットは、処理対象の基板を入れる介在物であればよく、図面に例示した形態以外でも、例えば、基板を第１の収容カセットに収容し、該第１の収容カセットを更に第２の収容カセットに入れて当該第２の収容カセット（の軸部）を軸受部材に回転自在に保持する態様、前記第２の収容カセットを更に第３の収容カセットに入れて当該第３の収容カセット（の軸部）を軸受部材に回転自在に保持する態様、つまり複数の収容カセット構造も当然に含むものである。
【０００９】
以上の本発明は請求項２〜７のように展開することが可能である。すなわち、・請求項２は、前記液吐出部４が前記軸受部材６に設けられて、前記液循環経路部３と接続されていると、液吐出部を支持する専用部材を不要にでき、槽本体内を煩雑化する虞をなくし、取扱性に優れ、設置の簡素化も可能にする。
・請求項３は、前記収容カセット１が端面１１に固定水車部１７を有し、前記液循環経路部３が前記液吐出部４から前記固定水車部１７へ向けて処理液Ｓを噴射する構成である。この場合は、液吐出部から噴射される液圧を固定水車部で受け易くして、収容カセットを効率よく回転できるようにする。
・請求項４は、前記軸受部材６が軸受面２８に設けられて前記液循環経路部３と接続されている上吐出部２８ａを有し、前記液循環経路部３が前記槽本体内から取り出した処理液を前記上吐出部より前記軸受面２８上の前記軸部１５の周面へ噴射して、該処理液の吐出流により前記収容カセット１を浮上可能にする構成である。この場合は、収容カセットが軸受面に浮上されるため、従来構造と比べて、軸部と軸受面との間の回転摩擦、それに起因した不純物発生要因がなくなり処理精度及び歩留まりを向上でき、装置信頼性も具備できるようにする。
【００１０】
・請求項５は、前記液循環経路部３が前記軸受部材６に保持される前記収容カセット１の両端面と対向する左右の横吐出部２９を有し、該横吐出部から噴射される前記処理液の吐出流により前記収容カセット１の端面１１と前記軸受部材６との隙間を維持可能にする構成である。これは、収容カセットを両側の横吐出部からの処理液の吐出流によりセンタリング調整するようにして、収容カセットが回転に伴って軸方向に動いて軸受部材に衝突し、該衝突に起因した不純物発生等を解消できるようにする。ここで、「収容カセットの両端面」とは横吐出部２９より噴射される吐出流を受ける箇所を意味し、軸部１５の端面も含まれる。軸部端面の例としては、軸受部材が略Ｌ形であり、該Ｌ形の水平片部を軸受面にし、該Ｌ形の垂直片部側に横吐出部を設けるようにする。
・請求項６は、前記横吐出部２９が前記両軸受部材６に設けられて、前記液循環経路部３と接続されていると、請求項２と同様な利点を具備できるようにする。
・請求項７は、請求項１から６のウエット処理装置に用いられて、前記槽本体２内の下部に配設される設置板３５と、前記設置板上の左右に取り付けられた前記軸受部材６と、前記設置板３５に設けられて前記液循環経路部３と接続されている配管部３６と、前記軸受部材６に設けられて前記配管部と接続される下流配管部３７とを有している軸受ユニット５である。この軸受ユニットは、本発明を実施する上で、取扱性及び槽本体内への組込性、並びに収容カセット（軸部）等に応じた交換性等を良好にし、発明装置の採用を容易にして普及をし易くする利点がある。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態としてのウエット処理装置を図面を参照しながら説明する。図１はウエット処理装置を液循環経路部と共に示す槽本体の片側を断面した模式図、図２は槽本体を正面側を断面した模式図である。図３は軸受ユニットの概略外観図、図４は収容カセットの概略外観図、図５は軸受ユニットを軸受部材の箇所で断面した図、図６は軸受部材と収容カセットの端面側との関係を示す模式図である。なお、図２は処理液を省略し、図６ではねじ２６ｂ等を省略している。以下の説明では、発明装置の概要、収容カセット、槽構造、軸受ユニットの順で詳述した後、作動に言及する。
【００１２】
（概要）対象のウエット処理装置は、液処理する複数枚の基板Ｗを収容カセット１にセットした状態で、槽本体２の処理液Ｓに浸漬し、収容カセット１を回転手段４により回転して、エッチング処理したり洗浄処理する回転式のものであればよい。基板Ｗは、例えば、半導体ウエハであり、収容カセット１に横並び、かつ、定間隔にセットされて互いに接触不能に保持される。収容カセット１は、槽本体２内の処理液Ｓに下降移動されて液処理され、その後、上昇移動されて次工程に供給される。処理液Ｓは、エッチング処理用の薬液（例えば燐酸（Ｈ３ＰＯ４）、硝酸（ＨＮＯ３）と弗酸（ＨＦ）を混合した薬液等）、洗浄処理用のリンス液や純水と言うように目的に応じた液である。槽本体２には、処理液Ｓが液溜設備から供給され、その後は槽本体２に付設される液循環経路部３を流れる過程で濾過処理されたり再生処理される。本発明は、以上のような収容カセット１を槽本体２内の処理液Ｓに浸した状態で、回転自在に保持する軸受ユニット５及び回転手段４を工夫したものである。
【００１３】
（収容カセット）収容カセット１は、図４に示されるように、本体１０が略円筒スケルトン状であり、円筒の両端面を形成している２枚の側板１１と、各側板１１に設けられて端面中心外側へ突出されている円柱状軸部（回転軸と同じ）１５と、両側板１１を連結して基板Ｗを位置決め支持するため略半円上に配置された複数本（実施例では４本）のシャフト１２と、フック１３及びシャフト１４からなる着脱部１６と、各側板１１の外端面に設けられた固定水車部１７とを有している。各シャフト１２は、基板Ｗの外周を嵌合する多数の溝１２ａを軸方向にあって定間隔に形成している。各側板１１の内端面には突起１１ａが上下中間より少し上側に２個づつ設けられている。着脱部１６は、該シャフト１２同士で形成される円弧状の空間内に基板Ｗを出し入れする箇所である。フック１３は、略逆Ｕ形をなし、両片の先端に設けられた係合爪１３ａを有し、係合爪１３ａが前記突起１１ａに係脱することにより本体１０に対し着脱される。シャフト１４は単純な棒状であり、基板Ｗがシャフト１２同士で形成される空間内から不用意に抜け出ないよう規制する。固定水車部１７は、両側板１１の外端面に対し軸部１５と同心円上に設けられており、軸部１５よりかなり径大となった胴部外周に複数の羽根１８を有している。各羽根１８は全体がギヤの長い歯形状となっている。形状的には、羽根１８が外部から液圧を受けたとき、その液圧を面的に受け易くする形状であればよい。なお、収容カセット１を用いた実際の液処理において、収容カセット１の移動は、一般的に自動搬送機で行われ、収容カセット１の両端に設けられている軸部１５を把持することが多い。このため、両側の軸部１５は、軸受部材６の軸受面２８より外へ突出する長さに設定されている。
【００１４】
（槽構造）槽構造は、図１及び図２に示されるように、目的の処理液Ｓを液溜ラインから供給して収容する槽本体２が主体となり、該槽本体２から処理液Ｓを排出しそれを濾過処理したり再生して再び槽本体２へ循環する液循環経路部３を備えている。槽本体２は、周囲側壁２０及び底壁２１で槽内を区画し、槽本体２から溢れた処理液を貯める溢流堰２２を上外周に形成している。この例では、槽本体２の開口が必要に応じて蓋体２３により開閉される。液循環経路部３は、溢流堰２２の底部から処理液Ｓを取り出し、濾過部３０、ポンプ３１から槽本体２の底壁２１上に設けられた軸受ユニット５を通じて槽本体２内へ戻される。溢流堰２２の底部とポンプ３１との間は配管部３３ａで接続され、該配管部３３ａの途中に濾過部３０が介在されている。この濾過部３０は、例えば、ベローズダンパー付きフィルター装置（特開２００１−４６８１５号）であり、処理液Ｓ中の不純物を除去する。また、ポンプ３１と軸受ユニット５との間には弁装置３２が介在されている。この弁装置３２は、細部を省略したが、三方弁及びその分配流量を調整する制御部等からなる。
【００１５】
なお、以上の槽構造は、処理対象の基板Ｗや処理液Ｓによって変形可能である。その一例を挙げると、槽構造としては、槽本体２に加熱用ヒータ等が設けられたり、槽内液温度を検出する温度コントローラ等が設けられる。液循環経路部３としては、特開平７−８６２６０号公報の構成、特開平１１−２９３４７９号公報の構成、特願２００２−２６９４０５号に記載された図１及び図２の希釈・析出再生部並びに図３の構成でも差し支えない。また、液循環経路部３は、ここに新液（液にガスを含む態様でもよい）を導入したり、不足原料を導入してから槽本体２内へ戻す場合もあり、これらの態様も本発明に含まれる。
【００１６】
（軸受ユニット）槽本体２内に設けられる軸受ユニット５は、図３及び図５と図６に示されるように、槽本体２の底壁２１上に取り付けられる設置板３５と、設置板３５上の左右に取り付けられた２個の軸受部材６と、設置板３５に内設されて液循環経路部３の配管部３３ｃと接続されている配管部３６と、各軸受部材６に内設されて前記対応する配管部３６と接続される下流配管部３７とを備えている。設置板３５は、槽本体２内に余裕を持って配置される大きさの矩形板状であり、図５の断面で分かるように、配管箇所を空洞にしそこに各配管部３６を配置している。この設置板３５には、両側の軸受部材６に対応した取付孔及び配管部３６を軸受部材６側に連通する連通孔、槽本体２の底壁２１にねじ等で固定する取付孔３５ａ等が設けられている。図３の符号３４は、前記各配管部３３ｃに対応する配管部３６を接続するジョイントである。このジョイント３４は、模式化しているが、例えば、設置板３５の側面や底面側に付設されることもある。
【００１７】
各軸受部材６は、図５のように、設置板３５の左右に取り付けられる治具２５と、治具２５上に取り付けられる抑え部材２６と、抑え部材２６の中央に位置決め規制される軸受２７とからなる。治具２５は、上下方向の配管箇所を空洞にしそこに下流配管部３７を配置し、上中央部に設けられた軸受配置用の凹状部と、軸受部材同士の対向面側に設けられた液吐出部４を有している。下流配管部３７は、配管部３６の一方に接続されて治具２５上に設けられる軸受２７の下面である前記凹状部に通じている管部３７ａと、配管部３６の他方に接続されて治具２５の略上下中間まで延び、更に前記液吐出部４に通じている管部３７ｂとで構成されている。液吐出部４は、回転手段の主要部であり、例えば、図３のごとく略Ｌ形の上向きノズル４ａを装着したり、上向きに傾斜した孔として形成される。これらは、後述する横吐出部２９の孔線上から少しずれている。抑え部材２６は治具２５の上面にねじ２６ｂ等で固定される。中央部には、軸受用の貫通孔及び該貫通孔の下側を一回り径大にした径大孔が設けられている。上面には、軸部１５の外径より大きな隙間を保っている対の規制棒２６ａが設けられている。各規制棒２６ａは、軸受２７上の軸部１５が水平又は左右方向へ大きく動こうとしたとき、該軸部１５の動きを規制する。軸受２７は、円柱体形であり、上面に形成されている凹円弧の軸受面２８と、周囲に形成されて前記抑え部材２６の径大孔に嵌合する鍔部２７ａと、下面に形成されて前記下流配管部３７の管部３７ａから導入される処理液Ｓを受け入れる円錐状の空洞部２７ｂと、空洞部２７ｂから軸受部材同士の対向面側に略水平に貫通されている横吐出部２９と、軸受面２８と空洞部２７ｂとの間に多数設けられている上下方向の貫通孔である上吐出部２８ａとを一体に有している。そして、以上の軸受２７は、下側が前記治具２５の凹状部に嵌合配置された後、抑え部材２６が治具２５上に固定されることにより鍔部２７ａを抑え部材２６の径大孔に位置規制された状態で組み付けられる。そして、両側の軸受部材６は、各部材が一体化された後、治具２５が設置板３５に対しねじ３５ｂにより固定されると、槽本体２に組み込まれる軸受ユニット５としての組立体となる。
【００１８】
（作動）以上の軸受ユニット５を内設したウエット処理装置では次のような作動が従来と相違している。
（１）、液循環経路部３において、溢流堰２２から取り出された処理液Ｓは再び槽本体２内へ戻されるが、この経路が変更されている。この構造では、溢流堰２２の処理液Ｓが濾過部３０等で適宜に不純物除去や再生処理される。濾過後の処理液Ｓは、ポンプ３１から配管部３３ｂを通って弁装置３２により２方向に分岐された後、各配管部３３ｃから軸受ユニット５の設置板３５に配管されている２本の配管部３６（図３と図５参照）へ設計流量及び液圧で圧送される。そして、処理液Ｓは、一方の配管部３６から治具２５の管部３７ａ、軸受２７の空洞部２７ｂへ圧送された後、一部は上吐出部２８ａより上方へ噴射され、一部は横吐出部２９より略水平方向へ噴射される。同時に、処理液Ｓは、他方の配管部３６から治具２５の管部３７ｂ、より液吐出部４（のノズル４ａ）から斜め上方へ噴射される。なお、以上の構造では、溢流堰２２から取り出した処理液Ｓを全て上吐出部２８ａ、横吐出部２９、液吐出部４から噴射している。但し、処理稼動設計によっては、溢流堰２２から取り出した処理液Ｓのうち、過剰液部分を従来と同様に槽本体２内へ直に戻すようにする。その場合は、設置板３５に多数のパンチング孔を設け、該孔を介し分散状態で戻すことが好ましい。要は設置板３５が分散用のパンチング板を兼用する構成である。
【００１９】
（２）、このように、溢流堰２２の処理液Ｓは、槽本体２外へ取り出された後、再度槽内へ戻されるが、上吐出部２８ａ、横吐出部２９、液吐出部４から噴射されて戻される。このため、この構造では、図１〜図３のように、収容カセット１が両側の軸受部材６に保持させていると、上吐出部２８ａから噴射される処理液Ｓの吐出液流又は液圧により軸部１５を軸受面２８上へ押し上げる力として作用する。この結果、収容カセット１は、軸受部材６の軸受面２８から浮上され、非接触状態となるため、又、浮上しなくても軸受面２８に対する当接力が大幅に弱くなる。この利点は、回転過程で軸受面２８に対する摩擦力がなくなって軸保持部に生じ易い不純物発生の虞を解消できることである。
（３）、同時に、この構造では、液吐出部４（のノズル４ａ）から噴射されて固定水車部１７の対応する羽根１８に向かう吐出液流又は液圧により、収容カセット１が回転を開始する。この回転により、収容カセット１内の各基板Ｗは、液接触及び液剪断力により効率よく液処理される。この回転形態では、前記した収容カセット１の浮上状態、又は、軸受面２８に対する当接力の低下状態により、液吐出部４の噴射力として弱い力で回転される。この利点は、回転動力源が既設のポンプ３１で行え、機械式に比べて不純物混入の虞が全くなくなることである。なお、液処理後には、収容カセット１を交換するため、弁装置３２が管部３７ａへの通路を閉じて液吐出部４（及び横吐出部２９）からの噴射を停止する。すると、収容カセット１は自重により軸受面２８に着地する。この構造では、軸受２７が治具２５及び抑え部材２６に対し完全固定ではなく、設計負荷により水平周りに回動自在となるようにし、これにより収容カセット１が浮上後に着地する際、軸受２７が必要に応じて向きを変えて対応軸部１５を軸受面２８で確実に受け止めるよう工夫されている。
（４）、同時に、この構造では、以上の収容カセット１の浮上及び回転過程において、両軸受部材６の各横吐出部２９から噴射される処理液Ｓの吐出液流又は液圧により、収容カセット１が両軸受部材６の間にセンタリングされる。この利点は、例えば、収容カセット１が浮上状態において水平方向へ動くと、収容カセット１の側壁外端面（この例では固定水車部１７）が対応する軸受部材６に衝突する虞、衝突に起因した不純物発生の虞を全て解消できることである。
【００２０】
なお、本発明は以上の形態により何ら制約されない。発明のウエット処理装置は請求項１で特定した要件を、発明の軸受ユニットは請求項７で特定した要件を具備しておればよく、以上の形態を参考にして必要に応じ変更可能なものである。一例を挙げると、各部材の材質は対象処理液に応じて適宜設定されること、その際、耐食性及び耐久性以外に比重等も考慮して選定される。また、上吐出部２８ａ及び横吐出部２９は、液吐出部４と同様に孔にノズルを付設したり、該ノズルの角度や位置等も最適となるよう設計される。また、軸受部材６の管部３７ａ，３７ｂや設置板３５の配管部３６は、軸受部材６や設置板３５に形成した通し孔自体により構成する態様、つまり専用の管を用いなくても何ら差し支えない。
【００２１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のウエット処理装置は、回転駆動源として既設の液循環経路部に用いられている液移送用ポンプを利用可能であり、又、噴射流体が現に使用している処理液であるから、課題に挙げた問題を解消して設備費及び稼動経費共に大幅なコスト低減を実現できる。同時に、不純物混入の虞がないことから、又、不純物発生要因も解消し易いことから処理精度をより向上でき、ウエット処理方式を普及したり適用分野も拡大できる。本発明の軸受ユニットは、前記ウエット処理装置の採用をし易くし、該装置の普及と製造ラインにおける便利性、信頼性向上に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明形態の装置を槽本体を断面し一側から見た模式図である。
【図２】図１の装置を槽本体を断面し正面側から見た模式図である。
【図３】図１の装置に用いられた軸受ユニットを示す模式外観図である。
【図４】図１の収容カセットを示す模式外観図である。
【図５】図３の軸受ユニットの要部を示す模式縦断面図である。
【図６】上記軸受ユニットと収容カセットとの要部関係を示す図である。
【符号の説明】
１…収容カセット（１０は本体、１５は軸部）
２…槽本体（２０は側壁、２１は底壁、２２は溢流部、２３は蓋）
３…液循環経路部（３０は濾過部、３１はポンプ、３２は弁装置）
４…液吐出部（回転手段を構成し、４ａはノズル）
５…軸受ユニット（３５は設置板、３６は配管部、３７は下流配管部）
６…軸受部材（２５は治具、２６は抑え部材、２７は軸受、２８は軸受面）
１７…固定水車部（１８は羽根）
２８ａ…上吐出部
２９…横吐出部
３６…配管部（設置板側の配管部）
３７ａ，３７ｂ…管部（軸受部材側の管部）
Ｗ…ウエハ（基板）
Ｓ…処理液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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