(57)【要約】【課題】高分子バインダーなしに配合することができ、スピンコート法等の溶媒法によって形成可能なより厚く堅固な正孔注入層を形成する酸化電荷輸送材料を提供する。【解決手段】本発明は、有機発光素子（ＯＬＥＤ）において正孔輸送能力を有する酸化電荷輸送材料に関する。３つ以上のトリアリールアミン基を含む、又は少なくとも１つのトリアリールアミン基及び少なくとも１つのフルオレン基を含む電荷輸送化合物５は、好ましくは０．２重量％から２０重量％のルイス酸等の酸化体と部分的に錯体を形成する。その結果得られる電荷輸送材料は、良好な正孔輸送特性及び成膜特性を示す。【選択図】　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に高分子バインダーを使用せずに形成され、有機発光素子において正孔輸送能力を有する酸化電荷輸送材料であって、
３つ以上のトリアリールアミン基を含む、又は少なくとも１つのトリアリールアミン基及び少なくとも１つのフルオレン基を含む電荷輸送化合物と、
前記電荷輸送化合物と錯体を形成する酸化体とから成り、
前記電荷輸送化合物の一部は前記酸化体と錯体を形成しないことを特徴とする酸化電荷輸送材料。
【請求項２】
前記酸化体は化学式ＭｍＸｎ−を有し、
ＭはＡｓ、Ｓｂ、Ａｕ、Ｂｉ、及びＰから成る群から選択される金属であり、
ＸはＦ、Ｃｌ、及びＢｒから成る群から選択されるハロゲンであり、
ｍ及びｎは、前記金属及びハロゲンの原子価状態に一致する整数であることを特徴とする請求項１記載の酸化電荷輸送材料。
【請求項３】
前記酸化体は前記電荷輸送材料の約０．２重量％から約２０重量％の割合で存在することを特徴とする請求項２記載の酸化電荷輸送材料。
【請求項４】
前記酸化体は、ＳｂＦ６−、ＡｕＣｌ４−、又はＡｓＦ６−であることを特徴とする請求項３記載の酸化電荷輸送材料。
【請求項５】
前記電荷輸送化合物は、
【化１】
2004006321.tif 000009
又は、
【化２】
2004006321.tif 000010
であることを特徴とする請求項１記載の酸化電荷輸送材料。
【請求項６】
前記電荷輸送化合物は、２から８の芳香族アミン基と結合するポリヘドラルシルセスキオキサンコアを含むことを特徴とする請求項１記載の酸化電荷輸送材料。
【請求項７】
前記電荷輸送化合物は、以下の化学式ＩＶ又は化学式Ｖ、
（ＩＶ）
【化３】
2004006321.tif 000011
（Ｖ）
【化４】
2004006321.tif 000012
を有することを特徴とする請求項１記載の酸化電荷輸送材料。
【請求項８】
高分子バインダーを使用することなしに、溶媒法によって１００Åから２，０００Åの薄膜として形成され、正孔輸送特性を有することを特徴とする請求項１記載の酸化電荷輸送材料。
【請求項９】
有機発光素子内で正孔輸送能力を有する一様の薄膜として形成される電荷輸送材料であって、
ルイス酸によって酸化された、オリゴアリールアミン、オリゴチオフェン、テトラセレノテトラセン、モノテトラチアフルバレン、オリゴテトラチアフルバレン、オリゴテトラセレナフルバレン、及びオリゴメタロセンから成る群から選択された電荷輸送化合物を有することを特徴とする電荷輸送材料。
【請求項１０】
アノードと、
カソードと、
前記アノードと前記カソードとの間の電子放出層と、
前記アノードと前記電子放出層との間に高分子バインダーなしに形成され、且つ３つ以上のトリアリールアミン基を含むか又は少なくとも１つのトリアリールアミン基及び少なくとも１つのフルオレン基を含み酸化体と錯体を形成する電荷輸送化合物を含む正孔注入層とを具備し、
前記電荷輸送化合物の一部は前記酸化体と錯体を形成しないことを特徴とする有機発光素子。
【請求項１１】
前記正孔注入層は、約１００Åから２，０００Åの厚さにスピンコートされることを特徴とする請求項１０記載の有機発光素子。
【請求項１２】
前記正孔注入層は化学式ＭｍＸｎ−を有する酸化体と部分的に錯体を形成する少なくとも１つの電荷輸送化合物を実質的に含む薄膜であり、ＭはＡｓ、Ｓｂ、Ａｕ、Ｂｉ、及びＰから成る群から選択される金属であり、
ＸはＦ、Ｃｌ、及びＢｒから成る群から選択されるハロゲンであり、
ｍ及びｎは、前記金属及びハロゲンの原子価状態に一致する整数であることを特徴とする請求項１０記載の有機発光素子。
【請求項１３】
前記正孔注入層は前記正孔注入層の約０．２重量％から約２０重量％の割合で存在する前記酸化体を含むことを特徴とする請求項１２記載の有機発光素子。
【請求項１４】
前記正孔注入層の前記電荷輸送化合物は、
【化５】
2004006321.tif 000013
又は、
【化６】
2004006321.tif 000014
であることを特徴とする請求項１０記載の有機発光素子。
【請求項１５】
前記正孔注入層の前記電荷輸送化合物は、
【化７】
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又は、
【化８】
2004006321.tif 000016
であることを特徴とする請求項１０記載の有機発光素子。
【請求項１６】
電子輸送層、バッファ層、電荷ブロッキング層、電子輸送／電子放出層、及び正孔輸送／電子放出層から成る群から選択される少なくとも１つの層を更に具備することを特徴とする請求項１０記載の有機発光素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高分子バインダーを使用せずに有機発光素子に安定した正孔注入層を形成可能な酸化電荷輸送材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機発光素子（以下、ＯＬＥＤ）は、一般に、アノードとカソードの間に電子放出材料の層を備える。バイアスが電極の両端に印加される場合、正電荷（正孔）及び負電荷（電子）は、アノード及びカソードから電子放出層にそれぞれ注入される。正孔及び電子は、電子放出層において励起子（ｅｘｃｉｔｏｎｓ）を形成して光を放射する。
【０００３】
電極は、電荷の注入を容易にするために選択される。酸化インジウムスズ（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ−ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）のアノードは比較的高い仕事関数を有しており、そのため、正孔注入電極としての使用に適している。一方、Ａｌ、Ｍｇ及びＣａ等の低い仕事関数の金属は、電子の注入に適している。
【０００４】
ＯＬＥＤの出力効率を向上させるために、通常、電極界面において電荷注入を強化することが望ましい。近年、ＯＬＥＤで酸化電荷輸送（ｏｘｉｄｉｚｅｄ　ｃｈａｒｇｅ　ｔｒａｎｓｐｏｒｔ：ＯＣＴ）ポリマーを正孔注入層として使用することによって、アノード界面での正孔注入が容易となることが明らかとなった。
【０００５】
ポリビニルカルバゾール等の電荷輸送ポリマーに酸化体（ｏｘｉｄａｎｔ）を加えると半導体の電荷輸送ポリマーが形成されることは、１９６０年代に初めて実証された。これらの材料による薄膜は、「酸化輸送層」（ｏｘｉｄｉｚｅｄ　ｔｒａｎｓｐｏｒｔ　ｌａｙｅｒｓ：ＯＴＬ）として参照されてきた。従来のＯＴＬは、一般に、電荷輸送分子、酸化電荷輸送分子、及び高分子バインダーの３成分のコーティングを有している。異なる酸化体と電荷輸送分子／ポリマーとの組み合わせが、広範囲のアプリケーションに関して研究開発されてきた。例えば、本明細書に参考として取り入れられる米国特許第５，８５３，９０６号は、酸化アリールアミンを含む酸化オリゴマー塩、電荷輸送成分、及び高分子バインダーより成り、本来は電子写真アプリケーションで使用するための導電性ポリマー組成物を開示する。近年、ＯＴＬは、ＯＬＥＤアプリケーションにおけるアノード上の接触変性層（ｃｏｎｔａｃｔ　ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎ　ｌａｙｅｒ）として研究されてきている。
【０００６】
また、Ｉ２、ＦｅＣｌ３、ＳｂＣｌ５、及びトリス（４−ブロモフェニル）アミニウム　ヘキサクロロアンチモネート（ＴＢＡＨＡ）等の酸化試薬を添加したＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）から形成される、正孔注入層を有する有機ＥＬ素子も開示されている。
【０００７】
【発明の解決しようとする課題】
既知のＯＴＬ系の問題点は、この系が不安定であり、高分子バインダーを使用することなく簡単に素子内に組み込むことができないことである。
【０００８】
今日知られている最も安定したＯＴＬは、以下の構造を有するＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ビフェニルジアミン（ＴＭ−ＴＰＤ．ＳｂＦ６）のカチオンラジカル塩に基づいている。
【０００９】
【化９】
2004006321.tif 000003
【００１０】
より安定した性質を示す正孔注入材料が、当該技術において常に必要とされている。種々のトリアリールアミン電荷担体によって製造されたＯＴＬが、当該技術において必要とされる。また、スピンコート法等の溶媒法によって沈着可能なより厚く堅固な正孔注入層を形成するため、高分子バインダーなしに配合することができるＯＴＬも常に必要とされる。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
１つの態様において、本発明は、実質的に高分子バインダーを使用せずに形成され、ＯＬＥＤにおける正孔注入層としての使用に適している酸化輸送材料において、３つ以上のトリアリールアミン基を有する電荷輸送化合物、又は少なくとも１つのトリアリールアミン基及び少なくとも１つのフルオレン基を有する電荷輸送化合物と、該電荷輸送化合物と錯体を形成する酸化体とから成り、前記電荷輸送化合物の一部が前記酸化体と錯体を形成していない酸化電荷輸送材料である。
【００１２】
前記酸化体は、酸化電荷輸送材料において０．２重量％から２０重量％の割合で存在することが望ましい。
【００１３】
特定の電荷輸送化合物を含む酸化輸送材料は、高分子バインダーを使用することなくスピンコート法等の溶解法によって、有機発光素子における薄層として製造されることが好ましい。このような層は、通常、約５０Åから約５０，０００Å、好ましくは約１００Åから約２，０００Åの厚さを有する。本発明に従ったオリゴマー電荷輸送化合物の高分子量は、高分子バインダーが必要なくなるよう、これらの化合物に良好な成膜特性を提供すると考えられている。
【００１４】
他の態様において、本発明は、間に配置された電子放出層を有するアノード及びカソードと、アノードと電子放出層との間に、３つ以上のトリアリールアミン基を含み、又は少なくとも１つのトリアリールアミン基及び少なくとも１つのフルオレン基を含み、酸化体と錯体を形成する電荷輸送化合物を実質的に含む正孔注入層とを具備し、前記電荷輸送化合物の一部が前記酸化体と錯体を形成していない有機発光素子である。
【００１５】
この簡単な要約は、本発明の性質が速やかに理解されるように提供されている。本発明のより完全な理解は、添付の図面と関連した以下の本発明の好ましい実施形態の詳細な説明を参照することによって得ることができるであろう。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明による素子は、テレビ画面、コンピュータ画面、デジタルコピー機用の画像バー部品、及びプリンタ用の画像バー部品等の表示アプリケーションにおいて使用できるが、本発明はこれらの使用に限定されない。
【００１７】
図１は、透明基板１と、基板に隣接するアノード２と、本発明のＯＴＬを備え且つアノードに隣接する正孔注入層３と、電子放出層４と、電子放出層に隣接するオプションとしての電子輸送層５と、カソード６とを含むＯＬＥＤを概略的に示す図である。これらの各層は、類似の組成又は機能を有する材料の複数の層をそれぞれ備えても良い。また当該技術で知られているように、不図示の電荷ブロッキング層が使用されても良い。また、複数の機能層は組み合わされても良い。例えば、電子放出層は電子輸送特性を示すために適応されても良い。オプションとしての機能層は、本発明の範囲から逸脱することなく、１から６のうちのいずれか２つの機能層の間に配置することができる。例えば、バッファ層が電極とそれに隣接する電荷輸送層との間に設けられ、漏れ電流を抑制することもできる。
【００１８】
本発明に従うＯＬＥＤは、アノードと正孔注入層界面において約０．０１ｍＡ／ｃｍ２から約１，０００ｍＡ／ｃｍ２の範囲の電流密度を発生させる、０．１Ｖから１００Ｖ、好ましくは１Ｖから１５Ｖの駆動電圧を有して良い。
【００１９】
基板１に適した材料は、ガラスと、石英等と、（限定はされないが、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、及びポリスルホンを含む）ポリマーとを含む。基板の厚さは重要ではなく、例えば、素子の構造的な必要性によって、約２５μから１，０００μ以上までの範囲であることが可能である。
【００２０】
基板１に隣接するアノード２は、約４．０ｅＶ以上の仕事関数を有する金属、合金、導電性化合物又はその混合物から成ることができる。アノード２の具体的な例としては、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛、金、白金、導電性炭素、及び、例えばポリアニリンやポリピロールといった共役ポリマー等の正孔注入電極を含む。ＩＴＯは可視光中で良好な透明性を有するため好ましい。アノード２は、約１０ｎｍから１μの範囲であれば任意の厚さで良い。
【００２１】
ＯＴＬは、スピンコート法等の溶媒法又は真空蒸着によってアノード２に隣接して蒸着されることができる。好ましい方法は、スピンコート法である。従って、好ましい電荷輸送化合物は、望ましい厚さにスピンコートされるように良好な成膜特性を有する。
【００２２】
電荷輸送化合物は、トリアリールアミン電荷輸送化合物から選択されることができる。化学式（Ｉ）に示すように、好ましいトリアリールアミン化合物は、少なくとも３つのトリアリールアミン基が組み込まれたオリゴマーである。
【００２３】
（Ｉ）
【００２４】
【化１０】
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一方、オリゴマートリアリールアミン電荷輸送化合物は、１つ以上のフルオレン基が組み込まれても良く、化学式（ＩＩ）及び化学式（ＩＩＩ）から選択されても良いが、これには限定されない。
【００２５】
（ＩＩ）
【００２６】
【化１１】
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（ＩＩＩ）
【００２７】
【化１２】
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更に他の好ましい実施形態において、２から８の正孔輸送芳香族アミン基が、ポリヘドラルシルセスキオキサンコア部分に組み込まれても良い。以下の化学式（ＩＶ）及び化学式（Ｖ）は、このような実施形態の例である。
【００２８】
（ＩＶ）
【００２９】
【化１３】
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（Ｖ）
【００３０】
【化１４】
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本発明の範囲内における更に他の電荷輸送化合物は、ＯＬＥＤの薄膜として形成可能であり且つ正孔輸送特性を有する化合物から選択され、これらの化合物は、オリゴチオフェン、テトラセレノテトラセン、モノテトラチアフルバレン、オリゴテトラチアフルバレン、オリゴテトラセレノテトラセン、及びオリゴメタロセンを含む。酸化することによって本発明の薄層酸化電荷輸送材料を形成して良い他の適切な電荷輸送化合物が、上述の米国特許第５，８５３，９０６号で開示された中から選択することができる。
【００３１】
電荷輸送化合物と錯体を形成して酸化電荷輸送化合物を形成する酸化体が、電荷輸送化合物に対して添加される。
【００３２】
概して、いずれの適切な酸化体も、Ｉ２、ＦｅＣｌ３、ＴＢＡＨＡ、過フルオロ酸、有機スルホン酸、及びルイス酸を含んで使用されて良いが、これには限定されない。特にルイス酸が好ましい。より好ましい実施形態において、酸化体は、ＭがＡｓ、Ｓｂ、Ａｕ、Ｂｉ、及びＰから選択された金属であり、ＸがＦ、Ｃｌ、及びＢｒから選択されたハロゲンであり、ｍ及びｎが金属及びハロゲンの原子価にそれぞれ一致する整数であるＭｍＸｎから選択される。最も好ましい酸化体種は、ＳｂＦ６−、ＡｕＣｌ４−及びＡｓＦ６−である。
【００３３】
ここで使用されるような酸化体は、電荷輸送化合物を酸化するのに使用されるルイス酸等の酸化体種と、電荷輸送化合物と錯体を形成する電荷種との双方を含む。
【００３４】
電荷輸送材料における酸化体の重量比は、通常、電荷輸送材料に対して約０．２重量％から約２０重量％（ｗｔ／ｗｔ）、好ましくは、約０．５重量％から約１０．０重量％である。
【００３５】
本発明の利点は、高分子バインダーなしに適切な厚さと堅固さを有する正孔注入層を製造できることである。ＯＴＬの厚さは、約５０Åから約５０，０００Å、好ましくは、約１００Åから約２，０００Åの範囲である。約５０Å未満の非常に薄い膜の正孔注入層は、素子駆動電圧を低下させるために使用されてきた。しかしながら、この非常に薄い膜にはピンホールが発生しやすく、それによって素子が不安定となる可能性がある。一方、厚すぎる膜は駆動電圧を高くすることがある。
【００３６】
ＯＬＥＤで従来使用されたどのタイプの電子放出層も、本発明に従った新しいＯＴＬと共に採用することができる。本発明に従ってＯＬＥＤで使用されるのに適した発光材料は、アントラセン、テトラセン、及びペンタセン等の縮合ベンゼン環を有する共役有機活性化剤と組み合わされた、１，４−ジフェニルブタジエン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ベンゾピレン、クリセン、ピセン、カルバゾール、フルオレン、ビフェニル、テルフェニル、クオーターフェニル、酸化トリフェニル、ジハロビフェニル、及びトランススチルベン等の共役有機ホスト材料から形成されたものを含む。また、ポリスチレンのテトラフェニルブタジエン及び４，４’−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−スチルベン等の組み合わされた電子輸送／発光層も、本発明に従ってＯＬＥＤの発光層として使用されても良い。また、ＳｂＣｌ５等の強い酸化剤を有するポリマー（Ｎ−ビニルカルバゾール）（ｐｏｌｙ（Ｎ−ｖｉｎｙｌ　ｃａｒｂａｚｏｌｅ：ＰＶＣｚ）の反応生成物は、発光特性及び半導体特性を示すことが実証されており、本発明に従って膜として形成され、ＯＬＥＤで使用されても良い。ＯＬＥＤの電子放出層としての使用に適している他の既知の材料は、アルミニウムキノリノール錯体（ＡｌＱ３）を含む。また、本明細書に参考として取り入れた米国特許第５，９２５，４７２号に開示されるようなヘテロ芳香族配位子を有する他の金属錯体も、本発明に従ってＯＬＥＤで発光層を形成するために使用されても良い。当業者によって理解される通り、ここに挙げた潜在的発光層の例が全てではなく、他の多くの代替発光層と、現在利用可能であり且つ開発中である正孔輸送／発光層及び電子輸送／発光層とを本発明に従ってＯＬＥＤで使用することができる。
【００３７】
印加されたバイアスによる場合も、そうでない場合も、ここで使用される用語「電子放出（ｅｍｉｓｓｉｖｅ）」は、電子の放出を意味し、「発光」は可視光の放射を意味する。ＯＬＥＤのコンテキストにおいて、電子放出層及び発光層は交換可能に使用される。従って、電子放出層は正孔輸送／電子放出層及び電子輸送／電子放出層を含むことが理解される。
【００３８】
ＯＬＥＤ製造において役立つことが知られている、電子注入層、電子輸送層、電子輸送／発光層、正孔輸送／発光層、電荷ブロッキング層、又はバッファ層は、いずれも本発明に従うＯＬＥＤで採用されることができる。
【００３９】
本発明の重要な態様は、ＯＬＥＤでの使用に適している正孔注入材料の薄膜が、高分子バインダーをほぼ使用せずに形成され得ることである。「実質的に高分子バインダーを使用せずに（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ　ｗｉｔｈｏｕｔ　ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ　ｂｉｎｄｅｒ）」とは、不活性の非導電性ポリマーを使用することなしに安定した薄膜層が形成されうることを意味する。ＯＬＥＤでの薄膜形成を容易にするために使用されるポリマー樹脂の例は、本明細書に参考として取り入れた米国特許第４，３３８，２２２号に開示される。このような不活性の非導電性樹脂の例は、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリアクリラート、及びポリメタクリレートを含む。「実質的に使用せずに（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ　ｗｉｔｈｏｕｔ）」とは、正孔注入層における前述の不活性の非導電性ポリマーが少量である場合を除外しない。「実質的に使用せずに」とは、単に、高分子バインダーの量が、ＯＬＥＤに安定した薄膜を蒸着しない材料に対して成膜特性を与えるために必要な量よりも少ないことを意味する。
【００４０】
好ましい実施形態において、正孔注入層にはどんなポリマー（又は１０のリピートユニットを有するどんな化合物）も含まれない。しかしながら、ＯＬＥＤの他の層はポリマーを含んでも良い。
【００４１】
【実施例】
＜実施例１＞
ＯＴＬ材料を形成するために、ＴＰＤ構造（ＤＦ−ＴＰＤ）に組み込まれるフルオレンユニットを持ち化学式ＩＩに示される構造を有する１ｋｇの化合物と、５０ｇのＡｇＳｂＦ６とを、１Ｌのジクロロメタンに溶解し、２時間攪拌した。黒色の溶液は濾過されて、Ａｇ分子が除去された。その後、濾液は減圧下で乾燥され、黒色粉末ＤＦ−ＴＰＤ・ＳｂＦ６を９５％の歩留まりで形成した。
【００４２】
＜実施例２＞
ポリヘドラルシルセスキオキサン（”ｓｔａｒ−ｃｕｂｅ”）コアに基づいてＯＴＬ材料を形成するために、化学式（Ｖ）に示される構造を有するｓｔａｒ−ｃｕｂｅ電荷輸送化合物（１ｋｇ）と、ＡｇＳｂＦ６（５０ｇ）とを、ジクロロメタン（１Ｌ）に溶解し、４時間攪拌した。黒色の溶液は濾過されて、Ａｇ分子が除去された。その後、濾液は減圧下で乾燥され、黒色粉末ｓｔａｒ−ｃｕｂｅ・ＳｂＦ６を９２％の歩留まりで形成した。
【００４３】
＜実施例３＞
上記ｓｔａｒ−ｃｕｂｅ・ＳｂＦ６材料を使用して、１，２−ジクロロベンゼン（２０ｍｌ）に２００ｍｇのｓｔａｒ−ｃｕｂｅ・ＳｂＦ６を溶解することによって溶液を製造し、その後、この溶液を１．０μｍより小さい孔を有するフィルタで濾過することによって、発明材料が準備された。この溶液は、清浄なＩＴＯガラス基板上において４，０００ｒｐｍのスピン速度でスピンコートされ、５０ｎｍの薄いＯＴＬコーティングを得た。その後、（８０ｎｍの厚さの）ＡｌＱ３の電子放出層をＯＴＬ層上に蒸着した。ＡｌＱ３の電子放出層の上には、（５ｎｍの）Ｌｉ薄層を沈着し、その後（１８０ｎｍの）Ａｌ層をカソードとして沈着した。この素子は、３．０Ｖのバイアス電圧下で明緑色の発光を示す。このプロセスに従って製造された素子は、４．５Ｖのターンオン電圧を示す酸化ドーパントとしてのＳｂＦ６なしに、ｓｔａｒ−ｃｕｂｅ正孔輸送層を使用する他の類似の素子よりもターンオン電圧を低下させる。
【００４４】
上述の実施例は例示することが目的であり、請求の範囲によって規定された本発明を限定するものではない。
【００４５】
【発明の効果】
本発明により、より安定した性質を示す正孔注入材料が提供できる。本発明の種々のトリアリールアミン電荷担体によって製造されたＯＴＬは、高分子バインダーなしに配合することができ、スピンコート法等の溶媒法によって形成可能な、より厚く堅固な正孔注入層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態のＥＬ素子の概略断面の模式図である。
【符号の説明】
１…透過基板
２…アノード
３…正孔注入層
４…電子放出層
５…電子輸送層
６…カソード
【図１】
2004006321.tif 000017