(57)【要約】      （修正有）【課題】基板の表裏面をブラシによってスクラブする場合、円周方向へ流れ出たリンス液がローラーの回転力によって基板の方向に飛び散り、基板の表裏面に再付着するおそれのない基板処理装置を提供する。【解決手段】円板状をなした基板１を、その中心軸２が垂直となり、表面３が水平になる様に回転自在に処理槽１８内に軸架し、基板１を回転させつつスクラブ用のブラシ９によってその表面３及び裏面１０の全面をスクラブし、基板１に付着している汚れやパーティクル、スラリーなどを分離させ、基板１の回転によって生じる遠心力とリンス液の打力及び噴量とで洗い流すことによりこれらを基板１から除去する様にした基板処理装置において、基板１の半径方向外側に、モーター５から延設された駆動軸１２の軸端にローラー１３が同軸状に固定されている複数の駆動部材１１を、その駆動軸１２が基板１の半径方向を向く様にした。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円板状をなした基板１を、その中心軸２が垂直となり、表面３が水平になる様に回転自在に処理槽１８内に軸架し、基板１を回転させつつスクラブ用のブラシ９によってその表面３及び裏面１０の全面をスクラブし、基板１に付着している汚れやパーティクル、スラリーなどを分離させ、基板１の回転によって生じる遠心力とリンス液の打力及び噴量とで洗い流すことによりこれらを基板１から除去する様にした基板処理装置において、基板１の半径方向外側に、モーター５から延設された駆動軸１２の軸端にローラー１３が同軸状に固定されている複数の駆動部材１１を、その駆動軸１２が基板１の半径方向を向く様に放射状に配置し、ローラー１３の周端面１４を基板１の外縁に当接させ、複数のローラー１３の同期した回転によって基板１を回転させる様にしたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
ローラー１３の位置が微調整可能で、基板１の締め代が調整できる様になっていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
ローラー１３が基板１の半径方向に移動可能になっており、基板１のサイズ変更に対応して、サイズの異った基板１を回転させられることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
ローラー１３の基板１の外縁に接する部分がスポンジ製であることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項５】
スクラブ用のブラシ９がロールブラシであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項６】
スクラブ用のブラシ９がディスクブラシであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は円板状をなした基板の処理装置、詳しくは、半導体ウェーハやハードディスクなどの製造過程において、円板状をなした各種基板を洗浄処理する為の装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウェーハやハードディスクなどの製造の際には、円板状をなした基板の表面を清浄化する洗浄処理工程が存在するが、従来において、この洗浄処理は、図１に示す様な装置によって行われている。即ち、図中１は被処理物である円板状をなした基板であり、この基板１はその中心軸２が垂直となり、その表面３が水平となる様に、処理槽１８内に回転自在に軸架されている。
【０００３】
一方、図中４は、基板１を回転させる為の駆動部材であり、モーター５から延設された駆動軸６の軸端に同軸状にローラー７が取付けられたものであり、この駆動部材４は、その駆動軸６が基板１の中心軸２と平行で、なおかつそのローラー７が基板１の周端面８に当接する様に、基板１の半径方向外側に複数個配置されている。そして、ローラー７の回転により、基板１を回転させる様になっている。なお、図２はローラー７と基板１の周端面８との接触状態を示した部分拡大図である。又、図中９はスクラブ用のブラシであり、処理槽１８内において、基板１の表面側及び裏面側に設けられており、それ自身回転しながら基板１の表裏面をスクラブし、表裏面に付着している汚れやパーティクル、スラリーなどを除去する様になっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この様に構成された基板処理装置においては、基板１にリンス液をかけつつローラー７によって基板１を回転させ、スクラブ用のブラシ９によりその表面及び裏面の全面をスクラブし、基板１に付着している汚れやパーティクル、スラリーなどを分離させ、基板１の回転によって生ずる遠心力とリンス液の打力及び噴量とで洗い流すことにより、これらを基板１から除去し、表裏面を清浄化させていた。しかしながら、基板１の周端面８にはローラー７が当接しているので、基板１の表裏面から円周方向へ流動したリンス液の一部は、このローラー７に付着してしまい、ローラー７の高速回転によって発生する遠心力で飛び散り、再び基板１に戻されてしまい、リンス液に含まれたパーティクルや汚れ、スラリーなどが基板１の表裏面に再付着することがあった。
【０００５】
特に、基板１の回転数を上げようとして、ローラー７を高速回転させたとき、ローラー７からのリンス液の飛び散り、及びこれに伴う汚れやパーティクル、スラリーなどの基板１への再付着の現象が起こりやすく、ローラー７の高速回転には自ずと限界があった。一方、ローラー７の径を大きくすれば、それ程高速回転させなくとも基板１の回転数を大きくすることが出来るが、ローラー７は基板１の半径方向外側に、それぞれ回転軸が平行になる様に、並列した状態で配置されているので、ローラー７の径を大きくすると、設置床面積が増大し、処理槽１８が大型化してしまうという問題があった。
【０００６】
更に、それぞれの回転軸が平行になる様に並列状態で配置されていたので、径の異なる基板１にすばやく対応するのが困難で、軸芯位置の変更など面倒な調整作業が必要であった。
【０００７】
又、基板１は処理槽１８内の所定位置へ搬送機構によって自動搬送される様になっており、自動搬送の際には供給位置にバラツキが生じがちであるが、ローラー７は上述の様に基板１の外側に、これを取り囲む様に配置されているので、この供給位置のバラツキを許容する微調整機構の付設はかなりむずかしかった。
【０００８】
この発明は、円板状をなした基板１の洗浄作業の際の上記問題点を解決することを目的とするものであり、駆動用のローラーの回転に伴い、このローラーに付着していたリンス液などがローラーから飛び散ったとしても、基板の方向へは飛散せず、これに再付着するおそれが全くなく、又、基板の高速回転の為にローラーの径を大型化することも容易であり、更には、径の異る各種基板にも柔軟に対応でき、しかも、基板供給位置のバラツキに対応する為の微調整装置の付設も容易である基板処理装置を提供せんとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
円板状をなした基板１を、その中心軸２が垂直となり、表面３が水平になる様に回転自在に処理槽１８内に軸架し、基板１を回転させつつスクラブ用のブラシ９によってその表面３及び裏面１０の全面をスクラブし、基板１に付着している汚れやパーティクル、スラリーなどを分離させ、基板１の回転によって生じる遠心力とリンス液の打力及び噴量とで洗い流すことによりこれらを基板１から分離させる様にした基板処理装置において、基板１の半径方向外側に、モーター５から延設された駆動軸１２の軸端にローラー１３が同軸状に固定されている複数の駆動部材１１を、その駆動軸１２が基板１の半径方向を向く様に放射状に配置し、ローラー１３の周端面１４を基板１の外縁に当接させ、複数のローラー１３の同期した回転によって基板１を回転させる様にして、上記課題を解決せんとするものである。
【００１０】
【実施の形態】
図３はこの発明に係る基板処理装置の一実施形態の斜視図である。
【００１１】
図中１は被洗浄物である円板状をなした基板であり、その中心軸２が垂直となり、表面３が水平となる様に、処理槽１８内に回転自在に軸架されている。又、９はこの基板１の上方及び下方に位置したスクラブ用のブラシであり、基板１の表面３及び裏面１０に接触して回転しながら、それらに付着している汚れやパーティクル、スラリーなどを除去する様になっている。このスクラブ用のブラシ９はロールブラシ、ディスクブラシ、どちらでも良い。
【００１２】
一方、１１は駆動部材であり、モーター５から延設された駆動軸１２の軸端にはローラー１３が同軸状に固定されている。この実施の形態においては、ローラー１５は図４に示す様に、径の大きな大径部分１９の外側に径の小さな小径部分２０が同軸状に設けられた断面形状となっており、ローラー１５の基板１の外縁部分に接触する部分は吸水性及び柔軟性を有するスポンジによって構成されている。
【００１３】
そして、この駆動部材１１はその駆動軸１２が基板１の半径方向を向く様に、基板１の外側に複数個放射状に配置されており、図４に示す様に、そのローラー１３の小径部分２０の周端面１４は基板１の裏面１０の外縁に、大径部分１９の外側外縁１７は基板１の周端面８にそれぞれ当接している。
【００１４】
又、駆動部材１１は、異る外径の基板１にローラー１３を当接できる様にする為、基板１の半径方向に大きく移動できる様になっていると共に、基板１の供給位置のバラツキに対応する為、そのローラー１３の位置を微調整でき、基板１の締め代が調整出来る様になっている。この実施の形態は上記の通りの構成を有するものであり、駆動部材１１のローラー１３が図４に示す様に、基板１の外縁に当接した状態で、このローラー１３を同期させて回転させ、この状態で、基板１の表面３及び裏面１０の全面をスクラブ用のブラシ９でスクラブし、基板１に付着している汚れやパーティクル、スラリーなどを分離させ、基板１の回転により生じる遠心力とリンス液の打力及び噴量とでこれらを洗い流す。基板１の回転中はリンス液をかけ続けるので、基板１上にはリンス液が万遍なく乗っている状態であり、汚れやパーティクル、スラリーなどを含んだリンス液は基板１上を流動し、基板１の外縁に達したリンス液は基板１上から落ちて行く。このとき、このリンス液が基板１の外縁に接しているローラー１３に接触してこれに付着したとしても、ローラー１３の軸芯は、基板１の中心軸２と９０°変位した水平方向を向いており、ローラー１３は縦方向に回転するので、ローラー１３に付着したリンス液はその回転によって下方に向かって落下することになり、水平方向つまり基板１の方向に向かって飛び散ることはない。又、ローラー１３は基板１の下方に位置しているので、その径を大きくしても処理槽１８の床面積はほとんど変らず、径の大型化による基板１の高速回転化も可能であり、ローラー１３の低速回転化によるリンス液の飛び散りの減少及び基板１への再付着阻止を図ることができる。更に、ローラー１３は基板１の半径方向に移動可能状態で支持されているので、基板１の径に応じて自由にその位置を変更でき、様々なサイズの基板１に柔軟に対応することができる。又、駆動部材１１は基板１の下方に位置しており、従来のものの様に、基板１を取り囲む様にその周囲に平行に設けられていないのでローラー１３の位置の微調整機構の付設も容易であり、自動搬送装置による基板供給位置のバラツキにも十分対応することができる。更には、ローラー１３の基板１の外縁に接する部分はスポンジ材で構成されているので、ローラー１３が当接する基板１の外縁部分もこれによって洗浄され、清浄化させる。
【００１５】
【発明の効果】
以上述べた通り、本発明においては基板を回転させる為のローラーの回転方向が基板の回転方向と９０°変位しているので、ローラーに付着したリンス液などが飛び散っても、基板の方向に向かうことはなく、基板へのパーティクルなどの再付着のおそれはない。又、様々なサイズの基板にも柔軟に対応でき、ローラーの径の大型化による基板の高速回転化も可能である、などの効果を有し、すぐれた実用的価値を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の基板処理装置の一例の斜視図。
【図２】その要部である基板１とローラー７との位置関係を説明した部分拡大図。
【図３】この発明に係る基板処理装置の一実施形態の斜視図。
【図４】同じく、その要部である基板１とローラー１３との位置関係を説明した部分拡大図。
【符号の説明】
１    基板
２    中心軸
３    表面
４    駆動部材
５    モーター
６    駆動軸
７    ローラー
８    周端面
９    ブラシ
１０    裏面
１１    駆動部材
１２    駆動軸
１３    ローラー
１４    周端面
１７    外側外縁
１８    処理槽
１９    大径部分
２０    小径部分
【図１】
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【図２】
2004342820.tif 000004
【図３】
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【図４】
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