(57)【要約】【課題】ガス出口側におけるガス流の脈動を抑制する。【解決手段】スリットが切り込まれたフィルムＦａで貫通孔Ｈａの前面（空気出入口）を覆うことで、ガス流量が通常状態（流量が安定している）のときにはスリットが閉じるため、低圧ダイヤフラム１０３が脈動を起こし始めようとしても抑制される。これは、貫通孔Ｈａがスリットの閉鎖により大気と遮断されて密閉状態となるため低圧ダイヤフラム１０３の動作が規制されて脈動が抑制される。【選択図】　　　図１
2004030247.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス入口通路とガス出口通路とを有するハウジングと、
前記ガス出口通路に連通する第１の減圧室と、
前記ガス入口通路と前記第１の減圧室を連通する第１のノズル部を開閉可能にする第１の弁体と、
貫通孔を介して大気の流入出可能な大気圧室と、
前記第１の減圧室と前記大気圧室を気密に画成し両室の圧力差に応じて変位する第１のダイヤフラムと、
前記第１のダイヤフラムの変位を前記第１の弁体に伝え、前記第１のダイヤフラムが大気圧室側に変位したときに前記第１の弁体を閉側に変位させ、前記第１のダイヤフラムが前記第１の減圧室側に変位したときに前記第１の弁体を開側に変位させる第１の減圧手段を有する圧力調整器であって、
前記貫通孔における大気の流入出口に、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことを特徴とする圧力調整器。
【請求項２】
ガス入口通路とガス出口通路とを有するハウジングと、
前記ガス出口通路に連通する第１の減圧室と、
前記ガス入口通路と前記第１の減圧室を連通する第１のノズル部を開閉可能な第１の弁体と、
貫通孔を介して大気の流入出可能な大気圧室と、
前記第１の減圧室と大気圧室を気密に画成し前記両室の圧力差に応じて変位する第１のダイヤフラムと、
前記第１のダイヤフラムの変位を前記第１の弁体に伝え、前記第１のダイヤフラムが前記大気圧室側に変位したときに前記第１の弁体を閉側に変位させ、前記第１のダイヤフラムが前記第１の減圧室側に変位したときに前記第１の弁体を開側に変位させる第１の減圧手段と、
前記ガス入口通路と前記第１のノズル部との間に設けられ、ガスの流れに伴って圧力を低下させる差圧発生手段と、
この差圧発生手段の下流側の圧力低下部に対し、前記差圧発生手段の上流側に連通する第２の減圧室を画成するとともに、前記圧力低下部と前記第２の減圧室との圧力差に基づき変位する第２のダイヤフラムと、
前記第２の減圧室と前記ガス出口通路とを連通する第２のノズル部と、
この第２のノズル部を前記第２のダイヤフラムの動作に連動して開閉可能な第２の弁体を有する圧力調整器であって、
前記貫通孔における大気の流入出口に、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことを特徴とする圧力調整器。
【請求項３】
ガス入口通路とガス出口通路とを連通する第１のノズル部を開閉可能な第１の弁体及びこの第１の弁体の開閉動作を、前記ガス出口通路側の圧力変化に基づき変位することで行わせる第１のダイヤフラムを備えた第１の減圧手段と、
前記ガス入口通路と前記第１のノズル部との間に設けられ、ガスの流れに伴って圧力を低下させる差圧発生手段と、
この差圧発生手段の下流側の圧力低下部に対し、前記差圧発生手段の上流側に連通する第２の減圧室を画成するとともに、前記圧力低下部と前記第２の減圧室との圧力差に基づき変位する第２のダイヤフラムと、
前記第２の減圧室と前記ガス出口通路とを連通する第２のノズル部と、
この第２のノズル部を、前記第２のダイヤフラムの動作に連動して開閉可能とする第２の減圧手段を有している圧力調整器であって、
前記第２のダイヤフラムは、その上部にガス導入空間を形成するようにバイパスカバーを設け、このバイパスカバーの周囲側部に形成され、前記ガス導入空間とを連通する連通孔に、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことを特徴とする圧力調整器。
【請求項４】
ガス入口通路とガス出口通路とを有するハウジングと、
前記ガス出口通路に連通する第１の減圧室と、
前記ガス入口通路と前記第１の減圧室を連通する第１のノズル部を開閉可能な第１の弁体と、
貫通孔を介して大気の流入出可能な大気圧室と、
前記第１の減圧室と大気圧室を気密に画成し両室の圧力差に応じて変位する第１のダイヤフラムと、
前記第１のダイヤフラムの変位を前記第１の弁体に伝え、前記第１のダイヤフラムが前記大気圧室側に変位したときに前記第１の弁体を閉側に変位させ、前記第１のダイヤフラムが前記第１の減圧室側に変位したときに前記第１の弁体を開側に変位させる第１の減圧手段と、
前記ガス入口通路と前記第１のノズル部との間に設けられ、ガスの流れに伴って圧力を低下させる差圧発生手段と、
この差圧発生手段の下流側の圧力低下部に対し、前記差圧発生手段の上流側に連通する第２の減圧室を画成するとともに、前記圧力低下部と前記第２の減圧室との圧力差に基づき変位する第２のダイヤフラムと、
前記第２の減圧室と前記ガス出口通路とを連通する第２のノズル部と、
前記第２のダイヤフラムの上部にガス導入空間を形成するように設けたバイパスカバーと、
この第２のノズル部を前記第２のダイヤフラムの動作に連動して開閉可能な第２の弁体を有する圧力調整器であって、
前記貫通孔における大気の流入出口に密着した、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂と、
前記バイパスカバーの周囲側部に形成され、前記ガス導入空間とを連通する連通孔に密着した、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂とを備えたことを特徴とする圧力調整器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ガス供給側からガス使用側へ供給されるガスの圧力を調整する圧力調整器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図５は、例えば、特許第２９７１８７４号に記載された従来の圧力調整器の断面図であり、この圧力調整器はＬＰガスボンベからガスレンジなどの燃焼器にＬＰガスを供給するガス供給通路の途中に設けられるものである。ハウジング５１は、ガス入口通路５３を備えたボディ５５の上下に、上カバー５７および下カバー５９がそれぞれ装着されている。この下カバー５９によりガス出口通路６５が構成されている。
【０００３】
上記ガス入口通路５３とガス出口通路６５との間には０．０７〜１．５６ＭＰａの圧力で導入されるガスを、０．０６ＭＰａ程度に減圧するガス導入用減圧手段としての中圧減圧部６７と、それをさらに２．５５〜３．３ＫＰａ程度に減圧する第１の減圧手段としての低圧減圧部６９とが設けられている。
【０００４】
中圧減圧部６７は、大気圧室７１側から中圧スプリング７３により中圧ダイヤフラム受板８１を介して中圧用減圧室７５側に押圧されるガス導入用ダイヤフラムとしての中圧ダイヤフラム７７を備えている。中圧ダイヤフラム７７は、周縁がボディ５５と上カバー５５’との間に挟持固定され、大気圧室７１と中圧用減圧室７５とを気密に区画している。上カバー５５’の頂部にはキャップＣが被せられている。
中圧ダイヤフラム７７には、その中心に中圧連動子としての切換軸７９が貫通して設けられ、中圧用減圧室７５側に形成したフランジ７９ａと中圧ダイヤフラム受板８１とで中圧ダイヤフラム７７を挟持するようにナット８３を締結することで中圧連動子７９が中圧ダイヤフラム７７に固定される。
【０００５】
中圧連動子７９には、中圧弁棒８５を介してその下端に、ガス導入用弁体としての中圧弁８７が設けられている。中圧弁８７は、中圧弁ケース８９のガス導入用ノズル部としての中圧ノズル部９１を開閉するもので、中圧弁押さえスプリング９３によって中圧弁ケース８９に向けて押圧されている。中圧弁ケース８９は、中圧弁ケース押さえ９５によってボディ５５に固定されている。
【０００６】
低圧減圧部６９は、大気圧室９７側から低圧スプリング９９によりダイヤフラム受板１００を介して第１の減圧室としての低圧用減圧室１０１側に押圧される第１のダイヤフラムとしての低圧ダイヤフラム１０３を備えている。
上記低圧用減圧室１０１はガス出口通路６５に連通している。低圧ダイヤフラム１０３は、周縁がボディ５７’と上カバー５７との間に挟持固定され、大気圧室９７と低圧用減圧室１０１とを気密に区画している。
大気圧室９７は貫通孔１０７により大気側に連通している。
【０００７】
低圧ダイヤフラム１０３の中心には、作動桿１２３が上下に貫通して設けられており、この作動桿１２３の下部にはレバー１１１の一端が摺動可能に交叉係合している。レバー１１１は、ピン１１３を中心としてボディ５７’に対し回動可能に軸支されており、その他端は第１の弁体としての低圧弁１１５に連結されている。
作動棹１２３の大気圧室９７内に突出した先端には、ナット１２３ａが螺合しており、このナット１２３ａの下部のばね受け座１２５と低圧ダイヤフラム１０３の中心部との間には、安全弁調整スプリング１２７が介装されている。
大気圧室９７は貫通孔１０７により大気に連通されるが、常時ビスＢにより貫通孔１０７は大気より閉塞されている。
【０００８】
安全弁調整スプリング１２７は、作動棹１２３に一体に形成された安全弁の弁体１２５ａを、低圧ダイヤフラム１０３の下部側に配置した弁体受け１２９に当接する方向に常時付勢している。
【０００９】
ボディ５７’には中圧用減圧室７５とガス出口通路６５とを連通するガス連通路１１７が形成されており、このガス連通路１１７の水平通路と開口部との間にはバイパスカバーＢＣが設けられている。バイパスカバーＢＣは低圧用減圧室１０１の下方に位置している、後述する第２の減圧室としての供給用低圧減圧室１３７における第２のダイヤフラムとしての供給用低圧ダイヤフラム１３３に異物が溜まるのを防止するものである。
【００１０】
ガス連通路１１７が連通されたバイパスカバーＢＣのガス出口通路６５側には連通孔Ｈｂが形成され、この連通孔Ｈｂに低圧弁ケース１１９が固定されている。前記低圧弁１１５は、この低圧弁ケース１１９内に、図中で左右方向に移動可能に収容され、低圧弁ケース１１９に形成された第１のノズル部としての低圧ノズル部１２１を開閉し、これにより中圧用減圧室７５とガス出口通路６５とを連通あるいは遮断する。
【００１１】
中圧ノズル部９１から低圧ノズル部１２１に向けてガス連通路１１７を流れるガスの流通が少ないときには、オリフィス１２０を境にしてその上流側のガス連通路１１７の圧力Ｐ０と同下流側の低圧ノズル部１２１の圧力Ｐ１との間で圧力差がほとんど発生しない。
【００１２】
低圧減圧部６９の下方には、第２の減圧部として供給用低圧減圧部１３１が設けられている。供給用低圧減圧部１３１は、上ボディと下ボディとの間に周縁が固定された第２のダイヤフラムとして供給用低圧ダイヤフラム１３３を備えている。
供給用低圧ダイヤフラム１３３は、ボディ５５側のスプリング室１３５と下カバー５９側の供給用低圧減圧室１３７と気密に区画するもので、スプリング室１３５内に収容された供給用低圧スプリング１３９により供給用低圧減圧室１３７側に押圧されている。
【００１３】
上記スプリング室１３５は、ボディ５５および低圧弁ケース１１９に形成された小孔１４１により低圧ノズル部１２１に連通している。
一方、供給用低圧減圧室１３７は、入口バイパス通路１４３により、中圧用減圧室７５およびガス連通路１１７側に連通すると共に、出口バイパス通路１４５によりガス出口通路６５に連通している。
出口バイパス通路１４５のガス出口通路６５側の端部には、第２のノズル部としてのバイパスノズル部１４７ａを備えたバイパスノズル１４７が装着されている。このバイパスノズル部１４７ａを開閉可能な第２の弁体としてのバイパス弁１４９が出口バイパス通路１４５内にて左右方向に移動可能に収容されている。
【００１４】
バイパス弁１４９には、レバー１５１が連結ピン１５５を介して下カバー５９に対して回動可能に支持されている。レバー１５１の先端は作動桿１５１ａの下端に摺動可能に交叉係合されている。
【００１５】
ダイヤフラム軸１５７は、供給用低圧ダイヤフラム１３３の中心を貫通しており、供給用低圧減圧室１３７側にて一体に形成されているフランジ１５７ａを備えると共に、スプリング室１３５側にてナット１５９が螺合結合されている。上記フランジ１５７ａとナット１５９との間で、供給用低圧ダイヤフラム１３３を、ダイヤフラム受板１６１およびフランジ受板１６３を介して挟持固定することで、ダイヤフラム軸１５７が供給用低圧ダイヤフラム１３３に固定される。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の圧力調整器は、ガス出口通路よりガス燃焼機器までの配管が太くて短い（２〜６ｍ）状態の時、またはガス流量が４〜１２ｍ３／ｈ、６〜１８ｋｇ／ｈの範囲で大きく変化した時に低圧ダイヤフラムが振動し、ガス出口においてガス流が約４Ｈｚで脈動してガス流量測定に悪影響を与えるという問題点があった。この問題点を解消するために貫通孔の長さを伸ばしたり、穴径を小さくして対応してきたが、完全に解消されるに至らなかった。
【００１７】
この発明は上記のような問題点を解消するためになされたもので、貫通孔の形状を変えることなく脈動抑制効果を果たすことができる圧力調整器を得ることを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明に係る圧力調整器は、ガス入口通路とガス出口通路とを有するハウジングと、ガス出口通路に連通する第１の減圧室と、ガス入口通路と前記第１の減圧室を連通する第１のノズル部を開閉可能な第１の弁体と、貫通孔を介して大気の流入出可能な大気圧室と、前記第１の減圧室と大気圧室を気密に画成し両室の圧力差に応じて変位する第１のダイヤフラムと、前記第１のダイヤフラムの変位を前記第１の弁体に伝え、前記第１のダイヤフラムが大気圧室側に変位したときに前記第１の弁体を閉側に変位させ、前記第１のダイヤフラムが前記第１の減圧室側に変位したときに前記第１の弁体を開側に変位させる第１の減圧手段を有する圧力調整器であって、前記貫通孔における大気の流入出口に、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したものである。
この発明によれば、貫通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態は、スリットは閉じ貫通孔は密閉状態となるため、第１の減圧室と大気圧室とに気密に区画する第１のダイヤフラムの脈動は抑制される。
【００１９】
請求項２の発明に係る圧力調整器は、ガス入口通路とガス出口通路とを有するハウジングと、ガス出口通路に連通する第１の減圧室と、ガス入口通路と前記第１の減圧室を連通する第１のノズル部を開閉可能な第１の弁体と、貫通孔を介して大気の流入出可能な大気圧室と、前記第１の減圧室と大気圧室を気密に画成し両室の圧力差に応じて変位する第１のダイヤフラムと、前記第１のダイヤフラムの変位を前記第１の弁体に伝え、前記第１のダイヤフラムが前記大気圧室側に変位したときに前記第１の弁体を閉側に変位させ、前記第１のダイヤフラムが前記第１の減圧室側に変位したときに前記第１の弁体を開側に変位させる第１の減圧手段と、前記ガス入口通路と前記第１のノズル部との間に設けられ、ガスの流れに伴って圧力を低下させる差圧発生手段と、この差圧発生手段の下流側の圧力低下部に対し、前記差圧発生手段の上流側に連通する第２の減圧室を画成するとともに、前記圧力低下部と前記第２の減圧室との圧力差に基づき変位する第２のダイヤフラムと、前記第２の減圧室と前記ガス出口通路とを連通する第２のノズル部と、この第２のノズル部を前記第２のダイヤフラムの動作に連動して開閉可能な第２の弁体を有する圧力調整器であって、前記貫通孔における大気の流入出口に、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したものである。
この発明によれば、貫通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態は、スリットは閉じ貫通孔は密閉状態となるため、第１の減圧室を大気圧室とを気密に区画する第１のダイヤフラムの脈動は抑制される。
【００２０】
請求項３の発明に係る圧力調整器は、ガス入口通路とガス出口通路とを連通する第１のノズル部を開閉可能な第１の弁体及びこの第１の弁体の開閉動作を、前記ガス出口通路側の圧力変化に基づき変位することで行わせる第１のダイヤフラムを備えた第１の減圧手段と、前記ガス入口通路と前記第１のノズル部との間に設けられ、ガスの流れに伴って圧力を低下させる差圧発生手段と、この差圧発生手段の下流側の圧力低下部に対し、前記差圧発生手段の上流側に連通する第２の減圧室を画成するとともに、前記圧力低下部と前記第２の減圧室との圧力差に基づき変位する第２のダイヤフラムと、前記第２の減圧室と前記ガス出口通路とを連通する第２のノズル部と、この第２のノズル部を、前記第２のダイヤフラムの動作に連動して開閉可能とする第２の減圧手段を有している圧力調整器であって、　前記第２のダイヤフラムは、その上部にガス導入空間を形成するようにバイパスカバーを設け、このバイパスカバーの周囲側部に形成され、前記ガス導入空間とを連通する連通孔に、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したものである。
この発明によれば、連通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態は、スリットは閉じ連通孔は密閉状態となるため、バイパスカバー内をガス導入空間と減圧室とに気密に区画する第２のダイヤフラムの脈動は抑制される。
【００２１】
請求項４の発明に係る圧力調整器は、ガス入口通路とガス出口通路とを有するハウジングと、ガス出口通路に連通する第１の減圧室と、ガス入口通路と前記第１の減圧室を連通する第１のノズル部を開閉可能な第１の弁体と、貫通孔を介して大気の流入出可能な大気圧室と、前記第１の減圧室と大気圧室を気密に画成し両室の圧力差に応じて変位する第１のダイヤフラムと、前記第１のダイヤフラムの変位を前記第１の弁体に伝え、前記第１のダイヤフラムが前記大気圧室側に変位したときに前記第１の弁体を閉側に変位させ、前記第１のダイヤフラムが前記第１の減圧室側に変位したときに前記第１の弁体を開側に変位させる第１の減圧手段と、前記ガス入口通路と前記第１のノズル部との間に設けられ、ガスの流れに伴って圧力を低下させる差圧発生手段と、この差圧発生手段の下流側の圧力低下部に対し、前記差圧発生手段の上流側に連通する第２の減圧室を画成するとともに、前記圧力低下部と前記第２の減圧室との圧力差に基づき変位する第２のダイヤフラムと、前記第２の減圧室と前記ガス出口通路とを連通する第２のノズル部と、前記第２のダイヤフラムの上部にガス導入空間を形成するように設けたバイパスカバーと、この第２のノズル部を前記第２のダイヤフラムの動作に連動して開閉可能な第２の弁体を有する圧力調整器であって、前記貫通孔における大気の流入出口に密着した、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂と、前記バイパスカバーの周囲側部に形成され、前記ガス導入空間とを連通する連通孔に密着した、中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂とを備えたものである。
この発明によれば、貫通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態は、スリットは閉じ貫通孔は密閉状態となるため、第１の減圧室を大気圧室とを気密に区画する第１のダイヤフラムの脈動は抑制され、また、連通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態は、スリットは閉じ連通孔は密閉状態となるため、バイパスカバー内をガス導入空間と減圧室とに気密に区画する第２のダイヤフラムの脈動は抑制される。
【００２２】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
以下、本発明の実施の形態１に係る圧力調整器を各添付図面を参照して説明する。図１は本実施の形態に係る圧力調整器の断面図である。尚、図中、図５と同一符号は同一または相当部分を示す。本実施の形態１では、低圧ダイヤフラム１０３により大気圧室９７と低圧用減圧室１０１を気密に区画した上カバー５７において、大気圧室９７に形成された貫通孔Ｈａに設けられた脈動抑制用のフィルムＦａの動作を中心に説明を行う。
尚、請求項中、第１の減圧手段６９は作動棹１２３とレバー１１１との組み合わせを示し、また、第２の減圧手段１３１は作動棹１５１ａとレバー１５１との組み合わせを示す。
【００２３】
大気圧室９７は貫通孔Ｈａにより大気に開放させることで低圧ダイヤフラム１０３の動作を可能とする。そして、この貫通孔Ｈａには、例えばフッ素樹脂（ＦＥＰ）で構成されるフィルムＦａが密着されている。
実際は貫通孔Ｈａの径と同様で、長さは上カバー５７の肉厚とほぼ等しいフッ素樹脂製の筒体の開口部にフィルムＦａを被着し、この筒体を貫通孔Ｈａに嵌着することで、図３に示すようにフィルムＦａを貫通孔Ｈａの前面に被着する。
このフィルムＦａの形状は直径約７ｍｍ、厚さ約１００μｍの円板状であり、この平面には直径５ｍｍの円周上に６０度間隔で直径０．３ｍｍの孔部ｈを６個貫通させ、これら孔部ｈより円の中心に向けてスリットＳが切り込んである。
【００２４】
このようにスリットＳが切り込まれたフィルムＦａで貫通孔Ｈａの前面（空気出入口）を覆うことで、ガス流量が通常状態（流量が安定している）のときは、スリットＳは閉じているため、ダイヤフラムが脈動を起こし始めようとしても抑制される。これは、貫通孔Ｈａがスリットの閉鎖により大気と遮断されて密閉状態となることで低圧ダイヤフラム１０３の動作を規制して脈動が抑制される。
【００２５】
また、瞬時にガス流量が大きく変化し、低圧用減圧室１０１の圧力上昇により低圧ダイヤフラム１０３が大きく変位すると、大気圧室９７内の空気をフィルムＦに向けて押し出してスリットＳが開き大気圧室９７内に空気を出入りさせる。
そして、低圧ダイヤフラム１０３は通常の動作を行う。
このとき、フィルムＦにスリットが切り込まれていない状態で瞬時に大きな流量変化が生じると、圧力変動等の不具合が生じる。
【００２６】
実施の形態２．
上記実施の形態１では、上カバー５７内の大気圧室９７に向けて貫通された貫通孔Ｈａに脈動抑制用のフィルムＦａを設けた場合を説明したが、本実施の形態２はバイパスカバーＢＣに貫通され、第１のノズル部としての低圧ノズル部１２１に連通する連通孔Ｈｂに実施の形態１と同様の形状のフィルムＦｂを被着した場合の効果を説明する。
【００２７】
図４（ａ）〜（ｃ）は本実施の形態に係るフィルムを連通孔Ｈｂに被着した場合のバイパスカバーＢＣを示す図である。同図（ａ）はバイパスカバーＢＣの縦断面図、同図（ｂ）は（ａ）図を矢印Ａ方向から見た平面図（内側面）、同図（ｃ）は（ａ）図を矢印Ｂ方向から見た側面図である。これら図から明らかなようにフィルムＦｂは、バイパスカバーＢＣの側面でガス連絡通路１１７に連通する箇所に設けた連通孔Ｈｂの前面に被着してある。
【００２８】
実際は連通孔Ｈｂの径と同様で、長さはバイパスカバーＢＣの肉厚とほぼ等しいフッ素樹脂製の筒体の開口部にフィルムＦｂを被着し、この筒体を連通孔Ｈｂに嵌着することで、フィルムＦｂを連通孔Ｈｂの前面に被着する。
【００２９】
バイパスカバーＢＣ内は、供給用低圧ダイヤフラム１３３によりガス導入空間としてのスプリング室（圧力低下部）１３５と供給用低圧減圧室１３７とが気密に区画される。そして、スプリング室１３５は連通孔Ｈｂによりガス連絡通路１１７に連通している。一方、供給用低圧減圧室１３７はガス入口通路とガス出口通路を結ぶ第２のガス連絡通路の途中に設けられ、ガス入口通路と直接連続している。
【００３０】
このように、連通孔Ｈｂの前面（ガス出入口）がスリットＳの切り込まれたフィルムＦｂで覆われることで、ガス流量が通常状態（流量が安定している）のときはスリットＳは閉じているため、供給用低圧ダイヤフラム１３３が脈動を起こし始めようとしても抑制される。これは、連通孔Ｈｂがスリットの閉鎖によりスプリング室１３５が密閉状態となることで供給用低圧ダイヤフラム１３３の動作を規制することで脈動が抑制される。
【００３１】
また、ガス連通路１１７を流れるガスの流量が多くなり流速が増してくると、オリフィス１２０の前後で圧力損失が発生し、その圧力は連通孔ＨｂにおけるフィルムＦｂのスリットＳを通してガス導入空間（スプリング室）１３５に伝わり、ガス導入空間１３５の圧力が低下して供給用低圧減圧室１３７の圧力より低くなる。
【００３２】
供給用低圧減圧室１３７の圧力がガス導入空間１３５の圧力より、例えば０．０１ＭＰａ高くなると、供給用スプリング１３９が撓んで供給用ダイヤフラム１３３が上方に変位、これに伴いレバー１５５が時計方向に回動する。
【００３３】
これによりバイパス弁１４９が図中で左方向に移動してバイパスノズル部１４７ａを開放し、ガス入口通路５３に流入してくるガスが、供給用低圧減圧室１３７を経てガス出口通路６５へ流れる。
このとき、フィルムＦｂにスリットが切り込まれていない状態で瞬時に大きな流量変化が生じると、圧力変動等の不具合が生じる。
【００３４】
尚、上記各実施の形態の説明では、貫通孔Ｈａのみに中心に向けて放射状に複数のスリットＳを刻んだ薄膜樹脂Ｆａを密着した構成とその作用と、連通孔Ｈｂに中心に向けて放射状に複数のスリットＳを刻んだ薄膜樹脂Ｆｂを密着した構成とその作用とを個々に説明したが、貫通孔Ｈａと連通孔Ｈｂの双方に中心に向けて放射状に複数のスリットＳを刻んだ薄膜樹脂Ｆを密着したものであってもダイヤフラムの脈動抑制効果は損なわれるものではない。
【００３５】
【発明の効果】
この発明によれば、貫通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態はスリットは閉じて貫通孔は密閉状態となり、減圧手段を減圧室と大気圧室とに気密に区画するダイヤフラムの脈動が抑制されるため、ガス出口へのガス流が脈動してガス燃焼機器に悪影響を与えることを回避できるという効果がある。
【００３６】
この発明によれば、連通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態は、スリットは閉じ連通孔は密閉状態となり、バイパスカバー内をガス導入空間と減圧室とに気密に区画するダイヤフラムの脈動が抑制されるため、ガス出口へのガス流が脈動しガス燃焼機器に悪影響を与えることを回避できるという効果がある。
【００３７】
この発明によれば、貫通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態はスリットは閉じて貫通孔は密閉状態となり、減圧手段を減圧室と大気圧室とに気密に区画するダイヤフラムの脈動が抑制されるため、ガス出口へのガス流が脈動してガス燃焼機器に悪影響を与えるということが回避でき、また、連通孔に中心に向けて放射状に複数のスリットを刻んだ薄膜樹脂を密着したことで、流量が安定している通常状態は、スリットは閉じ連通孔は密閉状態となり、バイパスカバー内をガス導入空間と減圧室とに気密に区画するダイヤフラムの脈動が抑制されるため、ガス出口へのガス流が脈動しガス燃焼機器に悪影響を与えることを回避できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の実施の形態１に係る圧力調整器の断面図である。
【図２】図２は本実施の形態に係るフィルムの平面図である。
【図３】図３は本発明の実施の形態１に係るフィルムの配置を示す図である。
【図４】図４は本発明の実施の形態２に係るフィルムを連通孔に被着した場合のバイパスカバーを示す図である。
【図５】図５は従来の圧力調整器の断面図である。
【符号の説明】
５３　　　　　　ガス入口通路
５７　　　　　　上カバー
６５　　　　　　ガス出口通路
６７　　　　　　中圧減圧部（ガス導入用減圧手段）
６９　　　　　　低圧減圧部（第１の減圧手段）
７７　　　　　　中圧ダイヤフラム（ガス導入用ダイヤフラム）
８７　　　　　　中圧弁（ガス導入用弁体）
９１　　　　　　中圧ノズル部（ガス導入用ノズル部）
９７　　　　　　大気圧室
１０１　　　　　低圧用減圧室（第１の減圧室）
１０３　　　　　低圧ダイヤフラム（第１のダイヤフラム）
１１５　　　　　低圧弁（第１の弁体）
１２０　　　　　オリフィス（差圧発生手段）
１２１　　　　　低圧ノズル部（第１のノズル部）
１３１　　　　　供給用低圧減圧部（第２の減圧手段）
１３３　　　　　供給用低圧ダイヤフラム（第２のダイヤフラム）
１３５　　　　　スプリング室（圧力低下部）
１３７　　　　　供給用低圧減圧室（第２の減圧室）
１４７ａ　　　　　バイパスノズル部（第２のノズル部）
１４９　　　　　バイパス弁（第２の弁体）
Ｆａ，Ｆｂ　　　フィルム
Ｓ　　　　　　　スリット
Ｈａ　　　　　　貫通孔
Ｈｂ　　　　　　連通孔
ＢＣ　　　　　　バイパスカバー
【図１】
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【図２】
2004030247.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2004030247.tif 000007