(57)【要約】【課題】固体誘電体を、電極に安定設置でき、かつ電極とは別途に容易に交換できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置には、第１電極１１と別体でそれから分離可能な当接部材７０が設けられている。当接部材７０は、第１電極１１の第２電極２１との対向面に面する金属部７２と、この金属部ひいては第１電極を覆う誘電体部７３とを積層一体化させてなる。この当接部材７０が、ボルト７７（保持手段）によって第１電極１１に引付けられている。ボルト７７のためのボルト孔７２ａは、金属部７２の中程まで形成されており、下面までは達していない。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１、第２電極のユニットと、
上記第１電極の第２電極との対向面に面する金属部と、この金属部ひいては第１電極を覆う誘電体部とを積層一体化させてなり、上記第１、第２電極ユニットから分離可能な当接部材と、
この当接部材を上記第１電極に当接させた状態で保持可能かつ保持解除可能な保持手段と
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
上記保持手段が、上記金属部に第１電極側から引付力を作用させることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
上記金属部には、ボルト孔が第１電極側の面から誘電体側の面まで達しないように形成され、このボルト孔に第１電極を通してボルトがねじ込まれ、これにより上記引付力が生じることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
上記第１電極には、上記対向面に開口する吸引孔が形成され、この吸引孔に吸引手段が連ねられることにより上記引付力が生じることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
上記第１電極ユニットが、第２電極ユニットの上側に対向配置されるとともに、上記当接部材に係着して落下を阻止する落下阻止手段を設けたことを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
上記保持手段が、上記金属部に磁気吸引力を作用させる磁石であることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
上記保持手段が、第１電極側の第１保持部材と、第２電極側の第２保持部材とを有し、これら第１、第２保持部材によって当接部材の端部を挟み付けることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
上記第１保持部材が、第１電極ユニットに設けられ、第２保持部材が、第２電極ユニットに設けられていることを特徴とする請求項７に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
上記第１電極が、第２保持部材と協働して当接部材を挟むことにより第１保持部材として提供されていることを特徴とする請求項７または８に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
上記第２保持部材が、上記第２電極より第１電極に向けて径方向に所定量だけ突出されていることを特徴とする請求項７〜９の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
上記当接部材が、上記第１電極の両端部において第２電極から離れる方向へ延出するようにそれぞれ折曲され、これら当接部材の延出部が、上記保持手段に保持されることを特徴とする請求項７に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
上記当接部材が、弾性変形可能であり、上記保持手段の保持によって第１電極に添うように変形されて弾接されることを特徴とする請求項７〜１１の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１３】
上記金属部または第１電極の周側面に誘電体からなる添え部材が宛がわれ、この添え部材の第２電極ユニット側の面に上記誘電体部の周縁部が被さっていることを特徴とする請求項１〜１２の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１４】
上記保持手段と当接部材とには、互いに嵌合される位置決め用の凹凸嵌合部が設けられていることを特徴とする請求項１〜１３の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１５】
上記第１電極が、第２電極の上側に対向されていることを特徴とする請求項１〜４、６〜１４の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１６】
上記第１、第２電極により形成されるプラズマ化空間が、略常圧であり、この略常圧空間に被処理物が配され、プラズマ処理が行なわれることを特徴とする請求項１〜１５の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１７】
上記誘電体部の第２電極側の面に、フッ素を含有するシートが貼られていることを特徴とする請求項１〜１６の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、第１、第２電極間に電界を印加することにより被処理物の表面改質、洗浄、成膜などのプラズマ表面処理を行なうプラズマ処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、特許文献１には、一対の電極を上下に対向配置し、略常圧下において、これら電極間に処理ガスを導入するとともに電界を印加することによりグロー放電を起こさせ、電極間に配した被処理物のプラズマ表面処理を行なう装置が記載されている。下側の電極上には、例えば石英ガラスからなる固体誘電体が設置されている。この固体誘電体は、アーク放電を防止するためのものである。
特許文献２には、上面に有機高分子からなる誘電体を焼成被膜した金属板を用意し、これを下側の電極上に載せ、その上に被処理物を置き、減圧下でプラズマ表面処理を行なうことが記載されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開３０４０３５８号公報（第８図、第７頁）
【特許文献２】
特開昭５９−１５００８６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
特に常圧のプラズマ処理装置においては、減圧のものよりアーク放電が立ちやすく、それを防止する意味で固体誘電体の役割は重要である。この固体誘電体は、傷み度合いに応じて交換する必要がある。その際、固体誘電体が溶射などで電極に一体に被膜されていると、電極をまるごと交換しなければならず、大変である。また、溶射作業自体が溶射熱や膜厚精度の確保や封孔処理などの問題があり、煩雑で高コストである。これに対して、固体誘電体を特許文献１の石英ガラスのように電極とは別体物の板状にすれば、上記のような問題がなく、有利である。しかし、下側電極の上に単に載せただけでは不安定なだけでなく、電極と固体誘電体の当接面どうし間に微小隙間が出来て、そこでアークが立ちやすくなる。また、アークの問題は上側電極で多く生じるところ、上掲特許文献のものでは、肝心の上側電極に適用できない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
発明者は、上記の事情に鑑みて、誘電体の板を電極に着脱可能に固定することを着想した。すなわち、例えば、ボルトを誘電体板にねじ込んで電極に固定したり、電極に吸引孔を開穿して真空引きすることにより誘電体板を電極に直接吸い付けたりするのである。しかし、そうすると、例えばボルトやボルト孔の縁からアークが発生したり、誘電体板のボルト孔や電極の吸引孔の部分でプラズマの均一性が損なわれたりするおそれがある。また、誘電体の板を電極に直接当てる構造に変わりはないので、取り付けに不具合があると、これら誘電体板と電極の間でアークが生じるおそれがある。かかる考察の結果、本発明をなすに至った。
【０００６】
すなわち、本発明に係るプラズマ処理装置は、互いに対向する第１、第２電極のユニットと、上記第１電極の第２電極との対向面に面する金属部およびこの金属部ひいては第１電極を覆う誘電体部とを積層一体化させてなり、上記第１、第２電極ユニットから分離可能な当接部材と、この当接部材を上記第１電極に当接させた状態で保持可能かつ保持解除可能な保持手段とを備えたことを特徴とする。金属部は、第１電極と導通して第１電極における第２電極に面する表層部として提供されることになる。金属部の誘電体部との積層面は、滑らかであることが望ましい。誘電体部は、第１電極の固体誘電体層となる。
【０００７】
これによって、当接部材ひいては誘電体部を第１電極に安定的に設置できる。第１電極が、第２電極の下側に対向配置されている場合は勿論、上側に対向配置されている場合でも、当接部材を確実に安定設置できる。また、第１電極には、誘電体部ではなく金属部が直接当接されるので、この当接部分でアークの発生するおそれを確実に防止することができる。金属部と第１電極の導通も良好に維持できる。（これに対して、特許文献２のものは金属板と電極の導通が不安定になりやすい。）そして、メンテナンスの際は、当接部材ひいては誘電体部を電極とは別途に簡単に取り外すことができ、交換などを容易に行なうことができる。
【０００８】
この当接部材によれば、金属部と誘電体部を接着や溶射などにより容易に隙間無く積層一体化でき、金属部と誘電体部との間でアークが立たないようにすることができる。また、後述のようにボルトねじ込みや真空引きによる固定手段を採用する場合、直接的には金属部に対してねじ込みや真空引きを行なうようにでき、それによって誘電体部が間接的に固定されるようにでき、ひいては、プラズマ化空間でアークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりしないようにすることができる。
【０００９】
本発明は、プラズマ化空間が略常圧であり、この略常圧のプラズマ化空間に被処理物が配され、プラズマ処理が行なわれる場合において、特に効果的である。
本発明における略常圧とは、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａの範囲を言う。中でも、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａの範囲は、圧力調整が容易で装置構成が簡便になり、好ましい。
誘電体部は、板状、シート状、ないしはフィルム（薄膜）状であることが望ましい。
【００１０】
上記保持手段は、上記金属部に第１電極側から引付力を作用させる引付機構であるのが好ましい。誘電体部は、金属部を介して間接的に第１電極側に引き付けられる。この引付機構は、金属部の誘電体部との積層面にまで影響が及ばない（例えば積層面にボルト孔や吸引孔が達することがない）ように構成することができる。これによって、プラズマ化空間でアークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりするのを確実に防止することができる。また、金属部と第１電極を確実に導通させることができる。この結果、プラズマ表面処理を確実に良好に行なうことができる。
【００１１】
上記引付構造において、金属部には、ボルト孔が第１電極側の面から誘電体側の面まで達しないように形成され、このボルト孔に第１電極を通してボルトがねじ込まれ、これにより上記引付力が生じるようにするとよい。これによって、ボルトおよびボルト孔の箇所でアークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりするのを確実に防止することができ、プラズマ表面処理を確実に良好に行なうことができる。ここで、ボルトとボルト孔は、「保持手段（引付機構）」を構成する。
【００１２】
上記引付構造において、第１電極には、上記対向面に開口する吸引孔が形成され、この吸引孔に吸引手段が連ねられることにより上記引付力が生じるようにしてもよい。これによって、吸引孔の箇所でアークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりするのを確実に防止することができる。ここで、上記第１電極ユニットが、第２電極ユニットの上側に対向配置されている場合には、上記当接部材に係着して落下を阻止する落下阻止手段を設けるのが望ましい。これによって、吸引を停止したときに当接部材が落下するのを防止することができる。
この場合、金属部は、薄板状（膜状、フィルム状を含む）であることが望ましい。
ここで、吸引孔と吸引手段は、「保持手段（引付機構）」を構成する。
【００１３】
上記保持手段（引付機構）は、上記金属部に磁気吸引力を作用させる磁石であってもよい。これによって、引付力を簡単かつ確実に作用させることができる。
【００１４】
上記保持手段が、第１電極側の第１保持部材と、第２電極側の第２保持部材とを有し、これら第１、第２保持部材によって当接部材の端部を挟み付ける挟持機構を構成していてよい。
これによって、当接部材ひいては誘電体部を第１電極に確実に安定設置できる。また、金属部と第１電極を確実に接触導通させることができる。
【００１５】
この保持手段（挟持機構）は、第１電極ユニットまたは第２電極ユニットに一体に組み込まれていることが望ましい。これによって、部材構成の簡素化を図ることができる。この場合、上記保持手段は、第１、第２電極ユニットの何れか１つに組み込まれていてもよく、第１電極ユニットに組み込まれたものと第２電極ユニットに組み込まれたものとに分かれていてもよい。
【００１６】
上記第１保持部材が、第１電極ユニットに設けられ、第２保持部材が、第２電極ユニットに設けられていることにしてもよい。
これによって、第１、第２電極ユニットにより当接部材を挟持できる。
【００１７】
上記第１電極が、第２保持部材と協働して当接部材を挟むことにより第１保持部材として提供されていることにしてもよい。
これによって、部材構成の簡素化を図ることができる。
【００１８】
上記第２保持部材が、上記第２電極より第１電極に向けて径方向に所定量だけ突出されているが望ましい。これによって、当接部材を第２電極から所定量だけ離して正確に位置決めでき、ひいてはプラズマ化空間の厚さを上記所定の大きさになるように正確に定めることができる。
【００１９】
上記当接部材が、弾性変形可能であり、上記保持手段の保持によって第１電極に添うように変形されて弾接される（弾性を持って押し当てられる）ようにしてもよい。
これによって、金属部と第１電極を一層確実に導通させることができる。この場合、第１電極の当接面（上記第２電極との対向面）が、平らであり、非変形時（変形荷重がかかっていない時）の当接部材が、例えば部分円筒状に湾曲していてもよく、第１電極の当接面が、例えば部分円筒凹面をなし、非変形時の当接部材（の上記凹面に対応する部分）が、平らになっていてもよい。第１電極の当接面が部分円筒凹面の場合、第２電極は、上記部分円筒凹面に対応するロール状、円筒状（中空円筒状、中実円筒状の何れをも含む）をなしているのが望ましい。
【００２０】
上記当接部材が、上記第１電極の両端部において第２電極から離れる方向へ延出するようにそれぞれ折曲され、これら当接部材の延出部が、上記保持手段に保持されるようにしてもよい。これによって、保持手段を第２電極から離して配置でき、保持手段の配置レイアウトを容易化できる。この場合、金属部は第１電極に面する主部にのみ設け、延出部は、誘電体部のみで構成してもよい。また、保持手段が、上記延出部を挿入配置する挿入孔を有していることが望ましい。この挿入孔の幅は、延出部の厚さと略同じであることが望ましい。これによって、延出部を安定して保持できる。または、挿入孔の幅を拡縮可能に構成し、延出部の出し入れ時には、幅広にする一方、挿入セット時には、狭くして、延出部を両面側から挟持できるようにしてもよい。更に、上記保持手段が、上記折曲部に突き当たることにより板部材の第１電極からの脱落を阻止するストッパを有していることが望ましい。第１電極の当接面が部分円筒凹面の場合には、当接部材を弾性変形可能とし、上記保持手段が、上記延出部を折曲部の展開方向に変位させ、これにより、上記主部が、折曲部の展開を阻止すべく湾曲されることが望ましい。
【００２１】
上記金属部または第１電極の周側面に誘電体からなる添え部材が宛がわれ、この添え部材の第２電極ユニット側の面に上記誘電体部の周縁部が被さっていることが好ましい。これによって、アークが、金属部や第１電極の周側部から誘電体部の周縁部を回り込むようにして第２電極へ向けて伝わるのを防止することができる。ここで、金属部は、第１電極と略同面積であることが好ましい。誘電体部の周縁部は、金属部および第１電極の周縁部より突出されている。金属部が薄い場合（極薄板状、膜状、フィルム状の場合）には、添え部材は、金属部だけでなく第１電極の周側面にまで及んでいるのが好ましい。金属部が十分に厚い場合には、添え部材は、少なくとも金属部の周側面に宛がわれていればよい。
【００２２】
上記誘電体部と金属部とが、互いの熱膨縮の差を吸収可能な伸縮性とその伸縮によっても接着状態を維持可能な接着強度とを有する接着剤にて接着されていてもよい。これによって、誘電体部と金属部に熱応力が生じるのを防止することができる。
【００２３】
上記保持手段と当接部材とには、互いに嵌合される位置決め用の凹凸嵌合部が設けられていることが望ましい。
これによって、板部材の位置決めを容易に行なうことができる。
【００２４】
表面処理にフッ素を用いる場合には、上記板部材における他方の電極との対向面に、フッ素を含有するシートを貼ることが好ましい。これによって、シートのフッ素をプラズマ化して所望の処理を行なうことができ、処理ガスにフッ素を含ませる必要がなく、例えばＮ２などの不活性ガスだけを電極間空間へ導入するだけで済み、処理ガス供給構造を簡素化することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１および図２は、本発明の第１実施形態に係る常圧プラズマ処理装置Ｍ１を示したものである。プラズマ処理装置Ｍ１は、上下一対の電極ユニット１０，２０を備えている。これら電極ユニット１０，２０の間に形成されたプラズマ化空間１ａに薄板状のワークＷ（被処理物）が配置され、常圧下においてプラズマ表面処理が行なわれるようになっている。具体的には、下側電極ユニット２０の上面にワークＷが載置され、このワークＷの上面がプラズマ洗浄されるようになっている。
【００２６】
下側のアース電極ユニット２０（第２電極ユニット）は、平面視四角形の厚板状をなすアース電極２１（第２電極）と、このアース電極２１の四隅に装着された絶縁樹脂製の電極ホルダ２２とを有し、図示しない装置本体（または架台）に支持されている。アース電極２１は、接地線４２を介して接地されている。アース電極２１の上面および側面には、例えばアルミナからなる固体誘電体の溶射膜２３が形成されている。アース電極２１の内部には、冷媒通路２１ａが形成されている。この冷媒通路２１ａに冷媒が通されることにより、アース電極２１が冷却または加温（温度調節）されるようになっている。
【００２７】
上側のホット電極ユニット１０（第１電極ユニット）は、平面視左右に長い四角形の厚板状をなすホット電極１１（第１電極）と、このホット電極１１の四隅に装着された電極ホルダ３０Ｆ，３０Ｒ，３０Ｓとを有している。ホット電極１１は、導電金属で構成され、好ましくは軽量なアルミニウムで構成されている。詳細な図示は省略するが、ホット電極１１は、懸架ブラケット１９を介して上記装置本体または架台に前後スライド可能に懸架、支持されている。これによって、ホット電極ユニット１０が、アース電極ユニット２０の真上に対向するセット位置（図１の状態）と、後方（図１において左方）に退避してアース電極ユニット２０の上面を露出させる退避位置（図示省略）との間で水平移動可能になっている。セット位置において、上下の電極ユニット１０，２０間（後記樹脂シート７６（図３）と溶射膜２３との間）には、例えば１〜２ｍｍ程度の厚さの隙間すなわち上記プラズマ化空間１ａが形成されるようになっている。
【００２８】
図１に示すように、ホット電極１１は、給電線４１を介してパルス電源４０（電界印加手段）に接続されている。パルス電源４０は、所定高さのパルス状の電圧を所定周期でホット電極１１に供給するようになっている。
【００２９】
図１および図２に示すように、ホット電極１１の内部には、冷媒通路１１ａが形成されている。冷媒通路１１ａは、平面視Ｕ字状をなして左右に延びるとともに、両端がホット電極１１の上面に開口されている。冷媒通路１１ａの上流端には、フレキシブルチューブからなる冷媒導入管６１が連ねられ、下流端には、フレキシブルチューブからなる冷媒導出管６２が連ねられている。導入管６１からの冷水や温水などの冷媒が、冷媒通路１１ａに通されることにより、ホット電極１１が冷却または加温（温度調節）されるようになっている。その後、冷媒は、導出管６２を経て排出されるようになっている。
【００３０】
図１に示すように、ホット電極１１の前側のホルダ３０Ｆは、逆Ｌ字状をなしてホット電極１１に直接宛がわれた内ホルダ部材３１と、その前方外側に設けられた外ホルダ部材３２と、これらホルダ部材３１，３２の上側に設けられた上板３３と、ホルダ部材３２の下側に設けられた下板３４とを有し、ホット電極１１の前端部に沿って左右（図１の紙面と直交する方向）に細長く延びている。
【００３１】
前側ホルダ３０Ｆには、処理ガス源５０と協働する処理ガス導入機構が組み込まれている。すなわち、前側ホルダ３０Ｆの外ホルダ部材３２には、処理ガスの導入路３２ａが形成されている。導入路３２ａは、受容れ路３２ｂと、チャンバー３２ｃと、スリット３２ｄとを上流側から順次連ねることによって構成されている。受容れ路３２ｂの上流端は、フレキシブルチューブからなる処理ガス供給管５１を介して処理ガス源５０に連ねられている。処理ガス源５０には、洗浄用処理ガスとして例えばＮ２やＯ２などが貯えられている。
【００３２】
チャンバー３２ｃは、大容積を有して外ホルダ部材３２の略全長にわたって延び、受容れ路３２ｂからの処理ガスを左右長手方向に均一化できるようになっている。スリット３２ｄは、チャンバー３２ｃの全長域からホット電極１１へ近づくように斜め下に延びている。このスリット３２ｄの全長域に吹出し口３０ａが連なっている。吹出し口３０ａは、内ホルダ部材３１のＲ取りされた下端部と、下板３４の曲面加工された端縁とによって形成され、図１の紙面と直交する左右に延びている。吹出し口３０ａは、後方すなわち電極ユニット１０の内側へ向けて斜め下に開口されている。
【００３３】
なお、スリット３２ｄに代えて、チャンバー３２ｃから吹出し口３０ａに延びる細孔をホルダ３０Ｆの長手方向に間隔を置いて複数設けることにしてもよい。
なお、下板３４をホルダ部材３２にボルト締めするボルト孔３４ａは、前後方向に長い長孔になっている。これにより、下板３４の前後位置を調節でき、ひいては吹出し口３０ａの幅を拡縮することができるようになっている。また、下板３４には、チャンバー３２ｃに連なる他の吹出し路３４ｂが形成されている。吹出し路３４ｂは、吹出し口３０ａより前側に位置し、前方へ向けて斜め下に開口している。
【００３４】
ホット電極１１の後側のホルダ３０Ｒは、前側ホルダ３０Ｆを前後に反転させた構造をなしている。すなわち、電極ホルダ３０Ｒは、内外のホルダ部材３５，３６と、上下の板３７，３８を有している。後側ホルダ３０Ｒには、真空ポンプ５３（排気手段）と協働する排気機構が組み込まれている。すなわち、内ホルダ部材３５と下板３８とによって、吸込み口３０ｂが形成されている。下板３８のボルト孔３８ａが長孔になることによって、下板３８の前後位置を調節でき、吸込み口３０ｂを拡縮できるようになっている。外ホルダ部材３６には、排気路３６ａが形成されている。排気路３６ａは、吸込み口３０ｂから延びるスリット３６ｄと、このスリット３６ｄに連なるチャンバー３６ｃと、このチャンバー３６ｃに連なる導出路３６ｂとを有している。導出路３６ｂの下流端は、フレキシブルチューブからなる排気管５２を介して真空ポンプ５３に連なっている。
なお、スリット３６ｄに代えて、吸込み口３０ｂからチャンバー３６ｃに延びる細孔をホルダ３０Ｒの長手方向に間隔を置いて複数設けることにしてもよい。
【００３５】
図２に示すように、ホット電極１１の左右両側のホルダ３０Ｓは、逆Ｌ字状をなして前後方向に長く延び、ホット電極１１の左右側部に宛がわれている。これらホルダ３０Ｓには、カーテンガス源５４と協働するガスカーテン機構が組み込まれている。すなわち、各ホルダ３０Ｓには、カーテンガスの導入路３０ｃが形成されている。導入路３０ｃは、垂直路３０ｄと、水平路３０ｅと、吹出し路３０ｆ，３０ｇとを有している。垂直路３０ｄは、ホルダ３０Ｓの長手方向中央において上下に延びている。垂直路３０ｄの上端は、フレキシブルチューブからなるカーテンガス供給管５５を介してカーテンガス源５４に接続されている。カーテンガス源５４には、カーテンガスとして例えばＮ２などの不活性ガスが貯えられている。なお、上記処理ガスがカーテンガスと同一物質の場合には、処理ガス源５０をカーテンガス源として兼用させてもよい。
【００３６】
水平路３０ｅは、垂直路３０ｄの下端部に連なるとともにホルダ３０Ｓの略全長域にわたって前後に延びている。水平路３０ｅの底部から吹出し路３０ｆ，３０ｇが延びている。これら吹出し路３０ｆ，３０ｇは、互いに側面視「ハ」字状をなしている。すなわち、吹出し路３０ｆは、左右内側へ向けて斜め下へ延び、ホルダ３０Ｓの下端面に開口している。一方、吹出し路３０ｇは、左右外側へ向けて斜め下へ延び、ホルダ３０Ｓの下端面に開口している。なお、吹出し路３０ｆ，３０ｇは、細孔状をなし、ホルダ３０Ｓの略全長域にわたるように前後に間隔を置いて複数配置されているが、ホルダ３０Ｓの略全長域にわたるスリット状に形成してもよい。
【００３７】
本発明の最も特徴的な部分について説明する。
図１および図２に示すように、ホット電極ユニット１０は、ホット電極１１の下面（アース電極２１との対向面）に重ねられた当接部材（重ね合わせ部材）７０を、更に備えている。当接部材７０は、誘電体部（板部材）７１と、金属部（被引付部材）７２と、添え部材７３とを有している。誘電体部７１は、薄い（例えば厚さ１ｍｍ程度の）石英ガラス（誘電体）の板で構成され、ホット電極１１に対する固体誘電体としての役割を担っている。勿論、この固体誘電体たる誘電体部７１は、ホット電極１１とは別体物である。
【００３８】
図３に示すように、誘電体部７１の下面には、薄い樹脂シート７６が接着されている。このシート７６は、フッ素を含有する樹脂、例えばテトラフルオロエチレンで構成されている。
【００３９】
図１および図２に示すように、誘電体部７１の上面には、該誘電体部７１とホット電極１１との間に介在されるようにして、金属部７２が配されている。金属部７２は、ホット電極１１と同様に導電金属で構成され、好ましくは軽量なアルミニウムで構成されている。この金属部７２は、ホット電極１１と同一の平面形状で、ホット電極より薄く誘電体部７１より十分に厚い板形状をなしている。金属部７２の下面の隅部は、全周にわたってＲ取りされている。
【００４０】
図３に示すように、誘電体部７１と金属部７２は、紫外線硬化接着剤７４（光硬化接着剤）によって接着され積層一体化されている。この接着剤７４は、加水分解性官能基（例えばアルコキシ基）を有する珪素系の化合物と、紫外線（光）照射により上記珪素系化合物の反応、重合、または架橋を促進させる化合物（例えばカルボン酸無水物、カルボン酸イミド、ジアシルホスフィンオキサイドなど）とを含有しており、誘電体部７１と金属部７２が熱で相対的に膨張・収縮するとき、両者の接着状態を維持しつつその熱膨縮の差を吸収する程度の伸縮性を有している。
【００４１】
なお、硬化前の接着剤７４は、粘度が低い。この低粘度の接着剤７４を誘電体部７１と金属部７２の間に塗布した後、誘電体部７１を小さく揺する。これにより、接着剤７４内から気泡を確実に除去することができる。その後、接着剤７４に紫外線を当てて硬化させる。誘電体部７１は透明な石英ガラスで構成されているので、紫外線を十分に透過させることができる。
【００４２】
図１および図２に示すように、上記誘電体部７１の周縁部は、金属部７２ひいてはホット電極１１の周縁部より突出している。この誘電体部７１の周縁突出部分の上面と金属部７２の周側面とに、角材状をなす上記添え部材７３が宛がわれている。添え部材７３は、誘電体の樹脂で構成されている。添え部材７３は、金属部７２の４つの縁に合わせて４つに分割されているが、一体に連なって枠状をなしていてもよい。添え部材７３は、水平なボルト７５によって被引付け部材７２の周側面に固定されている。このボルト７５は、誘電体の樹脂によって形成されている。
【００４３】
当接部材７０のホット電極ユニット１０への取付構造について説明する。
ホット電極１１には、上面から下面へ貫通する挿通孔１１ｂが適宜な間隔を置いて複数形成されている。金属部７２の上記挿通孔１１ｂに対応する位置には、内周面に雌ネジを有するボルト孔７２ａが形成されている。ボルト孔７２ａは、金属部７２の上面から厚さ方向の中程まで形成され、金属部７２の下面へは達していない。（したがって、金属部７２の下面は、ボルト孔７２ａの配置箇所においても滑らかな状態になっており、ひいては下面全体が滑らかに維持されている。）そして、ボルト７７が、挿通孔１１ｂを通してボルト孔７２ａにねじこまれている。このボルト７７によって、金属部７２が、ホット電極１１に引き付けられ、押し当てられている。（金属部７２の中程から上側の部分のみに対して引付け力が付与されている。）これによって、金属部７２が、電極ユニット１０の電極の一部として提供されている。
ボルト７７と孔１１ｂ，７２ａによって、「金属部に第１電極側から引付力を作用させる保持手段（引付機構）」が構成されている。
【００４４】
上記のように構成された常圧プラズマ処理装置Ｍ１を用いてワークＷの洗浄処理を行なう手順を説明する。
ホット電極ユニット１０を退避位置に位置させ、アース電極ユニット２０の上面に処理対象のワークＷを載せる。そして、ホット電極ユニット１０を前進させてセット位置に位置させる。
【００４５】
次いで、処理ガスを、処理ガス源５０から供給管５１を経て受容れ路３２ｂに導入する。この処理ガスが、チャンバー３２ｃで均一化された後、スリット３２ｄを経て吹出し口３０ａから電極ユニット１０，２０間の隙間１ａへ吹出される。
なお、処理ガスとして例えばＮ２を用いるときは、吹出し口３０ａの前方の吹出し路３４ｂを開けておき、そこからもＮ２が吹出されるようにするとよい。これにより、吹出し口３０ａからの吹出し流を外部から遮断でき、外の空気がプラズマ化空間１ａに取り込まれるのを防止することができる。
【００４６】
また、パルス電源４０をオンする。これにより、ホット電極１１にパルス電圧が印加される。ホット電極１１には導電性の金属部７２が押し付けられ、良好な導通状態になっているので、金属部７２にも、上記のパルス電圧がロスなく確実に印加されることになる。これによって、金属部７２とアース電極２１との間に電界が形成される。この電界は、ボルト７７やボルト孔７２ａからなる保持手段（引付機構）の影響を受けることがない。よって、隙間１ａ内にアークを発生させることなく均一なグロー放電を形成することができる。このグロー放電によって上記隙間１ａを流れる処理ガスをプラズマ化できる。更に、シート７６の含有フッ素をプラズマ化して隙間１ａ内に飛び出させ、上記プラズマ化した処理ガスに混ぜることができる。これによって、ワークＷの上面を良好にプラズマ洗浄することができる。シート７６からフッ素を出すことができるので、処理ガスにフッ素を含ませておく必要がなく、処理ガス供給構成を簡素化できる。
【００４７】
併行して、カーテンガスを、カーテンガス源５４から供給管５５を経て左右の導入路３０ｃに導入する。このカーテンガスは、路３０ｃの垂直路３０ｄを経て水平路３０ｅに沿って前後方向に均一に拡げられる。そして、水平路３０ｅの全長域から吹出し路３０ｆ，３０ｇを経て、ホルダ３０Ｓ，２２間の隙間にそれぞれ吹出される。そのうち内向きの吹出し路３０ｆからのカーテンガスによって、上記処理ガスがプラズマ化空間１ａから漏れるのを防止することができる。一方、外向きの吹出し路３０ｇからのカーテンガスによって、外の空気がプラズマ化空間１ａ内に取り込まれるのを防止することができる。
【００４８】
使用済みの処理ガスおよびカーテンガスは、後側ホルダ３０Ｒの吸込み口３０ｂに吸い込まれ、排気路３６ａおよび排気管５２を経て真空ポンプ５３に吸込まれ排気される。
処理終了後は、処理ガスおよびカーテンガスの投入を停止するとともに電源を停止する。そして、ホット電極ユニット１０を押して退避位置に位置させ、アース電極ユニット２０上の洗浄済みワークＷを取り出す。
【００４９】
常圧プラズマ処理装置Ｍ１によれば、固体誘電体としての誘電体部７１を、ボルト７７やボルト孔７２ａからなる保持手段（引付機構）によって上側の電極１１に安定かつ簡易に設置でき保持状態にすることができる。これらボルト７７およびボルト孔７２ａを設けたことでアークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりすることはない。
【００５０】
そして、誘電体部７１が傷んだり汚れたりしたときは、ボルト７７を外すことにより、当接部材７０の保持状態を簡単に解除でき、当接部材７０を電極１１とは別途に容易に交換することができる。したがって、電極１１に繋がっている給電線４１や冷媒用の配管６１，６２を脱着したり、電極１１を懸架ブラケット１９から外したりする必要がない。
【００５１】
また、接着剤７４が硬化前に十分に脱泡され、誘電体部７１と金属部７２との間が気泡の殆ど無い接着剤７４で充填されているので、これら部材７１，７２の間でアークが発生するのを確実に防止できる。
さらに、誘電体の添え部材７３によって金属部７２の周側面からのアークを防止でき、ひいてはアークが誘電体部７１の周縁部を回り込むようにして伝わりアース電極２１に落ちるのを防止できる。しかも、ボルト７５が誘電体樹脂で形成されているので、金属部７２の周側面からのアークを一層確実に防止できる。なお、ホット電極１１の周側部とホルダ３５，３０Ｓを止めるボルト３９についてもアーク防止のために誘電体樹脂で構成するのが好ましい。
【００５２】
電圧印加によって誘電体部７１と金属部７２が互いに異なる度合いで熱膨張したときは、ＵＶ硬化型接着剤７４が両部材７１，７２の接着状態を維持しながら伸縮することによって、これら部材７１，７２の膨張差を吸収でき、これら部材７１，７２に熱応力が生じるのを防止することができる。
【００５３】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の実施形態と同様の構成に関しては、適宜、図面に同一符号を付して説明を簡略化する。
図４および図５は、本発明の第２実施形態に係る常圧プラズマ処理装置Ｍ２を示したものである。このプラズマ処理装置Ｍ２では、当接部材７０Ａと、その保持手段（引付機構）の構成が既述の装置Ｍ１と異なっている。すなわち、図６に示すように、この装置Ｍ２の当接部材７０Ａの金属部（被引付部材）７８は、アルミ箔で形成されている（薄板状ないしは膜状をなしている）。このアルミ箔からなる金属部７８が、ＵＶ硬化型接着剤７４によって誘電体部７１に接着されている。金属部７８は、ホット電極１１Ａ（第１電極）と略同面積を有している。この金属部７８より誘電体部７１の周縁部が突出され、この誘電体部７１の周縁突出部分の上面に添え部材７３が接着されている（図４、図５）。また、誘電体部７１の周端縁はエッジになっており、このエッジが添え部材７３の下面に形成された切り込み７３ａに嵌め込まれている。
【００５４】
図４および図５に示すように、ホット電極１１Ａには、上面から下面に貫通する吸引孔１１ｃが適宜な間隔を置いて複数形成されている。これら吸引孔１１ｃの上面開口が、フレキシブルチューブからなる吸引管８１を介して真空ポンプ８０（吸引手段）に連ねられている。
吸引孔１１ｃと真空ポンプ８０とによって、「金属部に第１電極側から引付力を作用させる保持手段（引付機構）」が構成されている。
なお、真空ポンプ８０は、処理ガスおよびカーテンガスの排出用真空ポンプ５３と共通の真空ポンプを用いることにしてもよい。
【００５５】
真空ポンプ８０を駆動することによってアルミ箔からなる金属部７８が吸引孔１１ｃに吸い付けられるようになっている。これにより、金属部７８をホット電極１１Ａに押し付けることができ、良好な導通状態を得ることができる。ひいては、電極１１Ａとは別体物の固体誘電体としての誘電体部７１をホット電極１１Ａに安定かつ簡易に設置でき保持状態にすることがでるとともに、容易に保持状態を解除できる。
【００５６】
しかも、金属部７８は、吸引孔１１ｃの箇所でも電界を一様に加えることができるので、該箇所でアークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりすることはない。
【００５７】
上記当接部材７０Ａの吸引設置状態において、添え部材７３は、ホット電極１１Ａの周側面に宛がわれている。これによって、ホット電極１１Ａの周側面からアークが出るのを防止できる。
【００５８】
添え部材７３は、ボルト７９（落下阻止手段、係着手段）によってホルダ３０Ｆ，３０Ｒ，３０Ｓに係着されている。これによって、真空ポンプ８０を停止しても、当接部材７０Ａが落下することはない。
上記ボルト７９は、誘電体の樹脂で構成されている。これによって、ホット電極１１Ａの周側面からのアーク発生を一層確実に防止することができる。
【００５９】
次に、本発明の第３実施形態を説明する。第３実施形態では、電極およびワークの形状と保持手段の構成が既述のものと異なっている。
詳述すると、図７および図８に示すように、第３実施形態に係る常圧プラズマ処理装置Ｍ３は、上下に対向する凹面電極ユニット１０Ｒ（第１電極ユニット）とロール電極ユニット２０Ｒ（第２電極ユニット）とを有している。
【００６０】
図７および図８に示すように、下側のロール電極ユニット２０Ｒは、軸線を水平に向けた円筒状をなすロール電極２１Ｒ（第２電極）と、このロール電極２１Ｒを軸線まわりに回転可能に支持する一対の架台２５（第２電極支持部材）とを備えている。ロール電極２１Ｒは、ステンレスなどの導電金属からなり、接地線４２を介して接地されている。これによって、ロール電極２１Ｒは、接地電極となっている。図９および図１０に示すように、ロール電極２１Ｒの外周面には、例えばアルミナなどからなる固定誘電体層２３が溶射などによって被膜されている。詳細な図示は省略するが、ロール電極２１Ｒの内部には、温調用の冷媒通路が螺旋状に形成されている。
【００６１】
ロール電極２１Ｒの軸部２１ａｘには、回転駆動手段（図示せず）が連結されている。このロール電極２１Ｒ上に連続シート状のワークＷ’が被せられる。ひいては、ワークＷ’がプラズマ化空間１ａに通される。そして、回転駆動手段によってロール電極２１Ｒが回転されることによって、ワークＷ’が連続給送されるようになっている。
【００６２】
図７および図８に示すように、架台２５には、４つのノズルユニット１３１〜１３３が、ロール電極２１Ｒを四方から囲むようにして支持されている。図７に示すように、処理ガスノズルユニット１３１は、ロール電極２１Ｒの周方向の一端側（図７において左）に配されている。このノズルユニット１３１には、処理ガス供給管５１を介して処理ガス源５０が接続されている。この処理ガス源５０のＮ２やＯ２などのプラズマ洗浄用処理ガスが、供給管５１、ユニット１３１のチャンバー１３１ａおよび吹出し口１３１ｂを順次経て、プラズマ化空間１ａに吹出される。
【００６３】
吸引ノズルユニット１３２は、ロール電極２１Ｒの周方向の他端側（図７において右）に配されている。このノズルユニット１３２には、吸引管５２を介して真空ポンプ５３が接続されている。この真空ポンプ５３によって、空間１ａの処理済みのガスや処理により生じた副生成物が、ユニット１３２の吸込み口１３２ａおよびチャンバー１３２ｂ、並びに吸引管５２を順次経て、排気される。
【００６４】
図８に示すように、一対のカーテンガスノズルユニット１３３は、ロール電極２１Ｒの軸方向の両端側に配されている。これらノズルユニット１３３には、カーテンガス供給管５５を介してカーテンガス源５４が接続されている。このカーテンガス源５４のＮ２などのカーテンガスが、供給管５５、ユニット１３３のチャンバー１３３ａおよび吹出し口１３３ｂを順次経て、プラズマ化空間１ａの両縁部に吹出され、ガスカーテンが形成される。
【００６５】
次に、上側の凹面電極ユニット１０Ｒについて説明する。
図７および図８に示すように、凹面電極ユニット１０Ｒは、凹面電極１１Ｒ（第１電極）と、この凹面電極１１Ｒを支持する樹脂製の絶縁ホルダ１２（第１電極支持部材）とを備えている。図８に示すように、ホルダ１２の一端部（図８において左）は、一方の架台２５に回転ブラケット２４を介して回転可能に連結されている。これによって、凹面電極ユニット１０Ｒは、上記一対の架台２５の上端部間に水平に架け渡されるセット位置と、起立する起立位置（図８の仮想線）との間で回転可能になっている。なお、起立位置を越えて裏返る位置まで回転可能になっていてもよい。ホルダ１２の他端部（図８において左）と他方の架台２５には、フック１２ｆと引っ掛け金具２５ａが設けられており、これらが互いに係着されることによって、セット位置の凹面電極ユニット１０Ｒを回転不能に固定できるようになっている。
【００６６】
図７に示すように、凹面電極１１Ｒは、アルミニウムやステンレスなどの導電金属からなり、給電線４１を介して電界印加手段４０に接続されている。これによって、凹面電極１１Ｒは、電界印加電極となっている。
なお、上下の電極１１Ｒ，２１Ｒの極性は、本実施形態とは逆になっていてもよい。
【００６７】
図７、図８、図１１に示すように、凹面電極１１Ｒは、部分円筒状の凹面１１ｒを有する厚板状をなしている。部分円筒凹面１１ｒの曲率半径は、ロール電極２１Ｒの外周面の半径より若干大きくなっている。具体的には、プラズマ化空間１ａの設定厚さｔ１ａ（図１０）と後記当接部材１７０の厚さとを加えた分だけ大きくなっている。上記セット状態において、部分円筒凹面１１ｒの中心軸は、ロール電極２１Ｒの中心軸と一致している。この部分円筒凹面１１ｒが、下を向き、ロール電極２１Ｒの外周面と対向している。
【００６８】
本発明の第３実施形態の主要部について説明する。
図７および図８に示すように、常圧プラズマ処理装置Ｍ３の上側の凹面電極ユニット１０Ｒには、当接部材１７０が付設されている。当接部材１７０は、凹面電極１１Ｒと略等面積をなしている。また、図１１に示すように、非変形時の当接部材１７０は、平らになっている。当接部材１７０は、上下の電極ユニット１０Ｒ，２０Ｒの間に挟装される一方、ユニット１０Ｒ，２０Ｒから単独で分離可能になっている。
【００６９】
当接部材１７０について更に説明する。図９および図１０に示すように、当接部材１７０は、金属部１７１と誘電体部１７２を上下に積層一体化することによって構成されている。上側の金属部１７１は、例えばばね鋼やステンレスなどの薄い金属板で構成され、導電性は勿論、優れた弾性を有している。金属部１７１は、その上方の凹面電極１１Ｒと接することによって凹面電極ユニット１０Ｒの電極の一部分として提供されている。
【００７０】
下側の誘電体部１７２は、例えばポリテトラフルオロエチレンなどの誘電体からなる柔軟な粘着テープ（薄膜）で構成されている。この粘着テープの粘着面が、金属部１７１の下面に隙間無くぴったりと貼り付けられている。誘電体部１７２は、凹面電極１１Ｒの固体誘電体層としての役目を担っている。
当接部材１７０は、全体としても弾性に富んでいる。
【００７１】
当接部材１７０のユニット１０Ｒ，２０Ｒへの取付構造について説明する。
図８に示すように、凹面電極１１Ｒの軸方向の両端部は、ロール電極２１Ｒより延出されている。この凹面電極１１Ｒの軸方向延出部に、符号「１１ｅ」を付す。
【００７２】
一方、図８および図１１に示すように、一対の架台２５の上端部には、それぞれ保持台２６（第２保持部材）が設置されている。図７、図９〜図１１に示すように、保持台２６の上面は、部分円筒面２６ａになっている。部分円筒面２６ａの中心は、ロール電極２１Ｒの軸心と一致している。部分円筒面２６ａの曲率半径は、ロール電極２１Ｒの半径にプラズマ化空間１ａの設定厚さｔ１ａを加えた大きさになっている。これによって、保持台２６は、ロール電極２１Ｒよりプラズマ化空間１ａの設定厚さだけ上に突出されている。
【００７３】
図８に示すように、上記凹面電極ユニット１０Ｒのセット状態において、一対の保持台２６は、凹面電極１１Ｒの軸方向延出部１１ｅ（第１保持部材）のちょうど下方に配置されている。そして、凹面電極１１Ｒの軸方向延出部１１ｅの部分円筒凹面１１ｒと保持台２６の部分円筒面２６ａとの間に、当接部材１７０の両端部が挟まれている。これにより、当接部材１７０が、部分円筒凹面１１ｒに添うように湾曲（弾性変形）され、部分円筒凹面１１ｒに弾性を持って押し当てられている。
凹面電極１１Ｒの軸方向延出部１１ｅと保持台２６とによって、特許請求の範囲の「保持手段」が構成されている。
【００７４】
図８および図１１に示すように、各保持台２６には、位置決めピン２７（凸部）が上に突出するように設けられている。一方、当接部材１７０の両端部には、それぞれ切欠き１７０ｃ（凹部）が形成されている。この切欠き１７０ｃに、ピン２７が嵌め込まれている。
位置決めピン２７と切欠き１７０ｃとによって、特許請求の範囲の「凹凸嵌合部」が構成されている。
【００７５】
図１０に示すように、当接部材１７０とロール電極２１Ｒとの間には、上記保持台２６の突出量ｔ１ａに対応する厚さの隙間が形成されている。この隙間が、上記プラズマ化空間１ａとなっている。この空間１ａに連続シート状ワークＷ’が通されてプラズマ洗浄されることは、上述した通りである。
【００７６】
上記構成のプラズマ処理装置Ｍ３において、当接部材１７０の組み付けの際は、凹面電極ユニット１０Ｒを起立位置に位置させる。これによって、当接部材１７０を、容易に一対の保持台２６間に架け渡すことができ、ロール電極２１Ｒ上に容易に被せることができる。この時、当接部材１７０の切欠き１７０ｃに位置決めピン２７を嵌め込む。これによって、当接部材１７０を容易に位置決めすることができる。勿論、金属部１７１は上に向け、誘電体部１７２は下に向ける。この段階では、当接部材１７０は、略平らな状態を維持している。
【００７７】
次に、凹面電極ユニット１０Ｒをセット位置まで回転させる。これによって、当接部材１７０の軸方向の両端部が、凹面電極１１Ｒと保持台２６との間に挟まれ、当接部材１７０全体が上に凸に湾曲される。そして、凹面電極１１Ｒの部分円筒凹面１１ｒの略全面に弾接される。これによって、当接部材１７０の金属部１７１と凹面電極１１Ｒとを良好かつ確実に電気的に導通させることができる。一方、当接部材１７０の金属部１７１と凹面電極１１Ｒとの間に部分的に隙間があっても、そこでアークが立つことはない。また、金属部１７１と誘電体部１７２とは、それらの間に隙間が出来ないように積層しておくことができる。これによって、アークの発生を確実に防止することができる。
【００７８】
当接部材１７０のメンテナンスの際は、凹面電極ユニット１０Ｒを起立位置まで回転させる。これによって、保持手段１１ｅ，２６による当接部材１７０の保持状態を簡単に解除でき、当接部材１７０を間単に取り出すことができる。そして、誘電体部１７２を貼り替えたり新しい当接部材１７０に交換したりするなどのメンテナンスを容易に行なうことができる。
【００７９】
次に、本発明の第４実施形態を説明する。
図１２に示すように、第４実施形態に係る常圧プラズマ処理装置Ｍ４では、当接部材の形状が第３実施形態と異なっている。また、第３実施形態では、保持手段の第１、第２保持部材が、上下の電極ユニット１０Ｒ，２０Ｒに分かれて設けられていたが、この第４実施形態では、両方とも上側の凹面電極ユニット１０Ｒに設けられている。下側のロール電極ユニット２０Ｒには、上記第３実施形態の保持台２６が設けられていない。
【００８０】
詳述すると、図１２および図１３に示すように、第４実施形態の当接部材１７０Ｘは、幅方向（部分円筒凹面１１ｒの周方向に沿う湾曲方向）の両側でロール電極２１Ｒから離れるように上方へ折曲されている。これにより、当接部材１７０Ｘは、凹面電極１１Ｒと対面する主部１７３と、この主部１７３の両端部から角度をなして延びる一対の延出部１７４とを有している。主部１７３と延出部１７４との折曲部を符号「１７５」で示す。
【００８１】
なお、当接部材１７０Ｘが、金属部１７１と誘電体部１７２の積層構造になっている点は、上記第３実施形態と同様である。勿論、金属部１７１は、主部１７３においては上側に位置し、延出部１７４においては内側（凹面電極１１Ｒの側）に位置する。誘電体部１７２は、主部１７３においては下側に位置し、延出部１７４においては外側に位置している。なお、図１３において、金属部１７１および誘電体部１７２の厚さは、誇張して示してある。
【００８２】
図１３の実線に示すように、非変形時の当接部材１７０Ｘの主部１７３と延出部１７４は、略直角をなしている。これにより、当接部材１７０Ｘは、断面「コ」字状をなしている。これに対し、図１２および図１３の仮想線に示すように、装置Ｍ４に装着した状態では、一対の延出部１７４が、互いに逆さ「ハ」字状をなすように変位され、これに伴い、主部１７３が湾曲（弾性変形）されて凹面電極１１Ｒの部分円筒凹面１１ｒに弾接されている。
【００８３】
当接部材１７０Ｘを上記変形状態で保持するための保持手段について説明する。
上述したように、装置Ｍ４の保持手段は、凹面電極ユニット１０Ｒに組み込まれている。図１２に示すように、凹面電極ユニット１０Ｒの絶縁ホルダ１２Ｘは、凹面電極１１Ｒ上に被せられたアッパープレート１３と、このアッパープレート１３と一体をなすとともに凹面電極１１Ｒの周方向の両側面に宛がわれた一対のサイドプレート１４と、このサイドプレート１４とアッパープレート１３の端部との間に挟まれた一対のサブプレート１５とを備えている。これらプレート１３〜１５は、絶縁樹脂にて構成されている。サイドプレート１４に凹面電極１１Ｒが、絶縁樹脂製のボルト１６によって固定されている。
サイドプレート１４とサブプレート１５の下端面は、互いに面一をなし、しかも外側へ向かって上へ傾く斜面になっている。
【００８４】
また、装置Ｍ４においては、処理ガスノズルユニット１３１Ｘと吸引ノズルユニット１３２Ｘが、ロール電極ユニット２０Ｒにではなく凹面電極ユニット１０Ｒのアッパープレート１３の両端部に垂設されている。（なお、図示は省略するが、カーテンガスノズルユニット１３３についても同様になっている。）各ノズルユニット１３１Ｘ，１３２Ｘは、プレート１４，１５の下端斜面と対向する側面を有しており、この側面が、外側へ向かって上に傾く斜面となっている。これにより、プレート１４，１５と各ノズルユニット１３１Ｘ，１３２Ｘとの間に、外側へ向かって上に傾く挿入孔１２ａが形成されている。この挿入孔１２ａの幅は、当接部材１７０の厚さと略同じになっている。
【００８５】
なお、図示は省略するが、挿入孔１２ａは、凹面電極ユニット１０Ｒの軸方向の両端面に開口されている。
挿入孔１２ａの上側の斜面を画成するプレート１４，１５は、「第１保持部材」を構成し、下側の斜面を画成するノズルユニット１３１Ｘ，１３２Ｘは、「第２保持部材」を構成している。
【００８６】
両側の挿入孔１２ａに、当接部材１７０の一対の延出部１７４がそれぞれ挿入固定されている。これによって、延出部１７４は、挿入孔１２ａの傾きに合わせて外側に倒されている。すなわち、折曲部１７５の展開方向（角度の増大方向）に変位されている。これに伴い、主部１７３が、折曲部１７５の展開を阻止すべく上に凸になるように湾曲されている。この結果、主部１７３が、凹面電極１１Ｒの部分円筒凹面１１ｒに弾接されることになる。
【００８７】
更に、ノズルユニット１３１Ｘ，１３２Ｘには、上記挿入孔１２ａ形成用の斜面の下端部から内側へ突出する突起１３１ｃ，１３２ｃ（ストッパ）が設けられている。これら突起１３１ｃ，１３２ｃの水平をなす上面に、当接部材１７０の折曲部１７５が突き当たっている。これによって、折曲部１７５が、ユニット１０Ｒから脱落するのが阻止されている。ひいては、延出部１７４を挿入孔１２ａ内に確実に留めておくことができ、主部１７３を部分円筒凹面１１ｒに確実に弾接させておくことができる。
【００８８】
メンテナンスの際は、当接部材１７０Ｘを挿入孔１２ａの軸方向両端開口から引き抜いたり、ノズルユニット１３１Ｘ，１３２Ｘをアッパープレート１３に固定しているボルト１７を緩めて挿入孔１２ａを拡げたりすることにより、当接部材１７０Ｘの保持状態を簡単に解除でき、当接部材１７０Ｘを簡単に取り外すことができる。これによって、第４実施形態の装置Ｍ４においても、メンテナンスを容易に行なうことができる。
【００８９】
本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の形態を採用可能である。
例えば、第１電極を下にし、第２電極を上にしてもよく、あるいは上下に限らず、水平や斜めに対向配置させてもよい。
両方の電極に本発明を適用してもよい。この場合、一方を第１電極とすれば、他方が第２電極となる。
当接部材の金属部に第１電極側への引付力を作用させる保持手段（引付機構）として、磁石を用いてもよい。
一対の保持部材を有する保持手段（挟持機構）は、第２電極側の面が平らになった第１電極にも適用できる。
第３、第４実施形態では、金属部が金属板で構成されて保形性を有していたが、誘電体部を保形性と望ましくは弾性を有する樹脂板で構成し、この樹脂板の片面に、金属部としてアルミ箔などの金属膜を貼り付けることにより、当接部材を構成してもよい。
第３実施形態において、「凹凸嵌合部」として、当接部材１７０に凸部を設け、保持台２６に凹部を設けてもよい。また、保持台２６に代えて、凹面電極１１Ｒの軸方向延出部１１ｅに、当接部材１７０との凹凸嵌合部を設けてもよい。第４実施形態においても、当接部材１７０Ｘと保持部材１４，１５，１３１Ｘ，１３２Ｘに「凹凸嵌合部」を設けてもよい。
第４実施形態の当接部材１７０Ｘに対する保持手段は、一対の延出部１７４を逆「ハ」字状に傾けるのに代えて、互いに接近方向に押し、これにより主部１７３を湾曲させるようなっていてもよい。
本発明は、常圧下だけでなく、減圧下でのプラズマ処理にも適用でき、グロー放電だけでなく、コロナ放電や沿面放電によるプラズマ処理にも適用でき、洗浄だけでなく、成膜、表面改質、アッシング、エッチング等の種々のプラズマ処理に遍く適用できる。
【００９０】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明によれば、当接部材ひいては誘電体部を第１電極に安定的に設置できる。また、第１電極には、誘電体部ではなく金属部が直接当接されるので、この当接部分でアークの発生するおそれを確実に防止することができる。金属部と第１電極の導通も良好に維持できる。そして、メンテナンスの際は、当接部材ひいては誘電体部を電極とは別途に簡単に取り外すことができ、交換などを容易に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る常圧プラズマ処理装置を前後方向に沿って切断した断面図である。
【図２】上記常圧プラズマ処理装置を左右方向に沿って切断した断面図である。
【図３】上記常圧プラズマ処理装置の電極対向部を拡大して示す断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る常圧プラズマ処理装置を前後方向に沿って切断した断面図である。
【図５】上記第２実施形態に係る常圧プラズマ処理装置を左右方向に沿って切断した断面図である。
【図６】上記第２実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の電極対向部を拡大して示す断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の正面断面図である。
【図８】上記第３実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の側面断面図である。
【図９】図７のＩＸ部の詳細図である。
【図１０】図８のＸ部の詳細図である。
【図１１】上記第３実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の上下の電極ユニットの分解斜視図である。
【図１２】本発明の第４実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の正面断面図である。
【図１３】上記第４実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の当接部材の斜視図である。
【符号の説明】
Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４  常圧プラズマ処理装置
Ｗ，Ｗ’  ワーク（被処理物）
１０  ホット電極ユニット（第１電極ユニット）
１０Ｒ  凹面電極ユニット（第１電極ユニット）
１１，１１Ａ  ホット電極（第１電極）
１１Ｒ  凹面電極（第１電極）
１１ｂ  挿通孔（引付機構の構成要素）
１１ｃ  吸引孔（引付機構の構成要素）
１１ｅ  凹面電極の軸方向延出部（第１電極側の保持部材、保持手段の構成要素）
１２ａ  挿入孔
１４  サイドプレート（第１保持部材、保持手段の構成要素）
１５  サブプレート（第１保持部材、保持手段の構成要素）
２０  アース電極ユニット（第２電極ユニット）
２０Ｒ  ロール電極ユニット（第２電極ユニット）
２１  アース電極（第２電極）
２１Ｒ  ロール電極
２６  保持台（第２保持部材、保持手段の構成要素）
２７  位置決めピン（凹凸嵌合部の構成要素）
７０，７０Ａ  当接部材
７１  誘電体部
７２，７８  金属部
７２ａ  ボルト孔（引付機構の構成要素）
７３  添え部材
７６  樹脂シート（フッ素を含有する樹脂シート）
７７  ボルト（引付機構の構成要素）
７９  ボルト（係着手段）
８１  吸引管（引付機構の構成要素）
８０  真空ポンプ（吸引手段、引付機構の構成要素）
１３１Ｘ，１３２Ｘ  ノズルユニット（第２保持部材）
１７０ｃ  切欠き（凹凸嵌合部の構成要素）
１７１  金属部
１７２  誘電体部
１７３  主部
１７４  延出部
１７５  折曲部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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