(57)【要約】【課題】紫外線による基板の劣化を防止し、かつ基板の温度上昇を十分に抑制する表示素子製造装置および表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】液晶パネル製造装置１は、紫外線硬化性の樹脂６を介在させて互いに向い合う一対の基板５を保持する下側ステージ２と、下側ステージ２と対向して設けられ、下側ステージ２との間で一対の基板５を挟持する上側ステージ３と、下側ステージ２が一対の基板５を保持する面と反対側の面から、下側ステージ２に向けて紫外光９を照射するメタルハライドランプ８とを備える。下側ステージ２は、紫外線に対して第１の透過率を有する紫外線透過部２ｂと、紫外線に対して第１の透過率よりも小さい第２の透過率を有するマスク部２ａとを含む。【選択図】　　　　図１
2004086010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線に対して第１の透過率を有する第１の部分と、紫外線に対して第１の透過率よりも小さい第２の透過率を有する第２の部分とを含み、紫外線硬化性のシール剤を介在させて互いに向い合う一対の基板を保持する第１の保持部材と、
前記第１の保持部材と対向して設けられ、前記第１の保持部材との間で一対の基板を挟持する第２の保持部材と、
前記第１の保持部材が一対の基板を保持する面と反対側の面から、前記第１の保持部材に向けて紫外線を照射する紫外線照射部とを備える、表示素子製造装置。
【請求項２】
前記第１および第２の保持部材の少なくとも一方は、一対の基板の温度を調節するための温度調節手段を含む、請求項１に記載の表示素子製造装置。
【請求項３】
前記第１の保持部材と前記紫外線照射部との間に設けられたベース部材をさらに備え、前記第１の保持部材は前記ベース部材に着脱自在に取り付けられている、請求項１または２に記載の表示素子製造装置。
【請求項４】
紫外線硬化性のシール剤を介在させて互いに向い合う一対の基板を、紫外線に対して第１の透過率を有する第１の部分と、紫外線に対して第１の透過率よりも小さい第２の透過率を有する第２の部分とを含む第１の保持部材の上に載置する工程と、
前記一対の基板に対して前記第１の保持部材とは反対側に第２の保持部材を位置決めし、前記第１および第２の保持部材によって前記一対の基板を挟持する工程と、
前記一対の基板を挟持した状態で、前記一対の基板が載置された前記第１の保持部材の面とは反対側の面から、前記第１の保持部材に向けて紫外線を照射する工程とを備える、表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一般的には、液晶表示素子、有機・無機ＥＬ表示素子などの各種表示素子の製造装置および表示素子の製造方法に関し、より特定的には、紫外線を照射することによって硬化する紫外線硬化性のシール剤を用いて一対の基板を貼り合せる表示素子製造装置および表示素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ノートＰＣ、モニター、携帯電話およびＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）などの幅広い製品に用いられている液晶パネルなどの表示素子は主に一対のガラス基板から構成されている。これらの製品の中で携帯電話およびＰＤＡは持ち歩いて使用されることを前提としており、製品の重量および強度に対して特に高い品質が求められる。そこで、一対のガラス基板から構成されている表示素子にプラスチック基板を用いることによって、完成品の軽量化および堅牢化を同時に達成しようとしている。
【０００３】
しかし、現在プラスチック基板を用いた表示素子で実用化されているのは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型またはＳＴＮ型（Ｓｕｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型などの単純マトリクス型の液晶パネルにとどまっている。近年の携帯電話およびＰＤＡは多機能化しており、その機能を十分に生かすためには現状の単純マトリクス型の液晶パネルのみならず、高コントラストおよび高速応答性を実現することが可能であるＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）またはＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ　Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ　Ｍｅｔａｌ）などのスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルが必要となる。
【０００４】
このようなアクティブマトリクス型の液晶パネルにおいて基板上にスイッチング素子を形成するためには、一般的に温度が３００℃を超える熱プロセスを行なわなければならず、耐熱性の低いプラスチック基板では対応することができない。このため、スイッチング素子はガラス基板上に設けて、比較的低い温度で形成することができるカラーフィルターをプラスチック基板に設ける手法がとられている。また、ガラス基板のかわりに、耐熱性が高く不透明で、かつ線膨張係数が小さいＰＩ（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）樹脂基板またはステンレス（ＳＵＳ；ＪＩＳ呼称）基板を用い、これにスイッチング素子を設けようとする動きもある。
【０００５】
このように、異なる材質の基板を一対にして表示素子として使用した場合、対向する位置関係にある基板の線膨張係数が異なるため、基板を貼り合わせる工程において表示素子に反りが発生するという問題が発生する。つまり、基板を貼り合わせる工程において、基板間に設けたシール剤としての熱硬化性樹脂を硬化させるため基板を加熱しなければならない。この際、一方の基板と他方の基板との間で基板の温度上昇によって伸びる長さが異なるため、貼り合わされた後の表示素子に反りが発生する。このため、異なる材質の基板を一対にして表示素子に使用する場合には、基板同士を接合するシール剤として熱硬化性の樹脂ではなく紫外線硬化性の樹脂が使用される。
【０００６】
図１７は、従来用いられている液晶パネル製造装置を示す断面図である。図１７を参照して、液晶パネル製造装置１０１は、上下一対に設けられた上側ステージ１０３および下側ステージ１０２と、メタルハライドランプ１０８とを備える。下側ステージ１０２は、全体がガラスによって形成されている。上側ステージ１０３は、ステンレス鋼（ＳＵＳ；ＪＩＳ呼称）から形成されている。
【０００７】
上側ステージ１０３と下側ステージ１０２との間には、一対の基板１０５が配置される。一対の基板１０５は、上側ステージ１０３および下側ステージ１０２によって所定の力で加圧されながら挟持されている。一対の基板１０５は、上側に位置するプラスチック基板１０５ａと、下側に位置するガラス基板１０５ｂと、プラスチック基板１０５ａとガラス基板１０５ｂとの間に帯状に配置された紫外線硬化性の樹脂１０６とによって構成されている。プラスチック基板１０５ａ、ガラス基板１０５ｂおよび樹脂１０６によって規定される空間１０７には、後に続く工程で液晶が注入される。
【０００８】
下側ステージ１０２に対して一対の基板１０５が位置する側とは反対側には、下側ステージ１０２と所定の距離を隔ててメタルハライドランプ１０８が設けられている。メタルハライドランプ１０８は下側ステージ１０２の位置する方向に紫外光１０９を照射できるように設けられている。
【０００９】
液晶パネル製造装置１０１では、下側ステージ１０２が光学的に透明なガラスから形成されているため、メタルハライドランプ１０８から照射された紫外光１０９が下側ステージ１０２を介して一対の基板１０５に達する。一対の基板１０５に達した紫外光１０９は、紫外線硬化性の樹脂１０６を硬化させる。
【００１０】
また、異なる材質の基板を一対にして液晶パネルに使用する場合に、基板を貼り合わせる工程において基板の温度上昇を防止することが可能な液晶装置の製造装置が、特開２０００−１９３９８６に開示されている。図１８は、特開２０００−１９３９８６に開示されている液晶装置の製造装置を示す断面図である。
【００１１】
図１８を参照して、液晶装置の製造装置１１０は、液晶パネル１２０が載置される搬送用パレット１１１と、搬送用パレット１１１を移送する移送手段１１２と、搬送用パレット１１１の移送路の上方に配置された高圧水銀ランプなどの紫外線ランプ１１３ａ、１１３ｂおよび１１３ｃと、搬送路の側方に配置されて、通過する搬送用パレット１１１上の液晶パネル１２０に向けて風を送る送風ファン１１４とを備える。液晶パネル１２０は、液晶装置の製造装置１１０の内部において始端側のローディング位置１１５から後端側のアンローディング位置１１６まで移送され、この間に紫外線ランプ１１３から紫外線の照射を上方から受ける。
【００１２】
図１９は、図１８中に示した搬送用パレットおよび液晶パネルを示す側面図である。図１９を参照して、下側に位置し搬送用パレット１１１に載置されたシリコン基板１２１が、切断前のウェハの状態で設けられている。シリコン基板１２１上には、図示しない紫外線硬化型樹脂を介在させた状態で、各パネル毎に切断されたガラス基板１２２が複数位置決めされている。搬送用パレット１１１の側面には、冷却フィン１１１ａが複数設けられている。
【００１３】
紫外線ランプ１１３から紫外線の照射を受けることによって搬送用パレット１１１上の液晶パネル１２０の温度は上昇する。しかし、液晶装置の製造装置１１０は、液晶パネル１２０に向けて風を送る送風ファン１１４、および液晶パネル１２０の熱を外部に放熱するための冷却フィン１１１ａを備えるため、液晶パネル１２０の温度上昇は抑制される。これにより、液晶パネル１２０に発生する反りを防止し、シリコン基板１２１およびガラス基板１２２の位置ずれを防止することができる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
図１７に示した液晶パネル製造装置１０１では、メタルハライドランプ１０８から照射された紫外光１０９を一対の基板１０５に到達させるために、下側ステージ１０２の全体をガラスで形成している。このため、下側ステージ１０２を透過した紫外光１０９は、一対の基板１０５の全面に照射される。しかし、紫外線硬化性の樹脂１０６を硬化させるためには、数千ｍＪ／ｃｍ２から数万ｍＪ／ｃｍ２のエネルギの紫外線を照射させる必要があり、紫外線照射による熱の影響を無視することができない。このため、紫外線硬化性の樹脂１０６が完全に硬化するまで紫外光１０９を照射すると、メタルハライドランプ１０８からの輻射熱などの影響により一対の基板１０５の温度が上昇する。
【００１５】
このような理由から、精度良く位置決めしたガラス基板１０５ｂとプラスチック基板１０５ａとの間で紫外線硬化性の樹脂１０６が硬化する際に位置ずれが生じたり、ガラス基板１０５ｂとプラスチック基板１０５ａとを貼り合せた後に、一対の基板１０５に反りが発生するという問題が発生する。
【００１６】
また、プラスチック基板１０５ａに紫外光１０９が照射されると、内部の有機分子が紫外線を吸収して励起状態となりその励起エネルギを効率的に放出できない場合には、プラスチック基板１０５ａの劣化の原因となる。プラスチック基板１０５ａが紫外光１０９によって劣化されると、黄褐色または乳白色に変化する。このように基板の着色（透過率の減少）が発生することは、液晶パネルにとって致命的であり、一対の基板１０５にプラスチックを使用する場合には紫外線による基板の劣化が問題となる。
【００１７】
また、図１８に示す液晶装置の製造装置１１０では、液晶パネル１２０の温度上昇を抑制するために、送風ファン１１４および冷却フィン１１１ａを備えている。しかし、液晶装置の製造装置１１０は、シリコン基板１２１およびガラス基板１２２のように互いの線膨張係数の差が小さい材料を基板に使用する場合には有効であるが、ガラスとプラスチックのように互いの線膨張係数が著しく異なる材料を基板に使用する場合には十分とは言えない。このような場合には、基板に数十度の温度上昇があっただけで一方の基板と他方の基板との間で大きな伸び量の違いが生じ、液晶パネル１２０に反りが発生したり、上下の基板に位置ずれが発生するという問題が生じる。
【００１８】
そこでこの発明の目的は、上記の課題を解決することであり、紫外線による基板の劣化を防止し、かつ基板の温度上昇を十分に抑制する表示素子製造装置および表示素子の製造方法を提供することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
この発明に従った表示素子製造装置は、紫外線硬化性のシール剤を介在させて互いに向い合う一対の基板を保持する第１の保持部材と、第１の保持部材と対向して設けられ、第１の保持部材との間で一対の基板を挟持する第２の保持部材と、第１の保持部材が一対の基板を保持する面と反対側の面から、第１の保持部材に向けて紫外線を照射する紫外線照射部とを備える。第１の保持部材は、紫外線に対して第１の透過率を有する第１の部分と、紫外線に対して第１の透過率よりも小さい第２の透過率を有する第２の部分とを含む。
【００２０】
このように構成された表示素子製造装置によれば、紫外線照射部から、第１の部分と第２の部分とを含む第１の保持部材の全面に向けて紫外線が照射される。たとえば第１および第２の部分は、それぞれガラスおよびステンレス鋼（ＳＵＳ）によって形成されており、紫外線に対する透過率はガラスよりもステンレス鋼の方が小さい。紫外線に対する透過率が相対的に大きい第１の部分を、第１および第２の保持部材によって一対の基板を挟持した状態において、一対の基板に介在するシール剤が位置する部分と第１の部分とが重なり合うように設ける。第１の部分は紫外線に対して相対的に大きい透過率を有するため、第１の部分に照射された紫外線の多くが第１の部分を透過してシール剤に照射されることとなる。これにより、第１の部分に照射された紫外線は、シール剤を硬化させるために有効に利用され、一対の基板の向い合う基板は硬化したシール剤によって貼り合わされる。
【００２１】
また、第２の部分は第１の部分と比較して紫外線に対する透過率が小さいため、第２の部分に照射された紫外線の多くが第２の部分の表面で反射される。このため、第２の部分に照射された紫外線が一対の基板に達しにくくなる。一対の基板においてシール剤が設けられた部分以外には、紫外線を照射する必要がないため、第２の部分の表面で紫外線が反射されたとしても問題はない。
【００２２】
したがって、このように紫外線に対する透過率が相対的に大きい第１の部分を第１の保持部材に設けることによって、第１の部分に多くの紫外線を透過させ紫外線の照射が必要な部分にのみ紫外線照射を行なうことができる。また、紫外線に対する透過率が相対的に小さい第２の部分を第１の保持部材に設けることによって、紫外線の照射による一対の基板の温度上昇を抑制することができる。なお、一対の基板においてシール剤が設けられるのは帯状に延びるわずかな部分にすぎないので、第１の部分が設けられる部分も第１の保持部材が紫外線を受ける全面積から見ればわずかな面積にすぎない。このため、第１の部分を透過した紫外線によって一対の基板が温度上昇することも考えられるが、無視できる範囲内に収まっていると考えて良い。
【００２３】
これにより、一対の基板の向い合う基板が大きく異なる線膨張係数の材料で形成されている場合であっても、温度上昇によって一方の基板と他方の基板との間で大きな伸び量の違いが生じ、その結果一対の基板に反りが発生することを防止できる。また、同様の場合に、一対の基板の温度上昇によって向い合う基板同士の位置関係がずれることを防止できる。
【００２４】
また、一対の基板がプラスチック基板で形成されている場合であっても、第１の部分を透過する紫外線の量はわずかにすぎないので、プラスチック基板が紫外線によって劣化することを抑制できる。
【００２５】
また好ましくは、第１および第２の保持部材の少なくとも一方は、一対の基板の温度を調節するための温度調節手段を含む。このように構成された製造装置によれば、一対の基板の向い合う基板の温度調節を適切に行なうことによって、一対の基板に反りが発生することおよび向い合う基板同士の位置関係にずれが発生することを防止できる。
【００２６】
第１の保持部材側から紫外線を照射することによって、一対の基板のうち、第２の保持部材と接触する基板よりも第１の保持部材と接触する基板の方が温度上昇する。このような場合に、たとえば第１の保持部材に温度調節手段としての冷却手段を設ける。これにより、第１の保持部材と接触する基板の温度を第２の保持部材と接触する基板の温度まで下げることができる。また、本発明では紫外線に対する透過率が相対的に小さい第２の部分を第１の保持部材に設けているため、基板に発生する温度上昇はわずかなものである。したがって、温度調節手段による基板の温度調節は容易に行なうことができる。
【００２７】
また好ましくは、表示素子製造装置は、第１の保持部材と紫外線照射部との間に設けられたベース部材をさらに備える。第１の保持部材はベース部材に着脱自在に取り付けられている。このように構成された表示素子製造装置によれば、第１の保持部材を固定するベース部材を別に備え、そのベース部材に対して第１の保持部材が着脱自在に設けられているので、製造する表示素子の機種ごとに第１の保持部材を取り換えて一対の基板の貼り合せを行なうことができる。
【００２８】
上述のように、紫外線に対する透過率が相対的に大きい第１の部分は、一対の基板に介在するシール剤が位置する部分と重なり合うように設けられる。しかし、シール剤は表示素子の大きさを決定する側壁も兼ねているため、表示素子の機種ごとにシール剤が設けられる位置は異なる。このため、第１の部分を設ける位置もシール剤が設けられた位置に対応して変更しなければならない。したがって、表示素子の機種ごとに所定位置に第１の部分が設けられた第１の保持部材を準備し、適宜ベース部材に対して適当な第１の保持部材を取り付けて表示素子の製造を行なえばよい。これにより、表示素子製造時の作業性を向上させ、表示素子の製造コストを削減することができる。
【００２９】
この発明に従った表示素子の製造方法は、紫外線硬化性のシール剤を介在させて互いに向い合う一対の基板を、紫外線に対して第１の透過率を有する第１の部分と、紫外線に対して第１の透過率よりも小さい第２の透過率を有する第２の部分とを含む第１の保持部材の上に載置する工程と、一対の基板に対して第１の保持部材とは反対側に第２の保持部材を位置決めし、第１および第２の保持部材によって一対の基板を挟持する工程と、一対の基板を挟持した状態で、一対の基板が載置された第１の保持部材の面とは反対側の面から、第１の保持部材に向けて紫外線を照射する工程とを備える。
【００３０】
このように構成された表示素子の製造方法によれば、第１の保持部材に向けて紫外線を照射する工程において、紫外線に対する透過率が相対的に大きい第１の部分では多くの紫外線が透過し、紫外線の照射が必要な部分としての一対の基板においてシール剤が位置する部分に紫外線が照射される。これにより、第１の部分に照射された紫外線はシール剤を硬化させるために有効に利用され、一対の基板の向い合う基板は硬化したシール剤によって貼り合わされる。また、同様の工程において、紫外線に対する透過率が相対的に小さい第２の部分では多くの紫外線が反射され、紫外線の照射によって発生する一対の基板の温度上昇を抑制することができる。これにより、一対の基板に反りが発生すること、および向い合う基板同士の位置関係にずれが発生することを防止できる。
【００３１】
加えて、第１および第２の保持部材によって一対の基板を挟持したまま、第１の保持部材に向けて紫外線を照射する工程を行なうことによって、一対の基板に介在するシール剤が硬化するまでの間、一対の基板の向い合う基板同士の位置関係を固定することができる。また、温度上昇に伴う基板の反りをある程度抑制することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
この発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００３３】
（実施の形態１）
本実施の形態では、表示素子としての液晶パネルを形成する場合について説明する。
【００３４】
図１は、この発明の実施の形態１における液晶パネル製造装置を示す断面図である。図１を参照して、表示素子製造装置としての液晶パネル製造装置１は、上下一対に設けられた上側ステージ３および下側ステージ２と、下側ステージ２が設けられたマスク固定用定盤１０と、メタルハライドランプ８とを備える。液晶パネル製造装置１を用いて、上下一対の基板を貼り合わせ液晶パネルを製造する。
【００３５】
マスク固定用定盤１０は、全体がガラスによって形成されており、上面には凹部１０ａが形成されている。凹部１０ａに下側ステージ２が着脱自在に嵌合されて設けられている。マスク固定用定盤１０の大きさは、縦×横×厚さが３００ｍｍ×３００ｍｍ×５０ｍｍである。上側ステージ３の上面から複数のロッド１１が上方に延びており、ロッド１１は図示しない駆動機構に接続されている。図示しない駆動機構により、上側ステージ３を上下方向に移動させることができる。
【００３６】
マスク固定用定盤１０に対して下側ステージ２が位置する側の反対側には、マスク固定用定盤１０と所定の間隔を隔ててメタルハライドランプ８が設けられている。メタルハライドランプ８は、下側ステージ２の位置する方向に紫外光９を照射できるように設けられている。
【００３７】
上側ステージ３と下側ステージ２との間には、一対の基板５が配置される。図示しない駆動機構により上側ステージ３を下方に移動させ一対の基板５を加圧することによって、または上側ステージ３の自重によって、一対の基板５は上側ステージ３および下側ステージ２の間で挟持されている。一対の基板５は、上側に位置するプラスチック基板５ａと、下側に位置するガラス基板５ｂと、プラスチック基板５ａとガラス基板５ｂとの間に帯状に配置された紫外線硬化性の樹脂６とによって構成されている。プラスチック基板５ａ、ガラス基板５ｂおよび樹脂６によって空間７が規定されており、空間７には、後に続く工程で液晶が注入される。
【００３８】
なお、プラスチック基板５ａおよびガラス基板５ｂを貼り合わせる際の上側ステージ３と下側ステージ２との距離は、一対の基板５の設計上の厚さ寸法に合わせて決定される。また、樹脂６が塗布される分量は、プラスチック基板５ａおよびガラス基板５ｂの間において、樹脂６が空間７の側壁を形成できるように決定されている。
【００３９】
図２は、図１中の一対の基板および下側ステージを詳細に示す斜視図である。図２を参照して、ガラス基板５ｂ上には、帯状に延びて長方形の枠型を形成するように、紫外線硬化性の樹脂６が設けられている。樹脂６が形成する枠型の一部には、後工程で液晶を注入するために用いる注入口６ａが設けられている。樹脂６は、３００ｎｍから４００ｎｍ程度の波長の紫外線照射を受けることによって硬化するシール剤であり、接着性および耐薬品性などに優れている。樹脂６は、アクリル系、エポキシ系およびアクリルエポキシ系などの紫外線硬化性の樹脂であればどのようなものであっても良い。
【００４０】
下側ステージ２の大きさは、縦×横×厚さが２００ｍｍ×２００ｍｍ×１５ｍｍである。下側ステージ２は、ステンレス鋼（ＳＵＳ；ＪＩＳ呼称）によって形成されたマスク部２ａとガラスによって形成された紫外線透過部２ｂとによって構成されている。紫外線に対する透過率は、紫外線透過部２ｂよりもマスク部２ａの方が小さい。紫外線透過部２ｂは、下側ステージ２上にガラス基板５ｂを位置決めした状態において、ガラス基板５ｂ上の樹脂６を設けた帯状部分と重なり合うように形成されている。紫外線透過部２ｂは、紫外線透過部２ｂ上に樹脂６を設けた帯状部分を投影した場合に、樹脂６を設けた帯状部分が紫外線透過部２ｂに含まれるように設けられている。このため、紫外線透過部２ｂも樹脂６を設けた帯状部分と同様に帯状に形成されており、その幅は２ｍｍである。
【００４１】
下側ステージ２とは異なるパターン形状で紫外線透過部２ｂが設けられた下側ステージ２の交換用ステージが複数準備されている。交換用ステージでは、製造する液晶パネルの機種に合わせて、液晶パネルに樹脂６が設けられている部分と紫外線透過部２ｂとが重なり合うようにステンレス鋼にガラスが嵌め込まれている。液晶パネル製造装置１を用いて製造する液晶パネルの機種が変わる場合には、マスク固定用定盤１０から下側ステージ２を取り外し、適当な交換用ステージをマスク固定用定盤１０に固定してから液晶パネルの製造を行なう。
【００４２】
続いて、液晶パネル製造装置１の動作原理について説明する。図１を参照して、一対の基板５が上側ステージ３と下側ステージ２との間で所定の力で加圧を受けている状態において、メタルハライドランプ８から下側ステージ２の位置する方向に向けて紫外光９を照射する。マスク固定用定盤１０の全体が光学的に透明なガラスによって形成されているため、紫外光９はマスク固定用定盤１０を透過し下側ステージ２の表面に達する。その後、下側ステージ２のマスク部２ａに達した紫外光９はマスク部２ａの表面で反射されるが、紫外線透過部２ｂに達した紫外光９はその大部分が反射されずに紫外線透過部２ｂを透過する。紫外線透過部２ｂを透過した紫外光９は一対の基板５に到達し樹脂６に向けて照射される。紫外光９の照射を受けた樹脂６は硬化し、プラスチック基板５ａとガラス基板５ｂとが貼り合わされる。
【００４３】
この発明の実施の形態１に従った表示素子製造装置としての液晶パネル製造装置１は、紫外線硬化性のシール剤としての樹脂６を介在させて互いに向い合う一対の基板５を保持する第１の保持部材としての下側ステージ２と、下側ステージ２と対向して設けられ、下側ステージ２との間で一対の基板５を挟持する第２の保持部材としての上側ステージ３と、下側ステージ２が一対の基板５を保持する面と反対側の面から、下側ステージ２に向けて紫外線としての紫外光９を照射する紫外線照射部としてのメタルハライドランプ８とを備える。下側ステージ２は、紫外線に対して第１の透過率を有する第１の部分としての紫外線透過部２ｂと、紫外線に対して第１の透過率よりも小さい第２の透過率を有する第２の部分としてのマスク部２ａとを含む。
【００４４】
液晶パネル製造装置１は、第１の保持部材としての下側ステージ２と紫外線照射部としてのメタルハライドランプ８との間に設けられたベース部材としてのマスク固定用定盤１０をさらに備える。下側ステージ２はマスク固定用定盤１０に着脱自在に取り付けられている。
【００４５】
このように構成された液晶パネル製造装置１によれば、樹脂６が位置する部分にはガラスからなる紫外線透過部２ｂを設けて、樹脂６に紫外光９が照射されるようにしている。また、それ以外の部分にはステンレス鋼からなるマスク部２ａを設けて、紫外光９が一対の基板５に到達しないようにしている。つまり、下側ステージ２は一対の基板５を保持する役割のほか、紫外光９に対するマスクとしての役割も果たす。このため、紫外光９を確実に樹脂６に照射するとともに、一対の基板５において紫外線の照射の必要がない部分については紫外光９が照射されることを防止している。これにより、一対の基板５が温度上昇することを抑制できる。一対の基板５の温度上昇が抑制されると、温度上昇によってプラスチック基板５ａおよびガラス基板５ｂがそれぞれ異なる長さだけ伸び一対の基板５に反りが発生することを防止できる。また、一対の基板５の温度上昇によってプラスチック基板５ａおよびガラス基板５ｂの相対的な位置関係がずれることを防止できる。加えて、一対の基板５に達する紫外光９はわずかであるため、プラスチック基板５ａが紫外光９によって劣化されることを抑制できる。
【００４６】
さらに、液晶パネル製造装置１では、製造する液晶パネルの機種に合わせて、所定パターンの紫外線透過部２ｂを設けた交換用ステージと下側ステージ２とを交換することができる。このため、液晶パネル製造装置１を用いることによって、異なる機種の液晶パネルの製造に対してフレキシブルに対応することが可能となる。これにより、液晶パネル製造時の作業性を向上させ、液晶パネルの製造コストを削減することができる。
【００４７】
（実施の形態２）
図３は、この発明の実施の形態２における液晶パネル製造装置を示す断面図である。実施の形態２における液晶パネル製造装置は、実施の形態１における液晶パネル製造装置１と比較して、下側ステージの構造のみが異なる。以下において、重複する構造の説明は省略する。
【００４８】
図３を参照して、表示素子製造装置としての液晶パネル製造装置２１は、基本的には実施の形態１における液晶パネル製造装置１と同様の構造を有するが、上側ステージ３と一対の下側ステージ２２を備える。下側ステージ２２は、ステンレス鋼によって形成されたマスク部２２ａとガラスによって形成された紫外線透過部２２ｂとによって構成されている。
【００４９】
液晶パネル製造装置２１を用いて形成される液晶パネルについて説明する。上側ステージ３と下側ステージ２２との間には、一対の基板２５が配置される。一対の基板２５は、上側に位置するＰＥＳ基板２５ａと、下側に位置するＰＩ（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）樹脂基板２５ｂと、ＰＥＳ（Ｐｏｌｙ　Ｅｔｈｅｒ　Ｓｕｌｆｏｎｅ）基板２５ａとＰＩ樹脂基板２５ｂとの間に帯状に配置された紫外線硬化性の樹脂２６とによって構成されている。ＰＩ樹脂基板２５ｂは、不透明で、低線膨張係数（線膨張係数；２０）を有し耐熱性に優れている。ＰＥＳ基板２５ａは、ＰＩ樹脂基板２５ｂと比較して、高い透明性および高線膨張係数（線膨張係数；８０）を有し、耐熱性に劣っている。ＰＥＳ基板２５ａ、ＰＩ樹脂基板２５ｂおよび樹脂２６によって液晶が注入される空間２７が規定されている。
【００５０】
図４は、図３中の一対の基板および下側ステージを詳細に示す斜視図である。図４を参照して、ＰＩ樹脂基板２５ｂ上には、一対の基板２５から複数の液晶パネルが切り出せるように、帯状に延びて長方形の枠型を形成する樹脂２６のパターンが複数設けられている。樹脂２６が形成するそれぞれのパターンの一部には、後工程で液晶を注入するために用いる注入口２６ａが設けられている。
【００５１】
下側ステージ２２は、ステンレス鋼によって形成されたマスク部２２ａと、ガラスによって形成された紫外線透過部２２ｂとによって構成されている。紫外線透過部２２ｂは、下側ステージ２２上にＰＩ樹脂基板２５ｂを位置決めした状態において、ＰＩ樹脂基板２５ｂ上の樹脂２６を設けた帯状部分と紫外線透過部２２ｂとが重なり合うように設けられている。紫外線透過部２２ｂは、紫外線透過部２２ｂ上に樹脂２６を設けた帯状部分を投影した場合に、樹脂２６を設けた帯状部分が紫外線透過部２２ｂに含まれるように設けられている。
【００５２】
続いて、液晶パネル製造装置２１を用いた液晶パネルの製造方法の工程について説明する。本実施の形態では、ＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂを貼り合わせて反射型の液晶パネルを製造する。
【００５３】
図５は、液晶パネルの製造方法の工程を示すフローチャートである。図５を参照して、ＰＥＳ基板２５ａにカラーフィルターを、ＰＩ樹脂基板２５ｂにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）をそれぞれ形成した後、ＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂを液晶パネル製造装置２１によって貼り合わす。その後、液晶注入および偏光板貼り付けなどの工程が行ない、液晶パネルを完成させる。
【００５４】
図６から図１２は、図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の各工程を示しており、図６、図１０および図１１は断面図であり、図７から図９および図１２は斜視図である。
【００５５】
図６を参照して、ＰＩ樹脂基板２５ｂにＴＦＴおよび反射電極を形成するため以下の工程を行なう。ＰＩ樹脂基板２５ｂの主表面に、チタン（Ｔｉ）からなるゲート電極３１を所定形状に形成する。ＰＩ樹脂基板２５ｂの主表面およびゲート電極３１を覆うように、窒化シリコンからなるゲート絶縁膜層３２を形成する。ゲート絶縁膜層３２上であってゲート電極３１の上方に位置するように、半導体層３３を形成する。半導体層３３はゲート絶縁膜層３２上から順に、真性アモルファスシリコン層３３ａおよびｎ型の不純物がドープされたｎ型アモルファスシリコン層３３ｂの積層膜から構成されている。半導体層３３の側壁および頂面の一部を覆うように、チタンからなるソース電極３５を形成する。半導体層３３に対してソース電極３５が設けられた位置とは反対側に、チタンからなるドレイン電極３６を形成する。ＰＩ樹脂基板２５ｂ上の全ての形成物を覆うように、窒化シリコンからなる層間絶縁膜層３７を形成する。層間絶縁膜層３７にドレイン電極３６の表面の一部に達するホール３９を形成する。層間絶縁膜層３７の頂面、ホール３９の周壁およびドレイン電極３６の露出部分を覆うように、アルミニウム（Ａｌ）からなる反射電極３８を所定のパターン形状で形成する。
【００５６】
なお、本実施の形態では、不透明なＰＩ樹脂基板２５ｂを用いて反射型液晶パネルを製造することから、反射電極３８をアルミニウムによって形成したが、透明基板上に形成したＴＦＴにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）のような透明導電膜を電極として形成すれば、透過型の液晶パネルを製造することができる。
【００５７】
図７を参照して、ＰＥＳ基板２５ａの表面に、Ｒ（赤）４１ａ、Ｇ（緑）４１ｂおよびＢ（青）４１ｃを順にストライプ状に配列したカラーフィルター４１を形成する。各色相の境界には、図示しない短冊状のＢＭ（Ｂｌａｃｋ　Ｍａｔｒｉｒｉｘ）を形成する。カラーフィルター４１を覆うように図示しないＯＣ（Ｏｖｅｒ　Ｃｏａｔ）層を形成した後、ＯＣ層上にＩＴＯからなる図示しない透明電極を所定のパターン形状で形成する。
【００５８】
カラーフィルター４１を形成したＰＥＳ基板２５ａおよびＴＦＴを形成したＰＩ樹脂基板２５ｂに、ポリイミドからなる配向膜をフレキソ法によって印刷し、これを焼成することによって、配向膜をＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂ上に形成する。ＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂ上に形成された配向膜にラビング法により配向処理を施す。なお、配向膜は、ＰＥＳ基板２５ａのカラーフィルター４１が形成された面と、ＰＩ樹脂基板２５ｂのＴＦＴが形成された面にそれぞれ形成される。
【００５９】
続いて、ＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂを貼り合わせた場合に互いの間隔を一定に保つため、ＰＥＳ基板２５ａのカラーフィルター４１が形成された面にスペーサを散布する。図８を参照して、ディスペンサを用いて、ＰＩ樹脂基板２５ｂのＴＦＴが形成された面に所定のパターンでエポキシ系樹脂からなる紫外線硬化性の樹脂２６を塗布する。樹脂２６が塗布されるパターンの幅は０．５ｍｍであり、厚さは２０μｍである。樹脂２６は、液晶層を形成すべき領域の全周を連続して取り囲むようにして配置する。但し、後の工程で液晶を注入するため、樹脂２６が塗布された部分の一部に樹脂２６が途切れている箇所を設け、これを液晶の注入口２６ａとする。なお、ＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂのどちらか一方に、樹脂２６の塗布およびスペーサの散布を行なっても問題はない。
【００６０】
図３を参照して、図示しない駆動機構を用いて上側ステージ３を上方に移動させる。樹脂２６が塗布された面が上側を向くようにして、下側ステージ２２の上面にＰＩ樹脂基板２５ｂを載置する。このとき、ＰＩ樹脂基板２５ｂ上に設けられた樹脂２６と下側ステージ２２の紫外線透過部２２ｂとが重なり合うように、ＰＩ樹脂基板２５ｂを位置決めする。さらに、カラーフィルター４１が形成された面が下側を向くようにして、ＰＩ樹脂基板２５ｂ上にＰＥＳ基板２５ａを精度良く位置決めする。図示しない駆動機構により上側ステージ３を下方に移動させ、上側ステージ３および下側ステージ２２の間で一対の基板２５を９８０（Ｎ）の力で加圧する。一対の基板２５に加圧を施した状態を維持しながら、メタルハライドランプ８から一対の基板２５に向けて紫外光９（波長；３６５ｎｍ）を２分間照射する。このように一対の基板２５に加圧を施すことによって、ＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂの位置関係を確実に固定でき、一対の基板２５に発生する反りをある程度抑制することができる。紫外光９の照射後、図示しない駆動機構により上側ステージ３を上方に移動させ、一対の基板２５を液晶パネル製造装置２１から取り外す。
【００６１】
図９を参照して、一対の基板２５を個別の液晶パネルの大きさに分割するために、一対の基板２５を適当に切断する。この結果、切断によって得られる液晶パネル４６には、ＰＥＳ基板２５ａ、ＰＩ樹脂基板２５ｂおよび樹脂２６によって規定される液晶を注入するための空間２７が含まれる。このように１枚の基板から複数の液晶パネルを製造することによって、液晶パネルの生産性を向上させることができる。
【００６２】
図１０を参照して、液晶パネル４６を図示しない真空装置内に収容し、液晶パネル４６に形成された空間２７の内外ともに真空状態とする。この状態で、樹脂２６の切れ目として形成された注入口２６ａを液晶５１に浸し、真空装置内を徐々に大気圧に戻す。すると、空間２７内外の圧力差と毛細管現象とによって液晶５１が空間２７内部に入っていく。図１１を参照して、空間２７が液晶５１に満たされた状態で、注入口２６ａを塞ぐように紫外線硬化性の樹脂５３を塗布する。樹脂５３に紫外線を照射し樹脂５３を硬化させる。
【００６３】
図１２を参照して、液晶パネル４６のＰＥＳ基板２５ａの露出している面に、液晶パネル４６に出入りする光をコントロールするための偏光板５５を貼り合わせる。以上の工程によって、内部に液晶５１が封入された液晶パネル４６が完成する。
【００６４】
この発明の実施の形態２に従った表示素子としての液晶パネルの製造方法は、紫外線硬化性のシール剤としての樹脂２６を介在させて互いに向い合う一対の基板２５を、紫外線に対して第１の透過率を有する第１の部分としての紫外線透過部２２ｂと、紫外線に対して第１の透過率よりも小さい第２の透過率を有する第２の部分としてのマスク部２２ａとを含む第１の保持部材としての下側ステージ２２の上に載置する工程と、一対の基板２５に対して下側ステージ２２とは反対側に第２の保持部材としての上側ステージ３を位置決めし、下側ステージ２２および上側ステージ３によって一対の基板２５を挟持する工程と、一対の基板２５を挟持した状態で、一対の基板２５が載置された下側ステージ２２の面とは反対側の面から、下側ステージ２２に向けて紫外線を照射する工程とを備える。
【００６５】
このように構成された液晶パネルの製造方法によれば、下側ステージ２２に向けて紫外光９を照射する工程において、紫外光９の多くがステンレス鋼からなるマスク部２２ａによって反射されるため、紫外光９が照射されることによって一対の基板２５が温度上昇することを抑制できる。これにより、一対の基板２５を液晶パネル製造装置２１から取り外した後、一対の基板２５に反りが発生することを防止できる。また、紫外光９の照射を行なっている間に、ＰＥＳ基板２５ａおよびＰＩ樹脂基板２５ｂの相対的な位置関係にずれが発生することを防止できる。また、紫外光９はガラスによって形成された紫外線透過部２２ｂを透過して樹脂２６に照射される。これにより、樹脂２６は効率良く硬化するため、基板の貼り合わせを円滑に進めることができる。
【００６６】
（実施の形態３）
図１３は、この発明の実施の形態３における液晶パネル製造装置を示す断面図である。実施の形態３における液晶パネル製造装置は、実施の形態１における液晶パネル製造装置１と比較して、下側ステージの構造のみが異なる。以下において、重複する構造の説明は省略する。
【００６７】
図１３を参照して、表示素子製造装置としての液晶パネル製造装置６１は、基本的には実施の形態１における液晶パネル製造装置１と同様の構造を有するが、上側ステージ３と一対の下側ステージ６２を備える。下側ステージ６２は、全体がガラスによって形成された本体部６３と全体がステンレス鋼によって形成されたマスク部６４とによって構成されている。本体部６３は上側ステージ３との間で一対の基板５を挟持しており、マスク部６４は本体部６３の一対の基板５と接触している面とは反対側の面に貼り合わされている。
【００６８】
図１４は、図１３中の下側ステージを詳細に示す斜視図である。図１４を参照して、下側ステージ６２を構成する本体部６３およびマスク部６４は互いが貼り合わされる面が同面積に形成されている。マスク部６４には、下側ステージ６２に一対の基板５を位置決めした状態において、一対の基板５に樹脂６を設けた帯状部分に沿って開口部６４ａが形成されている。開口部６４ａは、開口部６４ａ上に樹脂６を設けた帯状部分を投影した場合に、樹脂６を設けた帯状部分が開口部６４ａに含まれるように設けられている。紫外線に対する透過率は、開口部６４ａによって露出しているガラスからなる本体部６３よりもステンレス鋼からなるマスク部６４の方が小さい。
【００６９】
図１３を参照して、メタルハライドランプ８から照射された紫外光９の大部分は、ステンレス鋼からなるマスク部６４の表面で反射される。マスク部６４の開口部６４ａに照射された紫外光９は、ガラスからなる本体部６３を透過して一対の基板５の樹脂６に対して照射される。紫外光９の照射を受けた樹脂６は硬化し、プラスチック基板５ａとガラス基板５ｂとが貼り合わされる。
【００７０】
このように構成された液晶パネル製造装置６１によれば、実施の形態１に記載の効果と同様の効果を奏することができる。加えて、液晶パネル製造装置６１では、下側ステージ６２の上面全体がガラスによって形成されているため、ステンレス鋼の一部にガラスが嵌め込まれた場合と比較して、一対の基板５と接触する下側ステージ６２の上面の平面度を向上させることができる。これにより、プラスチック基板５ａとガラス基板５ｂとの位置関係をより確実に平行に保った状態で、プラスチック基板５ａおよびガラス基板５ｂの貼り合わせを行なうことができる。また、下側ステージ６２は、本体部６３とプレス加工などにより開口部６４ａを形成したマスク部６４とを貼り合わせることによって完成するので、下側ステージ６２を容易に製造することができる。
【００７１】
（実施の形態４）
図１５は、この発明の実施の形態４における液晶パネル製造装置を示す断面図である。実施の形態４における液晶パネル製造装置は、実施の形態１における液晶パネル製造装置１と比較して、さらに冷却装置を備える。以下において、重複する構造の説明は省略する。
【００７２】
図１５を参照して、表示素子製造装置としての液晶パネル製造装置７１は、基本的には実施の形態１における液晶パネル製造装置１と同様の構造を有するが、マスク固定用定盤１０の凹部１０ａの外周上に設けられた冷却装置７３をさらに備える。冷却装置７３は枠形状を有し、冷却装置７３の内周面７３ａの全体と接触するようにして、下側ステージ２が設けられている。一対の基板５を貼り合わせる工程において、冷却装置７３を稼働させることによって下側ステージ２を冷却する。一対の基板５および下側ステージ２は面接触しているため、冷却装置７３により下側ステージ２を冷却することによって一対の基板５も冷却される。
【００７３】
この発明の実施の形態４に従った液晶パネル製造装置７１では、下側ステージ２および上側ステージ３の少なくとも一方としての下側ステージ２は、一対の基板５の温度を調節するための温度調節手段としての冷却装置７３を含む。
【００７４】
このように構成された液晶パネル製造装置７１によれば、実施の形態１に記載の効果と同様の効果を奏することができる。加えて、メタルハライドランプ８からの紫外光９の照射によって生じる一対の基板５の温度上昇をより積極的に抑制することができる。また、冷却装置７３を下側ステージ２に接触させて設けているため、メタルハライドランプ８に近い側に位置し、紫外光９による温度上昇の影響を受けやすいガラス基板５ｂを主に冷却できる。なお、紫外線透過部２ｂを透過して一対の基板５に達する紫外光９はわずかであるため、冷却装置７３にかかる冷却の負担は大きくならない。
【００７５】
さらに、下側ステージ２の全体をガラスによって形成せず、紫外線透過部２ｂを除いてステンレス鋼で形成しているため、冷却装置７３によって効率良く一対の基板５を冷却することができる。つまり、ガラスと比較して熱伝導率の高いステンレス鋼を下側ステージ２の主材料として使用しているため、一対の基板５から効率良く熱を奪いとることができる。
【００７６】
（実施の形態５）
図１６は、この発明の実施の形態５における液晶パネル製造装置を示す断面図である。実施の形態５における液晶パネル製造装置は、実施の形態１における液晶パネル製造装置１と比較して、さらにホットプレートを備える。以下において、重複する構造の説明は省略する。
【００７７】
図１６を参照して、表示素子製造装置としての液晶パネル製造装置８１は、基本的には実施の形態１における液晶パネル製造装置１と同様の構造を有するが、上側ステージ３の上面に設けられた温度調節手段としてのホットプレート８５を備える。上側ステージ３と下側ステージ２との間には、一対の基板８３が挟持されている。一対の基板８３は、上側に位置するガラス基板８３ａと、下側に位置するガラス基板８３ｂと、ガラス基板８３ａとガラス基板８３ｂとの間に介在する紫外線硬化性の樹脂６とによって構成されている。一対の基板８３を貼り合わせる際に、ホットプレート８５を稼働させることによって上側ステージ３を加熱する。一対の基板８３および上側ステージ３は面接触しているため、ホットプレート８５により上側ステージ３を加熱することによって一対の基板８３も加熱される。
【００７８】
このように構成された液晶パネル製造装置８１によれば、実施の形態１に記載の効果と同様の効果を奏することができる。加えて、メタルハライドランプ８からの紫外光９の照射によって上下に位置するガラス基板８３ａおよび８３ｂとの間に温度差が生じ、これによりガラス基板８３ａおよび８３ｂの伸びに差が生じることを防止できる。つまり、メタルハライドランプ８に遠い側に位置し、紫外光９による温度上昇の影響を受けにくいガラス基板８３ａを、紫外光９による温度上昇の影響を受けやすいガラス基板８３ｂの温度まで上昇させることによって、ガラス基板８３ａおよび８３ｂは同じ長さだけ伸びる。これにより、ガラス基板８３ａおよび８３ｂを貼り合わせた後に、一対の基板８３に反りが発生することを防止できる。
【００７９】
以上の実施の形態では、液晶パネルを用いて本発明を説明したが、一対の線膨張係数の異なる基板を用いて形成される表示素子に関して本発明を適用することができる。
【００８０】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００８１】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明に従えば、紫外線による基板の劣化を防止し、かつ基板の温度上昇を十分に抑制する表示素子製造装置および表示素子の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態１における液晶パネル製造装置を示す断面図である。
【図２】図１中の一対の基板および下側ステージを詳細に示す斜視図である。
【図３】この発明の実施の形態２における液晶パネル製造装置を示す断面図である。
【図４】図３中の一対の基板および下側ステージを詳細に示す斜視図である。
【図５】液晶パネルの製造方法の工程を示すフローチャートである。
【図６】図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の第１工程を示す断面図である。
【図７】図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の第２工程を示す斜視図である。
【図８】図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の第３工程を示す斜視図である。
【図９】図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の第４工程を示す斜視図である。
【図１０】図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の第５工程を示す断面図である。
【図１１】図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の第６工程を示す断面図である。
【図１２】図３に示す液晶パネル製造装置を用いた液晶パネルの製造方法の第７工程を示す斜視図である。
【図１３】この発明の実施の形態３における液晶パネル製造装置を示す断面図である。
【図１４】図１３中の下側ステージを詳細に示す斜視図である。
【図１５】この発明の実施の形態４における液晶パネル製造装置を示す断面図である。
【図１６】この発明の実施の形態５における液晶パネル製造装置を示す断面図である。
【図１７】従来用いられている液晶パネル製造装置を示す断面図である。
【図１８】特開２０００−１９３９８６に開示されている液晶装置の製造装置を示す断面図である。
【図１９】図１８中に示した搬送用パレットおよび液晶パネルを示す側面図である。
【符号の説明】
１，２１，６１，７１，８１　液晶パネル製造装置、２，２２，６２　下側ステージ、２ａ，２２ａ，６４　マスク部、２ｂ，２２ｂ　紫外線透過部、３　上側ステージ、５，２５，８３　基板、６，２６　樹脂、８　メタルハライドランプ、９　紫外光、１０　マスク固定用定盤、６３　本体部、７３　冷却装置、８５　ホットプレート。
【図１】
2004086010.tif 000003
【図２】
2004086010.tif 000004
【図３】
2004086010.tif 000005
【図４】
2004086010.tif 000006
【図５】
2004086010.tif 000007
【図６】
2004086010.tif 000008
【図７】
2004086010.tif 000009
【図８】
2004086010.tif 000010
【図９】
2004086010.tif 000011
【図１０】
2004086010.tif 000012
【図１１】
2004086010.tif 000013
【図１２】
2004086010.tif 000014
【図１３】
2004086010.tif 000015
【図１４】
2004086010.tif 000016
【図１５】
2004086010.tif 000017
【図１６】
2004086010.tif 000018
【図１７】
2004086010.tif 000019
【図１８】
2004086010.tif 000020
【図１９】
2004086010.tif 000021