(57)【要約】【課題】基板（ワーク）の静電気の発生を防止する液滴吐出装置、この液滴吐出装置によって製造された電気光学装置と、この電気光学装置の製造方法および電子機器とを提供する。【解決手段】基板５が載置吸着される基板吸着テーブル３と、基板５上に設けられた基準マークの平面方向位置を検出するカメラユニット１０６とが設けられる基板搭載移動装置１００と、機能液を液滴吐出ヘッド１１１に供給する機能液装置１５０と、前記機能液を基板５に吐出する液滴徒吐出ヘッド１１１を有するヘッド搭載移動装置２００と、カメラユニット１０６の検出結果に基づき前記ヘッド搭載移動装置を制御する制御装置１６とを備え、基板吸着テーブル３が導電性材料で形成され接地されていることを特徴とする液滴吐出装置１と、この液滴吐出装置によって製造された電気光学装置、電気光学装置の製造方法およびこの電気光学装置を備える電子機器を提供する。【選択図】    図２
2004358331.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が載置される基板吸着テーブルと、前記基板に設けられた基準マークを検出する光学検出装置とが設けられる基板搭載移動装置と、
機能液を液滴吐出ヘッドに供給する機能液装置と、
前記機能液を前記基板に吐出する液滴吐出ヘッドを有するヘッド搭載移動装置と、
前記光学検出装置の検出結果に基づき前記ヘッド搭載移動装置を制御する制御装置とを備え、
前記基板吸着テーブルが導電性材料で形成され、基板搭載移動装置に接地されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記基板吸着テーブルが鉄系材料で形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項１ないし請求項２のいずれかに記載の液滴吐出装置において、
前記基板吸着テーブルの基板吸着面に、光が吸収され、且つ、導電性材料から成る皮膜が形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液滴吐出装置において、
前記皮膜が黒クロムめっきであることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載の液滴吐出装置において、
前記基板吸着テーブルの基板吸着面に光を乱反射する乱反射層が形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の液滴吐出装置において、
前記基板吸着テーブルの基板吸着面に乱反射層が形成され、且つ、該乱反射層表面に黒クロムめっき層が形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする前記電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出装置、この液滴吐出装置によって製造された電気光学装置、電気光学装置の製造方法およびこの電気光学装置を備える電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、カラーフィルターなどの製造装置として液滴吐出装置が使用されている。これら液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、カラーフィルターなどは高精度に描画されることが求められるために、基板のようなワークと液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドとの位置を正確に制御することが必要になっている。
そのために、例えば、カラーフィルター基板を基板吸着テーブル上に載置、吸引固定し、カラーフィルター基板に設けられた基準マーク（アライメントマーク）からの反射光を光学検出装置、例えばＣＣＤカメラ等で検出し、その検出結果に基づいて液滴吐出ヘッドの位置を基板に対して制御してカラーフィルター基板上に描画する液滴吐出装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−２５８０２６号公報（第５〜第６頁、図１、図２）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
カラーフィルター基板と液滴吐出ヘッドの位置を正確に制御するために、カラーフィルター基板上に設けられた基準マーク（アライメントマーク）を光学系検出装置（ＣＣＤカメラなどを含む）で検出して、その検出結果に基づき液滴吐出ヘッドを制御することにより、機能液の液滴（カラーフィルターの場合は、Ｒ，Ｇ，Ｂのインク）を正確にカラーフィルター基板の所定位置に着弾させなければならない。
このような液滴吐出装置においては、カラーフィルター基板の搬送工程や液滴吐出工程等で、カラーフィルター基板表面に静電気が発生することがある。
しかしながら、このような特許文献１では、アライメントマークを検出する場合に、基板吸着テーブルから反射された光が光学系検出装置（ＣＣＤカメラ）にも入射され、アライメントマークからの反射光と重なり、正確にアライメントマークを検出できないという課題や、基板表面に発生した静電気により、基板に形成された電気素子が破壊されてしまうことが考えられた。
【０００５】
本発明の目的は、高精度の液滴吐出と基板（ワーク）の静電気の発生を防止しと、基板吸着面からの反射光を吸収または乱反射される層を設けることにより、画像処理の安定性を両立する液滴吐出装置、この液滴吐出装置によって製造された電気光学装置と、この電気光学装置の製造方法および電子機器とを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の液滴吐出装置は、基板が載置吸着される基板吸着テーブルと、前記基板上に設けられた基準マークの平面方向位置を検出する光学検出装置とが設けられる基板搭載移動装置と、機能液を液滴吐出ヘッドに供給する機能液装置と、前記機能液を前記基板に吐出する液滴徒吐出ヘッドを有するヘッド搭載移動装置と、前記光学検出装置の検出結果に基づき前記ヘッド搭載移動装置を制御する制御装置とを備え、前記基板吸着テーブルが導電性材料で形成され、接地されていることを特徴とする。
ここで、液滴吐出装置としては、インクジェット描画装置を採用することができる。
【０００７】
この発明によれば、基板吸着テーブルが導電性材料で形成され、接地されているので、基板表面や、基板吸着テーブルに発生する静電気の発生を防止、または除去することができるので、静電気によって基板に形成された電気素子（例えば、トランジスタ、コンデンサ、ダイオードなど）が破壊されることを防止することができる。
また、基板表面の静電気が除去されているので、液滴が吐出された際に、静電気が液滴に影響することがないので正確な位置に液滴を基板に着弾させることができる。
【０００８】
本発明の液滴吐出装置は、前記基板吸着テーブルが導電性材料で形成されている。導電性材料としては、例えば、銅系材料やアルミニウム系材料も考えられるが、鉄系材料で形成されていることが好ましい。
基板吸着テーブルは、描画精度を高めるために、高精度に形成されていることが求められる。
この発明によれば、基板吸着テーブルが鉄系材料で形成され、導電性を有しており接地されているので、基板表面の静電気の発生防止や除去が可能となる。また、鉄系材料であれば加工しやすく、高精度に仕上げることができ、また機械的強度も高いので他の材料よりも薄くすることができ軽量化にも効果があり、特に大型基板の液滴吐出装置には効果がある。
鉄系材料としては、例えば、軟鋼が採用される。
【０００９】
本発明では、前記基板吸着テーブルの基板吸着面に、光が吸収され、且つ、導電性材料から成る皮膜が形成されていること好ましい。
このような構成によれば、基板に設けられた基準マーク（アライメントマーク）を光学検出装置（例えば、ＣＣＤカメラ）にて検出する際に、基板吸着面に照射された光が皮膜によって吸収されるため、基板吸着テーブルの基板吸着面からの反射光がアライメントマークからの反射光に重なることが防止され、基準マークを正しく認識することができる。
また、この皮膜は、鉄系材料表面に導電性材料で形成されているために、基板表面の静電気の発生防止や除去が可能できるので基板に形成された電気素子が静電気により破壊されることを防止することができる。
【００１０】
本発明によれば、前記基板吸着テーブルの基板吸着面に形成される前記皮膜が黒クロムめっきであることが望ましい。
基板吸着面に形成される皮膜は、導電性があり、光が吸収される材料が求められる。この皮膜材料は、黒クロムめっきとされる。黒クロムめっき皮膜は、黒色を呈しており光の反射防止性、光選択吸収性があることが知られている。また、電気的な導電性があることも知られている。
このような黒クロムめっきの皮膜が形成されているために、上述のアライメントマークを正確に認識し液滴吐出ヘッドを正確に制御することができるうえ、基板表面の静電気を除去し基板に形成された電気素子の破壊を防止することができる。
【００１１】
本発明の液滴吐出装置は、前記基板吸着テーブルの基板吸着面が、光を乱反射する乱反射層が形成されていることが好ましい。
基板吸着面には、例えば、サンドブラスト、ショットピーニングや化学研磨などの凹凸処理がなされる。これらの処理によって基板吸着面が細かい凹凸目が形成されるため、この凹凸面に照射された光が乱反射される。このことにより、基板のアライメントマークのみが光を正反射するので、アライメントマークを正確に認識することができる。
また、基板吸着テーブルは鉄系材料で形成されているので、静電気を除去し基板に形成された電気素子の破壊を防止することができる。
【００１２】
本発明によれば、前記基板吸着テーブルの基板吸着面に乱反射層が形成され、且つ、該乱反射層表面に黒クロムめっき層が形成されていることが望ましい。
このような構成によれば、基板吸着面には、凹凸に形成された乱反射層と、さらに、その表面は黒クロムめっき層が形成されているので、基板吸着面からの反射光が吸収され、または乱反射されることにより一層、アライメントマークの正しい認識ができ、静電気による基板上に形成された電気素子の破壊を防止することができる。
【００１３】
本発明の電気光学装置は、前述したような液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
このような液滴吐出装置で製造された電気光学装置は、例えば液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置であって、基板吸着テーブルが導電性材料で形成され、または光が吸収される被覆や光の乱反射層が形成されているので、基板上に形成された電気素子が静電気によって破壊されることが防止され、また、アライメントマークを正確認識ができるため高精度な描画が施された高品質の電気光学装置を提供することができる。
【００１４】
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
このような製造方法で製造された基板の例えば、機能パターン等を高い精度で描画することができ、かつ、安定した品質の電気光学装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の液滴吐出装置の電気光学装置を備えることを特徴とする。
このことにより、基板の機能パターン等が高い精度で、かつ、安定した品質の電気光学装置を備える高性能の電子機器を提供することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態の液滴吐出装置を図面に基づいて説明する。
図１〜図３には本実施形態の液滴吐出装置１が示されている。
図１は本実施形態の液滴吐出装置の斜視図、図２は図１の矢印Ａ方向から視認した液滴吐出装置の側面図を示す。図３は、液滴吐出装置の平面図を示す。
図１〜図３において、これらの図に示す液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１は、ワークとしての基板５に対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルターや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができるものである。液滴吐出装置１が対象とする基板５の素材は、特に限定されず、板状の部材（ワーク）であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。
【００１６】
また、本発明で対象とする基板（ワーク）は、板状の部材に限らず、底面が平らな部材であればいかなるものでもよい。例えば、本発明は、レンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。また、本発明は、比較的大型の基板（例えば、長さ、幅がそれぞれ数十ｃｍ〜数ｍ程度のもの）にも対応することができる比較的大型の液滴吐出装置１に特に好ましく適用することができる。
【００１７】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、基板が載置吸着固定される基板吸着テーブル３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、給液タンク、排液タンクおよび再利用タンクを備えたタンクユニット１３と、基板５表面の静電気を除去するイオナイザー１４と、制御装置１６と、ドット抜け検査ユニット１９とを備えている。
【００１８】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルター材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルジョン等の分散液を含む）とすることができる。
・有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）装置における金属配線を形成するための液状金属材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板５の表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料など。
【００１９】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１の上には、基板吸着テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板吸着吸着テーブル３は、リニアモータ１０１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板５は、基板吸着テーブル３上に載置される。液滴吐出装置１では、基板吸着テーブル３と同程度の大きさの比較的大型の基板５から、基板吸着テーブル３より小さい比較的小型の基板５まで、様々な大きさおよび形状の基板５を対象にすることができる。基板５は、原則としては基板吸着テーブル３と中心を一致させるように位置決めした状態で液滴吐出動作をすることが好ましいが、比較的小型の基板５の場合には、基板吸着テーブル３の端に寄せた位置に位置決めして液滴吐出動作をしてもよい。
【００２０】
図１に示すように、基板吸着テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板５に対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出（フラッシング）された吐出液滴を受ける描画前フラッシングユニット１０４が設置されている。描画前フラッシングユニット１０４には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００２１】
また、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ１０２が、基板吸着テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、サーボモータ１０３の駆動により、メインキャリッジ１０２とともにＸ軸方向に前進・後退する。
これらヘッドユニット１１、メインキャリッジ１０２、サーボモータ１０３がヘッド搭載移動装置２００（図２に示す）とされる。
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は基板吸着テーブル３をＹ軸方向に移動しつつ、リニアスケール（図示せず）を用いて生成した吐出タイミングに基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の駆動（吐出液滴の選択的吐出）を行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）のＸ軸方向への移動により行われる。
【００２２】
また、装置本体２には、基板５上に吐出された液滴を半乾燥させるブロー装置（図示せず）が設置されている。ブロー装置は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズルを有しており、基板５を基板吸着テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズルより基板５へ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、Ｙ軸方向に互いに離れた個所に位置する２個のブロー装置が設けられている
【００２３】
メンテナンス装置１２は、架台２１の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするワイピングユニット１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット１２３とを有している。
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、ワイピングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、ワイピングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、ワイピングおよび定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００２４】
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止し、ノズル詰まりを回復（解消）することができる。
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
【００２５】
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通ってタンクユニット１３に設置された再利用タンク内に流入し貯留される。この貯留された液体は、回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
クリーニングユニット１２２は、洗浄液を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。定期フラッシングユニット１２３は、ヘッドユニット１１の待機時のフラッシングに使用されるものであり、液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した吐出液滴を受けるものである。定期フラッシングユニット１２３には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００２６】
ドット抜け検出ユニット１９は、基板吸着テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１のノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各ノズルから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１９は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしているノズルの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１９が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００２７】
タンクユニット１３には、前述したキャッピング時に回収された吐出液を貯留する再利用タンクと、描画前フラッシングおよび定期フラッシングで回収された吐出液を貯留する排液タンクのほか、液滴吐出ヘッド１１１へ供給される吐出液を貯留する給液タンクや、ワイピングユニット１２２へ供給される洗浄液を貯留する給液タンクなどがそれぞれ設置されている。各給液タンク内は、液滴吐出装置１の近傍に設置された図示しない加圧気体供給源から供給された例えば窒素ガス等の加圧気体により加圧され、この圧力によって、吐出液および洗浄液が送出される。
これら機能液を回収し、貯留し、液滴吐出ヘッドに供給される装置およびユニットを含めて機能液装置とされる。
【００２８】
このような液滴吐出装置１は、好ましくは、チャンバ装置９により、温度および湿度の管理がなされた環境下に置かれている。チャンバ装置９は、液滴吐出装置１を収納し、温度調整装置を備えている。温度調整装置は、公知のエアーコンディショナー装置を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（温調空気）を生成する。この温調空気は、導入ダクトを通ってチャンバ装置内に送り込まれる。
このようなチャンバ装置９によって液滴吐出装置１の周囲の温度および湿度が管理されることにより、温度変化による基板５や装置各部の膨張・収縮が原因となって誤差が生じるのを防止することができ、基板５上に吐出液滴によって描画（形成）されるパターンの精度をより高くすることができる。また、タンクユニット１３も温度および湿度が管理された環境に置かれるので、吐出液の粘度等も安定し、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高精度に行うことができる。また、チャンバ装置９内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、基板５を清浄に維持することができる。
なお、チャンバ装置９内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
【００２９】
チャンバ装置９の外部には、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する制御装置（制御手段）１６が設置されている。制御装置１６は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有しており、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する。
【００３０】
架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。基台２２は、その上面は、高い平面度を有している。この基台２２により、周囲の環境条件や振動等の影響を防ぎ、基板吸着テーブル３およびヘッドユニット１１が高精度に移動することができる。
【００３１】
基台２２の上には、Ｙ軸方向移動機構としてのリニアモータ１０１およびエアスライダ（図示せず）が設置されている。基板吸着テーブル３は、エアスライダによりＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ１０１の駆動によりＹ軸方向に移動する。また、基板吸着テーブル３の下部には、θ軸回転機構１０５が設けられており、これにより、基板吸着テーブル３は、基板吸着テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。これら基板吸着テーブル３を含み、リニアモータ１０１、θ軸回転機構１０５と後述する光学検出装置が基板搭載移動装置とされる。
また、図４に示すように、基板吸着テーブル３には、載置された基板５を吸着して固定するための複数の吸引溝３１５（図５、図６）が形成されている。
【００３２】
図２に示すように、基板吸着テーブル３の上方には、梁２４に光学検出装置としてのカメラユニット１０６が設置されている。カメラユニット１０６には、基板５の所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラ１０７が設置されている。認識カメラ１０７は、カメラユニット１０６から横手方向に支持されている。認識カメラ１０７はＣＣＤカメラとされる。この認識カメラで基板５に設けられたアライメントマークを認識して、ヘッドユニット１１の位置を制御して基板５に所定の描画を正確に行うのである。なお、認識カメラ１０７は、他の用途に用いてもよい。
【００３３】
図４は、図１、図３に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニット１１の構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図４に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００３４】
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の液滴吐出ヘッド１１１で構成してもよい。また、メインキャリッジ１０２に複数のヘッドユニット１１が設置されていてもよい。
【００３５】
ここで、制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。後述する基板位置決め装置の作動により基板吸着テーブル３上に基板５が所定の位置に位置決め（プリアライメント）して載置されると、基板吸着テーブル３の各吸引溝３１５からのエアー吸引により、基板５は、基板吸着テーブル３に吸着・固定される。次いで、認識カメラ１０７が基板５の所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、ヘッドユニット１１に設けられた液滴吐出ヘッド１１１が基板５のアライメントマークに対応した位置補正、角度補正が行われる。
【００３６】
以上のような液滴吐出ヘッド１１１と基板５のアライメント作業が完了すると、基板吸着テーブル３の移動により基板５を主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板５への選択的な液滴吐出動作を行う。このとき、液滴吐出動作は、基板吸着テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板吸着テーブル３を複数回往復させて、液滴吐出動作を複数回繰り返し行ってもよい。以上の動作により、基板５上の、所定の幅（ヘッドユニット１１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って伸びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【００３７】
その後、メインキャリッジ１０２を移動させることにより、ヘッドユニット１１１を前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させる。この状態で、前述した動作と同様に、基板５を主走査方向に移動させつつ、液滴吐出ヘッド１１１から基板５への選択的な液滴吐出動作を行う。そして、この領域への液滴吐出動作が終了し後、ヘッドユニット１１１をさらに前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させた状態として、基板５を主走査方向に移動させつつ、同様の液滴吐出動作を行う。これを、数回繰り返すことで、基板５の全領域に液滴吐出が行われる。このようにして、液滴吐出装置１は、基板５上に所定のパターンを形成（描画）する。
【００３８】
図２において、基板５上に所定のパターンが形成（描画）されると、基板吸着テーブル３に穿設されたリフト孔３１１を貫通して合成樹脂製のリフト１２５が基板５を押し上げ、基板吸着テーブル３から基板５を分離して除材される。基板５が除材されると、リフト１２５は基板吸着テーブル３の基板５の載置面よりも突出しない位置まで復帰する。
【００３９】
次に、基板吸着テーブル３について、図５、図６を用いて説明する。
図５は、基板吸着テーブル３の平面図である。図６は、基板吸着テーブル３の要部側面図である。
基板吸着テーブル３は、略矩形をした板状部材であり、本実施形態では軟鋼で形成されている。この基板吸着テーブル３の外形は、基板５の外形よりも大きく設定されている。基板吸着テーブル３には、略四角形のリフト孔３１１が複数穿設され（図面では６個）、このリフト孔３１１には、合成樹脂製のリフト１２５が挿通されている。リフト１２５は一端が基板５の裏面に当接しており、基板５に対して進退可能である。
リフト孔３１１の外側には、略円形の孔３１２が基板５の外周方向に複数の孔が穿設されている。この孔３１２は、図示しないが、基板吸着テーブル３に対して本体側方向から液滴吐出ヘッドに設けられたヘッドアライメントマークを認識するための認識カメラの覗き孔となっている。この孔３１２は、図６では４個設けられているが、２個あればヘッドアライメントマークの位置、角度認識ができる。この際，認識カメラが、基板吸着テーブル３に搭載され、基板吸着テーブル３と共に移動しヘッドアライメントマークを２箇所以上検出すれば、孔３１２はひとつでもよい。
ヘッドアライメントマークをこの認識カメラで認識して、液滴吐出ヘッド１１１の位置、角度を検出するものである。
【００４０】
また、基板吸着テーブル３には、基板吸着テーブル３を移動台１２４に固定するための複数の固定孔３１３が穿設されている。基板吸着テーブル３は、螺子（図示しない）をこの固定孔３１３に挿入して螺合されるが、この螺子の螺子頭部分が基板吸着テーブル３の表面から突出しないようにザグリ穴３１４が設けられている。
さらに、基板５側表面には、それぞれが連結された幅２ｍｍ、深さ１ｍｍ程度の溝３１５が形成されている。この溝３１５の一部に、基板吸着テーブル３を断面方に貫通する吸着孔３１６がやはり複数個設けられている。これら吸着溝３１５、吸着孔３１７は前述したように、基板５を基板吸着テーブル３に真空吸着するためのものである。この吸着溝３１５の形状、吸着孔３１６の数、径は、基板５の大きさ、材質等により任意に設定することができる。
【００４１】
この基板吸着テーブル３の裏面側（基板５とは反対側）には、略長方形の凹部３１６が複数設けられている。これは、本実施形態の基板吸着テーブル３が軟鋼で形成されているので、裏面側の機能的に関係のない位置に凹部３１７を設けることで、基板吸着テーブル３が軽量化できるように配慮して設けられたものである。
基板吸着テーブル３は、導電性部材である軟鋼で形成されており、基板５と基板吸着テーブル３、基板吸着テーブル３と装置本体２とは接地され他関係にある。
【００４２】
この第１実施形態では、基板吸着テーブル３が導電性材料（軟鋼）で形成され接地されているので、基板５の表面や、基板吸着テーブル３に発生する静電気の発生を防止、または除去することができる。このことによって、静電気で基板に形成された電気素子（例えば、トランジスタ、コンデンサ、ダイオードなど）が破壊されたり劣化することを防止することができる。
この液滴吐出装置２には、基板５とヘッドユニット１１の近傍にはイオナイザ１４が設置されている。このイオナイザ１４は、基板５の描画面の静電気を除去することができる。しかし、基板５の裏面と基板吸着テーブル３との間に発生する静電気の除去は困難である。本実施形態の如く基板吸着テーブル３が導電性材料で形成されていることによって、基板５の裏面側の静電気も除去できるため、先述したような効果が得られる。
【００４３】
従って、本実施例のような液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置も、基板５に形成された電気素子が描画過程で静電気によって破壊されたり、劣化されることがなく、歩留まりが向上し、高品質の電気光学装置が得られる。
また、このように製造された電気光学装置が搭載された高品質の電子機器を提供することができる。
また、基板表面（表裏面とも）の静電気が除去されているので、液滴が吐出された際に、静電気が液滴の方向を変える（飛行曲がり）ようなことがないので正確な位置に液滴を基板に着弾させることができる。
【００４４】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態は、基板吸着テーブル３の表面構造が異なるのみで、液滴吐出装置１の構成は第１実施形態と同じであるため、基板吸着テーブル３のみについて説明する。
図７は、基板吸着テーブル３と光学検出ユニットであるカメラユニット１０６に備えられた認識カメラ１０７とを模式的に示した図面である。
図７において、基板吸着テーブル３の上面に基板５が載置され、上方から、カメラユニット１０６で、基板５に光沢のあるクロムなどで形成されたアライメントマーク５０１が認識される。カメラユニット１０６は、アライメントマーク５０１を認識するための光源１１０と認識カメラ（ＣＣＤ）１０７とを備える。
【００４５】
基板吸着テーブル３の基板５を載置する面には、黒クロムめっきの皮膜３２０が形成されている。黒クロムめっきのめっき皮膜電着物組成は、クロムの低級酸化物を含有しており、反射防止性、光選択吸収性に優れ、０．３μｍ〜２．５μｍの波長領域の光を吸収し、２．５μｍ以上の赤外線の放射が極めて少ない材料とされる。
【００４６】
従って、光源１１０から照射された光（イ）は、アライメントマークで反射され、この反射光（ロ）が認識カメラ１０７で認識される。アライメントマーク５０１以外の場所に照射された光は、基板５が光透過基板（例えば、ガラス）のような場合、基板５を透過し基板吸着テーブルまで達し、この黒クロムめっきの皮膜３２０の層で吸収される。そのため、コントラストが高く、正確にアライメントマーク５０１を認識することができる。この認識結果に基づき、制御装置１６で、ヘッドの位置、角度を制御する。このことで精度の高い描画がなされる。
また、この黒クロムめっきは、導電性の材料であるため、先述したように、基板５とは接地された関係にあり、基板５の表面の静電気を除去することができ、高品質の電気光学装置を製造することができる。
この黒クロムめっきの皮膜３２０は、耐食性が大きいことも知られている。このことから、吐出される機能液やクリーニングのための溶剤などが腐食性の材料であっても、基板吸着テーブル３に付着しても腐食されにくいという効果もある。
また、黒クロムめっき層は、基板吸着テーブルの基材である軟鋼に比べ硬度が高く、耐磨耗性も向上する効果がある。
【００４７】
（第３実施形態）
図８に、本発明の第３実施形態を示す。第３実施形態は、第２実施形態とは基板吸着テーブル３の表面構造が異なるのみであり、第１実施形態の液滴吐出装置１の構成は第１実施形態と同じであるため、基板吸着テーブル３についてのみ説明する。
図８は、基板吸着テーブル３とカメラユニットとを模式的に示した図面である。図８において、軟鋼製の基板吸着テーブル３の基板５を載置する面には凹凸３２１が形成されている。この凹凸３２１は、サンドブラスト、ショットピーニングや化学研磨のような加工方法で形成されている。カメラユニット１０６の光源１１０から照射された光（イ）は、アライメントマーク５０１の表面は全反射されて認識カメラ１０７にて認識される。アライメントマーク５０１以外に照射された光は、基板吸着テーブル３に形成された凹凸３２１面で乱反射されるので、認識カメラ１０７に入射される光が少なくなる。
この凹凸３２１面の基板５と接触する部分の高さ寸法は正確に管理されていることが好ましい。
【００４８】
この構造によって、凹凸３２１を形成しない場合にくらべ、アライメントマーク５０１と他の部分のコントラストが高くなり、アライメントマーク５０１を正確に認識することができ、精度の高い描画をすることができる。
また、基板吸着テーブル３は、軟鋼で形成されているため、先述したような、静電気による基板５に与える影響を排除することができる。
【００４９】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について図９を用いて説明する。
第４実施形態は、前述した第２実施形態、第３実施形態とは基板吸着テーブル３の構造のみが異なるので、相違点のみを詳しく説明する。
図９は、基板吸着テーブル３とカメラユニット１０６に備えられた認識カメラ１０７を模式的に示した図面である。図９において、軟鋼製の基板吸着テーブル３の基板５を載置する面には、凹凸３２１が形成され、この凹凸３２１の表面には黒クロムめっきの皮膜３２１が形成されている。
【００５０】
凹凸３２１は、例えば、サンドブラスト、ショットピーニング、化学研磨などで形成されている。その表面には黒ニッケルめっきの皮膜３２０が、あらかじめ形成されている凹凸３２１が消えない程度の厚みで施されている。
カメラユニット１０６の光源１１０から照射された光（イ）は、アライメントマーク５０１の表面では全反射されて、この反射光（ロ）は認識カメラ１０７にて認識される。アライメントマーク５０１以外に照射された光は、基板吸着テーブル３に形成された凹凸３２１で乱反射されるとともに、黒クロムめっきの皮膜３２０で吸収されるので、認識カメラ１０７に入射される光が一層少なくなる。
【００５１】
このことによって、アライメントマーク５０１とその周囲の基板吸着テーブル３の表面とのコントラストが一層高くなり、認識カメラ１０７で正確にアライメントマーク５０１を認識することができる。
また、黒ニッケルめっきの皮膜３２０は導電性材料であるために前述したように、基板５および基板吸着テーブル３が接地され他関係であるために、静電気の影響をなくすことができる。
【００５２】
さらに、吐出される機能液（例えば、インクなど）が引火性の溶剤（例えば、エタノール等）を含んだり、クリーニングの際に引火性の溶剤（例えば、アルコール等）が使われることも考えられる。この装置本体２はチャンバー９に収納されているので、これらの引火性の溶剤がガス化して充満することも有り得る。このような場合、静電気の放電により引火することも考えられる。
本実施形態のように、イオナイザ１４と基板吸着テーブル３が導電性材料で形成されていることで静電気を除去できるので上述のような危険も回避することができる。
また、基板吸着テーブル３の表面に凹凸３２１を形成することで、基板５を基板吸着テーブル３に吸着し、描画後に除材使用としたときに、基板５が基板吸着テーブルに密着してしまい、リフト１２５で基板５を押し上げて除材しにくくなることも防止することができる。
【００５３】
なお、本発明は前述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、基板吸着テーブル３は、軟鋼で形成されるとしていたが、導電性材料で、加工性が良く高精度で加工でき、剛性がある材料であれば、例えば、ステンレス鋼なども選択でき、また、合成樹脂材料の中に導電性材料の粒子や繊維を含んだ強化プラスチック材料なども採用できる。
また、前記実施形態では、基板吸着テーブル３の表面に黒ニッケルめっき皮膜３２０を施していたが、本発明では、基板吸着テーブル３に導電性があり、好ましくは光吸収性もある材料の被覆処理や窒化処理などを施してもよい。
【００５４】
【発明の効果】
このような本発明によれば、高精度の液滴吐出と基板（ワーク）の静電気の発生の防止と、基板吸着面からの反射光を吸収または乱反射される層を設けることにより、画像処理の安定性を両立する液滴吐出装置、この液滴吐出装置によって製造された電気光学装置と、この電気光学装置の製造方法および電子機器とを提供できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる液滴吐出装置を示す斜視図。
【図２】図１の矢印Ａ方向から視認した液滴吐出装置の側面図。
【図３】本発明の第１実施形態にかかる液滴吐出装置の平面図。
【図４】ヘッドユニット１１の構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図。
【図５】本発明の第１実施形態にかかる基板吸着テーブル３の平面図。
【図６】本発明の第１実施形態にかかる基板吸着テーブル３の側面図。
【図７】本発明の第２実施形態にかかる基板吸着テーブル３とカメラユニット１０６とを模式的に示した図面。
【図８】本発明の第３実施形態にかかる基板吸着テーブル３とカメラユニット１０６とを模式的に示した図面。
【図９】本発明の第４実施形態にかかる基板吸着テーブル３とカメラユニット１０６とを模式的に示した図面。
【符号の説明】
１…液滴吐出装置
２…装置本体
３…基板吸着テーブル
５…基板（ワーク）
９…チャンバ
１１…ヘッドユニット
１６…制御装置
１０６…カメラユニット（光学検出装置）
１１１…液滴吐出ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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