(57)【要約】【課題】簡易な構造で安価に構成できるとともに、チャンバリッドの上方に装置の一部を配置することの可能なチャンバリッドの開閉機構を提供する。【解決手段】本発明のチャンバ開閉機構は、内部を減圧可能なチャンバ１１０の上部にてチャンバ本体１１１に対して開閉可能に設けられたチャンバリッド１１２と、該チャンバリッド１１２を開閉するための開閉支持手段１３０とを有するチャンバ開閉機構であって、前記開閉支持手段１３０は、前記チャンバリッド１１２を水平姿勢にて上下に移動可能に、かつ、前記チャンバリッド１１２が上昇して前記チャンバ本体１１１から離間したときに前記チャンバリッド１１２の周辺位置に設定された垂直軸回りに回動可能に支持していることを特徴とする。【選択図】          図１
2004265917.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を減圧可能なチャンバの上部にてチャンバ本体に対して開閉可能に設けられたチャンバリッドと、該チャンバリッドを開閉するための開閉支持手段とを有するチャンバ開閉機構であって、
前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドを水平姿勢にて上下に移動可能に、かつ、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間したときに前記チャンバリッドの周辺位置に設定された垂直軸回りに回動可能に支持していることを特徴とするチャンバ開閉機構。
【請求項２】
前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間した状態で前記チャンバリッドを回動させたときに前記チャンバリッドを所定高さに維持するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のチャンバ開閉機構。
【請求項３】
前記周辺位置を中心として回動可能に軸支され、前記周辺位置から離れる方向に広がって前記チャンバリッドの上方に配置される支持体を有し、前記チャンバリッドは、前記支持体に対して直接若しくは間接的に支持されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のチャンバ開閉機構。
【請求項４】
前記チャンバリッドを上方に付勢する付勢手段を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のチャンバ開閉機構。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の前記チャンバ開閉機構及び前記チャンバ本体により構成されるチャンバを有することを特徴とする減圧処理装置。
【請求項６】
前記チャンバリッドの上方に、前記チャンバに供給される原料を収容する原料容器が配置されていることを特徴とする請求項５に記載の減圧処理装置。
【請求項７】
前記原料容器は、前記チャンバリッドに対して相対的に固定されていることを特徴とする請求項６に記載の減圧処理装置。
【請求項８】
上方から前記チャンバリッドを通して前記チャンバに原料を供給する原料供給路を有することを特徴とする請求項５に記載の減圧処理装置。
【請求項９】
前記チャンバリッドを通して前記チャンバリッドの上方に引き出され、前記原料導入路に接続するガス供給路を有することを特徴とする請求項６に記載の減圧処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はチャンバ開閉機構及びこれを備えた減圧処理装置に係り、特に、チャンバ上部に開閉可能に設けられたチャンバリッドを備えた減圧処理装置に適用する場合に好適な装置構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、半導体基板やＬＣＤ基板などに対して減圧雰囲気中にて成膜処理、エッチング処理、アッシング処理、加熱処理などの種々の処理を施すための減圧処理装置が用いられている。このような装置において、減圧処理を行うためのチャンバとして、上部開口を備えたチャンバ本体と、このチャンバ本体に対して開閉可能に取り付けられるチャンバリッドとを有するものがある。そして、この種の装置としては、チャンバリッドがチャンバ本体に対してヒンジなどを介して水平軸周りに回動可能に構成されたチャンバ開閉機構を備えたものが知られている。
【０００３】
たとえば、従来のチャンバ開閉機構としては、歯車機構によってチャンバリッドを縦長の楕円軌道を描きながら開閉できるように構成した真空処理装置の開閉蓋ヒンジ機構が知られている（たとえば、以下の特許文献１参照）。この機構によれば、チャンバリッドをチャンバ本体の外部に大きくオーバーハングさせることなく開閉することができる。
【０００４】
また、チャンバリッドを水平にスライドさせるスライド機構と、チャンバリッドを水平軸回りに回動させる回動機構とを有する真空処理装置が知られている（たとえば、以下の特許文献２参照）。この機構によれば、メンテナンスが容易になるとともに、チャンバリッドに対する重量物の取り付けや取り外しを容易に行うことができる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−１０１３４５号公報（特に図２参照）
【特許文献２】
特開２００１−１８５５３４号公報（特に図６参照）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のチャンバ開閉機構においては、開閉動作時に縦長の楕円軌道を採るように構成するために複雑な機構を設ける必要があり、また、スライド動作や回動動作をそれぞれ可能にするためにチャンバリッドの周囲に複数の或いは大型の機構を配備する必要があった。したがって、装置が高価になるとともに大型化するという問題点があった。
【０００７】
また、従来のチャンバ開閉機構においては、チャンバ本体を大きく開口させるためにチャンバリッドを水平軸回りに回動させるようにしていたため、チャンバリッドの上方に装置の一部（たとえば原料供給系）を配置するといった装置構成を採用することができず、その結果、装置の占有面積が増大し、メンテナンス性も悪化するという問題点があった。
【０００８】
さらに、近年、液体原料を気化させたり固体原料を昇華させたりして原料ガスを生成し、これをチャンバ内に供給するように構成された減圧処理装置が要求されているが、このような装置の場合には、原料ガスの供給量を確保するために、或いは、原料ガスを支障なくチャンバまで供給するために、原料容器とチャンバとの間の配管のコンダクタンスを高める必要がある。このため、原料容器とチャンバとの間の配管を大径に構成するとともに配管距離を短くしなければならないが、上記従来のような装置構成では原料容器とチャンバとの間の配管を短く構成することができないという問題点があった。
【０００９】
また、従来技術では、チャンバリッドを水平軸回りに回動させるため、原料容器をチャンバリッド上に配置固定した場合には、原料容器の姿勢が傾斜することにより内部原料の偏りその他の状態の変化が生じて適正な原料供給量が得られないという問題点もあった。
【００１０】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、簡易な構造で安価に構成できるとともに、チャンバリッドの上方に装置の一部を配置することの可能なチャンバリッドの開閉機構を提供することにある。また、チャンバリッドの上方に原料供給系を配置することの可能な減圧処理装置の構成を実現することにある。さらに、原料容器とチャンバとの間の配管距離を短く構成することの可能な減圧処理装置を構成することにある。また、チャンバリッドの開閉によっても原料の状態を変化させない装置構成を実現することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のチャンバ開閉機構は、内部を減圧可能なチャンバの上部にてチャンバ本体に対して開閉可能に設けられたチャンバリッドと、該チャンバリッドを開閉するための開閉支持手段とを有するチャンバ開閉機構であって、前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドを水平姿勢にて上下に移動可能に、かつ、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間したときに前記チャンバリッドの周辺位置に設定された垂直軸回りに回動可能に支持していることを特徴とする。
【００１２】
これによれば、チャンバリッドを上昇させてから、垂直軸回りに回動させることによってチャンバリッドをチャンバ本体上からずらし、チャンバを開放することができる。ここで、チャンバリッドはそのままの姿勢で上昇した後に垂直軸回りに水平に回動するため、従来デッドスペースとなっていたチャンバの上方空間に装置の他の構成要素を配置することが可能になる。また、開閉支持手段としては、上記の垂直軸と同軸に設置された支持構造だけで構成することが可能になるため、その構造を複雑に構成する必要もなく、大型化する必要もない。さらに、チャンバリッドを水平姿勢に保ったままでチャンバを開放することができるので、チャンバリッド上に原料容器を固定した場合でも、チャンバの開放時における原料容器内の原料への影響を低減することができる。ちなみに、従来構造のようにチャンバリッドを水平軸回りに開く場合には、チャンバリッドが上方に大きく回動し、傾斜したり反転したりするため、チャンバリッドの上方に装置の一部を配置したり、或いは、チャンバリッド上に原料容器を固定することは不可能である。
【００１３】
なお、この場合において、上記開閉支持手段は、チャンバリッドを上下に移動させるとともに垂直軸回りに回動させるための昇降可能な垂直軸体を上記垂直軸と同軸に設けることが好ましい。これにより開閉支持手段を簡易、かつ、コンパクトに構成できる。また、前記チャンバリッドが所定高さまで上昇しないとチャンバリッドの回動を許容しないように構成されていることが好ましい。これによって、誤操作によってチャンバ本体やチャンバリッドに損傷を与えることを防止できる。
【００１４】
本発明において、前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間した状態で前記チャンバリッドを回動させたときに前記チャンバリッドを所定高さに維持するように構成されていることが好ましい。これによって、チャンバリッドを回動させる過程でチャンバリッドの高さを保つ操作が不要になるため、より安全かつ容易に操作を行うことができる。
【００１５】
本発明において、前記周辺位置を中心として回動可能に軸支され、前記周辺位置から離れる方向に広がって前記チャンバリッドの上方に配置される支持体を有し、前記チャンバリッドは、前記支持体に対して直接若しくは間接的に支持されていることが好ましい。これによれば、チャンバリッドがその上方に広がる支持体に対して直接若しくは間接的に支持されていることにより、チャンバリッドの姿勢や位置をより高精度に保持することが可能になる。
【００１６】
本発明において、前記チャンバリッドを上方に付勢する付勢手段を有することが好ましい。これによれば、チャンバリッドを昇降動作させる場合により小さな操作力で操作することが可能になり、より容易に作業を行うことが可能になる。
【００１７】
次に、本発明の減圧処理装置は、上記のいずれかに記載の前記チャンバ開閉機構及び前記チャンバ本体により構成されるチャンバを有することを特徴とする。ここで、減圧処理装置としては、チャンバ内を減圧した状態で何らかの処理を行う装置を広く包含するものである。たとえば、ＣＶＤなどの成膜装置、ドライエッチャーなどのエッチング装置、プラズマアッシャーなどのアッシング装置、アニール炉などの加熱処理装置などが挙げられる。
【００１８】
本発明において、前記チャンバリッドの上方に、前記チャンバに供給される原料を収容する原料容器が配置されていることが好ましい。これによれば、チャンバリッドの上方に原料容器を配置することによって、原料容器とチャンバとの間の距離を短く構成することができるとともに、占有面積を増加させることなく配管径を大きく構成できるため、原料容器とチャンバとの間のコンダクタンスを大きく構成することが可能になる。したがって、液体原料を気化させてなる原料ガスをチャンバに供給する場合、或いは、固体原料を昇華させてなる原料ガスをチャンバに供給する場合などにおいて、原料ガスの供給量を十分に確保することが可能になるとともに、供給途中における原料ガスの変性を防止することができるため、高品位の処理を行うことができる。
【００１９】
本発明において、前記原料容器は、前記チャンバリッドに対して相対的に固定されていることが好ましい。これによれば、原料容器がチャンバリッドに対して相対的に固定されていることにより、たとえば、原料容器とチャンバリッドとの間の供給ラインを固定配管で構成することが可能になるため、装置をより簡易な構造とすることができる。
【００２０】
また、上方から前記チャンバリッドを通して前記チャンバに原料を供給する原料供給路を有することが好ましい。これによれば、チャンバリッドを介して原料が供給されるが、本発明ではチャンバリッドが開閉動作を行っても姿勢変更がないため、原料供給路をチャンバリッドに接続しても支障がない。たとえば、原料供給路をチャンバリッドに対して支障なく固定することができ、しかも、固定された原料供給路の姿勢変化が生じない。この場合、前記チャンバリッドを通して前記チャンバリッドの上方に引き出され、前記原料導入路に接続するガス供給路を有することが望ましい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係るチャンバ開閉機構及び減圧処理装置の実施形態について詳細に説明する。図１は、本実施形態の減圧処理装置１００の全体構成を模式的に示す概略構成図である。この減圧処理装置１００は、チャンバ１１０と、原料供給系１２０と、開閉支持手段１３０と、ガス排気系１４０とを備えている。
【００２２】
チャンバ１１０は、上部開口１１１ａを有するチャンバ本体１１１と、チャンバ本体１１１の上部開口１１１ａを開閉可能に構成されたチャンバリッド１１２とを有する。また、チャンバ本体１１１の内部には図示しない半導体ウエハ等の被処理物を支持するための処理台１１３が配置されている。チャンバリッド１１２の下面には原料（原料ガス）をチャンバ１１０内部に放出するための原料放出ヘッド（シャワーヘッド）１１２Ａが形成されている。
【００２３】
チャンバ１１０（すなわちチャンバリッド１１２）の上方には、原料供給系１２０が配置されている。この原料供給系１２０には、原料供給ボックス１２１の内部に、原料（本実施形態の場合には液体若しくは固体）を収容する原料容器１２２と、この原料容器１２２に接続され、原料（本実施形態の場合には気体、すなわち原料ガス）を供給する原料供給ライン１２３とが設けられている。また、この原料供給系１２０には原料供給状態を制御する制御部１２０Ａを設置してもよい。
【００２４】
原料供給ライン１２３はチャンバリッド１１２に導入されて上記原料放出ヘッド１１２Ａに接続されている。この原料供給ライン１２３には、弁１２３ａ（原料交換用バルブ）及び１２３ｂ（原料供給バルブ）が配設されている。また、原料供給ライン１２３にはガスエバックライン１２４が接続されている。このガスエバックライン１２４には弁１２４ａ（エバックバルブ）が設けられている。ガスエバックライン１２４は、チャンバリッド１１２を貫通してチャンバ本体１１１に設けられたラインに接続され、排気されるようになっている。さらに、原料供給ライン１２３には１又は複数のガス供給ライン１２５が接続されている。このガス供給ライン１２５には弁１２５ａ（ガス供給バルブ）が設けられている。このガス供給ライン１２５は、キャリアガス、各ラインやチャンバをクリーニングするためのクリーニングガスなどを供給するラインである。ガス供給ライン１２５は、図４に模式的に示すように、外部からチャンバ本体１１１に導入され、チャンバリッド１１２を通過して原料供給ボックス１２１の内部に導入され、その後、上記原料供給ライン１２３に接続されている。なお、図４には、各ラインの弁を始めとして開閉支持手段その他を適宜に省略して示してある。
【００２５】
再び図１に戻って説明すると、チャンバリッド１１２の上方にはリッド支持部材１３１が配置されている。リッド支持部材１３１は直接若しくは間接的にチャンバリッド１１２を支持固定している。このリッド支持部材１３１は軸支体１３２に接続固定され、軸支体１３２は内部に挿通された回動軸１３３に対して回動自在に軸支されている。より具体的には、図３に示すように、軸支体１３２と回動軸１３３との間にはクロスローラベアリング等の軸受１３２ａが介在して回動自在に構成され、また、軸支体１３２と回動軸１３３とは軸線方向（上下方向）に固定されている。回動軸１３３は、チャンバ本体１１１に接続固定された軸支体１３４に対して昇降自在に軸支されている。より具体的には、図３に示すように、軸支体１３４には回動軸１３３を軸線方向（上下方向）に移動可能で、かつ、回動軸１３３と回動方向に固定するためのボールスプラインなどの案内機構１３４ａが設けられている。いずれにしても、本実施形態では、チャンバリッド１１２は、昇降可能に構成されているとともに、チャンバリッド１１２の周縁位置（チャンバリッドの中心以外の位置、好ましくはチャンバリッドの外側）に設定された垂直軸回りに回動可能に構成されている。
【００２６】
回動軸１３３の下端部には、回動軸１３３を上方に付勢する付勢手段１３５が作用するように構成されている。この付勢手段１３５は、たとえば図３に示すように、コンストンバネ等の弾性部材１３５ａによって回動軸１３３に対して上方に応力を付与している。そして、この付勢手段１３５によってチャンバリッド１１２を上方に容易に引き上げることができるように構成されている。
【００２７】
本実施形態では、上記リッド支持部材１３１は、原料供給ボックス１２１を下方から支持し、この原料供給ボックス１２１に取り付けられたブラケット１３８によってチャンバリッド１１２が支持されている。この様子をより詳細に示すのが図２である。図２は、減圧処理装置１００を上方から見た様子を示す透視図である。ここで、図２においては、上記原料供給ボックス１２１及びチャンバリッド１１２を透視した状態を示してある。この図は基本的にチャンバリッド１１２がチャンバ本体１１１を閉鎖した状態を示すが、図示二点鎖線にてチャンバリッド１１２が開放された状態（回動した状態）をも同時に示してある。
【００２８】
ここで、ブラケット１３８は複数（図示例では３個）も受けられ、チャンバリッド１１２を上方から吊り下げた状態としている。このように、本実施形態では、リッド支持部材１３１は、原料供給ボックス１２１を介して間接的にチャンバリッド１１２を支持している。
【００２９】
リッド支持部材１３１には、位置決めネジやダイヤルゲージなどで構成された水平位置調整手段１３９が設けられ、この水平位置調整手段１３９は上記のように吊り下げられたチャンバリッド１１２の水平方向の位置決めを行っている。より具体的には、相互に水平方向の異なる方向に位置決めを行う複数の水平位置調整手段１３９，１３９によってチャンバリッド１１２の水平面上の位置或いは平面姿勢が調整可能となっている。
【００３０】
また、リッド支持部材１３１には、チャンバリッド１１２の垂直位置を調整するための垂直位置調整手段１３１ａが設けられている。この垂直位置調整手段１３１ａは、チャンバリッド１１２の高さを調整可能とするものである。そして、図示例のように複数の垂直位置調整手段１３１ａを設けることにより、垂直位置調整手段１３１ａ間の高さ規制位置を相互に調整することによって、チャンバリッド１１２の水平度（傾き）などを調整できるように構成されている。より具体的には、リッド支持部材１３１に取り付けられた垂直位置調整手段１３１ａは、リッド支持部材１３１に支持された原料供給ボックス１２１の高さを調整できるように構成されており、この原料供給ボックス１２１の支持高さを調整することによって間接的にチャンバリッド１１２の高さ位置を調整できるように構成されたものである。
【００３１】
開閉支持手段には、チャンバリッド１１２を水平面上に設定された回動方向に固定する回動ロック手段（プランジャ）１３２ｃが設けられている。この回動ロック手段１３２ｃは、より具体的には、常時は軸支体１３２と回動軸１３３とを相互に回動方向に固定しているが、所定の操作（例えば引き出し操作）を行うことにより、そのロック状態を解除することができるようになっている。
【００３２】
また、チャンバリッド１１２が上方に引き上げられ、チャンバ本体１１１から離間されたとき、チャンバリッド１１２を上昇位置に保持するための上昇位置保持手段が設けられている。この上昇位置保持手段は、図１に示すように、軸支体１３２に対して取付部材１３６を介するなどして取り付けられた被支持材（図示例では回動自在に軸支されたローラ）１３７と、この被支持材１３７を下方から支持する支持面１３４ｂ（軸支体１３４の上面）とによって構成される。図２に実線で示すようにチャンバリッド１１２が回動していない状態（チャンバリッド１１２がチャンバ本体１１１を閉鎖している状態、或いは、チャンバ本体１１１の直上位置にある状態）においては、被支持材１３７は軸支体１３４の側方にあり支持面１３４ｂによって支持されてないが、チャンバリッド１１２が所定高さまで上昇して、しかも、所定角度回動すると、軸支体１３４の支持面１３４ｂ上に配置され、この状態で、チャンバリッド１１２がさらに回動していくと、被支持材１３７は支持面１３４ｂ上を（ローラであれば転動しながら）移動するように構成されている。このように被支持材１３７が支持面１３４ｂに支持されていることにより、チャンバリッド１１２はその回動動作中に高さを維持できるように構成されている。なお、支持面１３４ｂには段差部１３４ｃが形成され、これによってチャンバリッド１１２の回動角範囲が制限されるように構成されている。
【００３３】
ここで、チャンバリッド１１２が所定高さまで上昇していないときにチャンバリッド１１２を回動させようとすると上記被支持材１３７が軸支体１３４の側面に抵触するように構成することにより、上記回動ロック手段１３２ｃの代わりに、或いは、上記回動ロック手段１３２ｃが解除されている状態でも、チャンバリッド１１２が所定高さに達しない状態ではチャンバリッド１１２が回動しないように規制することが可能である。
【００３４】
図２に示すように、チャンバ本体１１１の上部開口１１１ａの周囲に配置された開口縁部には、ガスエバックライン１２４における原料供給系１２０から延長された一部を構成する管路の開口が設けられている。このガスエバックライン１２４は、図１に示すガス排気系１４０に接続されている。なお、ガス排気系１４０には、ターボ分子ポンプ１４３、ドライポンプ１４４などの排気装置が設けられている。また、必要に応じてバイパスライン１４２や各種弁１４１ａ，１４２ａが配設されている。
【００３５】
また、上記の開口縁部には、ガス供給ライン１２５の一部を構成する管路の開口もまた形成されている。この管路は、外部からチャンバ本体１１１に供給された各種ガスをチャンバ本体１１１からチャンバリッド１１２を通して上記原料供給ボックス１２１内に導くためのものである。
【００３６】
次に、以上説明した構成を有する減圧処理装置１００の作用効果について説明する。この減圧処理装置１００においてチャンバ１１０を開放するときには、まず、チャンバ１１０が密閉された状態からチャンバリッド１１２を手動若しくは何らかの駆動源（電動モータや流体圧シリンダなど）を用いた駆動により上昇させ、チャンバリッド１１２をチャンバ本体１１１から離間させる。このとき、チャンバリッド１１２が所定高さになるまで上記回動ロック手段１３２ｃや被支持材１３７などの規制構造によってチャンバリッド１１２の回動が規制され、回動しないように構成されていることが好ましい。これにより、特に手動で作業を行う場合に安全かつ容易に操作を行うことができる。なお、このとき、チャンバリッド１１２は基本的にその姿勢（水平姿勢）を維持したままで上昇する。
【００３７】
チャンバリッド１１２が所定高さまで上昇すると、チャンバリッド１１２を回動させることにより、図２に示すようにチャンバリッド１１２をチャンバ本体１１１上から側方にずらすことができる。このとき、上記被支持材１３７は軸支体１３４の支持面１３４ｂ上に載って支持された状態になるため、特に支えなくても回動中のチャンバリッド１１２の高さは維持される。
【００３８】
チャンバリッド１１２を全開状態にした状態は図２に二点鎖線で示されている。この状態では、チャンバ本体１１１上にチャンバリッド１１２及び原料供給ボックス１２１は存在しないため、チャンバ１１０に対するメンテナンス（清掃や機構の修理など）をきわめて容易に行うことができる。
【００３９】
本実施形態の減圧処理装置１００では、従来デッドスペースとなっていたチャンバリッド１１２の直上位置に原料供給系１２０が配置されている。したがって、装置全体をコンパクトに構成することができる。また、上方からチャンバ１１０内に直接原料を供給することが可能になり、その結果、原料供給ラインを短縮でき、その配管のコンダクタンスを低減することができるため、原料ガスの供給量を確保することができるとともに、原料ガスの供給途中における変化を防止できることなどの理由により、種々の原料を用いて支障なく処理を行うことができる。より詳細に述べると、排気系１４０によるチャンバ１１０内の減圧によって原料ガスを原料容器１２２から引き出す場合、原料供給ラインのコンダクタンスが低いと、原料ガスの供給量が確保できなかったり、原料ガスが供給ライン内で変性したりする可能性があるが、本実施形態ではこのようなことを回避できる。特に、本実施形態では、チャンバリッド１１２の上方に原料供給系１２０が固定されているため、チャンバリッド１１２と原料供給系１２０との接続態様をリジッドに構成できることから、構造を簡易なものとすることができるとともに、原料ガスの汚染などを防止することができる。さらに、本実施形態においては、原料容器１２２や各種ラインの真空引きを行う場合に、その真空度を高めることができるというメリットもある。
【００４０】
たとえば、原料が固体であり、その固体を昇華させて原料ガスを生成させ、これをチャンバ１１０内に供給する場合がある。この場合には、原料特性によっては原料ガスの供給量を確保することが困難であるケースが考えられるが、本実施形態では原料供給ライン１２３の長さを短縮することができ、また、周囲の構造に妨げられることなく配管径を大きく構成することができるため、原料ガスの供給量を確保することが可能になり、支障なく処理を行うことができる。
【００４１】
また、有機金属その他の液体原料を用いる場合には、この液体原料を気化させて原料供給ライン１２３からチャンバ１１０へ供給する際に、供給ラインのコンダクタンスが小さいとライン途中で原料の液化や分解が生じ、これらの液体や分解生成物がチャンバ内に供給されて処理品位を低下させるといった問題を招く恐れがある。しかし、本実施形態では、供給ラインのコンダクタンスを向上できるため、原料供給状態を改善でき、高品位の処理を行うことができる。
【００４２】
本実施形態では、チャンバリッド１１２の開閉時における姿勢変化がないため、何ら支障なくチャンバリッド１１２の上方に原料容器１２２を配置することができる。また、チャンバリッド１１２と原料容器１２２とを相互に固定しても、原料容器１２２の姿勢が変化しないため、原料容器１２２内の原料の偏りなど、内部原料の状態が変化しないため、原料の供給量その他の供給状態を安定させることができる。
【００４３】
本実施形態における原料供給ライン１２３の長さは３０〜１００ｃｍの範囲内で構成することができ、特に、実用上７０〜８０ｃｍ程度とすることが可能である。また、配管径としては、直径２０〜８０ｍｍの範囲内で構成することができ、特に、３０〜５０ｍｍの大径配管とすることが十分に可能である。
【００４４】
本実施形態の減圧処理装置は、内部を減圧可能なチャンバを有するものであって、チャンバ内にて何らかの処理を行うものであればよい。したがって、上記の例示にあるような各種の処理装置に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る減圧処理装置の概略構成を模式的に示す概略構成図。
【図２】同装置の平面透視図。
【図３】同装置の開閉支持機構の主要部を示す概略断面図。
【図４】同装置の配管構成の概略を模式的に示す概略説明図。
【符号の説明】
１００…減圧処理装置、１１０…チャンバ、１１１…チャンバ本体、１１２…チャンバリッド、１２０…原料供給系、１２２…原料容器、１２３…原料供給ライン、１３０…開閉支持手段、１３１…リッド支持部材、１３１ａ…垂直位置調整手段、１３２…軸支体、１３３…回動軸、１３４…軸支体、１３４ｂ…支持面、１３５…付勢手段、１３７…被支持材、１３８…ブラケット、１３９…水平位置調整手段、１４０…ガス排気系
【図１】
2004265917.tif 000003
【図２】
2004265917.tif 000004
【図３】
2004265917.tif 000005
【図４】
2004265917.tif 000006