(57)【要約】【課題】ノイズ特性を向上させることができ、かつ生産性に優れた磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】非磁性基板１上に、軟磁性膜２と、配向制御膜３と、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁気記録膜５と、保護膜６が設けられた磁気記録媒体を製造するにあたって、軟磁性膜２をスパッタ法を用いて形成し、軟磁性膜２を形成する際の成膜ガス圧を２Ｐａ以上３０Ｐａ以下とする。【選択図】　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板上に、軟磁性膜と、配向制御膜と、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁気記録膜と、保護膜が設けられた磁気記録媒体を製造する方法であって、
前記軟磁性膜をスパッタ法を用いて形成し、軟磁性膜を形成する際の成膜ガス圧を２Ｐａ以上３０Ｐａ以下とすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法において、軟磁性膜が、ＣｏとＦｅのうちいずれか一方または両方である磁性元素を７０ａｔ％以上含み、かつＺｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｂ、Ｃ、Ａｌ、Ｓｉのうち１種以上を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の磁気記録媒体の製造方法において、成膜ガスとして、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅのうち１種以上を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項１または２記載の磁気記録媒体の製造方法において、成膜ガスとして、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅのうち１種以上に、Ｏ２、Ｎ２、ＣＯ２のうち１種以上を添加したものを用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法によって製造されたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
請求項５記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えていることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の面内磁気記録では、記録ビットの微細化により高記録密度を実現しようとすると、熱揺らぎが生じるという問題がある。
この問題を解決するために、近年では、垂直磁気異方性を有する垂直磁気記録膜を用いた垂直磁気記録方式が提案されている。
垂直磁気記録方式を採用した磁気記録媒体としては、垂直磁気記録膜の下に、高透磁率の軟磁性膜を設けたものがある。
しかしながら、軟磁性膜を設けた磁気記録媒体では、軟磁性膜で磁区が形成されやすい。磁区と磁区の境界には磁壁が形成されるため、磁壁が存在する領域においてスパイク状ノイズが発生する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
特開平１０−２８３６２４号公報には、軟磁性膜の下に、ＣｏＳｍなどからなる硬磁性膜を設けた磁気記録媒体が提案されている。この磁気記録媒体では、硬磁性膜によって、軟磁性膜に磁壁を形成されにくくすることができる。
しかしながら、この磁気記録媒体では、膜の総数を増加させることになるため、生産性が低下する問題がある。さらには、温度の上昇に伴い、ＣｏＳｍなどからなる硬磁性膜の保磁力が低下し、軟磁性膜に磁壁が形成されやすくなる問題がある。
また、特開平１０−２１４７１９号公報には、軟磁性膜の下に、反強磁性膜を設けた磁気記録媒体が提案されている。この磁気記録媒体では、反強磁性膜によって、軟磁性膜に磁壁を形成されにくくすることができる。
しかしながら、この磁気記録媒体は、磁場中で成膜する工程または磁場中でアニール処理（熱処理）する工程が必要になるため、生産性を高めるのが難しい。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、スパイクノイズを抑え、ノイズ特性の悪化を防ぐことができ、かつ生産性に優れた磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、非磁性基板上に、軟磁性膜と、配向制御膜と、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁気記録膜と、保護膜が設けられた磁気記録媒体を製造する方法であって、前記軟磁性膜をスパッタ法を用いて形成し、軟磁性膜を形成する際の成膜ガス圧を２Ｐａ以上３０Ｐａ以下とすることを特徴とする。
軟磁性膜は、ＣｏとＦｅのうちいずれか一方または両方である磁性元素を７０ａｔ％以上含み、かつＺｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｂ、Ｃ、Ａｌ、Ｓｉのうち１種以上を含む構成とすることができる。
成膜ガスとしては、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅのうち１種以上を用いることができる。
成膜ガスとしては、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅのうち１種以上に、Ｏ２、Ｎ２、ＣＯ２のうち１種以上を添加したものを用いることができる。
上記製造方法を採用することで、生産性、量産性を低下させることなく軟磁性膜における磁壁の形成を抑えることができる。
本発明の磁気記録媒体は、上記製造方法によって製造されたものであることを特徴とする。
本発明の磁気記録再生装置は、上記磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えていることを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、非磁性基板１上に、軟磁性膜２と、配向制御膜３と、中間膜４と、垂直磁気記録膜５と、保護膜６と、潤滑膜７とが順次形成された構成とされている。
非磁性基板１としては、アルミニウム、アルミニウム合金等の金属材料からなる金属基板を用いてもよいし、ガラス、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。
ガラス基板としては、アモルファスガラス、結晶化ガラスからなるものを使用できる。アモルファスガラスとしては汎用のソーダライムガラス、アルミノケートガラス、アルミノシリケートガラスを使用できる。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスを用いることができる。
セラミック基板としては、汎用の酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの繊維強化物などからなるものが使用可能である。
【０００６】
軟磁性膜２は、軟磁性材料からなるもので、この材料としては、Ｆｅ、Ｃｏなどの磁性元素を含む材料を用いることができる。
特に、この磁性元素に加えて、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｂ、Ｃ、Ａｌ、Ｓｉのうち１種以上を含む材料を用いることが好ましい。これによって、軟磁性膜２に磁壁が形成されるのを防ぎ、軟磁性膜２に起因するノイズを小さくし、ＳＮＲ（再生信号とノイズの比）をより高くすることができる。
具体的には、ＣｏとＦｅのうちいずれか一方または両方である磁性元素を７０ａｔ％以上含み、かつＺｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｂ、Ｃ、Ａｌ、Ｓｉのうち１種以上を含む材料が好適である。
磁性元素の含有率が上記範囲未満であると、飽和磁束密度、保磁力などの磁気特性が劣化する。
【０００７】
軟磁性膜２の材料としては、例えばＦｅ系合金（ＦｅＺｒ、ＦｅＺｒＯ、ＦｅＨｆ、ＦｅＨｆＣ、ＦｅＢなど）、ＦｅＣｏ系合金（ＦｅＣｏＯ、ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＮ、ＦｅＣｏＳｉなど）、ＦｅＡｌ系合金（ＦｅＡｌ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌＳｉＣｒ、ＦｅＡｌＳｉＴｉＲｕ、ＦｅＡｌＯなど）、ＦｅＣｒ系合金（ＦｅＣｒ、ＦｅＣｒＴｉ、ＦｅＣｒＣｕなど）、ＦｅＴａ系合金（ＦｅＴａ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＴａＢなど）、ＦｅＭｇ系合金（ＦｅＭｇＯなど）、ＦｅＣ系合金、ＦｅＮ系合金、ＦｅＳｉ系合金、Ｃｏ系合金（ＣｏＺｒ、ＣｏＺｒＢ、ＣｏＺｒＮｂ、ＣｏＺｒＴａ、ＣｏＴａ、ＣｏＴａＭｏなど）を好適なものとして挙げることができる。
【０００８】
軟磁性膜２の保磁力Ｈｃは５０（Ｏｅ）以下（好ましくは１０（Ｏｅ）以下）とするのが好ましい。
この保磁力Ｈｃが上記範囲を超えると、軟磁気特性が不十分となり、再生波形がいわゆる矩形波でなく歪みをもった波形になるため好ましくない。
軟磁性膜２の飽和磁束密度Ｂｓと厚さｔとの積Ｂｓ・ｔは、５０Ｔ・ｎｍ以上（好ましくは８０Ｔ・ｎｍ以上）とするのが好適である。このＢｓ・ｔが上記範囲未満であると、再生波形が歪みをもつようになったり、ＯＷ特性（オーバーライト特性）が悪化するため好ましくない。
【０００９】
軟磁性膜２の表層部には、軟磁性膜構成材料が酸化された酸化層を形成するのが好ましい。
これにより、軟磁性膜２の表面の磁気的な揺らぎを抑えることができ、この磁気的な揺らぎに起因するノイズを低減し、記録再生特性を改善することができる。また、軟磁性膜２上に形成される配向制御膜３の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善することができる。
【００１０】
配向制御膜３は、直上に設けられた中間膜４および垂直磁気記録膜５の配向性や結晶粒径を制御するものである。
配向制御膜３の材料としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有する材料を用いることができる。なかでも特に、Ｒｕ合金、Ｈｆ合金、Ｎｉ合金、Ｃｏ合金は好適である。
【００１１】
配向制御膜３の厚さは、０．５〜３０ｎｍ（好ましくは１〜２０ｎｍ）とするのが好ましい。この厚さをこの範囲とすると、垂直磁気記録膜５の垂直配向性が特に高くなり、かつ記録時における磁気ヘッドと軟磁性膜２との距離を小さくすることができるため、再生信号の分解能を低下させることなく記録再生特性を高めることができる。
この厚さが上記範囲未満であると、垂直磁気記録膜５における垂直配向性が低下し、記録再生特性および熱揺らぎ耐性が劣化する。
また、この厚さが上記範囲を超えると、垂直磁気記録膜５の垂直配向性が低下し、記録再生特性および熱揺らぎ耐性が劣化する。また記録時における磁気ヘッドと軟磁性膜２との距離が大きくなるため、再生信号の分解能や再生出力が低下する。
【００１２】
配向制御膜３の表面形状は、垂直磁気記録膜５、保護膜６の表面形状に影響を与えるため、磁気記録媒体の表面凹凸を小さくして、記録再生時における磁気ヘッド浮上高さを低くするには、配向制御膜３の表面平均粗さＲａを２ｎｍ以下とするのが好ましい。
これによって、磁気ヘッドの浮上高さを低くすることが可能になり、更なる高記録密度化が可能になる。
【００１３】
配向制御膜３と垂直磁気記録膜５との間には、中間膜４が設けることができる。
中間膜４にはｈｃｐ構造を有する材料を用いるのが好ましい。中間膜４には、ＣｏＣｒ合金、ＣｏＣｒＸ１合金、ＣｏＸ１合金（Ｘ１：Ｐｔ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｒｕ，Ｎｂ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｏ、ＮおよびＢのうち１種または２種以上）を用いるのが好適である。
中間膜４のＣｏの含有率は３０〜７０ａｔ％であることが好ましい。
垂直磁気記録膜５における磁性粒子の粗大化による記録再生特性の悪化や、磁気ヘッドと軟磁性膜２との距離が大きくなることによる記録分解能の低下を防ぐため、中間膜４の厚さは３０ｎｍ以下（好ましくは２０ｎｍ以下）とするのが好ましい。
中間膜４を設けることによって、垂直磁気記録膜５の垂直配向性を高めることができるため、垂直磁気記録膜５の保磁力を高め、記録再生特性および熱揺らぎ耐性を向上させることができる。
なお、本発明では、中間膜４を設けない構成も可能である。
【００１４】
垂直磁気記録膜５は、その磁化容易軸が基板に対して主に垂直方向に向いたものであり、少なくともＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔを含むＣｏＣｒＰｔ系合金からなることが好ましい。
Ｃｒの含有率は１４ａｔ％以上２６ａｔ％以下（好ましくは１６ａｔ％以上２２ａｔ％以下）であることが好ましく、Ｐｔの含有率は１２ａｔ％以上２４ａｔ％以下（好ましくは１４ａｔ％以上２０ａｔ％以下）であることが好ましい。
Ｃｒの含有率が１４ａｔ％未満であると、磁性粒子間の交換結合が大きくなり、その結果、磁気クラスター径が大きくなり、ノイズが増大するため好ましくない。また、Ｃｒの含有率が２６ａｔ％を超えると、残留磁化（Ｍｒ）と飽和磁化（Ｍｓ）の比Ｍｒ／Ｍｓ、および保磁力が低下するため好ましくない。
Ｐｔの含有率が１２ａｔ％未満であると、記録再生特性が不十分となるとともに、Ｍｒ／Ｍｓが低下し熱揺らぎが悪化するため好ましくない。また、Ｐｔの含有率が２４ａｔ％を超えると、ノイズが増大するため好ましくない。
垂直磁気記録膜５は、Ｂを含有することが好ましい。これにより、磁気クラスターサイズを低減することができ、ＳＮＲを改善することができる。Ｂの含有率は０．１ａｔ％以上５ａｔ％以下とすることが好ましい。
【００１５】
垂直磁気記録膜５は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｂ以外にも任意の元素を含有する構成とすることができる。この元素としては、特に限定されるものではないが、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｗなどを挙げることができる。
【００１６】
垂直磁気記録膜５は、単一の材料からなる１層構造に限らず、２層以上の構造とすることもできる。
２層以上の構造を採用する場合には、これらのうち少なくとも１層が、上記ＣｏＣｒＰｔ系合金（好ましくはＣｒ含有率：１４〜２６ａｔ％、Ｐｔ含有率：１２〜２４ａｔ％）からなることが好ましい。
また、Ｃｏ系合金（ＣｏＣｒ、ＣｏＢ、Ｃｏ−ＳｉＯ２等）からなる層とＰｄ系合金（ＰｄＢ、Ｐｄ−ＳｉＯ２等）からなる層とを積層した構造とすることもできる。
また、ＣｏＴｂ、ＣｏＮｄ等のアモルファス材料からなる層と、ＣｏＣｒＰｔ系材料からなる層とを備えた複層構造としてもよい。
【００１７】
垂直磁気記録膜５の厚さは、７ｎｍ以上５０ｎｍ以下（好ましくは１３ｎｍ以上４０ｎｍ以下）とするのが好ましい。垂直磁気記録膜５の厚さが上記範囲未満であると、十分な磁束が得られず、再生出力が低下する。また、垂直磁気記録膜５の厚さが上記範囲を超えると、垂直磁気記録膜５の磁性粒子が粗大化しやすくなり、記録再生特性が低下するため好ましくない。
【００１８】
垂直磁気記録膜５の保磁力は、３０００（Ｏｅ）以上とすることが好ましい。保磁力が３０００（Ｏｅ）未満である場合には、高記録密度化が難しくなる。また熱揺らぎ耐性も劣化するため好ましくない。
【００１９】
垂直磁気記録膜５のＭｒ／Ｍｓは、０．９以上であることが好ましい。Ｍｒ／Ｍｓが０．９未満である場合には、熱揺らぎ耐性が劣化するため好ましくない。
【００２０】
垂直磁気記録膜５の逆磁区核形成磁界（−Ｈｎ）は、０（Ｏｅ）以上２５００（Ｏｅ）以下であることが好ましい。逆磁区核形成磁界（−Ｈｎ）が、０（Ｏｅ）未満である場合には、熱揺らぎ耐性が劣化するため好ましくない。
図２に示すように、ＭＨ曲線において、磁化が飽和した状態から外部磁界を減少させる過程で外部磁界が０となる点をａとし、磁化が０となった点をｂとしたときに、点ｂでのＭＨ曲線の接線と、飽和磁化を示す直線との交点をｃとすると、逆磁区核形成磁界（−Ｈｎ）は、点ａと点ｃとの距離（Ｏｅ）で表すことができる。
なお、逆磁区核形成磁界（−Ｈｎ）は、外部磁界が負となる領域に点ｃがある場合に正の値をとり（図２を参照）、逆に、外部磁界が正となる領域に点ｃがある場合に負の値をとる（図３を参照）。
【００２１】
垂直磁気記録膜５は、結晶粒の平均粒径が５〜１５ｎｍであることが好ましい。
この平均粒径は、例えば垂直磁気記録膜５の結晶粒をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で観察し、観察像を画像処理することにより求めることができる。
【００２２】
保護膜６は垂直磁気記録膜５の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのもので、従来公知の材料を使用できる。例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２を含む材料が使用可能である。
保護膜６の厚さは、１〜１０ｎｍとするのが望ましい。
潤滑剤７には、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いるのが好ましい。
【００２３】
以下、上記磁気記録媒体を製造する場合を例として、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を説明する。
図４は、本実施形態の製造方法に用いられるスパッタ装置を示すもので、ここに示すスパッタ装置は、チャンバ２０と、チャンバ２０の両側壁内面に設けられたターゲット２１と、成膜ガス源２２と、成膜ガスの流量を調節する流量調節器２３と、成膜ガスをチャンバ２０内に導入する導入管２４と、チャンバ２０内のガスを系外に排出する排出管２５とを備えている。
【００２４】
上記構成の磁気記録媒体を製造するには、まず、基板１上に、軟磁性膜２をスパッタ法により形成する。
軟磁性膜２を形成するにあたっては、成膜ガスの圧力を、２Ｐａ以上３０Ｐａ以下（好ましくは４Ｐａ以上２０Ｐａ以下、さらに好ましくは６Ｐａ以上１５Ｐａ以下）とする。
【００２５】
成膜ガスの圧力を上記範囲とするには、例えば次の方法を採ることができる。
基板１をチャンバ２０内に収容し、成膜ガス源２２からの成膜ガスを、導入管２４を通してチャンバ２０に導入しつつ、排出管２５を通して排出する。
この際、流量調節器２３を用いて、成膜ガスの導入流量を、チャンバ２０内の成膜ガス圧力が上記範囲（２Ｐａ以上３０Ｐａ以下）となるように設定する。
【００２６】
成膜ガスとしては、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅのうち１種以上を用いることが好ましい。
特に、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅのうち１種以上に、Ｏ２、Ｎ２、ＣＯ２のうち１種以上を添加したガスを用いることによって、軟磁性膜２での磁壁の形成をより効果的に抑えることができる。
Ｏ２を添加する場合、その添加率は０．１〜３０ｖｏｌ％とするのが好ましい。
Ｎ２を添加する場合、その添加率は０．０５〜５０ｖｏｌ％とするのが好ましい。
ＣＯ２を添加する場合、その添加率は０．１〜２０ｖｏｌ％とするのが好ましい。
成膜ガス圧力を上記範囲とした状態で、ターゲット２１に給電し、スパッタ法により基板１表面に軟磁性膜２を形成する。
【００２７】
成膜ガスの圧力を上記範囲に設定することによって、軟磁性膜２において、磁壁の形成が抑えられ、スパイク状ノイズの発生を防ぐことができる。さらにＳＮＲも大きく改善することができる。
図５は、成膜ガス圧力を７．５Ｐａとして形成した軟磁性膜２を有する磁気記録媒体のエンベロープ図である。
この図より、成膜ガス圧力を上記範囲とすることによって、スパイクノイズがほとんど発生しなかったことがわかる。
スパイクノイズを抑えることができたのは、磁性粒子間の結合を弱めることにより磁区の形成を抑えることができたためであると推測することができる。
【００２８】
軟磁性膜２を形成する際の成膜ガス圧が２Ｐａ未満であると、磁壁形成を抑えることができずスパイク状ノイズが発生する。
図６は、成膜ガス圧力を０．６Ｐａとして形成した軟磁性膜２を有する磁気記録媒体のエンベロープ図である。
この図より、成膜ガス圧力を２Ｐａ未満とすることによって、スパイクノイズが発生したことがわかる。
また成膜ガス圧が３０Ｐａを超えると、その上に設けられた垂直磁気記録膜５の配向性が悪化し、ＳＮＲが低下するため好ましくない。
【００２９】
軟磁性膜２を形成する際の基板１の温度は特に限定されないが、０〜４００℃とするのが好ましい。
【００３０】
軟磁性膜２は、表層部に酸化層を形成するのが好ましい。
酸化層を形成するには、例えば軟磁性膜２を形成した後、軟磁性膜２の表面を、酸素含有ガスに曝す方法をとることができる。また軟磁性膜２の表層部を形成する際に、成膜ガスに酸素を含有させる方法をとることもできる。
軟磁性膜２の表面を酸素含有ガスに曝す場合には、軟磁性膜２を形成した基板１を、酸素含有ガス雰囲気中に０．３〜２０秒程度放置しておけばよい。
酸素含有ガスとしては、酸素ガスを用いてもよいし、酸素と他のガス（アルゴンや窒素など）との混合ガスを用いてもよい。また、空気を用いることもできる。
酸素と他のガスとの混合ガスを用いる場合には、それらの混合比を調節することによって、軟磁性膜２の酸化度合いの調節が容易になる。
また、成膜ガスに酸素を含有させる場合には、成膜過程の一部のみに、酸素を含有する成膜ガスを用いる方法をとることができる。この成膜ガスとしては、例えばアルゴンに酸素を０．０５〜５０ｖｏｌ％（好ましくは０．１〜２０ｖｏｌ％）混合したガスが好適に用いられる。
【００３１】
次いで、配向制御膜３、中間膜４、垂直磁気記録膜５を順次、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などにより形成する。
次いで、保護膜６を、好ましくはプラズマＣＶＤ法、イオンビーム法、スパッタリング法により形成する。
潤滑剤７を形成するには、ディッピング法、スピンコート法などの従来公知の方法を採用することができる。
【００３２】
本実施形態の製造方法では、軟磁性膜２をスパッタ法を用いて形成し、軟磁性膜２を形成する際の成膜ガス圧を２Ｐａ以上３０Ｐａ以下とするので、軟磁性膜２における磁壁の形成を抑え、スパイク状ノイズの発生を防ぐことができる。よって、ＳＮＲなどのノイズ特性を大きく改善することができる。
また、硬磁性膜や反強磁性膜を設けた従来の磁気記録媒体に比べ、膜の形成数を抑え、生産性を高めることができる。
従って、生産性を低下させることなく、ノイズ特性を向上させることができる。
【００３３】
図７は、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の例を示すものである。ここに示す磁気記録再生装置は、上記構成の磁気記録媒体８と、磁気記録媒体８を回転駆動させる媒体駆動部９と、磁気記録媒体８に情報を記録再生する磁気ヘッド１０と、ヘッド駆動部１１と、記録再生信号処理系１２とを備えている。
記録再生信号処理系１２は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド１０に送ったり、磁気ヘッド１０からの再生信号を処理してデータを出力することができるようになっている。
磁気ヘッド１０としては、垂直記録用の単磁極ヘッドを例示することができる。
図７（ｂ）に示すように、この単磁極ヘッドとしては、主磁極１０ａと、補助磁極１０ｂと、これらを連結する連結部１０ｃに設けられたコイル１０ｄとを有するものを好適に用いることができる。
【００３４】
上記磁気記録再生装置によれば、上記構成の磁気記録媒体８を用いるので、スパイク状ノイズの発生を防ぎ、高いエラーレートを確保することができる。
【００３５】
【実施例】
以下、実施例を示して本発明の効果を具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
洗浄済みのガラス基板１（オハラ社製、外径２．５インチ（６５ｍｍ））をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０１０）のチャンバ内に収容し、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した。
このガラス基板１上に、８５Ｆｅ−１５Ａｌ（８５ａｔ％Ｆｅ−１５ａｔ％Ａｌ）からなるターゲットを用いて、室温下で、軟磁性膜２（厚さ２００ｎｍ）をスパッタ法により形成した。成膜ガスとしてはＡｒを用い、成膜ガス圧は７．５Ｐａとした。
振動式磁気特性測定装置（ＶＳＭ）による測定の結果、軟磁性膜２のＢｓ・ｔは、３００Ｔ・ｎｍであることが確認された。
【００３６】
次いで、軟磁性膜２を形成した基板１を３００℃に加熱して、軟磁性膜２上に、ＮｉＴａターゲットを用いたスパッタ法によって、成膜ガス圧０．５Ｐａで配向制御膜３（厚さ１０ｎｍ）を形成した。
次いで、６５Ｃｏ−３０Ｃｒ−５Ｂ（６５ａｔ％Ｃｏ−３０ａｔ％Ｃｒ−５ａｔ％Ｂ）からなるターゲットを用いたスパッタ法によって、中間膜４（厚さ１０ｎｍ）を形成した。
次いで、６３Ｃｏ−２０Ｃｒ−１７Ｐｔ（６３ａｔ％Ｃｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−１７ａｔ％Ｐｔ）ターゲットを用いたスパッタ法によって、垂直磁気記録膜５（厚さ２５ｎｍ）を形成した。
配向制御膜３、中間膜４、垂直磁気記録膜５を形成する際には、成膜ガスとしてＡｒを用いた。
次いで、ＣＶＤ法により保護膜６（厚さ５ｎｍ）を形成した。
次いで、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜７を形成し、磁気記録媒体を得た。（表１を参照）
【００３７】
（実施例２〜４、比較例１〜３）
軟磁性膜２を形成する際の成膜ガス圧を変えたこと以外は、実施例１に準じて磁気記録媒体を作製した。（表１を参照）
【００３８】
これら実施例および比較例の磁気記録媒体について、記録再生特性を評価した。記録再生特性の評価は、ＧＵＺＩＫ社製リードライトアナライザＲＷＡ１６３２、およびスピンスタンドＳ１７０１ＭＰを用いて行った。
記録再生特性の評価においては、書き込み部にシングルポール磁極（単磁極）を用い、再生部にＧＭＲ素子を用いたヘッドを使用して、信号Ｓｏ−ｐを線記録密度５０ｋＦＣＩで測定し、ノイズＮを線記録密度６００ｋＦＣＩで測定した。ＳＮＲは以下の計算式を用いて算出した。
ＳＮＲ＝２０×ｌｏｇ（Ｓｏ−ｐ／Ｎ）
試験結果を表１に示す。
【００３９】
【表１】
2004030740.tif 000003
【００４０】
表１より、成膜ガス圧が２Ｐａ未満である比較例では、スパイクノイズが発生したのに対し、成膜ガス圧が２Ｐａ以上３０Ｐａ以下である実施例では、スパイクノイズが発生しなかったことがわかる。
また、成膜ガス圧が３０Ｐａを越える比較例に比べ、成膜ガス圧が２Ｐａ以上３０Ｐａ以下である実施例では、優れたＳＮＲが得られたことがわかる。
【００４１】
（実施例５〜１０）
軟磁性膜２の組成を表２に示すとおりとする以外は、実施例１に準じて磁気記録媒体を作製した。
これらの実施例の磁気記録媒体について、記録再生特性を評価した。試験結果を表２に示す。
【００４２】
【表２】
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【００４３】
表２より、ＣｏとＦｅのうちいずれか一方または両方である磁性元素を７０ａｔ％以上含み、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｂ、Ｃ、Ａｌ、Ｓｉのうち１種以上を含む軟磁性膜２を備えた磁気記録媒体では、優れたノイズ特性が得られたことがわかる。
【００４４】
（実施例１１〜１８）
軟磁性膜２を形成する際に、表３に示す成膜ガスを用いること以外は、実施例１に準じて磁気記録媒体を作製した。
これらの実施例の磁気記録媒体について、記録再生特性を評価した。試験結果を表３に示す。
なお、表中、１００Ａｒは１００ｖｏｌ％のＡｒを意味し、成膜ガスがＡｒであることを示す。また成膜ガスとして２種以上の物質名が記載されているものは、これら２種以上の物質からなる混合ガスが成膜ガスとして用いられたことを示す。例えば９０Ａｒ−１０Ｏ２は、９０ｖｏｌ％のＡｒと１０ｖｏｌ％のＯ２との混合ガスを意味する。
【００４５】
【表３】
2004030740.tif 000005
【００４６】
表３より、軟磁性膜２を形成する際に、成膜ガスとして、表中に示すものを用いた場合には、スパイクノイズ発生を防ぐことができたことがわかる。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気記録媒体の製造方法にあっては、軟磁性膜をスパッタ法を用いて形成し、軟磁性膜を形成する際の成膜ガス圧を２Ｐａ以上３０Ｐａ以下とするので、軟磁性膜における磁壁の形成を抑え、スパイク状ノイズの発生を防ぐことができる。よって、ＳＮＲなどのノイズ特性を大きく改善することができる。
また、従来の磁気記録媒体に比べ、膜の形成数を抑え、生産性を高めることができる。
従って、生産性を低下させることなく、ノイズ特性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の第１の実施形態を示す一部断面図である。
【図２】Ｍ−Ｈ曲線を示す模式図である。
【図３】Ｍ−Ｈ曲線を示す模式図である。
【図４】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を実施するために用いられるスパッタ装置を示す概略構成図である。
【図５】試験結果を示す図である。
【図６】試験結果を示す図である。
【図７】本発明の磁気記録再生装置の一例を示す概略図であり、（ａ）は全体構成を示し、（ｂ）は磁気ヘッドを示す。
【符号の説明】
１・・・非磁性基板、２・・・軟磁性膜、３・・・配向制御膜、５・・・垂直磁気記録膜、６・・・保護膜、８・・・磁気記録媒体、９・・・媒体駆動部、１０…磁気ヘッド、１０ａ・・・主磁極、１０ｂ・・・補助磁極、１０ｃ・・・連結部、１０ｄ・・・コイル、１１・・・ヘッド駆動部、１２・・・記録再生信号処理系
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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