(57)【要約】【課題】コンパクトかつ構造がシンプルで、処理ガス量が大きい吸着装置を提供する。【解決手段】吸着装置Ｘ１は、上部ガス通過口２と、下部ガス通過口３と、上部ガス通過口２と下部ガス通過口３との間の側壁１０に設けた中間ガス通過口４とを備える筒状の吸着塔１と、ガス透過性を有する第１および第２仕切部材５０，５１と、第１仕切部材５０と第２仕切部材５１との間を隔てて支持することによりガス通過空間部５´を形成するための複数の支持部材５２とを備えており、側壁１０の内面１０ａに沿って上下動可能で、かつ中間ガス通過口４とガス通過空間部５´とが連通するように設けられた仕切構造体５と、仕切構造体５の上下両側に充填された充填材と、を備える。【選択図】　図１
2004141767.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部ガス通過口と、下部ガス通過口と、前記上部ガス通過口と前記下部ガス通過口との間の側壁に設けた中間ガス通過口とを備える筒状の吸着塔と、
ガス透過性を有する第１仕切部材と、ガス透過性を有する第２仕切部材と、前記第１仕切部材と前記第２仕切部材との間を隔てて支持することによりガス通過空間部を形成するための複数の支持部材とを備えており、前記側壁の内面に沿って上下動可能で、かつ前記中間ガス通過口と前記ガス通過空間部とが連通するように設けられた仕切構造体と、
前記仕切構造体の上下両側に充填された充填材と、を備えていることを特徴とする、吸着装置。
【請求項２】
前記第１および第２仕切部材は、前記第１および第２仕切部材と前記側壁の内面との間における前記充填材の移動を防ぐためのシール材を備えるシール構造を有している、請求項１に記載の吸着装置。
【請求項３】
前記第１および第２仕切部材は、平板状金網、多孔板または平板状金網と多孔板との積層板からなる、請求項１または２に記載の吸着装置。
【請求項４】
前記充填材は、前記仕切構造体の上下各々で複数の層を形成し、
前記充填材の層は、前記仕切構造体の上下で対称となるように積層形成されている、請求項１〜３のいずれか１つに記載の吸着装置。
【請求項５】
前記充填材は、ガス分散用ボールからなる層と少なくとも１つの吸着剤からなる層とを形成している、請求項１〜４のいずれか１つに記載の吸着装置。
【請求項６】
上部ガス通過口と、下部ガス通過口と、前記上部ガス通過口と前記下部ガス通過口との間の側壁に上下に間隔をあけて設けた複数の中間ガス通過口とを備える筒状の吸着塔と、
ガス透過性を有する第１仕切部材と、ガス透過性を有する第２仕切部材と、前記第１仕切部材と前記第２仕切部材との間にガス通過空間部を形成するための複数の支持部材とを備え、かつ前記中間ガス通過口と前記ガス通過空間部とが連通するように設けられた前記側壁の内面に沿って上下動可能な複数の仕切構造体と、
前記各仕切構造体の上下両側に充填された充填材と、を備えていることを特徴とする、吸着装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、圧力変動吸着（ＰＳＡ）法または熱変動吸着（ＴＳＡ）法などを利用して、吸着剤に吸着し易いガスまたは吸着し難いガスを混合ガス中から分離、精製または濃縮するための吸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
混合ガス中に含まれる、たとえば窒素、酸素、水素、炭酸ガス、メタンおよび水分などのガスを分離、精製または濃縮する場合には、ＰＳＡ法またはＴＳＡ法を利用して、吸着剤を吸着槽内に充填した吸着装置がよく用いられる。このような従来の吸着装置の一例を図６に示す。
【０００３】
図６に示すように、吸着塔１０１は、上部ガス通過口１０２と下部ガス通過口１０３とを有している。吸着塔１０１の塔内部の下方には、貫通孔を複数形成した多孔板１５０ａが設けられ、この多孔板１５０ａの上面は、金網１５０ｂで覆われている。この上面が金網１５０ｂで覆われた多孔板１５０ａに対しアルミナ粒子層１０８、ゼオライト層１０７およびセラミックボール層１０６が各層間に金網１０９ａ，１０９ｂを介して積層形成されている。なお、このセラミックボール層１０６は、吸着層として形成されたアルミナ粒子層１０８およびゼオライト層１０７を構成する吸着剤が上昇するガス流れで流動化することを抑制するために設けられている。
【０００４】
このような吸着装置では、下部ガス通過口１０３から吸着塔１０１内に混合ガスを送り込むと、混合ガスは、多孔板１５０ａの貫通孔および金網１５０ｂを通り抜けてアルミナ粒子層１０８およびゼオライト層１０７に流れ込み、混合ガス中の所定のガス成分（たとえば、空気中の水蒸気と窒素）がアルミナ粒子層１０８およびゼオライト層１０７内の各吸着剤に選択的に吸着される。吸着されなかったガスは、セラミックボール層１０６を通り抜けて上部ガス通過口１０２から吸着塔１０１の塔外へ排出される。
【０００５】
このようにしてアルミナ粒子層１０８およびゼオライト層１０７に充填されている各吸着剤による所定ガス成分の吸着が飽和状態になった場合、混合ガスの供給を停止する一方、上部ガス通過口１０２から吸着塔１０１内にパージガスを送り込むことにより、各吸着剤に吸着された所定のガス成分を当該吸着剤から脱着させ、下部ガス排出口１０３から吸着塔１０１の塔外へ排出して回収する。以上の操作を繰り返し行うことにより、混合ガスから所定のガス成分を精製することができる。
【０００６】
このような構成の吸着装置において、吸着容量を高めたり、処理ガス量を大きくする方法として、充填高さを高くする方法または吸着剤床の床面積を大きくする方法などが考えられる。しかし、充填高さを高くする方法では、混合ガスが吸着剤を通過する際の抵抗が大きくなるため圧力損失が増大し、吸着処理に要する動力を大きくしなければ、処理速度を高くすることができない。また、吸着剤床の床面積を大きくする方法では、吸着装置の設置面積が大きくなり不利であるとともに、吸着剤層を通過するガスが偏流してしまう可能性も大きくなる。
【０００７】
消費動力や設置面積を大きくしなくとも処理ガス量を大きくできる吸着装置の一例としては、吸着塔内に垂直な吸着層を設け、吸着塔の側面より水平方向に混合ガスを流入することにより所要ガスの分離精製を行う装置が公知となっている。（例えば、特許文献１参照。）
【０００８】
【特許文献１】
特開平５−１４６６２４号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１において開示されている吸着装置において、吸着塔への吸着剤の充填は、当該吸着塔を横に倒して吸着塔の側面に設けられた吸着剤導入管より導入することにより行われる。そのため、吸着剤の導入が非常に手間であり、また吸着剤を均一に充填するために複数の吸着剤導入管が必要となりコスト的にも作業効率的にも不利である。加えて、吸着剤を充填後、吸着塔を垂直に設置して吸着操作を繰り返していくと、吸着剤層が圧縮されることになる。そのため、それにより生じる吸着塔頭部の空間をガスが通り抜けるのを防ぐべく、吸着塔頭部に加圧装置を伴うシール構造を設ける必要があり、構造が複雑である。さらに、実際に当該吸着装置を用いて混合ガスの分離精製を行う際、吸着塔の側面に設けられたガス導入口から導入された混合ガスが吸着剤層に対し均一に導入されるようにガス分配用コレクターを設けているが、装置構成上、ガス導入口およびガス導出口付近（吸着塔の高さ方向中央部）の方が吸着剤層に対しガスが流れ易い。そのため、吸着剤層に対して混合ガスの偏流が生じ、特に吸着剤層の上端部および下端部付近の吸着剤を十分に活用できないと考えられる。
【００１０】
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、上述したような問題がなく、コンパクトかつ構造がシンプルで、処理ガス量を大きくすることができる吸着装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、次の技術的手段を講じている。
【００１２】
すなわち、本発明の第１の側面によれば、吸着装置は、上部ガス通過口と下部ガス通過口と上部ガス通過口と下部ガス通過口との間の側壁に設けた中間ガス通過口とを備える筒状の吸着塔と、ガス透過性を有する第１仕切部材とガス透過性を有する第２仕切部材と第１仕切部材と第２仕切部材との間を隔てて支持することによりガス通過空間部を形成するための複数の支持部材とを備えており前記側壁の内面に沿って上下動可能で且つ中間ガス通過口とガス通過空間部とが連通するように設けられた仕切構造体と、仕切構造体の上下両側に充填された充填材と、を備えていることを特徴としている。
【００１３】
仕切構造体を設けることにより、吸着塔を２分割することになる。したがって、仕切構造体を設けていない同サイズの吸着塔と比較して混合ガスの処理を行う面積を２倍確保したのと同様の効果が得られるとともに、吸着塔自体の径を大きくしたのではないため、設置面積の増大や大きい径を有する吸着塔に生じ易いガスの偏流も防ぐことができる。つまり、コンパクトで、かつ処理ガス量が大きい吸着装置を提供することができる。さらに、仕切構造体で充填材を仕切ることにより、仕切り構造体の上下各々における充填材の充填高さを小さくできるので、吸着塔のほぼ全高さにわたって充填材による累積的流れ抵抗を受ける場合と比べ、充填材による流れ抵抗が低減される。
【００１４】
また、仕切構造体を上下動可能としたことで仕切構造体の自重および仕切構造体の上側に充填された充填材の重みにより仕切構造体が下方に移動可能である。そのため、仕切構造体の下側に充填された充填材が運転中の振動やガス流れなどで圧密状態になり、層が圧縮された場合でも、仕切構造体と仕切構造体の下側に充填された充填材との間に空間が形成されることを防ぐことができる。したがって、当該空間を生じないようにするために加圧装置などを別途設ける必要はなく、装置の構成が簡略化される。
【００１５】
さらに、吸着塔内の充填材は、たとえば吸着塔を垂直に設置した状態で上部ガス通過口から順に充填できる。そのため、充填材を充填する際に吸着塔を横に倒したり、吸着塔の側面に充填材を導入するための導入口を別途設けたりする必要がなく、コスト的にも作業効率的にも優れている。
【００１６】
好ましくは、第１および第２仕切部材は、第１および第２仕切部材と側壁の内面との間における充填材の移動を防ぐためのシール材を備えるシール構造を有している。
【００１７】
第１および第２仕切部材にシール材を備えたシール構造を設けたことにより、第１および第２仕切部材と側壁の内面との間の隙間を介しての充填材の移動を防ぐことが可能となる。したがって、より効果的に混合ガスの処理が行えるとともに、充填材の流出などの不具合を抑制することができる。なお、第１および第２仕切部材は、平板状金網、多孔板または平板状金網と多孔板との積層板からなることが好ましい。
【００１８】
好ましくは、充填材は、仕切構造体の上下各々で複数の層を形成し、前記充填材の層は、仕切構造体の上下で対称となるように積層形成されている。仕切構造体の上下で対称となるように充填材を積層形成することにより、仕切構造体の上下における充填材の充填状態の違い、つまり流れ抵抗の違いに起因するガスの片流れを抑制することができる。そのため、より効果的に混合ガスの処理を行うことができる。なお、充填材としては、ガス分散用ボールからなる層と少なくとも１つの吸着剤からなる層とを形成していることが好ましい。
【００１９】
本発明の第２の側面によれば、吸着装置は、上部ガス通過口と下部ガス通過口と上部ガス通過口と下部ガス通過口との間の側壁に上下に間隔をあけて設けた複数の中間ガス通過口とを備える筒状の吸着塔と、ガス透過性を有する第１仕切部材と、ガス透過性を有する第２仕切部材と、第１仕切部材と第２仕切部材との間にガス通過空間部を形成するための複数の支持部材とを備え、かつ中間ガス通過口とガス通過空間部とが連通するように設けられた側壁の内面に沿って上下動可能な複数の仕切構造体と、各仕切構造体の上下両側に充填された充填材と、を備えていることを特徴としている。
【００２０】
このような構成としたことにより、たとえば中間ガス通過口および仕切構造体を３つずつ設けた場合において、仕切構造体により吸着塔を４分割することになる。そのため、仕切構造体を設けていない同サイズの吸着塔と比較して混合ガスの処理を行う面積を４倍確保したのと同様の効果が得られるとともに、吸着塔自体の径を大きくしたのではないため、設置面積の増大や大きい径を有する吸着塔に生じ易いガスの偏流も抑制ことができる。したがって、コンパクトで、かつ処理ガス量がより大きい吸着装置を提供することができる。さらに、吸着塔を４以上に分割することにより、充填材の充填高さもより小さくできるので、充填材による流れ抵抗も低減される。
【００２１】
本発明のその他の利点および特徴については、以下に行う発明の実施形態の説明から、より明らかとなるであろう。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明の第１の実施形態に係る吸着装置Ｘ１を、図１および図２を参照して具体的に説明する。図１は、本発明の第１の実施形態を示す破断正面図であり、図２は、その要部拡大図である。なお、本実施形態においては、ＰＳＡ法またはＴＳＡ法により空気から酸素を製造するのに適した吸着装置として説明する。
【００２３】
図１に示したように、筒状をなす吸着塔１は、その上端に設けられた吸着塔１の内部と外部を連通させてガスを流す上部ガス通過口２と、当該吸着塔１の下端に設けられた吸着塔１の内部と外部を連通させてガスを流す下部ガス通過口３と、上部ガス通過口２と下部ガス通過口３との間の吸着塔１の側壁１０に設けられた中間ガス通過口４とを備えている。
【００２４】
本実施形態においては、上部ガス通過口２および下部ガス通過口３を混合ガスを導入するためのガス入口とし、中間ガス通過口４を吸着されなかったガスを塔外へ排出するためのガス出口として説明するが、中間ガス通過口４をガス入口、上部ガス通過口２および下部ガス通過口３をガス出口とすることも可能である。
【００２５】
図１に示したように、吸着塔１の内部には、仕切構造体５と、仕切構造体５の上下両側に充填材を充填して形成される第１充填材層６ａ，６ｂ、第２充填材層７ａ，７ｂおよび第３充填材層８ａ，８ｂと、第１ないし第３充填材層の各層間を仕切る仕切り体９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄとが、第１充填材層６ａ−仕切り体９ａ−第２充填材層７ａ−仕切り体９ｂ−第３充填材層８ａ−仕切構造体５−第３充填材層８ｂ−仕切り体９ｃ−第２充填材層７ｂ−仕切り体９ｄ−第１充填材層６ｂの順で積層するように設けられている。なお、仕切り体９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄとしては、平板状金網が好ましいが、後述する仕切り部材５０，５１と同様のものを用いてもよい。
【００２６】
仕切構造体５は、第１仕切部材５０と、第２仕切部材５１と、第１仕切部材５０と第２仕切部材５１との間を隔てて支持することによりガス通過空間部５´を形成するための複数の支持部材５２とを備えている。また、仕切構造体５は、側壁１０の内面１０ａに沿って上下動可能で、かつ中間ガス通過口４とガス通過空間部５´とが連通するように設けられている。なお、仕切構造体５が上下動しても中間ガス通過口４とガス通過空間部５´との連通状態を確保できるように、中間ガス通過口４の口径より第１仕切部材５０と第２仕切部材５１との間隔がある程度大きくなるようにガス通過空間部５´が形成されている。
【００２７】
第１および第２仕切部材５０，５１は、第３充填材層８ａ，８ｂとガス通過空間部５´とを仕切るために設けられており、上部ガス通過口２および下部ガス通過口３より導入された混合ガスが第３充填材層８ａ，８ｂならびに第１および第２仕切部材５０，５１を介してガス通過空間部５´に流入できるようにガス透過性を有している。この第１および第２仕切部材５０，５１としては、ガスの通過が良好で、かつ各充填材を通過させないものが好ましく、平板状金網、多孔板、あるいはこの平板状金網と多孔板との積層板などが挙げられる。
【００２８】
第１および第２仕切部材５０，５１には、シール構造５３が設けられている。
【００２９】
シール構造５３は、シール材５３ａと、押さえ部材５３ｂ，５３ｃと、ボルト５３ｄおよびナット５３ｅとを有して、構成されている。シール構造５３は、図２にその一例を示したように、多孔板５０ａおよび平板状金網５０ｂからなる第１仕切り部材５０の平板状金網５０ｂ側にシール材５３ａを載置した上で、多孔板５０ａ側および平板状金網５０ｂ側の両側から押さえ部材５３ｂ，５３ｃによって挟み、ボルト５３ｄおよびナット５３ｅを用いて固定することにより形成される。
【００３０】
シール材５３ａは、図２によく表れているように、たとえば第１仕切部材５０および第２仕切部材５１と側壁１０の内面１０ａとの間の隙間を介しての充填材の移動を防ぐために設けられており、その外径は、吸着塔１の側壁１０の内径より若干大きくすること（図２の二点鎖線参照）が効果的にシール効果を得る上で好ましい。また、図３（ａ），（ｂ）に示したように、仕切構造体５の上下動に関わらず圧力のかかる方向に対して、より効果的となるようにシール材５３ａが予めしなっている略Ｕ字型のものを用いてもよい。なお、シール材５３ａとしては、ゴム、合成樹脂、紙、ガラス繊維または木材などのうちから少なくとも１つを用いて構成されたものが挙げられる。
【００３１】
支持部材５２は、ロストル構造となるように第１仕切部材５０と第２仕切部材５１との間に設けられている。このロストル構造は、図４に一例として示したように、複数（図面上は４つ）の円筒状の支持部材５２と、この支持部材５２の内径より断面の外径が若干小さい複数（図面上は４つ）支持部材固定用突起５２ａをガス通過空間部５´形成側に設けた第１および第２仕切部材５０，５１とを、支持部材５２と支持部材固定用突起５２ａとの位置を合わせて組み合わせることにより形成されるが、このようなものに限らず、たとえば予め支持部材５２の一端を第１および第２仕切部材５０，５１のいずれか一方に固定するようにしてもよいし、支持部材５２の両端をそれぞれ第１および第２仕切部材５０，５１に固定するようにしてもよい。
【００３２】
第１充填材層６ａ，６ｂには、ガス分散用ボールとしてセラミックボールもしくは金属ボールが充填されている。第１充填材層６ｂは、充填されたガス分散用ボールの重みを利用して第２充填材層７ａ，７ｂおよび第３充填材層８ａ，８ｂに充填されている充填材が流動化するのを抑制することができる。第１充填材層６ａは、下部ガス通過口３から導入した混合ガスが仕切構造体５の上下における抵抗の違いによる片流れを抑制するために第１充填材層６ｂに相当する抵抗を得る目的で設けられている。
【００３３】
第２充填材層７ａ，７ｂには、アルミナ粒子が充填されている。アルミナ粒子の粒子径は、１〜５ｍｍであることが好ましい。粒子径が１ｍｍ未満の場合、圧力損失が大きくなるおそれがあり、粒子径が５ｍｍを超える場合、細孔への拡散速度が律速となり、吸着速度が遅くなるおそれがある。また、第３充填材層８ａ，８ｂには、ゼオライトが充填されている。ゼオライトの粒子径は、１〜５ｍｍであることが好ましい。粒子径が１ｍｍ未満の場合、圧力損失が大きくなるおそれがあり、粒子径が５ｍｍを超える場合、細孔への拡散速度が律速となり、吸着速度が遅くなるおそれがある。なお、第２充填材層７ａ，７ｂと第３充填材層８ａ，８ｂとは、ガスの流れ方向などに応じて充填順を入れ換えてもよい。
【００３４】
本実施形態において、ＰＳＡ法またはＴＳＡ法により空気から酸素を製造するのに適した吸着装置として説明したが、上述したものに限られず必要に応じて充填材の組み合わせを変えることなどにより、たとえば窒素、水素、炭酸ガス、メタン、水分などのガスの分離精製や濃縮などにも適用可能である。
【００３５】
以上のような構成を有する吸着装置Ｘ１においては、仕切構造体５を設けることにより、吸着塔１を上下両側に２分割することになる。したがって、仕切構造体５を設けていない同サイズの吸着塔と比較して混合ガスの処理を行う面積を２倍確保したのと同様の効果が得られるとともに、吸着塔１自体の径を大きくしたのではないため、設置面積の増大や大きい径を有する吸着塔に生じ易いガスの偏流も防ぐことができる。つまり、コンパクトで、かつ処理ガス量が大きい吸着装置とすることができる。加えて、仕切構造体５で充填材層６ａ，７ａ，８ａと充填材層６ｂ，７ｂ，８ｂとを仕切ることにより、仕切り構造体５の上下各々における充填材の充填高さを小さくできるので、吸着塔のほぼ全高さにわたって充填材による累積的流れ抵抗を受ける場合と比べ、充填材による流れ抵抗が低減される。また、仕切構造体５を上下動可能としたことで仕切構造体５の自重および各充填材層６ｂ，７ｂ，８ｂに充填された充填材の重みにより仕切構造体５が下方に移動可能である。そのため、各充填材層６ａ，７ａ，８ａが運転中の振動やガス流れなどで圧密状態になり、層が圧縮された場合でも、たとえば仕切構造体５と第３充填材層８ａとの間に空間が形成されることを防ぐことができる。したがって、当該空間を生じないようにするために加圧装置などを別途設ける必要はなく、装置の構成を簡略化することができる。さらに、吸着塔１内の各充填材層６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂの形成は、吸着塔１を垂直に設置した状態で上部ガス通過口２から順に充填材を充填することにより行うことができる。そのため、充填材を充填する際に吸着塔１を横に倒したり、吸着塔１の側面１０に充填材を導入する導入口を別途設けたりする必要がなく、コスト的にも作業効率的にも優れている。
【００３６】
第１および第２仕切部材５０，５１にシール構造５３を設けたことにより、第１および第２仕切部材５０，５１と側壁１０の内面１０ａとの間の隙間を介しての充填材の移動を防ぐことができる。したがって、より効果的に混合ガスの処理が行えるとともに、充填材の流出などの不具合を抑制することができる。また、シール構造５３を設けたことで、第１および第２仕切部材５０，５１と吸着塔１の側壁１０との間の寸法精度は厳密に要求されずに済む。
【００３７】
仕切構造体５の上下で対称となるように各充填材層６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂを積層形成することにより、仕切構造体５の上下における充填材の充填状態の違い、つまり流れ抵抗の違いに起因するガスの片流れを抑制することができる。そのため、より効果的に混合ガスの処理を行うことができる。
【００３８】
本発明の第２の実施形態に係る排ガス処理装置Ｘ２を、図５を参照して具体的に説明する。図５は、本発明の第２の実施形態を示す概略構成図である。この図においては、先に説明した吸着装置Ｘ１と同一または同種の部材または要素については、同一の符号を付してあり、それらのものについての重複説明は省略するものとする。
【００３９】
本実施形態において、図５に示したように、筒状をなす吸着塔１´は、上部ガス通過口２と、下部ガス通過口３と、上部ガス通過口２と下部ガス通過口３との間の吸着塔１の側壁１０に設けられた中間ガス通過口４ａ，４ｂ，４ｃとを備えている。
【００４０】
本実施形態においては、上部ガス通過口２、下部ガス通過口３および中間ガス通過口４ｂを混合ガスを導入するためのガス入口とし、中間ガス通過口４ａ，４ｃを吸着されなかったガスを塔外へ排出するためのガス出口とするが、上部ガス通過口２、下部ガス通過口３および中間ガス通過口４ｂをガス出口、中間ガス通過口４ａ，４ｃをガス入口とすることも可能である。
【００４１】
図５に示したように、吸着塔１´の内部には、仕切構造体５ａ，５ｂ，５ｃと、各仕切構造体５ａ，５ｂ，５ｃの上下両側に充填された第１充填材層６ａ〜６ｄと、第２充填材層７ａ〜７ｄと、第３充填材層８ａ〜８ｄと、第１ないし第３充填材層の各層間を仕切る仕切り体９ａ〜９ｈが、第１充填材層６ａ−仕切り体９ａ−第２充填材層７ａ−仕切り体９ｂ−第３充填材層８ａ−仕切構造体５ａ−第３充填材層８ｂ−仕切り体９ｃ−第２充填材層７ｂ−仕切り体９ｄ−第１充填材層６ｂ−仕切構造体５ｂ−第１充填材層６ｃ−仕切り体９ｅ−第２充填材層７ｃ−仕切り体９ｆ−第３充填材層８ｃ−仕切構造体５ｃ−第３充填材層８ｄ−仕切り体９ｇ−第２充填材層７ｄ−仕切り体９ｈ−第１充填材層６ｄの順で積層するように設けられている。
【００４２】
以上のような構成を有する吸着装置Ｘ２においては、仕切構造体５ａ，５ｂ，５ｃにより、吸着塔１´を４分割することになる。したがって、仕切構造体５ａ，５ｂ，５ｃを設けていない同サイズの吸着塔と比較して混合ガスの処理を行う面積を４倍確保したのと同様の効果が得られるとともに、吸着塔１´自体の径を大きくしたのではないため、設置面積の増大や大きい径を有する吸着塔に生じ易いガスの偏流も防ぐことができる。つまり、コンパクトで、かつ処理ガス量がより大きい吸着装置とすることができる。さらに、吸着塔１´を４分割することにより、充填材の充填高さも小さくできるので、充填材による流れ抵抗も低減される。
【００４３】
本実施形態において、仕切構造体５ａ，５ｂ，５ｃおよび中間ガス通過口４ａ，４ｂ，４ｃを設け、吸着塔１´を４分割した場合の吸着装置Ｘ２において説明したが、上述したものに限られず、吸着塔は、仕切構造体を用いて６以上の偶数個に分割することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかる吸着装置の破断正面図である。
【図２】図１の要部拡大図、図中の鎖線は、本発明の第１の実施形態にかかる吸着装置を構成する吸着塔の側面に接していない場合の状態を表す。
【図３】図１の要部拡大図である。
【図４】本発明の第１の実施形態にかかる吸着装置を構成する仕切構造体の分解斜視図および組立斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施形態にかかる吸着装置の破断正面図である。
【図６】従来の吸着装置の破断正面図である。
【符号の説明】
Ｘ１，Ｘ２　　　　　　吸着装置
１，１´　　　　　　　吸着塔
２　　　　　　　　　　上部ガス通過口
３　　　　　　　　　　下部ガス通過口
４，４ａ，４ｂ，４ｃ　中間ガス通過口
５，５ａ，５ｂ，５ｃ　仕切構造体
５´　　　　　　　　　ガス通過空間部
６ａ〜６ｄ　　　　　　第１充填材層（ガス分散用ボールからなる層）
７ａ〜７ｄ　　　　　　第２充填材層（吸着剤からなる層）
８ａ〜８ｄ　　　　　　第３充填材層（吸着剤からなる層）
９ａ〜９ｈ　　　　　　仕切り体
１０　　　　　　　　　（吸着塔１の）側壁
１０ａ　　　　　　　　（側壁１０の）内面
５０　　　　　　　　　第１仕切部材
５０ａ　　　　　　　　多孔板
５０ｂ　　　　　　　　平板状金網
５１　　　　　　　　　第２仕切部材
５２　　　　　　　　　支持部材
５２ａ　　　　　　　　支持部材固定用突起
５３　　　　　　　　　シール構造
５３ａ　　　　　　　　シール材
５３ｂ，５３ｃ　　　　押さえ部材
５３ｄ　　　　　　　　ボルト
５３ｅ　　　　　　　　ナット
１０１　　　　　　　　吸着塔
１０２　　　　　　　　上部ガス通過口
１０３　　　　　　　　下部ガス通過口
１０６　　　　　　　　セラミックボール層
１０７　　　　　　　　ゼオライト層
１０８　　　　　　　　アルミナ粒子層
１０９ａ，１０９ｂ　　金網
１５０ａ　　　　　　　多孔板
１５０ｂ　　　　　　　金網
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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