(57)【要約】【課題】一対の大基板から採取される液晶素子であって、高いレベルが要求される各種機能膜同士の位置合わせ精度を煩雑な測長作業を行わずに容易に把握できる液晶素子を提供する【解決手段】ブラックマスク８のコーナー部外縁８ａ、８ｂが、１辺が５０μｍの正方形をなす凸部８ｃを１００μｍピッチで並べた凹凸状の第１の目盛りマークＭ1に形成され、これに重なるように、セグメント電極膜には直径が４０μｍの円形の第２目盛り印１０を９９μｍのピッチで並べた第２の目盛りマークＭ2が、コモン電極膜には一辺が４０μｍの正方形の第３目盛り印１２を９９μｍのピッチで並べた第３の目盛りマークＭ3が、それぞれ設けられている。これら第２、第３目盛り印１０、１２の対応する空白凹部８ｄに対する相対位置から、セグメント電極とコモン電極のブラックマスクに対する設置位置精度を容易に把握できる。【選択図】    図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号電極とこの信号電極に対向する走査電極と、及びブラックマスクとを備え、
液晶層を介して対向配置された一対の基板の一方に、予め定めた第1のピッチで繰り返し形成された複数のパターンにより第1の位置認識マークが形成され、
前記一対の基板の他方に、前記第1の位置認識パターンに対応する位置に前記第１のピッチとは異なる第２のピッチの繰り返しパターンからなる第２の位置認識マークが形成され、
重ね合わされた前記第1と第２の位置認識マークの繰り返しパターンのピッチの違いにより、前記一対の基板の位置精度を表示することを特徴とする液晶素子。
【請求項２】
一対の基板にそれぞれ形成された前記位置認識マークは、一方の基板に設けられた複数の第１の図形印を第１のピッチで並設してなる第１の目盛りマークと、他方の基板に設けられた前記第１の図形印と異なる複数の第２の図形印を前記第１のピッチとは異なる第２のピッチで並設してなる第２の目盛りマークとからなることを特徴とする請求項１に記載の液晶素子。
【請求項３】
前記一対の基板に一方に形成されるパターニングされた薄膜を更に有し、このパターニングされた薄膜により第３の位置認識マークが形成され、第３の位置認識マークは、前記第１及び第２の図形印と異なる第３の図形印を前記第１のピッチと前記第２のピッチの何れかと同じピッチで並設してなることを特徴とする請求項２に記載の液晶素子。
【請求項４】
前記パターニングされた薄膜は、一方の基板に形成されたコモン電極膜であり、このコモン電極膜により前記第３の位置認識マークが形成され、第２の位置認識マークはセグメント電極膜により形成され、前記第１の位置認識マークがブラックマスク膜により形成されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一対の所謂大型マザー基板を複数の素子領域毎に液晶層を挟持させて貼り合わせた後に個々の素子に切断されて得られる液晶素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、大判のマザー基板上に複数個の液晶素子領域を設定し、各液晶素子領域毎に透明電極やブラックマトリクスやカラーフィルタ等の各種機能膜パターン及び液晶を封止する為のシール材等を形成し、これに同様に透明電極等の各種機能膜パターンが形成された前記マザー基板と対をなす大判の対向基板を貼り合せ、この後、個々の液晶素子に分断することにより、多くの液晶素子が短時間で効率良く製造されている。（例えば特許文献１参照）
【０００３】
【特許文献１】
特開２００１−３３０８１９号公報（３頁、図１）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述の製造方法では、大判のマザー基板とその対向基板（以下、大基板という）を貼り合せる際に、それら各大基板に設けたアライメントマークを基準として位置合わせを行う。この場合、各大基板の液晶素子領域外の例えば対角コーナー部等に、複数対のアライメントマークを設け、これら複数対のアライメントマークを目視しつつ位置合わせを行う。
【０００５】
しかし、それら複数対のアライメントマークを正確に整合させて貼り合せを行っても、それぞれの液晶素子領域における各種機能膜パターン同士の位置合わせ状態は一様でなく、切断後に得られた個々の液晶素子には各種機能膜パターン同士が比較的大きく位置ずれした液晶素子も含まれている。
【０００６】
そこで、切離された液晶素子における各種機能膜パターン間の位置合わせ精度を把握するには、切離された各液晶素子毎に顕微鏡等の光学計測器を用いて、各種機能膜間の位置ずれ量をμｍレベルで測長する必要があった。この測長作業は、極めて煩雑で熟練を要する作業であり、液晶素子の製造工数をアップさせる大きな要因となっていた。
【０００７】
本発明は、一対の大基板から採取される液晶素子であって、高いレベルが要求される各種機能膜同士の位置合わせ精度を煩雑な測長作業を行わずに容易に把握できる液晶素子を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶素子は、信号電極とこの信号電極に対向する走査電極と、及びブラックマスクとを備え、液晶層を介して対向配置された一対の基板の一方に、予め定めた第1のピッチで繰り返し形成された複数のパターンにより第1の位置認識マークが形成され、前記一対の基板の他方に、前記第1の位置認識パターンに対応する位置に前記第１のピッチとは異なる第２のピッチの繰り返しパターンからなる第２の位置認識マークが形成され、重ね合わされた前記第1と第２の位置認識マークの繰り返しパターンのピッチの違いにより、前記一対の基板の位置精度を表示することを特徴とするものである。
【０００９】
本発明によれば、信号電極とこの信号電極に対向する走査電極と、及びブラックマスクとを備え、液晶層を介して対向配置された一対の基板の一方に、予め定めた第1のピッチで繰り返し形成された複数のパターンにより第1の位置認識マークが形成され、前記一対の基板の他方に、前記第1の位置認識パターンに対応する位置に前記第１のピッチとは異なる第２のピッチの繰り返しパターンからなる第２の位置認識マークが形成され、重ね合わされた前記第1と第２の位置認識マークの繰り返しパターンのピッチの違いにより、前記一対の基板の位置精度を表示するから、複数の単位基板を採取可能な面積を備えた一対の大基板を個々の単位基板領域毎に液晶層を挟持させて接合した後に個々の単位基板毎に切離して得られる液晶素子（以下、多数個採り液晶素子という）であっても、個々の液晶素子毎の基板位置精度を容易に把握することができる。
【００１０】
本発明の液晶素子においては、請求項２に記載のように、一対の基板にそれぞれ形成された前記位置認識マークを、一方の基板に設けられた複数の第１の図形印を第１のピッチで並設してなる第１の目盛りマークと、他方の基板に設けられた前記第１の図形印と異なる複数の第２の図形印を前記第１のピッチとは異なる第２のピッチで並設してなる第２の目盛りマークとで構成することが好ましく、これにより、一対の基板の相対設置位置のずれの程度を定量的に容易に把握することができる。
【００１１】
そして、請求項３に記載のように、前記一対の基板に一方に形成されるパターニングされた薄膜を更に有し、このパターニングされた薄膜により第３の位置認識マークが形成され、第３の位置認識マークは、前記第１及び第２の図形印と異なる第３の図形印を前記第１のピッチと前記第２のピッチの何れかと同じピッチで並設してなるものであることがより好ましい。これにより、一対の基板に一方に形成される薄膜の相対設置位置精度も容易に把握することができる。
【００１２】
さらにその場合、請求項４記載のように、前記パターニングされた薄膜は、一方の基板に形成されたコモン電極膜であり、このコモン電極膜により前記第３の位置認識マークが形成され、第２の位置認識マークはセグメント電極膜により形成され、前記第１の位置認識マークがブラックマスク膜により形成されていることが好ましく、これにより、透明導電膜で形成された目盛りマークであっても正確にブラックマスク膜で形成された基準目盛りマークに対する相対位置を視認することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態としての液晶表示素子について、図１乃至図５に基づき説明する。
まず、本実施形態の液晶表示素子を大基板を用いて製造する方法を、図１に基づき説明する。
【００１４】
図１は、一対の大基板１、２を貼り合せた状態を示す模式的平面図である。本例の各大基板１、２は長方形をなし、それぞれ６個の単位基板を採取できる大きさを備えており、図示するように、大基板１には細線で示す６個の長方形をなす単位基板領域１ａ´〜１ｆ´が、もう一方の大基板２には、点線で示す６個の長方形をなす単位基板領域２ａ´〜２ｆ´が、それぞれ２行×３列の配置で所定位置に区画設定されている。
【００１５】
そして、各大基板１、２の対向する一対のコーナー部には、それぞれ、アライメントマーク３ａ、３ｂ及び４ａ、４ｂが設置されている。本例では、一方の大基板１に４個の円を正方形の各コーナーに配置した模様のアライメントマーク３ａ、３ｂを設置し、他方の大基板２に十字形のアライメントマーク４ａ、４ｂを設置してあり、図示されるように、大基板１、２が正確に位置合わせされて貼り合わされた状態においては、対応するアライメントマーク３ａと４ａ及び３ｂと４ｂとがそれぞれのマークの中心を一致させた配置となる。
【００１６】
上述の各大基板１、２の一方の表面には、図１に示されていないが、透明電極や配向膜等の各種機能膜パターンが形成されている。本例では、一方の大基板１に、セグメント電極、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、配向膜等の機能膜パターンが各単位基板領域１ａ´〜１ｆ´毎に積層形成され、他方の大基板２には、コモン電極、配向膜等の機能膜パターンが各単位基板領域２ａ´〜２ｆ´毎に積層形成されている。
【００１７】
次に、各種機能膜パターンが積層形成された一対の大基板１、２を、機能膜積層面を対向させシール材（不図示）を介して貼り合わせる。この際、上述したように各大基板１、２にそれぞれ設けられているアライメントマーク３ａ、３ｂ及び４ａ、４ｂを整合させつつ両大基板１、２を正確に位置合わせして貼り合わせる。この後、各大基板１、２を単位基板領域１ａ´〜１ｆ´、２ａ´〜２ｆ´を区画するラインに沿って切断することにより、６個の液晶表示素子が切り出される。
【００１８】
図２は、上述のようにして製造された１個の液晶表示素子ＬＣを示す平面図である。ここで、各単位基板１ａ、２ａの互いに直交する縁辺の延在方向をそれぞれ±ｘ方向、±ｙ方向と定義する。基板液晶表示素子ＬＣの一対の単位基板１ａ、２ａには、互いに一端部を対向基板から突出させて、突出部１ａ1、２ａ1がそれぞれ形成されている。セグメント電極（不図示）が設けられた単位基板１ａの突出部１ａ1には、セグメント電極の駆動回路素子５が搭載されており、これら駆動回路素子５は各セグメント電極にセグメント配線６を介して接続されている。コモン電極（不図示）が設けられた単位基板２ａの突出部２ａ1には、コモン電極の駆動回路素子７が搭載され、これら駆動回路素子７も同様にコモン配線（不図示）を介してコモン電極に接続されている。
【００１９】
両単位基板１ａ、２ａが対向する領域には、セグメント電極とコモン電極との対向部に形成される複数の画素が所定の配列で配置されてなる長方形の表示領域Ａｖが設けられている。この表示領域Ａｖは、その外周に沿って表示領域Ａｖを取り囲む枠状に形成されたブラックマスク８により区画設定されている。なお、ブラックマスク８は、図示されていないが、各画素間にも形成されている。
【００２０】
図３は、図２のＡ部を拡大して液晶表示素子ＬＣにおけるブラックマスク８のコーナー部の構成を示す模式的平面図である。なお、図３では、説明の都合上、セグメント電極が設けられる側の単位基板（以下、セグメント基板という）１ａとブラックマスク８の表示領域を囲む外枠部分のうちの１コーナー部分のみを示し、他の部材は省略してある。
【００２１】
セグメント基板１ａの、コモン電極が設けられる基板（以下、コモン基板という）２ａに対向させる領域の周囲には、僅かな幅のマージン領域Ａｍを残して、ブラックマスク８が設置されている。このブラックマスク８のコーナー部分には、ブラックマスク８の設置位置を確認するための位置認識マークとして、第１の目盛りマークＭ1が設けられている。この第１の目盛りマークＭ1は、ブラックマスク８の互いに直角をなして隣り合う一対の外縁８ａ、８ｂのコーナー近傍部分を、一辺が５０μｍの正方形をなす第１の図形印としての凸部８ｃが１００μｍのピッチＰ1で横に並んだ凹凸状に形成したものである。この場合、それぞれの外縁８ａ、８ｂに凸部８ｃと凹部（ブラックマスク空白部）８ｄが１０個づつ形成され、第１の目盛りマークＭ1全体ではコーナーエッジ部に形成される凹部（以下、基準凹部という）８ｄ0を加えた２１個の凹部８ｄと２０個の凸部８ｃが形成されている。なお、本実施形態では、この第１の目盛りマークＭ1を、ブラックマスク８の４個のコーナーにそれぞれ設けてある。
【００２２】
また、図４に示すように、上記セグメント基板１ａのブラックマスク（不図示）を設けた面には、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）等の透明導電膜を被着した後にこれをエッチング等によりパターニングすることにより、セグメント電極パターン（不図示）、ダミー電極パターン９、及びセグメント電極の設置位置を確認するための位置認識マークである第２の目盛りマークＭ2が、形成されている。なお、図４は、図３と同様に、図２のＡ部を拡大してセグメント基板１ａと透明導電膜パターンのみを示した模式的平面図である。
【００２３】
図４において、ダミー電極９は、図２に示すブラックマスク８の表示領域外周に形成した外枠部分の領域にこれを覆って積層されており、図示されているように、セグメント電極（不図示）の幅と同じ幅の複数のストライプ導電膜をセグメント電極と同じピッチで、本例では基板端面に対し斜めに傾けた方向に延在させ、並設されている。このように、表示領域の外周の非表示領域にもダミー電極９をセグメント電極と同じ幅で同じピッチに並設するのは、表示領域とその外周の非表示領域の双方の領域における基板間隙を所期の一定の間隙に保持し易くするためである。
【００２４】
そして、第２の目盛りマークＭ2が、ダミー電極９の形成領域のコーナー部における一対の外縁に沿って形成されている。この第２の目盛りマークＭ2は、２１個の直径が４０μｍの円をなす第２目盛り印１０を、９９μｍのピッチＰ2で前記第１の目盛りマークＭ１に対応する領域に並べたものである。ここで、この第２の目盛りマークＭ2は、ブラックマスク８とセグメント電極がセグメント基板１ａ上の所定位置に適正に配置された場合に、コーナーエッジ部に位置する第２目盛り印（以下、基準第２目盛り印という）１０ａが前述した第１の目盛りマークＭ1の基準凹部８ｄ0の中央に位置するように、形成されている。
【００２５】
一方、コモン基板２ａのセグメント基板１ａに対向させる面には、同じくＡ部の模式的拡大平面図である図５に示すように、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）等の透明導電膜を積層した後にこれをフォトリソグラフィー法等によりパターニングして、コモン電極（不図示）、ダミー電極１１、及びコモン電極の設置位置を確認するための位置認識マークである第３の目盛りマークＭ3が、形成されている。ダミー電極１１は、セグメント基板に設けられているブラックマスクの表示領域を囲む外枠部分に対向する領域に、コモン電極（不図示）の幅と同じ幅の複数のストライプ導電膜をコモン電極と同じピッチで、セグメント電極側のダミー電極９（図４参照）と同様に基板斜め方向へ平行に延在させて並設されている。このように、ダミー電極１１をコモン電極と同じ幅で同じピッチに並設することにより、セグメント基板側の対向領域にも前述したようにダミー電極９を設けてあるから、表示領域とその外周の非表示領域における双方の基板間隙（ギャップ）が所期の一定の間隙に保持される。
【００２６】
そして、第３の目盛りマークＭ3が、ダミー電極１１形成領域のコーナー部における一対の外縁に沿って形成されている。この第３の目盛りマークＭ3は、２１個の一辺が４０μｍの正方形をなす第３目盛り印１２を、９９μｍのピッチＰ3で前記第１、第２の目盛りマークＭ1、Ｍ2と対応する領域に並べたものである。ここで、この第３の目盛りマークＭ3も、第２の目盛りマークＭ2と同様に、コモン電極がコモン基板２ａ上の所定位置に適正に配置されて所期の画素配列が形成された場合に、コーナーエッジ部に位置する第３目盛り印（以下、基準第３目盛り印という）１２ａが前述した第１の目盛りマークＭ1のコーナーエッジ部に形成された凹部８ｄ0の中央に位置するように、形成されている。なお、１３はコモン基板２ａのコーナーを示すコーナー印であり、基板を切断線に沿って切断する場合の目安となる。
【００２７】
次に、本液晶表示素子におけるセグメント電極とコモン電極及びブラックマスクの設置位置精度を把握する方法について、図６乃至図９に基づき説明する。なお、図６乃至図９は、分かり易く説明するため、液晶表示素子における第１乃至第３の目盛りマークＭ1〜Ｍ3だけを抽出し、且つ、第２、第３の目盛りマークＭ2、Ｍ3の目盛り印ピッチを９５μｍと実際の製品（目盛り印ピッチは９９μｍ）より小さくして示した模式的説明図である。また、第１の目盛りマークＭ1の凹部８ｄ、第２、第３の目盛りマークＭ2、Ｍ3の第２、第３の目盛り印１０、１２は、それぞれ、エッジの基準印からＸ方向に並ぶものを、＋ｘ方向へ順に８ｄ0、８ｄ1、８ｄ2・・・、１０ａ、１０ｂ、１０ｃ・・・、１２ａ、１２ｂ、１２ｃ・・・とし、エッジの基準印からＹ方向に並ぶものを、＋ｙ方向へ準に８ｄ0、８ｄ1´、８ｄ2´・・・、１０ａ、１０ｂ´、１０ｃ´・・・、１２ａ、１２ｂ´、１２ｃ´・・・として、区別する。
【００２８】
まず、図２に示した液晶表示素子ＬＣのＡ部を顕微鏡等で観察し、図６に示すように、第２目盛りマークＭ2の基準第２目盛り印１０ａと、第３目盛りマークＭ3の基準第３目盛り印１２ａとが、共に、第１目盛りマークＭ1の基準凹部８ｄ0の中央に位置していたら、他の少なくと１個の例えば対角コーナー部Ｂ（図２参照）を同様に顕微鏡観察する。そして、このコーナー部Ｂにおいても３種の目盛りマークＭ1〜Ｍ3の重なり状態がＡ部と同じであれば、この液晶表示素子ＬＣはブラックマスク８、セグメント電極及びコモン電極の３種の機能膜が全て所定位置に正確に設置されているものであると認識される。
【００２９】
次に、図７に示すように、第２の目盛りマークＭ2の基準第２目盛り印１０ａだけが基準凹部８ｄ0の中心から＋ｘ方向（図中右方向）にずれ、第２目盛り印１０のうちの基準第２目盛り印１０ａからそのずれ方向（＋ｘ方向）に沿って３番目の第２目盛り印１０ｄが対応する凹部８ｄ3の中心に位置している状態が観察されたとする。この場合は、セグメント電極の設置位置がブラックマスク８に対し液晶表示素子ＬＣの＋ｘ方向へ５μｍ（第１の目盛りマークＭ1と第２目盛りマークＭ2とのピッチ差）の３倍の１５μｍだけずれていると判断される。なお、実際の製品では、第１の目盛りマークＭ1と第２目盛りマークＭ2とのピッチ差は１μｍであるから、セグメント電極がブラックマスク８に対し３μｍだけ＋ｘ方向へずれていることになる。
【００３０】
また、図８に示すように、第３の目盛りマークＭ3の基準第３目盛り印１２ａだけが基準凹部８ｄ0の中心から＋ｙ方向（図中下方向）にずれ、第３目盛り印１２のうちの基準第３目盛り印１２ａからそのずれ方向（＋ｙ方向）に沿って２番目の第３目盛り印１２ｃが対応する凹部８ｄ´２の中心に位置している状態が観察されたとする。この場合は、コモン電極の設置位置がブラックマスク８に対し液晶表示素子ＬＣの＋ｙ方向へ５μｍ（第１の目盛りマークＭ1のピッチと第３目盛りマークＭ3のピッチとの差）の２倍の１０μｍだけずれていると判断される。
【００３１】
さらに、図９に示すように、基準第２目盛り印１０ａから＋ｙ方向へ３番目の第２目盛り印１０ｄ´が対応する凹部８ｄ´3の中心に位置し、且つ、基準第３目盛り印１２ａから＋ｘ方向に３番目の第３目盛り印１２ｄが対応する凹部８ｄ3のＸ方向中心に位置すると共に、＋ｙ方向に２番目の第３目盛り印１２ｃ´が対応する凹部８ｄ´2のＹ方向中心に位置した、状態が観察されたとする。この場合は、セグメント電極の設置位置がブラックマスク８に対して＋ｙ方向へ１５μｍずれ、且つ、コモン電極の設置位置がブラックマスク８に対し＋ｘ方向へ１５μｍずれるとともに＋ｙ方向へ１０μｍずれていると判断される。
【００３２】
また、図１０（ａ）に示すように、Ａ部の観察において、第２の目盛りマークＭ2の基準第２目盛り印１０ａが基準凹部８ｄ0の中心から−ｘ方向（図中左方向）にずれた状態が観察されたとする。この場合は、更に、Ａ部の対角コーナーのＢ部（図２参照）を観察する。このＢ部の観察において、図１０（ｂ）に示すように、基準第２目盛り印１０ａから−ｘ方向へ３番目の第２目盛り印１０ｄが対応する凹部８ｄ3の中心に位置した状態が観察されたら、セグメント電極の設置位置がブラックマスク８に対して−ｘ方向へ１５μｍずれていると判断される。
【００３３】
以上のように、本液晶表示素子ＬＣにおいては、複数種の位置認識マークのうちの少なくとも１種の位置認識マークを空白区画を一定ピッチで並べた目盛りマークとしたから、この空白区画に対する他の位置認識マークの目盛り印の相対位置が高いコントラストで明瞭に視認され、各位置認識マークに対応する機能膜の設置位置精度を極めて容易に把握することができる。また、複数の位置認識マークをピッチの異なる目盛りを組み合わせたノギス方式の目盛りマークセットとしたから、位置ずれの度合いを定量的に正確に把握することが可能となる。更に、基板の対角コーナーにそれぞれノギス方式の目盛りマークセットを配置したから、±ｘ方向（例えば表示画面の左右方向）及び±ｙ方向（例えば表示画面の上下方向）の４方向に沿う位置ずれを定量的に容易に把握することが可能となる。
【００３４】
なお、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。
例えば、位置認識マークは、３種類に限らず、２種類を一方の基板に設けてもよく、或いは、一対の基板にそれぞれ１種類づつ設けてもよい。
【００３５】
また、位置認識マークを設ける薄膜は、上記実施形態のブラックマスク、セグメント電極及びコモン電極に限らず、カラーフィルタ膜や光反射膜等を設ける液晶素子の場合は、それら光反射膜やカラーフィルタ膜にも位置認識マークを設けるのがよい。
【００３６】
さらに、本発明に係わる位置認識マークは、一対の基板の対向面側に設ける薄膜だけでなく、反対側の外面側に積層した薄膜に設けてもよい。
【００３７】
【発明の効果】
本発明の液晶素子によれば、信号電極とこの信号電極に対向する走査電極と、及びブラックマスクとを備え、液晶層を介して対向配置された一対の基板の一方に、予め定めた第1のピッチで繰り返し形成された複数のパターンにより第1の位置認識マークが形成され、前記一対の基板の他方に、前記第1の位置認識パターンに対応する位置に前記第１のピッチとは異なる第２のピッチの繰り返しパターンからなる第２の位置認識マークが形成され、重ね合わされた前記第1と第２の位置認識マークの繰り返しパターンのピッチの違いにより、前記一対の基板の位置精度を表示するから、複数の単位基板を採取可能な面積を備えた一対の大基板を個々の単位基板領域毎に液晶層を挟持させて接合した後に個々の単位基板毎に切離して得られる液晶素子であっても、個々の液晶素子毎の基板位置精度を容易に把握することができる。
【００３８】
また、本発明の液晶素子においては、請求項２に記載のように、一対の基板にそれぞれ形成された前記位置認識マークを、一方の基板に設けられた複数の第１の図形印を第１のピッチで並設してなる第１の目盛りマークと、他方の基板に設けられた前記第１の図形印と異なる複数の第２の図形印を前記第１のピッチとは異なる第２のピッチで並設してなる第２の目盛りマークとで構成することにより、一対の基板の相対設置位置のずれの程度を定量的に容易に把握することができる。
【００３９】
そして、請求項３に記載のように、前記一対の基板に一方に形成されるパターニングされた薄膜を更に有し、このパターニングされた薄膜により第３の位置認識マークが形成され、この第３の位置認識マークを、前記第１及び第２の図形印と異なる第３の図形印を前記第１のピッチと前記第２のピッチの何れかと同じピッチで並設したものとすることにより、一対の基板に一方に形成される薄膜の相対設置位置精度も容易に把握することができる。
【００４０】
さらにその場合、請求項４記載のように、前記パターニングされた薄膜は、一方の基板に形成されたコモン電極膜であり、このコモン電極膜により前記第３の位置認識マークが形成され、第２の位置認識マークはセグメント電極膜により形成され、前記第１の位置認識マークがブラックマスク膜により形成されていることにより、透明導電膜で形成された目盛りマークであっても正確にブラックマスク膜で形成された基準目盛りマークに対する相対位置を視認することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態としての液晶表示素子を切り出す前の貼り合わされた一対の大基板を示す平面図である。
【図２】本発明の実施形態としての液晶表示素子を示す平面図である。
【図３】図２におけるＡ部のブラックマスクを拡大して示す部分平面図である。
【図４】図２におけるＡ部のセグメント電極を拡大して示す部分平面図である。
【図５】図２におけるＡ部のコモン電極を拡大して示す部分平面図である。
【図６】図２のＡ部におけるブラックマスクとセグメント電極及びコモン電極の各位置認識マークの重なり具合の一例を示す模式的説明図である。
【図７】図２のＡ部におけるブラックマスクとセグメント電極及びコモン電極の各位置認識マークの重なり具合の他の例を示す模式的説明図である。
【図８】図２のＡ部におけるブラックマスクとセグメント電極及びコモン電極の各位置認識マークの重なり具合の更に他の例を示す模式的説明図である。
【図９】図２のＡ部におけるブラックマスクとセグメント電極及びコモン電極の各位置認識マークの重なり具合のまた更に他の例を示す模式的説明図である。
【図１０】図２の液晶表示素子におけるブラックマスクとセグメント電極及びコモン電極の各位置認識マークの重なり具合の更にまた他の例を示す模式的説明図で、（ａ）はＡ部の、（ｂ）はＢ部の、各重なり具合を示している。
【符号の説明】
１、２…大基板
１ａ、２ａ…単位基板
３ａ、３ｂ、４ａ、４ｂ…アライメントマーク
８…ブラックマスク
８ｃ…凸部
８ｄ…凹部（空白部）
９、１１…ダミー電極
１０…第２目盛り印
１２…第３目盛り印
Ｍ1…第１の目盛りマーク
Ｍ2…第２の目盛りマーク
Ｍ3…第３の目盛りマーク
【図１】
2004212490.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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