(57)【要約】【課題】排気ガス処理系の閉塞を防止し、長寿命で信頼性の高い排気ガス処理装置を提供する。排気ガス処理系の閉塞を防止し、効率よく排気ガスを処理する方法を提供する。【解決手段】配管１０４から導出される排気ガス１に水１０２を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する工程と、前記排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵工程と、前記排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する工程とを含む排気ガスの処理方法において、前記水溶性成分を除去する工程は、前記集塵工程に先立ち、未反応の残留ガスに起因する生成物を除去する除去工程を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造装置に接続される配管から導出される排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する工程と、
前記排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵工程と、
前記排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する工程とを含む排気ガスの処理方法において、
前記水溶性成分を除去する工程は、前記集塵工程に先立ち、未反応の残留ガスに起因する生成物を除去する除去工程を含むことを特徴とする排気ガスの処理方法。
【請求項２】
前記除去工程は、前記配管に水を噴出する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項３】
前記除去工程は、排気ガス処理停止中に前記配管の閉塞部分に水の噴流を供給する工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項４】
前記水の噴流は、ｐＨ３〜８であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項５】
前記除去工程は、排気ガス処理停止中に前記配管にエッチングガスを流す工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項６】
前記除去工程は、前記配管に露点が−７６℃以下であるガスを導入する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項７】
前記除去工程は、前記排気ガス処理停止中に前記配管にフッ酸水溶液を接触させる工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項８】
前記水溶性成分を除去する工程は、フッ酸水溶液を収容する容器内を通過させる工程を含むことを特徴とする請求項１乃至７に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項９】
前記製造装置はガラス微粒子堆積体製造装置であり、前記配管に導出される排気ガスが、塩化珪素化合物および塩化ゲルマニウム化合物を含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１０】
製造装置に接続される配管から導出される排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する前処理部と、
前記排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵部と、
前記排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する中和部とを含む排気ガス処理装置を使用し、
前記前処理部に排気ガスを送る配管、前処理部、前処理部と集塵部とをつなぐ配管、集塵部、集塵部と中和部とをつなぐ配管、中和部、中和部から導出される配管のうち少なくとも１箇所で、閉塞状況を看視し、
閉塞していると判断されたときは、当該閉塞した箇所の閉塞原因を除去し、
閉塞原因を除去した後に、前記排気ガスの除去を再開する制御工程を含むようにしたことを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１１】
前記制御工程は、前記前処理部に排気ガスを送る配管、前処理部、前処理部と集塵部とをつなぐ配管、集塵部、集塵部と中和部とをつなぐ配管、中和部、中和部から導出される配管のうち少なくとも２箇所で、閉塞状況を看視するようにしたことを特徴とする請求項１０に記載の排気ガスの処理方法。
【請求項１２】
製造装置に接続される配管から導出される排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する前処理部と、
前記排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵部と、
前記排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する中和部とを含む排気ガス処理装置において、
前記前処理部は未反応の残留ガスに起因する生成物を除去するように構成されていることを特徴とする排気ガス処理装置。
【請求項１３】
前記前処理部は、前記配管に水を噴出する噴出手段を具備したことを特徴とする請求項１２に記載の排気ガス処理装置。
【請求項１４】
前記前処理部は、前記配管にガスを流すガス導入手段を含むことを特徴とする請求項１２に記載の排気ガス処理装置。
【請求項１５】
さらに、
前記前処理部に排気ガスを送る配管、前処理部、前処理部と集塵部とをつなぐ配管、集塵部、集塵部と中和部とをつなぐ配管、中和部、中和部から導出される配管のうち少なくとも１箇所に看視手段と、
前記看視手段で前記配管の閉塞が検出されたときは、当該閉塞した箇所の閉塞原因を除去し、その後前記排気ガスの除去を再開する制御手段とを具備したことを特徴とする請求項１２乃至１５のいずれかに記載の排気ガス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、排気ガスの処理方法およびこれに用いられる排気ガス処理装置に係り、特に未反応の生ガスに起因する生成物の除去に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報伝達手段のひとつとして、光ファイバケーブルを用いた通信技術が注目されている。この光ファイバケーブルに用いられる光ファイバの製造方法としては、周知のように、ＯＶＤ法（Ｏｕｔｅｒ　Ｖａｐｏｒ　ｐｈａｓｅ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：外付け法）や、ＶＡＤ法（Ｖａｐｏｒ　ｐｈａｓｅ　Ａｘｉａｌ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：気相軸付法）等の気相合成法が知られている。
【０００３】
このような気相合成法においては、次のような方法がとられる。まず、バーナにより酸水素火炎を生じさせてその中にガラスの原料ガスを送り込み、加水分解反応によってガラス微粒子（すす）を生成し、これを回転するコアロッドに堆積させる。そしてこのガラス微粒子の堆積によってガラス微粒子堆積体を形成する。
【０００４】
ところで、このように気相合成法でガラス微粒子堆積体を形成するプロセスにおいては、四塩化珪素（ＳｉＣｌ４）、四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ４）などの原料ガスを使用し、これを加水分解させることによってＳｉＯ２、ＧｅＯ２などのガラス微粒子が生成される。
【０００５】
従って、このような方法で光ファイバを製造する工程から排出される排気ガス中にはＳｉＯ２、ＧｅＯ２などのガラス微粒子や、ＨＣｌ、Ｃｌ２などの塩素化合物などが含まれるといわれている。このため、従来はガスを処理するために、水またはアルカリ液で洗浄するという方法がとられている。しかしながら、水で洗浄しただけではＨＣｌ、Ｃｌ２などが除去できず、アルカリ液で洗浄すると、ガス中のＳｉＯ２とアルカリ成分とが反応し、洗浄廃液中で沈殿が生じたり、またろ過で除去しにくい固体が生成されたりしてしまい、当該廃液の処理が困難であるという問題が生じている。
【０００６】
また、排気ガス中のガラス微粒子は、水洗やアルカリ洗浄を組み合わせただけでは除去が困難であった。
【０００７】
そこで、排気ガス中に微粒子状水滴を同伴せしめ、この微粒子状水滴を同伴した固体微粒子を荷電捕集し、最後に吸収塔でアルカリ液を供給し、塩素化合物を除去するという方法が提案されている（特公平６−８５８８９号公報）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法でも閉塞は生じ、特にガラス微粒子堆積体製造装置などの製造装置から排気ガス処理装置の入口付近に位置する水滴を同伴させる部分からすでに付着物が詰まるという問題が生じていた。
【０００９】
本発明者の原因調査によれば、未反応のＳｉＣｌ４や、ＧｅＣｌ４がすすとともにスクラバー（排気ガス処理装置）へと流出することが大きな原因であることがわかった。
【００１０】
前述したように、気相合成法でガラス微粒子堆積体を形成するプロセスにおいては、ＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４などの原料ガスを使用し、これを加水分解させることによってＳｉＯ２、ＧｅＯ２などのガラス微粒子が生成されるが、反応率が１００％ではないため、未反応のＳｉＣｌ４ガスやＧｅＣｌ４ガス（以下、生ガスともいう）がすすとともにスクラバーへと流出することになる。スクラバーの前段には、高温のガスを冷却するための冷却塔（水シャワー）が設けられていることが多い。しかしながら、この冷却塔の水と未反応のＳｉＣｌ４やＧｅＣｌ４とが反応して粘性の高いＳｉＯ２、ＧｅＯ２が生成され、ダクトの冷却塔出入口部分を塞ぐことがたびたびあった。
【００１１】
ダクトの途中でエアが混入すると、エア中の水分と原料ガスとが反応することによってＳｉＯ２、ＧｅＯ２が同様に形成され、ダクト内の閉塞を引き起こす。また、これはＳｉＣｌ４や、ＧｅＣｌ４等の原料供給装置からの排気ガスやガラス母材の製造装置からの排気ガスではＳｉＣｌ４やＧｅＣｌ４の濃度が高いため、より閉塞が顕著である。
【００１２】
本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、排気ガス処理系の閉塞を防止することを目的とする。
また本発明では、排気ガス処理系の閉塞を防止し、長寿命で信頼性の高い排気ガス処理装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明では、製造装置に接続される配管から導出される排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する工程と、前記排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵工程と、前記排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する工程とを含む排気ガスの処理方法において、前記水溶性成分を除去する工程は、前記集塵工程に先立ち、未反応の残留ガスに起因する生成物を除去する除去工程を含むことを特徴とする。
【００１４】
望ましくは、前記除去工程は、前記配管に水を噴出する工程を含む。
【００１５】
また望ましくは、前記除去工程は、排気ガス処理停止中に前記配管の閉塞部分に水の噴流を供給する工程を含む。
【００１６】
望ましくは、前記水の噴流は、ｐＨ３〜８である。望ましくは、前記配管にフッ酸水溶液を接触させるようにしてもよい。
【００１７】
また望ましくは、前記除去工程は、排気ガス処理停止中に前記配管にエッチングガスを流す工程を含む。
【００１８】
ここで用いられるエッチングガスとしては、フッ化水素ガスを用いるのが望ましい。
【００１９】
さらにまたこのフッ化水素ガスの濃度は５％以上とするのが望ましい。
【００２０】
また望ましくは、前記除去工程は、前記配管に露点が−７６℃以下であるガスを導入する工程を含む。
【００２１】
望ましくは、前記除去工程は、前記配管にフッ酸水溶液を接触させる工程を含む。また、配管にフッ酸水溶液を吹き付けるようにしてもよい。
【００２２】
望ましくは、前記水溶性成分を除去する工程は、排気ガスにフッ酸水溶液を収容する容器内を通過させる工程を含む。
【００２３】
上記製造装置がガラス微粒子堆積体製造装置である場合、配管に導出される排気ガスが、塩化珪素化合物および塩化ゲルマニウム化合物を含み、これに起因する生成物が配管の内壁などに付着し、配管を閉塞するようなおそれがあるが、本発明はこのような場合に特に有効である。
【００２４】
本発明は、製造装置に接続される配管から導出される排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する前処理部と、前記排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵部と、前記排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する中和部とを含む排気ガス処理装置を使用し、前記前処理部に排気ガスを送る配管、前処理部、前処理部と集塵部とをつなぐ配管、集塵部、集塵部と中和部とをつなぐ配管、中和部、中和部から導出される配管のうち少なくとも１箇所で、閉塞状況を看視し、閉塞していると判断されたときは、当該閉塞した箇所の閉塞原因を除去し、閉塞原因を除去した後に、前記排気ガスの除去を再開する制御工程を含むようにしたことを特徴とする。
【００２５】
望ましくは、前記制御工程は、前記前処理部に排気ガスを送る配管、前処理部、前処理部と集塵部とをつなぐ配管、集塵部、集塵部と中和部とをつなぐ配管、中和部、中和部から導出される配管のうち少なくとも２箇所で、閉塞状況を看視するようにしたことを特徴とする。
【００２６】
本発明の排気ガス処理装置は、製造装置に接続される配管から導出される排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する前処理部と、前記排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵部と、前記排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する中和部とを含む排気ガス処理装置において、前記前処理部は未反応の残留ガスに起因する生成物を除去するように構成されていることを特徴とする。
【００２７】
望ましくは、前記前処理部は、前記配管に水を噴出する噴出手段を具備したことを特徴とする。
【００２８】
また望ましくは、前記前処理部は、前記配管にガスを流すガス導入手段を含むことを特徴とする。
【００２９】
望ましくは前記ガス導入手段がエッチングガスを流す手段である。
【００３０】
望ましくは、前記ガス導入手段が、露点が−７６℃以下であるガスを導入する手段である。
【００３１】
さらに、前記前処理部に排気ガスを送る配管、前処理部、前処理部と集塵部とをつなぐ配管、集塵部、集塵部と中和部とをつなぐ配管、中和部、中和部から導出される配管のうち少なくとも１箇所に看視手段と、当該閉塞した箇所の閉塞原因を除去し、前記排気ガスの除去を再開する制御手段とを具備したことを特徴とする。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００３３】
（第１の実施の形態）
本実施の形態の排気ガス処理装置は、図１に示すように、光ファイバ処理工程においてＭＣＶＤ法によるすす付け工程で用いられる光ファイバ母材製造装置からの排気ガス１を処理するものである。この装置（図示せず）から排出される排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する前処理部１００において、生ガスが水や空気中の水分と反応して生じる粘性の高いＳｉＯ２やＧｅＯ２等が第１の配管１０４や排気ガス供給口１０３の内壁に付着して詰まるのを、第１の配管１０４内にｐＨ４程度の酸性水からなる噴流噴流パイプ１０５ａ、１０５ｂを介して１０６ａ、１０６ｂを供給することにより防ぐようにしている。
【００３４】
すなわち、この装置は、図１に示すように、排気ガス１に水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去する前処理部１００と、この排気ガス中の微粒子をクーロン力にて捕捉する集塵電極２０１を具えた集塵装置２００と、この排気ガス中の酸性成分をアルカリ性水溶液で中和する中和装置３００とを具備している。
【００３５】
この排気ガスには、ＳｉＣｌ４やＧｅＣｌ４などの生ガスが含有されているが、通常、水溶性成分を除去する前処理部１００において、排気ガス中の生ガスに、水を接触させることにより、ＳｉＯ２あるいはＧｅＯ２とＨＣｌとなる。そしてこのＨＣｌは水に溶解せしめられる。そこで、ＳｉＯ２あるいはＧｅＯ２の微粒子は集塵装置２００へと導かれクーロン力で捕捉される。しかしながら粘性の高いＳｉＯ２あるいはＧｅＯ２の微粒子は第１の配管１０４、第２の配管１０７などに付着し、第１の配管１０４、第２の配管１０７などの閉塞を生じることがある。
【００３６】
そこで、本実施の形態の装置では、集塵装置２００における集塵に先立ち、未反応の残留ガスによる粘性の高い生成物であるＳｉＯ２やＧｅＯ２を酸性水からなる噴流１０６ａ、１０６ｂで、流出させることにより、配管の閉塞を防ぐとともに、閉塞が生じた場合には閉塞した部分を除去するように構成している。
【００３７】
前処理部１００は、シャワー１１０を備えた容器１０１と、この容器１０１の排気ガス供給口１０３につながる第１の配管１０４と、この第１の配管に向けてｐＨ４の水溶液の噴流１０６ａを供給する噴流パイプ１０５ａと、この第２の配管に向けてｐＨ４の水溶液の噴流１０６ｂを供給する噴流パイプ１０５ｂと、この前処理部で水溶性成分の除去された排気ガスを排出して集塵装置２００に導く第２の配管１０７と、ポンプ１０８と、バルブ１０９ａ、１０９ｂ、１０９ｃとを具備している。バルブ１０９ａはポンプ１０８との接続のオンオフに用いられるものである。一方バルブ１０９ｂ、１０９ｃは噴流導入路の開閉を制御するものである。
【００３８】
バルブ１０９ａが開かれると、容器１０１内の水１０２が、ポンプ１０８によって汲み上げられてシャワー１１０に供給される。前処理部に流入された排気ガスはシャワー１１０からの水１０２と混ざり、排気ガス中の水溶性成分（ＨＣｌ等）が水１０２に溶けて、排気ガスから除去される。水１０２はポンプ１０８によって循環されるが、水溶性成分の濃度が高くなりすぎないように適宜古い水を排出し、新しい水を加える。バルブ１０９ｂまたは１０９ｃを開いてポンプ１０８によって水を汲んで配管１０５ａまたは１０５ｂに供給して噴流１０６ａまたは１０６ｂを生ぜしめる。
【００３９】
集塵装置２００は、容器２０１内部に集塵電極２０２が配列されてなり、クーロン力により、ガラス微粒子を捕集するように構成されている。配管２０７はガラス微粒子が除去された排気ガスを中和装置に導くための第３の配管である。
【００４０】
中和装置３００は、アルカリ性水溶液３０２を充填してなる容器３０１と、ポンプ３０３とを具備し、排気ガス中の酸性成分（Ｃｌ２等）をアルカリ性水溶液で中和する。配管３０７は中和後の排気ガスを排出する第４の配管である。
【００４１】
次にこの装置を用いた排気ガスの処理方法について説明する。
まず、ガラス微粒子堆積体製造装置から排出された高温の排気ガス１は、第１の配管１０４を介して、容器１０１に注入される。第１の配管１０４に連結された噴流パイプ１０５ａから噴流１０６ａが高圧で供給される。このため、この容器１０１の排気ガス供給口１０３につながる第１の配管１０４は効率よく噴流で洗い流されるため、排気ガス中の生ガスが水や空気中の水分と反応して生じる粘性の高いＳｉＯ２やＧｅＯ２が第１の配管１０４の内壁に付着して第１の配管１０４が詰まることはない。
【００４２】
粘性の高いＳｉＯ２やＧｅＯ２が排気ガス中に含まれていたとしても、噴流により効率よく流されるため、第１の配管１０４の内壁に付着することも少なく、付着物がこの第１の配管１０４を閉塞することもない。高温の排気ガスはシャワー１１０からの水により冷却され、水溶性成分が前記水に溶けて排気ガス１から除去される。同様に、噴流パイプ１０５ｂから高圧の噴流１０６ｂが供給され第２の配管１０７の容器１０１の出口部を効率よく洗い流すことができ、詰まりを防止することができる。
【００４３】
このようにして前処理部１００で排気ガスに水を接触させ、排気ガス中の水溶性成分を除去したのち、第２の配管１０７を介して、集塵装置２００に導かれ、集塵電極２０２で、この排気ガス中のガラス微粒子がクーロン力にて捕捉せしめられる。
【００４４】
このようにして固体微粒子の除去された排気ガスは第３の配管２０７を介して中和装置３００に導かれる。この中和装置は容器３０１内にアルカリ性水溶液３０２が充填されており、この排気ガス中の酸性成分をこのアルカリ性水溶液で中和する。そして第４の配管３０７を介して排出される。アルカリ性水溶液としては、ＮａＯＨ水溶液を挙げることができる。
【００４５】
このように本実施形態の装置によれば、装置の詰まりもなく長時間にわたって稼動することができ、極めて効率よく、排気ガスの処理がなされる。
【００４６】
ここまでは、排気ガスを処理するプロセス中に水の噴流１０６を流し、排気ガス供給口１０３、排出口１１９の詰まりを防ぐ例を示したが、排気ガス処理停止中に水の噴流１０６を流すようにしてもよい。排気ガス処理中に排気ガス供給口が少々詰まったとしても、噴流１０６の水圧により、この詰まりが除去され、排気ガス処理が連続的かつ円滑に実行される。
【００４７】
また、この前処理装置で用いられる水の噴流は、ｐＨ３〜８であるのが望ましい。この範囲のｐＨであれば、ＳｉＯ２やＧｅＯ２のガラス微粒子が壁面から剥がれやすく、配管からの除去が容易である。
【００４８】
前記第１の実施の形態では、水の噴流を供給したが、フッ酸水溶液の噴流を供給してもよい。また容器１０１中の水１０２をフッ酸水溶液に置換し循環洗浄するようにしてもよい。ここで用いられるフッ酸水溶液の濃度は５％以上とするのが望ましい。
【００４９】
フッ酸水溶液を使用する場合は、本実施の形態の変形例の排気ガス処理装置を図２に示すように、集塵装置２００の前にバイパス配管１１１、バルブ１１２，１１３，１１４を設けるようにするのが望ましい。これらのバルブの開閉により、集塵装置２００にフッ酸水溶液が流入するのを防ぎ、放電線などのフッ酸による腐食断線を避けることができる。
【００５０】
ここでは、排気ガス処理停止中に、バルブ１１２を開き、バルブ１１３，１１４を閉じて、集塵装置２００のバイパスラインであるバイパス配管１１１を通過し得るように開いた状態で、フッ酸水溶液噴流を第１の配管１０４および排気ガス供給口１０３または第２の配管１０７、ガス排出口１１９に流す。従って集塵装置にはフッ酸水溶液またはフッ酸ガスが流れ込まないようにすることができる。
【００５１】
なお、フッ酸水溶液噴流を噴流パイプ１０５ａ、１０５ｂから供給することなく、容器１０１中の水１０２をフッ酸水溶液に置換して容器１０１内に設けられたシャワー１１０からフッ酸水溶液が噴出されるのみにしても良い。容器１０１中がフッ酸雰囲気（液相はフッ酸水溶液、気相はフッ化水素ガス）となり、排気ガス供給口１０３、排出口１１９の詰まりがエッチングされて除去される。この場合もバルブ１１２を開き、バルブ１１３，１１４を閉じて集塵装置２００にフッ化水素ガスまたはフッ酸水溶液が流れないようにする。
【００５２】
（第２の実施の形態）
次に本発明の第２の実施の形態について説明する。
前記第１の実施の形態では、排気ガス供給口１０３に噴流を流すことにより物理的に閉塞物をなくすようにしたが、この例では、図３に示すように、第１の配管１０４にエッチングガス１１６としてのフッ化水素ガスを流す配管１１５を具備したことを特徴とするものである。ここで用いられるフッ化水素ガスの濃度は５％以上とするのが望ましい。
【００５３】
また集塵装置２００の前にバイパス配管１１１を設けるとともに、切り替え用のバルブ１１２，１１３，１１４を設けている。
【００５４】
この装置では、排気ガス処理プロセス停止中に、バルブ１１２を開き、バルブ１１３，１１４を閉じて、エッチングガス１１６としてのフッ化水素ガスを第１の配管１０４および排気ガス供給口１０３に流す。第１の配管１０４および排気ガス供給口１０３および容器１０１中がフッ化水素雰囲気となり、排気ガス供給口１０３の詰まりがエッチングされて除去される。また供給するフッ化水素ガスの濃度がさほど大きくなければ、フッ化水素は水に溶けて除去されるので、排気ガス処理中でもこの方法の適用は可能である。
【００５５】
他の部分は前記第１の実施の形態の処理装置と同様に形成されている。
【００５６】
このように本実施の形態では、排気ガス処理停止中に、バルブ１１３を閉じてバルブ１１２を開き集塵装置２００をバイパスするようにして、第１の配管に、フッ化水素ガスを供給することにより、第１の配管の内壁をエッチングし、化学的に付着物を除去するため、排気ガスは第１の配管１０４、排気ガス供給口１０３、第２の配管１０７または排気ガス排出口１１９が詰まったりすることもなく効率よく水溶液に接触せしめられる。そして集塵装置でのクーロン力によるガラス微粒子の捕捉、中和装置での中和工程を経て良好にクリーンな状態となり、第４の配管３０７から排出される。
【００５７】
なお、ここでフッ化水素ガスの濃度が５％に満たないと、エッチング効果が不十分であり、付着物を完全には除去できないことがある。しかしながらエッチングガスの濃度が薄くても、噴射圧などを調整することにより、物理的作用によって、付着物を除去することも可能である。
【００５８】
（第３の実施の形態）
次に本発明の第３の実施の形態について説明する。
前記第１の実施の形態では、第１の配管１０４および排気ガス供給口１０３または第２の配管１０７および排気ガス排出口１１９に噴流を流すことにより物理的に閉塞物をなくすようにしたが、この例では、第１の配管１０４および排気ガス供給口１０３に、露点−７６℃以下であるドライエアを導入することにより、生ガスが空気中の水分などと反応するのを防止し、ＳｉＯ２などの生成による、閉塞を防ぐようにしている。
【００５９】
装置としては、図３に示した、前記第２の実施の形態の処理装置において、第１の配管１０４または配管１１５にドライエアを供給することによって達成可能である。
【００６０】
この装置でも他の部分は前記第１及び第２の実施の形態の処理装置と同様に形成されている。
【００６１】
この装置においては、ドライエアを供給することにより、第１の配管１０４および排気ガス供給口１０３をドライな状態に維持し、排気ガス中の水分と生ガスとが反応して粘度が高いＳｉＯ２やＧｅＯ２が生じて内壁に付着するのを防ぐ。こうして、排気ガスは第１の配管１０４が詰まったりすることもなく効率よく水溶液に接触せしめられる。そして集塵装置でのクーロン力によるガラス微粒子の捕捉、中和装置での中和工程を経て良好にクリーンな状態となり、第４の配管３０７から排出される。
【００６２】
また、排気ガスにドライなフッ化水素ガスを吹き付けるようにしてもよい。
【００６３】
（第４の実施の形態）
次に本発明の第４の実施の形態について説明する。
【００６４】
この例では、図４に示すように、前処理部１００に排気ガスを送る第１の配管１０４と、前処理部１００と集塵装置２００とをつなぐ第２の配管１０７とに、圧力センサ１２３，２２３を設ける。これらの圧力センサ１２３，２２３で測定される圧力の差が、閉塞のない初期状態の時よりも大きくなれば、圧力が高くなっている箇所の下流で詰まりが生じたと判断する。例えば圧力センサ１２３の測定値が圧力センサ２２３の測定値よりも大きくなれば、第１の配管１０４が圧力センサ１２３よりも下流の部分で詰まっているかまたは配管１０７が圧力センサ２２３よりも上流の部分で閉塞していると考えられる。
【００６５】
この場合、排気ガス処理を停止して、当該閉塞した箇所の閉塞原因を除去した後に、排気ガスの除去を再開する。閉塞原因の除去の仕方は、すでに述べた噴流を利用する方法やエッチングガスを利用する方法、あるいはブラシなどで掻き取る方法が挙げられる。ここで閉塞とは配管の断面が完全に付着物で覆われた状態のみをいうのではなく、配管のない内壁に付着した付着物が成長しつつあり、配管の断面積が減りつつある状態をも示す。
【００６６】
かかる装置によれば、常に看視しながら処理を行うことができ、配管が完全に閉塞する前に当該閉塞原因を除去することができる。従って配管が完全に閉塞して処理装置を破損する恐れがない。また必要なときのみ閉塞原因を除去するので、効率よく処理を行うことが可能となる。
【００６７】
看視手段としては、圧力センサ以外に流速計やＣＣＤカメラを挙げることができる。
流速計は圧力センサ同様に２箇所に設けてそれらの間で流速差が生じた場合に配管に詰まりが生じたと判断する。
【００６８】
また、ＣＣＤカメラを配管内に設るようにすれば、当該カメラの撮影範囲内で配管に詰まりが生じているか否かは、その様子を直接観察することができる。この場合は２箇所でなく１箇所でもよい。
【００６９】
なお、前記第４の実施の形態では、第１の配管と第２の配管とに看視カメラを設けたが、これに限定されることなく、前処理部１００に排気ガスを送る第１の配管１０４と、集塵装置２００と中和装置３００とをつなぐ第３の配管２０７、中和部３００、中和部３００から導出される第４の配管３０７のいずれかの箇所にも看視手段を設けることができる。
【００７０】
なお、前記第２乃至第４の実施の形態においても、詰まりを除去する工程において、水１０２に代えてフッ酸水溶液を用い、接触させるようにしてもよい。フッ酸水溶液を使用する場合は図２のように集塵部のバイパス配管を開き集塵部がフッ酸雰囲気にならないようにする。
これにより、前処理部とそれにつながる前後の配管をフッ化水素雰囲気として化学的に詰まりが生じるのを防ぐことが可能となる。
【００７１】
また、前記実施の形態ではＭＣＶＤ装置からの排気ガスを処理する方法について説明したが、脱水透明化工程、コラプス工程、延伸工程など光ファイバ形成工程における他の工程にも適用可能であることはいうまでもない。ただし、排気ガス中のＳｉＣｌ４濃度またはＧｅＣｌ４、その他水と反応して同様な固形物を生成する物質（濃度）濃度が高いほど本発明は有効である。
また、光ファイバ製造工程以外の工程における排気ガスの処理にも適用可能であることはいうまでもない。
【００７２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の方法によれば、光ファイバ製造工程からの排気ガスの処理に際し、生ガスが、水や空気中の水分と反応して粘度の大きいＳｉＯ２やＧｅＯ２、その他の化合物が生じるのを防ぐことができる。従ってＳｉＯ２やＧｅＯ２が配管などに付着して、配管等が閉塞するのを防ぐことができ、高効率で排気ガスを処理することができる。
【００７３】
また本発明の装置では、配管の閉塞が原因となる排気ガス処理装置の破損を防ぐことができ、装置の長寿命化を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の排気ガス処理装置を示す図である。
【図２】本発明の変形例の排気ガス処理装置を示す図である。
【図３】本発明の第２および第３の実施の形態の排気ガス処理装置を示す図である。
【図４】本発明の第４の実施の形態の排気ガス処理装置を示す図である。
【符号の説明】
１　排気ガス
１００　前処理部
１０１　容器
１０２　水溶液
１０３　排気ガス供給口
１０４　第１の配管
１０５ａ、１０５ｂ　噴流パイプ
１０６ａ、１０６ｂ　噴流
１０７　第２の配管
１０８　ポンプ
１０９ａ、１０９ｂ、１０９ｃ　バルブ
１１１，１１２，１１３，１１４　バルブ
１１５　配管，
１１６　エッチングガス
１１９　排気ガス排出口
２００　集塵装置
２０１　容器
２０２　集塵電極
２０７　第３の配管
３００　中和装置
３０１　容器
３０２　アルカリ水溶液
３０３　圧力センサ
３０７　第４の配管
１２３，２２３　看視カメラ
１１５　エッチングガス供給パイプ
１１６　エッチングガス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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