(57)【要約】【課題】高いアーカイブ性を有し、走行耐久性、走行安定性に優れ、ヘッドの耐磨耗性の向上を図った磁気記録媒体を得る。【解決手段】長尺状の基体１上に、コバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層２を有し、磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されている磁気記録媒体１０を提供する。【選択図】      図１
2004362647.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに適用される磁気記録媒体であって、
長尺状の基体上に、コバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、
上記磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記磁性層上に、保護層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
上記保護層が、プラズマＣＶＤ法により形成されたダイヤモンドライクカーボン薄膜であることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに適用される磁気記録媒体であって、
長尺状の基体上に、コバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、
上記磁性層形成面側に、潤滑剤層が形成されてなり、当該潤滑剤層には、下記一般式（１）に示される化合物が、少なくとも一種含有されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【化１】
2004362647.tif 000011
（但し、上記Ｒ１は、脂肪族アルキル基、脂肪族アルケニル基又は水素のいずれかを表す。上記Ｒ２、Ｒ３は、フロロアルキル基、フロロアルケニル基、フロロポリエーテル基、又は水素のいずれかを表す。）
【請求項５】
上記コバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層上に、プラズマＣＶＤ法により形成されたダイヤモンドライクカーボン薄膜よりなる保護層を有し、
上記保護層上に、上記潤滑剤層が形成されてなることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
上記磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されてなることを特徴とする請求項４又は５に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は高密度型の磁気記録媒体に関するものであり、特に、磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）や、巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＧＭＲヘッド）を用いたシステムにおいて、優れた走行耐久性、耐磨耗性を有し、かつ保存安定性についても優れた磁気記録媒体を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体においては、大容量のデータを取り扱うために、高密度記録化への要求が益々高まってきている。特に最近では、さらなる高密度記録化を達成するために、記録信号の再生を行う際に用いる磁気ヘッドについて、従来の誘導型ヘッドに代わり磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）や、巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＧＭＲヘッド）のような高感度型の磁気ヘッドが適用されるようになってきており、ハードディスクだけではなく、いわゆる磁気テープに対しても適用されるようになってきている。
【０００３】
このような高密度型の磁気記録媒体としては、従来、いわゆるスパッタリング法や真空蒸着法によって磁性層を形成した金属薄膜型の磁気記録媒体が適用されており、上述したような高感度型の磁気ヘッドを用いて記録密度を向上させるために磁性層を薄膜化し、更なる高保磁力化、低ノイズ化を図ることが必要となってきている。また、高密度記録化とともに、長期に亘って信号品質の劣化を起こすことなく保存が可能な、いわゆるアーカイブ性に対する要求も厳しくなってきている。
【０００４】
一方において、次世代の高密度記録媒体として有力な金属薄膜型の磁気記録媒体は、磁性塗料により磁性層を形成する塗布型の磁気記録媒体よりも耐食性においては劣るものであるため、上記アーカイブ性についての検討が重要な課題となっている。
【０００５】
また、ＭＲヘッドやＧＭＲヘッドのような高感度型の磁気ヘッドで信号の再生を行う場合、磁気ヘッドの飽和を回避するために、磁性層をより薄膜化しなければならないが、これによって保磁力が低下し、安定した信号記録が困難になるという問題がある。
【０００６】
また、高感度型の磁気ヘッドを適用する場合には、ノイズの低減化が重要な課題であるが、磁性層を構成する磁性粒子の微細化には製造工程上の制限があるため、特に高密度型の磁気記録媒体については、ノイズについて一層の低減化が求められている。
【０００７】
上述したような、高感度型の磁気記録媒体に関する各種問題点を解決するものとして、コバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有する磁気記録媒体についての提案がなされている（例えば、特許文献１〜４参照。）。
【０００８】
このようなコバルト含有マグヘマイト薄膜は、磁性粉末を使用した塗布型の磁性層や、Ｃｏ／ＣｏＯ蒸着テープ等の金属薄膜型の磁性層に比べ、保存安定性に優れ、かつ膜の硬度が高く耐久性に優れているという利点を有しており、また、スパッタ法により成膜するため粒子径が微細で従来の蒸着型の磁気テープに比べてさらなる低ノイズ化が可能である。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１１−１１０７３１号公報
【特許文献２】
特開２００１−２５０２１６号公報
【特許文献３】
特開平１１−３２８６５１号公報
【特許文献４】
特開平１１−３２８６５２号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、今度さらに高密度記録化が進むことにより、磁気ヘッドと磁気記録媒体とが高速で摺動するシステムに適用される磁気記録媒体においては、より一層の走行安定性や耐久性、耐磨耗性の向上を図るために、磁性層側の表面性を厳密に制御することが重要な課題となってくる。
【００１１】
すなわち、磁気ヘッドが磁性層形成面に接することなく、浮上している状態で信号の記録再生動作がなされるハードディスクと異なり、特に磁気テープにおいては、媒体と磁気ヘッドとが高速で接触摺動するため、記録層表面に、スペーシングにより出力が低下しない程度の粗度を設けて摩擦を低減化させたり、表面の潤滑性を高めたりし、磨耗や粉落ちを防止することが必要である。
【００１２】
また、上述したコバルト含有マグヘマイト膜は、硬度の高い膜であるため、摺動による磁気ヘッドの磨耗を回避するべく、摺動面の硬度についての検討も必要である。
【００１３】
また、塗布型の磁気記録媒体においては、バインダー中の潤滑剤が添加されていることから表面に潤滑性が与えられるが、コバルト含有マグヘマイト膜中に潤滑剤を含有させることは通常困難とされており、表面を保護するべく上層に保護層を形成しても、走行時の摩擦を充分に低減化できない場合があり、表面の損傷や削りくずによる磁気ヘッドの磨耗等を招来していた。
【００１４】
そこで本発明においては、上述した各問題に鑑みて、コバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層の利点を生かしつつ、プラスチックフィルムの基体上に磁性層が形成された構成の、特にテープ型の磁気記録媒体について、従来問題となっていたアーカイブ性や記録信号の安定性、低ノイズ化等の課題の解決を図り、同時に走行安定性、走行耐久性、および磁気ヘッドの耐磨耗性についての信頼性の観点からも解決を図ることを目的とした。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気記録媒体は、磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに適用されるものであり、基体上に、コバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、この磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されているものとする。
【００１６】
また、本発明の磁気記録媒体は、磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに適用されるものであり、長尺状の基体上に、コバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、磁性層形成面側に、潤滑剤層が形成されてなり、この潤滑剤層には、下記一般式（１）に示されるフッ素化合物が、少なくとも一種含有されているものとする。
【００１７】
【化２】
2004362647.tif 000003
【００１８】
但し、上記Ｒ１は、脂肪族アルキル基、脂肪族アルケニル基又は水素のいずれかを表し、上記Ｒ２、Ｒ３は、フロロアルキル基、フロロアルケニル基、フロロポリエーテル基、又は水素のいずれかを表す。
【００１９】
本発明によれば、電磁変換特性、アーカイブ性に優れ、かつ磁気ヘッドとの磨耗による出力の低減化を効果的に回避でき、走行耐久性、走行安定性に優れた高い信頼性を有する磁気記録媒体が得られる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明の磁気記録媒体の具体的な実施形態について説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
本発明の磁気記録媒体１０の一例の概略断面図を図１に示す。
磁気記録媒体１０は、長尺形状で非磁性の基体１の一の主面上に磁性層２、保護層３および潤滑剤層５が順次形成されてなり、磁性層形成面側とは反対側の主面にバック層４が形成された構成を有している。
【００２１】
基体１は、従来磁気テープ用のベースフィルムとして公知のものをいずれも適用することができ、例えばポリアミド、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。基体１の厚さは３〜１０μｍ程度が好ましい。なお、基体１の表面性（粗度）については、最終的に目的とする磁気記録媒体における所望の表面性に従い、選定するようにしてもよい。
【００２２】
磁性層２は、コバルト含有マグヘマイト薄膜の面内配向膜であり、面内方向の保磁力Ｈｃは、低ノイズでかつ高分解能であることを実現するために、２０００Ｏｅ（１５８ｋＡ／ｍ）以上を保つ必要がある。但し４０００Ｏｅ（３１６ｋＡ／ｍ）を越えると、充分に信号を記録することができなくなり、再生出力が低下するため、保磁力Ｈｃは２０００〜４０００Ｏｅ（１５８〜３１６ｋＡ／ｍ）とすることが好適である。
【００２３】
磁性層２を構成するコバルト含有マグヘマイト薄膜の残留磁化量Ｍｒと、磁性層膜厚ｔとの積Ｍｒ・ｔは０．２〜１ｍｅｍｕ／ｃｍ２であるものとする。
Ｍｒ・ｔが０．２ｍｅｍｕ／ｃｍ２未満であると、充分な再生出力が得られなくなり、１ｍｅｍｕ／ｃｍ２を越えると再生用のＧＭＲヘッドが飽和してしまい、再生出力に歪が生じるためである。
【００２４】
残留磁化量Ｍｒと磁性層膜厚ｔとの積Ｍｒ・ｔは、０．２〜１ｍｅｍｕ／ｃｍ２の範囲であれば、残留磁化量Ｍｒおよび磁性層膜厚ｔは任意に設定することができるが、残留磁化量Ｍｒは２００〜４００ｅｍｕ／ｃｃとすることが好ましい。
【００２５】
また、磁性層２の膜厚ｔは５〜５０ｎｍとし、好ましくは１０〜２０ｎｍであるものとする。磁性層の膜厚を５ｎｍ未満とすると、例えば２０００Ｏｅ程度の実用充分な保磁力Ｈｃを得ることが困難になり、また、膜厚が５０ｎｍよりも厚くなると、信号記録を行った場合に、磁性層の深層部まで均一な磁化状態を形成することが困難となり、良好な記録再生特性が得られなくなる。
【００２６】
磁性層２はスパッタリング法によって形成することができる。
具体的には、連続搬送する基体（プラスチックフィルム）上に、コバルト含有鉄合金のターゲットを用いて、酸素を導入しながら反応スパッタを行うことにより、基体１上にコバルト含有マグネタイト膜を形成し、次に、このコバルト含有マグネタイト膜を酸化処理することによってコバルト含有マグヘマイト膜を形成する。
【００２７】
ターゲットに使用する鉄コバルト合金中のコバルト含有量は１〜１０重量％であるものとし、最終的に成膜する磁性層２をコバルト含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜とする。ターゲット合金中のコバルトの含有量を増加させると、磁気テープの保磁力Ｈｃを高くすることができ、実用上充分な保磁力Ｈｃを得るためには磁性層２中のコバルト含有量が１重量％以上であることが必要であるが、１０重量％を越えると磁気テープの経時安定性が低下するため、コバルト含有マグヘマイト薄膜中のコバルト含有量を１〜１０重量％とする。
【００２８】
また、磁性層２の面内配向を高め、結晶粒子の微細化を促進するため、また基体１の変形を抑制するために、基体１と磁性層２との間に、任意の材料による下地層（図示せず）を形成してもよい。例えば面内配向を高めるためには、ＮｉＯ膜が好適である。
【００２９】
磁性層を形成するスパッタ法は特に限定されるものではなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法や、ＥＣＲスパッタ法、対向ターゲット式スパッタ法等、いずれの方法も適用することができる。これらのスパッタ法においては、それぞれ酸素流量とガス圧、投入電力を任意に制御しながらコバルト含有マグネタイト膜を形成する。
【００３０】
上記スパッタ法によるコバルト含有マグネタイト膜形成工程においては、基体１の温度は、３００℃以下とする。特に加熱による基体材料の変形を回避し、最終的に得られる磁気テープのカッピングの発生を低減化させるため、好ましくは２４０℃以下、さらには望ましくは２００℃以下とする。
【００３１】
上述のようにして成膜したコバルト含有マグネタイト膜を酸化処理し、コバルト含有マグヘマイト膜とする。具体的方法としては、大気中で２５０〜３００℃に保持したキャンに接触させ搬送する方法（大気中アニール処理）、希ガスを含むプラズマ活性化された酸素イオンを数秒間照射する方法（プラズマ酸化法）、および酸素含有ガス雰囲気下で紫外線照射するＵＶオゾン処理法等が挙げられる。
【００３２】
本発明の磁気記録媒体の磁性層を構成するコバルト含有マグヘマイト膜は硬度の高い材料であるので、特に高感度型の薄膜磁気ヘッドを適用する場合には、磁気ヘッドの磨耗を防止するために、磁性層２上に保護層３を成膜することが必要である。また、保護層３を形成することにより耐久性や耐候性の向上が図られる。
保護層３は、従来公知の金属磁性薄膜型の磁気記録媒体用の保護層として使用されているものであれば、いかなるものも適用できる。例えばカーボン、ＣｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＢＮ、Ｃｏ酸化物、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｏ４、ＳｉＮ、ＳｉＣ、ＳｉＮｘ−ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＣ等が挙げられる。
【００３３】
保護層３は、スパッタリング法やＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等により形成することができるが、特に磁気ヘッドの磨耗の低減化を図るためにはプラズマＣＶＤ法により形成した、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）薄膜が好適である。この場合の膜形成材料の炭素化合物としては、例えば炭化水素系、ケトン系、アルコール系等の従来公知の材料が挙げられる。また、プラズマ生成時には、炭素化合物の分解を促進するためのガスとして、アルゴンや水素等を導入してもよい。
【００３４】
保護層３の膜厚は２〜２０ｎｍであることが好ましく、さらには５〜１０ｎｍであることが望ましい。保護層３の膜厚が２ｎｍ未満であると、充分な耐久性が得られず、２０ｎｍよりも厚く形成すると、スペーシングが増加して短波長記録を行う際に充分な出力が得られなくなるおそれがある。
【００３５】
さらに、磁性層形成面側の最表面には、潤滑剤層５を形成することにより、磁気記録媒体の走行性を高めるようにすることが望ましい。
この潤滑剤層５は、下記一般式（１）に示されるフッ素化合物が、少なくとも一種含有されている潤滑剤を溶媒中に溶解した塗料を保護層３上に塗布することによって形成することができる。
【００３６】
【化３】
2004362647.tif 000004
【００３７】
但し、上記Ｒ１は、脂肪族アルキル基、脂肪族アルケニル基又は水素のいずれかを表す。上記Ｒ２、Ｒ３は、フロロアルキル基、フロロアルケニル基、フロロポリエーテル基、又は水素のいずれかを表す。
【００３８】
この潤滑剤層５は、潤滑剤分子の極性基部であるカルボン酸あるいはエステルが保護層３の表面に吸着し、潤滑剤分子の疎水基部である長鎖炭化水素基間の凝集力により形成されている。これにより潤滑性が良好に保たれ、磁気記録媒体表面の磨耗を効果的に防止できる。
【００３９】
上記一般式（１）で表される化合物の、Ｒ１に示す脂肪族アルキル基又は脂肪族アルケニル基の炭素数は、６〜３０であることが好ましく、さらには１０〜２１であることが望ましい。Ｒ１で表される脂肪族アルキル基又は脂肪族アルケニル基の炭素数を６〜３０とすることで溶媒への溶解性が良好なものとなり、摩擦係数の低下効果、および耐久性の向上効果が確実に得られる。
【００４０】
上記一般式（１）中のＲ１で表される脂肪族アルキル基又は脂肪族アルケニル基の炭素数が６未満である場合、アルキル基長が短か過ぎ、摩擦係数の低下、耐磨耗性および耐久性の向上という効果が充分に得られないおそれがある。一方、炭素数が３０を越えると、溶媒への溶解性が悪化し、均一な潤滑剤層５の形成が困難となる。
【００４１】
上記一般式（１）中のＲ２、Ｒ３で表されるフロロアルキル基、フロロアルケニル基又はフロロポリエーテル基の炭素数は、フロロアルキル基及びフロロアルケニル基の場合は６〜３０であることが好ましく、６〜２１であることがより好ましい。
また、フロロポリエーテル基である場合はその平均分子量が１０００〜６０００であることが好ましく、より好ましくは２０００〜４０００である。
【００４２】
Ｒ２、Ｒ３で表されるフロロアルキル基又はフロロアルケニル基の炭素数を６〜３０とすることにより、溶媒への溶解性が良好なものとなり、摩擦係数の低下効果が得られ、耐磨耗性および耐久性の向上効果が確実に得られる。
Ｒ２、Ｒ３で表されるフロロアルキル基又はフロロアルケニル基の炭素数が６未満である場合、アルキル基長が短か過ぎて、摩擦特性の低下、耐磨耗性および耐久性の向上という効果が充分に得られないおそれがある。
一方、Ｒ２、Ｒ３で表されるフロロアルキル基又はフロロアルケニル基の炭素数が３０を越える場合、溶媒への溶解性が小さくなり、均一な潤滑剤層５の形成が困難となる場合がある。
【００４３】
また、Ｒ２、Ｒ３で表されるフロロポリエーテル基の平均分子量が１０００以下である場合は潤滑剤が剥がれやすくなり、耐磨耗性や耐久性の向上を図ることができない場合がある。一方、フロロポリエーテル基の平均分子量が６０００以上である場合は、磁気ヘッドと潤滑剤層５とが凝着を起こしやすくなり、耐磨耗性が低下する。
【００４４】
なお、潤滑剤層５は、上記一般式（１）で示される化合物のみではなく、従来公知の潤滑剤を組み合わせて形成してもよい。
また、潤滑剤塗料の塗布量は、５ｍｇ／ｍ２〜５００ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、１０ｍｇ／ｍ２〜１５０ｍｇ／ｍ２であることがより好ましい。潤滑剤塗料の塗布量が少なすぎる場合、摩擦係数の低下、耐磨耗性及び耐久性の向上という効果が充分に得られない場合がある。
一方、潤滑剤塗料の塗布量が多すぎる場合、摺動部材に移着した潤滑剤と潤滑剤層５との間で凝着が起こり、走行性が悪化する。
【００４５】
潤滑剤層５は、上記一般式（１）で示される化合物を少なくとも一種含有する潤滑剤を溶媒中に溶解して潤滑剤塗料を調製し、この潤滑剤塗料を保護層３上に塗布することにより形成することができる。潤滑剤塗料を調製するために使用する溶媒としては、フッ素系溶媒、トルエンやアセトン等の炭化水素系溶媒のいずれも使用できる。
【００４６】
上記一般式（１）に示される化合物は、従来の含フッ素系潤滑剤と同様に、分子中にフッ素原子を有している。ところが、従来の含フッ素系潤滑剤はフッ素系溶媒のみに溶解するのに対し、上記一般式（１）の化合物は、フッ素系溶媒のみならずトルエンやアセトン等の炭化水素系溶媒にも溶解する。すなわち、上記一般式（１）の構造式の化合物を含有する潤滑剤層５を形成する場合、潤滑剤塗料の溶媒として、フッ素系溶媒と比較すると環境に与える影響が非常に小さい炭化水素系溶媒を使用することができ、環境上好ましいという利点を有している。
【００４７】
また基体１の磁性層形成面とは反対側の面にバック層４を設けても良い。バック層４としては、カーボンを主成分とするものが挙げられ、ウエットプロセスあるいはドライプロセス等、従来公知の方法により形成することができる。
【００４８】
本発明の磁気記録媒体１０の磁性層形成面側には、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されているものとすることが望ましい。
このような磁性層側の表面性は、例えば、予め表面に微小突起を有する基体１を適用したり、磁性層２や下地層（図示せず）中に所定の径を有する微細粒子を含有させたり、あるいは保護層３の表面に微細凹凸を形成したりすることによって制御することができる。
【００４９】
本発明の磁気記録媒体においては、磁性層２側の表面性について、上記のように規定したことにより、特に高密度記録の薄層型の磁気記録媒体において、走行安定性、走行耐久性の向上が図られ、かつ高感度型の磁気ヘッドの耐磨耗性の向上に有効である。
【００５０】
また、本発明の磁気記録媒体においては、上記一般式（１）の構造式の化合物を含有する潤滑剤層５を設けたことにより、極めて優れた摩擦低減効果が得られ、走行安定性、走行耐久性の向上が図られ、かつ磁気ヘッドの耐磨耗性の向上が図られる。
【００５１】
【実施例】
以下、本発明の磁気記録媒体の具体的な実施例について実験結果に基づいて説明する。
〔実施例１〕
基体１として、フィルム材料中に無機充填剤が混入され磁性層形成面側に高さ１０ｎｍの突起が３×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されている、長尺形状で膜厚７．５μｍの二層ポリイミドフィルムを適用した。
次に、対向ターゲット式スパッタ装置を用い、反応スパッタ法により基体１とターゲットとの距離を１５０ｍｍに設定して、１０ｍ／ｍｉｎの送り速度で搬送させた基体１上に、室温（３０℃）で全圧０．３０Ｐａ、アルゴン２０ｓｃｃｍ、酸素３０ｓｃｃｍの流量中で、Ｆｅ＋４重量％Ｃｏ金属合金ターゲットを２０ｗ／ｃｍ２の投入電力にてスパッタリングして、Ｃｏ含有マグネタイト膜を膜厚１５ｎｍに形成した。
さらに基体を２５０℃に加熱し連続してプラズマ酸化処理を行い、Ｃｏ含有マグヘマイト膜として磁性層２を形成した。
次に、磁性層２上にプラズマＣＶＤ法により、膜厚５ｎｍのＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜からなる保護層３を形成した。
その後、保護層３上にパーフルオロポリエーテルを塗布して潤滑剤層５を形成し、磁性層形成面側とは反対側の面に、カーボンブラック、炭酸カルシウム、ポリエステル樹脂、ニトロセルロース樹脂を主成分とした塗料を塗布することにより、バック層４を形成した。その後、８ｍｍ幅にスリットしてサンプルとなる磁気テープを作製した。
【００５２】
〔実施例２〜８〕、〔比較例１〜４〕
使用する基体（プラスチックフィルム）の表面設計、保護層の膜厚、および成膜方法を変更して磁性層側の表面性を制御し、それぞれサンプル磁気テープを作製した。その他の製造条件は上記実施例１と同様とする。
【００５３】
上述のようにして作製した各サンプル磁気テープの磁性層側表面に形成されている突起高さ、および突起個数を測定し、磁気テープの電磁変換特性、耐久性、および磁気ヘッドの磨耗についての評価を行った。測定方法および評価方法を下記に示す。
【００５４】
〔突起高さ〕
デジタルインスツルメンタル社製「Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ  ＩＩＩ」を用いて、基体１の表面の５μｍ角のエリアを測定し、微細突起１０個の高さの平均値を突起高さとした。
〔突起個数〕
突起個数は、電子顕微鏡で１００００倍の倍率で撮影した基体１の表面の写真により、大きさ１００Å以上の微細突起の個数を数えることによって求めた。
【００５５】
〔電磁変換特性〕
電磁変換特性については、記録波長０．１μｍにて信号情報を記録した後、シールド型のスピンバルブヘッドにより再生出力、およびノイズレベルの測定を行った。再生に用いたスピンバルブヘッドは再生ヘッド幅（トラック幅）が０．８μｍ、シールド間距離が０．１８μｍとした。
実用上充分なＣ／Ｎが得られたものを○、実用上適切なＣ／Ｎが得られなかったものを×として評価した。
【００５６】
〔耐久性〕
耐久性試験としては、ドラムテスタにより再生出力を測定した。繰り返し記録再生して１時間後の出力の低下が殆ど確認されなかったものを極めて良好（◎）、１．５ｄＢ以内のものを許容（○）、出力の低下が１．５ｄＢを超えたものを不適当（×）として評価した。
【００５７】
〔粉落ち〕
市販のＡＩＴ２ドライブ（ＳＤＸ−５００Ｃ）を改造してＧＭＲヘッドを使用可能にした記録再生装置を用い、各サンプル磁気テープについて６０分の信号再生を３００回繰り返した。
次いで繰り返し走行後のＧＭＲヘッドを光学顕微鏡を用いて観察し、ＧＭＲヘッドに付着している粉落ちを評価した。
なお、ＧＭＲヘッドに付着した粉落ちは４段階に評価し、粉落ちが殆ど見られないレベルを◎、粉落ちは見られるが出力に影響しないレベルを○、粉落ちが見られ出力に影響するレベルを△、粉落ちが著しく走行中にクロッグが発生するレベルを×とした。
【００５８】
〔磁気ヘッド磨耗〕
市販のＡＩＴ２ドライブ（ＳＤＸ−５００Ｃ）を改造してＧＭＲヘッドを使用可能にした記録再生装置を用い、各サンプル磁気テープについて６０分の信号再生を３００回繰り返した。次いで繰り返し走行後のＧＭＲヘッドを光学顕微鏡を用いて観察し、ＧＭＲヘッドの磨耗量を評価した。
ＧＭＲヘッドの磨耗量は初期のＧＭＲヘッドの高さと６０分の再生を３００回繰り返した後の高さの差が１μｍを超えると磁気ヘッドの再生能力が著しく低下する。磨耗量が０．３μｍ以下であったものを◎、磨耗量が１μｍ以下のものを○、１μｍを超えるものを×として評価した。
【００５９】
上述したサンプル磁気テープにおいて適用した基体（ベースフィルム）の膜厚と材料、磁性層側表面の突起高さと突起個数、保護層の膜厚と材料と成膜方法、および上述したような磁気テープの各評価結果を下記表１に示す。
【００６０】
【表１】
2004362647.tif 000005
【００６１】
上記表１に示すように、基体上にコバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されている〔実施例１〜８〕の磁気テープにおいては、いずれも実用上充分な電磁変換特性が得られ、かつ走行耐久性、粉落ち、および磁気ヘッドの磨耗について、実用上充分に優れた評価が得られた。
【００６２】
また、〔実施例１〕および〔実施例７〕を比較すると、保護層３をＣＶＤ法によって形成した〔実施例１〕の磁気テープの方が、スパッタ法により形成した〔実施例７〕の磁気テープよりも、磁気ヘッドの磨耗を効果的に防止できることが確かめられた。
【００６３】
一方、〔比較例１〕においては、磁性層形成面側の微小突起の高さが２ｎｍと低く表面が平滑になり、磁気ヘッドとの摩擦の低減化を充分に図ることができず、走行耐久性が悪化した。
【００６４】
〔比較例２〕においては、磁性層形成面側の微小突起の高さが３０ｎｍと高いため、スペーシングが増加して電磁変換特性が劣化した。また、微小突起によって磁気ヘッドが磨耗し、出力の低下を招来した。
【００６５】
〔比較例３〕においては、磁性層形成面側の微小突起の形成割合が、０．１×１０８個／ｍｍ２と少な過ぎるため、走行耐久性の向上が図られず、また、磁気ヘッドとの摩擦により粉落ちや磁気ヘッドの磨耗が生じた。
【００６６】
〔比較例４〕においては、磁性層形成面側の微小突起の形成割合が、６×１０８個／ｍｍ２と多すぎるため、スペーシングが増加して電磁変換特性が劣化した。また、磁気ヘッドが磨耗し、出力の低下を招来した。
【００６７】
次に、上記一般式（１）の化合物を含有する潤滑剤層５が形成された磁気記録媒体のサンプルを作製し、特性の評価を行った。
【００６８】
〔潤滑剤の合成〕
上記一般式（１）の化合物として、Ｃ９Ｈ１９ＣＨ（Ｃ７Ｈ１５）ＣＨ２ＣＨ（ＣＯＯＣ１０Ｈ２０Ｃ８Ｆ１７）ＣＨ２ＣＯＯＣ１０Ｈ２０Ｃ８Ｆ１７を、下記のようにして合成した。
先ず、９−デセン−１−オール（ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＨ２）８ＯＨ）１５．６ｇと、パーフルオロオクチルアイオダイド（Ｆ（ＣＦ２）８Ｉ）５４．６ｇとをフラスコに入れ、窒素バブルを行った後、ＡＩＢＮ（２，２’−Ａｚｏｂｉｓ−ｉｓｏｂｕｔｙｒｏｎｉｔｒｉｌｅ）０．０５ｇを加えて加熱還流し、８時間反応させた。
反応終了後、減圧蒸留により原料を留去すると、残留物としてＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨＩ（ＣＨ２）８ＯＨが５６ｇ得られた。
次に、残留物として得られたＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨＩ（ＣＨ２）８ＯＨ、５６ｇをエタノール４００ｃｃに溶解し、濃塩酸４０ｃｃを添加して加熱した。そして、亜鉛粉末６ｇを少量ずつ加え２時間還流した。さらに濃硫酸２０ｃｃを添加して１時間還流した。反応終了後、溶液が熱いうちにろ過し、得られたろ液を濃縮した。次に、濃縮したろ液に１０％の水酸化ナトリウム水溶液２００ｃｃを加えて撹拌し、沈殿物を得た。
その後、この沈殿をろ過、乾燥することにより、Ｆ（ＣＦ２）８（ＣＨ２）１０ＯＨを３７ｇ得た。
【００６９】
上述のようにして得られた３７ｇのＦ（ＣＦ２）８（ＣＨ２）１０ＯＨを、イソオクタデシルコハク酸無水物１５ｇとともに４００ｃｃのトルエンに溶解し、濃硫酸を触媒量添加して３時間還流した。
次に、放冷後反応液を水洗し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた後に濃縮した。カラムクロマトグラフィ（シリカゲル／トルエン）により原料を除去した後、溶離液を酢酸エチルに換え、目的物を分取した。最後に、酢酸エチル溶液を濃縮することにより、Ｃ９Ｈ１９ＣＨ（Ｃ７Ｈ１５）ＣＨ２ＣＨ（ＣＯＯＣ１０Ｈ２０Ｃ８Ｆ１７）ＣＨ２ＣＯＯＣ１０Ｈ２０Ｃ８Ｆ１７を２５ｇ得た。
【００７０】
上述のようにして作製した化合物の他、上記一般式（１）よりなる、５種類の化合物を同様の合成方法によって作製した。
合成した６種類の化合物を下記表２に化合物１〜化合物６として示す。
【００７１】
【表２】
2004362647.tif 000006
【００７２】
また、比較例として下記表３に示す３種類の化合物７〜化合物９を用意した。尚、表３中、ｍ、ｎは１以上の整数をそれぞれ表す。
【００７３】
【表３】
2004362647.tif 000007
【００７４】
次に、上記表２および表３に示す化合物を含有する潤滑剤を用いて、以下に示すようにしてサンプル磁気テープを作製し、それぞれ評価を行った。
【００７５】
〔実施例９〕
基体１として膜厚７．５μｍのポリイミドフィルムを用意した。
対向ターゲット式スパッタ装置を用い、反応スパッタ法により、基体１とターゲットとの距離を１５０ｍｍに設定して、１０ｍ／ｍｉｎの送り速度で搬送させた基体１上に室温（３０℃）で全圧０．３０Ｐａ、アルゴン２０ｓｃｃｍ、酸素３０ｓｃｃｍの流量中で、Ｆｅ＋４重量％Ｃｏ金属合金ターゲットをスパッタリングして、Ｃｏを含有するマグネタイト膜を膜厚１５ｎｍに形成した。
さらに連続してプラズマ酸化処理を行い、Ｃｏ含有マグヘマイト膜として磁性層２を形成した。
【００７６】
次に、基体１を５ｍ／ｍｉｎの送り速度で搬送させ、アルゴン２０ｓｃｃｍ、全圧０．２０Ｐａとし、スパッタ法によりカーボン膜よりなる保護層３を膜厚５ｎｍに形成した。
次に、磁性層形成面側とは反対側の面に、カーボンブラック、炭酸カルシウム、ポリエステル樹脂、ニトロセルロース樹脂を主成分とした塗料を塗布することにより、バック層４を形成した。
【００７７】
次に、潤滑剤として表２中の化合物１をトルエンに溶解させて潤滑剤塗料を形成し、この潤滑剤塗料を磁性層形成面に、塗布量が３０ｍｇ／ｍ２になるように均一に塗布して潤滑剤層５を形成した。
最後に原反を、６．２５ｍｍ幅にスリットしてサンプルとなる磁気テープを作製した。
【００７８】
〔実施例１０〜１４〕、〔比較例５〜７〕
上記表２、表３および下記表５に示すように、化合物１〜９のうち任意の化合物を含有する潤滑剤を使用して潤滑剤層５を形成したサンプル磁気テープを作製した。その他の作製条件は、上記実施例１と同様とする。
但し、比較例７については、化合物９がトルエンに不溶であったため、フッ素系溶媒である、３Ｍ社製商品名：フロリナートを使用して潤滑剤塗料を調整した。
【００７９】
〔比較例８〕
潤滑剤塗料を塗布せず、サンプル磁気テープを作製した。その他の作製条件は、上記実施例１と同様とする。
【００８０】
〔サンプル磁気テープの評価〕
上述のようにして作製した実施例９〜１４、および比較例５〜８のサンプル磁気テープについて、各サンプル磁気テープの完成直後に以下に示す種々の測定を行い、走行性およびシャトル耐久性を評価した。
【００８１】
走行性の評価は、温度２５℃湿度６０％の環境条件に制御された恒温槽中で、ステンレスのガイドピン上にサンプル磁気テープを１００パス摩擦走行させ、摩擦走行１００パス目における摩擦係数を測定することにより行った。
摩擦係数の評価のランク付けは、◎が０．２４％以下、○が０．２９％以下で、０．２４％より大きい、△が０．３５％以下で０．２９％より大きい、×が０．３５％より大きい、とした。
【００８２】
シャトル耐久性の評価は、４０℃８０％ＲＨの環境条件に制御された恒温槽中で、市販のデジタルビデオカムコーダー（ソニー社製、機種名：ＶＸ−１０００）を用い、デジタルビデオカセットに６０分長のサンプル磁気テープを組み込み、１分間記録した後、巻き戻しを行い１分間再生し、その時の出力を初期出力とした。その後１回だけ全長記録を行い繰り返し再生を行い、出力をモニタリングしながら走行させ、上記初期出力に対し、出力が半分（−６ｄＢ）になる走行繰り返し回数（パス回数）を測定した。
シャトル耐久性の評価のランク付けは、◎が１００パス以上、○が８０パス以上１００パス未満、△が５０パス以上８０パス未満、×が５０パス未満とした。
【００８３】
磁気ヘッド磨耗量としては、初期の磁気ヘッドの高さと、６０分間の再生を５０回繰り返した後の磁気ヘッドの高さとの差を測定した。
磨耗量のランク付けは、◎が０．３μｍ以下、○が０．６μｍ以下で０．３μｍより大きい、△が１μｍ以下で０．６μｍより大きい、×が１μｍより大きいとした。
【００８４】
評価基準を下記表４に示し、各サンプル磁気テープの評価結果を下記表５に示す。
【００８５】
【表４】
2004362647.tif 000008
【００８６】
【表５】
2004362647.tif 000009
【００８７】
上記表５に示すように、上記一般式（１）で示される化合物を含有する潤滑剤層が形成されている実施例９〜１４においては、摩擦係数の低減化が図られ、優れた走行耐久性および走行安定性が実現でき、かつ磁気ヘッドの磨耗量も実用上充分に低減化できた。
【００８８】
一方、一般式（１）で示される化合物を用いずに潤滑剤層を形成した比較例５〜７のサンプル磁気テープにおいては、上述した評価基準において、摩擦係数の低減化が図られず、実用上充分な走行耐久性、および走行安定性が得られず、磁気ヘッドの磨耗量も大きく、再生特性が劣化した。
【００８９】
なお、比較例５においては、潤滑剤としての化合物７のアルキル鎖が適切な鎖長よりも長いため、潤滑剤が溶媒に溶けにくくなり、潤滑剤層を形成することができなかった。
また、比較例６においては、潤滑剤としての化合物８のアルキル鎖が適切な鎖長よりも短いため、摩擦係数の低減効果が得られず、走行性が悪化した。
【００９０】
また、比較例８においては、潤滑剤層を形成しなかったため、摩擦係数が極めて高くなり、磁気テープが磁気ヘッドに貼り付き、走行が不可能であった。
【００９１】
上述したことから明らかなように、上記一般式（１）で示される化合物からなる潤滑剤層を形成することにより、潤滑性が好適に保たれるとともに、耐久性に優れ、かつ磁気ヘッド磨耗や磁気特性の劣化を効果的に回避できる磁気記録媒体が得られた。
【００９２】
次に、磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成され、かつ上記一般式（１）に示される化合物が少なくとも一種含有されている潤滑剤を用いて潤滑剤層を形成したサンプル磁気テープを作製した。
【００９３】
〔実施例１５〕
基体１として、フィルム材料中に無機充填剤が混入され磁性層形成面側に高さ２０ｎｍの突起が３×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されている、長尺形状で膜厚７．５μｍの二層ポリイミドフィルムを適用した。
次に、上述した実施例１と同様の方法により、Ｃｏ含有マグネタイト膜を膜厚１５ｎｍに形成し、さらに基体を２５０℃に加熱し連続してプラズマ酸化処理を行い、Ｃｏ含有マグヘマイト膜として磁性層２を形成した。
次に、磁性層２上にプラズマＣＶＤ法により、膜厚５ｎｍのＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜からなる保護層３を形成した。
磁性層形成面側とは反対側の面に、カーボンブラック、炭酸カルシウム、ポリエステル樹脂、ニトロセルロース樹脂を主成分とした塗料を塗布することにより、バック層４を形成した。
保護層３上に上記表２に示す化合物２をトルエンに溶解させて潤滑剤塗料を作製し、この潤滑剤を磁性層側表面に塗布量が３０ｍｇ／ｍ２となるように均一に塗布して潤滑剤層５を形成した。
その後、８ｍｍ幅にスリットしてサンプルとなる磁気テープを作製した。
【００９４】
〔実施例１６〜２４〕
使用する基体（プラスチックフィルム）の厚さ、表面設計、および潤滑剤層５形成用の表２に示した化合物を変更して、それぞれサンプル磁気テープを作製した。その他の製造条件は上記実施例１と同様とする。
【００９５】
上述のようにして作製した各サンプル磁気テープの磁性層側表面に形成されている突起高さ、および突起個数を測定し、磁気テープの電磁変換特性、耐久性、および磁気ヘッドの磨耗についての評価を行った。測定方法および評価方法は、上述した実施例１と同様とする。
【００９６】
上記各サンプル磁気テープにおいて適用した基体（ベースフィルム）の膜厚と材料、磁性層側表面の突起高さと突起数、保護層の膜厚と材料と成膜方法、潤滑剤層形成用の化合物の種類、および上述したような磁気テープの各評価結果を下記表６に示す。
【００９７】
【表６】
2004362647.tif 000010
【００９８】
上記表６に示すように、基体上にコバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されてなり、かつ上記一般式（１）に示される化合物が含有されている潤滑剤を用いて潤滑剤層を形成した〔実施例１５〜２４〕のサンプル磁気テープにおいては、いずれも実用上充分な電磁変換特性が得られ、特に走行耐久性、粉落ち、および磁気ヘッドの磨耗の評価においては、実施例１〜８のサンプル磁気テープや、実施例９〜１４のサンプル磁気テープと比較すると、より一層の改善効果が認められた。
【００９９】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体によれば、磁性層をコバルトの含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜により形成したことにより、従来、Ｃｏを主体とする磁性層を有する蒸着テープでは課題とされていたアーカイブ性を飛躍的に向上させることができ、記録信号の安定性の向上を図ることができた。
【０１００】
また、磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起を、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成したことにより、優れた電磁変換特性、良好な走行安定性、走行耐久性が得られ、かつ磁気ヘッドとの磨耗による出力低下を効果的に回避することができた。
【０１０１】
また、磁性層形成面に、特にプラズマＣＶＤ法により形成したダイヤモンドライクカーボン膜よりなる保護層を設けたことにより、特に磁気ヘッドの耐磨耗性の向上を図ることができた。
【０１０２】
また、本発明の磁気記録媒体においては、上記一般式（１）の構造式の化合物を含有する潤滑剤層を設けたことにより、極めて高い摩擦低減効果が得られ、優れた走行安定性、走行耐久性が得られ、かつ磁気ヘッドの耐磨耗性の向上が図られた。
【０１０３】
また、本発明の磁気記録媒体においては、磁性層形成面側に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、０．５×１０８〜５．０×１０８個／ｍｍ２の割合で形成されてなり、かつ上記一般式（１）に示される化合物が含有されている潤滑剤層が形成されているものとしたことにより、実用上充分な電磁変換特性が得られ、特に走行耐久性、粉落ち、および磁気ヘッドの磨耗については、より一層の改善を図ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の概略断面図を示す。
【符号の説明】
１……基体、２……磁性層、３……保護層、４……バック層、５……潤滑剤層、１０……磁気記録媒体
【図１】
2004362647.tif 000012