(57)【要約】【課題】本発明は、水素化ホスホン酸エステル、水素化ホスフィン酸エステル又は二置換ホスフィンオキシドを出発原料とし、安価な触媒を用いて、アルケニルリン化合物を製造する方法を提供することを目的とするものであり、特に、位置異性体が生じる反応において、位置選択性を高めた製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、水素化ホスホン酸エステル、水素化ホスフィン酸エステル又は二置換ホスフィンオキシドを、ニッケル触媒と特定のホスフィン酸の存在下でアセチレン化合物と反応させることを特徴とする、位置選択性を高めた、対応するアルケニルリン化合物の製造法に関する。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
　ニッケルを含んでなる触媒と一般式［５］
　　　　ＨＯ−Ｐ(Ｏ)（Ｒ５)２　　　　［５］
(式中、Ｒ５はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)で表されるホスフィン酸の存在下に、一般式［１］
　　　　Ｒ１(Ｃ≡ＣＲ２)ｎ　　　　［１］
（式中、ｎは１又は２であり、ｎが１の場合のＲ１及びＲ２、並びにｎが２の場合のＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同シクロアルキル基、同アルケニル基、同シクロアルケニル基、同アリール基、同アラルキル基、同ヘテロアリール基、同アルコキシ基、同シクロアルコキシ基、同アラルキロキシ基、同アリールオキシ基、同シリル基、又はフェロセニル基を示す。また、ｎが２の場合のＲ１は、置換基を有していてもよいアルキレン基、同シクロアルキレン基、同アルケニレン基、同シクロアルケニレン基、同アリーレン基、同アラルキレン基、同ヘテロアリーレン基、同アルキレンジオキシ基、同シクロアルキレンジオキシ基、同アラルキレンジオキシ基、同アリーレンジオキシ基、同シリレン基、又はフェロセニレン基を示す。）で表されるアセチレン化合物を、一般式［２］
　　　　ＨＰ(Ｏ)Ｘ１Ｘ２　　　 　［２］
［式中、Ｘ１はＯＲ３又はＲ３を示し、Ｘ２はＯＲ４又はＲ４を示す（但し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）。］で表されるリン化合物と反応させることを特徴とする、一般式［３］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)Ｘ１Ｘ２]}ｎ　　［３］
又は/及び一般式［４］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)Ｘ１Ｘ２]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物の製造方法。
【請求項２】
　一般式［２］で表されるリン化合物が、下記一般式［２ａ］
　　　　ＨＰ(Ｏ)(ＯＲ３)(ＯＲ４)　　　［２ａ］
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）で表される水素化ホスホン酸エステルであり、一般式［３］又は/及び一般式［４］で表されるアルケニルリン化合物が、下記一般式［３ａ］又は/及び一般式［４ａ］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)(ＯＲ４)]}ｎ　　［３ａ］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)(ＯＲ４)]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４ａ］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
　一般式［２］で表されるリン化合物が、下記一般式［２ｂ］
　　　　ＨＰ(Ｏ)(ＯＲ３)Ｒ４　　　［２ｂ］
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）で表される水素化ホスフィン酸エステルであり、一般式［３］又は/及び一般式［４］で表されるアルケニルリン化合物が、下記一般式［３ｂ］又は/及び一般式［４ｂ］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)Ｒ４]}ｎ　　［３ｂ］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)Ｒ４]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４ｂ］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物である請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
　一般式［２］で表されるリン化合物が、下記一般式［２ｃ］
　　　　ＨＰ(Ｏ)Ｒ３Ｒ４　　　　　［２ｃ］
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）で表される二置換ホスフィンオキシドであり、一般式［３］又は/及び一般式［４］で表されるアルケニルリン化合物が、下記一般式［３ｃ］又は/及び一般式［４ｃ］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)Ｒ３Ｒ４]}ｎ　　［３ｃ］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)Ｒ３Ｒ４]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４ｃ］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物である請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
　ニッケルを含んでなる触媒が、ニッケル錯体触媒である請求項１〜４の何れかに記載の製造方法。
【請求項６】
　ニッケル錯体触媒が、低原子価のニッケル錯体触媒である請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
　ニッケル錯体触媒が、３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物を配位子とする低原子価の錯体である請求項５に記載の製造法。
【請求項８】
　ニッケル錯体触媒が、反応系中で容易に低原子価錯体に変換し得る前駆体錯体である請求項５に記載の製造方法。
【請求項９】
　ニッケル錯体触媒が、３級ホスフィン、３級ホスファイト等の３価のリン化合物を配位子として含まない同金属錯体と、３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物とを併用し、反応系中で形成させた３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物を配位子とする低原子価錯体である請求項５に記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、アルケニルホスホン酸エステル、アルケニルホスフィン酸エステル及びアルケニルホスフィンオキシド化合物等のアルケニルリン化合物の製造方法に関するものである。アルケニルリン化合物は、その基本骨格が天然に見出され、酵素などと作用することにより、それ自身が生理活性を示すことが知られている。同化合物は、各種触媒反応の補助配位子等として広く用いられる第３級ホスフィン等に容易に変換される極めて有用な化合物でもある。更に、同化合物は、求核剤やラジカル種と容易に反応し、Horner-Wittig反応に用いることもできるなど、精密化学品の合成の面でも有用性が高い一群の化合物である。
【背景技術】
【０００２】
　このようなアルケニルリン化合物を炭素−リン結合の生成を伴って合成する方法としては、一般的には、対応するアルケニルハライド化合物を水素化ホスホン酸エステル、水素化ホスフィン酸エステル及び二置換ホスフィンオキシド（以下、これらのリン化合物を総称してＰ−Ｈ化合物と呼ぶ。）で置換する方法が考えられる。しかし、この方法では、反応に伴って同時に生成するハロゲン化水素を捕捉するための塩基の添加が必要であり、これによって、大量のハロゲン化水素塩を併産する。また、その出発原料であるアルケニルハライド化合物は、工業的には必ずしも入手が容易でなく、また一般に毒性を有する。このため、この方法は、工業的に有利な方法とは考えられない。一方、触媒を用いて、Ｐ−Ｈ化合物のアセチレンへの付加によるアルケニルリン化合物の製造法も最近報告されているが（特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５等）、何れも高価なパラジウム又はロジウム触媒を使用する方法であり、且つこれらの方法は何れも生成物の選択性があまり高くない。
【０００３】
【特許文献１】日本国特許第２７７５４２６号
【特許文献２】日本国特許第２７７７９８５号
【特許文献３】日本国特許第２８４９７１２号
【特許文献４】日本国特許第３００７９８４号
【特許文献５】日本国特許第３０４１３９６号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
　本発明は、Ｐ−Ｈ化合物を出発原料とし、安価な触媒を用いて、アルケニルリン化合物を製造する方法を提供することを目的とするものであり、特に、位置異性体が生じる反応において、位置選択性を高めた製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
　本発明者らは、容易に入手可能なＰ−Ｈ化合物とアセチレン化合物の反応について鋭意研究を重ねた結果、安価なニッケル触媒存在下でこの付加反応が進行し、容易に対応するアルケニルリン化合物を与えることを見出し、また、特定のホスフィン酸の共存下に該反応を行うことにより、位置異性体が生じる反応において、位置選択性が高まることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
　即ち、本発明は、ニッケルを含んでなる触媒と一般式［５］
　　　　ＨＯ−Ｐ(Ｏ)（Ｒ５)２　　　　［５］
(式中、Ｒ５はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)で表されるホスフィン酸の存在下に、一般式［１］
　　　　Ｒ１(Ｃ≡ＣＲ２)ｎ　　　　［１］
（式中、ｎは１又は２であり、ｎが１の場合のＲ１及びＲ２、並びにｎが２の場合のＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同シクロアルキル基、同アルケニル基、同シクロアルケニル基、同アリール基、同アラルキル基、同ヘテロアリール基、同アルコキシ基、同シクロアルコキシ基、同アラルキロキシ基、同アリールオキシ基、同シリル基、又はフェロセニル基を示す。また、ｎが２の場合のＲ１は、置換基を有していてもよいアルキレン基、同シクロアルキレン基、同アルケニレン基、同シクロアルケニレン基、同アリーレン基、同アラルキレン基、同ヘテロアリーレン基、同アルキレンジオキシ基、同シクロアルキレンジオキシ基、同アラルキレンジオキシ基、同アリーレンジオキシ基、同シリレン基、又はフェロセニレン基を示す。）で表されるアセチレン化合物を、一般式［２］
　　　　ＨＰ(Ｏ)Ｘ１Ｘ２　　　 　［２］
［式中、Ｘ１はＯＲ３又はＲ３を示し、Ｘ２はＯＲ４又はＲ４を示す（但し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）。］で表されるリン化合物と反応させることを特徴とする、一般式［３］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)Ｘ１Ｘ２]}ｎ　　［３］
又は/及び一般式［４］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)Ｘ１Ｘ２]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物の製造方法に関する。
【発明の効果】
【０００７】
　本発明は、医薬・農薬などの生理活性物質や触媒調製用配位子等の合成中間体として有用なアルケニルリン化合物（アルケニルホスホン酸エステル、アルケニルホスフィン酸エステル及びアルケニルホスフィンオキシド化合物）の高収率で且つ位置選択性の高い、極めて実用性の高い製造方法を提供するものである。本発明のアルケニルリン化合物の合成方法は、触媒として比較的安価なニッケル錯体触媒を使用し、ホスフィン酸の共存下、特定のアセチレン類にＰ−Ｈ化合物（水素化ホスホン酸エステル、水素化ホスフィン酸エステル及び二置換ホスフィンオキシド）を反応させるだけで、簡便、安全、且つ効率的に合成することができ、生成物の分離精製も容易である。従って、本発明は工業的に多大の効果をもたらす。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
　上記一般式［１］、［３］及び［４］において、ｎが１の場合のＲ１及びＲ２、並びにｎが２の場合のＲ２で示される、置換基を有していても良いアルキル基のアルキル基としては、例えば、炭素数が１〜２０、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜６の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第二級ブチル基、第三級ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。
　また、置換基を有していてもよいシクロアルキル基のシクロアルキル基としては、例えば、炭素数３〜３０、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜１２の単環、多環又は縮合環式のシクロアルキル基が挙げられ、より具体的には、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基等が挙げられる。
　置換基を有していてもよいアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、前記した炭素数２以上のアルキル基に１個以上の二重結合を有するものが挙げられ、より具体的には、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基等が挙げられる。
　置換基を有していてもよいシクロアルケニル基のシクロアルケニル基としては、前記したシクロアルキル基に１個以上の二重結合を有するものが挙げられ、より具体的には、シクロプロペニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基等が挙げられる。
【０００９】
　置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、例えば、炭素数６〜３０、好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１４の単環、多環又は縮合環式の芳香族炭化水素基が挙げられ、より具体的には、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
　置換基を有していてもよいアラルキル基のアラルキル基としては、例えば、炭素数７〜３０、好ましくは７〜２０、より好ましくは７〜１５の単環、多環又は縮合環式のアラルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。
　置換基を有していてもよいヘテロアリール基のヘテロアリール基としては、酸素、窒素、イオウなどのヘテロ原子を含む各種の複素芳香環基が挙げられ、それに含まれる炭素数は通常４〜１２、好ましくは４〜８である。その具体例としては、チエニル基、フリル基、ピリジル基、ピロリル基などが挙げられる。
　置換基を有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基としては、例えば炭素数１〜８、好ましくは１〜４のアルコキシ基が挙げられ、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。
　置換基を有していてもよいシクロアルコキシ基のシクロアルコキシ基としては、例えば、炭素数３〜３０、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜１２の単環、多環又は縮合環式のシクロアルコキシ基が挙げられ、より具体的には、シクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロドデシルオキシ基等が挙げられる。
　置換基を有していてもよいアラルキロキシ基としては、例えば、炭素数７〜３０、好ましくは７〜２０、より好ましくは７〜１５の単環、多環又は縮合環式のアラルキロキシ基が挙げられ、より具体的には、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ナフチルメチルオキシ基、ナフチルエチルオキシ基等が挙げられる。
　置換基を有していてもよいアリールオキシ基のアリールオキシ基としては、例えば、炭素数６〜３０、好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１４の単環、多環又は縮合環式の芳香族炭化水素基を有するアリールオキシ基が挙げられ、より具体的には、例えば、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフトキシ基、メチルナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
【００１０】
　これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキロキシ基及びアリールオキシ基の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、水酸基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、例えば塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子、シアノ基、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、シリル基、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等の置換シリル基、例えばｔ−ブチルジメチルシロキシ基等のシロキシ基等が挙げられる。
【００１１】
　また、置換基を有していてもよいシリル基としては、例えばアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基等で置換されたものが含まれる。その具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジメチルシリル基、トリメトキシシリル基、t-ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
【００１２】
　ｎが２の場合のＲ１で示される置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、置換基を有していてもよいシクロアルケニレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、置換基を有していてもよいアラルキレン基、置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレンジオキシ基、置換基を有していてもよいシクロアルキレンジオキシ基、置換基を有していてもよいアリーレンジオキシ基、置換基を有していてもよいシリレン基、又はフェロセニレン基は前記したｎが１の場合のＲ１から水素１原子を取り除いた二価の残基、或いは水素１原子を酸素１原子に置き換えた二価の残基の中から選ばれ、その具体例としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、１，２−ジメチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、ナフチレン基、フェニルメチレン基、フランジイル基、２−ブテンジイル基、テトラメチレンジオキシ基、テトラリンジイルオキシ基、フェニレンジオキシ基、ジメチルシリレン基、フェロセニレン基等が挙げられる。
【００１３】
　本発明の製造方法において好ましく用いられる、上記一般式［１］で示されるアセチレン化合物を例示すると、無置換アセチレン、メチルアセチレン、ブチン、１−ヘキシン、２−ヘキシン、１−オクチン、４−オクチン、１−ブチン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、１−オクチン−３−オール、５−クロロ−１−ペンチン、フェニルアセチレン、トリメチルシリルアセチレン、エチニルチオフェン、ヘキシノニトリル、シクロヘキセニルアセチレン、エチニルフェロセン、１，４−ペンタジイン、１，８−ノナジイン、ジエチニルベンゼンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１４】
　上記一般式［２］において、Ｘ１がＯＲ３でＸ２がＯＲ４である場合には、一般式［２］で表されるリン化合物（Ｐ−Ｈ化合物）は、下記一般式［２ａ］
　　　　ＨＰ(Ｏ)(ＯＲ３)(ＯＲ４)　　　［２ａ］
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）で表される水素化ホスホン酸エステルとなり、反応により生成する一般式［３］又は/及び一般式［４］で表されるアルケニルリン化合物は、下記一般式［３ａ］又は/及び一般式［４ａ］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)(ＯＲ４)]}ｎ　　［３ａ］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)(ＯＲ４)]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４ａ］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物となる。
【００１５】
　上記一般式［２］において、Ｘ１がＯＲ３でＸ２がＲ４である場合には、一般式［２］で表されるリン化合物（Ｐ−Ｈ化合物）は、下記一般式［２ｂ］
　　　　ＨＰ(Ｏ)(ＯＲ３)Ｒ４　　　［２ｂ］
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）で表される水素化ホスフィン酸エステルとなり、反応により生成する一般式［３］又は/及び一般式［４］で表されるアルケニルリン化合物は、下記一般式［３ｂ］又は/及び一般式［４ｂ］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)Ｒ４]}ｎ　　［３ｂ］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)(ＯＲ３)Ｒ４]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４ｂ］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物となる。
【００１６】
　上記一般式［２］において、Ｘ１がＲ３でＸ２がＲ４である場合には、一般式［２］で表されるリン化合物（Ｐ−Ｈ化合物）は、下記一般式［２ｃ］
　　　　ＨＰ(Ｏ)Ｒ３Ｒ４　　　　　［２ｃ］
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。）で表される二置換ホスフィンオキシドとなり、反応により生成する一般式［３］又は/及び一般式［４］で表されるアルケニルリン化合物は、下記一般式［３ｃ］又は/及び一般式［４ｃ］
　　　　Ｒ１{ＣＨ＝ＣＲ２[Ｐ(Ｏ)Ｒ３Ｒ４]}ｎ　　［３ｃ］
　　　　Ｒ１{Ｃ[Ｐ(Ｏ)Ｒ３Ｒ４]＝ＣＨＲ２}ｎ　　［４ｃ］
（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ。）で表されるアルケニルリン化合物となる。
【００１７】
　一般式［２ａ］、［３ａ］、［４ａ］、［２ｂ］、［３ｂ］、［４ｂ］、［２ｃ］、［３ｃ］及び［４ｃ］において、Ｒ３及びＲ４で示される、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基、同アリール基における、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基及びアリール基の定義並びに具体例としては、上記Ｒ１及びＲ２のところで挙げたものと同じものが挙げられる。また、これらの置換基も、上記Ｒ１及びＲ２のところで挙げたものと同じものが挙げられる。また、Ｒ３及びＲ４それぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成している場合の具体例としては、例えば、エチレン基、テトラメチルエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、オルトフェニレン基、オルトキシリレン基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１８】
　本発明の製造方法において用いられる好適なＰ−Ｈ化合物を具体的に例示すると、ホスホン酸ジメチル、ホスホン酸ジエチル、ホスホン酸ジブチル、ホスホン酸ジフェニル、４,４,５,５−テトラメチル−１,３,２−ジオキサホスホラン−２−オキシド、フェニルホスフィン酸エチル、フェニルホスフィン酸シクロヘキシル、ジフェニルホスフィンオキシドなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない
【００１９】
　アセチレン化合物とＰ−Ｈ化合物化合物の使用比率は、一般的にモル比で１：１が好ましいが、これより大きくても小さくても、反応の生起を阻害するものではない。
【００２０】
　本発明に係る反応は、ニッケルを含んでなる触媒、就中、ニッケル錯体触媒の存在下において好ましい速度で進行する。
　ニッケル錯体触媒としては、種々の構造のものを用いることが出来るが、好適なものは、いわゆる低原子価のニッケル錯体触媒である。
　また、３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体も好ましく用いることが出来る。
　更に、反応系中で容易に低原子価錯体に変換し得る前駆体錯体を用い、反応系中で低原子価ニッケル錯体を形成させて反応させることも好ましい態様である。　更にまた、３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物を配位子として含まない同金属錯体と、３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物とを併用し、反応系中で３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物を配位子とする低原子価錯体を形成させて使用する方法や、３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物を配位子とする低原子価錯体に同種又は異種の３級ホスフィン、３級ホスファイト等の３価のリン化合物を更に添加して使用する方法等も好ましい態様である。
　これらのいずれかの方法で有利な性能を発揮する配位子としては、種々の３級ホスフィンや３級ホスファイト等の３価のリン化合物を挙げることが出来る。
【００２１】
　好適に用いることが出来る配位子を例示すると、例えば、トリフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、１,４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１,３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１,２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１,１'−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１,２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼン、トランス−１,２−ビス（ジフェニルホスフィノ）シクロペンタン、トリエチルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリメチルホスファイト、トリフェニルホスファイト等が挙げられる。
【００２２】
　これらの配位子と組み合わせて又は単独で用いられる、３級ホスフィンや３級ホスファイトを配位子として含まない錯体としては、例えば、ビス（アクリロニトリル）ニッケル、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル［Ｎｉ(ｃｏｄ)２ ］、ビス（π−アリル）ニッケル、ニッケロセン、ニッケルカルボニル、(π−シクロペンタジエニル)(π−アリル) ニッケル、酢酸ニッケル、臭化ニッケル等が挙げられる。
【００２３】
　また、３級ホスフィンやホスファイトを配位子として含んでなる錯体としては、
例えば、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ニッケル、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、ジメチルビス（ジフェニルメチルホスフィン）ニッケル、（エチレン）ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル［Ｎｉ(ＰＰｈ３)４］、テトラキス（ジフェニルメチルホスフィン）ニッケル、テトラキス（ジメチルフェニルホスフィン）ニッケル、テトラキス（トリエチルホスフィン）ニッケル、ジカルボニルビストリフェニルホスフィンニッケル、(トリカルボニル)(トリフェニルホスフィン)ニッケル［Ｎｉ(ＣＯ)３(ＰＰｈ３)］、テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニッケル等が挙げられ、特に好適に用いられるホスフィン又はホスファイト錯体としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テトラキス（ジフェニルメチルホスフィン）ニッケル、テトラキス（ジメチルフェニルホスフィン）ニッケル、テトラキス（トリエチルホスフィン）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニッケルなどが挙げられる。
【００２４】
　前駆体錯体を用い反応系中で低原子価ニッケル錯体を発生させる方法においては、前駆ニッケル錯体の構造によっては低原子価にするための処理剤を併用することが好ましい。その際に用いられる処理剤としては、還元剤やグリニャール試薬等が挙げられ、より具体的には、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ナトリウム等の水素化物、トリエチルアルミニウム、フェニルリチウム、ブチルリチウム、金属リチウム、金属ナトリウム、ナトリウムアマルガム、金属亜鉛、臭化メチルマグネシウム、沃化フェニルマグネシウム、臭化イソプロピルマグネシウム等が挙げられる。
　前駆ニッケル錯体の具体例としては、例えば、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、ジクロロビス（ジフェニルメチルホスフィン）ニッケル、ジクロロビス（ジメチルフェニルホスフィン）ニッケル、クロロフェニルビス（トリフェニルホスフィン）ニッケルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２５】
　本発明の反応において用いられる上記の触媒は反応に応じて好適なものを１種又は２種以上適宜選択して用いられる。
　本発明の反応に用いられるニッケル触媒の使用量はいわゆる触媒量で良く、アセチレン化合物に対して２０モル％以下で足りるが、通常は１０モル％以下で十分である。
　なお、３価のリン化合物を配位子として用いる場合のこれらの使用量は、特に厳密な制限ではないが、リンのニッケルに対する原子比があまりに過剰であると触媒活性を低下させる傾向にあるので、一般的にはその原子比で５０以下、好ましくは１０以下に設定するのが好ましい。
【００２６】
　本発明の製造方法は、上記した如きニッケル触媒とホスフィン酸添加剤の共存下に反応を行う点に特徴を有する。ホスフィン酸添加物を併用することにより位置選択性が高まるので、そのような位置異性体が生じる反応に本発明の製造方法は最適である。
　これらのホスフィン酸は、例えば一般式［５］
　　　　ＨＯ−Ｐ(Ｏ)（Ｒ５)２　　　　［５］
(式中、Ｒ５はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)で表される。
【００２７】
　一般式［５］において、Ｒ５がアルキル基の場合のアルキル基としては、例えば炭素数１〜６、好ましくは１〜４のアルキル基が挙げられ、その具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピル基、ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。
　Ｒ５がシクロアルキル基の場合のシクロアルキル基としては、例えば炭素数３〜１２、好ましくは５〜１２のシクロアルキル基が挙げられ、その具体例としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基などが挙げられる。
　Ｒ５がアリール基の場合のアリール基としては、例えば炭素数６〜１４、好ましくは６〜１０のアリール基が挙げられ、その具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられ、さらにそれらの置換体（トリル基、キシリル基、ベンジルフェニル基など）も包含される。
　Ｒ５がアラルキル基の場合のアラルキル基としては、例えば炭素数７〜１５、好ましくは７〜１１のアラルキル基が挙げられ、その具体例としては、例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基などが挙げられる。
　Ｒ５で示されるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基は，反応に不活性な置換基、例えば、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、ジメチルアミノ基、フルオロ基、クロロ基、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
【００２８】
　本発明で用いられるホスフィン酸の具体例としては、例えばジフェニルホスフィン酸やジメチルホスフィン酸などが挙げられる。その使用量は、用いるＰ−Ｈ化合物に対して等モル以下、好ましくは、０．１〜１０モル％である。
【００２９】
　反応は特に溶媒を用いなくてもよいが、必要に応じて溶媒中で実施することもできる。溶媒としては、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオノニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド系溶媒等、種々のものが使用できる。また、これらは単独若しくは２種以上の混合物として使用することも出来る。
【００３０】
　反応温度は、あまりに低温では反応が有利な速度で進行せず、あまりに高温では触媒が分解するので、一般的には、−２０℃から３００℃の範囲から選ばれ、好ましくは０℃から１５０℃の範囲で実施される。反応時間は、用いるアセチレン化合物及びＰ−Ｈ化合物の種類や反応温度その他の反応条件等により自ずから異なるが、通常数時間〜数十時間程度である。
【００３１】
　本反応は空気中等の酸素の存在下でも進行するが、本反応系中で作用する触媒活性種は酸素に敏感なので、反応の実施は窒素、アルゴン、メタン等の不活性ガス雰囲気で行うのが好ましい。反応混合物からの生成物の分離は、クロマトグラフィー、蒸留、再結晶等によって容易に達成される。
【００３２】
　以下、参考例、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。
【００３３】
参考例１
　ＴＨＦ １ミリリットルに、(ＭｅＯ)２Ｐ(Ｏ)Ｈ １ミリモル、１−オクチン １ミリモル、触媒としてＮｉ(ＰＰｈＭｅ２)４（５モル％）を用い、窒素雰囲気下、室温で０．５時間反応させたところ、ＣＨ２＝Ｃ(ｎ−Ｃ６Ｈ１３)[Ｐ(Ｏ)(ＯＭｅ)２]と(Ｅ)−ＣＨ(ｎ−Ｃ６Ｈ１３)＝ＣＨ[Ｐ(Ｏ)(ＯＭｅ)２]の混合物（比率＝１００：４６）が９７％の収率で得られた。
【実施例１】
【００３４】
　参考例１の反応をジフェニルホスフィン酸（１０モル％）共存下で行ったところ、ＣＨ２＝Ｃ(ｎ−Ｃ６Ｈ１３)[Ｐ(Ｏ)(ＯＭｅ)２]が９６％の収率で選択的に生成した。
【００３５】
参考例２
　ＴＨＦ １ミリリットルに、ＨＰ(Ｏ)(ＯＥｔ)Ｐｈ １ミリモル、フェニルアセチレン １ミリモル、触媒としてＮｉ(ＰＰｈＭｅ２)４（５モル％）を用い、窒素雰囲気下、室温で０．５時間反応させたところ、[(Ｅ)−２−フェニルエテニル]フェニルホスフィン酸エチルと(１−フェニルエテニル)フェニルホスフィン酸エチルの混合物（比率＝２９：７１）が５６％の収率で得られた。
【実施例２】
【００３６】
　参考例２の反応をジフェニルホスフィン酸（１０モル％）共存下で行ったところ、（１−フェニルエテニル）フェニルホスフィン酸エチルが９８％の収率で選択的に生成した。
【実施例３】
【００３７】
　実施例２と同じ反応条件下で、フェニルアセチレンの代わりに１−オクチンを用いて、反応を行ったところ、ＣＨ２＝Ｃ(ｎ−Ｃ６Ｈ１３)[Ｐ(Ｏ)Ｐｈ(ＯＥｔ)]が８８％の収率で選択的に生成した。
【実施例４】
【００３８】
　実施例２と同じ反応条件下で、フェニルアセチレンの代わりにトリメチルシリルアセチレンを用いて、反応を行ったところ、(Ｅ)−ＣＨ(ＳｉＭｅ３)＝ＣＨ［Ｐ(Ｏ)Ｐｈ(ＯＥｔ)]が９２％の収率で選択的に生成した。
【実施例５】
【００３９】
　実施例２と同じ反応条件下で、フェニルアセチレンの代わりに２−エチニルチオフェンを用いて、反応を行ったところ、[１−(２−チエニル)エテニル]フェニルホスフィン酸エチルが６３％の収率で選択的に生成した。
【００４０】
参考例３
　ＴＨＦ １ミリリットルに、ＨＰ(Ｏ)Ｐｈ２ １ミリモル、フェニルアセチレン １ミリモル、触媒としてＮｉ(ＰＰｈＭｅ２)４（５モル％）を用い、窒素雰囲気下、室温で０．５時間反応させたところ、ＣＨ２＝Ｃ(Ｐｈ)[Ｐ(Ｏ)Ｐｈ２]と(Ｅ)−ＣＨ(Ｐｈ)＝ＣＨ[Ｐ(Ｏ)Ｐｈ２]の混合物（比率＝５６：４４）が９３％の収率で得られた。
【実施例６】
【００４１】
　参考例３の反応をジフェニルホスフィン酸（１０モル％）共存下で行ったところ、ＣＨ２＝Ｃ(Ｐｈ)[Ｐ(Ｏ)Ｐｈ２]が９８％の収率で選択的に生成した。