(57)【要約】【課題】同一の電気信号を駆動用圧電体に供給した時に、圧力室に作用する振動板として機能するガラス基板が一定の方向に変形するようにして、インク吐出性能を向上させる。【解決手段】ガラス基板１０を、シリコン基板１のインク流路形成面（接合面９）に接合し、研磨により薄片化および平滑化した後、ガラスの軟化点以下の温度で熱処理して軟化させる。ガラス基板１０は、圧力室７の上方位置において、自重で圧力室７の内側に向かって凸状に変形する。それから、ガラス基板１０の上面に、下電極１３、圧電体１４、上電極１５を成膜する。圧電体１４が駆動されたときの変形方向は、ガラス基板１０の初期変形状態（凸状部分１０ａ）によって規制されて、一定の方向になる。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板に、圧力室を含むインク流路となる溝を形成する工程と、
前記シリコン基板の前記溝が形成された面を覆うようにガラス基板を接合する工程と、
前記ガラス基板を薄片化する工程と、
前記ガラス基板を熱処理して軟化させ、前記溝の前記圧力室になる部分に対向する部分を、前記圧力室の内側に向かって凸状または凹状に変形させる工程と、前記ガラス基板の、前記溝の前記圧力室になる部分に対向する部分に、下電極、圧電体、および上電極を順次積層する工程とを含むインクジェットヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェットヘッドの製造方法に関し、特に、ガラス基板を振動板として用いてインク吐出エネルギーを得るインクジェットヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
文字や画像や模様などの記録を行うためにインクを吐出するインクジェットヘッドにおいて、電気−機械変換素子（圧電体）を用いてインク吐出エネルギーを得る構成のものがある。そのインクジェットヘッドは、一般的に、インクの流通するインク流路中に圧力室が設けられており、圧力室の壁に設けられている圧電体の変形によってこの圧力室の容積を変化させて内部のインクに圧力を加え、インク流路の開口端部（ノズル）からインク滴を外部に吐出させるものである。
【０００３】
近年では、高速、高画質、低消費電力、低価格のインクジェットプリンターが要求されており、このため、低消費電力で駆動可能であり、かつ高集積化が可能な、様々なインクジェットヘッドが提案されている。例えば特許文献１には、インクジェットヘッドの圧力室の壁として、２層以上の異種金属膜からなる振動板を設け、この振動板上に有機膜を形成することによって、ピンホールの遮蔽や、亀裂幅の埋設化、インクの濡れ性の均一化を図っている構成が開示されている。
特許文献２には、インクジェットヘッドの圧力室の周辺部に、セラミック、金属、または樹脂からなる台座を介して、金属（例えばニッケル、クロム、アルミニウムなど）およびそれらの酸化物や、シリコンまたはシリコン酸化物や、高分子有機物などから選ばれた材料からなる振動板の周辺部が接合されている構成が開示されている。また、特許文献３には、インクジェットヘッドの圧力室の壁として、金属製の振動板が設けられている構成が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平８−１９５０号公報
【特許文献２】
特開平１１−３４８２８５号公報
【特許文献３】
特開平９−３１４８３５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記したように従来のインクジェットヘッドでは、圧力室の壁として、金属材料、シリコン、あるいは高分子有機物材料からなる振動板が設けられており、特許文献１の構成では、金属製の振動板の上に、成膜過程で生成されるピンホールの影響を防ぐために、有機膜が被覆されている。また、特許文献２の構成では、振動板が、セラミック、金属、あるいは樹脂からなる台座を介して、圧力室上に配設されている。これらの構成では、振動板の運動特性を上げるために振動板のみに微小な変形を生じさせることは困難である。そのため、駆動源として圧電体を用いて振動板に座屈変形を伴う撓み変形を生じさせ、それによって圧力室の体積を変化させて内部のインクに圧力を加え、インク滴をノズルから外部に吐出させる構成が採用されている。
【０００６】
この振動板の撓み変形方向は、振動板の初期状態の形状に依存し、振動板の座屈変形方向は、圧力室側に凸状になる場合もあれば、あるいは圧力室側に凹状になる場合もある。従って、カラー記録や高速記録などのために多ノズル化されたインクジェットヘッドのように、１つのインクジェットヘッドに複数の吐出機構（複数の圧力室）がある場合、各圧力室の壁として設けられている振動板の中に、他と異なる座屈変形方向を有するものが存在すると、各振動板に対応する圧電体に同一の電気信号を供給した時に、これらの振動板はそれぞれ異なる動きをとり、同一の運動を起こさないおそれがある。これはインク吐出性能の低下を招く。
【０００７】
そこで本発明の目的は、前記した問題点に鑑み、圧力室に作用する振動板として機能するガラス基板において、同一の電気信号を駆動用圧電体に供給した時に座屈変形方向が同一になる撓み変形が複数の個所に同様に生じて、吐出性能が向上する、インクジェットヘッドの製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明のインクジェットヘッドの製造方法は、シリコン基板に、圧力室を含むインク流路となる溝を形成する工程と、シリコン基板の溝が形成された面を覆うようにガラス基板を接合する工程と、ガラス基板を薄片化する工程と、ガラス基板を熱処理して軟化させ、溝の圧力室になる部分に対向する部分を、圧力室の内側に向かって凸状または凹状に変形させる工程と、ガラス基板の、溝の圧力室になる部分に対向する部分に、下電極、圧電体、および上電極を順次積層する工程とを含むことを特徴とする。シリコン基板とガラス基板は、熱膨張係数の近い材質からなり、陽極接合されるのが好ましい。ガラス基板を薄片化する工程と、ガラス基板を熱処理して変形させる工程は、どちらが先に行われても構わない。
【０００９】
この方法によると、ガラス基板を熱処理して軟化させた際に、ガラス基板自身の重力または周囲のガスの圧力差を利用して、ガラス基板の複数の個所に、または複数のガラス基板に、同様な塑性流動変形を生じさせることができる。すなわち、同様な形状の変形部分を一度に多数形成することができ、再現性がよい。これによって、圧電体に同一の電力供給を行うと、ガラス基板は一様な変形状態になるため、所望のインク吐出特性が得られる。
【００１０】
そして、ガラス基板の変形量は、塑性流動速度に関係する温度および時間によって制御することができるため、ガラス基板を任意の形状に形成できる。しかも、ガラス基板は非晶質であるため、広い温度範囲での塑性流動変形が可能なので、一定方向に変形させるための作業性が良く、さらに、等方的に塑性流動変形するので、微小な領域（微小面積）でのガラス基板の変形が容易である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１２】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法について、図１〜７を参照して説明する。まず、図１，２に示す完成状態のインクジェットヘッドの構成について説明すると、シリコン基板１に、硼珪酸ガラスからなるガラス基板１０が積層されており、シリコン基板１に設けられている溝によって両基板１，１０の間にインク流路が形成されている。インク流路は、インク室３と、細く絞られたオリフィス６と、圧力室７と、外部に開口する小径のノズル８が連続して設けられた構成であり、図示しないインク供給手段からのインクが、シリコン基板１を貫通するインク流入口２を介して流入する。ガラス基板１０は、薄片化されて振動板として機能し得るようになっている。本実施形態では、このガラス基板１０のうち、圧力室７に対向する部分が、圧力室７の内側に向かって凸状（図２の下方に向かって凸状）に変形している。このガラス基板１０の上面には、Ｐｔからなる下電極１３と、ＺｎＯからなる圧電体１４が積層形成され、さらに凸状部分１０ａの上方において圧電体１４の上面には、Ｐｔからなる上電極１５が積層形成されている。
【００１３】
次に、このインクジェットヘッドの製造方法について説明する。まず第１に、シリコン基板１に、インク流入口２を形成し、さらに、インク室３、オリフィス６、圧力室７、およびノズル８となる溝を、フォトリソグラフィ法およびエッチングによって形成する。そして、このシリコン基板１の接合面９に硼珪酸ガラスからなるガラス基板１０を陽極接合する（図３参照）。陽極接合した後、ガラス基板１０を、ダイヤモンドスラリーを用いたラッピング研磨で薄片化し、さらにポリッシング研磨を施して研磨面を平滑化する（図４参照）。この時点で、ガラス基板１０は平坦な形状になる。続いて、ガラス基板１０を、硼珪酸ガラスの軟化点以下の温度（６００℃）で熱処理して軟化させる。ガラス基板１０が軟化すると、下方から支持されていない、圧力室７の上方位置において、ガラス基板１０自身の自重で塑性流動を生じて、圧力室７の内側に向かって凸状になるように変形する（図５参照）。熱処理を終了してガラス基板１０を前記したような変形状態で固化させた後、ガラス基板１０の上面に、ＴｉおよびＡｌからなる図示しない中間層を介して、Ｐｔからなる下電極１３と、ＺｎＯからなる圧電体１４を成膜し、凸状部分１０ａの上方において圧電体１４の上面に、Ｐｔからなる上電極１５を成膜する（図６，７参照）。その後、ノズル８の前端の部分で両基板１，１０をディスコカットして、図１，２に示すようなインクジェットヘッドを完成させる。
【００１４】
本実施形態のインクジェットヘッドは、このような構成であるため、下電極１３および上電極１５に電力を適宜供給すると、圧電体１４が圧電変形して圧力室７の容積を変化させ、その内部のインクに圧力が加わる。この圧力によってインクがノズル８から外部に吐出する。すなわち、圧電体１４がインク吐出エネルギーを発生する駆動源として機能し、ガラス基板の１０の凸状部分１０ａが振動板として機能する。
【００１５】
本実施形態によると、ガラス基板１０の、圧力室７の上方にあたる部分（凸状部分１０ａ）は、予め自重により凸状に変形させられて、初期状態において変形状態に保たれている。従って、圧電体１４が駆動されて変形する際に、ガラス基板１０の撓み変形方向（座屈変形方向）は、初期状態の変形方向によって規定され、異なる変形方向に変形することはない。前記したインク流路を多数設けて多ノズルの構成にするなどのために、各インク流路の圧力室７に対向する部分のガラス基板１０を同時に変形させる場合に、熱処理によって同様な形状に、圧力室７の内側に向かって凸状に変形させることができる。それによって、各圧電体１４に同一条件で電力供給を行う際に、各インク流路における吐出性能を均一化させることができる。
【００１６】
なお、ガラス基板１０を、硼珪酸ガラスではなく、例えばソーダライムガラスやアルミノ珪酸ガラスで構成しても良い。また、ガラス基板１０と下電極１３の間の中間層は、導電性を有する金属膜であればよく、例えば、Ｉｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｂなどであってもよい。圧電体１４を、ＺｎＯではなく、例えば、水晶、ぺロブスカイト系結晶、タングステン系結晶、ウルツ鉱型結晶等から構成してもよく、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸バリウムナトリウム、ＡｌＮ、ＢｅＯ、ＣｄＳ、またはこれらの積層膜から構成するのが好ましい。また、本実施形態の圧電体１４を構成するＺｎＯの厚さは５μｍであるが、厚さを２〜５μｍにしてもよく、十分な圧電変形が得られるものであればよい。
【００１７】
本実施形態では、ガラス基板１０を塑性流動変形させるための熱処理（６００℃）を大気中で行ったが、これに限られず、真空雰囲気中で行ってもよい。さらに、ガスを注入してそのガス圧によって、ガラス基板１０を挟んで両側に圧力差を生じさせ、この圧力差でガラス基板１０に塑性流動変形を生じさせてもよく、本発明の意図するところに何ら変わるものではない。
【００１８】
［第２の実施形態］
次に、本発明の第２の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法について、図８〜図１２を参照して説明する。第１の実施形態と同様の部分については、同一の符号を付与し説明を省略する。
【００１９】
本実施形態のインクジェットヘッドは、図８，９に示すように、インク流入口２と連通するインク流路が、インク室３と、第１のオリフィス４ａと、第１の圧力室５ａと、第２のオリフィス４ｂと、第２の圧力室５ｂと、ノズル８が連続して設けられた構成である。そして、ガラス基板１１は、ＳＤ−２ガラス（登録商標：ＨＯＹＡ株式会社製品）からなり、圧電体１２は、厚さ１００μｍ程度のセラミックＰＺＴからなる。
【００２０】
本実施形態のインクジェットヘッドの製造方法について説明すると、まず、第１の実施形態と同様に、シリコン基板１の接合面９に、インク流入口２と前記したインク流路となる溝を形成し、その接合面９に前記したガラス基板１１を陽極接合する。陽極接合した後、ガラス基板１１を、ＳＤ−２ガラスの軟化点以下の温度（６５０℃）で熱処理して軟化させ、下方から支持されていない、第１の圧力室５ａおよび第２の圧力室５ｂの上方位置において、ガラス基板１１自身の自重で塑性流動を生じさせて、圧力室５ａ，５ｂの内側に向かって凸状になるように変形させる（図１０参照）。熱処理を終了してガラス基板１１を前記したような変形状態で固化させた後、ラッピング研磨で薄片化し、ポリッシング研磨で表面を平滑化する（図１１参照）。そして、ガラス基板１１の上面に、ＴｉおよびＡｌからなる図示しない中間層を介して、Ｐｔからなる下電極１３を成膜し、その上にセラミックＰＺＴ（バルク焼結体）からなる圧電体１２を導電性接着剤によって接着し、その圧電体１２をラッピング研磨およびポリッシング研磨によって薄片化する。そして、凸状部分１１ａ，１１ｂの上方において圧電体１２の上面に、Ｐｔからなる上電極１５を成膜する（図１２参照）。その後、ノズル８の前端の部分で両基板１，１１をディスコカットして、図８，９に示すようなインクジェットヘッドを完成させる。
【００２１】
本実施形態のインクジェットヘッドでも、下電極１３および上電極１５に電力を適宜供給すると、圧電体１２が圧電変形して圧力室５ａ，５ｂの容積を変化させて、内部のインクに圧力を加え、インクをノズル８から外部に吐出させる。ガラス基板１１の凸状部分１１ａ，１１ｂが振動板として機能する。そして、第１の実施形態と同様に、圧電体１２が駆動されて変形する際に、ガラス基板１１の撓み変形方向（座屈変形方向）は、初期状態の変形方向によって規定され、異なる変形方向に変形することはない。１つまたは複数のインク流路内の複数の圧力室５ａ，５ｂに対向する部分のガラス基板１１を同時に変形させる場合に、熱処理によって同様な形状に、圧力室５ａ，５ｂの内側に向かって凸状に変形させることができるため、各圧電体１２に同一条件で電力供給を行う際に、各インク流路における吐出性能を均一化させることができる。本実施形態のように１つのインク流路中に複数の圧力室５ａ，５ｂが含まれている構成では、本発明の製造方法は非常に効果的である。
【００２２】
また、本実施形態によると、ガラス基板１１の凸状部分１１ａ，１１ｂの上面が、曲面状ではなく平坦であるため、下電極１３，圧電体１２，上電極１５の成膜または接着が容易になり、それらの密着性が向上するとともに、電気配線など他部材との接続が容易になり信頼性が向上する。
【００２３】
なお、本実施形態の圧電体１２を構成するＰＺＴの厚さは１００μｍであるが、厚さを２００μｍ以下程度の範囲で任意に変更してもよく、いずれにしても十分な圧電変形が得られるものであればよい。
【００２４】
［第３の実施形態］
次に、本発明の第３の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法について、図１３〜１４を参照して説明する。第１，２の実施形態と同様の部分については、同一の符号を付与し説明を省略する。
【００２５】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、パイレックス（Pyrex）ガラス（登録商標：コーニング社製品）からなるガラス基板１６のうち、圧力室１７に対向する部分が、圧力室１７の内側に向かって凹状（図１３，１４の下方に向かって凹状）に変形している。
【００２６】
その製造方法について述べると、まず第１の実施形態と同様に、シリコン基板１の接合面９に、インク流入口２とインク流路となる溝を形成し、その接合面９にガラス基板１６を陽極接合した後、ガラス基板１６をラッピング研磨して薄片化し、ポリッシング研磨して表面を平滑化する。それから、シリコン基板１およびガラス基板１６を上下逆転させ、ガラス基板１６が鉛直下方に位置するように配置する。その状態で、パイレックスガラスの軟化点以下の温度で熱処理して軟化させ、シリコン基板１に固着されていない、圧力室１７に対向する位置において、ガラス基板１６自身の自重で塑性流動を生じさせて、圧力室１７の内側に向かって凹状になるように変形させる（図１３参照）。熱処理を終了してガラス基板１６を前記したような変形状態で固化させた後、シリコン基板１およびガラス基板１６の上下位置を元に戻し、ガラス基板１６の上面に、ＴｉおよびＡｌからなる図示しない中間層を介して、Ｐｔからなる下電極１３と、ＺｎＯからなる圧電体１４を順次成膜し、さらに、凹状部分１６ａの上方において圧電体１４の上面に、Ｐｔからなる上電極１５を成膜する（図１４参照）。その後、ノズル８の前端の部分で両基板１，１６をディスコカットして、インクジェットヘッドを完成させる。
【００２７】
本実施形態を第１の実施形態と比較すると、ガラス基板１６の変形方向が、圧力室１７に向かって凸状ではなく、圧力室１７に向かって凹状であり、圧力室１７の容積が大きくなっている点が異なっているが、それ以外の構成および製造方法は実質的に同じである。本実施形態におけるインク吐出動作や、作用および効果などは、第１および第２の実施形態と実質的に同様である。なお、このような構成のインクジェットヘッドでは、圧力室１７内のインクに圧力を加えることができるように圧力室１７の容積の変動ができればよいため、初期状態のガラス基板１６の変形方向はどちらでも構わない。必要とされる吐出性能や、製造工程の都合などを考慮して任意に設定することができる。また、第２の実施形態のように、インク流路中に複数の圧力室が含まれる構成において、本実施形態のようにガラス基板１６の変形方向を圧力室１７に向かって凹状にしても、同様な効果を奏することができる。
【００２８】
［第４の実施形態］
次に、本発明の第４の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法について、図１５〜図１７を参照して説明する。第１〜３の実施形態と同様の部分については、同一の符号を付与し説明を省略する。
【００２９】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、前記したＳＤ−２ガラスからなるガラス基板１８のうち、圧力室１９に対向する部分が、圧力室１９の内側に向かって凹状（図１５〜１７の下方に向かって凹状）に変形している。
【００３０】
その製造方法について述べると、まず第１の実施形態と同様に、シリコン基板１の接合面９に、インク流入口２とインク流路となる溝を形成し、その接合面９にガラス基板１８を陽極接合する。陽極接合した後、シリコン基板１およびガラス基板１８を上下逆転させ、ガラス基板１８が鉛直下方に位置するように配置する。その状態で、ＳＤ−２ガラスの軟化点以下の温度で熱処理して軟化させ、シリコン基板１に固着されていない、圧力室１９に対向する位置において、ガラス基板１８自身の自重で塑性流動を生じさせて、圧力室１９の内側に向かって凹状になるように変形させる（図１５参照）。熱処理を終了してガラス基板１８を前記したような変形状態で固化させた後、ガラス基板１８をラッピング研磨して薄片化し、ポリッシング研磨して表面を平滑化する（図１６参照）。それから、シリコン基板１およびガラス基板１８の上下位置を元に戻し、ガラス基板１８の上面に、ＴｉおよびＡｌからなる図示しない中間層を介して、Ｐｔからなる下電極１３と、ＺｎＯからなる圧電体１４を順次形成し、凹状部分１８ａの上方において圧電体１４の上面に、Ｐｔからなる上電極１５を成膜する（図１７参照）。その後、ノズル８の前端の部分で両基板１，１８をディスコカットして、インクジェットヘッドを完成させる。
【００３１】
本実施形態を第３の実施形態と比較すると、ガラス基板１８の熱処理工程を、ラッピング研磨およびポリッシング研磨の工程の前に行う点が異なっているが、それ以外の構成および製造方法は実質的に同じである。本実施形態におけるインク吐出動作や、作用および効果などは、第１〜第３の実施形態と実質的に同様である。また、第２の実施形態のように、インク流路中に複数の圧力室が含まれる構成において、本実施形態の製造方法を適用しても、同様な効果を奏することができる。
【００３２】
そして、本実施形態でも、第２の実施形態と同様に、ガラス基板１１の凹状部分１８ａの上面が、曲面状ではなく平坦であるため、下電極１３，圧電体１４，上電極１５の成膜が容易になり、それらの密着性が向上するとともに、電気配線など他部材との接続が容易になり信頼性が向上する。また、凹状部分１８ａが非常に薄くなっているので、圧電体１４に駆動される振動板として機能しやすくなっている。ひいては、動作効率の向上および消費電力の低減が図れる。
【００３３】
なお、ガラス基板１８はＳＤ−２ガラスからなるものに限られず、例えば、酸化シリコン、酸化ボロン、および酸化アルミニウムのうちの少なくとも一種類以上の構造イオンと、不純物イオンとを含むガラス基板であればよい。すなわち、ソーダライムガラス、ボロンシリケートガラス、アルミノ珪酸ガラス、バリウム硼珪酸ガラス、亜鉛硼珪酸ガラス等から構成されてもよく、インク流入口２およびインク流路が形成されるシリコン基板に熱膨張係数の近いガラスから構成されるのが好ましい。
【００３４】
図示しないが、以上説明した第１〜４の各実施形態のインクジェットヘッドを複数個用い、さらに、各インクジェットヘッドに付属する圧電体駆動回路と、インクジェットヘッドのノズル８に対して所望の間隔で被記録媒体を対向させるための支持部材と、入力される情報に応じてノズル８と被記録媒体との相対位置を変化させるための機構とを組み込んで記録装置を構成すると、高解像度および高速印字が可能で、従来と比較して低消費電力化および高密度化が可能になった。
【００３５】
前記した各実施形態において、圧電体は、水晶、ぺロブスカイト系結晶、タングステンブロンズ系結晶、あるいはウルツ鉱型結晶からなり、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、ニオブ酸リチウム、タンタンル酸リチウム、ニオブ酸バリウムナトリウム、ＺｎＯ、ＡｌＮ、ＢｅＯ、およびＣｄＳの膜、またはこれらの積層膜、あるいはこれらのバルク焼結体であることが好ましい。また、薄片化された後の、振動板として用いられる部分のガラス基板の厚さは、２〜２００μｍの範囲であることが好ましい。
【００３６】
【発明の効果】
本発明によると、圧力室の壁の１つになるガラス基板が、初期状態において一定の方向に変形しているため、インク吐出動作時に圧電体が駆動されると、ガラス基板は特定の方向に変形するので、圧力室に所望の容積変化を生じさせることができ、所望のインク吐出特性が得られる。特に、複数のインク流路が存在する場合に、全インク流路中の圧力室にそれぞれ一定の容積変化を生じさせることができるため、均一なインク吐出が可能になる。しかも、本発明の方法によると、一様な変形状態を一度に多数の部分にもたらすことができ、作業性が非常によい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態のインクジェットヘッドを示す平面図である。
【図２】図１のインクジェットヘッドのインク流路に沿う断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法において、シリコン基板にガラス基板を接合した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図４】図３のガラス基板を薄片化および平滑化した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図５】図４のガラス基板を軟化させて変形させた状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図６】図５のガラス基板上に下電極と圧電体と上電極を形成した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図７】図５のガラス基板上に下電極と圧電体と上電極を形成した状態の、インク流路に沿う断面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態のインクジェットヘッドを示す平面図である。
【図９】図８のインクジェットヘッドのインク流路に沿う断面図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法において、ガラス基板を軟化させて変形させた状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図１１】図１０のガラス基板を薄片化および平滑化した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図１２】図１１のガラス基板上に下電極と圧電体と上電極を形成した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図１３】本発明の第３の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法において、ガラス基板を軟化させて変形させた状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図１４】図１３のガラス基板上に下電極と圧電体と上電極を形成した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図１５】本発明の第４の実施形態のインクジェットヘッドの製造方法において、ガラス基板を軟化させて変形させた状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図１６】図１５のガラス基板を薄片化および平滑化した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【図１７】図１６のガラス基板上に下電極と圧電体と上電極を形成した状態の圧力室の部分を示す、インク流路に垂直な断面図である。
【符号の説明】
１      シリコン基板
２      インク流入口
３      インク室
４ａ，４ｂ，６      オリフィス
５ａ，５ｂ，７，１７，１９      圧力室
８      ノズル
９      接合面
１０，１１，１６，１８      ガラス基板
１０ａ，１１ａ，１１ｂ      凸状部分
１２，１４      圧電体
１３      下電極
１５      上電極
１６ａ，１８ａ      凹状部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2004209707.tif 000006
【図５】
2004209707.tif 000007
【図６】
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【図７】
2004209707.tif 000009
【図８】
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【図９】
2004209707.tif 000011
【図１０】
2004209707.tif 000012
【図１１】
2004209707.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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