(57)【要約】【課題】基材、ハードコートおよび反射防止層の各界面の密着性が改良され、耐擦傷性能および反射防止性能に優れた反射防止性有機基材を提供するにあたり、安定した製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】有機基材の表面に、基材側から順に、活性エネルギ線硬化性組成物の硬化物層（Ａ）、屈折率が１．５５以上の微粒子とポリシラザンを含有する被覆組成物の硬化物層（Ｂ）、ポリシラザンを含有する被覆組成物の硬化物層（Ｃ）であって、硬化物層（Ｂ）のポリシラザンが分子内にアルキル基および／またはアリール基を有するポリシラザンである硬化物層を形成する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機基材の表面に、基材側から順に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物を含有する被覆組成物（ａ）の硬化物層（Ａ）、屈折率が１．５５以上の微粒子とポリシラザンを含有する被覆組成物（ｂ）の硬化物層（Ｂ）、ポリシラザンを含有する被覆組成物（ｃ）の硬化物層（Ｃ）を形成せしめる反射防止性有機基材の製造方法であって、被覆組成物（ｂ）におけるポリシラザンが下記式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または下記式２で示される構造を有するポリシラザンであることを特徴とする反射防止性有機基材の製造方法。
（Ｒ１）３Ｓｉ−（ＮＲ２−ＳｉＨ２）ｒ−ＮＲ２−Ｓｉ（Ｒ１）３  ・・・式１
−（ＳｉＲ３Ｒ４−ＮＲ５）ｍ−（ＳｉＨ２−ＮＲ５）ｎ−  ・・・式２
式１において、Ｒ１はアルキル基またはアリール基、Ｒ２は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｒは１以上の整数を表す。式２において、Ｒ３はアルキル基またはアリール基、Ｒ４は水素原子、アルキル基またはアリール基、Ｒ５は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｍおよびｎはそれぞれ１以上の整数を表す。
【請求項２】
式１のＲ１および／または式２のＲ３がメチル基である請求項１記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【請求項３】
被覆組成物（ｂ）における上記微粒子とポリシラザンとの含有量の比率が質量比で、微粒子／ポリシラザン＝９／１〜３／７である請求項１または２記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【請求項４】
屈折率が１．５５以上の微粒子がＴｉＯ２、ＩＴＯまたはＡＴＯである請求項１、２または３記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【請求項５】
被覆組成物（ａ）が導電性微粒子を含有し、導電性微粒子の含有量は被覆組成物（ａ）の固形分中１５〜８０質量％であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【請求項６】
前記導電性微粒子が、ＩＴＯまたはＡＴＯである請求項５記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【請求項７】
反射防止性有機基材の反射率が１．５％以下である請求項１〜６のいずれか一つに記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【請求項８】
有機基材の表面に被覆組成物（ａ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成し、その表面に被覆組成物（ｂ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成し、さらにその表面に被覆組成物（ｃ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成して、次に活性エネルギ線の照射による前記被覆組成物（ａ）の硬化と、前記被覆組成物（ｂ）および被覆組成物（ｃ）の硬化を任意の順でまたは同時に行って、前記硬化物層（Ａ）、前記硬化物層（Ｂ）および前記硬化物層（Ｃ）を形成せしめることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【請求項９】
硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成物（ｃ）の硬化を、水または硬化触媒溶液の蒸気雰囲気下に曝す、または常温に放置することで行う、請求項８に記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐擦傷性に優れた反射防止性有機基材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯端末やビデオレコーダーの画面など、屋外で使用する電子機器のディスプレーの視認性を改善するために、ディスプレイ表面の反射低減が要求されつつある。この要求に応える方法としては、基材の表面に高屈折率層と低屈折率層とがこの順に積層されてなる反射防止層を設けることが知られている。
【０００３】
ここで高屈折率層としては、スパッタ法や蒸着法、ゾルゲル法などによりＴｉＯ２やＴａ２Ｏ５などの酸化物層を積層させることや高屈折率の微粒子を含有させることがよく知られている。しかし基材が有機物の場合、酸化物高屈折率層と基材との密着性が乏しいために、反射防止層が剥離しやすく、擦れた場合などに傷が入りやすいという問題があった。
【０００４】
この問題を解決するために、基材と反射防止層の間に、反応性有機ケイ素化合物を含むハードコート層を設けることを提案されている（特許文献１参照）。しかしこの場合、得られるハードコートの表面は完全な無機面にはならず、有機分が残ってしまうため、高屈折率層と充分な結合が得られない。
【０００５】
また高屈折率層として、活性化エネルギ線硬化型オリゴマー、有機ケイ素化合物と金属酸化物微粒子からなる硬化物からなる層が提案されている（特許文献２参照）。しかしこの場合、これら三成分間の反応性が乏しく、高屈折率層の強度が低くなってしまうため、全体として得られる反射防止層も充分な耐擦傷性を有しないという問題点がある。
【０００６】
一方、基材、ハードコートおよび反射防止層の各界面の密着性が改良され、反射防止層の耐擦傷性能に優れた反射防止性プラスチック製品として、基材の表面に、活性エネルギ線硬化性組成物の硬化物層、ポリシラザンを含有する硬化性組成物の硬化物である高屈折率層およびポリシラザンを含有する硬化性組成物の硬化物である低屈折率層をこの順で形成した例がある（特許文献３参照）。しかし、ＴｉＯ２等の高屈折率超微粒子がポリシラザンを含有する硬化性組成物に含まれる場合には、高屈折率超微粒子の触媒作用により硬化性組成物の硬化が過剰に促進され、硬化性組成物の貯蔵安定性が劣化するという問題があった。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−２５４３２４号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００１−３１５２４２号公報（特許請求の範囲）
【特許文献３】特開２００１−１７１０４７号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、基材、ハードコートおよび反射防止層の各界面の密着性が改良され、反射防止層の耐擦傷性能に優れた反射防止性有機基材を提供するにあたり、安定した製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、下記の製造方法を提供するものである。
【００１０】
（１）  有機基材の表面に、基材側から順に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物を含有する被覆組成物（ａ）の硬化物層（Ａ）、屈折率が１．５５以上の微粒子とポリシラザンを含有する被覆組成物（ｂ）の硬化物層（Ｂ）、ポリシラザンを含有する被覆組成物（ｃ）の硬化物層（Ｃ）を形成せしめる反射防止性有機基材の製造方法であって、被覆組成物（ｂ）におけるポリシラザンが下記式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または下記式２で示される構造を有するポリシラザンであることを特徴とする反射防止性有機基材の製造方法。
（Ｒ１）３Ｓｉ−（ＮＲ２−ＳｉＨ２）ｒ−ＮＲ２−Ｓｉ（Ｒ１）３  ・・・式１
−（ＳｉＲ３Ｒ４−ＮＲ５）ｍ−（ＳｉＨ２−ＮＲ５）ｎ−  ・・・式２
式１において、Ｒ１はアルキル基またはアリール基、Ｒ２は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｒは１以上の整数を表す。式２において、Ｒ３はアルキル基またはアリール基、Ｒ４は水素原子、アルキル基またはアリール基、Ｒ５は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｍおよびｎはそれぞれ１以上の整数を表す。
【００１１】
（２）式１のＲ１および／または式２のＲ３がメチル基である（１）記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１２】
（３）被覆組成物（ｂ）における上記微粒子とポリシラザンとの含有量の比率が質量比で、微粒子／ポリシラザン＝９／１〜３／７である（１）または（２）記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１３】
（４）屈折率が１．５５以上の微粒子がＴｉＯ２、ＩＴＯまたはＡＴＯである請求項（１）、（２）または（３）記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１４】
（５）被覆組成物（ａ）が導電性微粒子を含有し、導電性微粒子の含有量は被覆組成物（ａ）の固形分中１５〜８０質量％であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれか一つに記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１５】
（６）前記導電性微粒子が、ＩＴＯまたはＡＴＯである（５）記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１６】
（７）反射防止性有機基材の反射率は１．５％以下である（１）〜（６）のいずれか一つに記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１７】
（８）有機基材の表面に被覆組成物（ａ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成し、その表面に被覆組成物（ｂ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成し、さらにその表面に被覆組成物（ｃ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成して、次に活性エネルギ線の照射による前記被覆組成物（ａ）の硬化と、前記被覆組成物（ｂ）および被覆組成物（ｃ）の硬化を任意の順でまたは同時に行って、前記硬化物層（Ａ）、前記硬化物層（Ｂ）および前記硬化物層（Ｃ）を形成せしめることを特徴とする（１）〜（７）のいずれか一つに記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１８】
（９）硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成物（ｃ）の硬化を、水または硬化触媒溶液の蒸気雰囲気下に曝す、または常温に放置することで行う、（８）に記載の反射防止性有機基材の製造方法。
【００１９】
本発明によれば、屈折率が１．５５以上の微粒子とポリシラザンを含む被覆組成物の硬化物層を形成せしめるにあたり、式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または式２で示される構造を有するポリシラザンを用いることにより、ポリシラザンの反応性が低下するために、屈折率１．５５以上の微粒子が存在する場合であっても、被覆組成物の貯蔵安定性が向上し、生産性の上昇を図ることができる。
【００２０】
本発明によれば、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物を含有する被覆組成物や式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または式２で示される構造を有するポリシラザンを含有する被覆組成物を未硬化もしくは部分硬化した状態で、次の層を被覆し、最終的に活性エネルギ線の照射によって被覆組成物の硬化を任意の順でまたは同時に行うために、界面における化学結合の形成やアンカー効果によって、各層間の密着性が強い反射防止性有機基材が得られる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の製造方法によれば、被覆組成物の貯蔵安定性が向上し、生産性の上昇を図ることができる。また、本発明の製造方法により、基材、ハードコートおよび反射防止層の各界面の密着性が改良され、反射防止層の耐擦傷性能に優れた反射防止性有機基材を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、基材および各層についてさらに詳しく説明する。
【００２３】
まず被覆組成物（ａ）の硬化物層（Ａ）について説明する。被覆組成物（ａ）は、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物（以下、活性エネルギ線硬化性成分という）を含むことが好ましい。なお、本明細書において、アクリロイル基およびメタクリロイル基を総称して（メタ）アクリロイル基といい、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリレートなどの表現も同様とする。
【００２４】
上記活性エネルギ線硬化性成分のうち、活性エネルギ線によって重合しうる重合性官能基を１個有する化合物（以下、単に単官能性化合物という。）としては、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、特にアクリロイル基を有する化合物が好ましい。また、その他に水酸基、エポキシ基などの官能基を有していてもよい。上記単官能性化合物としては、たとえば以下のものが挙げられる。
【００２５】
アルキル（メタ）アクリレート（アルキル基の炭素数は１〜１３）、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロモプロピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート。
【００２６】
２−（ジエチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ジメチルアミノメチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート。
【００２７】
モルホリン（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、スルホン酸ナトリウムエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、モルホリノ（メタ）アクリレート、２−モルホリノエチル（メタ）アクリレート。
【００２８】
また、活性エネルギ線硬化性成分のうち、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する化合物（以下、単に多官能性化合物という。）としては、たとえば特開平１１−２４０１０３号公報の段落番号００１６〜００２０、００２３〜００４７に記載された化合物が挙げられる。
【００２９】
好ましい多官能性化合物としては、（メタ）アクリロイル基から選ばれる１種以上の重合性官能基を２個以上（２〜５０個が好ましく、より好ましくは３〜３０個）有する化合物が挙げられる。その中でも（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上有する化合物、すなわち多価アルコールなどの２個以上の水酸基を有する化合物と（メタ）アクリル酸とのポリエステルが好ましい。また、上記重合性官能基以外に種々の官能基や結合を有する化合物であってもよい。特に、ウレタン結合を有する（メタ）アクリロイル基含有化合物（以下、アクリルウレタンという）と、ウレタン結合を有しない（メタ）アクリル酸エステル化合物が好ましい。
【００３０】
上記アクリルウレタンとしては、ペンタエリスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリトールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタンであり、かつ活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能性化合物、または、ペンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールの水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートと、ポリイソシアネートとの反応生成物であるアクリルウレタンであり、かつ活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能性化合物が挙げられる。
【００３１】
また、ウレタン結合を有しない（メタ）アクリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートまたはイソシアヌレート系ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ペンタエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートとは、ペンタエリスリトールまたはポリペンタエリスリトールと（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を４〜２０個有する）をいう。
【００３２】
また、イソシアヌレート系ポリ（メタ）アクリレートとは、トリス（ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートまたはトリス（ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの１モルに、１〜６モルのカプロラクトンまたはアルキレンオキシドを付加して得られる化合物と、（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を２〜３個有する）をいう。
【００３３】
本発明においては、上記の好ましい多官能性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合物（特に多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート）とを併用してもよい。
【００３４】
活性エネルギ線硬化性成分における、上記単官能性化合物または上記多官能性化合物の割合は特に制限されない。
【００３５】
被覆組成物（ａ）は、上記基本的成分の他に、溶剤や種々の機能性配合剤を含むことができる。
【００３６】
活性エネルギ線硬化成分を溶解させる溶剤としては、活性エネルギ線硬化成分に通常使用される溶剤を使用できる。さらに基材の種類により、適切な溶剤を選択して用いることが好ましい。被覆組成物（ａ）における溶剤の含有割合は、必要とする組成物の粘度、目的とする硬化物の厚さ、乾燥温度条件などにより異なるが、固形分濃度で０．５〜８０質量％となるように溶剤を添加して調製することが好ましい。
【００３７】
上記溶剤としては、低級アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、酢酸ｎ−ブチル、ジエチレングリコールモノアセテートなどのエステル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類などが好ましいが、なかでも、低級アルコール類、セロソルブ類、エステル類、それらの混合物等を用いるのが好ましい。
【００３８】
被覆組成物（ａ）は、上記活性エネルギ線硬化性成分を効率よく硬化させるために、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知のものを使用でき、入手容易な市販のものを使用できる。
【００３９】
光重合開始剤としては、具体的にはアリールケトン系光重合開始剤（例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類等）、含硫黄系光重合開始剤（例えばスルフィド類、チオキサントン類等）、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホスフィンオキシド系光重合開始剤等が使用できる。
【００４０】
さらに具体的には、特開平１１−２４０１０３号公報の段落番号００８１〜００８５に記載された化合物が挙げられる。なかでも、本発明においては、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤が好ましい。なお、光重合開始剤は、複数の種類を併用してもよく、アミン類などの光増感剤と組み合わせて使用してもよい。
【００４１】
光重合開始剤の使用量は、活性エネルギ線硬化性成分１００質量部に対して０．０１〜２０質量部が好ましく、特に０．１〜１０質量部とするのが好ましい。
【００４２】
被覆組成物（ａ）は、硬化物層（Ａ）に導電性を付与することで反射防止性有機基材が帯電防止性を発現すべく、導電性微粒子を含むことが好ましい。ここで、導電性微粒子としては、２００ｋｇ／ｃｍ２の荷重でタブレットとしたときの体積抵抗を測定した場合に１０００Ω・ｃｍ以下のものであることが好ましい。例えば、Ｓｂ２Ｏ５、ＺｎＯ、ＩＴＯ（スズ含有酸化インジウム）、ＡＴＯ（アンチモン含有酸化スズ）、Ａｕ、銀パラジウム合金等が挙げられる。なかでも、ＩＴＯ、ＡＴＯが硬化物層（Ａ）の透明性を損なうことなく導電性を付与する点から好ましい。これらの微粒子は単独で用いても、複数を混合して用いてもよい。
【００４３】
導電性微粒子は被覆組成物（ａ）中にコロイド状態で存在することが好ましく、被覆組成物（ａ）中における導電性微粒子の平均粒子径は２００ｎｍ未満であることが好ましい。この平均粒子径は、光散乱の方法により測定した値である。平均粒子径が２００ｎｍを超えると得られる塗膜のヘイズが高くなり、透明な硬化物層が得られなくなるおそれがある。上記平均粒子径は５ｎｍ以上であるのが好ましく、特には１０〜１００ｎｍであるのが好ましい。
【００４４】
導電性微粒子の含有量は、被覆組成物（ａ）の固形分中１５〜８０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。微粒子の含有量が１５質量％以上であると反射防止性有機基材は帯電防止性に優れる。また含有量が８０質量％を超えると塗膜が粗密となるために、耐擦傷性が低下する傾向にある。
【００４５】
被覆組成物（Ａ）に含有させることができるその他の機能性配合剤としては、密着性付与剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防止剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、分散剤または硬化触媒等が挙げられる。
【００４６】
密着性付与剤としては、シランカップリング剤などが挙げられる。
【００４７】
紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線吸収剤として使用されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤等が好ましい。
【００４８】
具体的化合物としては、たとえば以下に示すような化合物が挙げられる。２−［４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、オクチル−３−｛３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル｝プロピオネート、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル−３−（３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート。本発明においては、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル−３−｛３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル｝プロピオネート等の、分子内に重合性官能基を有するものが特に好ましい。
【００４９】
光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤として使用されているヒンダードアミン系光安定剤が好ましい。光安定剤の具体例としては以下のような化合物がある。Ｎ−メチル−４−メタクリロイロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。本発明においては、Ｎ−メチル−４−メタクリロイロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート等の分子内に重合性官能基を有する化合物が特に好ましい。
【００５０】
酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のヒンダードフェノール系酸化防止剤、トリフェニルホスファイト等のリン系酸化防止剤等を使用できる。レベリング剤としては、シリコーン樹脂系レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング剤等が挙げられる。消泡剤としては、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーン樹脂系消泡剤等を使用できる。増粘剤としては、ポリメチルメタクリレート系ポリマー、水添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系化合物等を使用できる。
【００５１】
硬化物層（Ａ）の膜厚は１μｍ以上であることが好ましい。膜厚が１μｍより薄い場合は高温雰囲気に曝されたときに基材と上層の熱膨張の差を吸収することができずに、クラックが発生して良好な外観が得られないおそれがある。硬化物層（Ａ）の膜厚は、２０μｍ以下であるのが好ましく、特には１〜１０μｍであるのが好ましい。
【００５２】
次に被覆組成物（ｂ）の硬化物層（Ｂ）について説明する。
【００５３】
被覆組成物（ｂ）は屈折率１．５５以上である物質の微粒子（以下、単に微粒子という。）を含有する。この微粒子としてはＳｂ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＩＴＯ（スズ含有酸化インジウム）、ＣｅＯ２、ＴｉＯ２、ＡＴＯ（アンチモン含有酸化スズ）、ＺｎＯ、Ａｕ、銀パラジウム合金等が挙げられ、なかでも、ＴｉＯ２とＴａ２Ｏ５はその屈折率が２．５と高く、優れた低反射性能が得られるため好ましい。またＩＴＯ、ＡＴＯ、ＺｎＯ、Ａｕ、銀パラジウム合金は、導電性を有しており、硬化物層に帯電防止性や電磁波シールド性を付与できるために好ましい。これらの微粒子は単独で用いても、複数を混合して用いてもよい。
【００５４】
微粒子は被覆組成物（ｂ）中にコロイド状態で存在することが好ましく、被覆組成物（ｂ）中における平均粒子径は２００ｎｍ未満であることが好ましい。この平均粒子径は、光散乱の方法により測定した値である。平均粒子径が２００ｎｍを超えると得られる塗膜のヘイズが高くなり、透明な硬化物層が得られなくなるおそれがある。上記平均粒子径は５ｎｍ以上であるのが好ましく、特には１０〜１００ｎｍであるのが好ましい。
【００５５】
被覆組成物（ｂ）は、ポリシラザンを含有する。
【００５６】
ここで、ポリシラザンとは、（−Ｓｉ−Ｎ−）の繰り返し単位を２以上有する重合体であり、この化学式においてケイ素原子（４価）の残りの２つの結合手、窒素原子（３価）の残りの１つの結合手には、それぞれ水素原子または有機基（アルキル基など）が結合している。また、上記繰り返し単位のみからなる線状構造の重合体ばかりでなく、上記ケイ素原子の残りの２つの結合手の一方または両方と上記窒素原子の結合手とが結合して環状構造が形成されていてもよい。重合体は環状構造のみの繰り返しからなっていてもよく、一部に環状構造を有する線状の重合体であってもよい。
【００５７】
これらポリシラザンについては、例えば特開平９−３１３３３号公報やそこで引用されている文献に記載されているようなポリシラザンがあり、そのようなポリシラザンを本発明におけるポリシラザンとして使用できる。また、特開平９−３１３３３号公報やそこで引用されている文献に記載されているような変性ポリシラザンもまた本発明におけるポリシラザンとして使用できる。
【００５８】
ポリシラザンは酸素存在下で分解し窒素原子が酸素原子に置換してシリカが形成される。ポリシラザンから形成されるシリカは加水分解性シラン化合物から形成されるシリカに比較してより緻密なシリカが形成される。たとえば、ペルヒドロポリシラザンから形成されたシリカは、４官能性の加水分解性シラン化合物（たとえばテトラアルコキシシラン）から形成されたシリカに比較してより緻密であり耐摩耗性等の表面特性が優れている。
【００５９】
ポリシラザンとしては実質的に有機基を含まないポリシラザンであるペルヒドロポリシラザンやケイ素原子や窒素原子にアルキル基、アリール基等の有機基が結合しているポリシラザン等がある。ペルヒドロポリシラザンはその焼成温度の低さおよび焼成後の硬化被膜の緻密さの点で優れている。ペルヒドロポリシラザンが充分に硬化した硬化物は窒素原子をほとんど含まないシリカとなる。また、ケイ素原子の一部または全部にアルキル基などの有機基が結合しているポリシラザンの場合は、それから形成される有機基を含むシリカはペルヒドロポリシラザンから形成されるシリカに比較して耐摩耗性等の表面特性が劣ることはあっても、より強靭な硬化被膜となって形成され、また厚膜化が可能である。
【００６０】
ポリシラザンは、鎖状、環状もしくは架橋構造を有する重合体、または分子内にこれらの複数の構造の混合物からなる。また、ポリシラザンの分子量は数平均分子量で２００〜５００００であるのが好ましい。数平均分子量が２００未満では焼成しても均一な硬化物が得られにくく、５００００超では溶剤に溶解しにくい。
【００６１】
被覆組成物（ｂ）に含有されるポリシラザンとして、下記式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または式２で示される構造を有するポリシラザンを用いる。
【００６２】
（Ｒ１）３Ｓｉ−（ＮＲ２−ＳｉＨ２）ｒ−ＮＲ２−Ｓｉ（Ｒ１）３  ・・・式１
−（ＳｉＲ３Ｒ４−ＮＲ５）ｍ−（ＳｉＨ２−ＮＲ５）ｎ−  ・・・式２
式１において、Ｒ１はアルキル基またはアリール基、Ｒ２は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｒは１以上の整数を表す。式２において、Ｒ３はアルキル基またはアリール基、Ｒ４は水素原子、アルキル基またはアリール基、Ｒ５は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｍおよびｎはそれぞれ１以上の整数を表す。
【００６３】
アルキル基、アリール基の炭素数は特に限定されずたとえば２０以下のものであればよいが、少ないことが好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、トリル基、キシル基等が好ましい。
【００６４】
具体的には、式１においてＲ１はメチル基、Ｒ２は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｒは１以上の整数で表されるポリシラザンおよび／または式２においてＲ３はメチル基、Ｒ４は水素原子、アルキル基またはアリール基、Ｒ５は水素原子、アルキル基またはアリール基、ｍおよびｎはそれぞれ１以上の整数で表されるポリシラザンを用いることが特に好ましい。
【００６５】
被覆組成物（ｂ）に含有されるポリシラザンとして、上記の式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または式２で示される構造を有するポリシラザンを用いることにより、被覆組成物（ｂ）の貯蔵安定性を向上させることができる。
【００６６】
被覆組成物（ｂ）中のコロイド微粒子は表面エネルギーが大きく、活性が高い。微粒子と分子内にアルキル基またはアリール基を含まないペルヒドロポリシラザンを混合した場合、微粒子またはその分散剤がポリシラザンのシリカへの反応の触媒となるためか、組成物のゲル化が助長される。式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または式２で示される構造を有するポリシラザンを用いた場合は、反応性が抑制され、組成物の貯蔵安定性が向上し、作業中のハンドリングも容易になるため、生産性の上昇に寄与できる。
【００６７】
また被覆組成物（ｂ）に含有されるポリシラザンとしては、式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または式２で示される構造を有するポリシラザンと、実質的に分子内にアルキル基またはアリール基を含まないポリシラザンすなわちペルヒドロポリシラザンとを、組成物の貯蔵安定性を低下させない範囲で混合したものを用いてもよい。この場合、その混合比は質量比で、式１で示される構造を有するポリシラザンおよび／または式２で示される構造を有するポリシラザンとペルヒドロポリシラザンの比が１０／０〜３／７であることが好ましい。上記比率が３／７より小さい場合は、組成物の貯蔵安定性が劣化する。例えば、調合した組成物を１０℃に保管した場合、３０日経過した時点でゲル化物が生じるなどの経時劣化が起こる。上記比率は、特には、１０／０〜６／４であるのが好ましい。
【００６８】
被覆組成物（ｂ）において、微粒子とポリシラザンとの含有量の比率は質量比で、微粒子／ポリシラザン＝９／１〜３／７であるのが好ましい。上記比率が９／１より大きい場合は、ポリシラザンを含有することによる効果が小さくなり、３／７より小さい場合は、硬化物層（Ｂ）の屈折率が低下し、高い反射防止性能が得られなくなるおそれがある。上記比率は、特には、８／２〜５／５であるのが好ましい。
【００６９】
被覆組成物（ｂ）は、以下の溶剤や機能性配合剤を含有していてもよい。溶剤としては、炭化水素類、ハロゲン化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類等が使用できるが、特には、キシレンまたはジブチルエーテルが好ましい。溶剤は、ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度を調節するために、複数の種類の溶剤を混合して用いてもよい。被覆組成物（ｂ）における溶剤の含有割合は、採用される塗布方法およびポリシラザンの構造や平均分子量などによって異なるが、被覆組成物（ｂ）の固形分濃度が０．５〜８０質量％となるように溶剤を添加して調製するのが好ましい。
【００７０】
硬化物層（Ｂ）の厚さは、得られる反射防止膜の最小反射率をとる波長が５００〜６５０ｎｍの範囲に入るように、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７１】
次に被覆組成物（ｃ）の硬化物層（Ｃ）について説明する。
【００７２】
被覆組成物（ｃ）はポリシラザンを含有する。
被覆組成物（ｃ）に含まれるポリシラザンとしては、被覆組成物（ｂ）に含有されるのと同様のポリシラザンが使用できる。特に、ペルヒドロポリシラザンが好ましく、また、その分子量は、数平均分子量で２００〜５００００が好ましい。数平均分子量が２００未満では焼成しても均一な硬化物が得られにくく、５００００超では溶剤に溶解しにくい傾向がある。
【００７３】
被覆組成物（ｃ）は、上記基本的成分の他に下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことができる。
【００７４】
溶剤としては、アルコール類、炭化水素類、ハロゲン化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類などが挙げられるが、ポリシラザンと混合する時にはキシレンまたはジブチルエーテルが特に好ましい。溶剤は、溶剤の蒸発速度を調節するために、複数の種類の溶剤を混合して用いてもよい。
【００７５】
ポリシラザンを硬化させてシリカとするためには、活性エネルギ線の照射または焼成を行う。本発明においては基材が有機基材であることよりその焼成温度は制限される。すなわち、基材の耐熱温度以上に加熱して硬化させることは困難である。一般的に被覆組成物（ａ）の硬化物層（Ａ）の耐熱性は基材のそれよりも高い。しかし場合によってはこの硬化物の耐熱性が基材の耐熱性よりも低い場合があり、その場合はこの硬化物の耐熱温度よりも低い温度でポリシラザンを硬化させる必要が生じることもある。したがって、本発明においてポリシラザンの焼成温度は芳香族ポリカーボネート樹脂などの通常の合成樹脂を基材とする場合は１８０℃以下とすることが好ましい。
【００７６】
ポリシラザンの焼成温度を低下させるためには、通常触媒が使用される。触媒の種類や量によっては室温で硬化できる。硬化を行う雰囲気としては空気中などの酸素の存在する雰囲気であることが好ましい。ポリシラザンの焼成によりその窒素原子が酸素原子に置換しシリカが生成する。充分な酸素の存在する雰囲気中で焼成することにより緻密なシリカの層が形成される。また、水または硬化触媒溶液の蒸気雰囲気下に曝すことでも硬化できる。
【００７７】
触媒としては、より低温でポリシラザンを硬化させうる触媒を用いることが好ましい。そのような触媒としては、例えば、金、銀、パラジウム、白金、ニッケルなどの金属の微粒子（特開平７−１９６９８６号公報）、およびそれらのカルボン酸錯体（特開平５−９３２７５号公報）がある。また、触媒をポリシラザン溶液に添加するのではなく、ポリシラザンの塗膜をアミン水溶液等に接触させる方法、またはその蒸気に一定時間曝す方法（特開平９−３１３３３号公報）もある。
【００７８】
機能性配合剤として防汚性や指紋除去性を付与する目的からジメチルシリコーン基、パーフルオロポリエーテル基、パーフルオロアルキル基、アルキル基等の低極性部位を含有する化合物を含有することが好ましい。さらに上記低極性部位を硬化物層（Ｃ）に固定させる目的から、上記化合物が分子内にアルコキシシラン、クロロシラン、イソシアネートシラン、ヒドロキシシランなどの反応性シランを含有していることが好ましい。
【００７９】
反射防止性有機基材が反射防止性を発現するためには、硬化物層（Ｃ）の屈折率は硬化物層（Ｂ）の屈折率より低いことが好ましい。硬化物層（Ｂ）の屈折率は、１．６以上であることが好ましく、硬化物層（Ｃ）の屈折率は、１．５以下であることが好ましい。したがって、被覆組成物（ｃ）は、前記屈折率が１．５５以上の微粒子を実質的に含有しないことが好ましく、前記微粒子を含有する場合には、被覆組成物（ｃ）における微粒子とポリシラザンとの含有量の比は、被覆組成物（ｂ）におけるものより低いことが好ましい。なお、各硬化物層の屈折率は、各硬化物層の単層をシリコン基板上に形成してエリプソメトリーによって測定できる。
【００８０】
硬化物層（Ｃ）の厚さは得られる反射防止膜の最小反射率をとる波長が５００〜６５０ｎｍの範囲に入るように、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００８１】
本発明における有機基材としては特に限定されないが、透明性が高く、入手が容易であることから、熱可塑性ノルボルネン系樹脂、芳香族ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂またはセルローストリアセテート系樹脂からなるものが好ましく用いられる。また、有機基材の形状としては、板状、フィルム状の他、成形加工された任意の形状をとり得る。
【００８２】
また基材と被覆組成物（ａ）の硬化物層（Ａ）との密着性を向上させる観点から、基材と上記硬化物層（Ａ）との間にはプライマー層を設けてもよい。特に、基材が熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなる場合は、プライマー層としてビニル芳香族化合物と共役ジエン類の共重合体からなるものを用いるのが好ましい。耐候性の観点からは、上記共重合体は水素添加されているとさらに好ましく、硬化物層（Ａ）との密着性の観点からは、上記共重合体に極性基が導入されているとさらに好ましい。
【００８３】
上記ビニル芳香族化合物としては、スチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ビニルキシレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、エチルビニルトルエン、ｔ−ブチルスチレン、ジエチルスチレン等が挙げられ、特にはスチレンが好ましい。
【００８４】
上記共役ジエン類としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチルブタジエン等が挙げられ、なかでも１，３−ブタジエンおよびイソプレンが好ましい。
【００８５】
そして、ビニル芳香族化合物と共役ジエン類の共重合体としては、スチレン−ブタジエン−スチレンのブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンのブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンのブロック共重合体、スチレン−ブタジエンのランダム共重合体、スチレン−イソプレンのランダム共重合体や、これらの水素添加物が挙げられる。
【００８６】
また導入される極性基としては、−ＣＯＯＨまたはその誘導体が好ましく、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ナジック酸等の不飽和カルボン酸、または、塩化マレニル、マレイン酸イミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸ジメチル、ギリシルマレート等の不飽和カルボン酸が挙げられ、これらのハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体等による変性物が挙げられる。
【００８７】
なかでも、密着性に優れることから、不飽和カルボン酸または不飽和カルボン酸無水物の変性物が好ましく用いられ、特にはアクリル酸、メタクリル酸、ナジック酸、無水ナジック酸、マレイン酸または無水マレイン酸による変性物が好ましく、さらにはマレイン酸または無水マレイン酸による変性物が好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は２種以上を混合して変性したものを用いてもよい。
【００８８】
プライマー層の厚さは特に限定されないが、０．０１〜１μｍであるのが好ましい。
【００８９】
本発明の反射防止性有機基材は、例えば、以下の方法により作製できる。まず、基材上にまず被覆組成物（ａ）を塗布して、硬化させ、硬化物層（Ａ）を形成し、次にその硬化物層（Ａ）の表面に被覆組成物（ｂ）を塗布して、硬化させ、硬化物層（Ｂ）を形成し、次にその硬化物層（Ｂ）の表面に被覆組成物（ｃ）を塗布して、硬化させ、硬化物層（Ｃ）を形成せしめることにより目的とする反射防止性有機基材が得られる。
【００９０】
また、各硬化物層の層間密着力を上げるためには、以下の方法により作製することが好ましい。
基材の表面に被覆組成物（ａ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成し、次いで、その表面に被覆組成物（ｂ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成し、さらにその表面に被覆組成物（ｃ）の未硬化物または部分硬化物の層を形成し、活性エネルギ線の照射により前記被覆組成物（ａ）の硬化と、前記被覆組成物（ｂ）および被覆組成物（ｃ）の硬化を任意の順でまたは同時に行って、前記硬化物層（Ａ）、前記硬化物層（Ｂ）および前記硬化物層（Ｃ）を形成せしめる方法。なお、上記における表面とは、上側の方向を意味する。
【００９１】
すなわち、以下の方法により作製することが好ましい。
１）基材の表面に被覆組成物（ａ）を塗布した後、その未硬化物層の上に、被覆組成物（ｂ）を塗布して、加熱乾燥することにより溶媒を除去すると同時に含有するポリシラザンの反応を進め部分硬化物を形成し、その部分硬化物層の上に、被覆組成物（ｃ）を塗布して、加熱乾燥により部分硬化層を形成し、その後に充分な量の活性エネルギ線（通常５００ｍＪ／ｃｍ２以上の照射量）を照射して被覆組成物（ａ）の未硬化物の硬化を終了させ硬化物層（Ａ）を形成する。
さらに数時間水または硬化触媒溶液の蒸気雰囲気下に曝す、または常温に放置することにより、被覆組成物（ｂ）および（ｃ）の硬化を終了させ硬化物層（Ｂ）および前記硬化物層（Ｃ）を形成する。
ここで被覆組成物（ｂ）の部分硬化物とは、被覆組成物（ｂ）に含ませた溶剤に再溶解しない程度に硬化させたもので、６０℃以上の雰囲気で数分間加熱することで達成される。被覆組成物（ｃ）の部分硬化物についても同様である。
【００９２】
２）基材の表面に被覆組成物（ａ）を塗布した後に、指触乾燥状態になりかつ完全硬化に至らないまでの量の活性エネルギ線（通常約３００ｍＪ／ｃｍ２までの照射量）を照射して被覆組成物（ａ）の部分硬化物の層を形成した後、その部分硬化物層の上に被覆組成物（ｂ）を塗布して、加熱乾燥することにより溶媒を除去すると同時に含有するポリシラザンの反応を進め部分硬化物を形成し、その部分硬化物層の上に、被覆組成物（ｃ）を塗布して、加熱乾燥により部分硬化層を形成し、その後に充分な量の活性エネルギ線（通常５００ｍＪ／ｃｍ２以上の照射量）を照射して被覆組成物（ａ）の未硬化物の硬化を終了させ硬化物層（Ａ）を形成する。
さらに数時間水または硬化触媒溶液の蒸気雰囲気下に曝す、または常温に放置することにより、被覆組成物（ｂ）および（ｃ）の硬化を終了させ硬化物層（Ｂ）および前記硬化物層（Ｃ）を形成する。
ここで被覆組成物（ｂ）の部分硬化物とは、被覆組成物（ｂ）に含ませた溶剤に再溶解しない程度に硬化させたもので、６０℃以上の雰囲気で数分間加熱することで達成される。被覆組成物（ｃ）の部分硬化物についても同様である。
【００９３】
各被覆組成物を、基材または各層の表面に塗布する方法としては、特に制限されず、ディップ法、フロートコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ダイコート法、スリットコート法、マイクログラビアコート法などの種々の方法を採用できる。一枚ごとに処理する枚葉式で塗布する場合は生産性や表面外観の点からスピンコート法またはスプレー法が好ましく、連続式で塗布する場合はダイコート法またはグラビアコート法が好ましい。
【００９４】
本発明の製造方法で得られる反射防止性有機基材の反射率は１．５％以下であることが好ましく、１．２％以下であることがより好ましい。
【００９５】
本発明の製造方法で得られる反射防止性の有機基材は、優れた反射防止性能と耐擦傷性能を活かして、建築用または車両用の窓材、各種ディスプレイ（ブラウン管、プラズマディスプレイ、液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイ等）またはその保護板、鏡、ゴーグル等広範囲の用途に使用できる。
【実施例】
【００９６】
以下、本発明を実施例（例１〜５、８〜１２、１５）、参考例（例６、７）、比較例（例１３、１４）に基づき説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００９７】
＜各被覆組成物の合成＞
（１）被覆組成物（ａ）の作製
被覆組成物（ａ−１）
撹拌機および冷却管を装着した２００ｍＬの４つ口フラスコに、イソプロピルアルコール２０．５ｇ、酢酸ブチル２０．５ｇ、１−メトキシ−２−プロパノールを１０．３ｇ、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（光重合開始剤）０．３３ｇ、２−［４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン（紫外線吸収剤）０．６６ｇ、ＰＭＭＡ樹脂２．０ｇおよびＮ−メチル−４−メタクリロイロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（光安定剤）０．４４ｇを加えて溶解させ、続いて活性エネルギ線硬化性成分として、水酸基を有するジペンタエリスリトールポリアクリレートと部分ヌレート化ヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物であるウレタンアクリレート（１分子あたり平均１５個のアクリロイル基を含有）１０．０ｇと、カプロラクトン変性トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート（東亞合成社製、商品名「アロニクスＭ−３２５」）１０．０ｇを加え、常温で１時間撹拌して被覆組成物（ａ−１）を得た。
【００９８】
被覆組成物（ａ−２）
ＡＴＯのメチルエチルケトン分散液（御國色素社製、商品名「ＭＨＩフィラー４６７５ＭＳ」。固形分３０％質量。）１０．０ｇと上記被覆組成物（ａ−１）１０．０ｇを混合し、常温で１時間撹拌して被覆組成物（ａ−２）を得た。
【００９９】
（２）被覆組成物（ｂ）の作製
被覆組成物（ｂ−１）
ＴｉＯ２粉末１２．０ｇ、分散剤である「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１」（ビックケミー社製）０．６ｇ、アセチルアセトン１２．０ｇおよびキシレン２５．４ｇを混合し、サンドミルにて３０分間粉砕することによってＴｉＯ２コロイド液を得た。得られた液の固形分は２０質量％で平均粒子径は５２ｎｍであった。次に、ＴｉＯ２コロイド液にポリシラザンの溶液「Ｎ３１０」（クラリアント社製、商品名。トリメチルシリル基末端変成ポリシラザンのキシレン溶液。固形分２０質量％。数平均分子量９００。）を加え、ＴｉＯ２／ポリシラザンの固形分比を７／３質量％比に調整した。キシレンで全体固形分が５質量％になるように希釈し、常温で１時間撹拌して被覆組成物（ｂ−１）を得た。
【０１００】
被覆組成物（ｂ−２）
被覆組成物（ｂ−１）の作製方法において、ポリシラザンの溶液として、「Ｎ３１０」のかわりに、「Ｎ３１０」と「Ｖ１１０」（クラリアント社製、商品名。ペルヒドロポリシラザンのキシレン溶液。固形分２０質量％。数平均分子量７００。）を質量比８／２で混合したものを用いた以外は同様にして、被覆組成物（ｂ−２）を得た。
【０１０１】
被覆組成物（ｂ−３）
被覆組成物（ｂ−１）の作製方法において、ポリシラザンの溶液として、「Ｎ３１０」のかわりに、「Ｎ３１０」と「Ｖ１１０」を質量比６／４で混合したものを用いた以外は同様にして、被覆組成物（ｂ−３）を得た。
【０１０２】
被覆組成物（ｂ−４）
ＡＴＯ（アンチモン含有酸化スズ）粉末１２．０ｇ、分散剤である「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２」（ビックケミー社製）０．６ｇ、アセチルアセトン１２．０ｇおよびジブチルエーテル２５．４ｇを混合し、サンドミルにて６０分間粉砕することによってＡＴＯコロイド液を得た。得られた液の固形分は２０質量％で平均粒子径は４３ｎｍであった。次に、ＡＴＯコロイド液にポリシラザンの溶液「Ｎ７２０」（クラリアント社製、商品名。ケイ素原子に結合した水素原子の一部がメチル基で置換されたポリシラザンのジブチルエーテル溶液。固形分２０質量％。数平均分子量１０００。）を加え、ＡＴＯ／ポリシラザンの固形分比が７／３質量％比に調整した。ジブチルエーテルで全体固形分が６質量％になるように希釈し、常温で１時間撹拌して被覆組成物（ｂ−４）を得た。
【０１０３】
被覆組成物（ｂ−５）
ＩＴＯ（スズ含有酸化インジウム）粉末１２．０ｇ、分散剤である「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２」（ビックケミー社製）０．４ｇ、アセチルアセトン１２．０ｇおよびジブチルエーテル２５．４ｇを混合し、サンドミルにて６０分間粉砕することによってＩＴＯコロイド液を得た。得られた液の固形分は１７質量％で平均粒子径は７３ｎｍであった。次に、ＩＴＯコロイド液にポリシラザンの溶液「Ｎ７２０」を加え、ＩＴＯ／ポリシラザンの固形分比が６／４質量％比に調整した。ジブチルエーテルで全体固形分が５質量％になるように希釈し、常温で１時間撹拌して被覆組成物（ｂ−５）を得た。
【０１０４】
被覆組成物（ｂ−６）
被覆組成物（ｂ−１）の作製方法において、ポリシラザンの溶液として、「Ｎ３１０」のかわりに、「Ｎ３１０」と「Ｖ１１０」を質量比２／８で混合したものを用いた以外は同様にして、被覆組成物（ｂ−６）を得た。
【０１０５】
被覆組成物（ｂ−７）
被覆組成物（ｂ−１）の作製方法において、ポリシラザンの溶液として、「Ｎ３１０」のかわりに、「Ｖ１１０」を用いた以外は同様にして、被覆組成物（ｂ−７）を得た。
【０１０６】
（３）被覆組成物（ｃ−１）、被覆組成物（ｃ−２）の作製
ポリシラザンの溶液「Ｌ１２０」（クラリアント社製、商品名。ペルヒドロポリシラザンのジブチルエーテル溶液。固形分２０質量％。数平均分子量１０００。低温硬化性金属触媒含有。）をジブチルエーテルで固形分３質量％となるようにに希釈し、被覆組成物（ｃ−１）を得た。
【０１０７】
ポリシラザンの溶液「Ｌ１１０」（クラリアント社製、商品名。ペルヒドロポリシラザンのキシレン溶液。固形分２０質量％。数平均分子量１０００、低温硬化性金属触媒含有。）をキシレンで固形分３質量％となるようにに希釈し、被覆組成物（ｃ−２）を得た。
【０１０８】
＜反射防止性有機基材の作製＞
［例１］
厚さ１ｍｍの透明な芳香族ポリカーボネート樹脂板に被覆組成物（ａ−１）をスピンコート法により塗工し、９０℃の熱風循環オーブン中で５分間保持した。これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２（波長３００〜３９０ｎｍ領域の紫外線積算エネルギ量、以下同じ）の紫外線を照射し、被覆組成物（ａ−１）の部分硬化した硬化物層を得た。得られた硬化物層の膜厚は３μｍであった。
【０１０９】
この表面に被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のものを膜厚が９５ｎｍとなるようにスピンコート法により塗工し、９０℃の熱風循環オーブン中で５分間乾燥して、被覆組成物（ｂ）の部分硬化した硬化物層を得た。
【０１１０】
そしてさらにこの上に被覆組成物（ｃ−１）を膜厚が１１５ｎｍとなるようにスピンコート法により塗工し、９０℃の熱風循環オーブン中で５分間乾燥した。これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、被覆組成物（ａ−１）の部分硬化した硬化物層を完全硬化させた。この後、６０℃湿度９０％の雰囲気で５時間養生することにより、被覆組成物（ｂ−１）および被覆組成物（ｃ−１）の部分硬化した硬化物層の硬化を促進し、完全硬化させることにより、反射防止性有機基材１を得た。
【０１１１】
［例２］
例１における有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−２）であって作製直後のものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材２を得た。
【０１１２】
［例３］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−３）であって作製直後のものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材３を得た。
【０１１３】
［例４］
厚さ１ｍｍの透明なポリメチルメタクリレート樹脂板に被覆組成物（ａ−１）をダイコート法により膜厚が４μｍとなるように塗工し、９０℃の熱風循環オーブン中で５分間乾燥した。これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、被覆組成物（ａ−１）の部分硬化した硬化物層を得た。
【０１１４】
この表面に被覆組成物（ｂ−４）であって作製直後のものを膜厚が１１０ｎｍとなるようにダイコート法により塗工し、９０℃の熱風循環オーブン中で５分間乾燥し、被覆組成物（ｂ−４）の部分硬化した硬化物層を得た。
【０１１５】
そしてさらにこの上に被覆組成物（ｃ−２）を膜厚が１３０ｎｍとなるようにダイコート法により塗工し、９０℃の熱風循環オーブン中で５分間乾燥した。これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、被覆組成物（ａ−１）の部分硬化した硬化物層を完全硬化させた。この後、６０℃湿度９０％の雰囲気で５時間養生することにより、被覆組成物（ｂ−４）および被覆組成物（ｃ−２）の部分硬化した硬化物層の硬化を促進し、完全硬化させることにより、反射防止性有機基材４を得た。
【０１１６】
［例５］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、有機基材として厚さ１００μｍの易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、コスモシャイン「Ａ４１００」）を用いたことと、被覆組成物（ｂ−２）であって作製直後のものの代わりに被覆組成物（ｂ−５）であって作製直後のものを用いたこと以外は例１と同様に行い、反射防止性有機基材５を得た。被覆組成物（ｂ−５）を塗工することによって得られた硬化物層の膜厚は１２０ｎｍであった。
【０１１７】
［例６］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−６）であって作製直後のものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材６を得た。
【０１１８】
［例７］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−７）であって作製直後のものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材７を得た。
【０１１９】
［例８］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のものかわりに被覆組成物（ｂ−１）であって作製後１０℃で３０日間保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材８を得た。
【０１２０】
［例９］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−２）であって作製後１０℃で３０日保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材９を得た。
【０１２１】
［例１０］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−３）であって作製後１０℃で３０日保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材１０を得た。
【０１２２】
［例１１］
例４における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−４）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−４）であって作製後１０℃で３０日保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材１１を得た。
【０１２３】
［例１２］
例５における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−５）であって作製後１０℃で３０日保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材１２を得た。
【０１２４】
［例１３］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−６）であって作製後１０℃で３０日保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材１３を得た。
【０１２５】
［例１４］
例１における反射防止性有機基材作製方法において、被覆組成物（ｂ−１）であって作製直後のもののかわりに被覆組成物（ｂ−７）であって作製後１０℃で３０日保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材１４を得た。
【０１２６】
［例１５］
例８における有機基材作製方法において、被覆組成物（ａ−１）のかわりに被覆組成物（ａ−２）であって作製後１０℃で３０日保管したものを用いた以外は同様にして、反射防止性有機基材１５を得た。
【０１２７】
上記の各例で得られた反射防止性有機基材を用いて各種物性の測定および評価を以下に示す方法で行った。その結果を表１に示した。
【０１２８】
［初期ヘイズ］
反射防止性有機基材について、４ヵ所のヘイズ（％）をヘイズメータで測定し、その平均値を算出した。
【０１２９】
［耐摩耗性］
ＪＩＳ−Ｒ３２１２における耐摩耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ摩耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ１００回転させた時のヘイズをヘイズメータにて測定した。ヘイズの測定は摩耗輪のサイクル軌道の４ヶ所で行い、平均値を測定した。耐摩耗性は、（摩耗試験後ヘイズ）−（初期ヘイズ）の値（％）を示す。
【０１３０】
［密着性］
反射防止性有機基材に１ｍｍ間隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個の碁盤目を作り、市販のセロハンテープをよく密着させた後、９０度手前方向に急激にはがした際の、被膜が剥離せずに残存した碁盤目の数（個）を表した。
【０１３１】
［反射率］
ＧＡＭＭＡ分光反射率スペクトル測定器により多層膜の４００〜７００ｎｍでの視感平均反射率を測定した。
【０１３２】
［表面抵抗］
ローレスタ抵抗測定器（三菱化学社製）により膜表面の表面抵抗を測定した。なお、表面抵抗が低いものほど導電性が高く、帯電防止機能や電磁波シールド機能をもち、優れている。
【０１３３】
［外観］
目視で判断した。
【０１３４】
【表１】
2004209973.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
本発明の製造方法により得られる反射防止性の有機基材は、優れた反射防止性能と耐擦傷性能を活かして、建築用または車両用の窓材、各種ディスプレイ（ブラウン管、プラズマディスプレイ、液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイ等）またはその保護板、鏡、ゴーグル等広範囲の用途に使用できる。