(57)【要約】【課題】酸素ガス、水蒸気等に対する高ガスバリア性を有し、例えば、食品、医薬品および工業用品等の種々の物品を包装するために有用な高ガスバリア性フィルムを得る。【解決手段】高分子フィルム上に無機物層を形成したフィルムであって、ＡＴＲ法で測定したＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値が１０以下、かつ、Ｐ（ＬＯ）のピーク位置が９２５ｃｍ−１以上であることを特徴とする高ガスバリア性フィルムおよびその製造方法。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子フィルム上に無機物層を形成したフィルムであって、ＡＴＲ法で測定したＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値が１０以下、かつ、Ｐ（ＬＯ）のピーク位置が９２５ｃｍ−１以上であることを特徴とする高ガスバリア性フィルム。
【請求項２】
高分子フィルムがポリエステルフィルムである請求項１記載の高ガスバリア性フィルム。
【請求項３】
無機物層が酸化アルミニウムからなる請求項１または２に記載の高ガスバリア性フィルム。
【請求項４】
高分子フィルムを巻きだしたのち、次いで金属を蒸気化させ、フィルム表面上に無機物層を形成後、１２５〜２２０℃、５分〜３０分の熱処理を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の高ガスバリア性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高分子フィルム上に無機物層を有する無機物蒸着フィルムおよびその製造方法に関し、特に、高分子フィルム上にアルミニウム酸化物の層を有するアルミニウム蒸着フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、プラスチック基材の表面に、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、等の無機物（無機酸化物を含む）を使用し、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ法）、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（ＣＶＤ法）等を利用して、その無機物の蒸着膜を形成してなるガスバリア性フィルムは、水蒸気や酸素などの各種ガスの遮断を必要とする食品、医薬品および工業用品等の種々の物品を包装するために用いられている。例えば、蒸着膜の緻密性の指標の一つであるＡｌＯｘの伸縮振動のＬＯ（縦光学モード）のピーク（Ｐ（ＬＯ））のピーク位置が９２０ｃｍ−１以上であるフィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
包装用蒸着フィルムのガスバリア性向上のため、蒸着膜形成後の蒸着膜表面を処理する種々の方法が用いられている。例えば、酸化アルミニウム薄膜を設けたあと、水分を吸着させ、熱処理する方法（例えば、特許文献２参照）あるいは、蒸着面に酸素ガス、または、酸素ガスとアルゴンとの混合ガスによるプラズマ処理を行う方法（例えば、特許文献３参照）などが挙げられる。また、無機蒸着膜の表面にコーティングを行い加熱処理する方法などが提案されている（例えば、特許文献４参照）。その他に、形成後の無機物をアニーリング処理を行う方法（例えば、特許文献５参照）や真空チャンバー内に水蒸気を導入する方法（例えば、特許文献６参照）、巻き取り時に水蒸気を導入する方法も提案されている（例えば、特許文献７参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特願２００２−３２３６８９号
【０００５】
【特許文献２】
特開昭６３−２２３１６３号公報
【０００６】
【特許文献３】
特開平１１−１７０４２７号公報
【０００７】
【特許文献４】
特開平１１−１５１７７４号公報
【０００８】
【特許文献５】
特願２００２−１８７２３１号
【０００９】
【特許文献６】
特開２０００−１９２２３７号公報
【００１０】
【特許文献７】
特願２００２−３１８３８号
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のような無機蒸着膜の表面の処理、アニーリング処理、真空チャンバー内に水蒸気を導入する処理、巻き取り時に水蒸気を導入する処理を行う、あるいはＰ（ＬＯ）の値を９２０ｃｍ−１以上にして蒸着膜の緻密性を向上させたとしても、高バリア性を有するガスバリア性フィルムを安定して製造することは困難であるというのが実状であった。また、その製造工程が増えることから、その製造コストが高くなるという問題点があった。
【００１２】
また、アルミニウム等の無機物を蒸着したこれら従来の蒸着膜は、蒸着直後の膜は完全に酸化されているわけではなく、空気中の酸素あるいは水分などにより無機物の酸化および水和が進むことで、蒸着膜の緻密性が向上して初めて、蒸着フィルムのガスバリア性が向上していたが、この方法だけではガスバリア性向上に限界があった。さらに、蒸着後に、蒸着層を形成する無機物の酸化および水和を進めるため、エージング工程などの後工程が必要であるという問題点があった。
【００１３】
これらの状況に鑑み、本発明の目的は、高度なガスバリア性を有する簡便かつ安定して高ガスバリア性フィルムを製造する方法を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の高ガスバリア性フィルムは主として次の構成を有する。すなわち、
高分子フィルム上に無機物を形成したフィルムであって、ＡＴＲ法で測定したＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値が１０以下、かつ、Ｐ（ＬＯ）のピーク位置が９２５ｃｍ−１以上であることを特徴とする高ガスバリア性フィルムである。
【００１５】
上記課題を解決するため、本発明の高ガスバリア性フィルムの製造方法は主として次の構成を有する。すなわち、高分子フィルムを巻きだしたのち、次いで、金属を蒸気化させ、フィルム表面上に無機物層を形成後、１２５〜２２０℃、５〜３０分の熱処理を行うことを特徴とする高ガスバリア性フィルムの製造方法である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
【００１７】
本発明の無機物層に使用する無機物としては特に限定されないが、例えば、珪素、マグネシウム、亜鉛、アルミニウム、それらの酸化物およびこれらの混合物が用いられる。混合物としては、積層されていてもよいし、混合していても良い。好ましくは酸化物であり、特にアルミニウム酸化物が好ましく用いられる。
【００１８】
高分子フィルム上に無機物層を形成する方法は特に限定されず、例えば、アルミニウム等の金属等を使用し、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって、形成することができる。好ましくは真空蒸着法である。上記において、蒸着原料の加熱方式としては、例えば、エレクトロンビーム（ＥＢ）方式、高周波誘導加熱方式、抵抗加熱方式等が用いられる。
【００１９】
本発明の高ガスバリア性フィルムは、ＡＴＲ法で測定したＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値が１０以下、かつ、ＡＴＲ法で測定したＰ（ＬＯ）のピーク位置が９２５ｃｍ−１以上であることが必要である。
【００２０】
本発明において、Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）のピーク位置の値はアプライド  サーフェス  サイエンス（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）ｖｏｌ．１７２（２００１）第３０１−３１１頁、「チャートで見るＦＴ−ＩＲ」（講談社サイエンティフィック第１１−１７頁、第３６−３７頁、第１１４−１１７頁）記載の方法にしたがって測定することが可能である。すなわち、高分子フィルムおよび無機物層全体のＡＴＲスペクトルを測定後、高分子フィルムの吸収を差し引き、ピーク分割を行う。３４００ｃｍ−１付近のピークはＯＨの伸縮振動による吸収であり、その積分強度をＩ（ＯＨ）とする。また、例えば、高分子フィルムがポリエチレンテレフタレートの場合、Ｉ（ＢＡＳＥ）は１５０５ｃｍ−１のベンゼン環の面内骨格振動（炭素間の伸縮振動）の積分強度となる。Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値は、無機物層内の水分量を定量的に表し、その値が低いほど、無機物層内の水分量が少なくなり、無機物層が疎水化し、緻密化するので、水蒸気が透過しにくくなり、特に蒸着フィルムの水蒸気透過性を抑えることができ、高ガスバリア性が達成できる。
【００２１】
また、ＡｌＯｘの伸縮振動のＬＯ（縦光学モード）のピークをＰ（ＬＯ）とする。Ｐ（ＬＯ）のピーク位置が高波数になると蒸着膜表面が微結晶化し、緻密性が向上して酸素、水蒸気ガスの透過ボリュームが低下し、酸素ガス、水蒸気ガスが透過しにくくなって高ガスバリア性が達成できる。
【００２２】
本発明の高ガスバリア性フィルムは、ガスバリア性向上の観点から、ＡＴＲ法で測定したＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値が１０以下、かつ、ＡＴＲ法で測定したＰ（ＬＯ）のピーク位置が９２５ｃｍ−１以上であることが必要である。Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値は、無機物層を疎水化し水蒸気透過を抑える観点から、好ましくは８以下、さらに好ましくは５以下である。また、Ｐ（ＬＯ）のピーク位置は、無機物層を緻密化し酸素、水蒸気透過を抑える観点から、好ましくは９２８ｃｍ−１以上、より好ましくは９３０ｃｍ−１以上である。ＡＴＲ法で測定したＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値が１０を超えると、無機物層内の水分量が増え、無機物層が疎水化しないので、水蒸気が透過を抑えることが出来ず高ガスバリア性が達成できない。また、ＡＴＲ法で測定したＰ（ＬＯ）のピーク位置が９２５ｃｍ−１より低いと、無機物層の結晶化が進まず、酸素、水蒸気の透過を抑えることが出来ず高ガスバリア性が達成できない。
【００２３】
なお、Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値の下限値については、本発明の効果を奏する限りにおいて、特に限定されないが、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．５以上、さらに好ましくは１以上である。Ｐ（ＬＯ）のピーク位置の上限については、本発明の効果を奏する限りにおいて、特に限定されないが、９４０ｃｍ−１以下であることが望ましい。
【００２４】
Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）の値を上記範囲内にする方法としては、高分子フィルムを巻きだしたのち、次いで金属を蒸気化させ、フィルム表面上に無機物層を形成後、一定条件下で加熱処理を行う方法が挙げられる。高分子フィルムを巻きだしてフィルム表面上に無機物層を形成後に加熱処理が行われないと、Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）のピーク位置の値を上記範囲内にすることは困難となる場合がある。
【００２５】
高分子フィルム上に形成する無機物層の厚みは素材により一概に言えないが、例えば、酸化アルミニウム等の蒸着膜の場合は、０．００２〜０．３μｍが好ましく、より好ましくは、０．００３〜０．２μｍ、さらに好ましくは０．００５〜０．０１μｍがよい。酸化アルミニウム蒸着膜の膜厚がかかる好ましい範囲であると、その膜の柔軟性を保てるので、膜にクラック等が発生しにくくなり、酸素ガス、水蒸気ガスによる膜の修復が容易となる。また、ピンホール等の影響が小さく、酸素分子の透過を酸化アルミ蒸着膜によって十分に阻止でき高バリア性を維持できるので好ましい。
【００２６】
本発明に使用する高分子フィルムとしては、有機高分子化合物からなるフィルムであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートあるいはポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の各種ポリマからなるフィルムを使用することができる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルムである。高分子フィルムを構成するポリマは、ホモポリマー、コポリマーのいずれでもよいし、また、単独またはブレンドして用いることができる。
【００２７】
また、高分子フィルムとして、単層フィルム、あるいは、２層以上の共押し出し法で製膜したフィルムや、一軸方向あるいは二軸方向に延伸されたフィルム等を使用することができる。
【００２８】
本発明に使用する高分子フィルムの厚さは特に限定されないが、無機物を形成する時の安定性等から、５〜１００μｍが好ましく、より好ましくは、７〜６０μｍである。
【００２９】
本発明に使用する高分子フィルムには、必要に応じて、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、充填剤等の添加剤を、本発明の効果を損なわない範囲内で添加したフィルム等も用いることができる。
【００３０】
本発明の高ガスバリア性フィルムは、包装材料や包装体の一部として用いる観点からは、酸素透過率は１．２ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ以下であることが好ましい。より好ましくは１．０ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ以下、更に好ましくは０．９ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ以下であり、かつ、水蒸気透過率は、０．６５ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５５ｇ／ｍ２・２４ｈ以下、更に好ましくは０．３ｇ／ｍ２・２４ｈである。
【００３１】
次に、無機物層として酸化アルミニウム蒸着膜を形成する場合を例にとって、本発明の高ガスバリア性フィルムを製造する方法の一例を具体的に説明する。
【００３２】
巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、高分子フィルムを基材とし、真空蒸着装置の巻き取り室から、高分子フィルムを巻きだし、ガイドロールを介して、クーリングドラムに導入する。アルミニウムワイヤーをボートに導入して、抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化し、酸素を導入することで、導入された高分子フィルムの片面に酸化アルミニウムの蒸着膜を形成する。その後、ガイドロールを介して、巻き取りロールに巻き取る。
【００３３】
このようにして、得られた蒸着フィルムを取り出し、１２５〜２２０℃、５〜３０分に設定した熱風オーブン内で熱処理を行う。熱処理を行う場合は、ロール状でも良いし、シート状でも良い。また、巻き取りロールを取り出す前に蒸着装置内で行っても良い。
【００３４】
高分子フィルム上に無機物層を形成する方法は特に限定されず、例えば、アルミニウム等の金属等を使用し、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって、形成される。このようにして形成された膜中には蒸着中あるいは蒸着直後から膜中に水分が取り込まれ、ガスバリア性が向上するが、ガス透過が完全には阻止できず、水分が取り込まれることによるガスバリア性には限界がある。そのため、本発明では、吸着水を脱離し、緻密化と疎水化を行うことで高ガスバリア性が達成できる。処理温度は１２５〜２２０℃、好ましくは１３０〜２１０℃、より好ましくは１４０〜２００℃で５分以上３０分未満、好ましくは、１０分以上３０分未満、より好ましくは１５分以上３０分未満の処理を行うことにより高いバリア性を得ることができる。吸着水の脱離温度は１２３℃程度であり、処理温度が１２５℃より低いと膜中の水分の脱離十分に行われず、また、処理温度が高いと高分子フィルムが構造変化を起こし、無機物層を保持できなくなため、高いバリア性を得にくくなる場合がある。処理を行うフィルムとしては、上述の方法で高分子フィルム上に無機物を形成したフィルムであれば特に限定されないが、Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）の値が１０より大きいものが好ましく、より好ましくは１１以上、さらに好ましくは１２以上が良い。Ｐ（ＬＯ）のピーク位置は９２５ｃｍ−１未満であることであることが好ましく、より好ましくは、９２２ｃｍ−１未満、さらに好ましくは９２０ｃｍ−１未満である。
【００３５】
本発明の方法で製造されたフィルムは、例えば、他の樹脂フィルム、紙基材、金属素材、合成紙、セロハン、その他等の包装用容器を構成する包装用素材等と任意に組み合わせ、ラミネートして種々の積層体を製造することもできる。これらの積層体は、例えば、種々の物品を包装するのに適した包装材料として用いることができる。
【００３６】
上記した他の樹脂フィルムとしては、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等、いずれのものでも使用することができる。また、その厚さは、数μｍから数１００μｍの範囲から選択して使用することができる。また、そのフィルム性状は、押し出し成膜、インフレーション成膜、コーティング膜等のいずれの性状でもよい。使用する樹脂素材は特に限定されず、具体的な素材としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンプロピレン共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、エチレンアクリル酸またはメタクリル酸共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、メチルペンテンポリマー、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリルスチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリルブタジェンスチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロース、等から任意に選択して使用することができる。
【００３７】
また、上記した紙基材としては、坪量８０〜６００ｇ／ｍ２のものが好ましく、より好ましくは、坪量１０〜４５０ｇ／ｍ２  のものを使用することが望ましい。具体的には、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロール紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材、その他等を使用することができる。
【００３８】
また、上述の金属素材としては、例えば、アルミニウム箔、あるいは、アルミニウム蒸着膜を有する樹脂フィルム等を使用することができる。
【００３９】
本発明の製造方法で得られる高ガスバリア性フィルムを用いて積層体を得る方法は特に限定されないが、例えば、以下の方法で好ましく製造される。
【００４０】
本発明の製造方法で得られたフィルムの表面に、必要に応じて、コロナ処理、オゾン処理、フレーム処理等の前処理を施した上で、ポリエステル系、イソシアネート系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系等のアンカーコーティング剤、あるいはポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロース系、その他のラミネート用接着剤等を使用して、公知の包装材料をラミネートする方法等により製造することができる。ここで、ラミネート方法は特に限定されず、例えば、ウエットラミネーション法、ドライラミネーション法、無溶剤型ドライラミネーション法、押し出しラミネーション法、Ｔダイ押し出し成形法、共押し出しラミネーション法、インフレーション法、共押し出しインフレーション法、その他の方法等を使用することができる。
【００４１】
次に、積層体を使用して、製袋ないし製函する方法について説明する。例えば、包装用容器として高分子フィルム等からなる軟包装袋を形成する場合、上記のような方法で製造した積層体を使用し、その内層のヒートシール性樹脂層の面を対向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わせ、更にその周辺端部をヒートシールしてシール部を設けて袋体を構成することができる。また、その製袋方法としては、積層体を、その内層の面を対向させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型（ピローシール型）、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、その他等のヒートシール形態によりヒートシールして、種々の形態の包装用容器を製造することもできる。その他、例えば、自立性包装袋（スタンディングパウチ）等も製造することが可能であり、上記の積層体を使用してチューブ容器等を製造することもできる。ここで、ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール等の公知の方法で行うことができる。なお、上記のような包装用容器には、例えば、ワンピースタイプ、ツウーピースタイプ、その他の注出口、あるいは開閉用ジッパー等を任意に取り付けることができる。
【００４２】
また、包装用容器として、紙基材を含む液体充填用紙容器を製造する場合、例えば、積層体として、本発明の製造方法で得られた高ガスバリア性フィルムに紙基材を積層した積層体を製造し、該積層体から所望の紙容器を製造するブランク板を製造後、このブランク板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲーベルトップタイプの液体用紙容器等を製造することができる。また、その容器の形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。
【００４３】
本発明の製造方法で得られた高ガスバリア性フィルムを使用した容器は、酸素ガス等に対するガスバリア性、耐衝撃性等に優れ、更に、ラミネート加工、印刷加工、製袋ないし製函加工等の後加工適性に優れ、また、バリア性膜としての無機物の剥離を防止し、かつ、その熱的クラックの発生を阻止し、その劣化を防止して、バリア性膜として優れた耐性を発揮し、例えば、食品、医薬品、洗剤、シャンプー、オイル、歯磨き、接着剤、粘着剤等の化学品ないし化粧品、その他等の種々の物品の包装適性、保存適性等に優れているものである。
【００４４】
【実施例】
次に、実施例を挙げて、具体的に本発明を説明する。なお、製造した酸化アルミニウム蒸着フィルムの特性は下記の条件下で測定した。
（ＡＴＲでの測定方法）アプライド  サーフェス  サイエンス（Ａｐｐｌｉｅｄ  ＳｕｒｆａｃｅＳｃｉｅｎｃｅ）ｖｏｌ．１７２（２００１）第３０１−３１１頁、「チャートで見るＦＴ−ＩＲ」（講談社サイエンティフィック第１１−１７頁、第３６−３７頁、第１１４−１１７頁）記載の方法にしたがって測定した。測定条件は以下の通りである。
【００４５】
装置：ＩＦＳ−１２０ＨＲ（Ｂｒｕｋｅｒ製ＦＴ−ＩＲ）光源：グローバー、検出器：ＭＣＴ（ＨｇＣｄＴｅ）、ビームスプリッター：Ｇｅ／ＫＢｒ、分解能：４ｃｍ−１、ゼロフィリング：２倍、積算回数：５１２回、参照試料：Ｇｅプリズム、測定方法  全反射吸収法（ＡＴＲ（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ  Ｔｏｔａｌ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ））、付属装置：多重反射型ＡＴＲ測定用付属装置（Ｗｉｌｋｅｓ製）、ＩＲＥ：Ｇｅプリズム、入射角：４５゜、偏光：ｐ。
（酸素透過率測定）
温度２３℃、湿度０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の酸素透過率測定装置（機種名、“オキシトラン”（ＯＸＴＲＡＮ  ２／２０））を使用して測定した。
（水蒸気透過率測定）
温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の水蒸気透過率透過率測定装置（機種名、“パ−マトラン”Ｗ３／３１）を使用して測定した。
（熱処理装置）
所定温度でタバイエスペック株式会社製のＴＥＭＰＥＲＴＵＲＥ  ＣＨＡＭＢＥＲ（ＭＯＤＥＬ  ＧＰＨＨ−２００）を使用して熱処理を行った。
（実施例１）
図１に示す装置構造の巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製ルミラー１２Ｔ７０５）を基材とし、その片面に、アルミニウムを蒸着源に用いて抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化し、膜厚１００オングストロームの酸化アルミニウムの蒸着膜を製造した。
【００４６】
図１は本発明の高ガスバリア性フィルムを製造方法を実施するための巻き取り式真空蒸着装置の一例の概略を模式的に示す装置構成図である。まず、巻き取り式真空蒸着装置１の巻き取り室２の中で、巻き出しロール６に高分子フィルム１５をセットし、巻出し、ガイドロール８、９、１０を介して、クーリングドラム１６に通す。ボート５上にはアルミニウム等のワイヤーが導入されていて、ボート５上からアルミニウムが蒸発され、酸素導入装置１４から酸素を導入するので、このクーリングドラム１６上の位置において高分子フィルム１５の表面上に酸化アルミニウム蒸着膜が形成される。その後、このアルミニウム蒸着膜が形成された高分子フィルム１５を、ガイドロール１３、１２、１１を介して、巻き取りロール７に巻き取る。
【００４７】
得られた蒸着フィルムをシート状で熱風オーブン内で、２００℃、１５分で処理し、Ｉ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）、酸素透過率、水蒸気透過率を測定したところ、それぞれ、３．６０、９３１ｃｍ−２、０．９ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ、０．２７ｇ／ｍ２・２４ｈであった。結果を表１に示す。
【００４８】
【表１】
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【００４９】
（実施例２）
得られた蒸着フィルムを２１０℃、２８分で処理した以外は、実施例１と同様にして酸化アルミニウム蒸着フィルムを作製した。
【００５０】
得られた蒸着フィルムのＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）、酸素透過率、水蒸気透過率を測定したところ、それぞれ、１．５２、９３６ｃｍ−２、０．７ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ、０．１９ｇ／ｍ２・２４ｈであった。結果を表１に併せて示す。
（実施例３）
得られた蒸着フィルムを１３０℃、２０分で処理した以外は、実施例１と同様にして酸化アルミニウム蒸着フィルムを作製した。
【００５１】
得られた蒸着フィルムのＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）、酸素透過率、水蒸気透過率を測定したところ、それぞれ、８．３８、９２６ｃｍ−１、１．０ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ、０．５５ｇ／ｍ２・２４ｈであった。結果を表１に併せて示す。
（比較例１）
得られた蒸着フィルムを熱処理を行わなかった以外は、実施例１と同様にして酸化アルミニウム蒸着フィルムを作製した。
【００５２】
得られた蒸着フィルムのＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）、酸素透過率、水蒸気透過率を測定したところ、それぞれ、１０．６、９１７ｃｍ−１、１．４ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ、０．７０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。結果を表１に併せて示す。
（比較例２）
得られた蒸着フィルムを２５０℃、１２０分で処理した以外は、実施例１と同様にして酸化アルミニウム蒸着フィルムを作製した。
【００５３】
得られた蒸着フィルムのＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）、酸素透過率、水蒸気透過率を測定したところ、それぞれ、１２．５、９１５ｃｍ−１、１．７ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ、１．０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。結果を表１に併せて示す。
（比較例３）
得られた蒸着フィルムを１２０℃、２０分で処理した以外は、実施例１と同様にして酸化アルミニウム蒸着フィルムを作製した。
【００５４】
得られた蒸着フィルムのＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）、酸素透過率、水蒸気透過率を測定したところ、それぞれ、１０．２、９１８ｃｍ−１、１．４ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ、０．６９ｇ／ｍ２・２４ｈであった。結果を表１に併せて示す。
（比較例４）
図２に示す装置構造の巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製ルミラー１２Ｔ７０５）を基材とし、その片面に、アルミニウムを蒸着源に用いて抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化し、膜厚１００オングストロームの酸化アルミニウムの蒸着膜を製造した。その際、プラズマガス発生装置に酸素ガス２８ｃｃ／（分・ｃｍフィルム幅）および水蒸気ガス６ｃｃ／（分・ｃｍフィルム幅）を供給し、投入電力１００Ｗ／ｃｍで処理を行った。プラズマガスの処理電源にＡＧＩ−２０（春日電機株式会社製）を用いた。
【００５５】
得られた蒸着フィルムのＩ（ＯＨ）／Ｉ（ＢＡＳＥ）、Ｐ（ＬＯ）、酸素透過率、水蒸気透過率を測定したところ、それぞれ、１０．１、９２０ｃｍ−１、１．０ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ、０．９７ｇ／ｍ２・２４ｈであった。結果を表１に併せて示す。
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、酸素ガス、水蒸気等に対する高ガスバリア性を有し、例えば、食品、医薬品および工業用品等の種々の物品を包装するために有用な高ガスバリア性フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の高ガスバリア性フィルム製造方法を実施するための巻き取り式真空蒸着装置の一例の概略を模式的に示す装置構成図。
【符号の説明】
１：巻き取り式真空蒸着装置
２：巻き取り室
３：蒸着室
４：隔壁
５：ボート
６：巻き出しロール
７：巻き取りロール
８、９、１０：巻き出し側のガイドロール
１１、１２、１３：巻き取り側のガイドロール
１４：酸素導入装置
１５：高分子フィルム（基材フィルム）
１６：クーリングドラム
【図２】真空蒸着装置の一例の概略を模式的に示す装置構成図。
【符号の説明】
１：巻き取り式真空蒸着装置
２：巻き取り室
３：蒸着室
４：隔壁
５：ボート
６：巻き出しロール
７：巻き取りロール
８、９、１０：巻き出し側のガイドロール
１１、１２、１３：巻き取り側のガイドロール
１４：プラズマ発生装置
１５：高分子フィルム（基材フィルム）
１６：クーリングドラム
【図１】
2004209903.tif 000004
【図２】
2004209903.tif 000005