(57)【要約】【課題】液滴吐出方式を用いて薄膜パターンを形成したときに、その薄膜パターンにスジムラが生じることを低減することができる又はそのスジムラを分散させることができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器を提供する。【解決手段】薄膜パターンの形成対象となる基板１０に対して、液滴吐出装置のインクジェットノズルの移動位置を規定する仮想的な第１走査ラインとなる矢印付線２１を規定し、インクジェットノズルを矢印付線２１に沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、矢印付線２１に対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインとなる矢印付線２２を規定し、インックジェットノズルを矢印付線２２に沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とを有することを特徴とする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクジェットヘッドに形成される複数のノズルから液滴を吐出し、基板上に所定のパターンを形成する薄膜パターンの製造方法であって、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから液滴を吐出することよってパターンを形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、仮想的な第１走査ラインを規定し、前記インクジェットヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、
前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とを有することを特徴とする薄膜パターンの製造方法。
【請求項２】
前記基板において薄膜パターン形成領域は複数設定されており、
前記薄膜パターン形成領域毎に、前記第１吐出処理及び前記第２吐出処理が行われることを特徴とする請求項１に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項３】
前記基板において前記薄膜パターン形成領域は複数設定されており、
該複数の薄膜パターン形成領域は、前記第１吐出処理が行われる領域と、前記第２吐出処理が行われる領域とを少なくとも有することを特徴とする請求項１に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項４】
前記基板の全体について前記第１吐出処理を行い、その後、該基板の全体について前記第２吐出処理を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項５】
前記第１吐出処理と前記第２吐出処理とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項６】
前記基板は、同一材料からなる前記液滴を１つの薄膜パターン形成領域に複数回吐出して１つの薄膜パターンを形成する領域を有し、
該複数回吐出において、少なくとも１回は前記第１吐出処理を行うとともに、少なくとも１回は前記第２吐出処理を行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項７】
前記第１吐出処理を行う前記ノズルと前記第２吐出処理を行う前記ノズルとは、異なることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項８】
前記第１吐出処理及び前記第２吐出処理の少なくとも一方は、複数の前記ノズルにて同時又は逐次的に液滴を塗布する処理を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項９】
前記第１吐出処理を行った後であって、該第１吐出処理で形成された液状体からなる薄膜が略完全に乾燥する前に、前記第２吐出処理を行うことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１０】
前記第１吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部と、前記第２吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部とが重なるように、該第１吐出処理及び第２吐出処理を行うことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１１】
前記第１吐出処理における１回の吐出量と、前記第２吐出処理における１回の吐出量とを異なる量にすることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１２】
前記第１方向吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも１つと、該少なくとも１つに対応する前記第２吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも１つとを、異なる値にすることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１３】
電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記正孔注入輸送層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから正孔注入輸送材料を吐出することによって前記正孔注入輸送層を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第１走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、
前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記正孔注入輸送層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１４】
電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから発光層形成材料を吐出することによって前記発光層を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第１走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、
前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記発光層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１５】
電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記発光層を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第１走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、
前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記電極を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記電極に仮想的な第１走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、
前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記カラーフィルタを形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第１走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、
前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記薄膜パターンは、フォトレジスト膜であることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１９】
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出方式を用いた薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、有機電界発光素子を用いた表示パネルが考え出されている。有機電界発光素子の基本構成は、蛍光性有機分子を含む固体薄膜（発光層）を２枚電極（陰極と陽極）で挟んだものである。その電極に電圧を印加すると、陽極から正孔が陰極から電子が発光層に注入され、その発光層から蛍光が放出される。
【０００３】
ところで、発光層のみからなる単層型構造素子では発光効率が低く、耐久性に問題があるため、陽極と発光層間に密着性の良い正孔注入層（正孔注入輸送層）を設けた二層構造型素子が提案されている。この積層構造を採用することで、キャリアの注入／輸送バランスおよびキャリアの再結合部位の制御により、有機電界発光素子の発光効率及び耐久性を向上させることができる。また、この積層構造によれば、発光、注入／輸送といった機能を別々の材料に分担させることができるため、材料及び素子の最適設計が可能になるという利点がある。
【０００４】
従来、有機電界発光素子の正孔注入輸送層化合物としては、ポルフィリン化合物、アニリンやピリジンおよびそれらの誘導体低分子、あるいはカーボン層用いた正孔注入輸送層などが提案されている。これらの低分子系材料を用いた正孔注入輸送層形成には、真空蒸着やスパッタによる成膜法が一般的である。高分子材料としてはポリアニリンなどが知られ、スピンコートなどの湿式法で成膜される。
【０００５】
ところで、真空蒸着やスパッタによる成膜法はバッチ処理であり長時間を有するため量産効率が悪い。また低分子材料の場合には成膜後結晶化しやすく、素子の信頼性が低下するといった課題を有する。一方、高分子材料の場合は分子設計上の自由度が高く、湿式のため材料の最適化がしやすいという利点を有するが、スピンコートなどの成膜法は材料の殆どを浪費するという大きな問題がある。
【０００６】
さらに、フルカラーディスプレイなど材料の微細パターンニングが必要とされる場合、蒸着法では高精度のパターニングが困難であり、またフォトリソグラフィーによるパターニング工程では材料に耐性がないという問題がある。これは高分子材料においても同様な問題である。また、正孔注入層あるいはバッファ層として用いられる材料は導電性を有するものであるから完全なパターニングが実現できなければ同一基板上に設けられた隣の画素間での漏電を引き起こす原因となる。
【０００７】
一方、上記問題点を解決するため、すなわち材料や素子設計の最適化を行うことができ、かつ簡便、短時間及び低コストで精度の高いパターニング成膜を行うために、液滴吐出方式を用いた正孔注入層及び発光層などの製造方法が考え出されている。その液滴吐出方式を用いた製造方法は、インクジェットノズルから正孔注入層の成分と溶媒からなる液滴を所望領域に吐出して薄膜パターンを形成するものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開２０００−１０６２７８号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の液滴吐出方式を用いた薄膜パターンの製造方法では、基板に対して仮想的な走査ラインを平行に複数設定し、その走査線に沿ってインクジェットノズルを移動させながら液滴を順次吐出していた。このようにして、液滴を吐出して薄膜パターンを形成すると、その薄膜パターンには走査線と平行な方向に筋形状のムラ（スジムラ）が生じてしまう。
【００１０】
このスジムラが発生する原因は、液滴吐出装置のノズルヘッドには複数のインクジェットノズルが備えられておりインクジェットノズル毎に吐出量が若干異なることにあると考えられる。また、平行に複数設定された走査線に沿って液滴を吐出していくので、各インクジェットノズルに吐出量が殆ど同一であっても、隣り合う走査線の中間部分の膜厚が薄くなりことによりスジムラが発生すると考えられる。
【００１１】
このようなスジムラが発生すると、薄膜パターンの膜厚が不均一となっているので、その薄膜パターンを例えば画素をなす正孔注入層、発光層又はカラーフィルタとして用いると筋状の発光むらが生じてしまう。
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出方式を用いて薄膜パターンを形成したときに、その薄膜パターンにスジムラが生じることを低減することができる又はそのスジムラを分散させることができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器の提供を目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明の薄膜パターンの製造方法は、薄膜パターンの形成対象となる基板に対して、液滴吐出装置のノズルヘッドの移動位置を規定する仮想的な第１走査線を規定し、該ノズルヘッドを該第１走査線に沿って移動させて液滴を吐出する第１方向吐出処理と、前記第１走査線に対して略直角に交わる仮想的な第２走査線を規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査線に沿って移動させて液滴を吐出する第２方向吐出処理とを有することを特徴とする。本発明によれば、第１方向吐出処理において第１走査線にそってノズルヘッドを移動させて液滴の吐出を行い、第２方向吐出処理においては第１走査線に対して略９０度の角度で交わる第２走査線にそってノズルヘッドを移動させて液滴の吐出を行う。換言すれば、ある一定方向にノズルヘッドを走査させて液滴の吐出を行い、その後、その方向に対して略９０度異なる方向にノズルヘッドを走査させて液滴の吐出を行う。このようにすると、形成しようとする薄膜パターン領域には、互いに直交する２つの走査線に沿って移動するノズルヘッドのノズルから液滴が吐出されるので、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができる。
「スジムラ」が発生するのは、走査毎にノズルからの吐出量などに差が生じること、すなわち走査毎に吐出状態が異なることが主要原因である。そこで、本発明によれば、互いに方向が略９０度異なる２つの走査方向を用いて液滴を吐出するので、各走査線間の吐出状態の差が分散されて吐出状態を均一化することができるので、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができ、膜厚などを均一化することができる。したがって、本発明の液状体材料の塗布方法を用いて画素などを形成することで、発光ムラなどを低減するこができる。
【００１４】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板において前記薄膜パターン形成領域は複数設定されており、前記薄膜パターン形成領域毎に、前記第１方向吐出処理及び前記第２方向吐出処理が行われることが好ましい。
本発明によれば、複数の薄膜パターン形成領域それぞれに第１方向吐出処理及び第２方向吐出処理が行われるので、各薄膜パターン形成領域内における液滴の吐出量などの差を分散でき、また薄膜パターン形成領域同士間における液滴の吐出量などの差も分散することができる。そこで、本発明によれば、各薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減でき、複数の薄膜パターンを全体的に見た場合にも「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【００１５】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板において前記薄膜パターン形成領域は複数設定されており、該複数の薄膜パターン形成領域は、前記第１方向吐出処理が行われる領域と、前記第２方向吐出処理が行われる領域とを少なくとも有することが好ましい。
本発明によれば、基板上には第１方向吐出処理が行われる領域と第２方向吐出処理が行われる領域とがあるので、例えば第１方向吐出処理が行われる領域と第２方向吐出処理とを混在させることにより、その基板全体を見た場合に、各液滴吐出状態の差を分散させることができ、「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【００１６】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板の全体について前記第１方向吐出処理を行い、その後、該基板の全体について前記第２方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、基板全体について、液滴吐出量などの液滴吐出状態の差を分散させることができ、「スジムラ」が生じることを低減することができる。また本発明によれば、走査毎に第１方向吐出処理と第２方向吐出処理とを交互に繰り返す方法よりも、ノズルヘッドの総合的な移動距離を低減することができ、均一な膜厚の薄膜パターンを高速に形成することができる。
【００１７】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、１本の前記第１走査線及び第２走査線毎に、前記第１方向吐出処理と前記第２方向吐出処理とを交互に繰り返すことが好ましい。
本発明によれば、例えば第１方向吐出処理で形成したドット薄膜が乾燥する前に、そのドット薄膜の一部又は全部に重なるように第２方向吐出処理による新たなドット薄膜を形成することができる。これにより、薄膜パターンの膜厚などをさらに均一化させることができ、「スジムラ」が生じることをさらに低減することができる。
【００１８】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板が同一材料からなる前記液滴を１つの薄膜パターン形成領域に複数回吐出して１つの薄膜パターンを形成する領域を有し、該複数回吐出において、少なくとも１回は前記第１方向吐出処理を行うとともに、少なくとも１回は前記第２方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、ある薄膜パターン形成領域に同じ材料を複数回吐出して薄膜パターンを形成する場合に、その領域に対して第１方向吐出処理と第２方向吐出処理とを行う。これにより、薄膜パターン形成領域に対する同じ材料による複数回の液滴吐出において、各吐出状態の差が分散されるので、同じ材料からなる薄膜の厚みなどが均一な薄膜パターンを形成することができ、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【００１９】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記液滴吐出装置のノズルヘッドが液滴を吐出する複数のノズルを備えており、前記第１方向吐出処理を行う前記ノズルと前記第２方向吐出処理を行う前記ノズルとは、別のものとすることが好ましい。
本発明によれば、第１方向吐出処理で使用するノズルと第２方向吐出処理で使用するノズルとを別のものとするので、各ノズル間で吐出量などの差があってもその吐出量の差を分散させることができる。そこで、本発明によれば、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【００２０】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記液滴吐出装置のノズルヘッドが液滴を吐出する複数のノズルを備えており、前記第１方向吐出処理及び前記第２方法吐出処理の少なくとも一方は、１つの薄膜パターン形成領域に対して、複数の前記ノズルにて同時又は逐次的に液滴を塗布する処理を有することが好ましい。
本発明によれば、１つの薄膜パターン形成領域（例えば画素など）に対して複数のノズルで略同時に液滴を吐出することができるので、高速に薄膜パターンを形成でき、かつ、ノズル間の吐出量などの差を分散することができる。そこで、本発明によれば、「スジムラ」が少ない薄膜パターンを高速に形成することができる。
【００２１】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第１方向吐出処理を行った後であって、該第１方向吐出処理で形成された液状体からなる薄膜が略完全に乾燥する前に、前記第２方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、例えば第１方向吐出処理で形成されたドット薄膜が完全に乾燥する前に、その薄膜ドットの全部又は一部と重なるように、第２方向吐出処理で新たなドット薄膜を形成することができる。そこで、本発明によれば、第１方向吐出処理で形成されたドット薄膜と第２方向吐出処理で形成されたドット薄膜との境界をなじませで平坦化することができるので、膜厚などがより均一な薄膜パターンを形成することができる。
【００２２】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第１方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部と、前記第２方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部とが重なるように、該第１方向吐出処理及び第２方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、第１方向吐出処理で形成されたドット薄膜と第２方向吐出処理で形成されたドット薄膜とで、薄膜パターン形成領域の全体に隙間無く薄膜を形成することができる。そこで、本発明によれば、薄膜パターン形成領域の全体について塗り残しなく、かつ「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【００２３】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第１方向吐出処理における１回の吐出量と、前記第２方向吐出処理における１回の吐出量とを異なる量にすることが好ましい。
本発明によれば、例えばノズルヘッドの走査方向の相違による吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減することができ、均一な薄膜パターンを形成することができる。また、本発明によれば、例えば薄膜パターン形成領域が細長い形状の場合、その領域の長手方向に走査するときは吐出量を多くし、短手方向に走査するときは吐出量を少なくするなどして、より高速に均一な薄膜パターンを形成することができる。
【００２４】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第１方向吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも１つと、該少なくとも１つに対応する前記第２吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも１つとを、異なる値にすることが好ましい。
本発明によれば、例えばノズルヘッドの走査方向の相違による吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減することができ、均一な薄膜パターンを形成することができる。
【００２５】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンが画素であることが好ましい。
本発明によれば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイパネル又は液晶表示装置などの画素について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な画素を製造することができる。
【００２６】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記正孔注入輸送層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから正孔注入輸送材料を吐出することによって前記正孔注入輸送層を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第１走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記正孔注入輸送層を形成することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における正孔注入層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその正孔注入層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を製造することができる。
【００２７】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから発光層形成材料を吐出することによって前記発光層を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第１走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記発光層を形成することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における発光層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその発光層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を製造することができる。
【００２８】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記発光層を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第１走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とする。
本発明によれば、例えば有機電界発光素子の発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機電界発光素子においてそのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一に形成することができる。そこで、本発明によればカラーフィルタを備える有機電界発光素子からなる表示パネルについて、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【００２９】
また、本発明の液状体材料の塗布方法は、基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記電極を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記電極に仮想的な第１走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記電極を形成することを特徴とする。
本発明によれば、プラズマディスプレイパネルの電極をなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、高精度にプラズマディスプレイパネルの電極を形成することができる。
【００３０】
また、本発明の液状体材料の塗布方法は、基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記カラーフィルタを形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第１走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第１走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第１吐出処理と、前記第１走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第２走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第２走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第２吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とする。
本発明によれば、液晶表示パネルのカラーフィルタをなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、液晶表示パネルにおける色むらなどを大幅に低減させることができる。
【００３１】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンがフォトレジスト膜であることが好ましい。
本発明によれば、例えばフォトリソグラフィ法を用いて基板に各種パターンを転写形成するときに形成するフォトレジスト膜を、液滴吐出方式を用いた上記薄膜パターンの製造方法で形成することができる。そして、本発明によれば、フォトレジスト膜に「スジムラ」が生じることを低減することができるので、フォトリソグラフィ法及び液滴吐出方式を用いて各種薄膜パターンを高精度に形成することができる。
【００３２】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンが基板上に複数形成されるものであり、前記第１走査線及び第２走査線は、複数の前記薄膜パターンの領域を横断するように設定され、該第１走査線及び第２走査線それぞれにおける１回の走査で横断される該複数の薄膜パターンの領域それぞれについて、少なくとも１つの液滴を着弾させることが好ましい。
本発明によれば、基板に対してノズルを一方に移動させることで１回の走査を行い、その走査で第１方向吐出処理又は第２方向吐出処理を行い、複数のパターンそれぞれに液滴を着弾させるので、高速に高精度なパターンを形成することができる。
【００３３】
本発明の電子機器は、前記薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、「スジムラ」の少ない薄膜パターンを構成要素とした電子機器を提供することができるので、例えばその薄膜パターンを画素として用いることにより、発光むらの少なく表示部を備えた電子機器を提供することができる。また、例えば上記「スジムラ」の少ない薄膜パターンを半導体集積回路などの構成要素とすることにより、コンパクトでありながら高性能であって不具合の発生確率が低い電子機器を提供することができる。
【００３４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る液状体材料の塗布方法について図面を参照して説明する。
図１は本発明の実施形態に係る液状体材料の塗布方法を示す説明図である。図２は図１に示す塗布方法が適用される基板の状態を示す模式断面図である。本実施形態では、フラットパネルディスプレイの一つである有機ＥＬ装置の画素部分の製造に、本発明に係る液状体材料の塗布方法を適用した例について説明する。
【００３５】
本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いるためには、先ず図２に示すように基板１０上に、陽極１１、隔壁１２及びカソードセパレータ１３を形成する。具体的にはガラスなどからなる基板１０の上面に、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなる陽極１１の層を形成する。次いで、陽極１１の上面の所定位置にインク垂れ防止壁（バンク）として機能する隔壁１２を形成する。したがって隔壁１２によって各画素の領域が区分けされている。隔壁１２の形成は、例えば非感光性ポリイミドをフォトリソグラフィーによって所定形状とすることで行う。次いで、隔壁１２の中央付近にカソードセパレータ１３を形成する。
【００３６】
このように、基板１０上に、陽極１１、隔壁１２及びカソードセパレータ１３を形成した後に、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて正孔注入層及び発光層を形成する。具体的には、液滴吐出装置のノズルヘッドに設けられたインクジェットノズル１から正孔注入材料（正孔輸送材料：ＰＥＤＯＴ）と溶媒などからなる液滴２を吐出することで、隔壁１２で囲まれた領域（薄膜パターン形成領域）に所望形状の薄膜パターン３０を形成する。ここで、図２に示す隔壁１２で区分けされた各画素の領域（薄膜パターン形成領域）は、基板１０の全体に規則的に分散配置されているものとする。
【００３７】
そして、インクジェットノズル１を図１の矢印付線２１，２２に示すように行うことで、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法が行われる。具体的には、図１（ａ）に示すように、液滴吐出方式による薄膜パターンの形成対象となる基板１０に対して、液滴吐出装置のノズルヘッド（インクジェットノズル１）の移動位置を規定する仮想的な第１走査線として、矢印付線２１を規定する。基板１０の全体に複数の画素領域を分散配置する場合は、互いに平行な矢印付線２１を所定間隔で基板１０の全体に複数設定する。
【００３８】
そして、インクジェットノズル１を、矢印付線２１に沿って（すなわち図面の縦方向に）、かつその矢印付線２１の指す向きに移動させながら、液滴２を吐出させる。このように矢印付線２１に沿ってインクジェットノズル１を移動させながら液滴２を吐出する処理を、第１（以下同じ）吐出処理とする。
【００３９】
この第１方向吐出処理を行うと、図１（ｂ）に示すように、薄膜パターン（ドット薄膜）３１が基板１０の上面全体に分散されて形成される。各薄膜パターン３１は、各画素の正孔注入層又は発光層をなすものである。
【００４０】
従来においては、図１（ｂ）に示すように、インクジェットノズル１を一方向に走査して薄膜パターン３１を形成し乾燥させることで正孔注入層を設け、その後に、再度図１（ｂ）に示すように、インクジェットノズル１を一方向に走査して薄膜パターン３１を形成し乾燥させることで発光層を設けていた。その後、真空蒸着法によって陰極を形成して有機ＥＬ素子を完成させる。
【００４１】
このようにして形成された従来の有機ＥＬ素子では、陽極と陰極間に電圧を印加して発光させると、矢印付線２１に沿う方向にスジムラが観測される。このスジムラは、薄膜パターン３１の膜厚が不均一となっていることを示しており、表示品質を低下させるものである。
【００４２】
そこで、本実施形態では、図１（ａ）に示すように第１方向吐出処理を行って図１（ｂ）に示すように薄膜パターン３１を形成した後に、次に述べる第２方向吐出処理の塗布動作を行う。第２方向吐出処理は、第１方向吐出処理で形成された薄膜パターン３１が完全に乾燥する前に行うのが好ましい。また、第１方向吐出処理で形成された薄膜パターン３１に対して、完全乾燥には到らないほどの乾燥処理（中間乾燥処理）を施すことで薄膜パターン３１の体積を減らし、次いで第２方向吐出処理の塗布動作を行うものとしてもよい。このようにすることにより、上記スジムラを低減又は分散させることができる。
【００４３】
第２方向吐出処理では、図１（ｃ）に示すように、上記第１方向吐出処理で用いた矢印付線（第１走査線）２１に対して略直角に交わる仮想的な第２走査線として、矢印付線２２を規定する。ここで、矢印付線２１と矢印付線２２とは、９０度以外の角度で交わるものとしてもよい。例えば基板１０の全体に複数の画素領域を分散配置する場合は、互いに平行な矢印付線２２を所定間隔で基板１０の全体に複数設定する。
【００４４】
そして、インクジェットノズル１を、矢印付線２２に沿って（すなわち図面の横方向に）、かつその矢印付線２２の指す向きに移動させながら、液滴２を吐出させる。このように矢印付線２２に沿ってインクジェットノズル１を移動させながら液滴２を吐出する処理を、第２（以下同じ）吐出処理とする。
【００４５】
この第２方向吐出処理を行うと、図１（ｄ）に示すように、薄膜パターン（ドット薄膜）３２が基板１０の上面全体に分散されて形成される。この各薄膜パターン３２も、薄膜パターン３１と同様に、各画素の正孔注入層又は発光層をなすものである。これらにより、各画素の正孔注入層又は発光層は、第１方向吐出処理で形成された薄膜パターン３２と第２方向吐出処理で形成された薄膜パターン３２とで形成されることとなる。
【００４６】
これらの処理において用いられる液滴吐出装置のノズルヘッドには複数のインクジェットノズル１が設けられている。そして、各画素に対して、第１方向吐出処理で使用されたインクジェットノズル１と、第２方向吐出処理で使用されたインクジェットノズル１とは、別のもとなる確率が高い。これは意識的に別のものとしてもよい。また、各画素に対して、第１方向吐出処理の吐出状態（吐出液滴の吐出量、インク物性値、吐出速度など）と第２方向吐出処理の吐出状態とは異なるものとなる。
【００４７】
そこで、本実施形態によれば、第１方向吐出処理と第２方向吐出処理とを行うことで、隣り合う走査線同士の吐出状態の差を分散させることができ、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができ、膜厚などを均一化することができる。したがって、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて各画素の構成要素となる正孔注入層及び発光層などを形成することで、有機ＥＬ装置における発光ムラなどを低減させるこができる。
【００４８】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法は、有機ＥＬ装置におけるカラーフィルタをなす薄膜パターンの形成に適用してもよい。例えば発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機ＥＬ装置において、カラーフィルタをなす薄膜パターンの形成に本実施形態の塗布方法を適用する。このようにすると、そのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一に形成することができる。そこで、本実施形態によれば、カラーフィルタを備える有機ＥＬ装置について、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【００４９】
上記の本実施形態に係る液状体材料の塗布方法では、基板１０の全体に複数設定された薄膜パターン形成領域である画素領域毎に、第１方向吐出処理及び第２方向吐出処理を行うことが好ましい。このようにすると、複数の画素領域それぞれに第１方向吐出処理及び第２方向吐出処理が行われるので、１つの画素に複数吐出された液滴同士の吐出量などの差を分散させることができ、また画素薄膜パターン形成領域同士間における液滴の吐出量などの差も分散させることができる。そこで、本塗布方法によれば、各画素を形成する正孔注入層及び発光層などの薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減でき、基板１０について全体的に見た場合でも複数の画素に「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【００５０】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法では、基板１０に複数設定された薄膜パターン形成領域である画素領域が、第１方向吐出処理が行われる画素領域と、第２方向吐出処理が行われる画素領域とに分けられるものとしてもよい。例えば、基板１０の上面全体において、第１方向吐出処理が行われる画素領域と第２方向吐出処理が行われる画素領域とが混在するようにする。このようにすると、基板１０の全体を見た場合に、複数の画素領域に対する液滴吐出状態の差を分散させることができ、「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【００５１】
また、上記実施形態に係る液状体材料の塗布方法では、図１（ａ）に示すように基板１０の全体について第１方向吐出処理を行い、その後、図１（ｃ）に示すように基板１０の全体について第２方向吐出処理を行っている。このような塗布順序ではなく、ある１本の矢印付線２１について第１方向吐出処理を行い、次いで、ある１本の矢印付線２２について第２方向吐出処理をするというように、第１方向吐出処理と第２方向吐出処理とを交互に繰り返すものとしてもよい。
【００５２】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、薄膜パターン形成領域である各画素領域には同一材料（例えば正孔注入輸送材料）からなる液滴が複数回吐出される。このように各薄膜パターン形成領域に同一材料の液滴を複数回吐出する場合、少なくとも１回は第１方向吐出処理を行い、また少なくとも１回は第２方向吐出処理を行うことが好ましい。
【００５３】
このようにすると、薄膜パターン形成領域（画素領域）に対する同じ材料による複数回の液滴吐出において、各吐出状態の差が分散されるので、同じ材料からなる薄膜の厚みなどが均一な薄膜パターンを形成することができ、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【００５４】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、ノズルヘッドに複数のインクジェットノズル１が設けられた液滴吐出装置を使用し、薄膜パターン形成領域（画素領域）毎に、第１方向吐出処理で使用するインクジェットノズル１と第２方向吐出処理で使用するインクジェットノズル１とを、別のものとすることが好ましい。このようにすると、各インクジェットノズル１間で吐出量などに差があってもその吐出量の差を分散させることができる。そこで、この塗布方法によれば、上記「スジムラ」が生じることをより低減することができる。
【００５５】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、ノズルヘッドに複数のインクジェットノズル１が設けられた液滴吐出装置を使用し、１つの薄膜パターン形成領域（画素領域）に対して、隣り合う２個以上のインクジェットノズル１にて同時に又は逐次的に液滴を吐出させるようにしてもよい。この２個以上のインクジェットノズル１による液滴吐出は、上記第１方向吐出処理又は第２方向吐出処理として行う。
【００５６】
このようにすると、１つの薄膜パターン形成領域（例えば画素領域）に対して複数のインクジェットノズル１で略同時に液滴を吐出することができるので、高速に薄膜パターンを形成でき、かつ、ノズル間の吐出量などの差を分散することができる。そこで、本塗布方法によれば、「スジムラ」が少ない薄膜パターンを高速に形成することができる。
【００５７】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、第１方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜パターン３１の一部と、第２方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜パターン３２の一部とが重なるように第１方向吐出処理及び第２方向吐出処理を行うことが好ましい。
【００５８】
このようにすると、第１方向吐出処理における１つの吐出液滴で形成されたドット薄膜（薄膜パターン３１）と第２方向吐出処理における１つの吐出液滴で形成されたドット薄膜（薄膜パターン３２）とで、薄膜パターン形成領域の全体に隙間無く薄膜を形成することができる。そこで、この塗布方法によれば、薄膜パターン形成領域（例えば画素領域）の全体について塗り残しなく、かつ「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【００５９】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、第１方向吐出処理における１つの液滴の吐出量と、第２方向吐出処理における１つの液滴の吐出量とを異なる値にしてもよい。このようにすると、液滴吐出装置におけるノズルヘッドの走査方向の相違に関連づけられたインクジェットノズル１の吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減するように、吐出量を制御することができる。したがって、この塗布方法によれば、より均一な薄膜パターンを形成することができ、「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【００６０】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、第１方向吐出処理における液滴の粘度、表面張力、濃度、インク組成比と、第２方向吐出処理における液滴の粘度、表面張力、濃度、インク組成比とを異なる値にしてもよい。この方法は、例えば第１方向吐出処理で使用するインクジェットノズル１（第１ノズル）と第２方向吐出処理で使用するインクジェットノズル１（第２ノズル）とを別のものとして、第１ノズルに供給する液状体と第２ノズルに供給する液状体とを異なるものにすることで実現できる。
【００６１】
このようにすることにより、ノズルヘッドの走査方向の相違による吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減することができる。したがって、この塗布方法によれば、より均一な薄膜パターンを形成することができ、「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【００６２】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法は、フォトレジスト膜を構成する薄膜パターンの形成に適用してもよい。例えば図２における隔壁１２の形成に、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いてもよい。このようにすると、各種パターンを転写形成するときに形成するフォトレジスト膜を、液滴吐出方式を用いた上記実施形態の塗布方法で形成することができる。そして、本塗布方法によればフォトレジスト膜に「スジムラ」が生じることを低減することができるので、フォトリソグラフィ法及び液滴吐出方式を用いて各種薄膜パターンを低コストでかつ高精度に形成することができる。
【００６３】
＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
次に、上記実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いた有機ＥＬ装置の製造方法について、図３を参照して具体的に説明ずる。本製造方法では、有機ＥＬ装置における正孔注入輸送層を上記実施形態の液状体材料の塗布方法で形成する。
【００６４】
正孔注入輸送層用組成物は、主として正孔注入輸送層を形成する導電性化合物、分散溶媒、湿潤剤を含み、液滴吐出方式によるパターン成膜に用いられる。この正孔注入輸送層を形成する導電性化合物は陽極よりイオン化ポテンシャルが低い化合物が望ましい。例えば、陽電極としてインジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いた場合、低分子系材料としては、銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物が挙げられる。
【００６５】
なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加してもよく、例えば、粘度調製剤、老化防止剤、ｐＨ調製剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリング剤等を用いることができる。
【００６６】
導電性化合物（正孔注入輸送層成分）として、銅フタロシアニンを用いた場合の、正孔注入輸送層用組成物の物性的特性について検討した。試料は表１乃至表１０に示す組成物イ乃至組成物ヌを調整した。
【００６７】
組成物イ
【表１】
2004362818.tif 000003
【００６８】
組成物ロ
【表２】
2004362818.tif 000004
【００６９】
組成物ハ
【表３】
2004362818.tif 000005
【００７０】
組成物ニ
【表４】
2004362818.tif 000006
【００７１】
組成物ホ
【表５】
2004362818.tif 000007
【００７２】
組成物ヘ
【表６】
2004362818.tif 000008
【００７３】
組成物ト
【表７】
2004362818.tif 000009
【００７４】
組成物チ
【表８】
2004362818.tif 000010
【００７５】
組成物リ
【表９】
2004362818.tif 000011
【００７６】
組成物ヌ
【表１０】
2004362818.tif 000012
【００７７】
（吐出評価）表１〜表８に示す組成物イ〜組成物チのインクジェットヘッドを構成するノズル面構成材料に対する接触角、粘度および表面張力を測定し、それらの吐出性を評価した。吐出評価はインクジェットプリント装置（エプソン製ＭＪ−５００Ｃ）を用いて行った。
【００７８】
なお、粘度は２０℃での測定値である。これらの結果を表１１に示す。
【００７９】
【表１１】
2004362818.tif 000013
この結果から、接触角は３０°から１７０°、特に、３５°から６５°が好ましいことがわかる。また、粘度は１ｃｐから２０ｃｐ、特に、２ｃｐから４ｃｐが好ましく、表面張力は２０ｄｙｎｅから７０ｄｙｎｅ、特に、２５ｄｙｎｅから４０ｄｙｎｅの範囲が好ましいことがわかる。
【００８０】
また、湿潤剤としてグリセリンが混入されている組成物イ乃至組成物ハは、湿潤剤が混入されていない組成物ヘ乃至組成物チと比較すると、吐出性に優れていることがわかる。従って、インク組成物中に湿潤剤が含まれていることが好ましい。湿潤剤を混入することで、インク組成物がノズル口で乾燥・凝固することを有効に防止することができる。かかる湿潤剤としては、例えば、グリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコール類が挙げられるが、グリセリンが特に好ましい。
【００８１】
（正孔注入輸送層用組成物の製法）表１乃至表３、及び、表９、表１０にそれぞれ示す組成物イ乃至組成物ハ、及び、組成物リ、組成物ヌを製造し、超音波処理前後の正孔注入輸送層形成化合物（銅フタロシアニン）の粒度分布を測定した。さらに、超音波処理後、濾過工程を経た上記正孔注入輸送層用組成物を用い液滴吐出方式のパターニングにより形成された正孔注入輸送層の成膜性を評価した。
【００８２】
これらの結果を表１２に示す。超音波処理の効果は１μｍ以下の粒度分布の割合で示した。なお、スチレンアクリル樹脂分散液での粒径は１μｍ以上である。
【００８３】
【表１２】
2004362818.tif 000014
この結果から、前記分散液を４時間超音波処理することで分散性を上げることができることがわかる。また、超音波処理分散液をさらに濾過することによって、より均一な正孔注入輸送層膜を得ることができる。また、導電性化合物の分散極性溶媒としては、水、又は、水とメタノール或いはエトキシエタノールとの混合溶媒であることが好ましく（組成物イ乃至組成物ハ）、これらの溶媒を用いた場合、成膜性も良いことがわかる。
【００８４】
（有機電界発光素子の製造工程）表１乃至表３に示す組成物イ乃至組成物ハを用いて、以下に示す手順で液滴吐出方式による正孔注入輸送層のパターニング成膜を行い、有機電界発光素子（発光層）を製造した。
【００８５】
陽極形成工程（図３（Ａ））
本工程はガラス基板１０２上に陽極１０１を形成する工程である。ガラス基板１０２としては、酸やアルカリ等の薬品に侵されにくく、量産可能であるものが好ましい。ＩＴＯ透明電極を基板１０２上に０．１μｍの厚さで成膜し、例えば１００μｍピッチでパターニングする。
【００８６】
仕切部材形成工程（同図（Ｂ））
本工程は、ガラス基板１０２上に仕切部材１０３を形成する工程である。具体的には、陽極（ＩＴＯ電極）１０１間を埋め、インク垂れ防止壁（バンク）を兼ねた非感光性ポリイミド（仕切部材）をフォトリソグラフィーにより形成した。ここで、仕切部材１０３の形成には、図１に示す本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いてもよい。仕切部材１０３は例えば幅２０μｍ、厚さ２．０μｍとした。
【００８７】
正孔注入輸送層用組成物吐出工程（同図（Ｃ））
さらに、インクジェットプリント装置（エプソン製ＭＪ−８００Ｃ）１０４のヘッド１０５から正孔注入輸送層用組成物イ乃至ハ（図中１０６）を吐出し、正孔注入輸送層１０７をパターンニング成膜した。この成膜では、図１に示す本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いた。パターン成膜後、２００℃１０分の乾燥処理により正孔注入輸送層を形成した。正孔注入輸送層用組成物吐出時において、バンク越しの塗布は見られず、「スジムラ」の少ない、高精度の正孔注入輸送層パターンが得られた。
【００８８】
発光層組成物充填工程（同図（Ｄ））
次いで、緑色発光層としてＰＰＶ前駆体（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））組成物を製造した。液滴吐出方式により発光層組成物１０８を吐出し、発光層１０９をパターンニング成膜した。この成膜でも、図１に示す本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いた。発光層１０９としては赤色発光を示すローダミンＢをドープしたＰＰＶや青色発光を示すクマリンをドープしたＰＰＶを用いても良い。赤、緑、青の３原色発光を示す発光層を正孔注入輸送層上に更にパターニングすることにより、色ムラがない高品位なフルカラー有機ＥＬディスプレイの製造が可能となる。
【００８９】
陰極形成工程（同図（Ｅ））
最後に、発光層１０９を覆うように陰電極１１０を蒸着して有機電界発光素子を形成した。
【００９０】
本有機ＥＬ装置の製造方法によれば、スジ形状の色ムラなどがない有機ＥＬ装置を簡便に短時間かつ低コストで実現できる。
【００９１】
＜プラズマディスプレイパネルの製造方法＞
次に、上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法について、図４を参照して具体的に説明する。本製造方法では、プラズマディスプレイパネルにおける電極配線パターンを上記実施形態の液状体材料の塗布方法で形成する。図４は本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて製造されたプラズマディスプレイパネルの一例を示す断面図である。
【００９２】
プラズマディスプレイパネル１２０は、２枚のガラス基板１２１，１２９が張り合わせられ、両基板により形成される空間に不活性ガスが充填されたものである。ガラス基板１２１，１２９には、それぞれ、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法で形成された電極（透明電極１２２、バス電極１２３、アドレス電極１２７）などが設けられている。次に、プラズマディスプレイパネル１２０の構成について具体的に説明する。
【００９３】
プラズマディスプレイパネル１２０において、放電空間１２５を挟む基板対のうち観察側のガラス基板１２１の内面には、画面の水平方向のセル列であるライン毎にサステイン電極が配列されている。サステイン電極は、透明導電膜である透明電極１２２と、抵抗値を低減するための金属膜であるバス電極１２３とからなる。透明電極１２２とバス電極１２３は、上述の図１に示す液状体材料の塗布方法で設けられたものである。すなわち、透明電極１２２は、図１に示す液滴吐出方式で形成されたインジウム錫酸化物であり、バス電極１２３も図１に示す液滴吐出方式で形成されている。
【００９４】
透明電極１２２とバス電極１２３は、交流駆動のための誘電体層１２４で被覆されている。誘電体層１２４は、透光性を有している。背面側のガラス基板１２９の内側には、アドレス電極１２７、隔壁１２８及びカラー表示のための３色（赤Ｒ，緑Ｇ，青Ｂ）の蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂが設けられている。隔壁１２８によって、放電空間１２５がライン方向に単位発光領域毎に区画されている。放電空間１２５には、アルゴン又はネオンなどからなる放電ガスが充填されている。蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂは、放電で生じた紫外線で局部的に励起されて所定色の可視光を放つ。表示における１単位の発光領域は、ライン方向に並ぶ３つの単位発光領域で構成される。各単位発光領域の範囲内の構造体がセルである。
【００９５】
次に、上記の構造を有するプラズマディスプレイパネル１２０の製造工程について説明する。なお、２枚のガラス基板１２１，１２９のうち観察側（表示面側）のガラス基板１２１を観察面側基板構造体と呼び、ガラス基板１２１と反対側（背面側）のガラス基板２９を背面側基板構造体と呼ぶ。
先ず、観察面側基板構造体としては、光透過性のガラス基板１２１の上に透明電極１２２を形成する。透明電極１２２の形成は、図１に示すようにインジウム錫酸化物を塗布する方式で行う。次いで、透明電極１２２の上にバス電極１２３を形成する。バス電極１２３の形成も図１に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、透明電極１２２及びバス電極を被覆する誘電体層１２４を形成することで、観察面側基板構造体が完成する。
【００９６】
一方、背面側基板構造体としては、先ず、ガラス基板１２９上にアドレス電極１２７を形成する。このアドレス電極１２７の形成も、図１に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、隔壁１２８を形成した後、隔壁１２８で仕切られた空間に蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂがスクリーン印刷法などで形成される。この蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂは、例えば、所定発光色の蛍光体粉末と、セルロース系又はアクリル系の増粘剤樹脂とアルコール系又はエステル系等の有機溶剤とからなるビヒクルとを混合した蛍光体ペーストを、スクリーン印刷法により形成する。赤色の光を発する蛍光体１２６Ｒ、緑色の光を発する蛍光体１２６Ｇ、青色の光を発する蛍光体１２６Ｂは、アドレス電極１２７方向に、交互に形成される。次いで、蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂは、大気圧の空気中雰囲気で熱処理が施され、ビヒクルの揮発成分を蒸発させる。この熱処理が蛍光体の焼成工程と呼ばれるものである。
蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂの焼成が終わると、観察面側基板構造体と背面側基板構造体を張り合わせ、内部を真空排気した後、不活性ガスを充填することで、プラズマディスプレイパネル１２０が完成する。
【００９７】
これらにより本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０の製造方法では、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７の形成に、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法（液滴吐出方式）を使用しているので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物及び導電性材料の無駄となる量を大幅に低減することができる。また、本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０の製造方法では、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【００９８】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０では、バス電極１２３に断線があったとしても、その導電性パターンの下にはインジウム錫酸化物からなる透明電極１２３が形成されているので、基板上の配線としては繋がっており、プラズマディスプレイパネル１２０における所定の機能を発揮することができる。
【００９９】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０では、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７を液滴吐出方式で形成するときに、図１に示すように、ノズルの走査線を交差させるようにして液滴を塗布させるので、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができる。そこで、本製造方法によれば、プラズマディスプレイパネル１２０の透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７を高精度に形成することができるので、高品位な画像を表示することができ、電流リークなどの不具合の発生確率が低いプラズマディスプレイパネル１２０を提供することができる。
【０１００】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、上記実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いた液晶装置の製造方法について、図５を参照して具体的に説明する。本製造方法では、液晶装置における電極配線パターン及びカラーフィルタを上記実施形態の塗布方法で形成する。図５は本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて製造された液晶装置２００の一例を示す断面図である。
【０１０１】
図５に示すように、下側基板２０１の液晶層２０３側表面上には、カラーフィルター２０５、有機膜などからなる平坦化膜２０６、透明電極２０７、配向膜２０９が順次積層形成されている。一方、上側基板２０２の液晶層２０３側表面上には、インジウム錫酸化物からなる透明電極２０８と配向膜２１０とが順次積層形成されている。また、液晶層２０３内には多数の球状のスペーサー２１３が配置されている。
【０１０２】
カラーフィルター２０５は、所定のパターンに形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層２０５ａと隣接する着色層２０５ａ間を遮光する遮光層（ブラックマトリクス）２０５ｂとからなっている。また、配向膜２０９、２１０はポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶層２０３の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。カラーフィルター２０５及び平坦化膜２０６は、少なくとも表示領域内に形成され、かつシール材２０４よりも内側にのみ形成されている。
【０１０３】
次に、上記構造の液晶装置２００の製造方法について説明する。
先ず、下側基板２０１の表面に、カラーフィルター２０５、平坦化膜２０６、透明電極２０７、配向膜２０９を順次形成する。ここで、カラーフィルタ２０５及び透明電極２０７は、それぞれ図１に示す液状体材料の塗布方法で形成する。
【０１０４】
また、上側基板２０２の表面に、透明電極２０８と配向膜２１０とを順次形成する。ここで、透明電極２０８も図１に示す液状体材料の塗布方法で形成する。すなわち基板２０２の表面にインジウム錫酸化物を液滴吐出装置で液滴吐出させることで透明電極２０８を形成する。
【０１０５】
次いで、表面にカラーフィルター２０５、平坦化膜２０６、透明電極２０７、配向膜２０９が順次積層形成された下側基板２０１と、透明電極２０８及び配向膜２１０を順次積層形成された上側基板２０２とを、未硬化のシール材２０４を介して貼着した後、未硬化のシール材２０４を、液晶の注入口を形成するように硬化し、液晶セルを形成する。
次いで、真空注入法により液晶セル内に液晶を吸引して液晶層２０３を形成することにより上記構造の液晶装置２００が製造される。
【０１０６】
これらにより、本実施形態の液晶装置２００の製造方法では、インジウム錫酸化物などからなる透明電極２０７，２０８を液滴吐出方式で形成するので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物などの無駄となる量を大幅に低減することができる。
また、本実施形態の液晶装置２００の製造方法では、透明電極２０７，２０８を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【０１０７】
さらに、本実施形態の液晶装置２００の製造方法では、カラーフィルター２０５及び透明電極２０７，２０８を液滴吐出方式で形成するときに、図１に示すような順序で液滴を塗布するので、筋形状の発光ムラが少ない高品位な液晶装置２００を製造することができる。
【０１０８】
（電子機器）
上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いて製造された電気光学装置（有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイパネル又は液晶装置）を備えた電子機器の例について説明する。
図６は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図６において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【０１０９】
図７は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図７において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【０１１０】
図８は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【０１１１】
図６から図８に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えているので、表示部などにおける発光むら及び電流リークなどを低減させた高品位な電子機器を低コストで提供することができる。
【０１１２】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の液状体材料の塗布方法の説明図である。
【図２】同上実施形態が適用される基板の状態を示す模式断面図である。
【図３】有機ＥＬ装置の製造方法を示す断面図である。
【図４】プラズマディスプレイパネルの製造方法を示す断面図である。
【図５】液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図８】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【符号の説明】
１…インクジェットノズル、２…液滴、１０…基板、１１…陽極、１２…隔壁、１３…カソードセパレータ、２１，２２…矢印付線、３０，３１，３２…薄膜パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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