(57)【要約】【課題】薬液の液面が空気中に露出することを抑制しつつ、薬液処理を進行させる。【解決手段】薬液槽１に貯留された薬液５上に蓋３を浮かべて配置し、テープ基板７を開口部４ａ、４ｂに通すことにより、蓋３を介してテープ基板７を薬液５内に浸漬させ、テープ基板７を薬液５内に浸漬させた状態で、ローラ６ａ〜６ｄを介してテープ基板７を搬送しながら、テープ基板７の薬液処理を行う。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬液を貯留する薬液槽と、
前記薬液内に処理対象を搬送する搬送手段と、
前記薬液の液面を覆うように、前記薬液上に浮かべて配置された蓋とを備えることを特徴とする薬液処理装置。
【請求項２】
前記蓋は、前記薬液内に前記処理対象を出し入れする凹部または開口部を備えることを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置。
【請求項３】
前記薬液槽は、前記蓋の上下移動をガイドするガイドレールを備え、
前記蓋は、前記ガイドレールを挿入する切り欠き部を備えることを特徴とする請求項１または２記載の薬液処理装置。
【請求項４】
前記蓋は樹脂から構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の薬液処理装置。
【請求項５】
薬液を貯留する薬液槽と、
前記薬液槽内に設けられ、テープ基板をガイドするローラと、
前記薬液の液面を覆うように、前記薬液上に浮かべて配置された蓋と、
前記テープ基板の搬送方向に沿って前記蓋に設けられ、前記テープ基板を前記薬液槽に出し入れする１対の凹部または開口部とを備えることを特徴とする薬液処理装置。
【請求項６】
薬液槽に貯留された薬液上に蓋を浮かべて配置する工程と、前記蓋が浮かべて配置された薬液内に処理対象を浸漬させることにより、前記処理対象を薬液処理する工程とを備えることを特徴とする薬液処理方法。
【請求項７】
テープ基板上に導電層を形成する工程と、
前記導電層上にレジストを塗布する工程と、
前記導電層上に塗布されたレジストを選択的に露光する工程と、
蓋が浮かべて配置された現像液槽内に前記レジストの露光処理が行われたテープ基板を浸漬させることにより、前記レジストをパターニングする工程と、
前記パターニングされたレジストをマスクとして、前記導電層をエッチングすることにより、前記テープ基板上に配線層を形成する工程とを備えることを特徴とする回路基板の製造方法。
【請求項８】
テープ基板上に導電層を形成する工程と、
前記導電層上にレジストパターンを形成する工程と、
蓋が浮かべて配置されたエッチング液槽内に前記レジストパターンが形成されたテープ基板を浸漬させることにより、前記導電層をパターニングする工程とを備えることを特徴とする回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は薬液処理装置、薬液処理方法および回路基板の製造方法に関し、特に、フレキシブル回路基板のウェット処理工程に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の薬液処理装置では、例えば、特許文献１に開示されているように、洗浄液濃度を一定に保ち、エッチレートや洗浄効果を安定させるために、洗浄液の液面に接するようにして設けられた蓋を有する洗浄処理槽が用いられている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平６−１０４２３４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の薬液処理装置では、洗浄液の液面に接するようにして設けられた蓋は固定されている。このため、薬液処理中に薬液が減少すると、蓋と薬液とが離れ、薬液の液面が露出する。この結果、従来の薬液処理装置では、薬液処理中に薬液が空気と接触し、薬液の酸化などにより薬液が劣化することから、品質管理が困難になるという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、薬液の液面が空気中に露出することを抑制しつつ、薬液処理を進行させることが可能な薬液処理装置、薬液処理方法および回路基板の製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る薬液処理装置によれば、薬液を貯留する薬液槽と、前記薬液内に処理対象を搬送する搬送手段と、前記薬液の液面を覆うように、前記薬液上に浮かべて配置された蓋とを備えることを特徴とする。
【０００７】
これにより、薬液上に蓋を浮かべて配置するだけで、薬液の液面が下降した場合においても、薬液の液面に蓋を追従させることが可能となる。このため、薬液処理の進行に伴って薬液が減少した場合においても、薬液の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となり、薬液の酸化などによる薬液の劣化を抑制して、薬液の寿命を向上させることが可能となるとともに、薬液の品質を維持しつつ、薬液処理を行うことが可能となり、薬液処理を安定して行うことが可能となる。
【０００８】
また、本発明の一態様に係る薬液処理装置によれば、前記蓋は、前記薬液内に前記処理対象を出し入れする凹部または開口部を備えることを特徴とする。
これにより、薬液上に蓋を浮かべたままの状態で、処理対象を薬液内に浸漬させることが可能となり、薬液の品質を維持しつつ、薬液処理を効率よく行うことが可能となる。
【０００９】
また、本発明の一態様に係る薬液処理装置によれば、前記薬液槽は、前記蓋の上下移動をガイドするガイドレールを備え、前記蓋は、前記ガイドレールを挿入する切り欠き部を備えることを特徴とする。
これにより、薬液上に蓋が浮んだ状態を維持しつつ、蓋が水平方向に移動することを防止することが可能となる。このため、薬液上に蓋を浮かべて配置した場合においても、蓋が薬液上で押し流されることを防止しつつ、蓋を上下移動させることが可能となる。
【００１０】
また、本発明の一態様に係る薬液処理装置によれば、前記蓋は樹脂から構成されていることを特徴とする。
これにより、薬液が酸やアルカリから構成される場合においても、薬液上に蓋を浮べることを可能としつつ、蓋が薬液で侵されることを防止することが可能となり、薬液処理を安定して行うことが可能となる。
【００１１】
また、本発明の一態様に係る薬液処理装置によれば、薬液を貯留する薬液槽と、前記薬液槽内に設けられ、テープ基板をガイドするローラと、前記薬液の液面を覆うように、前記薬液上に浮かべて配置された蓋と、前記テープ基板の搬送方向に沿って前記蓋に設けられ、前記テープ基板を前記薬液槽に出し入れする１対の凹部または開口部とを備えることを特徴とする。
【００１２】
これにより、薬液上に蓋を浮かべて配置するだけで、薬液の液面が下降した場合においても、薬液の液面に蓋を追従させることが可能となるとともに、テープ基板を薬液槽に連続して出し入れすることが可能となる。このため、薬液処理の進行に伴って薬液が減少した場合においても、薬液の液面が空気中に露出することを抑制することを可能としつつ、テープ基板の薬液処理を連続して行うことが可能となり、薬液の酸化などによる薬液の劣化を抑制して、薬液の寿命を向上させることが可能となるとともに、テープ基板の品質を一定レベル以上に維持しつつ、薬液処理を効率よく行うことが可能となる。
【００１３】
また、本発明の一態様に係る薬液処理方法によれば、薬液槽に貯留された薬液上に蓋を浮かべて配置する工程と、前記蓋が浮かべて配置された薬液内に処理対象を浸漬させることにより、前記処理対象を薬液処理する工程とを備えることを特徴とする。
これにより、薬液上に蓋を浮かべて配置するだけで、薬液の液面が下降した場合においても、薬液の液面に蓋を追従させることが可能となる。このため、薬液処理の進行に伴って薬液が減少した場合においても、薬液の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となり、薬液の酸化などによる薬液の劣化を抑制して、薬液の寿命を向上させることが可能となるとともに、薬液の品質を維持しつつ、薬液処理を行うことが可能となり、薬液処理を安定して行うことが可能となる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る回路基板の製造方法によれば、テープ基板上に導電層を形成する工程と、前記導電層上にレジストを塗布する工程と、前記導電層上に塗布されたレジストを選択的に露光する工程と、蓋が浮かべて配置された現像液槽内に前記レジストの露光処理が行われたテープ基板を浸漬させることにより、前記レジストをパターニングする工程と、前記パターニングされたレジストをマスクとして、前記導電層をエッチングすることにより、前記テープ基板上に配線層を形成する工程とを備えることを特徴とする。
【００１５】
これにより、現像液の液面に蓋を追従させることを可能としつつ、テープ基板上に形成されたレジストの現像処理を行うことが可能となる。このため、現像液上に蓋を浮かべて配置するだけで、現像処理の進行に伴って現像液が減少した場合においても、現像液の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となり、製造工程の煩雑化を抑制しつつ、現像処理を安定して行うことが可能となる。
【００１６】
また、本発明の一態様に係る回路基板の製造方法によれば、テープ基板上に導電層を形成する工程と、前記導電層上にレジストパターンを形成する工程と、蓋が浮かべて配置されたエッチング液槽内に前記レジストパターンが形成されたテープ基板を浸漬させることにより、前記導電層をパターニングする工程とを備えることを特徴とする。
【００１７】
これにより、エッチング液の液面に蓋を追従させることを可能としつつ、テープ基板上に形成されたレジストの現像処理を行うことが可能となる。このため、エッチング液上に蓋を浮かべて配置するだけで、エッチング処理の進行に伴ってエッチング液が減少した場合においても、エッチング液の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となり、製造工程の煩雑化を抑制しつつ、エッチング処理を安定して行うことが可能となる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る薬液処理装置および薬液処理方法について図面を参照しながら説明する。
図１（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る薬液処理装置の概略構成を示す平面図、図１（ｂ）は、本発明の第１実施形態に係る薬液処理装置の概略構成を示す断面図、図１（ｃ）は、薬液処理の進行中の液処理装置の概略構成を示す平面図、図１（ｄ）は、薬液処理の進行中の薬液処理装置の概略構成を示す断面図である。
【００１９】
図１（ａ）および図１（ｂ）において、薬液槽１には薬液５が貯留され、薬液５上には、蓋３が浮かべて配置されている。そして、薬液槽１には、深さ方向に延伸されたガイドレール２が設置され、蓋３には、ガイドレール２を挿入可能な切り欠き部８が設けられている。また、蓋３には、テープ基板７の搬送方向に沿って、テープ基板７を出し入れする開口部４ａ、４ｂが設けられている。さらに、テープ基板７の搬送方向に沿って、テープ基板７をガイドするローラ６ａ〜６ｄが設けられ、ローラ６ａ、６ｄは薬液槽１外に設置され、ローラ６ｂ、６ｃは薬液槽１内に設置されている。
【００２０】
ここで、蓋３の比重は薬液５の比重よりも小さくなるように構成され、蓋３の材質としては、例えば、テフロン（登録商標）、アクリル、ポリプロピレンなどの樹脂を用いることが好ましい。これにより、薬液５が酸やアルカリから構成される場合においても、薬液５上に蓋３を浮べることを可能としつつ、蓋３が薬液５で侵されることを防止することが可能となり、テープ基板７の薬液処理を安定して行うことが可能となる。
【００２１】
また、薬液５としては、例えば、レジストの現像液、レジストの剥離液、Ｃｕなどの金属のエッチング液などを挙げることができる。さらに、テープ基板７は、例えば、ＣＯＦ（チップ・オン・フィルム）、ＴＣＰ（テープ・キャリア、パッケージ）、ＴＣＭ（テープキャリアモジュール）などに用いることができる。そして、テープ基板７の薬液処理を行う場合、テープ基板７を開口部４ａ、４ｂに通すことにより、蓋３を介してテープ基板７を薬液５内に浸漬させる。そして、テープ基板７を薬液５内に浸漬させた状態で、ローラ６ａ〜６ｄを介してテープ基板７を搬送しながら、テープ基板７の薬液処理を行う。
【００２２】
そして、テープ基板７の薬液処理が進行すると、図１（ｃ）および図１（ｄ）に示すように、テープ基板７に付着した薬液５が薬液槽１から持ち出され、薬液槽１内の薬液５が減少する。ここで、薬液５上に蓋３を浮かべて配置することにより、薬液槽１内の薬液５が減少し、薬液５の液面が下降した場合においても、薬液５の液面に蓋３を追従させることができる。このため、テープ基板７の薬液処理を連続して行った場合においても、薬液５の液面に蓋３が常に接した状態を維持することが可能となり、薬液５の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となる。
【００２３】
この結果、薬液５上に蓋３を浮かべて配置するだけで、薬液５の液面が空気中に露出しないようにして、テープ基板７の薬液処理を進行させることが可能となり、蓋３を移動させるための複雑な機構を用いることなく、薬液５の酸化などによる薬液５の劣化を抑制して、薬液５の寿命を向上させることが可能となるとともに、テープ基板７の品質を一定レベル以上に維持しつつ、薬液処理を効率よく行うことが可能となる。
【００２４】
また、蓋３をガイドするためのガイドレール２を設けることにより、薬液５上に蓋３が浮んだ状態を維持しつつ、蓋５が水平方向に移動することを防止することが可能となる。このため、薬液３上に蓋５を浮かべて配置した場合においても、蓋３が薬液５上で押し流されることを防止することが可能となり、蓋３がテープ基板７に衝突することを防止して、テープ基板７を保護することが可能となる。
【００２５】
さらに、テープ基板７を出し入れする開口部４ａ、４ｂを蓋３に設けることにより、薬液５上に蓋３を浮かべたままの状態で、テープ基板７を薬液５内に浸漬させることが可能となり、薬液５の品質を維持しつつ、テープ基板７の薬液処理を効率よく行うことが可能となる。
図２（ａ）は、本発明の第２実施形態に係る薬液処理装置の概略構成を示す平面図、図２（ｂ）は、本発明の第２実施形態に係る薬液処理装置の概略構成を示す断面図、図２（ｃ）は、薬液処理の進行中の液処理装置の概略構成を示す平面図、図２（ｄ）は、薬液処理の進行中の薬液処理装置の概略構成を示す断面図である。
【００２６】
図２（ａ）および図２（ｂ）において、薬液槽１１には薬液１５が貯留され、薬液１５上には、蓋１３が浮かべて配置されている。そして、薬液槽１１には、深さ方向に延伸されたガイドレール１２が設置され、蓋１３には、ガイドレール１２を挿入可能な切り欠き部１８が設けられている。また、蓋１３には、テープ基板１７の搬送方向に沿って、テープ基板１７を出し入れする凹部１４ａ、１４ｂが設けられている。さらに、テープ基板１７の搬送方向に沿って、テープ基板１７をガイドするローラ１６ａ〜１６ｄが設けられ、ローラ１６ａ、１６ｄは薬液槽１１外に設置され、ローラ１６ｂ、１６ｃは薬液槽１１内に設置されている。
【００２７】
ここで、蓋１３の比重は薬液１５の比重よりも小さくなるように構成され、蓋１３の材質としては、例えば、テフロン（登録商標）、アクリル、ポリプロピレンなどの樹脂を用いることが好ましい。これにより、薬液１５が酸やアルカリから構成される場合においても、薬液１５上に蓋１３を浮べることを可能としつつ、蓋１３が薬液１５で侵されることを防止することが可能となり、テープ基板１７の薬液処理を安定して行うことが可能となる。
【００２８】
また、薬液１５としては、例えば、レジストの現像液、レジストの剥離液、Ｃｕなどの金属のエッチング液などを挙げることができる。さらに、テープ基板７は、例えば、ＣＯＦ（チップ・オン・フィルム）、ＴＣＰ（テープ・キャリア、パッケージ）、ＴＣＭ（テープキャリアモジュール）などに用いることができる。
【００２９】
そして、テープ基板１７の薬液処理を行う場合、テープ基板１７を凹部１４ａ、１４ｂに通すことにより、蓋１３を介してテープ基板１７を薬液１５内に浸漬させる。そして、テープ基板１７を薬液１５内に浸漬させた状態で、ローラ１６ａ〜１６ｄを介してテープ基板１７を搬送しながら、テープ基板１７の薬液処理を行う。
【００３０】
そして、テープ基板１７の薬液処理が進行すると、図２（ｃ）および図２（ｄ）に示すように、テープ基板１７に付着した薬液１５が薬液槽１１から持ち出され、薬液槽１１内の薬液１５が減少する。ここで、薬液１５上には蓋１３を浮かべて配置されているので、薬液槽１１内の薬液１５が減少し、薬液１５の液面が下降すると、薬液１５の液面に蓋１３が追従する。このため、薬液槽１１内の薬液１５が減少した場合においても、薬液１５の液面に蓋１３が常に接した状態を維持することが可能となり、薬液１５の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となる。
【００３１】
この結果、薬液１５上に蓋１３を浮かべて配置するだけで、薬液１５の液面が空気中に露出しないようにして、テープ基板１７の薬液処理を進行させることが可能となり、蓋１３を移動させるための複雑な機構を用いることなく、薬液１５の酸化などによる薬液１５の劣化を抑制して、薬液１５の寿命を向上させることが可能となるとともに、テープ基板１７の品質を一定レベル以上に維持しつつ、薬液処理を効率よく行うことが可能となる。
【００３２】
また、蓋１３をガイドするためのガイドレール１２を設けることにより、薬液１５上に蓋１３が浮んだ状態を維持しつつ、蓋１５が水平方向に移動することを防止することが可能となる。このため、薬液１３上に蓋１５を浮かべて配置した場合においても、蓋１３が薬液１５上で押し流されることを防止することが可能となり、蓋１３がテープ基板１７に衝突することを防止して、テープ基板１７を保護することが可能となる。
【００３３】
さらに、テープ基板１７を出し入れする凹部１４ａ、１４ｂを蓋１３に設けることにより、薬液１５上に蓋１３を浮かべたままの状態で、テープ基板１７を薬液１５内に浸漬させることが可能となり、薬液１５の品質を維持しつつ、テープ基板１７の薬液処理を効率よく行うことが可能となる。また、凹部１４ａ、１４ｂを蓋１３に設けることにより、テープ基板１７を薬液１５内に浸漬させた状態で、蓋１３を薬液１５上に浮かべて配置したり、蓋１３を取り外したりすることができる。このため、蓋１３を薬液槽１１に容易に設置したり、テープ基板１７の薬液処理を行いながら、薬液１５を薬液槽１１に補充したりすることが可能となり、テープ基板１７の薬液処理を効率よく行うことが可能となる。
【００３４】
図３は、本発明の第３実施形態に係る回路基板の製造方法を示す断面図である。
図３（ａ）において、テープ基板２１には、銅箔などの導電層２２が形成され、導電層２２上にはレジスト層２３が形成されている。そして、レジスト層２３の露光処理を行うことにより、レジスト層２３を選択的に感光させる。
【００３５】
次に、図３（ｂ）に示すように、レジスト層２３が選択的に感光されると、感光されたレジスト層２３の現像処理を行うことにより、導電層２２上にレジストパターン２４を形成する。ここで、レジスト層２３の現像処理を行う場合、図１の薬液５として現像液を薬液槽１に貯留することができる。そして、薬液５上に蓋３が浮かべながら、レジスト層２３が形成されたテープ基板２１を薬液５内に浸漬させることができる。
【００３６】
これにより、現像液の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となり、現像液の現像速度の劣化を抑止しつつ、レジスト層２３の現像処理を行うことが可能となる。このため、テープ基板２１の搬送速度を一定に維持したまま、レジストパターン２４を精度よく形成することが可能となり、生産効率の劣化を抑制しつつ、現像処理を安定して行うことが可能となる。
【００３７】
次に、図３（ｃ）に示すように、導電層２２上にレジストパターン２４が形成されると、レジストパターン２４をマスクとして導電層２２のエッチング処理を行うことにより、テープ基板２１上に配線層２５を形成する。ここで、導電層２２のエッチング処理を行う場合、図１の薬液５として塩化鉄などのエッチング液を薬液槽１に貯留することができる。そして、薬液５上に蓋３が浮かべながら、レジストパターン２４が形成されたテープ基板２１を薬液５内に浸漬させることができる。
【００３８】
これにより、エッチング液の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となり、エッチング液のエッチングレートの劣化を抑止しつつ、導電層２２のエッチング処理を行うことが可能となる。このため、テープ基板２１の搬送速度を一定に維持したまま、配線層２５を精度よく形成することが可能となり、生産効率の劣化を抑制しつつ、エッチング処理を安定して行うことが可能となる。
【００３９】
次に、図３（ｄ）に示すように、テープ基板２１上に配線層２５が形成されると、配線層２５上のレジストパターン２４を剥離する。ここで、レジストパターン２４を剥離する場合、図１の薬液５として有機溶媒などのレジスト剥離液を薬液槽１に貯留することができる。そして、薬液５上に蓋３が浮かべながら、レジストパターン２４が形成されたテープ基板２１を薬液５内に浸漬させることができる。
【００４０】
これにより、レジスト剥離液の液面が空気中に露出することを抑制することが可能となり、レジスト剥離液のエッチングレートの劣化を抑止しつつ、レジストパターン２４を剥離することが可能となるとともに、レジスト剥離液が揮発することを抑制することが可能となる。このため、テープ基板２１の搬送速度を一定に維持したまま、レジストパターン２４を効率よく剥離することが可能となり、レジストパターン２４の剥離漏れを防止することが可能となるとともに、レジスト剥離液の浪費を防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る薬液処理装置の概略構成を示す図。
【図２】本発明の第２実施形態に係る薬液処理装置の概略構成を示す図。
【図３】本発明の第３実施形態に係る回路基板の製造方法を示す断面図。
【符号の説明】
１、１１  薬液槽、２、１２  ガイドレール、３、１３  蓋、４ａ、４ｂ  開口部、５、１５  薬液、６ａ〜６ｄ、１６ａ〜１６ｄ  ローラ、７、１７  テープ基板、８、１８  切り欠き部、１４ａ、１４ｂ  凹部、２１  テープ基板、  ２２  導電層、２３  レジスト層、２４  レジストパターン、２５  配線層
【図１】
2004358283.tif 000003
【図２】
2004358283.tif 000004
【図３】
2004358283.tif 000005