(57)【要約】【課題】一対の大基板間にギャップムラの無い複数個の液晶封入セルが形成された液晶セル中間組立体と、この中間組立体を用いてギャップムラの無い多数の液晶セルを短時間で効率良く製造できる液晶セルの製造方法を提供する。【解決手段】大基板１１の、セル基板エリアＡ3、Ａ4にはカラーフィルタ層１３とブラックマスク層が形成され、非セル基板エリアＡnにはブラックマスク層１４と同じ黒色樹脂ペーストで一括形成された下地層１５が配設されている。下地層１５が設けられた非セル領域Ｄnには、セル領域Ｄ3、Ｄ4に設けられている枠状シール層２０と同じ材料で一括形成されたダミーシール層２１が配設されている。【選択図】    図２
2004212449.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のセル基板を採取可能な面積を備え、前記セル基板に対応するセル基板エリアがそれぞれ所定の配置で設定されている一対の大基板を、個々の前記セル基板エリア毎に配置された液晶封入空間を形成するための枠状シール層で接合してなり、個々の前記セル基板エリア毎に切離して複数の液晶セルを得る前の液晶セル中間組立体であって、
対向配置された前記一対の大基板のうちの一方の大基板の他方の大基板に対向させた対向面には、個々のセル基板エリア毎にカラーフィルタ層と前記カラーフィルタ層を囲むブラックマスク層とが形成されると共に、少なくとも前記セル基板エリア間に前記カラーフィルタ層又は前記ブラックマスク層の何れかと同一材料からなる下地層が形成され、
少なくとも前記セル基板エリア間の前記下地層が形成された領域には、前記シール層と同一材料からなるダミーシール層が形成されていることを特徴とする液晶セル中間組立体。
【請求項２】
前記セル基板エリア間における前記下地層の幅は、該セル基板エリア間の間隔の１／３以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶セル中間組立体。
【請求項３】
複数のセル基板を採取可能な面積を備え、前記セル基板に対応するセル基板エリアがそれぞれ所定の配置で設定されている、一対の大基板を準備し、
前記一対の大基板のうちの一方の大基板の表面に、前記セル基板エリア毎にカラーフィルタ層と該カラーフィルタ層を囲むブラックマスク層とを形成すると共に、少なくとも前記セル基板エリア間に前記カラーフィルタ層又は前記ブラックマスク層の何れかと同一材料で下地層を形成し、
前記一対の大基板の何れか一方の表面に、個々のセル基板エリア毎に液晶封入空間を形成するための枠状シール層を設置するとともに、該枠状シール層と同一の材料からなるダミーシール層を少なくとも前記セル基板エリア間の領域に設置し、
前記一対の大基板を、双方の前記セル基板エリアを整合させつつ前記枠状シール層及び前記ダミーシール層を介して貼り合わせた後、これら大基板の間隔が所定の間隔となるまで押圧して接合し、
接合された前記一対の大基板をそれぞれの前記セル基板エリア毎に切り離すことにより個々の液晶セルを得ることを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項４】
前記枠状シール層とダミーシール層は共に前記他方の大基板に形成することを特徴とする請求項３に記載の液晶セルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一対の所謂マザー基板間に複数の液晶封入空間が形成された液晶セル中間組立体と、これを個々の液晶封入空間毎に切離して得られる液晶セルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、大判のマザー基板上に複数個のセル基板エリアを設定し、各セル基板エリア毎に透明電極やブラックマトリクスやカラーフィルタ等の各種機能膜パターン及び液晶を封止する為のシール層等を形成し、これに同様に透明電極等の各種機能膜パターンが形成された前記マザー基板と対をなす対向マザー基板を貼り合せ、この後、個々の液晶セルに分断することにより、多くの液晶セルが短時間で効率良く製造されている。（例えば特許文献１参照）
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−２５０９２９号公報  （３頁、図４）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図６は、上述した従来の液晶セルの製造方法において形成される個々の液晶セルに切り離す前の液晶セル中間組立体を模式的に示した説明断面図である。
従来、各液晶セルの基板間隙（ギャップ）を所定の大きさで正確に確保するために、一対の大基板１、２を、得ようとする基板間隙に等しい粒径を備えたギャップ剤粒子３を介在させて貼り合わせる。この場合、ギャップ剤粒子３は、一方の例えば大基板１の対向面全域にわたり均一に散布されるため、液晶セルが形成されるセル領域Ｄｃだけでなくセル領域Ｄｃ間等の液晶セルが形成されない非セル領域Ｄｎにも散在している。
【０００５】
しかるに、ブラックマスク層４やカラーフィルタ層５等の機能膜層はセル領域Ｄｃ内にのみ形成されているから、非セル領域Ｄｎにおける基板間隙はセル領域Ｄｃの基板間隙よりそれら機能膜層の膜厚分だけ大きくなり、非セル領域Ｄｎでは両大基板１、２とギャップ剤粒子３との間に隙間が生じる。従って、両大基板１、２を貼り合わせる際に、所定の基板間隙を得るため、ギャップ剤粒子が両大基板１、２間に挟持されるまで例えば一方の大基板２を他方の大基板１に向けて押圧すると、二点鎖線で示すように、押圧側の大基板２における非セル領域ＤｎのＰ部が凹んでしまい、この反動でシール層６を支点として大基板２におけるセル領域Ｄｃ内の凹み部近傍部分Ｑが浮き上がってしまう。その結果、この製造方法で得られる液晶セルは、シール層６の近傍のギャップが部分的に膨らんだものとなり、これを液晶表示素子として用いた場合にはそのギャップムラに起因する画像ムラが発生する。
【０００６】
本発明は、一対の大基板間にギャップムラの無い複数個の液晶封入空間が形成された液晶セル中間組立体と、この中間組立体を用いてギャップムラの無い多数の液晶セルを短時間で効率良く製造できる液晶セルの製造方法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶セル中間組立体は、複数のセル基板を採取可能な面積を備え、前記セル基板に対応するセル基板エリアがそれぞれ所定の配置で設定されている一対の大基板を、個々の前記セル基板エリア毎に配置された液晶封入空間を形成するための枠状シール層で接合してなり、個々の前記セル基板エリア毎に切離して複数の液晶セルを得る前の液晶セル中間組立体であって、対向配置された前記一対の大基板のうちの一方の大基板の他方の大基板に対向させた対向面には、個々のセル基板エリア毎にカラーフィルタ層と前記カラーフィルタ層を囲むブラックマスク層とが形成されると共に、少なくとも前記セル基板エリア間に前記カラーフィルタ層又は前記ブラックマスク層の何れかと同一材料からなる下地層が形成され、少なくとも前記セル基板エリア間の前記下地層が形成された領域には、前記シール層と同一材料からなるダミーシール層が形成されていることを特徴とするものである。
【０００８】
本発明の液晶セル中間組立体によれば、一方の大基板のセル基板エリア間にセル基板エリアに設けたカラーフィルタ層かブラックマスク層の何れかと同じ材料からなる下地層を形成し、この下地層形成領域にセル基板エリア内に形成したシール層と同じ材料からなるダミーシール層を形成したから、一対の大基板を貼り合わせて所期のギャップを得るために押圧した際に、大基板のセル基板エリア間部分は、下地層とダミーシール層により内側から支えられ、その部分の基板の凹みが阻止される。その結果、大基板におけるセル基板エリア間部分の凹みの反動によるセル基板エリア部分の浮き上がりが防止され、一対の大基板間にギャップムラの無い複数個の液晶封入空間が形成された液晶セル中間組立体が得られる。
【０００９】
本発明の液晶セル中間組立体においては、請求項２に記載のように、前記セル基板エリア間における前記下地層の幅を、前記セル基板エリア間の間隔の１／３以下とすることが好ましく、これにより、下地層とこれが被着される大基板との熱膨張率の差に起因して大基板に反りが発生する不具合を防止することができる。そして、その結果、液晶セル中間組立体における少なくとも液晶封入空間内のギャップを所期の間隔でより一層正確に信頼性良く確保することができる。
本発明の液晶セルの製造方法は、複数のセル基板を採取可能な面積を備え前記セル基板に対応するセル基板エリアがそれぞれ所定の配置で設定されている一対の大基板を準備し、前記一対の大基板のうちの一方の大基板の表面に、前記セル基板エリア毎にカラーフィルタ層と前記カラーフィルタ層を囲むブラックマスク層とを形成すると共に、少なくとも前記セル基板エリア間に前記カラーフィルタ層又は前記ブラックマスク層の何れかと同一材料で下地層を形成し、前記一対の大基板を双方の前記セル基板エリアを整合させつつ前記枠状シール層及び前記ダミーシール層を介して貼り合わせた後、これら大基板の間隔が所定の間隔となるまで押圧して接合し、接合された前記一対の大基板をそれぞれの前記セル基板エリア毎に切り離すことにより個々の液晶セルを得ることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の液晶セルの製造方法によれば、下地層とブラックマスク層又はカラーフィルタ層とを同一材料を用いて一括形成し、ダミーシール層とシール層とを同一材料を用いて一括形成するから、大基板のセル基板エリア間部分が下地層とダミーシール層によりセル基板エリア内と同等に支持され、接合された大基板のギャップが少なくともセル領域において所期の間隔で一定に確保された液晶セル中間組立体を、少ない工数で容易に形成することができる。そして、この液晶セル中間組立体を所定の切断線に沿って切離することにより、基板間のギャップが所期の間隔で液晶封入空間の全域にわたり一定に確保された複数の液晶セルが一括して得られ、そのような高品質の液晶セルを少ない工数で安価に製造することが可能となる。
【００１１】
本発明の液晶セルの製造方法においては、請求項４に記載のように、前記枠状シール層とダミーシール層とを共に下地層を設けた大基板ではない他方の大基板に形成することが好ましく、これにより、枠状シール層とダミーシール層を印刷法により所定の層厚でより簡単に一括形成することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の第１の実施形態としての液晶表示セル中間組立体を、図１と図２に基づき説明する。図１は本例の液晶表示セル中間組立体を示す平面図で、図２はそのＡ−Ａ断面図である。
【００１３】
図１に示すように、本例の各大基板１１、１２は長方形をなし、これら大基板１１、１２には、６個の同じ略正方形のセル基板エリアＡ1〜Ａ6が、３行×２列の配列で所定位置にそれぞれ区画設定されている。なお、以下の説明においては、大基板におけるセル基板が採取される平面領域をセル基板エリアＡ1〜Ａ6と称し、両大基板の各セル基板エリアＡ1〜Ａ6で挟まれた立体領域をセル領域Ｄ1〜Ｄ6と称して、区別する。
【００１４】
図２に示すように、一対の大基板１１、１２のうちの一方の大基板１１の他方の大基板１２に対向させる表面（以下、内面という）には、個々のセル基板エリアＡ1〜Ａ6毎に、カラーフィルタ層１３とこれを取り囲むブラックマスク層１４とがそれぞれ形成されている。本例の各カラーフィルタ層１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）各色のストライプフィルタを並列に順次配置して形成されており、画素が形成される表示領域全域にわたり配置されている。また、各ブラックマスク層１４は、黒色樹脂ペーストを材料として用い、カラーフィルタ層１３が設置された表示領域を取り囲む配置で、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6の周縁に沿って枠状に形成されている。この場合の黒色樹脂ペーストは、例えばアクリル系感光ポリマー、ポリイミド系感光ポリマー等のフォトレジスト材料に黒色顔料を混合して調製したもので、このフォトレジスト材料を大基板１１の内面に塗布し、フォトリソグラフィーにより所定の枠形状に形成されている。なお、カラーフィルタ層１３とブラックマスク層１４の層厚は、０．６〜１．２μｍ程度である。
【００１５】
大基板１１の内面のセル基板エリアＡ1〜Ａ6を除く非セル基板エリアＡnには、上記ブラックマスク層１４の材料と同じ材料の黒色樹脂ペーストからなる下地層１５が、ブラックマスク層１４と同じ層厚に形成されている。本例の下地層１５は、図１に示すように、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6間の領域ではその略全域に亘り配設され、その他の大基板１１の縁部に沿った領域では、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6の外周に沿った所定幅の領域に選択的に配設されている。この場合、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6とこれを取り囲む下地層１５の間には、僅かな幅の枠状間隙Ｃが確保されている。この間隙Ｃは、後工程で各液晶表示セル毎に切離する際の切断ラインを示す目安となる。本例では、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6の周縁に設置されているブラックマスク層１４と下地層１５を黒色に形成するから、これらの間に形成された間隙Ｃが高いコントラストで明瞭に浮き出され、切断ラインの視認が極めて容易となる。
【００１６】
ここで、本例のブラックマスク層１４と下地層１５は、上述した同じ材料の黒色樹脂ペーストを用いて同一工程で同時に形成される。即ち、大基板１１の内面に上述したフォトレジスト材料からなる黒色樹脂ペーストを例えばスピンコート法等により一様な厚さに塗布し、ブラックマスク層パターンと下地層パターンが形成された一枚のフォトマスクを用いて露光し、現像することにより、所定のパターンのブラックマスク層１４と下地層１５とが同じ層厚で同時に一括形成される。
【００１７】
なお、この下地層１５は、カラーフィルタ層１３の３色のストライプフィルタ層のうちの何れかを形成する際に、それと同じ色のカラーフィルタ材料を用いて上述したフォトリソグラフィー法により同一工程で同時に形成することもできる。
【００１８】
大基板１１の内面に形成されたカラーフィルタ層１３、ブラックマスク層１４、及び下地層１５上には、これらを覆って、透明樹脂材料からなる平坦化保護層１６が大基板１１内面の略全域にわたり積層されている。本例の平坦化保護層１６は、アクリル樹脂材料をスピンコート法により大基板１１内面の略全域にわたり均一に塗布して形成されている。この平坦化保護層１６は、カラーフィルタ層１３表面の各色要素間の凹凸やブラックマスク層１４と下地層１５間の隙間等を埋めて電極を積層するための平坦な表面を得るために設けられており、約１μｍの厚さに形成されたカラーフィルタ層１３、ブラックマスク層１４及び下地層１５に対して、約２μｍ程度と厚く形成されている。特に、カラーフィルタ層１３の各色ストライプフィルタ間にブラックマスク層１３を設ける場合はカラーフィルタ層１３の表面の凹凸がより大きくなるが、この場合も平坦化保護層１６を被覆することにより平坦な表面が得られる。
【００１９】
上述のようにして得られた平坦化保護層１６の平坦な表面には、その略全域にわたって透明電極１７が積層形成されている。本例の透明電極１７は、図示されていないが、カラーフィルタ層１３の各色ストライプフィルタに対応させて平行に延在形成された多数のストライプ状信号電極からなる。そして、これら信号電極１７を覆って、ラビング等により所定方向に配向処理が施された液晶分子の配向を規制する配向膜（不図示）が、大基板１１の内面の略全域にわたり積層されている。
【００２０】
一方、大基板１１に対向配置される大基板１２の内面には、対向側の透明電極１８が、上記信号電極１７の配設領域に対応させて配設されている。本例で製造する液晶表示セルは単純マトリクス方式の液晶表示セルであり、従って、本例の対向側透明電極１８は、信号電極１７の延在方向とは直交する方向に延在させて形成されている多数の走査電極からなる。なお、この走査電極１８の上にも信号電極１７に被覆した配向膜と同じ材質の図示されていない配向膜が積層され、所望の例えばＳＴＮ（Super  Twisted  Nematic）液晶動作モードを得るために所定の方向に配向処理が施されている。
【００２１】
各内面に透明電極１７、１８等の各種機能薄膜が積層された大基板１１、１２は、間に間隙規制部材としてのギャップ剤粒子１９を介在させて、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6毎に配設されたシール層２０と非セル基板エリアＡnに配設されたダミーシール層２１により接合されている。ここで、シール層２０とダミーシール層２１は、同じ材料の例えばエポキシ系樹脂材料を用いて例えば印刷法により同一工程で同時に形成されている。また、ギャップ剤粒子１９は、得ようとする液晶封入間隙つまりギャップと同じ大きさの粒径の球形粒子であり、大基板１１、１２間に均等に散在させて挟持されている。
【００２２】
各シール層２０は、図１に示されるように、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6の周縁部の全周にわたり所定の幅で枠状に配置されている。なお、本例では各シール層１９の幅をブラックマスク層１４の幅と同一に設定してあるから、各セル領域Ｄ1〜Ｄ6において各ブラックマスク層１４上に各シール層１９が平坦化保護膜１６を介して１対１に重畳する構成となっている。
【００２３】
そして、ダミーシール層２１は、複数種類の島状に形成されたダミーシール層２１ａ〜２１ｃからなり、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6を囲む下地層１５の配設領域に、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6を取り囲む所定の配置で設置されている。本例の島状ダミーシール層２１ａ〜２１ｃは、柵状ダミーシール層２１ａと、円形ダミーシール層２１ｂ及び十字型ダミーシール層２１ｃの３種類からなり、柵状ダミーシール層２１ａは各セル基板エリアＡ1〜Ａ6の４辺に沿わせてそれぞれ１本づつ合計で１７本が配置され、円形ダミーシール層２１ｂは下地層１５の周縁部に配置されている１０本の柵状ダミーシール層２１ａの間に１個づつ合計で１０個が配置され、十字型ダミーシール層２１ｃは、２行×２列に並ぶ４個のセル基板エリアＡ1〜Ａ4及びＡ3〜Ａ6の各共通コーナー部の中央に１個つづ合計で２個が配置されている。なお、セル基板エリアＡ1〜Ａ6間に設けられた柵状ダミーシール層２１ａは、セル基板エリアＡ1〜Ａ6間の各中央部にそれぞれ設けられている。
【００２４】
以上のように、一方の大基板１１の各セル基板エリアＡ1〜Ａ6以外の領域にカラーフィルタ層１３又はブラックマスク層１４と同じ層厚の下地層１５を設けて、この一方の大基板１１の他方の大基板１２に対向させる内面を略全面にわたって平坦面とし、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6にはシール層２０を配設し、非セル基板エリアＡnにはシール層２０と同じ層厚のダミーシール層２１を配設して、両大基板１１、１２を接合することにより、大基板１１、１２の対向する各内面（配向膜表面）の間隔を対向領域全域にわたり同一とすることができる。
【００２５】
これは、大基板１１、１２を押圧接合する際にはセル基板エリアＡ1〜Ａ6だけでなく非セル基板エリアＡnにも圧力が加わるが、非セル基板エリアＡnに挟まれた非セル領域Ｄnには下地層１５とダミーシール層２１が配設され、セル領域Ｄ1〜Ｄ6と同等に両基板１１、１２を内側から支えているからである。
【００２６】
即ち、本実施形態に対する比較例として、図３に示すように下地層１５及びダミーシール層２１を設けない形態を想定すると、二点鎖線で示すように、基板貼り合わせの際の押圧力により押圧側の大基板１２における非セル基板エリアＡnのＰ部分が凹み、その反動によりシール層２０を支点としてセル基板エリアＡ1〜Ａ6内のシール層２０近傍部分Ｑが浮き上がってしまう。しかし、本発明の液晶セル中間組立体では、セル基板エリアＡ1〜Ａ6間の非セル基板エリアＡnにダミーシール層２１が配設され、しかもそのダミーシール層２１の配設領域には下地層１５が介装されてシール層１９と同一レベルに同一層厚で形成されているから、非セル基板エリアＡnのＰ部分の凹みを阻止し、大基板１１、１２の各内面の対向間隔を対向領域全域にわたり同一とすることができる。
【００２７】
ここで、上述した比較例においては、２行×２列に並ぶ４個のセル領域Ｄ1〜Ｄ4とＤ3〜Ｄ6の各共通コーナー部であるＰ部分に貼り合わせ圧着時における荷重が集中するためにそのＰ部分の基板の凹みが大きくなるが、本例の液晶セル中間組立体では、そのＰ部分の内側に耐荷重に適した十字型のダミーシール層２１ｃを配設してあるから、Ｐ部分の基板の凹みを確実に阻止することができる。
【００２８】
なお、各セル基板エリアＡ1〜Ａ6内における基板の凹みは、ギャップ剤粒子１７により阻止されている。また、ギャップ剤粒子１７は非セル領域Ｄnにも配置されおり、従って、非セル領域Ｄnにおいてはダミーシール層２１に加えてギャップ剤粒子１７によっても基板が支えられるため、基板の凹みが一層確実に阻止される。
【００２９】
上述のように接合されて大基板１１、１２の内面間の対向間隔が一様に等しい液晶セル中間組立体を各セル領域Ｄ1〜Ｄ6ごとに切離すれば、ギャップが所期の間隔で液晶封入空間の全域にわたり一定に確保された複数の液晶セルが一括して得られる。
【００３０】
ここで、本実施形態の液晶セル中間組立体を用いた液晶表示セルの製造方法について、図１と図２に基づき説明する。
まず、複数のセル基板を採取可能な面積を備え、採取すべき複数のセル基板に対応する複数のセル基板エリアＡ1〜Ａ6がそれぞれ所定の配置で設定されている、一対の大基板１１、１２を準備する。
【００３１】
次に、一方の大基板１１の一方の表面に、ブラックマスク層１４と下地層１５をフォトリソグラフィーにより所定のパターンに一括形成する。
次いで、カラーフィルタ層１３を構成するＲ、Ｇ、Ｂ各色のストライプフィルタをブラックマスク層１４で囲まれた表示領域内の所定位置にフォトリソグラフィーにより順次形成する。
【００３２】
次に、それらカラーフィルタ層１３、ブラックマスク層１４、及び下地層１５を覆って、平坦化保護膜１６を、スピンコート法により大基板１１表面の略全域にわたって一様に被着形成する。
【００３３】
次いで、平坦化保護膜１６の上に複数の信号電極１７をフォトリソグラフィーによりパターン形成する。この後、それら信号電極１７を覆って配向膜材料をスピンコート法により一様な膜厚に積層し、この表面を所定方向にラビング処理して配向膜を形成する。
【００３４】
一方、他方の大基板１２の一方の表面には、複数の走査電極１８を信号電極１７と同様にフォトリソグラフィーによりパターン形成する。この後、それら走査電極１８を覆って配向膜材料をスピンコート法により一様な膜厚に積層し、この表面を所定方向にラビング処理して配向膜を形成する。
【００３５】
そして、一方の大基板１１の配向膜面の全域にギャップ剤粒子１９を均等に散布し、他方の大基板１２の配向膜表面の所定位置に所定の形状のシール層２０とダミーシール層２１を印刷法により一括形成する。
【００３６】
次に、ギャップ剤粒子１９が散布された大基板１１を作業台に載置し、これにシール層２０とダミーシール層２１が形成された大基板１２を、それぞれの配向膜形成面を対向させて貼り合わせる。このとき、信号電極１７と走査電極１８とが対向する画素が各シール層２０内に所定の配置で形成されように、両大基板１１、１２を正確に位置合わせしつつ貼り合わせる。大基板１１、１２を貼り合わせた後、大基板１２の背面を適切な圧力で均等に押圧し、ギャップ剤粒子１９がそれぞれの配向膜面間に挟持された状態とする。この後、シール層２０とダミーシール層２１を硬化させることにより、所期の対向内面間隔が均一に確保された液晶セルが６個形成されている液晶セル中間組立体が得られる。
【００３７】
上記液晶セル中間組立体を隙間Ｃを目安に所定の切断線に沿って切離すれば、基板内面の対向間隔が所期の間隔で液晶封入空間の全域にわたり一定に確保された複数の液晶セルが一括して得られる。
【００３８】
このように、本発明の液晶セルの製造方法によれば、液晶封入空間の全域にわたり所期の対向面間隔（液晶封入ギャップ）が一定に確保された液晶セルを少ない工数で容易に製造することができる。
【００３９】
次に、本発明の第２実施形態について、図４及び図５に基づき説明する。なお、上記第１実施形態と同一構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００４０】
本例の液晶セル中間組立体では、セル基板エリアＡ1〜Ａ6間の非セル基板エリアＡnに設ける下地層２２の幅Ｗ1が非セル基板エリアＡnの幅Ｗ2の１／３より小さく設定されている。そしてこの幅狭下地層２２に重なるように、その配設領域に柵状ダミーシール層２１ａが配設されている。なお、下地層２２のうちの大基板１１周縁に沿って設けられている部分は、上記実施形態と同じ幅のままである。従って、本実施形態においても、全てのダミーシール層２１ａ〜２１ｃが下地層２２の配設領域に重畳して設けられている。その他の構成は、上記第１実施形態と同じである。
【００４１】
以上のように構成された本例の液晶セル中間組立体においては、非セル領域Ｄnにおける下地層１５が設置されていない領域に対向面間の間隔が局部的に大きい空間Ｒが発生するが、その空間Ｒは非セル領域Ｄnをダミーシール層２１ａで分断しているために幅狭に形成されおり、このため、貼り合わせ時における空間Ｒの基板の凹みが防止される。その結果、セル領域Ｄ1〜Ｄ6における大基板１１、１２の対向する各内面間の間隔を所期の間隔で一定に確保できる。そして更に、本第２実施形態によれば、下地層２２のセル基板エリアＡ1〜Ａ6間に設けられる部分の幅を隣り合うセル基板エリア間の間隔の１／３以下と狭くしたから、樹脂ペーストからなる下地膜２２とガラスからなる大基板１１との熱膨張率の差に起因する大基板１１の反りの発生を抑制することができる。これにより、液晶セル中間組立体のセル領域Ｄ1〜Ｄ6における各内面間の対向間隔がより一層正確に所期の間隔で信頼性良く確保される。
【００４２】
なお、本発明は、上記の第1、第２実施形態に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態においてはダミーシール層２１が各セル基板エリアＡ1〜Ａ6の周囲を取り囲むように設けられているが、ダミーシール層２１は少なくとも各セル基板エリアＡ1〜Ａ6間に設ければよく、従って、上記実施形態で大基板周縁に沿った非セル基板エリアＡnに設けられているダミーシール層は省略することができる。また、ダミーシール層は、島状に設けず、シール層２０と同様に連続した枠状に形成しても良い。
【００４３】
また、本発明の液晶セルの製造方法では、下地層とダミーシール層を互い異なる大基板にそれぞれ設けなくてもよく、同一の大基板に下地層とダミーシール層を積層して他方の基板と貼り合せてもよい。
【００４４】
さらに、上記実施形態においては個々の液晶セルに切離した後に液晶を封入する方法を採用しているが、本発明の液晶セルの製造方法は、液晶セル中間組立体をシール層に設けられている液晶注入口（不図示）を露出させるために例えば液晶セル３個つづの組立体に予備切断し、液晶を注入し終わった後に個々の液晶セルに切断する場合にも適用できることは勿論である。
【００４５】
加えて、本発明は、ギャップ剤粒子を用いない液晶セルの製造にも有効に適用することができる。
【００４６】
【発明の効果】
本発明の液晶セル中間組立体によれば、一方の大基板のセル基板エリア間にセル基板エリアに設けたカラーフィルタ層かブラックマスク層の何れかと同じ材料からなる下地層を形成し、この下地層形成領域にセル基板エリア内に形成したシール層と同じ材料からなるダミーシール層を形成したから、一対の大基板を貼り合わせて所期のギャップを得るために押圧した際に、大基板のセル基板エリア間部分は、下地層とダミーシール層により内側から支えられ、その部分の基板の凹みが阻止される。その結果、大基板におけるセル基板エリア間部分の凹みの反動によるセル基板エリア部分の浮き上がりが防止され、一対の大基板間にギャップムラの無い複数個の液晶封入空間が形成された液晶セル中間組立体が得られる。
【００４７】
そして、本発明の液晶セル中間組立体においては、請求項２に記載のように、前記セル基板エリア間における前記下地層の幅を、前記単位領域間の間隔の１／３以下とすることにより、下地層とこれが被着される大基板との熱膨張率の差に起因してその大基板に反りが発生する不具合を防止することができ、その結果、液晶セル中間組立体における少なくともセル領域内の対向する各内面間の間隔を所期の間隔でより一層正確に信頼性良く確保することができる。
【００４８】
また、本発明の液晶セルの製造方法によれば、下地層とブラックマスク層又はカラーフィルタ層とを同一材料を用いて一括形成し、ダミーシール層とシール層とを同一材料を用いて一括形成するから、大基板のセル基板エリア間部分が下地層とダミーシール層によりセル基板エリア内と同等に支持され、接合された大基板の対向する各内表面間の間隔が対向領域全域にわたり所期の間隔で一定に確保された液晶セル中間組立体を、少ない工数で容易に形成することができる。そして、この液晶セル中間組立体を所定の切断線に沿って切離することにより、基板内面の対向間隔（ギャップ）が所期の間隔で液晶封入空間の全域にわたり一定に確保された複数の液晶セルが一括して得られ、そのような高品質の液晶セルを少ない工数で安価に製造することが可能となる。
【００４９】
本発明の液晶セルの製造方法においては、請求項４に記載のように、前記枠状シール層とダミーシール層とを共に下地層を設けた大基板ではない他方の大基板に形成することにより、枠状シール層とダミーシール層を印刷法により所定の層厚でより簡単に一括形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態としての液晶セル中間組立体を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】上記第１実施形態に対する比較例を示した図２に対応する断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態としての液晶セル中間組立体を示す平面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ断面図である。
【図６】従来の液晶セル中間組立体を模式的に切断して示す模式的断面説明図である。
【符号の説明】
１、２、１１、１２…大基板
３、１９…ギャップ剤粒子
４、１４…ブラックマスク層
５、１３…カラーフィルタ層
６、２０…（枠状）シール層
１５…下地層
１６…平坦化保護層
１７…透明電極（信号電極）
１８…透明電極（走査電極）
２１…ダミーシール層
Ａ1〜Ａ6…セル基板エリア
Ａｎ…非セル基板エリア
Ｄ1〜Ｄ6、Ｄc…セル領域
Ｄｎ…非セル領域
【図１】
2004212449.tif 000003
【図２】
2004212449.tif 000004
【図３】
2004212449.tif 000005
【図４】
2004212449.tif 000006
【図５】
2004212449.tif 000007
【図６】
2004212449.tif 000008