(57)【要約】【課題】磁性層に磁気異方性を付与した磁気ディスクであっても、優れたＨＤＩ信頼性を得ることができる磁気ディスク用のガラス基板を提供する。【解決手段】ガラスディスク基板１主表面上に、磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させる等方性テクスチャと、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与する異方性テクスチャとが併存したテクスチャ１ａが形成されている。【選択図】    図４
2004342208.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスディスクの少なくとも内周側主表面上に、磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャと、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャとを協働してなるテクスチャが形成されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項２】
ガラスディスク主表面上に、磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャが形成された後に、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャが形成されてなることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項３】
ディスクの円周方向の表面粗さＲａ（ｃ）に対する、ディスク半径方向の表面粗さＲａ（ｒ）との比Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）が１より大きく、且つ、前記Ｒａ（ｃ）が０．２ｎｍ〜０．８ｎｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項４】
アルミノシリケートガラスからなるガラスディスクであることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層、保護層及び潤滑層が形成されたことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項６】
ガラスディスク主表面上に、磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャを形成した後に、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャを機械研磨加工により形成することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャは、ガラスディスクを化学的に表面処理することにより形成することを特徴とする請求項６に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記機械研磨加工によるテクスチャは、テープ研磨により形成することを特徴とする請求項６又は７に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
ガラスディスク主表面上に、前記磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャを形成した後、化学強化処理を行い、その後、機械研磨加工によるテクスチャを形成することを特徴とする請求項６乃至８の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
アルミノシリケートガラスからなるガラスディスクであることを特徴とする請求項６乃至９の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項６乃至１０の何れかに記載の製造方法により得られた磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層、保護層及び潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はＨＤＤ（ハードディスクドライブ）などの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク及び磁気ディスク用のガラス基板並びにこれらの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
今日、情報記録技術、特に磁気記録技術は、急速なＩＴ産業の発達に伴い飛躍的な技術革新が要請されている。ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等に搭載される磁気ディスクでは、高情報容量化の要請により４０Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ２以上の情報記録密度を実現できる技術が求められている。
磁気ディスクでは、磁気ヘッドの浮上飛行方向の磁気特性が優れていることが求められる。このため例えば、特開２００２−３０２７５号公報（下記特許文献１）等のように、磁気ディスク用基板の表面に同心円状のテクスチャ加工を行うことにより、磁気ディスクの磁気特性に円周方向の磁気異方性を与え磁気記録媒体としての磁気特性を向上させて、高記録密度化を図る技術が知られている。
最近では、高記録密度化に適した磁気ディスク用基板としてガラス基板が注目されている。ガラス基板は平滑な表面が得られるため、低浮上量の磁気ヘッド用として好適であり、記録信号のＳ／Ｎ比向上と高記録密度化に好適な基板である。つまり、ガラス基板は磁気ヘッドの低浮上量対応性に優れた基板であると言える。
【０００３】
このようなガラス基板としては例えば、特開２００２−３２９０９号公報（下記特許文献２）に記載の磁気記録媒体用のガラス基板が知られている。
これら従来技術は、磁気ディスク用基板上に同心円状のテクスチャ加工をすることにより、磁気ディスクの磁気特性、記録再生特性を向上させて高情報容量化に貢献しようとするものである。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−３０２７５号公報
【特許文献２】
特開２００２−３２９０９号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等の磁気ディスク装置においては、停止時には磁気ディスク面に設けられた接触摺動用領域（ＣＳＳ領域）に磁気ヘッドを接触させておき、起動時には磁気ヘッドをＣＳＳ領域でディスク面と接触摺動させながら浮上させた後、ＣＳＳ領域の外側に設けられた記録再生用のディスク領域面で記録再生を行なう、ＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｓｔａｒｔ  ａｎｄ  Ｓｔｏｐ）方式が採用されてきた。終了動作時には、記録再生用領域からＣＳＳ領域に磁気ヘッドを退避させた後に、ＣＳＳ領域でディスク面と接触摺動させながら着地させ、停止させる。ＣＳＳ方式において接触摺動の発生する起動動作及び終了動作をＣＳＳ動作と呼称する。
このようなＣＳＳ方式用磁気ディスクにおいては、ディスク面上にＣＳＳ領域と記録再生領域の両方を設ける必要があった。また、磁気ヘッドと磁気ディスクの接触時に両者が吸着してしまわないように、磁気ディスク面上に一定の表面粗さを備える凸凹形状を設ける必要があった。
【０００６】
ところが、最近の磁気ディスク装置では、従来から用いられてきたＣＳＳ方式に代わってＬＵＬ（Ｌｏａｄ  Ｕｎｌｏａｄ：ロードアンロード）方式の磁気ディスク装置が導入されつつある。ＬＵＬ方式では、停止時には、磁気ヘッドを磁気ディスクの外に位置するランプと呼ばれる傾斜台に退避させておき、起動動作時には磁気ディスクが回転開始した後に、磁気ヘッドをランプから磁気ディスク上に滑動させ、浮上飛行させて記録再生を行なう。停止動作時には磁気ヘッドを磁気ディスク外のランプに退避させたのち、磁気ディスクの回転を停止する。この一連の動作はＬＵＬ動作と呼ばれる。
ＬＵＬ方式は磁気ディスク上にＣＳＳ領域（磁気ヘッドの接触摺動用領域）を設ける必要が無い為、ＣＳＳ方式用磁気ディスクに比べて磁気ディスク面上の記録再生用領域を広く確保できる。従って高記録容量化に資することができるという利点がある。
また、ＬＵＬ方式ではＣＳＳ方式と異なり、磁気ヘッドと磁気ディスク面とが接触することがないので、磁気ディスク面上に吸着防止用の凸凹形状を設ける必要が無く、磁気ディスク面上を極めて平滑化することが可能となる。よってＬＵＬ方式用磁気ディスクでは、ＣＳＳ方式に比べて磁気ヘッド浮上量を一段と低下させることができるので、記録信号の高Ｓ／Ｎ比化を図ることができ、磁気ディスク装置の高記録容量化に資することができるという利点もある。
【０００７】
最近のＬＵＬ方式の導入に伴う、磁気ヘッド浮上量の非連続的な一段の低下により、１０ｎｍ以下の極狭な浮上量においても、磁気ディスクが安定して動作することが求められるようになってきた。しかしながら、このような極狭浮上量で磁気ディスク面上に磁気ヘッドを浮上飛行させると、フライスティクション障害やヘッド腐食障害などが頻発するという問題が発生した。
フライスティクション障害とは、磁気ヘッドが浮上飛行時に浮上姿勢や浮上量に変調をきたす障害であり、不規則な再生出力変動を伴うことが多い。場合によっては浮上飛行中に磁気ディスクと磁気ヘッドが接触し、ヘッドクラッシュ障害を起こして磁気ディスクを破壊する事がある。また、ヘッド腐食障害とは、磁気ヘッドの素子部が腐食して記録再生に支障をきたす障害であり、場合によっては記録再生が不可能となったり、腐食素子が膨大して、浮上飛行中に磁気ディスク表面にダメージを与えることがある。このような障害が発生すると、磁気ヘッドの浮上飛行時のＨＤＩ（Ｈｅａｄ  Ｄｉｓｋ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）信頼性、例えばＬＵＬ耐久性やＣＦＴ耐久性（定位置浮上耐久性）やグライド特性を大幅に劣化させることになる。また、磁気ヘッドを浮上飛行中に磁気ディスク面上に墜落させ吸着させてしまう場合がある。
【０００８】
本発明者がこれらの障害について系統的に研究を行なったところ、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与する異方性テクスチャ（例えば円周状のテクスチャ）をガラス基板上に形成した場合、これらの障害が発生し易いことを突き止めた。そして、この異方性テクスチャが、磁気ヘッド浮上飛行時のＨＤＩ信頼性に係る上記障害を誘発しているのではないかとの知見を得た。また、特に、ディスクの内周側領域、例えばディスク半径で１３ｍｍ以内の領域のディスク主表面、特に１２ｍｍ以内の領域のディスク主表面で、これらの障害が発生し易いことも突き止めた。
本発明は、このような新規な課題の出現の下でなされたものであって、その目的は、第１に、例えば１０ｎｍ以下の極狭浮上量においてもフライスティクション障害や腐食障害などが防止でき、また、磁気ヘッドが浮上飛行中に墜落して磁気ディスクと吸着してしまう障害を防止できる、ＨＤＩ信頼性の高い磁気ディスク用基板及び磁気ディスクを提供することである。
また、第２に、ＨＤＩ信頼性の高い磁気異方性が付与された磁気ディスクの得られる磁気ディスク用基板を提供することにより、磁気特性、記録再生特性、ＨＤＩ信頼性が優れた磁気ディスクを得、ＨＤＤの高記録密度化に資することである。
また、第３に、特にＬＵＬ（ロードアンロード）方式用に好適な磁気ディスクおよびこの磁気ディスク用ガラス基板を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者が上記課題について詳細に研究を進めたところ、磁気ディスクの磁性層にディスク円周方向の磁気異方性を付与する異方性テクスチャ（例えば円周状のテクスチャ）をガラスディスク基板上に形成すると、磁気特性、記録再生特性を向上させる作用は得られるものの、一方で、磁気ヘッド浮上飛行時のＨＤＩ信頼性を劣化させてしまう作用があることを発見した。ＨＤＩ信頼性が劣化した場合、ＨＤＤの故障を誘発するので、結果的に高記録密度の得られる信頼性の高い磁気ディスクの提供を阻害してしまう。ところが、ＨＤＩ信頼性を向上させるために異方性テクスチャの形態を制御した場合、逆に磁気異方性を低下させてしまい、高い磁気特性、記録再生特性が得られないという問題が起ってしまうことが判明した。即ち、異方性テクスチャを形成した場合では、高記録密度化に必要な磁気特性・記録再生特性と、同じく高記録密度化に必要なＨＤＩ信頼性という２つの必須な要請の間にトレードオフ問題が発生してしまうという課題を見い出した。特に、ＬＵＬ方式用など、低浮上量（例えば磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下）に対応可能な平滑で表面粗さの小さい磁気ディスク用ガラス基板（例えば表面粗さＲｐが４ｎｍ以下）の場合では、磁気ヘッド浮上飛行時のＨＤＩ信頼性に対するマージンが少ないので、このトレードオフ問題がいっそう顕在化してしまうことが判明した。
【００１０】
本発明者は前記課題を解決するために研究を行なったところ、ガラスディスク面に対して等方的に凹凸形状が分布するテクスチャ（例えば突起や窪みが連続的または離散的に分布するテクスチャで、本明細書では等方性テクスチャと呼ぶこととする）と、ガラスディスク面に対して異方的に凹凸形状が分布するテクスチャ（例えば筋状のテクスチャで、本明細書では異方性テクスチャと呼ぶこととする）とが協働して謂わば両者が重なり合って併存したテクスチャを形成することで、上記トレードオフ問題を解決することができることを見出した。つまり、この等方性テクスチャと異方性テクスチャが重ね合わさって併存したテクスチャをガラスディスク基板上に形成することで、異方性テクスチャが磁性層に磁気異方性を付与する作用を発揮し、併せて、等方性テクスチャが磁気ヘッドの浮上を安定させる、即ちＨＤＩ信頼性を付与する作用を発揮することができる。
ここで、異方性テクスチャをディスク円周状に配置することで、ガラスディスク基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、磁性層の磁気異方性（磁化容易軸）を円周方向に誘導するよう作用させることができる。この異方性テクスチャは例えば機械研磨加工（メカニカルテクスチャ加工とも呼ばれている）により形成することができる。
【００１１】
上述の等方性テクスチャと異方性テクスチャの重ね合わせのテクスチャとすることにより、磁気ヘッド浮上時のＨＤＩ信頼性を向上させることができるメカニズムについては必ずしも明らかでは無いが、等方性テクスチャの存在によって、磁気ヘッドの浮上飛行方向、つまり、ディスク円周方向に所定の表面粗さが形成されている点に関連すると考えられる。即ち、等方性テクスチャは相対的な磁気ヘッドの移動方向の次元に対して所定の表面粗さを付与するので、磁気ヘッドの移動に伴うメニスカス現象、例えば、ディスク表面上の潤滑剤その他コンタミの磁気ヘッドへの移着を抑止することができるものと考えられる。このため、磁気ヘッドの浮上姿勢を安定化させることが出来るものと考えられる。異方性テクスチャのみの場合では、ディスク円周方向の次元には表面粗さが殆ど付与されないので、潤滑剤その他コンタミの磁気ヘッドへの移着が促進されてしまうので、磁気ヘッドの浮上量や浮上姿勢が乱され、フライスティクション障害などの前記課題を発生させてしまうものと考えられる。
この点、特に、本発明は、低浮上量の磁気ヘッドに対して顕著な作用を発揮するものと考えられる。磁気ヘッドの浮上量が低いとこれら移着現象が促進されてしまうからである。
また、ＮＰＡＢ（Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ａｉｒ  Ｂｅａｒｉｎｇ）スライダー（負圧スライダーとも言う）を備えた磁気ヘッドを用いた場合に更に顕著な作用を発揮するものと考えられる。ＮＰＡＢスライダーはスライダー表面に負圧を発生させるので、ディスク表面から潤滑剤その他コンタミを吸着し易いからである。
【００１２】
従って、本発明は以下の構成を有する。
（構成１）ガラスディスクの少なくとも内周側主表面上に、磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャと、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャとを協働してなるテクスチャが形成されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
（構成２）ガラスディスク主表面上に、磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャが形成された後に、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャが形成されてなることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
（構成３）ディスクの円周方向の表面粗さＲａ（ｃ）に対する、ディスク半径方向の表面粗さＲａ（ｒ）との比Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）が１より大きく、且つ、前記Ｒａ（ｃ）が０．２ｎｍ〜０．８ｎｍであることを特徴とする構成１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板。
（構成４）アルミノシリケートガラスからなるガラスディスクであることを特徴とする構成１乃至３の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板。
（構成５）構成１乃至４の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層、保護層及び潤滑層が形成されたことを特徴とする磁気ディスク。
【００１３】
（構成６）ガラスディスク主表面上に、磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャを形成した後に、磁気ディスクの磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャを機械研磨加工により形成することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成７）前記磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャは、ガラスディスクを化学的に表面処理することにより形成することを特徴とする構成６に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成８）前記機械研磨加工によるテクスチャは、テープ研磨により形成することを特徴とする構成６又は７に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成９）ガラスディスク主表面上に、前記磁気ディスク上を浮上飛行する磁気ヘッドの浮上を安定させるテクスチャを形成した後、化学強化処理を行い、その後、機械研磨加工によるテクスチャを形成することを特徴とする構成６乃至８の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成１０）アルミノシリケートガラスからなるガラスディスクであることを特徴とする構成６乃至９の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成１１）構成６乃至１０の何れかに記載の製造方法により得られた磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層、保護層及び潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施の形態により詳述する。
本発明において等方性テクスチャと異方性テクスチャが重ね合わさったテクスチャの表面粗さは、ディスクの円周方向の表面粗さＲａ（ｃ）に対する、ディスク半径方向の表面粗さＲａ（ｒ）との比Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）が１よりも大きく、Ｒａ（ｃ）が０．２ｎｍ〜０．８ｎｍであることが好ましい。ここで表面粗さＲａとは算術平均粗さ（中心線平均粗さとも言う）のことである。表面粗さの比Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）が１よりも大きいとすることで、ガラスディスク基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、磁性層にディスク円周方向の磁気異方性（即ち、ディスク円周方向の磁化容易軸）を付与することができるようになる。
特に、１平方インチ当り４０ギガビット以上の情報記録密度を得ようとする場合においては、表面粗さの比Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）を１．１以上とすることが望ましい。このようにすることで、確実に磁気異方性を付与することができるようになるからである。表面粗さの比Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）は特に上限を設ける必要は無いが、表面粗さ全体を抑制し磁気ヘッドの低浮上量化を可能とする観点からは、実用上Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）を３以下とすることができる。
【００１５】
ディスクの円周方向の表面粗さＲａ（ｃ）については０．２ｎｍ以上とすることが好ましい。０．２ｎｍ以上であれば磁気ヘッドの浮上飛行方向の次元（ディスク円周方向の次元）に対して所定の表面粗さを付与することができるようになるからである。このようにすることで、磁気ヘッドの浮上飛行時のＨＤＩ信頼性を確実に向上させることができるようになる。
なお、Ｒａ（ｃ）については、上述のＲａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）の範囲内を満たす限りにおいては特に上限を設ける必要は無いが、実用上は０．８ｎｍ以下とすることが好ましい。
また、ディスクの半径方向の表面粗さＲａ（ｒ）については、上述のＲａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）の範囲内を満たす限りにおいては特に上下限を設ける必要はないが、磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下であっても安定した記録再生とＨＤＩ信頼性（特にグライド特性）を得る観点から、０．２ｎｍ〜０．８ｎｍの範囲とするのが好適である。
また、本発明では、さらにディスク円周方向及び半径方向の表面粗さＲｐについては４ｎｍ以下とすると、磁気ヘッドの低浮上量化（浮上量１０ｎｍ以下）に好適な平滑な表面粗さとすることができる。
【００１６】
なお、本発明において、表面粗さとして用いる種々のパラメータは日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に準拠して算出するパラメータである。Ｒｍａｘとは最大高さ（Ｒｙとも言う）であって、平均線から最も高い山頂までの高さ（最大山高さ：Ｒｐ）と平均線から最も低い谷底までの深さ（最大谷深さ：Ｒｖ）の和（Ｒｐ＋Ｒｖ）で示される。Ｒａとは算術平均粗さ（中心線平均高さとも言う）のことである。
本発明における表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定した領域粗さを用いることが好ましい。原子間力顕微鏡を用いると、基板表面の精緻微細な表面形状を精密に計測することができるので、本発明にとって好ましいからである。また領域粗さを用いることで、三次元的な面形状として認識できるので好ましい。なぜならばＨＤＩ（Ｈｅａｄ  Ｄｉｓｋ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）現象とは三次元的なヘッド面（特に磁気ヘッドのＡＢＳ面）とディスク面（特に磁気ディスクの主表面）との相互作用として発生するからである。なおＡＢＳとはＡｉｒ  Ｂｅａｒｉｎｇ  Ｓｕｒｆａｃｅのことであり、流体軸受け（空気軸受け）により磁気ヘッドに揚力を付与する面のことである。
【００１７】
本発明における領域粗さの領域とは１平方μｍの矩形領域とすることが好ましい。１平方μｍの矩形領域での表面粗さで表現することで、精緻微細な表面形状を的確に表記することができる。
また、本発明における原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の測定領域としては、ディスク主表面の内周側の領域を選択して測定することが好ましい。つまり、本発明においては、内周側のディスク主表面の表面形状に基づいた表面粗さを算出することが好ましい。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の測定領域としては例えばディスク半径で１３ｍｍ以内の領域を好ましく挙げることができる。特に好ましくはディスク半径で１２ｍｍ以内の領域である。
当該領域では、前述のように本発明の課題が発生し易い傾向にあるので本発明の有用性が高いからである。当該領域で本発明の課題が発生し易い原因は次のように考えられる。即ち、ディスクの内周側（例えばディスク半径１３ｍｍ以内の領域）では、磁気ヘッドの空気軸受の作用が不安定になり易いからである。これは、磁気ヘッドから見た場合の磁気ディスク面の移動方向に加味される曲率の作用が増大してしまうからである。敢えて判りやすく例えれば、半径３０ｍｍ位置に比べて半径１３ｍｍ位置は、ディスクの回転に伴う、ディスクの移動方向が、より曲線状であると説明できる。このため、スライダーへの流入空気、スライダーからの流出空気の流れが不安定となり易い。浮上のための陽圧と負圧とのバランスが不安定となり易いので、磁気ヘッドの浮上姿勢が乱れたり、墜落し易いものと思われる。
【００１８】
本発明においてガラスディスクに用いるガラスとしては、アモルファスガラスや結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスであれば、等方性テクスチャは例えば化学的表面処理（例えばケイフッ酸やフッ酸などを利用したエッチングなど）やレーザーテクスチャ加工（ＣＯ２レーザー等を利用したバンプ形成など）等を用いることにより精密に制御して形成することができる。また、結晶化ガラスであれば、結晶粒の大きさや形状、表面突出高さを制御することにより等方性テクスチャの形状を制御することができる。またレーザーテクスチャ加工を用いても良い。一方、異方性テクスチャは機械研磨加工により例えば円周状の筋状のテクスチャを形成することができるが、とくにアモルファスガラスの場合、表面に結晶粒の分布が無いので、精密なテクスチャ加工を行い易いという点で有用性が高い。
また本発明におけるガラスディスクのガラス組成としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、石英ガラス、クリストバライト又はリチウムジシリケートを含むガラス等を用いることができるが、中でもアルミノシリケートガラスを用いると加工性、剛性の観点から実用性に優れている。
【００１９】
このようなアルミノシリケートガラスとしては例えば、少なくともアルカリ金属酸化物とアルカリ土類金属酸化物を含有し、且つ、アルカリ土類金属酸化物の含有量が３ｍｏｌ％未満のアルミノシリケートガラスを用いることが好ましい。このようなアルミノシリケートガラスは化学的表面処理、例えばケイフッ酸処理により、好適な等方性テクスチャを精密に制御して形成することができる。このようなガラスとしては、ＳｉＯ２を５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏを３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏを４〜１３重量％、主成分として含有するアルミノシリケートガラスを好ましく挙げることができる。
本発明において等方性テクスチャを形成するには、化学的にガラスディスク表面を処理する方法や、レーザーテクスチャ加工を行なう方法、或いはガラス表面に結晶粒を配置する方法などが挙げられる。中でも化学的な処理に基づいて等方性テクスチャを形成するとコスト、精度の観点から実用性が高い。また、比較的平滑な表面粗さを精密に制御して形成することができるので有用性が高い。
【００２０】
このような化学的表面処理方法としては、化学薬液にガラスディスクを接触させる方法が好ましい。化学薬液としてはケイフッ酸やフッ酸などのガラスに対してエッチング作用のある薬液を用いると良い。ケイフッ酸を用いる場合にあっては、ケイフッ酸の濃度を０．１５〜３．０重量％とすると適度な等方性テクスチャを形成させることができる。ケイフッ酸薬液への接触時間は３０秒〜９０秒、温度は１５℃〜６０℃の範囲で選択することが好ましい。
本発明における等方性テクスチャは、表面粗さが、Ｒｍａｘで２ｎｍ〜１０ｎｍ、Ｒｐで１ｎｍ〜５ｎｍ、Ｒａで０．２ｎｍ〜１ｎｍである等方性のテクスチャとすることが好ましい。これよりも表面粗さが大きくなると、ＨＤＩ信頼性（特にグライド特性）を劣化させる場合がある。反対に、この表面粗さよりもさらに平滑であると、ＨＤＩ信頼性（特にＬＵＬ耐久性やＣＦＴ耐久性、ヘッド浮上時の墜落吸着障害など）が得られない場合がある。
【００２１】
本発明において異方性テクスチャを形成するには、メカニカルテクスチャ（機械研磨加工によるテクスチャ）を形成する方法が好ましく挙げられる。ガラスディスク上にメカニカルテクスチャを形成する場合にあっては、特に制限を設けることは無いが、実用上、テープ研磨に基づいたメカニカルテクスチャを施すことが好ましい。テープ研磨によれば、円周状のテクスチャを好適に形成することができる。このようなテープ研磨方法としては例えば、図１のテープ研磨装置を用いて実現することができる。この装置では、ガラスディスク主表面にテープを所定の圧力で押し付けながら、ガラスディスクを回転させることで、ディスク上に円周状のテクスチャを形成することが出来る。なお、このテープ研磨装置は後述の実施例において用いるものである。
このようなメカニカルテクスチャを形成するとき、砥粒の供給方法としては遊離砥粒を供給する方法、テープに付着した固定砥粒をテープとともに供給する方法などが例示できる。砥粒としてはダイヤモンド砥粒等を好ましく用いることができる。研磨テープとしては布テープを用いることができる。織物布や不織布のテープを用いることが好ましい。
【００２２】
本発明では、ガラスディスク面上に、等方性テクスチャと異方性テクスチャとが重なり合って併存し協働してなるテクスチャが形成されているが、このような重ね合わせのテクスチャを形成する方法としては、先ず、ガラスディスク主表面に等方性テクスチャを形成した後、この等方性テクスチャ上に異方性テクスチャを形成するのが好ましい。このようにすると、このガラスディスク上に磁性層等を形成して得られる磁気ディスクは、１０ｎｍ以下の低浮上量においても磁気ヘッドの浮上飛行時のＨＤＩ信頼性が得られるとともに、磁性層に磁気異方性を付与して安定した高い磁気特性、記録再生特性が得られる。これとは反対に、異方性テクスチャを形成してから、その上に等方性テクスチャを形成した場合、先に形成された異方性テクスチャの微細形状が乱される恐れがあり、磁性層に確実に磁気異方性を付与することが出来なくなる場合がある。
本発明における等方性テクスチャと異方性テクスチャの重ね合わせの程度については、本発明の作用を損わない範囲内では特に限定されるものではないが、例えば、筋状の異方性テクスチャと、離散的又は連続的な凹部或いは凸部を備える等方性テクスチャが併存する場合にあっては、筋と筋の間に凹部或いは凸部が存在してもよいし、筋に跨って凹部或いは凸部が存在してもよい。但し、筋と筋の離間距離に比べて余り大きな幅の凹部或いは凸部が存在すると、磁気異方性を減じてしまう場合が考えられる。また、筋と筋の離間距離に対して余りに小さい幅の凹部或いは凸部では、磁気ヘッドの浮上安定性を向上させる作用が十分でなくなる場合が考えられる。従って、筋と筋の離間距離に対する凹部幅又は凸部幅の比は、０．１倍〜１０倍の範囲とするのが実用的である。
【００２３】
また、本発明にあっては、等方性テクスチャ形成工程と異方性テクスチャ形成工程との間に化学強化工程を設けてガラスディスクを化学強化することが好ましい。化学強化を行なうことにより、基板の剛性を高めることができる。化学強化を行なう場合、ガラスの素材はアルミノシリケートガラスが好ましい。なお、化学強化工程、異方性テクスチャ形成工程の順に施すと、異方性テクスチャを形成する研磨加工によって、化学強化のイオン交換の過程で付着した異物を除去することができるのでＨＤＩ信頼性を更に向上させることができる。また、化学強化のイオン交換の過程で異方性テクスチャの微細形状が乱される恐れを回避することができる。
なお、本発明における化学強化工程とは、低温型イオン交換法に基づきガラスディスクの表面に圧縮応力を形成せしめる工程のことである。
また、本発明にあっては、等方性テクスチャを施す前に、ガラスディスク表面を鏡面としておくことが好ましい。鏡面研磨加工方法としては、酸化セリウム砥粒を含む研磨液と研磨パッドを用いた鏡面研磨、或いはコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液と研磨パッドを用いた鏡面研磨を好ましく挙げることができる。この場合の鏡面の品質としては例えば表面粗さがＲｍａｘで５ｎｍ以下の鏡面が好ましい。
【００２４】
本発明における磁気ディスクとしては例えば、ガラスディスク基板上に順次磁性層、保護層、潤滑層を形成した磁気ディスクを挙げる事ができる。磁性層としては高記録密度化に適したＣｏ系ｈｃｐ結晶構造の磁性層が好ましい。Ｃｏ系ｈｃｐ結晶構造の磁性層は異方性磁界（Ｈｋ）が高いと共に、異方性テクスチャにより磁化容易軸（ｃ軸）を円周方向に配向させることができるからである。このような磁性層としては例えばＣｏＰｔ系磁性層、ＣｏＣｒＰｔ系磁性層を挙げることができる。磁性層の形成方法としてはＤＣマグネトロンスパッタリング法を好ましく挙げることができる。
保護層としては炭素系保護層を好ましく挙げることができる。炭素系保護層の中でも水素化炭素保護層、窒素化炭素保護層は潤滑層との密着性も高く特に好ましい。炭素中における水素濃度はＨＦＳ（水素前方散乱法）で測定したときに、１０ａｔ％〜３０ａｔ％、炭素中における窒素濃度はＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）で測定したときに、４ａｔ％〜１２ａｔ％とすることが好ましい。保護層の形成に当っては、ＤＣマグネトロンスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法などを好ましく挙げることができる。
【００２５】
潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）を好ましく用いることができる。ＰＦＰＥは柔軟な主鎖構造を備えるので適度な潤滑性を実現することができる。なおＰＦＰＥの末端官能基に極性基を導入したＰＦＰＥ誘導体を用いると更に好ましい。このような誘導体としてはアルコール変性ＰＦＰＥを挙げることができる。極性基とくに水酸基を備えるアルコール変性体は、炭素系保護層との密着性が高いので磁気ヘッドへの潤滑剤の移着を好適に抑制させることが出来ＨＤＩ信頼性をさらに向上させられるので本発明にとって特に好適である。潤滑層の形成方法としてはディップ法を例示することができる。
本発明の磁気ディスクにおける磁性層のディスク円周方向の磁気異方性は残留磁化膜厚積（Ｍｒ・ｔ）で測定したときに１．２以上とすることが好ましい。磁気異方性が１．２以上とすることで、情報記録密度が１平方インチ当り４０ギガビット以上の記録密度を好ましく実現することができるからである。ここで円周方向の磁気異方性とは、半径方向の残留磁化膜厚積に対する円周方向の残留磁化膜厚積の比として示される特性である。残留磁化膜厚積はＶＳＭ（振動試料型磁化測定装置）により測定することができる。
【００２６】
本発明は、ディスク直径が６５ｍｍ以下のガラスディスク基板又は磁気ディスクに用いると好適である。直径６５ｍｍ以下、即ち２．５インチ型ディスク（外径６５ｍｍ−内径２０ｍｍ）以下の小径ディスクの場合、内周側、特に、ディスク半径で１３ｍｍ以下の領域の面積が相対的に広いので、本発明の課題が発生し易いという事情があるからである。特に直径４８ｍｍ、即ち１．８インチ型ディスクよりも小径のディスクの場合、本発明の効果が更に顕著となるので好ましい。好適には１インチ型ディスク以下の小径ディスクに用いると特に好ましい。従って、本発明は、これら小径ディスクを搭載するＨＤＤ、例えばデジタルカメラ、携帯電話、カーナビゲーション等に搭載するＨＤＤや、ＳＤカードの代替などに好ましく用いられる。
以下、本発明の具体的態様について実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はこれらの態様に限定されるものではない。
【００２７】
（実施例１）
本実施例の磁気ディスク用ガラス基板は、主表面上に等方性テクスチャと異方性テクスチャが併存したテクスチャが形成されているガラスディスクである。ディスクサイズは１．８インチ型ディスク（外径４８ｍｍ−内径１２ｍｍ）である。即ち、半径２４ｍｍ位置が外周端、半径６ｍｍ位置が内周端のディスクである。このガラスディスクはアモルファスガラスのアルミノシリケートガラスからなるガラスディスクである。以下、本実施例の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について説明する。
（１）ラッピング工程（研削工程）
溶融ガラスからダイレクトプレスにより直径４９ｍｍφのアルミノシリケートガラスからなるアモルファスのガラスディスクを得た。アルミノシリケートガラスはＳｉＯ２：６３．６量％、Ａｌ２Ｏ３：１４．２重量％、Ｎａ２Ｏ：１０．４重量％、Ｌｉ２Ｏ：５．４重量％、ＺｒＯ２：６．０重量％、Ｓｂ２Ｏ３：０．４重量％の組成を有するアルミノシリケートガラスを用いた。
【００２８】
次いで、ガラスディスクに寸法精度及び形状精度の向上させるためラッピング工程と行った。このラッピング工程は両面ラッピング装置を用い、粒度＃４００の砥粒を用いて行なった。具体的には、はじめに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷重を１００ｋｇ程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ程度にラッピングした。次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔を空けると共に、外周端面の研削をして直径を４８ｍｍφとした後、外周端面および内周端面に所定の面取り加工を施した。このときのガラス基板端面の表面粗さは、Ｒｍａｘで４μｍ程度であった。
次に、砥粒の粒度を＃１０００に変え、ガラス基板表面をラッピングすることにより、表面粗さをＲｍａｘで２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。
【００２９】
（２）鏡面研磨工程
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面（内周、外周）の表面の粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。
この後、ラッピング工程で残留した傷や歪みの除去するため第１鏡面研磨工程を遊星歯車運動式の両面研磨方法を用いて行なった。両面研磨装置においては、ポリッシャとして研磨パッドが貼り付けられた上下上盤の間にキャリアにより保持したガラス基板を密着させ、このキャリアをサンギアとインターナルギアとに噛合させ、上記ガラス基板を上下定番によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラス基板の研磨面との間に研磨液を供給して回転させることによって、ガラス基板が定盤上で自転しながら公転（遊星歯車運動）して両面を同時に鏡面研磨加工するものである。
具体的には、ポリシャとして硬質ポリシャ（硬質発泡ウレタン）の研磨パッドを用い、研磨工程を実施した。研磨液として酸化セリウム系（平均粒径１．３μｍ）研磨砥粒と純水を含む遊離砥粒を用いた。研磨条件は、荷重：１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間：１５分とした。
【００３０】
次に第１鏡面研磨工程で使用したものと同じタイプの両面研磨装置を用い、ポリシャを軟質の研磨パッド（スウェードパット）に変えて、第２鏡面研磨工程を実施した。この第２鏡面研磨工程は、上述した第１鏡面研磨工程で得られた平坦な表面を維持しつつ、例えば表面粗さがＲｍａｘで５ｎｍ以下、Ｒａで０．５ｎｍ以下となる低減させることを目的とするものである。この鏡面研磨工程により、ガラス基板主表面が鏡面状態に仕上げられる。
研磨液は酸化セリウム系（平均粒径０．８μｍ）研磨砥粒と純水を含む遊離砥粒を用いた。研磨条件は、荷重：１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を５分とした。
この鏡面研磨工程では、ガラス基板主表面が鏡面状態に平滑化されるとともに、研磨砥粒を介してガラス基板上に加えられる研磨加工圧力によって、ガラス基板の表層部分に応力分布が形成される。通常、研磨砥粒の軌跡に沿って、残留応力の高い箇所が形成される。本実施例の場合では遊星歯車運動に基づく鏡面研磨を行なっているので、ガラス基板の表層には残留応力の高い箇所が連続的または離散的な等方分布する応力分布が形成される。
鏡面研磨加工後のガラス基板を、硫酸を含む洗浄液で洗浄し研磨砥粒などの残渣を除去して清浄化した。
【００３１】
得られたガラスディスク基板の表面粗さをＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定したところ、Ｒｍａｘが４．０ｎｍ、Ｒｐが２．１ｎｍ、Ｒｖが１．９ｎｍ、Ｒａが０．４ｎｍの平滑な鏡面であることを確認した。測定領域は１μｍ×１μｍの正方矩形領域を測定したものである。測定位置はディスク半径１２．０ｍｍのディスク主表面位置を測定したものである。
なお以降、表面粗さは全てＡＦＭ（原子間力顕微鏡）による表面領域測定結果から日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に準拠して算出したものである。Ｒｍａｘ、Ｒｐ、Ｒｖ、Ｒａの定義については前述のとおりである。
【００３２】
（３）等方性テクスチャ加工工程
次に、得られたガラスディスクに等方性のテクスチャを付与するために、化学的な表面処理を行なった。具体的には、ケイフッ酸（濃度：０．５重量％、処理時間：９０秒、温度：４０℃）を用いてガラス基板の化学表面処理を行なった。この化学表面処理後に、中性洗剤、純水、イソプロピルアルコールで超音波洗浄を行なった。
得られたガラスディスクの表面を同様にＡＦＭで測定した（図２参照）。図２により判るように、その表面には等方性のテクスチャ（凸部が離散的に分布したテクスチャ）が形成されていることを確認した。表面粗さはＲｍａｘで８．０ｎｍ、Ｒｐが４．５ｎｍ、Ｒｖが３．５ｎｍ、Ｒａが０．９ｎｍであった。この等方性テクスチャは、ガラスディスクの鏡面研磨工程において遊離砥粒による研磨軌跡の箇所に発生した残留応力分布のうち相対的に残留歪みが高い部分が突起（凸部）として形成されたものと考えられる。
【００３３】
（４）化学強化工程
次に、以下の条件で低温型イオン交換法による化学強化工程を施した。
化学強化は硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合した化学強化溶融塩を用意し、この化学強化溶融塩を３８０℃に加熱し、上記洗浄・乾燥済みのガラス基板を２４０分間浸漬して化学強化処理を行なった。この化学強化工程によりガラスディスク表面には高い圧縮応力が形成されるので、耐衝撃性に優れたガラス基板を得ることができる。
化学強化を終えたガラスディスクを硫酸、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
次に、上記洗浄を終えたガラス基板表面の目視検査及び光の反射・散乱・透過を利用した精密検査を実施した。その結果、ガラス基板表面に付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。
【００３４】
（５）異方性テクスチャ加工工程
次に、ガラス基板上に異方性テクスチャを施した。この異方性テクスチャはディスク円周方向に磁気異方性が付与されるように円周状の筋状のテクスチャとして機械研磨加工により形成した。
テクスチャの形成に当たっては、枚葉式のテープ研磨加工方法を用いた。用いた枚葉式のテープ研磨加工装置については図１に掲げたとおりである。研磨テープには織物テープを用いた。素材はポリエステル繊維布である。研磨液には平均粒径０．１２μｍの多結晶ダイヤモンドを含む遊離砥粒を用いた。
このテープ研磨加工装置によると、スピンドル１０１に固定されたガラスディスク（基板）１を回転させるとともに、スラリー（砥粒）滴下口１０２より研磨液をテープ（研磨テープ）１０３に供給し、ガラスディスク１の両表面をローラー１０４に巻き付けられたテープ１０３によって挟むことで、ガラスディスク１の主表面に円周状のテクスチャを形成する。テープ１０３が巻きつけられたローラー１０４は、一定の回転速度で回転しており、常にテープ１０３の新しい面がガラスディスク１に接触するようにしている。この場合、スピンドル１０１を揺動させることができるようになっている。なお、支点ａを中心とし、ローラー１０４の軸にそれぞれ固定した板状の部材１０５，１０５が動くことによってガラスディスク１を挟みつけている。この時、ガラスディスク１に負荷される加重は板状の部材１０５間に張られたバネ１０６の力により決定する。加重は張力計１０７により測定される。
【００３５】
この装置における、基板回転速度（スピンドル回転速度）やテクスチャ加工時間を調節することで、テクスチャ形状を調節することができる。
以上の条件で、基板回転速度は３００ｒｐｍとし、２０秒の異方性メカニカルテクスチャ研磨加工を行なった、
この後、ＡＦＭを用いてガラスディスク基板上の表面粗さを測定した。結果は図３に掲げる。図３に示すように、等方性のテクスチャと異方性のテクスチャが併存した重ね合わせのテクスチャが形成されていることが判る。
表面粗さは、Ｒｍａｘが４．５ｎｍ、Ｒｐが２．０ｎｍ、Ｒｖが２．５ｎｍであった。また、Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）は１．３、Ｒａ（ｃ）は、０．２０ｎｍ、Ｒａ（ｒ）は０．２６ｎｍであった。
以上のとおり、本実施例の磁気ディスク用ガラス基板が得られた。
なお、得られたガラス基板の外径は４８ｍｍ、内径は１２ｍｍ、板厚は０．５０８ｍｍの１．８インチ型ガラスディスクであった。これで、ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成したときに好適な磁気異方性が得られ、かつＨＤＩ信頼性に優れた磁気ディスク用として好適なガラス基板を製造することができた。
【００３６】
（実施例２）
次に本実施例の磁気ディスクを以下のようにして製造した。
本実施例における磁気ディスクは、実施例１で得られた磁気ディスク用ガラス基板上に順次、磁性層、保護層、潤滑層等が形成された磁気ディスクである。その模式的断面図を図４に掲げる。図４において、１はガラス基板、２は下地層、３は磁性層、４は保護層、５は潤滑層である。１のガラス基板の表面には前述の等方性テクスチャと異方性テクスチャの重ね合わせのテクスチャ１ａが形成されている。また２の下地層は第１の下地層２ａと第２の下地層２ｂと第３の下地層２ｃとからなる。
次にこの磁気ディスクの製造方法について説明する。
上記テクスチャ１ａが形成されているガラス基板１上に順次ＤＣマグネトロンスパッタリング方法を用いてアルゴン雰囲気中で下地層２、磁性層３を形成した。
【００３７】
第１の下地層２ａはアモルファス金属下地層である。ガラス基板のアモルファス性に対応し、ガラスに接してアモルファスの金属下地層を形成することで、テクスチャ１ａの作用を磁性層３に好適に伝播させることができる。第１の下地層２ａの材料はＣｒＴｉ金属合金である。次に第２の下地層２ｂを成膜した。第２の下地層２ｂはＢ２結晶構造金属下地層である。第２の下地層２ｂは磁性層の磁性粒子を均一に微細化させる作用を備え、磁気特性を向上させる効果を発揮する。第２の下地層２ｂの材料はＡｌＲｕ金属合金を用いた。次に第３の下地層２ｃを成膜した。第３の下地層は磁性層の磁性粒子をディスクの面内に配向させる作用を備える。ＣｒＷ合金金属を用いた。
次に磁性層３を成膜した。磁性層の材料にはＣｏＣｒＰｔＢ合金の強磁性磁性層を用いた。
このように磁性層３まで成膜した磁気ディスク上に保護層４をプラズマＣＶＤ法で成膜した。具体的にはアセチレンガスを用いて水素化炭素保護層を形成した。膜厚は５ｎｍである。ＨＦＳ（水素前方散乱法）で水素含有量を測定したところ２０ａｔ％含有されていた。
【００３８】
この保護層４上にディップ法で潤滑層５を形成した。具体的には主鎖の両末端に水酸基を備えるパーフロロポリエーテル化合物からなる潤滑剤を塗布した。膜厚は１ｎｍである。この潤滑層５を成膜後、１００℃で加熱処理を行い、潤滑層５を保護層４上に密着させた。
以上のようにして磁気ディスク１０を得た。
次に、得られた磁気ディスクの各種評価を行なった。
まず、磁気特性を測定するためＶＳＭを用いて評価を行なった。その結果、ディスク円周方向に磁気異方性が誘導されていることが確認された。磁気異方性比は１．２４（半径方向の残留磁化膜厚積に対する円周方向の残留磁化膜厚積の比）であった。
次に記録再生特性（電磁変換特性）を測定した。記録密度（Ｆ１）を７００ｋｆｃｉとし、再生出力（Ｓ）を測定した。媒体ノイズ（Ｎ）はＤＣ領域からＦ１の１．２倍程度までのノイズパワーをスペクトラムアナライザーを用いて積算して求めた。その結果、Ｓ／Ｎ比は３２．１ｄＢという優れた結果を得ることができた。
【００３９】
次に、ＨＤＩ信頼性を評価した。ＬＵＬ（ロードアンロード）方式ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）を準備した。このＨＤＤは１平方インチ当り４０ギガビットの記録密度の機種である。このＨＤＤにＮＰＡＢスライダーとＧＭＲ再生素子とを備える磁気ヘッドを搭載した。ＮＰＡＢスライダーは潤滑剤その他コンタミの磁気ヘッドへの移着を促進し易いスライダーである。またＧＭＲ再生素子は腐食障害が発生し易い再生素子である。なお搭載した磁気ヘッドの浮上量は１０ｎｍである。このＨＤＤに磁気ディスク１０を搭載して評価を行なった。
まず、ＬＵＬ動作を連続して行なうＬＵＬ耐久性試験を実施した。その結果、連続６０万回のＬＵＬ動作に故障や障害無く耐久することができた。通常市販のＨＤＤにおいて一般的な使用を行なったとした場合、ＬＵＬ回数が４０万回を超えるのは１０年程度の使用が必要と言われている。本発明の磁気ディスクは高いＨＤＩ信頼性を発揮していることが判る。
【００４０】
次にＣＦＴ試験（定位置浮上試験）を行なった。定点位置はディスク内周側（ディスク半径１２ｍｍ位置）とした。結果連続１４４０時間の定点連続浮上に耐久することができた。この間故障や障害などは発生しなかった。
なお、上記ＬＵＬ耐久試験、ＣＦＴ耐久試験は過酷環境とするために、温度６０℃、相対湿度８０％の環境で実施した。
次に、グライド特性を評価するために、タッチダウンハイト法によるグライド試験を行なった結果、浮上量４．５ｎｍまでは磁気ディスクにヘッドが接触しないことを確認した。グライド試験のディスク半径位置は１２ｍｍ位置とした。
なお、上記ＬＵＬ耐久性試験、ＣＦＴ耐久性試験、グライド特性試験においては、磁気ヘッド浮上飛行時のフライスティクション障害は発生しなかった。磁気ヘッドの浮上姿勢や浮上量は安定していた。
以上、本発明の磁気ディスク用基板を用いる事により、異方性テクスチャを形成した場合であっても、磁気ヘッドの浮上飛行時の優れたＨＤＩ信頼性を得ることができるので、磁気特性、記録再生特性とＨＤＩ信頼性全てを満足できる優れた磁気ディスクを提供することができる。ひいては、ＨＤＤの高記録密度化に資することができる。
【００４１】
（比較例１）
次に比較例１の磁気ディスク用ガラス基板を製造した。具体的には実施例１において等方性テクスチャ加工工程を行なわなかった。この点以外は実施例１と同様に製造した。
得られた磁気ディスク用ガラス基板をＡＦＭで観察したところ、規則的な円周状のテクスチャ（異方性テクスチャ）が一様に形成されているのを確認した。表面粗さは、Ｒｍａｘが３．８ｎｍ、Ｒｐが２．０ｎｍ、Ｒｖが１．８ｎｍであった。また、Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）は１．９、Ｒａ（ｃ）は、０．１４ｎｍ、Ｒａ（ｒ）は０．２７ｎｍであった。
この比較例の磁気ディスク用ガラス基板上に実施例２と同様に順次成膜を行い磁気ディスクを得た。
実施例２と同様の評価を行なったところ、磁気特性、記録再生特性は実施例２と同様の結果であったが、ＬＵＬ耐久性は３０万回で故障した。分析したところフライスティクション障害と、ヘッド腐食障害が発生していた。このＬＵＬ耐久性試験においてはフライスティクション障害により、磁気ヘッドの浮上量や浮上姿勢が乱されていた。特に内周側（ディスク半径１２ｍｍ以内）で発生頻度が高かった。また、ＣＦＴ耐久性は２４０時間で故障した。故障原因を調査したところ、内周（ディスク半径１２ｍｍ）の連続浮上飛行中に、磁気ヘッドが磁気ディスク面に墜落して吸着してしまったものと考察された。
【００４２】
（比較例２）
次に比較例２の磁気ディスク用ガラス基板を製造した。具体的には実施例１において異方性テクスチャ加工工程を行なわなかった。この点以外は実施例１と同様に製造した。
得られた磁気ディスク用ガラス基板をＡＦＭで観察したところ、等方性のテクスチャ（凸部が離散的に分布したテクスチャ）が形成されていることを確認した。表面粗さはＲｍａｘで７．０ｎｍ、Ｒｐが３．５ｎｍ、Ｒｖが３．５ｎｍ、Ｒａが０．７ｎｍであった。また、Ｒａ（ｒ）／Ｒａ（ｃ）は０．９７、Ｒａ（ｃ）は、０．７１ｎｍ、Ｒａ（ｒ）は０．６９ｎｍであった。
この比較例の磁気ディスク基板上に実施例２と同様に順次成膜を行い磁気ディスクを得た。
実施例２と同様に評価を行なったところ、ＬＵＬ耐久性、ＣＦＴ耐久性は実施例２と同様の結果であったが、磁気異方性比は１．０となった。即ち、磁性層に磁気異方性が付与されていないことを示している。記録再生特性（Ｓ／Ｎ比）は２５．７ｄＢであり、実施例２に比べて大幅に劣化した。また、グライド特性は、タッチダウンハイトが７．２ｎｍとなり、実施例２と比べて大幅に悪化した。例えば、浮上量が１０ｎｍの磁気ヘッドの場合、確実にサーマルアスペリティ障害やクラッシュ障害を防止する観点からタッチダウンハイトは５ｎｍ以下であることが求められるが、等方性テクスチャのみの場合では、タッチダウンハイトが高いので、安全に動作させられないおそれがある。
【００４３】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明によれば、ガラス基板上に等方性テクスチャと異方性テクスチャの重ね合わせのテクスチャが形成されているので、磁性層に磁気異方性を付与した磁気ディスクであっても、優れたＨＤＩ信頼性を得ることができる。このため、従来は磁気特性、記録再生特性、ＨＤＩ信頼性の各特性間で発生していたトレードオフ課題を解決でき、以って高記録密度化に資することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】テープ研磨加工装置の要部側面図（ａ）及び正面斜視図（ｂ）である。
【図２】実施例１における等方性テクスチャ形成後のＡＦＭによる表面測定結果を示す図である。
【図３】実施例１における等方性テクスチャ形成後、異方性テクスチャを形成した時のＡＦＭによる表面測定結果を示す図である。
【図４】実施例２の磁気ディスクの模式的断面図である。
【符号の説明】
１  磁気ディスク用ガラス基板
１ａ  テクスチャ
２  下地層
３  磁性層
４  保護層
５  潤滑層
１０  磁気ディスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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