(57)【要約】【課題】コイルを収容するハウジング内部に冷媒を供給した際、ハウジングの各部分での温度差の発生を抑えることができるリニアモータを提供する。【解決手段】リニアモータは、コイル７０を配置し、冷媒が供給される内部空間を有するハウジング部６０と、ハウジング部６０の内部空間に設けられ、冷媒を流通する第１の流路６６と、第１の流路６６とコイル７０との間に第１の流路６６に対して並列に設けられ、冷媒を流通する第２の流路６７とを備えている。【選択図】　　　　図６
2004014983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷媒が供給される内部空間を有するハウジング部と、前記内部空間に配置されるコイルとを有するリニアモータにおいて、
前記内部空間に設けられ、前記冷媒を流通する第１の流路と、
前記第１の流路と前記コイルとの間に前記第１の流路に対して並列に設けられ、前記冷媒を流通する第２の流路とを備えることを特徴とするリニアモータ。
【請求項２】
前記冷媒を前記第１の流路と前記第２の流路とに分岐する分岐部を備えることを特徴とする請求項１記載のリニアモータ。
【請求項３】
前記分岐部は、前記内部空間に前記冷媒を入れる入口部に設けられていることを特徴とする請求項２記載のリニアモータ。
【請求項４】
前記分岐部は、前記内部空間に前記冷媒を入れる入口部と前記内部空間から前記冷媒を出す出口部との間に設けられていることを特徴とする請求項２記載のリニアモータ。
【請求項５】
前記第１の流路と前記第２の流路とは、前記出口部より下流側で合流する合流部を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載のリニアモータ。
【請求項６】
冷媒が供給される内部空間を有するハウジング部と、前記内部空間に配置されるコイルとを有するリニアモータにおいて、
前記内部空間内に前記コイルに沿って設けられ、前記冷媒を流通する第１流路と第２流路とを有し、
前記第１流路は、前記コイルとの間に前記第２流路を挟んだ第１領域と、前記第２流路と前記コイルとの間に挟まれた第２領域とを有することを特徴とするリニアモータ。
【請求項７】
前記第１流路と前記第２流路とは前記冷媒の流通方向が互いに反対方向であることを特徴とする請求項６記載のリニアモータ。
【請求項８】
前記第１領域に前記第１流路の入口部が設けられ、前記第２領域に前記第２流路の入口部が設けられたことを特徴とする請求項６又は７記載のリニアモータ。
【請求項９】
磁石を有し前記ハウジング部を挟んで設けられたヨーク部を備えることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項記載のリニアモータ。
【請求項１０】
駆動装置を備えたステージ装置において、
前記駆動装置に、請求項１〜請求項９のいずれか一項記載のリニアモータが用いられていることを特徴とするステージ装置。
【請求項１１】
マスクを支持するマスクステージと、基板を支持する基板ステージとを備えた露光装置において、
前記マスクステージ及び前記基板ステージのうち少なくともいずれか一方に、請求項１０記載のステージ装置が用いられていることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リニアモータ、ステージ装置及び露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子や液晶表示素子等のマイクロデバイスはマスク上に形成されたパターンを基板（感光基板）上に転写するいわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、マスクを支持して２次元移動するマスクステージと基板を支持して２次元移動する基板ステージとを有し、マスク上に形成されたパターンをマスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながら投影光学系を介して基板に転写するものである。露光装置としては、基板上にマスクのパターン全体を同時に転写する一括型露光装置と、マスクステージと基板ステージとを同期走査しつつマスクのパターンを連続的に基板上に転写する走査型露光装置との２種類が主に知られている。いずれの露光装置においてもマスクと基板との相対位置を高精度に一致させてマスクパターンの転写を行うことが要求されるため、マスクステージ及び基板ステージの位置決め精度は露光装置の最も重要な性能の一つである。
【０００３】
従来より、上記基板ステージ及びマスクステージ（以下、両者を総称してステージという）の駆動源としてリニアモータが用いられているが、リニアモータからの発熱はステージ位置決め精度に影響を及ぼす。例えば、リニアモータからの発熱が周囲の部材・装置を熱変形させたり、ステージの位置検出に用いられる光干渉式測長計の光路上における空気温度を変化させて測定値に誤差を生じさせる。したがって、リニアモータからの発熱が周囲に伝わるのを防ぐために、リニアモータのコイルをハウジング（ジャケット）に収容し、このハウジング内部に冷媒を供給する従来技術がある。このようなリニアモータはハウジング内部に対して冷媒を入れる入口部とハウジング内部の冷媒を出す出口部とを有し、入口部から供給されハウジング内部を流れる冷媒がコイルからの発熱を回収し、出口部からハウジング外部に出る構成である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のリニアモータには以下に述べる問題が生じるようになった。
上述したように、ハウジング内部に供給された冷媒はコイルの熱を回収してからハウジング外部に出るので、入口部における冷媒温度と出口部における冷媒温度とが異なり、出口部における冷媒温度のほうが入口部における冷媒温度より高くなる。この温度差により、装置内の空気の揺らぎが発生して光干渉式測長計の測定精度が低下したり、出口部周辺の部材等が熱変形（熱膨張）したりするといった不都合が生じる。
【０００５】
コイルを収容したハウジング（ジャケット）内部に冷媒を供給する技術として、例えば特開２００１−２５２２７号公報には、ジャケットを二重構造とし、内側ジャケットと外側ジャケットとのそれぞれに性質の異なる二種類の冷媒を流す技術が開示されている。しかしながら、この技術は二種類の冷媒を用いるため２つの冷却システム（冷媒供給装置）が必要であり、装置構成が複雑化する。
また、特開２００１−２７５３３４号公報には、コイルを収容するシェルとこのシェルを囲む外側カバーとを備えたリニアモータに関する技術が開示されており、シェルと外側カバーとの間に設けた外側第１主流路及び外側第２主流路を介してシェル内部に冷媒を供給し、シェル内部の内側主流路及び内側第２主流路に冷媒を流すことによってコイルを冷却し、この冷媒を外部に排出する構成となっている。この場合、各流路は直列に接続されている構成であるため、シェル表面の温度上昇は抑制できても、冷媒の出口部付近における温度上昇を十分に抑えることができない。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、コイルを収容するハウジング内部に冷媒を供給した際、ハウジングの各部分での温度差（温度分布）の発生を抑えることができるリニアモータ、このリニアモータを備えたステージ装置及び露光装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため本発明は、実施の形態に示す図１〜図１２に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のリニアモータ（２０、３０、４０）は、冷媒が供給される内部空間を有するハウジング部（６０）と、内部空間に配置されるコイル（７０）とを有するリニアモータにおいて、内部空間に設けられ、冷媒を流通する第１の流路（６６）と、第１の流路（６６）とコイル（７０）との間に第１の流路（６６）に対して並列に設けられ、冷媒を流通する第２の流路（６７）とを備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、コイルを収容するハウジング部の内部空間に第１の流路と第２の流路とを並列に設けたので、例えば第１の流路をハウジング部の壁部側（外側）に設置し、第２の流路をコイル側（内側）に設置することによって、第２の流路を流れる冷媒によりコイルを冷却し、第１の流路を流れる冷媒によりハウジング部の壁部、ひいてはハウジング部周囲の雰囲気の温度上昇を抑えることができる。そして、外側に配置されている第１の流路を流れる冷媒により、内側に配置されている第２の流路を流れる冷媒の出口部付近における温度上昇を抑え、入口部側と出口部側とでの温度差（温度分布）の発生を抑えることができる。したがって、リニアモータ周辺の各部材・装置の熱変形や空気の揺らぎの発生を抑えることができる。そして、第１の流路と第２の流路とは並列に設けられているので、流路のそれぞれに対して１つの冷媒供給装置から冷媒を供給することができ、簡略な装置構成で冷却効果を得ることができる。
【０００９】
本発明のリニアモータ（２０、３０、４０）は、冷媒が供給される内部空間を有するハウジング部（６０）と、内部空間に配置されるコイル（７０）とを有するリニアモータにおいて、内部空間内にコイル（７０）に沿って設けられ、冷媒を流通する第１流路（８１）と第２流路（８２）とを有し、第１流路（８１）は、コイル（７０）との間に第２流路（８２、８２Ｂ）を挟んだ第１領域（８１Ａ）と、第２流路（８２、８２Ａ）とコイル（７０）との間に挟まれた第２領域（８１Ｂ）とを有することを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、コイルを収容するハウジング部の内部空間にコイルに沿って第１流路及び第２流路を設け、第１流路の一部分である第１領域を第２流路の外側に設けるとともに、残りの部分である第２領域をコイルに近接して設けたので、第１流路のうち第１領域を流れる冷媒は、コイルの熱を回収して温度上昇している第２流路を流れる冷媒の熱のハウジング部外部への放熱を抑え、第２領域を流れる冷媒は、コイルの熱を効果的に回収し、ハウジング部の各部分どうしでの温度差（温度分布）の発生を抑えることができる。したがって、リニアモータ周辺の各部材・装置の熱変形や空気の揺らぎの発生を抑えることができる。
【００１１】
本発明のステージ装置（１、２、ＭＳＴ、ＰＳＴ）は、駆動装置を備えたステージ装置において、駆動装置に、上記記載のリニアモータ（２０、３０、４０）が用いられていることを特徴とする。
また、本発明の露光装置（ＥＸ）は、マスク（Ｍ）を支持するマスクステージ（１、ＭＳＴ）と、基板（Ｐ）を支持する基板ステージ（２、ＰＳＴ）とを備えた露光装置において、マスクステージ（１、ＭＳＴ）及び基板ステージ（２、ＰＳＴ）のうち少なくともいずれか一方に、上記記載のステージ装置が用いられていることを特徴とする。
【００１２】
本発明によれば、リニアモータにおいて温度分布が生じるのを抑えることができるので、周囲の各部材・装置の熱変形や光干渉式測長計の測定誤差の発生を抑えることができ、高い位置決め精度を有するステージ装置、及び高い露光精度を有する露光装置が提供される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のリニアモータ、ステージ装置及び露光装置について図面を参照しながら説明する。図１は本発明のステージ装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。ここで、本実施形態における露光装置ＥＸは、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動しつつマスクＭに設けられているパターンを投影光学系ＰＬを介して感光基板Ｐ上に転写する所謂スキャニングステッパである。以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内における前記同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向と垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。更に、Ｘ軸まわり、Ｙ軸まわり、及びＺ軸まわりの回転方向をそれぞれθＸ方向、θＹ方向、及びθＺ方向とする。また、ここでいう「感光基板」は半導体ウエハ上にレジストが塗布されたものを含み、「マスク」は感光基板上に縮小投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。
【００１４】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動するマスクステージＭＳＴ及びこのマスクステージＭＳＴを支持するマスク定盤３を有するステージ装置１と、光源を有し、マスクステージＭＳＴに支持されているマスクＭを露光光で照明する照明光学系ＩＬと、感光基板Ｐを保持して移動する基板ステージＰＳＴ及びこの基板ステージＰＳＴを支持する基板定盤４を有するステージ装置２と、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターン像を基板ステージＰＳＴに支持されている感光基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、ステージ装置１及び投影光学系ＰＬを支持するリアクションフレーム５と、露光装置ＥＸの動作を統括制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。リアクションフレーム５は床面に水平に載置されたベースプレート６上に設置されており、このリアクションフレーム５の上部側及び下部側には内側に向けて突出する段部５ａ及び５ｂがそれぞれ形成されている。
【００１５】
照明光学系ＩＬはリアクションフレーム５の上面に固定された支持コラム７により支持される。照明光学系ＩＬより射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２　レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。
【００１６】
ステージ装置１のうちマスク定盤３は各コーナーにおいてリアクションフレーム５の段部５ａに防振ユニット８を介してほぼ水平に支持されており、その中央部にマスクＭのパターン像が通過する開口３ａを備えている。マスクステージＭＳＴはマスク定盤３上に設けられており、その中央部にマスク定盤３の開口３ａと連通しマスクＭのパターン像が通過する開口Ｋを備えている。マスクステージＭＳＴの底面には非接触ベアリングである複数のエアベアリング９が設けられており、マスクステージＭＳＴはエアベアリング９によりマスク定盤３に対して所定のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００１７】
図２はマスクステージＭＳＴを有するステージ装置１の概略斜視図である。
図２に示すように、ステージ装置１（マスクステージＭＳＴ）は、マスク定盤３上に設けられたマスク粗動ステージ１６と、マスク粗動ステージ１６上に設けられたマスク微動ステージ１８と、マスク定盤３上において粗動ステージ１６をＹ軸方向に所定ストロークで移動可能な一対のＹリニアモータ（リニアモータ、駆動装置）２０、２０と、マスク定盤３の中央部の上部突出部３ｂの上面に設けられ、Ｙ軸方向に移動する粗動ステージ１６を案内する一対のＹガイド部２４、２４と、粗動ステージ１６上において微動ステージ１８をＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に微小移動可能な一対のＸボイスコイルモータ１７Ｘ及び一対のＹボイスコイルモータ１７Ｙとを備えている。なお、図１では、粗動ステージ１６及び微動ステージ１８を簡略化して１つのステージとして図示している。
【００１８】
Ｙリニアモータ２０のそれぞれは、マスク定盤３上においてＹ軸方向に延びるように設けられたコイルユニット（電機子ユニット）からなる一対の固定子２１と、この固定子２１に対応して設けられ、連結部材２３を介して粗動ステージ１６に固定された磁石ユニットからなる可動子２２とを備えている。そして、これら固定子２１及び可動子２２によりムービングマグネット型のリニアモータ２０が構成されており、可動子２２が固定子２１との間の電磁気的相互作用により駆動することで粗動ステージ１６（マスクステージＭＳＴ）がＹ軸方向に移動する。固定子２１のそれぞれは非接触ベアリングである複数のエアベアリング１９によりマスク定盤３に対して浮上支持されている。このため、運動量保存の法則により粗動ステージ１６の＋Ｙ方向の移動に応じて固定子２１が−Ｙ方向に移動する。この固定子２１の移動により粗動ステージ１６の移動に伴う反力が相殺されるとともに重心位置の変化を防ぐことができる。なお、固定子２１は、マスク定盤３に変えてリアクションフレーム５に設けられてもよい。固定子２１をリアクションフレーム５に設ける場合にはエアベアリング１９を省略し、固定子２１をリアクションフレーム５に固定して粗動ステージ１６の移動により固定子２１に作用する反力をリアクションフレーム５を介して床に逃がしてもよい。
【００１９】
Ｙガイド部２４のそれぞれは、Ｙ軸方向に移動する粗動ステージ１６を案内するものであって、マスク定盤３の中央部に形成された上部突出部３ｂの上面においてＹ軸方向に延びるように固定されている。また、粗動ステージ１６とＹガイド部２４、２４との間には非接触ベアリングである不図示のエアベアリングが設けられており、粗動ステージ１６はＹガイド部２４に対して非接触で支持されている。
【００２０】
微動ステージ１８は不図示のバキュームチャックを介してマスクＭを吸着保持する。微動ステージ１８の＋Ｙ方向の端部にはコーナーキューブからなる一対のＹ移動鏡２５ａ、２５ｂが固定され、微動ステージ１８の−Ｘ方向の端部にはＹ軸方向に延びる平面ミラーからなるＸ移動鏡２６が固定されている。そして、これら移動鏡２５ａ、２５ｂ、２６に対して測長ビームを照射する３つのレーザ干渉計（いずれも不図示）が各移動鏡との距離を計測することにより、マスクステージＭＳＴのＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の位置が高精度で検出される。制御装置ＣＯＮＴはこれらレーザ干渉計の検出結果に基づいて、Ｙリニアモータ２０、Ｘボイスコイルモータ１７Ｘ、及びＹボイスコイルモータ１７Ｙを含む各モータを駆動し、微動ステージ１８に支持されているマスクＭ（マスクステージＭＳＴ）の位置制御を行う。
【００２１】
図１に戻って、開口Ｋ及び開口３ａを通過したマスクＭのパターン像は投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬは複数の光学素子により構成され、これら光学素子は鏡筒で支持されている。投影光学系ＰＬは、例えば１／４又は１／５の投影倍率を有する縮小系である。なお、投影光学系ＰＬとしては等倍系あるいは拡大系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬの鏡筒の外周にはこの鏡筒に一体化されたフランジ部１０が設けられている。そして、投影光学系ＰＬはリアクションフレーム５の段部５ｂに防振ユニット１１を介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤１２にフランジ部１０を係合している。
【００２２】
ステージ装置２は、基板ステージ（可動部）ＰＳＴと、基板ステージＰＳＴをＸＹ平面に沿った２次元方向に移動可能に支持する基板定盤４と、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に案内しつつ移動自在に支持するＸガイドステージ３５と、Ｘガイドステージ３５に設けられ、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に移動可能なＸリニアモータ（リニアモータ、駆動装置）４０と、Ｘガイドステージ３５をＹ軸方向に移動可能な一対のＹリニアモータ（リニアモータ、駆動装置）３０、３０とを有している。基板ステージＰＳＴは感光基板Ｐを真空吸着保持する基板ホルダＰＨを有しており、感光基板Ｐは基板ホルダＰＨを介して基板ステージＰＳＴに支持される。また、基板ステージＰＳＴの底面には非接触ベアリングである複数のエアベアリング３７が設けられており、これらエアベアリング３７により基板ステージＰＳＴは基板定盤４に対して非接触で支持されている。また、基板定盤４はベースプレート６の上方に防振ユニット１３を介してほぼ水平に支持されている。
【００２３】
Ｘガイドステージ３５の＋Ｘ側には、Ｘトリムモータ３４の可動子３４ａが取り付けられている。また、Ｘトリムモータ３４の固定子３４ｂはリアクションフレーム５に設けられている。このため、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に駆動する際の反力は、Ｘトリムモータ３４及びリアクションフレーム５を介してベースプレート６に伝達される。
【００２４】
図３は基板ステージＰＳＴを有するステージ装置２の概略斜視図である。
図３に示すように、ステージ装置２は、Ｘ軸方向に沿った長尺形状を有するＸガイドステージ３５と、Ｘガイドステージ３５で案内しつつ基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に所定ストロークで移動可能なＸリニアモータ４０と、Ｘガイドステージ３５の長手方向両端に設けられ、このＸガイドステージ３５を基板ステージＰＳＴとともにＹ軸方向に移動可能な一対のＹリニアモータ３０、３０とを備えている。
【００２５】
Ｘリニアモータ４０は、Ｘガイドステージ３５にＸ軸方向に延びるように設けられたコイルユニットからなる固定子４１と、この固定子４１に対応して設けられ、基板ステージＰＳＴに固定された磁石ユニットからなる可動子４２とを備えている。これら固定子４１及び可動子４２によりムービングマグネット型のリニアモータ４０が構成されており、可動子４２が固定子４１との間の電磁気的相互作用により駆動することで基板ステージＰＳＴがＸ軸方向に移動する。ここで、基板ステージＰＳＴはＸガイドステージ３５に対してＺ軸方向に所定量のギャップを維持する磁石及びアクチュエータからなる磁気ガイドにより非接触で支持されている。基板ステージＰＳＴはＸガイドステージ３５に非接触支持された状態でＸリニアモータ４０によりＸ軸方向に移動する。
【００２６】
Ｙリニアモータ３０のそれぞれは、Ｘガイドステージ３５の長手方向両端に設けられた磁石ユニットからなる可動子３２と、この可動子３２に対応して設けられコイルユニットからなる固定子３１とを備えている。ここで、固定子３１、３１はベースプレート６に突設された支持部３６、３６（図１参照）に設けられている。なお、図１では固定子３１及び可動子３２は簡略化して図示されている。これら固定子３１及び可動子３２によりムービングマグネット型のリニアモータ３０が構成されており、可動子３２が固定子３１との間の電磁気的相互作用により駆動することでＸガイドステージ３５がＹ軸方向に移動する。また、Ｙリニアモータ３０、３０のそれぞれの駆動を調整することでＸガイドステージ３５はθＺ方向にも回転移動可能となっている。したがって、このＹリニアモータ３０、３０により基板ステージＰＳＴがＸガイドステージ３５とほぼ一体的にＹ軸方向及びθＺ方向に移動可能となっている。
【００２７】
図１に戻って、基板ステージＰＳＴの−Ｘ側の側縁にはＹ軸方向に沿って延設されたＸ移動鏡５１が設けられ、Ｘ移動鏡５１に対向する位置にはレーザ干渉計５０が設けられている。レーザ干渉計５０はＸ移動鏡５１の反射面と投影光学系ＰＬの鏡筒下端に設けられた参照鏡５２とのそれぞれに向けてレーザ光（検出光）を照射するとともに、その反射光と入射光との干渉に基づいてＸ移動鏡５１と参照鏡５２との相対変位を計測することにより、基板ステージＰＳＴ、ひいては感光基板ＰのＸ軸方向における位置を所定の分解能でリアルタイムに検出する。同様に、基板ステージＰＳＴ上の＋Ｙ側の側縁にはＸ軸方向に沿って延設されたＹ移動鏡５３（図１には不図示、図３参照）が設けられ、Ｙ移動鏡５３に対向する位置にはＹレーザ干渉計（不図示）が設けられており、Ｙレーザ干渉計はＹ移動鏡５３の反射面と投影光学系ＰＬの鏡筒下端に設けられた参照鏡（不図示）とのそれぞれに向けてレーザ光を照射するとともに、その反射光と入射光との干渉に基づいてＹ移動鏡と参照鏡との相対変位を計測することにより、基板ステージＰＳＴ、ひいては感光基板ＰのＹ軸方向における位置を所定の分解能でリアルタイムに検出する。レーザ干渉計の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴはレーザ干渉計の検出結果に基づいてリニアモータ３０、４０を介して基板ステージＰＳＴの位置制御を行う。
【００２８】
次に、図４〜図６を参照しながら本発明のリニアモータ４０（２０、３０）の第１実施形態について説明する。以下の説明では基板ステージＰＳＴに設けられたＸリニアモータ４０について説明するが、Ｙリニアモータ３０及びマスクステージＭＳＴに設けられたリニアモータ２０もほぼ同等の構成を有する。
【００２９】
図４はリニアモータ４０の概略斜視図である。
図４に示すように、リニアモータ４０は、Ｘ軸方向（所定方向）を長手方向とするコイルユニットからなる固定子４１と、磁石ユニットからなる可動子４２とを備えている。このうち固定子４１は、Ｘ軸方向（所定方向）に複数並んで配置されたコイル７０と、これらコイル７０を収容するハウジング部６０とを備えている。コイル７０には制御装置ＣＯＮＴにより電流量を制御された駆動用電流が流れる。一方、可動子４２は複数の磁石９１を有し、固定子４１のハウジング部６０を挟んで設けられたヨーク部９０を備えている。磁石９１のそれぞれは永久磁石であってヨーク部９０に所定方向（Ｘ軸方向）に複数並んで取り付けられており、異なる磁極の磁石が交互に並んで配置されている。更に、磁石９１はハウジング部６０（固定子４１）を挟んで異なる磁極どうしが互いに対向して配置されている。ここで、磁石９１の大きさ（Ｘ軸、Ｙ軸それぞれの方向における長さ）はコイル７０より小さく（コイル７０の大きさ以下に）設定されている。
【００３０】
図５は図４のＡ−Ａ断面矢視図であり、図６はコイルユニットである固定子４１の縦断面図である。
図５及び図６に示すように、ハウジング部６０は、コイル７０を配置する内側ハウジング６１と、内側ハウジング６１より外側に設けられた外側ハウジング６２とを有している。図５に示すように、内側ハウジング６１及び外側ハウジング６２のそれぞれは断面視「口」に形成され、略同心状に配置されている。ハウジング部６０（内側ハウジング６１、外側ハウジング６２）の形成材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアセタール樹脂、ガラス繊維充填エポキシ樹脂、ガラス繊維強化熱硬化性プラスチック（ＧＦＲＰ）、炭素繊維強化熱硬化性プラスチック（ＣＦＲＰ）等の合成樹脂、またはセラミックス材料等の非導電性且つ非磁性材料、あるいはステンレス鋼やアルミニウム等の金属が挙げられる。また、これらの材料からなるシート状部材を形成し、このシート状部材を複数積層した積層体によりハウジング部６０を形成するようにしてもよい。合成樹脂により積層体を形成する場合には、例えば共押出加工法を用いることができる。ここで、ハウジング部６０のうち、少なくとも可動子４２の磁石９１と対向する部分は合成樹脂あるいはセラミックス材料などの非導電性且つ非磁性材料によって構成することが好ましい。こうすることにより、ハウジング部が磁束中を移動しても渦電流の発生を抑制することができ、リニアモータ駆動時の粘性抵抗を抑える等、リニアモータの動作に与える影響を抑えることができる。
【００３１】
コイル７０は空芯部７１を有しており、空芯部７１にはこのコイル７０を支持する支持部７２が配置されている。支持部７２はコイル７０と接しており、コイル７０を空芯部７１で支持する。本実施形態において、空芯部７１及びこの空芯部７１に配置されている支持部７２は、図６に示すようにＹ軸方向を長手方向とする平面視略長方形状に設定されている。支持部７２の形成材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアセタール樹脂、ガラス繊維充填エポキシ樹脂、ガラス繊維強化熱硬化性プラスチック（ＧＦＲＰ）、炭素繊維強化熱硬化性ブラスチック（ＣＦＲＰ）等の合成樹脂、またはセラミックス材料等の非導電性且つ非磁性材料、あるいはステンレス鋼やアルミニウム等の金属が挙げられる。また、これらの材料からなるシート状部材を形成し、このシート状部材を複数積層した積層体により支持部７２を形成するようにしてもよい。ここで、支持部７２の形成材料としては、合成樹脂あるいはセラミックス材料などの非導電性且つ非磁性材料によって構成することが好ましい。こうすることにより、ハウジング部が磁束中を移動しても渦電流の発生を抑制することができ、リニアモータ駆動時の粘性抵抗を抑える等、リニアモータの動作に与える影響を抑えることができる。
【００３２】
図５に示すように、コイル７０を支持した支持部７２は、固定部材としての複数のねじ７５によりハウジング部６０に対して固定される。ハウジング部６０の内側ハウジング６１及び外側ハウジング６２のそれぞれの側面には、複数のねじ（固定部材）７５に対応するねじ穴６１ａ、６２ａが形成されているとともに、支持部７２の側面にもねじ７５に螺合する雌ねじ穴７２ａが形成されている。そして、ねじ７５を外側ハウジング６２の外側からねじ込むことにより、ねじ７５は外側ハウジング６２のねじ穴６２ａ、及び内側ハウジング６１のねじ穴６１ａを介して支持部７２の雌ねじ穴７２ａと螺合し、コイル７０を支持している支持部７２とハウジング部６０とを固定する。ここで、本実施形態では、雌ねじ穴７２ａは支持部７２の片面２箇所ずつ、両面側計４箇所に形成されており、ハウジング部６０のねじ穴６１ａ、６２ａのそれぞれも雌ねじ穴７２ａに対応して形成されている。そして、支持部７２は片面２箇所ずつ、両面合計４箇所において４つのねじ（固定部材）７５でそれぞれ固定される。
【００３３】
また、図５に示すように、コイル７０は上下両側（Ｙ軸方向両側）おいて固定具７６により固定されている。この固定具７６は例えばボルトなどにより構成されており、内側ハウジング６１及び外側ハウジング６２のそれぞれには、固定具７６に対応する穴６１ｂ、６２ｂが形成されている。そして、固定具７６は外側ハウジング６２の穴６２ｂ、及び内側ハウジング６１の穴６１ｂを介してその先端部でコイル７０を保持する。
【００３４】
ねじ７５及び固定具７６の形成材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアセタール樹脂、ガラス繊維充填エポキシ樹脂、ガラス繊維強化熱硬化性プラスチック（ＧＦＲＰ）、炭素繊維強化熱硬化性ブラスチック（ＣＦＲＰ）、ガラス繊維強化ポリアミドＭＸＤ６樹脂（「レニー」：三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製）等の合成樹脂、またはセラミックス材料等の非導電性且つ非磁性材料、あるいはステンレス鋼やアルミニウム等の金属が挙げられる。ここで、ねじ７５の形成材料としては、合成樹脂あるいはセラミックス材料などの非導電性且つ非磁性材料によって構成することが好ましい。
【００３５】
そして、これらねじ７５及び固定具７６により、コイル７０とハウジング部６０（内側ハウジング６１及び外側ハウジング６２）とが位置決め固定されるとともに、内側ハウジング６１と外側ハウジング６２とも位置決め固定される。内側ハウジング６１と外側ハウジング６２とが位置決め固定されることにより、内側ハウジング６１と外側ハウジング６２との間に空間（外側空間）６６が設定される。
【００３６】
固定子４１は、内側ハウジング６１と外側ハウジング６２との間に設定された外側空間（第１の流路）６６と、内側ハウジング６１により設定された内側空間（第２の流路）６７とを有している。そして、これら外側、内側空間６６、６７によりハウジング部６０の内部空間が形成されている。コイル７０は内側空間６７に配置されている。図６に示すように、ハウジング部６０は、ハウジング部６０の内部空間と連通し、この内部空間に対して所定の冷媒を入れる入口部６３と、入口部６３に設けられ、入口部６３から供給された冷媒を外側空間６６と内側空間６７とに分岐する分岐部６８と、内部空間と連通し、この内部空間の冷媒を外部に出す出口部６４とを備えている。入口部６３はハウジング部６０の長手方向一端部に設けられ、出口部６４はハウジング部６０の長手方向他端部に設けられている。そして、入口部６３より供給された冷媒は外側空間６６と内側空間６７とに分岐され、各空間６６、６７を流通する。すなわち、外側空間６６が冷媒を流通する第１流路（第１の流路）を構成し、内側空間６７が第１流路６６とコイル７０との間に設けられ冷媒を流通する第２流路（第２の流路）を構成している。以下の説明では、外側空間６６を「第１流路６６」と称し、内側空間６７を「第２流路６７」と称する。そして、図６に示すように、第１流路６６と第２流路６７とは並列に設けられている。すなわち、並列に設けられた２つの流路のうち第２流路６７を流通する冷媒がコイル７０の熱を回収し、第１流路６６を流れる冷媒が内側ハウジング６１の外側表面を流れて冷却するとともに、ハウジング部６０の外側に熱が伝わるのを断熱する構成となっている。また、第１流路６６と第２流路６７とは出口部６４の合流部６９で合流している。
【００３７】
なお、使用される冷媒としては液体又は気体あって特に不活性なものが好ましく、ハイドロフルオロエーテル（例えば「ノベックＨＦＥ」：住友スリーエム株式会社製）や、フッ素系不活性液体（例えば「フロリナート」：住友スリーエム株式会社製）などが挙げられる。一方、コイル７０の導線自体が冷媒に直接触れないようにコイル表面には表面処理が施されている。
【００３８】
また、図５に示すように、ねじ７５が配置されたねじ穴６１ａ、６２ａには例えばＯリングからなるシール部材７５ａが設けられているとともに、固定具７６が配置された穴６１ｂ、６２ｂにもＯリングからなるシール部材７６ａが設けられている。シール部材７５ａ、７６ａは、内側ハウジング６１と外側ハウジング６２との間においてこれら内側ハウジング６１、外側ハウジング６２のそれぞれに接するように設けられており、これらシール部材７５ａ、７６ｂによりハウジング部６０の内部空間は密閉され、冷媒がハウジング部６０の外部に漏れ出すのを防止している。なお、シール部材７５ａ、７６ａとしてはＯリングに限らず、シール用接着剤やパッキンなどでもよい。
【００３９】
ハウジング部６０の内部空間に冷媒を供給する際には、制御装置ＣＯＮＴは、不図示の冷媒供給装置より温度制御された冷媒を入口部６３に供給する。冷媒の温度制御は入口部６３の温度と出口部６４の温度との少なくとも一方に基づいて行うことが望ましい。入口部６３に供給された冷媒は、分岐部６８で分岐して第１流路６６と第２流路６７とに供給される。第２流路６７に供給された冷媒は、この第２流路（内側空間）６７に配置されているコイル７０の熱を回収し、出口部６４に向かって流れる。一方、第１流路６６に供給された冷媒は、コイル７０が配置されている内側ハウジング６１の表面の熱を回収し、出口部６４に向かって流れる。そして、第１流路６６及び第２流路６７のそれぞれを流通した冷媒は出口部６４の合流部６９で合流し、ハウジング部６０の外部に排出される。ハウジング部６０より排出された冷媒は、例えば前記冷媒供給装置により回収される。ここで、入口部６３はハウジング部６０の長手方向の一端部に設けられ、出口部６４はハウジング部６０の長手方向の他端部に設けられているので、入口部６３からハウジング部６０内部（第２流路６７）に供給された冷媒は、Ｘ軸方向に並んで配置されたコイル７０の全てを通過して冷却した後、出口部６４から外部に排出される。第２流路６７を流れる冷媒の温度はコイル７０の熱を回収することにより出口部６４に向かうにつれて上昇するが、この第２流路６７の外側に設けられた第１流路６６を流れる冷媒により、第２流路６７を出口部６４に向かって流れる冷媒の温度上昇が抑えられるとともに、コイル７０の発生した熱がハウジング部６０の表面に伝達するのを抑えることができる。
【００４０】
以上説明したように、コイル７０を収容するハウジング部６０の内部空間において、熱源側であるコイル７０側に第２流路６７を設け、この第２流路６７の外側に第１流路６６を設けたことにより、第２流路６７を流れる冷媒によりコイル７０を冷却し、第１流路６６を流れる冷媒により内側ハウジング６１の熱の外部への放熱を遮ることができるので、ハウジング部６０外壁、すなわち外側ハウジング６２の温度上昇、ひいてはハウジング部６０周囲の雰囲気の温度上昇を抑えることができる。また、外側に配置された第１流路６６を流れる冷媒により、内側に配置された第２流路６７を流れる冷媒の出口部６４付近における温度上昇を抑え、入口部６３と出口部６４とでの温度差（温度分布）の発生を抑えることができる。したがって、リニアモータ周辺の各部材・装置の熱変形や空気の揺らぎの発生を抑えることができる。そして、第１流路６６及び第２流路６７のそれぞれに対して１つの冷媒供給装置から冷媒を供給することができるので、簡略な装置構成で効果的な冷却作用を得ることができる。
【００４１】
次に、図７〜図１１を参照しながら本発明のリニアモータの他の実施形態について説明する。ここで、以下の説明において、上述した第１実施形態と同一もしくは同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。
【００４２】
図７は本発明のリニアモータの第２実施形態を示す図であって、固定子（コイルユニット）４１の縦断面図である。図７に示すように、リニアモータの固定子４１は、冷媒が供給され、内側ハウジング６１及び外側ハウジング６２を有するハウジング部６０と、ハウジング部６０の内部空間に配置されているコイル７０とを備えている。ハウジング部６０の長手方向一端部には内部空間に対して冷媒を入れる入口部６３が設けられ、ハウジング部６０の長手方向他端部には内部空間からの冷媒を外部に出す出口部６４が設けられている。そして、本実施形態においては、内側ハウジング６１は、図７中、ハウジング部６０の長手方向右側半分に設けられている。すなわち、ハウジング部６０の内部空間において、内側ハウジング６１と外側ハウジング６２との間に形成される第１流路６６は、ハウジング部６０の途中位置から形成されている構成であって、入口部６３から供給された冷媒を第１流路６６と第２流路６７とに分岐する分岐部６８は、内部空間の長手方向中間位置、すなわち、入口部６３と出口部６４と間に設定された構成となっている。
【００４３】
このような構成とすることにより、第１実施形態に比べてハウジング部６０の製造が容易になる。すなわち、入口部６３近傍で、第１流路と第２流路とを形成するために二重管を製造するのは困難な場合があるが、図７に示した構成によれば製造を容易に行うことができる。なお、図７に示した例では、分岐部６８はハウジング部６０の長手方向中央部に設定されている構成であるが入口部６３近傍や出口部６４近傍に設定されてもよい。分岐部６８の位置は、コイル７０の数や発熱量、ハウジング部の温度分布や冷媒の流速等に基づいて適宜設定され、内部空間の所定位置に設けることができる。また、図７に示した例では、出口部６４側が第１流路と第２流路との二重流路構造となっているが、入口部６３側を二重流路構造とし、入口部６３と出口部６４との間に合流部を設ける構成としてもよい。
【００４４】
図８は本発明のリニアモータの第３実施形態を示す図であって、固定子（コイルユニット）４１の縦断面図である。図８に示すように、リニアモータの固定子４１は、冷媒が供給され、内側ハウジング６１及び外側ハウジング６２を有するハウジング部６０と、ハウジング部６０の内部空間に配置されているコイル７０とを備えている。ハウジング部６０の長手方向一端部には内部空間に対して冷媒を入れる入口部６３が設けられ、ハウジング部６０の長手方向他端部には内部空間からの冷媒を外部に出す出口部６４が設けられている。そして、本実施形態においては、第１流路６６と第２流路６７とが合流する合流部６９は、出口部６４より所定距離離れた下流側に設けられている。具体的には、出口部６４に接続する冷媒の排出管が二重管構造となっており、この二重管構造のうちの一方の流路が第１流路６６に接続し、他方の流路が第２流路６７に接続し、この排出管の途中位置で二重管構造のそれぞれの流路が合流するようになっている。
【００４５】
そして、露光装置内において温度上昇が許容される位置（例えば、光干渉式測長計から十分離れた位置）まで排出管（二重管）を引き回し、温度上昇が許容される位置に合流部を設けることにより、温度上昇が許容されない露光装置内の所定エリアにおいてはコイルの発熱による影響を抑えることができ、露光精度や光干渉式測長計を用いた位置検出精度を維持できる。
【００４６】
図９は本発明の第４実施形態を示す図である。図９に示す例は、上記第２実施形態と第３実施形態とを組み合わせた構成である。このように、コイルの数や発熱量、あるいは露光装置構成等に基づいて、ハウジング部の構成を任意に設定することができる。
【００４７】
次に、図１０を参照しながら本発明のリニアモータの第５実施形態について説明する。図１０は固定子（コイルユニット）４１の縦断面図である。
図１０において、固定子４１は、冷媒が供給される内部空間を有するハウジング部６０と、ハウジング部６０の内部空間に配置される複数のコイル７０とを有している。ハウジング部６０は、コイル７０を配置し、その内部空間を仕切壁（仕切部）８３により第１空間８１Ｂと第２空間８２Ｂとに仕切られた内側ハウジング９１と、第２空間８２Ｂの外側に設けられ、第１空間８１Ｂに対して冷媒を供給する流路８１Ａを内側ハウジング９１との間で形成する第１外側ハウジング９３と、第１空間８１Ｂの外側に設けられ、第２空間８２Ｂに対して冷媒を供給する流路８２Ａを内側ハウジング９１との間で形成する第２外側ハウジング９５とを備えている。そして、流路８１Ａと第１空間８１Ｂとにより第１流路８１が形成され、流路８２Ａと第２空間８２Ｂとにより第２流路８２が形成されている。
【００４８】
すなわち、本実施形態に係る固定子４１は、ハウジング部６０の内部空間に複数並んだコイル７０に沿って設けられた第１流路８１と第２流路８２とを有しており、第１流路８１は、コイル７０との間に第２空間８２Ｂ（第２流路８２）を挟んだ流路（第１領域）８１Ａと、流路８２Ａ（第２流路８２）とコイル７０との間に挟まれた第１空間（第２領域）８１Ｂとを有している。第２流路８２は、コイル７０との間に第１空間８１Ｂ（第１流路８１）を挟んだ流路８２Ａと、流路８１Ａとコイル７０との間に挟まれた第２空間８２Ｂとを有している。
【００４９】
そして、第１流路８１に対する冷媒の入口部８４Ａはハウジング部６０の長手方向一端部に設けられ、出口部８４Ｂはハウジング部６０の長手方向他端部に設けられている。一方、第２流路８２に対する冷媒の入口部８５Ａはハウジング部６０の長手方向他端部に設けられ、出口部８５Ｂはハウジング部６０の長手方向一端部に設けられている。すなわち、第１流路８１の入口部８４Ａと第２流路８２の出口部８５Ｂとが同じ側（すなわち一端部）に設けられ、第１流路８１の出口部８４Ｂと第２流路８２の入口部８５Ａとが同じ側（すなわち他端部）に設けられている。つまり、第１流路８１において、第１領域８１Ａ側に第１流路８１の入口部８４Ａが設けられ、第２領域８１Ｂ側に第２流路８２の入口部８５Ａが設けられた構成となっている。そして、第１流路８１と第２流路８２とは冷媒の流通方向が互いに反対方向となっている。
【００５０】
図１１は第１流路８１の流路（第１領域）８１Ａと第２流路８２の流路８２Ａとの交差部分近傍を示す概略斜視図である。図１１に示すように、仕切壁８３の一部には開口８３ａが形成されており、第２流路８２の流路８２Ａを流通した冷媒は、開口８３ａを介して第２空間８２Ｂに供給される。同様に、第１流路８１の流路（第１領域）８１Ａを流通した冷媒は、仕切壁８３の別の開口（図１１では不図示）を介して第１空間（第２領域）８１Ｂに供給される。
【００５１】
以上説明したように、コイル７０を収容するハウジング部６０の内部空間に複数並んだコイル７０に沿って第１流路８１及び第２流路８２を設け、第１流路８１の一部分である第１領域８１Ａを第２流路８２の第２空間８２Ｂの外側に設けるとともに、残りの部分である第２領域８１Ｂをコイル７０に近接して設けたので、第１流路８１のうち第１領域８１Ａを流れる冷媒は、第２空間８２Ｂにおいてコイル７０の熱を回収し温度上昇している冷媒の熱がハウジング部６０の外部に放熱するのを抑え、第２領域８１Ｂを流れる冷媒は、コイル７０の熱を効果的に回収する。また、第２流路８２のうち流路８２Ａを流れる冷媒は、第１空間８１Ｂにおいてコイル７０の熱を回収し温度上昇している冷媒の熱がハウジング部６０の外部に放熱するのを抑え、第２空間８２Ｂを流れる冷媒は、コイル７０の熱を効果的に回収する。そして、図１０中、ハウジング部６０の右側と左側とでの温度差（温度分布）の発生を抑えることができるので、リニアモータ周辺の各部材・装置の熱変形や空気の揺らぎの発生を抑えることができる。
【００５２】
なお、上記実施形態では、第１領域８１Ａに第１流路８１の入口部が設けられた構成であって、冷媒供給装置から温度調整された状態で供給された冷媒は、まずハウジング部外側を流れた後、ハウジング部内側を流れる構成であるが、ハウジング部内側を流れた後にハウジング部外側を流れる構成としてもよい。すなわち、図１０に示す冷媒の流通方向を逆方向に設定してもよい。
【００５３】
なお、上記各実施形態におけるリニアモータは、コイルユニットを固定子とし、磁石ユニットを可動子とした所謂ムービングマグネット型のリニアモータとして説明したが、コイルユニットを可動子とし、磁石ユニットを固定子としたムービングコイル型のリニアモータにも適用可能である。この場合、可動子であるコイルユニットがステージＰＳＴ、ＭＳＴに接続し、固定子である磁石ユニットがステージＰＳＴ、ＭＳＴの移動面側（ベース）に設けられる。
【００５４】
なお、上記実施形態の感光基板Ｐとしては、半導体デバイス用の半導体ウエハのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００５５】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、感光基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置にも適用することができる。
【００５６】
露光装置ＥＸの種類としては、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置に限られず、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶表示素子製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００５７】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２　レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６　）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、マスクＭを用いる構成としてもよいし、マスクＭを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００５８】
投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２　レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクＭも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ及び偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、マスクＭと基板Ｐとを密接させてマスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００５９】
上記実施形態のように基板ステージＰＳＴやマスクステージＭＳＴにリニアモータを用いる場合においてエアベアリングを用いたエア浮上型に限られず、ローレンツ力を用いた磁気浮上型を用いてもよい。また、各ステージＰＳＴ、ＭＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００６０】
基板ステージＰＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。また、マスクステージＭＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
【００６１】
以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６２】
半導体デバイスは、図１２に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００６３】
【発明の効果】
以上説明したように、コイルを収容するハウジング部の内部空間に冷媒を流通する第１の流路と第２の流路とを並列に設けたので、ハウジング部からの放熱を効果的に抑えることができるとともに、ハウジング部の温度分布の発生を抑えることができる。したがって、リニアモータ周辺の各部材・装置の熱変形や空気の揺らぎの発生を抑えることができ、高精度な位置決め精度を有するステージ装置及び高い露光精度を有する露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のステージ装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】本発明のリニアモータを備えたマスクステージを示す概略斜視図である。
【図３】本発明のリニアモータを備えた基板ステージを示す概略斜視図である。
【図４】本発明のリニアモータの第１実施形態を示す概略斜視図である。
【図５】図４のＡ−Ａ断面矢視図である。
【図６】図４のリニアモータのコイルユニットの縦断面図である。
【図７】本発明のリニアモータの第２実施形態を示す縦断面図である。
【図８】本発明のリニアモータの第３実施形態を示す縦断面図である。
【図９】本発明のリニアモータの第４実施形態を示す縦断面図である。
【図１０】本発明のリニアモータの第５実施形態を示す縦断面図である。
【図１１】図１０の要部拡大斜視図である。
【図１２】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
１　　ステージ装置
２　　ステージ装置
２０、３０、４０　　リニアモータ
６０　　ハウジング部
６３　　入口部
６４　　出口部
６６　　外側空間、第１流路（第１の流路）
６７　　内側空間、第２流路（第２の流路）
６８　　分岐部
６９　　合流部
７０　　コイル
８１　　第１流路
８１Ａ　　流路（第１領域）
８１Ｂ　　第１空間（第２領域）
８２　　第２流路
８２Ａ　　流路
８２Ｂ　　第２空間
８４Ａ　　（第１流路の）入口部
８４Ｂ　　（第１流路の）出口部
８５Ａ　　（第２流路の）入口部
８５Ｂ　　（第２流路の）出口部
９０　　ヨーク部
９１　　磁石
ＥＸ　　露光装置
Ｍ　　マスク
ＭＳＴ　　マスクステージ（ステージ装置）
Ｐ　　感光基板（基板）
ＰＳＴ　　基板ステージ（ステージ装置）
【図１】
2004014983.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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