(57)【要約】【課題】周期的パターンが成型される地点の近くで、位置ずれ量を計測することができる位置ずれ計測方法、周期的パターンシートの製造方法及び装置を提供する。【解決手段】表面側周期的パターン１９が成型された透光性シート２３を、裏面側パターンを成型するために第二金型に重ねた状態で、表面側パターンに含まれる第一基準点の位置Ｘ１と、裏面側パターン型に含まれる第二基準点の位置Ｘ２とを検出し、第一基準点の位置Ｘ１と第二基準点Ｘ２の位置に基づいて、表面側周期的パターン１９と裏面側周期的パターン２０との周期方向の位置ずれ量ΔＸ’を算出する。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性シートの表面側に、一方向に繰り返す周期的パターンを含む表面側パターンを第一金型により成型した後、上記透光性シートの裏面側に、上記表面側の周期的パターンと同一周期で同一方向に繰り返す周期的パターンを含む裏面側パターンを第二金型により成型する場合に、上記表面側周期的パターンと上記裏面側の周期的パターンとの間の位置ずれ量を計測する位置ずれ計測方法であって、
上記第一金型から離型した上記透光性シートの裏面側に周期的パターンを成型する際に、上記表面側パターン上の第一基準点の位置と、上記第二金型の裏面側パターン型上の第二基準点の位置とをそれぞれ検出する位置検出工程と、
上記第一基準点の位置及び上記第二基準点の位置に基づいて、上記位置ずれ量を算出する算出工程と、
を有することを特徴とする位置ずれ計測方法。
【請求項２】
上記位置検出工程において、
上記透光性シート及び上記第二金型に、光を上記表面側から照射して、その反射光の強度を検出することにより、上記第一及び第二基準点の位置を検出する請求項１記載の位置ずれ計測方法。
【請求項３】
上記位置検出工程において、
上記第一基準点は、上記表面側パターン上のうち、上記裏面側パターンが平坦な部分と対向する領域にあり、
上記第二基準点は、上記第二金型上のうち、上記表面側パターンが平坦な部分と対向する領域にある請求項１又は２記載の位置ずれ計測方法。
【請求項４】
上記位置検出工程は、
上記第二金型と上記透光性シートとの間に挟んだ樹脂組成物を硬化させて上記裏面側パターンを形成する場合において、
上記樹脂組成物の硬化位置付近で、上記第一及び第二基準点の位置を検出する請求項１、２又は３に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項５】
透光性シートの表面側に、一方向に繰り返す周期的パターンを含む表面側パターンを第一金型により成型する第一成型工程と、
上記第一金型から離型した上記透光性シートの裏面側に、上記表面側の周期的パターンと同一周期で同一方向に繰り返す周期的パターンを含む裏面側パターンを第二金型により成型する第二成型工程と、
を有する周期的パターンシートの製造方法であって、
上記第二成型工程は、
上記表面側パターン上の第一基準点の位置と、上記第二金型の裏面側パターン型上の第二基準点の位置とをそれぞれ検出する位置検出工程と、
上記第一基準点の位置及び上記第二基準点の位置に基づいて、上記位置ずれ量を算出する算出工程と、
を有することを特徴とする周期的パターンシートの製造方法。
【請求項６】
さらに、上記算出工程において算出した位置ずれ量に基づいて、上記表面側の周期的パターンと上記裏面側の周期的パターンとの間の位置ずれを修正する修正工程を有することを特徴とする請求項５記載の周期的パターンシートの製造方法。
【請求項７】
透光性シートの表面側に、一方向に繰り返す周期的パターンを含む表面側パターンを成型するための、表面側パターン型を設けた第一金型と、
上記透光性シートの裏面側に、上記表面側の周期的パターンと同一周期で同一方向に繰り返す周期的パターンを含む裏面側パターンを成型するための、裏面側パターン型を設けた第二金型と、
を有する周期的パターンシートの製造装置であって、
上記第一金型から離型した上記透光性シートの裏面側に周期的パターンを成型する際に、上記透光性シートに光を照射する光源と、
上記光源によって照射された照射光の反射光の強度を検出する光検出手段と、上記反射光の強度に基づいて、上記表面側パターン上の第一基準点の位置と、上記第二金型の裏面側パターン型上の第二基準点の位置とを検出する位置検出手段と、
上記第一基準点の位置及び上記第二基準点の位置に基づいて、上記位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出手段と、
を有することを特徴とする周期的パターンシートの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透光性シートの両側にそれぞれ成型される互いに同一周期方向の周期的パターンどうしの上記周期方向に沿った位置ずれ量を計測する位置ずれ計測方法、周期パターンシートの製造方法及びその製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えばプロジェクションテレビに用いられるレンチキュラーシートのように、透光性シートの両面に周期的パターンが形成された周期的パターンシートが知られている。周期的パターンシートが所定の機能を発揮するためには、透光性シートの両側にそれぞれ形成された周期的パターンどうしが、所定の相対位置関係で配置されている必要がある。しかし、周期的パターンシートを製造する際に種々の原因により、透光性シートの表面側の周期的パターンと、裏面側の周期的パターンとが、互いに所定の相対位置関係からずれた位置に形成されてしまうことがある。
【０００３】
そこで、周期的パターンどうしの、周期方向の位置ずれを修正する方法として、例えば、レンチキュラーシートの表面側のレンズを形成する第一の円筒形レンズ型と、裏面側のレンズを形成する第二の円筒形レンズ型とを一定の間隔を設けて対設し、両円筒形レンズ型を独立して円筒軸方向に移動可能にしておき、少なくとも一方のレンズ型を移動させて位置ずれを修正する方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。また、例えば、レンチキュラーレンズを形成するシートに付与する張力を修正して、レンズピッチを調整する方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
ところで、周期的パターンどうしの相対的な位置ずれを修正するためには、位置ずれ量を計測してフィートバックする必要がある。位置ずれ量の計測にあたっては、両面に周期的パターンが形成されたシートに光を照射し、その透過光から表面側及び裏面側の周期的パターンそれぞれの所定の特徴点の位置を検出して、相対的な位置ずれ量を計測する方法が知られている。
例えば、レンチキュラーシートにおいて位置ずれ量を計測する場合には、レンチキュラーシートの一部分に、表面側だけにレンチキュラーレンズが形成された表面観察領域と、裏面側だけにレンチキュラーレンズが形成された裏面観察領域とをそれぞれ設けておき、この表面観察領域及び裏面観察領域それぞれの透過光から、表面観察領域及び裏面観察領域における所定の特徴点の位置をそれぞれ検出する方法が知られている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−３５５０２号公報
【特許文献２】
特開２０００−５９４３６号公報
【特許文献３】
特開２００２−２１３９１９号公報
【０００６】
【発明の解決しようとする課題】
しかしながら、従来の位置ずれ量の計測技術によれば、透光性シートの両面に周期的パターンをそれぞれ形成し、透光性シートを金型から離型してから、位置ずれ量を計測している。このため、金型により周期的パターンを成型する地点から位置ずれ量を計測する地点まで、透光性シートが搬送される距離が長い。その結果、位置のずれた周期的パターンが成型されてから、その位置ずれ量が計測され、フィードバックされて、修正されるまでに要する遅延時間が大きく、位置ずれ修正の制御性が悪いという問題点があった。
【０００７】
そこで、本発明は、周期的パターンが成型される地点の近くで、位置ずれ量を計測することができる位置ずれ計測方法、周期的パターンシートの製造方法及び装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の位置ずれ計測方法は、透光性シートの表面側に、一方向に繰り返す周期的パターンを含む表面側パターンを第一金型により成型した後、透光性シートの裏面側に、表面側の周期的パターンと同一周期で同一方向に繰り返す周期的パターンを含む裏面側パターンを第二金型により成型する場合に、表面側周期的パターンと裏面側の周期的パターンとの間の位置ずれ量を計測する位置ずれ計測方法であって、第一金型から離型した透光性シートの裏面側に周期的パターンを成型する際に、表面側パターン上の第一基準点の位置と、第二金型の裏面側パターン型上の第二基準点の位置とをそれぞれ検出する位置検出工程と、第一基準点の位置及び第二基準点の位置に基づいて、位置ずれ量を算出する算出工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
表面側周期的パターンが成型された透光性シートを、裏面側パターンを成型するために第二金型に重ねた状態では、透光性シートに成型される裏面側パターンの位置と、その裏面側パターンを成型するための第二金型の裏面側パターン型の位置とが、実質的に同じとなる。このため、本発明の位置ずれ計測方法によれば、裏面側パターンの代わりに、第二金型の裏面側パターン型上の基準点を検出して、成型済みの表面側パターン上の基準点との位置ずれを計測する。その結果、透過性シートを第二金型に重ねた後、透過性シートを第二金型から離型するまでの間に、位置ずれ計測を行うことができる。したがって、従来のように透光性シートを第二金型から離型した後に位置ずれ計測を行う場合に比べて、周期的パターンが成型される地点のより近くで位置ずれ量を計測することができる。
【００１０】
また、本発明において好ましくは、位置検出工程において、透光性シート及び第二金型に、光を表面側から照射して、その反射光の強度を検出することにより、上記第一及び第二基準点の位置を検出する。
このように反射光の強度を検出すれば、表面側周期的パターンを成型した透光性シートを第二金型に重ねた状態で、所定の基準点を容易に検出することができる。
【００１１】
また、本発明において好ましくは、位置検出工程において、第一基準点は、表面側パターン上のうち、裏面側パターンが平坦な部分と対向する領域にあり、第二基準点は、第二金型上のうち、表面側パターンが平坦な部分と対向する領域にある。
このように、第一及び第二基準点をそれぞれ反対側の面が平坦な領域に設ければ、第一及び第二基準点を他のパターン部分と容易に区別して検出することができる。
【００１２】
また、本発明において、好ましくは、位置検出工程は、第二金型と透光性シートとの間に挟んだ樹脂組成物を硬化させて裏面側パターンを形成する場合において、樹脂組成物の硬化位置付近で、第一及び第二基準点の位置を検出する。
このように、樹脂組成物の硬化位置付近で第一及び第二基準点の位置を検出すれば、周期的パターンが成型される地点の近くで、位置ずれ量を計測することができる。
【００１３】
また、本発明の周期的パターンシートの製造方法は、透光性シートの表面側に、一方向に繰り返す周期的パターンを含む表面側パターンを第一金型により成型する第一成型工程と、第一金型から離型した透光性シートの裏面側に、表面側の周期的パターンと同一周期で同一方向に繰り返す周期的パターンを含む裏面側パターンを第二金型により成型する第二成型工程と、を有する周期的パターンシートの製造方法であって、第二成型工程は、表面側パターン上の第一基準点の位置と、第二金型の裏面側パターン型上の第二基準点の位置とをそれぞれ検出する位置検出工程と、第一基準点の位置及び第二基準点の位置に基づいて、位置ずれ量を算出する算出工程と、を有することを特徴とする。
【００１４】
このように、本発明の周期的パターンシートの製造方法によれば、表面側周期的パターンを成型した透光性シートを第二金型に重ねた状態で、表面側パターン上の基準点と第二金型上の基準点とを検出する。このため、透光性シートを第二金型から離型する前に、周期的パターンが成型される地点の近くで、位置ずれ量を計測することができる。
【００１５】
また、本発明において好ましくは、さらに、上記算出工程において算出した位置ずれ量に基づいて、表面側の周期的パターンと裏面側の周期的パターンとの間の位置ずれを修正する修正工程を有する。
このように、周期的パターンが成型される地点の近くで計測された位置ずれ量に基づいて位置ずれの修正を行えば、位置のずれた周期的パターンが成型されてから、その位置ずれ量が計測され、フィードバックされて、修正されるまでに要する遅延時間を低減することができ、位置ずれ修正の制御性の向上を図ることができる。
【００１６】
また、本発明の位置ずれ計測装置は、透光性シートの表面側に、一方向に繰り返す周期的パターンを含む表面側パターンを成型するための、表面側パターン型を設けた第一金型と、透光性シートの裏面側に、表面側の周期的パターンと同一周期で同一方向に繰り返す周期的パターンを含む裏面側パターンを成型するための、裏面側パターン型を設けた第二金型と、を有する周期的パターンシートの製造装置であって、第一金型から離型した透光性シートの裏面側に周期的パターンを成型する際に、透光性シートに光を照射する光源と、光源によって照射された照射光の反射光の強度を検出する光検出手段と、反射光の強度に基づいて、表面側パターン上の第一基準点の位置と、第二金型の裏面側パターン型上の第二基準点の位置とを検出する位置検出手段と、第一基準点の位置及び第二基準点の位置に基づいて、位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出手段と、を有することを特徴とする。
【００１７】
このように、本発明の周期的パターンシートの製造装置は、表面側周期的パターンを成型した透光性シートを第二金型に重ねた状態で、表面側パターン上の基準点と第二金型上の基準点とを検出する。このため、透光性シートを第二金型から離型する前に、周期的パターンが成型される地点の近くで、位置ずれ量を計測することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。本実施形態では、周期的パターンシートとして、両面にレンチキュラーレンズが成型されたレンチキュラーシートを製造する場合の位置ずれ計測の例について説明する。
まず、図１に、本実施形態で製造されるレンチキュラーシートの搬送方向に直交する方向における断面模式図を示す。図１に示すように、このレンチキュラーシートは、透光性シート２３を基材とし、その表面側に表面側パターンが成型され、裏面側に裏面側パターンが成型されている。
【００１９】
表面側パターンは、レンチキュラーレンズを構成する表面側周期的パターン１９と、表面観察領域に成型された表面側の計測用周期パターン２１と、裏面観察領域２５に成型された第一平坦部分とを含む。また、裏面側パターンは、レンチキュラーレンズを構成する裏面側周期的パターン２０と、表面観察領域に成型された第二平坦部と、裏面観察領域２５に成型された裏面側の計測用周期パターン２２とを含む。
【００２０】
そして、表面側及び裏面側周期的パターン１９及び２０はともに、透光性シート２３の搬送方向に直交する方向を周期方向とした同一周期のパターンであり、透光性シート２３について対称に成型されている。また、第一及び裏面側の計測用周期パターン２１及び２２も、表面側及び裏面側周期的パターン１９及び２０と同一周期方向で同一周期を有している。
【００２１】
また、表面側及び裏面側周期的パターン１９及び２０と、第一及び裏面側の計測用周期パターン２１及び２２とは、同一形状であってもよいし、異なる形状であってもよい。ただし、第一及び裏面側の計測用周期パターン２１及び２２は、それらの中の基準点が、反射光強度において明確に区別されることが望ましい。なお、表面側及び裏面側周期的パターン１９及び２０は、レンチキュラーレンズシートに要求される特性を満足するように設計されるため、反射光強度において、特徴点として使える程明確な点を有さない場合がある。このため、第一及び裏面側の計測用周期パターン２１及び２２は、表面側及び裏面側周期的パターン１９及び２０と異なる形状とするのがよい。
【００２２】
なお、本実施形態では、第一及び第二観察領域は、周期方向に一部分で重なっている。ただし、重なり幅は、両面の周期的パターンどうしの位置ずれがない場合に、一周期分の長さよりも短くなるように設定されている。
【００２３】
また、表面側及び裏面側周期的パターン１９及び２０の周期、すなわち、レンチキュラーレンズの単位パターンのピッチは、５０〜１０００μｍの範囲内が好ましく、特に、ファインピッチのレンチキュラーシートの場合には、５０〜５００μｍの範囲内であることが好ましい。本実施形態で製造するレンチキュラーシートの場合、ピッチは３５０μｍである。
レンチキュラーシートにおいては、カラーバランス、色むら等のスクリーン特性の観点から、表面側周期的パターン１９と裏面側周期的パターン２０との周期方向に沿った位置ずれ量を、周囲の２％以下にする必要がある。したがって、ピッチが３５０μｍの場合には、位置ずれ量を７μｍ以下にする必要がある。
【００２４】
なお、ここで「周期的パターン」とは、例えば、レンチキュラーシートの表面及び裏面にそれぞれ繰り返し設けられた、断面が円、楕円、高次式の一部、矩形、台形、三角形等の多数の畝状のパターン（模様）のように、一方向に沿って一定の周期で繰り返されパターンであって、この一方向（周期方向すなわち繰り返し方向）と直交する方向に沿っては、変化しないパターンを指す。
また、ここで「透光性シート」とは、透明シートに限定されず、例えば、半透明のシートも含まれる。
【００２５】
次に、図２及び図３を参照して、このようなレンチキュラーシート２の製造装置及び製造方法、並びに位置ずれ検出方法の例について説明する。
図２は、実施形態の周期的パターンシート製造装置の構成を説明するための斜視図であり、図３は、図２の要部拡大図である。
【００２６】
図２に示すように、本実施形態では、円筒形の第一金型１０と円筒形の第二金型９とを備えている。第一金型１０の周面には、レンチキュラーシートの表面側パターンを成型するための表面側パターン型が設けられている。また、第二金型９の周面には、レンチキュラーシートの裏面側パターンを成型するための裏面側パターン型が設けられている。
表面側パターン型は、表面側周期的パターン型及び表面側の計測用周期パターン型を含み、また、裏面側パターン型は、裏面側周期的パターン型２６及び裏面側の計測用周期パターン型２２ａを含む。そして、これらの表面側及び裏面側周期的パターン型、及び、第一及び裏面側の計測用周期パターン型は、それぞれ円柱の円周方向に沿って直線状に延びる多数の賦型溝から形成されている。これらの賦型溝は、円柱の軸線方向に等間隔で並んでいる。
【００２７】
そして、透光性シート２３は、表面側を内側にして第一金型を巻き、続いて、裏面側を内側にして第二金型を巻いて、図示しない駆動機構によって連続的に搬送される。このため、第一及び第二金型は、透光性シート２３の搬送速度と同一の周速度で回転する。そして、第一金型１０によって、表面側パターンが成型され、第二金型９によって、裏面側パターンが成型される。
【００２８】
表面側及び裏面側パターンの形成にあたっては、それぞれレンチキュラーシート２の基材である透光性シート２３と、第一及び第二金型９との間に樹脂組成物層を挟んだ状態で、樹脂組成物を硬化させるとよい。樹脂組成物を硬化させるには、樹脂組成物の性質に合わせて、例えば、紫外線等のエネルギー線を照射したり、加熱したりするとよい。
【００２９】
そして、本実施形態では、表面側周期的パターンを成型した透光性シート２３を、裏面側パターンを成型するために第二金型９に重ねた状態で、位置ずれ量を計測する。透光性シート２３を第二金型９に重ねた状態では、透光性シート２３に成型される裏面側パターンの位置と、その裏面側パターンを成型するための第二金型の裏面側パターン型の位置とが、実質的に同じとなる。このため、本実施形態では、裏面側パターンの代わりに、第二金型９の裏面側パターン型上の基準点を第二基準点として検出し、この第二基準点と成型済みの表面側パターン上の第一基準点との間の位置ずれ量を計測する。その結果、透過性シートを第二金型に重ねた後、透過性シートを第二金型から離型するまでの間に、位置ずれ計測を行うことができる。
【００３０】
また、位置ずれ量の計測は、裏面側パターンを形成する樹脂組成物が硬化する前に行ってもよいし、硬化後に行ってもよい。ただし、樹脂組成物が硬化する前の段階では、位置ずれ計測地点から樹脂組成物の硬化地点までシートを搬送する間に、位置ずれ量が変化するおそれがあるので、位置ずれ計測位置から硬化地点までの距離を極力短くすることが望ましい。また、好ましくは、樹脂組成物の硬化直後の地点で、位置ずれ量を計測するのがよい。また、位置ずれ量の計測は、レンチキュラーシートを搬送しながら行ってもよいし、或いは停止させて行ってもよい。
【００３１】
本実施形態では、位置ずれ計測のために、さらに、光源４と、光検出手段としての画像生成装置６と、位置検出手段及び位置ずれ量算出手段としての画像信号処理装置８とが設けられている。
光源４は、例えば、ハロゲンランプ、高周波蛍光灯、又は、ＬＥＤ等から構成されている。そして、光源４は、第二金型９の側に配置され、表面側周期的パターン１９を成型した透光性シート２３を第二金型９に重ねた状態で、透光性シート２３に光を照射する。
【００３２】
ここで、図４の（Ａ）に、第二金型９に重ねられた、表面側周期的パターン成型済みの透光性シート２３の表面観察領域２４及び裏面観察領域２５を、表面側から見た平面図を模式的に示す。透光性シート２３には、表面側の計測用周期パターンの凸レンズ状部の幅方向の両端部２１０を示す、等間隔で搬送方向に延びる線状のパターンと、裏面側の計測用周期パターン型２２ａの賦型溝の境界部２２０を示す、等間隔で搬送方向に延びる線状のパターンとが示されている。
【００３３】
本実施形態では、光源４は、透光性シート２３の特に表面観察領域２４及び裏面観察領域２５を照射する。照射された光のほとんどは透光性シート２３を透過して、第二金型９の表面で反射される。第二金型９は金属であるので、照射光を強く反射する。
【００３４】
また、画像生成装置６は、例えばラインカメラ、エリアカメラ等で構成されている。本実施形態では、受光素子数２０００個、受光素子間隔５μｍ、長さ１０ｍｍのラインカメラを使用する。
ただし、上述したように、周期を３５０μｍの２％である７μｍの計測をするためには、１μｍ程度の解像度が必要である。このため、本実施形態では、カメラレンズと接写リングを使用して、受光素子間隔５μｍのラインカメラに入射する像を５倍に拡大して、解像度を１μｍに上げている。したがって、レンチキュラーシート上の視野の長さは、ラインカメラの長さ１０ｍｍの１／５であるので、約２ｍｍである。この長さは、３５０μｍのピッチで約６ピッチ分に相当する。
【００３５】
そして、画像生成装置６は、第二金型９の円柱の軸線方向に沿って、表面観察領域２４及び裏面観察領域２５からの反射光の強度を検出する。画像生成装置６は、光強度を電気信号（画像信号）に変換し、画像信号処理装置８に送る。
画像信号処理装置８は、画像生成装置６から送られてきた電気信号から、例えば、図４の（Ｂ）に示すようなグラフを生成する。このグラフの横軸は周期方向の位置（座標）を表し、縦軸は反射光の強度を示す。
【００３６】
一方、画像信号処理装置８のメモリ等には、予め計算（シミュレーション）又は実験等により求めた、表面観察領域２４及び裏面観察領域２５のグラフのプロファイル及びグラフの特徴点が記憶されている。
なお、特徴点は、位置ずれ量の計測を容易にするため、グラフのプロファイルが鋭いピーク又は鋭い切れ込み（谷）を示すような明確な特徴を有する点とするのがよい。
【００３７】
そして、画像信号処理装置８は、記憶されているプロファイルに基づいて、電気信号から生成したグラフから表面観察領域２４内の特徴点（ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４）を決定し、その位置（座標）（Ｘ１、Ｘ３、Ｘ５、Ｘ７））を検出し、また、裏面観察領域２５内の特徴点（ｒ１、ｒ２、ｒ３、ｒ４）を決定し、その位置（座標）（Ｘ２、Ｘ４、Ｘ６、Ｘ８）を検出する。
本実施形態では、図４の（Ｂ）のグラフに示すように、周期方向に沿った断面で見て、表面側の計測用周期パターン２１の凸レンズ状部分の幅方向の両端部２１０や、裏面側の計測用周期パターン型２２ａの賦型溝の境界部２２０の位置に相当するグラフ上の点を特徴点とする。
【００３８】
さらに、表面観察領域２４内の特徴点（ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４）の中で最も裏面観察領域２５に近い特徴点（ｆ１）の位置（座標）Ｘ１を第一基準点の位置として検出しする。また、裏面観察領域２５内の特徴点、（ｒ１、ｒ２、ｒ３、ｒ４）の中で最も表面観察領域２４に近いと特徴点（ｒ１）の位置（座標）Ｘ２を第二基準点の位置として検出する。
【００３９】
続いて、画像信号処理装置８は、第一基準点ｆ１の位置Ｘ１と第二基準点ｒ１の位置Ｘ２に基づいて、位置ずれ量を算出する。そのために、まず、画像処理装置は、第一基準点ｆ１の位置Ｘ１と第二基準点ｒ１の位置Ｘ２との距離ΔＸを求める。
【００４０】
ところで、金型を切削する際の誤差等により、第一金型１０の表面側の計測用周期パターン型の位相が、表面側周期的パターン型に対して周期方向にずれることがある。この場合、表面側周期的パターン１９と表面側の計測用周期パターン２１とは、いずれも第一金型１０によって同時に形成されるので、図５に示すように、これらパターンの間のずれ量は一定である。また、第二金型９の裏面側の計測用周期パターン型の位相の裏面側周期的パターン型２６に対するずれ量も一定である。したがって、表面側周期的パターン１９と裏面側周期的パターン２０との間で位置ずれが生じていない場合の、第一基準点ｆ１の位置と第二基準点ｒ１の位置との間の初期ずれ量αは一定である。
【００４１】
そこで、画像処理装置は、距離ΔＸから初期ずれ量αを減じることにより、表面側周期的パターン１９と裏面側周期的パターン２０との間の正味のずれ量ΔＸ’（＝ΔＸ−α）を算出する。このようにして、レンチキュラーシート２の両面のパターン間の周期方向のずれ量を計測することができる。
なお、初期ずれ量αの値は、例えば、周期的パターンどうしがずれることなく成型されたレンチキュラーシート２の周期方向に沿った断面の観察により求めるとよい。
【００４２】
また、他の特徴点の位置に基づいて、位置ずれ量ΔＸ’を算出することも可能である。例えば、図４の（Ｂ）のグラフに示す各特徴のうち、特徴点ｆ２の位置Ｘ３を第一基準点の位置として検出し、特徴点ｒ２の位置Ｘ４を第二基準点として検出してもよい。その場合、第一基準点を含む表面側パターンの表面側の計測用周期パターン２１と、第二基準点を含む第二金型９の裏面側の計測用周期パターン型２２ａとの位置ずれ量ΔＸは、下記の（１）式で与えられる。
ΔＸ＝Ｘ３−Ｘ４−２Ｐ  ・・・（１）
ここでＰは、第一及び裏面側の計測用周期パターン２１及び２２の一周期（ピッチ）の長さである。
【００４３】
なお、一周期の長さＰが不明である場合には、特徴点ｆ４の位置Ｘ７と特徴点ｆ３の位置Ｘ５との間の距離（Ｘ７−Ｘ５）や、特徴点ｒ３の位置Ｘ６と特徴点ｒ４の位置Ｘ８との間の距離（Ｘ６−Ｘ８）を求めるとよい。
【００４４】
そして、表面側周期的パターン１９と裏面側周期的パターン２０との間の周期方向での位置ずれ量は、下記の（２）式で与えられる。
ΔＸ’＝ΔＸ−α  ・・・（２）
【００４５】
また、図６の（Ａ）に示すように、表面観察領域２４と裏面観察領域２５とが、周期方向に一周期Ｐ以上の長さで重なっている場合や、図６の（Ｂ）に示すように、表面観察領域２４と裏面観察領域２５とが、周期方向で離れている場合においても、位置ずれ量を求めることができる。
これらの場合には、例えば、まず、互いに同一周期の表面観察領域２４の表面側の計測用周期パターン２１と、裏面観察領域２５の裏面側の計測用周期パターン型２２ａとから、それぞれ第一基準点ｆａ（ｒａ）と、第二基準点ｆｂ（ｒｂ）を選ぶ。ただし、第一基準点と第二基準点は、初期位置ずれ量α＝０かつ位置ずれ量ΔＸ’＝０の場合に、互いに同位相の位置となる点である。そして、これら第一基準点と第二基準点との間の距離を、計測用周期パターンの周期Ｐで割った余りを算出することによって、第一及び裏面側の計測用周期パターン２１及び２２間の位置ずれ量ΔＸを求める。そして、この位置ずれ量ΔＸを上述したように初期ずれ量αにより補正して、表面側及び裏面側周期的パターン１９及び２０間の位置ずれ量ΔＸ’を算出する。
【００４６】
さらに、本実施形態では、算出した位置ずれ量ΔＸ’に基づいて、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの位置ずれを修正する。位置ずれの修正は、例えば、上記の特許文献１に記載の方法により、第二金型９を、位置ずれ量ΔＸ’を相殺するように、軸線方向に移動させて行うのがよい。
そして、本実施形態では、周期的パターンが成型される地点の近くで位置ずれ量を計測し、その計測結果に基づいて修正を行うことができる。このため、レンチキュラーレンズパターンの位置がずれた場合に、修正されるまでに要する遅延時間を低減して、速やかに修正を行うことができる。その結果、位置ずれ修正の制御性の向上を図ることができる。
【００４７】
上述した各実施形態においては、本発明を特定の条件で構成した例について説明したが、本発明は種々の変更及び組み合わせを行うことができ、これに限定されるものではない。
例えば、上述した実施形態においては、表面観察領域及び裏面観察領域を一つの光源で照射したが、本発明では、別々の光源を用いてもよい。更に、表面観察領域及び裏面観察領域からの反射光を一つの画像形成装置で検出したが、本発明では、それぞれ別の画像形成領域で個別に反射光を検出してもよい。
また、例えば、上述した実施形態においては、第一及び第二金型として、円柱形状の金属製のものを用いた例について説明したが、本発明では、第一及び第二金型の形状及び材質はこれに限定されない。
【００４８】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、周期的パターンが成型される地点の近くで、位置ずれ量を計測することができる位置ずれ計測方法、周期的パターンシートの製造方法及び装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】レンチキュラーシートの、搬送方向に直交する方向における断面模式図である。
【図２】実施形態の周期的パターンシート製造装置の構成を説明するための斜視図である。
【図３】図２の要部拡大図である。
【図４】（Ａ）は、第二金型に重ねた状態のレンチキュラーシートの部分正面図であり、（Ｂ）の上段は、第二金型に重ねた状態のレンチキュラーシートの断面模式図であり、下段は、反射光の検出強度のグラフである。
【図５】第二金型に重ねた状態のレンチキュラーシートの断面模式図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は、表面観察領域と裏面観察領域との相対位置関係を示す断面模式図である。
【符号の説明】
２  レンチキュラーシート
４  光源
６  画像生成装置
８  画像信号処理装置
９  第二金型
１０  第一金型
１９  表面側周期的パターン
２０  裏面側周期的パターン
２１  表面側の計測用周期パターン
２２  裏面側の計測用周期パターン
２２ａ  裏面側の計測用周期パターン型
２３  透光性シート
２４  表面観察領域
２５  表面観察領域
２６  裏面側周期的パターン型
２１０  凸レンズ状部の周期方向の両端部
２２０  賦型溝の境界部
２８  表面側周期的パターンを延長した仮想線
２９  裏面側周期的パターンを延長した仮想線
ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４、ｒ１、ｒ２、ｒ３、ｒ４  特徴点
【図１】
2004157003.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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