(57)【要約】【課題】２０ｎｍ程度の高空間分解能をもつ磁性探針を作製し、ひいては従来の記録密度よりも高記録密度な磁気記録媒体を作製すること。【解決手段】磁性探針の先端部分に磁性合金（特に、アモルファス合金材料）からなる磁性体を設けた場合に、その磁性合金を構成する希土類金属と３ｄ遷移金属との組成比を、補償組成比若しくはその補償組成比の近傍領域内の組成比に収まるように設定した。【選択図】        図２
2004347435.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体に記録された磁気情報の検出に用いられる磁性探針であって、
少なくとも探針先端部を、希土類金属と３ｄ遷移金属との合金材料からなる磁性体により構成し、
前記磁性体の合金材料の組成比は、補償組成比若しくは該補償組成比の近傍領域内に設定されていることを特徴とする磁気力顕微鏡用の磁性探針。
【請求項２】
前記希土類金属は、サマリウム（Ｓｍ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ディスプロジウム（Ｄｙ）、ホロミウム（Ｈｏ）のうち、少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１記載の磁気力顕微鏡用の磁性探針。
【請求項３】
前記３ｄ遷移金属は、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）のうち、少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１又は２記載の磁気力顕微鏡用の磁性探針。
【請求項４】
前記磁性体は、母材の非磁性体の表面上に前記希土類金属と前記３ｄ遷移金属とを所定の組成比で成膜することにより、アモルファス合金として構成したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気力顕微鏡用の磁性探針。
【請求項５】
前記磁性体を構成する合金の組成比は、
前記磁気記録媒体に記録された磁気情報の最小磁気構造を識別するための空間分解能が約２０ｎｍ以下となるように、前記補償組成比の近傍範囲内に設定したことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の磁気力顕微鏡用の磁性探針。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気力顕微鏡用探針に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、磁気テープや磁気ディスク等の磁気記録媒体に記録された磁気情報は、その媒体製作時においてエラー等が発生していないかを検査する必要がある。
【０００３】
その磁気情報の検査方法の１つとして、磁気情報に対応した磁化パターンを測定する磁気力顕微鏡が用いられている。この磁気力顕微鏡は、走査型プローブ顕微鏡の一つであり、その測定は、強磁性材料を有する磁性探針を磁化し、その先端を検査用測定媒体である磁性体試料に近付け、磁性探針と磁性体材料との間に働く磁気的相互作用を直接検出することによって行われる。すなわち、その磁性探針を媒体面内方向に走査しながら磁気的相互作用を検出し、磁化パターン等を画像化して解析することによって検査がなされる。
【０００４】
上記磁性探針は、一般的に、ピラミッド型の四角錐形状を有しており、非磁性体材料よりなる探針先端に強磁性材料の薄膜を施したもの、又は、強磁性体材料を探針形状に加工して取り付けたもの等がある。
【０００５】
また、強磁性材料は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、希土類元素、あるいはこれらを含む磁性材料が知られており（例えば、特許文献１参照）、特に、コバルト（Ｃｏ）−クロム（Ｃｒ）−白金（Ｐｔ）系合金等が一般的となっている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００６】
さらに、テルビウム（Ｔｂ）−鉄（Ｆｅ）合金材料からなる磁性探針において、材料組成に対する飽和磁化（Ｍｓ）と保磁力（Ｈｃ）との関係が述べられている（例えば、非特許文献２参照）。
【０００７】
【特許文献１】
特開平３−９６８５６号公報
【０００８】
【非特許文献１】
Ｄ．Ｒｕｇａｒ，Ｈ．Ｊ．Ｍａｍｉｎ，Ｐ．Ｇｕｅｔｈｎｅｒ，Ｓ．Ｅ．Ｌａｍｂｅｒｔ，Ｊ．Ｅ．Ｓｔｅｍ，Ｉ．ＭｃＦａｄｙｅｎ，ａｎｄ  Ｔ．Ｙｏｇｉ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．６８（３），１１６９−１１８３（１９９０）
【０００９】
【非特許文献２】
Ｎ．Ｉｍａｍｕｒａ，  Ｙ．Ｍｉｍｕｒａ  ａｎｄ  Ｔ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉ，ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．１５，１７９−１８０（１９７６）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従来、磁気力顕微鏡に用いられている磁性探針の空間分解能は、約３０ｎｍといわれている。しかし、昨今の急激な高記録密度化が進んでいる磁気ディスク装置等においては、その従来の３０ｎｍ程度の空間分解能に対応した１００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２の面記録密度よりもさらなる高記録密度な磁気記録媒体の作製が望まれている。
【００１１】
そして、従来の１００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２の面記録密度よりもさらに高記録密度な面記録密度、例えば、２００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２をもつ磁気記録媒体の作製を達成するためには、磁気情報１ビット（Ｂｉｔ）のビット長を従来の約３０ｎｍから約２０ｎｍにまで短くしなければならないといわれている。
【００１２】
そのビット長が約２０ｎｍの磁気記録媒体の磁化パターンを正確に検査測定するためには、そのビット長に対応した２０ｎｍ程度の磁性探針の作製が必要不可欠となる。
【００１３】
しかし、従来の磁気力顕微鏡に用いられている磁性探針の空間分解能はせいぜい３０ｎｍ程度に留まっており、約２０ｎｍのビット長の磁化パターンを測定するために必要となる２０ｎｍ程度の高空間分解能をもつ磁性探針は存在していない。
【００１４】
以上のような理由から、現状では、そのような２０ｎｍ程度の高空間分解能な磁性探針を作製することが必要不可欠で、かつ、重要な課題となっている。
【００１５】
そこで、本発明の目的は、２０ｎｍ程度の高空間分解能をもつ磁性探針を作製し、ひいては従来の記録密度よりも高記録密度な磁気記録媒体を作製することが可能な、磁気力顕微鏡用の磁性探針を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、磁気記録媒体に記録された磁気情報の検出に用いられる磁性探針であって、少なくとも探針先端部を、希土類金属と３ｄ遷移金属との合金材料からなる磁性体により構成し、前記磁性体の合金材料の組成比を、補償組成比若しくは該補償組成比の近傍領域内に設定することによって、磁気力顕微鏡用の磁性探針を構成する。
【００１７】
ここで、前記希土類金属は、サマリウム（Ｓｍ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ディスプロジウム（Ｄｙ）、ホロミウム（Ｈｏ）のうち、少なくとも一つを含むようにしてもよい。
【００１８】
前記３ｄ遷移金属は、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）のうち、少なくとも一つを含むようにしてもよい。
【００１９】
前記磁性体は、母材の非磁性体の表面上に前記希土類金属と前記３ｄ遷移金属とを所定の組成比で成膜することにより、アモルファス合金として構成してもよい。
【００２０】
前記磁性体を構成する合金の組成比は、前記磁気記録媒体に記録された磁気情報の最小磁気構造を識別するための空間分解能が約２０ｎｍ以下となるように、前記補償組成比の近傍範囲内に設定してもよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
［第１の例］
本発明の第１の実施の形態を、図面に基づいて説明する。
（構成）
磁気力顕微鏡に用いられる磁性探針は、少なくともその先端部分に、希土類金属と３ｄ遷移金属との合金材料（特にアモルファス合金）からなる磁性体が設けられている。この磁性体を構成する合金材料の組成比は、図２に示すように、補償組成比若しくはその補償組成比の近傍領域Ｑ内の組成比に設定されている。
【００２２】
このアモルファス合金を含む合金材料はフェリ磁性体であるため、補償組成比の近傍において非常に小さな飽和磁化（Ｍｓ）と、非常に大きな保磁力（Ｈｃ）とを示す。
【００２３】
ここでいう補償組成比とは、Ｍｓが最小となり、かつ、Ｈｃが最大となる組成比のことをいう。従って、補償組成比の近傍領域とは、Ｍｓが低く、かつ、Ｈｃ大きく、空間分解能が極めて良い組成領域であることを意味する。
【００２４】
以下、具体例を挙げて説明する。
（試作例１）
図１は、磁気力顕微鏡用の磁性探針の概略構成を示す。図１（ａ）は側面図、図１（ｂ）は探針先端部からみた底面図である。
【００２５】
磁性探針は、カンチレバー１と、先端部に位置する探針部２とからなる。探針部２は、母材として例えばシリコン等の非磁性材料からなる。
【００２６】
試作例１について説明する。非磁性材料からなる探針部２上に、イオンスパッタ法により、テルビウム（Ｔｂ）−コバルト（Ｃｏ）合金（ここでは、アモルファス強磁性合金という）からなる磁性体１０の薄膜を、その補償組成比の近傍領域の組成比にて、２０ｎｍの厚さで形成した。
【００２７】
磁性体１０としてのアモルファス強磁性合金の薄膜上に、その保護膜として、イオンスパッタ法により、タンタル（Ｔａ）薄膜を６ｎｍの厚さで形成した。
【００２８】
最後に、タンタル（Ｔａ）薄膜の上に、耐磨耗特性の向上を目的として、イオンスパッタ法により、炭素（Ｃ）薄膜を４ｎｍの厚さで形成した。
【００２９】
このようにして構成された磁性探針に対して、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて各種磁化特性として、飽和磁化（Ｍｓ）、保磁力（Ｈｃ）を測定した。
【００３０】
図２は、飽和磁化（Ｍｓ）、保磁力（Ｈｃ）、空間分解能（Ｒｅ）の測定結果を示す。
【００３１】
本発明に係る測定値として、飽和磁化（Ｍｓ）は２００（ｅｍｕ／ｃｃ）、保磁力（Ｈｃ）は４５００（Ｏｅ）であった。なお、このときの空間分解能（Ｒｅ）は１９．３ｎｍであるが、これについては別途後述する。
【００３２】
比較例として、同様の磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、ＣｏＣｒＰｔ系合金材料を、２０ｎｍの厚さで薄膜として形成した。さらに、その合金材料からなる薄膜上に、試作例１と同様にタンタル（Ｔａ）薄膜、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００３３】
このように構成された比較例の磁性探針に対して、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）により、飽和磁化（Ｍｓ）、保磁力（Ｈｃ）を測定した。
【００３４】
その測定結果は、飽和磁化（Ｍｓ）は４００（ｅｍｕ／ｃｃ）、保磁力（Ｈｃ）は３５００（Ｏｅ）であった。
【００３５】
なお、磁性探針の作製方法として、本例では、母材である非磁性材料の表面にスパッタリングにより成膜することによりアモルファス強磁性合金からなる磁性体を作製する例について述べたが、これに限るものではなく、希土類金属と３ｄ遷移金属との合金材料の組成比が補償組成比の近傍領域内に収まるように設定できればよいので、真空蒸着法等の他の製法を用いて作製してもよい。
【００３６】
また、本例では、母材表面に成膜することにより磁性体を作製する例について述べたが、これに限るものではなく、アモルファス強磁性合金等からなる磁性体を別個に単体として予め作製しておき、この単体を磁性探針の先端部に取り付けるような構成してもよい。
【００３７】
（空間分解能）
次に、空間分解能の測定原理を示す。
【００３８】
図３は、磁気力顕微鏡用の磁性探針の配置関係を示す。上記の試作例１および比較例の磁性探針を電磁石４により発生した２００００（Ｏｅ）の磁場内に置き、その磁性探針の探針部２の軸方向に着磁を行うことにより、最終的な磁気力顕微鏡用の磁性探針とした。
【００３９】
そして、空間分解能の測定を行うために、ＡＣ消磁を施した垂直磁気記録媒体を３×３μｍの媒体領域で、その磁気力顕微鏡により磁気分布の観察を行った。
【００４０】
この観察で得られた磁気分布に対応した像にフーリエ変換を施し、変換された２次元スペクトルから１次元スペクトルを抽出した。この１次元スペクトルにおいて、ある波数以上の強度は一定値となる。すなわち、ノイズレベル以下となり、磁気的な情報が失われたことを意味する。この波数に対する波長の半波長を空間分解能という。
【００４１】
図４は、１次元スペクトルの強度と波数との関係を示す。
【００４２】
波形１００は、典型的なＭＦＭ（Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ＦＭ）像の２Ｄ−ＦＦＴ（Ｆｉｒｓｔ  Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ）処理によるパワースペクトラム（Ｐｏｗｅｒ  Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）から得られたプロファイルである。
【００４３】
横軸の波数は、周期構造を表している。ノイズレベルに対応する周波数成分は、ホワイトノイズ等の磁気情報を含まない周期成分である。従って、磁気構造の周期成分がノイズの周期成分以下の強度となる波数以上では、磁気情報を取り出すことができない。そこで、磁気構造強度＝ノイズ強度となる波数が空間分解能に対応することになる。
【００４４】
しかし、本例で用いている試料は垂直磁気記録媒体をＡＣ消磁したものであるため、試料の磁化方向は試料面に対してほとんどが上下の２方向に向いている。従って、１つの周期には２つの磁化方向を含んでいると考えられるので、磁気構造強度＝ノイズ強度となる波数の１／２を検出可能な最小の磁気構造単位、すなわち空間分解能として定義する。
【００４５】
図５は、試作例１、比較例に関する、空間分解能２００の測定結果を示す。
【００４６】
本発明である試作例１の空間分解能は、１９．３ｎｍである。これに対して、従来に相当する比較例の空間分解能は、３２．３ｎｍである。
【００４７】
この比較結果から、本発明に係るアモルファス合金からなる磁性体が設けられた磁気力顕微鏡用の磁性探針においては、空間分解能が従来に比べて一段と向上しているのがわかる。
【００４８】
また、図２に示したように、空間分解能（Ｒｅ）が１９．３ｎｍの値は、補償組成比に相当する位置Ｐ（Ｔｂの組成量をｘとするとき、ｘ≒０．２１５）を含むその近傍領域Ｑ内に収まっている。
【００４９】
ここでいう近傍領域Ｑとは、アモルファス強磁性合金の組成比が、空間分解能（Ｒｅ）にして約２０ｎｍ以下となるような組成領域（すなわち、０．１６≦ｘ≦０．２５）である。従って、アモルファス強磁性合金の組成比が補償組成比の近傍領域Ｑ内に収まっていると、高空間分解能を維持していることを意味する。
【００５０】
以上より、磁性探針の少なくともその先端部分に施される、希土類金属と３ｄ遷移金属とからなるアモルファス合金の組成比を、補償組成比の近傍領域Ｑ内の組成比に設定することにより、磁気力顕微鏡の空間分解能を２０ｎｍ以下とすることができる。
【００５１】
（利点）
ここで、空間分解能を２０ｎｍ以下とした利点についてまとめる。
【００５２】
利点１）磁気力顕微鏡用の磁性探針に設ける磁性体（特に、アモルファス合金材料からなる磁性体）の飽和磁化（Ｍｓ）を小さくすることにより、磁性探針と磁性体試料との間に働く磁気的相互作用を低減することができる。その結果、磁性探針と磁性体試料との間の距離をさらに近接させることができるため、空間分解能を従来に比べて格段に向上させることができる。
【００５３】
利点２）強磁性材料の保磁力（Ｈｃ）を高めることにより、磁性体から漏洩する磁場の影響を受け難くなるため、常に安定した磁化パターンの測定を行うことができる。特に、空間分解能２０ｎｍ以下の磁気パターンの評価に対応することが可能となるため、常に安定した磁気分布の観察を行うことができる。その結果、磁気力の測定精度を一段と向上させることができる。
【００５４】
以上の利点１，２から、下記の結論を得ることができる。
図６は、磁気記録媒体２００におけるビット長Ｌとビット幅Ｗとの関係を示す。図７は、記録密度２１０、ビット長２２０、ビット幅２３０を、従来例と比較して示す。
【００５５】
従来、磁性探針による空間分解能は約３０ｎｍと言われ、このとき、ビット長はＬｏ＝約３０ｎｍ、ビット幅はＷｏ＝約２００ｎｍであった。このため、磁気記録媒体２００の面記録密度は、１００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２が限界であった。
【００５６】
しかし、本発明により空間分解能を約２０ｎｍにまで向上させることが可能となった。これにより、ビット長Ｌ＝約２０ｎｍ、ビット幅Ｗ＝約１４０ｎｍとして、ビット長さ・ビット幅共に３割ずつ短縮させることができる。これにより、面記録密度＝２００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２とすることができ、従来に比べて面記録密度を倍増させることができる。
【００５７】
以上述べたように、１Ｂｉｔのビット長を約２０ｎｍとし、２００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２の面記録密度を達成することができたということは、磁気テープや磁気ディスク装置等の分野において極めて重要な意義をもつことになり、高記録密度化を一段と向上させることができる。また、これにより、磁気テープや磁気ディスク等の磁化パターンの測定をさらに一段と精密に行うことが可能となる。
【００５８】
（変形例）
次に、磁性探針の変形例について説明する。
【００５９】
図８は、磁性探針をその四角錐の先端方向から見た図である。前述した例では、図１（ｂ）に示したようにカンチレバー１も含めて全面に磁性体１０の合金材料がコーティング又は取付けられていたが、このように探針部２の先端部のみに磁性体１０を薄膜として形成するか若しくは取付けるようにしてもよい。このようにカンチレバー１の全面から先端部のみに設けることにより、以下のような作用効果を有する。
【００６０】
磁性探針の全面に磁性材料が存在する場合、磁性探針と試料との磁気力相互作用は探針先端を含む広い部分からの漏洩磁場の影響を受ける。従って、漏洩磁場の影響を極力少なくするために、磁性探針の先端部のみに磁性材料が存在した方がよく、究極は先端部を点磁気双極子若しくは点磁極として構成した方がよい。すなわち、磁性探針に形成する磁性材料は、先端部のより小さい領域のみ存在する方が、分解能が向上することになる。このような理由から、図８に示したように、探針部２の先端部のみに磁性体２０を設けた。
【００６１】
［第２の例］
次に、本発明の第２の実施の形態を、図５に基づいて説明する。なお、前述した第１の例と同一部分についてはその説明を省略し、同一符号を付す。
【００６２】
本例では、磁性合金材料としての磁性体１０の希土類金属と３ｄ遷移金属との組成比の割合を変えた場合の例である。
【００６３】
以下、試作例２〜試作例１０の作成例について説明する。
（試作例２）
試作例２として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、テルビウム（Ｔｂ）−鉄（Ｆｅ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００６４】
（試作例３）
試作例３として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、ディスプロジウム（Ｄｙ）−コバルト（Ｃｏ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００６５】
（試作例４）
試作例４として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、ディスプロジウム（Ｄｙ）−鉄（Ｆｅ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００６６】
（試作例５）
試作例５として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、ホロミウム（Ｈｏ）−コバルト（Ｃｏ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様にタンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００６７】
（試作例６）
試作例６として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、ホロミウム（Ｈｏ）−鉄（Ｆｅ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００６８】
（試作例７）
試作例７として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、ガドリニウム（Ｇｄ）−コバルト（Ｃｏ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００６９】
（試作例８）
試作例８として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、ガドリニウム（Ｇｄ）−鉄（Ｆｅ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００７０】
（試作例９）
試作例９として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、サマリウム（Ｓｍ）−コバルト（Ｃｏ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００７１】
（試作例１０）
試作例１０として、磁性探針の母材である非磁性材料上に、イオンスパッタ法により、サマリウム（Ｓｍ）−鉄（Ｆｅ）合金薄膜を、飽和磁化（Ｍｓ）が２００（ｅｍｕ／ｃｃ）となる組成比にて、試作例１と同様の厚さで形成した。その後、試作例１と同様に、タンタル（Ｔａ）薄膜、および、炭素（Ｃ）薄膜を形成した。
【００７２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、磁性探針の先端部分に磁性合金（特に、アモルファス合金材料）からなる磁性体を設けた場合、その磁性合金を構成する希土類金属と３ｄ遷移金属との組成比を、補償組成比若しくはその補償組成比の近傍領域内の組成比に収まるように設定したので、飽和磁化（Ｍｓ）が小さくなり、磁性探針と磁性体試料との間に働く磁気的相互作用を低減させ、磁性探針と磁性体試料との間の距離をさらに近接させることができ、これにより、磁気力顕微鏡の空間分解能を一段と向上させることが可能となり、ひていは従来不可能とされていた記録領域のさらなる高記録密度化を図ることができ、１Ｂｉｔのビット長が約２０ｎｍで、２００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２の面記録密度を有する磁気記録媒体を作製することができ、磁気テープや磁気ディスク装置の分野において極めて有効である。
【００７３】
また、本発明によれば、高い保磁力（Ｈｃ）を得ることができるので、常に安定した磁化パターンの測定を行うことが可能となり、これにより、磁気テープや磁気ディスク等の分野において信頼性の高い磁化パターンの測定を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態である、磁気力顕微鏡用の磁性探針の概略構成を示すものであり、（ａ）は側面図、（ｂ）は探針先端部からみた底面図である。
【図２】飽和磁化、保磁力、空間分解能の測定結果を示す説明図である。
【図３】磁気力顕微鏡用の磁性探針の配置関係を示す説明図である。
【図４】１次元スペクトルの強度と波数との関係を示す説明図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態および第２の実施の形態である、試作例１〜１０および比較例に関する空間分解能の測定結果を示す説明図である。
【図６】磁気記録媒体でのビット長とビット幅との関係を示す説明図である。
【図７】記録密度、ビット長、ビット幅を、従来例と比較して示す説明図である。
【図８】磁気力顕微鏡用の磁性探針の探針先端部からみた底面図である。
【符号の説明】
１  カンチレバー
２  探針部
３  磁場
４  電磁石
１０  磁性体
１００  波形
２００  磁気記録媒体
２１０  記録密度
２２０  ビット長
２３０  ビット幅
【図１】
2004347435.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2004347435.tif 000006
【図５】
2004347435.tif 000007
【図６】
2004347435.tif 000008
【図７】
2004347435.tif 000009
【図８】
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