(57)【要約】【課題】液晶層とコレステリック液晶カラーフィルタ層との接触により発生する液晶のスウェリング現象及び液晶層が汚染されるのを防止する。【解決手段】コレステリック液晶カラーフィルタが形成された第１基板と；薄膜トランジスタが形成された第２基板と；上記第１、第２基板中いずれかひとつの基板上に形成されたシールパターンと；上記コレステリック液晶カラーフィルタ上部に上記シールパターンと一定部分重畳するように形成された第１電極と；上記第２基板下部に形成されている第２電極と；上記第１、第２電極間に注入されている液晶層を含む。【選択図】図６ａ
2004212965.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コレステリック液晶カラーフィルタを有する第１基板と；
薄膜トランジスタを有する第２基板と；
上記第１、第２基板中いずれかひとつに形成されたシールパターンと；
上記コレステリック液晶カラーフィルタ上部に形成され、上記シールパターンと一定部分重畳された第１電極と；
上記第２基板上に形成された第２電極と；
上記第１、及び第２電極間に形成された液晶層と
を含む液晶表示装置。
【請求項２】
上記液晶表示装置は反射型液晶表示装置である
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
上記液晶表示装置は透過型液晶表示装置である
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
上記コレステリック液晶カラーフィルタは単一層である
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
上記コレステリック液晶カラーフィルタは二重層である
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
上記第１電極と上記シールパターンが重畳する部分の幅は０よりは大きく上記シールパターンの幅よりは小さい
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
上記第１電極は透明導電性物質を含む
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
上記透明導電性物質がインジウム−スズ−オキサイドである
請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
上記第１電極上部に上記シールパターンと部分的に重畳する配向膜をさらに含む
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
シールパターンが形成されるシールパターン形成領域が定義された基板上部に第１配向膜を形成する段階と；
上記第１配向膜上部にコレステリック液晶カラーフィルタを形成する段階と；
上記コレステリック液晶カラーフィルタ上部に上記シールパターン形成領域と一定部分重畳される電極を形成する段階と；
上記電極上部に第２配向膜を形成する段階と
を含む液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１１】
上記基板と第１配向膜間に吸収層を形成する段階をさらに含む
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１２】
上記液晶表示装置は反射型液晶表示装置である
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１３】
上記液晶表示装置は透過型液晶表示装置である
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１４】
上記コレステリック液晶カラーフィルタが単一層である
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１５】
上記コレステリック液晶カラーフィルタが二重層である
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１６】
上記電極とシールパターン形成領域の重畳される部分の幅は０よりは大きく上記シールパターンの幅よりは小さい
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１７】
上記電極は透明導電性物質で構成される
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１８】
上記透明導電性物質がインジウム−スズ−オキサイドを含む
請求項７に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１９】
上記シールパターン形成領域は上記第２配向膜と部分的に重畳される
請求項１０に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２０】
第１基板上部に第１配向膜を形成する段階と；
上記第１配向膜上部にコレステリック液晶カラーフィルタを形成する段階と；
上記コレステリック液晶カラーフィルタ上部に第１電極を形成する段階と；
上記第１電極上部に第２配向膜を形成する段階と；
上記第１電極と一定部分重畳されるシールパターンを形成する段階と；
第２基板上部に第２電極を形成する段階と；
上記第２電極上部に第３配向膜を形成する段階と；
上記シールパターンを利用して上記第２基板を上記第１基板に合着させる段階と；
上記第１及び第２基板間に液晶層を提供する段階と
を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項２１】
上記シールパターンは上記第２配向膜と一定部分が重畳される
請求項２０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関するものであり、より詳細にはコレステリック（cholesteric）液晶カラーフィルタを利用した液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、情報化社会に時代が急発展するに従い薄型化、軽量化、低消費電力化等の優れた特性を有する平板表示装置（flat panel display）の必要性が台頭されているが、この中、液晶表示装置が解像度、カラー表示、画質等が優れノートブックやデスクトップモニターらに活発に適用されている。
【０００３】
一般的に、液晶表示装置は電界生成電極が各々形成されている２基板を２電極が形成されている面が対向するように配置し、２基板の間に液晶物質を注入した後、２電極に電圧を印加して生成される電場により液晶分子を動かすようにすることで、これに従い変化する光の透過率により画像を表現する装置である。
【０００４】
以下、添付図面を参照して一般的な液晶表示装置の構造に対し説明する。図１は、一般的な液晶表示装置の断面を一部図示したもので、図示したように、液晶表示装置は、所定間隔を有して第１基板１０と第２基板２０が配置されている。下部の第１基板１０上にはゲート電極１１とソース及びドレイン電極１５ａ、１５ｂで形成された薄膜トランジスタＴ１が形成されており、薄膜トランジスタＴ１はアクティブ層１３とオーミックコンタクト層１４をさらに含む。ここで、ゲート電極１１上部にはゲート絶縁膜１２が形成されている。
【０００５】
続いて、薄膜トランジスタＴ１上部には保護層１６が形成されて薄膜トランジスタＴ１を覆っており、保護層１６はドレイン電極１５ｂを示すコンタクトホール１６ｃを有する。次に、保護層１６上部には画素電極１７が形成されており、コンタクトホール１６ｃを通してドレイン電極１５ｂと連結されている。
【０００６】
一方、第２基板２０の内側面には薄膜トランジスタＴ１と対応する位置にブラックマトリックス２１が形成されており、その下部には赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの色が順次反復されているカラーフィルタ２２ａ、２２ｂが形成されており、その下部には透明導電物質でなされた共通電極２３が形成されている。ここで、カラーフィルタ２２ａ、２２ｂは一つの色が一つの画素電極１７と対応する。
【０００７】
次に、画素電極１７と共通電極２３との間には液晶層３０が注入されており、液晶層３０の液晶分子は画素電極１７と共通電極２３に電圧が印加された時、２電極１７、２３間に生成された電場により配列状態が変化する。この時、図示していないが画素電極１７上部と共通電極２３下部には各々配向膜が形成されており、液晶分子の初期配列状態を決定する。
【０００８】
次に、２基板１０、２０の外側、即ち、第１基板１０下部と第２基板２０上部には光透過軸に平行な方向の光のみを通過させて自然光を線偏光に変換させる第１及び第２偏光板４１、４２が配置されている。ここで、第１偏光板４１の光透過軸は第２偏光板４２の光透過軸と９０度を形成している。
【０００９】
ところが、このような液晶表示装置は自から光を発することができないので別途の光源が必要である。
【００１０】
このような液晶表示装置は光源の位置に従い透過型（transmission type）と反射型（reflection type）に分けられる。透過型液晶表示装置は液晶パネル後面、即ち、図１の第１偏光板４１下部にバックライト（back light）を配置し、バックライトより出射される光を液晶パネルに入射させて、液晶の配列に従い光の量を調節することで画像を表示する。この時、液晶表示装置の電界生成電極である画素電極１７と共通電極２３は透明導電物質で形成され、２基板１０，２０もまた透明基板で構成される。
【００１１】
反面、反射型液晶表示装置は外部の自然光や人造光を反射させることで液晶の配列に従い光の透過率を調節する形態である。このような反射型液晶表示装置は下部の画素電極１７を反射が良好にできる導電物質で形成し、上部の共通電極２３は外部光を透過させる為に透明導電物質で形成し、下部の第１偏光板４１は省略する。この時、第１基板１０は不透明であるか透過度が低い材質で構成することができる。
【００１２】
透過型液晶表示装置はバックライトのような人為的な背面光源を使用するので暗い外部環境でも明るい画像を具現することができ、反面、反射型液晶表示装置は外部光源を利用するので電力消費が少ない長所がある。
【００１３】
ところが、このような液晶表示装置で使用される上部基板のカラーフィルタは、一般的に吸収型カラーフィルタであり、光がカラーフィルタの透過時光の損失が多く発生するようになり、液晶表示装置の輝度が低下する。
【００１４】
このため、最近ではコレステリック液晶の特性を利用したコレステリック液晶（cholesteric LC）カラーフィルタ（color filter）を使用した液晶表示装置が研究及び開発されているが、このようなコレステリック液晶（ＣＬＣ）カラーフィルタを透過型液晶表示装置に利用する場合、吸収型カラーフィルタを使用する時に比べて輝度を向上させることができ、反射型液晶表示装置に利用する場合、色再現率及びコンストラスト比（contrast ratio）を高めることができる。
【００１５】
コレステリック液晶カラーフィルタはコレステリック液晶の選択反射（selective reflection）特性を利用して製作される。
【００１６】
コレステリック液晶は螺線（helix）構造をなす各々の液晶層が完璧な配向をなした時、反射鏡の機能を持つようになる。言い換えれば、コレステリック液晶の螺線軸（helical axis）が全て基板に垂直な方向に配列される場合、入射された光を反射面に垂直である法線に対し入射角と反射角が同じく反射させる（正反射：鏡反射）機能を有する。
【００１７】
ところが、コレステリック液晶は入射された全ての光を反射させるのではなく螺線ピッチ（helical pitch）に従い、いずれか特定波長のみを主に反射させる選択反射特性を有する。従って、螺線ピッチを領域別に調節すれば反射される光の色相がＲ、Ｇ又はＢの色を帯びるようになる。
【００１８】
一方、このようなコレステリック液晶カラーフィルタは反射される光の偏光状態も決定する。例えば、液晶分子らが回転軸に従い反時計方向に回転してねじれた構造（即ち、left-handed structure）を持つ時は左旋偏光された光だけが該当色相で反射することになる。
【００１９】
このようなコレステリック液晶カラーフィルタを利用した透過型液晶表示装置の断面を図２に図示したが、この時の液晶表示装置はカラーフィルタを除外して先の図１の液晶表示装置と同一な構造を持つので、同一な部分に対する説明は省略する。
【００２０】
図示したように、第１及び第２基板５０、６０が一定間隔を有して配置されており、第１基板５０下部には薄膜トランジスタＴ２と画素電極５７が形成されており、下部の第２基板６０上部にはブラックマトリックス６１とコレステリック液晶カラーフィルタ６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄ、そして共通電極６３が形成されている。
【００２１】
ここで、上記コレステリック液晶カラーフィルタ６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄは互いに異なる波長帯の光を反射させる二重層でなされており、図示していないがコレステリック液晶カラーフィルタ６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄとブラックマトリックス６１の間にはコレステリック液晶カラーフィルタ６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄの液晶分子を配列させる為の配向膜がさらに形成されている。
【００２２】
これは、図２の液晶表示装置が透過型であるので、第１基板５０上部面側にバックライト（図示していい）を配置し光が第２基板６０の下部面側に出力されるが、コレステリック液晶は螺線ピッチに従い入射された光の中、特定波長帯の光を反射させるので、望む色相の光を出力させる為には該当色相以外の光を反射させなければならないためである。
【００２３】
即ち、赤色の光を出力させる為には青色と緑色の波長帯の光を反射させるコレステリック液晶カラーフィルタを各々形成して、第１コレステリック液晶カラーフィルタで入射された光中、青色波長帯の光は反射され、残りの光のみが透過されて第２コレステリック液晶カラーフィルタに入射され、続いて第２コレステリック液晶カラーフィルタで緑色波長帯の光は反射され残りの赤色波長帯の光のみが透過されるので、望む赤色光のみを出力させることができる。
【００２４】
一方、図３にはコレステリック液晶カラーフィルタを利用した反射型液晶表示装置の断面を図示した。ここで、薄膜トランジスタは図１及び図２に図示した薄膜トランジスタの構造と同一であるので簡略に図示した。
【００２５】
図示したように、下部の第１基板７１上部には光吸収層７２が形成されており、その上にコレステリック液晶カラーフィルタ７３ａ、７３ｂ、７３ｃが形成されているが、コレステリック液晶カラーフィルタ７３ａ、７３ｂ、７３ｃは領域別に赤、緑、青に該当する波長の光を反射させて各々赤、緑、青の色を順次現わす。続いて、コレステリック液晶カラーフィルタ７３ａ、７３ｂ、７３ｃ上部には透明な共通電極７４が形成されている。ここで、コレステリック液晶カラーフィルタはカラーフィルタの役割だけでなく反射板の役割もするので別途の反射板が必要でない。
【００２６】
次に、第１基板７１上部に一定間隔を有して第２基板７５が配置されており、第２基板７５下部には薄膜トランジスタＴ３と透明な画素電極７６が各々形成されている。
【００２７】
次に、共通電極７４と画素電極７６の間には液晶層７７が注入されてり、第２基板７５上部には偏光板７８が配置されている。
【００２８】
ここで、図示していないが光吸収層７２上部と共通電極７４上部、そして画素電極７６下部には各々配向膜が形成されている。尚、偏光板７８と第２基板７５の間にはλ／４の位相差を持つ位相差板（図示していない）がさらに配置されることもできる。
【００２９】
図４はコレステリック液晶カラーフィルタを利用した従来の第１例である反射型液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図である。図面に図示したように、コレステリック液晶カラーフィルタを利用した従来の反射型液晶表示装置の上部基板９０上には無機絶縁膜９２、有機絶縁膜９４、そしてクロム膜９６が連続的に形成されており、下部基板８０上には吸収層８２、配向膜８４、コレステリック液晶カラーフィルタ８６、透明電極８８が形成されている。尚、上記上部基板９０上のクロム膜９６上部と下部基板８０上部の透明電極８８上部には液晶の初期配向の為の配向膜９８、８９が各々形成されている。
【００３０】
上記上、下部基板９０、８０の間には液晶層８５が位置しており、このような上記上、下部基板９０、８０は上記上、下部基板中いずれかひとつの基板上に形成したシールパターン９９により合着される。上記シールパターン９９は上記上、下部基板９０、８０の間のセルギャップを維持し注入された液晶が漏れないようにする役割をする。
【００３１】
前述した構造を有するコレステリック液晶カラーフィルタを利用した液晶表示装置において、上記透明電極８８は、図示しない上部基板９０の透明電極と共に駆動電極になる。図面に示した下部基板８０の積層構造を考察してみると、上記駆動電極のひとつである下部基板の透明電極８８が下部基板の全面に形成されているのを知ることができる。従って、上、下部基板９０、８０間の液晶層８５が下部基板８０上のコレステリック液晶カラーフィルタ８６より汚染されるのを防止することができる（図４のＡ）。
【００３２】
しかし、このような構造は、上、下部基板８０、９０の合着工程で上記液晶カラーフィルタ８６とＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム−スズ−オキサイド）材質である上記透明電極８８間の接触力が良好でなく、従ってシールパターンの接着力が下記に記述する標準工程に比べて弱くなり、その結果、シールパターン９９領域でシール破れの不良が発生することもありえる。
【００３３】
但し、このような問題点はコレステリック液晶物質の物性を持続的に改善することで上記コレステリック液晶カラーフィルタ８６と上記ＩＴＯ透明電極８６との接着力を向上させると克服することもできるのであろう。
【００３４】
図５は、コレステリック液晶カラーフィルタを利用した従来の第２例である反射型液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図である。従来の第２例である反射型液晶表示装置のシールパターン部領域の基本的な積層構造は、下部基板上に形成されたＩＴＯ透明電極１８８を除外すると上記図４の場合と同一である。
【００３５】
図面に示したように、上記下部基板１８０上のＩＴＯ透明電極１８８が基板の全面に形成されなくシールパターン１９９と若干の間隔を置いて離隔して形成されている（図５のＢ）。これは従来の標準工程に従うものであるが、このような構造下では上記シールパターンの接着力は向上させることはできるが、コレステリック液晶カラーフィルタ層１８６と液晶層１８５が互いに接触する部分が生じることになる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３６】
従って、上記コレステリック液晶カラーフィルタ１８６と上記液晶層１８５の液晶は同一な液晶系列であるので相互間に液晶のスウェリング（swelling）現象及び相互作用力（interaction force）等が発生する可能性があり、なによりも上記コレステリック液晶カラーフィルタ層１８６からの汚染源であるイオン、分子等が上記液晶層１８５に移動して液晶を汚染させる可能性がある。これは液晶パネル内に汚れ（stain）のような不良を発生させることがあり、液晶の誤動作を誘発して液晶表示装置の画質を劣化させる原因になる。
【００３７】
本発明は上記従来の問題点を解決する為に案出されたもので、上記下部基板のＩＴＯ透明電極を上記シールパターンと一定間隔重畳するように形成することで上記コレステリック液晶カラーフィルタと上記液晶層間の接触により発生することができる諸問題点を克服しようとするのである。
【課題を解決するための手段】
【００３８】
上記の問題点を解決する為、本発明に従う液晶表示装置は、コレステリック液晶カラーフィルタが形成された第１基板と；薄膜トランジスタが形成された第２基板と；上記第１、第２基板中いずれかひとつの基板上に形成されたシールパターンと；上記コレステリック液晶カラーフィルタ上部に上記シールパターンと一定部分重畳するように形成された第１電極と；上記第２基板下部に形成されている第２電極と；上記第１、第２電極間に注入されている液晶層を含む。
【００３９】
上記液晶表示装置は反射型液晶表示装置又は透過型液晶表示装置であることを特徴とする。
【００４０】
上記コレステリック液晶カラーフィルタは単一層又は二重層で形成されていることを特徴とする。
【００４１】
上記コレステリック液晶カラーフィルタと上記シールパターンが重畳する幅は０よりは大きく上記シールパターンの幅よりは小さい。
【００４２】
上記の問題点を解決する為に、本発明に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法は、シールパターン形成領域が定義された基板を具備する段階；上記基板上に第１配向膜を形成する段階；上記第１配向膜上にコレステリック液晶カラーフィルタを形成する段階；上記コレステリック液晶カラーフィルタ上に透明な第１電極を上記シールパターン形成領域と一定部分重畳するように形成する段階；上記透明な第１電極上に第２配向膜を形成する段階を含む。
【００４３】
上記基板と第１配向膜間に吸収層を形成する段階をさらに含むことができる。
【００４４】
上記コレステリック液晶カラーフィルタは単一層又は二重層で形成されたことを特徴とする。
【００４５】
上記コレステリック液晶カラーフィルタと上記シールパターンの重畳する幅は０よりは大きく上記シールパターンの幅よりは小さいのを特徴とする。
【発明の効果】
【００４６】
コレステリック液晶カラーフィルタを利用する本発明に従う反射型又は透過型液晶表示装置では、下部基板の透明電極がシールパターンと一定間隔重畳するように形成されるので、上記コレステリック液晶カラーフィルタ層が液晶層と接触することで誘発される液晶のスウェリング現象及び液晶の汚染を防止することができ、その結果、液晶の駆動時画質に影響を与える残像等を減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４７】
以下、添付した図面を参照して本発明の実施の形態に従う液晶表示装置に対し詳細に説明する。図６ａは、コレステリック液晶カラーフィルタを利用し本発明のひとつの実施の形態に従う液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図である。
【００４８】
図面に示したように、上部基板２９０上には無機絶縁物質である第１絶縁層２９２、有機絶縁物質である第２絶縁層２９４、そしてクロム等金属で構成された金属膜２９６が続いて形成されている。図示していないが、上記上部基板２９０上には透明な第２電極（未図示）が形成されている。
【００４９】
下部基板２００上には、吸収層２８２、第１配向膜２８４、コレステリック液晶カラーフィルタ２８６、透明第１電極２８８が順次形成されている。尚、上記下部基板２００の透明第１電極２８８と液晶層２５０間と上記上部基板２９０の金属膜２９６と液晶層２５０間には、液晶の初期配列の為の第２、第３配向膜２８９、２９８が各々形成されている。
【００５０】
このような上記上、下部基板２９０、２００はシールパターン２９９により合着されるが、上記シールパターン２９９は上、下部基板２９０、２００間のセルキャップを維持し注入された液晶の漏れを防止する役割をする。
【００５１】
本発明のひとつの実施の形態に従う液晶表示装置の構造では、上記下部基板２００の透明第１電極２８８がシールパターン２９９とある程度重畳されるように形成されている。即ち、図面で点線の円で表示されたように（図６ａのＣ部）、上記透明第１電極２８８が従来とは異なり下部基板のシールパターン２９９領域の一部にも形成される。即ち、上記透明第１電極２８８の終端の一部が後の工程で形成されるシールパターン２９９に埋立される構造である。このような構造は、図５で説明した従来の液晶表示装置でコレステリック液晶カラーフィルタ（図５の１８６）と液晶層（図５の１８５）間の接触により惹起される諸問題点を克服することができるようになる。
【００５２】
即ち、本発明では上記透明第１電極２８８が上記シールパターン２９９と一定間隔重畳するように形成されて上記液晶層２５０を上記コレステリック液晶カラーフィルタ２８６より遮断させている。従って、上記液晶層２５０と上記コレステリック液晶カラーフィルタ２８６の接触により発生する液晶のスウェリング現象及び液晶の汚染を防止することができる。
【００５３】
図６ｂは、コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明のまた他の実施の形態に従う液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図である。図面に示したように、上部基板２９０上には無機絶縁物質である第１絶縁層２９２、有機絶縁物質である第２絶縁層２９４、そしてクロム等の金属で構成された金属膜２９６が続いて形成されている。図示していないが、上記上部基板２９０上には透明な第２電極（未図示）が形成されている。
【００５４】
下部基板２００上には、吸収層２８２、第１配向膜２８４、コレステリック液晶カラーフィルタ２８６、透明第１電極２８８が順次形成されている。尚、上記下部基板２００の透明第１電極２８８と液晶層２５０間と上記上部基板２９０の金属膜２９６と液晶層２５０間には、液晶の初期配列の為の第２、第３配向膜２８９、２９８が各々形成されている。このような上記上、下部基板２９０、２００はシールパターン２９９により合着されるが、上記シールパターン２９９は上、下部基板２９０、２００間のセルキャップを維持し注入された液晶の漏れを防止する役割をする。
【００５５】
本発明のまた他の実施の形態に従う液晶表示装置の構造では、上記下部基板２００の透明第１電極２８８及び第２配向膜２８９がシールパターン２９９とある程度重畳されるように形成されている。即ち、図面で点線の円で表示されたように（図６ｂのＣ部）、上記透明第１電極２８８及び第２配向膜２８９が従来とは異り、下部基板のシールパターン２９９領域の一部にも形成される。即ち、上記透明第１電極２８８及び第２配向膜２８９の終端の一部が後の工程で形成されるシールパターン２９９に埋立される構造である。このような構造は図５で説明した従来の液晶表示装置でコレステリック液晶カラーフィルタ（図５の１８６）と液晶層（図５の１８５）間の接触により惹起される諸問題点を克服することができるようになる。
【００５６】
即ち、本発明では上記透明第１電極２８８及び第２配向膜２８９が上記シールパターン２９９と一定間隔重畳するように形成されて上記液晶層２５０を上記コレステリック液晶カラーフィルタ２８６より遮断させている。従って、上記液晶層２５０と上記コレステリック液晶カラーフィルタ２８６の接触により発生する液晶のスウェリング現象及び液晶の汚染を防止することができる。
【００５７】
以下、コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製作方法に対し添付図面を参考にして詳述する。
【００５８】
図７ａ乃至図７ｅはコレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製作工程を示した断面図である。
【００５９】
先に、図示したように、下部の透明基板２００上部に光吸収層２８２が形成され、その上に第１配向膜２８４が形成される（図７ａ及び図７ｂ）。上記第１配向膜２８４上部にはコレステリック液晶カラーフィルタ２８６が形成されるが、上記コレステリック液晶カラーフィルタ２８６は領域別に赤、緑、青に該当する波長の光を反射させて各々赤、緑、青の色を順次現わす（図７ｃ）。つづいて、上記コレステリック液晶カラーフィルタ２８６上部には透明な第１電極２８８が形成され、その上に第２配向膜２８９が形成される（図７ｄ及び７ｅ）。
【００６０】
ここで、上記透明な第１電極２８８はＩＴＯのような透明導電性金属物質で形成され、前述したように後に形成されるシールパターン（Ｄ）と一部重畳されるように形成される。上記透明な第１電極２８８は基板の全面にＩＴＯのような導電性金属物質を蒸着させてパタニングすることで形成することができる。
【００６１】
上記下部基板の製造方法では、コレステリック液晶カラーフィルタが単一層で構成されているが、上記コレステリック液晶カラーフィルタは二中層で構成することもできる。尚、上記下部基板をコレステリック液晶カラーフィルタを利用した透過型液晶表示装置に適用する場合には上記下部基板２００上に形成された上記吸収層２８２は必要でない。
【００６２】
図７ａ乃至図７ｅに図示された下部基板の製造方法は、本発明の多様な実施の形態に適用可能であり、本発明が属する技術分野で通常の知識を持つ者により多ような変形が可能である。
【００６３】
図８は、コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明のさらに他の実施の形態に従う液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図である。図示したように、上記コレステリック液晶カラーフィルタ３７６は二重層３７６ａ、３７６ｂで構成されている。詳述すれば、下部基板３００上に吸収層３７２、第１配向膜３７４、第１コレステリック液晶カラーフィルタ層３７６ａ、第２配向膜３７８、第２コレステリック液晶カラーフィルタ層３７６ｂ、透明第１電極３８０、そして第３配向膜３８２が順次形成されている。尚、上部基板３９０上には第３配向膜が形成されおり、透明な第２電極（未図示）が形成されている。
【００６４】
上記実施の形態でも、下部基板３００の上記第１透明電極３８０がシールパターン３９９と一定間隔重畳されるように形成されており、液晶層３５０を上記コレステリック液晶カラーフィルタ層３７６より保護している（図８のＥ部）。従って、上記液晶層３５０と上記コレステリック液晶カラーフィルタ３７６の接触により発生する液晶のスウェリング現象及び液晶の汚染を防止することができる。
【００６５】
図９は、コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明のその他の実施の形態に従う透過型液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図である。上記透過型液晶表示装置の上部基板４９０の構造は、前述した図６ａ、図６ｂ及び図８の上部基板の構造と同一である。下部基板４００の積層構造を考察してみると、透明な上記下部基板４００上に、第１配向膜４７４、第１コレステリック液晶カラーフィルタ層４７２ａ、第２配向膜４７６、第２コレステリック液晶カラーフィルタ４７２ｂ、透明第１電極４７８、そして第３配向膜４８０が順次形成されている。上部基板４９０上には透明第２電極（未図示）が形成されており、上記透明第２電極上には第４配向膜４９８が形成されている。
【００６６】
上記実施の形態でも前述した上記実施の形態等と同ように下部基板４００上の上記透明第１電極４７８はシールパターン４９９と一定間隔だけ重畳されて形成されている（図９のＦ部）。
【００６７】
上記実施の形態等で、上記透明第１電極とシールパターンが重畳される幅ＯＬは０より大きく上記シールパターンの幅（図９の"Ｌ"）よりは小さくしなければいけない。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】一般的な液晶表示装置の断面図。
【図２】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した透過型液晶表示装置の断面図。
【図３】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した反射型液晶表示装置の断面図。
【図４】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した従来の第１例である反射型液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図。
【図５】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した従来の第２例である反射型液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図。
【図６ａ】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明のひとつの実施の形態に従う液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図。
【図６ｂ】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明の他の実施の形態に従う液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図。
【図７ａ】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製作工程を示した断面図。
【図７ｂ】図７ａに続く製作工程を示した断面図。
【図７ｃ】図７ｂに続く製作工程を示した断面図。
【図７ｄ】図７ｃに続く製作工程を示した断面図。
【図７ｅ】図７ｄに続く製作工程を示した断面図。
【図８】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明のさらに他の実施の形態に従う液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図。
【図９】コレステリック液晶カラーフィルタを利用した本発明のさらに他の実施の形態に従う液晶表示装置のシールパターン部領域の積層構造を示した断面図。
【符号の説明】
【００６９】
２００  下部基板、２５０  液晶層、２８２  吸収層、２８４  第１配向膜、２８６  コレステリック液晶カラーフィルタ、２８８  透明第１電極、２８９  第２配向膜、２９０  上部基板、２９２  第１絶縁層、２９４  第２絶縁層、２９６  金属膜、２９８  第３配向膜、２９９  シールパターン、３００  下部基板、３５０  液晶層、３７２  吸収層、３７４  第１配向膜、３７６  コレステリック液晶カラーフィルタ、３７６ａ  第１コレステリック液晶カラーフィルタ層、３７６ｂ  第２コレステリック液晶カラーフィルタ層、３７８  第２配向膜、３８０  透明第１電極、３８２第３配向膜、３９０  上部基板、３９９  シールパターン、４００  下部基板、４７２ａ  第１コレステリック液晶カラーフィルタ層、４７２ｂ  第２コレステリック液晶カラーフィルタ、４７４  第１配向膜、４７６  第２配向膜、４７８  透明第１電極、４８０  第３配向膜、４９０  上部基板、４９８  第４配向膜、４９９  シールパターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図７ｃ】
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【図７ｄ】
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【図７ｅ】
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【図８】
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【図９】
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