(57)【要約】【課題】光学部品の汚染を容易に防止できる汚染防止方法及びそれを利用した光学装置を提供すること。【解決手段】本発明にかかる光学装置は、光学部品及び第１の光源が設けられた光学系チャンバー１と、導入された気体の不純物を除去し第１のチャンバーに対して不純物除去後の気体を供給する予備チャンバー４を備える光学装置である。また予備チャンバー４内に不純物を堆積させる複数層重ねられた石英ろ紙５と石英ろ紙５に光を照射する重水素ランプ６を備えている。そして石英ろ紙５を通過する気体に含まれる不純物を重水素ランプからの遠紫外線により生じる光化学反応によって石英ろ紙５に堆積させて除去する。【選択図】　図１
2004014745.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部品及び第１の光源が設けられた第１のチャンバーと、導入された気体の不純物を除去し第１のチャンバーに対して不純物除去後の気体を供給する第２のチャンバーを備える光学装置であって、
前記第２のチャンバー内に不純物を堆積させる堆積手段と
前記堆積手段に光を照射する第２の光源を備え、
前記堆積手段を通過する気体に含まれる不純物を前記第２の光源によって照射される光により当該堆積手段に堆積させて除去する光学装置。
【請求項２】
前記第２の光源からの光による光化学反応によって前記不純物が前記堆積手段に堆積することを特徴とする請求項１記載の光学装置。
【請求項３】
前記第１の光源から発光される光の波長が前記第２の光源から発光される光の波長に含まれることを特徴とする請求項１乃至２いずれかに記載の光学装置。
【請求項４】
前記第２の光源が遠紫外線光源であることを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の光学装置。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれかに記載の光学装置であって、前記第２の光源が重水素ランプ、低圧水銀ランプ、エキシマランプのいずれかであることを特徴とする光学装置。
【請求項６】
前記堆積手段が前記第２の光源からの光を透過し、当該堆積手段を複数層重ねていることを特徴とする請求項１乃至５にいずれか記載の光学装置。
【請求項７】
前記堆積手段が石英ろ紙であることを特徴とする請求項１乃至６いずれかに記載の光学装置。
【請求項８】
前記第１のチャンバーと前記第２のチャンバーの間に活性炭フィルターを備える請求項１乃至７いずれか記載の光学装置。
【請求項９】
前記チャンバーの内壁に前記光源からの光を反射するリフレクターを設けたことを特徴とする請求項１乃至８いずれか記載の光学装置。
【請求項１０】
光学部品及び第１の光源が設けられた第１のチャンバーに導入する気体の不純物を除去する不純物除去装置であって、
気体の不純物を堆積させる堆積手段と、
前記堆積手段に光を照射する第２の光源を備え、
前記堆積手段を通過する気体に含まれる不純物を前記第２の光源によって照射される光によって前記堆積手段に堆積させて除去する不純物除去装置。
【請求項１１】
第１の光源を備える第１のチャンバーに設けられた光学部品の汚染防止方法であって、
第２のチャンバーに気体を導入するステップと、
前記第２のチャンバーに設けられた堆積手段に第１の光源と同様の光を照射するステップと、
光を照射することによる光化学反応によって前記不純物を前記堆積手段に堆積させるステップと、
不純物が除去された気体を前記第１チャンバーに供給するステップを備えた汚染防止方法。
【請求項１２】
前記堆積手段が複数層設けられた石英ろ紙であることを特徴とする請求項１１記載の汚染防止方法。
【請求項１３】
金属パターンを一部に設けた透明基板を測定環境下に置き、当該透明基板に付着した汚染物質の膜厚を測定し、当該膜厚の厚さによって汚染防止効果を評価する汚染防止効果の評価方法であって、
前記透明基板と前記金属パターンとの界面で反射される光と、前記透明基板及び前記汚染物質を通過し前記汚染物質と気体との界面で反射される光との間の位相差によって前記膜厚を測定する段差測定装置を備え、当該膜厚の厚さによって汚染防止効果を評価する評価方法。
【請求項１４】
前記段差測定装置が、干渉光を発生する光源と、
ノマルスキープリズムを備え前記光源からの光を互いに干渉性を有する略平行な２本の光線にする光学系と、
前記２本の光線を透明基板の金属パターンが設けられた面に集束させる対物レンズと、
前記透明基板から反射された２本の光線を合成して干渉光線を発生する干渉光学系と、
前記干渉光学系からの干渉光を受光し、前記ノマルスキープリズムを変位させることにより与えられた位相シフト量に対応した干渉光の振幅を出力する光検出器と
前記光検出器に接続され、前記位相シフト量に対応する干渉光の振幅から前記２本と光線の光路長差を求める信号処理回路を有する段差測定装置であることを特徴とする請求項１３記載の汚染防止効果の評価方法。
【請求項１５】
請求項１３又は１４いずれかの汚染防止効果の評価方法を用いた汚染防止効果評価装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、汚染防止方法及びそれを用いた光学装置に関するものであり、さらに汚染防止効果の評価方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体集積回路を製造するための露光装置やその検査装置、測定装置等の光学装置に用いられているマスク、レチクル、レンズ、ミラー等の光学部品が、大気中（雰囲気中）の化学物質、パーティクルやダスト等によって汚染されることが問題となっていた。そのためレンズ、ミラー等の光学部品を有する光学装置は図５に示す様に、その光学部品が設けられたチャンバー内に大気を導入する配管に活性炭フィルター等のフィルターを設けていた。
【０００３】
これらの光学部品が用いられている従来の光学装置について図５を用いて説明する。１は光学系チャンバー、２は活性炭フィルター、３はガス導入ポートである。光学系チャンバー内部にはレンズ、ミラー、レチクル、マスク又は光源（図示せず）等が備えられている。
【０００４】
従来は活性炭等を利用した活性炭フィルター２によって空気中の化学物質等を吸着して取り除く。そして活性炭フィルター２を通過した空気で光学系をパージすることによって光学系チャンバー内の光学部品に対する汚染を低減していた。
【０００５】
またＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線を発光する光源の登場に伴い、上記の光学装置にはこれらの遠紫外線光源が利用されるようになってきている。
【０００６】
特に最近の半導体集積回路の微細化に伴い、そのパターニングを行う露光装置ではその露光ビームの波長が短波長側に移行してきている。そのために上述の遠紫外線の光源が用いられている。しかしこのような短波長の遠紫外線をレンズ、ミラー等の光学部品に照射すると、表面が曇り光学部品の光学特性が劣化するという問題点が生じていた。
【０００７】
この曇りは光学部品に不純物が付着した物である。例えば、空気中に含まれるフタル酸エステル類（ＤＯＰ）やシロキサン等の有機汚染物質が遠紫外線を照射することによって重合又は分解し、固体物質となる。また亜硫酸が光エネルギーを吸収し、励起状態となると空気中の酸素と反応し、さらにアンモニアと結合し硫酸アンモニウムが生成されることもある。また酸化珪素も付着することがある。
【０００８】
この解決手段が特開平１０−３１４５７５号公報に示されている。この特開平１０−３１４５７５号公報に示された解決手段について図６を用いて説明する。図５で付した符号と同一の符号は同一の構成を示すため説明を省略する。４は光学系チャンバーとは異なる予備チャンバーである。６は重水素ランプであり紫外線の光源として用いられている。
【０００９】
この従来技術では、導入した大気中に紫外線を照射する。そしてこの不純物を光学装置の手前に設けられた活性炭フィルター２（又はケミカルフィルター）によって吸着し除去させている。しかしこの方法では気体中に含まれる汚染物質をフィルターのみによって除去しているため、充分除去できないことがあった。そのため、光学系チャンバー内で光学部品に紫外線が、照射された部分が活性化され周囲の有機物が付着、堆積するという問題点があった。またこの不純物の付着による光学部品の汚染は遠紫外線を利用した光学装置、光学検査装置、光学測定装置に多く見られる傾向があった。
【００１０】
また特開平１０−３１４５７５号公報では活性炭フィルター２の代わりに光触媒及び当該光触媒に紫外線を照射する別の光源やハーフミラー等の光学部品を設けている解決手段が示されている。この方法では紫外線の照射によって光触媒を励起させ、光触媒効果によって分解させるものである。しかし、この従来技術でも充分に不純物の付着による汚染を充分防止できないことがあった。また光触媒に光を照射するために、別途光学系を設ける必要があった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように従来の光学装置では光学部品に紫外線が照射されると汚染物質が付着し、光学部品の光学特性が劣化するという問題点があった。
本発明はこのような問題点を鑑みてなされたものであり、光学部品の汚染を容易に防止できる汚染防止方法及びそれを利用した光学装置を提供することを第１の目的とする。また汚染防止効果の評価方法を提供することを第２の目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる光学装置は、光学部品及び第１の光源が設けられた第１のチャンバー（例えば、本発明の実施の形態における光学系チャンバー１）と、導入された気体の不純物を除去し第１のチャンバーに対して不純物除去後の気体を供給する第２のチャンバー（例えば、本発明の実施の形態における予備チャンバー４）を備える光学装置であって、前記第２のチャンバー内に不純物を堆積させる堆積手段（例えば、本発明の実施の形態における石英ろ紙５）と前記堆積手段に光を照射する第２の光源（例えば、本発明の実施の形態における重水素ランプ６）を備え、前記堆積手段を通過する気体に含まれる不純物を前記第２の光源によって照射される光により当該堆積手段に堆積させて除去するものである。これにより光学装置に供給するガスの不純物を除去することができ、光学部品の汚染を防止することができる。
【００１３】
また上述の光学装置において、前記第２の光源からの光による光化学反応によって前記不純物を前記堆積手段に堆積させてもよい。これにより、光学部品の汚染を防止することができる。
【００１４】
上述の光学装置における好適な実施の形態としては、前記第１の光源から発光される光の波長が前記第２の光源から発光される光の波長に含まれることが望ましい。光学部品の汚染を防止することができる。
【００１５】
また前記第２の光源が遠紫外線光源であることが望ましく、実施例として重水素ランプ、低圧水銀ランプ、エキシマランプが挙げられる。これにより光学部品の汚染を防止することができる。
【００１６】
さらに好適な実施の形態としては前記堆積手段が前記第２の光源からの光を透過し、当該堆積手段を複数層重ねていることが望まれる。例えば、前記堆積手段は石英ろ紙を複数層重ねてもよい。これにより不純物が堆積する表面積を増やすことができ、光学部品の汚染をより防止することができる。
【００１７】
さらに前記第１のチャンバーと前期第２のチャンバーの間に活性炭フィルターを備えていることが望ましい。これにより遠紫外線の照射によって発生したオゾンを安全に除去することができる。
【００１８】
また、前記チャンバーの内壁に前記光源からの光を反射するリフレクターを設けてもよい。これにより、光源からの光を効率よく利用することができる。
【００１９】
本発明にかかる不純物除去装置は、光学部品及び第１の光源が設けられた第１のチャンバー（例えば、本発明の実施の形態における光学系チャンバー１）に導入する気体の不純物を除去する不純物除去装置であって、気体の不純物を堆積させる堆積手段（例えば、本発明の実施の形態における石英ろ紙５）と、前記堆積手段に光を照射する第２の光源（例えば、本発明の実施の形態における重水素ランプ６）を備え、前記堆積手段を通過する気体に含まれる不純物を前記第２の光源によって照射される光によって前記堆積手段に堆積させて除去するものである。これにより気体中の不純物を容易に除去することができる。
【００２０】
本発明にかかる汚染防止方法は第１の光源を備える第１のチャンバー（例えば、本発明の実施の形態における光学系チャンバー１）に設けられた光学部品の汚染防止方法であって、第２のチャンバー（例えば、本発明の実施の形態における予備チャンバー２）に気体を導入するステップと、前記第２のチャンバーに設けられた堆積手段（例えば、本発明の実施の形態における石英ろ紙５）に第１の光源と同様の光を照射するステップと、光を照射することによる光化学反応によって前記不純物を前記堆積手段に堆積させるステップと、不純物が除去された気体を前記第１チャンバーに供給するステップを備えるものである。これにより光学部品の汚染を容易に防止することができる。
【００２１】
また前記堆積手段が複数層設けられた石英ろ紙であることが望ましい。これにより、容易に光学部品の汚染を防止することができる。
【００２２】
本発明にかかる汚染防止効果の評価方法は、金属パターン（例えば本実施の形態におけるクロムパターン９）を一部に設けた透明基板（例えば本実施の形態における石英基板８）を測定環境下に置き、当該透明基板に付着した汚染物質（例えば本実施の形態におけるコンタミネーション１０）の膜厚を測定し、当該膜厚の厚さによって汚染防止効果を評価する汚染防止効果の評価方法であって、前記透明基板と前記金属パターンとの界面で反射される光と、前記透明基板及び前記汚染物質を通過し前記汚染物質と気体との界面で反射される光との間の位相差によって前記膜厚を測定する段差測定装置を備え、当該膜厚の厚さによって汚染防止効果を評価するものである。これにより汚染防止効果を容易に測定することができる。
【００２３】
上述の評価方法において前記段差測定装置が、干渉光を発生する光源（例えば本実施の形態における光源１３）と、ノマルスキープリズム（例えば本実施の形態におけるノマルスキープリズム１７）を備え前記光源からの光を互いに干渉性を有する略平行な２本の光線（例えば本実施の形態におけるリファレンス光１１、測定光１２）にする光学系（例えば本実施の形態におけるコリメータレンズ１４、ビームスプリッター１５、λ／４板１６）と、前記２本の光線を透明基板に集束させる対物レンズ（例えば本実施の形態における対物レンズ２１）と、前記透明基板から反射された２本の光線を合成して干渉光線を発生する干渉光学系（例えば本実施の形態における結像レンズ２２、ピンホールミラー２３）と、前記干渉光学系からの干渉光を受光し、当該ノマルスキープリズムを変位させることにより与えられた位相シフト量に対応した干渉光の振幅を出力する光検出器（例えば本実施の形態における光検出器２４）と前記光検出器に接続され、前記位相シフト量に対応する干渉光の振幅から前記２本と光線の光路長差を求める信号処理回路（例えば本実施の形態における信号処理回路２５）を有する段差測定装置であってもよい。これにより汚染防止効果を容易に測定することができる。
【００２４】
上述の汚染防止効果の評価方法は汚染防止効果の評価装置として利用することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態１．
本発明にかかる汚染防止方法を用いた光学装置の構成について図１を用いて説明する。図１は本発明にかかる光学装置の構成図である。１は光学チャンバー、２は吸着フィルター、３はガス導入ポート、４は予備チャンバー、５は石英ろ紙、６は重水素ランプ、７はリフレクターである。
【００２６】
予備チャンバー４にはガス導入ポート３が設けられており、ここから気体が導入される。ここでは１００ｓｃｃｍ〜１ｓｌｍの空気が供給されている。これにより層流としてガスを導入することができ、チャンバー内に付着した汚染物質を巻き上げずに除去することができる。なお、本発明は上述の供給量に限られるものではなく、空気以外の気体でもよい。
【００２７】
予備チャンバー４内には石英ろ紙５が設けられており、予備チャンバー４を二室に分離している。また予備チャンバー４の壁面にはリフレクター７が設けられており、重水素ランプ６からの遠紫外線を反射し石英ろ紙５又は予備チャンバー４内の気体に効率よく吸収されるようになっている。重水素ランプ６以外の光源としては、低圧水銀ランプ、エキシマランプ等の遠紫外線を発光する光源が望ましい。
【００２８】
予備チャンバー４は光学系チャンバーに比べて圧力が高くなっている。従ってガス導入ポート３から導入された空気が石英ろ紙５及び活性炭フィルター２を通ってレンズ、ミラー等の光学部品（図示せず）が設けられた光学系チャンバー１に導入される。
【００２９】
次に汚染防止方法について説明する。重水素ランプ６によって予備チャンバー４内に遠紫外線が照射されているので、石英ろ紙５の表面は活性化、励起されている。光のエネルギーが化学物質の結合エネルギーと同程度以上になると光による化学反応の進行すなわち光化学反応が生じる。よって石英の表面に吸着された空気中の不純物（汚染物質）は光エネルギーを吸収し、不純物同士が重合又は反応する。これにより石英ろ紙５の表面に不純物を固定、堆積させて取り除くことができる。また石英ろ紙５に遠紫外線を照射することにより、石英表面での直接励起（電子励起）や加熱効果が表面化学反応に寄与する。従って、いわゆる光ＣＶＤ法と同様な効果が現れ、不純物の堆積が促進される。これにより石英ろ紙の表面に吸着された空気中の不純物は光エネルギーを吸収し、光化学反応が起きる。従って不純物を石英ろ紙上に堆積させ、除去することができる。
【００３０】
また石英ろ紙５は遠紫外線に対して透過性を有している。従って石英ろ紙５を複数層重ねて使用しても、奥に設けられた石英ろ紙５の表面まで光が届く。よって奥に設けられた石英ろ紙５の表面を励起することができ、反応に寄与する石英ろ紙５の表面積を広げることができる。これにより更なる汚染度の低減を図ることができる。また石英ろ紙５を予備チャンバー４に取り付けられたパンチングメタル上（図示せず）に設けることにより、石英ろ紙５の交換、メンテナンス等を容易に行うことができる。
【００３１】
また堆積手段はろ紙以外でもよい。例えば粒子状やスポンジ状の石英でもよく、さらに粉体等でもよい。この場合、表面積を広げることでより表面に汚染物質が吸着、堆積されやすくなる。また堆積手段の材質は石英に限定されるものではなく、例えば弗化カルシウム、弗素樹脂、サファイア等の材質でもよい。この場合、光源からの光に透過性を示す材質であれば、気体が流れる方向に厚みを設けても、奥の方まで光が照射される。従って、堆積手段の表面積を広げることができ、汚染物質をより除去することができる。
【００３２】
予備チャンバー４の内壁にはリフレクター７が設けられている。よって石英ろ紙５を透過した遠紫外線はリフレクター７で反射され、気体や石英ろ紙５に吸収される。これにより重水素ランプ６からの光を効率よく利用することができる。またリフレクターは光源からの光を反射するものであればよい。さらにアルミ箔等のような簡単な構成でもよい。これによりメンテナンスを簡単に行うことができる。
【００３３】
一方、空気中に紫外線を照射すると酸素が酸化されオゾンが生成される。このオゾンが光学系チャンバー１に導入されると光学部品を腐食、酸化することがある。またオゾンによって酸化された有機物によって光学部品が汚染されることもある。さらにオゾンの他にも紫外線を吸収し分解された分子やラジカルが光学部品を汚染することがある。これらの汚染物質を除去するために予備チャンバー４と光学チャンバー１の間に活性炭フィルター２を設けている。これによりオゾン等の不純物も除去することができ、より光学部品の汚染防止を図ることができる。またオゾンは人体に対して有害であるので活性炭フィルター２を通すことにより安全に除去することができる。また導入する気体は空気に限られるものではない。なお、光学系チャンバー１と予備チャンバー４の間に活性炭フィルター２を設けなくても空気中の不純物を石英ろ紙５によって除去することができ、光学部品の汚染を防止することができる。
【００３４】
上述の様に予備チャンバー内で遠紫外線を照射し、石英表面に接触した空気を光学系チャンバー１に導入すれば、光学系チャンバー１内で再び遠紫外線を照射しても光学部品の汚染を防止することができる。これにより光学部品の寿命を長く保つことができる。したがって上述の汚染防止方法は光学部品を備えた光学装置、光学検査装置、光学測定装置に好適である。
【００３５】
また上述の実施の形態では遠紫外線を発光する重水素ランプを示したが、本発明は遠紫外線の利用に限られたものではなく、他の波長を発光する光源でもよい。この場合、光学系チャンバーに設けられた光源の波長をカバーする光源を用いることにより、光学部品のチャンバーの汚染を効率よく防止することができる。さらに光源は予備チャンバー外に設けられていてもよく、窓越しに光を照射しても良い。また光学部品に限らずに、他の部品の汚染防止方法としても利用することができる。さらに予備チャンバー内でろ紙を通過した気体に含まれる汚染物質を除去することができる。従って気体中の汚染物質の除去方法として用いることも可能である。
【００３６】
本発明の実施の形態２．
本発明にかかる汚染防止効果の評価方法は、例えば上述の汚染防止方法が用いられている光学装置において、その汚染度を定量的に評価する方法として用いることができる。また本発明にかかる汚染度の評価方法は本願人が出願した特開２０００−２４１１２１号公報に示す段差測定装置にかかる段差測定方法の光学系を利用したものである。本評価方法は、透明基板上に設けられた金属パターンと透明なコンタミネーション（汚染物質）に平行な干渉光を照射し、その反射光の位相差によりコンタミネーションの膜厚を求めるといった方法を利用している。また上述の光学装置内に置いた透明基板と置いていない透明基板の間の膜厚差を比較し上記汚染防止効果を評価することもできる。
【００３７】
本発明にかかる汚染防止効果の評価方法について図３、図４を用いて説明する。図３は汚染防止効果の評価方法の光学系についての構成図であり、図４はその基板の拡大図である。８は石英基板、９はクロムパターン、１０はコンタミネーション（汚染物質）、１１はリファレンス光、１２は測定光、１３は光源、１４はコリメータレンズ、１５はビームスプリッター、１６はλ／４板、１７はノマルスキープリズム、１８はアクチュエーター、１９は駆動回路、２０は位置検出器、２１は対物レンズ、２２は結像レンズ、２３はピンホールミラー、２４は光検出器、２５は信号処理回路である。
【００３８】
光源１３から放出された干渉性を有する光ビームはコリメータレンズ１４に入射する。そしてビームスプリッター１５に入射する。ビームスプリッター１５では特定の偏光面の光ビームだけを反射する。ビームスプリッター１５で反射した光ビームはλ／４板１６を経てノマルスキープリズム１７に入射する。このノマルスキープリズム１７は、互いに可干渉性を有する２本の光ビームを放出する。これらビーム間の距離はノマルスキープリズムの傾斜角等を代えることにより所望の距離に設定することができる。ノマルスキープリズム１７から出射した２本の光ビームは対物レンズ２１により集束し、ほぼ石英基板上で微小スポットとなる。ここで石英基板８は光源１３からの光に対して透過性を示しているため、一方の光ビームは図４に示すようにリファレンス光１１として石英基板８とクロムパターン９との界面で反射される。もう一方の光ビームは測定光１２として光源１３からの光に対して透過性を有するコンタミネーション１と気体との界面で反射する。
【００３９】
これら反射光は再び対物レンズを経てノマルスキープリズム１７に入射し、１本の干渉光ビームに合成される。ノマルスキープリズム１７にはアクチュエーター１８が連結されている。このアクチュエーター１８の変位を操作することにより、ノマルスキープリズム１７の光路への挿入量を時間的に連続して変えることができる。このノマルスキープリズム１７から出射するリファレンス光と測定光の間に時間的に連続して変化する相対的な位相シフトを導入することができる。従って、ノマルスキープリズム１７からコンタミネーション１０の段差に起因するリファレンス光と測定光の位相差情報及びノマルスキープリズム１７により導入された光路長差に起因する位相シフト量を含む干渉光ビームが出射する。
【００４０】
ノマルスキープリズム１７から出射した干渉光ビームは、λ／４板１６を経てビームスプリッター１５に入射する。この干渉光ビームは、λ／４板１６を２回通過しているので、その偏光面が９０度回転している。そしてビームスプリッター１５を透過する。さらに、この干渉光ビームは結像レンズ２２及びピンホールミラー２３を経て光検出器２４に入射する。
【００４１】
光検出器２４は、ノマルスキープリズム１７の移動により導入された位相シフト量に対する干渉光ビームの振幅変化を信号処理回路２５に出力する。この信号処理回路は位相差情報と位相シフト量に対する干渉光の振幅変化及び石英基板とコンタミネーションの屈折率からコンタミネーションの膜厚を求めることができる。
【００４２】
次に、本発明により測定できる対象について説明する。光源１３からの光に透過性を示す基板上に（ここでは石英基板８）、光源１３からの光を反射するパターンを形成する。このパターンは光を反射するパターンであればよく、上述のクロムパターンに限られるものではない。例えばＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｍｏ等の金属パターンでもよい。そして汚染度の評価を行いたい環境下に基板をセットし、コンタミネーション（汚染物質）を堆積させる。そして上述の評価方法により、コンタミネーションの膜厚を求める。
【００４３】
また発明にかかる汚染度の評価方法は実施の形態１で示した汚染防止方法の効果を評価することもできる。まず不純物が除去されていない気体が供給された光学系チャンバーに基板をセットする。そして上述のようにコンタミネーションの膜厚を求める。まず不純物が除去された気体が供給された光学系チャンバーに基板をセットし同様に膜厚を求める。そして両膜厚を比較することにより、汚染防止方法の定量的な評価をすることが可能となる。また光学系チャンバー内では遠紫外線を照射して、汚染物質を堆積させてもよい。さらにレンズなどの光学部品に設けられている材質と同じ材質の透明基板をセットすれば光学部品の汚染度を評価することも可能になる。
【００４４】
また本発明にかかる汚染度の測定方法は光学系チャンバーの汚染度の評価に限られたものではなく、通常の環境についての汚染度の評価に対しても利用することができる。すなわち光源からの光に対して透過性を有する基板（ここでは石英基板８）上に反射パターン（ここではクロムパターン９）を設け、その基板を評価する環境下に一定時間放置する。その間に堆積したコンタミネーション１０（不純物）の厚さを測定する。この厚さにより汚染度の評価を行うことができる。またこの汚染度の評価を定期的に行うことにより、経時的な汚染度の評価、汚染防止効果の評価を行うことができる。
【００４５】
本発明にかかる評価方法は、透明基板に光を照射し反射パターンとコンタミネーションの間の位相差によって、コンタミネーションの膜厚を測定、評価するものである。従って図示した構成に限られるものではない。また特開２０００−２４１１２１号公報で示されている全ての段差測定装置、段差測定方法、光学系、構成物等を利用できるものとする。
【００４６】
その他の実施の形態．
本発明のその他の実施の形態にかかる光学装置の構成について図２を用いて説明する。図１と付した符号と同じ符号を付した構成は同一の構成を示すため説明を省略する。また汚染物質の除去方法についても実施の形態１と同様であるため説明を省略する。２６は循環装置である。
【００４７】
本発明はガス導入ポート３を光学系チャンバー１と予備チャンバー４との間で循環されている点で実施の形態１と異なる。循環装置２６はポンプによって光学系チャンバー１を排気し、その後再び予備チャンバー４に気体を供給するために加圧している。これにより気体を複数回石英ろ紙５に通過させることができる。従って気体中の不純物を予備チャンバー４内でより多く除去することできる。これにより光学部品の寿命をさらに長く保つことができる。
【００４８】
【発明の効果】
本発明によれば、気体中の不純物を除去し、光学部品の汚染を防止することができる。また汚染防止効果の評価を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１にかかる光学装置の構成図である。
【図２】本発明のその他の実施の形態にかかる光学装置の構成図である。
【図３】本発明にかかる汚染防止効果の評価方法の構成図である。
【図４】図３で示した汚染防止効果の評価方法における測定位置の拡大図である
【図５】従来の光学装置の構成図である。
【図６】従来の光学装置の構成図である。
【符号の説明】
１　光学系チャンバー
２　活性炭フィルター
３　ガス導入ポート
４　予備チャンバー
５　石英ろ紙
６　重水素ランプ
７　リフレクター
８　石英基板
９　クロムパターン
１０　コンタミネーション
１１　リファレンス光
１２　測定光
１３　光源
１４　コリメータレンズ
１５　ビームスプリッター
１６　λ／４板
１７　ノマルスキープリズム
１８　アクチュエーター
１９　駆動回路
２０　位置検出器
２１　対物レンズ
２２　結像レンズ
２３　ピンホールミラー
２４　光検出器
２５　信号処理回路
２６　循環装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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