(57)【要約】【課題】厚みの薄い非磁性支持体を用いた場合にもカッピングやカーリングが防止され、高精度に平坦化されてヘッド当りが良好であるとともにカセットの小型化や長時間記録に対応できる電磁変換特性の良好な磁気記録媒体とその製造方法を提供する。【解決手段】芳香族ポリアミドフィルムからなる非磁性支持体７１の一主面７１ａ上にＣｏからなる金属磁性膜７２を蒸着法によって成膜し、その表面酸化層をエッチングした金属磁性膜７２上にカーボン保護膜７３を設け、非磁性支持体７１の他主面７１ｂ上に粒径１．０μｍ、厚み２０ｎｍ、アスペクト比４０の板状非磁性顔料含有バックコート層７４を塗布により形成した媒体にホットロール処理を加えた後、カーボン保護膜７３上にトップコート層７５を塗布形成する。【選択図】　　　図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一主面上に、少なくとも金属磁性膜が成膜され、該金属磁性膜が成膜される側と反対側の他主面上にバックコート層が成膜されてなる磁気記録媒体において、前記バックコート層中に粒径が０．５〜１．０μｍで、厚みが１０〜２０ｎｍであり、アスペクト比が４０〜５０の板状非磁性顔料を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記バックコート層の厚みが０．４〜０．６μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記バックコート層の長さ方向及び幅方向のヤング率が１０００ｋｇ／ｍｍ２以上（９．８ＭＰａ以上）であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記金属磁性膜の表面に形成される表面酸化層がエッチングされたことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
非磁性支持体の一主面上に、少なくとも金属磁性膜を成膜する工程と、前記非磁性支持体の金属磁性膜が成膜される側と反対側の他主面上にバックコート層を成膜する工程と、該バックコート層を成膜した後に熱履歴を加える工程とを備えた磁気記録媒体の製造方法であって、前記バックコート層中に粒径が０．５〜１．０μｍで、厚みが１０〜２０ｎｍであり、アスペクト比が４０〜５０の板状非磁性顔料を含有させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記バックコート層の厚みを０．４〜０．６μｍとすることを特徴とする請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記磁気記録媒体の製造方法において、前記金属磁性膜を成膜した後に当該金属磁性膜表面に形成された表面酸化層をエッチングする工程を設けたことを特徴とする請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、非磁性支持体の一主面上に金属磁性膜が成膜され、他主面にバックコート層が成膜されてなる磁気記録媒体に関し、特に小型ビデオテープ用として好適な薄物磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、磁気記録媒体としては、酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末と結合剤及び有機溶剤等からなる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布することによって磁性層を形成する、いわゆる塗布型磁性層を備えた磁気記録媒体が広く使用されている。
【０００３】
これに対し、高密度、長時間記録への要望の高まりとともに、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｏ等の強磁性金属材料をメッキや真空蒸着薄膜形成技術（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等）によってポリエステルフィルムやポリアミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被着させることで磁性層が形成される、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体が使用されてきている。そして、このような強磁性薄膜型の磁気記録媒体は、民生用コンスーマービデオフォーマット（８ミリＨｉ−８方式、ＤＶ方式）あるいは業務用ビデオフォーマット（ＤＶＣＡＭ）等において幅広く実用化されている。
【０００４】
特に近年のビデオカセットの小型化に伴ない、より一層のコンパクト化と長時間記録化が望まれている。
また、磁気テープの使用環境の広がりによる種々の環境条件下（特に、変動の激しい温湿度条件下など）での使用における安定性、保存に対する信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行における安定した記録、読み出し等の性能に対する信頼性なども従来に増して要求されている。
【０００５】
一般に、磁気テープは、合成樹脂などの可撓性材料の非磁性支持体上に磁性層が設けられた構成である。そして、前記のような記録媒体の大きい記録容量（体積記録容量）を達成するためには、磁性層を強磁性金属薄膜にすることにより磁性層自体の記録密度を高めるとともに、磁気テープの全厚を薄くすることが有効な方法とされている。すなわち、磁気テープとしては、非磁性支持体上に金属磁性薄膜を成膜してなる、いわゆる蒸着テープが有効である。
【０００６】
この蒸着テープにおける非磁性支持体としては、通常、ポリエステル、主としてポリエチレンテレフタレートフィルムが用いられている。特にホームビデオカセットテープ、例えば、８ｍｍテープに用いられる非磁性支持体としては、７〜１０μｍ程度のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが用いられ、コンピュータバックアップ用のテープストリーマーには５〜７μｍ程度のポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムが用いられている。
【０００７】
また、ビデオテープに使用される磁気記録媒体の記録時間を延長するための方法としては、例えば、特開平６−２１５３５０号公報に記載されるように、非磁性支持体としてポリエステルを主成分としたフィルム、更に具体的にはポリエチレンナフタレートを用いるのが望ましいとされている。
【０００８】
一方、上述したようなポリエチレンナテレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルムに比べ、強度が高い芳香族ポリアミドフィルムを用いる検討もなされている。このポリアミドフィルムを非磁性支持体として用いた磁気記録媒体は強度が高いため、厚さを薄くすることが可能であり、ビデオカセットテープの長時間記録化に対応した磁気記録媒体として注目されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ポリアミドフィルムは、一般的に非磁性支持体として用いられている前記ポリエステルと比べて熱収縮率に違いがあり、蒸着テープの製造工程で発生する熱履歴に対してフィルム形状変化の挙動が異なり、いわゆるカッピングやカーリングが発生する。このようにカッピングやカーリングが発生し、その量が所定の限界を越えると、磁気記録媒体とヘッドとの接触状態、いわゆるヘッド当たりが悪くなるといった問題点がある。
【００１０】
特に、磁気記録媒体を製造するに際して、カッピングやカーリングを矯正するために、所定の圧力とともに意図的に数１０℃〜２００℃程度の熱を加えるホットロール処理が施されている。しかしながら、このホットロール処理を施したとしても、特に薄型の非磁性媒体を用いる場合には殆ど効果がなく、所望の平坦性を得るのは困難であった。
【００１１】
前記のように磁気記録媒体は、ビデオカセット等に用いられる場合、ビデオカセット等の小型化に伴ない、より一層のコンパクト化と長時間記録が要求されており、非磁性支持体の薄膜化が強く要求されているが、非磁性支持体として薄型のものを用いると、磁気記録媒体の高度な平坦性を達成することが困難になるといった不都合を生じる問題があった。
【００１２】
本発明は、上記のような技術的背景に基づいて創案されたものであり、膜厚の薄いポリアミドフィルムからなる非磁性支持体を用いた場合であっても、カッピングやカーリングが防止されて高精度に平坦化されるとともにヘッド当りが良好で、カセットの小型化や長時間記録に対応できる電磁変換特性の優れた磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明に係る光情報記録媒体は、非磁性支持体の一主面上に、金属磁性膜を設けるとともに、該金属磁性膜形成面と反対側の他主面上に板状非磁性顔料を含有するバックコート層を設けた構成とすることにより、記録媒体を薄物化しつつ、カッピングやカーリングを防止して高精度の平坦化を実現し、これによってヘッド当りを向上させた磁気記録媒体とその製造方法を提供するものである。以下、本発明について具体的に説明する。
【００１４】
請求項１に係る発明は、非磁性支持体の一主面上に、少なくとも金属磁性膜が成膜され、該金属磁性膜が成膜される側と反対側の他主面上にバックコート層が成膜されてなる磁気記録媒体において、前記バックコート層中に粒径が０．５〜１．０μｍで、厚みが１０〜２０ｎｍであり、アスペクト比が４０〜５０の板状非磁性顔料を含有することを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１５】
請求項２に係る発明は、前記バックコート層の厚みが０．４〜０．６μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体である。
【００１６】
請求項３に係る発明は、前記バックコート層の長さ方向及び幅方向のヤング率が１０００ｋｇ／ｍｍ２以上（９．８ＭＰａ以上）であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体である。
【００１７】
上記請求項１〜３に記載の、非磁性支持体の金属磁性膜が成膜される側と反対側の他主面上に板状無機顔料を含有するバックコート層を成膜し、その板状無機顔料の形状とそのアスペクト比を調整するとともに、バックコート層膜厚を上記所定の範囲にコントロールした構成とすることにより、カーリングやカッピング（特に幅方向）が確実に防止された薄物の記録媒体が得られる。すなわち、バックコート層中に粒径０．５〜１．０μｍ、厚み１０〜２０ｎｍ、アスペクト比４０〜５０の板状非磁性顔料を含有させることによって、磁気記録媒体の厚さ方向及び平面方向の引っ張り強度などが大きく向上し、非磁性支持層を薄くすることが可能となるほか、表面の平滑化が達成される。更に、バック層の厚みを０．４〜０．６μｍとすることにより、クラックなどの発生が無く機械的補強効果が発揮されるとともに、更にヤング率が１０００ｋｇ／ｍｍ２以上（９．８ＭＰａ以上）の非磁性支持体を用いることによって形状安定性の優れた磁気記録媒体が提供される。
【００１８】
請求項４に係る発明は、前記金属磁性膜の表面に形成される表面酸化層がエッチングされたことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体である。
上記請求項４の金属磁性膜の表面に形成される表面酸化層がエッチングされることによってスペーシングロスが低減し、ビデオカセットの小型化と長時間記録が可能な優れた電磁変換特性の良好な磁気記録媒体が提供される。
【００１９】
請求項５に係る発明は、非磁性支持体の一主面上に、少なくとも金属磁性膜を成膜する工程と、前記非磁性支持体の金属磁性膜が成膜される側と反対側の他主面上にバックコート層を成膜する工程と、該バックコート層を成膜した後に熱履歴を加える工程とを備えた磁気記録媒体の製造方法であって、前記バックコート層中に粒径が０．５〜１．０μｍで、厚みが１０〜２０ｎｍであり、アスペクト比が４０〜５０の板状非磁性顔料を含有させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００２０】
請求項６に係る発明は、前記バックコート層の厚みを０．４〜０．６μｍとすることを特徴とする請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法である。
【００２１】
請求項７に係る発明は、前記磁気記録媒体の製造方法において、前記金属磁性膜を成膜した後に当該金属磁性膜表面に形成された表面酸化層をエッチングする工程を設けたことを特徴とする請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法である。
【００２２】
上記請求項５〜７に記載の本発明に係る磁気記録媒体の製造方法によれば、
非磁性支持体の上記金属磁性膜が成膜される側と反対側の他主面上に、直径が０．５〜１．０μｍで、厚みが１０〜２０ｎｍであり、アスペクト比が４０〜５０の板状非磁性顔料を含有したバックコート層を、厚みが０．４〜０．６μｍとする工程を設けることにより、磁気記録媒体の製造プロセスにおいて所定の熱履歴（例えば２００℃程度）が加えられた場合でも、磁気記録媒体のカーリングやカッピング（特に幅方向）が防止された薄物の記録媒体の製造方法が提供される。また、上記工程工程と相俟って、金属磁性膜の表面に形成される表面酸化層をエッチングする工程を導入することにより、優れた電磁変換特性と形状安定性が達成され、ビデオカセットの小型化と長時間記録が可能な磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る磁気記録媒体の好適な実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
本実施の形態として例示する磁気記録媒体は、図１に示すように、非磁性支持体１と、この非磁性支持体１の一主面Ａ上に成膜された金属磁性膜２と、非磁性支持体１の他主面Ｂ上に形成された板状非磁性顔料を含有するバックコート層（板状非磁性顔料含有バックコート層）３とを備えるものである。なお、非磁性支持体１には、例えば芳香族ポリアミドフィルムを使用するものとし、このフィルムの長手方向と直交する方向、すなわち幅方向における２００℃の熱収縮率は１．５〜２．５％である。
以下、本発明の特徴である板状非磁性顔料含有バックコート層３について先ず説明し、次に各構成層及び好ましく設けられる他の層、あるいは各層に用いられる結合剤及び添加剤等について順に詳述する。
【００２４】
〔板状非磁性顔料含有バックコート層〕
板状非磁性顔料含有バックコート層３は、非磁性支持体１の金属磁性膜２が成膜される面とは反対側の他主面Ｂ上に配設されている。この板状無機顔料含有バックコート層３は、主として、結合剤、板状非磁性顔料及びカーボンブラックから構成される。
【００２５】
ここで、板状非磁性顔料としては、粒径が０．５〜１．０μｍで、厚みが１０〜２０ｎｍであり、アスペクト比が４０〜５０の板状形状からなる非磁性の顔料を使用することが好ましい。これによって、前記のように磁気記録媒体の厚さ方向だけでなく、平面方向の引っ張り強度や曲げ強度等の機械的強度を大きく向上させることができる。この板状非磁性顔料含有バックコート層３を設けることによって、非磁性支持体１を薄くすることが可能となる他、表面を平滑化することが可能となる。
板状非磁性顔料の材質としては、特に制限されるものではなく、ヘマタイト、ゲータイト、酸化チタンや酸化アルミニウムを使用することができる。
【００２６】
上記のように板状無機顔料含有バックコート層３は、結合剤中に板状非磁性顔料が含まれて構成されるものであるが、この結合剤（Ｂ）と板状非磁性顔料（Ｐ）の比率（重量比）は、結合剤（Ｂ）／板状非磁性顔料（Ｐ）は０．５〜５であるのが好ましい。
結合剤（Ｂ）／板状非磁性顔料（Ｐ）が５より大きいと顔料の充填量が少なく、機械的強度の補強効果が発揮されず、また、結合剤（Ｂ）／板状非磁性顔料（Ｐ）が０．５より小さいと結合剤が少なすぎるために、板状非磁性顔料含有バックコート層３自体の結合が弱く、粉落ち等により塗布層の耐久性が悪くなる。
【００２７】
更に、板状非磁性顔料含有バックコート層３には、板状非磁性顔料の他にカーボンブラックを添加するのが好ましい。特に、添加するカーボンブラックとしては、平均粒子サイズの異なる二種類のものを使用することが好ましく、その平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの小微粒子状カーボンブラックと、平均粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗微粒子状カーボンブラックとを混合して使用することが好適である。
【００２８】
一般に、上記の微粒子状カーボンブラックの添加により、板状非磁性顔料含有バックコート層の表面電気抵抗を低く設定でき、また、光透過率も低く設定できる。磁気記録の装置の種類によっては、テープの光透過率を動作の信号伝達に利用しているものが多くあるため、このような場合には特に、小微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また、小微粒子状カーボンブラックは、一般に潤滑剤に対する保持力に優れているので潤滑剤を併用することができ、その結果、摩擦係数を低減することが可能となる。
【００２９】
一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗微粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、表面に微小突起を形成することとなるため、接触面積を低減化して、摩擦係数を低減することが可能となる。粗微粒子状のカーボンブラックは、過酷な走行系の場合にはテープ摺動によって板状非磁性顔料含有バックコート層３からの脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる可能性があるので上記粒子サイズの範囲に調整する必要がある。。
【００３０】
具体的には、小微粒子状カーボンブラックとしては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１７ｎｍ）（三菱化成工業（株）社製）。
また、前記粗微粒子状カーボンブラックとしては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカイブ社製）、ＲＡＶＥＮ　ＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
【００３１】
板状非磁性顔料含有バックコート層３において、平均粒子サイズの異なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの小微粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗微粒子状カーボンブラックの含有比率（重量比）は、小微粒子状カーボンブラック：粗微粒子状カーボンブラック　＝９８：２〜７５：２５の範囲が好ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５である。
【００３２】
また、板状非磁性顔料含有バックコート層３におけるカーボンブラック（小微粒子状と粗微粒子状を加えた場合においては、その全量）の含有量は、後述する結合剤１００重量部に対して、通常３０〜８０重量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５重量部の範囲である。
【００３３】
更に、板状非磁性顔料含有バックコート層３には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤としては、例えば、脂肪酸あるいは脂肪酸エステルを挙げることができる。
脂肪酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、べヘン酸、アラキン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、エライジン酸、及びパルミトレイン酸等の脂肪族カルボン酸または、これらの混合物を挙げることができる。
【００３４】
また、脂肪酸エステルとしては、例えば、ブチルステアレート、ｓｅｃ−ブチルステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、ブチルステアレートとブチルパルミテートの混合物、オレイルオレエート、ブトキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ジエチレングリコールジパルミテート、ヘキサンメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、そしてグリセリンのオレエート等、種々のエステル化合物を挙げることができる。前記の化合物は、単独あるいは組み合わせて使用することができる。
【００３５】
板状非磁性顔料含有バックコート層３において、潤滑剤は、結合剤樹脂１００重量部に対して通常１〜５重量部の範囲で添加されることが好ましい。
また、板状非磁性顔料含有バックコート層３に使用される結合剤としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙げることができる。
【００３６】
熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、及びビニルエーテルを構成単位として含む重合体、あるいは共重合体を挙げることができる。共重合体としては、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体を挙げることができる。前記の他に、ポリアミド樹脂、繊維素系樹脂（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロースなど）、ポリ弗化ビニル、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂等も例示することができる。
【００３７】
また、熱可塑性樹脂又は反応型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とポリイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物を挙げることができる。
【００３８】
更に、板状非磁性顔料バックコート層３の厚さとしては、０．４〜０．６μｍであることが好ましい。板状非磁性顔料含有バックコート層３の厚さが薄すぎる場合、機械的強度の補強効果が発揮されず、また、厚すぎる場合、板状非磁性顔料含有バックコート層３自体にクラックが生じ易くなる。
【００３９】
添加剤
添加剤としては、板状磁性顔料含有バックコート層３を形成する塗布液に、カーボンブラックや非磁性粉末等を結合剤中に良好に分散させるために添加される分散剤を挙げることができる。また、添加剤としては、必要に応じて添加される、可塑剤、カーボンブラック以外の導電性粒子（帯電防止剤）、防カビ剤等を挙げることができる。
【００４０】
上記分散剤としては、例えば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、べヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレイン酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜１８個の脂肪酸（ＲＣＯＯＨ、Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキル基、又はアルケニル基）、前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなる金属石けん、前記脂肪酸エステルのフッ素を含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンは、エチレン、プロピレンなど）、硫酸塩、及び銅フタロシアニン等を使用することができる。これらは、単独でも組み合わせて使用してもよい。特に、板状非磁性顔料含有バックコート層３には、オレイン酸銅、銅フタロシアニン、及び硫酸バリウムを組み合わせて使用することが好ましい。また、分散剤は、結合剤樹脂１００重量部に対して０．５〜２０重量部の範囲で添加される。
【００４１】
〔非磁性支持体〕
次に、非磁性支持体１は、前記のように芳香族ポリアミドフィルムから構成されている。この非磁性支持体１は、芳香族ポリアミドフィルムを用いることにより、引っ張り強度などの物性において優れており、全体としての厚みが非常に薄い場合でも十分耐え得る強度を有している。
【００４２】
このような芳香族ポリアミドフィルムとしては、例えば、下記式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）で表される芳香族ポリアミドを、５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上含有している。
【００４３】
【化１】
［　ＮＨ−Ａｒ１−ＮＨＣＯ−Ａｒ２−ＣＯ　］ｎ　　　…（Ｉ）
【００４４】
【化２】
［　ＮＨ−Ａｒ３−ＣＯ　］ｍ　　　…（ＩＩ）
【００４５】
上記式（Ｉ）および式（ＩＩ）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３は、例えば下記構造式で表される二価の基を表す。また、式中ｎ、ｍは繰り返し単位で正の整数を表す。
【００４６】
【化３】
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【００４７】
上記構造式において、Ｘ、Ｙは、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、等から選ばれるがこれに限定されるものではない。更に、上記式（Ｉ）および式（ＩＩ）において、芳香環に結合した水素原子の一部が、ハロゲン基（特に、塩素）、ニトロ基、炭素数１から３のアルキル基（特にメチル基）、炭素数１から３のアルコキシ基などの置換基で置換さているものであってもよく、また重合体を構成するアミド結合中の水素が他の置換基によって置換されていてもよい。
【００４８】
また、芳香族ポリアミドフィルムは、剛性を高くする観点から、芳香族環パラ位で結合されたものが、全芳香環の６０％以上、より好ましくは８０％以上を占める重合体であることが好ましい。また、吸湿性を小さくする観点から芳香環に結合した水素原子の一部がハロゲン基（特に、塩素原子）、ニトロ基、炭素数１から３のアルキル基（特に、メチル基）、炭素数１から３のアルコキシ基などで置換された芳香環が全体の３０％以上を占める重合体であることが好ましい。
【００４９】
更に、芳香族ポリアミドフィルムとしては、前記式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を５０モル％以上含むものであって、５０モル％未満は他の繰り返し単位、例えば、芳香族ポリアミド単位などが共重合または全芳香族ポリアミド（アラミド）を用いることが好ましい。
【００５０】
更にまた、この非磁性支持体１においては、芳香族ポリアミドフィルムの構成は複合構造であってもよい。すなわち、非磁性支持体１は、使用環境に対して不活性で安定した芳香族ポリアミドフィルムが積層されてなるようなものであってもよい。
【００５１】
ところで、この芳香族ポリアミドフィルムを作製する際には、先ず、芳香族ポリアミドをＮ−メチル−ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解させてなる溶液を、温度１００〜２００℃に加熱されたベルト上に流延し、１００〜２５０℃の熱風で加熱を行い溶媒を蒸発させることにより自己保特性を有するフィルムを得る。その後、このフィルムを長手方向及び幅方向にそれぞれ１．０〜２．０倍に延伸しながら乾燥と熱処理を行うことによって、芳香族ポリアミドフィルムが作製される。このように長手方向及び幅方向に延伸される際、延伸倍率及び熱処理条件を調節することによって、芳香族ポリアミドフィルムの長手方向及び幅方向のヤング率及び熱収縮率を制御することができる。
【００５２】
非磁性支持体１としては、厚さが２．５μｍ〜５．０μｍで、長さ方向のヤング率が１０００ｋｇ／ｍｍ２（９．８ＭＰａ）以上、幅方向のヤング率が１３００ｋｇ／ｍｍ２（１２．７４ＭＰａ）以上であることが好ましい。このように、非磁性支持体１の厚み及びヤング率を規定することによって、所望の強度が得られるとともに、磁気記録媒体としての厚みを薄型化することが可能となり、記録時間の長時間化及び記録量の大容量化に対応させることができる。
【００５３】
また、磁気記録媒体の製造工程でのハンドリング性を良好にしたり、あるいは磁性層表面を適度な粗さにして磁気記録媒体の高い走行耐久性を得るため、非磁性支持体１に不活性粒子を添加することが望ましい。
【００５４】
この非磁性支持体１中に添加される不活性粒子としては、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＳＯ４、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、カーボンブラック、ゼオライト、その他の金属微粉末などの無機粒子や、シリコン粒子、ポリイミド粒子、架橋共重合粒子、架橋ポリエステル粒子、テフロン（登録商標）粒子などの有機高分子などを使用することができる。中でも、耐熱性の観点からは、上述した無機粒子を使用することが好ましい。
【００５５】
上記不活性粒子の添加方法としては、粒子を予め溶媒中に十分スラリ化した後、重合用溶媒又は希釈用溶媒として使用する方法や、原液を調整した後に直接添加する方法などがある。
【００５６】
また、この非磁性支持体１が複数の芳香族ポリアミドフィルムからなる場合、各層に対して異なる平均粒径を有する不活性粒子を添加することが好ましい。具体的に、金属磁性膜２が成膜される一主面Ａを構成する芳香族ポリアミドフィルムには、平均粒子径が比較的小である不活性粒子が添加され、金属磁性膜２が成膜される面とは反対側の他主面Ｂを構成する芳香族ポリアミドフィルムには、平均粒子径が比較的大である不活性粒子が添加されることが好ましい。
【００５７】
このように、金属磁性膜２が成膜される芳香族ポリアミドフィルムに平均粒子径が比較的小の不活性粒子を添加することによって、この金属磁性膜２が成膜される面の表面粗さを低く抑えることができる。これにより、金属磁性膜２が所望の表面性を有することとなり直記録媒体の優れた電磁変換特性を確保することができ、また、金属磁性膜２表面の粗大突起が形成されにくいため、ドロップアウト等の発生を抑えることができる。
【００５８】
また、これに対して、金属磁性膜２が成膜される面とは反対側の他主面Ｂの芳香族ポリアミドフィルムに平均粒径が比較的大の不活性粒子を添加することによって、板状非磁性顔料含有バックコート層３の表面粗さを比較的大とすることができ、製造工程におけるハンドリング特性を向上させることができる。
【００５９】
より具体的には、板状非磁性顔料含有バックコート層３が形成される芳香族ポリアミドフィルムに含有される不活性粒子の平均粒径は、０．０５〜１．５５μｍであることが好ましい。また、この芳香族ポリアミドフィルムに含有される不活性粒子の添加量は、０．０５〜２．００ｗｔ％であることが好ましく、更に０．１〜１．０ｗｔ％であることがより好ましい。
【００６０】
また、金属磁性膜２が成膜される芳香族ポリアミドフィルムに含有される不活性粒子は、金属磁性膜２表面の平滑性と易滑性を向上させるため、平均粒径が、０．０３〜０．１５μｍ、添加量が、０．０１〜１．００ｗｔ％であることが好ましい。
【００６１】
更に、この非磁性支持体１では、金属磁性膜２を成膜する一主面Ａの表面粗さ（ＳＲａ）が１．５〜５．０ｎｍであることが好ましく、更に２．０〜３．５ｎｍであることがより好ましい。この表面粗さ（ＳＲａ）は、芳香族ポリアミドフィルム中に添加される不活性粒子の大きさや添加量、あるいは非磁性支持体１の層構成によって調節される。このように、金属磁性膜２を成膜する一主面Ａの表面粗さ（ＳＲａ）を１．５〜５．０ｎｍとすることによって、磁気記録媒体の良好な電磁変換特性と走行耐久性を確保することができる。
【００６２】
また、この非磁性支持体１において、板状非磁性顔料含有バックコート層３形成側の他主面Ｂの表面粗さ（ＳＲａ）は、芳香族ポリアミドフィルム中に添加される不活性粒子の大きさ及び添加量によって調節され、製造工程におけるハンドリング性の観点から、できるだけ大きい方が望ましい。しかしながら、この表面粗さ（ＳＲａ）が大きすぎると、金属磁性膜２を成膜した後、巻き取ってロール状にした際の裏写りの影響が大きくなるため、４〜１５ｎｍ、好ましくは５〜１０ｎｍとされる。
【００６３】
また、この非磁性支持体１は、厚さ２．５〜５．０μｍとすることにより、必要な強度が得られるとともに、磁気記録媒体の厚みを薄くして大容量化に対応させることができる。
【００６４】
上記非磁性支持体１は、金属磁性膜２が成膜される一主面Ａ側に１０３〜１０５個／ｍｍ２の密度で突起が形成されていることが好ましい。
このように一主面Ａ側の表面に１０３〜１０５個／ｍｍ２の密度で突起が形成されることによって、金属磁性膜２の表面性を所望な表面粗さを有する状態とすることができる。これにより、磁気記録媒体は、走行耐久性及び電磁変換特性に優れたものとなる。
【００６５】
〔金属磁性膜〕
次に金属磁性膜２は、例えば、図２に示すような連続巻取り式の真空蒸着装置１０を用いて形成される。
この真空蒸着装置１０は、いわゆる斜方蒸着用として構成され、内部が例えば約１０−３Ｐａ程度の真空状態とされた真空室１１内に、例えば−２０℃程度に冷却され、図中の反時計回り方向（矢印Ａ方向）に回転する冷却キャン１２と対向するように金属磁性膜２用の蒸着源（強磁性材料）１３とが配置されている。
【００６６】
蒸着源１３は坩堝等の容器にＣｏ等の強磁性金属材料が収容されたものであり、この蒸着源に対し、電子ビーム発生源９から電子ビーム１４を加速照射して強磁性金属材料を加熱、蒸発させ、これを図中の反時計回り方向に回転する供給ロール１５から図中の矢印Ｂ方向に繰り出され、冷却キャン１２の周面に沿って走行する非磁性支持体１上に付着（蒸着）させることによって金属磁性膜２を形成する。そして、金属磁性膜２が形成された非磁性支持体１は、巻取りロール１６に巻き取られる。
【００６７】
このとき、蒸着源１３と冷却キャン１２との間には防着板１７を設け、この防着板１７にシャッタ１８を位置調節可能に設けて、非磁性支持体１に対して所定の角度で入射する蒸着粒子のみを通過させる。こうして斜め蒸着法によって金属磁性膜２が形成されるようになされている。
【００６８】
なお、供給ロール１５と冷却キャン１２との間、及び冷却キャン１２と巻き取りロール１６との間にはそれぞれガイドローラー１９が配置され、供給ロール１５から冷却キャン１２及びこの冷却キャン１２から巻き取りロール１６に従って走行する非磁性支持体に所定のテンションをかけ、非磁性支持体１が円滑に走行するようになされている。
【００６９】
更に、このような金属磁性層２の蒸着に際し、図示しない酸素ガス導入口を介して非磁性支持体１の表面に酸素ガスが供給され、これによって金属磁性膜２の磁気特性、耐久性および耐候性の向上が図られている。また、蒸着源１３を加熱するためには、上述のような電子ビーム１４による加熱手段の他、抵抗加熱手段、高周波加熱手段、レーザ加熱手段等の公知の手段を使用することができる。
【００７０】
以上は、斜め蒸着法によりＣｏ等からなる強磁性金属材料を用いて成膜する例について説明したが、強磁性金属材料を用いて成膜する方法としては、この例の他に垂直蒸着法やスパッタリング法等の公知の薄膜形成法が適用できる。また、強磁性金属材料としては、Ｃｏの他にＮｉ、Ｆｅ等やこれらの合金を使用することができる。ただし、非磁性支持体１との付着強度改善、あるいは金属磁性膜２自体の耐性、耐摩耗性改善等の目的から、蒸着時の雰囲気を酸素ガスが支配的となる雰囲気としたとき得られる酸素を含有する金属磁性膜２を使用することが望ましい。また、金属磁性膜２の厚さは、０．０５〜０．２５μｍ程度、好ましくは、０．１〜０．２μｍ程度である。
【００７１】
また、この金属磁性膜２では、電磁変換特性を向上させるために、表面に形成された表面酸化膜をエッチングすることが好ましい。この表面酸化膜は、上述したように酸素ガス雰囲気下に成膜された金属磁性膜２の表面に形成される非磁性の膜であり、スぺーシングロスの原因となる。すなわち、この表面酸化膜は非磁性であるため、電磁変換特性を劣化させる原因となる。このため、表面酸化膜をエッチング処理を施して除去することにより、金属磁性膜２の電磁変換特性を大幅に向上させることができる。
【００７２】
このエッチングに際しては、いかなる方法を適用してもよく、例えば、逆スパッタ法、イオンエッチング法、ＥＣＲプラズマエッチング法等を使用することが好ましい。また、このエッチングに際しては、Ａｒガス雰囲気下にて圧力０．４Ｐａ程度とすることが好ましい。
【００７３】
更に、この磁気記録媒体は、金属磁性膜２の摩耗を防止するため、金属磁性膜２上に、図３に示すようなマグネトロンスパッタ装置３０等を用いて、カーボン保護膜を形成することが好ましい。
【００７４】
このマグネトロンスパッタ装置３０は、外側がチャンバ３１で覆われている。そして、チャンバ３１内は、真空ポンプ３２にて約１０−４Ｐａまで減圧された後、真空ポンプ側へ排気するバルブ３３の角度を絞る（例えば全開状態から１０度程度まで）ことにより排気速度を落とし、ガス導入管３４からＡｒガスを導入して、真空が約０．８Ｐａとされる。
【００７５】
マグネトロンスパッタ装置３０は、このチャンバ３１内に、例えば−４０℃程度に冷却され、図中の反時計回り方向（矢印Ａ方向）に回転する冷却キャン３５と、この冷却キャン３５と対向は位置されるターゲット３６とがそれぞれ設けられている。
【００７６】
ターゲット３６は、カーボン保護膜の材料となるものであり、カソード電極を構成するバッキングプレート３７に支持されている。そして、バッキングプレート３７の裏側には、磁場を形成するマグネット３８が配設されている。このマグネトロンスパッタ装置３０によりカーボン保護膜を形成する際には、ガス導入管３４からＡｒガスを導入するとともに、冷却キャン３５をアノード、バッキングプレート３７をカソードとして約３０００（Ｖ）の電圧と印加し、１．４Ａの電流が流れる状態を保つようにする。
【００７７】
この電圧の印加により、Ａｒガスがプラズマ化し、電離されたイオンがターゲットに衝突することにより、ターゲットの原子がはじき出される。このとき、バッキングプレート３７の裏側にはマグネット３８が配設されており、ターゲット３６の近傍に磁場が形成されるので、電離されたイオンはターゲット３６の近傍に集中されることになる。
【００７８】
ターゲット３６からはじき出された原子は、図中の反時計回り方向に回転する供給ロール３９から図中の矢印Ｂ方向に繰り出され、冷却キャン３５の周面に沿って走行する金属磁性膜形成非磁性支持体４１の金属磁性膜２上に付着し、カーボン保護膜が形成される。そして、カーボン保護膜が形成された金属磁性膜形成非磁性支持体４１は、巻取りロール４０に巻き取られる。
【００７９】
このカーボン保護膜は、スぺーシングロスを小さくし、かつ金属磁性膜２の摩耗防止の効果を得ることができるように、その厚さを３〜１５ｎｍ程度、特に５〜１０ｎｍ程度とすることが好ましい。
【００８０】
以上は、マグネトロンスパッタによりカーボン保護膜を形成する例について説明したが、カーボン保護膜を形成する方法としては、この例の他に、イオンビームスパッタやイオンビームプレーティング法、ＣＶＤ法等の公知の薄膜形成方法を用いることができる。
【００８１】
また、上記のようにして得られた磁気記録媒体のカーボン保護膜の表面に滑剤を存在せしめることが望ましい。これにより、微細突起の形状に基づく走行性改善効果を更に高めることが可能である。
更に、この磁気記録媒体は、その表面、裏面、又はそれらの近傍あるいはカーボン保護膜、金属磁性膜２内の空隙、カーボン保護膜と金属磁性膜２との界面、金属磁性膜２と非磁性支持体１との界面、非磁性支持体１内等に、必要に応じて公知の手段で防錆剤、帯電防止剤、防カビ剤等の各種添加剤を存在せしめることができる。
【００８２】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。ただし、本発明はなんら実施例に限定されるものではない。
以下図４の要部断面図に示す磁気記録媒体構成と、図５のフローチャート図に示す磁気記録媒体各層の成膜工程により、実施例１〜４、参考例１〜６及び比較例１の磁気テープをそれぞれ作製した。
【００８３】
実施例１
非磁性支持体７１として、熱収縮率が２．０％、厚みが３．５μｍ、長さ方向ヤング率が１１００ｋｇ／ｍｍ２（１０．７８ＭＰａ）、幅方向ヤング率が１４００ｋｇ／ｍｍ２（１３．７２ＭＰａ）であり、金属磁性膜を形成する一主面７１ａの表面粗さ（ＳＲａ）が３ｎｍ、板状非磁性顔料含有バックコート層７４を形成する他主面７１ｂの表面粗さ（ＳＲａ）が８ｎｍである芳香族ポリアミドフィルムを用意し、図５の成膜工程に従い下記のような手法で順次形成して磁気テープの原反を作製した。
【００８４】
先ず、前記図２に示した連続巻き取り式の蒸着装置１０を用いて金属磁性膜７２を成膜した。すなわち、蒸着装置１０の内部が１０−３Ｐａ程度の真空状態となるように排気し、上記非磁性支持体７１を蒸着装置１０にセッティングした。そして、連続真空斜め蒸着法により、微量の酸素存在化において、非磁性支持体７１の一主面７１ａ上にＣｏからなる金属磁性膜７２を形成した。蒸着の入射角は、非磁性支持体７１の法線方向が９０〜４５度までであり、非磁性支持体７１の走行速度が５０ｍ／分で、金属磁性膜７２の厚さが０．１８μｍとなるように、電子ビームの強さを調節して作製した。
【００８５】
次に、ＥＣＲプラズマエッチング装置（図略）を用いて、上記非磁性支持体７１の一主面７１ａ上に形成された金属磁性膜７２の表面酸化層をエッチング処理した。すなわち、ＥＣＲプラズマエッチング装置の内部をＡｒガスにより０．４Ｐａ程度にし、金属磁性膜７２を形成した非磁性支持体７１をセッティングし、ＥＣＲプラズマエッチングを施すことにより強磁性金属薄膜７２上に形成された表面酸化層を約５ｎｍまで薄膜化させた。なお、ＥＣＲプラズマエッチング装置の投入パワーは、３００ｋＷとした。
【００８６】
次いで、前記図３に示したようなマグネトロンスパッタリング装置３０を用いて上記金属磁性膜７２上にカーボン保護膜７３を成膜した。成膜条件としては、マグネトロンスパッタリング装置３０の内部が１０−４Ｐａ程度になるまで減圧した後、Ａｒガスを導入して０．８Ｐａ程度にした。そして、このマグネトロンスパッタリング装置３０に上記エッチング処理を施した金属磁性膜７２が形成された非磁性支持体７１をセッティングし、−４０℃に冷却した冷却キャン３５上を５ｍ／分の速度で走行させて金属磁性膜７２上にカーボン保護膜７３を形成した。
【００８７】
更に、前記一主面７１ａ上に金属磁性膜７２、及びカーボン保護膜７３を成膜した非磁性支持体７１の金属磁性膜７２が成膜された面とは反対側の他主面７１ｂ上に、下記表１に示すバックコート塗料組成（１）により調整した、粒径０．５μｍ、厚み１０ｎｍ、アスペクト比５０の板状非磁性顔料を含有するバックコート塗料を塗布、乾燥して厚さ０．４μｍの板状非磁性顔料含有バックコート層７４を成膜した。
【００８８】
【表１】
2004062979.tif 000004
【００８９】
次に、板状非磁性顔料含有バックコート層７４を形成した後、非磁性支持体７１の金属磁性膜７２側を２００℃に加熱されたロールに接触させながら、１００ｍ／ｍｉｎの速度で走行させ、ホットロール処理により熱履歴を加えた。
【００９０】
ホットロール処理後、カーボン保護膜７３上にパーフルオロエーテルよりなる潤滑剤を１０ｍｇ／ｍ２となるように塗布してトップコート層７５を形成した。
【００９１】
以上の工程と条件で非磁性支持体７１の一主面７１ａ上に金属磁性膜７２、カーボン保護膜７３、トップコート層７５及び他主面７１ｂ上に板状非磁性顔料含有バックコート層７４が形成されたテープ原反を６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製し、これを評価用磁気テープとした。
【００９２】
実施例２
実施例１において、粒径０．５μｍ、厚み１０ｎｍ、アスペクト比５０の板状非磁性顔料を含有する表１に示したバックコート塗料組成（１）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．６μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例１と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【００９３】
実施例３
実施例１において、表１に示したバックコート塗料組成（１）に代えて、表２に示す粒径１．０μｍ、厚み２０ｎｍ、アスペクト比４０の板状非磁性顔料を含有するバックコート塗料組成（２）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．４μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例１と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【００９４】
【表２】
2004062979.tif 000005
【００９５】
実施例４
実施例３において、粒径１．０μｍ、厚み２０ｎｍ、アスペクト比４０の板状非磁性顔料を含有する表２に示したバックコート塗料組成（２）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．６μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例３と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【００９６】
参考例１
実施例１において、粒径０．５μｍ、厚み１０ｎｍ、アスペクト比５０の板状非磁性顔料を含有する表１に示したバックコート塗料組成（１）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．３μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例１と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【００９７】
参考例２
実施例１において、粒径０．５μｍ、厚み１０ｎｍ、アスペクト比５０の板状非磁性顔料を含有する表１に示したバックコート塗料組成（１）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．７μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例１と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【００９８】
参考例３
実施例３において、粒径１．０μｍ、厚み２０ｎｍ、アスペクト比４０の板状非磁性顔料を含有する表２に示したバックコート塗料組成（２）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．３μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例３と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【００９９】
参考例４
実施例３において、粒径１．０μｍ、厚み２０ｎｍ、アスペクト比４０の板状非磁性顔料を含有する表２に示したバックコート塗料組成（２）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．７μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例３と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【０１００】
参考例５
実施例１において、表１に示したバックコート塗料組成（１）に代えて、表３に示す粒径０．４μｍ、厚み８ｎｍ、アスペクト比５５の板状非磁性顔料を含有するバックコート塗料組成（３）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．６μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例１と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【０１０１】
【表３】
2004062979.tif 000006
【０１０２】
参考例６
実施例１において、表１に示したバックコート塗料組成（１）に代えて、表４に示す粒径１．２μｍ、厚み２５ｎｍ、アスペクト比３５の板状非磁性顔料を含有するバックコート塗料組成（４）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．６μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例１と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して評価用磁気テープとした。
【０１０３】
【表４】
2004062979.tif 000007
【０１０４】
比較例１
実施例１において、表１に示したバックコート塗料組成（１）に代えて、板状非磁性顔料は含有せず、カーボンブラックのみを含有した表５に示すバックコート塗料組成（５）を用いて、板状非磁性顔料含有バックコート層７４の膜厚（乾燥厚）を０．６μｍとなるように形成したこと以外は、構成層及び形成工程を実施例１と同様にしてテープ原反を作製し、これを６．３５ｍｍ幅にスリットした後、カセット本体に収納してカセットテープを作製して比較の評価用磁気テープとした。
【０１０５】
【表５】
2004062979.tif 000008
【０１０６】
上記実施例１〜５、参考例１〜６及び比較例１で作製した各評価用磁気テープの各層の厚み及び板状非磁性顔料含有バックコート層７４の形状等を表６にまとめて示す。
【０１０７】
【表６】
2004062979.tif 000009
【０１０８】
次に、実施例１〜５、参考例１〜６及び比較例１で作製した各評価用磁気テープについて、以下に示す方法と条件で一般特性（表面粗度、バックコート層ヤング率、カッピング）、及び磁気テープ特性（ヘッドとの当り、電磁変換特性、エラーレート（走行耐久性））の評価を行った。結果を表７および表８にそれぞれ示す。
【０１０９】
＜一般特性＞
（１）バックコート層のヤング率測定：
バックコート層のヤング率は、２５℃、６５％ＲＨ条件下で、テンシロン型の引っ張り試験器を使用して測定した。
（２）カッピング測定：
カッピング測定は、図６に示すような概略構成の光学顕微鏡を備えたカッピング測定装置９０を用いて行った。このカッピング測定装置９０では、先ず、所定のテンションが負荷された上記評価用の磁気テープ９１を一対のロール９２に掛け渡す。次に、倍率１００倍の光学顕微鏡９３を駆動手段９４にて、磁気テープ９１の幅方向の中心部または両端部に位置決めする。そして、このカッピング測定装置９０では、光学顕微鏡９３が上下方向に駆動することによって、磁気テープ９１の幅方向中心部あるいは両端部において、それぞれ焦点を合わせる。このときカッピング測定装置９０では、光学顕微鏡９３の上下駆動に連動するマイクロメーター９５にて、磁気テープの幅方向の中心部と両端部との高さの違いを測定する。
上記測定において、金属磁性膜を凸とする状態を負のカッピングとし、逆に、金属磁性膜を凹とする状態を正のカッピングとする。
【０１１０】
＜磁気テープ特性＞
前記実施例、参考例及び比較例における磁気記録媒体の特性評価は、市販のデジタルビデオ（ＤＶ）のビデオカセットレコーダー（ＶＣＲ）を改造して測定した。
（３）電磁変換特性：比較サンプル１の出力を０として相対的に表した。
（４）走行耐久性（エラーレート）：
走行耐久性を評価する際には、先ず、長さが１７０ｍの磁気テープを１０００パス走行させ、１パス走行後のエラーレート及び１０００パス走行後のエラーレートを測定した。そして、これら測定値を比較することによって走行耐久性を評価した。
（５）ヘッドとの当たり特性：
ヘッドとの当たり特性を評価する際には、先ず、磁気テープ再生時の出力信号（当たり波形）を１トラック分で見た場合の出力信号を測定した。そして、この出力信号の最小値（ＭＩＮ）／最大値（ＭＡＸ）の値（％）を算出することによって、ヘッドとの当たり特性を評価した。なお、ヘッドとの当たり特性は、１パス走行後及び１０００パス走行後について測定した。
【０１１１】
【表７】
2004062979.tif 000010
【０１１２】
【表８】
2004062979.tif 000011
【０１１３】
表７および表８に示す通り、粒径０．５〜１．０μｍ、厚み１０〜２０ｎｍ、アスペクト比４０〜５０の板状非磁性顔料を含有するバックコート層を塗膜厚０．４〜０．６μｍで形成した実施例１〜４の評価用磁気テープに関しては、カッピングが極力低く抑えられており、また、ヘッド当たりも良好なものとなっている。また、これらの実施例１〜４では、１０００パス走行後のエラーレートも低く抑えられている。
【０１１４】
しかし、参考例１と参考例３の塗膜厚が薄い場合、バックコート層の表面粗度が悪くなる傾向があり、電磁変換特性が劣化するとともに、カッピング抑制効果の減少によって、当りの低下とエラーレートの悪化が見られる。また、塗膜厚が厚い参考例２と参考例４の場合、表面粗度は良好であるが、逆カッピングが発生しエラーレートは悪化する。
【０１１５】
また、板状非磁性顔料の形状（径、厚み、アスペクト比）を変えた参考例５と参考例６については、板状非磁性顔料が小さい参考例５の場合、バックコート層のヤング率の低下によりカッピング抑制効果は低く、一方、板状非磁性顔料が大きい参考例６の場合、表面粗度が悪化したために電磁変換特性が低下した。
【０１１６】
他方、板状非磁性顔料を含有しない比較例１の場合には、バックコート層のヤング率の低下によって、カッピング抑制効果が低くなり、当り特性やエラーレートなどの電磁変換特性が悪化している。
【０１１７】
以上から、実施例１〜実施例４に示した板状非磁性顔料を含有するバックコート層を形成したことによって、磁気記録媒体の主面を高精度に平坦化することができ、ヘッドとの接触状態の良好な、高い走行耐久性を備えた磁気記録媒体を得ることが可能となることが確認された。
【０１１８】
【発明の効果】
本発明に係る磁気記録媒体とその製造方法によれば、記録媒体構成層として板状非磁性顔料を含有するバックコート層を形成することにより、記録媒体の強度が向上し、これによって記録媒体の薄物化が可能となるとともにカッピングやカーリングが防止され、しかも高精度の平坦化が実現して当り特性が良好であるばかりでなく、繰り返し走行後においてもエラーレートの劣化や当たり特性の劣化等が生じることなく、耐久性、信頼性に優れ、かつ磁気変換特性の良好な薄物磁気記録媒体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の一構成例を示す要部断面図である。
【図２】本発明の実施の形態における金属磁性膜を形成する方法例を示す連続巻取り式真空蒸着装置の概略構成図である。
【図３】本発明の磁気記録媒体の構成層として好ましく設けられるカーボン保護膜を形成する方法例を示すマグネトロンスパッタ装置の概略構成図である。
【図４】本発明の実施例における磁気テープの層構成を示す要部断面図である。
【図５】本発明の実施例における磁気テープの各構成層を順次形成する成膜工程の概略フローチャート図である。
【図６】本発明の実施例における磁気テープの評価に用いたカッピング測定装置の概略構成図である。
【符号の説明】
１……非磁性支持体、Ａ……一主面、Ｂ……他主面、２……金属磁性膜、３……板状非磁性顔料含有バックコート層、９……電子ビーム発生源、１０……真空蒸着装置、１１……真空室、１２……冷却キャン、１３……蒸着源、１４……電子ビーム、１５……供給ロール、１６……巻取りロール、１７……防着板、１８……シャッタ、１９……ガイドローラー、３０……マグネトロンスパッタ装置、３１……チャンバ、３２……真空ポンプ、３３……バルブ、３４……ガス導入管、３５……冷却キャン、３６……ターゲット、３７……バッキングプレート、
３８……マグネット、３９……供給ロール、４０……巻き取りロール、４１……金属磁性膜形成非磁性支持体、７１……非磁性支持体、７１ａ……一主面、
７１ｂ……他主面、７２……金属磁性膜、７３……カーボン保護膜、７４……板状非磁性顔料含有バックコート層、７５……トップコート層、９０……カッピング測定装置、９１……磁気テープ、９２……ロール、９３……光学顕微鏡、９４……駆動手段、９５……マイクロメーター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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