(57)【要約】【課題】ストッカーに水分の高い未分解未乾燥の処理物が排出されても、カビや腐敗などによる悪臭の発生や、へばりつきや凍結によって取り出せないといった不具合を解消できる有機物処理装置を提供する。【解決手段】生ごみ等の有機物を微生物により分解処理する処理槽１と、この処理槽１を加温する加温手段（パネルヒータ２０）と、処理槽１からオーバーフローによって排出される処理物Ｄを蓄えるストッカー３９とを備えた有機物処理装置において、前記ストッカー３９を加温する加温手段（パネルヒータ２０）を備えた。具体例として、前記ストッカー３９は処理槽１の前面側に配置され、前記加温手段として、ストッカー３９が配置された処理槽１の前面側にパネルヒータ２０を貼り付けた。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
生ごみ等の有機物を微生物により分解処理する処理槽と、この処理槽を加温する加温手段と、前記処理槽からオーバーフローによって排出される処理物を蓄えるストッカーとを備えた有機物処理装置において、
前記ストッカーを加温する加温手段を備えたことを特徴とする有機物処理装置。
【請求項２】
前記ストッカーを加温する加温手段は、ストッカーと処理槽の間に配置されて、ストッカーと処理槽の両方を加温することを特徴とする請求項１記載の有機物処理装置。
【請求項３】
前記ストッカーは処理槽の前面側に配置され、前記加温手段として、ストッカーが配置された処理槽の前面側にパネルヒータを貼り付けたことを特徴とする請求項２記載の有機物処理装置。
【請求項４】
前記処理槽を加温する加温手段としてパネルヒータを用いると共に、処理槽のコーナー部を覆うようにパネルヒータを貼り付けたことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の有機物処理装置。
【請求項５】
前記パネルヒータの処理槽コーナー部にかかる部分を、他より薄く形成したことを特徴とする請求項４記載の有機物処理装置。
【請求項６】
前記パネルヒータとして、ヒータ線をアルミテープで挟み込んだ構造のものを用いると共に、処理槽コーナー部にかかる部分にはヒータ線を配線せずに上側のアルミテープをコーナー部にかかる端部まで形成しないようにしたことを特徴とする請求項５記載の有機物処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、生ごみ等の有機物を微生物により分解処理する有機物処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の装置の多くは、処理槽内を微生物の活動に最適な温度に保つために、処理槽の外周面を覆う形でパネルヒータ（面状ヒータ）を備えている。このパネルヒータの他に、換気ファンや攪拌機構の働きにより、処理槽内を微生物の活動に最適な環境にコントロールして、微生物を活性化させ、生ごみを分解処理するようにしている。この分解過程において、微生物では処理しきれない無機物が残るため、微生物の担体であるチップ（おが屑等）は、ある時期がくれば寿命となるので、全量交換する必要があった（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかし、近年、この全量交換ではなく、生ごみを分解しながら、処理槽の上部に設けた排出口から徐々に排出するオーバーフロー方式の装置が主流となってきた。このオーバーフロー方式のものは、処理槽の底面や前面側等にストッカーが配置されていて、排出された処理物を貯えるような構成になっている（例えば、特許文献２，特許文献３参照）。
【０００４】
また、生ごみの量が処理能力を超えると、水分が多くなり、処理状態が悪化する。この場合、処理悪化の目安は、処理槽内収容物（チップ等）の含水率により判断することが可能で、例えば、含水率センサにより、含水率の上昇を検知して、高含水率の状態であれば、パネルヒータの制御温度を高くして水分蒸発を促すようにする。このような制御を行うことで、処理槽内収容物の含水率を下げることができる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−２０２２３０号公報（図２）
【特許文献２】
特開２００１−６２４２９号公報（図１）
【特許文献３】
特開２００２−１２６７０７号公報（図１）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記ストッカーに排出される処理物は、水分の高い未分解未乾燥のものが一緒に排出されることが多く、これにかびが生えたり、腐敗したりして、悪臭が発生する原因になるなどの問題があった。また、水分の高い処理物が入ると、ストッカーから取り出すときに、ストッカーの内壁にへばりついてしまったり、冬季などは凍結により、ストッカーから取り出せないといった問題があった。
【０００７】
また、処理槽内の水分が多くなった場合にパネルヒータの温度を上げて水分を蒸発させると、パネルヒータを貼り付けていない処理槽のコーナー部は水分が飛びにくいため、チップ等が処理槽内に張り付いて、カベ（固化層）が形成されるという不具合が生じる。特に処理槽のコーナー部は、チップ等が攪拌されにくいために、カベが形成されやすく、このカベの水分が飛ばないために、処理が悪化したまま、悪臭が発生したり、攪拌がロックするなどの問題点があった。
【０００８】
そこで、本願発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、ストッカーに水分の高い未分解未乾燥の処理物が排出されても、カビや腐敗などによる悪臭の発生や、へばりつきや凍結によって取り出せないといった不具合を解消できる有機物処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００９】
また、処理槽のコーナー部にカベ（固化層）が形成されて、処理が悪化したまま、悪臭が発生したり、攪拌がロックするなどの不具合を解消できる有機物処理装置を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記のような目的を達成するために、本願発明は、生ごみ等の有機物を微生物により分解処理する処理槽と、この処理槽を加温する加温手段と、前記処理槽からオーバーフローによって排出される処理物を蓄えるストッカーとを備えた有機物処理装置において、前記ストッカーを加温する加温手段を備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
また、前記ストッカーを加温する加温手段は、ストッカーと処理槽の間に配置されて、ストッカーと処理槽の両方を加温することを特徴とするものである。
【００１２】
具体例として、前記ストッカーは処理槽の前面側に配置され、前記加温手段として、ストッカーが配置された処理槽の前面側にパネルヒータを貼り付けたことを特徴とするものである。
【００１３】
また、前記処理槽を加温する加温手段としてパネルヒータを用いると共に、処理槽のコーナー部を覆うようにパネルヒータを貼り付けたことを特徴とするものである。
【００１４】
さらに、前記パネルヒータの処理槽コーナー部にかかる部分を、他より薄く形成したことを特徴とするものである。
【００１５】
具体例としては、前記パネルヒータとして、ヒータ線をアルミテープで挟み込んだ構造のものを用いると共に、処理槽コーナー部にかかる部分にはヒータ線を配線せずに上側のアルミテープをコーナー部にかかる端部まで形成しないようにしたことを特徴とするものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。
【００１７】
図１〜図１８は本願発明の実施形態の構成及び作用を示す図であり、この有機物処理装置は、微生物分解処理方式によるもので、微生物の担体（チップと呼ばれるおが屑などの木質細片等）を収納して、生ごみ等の有機物が投入される上面開口の処理槽１が外装ケース２内に収容されて構成されている。
【００１８】
上記処理槽１は、図３等に示すように、前後方向から見て下部側が後述の攪拌翼の回転軌跡に合わせた円弧状を成す断面略Ｕ字状に形成されている。
【００１９】
また、外装ケース２は、処理槽１の上面開口縁を覆う上ケース３と、処理槽１等が載置される下ケース４と、これら上下ケース３，４間の前面側にあって後述するストッカーが取り付けられる前ケース５、背面側を覆う後ケース６及び側面側から前面側の一部を覆うステンレス等の外装板金パネル７などから成っている。
【００２０】
上ケース３の上面は、処理槽１の上面開口に対応して開口し、微生物担体や生ごみ等を投入するための投入口８が形成され、この投入口８には、図４，図５に示すように上ケース３後部側に設けられた支軸９ａを中心に回動し、図示しないリッドスプリングにより開放する方向に付勢された蓋体９が設けられている。そして、上ケース３の前面側中央部には、手で押すことによって蓋体９を開けるためのハンドルレバー１０が設けられている。このハンドルレバー１０に形成された凹部１０ａに蓋体９の前端に形成された爪部９ｃが引っ掛かることにより、蓋体９は閉鎖され、ハンドルレバー１０を押して前記凹部１０ａと爪部９ｃの引っ掛かりを解除することにより、リッドスプリングの付勢力で開放するようになっている。また、上ケース３の両側部には、装置本体持ち運び用の取手部１１が形成されている。
【００２１】
一方、処理槽１内には、前後壁間に、複数の攪拌翼１２が立設された攪拌軸１３が正逆回転自在に設けられている。この攪拌軸１３は、両端側が処理槽１の前後壁に形成された軸受部１４，１４によって支持されると共に、後壁側の軸端が背面側に設けられたギアやプーリ等から成る減速駆動機構１５を介して、正逆回転駆動する攪拌用モータ１６に連結され、攪拌用モータ１６の回転が減速されて伝達されることにより、正逆回転駆動されるようになっている。
【００２２】
また、上記減速駆動機構１５の上方には、マイクロコンピュータから成る制御部等が搭載された制御基板１７が取り付けられており、この制御基板１７に搭載された制御部により本装置の各部が制御される。また、この制御基板１７の上方の上ケース３には、脱臭のオン／オフ操作や状態表示等を行う操作表示部１８が設けられている。蓋体９には、図１に示すように、蓋体９が閉鎖状態で各状態表示が見えるように、各状態表示ランプに対応する位置に孔が形成されて各状態表示ランプの内容表示（図示せず）がなされており、これにより表示パネル１９が構成されている。
【００２３】
また、処理槽１の側面から底面側と前面側には、図３〜図５に示すようにヒータ線２０ａがアルミテープ２０ｂで覆われて成るパネルヒータ２０が貼り付けられており、上記制御部により、パネルヒータ２０に内装されたサーミスタを用いて、処理槽１内を微生物の活性化に適する温度範囲内（約４０℃〜６０℃）に維持するように制御される。
【００２４】
本実施形態において備えられた処理槽１前面側のパネルヒータ２０は、処理槽１と後述するストッカー３９の間に挟み込むように配置されている。このように構成することにより、パネルヒータ２０の熱が、処理槽１とストッカー３９の両方に伝わるため、ストッカー３９に水分の多い未分解未乾燥の処理物Ｄが排出されても、ストッカー３９内は乾燥するので、カビや腐敗などによる悪臭の発生もなく、また、へばりつきや凍結することなく取り出しもスムーズに行うことができるようになる。さらに、処理槽１の加温手段としても有効利用することができる。また、処理槽１の前面側にパネルヒータ２０を貼り付けるだけで良いので、比較的簡単に実現することができる。
【００２５】
また、側面から底面側に貼り付けられるパネルヒータ２０は、本実施形態においては、処理槽１の前後のコーナー部Ｒまで覆うように貼り付けられている。このように、処理槽１のコーナー部Ｒにまでパネルヒータ２０を貼ると、その熱がコーナー部Ｒにあるチップ等にも伝わるため、水分が飛びやすくなって、カベ（固化層）が形成されなくなる。これにより、悪臭が発生したり、攪拌がロックするなどの不具合を解消できる。
【００２６】
しかし、パネルヒータ２０をコーナー部Ｒにも貼ると、攪拌時の振動や、温度変化により、パネルヒータ２０が剥離しやすくなるという新たな課題が発生する。このため、本実施形態においては、コーナー部Ｒにかかるパネルヒータ２０の端部を薄くして剥離しにくい構造としている。
【００２７】
パネルヒータは通常、ヒータ線をアルミ箔で挟み込んだ構造であるが、本実施形態では、端部を薄くするために、図６に拡大図示したように、粘着剤２０ｃが塗布されたアルミテープ２０ｂを用いて、処理槽１のコーナー部Ｒにかかる部分にはヒータ線２０ａを配線せずに上側のアルミテープ２０ｂをコーナー部Ｒにかかる端部まで形成しないような構造としている。このように構成することにより、処理槽１のコーナー部Ｒに確実に貼り付けることが可能となり、剥離の心配がなくなる。なお、本実施形態では、コーナー部Ｒにはヒータ線２０ａが配線されていないが、アルミテープ２０ｂの伝熱効果により、コーナー部Ｒまでヒータ線２０ａの熱が十分に伝わるため、コーナー部Ｒにはカベが形成されない。
【００２８】
また、処理槽１の底部外面には、円弧状の最下部で後壁近くに、槽壁を介して非接触で処理槽１内の含水率が検出可能な光学式含水率センサ２１が取り付けられており、この含水率センサ２１を用いて定期的に検出される処理槽１内の含水率に基づき、運転モードの制御や処理槽１内の状態表示等が行われるようになっている。なお、上記光学式含水率センサ２１としては、特開２０００−３４３０７０号公報に開示されたものと同様な原理で、タングステンランプ等の白熱電球と、焦電素子及びシリコンフォトダイオード等を用いたものを使用することができ、これらは基板上に搭載されると共に、白熱電球と、焦電素子及びシリコンフォトダイオードを仕切る仕切り壁を有するホルダー内の所定の位置に配置されるように取り付けられる。
【００２９】
ところで、光学式含水率センサ２１は、センシングの際、処理槽１の槽壁を透過して処理槽１内の処理物に白熱電球の光を照射し、返ってきた光の反射率を焦電素子とシリコンフォトダイオードで測定して含水率を検出している。一方、攪拌翼１２が硬い生ごみ等を強い力で動かした場合、処理槽１の槽壁に引っかき傷ができたり、強い力で弾性変形すると、その部分の樹脂が白化（白く濁る）する畏れがあり、センサ取り付け時と条件が変わってくるので、正確な反射率が得られなくなる。
【００３０】
そこで、本実施形態においては、図４，図７に示すように、攪拌翼１２の回転軌跡の延長線上外，具体的には、攪拌翼１２間の中間に位置するように光学式含水率センサ２１を取り付けている。これにより、引っかき傷等による処理槽１の白化の影響を防ぐことができるので、長期にわたって継続的に正確な反射率が得られ、含水率を精度良く検出することができる。
【００３１】
また、従来、光学式含水率センサの基板は、基板のボス孔とネジで位置が決めされていた。基板の固定において、直径４ｍｍのネジを使う場合、基板には通常それよりも少し大きめの直径４．２ｍｍ程度のボス孔を開けるので、ネジ孔とネジだけに頼って位置決めすると、微妙なずれが生じる可能性がある。０．１ｍｍ以内の精度を持つことが望ましい光学式含水率センサの基板などの固定には、もっと正確な位置決めが必要となる。
【００３２】
そこで、本実施形態においては、基板上に位置決め用の複数のピンを立てることにより、それらの位置決めピンの内側に上記ホルダーが接するように取り付けることで、基板とホルダー及びホルダー内の仕切り壁との縦横のずれが生じないようにしている。
【００３３】
図８を用いて具体的に説明すると、光学式含水率センサ２１は、図８（ａ）に示すように、センサ基板２１ａ上に配置されるホルダー２１ｂ及びホルダー２１ｂと一体に形成された仕切り壁２１ｃで、白熱電球２１ｄの電球領域２１ｅと、焦電素子２１ｆ及びシリコンフォトダイオード２１ｇのセンサ領域２１ｈを均等に仕切る必要がある。また、個々の装置毎のセンサ間の個体差が生じないように、センサ基板２１ａに対して常に同じ位置にホルダー２１ｂの仕切り壁２１ｃと周囲の壁を位置させる必要がある。
【００３４】
そこで、センサ基板２１ａに、図８（ａ）に示すようにホルダー２１ｂ位置を固定できる位置決めピンが立てられるように３個の孔２１ｉを開け、図８（ｂ）に示すように基板２１ａの裏から３本の位置決めピン２１ｊを立て、これら３本の位置決めピン２１ｊの内側にホルダー２１ｂの周囲の壁が当接するように固定する。そして、この状態を保って、図８（ｃ）に示すように処理槽１の底部外面に取り付ける。なお、センサ基板２１ａとホルダー２１ｂの仕切り壁２１ｃ及び周囲の壁さえ精度良く固定されておればよく、処理槽１への取り付け自体は、多少のずれが生じても影響ない。図９は、前記図４，図５に示した光学式含水率センサ部分の拡大断面図で、上記図８（ａ）のＢ−Ｂ断面位置を示しているので、位置決めピン２１ｊは１本しか見えていない。
【００３５】
以上のように構成することにより、センサ基板２１ａの位置決めピン２１ｊによってホルダー２１ｂの位置が確定されるため、縦にも横にもずれない位置に取り付けることができるようになるので、個々の装置毎のセンサ間の個体差が生じることなく、精度良く含水率を検出することができる。
【００３６】
なお、上記では位置決めピン２１ｊを用いてセンタ基板２１ａとホルダー２１ｂの位置関係を設定したが、図１０〜図１４に示すように取り付けるようにしても良い。
【００３７】
すなわち、処理槽１に光学式含水率センサ２１を取り付ける際、常に、正確に同じ位置に含水率センサ２１を固定するために、図１０，図１１に示すように処理槽１の底部外面に３個のボス１ａを形成すると共に、それらの内側にセンサケース２１ｋ側の接触部（前記ホルダー２１ｂの処理槽１側突出部）を囲むリブ１ｂを形成し、センサケース２１ｋの各内壁側にも複数の位置決めリブ２１ｍを形成して、センサ基板２１ａの周縁部を上記位置決めリブ２１ｍで位置決め固定できるように構成する。
【００３８】
上記構成において、含水率センサ２１の取り付け時には、先ずセンサケース２１ｋの各内壁に形成した位置決めリブ２１ｍに沿ってセンサ基板２１ａを押し込み、ぴったりと位置が決まったら、センサケース２１ｋのボス孔２１ｎを処理槽１側のボス１ａに嵌め込むと共に、センサケース２１ｋの処理槽１側接触部を処理槽１側に形成されたリブ１ｂに嵌合する。そして、センサ基板２１ａ上から本体手前側の２本のネジ２１ｐを処理槽１側のボス１ａに締め付けてから、センサケースカバー２１ｑを被せた後、中央の１本のネジを締め付けることにより、図１２に示すように光学式含水率センサ２１の取り付けが完了する。図１３は、取り付けられた光学式含水率センサ部分の拡大断面図である。
【００３９】
以上のように構成することにより、常に正確な位置に光学式含水率センサ２１及びセンサ基板２１ａとホルダー２１ｂを固定することができ、センシングの性能を高精度に確保することができるようになる。
【００４０】
一方、図１４〜図１８に示すように、処理槽１の後壁上部には、一側に脱臭運転時に処理槽１内の排気を排出する脱臭排気排出口２２が形成され、他側には通常運転時に処理槽１内の排気を排出する通常排気排出口２３が形成されている。通常排気排出口２３には、掃除等のメンテナンスを容易に行えるように取り外し自在に装着されるフィルタ２４のみが備えられているが、脱臭排気排出口２２には、同じく掃除等のメンテナンスを容易に行えるように取り外し自在に装着されるフィルタ２５と共に、このフィルタ２５が取り外された状態で脱臭運転が行われても微粉の浸入を防ぐために、取り外し不可に固定されるフィルタ２６が備えられている。
【００４１】
上記通常排気排出口２３には、下方に延びる通常用排気ダクト２７が連結され、この排気ダクト２７は通常用排気ファン２８を介して下ケース４の背面側と下面側に開口する排気口２９に連通している。
【００４２】
一方、脱臭排気排出口２２には、下方に延びる脱臭用排気ダクト３０が連結され、この排気ダクト３０の下端側は処理槽１の下方に配置された脱臭ユニット３１と脱臭用排気ファン３２を介して前記排気口２９に連通している。すなわち、１つの排気口２９が通常排気用及び脱臭排気用として共用化されている。
【００４３】
上記脱臭ユニット３１は、上流側に管状ヒータ（シーズヒータ）３１ａが配置され、その下流側にセラミックでハニカム構造に形成された触媒３１ｂが配置され、それらが耐熱，耐食性を有するステンレス等の金属筒状体３１ｃ内に収納され、さらに断熱材３１ｄで覆われている。これにより、流入する排気がヒータ３１ａによって加熱され、この加熱された排気が触媒３１ｂを通ることにより触媒３１ｂが加熱されて、排気に含まれる臭気成分の酸化分解反応が促進されるようになっている。
【００４４】
また、上記脱臭用排気ファン３２は、排気経路を構成するファンケース３２ａ内に収納されているが、この脱臭用排気ファン３２を駆動するモータ３２ｂは排気経路外に配置されている。
【００４５】
また、図１８に示すように、下ケース４の底面側には、外気を取り入れる吸気孔３３が形成されており、この吸気孔３３から取り入れられた外気は、脱臭ユニット３１や脱臭用排気ファン３２のモータ３２ｂの熱を奪いながら脱臭用排気ファン３２の外気吸込口３２ｃ（図１６に図示）から吸い込まれ、脱臭ユニット３１を介して加熱された高温排気を希釈して、温度の低下した排気が排気口２９から外部に排出されるようになっている。
【００４６】
一方、図４等に示すように、処理槽１の底部から前壁下部にわたって、担体等の全量交換時用の底部排出口３４がシャッター３５により開閉可能に形成されている。上記底部排出口３４の下側には、前部下方に向けて傾斜する取り出し用ガイド３６が取り付けられ、シャッター３５を取り外すことにより、ガイド３６を経て外装ケース２の前側に交換時期に達した担体等を取り出すことができるようになっている。上記シャッター３５は、ネジ止めによって底部排出口３４を密閉した状態に固定されるようになっている。
【００４７】
また、上記取り出し用ガイド３６の下側には、前述したハンドルレバー１０と図示しないワイヤーで連結されて、足で踏むことにより前記蓋体９を開放するためのフットレバー３７が備えられている。
【００４８】
また、処理槽１の前壁上部には、処理物Ｄをオーバーフローにより排出する上部排出口３８が形成されている。この上部排出口３８は前ケース５の前面側上部に露出している。本実施形態においては、上部排出口３８を処理槽１のセンター（攪拌軸１３の真上）に位置するように形成すると共に、上部排出口３８の片側に未処理の生ごみが排出されるのを阻止するためのリブ３８ａを形成している。そして、生ごみ投入時（ふた閉時）より始まる攪拌制御を或る回数一方向回転とする。そうすることにより、生ごみ投入時には、上部排出口３８の片側のリブ３８ａが壁となって未処理の生ごみが排出されにくくなる。また、この排出口３８を処理槽１のセンターに設けることにより、排出した処理物Ｄが下述するストッカー３９に溜まる際にストッカー３９の容積を有効に使えるようになる。
【００４９】
すなわち、前ケース５の前面側凹部には、上部側に前記上部排出口３８に連通する流入口３９ａが形成されたストッカー３９が着脱自在に取り付けられるようになっている。このストッカー３９は、透明又は半透明樹脂で形成されており、図２に示すように内部に溜まった処理物Ｄが外から見えるように構成されている。この図２からも分かるように、前述した上部排出口３８が処理槽１のセンターに設けられているので、上部排出口３８から落ちてストッカー３９内に溜まる処理物Ｄが左右に流れて、ほぼ均一になるので、ストッカー３９の容積を有効に使えるようになる。
【００５０】
また、前述したように、本実施形態においては、処理槽１前面側に貼り付けられたパネルヒータ２０の熱が、処理槽１とストッカー３９の両方に伝わるため、ストッカー３９に水分の多い未分解未乾燥の処理物Ｄが排出されても、ストッカー３９内は乾燥するので、カビや腐敗などによる悪臭の発生もなく、また、へばりつきや凍結することなく取り出しもスムーズに行うことができるようになる。特に本実施形態においては、オーバーフロー用の上部排出口３８の片側にリブ３８ａを設けて、投入直後の未処理の生ごみがストッカー３９内に排出されにくくして、二重の対策を施しているので、より効果的である。
【００５１】
さて、以上の構成において、本装置の使用開始時には、予め一定量の微生物担体を処理槽１内に投入しておく。そして、生ごみを処理するときは、蓋体９を開けて投入口８から処理槽１内に生ごみを投入して蓋体９を閉じる。蓋体９を閉じると、これを図示しない検出手段が検出し、その出力に基づいて制御基板１７上に実装された制御部が攪拌用モータ１６、パネルヒータ２０及び通常用排気ファン２８等への通電制御を開始する。
【００５２】
攪拌用モータ１６への通電制御により、攪拌翼１２が立設された攪拌軸１３が間欠的に（生ごみ投入直後を除き例えば３０分周期で正逆１分間ずつ２分間）回転して担体と有機物とを攪拌混合すると共に、パネルヒータ２０への通電制御により処理槽１内の温度を微生物の活性化に最適な範囲に維持して、担体に培養される微生物により有機物を二酸化炭素と水に分解して堆肥化する。
【００５３】
また、通常用排気ファン２８への通電制御により、処理槽１内の湿った空気を排気口２９より外部へ排出し、処理槽１内が高湿度状態となるのを防止すると共に、処理槽１内の空気が外部に排出されるのに伴い、下ケース３の底部に形成した吸気孔３３等から外装ケース２内に新鮮な外気を取り入れ、処理槽１内に微生物の活性化に必要な酸素を供給する。
【００５４】
一方、通常排気により排出される排気の臭いが気になるときには、操作表示部１８に設けられた脱臭ボタンをオンにする。脱臭ボタンがオンになると、制御部により、通常用排気ファン２８への通電が停止されると共に、脱臭ユニット３１の管状ヒータ３１ａ及び脱臭用排気ファン３２への通電が開始されることにより、処理槽１からの排気が脱臭ユニット３１への脱臭用排気ダクト２７に流れるようになる。これにより、外部に悪臭が排出されるのを防ぐことができる。
【００５５】
すなわち、脱臭運転時の排気は、脱臭用排気ファン３２が駆動されることにより、図１４〜図１８に矢印ａで示すように、処理槽１内から脱臭排気排出口２２のフィルタ２５，２６を通して、脱臭用排気ダクト３０を通過した後、脱臭ユニット３１内を通り、脱臭用排気ファン３２を介して排気口２９から外部に排出される。このときの排気は、脱臭ユニット３１内にて、管状ヒータ３１ａで高温（２００℃以上）に熱せられ、触媒３１ｂにて酸化反応し、脱臭される。
【００５６】
また、通常運転時の排気は、通常用排気ファン２８が駆動されることにより、矢印ｂで示すように、処理槽１内から通常排気排出口２３のフィルタ２４を通して、通常用排気ダクト２７を通過し、通常用排気ファン２８を介して排気口２９から外部に排出される。
【００５７】
このように、いずれか一方の排気経路からの排気を共用化された１つの排気口２９から常に排気することにより、排気口２９からの排気圧で虫等の浸入を防止することができ、シャッター等の開閉機構や切替機構を備えることなく、簡単且つ安価な構成で、衛生面の向上が図れる。
【００５８】
また、両排気経路に共用化されている排気口２９は、脱臭運転時は正圧となる。この排気口２９から上方に延びている通常用排気ダクト２７は処理槽１内に連通しており、脱臭運転時、処理槽１内は負圧となることにより、脱臭ユニット３１で加熱されて脱臭用排気ファン３２から排出される排気（廃熱）の一部が通常用排気ダクト２７内を矢印ａ１で示すように処理槽１内へ循環される。
【００５９】
このように、脱臭運転時、排気（廃熱）の一部を処理槽１内に循環させて再利用することで、処理槽１内を暖めるためのパネルヒータ２０の通電率が減少したり、脱臭用の管状ヒータ３１ａの通電率が減少することにより、ランニングコストを抑制することが可能となる。
【００６０】
また、脱臭運転時に、処理槽１内の処理物が乾燥して飛散した微粉は、取り外し自在に装着されたフィルタ２５によって脱臭ユニット３１内への浸入が防止されるが、万一、掃除等のメンテナンスのために上記フィルタ２５を取り外した後に装着するのを忘れて脱臭運転が行われた場合にも、取り外し不可に固定されたフィルタ２６が設けられているので、上記同様、脱臭ユニット３１内への微粉の浸入を防止することが可能となる。
【００６１】
このように、脱臭運転時において、取り外し自在のフィルタ２５の装着の有無に拘わらず、処理槽１内で飛散する微粉が脱臭ユニット３１内に浸入するのを防ぐことができ、安価な構成で、安全性の向上が図れる。また、微粉が触媒３１ｂに付着して目詰まりするようなことも防ぐことができるので、触媒３１ｂの長寿命化を図ることができる。
【００６２】
また、取り外し自在のフィルタ２５は掃除等のメンテナンスが容易に行えると共に、取り外し不可のフィルタ２６も、取り外し自在のフィルタ２５の万一の装着忘れがない限り、当該フィルタ２５によって微粉が濾過された排気が通るので、長期間にわたって掃除等のメンテナンスは不要となる。それでも掃除が必要になった場合には、ブラシを用いたり、掃除機で吸い取ることにより、掃除することは可能である。
【００６３】
【発明の効果】
以上のように本願発明によれば、生ごみ等の有機物を微生物により分解処理する処理槽と、この処理槽を加温する加温手段と、前記処理槽からオーバーフローによって排出される処理物を蓄えるストッカーとを備えた有機物処理装置において、前記ストッカーを加温する加温手段を備えたことにより、ストッカーに水分の高い未分解未乾燥の処理物が排出されても、乾燥することができるので、カビや腐敗などによる悪臭の発生や、へばりつきや凍結によって取り出せないといった不具合を解消できる。
【００６４】
また、前記ストッカーを加温する加温手段は、ストッカーと処理槽の間に配置されて、ストッカーと処理槽の両方を加温することにより、処理槽の加温手段としても有効利用することができる。
【００６５】
具体例として、前記ストッカーは処理槽の前面側に配置され、前記加温手段として、ストッカーが配置された処理槽の前面側にパネルヒータを貼り付けたことにより、比較的簡単に実現することができる。
【００６６】
また、前記処理槽を加温する加温手段としてパネルヒータを用いると共に、処理槽のコーナー部を覆うようにパネルヒータを貼り付けたことにより、処理槽のコーナー部にカベ（固化層）が形成されて、処理が悪化したまま、悪臭が発生したり、攪拌がロックするなどの不具合を解消できる。
【００６７】
さらに、前記パネルヒータの処理槽コーナー部にかかる部分を、他より薄く形成したことにより、剥離しにくくなる。
【００６８】
具体例としては、前記パネルヒータとして、ヒータ線をアルミテープで挟み込んだ構造のものを用いると共に、処理槽コーナー部にかかる部分にはヒータ線を配線せずに上側のアルミテープをコーナー部にかかる端部まで形成しないようにしたことにより、処理槽のコーナー部に確実に貼り付けることが可能となり、剥離の心配がなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明の一実施形態に係る有機物処理装置の全体斜視図。
【図２】同じく、正面図。
【図３】同じく、前後方向から見たパネルヒータの配置構成図。
【図４】上記図２のＡ−Ａ断面図。
【図５】同じく、側面側から見たパネルヒータの配置構成図。
【図６】上記パネルヒータの処理槽コーナー部の取り付け構造を示す拡大断面図。
【図７】蓋体を開放して見た上面図。
【図８】光学式含水率センサの取り付け構造の説明図。
【図９】取り付けられた光学式含水率センサ部分の拡大断面図で、上記図８（ａ）のＢ−Ｂ断面部分を示している。
【図１０】光学式含水率センサの他の取り付け構造を示す分解斜視図。
【図１１】上記図１０の要部拡大図。
【図１２】上記光学式含水率センサの取り付け完了後の斜視図。
【図１３】取り付けられた光学式含水率センサ部分の拡大断面図。
【図１４】上記装置の背面側から見た要部縦断面図。
【図１５】同じく、左側面側から見た要部縦断面図。
【図１６】同じく、底面側から見た要部横断面図。
【図１７】同じく、右側面側から見た要部縦断面図。
【図１８】同じく、前面側から見た要部縦断面図。
【符号の説明】
１  処理槽
８  投入口
９  蓋体
１２  攪拌翼
１６  攪拌用モータ
２０  パネルヒータ
２０ａ  ヒータ線
２０ｂ  アルミテープ
２０ｃ  粘着剤
２１  光学式含水率センサ
２１ａ  センサ基板
２１ｂ  ホルダー
２１ｃ  仕切り壁
２１ｄ  白熱電球
２１ｆ  焦電素子
２１ｈ  シリコンフォトダイオード
２１ｉ  孔
２１ｊ  位置決めピン
２１ｋ  センサケース
２１ｍ  位置決めリブ
３８  上部排出口
３９  ストッカー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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