(57)【要約】      （修正有）【課題】  金型毎に最適な制御アルゴリズムで制御ができる射出成形装置を提供する。【解決手段】  複数の制御ステップ毎に射出圧力又は射出速度を含む制御目標からなる制御プロファイル１７ａと、実際の検出値がプロファイルに追従するように油圧駆動源の油流量または電動機の回転等の操作量を制御するアルゴリズム１７ｂ及びそれに用いるゲイン・伝達関数等の制御パラメータ１７ｃとにより制御を行なう射出成形機１であって、そのアルゴリズム及びパラメータの性能の評価は、制御ループを開放し、プロファイルに従って成形した入出力データから各ステップ毎に制御対象の伝達関数２５ａを同定し、その伝達関数に対応して複数の閉ループ制御のアルゴリズムの中から最適なものを各ステップ毎に定め、次に各ステップ毎の伝達関数、制御目標、アルゴリズム、及びパラメータを定めてシミュレーション２５ｃを行い、パラメータを調整する手段とを備えたものである。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の制御ステップ毎に設けられた少なくとも射出圧力または射出速度を含んで指定される制御目標からなる制御プロファイルと、当該指定された制御プロファイルの実際の制御結果に基づく検出値が前記プロファイルに追従するように油圧駆動源の油流量または電動機の回転等の操作量を制御する少なくも等速制御を含む制御アルゴリズムおよびこのアルゴリズムに使用される少なくともゲイン・伝達関数等の制御パラメータと、を用いて制御を行なう射出成形機であって、
前記制御アルゴリズム及び制御パラメータの性能を評価する評価手段を備え、前記評価手段は、
制御ループを開放し、所定の制御プロファイルに従って射出成形を行い、得られる入出力データから各ステップ毎に制御対象の伝達関数を同定する手段と、
同定された伝達関数に対応して、予め用意された複数の閉ループ制御の制御アルゴリズムのうちから最適なものを各ステップ毎に定める手段と、
各ステップ毎に、同定された伝達関数、制御目標、定められた制御アルゴリズム、及び制御パラメータを設定して、制御応答のシミュレーションを行う手段と、
前記シミュレーションの結果に応じて各ステップにおける前記制御パラメータを調整する手段と、
を備えることを特徴とする、射出成形機。
【請求項２】
前記射出成形機は、
射出成形機の制御において目標となる速度または圧力を段階的に表す複数の制御プロファイルを保持する保持手段と、
前記目標となる速度または圧力からの実際の速度または圧力の変位を抑制するように制御するために制御対象の伝達関数に基づいて定められる複数の制御アルゴリズムを記憶する第１の記憶手段と、
前記制御アルゴリズムにおいて使用される複数の制御パラメータを記憶する第２の記憶手段と、
前記制御プロファイル、前記制御アルゴリズムおよび前記制御パラメータを用いて射出成形における速度または圧力を閉ループ制御によって制御する制御手段とを含み、
前記評価手段は、任意の制御アルゴリズムと制御パラメータによって制御された射出成形機の動作で検出された速度、位置、圧力等の検出データに基づいて、前記任意の制御アルゴリズムと前記制御パラメータの組み合わせの最適値を得るものであることを特徴とする請求項１に記載の射出成形機。
【請求項３】
前記評価手段は、検出された速度または圧力のオーバーシュート、ハンチング、静定時間、立ち上がり時間等の制御目標について、前記制御アルゴリズムにおける制御パラメータの適正値を算定するものであることを特徴とする請求項２に記載の射出成形機。
【請求項４】
前記評価手段は、
射出成形機の制御において制御目標となる速度または圧力を記憶する第１の記憶手段と、
前記制御目標となる速度または圧力からの実際の速度または圧力の変位を抑制するように制御するために制御対象の伝達関数に基づいて定められる複数の制御アルゴリズムを記憶する第２の記憶手段と、
複数の伝達関数を記憶する第３の記憶手段と、
前記制御アルゴリズムにおいて使用される複数の制御パラメータを記憶する第４の記憶手段とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の射出成形機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は樹脂を成形する射出成形機に係り、特に、速度、圧力等を制御するための制御アルゴリズム、当該アルゴリズムにおける制御変数や制御定数等の制御パラメータ、を評価し、最適値を算定し得る機能を備えた射出成形機に関する。
【背景技術】
【０００２】
射出成形では高温の溶融樹脂を、低温の金型に射出充填させるので、充填中に樹脂が冷却されて粘度が増加して流動性が低下し、金型内に溶融樹脂が完全に充満しないショートショットが起こり易くなり、また樹脂温度が低下してくると、金型表面に接触する樹脂の金型に対する転写性が悪くなるので、できるだけ応答遅れの無い状態で、設定プロファイルに忠実な動作をさせることが必要である。
【０００３】
射出成形機では、射出の速度制御や圧力制御の設定値は、一般的に図２に示すように多段に設定されるが、この設定プロファイルは、成形する成形品の形状と使用する樹脂の種類により、様々に変えることが必要とされている。
【０００４】
射出成形機における速度、圧力等の制御には、例えば、特公平３−７６８０７号公報に開示されるように、制御用ＣＰＵを用いたＰＩＤ制御又はこれを改良したアドバンスドＰＩＤ制御等が適用され、ステップ応答に対する高い応答性と速く設定値に静定する安定性と、且つ設定値に対する偏差をなくす制御を実現させることが試みられてきた。
【０００５】
しかし、これらの制御では、例えば、特開平５−４２５７７号公報にも開示されているように、応答性を高めるためゲインを大きくすると、設定値に対する安定性が保たれずにハンチングが起こり易く、ハンチングを起こさない小さいゲインにすると立ち上がりの応答が悪くなるという問題があった。特に、油圧駆動による射出成形機では、立ち上がり時の応答を遅らせる大きなムダ時間を持つ系となることが多く、最適な制御の伝達関数や制御定数を設定することが困難であった。
【０００６】
射出の速度制御や圧力制御の設定値は、成形する成形品の形状と使用する樹脂の種類により様々に変える必要がある他、ハンチングを起こさないゲインの値が、立ち上がりと立ち下がりで異なることや、多段設定する場合の設定値の変化ステップの大きさと変速後の設定値そのものの大きさ等によっても、また使用する樹脂の粘度の違いによっても変化する傾向があり、最適な制御の伝達関数は、使用する金型毎に夫々最適値が存在することになり、その設定を更に難しくしている。
【特許文献１】特公平３−７６８０７号公報
【特許文献２】特開平５−４２５７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような問題点を解決することを目的としてなされたもので、個々の成形品を成形するに際し、成形開始時にその成形品に対して使用される制御アルゴリズムを評価し、最適な制御アルゴリズムを求め、これを装置が自己設定可能とすることにより、各金型毎に最適な制御アルゴリズムで射出成形機を制御し得る射出成形機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述のような目的を達成するため、本発明による射出成形機は、複数の制御ステップ毎に設けられた少なくとも射出圧力または射出速度を含んで指定される制御目標からなる制御プロファイルと、当該指定された制御プロファイルの実際の制御結果に基づく検出値が前記プロファイルに追従するように油圧駆動源の油流量または電動機の回転等の操作量を制御する少なくも等速制御を含む制御アルゴリズムおよびこのアルゴリズムに使用される少なくともゲイン・伝達関数等の制御パラメータと、を用いて制御を行なう射出成形機であって、前記制御アルゴリズム及び制御パラメータの性能を評価する評価手段を備え、前記評価手段は、制御ループを開放し、所定の制御プロファイルに従って射出成形を行い、得られる入出力データから各ステップ毎に制御対象の伝達関数を同定する手段と、同定された伝達関数に対応して、予め用意された複数の閉ループ制御の制御アルゴリズムのうちから最適なものを各ステップ毎に定める手段と、各ステップ毎に、同定された伝達関数、制御目標、定められた制御アルゴリズム、及び制御パラメータを設定して、制御応答のシミュレーションを行う手段と、前記シミュレーションの結果に応じて各ステップにおける前記制御パラメータを調整する手段とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明にかかる射出成形機では、評価手段が、任意の制御アルゴリズムと制御パラメータで制御された射出成形機の動作で検出された速度、位置、圧力等の検出データをもとに、予め容易された複数の任意の制御アルゴリズムと制御パラメータの組み合わせを用いた制卸の評価を行っているので、設定されている制御アルゴリズムおよび、その制御パラメータの適否を明確に評価することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１は、本発明による射出成形機の制御装置を油圧式射出成形機の射出速度制御および圧力制御に適用した実施形態を示している。
【００１１】
同図において、油圧式射出成形機は、成形に必要な量だけ計量された溶融樹脂を収容する射出シリンダ１と、射出シリンダ１内に進退可能に挿入されたスクリュによる射出プランジャ３と、射出プランジャ３を進退駆動する油圧シリンダ装置５とを有し、射出プランジャ３の前進により溶融樹脂をノズル７より金型９内へ射出する。
【００１２】
更に、射出プランジャ３の後方には計量用油圧モータ１２が接続され、射出した後、スクリュを回転させスクリュ先端に混練した溶融樹脂を送り込むと同時に溶融樹脂圧で射出プランジャ３を後退させ、計量動作を行う。
【００１３】
油圧シリンダ装置５には、油圧源１１から送られ、圧力制御弁１３で圧力を制御された圧油が、流量制御弁１５により流量を計量されつつ供給される。
【００１４】
この場合、射出プランジャ３の前進速度は油圧シリンダ装置５に供給される圧油の量により決まり、流量制御弁１５による圧油の流量制御によって電磁切換弁１６ｂを励磁して射出プランジャ３の前進速度が制御される。
【００１５】
射出速度または射出圧力の制御部１７には、射出プランジャ３の前進駆動力を油圧シリンダ装置５の油圧により検出する前進駆動力検出器１９と、射出プランジャ３の移動位置を検出する位置検出器２１とが接続されている。
【００１６】
計量動作では電磁切換弁１４ｂを励磁して流量制御弁１５により流量を計量されつつ供給されると共に、電磁切換弁１６ｂと２０ｂを励磁して圧力制御弁１８で圧力を制御された圧油がタンクに戻される。このようにスクリュが回転しながら、背圧を受けて後退する。
【００１７】
射出速度または射出圧力の制御装置１７は、速度または圧力の制御プロファイルを設定する設定部１７ａと、速度または圧力の設定値に対する偏差をなくすための制御を行う、ステップ毎の制御アルゴリズムを収納する第１の記憶部１７ｂと、上記制御アルゴリズムの制御に使用する、ステップ毎の制御データ（制御パラメータ）を収納する第２の記憶部１７ｃと、制御プログラムのアルゴリズムを実行して操作量を出力する等の演算処理を行う演算部１７ｄと、を有する。第１の記憶部１７ｂと第２の記憶部１７ｃとは同一メモリ内の別々の記憶領域としても実現できる。
【００１８】
プロファイル設定部１７ａに設定された射出速度または射出圧力についての所定の制御プロファイルに従ってプログラムされた出力が、第１の記憶部１７ｂと第２の記憶部１７ｃに収納された制御アルゴリズムと制御データによって修正され、２つの操作量として夫々圧力制御弁１３及び流量制御弁１５に供給される。これによって、射出プランジャの前進速度または前進駆動力が制御される。
【００１９】
制御装置１７の基本的な制御機能は、制御プロファイル設定部１７ａから送られる指令信号と、成形機から時々刻々送られる検出信号との偏差を、第１の記憶部１７ｂに記憶されている制御アルゴリズムによって修正するもので、成形機の動作を常に設定値と一致させようとするものである。制御装置１７の制御機能には、後述するようにいくつかのバリエーションがある。
【００２０】
開ループ／閉ループ切替器２３は、制御プロファイルが設定される設定部１７ａからの設定信号と、第１の記憶部１７ｂと第２の記憶部１７ｃに収納された制御アルゴリズムによる修正信号とを切り替えて、流量制御弁１５または圧力制御弁１３に送る。この切替器２３は、後述する制御対象の伝達関数の同定時に、開ループでの制御応答特性の測定データを収集する場合に使用される。
【００２１】
評価部２５は、制御アルゴリズムの機能を評価するものであり、射出速度または射出圧力の制御部１７とバス接続される。評価部２５は、メモリ２５ｄ、演算部２５ｅ、等からなるコンピュータシステムによって実現され、伝達関数同定手段２５ａ、制御パラメータの適正値を算出する手段２５ｂ、シミュレーション手段２５ｃ、を備える。評価部２５には、外部記憶装置が接続され、ここにデータベース２６が形成される。データベース２６には、制御プロファイル、制御アルゴリズム、制御パラメータ（制御変数、制御定数等の制御データ）のライブラリ、品質管理データ等が蓄積されている。
【００２２】
図８は、データベース２６に保持される各成型品（金型）毎に１つ若しくは複数用意される制御アルゴリズムについてのデータベース（表）の例を示している。各ステップに設定される制御アルゴリズムと、ショートショット、樹脂温度、…等の機能目標に対しての各ステップの評価がファイルされている。同図においては説明の便宜上、評価を「○」、「×」、「△」として示されているが、数値化されて定量的に表示することが出来る。良品が得られる成形条件をなるべく多くストックし、データベースを更新する。例えば、ある金型を射出成形機に設定したときには、この金型に対応する、良品が得られる割合の高い一組の制御アルゴリズム（Ｔ1 〜Ｔ4 ）をデータベースから評価部２５の記憶部２５ｄあるいは記憶部１７ｂに設定する。
【００２３】
評価部２５は、後述するように、シミュレーションにより、あるいは設定部１７ａに設定された制御プロファイルの設定値と、射出成形機からの検出信号（測定データ）とを比較し、制御アルゴリズム、制御パラメータ等の制御機能（性能）を評価する。比較される検出信号は、例えば、射出プランジャ３の前進駆動力検出器１９の検出値、または射出プランジャ３の移動位置を検出する位置検出器２１の信号の単位時間当たりの変化から算出される速度信号である。
【００２４】
評価部２５における１つの機能である評価機能は、例えば、オーバーシュート、ハンチング、静定時間、立ち上がり時間等の評価要素を設定する手段に対して夫々判断基準値を与え、射出成形機からの検出値またはシミュレーションによる計算値の適正を判定するものである。
【００２５】
評価部２５における評価の一例について図２を参照して説明する。まず、図２に示されるように、射出速度または射出圧力についての多段階の制御目標値である制御プロファイルが設定部１７ａに設定され、ステップ１〜ステップ４によって示されている。ステップ１における目標値Ｖ１に対してサンプリングされた検出値（応答値）Ｖ１’は図中の点線で示すように応答する。同様に、ステップ２〜４の目標値Ｖ２〜Ｖ４に対して検出値Ｖ２’〜Ｖ４’が図示の点線のように追従する。各ステップにおいて、制御目標と応答の結果から偏差を抑制する修正データを生成する制御アルゴリズムと制御パラメータについて評価がなされる。前述のように、評価の要素としては、オーバーシュート、ハンチング、静定時間、立ち上がり時間等がある。
【００２６】
図９は、制御アルゴリズムの評価の一例を示すものである。評価部は、記憶部２５ｄにセットされた、一組の制御アルゴリズム及び制御パラメータについて後述するシミュレーションや成形の実測データによって、応答のプロファイルを得る。
【００２７】
前述したように、最初に設定する制御アルゴリズムは個別の金型に対応してデータベースから読み出して設定することができる。例えば、シミュレーション結果によって各ステップの制御パラメータをチューニングして、オーバーシュート、ハンチング等に対する機能目標を各ステップ毎に満足するようにする。例えば、ステップ３のように、制御パラメータの調整で満足できる評価が得られなければ、制御アルゴリズムＴ3 をＴ3 ’に変更する。制御アルゴリズムをＴ3 ’に替えて全体の制御パラメータ、あるいは制御アルゴリズムをＴ3 ’について制御パラメータのチューニングを適宜に繰り返す。各ステップの評価が満足できる制御アルゴリズム及び制御パラメータのセットを見出す。制御アルゴリズムは、例えば、ＰＩＤ組合せによる制御関係を表す複数のブロック図として表現され得るものである。制御パラメータは、例えば、ゲイン／伝達関数、成型品の形状、樹脂種類、樹脂粘度等のファクタであって、適正な制御アルゴリズム下においては、最適な制御変数や制御定数等として得られる。
【００２８】
なお、ステップによっては、成型品の品質に影響の少ないものもある得る。このような場合には、当該ステップの評価基準を下げることが出来る。予めシミュレーションを行って制御アルゴリズム及び制御パラメータを設定することによって、成型品のロスを減らすことが期待できる。更に、実測結果に基づく制御アルゴリズム及び制御パラメータの評価も同様に行うことが出来る。評価済みの制御アルゴリズム及び制御パラメータのセットはデータベースに記録され、あるいは当該金型のデータの修正に使用される。
【００２９】
評価の結果、適当と判定された制御アルゴリズムが、現在、制御部１７に設定されているものと異なるものであれば、評価部２５は、新たな制御アルゴリズムを第１の記憶部１７ｂに設定する。また、適当と判定された制御データが、現在、制御部１７に設定されているものと異なるものであれば、評価部２５は、新たな制御データを第２の記憶部１７ｃに設定する。もし、適当と判定された制御アルゴリズム及び制御データが共に制御部１７に設定されているものと異なるときは、新たな制御アルゴリズム及び制御データを夫々記憶部１７ｂ及び１７ｃに送って両方変更する。
【００３０】
評価部２５には、上記目標値に対する適性の判定を、制御プロファイルの各ステップ設定値毎に行う機能を与えることができるので、制御プロファイルの各ステップ設定値毎に、異なる制御アルゴリズムおよび／または制御パラメータを与えて、制御系の特性により適合した制御を行うことが可能となる。評価部２５は制御部１７と一体的に形成することが可能であり、また、評価部２５を低価格な汎用マイクロプロセッサを用いたシステム、例えば、いわゆるパーソナルコンピュータシステムを使用してバス接続を介して実現することも可能である。
【００３１】
図３及び図４は、金型交換等の後の射出成形機の立ち上げに関係する制御部１７及び評価部２５の動作例を説明するフローチャートである。
【００３２】
まず、オペレータの指示に従って、図示しない装置全体の制御を司る制御プログラムが実行される。例えば、データベース２６からセットした金型に対応する制御プロファイルがプロファイル設定部１７ａに設定される（Ｓ３０２）。ループ切替器２３が開ループに設定される（Ｓ３０４）。１サイクルの成形を行い、検出器１９及び２１の出力よって一連の測定データを得、実測プロファイルを得る。この測定データは、評価部２５の記憶部２５ｄに送られる（Ｓ３０６）。
【００３３】
評価部２５では、制御プロファイルの各ステップ毎に制御対象の伝達関数を同定する（Ｓ３０８）。同定された各ステップ毎の伝達関数に適応する閉ループ制御アルゴリズムを記憶部２５ｄに設定する（Ｓ３１０）。制御目標を記憶部２５ｄに設定する（Ｓ３１２）。制御目標に応じた制御パラメータを記憶部２５ｄに設定する（Ｓ３１４）。設定された、制御目標、制御アルゴリズム、制御パラメータを用いてシミュレーションを実行する（Ｓ３１６）。制御目標とシミュレーション結果とを比較し、評価する（Ｓ３１８）。結果が不適切であれば（Ｓ３２０）、不適切と判断した制御目標に関連する制御パラメータを調整する（Ｓ３２２）。ステップＳ３１６〜Ｓ３２２を繰り返し、制御パラメータをチューニングする。適切な評価結果が得られれば（Ｓ３２０）、上記同定とシミュレーションで得られた各ステップの毎の制御アルゴリズムと制御パラメータを制御部１７の記憶部１７ｂと１７ｃに夫々設定する（Ｓ３２４）。
【００３４】
ループ切替器２３が閉ループに設定される（Ｓ３２６）。制御部１７は、１サイクルの成形を行い、実測プロファイルを得る。この測定データは、評価部２５に送られる（Ｓ３２８）。実測プロファイルの評価を行う（Ｓ３３０）。不適切である場合（Ｓ３３２）、不適切と判断した制御目標に関連する記憶部１７ｃの制御パラメータを調整する（Ｓ３３４）。ステップＳ３２８〜Ｓ３３４を繰り返して、制御パラメータをチューニングする。実測プロファイルが適切となればチューニングを終了し、図示しない連続成形に移行する。
【００３５】
図５は、制御部１７及び評価部２５における他の動作例を説明するフローチャートである。この例では、第１の実施の形態における事前のシミュレーションを省略して制御アルゴリズム、制御パラメータの評価を行っている。
【００３６】
まず、金型交換等に対応して、適当な制御プロファイルが設定部１７ａに設定される（Ｓ５０２）。ループ切替器２３を「開」に設定する（Ｓ５０４）。制御アルゴリズムと制御パラメータを評価部２５からバス接続を介して記憶部１７ｂ及び１７ｃに送り、設定する（Ｓ５０６）。１サイクル成形して、成型品を得、センサ１９及び２１の検出出力によって実測プロファイルを評価部２５の記憶部２５ｄに取込む（Ｓ５０８）。評価部２５において、プロファイル設定部１７ａに設定された制御プロファイルと、記憶部１７ｂに記憶された制御アルゴリズム及び記憶部１７ｃに記憶された制御パラメータによって修正された実測プロファイルとを比較して評価する（Ｓ５１０）。評価の結果、不適切であると判断された場合は（Ｓ５１２）、異なる制御アルゴリズム、制御パラメータを評価部２５から出力し、記憶部１７ｂ及び１７ｃに夫々設定する（Ｓ５１４）。ループ切替器２３を成型品の出来具合等に応じて「開」または「閉」ループに設定する（Ｓ５１６）。再度、射出成形を繰り返して成型品を得、実測プロファイルを得る。設定した制御プロファイル、実測プロファイルを比較し、制御アルゴリズム、制御データが適切かどうかを評価する（Ｓ５０８〜Ｓ５１２）。
【００３７】
評価が適切と判断された場合には、切替器２３を閉じて制御ループを形成する（Ｓ５１８）。そして、図示しない連続サイクルによる成形プロセスに移行する。
【００３８】
なお、１サイクル毎に設定部１７ａの制御プロファイルと実測プロファイルとを制御アルゴリズムにより演算部１７ｄで比較演算し、設定された制御プロファイルを更新（修正）することが可能である。更新された制御プロファイルと実測プロファイルとの差異が許容範囲内になると、演算部１７ｄでのデータ比較演算を中止し、チューニングされた制御プロファイル、制御アルゴリズム、制御パラメータで連続成形を繰り返すようにすることもできる。
【００３９】
図６は、制御部１７及び評価部２５の他の実施の形態を説明するフローチャートである。この例は、制御対象の伝達関数を同定し、同定された伝達関数に基づいて、該伝達関数に対応する制御アルゴリズムについての制御変数、制御定数等の制御パラメータの適正値を算出する。
【００４０】
まず、制御部は、ループ切替器２３を「開」にし、設定プロファィルに基づく指示が操作量として出力されるようにする（Ｓ６０２）。速度または圧力の制御プロファイルを設定部１７ａに設定する（Ｓ６０４）。１サイクルの成形を行い、制御プロファイルの各ステップの制御データを記憶部１７ｅに収集する。これ等の収集データ及び各ステップの設定値等が評価部２５に送られる（Ｓ６０６）。評価部２５では、これ等の入出力データ、関数モデル等を用いて各ステップ毎に制御対象の伝達関数を同定する。伝達関数の同定はいわゆる現代制御理論における同定手法を使用することが可能である（Ｓ６０８）。同定されたステップ毎の伝達関数を用いて、各ステップの閉ループ制御アルゴリズムと制御パラメータの適正値を算出する（Ｓ６１０）。制御プロファイルの各ステップ毎に、目標値（設定値）、制御アルゴリズム、制御パラメータを設定部１７ａ、記憶部１７ｂ、記憶部１７ｃに夫々設定する（Ｓ６１２）。切替器２３を「閉」ループに設定し、閉ループ制御に移行する（Ｓ６１４）。
【００４１】
図７は、評価部２５における、シミュレーション機能を説明するフローチャートである。評価部２５は、シミュレーションモードが指示されると、評価対象となる制御アルゴリズムを記憶部２５ｄの第１の領域に設定する（Ｓ７０２）。同定によって得られている制御対象の伝達関数を記憶部２５ｄの第２の領域に設定する（Ｓ７０４）。制御目標を記憶部２５ｄの第３の領域に設定する（Ｓ７０６）。評価対象の制御パラメータを記憶部２５ｄに設定する（Ｓ７０８）。モデル（伝達関数）に目標値、修正値等を与えてモデルの出力を追跡し、シュミレーションを行う（Ｓ７１０）。シミュレーションの結果が適切か否かを判断する（Ｓ７１２）。適切でないときは、シミュレーション結果を参照して制御パラメータの適当な値を算出する（Ｓ７１４）。算出した制御パラメータを再設定し、再度シミュレーションを行う（Ｓ７０８，Ｓ７１０）。適切な制御パラメータが得られるまで、ステップＳ７０８〜Ｓ７１４を繰り返す。制御パラメータが適当と判断されると、シミュレーションを終了する。
【００４２】
適切と判断された制御アルゴリズムと制御パラメータは、例えば制御部の記憶部１７ｂ及び同１７ｃに設定され、また、必要によりデータベース２６に保存される。
【００４３】
なお、図１では、成型品（金型）の評価項目である色ムラ等について、溶融樹脂の混練・均一化程度に係るスクリュ回転速度（回転数）・スクリュ背圧についても、同様の制御アルゴリズムと制御パラメータが制御部の記憶部１７ｂ及び１７ｃに設定される。更に図示せぬ、成型品押出機構を具備した型締装置おいても成型品（金型）の評価項目であるクラック、バリ等について、圧力制御弁と流量制御弁と共に、駆動力検出器と位置検出器を設け、押出圧力／押出速度、型開閉圧力／型開閉速度の制御アルゴリズムと制御パラメータについても同様に可能である。
【００４４】
また、図１に示した油圧式射出成形機だけでなく、電動式射出成形機の場合も、全く同様の制御が可能である。
【００４５】
また、評価部（装置）をパーソナルコンピュータで構成することが可能であり、こうした場合には、比較的安価に評価システムを構築することが可能となる。しかしながら、評価部はパーソナルコンピュータに限定されるものではなく、評価部を制御部のコンピュータシステムにおいて実現することも可能である。勿論、評価部をパーソナルコンピュータを含み得る複数のコンピュータシステムによって分担して実現することも可能である。従って、評価部を構成するとして説明された各手段の存在場所は適宜に配置可能であり、説明の便宜によって表現された図１によって限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の構成を概略的に示すプロック図である。
【図２】制御プロファイルの制御目標と実際の応答との関係を説明する図である。
【図３】評価部における評価の例を示す説明図である。
【図４】評価部における評価の例を示す説明図である。
【図５】評価部における評価の一例を説明するフローチャートである。
【図６】評価部における制御パラメータの適正値を算出する例を示すフローチャートである。
【図７】評価部におけるシミュレーション動作を説明するフローチャートである。
【図８】データベースの内容を説明する説明図である。
【図９】各ステップにおける制御アルゴリズム及び制御パラメータについての評価の例を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００４７】
１  射出シリンダ
３  射出プランジャ
５  油圧シリンダ装置
７  ノズル
９  金型
１１  油圧源
１２  計量用油圧モータ
１３  圧力制御弁
１４  電磁切換弁
１５  流量制御弁
１６  電磁切換弁
１７  制御部
１７ａ  設定部
１７ｂ  第１の記憶部
１７ｃ  第２の記憶部
１９  前進駆動検出器
２０  電磁切換弁
２１  位置検出器
２３  ループ切替器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2004175120.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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