(57)【要約】【課題】アダクト結晶またはビスフェノールＡ結晶の連続晶析方法に適用され、除熱量が削減され、そして、晶析装置内面、特に冷却器伝熱面への固体付着が抑制されて連続運転期間を長期化することの出来る、改善された連続晶析方法を提供する。【解決手段】ビスフェノールＡを含有する晶析原料を晶析装置に供給してビスフェノールＡとフェノールとの付加物の結晶またはビスフェノールＡ結晶を晶析させ、晶析装置から抜き出されたスラリーを固液分離して結晶を回収する方法において、母液の一部を晶析装置に循環させる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビスフェノールＡを含有する晶析原料を晶析装置に供給してビスフェノールＡとフェノールとの付加物の結晶またはビスフェノールＡ結晶を晶析させ、晶析装置から抜き出されたスラリーを固液分離して結晶を回収する方法において、母液の一部を晶析装置に循環させることを特徴とする改善された連続晶析方法。
【請求項２】
母液の晶析装置への循環量が晶析装置からのスラリー抜き出し量の５〜６０重量％である請求項１に記載の連続晶析方法。
【請求項３】
晶析装置へ循環させる母液が０．０１〜１０重量％の割合で微結晶を含有する請求項１又は２に記載の連続晶析方法。
【請求項４】
晶析装置が冷却器を備えた外部循環ラインを有するものであり、母液の晶析装置への循環先が外部循環ラインである、請求項１〜３の何れかに記載の連続晶析方法。
【請求項５】
晶析原料調製槽の出口温度と晶析槽の出口温度との差が５〜３５℃である請求項１〜４の何れかに記載の連続晶析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、改善された連続晶析方法に関し、詳しくは、ビスフェノールＡ・フェノール付加物の結晶またはビスフェノールＡ結晶の改善された連続晶析方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸触媒の存在下、アセトンに過剰量のフェノールを反応させてビスフェノールＡを製造することは知られている。この反応生成物から高純度のビスフェノールＡを取得する方法としては、反応生成物を晶析処理してビスフェノールＡとフェノールとの付加物（アダクト）の結晶（以下、「アダクト結晶」という）を析出させ、得られた結晶のスラリーを固液分離し、回収されたアダクト結晶からフェノールを除去してビスフェノールＡを取得して乾燥する方法が知られている。また、アダクト結晶に代えてビスフェノールＡ結晶を析出させる方法も知られている。
【０００３】
連続晶析方法は、大容量の粗原料を効率良く精製する方法として知られている。連続晶析を行う場合、原料調製工程において濃度調節を行い、飽和温度以上の温度に調節した後、晶析装置に供給されることが多い。この場合、原料の温度を上げ過ぎると、晶析装置の必要除熱量の増大を招く。また、それに伴って過飽和度も増大してしまうため、結晶核発生を増大し、結晶の平均粒径を低下させるだけでなく、冷却器伝熱面、配管内面などへのスケール堆積を助長する。従って、晶析原料調製工程では、通常、飽和温度よりも僅かに高い温度（例えば＋３℃）に調節される。
【０００４】
アダクト結晶の連続晶析方法として、複数（第１〜第ｎ−１）段の、晶析工程、固液分離工程、洗浄工程、結晶再溶解工程を包含し、（ａ）第ｎ段目で得られた結晶の洗浄液に精製フェノ−ルを使用し、（ｂ）第ｎ−１段目で得られた結晶の再溶解用フェノ−ル溶液に第ｎ段目で回収された洗浄排液または母液を使用し、（ｃ）第ｎ−１段目で得られた結晶の洗浄液に第ｎ段目で回収された母液または洗浄排液を使用し、（ｄ）第１段目〜第ｎ−１段目の各段の結晶再溶解用フェノ−ル溶液中の不純物濃度と結晶洗浄液中の不純物濃度を各々次段よりも高くする方法が知られている（特許文献１）。
【０００５】
【特許文献１】特開平５−１１７１９４号公報
【０００６】
しかしながら、本発明者らの検討によれば、晶析プロセス内における母液の有効利用の方法として、上記の様に、専ら、結晶の再溶解に母液を使用する方法では、冷却器伝熱面、配管内面などに結晶が析出してスケールと呼ばれる堆積物が形成され易く、長期的な安定運転に支障を生じる場合がある。特に、外部循環式冷却装置を有する晶析装置の場合、冷却器伝熱面、晶析原料と冷却スラリーとの合流点よりも下流の配管内面などにスケールが堆積し易く、連続した長期安定運転が困難な場合がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その目的は、アダクト結晶またはビスフェノールＡ結晶の連続晶析方法に適用され、除熱量が削減され、そして、晶析装置内面、特に冷却器伝熱面への固体付着が抑制されて連続運転期間を長期化することの出来る、改善された連続晶析方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、次の様な知見を得た。すなわち、晶析プロセス内における母液の有効利用を図る際、母液の一部を晶析装置に循環させるのが有利である。何故ならば、晶析装置に循環させる場合は、晶析原料調製槽に循環した場合における無駄な加熱を受けることがなく、従って、晶析に必要な除熱量を削減出来る。しかも、無駄な加熱を回避して晶析原料のエンタルピー（又は温度）が低い分だけ、微細結晶の発生（すなわちスケールの発生）を抑制することが出来る。勿論、晶析原料調製槽に母液を循環したことによっても得られる結晶の品質には何ら影響はない。
【０００９】
本発明は、上記の知見に基づき完成されたものであり、その要旨は、ビスフェノールＡを含有する晶析原料を晶析装置に供給してビスフェノールＡとフェノールとの付加物の結晶またはビスフェノールＡ結晶を晶析させ、晶析装置から抜き出されたスラリーを固液分離して結晶を回収する方法において、母液の一部を晶析装置に循環させることを特徴とする連続晶析方法に存する。
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。本発明の晶析方法は、基本的に晶析原料調製工程、晶析工程および固液分離工程から構成されている。
【００１１】
晶析原料調製工程においては、晶析原料調製槽にビスフェノールＡ（以下、ＢＰＡと略記する）のフェノール（以下、ＰＬと略記する）溶液などの晶析原料および固液分離工程から循環される母液を供給する等して、晶析原料を調製する。ＢＰＡのＰＬ溶液としては、通常、アセトンとＰＬとの反応工程から得られる反応生成物が使用されるが、必要により、液の一部を蒸発させたり、循環される母液を添加する等してＢＰＡ濃度を調節したり、熱交換器などを利用して加熱して結晶を溶解したりする。更には、前段の晶析工程で得られた結晶を固液分離した後、循環される母液と混合したり、加熱したりしてＢＰＡ濃度や温度の調節された晶析原料とする。
【００１２】
晶析原料調製工程（槽）の温度は、通常、ＢＰＡのＰＬ溶の飽和温度より高い温度に設定される。好ましい温度は、飽和温度より１〜１０℃高い温度、更に好ましい温度は飽和温度より１〜５℃高い温度である。なお、上記飽和温度は、ガスクロマトグラフィーや近赤外分光分析などを利用してＢＰＡ濃度を特定した上で、特開平５−１５７０１号公報などの公知文献に記載の飽和溶解度曲線などを利用すれば求められる。
【００１３】
晶析原料調製槽では、原料の均一化を図るため、攪拌機などを使用して攪拌することが好ましい。原料調製時に液と液との混合を行う場合には、スタティックミキサー等を使用することも出来る。
【００１４】
例えば、アダクト結晶を析出させる場合、晶析原料調製工程にて調製された晶析原料は、ＢＰＡ濃度が、通常１８〜５０重量％、好ましくは２２〜３０重量％のＰＬ溶液または水溶液である。アセトン、水およびＰＬの何れかを含有する混合溶媒とすることもある。ここで、ＰＬ溶液は、若干の固形物を含むスラリーでもよいが、再晶析のためには完全な溶液であることが好ましい。晶析原料の温度は、通常６０〜１２０℃である。
【００１５】
晶析工程において、晶析装置に導入された上記の晶析原料は、そこで冷却されるか、または、溶媒の蒸発などにより原料が濃縮され、結晶が析出して晶析スラリーが得られる。晶析装置としては、例えば、内部冷却式晶析槽、外部循環式冷却機構を備えた晶析槽などが使用される。スラリーの流れが比較的明確であるとの理由により、外部循環式冷却機構を備えた晶析槽が好適に使用される。外部循環冷却式晶析装置の好ましい形式としては、晶析槽および外部冷却器を有する外部循環ラインを有し、晶析原料が外部冷却器を出たスラリーと混合されてから晶析槽に供給される形式が挙げられる。
【００１６】
例えば、外部循環冷却式晶析装置によってアダクトの晶析を行う場合、晶析原料は、外部循環ラインで冷却された循環スラリーと混合され、４５〜６５℃に冷却されて晶析槽に供給される。なお、通常、晶析槽は断熱構造となっている。晶析槽を通過するプロセス流体は結晶化により若干の発熱がある。従って、晶析槽の入口と出口の温度差は通常０〜３℃である。
【００１７】
本発明においては、晶析原料調製槽出口の晶析原料と晶析槽出口のスラリーとの温度差は、通常５〜３５℃、好ましくは１０〜２０℃とされる。
【００１８】
晶析槽を出た晶析スラリーは、一部が固液分離工程に供給され、一部が外部冷却器を有する外部循環ラインに供給される。晶析槽を出た晶析スラリーのうち固液分離工程に供給されるものの割合は、主として晶析槽における晶析の状態を指標として決定され、通常１〜３０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
【００１９】
晶析工程においては、複数段の晶析槽を使用した方がより効果的である。例えば、２段の晶析槽を使用した場合、固液分離後の循環母液の温度は１段目の晶析槽温度よりも低くなるため、より高い晶析効果が得られる。晶析工程における晶析槽の数は、特に限定されないが、通常１〜３基である。また、晶析装置は、微結晶を溶解させて結晶の平均粒径を大きくするために加熱器を有していてもよい。
【００２０】
固液分離工程においては、晶析スラリーが固液分離装置に供給されて固液分離され、結晶と母液とに分離される。そして、固液分離装置では固形分を洗浄した場合は、洗浄濾液は母液として取扱う。アダクトの場合、固液分離装置から抜き出された母液の温度は、通常６５〜４５℃である。
【００２１】
本発明方法においては、固液分離装置から抜き出された母液の一部を晶析装置に循環させることを特徴とする。以下、晶析装置に循環させる母液を循環母液という。
【００２２】
循環母液は、容器に一時的に保持されることが好ましく、その滞留時間は通常１０分以下である。循環先の晶析スラリーの粘度は通常２０ｃＰ以下とされる。循環母液は、ほぼ飽和であり、循環配管中での結晶析出が懸念される。従って、容器および循環配管は、保温または加熱されていることが好ましい。一方、加熱し過ぎると、除熱量削減効果が失われるため、循環母液の温度は、通常、飽和温度−（１〜３）℃以内とされる。
【００２３】
また、循環母液は僅かな微結晶（固液分離装置から目漏れした結晶）を含有することが好ましい。これは、配管が加熱され過ぎた場合、結晶が溶解して母液が飽和を維持するように作用するためである。一方、放熱などにより冷却されて過飽和状態になっても、結晶成長に作用する傾向が強いため、循環配管へのスケーリングが多少緩和される。微結晶の含有量は、固液分離装置の出口における濃度として、通常０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量％である。
【００２４】
母液の晶析装置への循環は、晶析装置に直接循環させればよい。晶析工程に循環される母液の供給先としては、例えば、外部循環冷却式の晶析槽の場合は、（１）晶析原料調製槽出口から外部循環冷却ラインとの合流点までの間または当該合流点と晶析槽との間、（２）晶析槽から外部冷却器へのライン、（３）外部冷却器出口と上記合流点との間の何れかが挙げられる。
【００２５】
また、晶析槽内に冷却装置を備えている場合、または、蒸発冷却式の晶析装置の場合は、母液を晶析槽内に直接循環させることにより除熱量の削減となるので好ましい。この場合、母液の供給点は、晶析槽の出口からも晶析原料供給口からも離れている方が好ましい。
【００２６】
母液の晶析装置への循環量は、晶析装置からのスラリー抜き出し量に対し、通常５〜６０重量％、好ましくは１０〜５０重量％である。また、本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲において、母液の一部は晶析原料調製工程に循環してもよい（なお、第１段目の晶析工程における晶析原料調製工程は反応工程となる）。この場合、晶析装置に循環される母液量（Ａ）に対する晶析原料調製槽に循環される母液量（Ｂ）の比率（Ｂ／Ａ）は、通常５以下、好ましくは３以下、更に好ましくは２以下とされる。
【００２７】
本発明方法により、冷却装置における除熱量を大幅に削減することが出来る。また、製品１ｋｇ当りのトータルの必要加熱量も削減することが出来る。
【００２８】
本発明方法の効果は、ＢＰＡの過飽和度を尺度として検討することが出来る。ここで、ＢＰＡの過飽和度は、溶液中のＢＰＡの重量分率をＸとし、当該溶液の測定温度における飽和溶液中のＢＰＡの重量分率をＸsatとすると、式：（Ｘ−Ｘsat）／Ｘsatで表される。溶液中における１次核の発生速度およびスケールの成長速度は過飽和度に対して指数関数的に増加するので、過飽和度を抑制することは非常に重要である。例えば、「Ｉ＆ＥＣ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｄｅｓｉｇｎ  Ａｎｄ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ（１９６４），Ｖｏｌ．３  Ｎｏ．４」には、過飽和度または除熱量と伝熱面でのスケーリングの関係が数式化されており、過飽和度および除熱量を削減できれば、スケーリングを抑制できることが示されている。
【００２９】
本発明方法により、従来技術では過飽和度が高くなり過ぎていた場所、特に冷却伝熱面付近の過飽和度を低下させることが出来る。具体的には、晶析装置内において、母液の循環先では局所的な過冷却が発生し、冷却せずとも過飽和度が増長されて結晶析出が促進される。しかるに、従来必要であった除熱量が削減され、特に冷却伝熱面近辺の過飽和度を低下させることが出来る。即ち、冷却装置伝熱面における温度差が削減出来るので、伝熱面でのスケーリングが抑制でき、長期安定化のために大きく貢献する。
【００３０】
より具体的には、母液の循環先が、（１）原料調製槽出口から外部循環冷却ラインとの合流点までの間であれば、晶析装置全体の過飽和度が低下する。（２）上記の合流点と晶析槽との間であれば、外部冷却器から該合流点までの過飽和度が低下する。（３）晶析槽から外部冷却器へのラインであれば、外部冷却器から上記の合流点までの過飽和度が低下する。また、（４）外部冷却器出口と上記の合流点との間であれば、外部冷却器から合流点までの過飽和度が低下する。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、冷却器の負荷が低減されて冷却器の入口−出口の温度差が抑制され、従って、過飽和度が低減されるため、伝熱面でのスケールの堆積が抑制される。なお、本発明における様に母液の一部を晶析工程に循環させると、晶析原料調製工程への循環量が減少する。晶析原料の濃度は上がるものの、量が減少するので、晶析原料を溶解させるのに必要な熱量は減少する。更に冷却器の負荷も小さい。従って、本発明は総合的にエネルギー収支に関し有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００３３】
図１に示すプロセスフローシートに従ってアダクト結晶の連続晶析を行った。図１において、１は晶析原料調製槽、２は晶析槽、３は冷却器、４は循環ポンプである。そして、晶析原料調製槽１の出口から晶析槽２、冷却器３、循環ポンプ４並びにそれらを接続するラインの範囲（図１中の波線で包囲された範囲）を第１晶析装置５と言い、更に、第１晶析装置５と同様の構成を有する第２晶析装置６を直列に接続して使用した。なお、循環ポンプ４からの吐出流量は、８００重量部／ｍｉｎとした。
【００３４】
アダクトの母液含有原料ケーキ（ＢＰＡ含有量：５０重量％、温度５０℃）２１重量部／ｍｉｎと母液である飽和ＰＬ溶液（ＢＰＡ濃度９重量％、温度５０℃）３１重量部／ｍｉｎとを使用し、結晶溶解および再晶析処理を行った。
【００３５】
上記の母液含有原料ケーキの全てを原料供給ラインＬ１から、また、上記のＢＰＡ濃度９重量％の飽和ＰＬ溶液のうち７重量部／ｍｉｎを晶析母液循環ラインＬ１０から、それぞれ晶析原料調製槽１に導入し、連続的にケーキを完全に溶解させた（ＢＰＡ濃度４０重量％）。晶析原料調製槽１は、ＢＰＡ濃度４０重量％のＰＬ溶液の飽和温度＋３℃、すなち９４℃に維持された。晶析原料は完全に液体であった。晶析原料は、ラインＬ２から２８重量部／ｍｉｎの速度で抜き出され、外部循環ライン４の８００重量部／ｍｉｎと併せて、晶析槽２に連続的に供給された。また、上記のＢＰＡ濃度９重量％のＰＬ溶液のうち、残りの２４重量部／ｍｉｎを晶析母液循環ラインＬ９から外部循環ラインＬ４のポイントＡに連続的に供給した。
【００３６】
晶析槽２の出口温度が６３℃に維持される様に冷却器３への冷却水流量を制御した。冷却器入口（外部循環ラインＬ４）での温度は６２．６℃、冷却器出口（ポイントＢ）での温度は６１．４℃であり、その温度差は１．２℃であった。晶析槽２内のＢＰＡ濃度を２５重量％に維持してアダクト結晶を晶析させ、スラリーを晶析スラリー抜出しラインＬ３から連続的に８２８重量部／ｍｉｎの速度で抜き出した。
【００３７】
晶析スラリー抜出しラインＬ３から抜き出されたスラリー８２８重量部／ｍｉｎのうち、５２重量部／ｍｉｎを晶析スラリー供給ラインＬ５から第２晶析装置６に供給し、残りの７７６重量部／ｍｉｎを晶析母液循環ラインＬ９から供給されたＰＬ溶液２４重量部／ｍｉｎと併せて、循環ポンプ４を経て外部循環ラインＬ４に供給した。
【００３８】
第２晶析装置６においては、その外部循環ラインの流量（即ち、その循環ポンプの吐出流量）を８００重量部／ｍｉｎとし、晶析スラリー供給ラインＬ５から供給されたスラリー５２重量部／ｍｉｎと併せ、温度約５０℃のスラリーとし、８５２重量部／ｍｉｎの速度で晶析槽に供給して晶析を行わせ、そこからスラリーを８５２重量部／ｍｉｎの速度で抜き出した。
【００３９】
晶析槽から抜き出されたスラリー８５２重量部／ｍｉｎのうち８００重量部／ｍｉｎは外部循環ラインに供給し、残りの５２重量部／ｍｉｎを固液分離機７に供給して固液分離を行った。固液分離機７の結晶抜出しラインＬ７から２１重量部／ｍｉｎの速度でアダクト結晶のケーキが回収され、母液（ＢＰＡ濃度９重量％、温度５０℃）３１重量部／ｍｉｎは、晶析母液抜出しラインＬ８、晶析母液循環ラインＬ９及びラインＬ１０を経て循環された。
【００４０】
その結果、晶析原料調製槽１で必要な熱量は、晶析後の結晶スラリー１ｋｇ当たり約２３ｋｃａｌとなった。また、冷却器３での除熱量は、晶析後の結晶スラリー１ｋｇ当たり約１４ｋｃａｌであった。
【００４１】
上記の通り、冷却器３の入口と出口の温度差が１．２℃と小さく抑えられたため、冷却器の負荷が小さく、冷却器の伝熱面でのスケールの成長が抑制される。そして、伝熱面でのスケールの成長の抑制は、次のことから確認された。
【００４２】
すなわち、上記の実施例において、冷却器３への冷却水流量、冷却器入口（外部循環ラインＬ４）及び冷却器出口（ポイントＢ）での温度について４時間に亘って連続測定を行ない、以下の式（１）によって伝熱計算を行って総括伝熱係数Ｕを求め、そして、以下の式（２）によってプロセス側汚れ係数ｒｓ１を求めた。その結果、ｒｓ１の１時間当たりの増加は非常に小さく０．００００８ｍ２Ｋ／Ｗであった。
【００４３】
【数１】
2004168750.tif 000002
【００４４】
ここで、Ｑは冷媒（冷却水）の伝熱量、Ｕは総括伝熱係数、Ａは冷却器の伝熱面積、ΔTは冷却器の入口と出口の温度差の対数平均値、ｈ１はプロセス側境膜伝熱係数（定数）、Ｃｃは伝導伝熱抵抗係数（伝熱面の寸法及び材質により決定される定数）、ｒｓ２は冷媒側汚れ係数（定数）、ｈ２は冷媒側境膜伝熱係数（冷媒流量に依存する係数）である。
【００４５】
因に、実施例１と同一条件にて晶析モデルを使用して計算した結果、外部循環ラインＬ４のポイントＢにおける過飽和度は０．０８重量％／重量％と計算された。
【００４６】
（比較例１）
実施例１において、母液のポイントＡへの循環をしない外は、実施例１と実質的に同様に操作した。
【００４７】
即ち、アダクト結晶の母液含有原料ケーキ（ＢＰＡ含有量：５０重量％）２１重量部／ｍｉｎと母液である飽和ＰＬ溶液（ＢＰＡ濃度９重量％、温度５０℃）３１重量部／ｍｉｎとの全量を晶析原料調製槽１に導入し、ＢＰＡ濃度を２５重量％に調節しつつ、連続的にケーキを完全に溶解させた。晶析原料は完全に液体であった。晶析原料調製槽１は、ＢＰＡ濃度２５重量％のＰＬ溶液の飽和温度＋３℃、即ち８０℃に維持された。晶析原料は５２重量部／ｍｉｎの速度で抜き出され、外部循環ラインＬ４の８００重量部／ｍｉｎと併せて晶析槽２に連続的に供給された。
【００４８】
晶析槽２の出口温度が６３℃に維持されるように冷却器３への冷却水流量を制御した。冷却器入口（外部循環ラインＬ４）での温度は６３℃、冷却器３出口（ポイントＢ）での温度は６１．５℃であり、その温度差は１．５℃であった。晶析槽２内のＢＰＡ濃度を２５重量％に維持しつつ、アダクト結晶を晶析させ、スラリーを晶析スラリー抜出しラインＬ３から連続的に８５２重量部／ｍｉｎの速度で抜き出した。
【００４９】
晶析スラリー抜出しラインＬ３から抜き出されたスラリー８５２重量部／ｍｉｎのうち、５２重量部／ｍｉｎを晶析スラリー供給ラインＬ５から第２晶析装置６に供給し、残りの８００重量部／ｍｉｎを循環ポンプ４を経て外部循環ラインＬ４に供給した。
【００５０】
第２晶析装置６においては、その外部循環ラインの流量（即ちその循環ポンプの吐出流量）を８００重量部／ｍｉｎとし、晶析スラリー供給ラインＬ５から供給されたスラリー５２重量部／ｍｉｎと併せ、温度約５０℃のスラリーとなし、８５２重量部／ｍｉｎの速度でその晶析槽に供給して晶析を行わせ、そこからスラリーを８５２重量部／ｍｉｎの速度で抜き出した。晶析槽から抜き出されたスラリー８５２重量部／ｍｉｎのうち８００重量部／ｍｉｎは外部循環ラインに供給し、残りの５２重量部／ｍｉｎを固液分離機７に供給して固液分離を行った。固液分離機７の結晶抜出しラインＬ７から２１重量部／ｍｉｎの速度でアダクト結晶のケーキが回収され、母液（ＢＰＡ濃度９重量％、温度５０℃）３１重量部／ｍｉｎは、晶析母液抜出しラインＬ８及びライン晶析母液循環Ｌ１０を経て循環された。
【００５１】
その結果、晶析原料調製槽１で必要な熱量は、晶析後の結晶スラリー１ｋｇ当たり約２７ｋｃａｌとなった。実施例１に比較して約４ｋｃａｌ／ｋｇの加熱量ロスが発生したことになる。また、冷却器３での除熱量は、晶析後の結晶スラリー１ｋｇ当たり約１８ｋｃａｌであった。実施例１に比較して、１ｋｇ当たり約４ｋｃａｌの除熱量ロスが発生したことになる。
【００５２】
また、実施例１と同様に伝熱計算を行ってプロセス側汚れ係数ｒｓ１を求めた結果、ｒｓ１の１時間当たりの増加は非常に大きく０．０００１５ｍ２Ｋ／Ｗであった。このことから、伝熱面でのスケールの生成が確認された。
【００５３】
因に、比較例１と同一条件にて晶析モデルを使用して計算した結果、外部循環ラインＬ４のポイントＢにおける過飽和度は０．１０重量％／重量％と計算された。
【実施例２】
【００５４】
図２に示すプロセスフローシートに従ってＢＰＡ結晶の連続晶析を行った。図２中、２ａは攪拌機、２ｂはジャケットである。
【００５５】
原料調製槽１にて、ＰＬ１３．２重量％、ＢＰＡ８３．４重量％、水１．７重量％、アセトン１．７重量％の組成物を調製した。原料調製槽１はＢＰＡ析出温度＋３℃、即ち１３２℃に維持された。晶析原料は完全に液体であった。晶析原料は、晶析原料供給ラインＬ２から７．２重量部／ｍｉｎの速度で抜き出され、晶析槽２の液面に連続的に供給された。
【００５６】
晶析槽２の出口温度は９８℃に維持される様に、外部ジャケット（２ｂ）への冷媒流量を制御した。晶析槽２内ではＢＰＡ結晶が析出し、晶析スラリーは晶析スラリー抜出しラインＬ６から連続的に固液分離機７に供給され、固液分離後の母液は晶析母液循環ラインＬ９を通じて晶析槽２へ循環された。循環母液の供給位置は、晶析槽２内の攪拌機（２ａ）の撹拌軸に対して原料供給位置と対称な位置とした。
【００５７】
循環母液の組成は、ＰＬ３０．１重量％、ＢＰＡ６２．３重量％、水３．８重量％、アセトン３．８重量％であり、温度は９８℃であった。また、母液の一部は１２．８重量部／ｍｉｎの速度で晶析槽２に循環された。残りの母液は晶析母液抜出しラインＬ１１より抜き出された。従って、晶析槽２内の組成は、ＰＬ２４重量％、ＢＰＡ７０重量％、水３重量％、アセトン３重量％に調節された。このとき、スラリー濃度は１１重量％であり、晶析スラリー抜出しラインＬ６から連続的に２０重量部／ｍｉｎの速度で抜き出された。最終的に固液分離機７より得られるＢＰＡ結晶は４．１重量部／ｍｉｎであった。その結果、晶析槽２の外部ジャケット（２ｂ）での除熱量は、晶析後の結晶スラリー１ｋｇ当たり約１０ｋｃａｌであった。
【００５８】
（比較例２）
図２に示すプロセスフローシートに従ってＢＰＡ結晶の連続晶析を行った。ただし、晶析母液循環ラインＬ９は使用しなかった。図２中の、晶析槽２は内部に攪拌機を備えた外部ジャケット式である。
【００５９】
原料調製槽１にてＰＬ２４重量％、ＢＰＡ７０重量％、水３重量％、アセトン３重量％の組成物を調製した。原料調製槽１はＢＰＡ析出温度＋３℃、即ち１１１℃に維持された。晶析原料は完全に液体であった。晶析原料は、晶析原料供給ラインＬ２から２０重量部／ｍｉｎの速度で抜き出され、晶析槽２の液面に連続的に供給された。晶析母液循環ラインＬ９は使用しなかったため、晶析槽２内の組成は、原料調製槽１と同一であった。
【００６０】
晶析槽２の出口温度は９８℃に維持される様に、外部ジャケット（２ｂ）への冷媒流量を制御した。晶析槽２内ではＢＰＡ結晶が析出し、晶析スラリーは晶析スラリー抜出しラインＬ６から連続的に２０重量部／ｍｉｎの速度で抜き出された。スラリー濃度は１１重量％であり、固液分離機７より得られるＢＰＡ結晶は４．１重量部／ｍｉｎであった。分離母液は晶析母液抜出しラインＬ１１より全量抜き出された。その結果、晶析槽２の外部ジャケット（２ｂ）での除熱量は、晶析後の結晶スラリー１ｋｇ当たり約１１ｋｃａｌであった。実施例２と比較して、約１ｋｃａｌ／ｋｇの除熱量ロスが発生したことになる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明方法を実施するためのプロセスフローシートの１例
【図２】本発明方法を実施するためのプロセスフローシートの他の１例
【符号の説明】
【００６２】
１：晶析原料調製槽
２：晶析槽
３：冷却器
４：循環ポンプ
５：第１晶析装置
６：第２晶析装置
７：固液分離機
Ｌ１：原料供給ライン
Ｌ２：晶析原料供給ライン
Ｌ３、Ｌ６：晶析スラリー抜き出しライン
Ｌ４：外部循環ライン
Ｌ５：晶析スラリー供給ライン
Ｌ７：結晶抜き出しライン
Ｌ８：母液抜き出しライン
Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１１：母液循環ライン
【図１】
2004168750.tif 000003
【図２】
2004168750.tif 000004