(57)【要約】【課題】塗布開始時及びウェブの接合部等の非定常部における製品ロスの量を抑制し、良好な塗膜を形成する。【解決手段】連続走行するウェブ１３に湿潤膜厚が２５μｍ以下となるように塗布を行う。移動台１６の上の架台１７にダイ１１をのせ、ダイ１１の移動速度は３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とする。塗布を開始する前に、減圧ブロア３６を、定常部の塗布における最適減圧度の稼働条件で予め稼働させておく。ウェブ１３の接合部が塗布位置を通過する際には、ダイ１１を退避位置に移動させ、通過後に塗布位置に戻す。この移動時においても、減圧ブロア３６を、定常部塗布の減圧度とする稼働条件のままとする。接合部が塗布位置を通過する際には、塗布位置と退避位置の距離Ｌ１は５００μｍ以上２０ｍｍ以下とする。これにより非定常部におけるロス量を抑制し、良好な塗膜を得ることができる。【選択図】　　　図２
2004141806.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブにダイを近接させた塗布位置で減圧度設定手段による減圧下で前記ウェブに前記ダイから塗布液を塗布する塗布方法において、
前記ダイはダイ移動手段により前記塗布位置と前記ウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、前記減圧度設定手段を塗布開始前に、定常部の塗布に必要な減圧度とする設定条件で稼働させてから、前記ダイを前記塗布位置に移動させ、
かつ、前記退避位置から前記塗布位置への前記ダイの移動速度を３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とすることを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
ウェブにダイを近接させた塗布位置で減圧度設定手段よる減圧下で、長手方向に接合された接合部を有する前記ウェブに前記塗布液を塗布する塗布方法において、
前記ダイはダイ移動手段により前記塗布位置と前記ウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、前記接合部が前記塗布位置を通過するとき、前記ダイを前記退避位置に移動させ、前記接合部が前記塗布位置を通過した後、前記ダイを前記塗布位置に移動させ、この移動中における前記減圧度設定手段を、定常部の塗布に必要な減圧度とする設定条件で稼働させた状態とし、
かつ、前記退避位置から前記塗布位置への前記ダイの移動速度を３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とすることを特徴とする塗布方法。
【請求項３】
前記退避位置と前記塗布位置との間の距離を５００μｍ以上２０ｍｍ以下とすることを特徴とする請求項２記載の塗布方法。
【請求項４】
定常部の減圧度を１．０×１０３　Ｐａ以上３．０×１０３　Ｐａ以下とすることを特徴とする請求項１ないし３いずれかひとつ記載の塗布方法。
【請求項５】
前記塗布位置における前記ダイとウェブとの隙間を３０μｍ以上１５０μｍ以下とすることを特徴とする請求項１ないし４いずれかひとつ記載の塗布方法。
【請求項６】
塗布位置を減圧チャンバにより減圧する塗布方法において、前記減圧チャンバ内の空気を前記減圧度設定手段により吸引する吸引口に遮蔽手段を設けて、前記吸引口からの塗布液の流出を阻止することを特徴とする請求項１ないし５いずれかひとつ記載の塗布方法。
【請求項７】
前記ウェブに塗布液を塗布して形成される塗膜の湿潤膜厚が２５μｍ以下となるように塗布することを特徴とする請求項１ないし６いずれかひとつ記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、塗布方法に関するものであり、特に写真感光乳化剤、磁性液、反射防止や防眩性などを付与する液、視野角拡大効果を付与する液、カラーフィルター用顔料液、表面保護液等の塗布液で、特に好ましくは湿潤膜厚が２５μｍ以下の薄層をなす塗布液を、プラスチックフィルムや紙、金属箔等の可撓性支持体（以下、ウェブと称する）に塗布して、高機能性積層膜を製造するための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
前記したような高機能性積層膜は、一般にはダイを用いるコーターにより塗布液をウェブ上に塗布させ、積層させて製造されている。近年は高機能性積層膜の製造において、所望の機能を発現させるために、従来よりも薄い湿潤膜厚である２５μｍ以下の領域の塗布方法に対する要求が高まっている。このような高機能性積層膜は、求められる塗布膜厚精度及び塗膜性状が厳しく、高精度な薄層塗布技術が求められる。薄層化を図るにつれ、ダイの先端とウェブとの距離（隙間）を短縮し、減圧度を大きくする傾向があるが、実際の製造工程においては、減圧度を大きくするほど、減圧度の変動が、その変動幅がわずかであっても良好なビード形成に悪影響を与える。
【０００３】
ところで、塗布において、製造ロスの発生がもっとも懸念される部分は、塗布の開始部分やウェブの接合部等であって、これは連続的に安定した製造適性を有する定常部に対して非定常部と呼ばれている。例えば、塗布開始部では塗布した層にスジ（塗布スジ）や厚塗り等が発生しやすく、また、ウェブの接合部においても厚塗りが生じやすい等の問題がある。塗布スジは、製品の面状故障となり、また、部分的な厚塗りは、乾燥不足の原因となって、工程内汚染へつながる。したがって、製品の得率を向上させるには、非定常部に関し、その長手方向の長さを短くしたりその箇所数を減らす等して、可能な限り非定常部を減少させることが重要となる。そこで、塗布開始部分についての塗布方法としては、塗布開始時の減圧度を大きくするという提案がなされている（例えば、特許文献１参照。）。なお、この特許文献１では、ハロゲン化銀乳剤等のかなり塗膜厚みの大きい塗布について述べている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１−２１３６４１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特に、塗膜厚みを概ね２５μｍ以下とするような極端に薄層の塗布の場合には、塗布開始時に減圧度を大きめに設定することが、ビードの形成を困難にさせる。このように、上記特許文献１よりも１桁オーダー近く薄層である塗布においては、ビードが弱く、減圧度に変動があるとこわれてしまい、その条件調整が非常に難しくなってしまうという問題がある。したがって、上記先行技術は、極薄層塗布に対しては全く参考にならない。
【０００６】
さらに、厚塗りの他に塗布開始時に発生しやすい塗布スジは、長い塗布範囲に渡ってしまい、良好な塗膜を形成するまでに時間を要する場合が多く、また、本発明者らは、塗布開始の瞬間の減圧チャンバ内の減圧度が、定常部における塗布の減圧度に達するまでには時間を要することを見いだしている。薄層塗布の場合には、塗布開始時において上記のように定常部の塗布よりも減圧度を大きくすると、このタイムラグをさらに大きくすることになるので問題化する。
【０００７】
ウェブの接合部が塗布位置を通過する際、塗布ダイを一旦退避させてから塗布位置に戻して塗布を再開する場合であっても、上記と同様の問題があるので、この場合も非定常部といえる。非定常部においては、塗りつけの問題や、さらには、塗布ムラのない正常な塗布となるまでの時間を短縮化する等の問題を解決することが必要不可欠で、製造ロスとして改善されなければならない。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、非定常部における製品ロス量を抑制し、良好な薄層を形成することができる塗布方法、特に湿潤膜厚２５μｍ以下の薄層の塗布方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の塗布方法は、ウェブにダイを近接させた塗布位置で減圧度設定手段による減圧下で前記ウェブに前記ダイから塗布液を塗布する塗布方法において、前記ダイはダイ移動手段により前記塗布位置と前記ウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、前記減圧度設定手段を塗布開始前に、定常部の塗布に必要な減圧度とする設定条件で稼働させてから、前記ダイを前記塗布位置に移動させ、かつ、前記退避位置から前記塗布位置への前記ダイの移動速度を３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とすることを特徴として構成されている。
【００１０】
また、ウェブにダイを近接させた塗布位置で減圧度設定手段よる減圧下で、長手方向に接合された接合部を有する前記ウェブに前記塗布液を塗布する塗布方法においては、前記ダイはダイ移動手段により前記塗布位置と前記ウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、前記接合部が前記塗布位置を通過するとき、前記ダイを前記退避位置に移動させ、前記接合部が前記塗布位置を通過した後、前記ダイを前記塗布位置に移動させ、この移動中における前記減圧度設定手段を、定常部の塗布に必要な減圧度とする設定条件で稼働させた状態とし、かつ、前記退避位置から前記塗布位置への前記ダイの移動速度を３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とすることを特徴として構成されている。このとき、前記退避位置と前記塗布位置との間の距離を５００μｍ以上２０ｍｍ以下とすることが好ましい。
【００１１】
本発明の塗布方法では、さらに、定常部の減圧度については、これを１．０×１０３　Ｐａ以上３．０×１０３　Ｐａ以下とし、前記塗布位置における前記ダイとウェブとの隙間については、これを３０μｍ以上１５０μｍ以下とすることが好ましい。
【００１２】
塗布位置を減圧チャンバにより減圧する塗布方法においては、前記減圧チャンバ内の空気を前記減圧度設定手段により吸引する吸引口に遮蔽手段を設けて、前記吸引口からの塗布液の流出を阻止することが好ましい。また、本発明の塗布方法では、前記ウェブに塗布液を塗布して形成される塗膜の湿潤膜厚が２５μｍ以下となるように塗布することが好ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は本発明を実施したダイ１１を用いた塗布工程の断面図である。バックアップロール１２に支持されて連続走行するウェブ１３の上に、ダイ１１から塗布液１５を塗布することにより塗膜１５ａを形成する。ダイ１１は、移動台１６の上の架台１７に固定されており、移動台１６がレール１８の上を移動することによってその位置が設定される。このとき、形成されるビード１５ｂがウェブ１３の幅方向に均一になるように留意する。ビード１５ｂの不均一性は、塗布ムラを招く一要因になることが多いためである。
【００１４】
ダイ１１の内部にはポケット２１、スロット２２が形成されている。ポケット２１は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット２１は、ダイ１１の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液１５の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット２１への塗布液１５の供給は、ダイ１１の側面から、あるいはスロット開口部２２ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット２１には塗布液１５が漏れ出ることを防止する栓（図示なし）が設けられている。
【００１５】
スロット２２は、ポケット２１からウェブ１３への塗布液１５の流路であり、ポケット２１と同様にスロットダイ１０の幅方向にその断面形状をもつ。ウェブ側に位置するその開口部２２ａは、一般に幅規制板（図示なし）のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ幅になるように調整する。スロット開口部２２ａにおける、バックアップロール１２のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。ダイ１０は、ウェブに近接させる先端にかけて先細り状に形成されており、その先端は一般にランド２６と呼ばれる平坦部となっている。
【００１６】
図２は、本発明の塗布方法を実施した塗布装置３１の要部であって、一部断面を示す概略図である。ウェブ１３はバックアップロール１２の回転によって上方に送られる。移動台１６はレール１８に移動自在に取り付けられており、この移動台１６は、ウェブ１３に近接した塗布位置と、ウェブ１３から離れた退避位置との間で、油圧シリンダなどの駆動装置３２により移動する。レール１８には、塗布位置ストッパ１８ａと退避位置ストッパ１８ｂが設けられており、これらストッパ１８ａ，１８ｂに移動台１６が当接することで、各位置に移動台１６が位置決めされる。また、退避位置ストッパ１８ｂは、塗布位置ストッパ１８ａからの距離Ｌ１を５００μｍ以上５００ｍｍ以下の範囲で任意に設定することが可能な可動式とされている。退避位置ストッパ１８ｂは、レール１８上を移動し、図示されないストッパで、移動台が当接した場合にもその位置が変化しないように固定される。ただし、本発明の効果は、移動台１６の移動機構に依存しない。
【００１７】
塗布位置におけるダイ１１の下部には減圧チャンバ３５が設置されており、ビード１５ｂに対して良好な減圧環境となるように減圧度を調整する。減圧チャンバ３５には減圧口３５ａと塗布液の廃液口３５ｂが設けられている。減圧口３５ａは幅方向に複数設けられているが、本発明は減圧口３５ａの数や位置、廃液口３５ｂの位置等に依存するものではない。減圧チャンバ３５の内部の減圧度は、減圧度設定手段としての減圧ブロア３６の稼働条件によって制御されており、廃液口３５ｂは減圧中にはコック（図示なし）により閉じられている。この減圧度は、塗布位置におけるウェブ１３の厚み等のわずかな条件変動により変化する。
【００１８】
本発明の塗布方法においては、塗布開始に先んじて、減圧チャンバ３５を稼働させる。このとき、定常部の塗布において最適である減圧度とするための減圧ブロアの稼働条件を予め求めておき、この条件にて減圧チャンバ３５の内部を減圧しておく。その後、ダイ１１を退避位置から塗布位置に移動する。これにより、塗布開始時から良好な塗布を実施することができる。
【００１９】
なお、本発明者らは、ダイの設置位置の正確な設定を目的として、ダイには好ましい移動速度範囲があるという知見を既に得ているが、これは、非定常部である塗布開始部分の塗布の向上にも有効であることが見いだされた。その設定は、退避位置から塗布位置への移動速度を３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とすることが好ましい。３０ｍｍ／秒より大きいと、塗布位置ストッパ１８ａに移動台１６が強くぶつかってしまい、大きな振動が発生して、事前にμｍオーダーで調整したダイ１１の設置位置に狂いが生じることになる。これは、予め設定していた減圧度条件にも影響を及ぼすことにもつながる。湿潤膜厚が大きな塗布を実施する場合は、通常、ダイ１１とウェブ１３との隙間Ｌ２を１００μｍから３００μｍという比較的大きな設定とすることが多いので数μｍの位置のずれは大きな問題にはならなかったが、特に２５μｍ以下の薄層塗布では本発明のように塗布開始時おけるダイ１１の移動速度を制御することにより大きな効果を得ることができる。
【００２０】
この移動速度は、遅ければ遅いほど振動の発生及び装置に対するその振動の伝達が抑制されるので望ましいが、工業レベルでの生産性をも考慮に入れねばならない。したがって、上記速度にすることにより両方の条件をほぼ満足することができる。生産性をより重視せざるを得ないときは、移動台１６の移動方法を２段階方式にして、第１段階は速く移動させ、第２段階である塗布位置への移動のみ３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とすることで対応が可能である。無段階変速機能である移動台の場合もこれを適用して、塗布位置近くからは３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下になるようにすればよい。なお、塗布開始前の退避位置については、塗布位置との距離Ｌ１が１０ｍｍ以上５００ｍｍ以下の範囲となるようにしているが、本発明はこれに限られるものではない。
【００２１】
本発明の塗布方法は、定常部における最適減圧度が１．０×１０３　Ｐａ以上３．０×１０３　Ｐａ以下とされる場合に特に有効である。この場合には、減圧ブロアの稼働設定に関して、塗布開始におけるダイ１１の移動前に設定しておく減圧度調整条件を、前述のように、この最適減圧度の調整条件となるようにしておくことが好ましい。
【００２２】
一方、ウェブの接合部が塗布位置を通過する際には、ダイ１１を退避位置に移動させ、通過した後直ちに塗布位置に移動させる。接合部が通過する際の退避位置は、塗布開始前の退避位置よりも塗布位置に近く、塗布位置との距離Ｌ１を５００μｍ以上２０ｍｍ以下としているが、５００μｍ以上１５ｍｍ以下とすることがさらに好ましい。なお、ウェブの接合方法としては、厚み変化を可能な限り小さくするために、ウェブの長さ方向の端部同士を突き合わせてその周辺部に薄い接合用テープを用いて行われることもあるが、両面テープを用いて、両端部を重ね合わせ、接合することもある。したがって、ロス量を可能な限り抑制するためには、接合部の厚みと長さに応じて最適な退避位置があるので、接合部が塗布位置を通過する際の退避位置と塗布位置との距離Ｌ１は、各接合部毎に適宜設定される場合が多い。つまり、上述の塗布開始における退避位置と、接合部通過の際の退避位置とは同一である必要はない。また、退避位置から塗布位置への移動速度については、塗布開始時と同様に、３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下とすることが好ましい。
【００２３】
さらに、接合部が塗布位置を通過し、ダイ１１が移動しているときも、塗布開始時と同様に、その減圧度設定条件を定常部における最適減圧度の設定条件のままとしておくことが好ましい。この場合も、定常部における最適減圧度が１．０×１０３　Ｐａ以上３．０×１０３　Ｐａ以下とされることが特に好ましい。
【００２４】
本発明の塗布方法では、公知の各種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。例えば水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合して使用することができる。
【００２５】
また、本発明のウェブとしては、公知の各種ウェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層した各種複合材料が含まれる。さらにウェブには、光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、磁性塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるいは滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された後、所望する長さ及び幅に裁断される場合も含まれ、この代表例としては、光学補償シート、反射防止フィルム等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００２６】
また、本発明は湿潤膜厚が２５μｍ以下の薄膜塗布を行う場合であれば有効であるが、特に２０μｍ以下の精密塗布を行う系に効果を発揮し、単層の１回塗布のみならず、重層逐次塗布に対しても各層の湿潤膜厚が２５μｍ以下の薄膜塗布の場合に特に有効である。塗布時の温度において塗布液は、粘度が０．５〜１００ｍＰａ・ｓ、表面張力は２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲であることが好ましい。塗布速度は、概ね１００ｍ／分以下の領域で適用可能である。このように、本発明は一般には塗布するのが困難といわれる領域や湿潤膜厚がより薄い系、塗布粘度の高い系ほど効果が大きい。
【００２７】
さらに、本発明は、塗布開始時において、その減圧度の設定が安定しにくい高減圧度とする場合に好ましく適用される。特に、１．０×１０３　Ｐａより大きな減圧度とするときに特に有効である。また、塗布時において、ウェブ１３とダイ１１の先端との距離が小さい系で有効であって、その距離Ｌ２を１５０μｍ以下とする場合に特に効果を発揮する。
【００２８】
本発明の塗布方法は、ウェブにダイを近接させて塗布液が塗布される塗布方法に有効であり、その塗布方法の例として、スロットダイを用いる塗布、スライドビード塗布に効果がある。
【００２９】
減圧チャンバ３５の下部に溜まった塗布液１５（図１参照）は、廃液口３５ｂを開いてここから排出されるが、薄層塗布のような高減圧度下での塗布では、減圧口３５ａから空気と共に吸引されることも多い。本発明の塗布方法においては、減圧チャンバ３５の内部に遮蔽手段としての遮蔽板４０を設けることにより、塗布液１５の減圧口３５ａからの吸引を防いでいる。
【００３０】
【実施例】
〔実施例１〕
既存の光学補償シート製造工程にて、本発明の塗布方法を実施した。光学補償シート製造工程では、ウェブ１３は送出機により送られ、ガイドロールによって支持されながらラビング処理ロールを経るが、この後、塗布工程を組み入れる。塗布実施の前に、塗布位置におけるダイ１１とウェブ１３との隙間Ｌ２を４５μｍに設定した。なお、退避位置から塗布位置への移動台１６の移動速度を５ｍｍ／秒とした。塗布の後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ランプを通過し、巻き取り機によって巻き取るのが基本工程である。
【００３１】
上記ダイ１１を用いて、湿潤膜厚が５μｍとなるようにウェブ１３の上に塗布液１５を塗布速度６０ｍ／分で塗布した。定常部における最適減圧度は２．３×１０３　Ｐａであった。表１に示すように、塗布開始前の減圧度の設定条件によって４通りの塗布を実施した。塗布開始前の減圧ブロアの設定を０としたものを実施例１−１とし、定常部の塗布における最適減圧度である２．３×１０３　Ｐａの条件としたものを実施例１−２とし、定常部での減圧度が２．０×１０３　Ｐａとなる設定条件としたものを実施例１−３とし、また、定常部での減圧度が２．６×１０３　Ｐａとなる設定条件としたものを実施例１−４とした。
【００３２】
【表１】
2004141806.tif 000003
【００３３】
ウェブ１３には厚み１００μｍのセルローストリアセテート（商品名；フジタック、富士写真フイルム（株）製）を用いた。塗布液１５を塗布する前に、ウェブ１３の塗布面に対し、長鎖アルキル変性ポバール（商品名；ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量％溶液を２５ｍｌ／ｍ２　で塗布し、６０℃で１分間乾燥して配向膜用樹脂層を形成した。配向膜用樹脂層をあらかじめ形成したウェブ１３を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、配向膜用樹脂層に対する押しつけ圧力を９．８×１０−３Ｐａに設定した。
【００３４】
塗布液１５には、ディスコティック化合物ＴＥ−（１）とＴＥ−（２）の重量比率４：１の混合物に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を１重量％添加した混合物を、４０重量％メチルエチルケトン溶液とした、液晶性化合物を含む溶液を用いた。塗布液１５を塗布したウェブ１３を、１００℃に設定した乾燥ゾーン、及び１３０℃に設定した加熱ゾーンを通過させ、この液晶層表面に紫外線ランプにより紫外線を照射した。
【００３５】
【化１】
2004141806.tif 000004
【００３６】
本実施例の結果は、表１に示しており、それぞれの塗膜１５ａに関して、面状が良好であったものを○とし、塗布スジ等の面状故障が見られたものを×とする。さらにロス量等も考慮して総合的に評価し、良好なものを○とし、良好ではあるがその再現性が不安定の場合もあるものを△とし、不良であるものを×として表１の総合評価欄に示している。
【００３７】
本実施例１−１では、塗布開始時においてビード１５ｂは形成されず、さらに、しばらくしてビード１５ｂが形成された後もその形状は良好ではなくてその一部が切断されたようなものとなった。また、実施例１−４では、塗布開始時にビード１５ｂが落ち込んでしまい、全体的に側縁部が波打ち形状となり塗布スジが何本も発生した。また、実施例１−３では、非定常部と定常部の両塗膜ともほぼ良好であったが、非定常部の長さが長く、概ね５０ｃｍ以上となった。これに対し、実施例１−２では非定常部と定常部の両塗膜とも非常に良好であり、非定常部も短く、その長さは概ね５０ｃｍ未満であった。このことから、塗布開始前に、減圧ブロア３６の稼働条件を、定常部の塗布における最適減圧にする稼働条件としておくことが効果的であることがわかる。
【００３８】
〔実施例２〕
塗布開始前の減圧ブロア３６の設定条件を、定常部の塗布において２．３×１０３　Ｐａとなる設定条件とし、表２に示すように、退避位置から塗布位置への移動距離と移動速度によって６通りの塗布を実施した。その他の実施条件については実施例１と同様である。
【００３９】
【表２】
2004141806.tif 000005
【００４０】
本実施例の結果は、表２に示しており、それぞれの塗布層に関して、面状が良好であったものを○とし、塗布スジ等の面状故障が見られたものを×とする。さらにロス量等も考慮して総合的に評価し、良好なものを○とし、良好ではあるがその再現性が不安定の場合もあるものを△とし、不良であるものを×として表２の総合評価欄に示している。
【００４１】
実施例２−１では接合部が通過した際に塗布液がはねて良好な塗膜が得られず、実施例２−３及び２−５では非定常部の長さを短くすることができたが塗布スジが発生した。また、実施例２−６では、非定常部の長さを約５０ｃｍにすることができたが、未塗布部が１０ｍとなり不良であった。これに対し、実施例１−２及び１−４では非定常部の長さが短く、また面状故障も発生せず、非常に良好な塗布状態であった。これにより、退避位置と塗布位置までのダイ１１の移動距離及び移動速度は、塗布状態に影響を及ぼし、その最適値は、移動距離が５００μｍ以上２０ｍｍ以下であって、移動速度が３ｍｍ／秒以上３０ｍｍ／秒以下であることがわかる。
【００４２】
【発明の効果】
以上のように、本発明の塗布方法により、薄層塗布のような高減圧度下における塗布において、塗布開始時及びウェブの接合部等の非定常部における製品ロスを抑制し、また、良好な塗布を実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実施したダイの断面図である。
【図２】本発明を実施した塗布工程の一部断面を含む平面図である。
【符号の説明】
１１　　ダイ
１３　　ウェブ
１５　　塗布液
１６　　移動台
３１　　塗布装置
３５　　減圧チャンバ
３５ａ　減圧口
３６　　減圧ブロア
４０　　遮蔽板
Ｌ１　　退避位置と塗布位置の距離
Ｌ２　　塗布位置におけるダイとウェブとの隙間
【図１】
2004141806.tif 000006
【図２】
2004141806.tif 000007