(57)【要約】【課題】真空蒸着によって輝尽性蛍光体膜を成膜する輝尽性蛍光体パネルの製造において、不純物による輝尽性蛍光体膜への悪影響を排除でき、高品質な輝尽性蛍光体パネルを安定して製造できる製造方法を提供する。【解決手段】真空蒸着系内に装填するまでの材料の保管および取り扱いを、露点０℃以下の環境下で行うことにより、前記課題を解決する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空蒸着で輝尽性蛍光体膜を形成する輝尽性蛍光体パネルの製造において、
真空蒸着系内に装填するまでの材料の保管および取り扱いを、露点０℃以下の環境下で行うことを特徴とする輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
【請求項２】
吸湿性の高い材料は、透湿度の低いシート材で真空パックして保管を行う請求項１に記載の輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、輝尽性蛍光体パネル製造の技術分野に属し、詳しくは、成膜中に生じる輝尽性蛍光体膜の特性劣化を無くして、高品質な輝尽性蛍光体パネルを安定して製造できる輝尽性蛍光体パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この輝尽性蛍光体の膜（以下、蛍光体膜とする）を有する輝尽性蛍光体パネル（以下、蛍光体パネルとする（放射線像変換パネル（シート）とも呼ばれている））を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、富士写真フイルム社製のＦＣＲ（Ｆｕｊｉ　Ｃｏｍｐｕｔｅｄ　Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）等として実用化されている。
このシステムでは、人体などの被写体を介してＸ線等を照射することにより、蛍光体パネル（蛍光体膜）に被写体の放射線画像情報を記録する。記録後に、蛍光体パネルをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、ＣＲＴなどの表示装置や、写真感光材料などの記録材料等に、被写体の放射線画像として出力する。
【０００４】
蛍光体パネルは、通常、輝尽性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のパネル状の支持体に塗布し、乾燥することによって、作成される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜法（気相成膜法）によって、支持体に蛍光体膜を形成してなる蛍光体パネルも知られている（特許第２７８９１９４号、特公平６−７７０７９号等の各公報参照）。
真空成膜法による蛍光体膜は、バインダを含有せず基本的に輝尽性蛍光体のみから構成され、また、輝尽性蛍光体の結晶は柱状構造を有し、柱状結晶の間には空隙（クラック）が存在する。そのため、真空成膜法で形成した蛍光体膜は、励起光の進入効率や輝尽発光光の取り出し効率を上げることができるので、高感度であり、また、励起光の平面方向への散乱を防ぐことができるので、高鮮鋭度の再生画像が得られる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、真空蒸着などの真空成膜法による蛍光体膜は、バインダ等が含まれないが故に、逆に、不純物による悪影響も受け易い。そのため、不純物が蛍光体膜に与える悪影響によって、適正品質の蛍光体パネルを安定して作製することができない場合も多い。
【０００６】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、真空蒸着によって輝尽性蛍光体膜を成膜する輝尽性蛍光体パネルの製造において、不純物等による輝尽性蛍光体膜への悪影響を好適に排除することができ、特性の優れた輝尽性蛍光体膜を有する高品質な輝尽性蛍光体パネルを安定して製造することができる、輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明は、真空蒸着で輝尽性蛍光体膜を形成する輝尽性蛍光体パネルの製造において、真空蒸着系内に装填するまでの材料の保管および取り扱いを、露点０℃以下の環境下で行うことを特徴とする輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供する。
【０００８】
また、前記本発明の輝尽性蛍光体パネルの製造方法において、吸湿性の高い材料は、透湿度の低いシート材で真空パックして保管を行うのが好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の輝尽性蛍光体パネル（ＩＰ（Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｐｌａｔｅ））の製造方法について、詳細に説明する。
【００１０】
本発明の輝尽性蛍光体パネル（以下、蛍光体パネルとする）の製造方法は、基板に、真空蒸着によって輝尽性蛍光体の膜（以下、蛍光体膜とする）を形成する蛍光体パネルの製造方法において、材料を真空蒸着装置（真空チャンバ）に装着するまでの、材料の保管およびハンドリング（取り扱い）を露点０℃以下の環境下で行うものである。この点に関しては、後に詳述する。
このような本発明の製造方法においては、上記条件が満たされていれば、これ以外の製造方法に限定は無い。従って、製造する蛍光体パネルの構成（層構成など）や蛍光体膜の成膜条件には限定はない。さらに、成膜後に、後加熱などの処理や防湿部材による封止等を行ってもよい。
【００１１】
本発明の製造方法において、保存およびハンドリングの環境露点が前記条件を満たすべき材料としては、基本的に、蛍光体膜の蒸着源（成膜材料）と、蛍光体膜が成膜される基板が例示される。
なお、材料としては、これ以外にも、成膜時に必要に応じて蒸着系内に導入される希ガス、窒素、酸素、空気、水素、ハロゲン、およびハロゲン化水素などの各種の気体等も例示される。
【００１２】
まず、本発明の製造方法において、基板には特に限定はなく、蛍光体パネルで使用されている各種のものが利用可能である。
一例として、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのプラスチックフィルム；　石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダガラス、耐熱ガラス（パイレックス（登録商標）等）などから形成されるガラス板；　アルミニウムシート、鉄シート、銅シート、クロムシートなどの金属シートあるいは金属酸化物の被覆層を有する金属シート；　等が例示される。
【００１３】
なお、本発明においては、例えば、このような基板の表面に、輝尽発光光を反射して集光効率を向上するための反射膜、あるいはさらに、このような反射膜の上に反射膜を保護するためのバリア膜等を形成し、その上に、蛍光体膜を形成してもよい。
本発明において、このように反射膜等の上に蛍光体膜を形成する場合には、基本的に、これらの膜が形成された、次に蛍光体膜を形成する基板を本発明における材料として、保管およびハンドリングを露点０℃以下の環境で行えばよい。但し、この際においても、何の処理を施されていない無垢の基板や、反射膜などの蒸着源に関しても、前記条件を満たしてもよいのは、もちろんである。
【００１４】
本発明の製造方法においては、このような基板の表面に、真空成膜法によって蛍光体膜を形成する。
蛍光体膜を形成する輝尽性蛍光体としては、各種のものが利用可能であるが、一例として、下記の輝尽性蛍光体が好ましく例示される。
【００１５】
米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されている輝尽性蛍光体である、「ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ」、「ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ」、「ＴｈＯ２　：Ｅｒ」、および、「Ｌａ２　Ｏ２　Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ」。
【００１６】
特開昭５５−１２１４２号公報に開示される、「ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ」、「ＢａＯ・ｘＡｌ２　Ｏ３　：Ｅｕ（但し、０．８≦ｘ≦１０）」、および、一般式「ＭＩＩＯ・ｘＳｉＯ２　：Ａ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭＩＩは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，ＣｄおよびＢａからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｃｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉおよびＭｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０．５≦ｘ≦２．５である）
【００１７】
特開昭５５−１２１４４号公報に開示される、一般式「ＬｎＯＸ：ｘＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｌｎは、Ｌａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種であり、Ａは、ＣｅおよびＴｂの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）
【００１８】
特開昭５５−１２１４５号公報に開示される、一般式「（Ｂａ１−ｘ　，Ｍ２＋ｘ　）ＦＸ：ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ２＋は、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．６であり、０≦ｙ≦０．２である。）
【００１９】
特開昭５７−１４８２８５号公報に開示される、下記のいずれかの輝尽性蛍光体。
すなわち、一般式「ｘＭ３　（ＰＯ４　）２　・ＮＸ２　：ｙＡ」または「Ｍ３　（ＰＯ４　）２　・ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、ＭおよびＮは、それぞれ、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｓｂ，Ｔｌ，ＭｎおよびＳｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦６、０≦ｙ≦１である）
【００２０】
一般式「ｎＲｅＸ３　・ｍＡＸ’２　：ｘＥｕ」または「ｎＲｅＸ３　・ｍＡＸ’２　：ｘＥｕ，ｙＳｍ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、Ｒｅは、Ｌａ，Ｇｄ，ＹおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＸおよびＸ’は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，およびＢｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０−４＜ｘ＜３×１０−１であり、１×１０−４＜ｙ＜１×１０−１であり、さらに、１×１０−３＜ｎ／ｍ＜７×１０−１である。）
【００２１】
および、一般式「ＭＩ　Ｘ・ａＭＩＩＸ’２　・ｂＭＩＩＩ　Ｘ’’３　：ｃＡ」で示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭＩ　は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＭＩＩは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，ＣｕおよびＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の二価の金属であり、ＭＩＩＩ　は、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ’’は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，ＢｉおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ＜０．５であり、０≦ｂ＜０．５であり、０≦ｃ＜０．２である。）
【００２２】
特開昭５６−１１６７７７号公報に開示される、一般式「（Ｂａ１−Ｘ　，ＭＩＩＸ　）Ｆ２　・ａＢａＸ２　：ｙＥｕ，ｚＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭＩＩは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、ＺｒおよびＳｃの少なくとも一種である。また、０．５≦ａ≦１．２５であり、０≦ｘ≦１であり、１×１０−６≦ｙ≦２×１０−１であり、０＜ｚ≦１×１０−２である。）
【００２３】
特開昭５８−６９２８１号公報に開示される、一般式「ＭＩＩＩ　ＯＸ：ｘＣｅ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭＩＩＩ　は、Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である）
【００２４】
特開昭５８−２０６６７８号公報に開示される、一般式「Ｂａ１−ｘ　Ｍａ　Ｌａ　ＦＸ：ｙＥｕ２＋」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０−２≦ｘ≦０．５であり、０≦ｙ≦０．１であり、さらに、ａはｘ／２である。）
【００２５】
特開平５９−７５２００号公報に開示される、一般式「ＭＩＩＦＸ・ａＭＩ　Ｘ’・ｂＭ’ＩＩＸ’’２　・ｃＭＩＩＩ　Ｘ３　・ｘＡ：ｙＥｕ２＋」で示される輝尽性蛍光体。（上記式において、ＭＩＩは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも１種であり、ＭＩ　は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｍ’ＩＩは、ＢｅおよびＭｇの少なくとも一方の二価の金属であり、ＭＩＩＩ　は、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ、およびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ａは、金属酸化物であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ’’は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，およびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ≦２であり、０≦ｂ≦１×１０−２であり、０≦ｃ≦１×１０−２であり、かつ、ａ＋ｂ＋ｃ≧１０−６であり、さらに、０＜ｘ≦０．５であり、０＜ｙ≦０．２である。）
【００２６】
特に、輝尽発光特性や再生画像の鮮鋭性、さらに、本発明の効果が好適に発現できる等の点で、特開昭５７−１４８２８５号公報に開示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく例示され、中でも特に、ＭＩ　が、少なくともＣｓを含み、Ｘが、少なくともＢｒを含み、さらに、Ａが、ＥｕまたはＢｉであるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく、その中でも特に「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」が、好ましい。
【００２７】
本発明の製造方法においては、蛍光体パネルの材料、すなわち蛍光体膜の蒸着源および基板を真空蒸着装置（真空チャンバ）に装着するまで、材料の保管およびハンドリングを、露点０℃以下の環境下で行う。すなわち材料の保管およびハンドリングの雰囲気露点を０℃以下とする。なお、材料は、必要に応じて、真空乾燥等の処理を行って、乾燥した後に、上記条件下で保管およびハンドリングしてもよい。
【００２８】
ここで、例えば、大気開放することなく前述の反射膜と蛍光体膜とを連続的に成膜する場合のように、蛍光体膜の材料と共に、他の膜の蒸着源（前記例であれば、反射膜の蒸着源）などが、同時に蒸着装置内（蒸着系内）に存在する場合には、これらも本発明における材料に該当し、従って、保管およびハンドリングを露点０℃以下の環境下で行う。
また、真空蒸着時に使用される基板ホルダや蒸着源用ハースなど、使用時に蒸着装置内に装填する各種の部品は、繰り返し使用するものであるため、使用後に洗浄して乾燥機に入れて乾燥しておき、使用時には乾燥機から取り出してすぐ使用するのが好ましい。また、これらのハンドリングは、材料と同等の取り扱いとするのが好ましい。
【００２９】
前述のように、輝尽性蛍光体からなる蛍光体膜を真空蒸着によって形成する蛍光体パネルの製造方法においては、蛍光体膜がバインダ等を有さないために、蛍光体膜が不純物による悪影響を受けやすく、適正品質の蛍光体膜を安定して成膜することができない場合も多い。
【００３０】
本発明者らは、この問題点を解決するために、鋭意検討を重ねた結果、蛍光体膜を真空蒸着で形成する際には、不純物の中でも、蒸着系内に存在する水分の悪影響が大きく、特に、蒸着系内の水分圧が高い状態で成膜を行うと、水分の影響により、蒸着源や蒸着粒子、さらには形成された蛍光体膜（蒸着膜）に吸湿や酸化などの変質が生じ、結果として、形成される蛍光体膜の特性が不十分となることを見いだした。
例えば、前述のように、真空蒸着による輝尽性蛍光体の結晶は柱状構造を有するが、アルカリハライド系輝尽性蛍光体、中でも特にＣｓＢｒ：Ｅｕ、および、その蒸着源として利用される臭化ユーロピウムは、吸湿性が高く、蒸着系内に存在する水分による悪影響を強く受けてしまい、蒸着系内の水分圧が高い状態で成膜を行うと、輝尽性蛍光体の結晶構造が乱れて、望ましい状態にならず、その結果、画像鮮鋭性の低下や輝尽発光特性の低下、輝尽発光光の発光ムラ等を生じてしまう。
【００３１】
これを防止するためには、蒸着系内に水分を持ち込まないこと、および、蒸着時に蒸着系内の水分圧を低減することが重要である。
これに応じて、本出願人は、先に、水分量および密度が所定範囲の蒸着源を用いて蛍光体膜を形成する蛍光体パネルの製造方法（特願２００１−２２９５９３号）、および、蒸着系内の水分圧を所定値以下にして蛍光体膜を形成する蛍光体パネルの製造方法（特願２００１−２２９５９４号）を提案した。これらの製造方法によれば、水分が蛍光体膜に悪影響を及ぼすこと防止することができ、すなわち、蛍光体膜の特性が良好な、高品質な輝尽性蛍光体パネルを安定して製造できる。
【００３２】
ここで、蒸着源や基板等の材料は、まとめて購入あるいは作製するのが通常であり、従って、入手した後、即座に真空蒸着による蛍光体膜の形成に供されるものは少なく、通常は、ある程度の保管された後、蒸着に供される。
また、材料は、蛍光体膜の形成に先立ち、各処理を行う場所等への移動、蒸着源であれば秤量、基板であれば蒸着装置用ホルダ等の治具への装填や加熱処理など、様々なハンドリングを行われる（取り扱われる）。さらに、ハンドリング後に、真空蒸着に供されるまで、再度、保管される場合もある。
【００３３】
このような保管やハンドリングの際に水分が材料に付着し、また、さらにこれによって材料が吸湿してしまえば、この水分は、当然、蒸着系内に持ち込まれることになる。その結果、成膜時の蒸着系内の水分圧も上がり、かつ、一定せず、コントロールも難しくなる。蒸着前に乾燥工程等を設ける手段もあるが、これでは、余分な工程が増える結果となり、生産性の低下等にもつながる。
すなわち、余分な工程を増加することなくことなく、高品質な蛍光体パネルを安定して製造するためには、材料自身の含水率コントロール等に加え、材料の保管時やハンドリング時に材料に水分が付着、吸湿することを防止することも、非常に重要である。
【００３４】
本発明は、保管およびハンドリングを、露点０℃以下の環境で行うことにより、材料への水分付着や吸湿を防止している。
これにより、真空蒸着による蒸着系内に持ち込まれる水分量を低減し、さらに、蒸着系内における水分圧を一定レベル以下に管理することができる。その結果、蒸着中における蒸着源、蒸着粒子、および蛍光体膜の水分による変質を抑え、かつ、蒸着源や蒸着粒子の組成を一定にして蒸着レートの安定化等を図ることができ、品質が一定で特性の優れた蛍光体膜を有する、高品質な蛍光体パネルを、安定して製造することを可能にしている。
なお、保管およびハンドリング環境の露点は、露点−１０℃以下、特に、露点−２０℃以下とするのが好ましい。
【００３５】
ここで、材料の吸湿性が高い場合には、保管環境の露点を０℃以下にしても、保管中に、若干、吸湿してしまう場合がある。
例えば、本発明に好適な輝尽性蛍光体として例示した前述のＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体膜であれば、臭化セシウムと臭化ユーロピウムを蒸着源として用いる多元の真空蒸着を行うのが好ましいが、臭化ユーロピウムは吸湿性が高く、露点が１０℃を超える環境では、容易に吸湿して潮解してしまう。
【００３６】
このような吸湿性の高い材料、例えば、露点１０℃で潮解してしまうような材料の場合には、透湿度の低いシート材で真空パックした状態で、保管するのが好ましい。
真空パックするシート材には、特に限定はなく、透湿度が十分に低いものであれば、ポリマーコートしたアルミニウムシートやポリマーシート等、各種のシート材が利用可能である。具体的には、４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度が２０ｇ／（ｍ２　×ｄａｙ）以下のシート材、特に、０．１ｇ／（ｍ２　×ｄａｙ）以下のシート材を用いて、材料を真空パックするのが好ましい。
【００３７】
材料の保管およびハンドリングする環境の露点を０℃以下に保つ方法には、特に限定はなく、保管場所や生産設備の構成や環境等に応じて、公知の方法が各種利用可能である。
一例として、材料の保管場所や保管用ケース、治具への装着場所など、材料が存在する空間（環境内）を、露点０℃以下のドライエアで満たす、露点０℃以下のドライエアを連続もしくは断続的に流す、エアコンディショナ等による除湿を行う等によって、環境の露点を０℃以下とする方法が例示される。また、雰囲気調整がされていない露点が０℃を超える環境で材料を移動する必要が場合には、十分な防湿性および密閉性を有するケースを用い、環境露点が０℃以下の場所で、内部の露点を０℃以下とした前記ケースに材料を収容して、移動する方法が例示される。
【００３８】
本発明の製造方法において、保管期間には、特に限定はないが、本発明者の検討によれば、上記条件であれば、保管期間が３カ月以内であれば、ほとんどの材料で、安定して高品質な蛍光体パネルを製造することができる。なお、保管環境の露点が低いほど、長期にわたる保管が可能であるのは、言うまでもない。
また、ハンドリングにかかる時間は、作業によって様々であるが、通常は、３０分以内である。
【００３９】
本発明の製造方法においては、このように保管およびハンドリングされた基板および蒸着源を真空蒸着装置に装填して、真空蒸着によって、輝尽性蛍光体からなる蛍光体膜を形成する。
なお、ハンドリングにおける上記条件を満たし、かつ、より好適に蒸着系内への水分の持ち込むを防止するために、真空蒸着装置の開閉部近傍も、露点０℃以下の雰囲気とするのが好ましい。さらに、真空蒸着装置内部への水分の持ち込みをより好適に防止するために、材料の装填中（装置開放中）には、真空蒸着装置の内部に、露点０℃以下、好ましくは露点−１０℃以下、より好ましくは露点−２０℃以下のドライエアを吹き込み、開閉部から装置内部の空気が放出され続ける状態とするのが好ましい。
【００４０】
前述のように、真空蒸着の方法や成膜条件等には、特に限定はなく、蒸着源や蒸着源の加熱手段、目的とする膜圧や成膜レート等に応じて、適宜、決定すればよい。
【００４１】
従って、真空蒸着による蛍光体膜の成膜は、一元の真空蒸着で行ってもよく、蒸着源を複数有する多元の真空蒸着で行ってもよい。
特に、高品質の蛍光体膜が得られる等の点で、蛍光体成分の蒸着源と、付活剤（賦活剤：ａｃｔｉｖａｔｏｒ）成分の蒸着源とを別々にして、蛍光体成分と付活剤成分とを独立に加熱蒸発する多元の真空蒸着が好ましい。例えば、前述のＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体膜であれば、蛍光体成分の蒸着源として臭化セシウム（ＣｓＢｒ）を、付活剤成分の蒸着源として臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒｘ　（ｘは、通常、２〜３））を用いて、両者を独立して加熱蒸発させる、多元の真空蒸着が好ましい。なお、付活剤成分の蒸着源となる臭化ユーロピウムには、臭化アンモニウムを１０ｗｔ％程度添加してもよい。
【００４２】
蒸着源の加熱方法にも、特に限定はなく、電子銃等を用いる電子線（ＥＢ）加熱でも、抵抗加熱でも、誘導加熱でもよい。
また、多元の真空蒸着を行う場合には、全ての蒸着源を同様の加熱手段（例えば、電子線加熱）で加熱蒸発してもよく、あるいは、蛍光体成分の蒸着源は電子線加熱で加熱し、付活剤成分の蒸着源は抵抗加熱で加熱する等、異なる加熱手段で蒸着を行ってもよい。
【００４３】
加熱手段の出力にも、特に限定はなく、蒸着速度等に応じて、適宜、決定すればよい。
例えば、電子線の加速電圧は−１ｋＶ〜−３０ｋＶ程度とすればよく、また、エミッション電流は、一元蒸着もしくは多元蒸着の蛍光体成分の蒸発では５０ｍＡ〜２Ａ程度、多元蒸着の付活剤成分の蒸発では１０ｍＡ〜５００ｍＡ程度とすればよい。蛍光体成分と付活剤成分とを別々に蒸発させる多元の真空蒸着では、各電子線のエミッション電流のコントロールによって、蛍光体膜における輝尽性蛍光体の組成成分比を調整できる。
【００４４】
成膜条件にも、特に限定はなく、使用する蒸着源や、形成する蛍光体膜の組成等に応じて、適宜、決定すればよい。一例として、１×１０−５Ｐａ〜１×１０−２Ｐａの真空度で、０．０５μｍ／ｍｉｎ〜３００μｍ／ｍｉｎの成膜速度で成膜を行うのが好ましい。なお、多元の真空蒸着を行う際には、母体成分と付活剤成分の量比が目的範囲となるように、例えば前記エミッション電流のコントロールによって、両蒸着源の蒸発速度を制御する。
また、基板の加熱等によって、成膜中に、形成された蛍光体膜を５０℃〜４００℃に加熱してもよい。
さらに、形成する蛍光体膜の厚さにも、限定はないが、１０μｍ〜１０００μｍ、特に、２０μｍ〜８００μｍが好ましい。
【００４５】
以上、本発明の輝尽性蛍光体パネルの製造方法について説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
【００４６】
【実施例】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されないのは言うまでもない。
【００４７】
［実施例］
（輝尽性）蛍光体パネルの材料、すなわち、基板として面積１０ｃｍ×１０ｃｍのガラス板（以下、ガラス基板とする）を、蒸着源としてＣｓＢｒタブレット（蛍光体成分）、および、ＥｕＢｒ２　タブレット（付活剤成分）を、それぞれ用意した。
なお、ＣｓＢｒタブレットは、ＣｓＢｒ粉末を圧力８０ＭＰａで加圧圧縮してタブレット状に成形した後に、２００℃で２時間の真空加熱処理を行って作製した。他方、ＥｕＢｒ２　タブレットは、ＥｕＢｒ２　粉末にＮＨ４　Ｂｒ粉末を１０ｗｔ％混入した粉末を調製し、この粉末をタブレット状の型に充填し、窒素雰囲気下で３０分間８００℃に加熱して溶融した後、冷却硬化して作製した。
【００４８】
これらの材料を３週間保管した。
３週間保管した後、基板ホルダへの装着等を行って、ガラス基板を真空蒸着装置（真空チャンバ）内の所定位置に装着し、さらに、秤量等を行って、ＣｓＢｒタブレットおよびＥｕＢｒ２　タブレットも、真空蒸着装置内の所定位置に装填した。
なお、材料装填の際の真空蒸着装置の開放時間は１０分とした。さらに、真空蒸着装置の開放時には、開閉口近傍の露点を−１０℃にコントロールし、さらに、装置内部には露点−２０℃のドライエアを流し続けた。
また、各材料の移動、ガラス基板のホルダへの装着、タブレットの秤量など、各操作におけるハンドリング時間は、一律で２０分とした。
【００４９】
真空蒸着装置を閉塞した後、基板ホルダのシースヒータにより基板を蒸着面の反対側から２５０℃に加熱し、かつ、真空排気ポンプによって真空蒸着装置内を真空排気を開始した、真空排気を開始した後、１０分後に装置内の全圧および水分圧を測定した。
圧力測定後、装置内が５×１０−４（５．０Ｅ−０４）Ｐａの真空度となった時点で、各蒸着源に別々の電子銃から加速電圧−４ｋＶの電子線の照射（加熱）を開始し、ガラス基板上にＣｓＢｒ：Ｅｕ輝尽性蛍光体を１０μｍ／ｍｉｎの速度で堆積させ、厚さ５００μｍの蛍光体膜を成膜した。なお、各蒸着源に対応する電子銃のエミッション電流を調節することにより、蒸発量を制御して、輝尽性蛍光体におけるＥｕ／Ｃｓモル濃度比が３×１０−３／１となるように制御した。
【００５０】
蛍光体膜を成膜した後、雰囲気制御機能を有する焼成炉によって、蛍光体パネルに、Ｎ２　雰囲気中における２００℃の加熱処理を２時間行い、蛍光体パネルを作製した。
【００５１】
このような蛍光体パネルの作製を、表１に示すように、材料の保管環境の露点、および、ハンドリング環境の露点のみを種々変更して行い、比較例１〜５、ならびに、発明例１および２の計７種の蛍光体パネルを作製した。
【００５２】
得られた各蛍光体パネルについて、蛍光体膜における輝尽性蛍光体結晶の柱状性を走査型電子顕微鏡で確認し、また、輝尽発光特性を測定した。
なお、輝尽発光特性は、蛍光体パネルの全面に、管電圧８０ｋＶにて１００ｍＲのＸ線を照射し、次いで、波長６５０ｎｍのレーザ光によって輝尽性蛍光体パネルの全面を二次元的に走査して、発生した輝尽発光光をフォトマルチプライヤで測定し、輝尽発光光の平均強度を算出することで行った。発明例１の輝尽発光強度を１００として、各サンプルの輝尽発光強度を評価した。
柱状性および輝尽発光強度（発光）の評価結果を表１に示す。
【００５３】
また、各タブレットおよび基板を３週間保管した環境の露点［℃］、ハンドリング（ＨＤ）を行った環境の露点［℃］、および、成膜時における真空引き開始１０分後の装置内の全圧および水分圧［Ｐａ］も、表１に併記する。
なお、表１において、保管条件の「Ｐ」とは、４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度が０．１ｇ／（ｍ２　×ｄａｙ）以下のポリマーコートしたアルミニウムシートによって真空パックした状態で、保管を行ったものである。
【００５４】
【表１】
2004093243.tif 000002
【００５５】
上記表１に示されるように、蒸着源および基板の保管、ならびに、ハンドリングの環境が１つでも露点０℃を超える比較例は、輝尽性蛍光体の結晶の融着が見られ、すなわち良好な柱状性を有さず、さらに、輝尽発光強度も、発明例１に比して大幅に低下している。
これに対し、蒸着源および基板の保管、ならびに、ハンドリングの環境が、全て露点０℃以下である本発明例によれば、輝尽性蛍光体の結晶は、独立柱状の良好な結晶性を有し、さらに、輝尽発光強度も良好である。なお、結晶の柱状性は、蛍光体パネルによる再生画像の鮮鋭性に影響を与え、結晶の柱状性が良好なほど、鮮鋭性の良好な再生画像を得ることができる。
以上の結果より、本発明の効果は、明らかである。
【００５６】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明の輝尽性蛍光体パネルの製造方法によれば、輝尽性蛍光体膜の成膜中における水分の悪影響を好適に排除することができ、特性の優れた輝尽性蛍光体膜を有する高品質な輝尽性蛍光体パネルを、安定して製造することができる。