(57)【要約】【課題】光の干渉によるモアレの発生を効果的に抑制することができるマイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること、前記マイクロレンズ基板の製造に好適に用いることが可能な凹部付き基板、マイクロレンズ用凹部付き基板を提供すること、また、前記凹部付き基板を製造することが可能な凹部付き基板の製造方法を提供することにある。【解決手段】本発明の凹部付き基板の製造方法は、基板５上にマスク６を形成するマスク形成工程と、ショットブラストにより、マスク６に複数の初期孔６１をランダムに形成する初期孔形成工程（ｃ）と、初期孔６１が形成されたマスク６を用いてエッチングを施し、基板５上に、ランダムに配された複数の凹部を形成するエッチング工程（ｄ）とを有する。その後、マスク６および裏面保護膜６９を除去することにより、本発明の凹部付き基板が得られる。【選択図】  図５
2004287372.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にマスクを形成するマスク形成工程と、
ショットブラストにより、前記マスクに複数の初期孔をランダムに形成する初期孔形成工程と、
前記初期孔が形成された前記マスクを用いてエッチングを施し、前記基板上に、ランダムに配された複数の凹部を形成するエッチング工程とを有することを特徴とする凹部付き基板の製造方法。
【請求項２】
前記ショットブラストは、投射材としてガラスビーズを用いて行うものである請求項１に記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項３】
前記ショットブラストは、直径が２０〜２００μｍの投射材を用いて行うものである請求項１または２に記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項４】
前記ショットブラストは、１〜１０ｋｇ／ｃｍ２の噴射圧で投射材を噴射することにより行うものである請求項１ないし３のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項５】
前記ショットブラストは、１０〜１００ｋｇ／ｍ２の噴射密度で投射材を噴射することにより行うものである請求項１ないし４のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項６】
前記マスクは、主としてＣｒまたは酸化Ｃｒで構成されたものである請求項１ないし５のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項７】
前記マスクの平均厚さが０．０５〜１．０μｍである請求項１ないし６のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項８】
前記初期孔形成工程において、前記基板の表面の少なくとも一部に、初期凹部を形成する請求項１ないし７のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項９】
前記ショットブラストを複数回繰り返して行う請求項１ないし８のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１０】
前記エッチング工程はウェットエッチングにより行うものである請求項１ないし９のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１１】
前記ウェットエッチングは、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウム溶液またはフッ化アンモニウム溶液を用いて行うものである請求項１０に記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１２】
さらに、前記マスクを除去するマスク除去工程を有する請求項１ないし１１のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１３】
前記マスク形成工程と、前記初期孔形成工程と、前記エッチング工程との一連の工程を複数回繰り返して行う請求項１ないし１２のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１４】
前記基板は、無アルカリガラスで構成されたものである請求項１ないし１３のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１５】
前記凹部付き基板を平面視したときに、前記凹部が形成されている有効領域において、前記凹部が占める面積の割合が９０％以上である請求項１ないし１４のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１６】
前記凹部は、マイクロレンズ用凹部である請求項１ないし１５のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法。
【請求項１７】
請求項１ないし１６のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とする凹部付き基板。
【請求項１８】
請求項１６に記載の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項１９】
請求項１８に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて製造され、光学的にランダムに配された複数のマイクロレンズを有することを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項２０】
請求項１９に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項２１】
光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の出射面側に配置された請求項１９に記載のマイクロレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項２２】
光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の出射面側に配置された請求項１９に記載のマイクロレンズ基板と、
前記フレネルレンズ部と前記マイクロレンズ基板との間に配置された光拡散部とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項２３】
前記光拡散部は、略表面で光拡散する光拡散部である請求項２２に記載の透過型スクリーン。
【請求項２４】
前記光拡散部のヘイズ値は５〜９５％である請求項２２または２３に記載の透過型スクリーン。
【請求項２５】
前記光拡散部の光沢度は５〜４０％である請求項２２ないし２４のいずれかに記載の透過型スクリーン。
【請求項２６】
前記光拡散部の表面は略錐状の凹凸形状を有している請求項２２ないし２５のいずれかに記載の透過型スクリーン。
【請求項２７】
前記光拡散部は一方の表面が粗面化された樹脂シートである請求項２２ないし２６のいずれかに記載の透過型スクリーン。
【請求項２８】
前記マイクロレンズの直径は１０〜５００μｍである請求項２２ないし２７のいずれかに記載の透過型スクリーン。
【請求項２９】
請求項２０ないし２８のいずれかに記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【請求項３０】
投写光学ユニットと、導光ミラーと、請求項２０ないし２８のいずれかに記載の透過型スクリーンとを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、凹部付き基板の製造方法、凹部付き基板、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズが一般的に用いられている。この型は、左右の視野角が大きいが上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
【０００３】
このような問題を解決するものとして、レンチキュラレンズに代えてマイクロレンズアレイシート（マイクロレンズ基板）を用いた透過型スクリーン（背面投射型映像表示装置のスクリーン）がある（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、このような、周期的なパターンを有するマイクロレンズアレイを備えた、従来の透過型スクリーンでは、マイクロレンズを通過した光が干渉しあい、レンチキュラレンズを用いた場合に比べて、特にモアレを発生し易いという問題があった。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−１３１５０６号公報（特許請求の範囲、第３頁左欄第２１〜３３行目）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、光の干渉によるモアレの発生を効果的に抑制することができるマイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること、前記マイクロレンズ基板の製造に好適に用いることが可能な凹部付き基板、マイクロレンズ用凹部付き基板を提供すること、また、前記凹部付き基板を製造することが可能な凹部付き基板の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の凹部付き基板の製造方法は、基板上にマスクを形成するマスク形成工程と、
ショットブラストにより、前記マスクに複数の初期孔をランダムに形成する初期孔形成工程と、
前記初期孔が形成された前記マスクを用いてエッチングを施し、前記基板上に、ランダムに配された複数の凹部を形成するエッチング工程とを有することを特徴とする。
これにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に抑制することができるマイクロレンズ基板等の製造に好適に用いることが可能な凹部付き基板を提供することができる。
【０００７】
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記ショットブラストは、投射材としてガラスビーズを用いて行うものであることが好ましい。
これにより、マスクに、ランダムな初期孔を容易に形成することができる。
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記ショットブラストは、直径が２０〜２００μｍの投射材を用いて行うものであることが好ましい。
これにより、適度な大きさの凹部を、より確実に形成することができる。
【０００８】
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記ショットブラストは、１〜１０ｋｇ／ｃｍ２の噴射圧で投射材を噴射することにより行うものであることが好ましい。
これにより、ランダムな初期孔を、より効率良く形成することができる。
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記ショットブラストは、１０〜１００ｋｇ／ｍ２の噴射密度で投射材を噴射することにより行うものであることが好ましい。
これにより、ランダムな初期孔を、より効率良く形成することができる。
【０００９】
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記マスクは、主としてＣｒまたは酸化Ｃｒで構成されたものであることが好ましい。
これにより、初期孔形成工程においては初期孔を容易に形成できるとともに、エッチング工程においては基板をより確実に保護することができる。
本発明の凹部付き基板の製造方法は、前記マスクの平均厚さが０．０５〜１．０μｍであることが好ましい。
これにより、初期孔形成工程においては初期孔を容易に形成できるとともに、エッチング工程においては基板を十分に保護することができる。
【００１０】
本発明の凹部付き基板の製造方法は、前記初期孔形成工程において、前記基板の表面の少なくとも一部に、初期凹部を形成することが好ましい。
これにより、凹部をより効率良く形成することができる。
本発明の凹部付き基板の製造方法は、前記ショットブラストを複数回繰り返して行うことが好ましい。
これにより、凹部をより緻密に形成することができる。
【００１１】
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記エッチング工程はウェットエッチングにより行うものであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズの形成に好適な曲面部を有する凹部を、容易かつ確実に形成することができる。
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記ウェットエッチングは、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウム溶液またはフッ化アンモニウム（フッ化アンモン）溶液を用いて行うものであることが好ましい。
４ｗｔ％以下の一水素二フッ化アンモニウム溶液や、フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、工程を安全に行うことができる。
【００１２】
本発明の凹部付き基板の製造方法は、さらに、前記マスクを除去するマスク除去工程を有することが好ましい。
マスクを除去することで、凹部が形成された基板が得られる。
本発明の凹部付き基板の製造方法は、前記マスク形成工程と、前記初期孔形成工程と、前記エッチング工程との一連の工程を複数回繰り返して行うことが好ましい。
これにより、凹部をより緻密に形成することができる。
【００１３】
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記基板は、無アルカリガラスで構成されたものであることが好ましい。
これにより、加工が容易であるとともに好適な光学特性を有する凹部付き基板が得られる。
本発明の凹部付き基板の製造方法は、前記凹部付き基板を平面視したときに、前記凹部が形成されている有効領域において、前記凹部が占める面積の割合が９０％以上であることが好ましい。
これにより、光源からの光が拡散するのを効果的に防止することができ、また、直接スクリーンを通過した光で、ギラギラしたり、光源が見えたりすることも効果的に防止される。
本発明の凹部付き基板の製造方法では、前記凹部は、マイクロレンズ用凹部であることが好ましい。
これにより、得られる凹部付き基板を、マイクロレンズの製造に好適に用いることができる。
【００１４】
本発明の凹部付き基板は、本発明の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、複数の凹部がランダムに配された凹部付き基板を生産性良く得ることができる。特に、比較的大面積の凹部付き基板を容易かつ安価に得ることができる。
【００１５】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板は、本発明の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、複数のマイクロレンズ用凹部がランダムに配されたマイクロレンズ用凹部付き基板を生産性良く得ることができる。特に、比較的大面積のマイクロレンズ用凹部付き基板を容易かつ安価に得ることができる。
【００１６】
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて製造され、光学的にランダムに配された複数のマイクロレンズを有することを特徴とする。
これにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に抑制することができるマイクロレンズ基板を提供することができる。
【００１７】
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、モアレの発生が効果的に抑制された透過型スクリーンを提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の出射面側に配置された本発明のマイクロレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、モアレの発生が効果的に抑制された透過型スクリーンを提供することができる。
【００１８】
本発明の透過型スクリーンは、光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の出射面側に配置された本発明のマイクロレンズ基板と、
前記フレネルレンズ部と前記マイクロレンズ基板との間に配置された光拡散部とを備えたことを特徴とする。
これにより、モアレの発生がより効果的に抑制された透過型スクリーンを提供することができる。
【００１９】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散部は、略表面で光拡散する光拡散部であることが好ましい。
これにより、光拡散部を構成する基材の厚みを薄くしても光拡散機能の低下を防止することができるため、光拡散部を構成する基材の厚みを薄くすることができる。このため、フレネルレンズ部とマイクロレンズ基板との距離を短くすることができ、内部拡散によるゴーストの発生、コントラスト低下、透過率の低下を抑制することができる。また、光拡散部を構成する基材の厚みを薄くすることでフレネルレンズ部とマイクロレンズ基板との距離を広げすぎないようにして解像度の劣化を十分に防止することができる。
【００２０】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散部のヘイズ値は５〜９５％であることが好ましい。
これにより、各マイクロレンズに入射される光（強度、角度、位相等）の規則性を十分に低下させて、回折光やモアレの発生を十分に抑制しつつ、スクリーンに投影される画像において、にごりやボケの発生を十分に防止・抑制することができる。
【００２１】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散部の光沢度は５〜４０％であることが好ましい。
これにより、それぞれのレンズが一定の間隔で規則的に配置されたフレネルレンズ部とマイクロレンズ基板とを重ね合わせることで生じる規則的な干渉パターンの発生を十分に抑制して、回折光やモアレの発生を十分に防止・抑制しつつ、スクリーンに投影される画像におけるざらつき感やボケの発生を十分に防止・抑制することができる。
【００２２】
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散部の表面は略錐状の凹凸形状を有していることが好ましい。
これにより、回折光やモアレの発生をより効果的に防止・抑制することができる。
本発明の透過型スクリーンでは、前記光拡散部は一方の表面が粗面化された樹脂シートであることが好ましい。
これにより、回折光やモアレの発生をより効果的に防止・抑制することができる。
【００２３】
本発明の透過型スクリーンでは、前記マイクロレンズの直径は１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、透過型スクリーンの生産性をさらに高めることができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、モアレの発生が効果的に抑制されたリア型プロジェクタを提供することができる。
【００２４】
本発明のリア型プロジェクタは、投写光学ユニットと、導光ミラーと、本発明の透過型スクリーンとを備えたことを特徴とする。
これにより、モアレの発生がより効果的に抑制されたリア型プロジェクタを提供することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
本発明の凹部付き基板、マイクロレンズ用凹部付き基板およびマイクロレンズ基板は、それぞれ、個別基板とウエハーの双方を含むものとする。
なお、以下の説明では、代表的に、本発明の凹部付き基板をマイクロレンズ用凹部付き基板に適用した場合を説明する。
【００２６】
図１は、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図、図２は、本発明のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図、図３は、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図である。
図１に示すように、マイクロレンズ用凹部付き基板２は、ランダムに配された複数個の凹部（マイクロレンズ用凹部）３を有している。
【００２７】
そして、このようなマイクロレンズ用凹部付き基板２を用いることにより、図２（および後述する図１３）に示すような、マイクロレンズ８が光学的にランダムに配されたマイクロレンズ基板１を得ることができる。
本明細書中において「光学的にランダム」とは、光学的干渉の発生が十分に防止・抑制される程度に、マイクロレンズの配置が不規則で、乱れていることを意味する。
【００２８】
マイクロレンズ基板１は、図２に示すように、マイクロレンズ用凹部付き基板２と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板２に、所定の屈折率を有する透明な樹脂層１４を介して接合されたカバーガラス１３とを有している。樹脂層１４では、マイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３に充填された樹脂により、マイクロレンズ８が形成されている。
【００２９】
まず、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板およびマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法について、図４〜図９を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を図示して説明する。
まず、マイクロレンズ用凹部付き基板２を製造するに際し、基板５を用意する。
【００３０】
この基板５は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板５は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
基板５の材料としては無アルカリガラス、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウ珪酸ガラス等が挙げられるが、中でも、無アルカリガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）が好ましい。無アルカリガラス、結晶性ガラスは、加工が容易であるとともに、得られる凹部付き基板を好適な光学的特性を有するものとすることができる。また、無アルカリガラス、結晶性ガラスは、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
基板５の厚さは、基板５を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．３〜２０ｍｍ程度であるのが好ましく、２〜８ｍｍ程度であるのがより好ましい。厚さをこの範囲内とすると、必要な光学特性を備えたコンパクトなマイクロレンズ用凹部付き基板２を得ることができる。
【００３１】
＜１＞図４（ａ）に示すように、用意した基板５の表面に、マスク６を形成する（マスク形成工程）。また、これとともに、基板５の裏面（マスク６を形成する面と反対側の面）に裏面保護膜６９を形成する。もちろん、マスク６および裏面保護膜６９は同時に形成することもできる。
マスク６は、後述する工程＜２＞においてショットブラストにより初期孔６１を形成することができるとともに、後述する工程＜３＞におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク６は、エッチングレートが、基板５と略等しいか、または、基板５に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００３２】
かかる観点からは、このマスク６を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。また、マスク６を、Ｃｒ（または酸化Ｃｒ）／Ａｕのように異なる材料からなる複数の層の積層構造としてもよい。
【００３３】
マスク６の形成方法は特に限定されないが、マスク６を、Ｃｒ、Ａｕ等の金属材料や金属酸化物（例えば、酸化Ｃｒ）から構成する場合、マスク６は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク６をシリコンから構成する場合、マスク６は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００３４】
マスク６が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されるものである場合、後述する初期孔形成工程において初期孔６１を容易に形成することができるとともに、後述するエッチング工程においては基板５をより確実に保護することができる。また、マスク６が主としてＣｒまたは酸化Ｃｒで構成されたものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウム（ＮＨ４ＨＦ２）溶液や、フッ化アンモニウム（フッ化アンモン、ＮＨ４Ｆ）溶液を用いることができる。４ｗｔ％以下の一水素二フッ化アンモニウム溶液や、フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、エッチング液中には、過酸化水素水等が含まれていてもよい。なお、マスク６が主として酸化Ｃｒで構成されるものである場合、例えば、まず、主としてＣｒで構成されるＣｒ膜を形成し、その後、少なくともその表面付近を酸化することにより、マスク６としてもよい。
【００３５】
マスク６が主としてＡｕで構成されるものである場合、マスク６の膜厚を比較的大きいものとすることにより、例えば、後述する工程＜２＞でショットブラストを行う際に、投射材（ショット球）６１１の衝突の際の衝撃を緩和し、形成される初期孔６１の形状を、よりバランスに優れたものとすることができる。
マスク６の厚さは、マスク６を構成する材料によっても異なるが、０．０５〜２．０μｍ程度が好ましく、０．１〜０．５μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク６の構成材料等によっては、後述する工程＜２＞でショットブラストを施す際に、ショットの衝撃を十分に緩和するのが困難となり、形成される初期孔６１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述する工程＜３＞でウェットエッチングを施す際に、基板５のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、後述する工程＜２＞において、ショットブラストにより初期孔６１を形成するのが困難になるほか、マスク６の構成材料等によっては、マスク６の内部応力によりマスク６が剥がれ易くなる場合がある。
【００３６】
なお、裏面保護膜６９は、次工程以降で基板５の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜６９により、基板５の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜６９は、例えば、マスク６と同様の材料で構成されている。このため、裏面保護膜６９は、マスク６の形成と同時に、マスク６と同様に設けることができる。
【００３７】
＜２＞次に、図４（ｂ）および図５（ｃ）に示すように、マスク６に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔６１をランダムに形成する（初期孔形成工程）。
本発明は、このような初期孔を、ショットブラストにより形成する点に特徴を有する。これにより、ランダムに配置された複数個（多数個）のマイクロレンズ用凹部（凹部）を有するマイクロレンズ用凹部付き基板（凹部付き基板）を生産性良く製造することができる。特に、大面積のマイクロレンズ用凹部付き基板にも簡単に凹部を形成することができる。
【００３８】
ショットブラストでは、図４（ｂ）に示すように、基板５のマスク６が形成された面に対向する側に、当該面に対して垂直に配したノズル６１０から、マスク６の表面に向けて投射材６１１を噴射させることにより、マスク６に初期孔６１を形成する。図中矢印Ａ１、Ａ２に示すようにノズル６１０を移動させて、マスク６の全面に亘ってショットブラストを行い、初期孔６１をマスク６の全面に亘って形成する。
【００３９】
投射材６１１としては、スチールグリット、褐色アルミナ、ホワイトアルミナ、ガラスビーズ、ステンレスビーズ、ガーネット、硅砂、プラスチック、カットワイヤー、スラグ等が挙げられる。この中でも特に、ガラスビーズが好ましい。これにより、マスク６にランダムな初期孔６１を好適に（容易に）形成することができる。
【００４０】
このような投射材６１１の平均径（直径）は、２０〜２００μｍであるのが好ましく、５０〜１００μｍであるのがより好ましい。投射材６１１の平均径が前記下限値未満であると、初期孔を効率良く形成するのが困難となったり、また、投射材同士がくっついてかたまりになり易くなる。一方、投射材６１１の平均径が前記上限値を超えると、形成される初期孔６１が大きくなったり、初期孔同士がつながって大きくなったり、異形状の初期孔が形成されやすくなる。
【００４１】
投射材６１１の噴射圧は、１〜１０ｋｇ／ｃｍ２であるのが好ましく、３〜５ｋｇ／ｃｍ２であるのがより好ましい。投射材６１１の噴射圧が前記下限値未満であると、ショットの衝撃が弱くなり、マスク６に確実に初期孔６１を形成するのが困難になる場合がある。一方、投射材６１１の噴射圧が前記上限値を超えると、ショットの衝撃が強すぎて、投射材６１１が潰れたり、衝撃により初期孔６１の形状が歪んでしまったりする可能性がる。
【００４２】
また、投射材６１１の噴射密度は、１０〜１００ｋｇ／ｍ２であるのが好ましく、３０〜５０ｋｇ／ｍ２であるのがより好ましい。投射材６１１の噴射密度が前記下限値未満であると、ショット数が少なくなり、マスク６の全面に亘って偏りなく初期孔６１を形成するのに時間がかかる。一方、投射材６１１の噴射密度が前記上限値を超えると、初期孔６１が重なって形成され、初期孔同士がつながって大きな孔となってしまったり、異形状の初期孔が形成されやすくなる。
【００４３】
このようにショットブラストを行い、図５（ｃ）に示すようにマスク６に初期孔６１を形成する。
形成された初期孔６１は、マスク６の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。また、形成された初期孔６１は、後述する工程＜３＞でウェットエッチングを施した際に、基板５の表面の平らな面がなくなり、ほぼ隙間なく凹部３が形成される程度に、小さい孔がある程度の間隔で配されているのが好ましい。例えば、そのために、ショットブラストの時間を長時間としてもよいし、ショットブラストの工程を複数回繰り返してもよい。
【００４４】
具体的には、例えば、形成された初期孔６１の平面視での形状は、略円形であり、その平均径（直径）は、２〜１０μｍであるのが好ましい。また、初期孔６１は、マスク６上に１千〜１００万個／ｃｍ２  の割合で形成されているのが好ましく、１万〜５０万個／ｃｍ２の割合で形成されているのがより好ましい。なお、初期孔６１の形状は、略円形に限定されないことは言うまでもない。
【００４５】
また、マスク６に初期孔６１を形成するとき、図５（ｃ）に示すように、マスク６だけでなく基板５の表面の一部も同時に除去し、初期凹部５１を形成してもよい。これにより、後述する工程＜３＞でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部５１の深さの調整により、凹部３の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部５１の深さは、特に限定されないが、５．０μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。
【００４６】
このように、本発明ではショットブラストにより、マスクに初期孔を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク６に開口部（初期孔６１）をランダムに形成することができる。また、ショットブラストによれば、大きな基板に対する処理も容易に行うことができる。
【００４７】
＜３＞次に、図５（ｄ）および図６（ｅ）に示すように、マスク６を用いて基板５にエッチングを施し、基板５上に多数の凹部３をランダムに形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００４８】
初期孔６１が形成されたマスク６で被覆された基板５に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｄ）に示すように、基板５は、マスク６が存在しない部分、すなわち初期孔６１より食刻され、基板５上に多数の凹部３が形成される。上述したように、マスク６に形成された初期孔６１がランダムなものであるため、形成される凹部３は、基板５の表面にランダムに配置されたものとなる。
【００４９】
また、本実施形態では、工程＜２＞でマスク６に初期孔６１を形成した際に、基板５の表面に初期凹部５１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部３を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、フッ酸を含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用いると、基板５をより選択的に食刻することができ、凹部３を好適に形成することができる。
【００５０】
マスク６が主としてＣｒまたは酸化Ｃｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウム（ＮＨ４ＨＦ２）（フッ化アンモン）溶液が特に好適である。４ｗｔ％以下の一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板２を提供することができる。
【００５１】
＜４＞次に、図７（ｆ）に示すように、マスク６を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク６の除去とともに、裏面保護膜６９も除去する。
マスク６が主としてＣｒまたは酸化Ｃｒで構成されたものである場合、マスク６の除去は、例えば、硝酸第二セリウムとアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００５２】
以上により、図７（ｆ）および図３に示すように、基板５上に多数の凹部３がランダムに形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２が得られる。
凹部３は、比較的緻密に形成されているのが好ましい。具体的には、マイクロレンズ用凹部付き基板２を平面視したときに、凹部３が形成されている有効領域において、凹部３が占める面積の割合が９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましい。凹部３が占める面積の割合が９０％以上であると、凹部以外を通過する直射光をより少なくすることができ、光利用率をさらに向上させることができる。
【００５３】
以上説明したように、本発明では、ショットブラストによりマスク６に初期孔を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスク６に開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク６に所定パターンで開口部（初期孔６１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板２を提供することができる。
【００５４】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質の大型マイクロレンズ用凹部付き基板を簡便な方法で安価に製造することができる。
さらに、工程＜４＞でマスク６を除去した後、基板５上に新しいマスク６２を形成し、マスク形成−初期孔形成−ウェットエッチング−マスク除去の一連の工程を繰り返して行ってもよい。以下、具体的な一例について説明する。
【００５５】
＜Ｂ１＞まず、図８（ｇ）に示すように、凹部３が形成された基板５上に新しいマスク６２を形成する。マスク６２は、前述したマスク６と同様にして形成することができる（マスク形成工程）。
＜Ｂ２＞次に、図８（ｈ）に示すように、上述したようなショットブラストによりマスク６２に初期孔６３を形成する（初期孔形成工程）。このとき、基板５の表面に初期凹部５２を形成してもよい。
【００５６】
＜Ｂ３＞その後、図９（ｉ）に示すようにマスク６２を用いて、前記と同様なエッチングを施し、凹部３１を形成する（エッチング工程）。
＜Ｂ４＞最後に、図９（ｊ）に示すように、マスク６２および裏面保護膜６９を除去する（マスク除去工程）。
＜Ｂ１＞〜＜Ｂ４＞の工程は、上述した＜１＞〜＜４＞の工程と同様の方法でそれぞれ行うことができる。
【００５７】
このように一連の工程を繰り返して行うことで、基材５上に凹部３を緻密に形成することができる。また、これにより、基板５の全面に亘って偏りなく凹部を形成することができるとともに、凹部の形状をそろえて均一なものとすることができる。
また、各工程における条件を、１回目と２回目以降とで変えて行ってもよい。各工程における条件を変えて行うことにより、形成される凹部３の形状（大きさ、深さ、曲率、凹面形状等）を調整して所望の形状とすることができる。
【００５８】
例えば、初期孔形成工程において、投射材６１１の径や噴射圧、噴射密度、処理時間等の条件を変えることにより、マスク６２に形成される初期孔６３の大きさや密度、および基板５に形成される初期凹部５２の大きさや深さ等を調整することができる。
また、エッチング工程においてサイドエッチングレートを変えることで、形成される凹部３の形状を調整することができる。例えば、サイドエッチングレートを次第に小さくしていくことにより、形成される複数の凹部３の形状をそろえて均一なものとすることができる。
【００５９】
また、例えば、１回目のエッチングでは、サイドエッチングレートを大きく（小さく）して、基板表面の平らな部分をなくすプレエッチングとし、２回目以降のエッチングで、サイドエッチングレートを小さく（大きく）して、凹部３を形成する本エッチングとしてもよい。
さらに、初期孔６３の大きさ、初期凹部５２の大きさや深さ等を変え、さらにサイドエッチングレートを変えることで、形成される凹部３を所望の非球面形状とすることもできる。
【００６０】
なお、上述したような一連の工程を繰り返し行う場合、裏面保護膜６９は、＜４＞の工程等で除去されずに、繰り返し使用されるものであってもよい。
なお、説明を省略したが、図７（ｆ）および図３に示すように、基板５上にアライメントマーク４を設けてもよい。このアライメントマーク４は、前記マイクロレンズ基板１や、マイクロレンズ基板１を用いて様々なものを製造する際に、位置決めの指標とされる。
【００６１】
アライメントマーク４の形成位置は特に限定されないが、例えば、図３に示すように、アライメントマーク４を凹部３の形成領域外に形成することができる。
アライメントマーク４は、マイクロレンズ用凹部付き基板２上に複数箇所設けるのが好ましい。特に、アライメントマーク４はマイクロレンズ用凹部付き基板２の角部に複数箇所設けるのが好ましい。これにより、位置決めをより容易に行うことができるようになる。
【００６２】
図３は、アライメントマーク４を十字型にした例を示している。アライメントマーク４の形状は、特に限定されないが、図３に示すように、角を形成する角部４１を有しているのが好ましい。このようにアライメントマーク４が角部４１を有していると、位置決めをより正確に行うことができるようになる。
さらには、図３に示すように、アライメントマーク４は、その中心部位を示すマーク（図３では円形の開口４４）を有しているのが好ましい。これにより、位置決めの精度をさらに向上させることができる。
【００６３】
また、アライメントマーク４の構成（構造）や形成方法は、特に限定されず、例えば、図７（ｆ）や図３に示すように、基板５上に層を形成することにより、アライメントマークを設けてもよく、また、基板５上に、凹部３とは異なる形状を有する窪みを、アライメントマークとして設けてもよい。
なお、上述した実施形態では、マイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３を形成する領域外にアライメントマーク４を形成したが、凹部３を形成する領域内にアライメントマーク４を形成してもよいことは言うまでもない。
このアライメントマーク４は、マイクロレンズ用凹部付き基板２を用いて種々のものを組み立てるとき、様々な位置決めに用いることができる。
【００６４】
以下、マイクロレンズ用凹部付き基板２を用いて、マイクロレンズ基板を製造する方法について、図１０を参照しながら説明する。
なお、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板およびマイクロレンズ基板は、以下に述べる透過型スクリーンやリア型プロジェクタ以外にも、例えば、液晶表示装置（液晶パネル）、有機または無機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：エレクトロルミネッセンス）表示装置、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、その他の装置等に用いることができるのは言うまでもない。
【００６５】
＜５＞まず、図１０（ｋ）に示すように、カバーガラス１３を、接着剤を介して、マイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３が形成された面に接合する。
この接着剤が硬化する（固化する）ことにより、樹脂層（接着剤層）１４が形成される。また、これにより、樹脂層１４に、凹部３に充填された樹脂で構成され、凸レンズとして機能するマイクロレンズ８が形成される。
なお、この接着剤には、基板５の屈折率よりも高い屈折率（例えばｎ＝１．６０程度）の光学接着剤等が好適に用いられる。
【００６６】
＜６＞次に、図１０（ｌ）に示すように、カバーガラス１３の厚さを薄くする。
これは、カバーガラス１３に、例えば、研削、研磨、エッチング等の処理を施すことにより行うことができる。
カバーガラス１３の厚さは、特に限定されないが、必要な光学特性を備えたマイクロレンズ基板１を得る観点から、１０〜１０００μｍ程度が好ましく、２０〜１５０μｍ程度がより好ましい。
【００６７】
なお、積層したカバーガラス１３が、以降の工程を行うのに最適な厚さの場合には、本工程は行わなくてもよい。
これにより、図２に示すような、多数のマイクロレンズ８がランダムに配されたマイクロレンズ基板１が得られる。
【００６８】
上述したように、マイクロレンズ基板１においては、マイクロレンズ８が、光学的にランダムに配されている。このため、マイクロレンズ８を透過した光による光学的干渉の発生が十分に防止・抑制される。これにより、例えば、本発明のマイクロレンズ基板を後述するような透過型スクリーンに用いた場合に、いわゆるモアレの発生をほぼ完全に無くすことが可能になる。これにより、表示品質の良い優れた透過型スクリーンが得られる。
【００６９】
マイクロレンズ８（凹部３）のランダムの度合いを表す指標としては、例えば、任意の近接した２点間の距離を多数取り、それらから求められる標準偏差が挙げられる。本発明では、このようにして求められる標準偏差が、それらの平均の３％以上のランダム性（ランダムの度合い）を示すものであるのが好ましい。前記指標がこのような範囲の値であると、光学的干渉の発生をより効果的に防止することができる。
【００７０】
なお、前記マイクロレンズ基板の製造方法の説明においては、マイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３に樹脂を充填してカバーガラス１３で挟み込み、該樹脂でマイクロレンズ８を構成した場合を例に挙げて説明したが、マイクロレンズ用凹部付き基板２を型として用いた２Ｐ法（フォトポリマゼーション）によってマイクロレンズ基板を製造することもできる。
【００７１】
以下、２Ｐ法によるマイクロレンズ基板の製造方法を、図１１〜図１３を参照しながら説明する。
まず、図１１（ａ）に示すように、本発明によって製造された、マイクロレンズ用の凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を準備する。本方法では、この凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を型として用いる。これら凹部３に樹脂が充填されることにより、マイクロレンズ８が形成される。なお、凹部３の内面には、例えば離型剤等が塗布されていてもよい。そして、このマイクロレンズ用凹部付き基板２を、例えば凹部３が鉛直上方に開放するように設置する。
【００７２】
＜Ｃ１＞次に、凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２上に、樹脂層１４１（マイクロレンズ８）を構成することとなる未硬化の樹脂を供給する。
＜Ｃ２＞次に、かかる樹脂に透明基板５３を接合し、押圧・密着させる。
＜Ｃ３＞次に、前記樹脂を硬化させる。この硬化方法は、樹脂の種類によって適宜選択され、例えば、紫外線照射、加熱、電子線照射等が挙げられる。
これにより、図１１（ｂ）に示すように、樹脂層１４１が形成され、また、凹部３内に充填された樹脂により、マイクロレンズ８が形成される。
【００７３】
＜Ｃ４＞次に、図１１（ｃ）に示すように、型であるマイクロレンズ用凹部付き基板２をマイクロレンズ８から取り外す。このようにして、マイクロレンズ用凹部付き基板２から取り外された、マイクロレンズ８が形成された樹脂層１４１を、そのままスクリーンとして用いても良いが、例えば、以下に説明するような＜Ｃ５＞〜＜Ｃ７＞のような処理を、さらに施しても良い。
【００７４】
＜Ｃ５＞次に、図１２（ｄ）に示すように、例えばマイクロレンズ８が鉛直上方に向くように透明基板５３を設置した後、樹脂層１４２を構成することとなる未硬化の樹脂を、マイクロレンズ８上に供給する。この供給方法としては、例えば、スピンコート等の塗布法、平板の型等を使った２Ｐ法等が挙げられる。
＜Ｃ６＞次に、図１３（ｅ）に示すように、基板（ガラス層）５４をかかる樹脂に接合し、押圧・密着させた後、かかる樹脂を硬化させ、樹脂層１４２を形成する。基板５４の構成材料としては、例えば、前述した基板５と同様の構成材料等が挙げられる。
【００７５】
＜Ｃ７＞その後、必要に応じ、基板５４の厚さを研削、研磨等により調整してもよい。
これにより、図１３に示すような、ランダムに配された多数のマイクロレンズ８を有するマイクロレンズ基板１が得られる。
なお、前述した実施形態では、裏面保護膜６９を除去するものとして説明したが、裏面保護膜６９が実質的に透明なものであったり、また、得られる凹部付き基板を型として使用する場合には、必ずしも裏面保護膜６９は除去しなくてもよい。
【００７６】
また、前述した実施形態では、裏面保護膜６９を設けて凹部３を形成する方法について説明したが、裏面保護膜６９を設けずに凹部３を形成する方法であってもよい。
また、上述した説明では、１枚のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて構成された平凸レンズ（平凸型マイクロレンズ）を備えたマイクロレンズ基板を用いているが、本発明のマイクロレンズ基板は、これに限定されるものではない。
例えば、２枚のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて両凸レンズを備えたマイクロレンズ基板を構成することもできる。
【００７７】
また、以上の説明では、マイクロレンズ用凹部付き基板２として、ガラス基板を用いているが、本発明では、前記基板５の構成材料は、ガラスに限定されず、例えば、金属や樹脂等であってもよい。また、基板５は、凹部付き基板としたときに、実質的に透明とすることができるものであるのが好ましいが、例えば、前述した２Ｐ法のように、マイクロレンズ用凹部付き基板２を型として用いる場合等は、基板５として光の透過率が低いものを用いてもよい。
【００７８】
次に、図２に示したマイクロレンズ基板１を用いた透過型スクリーンについて、図１４、図１５を参照しながら説明する。図１４は、本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図、図１５は、図１４に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。なお、図１４中においては、マイクロレンズ基板１を簡略化して示した。すなわち、図１４中においては、マイクロレンズ基板１として、樹脂層１４のみを示し、マイクロレンズ用凹部付き基板２やカバーガラス１３等は省略して示した。
【００７９】
この透過型スクリーン２００は、出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部２１０と、フレネルレンズ部２１０の出射面側に配置され入射面側表面に多数のマイクロレンズ８が形成されたマイクロレンズ基板１と、フレネルレンズ部２１０とマイクロレンズ基板１との間に配置された光拡散部２３０とを備えている。
【００８０】
このように、透過型スクリーン２００は、マイクロレンズ基板１を有している。これにより、レンチキュラレンズを用いた場合に比べて上下方向の視野角が広くなる。
特に、本発明のマイクロレンズ基板１では、上述したように、マイクロレンズ８がランダムに配されているので、液晶等のライトバルブやフレネルレンズとの干渉を防ぎ、モアレの発生をほぼ完全に無くすことが可能になる。これにより、表示品質の良い優れた透過型スクリーンとなる。
【００８１】
また、上述したような方法によると、容易に大型のマイクロレンズ基板１を製造することができる。これにより、貼り合わせの繋ぎ目のない、高品質の大型スクリーンを製造することができる。
また、本実施形態のように、フレネルレンズ部２１０とマイクロレンズ基板１との間に光拡散部２３０が配置されることにより、透過型スクリーン２００の回折光やモアレの発生を、より効果的に防止・抑制することができる。すなわち、図１４に示すように、マイクロレンズ基板１の入射面側に光拡散部２３０を配置することにより、各マイクロレンズに入射される光（強度、角度、位相等）の規則性が低下し、マイクロレンズ基板１における回折光の発生が、より効果的に防止・抑制される。
【００８２】
また、図示のように、フレネルレンズ部２１０とマイクロレンズ基板１との間に光拡散部２３０を配置することにより、フレネルレンズを通過した光はいったん光拡散部２３０で拡散された後にマイクロレンズ基板１に入射されるようになる。その結果、規則的な干渉パターンの発生が防止・抑制され、フレネルレンズ部２１０とマイクロレンズ基板１におけるモアレの発生が効果的に防止・抑制される。
【００８３】
また、本実施形態の透過型スクリーン２００においては、光拡散部２３０は、一方の表面が粗面化された（略表面で光拡散する）いわゆる表面光拡散方式の樹脂シートである。このため、光拡散機能は樹脂シート表面で発揮されるため、樹脂シートを薄くしても光拡散機能の低下が防止される。このため、フレネルレンズ部２１０とマイクロレンズ基板１との間隔を短くすることができ、内部拡散によるゴーストの発生、コントラスト低下及び透過率の低下を防止・抑制することができる。樹脂シートは、例えば、ブラスト処理等により粗面化された型を使用して、キャスト法や押し出し成形法により樹脂シートへの転写を行う方法により製造することができる。このような方法で製造することにより、回折光やモアレの発生が十分に防止された光拡散部を、比較的簡単な方法で製造することができる。
【００８４】
光拡散部２３０のヘイズ値（ＨＡＺＥ値：拡散透過率をＰｄ、全透過率をＰａとしたとき、（Ｐｄ／Ｐａ）×１００で表される値）は、５〜９５％であるのが好ましく、２０〜９３％であるのがより好ましく、５０〜７５％であるのがさらに好ましい。光拡散部２３０のヘイズ値が前記範囲内の値であると、各マイクロレンズ８に入射される光（強度、角度、位相等）の規則性を十分に低下させて、回折光やモアレの発生を十分に抑制しつつ、スクリーンに投影される画像において、にごりやボケの発生を十分に防止・抑制することができる。
【００８５】
また、光拡散部２３０の光沢度は、５〜４０％であるのが好ましく、１０〜３５％であるのがより好ましく、１５〜３０％であるのがさらに好ましい。光拡散部２３０の光沢度が前記範囲内の値であると、それぞれのレンズが一定の間隔で規則的に配置されたフレネルレンズ部２１０とマイクロレンズ基板１とを重ね合わせることで生じる規則的な干渉パターンの発生を十分に抑制して、回折光やモアレの発生をより効果的に防止・抑制しつつ、スクリーンに投影される画像におけるざらつき感やボケの発生を十分に防止・抑制することができる。なお、光拡散部２３０の光沢度は、入射角６０度としたとき、入射光量に対する反射光量の割合（％）で表される値である。
【００８６】
また、光拡散部２３０を構成する樹脂シートの表面は、略錐状体の凹凸形状を有しているのが好ましい。これにより、回折光やモアレの発生をより効果的に防止・抑制することができる。また、光拡散部２３０を構成する樹脂シートの表面が略錐状体の凹凸形状を有するものである場合、この略錐状体の高低差は５〜２００μｍであるのが好ましい。これにより、回折光やモアレの発生をさらに効果的に防止・抑制することができる。
【００８７】
マイクロレンズ基板１におけるマイクロレンズ８の直径は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、１００〜２００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ８の直径が前記範囲内の値であると、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、透過型スクリーンの生産性をさらに高めることができる。なお、マイクロレンズ基板１においては、隣接するマイクロレンズ８−マイクロレンズ８間のピッチは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、１００〜２００μｍであるのがさらに好ましい。
【００８８】
また、上述したような方法によると、容易に大型のマイクロレンズ基板１を製造することができる。これにより、貼り合わせの繋ぎ目のない、高品質の大型スクリーンを製造することができる。
なお、本発明の透過型スクリーンは、上述した構成に限られない。例えば、マイクロレンズ基板１の出射面側に、ブラックストライプや光拡散板や他のマイクロレンズをさらに採用した透過型スクリーンとすることもできる。
【００８９】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１６は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン３３０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【００９０】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、その透過型スクリーン３３０として、上述した回折光やモアレが発生しにくい透過型スクリーン２００を用いている。このため、視野角が広く、さらにモアレの発生が無く表示品質の良い優れたリア型プロジェクタとなる。
以上説明したように、本発明の凹部付き基板（マイクロレンズ用凹部付き基板）およびマイクロレンズ基板では、凹部（マイクロレンズ用凹部）およびマイクロレンズがランダム（光学的にランダム）に配されているので、光学的干渉が抑えられたものとなる。
【００９１】
これにより、例えば本発明のマイクロレンズ基板を用いた透過型スクリーンやリア型プロジェクタは、液晶等のライトバルブやフレネルレンズとの干渉を防いでモアレの発生をほぼ完全に無くすことが可能となり、表示品質の良い優れたものとなる。
さらに、本発明では、ショットブラストにより、マスクに初期孔を形成するので、従来のようなフォトリソグラフィ法によりマスクに開口部を形成する場合に比べて、容易かつ確実に、マスクにランダムな開口部（初期孔）を形成することができる。その結果、凹部付き基板（マイクロレンズ用凹部付き基板）、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ等の生産性が向上する。
【００９２】
また、本発明によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができるので、大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の凹部付き基板（マイクロレンズ用凹部付き基板）、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ等を簡便な方法で安価に製造することができる。
【００９３】
以上、本発明の凹部付き基板の製造方法、凹部付き基板、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、前記の説明では、初期孔形成工程において、ノズル６１０を１次元的に移動させつつショットブラストを行う構成について説明したが、ブラスト処理は、ノズルを２次元的または３次元的に移動させつつ行うものであってもよい。
【００９４】
また、本発明の透過型スクリーン、リア型プロジェクタは、前述した実施形態のようなものに限定されず、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。例えば、本発明の透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板１の出射面側に、ブラックストライプや光拡散板や他のマイクロレンズをさらに採用した透過型スクリーンであってもよい。また、前述した実施形態では、光拡散部として樹脂シートを設置した構成について説明したが、光拡散部は、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されている面とは反対側の面に粗面化処理等を施すことにより形成されたものであってもよい。すなわち、光拡散部は、マイクロレンズ用凹部付き基板（マイクロレンズ基板）と一体的に形成されたものであってもよい。
【００９５】
また、本発明のスクリーン（透過型スクリーン）、リア型プロジェクタは、前述した実施形態のような光拡散部を有していないものであっても良い。スクリーン、リア型プロジェクタが、本発明のマイクロレンズ基板を有するものである場合、前述したような光拡散部を有していなくても、干渉縞の発生等を十分効果的に防止することができる。
【００９６】
また、上述した説明では、本発明のマイクロレンズ基板を、透過型スクリーンおよび該透過型スクリーンを備えた投射型表示装置に用いた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明のマイクロレンズ基板を、例えば、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、液晶表示装置（液晶パネル）、有機または無機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：エレクトロルミネッセンス）表示装置、その他の装置等に用いることができるのは言うまでもない。
【００９７】
また、表示装置もリアプロジェクション型の表示装置（リア型プロジェクタ）に限定されず、例えば、フロントプロジェクション型の表示装置に本発明のマイクロレンズ基板を用いることができる。
また、上述した説明では、本発明の凹部付き基板をマイクロレンズ用凹部付き基板に適用した場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明の凹部付き基板は、例えば、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子のような各種の発光源における反射鏡（反射板）や発光源からの光を反射する反射鏡、または発光源からの光を拡散する拡散板等にも適用することができる。
【００９８】
【実施例】
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ用の凹部を備えたマイクロレンズ用凹部付き基板を製造し、このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いてマイクロレンズ基板を製造した。
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ５ｍｍの無アルカリガラス基板を用意した。
この無アルカリガラス基板を、３０℃に加熱した洗浄液（一水素二フッ化アンモニウム４ｗｔ％水溶液（過酸化水素水を若干含む））に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【００９９】
−１Ａ−  次に、この無アルカリガラス基板上に、スパッタリング法にて、酸化ＣｒとＣｒとで構成された厚さ０．２μｍの膜（マスクおよび裏面保護膜）を形成した。
−２Ａ−  次に、マスクに対してショットブラストを行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、ショットブラストは、投射材として平均粒径１００μｍのガラスビーズを用い、噴射圧５ｋｇ／ｃｍ２、噴射密度１００ｋｇ／ｍ２の条件で行った。
【０１００】
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は１０μｍであり、初期孔の形成密度は２万個／ｃｍ２であった。
また、この際、無アルカリガラス基板の表面に深さ約０．０５μｍの初期凹部も形成した。
【０１０１】
−３Ａ−  次に、無アルカリガラス基板にウェットエッチングを施し、無アルカリガラス基板上に多数の凹部を形成した。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウム４ｗｔ％水溶液（過酸化水素水若干含む）を用い、浸漬時間は５時間とした。
−４Ａ−  次に、硝酸第二セリウムとアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、酸化ＣｒとＣｒとで構成された膜（マスクおよび裏面保護膜）を除去した。
これにより、無アルカリガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部がランダムに形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が９６％であった。
【０１０２】
−５Ａ−  次に、マイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された面に、紫外線（ＵＶ）硬化型樹脂（屈折率１．５９）を用い、平板ガラスを接合した。
その後、平板ガラスを剥離した。
また、これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板の凹部に充填された樹脂よりなるマイクロレンズが形成された。
これにより、多数のマイクロレンズがランダムに形成された１．２ｍ×０．７ｍのマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径（直径）は、１００μｍであった。
【０１０３】
（実施例２）
−２Ａ−の工程において、投射材として平均粒径８０μｍのガラスビーズを用い、噴射圧４ｋｇ／ｃｍ２、噴射密度１５０ｋｇ／ｍ２の条件でショットブラストを行った以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
【０１０４】
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は７μｍであり、初期孔の形成密度は４万個／ｃｍ２であった。
また、この際、無アルカリガラス基板の表面に深さ約０．０３μｍの初期凹部も形成した。
その後、上記のようにして得られたマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて、前記実施例１と同様にして、多数のマイクロレンズがランダムに形成された１．２ｍ×０．７ｍのマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径（直径）は、８０μｍであった。
【０１０５】
（実施例３）
−２Ａ−の工程において、投射材として平均粒径１２０μｍのガラスビーズを用い、噴射圧６ｋｇ／ｃｍ２、噴射密度８０ｋｇ／ｍ２の条件でショットブラストを行った以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
【０１０６】
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は１２μｍであり、初期孔の形成密度は１万個／ｃｍ２であった。
また、この際、無アルカリガラス基板の表面に深さ約０．０６μｍの初期凹部も形成した。
【０１０７】
その後、上記のようにして得られたマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて、前記実施例１と同様にして、多数のマイクロレンズがランダムに形成された１．２ｍ×０．７ｍのマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径（直径）は、１２０μｍであった。
【０１０８】
（実施例４）
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ５ｍｍの無アルカリガラス基板を用意した。
この無アルカリガラス基板を、３０℃に加熱した洗浄液（一水素二フッ化アンモニウム４ｗｔ％水溶液（過酸化水素水を若干含む））に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した後、上記−１Ａ−〜−３Ａ−の工程を行い、無アルカリガラス基板の片面側に、凹部を形成した。
【０１０９】
−４Ｄ−  次に、硝酸第二セリウムとアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、酸化ＣｒとＣｒとで構成された膜（マスクおよび裏面保護膜）を除去した。
−５Ｄ−  次に、凹部が形成された無アルカリガラス基板上に、スパッタリング法にて、酸化ＣｒとＣｒとで構成された厚さ０．２μｍの膜（凹部が形成された面側のマスク、および凹部が形成された面とは反対の面側の裏面保護膜）を形成した。
【０１１０】
−６Ｄ−  次に、マスクに対してショットブラストを行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、ショットブラストは、投射材として平均粒径８０μｍのガラスビーズを用い、噴射圧４ｋｇ／ｃｍ２、噴射密度１５０ｋｇ／ｍ２の条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は７μｍであり、初期孔の形成密度は４万個／ｃｍ２であった。
また、この際、無アルカリガラス基板の表面に深さ０．０５μｍの初期凹部も形成した。
【０１１１】
−７Ｄ−  次に、無アルカリガラス基板にウェットエッチングを施し、無アルカリガラス基板上に多数の凹部を形成した。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウム水溶液（過酸化水素水若干含む）を用い、浸漬時間は４時間とした。
−８Ｄ−  次に、硝酸第二セリウムとアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、酸化ＣｒとＣｒとで構成された膜（マスクおよび裏面保護膜）を除去した。
【０１１２】
これにより、無アルカリガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部がランダムに形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
この後、上記−５Ａ−〜−６Ａ−の工程を行い、実施例１と同様にして、多数のマイクロレンズが規則的に形成されたマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径（直径）は、８０μｍであった。
【０１１３】
（実施例５）
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ５ｍｍの無アルカリガラス基板を用意した。
この無アルカリガラス基板を、３０℃に加熱した洗浄液（一水素二フッ化アンモニウム４ｗｔ％水溶液（過酸化水素水を若干含む））に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【０１１４】
−１Ｅ−  次に、この無アルカリガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ層とＡｕ層との積層体（Ｃｒ−Ａｕ膜）からなる膜（マスクおよび裏面保護膜）を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０１μｍ、Ａｕ層の厚さは０．２μｍであった。
−２Ｅ−  次に、マスクに対してショットブラストを行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
【０１１５】
なお、ショットブラストは、投射材として平均粒径１００μｍのガラスビーズを用い、噴射圧５ｋｇ／ｃｍ２、噴射密度１００ｋｇ／ｍ２の条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は１０μｍであり、初期孔の形成密度は２万個／ｃｍ２であった。
また、この際、無アルカリガラス基板の表面に深さ約０．１μｍの初期凹部も形成した。
【０１１６】
−３Ｅ−  次に、無アルカリガラス基板にウェットエッチングを施し、無アルカリガラス基板上に多数の凹部を形成した。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として一水素ニフッ化アンモニウム４ｗｔ％水溶液（過酸化水素水を若干含む）を用い、浸漬時間は６時間とした。
−４Ｅ−  次に、硝酸第二セリウムとアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、Ｃｒ−Ａｕ膜（マスクおよび裏面保護膜）を除去した。
【０１１７】
−５Ｅ−  次に、凹部が形成された無アルカリガラス基板上に、スパッタリング法にて、Ｃｒ層とＡｕ層との積層体（Ｃｒ−Ａｕ膜）からなる膜（凹部が形成された面側のマスク、および凹部が形成された面とは反対の面側の裏面保護膜）を形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０１μｍ、Ａｕ層の厚さは０．２μｍであった。
−６Ｅ−  次に、マスクに対してショットブラストを行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
【０１１８】
なお、ショットブラストは、投射材として平均粒径８０μｍのガラスビーズを用い、噴射圧４ｋｇ／ｃｍ２、噴射密度１５０ｋｇ／ｍ２の条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は７μｍであり、初期孔の形成密度は４万個／ｃｍ２であった。
また、この際、無アルカリガラス基板の表面に深さ０．０５μｍの初期凹部も形成した。
【０１１９】
−７Ｅ−  次に、無アルカリガラス基板にウェットエッチングを施し、無アルカリガラス基板上に多数の凹部を形成した。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウム４ｗｔ％水溶液（過酸化水素水を若干含む）を用い、浸漬時間は４時間とした。
−８Ｅ−  次に、硝酸第二セリウムとアンモニウムと過塩素酸との混合物、さらに、沃素・沃化カリ水溶液を用いてエッチングすることにより、Ｃｒ−Ａｕ膜（マスクおよび裏面保護膜）を除去した。
【０１２０】
これにより、無アルカリガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部がランダムに形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
この後、上記−５Ａ−の工程を行い、実施例１と同様にして、多数のマイクロレンズが規則的に形成されたマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径（直径）は、８０μｍであった。
【０１２１】
（比較例）
まず、基板として、厚さ１ｍｍの石英ガラス基板を用意した。
この石英ガラス基板を、８５℃に加熱した洗浄液（８０％硫酸＋２０％過酸化水素水）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
−１Ｆ−  次に、この石英ガラス基板を、６００℃、８０Ｐａに設定したＣＶＤ炉内に入れ、ＳｉＨ４を３００ｍＬ／分の速度で供給し、ＣＶＤ法にて、厚さ０．４μｍの多結晶シリコン膜（マスクおよび裏面保護膜）を形成した。
【０１２２】
−２Ｆ−  次に、形成した多結晶シリコン膜（マスク）上に、フォトレジストにより規則的なマイクロレンズのパターンを有するレジストを形成し、次いで、多結晶シリコン膜（マスク）に対してＣＦガスによるドライエッチングを行い、次いで、前記レジストを除去して、多結晶シリコン膜（マスク）に開口を形成した。
【０１２３】
−３Ｆ−  次に、石英ガラス基板に第１のウェットエッチングを施し、石英ガラス基板上に多数の凹部を形成した。
なお、エッチング液には、フッ酸系のエッチング液を用いた。
−４Ｆ−  次に、ＣＦガスによるドライエッチングを行い、多結晶シリコン膜（マスクおよび裏面保護膜）を除去した。
【０１２４】
これにより、石英ガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部が規則的に形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が９８％であった。
この後、上記−５Ａ−〜−６Ａ−の工程を行い、実施例１と同様にして、多数のマイクロレンズが規則的に形成されたマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径（直径）は、１２０μｍであった。
【０１２５】
（評価）
ショットブラストによりマスクに開口部（初期孔）を形成した実施例１〜５では、例えば１．２ｍ×０．７ｍといった大型の基板に対する処理も容易に行うことができた。一方、フォトリソグラフィ法によりマスクに開口部を形成した比較例では、例えば１．２ｍ×０．７ｍといった大型の基板に対する処理は困難であった。特に、フォトレジストの工程で、多数の不良品を生じ、歩留に劣っていた。
【０１２６】
そして、前記各実施例および比較例で得られたマイクロレンズ基板を用いて、図１４、図１５に示すような透過型スクリーンを作製し、当該スクリーンを用いて図１６に示すようなリア型プロジェクタを作製した。各リア型プロジェクタにおいては、いずれも、光拡散部の表面は略錐状の凹凸形状を有しており、光拡散部のヘイズ値は５０％、光拡散部の光沢度は１５％であった。光拡散部の表面に形成された略錐状の凹凸は、その高低差が平均で１００μｍであった。
【０１２７】
得られたリア型プロジェクタのスクリーンにそれぞれ画像を投射させたところ、明るい画像を表示することができた。また、実施例１〜５のマイクロレンズ基板を用いたリア型プロジェクタでは、回折光やモアレの発生が好適に防止されていた。これに対し、比較例のマイクロレンズ基板を用いたリア型プロジェクタでは、回折光、モアレの発生が認められた。
【０１２８】
したがって、かかる透過型スクリーンを用いた投射型表示装置は、スクリーン上に明るく、高品質の画像を投射できることが容易に推察される。
また、光拡散部を設けなかった以外は、前記と同様にして、透過型スクリーンを作製し、当該スクリーンを用いて図１６に示すようなリア型プロジェクタを作製した。これらのリア型プロジェクタのスクリーンに、前記と同様にして画像を投射させた。その結果、実施例１〜５のマイクロレンズ基板を用いたリア型プロジェクタでは、回折光やモアレの発生が十分に防止されていた。これに対し、比較例のマイクロレンズ基板を用いたリア型プロジェクタでは、回折光、モアレの発生が顕著に認められた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。
【図３】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図である。
【図４】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図５】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図１３】本発明のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。
【図１４】本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図である。
【図１５】図１４に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。
【図１６】本発明のリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
１・・・マイクロレンズ基板  ２・・・マイクロレンズ用凹部付き基板  ３、３１・・・凹部  ４・・・アライメントマーク  ４１・・・角部  ４４・・・開口  ５・・・基板  ５１、５２・・・初期凹部  ５３・・・透明基板  ５４・・・基板  ６、６２・・・マスク  ６１、６３・・・初期孔  ６１０・・・ノズル６１１・・・投射材  ６９・・・裏面保護膜  ８・・・マイクロレンズ  １３・・・カバーガラス  １４・・・樹脂層  １４１・・・樹脂層  １４２・・・樹脂層  ２００・・・透過型スクリーン  ２１０・・・フレネルレンズ部  ２３０・・・光拡散部  ３００・・・リア型プロジェクタ  ３１０・・・投写光学ユニット  ３２０・・・導光ミラー  ３３０・・・透過型スクリーン  ３４０・・・筐体
【図１】
2004287372.tif 000003
【図２】
2004287372.tif 000004
【図３】
2004287372.tif 000005
【図４】
2004287372.tif 000006
【図５】
2004287372.tif 000007
【図６】
2004287372.tif 000008
【図７】
2004287372.tif 000009
【図８】
2004287372.tif 000010
【図９】
2004287372.tif 000011
【図１０】
2004287372.tif 000012
【図１１】
2004287372.tif 000013
【図１２】
2004287372.tif 000014
【図１３】
2004287372.tif 000015
【図１４】
2004287372.tif 000016
【図１５】
2004287372.tif 000017
【図１６】
2004287372.tif 000018