(57)【要約】【課題】主磁極の残留磁化を低減し、記録後消去が少ない垂直記録用の磁気ヘッドを提供する。【解決手段】垂直記録用磁気ヘッドの記録磁極を主磁極部とヨーク部に分離して、主磁極部に高飽和磁束密度の材料、ヨーク部材の磁歪を負とすることにより、主磁極部の残留磁化を低減することが可能となる。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録磁極と該記録磁極と磁気的に結合した副磁極と前記記録磁極を励起するコイルとを備える磁気ヘッドであって、
前記記録磁極は、主磁極部と該主磁極よりもトラック幅方向に広がりを持つヨーク部とを有し、かつ、前記ヨーク部の飽和磁束密度よりも大きな飽和磁束密度を有する材料を含み、
前記主磁極部の磁歪定数と前記ヨーク部の磁歪定数は、互いに正負が逆であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
前記主磁極部の磁歪定数は正であり、かつ前記ヨーク部の磁歪定数が負であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
前記主磁極部は、磁性膜と非磁性膜とを交互に積層した多層膜を含むことを特徴とする請求項１又は２記載の磁気ヘッド。
【請求項４】
前記主磁極部は、トラック幅方向の幅が浮上面側から連続的に増加する部位を有し、該主磁極部のトラック幅方向の幅が広がり始める位置は、前記ヨーク部の浮上面側端部よりも浮上面側であることを特徴とする請求項１乃至３記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
前記ヨーク部は、重量百分率でＮｉ（７８＋ｘ％）−Ｆｅ（２２−ｘ％）（但し、０＜ｘ＜２０）である合金を含有する軟磁性膜を含むことを特徴とする請求項１乃至４記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
前記主磁極部の飽和磁束密度をＢｓ（Ｐ１）、前記ヨーク部の飽和磁束密度をＢｓ（Ｐ２）、前記主磁極部の平均膜厚をｔ１、前記ヨーク部の平均膜厚をｔ２とするとき、Ｂｓ（Ｐ１）×ｔ１≦Ｂｓ（Ｐ２）×ｔ２であることを特徴とする、請求項１乃至４記載の磁気ヘッド。
【請求項７】
前記主磁極部は、トラック幅方向の幅が浮上面側から連続的に増加する部位を有し、浮上面から該トラック幅方向の幅が広がり始める位置までの距離をＬｙ、浮上面における主磁極部のトラック幅をＴｗとするとき、Ｌｙ≦Ｔｗであることを特徴とする請求項１乃至４記載の磁気ヘッド。
【請求項８】
前記主磁極部は、トラック幅方向の幅が浮上面側から連続的に増加する部位を有し、浮上面から該トラック幅方向の幅が広がり始める位置までの距離をＬｙ、前記主磁極部を構成する磁性体の平均膜厚をｔ１とするとき、Ｌｙ≦ｔ１であることを特徴とする請求項１乃至４記載の磁気ヘッド。
【請求項９】
前記主磁極は、前記ヨーク部のリーディング側に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４に記載の磁気ヘッド。
【請求項１０】
前記主磁極は、前記ヨーク部のトレーリング側に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４に記載の磁気ヘッド。
【請求項１１】
主磁極部及び該主磁極部上に形成されたヨーク部を有する記録磁極と該ヨーク部上に非磁性層を介して形成された副磁極と前記主磁極部を励磁するコイルとを有し、
前記ヨーク部は、前記主磁極よりもトラック幅方向に広がりを有し、
前記主磁極部は、前記ヨーク部の飽和磁束密度よりも大きな飽和磁束密度を有し、
前記主磁極部の磁歪定数は正であり、かつ前記ヨーク部の磁歪定数は負であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項１２】
ヨーク部及び該ヨーク部上に形成された主磁極部を有する記録磁極と該主磁極部上に非磁性層を介して形成された副磁極と前記主磁極部を励磁するコイルとを有し、
前記ヨーク部は該主磁極よりもトラック幅方向に広がりを有し、
前記主磁極部は、前記ヨーク部の飽和磁束密度よりも大きな飽和磁束密度を有し、
前記主磁極部の磁歪定数は正であり、かつ前記ヨーク部の磁歪定数は負であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項１３】
更に、磁気抵抗効果素子を有する再生部を備えることを特徴とする請求項１乃至１２記載の磁気ヘッド。
【請求項１４】
軟磁性下地層及び記録層を有する磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対向する浮上面を有する磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して所定の浮上高さを保って対向させる手段とを備え、
前記磁気ヘッドは、記録磁極と該記録磁極と磁気的に結合した副磁極と前記記録磁極を励起するコイルとを備え、前記記録磁極は、主磁極部と該主磁極よりもトラック幅方向に広がりを持つヨーク部とを有し、かつ、前記ヨーク部の飽和磁束密度よりも大きな飽和磁束密度を有する材料を含み、前記主磁極部の磁歪定数と前記ヨーク部の磁歪定数は、互いに正負が逆であることを特徴とする磁気記録装置。
【請求項１５】
前記磁気ヘッドの浮上時において、前記ヨーク部の浮上面側端部位置から前記記録媒体を構成する前記軟磁性下地層までの距離は、前記主磁極部の浮上面側端部位置から前記記録媒体を構成する前記軟磁性下地層までの距離の１０倍よりも大きいことを特徴とする請求項１４に記載の磁気記録装置。
【請求項１６】
前記磁気ヘッドの主磁極部は、磁性膜と非磁性膜とを交互に積層した多層膜を含み、前記主磁極部に含まれる前記磁性膜の厚さは、磁気ヘッドの浮上時における前記主磁極部の浮上面側端部位置から前記記録媒体を構成する前記軟磁性下地層までの距離の２倍以下であることを特徴とする請求項１４に記載の磁気記録装置。
【請求項１７】
前記磁気ヘッドは、更に、磁気抵抗効果素子を有する再生部を備えることを特徴とする請求項１４記載の磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、垂直磁気記録に用いられる垂直記録用の磁気ヘッド及び磁気記録装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
コンピュータ等の情報処理装置の外部記録装置として使用されるハードディスク装置は，近年大容量化，小型化が要求され続けている。それに伴いハードディスク装置では，主に記録密度の向上で対応を行っている。しかし，従来の長手記録方式を用いて高密度化を行った場合，記録媒体上の記録磁化の磁化転移領域で反磁界が最大となるため記録層厚を薄くする必要があり，その結果熱的な錯乱によって記録されたデータが消えてしまうという問題がある。一方，記録磁化の方向が媒体の膜厚方向である垂直記録方式は，磁化転移領域で反磁界が最小となるため媒体の膜厚を薄くする必要が比較的少なく，高記録密度化を達成しやすい。
【０００３】
垂直記録媒体に垂直記録用磁気ヘッドを用いて信号を記録する場合，電気的信号はコイルによって，磁気的信号として変換され，副磁極及び記録磁極に磁束が励起される。この磁束は副磁極から記録磁極を通り，垂直記録層を貫通する。そして，垂直記録層の下層の軟磁性下地層を通り副磁極へともどるという閉ループを描く。この際副磁極は，記録磁極から垂直記録層及び軟磁性下地層に生じた磁界を磁気的に効率よく，再び記録磁極に戻すために用いられる。そしてこのような磁束の流れによって垂直記録媒体上に磁化として信号の記録を行っている。
【０００４】
ヘッドの構造に関しては、従来の長手記録方式を用いる場合、記録ギャップを挟んで上部磁気コアと下部磁気コアの距離はなるべく近くする必要があり、コイルなどを含んだ段差上に、狭トラックを形成するためには、例えば特開２０００−２７６７０７に記載のような先端部とヨーク部に分けて形成する、ＵＰ分離構造が必須となる。一方、垂直磁気記録方式では、主磁極と副磁極の距離は長手記録方式ほど近づける必要は無く、主磁極は平坦な面に形成できることから、前記分離構造は、必ずしも必須ではなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
記録密度の向上に伴い、狭トラック幅化になると、磁極から発生する磁界強度は小さくるため、記録磁極に高飽和磁束密度をもつ材料が必要となる。しかし、高飽和密度材料は磁歪が大きいため、従来のように浮上面から奥行き方向に長く主磁極が形成された構造では、コイルに電流を流さない状態でも、磁極の磁化が浮上面の方向を向きやすくなる（残留磁化）。このような状態のヘッドは記録動作をしていない状態でも媒体の上に書いた信号を消してしまう、いわゆる記録後消去が問題となる。
【０００６】
したがって、本発明は垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて，記録後消去を抑制し、かつ、狭トラック化に向けて磁界強度と磁界分布を両立できる磁気ヘッドを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、本発明に係る磁気ヘッド及び磁気記録装置は、記録磁極と記録磁極と磁気的に結合した副磁極と記録磁極を励起するコイルとを備える磁気ヘッドであって、記録磁極は、主磁極部と該主磁極よりもトラック幅方向に広がりを持つヨーク部とを有し、かつ、ヨーク部の飽和磁束密度よりも大きな飽和磁束密度を有する材料を含み、主磁極部の磁歪定数とヨーク部の磁歪定数は、互いに正負が逆であることを主な特徴とする。特に、主磁極部の磁歪定数は正であり、かつヨーク部の磁歪定数は負であることが望ましい。
【０００８】
すなわち、その形状を浮上面方向に短くした主磁極部と、さらに、主磁極部よりもトラック幅方向の幅が大きなヨーク部を接続することにより記録磁極を構成する分離構造とする。このような構造にすることにより、記録磁極が従来のように浮上面から奥行き方向に長い形状では磁極の磁化が浮上面の方向に向いてしまうことを防止できる。さらに、前記主磁極部を構成する材料は磁歪定数が正である高飽和磁束密度の材料であり、前記ヨーク部を構成する材料の磁歪定数は負とすることにより、主磁極部の磁化の向きを媒体面と平行にし、記録後消去を抑制する。
【０００９】
また、記録後消去を低減しつつ記録磁界強度を向上する上で、主磁極を以下のような形状にパターンニングすることが有効である。
（１）主磁極のトラック幅方向の広がり始める部分の位置を、ヨーク部の浮上面側端部よりも浮上面側に形成する。
（２）主磁極のトラック幅方向の広がり始める部位で浮上面に最も近い位置と浮上面までの距離をＬｙ、浮上面における主磁極のトラック幅方向の長さをＴｗとするとき、Ｌｙ≦Ｔｗ、つまり主磁極先端部の形状をトラック幅方向に長い長方形の形状にパターンニングする。
（３）主磁極の平均膜厚をｔ１とするとき、上記Ｌｙとｔ１とがＬｙ≦ｔ１という関係を満たす。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１１】
（実施例１）
図１〜３には，本発明の第１の実施の形態である垂直記録用磁気ヘッド（以下，磁気ヘッド）の構成を示す。ここで図１は本発明により作成した垂直ヘッドを記録磁極に用いた記録再生分離ヘッドの断面斜視図である。図２は媒体対向面及び基板面に対して垂直な面である。
【００１２】
図３は，本発明の第１の実施の形態である磁気ヘッドの構成を示す平面図であり，媒体対向面に対して垂直で，基板面に対して垂直な面の右側半分を示す。これらの図において１１は基板，１２は下部シールド，１３は磁気抵抗効果膜，１４は上部シールドであり，１５は副磁極，１６は主磁極部，１７はバックヨーク部，１８はコイルであり，１９は主磁極上に設けられたヨーク部である。従って、本実施例の磁気ヘッドでは、主磁極がヨークのリーディング側に設けられていることになる。また，３０は垂直記録層，３１は軟磁性下地層である。ヨーク部の材料としては、磁歪定数が磁歪が−１０×１０−７であるＮｉ８５Ｆｅ１５を、主磁極の材料としては、磁歪定数が正でＢｓが２．２ＴのＣｏＮｉＦｅを用いた。
【００１３】
本実施例の磁気ヘッドの再生部は、下部シールド１２，磁気抵抗効果膜１３，上部シールド１４を含む構成となっている。図示していないが磁気抵抗効果膜１３の両脇には磁区制御層や電極が接続される。磁気抵抗効果膜１３には，ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）膜，ＧＭＲ（巨大磁気抵抗効果）膜等の磁気抵抗効果を有する膜を用いることができる。また，図示していないが，媒体対向面には保護膜等が形成される。上部シールド１４作製後、ギャップ膜であるアルミナ膜を介して、副磁極を形成する。
【００１４】
ヨーク部１９に用いる磁性材は、磁歪定数が負である材料の方が残留磁界の漏洩を低減できる効果は増大する。本実施例では、ヨーク部の材料としてＮｉ８５Ｆｅ１５を使用したが、ＮｉＦｅ系の材料の場合、組成がＮｉ（７８＋ｘ）・Ｆｅ（２２−ｘ）｛ｘ：０〜２２｝の範囲にある材料は、磁歪定数が負の値を取る。従って、ヨーク部の材料としては組成がＮｉ（７８＋ｘ）・Ｆｅ（２２−ｘ）｛ｘ：０〜２２｝ものが好ましい。
【００１５】
図５に本実施例の磁気ヘッドの主磁極部の製造行程の該略図を示す（但し、図の拡大倍率は均一では無い）。非磁性膜５４の上にレジストフレームパターン５５を形成したところを（ａ）に示す。非磁性膜としては、Ｔａを用いた。もちろんＳｉＯ２等他の材料を用いても良い。レジストパターンは、ＫｒＦエキシマレーザーステッパを用いて露光を行った。レジスト膜厚１μｍを用いた場合、０．２μｍが解像可能である。このレジストフレームを用いて、磁性膜５６をめっきした　（ｂ）。磁性膜は、Ｂｓが２．２ＴのＣｏＮｉＦｅを用いた。エッチング後、レジストを除去したところを（ｃ）に示す。さらに４５度、１０分、７５度１０分のイオンミリングをすることにより、（ｄ）に、逆テーパ形状をもつ主磁極５７が形成したところを示す。トラック幅は０＜１５０ｎｍが形成可能である。
【００１６】
なお、ここでは、めっきにより主磁極を作製したが、スパッタ膜をイオンミリング法によりパターニングしても良い。このように作製した主磁極部１６は、トラック幅方向の幅が浮上面側から連続的に増加する部位を有している。先端を保護するためのアルミナ膜製膜後、めっき下地膜をスパッタし、ヨーク部５８を作製するためのレジストフレームを形成し、（ｅ）に示すように磁歪が−１０×１０−７であるＮｉ８５Ｆｅ１５膜を電気めっき法により、１．５μｍ製膜する。ヨーク部を電気めっき法により作製することにより、ヨーク部の磁歪の制御も可能になる。
【００１７】
このようにして作製した主磁極部のトラック幅方向の幅が広がり始める位置は、前記ヨーク部の浮上面側端部よりも浮上面側に位置している。
【００１８】
比較例として、従来構造の磁気ヘッドを作成し、その特性を調べた。その媒体対向面及び基板面に対する断面図を図４に示す。記録磁極が１層でバックヨーク部までつづいた構造となっている。
【００１９】
また、比較のため、図２と構造が同じで、磁歪定数が同じ材料でヨーク部と主磁極を構成した磁気ヘッドを製造し、その特性を調べた。
【００２０】
その結果、図４に示す構造のヘッドでは、残留磁化が６５００Ｏｅであるのに対し、磁歪定数が同じ材料でヨーク部と主磁極を構成した磁気ヘッドでは２５００Ｏｅ、本発明によるヘッドでは１５００Ｏｅとなり、図４に示した構造のヘッドと比較して、主磁極部の残留磁化を１／４に低減することができた。
【００２１】
（実施例２）
図６〜７には，本発明の第２の実施の形態である磁気ヘッドの構成を示す。ここで図６は媒体対向面及び基板面に対して垂直な面である。図７は，本発明の第１の実施の形態である磁気ヘッドの構成を示す平面図であり，媒体対向面に対して垂直で，基板面に対して垂直な面の右側半分を示す。本実施例の磁気ヘッドは、図２に記載の磁気ヘッドとは異なり、主磁極がヨーク部のトレーリング側に形成されている。このような構造にすることにより、主磁極とヨーク部の接続を容易にできる。
また、本実施例の磁気ヘッドにおいては、主磁極部１６に含まれる材料の飽和磁束密度Ｂｓ（Ｐ１）、ヨーク部１９を構成する材料の飽和磁束密度Ｂｓ（Ｐ２）、主磁極部１６を構成する磁性体の平均膜厚ｔ１、ヨーク部１９の平均膜厚ｔ２との間には、次のような関係があることを特徴としている。
【００２２】
Ｂｓ（Ｐ１）×ｔ１≦Ｂｓ（Ｐ２）×ｔ２
これを満たさない場合、ヨーク部からの漏れ磁界が大きくなるという問題が生じ、ヘッド特性が劣化する。
【００２３】
図８（ａ）〜（ｄ）には、本実施例の垂直記録用磁気ヘッドの製造工程例を示す（ただし，再生部は省略している）。まず、副磁極１５，コイル１８，コイルを支持するための絶縁膜２０およびバックヨーク１７を形成した後，ケミカル・メカニカル・ポリッシュ（ＣＭＰ）を行い平坦化を行う（ａ）。バックヨーク１７の材料としてはＮｉＦｅを用いた。次に、ヨーク部１９を実施例１と同様に電気めっき法で作製し、もう一度ケミカル・メカニカル・ポリッシュ（ＣＭＰ）で平坦化を行う（ｂ）。次に、Ｂｓ＞２．０ＴのＣｏＮｉＦｅまたはＦｅＣｏ膜を０．２μｍ製膜する（ｃ）。そして、フォト工程後、イオンミリングにおいて所望の形状に主磁極部を加工する　（ｄ）。このようにして作製した主磁極部１６のトラック幅方向の幅が広がり始める位置は、前記ヨーク部の浮上面側端部よりも浮上面側に位置している。
【００２４】
なお、ここでは、スパッタ膜をイオンミリング法によりパターニングしたが、レジストフレームを用い、めっき法で主磁極部を形成しても、主磁極の形状を形成することが可能である。
【００２５】
（実施例３）
図９には，本発明の第３の実施の形態である磁気ヘッドの構成を示す。ここで、図９は媒体対向面及び基板面に対して垂直な面で見た断面図を示している。本実施例の磁気ヘッドは、主磁極１６とヨーク部１９とが、副磁極１５と上部シールドの間に形成され、かつ主磁極がヨーク部のトレーリング側に形成されていることを特徴としている。主磁極と副磁極、およびヨーク部とをこのような配置にすることにより、記録磁極と再生磁極の距離を近くすることができ、ヘッド特性も向上できるという効果がある。
【００２６】
再生素子形成後、ギャップ膜を介してヨーク部１９を実施例１と同様に電気めっき法で作製し、もう一度ケミカル・メカニカル・ポリッシュ（ＣＭＰ）で平坦化を行う。次に、Ｂｓ＞２．０ＴのＣｏＮｉＦｅまたはＦｅＣｏ膜を０．２μｍ作製し、フォト工程後、イオンミリングにおいて所望の形状に主磁極部を加工する。このようにして作製した主磁極部１６のトラック幅方向の幅が広がり始める位置は、前記ヨーク部の浮上面側端部よりも浮上面側に位置している。保護膜として、アルミナを形成後、コイル１８，コイルを支持するための絶縁膜２０およびバックヨーク１７を形成する。ケミカル・メカニカル・ポリッシュ（ＣＭＰ）で平坦化した後、副磁極１５を形成する。
【００２７】
（実施例４）
図１０には，本発明の第４の実施の形態である磁気ヘッドの構成を示す。ここで、図１０は媒体対向面及び基板面に対して垂直な面で見た断面図を示している。本実施例の磁気ヘッドは、主磁極１６とヨーク部１９とが、副磁極１５と上部シールドの間に形成され、かつ主磁極がヨーク部のリーディング側に形成されていることを特徴としている。主磁極と副磁極、およびヨーク部とをこのような配置にすることにより、記録磁極と再生磁極の距離を近くすることができ、ヘッド特性も向上できるという効果がある。
【００２８】
再生素子形成後、ギャップ膜を介して主磁極部１６を形成する。この際、主磁極部１６は磁性膜と非磁性膜を交互に積層して作製した。所望の形状に加工後、保護膜としてアルミナを形成し、ヨーク部１９を実施例１と同様に電気めっき法で作製、ケミカル・メカニカル・ポリッシュ（ＣＭＰ）で平坦化を行う。このようにして作製した主磁極部１６のトラック幅方向の幅が広がり始める位置は、前記ヨーク部の浮上面側端部よりも浮上面側に位置している。保護膜として、アルミナを形成後、コイル１８，コイルを支持するための絶縁膜２０およびバックヨーク１７を形成する。ケミカル・メカニカル・ポリッシュ（ＣＭＰ）で平坦化した後、副磁極１５を形成する。
【００２９】
（実施例５）
本実施例の磁気ヘッドは、主磁極を磁性層と非磁性層との積層構造にした磁気ヘッドである。前記主磁極を磁性膜と非磁性膜を交互に積層した多層膜にすることにより、磁極の磁化は互いの層で反平行になるため、残留磁化が小さくなり、記録後消去は抑制できる。
【００３０】
図１１に主磁極部に磁性膜と非磁性膜を交互に積層した場合に記録後消去が抑制できる概念図を示す。前述のように、主磁極部に用いる材料は高飽和磁束密度であるため（ａ）に示すように残留磁化がほとんど浮上面方向を向くため、これが消去磁界として媒体に届き、記録後消去が生じる。一方、非磁性層を間にはさむことにより、磁性膜が（ｂ）に示すように静磁気結合して主磁極中の残留磁化が閉磁路を形成する。これにより記録媒体に漏洩する消去磁界が小さくなり、記録後消去を抑制できる。
【００３１】
（実施例６）
図１３に、本発明により作製した垂直記録磁気ヘッドを搭載した磁気記録装置の構成図を示す。磁気記録装置は情報を記録する磁気記録媒体１３３と磁気記録媒体１３３を回転させるモータ１３４と磁気ディスクに情報を書き込みまたは読み出す磁気ヘッド１３２と磁気ヘッド１３２を目標位置に決めるアクチュエータ１３１と制御系１３５からなる。ここで、磁気記録媒体１３３は軟磁性下地層と記録層とを備えており、磁気ヘッド１３２は、主磁極部と、該主磁極よりもトラック幅方向に広がりを持つヨーク部、前記主磁極部、ヨーク部と磁気的に結合した副磁極と、前記記録磁極を励起するコイルと、磁気記録媒体に対向する浮上面を備えている。
【００３２】
磁気ヘッドの浮上時、前記ヨーク部の浮上面側端部位置から前記記録媒体を構成する前記軟磁性下地層までの距離が前記主磁極部の浮上面側端部位置から前記記録媒体を構成する前記軟磁性下地層までの距離と比較して、十分に大きくはないときは、ヨーク部から磁界がもれ、所望のトラックへの書きこみができない。したがって、前記ヨーク部の浮上面側端部位置から前記記録媒体を構成する前記軟磁性下地層までの距離が前記主磁極部の浮上面側端部位置から前記記録媒体を構成する前記軟磁性下地層までの距離よりも大きくすることが必要である。
【００３３】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明では、垂直記録用の磁気ヘッドの記録磁極を主磁極部とヨーク部に分離し、主磁極部に高飽和磁束密度の材料、ヨーク部材の磁歪を負とする。また、主磁極を磁性膜と非磁性膜を交互に積層した多層膜とすることにより、主磁極部の残留磁化を低減し、記録後消去が少ない垂直記録用の磁気ヘッド及び磁気記録装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの模式図である。
【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの断面図である。
【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの模式図である。
【図４】従来の磁気ヘッドの断面図である。
【図５】本発明を適用した磁気ヘッドの主磁極部作製プロセスを示す模式図である。
【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの断面図である。
【図７】本発明を適用した磁気ヘッドの模式図である。
【図８】本発明を適用した磁気ヘッド作製プロセスを示す模式図である。
【図９】本発明を適用した磁気ヘッドの模式図である。
【図１０】本発明を適用した磁気ヘッドの模式図である。
【図１１】本発明を適用した磁気ヘッドの多層膜主磁極の記録後消去抑制を示す図である。
【図１２】本発明を適用した磁気記録装置の模式図である。
【符号の説明】
１１　基板、１２　下部シールド、１３　磁気抵抗効果膜、１４　上部シールド、１５　副磁極、１６　主磁極部、１７　バックヨーク、１８　コイル、１９　ヨーク部、２０　絶縁膜、２１　非磁性膜、３０　垂直記録層、３１　軟磁性下地層、５４　非磁性膜、５５　レジスト、５６　磁性膜、５７　主磁極、５８　ヨーク、１３１　アクチュエータ、１３２　磁気ヘッド、１３３　磁気記録媒体、１３４　モータ、１３５　制御系。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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