(57)【要約】【課題】バンクを必要とせずに、カラーフィルタ又は微細構造物などを製造することができる光学素子の製造方法、光学素子、カラーフィルタ、液晶装置、プラズマディスプレイ装置および電子機器を提供する。【解決手段】基板１０の被処理面における複数のフィルタ領域１１、１２、１３、１４、１５、１６に液状材料を塗布する工程を用いて複数のフィルタ部（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を形成し、フィルタ部同士の間のブラックマトリックス領域２０に液状体の遮光部材を埋め込むことで、ブラックマトリックスＢＭを設ける。【選択図】　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の被処理面における複数の所望領域に液状材料を塗布する工程を用いて複数のフィルタ部を形成し、
前記フィルタ部同士の間に液状体の遮光部材を埋め込むことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記基板は、透明基板であることを特徴とする請求項１記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記液状材料を塗布する前に、前記所望領域については親液処理を施すとともに、少なくとも該所望領域の周囲については撥液処理を施すことを特徴とする請求項１又は２記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記液状材料を塗布する前に、前記被処理面全体に撥液処理を施すとともに、該撥液処理された被処理面における前記所望領域については親液処理を施すことを特徴とする請求項１又は２記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記液状材料を塗布する前に、前記被処理面全体に親液処理を施すとともに、該撥液処理された被処理面における少なくとも前記所望領域の周囲については撥液処理を施すことを特徴とする請求項１又は２記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記液状材料を塗布した後に、乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行って、前記フィルタ部を形成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
前記複数のフィルタ部を形成した後に、該フィルタ部同士の間にある領域について親液処理を施し、その後に、前記遮光部材の埋め込みを行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
前記複数のフィルタ部を形成した後に、該フィルタ部同士の間にある領域については親液処理を施すとともに、該フィルタ部の領域については撥液処理を施し、その後に、前記遮光部材の埋め込みを行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
前記遮光部材の埋め込みを行った後に、乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行うことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】
前記液状材料の塗布は、液滴吐出方式を用いて行うことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１１】
前記遮光部材の埋め込みは、液滴吐出方式を用いて行うことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１２】
前記遮光部材の埋め込みは、一旦、前記被処理面全体に該遮光部材を塗布し、その後、前記撥液処理が施された領域に塗布された該遮光部材が該領域からはじき出される作用を用いることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１３】
前記遮光部材の埋め込みは、一旦、毛細管現象を用いた塗布方式で前記被処理面全体に該遮光部材を塗布し、その後、前記撥液処理が施された領域に塗布された該遮光部材が該領域からはじき出される作用を用いることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１４】
前記遮光部材の埋め込みを行い、次いで、乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行った後に、前記フィルタ部及び該遮光部材を埋め込んだ領域の全体に保護膜を被せることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１５】
前記遮光部材の埋め込みを行い、次いで、乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行った後に、前記フィルタ部及び該遮光部材を埋め込んだ領域の全体に親液処理を施し、該親液処理した領域に保護膜を設けることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１６】
前記液状材料は、３原色のうちの第１色をなす色素を含む第１液状材料と、３原色のうちの第２色をなす色素を含む第２液状材料と、３原色のうちの第３色をなす色素を含む第３液状材料とからなり、
前記複数のフィルタ部は、前記第１色の光が透過する第１フィルタと、前記第２色の光が透過する第２フィルタと、前記第３色の光が透過する第３フィルタとからなることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法を用いて製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１８】
請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする光学素子。
【請求項１９】
請求項１８記載の光学素子を備えたことを特徴とする液晶装置。
【請求項２０】
請求項１８記載の光学素子を備えたことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項２１】
請求項１８記載の光学素子を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液状材料を塗布する工程を有する光学素子の製造方法、光学素子、カラーフィルタ、液晶装置、プラズマディスプレイ装置および電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの表示部に液晶表示装置などが用いられている。液晶表示装置は、カラー表示するために、３原色をなす赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）又はシアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、イエロ（Ｙ）用のフィルタを平面上に複数配置したカラーフィルタを備えている。そして、従来のカラーフィルタは、各フィルタの境界部位にブラックマトリックス（ＢＭ）を形成している。換言すれば、各フィルタは光を透過させないブラックマトリッックスで囲まれている。そして、このブラックマトリックスによって良好なカラー表示をしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のカラーフィルタは、各画素に対応して設けられる各フィルタを仕切る障壁としてバンクを格子状に形成し、そのバンク（障壁）で複数に仕切られた領域（画素）毎に顔料入りフォトレジストなどの液状材料を塗布し乾燥させて所望の位置にフィルタを形成している。そして、従来のカラーフィルタは、そのバンクにブラックマトリクスとしての機能を持たせているので、バンク及びブラックマトリックスを形成するために多大な製造コスト及び製造時間が必要になるという問題点があった。
【０００４】
例えば、バンクを形成するためには、次のような工程が必要となる。第１に、基板の全面にバンク剤を塗布する。第２に、バンク剤を乾燥及び焼成するプリベイクを行う。第３に、バンクを形成するパターンだけ光を透過させるマスクを基板に被せて、露光を行う。第４に、露光した基板を現像液に浸して現像することで、所望のパターンとなるバンク剤のみを基板に残して、他のバンク剤を除去する。第５に、現像した基板を乾燥及び焼成するポストベイクを行う。これで、やっとバンクについては完成したこととなる。
【０００５】
また、近年、表示品質を向上させるためにブラックマトリックスの幅を細くすることが求められているが、従来のカラーフィルタの製造方法ではブラックマトリックスの幅をこれ以上細くすることが困難になってきている。
【０００６】
また、液晶装置などに用いられるカラーフィルタは、光学的特性を上げるため又は他の光学素子との構造的整合をとるなどのためにカラーフィルタ基板全体を平坦化する必要がある。しかしなから、従来のカラーフィルタの製造方法では、凸形状のバンクを基板上面に形成しなければならないので、バンク以外の凹部を埋めて平坦化するために基板全体を覆うように、厚い保護膜を形成しなければならず、この保護膜の形成に多大な製造コスト及び製造時間が必要となっていた。
【０００７】
また、従来の集積回路など微細構造物の形成では、撥液処理した所望の領域（パターン）と親液処理した所望の領域とを形成するとともに、所望形状のパターンを形成する境界に予めバンク（障壁）を形成し、そのバンクによって所望の領域に液状材料を閉塞させる方法を用いていた。このような、従来の微細構造物の製造方法でも、上記従来のカラーフィルタの問題点と同様に、バンクを形成するために多大な製造コスト及び製造時間が必要になるなどの問題点があった。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、バンクを必要とせずに、カラーフィルタ又は微細構造物などを製造することができる光学素子の製造方法、光学素子、カラーフィルタ、液晶装置、プラズマディスプレイ装置および電子機器の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために本発明の光学素子の製造方法は、基板の被処理面における複数の所望領域に液状材料を塗布する工程を用いて複数のフィルタ部を形成し、前記フィルタ部同士の間に液状体の遮光部材を埋め込むことを特徴とする。
本発明によれば、先ず、複数のフィルタ部を設け、その後、フィルタ部同士の間に、すなわち各フィルタ部に挟まれた凹部に、遮光部材を埋め込むことで、そのフィルタ部同士の間にブラックマトリックスを形成することができる。そこで本発明によれば、従来のカラーフィルタなどでは必要となるバンク（障壁）を設けることなく、ブラックマトリックスを形成することができ、製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を実現することができる。
また、本発明によれば、各フィルタ部に挟まれた凹部に遮光部材を埋め込むことでブラックマトリックスを形成するので、バンクを形成しそのバンクで囲まれた凹部に遮光部材を埋め込むことでブラックマトリクスを形成する従来の手法と比べて、ブラックマトリックスの幅を容易に細くすることが可能となり、表示品質の高い光学素子を製造することができる。
また、本発明によれば、各フィルタ部に挟まれた凹部に遮光部材を埋め込むことでブラックマトリックスを形成するので、そのブラックマトリックスを形成した状態における基板面の凹凸が、バンクを形成する従来の手法と比べて小さくなる。そこで、本発明によれば、ブラックマトリックスを形成した後に基板全体を覆うように設ける保護膜の厚さを従来よりも薄くすることができ、さらなる製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を実現することができる。
【００１０】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記基板が透明基板であることが好ましい。
本発明によれば、各フィルタ部及び基板を光が透過し、その光を所望の色の光のみとするカラーフィルタを低コストで且つ迅速に製造することができる。
【００１１】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記液状材料を塗布する前に、前記所望領域については親液処理を施すとともに、少なくとも該所望領域の周囲については撥液処理を施すことが好ましい。
本発明によれば、例えば、画素をなすフィルタ部を形成する領域である所望領域に親液処理を施し、所望領域以外の領域について撥液処理を施すことで、バンクを設けることなく、簡易に且つ精密に、所望領域に液状材料を充填してフィルタ部を設けることができる。
【００１２】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記液状材料を塗布する前に、前記被処理面全体に撥液処理を施すとともに、該撥液処理された被処理面における前記所望領域については親液処理を施すことが好ましい。
本発明によれば、バンクを設けることなく、簡易に且つ精密に、所望領域に液状材料を塗布してフィルタ部を設けることができる。
【００１３】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記液状材料を塗布する前に、前記被処理面全体に親液処理を施すとともに、該親液処理された被処理面における少なくとも前記所望領域の周囲については撥液処理を施すことが好ましい。
本発明によれば、バンクを設けることなく、簡易に且つ精密に、所望領域に液状材料を塗布してフィルタ部を設けることができる。
また、本発明によれば、一旦、被処理面全体に親液処理（親液膜）を施すことで、基板全体について製造工程における汚染を防止することができ、また、その親液膜によってその後の撥液処理（撥液膜の形成）を高速化することができ、また、その親液膜によってその後の撥液処理における透明基板などに与える損傷を防ぐことが可能となる。
【００１４】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記液状材料を塗布した後に、乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行って、前記フィルタ部を形成することが好ましい。
【００１５】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記複数のフィルタ部を形成した後に、該フィルタ部同士の間にある領域について親液処理を施し、その後に、前記遮光部材の埋め込みを行うことが好ましい。
本発明によれば、遮光部材を埋め込む領域について予め親液処理を施しておくので、かかる領域全体にくまなく遮光部材を行き渡らせることができ、高精度なブラックマトリクスを容易に製造することが可能となる。
【００１６】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記複数のフィルタ部を形成した後に、該フィルタ部同士の間にある領域については親液処理を施すとともに、該フィルタ部の領域については撥液処理を施し、その後に、前記遮光部材の埋め込みを行うことが好ましい。
本発明によれば、遮光部材を埋め込む領域について予め親液処理を施しておくとともに、他の領域について予め撥液処理をしておくことで、さらに高精度に、かかる領域全体にくまなく遮光部材を行き渡らせることができ、高精度なブラックマトリクスを容易に製造することが可能となる。
【００１７】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記遮光部材の埋め込みを行った後に乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行うことが好ましい。
【００１８】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記液状材料を液滴吐出方式によって塗布することが好ましい。
本発明によれば、インクジェットノズルなどから所望の液状材料を吐出することで所望のパターン（領域）に塗布する液滴吐出方式を用いて各フィルタ部を形成することで、液状材料などの製造部材を低減することができ、フィルタ部のパターンを規定するマスクを作成する必要もなくなるので、さらなる製造コストの低減化及び製造期間の短縮化が可能となる。
【００１９】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記遮光部材の埋め込みは、液滴吐出方式を用いて行うことが好ましい。
本発明によれば、液滴吐出方式を用いて遮光部材の埋め込みをすることで、遮光部材の消費量を低減することができ、また、ブラックマトリックスを形成するためのマスクを作成する必要もなくなるので、さらなる製造コストの低減化及び製造期間の短縮化が可能となる。
【００２０】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記遮光部材の埋め込みが、一旦、前記被処理面全体に該遮光部材を塗布し、その後、前記撥液処理が施された領域に塗布された該遮光部材が該領域からはじき出される作用を用いることが好ましい。
本発明によれば、被処理面全体に遮光部材を塗布するだけで、その後、撥液処理されたフィルタ部上に塗布された遮光部材がそのフィルタ部上からはじき出されるので、自然に所望のパターン（フィルタ部同士の間）のみに遮光部材を埋め込むことができ、製造工程が簡略化され、さらなる製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を実現することができる。
【００２１】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記遮光部材の埋め込みは、一旦、毛細管現象を用いた塗布方式で前記被処理面全体に該遮光部材を塗布し、その後、前記撥液処理が施された領域に塗布された該遮光部材が該領域からはじき出される作用を用いることが好ましい。
本発明によれば、毛細管現象を用いた塗布方式を使用して遮光部材の埋め込みを行うことで、被処理面（被塗布面）を下に向けたままで液状材料の塗布をすることができ、さらなる製造コストの低減化及び製造期間の短縮化が可能となる。
【００２２】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記遮光部材の埋め込みを行い、次いで、乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行った後に、前記フィルタ部及び該遮光部材を埋め込んだ領域の全体に保護膜を被せることが好ましい。
本発明によれば、保護膜を被せることで光学素子の光学的特性を向上させることができるとともに、その光学素子を他の素子などとの構造的整合性を向上させることができる。
【００２３】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記遮光部材の埋め込みを行い、次いで、乾燥及び焼成のうちの少なくとも一方の処理を行った後に、前記フィルタ部及び該遮光部材を埋め込んだ領域の全体に親液処理を施し、該親液処理した領域に保護膜を設けることが好ましい。
本発明によれば、親液処理を施し後に保護膜を形成することにより、保護膜の形成が容易になり、保護膜の厚さの低減化及び保護膜の厚さの均一化などを向上させることが可能となる。
【００２４】
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記液状材料が、３原色のうちの第１色をなす色素を含む第１液状材料と、３原色のうちの第２色をなす色素を含む第２液状材料と、３原色のうちの第３色をなす色素を含む第３液状材料とからなり、前記複数のフィルタ部は、前記第１色の光が透過する第１フィルタと、前記第２色の光が透過する第２フィルタと、前記第３色の光が透過する第３フィルタとからなることが好ましい。
本発明によれば、３原色の光をそれぞれ透過する複数のフィルタ部からなるカラーフィルタを低コストで且つ迅速に製造することが可能となる。
【００２５】
また、本発明のカラーフィルタは、前記光学素子の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。
本発明によれば、低コストで且つ短時間で製造することができるカラーフィルタを提供することができる。
【００２６】
また、本発明の光学素子は、前記光学素子の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。
本発明によれば、低コストで且つ短時間で製造することができる光学素子を提供することができる。
【００２７】
また、本発明の液晶装置は、前記光学素子を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、前記カラーフィルタなどの光学素子を備えた液晶装置を構成することで、従来よりも低コストで且つ短時間で製造することができる液晶装置を提供することができる。
【００２８】
また、本発明のプラズマディスプレイ装置は、前記光学素子を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、前記カラーフィルタなどの光学素子を備えたプラズマディスプレイ装置を構成することで、従来よりも低コストで且つ短時間で製造することができるプラズマディスプレイ装置を提供することができる。
【００２９】
本発明の電子機器は、前記光学素子を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、高品質にカラー表示することができる光学素子を備えた電子機器であって、低コストで且つ短時間で製造することができる電子機器を提供することができる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る光学素子（カラーフィルタ）の製造方法について、図面を参照して説明する。
図１及び図２は本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造工程を示す図である。図１（ａ）は製造工程の第１段階における基板平面上の状態を示す平面図であり、図１（ａ’）は図１（ａ）の部位ＡＡについての断面図である。図１（ｂ）は製造工程の第２段階における基板平面上の状態を示す平面図であり、図１（ｂ’）は図１（ｂ）の部位ＡＡについての断面図である。図１（ｃ）は製造工程の第３段階における基板平面上の状態を示す平面図であり、図１（ｃ’）は図１（ｃ）の部位ＡＡについての断面図である。図２（ｄ）は製造工程の第４段階における基板平面上の状態を示す平面図であり、図２（ｄ’）は図２（ｄ）の部位ＡＡについての断面図である。図２（ｅ）は製造工程の第５段階における基板平面上の状態を示す平面図であり、図２（ｅ’）は図２（ｅ）の部位ＡＡについての断面図である。
【００３１】
（第１段階）
先ず、第１段階では、被処理部材である基板１０の表面に親液処理と撥液処理を施す。基板１０としては、例えば、透明なガラス、シリコン又はプラスチックなどを用いる。第１段階の具体的処理は、図１（ａ），（ａ’）に示すように、基板１０におけるフィルタ部を形成する部分以外の領域であるブラックマトリックス領域２０に撥液処理を施す。そして、基板１０におけるフィルタ部を形成する部分であるフィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６に親液処理を施す。ここで、フィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６は、液晶装置などの表示装置における画素に対応する領域である。
【００３２】
この親液処理及び撥液処理では、次の第２段階で第１液状材料が塗布されるフィルタ領域１３，１５についてのみ親液処理を施し、フィルタ領域１１，１２，１４，１６については撥液処理したままとしてもよい。
【００３３】
また、一旦、基板１０の全面について親液処理を行い、その後、その親液処理された面におけるブラックマトリックス領域２０のみを撥液処理することとしてもよい。このように、一旦、被処理面全体に親液処理（親液膜）を施すことで、基板１０全体について製造工程における汚染を防止することができ、また、その親液膜によってその後の撥液処理（撥液膜の形成）を高速化することができ、また、その親液膜によってその後の撥液処理における透明な基板１０などに与える損傷を防ぐことが可能となり、製造工程での光学特性の劣化を抑えることができる。
【００３４】
また、一旦、基板１０の全面について撥液処理を行い、その後、その撥液処理された面におけるフィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６（又はフィルタ領域１３，１５のみ）に親液処理を施すこととしてもよい。
【００３５】
親液処理としては、例えば、基板１０に紫外線を照射して、基板１０の表面に付着している有機物などを分解して除去することにより洗浄する。なお、基板１０を配置したチャンバ内に酸素ガスを導入し、紫外線により酸素ガスを活性化して有機物と反応させれば、有機物の除去を促進することができる。また、紫外線の照射により、基板１０の表面の水分が蒸発するので、基板１０全面について洗浄と同時に親液処理が行われる。
【００３６】
撥液処理としては、例えば、フッ素樹脂重合膜を形成する処理を行う。例えば基板１０の全面にフッ化樹脂重合膜を形成する。その後に、メタルマスク等を介して、基板１０におけるフィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６に紫外線を照射することで、当該部分のフッ素樹脂重合膜を除去することにより、ブラックマトリックス領域２０は撥液処理されたままで、フィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６は親液処理される。
また、親液処理及び撥液処理は、所望のパターンに親液溶液又は撥液溶液をインクジェット・ノズルから吐出させる液滴吐出方式を用いて行ってもよい。
【００３７】
これらの親液処理及び撥液処理により、簡易に、且つ高精度に所望の位置に液状材料をパターニングすることが可能となり、高精度な形状のフィルタを形成することができる。そこで、それほど高精度にパターニングする必要がない場合、又は親液処理及び撥液処理以外の方法を用いて高精度にパターニングする場合は、上記親液処理又は撥液処理を行わなくてもよい。
【００３８】
（第２段階）
次に、カラーフィルタの製造工程における第２段階について図１（ｂ），（ｂ’）を参照して説明する。第２段階では、赤（Ｒ）色の光のみを透過させる第１フィルタを基板１０上に形成する。
【００３９】
カラーフィルタの完成後に赤色フィルタとして機能する部分は、フィルタ領域１３，１５である。そこで、フィルタ領域１３，１５に、例えば、液滴吐出方式を用いて赤色の色素を含む有機系の第１液状材料を塗布する。フィルタ領域１３，１５は上記第１段階で親液処理されており、フィルタ領域１３，１５の周囲のブラックマトリックス領域２０は撥液処理されている。したがって、フィルタ領域１３，１５の全体に、容易に、且つ正確に第１液状材料を塗布することができる。
【００４０】
この塗布の後に、基板１０をベーク炉で過熱するベーク処理をすることで、基板１０に塗布された第１液状材料の水分を蒸発させる。これらにより、赤（Ｒ）色光を透過させる第１フィルタが基板１０上に形成される。
なお、上記段階でのベーク処理を行わずに、後の段階で青（Ｂ）色光を透過させる第２フィルタ及び緑（Ｇ）色光を透過させる第３フィルタを形成した後に、ベーク処理を行って、第１〜第３フィルタをまとめて形成してもよい。
【００４１】
また、第１液状材料の塗布方法としては、フィルタ領域１３，１５のみ親液処理し、他の領域を撥液処理しておき、次いで、その基板１０の全面に第１液状材料を一旦塗布する方法を用いてもよい。このようにすると、撥液処理された領域に塗布された第１液状材料が自然にその領域からはじき出されるので、フィルタ領域１３，１５のみに第１液状材料が充填されることとなる。
【００４２】
第１液状材料の塗布方法としては、毛細管現象を用いた塗布方法あるキャップコート（Ｃａｐ　Ｃｏａｔ）方式を用いてもよい。このキャップコート方式の具体的手法については後述する。
【００４３】
（第３段階）
次に、カラーフィルタの製造工程における第３段階について図１（ｃ），（ｃ’）を参照して説明する。第３段階では、青（Ｂ）色の光のみを透過させる第２フィルタを基板１０上に形成する。
【００４４】
カラーフィルタの完成後に青色フィルタとして機能する部分は、フィルタ領域１１，１６である。そこで、先ず、フィルタ領域１１，１６には親液処理を施して、フィルタ領域１１，１６以外の領域には撥液処理を施す。次いで、フィルタ領域１１，１６に、上記第２段階で赤色フィルタを形成したときと同様にして、液滴吐出方式、キャップコート方式などを用いて、青色フィルタを形成するための第２液状材料を塗布する。ここで、第２液状材料は、例えば、青色の色素を含む有機系の液状材料とする。
この塗布の後に、第２段階と同様にして、ベイク処理などを行うことで、基板１０上のフィルタ領域１１，１６に、青（Ｂ）色光を透過させる第２フィルタをに形成する。
【００４５】
（第４段階）
次に、カラーフィルタの製造工程における第４段階について図２（ｄ），（ｄ’）を参照して説明する。第４段階では、緑（Ｇ）色の光のみを透過させる第３フィルタを基板１０上に形成する。
【００４６】
カラーフィルタの完成後に緑色フィルタとして機能する部分は、フィルタ領域１２，１４である。そこで、先ず、フィルタ領域１２，１４には親液処理を施して、フィルタ領域１２，１４以外の領域には撥液処理を施す。次いで、上記第２段階で赤色フィルタを形成したときと同様にして、液滴吐出方式、キャップコート方式などを用いて、緑色フィルタを形成するための第３液状材料を塗布する。
ここで、第３液状材料は、例えば、緑色の色素を含む有機系の液状材料とする。
この塗布の後に、第２段階と同様にして、ベイク処理などを行うことで、基板１０上のフィルタ領域１２，１４に、緑（Ｇ）色光を透過させる第３フィルタを形成する。
【００４７】
（第５段階）
次に、カラーフィルタの製造工程における第５段階について図２（ｅ），（ｅ’）を参照して説明する。第５段階では、各第１〜第３フィルタの間の凹部に液状体の遮光部材を埋め込むことで、ブラックマトリックス（ＢＭ）を基板１０上に形成する。遮光部材としては、例えば、黒色の色素を含む有機系の液状体とする。
【００４８】
ブラックマトリックス（ＢＭ）を形成する領域は、ブラックマトリックス領域２０である。そして、上記第１から第４段階の処理によって各フィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６には第１から第３フィルタが形成され、図２（ｄ’）に示すように基板上に凸部を形成している。したがって、第１から第３フィルタ（画素部）の凸部に挟まれた凹部がブラックマトリックス領域２０となっている。
【００４９】
そこで、凹部のブラックマトリックス領域２０に、例えば、液滴吐出方式を用いて液状体の遮光部材を充填する。この遮光部材の充填をする前に、ブラックマトリックス領域２０には親液処理を施し、フィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６に形成された第１から第３フィルタには撥液処理を施しておく。
【００５０】
この親液処理及び撥液処理をしておくことで、液滴吐出方式のみでなく、一旦基板１０全体に遮光部材を塗布するキャップコート方式などを用いて、ブラックマトリックス領域２０に遮光部材を充填することができる。また、親液処理及び撥液処理を施してからブラックマトリックス領域２０に遮光部材を充填することで、ブラックマトリックス領域２０の全体にくまなく遮光部材を充填することができるとともに、遮光部材がフィルタ領域１１，１２，１３，１４，１５，１６にはみ出すことを抑制することができる。
【００５１】
ブラックマトリックス領域２０に遮光部材を充填した後に、その基板１０についてベイク処理を行うことで、図２（ｅ’）に示すようにブラックマトリックス領域２０にブラックマトリックスＢＭを形成する。
【００５２】
次いで、上記のようにして、基板１０上に形成された第１から第２フィルタ及びブラックマトリックスＢＭの上面全体に、透明樹脂からなる保護膜（オーバーコート、図示せず）を形成して、カラーフィルタが完成する。なお、保護膜の形成においては、透明樹脂を塗布する前に、基板１０上に形成された第１から第２フィルタ及びブラックマトリックスＢＭの上面全体に親液処理を施しておくことが好ましい。
【００５３】
これらにより、本実施形態の光学素子の製造方法によれば、第１から第３フィルタを基板１０上に形成し、第１から第３フィルタの間の凹部に、遮光部材を埋め込むことで、その第１から第３フィルタの間にブラックマトリックスＢＭを形成することができる。そこで本実施形態によれば、従来のカラーフィルタなどでは必要となるバンク（障壁）を特に設けることなく、ブラックマトリックスＢＭを形成することができ、製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を実現することができる。
【００５４】
また、本実施形態によれば、第１から第３フィルタに挟まれた凹部に遮光部材を埋め込むことでブラックマトリックスＢＭを形成するので、バンクを形成しそのバンクで囲まれた凹部に遮光部材を埋め込むことでブラックマトリクスを形成する従来の手法と比べて、ブラックマトリックスの幅を容易に細くすることが可能となって、開口率を容易に上げることができ、表示品質の高い光学素子を製造することができる。
【００５５】
また、本実施形態によれば、第１から第３フィルタに挟まれた凹部に遮光部材を埋め込むことでブラックマトリックスＢＭを形成するので、そのブラックマトリックスを形成した状態における基板面の凹凸が、バンクを形成する従来の手法と比べて小さくなる。そこで、本発明によれば、ブラックマトリックスを形成した後に基板全体を覆うように設ける保護膜の厚さを従来よりも薄くすることができ、さらなる製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を実現することができる。例えば、バンクを形成する従来の手法では、保護膜の厚さを２〜３［μｍ］以上にする必要があったが、本実施形態の製造方法によれば、保護膜の厚さを０．１［μｍ］以下にすることが可能となる。
【００５６】
（具体的処理例）
次に、上記実施形態における撥液処理（撥液膜の形成）の具体例について、図３を参照して説明する。図３は撥液処理をして基板１０の被処理面上に撥液膜である重合膜を形成する撥液処理装置の一例を示す概念図である。
撥液処理装置１３０は、処理室１３１を有し、処理室１３１内に設けた処理ステージ１３２の上に、シリコンウエハなどの被処置物である基板１０を配置するようにしてある。そして、処理室１３１の上下には高周波電極１３４が配置されており、高周波電極１３４は高周波電源１３５に接続されている。
【００５７】
また処理室１３１には、流量制御弁１１２を備えた供給配管１０２を介して、処理ガス供給部１０４が接続してある。この処理ガス供給部１０４は、Ｃ４Ｆ１０やＣ８Ｆ１８などの直鎖状ＰＦＣからなる液体有機物１０６を貯留する容器１０８を有している。そして、容器１０８には、加熱部となるヒータ１１０が設けてあって、液体有機物１０６を加熱して気化できるようになっている。また、供給配管１０２の流量制御弁１１２の下流側には、流量制御弁１１４を備えたキャリア配管１１６を介して、キャリアガス供給部１１８が接続してある。キャリアガスには窒素やアルゴンなどの不活性なガスを使用する。
【００５８】
なお、図３の破線に示すように、供給配管１０２には、流量制御弁１２０を有する配管１２２を介して、第２処理ガス供給部１２４を接続することもできる。この場合には、第２ガス処理供給部１２４からＣＦ４を第２処理ガスとして液体有機物１０６の蒸気に添加する。処理室１３１では、この有機物蒸気とＣＦ４との混合ガスをプラズマ化する。すると、活性化したフッ素が液体有機物１０６の蒸気と反応し、基板１０の表面で重合させた膜中のフッ素脱離部分に取り込まれて、重合膜の撥液性を向上させることができる。
【００５９】
上記実施形態における撥液膜としては、フッ素含有の有機物を形成部材として用いることができる。具体的には、重合膜（撥液膜）を形成するフロリナート等としてＣ８Ｆ１８、Ｃ７Ｆ１６、Ｃ６Ｆ１４、Ｃ５Ｆ１２などを撥液膜の形成部材として用いることができる。また、ＰＦＣガスであるＣ４Ｆ８などを撥液膜の形成部材として用いることができる。また、界面活性剤（例えばＤｙｎａＳｙｌａｎ−Ｆ−８２６３又はＤｙｎａＳｙｌａｎ−Ｆ−８２６１など）を撥液膜の形成部材として用いてもよい。
【００６０】
次に、上記実施形態における親液処理（親液膜の形成）の具体例について、図４を参照して説明する。図４は、親液膜形成装置の一例を示す概念図である。本親液膜形成装置は、ｎ−デカンを含むヘリウム（Ｈｅ）ガスを大気圧でプラズマ化し、そのプラズマを基板１０の被処理面上に照射することで、その被処理面上に親液膜を形成するものである。
本親液膜形成装置において、流量１００［ｓｃｃｍ］のヘリウムガス３１が、容器３２の中に存在するｎ−デカン溶液の中に入れられる。このバブリングによってｎ−デカンを含んだヘリウムガスは、容器３２から第１電極３４に送られる。
また、第１電極３４には流量１０［ｓｌｍ］のヘリウムガス３３が送られる。
【００６１】
さらに、第１電極３４には高周波電源３６から周波数１３．５６［ＭＨｚ］の高周波電圧が印加される。ここで、高周波電源３６から第１電極３４に供給される電力は、例えば４００［Ｗ］とする。第１電極３４に対向する位置には、第２電極として機能するステージ３８が配置されている。
【００６２】
ステージ３８は、第１電極３４の下端と所定の間隔を保ちながら水平方向に移動可能である。第１電極３４とステージ（第２電極）３８との間隔（ギャップ）は、例えば１［ｍｍ］とする。ステージ３８の移動速度すなわち基板１０の搬送速度は、例えば、０．４６［ｍｍ／ｓｅｃ］とする。そして、ステージ３８の上には、被処理物である基板１０が置かれる。また、基板１０の所望パターン領域のみに親液膜を形成する場合は、基板１０の上にメタルマスク（図示せず）などを配置する。
【００６３】
第１電極３４に入れられたｎ−デカンを含んだヘリウムガス３５は、高周波電圧が印加されたその電極３４からプラズマ３７化されて放出され、メタルマスクを介して基板１０の被処理面に照射する。これにより、基板１０の被処理面における所望パターン領域に親液膜が形成される。そして、基板１０はステージ３８とともに水平方向に移動するので、基板１０の上面全体に親液膜を形成することもできる。
【００６４】
次に、上記実施形態における親液処理（親液膜の形成）の他の具体例について図５及び図６を参照して説明する。図５は、紫外線を照射して親液膜を形成する親液膜形成装置（紫外線照射装置）の一例を示す図である。図６中符号１５０は紫外線照射装置である。
【００６５】
この紫外線照射装置１５０は、局所排気フード１５１、この局所排気フード１５１内の上方に配設されたランプハウス１５２と、ランプハウス１５２内に配置されたＵＶ光源１５３と、ランプハウス１５２の底面に配設された合成石英（石英ガラス）１５４とを備えて構成されたものである。ここで、ＵＶ光源１５３としては、例えば照射する紫外線の波長を１７２［ｎｍ］とするキセノン（Ｘｅ）ランプが好適に用いられる。なお、ランプハウス１５２内には、窒素源１５５から流量計１５６を介して窒素が供給されるようになっており、またこのランプハウス内１５２からはスクラバー排気がなされるようになっている。
【００６６】
また、局所排気フード１５１内において、合成石英１５４の下方にはホルダ１５５が配設されている。ホルダ１５７は箱状に形成されたもので、その上部開口部に合成石英（石英ガラス）１５８が着脱可能に取り付けられるようになっている。このような構成のもとに、このホルダ１５７の内部には基板１０が出し入れ可能に納められるようになっており、また基板１０を納めた状態で上部開口部が封止されるようになっている。
【００６７】
また、前記紫外線照射装置１５０には雰囲気生成装置１６０が接続されている。この雰囲気生成装置１６０は、紫外線照射装置１５０のホルダ１５７に主配管１６１を介して接続されたもので、ホルダ１５７内に雰囲気形成ガスを供給するためのものである。この雰囲気生成装置１６０は、ガスボンベ等からなる窒素供給源１６２と、親液膜形成材料を入れた容器１６３と、大気圧プラズマ装置１６４とを備えて構成されたものである。窒素供給源１６２は、配管１６５を介して前記主配管１６１に接続されるとともに、分岐管１６６を介して前記容器１６３に接続されたものである。
【００６８】
容器１６３は、親液膜形成材料として例えばｎ−デカンを貯留した密閉容器であり、その内部には前記分岐管１６６がｎ−デカンの液面より下にまで延びて配置されている。このような構成のもとに、前記分岐管１６６によって供給された窒素はｎ−デカンの液中をバブリングするようになっている。なお、親液膜形成材料としてとしては、ｎ−デカン等の直鎖状の飽和炭化水素以外にも、エーテル類やアルコール類、ケトン類、アミン類、さらにはニトロ基を有する有機化合物など種々のものが使用可能である。また、この容器１６３には配管１６７が接続されており、この配管１６７は分岐して一方が前記大気圧プラズマ装置１６４に、他方が前記主配管１６１に接続している。
【００６９】
大気圧プラズマ装置１６４は、図６（ａ）に示すように高周波電源１７０、および絶縁体１７１を挟んだ一対の高周波電極１７２、１７２を備えたもので、図６（ｂ）に示すように高周波電極１７２、１７２間に、容器１６３から供給されるガス（親液膜形成材料）の流れ方向に沿って区画された多数の反応室１７３…を有して構成されたものである。このような構成のもとに大気圧プラズマ装置１６４は、高周波電極１７２、１７２間、すなわち反応室１７２…内にてプラズマを生成させ、これによりこれら反応室１７３…内を通るガス（親液膜形成材料）を高活性状態に励起させるものとなっている。
【００７０】
また、この大気圧プラズマ装置１６４は、そのガスの出口側が前記主配管１６１に接続している。なお、前記主配管１６１、配管１６５、分岐管１６６、配管１６７には、それぞれの管中を流れるガスの流量を調整する流量調整弁１７４が設けられている。
【００７１】
このような親液膜形成装置によって、基板１０における被処理面の所望パターン領域に親液膜を形成するには、まず、基板１０を、ホルダ１５７に入れた状態のままで、雰囲気生成装置１６０によってホルダ１５７内の雰囲気を親液膜形成雰囲気に変える。
【００７２】
雰囲気生成装置１６０によって親液膜形成雰囲気を作り出すには、雰囲気生成装置１６０の各流量調整弁を調整して窒素供給源１６２からの窒素で容器１６３内の親液膜形成材料（ｎ−デカン）をバブリングし、この親液膜形成材料の蒸気を含有した窒素を大気圧プラズマ装置１６４に例えば５０［ｓｃｃｍ］の流量で導入する。そして、この大気圧プラズマ装置１６４内で窒素中の親液膜形成材料を高活性状態に励起させ、その状態でこの親液膜形成材料の蒸気を含有する窒素をホルダ１５７内に導入する。ここで、大気圧プラズマ装置１６４によるプラズマ生成条件としては、例えば高周波電源１７０による放電電力を５０［Ｗ］とし、周波数を２３［ｋＨｚ］として行う。
【００７３】
このようにしてホルダ１５７内の雰囲気を親液膜形成雰囲気、すなわち親液膜形成材料が高活性状態に励起した状態にある雰囲気としたら、マスク１５を載せた基板１０に、ＵＶ光源１５３より紫外線を照射する。すると、紫外線が親液膜形成雰囲気を通過することにより、この雰囲気中の高活性状態に励起した状態にある親液膜形成材料はさらにエネルギーを受けて重合し、例えばポリエチレンとなって基板１０の被処理面上に親液膜を形成する。このような親液膜の形成を所定時間行い、必要とする厚さの親液膜を形成したら、親液膜形成材料の蒸気を含有する窒素の導入を停止するとともに、紫外線の照射も停止する。
そして、基板１０上からマスク１５を外し、ホルダ１５７から取り出すことにより、所望パターン領域に親液膜が形成された基板１０を得る。
【００７４】
上記のようにして図５及び図６に示す親液膜形成装置によって撥液膜上に親液膜を形成し、その親液膜の親液性の高さを測定したので次に述べる。ここで、親液性は、測定面に上記実施形態の液状材料を滴下し、その液状材料と測定面との接触角［ｄｅｇ］を測定することで求めた。この接触角が大きければ、その測定面は親液性が低く（撥液性が高い）、接触角が小さければ、その測定面は親液性が高い（撥液性が低い）ことがわかる。また、下記の各処理時間は、１５［ｍｉｎ］とする。
【００７５】
１）基板１０上に撥液膜１２を設けたままの初期状態では、接触角が６０［ｄｅｇ］であった。
２）撥液膜１２を設けた基板１０をホルダ１５７に入れて、ホルダ内の雰囲気を窒素（Ｎ２）のみとすると、接触角が２７［ｄｅｇ］になった。
３）撥液膜１２を設けた基板１０をホルダ１５７に入れて、ホルダ内の雰囲気を酸素（Ｏ２）のみとすると、接触角が５２［ｄｅｇ］になった。
４）撥液膜１２を設けた基板１０をホルダ１５７に入れて、ホルダ内の雰囲気を窒素（Ｎ２）にｎ−デカンを含有させたものとすると、接触角が２３［ｄｅｇ］になった。
５）撥液膜１２を設けた基板１０をホルダ１５７に入れて、ホルダ内の雰囲気を、窒素（Ｎ２）に大気圧プラズマを経由させたｎ−デカンを含有させたものとすると、接触角が６［ｄｅｇ］になった。この状態は、図５及び図６に示す親液膜形成装置によって撥液膜上に親液膜を形成した状態である。
【００７６】
これらの測定結果により、図５及び図６に示す親液膜形成装置によって上記のように親液処理することで、親液性の高い親液膜を迅速に効率よく形成することができることが示された。
【００７７】
また、親液膜の原料としては、例えば、酸素（Ｏ）を有するエーテル、窒素（Ｎ）を有するニトロ基、ＯＨ基を有するアルコール、ケトン、又はアミンなどを挙げることができる。
【００７８】
次に、上記実施形態における第１から第３液状材料又は遮光部材の塗布方法の一例となるものであって、毛細管現象を用いた塗布方法あるキャップコート（Ｃａｐ　Ｃｏａｔ）方式について具体的に説明する。
図７は、キャップコート方式の塗布方法を示す模式断面図である。図７（ａ）に示すように、容器２１の中には、例えば第１液状材料２２と、毛細管（キャップコート）２３とが入れられている。また容器２１は通常、蓋２４で密閉されている。そして、被塗布部材である基板１０は、平行移動可能な支持部材３０の下面側で支持されている。
【００７９】
塗布処理をするためには、先ず、図７（ｂ）に示すように、蓋２４を矢印方向にスライドさせて開くとともに、支持部材３０も矢印方向（蓋２４方向）にスライドさせる。蓋２４を開くと、毛細管２３が上方に移動し、毛細管２３の上端が第１液状材料２２の液面よりも上に出る。これにより、毛細管２３の上端まで第１液状材料２２が吸い上げられる。
【００８０】
次いで、図２（ｃ）に示すように、支持部材３０をさらに矢印方向にスライドさせて、基板１０の被塗布面を毛細管２３の上端に接近させる。これにより、基板１０の被塗布面には、毛細管２３によって吸い上げられた第１液状材料２２が塗布される。
【００８１】
次いで、図２（ｄ）に示すように、支持部材３０をさらに矢印方向にスライドさせることで、基板１０の被塗布面の全体に、毛細管２３によって吸い上げられた第１液状材料２２を塗布する。
【００８２】
次いで、図２（ｅ）に示すように、基板１０の被塗布面全体への塗布が終了すると、毛細管２３を下方に移動させる。ここでは、毛細管２３の上端から基板１０の被塗布面が離れているので、毛細管２３による第１液状材料２２の吸い上げが停止している。
【００８３】
次いで、図２（ｆ）に示すように、毛細管２３をさらに下方に移動させて、第１液体部材２２の中に毛細管２３を埋没させる。これと同時に、蓋２４を矢印方向にスライドさせることで閉める。これらにより、基板１０の被塗布面全体への第１液状材料２２の塗布が完了する。
【００８４】
上記塗布の前に、基板１０の被処理面において所望パターン領域に親液処理を施し、他の領域に撥液処理を施しておくことで、その後に上記キャップコート方式で被処理面全体に塗布しても、その塗布後に、撥液処理した領域上に塗布された液状材料がはじき出され、所望パターン領域にのみ液状材料を充填することができる。
【００８５】
（電子機器）
上記実施形態の光学素子（カラーフィルタ）を備えた電子機器の例について説明する。
図８は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記のカラーフィルタを用いた表示部を示している。
【００８６】
図９は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図９において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記のカラーフィルタを用いた表示部を示している。
【００８７】
図１０は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１０において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記のカラーフィルタを用いた表示部を示している。
【００８８】
図８から図１０に示す電子機器は、上記実施形態のカラーフィルタを備えているので、製造コストを低減することができるとともに、製造期間を短縮することができる。
【００８９】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【００９０】
例えば、上記実施形態の製造方法で作成した光学素子（カラーフィルタ）を用いて、液晶装置又はプラズマディスプレイ装置を構成してもよい。このような液晶装置又はプラズマディスプレイ装置によれば、製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を実現することができ、また、開口率を容易に高めることができるので、表示品質の高い表示装置を提供することができる。
【００９１】
また、上記実施形態では、第１から第３フィルタとして、赤色フィルタ、青色フィルタ及び緑色フィルタを形成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、第１から第３フィルタとして、例えば、シアン（Ｃ）色フィルタ、マゼンダ（Ｍ）色フィルタ、イエロ（Ｙ）色フィルタなどを形成してもよい。
【００９２】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、複数のフィルタ部を形成し、そのフィルタ部同士の間に遮光部材を埋め込むので、バンク（障壁）を設けることなく、ブラックマトリックスを形成することができ、製造コストの低減化及び製造時間の短縮化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造工程を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造工程を示す図である。
【図３】撥液処理装置の一例を示す概念図である。
【図４】親液膜形成装置の一例を示す概念図である。
【図５】親液膜形成装置の一例を示す概念図である。
【図６】大気圧プラズマ装置の一例を示す概念図である。
【図７】キャップコート方式の塗布方法を示す模式断面図である。
【図８】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図である。
【図９】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図である。
【図１０】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図である。
【符号の説明】
１０　　　基板
１１、１２、１３、１４、１５、１６　フィルタ領域
１５　　　メタルマスク
２０　　　ブラックマトリックス領域
２１　　　容器
２２　　　第１液状材料
２３　　　毛細管
２４　　　蓋
３０　　　支持部材
３１、３３　ヘリウムガス
３２　　　容器
３４　　　第１電極
３５　　　ｎ−デカンを含んだヘリウムガス
３６　　　高周波数電源
３７　　　プラズマ
３８　　　ステージ
１０２　　供給配管
１０４　　処理ガス供給部
１０６　　液体有体物
１０８　　容器
１１０　　ヒータ
１１２　　流量制御弁
１１４　　流量制御弁
１１６　　キャリア配管
１１８　　キャリアガス供給部
１２０　　流量制御弁
１２２　　配管
１２４　　第２処理ガス供給部
１３０　　重合膜形成装置
１３１　　処理室
１３２　　処理ステージ
１３４　　高周波電極
１３５　　高周波電源
１５０　　紫外線照射装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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