(57)【要約】【課題】処理対象の被蒸留処理液の量が多い場合や複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合でも、メンテナンスに係わる負担を軽減し得る真空蒸留装置を提供する。【解決手段】供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段Ｋを備えた蒸留釜１と、その蒸留釜１に接続される蒸気排出路３に吸引作用して、蒸留釜１内を減圧する吸引手段４と、蒸気排出路３を通流する蒸気を液化する凝縮器５とが設けられた真空蒸留装置であって、蒸留釜１として、異なる供給源１１より被蒸留処理液を供給可能な状態で複数の蒸留釜１が設けられ、蒸気排出路３が複数の蒸留釜１に並列状態に接続されて、吸引手段４が複数の蒸留釜１内を減圧させ且つ凝縮器５が複数の蒸留釜１から合流状態で供給される蒸気を液化するように構成されている。【選択図】　　　　図１
2004141727.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段を備えた蒸留釜と、
その蒸留釜に接続される蒸気排出路に吸引作用して、前記蒸留釜内を減圧する吸引手段と、
前記蒸気排出路を通流する蒸気を液化する凝縮器とが設けられた真空蒸留装置であって、
前記蒸留釜として、異なる供給源より被蒸留処理液を供給可能な状態で複数の蒸留釜が設けられ、
前記蒸気排出路が前記複数の蒸留釜に並列状態に接続されて、前記吸引手段が前記複数の蒸留釜内を減圧させ且つ前記凝縮器が前記複数の蒸留釜から合流状態で供給される蒸気を液化するように構成されている真空蒸留装置。
【請求項２】
前記複数の蒸留釜の一つ、前記凝縮器、及び、前記吸引手段を備えるユニット状に組み付けてメインユニットが構成され、前記複数の蒸留釜の一つを備えるユニット状に組み付けてサブユニットが構成され、前記メインユニットと前記サブユニットとが並び状態に設置可能に構成されている請求項１記載の真空蒸留装置。
【請求項３】
前記加熱手段が、前記蒸留釜内への挿入状態に設置される加熱ヒータを備えて構成され、
その加熱ヒータが、先端部が閉塞された有底筒状のセラミックス製本体部とその内部に挿入される熱媒戻り管とを備えて、前記セラミックス製本体部の基端側から内部に供給される加熱用熱媒を前記熱媒戻り管を通して外部に排出するように構成されている請求項１又は２記載の真空蒸留装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段を備えた蒸留釜と、
その蒸留釜に接続される蒸気排出路に吸引作用して、前記蒸留釜内を減圧する吸引手段と、
前記蒸気排出路を通流する蒸気を液化する凝縮器とが設けられた真空蒸留装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
かかる真空蒸留装置は、蒸留釜内を減圧した状態で、加熱手段により被蒸留処理液を加熱することにより、被蒸留処理液中に含まれる蒸留分離対象成分の沸点を低下させて、蒸留分離対象成分を効率良く蒸発させ、その蒸留分離対象成分の蒸気を凝縮器にて液化させて蒸留分離対象成分を蒸留液として分離する蒸留分離処理を行うものであり、例えば、水分を含む廃液から水分を蒸留液として蒸留分離処理して、廃液の廃棄量を減量化する用途や、溶剤を含む廃液から溶剤を蒸留分離処理して回収する用途で用いられる。
【０００３】
このような真空蒸留装置において、従来では、蒸留釜として、一つの蒸留釜を設け、蒸気排出路をその一つの蒸留釜に接続して、吸引手段にて一つの蒸留釜を減圧させ、凝縮器にて一つの蒸留釜から供給される蒸留分離対象成分の蒸気を液化するように構成していた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−６３３０４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、かかる真空蒸留装置を設置するに当たっては、その設置箇所により、処理対象の被蒸留処理液の量が異なるものであり、又、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる複数種の被蒸留処理液を処理対象とする箇所もある。
つまり、このような真空蒸留装置は、例えば、水溶性切削液、アルカリ洗浄廃液、界面活性剤廃液及びメッキ廃液等の各種廃液の濃縮減量、含水廃油の再生、あるいは、廃溶剤の溶剤成分の回収において用いられるものであり、真空蒸留装置の設置箇所により、処理対象の被蒸留処理液の量が異なるものであり、又、前述のような複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合もある。
これに対して、従来の真空蒸留装置は、一つの蒸留釜を吸引手段にて減圧して、その一つの蒸留釜から発生する蒸留分離対象成分の蒸気を凝縮器にて液化する構成であることから、処理対象の被蒸留処理液の量が多くて、１台の真空処理装置では処理し切れない場合は、処理対象の被蒸留処理液の量に応じた台数の真空処理装置を設置することになる。
又、前述のような複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合は、被蒸留処理液の種類毎に、真空蒸留装置を設置することになり、このような場合も、真空処理装置を複数台設置することになる。
しかしながら、処理対象の被蒸留処理液の量が多い場合や、複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合のように、複数台の真空蒸留装置を設置すると、複数台の蒸留釜の他に、複数台の凝縮器及び複数台の吸引手段がメンテナンスの対象となり、メンテナンス作業が煩雑なものとなって、メンテナンスに係わる負担が重くなるという問題があった。
【０００６】
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、処理対象の被蒸留処理液の量が多い場合や複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合でも、メンテナンスに係わる負担を軽減し得る真空蒸留装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
〔請求項１記載の発明〕
請求項１に記載の真空蒸留装置は、供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段を備えた蒸留釜と、
その蒸留釜に接続される蒸気排出路に吸引作用して、前記蒸留釜内を減圧する吸引手段と、
前記蒸気排出路を通流する蒸気を液化する凝縮器とが設けられたものであって、
前記蒸留釜として、異なる供給源より被蒸留処理液を供給可能な状態で複数の蒸留釜が設けられ、
前記蒸気排出路が前記複数の蒸留釜に並列状態に接続されて、前記吸引手段が前記複数の蒸留釜内を減圧させ且つ前記凝縮器が前記複数の蒸留釜から合流状態で供給される蒸気を液化するように構成されている点を特徴構成とする。
即ち、複数の蒸留釜に異なる供給源から被蒸留処理液が供給され、それら複数の蒸留釜に並列状態に接続されている蒸気排出路に吸引手段が吸引作用することにより、複数の蒸留釜が減圧され、そのように減圧されることにより複数の蒸留釜から発生して蒸気排出路を合流状態で通流する蒸留分離対象成分の蒸気が、凝縮器にて液化される。
ここで、異なる供給源より被蒸留処理液を供給可能な状態とは、夫々同じ被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態、及び、一つの供給源から被蒸留処理液が供給される状態を含むものである。
そして、複数の蒸留釜に対して、夫々同じ被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態、又は、一つの供給源から被蒸留処理液が供給される状態にすると、複数の蒸留釜には同じ被蒸留処理液が供給され、各蒸留釜にて、被蒸留処理液から蒸留分離対象成分が蒸発し、そのように各蒸留釜にて発生する蒸留分離対象成分の蒸気が合流状態で蒸気排出路を通流して、凝縮器にて液化されることになり、複数の蒸留釜を用いて、同じ被蒸留処理液を蒸留分離処理することが可能になるので、多量の被蒸留処理液を処理することが可能になる。
又、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態にすると、複数の蒸留釜には異なる種類の被蒸留処理液が供給されることになるが、蒸留分離対象成分が同じであるので、各蒸留釜にて、被蒸留処理液から蒸留分離対象成分を所望通りに蒸発させることができ、そのように各蒸留釜にて発生する蒸留分離対象成分の蒸気が合流状態で蒸気排出路を通流して、凝縮器にて液化されることになり、複数の蒸留釜を用いて、複数種の被蒸留処理液を一括して蒸留分離処理することが可能になる。
従って、蒸留釜は複数台設けるものの、吸引手段及び凝縮器は夫々１台ずつ設ける構成にて、多量の被蒸留処理液の処理、及び、複数種の被蒸留処理液の処理が可能となるので、メンテナンスの対象としては、蒸留釜は複数台となるものの、吸引手段及び凝縮器は夫々１台ずつであるので、メンテナンス作業を簡素化することが可能となり、メンテナンスに係わる負担を軽減することが可能となる。要するに、処理対象の被蒸留処理液の量が多い場合や複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合でも、メンテナンスに係わる負担を軽減し得る真空蒸留装置を提供することができるようになった。
【０００８】
〔請求項２記載の発明〕
請求項２に記載の真空蒸留装置は、請求項１において、前記複数の蒸留釜の一つ、前記凝縮器、及び、前記吸引手段を備えるユニット状に組み付けてメインユニットが構成され、前記複数の蒸留釜の一つを備えるユニット状に組み付けてサブユニットが構成され、前記メインユニットと前記サブユニットとが並び状態に設置可能に構成されている点を特徴構成とする。
即ち、複数の蒸留釜の一つ、凝縮器及び吸引手段を備えるメインユニットと、複数の蒸留釜の一つを備えるサブユニットとが並び状態に設置されることにより、真空蒸留装置が設置される。
つまり、処理対象の被蒸留処理液の量が異なることに対しては、処理対象の被蒸留処理液の量に応じた台数のサブユニットを設置することにより対応することが可能となり、又、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合に、被蒸留処理液の種類の数が異なることに対しては、被蒸留処理液の種類の数に応じた台数のサブユニットを設置することにより対応することが可能となり、いずれも、サブユニットの台数を設定して、そのように設定した台数のサブユニットをメインユニットと共に並び状態で設置するだけの簡単な作業にて、真空蒸留装置を設置することが可能となる。
これに対して、メインユニット及びサブユニットにユニット化しない場合は、処理対象の被蒸留処理液の量や、被蒸留処理液の種類の数に応じた蒸留釜の台数を設定し、そのように設定した台数の蒸留釜に応じた配管等の付帯部材を用意して、複数の蒸留釜、凝縮器及び吸引手段を付帯設備を用いて組み付ける必要があり、真空蒸留装置の設置作業が煩雑なものとなる。
従って、真空蒸留装置の設置作業を簡略化することができるようになった。
【０００９】
〔請求項３記載の発明〕
請求項３に記載の真空蒸留装置は、請求項１又は２において、前記加熱手段が、前記蒸留釜内への挿入状態に設置される加熱ヒータを備えて構成され、
その加熱ヒータが、先端部が閉塞された有底筒状のセラミックス製本体部とその内部に挿入される熱媒戻り管とを備えて、前記セラミックス製本体部の基端側から内部に供給される加熱用熱媒を前記熱媒戻り管を通して外部に排出するように構成されている点を特徴構成とする。
即ち、加熱用熱媒は、セラミックス製本体部の基端側から内部に供給されて、セラミックス製本体部内を通流した後、熱媒戻り管に流入してその熱媒戻り管を通して外部に排出される形態で通流し、そのようにセラミックス製本体部内を通流する加熱用熱媒の熱がセラミックス製本体部の周壁を通じて伝熱して、蒸留釜内の被蒸留処理液が加熱される。
そして、セラミックス製本体部は、先端部が閉塞された有底筒状の如き簡素な形状であるので、被蒸留処理液が濃縮されたときに生じる残滓がセラミックス製本体部に付着し難く、しかも、セラミックス自体が、前述の如き残滓が付着し難いものであるので、付着した残滓を除去するためのメンテナンスを無くす、又は、メンテナンスの頻度を低くすることが可能となり、メンテナンスに係わる負担を軽減することが可能となる。
ちなみに、有底筒状のセラミックス製本体部は、軸心が直線状の直筒状に形成すると最も形状が簡素となり好ましいが、Ｕ字筒状やＪ字筒状に形成すると、伝熱面積を広くしながらも、形状の簡素化を図ることができて、メンテナンスに係わる負担を軽減することが可能となる。
しかも、セラミックスは金属に比べて伝熱係数が大きいので、加熱ヒータを有底筒状の如き簡素な形状のセラミックス製本体部を備えて構成して、残滓が付着し難い簡素な形状として、伝熱面積を小さくしながらも、被蒸留処理液を蒸留分離処理に適切な温度に加熱することが可能となる。
又、セラミックスは酸やアルカリに腐食し難いので、加熱ヒータをセラミックス製本体部を備えて構成することにより、酸性やアルカリ性の被蒸留処理液を処理対象とする場合でも、加熱ヒータの寿命を長くすることが可能となるので、真空蒸留装置の耐久性を向上することが可能となる。
従って、メンテナンスに係わる負担を更に軽減することができるようになり、又、酸性やアルカリ性の被蒸留処理液を処理対象とする場合に、耐久性を向上することができるようになった。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて、本発明の実施の形態を説明する
図１に示すように、真空蒸留装置は、供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段Ｋを備えた蒸留釜１、その蒸留釜１内における被蒸留処理液の貯留レベルを調整する貯留レベル調整器２、蒸留釜１に接続される蒸気排出路３に吸引作用して、蒸留釜１内を減圧する吸引手段しての真空ポンプ４、蒸気排出路３を通流する蒸気を冷却水による冷却により液化する凝縮器５、その凝縮器５にて凝縮された蒸留液を貯留するバッファタンク６、及び、真空蒸留装置の各種制御を司る制御部７等を備えて構成してある。
【００１１】
そして、本発明においては、蒸留釜１として、異なる処理液貯留槽１１（供給源に相当する）より被蒸留処理液を供給可能な状態で複数の蒸留釜１を設け、蒸気排出路３を複数の蒸留釜１に並列状態に接続して、真空ポンプ４が複数の蒸留釜１内を減圧させ且つ凝縮器５が複数の蒸留釜１から合流状態で供給される蒸気を液化するように構成してある。
【００１２】
以下、真空蒸留装置の各部について説明を加える。
蒸留釜１は、有底円筒状の釜本体部１ｍと、その釜本体部１ｍの開口部を閉じる釜蓋体１ｃとを備えて構成し、更に、熱媒流動用加熱ジャケット１ｊを、釜本体部１ｍの外周部を囲む状態で形成してある。そして、その蒸留釜１の複数を（本実施形態では３台、図２及び図３参照）、夫々、釜本体部１ｍの軸心が上下方向を向く縦姿勢で配置してある。
各蒸留釜１を上述のように配置した状態で、熱媒流動用加熱ジャケット１ｊにおける上端部に位置する箇所には、加熱用水蒸気供給口１ｉを形成し、底部に位置する箇所にはドレイン排出口１ｅを形成してある。
各蒸留釜１の底部には残液排出路８を接続し、その残液排出路８には、蒸留釜１から残液を強制的に排出する残液排出用ポンプ９、及び、残液排出路８を開閉する残液排出用電磁弁Ｖ１を設けてある。
【００１３】
蒸気排出路３は、複数の蒸留釜１に並列状態に接続し、真空ポンプ４は、蒸気排出路３における各蒸留釜１に接続される部分を合流させる合流流路部分３Ｊに対して吸引作用するように設け、その合流流路部分３Ｊには、凝縮器５とバッファタンク６とを凝縮器５がバッファタンク６よりも上流側に位置するように設け、合流流路部分３Ｊにおける凝縮器５とバッファタンク６との間の個所、及び、バッファタンク６よりも下流側の個所の夫々に逆止弁１２を設けてある。尚、蒸気排出路３は、各蒸留釜１の上部の気相部に対して接続してある。
バッファタンク６は、上部に気相部を形成する状態で蒸留液を貯留するように構成してあり、そのバッファタンク６の気相部に蒸気排出路３の合流流路部分３Ｊを接続してある。
又、バッファタンク６の下端には、蒸留液排出路１３を接続してあり、その蒸留液排出路１３には、バッファタンク６内から蒸留液を排出する蒸留液排出用ポンプ１４、及び、蒸留液排出路１３を開閉する蒸留液排出用電磁弁Ｖ３を設けてある。
バッファタンク６には、内部に貯留される蒸留液の貯留レベルを検出する蒸留液レベルセンサ６ｓを備えてある。
【００１４】
複数の処理液貯留槽１１を設け、それら複数の処理液貯留槽１１と複数の蒸留釜１とを１対１で処理液供給路１０にて接続して、複数の蒸留釜１を、互いに異なる処理液貯留槽１１から被蒸留処理液が供給されるように設けてある。
そして、蒸気排出路３を通じての真空ポンプ４の吸引作用により、複数の蒸留釜１が減圧され、そのように減圧されることによる吸引力により、各蒸留釜１には、夫々に対応する処理液貯留層１１から処理液供給路１０を通じて被蒸留処理液が供給される。各処理液供給路１０には、蒸留釜１への被蒸留処理液の供給を断続する処理液供給用電磁弁Ｖ２を設けてある。
【００１５】
本実施形態においては、加熱手段Ｋとして、蒸留釜１内への挿入状態に設置される加熱ヒータＨと、上述の熱媒流動用加熱ジャケット１ｊとを備えて構成してある。
加熱ヒータＨについて説明を加えると、図４ないし図６に示すように、加熱ヒータＨは、先端部が閉塞された有底筒状のセラミックス製本体部１５とその内部に挿入される熱媒戻り管１６とを備えて、セラミックス製本体部１５の基端側から内部に供給される加熱用水蒸気を熱媒戻り管１６を通して外部に排出するように構成してある。ちなみに、セラミックス製本体部１５は、軸心が直線状で且つ径が軸心方向に略一定な直筒状に形成してある。
セラミックス製本体部１５の基端開口部を閉じるヒータ蓋体１７を設け、熱媒戻り管１６は、そのヒータ蓋体１７を貫通する状態でヒータ蓋体１７に支持し、更に、そのヒータ蓋体１７には、そのヒータ蓋体１７がセラミックス製本体部１５に取り付けられた状態でセラミックス製本体部１５内に連通する加熱用水蒸気供給部１８と、熱媒戻り管１６の基端に連通する加熱用水蒸気排出部１９とを設けてある。
そのヒータ蓋体１７は、セラミックス製本体部１５の基端開口縁に備えられた鍔部に係止される複数のナット部材２０と、ヒータ蓋体１７に挿通状態で設けられて、複数のナット部材２０に各別に螺挿される複数のボルト２１を用いて、セラミックス製本体部１５の基端開口部にテフロン製等のパッキング２９を介在させた状態で取り付けるようになっている。
【００１６】
ヒータ蓋体１７をセラミックス製本体部１５の基端開口部に取り付けた状態で、熱媒戻り管１６がセラミックス製本体部１５内の先端近くまで延びるように構成すると共に、熱媒戻り管１６におけるセラミックス製本体部１５内に挿入される部分の外周部には、その略全長にわたって螺旋状に羽根体２２を取り付けてある。そして、セラミックス製本体部１５の基端側に供給された加熱用水蒸気を螺旋状の羽根体２２の案内にてセラミックス製本体部１５内の先端にまで螺旋状に通流させた後、熱媒戻り管１６の先端開口部に流入させるようにすることにより、セラミックス製本体部１５内の略全長にわたって加熱用水蒸気を通流させるようにして、蒸留釜１内を効率良く加熱できるように構成してある。
【００１７】
図１に示すように、上述のように構成した加熱ヒータＨを、そのセラミックス製本体部１５が蒸留釜１の釜蓋体１ｃを貫通する状態で釜蓋体１ｃに支持させ、そのように加熱ヒータＨを支持させた釜蓋体１ｃを釜本体部１ｍに取り付けると、加熱ヒータＨが、そのセラミックス製本体部１５が同軸心状に釜内に挿入される状態で蒸留釜１に備えられることになる。
【００１８】
セラミックス製本体部１５の素材について説明を加えると、セラミックス製本体部１５の素材は、ケイ素と炭化ケイ素との混合物である。
ケイ素と炭化ケイ素との混合物には、ケイ素中に炭化ケイ素を分散させてなる混合物、炭化ケイ素にケイ素を含浸させてなる混合物が含まれる。
【００１９】
ケイ素中に炭化ケイ素を分散させてなる混合物としては、例えば、ケイ素と炭化ケイ素の焼結体、溶融したケイ素と炭化ケイ素を混合したものが挙げられる。
ケイ素と炭化ケイ素の焼結体は、平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度の大きさのケイ素及び炭化ケイ素の粉末を均一に混合し、適当な焼結助剤、バインダー、可塑剤及び溶剤を加えて混練し、常法に従って成形して、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で、１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度で、０．５〜２４時間程度、好ましくは、１〜１０時間程度焼成することにより得ることができる。ケイ素と炭化ケイ素の焼結体としては、東海高熱工業社製の高温用セラミック材料「リクライト（商品名）」などの市販品を利用しても良い。
【００２０】
焼結助剤としては、Ｂ、Ａｌ、Ａｌ４Ｃ８、Ａｌ２Ｏ３などが例示される。バインダーとしては、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどのセルロース系のバインダ―やポロビニルアルコールなどが挙げられる。可塑剤としては、グリセリン、ポリアルキルグリコールポリエチレングリコールなどが挙げられる。溶剤としては、水、エタノール、トルエン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
【００２１】
溶融したケイ素と炭化ケイ素を混合してなる混合物は、溶融したケイ素（１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度）に炭化ケイ素の粉末（平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度）を混合して成形したり、所望の形状の型に充填した炭化ケイ素粉末（平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度）中に溶融したケイ素（１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度）を流し込んで得ることができる。
【００２２】
炭化ケイ素にケイ素を含浸させた素材は、例えば下記のようにして得ることができる。
先ず、炭化ケイ素（平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度）の粉末を、必要に応じて焼結助剤、バインダー、可塑剤、溶剤などを加えて混練し、常法に従って成形して、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で２０００〜３０００°Ｃ程度、好ましくは２５００〜３０００°Ｃ程度の温度で、０．５〜２４時間程度、好ましくは３〜１２時間程度焼成する方法により、炭化ケイ素の焼結体を得る。
あるいは、炭化ケイ素、ケイ素及び炭素を、必要に応じて焼結助剤、バインダー、可塑剤、溶剤などを加えて混練し、常法に従って成形して、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で１５００〜３０００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２４００°Ｃ程度の温度で、０．５〜２４時間程度、好ましくは５〜２４時間程度焼成する方法により、炭化ケイ素の焼結体を得ることができる。炭素としては、例えば粒径１〜１００μｍ程度の炭素の微粉末を用いることができる。
【００２３】
次いで、得られた炭化ケイ素の焼結体を、１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度の温度の溶融したケイ素に、０．５〜２４時間程度、好ましくは１〜１２時間程度、必要に応じて０．１〜１０Ｐａ程度の圧力をかけて浸漬させ、ケイ素を炭化ケイ素焼結体に含浸させて得ることができる。
【００２４】
セラミックス製本体部１５の素材であるケイ素と炭化ケイ素との混合物において、ケイ素及び炭化ケイ素の合計重量を１００％とした場合のケイ素の割合は、特に限定されるものではないが、優れた耐久性を得るためには５〜６０重量％程度が好ましく、５〜３５重量％程度がより好ましい。
【００２５】
上述の如きケイ素と炭化ケイ素との混合物は、伝熱係数が大きく、又、酸及びアルカリに対する耐性に優れているので、このようなケイ素と炭化ケイ素との混合物をセラミックス製本体部１５の素材として用いると、加熱効率を向上してランニングコストを低廉化することができ、又、耐久性を向上することができる。
【００２６】
図１に示すように、ボイラ等の加熱用水蒸気供給源２３に接続した加熱用水蒸気供給路２４を、複数の蒸留釜１の加熱ヒータＨの加熱用水蒸気供給部１８に並列接続すると共に、加熱用水蒸気供給源２３に接続した加熱用水蒸気戻し路２５を、複数の蒸留釜１の加熱ヒータＨの加熱用水蒸気排出部１９に並列接続し、更に、加熱用水蒸気供給路２４において、各蒸留釜１の加熱ヒータＨに個別に接続される部分を分岐させて、その分岐部分を各蒸留釜１の熱媒流動用加熱ジャケット１ｊの加熱用水蒸気供給口１ｉに接続して、加熱用水蒸気供給源２３から、複数の蒸留釜１の加熱ヒータＨ及び熱媒流動用加熱ジャケット１ｊに加熱用水蒸気を並行して供給するように構成してある。又、加熱用水蒸気供給路２４において、各蒸留釜１の加熱ヒータＨに個別に接続される部分には、加熱ヒータＨ及び熱媒流動用加熱ジャケット１ｊへの加熱用水蒸気の供給を断続する加熱蒸気用電磁弁Ｖ４を設けてある。
ちなみに、各蒸留釜１において、加熱用水蒸気を加熱ヒータＨに通流させる流量と熱媒流動用加熱ジャケット１ｊに通流させる流量との比は、３対１程度である。
【００２７】
図１に示すように、貯留レベル調整器２は、複数の蒸留釜１の夫々に対して、底部を液相部連通路２６にて蒸留釜１の底部に連通し、且つ、上部の気相部を気相部連通部２７にて蒸留釜１の気相部に連通する状態で設けてあり、各貯留レベル調整器２には、貯留レベル調整器２内の被蒸留処理液の貯留レベルを検出する処理液貯留レベルセンサ２ｓを設けてある。
【００２８】
図１ないし図３に示すように、本実施形態においては、複数の蒸留釜１の一つ、その蒸留釜１に対応する貯留レベル調整器２、凝縮器５、バッファタンク６、真空ポンプ４、制御部７及び操作盤２８を備えるユニット状に組み付けてメインユニットＵｍを構成し、複数の蒸留釜１の一つ及びその蒸留釜１に対応する貯留レベル調整器２を備えるユニット状に組み付けてサブユニットＵｓを構成し、メインユニッＵｍとサブユニットＵｓとを並び状態に設置可能に構成してある。
そして、本実施形態においては、１台のメインユニッＵｍと２台のサブユニットＵｓとを並び状態に設置してある。
【００２９】
以下、図２及び図３に基づいて、メインユニッＵｍ及びサブユニットＵｓについて説明を加える。
メインユニットＵｍは、板状のメインユニットベース３１上に、蒸留釜１、凝縮器５、バッファタンク６、真空ポンプ４、制御部７及び操作盤２８を組み付けて構成してある。メインユニットベース３１の底面側には、複数の脚部３２を分散させて螺挿してあり、各脚部３２の螺挿量の変更調節により、メインユニットベース３１の高さを変更調節自在なように構成してある。
【００３０】
サブユニットＵｓは、幅（メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓの並び方向に直交する方向の寸法）がメインユニットベース３１と同幅の板状のサブユニットベース３３上に、蒸留釜１及び貯留レベル調整器２を組み付けて構成してある。サブユニットベース３３の底面側には、メインユニットベース３１と同様に、複数の脚部３２を分散させて螺挿してあり、各脚部３２の螺挿量の変更調節により、サブユニットベース３３の高さを変更調節自在なように構成してある。
【００３１】
上述のように、メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを互いに同幅に構成することにより、それらのメインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを平面視で矩形状になる状態でコンパクトに並置することが可能なように構成してある。
【００３２】
蒸気排出路３においてメインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓの各ユニットに対応するユニット対応流路部分３Ｅは、蒸留釜１に接続される蒸留釜接続流路部分３ｃの端部に、隣接するユニットのユニット対応流路部分３Ｅに接続される隣接ユニット接続流路部分３ｎの長手方向中間部を連通接続したＴ字状に形成してある。
そして、メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを一列に並べた状態で、複数のユニット対応流路部分３Ｅの隣接ユニット接続流路部分３ｎが一連に連なって並ぶと共に、互いに隣接する隣接ユニット接続流路部分３ｎ同士の隣接する端部開口部同士を連通接続可能なように構成してある。
ちなみに、メインユニットＵｍのユニット対応流路部分３Ｅの隣接ユニット接続流路部分３ｎの一端側は、合流流路部分３Ｊに連通接続し、並び方向の端部に配置されるサブユニットＵｓのユニット対応流路部分３Ｅの隣接ユニット接続流路部分３ｎにおける前記並び方向端部側の開口部は、蓋体３４にて閉塞するように構成してある。
【００３３】
そして、上述のようにして、メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを一列に並べると共に、隣接するユニット対応流路部分３Ｅ同士を連通接続することにより、蒸気排出路３が複数の蒸留釜１に並列状態に接続されて、真空ポンプ４が複数の蒸留釜１に対して吸引作用して、複数の蒸留釜１内が減圧されるように構成してある。
【００３４】
又、サブユニットＵｓを増設する場合には、増設するサブユニットＵｓを、既設のメインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓにおける並び方向端部のサブユニットＵｓに隣接配置して、増設するサブユニットＵｓのユニット対応流路部分３Ｅを既設のサブユニットＵｓのユニット対応流路部分３Ｅに連通接続する簡単な作業により、増設したサブユニットＵｓの蒸留釜１に対して、真空ポンプ４を吸引作用させることができるように構成してある。
ちなみに、サブユニットＵｓが増設される場合を想定して、真空ポンプ４及び凝縮器５共に、能力に余裕のあるものを設けるようにしても良い。
【００３５】
次に、制御部７の制御動作について説明する。
制御部７は、操作盤２８から運転開始指令が指令されると、真空ポンプ４を作動させ、各蒸留釜１に対応する処理液供給用電磁弁Ｖ２及び加熱蒸気用電磁弁Ｖ４を開弁して、蒸留分離処理運転を開始する。
つまり、各蒸留釜１内が減圧され、その減圧による吸引力により、処理液供給路１０を通じて、貯留レベルが設定範囲内になるように各蒸留釜１に被蒸留処理液が供給され、又、加熱ヒータＨ及び熱媒流動用加熱ジャケット１ｊに加熱用水蒸気が通流されて、各蒸留釜１内の被蒸留処理液が加熱される。そして、各蒸留釜１内が減圧されると共に、被蒸留処理液が加熱されることに伴って、各蒸留釜１内の被蒸留処理液から蒸留分離対象成分が蒸発し、各蒸留釜１にて蒸発した蒸留分離対象成分の蒸気が蒸気排出路３の合流流路部分３Ｊに合流し、その合流流路部分３Ｊを通流する蒸留分離対象成分の蒸気が凝縮器５にて冷却水により冷却されて液化し、そのように液化した蒸留液がバッファタンク６内に貯留されることになり、各蒸留釜１内の被蒸留処理液から蒸留分離対象成分が蒸留分離されて回収されることになる。
【００３６】
上述の蒸留分離処理運転中は、各貯留レベル調整器２の処理液貯留レベルセンサ２ｓの検出情報に基づいて、貯留レベル調整器２における被蒸留処理液の貯留レベルを設定範囲内に維持するように、各処理液供給用電磁弁Ｖ２を開閉制御する。そして、蒸留釜１の被蒸留処理液の貯留レベルは貯留レベル調整器２の被蒸留処理液の貯留レベルと同一になるので、蒸留釜１の被蒸留処理液の貯留レベルが設定範囲内に維持されることになる。
つまり、被蒸留処理液の貯留レベルが下限値よりも低くなると処理液供給用電磁弁Ｖ２が開弁される。すると、処理液供給路１０を通じて蒸留釜１に被蒸留処理液が供給されて、蒸留釜１と貯留レベルが上昇するのと同様に貯留レベル調整器２の貯留レベルが上昇する。そして、貯留レベル調整器２の貯留レベルが上限値に達すると、処理液供給用電磁弁Ｖ２が閉弁されて、蒸留釜１への被蒸留処理液の供給が停止される。
【００３７】
又、バッファタンク６の蒸留液レベルセンサ６ｓの検出情報に基づいて、バッファタンク６における蒸留液の貯留レベルを設定範囲内に維持するように、蒸留液排出用電磁弁Ｖ３の開閉制御及び蒸留液排出用ポンプ１４の発停制御を実行する。
つまり、バッファタンク６の貯留レベルが上限値を越えると、蒸留液排出用電磁弁Ｖ３が開弁されると共に、蒸留液排出用ポンプ１４が作動されて、バッファタンク６から蒸留液が排出され、その排出に伴って、バッファタンク６の貯留レベルが下限値に達すると、蒸留液排出用電磁弁Ｖ３が閉弁されると共に、蒸留液排出用ポンプ１４が停止されて、バッファタンク６からの蒸留液の排出が停止される。
【００３８】
又、蒸留釜１毎に、蒸留釜１内に残留している残液を排出する残液排出指令が指令されるように構成してあり、残液排出指令が指令されると、残液排出指令が指令された蒸留釜１に対応する残液排出用電磁弁Ｖ１を開弁させると共に、残液排出用ポンプ９を作動させる。従って、残液排出指令が指令された蒸留釜１内から、残液が強制的に排出される。
ちなみに、前記残液排出指令は、操作盤２８により蒸留釜１毎に人為的に指令するように構成してある。
あるいは、蒸留分離処理が終期に達したことに相当する処理終期を検出する処理終期検出手段を蒸留釜１毎に設けて、その処理終期検出手段が処理終期を検出することに基づいて、前記残液排出指令が指令されるように構成することができる。
ちなみに、前記処理終期検出手段としては、例えば、蒸留分離処理運転を実行する運転時間を設定する運転時間設定部を設けて、蒸留分離処理運転の開始後、前記運転時間設定部にて設定された運転時間が経過することに基づいて、処理終期に達したことを検出するように構成することができる。
【００３９】
又、操作盤２８から運転停止指令が指令されると、処理液供給用電磁弁Ｖ２及び加熱蒸気用電磁弁Ｖ４を閉弁し、それらの閉弁後、設定時間が経過すると真空ポンプ４を停止させて、蒸留分離処理運転を停止する。
【００４０】
真空蒸留装置を上述のように構成して、複数の処理液貯留槽１１に、同じ被蒸留処理液を貯留するようにすると、複数の蒸留釜１に同じ被蒸留処理液が供給されるので、複数の蒸留釜１を用いて、同じ被蒸留処理液を蒸留分離処理することが可能となり、蒸留分離処理量を多くすることが可能になる。
【００４１】
又、複数の処理液貯留槽１１に、蒸留分離対象成分が同一であるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる被蒸留処理液を貯留するようにすると、複数の蒸留釜１に異なる種類の被蒸留処理液が供給されて、複数の蒸留釜１を用いて、複数種の被蒸留処理液を蒸留分離処理することが可能になる。
【００４２】
又、真空蒸留装置に設けた複数の処理液貯留槽１１のうち、一部の複数の処理液貯留槽１１には同じ被蒸留処理液を貯留し、他の処理液貯留槽１１には、前記一部の複数の処理液貯留槽１１に貯留した被蒸留処理液とは、蒸留分離対象成分は同じであるがそれ以外の成分が異なる異種類の被蒸留処理液を貯留するようにして、真空蒸留装置に設けた複数の蒸留釜１のうちの一部の複数の蒸留釜１で同じ被蒸留処理液を蒸留分離処理し、他の蒸留釜１では前記異種類の被蒸留処理液を蒸留分離処理するようにしても良い。
【００４３】
ちなみに、蒸留分離対象成分が水である場合は、例えば、蒸留釜１内を１２．７ｋＰａ程度に減圧し、蒸留釜１内を７０°Ｃ程度に加熱する。
【００４４】
〔別実施形態〕
次に別実施形態を説明する。
（イ）　上記の実施形態においては、複数の処理液貯留槽１１を設け、それら複数の処理液貯留槽１１と複数の蒸留釜１とを１対１で処理液供給路１０にて接続する場合について例示したが、これに代えて、１つの処理液貯留槽１１を設けて、その一つの処理液貯留槽１１に対して、処理液供給路１０にて複数の蒸留釜１を並列接続して、一つの処理液貯留槽１１から複数の蒸留釜１に被蒸留処理液を供給するようにしても良い。
【００４５】
（ロ）　被蒸留処理液の供給源の具体例としては、上記の実施形態において例示した処理液貯留槽１１に限定されるものではなく、各種のものが適用可能であり、例えば、被蒸留処理液が連続して供給される流路を適用することができる。
【００４６】
（ハ）　サブユニットＵｓの設置台数は、上記の実施形態において例示した２台に限定されるものではなく、処理対象の被蒸留処理液の量、又は、前述の如き被蒸留処理液の種類の数に応じて設定することができる。
又、処理対象の被蒸留処理液の量が増加したり、前述の如き被蒸留処理液の種類の数が増加したりした場合、サブユニットＵｓを増設することも可能である。
又、サブユニットＵｓを設けずに、メインユニットＵｍのみで真空蒸留装置を構成することも可能である。
【００４７】
（ニ）　上記の実施形態においては、真空蒸留装置を、蒸留釜１を１台ずつ備えたメインユニットＵｍとサブユニットＵｓからなる複数のユニットに分割した状態に構成する場合について例示したが、複数のユニットに分割することなく一つのユニットとして構成しても良い。
【００４８】
（ホ）　蒸気排出路３の各ユニット対応流路部分３Ｅにおける蒸留釜接続流路部分３ｃに、電磁弁を設けて、その電磁弁の開閉操作により、複数の蒸留釜１のうちから、真空ポンプ４にて吸引作用させるものを選択自在なように構成しても良い。
【００４９】
（ヘ）　加熱手段Ｋの具体構成としては、上記実施形態において例示した如き加熱用熱媒を熱源とする加熱ヒータＨに限定されるものではない。
例えば、蒸留釜１内に設けられる電気ヒータや、蒸留釜１の外部から加熱作用するように設けられる電気ヒータ等にて構成することができる。
【００５０】
（ト）　セラミックス製本体部１５の素材としては、上記の実施形態において例示したものに限定されるものではなく、炭化ケイ素、酸化アルミニウム等の種々のセラミックスを用いることができる。
【００５１】
（チ）　蒸留釜１は通常はステンレス等の金属製であり、酸性の被蒸留処理液を処理対象とする場合は、蒸留釜１の腐食を防止するために、蒸留釜１の内面をテフロン等の耐酸性の材料にてコーティングする。従って、蒸留釜１の内面をコーティングする場合は、そのコーティング膜により伝熱性能が低下するので、熱媒流動用加熱ジャケット１ｊは省略するのが好ましい。
【００５２】
（リ）　セラミックス製本体部１５の形状は、上記実施形態において例示した如き直筒状に限定されるものではなく、Ｕ字筒状やＪ字筒状等、種々の形状が可能であるが、形状を簡素化する上では、直筒状が最も好ましい。
【００５３】
（ヌ）　加熱ヒータＨに通流させる加熱用熱媒としては、上記の実施形態において例示した如き水蒸気に限定されるものではなく、温水、油等種々の熱媒を用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る真空蒸留装置の全体構成を示すブロック図
【図２】実施形態に係る真空蒸留装置の全体構成を示す正面図
【図３】実施形態に係る真空蒸留装置の全体構成を示す平面図
【図４】実施形態に係る真空蒸留装置の加熱ヒータの縦断面図
【図５】実施形態に係る真空蒸留装置の加熱ヒータの平面図
【図６】実施形態に係る真空蒸留装置の加熱ヒータの横断平面図
【符号の説明】
１　　蒸留釜
３　　蒸気排出路
４　　吸引手段
５　　凝縮器
１１　供給源
１５　セラミックス製本体部
１６　熱媒戻り管
Ｈ　　加熱ヒータ
Ｋ　　加熱手段
Ｕｍ　メインユニット
Ｕｓ　サブユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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