(57)【要約】      （修正有）【課題】干渉型カラー表示素子の製造歩留まりを向上する。【解決手段】  干渉ディスプレイセルの構造物が提供される。セルは第１のプレートおよび第２のプレートよりなり、支持が第１のプレートと第２のプレートとの間に位置する。第２のプレートは、変形可能な反射性プレートである。第１のプレートの片側からの入射光は変調され、特定の周波数の光だけが第２のプレートによって反射する。反射光の周波数は、第１のプレートと第２のプレートとの間の距離に関係する。支持は少なくとも１つの腕部を有する。腕部の応力は腕部を上方または下方に動かす。第１のプレートと第２のプレートとの間の距離も変化する。従って、反射光の周波数は変更される。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学干渉ディスプレイ装置であって、少なくとも、
第１の電極と、第１の電極と平行に定置された第２の電極と、
上記第１の電極に取り付けられた支持と、上記支持の上端に配置され第２の電極を支持する少なくとも１つの腕部とを含む支柱とを有し、
上記支柱は、第１の電極と第２の電極との間に位置して空洞を形成し、空洞の対応する長さが、熱処理によって処理され応力作用によって変位を生じ得る腕部によって規定される、光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項２】
腕部の応力は腕部の種々の長さと厚さとの比によって調整される、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項３】
腕部の種々の長さと厚さとの比は約５ないし５０である、請求項２の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項４】
熱処理はベーキングである、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項５】
第１の電極はさらに、
基板と、
基板上の吸収層と、
吸収層上の誘電層とを含む、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項６】
基板は透明導電性基板である、請求項５の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項７】
誘電層を形成するための材料は、酸化シリコン、窒化シリコンまたは金属酸化物である、請求項５の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項８】
吸収層は金属から作られる、請求項５の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項９】
基板はＩＴＯガラスまたはＩＺＯガラスから作られる、請求項５の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項１０】
第１のプレートおよび第２のプレートは、狭帯域ミラー、広帯域ミラー、非金属ミラー、金属ミラーおよびそれらの組合せから構成される群から選定される、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項１１】
第２の電極は変形可能な電極である、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項１２】
第２のプレートは上下に屈曲可能なプレートである、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項１３】
第２のプレートは稠密材料または半透明材料から少なくとも構成される、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項１４】
半透明材料はＩＴＯガラスまたはＩＺＯガラスである、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項１５】
支柱を形成するための材料はフォトレジストである、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【請求項１６】
支柱の形状はＴ字形またはΓ字形である、請求項１の光学干渉ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学干渉ディスプレイの構造物に関する。より詳細には、本発明は、腕部の支柱を備える光学干渉ディスプレイの構造物に関する。
【背景技術】
【０００２】
平面ディスプレイは、軽量で小型であるということから、可搬型ディスプレイおよびスペース上の制限を伴うディスプレイに普及している。これまで、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などの他の平面ディスプレイとともに、光学干渉ディスプレイの態様が関心を持たれている。
【０００３】
特許文献１は、平面ディスプレイに使用され得る可視光のディスプレイ装置のアレイを開示している。従来技術のディスプレイ装置の断面図を図示している図１を参照されたい。すべての光学干渉ディスプレイ装置１００は、２つの壁１０２および１０４を備える。支柱１０６がこれらの２つの壁１０２および１０４を支持し、空洞１０８が後に形成される。これらの２つの壁１０２と１０４との間の距離、すなわち空洞１０８の長さはＤである。壁１０２および１０４の一方は、可視光を部分的に吸収する吸収率を備える半透過性／半反射性の層であり、他方は、電圧が印加された時に変形可能な光反射性の層である。入射光が壁１０２または１０４を通過し空洞１０８に到着した時に、全部の可視光スペクトルにおいて、公式１．１に一致する波長を備える可視光だけが建設的干渉を生じ放出され得る。すなわち、
【０００４】
２Ｄ＝Ｎλ          （１．１）
【０００５】
式中、Ｎは自然数である。
【０００６】
空洞１０８の長さＤが波長の任意の自然数倍の半分に等しい時、建設的干渉が生み出され、シャープな光波が放出される。その間に、観測者が入射光の方向を追従すれば、波長λ１を備える反射光が観察され得る。従って、ディスプレイ装置１００は「開いている」。
【０００７】
第１の壁１０２は、基板、吸収層および誘電層よりなる半透過性／半反射性電極である。第１の壁１０２を通過する入射光は、吸収層によって部分的に吸収される。基板は、ＩＴＯガラスまたはＩＺＯガラスといった導電性透明材料から作られる。吸収層は、アルミニウム、クロムまたは銀などといった金属で作られる。誘電層は、酸化シリコン、シリコンニトライトまたは金属酸化物で作られる。金属酸化物は、吸収層の一部を直接酸化することによって得ることができる。第２の壁１０４は、変形可能な反射性電極である。それは電圧を印加することによって上下に移動する。第２の壁１０４は一般に、誘電性材料／導電性透明材料、または金属／導電性透明材料で作られる。
【０００８】
図２は、電圧を印加した後の従来技術のディスプレイ装置の断面図を図示している。図２に示すように、電圧によって駆動されている間、壁１０４は変形し、静電気の引力のために壁１０２方向に落下する。この時、壁１０２と１０４との間の距離、すなわち空洞１０８の長さは、厳密に０ではないが、ｄであり、それは０になり得る。公式１．１においてＤの代わりにｄを使用すれば、λ２である公式１．１を満たす波長を備える可視光だけが、建設的干渉を生じ、壁１０４に反射されて、壁１０２を通過できる。壁１０２は、波長λ２を備える光に関して高い光吸収率を有するので、可視光スペクトルの全部の入射光はろ波され、入射光の方向を追従する観測者は、可視光スペクトルのいかなる反射光も見ることはできない。ディスプレイ装置１００はこの時「閉じている」。
【０００９】
電圧操作によって制御されるディスプレイ装置１００よりなるアレイは、単色平面ディスプレイには十分であるが、カラー平面ディスプレイには十分ではない。当業で周知の方法は、異なる長さの空洞を備える３つのディスプレイ装置よりなるピクセルを製造することである。図３および図４は、当業で周知のディスプレイ装置よりなるカラー平面ディスプレイの断面図である。図３は、従来技術の多層カラー平面ディスプレイの断面図を明らかにしている。多層カラー平面ディスプレイ２００は、３つの層、ディスプレイ装置２０２、２０４および２０６よりなる。入射光２０８はディスプレイ装置２０２、２０４および２０６によって反射される。反射光の波長は異なり、例えばそれらは赤色光、緑色光および青色光であり得る。３つの異なる波長を備える反射光を有する理由は、ディスプレイ装置２０２、２０４および２０６の空洞の長さが異なり、また異なる反射ミラーが使用されているからである。多層カラー平面ディスプレイの不利益の１つは、その劣った解像度である。また、図３に明らかにされるように、青色光は赤色光ほど明るくない。
【００１０】
図４は、従来技術のマトリックスカラー平面ディスプレイの断面図を明らかにしている。３つのディスプレイ装置、ディスプレイ装置３０２、３０４および３０６が基板３００上に形成される。入射光３０８はディスプレイ装置３０２、３０４および３０６によって反射される。反射光の波長は異なり、例えばそれらは赤色光、緑色光および青色光であり得る。３つの異なる波長を備える反射光を有する理由は、ディスプレイ装置３０２、３０４および３０６の空洞の長さが異なるからである。異なる反射ミラーを使用する必要はない。解像度は良好であり、すべての色光の輝度は同様である。しかし、異なる長さの空洞を有する３つのディスプレイ装置を個別に製造する必要があり、例えば、ディスプレイ装置３０４および３０６を形成するための領域は、ディスプレイ装置３０２を形成するためのプロセスが実行される間、フォトレジストによって保護される。製造工程は複雑で、歩留まりは低い。さらに、製造工程の間に導入される誤差、例えば空洞の長さの誤差が、赤方偏移または青方偏移を生じ得る。そうした間違いは回復できず、基板は無駄になる。
【００１１】
従って、高い解像度および輝度を有し、製造が容易なカラー光学干渉ディスプレイプレートを開発することが重要である。
【００１２】
【特許文献１】米国特許第５８３５２５５号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従って、本発明の目的は、カラー光学干渉ディスプレイを形成するために使用される光学干渉ディスプレイ装置構造物を提供することである。カラー光学干渉ディスプレイの解像度および輝度は高い。
【００１４】
本発明の１つの目的は、既製のカラー光学干渉ディスプレイプレートにおいて適用される光学干渉ディスプレイ装置構造物を提供することである。製造工程は単純であり、製造の歩留まりは高い。
【００１５】
本発明の別の目的は、既製のカラー光学干渉ディスプレイプレートにおいて適用される光学干渉ディスプレイ装置構造物を提供することである。光学干渉ディスプレイ装置構造物の支柱は少なくとも１つの腕部を有する。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の上述の目的に従って、本発明の好ましい１実施形態は、光学干渉ディスプレイ装置構造物を提供する。光学干渉ディスプレイ装置構造物は第１の電極および第２の電極を有する。支柱が２つの電極の間に位置し、電極を支持して空洞を形成する。空洞の長さはＤである。支柱は、支持および少なくとも腕部よりなる。第１のプレートは半透明電極であり、第２のプレートは変形可能な反射性電極である。
【００１７】
本発明の上述の目的に従って、本発明の好ましい１実施形態は、光学干渉ディスプレイ装置構造物を提供する。光学干渉ディスプレイ装置構造物は第１の電極および第２の電極を有する。支柱は２つの電極の間に位置し、電極を支持して空洞を形成する。支柱は少なくとも腕部を有し、支柱の形状はＴ字形またはΓ字形である。ベーキングといった熱処理の後、腕部は応力作用によって変位を生じ得る。腕部は、応力作用によって生じる支持のピボットとして変位を生起し得る。支持に隣接する腕部の端部は小さい変位を有するが、腕部の別の端部はより大きな変位を有する。腕部の変位は第２の壁の位置を変更し得る。従来技術における空洞の長さは犠牲層の厚さによって決定される。本発明では、空洞の長さは腕部の変位によって決定される。
【００１８】
本発明において、異なる長さと厚さとの比を備える腕部は異なる量の応力を有し、腕部によって生じる変位および方向はベーキング中に異なる。従って、異なる長さと厚さとの比を備える腕部は、従来技術における反射光の様々な波長を制御するためにディスプレイ装置の各種プロセスにおいて使用される犠牲層の種々の厚さの代わりに、空洞の長さを制御するために使用され得る。上記の方法には多くの利益がある。まず第一に、コストが劇的に低下する。従来技術における空洞の厚さは犠牲層の厚さであり、犠牲層はプロセスの最後に除去される必要がある。しかし、本発明における腕部の上方変位の使用は、空洞の長さを増大させ、その結果、たとえ同じ長さの空洞を形成しながら犠牲層の厚さが大幅に減少しても、空洞の長さは犠牲層の厚さより大きい。従って、犠牲層を製造するために使用される材料は、大幅に低減される。第二に、プロセス時間が短縮される。従来技術における金属犠牲層のリリースエッチングプロセスは、支柱間の空間に浸透しなければならないエッチングガスによって犠牲層が除去されることから、多くの時間を費やす。本発明は前面露光にはマスクを利用するので、犠牲層は、従来技術における金属などといった不透明材料の代わりに、誘電材料といった透明材料とすることができる。さらに、犠牲層によって使用される厚さが著しく低減され得るので、リリースエッチングプロセスに必要な時間もまた劇的に短縮され得る。第三に、支柱を用いて形成されるカラー光学干渉ディスプレイは、プロセスの複雑さを著しく低減することができる。支柱の腕部の長さと厚さとの比の差異は、腕部の応力を変化させるために使用される。ベーキング後、種々の光学干渉ディスプレイ装置は、腕部の変位による種々の長さの空洞を有し、その結果、反射光は、種々の色光を得るために、赤色光、緑色光および青色光といった種々の波長を備えて変化する。
【００１９】
本発明の別の目的に従って、本発明の好ましい１実施形態は、マトリックスカラー平面ディスプレイ構造物を提供する。個々のマトリックスカラー平面ディスプレイ装置は３つの光学干渉ディスプレイ装置を有する。すべての光学干渉ディスプレイ装置は第１のプレートおよび第２のプレートから少なくとも構成される。２つのプレートは平行に設けられる。第１のプレートは半透明電極であり、第２のプレートは変形可能な反射性電極である。２つのプレートは支柱によって支持され、空洞が形成される。光学干渉ディスプレイ装置のＴ字形の支柱の各腕部は、可変の長さ／厚さ比および応力を有する。従って、ベーキング後、個々の光学干渉ディスプレイ装置は、腕部の異なる変位による異なる空洞長さを有し、その結果、反射光は、赤色光、緑色光および青色光といった異なる波長を備えて変化する。これらは転じて、種々の色光をマトリックスカラー平面ディスプレイ構造物に与える。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によって開示された光学干渉ディスプレイ装置のアレイよりなるカラー平面ディスプレイによれば、高解像度および高輝度を含む、従来技術に従ったマトリックスカラー平面ディスプレイの利益とともに、従来技術における単純なプロセスおよび高い歩留まりを備える多層カラー平面ディスプレイの利益も保持される。本発明は、高解像度、高輝度、単純なプロセス、アレイの組み立て中の高歩留まりといった従来の光学干渉カラー平面ディスプレイの全部の長所を保持するだけでなく、加工中の時間間隔を増大させ、光学干渉カラー平面ディスプレイの歩留まりを高める、光学干渉ディスプレイ装置を開示していることが理解される。
【００２１】
上述の概略的説明および以下の詳細な説明は両者とも例示であり、クレームする本発明のさらなる解説を付与するように意図していることを理解しなければならない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
光学干渉ディスプレイ装置構造物のさらなる情報を提供するために、本発明における光学干渉ディスプレイ装置構造物を説明するためにここに第１の実施形態を示す。さらに、光学干渉ディスプレイ装置のアレイによって形成された光学干渉カラー平面ディスプレイのさらなる説明を与えるために第２の実施形態を示す。
【００２３】
（実施形態１）
図５は、本発明の第１の好ましい実施形態に従った光学干渉ディスプレイ装置構造物を図示している。図５を参照されたい。色可変ピクセルとして機能する光学干渉ディスプレイ装置５００は、少なくとも第１のプレート５０２および第２のプレート５０４よりなる。２つのプレートは平行に設けられている。第１のプレート５０２および第２のプレート５０４は、狭帯域ミラー、広帯域ミラー、非金属ミラー、金属ミラーおよびそれらの組合せから構成される群から選定される。
【００２４】
第１のプレート５０２は、導電性基板５０２１、吸収層５０２２および誘電層５０２３よりなる半透明電極である。光入射電極５０２内を進む入射光は、吸収層５０２２によって部分的に吸収される。導電性基板５０２１は、ＩＴＯやＩＺＯといった導電性透明材料から作られる。吸収層５０２２は、アルミニウムや銀といった金属から作られる。誘電層５０２３は、酸化シリコン、シリコンニトライトまたは、吸収層５０２２の一部の酸化によって得ることができる金属酸化物から作られる。第２のプレート５０４は、変形可能な反射性電極である。それは、印加電圧によって移動する。第２のプレート５０４は、誘電性材料／導電性半透明または不透明材料、または金属／導電性透明材料から作られる。
【００２５】
２つのプレート５０２および５０４は支柱５１２によって支持される。支柱５１２は、穴５０８に配置された支持５１４および、腕部５１２１、５１２２を有する。腕部５１２１および５１２２の長さおよび厚さは、所望の要求に依存する。順次、ベーキングといった熱処理が実行される。支柱５１２の腕部５１２１および５１２２は、応力作用によって生じる支持５１４のピボットとして変位を生起し得、支持５１４に隣接する腕部５１２１および腕部５１２２の端部は小さい変位を有するが、腕部５１２１および５１２２の別の端部はより大きな変位を有する。腕部５１２１および５１２２の変位は、第２の電極５０４の位置を変化させ得る。
【００２６】
従来技術における光学干渉ディスプレイ装置の空洞の長さは、犠牲層の厚さで決定される。犠牲層の厚さがＤであれば、空洞の長さはＤである。この実施形態では、支柱５１２によって支持された第１の電極５０２と第２の電極５０４との間に空洞５１０が形成される。支柱５１２は腕部５１２１および５１２２を有する。腕部５１２１および５１２２の長さと厚さとの比はその応力を決定し、点線５１２１'および点線５１２２'は、腕部５１２１および５１２２の熱処理の実行前の位置を示している。熱処理の実行後、腕部５１２１および５１２２は変位を生じ得る。従って、第２の電極５０４の位置は、点線５０４'によって示された元の位置から変化し、第１の電極５０２と第２の電極５０４との間の空洞５１０の長さＤ'は元の長さＤから変化する。空洞５２０の長さが変わるので、反射光の周波数は、空洞５２０の長さに従って変化する。一般に、支柱５１２がポリアミド化合物から作られている場合、腕部５１２１および５１２２の長さと厚さとの比は５及び５０であり、空洞５１０の長さＤ'は、犠牲層の厚さの長さＤの約１．５〜３倍である。当然ながら、腕部５１２１および５１２２の長さと厚さとの比は、ベーキングされた空洞５１０の長さＤ'を犠牲層の厚さより小さくするように変更することができる。
【００２７】
本発明において、支柱５１２を形成するために適格な材料は、ポジ型フォトレジスト、ネガ型フォトレジストおよび、アクリル樹脂やエポキシ樹脂といったすべての種類のポリマーを含む。
【００２８】
（実施形態２）
図６を参照すれば、図６は、本発明の第２の実施形態において提供される光学干渉ディスプレイ装置のアレイの断面図を示す。変調６００のアレイは、光学干渉ディスプレイ装置６０２、光学干渉ディスプレイ装置６０４および光学干渉ディスプレイ装置６０６の３つの光学干渉ディスプレイ装置よりなる。すべての光学干渉ディスプレイ装置は色可変ピクセルである。光学干渉ディスプレイ装置の構造物は、実施形態１のものと同じである。３つの光学干渉ディスプレイ装置の違いは、光学干渉ディスプレイ装置の支柱の腕部である。光学干渉ディスプレイ装置６０２は腕部６０８および６１０によって支持され、光学干渉ディスプレイ装置６０４は腕部６１２および６１４によって支持され、光学干渉ディスプレイ装置６０６は腕部６１６および６１８によって支持されている。腕部６０８および６１０、腕部６１２および６１４、ならびに腕部６１６および６１８の長さおよび厚さは同じであり、従って、腕部のすべての対の応力もまた同じである。ベーキングといった熱処理が実行された後、光学干渉ディスプレイ装置６０２、６０４および６０６の腕部６０８、６１０、６１２、６１４、６１６および６１８は、応力作用によって生じる変位を生起し得る。腕部６０８および６１０の変位は同じであり、腕部６１２および６１４の変位は同じであり、腕部６１６および６１８の変位は同じである。しかし、上記の３対の腕部の間には異なる変位が存在する。従って、光学干渉ディスプレイ装置６０２の空洞６１０２、光学干渉ディスプレイ装置６０４の空洞６１０４および光学干渉ディスプレイ装置６０６の空洞６１０６は、異なる長さｄ１、ｄ２およびｄ３を有する。公式１．１に示したように、反射光の波長は、空洞の長さの変化により変更される。赤色光、緑色光または青色光といった異なる色を有する光が得られる。
【００２９】
空洞の長さｄ１、ｄ２およびｄ３は、犠牲層の厚さによって決定されない。従って、空洞の長さを規定するために異なる厚さを備える犠牲層を形成するために複雑な製造工程を使用する必要はない。
【００３０】
本発明によって開示された光学干渉ディスプレイ装置のアレイより構成されるカラー平面ディスプレイによれば、従来技術における単純なプロセスおよび高い歩留まりを備える多層カラー平面ディスプレイの長所だけでなく、高解像度および高輝度を含む、従来技術に従ったマトリックスカラー平面ディスプレイの長所が保持される。本発明は、高解像度、高輝度、単純なプロセス、アレイの組み立て中の高歩留まりといった従来の光学干渉カラー平面ディスプレイの全部の長所を保持するだけでなく、加工中の時間間隔を増大させ、光学干渉カラー平面ディスプレイの歩留まりを高める、光学干渉ディスプレイ装置を開示していることが理解される。
【００３１】
本発明において提供される光学干渉ディスプレイ装置のアレイを備えるカラー平面ディスプレイは、高い解像度および輝度という当業で周知の従来技術マトリックスカラー平面ディスプレイの長所を保持するとともに、単純な製造工程および高い歩留まりという当業で周知の多層カラー平面ディスプレイの長所を有する。当業で周知のマトリックスカラー平面ディスプレイと対比して、全部の光学干渉ディスプレイ装置の空洞の長さは、犠牲層の厚さで決定されない。従って、空洞の長さを規定するために異なる厚さを備える犠牲層を形成するために複雑な製造工程を使用する必要はない。製造工程は単純で、歩留まりは高い。当業で周知の多層カラー平面ディスプレイに比べて、全部の光学干渉ディスプレイ装置は同一平面にあり、従って、入射光は多層光学干渉ディスプレイ装置内を進行する必要がない。解像度および輝度は高い。さらに、従来技術の多層カラー平面ディスプレイでは、入射光を第１の光学干渉ディスプレイ装置内を進行させ、第２の光学干渉ディスプレイ装置によって効率的に反射されるようにするために、３種類の光学干渉ディスプレイ装置の第１のプレートおよび第２のプレートの組成および厚さは異なる。製造工程は実際、予想よりも複雑である。本発明において提供される光学干渉ディスプレイ装置の製造は、当業で周知の光学干渉ディスプレイ装置ほど難しくない。
【００３２】
本発明をその特定の好ましい実施形態によって相当詳細に説明したが、他の実施形態も可能である。従って、添付特許請求の範囲のその精神および範囲は、ここに含まれた好ましい実施形態の説明に限定してはならない。前述を考慮して、本発明は、添付特許請求の範囲およびその等価物の範囲に該当する限り、本発明の修正および変更を包括するように意図されている。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
本発明の上記および他の特徴、態様および利益は、以下のごとき添付図面になされる説明とともに、好適な実施形態の以下の詳細な説明を読むことによって、より十分に理解されるであろう。
【図１】従来技術のディスプレイ装置を示す断面図である。
【図２】電圧の印加後の従来技術のディスプレイ装置を示す断面図である。
【図３】従来技術の多層カラー平面ディスプレイを示す断面図である。
【図４】従来技術のマトリックスカラー平面ディスプレイを示す断面図である。
【図５】本発明の第１の好ましい実施形態に従った光学干渉ディスプレイ装置構造物を示す図である。
【図６】本発明の第２の好ましい実施形態に従った光学干渉ディスプレイ装置を示す図である。
【符号の説明】
【００３４】
１００  光学干渉ディスプレイ装置
１０２、１０４  壁
１０６  支柱
１０８  空洞
２００  多層カラー平面ディスプレイ
２０２、２０４、２０６  ディスプレイ装置
２０８  入射光
３００  基板
３０２、３０４、３０６  ディスプレイ装置
３０８  入射光
５００  光学干渉ディスプレイ装置
５０２  プレート、光入射電極
５０２１  導電性基板
５０２２  吸収層
５０２３  誘電層
５０４  プレート、電極
５０８  穴
５１０  空洞
５１２  支柱
５１２１、５１２２  腕部
５１４  支持
６０２、６０４、６０６  光学干渉ディスプレイ装置
６０８、６１０、６１２、６１４、６１６、６１８  腕部
６１０２、６１０４、６１０６  空洞
６１２、６１６  腕部
【図１】
2004326080.tif 000003
【図２】
2004326080.tif 000004
【図３】
2004326080.tif 000005
【図４】
2004326080.tif 000006
【図５】
2004326080.tif 000007
【図６】
2004326080.tif 000008