(57)【要約】【課題】様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、多光子の干渉を使用して作り出すことが可能な多光子干渉露光装置を提供する。【解決手段】パターン記憶装置１１にはウエハ上に形成したいパターンが記憶されており、強度・位相計算装置１２はその情報を基に、各入射角θに対して干渉強度、２光束間の位相、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度変化量を計算する。同期制御装置１３は強度・位相計算装置１２の出力を基に、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度変化量を反射鏡制御装置６ａ，６ｂに伝え、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度を変化させる。同時に、干渉強度を露光光源１に伝えて露光量を調整し、位相変化量を位相変調制御装置１０に伝え位相変調素子９を駆動して２光束間の光位相差を変化させる。これらの動作を所望のパターンにおいて必要なだけ入射角θを変化させながらウエハ上に露光を行う。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、当該光源からの光子を異なる光路を通るｎ（ｎ≧２）個のコヒーレントなｎ光子状態に変換する多光子生成手段と、ｎ／２光子毎に分岐された多光子を異なる光路から半透過鏡上に投射し、ｎ光子にする第１の光学系と、当該半透過鏡を通過又は反射して、再び異なる光路を進む前記ｎ光子を露光面上で合成し、干渉縞を形成する第２の光学系を有する多光子干渉露光装置であって、前記第２の光学系において、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度が可変とされていることを特徴とする多光子干渉露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の多光子干渉露光装置であって、前記第２の光学系は、当該第２の光学系に含まれる反射鏡の角度を変化させることで、前記露光面上に各光子が到達する際の、前記露光面となす角度を調整する機能を有することを特徴とする多光子干渉露光装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の多光子干渉露光装置であって、前記第２の光学系は、要求される露光パターンのフーリエ変換後の強度に応じて、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎の露光量を調整する機能を有することを特徴とする多光子干渉露光装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の多光子干渉露光装置であって、前記第２の光学系は、要求される露光パターンのフーリエ変換後の位相に応じて、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎の２つの光束の位相差を調整する機能を有することを特徴とする多光子干渉露光装置。
【請求項５】
請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の多光子干渉露光装置であって、前記第２の光学系は、要求される露光パターンのフーリエ変換後の位相に応じて、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎に、結像面に置かれた露光面の位置を変える機能を有することを特徴とする多光子干渉露光装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載の多光子干渉露光装置であって、前記光子対生成手段が、非線形光学現象により光子を異なる光路を通る光子対に変換する非線形光学結晶を有することを特徴とする多光子干渉露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の多光子干渉露光装置であって、前記非線形光学現象がパラメトリックダウンコンバージョンであることを特徴とする多光子干渉露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は多光子干渉露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来技術による露光装置の概略を、図２を用いて説明する。従来技術による露光装置は、少なくとも、露光のための光を発生する光源１０１、光源からの光をレチクルに照射する照明光学系１０２、レチクルとウエハの間の相対位置を調整するためのアライメント光学系１０３、レチクルを透過した光をウエハに投影する投影光学系１１０、レチクルステージ１０５、レチクル位置を制御するレチクルステージ制御機構１０４、ウエハステージ１０８、ウエハ位置を制御する為のウエハステージ制御機構１０７、全体を統括制御する制御機構１０９を備えている。
【０００３】
レチクルステージ１０５にはレチクル１０５ａが置かれ、ウエハステージ１０８上にはウエハ１０８ａが置かれ、レチクル１０５ａとウエハ１０８ａはそれぞれ投影光学系１１０の物体面、像面となるように投影光学系１１０との位置関係が調整されている。
【０００４】
露光光源１０１からの光は照明光学系１０２を通りレチクル１０５ａを照明する。レチクル１０５ａ、投影光学系１１０、及びウエハ１０８ａが上記の関係にあるためレチクル１０５ａを透過した光は投影光学系１１０でウエハ１０８ａ上に結像し、ウエハ１０８ａ上に感光剤が塗布されていれば、レチクルのパターンをウエハ１０８ａ上に転写することができる。
【０００５】
通常、投影光学系で転写できる面積はウエハ全面に比べ小さいため、レチクルステージ１０５とウエハステージ１０８により、それぞれレチクルとウエハの水平位置（光軸と垂直な面内の位置）を制御することで、ウエハ全面にレチクルパターンの転写を行えるようにしてある。このとき、ウエハ全面における転写パターンはウエハ全面において異なるパターンでもよいし、同一レチクルパターンの繰り返しでもよい。
【０００６】
ところで、通常の露光装置では、光の回折限界からの制約により形成できるパターンの周期に下限があることが知られている。すなわち、照明光の波長をλ，光学系の開口数をＮＡとすると、形成できるパターンの周期の下限は光の回折限界から
Ｐｍｉｎ＝λ／（２ＮＡ）
となり、これよりも微細な加工を行うことは原理的に不可能であった。
【０００７】
一方で、回路パターンの微細化に伴い露光装置に要求される露光線幅、周期は年々微細化してきているため、上記の限界の範囲内でこれに対応するために、光学系の開口数ＮＡを大きくするとともに照明波長λの短波長化が進められてきた。しかしながら、現在すでに光学系の開口数ＮＡは大気中で使用する場合に上限となる１．０に極めて近づいている。さらに照明光に関しても、既に真空紫外光とも言える波長１５０ｎｍ程度の光が利用されつつあるため、露光光学系を構成するためにこれまで用いられてきた多くの光学材料が、透過率の点から利用不可能となり、光学設計の選択の幅が狭くなってきている。このため、要求される微細パターンを形成するために必要な性能を持った光学系の設計が非常に困難となってきている。
【０００８】
この問題を解決するために、多光子干渉を利用した露光装置が考案された。詳細はＰｈｙｓ．Ｒｅｖ．Ｌｅｔｔ．８５　ｐ２７３３−２７３６　（２０００）に記載されている。この原理に従って構成された多光子露光装置の原理を、図３を用いて説明する。
【０００９】
図３において、露光光源１からのレーザー光を非線形光学結晶２に入射する。ここで、露光光源１としては非線形光学現象を起こしやすいコヒーレントな光を発生する光源、すなわちレーザー光源から構成されている。非線形光学結晶２は、パラメトリックダウンコンバージョンにより露光光源からの光の波長（λ１）の２倍の波長（２λ１）の光が発生するように調整されている。これは、パラメトリック発振におけるシグナル光とアイドラ光の波長が等しい特別な状態である。従ってこの過程で出てくる光子は必ず位相のそろった波長の等しい光子対をなす。
【００１０】
さらに、非線形光学結晶２でのこの過程により発生する光の進行方向をこの光子対の一つ一つが別々となるように設定しておけば、図３の光路７ａ、７ｂを通るようにできる。光路７ａ、７ｂに進んだ光は、反射鏡３ａ、３ｂにより半透過鏡４の同一点に入射するようにされている。一般に光は自分自身としか干渉しないが、この場合は全く同じエネルギー、同じ位相を持った光同士であるため、２つの光路を進行してきた光の間で干渉が起こり、半透過鏡４の反射率，透過率がそれぞれ５０％の時には、いわゆるエンタングルドステートにある光子が光路８ａ、８ｂを進むことになる。すなわち、光子対が光路８ａを通る状態と光路８ｂを通る状態の重ね合わせ状態となる。
【００１１】
これら光子対は干渉用反射鏡５ａ、５ｂで反射され、ウエハステージ１０８上に搭載されたウエハ１０８ａ上の同一点に入射する。その結果、ウエハ１０８ａ上面で２光子状態での干渉が起こり、干渉縞ができる。光子対が対のまま光路８ａ，８ｂのどちらを通ってきたか判別がつかない状態であるために２光子状態での干渉を起こすのである。これは、通常の干渉計において１つの光子が２つの光路のどちらを通ってきたか判別ができないために干渉が起こるのと同様である。
【００１２】
ここで形成される干渉縞の周期Ｐ２は、２λ１＝λ２とおくと、これら光子の入射角θに対して、
Ｐ２＝λ２／（４ｓｉｎθ）＝λ１／（２ｓｉｎθ）
となる。これは、波長λ２の光を発生する光源を用いた場合の、通常の光干渉で得られる干渉縞の周期Ｐ１
Ｐ１＝λ２／（２ｓｉｎθ）
と比べて周期が１／２になっており、従来の露光装置では決して形成することのできなかった微細加工が可能となっている。
【００１３】
以上、２光子干渉について説明したが、もし上記２光子状態をｎ光子状態とすることができれば、干渉縞の周期はさらに狭くすることができて、その周期Ｐｎは、
Ｐｎ＝λ／（２ｎｓｉｎθ）
となる。ｎ光子状態はパラメトリック発振器を多段につなぐことで生成可能である。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図３に示す従来の多光子露光装置では、露光面に到達する光子の入射角θが固定であるため、干渉により形成される干渉縞の周期が単一となり、様々な露光パターンに対応させることが非常に困難であるという問題があった。本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、多光子の干渉を使用した多光子干渉露光装置を提供することを課題とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための第１の手段は、光源と、当該光源からの光子を異なる光路を通るｎ（ｎ≧２）個のコヒーレントなｎ光子状態に変換する多光子生成手段と、ｎ／２光子毎に分岐された多光子を異なる光路から半透過鏡上に投射し、ｎ光子にする第１の光学系と、当該半透過鏡を通過又は反射して、再び異なる光路を進む前記ｎ光子を露光面上で合成し、干渉縞を形成する第２の光学系を有する多光子干渉露光装置であって、前記第２の光学系において、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度が可変とされていることを特徴とする多光子干渉露光装置（請求項１）である。
【００１６】
本手段の作用を説明するに先立ち、その前提となる一般的な部分コヒーレント結像条件の下での結像について述べる。
【００１７】
一般的に、周波数領域での位置ベクトルをｖ、ｖ’とし、２つの光の瞳中での強度分布のフーリエ変換をそれぞれ
【００１８】
【数１】
2004014866.tif 000003
【００１９】
とすると、この２つの光線の干渉による結像面上の強度分布は、結像面での位置ベクトルをｒとして、
【００２０】
【数２】
2004014866.tif 000004
【００２１】
となる。ここで、
【００２２】
【数３】
2004014866.tif 000005
【００２３】
は
【００２４】
【数４】
2004014866.tif 000006
【００２５】
の複素共役数であり、（ｖ−ｖ’）・ｒは（ｖ−ｖ’）とｒの内積、Ｒ（ｖ，ｖ’）は、投影光学系のＴＣＣ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　ｏｆ　Ｃｒｏｓｓ　Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）である。また、
（１）式の積分範囲は、瞳座標内である。
【００２６】
（１）式には様々な空間周波数の成分が入っているので、
Ｃ＝ｖ−ｖ’
とすれば、（１）式は
【００２７】
【数５】
2004014866.tif 000007
【００２８】
と書くことができるため、像面での光強度は、空間周波数Ｃごとに様々な強度と位相を持つ干渉縞の積分としてとらえることができる。空間周波数Ｃに関しては露光領域の長さをＬとすると２π／Ｌが最低周波数となり、この周波数で量子化した周波数で級数展開ができるので、（２）式は、以下の形に展開できる。ただし、Ｃｎ＝２ｎπ／Ｌである。
【００２９】
【数６】
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【００３０】
これは、形式的に
【００３１】
【数７】
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【００３２】
と書くことができる。このことは、
振幅が｜Ｉ（Ｃｎ）｜であり、位相がφ（Ｃｎ）である干渉縞を周波数Ｃｎごとに用意できれば、光干渉を利用して所望のパターンをウエハの上に投影できることを意味している。ここで、周波数Ｃｎ毎に用意する干渉縞の振幅と位相は、
【００３３】
【数８】
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【００３４】
のように、光源の強度分布のフーリエ変換
【００３５】
【数９】
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【００３６】
と、想定している投影光学系のＴＣＣであるＲ（ｖ，Ｃｎ）から計算できる各係数を、絶対値と位相因子に分けることで容易に求めることができる。ここでの位相因子は像面での位相を表しているが、光干渉の際には、２光束の位相差がこれと等しいため、２光束の一方の位相を他方に対してφ（Ｃｎ）ずらすことで達成することができる。
【００３７】
２光束をウエハ上で干渉させる場合これら２光束がなす角を２θとすると、
２ｓｉｎθ＝｜Ｃ｜＝｜ｖ−ｖ’｜　…（６）
である。
【００３８】
よって、１次元パターンに限れば、一方の光の位相を可変とした２光束干渉によって所望のパターンをウエハ上に形成することができる。
【００３９】
実際には、Ｉ（ｒ）が決定されると、それを（５）式に対応するようにフーリエ級数に展開することにより、Ｃｎ毎に振幅である｜Ｉ（Ｃｎ）｜と位相差φ（Ｃｎ）を求める。｜Ｉ（Ｃｎ）｜が、Ｃｎが与えられたときの投影光学系の強度（光源の強度×露光時間）に対応する。Ｃｎを与える２光束のなす角は、（６）式により決定する。
【００４０】
また、Ｒ（ｖ，ｖ’）としては、理想的な投影光学系のものを持ってくればよく、それは中心位置が座標ｖ，Ｃ−ｖにある半径ＮＡの円と、中心位置が座標（０，０）半径σ×ＮＡの円全てが重なった領域の面積であるため容易に計算できる。ここで、σは照明光学系のコヒーレンス度である。
【００４１】
このようにして計算を行った後は、２光束のなす角度θを変えながら、それに対応するＣｎに応じて、投影光学系の強度に対応する｜Ｉ（Ｃｎ）｜と２光束間の位相差φ（Ｃｎ）を変化させて露光を行えば、目的とするパターンを結像面に結像させることができる。
【００４２】
２次元の像形成の場合は、感光材料の感光が光強度の積分強度に比例するため、２光束光干渉による像形成を、結像面を回転させながら行うことでも可能である。
【００４３】
以上は通常の１光子吸収過程を述べたものであるが、２光子吸収の場合も式（２）は同様であり入射角と光強度、位相の関係を求めることができる。ただし、２光子吸収を利用した場合には１光子吸収過程と同じ入射角であってもそれによって生成される干渉縞の周期は１／２になるため、（６）式の代わりに
４ｓｉｎθ＝｜Ｃ｜＝｜ｖ−ｖ’｜　…（７）
を使用することになる。
【００４４】
なお、本手法で非常に大きなパターン（低い空間周波数を持ったパターン）を形成するには２光束間の角度を非常に小さくしなければならず、装置が大型化するおそれがあるが、そのような大きなパターンの形成には従来の低解像度露光装置を用いることで可能であるため大きな問題とはならない。すなわち、パターン中の空間周波数に応じて本手法と従来の露光装置を使い分ければよい。
【００４５】
本手段においては、このような原理に基づき、露光面に到達する光子の入射角が可変とされているので、このような原理に基づき、入射角を変化させながら、各入射角ごとの露光量（光源の強さ、露光時間の少なくとも一方）を変化させることで、目的とする様々なピッチの露光パターンを露光面に形成することができる。すなわち、本手段においては、多光子干渉により、所望のパターンをウエハ等の基板上に形成しているので、レチクル等を必要とせず、かつ、レチクル等に形成されたパターンを露光転写する場合に比して、微細なパターンを基板上に形成することができる。
【００４６】
また、本手段においては、光子対生成により生成された光子対を干渉させて干渉縞を作り出しているので、光子対と同一の波長の通常の光線を２つに分けて干渉させる場合に比して、干渉縞のピッチを細かくすることができる。
【００４７】
前記課題を解決するための第２の手段は、前記第１の手段であって、前記第２の光学系は、当該第２の光学系に含まれる反射鏡の角度を変化させることで、前記露光面上に各光子が到達する際の、前記露光面となす角度を調整する機能を有することを特徴とするもの（請求項２）である。
【００４８】
本手段においては、前記第２の光学系に角度が可変な反射鏡が含まれており、それにより、第１の手段で述べた入射角を可変することができる。よって、反射鏡の角度を変化させることにより、所望のＣｎを形成することができる。
【００４９】
前記課題を解決するための第３の手段は、前記第１の手段又は第２の手段であって、前記第２の光学系は、要求される露光パターンのフーリエ変換後の強度に応じて、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎の露光量を調整する機能を有することを特徴とするもの（請求項３）である。
【００５０】
本発明においては、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎の露光量を調整する機能を有するので、前記第１の手段で説明したＣｎ毎に｜Ｉ（Ｃｎ）｜を変化させることができ、所望のピッチのパターンを所望の強さで露光面上に形成することができる。
【００５１】
前記課題を解決するための第４の手段は、前記第１の手段から第３の手段のいずれかであって、前記第２の光学系は、要求される露光パターンのフーリエ変換後の位相に応じて、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎の２つの光束の位相差を調整する機能を有することを特徴とするもの（請求項４）である。
【００５２】
本手段においては、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎の２つの光束の位相差を調整する機能を有するので、前記第１の手段で説明したＣｎ毎に位相差φ（Ｃｎ）を調整することができ、所望のパターンの位相を変化させることができる。特に、要求される露光パターンのフーリエ変換後の強度に応じて、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎の露光量を調整しながら、同時に位相差を変化させて、Ｃｎ毎に露光を行って重ね合わせることにより、様々なパターンを被露光面上に形成することができる。
【００５３】
前記課題を解決するための第５の手段は、前記第２の光学系は、要求される露光パターンのフーリエ変換後の位相に応じて、前記露光面上に各光子が到達する際の露光面となす角度毎に、結像面に置かれた露光面の位置を変える機能を有することを特徴とするもの（請求項５）である。
【００５４】
前記第４の手段においては、結像面に形成される干渉縞の位相の調整を、２つの光束の位相差を変えることによって行っていた。本手段はこの代わりに、結像面に置かれた露光面の位置を、Ｃｎ毎に代えることによって、干渉縞と被照射対の結像面との位相関係を変化させ、前記第４の手段と等価な関係を作り出している。
【００５５】
前記課題を解決するための第６の手段は、前記第１の手段から第５の手段のいずれかであって、前記光子対生成手段が、非線形光学現象により光子を異なる光路を通る光子対に変換する非線形光学結晶を有することを特徴とするもの（請求項６）である。
【００５６】
本手段においては、比較的簡単な手段により光子対を生成することができる。
【００５７】
前記課題を解決するための第７の手段は、前記第６の手段であって、前記非線形現象がパラメトリックダウンコンバージョンであることを特徴とするもの（請求項７）である。
【００５８】
本手段においては、比較的簡単な手段により光子対を生成することができる。
【００５９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図１は、本発明の実施の形態の１例である多光子干渉照明装置を利用した露光装置の光学系の概要を示す図である。露光装置は、露光光源１、非線形光学素子２、反射鏡３ａ，３ｂ、半透過鏡４、光干渉用反射鏡５ａ，５ｂ、及びその制御装置６ａ，６ｂ、位相変調素子９、及びそのドライバ１０、パターン記憶装置１１、強度・位相計算装置１２、同期制御装置１３、ウエハステージ１４、及びその制御装置１５からなる。ウエハステージ１４上には、感光剤を塗布したウエハ１６が載せられている。
【００６０】
露光光源１からのレーザー光を非線形光学結晶２に入射する。ここで、露光光源１としては非線形光学現象を起こしやすいコヒーレントな光を発生する光源、すなわちレーザー光源から構成されているのが望ましい。非線形光学結晶２は、パラメトリックダウンコンバージョンにより露光光源１からの波長の２倍の波長の光が発生するように調整しておく。これは、パラメトリック発振におけるシグナル光とアイドラ光の波長が等しい特別な状態である。従ってこの過程で出てくる光子は必ず位相のそろった波長の等しい光子対をなす。
【００６１】
さらに、非線形光学結晶２でのこの過程により発生する光の進行方向をこの光子対の一つ一つが別々となるように設定しておくことで、図１の光路７ａ，７ｂを通るようにできる。光路７ａ，７ｂに進んだ光は反射鏡３ａ，３ｂにより半透過鏡４の同一点に入射するように調整しておく。一般に光は自分自身としか干渉しないが、この場合は全く同じエネルギー，同じ波束（波の形）を持った光同士であるため、２つの光路を進行してきた光の間で干渉が起こり、半透過鏡４の反射率，透過率がそれぞれ５０％のときには、いわゆるエンタングルドステートにある光子対が光路８ａ，８ｂを進むことになる。即ち、光子対が光路８ａを通る状態と光路８ｂを通る状態との重ね合わせ状態となる。
【００６２】
これら光子は干渉用反射鏡５ａ，５ｂで反射され、ウエハステージ１４上に搭載されたウエハ１６上の同一点に入射する。その結果、ウエハ１６上面で２光子状態での干渉が起こり干渉縞ができる。光路８ｂ側には位相変調素子９が設けられており、光路８ｂ側を通る光のみ位相を変化させられ、その位相差に応じてウエハ１３上で干渉を起こした際にその干渉縞の位相が変化する。その結果、露光面上での干渉縞の位置が変化する。
【００６３】
パターン記憶装置１１にはウエハ上に形成したいパターンが記憶されており、強度・位相計算装置１２はその情報を基に式（４），式（５）を使って、各入射角θに対して干渉強度、２光束間の位相、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度変化量を計算する。
【００６４】
同期制御装置１３は強度・位相計算装置１２の出力を基に、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度変化量を反射鏡制御装置６ａ，６ｂに伝え、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度を変化させる。同時に、干渉強度を露光光源１に伝えて露光量を調整し、位相変化量を位相変調制御装置１０に伝え位相変調素子９を駆動して２光束間の光位相差を変化させる。これらの動作を所望のパターンにおいて必要なだけ入射角θを変化させながらウエハ上に露光を行う。
【００６５】
ところで、本実施例によるパターン形成手法であらゆる空間周波数をもったパターンを露光しようとすると１度に露光できる面積が限られる。干渉すべき２つのビームが完全に分離しているところに半透過鏡４を置かなければならないこと、最低空間周波数ではその波長がパターンサイズと等しいことを考慮して計算すると、一度に露光できる幅ｗはおおよそ
ｗ＝（Ｌλ／２）１／２
となる。ここで、λは使用する光の波長、Ｌは干渉用反射鏡５ａ、５ｂの高さである。例えば、λ＝１５０ｎｍ、Ｌ＝１０００ｍｍとすると、ｗ＝０．２７ｍｍとなってしまう。
【００６６】
従って、露光パターンのうち低周波成分は従来の露光装置に任せ、本技術による露光では高周波成分を担当するのが望ましいが、すべての露光を本露光装置で行う場合には、ウエハステージ制御装置１５によりウエハステージ１４を上記幅ｗごとにずらしながら、ステップアンドリピート方式により露光を行っていけばよい。
【００６７】
図１では、位相変調素子９は光路８ｂにのみ入っているが、光路８ａのみ、又は光路８ａ，８ｂの両方に入れることもできる。両方の光路に入れる場合は、両者の位相変調量の差を上記の位相変調量とすれば目的は達成できる。
【００６８】
光源として時間コヒーレンスがやや悪い光源を用いた場合には両方の光路に同じ大きさの位相変調素子を入れることで光路長をほぼ等しくすることができ、干渉性を改善することができる。
【００６９】
また、上記の実施の形態では、各入射角θごとに変化する干渉強度の調節を、露光光源１に制御を加えることで行っているが、露光光源１の強度を一定に保ったまま各入射角における干渉用反射鏡５ａ，５ｂの滞留時間で制御を行ってもよい。あるいは、上記の露光を連続的に入射角を変化させながら行う場合には、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度変化の速度に制御を加えて行ってもよい。
【００７０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、多光子の干渉を利用した多光子干渉露光装置を提供することができる。
【００７１】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例の光学系の概要を示す図である。
【図２】従来の露光装置の概要を示す図である。
【図３】従来の多光子干渉露光装置の概要を示す図である。
【符号の説明】
１：露光光源、２：非線形光学素子、３ａ，３ｂ：反射鏡、４：半透過鏡、５ａ，５ｂ：光干渉用反射鏡、６ａ，６ｂ：反射鏡制御装置、７ａ，７ｂ：光路、８ａ，８ｂ：光路、９：位相変調素子、１０：位相変調素子ドライバ、１１：パターン記憶装置、１２：強度・位相計算装置、１３：同期制御装置、１４：ウエハステージ、１５：ウエハステージ制御装置、１６：ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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