(57)【要約】【課題】再生層の結晶構造上の平坦性を維持した表面入射型の媒体を製造する。【解決手段】基板１０上に、記録マークが形成される磁気記録層１５と、記録マークの漏れ磁界が磁気転写される磁性再生層１３とを少なくとも積層してなる光磁気記録媒体１を製造する媒体製造方法において、磁性再生層１３を保護する保護膜１２に当該磁性再生層１３を積層する第１の工程と、磁性再生層１３に第１の非磁性層１４を積層する第２の工程と、第１の非磁性層１４に磁気記録層１５を積層する第３の工程と、磁気記録層１５に第２の非磁性層１６を積層する第４の工程と、第２の非磁性層１６に基板１０を貼り付ける第５の工程とを有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基板上に、記録マークが形成される磁気記録層と、上記記録マークの漏れ磁界が磁気転写される磁性再生層とを積層してなる光磁気記録媒体を製造する媒体製造方法において、
上記磁性再生層を保護する保護膜に当該磁性再生層を積層する第１の工程と、
上記磁性再生層に第１の非磁性層を積層する第２の工程と、
上記第１の非磁性層に上記磁気記録層を積層する第３の工程と、
上記磁気記録層に第２の非磁性層を積層する第４の工程と、
上記第２の非磁性層に上記基板を貼り付ける第５の工程とを有することを特徴とする媒体製造方法。
【請求項２】
少なくとも基板上に、記録マークが形成される磁気記録層と、上記記録マークの漏れ磁界が磁気転写される磁性再生層とが積層されてなる光磁気記録媒体において、
上記磁性再生層を保護する保護膜に当該磁性再生層を積層し、上記磁性再生層に第１の非磁性層を積層し、上記第１の非磁性層に上記磁気記録層を積層し、上記磁気記録層に第２の非磁性層を積層し、上記第２の非磁性層に上記基板を貼り付けることにより製造されることを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項３】
上記保護膜は、膜厚が１００μｍの誘電体膜であることを特徴とする請求項２記載の光磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法及び光磁気記録媒体に関し、詳しくは、再生光スポットよりも極めて小さい微小記録磁区を拡大して再生することができる光磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＩＴ産業の目覚ましい発展により、家庭等においてもデータ量の大きな情報を扱う機会が多くなってきている。これにともない、記録媒体の大容量化が求められており、様々な技術が提案されている。
【０００３】
例えば、記録媒体上に形成する記録マークのサイズを小さくすることにより、記録媒体の面内方向の記録密度を高める方法がある。小さなサイズの記録マークを再生するためには、再生用のレーザ光のスポット径Ｒを絞る必要がある。レーザ光のスポット径Ｒは、レンズの開口数（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ａｐｅｒｔｕｒｅ；ＮＡ）が高く、レーザ光の波長λが低いほど小さく絞ることができる。しかし、スポット径Ｒは、光の干渉限界があるため、所定量以上小さく絞ることができず、光磁気記録媒体の記録層にスポット径Ｒよりも小さな記録マークが形成されている場合には読み出すことができない。
【０００４】
そこで、再生用のレーザ光のスポット径Ｒよりも小さな記録マークから情報を読み出す方法として、磁気超解像（Ｍａｇｎｅｔｉｃａｌｌｙ  ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｓｕｐｅｒ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ；ＭＳＲ）や、ＭＳＲの信号強度の現象を改善する磁区拡大再生方式（Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ａｍｐｌｉｆｙｉｎｇ  Ｍａｇｎｅｔｏ−Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍ；ＭＡＭＭＯＳ）や、ＭＡＭＭＯＳの変形である磁壁移動検出（Ｄｏｍａｉｎ  Ｗａｌｌ  Ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ  Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ；ＤＷＤＤ）等がある。
【０００５】
ＭＡＭＭＯＳでは、記録層と再生層を有する光磁気記録媒体を用いて、記録層に形成されている微小サイズの記録マーク（磁化状態）を再生層に磁気転写し、それを拡大することで情報の再生を行なっている。
【０００６】
ここで、ＭＡＭＭＯＳの具体的な動作について図４（Ａ）〜図４（Ｅ）を用いて説明する。まず、再生層に形成されている記録マークの磁気モーメントの方向（磁化方向）を所定の方向に揃えるために、レーザ光を照射する。そして、再生層の保磁力Ｈｃが小さくなったときに、再生層に形成されている記録マークの磁化方向と反対方向のパルス磁界を印加する。これにより再生層に形成されている記録マークの磁化方向が所定の方向に揃う（図４（Ａ））。なお、再生層に形成されている記録マークの磁化方向を所定の方向に揃える際の温度は、記録層に形成されている記録マークが消失しない程度のものである。
【０００７】
この状態でパルス磁界を０にすると、再生層と記録層との間に働いている弱い静磁結合により、記録層に形成されている記録マークが再生層に磁気転写され、記録層と同一の記録マークが再生層に形成される（図４（Ｂ））。つぎに、再生層に形成された記録マークの磁化方向と同じ方向にパルス磁界を印加すると、再生層に形成されている記録マークのサイズが拡大する（図４（Ｃ））。なお、再生層に形成されている記録マークの磁化方向と異なる方向にパルス磁界を印加すると、再生層に形成されている記録マークのサイズは縮小する。図示しない信号再生部では、このような再生層の記録マークの変化を読み取ることにより情報の再生を行なう。
【０００８】
また、情報の再生を行なった後、パルス磁界を０にすると、記録マークは元のサイズに戻る（図４（Ｄ））。そして、再生層に形成されている記録マークの磁化方向と反対方向のパルス磁界を印加することにより再生層に形成されている記録マークを消去する（図４（Ｅ））。このような過程を繰り返すことにより、記録マークの再生素への磁気転写、拡大及び消去が行なわれる。
【０００９】
したがって、再生層は、記録層の磁化状態を変化しない程度のレーザ光の照射により暖められて保磁力Ｈｃが小さくなり、外部磁界の印加により記録マークの磁化方向を変更できるような構造（結晶構造的に平坦な構造）である必要があり、また、記録層は、再生層に磁化状態を転写するときのレーザ光の照射によって磁化状態が変更しないような構造（結晶構造的に平坦でない構造）である必要がある。
【００１０】
また、レーザ光の波長λを短くし、かつレンズのＮＡを高くすると、レンズから出射したレーザ光が光磁気記録媒体の記録層に収束するまでの距離（焦点距離ａ）が短くなるため、レンズと光磁気記録媒体表面までの距離（作動距離ｂ）を短く設定する必要がある（図５）。また、光磁気記録媒体のチルト（傾き）及びその変動の大きさにともないコマ収差が大きくなってしまい、これが読み取り誤差等の原因となってしまう。このコマ収差を一定の範囲内に維持するためには、レンズのＮＡと光磁気記録媒体の基板の厚さｃを図６に示すような関係にする必要がある。
【００１１】
しかし、図６に示すように、レンズのＮＡを大きくすると光磁気記録媒体の基板の厚さｃを薄くしなければならなず、一方、光磁気記録媒体の基板の厚さｃを薄くすると、光磁気記録媒体のチルトが大きくなってしまう。
【００１２】
そこで、光磁気記録媒体の構造を図７（Ａ）に示すように、基板側から再生用のレーザ光が照射されて信号が読み取られる構造、いわゆる基板入射型構造ではなく、図７（Ｂ）に示すように、保護膜側から再生用のレーザ光が照射されて信号が読み取られる構造、いわゆる表面入射型構造にすれば、焦点距離ａに応じて光磁気記録媒体の基板の厚さｃを変更する必要がなく、したがって、光磁気記録媒体のチルトが大きくならずにすむので、コマ収差を一定の範囲内に維持することができる（非特許文献１参照。）。
【００１３】
【非特許文献１】
伊藤彰義，「１００Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈｉ２を越える超高密度光磁気記録への挑戦」，ＮＥＤＯフォーラム
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、結晶構造的に平坦な構造の層である再生層上に、結晶構造的に平坦でない構造の層である記録層を積層しても再生層の構造に影響はないが、記録層上に再生層を積層すると再生層の平坦な結晶構造を維持することができない。
【００１５】
そこで、本発明では、上述したような問題に鑑みて提案されたものであり、表面入射型構造を適用し、かつ再生層の平坦な結晶構造を維持する構造である光磁気記録媒体及びその製造方法を提案する。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る媒体製造方法は、上述の課題を解決するために、少なくとも基板上に、記録マークが形成される磁気記録層と、上記記録マークの漏れ磁界が磁気転写される磁性再生層とを積層してなる光磁気記録媒体を製造する媒体製造方法において、上記磁性再生層を保護する保護膜に当該磁性再生層を積層する第１の工程と、上記磁性再生層に第１の非磁性層を積層する第２の工程と、上記第１の非磁性層に上記磁気記録層を積層する第３の工程と、上記磁気記録層に第２の非磁性層を積層する第４の工程と、上記第２の非磁性層に上記基板を貼り付ける第５の工程とを有する。
【００１７】
本発明に係る光磁気記録媒体は、上述の課題を解決するために、少なくとも基板上に、記録マークが形成される磁気記録層と、上記記録マークの漏れ磁界が磁気転写される磁性再生層とが積層されてなる光磁気記録媒体において、上記磁性再生層を保護する保護膜に当該磁性再生層を積層し、上記磁性再生層に第１の非磁性層を積層し、上記第１の非磁性層に上記磁気記録層を積層し、上記磁気記録層に第２の非磁性層を積層し、上記第２の非磁性層に上記基板を貼り付けることにより製造される。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１９】
本発明の光磁気記録媒体１は、図１に示すように、基板部１０と積層部１１とからなっており、積層部１１は、保護膜１２と、記録マークが磁気転写される再生層１３と、磁気的性質のない非磁性層（以下、第１の非磁性層という。）１４と、記録マークが形成される記録層１５と、磁気的性質のない非磁性層（以下、第２の非磁性層という。）１６とからなっている。
【００２０】
保護膜１２は、再生層１３を保護する。なお、保護膜１２には、膜厚が約１００μｍの誘電体材料によりなっている。再生層１３は、後述するＭＡＭＭＯＳにより記録層１５に形成されている記録マークの磁化状態が磁気転写され、当該磁気転写により形成された記録マークの大きさが面内方向に変化（拡大又は縮小）する。また、再生層１３は、保磁力の小さな希土類元素（以下、ＲＥという。）と遷移金属元素（以下、ＴＭという。）との合金製の非晶質材料によりなっている。記録層１５は、保磁力の大きなＲＥとＴＭとの合金製の磁性材料（ＴＭリッチ又はＲＥリッチのフェリ磁性材料）によりなっている。
【００２１】
ここで、光磁気記録媒体１の製造方法について図２に示すフローチャートを用いて説明する。保護膜１２の上に再生層１３を形成する（ステップＳ１）。再生層１３は、結晶構造的に平坦な構造となっている。
【００２２】
つぎに、再生層１３の上に第１の非磁性層１４を形成し（ステップＳ２）、第１の非磁性層１４の上に記録層１５を形成する（ステップＳ３）。記録層１５は、結晶構造的に平坦でない構造となっている。
【００２３】
つぎに、記録層１５の上に第２の非磁性層１６を形成する（ステップＳ４）。ステップＳ１〜ステップＳ４の工程により積層部１１が製造される。
【００２４】
つぎに、積層部１１の第２の非磁性層１６が形成されている面に基板部１０を貼り付ける（ステップＳ５）。
【００２５】
このようにステップＳ１〜ステップＳ５の工程を経て製造される光磁気記録媒体１は、保護膜１２を基礎にして再生層１３及び記録層１５等を積層して積層部１１を形成し、当該積層部１１と基板部１０とを張り合わせて製造するので、平坦な保護膜１２上に再生層１３を形成することとなるため、再生層１３の結晶構造上の平坦性を損なうことがない。
【００２６】
このような光磁気記録媒体１は、保護膜１２側から再生用のレーザ光が入射されて情報の再生が行なわれる、いわゆる表面入射型構造の媒体である。また、記録層１５に形成されている記録マークのサイズは、レーザ光照射部により照射されたレーザ光が作るスポット径Ｒよりも微小であるので、記録層１５から直に記録マークの磁化状態を読み出すことができない。そこで、例えば、図３に示すような、再生装置２により情報が再生される。以下に、再生装置２の構成及び動作について説明する。
【００２７】
再生装置２は、磁界印加部２０と、レーザ光照射部２１と、ハーフミラー２２と、対物レンズ２３と、信号検出部２４と、信号処理部２５とを備える。なお、再生装置２は、磁区拡大再生方式（Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ａｍｐｌｉｆｙｉｎｇ  Ｍａｇｎｅｔｏ−Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍ；ＭＡＭＭＯＳ）を採用しており、上記光磁気記録媒体１の記録層１５に形成されている記録マークの磁化状態を、第１の非磁性層１４を介して再生層１３に磁気転写し、再生層１３に記録層１５と同一の記録マークを形成し、当該光磁気記録媒体１の垂直方向に外部磁界を印加することにより再生層１３に形成した記録マークを変化（拡大又は縮小）させることにより情報を再生する。例えば、再生装置２では、再生層１３に磁気転写された記録マークのサイズを再生用のレーザ光の照射により作られるスポット径Ｒと同等のサイズまで拡大することができる。
【００２８】
レーザ光照射部２１は、ハーフミラー２２及び対物レンズ２３を介して光磁気記録媒体１にレーザ光を照射する。そして、再生層１３は、上記レーザ光により暖められ、保磁力が小さくなる。なお、レーザ光は、光磁気記録媒体１の保護膜１２側から入射する。また、レーザ光照射部２１は、波長の短いレーザ光（例えば青色レーザ光）を出射する。また、対物レンズ２３は、開口数（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ａｐｅｒｔｕｒｅ；ＮＡ）が高いレンズである。
【００２９】
磁界印加部２０は、保磁力の小さくなった上記再生層１３に、記録層１５に形成されている記録マークの磁化方向と反対方向にパルス磁界を印加する。再生層１３は、上記パルス磁界の印加方向に磁化の向きが揃えられる。このような状態で磁界印加部２０のパルス磁界をゼロにすると、弱い静磁結合により、記録層１５に形成されている記録マークの磁化状態が第１の非磁性層１４を介して再生層１３に磁気転写される。したがって、再生層１３には、直下に位置する記録層１５に形成されている記録マークと同一の記録マークが形成されることになる。
【００３０】
磁界印加部２０は、磁気転写により記録マークが形成されている再生層１３に垂直方向にパルス磁界を印加する。このとき、再生層１３では、パルス磁界の印加方向と磁気転写により形成された記録マークの磁化方向とが同一方向であれば記録マークは拡大するように変化し、また、パルス磁界の印加方向と磁気転写により形成された記録マークの磁化方向が反対方向であれば記録マークは縮小するように変化する。なお、磁界印加部２０のパルス磁界がゼロになると、再生層１３の磁化状態が変化（拡大又は縮小）する前の状態に戻り、その後、再生層１３の磁化方向と反対向きのパルス磁界を印加することにより再生層１３の磁化状態が消去される。
【００３１】
レーザ光は、光磁気記録媒体１に入射し、上述のように再生層１３に形成された記録マークの磁化状態を変化させた後、反射され、対物レンズ２３及びハーフミラー２２を介して信号検出部２４に出射される。
【００３２】
信号検出部２４は、波長板３０と、ビームスプリッタ（以下、ＢＳという。）３１と、第１の光検出器３２と、第２の光検出器３３とを備えている。光磁気記録媒体１から反射された光は、波長板３０を通過して直線偏光に変換され、ＢＳ３１によりＳ偏光成分を有する光とＰ偏光成分を有する光に偏光分離される。Ｐ偏光成分を有する光は、第１の光検出器３２に出射され、また、Ｓ偏光成分を有する光は、第２の光検出器３３に出射される。第１の光検出器３２は、Ｐ偏光成分を有する光からカー回転角等を検出する。また、第２の光検出器３３は、Ｓ偏光成分を有する光から同様にカー回転角等を検出する。なお、光磁気記録媒体１は、直線偏光が照射されると、右回り円偏光又は左回り円偏光を反射光として出射する。この反射光の回転方向は、光磁気記録媒体１の再生層１３に形成されている記録マークの磁化状態により決定され、例えば、磁化状態が拡大しているときには反射光は右回り円偏光となり、また、磁化状態が縮小しているときには反射光は左回り円偏光となる。
【００３３】
第１の光検出器３２及び第２の光検出器３３は、ビームスプリッタ３１から入力された光に基づいて電気信号を生成し、信号処理部２５に出力する。信号処理部２５は、入力された電気信号に基づき所定の信号処理を行なう。なお、信号処理部２５では、第１の光検出器３２及び第２の光検出器３３から入力された電気信号により、信号検出部２４に入力された光が右回り円偏光であるか左回り円偏光かを判断することができ、当該判断に応じて２値のデータに変換する。
【００３４】
このように構成された再生装置２は、上述したステップＳ１〜ステップＳ５の工程を経て製造される光磁気記録媒体１の保護膜１２側からレーザ光を照射して情報の再生を行なうので、高ＮＡの対物レンズを使用し、かつ波長の短いレーザ光を再生光として用いることができ、当該光磁気記録媒体１の記録層１５に形成されているレーザ光の照射により作られるスポット径Ｒよりも微小なサイズの記録マークの磁化状態を再生層を介して読み出すことができる。
【００３５】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係る媒体製造方法は、保護膜１２を基礎にして再生層１３、第１の非磁性層１４、記録層１５及び第２の非磁性層１６を順次積層して積層部１１を形成し、当該積層部１１と基板部１０とを張り合わせることにより光磁気記録媒体を製造するので、再生層１３の結晶構造上の平坦性を損なわずに表面入射構造型の媒体を製造することができる。
【００３６】
また、本発明に係る光磁気記録媒体は、保護膜１２を基礎にして再生層１３及び記録層１５等を積層して積層部１１を形成し、当該積層部１１と基板部１０とを張り合わせることにより製造されるので、平坦な保護膜１２上に結晶構造的に平坦な再生層１３が形成されるので、再生層１３の平坦性を損なうことがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光磁気記録媒体の断面図である。
【図２】本発明に係る光磁気記録媒体の製造工程を示すフローチャートである。
【図３】本発明に係る光磁気記録媒体に記録されている情報の再生を行なう再生装置の構成を示すブロック図である。
【図４】磁区拡大再生方式により光磁気記録媒体から情報が再生される様子を示す図である。
【図５】レンズの焦点距離、レンズと光磁気記録媒体までの作動距離及び基板の厚さの関係を示す図である。
【図６】光磁気記録媒体のチルトにより生じるコマ収差を所定の範囲以内に納めるためのレンズのＮＡの変化に対する基板の厚さの変化について示す図である。
【図７】光磁気記録媒体の構造が基板入射型構造の場合（Ａ）及び表面入射型構造の場合（Ｂ）の断面図である。
【符号の説明】
１  光磁気記録媒体、２  再生装置、１０  基板部、１１  積層部、１２  保護膜、１３  再生層、１４  第１の非磁性層、１５  記録層、１６  第２の非磁性層、２０  磁界印加部、２１  レーザ光照射部、２２  ハーフミラー、２３  対物レンズ、２４  信号検出部、２５  信号処理部、３０  波長板、３１  ビームスプリッタ、３２  第１の光検出器、３３  第２の光検出器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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