(57)【要約】【課題】ＩＣ周辺部の印刷絵柄歪みを抑えて意匠性に優れた非接触ＩＣカードおよびその製造方法を提供すること。【解決手段】オーバーシート材１５ａ，１５ｂとコアシート材１４ａ，１４ｂとの間に設けられ、カード表面に現れる印刷像を形成するための印刷層２３ａ，２３ｂを、熱プレス温度に対する耐熱性を有する紫外線硬化型インキ層２４と、溶剤乾燥型インキ層２５の二層構造とする。そして、紫外線硬化型インキ層２４をオーバーシート材１５ａ，１５ｂ側であって、ＩＣチップ１１の搭載位置に対応する部位に形成する。これにより、熱溶着性を確保しながら、熱プレス時のコアシート材１４ａ，１４ｂの変形による紫外線硬化型インキ層２４の歪みを抑えることができる。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナ配線に接続された半導体チップを間に挟んで積層されるコアシートと、前記コアシートに積層されるオーバーシートと、前記コアシートと前記オーバーシートとの間に設けられカード表面に現れる印刷像を形成するための印刷層とを備え、前記各シートが熱プレスにより一体化されてなる非接触ＩＣカードであって、
前記印刷層が、熱プレス温度に対する耐熱性を有する硬化型インキ層と、溶剤乾燥型インキ層との二層構造からなり、
前記硬化型インキ層が、前記溶剤乾燥型インキ層よりも前記オーバーシート側に形成されている
ことを特徴とする非接触ＩＣカード。
【請求項２】
前記硬化型インキ層が、紫外線硬化型インキ層である
ことを特徴とする請求項１に記載の非接触ＩＣカード。
【請求項３】
前記硬化型インキ層が、前記半導体チップの搭載位置に対応する部位に形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の非接触ＩＣカード。
【請求項４】
前記硬化型インキ層の周縁領域が他の領域よりもぼかした印刷となっている
ことを特徴とする請求項３に記載の非接触ＩＣカード。
【請求項５】
前記硬化型インキ層と前記溶剤乾燥型インキ層とが同系色である
ことを特徴とする請求項１に記載の非接触ＩＣカード。
【請求項６】
前記コアシートの前記半導体チップの搭載位置に対応する部位には、前記半導体チップを収容するためのニゲ孔が形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の非接触ＩＣカード。
【請求項７】
前記オーバーシートの１５０℃における貯蔵弾性率が、１０ＭＰａ以上である
ことを特徴とする請求項１に記載の非接触ＩＣカード。
【請求項８】
アンテナ配線に接続された半導体チップをコアシートで挟み込み、更にその上から、印刷層を介してオーバーシートを積層し熱プレスする非接触ＩＣカードの製造方法であって、
前記印刷層を形成する工程が、
前記オーバーシートの被印刷面に、熱プレス温度に対する耐熱性を有する硬化型インキを印刷し硬化させる工程と、
前記形成した硬化型インキの上から前記被印刷面に溶剤乾燥型インキを印刷し乾燥させる工程とからなり、
前記熱プレスの工程が、前記被印刷面を前記コアシートに対向させて行われる
ことを特徴とする非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項９】
前記硬化型インキとして、紫外線硬化型インキを用いる
ことを特徴とする請求項８に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項１０】
前記硬化型インキの印刷が、オフセット印刷法で行われる
ことを特徴とする請求項８に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項１１】
前記溶剤乾燥型インキの印刷が、スクリーン印刷法で行われる
ことを特徴とする請求項８に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項１２】
前記硬化型インキと前記溶剤乾燥型インキとを同系色とする
ことを特徴とする請求項８に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項１３】
前記印刷層が、絵柄を反転させて形成される
ことを特徴とする請求項８に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項１４】
前記硬化型インキが、前記半導体チップの搭載位置に対応する部位に印刷される
ことを特徴とする請求項８に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項１５】
前記硬化型インキの周辺部を、網点面積率を徐々に下げて印刷する
ことを特徴とする請求項１４に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【請求項１６】
前記半導体チップ、前記コアシートおよび前記オーバーシートの一体化を、真空下における一度の熱プレスによって完了させる
ことを特徴とする請求項８に記載の非接触ＩＣカードの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱プレスで製造される非接触ＩＣカードおよびその製造方法に関し、特に、ＩＣ周辺部の印刷絵柄歪みを抑えた意匠性の高い非接触ＩＣカードおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
非接触ＩＣカードは、カードをカードリーダ上に置くか、かざすだけで情報のやりとりを行える利便性から、鉄道の出改札などの交通系用途を中心に、プリペイドカード、電子決済、セキュリティシステムなど多様な分野で応用されている。このような非接触ＩＣカードは、カード表面に接続端子を必要としないことから全面に印刷が可能であり、デザイン上の制約が少なく、表現力に優れることも特徴のひとつである。
【０００３】
カードの印刷は通常、コアシートと呼ばれる白色の熱可塑性プラスチックシート上に、オフセット印刷やスクリーン印刷によって施される。非接触ＩＣカードは、半導体チップ（以下「ＩＣチップ」という。）やアンテナ、コンデンサからなるＩＣモジュールを、印刷されたコアシートで挟み、さらにその両側に、オーバーシートと呼ばれる透明の熱可塑性プラスチックシートを重ね合わせて、熱プレスすることによって得られる。このとき、各プラスチックシートは熱溶着して一体となり、オーバーシートは印刷面の保護層として機能する。
【０００４】
なお、このオーバーシートのコアシートに接する面に、絵柄を反転させて印刷される場合もあるが、カードの構成や熱プレスによる製造方法は基本的に上記と同様である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような非接触ＩＣカードにおいては、上記熱プレスによる成形過程において、コアシートまたはオーバーシートに印刷したインキが、各シートの熱溶融にともなって変形することによって絵柄が歪むことがしばしば問題となっている。この印刷絵柄歪みは、特に、ＩＣ周辺部で著しい。これは、内部に埋包されているＩＣチップの形状に沿って、その周囲でコアシートやオーバーシートが特に大きく変形するためである。
【０００６】
このような問題を解決する方法としては、インキに耐熱性の高い紫外線硬化型のインキを用いることが考えられる。しかしながら、このような紫外線硬化型インキは、インキの塗膜そのものは強固であっても、印刷されるコアシートの変形に追随できず、印刷面に細かなヒビが入った状態になる。しかも、このような熱的に不活性な紫外線硬化型インキが、オーバーシートとコアシートとの間に介在することで、両者の熱溶着を阻害し、カードの使用中にオーバーシートが剥離してしまう不具合もある。
【０００７】
一方、コアシートを多層に分割して印刷シートを独立させるか、またはオーバーシートに絵柄を反転させて印刷し、あらかじめ印刷シート以外のＩＣモジュールを含む構成材料を一次プレスしたのち、これに残りの印刷シートを重ね合わせて二次プレスを行う方法では、一次プレスによってＩＣ周辺部が充分に平坦化されていれば二次プレスで印刷絵柄が歪むことはなく、外観品質が優れ意匠性の高い非接触ＩＣカードを製造する有効な手段といえる。
【０００８】
しかしながら、この方法は、熱プレス工程を２度に分けて行うことから、生産能力が半減し、結果的にカードの単価が高くなるという欠点がある。
【０００９】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、ＩＣ周辺部の印刷絵柄歪みを抑えて意匠性に優れた非接触ＩＣカードおよびその製造方法を提供することを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するにあたり、本発明の非接触ＩＣカードは、カード表面に現れる印刷像を形成するための印刷層が、熱プレス温度に対する耐熱性を有する硬化型インキ層と、溶剤乾燥型インキ層との二層構造からなり、硬化型インキ層が溶剤乾燥型インキ層よりもオーバーシート側に形成されていることを特徴とする。
【００１１】
上記硬化型インキは強固な塗膜を形成し、熱プレス時において当該硬化型インキで形成した絵柄の印刷歪みを生じさせない。また、上記溶剤乾燥型インキは、コアシートとオーバーシートとの間に充分な熱溶着性を与えることができる。硬化型インキ層を溶剤乾燥型インキ層よりもオーバーシート側に形成するのは、熱プレス時において流動化するコアシート上に硬化型インキ層を形成すると、コアシートの変形に追随できずに硬化型インキ層に細かなヒビが入るおそれがあるので、これを回避するためである。
【００１２】
したがって、ＩＣチップの搭載位置に対応する領域は上記硬化型インキで印刷層を形成し、その他の領域は溶剤乾燥型インキで印刷層を形成することによって、半導体チップの周辺部における印刷歪みを防止することができる。
【００１３】
なお、上記硬化型インキは、紫外線硬化型インキや電子線硬化型インキ、二液硬化型インキなどの硬化性インキが適用可能である。
【００１４】
一方、本発明の非接触ＩＣカードの製造方法は、印刷層を形成する工程が、オーバーシートの被印刷面に、熱プレス温度に対する耐熱性を有する硬化型インキを印刷し硬化させる工程と、形成した硬化型インキの上から上記被印刷面に溶剤乾燥型インキを印刷し乾燥させる工程とからなり、熱プレスの工程が、オーバーシートの被印刷面をコアシートに対向させて行われることを特徴とする。
【００１５】
これにより、カード表面の印刷絵柄歪みを効果的に抑制して、外観品質の優れた意匠性の高い非接触ＩＣカードを製造することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１７】
図１および図２は、本発明の実施の形態に適用される非接触ＩＣカード１０の構成を示している。ここで、図１は、非接触ＩＣカード１０のＩＣ周辺部における層構造を模式的に示す断面図であり、図２は非接触ＩＣカード１０の分解斜視図である。
【００１８】
非接触ＩＣカード１０は、ＩＣチップ１１が実装されたアンテナ基板１２の表裏面を内コアシート材１３ａ，１３ｂで挟み込み、更にその両側に、外コアシート材１４ａ，１４ｂおよびオーバーシート材１５ａ，１５ｂを順に積層することによって構成されている。
【００１９】
アンテナ基板１２は、ＰＩ（ポリイミド）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等の耐熱性のある樹脂フィルムからなり、その表裏面にはアンテナ配線等を構成する銅箔パターンが形成されている。ＩＣチップ１１は、金属突起電極（バンプ）が形成された半導体ベアチップからなり、例えばＡＣＦ（異方性導電フィルム）１６を介してアンテナ配線に電気的に接続されている。ＩＣチップ１１の上方には、例えばエポキシ等の熱硬化性樹脂からなる封止樹脂１７を介して、ＩＣチップ１１に抗折性および耐衝撃性を付与するための補強金属板１８が貼着されている。
【００２０】
これらアンテナ基板１２、ＩＣチップ１１および補強金属板１８等により、ＩＣモジュール（あるいはアンテナモジュール）が構成される。なお、アンテナ基板１２上にはＩＣチップ１１のほかに、コンデンサ等の受動部品が必要に応じて搭載されている。
【００２１】
内コアシート材１３ａ，１３ｂおよび外コアシート材１４ａ，１４ｂは、本発明に係る「コアシート」の構成の一実施態様である。アンテナ基板１２のチップ実装面に積層される内コアシート材１３ａには、ＩＣチップ１１の搭載位置に対応する部位に貫通孔２１が形成されており、この貫通孔２１がＩＣチップ１１を収容するためのニゲ孔として、ＩＣチップ１１の搭載により発生する段差を緩和する。貫通孔２１は、内コアシート材１３ａに積層される外コアシート材１４ａで閉塞される。
【００２２】
なお、貫通孔２１は、アンテナ基板１２のチップ実装面側に積層される一方側の内コアシート材１３ａに形成する場合に限られない。例えば、ＩＣチップ１１の更なる保護強化を図るべく、アンテナ基板１２のチップ実装面とは反対側の面のチップ実装部位に対して同様な補強金属板を貼着する場合があるが、この場合、当該補強金属板を収容するためのニゲ孔として他方側の内コアシート材１３ｂにも上記貫通孔を形成してもよい。
【００２３】
内コアシート材１３ａ，１３ｂおよび外コアシート材１４ａ，１４ｂは同一の材料でなり、例えば、共重合ポリエステル（三菱樹脂（株）製、商品名ＰＧ−ＷＨＩ）が適用可能である。また、シート厚に関しては、内コアシート材１３ａ，１３ｂが例えば１８０μｍ、外コアシート材１４ａ，１４ｂが例えば１００μｍである。
【００２４】
オーバーシート材１５ａ，１５ｂは、耐熱性のある透明なプラスチックシートで構成されている。また必要に応じて、例えばオーバーシート材１５ａに対し、図２に示すように磁気ストライプ１９ａを転写するようにしてもよい。
【００２５】
オーバーシート材１５ａ，１５ｂは後述するように、外コアシート材１４ａ，１４ｂに対して熱プレスによって熱圧着されるが、このとき、オーバーシート材１５ａ，１５ｂが熱プレスによって変形しないことが必要である。具体的には、本実施の形態では１５０℃における貯蔵弾性率が１０ＭＰａ以上である材料が用いられており、この条件を満足する材料としては、例えば、ＰＣ（ポリカーボネート）／ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）アロイ（三菱樹脂（株）製、商品名ＰＡ−Ｃ）が挙げられる。また、シート厚に関しては、例えば１００μｍである。
【００２６】
オーバーシート材１５ａ，１５ｂには、製作された非接触ＩＣカード１０の表面に現れる印刷像を形成するための印刷層２３ａ，２３ｂが設けられている。本実施の形態では、印刷層２３ａ，２３ｂは、熱プレス温度に対する耐熱性を有する紫外線硬化型インキ層２４と、溶剤乾燥型インキ層２５との二層構造で構成されている。
【００２７】
これら紫外線硬化型インキ層２４および溶剤乾燥型インキ層２５は、オーバーシート材１５ａ，１５ｂの内面側、すなわち外コアシート材１４ａ，１４ｂと対向する側の面（以下、「被印刷面」という。）に形成されている。紫外線硬化型インキ層２４は、溶剤乾燥型インキ層２５よりもオーバーシート材１５ａ，１５ｂ側に形成されている。
【００２８】
紫外線硬化型インキ層２４は、オーバーシート材１５ａ，１５ｂの被印刷面であってＩＣチップ１１に対応する部位に形成されている。特に、紫外線硬化型インキ層２４は、ＩＣチップ１１（あるいは補強金属板１８）を隠蔽できる程度の面積で、例えば円形に形成されている。一方、溶剤乾燥型インキ層２５は、本実施の形態では、紫外線硬化型インキ層２４の上からオーバーシート材１５ａ，１５ｂの被印刷面全域に形成されている。
【００２９】
紫外線硬化型インキ層２４および溶剤乾燥型インキ層２５は、互いに、同一色を含む同系色のインキでそれぞれ形成されている。また、紫外線硬化型インキ層２４の周縁領域は、図３に示すように、ぼかした印刷となっている。これらにより、紫外線硬化型インキ層２４と溶剤乾燥型インキ層２５との境界部分を認識できないようにして、カード表面の外観品質の向上が図られている。
【００３０】
なお、上記の手法は、印刷像が同一色のベタ塗りの場合や、カード表面で同一パターンが連続的に形成される場合などに有効であり、ＩＣ周辺部とその他の領域で意図的に絵柄を異ならせる場合などに対しては上記の手法を採る必要性は少ない。また「同系色」とは、各インキ層２４，２５を構成する材料の違いによって全くの同一色を構成できない場合や、デザイン上の都合で意図的に色合い等を僅かに異ならせる場合などをも含む趣旨である。
【００３１】
次に、以上のように構成される本実施の形態の非接触ＩＣカード１０の製造方法について、図４および図５を参照して説明する。ここで、図４はオーバーシート材１５ａ，１５ｂの製作工程を説明する工程図であり、図５は非接触ＩＣカード１０の製造プロセスを示している。
【００３２】
図５に示すように、本実施の形態では、非接触ＩＣカード１０が９面とれる枚葉サイズ（Ａ４サイズ）の各種シート材を用いている。なお、図示は省略しているが、加熱プレス後、所定のカード一枚サイズに打ち抜いて、非接触ＩＣカード１０を製造するようにしている。
【００３３】
非接触ＩＣカード１０の製造に当たっては、あらかじめ、アンテナ基板１２上にＩＣチップ１１を実装し、これに補強金属板１８を貼着したＩＣモジュールを製作しておく。また、図４に示すように、オーバーシート材１５ａ，１５ｂに上述した構成の印刷層２３ａ，２３ｂを形成しておく。
【００３４】
図４を参照して、オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）への印刷層２３ａ（２３ｂ）の形成は、オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面に紫外線硬化型インキ２４Ａを印刷し硬化させる工程と、形成した紫外線硬化型インキ２４Ａの上から被印刷面に溶剤乾燥型インキ２５Ａを印刷し乾燥させる工程とによって行われる。
【００３５】
オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面に対する紫外線硬化型インキ２４Ａの印刷は、例えば図４Ａに模式的に示すような平版オフセット印刷法によって行われる。この印刷方式は、刷版３１上の紫外線硬化型インキ２４Ａをブランケットロール３２に一度転写した後、オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面に再転写することによって印刷を行う。本実施の形態では、紫外線硬化型インキ２４Ａは、被印刷面のＩＣチップ１１の搭載位置に対応する部位に印刷される。なお、本発明に適用可能な紫外線硬化型インキとしては、例えば、（株）ティーアンドケイ東華製、商品名ＵＶ　ＳＴＰ）が挙げられる。
【００３６】
紫外線硬化型インキ２４Ａの印刷にオフセット印刷法を用いることにより、薄いインキ層を形成することができる。これにより、後に同系色の溶剤乾燥型インキ２５Ａを重ねて印刷したときに、両者の境目が認識しにくくなる。また、紫外線硬化型インキ２４Ａの周辺部は、図３に示したように網点面積率を徐々に下げた、ぼかし印刷とすることによって、上記効果がより一層顕著になる。
【００３７】
オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面への紫外線硬化型インキ２４Ａを塗布した後、図４Ｂに模式的に示すように、直ちに十分に紫外線ＵＶを照射してインキ２４Ａを硬化させる。これにより、オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面に強固な紫外線硬化型インキ層２４が形成される。
【００３８】
一方、溶剤乾燥型インキ２５Ａの印刷法としては、図４Ｃに模式的に示すようなスクリーン印刷法が用いられる。この印刷方式は、印刷パターンに対応する開口が形成されたスクリーンマスク３５をオーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面に重ね合わせ、スキージ３６で溶剤乾燥型インキ２５Ａを刷り込んで被印刷面に印刷パターンを形成する印刷法である。なお、本発明に適用可能な溶剤乾燥型インキとしては、例えば、（株）セイコーアドバンス製、商品名ＳＧ−７００が挙げられる。
【００３９】
溶剤乾燥型インキ２５Ａの印刷後は、直ちに乾燥炉へ装填して強制乾燥を行う（図４Ｄ）。乾燥が不十分で塗膜内部に溶剤が残留していると、オーバーシート材１５ａ，１５ｂと外コアシート１４ａ，１４ｂとの熱溶着を阻害する可能性があるからである。
【００４０】
以上のようにして、オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面上に、紫外線硬化型インキ層２４と溶剤乾燥型インキ層２５の二層構造からなる印刷層２３ａ（２３ｂ）が形成される。本実施の形態においては、カード表面に現れる印刷像のうち、ＩＣ周辺部の領域の印刷像は紫外線硬化型インキ層２４によって形成され、ＩＣ周辺部以外の領域の印刷像は溶剤乾燥型インキ層２５によって形成される。また、印刷層２３ａ（２３ｂ）がオーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の内面側に設けられるので、印刷される絵柄や文字等は反転して形成されることになる。
【００４１】
なお、ＩＣ周辺部以外の領域の印刷は溶剤乾燥型インキ２５Ａで行うようにしたが、必要に応じて紫外線硬化型インキ２４Ａでの印刷を併用してもよい。ただし、紫外線硬化型インキ２４Ａの印刷面積があまり大きいと、オーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の外コアシート材１４ａ（１４ｂ）に対する熱溶着性に不具合が生じる可能性があるので注意が必要である。特に、カードの周辺部では紫外線硬化型インキの使用は控えるべきである。
【００４２】
次に、図５を参照して、非接触ＩＣカード１０の製造方法の一具体例について説明する。内コアシート材１３ａの面内所定部位に対して、例えば打ち抜きプレス法によって上述した構成の貫通孔２１を形成する（図５ａ，ｂ）。貫通孔２１は、内コアシート材１３ａに対して３行３列で計９箇所に形成される。これらの貫通孔２１は、後に、内コアシート材１３ａ上に配置されるアンテナ基板１２のそれぞれのＩＣモジュールに対応する部位に形成される。
【００４３】
次に、内コアシート材１３ａ上に、ＩＣモジュールを形成したアンテナ基板１２を一枚ずつ位置合わせして仮固定する（図５ｃ）。本実施の形態では、アンテナ基板１２がそのＩＣチップ１１の実装面を下向きに配置して、貫通孔２１内にＩＣチップ１１を嵌合させている。なお、内コアシート材１３ａに対するアンテナ基板１２の仮固定法としては、例えば超音波振動を用いたスポット溶着等が適用できる。
【００４４】
内コアシート材１３ａ上に９枚のアンテナ基板１２を仮固定した後、他方側の内コアシート材１３ｂを丁合い積層する（図５ｄ）。続いて、内コアシート材１３ａ，１３ｂの上に外コアシート材１４ａ，１４ｂおよび、上述のように印刷層２３ａ，２３ｂを形成したオーバーシート材１５ａ，１５ｂを被印刷面が外コアシート材１４ａ，１４ｂに対向するように丁合い積層した後、一括的に熱プレスする（図５ｅ，ｆ）。
【００４５】
熱プレス条件は、用いる材料等によって適宜調整される。本実施の形態では、プレス温度は１５０℃、プレス圧力は１ＭＰａである。また、各種シート間における脱気のため、真空下における熱プレスが好適である。本実施の形態では、真空圧は例えば１３３．３２Ｐａ（１Ｔｏｒｒ）以下である。
【００４６】
熱プレス時において、内コアシート材１３ａ，１３ｂおよび外コアシート材１４ａ，１４ｂは流動化し、また、ＩＣチップ１１と貫通孔２１との間に形成される隙間には溶融樹脂が充填される。このようにコアシートの変形は特に、ＩＣチップ１１の周辺部で著しく発生し、従来ではこれが印刷絵柄歪みの原因となっていた。
【００４７】
そこで本実施の形態では、印刷層２３ａ，２３ｂが、オーバーシート材１５ａ，１５ｂ側から順に、紫外線硬化型インキ層２４および溶剤乾燥型インキ層２５の二層構造で構成されており、また、ＩＣ周辺部に対応する領域はオーバーシート材１５ａ，１５ｂに強固に密着さた紫外線硬化型インキ層２４が形成されているので、溶剤乾燥型インキ層２５はオーバーシート材１５ａ，１５ｂとコアシート（外コアシート材１４ａ，１４ｂ）との適正な熱溶着性を得ながらＩＣ周辺部の領域の印刷歪みを確実に防止でき、カード表面のＩＣ周辺部において、印刷絵柄歪みがなく、外観品質の高い、意匠性に優れた非接触ＩＣカード１０を製造することができる。
【００４８】
また、本実施の形態によれば、上述した作用によって一度の熱プレス工程で外観品質の優れた非接触ＩＣカード１０を得ることができる。したがって、コアシートの熱プレスと印刷シートの熱プレスとを２回に分けて行うことにより高い外観品質を維持するようにした従来の非接触ＩＣカードの製造方法に比べて、本実施の形態によれば生産能力を高くすることができ、工程数減による製造コストの低減を図ることができる。
【００４９】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００５０】
例えば以上の実施の形態では、ＩＣカード１０の一構成要素であるコアシートを内コアシート材１３ａ，１３ｂと外コアシート材１４ａ，１４ｂとで構成したが、これに限らず、例えば図６に示すように上記内コアシート材と外コアシート材とを一体化したコアシート材３８ａ，３８ｂで構成したものについても、本発明は適用可能である。この例では、ＩＣチップ１１を収容するためのニゲ孔を、コアシート材３８ａ側に設けた凹所３９で構成している。
なお、図において図１と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとする。
【００５１】
一方、コアシートに対してＩＣチップを収容するためのニゲ孔を形成せずとも本発明に係る非接触ＩＣカードを構成することも勿論、可能である。つまり、アンテナ基板に対するＩＣチップの搭載によって生じる段差の影響で、熱プレス時にコアシートの変形挙動がＩＣ周辺部で局所的に異なることになるが、本発明によりＩＣ周辺部における印刷歪みの発生を抑制することができるので、外観品質が大きく損なわれることはない。
【００５２】
また、以上の実施の形態では、オーバーシート材１５ａ，１５ｂの被印刷面に形成した印刷層２３ａ，２３ｂを紫外線硬化型インキ層２４と溶剤乾燥型インキ層２５とで構成したが、例えば所定波長領域の光線を照射したのみ印刷像が形成されるような特殊な塗料を用いたインキ層（例えば、蛍光印刷層）等を追加的に形成することも可能である。
【００５３】
さらには、、非接触／接触通信機能を兼ね備えたデュアルインターフェースカード（コンビネーションンカードとも称される。）やハイブリッドカードなどのカード表面の絵柄印刷の形成にも、本発明は適用可能である。
【００５４】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の非接触ＩＣカードによれば、オーバーシートとコアシートとの間の良好な熱溶着性を確保しながら、表面の印刷歪みを防止することができる。
【００５５】
また、本発明の非接触ＩＣカードの製造方法によれば、カード表面の印刷歪みを効果的に抑制して、外観品質の優れた意匠性の高い非接触ＩＣカードを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による非接触ＩＣカードの層構造を模式的に示すチップ周辺部の断面図である。
【図２】図１に示す非接触ＩＣカードの分解斜視図である。
【図３】図１に示す非接触ＩＣカードのオーバーシート材１５ａ（１５ｂ）の被印刷面に対する紫外線硬化型インキ２４Ａの印刷例を示す図である。
【図４】図１に示す非接触ＩＣカードのオーバーシート材１５ａ（１５ｂ）に対する印刷層の形成方法を説明する工程図であり、Ａは紫外線硬化型インキの印刷工程、Ｂは紫外線硬化型インキの硬化処理工程、Ｃは溶剤乾燥型インキの印刷工程、Ｄは溶剤乾燥型インキの乾燥工程をそれぞれ示す。
【図５】図１の非接触ＩＣカードの製造方法を説明する工程図である。
【図６】図１の非接触ＩＣカードにおけるコアシートの他の実施態様を示す断面図である。
【符号の説明】
１０…非接触ＩＣカード、１１…ＩＣチップ（半導体チップ）、１２…アンテナ基板、１３ａ，１３ｂ…内コアシート材、１４ａ，１４ｂ…外コアシート材、１５ａ，１５ｂ…オーバーシート材、２１…貫通孔（ニゲ孔）、２３ａ，２３ｂ…印刷層、２４…紫外線硬化型インキ層、２４Ａ…紫外線硬化型インキ、２５…溶剤乾燥型インキ層、２５Ａ…溶剤乾燥型インキ、３８…コアシート材、３９…凹所（ニゲ孔）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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