(57)【要約】【課題】画素の発光特性及び寿命特性を向上させる膜形成方法及び膜形成装置等を提供する。【解決手段】膜の成分を含有する液状体が塗布され、基板Ｗ上の有機発光層５に向けて、エネルギー線を照射するレーザー発振源（光源）６と、エネルギー線から特定の吸収スペクトルを選択し、有機発光層５を形成する有機材料を構成する置換基の振動波長帯のエネルギー線のみを透過させるバンドパスフィルター（波長選択機構）７とを備える。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に膜を形成する膜形成方法であって、
前記膜の成分又は前駆体を含有する液状体を前記基板に塗布し、該基板上に前記液状体を配置する第１の工程と、
前記基板上に配置された液状体、又は前記基板上に配置された液状体から形成された膜状体に、該液状体又は膜状体を振動励起させることが可能なエネルギー線を照射する第２の工程と、
を有することを特徴とする膜形成方法。
【請求項２】
前記膜は、それぞれ異なる成分又は前駆体からなる少なくとも２カ所の領域を有し、
前記第２の工程では、前記複数の領域の内、励起温度の値が高い領域から順次前記エネルギー線を照射することを特徴とする請求項１記載の膜形成方法。
【請求項３】
前記液状体又は前記膜状体は、エネルギー線により振動励起される被励起部位を含んでいることを特徴とする請求項１又は２に記載の膜形成方法。
【請求項４】
前記液状体又は前記膜状体は、エネルギー線により励起される複数の被励起部位を含み、
前記複数の被励起部位の振動数の最大値と最小値との差が、１００ｃｍ−１以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の膜形成方法。
【請求項５】
前記液状体は、液滴吐出法により前記基板に塗布されることを特徴とする請求項１記載の膜形成方法。
【請求項６】
前記液状体は、グラビア印刷法により前記基板に塗布されることを特徴とする請求項１記載の膜形成方法。
【請求項７】
前記エネルギー線は、赤外領域のレーザー光であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の膜形成方法。
【請求項８】
前記第２の工程は、圧力が１０ｈＰａ以下の雰囲気内で実施されることを特徴とする請求項１又は２に記載の膜形成方法。
【請求項９】
前記第２の工程は、不活性ガスの雰囲気内で実施されることを特徴とする請求項１又は２に記載の膜形成方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の膜形成方法を採用することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１１】
基板上に膜を形成する膜形成装置であって、
前記基板を載置する載置機構と、
前記載置機構により載置された前記基板に液状体を塗布する塗布機構と、
前記基板に塗布された前記液状体、又は該液状体から形成された膜状体にエネルギー線を照射する照射機構とを含み、
前記照射機構は、光源と、該光源から特定の波長域を選択する波長選択機構とを備えることを特徴とする膜形成装置。
【請求項１２】
前記波長選択機構は、バンドパスフィルターであることを特徴とする請求項１１記載の膜形成装置。
【請求項１３】
前記バンドパスフィルターでは、該バンドパスフィルターを通過するエネルギー線の半値幅を１０００ｃｍ−１以下に設定することを特徴とする請求項１２記載の膜形成装置。
【請求項１４】
請求項１１から１３のいずれか一項に記載の膜形成装置で製造されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、膜形成方法、有機ＥＬ装置の製造方法、膜形成装置、電気光学装置、並びに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと表記する）装置等の電気光学装置の開発が加速している。特に、有機ＥＬ装置における有機ＥＬ素子の製造方法及び装置としては、インクジェット方式により発光層を形成する方法や（例えば、特許文献１参照。）、グラビア印刷法による発光層の形成装置（例えば、特許文献２参照。）等が提案されている。
上記のような製造方法を採用して、特に、フルカラーの有機ＥＬ装置（有機ＥＬパネル）を製造する場合は、有機ＥＬ素子の発光層として、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３つの画素からなる画素領域を基板に形成させることが一般的である。この場合、発光層の膜質を向上させるために、通常、画素領域にＲＧＢの各材料を塗布した後、各材料に熱処理を施す。熱処理の方法としては、種々の方法が考えられるが、近年では、エネルギー線を基板に照射する方法等が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−４０３５８号公報
【特許文献２】
特開２００１−７６８７４号公報
【特許文献３】
特開２００１−２８６８１８号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来技術においては、以下のような問題点を有していた。
上記ＲＧＢの各画素を形成する各材料は、それぞれ成分が異なることに起因して、熱処理時の最適な熱処理温度もそれぞれ異なる。従って、各画素に対して、ある特定の温度で一律に熱処理を施した場合、前記温度の値によって、形成される有機ＥＬ素子の表示特性に大きく差が生じてしまうという問題があった。また、熱処理温度の最適値が、実際に施した前記特定の温度と大きく差がある画素では、寿命特性が劣るという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、画素の発光特性及び寿命特性を向上させる膜形成方法及び膜形成装置等を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の膜形成方法においては、基板上に膜を形成する膜形成方法であって、前記膜の成分又は前駆体を含有する液状体を前記基板に塗布し、該基板上に前記液状体を配置する第１の工程と、前記基板上に配置された液状体、又は前記基板上に配置された液状体から形成された膜状体に、該液状体又は膜状体を振動励起させることが可能なエネルギー線を照射する第２の工程とを有することを特徴としている。
上記の膜形成方法によれば、基板上に液状体を塗布した後、基板上に配置された液状体又は膜状体に、該液状体又は膜状体を振動励起させることが可能なエネルギー線を照射させるので、膜質を効率良く向上させることが可能となる。
【０００７】
本発明の膜形成方法においては、前記膜は、それぞれ異なる成分又は前駆体からなる少なくとも２カ所の領域を有し、前記第２の工程では、前記複数の領域の内、励起温度の値が高い領域から順次前記エネルギー線を照射することを特徴としている。
上記の膜形成方法によれば、膜の複数の領域に対して、それぞれ独立させて、励起温度の値が高い領域から順次エネルギー線を照射させるので、それぞれの領域に最適な励起温度で、且つ、効率良く熱処理を行うことが可能となる。
【０００８】
本発明の膜形成方法においては、前記液状体又は前記膜状体は、エネルギー線により振動励起される被励起部位を含んでいることを特徴としている。
これによれば、被励起部位に、該被励起部位を振動励起させる波長のエネルギー線を照射することによって、効率良く液状体又は膜状体を加熱することが可能となる。
【０００９】
本発明の膜形成方法においては、前記液状体又は前記膜状体は、エネルギー線により励起される複数の被励起部位を含み、前記複数の被励起部位の振動数の最大値と最小値との差が、１００ｃｍ−１以上であることを特徴としている。
これによれば、エネルギー線によって被励起部位が振動する振動数の最大値と最小値との差が、１００ｃｍ−１以上であるので、効率良く、且つ、確実に結合部を振動させることが可能となる。
【００１０】
本発明の膜形成方法においては、前記液状体は、液滴吐出法、若しくはグラビア印刷法のいずれかにより前記基板に塗布されることを特徴としている。
これによれば、液状体の最適な塗布を効率良く行うことが可能となる。
【００１１】本発明の膜形成方法においては、前記エネルギー線は、赤外領域のレーザー光であることを特徴としている。
これによれば、液状体又は膜状体に含まれる被励起部位を効率良く振動励起させて、液状体又は膜状体を加熱することが可能となる。
【００１２】本発明の膜形成方法においては、前記第２の工程は、圧力が１０ｈＰａ以下の雰囲気内、若しくは、不活性ガスの雰囲気内のいずれかで実施されることを特徴としている。
これによれば、第２の工程が、圧力が１０ｈＰａ以下の雰囲気内、若しくは、不活性ガスの雰囲気内で実施されるので、膜が大気に晒されることがなく、良好な膜質の膜を形成することが可能となる。
【００１３】本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、上記に記載の膜形成方法を採用することを特徴としている。
この有機ＥＬ装置の製造方法によれば、基板上に独立して形成された、有機ＥＬ素子を構成するＲＧＢの各画素領域に、ＲＧＢのそれぞれに対応した液状体を塗布して発光層を形成後、更に、ＲＧＢの各発光層に、それぞれに好適な温度で独立して振動励起を行うので、前記各発光層を用いて形成される有機ＥＬ素子の表示特性に大きく差が生じさせることなく、画素の発光特性及び寿命特性を向上させることができ、即ち、発光特性及び寿命特性に優れた有機ＥＬ素子を製造することが可能となる。
【００１４】本発明の膜形成装置においては、基板上に膜を形成する膜形成装置であって、前記基板を載置する載置機構と、前記載置機構により載置された前記基板に液状体を塗布する塗布機構と、前記基板に塗布された前記液状体、又は該液状体から形成された膜状体にエネルギー線を照射する照射機構とを含み、前記照射機構は、光源と、該光源から特定の波長域を選択する波長選択機構とを備えることを特徴としている。
上記の膜形成装置によれば、載置された基板上に液状体が塗布され、該液状体又は膜状体の所定の領域に向けて光源からエネルギー線が照射される。この場合、波長選択機構によって、前記エネルギー線から特定の吸収スペクトルが選択されて、特定の波長帯のエネルギー線のみが前記領域に照射される。従って、特定領域の膜を効率良く直接加熱させることが可能となる。
【００１５】本発明の膜形成装置においては、前記波長選択機構は、バンドパスフィルターであることを特徴としている。
これによれば、容易に特定の波長帯のエネルギー線を選択することが可能となる。
【００１６】本発明の膜形成装置においては、前記バンドパスフィルターでは、該バンドパスフィルターを通過するエネルギー線の半値幅を１０００ｃｍ−１以下に設定することを特徴としている。
これによれば、通常のエネルギー線から、最も効率良く、所望の波長帯のエネルギー線のみを透過させることが可能となる。
【００１７】本発明の電気光学装置においては、上記のいずれか一項に記載の膜形成装置で製造されることを特徴としている。
これによれば、電気光学装置を構成する膜、例えば発光層の膜質を良好なものとすることができるので、発光特性及び寿命特性を向上させることが可能となる。
【００１８】本発明の電子機器においては、上記に記載の電気光学装置を備えることを特徴としている。
これによれば、電子機器には、発光特性及び寿命特性が向上した電気光学装置を採用されるので、高品質の電子機器を製造することが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る膜形成方法、有機ＥＬ装置の製造方法、膜形成装置、電気光学装置、並びに電子機器の実施形態を、図１乃至図８を参照して説明する。これらの図面は、いずれも概略図であり、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせている。
【００２０】
〔第１実施形態〕
第１の実施形態として、本発明の膜形成装置と、該膜形成装置による膜形成方法について順次説明する。
図１に、膜形成装置１の概略図を示す。
膜形成装置１は、基板を所定の位置に載置する載置機構（不図示）と、載置された基板の表面上に所望の膜（層）を形成するために、膜の成分（材料）を塗布する塗布装置（塗布機構）２と、膜の膜質を良好なものとするための照射装置（照射機構）３とから構成されている。
【００２１】
以下、本実施形態の膜形成装置１において、便宜上、塗布装置２は、インクジェット方式（液滴吐出方式）による塗布装置（インクジェット装置）であって、有機ＥＬパネルに採用される有機ＥＬ素子を形成するものとして説明する。この場合、インクジェット装置は、画素を形成する有機物からなる正孔注入層材料並びに発光材料を溶媒に溶解又は分散させたインク組成物（液状体）を、インクジェットヘッドから吐出させて透明電極上にパターニング塗布し、正孔注入／輸送層並びに発光層を形成する装置である。特に、以下の実施形態においては、発光層を形成するものとし、例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に発光する高分子系材料を用いて、赤色発光層用インク組成物、緑色発光層用インク組成物、青色発光層用インク組成物の３種類を調製し使用する。
【００２２】
図２に、上記の塗布装置２として好適に使用することができるインクジェットヘッドの構造を示す。
インクジェットヘッド１０は、例えばステンレススチール製のノズルプレート１１と振動板１３とを備え、該ノズルプレート１１と振動板１３は、仕切部材（リザーバプレート）１５を介して接合されている。
【００２３】ノズルプレート１１と振動板１３との間には、仕切部材１５によって複数の空間１９と液溜まり２１とが形成されている。各空間１９及び液溜まり２１の内部はインク組成物で満たされており、各空間１９と液溜まり２１とは供給口２３を介して連通している。更に、ノズルプレート１１には、空間１９から組成物をジェット上に噴射するためのノズル孔２５が設けられている。一方、振動板１３には、液溜まり２１に組成物を供給するための孔２７が形成されている。また、振動板１３の空間１９に対向する面と反対側の面上には、空間１９の位置に対応させて圧電素子２９が接合されている。
【００２４】前記圧電素子２９に通電すると、圧電素子２９が外側に突出するように撓曲し、同時に圧電素子２９が接合している振動板１３も一体となって外側に撓曲する。これにより、空間１９の容積が増大する。従って、空間１９内に増大した容積分に相当する組成物が液溜まり２１から供給口２３を介して流入する。次に、圧電素子２９への通電を解除すると、該圧電素子２９と振動板１３は、共に元の形状に戻る。これにより、空間１９も元の容積に戻るために空間１９内部の組成物の圧力が上昇し、ノズル孔２５から基板に向けて組成物が噴出する。
【００２５】上記のようなインクジェットヘッド１０を用いて、ＲＧＢの各色に対応するインク組成物を所定のパターンで吐出することにより、有機発光層をそれぞれ設け、画素を形成することができる。
【００２６】
図３に、照射装置３の概略図を示す。
照射装置３は、塗布装置２によって基板Ｗに形成された有機発光層（液状体又は膜状体）５に向けてレーザー光を照射するレーザー発振源（光源）６と、該レーザー発振源６から発振されたレーザー光から特定の吸収スペクトルを選択する波長選択機構７とから構成されている。レーザー発振源６は、本発明では、特に赤外領域の波長のレーザー光を照射するものが好適に採用される。また、波長選択機構７としては、有機発光層５における、例えば赤色発光層の有機材料成分を形成する結合部の赤外線振動波長に対応した吸収波長を有するバンドパスフィルターが採用される。バンドパスフィルターは、透過波長によって仕様を適宜選択し、不図示であるが、交換自在に設置されるものである。また、本実施形態においては、前記バンドパスフィルターを通過するレーザー光の半値幅を１０００ｃｍ−１以下に設定することが望ましい。更に、不図示であるが、照射装置３には、該照射装置３を構成するレーザー発振源６や波長選択機構７、又は基板Ｗ等の部材や機器の周囲の雰囲気を制御する制御機構が備えられている。具体的には、周囲の圧力を制御する、真空装置等からなる圧力調整機構、更に、雰囲気ガスを特定の不活性ガス（例えば、窒素等）とするガス供給機構等が挙げられる。
【００２７】
図４に、有機発光層の赤外吸収スペクトルとバンドパスフィルターの透過特性との関係の一例を示す。
赤外吸収スペクトル８は、有機発光層の有機材料成分による固有のスペクトルであり、透過率が著しく低下している部分の波数帯が、前記有機材料成分を形成する置換基の赤外線振動波長帯と一致している。即ち、バンドパスフィルターによって、レーザー発振源から発振された赤外線レーザーのうち、前記赤外線振動波長帯以外の波長帯をカットし、赤外線振動波長帯のレーザー光９のみを透過させて有機発光層６に照射することにより、例えば赤色発光層の被励起部位のみを振動励起させることができる。これにより、前記赤色発光層のみを所望の温度で直接加熱することが可能となり、溶質である有機材料の劣化を伴わない加熱が実現できる。なお、本実施形態では、有機発光層６として、上記赤色発光層以外に、緑色発光層及び青色発光層の計３種類の領域を有するのに起因して、各色の発光層の有機材料成分を形成する各被励起部位に対応した３種類のバンドパスフィルターが適宜使用される。
【００２８】
以下、上記照射装置３による照射工程について詳細に説明する。
図５は、塗布装置２により有機発光層を形成するインク組成物が塗布された後の有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
図５に示すように、形成過程の有機ＥＬ素子は、ガラス基板３１と、該ガラス基板３１上に形成された透明画素電極４１，４２，４３と、該各透明画素電極間を埋め、光遮断層と、インク組成物塗布時のインク垂れ防止用壁とを兼ねた樹脂ブラックレジスト５１と、そして、有機発光層である、赤色発光層６１、緑色発光層６２、及び青色発光層６３とから構成されている。なお、不図示であるが、透明画素電極と有機発光層との間に、正孔注入層を設ける場合もある。
【００２９】有機発光層を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料、例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の材料をドープして用いることもできる。
【００３０】
ここで、上記の各三色の発光層を形成する各インク組成物は、それぞれ異なる有機材料であるために、各発光層によって最適な熱処理温度（励起温度）が異なる。従って、本実施形態では、各三色の発光層に対して、該発光層に最適な温度で、それぞれ独立して熱処理を施すことを特徴としている。
【００３１】まず、上記の三色の発光層のうち、例えば、赤色発光層６１を加熱する。各発光層を構成する有機材料は、特に、それぞれ固有の置換基等の被励起部位を有する高分子化合物で形成されているので、置換基の振動波長（吸収波長）に対応した波長を有する赤外線レーザーを照射させることにより、前記置換基を振動させて、特定の発光層（この場合、赤色発光層）のみを加熱することができる。この場合、他の二色の発光層（緑色、青色の両発光層６２、６３）にも上記の赤外線レーザーが照射されるのであるが、緑色、青色の両発光層を構成する置換基の振動波長は、上記置換基の振動波長と波長帯が異なるために、上記の赤外線レーザーは、緑色、青色の両発光層には吸収されないので、該両発光層が加熱されることはない。
【００３２】赤色発光層に向けて照射される赤外線レーザーは、置換基の振動波長帯のレーザーのみを透過させるバンドパスフィルターＦＲ（不図示）により、通常波長帯の赤外線レーザーから選択される。
【００３３】次に、他の二色の発光層のうち、例えば緑色発光層６２を、上記赤色発光層６１と同様の手法で加熱し、その後、青色発光層６３を順次加熱する。この場合、緑色発光層６２に向けて照射される赤外線レーザーは、緑色発光層６２を形成する有機材料を構成する置換基の振動波長帯のレーザーのみを透過させるバンドパスフィルターＦＧ（不図示）により、通常波長帯の赤外線レーザーから選択され、青色発光層６３に向けて照射される赤外線レーザーは、青色発光層６３を形成する有機材料を構成する置換基の振動波長帯のレーザーのみを透過させるバンドパスフィルターＦＢ（不図示）により、通常波長帯の赤外線レーザーから選択されることになる。なお、上記照射工程の説明では、レーザー光を、赤色、緑色、青色の順序で各発光層に照射する例を挙げたが、実際には、各発光層に最適な熱処理温度のうち、高い温度を要求する発光層から順次適したレーザー光を照射させることが望ましい。
【００３４】また、有機材料を構成する置換基等の結合部を好適に振動励起させるためには、結合部に固有であって、振動させることが可能な振動波長帯が、一定の間隔を有するような有機材料を選択することが必要となる。具体的には、被励起部位が振動する波長（波数）の最大値と最小値との差が、１００ｃｍ−１以上であることが望ましい。
【００３５】更に、レーザー光の照射中においては、大気中のガスによる有機発光層の汚染を抑止させるために、照射装置３を構成するレーザー発振源６や波長選択機構７、又は基板Ｗ等の部材や機器の周囲の雰囲気を、真空状態、若しくは、不活性ガス雰囲気に維持させることが望ましい。例えば、真空状態に維持する場合、周囲圧力を１０ｈＰａ以下に維持させることが好ましい。
【００３６】このように、上記の膜形成装置によれば、基板上に独立して形成されたＲＧＢの各画素領域に、ＲＧＢのそれぞれに対応した有機材料を塗布して発光層を形成後、更に、ＲＧＢの各発光層に、それぞれに好適な温度で独立して熱処理を行うので、前記各発光層を用いて形成される有機ＥＬ素子の表示特性に大きく差が生じさせることなく、画素の発光特性及び寿命特性を向上させることが可能となる。
【００３７】〔第２実施形態〕
図６は、本実施形態に係る電気光学装置の一例である有機ＥＬ装置（ＥＬ表示装置）の配線構造を示す模式図である。本図中において、図５と同一構成のものには、同一の符号を付している。
ＥＬ表示装置３０は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＴＦＴと略記する）を用いたアクティブマトリクス方式のＥＬ表示装置である。
【００３８】図６に示すように、ＥＬ表示装置３０は、複数の走査線１０１…と、各走査線１０１に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２…と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３…とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１…と信号線１０２…の各交点付近に、画素領域Ａ…が設けられている。
【００３９】信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路８０が接続されている。
【００４０】更に、画素領域Ａ各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１１２と、このスイッチング用ＴＦＴ１１２を介して信号線１０２から共有される画素信号を保持する保持容量１１３と、該保持容量１１３によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１２３（駆動用電子素子）と、この駆動用ＴＦＴ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が流れ込む陽極４０（陽極電極、図６参照）と、この陽極４０と陰極５０（陰極電極、図６参照）との間に挟み込まれた機能層１１０（図６参照）とが設けられている。陽極４０と陰極５０と機能層１１０により、発光素子が構成されている。
【００４１】
このＥＬ表示装置３０によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１１２がオン状態になると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量１１３に保持され、該保持容量１１３の状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１２３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１２３のチャネルを介して、電源線１０３から陽極４０に電流が流れ、更に、機能層１１０を介して陰極５０に電流が流れる。機能層１１０は、これを流れる電流量に応じて発光する。そこで、発光はそれぞれ陽極４０…ごとにオン・オフを制御されるから、陽極４０は画素電極となっている。
【００４２】
次に、機能層１１０の概略構成について、図７を参照して説明する。
図７は、本実施形態の機能層１１０の概略構成を説明するための概念図である。機能層１１０は、基板３１上に形成される陽極４０（図５における透明画素電極４１、４２、４３に相当する）と、該陽極４０と陰極５０に挟まれる多層構造を備えており、陽極４０側から順に、正孔注入層７０、有機発光層６０（図５における有機発光層６１、６２、６３に相当する）、及び電子注入層５２とを備えている。
【００４３】陽極４０は、印加された電圧によって、正孔を有機発光層６０に向けて注入する機能を有する。陽極４０を形成するための材料としては、光透過性と導電性を兼ね備えた公知の材料を採用することができる。例えば、金属酸化物が挙げられるが、特に、本実施形態では、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、若しくは、金属酸化物に亜鉛（Ｚｎ）を含有した材料、例えば酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ：ＩＺＯ／アイ・ゼット・オー（登録商標））（出光興産社製）を採用する。
【００４４】
正孔注入層７０は、特に、有機発光層６０の発光効率、寿命などの素子特性を向上させる機能を有する。正孔注入層７０を形成するための材料としては、例えば、ポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、または、それらのドーピング体などが採用できる。例えば、ポリチオフェン誘導体では、ＰＥＤＯＴにＰＳＳ（ポリスチレンスルフォン酸）をドープしたＰＥＤＯＴ：ＰＳＳが採用できる。より具体的な一例を挙げれば、その一種であるバイトロン−Ｐ（Ｂｙｔｒｏｎ−Ｐ：バイエル社製）などを好適に用いることができる。
【００４５】また、正孔注入層に代えて正孔輸送層を形成しても良く、更には、正孔注入層と正孔輸送層を両方形成するようにしても良い。その場合、正孔輸送層を形成するための材料は、正孔を輸送できれば周知のどのような正孔輸送材料であっても良く、例えば、そのような材料として、アミン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、スターバスト系などに分類される有機材料が種々知られている。正孔注入層と正孔輸送層を両方形成する場合には、例えば、正孔輸送層の形成に先立って、正孔注入層を陽極側に形成し、その上に正孔輸送層を形成するのが好ましい。このように正孔輸送層を正孔注入層とともに形成することにより、駆動電圧の上昇を制御することができるとともに、駆動寿命（半減期）を長くすることが可能となる。
【００４６】有機発光層６０は、陽極４０から正孔注入層７０を経て注入された正孔と、陰極５０からの注入された電子とが結合して蛍光を発生させるものである。この有機発光層６０としては、第１実施形態で説明した膜形成装置で形成される有機発光層が好適に用いられる。
【００４７】
陰極５０は、陽極４０の対向電極として、電子を有機発光層６０に注入する機能を備える。封止側発光型のＥＬ表示装置の場合は、有機発光層６０から発光する光を陰極５０側から取り出すので、光透過性を備える必要がある。この場合は、光透過性であって、仕事関数が低い材料から構成される。
【００４８】
陰極５０を形成する材料としては、例えば、カルシウム金属又はカルシウムを主成分とする合金を有機発光層６０側に積層して第１の陰極層とし、該第１の陰極層の上層にアルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金、若しくは銀又は銀−マグネシウム合金などを積層して第２の陰極層とした積層体を採用することができる。なお、第２の陰極層は、第１の陰極層を覆って、酸素や水分などとの化学反応から保護するとともに、陰極５０の導電性を高めるために設けられる。従って、単層構造でも良く、また、金属材料に限るものではない。
【００４９】
〔第３の実施形態〕
以下、第２実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の具体例について、図８に基づいて説明する。
図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８（ａ）において、符号２１０は携帯電話本体を示し、符号２１１は前記の電気光学装置を用いた表示部を示している。
図８（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図８（ｂ）において、符号２２０は時計本体を示し、符号２２１は前記の電気光学装置を用いた表示部を示している。
図８は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８（ｃ）において、符号２３０は情報処理装置、符号２３１はキーボードなどの入力部、符号２３３は前記の電気光学装置を用いた表示部、符号２３２は情報処理装置本体を示している。
【００５０】図８（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、第２の実施形態の電気光学装置を用いた表示部を備えたもの、即ち、画素の発光特性及び寿命特性を向上させるという特徴を有するので、表示特性、信頼性が向上した電子機器となる。
これらの電子機器を製造するには、第２の実施形態の電気光学装置を、携帯電話、携帯型情報処理装置、腕時計型電子機器などの各種電子機器の表示部に組み込むことにより製造される。
【００５１】
以上、本発明の実施形態である膜形成方法、有機ＥＬ装置の製造方法、膜形成装置、電気光学装置、並びに電子機器について説明したが、本発明は、上記実施形態に制限されず、上記の本発明の開示内容に基づいて自由に変更が可能である。例えば、以下のような変形も考えられる。
【００５２】
（１）上記実施形態においては、基板上にインク組成物を塗布する装置として、インクジェット方式による塗布装置を採用したが、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、スクリーン印刷法やグラビア印刷法等の種々の印刷法のうち、いずれかの印刷法を用いた塗布装置でも好適に採用することが可能であり、特に、本発明においては、インクジェット方式以外では、グラビア印刷法による塗布装置を用いることが望ましい。これにより、インクジェット方式の塗布装置を採用した場合と同様に、本発明の照射工程によって、画素の発光特性及び寿命特性を向上させることが可能となる。
【００５３】
（２）上記実施形態においては、照射工程において、ＲＧＢの各発光層の有機材料成分を形成する置換基の赤外線振動波長にそれぞれ対応した吸収波長を有する３種類のバンドパスフィルターを順次使用する構成としたが、本発明は、これに限定するものではない。例えば、ＲＧＢの上記各置換基の３種の赤外線振動波長を透過させる１種類のバンドパスフィルターを採用することもできる。これによれば、１度のレーザー光の照射によって、ＲＧＢの各発光層に対して同時に熱処理を施すことができるので、バンドパスフィルターの交換時間、及び熱処理時間を短縮させることが可能となる。
【００５４】
（３）上記実施形態においては、本発明の膜形成方法及び膜形成装置にて形成する膜を、有機材料からなる発光層として説明したが、本発明は、これに限定するものではなく、例えば、固有の置換基等の結合部を有する有機材料で形成されるものであれば、発光層以外の機能層の形成にも好適に採用することができるのは勿論である。
【００５５】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を示す。本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。
【００５６】（第１の実施例）
第１の実施形態に示した膜形成方法によって形成した有機発光層と、従来の膜形成方法により形成した有機発光層とを、それぞれ備えた２種類の有機ＥＬ素子の寿命特性を比較した。
有機発光層は、ＲＧＢ各三色の発光層から構成されており、本実施例では、赤色発光層を形成する有機材料としては、［化１］に示す材料（Ｐｏｌｙ  （３−ａｌｋｙｌ）  ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ  （ＰＡＴ））を採用し、緑色発光層を形成する有機材料としては、［化２］に示す材料（ｐｏｌｙ  ［９，９’−ｄｉｈｅｘｙｌ−２，７−（２−ｃｙａｎｏｖｉｎｙｌｅｎｅ）ｆｌｕｏｒｅｎｙｌｅｎｅ］）を採用し、更に、青色発光層を形成する有機材料としては、［化３］に示す（Ｐｏｌｙ  （９−ｖｉｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）（ＰＶＫ））を採用する。
【００５７】
【化１】
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【００５８】
【化２】
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【００５９】
【化３】
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【００６０】
上記の各有機材料を含有した液状体を、インクジェット法により各発光層形成領域に吐出し、赤色、緑色、青色の各発光層を形成した。
次に、第１の実施形態に示したように、上記各発光層に対して最適な熱処理温度となるように、不活性ガス雰囲気中で照射処理を施した。具体的には、まず、青色発光層に、［化２］に示す有機材料を構成する置換基であるＣＮ（吸収（振動）波数帯：１０４０〜１２１０ｃｍ−１）に対応するレーザー光のみを透過させるバンドパスフィルターを介して、赤外線レーザーを照射した。この場合、照射時間は、５時間とし、赤外線温度計の計測による熱処理温度は、約１３０℃であった。次に、緑色発光層に、［化３］に示す有機材料を構成する置換基であるＮ（吸収波数帯：２２３０〜２２６０ｃｍ−１）に対応するレーザー光のみを透過させるバンドパスフィルターを介して、赤外線レーザーを照射した。この場合、照射時間は、３時間とし、赤外線温度計の計測による熱処理温度は、約１１０℃であった。更に、赤色発光層に、［化１］に示す有機材料を構成する置換基であるＳ（吸収波数帯：６００〜７４５ｃｍ−１）に対応するレーザー光のみを透過させるバンドパスフィルターを介して、赤外線レーザーを照射した。この場合、照射時間は、４時間とし、赤外線温度計の計測による熱処理温度は、約６０℃であった。このような方法で形成された有機発光層を採用して有機ＥＬ素子を形成した。
また、インクジェット法により、赤色、緑色、青色の各発光層を形成した後、従来のように、ホットプレート法により熱処理を行った有機発光層を採用した有機ＥＬ素子を形成した。この場合の熱処理時間は、１時間であり、熱処理温度は、約６０℃である。
上記の第１の実施形態で示した膜形成方法で形成した有機ＥＬ素子の各色の発光層における寿命特性は、従来の膜形成方法で形成した有機ＥＬ素子と比較すると、赤色発光層の半減寿命は、約１．５倍、緑色発光層の半減寿命は、約２．５倍、更に、青色発光層の半減寿命は、約５倍にそれぞれ向上した。
【００６１】
（第２の実施例）
第２の実施例では、第１の実施例と同様に、第１の実施形態に示した膜形成方法によって形成した有機発光層と、従来の膜形成方法により形成した有機発光層とを、それぞれ備えた２種類の有機ＥＬ素子の寿命特性を比較した。
但し、有機発光層を構成する有機材料は、第１の実施例と同一であるが、発光層の形成方法として、インクジェット法ではなく、グラビア印刷法を採用した。なお、照射工程は、全て第１の実施例と同一である。
この場合、第１の実施形態で示した膜形成方法で形成した有機ＥＬ素子の各色の発光層における寿命特性は、従来の膜形成方法で形成した有機ＥＬ素子と比較すると、赤色発光層の半減寿命は、約１．１倍、緑色発光層の半減寿命は、約１．８倍、更に、青色発光層の半減寿命は、約３倍にそれぞれ向上した。
【００６２】
（第３の実施例）
第３の実施例では、第１の実施例と同様に、第１の実施形態に示した膜形成方法によって形成した有機発光層と、従来の膜形成方法により形成した有機発光層とを、それぞれ備えた２種類の有機ＥＬ素子の寿命特性を比較した。
但し、有機発光層を構成する有機材料、及び発光層の形成方法は、それぞれ第１の実施例と同一であるが、照射工程は、不活性ガス雰囲気中ではなく、真空雰囲気中において実施した。
この場合、第１の実施形態で示した膜形成方法で形成した有機ＥＬ素子の各色の発光層における寿命特性は、従来の膜形成方法で形成した有機ＥＬ素子と比較すると、赤色発光層の半減寿命は、約１．１倍、緑色発光層の半減寿命は、約１．４倍、更に、青色発光層の半減寿命は、約１．９倍にそれぞれ向上した。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施形態に係る膜形成装置を示す概略図である。
【図２】インクジェット装置（塗布装置）のヘッドの概略図である。
【図３】照射装置の概略図である。
【図４】赤外吸収スペクトルとフィルターの透過特性との関係図である。
【図５】有機ＥＬ素子の形成時の一過程を示す概略図である。
【図６】第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置を示す模式図である。
【図７】図６の電気光学装置に係る機能層を示す概略断面図である。
【図８】第３の実施形態に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１・・・膜形成装置、５・・・有機発光層（発光層）、６・・・レーザー発振源（光源）、７・・・波長選択機構、８・・・赤外吸収スペクトル（吸収スペクトル）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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