(57)【要約】【課題】２種類のマスクを介して光を照射し、両マスクのパターンを被照射物の表面に結像させることを可能とし、線状に絞った光を走査する配向処理方法を用いて、画素分割法を適用した液晶素子を製造すること。【解決手段】光照射部１からの光は第１のマスクＭ１に照射され、第１のマスクＭ１に形成されたライン＆スペースのパターンが、投影レンズ３によってワークＷ上に形成された配向膜上に結像する。また、投影レンズ３から出射した光により、第２のマスクＭ２の画素分割パターンが上記配向膜上に投影され、該配向膜には、第２のマスクＭ２に形成されたパターンに対応した領域にのみ、第１のマスクＭ１のパターンが投影される。この状態で、マスクステージ移動機構２ａにより、第１のマスクステージ２を移動させ、第１のマスクＭ１を配向膜のプレチルトを発現させる方向に応じた方向に走査させる。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光を出射する光照射部と、
露光光が照射されるワークを載置するワークステージと、
上記光照射部と上記ワークステージの間に、
投影レンズと、第１のパターンが形成された第１のマスクと、第１のマスクを保持する第１のマスクステージと、第２のパターンが形成された第２のマスクと、第２のマスクを保持する第２のマスクステージとを設け、
上記光照射部から出射する露光光は、上記第１のマスクと第２のマスクとを介し、ワークに照射される
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
上記第１マスクステージには、第１のマスクを少なくとも一方向に移動させるための移動機構が設けられている
ことを特徴とする請求項１の露光装置。
【請求項３】
上記ワークに照射される露光光は偏光光である
ことを特徴とする請求項１または請求項２の露光装置。
【請求項４】
上記第２のマスクは、該マスクに形成されている第２のパターンが、投影レンズから出射する光により、ワーク上に解像度良く投影されるように、ワークに近接して設けられ、
上記第１のマスクは、該マスクに形成されている第１のパターンが、投影レンズと第２のマスクとを介してワーク上に結像するように、光照射部と投影レンズの間に設けられている
ことを特徴とする請求項１，２または請求項３の露光装置。
【請求項５】
上記第１のマスクは、該マスクに形成されている第１のパターンが、投影レンズから出射する光により、ワーク上に解像度良く投影されるように、ワークに近接して設けられ、
上記第２のマスクは、該マスクに形成されている第２のパターンが、投影レンズと第１のマスクとを介してワーク上に結像するように、光照射部と投影レンズの間に設けられている
ことを特徴とする請求項１，２または請求項３の露光装置。
【請求項６】
上記第１および第２のマスクは、それぞれに形成されている第１および第２のパターンが、ともに投影レンズを介してワーク上に結像するように、光照射部と投影レンズの間であって、上記第１および第２のマスクのパターン形成面が投影レンズの焦点深度内になるように設けられている
ことを特徴とする請求項１，２または請求項３の露光装置。
【請求項７】
液晶の画素を複教に分割し、該分割した画素の領城ごとに液品の配向方向を変える、画素分割法を適用した液晶素子の製造方法であって、
液晶素子の配向膜に偏光光を照射するに際し、第１のマスクを移動させながら、線状のパターンが形成された第１のマスクと、画素の分割に対応する部分に開口が設けられた第２のマスクとを通過した光を照射する
ことを特微とする液晶素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、２枚のマスクを用いて、それぞれのマスクに形成されたマスクパターンをワーク上に結像させ、露光を行なう露光装置およびこの露光装置を用いて、液晶素子の配向膜に偏光光を照射し、液晶の配向を制御するための液晶素子製造方法に関し、特に、画素分割法（マルチドメイン法）  を適用した液晶素子を製造するのに好適な露光装置およびこの露光装置を用いた液晶素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から液晶表示素子やオプティカルモジュレータを製造するため露光装置が用いられている。
以下では、パソコンやテレビの画面に用いられる液晶表示素子を製造するための偏光光を照射する露光装置を例にして説明するが、光通信に使われる上記オプティカルモジュレータ用の液晶素子を製造するための偏光光を照射する露光装置にも同様に適用することができる。
オプティカルモジュレータとは、光通信において光に変調をかけるための素子である。液晶素子に印加する電圧を変えると、該液晶素子を透過する光の量（即ち液晶の透過率）  が変化する。これを利用して通信用の光を振幅変調する。
ここでは、上記液晶表示素子、オプティカルモジュレータ用の液晶素子を合わせて液晶素子という。
【０００３】
液晶素子は、透明基板の表面に形成した配向膜に、液晶を所望の方向に配向させる処理（配向処理）  を施し、該透明基板を２枚、配向膜を内側にして、所定の間隔の隙間を保つように貼り合せ、該隙間に液晶を注入したものである。
上記配向膜の配向処理に関し、配向膜に所定の波長の偏光光を照射することにより配向を行なう、光配向と呼ばれる技術がある。
光配向を行なうための偏光光照射装置やプロセスに関して、いくつかの先行技術が示されている。例えば特許文献１には、液晶のプレチルト角の大きさと配向方向とを決定するために、偏光光を、配向膜に対して所定の方向から所定の負度で照射する装置が提案されている。
また、特許文献２には、照射光を光配向膜に対して斜めに入射することなくプレチルト角の大きさを制御する技術について記載されている。
この技術は、照射光を、ライン・アンド・スペース（以下Ｌ＆Ｓと略す）  のパターン形成したマスクにより線状に絞り、該マスクまたは配向膜を移動させることにより、照射位置を順次走査するというものである。プレチルト角は走査方向と逆方向に発現し、その大きさはマスクまたは光配向膜の走査速度に依存する。
上記技術は、上記特許文献２の他に、非特許文献１にも記載されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平９−１９７４０９号公報
【特許文献２】
特開２００２−８２３３６号公報
【非特許文献１】
Ｍａｓｙｕｋｉ  Ｋｉｍｕｒａ他７  ，”Ｐｈｏｔｏ−Ｒｕｂｂｉｎｇ：Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｔｏ  Ｉｎｄｕｃｅ  Ｄｕｒａｂｌｅ  Ｌｉｑｕｉｄ−Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｐｒｅｔｉｌｔ  Ａｎｇｌｅ  ｏｎ  Ｐｈｏｔｏ−Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｆｉｌｍｓ”，Ｊｐｎ．Ｊ．ＡＰＰＬ．Ｐｈｙｓ  ，ｖｏｌ  ４１（２００２）  ，Ｐａｒｔ２，Ｎｏ．１２Ａ，１，ｐｐ．Ｌ１３４５−Ｌ１３４７，  Ｄｅｃｅｍｂｅｒ  ２００２  ，Ｔｈｅ  Ｊａｐａｎ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ
【０００５】
ところで、液晶素子の１つの画素を２つもしくはそれ以上に分割し、分割した画素ごとに液晶の配向方向を変え、液晶素子の視野角を改善することが行われている。この方法は画素分割法、あるいはマルチドメイン法と呼ばれている。
画素分割法は、上記したオプティカルモジュレータ用の液晶素子にも適用が考えられている。その理由は、モノドメインの液晶素子を使ったオプティカルモジュレータを通過した光は、方向が限られた偏光光になるので、後に接続する機器は、すべて光の偏光方向を合わせる必要があり、その分工事が難しくなる。
しかし、画素分割法（マルチドメイン法）  を適用した液晶素子を使用すれば、通過後の光は偏光光ではあるが、その方向を分割した画素の数だけ増やすことができるので、方向性が緩和され、工事が容易になる。
光配向を上記画素分割法に適用する場合には、マスクを用いて画素の分割した一つの部分に紫外光を照射し、次にマスクを交換して、または、マスクをワークに対して水平に回転させて、分割した他の部分を、ワークから見て最初の照射方向とは異なった方向から照射する。場合によっては照射する角度を変える。
これを分割数だけ繰り返すことにより、分割画素毎の液晶の配向方向を変えることができる。この場合はマスクを介して所望の部分だけに正確に紫外光を照射する必要がある。そのためには、マスクパターンとワークの所望の紫外線照射領域とを位置合わせして、平行光を照射する必要がある。
【０００６】
図５に液晶素子の模式図を示す。
同図に示すように、液晶素子はＲ（赤）  Ｇ（緑）Ｂ（青）  に対応する３つの画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を一組として、基板上に多数設けられる。画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の大きさは、縦約１５０μｍ、横約５０〜１００μｍである。それぞれの画素の間にはブラックマトリックスと呼ばれる光を通さない領域（幅が例えば１０〜２０μｍ）が設けられ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）  駆動型の液晶パネルの場合は、各画素Ｐ１〜Ｐ３の一部には駆動用ＴＦＴ素子が設けられる。
画素分割法においては、図５のように１つの画素をさらに分割し、分割した領域ごとに液晶の配向方向（図中、画素Ｐ２に示した矢印参照）  を変える。分割した各領域の境界線上では、配向方向の擾乱により光が透過し画像に乱れが生じるので、１０〜２０μｍの幅のブラックマトリックスを設けてこれを防止する。該ブラックマトリックスは、幅が広くなると画素の開口率が小さくなり暗くなるので、狭ければ狭いほど良く、現在は５μｍが望まれている。
なお、図５では画素Ｐ２についてのみ分割した図を示すが、実際にはＰ１，Ｐ３全ての画素をＰ２と同様に分割する。
【０００７】
通常、光配向のための光照射処理は以下のようにして行なわれる。ここでは画素を第１〜第４の領域に４分割して光配向処理する場合を示す。ここでは、前記図５の画素Ｐ２において、例えば、右上の領域を第１の領域、右下の領域を第２の領域、左下の領域を第３の領域、左上の領域を第４の領域とする。
図６は、光配向のために使用されるマスクの一例を示す図である。
同図に示すように、マスクＭには分割した画素（図の点線で囲まれた領域が１画素に相当する）の第１の領域に対応する位置に開口部ＯＰが設けられ、位置合わせのためのアライメントマークＭＡＭが記されている。
同図に示すマスクＭを用い、以下のようにして光配向処理が行われる。
（１）  マスクＭを介してワークの第１の領域にマスクＭに対し、所定の入射角を持って、またマスクパターンのＸ方向に対して所定の照射角を持って光照射する。
（２）  次に、例えばワークを１８０°回転し、第１の領域と画素中心を中心として点対称の位置にある第３の領域を、所定の入射角と照射角をもって光照射する。
（３）  ついで、第１の領域とは異なる第２の領域に対応する開口部を持つマスクに交換して、第３の領域を所定の入射角と照射角をもって光照射する。
（４）  ワークを１８０°回転し、第２の領域と画素中心を中心として点対称の位置にある第４の領域を、所定の入射角と照射角をもって光照射する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
前記特許文献２に記載された配向処理方法は、照射光を配向膜に対して斜めに入射する必要がない。したがって、この方法を適用すれば、光配向用偏光光照射装置には、光照射部もしくは光配向膜を載置するワークステージを傾ける機構が不要である。その分、装置は構造が簡素になりコストも低下する。
なお、マスクステージまたはワークステージを所定の方向に移動する機構が必要になるが、これは従来の平面移動を行なうステージを適用することができるので、技術的またはコスト的にほとんど問題ない。
ところが、この配向処理方法に画素分割法を適用しようとすると、照射光を線状に絞るマスクと、画素を分割するマスクとが必要であり、両方のマスクを介して配向膜に光照射を行なわなければならない。
また、照射光を線状に絞るマスクはプレチルト角を発現させる方向に対応して走査しなければならないので、上記２種のマスクを１枚で兼用することはできない。しかも、いずれのマスクに形成されたパターンも、配向膜上に結像させなければならない。
しかし、２種類のマスクを介して光を照射し、両マスクのパターンを被照射物の表面に結像させるような光照射装置は今まで実現されていなかった。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の第１の目的は、２種類のマスクを介して光を照射し、両マスクのパターンを被照射物の表面に結像させることができる露光装置を提供することである。
本発明の第２の目的は、前記特許文献２に記載される線状に絞った光を走査する配向処理方法を用いて、前記画素分割法（マルチドメイン法）  により液晶素子を製造することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、例えば照射光を線状に絞るＬ＆Ｓパターンが形成されたマスクを第１のマスクとし、画素を分割して光照射を行なうためのパターンが形成されたマスクを第２のマスクとして、投影露光方式、あるいは、投影露光方式とプロキシミティ露光方式を組み合わせた方式を用い、この２種類のマスクを介して、被照射物の表面にマスクパターンを結像させて露光を行い、液晶素子の光配向等を行う。
すなわち、以下のようにして前記課題を解決する。
（１）光照射部と、ワークが載置されたワークステージの間に、投影レンズと、第１のパターンが形成された第１のマスクと、第１のマスクを保持する第１のマスクステージと、第２のパターンが形成された第２のマスクと、第２のマスクを保持する第２のマスクステージとを設け、上記光照射部から出射する露光光を、上記第１のマスクと第２のマスクとを介し、ワークに照射する。
（２）上記（１）において、第１のマスクを少なくとも一方向に移動させるための移動機構を第１マスクステージに設ける。
（３）上記（１）（２）において、ワークに照射される露光光を偏光光とする。
（４）上記（１）〜（３）において、第２のマスクに形成されている第２のパターンが投影レンズから出射する光により、ワーク上に解像度良く投影されるように、第２のマスクをワークに近接して設ける。
また、第１のマスクに形成されている第１のパターンが、投影レンズと第２のマスクとを介してワーク上に結像するように、第１のマスクを光照射部と投影レンズの間に設ける。
（５）上記（１）〜（３）において、第１のマスクに形成されている第１のパターンが、投影レンズから出射する光により、ワーク上に解像度良く投影されるように、第１のマスクをワークに近接して設ける。
また、第２のマスクに形成されている第２のパターンが、投影レンズと第１のマスクとを介してワーク上に結像するように、第２のマスクを光照射部と投影レンズの間に設ける。
（６）上記（１）〜（３）において、第１および第２のマスクに形成されている第１および第２のパターンが、ともに投影レンズを介してワーク上に結像するように、第１および第２のマスクを光照射部と投影レンズの間であって、上記第１および第２のマスクのパターン形成面が投影レンズの焦点深度内になるように設ける。
（７）第１のマスクを移動させながら、線状のパターンが形成された第１のマスクと、画素の分割に対応する部分に開口が設けられた第２のマスクとを通過した偏光光を液晶素子の配向膜に照射して液晶素子を製造する。
本発明においては、上記（１）〜（６）の構成としたので、２種類のマスクを介して光を照射し、両マスクのパターンを被照射物の表面に結像させることができ、前記特許文献２に記載される線状に絞った光を走査する配向処理方法を用いて、画素分割法（マルチドメイン法）  を適用した液晶素子を製造することが可能となる。
また、上記（７）のようにして液晶素子を製造すれば、前記特許文献２に記載される線状に絞った光を走査する配向処理方法を用いて、前記画素分割法（マルチドメイン法）  により液晶素子を製造することが可能となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下では、照射光を線状に絞るＬ＆Ｓパターンが形成されたマスクを第１のマスクとし、画素を分割して光照射を行なうためのパターン（以下画素分割パターンという）が形成されたマスクを第２のマスクとする。
（１）第１の実施例
図１は本発明の第１の実施例を示す図であり、本実施例は投影露光方式とプロキシミティ露光方式の組み合わせて、２種類のマスクパターンを被照射面に結像させるようにした実施例を示している。
図１において、光照射部１と投影レンズ３との間に第１のマスクステージ２が設けられ、第１のマスクステージ２には、Ｌ＆Ｓパターンが形成された第１のマスクＭ１が取り付けられる。第１のマスクステージ２はマスクステージ移動機構２ａにより、同図矢印の方向に走査される。光照射部１にはランプ１ａと集光鏡１ｂが設けられ、ランプ１ａが放出する露光光が集光鏡２ａで集光され、上記第１のマスクＭ１上に照射される。
図２は上記第１のマスクＭ１に形成されるＬ＆Ｓパターンの一例を示す図である。同図に示すように、第１のマスクＭ１には例えば約７μｍの間隔で線状に開口が設けられたＬ＆Ｓパターンが形成され、同図の矢印に示す方向にマスクＭ１が走査される。
【００１１】
図１に戻り、投影レンズ３とワークステージ５の間に、第２のマスクステージ４が設けられ、第２のマスクステージ４には、画素分割パターンが形成された第２のマスクＭ２が取り付けられる。
第２のマスクＭ２は前記図６で説明したものと同様のものであり、分割した画素の各領域に対応する位置に開口部が設けられている。
ワークステージ５には、例えば前記液晶素子基板のような配向膜を設けたワークＷが載置され、偏光素子６が投影レンズ３と第２のマスクステージ４の間に設けられる。
上記第１のマスクステージ２とワークステージ５の位置関係は、第１のマスクＭ１を第１のマスクステージ２に載置したとき、第１のマスクＭ１のＬ＆Ｓパターンが、ワークＷの配向膜の表面で結像するように定められる。また、第２のマスクＭ２には、平行光が照射されるように、投影レンズ３はテレセントリックであるものを使用する。
なお、偏光素子６を光照射部１の中に設け、光照射部１から偏光された光が出射されるようにしてもよい。上記偏光素子６としては、複数のガラス板を入射角がブリュースタ角になるよう平行に配したもの、あるいは、ビームスプリッタキューブ、ワーヤーグリッドを用いたもの等を使用することができる。
【００１２】
図１において、光照射部１からの光は第１のマスクＭ１に照射され、第１のマスクＭ１のＬ＆Ｓパターンが、投影レンズ３によってワークＷ上に形成された配向膜上に結像する。
また、投影レンズ３から出射した光は、第２のマスクＭ２に照射され、第２のマスクの画素分割パターンが、ワークＷ上に形成された配向膜上に投影される。
したがって、ワークＷ上の配向膜には、第２のマスクに形成されたパターンに対応した領域にのみ、第１のマスクＭ１のＬ＆Ｓパターンが投影される。
この状態で、第１のマスクステージ２に設けられたマスクステージ移動機構２ａにより、第１のマスクステージ２を移動させ、第１のマスクＭ１を配向膜のプレチルトを発現させる方向に応じた方向に走査させる。
これにより、画素の所望の領域のみ、所望の角度のプレチルトを発現させることができる。
続いて画素の別の領域に対して偏光光を照射する。その際には、第２のマスクＭ２を次に照射する領域に対応するパターンのものに変え、必要であれば、偏光素子６かワークＷを回転させることにより照射する光の偏光方向を変える。上記と同様に、第１のマスクＭ１を所定の方向に移動させ、光照射を行なう。
なお、詳細な手順は、前記従来技術において示したのと同様であり、斜めから照射するという手順が、本実施例では第１のマスクＭ１を走査するという手順に置き換えられる。
【００１３】
（２）第２の実施例
図３は本発明の第２の実施例を示す図である。本実施例は、前記第１の実施例と同様、投影露光方式とプロキシミティ露光方式の組み合わせた前記第１の実施例の変形例であり、第１の実施例に示した第１のマスクステージ２と第２のマスクステージ４の位置を入れ換えたものである。
本実施例では、図３に示すように、第１のマスクＭ１が載置される第１のマスクステージ２を投影レンズ３とワークステージ５との間に配置し、第２のマスクＭ２が載置される第２のマスクステージ４を光照射部１と投影レンズ３の間に設ける。また、第１のマスクステージ２に移動機構２ａを設け、光を照射しつつ第１のマスクＭ１を走査する。
露光の手順は、第１の実施例と同じであるが、本実施例では、第２のマスクＭ２の画素を分割するパターンが投影レンズ３により、ワークＷ上に形成された配向膜上に結像し、投影レンズ３からの光により、第１のマスクＭ１のＬ＆Ｓパターンが配向膜上に投影される。
【００１４】
本実施例の場合、第２のマスクＭ２に形成された画素分割パターンを投影レンズ３により縮小して、光配向膜上に投影することができる。したがって、液晶素子の画素が小さいものに対しても適用することができる。特に、オプティカルモジュレータ用の液晶素子は、画素の大きさが十数μｍ〜数十μｍと、パソコンやテレビのディスプレイに使用される画素（１５０μｍ〜３００μｍ）  よりも小さく、さらに小型化される傾向にある（数年以内に数μｍになるといわれている）  。
したがって、画素を分割するパターンを縮小して投影する本実施例の方式は、オプティカルモジュレータ用途の液晶素子製造用に適する。
【００１５】
（３）第３の実施例
図４は本発明の第３の実施例を示す図であり、本実施例は投影露光方式により２種類のマスクパターンを被照射面に結像させるようにした実施例を示している。
図４において、第１のマスクステージ２および第２のマスクステージ４が共に、光照射部１と投影レンズ３の間に設けられ、第１のマスクＭ１、第２のマスクＭ２が上記第１、第２のマスクステージ２，４に取り付けられる。
この場合、第１のマスクステージ２と第２のマスクステージ４の上下関係は、いずれが上でも良いが、ここでは、第１のマスクステージ２が上側に配置されてる場合について説明する。
上記第１のマスクステージ２と第２のマスクステージ４の位置関係は、第１のマスクＭ１のパターン形成面と、第２のマスクのパターン形成面との間隔ｄが、投影レンズ３の焦点深度以内になるように定められる。
第１のマスクが載置される第１のマスクステージ２に移動機構２ａが設けられ、前記したように、光照射部１から光を照射しながら、第１のマスクステージ２を移動させる。
その他の構成は、前記第１の実施例と同様であり、投影レンズ３とワークステージ５の間に、偏光素子６が設けられ、ワークステージ５には、例えば前記液晶素子基板のような配向膜を設けたワークＷが載置される。
【００１６】
図４において、第１のマスクＭ１のＬ＆Ｓパターン、第２のマスクＭ２の画素分割パターンは、ともに投影レンズによりワークＷ上に形成された配向膜上に投影され、２枚のマスクＭ１，Ｍ２の間隔が投影レンズの焦点深度以内であれば、配向膜上に結像する。
この状態で、第１のマスクステージ２に設けられたマスクステージ移動機構２ａにより、第１のマスクステージ２を移動させ、第１のマスクＭ１を配向膜のプレチルトを発現させる方向に応じた方向に走査させる。
これにより、画素の所望の領域のみ、所望の角度のプレチルトを発現させることができる。
続いて前記したように、画素の別の領域に対して偏光光を照射する。その際には、第２のマスクＭ２を次に照射する領域に対応するパターンのものに変え、必要であれば、偏光素子６か、ワークＷを回転させることにより照射する光の偏光方向を変える。上記と同様に、第１のマスクＭ１を所定の方向に移動させ、光照射を行なう。
【００１７】
本実施例の場合も、第２の実施例と同様、２つのマスクパターンを両方とも縮小投影することができ、小型の画素に対応できる。したがって、本実施例の方式は、オプティカルモジュレータ用途の液晶素子製造用に適する。
ただし、２枚のマスクＭ１，Ｍ２の間隔が投影レンズの焦点深度以下になるように設定しなければならないので、前記第１、第２の実施例に比べ装置の設計製造がやや難しくなる。
なお、投影露光を用いない方式は、要求される解像度を満足させることができないので採用できない。
例えば、第２のマスクを配向膜上に接触させて、その上に第１のマスクを配するコンタクト露光方式とプロキシミティ露光方式の組み合わせが考えられる。
しかし、マスクには厚みがあり、この場合、配向膜上に置いた第２のマスクの厚さ以下には、第１のマスクを配向膜に対して接近させることができない。
また、プロキシミティ露光の場合、今回のような数μｍの解像力を得るための、マスクとワークの間隔は例えば３０μｍといった数十μｍのオーダーであり、そこまで第２のマスクの厚さを薄くすることは、事実上無理である。
【００１８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明においては、以下の効果を得ることができる。
（１）光照射部と、ワークステージの間に、投影レンズと、第１のパターンが形成された第１のマスクと、第２のパターンが形成された第２のマスクとを設け、上記光照射部から出射する露光光を、上記第１のマスクと第２のマスクとを介し、ワーク上に設けられた配向膜に照射するようにしたので、２種類のマスクのパターンを被照射物の表面に結像させることができ、前記特許文献２に記載される線状に絞った光を走査する配向処理方法を用いて、画素分割法（マルチドメイン法）  を適用した液晶素子を製造することが可能となる。
（２）上記において、第２のマスクをワークに近接して設け、第１のマスクを光照射部と投影レンズの間に設けることにより、第１のマスクに形成されたパターンを縮小して投影することができる。このため、上記第１のマスクを画素分割パターンとすれば、画素分割パターンを縮小してワーク上に投影することができる。このため、例えばオプティカルモジュレータ等の小型の液晶素子を製造することが可能となる。
（３）上記において、第１および第２のマスクを光照射部と投影レンズの間であって、上記第１および第２のマスクのパターン形成面が投影レンズの焦点深度内になるように設けることにより、第１、第２のパターンを縮小してワーク上に投影することができる。このため、上記（２）と同様、例えばオプティカルモジュレータ等の小型の液晶素子を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例を示す図である。
【図２】マスクＭ１に形成されるＬ＆Ｓパターンの一例を示す図である。
【図３】本発明の第２の実施例を示す図である。
【図４】本発明の第３の実施例を示す図である。
【図５】液晶素子の模式図である。
【図６】画素分割パターンが形成されたマスクの一例を示す図である。
【符号の説明】
１    光照射部
２    第１のマスクステージ
２ａ  マスクステージ移動機構
３    投影レンズ
５    ワークステージ
４    第２のマスクステージ
６    偏光素子
Ｍ２  第２のマスク
Ｍ１  第１のマスク
Ｗ    ワーク
【図１】
2004287336.tif 000003
【図２】
2004287336.tif 000004
【図３】
2004287336.tif 000005
【図４】
2004287336.tif 000006
【図５】
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【図６】
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