(57)【要約】【課題】熱を効率よく画像形成に利用することができ、高感度で耐刷性に優れ、かつ、非画像部の汚れの発生が抑制された平版印刷版原版およびそれに用いられる平版印刷版用支持体の提供。【解決手段】金属板に少なくとも陽極酸化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、前記陽極酸化処理によって形成された陽極酸化皮膜が、高空隙粒子を含有し、かつ、膜厚が０．３〜１０μｍである平版印刷版用支持体、および、前記平版印刷版用支持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な画像記録層を設けてなる平版印刷版原版。【選択図】図１
2004142177.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板に少なくとも陽極酸化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、前記陽極酸化処理によって形成された陽極酸化皮膜が、高空隙粒子を含有し、かつ、膜厚が０．３〜１０μｍである平版印刷版用支持体。
【請求項２】
前記陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率が０．８Ｗ／（ｍ・Ｋ）未満である請求項１に記載の平版印刷版用支持体。
【請求項３】
前記陽極酸化皮膜の空中水滴接触角が２０度以下である請求項１または２に記載の平版印刷版用支持体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の平版印刷版用支持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な画像記録層を設けてなる平版印刷版原版。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平版印刷版用支持体および平版印刷版原版に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、画像形成技術の発展に伴い、細くビームを絞ったレーザー光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させ、フィルム原稿を用いず直接製版する技術が注目されている。
このような画像形成材料としては、感熱層中に存在する赤外線吸収剤がその光熱変換作用を発現し露光により発熱し、その熱により感熱層の露光部分がアルカリ可溶化しポジ画像を形成するいわゆるサーマルタイプのポジ型平版印刷版原版や、その熱によりラジカル発生剤や酸発生剤がラジカルや酸を発生させ、それによりラジカル重合反応や酸架橋反応が進行して不溶化しネガ型画像を形成するサーマルタイプのネガ型平版印刷版原版が挙げられる。即ち、このようなサーマルタイプの画像形成においては、レーザー光照射によって感熱層中で光熱変換物質により熱が発生してその熱が画像形成反応を引き起こすのである。
【０００３】
しかしながら、金属支持体では、支持体の熱伝導率が感熱層に比べ極めて高いため、感熱層と支持体との界面付近で発生した熱は、画像形成に十分使用されないうちに支持体内部に拡散してしまい、その結果、感熱層支持体界面では次のようなことが起こる。
【０００４】
まず、ポジ型感熱層においては、熱が支持体内部に拡散してアルカリ可溶化反応が不十分となると、本来の非画像部分に残膜が発生してしまうという低感度の問題があり、これはポジ型感熱層の本質的問題となっている。
また、このようなサーマルポジタイプの平版印刷版原版においては、光熱変換機能を有する赤外線吸収剤が必須であるが、これらは分子量が比較的大きいため溶解性が低く、また、一般にマイクロポアと称される、陽極酸化処理により生じた表面の細孔径が１０〜１００ｎｍ程度のミクロな細孔の内部に吸着して除去されにくいため、アルカリ現像液による現像工程において、感熱層成分の一部が残留してしまう残色現象、感熱層が残留してしまう残膜現象等の印刷版の耐汚れ性、検版性等を悪化させる原因が発生しやすいという問題もある。
【０００５】
一方、ネガ型感熱層においては、熱が支持体内部に拡散して感熱層支持体界面付近での感熱層の現像液不溶化が不十分になると、本来画像部となるべき部分で画像が十分に形成できずに現像時に流れてしまうという問題や、たとえ画像様に形成できたとしても印刷時に容易に画像がはく離してしまい、耐刷性が悪くなるという問題がある。
【０００６】
また、近年、露光後、そのまま印刷機に装着して印刷することができる平版印刷版原版について、多数の研究がなされ、種々の提案がなされている。例えば、熱による微粒子の合体で画像を形成する平版印刷版原版が提案されている。
しかしながら、そのような平版印刷版原版においては、金属支持体に熱が逃げるため感度が低いという問題や、微粒子の合体が不十分である場合、感熱層の画像部の強度が弱くなるために、耐刷性が不十分となるという問題があった。
【０００７】
これらの問題に対処するため、感熱層で発生した熱が金属支持体に拡散することを抑制する観点から、陽極酸化皮膜のマイクロポアを大きくする試みがなされている。
また、同様の観点から、金属板に陽極酸化皮膜を設けてなる金属支持体を、熱水または無機塩もしくは有機塩を含む熱水溶液へ浸せきさせる方法、水蒸気浴に曝す方法等によって、マイクロポアを封孔する試みがなされている。
しかしながら、陽極酸化皮膜のマイクロポアを大きくする方法では、感度および耐刷性は向上するが、耐汚れ性が劣化してしまう。一方、マイクロポアを封孔する方法では、耐汚れ性は向上するが、感度および耐刷性が劣化してしまう。したがって、いずれにおいても、十分満足のいくレベルには到達できていない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明は、熱を効率よく画像形成に利用することができ、高感度で耐刷性に優れ、かつ、非画像部の汚れの発生が抑制された平版印刷版原版およびそれに用いられる平版印刷版用支持体を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、鋭意検討の結果、平版印刷版用支持体において、陽極酸化処理によって形成される陽極酸化皮膜に、高空隙粒子を含有させることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。
【００１０】
即ち、本発明は、以下の（１）〜（４）を提供する。
【００１１】
（１）金属板に少なくとも陽極酸化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、前記陽極酸化処理によって形成された陽極酸化皮膜が、高空隙粒子を含有し、かつ、膜厚が０．３〜１０μｍである平版印刷版用支持体。
【００１２】
（２）前記陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率が０．８Ｗ／（ｍ・Ｋ）未満である上記（１）に記載の平版印刷版用支持体。
【００１３】
（３）前記陽極酸化皮膜の空中水滴接触角が２０度以下である上記（１）または（２）に記載の平版印刷版用支持体。
【００１４】
（４）上記（１）〜（３）のいずれかに記載の平版印刷版用支持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な画像記録層を設けてなる平版印刷版原版。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明を詳細に説明する。
［平版印刷版用支持体］
＜金属基体＞
本発明の平版印刷版用支持体に用いられる金属基体は、特に限定されず、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ等のいわゆるバルブ金属を主成分とする陽極酸化処理可能な金属板が挙げられる。中でも、アルミニウムが好ましい。以下、本発明の平版印刷版用支持体に用いられる金属基体として、アルミニウム板を例に挙げて説明するが、本発明はこれに限定されない。
【００１６】
本発明の平版印刷版用支持体を得るためには公知のアルミニウム板を用いることができる。本発明に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板を用いることもできる。
【００１７】
本明細書においては、上述したアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる各種の基板をアルミニウム板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれてもよい異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等があり、合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。
また、ＤＣ鋳造法によるアルミニウム鋳塊からのアルミニウム板であっても、連続鋳造法によるアルミニウム鋳塊からのアルミニウム板であってもよい。
【００１８】
アルミニウム板の厚さは、０．０５〜０．６ｍｍであるのが好ましく、０．１〜０．４ｍｍであるのがより好ましく、０．１５〜０．３ｍｍであるのが更に好ましい。
【００１９】
＜粗面化処理＞
本発明においては、アルミニウム板の表面に陽極酸化処理を施す前に、粗面化処理を施すのが好ましい。粗面化処理を施すことにより、平版印刷版用支持体の表面積を増大させ、画像記録層と支持体との密着性を向上させ、耐刷性を向上させることができる。
【００２０】
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法（機械的粗面化処理）、電気化学的に表面を溶解させる方法（電気化学的粗面化処理）、化学的に表面を溶解させる方法（化学的粗面化処理）により行われる。これらの粗面化処理は、２種以上を組み合わせてもよい。
機械的粗面化処理方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、化学的粗面化処理方法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸せきさせる方法が好適に挙げられる。また、電気化学的粗面化処理方法としては、例えば、塩酸電解液中または硝酸電解液中で交流または直流により電解する方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているように、混酸を用いることもできる。
【００２１】
これらの粗面化処理は、アルミニウム板の表面の平均粗さ（Ｒａ　）が、０．３〜１．０μｍとなるように施されるのが好ましい。
【００２２】
＜陽極酸化処理＞
このようにして粗面化処理を施されたアルミニウム板は、所望により、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液によるアルカリエッチング処理、中和処理を経て、陽極酸化処理を施され、平版印刷版用支持体とされる。
【００２３】
本発明においては、陽極酸化処理によって形成された陽極酸化皮膜が高空隙粒子を含有することを特徴とする。陽極酸化皮膜が高空隙粒子を含有することにより、陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率が低くなるため、熱を効率よく画像形成に利用することができ、得られる平版印刷版原版の感度が優れたものとなる。
【００２４】
陽極酸化皮膜に含有される高空隙粒子は、特に限定されないが、例えば、中空粒子、多孔質粒子が挙げられる。
【００２５】
中空粒子は、特に限定されず、無機および有機の中空粒子を用いることができる。具体的には、例えば、中空シリカ、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｃｅｒａｍｉｃ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ（以下「ＪＣＳＪ」という。），１１０（４），３０４−３０９（２００２）に記載されている球状メソポーラスシリカ、ＪＣＳＪ，１１０（３），１４６−１４８（２００２）に記載されているアルミナ中空粒子、各種の中空樹脂が挙げられる。また、市販品としては、例えば、工業材料１９９４年１２月号（ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．１５，ｐ．１１２−１１６）に記載されている球状シリカフィラー、工業材料１９９４年１２月号（ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．１５，ｐ．１１７−１２１）に記載されている超微粒シラスバルーン、工業材料１９９４年１２月号（ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．１５，ｐ．１２２−１２５）に記載されているガラス微小中空球体が挙げられる。
中空粒子の粒径は、０．１〜１０μｍであるのが好ましい。また、中空粒子の空隙率は、１０〜９０％であるのが好ましい。
また、中空粒子を含有させることにより、陽極酸化皮膜の強度および親水性を向上させるためには、比較的硬質で、かつ、親水性の高い中空粒子を用いるのが好ましい。
【００２６】
多孔質粒子は、特に限定されず、無機および有機の多孔質粒子を用いることができる。具体的には、例えば、多孔質シリカ、多孔質アルミノシリケート、コロイダルシリカ（日産化学工業社製のＹＬ等）、吸水性ポリマー（住友精化社製のアクアキープ、ポリアクリル酸塩系高吸水性樹脂等）、親水性ゲル粒子（日本ゼオン社製のニポールＵ４０００系等）が挙げられる。
多孔質粒子の粒径は、０．１〜１０μｍであるのが好ましい。また、多孔質粒子は、後述する細孔容積が０．５〜５ｍＬ／ｇであるのが好ましい。
【００２７】
以下に細孔容積の算出方法について述べる。
細孔容積は、多孔質粒子の細孔径および比表面積から、下記式により求められる。
【００２８】
Ｖ＝Ｄ／４００００×ＳＡ
【００２９】
Ｖ：細孔容積（ｍＬ／ｇ）、Ｄ：細孔径（Å）、ＳＡ：比表面積（ｍ２　／ｇ）
【００３０】
なお、多孔質粒子の比表面積は、例えば、流動式比表面積自動測定装置（例えば、フローソーブＩＩＩ２３０５、島津製作所社製）を用いて、１０５℃で１．５時間Ｎ２　ガスを吸着させる条件で、ＢＥＴ１点法により求めることができる。
通常の球状コロイダルシリカは、細孔容積が０．２ｍＬ／ｇであるが、多孔質シリカは、一般に細孔容積が０．５〜２．０ｍＬ／ｇである。
【００３１】
陽極酸化皮膜が高空隙粒子を含有させる方法は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、高空隙粒子を含有する電解液を用いて、金属板に陽極酸化処理を施す方法が挙げられる。具体的には、例えば、特開２００２−１６１３９７号公報に記載されている方法を用いることができる。
高空隙粒子を含有する電解液を用いる方法では、高空隙粒子として、表面が負に帯電しているものを用いるのが好ましい。高空隙粒子の表面が負に帯電していると、陽極酸化処理において、高空隙粒子が電気泳動によって陽極に泳動すると考えられる。
【００３２】
高空隙粒子の帯電状態は、ゼータ電位測定により知ることができる。具体的には、例えば、電気泳動レーザー光散乱光度計（例えば、大塚電子社製のＥＬＳ−８００）を用いて、常温、８０Ｖの電場中で、ヘテロダイン法により、ゼータ電位測定を行うことができる。
【００３３】
「新実験化学講座１８　界面とコロイド」（社団法人　日本化学会）の「５　コロイド分散系の調整と観察」に記載されているように、一般にコロイド分散液にはあるｐＨで等電位点（無電荷点）が存在し、等電位点近傍では、粒子間の静電力による反発がなくなるので、凝集、ゲル化等が起こり、不安定となることが知られている。コロイド分散液のｐＨを等電位点よりアルカリ側に調整することにより、コロイド分散液中のＯＨ−　イオンが増加するので、粒子表面もＯＨ−　によって負に帯電するものと推定される。
【００３４】
等電位点は一般にｐＨ６〜９の中性近傍であるので、陽極酸化処理に用いられる電解液は、中性からアルカリ性であるのが好ましい。一方、中性近傍の電解液は、水酸化物が析出して皮膜抵抗が増加するため、電流が流れにくくなるので、膜厚０．１μｍ以上の陽極酸化皮膜を得ることは困難となる。ただし、中性からアルカリ性の電解液を用いる場合であっても、電解液のｐＨを適当に調整することで、厚い陽極酸化皮膜を得ることができる。
【００３５】
本発明においては、陽極酸化皮膜の膜厚は、０．３μｍ以上、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上であり、また、１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下である。膜厚が厚すぎると、電解粗面化処理により生じた粗面（砂目）が乱れて耐刷性が悪化する場合がある。また、膜厚が薄すぎると、熱が陽極酸化皮膜から支持体内部に拡散しやすくなるため、感度が悪化したり、ネガ型の平版印刷版原版においては耐刷性が悪化したりする場合がある。
【００３６】
なお、本発明において、陽極酸化皮膜の膜厚とは、図１に示すように、陽極酸化皮膜の高空隙粒子が表面から突出していない部分の厚さを意味する。図１は本発明の平版印刷版用支持体の模式的な断面図である。図１において、１０は平版印刷版用支持体、１２は金属基体、１４は陽極酸化皮膜、１６は酸化された金属基体、１８は高空隙粒子である。
【００３７】
陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定されえないが、所望の陽極酸化皮膜量となるように調整される。好適な陽極酸化処理の条件は、具体的には、以下のとおりである。
電解液としてアルカリ水溶液を用いる場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ストロンチウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、ケイ酸ナトリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸アンモニウム、炭酸リチウム、アルミン酸ナトリウム、シュウ酸ナトリウム等の１種または２種以上を含有する水溶液が好適に挙げられる。アルカリ水溶液は、ｐＨ９〜１３であるのが好ましく、ｐＨ１１．５〜１２．５であるのがより好ましい。アルカリ水溶液への浸せき時間は、０．５〜６０分であるのが好ましく、１〜３０分であるのがより好ましい。アルカリ水溶液の温度は、１０〜９０℃であるのが好ましく、１５〜７０℃であるのがより好ましい。アルカリ水溶液の温度が高いと、塩化ビニル等の配管等に一般的に多用される安価な装置材料が使いにくくなる。その一方で、温度が高いほど、液抵抗が低下し、多くの電流を流すことができ、生産効率が向上する。アルカリ水溶液の温度を低くするためには、冷却システムが必要になる。これらの点で、アルカリ水溶液の温度は、３０〜７０℃であるのが最も好ましい。
また、電解液として、酸水溶液およびアルカリ水溶液を用いて、２段電解による陽極酸化処理を施してもよい。
電解液の固形分濃度は、特に限定されないが、５〜２０質量％であるのが好ましい。
【００３８】
このようにして得られる陽極酸化皮膜は、膜厚方向の熱伝導率が０．８Ｗ／（ｍ・Ｋ）未満であるのが好ましく、０．６Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのがより好ましく、０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが更に好ましい。上記範囲であると、感度がより優れたものになる。
【００３９】
以下、本発明で規定する陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率について説明する。
薄膜の熱伝導率測定方法としては種々の方法がこれまでに報告されている。１９８６年にはＯＮＯらがサーモグラフを用いて薄膜の平面方向の熱伝導率を報告している。また、薄膜の熱物性の測定に交流加熱方法を応用する試みも報告されている。交流加熱法はその起源を１８６３年の報告にまでさかのぼることができるが、近年においては、レーザーによる加熱方法の開発やフーリエ変換との組み合わせにより様々な測定法が提案されている。レーザーオングストローム法を用いた装置は実際に市販もされている。これらの方法はいずれも薄膜の平面方向（面内方向）の熱伝導率を求めるものである。
【００４０】
しかし、薄膜の熱伝導を考える際にはむしろ深さ方向への熱拡散が重要な因子である。種々報告されているように薄膜の熱伝導率は等方的でないといわれており、特に本発明のような場合には直接、膜厚方向の熱伝導率を計測することが極めて重要である。このような観点から薄膜の膜厚方向の熱物性を測定する試みとしてサーモコンパレータを用いた方法がＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，６６（９）（１　Ｎｏｖｅｍｂｅｒ　１９８９））およびＨｅｎａｇｅｒらの論文（ＡＰＰＬＩＥＤ　ＯＰＴＩＣＳ，Ｖｏｌ．３２，　Ｎｏ．１（１　Ｊａｎｕａｒｙ　１９９３））で報告されている。更に、近年、ポリマー薄膜の熱拡散率をフーリエ解析を適用した温度波熱分析により測定する方法が橋本らによって報告されている（Ｎｅｔｓｕ　Ｓｏｋｕｔｅｉ，２７（３）（２０００））。
【００４１】
本発明で規定する陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率は、上記サーモコンパレータを用いる方法で測定される。以下、上記方法を具体的に説明するが、上記方法の基本的な原理については、上述したＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文およびＨｅｎａｇｅｒらの論文に詳細に記載されている。また、上記方法に用いられる装置は、以下の装置に限定されるものではない。
【００４２】
図２は、本発明の平版印刷版用支持体の陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率の測定に用いることができるサーモコンパレータ３０の概略図である。サーモコンパレータを用いる方法では、薄膜との接触面積および接触面の状態（粗さ）の影響を大きく受ける。そのため、サーモコンパレータ３０が薄膜と接触する先端をできる限り微小なものとすることが重要である。例えば、無酸素銅製の半径ｒ１　＝０．　２ｍｍの微小な先端を有するチップ（線材）３１を用いる。
このチップ３１をコンスタンタン製のリザーバ３２の中心に固定し、そのリザーバ３２の周囲に、電熱ヒーター３３を有する無酸素銅製の加熱用ジャケット３４を固定する。この加熱用ジャケット３４を電熱ヒーター３３で加熱し、リザーバ３２内部に取り付けた熱電対３５の出力をフィードバックさせながらリザーバ３を６０±１℃になるよう制御すると、チップ３１が６０±１℃に加熱される。一方、半径１０ｃｍ、厚み１０ｍｍの無酸素銅製のヒートシンク３６を用意し、測定対象の皮膜３７を有する金属基体３８をヒートシンク３６上に設置する。ヒートシンク３６の表面の温度は接触式温度計３９を用いて測定する。
【００４３】
このようにサーモコンパレータ３０を設定した後、皮膜３７の表面に加熱したチップ３１の先端を密着するように接触させる。サーモコンパレータ３０は、例えば、ダイナミック微小硬度計の先端に圧子の変わりに取り付けて上下に駆動させるようにし、皮膜３７の表面にチップ３１が当たって０．　５ｍＮの負荷がかかるまで押し付けることができるようにする。これにより測定対象である皮膜３７とチップ３１の接触面積のバラツキを最低限とすることができる。
加熱したチップ３１を皮膜３７に接触させるとチップ３１の先端温度は下がるが、ある一定温度で定常状態に達する。これは電熱ヒーター３３から加熱用ジャケット３４およびリザーバ３２を通じてチップ３１に与えられる熱量と、チップ３１から金属基体３８を通じてヒートシンク３６へ拡散する熱量とが平衡するためである。このときのチップ先端温度、ヒートシンク温度およびリザーバ温度をそれぞれチップ先端温度記録計４０、ヒートシンク温度記録計４１およびリザーバ温度記録計４２を用いて記録する。
【００４４】
上記各温度と皮膜の熱伝導率の関係は、下記式（１）のようになる。
【００４５】
【数１】
2004142177.tif 000003
【００４６】
ただし、上記式（１）中の符号は、以下の通りである。
Ｔｔ　：チップ先端温度、Ｔｂ　：ヒートシンク温度、Ｔｒ　：リザーバ温度、
Ｋｔｆ：皮膜熱伝導率、Ｋ１　：リザーバ熱伝導率、
Ｋ２　：チップ熱伝導率（無酸素銅の場合、４００Ｗ／（ｍ・Ｋ））、
Ｋ４　：（皮膜を設けない場合の）金属基体熱伝導率、
ｒ１　：チップ先端曲率半径、
Ａ２　：リザーバとチップとの接触面積、Ａ３　：チップと皮膜との接触面積、
ｔ：膜厚、ｔ２　：接触厚み（≒０）
【００４７】
膜厚（ｔ）を変化させて各温度（Ｔｔ　、Ｔｂ　およびＴｒ　）を測定しプロットすることにより、上記式（１）の傾きを求め、皮膜熱伝導率（Ｋｔｆ）を求めることができる。即ち、この傾きは上記式（１）から明らかなように、リザーバ熱伝導率（Ｋ１　）、チップ先端の曲率半径（ｒ１　）、皮膜熱伝導率（Ｋｔｆ）およびチップと皮膜との接触面積（Ａ３　）によって決まる値であり、Ｋ１　、ｒ１　およびＡ３　は、既知の値であるから、傾きからＫｔｆの値を求めることができる。
【００４８】
本発明者らは、上記の測定方法を用いてアルミニウム基板状に設けた陽極酸化皮膜（Ａｌ２　Ｏ３　）の熱伝導率を求めた。膜厚を変えて温度を測定し、その結果のグラフの傾きから求められたＡｌ２　Ｏ３　の熱伝導率は、０．　６９Ｗ／（ｍ・Ｋ）であった。これは、上述したＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文の結果とよい一致を示している。そして、この結果は、薄膜の熱物性値がバルクの熱物性値（バルクのＡｌ２　Ｏ３　の熱伝導率は、２８Ｗ／（ｍ・Ｋ））とは異なることも示している。
【００４９】
本発明の平版印刷版用支持体の陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率の測定に上記方法を用いると、チップ先端を微小なものにし、かつ、押し付け荷重を一定に保つことにより、平版印刷版用に粗面化された表面についてもバラツキのない結果を得ることができるので好ましい。熱伝導率の値は、試料上の異なる複数の点、例えば、５点で測定し、その平均値として求めるのが好ましい。
【００５０】
陽極酸化皮膜は、空中水滴接触角が２０度以下であるのが好ましく、１５度以下であるのがより好ましい。上記範囲であると、平版印刷版としたときの耐汚れ性がより優れたものとなる。
【００５１】
＜親水化処理＞
本発明においては、陽極酸化処理により形成された陽極酸化皮膜の親水性を更に向上させるため、更に、アルカリ金属ケイ酸塩等を用いた親水性処理を施してもよい。
アルカリ金属ケイ酸塩を用いた親水化処理（シリケート処理）は、米国特許第３，１８１，４６１号明細書等に記載されている方法を用いることができる。
シリケート処理は、液のゲル化および陽極酸化皮膜の溶解を起こすことのない、２５℃でのｐＨが１０〜１３であるアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を用いて、水溶液濃度、水溶液温度、処理時間等を適宜選択して行う。好適なアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム等が挙げられる。また、水溶液のｐＨを高く調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を配合することができる。
最も好ましい親水化処理の一例として、３号ケイ酸ナトリウム（例えば、日本化学工業社製のＳｉＯ２　含有量２８〜３０質量％、Ｎａ２　Ｏ含有量９〜１０質量％の製品）を水で希釈して１質量％水溶液とし、陽極酸化処理後の平版印刷版用支持体を２５℃で８秒間浸せきさせる方法が挙げられる。
【００５２】
［平版印刷版原版］
本発明の平版印刷版用支持体には、以下に例示する赤外線レーザー露光により書き込み可能な画像記録層を設けて本発明の平版印刷版用原版とすることができる。画像記録層としては、例えば、サーマルポジタイプ、サーマルネガタイプ、機上現像可能な無処理タイプ、アブレーションタイプが好適に挙げられる。以下、これらの好適な画像記録層について説明する。
【００５３】
＜サーマルポジタイプ＞
サーマルポジタイプの感熱層は、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有する。
アルカリ可溶性高分子化合物は、高分子中に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、およびこれらの混合物を包含し、特に、（１）フェノール性ヒドロキシ基（−Ａｒ−ＯＨ）、（２）スルホンアミド基（−ＳＯ２　ＮＨ−Ｒ）のような酸性基を有するものが、アルカリ現像液に対する溶解性の点で好ましい。とりわけ、赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性ヒドロキシ基を有することが好ましい。例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−、ｐ−およびｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂；ピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。更に詳しくは特開２００１−３０５７２２号公報の［００２３］〜［００４２］に記載されている高分子が好ましく用いられる。
【００５４】
光熱変換物質は、露光エネルギーを熱に変換して感熱層の露光部領域の相互作用解除を効率よく行うことを可能とする。記録感度の観点から、波長７００〜１２００ｎｍの赤外域に光吸収域がある顔料または染料が好ましい。染料としては、具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体（例えば、ニッケルチオレート錯体）等が挙げられる。中でも、シアニン染料が好ましく、例えば、特開２００１−３０５７２２号公報の一般式（Ｉ）で示されたシアニン染料が挙げられる。
サーマルポジタイプの感熱層に用いられる組成物には、上記コンベンショナルポジタイプで記述した物と同様の感度調節剤、焼出剤、染料等の化合物や塗布性を良化するための界面活性剤を加えることが好ましい。詳しくは特開２００１−３０５７２２号公報の［００５３］〜［００５９］に記載されている化合物が好ましい。
サーマルポジタイプの感熱層は単層であってもよいし、特開平１１−２１８９１４号公報に記載されているような２層構造であってもよい。
サーマルポジタイプの感熱層と支持体との間には、下塗層を設けることが好ましい。下塗層に含有される成分としては特開２００１−３０５７２２号公報の［００６８］に記載されている種々の有機化合物が挙げられる。
【００５５】
＜サーマルネガタイプ＞
サーマルネガタイプの感熱層は、赤外線レーザー照射部が硬化して画像部を形成するネガ型の感熱層である。
このようなサーマルネガタイプの感熱層の一つとして、重合型の層（重合層）が好適に挙げられる。重合層は、（Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）ラジカル発生剤（ラジカル重合開始剤）と、発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する（Ｃ）ラジカル重合性化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーとを含有する。
重合層においては、赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジカルが発生する。ラジカル重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を有する化合物から選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が生起し、硬化する。
（Ａ）赤外線吸収剤としては、例えば、前述したサーマルポジタイプの感熱層に含有される上記光熱変換物質が挙げられるが、特にシアニン色素の具体例としては特開２００１−１３３９６９号公報の［００１７］〜［００１９］に記載されたものが挙げられ、（Ｂ）ラジカル発生剤としては、オニウム塩が挙げられ、好適に用いられるオニウム塩の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の［００３０］〜［００３３］に記載されたものが挙げられ、（Ｃ）ラジカル重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。（Ｄ）バインダーポリマーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましく、水または弱アルカリ水に可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。特にこれらの中で、ベンジル基またはアリル基と、カルボキシ基とを側鎖に有する（メタ）アクリル樹脂が、膜強度、感度および現像性のバランスに優れており、好適である。（Ｃ）ラジカル重合性化合物および（Ｄ）バインダーポリマーに関しては同公報の［００３６］〜［００６０］に詳しく記載された物が使用できる。その他の添加物としては、同公報の［００６１］〜［００６８］に記載されている添加剤（例えば、塗布性を向上させるための界面活性剤）　を加えることも好ましい。
【００５６】
また、重合型のほかに、サーマルネガタイプの感熱層の一つとして、酸架橋型の層（酸架橋層）が好適に挙げられる。酸架橋層は、（Ｅ）光または熱により酸を発生する化合物（以下、「酸発生剤」という。）と、（Ｆ）発生した酸により架橋する化合物（以下、「架橋剤」という。）と、酸の存在下で架橋剤と反応しうる（Ｇ）アルカリ可溶性高分子化合物を含有する。赤外線レーザーのエネルギーを効率よく使用するため、酸架橋層には（Ａ）赤外線吸収剤が配合される。（Ｅ）酸発生剤としては、光重合の光開始剤、色素類の光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている酸発生剤等の、熱分解して酸を発生しうる化合物が挙げられる。（Ｆ）架橋剤としては、（ｉ）ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物、（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基またはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物、（ｉｉｉ）エポキシ化合物が挙げられる。（Ｇ）アルカリ可溶性高分子化合物としては、ノボラック樹脂、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー等が挙げられる。
【００５７】
＜無処理タイプ＞
無処理タイプの感熱層は、熱可塑性微粒子ポリマー型、マイクロカプセル型、、スルホン酸発生ポリマー含有型等のタイプがある。
熱可塑性微粒子ポリマー型は、（Ｈ）疎水性熱溶融性樹脂微粒子が（Ｊ）親水性高分子マトリックス中に分散され、露光部の熱により疎水性のポリマーが溶融し、互いに融着してポリマーによる疎水性領域、即ち、画像部を形成する。
（Ｈ）疎水性熱溶融性樹脂微粒子（以下、「微粒子ポリマー」という。）は、微粒子ポリマー同士が熱により溶融合体するものが好ましく、表面が親水性で、湿し水等の親水性成分に分散する、親水性表面を有する微粒子ポリマーが好ましい。微粒子ポリマーとしては、Ｒｅｓｅａｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　Ｎｏ．３３３０３（１９９２年１月）、特開平９−１２３３８７号、同９−１３１８５０号、同９−１７１２４９号、同９−１７１２５０号の各公報、欧州特許出願公開第９３１，６４７号明細書等に記載されている熱可塑性微粒子ポリマーが好適に挙げられる。具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール等のモノマーのホモポリマーもしくはコポリマーまたはそれらの混合物が挙げられる。中でも、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルを用いるのが好ましい。親水性表面を有する微粒子ポリマーは、微粒子を構成するポリマー自体が親水性であるもの、ポリマーの主鎖または側鎖に親水性基を導入して親水性を付与したもの等のポリマー自体が親水性であるもの；ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール等の親水性ポリマー、親水性オリゴマーまたは親水性低分子化合物を、微粒子ポリマー表面に吸着させて表面を親水性化したものを包含する。微粒子ポリマーとしては、熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーがより好ましい。上記したような微粒子ポリマーは、（Ｊ）親水性高分子マトリックス中に分散させることで、機上現像する場合には機上現像性が良好となり、更に、感熱層自体の皮膜強度も向上する。
【００５８】
マイクロカプセル型としては、特開２０００−１１８１６０号公報に記載されているタイプや、特開２００１−２７７７４０号公報に記載されているような熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル型が好ましく挙げられる。
スルホン酸発生ポリマー含有型に用いられるスルホン酸発生ポリマーとしては、例えば、特開平１０−２８２６７２号公報に記載されているスルホン酸エステル基、ジスルホン基またはｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−スルホンアミド基を側鎖に有するポリマー等が挙げられる。
無処理タイプの感熱層に親水性樹脂を含有させることにより、機上現像性が良好となるばかりか、感熱層自体の皮膜強度も向上する。また、親水性樹脂を架橋硬化させて、現像処理不要の平版印刷版原版を得ることができる。親水性樹脂としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するものや、親水性のゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。親水性樹脂の具体例としては、上記した（Ｊ）親水性高分子マトリックスとして用いられる親水性樹脂として列挙したものが挙げられる。
中でも、ゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。
無処理タイプの感熱層には、光熱変換物質を添加することが必要である。光熱変換物質は、波長７００ｎｍ以上の光を吸収する物質であればよく、上記したサーマルポジタイプに用いられる染料と同様の染料が特に好ましい。
【００５９】
＜アブレーションタイプ（アブレーション界面はく離型無処理タイプ）＞
アブレーションタイプの画像記録層としては、有機物を主体とするインキ受容層を有する有機タイプと無機物を主体とするインキ受容層を有する無機タイプが挙げられる。
無機タイプのインキ受容層に含有される無機物としては、例えば、Ｃｒ、Ｔｉ、活字合金として知られているＰｂ−Ｓｂ−Ｓｎの３元合金等の親インキ性を有する材料である金属または合金；石炭、木炭、ダイヤモンド、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクコーティング）、グラファイト、クラッシーカーボン等の炭素類；酸化物；窒化物；ケイ化物；ホウ化物；炭化物が挙げられる。これらは、２種以上の混合物として用いてもよい。
【００６０】
具体的には、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化クロム；窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タンタル、窒化モリブデン、窒化タングステン、窒化クロム、窒化ケイ素、窒化ホウ素；ケイ化チタン、ケイ化ジルコニウム、ケイ化ハフニウム、ケイ化バナジウム、ケイ化ニオブ、ケイ化タンタル、ケイ化モリブデン、ケイ化タングステン、ケイ化クロム；ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化バナジウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化モリブデン、ホウ化タングステン、ホウ化クロム；炭化アルミニウム、炭化ケイ素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化クロム等が挙げられる。
【００６１】
これらの無機物は、無機物の中でもＹＡＧレーザー、ＬＤレーザー等の７６０〜１０６４ｎｍの波長の光の吸収率が高いので、熱によって画像形成可能な層がアブレーションして、はく離する材料である。
【００６２】
中でも、親インキ性を示す、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｂ−Ｓｂ−Ｓｎ、ダイヤモンド、ＤＬＣ、ＴｉＯ２　、ＢａＴｉＯ３　、ＳｒＴｉＯ３　、Ｓｉ３　Ｎ４　、ＳｉＣ等が好ましい。
【００６３】
画像形成可能な層として形成するには、蒸着法、ＣＶＤ法、ゾル−ゲル法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、拡散法、電着法、メッキ法等を適宜用いることができる。
【００６４】
アブレーション後に、一般的に行われているように、物理的にブラシ等で掻き取ったりする工程を併用し、残留物を除去してもよい。
【００６５】
有機タイプのインキ受容層に含有される有機物としては、溶媒に可溶で、親油性の皮膜を形成できる有機高分子が用いられる。更には、下層として設けることができる親水性層の塗布溶媒に不溶であるのが好ましいが、場合によっては一部下層の塗布溶媒に膨潤するものが、親水性層との接着性に優れ、好ましい。
なお、親水性層は、陽極酸化処理の後に、親水性有機物の下塗り、シリケート処理等によって設けられる、０．０１〜０．１μｍ程度の厚さの層である。この親水性層は、現像後放置した際の耐汚れ性、機上現像する際の現像されやすさ、刷り始めのインキ払い性等の各種の印刷性能を向上させるために設けられる。本発明においても、親水性層を設けるのは好ましい態様の一つである。
【００６６】
上述した有機高分子としては、具体的には、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、フェノール化合物とアセトンとの縮合樹脂、ポリビニルアセテート、アクリル樹脂およびその共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルハロゲン化フェノール、メタクリル樹脂およびその共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、ポリビニルフォルマール、ポリアミド、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、セルロースエステル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の有機高分子が挙げられる。中でも、側鎖にヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、トリアルコキシシリル基等を有する樹脂が、支持体や下層の親水性層との接着性に優れ、場合によって架橋剤で容易に硬化するので好ましい。また、アクリロニトリル共重合体、ポリウレタン、側鎖にスルホンアミド基を有する共重合体、側鎖にヒドロキシ基を有する共重合体等をジアゾ樹脂によって光硬化させたものも好適に例示される。
【００６７】
ノボラック樹脂およびレゾール樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノール／クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノール変性キシレン、ｔ−ブチルフェノール、オクチルフェノール、レゾルシノール、ピロガロール、カテコール、クロロフェノール（ｍ−Ｃｌ、ｐ−Ｃｌ）、ブロモフェノール（ｍ−Ｂｒ、ｐ−Ｂｒ）、サリチル酸、フロログルシノール等と、アルデヒド（例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド）等との付加縮合物が挙げられる。
【００６８】
その他の好適な高分子化合物として、下記（１）〜（１２）のモノマーをその構成単位とする通常１〜２０万の平均分子量を持つ共重合体が挙げられる。
（１）芳香族ヒドロキシ基を有するアクリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−およびｐ−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレート、
（２）脂肪族ヒドロキシ基を有するアクリル酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
【００６９】
（３）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアクリル酸エステル、
（４）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、
【００７０】
（５）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよびＮ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアクリルアミドまたはメタクリルアミド、
【００７１】
（６）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル、
（７）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル、
（８）スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類、
（９）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン、
（１０）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン、
（１１）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等、
【００７２】
（１２）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニルエチル）アクリルアミド等のアクリルアミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニルエチル）メタクリルアミド等のスルホンアミド基含有アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３−アミノスルホニルフェニルナフチル）アクリレート、ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、１−（３−アミノスルホニルフェニルナフチル）メタクリレート等のスルホンアミド基含有アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル類。
【００７３】
好適な具体例としては、親インキ性のポリマーとして一般に知られている、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ＥＭＡ（エチルメタクリレート）−スチレン、ポリスチレン、ノボラックが挙げられる。
【００７４】
これらの有機高分子を適当な溶媒に溶解させて、支持体上に塗布し乾燥させて、インキ受容層を支持体上に設けることができる。有機高分子のみを溶媒に溶解させて用いることもできるが、架橋剤、接着助剤、着色剤、塗布面状改良剤、可塑剤等を必要に応じて添加することができる。
その他、露光後のプリントアウト画像を形成させるための加熱発色系または消色系添加剤が添加されてもよい。
【００７５】
有機高分子を架橋させる架橋剤としては、例えば、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、テトラアルコキシケイ素の初期加水分解縮合物、グリオキザール、アルデヒド化合物やメチロール化合物等が挙げられる。
【００７６】
接着助剤としては、上記ジアゾ樹脂が支持体および親水性層との接着性に優れるが、そのほかに、シランカップリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップリング剤等も有用である。
【００７７】
着色剤としては、通常の染料や顔料が用いられるが、特に、ローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシュウ酸塩、キニザリン、２−（α−ナフチル）−５−フェニルオキサゾール等が好適に挙げられる。他の染料として具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業社製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、パテントピュアブルー（住友三国化学社製）、ブリリアントブルー、メチルグリーン、エリスリシンＢ、ベーシックフクシン、ｍ−クレゾールパープル、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系もしくはアントラキノン系の染料または特開昭６２−２９３２４７号公報および特開平９−１７９２９０号公報に記載されている染料が挙げられる。
上記着色剤は、インキ受容層中に添加される場合は受容層の全固形分に対し、通常、約０．０２〜１０質量％、より好ましくは約０．１〜５質量％の割合で含有される。
【００７８】
更に、塗布面状改良剤としてよく知られた化合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤も用いることができる。具体的には、パーフルオロアルキル基、ジメチルシロキサン基等を有する界面活性剤が塗布面上を整えることで有用である。
【００７９】
上述した有機高分子は、書き込み用レーザーの波長（例えば、７６０〜１０６４ｎｍ）の光の吸収率が低いので、適当な光熱変換物質を、溶解し、分散し、または混合させるのが好ましい。
光熱変換物質としては、７００〜１２００ｎｍの範囲の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、種々の顔料および染料を用いることができる。
顔料としては、例えば、市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている赤外線吸収性の顔料が挙げられる。
【００８０】
これらの顔料には、インキ受容層における分散性を向上させるため、必要に応じて従来公知の表面処理を施すことができる。表面処理の方法としては、親水性樹脂、親油性樹脂等を表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シリカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。
【００８１】
染料としては、例えば、市販の染料ならびに文献（例えば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊、「化学工業」１９８６年５月号ｐ．４５〜５１の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）および特許文献に記載されている公知の染料が挙げられる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染料、シアニン染料等の赤外線吸収染料が好適に例示される。
【００８２】
更に、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号および特開昭６０−７８７８７号の各公報等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号および特開昭５８−１９４５９５号の各公報等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号および特開昭６０−６３７４４号の各公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載されているスクワリリウム染料、英国特許第４３４，８７５号明細書に記載されているシアニン染料、米国特許第４，７５６，９９３号明細書に記載されている染料、米国特許第４，９７３，５７２号明細書に記載されているシアニン染料、特開平１０−２６８５１２号公報に記載されている染料が挙げられる。
【００８３】
また、染料として、米国特許第５，１５６，９３８号明細書に記載されている近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載されている置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報および米国特許第４，３２７，１６９号明細書に記載されているトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号および同５９−１４６０６１号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記載されているシアニン染料、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載されているペンタメチンチオピリリウム塩等、特公平５−１３５１４号公報および同５−１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリン社製のエポライトＩＩＩ−１８０、エポライトＩＩＩ−１７８、エポライトＩＩＩ−１３０、エポライトＩＩＩ−１２５、エポライトＩＩＩ−１１７、Ａｍｒｉｃａｎ　Ｃｙａｎａｍｉｄ社製の光吸収色素であるＣｙａｂｓｏｒｂ　ＩＲ−１６５等も好適に例示される。
インキ受容層に用いられる染料は、上記赤外線吸収染料であってもよいが、より親油性の染料がより好ましい。
【００８４】
光熱変換物質の含有量は、インキ受容層の膜厚、オーバーコート層の有無、親水性層の赤外線反射率等によって異なるが、通常、インキ受容層固形分の２０質量％以下であるのが好ましく、１５質量％以下であるのがより好ましい。上記範囲であると、インキ受容層の耐久性を損なうことなく、かつ、感度が良好となる。
【００８５】
光熱変換物質をオーバーコート層に添加する場合の添加割合は、オーバーコート層の膜厚によって異なるが、一般に、オーバーコート層固形分の５質量％以下であるのが好ましく、光熱変換物質が染料であるときは１０質量％以下であるのが好ましい。上記範囲であると、オーバーコート層の下層に十分な光が到達し、感度が良好となる。
オーバーコート層に光熱変換物質を添加する場合は、その添加量に応じて、インキ受容層の光熱変換物質の添加量を減じ、または、無添加にすることができる。
【００８６】
更に、インキ受容層には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が添加される。可塑剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が挙げられる。
【００８７】
更に、インキ受容層に添加できる発色系または消色系の添加剤としては、例えば、ジアゾ化合物、ジフェニルヨードニウム塩等の熱酸発生剤とロイコ染料（ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラクトン体等）またはｐＨ変色染料（例えば、エチルバイオレット、ビクトリアピュアーブルーＢＯＨ等の染料）との組み合わせが挙げられる。また、欧州特許第８９７，１３４号明細書に記載されているような、酸発色染料と酸性バインダーとの組み合わせも好適に挙げられる。この場合、加熱によって染料を形成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形成して有色から無色に変化する。
これらの添加剤の添加割合は、好ましくはインキ受容層固形分に対して、１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下である。
【００８８】
上記インキ受容層を塗布するために用いられる溶媒としては、アルコール類（メタノール、エタノール、プロピルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ガンマーブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等）、アミド類（ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等）等が挙げられる。これらは、単独でまたは混合して用いられる。
塗布液中の上記インキ受容層成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。また、上記のような有機溶媒からの塗布ばかりでなく、水性エマルジョンからも皮膜を形成させることができる。この場合の濃度は５〜５０質量％であるのが好ましい。
【００８９】
インキ受容層の塗布乾燥後の厚さは、０．５〜１．５μｍであるのが好ましい。インキ受容層が薄すぎると、耐摩耗性が低下して耐刷性を確保できなくなる。また、インキ受容層が厚すぎると、露光現像工程で、画像形成が困難になる。
【００９０】
また、無機タイプのインキ受容層に含有される無機物の具体例として上記に列挙した各種の無機物を粉末としてポリマーに分散し、または混合してもよい。
【００９１】
無機物（無機微粉末）としては、コロイダルシリカ、コロイダルアルミニウム等のコロイド粒子；これらのコロイド粒子より大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ粒子、表面疎水化処理を施されたシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸化チタン粒子、重金属粒子；クレー、タルクが挙げられる。中でも、アルミニウム、ケイ素、チタン、スズ、インジウム、鉄およびジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物が好ましい。
【００９２】
コロイド粒子としては、球形のものが好適である。シリカの場合、コロイドの粒径が５〜１００ｎｍであるのが好ましい。また、１０〜５０ｎｍの球状粒子が、５０〜４００ｎｍの長さに連なったパールネックレス状のコロイド粒子も用いることができる。また、アルミニウムの酸化物のコロイド粒子のように１００ｎｍ×１０ｎｍのような羽毛状のものも好適に用いることができる。
【００９３】
これらのコロイド分散液は、日産化学工業社製等の市販品を購入することもできるが、「微粒子ハンドブック」（朝倉書店）ｐ．２３４〜２３５に記載されているような機械的に粉砕して微粒子を形成する方法、「微粒子ハンドブック」（朝倉書店）ｐ．２２６〜３２０に記載されているようなＣＶＤ法、蒸着法等の方法によって形成することもできる。
【００９４】
コロイド粒子は、ハロゲン化物、アルコキシ化合物等の加水分解、水酸化物の縮合等の種々の公知の方法によって、コロイド分散液の分散相として得ることができる。
【００９５】
コロイド粒子の分散媒としては、水のほかに、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチルケトン等の有機溶媒を用いることもできる。
【００９６】
これらの無機物をインキ受容層に含有させることにより、下層の親水性層との接着性が向上し、耐刷性が向上するという効果が得られる。
無機物の含有量は、インキ受容層固形分に対し、８０質量％以下であるのが好ましく、４０質量％以下であるのがより好ましい。
【００９７】
また、インキ受容層と支持体との密着性を向上させるため、各種の下塗剤を塗布してもよい。また、ベヘン酸等の親インキ性物質を含有することもできる。
【００９８】
本発明においては、インキ受容層の上に水溶性のオーバーコート層を有することができる。オーバーコート層によって、平版印刷版原版の保管や取り扱いの際の親油性物質による親水性層の汚染や親水性層の傷つきを防止することができる。また、オーバーコート層に光熱変換物質を含有させることにより、親水性層に光熱変換物質を多量添加して親水性層の親水性や膜質を劣化させてしまうことなく、高感度化することが可能となる。
【００９９】
オーバーコート層は、印刷時に容易に除去することができるものであり、水溶性の高分子化合物から選ばれる樹脂を含有する。水溶性の高分子化合物は、塗布乾燥によってできた皮膜がフィルム形成能を有するものである。
具体的には、ポリ酢酸ビニル（ただし、加水分解率６５％以上のもの）、ポリアクリル酸およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、アクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、メタクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、アクリルアミド単独重合体および共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ビニルピロリドン単独重合体および共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸共重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体（例えば、カルポキシメチルセルローズ、カルポキシエチルセルローズ、メチルセルローズ等）およびその変性体、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エーテル化デキストリン等が挙げられる。これらは、目的に応じて、２種以上混合して用いることができる。
【０１００】
＜バックコート層＞
このようにして、平版印刷版用支持体上に、各種の画像記録層を設けて得られた平版印刷版原版の裏面には、必要に応じて、平版印刷版を重ねた場合における画像記録層の傷付きを防止するために、有機高分子化合物からなるバックコート層を設けることができる。
【０１０１】
［平版印刷版］
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層に応じた種々の処理方法により、平版印刷版とされる。
本発明の平版印刷版原版は、好ましくは熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザーによる走査露光、キセノン放電灯等の高照度フラッシュ露光、赤外線ランプ露光等が用いられる。本発明の平版印刷版原版においては、画像記録層中に、露光される光を波長に応じて効率よく吸収し、熱に変換する光熱変換物質が含有されており、より高い感度が得られるようになっているため、赤外線レーザー露光により書き込み可能となっている。
一般には、像露光を行う。像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプが挙げられる。レーザービームとしては、例えば、ヘリウム・ネオンレーザー（Ｈｅ−Ｎｅレーザー）、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、ＫｒＦエキシマーレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザーが挙げられる。中でも、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザー、ＹＡＧレーザー等の固体高出力赤外線レーザーによる露光が好適である。
【０１０２】
上記露光の後、画像記録層がサーマルタイプである場合は、露光した後、現像液を用いて現像して平版印刷版を得るのが好ましい。平版印刷版原版に用いられる好ましい現像液は、アルカリ現像液であれば特に限定されないが、有機溶剤を実質的に含有しないアルカリ性の水溶液が好ましい。また、アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液を用いて現像することもできる。アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液を用いて現像する方法については、特開平１１−１０９６３７号公報に詳細に記載されており、該公報に記載されている内容を用いることができる。また、平版印刷版原版をアルカリ金属ケイ酸塩を含有する現像液を用いて現像することもできる。
【０１０３】
また、画像記録層が無処理タイプまたはアブレーションタイプである場合には、露光した後、現像処理なしに印刷機に装着することができる。レーザー露光した箇所の画像記録層と支持体または親水性層との界面がはく離し、インキと湿し水を用いて印刷を開始すると、レーザー露光して露出する支持体または親水性層部分にはインキが着肉せず、印刷が進行する。
なお、オーバーコート層が設けられている場合であっても、オーバーコート層は湿し水との接触により速やかに溶解して除去されるため、印刷にほとんど影響しない。
【０１０４】
また、画像記録層が無処理タイプまたはアブレーションタイプである場合には、印刷機シリンダー上に取り付けた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光し、その後に湿し水および／またはインクをつけて機上露光・機上現像することも可能である。
【０１０５】
【実施例】
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限られるものではない。
１．平版印刷版用支持体の作製
Ａ．アルミニウム支持体
（１）アルミニウム基板の作製
Ｓｉ：０．１質量％、Ｆｅ：０．３質量％、Ｃｕ：０．０１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌ（９９．５質量％）と不可避不純物からなるＪＩＳ　１０５０材の厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（圧延板）の表面に、４００メッシュのパミストン（共立窯業社製）の２０質量％水懸濁液と、回転ナイロンブラシとを用いて、砂目立て（機械的粗面化処理）を施した後、水で洗浄した。ついで、アルミニウム板を１５質量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％を含む。）に浸せきさせて、アルミニウム溶解量が１０ｇ／ｍ２　になるようにアルカリエッチング処理を施した後、流水で水洗した。その後、１質量％硝酸水溶液で中和した後、水洗した。
つぎに、アルミニウム板に、０．７質量％硝酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％を含む。）中で、陽極時電圧１０．５Ｖ、陰極時電圧９．３Ｖの矩形波交番波形電圧を用いて、電解粗面化処理を施した。電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２３０Ｃ／ｄｍ２　であった。その後、水洗した。
更に、アルミニウム板を３５℃の１０質量％水酸化ナトリウム水溶液に浸せきさせて、アルミニウム溶解量が１ｇ／ｍ２　になるようにアルカリエッチング処理を施した後、流水で水洗した。その後、５０℃の３０質量％硫酸水溶液に浸せきさせて、デスマット処理を施した後、水洗して、アルミニウム基板を得た。
【０１０６】
（２）陽極酸化処理
上記で得られたアルミニウム基板に、第１表に示すように、下記電解液母液Ａ〜Ｆのいずれかに下記高空隙粒子Ｐ１〜Ｐ８のいずれかを所定の固形分濃度で含有させた所定のｐＨおよび温度の電解液を用いて、所定の時間で、陽極酸化処理を施した。陽極酸化処理は、陰極として１８−８ＳＵＳを用い、電流密度２．５Ａ／ｄｍ２　で行った。
なお、電解液母液Ｄ−１およびＤ−２については、Ｄ−１を用いて１段目の陽極酸化処理を行った後、Ｄ−２を用いて２段目の陽極酸化処理を施した。また、電解液母液Ｅ−１およびＥ−２についても同様に、Ｅ−１を用いて１段目の陽極酸化処理を行った後、Ｅ−２を用いて２段目の陽極酸化処理を施した。
【０１０７】
＜電解液母液Ａ＞
３号ケイ酸ナトリウム濃度：２５質量％、水酸化ナトリウム濃度：２質量％、ホウ酸ナトリウム（Ｎａ２　Ｂ４　Ｏ７　・１０Ｈ２　Ｏ）濃度：１質量％
＜電解液母液Ｂ＞
ホウ酸濃度：２ｇ／Ｌ、ホウ酸ナトリウム濃度：２５ｇ／Ｌ
＜電解液母液Ｃ＞
水酸化ナトリウム濃度：３ｇ／Ｌ、ホウ酸アンモニウム濃度：２０ｇ／Ｌ
【０１０８】
＜電解液母液Ｄ−１＞
硫酸濃度：１５質量％
＜電解液母液Ｄ−２＞
水酸化ナトリウム濃度：０．５質量％
＜電解液母液Ｅ−１＞
シュウ酸濃度：２質量％
＜電解液母液Ｅ−２＞
水酸化ナトリウム濃度：０．５質量％
＜電解液母液Ｆ＞
硫酸濃度：１７０ｇ／Ｌ、硫酸アルミニウム５ｇ／Ｌ
【０１０９】
＜高空隙粒子Ｐ１＞
中空シリカ：シラスバルーン、鹿児島県工業技術センター製、粉体、平均粒径６．６μｍ
＜高空隙粒子Ｐ２＞
コロイダルシリカで表面修飾された中空樹脂：ＳＸ７０６（Ａ）−３４、ＪＳＲ社製、液体、ｐＨ９．９、平均粒径０．３μｍ
＜高空隙粒子Ｐ３＞
架橋スチレン−アクリル中空樹脂：ＳＸ８６６（Ｂ）、ＪＳＲ社製、液体、ｐＨ７．３、平均粒径０．３μｍ
＜高空隙粒子Ｐ４＞
変性スチレン−アクリル中空樹脂：ＭＨ５０５５、日本ゼオン社製、液体、ｐＨ８．５、平均粒径０．５μｍ
【０１１０】
＜高空隙粒子Ｐ５＞
スチレン−アクリル系共重合体中空樹脂：ＨＰ−１０５５、ローム・アンド・ハース・ジャパン社製、液体、ｐＨ９．９、平均粒径１μｍ
＜高空隙粒子Ｐ６＞
多孔質シリカ：Ｐ−４０３、グレース・デビジョン社製、粉体、平均粒径３μｍ
＜高空隙粒子Ｐ７＞
多孔質アルミノシリケート：シルトンＢ、水澤化学工業社製、粉体、平均粒径１．５μｍ
＜高空隙粒子Ｐ８＞
多孔質アルミノシリケート：ＡＭＴシリカ＃１００Ｂ、水澤化学工業社製、粉体、平均粒径１μｍ
【０１１１】
（３）シリケート処理
陽極酸化処理後のアルミニウム基板を、温度２５℃の３号ケイ酸ナトリウムの２．５質量％水溶液の処理槽の中に８秒間浸せきさせることで、シリケート処理を行った。その後、ローラーでしごいて、常温で冷風を用いて乾燥させ、平版印刷版用支持体１〜１９を得た。
【０１１２】
Ｂ．タンタル支持体
（１）タンタル基板の作製
３０ｃｍ×７０ｃｍ×０．３ｍｍの大きさの純度９９．９５質量％のタンタル板を、硫酸（特級硫酸、和光純薬工業社製）の中に３０分間浸せきさせた後、純水で洗浄して、脱脂処理を行った。この脱脂後のタンタル板を用いた以外は、上述したアルミニウム基板の作製と同様の方法により機械的粗面化処理等を行い、タンタル基板を得た。
【０１１３】
（２）陽極酸化処理
上記で得られたタンタル基板に、電解液として、コロイダルシリカ（ＹＬ、日産化学工業社製）の４０質量％水分散液を用い、陽極酸化処理を施した。陽極酸化処理は、対抗電極として２ｃｍ×５ｃｍ×２５０μｍのタンタル箔を用い、タンタル基板を直流電源装置のアノードに、対抗電極をカソードに、それぞれわに口クリップを用いて接続して行った。陽極酸化処理は、まず１５ｍＡの一定電流下、電圧可変で、３５℃の条件で行い、電圧が１５０Ｖになった時点で電圧１５０Ｖの定電圧制御に切り替え、電流が０ｍＡになるまで行った。陽極酸化処理後、純水中で超音波分散機で洗浄して、平版印刷版用支持体２０を得た。
【０１１４】
２．平版印刷版用支持体の陽極酸化皮膜の性状
（１）皮膜の膜厚の測定
上記で得られた各平版印刷版用支持体を折り曲げ、走査型顕微鏡（Ｔ−２０、日本電子社製）を用いて断面部を観察し、高空隙粒子が皮膜の表面から突出していない部分の皮膜の膜厚を５０箇所実測して、平均膜厚を算出した。
アルミニウム支持体（平版印刷版用支持体１〜１９）についての結果を第１表に示す。タンタル支持体（平版印刷版用支持体２０）についての結果は、０．３２μｍであった。
【０１１５】
（２）皮膜の膜厚方向の熱伝導率の測定
上記で得られた各平版印刷版用支持体について、以下の方法により、皮膜の膜厚方向の熱伝導率を測定した。
初めに、各平版印刷版用支持体と皮膜の膜厚のみが異なるアルミニウム支持体およびタンタル支持体を、それぞれ２種類ずつ作成した。皮膜の膜厚のみが異なるアルミニウム支持体およびタンタル支持体は、陽極酸化処理の処理時間を０．５倍および２倍にした以外は各平版印刷版用支持体と同様の方法により、作製した。
つぎに、皮膜の膜厚のみが異なる３種類のアルミニウム支持体およびタンタル支持体（各平版印刷版用支持体と、上記で得られた各平版印刷版用支持体についての膜厚のみが異なる２種類のアルミニウム支持体およびタンタル支持体）を、図２に示した装置での測定に供し、上記式（１）から、各平版印刷版用支持体の皮膜の膜厚方向の熱伝導率を算出した。なお、測定は試料上の異なる５点で行い、その平均値を用いた。
アルミニウム支持体についての結果を第１表に示す。タンタル支持体についての結果は、０．１２Ｗ／（ｍ・Ｋ）であった。
【０１１６】
（３）空中水滴接触角の測定
平版印刷版用支持体の陽極酸化皮膜の表面に空気中で水滴を滴下し、３０秒後に支持体表面と水滴表面とのなす角度（空中水滴接触角）を測定した。測定には、接触角計（ＣＡ−Ｘ、協和界面科学社製）を用いた。なお、測定は試料上の異なる５点で行い、その平均値を用いた。
アルミニウム支持体についての結果を第１表に示す。第１表中、「拡張濡れ」とは、濡れ性が高く、水滴が測定時までに拡張するように形状変化して、接触角を測定することができなかったことを示す。
タンタル支持体についての結果は、３度であった。
【０１１７】
３．平版印刷版原版の作製
（実施例１〜３２および比較例１〜８）
上記で得られた各平版印刷版用支持体上に、第２表に示される組み合わせで、下記画像記録層ＡおよびＢのいずれかを設けて平版印刷版原版を得た。
【０１１８】
（１）画像記録層Ａ
上記で得られた平版印刷版用支持体上に、下記インキ受容層用塗布液を、塗布バーを用いて、乾燥後の塗布量が０．８ｇ／ｍ２　になるように塗布し、１２０℃のオーブンで１分間乾燥させて、インキ受容層を形成させた。
インキ受容層の形成前後において厚さをマイクロメータで１０点計測して平均し、インキ受容層の厚さを求めたところ、厚さ１μｍ（標準偏差０．８μｍ）であった。また、インキ受容層の形成前後における質量の変化と比重から、インキ受容層の厚さを求めたところ、厚さ１μｍであった。
【０１１９】
＜インキ受容層用塗布液＞
ベヘン酸５ｍｇ、ＰＭＭＡ（アルドリッチ社製、ＧＰＣによるポリスチレン換算の平均分子量９９６，０００）４１ｍｇおよび光吸収色素（ＣｙａｂｓｏｒｂＩＲ−１６５、Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｙｎａｍｉｄ社製）８ｍｇをクロロホルム１３ｍＬに溶解させ、インキ受容層用塗布液を得た。
【０１２０】
ついで、インキ受容層上に、下記組成のオーバーコート層用塗布液を、乾燥後の塗布量が０．２５ｇ／ｍ２　になるように塗布し、乾燥させてオーバーコート層を形成させ、インキ受容層とオーバーコート層との２層からなる画像記録層Ａ（アブレーション界面はく離型無処理タイプ（ポジ無処理タイプ）の画像記録層）を有する平版印刷版原版を得た。
【０１２１】
＜オーバーコート層用塗布液＞
・アラビアガム５質量％水溶液　　１０ｇ
・ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル　　０．０２ｇ
・水　　１４ｇ
【０１２２】
（２）画像記録層Ｂ
上記で得られた平版印刷版用支持体上に、下記組成の画像記録層用塗布液を、乾燥後の塗布量が０．７ｇ／ｍ２　になるように塗布し、オーブンを用いて１００℃で６０秒間乾燥させて画像記録層Ｂ（ネガ無処理タイプの画像記録層）を形成させ、平版印刷版原版を得た。
【０１２３】
＜画像記録層用塗布液＞
・後述するマイクロカプセル分散液　　５ｇ（固形分量として）
・水　　６０ｇ
【０１２４】
＜マイクロカプセル（光熱変換剤内蔵マイクロカプセル）分散液＞
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシリレンジイソシアナートとの付加体の５０質量％酢酸エチル溶液（タケネートＤ−１１０Ｎ、武田薬品工業社製、マイクロカプセル壁剤）４０ｇ、トリメチロールプロパンジアクリレート（アロニックスＭ−３０９、東亞合成社製）１０ｇ、アリルメタクリレートとブチルメタクリレートとの共重合体（モル比７０／３０、重量平均分子量２０，０００）１０ｇ、ロイコ染料（Ｐｅｒｇａｓｃｒｉｐｔ　Ｂｌｕｅ　ＳＲＢ、チバガイギー社製）０．２ｇ、下記式で表されるトリアジン化合物０．１ｇ、上記式で表される光熱変換剤４．０ｇおよびアニオン系界面活性剤（パイオニンＡ４１Ｃ、竹本油脂社製）０．１ｇを酢酸エチル４０ｇおよびアセトニトリル２０ｇに溶解させた。水相成分として、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ社製）４質量％水溶液１２０ｇを調製した。油相成分と水相成分とをホモジナイザーを用いて１５０００ｒｐｍで処理し、乳化させた。その後、水を４００ｇ添加し、室温で３０分、更に４０℃で３時間かくはんし、酢酸エチルを蒸発させた。このようにして得られたマイクロカプセル分散液は、固形分濃度が３０質量％であり、マイクロカプセルの平均粒径が０．２０μｍであった。
【０１２５】
【化１】
2004142177.tif 000004
【０１２６】
４．平版印刷版原版の評価
（１）平版印刷版原版の感度
上記で得られた平版印刷版原版を画像記録層に応じて以下のようにして露光した。
画像記録層Ａを有する平版印刷版原版については、連続発振ＹＡＧレーザー（波長１．０６４μｍ）を用いて、レーザー光最大出力０．７２４Ｗ、走査速度１２０ｃｍ／ｓ、１／ｅ２　ビーム直径３５μｍの条件で露光した。なお、ビームプロファイルは良好なガウス分布であったので、ガウス分布近似し、ピーク最大強度の１／ｅ２　光出力の位置をビーム直径とした。この際、レーザー出力を変更することにより版面エネルギー量を変化させた。
また、画像記録層Ｂを有する平版印刷版原版については、４０Ｗの８３０ｎｍ半導体レーザーを搭載したプレートセッターであるＴｒｅｎｄＳｅｔｔｅｒ（クレオ社製）を用いて、露光した。この際、外面ドラム回転数を変化させることにより版面エネルギー量を変化させた。
【０１２７】
ついで、露光した平版印刷版原版をそのまま小森コーポレーション社製のリスロン印刷機に取り付け、プレートエッチ液ＥＵ−３（富士写真フイルム（株）製）／水／イソプロピルアルコール（容量比１／９９／１０）からなる湿し水と、大日本インキ化学工業社製のＤＩＣ−ＧＥＯＳ（Ｇ）墨のインキを用いて印刷試験を行った。
画像記録層Ａを有する平版印刷版原版については、上記印刷試験において、印刷開始からインキが非画像部に付着していない最低の露光エネルギー量（適正露光エネルギー量）により、感度を評価した。また、画像記録層Ｂを有する平版印刷版原版については、上記印刷試験において、印刷開始から１０００枚目でインキが非画像部に付着していない最低の露光エネルギー量（適正露光エネルギー量）により、感度を評価した。
結果を第２表に示す。
【０１２８】
（２）平版印刷版の耐汚れ性
上記印刷試験において、適正露光エネルギー量で露光した場合について、１万枚印刷した後におけるブランケットの汚れ（地汚れ）を目視で評価した。
結果を第２表に示す。ブランケットが全く汚れなかったものを◎、少し汚れたものを○で示した。
【０１２９】
（３）平版印刷版の耐刷性
上記印刷試験において、適正露光エネルギー量で露光した場合について、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。
結果を第２表に示す。
【０１３０】
第１表および第２表から明らかなように、本発明の平版印刷版用支持体を用いた本発明の平版印刷版原版（実施例１〜３２）は、感度、耐汚れ性および耐刷性のいずれにも優れる。
これに対して、陽極酸化処理を一般に行われている硫酸を用いて行った場合（比較例４および８）および高空隙粒子を含有しない電解液を用いて行った場合（比較例３および７）は、感度、耐汚れ性および耐刷性のいずれかに劣る。また、陽極酸化皮膜の厚さが厚すぎる場合（比較例１および５）は耐刷性に劣り、薄すぎる場合（比較例２および６）は感度に劣る。
【０１３１】
【表１】
2004142177.tif 000005
【０１３２】
【表２】
2004142177.tif 000006
【０１３３】
【表３】
2004142177.tif 000007
【０１３４】
【発明の効果】
本発明の平版印刷版用支持体を用いた本発明の平版印刷版原版は、従来の平版印刷版原版の耐刷性および耐汚れ性を損なうことなく、感度が向上しているので、極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の平版印刷版用支持体の模式的な断面図である。
【図２】本発明の平版印刷版用支持体の陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率の測定に用いることができるサーモコンパレータの概略図である。
【符号の説明】
１０　平版印刷版用支持体
１２、３８　金属基体
１４　陽極酸化皮膜
１６　酸化された金属基体
１８　高空隙粒子
３０　サーモコンパレータ
３１　チップ
３２　リザーバ
３３　電熱ヒーター
３４　加熱用ジャケット
３５　熱電対
３６　ヒートシンク
３７　皮膜
３９　接触式温度計
４０　チップ先端温度記録計
４１　ヒートシンク温度記録計
４２　リザーバ温度記録計
【図１】
2004142177.tif 000008
【図２】
2004142177.tif 000009