(57)【要約】【目的】数時間オーダーで所定カウント数の蛍光Ｘ線を取得可能な蛍光Ｘ線検出システムを提供する。【解決手段】この発明の蛍光Ｘ線検出システム１は、測定対象物（試料）Ｏに、所定の波長の単色Ｘ線が照射されることで試料Ｏから放射される蛍光Ｘ線を検出するためのカウントレートが１０６ｃｐｓより高いＸ線検出器１３と、試料から放射された蛍光Ｘ線をＸ線検出器の入射面の所定の一点に集束させることのできるＸ線集束素子１７を用いることを特徴とする。【選択図】　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線が照射されることで試料から放射された蛍光を１０６／秒以上のカウントレートで計測可能なＸ線検出器と、
試料から前記Ｘ線検出器に向かう蛍光の軸線方向と直交する方向に曲率半径が最大となる部分が定義されたトロイダル状に形成され、試料から放射された蛍光を取り込んで前記Ｘ線検出器の所定の位置に集束させるＸ線集束素子と、
を有することを特徴とする蛍光Ｘ線検出システム。
【請求項２】
前記Ｘ線集束素子は、所定の厚さのグラファイトを、回転軸に沿って曲率半径が変化するよう成形したＸ線反射体であることを特徴とする請求項１記載の蛍光Ｘ線検出システム。
【請求項３】
前記Ｘ線集束素子は、回転軸の中央部付近の半径が最大に形成された回転対称体であることを特徴とする請求項２記載の蛍光Ｘ線検出システム。
【請求項４】
前記Ｘ線集束素子は、所定の厚さのグラファイトを湾曲させて成形したものであることを特徴とする請求項２または３記載の蛍光Ｘ線検出システム。
【請求項５】
前記Ｘ線検出器は、アバランシェフォトダイオードであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の蛍光Ｘ線検出システム。
【請求項６】
前記Ｘ線検出器は、ｐｉｎダイオードであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の蛍光Ｘ線検出システム。
【請求項７】
蛍光を放射させるべき計測対象物に所定波長の単色Ｘ線を放射し、
計測対象物から放射された蛍光の全放射量のうちの所定の割合を回転対称で、曲率半径の最大の部分が蛍光が進行する方向の概ね中央に定義されているトロイダル状の集束素子で、所定距離の位置の一点に集束させ、
一点に集束された蛍光を１０６／秒以上のカウントレートで計測可能な検出器で検出する、
ことを特徴とする蛍光Ｘ線検出方法。
【請求項８】
前記集束素子は、所定の厚さのグラファイトを、蛍光が進行する方向に沿って定義される回転軸に沿って曲率半径を変化させたＸ線反射体であることを特徴とする請求項７記載の蛍光Ｘ線検出方法。
【請求項９】
前記集束素子は、回転軸の中央部付近の半径が最大に形成された回転対称体であることを特徴とする請求項８記載の蛍光Ｘ線検出方法。
【請求項１０】
前記集束素子は、所定の厚さのグラファイトを湾曲させて成形したものであることを特徴とする請求項８または９記載の蛍光Ｘ線検出方法。
【請求項１１】
前記検出器は、アバランシェフォトダイオードであることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれかに記載の蛍光Ｘ線検出方法。
【請求項１２】
前記検出器は、ｐｉｎダイオードであることを特徴とする請求項８ないし１０記載の蛍光Ｘ線検出方法。
【請求項１３】
試料に照射すべき波長のＸ線を含むＸ線束を出射するＸ線源と、
試料が励起されることで試料から放射された蛍光を検知して対応する電気信号を出力するカウントレートが１０６／秒以上のＸ線検出器と、
試料から前記Ｘ線検出器に向かう蛍光の軸線方向と直交する方向に曲率半径が最大となる部分が定義されたトロイダル状に形成され、試料から放射された蛍光を取り込んで前記Ｘ線検出器の所定の位置に集束させるＸ線集束素子と、
前記Ｘ線検出器から出力された電気信号を画像処理して、試料の原子像を出力可能な画像処理装置と、
を有することを特徴とする蛍光Ｘ線ホログラフィー装置。
【請求項１４】
前記Ｘ線集束素子は、所定の厚さのグラファイトを、回転軸に沿って曲率半径が変化するよう成形したＸ線反射体であることを特徴とする請求項１３記載の蛍光Ｘ線ホログラフィー装置。
【請求項１５】
前記Ｘ線集束素子は、回転軸の中央部付近の半径が最大に形成された回転対称体であることを特徴とする請求項１４記載の蛍光Ｘ線ホログラフィー装置。
【請求項１６】
前記Ｘ線集束素子は、所定の厚さのグラファイトを湾曲させて成形したものであることを特徴とする請求項１４または１５記載の蛍光Ｘ線ホログラフィー装置。
【請求項１７】
前記Ｘ線検出器は、アバランシェフォトダイオードであることを特徴とする請求項１４ないし１６のいずれかに記載の蛍光Ｘ線ホログラフィー装置。
【請求項１８】
前記Ｘ線検出器は、ｐｉｎダイオードであることを特徴とする請求項１４ないし１６のいずれかに記載の蛍光Ｘ線ホログラフィー装置。
【請求項１９】
試料に照射すべき波長のＸ線を含むＸ線束を出射するＸ線源と、
試料が励起されることで試料から放射された蛍光を検知して対応する電気信号を出力するカウントレートが１０６／秒以上のＸ線検出器と、
試料から前記Ｘ線検出器に向かう蛍光の軸線方向と直交する方向に曲率半径が最大となる部分が定義されたトロイダル状に形成され、試料から放射された蛍光を取り込んで前記Ｘ線検出器の所定の位置に集束させるＸ線集束素子と、
前記Ｘ線検出器から出力された電気信号から配位数、原子間距離および原子の種類の少なくとも１つを特定することのできる信号処理装置と、
を有することを特徴とする蛍光Ｘ線検出システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、蛍光Ｘ線ホログラフィーを、数時間オーダーの短時間で得ることのできる物質の局所構造を解析する蛍光Ｘ線検出システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
Ｘ線による評価技術は、例えばＸ線の透過能を利用して人体や構造物等の物質内部の構造を非破壊で調べるレントゲン写真（ラジオグラフ）、回折現象を利用して原子構造を調べるＸ線回折、元素固有の蛍光Ｘ線を計測して化学組成を分析する蛍光Ｘ線化学（分光）分析等が広く知られている。
【０００３】
なかでも、試料に高強度のＸ線を照射して励起させ、試料から放出される蛍光Ｘ線を検出して、物質の局所構造を解析する蛍光Ｘ線ホログラフィーが注目を浴びている。
【０００４】
蛍光Ｘ線ホログラフィーでは、近年の測定技術の向上により、他の構造解析技術を用いても評価が困難な半導体中の微量ドーパントの置換サイトの決定や、準結晶の構造解析への適用が進んでいる。
【０００５】
将来的には、磁性薄膜の短範囲構造や超伝導体の局所歪み等に代表される機能性材料の局所構造解析にも応用が期待されている。
【０００６】
なお、今日でも、強度の高いＸ線を用い、長時間、例えば１〜２ヶ月に亘って蛍光Ｘ線ホログラムを計測可能な条件下では、計測されたホログラムパターンを３次元フーリエ変換して得られる干渉パターンから、原子像を３次元で観測することが可能である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、蛍光Ｘ線ホログラフィーは、非常に微弱なホログラムの信号を測定することから、高強度の入射Ｘ線を利用可能な大規模な放射光施設以外での測定は、困難である。
【０００８】
一方、大規模な放射光施設を利用することは、その利用時間および利用コストから制限を受けるため、短時間、例えば１日以内で構造解析が可能な実験設備の開発が切望されている。なお、通常、試料から放射される蛍光Ｘ線のホログラムパターンの強度は、そのバックグラウンドとなる蛍光Ｘ線の強度の１／１０００程度であり、上述した通り、ホログラムパターンを得ることが可能であっても、１〜２ヶ月程度の時間が要求される。
【０００９】
このことから、発明者を含む研究グループでは、文献「まてりあ，第３８巻第１号（１９９９）」に示したような特定形状のＸ線集光素子を用いて試料に照射されるＸ線の強度を高め、周知の管球形のＸ線発生装置から出射されるＸ線強度に比較して、２００倍程度のＸ線強度を得ている。
【００１０】
また、発明者を含む研究グループでは、同１９９９年に、播磨科学公園都市の放射光施設であるＳＰｒｉｎｇ−８（Ｓｕｐｅｒ　Ｐｈｏｔｏｎ　ｒｉｎｇ　８から名付けられた通称である）において、同施設で得られる単色Ｘ線を同様の形状のＸ線集光素子とＡＰＤ（アバランシェフォトダイオード）とを用いて、高速度で計数した結果を報告している（Ｘ−ｒａｙ　ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ　ｈｏｌｏｇｒａｐｈｙ　ｕｓｉｎｇ　ｔｏｒｏｉｄａｌ　ｂｅｎｄ　ｇｒａｐｈｉｔｅ　ａｎｄ　ＡＰＤ，ＳＰｒｉｎｇ−８　Ｕｓｅｒ　Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔ　Ｒｅｐｏｒｔ　Ｎｏ．４　（１９９９Ｂ）　ｐｐ，　１５５，　１９９９Ｂ０１２２−ＣＤ−ｎｐ）。
【００１１】
なお、発明者を含む研究グループは、例えば特開平１１−１３３１９０号公報に、上述のＸ線集光素子の特定形状の一例を定義する方法を開示している。
【００１２】
しかしながら、上述した特定形状のＸ線集光素子を用いたとしても、所定カウント数の蛍光Ｘ線を得るためには、依然として数週間程度の日数が必要である。
【００１３】
この発明の目的は、数時間オーダーで所定カウント数の蛍光Ｘ線を取得可能な蛍光Ｘ線検出システムを提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
この発明は、Ｘ線が照射されることで試料から放射された蛍光を１０６／秒以上のカウントレートで計測可能なＸ線検出器と、試料から前記Ｘ線検出器に向かう蛍光の軸線方向と直交する方向に曲率半径が最大となる部分が定義されたトロイダル状に形成され、試料から放射された蛍光を取り込んで前記Ｘ線検出器の所定の位置に集束させるＸ線集束素子と、を有することを特徴とする蛍光Ｘ線検出システムを提供するものである。
【００１５】
またこの発明は、蛍光を放射させるべき計測対象物に所定波長の単色Ｘ線を放射し、計測対象物から放射された蛍光の全放射量のうちの所定の割合を回転対称で、曲率半径の最大の部分が蛍光が進行する方向の概ね中央に定義されているトロイダル状の集束素子で、所定距離の位置の一点に集束させ、一点に集束された蛍光を１０６／秒以上のカウントレートで計測可能な検出器で検出する、ことを特徴とする蛍光Ｘ線検出方法を提供するものである。
【００１６】
さらにこの発明は、試料に照射すべき波長のＸ線を含むＸ線束を出射するＸ線源と、試料が励起されることで試料から放射された蛍光を検知して対応する電気信号を出力するカウントレートが１０６／秒以上のＸ線検出器と、試料から前記Ｘ線検出器に向かう蛍光の軸線方向と直交する方向に曲率半径が最大となる部分が定義されたトロイダル状に形成され、試料から放射された蛍光を取り込んで前記Ｘ線検出器の所定の位置に集束させるＸ線集束素子と、前記Ｘ線検出器から出力された電気信号を画像処理して、試料の原子像を出力可能な画像処理装置と、を有することを特徴とする蛍光Ｘ線ホログラフィー装置を提供するものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１８】
図１は、この発明の実施の形態が適用可能な蛍光Ｘ線検出システムの一例（概念）を示す概略図である。
【００１９】
図１に示す通り、蛍光Ｘ線検出システム１は、測定対象物（試料）Ｏに向けて特定波長のＸ線すなわち単色Ｘ線Ｘｉを放射するＸ線源１１、Ｘ線源１１からの単色Ｘ線Ｘｉが照射されることで試料Ｏから放射される蛍光Ｘ線Ｘｒを、１００万回／秒程度のカウントレートを実現可能なＸ線検出器（以下、単にＸ線検出器と略称する）１３からなる。なお、Ｘ線検出器１３としては、例えばＡＰＤ（アバランシェフォトダイオード）やｐｉｎダイオードが利用可能である。また、Ｘ線検出器１３をＡＰＤとした場合には、カウントレート（計数率）を、少なくとも１０６ｃｐｓ、この発明の実施の形態では、１０８ｃｐｓ程度まで高めることができる。また、ｐｉｎダイオードを用いる場合、出力は、電流値となる。
【００２０】
Ｘ線源１１は、所定強度以上のＸ線（放射光）を出力可能であれば、特に制限を受けない。また、試料Ｏは、回転機構、例えばモータ１５の軸に設けられたテーブル１５ａにセットされることで、所定ステップ（回転角）φで回転される。
【００２１】
試料ＯとＸ線検出器１３との間には、試料Ｏから放射された蛍光Ｘ線を所定の立体角で検出し、検出した蛍光Ｘ線をＸ線検出器１３の図示しない入射面の一点に集束させることのできるに集束させるＸ線集束素子１７が、後段に詳細に説明する所定の条件を満足するように配置されている。なお、Ｘ線集束素子１７は、所定の厚さのグラファイトを、試料Ｏから放射された蛍光Ｘ線の主要な部分すなわち蛍光Ｘ線の主線束が進行する方向を回転軸として回転した際に、回転軸の中央部付近の半径が最大に形成された回転対称体（トロイダルグラファイト）である。また、Ｘ線検出器１３とＸ線集束素子１７との間には、Ｘ線集束素子１７の内部空間を直線的に通過したＸ線が、Ｘ線検出器１３の入射面に直接到達することを阻止するストッパ１９が設けられている。
【００２２】
なお、上述した蛍光Ｘ線検出システム１において試料Ｏ（テーブル１５ａ）が回転される回転角φは、通常、０°ないし３６０°すなわち全周の任意の角度であり、ステップ角は、例えば０．５°である。また、回転量φは、試料Ｏの組成比や、形状（重量や厚さ）およびＸ線検出器１７のカウントレートに支配されるが、３°／秒程度が達成可能であればよい。
【００２３】
一方、試料Ｏに向けられる入射Ｘ線Ｘｉの軸線と試料Ｏが回転される際の回転軸とのなす角（以下入射角と略称する）θは、例えば４°ないし８０°の範囲、好ましくは３０°ないし６０°の範囲に設定される。
【００２４】
なお、入射Ｘ線Ｘｉと試料Ｏから放射される蛍光Ｘｒの主要部（中心部分）すなわち蛍光の主線束とのなす角（以下放射角と略称する）ψは、例えば３０°ないし１７０°の範囲、好ましくは６０°ないし１２０°の範囲に定義される。
【００２５】
Ｘ線検出器１３の出力は、例えばパーソナルコンピュータ等に代表される図示しない画像処理装置に供給され、（画像処理装置により）所定の画像処理が施されて、例えば３次元原子像として出力（表示もしくはプリント）される。
【００２６】
Ｘ線集束素子すなわちトロイダルグラファイト１７は、例えば図２に示すように、Ｘ線源１１の図示しない金属ターゲット上のＳから放射状に広がるＸ線束を面間隔ｄ（トロイダルグラファイトに用いる材質により規定される）の結晶面で回折させ、点Ｏｐを中心とする半径ｒｐの焦点円上の点Ｆに集光させることを考えたとき、面間隔ｄの結晶面を、図示したようなトロイダル形状とすればよい。
【００２７】
詳細には、グラファイト１７は、点ＯＨを中心に焦点円と接する曲率半径ｒＨ（＝２ｒｐ）の円弧を、直線ａａ´を軸にして３６０°回転させた回転体として定義される。より詳細には、図２に示したトロイダルグラファイト１７は、紙面に水平な面内の曲率半径（点ＯＨを中心に焦点円と接する曲率半径）ｒＨに垂直な面内の最大の曲率半径ｒＶは、回折角θと焦点距離ｌ（＝ＳＦ間距離）を用いて、それぞれｒｐ＝（ｌ／２）／ｓｉｎ２θ，（ｌ／２）／ｔａｎθで与えられる。
【００２８】
従って、トロイダルグラファイト１７を作る結晶が決まれば、その面間隔ｄとブラッグの条件から、回折角θが求まる。これにより、焦点距離ｌを決めることで、グラファイト１７の大きさが求められる。なお、上述したトロイダルグラファイト１７は、前に説明した本願発明者による「まてりあ」への記載からも明らかであるが、例えば高分子ポリイミドフィルムを原料をとしたグラファイトを用いることで容易に形成される。
【００２９】
ここで、例えば試料ＯをＣｕ（銅）とし、ＡＰＤ１３により集束しようとするＸ線をｋα線として、図２に示した手法で形成したトロイダルグラファイト１７の曲率半径ｒＨおよびｒＶを図示しない３次元測定器で測定したところ、それぞれｒＨ＝５７３．８２ｍｍ、ｒＶ＝３０．３１ｍｍであった。この曲率半径を基に計算された焦点距離ｌは、それぞれ２５６．７２ｍｍおよび２５６．６６ｍｍであり、両者の差は０．０１％以下である。
【００３０】
このように、図２に示した手法で形成したトロイダルグラファイト１７の形状精度は、板状のグラファイトをクリープさせて、湾曲させていた周知の湾曲グラファイトに比較して、飛躍的に向上されている。
【００３１】
次に、図１に示したＸ線検出システム１を用いて、Ｃｕの局所構造を解析する手順およびその結果得られるホログラムパターンの一例を説明する。
【００３２】
テーブル１５ａに、例えば板状のＣｕ単結晶を固定し、Ｘ線源１１から所定の波長の単色Ｘ線を、Ｃｕに照射する。テーブル１５ａは、図示しないモータ駆動回路から供給される所定の電圧あるいは駆動パルスにより定義される所定の回転量φ、例えばφ＝０．１°／秒の速度で連続して回転される。
【００３３】
なお、一点（Ｃｕの任意の位置）当たりでカウントされるフォトンの数が所定数に達するまでの所定時間の間、Ｃｕに向けて単色Ｘ線が照射される。
【００３４】
銅からは、所定の確率で蛍光（Ｘ線）が放射される。
【００３５】
銅から放射された蛍光（Ｘ線）は、放射される蛍光のうちの概ね１０％が入射可能な広い立体角でトロイダルグラファイト１７に入力され、グラファイト１７の内面で反射（回折）されて、Ｘ線検出器（ＡＰＤ）１３の図示しないＸ線入力面の所定の一点に集束される。
【００３６】
Ｘ線検出器１３に入力された蛍光すなわち干渉（ホログラム）パターンは、Ｘ線検出器１３に内蔵された、あるいは別体として設けられる図示しないＡ／Ｄコンバータにより電圧変換され、図示しないインタフェースを経由して図示しない画像処理装置に入力される。例えばテーブル１５ａを０°ないし３６０°の範囲で０．５°刻みで回転させた任意の回転量φの位置において、入射角θを０°ないし８０°の範囲で１°ステップで変化させながら試料Ｏから放射される蛍光Ｘ線（フォトン）を２次元的に溜め込むことで、画像処理装置が画像を出力可能な蛍光の情報が図示しない記憶部（メモリ）に蓄積される。
【００３７】
なお、画像処理には、テーブル１５ａの回転数φや入射Ｘ線の入射角θを角度走査のために変化させた任意の一点当たり１０６カウント程度が必要である。
【００３８】
ここで、上述したようなＸ線検出器１７に１０８ｃｐｓ程度のカウントレートが確保されているＡＰＤを用いることで、任意の一点でＸ線を検出するために必要な時間を１秒以下にできる。これにより、回転数φと入射角θを僅かずつ変化させながら多くの点でＸ線を検出するために必要な合計時間を、これまでの数百分の１に低減できる。
【００３９】
図３、図２に示した手法を用いて形成したトロイダルグラファイト１７を、図１に示したＸ線ホログラフィー装置に組み込んで、Ｃｕの原子像を観測した例を示す可視像（写真）である。
【００４０】
なお、図３に示した可視像を得るために要求される時間は、これまでは２ヶ月程度必要だったが、上述したトロイダルグラファイトとＡＰＤを用いることで、数時間（１／５００）程度で測定可能となる。
【００４１】
図４は、図１に示した蛍光Ｘ線検出システムを、Ｘ線によって励起された電子の干渉を用いてエネルギー吸収端の近傍の微細構造を、蛍光Ｘ線のモニターによって解析する蛍光Ｘ線吸収微細構造法（Ｘ−ｒａｙ　ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｆｉｎｅ　ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）　）に適用する例を説明する概略図である。なお、図１に示したと同じ構成には、同一の符号を附して詳細な説明を省略する。
【００４２】
図４に示した蛍光Ｘ線吸収微細構造法１０１では、図１に示した蛍光Ｘ線検出システム１と基本的な構成が同じＸ線検出システムを用いる。また、図４では、モノクロメータ１２１により単色Ｘ線を得ているが、蛍光Ｘ線を取り扱う系では、通常広く利用されている。
【００４３】
蛍光Ｘ線吸収微細構造法は、周知の通り、試料Ｏに照射するＸ線のエネルギーを変えながら吸収端前後での吸収量の変化を測定して、エネルギー吸収端の近傍の微細構造を解析する方法である。従って、Ｘ線を検出するために用いるＸ線検出システムとしては、必ずしも図１に示したようなカウントレート（計数率）が１０６ｃｐｓ程度のシステムを用いなくとも吸収端前後での吸収量の変化を測定することができる。
【００４４】
しかしながら、図１に示したＸ線検出システムを用いることで、任意のＸ線のエネルギーに対する吸収端前後の吸収量の変化を測定するために必要となる時間を、周知の装置に比較して、１／数十ないし１／数百以下にできる。
【００４５】
図４に示した蛍光Ｘ線吸収微細構造法では、Ｘ線検出器１３により検出された蛍光Ｘ線から、図５に示すような吸収量の変化が求められる。
【００４６】
図５に示した吸収量のうちのＡの部分を、図示しないＦＦＴアナライザにより解析することで、吸収端前後における（中心に位置する原子からの）距離と配位数（ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ　ｎｕｍｂｅｒ）ならびに原子の種類を特定することができる。
【００４７】
以上説明したように、この発明の実施の形態であるトロイダルグラファイトと１００万回／秒程度のカウントレートを実現可能なＸ線検出器と用いることで、Ｘ線ホログラフィー装置や蛍光Ｘ線吸収微細構造法（ＸＡＦＳ）において、数時間オーダーで所定カウント数の蛍光Ｘ線を取得可能でき、従来に比べて非常に短時間で局所解析原子像や吸収端前後の微細構造を取得することができる。
【００４８】
なお、上述した発明の実施の形態では、蛍光Ｘ線検出システムや蛍光Ｘ線吸収微細構造法について説明したが、これに限らず、蛍光Ｘ線を取り扱うさまざまな装置および分析方法等にも利用可能であることはいうまでもない。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明の蛍光Ｘ線検出方法によれば、数時間オーダーで所定カウント数の蛍光Ｘ線を取得できる。これにより、従来に比べて１／数十〜１／数百の時間で、局所解析原子像やＸ線が照射されることで蛍光を放射する原子の微細構造を観測することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態である蛍光Ｘ線検出システムの一例を説明する概略図。
【図２】図１を用いて概略を説明した蛍光Ｘ線検出システムに利用可能なトロイダルグラファイトの形状を特定する手法を説明する概略図。
【図３】図１を用いて説明した蛍光Ｘ線検出システム（蛍光Ｘ線ホログラフィー装置）により得られたホログラムパターンを可視化した銅の原子像を示す写真。
【図４】図１に示した蛍光Ｘ線検出システムを蛍光Ｘ線吸収微細構造法に適用する例を説明する概略図。
【図５】図４に示した蛍光Ｘ線検出システムにより入手可能な吸収量の変化の例を示すグラフ。
【図６】図５に示した吸収量の変化に基づいて求められる配位数の例を示すグラフ。
【符号の説明】
１・・・蛍光Ｘ線検出システム、
１１・・・Ｘ線源、
１３・・・Ｘ線検出器、
１５ａ・・テーブル、
１７・・・Ｘ線集束素子、
１９・・・ストッパ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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