(57)【要約】【課題】マスタディスクの磁気パターンが転写された磁気記録媒体におけるビット抜けを完全に防止すること。【解決手段】軟磁性膜からなる囲み型形状パターンで囲まれた一記録画素分の面積をもつ領域内に、磁化反転領域とその周囲の非磁化反転領域とからなる、転写磁界により確実に磁化反転可能な特定領域を作り込む。【選択図】        図２
2004265542.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体に磁気転写される転写パターン、および、軟磁性膜パターンが埋設された磁気転写用マスタディスクにおいて、
一記録画素区画分に相当する面積を有する特定領域を囲むようにトラック方向およびセクター方向に沿って配置された軟磁性膜パターンと、
前記軟磁性膜パターンによって囲まれた前記特定領域であって、転写磁界により磁気転写がなされる磁化反転領域と、転写磁界により磁気転写がなされない非磁化反転領域とからなる磁気転写部と
を具え、
前記磁化反転領域は、
該記録画素区画内の中央部に形成され、かつ、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けずに集中的に導かれ、該磁束に対する磁気抵抗が最も小さな磁気経路を有し、
前記非磁化反転領域は、
前記磁化反転領域の周辺部に形成され、かつ、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けて導かれず、該磁束に対する磁気抵抗が前記磁化反転領域よりも大きな磁気経路を有する
ことを特徴とする磁気転写用マスタディスク。
【請求項２】
前記磁気転写部の前記磁化反転領域および前記非磁化反転領域の周囲を囲む前記軟磁性膜パターンは、
少なくともトラック方向の幅がトラックピッチよりも小さいことを特徴とする請求項１記載の磁気転写用マスタディスク。
【請求項３】
前記磁気転写部の前記磁化反転領域および前記非磁化反転領域の周囲を囲む前記軟磁性膜パターンは、
少なくともセクター方向の幅がラインピッチよりも小さいことを特徴とする請求項１記載の磁気転写用マスタディスク。
【請求項４】
前記軟磁性膜パターンは、
トラック方向の幅がトラックピッチの約１／２、又は、セクター方向の幅がラインピッチの約１／２に設定されたことを特徴とする請求項２又は３記載の磁気転写用マスタディスク。
【請求項５】
前記軟磁性膜パターンは、
前記磁気ヘッドの位置決め用として用いられるバーストパターン以外の転写パターンにおけるトラック方向およびセクター方向の線上に沿って埋設されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の磁気転写用マスタディスク。
【請求項６】
磁気記録媒体に磁気転写される転写パターン、および、軟磁性膜パターンを埋設する磁気転写用マスタディスクの製造方法において、
前記軟磁性膜パターンを、一記録画素区画分に相当する面積を有する特定領域を囲むようにトラック方向およびセクター方向に沿って配置し、
前記軟磁性膜パターンによって囲まれた前記特定領域内に、
該記録画素区画内の中央部に位置し転写磁界により磁気転写がなされる領域であって、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けずに集中的に導かれ、該磁束に対する磁気抵抗が最も小さな磁気経路を有する磁化反転領域と、
該磁化反転領域の周辺部に位置し転写磁界により磁気転写がなされない領域であって、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けて導かれず、該磁束に対する磁気抵抗が前記磁化反転領域よりも大きな磁気経路を有する非磁化反転領域と
を形成したことを特徴とする磁気転写用マスタディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気転写用マスタディスクおよび該マスタディスクの製造方法に関し、より詳しくは、現在コンピュータの外部記録装置として主流となっている磁性膜を記録材料として用いるハードディスクドライブ（以下、ＨＤＤという）において、磁気記録ディスク表面に書き込まれているデータの書き込み／読み出しを行うヘッドの位置決め用サーボ信号または特定のデータを磁気的な転写技術を用いて書き込む手法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＨＤＤでは、回転している磁気記録媒体の表面上を、磁気ヘッドがスライダーと呼ばれる浮上機構によってディスク表面上数十ｎｍの距離を保って浮上しながらデータの記録・再生が行われている。磁気記録媒体上のビット情報は媒体に同心円上に配置されたデータトラックに格納されており、データの記録・再生用の磁気ヘッドは媒体面上の目的のデータトラックに高速で移動・位置決めされることによってデータの記録・再生を行っている。
【０００３】
磁気記録媒体面上には、磁気ヘッドとデータトラックとの相対位置を検出するための位置決め信号（サーボ信号）が同心円上に書き込まれており、データの記録再生を行っている磁気ヘッドが一定時間間隔で自分の位置を検出している。このサーボ信号の書き込み信号の中心が、媒体の中心（あるいは磁気ヘッドの軌道の中心）から偏心しないよう、ＨＤＤ装置に磁気記録媒体を組み込んだ後、サーボライターと呼ばれる専用の装置を用いて書き込まれる。現在、開発段階で記録密度が１００Ｇｂｉｔｓ／ｉｎ２に達するとともに、年率６０％で記録容量が増加している。これに伴って、磁気ヘッドが自分の位置を検出するためのサーボ信号の密度も上昇しており、サーボ信号の書込み時間も年々増加する傾向にある。このサーボ信号の書込み時間の増加は、ＨＤＤの生産性低下、コスト増加をもたらす一つの大きな要因になっている。
【０００４】
最近になって上述したサーボライターの信号書込みヘッドを用いてサーボ信号を書き込む方式に対して、磁気的な転写によってサーボ信号を一括して書き込み、飛躍的にサーボ情報の書き込み時間を短縮しようとする技術開発が行われている。
【０００５】
図１１、図１２は、信号書込みヘッド（図１２の永久磁石１１０参照）を用いてサーボ信号を一括して書き込む方式の磁気転写技術を示したものである。
【０００６】
図１１は、マスタディスク１と磁気記録媒体１００との間での磁気転写工程を示す。
【０００７】
図１１（ａ）の初期消磁工程は、基板１０１上に磁性層１０２が形成された磁気記録媒体１００面上での矢印は、磁気転写用の永久磁石１１０の移動路を表したものであり、磁性層１０２は円周方向に一様に磁化される。
【０００８】
図１１（ｂ）の位置合わせ工程は、磁気転写用のマスタディスク１を磁気記録媒体１００の面上に配置し、位置合わせを行っている状態を表している。
【０００９】
図１１（ｃ）の転写パターン書込み工程は、マスタディスク１を磁気記録媒体１００の表面に密着させ、磁気転写用の永久磁石１１０を図中の移動路（矢印で図示）に沿って移動させることによって磁気転写を行う様子を表している。
【００１０】
図１２は、磁気記録媒体１００における磁気転写の原理を示す。
【００１１】
図１２（ａ）の初期消磁工程は、磁気記録媒体１００の面上を、永久磁石１１０が一定間隔（１ｍｍ以下）を保ちながら移動する様子を基板の断面方向から表したものである。
【００１２】
基板上に成膜された磁性膜は当初一定方向に磁化されていない状態であるが、永久磁石１１０のギャップから漏れた磁界によって一定方向に磁化される（図中の磁性膜に記された矢印は、磁化の方向を表す）。
【００１３】
図１２（ｂ）の転写パターン書込み工程は、磁気転写を説明したものである。マスタディスク１は、シリコン基板１ａの媒体表面に接する面側に、軟磁性膜１０（ここではＣｏ系軟磁性膜）が埋め込まれた構造をしている。
【００１４】
このように永久磁石１１０と磁気記録媒体１０との間に軟磁性膜１０のパターンを埋め込んだマスタディスク１を介すると、永久磁石１１０から漏れてシリコン基板１ａに浸透した磁界（転写信号書込みの磁界の向きは消磁磁界と反対方向）は、軟磁性膜１０が無い位置では何ら影響を受けることなく再びシリコン基板１ａを透過して磁性層１０２を磁化することができるが、軟磁性膜１０のパターンがある部分では磁気抵抗の小さい磁気経路となるように軟磁性膜１０の部位を通過する。
【００１５】
このため、軟磁性膜１０のある位置ではシリコン基板１ａから漏れ出す磁界が小さくなり、新たに磁化の書き込みは行われない。
【００１６】
現在のマスタディスク１のパターンは、図１３のようなプロダクトサーボパターン２０ではなく、このプロダクトサーボパターンをハードディスク内で自己生成するための基準となる図１４に示すようなレファレンスサーボパターン３０である。
【００１７】
このレファレンスサーボパターン３０は、マスタディスク１による磁気転写時に、磁気記録媒体１００におけるマスタディスク１の軟磁性膜１０の存在しない部分と密着した部位で、外部磁界によって確実に磁化反転するように、下記のようなパターンの制約を設けている。なお、レファレンスサーボパターン３０の最小パターン幅は、約１．５μｍで、プロダクトパターン２０では０．３５μｍの最小パターン幅となる。
【００１８】
１）バースト（Ｂｕｒｓｔ）パターン以外のパターン（Ｐｒｅａｍｂｌｅパターン等）は、トラック方向Ｒには不変であり、セクター方向Θのみに変化している。
【００１９】
２）バーストパターン５は、孤立したパターンである。
【００２０】
レファレンスサーボパターン３０が作成されたマスタディスク１による磁気転写の場合の問題点を、下記に示す。
【００２１】
１）レファレンスサーボパターン３０作成時の誤差が、プロダクトパターン２０にも影響し、高記録密度には適さない。
【００２２】
２）磁気転写のパターンを、レファレンスサーボパターン３０のみでなく、ＯＳ，コンテンツなども含めることにより、磁気転写による効果が向上する。
【００２３】
特に、２）の問題点は、外付けハードディスクの場合には、サーボパターンのみ記録でよいが、パソコンなどの機器組み込み用ＨＤには、プレインストールとしてＯＳ，アプリケーションソフトなどが出荷時には組み入られており、これも含めて、磁気転写で行えるとより効果的となる。このようなことから、プロダクトサーボパターンおよびデータパターンを磁気転写できる技術が待ち望まれる。
【００２４】
現状、ＨＤＤに用いられている図１３に示したプロダクトサーボパターン２０は、大別して以下の３つのパターンに分かれ、拡大図を図１５〜図１８に示す。
【００２５】
１）図１５は、トラック方向Ｒには不変で、セクター方向Θにのみ変化するパターンである。再生信号の振幅調整および再生信号からのクロック抽出を行うのに用いられるＰｒｅａｍｂｌｅパターン２が代表的である。
【００２６】
２）図１６は、孤立したパターンである。磁気ヘッドの位置を検出するためのＢｕｒｓｔパターン５が該当する。
【００２７】
３）図１７、図１８は、上記以外のパターンである。
【００２８】
図１７のパターンには、サーボ検出パターン３、サーボアドレス情報４（トラック番号４ａ、セクター番号４ｂ）などのパターンが該当する。図１８のパターンには、コンテンツパターン等の規則性が全くないパターンが該当する。
【００２９】
なお、図１５〜図１８において閉曲線で囲まれた領域が、マスタディスク１における軟磁性膜１０が形成される部位である。
【００３０】
特許文献１には、マスター担体の軟磁性パターンに対応して検出される再生信号のパルスシフトを補正することにより、再生信号の検出エラーを無くす技術が記載されている。
【００３１】
特許文献２には、マスター担体に形成される凹凸パターンにおいて凸部の幅をトラックピッチよりも小さくして空気抜け経路を形成することにより、スレーブ媒体との密着性を向上させて信号抜けの発生を防止する技術が記載されている。
【００３２】
【特許文献１】
特開２００１−２８３４３３号公報
【００３３】
【特許文献２】
特開２００２−２１６３４３号公報
【００３４】
【発明が解決しようとする課題】
プロダクトパターン２０の３種類において、Ｐｒｅａｍｂｌｅパターン２，Ｂｕｒｓｔパターン５に関しては、問題無く磁気転写することが可能であるが、上記以外のパターンにおいて図１９のように周囲を軟磁性膜１０のパターンで囲まれた領域（以下、特定領域Ａという）内は、磁気転写ができない領域である。
【００３５】
図１２は、磁気転写の様子を断面方向から捉えた図であるが、実際には磁束は３次元的な流れとなり、磁気抵抗が少なくなるような経路を辿る。
【００３６】
図１９のようなパターンでは、理想的には、軟磁性膜１０が無い部分、すなわち、特定領域Ａでは、外部磁場による磁束の全てが、マスタディスク１に密着された磁気記録媒体１００に流入することが望ましいが、実際には、隣接する磁気抵抗の少ない軟磁性膜１０の方に磁束が流れようとするので、外部磁場による磁束の一部しか、マスタディスク１に密着された磁気記録媒体１００に流入しなくなる。
【００３７】
特に、転写磁界が弱まると、図１９のように周囲を軟磁性膜１０のパターンで囲まれた特定領域Ａ内では、図１２（ｂ）において磁化反転ができなくなる問題が有る。結果的に、マスタディスク１の磁気パターンを転写された磁気記録媒体１００からの再生信号に、いわゆるビット抜けが発生し、パターンの完全な転写が困難となる。
【００３８】
ここで、具体例を挙げて説明する。
【００３９】
図１０は、マスタディスク１の面上を示す。周囲を軟磁性膜１０のパターンで囲まれた特定領域Ａ（ハッチング領域）は、磁化反転が困難な領域となっている。この磁化反転が困難な特定領域Ａ、すなわち、特定領域Ａ内の面積が狭く軟磁性膜１０が周囲に近接して存在する領域では、図１２に示した永久磁石１１０等を用いて磁気的な一括転写により印加される磁束は、周囲の軟磁性膜１０に集中してしまい、中央部の限定領域１１内には導かれない。
【００４０】
実際には、この特定領域Ａには軟磁性膜１０が存在しないので、磁気転写される側の磁気記録媒体１００には十分な磁束が印加されなければならないが、その周囲を軟磁性膜１０で近接した状態で囲まれているため、十分な磁束が印加されない。
【００４１】
その結果、この特定領域Ａに対応した位置のスレーブ側の磁気記録媒体１００には十分な磁束が導かれないため、磁化反転を行うことができず、正確な磁気転写を行うことができない。
【００４２】
従って、磁気的な一括転写技術による磁気転写を確実に行えないことから、磁気記録媒体１００に記録される情報データとして、本来は“１”の領域として記録すべきところを、誤って”０”の領域に化けて記録されることになり、信頼性の高い磁気転写を行うことができないという問題がある。
【００４３】
そこで、本発明の目的は、軟磁性膜からなる囲み型形状パターンで囲まれた領域内に転写磁界により確実に磁化反転可能な領域を作り込むことにより、マスタディスクの磁気パターンが転写された磁気記録媒体におけるビット抜けを完全に防止することが可能な、信頼性の高い磁気転写技術を得ることが可能な磁気転写用マスタディスク、および、該マスタディスクの製造方法を提供することにある。
【００４４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、磁気記録媒体に磁気転写される転写パターン、および、軟磁性膜パターンが埋設された磁気転写用マスタディスクにおいて、一記録画素区画分に相当する面積を有する特定領域を囲むようにトラック方向およびセクター方向に沿って配置された軟磁性膜パターンと、前記軟磁性膜パターンによって囲まれた前記特定領域であって、転写磁界により磁気転写がなされる磁化反転領域と、転写磁界により磁気転写がなされない非磁化反転領域とからなる磁気転写部とを具え、前記磁化反転領域は、該記録画素区画内の中央部に形成され、かつ、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けずに集中的に導かれ、該磁束に対する磁気抵抗が最も小さな磁気経路を有し、前記非磁化反転領域は、前記磁化反転領域の周辺部に形成され、かつ、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けて導かれず、該磁束に対する磁気抵抗が前記磁化反転領域よりも大きな磁気経路を有することによって、磁気転写用マスタディスクを構成する。
【００４５】
ここで、前記磁気転写部の前記磁化反転領域および前記非磁化反転領域の周囲を囲む前記軟磁性膜パターンは、少なくともトラック方向の幅がトラックピッチよりも小さくしてもよい。
【００４６】
前記磁気転写部の前記磁化反転領域および前記非磁化反転領域の周囲を囲む前記軟磁性膜パターンは、少なくともセクター方向の幅がラインピッチよりも小さくしてもよい。
【００４７】
前記軟磁性膜パターンは、トラック方向の幅がトラックピッチの約１／２、又は、セクター方向の幅がラインピッチの約１／２に設定してもよい。
【００４８】
前記軟磁性膜パターンは、前記磁気ヘッドの位置決め用として用いられるバーストパターン以外の転写パターンにおけるトラック方向およびセクター方向の線上に沿って埋設してもよい。
【００４９】
本発明は、磁気記録媒体に磁気転写される転写パターン、および、軟磁性膜パターンを埋設する磁気転写用マスタディスクの製造方法において、前記軟磁性膜パターンを、一記録画素区画分に相当する面積を有する特定領域を囲むようにトラック方向およびセクター方向に沿って配置し、前記軟磁性膜パターンによって囲まれた前記特定領域内に、該記録画素区画内の中央部に位置し転写磁界により磁気転写がなされる領域であって、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けずに集中的に導かれ、該磁束に対する磁気抵抗が最も小さな磁気経路を有する磁化反転領域と、該磁化反転領域の周辺部に位置し転写磁界により磁気転写がなされない領域であって、印加される外部磁場の磁束が前記軟磁性膜パターンによる磁束の流れの影響を受けて導かれず、該磁束に対する磁気抵抗が前記磁化反転領域よりも大きな磁気経路を有する非磁化反転領域とを形成することによって、磁気転写用マスタディスクの製造方法を提供する。
【００５０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
［第１の例］
本発明の第１の実施の形態を、図１〜図７に基づいて説明する。
（マスタディスクの構成）
マスタディスク１の構成について説明する。
【００５１】
図１は、マスタディスク１のパターン形状を示す。
【００５２】
マスタディスク１の面上には、本発明に係る軟磁性膜５０のパターンが埋設されている。なお、従来との比較のため、このディスク面上には、従来の磁気転写が困難な軟磁性膜１０のパターンを記載し、さらに再生時の参考としてＢｕｒｓｔパターン５を記載している。これら軟磁性膜５０のパターン以外のパターン形状は、前述した図１３、図１４と同様である。
【００５３】
図２は、図１の軟磁性膜１０のパターンが形成される領域を拡大して示す。
【００５４】
軟磁性膜５０のパターンは、トラック方向Ｒの一辺がトラックピッチの１／２の長さ、セクター方向Θの一辺がラインピッチの１／２の長さとされた、正方形状とされている。
【００５５】
そして、その軟磁性膜５０のパターンを複数個（ここでは、７個又は８個）用意して、トラック方向Ｒおよびセクター方向Θに沿って、一記録画素区画分に相当する面積からなる特定領域Ｐ，Ｑの周囲を囲むようにして配設し、これにより、該特定領域の周囲全体を囲み型形状パターン４０として構成する。
【００５６】
この軟磁性膜パターン５０からなる囲み型形状パターン４０によって囲まれた一記録画素区画分の面積からなる特定領域Ｐ，Ｑは、転写磁界により確実に磁化反転可能な領域として形成されている。
【００５７】
特定領域Ｐは、囲み型形状パターン内の一記録画素区画の中心部に位置しており、転写磁界により磁気転写がなされる磁化反転領域に相当する。
【００５８】
特定領域Ｑは、特定領域Ｐすなわち磁化反転領域の周辺部に位置しており、転写磁界により磁気転写がなされない非磁化反転領域に相当する。
【００５９】
なお、本例で用いられるマスタディスク１から磁気記録媒体１００への磁気転写は、前述した図１１〜図１２と同様であり、永久磁石１１０等の信号書込みヘッドによる磁気的一括転写の技術を採用したものである。
【００６０】
（磁気転写原理）
マスタディスク１を用いて、磁気転写を行う原理について説明する。
【００６１】
図１において、トラック方向Ｒの実線はデータトラックの中心位置を示し、点線はデータトラックの中心に対して、±１／４×ＴＰの位置を示す。また、セクター方向Θの実線はラインの切り替わり位置を示し、点線はラインの切り替わり位置に対して、±１／２×ＬＰの位置を示す。ただし、ＴＰはトラック方向Ｒのトラックピッチ、ＬＰはセクター方向Θのラインピッチとする。
【００６２】
従来の磁気転写が困難な軟磁性膜１０のパターンでは、ユニットの長さを、ＴＰおよびＬＰとして、パターンを形成しているが、本発明による軟磁性膜５０のパターンは、パターンを形成するユニットの長さを１／２×ＴＰおよびラインピッチの１／２とし、このユニットの周期をＴＰおよびＬＰとして、各ユニット間に１／２×ＴＰおよび１／２×ＬＰの磁性膜の無い領域を設け、個々の磁性薄膜の領域を孤立化させたことを特徴としている。
【００６３】
図２は、図１に示した軟磁性膜５０のパターンにより囲まれた特定領域Ｐ，Ｑにおいて、物理的作用に基づく磁束の流れを説明したものである。
【００６４】
図２中の黒く塗りつぶされている角型パターンは、軟磁性膜５０のパターンに相当する領域である。
【００６５】
斜線が施されている中央に位置する領域は特定領域Ｐであり、従来、磁気転写が困難とされた領域（図１０の特定領域Ａ参照）である。本発明では、この特定領域Ｐは、磁気転写がなされる磁化反転領域に相当する。
【００６６】
この特定領域Ｐの上下に位置する領域（紙面上）すなわち磁化反転領域の周辺部には、特定領域Ｑが形成されている。この特定領域Ｑは、磁気転写がなされない非磁化反転領域に相当する。これら磁化反転領域とされた特定領域Ｐと、非磁化反転領域とされた特定領域Ｑとの両方を含む領域を、磁化転写部と呼ぶことにする。
【００６７】
そして、今、図１２（ｂ）に示したような永久磁石１１０を用いた一括転写による外部磁場を与えると、図２の紙面に平行に、左側から右側に平行磁場が印加されている。この外部磁場による磁束は、物理的法則に基づき最も磁気抵抗が少ない経路を通過しようとする。
【００６８】
その理由は、磁気抵抗は、断面積に反比例し、経路の長さに比例するからであり、また、特定領域Ｐのような中央部分では軟磁性膜５０から離れた位置に存在することから、外部磁場の磁束は軟磁性膜５０のパターンによる磁束の流れの影響を受けにくく、その結果、磁束は乱されることなく中央部分に集中して導かれるからである。
【００６９】
そこで、図１のＡ点からＢ点の磁束の流れを考えると、Ａ⇒Ｃ⇒Ｂ（第１経路：特定領域Ｐ），Ａ⇒Ｄ⇒Ｂ（第２経路：特定領域Ｑ），Ａ⇒Ｅ⇒Ｆ⇒Ｂ（第３経路：特定領域Ｑ）の３経路が考えられる。それぞれの経路の磁気抵抗は、以下のように表すことができる。
【００７０】
なお、ＲＡＥＦＢについては、磁気記録媒体１０１の磁気抵抗Ｒｃに対して、軟磁性膜５０の磁気抵抗Ｒｄの方が遙かに低いので、Ｒｄは無視することができる。
【００７１】
2004265542.tif 000003
【００７２】
磁気記録媒体１０１の磁気抵抗Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃの値は、図２のような磁気回路では距離に比例するので、磁気抵抗の最も小さい経路はＡ⇒Ｃ⇒Ｂとなり、周囲に軟磁性膜５０が施された領域が存在しても、従来磁気転写が困難だった斜線が施された領域（特定領域Ｐ）に、磁束が流入するようになり、マスタディスク１に密着された磁気記録媒体１００に外部磁界が印加されるようになる。その結果、図１２の書き込み工程のような磁化反転がこの磁化転写部内の特定領域Ｐにおいて可能となる。
【００７３】
従って、特定領域Ｐ，Ｑは、以下のように定義することがりできる。
【００７４】
特定領域Ｐ（磁化反転領域）では、外部磁場の磁束は軟磁性膜５０のパターンによる磁束の流れの影響を受けずに中央部に集中的に導かれる領域であり、磁束に対する磁気抵抗が最も小さな磁気経路として形成された領域である。
【００７５】
特定領域Ｑ（非磁化反転領域）は、外部磁場の磁束が隣接する軟磁性膜５０のパターンによる磁束の流れの影響を受けて中央部に導かれず磁気抵抗の少ない軟磁性膜５０の方に磁束が流れていく領域であり、磁束に対する磁気抵抗が磁化反転領域よりも大きな磁気経路として形成された領域である。
【００７６】
（製造方法）
次に、マスタディスク１の製造方法について説明する。
【００７７】
図３は、図１２に示したような機構でサーボ信号の磁気転写が行われるマスタディスク１の製作工程を示す。
【００７８】
図３（ａ）の第１工程では、シリコン基板６０（板厚〜５００μｍ）の表面にレジスト膜６１（厚さ１．２μｍ）をスピンコータを用いて塗布した後、レジスト膜６１に対して、通常のシリコン半導体の製造方法と同様の光リソグラフィ法を用いてパターニングを行う。
【００７９】
なお、レジスト膜は第２工程のエッチングのマスクとして使用し、ノボラック系の材料であるので、エッチングに対してはさほど強固ではないので、エッチングによっても消滅しないように厚みを持たせることが重要である。
【００８０】
図３（ｂ）の第２工程では、反応性プラズマエッチング法（反応ガス：三塩化メタン）を用いてシリコン基板６０を５００ｎｍドライエッチングし、溝を形成する。
【００８１】
図３（ｃ）の第３工程では、スパッタリング法を用いて、レジスト膜６１を残した状態で、軟磁性膜５０を５００ｎｍ厚で成膜を行い、溝へ軟磁性膜５０を埋め込む。
【００８２】
磁気記録媒体１００に設けられる磁気パターンの３種類のうち、トラック方向には不変で、セクター方向にのみ変化するパターン（Ｐｒｅａｍｂｌｅパターン２等）、孤立したパターン（Ｂｕｒｓｔパターン５）以外のパターンに関しては、パターンのユニット寸法を、トラック方向に関してはトラックピッチの１／２，ライン方向に関してはラインピッチの１／２として、図１に示したように軟磁性膜５０のパターンを孤立させた状態で形成する。
【００８３】
図３（ｄ）の第４工程では、軟磁性膜５０の成膜後にレジスト膜を溶かす溶剤中にシリコン基板６０を（超音波等も必要に応じて使用しながら）浸漬する。
図３（ｅ）の工程では、軟磁性膜５０とシリコン基板６０との間のレジスト膜６１を溶解して取り除く。
【００８４】
以上の製造方法によりマスタディスクを作製することにより、磁気パターンが転写された磁気記録媒体におけるビット抜けを完全に防止（ビットエラー率＝０）することができる。
【００８５】
（再生処理）
次に、上記マスタディスク１を用いて磁気転写した磁気記録媒体１００に記録された情報の再生処理を、図４〜図７に基づいて説明する。
【００８６】
図４は、バーストパターン５とデータトラックとの関係を示す。
【００８７】
ここでは、データ面サーボ方式の場合におけるトラック位置（ｔｒｋ０〜Ｔｒｋ７）を示すもので、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄのバーストパターン５により磁気ヘッド２００のトラック中央からの相対位置を知ることができる。
【００８８】
図５は、磁気ヘッド２００により検出されるパターンの検出波形を示す。図６は、検出された波形の信号処理を示すフローチャートである。
【００８９】
ステップＳ１では、図５（ａ）に示すＡ〜Ｄのバーストパターン上において磁気ヘッド２００をセクター方向に沿って移動させ、パターン信号を検出する。
【００９０】
ステップＳ２〜Ｓ３では、検出された信号をアンプで増幅し、低域通過フィルタを通過させ、図５（ｂ）の信号波形を再生する。
【００９１】
ステップＳ４では、再生した信号波形を全波整流して、図５（ｃ）の整流波形の信号を作成する。
【００９２】
ステップＳ５では、整流波形の信号を積分（ただし、パターンＢとＣとの間で積分器をリセットする）して、図５（ｄ）の積分波形の信号を得る。
【００９３】
ステップＳ６では、その積分波形の信号を、４点でサンプリングし、Ａ，Ａ＋Ｂ，Ｃ，Ｃ＋Ｄの値に対応したサンプリング信号を取り出す。
【００９４】
ステップＳ７では、４点のサンプリング信号の値を演算器によって演算し、Ａ−Ｂ，Ｃ−Ｄを計算する。
【００９５】
（Ｃ−Ｄ）＞０の時にはＡ−Ｂを、（Ｃ−Ｄ）≦０のとき−（Ａ−Ｂ）を出力することで、磁気ヘッド２００で検出された位置信号が１トラック幅の全域にわたるアナログ電圧として生成される。
【００９６】
上述したように、バーストパターン５によって、データトラックが定められており、一般的には、トラックピッチ（ＴＰ）はバーストパターン５のトラック方向Ｒの長さに相当する。また、ラインピッチ（ＬＰ）は、前述したクロック周波数を生成するＰｒｅａｍｂｌｅパターン２のセクター方向Θのライン幅となり、通常はバーストパターン５のセクター方向Ｒのライン幅と同一である。
【００９７】
本発明に係る軟磁性パターン５０の適用は、Ｐｒｅａｍｂｌｅパターン２のようにトラック方向Ｒには不変で、セクター方向Θにのみ変化するパターン、および、Ｂｕｒｓｔパターン５のように孤立したパターン以外のパターンにおいて行われる。
【００９８】
このため、再生時において、図７（ａ）に示す本発明を適用しない軟磁性膜１０のパターンによる再生信号３００と、図７（ｂ）に示す本発明を適用した軟磁性膜５０のパターンによる再生信号３０１とでは、信号波形の大きさに差が生じるが、このことは下記に示すような回路的な対策によって解決することが可能である。
【００９９】
１）磁化領域のセクター方向Θの長さが１／２となるため、磁気ヘッド２００の再生信号のパルス間隔が１／２となるという問題点については、その対策として、サンプリング周波数を該当区間のみ２倍にすることにより解決できる。
【０１００】
２）磁化領域のトラック方向の長さが１／２となるため、磁気ヘッド２００の再生信号の振幅が１／２となるという問題点については、その対策として、ＡＧＣアンプの利得を、該当区間だけ２倍にすることにより解決できる。
【０１０１】
［第２の例］
本発明の第２の実施の形態を、図８〜図９に基づいて説明する。
【０１０２】
本例では、軟磁性膜５０のパターン形状の変形例について示すものである。軟磁性膜５０は、前述した第１の例のように、トラック方向Ｒおよびセクター方向Θの長さを各ピッチの１／２にして正方形状としたが、これに限定されるものではない。
【０１０３】
図８の例では、トラック方向Ｒのトラックピッチを１／２に限定しただけであって、セクター方向Θの長さについては特に制限していない。
【０１０４】
図９の例では、セクター方向Θのラインピッチを１／２に限定しただけであって、トラック方向Ｒの長さについては特に制限していない。
【０１０５】
このように、軟磁性膜５０からなる囲み型形状パターンによってトラック方向Ｒ，セクター方向Θに周囲を囲まれた領域が、特定領域Ｐ（磁気転写がなされる磁化反転領域）と、特定領域Ｑ（磁化反転領域の周辺部に形成された磁気転写がなされない非磁化反転領域）とからなる一記録画素区画分の面積をもつ領域を含むものであれば、軟磁性膜５０のパターン形状については、特に制限されるものではない。
【０１０６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、軟磁性膜からなる囲み型形状パターンで囲まれた一記録画素分の面積をもつ領域内に、磁化反転領域とその周囲の非磁化反転領域とからなる転写磁界により確実に磁化反転可能な特定領域を作り込むようにしたので、マスタディスクに設けられたサーボパターンのＰｒｅａｍｂｌｅパターン，Ｂｕｒｓｔパターン以外のパターンおよびデータパターンにおいても、磁気記録媒体に確実に転写を行うことができ、これにより、マスタディスクの磁気パターンが転写された磁気記録媒体におけるビット抜けを完全に防止することができ、磁気転写の信頼性を一段と高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態である、マスタディスク上での囲み型形状の軟磁性膜パターンを従来パターンと比較して示す平面図である。
【図２】本発明に係る軟磁性膜のパターン形状を拡大して示す平面図である。
【図３】本発明に係る軟磁性膜のパターンを作製するためのマスタディスクの製造方法を示す工程図である。
【図４】バーストパターンとデータトラックとの関係を示す説明図である。
【図５】磁気ヘッドにより検出されるパターンの検出波形を示す説明図である。
【図６】検出された波形の信号処理を示すフローチャートである。
【図７】本発明を適用しない軟磁性膜のパターンによる再生信号、および、本発明を適用した軟磁性膜のパターンによる再生信号を示す説明図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態である、セクター方向Θの長さについて制限しない場合の軟磁性膜のパターン形状の変形例を示す平面図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態である、トラック方向Ｒの長さについて制限しない場合の軟磁性膜のパターン形状の変形例を示す平面図である。
【図１０】従来の囲み型形状の軟磁性膜パターンを示す説明図である。
【図１１】磁気記憶媒体における磁気転写工程を示す説明図である。
【図１２】磁気記憶媒体における磁気転写の原理を示す説明図である。
【図１３】プロダクトサーボパターンを示す説明図である。
【図１４】レファレンスサーボパターンを示す説明図である。
【図１５】トラック方向には不変で、セクター方向にのみ変化するパターン（Ｐｒｅａｍｂｌｅパターン）を示す説明図である。
【図１６】孤立したパターン（Ｂｕｒｓｔパターン）を示す説明図である。
【図１７】規則性が全くないパターンとして、サーボパターンを示す説明図である。
【図１８】規則性が全くないパターンとして、コンテンツパターンを示す説明図である。
【図１９】磁気転写が困難なパターンの例を示す説明図である。
【符号の説明】
１  マスタディスク
２  Ｐｒｅａｍｂｌｅパターン
３  サーボ検出パターン
４  サーボアドレス情報
４ａ  トラック番号
４ｂ  セクター番号
５  Ｂｕｒｓｔパターン
２０  プロダクトパターン
３０  レファレンスサーボパターン
４０  囲み型形状パターン
５０  磁性膜
６０  シリコン基板
６１  レジスト膜
１００  磁気記録媒体
１０１  基板
１０２  磁性層
１１０  永久磁石
２００  磁気ヘッド
３００  再生信号
３０１  再生信号
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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