(57)【要約】　　　（修正有）【課題】薄い均一なコーティング層を基礎支持体に形成する方法及びその方法において使用する粉末を提供する。【解決手段】軟質のエラストマーの表面に熱可塑性の粉末の実質的に単一微粒子の層を形成すること、粉末を、それを粘着性にするために、加熱すること、圧力の下で基礎支持体へ粉末を転写すること、及び均一な層が基礎支持体より上で流出するまである温度へ基礎支持体を加熱することを含む。使用される粉末は、２，０００及び１０，０００の間の数平均分子量を有する架橋可能なポリエステル樹脂を含有する。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基礎支持体へ薄い均一なコーティング層を塗布する方法であって、
溶融可能な樹脂を含有する粉末を、軟質のエラストマーの表面における薄い実質的に単一微粒子の層に堆積させること、
前記エラストマーの表面に存在する前記粉末を加熱して、それを粘着性にすること、
前記粘着性の粉末を、圧力によって最終的な基礎支持体へ転写すること、及び前記粘着性の粉末を、前記粉末が前記支持体より上の均一な層へ流れ込む温度まで加熱すること、を含み、
前記粉末は、約２０００及び１０，０００の間の数平均分子量を有する架橋可能なポリエステル樹脂を含有し、
前記均一な層の形成の後に、前記樹脂は、架橋される方法。
【請求項２】
前記ポリエステル樹脂は、エーテル化されたビスフェノールから誘導される請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記粉末は、１５００より下の数平均分子量及び６０ｍｍｏｌ／ｋｇより少ないエポキシ基の含有量を有するエポキシ樹脂を含有する請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記粉末は、前記ポリエステル樹脂及び前記エポキシ樹脂を６０／４０及び３０／７０の間の重量比で含有する請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記粉末は、作用光によって架橋可能なポリエステル樹脂を含有する請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記粉末は、添加物として顔料及び／又は染料を含有する請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記粉末は、磁化可能な顔料を含有する請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記粉末は、電子を反射する層を形成する顔料を含有する請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記粉末は、ビスマスの酸化物を含有する請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記樹脂を架橋させておいた後に、前記支持体は、前記樹脂が着火される温度まで加熱される請求項８記載の方法。
【請求項１１】
前記粘着性の粉末は、前記基礎支持体を加熱することによって加熱される請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記薄い均一なコーティング層は、画像として前記基礎支持体へ塗布される請求項１記載の方法。
【請求項１３】
基礎支持体に永久に接続される薄い凝集層を含む複合材であって、
前記層は、約２０００乃至１０，０００の数平均分子量を有する架橋されたポリエステル樹脂の結合材を含有する複合材。
【請求項１４】
前記基礎支持体は、金属、ガラス、及び木材からなる群から選択される請求項１３記載の複合材。
【請求項１５】
前記ポリエステル樹脂は、６０ｍｍｏｌ／ｋｇより少ないエポキシ基の含有量を有するエポキシ樹脂と混合される請求項１３記載の複合材。
【請求項１６】
前記エポキシ樹脂は、１５００より少ない数平均分子量を有する請求項１５記載の複合材。
【請求項１７】
前記ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸及びエーテル化されたビスフェノールから誘導される請求項１３記載の複合材。
【請求項１８】
ＣＲＴのシャドウマスクとして使用するマスクを被覆する方法であって、
第一の部材にトナーの層を、前記第一の部材に電荷エリアを付与することによって、形成すると共に、樹脂のトナーの層を前記電荷エリアに堆積させること、前記トナーの層を、軟質のエラストマーの表面の層に、前記第一の部材及び前記エラストマーの表面の層の間における圧力の適用により転写すること、
前記エラストマーの表面の層における前記トナーの層を加熱して、それを粘着性にすること、
前記粘着性の粉末を圧力によってシャドウマスクの基礎支持体へ転写すること、並びに
前記シャドウマスクの基礎支持体における前記トナーを、前記トナーにおける前記樹脂を少なくとも部分的に炭化させることに十分な時間の間少なくとも３００℃の温度まで加熱することを含む方法。
【請求項１９】
前記トナーは、約２０００及び１００００の間の数平均分子量を有する架橋可能なポリエステル樹脂を含む請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記トナーは、１５００より下の数平均分子量及びの６０ｍｍｏｌ／ｋｇより少ないエポキシ基の含有量を有するエポキシ樹脂をさらに含有する請求項１９記載の方法
【請求項２１】
前記トナーは、金属又は金属を含有する成分を含み、
前記金属の原子番号は、少なくとも５０である請求項１７記載の方法。
【請求項２２】
前記トナーは、ビスマスの酸化物を含む請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記トナーは、鉛ガラスフリットを含む請求項２１記載の方法。
【請求項２４】
前記トナーは、追加としてガラスエナメルを含有する請求項２１記載の方法。
【請求項２５】
前記ガラスエナメルは、鉛又はビスマスを含む請求項２４記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基礎支持体にしっかりと定着した均一な薄いコーティング層を形成するための工程に関する。より詳しくは、本発明は、このような工程における使用のための溶融可能な、又は軟化可能な粉末に関する。その工程における使用のための基礎支持体は、様々な種類のものであってもよく、例えば、金属、ガラス、プラスチック、又は木材からなり得る。また、コーティング層は、基礎支持体に薄い閉じた層の形態でも形成され得ると共に、例えば、着色層（塗料層）の機能を自由選択で有する保護層として役立ち得る。コーティング層は、同時に、基礎支持体の表面の特定部分にのみ塗布されると共に装飾層又は銘若しくは字句として役立つ層であり得る。全ての種類の表面を被覆するための湿式の技術に加えて、乾式の粉末技術が、近年、ますます重要になってきた。これらの乾式の粉末技術においては、コーティング用の表面が、自由選択で画像の様式に、粉末の均一な層で覆われ、その後、粉末を、それが、均一な閉じた層の形態で流出するように、加熱することによって軟化させる。基礎支持体を静電的に帯電させること又はそれへ適切な電位を印加すると共にその表面に粉末を静電的に固着させることによって静電的なコーティングを、ラスターを介して噴霧することのような、ここで粉末は反対の電荷を有するか又は電気的に伝導性である（にされる）が、様々な技術が、基礎支持体へ粉末を塗布するために開発されてきた。模様の形態で（画像の様式に）粉末を塗布するために、電荷の画像が、例えば、一組みのピン電極で書き込むことによって又は電荷の画像の転写によって、基礎支持体に形成される（後者は、絶縁しているか、又は絶縁性の最上層が提供される）工程を使用することができ、電荷の画像は、粉末で現像され、粉末の画像は、加熱することによって固定される。
【０００２】
本発明は、特に、陰極線管（ＣＲＴ）用のシャドウマスクの形態で、基板において所望の模様にコーティングを塗布するための一般的な方法及びトナーの組成物に関する。
【０００３】
【従来の技術】
カラー受像管におけるシャドウマスクの主要な機能は、色選択のものである。これは、三つの電子ビーム（赤、緑、及び青）の各々が、スクリーンに正しい色のみを命中させることができることを意味する。
【０００４】
結果は、シャドウマスクにおける穴を、全ての条件の下でスクリーンにおける蛍光体の模様に向って非常に正確に位置決めしまければならないことである。
【０００５】
その管におけるシャドウマスクは、スクリーンに溶接すること又はピンを締め付けることによって取り付けられる枠又は絞りにおいて、位置決めされる。
【０００６】
シャドウマスクのエリアの約２０％には、穴が提供される。これは、発生した電子の約８０％が、シャドウマスクの表面に命中することになることを意味する。これは、シャドウマスクを加熱することになる。この加熱は、シャドウマスクの膨張に帰着することになり、マスクを枠に溶接するので、これは、マスクのドーム形成に帰着することになる。このドーム形成によって、スクリーンにおける蛍光体の模様に向う穴の位置は、変化することになり、蛍光体の模様に向う穴の調整不良をもたらすことになり、これは、スクリーンにおける絵の望まれない色の不純物の原因となる。
【０００７】
シャドウマスクのこのようなドーム形成を、
１．低い熱膨張係数をもつシャドウマスクの材料を使用すること、
２．高い熱伝導係数をもつシャドウマスクの材料を使用すること、
３．シャドウマスクに高い熱放出係数をもつ材料を使用すること、
４．シャドウマスクに高い電子の後方散乱係数をもつ材料を使用すること、
によって減少させることができる。
【０００８】
シャドウマスクにおけるコーティングの塗布は、項目３及び４を改善するために行われる。
【０００９】
シャドウマスクの生産は、要するに、以下のようなものである。
【００１０】
１．原板処理及びエッチングによって金属のシートに穴を空けること。
【００１１】
２．金属のシートの焼きなましの処理（還元雰囲気で温度＞８００℃）。
【００１２】
３．引抜きによるマスク形成。マスクに所望の湾曲した形状を与える。
【００１３】
４．マスクの引抜きに使用した油を取り除くための脱脂。
【００１４】
５．酸化物の層の形成によってＩＲ−放出層を塗布するための酸化雰囲気における黒色処理。
【００１５】
６．枠に対して湾曲した形状を組み立てること。
【００１６】
熱放出係数を改善するために、シャドウマスクには、６００℃乃至７００℃に良好に制御された酸化雰囲気においてマスクを加熱することによって得られる金属酸化物の層が提供される（項目５）。
【００１７】
電子の後方散乱を改善するために、マスクの銃側には、ビスマス、タングステン、鉛などのような、高い原子番号をもつ、Ｚ≧５０をもつ材料又はこれらの元素の化合物の層が提供される。最も広く使用されるのは、ビスマスの酸化物であるが、鉛ガラスフリットもまた使用することができる。好適なコーティングの厚さは、０．５ミクロン乃至５ミクロンである。
【００１８】
ほとんどの受像管の製造業者は、マスクの引抜き及びマスクの組み立ての後、マスクにおける噴霧工程によって材料を塗布するが、スクリーン印刷及びスパッタリングのような他の方法もまた使用される。
【００１９】
先行技術の方法の欠点は、生産において拒否される高価な管に帰着する、制御することが非常に困難であると共に閉鎖されたマスクの穴をもたらし得る工程である、噴霧工程に対してある。一方、スパッタリングは、設備に対して非常に高い投資を必要とする工程である。最後に、スクリーン印刷もまた、マスク当たりの材料の消費がかなり高いと共にその工程は大量生産においてむしろ複雑であるので、高価な工程である。
【００２０】
本発明の方法でのシャドウマスクにおける放出層及び後方散乱層のコーティングは、通常、マスク形成の前だが焼きなましの後に、実行される。それに対する理由は、次に、シャドウマスクが、まだ平坦であることになり、コーティングの工程を促進するためである。しかしながら、一方、コーティングは、次に、それが、コーティングのどんな損傷もなく引抜き工程に容易に耐えることができるようなものでなければならない。よって、コーティングは、また、以下の洗浄及び脱脂のステップに耐えるものでなければならない。
【００２１】
多くの用途に対して、特に基礎支持体に模様又は画像を塗布するために、ちょうど薄い好ましくは単一微粒子の層の粉末を基礎支持体へ塗布することが、必要であるか又は少なくとも非常に望ましく、その薄い粉末の層は、次に、基礎支持体にしっかりと定着する薄い均質な閉じた薄膜層を形成するために、加熱することによって溶融される。薄い均一な粉末の層を、転写の方法によって基礎支持体に形成することができ、ここで薄い粉末の層は、例えばシリコーンゴム又は過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）からなる、相対的に軟質のエラストマーの表面に最初に形成され、粉末の層は、基礎支持体に形成される模様の鏡像であり、次に粉末を、それが粘着性になると共に自由選択で加熱される基礎支持体へ圧力によって粘着性の粉末を転写させるように、それをエラストマーの表面に位置させると同時に、加熱することによって軟化させる。粉末を、基礎支持体へ転写させておいた後、粉末が、基礎支持体に永久に接続された均一な凝集層を形成するために流出する温度（例えば、１５０℃又はそれ以上）まで、集成体を加熱する。凝集層をこのようにして形成しておいた後、硬化ステップを、好ましくは、結合剤を架橋させるために実行し、このようにその層の機械抵抗を改善する。
【００２２】
このような工程における使用のための粉末、すなわち、基礎支持体へ良好に付着する極端に薄い閉じた層を形成することが最終的に要求される粉末は、高い必要条件を満たさなければならない。粉末として、それらは、均一な単一微粒子の層に塗布されるために良好な流れ特性を有しなければならず、加熱において、着色顔料のような、高い固体の含有量の場合においてさえ、それらは、均一な層を形成するために基礎支持体上で良好に流れる、希薄な液体の溶融体を形成するために、溶融しなければならない。粉末における結合剤は、架橋可能でなければならないが、基礎支持体に薄い均一な層を形成するために、良好に流れる塊を形成するために粉末を加熱する段階では、架橋反応は、実際にかなりの程度で起こってはならない。さらに、粉末は、３５−４５℃までの温度で、これは、加工装置で普及してもよい温度であるが、相対的に長い期間の蓄積の間で化学的に安定でなければならない。
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、薄い均一な閉じた層を基礎支持体に形成することができる工程及び特にその工程における使用のための粉末に関する。
【００２４】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、基礎支持体へ薄い均一なコーティング層を塗布する方法であって、溶融可能な樹脂を含有する粉末を、軟質のエラストマーの表面における薄い実質的に単一微粒子の層に堆積させること、前記エラストマーの表面に存在する前記粉末を加熱して、それを粘着性にすること、前記粘着性の粉末を、圧力によって最終的な基礎支持体へ転写すること、及び、前記粘着性の粉末を、前記粉末が前記支持体より上の均一な層へ流れ込む温度まで加熱すること、を含み、前記粉末は、約２０００及び１０，０００の間の数平均分子量を有する架橋可能なポリエステル樹脂を含有し、前記均一な層の形成の後に、前記樹脂は、架橋されることを特徴とする。
【００２５】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の方法において、前記ポリエステル樹脂は、エーテル化されたビスフェノールから誘導されることを特徴とする。
【００２６】
請求項３記載の発明は、請求項１記載の方法において、前記粉末は、１５００より下の数平均分子量及び６０ｍｍｏｌ／ｋｇより少ないエポキシ基の含有量を有するエポキシ樹脂を含有することを特徴とする。
【００２７】
請求項４記載の発明は、請求項３記載の方法において、前記粉末は、前記ポリエステル樹脂及び前記エポキシ樹脂を６０／４０及び３０／７０の間の重量比で含有することを特徴とする。
【００２８】
請求項５記載の発明は、請求項１記載の方法において、前記粉末は、作用光によって架橋可能なポリエステル樹脂を含有することを特徴とする。
請求項６記載の発明は、請求項１記載の方法において、前記粉末は、添加物として顔料及び／又は染料を含有することを特徴とする。
【００２９】
請求項７記載の発明は、請求項６記載の方法において、前記粉末は、磁化可能な顔料を含有することを特徴とする。
【００３０】
請求項８記載の発明は、請求項６記載の方法において、前記粉末は、電子を反射する層を形成する顔料を含有することを特徴とする。
【００３１】
請求項９記載の発明は、請求項８記載の方法において、前記粉末は、ビスマスの酸化物を含有することを特徴とする。
【００３２】
請求項１０記載の発明は、請求項８記載の方法において、前記樹脂を架橋させておいた後に、前記支持体は、前記樹脂が着火される温度まで加熱されることを特徴とする。
【００３３】
請求項１１記載の発明は、請求項１記載の方法において、前記粘着性の粉末は、前記基礎支持体を加熱することによって加熱されることを特徴とする。
【００３４】
請求項１２記載の発明は、請求項１記載の方法において、前記薄い均一なコーティング層は、画像として前記基礎支持体へ塗布されることを特徴とする。
【００３５】
請求項１３記載の発明は、基礎支持体に永久に接続される薄い凝集層を含む複合材であって、前記層は、約２０００乃至１０，０００の数平均分子量を有する架橋されたポリエステル樹脂の結合材を含有することを特徴とする。
【００３６】
請求項１４記載の発明は、請求項１３記載の複合材において、前記基礎支持体は、金属、ガラス、及び木材からなる群から選択されることを特徴とする。
【００３７】
請求項１５記載の発明は、請求項１３記載の複合材において、前記ポリエステル樹脂は、６０ｍｍｏｌ／ｋｇより少ないエポキシ基の含有量を有するエポキシ樹脂と混合されることを特徴とする。
【００３８】
請求項１６記載の発明は、請求項１５記載の複合材において、前記エポキシ樹脂は、１５００より少ない数平均分子量を有することを特徴とする。
【００３９】
請求項１７記載の発明は、請求項１３記載の複合材において、前記ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸及びエーテル化されたビスフェノールから誘導されることを特徴とする。
【００４０】
請求項１８記載の発明は、ＣＲＴのシャドウマスクとして使用するマスクを被覆する方法であって、第一の部材にトナーの層を、前記第一の部材に電荷エリアを付与することによって、形成すると共に、樹脂のトナーの層を前記電荷エリアに堆積させること、前記トナーの層を、軟質のエラストマーの表面の層に、前記第一の部材及び前記エラストマーの表面の層の間における圧力の適用により転写すること、前記エラストマーの表面の層における前記トナーの層を加熱して、それを粘着性にすること、前記粘着性の粉末を圧力によってシャドウマスクの基礎支持体へ転写すること、並びに前記シャドウマスクの基礎支持体における前記トナーを、前記トナーにおける前記樹脂を少なくとも部分的に炭化させることに十分な時間の間少なくとも３００℃の温度まで加熱することを含むことを特徴とする。
【００４１】
請求項１９記載の発明は、請求項１８記載の方法において、前記トナーは、約２０００及び１００００の間の数平均分子量を有する架橋可能なポリエステル樹脂を含むことを特徴とする。
【００４２】
請求項２０記載の発明は、請求項１９記載の方法において、前記トナーは、１５００より下の数平均分子量及びの６０ｍｍｏｌ／ｋｇより少ないエポキシ基の含有量を有するエポキシ樹脂をさらに含有することを特徴とする。
【００４３】
請求項２１記載の発明は、請求項１７記載の方法において、前記トナーは、金属又は金属を含有する成分を含み、前記金属の原子番号は、少なくとも５０であることを特徴とする。
【００４４】
請求項２２記載の発明は、請求項２１記載の方法において、前記トナーは、ビスマスの酸化物を含むことを特徴とする。
【００４５】
請求項２３記載の発明は、請求項２１記載の方法において、前記トナーは、鉛ガラスフリットを含むことを特徴とする。
【００４６】
請求項２４記載の発明は、請求項２１記載の方法において、前記トナーは、追加としてガラスエナメルを含有することを特徴とする。
【００４７】
請求項２５記載の発明は、請求項２４記載の方法において、前記ガラスエナメルは、鉛又はビスマスを含むことを特徴とする。
【００４８】
【発明の実施の形態】
本発明の工程に従って、基礎支持体に形成される最終的な模様の鏡像の形態でエラストマーの表面に塗布されるのは、熱可塑性の結合剤を含有する粉末の実質的に単一微粒子の層であり、単一微粒子の層における粉末は、それが、エラストマーの表面に位置を定めると同時に、加熱することによって粘着性にされ、粘着性の粉末は、基礎支持体へ圧力によって転写され、その上に転写された粉末を伴う基礎支持体は、粉末が均一な層を形成するために流出する温度まで加熱され、結合材を、その層で架橋させる。本発明は、約２０００乃至１００００の重量平均分子量を有する架橋可能な実質的に直鎖のポリエステル樹脂を含有する粉末を使用する。本発明に従って使用される粉末におけるポリエステル樹脂は、架橋可能なポリエステル樹脂であり、架橋可能性は、上昇した温度及び／又は作用光、例えばＵＶ光での照射で架橋反応を引き起こすか、又は、上昇した温度でポリエステル樹脂、例えばカルボキシル及び／又はヒドロキシル基を含有する樹脂の反応性基と反応する基を含有する、ある成分、例えば第二の樹脂と混合される、反応性基を樹脂それ自体に提供することによって、得られる。
【００４９】
好ましくは、トナーの粉末は、２０００及び１００００の間の重量平均分子量をもつ実質的に直鎖のポリエステル樹脂を含有し、ポリエステル樹脂又はこのような樹脂の混合物を、さらなる好適な実施例に従って、１５００より少ない数平均分子量及び６０ｍｍｏｌ遊離エポキシ基毎ｋｇより少ないエポキシ基の含有量を有する相対的に低分子のエポキシ樹脂と混合することができる。
【００５０】
上で言及したタイプのポリエステル樹脂は、加熱において、最初に、良好に流れる溶融体を形成し、次に、少なくとも約２００℃の温度までのさらなる加熱において、分子間反応によって架橋することを発見してきた。架橋の後、層が曲がることができるように塗布される支持体に対して十分に弾性である、高い機械抵抗をもつ層を形成する。この好都合な特性は、さらにたとえポリエステル樹脂を上で定義したような低分子のエポキシ樹脂と混合するとしても、当てはまる。
【００５１】
このエポキシ樹脂におけるエポキシ基の含有量は、さもなければ架橋反応が、早過ぎて起こることになるという危険性があり、よって均一な層を形成するための樹脂の流れが、所望のものであるためには、多量なままになるので、あまり高過ぎてはならない（例えば６０ｍｍｏｌ／ｋｇより少ない）。
【００５２】
好ましくは、ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸及びジオール、好ましくはエーテル化されたビスフェノールから誘導される。ジカルボン酸は、飽和又は不飽和であり得ると共に、例えば、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸及びこのような酸の混合物を含むことができる。また、適切なのは、フタル酸、テレフタル酸、及びイソフタル酸のような芳香族ジカルボン酸、また芳香族ジカルボン酸の混合物、及び一つ又は複数の脂肪族飽和又は不飽和ジカルボン酸と一つ又は複数の芳香族ジカルボン酸の混合物である。
【００５３】
ジオールは、好ましくはエーテル化されたビスフェノールである。典型的な例は、ポリオキシエチレン（２）−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ポリオキシプロピレン（３）−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ポリオキシプロピレン（２）−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ポリオキシプロピレン（３）−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−スルホン、ポリオキシプロピレン（２）−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−チオエーテル及びこのようなジオールの混合物である。
【００５４】
ポリエステル樹脂の数平均分子量は、２０００−１００００である。この範囲において、樹脂は、熱的に粘着性にしておいた粉末の層を圧力の下で基礎支持体へ転写するために、本発明に従う工程で要求される最も適切な粘弾性特性を有し、転写は、エラストマーの表面から実質的に定量的である。ポリエステル樹脂（又はポリエステル樹脂の混合物）を、都合良くは、好ましくは１５００より少ない数平均分子量及び好ましくは６０ｍｍｏｌ毎ｋｇより多くない反応性エポキシ基の含有量をもつ低分子のエポキシ樹脂からなる架橋剤と混合することができる。適切なエポキシ樹脂は、入手可能な低分子量のエポキシ樹脂、例えば、Ｅｐｉｋｏｔｅ　８２８、８３８、及び１００１の名前でＳｈｅｌｌ　Ｎｅｄｅｒｌａｎｄ　Ｂ．Ｖ．から商業的に入手可能なものである。これらの商業的に入手可能な樹脂における遊離のエポキシ基の含有量は、好適な最大の６０ｍｍｏｌ毎ｋｇよりも高い。結果として、反応性エポキシ基のいくつかは、最大の６０ｍｍｏｌエポキシ基毎ｋｇの要求を満たす樹脂を得るために、一官能価の試薬との反応によって不活性化される。過剰の反応性エポキシ基を不活性化するための一官能価の試薬は、一官能価のアルコール若しくはフェノール、又は一官能価のカルボン酸であり得る。適切な一官能価の試薬は、フェノール、ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｐ−シクロヘキシルフェノール、α−ナフトール、β−ナフトール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、フェニル酢酸、ジフェニル酢酸、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、ｐ−イソプロピル安息香酸である。反応性エポキシ基の相対的に低い含有量は、基礎支持体にそれを固定する高い温度で樹脂の粉末が、第一に、基礎支持体上の均一な層へ希薄な溶融体として流れ込む、及び次に、永久の層を形成するために架橋するだけである機会を有することを保証するために必要である。
【００５５】
粉末におけるポリエステル樹脂のエポキシ樹脂に対する比率は、かなり広い区域内で変動することができ、好ましくは６０：４０及び３０：７０の間にある。
【００５６】
ポリエステル樹脂及び熱的な架橋剤の混合物の代わりに、本発明に従って、熱的に又はいくつかの他の方法で開始される分子間反応によって樹脂を硬化させることができるように、その分子構造に架橋可能な基を含有するポリエステル樹脂を含有する粉末を使用することは可能である。
【００５７】
非常に適切なポリエステル樹脂は、ポリエステル樹脂、又はＵＶ−光によって架橋され得る、ポリエステル樹脂を含有する組成物である。例は、フマル酸又はマレイン酸のような不飽和ジカルボン酸から誘導される、並びにビニルエーテル、結晶質の架橋剤と自由選択で組み合わされたアクリル（メタクリル）化されたポリエステル、及び固体のウレタンアクリラートと混合された不飽和ポリエステルを主材料とした結晶質の架橋剤と混合される、不飽和ポリエステルである。ＵＶ−架橋可能な組成物において、存在するポリエステル樹脂は、２，０００−１０，０００の数平均分子量を有する。
【００５８】
樹脂に加えて、粉末は、カーボンブラック、有機又は無機の顔料、染料、及び／又は、粉末を伴った意図した使用に依存して選択される他の材料のような着色する材料を含有する。例えば、磁気的に検出可能な模様を、基礎支持体に塗布することができるとき、粉末は、磁気性の又は磁化可能な顔料を含有してもよい。電子を反射するコーティングを、例えばイメージ管用のシャドウマスクの生産において、塗布することができるとき、ビスマスの酸化物（Ｂｉ２Ｏ３）を、低溶融ガラスエナメル（付着改良剤）のような、どんな補助剤とも好ましくは一緒に加えることができる。シャドウマスクの黒色処理工程の後における層の良好な付着を保証するために、上昇した温度での黒色処理の間にトナーの樹脂が分解すると共に燃えきることになるので、ガラスエナメル、好ましくは鉛又はビスマスを含有するエナメルを、加えることができる。粉末における顔料の含有量は、６０重量％まで又はそれ以上でさえあってもよい。この高い固体の含有量でさえ、粉末が、約１５０℃まで加熱したとき、閉じた層を形成するために、良好に流出することを見出してきた。
【００５９】
粉末の粒子の大きさは、広い区域内で変動することができ、好ましくは２及び６０マイクロメートルの間にある。本発明に従う工程の一つの特別な可能性は、最終的に要求される層の厚さを、粉末の粒子の大きさの選択によってたいてい制御することができることである。例えば、ちょうど数マイクロメートルの厚さの層を、５乃至６マイクロメートルの平均の粒子の大きさ及び例えば約４及び１０マイクロメートルの間における粒子の大きさの広がりを有する粉末と共に単一微粒子の層を形成することによって、より大きな平均の粒子の大きさ及び広がり（例えば、それぞれ１５−１６及び１２−２０マイクロメートル）を有する粉末を使用することによってより厚い層を形成することができると同時に、形成することができる。本発明に従う工程において、上述した組成物を伴う粉末は、軟質のエラストマーの表面における薄い実質的に単一微粒子の層に形成される。軟質のエラストマーの表面は、適切な支持体又は基板に塗布された５０乃至２００マイクロメートルの厚さの、例えば、シリコーンゴム又は他のゴム様の材料、例えば過フルオロポリエーテルの層からなる。エラストマーの材料の硬度は、好ましくは、１５及び８０度Ｓｈｏｒｅ　Ａの間にある。適切なシリコーンゴムは、とりわけ、ＮＬ−Ａ−８８０１６６９に記載されている。粉末の層が存在する移動ベルト又はローラーに対して（自由選択で）エンドレスベルト又はローラーとして自由選択で構築される、エラストマーの表面を加圧することによって、固体の表面として形成された単一微粒子の層を、エラストマーの表面に形成することができる。その圧力の結果として、粉末の単一微粒子の層は、エラストマーの表面より上で通過する。粉末を、特定の（画像の）模様の形態で基礎支持体に塗布することができるとすれば、粉末は、模様の鏡像としてエラストマーの表面に形成される。これは、単一微粒子の層が、要求される最終的な模様の鏡像としてエラストマーの表面に形をなすように、電気記録（電子写真）又は磁気性の画像形成媒体に、基礎支持体に要求される模様に対応する模様の形態で静電的な又は磁気性の潜像を形成すること、この模様を本発明に従って使用される粉末で可視にすること、そして、それに存在する粉末の画像の模様を伴った画像形成媒体をエラストマーの表面に対して加圧することによって、実施され得る。エラストマーの表面における粉末は、一つ又は複数の外部の熱源によって、エラストマーの材料で覆われたローラーの内部に配置される熱源によって、又は、ベルトを使用するとすれば、ベルトの軌跡内で、加熱される。粉末を熱的に粘着性にするために、エラストマーの表面は、約８０乃至１２０℃の温度まで加熱される。画像が圧力の接触によって転写され得る基礎支持体を、都合良くは、また幾分、例えば５０°及び１００℃の間の温度まで、加熱することができる。８００乃至１５００Ｎ／ｍの線圧力が、エラストマーの表面から基礎支持体への圧力転写に使用される。画像形成媒体からエラストマーの表面への粉末の圧力転写を、エラストマーの表面の硬度にもまた依存する、幾分より低い圧力で実施することができる。要求される転写の結果は、６００乃至８００Ｎ／ｍの線圧力のいたるところで達成���れる。粉末を基礎支持体に塗布しておいた後、基礎支持体は、粉末が薄い均一な層を形成するために流出する温度まで加熱される。均一な閉じた層が形をなしてきた後、結合材は、架橋反応が起こる温度まで基礎支持体を加熱することによって、又は作用光、例えばＵＶ光を使用して自由選択で加熱と共に樹脂の層を照射することによって、架橋される。粉末が、熱的に架橋するポリエステル樹脂を含有するとすれば、ポリエステル樹脂、又はポリエステル樹脂を含有する組成物は、好ましくは、架橋反応が、基礎支持体への粉末の転写が起こる温度よりちょうど上の温度で起こるように選択される。光化学的に架橋可能な、ポリエステル樹脂、又はポリエステル樹脂を含有する組成物を使用するとすれば、光化学的な硬化反応の速い進行を得るために、作用光での照射の間又は前に樹脂を加熱することもまた必要である場合もある。もちろん、光化学的に架橋可能な樹脂を使用するとき、架橋ステップに先行する工程を、樹脂の早期の光化学的な架橋を回避する条件の下で実行するべきである。
【００６０】
本発明に従う工程を利用するとき、せん断又は直接支持体から分離されたようになることなく基礎支持体の変形（曲げ）を許容する機械的に抵抗性だが適度に弾性の層は、このように形成される。いくつかの用途に関して、その層を架橋しておいたと共に基礎支持体を要求された形状（曲がり）に形成しておいた後、その層は、架橋剤に完全に着火する及びこのように前記支持体にセラミック又はガラス様の層を形成するために、より高い温度までさらに加熱される。この後の加熱は、例えば本発明に従う工程をＣＲＴ管のシャドウマスクの製造に対して使用するとき、実行される。
【００６１】
前述したように、本発明に従う方法を、都合良く、ＣＲＴにおける使用のためのシャドウマスクの製造に使用することができる。
【００６２】
樹脂の加熱及び溶融を、シャドウマスクにトナーを塗布した後、いつでも実行してもよい。しかしながら、好適な実施例において、樹脂の溶融は、適切に電気的に加熱してもよい、転写ロール又はシャドウマスク転写デバイスによって行われる。これによって、コーティングを、塗布の後直ちに、シャドウマスクの基板に付着させる。樹脂を溶融することによって、穴の縁におけるトナーの微粒子もまた溶融し、穴から流れ去る。これは、非常に鮮明な定義されたマスク穴を与える。この現象によって、非常に小さなマスク穴（≦１２０ミクロン）をもつモニターディスプレイ用のマスクでさえ、被覆することができる。しかしながら、樹脂の溶融もまた、基板が、転写ロールを去ってしまったとき、樹脂の溶融温度まで基板を単純に加熱することによって行ってもよいことを理解することができる。
【００６３】
管におけるシャドウマスク上のコーティングの厚さを、トナーの粒度及びトナーにおける無機材料の量によって調節することができる。トナーの好適な粒度は、５乃至３０ミクロンである。トナーにおける無機材料の好適な量は、２５乃至７５重量％である。
【００６４】
コーティングの塗布及び付着の後で、基板を所望の形状に形成する。通常、コーティングは、どんな損傷もなく、形成工程に耐えることができる。しかしながら、ある一定の場合には、基板を、コーティングにおける樹脂の溶融温度より上の温度まで加熱すると共に、基板の形成又は引抜き工程を行う必要がある。これは、例えば、いわゆる不変金属で造られたシャドウマスクに当てはまる。その材料のシャドウマスクを形成するとき、マスクを、ほとんどのホットメルト樹脂に対する融点より十分上にある約１８０℃まで加熱する。よって、コーティングにおける樹脂は、溶融すると共にマスク形成用の型を汚染することになる。これは、許容可能ではなく、シャドウマスクの拒否をもたらすことになる。この問題を克服するために、好適なトナーの組成物が提供された本発明の実施例に従って、基板を、形成に先立ち短時間に３００℃乃至４５０℃で熱処理する。その時間は、例えば、５乃至３００秒、好ましくは１０乃至１２０秒の範囲にわたってもよい。しかしながら、最適温度及び時間の長さは、使用する樹脂に依存して、変動してもよい。この熱処理の間に、有機材料の架橋及びいくらかの炭化は、樹脂が、以下の形成工程で溶融しないことになるという効果を伴って起こる。別の有利な効果は、この熱処理によって、コーティングが、基板から油及びグリースを取り除くために、アルカリの脱脂工程（ｐＨ＞１２）、又はしばしば形成工程に続く、三重の蒸気脱脂工程により耐えるようになることを証明してきたことである。熱処理なしで、このようなアルカリ又は三重の脱脂工程は、基板に対する不良な付着に帰着する、コーティングを攻撃する傾向を有する。
【００６５】
ここで本発明を、単一の図面を参照して例によって説明することにする。
【００６６】
図において、供給デバイス１は、塗りロール３の円周の表面へ、乾燥した微粉の状態におけるトナー２を、トナーの層４が、ロールの表面に連続的に形成されるように、送出する。塗りロール３は、光導電性層６が提供された光導電性ロール５の非常に近くにあり、それらロールを、互いに合わせて回転させる。
【００６７】
コロナ荷電デバイス７によって、光導電性層６を、光導電性ロール５の回転の間に、正に荷電させる。コロナ荷電デバイス７の後の領域に、回転の方向に関して、露光デバイス８を位置決めする。露光デバイス８によって、光導電性層６を、（離れたプラスの符号で図説する）光導電性層の露光されたエリアの放電に帰着する、所望の模様で光に対して露出させる。
【００６８】
塗りロール３は、露出デバイス８の後の領域において光導電性ロール５の近くにある。光導電性ロールにおける帯電模様及びトナーの静電気の挙動は、トナーが、光導電性ロールの荷電されたエリアに対して所望の模様９に付着することを果たす必要がある。
【００６９】
トナーの模様９は、その後、基板１０だけでなく光導電性ロール５に対して圧迫する転写ロール１１によって基板１０へ転写される。トナー模様９の転写を促進するために、転写ロール１１には、好ましくは、弾性の表面層が提供される。その工程の間に、基板は、転写ロール１１及びベアリングロール１２の間に供給される。
【００７０】
前述したように、トナーは、好ましくは、約６０℃乃至１２０℃の熱処理を受け、転写するロール１１からわずかに加圧される。また、被覆された基板は、可能なその後の形成工程での高い温度に耐える能力を増強させるために、約５乃至３００秒における３００℃乃至４５０℃の間の熱処理のような、さらなる後処理を受けてもよい。
【００７１】
まとめると、本発明は、基板１１、好ましくはシャドウマスクに模様がついたコーティグを塗布するための方法に関する。本方法は、光導電性ロール５に負の電荷を荷電する、光導電性ロールを所望の模様で光に対して露出させる、微粉のトナー２を光導電性ロールへ塗布する、ここでトナーは、露光されなかった荷電されたエリアにのみ付着することになる、基板上へ所望の模様９でトナーの転写、のステップを含む。
【００７２】
また、本発明は、本方法を実行することに適合したトナーの組成物に関する。
【００７３】
この工程は、記載した後方散乱層のようなマスクの銃側におけるコーティングの用途に限られず、スクリーン側における層にもまた使用され得る。ホウ素若しくは炭素又はこれらの元素からの化合物のような、低原子番号の材料を伴う層をスクリーン側に塗布するとすれば、管のコントラストは、マスク及びスクリーンの間における電子のより低い後方散乱によって、改善されることになる。さらに低い摩擦係数をもつ材料を、マスクのスクリーン側におけるトナーにおいて使用するとすれば、引抜油は、それ以上必要とされない。さらに、三重又はアルカリの脱脂工程に対する要求がなく、より経済的な生産工程をもたらす。
【００７４】
本発明の適用可能性のさらなる範囲は、詳細な説明から明らかになると思われる。しかしながら、本発明の主旨及び範囲内での様々な変化及び変更が、この詳細な説明から当業者には明らかになると思われるので、詳細な説明及び具体的な例が、本発明の好適な実施例を示すと同時に、図説のみによって与えられることを理解するべきである。
【００７５】
【実施例】
約５及び１５マイクロメートルの間の粒子の大きさを有すると共に
カルボニル鉄　１．５ｋｇ
ビスマスの酸化物（Ｂｉ２Ｏ３）　４．８ｋｇ
Ｅｐｉｋｏｔｅ　８２８、その反応性エポキシ基の含有量を、ｐ−クミルフェノールとの反応によって、約４ｍｍｏｌ／ｋｇまで減少させた　２．２ｋｇ
２７：７３のモル比におけるビスフェノールＡ並びにアジピン酸及びテレフタル酸のポリエステル樹脂（Ｍｎ８３００）　１．５ｋｇ
を含有する粉末を、それ自体既知の様式で、熱可塑性樹脂を溶融させること、樹脂の溶融体に顔料を均質に分布させること、固体を形成するために溶融体を冷却すること、及びその固体を細砕すると共にふるい分けすることによって調製した。
【００７６】
次に、この粉末を、５．３×１０３Ωｍの抵抗率を有する電気的に伝導性の粉末を与えるように、オランダ特許第１６８３４７号に記載されているような工程に一致するカーボンブラックの層で覆った。
【００７７】
粉末表面を、結果として生じる粉末と共に、標準的な有機光伝導体に、後者を静電的に帯電すること、次に、磁気ブラシ現像デバイスにおいて電荷の模様をその粉末で現像することによって、形成した。
【００７８】
全てがオランダ特許出願第８８０１６６９号の例１に記載されているが、粉末表面を、約１００ｍｍの直径を有すると共に、着色されたＲＴＶ−シリコーンゴムのおおよそ１．７ｍｍの厚さの基板及び第二のＲＴＶ−シリコーンゴムのおおよそ５０マイクロメートルの厚さの最上の層を伴う鋼のコアからなる、１００℃に加熱されたローラーへ、圧力（約８００Ｎ／ｍの線圧力）によって転写した。このように、粉末の実質的に単一微粒子の層を、ローラーに形成した。粉末が粘着性になってきた後、それを、ＩＮＶＡＲからなるシャドウマスクを形成するために約９０℃まで加熱された基礎原料へ圧力の下で転写した。次に、ＩＮＶＡＲ基礎原料へ転写された薄い粉末の層を、シャドウマスクの基礎原料の微細な開口を実質的に完全に自由にしたまま粉末が薄い閉じた層へ流れ込むように、約５分間１５０℃まで加熱した。シャドウマスクを、樹脂に着火するために、ＣＯ／ＣＯ２の雰囲気で６５０℃まで加熱した。このようにして、シャドウマスクは、完全に自由な開口と共に、さもなければ薄い均一な電子を反射する層で覆われて得られた。
【００７９】
本発明をこのように記載するが、同じものを、多くの方法で変形させてもよいことが、明白であると思われる。このような変形を、本発明の主旨及び範囲からの逸脱とみなすことはできず、当業者に明白であろう全てのこのような変更を、請求項の範囲内に含む。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に従う方法を図説する、基板のコーティングに関する配置の概略の側面図である。
【図１】
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