(57)【要約】【課題】液滴吐出方式を用いて画素をなす薄膜パターンを形成したときに、その薄膜パターンにスジムラが生じることを低減することができる又はそのスジムラを分散させることができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器を提供する。【解決手段】長軸及び短軸を有する画素領域１に、液滴吐出方式で液状体材料を塗布する液状体塗布処理と、液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを画素領域１の短軸方向（走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３の方向）に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから画素領域１に液滴を吐出する短軸方向吐出処理とを有することを特徴とする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長軸及び短軸を有する画素領域に、液滴吐出方式で液状体材料を塗布する液状体塗布処理と、
前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する短軸方向吐出処理とを有することを特徴とする薄膜パターンの製造方法。
【請求項２】
前記短軸方向吐出処理では、１つの前記画素領域に対して複数回の液滴吐出が行われ、
該複数回の液滴吐出は、少なくとも２つの相異なる前記インクジェットノズルで行われることを特徴とする請求項１に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項３】
前記ノズルヘッドは、複数の前記インクジェットノズルを備えており、
前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、少なくとも２つの隣り合う前記インクジェットノズルで略同時ないし逐次的に行われることを特徴とする請求項２に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項４】
前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、少なくとも２種類の液滴吐出量で行われることを特徴とする請求項２又は３に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項５】
前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、該液滴を少なくとも２種類の粘度として行われることを特徴とする請求項２又は３に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項６】
前記ノズルヘッドは、複数の前記インクジェットノズルを備えており、
前記複数のインクジェットノズルは、前記ノズルヘッドにおいて略直線上に配置されており、
前記短軸方向吐出処理では、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記短軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項７】
前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、該画素領域に最初に着弾した液滴が略完全に乾燥する前に、最後の液滴吐出が行われることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項８】
前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出では、該画素領域に対する最初の液滴吐出と最後の液滴吐出との間に、該画素領域に着弾した液滴が完全に乾燥するには到らない程度の乾燥処理が行われることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項９】
前記薄膜パターンの製造方法は、
前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の長軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する長軸方向吐出処理を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１０】
前記長軸方向吐出処理では、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記長軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１１】
前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、一つの液滴着弾によって形成された薄膜の一部と、他の液滴着弾によって形成された薄膜の一部とが重なるように行われることを特徴とする請求項２乃至１０のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１２】
電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記正孔注入層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記正孔注入層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、
前記正孔注入層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１３】
電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記発光層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、
前記発光層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１４】
電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、
前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記電極は、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、
前記電極を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、
前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記液状体材料は、フォトレジスト膜を形成するものであることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
【請求項１８】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出方式を用いた薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、有機電界発光素子を用いた表示パネルが考え出されている。有機電界発光素子の基本構成は、蛍光性有機分子を含む固体薄膜（発光層）を２枚電極（陰極と陽極）で挟んだものである。その電極に電圧を印加すると、陽極から正孔が陰極から電子が発光層に注入され、その発光層から蛍光が放出される。
【０００３】
ところで、発光層のみからなる単層型構造素子では発光効率が低く、耐久性に問題があるため、陽極と発光層間に密着性の良い正孔注入層（正孔注入輸送層）を設けた二層構造型素子が提案されている。この積層構造を採用することで、キャリアの注入／輸送バランスおよびキャリアの再結合部位の制御により、有機電界発光素子の発光効率及び耐久性を向上させることができる。また、この積層構造によれば、発光、注入／輸送といった機能を別々の材料に分担させることができるため、材料及び素子の最適設計が可能になるという利点がある。
【０００４】
また、従来における二層積層型有機電界発光素子の正孔注入輸送層化合物としては、ポルフィリン化合物、アニリンやピリジンおよびそれらの誘導体低分子、あるいはカーボン層用いた正孔注入輸送層などが提案されている。これらの低分子系材料を用いた正孔注入輸送層形成には、真空蒸着やスパッタによる成膜法が一般的である。高分子材料としてはポリアニリンなどが知られ、スピンコートなどの湿式法で成膜される。
【０００５】
ところで、真空蒸着やスパッタによる成膜法はバッチ処理であり長時間を有するため量産効率が悪い。また低分子材料の場合には成膜後結晶化しやすく、素子の信頼性が低下するといった課題を有する。一方、高分子材料の場合は分子設計上の自由度が高く、湿式のため材料の最適化がしやすいという利点を有するが、スピンコートなどの成膜法は材料の殆どを浪費するという大きな問題がある。
【０００６】
さらに、フルカラーディスプレイなど材料の微細パターンニングが必要とされる場合、蒸着法では高精度のパターニングが困難であり、またフォトリソグラフィーによるパターニング工程では材料に耐性がないという問題がある。これは高分子材料においても同様な問題である。また、正孔注入層あるいはバッファ層として用いられる材料は導電性を有するものであるから完全なパターニングが実現できなければ同一基板上に設けられた隣の画素間での漏電を引き起こす原因となる。
【０００７】
一方、上記問題点を解決するため、すなわち材料や素子設計の最適化を行うことができ、かつ簡便、短時間及び低コストで精度の高いパターニング成膜を行うために、液滴吐出方式を用いた正孔注入層及び発光層などの製造方法が考え出されている。その液滴吐出方式を用いた製造方法は、インクジェットノズルから正孔注入層の成分と溶媒からなる液滴を所望領域に吐出して薄膜パターンを形成するものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開２０００−１０６２７８号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来において液滴吐出方式を用いて画素をなす薄膜パターンを形成する場合、画素領域の長軸方向に沿ってインクジェットノズルを走査させて液滴吐出していたので、その画素の長軸方向に筋形状のむら（スジムラ）が生じてしまった。
【００１０】
図１２は従来の液滴吐出方式による画素領域の塗布方法を示す説明図である。図１２に示すように、一般的に画素領域１は長軸及び短軸をもつ長手形状をしており、画素領域１の長軸に沿って、インクジェットノズルの走査線Ｌ１００が設定されている。この走査線Ｌ１００に沿ってインクジェットノズルを移動させながら、そのインクジェットノズルから逐次液滴を吐出させる。その複数の液滴は、画素領域１内においてライン上に着弾し、画素領域１内にスジムラを有する薄膜パターンを形成する。
【００１１】
このようなスジムラが発生すると、薄膜パターンの膜厚が不均一となっているので、その薄膜パターンを例えば画素の正孔注入層、発光層又はカラーフィルタとして用いると筋状の発光むらが生じてしまう。
【００１２】
また、従来の液滴吐出方式を用いた画素をなす薄膜パターンの形成では、１つの画素領域に対する１回の走査において１つのインクジェットノズルを用いて液滴を吐出しているので、その薄膜パターンを形成するために時間がかかるという問題点もあった。
【００１３】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出方式を用いて画素をなす薄膜パターンを形成したときに、その薄膜パターンにスジムラが生じることを低減することができる又はそのスジムラを分散させることができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器の提供を目的とする。
また、本発明は、液滴吐出方式により画素をなす薄膜パターンを高速に形成することができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器の提供を目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明の薄膜パターンの製造方法は、長軸及び短軸を有する画素領域に、液滴吐出方式で液状体材料を塗布する液状体塗布処理と、前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する短軸方向吐出処理とを有することを特徴とする。
本発明によれば、画素領域の短軸方向にノズルヘッドを走査して、そのノズルヘッドのインクジェットノズルからその画素領域に液滴を吐出することで、画素の構成要素となる薄膜を形成することができる。これにより、画素領域の長軸方向にノズルヘッドを走査する場合よりも、ノズルヘッドに複数設けられているインクジェットノズルによる１つの画素領域への複数の液滴吐出が行い易くなる。これは、例えば、画素領域の長軸方向にノズルヘッドを走査する場合は１つのインクジェットノズルのみがその画素領域を横切ることとなる場合でも、画素領域の短軸方向にノズルヘッドを走査するとノズルヘッドに等間隔に配置された複数のインクジェットノズルが画素領域を横切ることとなるからである。
また、本発明によれば、上記のように１つの画素領域に対して複数のインクジェットノズルで液滴を吐出することが行い易くなるので、各インクジェットノズル間の吐出量の差を分散し易くなり、画素をなす薄膜に「スジムラ」などが生じることを低減させることができる。そこで、本発明によれば、画素をなす薄膜の膜厚などを均一化し易くなり、発光ムラなどを低減するこができる。
また、本発明によれば、１つの画素領域に対して隣り合う複数のインクジェットノズルにより略同時ないし逐次的に複数の液滴を吐出することが容易となるので、液滴吐出方式による画素領域への液状体の塗布を高速化し易くなる。
【００１５】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記短軸方向吐出処理において、１つの前記画素領域に対して複数回の液滴吐出が行われ、該複数回の液滴吐出は、少なくとも２つの相異なる前記インクジェットノズルで行われることが好ましい。
本発明によれば、１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出を２つ以上のインクジェットノズルで行うので、各インクジェットノズル間の液滴吐出量などの差（誤差）を分散させることができる。従来は、例えばある画素領域には吐出量の少ないインクジェットノズルのみで複数回の液滴吐出が行われ、別の画素領域には吐出量の大きいインクジェットノズルのみで複数回の液滴吐出が行われるので誤差が累積されてしまい、画素領域毎に液滴吐出（塗布）量の差が大きくなり、画面全体として見て「スジムラ」が現れやすいものとなっていた。本発明によれば、画素領域毎の液滴吐出量の差を低減することができるので、画面全体として見て「スジムラ」が現れにくいものとすることができる。
【００１６】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記ノズルヘッドが複数の前記インクジェットノズルを備えており、前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出は、少なくとも２つの隣り合う前記インクジェットノズルで略同時ないし逐次的に行われることが好ましい。
本発明によれば、１つの画素領域に対して複数の隣り合うインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴吐出を行うので、インクジェットノズル間の液滴吐出量の差を分散させて「スジムラ」を低減しながら、画素領域全体（基板全体に複数配置された各画素領域についても）について高速に液状体を塗布することができる。
【００１７】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出が少なくとも２種類の液滴吐出量で行われることが好ましい。
本発明によれば、各インクジェットノズルの液滴吐出量を制御することなどして、２種類以上の液滴吐出量で１つの画素領域に液滴を吐出することができる。これにより、例えば画素領域における角部に対する液滴吐出量は少なくし、画素領域における中央部に対する液滴塗出量は多くするなどして、画素領域全体について均一な厚さの高精度な薄膜を高速に形成することができる。
【００１８】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出が該液滴を少なくとも２種類の粘度として行われることが好ましい。
本発明によれば、例えば各インクジェットノズル毎に供給する液状体の粘度を変えることなどにより、画素領域の所望位置に所望粘度の液状体を塗布することができる。そこで、本発明によれば、画素領域全体についてさらに膜厚が均一な高精度な薄膜を形成することなどができる。
【００１９】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記ノズルヘッドが複数の前記インクジェットノズルを備えており、前記複数のインクジェットノズルは、前記ノズルヘッドにおいて略直線上に配置されており、前記短軸方向吐出処理では、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記短軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることが好ましい。
本発明によれば、ノズルヘッドの移動位置を規定する走査線に対して、そのノズルヘッドが斜めに交わるような状態のままで、そのノズルヘッドが走査される。これにより、ノズルヘッドに設けられている複数のインクジェットノズルの移動軌跡（インクジェットノズル毎の走査線）の間隔は、インクジェットノズル相互の間隔よりも短くなる。そこで、本発明によれば、１つの画素領域に対して、より多くのインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴を吐出し易くなり、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」を低減させながら、より高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【００２０】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出において、該画素領域に最初に着弾した液滴が略完全に乾燥する前に、最後の液滴吐出を行うことが好ましい。
本発明によれば、１つの画素領域に着弾した複数の液滴それぞれが完全に乾燥する前に、その１つの画素領域全体についての液滴が吐出され薄膜が形成されるので、より膜厚が均一な高精度なパターンを形成することができる。
【００２１】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出において、該画素領域に対する最初の液滴吐出と最後の液滴吐出との間に、該画素領域に着弾した液滴が完全に乾燥するには到らない程度の乾燥処理が行われることが好ましい。
本発明によれば、１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出の過程において、着弾した液滴の完全乾燥には到らない中間乾燥処理が行われるので、着弾した液滴の体積を中間乾燥処理で減らしてから更に液滴吐出をすることができる。そこで、本発明によれば、１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出の過程でその液滴が画素領域の外側へ溢れ出ることなどを回避させながら、均一な厚みであって大きな厚みをも持たせることができる薄膜パターンを形成することができる。
【００２２】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンの製造方法が、前記液状体塗布処理において液滴吐出装置のノズルヘッドを前記画素領域の長軸方向に走査し、該走査の過程において該ノズルヘッドに備えられているインクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出する長軸方向吐出処理を有することが好ましい。
本発明によれば、ノズルヘッドを画素領域の短軸方向に走査する短軸方向吐出処理と、ノズルヘッドを画素領域の長軸方向に走査する長軸方向吐出処理とを有するので、画素領域（又は基板全体）に対して液滴吐出状態が直線状に偏ることを回避することができ、画素をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることをより効果的に回避することができる。
【００２３】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記長軸方向吐出処理において、前記複数のインクジェットノズルの配置を規定する直線が前記長軸方向に設定された走査線に対して斜めに交わる状態として、前記ノズルヘッドを走査させることが好ましい。
本発明によれば、直軸方向吐出処理においても、１つの画素領域に対して、より多くのインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴を塗出し易くなる。そこで、本発明によれば、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」をさらに低減させながら、高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【００２４】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記１つの画素領域に対する複数回の液滴吐出が、一つの液滴着弾によって形成された薄膜の一部と、他の液滴着弾によって形成された薄膜の一部とが重なるように行われることが好ましい。
本発明によれば、画素領域の全体について、塗り残しなく、より均一な厚さの薄膜パターンを形成することができる。
【００２５】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記正孔注入層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記正孔注入層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、前記正孔注入層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における正孔注入層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその正孔注入層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を迅速に製造することができる。
【００２６】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記発光層は、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、前記発光層を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における発光層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその発光層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を迅速に製造することができる。
【００２７】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する画素領域に形成するものであり、前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記画素領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該画素領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、例えば有機電界発光素子の発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機電界発光素子においてそのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一にかつ高速に形成することができる。そこで、本発明によればカラーフィルタを備える有機電界発光素子からなる表示パネルについて、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【００２８】
また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記電極は、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、前記電極を形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、プラズマディスプレイパネルの電極をなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、高精度にかつ迅速にプラズマディスプレイパネルの電極を形成することができる。
【００２９】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記カラーフィルタは、長軸及び短軸を有する所定領域に形成するものであり、前記カラーフィルタを形成する工程において、前記インクジェットヘッドを前記所定領域の短軸方向に走査し、該走査の過程において該インクジェットノズルから該所定領域に液滴を吐出することを特徴とする。
本発明によれば、液晶表示パネルのカラーフィルタをなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、液晶表示パネルにおける色むらなどを大幅に低減させながら製造時間を短縮することができる。
【００３０】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記液状体材料がフォトレジスト膜を形成するものであることが好ましい。
本発明によれば、例えばフォトリソグラフィ法を用いて基板に各種パターンを転写形成するときに形成するフォトレジスト膜を、液滴吐出方式を用いた上記薄膜パターンの製造方法で迅速に形成することができる。そして、本発明によれば、フォトレジスト膜に「スジムラ」が生じることを低減することができるので、フォトリソグラフィ法及び液滴吐出方式を用いて各種薄膜パターンを高精度にかつ迅速に形成することができる。
【００３１】
本発明の電子機器は、前記薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、「スジムラ」の少ない薄膜パターンを構成要素とした電子機器を迅速に提供することができるので、例えばその薄膜パターンを画素として用いることにより、発光むらの少なく表示部を備えた電子機器を低コストで提供することができる。また、例えば上記「スジムラ」の少ない薄膜パターンを半導体集積回路などの構成要素とすることにより、コンパクトでありながら高性能であって不具合の発生確率が低い電子機器を提供することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る薄膜パターンの製造方法について図面を参照して説明する。
（第１実施形態）
図１は本発明の第１実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。基板上には画素領域１が形成されている。画素領域１の外周には凸形状の隔壁（バンク）が設けられていることが好ましい。画素領域１は、長手形状をしており、画素領域１の中央を通るとともにその画素領域１を縦断する長軸と、画素領域１の中央を通るとともにその画素領域１を横断する短軸とをもつ。なお、画素領域１の形状は、長方形状又は楕円形状などであってもよい。
【００３３】
画素領域１内には、液滴吐出方式で液状体材料が塗布される。この液状体材料は、例えば画素領域１に形成される画素が有機ＥＬ素子である場合、正孔注入層又は発光層を形成する材料及び溶媒からなるものである。図１に示す走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、液滴吐出装置のノズルヘッドに設けられたインクジェットノズルの移動位置を規定するために仮想的に設定された走査線である。走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、画素領域１の短軸と平行に設定されている。
【００３４】
そこで、インクジェットノズルは、走査線Ｌ１上において図面右側へ移動しながら、すなわち画素領域１の短軸方向に走査されながら、上記液状体材料の液滴を吐出し、その液滴を画素領域１内に着弾させる。また、インクジェットノズルは、走査線Ｌ２上において図面右側へ移動しながら液滴を吐出し、その液滴を画素領域１内に着弾させる。また、インクジェットノズルは、走査線Ｌ３上において図面右側へ移動しながら液滴を吐出し、その液滴を画素領域１内に着弾させる。
【００３５】
これらにより、複数の液滴が画素領域１の全体に散らばって吐出され、画素領域１全体に液状体材料が塗布される。そして、塗布された液状体材料を乾燥させることにより、例えば上記正孔注入層及び発光層などが形成される。
【００３６】
図２は基板上に複数設けられた画素領域に液状体材料を塗布する状態を示す説明図である。基板１０の上面には複数の画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆが形成されている。各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆの外周には凸形状の隔壁（バンク）が設けられていることが好ましい。各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆは、図１に示す画素領域１と略同じ形状をしている。
【００３７】
そして、第１行の画素として形成された画素領域１ａ，１ｂ，１ｃについては図１に示す方法と同様に、走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が設定され、インクジェットノズルが画素領域１ａ，１ｂ，１ｃの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。また、第２行の画素として形成された画素領域１ｄ，１ｅ，１ｆについては図１に示す方法と同様に、走査線Ｌ４，Ｌ５，Ｌ６が設定され、インクジェットノズルが画素領域１ｄ，１ｅ，１ｆの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。
【００３８】
これらにより、複数の液滴が各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆの全体に散らばって吐出され、各画素領域内の全体に液状体材料が塗布される。そして、塗布された液状体材料を乾燥させることにより、基板１０に形成された各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆに例えば上記正孔注入層及び発光層などが形成される。
【００３９】
上記液状体材料の塗布で用いられる液滴吐出装置のノズルヘッドには、複数のインクジェットノズルが設けられていることが好ましい。その複数のインクジェットノズルは、例えば直線上において所定間隔で配置されているものとしてもよい。このようにすると、例えば、走査線Ｌ１については第１インクジェットノズルで液滴吐出を行い、走査線Ｌ２については第１インクジェットノズルの隣りに配置されている第２インクジェットノズルで液滴吐出を行い、走査線Ｌ３については第２インクジェットノズルの隣りに配置されている第３インクジェットノズルで液滴吐出を行うということができる。
すなわち、１つの画素領域１について複数のインクジェットノズルで略同時に又は逐次的に複数の液滴を吐出することができる。
【００４０】
このように、本実施形態の薄膜パターンの製造方法によれば、画素領域の短軸方向にインクジェットノズルを走査させるので、画素領域の長軸方向にインクジェットノズルを走査させる場合よりも、複数のインクジェットノズルによる１つの画素領域への略同時の液滴吐出が行い易くなる。したがって、本実施形態によれば、従来よりも高速に、液滴吐出方式による画素領域への液状体材料の塗布をすることができる。
【００４１】
また、本実施形態によれば、１つの画素領域に対して複数の相異なるインクジェットノズルで液状体を塗布することが、画素領域の長軸方向にインクジェットノズルを走査させる場合よりも、容易になる。これにより、各インクジェットノズル間の液滴吐出量の差（誤差）が分散されるので、画素の構成要素となる薄膜（正孔注入層又は発光層など）に「スジムラ」が生じることを低減することができ、発光ムラが生じることを低減することができる。
【００４２】
また、上記実施形態においては、１つの画素領域１に対する走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３による複数回の液滴吐出は、ある１つの液滴着弾によって形成された薄膜（ドット薄膜）の一部と他の液滴着弾によって形成されたドット薄膜の一部とが重なるように行われることが好ましい。このようにすると画素領域１の全体について、塗り残しなく、より均一な厚さの薄膜パターンを形成することができる。
【００４３】
また、上記実施形態においては、１つの画素領域１に対する走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３による複数回の液滴吐出は、２種類以上の液滴吐出量で行ってもよい。例えば、走査線Ｌ１，Ｌ３については液滴吐出量を比較的少なくし、走査線Ｌ２については液滴吐出量を比較的多くするようにしてもよい。このようにすると、画素領域１内の中央近辺に対しては液滴吐出量を多くして、画素領域１内の端部に対しては液滴吐出量を少なくすることができる。したがって、画素領域１の全体について塗り残しなく、かつ「スジムラ」の発生を抑えながら、高速に所望の薄膜パターンを形成することができる。
【００４４】
また、上記実施形態においては、１つの画素領域１に対する走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３による複数回の液滴吐出は、２種類以上の粘度の液滴で行ってもよい。例えば、液滴吐出装置において、走査線Ｌ１，Ｌ３について液滴吐出を行う第１及び第３インクジェットノズルには比較的高い粘度の液状体材料を供給し、走査線Ｌ２について液滴吐出を行う第２インクジェットノズルには比較的低い粘度の液状体材料を供給する。
【００４５】
すると、画素領域１内の端部に対しては高粘度の液滴が吐出され、画素領域１内の中央付近には低粘度の液滴が吐出される。そこで、本薄膜パターンの製造方法によれば、画素領域１の全体について膜厚の均一化を図りながら、高速に所望の薄膜パターンを形成することができる。
【００４６】
また、上記実施形態においては、１つの画素領域１に対して複数回の液滴吐出が行われるが、最初に画素領域１に着弾した液滴が完全に乾燥する前に画素領域１全体に対する液滴吐出が完了することが好ましい。すなわち、１つの画素領域１に着弾した複数の液滴それぞれが完全に乾燥する前に、その１つの画素領域１全体についての液滴が吐出され薄膜が形成されるのが好ましい。このようにすると、画素領域１に着弾した複数の液滴同士が混じり合い、より平坦な薄膜パターンを形成することができる。
【００４７】
また、上記実施形態においては、１つの画素領域１に対して複数回の液滴吐出過程において中間乾燥工程を入れてもよい。すなわち、１つの画素領域１に対して、所定回数の半分だけ液滴吐出を行い、次いで、着弾した液滴について完全乾燥には到らない程度の乾燥処理（中間乾燥工程）を施す。次いで、画素領域１に対して残りの液滴吐出を行う。
【００４８】
このようにすると、中間乾燥工程によって着弾した液滴の体積を減らしてから残りの液滴吐出をすることができ、液滴が画素領域１の外側へ溢れ出ることなどを回避させながら、均一な厚みであって大きな厚みをも持たせることができる薄膜パターンを形成することができる。
【００４９】
また、上記実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いて、有機ＥＬ素子のカラーフィルタを形成してもよい。例えば、発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機ＥＬ素子において、そのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一にかつ高速に形成することができる。そこで、本実施形態によれば、カラーフィルタを備える有機ＥＬ素子からなる表示パネルについて、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【００５０】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について図３を参照して説明する。図３は本発明の第２実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。本実施形態と上記第１実施形態との相違点は、本実施形態では画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆの短軸方向に走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４，Ｌ５，Ｌ６が設定されているのみならず、画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆの長軸方向にも走査線Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３が設定されている点である。
【００５１】
具体的には、まず基板１０の上面には複数の画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆが形成されている。各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆの外周には凸形状の隔壁（バンク）が設けられていることが好ましい。
【００５２】
そして、第１行の画素として形成された画素領域１ａ，１ｂ，１ｃについては図２に示す方法と同様に、走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が設定され、インクジェットノズルが画素領域１ａ，１ｂ，１ｃの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。また、第２行の画素として形成された画素領域１ｄ，１ｅ，１ｆについては図２に示す方法と同様に、走査線Ｌ４，Ｌ５，Ｌ６が設定され、インクジェットノズルが画素領域１ｄ，１ｅ，１ｆの短軸方向に走査されながら、液滴吐出が行われる。
【００５３】
さらに、第１列の画素として形成された画素領域１ａ，１ｄについてはその画素領域の長軸と平行に走査線Ｌ１１が設定されている。この走査線Ｌ１１は、互いに平行な複数本の走査線であってもよい。また、第２列の画素として形成された画素領域１ｂ，１ｅについてはその画素領域の長軸と平行に走査線Ｌ１２が設定されている。この走査線Ｌ１２は、互いに平行な複数本の走査線であってもよい。また、第３列の画素として形成された画素領域１ｃ，１ｆについてはその画素領域の長軸と平行に走査線Ｌ１３が設定されている。この走査線Ｌ１３は、互いに平行な複数本の走査線であってもよい。
【００５４】
そして、走査線Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３についてインクジェットノズルを走査させながら、各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆに液滴吐出を行う。この液滴吐出は、上記走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３についての液滴吐出と同様に行うことができる。
【００５５】
これらにより、本実施形態では、インクジェットノズルを画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆの短軸方向に走査する短軸方向吐出処理と、インクジェットノズルを画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆの長軸方向に走査する長軸方向吐出処理とを有する。したがって、各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆには、走査方向が互いに９０度異なる２種類の走査線を用いて液滴吐出が行われるので、各液滴の吐出量及び粘度などの差（誤差）が分散される。そこで、本実施形態によれば、各画素領域１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆに対して液滴吐出状態が直線状に偏ることを回避することができ、画素をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることをより効果的に回避することができる。
【００５６】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について図４及び図５を参照して説明する。図４は本発明の第３実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。本実施形態では、ノズルヘッド２０に複数のインクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃが設けられている液滴吐出装置を用いる。各インクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃは、ノズルヘッド２０において所定直線上において所定間隔で配置されているものとしてもよい。
【００５７】
画素領域１に対しては、その画素領域１の短軸と平行に複数の走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３を設定する。そして、走査線Ｌ１上をインクジェットノズル２１ａが移動し、走査線Ｌ２上をインクジェットノズル２１ｂが移動し、走査線Ｌ３上をインクジェットノズル２１ｃが移動するように、ノズルヘッド２０を画素領域１の短軸方向に移動させる。
【００５８】
ここで、インクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃの配置位置を規定する直線が走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３に対して斜めに交わるように、すなわちノズルヘッド２０の正面が走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３に対して斜めに向く状態として、そのノズルヘッド２０を移動させる。そして、ノズルヘッド２０の移動過程においてインクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃから液滴を吐出させて画層領域１に薄膜パターンを形成する。
【００５９】
本実施形態によれば、ノズルヘッド２０に設けられている複数のインクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃの移動軌跡（走査線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３）の間隔を、インクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃ相互の間隔よりも短くすることができる。そこで、本実施形態によれば、１つの画素領域１に対して、より多くのインクジェットノズルで略同時ないし逐次的に液滴を吐出することが可能となり、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」を低減させながら、より高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【００６０】
次に、本実施形態の変形例について図５を参照して説明する。図５は本実施形態の変形例に係る薄膜パターンの製造方法を示す説明図である。本薄膜パターンの製造方法では、ノズルヘッド２０を画素領域１に対して長軸方向に走査させるときに、そのノズルヘッド２０の正面が長軸方向（すなわち走査線Ｌ１１ａ，Ｌ１１ｂ，Ｌ１１ｃ）に対して斜めに向く状態として、そのノズルヘッド２０を移動させる。そして、ノズルヘッド２０の移動過程においてインクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃから液滴を吐出させて画層領域１に薄膜パターンを形成する。
【００６１】
本変形例によれば、ノズルヘッド２０に設けられている複数のインクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃの移動軌跡（走査線Ｌ１１ａ，Ｌ１１ｂ，Ｌ１１ｃ）の間隔を、インクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃ相互の間隔よりも短くすることができる。そこで、本実施形態によれば、ノズルヘッド２０を画素領域１の長軸方向に走査した場合でも、１つの画素領域１に対して、より多くのインクジェットノズル２１ａ，２１ｂ，２１ｃで略同時ないし逐次的に液滴を吐出することが可能となる。したがって、本実施形態によれば、小さい画素についても大きい画素についても「スジムラ」を低減させながら、より高速に画素をなす薄膜パターンを形成することができる。
【００６２】
＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
次に、上記第１から第３実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いた有機ＥＬ装置の製造方法について、図６を参照して具体的に説明ずる。本製造方法では、有機ＥＬ装置における正孔注入輸送層を上記実施形態の薄膜パターンの製造方法で形成する。
【００６３】
正孔注入輸送層用組成物は、主として正孔注入輸送層を形成する導電性化合物、分散溶媒、湿潤剤を含み、液滴吐出方式によるパターン成膜に用いられる。この正孔注入輸送層を形成する導電性化合物は陽極よりイオン化ポテンシャルが低い化合物が望ましい。例えば、陽電極としてインジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いた場合、低分子系材料としては、銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物が挙げられる。
【００６４】
なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加してもよく、例えば、粘度調製剤、老化防止剤、ｐＨ調製剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリング剤等を用いることができる。
【００６５】
導電性化合物（正孔注入輸送層成分）として、銅フタロシアニンを用いた場合の、正孔注入輸送層用組成物の物性的特性について検討した。試料は表１乃至表１０に示す組成物イ乃至組成物ヌを調整した。
【００６６】
組成物イ
【表１】
2004358299.tif 000003
【００６７】
組成物ロ
【表２】
2004358299.tif 000004
【００６８】
組成物ハ
【表３】
2004358299.tif 000005
【００６９】
組成物ニ
【表４】
2004358299.tif 000006
【００７０】
組成物ホ
【表５】
2004358299.tif 000007
【００７１】
組成物ヘ
【表６】
2004358299.tif 000008
【００７２】
組成物ト
【表７】
2004358299.tif 000009
【００７３】
組成物チ
【表８】
2004358299.tif 000010
【００７４】
組成物リ
【表９】
2004358299.tif 000011
【００７５】
組成物ヌ
【表１０】
2004358299.tif 000012
【００７６】
（吐出評価）表１〜表８に示す組成物イ〜組成物チのインクジェットヘッドを構成するノズル面構成材料に対する接触角、粘度および表面張力を測定し、それらの吐出性を評価した。吐出評価はインクジェットプリント装置（エプソン製ＭＪ−５００Ｃ）を用いて行った。
【００７７】
なお、粘度は２０℃での測定値である。これらの結果を表１１に示す。
【００７８】
【表１１】
2004358299.tif 000013
この結果から、接触角は３０°から１７０°、特に、３５°から６５°が好ましいことがわかる。また、粘度は１ｃｐから２０ｃｐ、特に、２ｃｐから４ｃｐが好ましく、表面張力は２０ｄｙｎｅから７０ｄｙｎｅ、特に、２５ｄｙｎｅから４０ｄｙｎｅの範囲が好ましいことがわかる。
【００７９】
また、湿潤剤としてグリセリンが混入されている組成物イ乃至組成物ハは、湿潤剤が混入されていない組成物ヘ乃至組成物チと比較すると、吐出性に優れていることがわかる。従って、インク組成物中に湿潤剤が含まれていることが好ましい。湿潤剤を混入することで、インク組成物がノズル口で乾燥・凝固することを有効に防止することができる。かかる湿潤剤としては、例えば、グリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコール類が挙げられるが、グリセリンが特に好ましい。
【００８０】
（正孔注入輸送層用組成物の製法）表１乃至表３、及び、表９、表１０にそれぞれ示す組成物イ乃至組成物ハ、及び、組成物リ、組成物ヌを製造し、超音波処理前後の正孔注入輸送層形成化合物（銅フタロシアニン）の粒度分布を測定した。さらに、超音波処理後、濾過工程を経た上記正孔注入輸送層用組成物を用い液滴吐出方式のパターニングにより形成された正孔注入輸送層の成膜性を評価した。
【００８１】
これらの結果を表１２に示す。超音波処理の効果は１μｍ以下の粒度分布の割合で示した。なお、スチレンアクリル樹脂分散液での粒径は１μｍ以上である。
【００８２】
【表１２】
2004358299.tif 000014
この結果から、前記分散液を４時間超音波処理することで分散性を上げることができることがわかる。また、超音波処理分散液をさらに濾過することによって、より均一な正孔注入輸送層膜を得ることができる。また、導電性化合物の分散極性溶媒としては、水、又は、水とメタノール或いはエトキシエタノールとの混合溶媒であることが好ましく（組成物イ乃至組成物ハ）、これらの溶媒を用いた場合、成膜性も良いことがわかる。
【００８３】
（有機電界発光素子の製造工程）表１乃至表３に示す組成物イ乃至組成物ハを用いて、以下に示す手順で液滴吐出方式による正孔注入輸送層のパターニング成膜を行い、有機電界発光素子（発光層）を製造した。
【００８４】
陽極形成工程（図６（Ａ））
本工程はガラス基板１０２上に陽極１０１を形成する工程である。ガラス基板１０２としては、酸やアルカリ等の薬品に侵されにくく、量産可能であるものが好ましい。ＩＴＯ透明電極を基板１０２上に０．１μｍの厚さで成膜し、例えば１００μｍピッチでパターニングする。
【００８５】
仕切部材形成工程（同図（Ｂ））
本工程は、ガラス基板１０２上に仕切部材１０３を形成する工程である。具体的には、陽極（ＩＴＯ電極）１０１間を埋め、インク垂れ防止壁（バンク）を兼ねた非感光性ポリイミド（仕切部材）をフォトリソグラフィーにより形成した。ここで、仕切部材１０３の形成には、図１から図５に示す本実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いてもよい。仕切部材１０３は例えば幅２０μｍ、厚さ２．０μｍとした。
【００８６】
正孔注入輸送層用組成物吐出工程（同図（Ｃ））
さらに、インクジェットプリント装置（エプソン製ＭＪ−８００Ｃ）１０４のヘッド１０５から正孔注入輸送層用組成物イ乃至ハ（図中１０６）を吐出し、正孔注入輸送層１０７をパターンニング成膜した。この成膜では、図１から図５に示す本実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いた。パターン成膜後、２００℃１０分の乾燥処理により正孔注入輸送層を形成した。正孔注入輸送層用組成物吐出時において、バンク越しの塗布は見られず、「スジムラ」の少ない、高精度の正孔注入輸送層パターンが得られた。
【００８７】
発光層組成物充填工程（同図（Ｄ））
次いで、緑色発光層としてＰＰＶ前駆体（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））組成物を製造した。液滴吐出方式により発光層組成物１０８を吐出し、発光層１０９をパターンニング成膜した。この成膜でも、図１から図５に示す本実施形態の薄膜パターンの製造方法を用いた。発光層１０９としては赤色発光を示すローダミンＢをドープしたＰＰＶや青色発光を示すクマリンをドープしたＰＰＶを用いても良い。赤、緑、青の３原色発光を示す発光層を正孔注入輸送層上に更にパターニングすることにより、色ムラがない高品位なフルカラー有機ＥＬディスプレイの製造が可能となる。
【００８８】
陰極形成工程（同図（Ｅ））
最後に、発光層１０９を覆うように陰電極１１０を蒸着して有機電界発光素子を形成した。
【００８９】
本有機ＥＬ装置の製造方法によれば、スジ形状の色ムラなどがない有機ＥＬ装置を簡便に短時間かつ低コストで実現できる。
【００９０】
＜プラズマディスプレイパネルの製造方法＞
次に、上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法について、図７を参照して具体的に説明する。本製造方法では、プラズマディスプレイパネルにおける電極配線パターンを上記実施形態の薄膜パターンの製造方法で形成する。図７は本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いて製造されたプラズマディスプレイパネルの一例を示す断面図である。
【００９１】
プラズマディスプレイパネル１２０は、２枚のガラス基板１２１，１２９が張り合わせられ、両基板により形成される空間に不活性ガスが充填されたものである。ガラス基板１２１，１２９には、それぞれ、本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法で形成された電極（透明電極１２２、バス電極１２３、アドレス電極１２７）などが設けられている。次に、プラズマディスプレイパネル１２０の構成について具体的に説明する。
【００９２】
プラズマディスプレイパネル１２０において、放電空間１２５を挟む基板対のうち観察側のガラス基板１２１の内面には、画面の水平方向のセル列であるライン毎にサステイン電極が配列されている。サステイン電極は、透明導電膜である透明電極１２２と、抵抗値を低減するための金属膜であるバス電極１２３とからなる。透明電極１２２とバス電極１２３は、上述の図１から図５に示す薄膜パターンの製造方法で設けられたものである。すなわち、透明電極１２２は、図１から図５に示す液滴吐出方式で形成されたインジウム錫酸化物であり、バス電極１２３も図１に示す液滴吐出方式で形成されている。
【００９３】
透明電極１２２とバス電極１２３は、交流駆動のための誘電体層１２４で被覆されている。誘電体層１２４は、透光性を有している。背面側のガラス基板１２９の内側には、アドレス電極１２７、隔壁１２８及びカラー表示のための３色（赤Ｒ，緑Ｇ，青Ｂ）の蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂが設けられている。隔壁１２８によって、放電空間１２５がライン方向に単位発光領域毎に区画されている。放電空間１２５には、アルゴン又はネオンなどからなる放電ガスが充填されている。蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂは、放電で生じた紫外線で局部的に励起されて所定色の可視光を放つ。表示における１単位の発光領域は、ライン方向に並ぶ３つの単位発光領域で構成される。各単位発光領域の範囲内の構造体がセルである。
【００９４】
次に、上記の構造を有するプラズマディスプレイパネル１２０の製造工程について説明する。なお、２枚のガラス基板１２１，１２９のうち観察側（表示面側）のガラス基板１２１を観察面側基板構造体と呼び、ガラス基板１２１と反対側（背面側）のガラス基板２９を背面側基板構造体と呼ぶ。
先ず、観察面側基板構造体としては、光透過性のガラス基板１２１の上に透明電極１２２を形成する。透明電極１２２の形成は、図１から図５に示すようにインジウム錫酸化物を塗布する方式で行う。次いで、透明電極１２２の上にバス電極１２３を形成する。バス電極１２３の形成も図１から図５に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、透明電極１２２及びバス電極を被覆する誘電体層１２４を形成することで、観察面側基板構造体が完成する。
【００９５】
一方、背面側基板構造体としては、先ず、ガラス基板１２９上にアドレス電極１２７を形成する。このアドレス電極１２７の形成も、図１から図５に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、隔壁１２８を形成した後、隔壁１２８で仕切られた空間に蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂがスクリーン印刷法などで形成される。この蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂは、例えば、所定発光色の蛍光体粉末と、セルロース系又はアクリル系の増粘剤樹脂とアルコール系又はエステル系等の有機溶剤とからなるビヒクルとを混合した蛍光体ペーストを、スクリーン印刷法により形成する。赤色の光を発する蛍光体１２６Ｒ、緑色の光を発する蛍光体１２６Ｇ、青色の光を発する蛍光体１２６Ｂは、アドレス電極１２７方向に、交互に形成される。次いで、蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂは、大気圧の空気中雰囲気で熱処理が施され、ビヒクルの揮発成分を蒸発させる。この熱処理が蛍光体の焼成工程と呼ばれるものである。
蛍光体１２６Ｒ，１２６Ｇ，１２６Ｂの焼成が終わると、観察面側基板構造体と背面側基板構造体を張り合わせ、内部を真空排気した後、不活性ガスを充填することで、プラズマディスプレイパネル１２０が完成する。
【００９６】
これらにより本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０の製造方法では、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７の形成に、本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法（液滴吐出方式）を使用しているので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物及び導電性材料の無駄となる量を大幅に低減することができる。また、本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０の製造方法では、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【００９７】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０では、バス電極１２３に断線があったとしても、その導電性パターンの下にはインジウム錫酸化物からなる透明電極１２３が形成されているので、基板上の配線としては繋がっており、プラズマディスプレイパネル１２０における所定の機能を発揮することができる。
【００９８】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル１２０では、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７を液滴吐出方式で形成するときに、図１から図５に示すように、薄膜パターン形成領域の短軸方向に走査線を設定して液滴を塗布させるので、透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えつつ、高速にその薄膜パターンを形成することができる。そこで、本製造方法によれば、プラズマディスプレイパネル１２０の透明電極１２２、バス電極１２３及びアドレス電極１２７を高精度にかつ迅速に形成することができるので、高品位な画像を表示することができ、電流リークなどの不具合の発生確率が低いプラズマディスプレイパネル１２０を低コストで提供することができる。
【００９９】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、上記実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いた液晶装置の製造方法について、図８を参照して具体的に説明する。本製造方法では、液晶装置における電極配線パターン及びカラーフィルタを上記実施形態の塗布方法で形成する。図８は本実施形態に係る薄膜パターンの製造方法を用いて製造された液晶装置２００の一例を示す断面図である。
【０１００】
図８に示すように、下側基板２０１の液晶層２０３側表面上には、カラーフィルター２０５、有機膜などからなる平坦化膜２０６、透明電極２０７、配向膜２０９が順次積層形成されている。一方、上側基板２０２の液晶層２０３側表面上には、インジウム錫酸化物からなる透明電極２０８と配向膜２１０とが順次積層形成されている。また、液晶層２０３内には多数の球状のスペーサー２１３が配置されている。
【０１０１】
カラーフィルター２０５は、所定のパターンに形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層２０５ａと隣接する着色層２０５ａ間を遮光する遮光層（ブラックマトリクス）２０５ｂとからなっている。また、配向膜２０９、２１０はポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶層２０３の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。カラーフィルター２０５及び平坦化膜２０６は、少なくとも表示領域内に形成され、かつシール材２０４よりも内側にのみ形成されている。
【０１０２】
次に、上記構造の液晶装置２００の製造方法について説明する。
先ず、下側基板２０１の表面に、カラーフィルター２０５、平坦化膜２０６、透明電極２０７、配向膜２０９を順次形成する。ここで、カラーフィルタ２０５及び透明電極２０７は、それぞれ図１から図５に示す薄膜パターンの製造方法で形成する。
【０１０３】
また、上側基板２０２の表面に、透明電極２０８と配向膜２１０とを順次形成する。ここで、透明電極２０８も図１から図５に示す薄膜パターンの製造方法で形成する。すなわち基板２０２の表面にインジウム錫酸化物を液滴吐出装置で液滴吐出させることで透明電極２０８を形成する。
【０１０４】
次いで、表面にカラーフィルター２０５、平坦化膜２０６、透明電極２０７、配向膜２０９が順次積層形成された下側基板２０１と、透明電極２０８及び配向膜２１０を順次積層形成された上側基板２０２とを、未硬化のシール材２０４を介して貼着した後、未硬化のシール材２０４を、液晶の注入口を形成するように硬化し、液晶セルを形成する。
次いで、真空注入法により液晶セル内に液晶を吸引して液晶層２０３を形成することにより上記構造の液晶装置２００が製造される。
【０１０５】
これらにより、本実施形態の液晶装置２００の製造方法では、インジウム錫酸化物などからなる透明電極２０７，２０８を液滴吐出方式で形成するので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物などの無駄となる量を大幅に低減することができる。
また、本実施形態の液晶装置２００の製造方法では、透明電極２０７，２０８を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【０１０６】
さらに、本実施形態の液晶装置２００の製造方法では、カラーフィルター２０５及び透明電極２０７，２０８を液滴吐出方式で形成するときに、図１から図５に示すような方法で液滴を塗布するので、筋形状の発光ムラが少ない高品位な液晶装置２００を高速に製造することができる。
【０１０７】
（電子機器）
上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いて製造された電気光学装置（有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイパネル又は液晶装置）を備えた電子機器の例について説明する。
図９は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図９において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【０１０８】
図１０は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１０において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【０１０９】
図１１は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１１において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【０１１０】
図９から図１１に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えているので、表示部などにおける発光むら及び電流リークなどを低減させた高品位な電子機器を低コストで提供することができる。
【０１１１】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の薄膜パターンの製造方法の説明図である。
【図２】同上の塗布方法についての他の説明図である。
【図３】本発明の第２実施形態の薄膜パターンの製造方法の説明図である。
【図４】本発明の第３実施形態の薄膜パターンの製造方法の説明図である。
【図５】同上実施形態の変形例を示す説明図である。
【図６】有機ＥＬ装置の製造方法を示す断面図である。
【図７】プラズマディスプレイパネルの製造方法を示す断面図である。
【図８】液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図１２】従来の液滴吐出方式による塗布方法を示す説明図である。
【符号の説明】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆ…画素領域、１０…基板、２０…ノズルヘッド、２１ａ，２１ｂ，２１ｃ…インクジェットノズル、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４，Ｌ５，Ｌ６，Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３，Ｌ１１ａ，Ｌ１１ｂ，Ｌ１１ｃ…走査線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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