(57)【要約】【課題】リブの捲れ上がりやリブ破片を生じることがなく、非リブ領域の形成が容易に可能であり、電極等の断線を生じないＰＤＰ用背面板を提供すること。【解決手段】基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むＰＤＰ用背面板において、前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されているように構成する。【選択図】      図１０
2004209925.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及び該リブ領域の周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性の成形型であって、
支持体と、該支持体上に設けられた成形層を有するとともに、
前記成形層が、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分において、所定の形状及び寸法を有するリブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備え、かつ
前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分において、前記非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されていることを特徴とする、ＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性成形型。
【請求項２】
前記支持体及び前記成形層が透明である、請求項１に記載の可とう性成形型。
【請求項３】
前記成形層が、前記リブ領域において、相隣れるリブとリブの間に該リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な部分をさらに備えており、該部分の厚さが、前記非リブ形成部分の厚さよりも小さいか、それと同じであるかもしくはそれよりも大きい、請求項１又は２に記載の可とう性成形型。
【請求項４】
前記成形層において、前記溝パターンのそれぞれの終端部に傾斜が付与されている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【請求項５】
前記成形層において、前記溝パターンの側壁上端部から角が取り除かれている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【請求項６】
前記成形層において、前記非リブ形成部分に付設されたアライメントマークをさらに備えている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【請求項７】
所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及び該リブ領域の周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性の成形型を製造する方法であって、下記の工程：
前記ＰＤＰ用背面板の表面形態を複製した金型を用意する工程、
前記金型の表面に光硬化性の材料を所定の膜厚で適用して光硬化性材料層を形成する工程、
前記金型の光硬化性材料層の上にさらにプラスチック材料からなる透明支持体を積層して前記金型、前記光硬化性材料層及び前記支持体の積層体を形成する工程、
前記積層体にその支持体側から光を照射して前記光硬化性材料層を硬化させる工程、
前記光硬化性材料層の硬化によって、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分において、前記リブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備え、かつ前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分において、前記非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されている透明な成形層を形成する工程、及び
前記成形層を、それを支持する前記支持体とともに前記金型から離型する工程、
を含んでなることを特徴とする可とう性成形型の製造方法。
【請求項８】
基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むＰＤＰ用背面板であって、
前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されていることを特徴とするＰＤＰ用背面板。
【請求項９】
前記非リブ領域において、前記薄膜が、前記リブの形成と同時に硬化性の成形材料から形成されたものである、請求項８に記載のＰＤＰ用背面板。
【請求項１０】
前記リブ領域において、相隣れるリブとリブの間に該リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されており、該薄膜の厚さが、前記非リブ領域の薄膜の厚さよりも大きいか、それと同じであるかもしくはそれよりも小さい、請求項８又は９に記載のＰＤＰ用背面板。
【請求項１１】
前記リブ領域において、前記リブのそれぞれの終端部に傾斜が付与されている、請求項８〜１０のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【請求項１２】
前記リブ領域において、前記リブの根元から角が取り除かれている、請求項８〜１１のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【請求項１３】
前記非リブ領域にアライメントマークが付設されている、請求項８〜１２のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【請求項１４】
前記リブ領域において、一定の間隔をあけて互いに略平行に配置された複数本のリブをもって構成されたストレートパターンが備わっている、請求項８〜１３のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【請求項１５】
前記リブ領域において、一定の間隔をあけて互いに交差しながら略平行に配置された複数本の溝部をもって構成された格子状パターンが備わっている、請求項８〜１３のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【請求項１６】
基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むＰＤＰ用背面板を製造する方法であって、下記の工程：
請求項７に記載の方法によって可とう性成形型を作製する工程、
前記基板と前記成形型の成形層との間に硬化性の成形材料を配置して、前記成形材料を、前記成形型のリブ形成部分の溝パターンに充填するとともに、非リブ形成部分に所定の厚さで適用する工程、
前記成形材料を硬化させ、基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含み、前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されているＰＤＰ用背面板を形成する工程、及び
前記背面板を前記成形型から取り去る工程、
を含んでなることを特徴とするＰＤＰ用背面板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの構成要素とその製造方法に関し、さらに詳しく述べると、プラズマディスプレイパネル用背面板とその製造方法、そしてその背面板の製造に有用な可とう性成形型とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
テレビジョン技術のこれまでの進歩・発展に伴い、陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ：  ＣＲＴ）の表示装置が経済的に量産化されてきたことはよく知られるところである。しかし、近年になっては、このＣＲＴの表示装置に代わって、薄型かつ軽量のフラットパネルディスプレイが次世代の表示装置として注目されている。
【０００３】
代表的なフラットパネルディスプレイの一つは液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：  ＬＣＤ）で、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話、携帯情報端末（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ：  ＰＤＡ）又はその他の携帯電子情報機器の小型表示装置として既に使用されている。他方、薄型で大画面のフラットパネルディスプレイとしては、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ：  ＰＤＰ）が典型的で、実際、業務用でまた最近は家庭用で壁掛けテレビとして使用され始めている。
【０００４】
ＰＤＰは、図１に模式的に示すような構成を有している。なお、ＰＤＰ７０は、図示の例では簡略化のために１個の放電表示セル５６しか示されていないが、通常、多数個の微細な放電表示セルを含んでいる。詳細に述べると、それぞれの放電表示セル５６は、離隔対向した一対のガラス基板、すなわち、前面ガラス基板６１及び背面ガラス基板５１と、これらのガラス基板間に所定形状をもって配置された微細構造のリブ（バリアリブ、隔壁又は障壁ともいう）５４とによって囲まれて画定されている。前面ガラス基板６１は、走査電極及び維持電極からなる透明な表示電極６３と、透明な誘電体層６２と、透明な保護層６４とをその上に備えている。また、背面ガラス基板５１は、アドレス電極５３と、誘電体層５２とをその上に備えている。走査電極及び維持電極からなる表示電極６３とアドレス電極５３は、直交しており、かつ、それぞれ、間隔をあけて一定のパターンで配置されている。各放電表示セル５６は、その内壁に蛍光体層５５を有するとともに、希ガス（例えば、Ｎｅ−Ｘｅガス）が封入されており、上記電極間のプラズマ放電により自発光表示をできるようになっている。
【０００５】
一般に、リブ５４は、セラミックの微細構造体からなり、通常は、図２に模式的に示すように、アドレス電極５３とともに背面ガラス基板５１の上に予め設けられてＰＤＰ用背面板５０を構成している。また、ＰＤＰ用背面板５０は、通常、図３に模式的に示すように、中心部を占めるリブ領域３６と、その周縁部を取り囲んだ非リブ領域３８とから構成される。図示のリブ領域３６では、図２に示したように、多数のリブがストレートパターンで配置されている。これらのリブは、非リブ領域３８にまで延在することがない。それは、この非リブ領域３８を利用して、背面板５０の電極をデバイスに接続したり、あるいは、後工程で背面板５０を前面板（前面ガラス基板）と重ね合わせて封止する際にシール材を塗布したりするからである。非リブ領域３８の幅ｗは、一般的に、数ｃｍ程度である。
【０００６】
ＰＤＰ用背面板のリブは、その形状や寸法の精度がＰＤＰの性能に大きく影響するので、従来、その製造に用いられる成形型や製造方法においていろいろな改良が加えられている。例えば、型材に金属又はガラスを使用し、リブ（隔壁）を形成する塗布液をガラス基板の表面と型材との間に配置し、塗布液が硬化した後に型材を取り除き、硬化された塗布液の転写された基板を焼成することを特徴とする隔壁形成方法がすでに提案されている（特許文献１）。この方法において、塗布液は、低融点ガラス粉末を主成分とする。また、セラミックス又はガラスの粉体と溶媒及び有機性添加物からなるバインダとの混合物を、隔壁用の凹部を有するシリコーン樹脂製成形型中に充填した後、これらの混合物をセラミックス又はガラスからなる背面板に接合して一体化する工程からなるＰＤＰ用基板の製造方法も提案されている（特許文献２）。さらに、所定の柔らかさを有する隔壁部材を所定の厚さで面状に基板表面に形成する工程と、形成すべき隔壁に対応する形状を設けた押圧型で隔壁部材を押圧成形する工程と、押圧型を隔壁部材から離型する工程と、所定の温度で成形後の隔壁部材を熱処理する工程とにより隔壁を形成する方法も提案されている（特許文献３）。
【０００７】
【特許文献１】
特開平９−１２３３６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】
特開平９−１３４６７６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献３】
特開平９−２８３０１７号公報（特許請求の範囲）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
図２及び図３を参照して説明したような従来のＰＤＰ用背面板は、多数個取り方式でしばしば製造されている。すなわち、製造効率を高め、製造コストを低下させるため、図４に模式的に示すように、シート状の基板を使用して複数個のＰＤＰ用背面板５０を同時に製造し、その後、背面板５０を切断線Ｃによって切り離している。しかし、この製造方法の場合、両端部の非リブ領域３８−１及び３８−２の形成のため、リブを基板の上に全面的に形成した後、不要部分のリブをカミソリなどで切り取るという煩雑な作業が必要である。このような煩雑な作業は、隣接したリブ領域３６の間の非リブ領域３８−３を形成する場合においても同様である。
【０００９】
また、製造したＰＤＰ用背面板を成形型から取り出す時、上記した従来の方法では、基板やリブの破損が多く発生し、また成形型自身が破損することもある。このような破損の問題は、製品の歩留まりを低下させ、量産性の障害となっている。
【００１０】
上記した問題点を解決するため、出願人は、図５及び図６に順を追って示すような、ＰＤＰ用背面板の改良された製造方法を完成した。この製造方法では、
（１）背面板の基板として使用するガラス基板、
（２）例えば約４００ｎｍよりも長い波長の光を吸収可能な、第一の吸収端をもった第一光硬化開始剤と、例えばアクリル系もしくはメタクリレート系の光硬化性樹脂のような第一光硬化性成分と、例えばガラス又はセラミックス粉体とを含むリブ前駆体、そして
（３）第一光硬化開始剤の第一の吸収端に対応する波長よりも短い波長の第二の吸収端をもった、すなわち、約４００ｎｍより短い波長の光のみを実質的に吸収可能な第二光硬化開始剤の存在下において例えばアクリル系もしくはメタクリレート系の光硬化性樹脂のような第二光硬化性成分を光硬化させることにより得られた透明な可とう性成形型、
を用意する。
【００１１】
まず、図５（Ａ）に示すように、用意したガラス基板３１と成形型１０の間に所要量のリブ前駆体３３を充填する。なお、図中、成形型１０の表面にあるべきリブ形成用の溝パターンは、説明の簡略化のために省略されている。
【００１２】
次いで、図５（Ｂ）に示すように、ガラス基板３１の上にリブ前駆体３３が一様に広がるように、成形型１０を入念に重ね合わせる。ガラス基板３１は、先に図３を参照して説明したように、その上にリブが形成されるべきリブ領域３６と、リブの形成を必要としない非リブ領域３８とに区分できる。
【００１３】
ガラス基板３１に成形型１０を重ね合わせた後、図５（Ｃ）に示すように、リブ領域３６に対応するパターンをもった遮光マスク４０を成形型１０の上に載置する。次いで、遮光マスク４０の存在において、約４００ｎｍよりも短い波長の光を成形型１０を介してリブ前駆体３３に照射する。この露光により、非リブ領域３８のリブ前駆体３３のみが選択的に光硬化せしめられる。
【００１４】
次いで、成形型１０の上から遮光マスク４０を取り除いた後、図６（Ｄ）に示すように、約４００〜５００ｎｍよりも短い波長の光をガラス基板３１と成形型１０に両側からリブ前駆体３３に照射する。この露光により、リブ領域３６のリブ前駆体３３のみが選択的に光硬化せしめられる。
【００１５】
最後に、図６（Ｅ）に示すように、ガラス基板３１から成形型１０を分離する。硬化したリブ前駆体３４は、リブ領域３６にリブの形で残留するので、目的とするリブ付きのＰＤＰ用背面板５０が得られる。非リブ領域３８の硬化したリブ前駆体３４は、成形型１０に結合した状態のまま剥離除去される。非リブ領域３８の硬化したリブ前駆体３４をガラス基板３１から取り除くことができたのは、成形型１０に含まれていた未反応の第二硬化性成分とリブ前駆体３３中の第一硬化性成分とが光硬化反応を引き起こし、硬化したリブ前駆体３４が成形型１０と固着したためである。リブ前駆体３４の分離面は、図示のようにほぼ垂直である。なお、ガラス基板３１の非リブ領域３８に若干量のリブ前駆体あるいはその硬化物が残留するような場合には、スクレーパーなどで掻き取ることが必要となろう。しかし、この場合は非リブ領域３８にすでに形成されている電極端子が傷つけられるおそれがある。
【００１６】
また、上述のようなＰＤＰ用背面板の製造方法では、図７及び図８に示すような不都合が発生する可能性がある。
【００１７】
すなわち、硬化したリブ前駆体（リブ）３４をリブ領域３６と非リブ領域３８の界面で明確に分離させることが困難で、破損を伴うことがある。したがって、リブ３４の端部がギザギザ面３４ｘを生じるとともに、リブの破片３４ｙが散乱する。破片３４ｙがリブ領域３６に落下した場合には、ディスプレイ効果に悪影響がでてくる。また、上述の製造方法では、リブ３４が収縮するので、リブ３４の端部が図８に示すように捲れ上がり、間隙３４ｇが発生し、パネルの耐久性が低下するという不都合がある。このような不都合は、できる限り排除することが望ましい。
【００１８】
本発明の目的は、したがって、ＰＤＰ用背面板を製造するのに有用で、熟練を必要とすることなく、所定位置にリブを容易かつ正確に、高い寸法精度で設けることができる可とう性成形型を提供することにある。
【００１９】
また、本発明のもう１つの目的は、ＰＤＰ用背面板を、リブの捲り上がりや破片を生じることなく製造することができ、非リブ領域の形成が容易であり、しかも非リブ領域における電極等の断線の問題が生じることもない可とう性成形型を提供することにある。
【００２０】
さらに、本発明のもう１つの目的は、本発明の改良された可とう性成形型の有利な製造方法を提供することにある。
【００２１】
さらに、本発明のもう１つの目的は、リブの捲り上がりや破片を生じることなく製造することができ、非リブ領域の形成が容易であり、しかも非リブ領域における電極等の断線の問題も生じることもないＰＤＰ用背面板を提供することにある。
【００２２】
さらにまた、本発明のもう１つの目的は、本発明の改良されたＰＤＰ用背面板の有利な製造方法を提供することにある。
【００２３】
本発明のこれらの目的やその他の目的は、以下の詳細な説明から容易に理解することができるであろう。
【００２４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、その１つの面において、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及び該リブ領域の周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性の成形型であって、
支持体と、該支持体上に設けられた成形層を有するとともに、
前記成形層が、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分において、所定の形状及び寸法を有するリブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備え、かつ
前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分において、前記非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されていることを特徴とする、ＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性成形型にある。
【００２５】
また、本発明は、そのもう１つの面において、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及び該リブ領域の周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性の成形型を製造する方法であって、下記の工程：
前記ＰＤＰ用背面板の表面形態を複製した金型を用意する工程、
前記金型の表面に光硬化性の材料を所定の膜厚で適用して光硬化性材料層を形成する工程、
前記金型の光硬化性材料層の上にさらにプラスチック材料からなる透明支持体を積層して前記金型、前記光硬化性材料層及び前記支持体の積層体を形成する工程、
前記積層体にその支持体側から光を照射して前記光硬化性材料層を硬化させる工程、
前記光硬化性材料層の硬化によって、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分において、前記リブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備え、かつ前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分において、前記非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されている透明な成形層を形成する工程、及び
前記成形層を、それを支持する前記支持体とともに前記金型から離型する工程、
を含んでなることを特徴とする可とう性成形型の製造方法にある。
【００２６】
さらに、本発明は、そのもう１つの面において、基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むＰＤＰ用背面板であって、
前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されていることを特徴とするＰＤＰ用背面板にある。
【００２７】
さらにまた、本発明は、そのもう１つの面において、基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むＰＤＰ用背面板を製造する方法であって、下記の工程：
本発明方法によって可とう性成形型を作製する工程、
前記基板と前記成形型の成形層との間に硬化性の成形材料を配置して、前記成形材料を、前記成形型のリブ形成部分の溝パターンに充填するとともに、非リブ形成部分に所定の厚さで適用する工程、
前記成形材料を硬化させ、基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含み、前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されているＰＤＰ用背面板を形成する工程、及び
前記背面板を前記成形型から取り去る工程、
を含んでなることを特徴とするＰＤＰ用背面板の製造方法にある。
【００２８】
【発明の実施の形態】
本発明による可とう性成形型及びその製造方法ならびにＰＤＰ用背面板及びその製造方法は、それぞれ、いろいろな形態で有利に実施することができる。
【００２９】
すでに図２を参照して説明したように、ＰＤＰのリブ５４は、背面ガラス基板５１の上に設けられてＰＤＰ用背面板を構成している。リブ５４の間隔（セルピッチ）は、画面サイズなどによって変動するけれども、通常、約１５０〜４００μｍの範囲である。一般的に、リブには、「気泡の混入や変形などの欠陥のないこと」及び「ピッチ精度がよいこと」の２点が必要とされる。ピッチ精度に関して言えば、リブは、その形成時、アドレス電極に対してほとんどずれることなく所定位置に設けられることが求められ、実際、数十μｍ以内の位置誤差しか許容されない。位置誤差が数十μｍを上回った場合、可視光の放出条件等に悪影響が生じ、満足のいく自発光表示が不可能となる。画面サイズの大型化が進んでいる今日、このようなリブのピッチ精度の問題は重要な解決課題である。
【００３０】
リブ５４を全体として見た場合、基板のサイズ及びリブの形状によって若干の差はあるものの、一般的に、リブ５４のトータルピッチ（両端のリブ５４の距離；図では５本のリブしか示されていないが、通常、３０００本前後である）は、数十ｐｐｍ以下の寸法精度が必要とされる。また、一般的には支持体とそれによって支持された溝パターン付きの成形層とからなる可とう性成形型を用いてリブを成形するのが有用であるが、そのような成形方法の場合、成形型のトータルピッチ（両端の溝部の距離）にも、リブと同様に数十ｐｐｍ以下の寸法精度が必要とされる。本発明に従うと、以下に詳細に説明する製造方法を使用することで、可とう性成形型及びＰＤＰ用背面板のどちらも高精度で歩留まりよく製造することができる。
【００３１】
本発明による可とう性成形型は、リブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するＰＤＰ用背面板を製造するために特に設計されたものである。なお、この成形型は、必要ならば、ＰＤＰ用背面板以外の成形品の製造に応用してもよい。
【００３２】
本発明の可とう性の成形型は、少なくとも、支持体と、該支持体上に設けられた成形層とを有するように構成される。成形層は、通常、単層で形成されるけれども、必要ならば、性質及び（又は）種類を異にする２もしくはそれ以上の材料から多層構造で形成してもよい。なお、光硬化性成形材料を使用することを特に考慮に入れた場合、支持体及び成形層のどちらも透明であることが好ましい。
【００３３】
また、成形型の成形層は、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分と、前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分とを有するように構成される。重要なことには、成形層は、リブ形成部分において、所定の形状及び寸法を有するリブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備えるように構成され、また、非リブ形成部分において、背面板の非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されているように構成される。
【００３４】
図９は、本発明の可とう性成形型の好適な一実施形態を模式的に示す断面図である。図から理解できるように、この可とう性成形型１０は、以下に図１０及び図１１を参照して説明する、複数本のリブ３４が互いに平行に配置されたストレートリブパターンの背面ガラス基板３１を製造するために設計されたものである。なお、図示しないが、この可とう性成形型１０を、複数本のリブが一定の間隔をあけて互いに交差しながら略平行に配置された、すなわち、格子状リブパターンの背面ガラス基板を製造できるように、あるいはミアンダリブパターンの背面ガラス基板を製造できるように、設計変更することも可能である。
【００３５】
可とう性成形型１０の成形層１１は、図示のように、予め定められた形状及び寸法をもった溝パターンをそのリブ形成部分１６の表面に有している。溝パターンは、一定の間隔を開けて略平行に配置された複数本の溝部４をもって構成されたストライプパターンである。リブ形成部分１６において、溝部４どうしをつなぐ部分を本発明では特に「平面部」１１ｂと呼ぶ。平面部１１ｂは、背面板のリブ領域において、リブと同じ材料からなる薄膜を所要の厚さで形成する時に必要である。可とう性成形型１０は、必要に応じて追加の層を有していたり型を構成する各層に任意の処理や加工を施していてもよいけれども、基本的には、図９に示されるように、支持体１と、その上の溝部４をもった成形層１１とから構成される。
【００３６】
図示の成形型１０の場合、成形層１１は、非リブ形成部分１８とリブ形成部分１６（平面部１１ｂ）において同じ厚さを有している。しかし、成形層１１の平面部１１ｂの厚さは、所望ならば、リブ形成部分１６の成形層１１ａの厚さより小さくてもよく、さもなければ大きくともよい。好ましくは、図示しないが、非リブ形成部分１８の成形層１１ａの厚さは、リブ形成部分１６のそれよりも深さｄの分だけ小さくなっている。ここで、深さｄの程度は、製造しようとするＰＤＰ用背面板の非リブ領域のリブパターン層の厚さに応じて任意に変更することができるけれども、通常、少なくとも約５μｍであり、好ましくは約５〜２０μｍの範囲であり、さらに好ましくは約１０〜１５μｍの範囲である。成形層１１をこのように構成することで、得られる背面板の非リブ領域において本発明に特有の薄膜を形成した場合、電極の保護とリブ材料の節約という２つの効果が得られる。すなわち、保護不要の電極に対しては、得られる薄膜の厚さがゼロに近くなるようにコントロールすることで、本発明の効果を発揮させることができる。
【００３７】
また、成形層１１のリブ形成部分１６において、そこに形成された溝部４は、それぞれの終端部に傾斜を有していることが好ましい。傾斜があることで、背面板のリブを成形型から取り外すのが容易に可能であるからである。このようにすると、以下に図１０を参照して説明するように、傾斜面３４ｃをもったリブ３４が得られる。
【００３８】
さらに、溝部４は、成形層１１の平面部１１ｂとの境界部が図９に図示のように角度をもって形成されているのではなくて、非直線的に形成されていてもよい。非直線的プロファイルは、特に限定されないというものの、好ましくは、Ｒ（面取り）パターンである。すなわち、例えば図１５に示すように、成形層１１において、その溝部４と平面部１１ｂを、有角パターン１１ｅとして構成するのではなくて、面取りパターン１１ｆとして構成することが好ましい。図示のように溝部４に面取りパターンを付与すると、以下に図１６を参照して説明するように、得られるリブにおいてその根元に亀裂が入るのを防止できる。このような構成は、格子状リブパターンの場合に特に有効であり、電極がむき出しになる欠点を防止できる。なお、このような構成を得るため、成形型の製造に用いられる金型の所定の部位に、すみ肉を付けるのが好ましい。
【００３９】
さらにまた、成形層１１の非リブ形成部分１８において、リブの成形に悪影響を及ぼさない位置に１個もしくはそれ以上のアライメントマークを任意のパターンで付設するのが好ましい。
【００４０】
成形層１１は、好ましくは、硬化性材料の硬化物からなる。硬化性材料は、熱硬化性の材料又は光硬化性の材料である。特に光硬化性材料は、成形層の形成に長大な加熱炉を必要とすることなく、しかも比較的短時間に硬化させることが可能であるので、有用である。光硬化性の材料は、好ましくは、光硬化性のモノマーやオリゴマー、さらに好ましくは、アクリレート系もしくはメタクリレート系のモノマーやオリゴマーである。硬化性材料は、任意の添加剤を含有することができる。適当な添加剤としては、例えば、重合開始剤（例えば、光開始剤）、帯電防止剤などを挙げることができる。
【００４１】
成形層の形成に好適なアクリレート系モノマーとしては、以下に列挙するものに限定されるわけではないけれども、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、アクリルアミド、アクリロニトリル、アクリル酸、アクリル酸エステルなどを挙げることができる。また、成形層の形成に好適なアクリレート系オリゴマーとしては、以下に列挙するものに限定されるわけではないけれども、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマーなどを挙げることができる。特にウレタンアクリレートやそのオリゴマーは、硬化後に柔軟で強靭な硬化物を提供でき、また、アクリレート全般のなかでも硬化する速度が極めて速いので、成形型の生産性の向上にも寄与できる。さらに、これらのアクリレート系モノマーやオリゴマーを使用すると、成形層が光学的に透明になる。したがって、このような成形層を備えた可とう性成形型は、ＰＤＰリブを製造する時に光硬化性の成形材料を使用可能となす点でも有利である。なお、これらのアクリレート系のモノマー及びオリゴマーは、単独で使用してもよく、２種類以上を任意に組み合わせて使用してもよい。なお、ここでは列挙しないが、メタクリレート系のモノマー及びオリゴマーも同様なものを包含し、同様に使用することができる。
【００４２】
成形層１１を担持する支持体１は、特に限定されないけれども、好ましくは透明である。特に取り扱い性や硬さなどを考慮した場合、透明なプラスチック材料のフィルムを支持体として使用するのが好適である。支持体に適当なプラスチック材料の例としては、以下に列挙するものに限定されるわけではないけれども、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、延伸ポリプロピレン、ポリカーボネート、トリアセテートなどを挙げることができる。とりわけＰＥＴフィルムが支持体として有用であり、例えば、ポリエステルフィルム、例えばテトロンＴＭフィルムを支持体として有利に使用することができる。これらのプラスチックフィルムは、単層フィルムとして使用してもよく、２種類以上を組み合わせて複合もしくは積層フィルムとして使用してもよい。また、支持体１に対する成形層１１の接着力を向上させるため、別途プライマーをコーティングしてもよい。
【００４３】
また、上記のようなプラスチックフィルムもしくはその他の支持体は、成形型及びＰＤＰの構成などに応じていろいろな厚さで使用することができるけれども、通常、約０．０５〜１ｍｍの範囲であり、好ましくは、約０．１〜０．４ｍｍの範囲である。支持体の厚さが上記の範囲を外れた場合には取り扱い性などが低下する。なお、支持体の厚さは、大きいほうが強度の面で有利である。
【００４４】
本発明によるＰＤＰ用背面板は、基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びリブ領域の周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むように構成される。本発明のＰＤＰ用背面板で重要なことは、リブパターン層の非リブ領域において、従来の背面板ではリブもしくはリブ関連材料を存在させることがなかったものを、リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されていることである。
【００４５】
図１０は、図９に示した可とう性成形型１０を使用して製造した本発明のＰＤＰ用背面板５０を模式的に示した傾斜図であり、図１１は、図１０に示した背面板の線分ＸＩ−ＸＩにそった断面図である。容易に理解されるように、リブ領域３６に形成されたリブ３４は、それぞれ、成形型１０の溝部４に対応している。また、リブ３４とその隣りのリブ３４の間には、リブ３４の形成と同時にそれらのリブと同じ材料から形成された薄膜３４ｂが備わっている。また、この背面板５０の場合、その非リブ領域３８において、所定の厚さｔを有するリブパターン層３４ａを備えている。リブパターン層３４ａは、リブ３４の形成と同時に形成されたものであり、その厚さｔは、成形型１０の非リブ形成部分１８において認められた成形層１１ａの厚さの減り分ｄに対応している。すなわち、リブパターン層３４ａの厚さｔは、一般的には少なくとも約５μｍであり、好ましくは約５〜４０μｍの範囲であり、さらに好ましくは約１０〜１５μｍの範囲である。
【００４６】
ところで、図１０及び図１１に示したＰＤＰ用背面板５０では、リブ領域３６の薄膜３４ｂと非リブ領域３８の薄膜（リブパターン層）３４ａとが同じ厚さを有しているが、両者は、異なる厚さを有していてもよい。すなわち、薄膜３４ｂの厚さは、薄膜３４ａの厚さよりも大くてもよく、同じであってもよく、さもなければ、小さくてもよい。通常、薄膜３４ａを薄膜３４ｂよりも薄く形成するのが好ましい。薄膜３４ａは、一般的に非リブ領域の電極を覆う機能があればよく、より薄く成膜したほうがリブ材料の節約につながるからである。
【００４７】
また、リブ３４は、それぞれ、その終端部が傾斜面３４ｃを有することが好ましい。リブ３４にかかる傾斜面を設けるように設計した場合、成形型からの背面板の分離が容易となり、リブ端の破損なども防止できるからである。
【００４８】
さらに、非リブ領域３８にはアライメントマーク３４ｍを付設するのが、取り扱い性や精度出し、歩留り向上の面で好ましい。アライメントマーク３４ｍの数、形状、寸法などは特に限定されないけれども、例えば、非リブ領域３８の４隅に、例えばリブから数ｃｍの位置に、設けることが推奨される。アライメントマーク３４ｍの形状は、図示の十文字形の他、丸形、線形などであってもよい。アライメントマーク３４ｍのサイズ（高さ）は、図では簡略化のために平面で示されているけれども、リブ３４と同じ高さであるかもしくはそれ以下であることが、成形作業上好ましい。
【００４９】
図１０及び図１１に示したＰＤＰ用背面板５０は、そのリブ３４の根元を図１６に示すように改良することもできる。すなわち、図１６（Ａ）に示すようにリブ３４の根元を直線的に立ち上がるように構成し、有角パターン３４ｅを付与した場合、図１６（Ｂ）に示すように、焼成後、亀裂が入って下地の電極がむき出しになるという不具合が発生するおそれもあるからである。なお、このような不具合が発生する確率は、図１０に示すようなストレートリブパターンよりも、格子状リブパターン（図示せず）の場合に大であろう。
【００５０】
図１６では、リブ３４の根元に余肉（パッド）３４ｆをつけて、リブ３４の立ち上がりが急しゅんでなくなるように、例えば図示のようにわん曲をもつように、付形することを提案する。リブ３４の根元に余肉３４ｆがあると、図１６（Ｂ）に示すように、リブ３４の焼成後に亀裂のような不具合が発生することがない。なお、図示のようなりブ３４は、図１５の成形型を使用して有利に製造することができる。
【００５１】
本発明による可とう性成形型は、いろいろな技法に従って製造することができる。本発明の可とう性成形型は、好ましくは、下記の工程：
前記ＰＤＰ用背面板の表面形態を複製した金型を用意する工程、
前記金型の表面に光硬化性の材料を所定の膜厚で適用して光硬化性材料層を形成する工程、
前記金型の光硬化性材料層の上にさらにプラスチック材料からなる透明支持体を積層して前記金型、前記光硬化性材料層及び前記支持体の積層体を形成する工程、
前記積層体にその支持体側から光を照射して前記光硬化性材料層を硬化させる工程、
前記光硬化性材料層の硬化によって、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分において、前記リブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備え、かつ前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分において、前記非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されている透明な成形層を形成する工程、及び
前記成形層を、それを支持する前記支持体とともに前記金型から離型する工程、
を経て有利に製造することができる。
【００５２】
本発明の可とう性成形型は、例えば、図１３に順を追って示すような手順によって有利に製造することができる。
【００５３】
まず、図１３（Ａ）に示すように、製造対象のＰＤＰ用基板に対応する形状及び寸法を備えた金型５、透明なプラスチックフィルムからなる支持体（以下、支持フィルムと呼ぶ）１及び及びラミネートロール２３を用意する。金型５は、ＰＤＰ用背面板のリブと同じパターン及び形状の隔壁１４をリブ形成部分の表面に備え、また、したがって、相隣りあう隔壁１４によって規定される空間（凹部）１５が、ＰＤＰの放電表示セルとなるところである。金型５の非リブ形成部分には、得られる背面板の薄膜（リブパターン層）に対応する肉薄部分１４ａが形成されている。肉薄部分１４ａは、隔壁１４の間にも、肉薄部分１４ｂとして形成されている。また、隔壁１４の上端部には、泡かみを防止するためのテーパーを取り付けてもよい。最終リブ形態と同じ金型を用意することで、リブ作製後の端部処理が不要となり、端部処理によって発生する破片による欠陥発生の恐れもなくなる。ラミネートロール２３は、支持フィルム１を金型５に押し付けるもので、ゴムロールからなる。必要ならば、ラミネートロールに代えてその他の周知・慣用のラミネート手段を使用してもよい。支持フィルム１は、ポリエステルフィルムやその他の上記した透明プラスチックフィルムからなる。
【００５４】
次いで、例えばナイフコータやバーコータ等の周知・慣用のコーティング手段（図示せず）により、金型５の端面に光硬化性の成形材料１１を所定の量で塗布する。ここで、支持フィルム１として柔軟で弾性のある材料を使用すると、光硬化性の成形材料１１が収縮しても、支持フィルム１と密着しているため、支持フィルムそのものが変形しない限り、１０ｐｐｍ以上の寸法変動を起こすことがない。
【００５５】
ラミネート処理の前、支持フィルムの湿度による寸法変化を取り除くため、成形型の製造環境下でエージングを行うことが好ましい。このエージング処理を行わないと、得られる成形型において許容し得ない程度の寸法のばらつき（例えば、３００ｐｐｍのオーダーのばらつき）が発生する恐れがある。
【００５６】
次いで、ラミネートロール２３を金型５の上を矢印の方向に滑動させる。このラミネート処理の結果、成形材料１１が所定の厚さで均一に分布せしめられ、隔壁１４の間隙も成形材料１１で充填される。
【００５７】
ラミネート処理が完了した後、図１３（Ｂ）に示すように、支持フィルム１を金型５に積層した状態で、支持フィルム１を介して、光（ｈν）を矢印で示すように成形材料１１に照射する。ここで、支持フィルム１が気泡等の光散乱要素を含むことなく、透明材料によって一様に形成されていれば、照射光は、ほとんど減衰することがなく、成形材料１１は均等に到達可能である。その結果、成形材料は効率的に硬化して、支持フィルム１に接着した均一な成形層１１になる。よって、支持フィルム１と成形層１１が一体的に接合した可とう性成形型１０が得られる。なお、この工程では、例えば波長３５０〜４５０ｎｍの紫外線を使用できるので、フュージョンランプなどの高圧水銀灯のように高熱を発生させる光源を使用しないで済むというメリットもある。さらに、光硬化時に支持フィルムや成形層を熱変形させることがないので、高度のピッチコントロールができるというメリットもある。
【００５８】
その後、図１３（Ｃ）に示すように、可とう性成形型１０をその一体性（支持フィルム１＋成形層１１）を保持したまま金型５から分離する。得られた可とう性成形型１０は、そのままＰＤＰ用背面板の製造に利用してもよいが、使用中における型収縮の問題を回避するため、コンディショニング処理するのが好ましい。コンディショニング処理は、例えば、可とう性成形型を恒温恒湿槽に入れ、予め定められたスケジュールに従って行うことができる。
【００５９】
本発明の可とう性成形型は、寸法・大きさによらず、それに応じた周知・慣用のラミネート手段及びコーティング手段を使用しさえすれば、比較的簡便に製造可能である。したがって、本発明によれば、真空プレス成形機等の真空設備を使用した従来の製造方法とは異なり、何らの制限を受けることなく大型の可とう性成形型を簡便に製造可能となる。
【００６０】
本発明による可とう性成形型は、ストレートリブパターン、格子状リブパターン又はその他のパターンをもったＰＤＰのリブの成形に有用である。この可とう性成形型を使用すれば、真空設備及び（又は）複雑なプロセスの代わりにラミネートロールを用いただけで、放電表示セルから外部に紫外線が漏れ難いリブ構造を有する大画面のＰＤＰを簡便に製造することができる。
【００６１】
本発明は、したがって、本発明の可とう性成形型を使用したＰＤＰ用背面板の製造方法にある。本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法は、好ましくは、下記の工程：
上記した本発明方法によって可とう性成形型を作製する工程、
前記基板と前記成形型の成形層との間に硬化性の成形材料を配置して、前記成形材料を、前記成形型のリブ形成部分の溝パターンに充填するとともに、非リブ形成部分に所定の厚さで適用する工程、
前記成形材料を硬化させ、基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含み、前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されているＰＤＰ用背面板を形成する工程、及び
前記背面板を前記成形型から取り去る工程、
を経て有利に実施することができる。
【００６２】
本発明のＰＤＰ用背面板は、いろいろな方法で製造することができるというものの、一般的に、図１２に順を追って示すような手法で有利に製造することができる。なお、図では、図１０及び図１１に示したストレートリブパターン付きの背面板の製造を、リブを横方向から見た断面図で説明する。また、本製造方法で使用するリブ前駆体などの詳細は、図１４を参照した後段の製造方法の説明にゆずることにする。
【００６３】
まず、図１２（Ａ）に示すように、ガラス基板３１と、本発明の可とう性成形型１０と、リブの形成に必要な所定量のリブ前駆体３３を用意する。ガラス基板３１は、リブ領域３６と、その周囲の非リブ領域３８とからなる。また、可とう性成形型１０は、透明な支持体１と、その上に形成された、リブ形成のための溝パターンを表面に有する成形層１１とからなる。成形層１１の非リブ形成部分１１ａには、リブ形成のための溝パターンが付与されておらず、また、その表面は、成形型１０をガラス基板３１にラミネートした時に間隙ｄが形成されるように、リブ形成部分の表面（図示せず）から深さｄだけ下がっている。非リブ形成部分１１ａの端面は、得られるリブに傾斜端面を付与するため、傾斜面１１ｃを有している。さらに、リブ前駆体３３は、通常、アクリレートもしくはメタクリレート系の光硬化性樹脂からなる。
【００６４】
次いで、成形型１０を図示のようにガラス基板３１上の所定の位置に設置し、リブ前駆体３３をガラス基板３１の上に供給する。リブ前駆体３３が均一な厚さとなり、かつ成形型１０の溝パターンを充填するように、成形型１０をガラス基板３１にラミネートする。このラミネート作業は、ラミネートロールを使用して有利に実施できるが、必要なら、その他のラミネート手段を使用してもよい。図１２（Ｂ）に示すような、ガラス基板３１と成形型１０の積層体が得られる。
【００６５】
引き続いて、リブ前駆体３３を硬化させる。ここではリブ前駆体として光硬化性樹脂を使用しているので、図１２（Ｂ）に示すように、ガラス基板３１と成形型１０の積層体を光照射装置（図示せず）に入れ、光硬化性樹脂の硬化を惹起する光をガラス基板３１及び成形型１０を介してリブ前駆体３３に照射する。リブ前駆体３３が硬化し、図１２（Ｃ）に示すようなリブ３４が得られる。
【００６６】
リブ３４の形成後、図１２（Ｃ）に示すように、ガラス基板３１から成形型１０を剥離し、取り外す。成形型１０には可とう性があり、ハンドリング性にも優れるので、ガラス基板３１に固着されたリブ３４を破損させることなく、少ない力で成形型１０を容易に取り外すことができる。得られたＰＤＰ用背面板５０において、リブ３４を有するリブ領域３６に隣接する非リブ領域３８には、成形型１０の非リブ形成部分１１ａに対応して、薄膜でガラス基板３１に強固に固着されたリブパターン層３４ａが形成されている。また、リブパターン層３４ａは、リブ３４の間まで延在して、薄膜３４ｂを形成している。さらに、それぞれのリブ３４の終端部は、成形型１０の傾斜面１１ｃに対応して傾斜面３４ｃを有している。
【００６７】
本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法をさらに詳細に説明するため、図１４を参照する。この図に示した製造方法では、先に図１３を参照して説明した方法で製造した可とう性成形型１０を使用する。なお、本製造方法の実施には、例えば特開２００１−１９１３４５号公報の図１〜図３に示した製造装置を有利に使用できる。
【００６８】
まず、一定の間隔をあけて互いに平行に電極を配設した透明なガラス基板を予め用意して定盤上にセットする。次いで、図１４（Ａ）に示すように、溝パターンを表面に有する本発明の可とう性成形型１０をガラス基板３１上の所定の位置に設置し、ガラス基板３１と成形型１０との位置合わせ（アライメント）を行う。成形型１０は透明であるので、ガラス基板３１上の電極との位置合わせは、容易に可能である。詳細に述べると、この位置合わせは、目視によって行うか、さもなければ、例えばＣＣＤカメラのようなセンサを用いて、成形型１０の溝部とガラス基板３１の電極とを平行にするようにして行う。さもなければ、図示しないが、成形型１０の非リブ形成部分に付設したアライメントマークを利用して、位置合わせを行ってもよい。また、このとき、必要により、温度及び湿度を調整して成形型１０の溝部とガラス基板３１上の相隣れる電極間の間隔を一致させてもよい。通常、成形型１０とガラス基板３１は温度及び湿度の変化に応じて伸縮し、また、その程度は互いに異なるからである。したがって、ガラス基板３１と成形型１０との位置合わせが完了した後は、そのときの温度及び湿度を一定に維持するよう制御する。かかる制御方法は、大面積のＰＤＰ用基板の製造に当たって特に有効である。
【００６９】
引き続いて、ラミネートロール２３を成形型１０の一端部に載置する。ラミネートロール２３は、好ましくはゴムロールである。このとき、成形型１０の一端部はガラス基板３１上に固定されているのが好ましい。先に位置合わせが完了したガラス基板３１と成形型１０との位置ずれが防止され得るからである。
【００７０】
次に、成形型１０の自由な他端部をホルダー（図示せず）によって持ち上げてラミネートロール２３の上方に移動させ、ガラス基板３１を露出させる。このとき、成形型１０には張力を与えないようにする。成形型１０にしわが入るのを防止したり、成形型１０とガラス基板３１の位置合わせを維持したりするためである。但し、その位置合わせを維持し得る限り、他の手段を使用してもよい。なお、本製造方法では、成形型１０に弾性があるので、成形型１０を図示のように捲りあげても、その後のラミネート時には、もとの位置合わせの状態に正確に戻すことができる。
【００７１】
引き続いて、リブの形成に必要な所定量のリブ前駆体３３をガラス基板３１の上に供給する。リブ前駆体の供給には、例えば、ノズル付きのペースト用ホッパーを使用できる。
【００７２】
ここで、リブ前駆体とは、最終的に目的とするリブ（リブ成形体）を形成可能な任意の成形材料を意味し、リブ成形体を形成できる限り特に限定されるものではない。リブ前駆体は、熱硬化性でも光硬化性でもよい。特に、光硬化性のリブ前駆体は、上述した透明の可とう性成形型と組み合せて極めて効果的に使用可能である。可とう性成形型は、上記したように、気泡や変形等の欠陥をほとんど伴わず、光の不均一な散乱等を抑制することができる。かくして、成形材料が均一に硬化され、一定かつ良好な品質をもったリブになる。
【００７３】
リブ前駆体に好適な組成の一例を挙げると、（１）リブの形状を与える、例えば酸化アルミニウムのようなセラミック成分、（２）セラミック成分間の隙間を埋めてリブに緻密性を付与する鉛ガラスやリン酸ガラスのようなガラス成分、及び（３）セラミック成分を収容及び保持して互いに結合するバインダ成分とその硬化剤又は重合開始剤を基本的に含む組成物である。バインダ成分の硬化は、加熱又は加温によらず光の照射によってなされることが望ましい。かかる場合、ガラス基板の熱変形を考慮する必要はなくなる。また、必要に応じて、この組成物には、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、インジウム（Ｉｎ）又は錫（Ｓｎ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、イリジウム（Ｉｒ）、プラチナ（Ｐｔ）、金（Ａｕ）もしくはセリウム（Ｃｅ）の酸化物、塩又は錯体からなる酸化触媒が添加されて、バインダ成分の除去温度を低下させてもよい。
【００７４】
また、このようなリブ前駆体のガラス基板に対する接着力を向上させるため、ガラス基板に予めプライマーを塗布してもよい。
【００７５】
さらにまた、図示の製造方法の実施に当たっては、リブ前駆体３３をガラス基板３１上の全体に均一に供給しない。図１４（Ａ）に示すように、ラミネートロール２３の近傍のガラス基板３１上にリブ前駆体３３を供給するだけでよい。後述の工程でラミネートロール２３が成形型１０上を移動するときにガラス基板３１の上に均一にリブ前駆体３３を広げることができるからである。ただし、このような場合、リブ前駆体３３には通常約２０，０００ｃｐｓ以下、好適には約５，０００ｃｐｓ以下の粘度が付与されていることが望ましい。リブ前駆体の粘度が約２０，０００ｃｐｓより高いと、ラミネートロールによってリブ前駆体が十分に広がり難くなり、その結果、成形型の溝部に空気が巻き込まれ、リブの欠陥の原因となるおそれがある。実際、リブ前駆体の粘度が約２０，０００ｃｐｓ以下であると、ラミネートロールをガラス基板の一端部から他端部に一回だけ移動させるだけで、ガラス基板と成形型の間にリブ前駆体が均一に広がり、全ての溝部に気泡を含むことなく均一に充填できる。但し、リブ前駆体の供給は、上述の方法に限定されるものではない。例えば、図示しないが、リブ前駆体をガラス基板の全面にコーティングしてもよい。このとき、コーティング用のリブ前駆体は、上記と同様の粘度を有している。特に、格子状パターンのリブを形成する場合には、その粘度は、約２０，０００ｃｐｓ以下、好ましくは約５，０００ｃｐｓ以下である。
【００７６】
次に、回転モータ（図示せず）を駆動させ、図１４（Ａ）において矢印で示すように、ラミネートロール２３を成形型１０上を所定の速度で移動させる。ラミネートロール２３がこのようにして成形型１０上を移動している間、成形型１０にはその一端部から他端部に圧力がラミネートロール２３の自重によって順次印加されて、ガラス基板３１と成形型１０の間にリブ前駆体３３が広がり、成形型１０の溝部に成形材料が充填される。すなわち、リブ前駆体３３が順次溝部の空気と置換されて充填されていく。このとき、リブ前駆体の厚さは、リブ前駆体の粘度又はラミネートロールの直径、重量もしくは移動速度を適当に制御することにより、数μｍから数十μｍの範囲にすることができる。
【００７７】
また、図示の製造方法によれば、成形型の溝部は空気のチャネルにもなって、空気をそこに捕捉したとしても、上述した印加圧力を受けたときには空気を効率よく成形型の外部又は周囲に排除することができる。その結果、本製造方法は、リブ前駆体の充填を大気圧下で行っても、気泡の残存を防止することができるようになる。換言すれば、リブ前駆体の充填に当たって減圧を適用する必要はなくなる。もちろん、減圧を行って、気泡の除去を一層容易に行ってもよい。
【００７８】
引き続いて、リブ前駆体を硬化させる。ガラス基板３１上に広げたリブ前駆体３３が光硬化可能である場合は、図１４（Ｂ）に示すように、ガラス基板３１と成形型１０の積層体を光照射装置（図示せず）に入れ、紫外線（ＵＶ）のような光をガラス基板３１及び成形型１０を介してリブ前駆体３３に照射して硬化させる。このようにして、リブ前駆体の成形体、すなわち、リブそのものが得られる。
【００７９】
最後に、得られたリブ３４をガラス基板３１に接着させたまま、ガラス基板３１及び成形型１０を光照射装置から取り出し、図１４（Ｃ）に示すように成形型１０を剥離除去する。本発明の可とう性成形型１０はハンドリング性にも優れるので、この成形型において被覆層に粘着性の低い材料を用いた場合、ガラス基板３１に接着したリブ３４を破損させることなく、少ない力で成形型１０を容易に剥離除去できる。もちろん、この剥離除去作業に大掛かりな装置は不要である。図示されるように、得られたＰＤＰ用背面板５０では、リブ３４を有するリブ領域に隣接する非リブ領域には、成形型１０の非リブ形成部分に対応して、薄膜でガラス基板３１に固着されたリブパターン層３４ａが形成されている。また、成形型１０のリブ形成部分に設けた平面部１１ｂに対応して、薄膜３４ｂが形成されている。
【００８０】
以上に説明した、本発明による可とう性成形型、ＰＤＰ用背面板及びそれらの製造方法をＰＤＰの製造に使用すると、従来の技術で克服することが困難であった多くの問題点を解消することができる。例えば、リブを背面板の必要な部分にのみ形成すればよいので、不要部分にもリブを形成し、後段でそれを取り除くという煩雑な工程を省略することができ、また、そのために、不要なリブを取り除く際のリブの破片が発生することもない。また、非リブ領域にはリブが存在しないので、後工程で背面板と前面板を重ね合わせて封着する際、シール材の塗布を容易に行うことができる。
【００８１】
また、リブ形成時、リブ前駆体の硬化をリブ領域及び非リブ領域で一括して行うことができるので、成形型に未硬化のリブ前駆体が付着することを防止でき、したがって、スクレーパーによる付着物の掻き取りなどの作業を伴うことなく、成形型を繰り返し使用することができる。また、リブ前駆体がリブ領域及び非リブ領域のすべてにおいて硬化し、ガラス基板に付着できるので、完成した背面板から成形型を剥離する時、硬化したリブ前駆体が破損するのも防止できる。
【００８２】
さらに、ＰＤＰ用背面板において、非リブ領域にもリブパターン層が薄膜で形成されるので、従来のように誘電体層（電極保護層）を被覆することなく、電極部分を確実に保護することができ、リブ焼成時の断線などを防止できる。さらに、リブ端部の形状に傾斜をもたせることができるため、焼成の際にリブが収縮し、端部が捲れ上がるという不都合も回避できる。
【００８３】
【実施例】
本発明を下記の実施例に従って具体的に説明する。なお、本発明は下記の実施例に限定されるものでないことは、当業者ならば容易に理解されるであろう。
実施例１
可とう性成形型の作製：
ＰＤＰ用背面板の製造のため、ストレートパターンのリブ（隔壁）をもった長方形の金型を用意した。詳細に述べると、この金型は、リブをもったリブ部分と、その周縁部を規定する非リブ部分とからなっていた。リブ部分では、その長手方向に沿って等脚台形の断面をもったリブが一定のピッチで配置されており、相隣接するリブによって規定される空間（凹部）が、ＰＤＰの放電表示セルに対応する。それぞれのリブは、高さ１３５μｍ、頂部幅６０μｍ、底部幅１２０μｍ、そしてピッチ（隣接するリブの中心間の距離）３００μｍであり、また、リブの本数は、３０００本であった。また、リブのトータルピッチ（両端のリブの中心間の距離）は、９００．２２１ｍｍであった。非リブ部分について見ると、厚さ（この厚さが、得られる背面板の非リブ領域に形成されるべきリブパターン層の厚さに相当する）は、約２０μｍであった。
【００８４】
また、成形型の成形層の形成に使用するため、９９重量％の脂肪族ウレタンアクリレートオリゴマー（ダイセルユーシービー社製）及び１重量％の２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ダロキュア１１７３」）を混合して光硬化性樹脂を調製した。
【００８５】
さらに、成形型の支持体として使用するため、ロールに巻かれた幅１３００ｍｍ及び厚さ１８８μｍのＰＥＴフィルム（帝人製、商品名「ＨＰＥ１８８」）を用意した。
【００８６】
次いで、用意した金型の上流端に、上述の光硬化性樹脂をライン状に塗布した。次いで、その金型の表面を覆うように上述のＰＥＴフィルムをラミネートした。ラミネートロールを使用してＰＥＴフィルムを入念に押し付けたところ、金型の凹部に光硬化性樹脂が充填された。
【００８７】
この状態で、三菱電機オスラム社製の蛍光ランプを用い、３００〜４００ｎｍに波長をもった光を、ＰＥＴフィルムを介して、光硬化性樹脂に３０秒間照射した。光硬化性樹脂が硬化し、成形層が得られた。引き続いてＰＥＴフィルムを成形層と共に金型から剥離すると、金型のリブに対応する形状及び寸法を有する多数の溝部を備えた可とう性成形型が得られた。
ＰＤＰ用背面板の作製：
上記のようにして可とう性成形型を作製した後、その成形型をＰＤＰ用ガラス基板の上に位置合わせして配置した。成形型の溝パターンをガラス基板に対向させた。次いで、成形型とガラス基板の間に感光性セラミックペーストを充填した。ここで使用したセラミックペーストは、次のような組成であった。
【００８８】
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セラミックペーストの充填が完了した後、ガラス基板の表面を覆うように成形型をラミネートした。ラミネートロールを使用して成形型を入念に押し付けたところ、その成形型の溝部にセラミックペーストが完全に充填された。
【００８９】
この状態で、フィリップス社製の蛍光ランプを用い、４００〜５００ｎｍに波長をもった光を成形型とガラス基板の両面から１分間照射した。セラミックペーストが硬化し、リブとなった。引き続いて、成形型をガラス基板から取り外し、目的とするリブ付きのガラス基板からなるＰＤＰ用背面板を得た。得られた背面板において、リブを有しない非リブ領域には、リブパターン層が約２０μｍの厚さで均一に形成されていた。また、成形型をガラス基板から取り外す時、リブの形成に使用したセラミックペーストの破片やゴミなどが発生することはなかった。
【００９０】
さらに続けて、リブの焼成のためにガラス基板を５５０℃で１時間にわたって加熱処理したけれども、その途中で、リブの終端部がガラス基板から捲れ上がるといった不都合は発生しなかった。リブの終端部は、緩やかなテーパー形状を有したままであった。
比較例１
前記実施例１に記載の手法を繰り返したが、本例では、比較のため、先に図５及び図６を参照して説明したような手法にしたがってＰＤＰ用背面板を作製した。
【００９１】
前記実施例１と同様にして、用意したガラス基板と成形型の間にセラミックペーストを充填した。次いで、成形型の中央部（リブ形成部分）にその部分と同じパターンの遮光マスクを載置した。その後、波長３００〜４００ｎｍの光を成形型を介してセラミックペーストに１分間照射した。光源として、三菱電機オスラム社製の蛍光ランプを使用した。ガラス基板の非リブ領域のセラミックペーストが選択的に硬化せしめられた。
【００９２】
引き続いて遮光マスクを成形型から取り除き、波長４００〜５００ｎｍの光を成形型とガラス基板の両面から１分間照射した。光源として、フィリップス社製の蛍光ランプを使用した。成形型とガラス基板の間にあった未硬化のセラミックペーストが硬化せしめられ、リブが形成された。
【００９３】
引き続いて、成形型をガラス基板から取り外した。成形型には、その非リブ形成部分に硬化したセラミックペーストが一体的に付着したままであり、一方、ガラス基板のリブ領域にはリブが強固に付着しており、目的のＰＤＰ用背面板が得られたことが確認された。
【００９４】
しかし、本例では、成形型をガラス基板から取り外す時、硬化したセラミックペーストの層において、リブ領域と非リブ領域の界面で破損が生じ、セラミックペーストの破片が発生した。この破片は、リブ領域に付着し、取り除くことができなかった。また、ガラス基板の非リブ領域では、電極が剥き出しのままであった。さらに、リブの効果のためにガラス基板を５５０℃で１時間にわたって焼成したところ、リブの終端部がガラス基板から捲れ上がるという不都合が発生した。
【００９５】
以上、本発明のその実施の形態及び実施例に関して説明した。最後に、本発明の好ましい態様を整理すると、次の通りである。
【００９６】
（態様１）所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及び該リブ領域の周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性の成形型であって、
支持体と、該支持体上に設けられた成形層を有するとともに、
前記成形層が、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分において、所定の形状及び寸法を有するリブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備え、かつ
前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分において、前記非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されていることを特徴とする、ＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性成形型。
【００９７】
（態様２）前記支持体及び前記成形層が透明である、態様１に記載の可とう性成形型。
【００９８】
（態様３）前記支持体が、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、延伸ポリプロピレン、ポリカーボネート及びトリアセテートからなる群から選ばれた少なくとも１種類のプラスチック材料からなる、態様１又は２に記載の可とう性成形型。
【００９９】
（態様４）前記支持体が、０．０５〜０．５ｍｍの厚さを有する、態様１〜３のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１００】
（態様５）前記成形層が、硬化性材料の硬化物からなる、態様１〜４のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１０１】
（態様６）前記硬化性材料が、光硬化性のモノマー及び（又は）オリゴマーである、態様５に記載の可とう性成形型。
【０１０２】
（態様７）前記光硬化性のモノマー及び（又は）オリゴマーが、アクリレートル系もしくはメタクリレート系のモノマー及び（又は）オリゴマーである、態様６に記載の可とう性成形型。
【０１０３】
（態様８）前記アクリレート系のモノマー及び（又は）オリゴマーが、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート及びポリエーテルアクリレートからなる群から選ばれる、態様７に記載の可とう性成形型。
【０１０４】
（態様９）前記成形層のリブ形成部分において、前記溝パターンが、一定の間隔をあけて互いに略平行に配置された複数本の溝部をもって構成されたストレートパターンである、態様１〜８のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１０５】
（態様１０）前記成形層のリブ形成部分において、前記溝パターンが、一定の間隔をあけて互いに交差しながら略平行に配置された複数本の溝部をもって構成された格子状パターンである、態様１〜９のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１０６】
（態様１１）前記成形層が、前記リブ領域において、相隣れるリブとリブの間に該リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な部分をさらに備えており、該部分の厚さが、前記非リブ形成部分の厚さよりも小さいか、それと同じであるかもしくはそれよりも小さい、態様１〜１０のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１０７】
（態様１２）前記成形層において、前記非リブ形成部分の厚さが、前記リブ形成部分の表面からの厚さよりも少なくとも５μｍ小さい、態様１〜１１のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１０８】
（態様１３）前記非リブ形成部分の厚さが、前記リブ形成部分の厚さよりも５〜４０μｍの範囲で小さい、態様１２に記載の可とう性成形型。
【０１０９】
（態様１４）前記成形層において、前記溝パターンのそれぞれの終端部に傾斜が付与されている、態様１〜１３のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１１０】
（態様１５）前記成形層において、前記溝パターンの側壁上端部から角が取り除かれている、態様１〜１４のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１１１】
（態様１６）前記溝パターンの側壁上端部が面取りされている、態様１５に記載の可とう性成形型。
【０１１２】
（態様１７）前記成形層において、前記非リブ形成部分に付設されたアライメントマークをさらに備えている、態様１〜１６のいずれか１項に記載の可とう性成形型。
【０１１３】
（態様１８）所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するＰＤＰ用背面板を製造するための可とう性の成形型を製造する方法であって、下記の工程：
前記ＰＤＰ用背面板の表面形態を複製した金型を用意する工程、
前記金型の表面に光硬化性の材料を所定の膜厚で適用して光硬化性材料層を形成する工程、
前記金型の光硬化性材料層の上にさらにプラスチック材料からなる透明支持体を積層して前記金型、前記光硬化性材料層及び前記支持体の積層体を形成する工程、
前記積層体にその支持体側から光を照射して前記光硬化性材料層を硬化させる工程、
前記光硬化性材料層の硬化によって、前記背面板のリブ領域に対応するリブ形成部分において、前記リブを複製するのに必要な溝パターンを表面に備え、かつ前記背面板の非リブ領域に対応する非リブ形成部分において、前記非リブ領域において前記リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な厚さで形成されている透明な成形層を形成する工程、及び
前記成形層を、それを支持する前記支持体とともに前記金型から離型する工程、
を含んでなることを特徴とする可とう性成形型の製造方法。
【０１１４】
（態様１９）前記支持体が、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、延伸ポリプロピレン、ポリカーボネート及びトリアセテートからなる群から選ばれた少なくとも１種類のプラスチック材料からなる、態様１８に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１１５】
（態様２０）前記光硬化性材料が、光硬化性のモノマー及び（又は）オリゴマーである、態様１８又は１９に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１１６】
（態様２１）前記光硬化性のモノマー及び（又は）オリゴマーが、アクリレート系もしくはメタクリレート系のモノマー及び（又は）オリゴマーである、態様２０に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１１７】
（態様２２）前記アクリレート系のモノマー及び（又は）オリゴマーが、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート及びポリエーテルアクリレートからなる群から選ばれる、態様２１に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１１８】
（態様２３）前記成形層のリブ形成部分において、前記溝パターンが、一定の間隔をあけて互いに略平行に配置された複数本の溝部をもって構成されたストレートパターンである、態様１８〜２２のいずれか１項に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１１９】
（態様２４）前記成形層のリブ形成部分において、前記溝パターンが、一定の間隔をあけて互いに交差しながら略平行に配置された複数本の溝部をもって構成された格子状パターンである、態様１８〜２２のいずれか１項に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１２０】
（態様２５）前記成形層が、前記リブ領域において、相隣れるリブとリブの間に該リブと同じ材料からなる薄膜を形成するのに必要な部分をさらに備えており、該部分の厚さが、前記非リブ形成部分の厚さよりも小さいか、それと同じであるかもしくはそれよりも小さい、態様１８〜２４のいずれか１項に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１２１】
（態様２６）前記成形層において、前記非リブ形成部分の厚さが、前記リブ形成部分の表面からの厚さよりも少なくとも５μｍ小さい、態様１８〜２５のいずれか１項に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１２２】
（態様２７）前記非リブ形成部分の厚さが、前記リブ形成部分の厚さよりも５〜４０μｍの範囲で小さい、態様２６に記載の可とう性成形型の製造方法。
【０１２３】
（態様２８）基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むＰＤＰ用背面板であって、
前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されていることを特徴とするＰＤＰ用背面板。
【０１２４】
（態様２９）前記非リブ領域において、前記薄膜が、前記リブの形成と同時に硬化性の成形材料から形成されたものである、態様２８に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１２５】
（態様３０）前記リブ領域において、相隣れるリブとリブの間に該リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されており、該薄膜の厚さが、前記非リブ領域の厚さよりも大きいか、それと同じであるかもしくはそれよりも小さい、態様２８又は２９に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１２６】
（態様３１）前記非リブ領域において、前記薄膜の厚さが少なくとも５μｍである、態様２８〜３０のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１２７】
（態様３２）前記非リブ領域において、前記薄膜の厚さが５〜４０μｍの範囲である、態様２８〜３１のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１２８】
（態様３３）前記リブ領域において、前記リブのそれぞれの終端部に傾斜が付与されている、態様２８〜３２のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１２９】
（態様３４）前記リブ領域において、前記リブの根元から角が取り除かれている、態様２８〜３３のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１３０】
（態様３５）前記リブ領域において、前記リブの根元に余肉が付与されている、態様２８〜３４のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１３１】
（態様３６）前記非リブ領域にアライメントマークが付設されている、態様２８〜３５のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１３２】
（態様３７）前記リブ領域において、一定の間隔をあけて互いに略平行に配置された複数本のリブをもって構成されたストレートパターンが備わっている、態様２８〜３６のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１３３】
（態様３８）前記リブ領域において、一定の間隔をあけて互いに交差しながら略平行に配置された複数本の溝部をもって構成された格子状パターンが備わっている、態様２８〜３６のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１３４】
（態様３９）前記基板の表面に、一定の間隔をあけて、略平行にかつ独立に設けられた１組のアドレス電極をさらに含む、態様２８〜３８のいずれか１項に記載のＰＤＰ用背面板。
【０１３５】
（態様４０）基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含むＰＤＰ用背面板を製造する方法であって、下記の工程：態様１８〜２７のいずれか１項に記載の方法によって可とう性成形型を作製する工程、
前記基板と前記成形型の成形層との間に硬化性の成形材料を配置して、前記成形材料を、前記成形型のリブ形成部分の溝パターンに充填するとともに、非リブ形成部分に所定の厚さで適用する工程、
前記成形材料を硬化させ、基板と、その上に形成された、所定の形状及び寸法を有するリブを備えたリブ領域及びその周縁部の少なくとも一部を占める非リブ領域を有するリブパターン層とを含み、前記非リブ領域に、前記リブと同じ材料からなる薄膜が所定の厚さで形成されているＰＤＰ用背面板を形成する工程、及び
前記背面板を前記成形型から取り去る工程、
を含んでなることを特徴とするＰＤＰ用背面板の製造方法。
【０１３６】
（態様４１）前記硬化性の成形材料が、光硬化性材料である、態様４０に記載のＰＤＰ用背面板の製造方法。
【０１３７】
（態様４２）前記基板の表面に、１組のアドレス電極を一定の間隔をあけて、略平行にかつ独立に設ける工程をさらに含む、態様４０又は４１に記載のＰＤＰ用背面板の製造方法。
【０１３８】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、ＰＤＰ用背面板を製造するのに有用で、しかも、製造に熟練を必要とすることがなく、所定位置にリブを容易かつ正確に、高い寸法精度で設けることができる可とう性成形型を提供できる。
【０１３９】
また、本発明によれば、ＰＤＰ用背面板を、リブの捲り上がりや破片を生じることなく製造することができ、非リブ領域の形成が容易であり、しかも非リブ領域における電極等の断線の問題も生じることもない可とう性成形型を提供することができる。
【０１４０】
さらに、本発明によれば、本発明の改良された可とう性成形型の有利な製造方法も提供することができる。
【０１４１】
さらに、本発明によれば、リブの捲り上がりや破片を生じることなく製造することができ、非リブ領域の形成が容易であり、しかも非リブ領域における電極等の断線の問題も生じることもないＰＤＰ用背面板を提供することができる。
【０１４２】
さらにまた、本発明によれば、本発明の改良されたＰＤＰ用背面板の有利な製造方法も提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明も適用可能な、従来のＰＤＰの一例を模式的に示した断面図である。
【図２】図１のＰＤＰに用いられたＰＤＰ用背面板を示した斜視図である。
【図３】ＰＤＰ用背面板におけるリブ領域及び非リブ領域の存在を模式的に示した平面図である。
【図４】図３に示したＰＤＰ用背面板の一括製造の方法を模式的に示した平面図である。
【図５】出願人によってすでに発明されたＰＤＰ用背面板の製造方法（前半）を模式的に示した断面図である。
【図６】出願人によってすでに発明されたＰＤＰ用背面板の製造方法（後半）を模式的に示した断面図である。
【図７】図５及び図６に示したＰＤＰ用背面板の製造方法において発生するおそれのある１つの問題点を模式的に示した断面図である。
【図８】図５及び図６に示したＰＤＰ用背面板の製造方法において発生するおそれのあるもう１つの問題点を模式的に示した断面図である。
【図９】本発明による可とう性成形型の１実施形態を示した断面図である。
【図１０】本発明によるＰＤＰ用背面板の１実施形態を示した斜視図である。
【図１１】図１０に示したＰＤＰ用背面板の線分ＸＩ−ＸＩにそった断面図である。
【図１２】本発明によるＰＤＰ用背面板の１製造方法を、順を追って示した断面図である。
【図１３】本発明による可とう性成形型の１製造方法を、順を追って示した断面図である。
【図１４】図１３の可とう性成形型を使用してＰＤＰ用背面板を製造する方法を、順を追って示した断面図である。
【図１５】本発明による成形型のもう１つの実施形態を示した断面図である。
【図１６】図１５に示した成形型を使用して製造されるＰＤＰ用背面板（部分）を示した断面図である。
【符号の説明】
１…支持体
４…溝部
５…金型
１０…可とう性成形型
１１…成形層
３１…ガラス基板
３４…リブ
３４ａ…薄膜
３６…リブ領域
３８…非リブ領域
５０…ＰＤＰ用背面板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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