(57)【要約】【課題】表面欠陥が少なく、巻取り性に優れ、金属薄膜型磁気記録媒体としたときの高温高湿条件下の走行性や電磁変換特性に優れる積層ポリエステルフイルムおよびそれを用いた磁気記録媒体の提供。【解決手段】不活性粒子を実質的に含有していないポリエステル層Ａとその一方の面に積層された不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層Ｂとからなり、ポリエステル層Ｂの表面は、中心面平均粗さ（ＷＲａＢ）が３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であること、およびポリエステル層Ａの表面は、最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続している最大深さ１０ｎｍ以上の窪みが高々１５０００個／ｍｍ２以下であることを同時に具備する積層ポリエステルフイルム。【選択図】　　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
不活性粒子を実質的に含有していないポリエステル層Ａとその一方の面に積層された不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層Ｂとからなり、
ポリエステル層Ｂの表面は、中心面平均粗さ（ＷＲａＢ）が３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であること、および
ポリエステル層Ａの表面は、最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続している最大深さ１０ｎｍ以上の窪みが高々１５０００個／ｍｍ２以下であること
を同時に具備することを特徴とする積層ポリエステルフイルム。
【請求項２】
ポリエステル層Ａ表面には、最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続していない最大深さ１０ｎｍ以上の窪みが高々１００００個／ｍｍ２以下である請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項３】
ポリエステル層Ａの表面にある最大深さ１０ｎｍ以上の窪みは、最大長径が２μｍ以下、最大短径が１．５μｍ以下である請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項４】
不活性粒子Ｂは、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、架橋ポリスチレン、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、カオリン及びクレーからなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子である請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項５】
ポリエステル層Ｂは、炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸と多価アルコールとからなるエステルワックスを含有する請求項１に記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項６】
ポリエステル層Ａの表面に皮膜層Ｃが積層されている請求項１に記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項７】
皮膜層Ｃは、平均粒径が１０〜５０ｎｍで体積形状係数が０．１〜π／６である不活性粒子Ｃを、皮膜層Ｃの重量を基準として、０．５〜３０重量％含有する請求項６記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項８】
ポリエステル層Ａまたは層Ｂを構成するポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートである請求項１〜７のいずれかに記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項９】
ポリエステル層Ａまたは層Ｂを構成するポリエステルが、ポリエチレン−２，６−ナフタレートである請求項１〜７のいずれかに記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項１０】
不活性粒子Ｂの平均粒径と、ポリエステル層Ａの厚みが下記式（１）を満足する請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【数１】
2004142300.tif 000005
（ここで、上記一般式中の、ｔＡは層Ａの厚み（μｍ）であり、ｄＢは層Ｂに含まれる不活性粒子の平均粒径（μｍ）である。）
【請求項１１】
不活性粒子Ｂは、平均粒径（ｄＢ）が５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下で、層Ｂの重量を基準として、０．０１重量％以上１．０重量％以下の範囲で含有されている請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項１２】
積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ側の表面は、中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項１３】
ポリエステル層Ａは０．８μｍ以上の厚みを有し、ポリエステル層Ｂは不活性粒子Ｂの平均粒径（ｄＢ）の０．５倍以上の厚みを有し、かつポリエステル層Ａと層Ｂの厚みの合計は２μｍ以上７μｍ以下である請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項１４】
デジタル記録方式の磁気記録媒体のベースフイルムに用いる請求項１〜１３のいずれかに記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれかに記載した積層ポリエステルフイルムと、該積層ポリエステルフイルムのポリエステル層Ａ側の表面に設けられた磁性層と、該積層ポリエステルフイルムのポリエステル層Ｂ側の表面に設けられたバックコート層とからなることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１６】
磁性層が強磁性金属薄膜層である請求項１５記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は積層ポリエステルフイルムに関する。更に詳しくは、巻取り性に優れながらも表面欠陥が少ない、特に磁気記録媒体のベースフィルムとしたときに、得られる磁気記録媒体に、優れた電磁変換特性および走行耐久性ならびに少ないドロップアウトを具備できる積層ポリエステルフイルムおよびそれをベースフィルムに用いた磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩はめざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリング等の物理沈着法またはメッキ法により非磁性支持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体、またメタル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布した薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進められている。前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テープ（特開昭５４−１４７０１０号公報）、Ｃｏ−Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２−１３４７０６号公報）が知られている。また、後者の例としては、例えば、極薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録（電子通信学会技術報告ＭＲ９４−７８（１９９５−０２））等が知られている。さらにまた、得られる磁気記録媒体の高密度記録化のため、ポリエチレンテレフタレートフィルムよりも厚みを薄くできるポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを磁気記録媒体のベースフィルムとして用いることも知られている。
【０００３】
従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布してなる磁気記録媒体）は、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いことから、記録波長も長く記録密度の低いものしか得られなかった。そこで、磁性層の厚みを薄くすることで、記録密度を向上させることが検討され、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティング等の薄膜形成手段によって形成される強磁性金属薄膜を磁性層としたもの（磁性層の厚みは０．２μｍ以下）や、磁性層を塗布する際に非磁性下地層を設けることで従来の塗布型に比べてより薄い磁性層を塗布できるようにしたもの（磁性層の厚みは０．１３μｍ程度）が提案されてきている。
【０００４】
ところで、このように磁性層を薄くすることで記録密度を高めた高密度磁気記録媒体では、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が磁性層の表面性に大きな影響を及ぼしやすく、特に金属薄膜型の磁気記録媒体では、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁性層（磁気記録層）表面の凹凸として発現し、それが記録・再生信号の雑音の原因となる。従って、非磁性支持体の表面はできるだけ平坦であることが望ましく、触媒に起因する異物が無いことが望ましい。
【０００５】
一方、非磁性支持体（ベースフィルム）の製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取りおよび巻出しといったハンドリングの観点からは、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面は出来るだけ粗いことが望ましい。なぜならば、フィルム表面が平坦過ぎると、フィルム―フィルム相互の滑り性が悪化し、ブロッキング現象が発生したり、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪化したりして、製品歩留りの低下や製品の製造コストの上昇をきたすからである。
【０００６】
このように、非磁性支持体の表面は、電磁変換特性の観点からは平坦であることが要求され、ハンドリング性やフィルムの製造コストの観点からは粗いことが要求される。
【０００７】
さらに金属薄膜型磁気記録媒体は、実際に使用される時の重大な問題点として、金属薄膜面の走行性がある。従来の磁性体粉末を有機高分子バインダー中に混入させてベースフィルムに塗布してなる塗布型磁気記録媒体では、該バインダー中に潤滑剤を分散させて磁性層面の走行性を向上させることが出来た。しかし、金属薄膜型磁気記録媒体では、このような対策をとることができず、走行性、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの欠点を有している。
【０００８】
そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体を製造するには、上記二律背反する性質、すなわち、電磁変換特性等に要求される平坦性を持たせつつフィルムのハンドリングや磁気記録媒体の走行性に必要な凹凸を表面に付与することが必要とされる。
【０００９】
そして、この為の具体的方法として、（１）フィルム表面に特定の塗剤を塗布し、不連続皮膜を形成させる方法（特公平３−８０４１０号公報、特開昭６０−１８０８３９号公報、特開昭６０−１８０８３８号公報、特開昭６０−１８０８３７号公報、特開昭５６−１６９３７号公報、特開昭５８−６８２２３号公報等）、（２）フィルム表面に微細凹凸を有する連続皮膜を塗布形成する方法（特開平５−１９４７７２号公報、特開平５−２１０８３３号公報）、（３）共押出し法等の技術により表裏異面化する方法（特開平２−２１４６５７号公報、特公平７−８０２８２号公報）、（１）または（２）と（３）との組合せによる方法（特開平３−７３４０９号公報）等が提案されている。
【００１０】
しかしながら、上記の不連続皮膜や微細凹凸を有する連続皮膜を塗布形成する方法では、フィルム―フィルム間の滑り、ブロッキングといった課題は解決できるものの、ベースフィルムの製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリングの点では不十分であり、製品歩留り、製品コストの観点で、高密度大容量磁気記録媒体用ベースフィルムヘの適用には問題がある。また従来の共押出し技術または共押出し技術と不連続皮膜もしくは連続皮膜を組合せる方法でも、同様の問題を抱えている。さらに金属薄膜型磁気記録媒体の場合は高温高湿条件下の走行性の問題を抱えたままである。
【００１１】
これらの課題に対して、少なくとも片面の表面に突起と窪みが共存し、その両者の個体比率を特定化することで、平坦な表面性と走行性を具備する３層積層体からなるポリエステルフイルムが特開平１１−７７９３２号公報で提案されている。しかしながら、該公報で提案されたフィルムは少なくとも３層が必須で２層では達成できないものであり、また、突起と窪みの個体比率を特定の範囲にしても、得られる磁気記録媒体の電磁変換特性が乏しかったり、ドロップアウトが多発することがあり、更なる改善が望まれていた。
【００１２】
そのため、表面欠点が少なく、巻取り性に優れ、金属薄膜型磁気記録媒体としたときの電磁変換特性や走行性に優れる積層ポリエステルフイルムは未だ提供されていないのが現状である。
【００１３】
【特許文献１】
特開昭５４−１４７０１０号公報
【特許文献２】
特開昭５２−１３４７０６号公報
【特許文献３】
特公平３−８０４１０号公報
【特許文献４】
特開昭６０−１８０８３９号公報
【特許文献５】
特開昭６０−１８０８３８号公報
【特許文献６】
特開昭６０−１８０８３７号公報
【特許文献７】
特開昭５６−１６９３７号公報
【特許文献８】
特開昭５８−６８２２３号公報
【特許文献９】
特開平５−１９４７７２号公報
【特許文献１０】
特開平５−２１０８３３号公報
【特許文献１１】
特開平２−２１４６５７号公報
【特許文献１２】
特公平７−８０２８２号公報
【特許文献１３】
特開平３−７３４０９号公報
【特許文献１４】
特開平１１−７７９３２号公報
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、かかる従来技術の欠点を解消し、表面欠点が少なく、巻取り性に優れ、金属薄膜型磁気記録媒体としたときの走行性や電磁変換特性に優れる積層ポリエステルフイルムおよびそれをベースフイルムに用いた磁気記録媒体、特に強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決しようと鋭意研究した結果、前述の特開平１１−７７９３２号公報に記載されたフィルムは、平坦面側も不活性粒子を含有しており、平坦性が乏しいことが問題であった。そこで、平坦面側から単に不活性粒子を除く検討したが、十分な電磁変換特性は得られなかった。そこで、さらに研究を進めると、不活性粒子を除くと、突起＋窪みの欠陥が発現し、これが表面は平坦であるのに、それに相当する電磁変換特性を得られないと言う状況を引き起こしていることを見出し、本発明に到達した。
【００１６】
かくして本発明の目的は、本発明によれば、不活性粒子を実質的に含有していないポリエステル層Ａとその一方の表面に積層された不活性粒子を含有するポリエステル層Ｂとからなり、ポリエステル層Ｂの表面は、中心面平均粗さ（ＷＲａＢ）が３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であること、およびポリエステル層Ａの表面は、最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続している最大深さ１０ｎｍ以上の窪みが高々１５０００個／ｍｍ２以下であることを同時に具備する積層ポリエステルフイルムによって達成される。
【００１７】
また、本発明によれば、本発明の好ましい態様として、ポリエステル層Ａの表面は、最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続していない最大深さ１０ｎｍ以上の窪みが１００００個／ｍｍ２以下であること、ポリエステル層Ａの表面にある最大深さ１０ｎｍ以上の窪みは、最大長径が２μｍ以下、最大短径が１．５ｎｍ以下であることの少なくともいずれかを具備するの積層ポリエステルフイルムも提供される。
【００１８】
さらにまた、本発明によれば、本発明の好ましい態様として、ポリエステル層Ｂに含有される不活性粒子Ｂが架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、架橋ポリスチレン、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、カオリン及びクレーからなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であること、ポリエステル層Ｂが炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなるエステルワックス（部分ケン化していてもよい。）を含有すること、ポリエステル層Ａの表面に皮膜層Ｃが積層されていること、皮膜層Ｃが平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜３０重量％含有すること、ポリエステル層Ａまたは層Ｂを構成するポリエステルがポリエチレンテレフタレートであること、ポリエステル層Ａまたは層Ｂを構成するポリエステルがポリエチレン−２，６−ナフタレートであること、ポリエステル層Ｂに含まれる不活性粒子Ｂの平均粒径と、ポリエステル層Ａの厚みが特定の式を満足すること、不活性粒子Ｂは、その平均粒径（ｄＢ）が５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下で、ポリエステル層Ｂの重量を基準としたとき、含有量が０．０１重量％以上１．０重量％以下であること、ポリエステル層Ａ側の表面の中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であること、ポリエステル層Ａは０．８μｍ以上の厚みを有し、ポリエステル層Ｂは不活性粒子Ｂの平均粒径（ｄＢ）の０．５倍以上の厚みを有し、ポリエステル層Ａと層Ｂの厚みの合計が２μｍ以上７μｍ以下であること、デジタル記録方式の磁気記録媒体のベースフイルムに用いることのいずれかを具備する積層ポリエステルフイルムも提供される。
【００１９】
本発明の他の課題は、本発明によれば、本発明の積層ポリエステルフイルムと、該積層ポリエステルフイルムのポリエステル層Ａ側の表面に設けられた磁性層と、該積層ポリエステルフイルムのポリエステル層Ｂ側の表面に設けられたバックコート層とからなることを特徴とする磁気記録媒体、特にその好ましい態様として磁性層が強磁性金属薄膜層である磁気記録媒体によって達成される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ（以下、単に層Ａと称することがある。）と、その一方の面にポリエステル層Ｂ（以下、単に層Ｂと称することがある。）を積層した積層フィルムである。
【００２１】
前記ポリエステル層Ａ、層Ｂを形成するポリエステルＡ、Ｂとしては、脂肪族ポリエステル、芳香族ポリエステルが挙げられるが、特に芳香族ポリエステルが好ましい。ポリエステルＡ、Ｂは同じ種類でも、異なる種類であっても良い。
【００２２】
上記芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート）などを例示することができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。
【００２３】
これらポリエステルは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであっても良い。コポリエステルの場合、例えば、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートの共重合成分としては、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコールなどの他のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（ただし、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ただし、ポリエチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸などの他のジカルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などのオキシカルボン酸成分などが挙げられる。これら共重合成分の量は、本発明の効果を損なわない限り、２０モル％以下、さらには１０モル％以下であることが好ましい。
【００２４】
さらにトリメリット酸、ピロメリット酸、ペンタエリスリトールなどの３官能以上の多官能化合物を共重合させることも出来る。この場合、ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下で共重合させるのが良い。
【００２５】
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート以外の他のポリエステルの場合の共重合成分についても、上記と同様に考えるとよい。
【００２６】
更に上記ポリエステルには本発明の効果を損なわない程度であれば、顔料、染料、酸化防止剤、帯電防止剤、光安定剤、遮光剤（例えばカーボンブラック、酸化チタン等）の如き添加剤を必要に応じて含有させることができる。
【００２７】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ、層Ｂが同じポリエステルからなるのが好ましいが、異なるポリエステルからなってもよい。例えば、層Ａ、層Ｂが共にポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる積層フィルムが好ましいが、層Ａ（又は層Ｂ）がポリエチレンテレフタレート、層Ｂ（又は層Ａ）がポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる積層フィルムであっても良い。
【００２８】
前記ポリエステル層Ａを形成するポリエステルＡは従来から知られている方法で製造することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートはテレフタル酸とエチレングリコールとをエステル化反応またはジメチルテレフタレートとエチレングリコールとをエステル交換反応せしめ、次いで反応生成物を重縮合せしめる方法で製造することができる。
【００２９】
上記の方法（溶融重合）により得られたポリエステルは、必要に応じて固相状態での重合方法（固相重合）により、さらに重合度の高いポリマーとすることができる。
【００３０】
上記の重合においては公知の触媒を用いることができ、溶融重合でのエステル交換触媒としてはマンガン、カルシウム、マグネシウム、チタンの酸化物、塩化物、炭酸塩、カルボン酸塩等が好ましく、特に酢酸塩即ち、酢酸マンガン、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム、酢酸チタンが好ましく挙げられる。
【００３１】
また、重縮合触媒としては、アンチモン化合物、チタン化合物、ゲルマニウム化合物を挙げることができる。
【００３２】
前記アンチモン化合物としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酢酸アンチモン等が好ましく挙げられる。
【００３３】
前記チタン化合物としては、有機チタン化合物が好ましく挙げられ、例えば特開平５−２９８６７０号公報に記載されているものを挙げることができる。更に説明すると、チタンのアルコラートや有機酸塩、テトラアルキルチタネートと芳香族多価カルボン酸又はその無水物との反応物等を例示でき、好ましい具体例としてチタンテトラブトキシド、チタンイソプロポキシド、蓚酸チタン、酢酸チタン、安息香酸チタン、トリメリット酸チタン、テトラブチルチタネートと無水トリメリット酸との反応物等を挙げることができる。
【００３４】
また、前記ゲルマニウム化合物としては、例えば特許第２７９２０６８号公報に記載されているものを挙げることができる。更に説明すると、（イ）無定形酸化ゲルマニウム、（ロ）結晶性ゲルマニウム、（ハ）酸化ゲルマニウムをアルカリ金属又はアルカリ土類金属もしくはそれらの化合物の存在下にグリコールに溶解した溶液、および（ニ）酸化ゲルマニウムを水に溶解し、これにグリコールを加え水を留去して調整した酸化ゲルマニウムのグリコール溶液、等を挙げることができる。ただし、ゲルマニウム化合物を重縮合触媒として採用する場合、その量が多いと、ポリエステル合成の際の副生成ＤＥＧ量が増加して先述のポリエステル層Ａの熱安定性を低下させるので、ポリエステルＡに含有されるゲルマニウム元素（Ｇｅ）としては１０ｐｐｍ以下にするのが好ましい。更に好ましくは５ｐｐｍ以下である。そして、熱安定性を低下させないためには、ポリエステルＡがゲルマニウム元素（Ｇｅ）を実質的に含有しないことが特に好ましい。
【００３５】
また、前記ポリエステルＡには熱安定性を維持するために、従来ポリエステルの製造工程で添加されるリン化合物を含有することが好ましい。このリン化合物は特に限定されないが、正リン酸、亜リン酸、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ−ｎ−ブチルホスフェートが好ましく挙げられる。
【００３６】
また、本発明におけるポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないことが必要である。実質的に粒子が含まれてしまうと、ドロップアウトや電磁気変換特性が損なわれてしまう。なお、ここでいう実質的に不活性粒子を含有しないとは、積極的に触媒残渣を析出させたり、不活性粒子を添加したりしていないことを意味し、具体的には、粒径０．０５μｍ以上の不活性粒子の含有量が、層Ａの重量を基準として、高々０．００１重量％であることが好ましい。
【００３７】
ポリエステルＢは、ポリエステルＡで説明した方法で製造でき、また、ポリエステルＡで説明したものを好適に用いることができる。
【００３８】
ところで、本発明におけるポリエステル層Ｂは、巻取り性を付与するために粒子を含有させる必要がある。該不活性粒子Ｂの平均粒径（ｄＢ）は５０〜１，０００ｎｍ、好ましくは１００〜８００ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜７００ｎｍ、特に好ましくは２００〜６００ｎｍである。そして、該不活性粒子Ｂの含有量は、ポリエステル層Ｂに対し、０．００１〜１重量％、好ましくは０．００５〜０．８重量％、さらに好ましくは０．０１〜０．６重量％、特に好ましくは０．０１〜０．２重量％である。
【００３９】
不活性粒子Ｂとしては、例えば、（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなど）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイアモンドなど）、および（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイトなど）などのような無機化合物からなる微粒子が挙げられる。この中で特に架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、架橋ポリスチレン、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、カオリン及びクレーからなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましいが、それ以外の粒子をフイルム特性に悪影響を及ぼさない範囲で更に添加することは問題はない。
【００４０】
本発明におけるポリエステル層Ｂは、さらに、炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなるエステルワックスを０．００１〜１重量％含有するのが好ましい。ここで、エステルワックスとは、エステルワックスはもちろん、部分的にケン化したエステルワックスも包含する。
【００４１】
上記脂肪族モノカルボン酸の炭素数は８個以上、好ましくは８〜３４個である。この炭素数が８個未満であると、得られた（部分ケン化）エステルワックスの耐熱性が不充分で、ポリエステルに分散させる際の加熱条件で、該（部分ケン化）エステルワックスが容易に分解されてしまうため、不適切である。
【００４２】
炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸としては、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ペヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、ヘントリアコンタン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、エルカ酸、リノール酸およびこれらを含む混合物などが挙げられる。
【００４３】
上記（部分ケン化）エステルワックスのアルコール成分は、水酸基を２個以上有する多価アルコールである。さらに耐熱性の観点から、水酸基を３個以上有する多価アルコールであることが好ましい。モノアルコールを用いたのでは、生成した（部分ケン化）エステルワックスの耐熱性が不足する。
【００４４】
上記水酸基を２個有する多価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどが好ましく挙げられる。水酸基を３個以上有する多価アルコールとしては、例えばグリセリン、エリスリット、トレイット、ペンタエリスリット、アラビット、キシリット、タリット、ソルビット、マンニットなどが好ましく挙げられる。
【００４５】
上記脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールから得られるエステルワックスとしては、多価アルコールの水酸基の数にもよるが、モノエステル、ジエステル、トリエステルなどが挙げられる。これらの中、耐熱性の観点から、モノエステルよりもジエステルが、ジエステルよりもトリエステルが好ましい。好ましいエステルワックスとしては、具体的にはソルビタントリステアレート、ペンタエリスリットトリペヘネート、グリセリントリパルミテート、ポリオキシエチレンジステアレートなどが挙げられる。
【００４６】
上記脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる部分ケン化エステルワックスは、多価アルコールを炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸で部分エステル化したのち、２価以上の金属水酸化物でケン化することにより得られる。具体的には、例えばモンタン酸ジオールエステルを水酸化カルシウムでケン化した、ワックスＥ、ワックスＯＰ、ワックスＯ、ワックスＯＭ、ワックスＦＬ（全て、ヘキスト（株）社製商品名）などが挙げられる。かかる（部分ケン化）エステルワックスは１種単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。
【００４７】
上記（部分ケン化）エステルワックスの層Ｂへの添加量は、０．００１〜１重量％、さらに０．００３〜０．５重量％、よりさらに０．００５〜０．５重量％、特に０．０１〜０．３重量％の範囲であることが好ましい。この（部分ケン化）エステルワックスの添加量が下限未満であると、フィルム巻取り性の向上が不十分になりやすく、ブロッキング改良効果も乏しいものとなりやすい。一方、添加量が上限を超えると、フィルム製造工程で、ロール上に巻き上げたときに接する反対側の面に、ブリードアウトによってワックス成分が多量に転写され、例えば金属蒸着層とベースフイルムの接着性を妨げるなどの弊害を生じる。
【００４８】
ところで、本発明の積層ポリエステルフイルムの最大の特徴は、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと積層していない側の表面（以下、単にポリエステル層Ａの表面と称することがある。）に最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続している最大深さ１０ｎｍ以上の窪み（以下、凹凸欠陥と称することがある。）を高々１５０００個／ｍｍ２以下にしたことにある。好ましい凹凸欠陥の頻度は、１２０００個／ｍｍ２以下、特に好ましくは１００００個／ｍｍ２以下である。該凹凸欠陥を所定の範囲に抑えるためには、フイルムをロール状に巻き取る際に、層間空気が多くならないような条件で実施することや、層Ｂに含まれる不活性粒子のうち、軟質の有機系粒子の割合を多くすること、更には層Ａの結晶化度を向上させること等を適宜組み合わせることで達成される。
【００４９】
かかる表面欠陥は、実質的に粒子を含有していない層Ａと不活性粒子を含有する層Ｂが積層されたフイルムで検出されるものであり、ロールとして巻かれた状態において、層Ｂに含有される不活性粒子が層Ａ表面と接触後、強い圧力で押し付けられる状態で形状転写し窪みがつけられ、更に層間の微量の空気が経時で抜けることによるフイルム層間のズレが、ベースに応力をかける事によって上述した窪みに連続して突起を形成するというメカニズムが考えられる。この窪みは１０ｎｍ以上の深さになり、またこの窪みに連続した突起も１５ｎｍ以上の高さになると、表面の平坦性が著しく損なわれ、この総数が１５０００個／ｍｍ２を超えると十分な電磁気変換特性が得られないことを見出したのが本発明である。
【００５０】
また、ポリエステル層Ａの表面にある欠点のうち、最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続していない最大深さ１０ｎｍ以上の窪み（以下、窪み欠陥と称することがある。）だけからなるものが１００００個／ｍｍ２以下であることが好ましい。更に好ましいくぼみ欠陥の頻度は、８０００個／ｍｍ２以下であり、特に好ましくは５０００個／ｍｍ２以下である。この窪み欠陥は、上述したメカニズムで発生するはずの窪みに連続した突起が形成されるまでには至らなかった欠陥で、窪みだけが表面に存在する状態である。しかし、窪みだけでもその頻度が上限を越える場合は電磁気変換特性に影響を与える場合がある。
【００５１】
更に、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと積層していない側の表面にある最大深さ１０ｎｍ以上の窪みは、その最大長径が２μｍ以下で、またその最大短径が１．５ｎｍ以下であることが好ましい。更に好ましい最大深さ１０ｎｍ以上の窪みの最大長径は１．５μｍ以下、最大短径は１μｍ以下である。上記最大深さ１０ｎｍ以上の窪みの最大長径または最大短径のいずれかでも上限を超えると、電磁気変換特性に影響を与える場合がある。
【００５２】
上述した凹凸欠陥や窪み欠陥を上記範囲にするには、層Ｂに含有せしめた不活性粒子の平均粒径と層Ａの厚さとが特定の関係を満たすようにするのが好ましい。具体的には、層Ｂは、不活性粒子を１種類または種類や粒径の異なる不活性粒子を２種以上含有する。そして、不活性粒子が１種類の場合は、その平均粒径を、また、不活性粒子が２種類以上の場合は、粒子のうち最も平均粒径の大きな不活性粒子の平均粒径を、ｄＢ（μｍ）とし、層Ａの厚さをｔＡ（μｍ）としたときに、ｄＢ／ｔＡは、０．０１以上０．５以下であることが好ましい。さらに好ましいｄＢ／ｔＡは、０．０３以上０．３以下である。
【００５３】
本発明において、層Ａ側の表面は、表面粗さが、中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）で０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下、更には０．５ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましい。該表面粗さが上限を超えると、電磁変換特性等が低下しやすい。一方、該表面粗さが下限未満だと、フィルムの耐ブロッキング性が悪化することがある。
【００５４】
本発明において、層Ｂは、前述のとおり、不活性粒子を含有する。したがって、層Ｂ側の表面は、層Ａ側の表面よりも中心面平均粗さ（ＷＲａ）が当然粗くなる。そして、積層ポリエステルフィルムの層Ｂ側の表面は、中心面平均粗さ（ＷＲａＢ）が３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは３ｎｍ以上１５ｎｍ以下、さらに好ましくは５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが必要である。層Ｂ側の表面粗さ（ＷＲａＢ）が上限を超えると、層Ａ側の表面の平坦性が乱され、得られる磁気記録媒体の電磁変換特性が低下する。一方、該ＷＲａＢが、下限未満では、搬送等におけるフィルムのブロッキング性やテープにしたときの走行性などが低下する。さらにＷＲａＢがＷＲａＡ以下では、その平坦性の故に、ベースフィルムの製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリング性の悪化をきたし、またロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪化し、生産性の悪化、製品歩留りの低下、ひいては製品の製造コストの上昇をきたす。
【００５５】
層Ｂ側の表面に、上記の表面粗さを付与し、かつ層Ａ側の表面に上述の窪みと突起が連続してある表面欠陥を所望の範囲に抑制するためには、層Ｂに含有される不活性粒子の平均粒径（ｄＢ）は０．１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、更に０．２μｍ以上０．８μｍ以下、特に０．２μｍ以上０．６μｍ以下であることが好ましい。
【００５６】
本発明において、積層ポリエステルフイルムの全厚みは、通常２μｍ以上２０μｍ以下であり、好ましくは２．５μｍ以上１０μｍ以下、更に好ましくは３μｍ以上７μｍ以下である。平坦面を形成する層Ａと走行面を形成する層Ｂとの層厚構成は、層Ａの表面に前記表面欠陥が生じないように、層Ｂに添加する不活性粒子の平均粒径ｄＢと層Ａの厚さとが、前述の関係を満足するように構成されるのが好ましい。また、層Ａの厚さは、０．８μｍ以上であることが好ましく、層Ｂの厚さは、前記平均粒径ｄＢの１／２倍以上（μｍ）であることが好ましい。
【００５７】
また、本発明における積層ポリエステルフイルムは、磁気テープとした場合の諸特性向上のため、磁性層を設ける側の面、すなわち、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと接していない表面に、皮膜層Ｃを設けることが好ましい。
【００５８】
前記皮膜層Ｃは、平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜３０重量％含有していることが好ましい。
【００５９】
前記皮膜層Ｃを形成する樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂などが好ましく挙げられ、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。
【００６０】
この水性ポリエステル樹脂としては、酸成分が、例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−スルホイソフタル酸ナトリウム、２−スルホテレフタル酸カリウム、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸などの多価カルボン酸の１種以上よりなり、グリコール成分が、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコール、ジメチロールプロパン、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物などの多価ヒドロキシ化合物の１種以上より主としてなるポリエステル樹脂が好ましく用いられる。また、ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマーまたはブロックコポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ（相互侵入高分子網目）型、コアシェル型など）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂であってもよい。この水性ポリエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いることができるが、水に乳化、微分散するタイプのものが好ましい。また、これらは親水性を付与するため、分子内に例えばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単位などが導入されていてもよい。
【００６１】
前記皮膜層Ｃに含有される不活性粒子Ｃとしては、特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、架橋シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステルなどの有機粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウムなどからなる粒子が好ましく挙げられる。なかでも、架橋シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリカ粒子、コアシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子など）が特に好ましく挙げられる。
【００６２】
前記不活性粒子Ｃの平均粒径（ｄＣ）は１０〜５０ｎｍ、好ましくは１２〜４５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜４０ｎｍである。この平均粒径が１０ｎｍ未満であると、フィルムの滑り性が不良となることがあり、一方、５０ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため好ましくない。
【００６３】
前記不活性粒子Ｃの形状は、後述の体積形状係数（ｆ）が通常０．１〜π／６、好ましくは０．２〜π／６、さらに好ましくは０．４〜π／６でである。
【００６４】
なお、体積形状係数（ｆ）がπ／６である粒子の形状は、球（真球）である。すなわち、体積形状係数（ｆ）が０．４〜π／６のものは、実質的に球ないしは真球、ラグビーボールのような楕円球を含むものであり、不活性粒子Ｃとして好ましい。体積形状係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状の粒子では、走行耐久性が低下してしまうので好ましくない。
【００６５】
前記不活性粒子Ｃの含有量は、皮膜層Ｃ（塗液の固形分）に対し、０．５〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％、さらに好ましくは３〜１０重量％である。この含有量が０．５重量％未満であると、フィルムの滑り性が不良となることがあり、一方、３０重量％を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため、好ましくない。
【００６６】
本発明における積層ポリエステルフィルムの全厚みは、２μｍ以上８μｍ未満、好ましくは２．５〜７．５μｍである。ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚み構成は、好ましくはＢ層の厚みが積層フィルムの全厚みの１／５０〜１／２、さらに好ましくは１／３０〜１／３、特に好ましくは１／２０〜１／４である。皮膜層Ｃの厚みは、通常１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、さらに好ましくは３〜１０ｎｍ、特に好ましくは３〜８ｎｍである。
【００６７】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、従来から知られている、または当業界に蓄積されている方法に準じて製造することができる。そのうち、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとの積層構造は、共押出し法により製造するのが好ましく、皮膜層Ｃの積層は塗布法により行うのが好ましい。
【００６８】
例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで説明すると、押出し口金内または口金以前（一般に、前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で、不活性粒子Ｂ（要すれば、前述のエステルワックスも）及びを微分散、含有させたポリエステルＢと、実質的に不活性粒子を添加したり析出させたりしていないポリエステルＡとを、それぞれさらに高精度ろ過したのち、溶融状態にて積層複合し、上記好適な厚み比の積層構造となし、次いで口金より融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム状に共押出ししたのち、４０〜９０℃の冷却ロールで急冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。その後、上記未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向とは直角方向（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍率としては、通常９倍以上、好ましくは１０〜３５倍、さらに好ましくは１２〜３０倍である。
【００６９】
さらに、前記二軸配向フィルムは（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性が付与される。その際、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。
【００７０】
なお、積層ポリエステルフィルムの製造に際し、ポリエステルＡ、Ｂに所望により上記不活性粒子以外の添加剤、例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤などを添加含有させることができる。
【００７１】
本発明におけるポリエステル層Ａへの皮膜層Ｃの積層は、水性塗液を塗布する方法で行うのが好ましい。
【００７２】
塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステル層Ａの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なくとも一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ないし途中で皮膜は乾燥される。その中で、塗布は、未延伸積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に縦（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えば、ロールコート法、ダイコート法などが挙げられる。
【００７３】
前記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は、０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．５〜４重量％であることが好ましい。そして、水性塗液には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増粘剤などを添加することができる。
【００７４】
本発明においては、磁気記録媒体としてのヘッドタッチ、走行耐久性をはじめとする各種性能を向上させ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムのヤング率を、縦方向および横方向でそれぞれ、通常４５００Ｎ／ｍｍ２以上および６０００Ｎ／ｍｍ２以上、好ましくは４８００Ｎ／ｍｍ２以上および６８００Ｎ／ｍｍ２以上、さらに好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ２以上および８０００Ｎ／ｍｍ２以上、特に好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ２以上および１０，０００Ｎ／ｍｍ２以上とする。
【００７５】
また、ポリエステル層Ａ、Ｂの結晶化度は、ポリエステルがポリエチレンテレフタレートの場合は３０〜５０％、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場合は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方上限を上回るとフィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。
【００７６】
本発明によれば、ポリエステル層Ａの片面にポリエステル層Ｂが積層されてなる積層ポリエステルフイルム、および、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと接していない表面に皮膜層Ｃが積層されている積層ポリエステルフイルムのそれぞれをベースフイルムとする磁気記録媒体が同様に提供される。
【００７７】
本発明の積層ポリエステルフイルムから磁気記録媒体を製造する実施態様は、下記のとおりである。
【００７８】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｃの表面、すなわち平坦面側の表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的や用途などの必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層やフッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に層Ｂ側の表面に公知のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることができる。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、デジタル信号記録用デジタルビデオカセットレコーダ（ＤＶＣ）、データ８ミリ、マンモス、ＡＩＴ用テープ媒体として極めて有用である。
【００７９】
また、本発明の積層ポリエステルフイルムは、層Ａ側の表面、すなわち平坦面側表面に、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉を塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることができる。また、必要に応じて層Ａ側の表面に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−ＶＨＳ、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、デジタルβカム、Ｄ２，Ｄ３，ＳＸ、ＬＴＯ、ＤＬＴ等用テープ媒体として極めて有用である。
【００８０】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、本発明における各特性は、以下の方法によって測定または評価される。また、実施例中の「部」および「％」は、特に断らない限り、「重量部」および「重量％」である。
（１）表面欠陥（窪みおよびそれに連続した突起）
Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間力顕微鏡Ｎａｎｏ　ＳｃｏｐｅＩＩＩ　ＡＦＭのＪスキャナーを使用し、走査範囲を３０μｍ２とし、窪みのある個所をカウントする。更にこれらの窪みに対して、夫々の深さ、また窪みに連続した突起がある場合には、夫々の突起の高さを面に対して垂直方向（断面）の解析を行うことにより求める。なお、窪みと突起が連続しているかどうかは、ＡＦＭを用いて、窪みと突起の部分を面に対して、垂直方向（断面）の解析を行い、窪みと突起に相対しない側のベースラインをお互いに結び、その結線が窪みと交差する点αと突起と交差する点βの距離が１ｎｍ以下の場合に、この窪みと突起が実質的に連続であるとした。
更に窪みに対しては、拡大してその長径、短径を求める。なお、長径は、測定された値を大きい方から５点取り、それらの平均値とした。また、短径は、測定された値を大きい方から５点取り、それらの平均値とした。
【００８１】
短針：単結合シリコンセンサー
走査モード：タッピングモード
画素数：２５６×２５６データポイント
スキャン速度：２．０Ｈｚ
測定環境：室温、大気中
【００８２】
（２）粒子の平均粒径１（平均粒径：０．０６μｍ以上）
島津製作所製ＣＰ−５０型セントリフューグル　パーティクルサイズ　アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇａｌ　Ｐａｒｔｉｃｌｅ　Ｓｉｚｅ　Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Ｂｏｏｋ「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２４２〜２４７参照）。
【００８３】
（３）粒子の平均粒径２（平均粒径：０．０６μｍ未満）
小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。即ち、Ｎｉｃｏｍｐ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　Ｉｎｃ．社製のＮＩＣＯＭＰ　ＭＯＤＥＬ　２７０　ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ　ＰＡＲＴＩＣＬＥ　ＳＩＺＥＲにより求められる全粒子の５０重量％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。
【００８４】
（４）層厚
フィルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。層厚は、薄い側の層厚を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全厚より薄い側の層厚に引き算して求める。即ち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ＋／Ｃ＋）を粒子濃度とし、表面から深さ５０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上昇或いは減少して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚とする。
測定条件は以下の通りである。
▲１▼測定装置
二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：ＰＥＲＫＩＮ　ＥＬＭＥＲ社製　６３００
▲２▼測定条件一次イオン種：Ｏ２＋
一次イオン加速電圧：１２ｋＶ
一次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域：４００μｍ□
分析領域：ゲート３０％
測定真空度：６．０×１０−９Ｔｏｒｒ
Ｅ−ＧＵＮＮ：０．５ｋＶ−３．０Ａ
なお、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＦＴ−ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。
【００８５】
（５）中心面平均粗さ（ＷＲａ）
非接触式三次元表面粗さ計（ＷＹＫＯ社製：ＮＴ−２０００）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２４６．６μｍ×１８７．５μｍ（＝０．０４６２ｍｍ２）の条件にて測定し、該粗さ計に内臓された表面解析ソフトにより中心面平均粗さＷＲａを以下の式より求める。
【００８６】
【数２】
2004142300.tif 000002
【００８７】
Ｚｊｋは測定方法（２４６．６μｍ）、それと直行する方法（１８７．５μｍ）をそれぞれｍ分割、ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置における２次元粗さチャート上の高さである。
【００８８】
（６）ヤング率
フィルムを試料巾１０ｍｍ、長さ１５ｃｍに切り、チャック間１００ｍｍ、引張速度１０ｍｍ／分、チャート速度５００ｍｍ／分の条件下で万能引張試験装置（東洋ボールドウィン製、商品名：テンシロン）にて引っ張る。得られた荷重―伸び曲線の立ち上がり部の接線よりヤング率を計算する。
【００８９】
（７）層Ｂ中の不活性粒子
試料フィルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定し、日本電子（株）製スパッターリング装置（ＪＦＣ−１１００型イオンエッチング装置）を用いてフィルム表面に下記条件にてイオンエッチング処理を施す。条件は、ベルジャー内に試料を設置し、約１０−３Ｔｏｒｒの真空状態まで真空度を上げ、電圧０．２５ｋＶ、電流１２．５ｍＡにて約１０分間イオンエッチングを実施する。更に同装置にて、フィルム表面に金スパッターを施し、走査型電子顕微鏡にて５，０００〜１０，０００倍で観察し、日本レギュレーター（株）製ルーゼックス５００にて各不活性粒粒子の等価球径分布を求める。得られら等価球形分布から、粒径が１００ｎｍを超える不活性粒子を抜き出し、その重量積算５０％の点から、粒径１００ｎｍを超える不活性粒子の平均粒径を算出する。
【００９０】
（８）磁気テープの製造及び特性評価
積層ポリエチレンテレフタレートフィルムの第一の層側の表面に、真空蒸着によりコバルト−酸素薄膜を１１０ｎｍの厚みで形成し、次にコバルト−酸素薄膜層上に、スパッタリング法によりダイヤモンド状カーボンを１０ｎｍの厚みで形成させ、更に含フッ素カルボン酸系潤滑剤を順次設ける。続いて、コバルト−酸素薄膜を形成したのとは反対側の表面に、カーボンブラック、ポリウレタン、シリコーンからなるバックコート層を厚みが５００ｎｍとなるように設け、スリッターにより幅８ｍｍ及び６．３５ｍｍにスリットし、市販のリールに巻き取り、磁気テープを作成した。市販のＨｉ８方式８ｍｍビデオテープレコーダーを用いてビデオＳ／Ｎ比を、市販のカメラ一体型デジタルビデオテープレコーダーを用いてドロップアウト（ＤＯ）個数を求める。
【００９１】
ＤＯ個数の測定は、作成した６．３５ｍｍテープを市販のカメラ一体型デジタルビデオテープレコーダーで録画後、１分間の再生をして画面に現れたブロック状のモザイクの個数をカウントすることによって行う。
【００９２】
Ｃ／Ｎは、市販のＨｉ８用ＶＴＲ（ＳＯＮＹ株式会社製、ＥＶ−ＢＳ３０００）を用いて、７ＭＨｚ±１ＭＨｚのＣ／Ｎの測定を行った。このＣ／Ｎを市販のＨｉ８用ビデオテープ（ＳＯＮＹ株式会社製、蒸着型テープ　Ｅ６−１２０ＨＭＥ４）と比較して、＋３ｄＢ以上のフィルムを優、＋１〜＋３ｄＢのフィルムを良、＋１ｄＢ未満を不良として、評価した。
【００９３】
高温恒湿下の走行耐久性は４０℃、８０％ＲＨで記録再生を７００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、初期値からのずれで判定する。
○：初期値に対して＋０．０ｄＢ以上
△：初期値に対して−１．０ｄＢ以上〜＋０．０ｄＢ未満
×：初期値に対して−１．０ｄＢ未満
【００９４】
［実施例１］
ジメチルテレフタレート１００部とエチレングリコール７０部の混合物に、エステル交換触媒として酢酸マンガン・４水塩０．０２５部を添加し、内温を１５０℃から徐々に上げながらエステル交換反応を行った。エステル交換反応が９５％となった時点で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分撹拌した後、エチレングリコール２．５部中で無水トリメリット酸０．８部とテトラブチルチタネート０．６５部を反応せしめた液（チタン含有率は１１重量％）０．０１４部を添加して充分撹拌した後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度０．６０のポリエステルＡ用のポリエチレンテレフタレート（樹脂Ａ１）を得た。
【００９５】
さらに、上記と同様の方法で、エステル交換反応を行い、エステル交換反応が９５％となった時点で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分撹拌した後、三酸化アンチモン０．０３部添加した。系内に混入した水を充分留出させた後、滑剤（不活性粒子Ｂ）として、平均粒径３００ｎｍのシリコーン粒子および平均粒径１００ｎｍのθ型アルミナを、樹脂中にそれぞれ０．０５％および０．２％添加して充分撹拌した後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度０．７０のポリエチレンテレフタレートを得た。この際、本ポリマー中のアンチモン残存量は２５０ｐｐｍであった。
【００９６】
得られたポリエチレンテレフタレート９９．７％に、炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスとしてソルビタントリステアレート（融点５５℃）の粉末０．１５％をまぶし、ベント付き二軸ルーダーにて練り込み、固有粘度０．６９のポリエステル層Ｂ用のポリエチレンテレフタレート（樹脂Ｂ１）を得た。
【００９７】
得られた樹脂Ａ１、樹脂Ｂ１を、それぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、ポリエステル層Ａの片面にポリエステル層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層ポリエステルフィルムを得た。
【００９８】
得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで縦延伸フィルムのＡ層側に下記に示す組成（固形分換算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）をキスコート法により塗布した。
【００９９】
2004142300.tif 000003
続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを、２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４μｍで、ポリエステル層Ｂの厚み１．０μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。なお、該積層二軸配向ポリエステルフィルムをロール状に巻き取る際の接圧は、窪みの形成を抑制するために、５００〜９００Ｎになるように調整した。また、このフィルムのポリエステル層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機の吐出量により調整した。このフィルムの皮膜層Ｃ側の表面から測定した表面粗さＷＲａは、１．７ｎｍ、このフィルムのヤング率は縦方向５０００Ｎ／ｍｍ２、横方向７０００Ｎ／ｍｍ２であった。この積層フィルムのその他の特性（表面欠点など）、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１００】
［実施例２，３］
ポリエステル層Ｂに含有させる不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表１に示すとおり変更した（樹脂Ｂ２）以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの特性、およびそのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１０１】
［実施例４］
ポリエステル層Ａおよびポリエステル層Ｂにおけるジメチルテレフタレートの代わりに２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使用した以外は、実施例１と同様にしてポリエステル層Ａ、Ｂ用のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂Ａ３、Ｂ３）を得た。固有粘度は樹脂Ａ３は０．６０、樹脂Ｂ３は０．６７であった。
【０１０２】
この樹脂Ａ３、Ｂ４を、それぞれ１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各層厚みを調整し、厚さ８９μｍの未延伸積層ポリエステルフィルムを得た。
【０１０３】
得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて３．６倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで縦延伸フィルムのＡ層側に、不活性粒子Ｃをコアシェルフィラー（コア；架橋ポリスチレン、シェル；ポリメチルメタクリレート）（平均粒径；３０ｎｍ、体積形状係数０．４５）ジェイエスアール株式会社製、「ＳＸ　８７２１」に変更した以外は実施例１と同じ組成の水性塗液（全固形分濃度１．０％）を実施例１と同様に塗布した。
【０１０４】
続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に５．７倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを、２００℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み４．４μｍ、ポリエステル層Ｂの厚み０．６μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムのポリエステル層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機の吐出量により調整した。このフィルムの塗膜層Ｃ側の表面から測定した表面粗さＷＲａは、１．２ｎｍ、このフィルムのヤング率は縦方向５５００Ｎ／ｍｍ２、横方向１０，５００Ｎ／ｍｍ２であった。この積層フィルムのその他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１０５】
［実施例５］
不活性粒子を表１に示した通り、変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは、フイルム表面の平坦性が損なわれてしまい、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。その他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１０６】
［比較例１〜３］
不活性粒子を表１に示した通り、変更し、かつロール状に巻き取る際の接圧を１０００〜１２００Ｎになるように調整した以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは、フイルム表面の平坦性が損なわれてしまい、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。その他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
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【０１０８】
表１から明らかなように、本発明による積層ポリエステルフィルムは、片面が非常に平坦で、巻取り性が極めて良好であり、優れた電磁変換特性を示し、一方、本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を同時に満足できない。
【０１０９】
【発明の効果】
本発明の積層ポリエステルフイルムは、巻き取り性に必要とされる十分な表面粗さを一方の面に具備させつつも、他方の磁性層を形成する側の面に生じるドロップアウトや電磁変換特性の低下を著しく惹起する最大高さ１５ｎｍ以上の突起と連続している最大深さ１０ｎｍ以上の窪みを高々１５０００個／ｍｍ２以下としたことから、高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして用いると、得られる磁気記録媒体に、ドロップアウトが少なく、電磁変換特性に優れ、しかも走行耐久性に優れるという特性を同時に具備させることができ、その工業的価値は極めて高い。