(57)【要約】【課題】遮光範囲を拡大して種々の大きさの基板に対応可能にする共に、簡単な構造にして低コスト化を図る。【解決手段】被露光材としての基板を保持する基板ステージと、露光すべきパターンを有するマスクＭと、該マスクＭを保持するマスクステージと、前記マスクＭ上の任意の範囲の露光光を遮光することで露光範囲を制限する遮光ブレードを有するマスキングアパーチャ機構とを備え、前記基板と前記マスクＭとを微少すき間を介した状態で該マスクのパターンを前記基板に露光転写する近接露光装置において、前記マスキングアパーチャ機構の遮光ブレードは、露光と遮光の境界部を含む第１領域Ｓ１　を遮光する主ブレード４０ａと、前記マスクＭの表面からの距離が前記主ブレード４０ａより離れて配置され、前記第１領域Ｓ１　に連続する第２領域Ｓ２　を遮光する副ブレード４０ｂとを備える【選択図】　　　図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光材としての基板を保持する基板ステージと、露光すべきパターンを有するマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、前記マスク上の任意の範囲の露光光を遮光することで露光範囲を制限する遮光ブレードを有するマスキングアパーチャ機構とを備え、前記基板と前記マスクとを微少すき間を介した状態で該マスクのパターンを前記基板に露光転写する近接露光装置において、
前記マスキングアパーチャ機構の遮光ブレードは、露光と遮光の境界部を含む第１領域を遮光する主ブレードと、前記マスクの表面からの距離が前記主ブレードより離れて配置され、前記第１領域に連続する第２領域を遮光する副ブレードとを備えることを特徴とする近接露光装置。
【請求項２】
前記主ブレードをアームの下部に固定すると共に、前記副ブレードを前記アームの上部に固定したことを特徴とする請求項１記載の近接露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイ用の基板上にマスクのパターンを近接（プロキシミティ）露光転写するのに好適な近接露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近接露光は、表面に感光剤を塗布した透光性の基板（被露光材）を近接露光装置の基板ステージ上に保持すると共に、該基板をマスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに接近させて両者のすき間を例えば数１０μｍ〜数１００μｍにし、次いで、マスクの基板から離間する側から照射装置によって露光用の光を照射することにより該基板上に該マスクに描かれたパターンを露光転写するようにしたものである。
【０００３】
また、このような近接露光装置においては、マスクステージのマスク保持枠に保持されたマスク上の任意の範囲の露光光を必要に応じて遮光することで露光範囲を制限する遮光ブレードを有するマスキングアパーチャ機構を備えたものが知られている。この遮光ブレードは、露光と遮光との範囲の境界部を鮮明にするために極力マスクに接近させた位置に設置される。
【０００４】
なお、近接露光には、マスクを基板と同じ大きさにして一括で露光する方式があるが、このような方式では、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合にマスクが大型化し、マスクの撓みによるパターン精度への影響やコスト面等で問題が生じる。
このような事情から、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合には、基板より小さいマスクを用い、マスクを基板に近接して対向配置した状態で基板ステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光光を照射し、これにより、マスクに描かれた複数のパターンを基板上に露光転写する、ステップ式の近接露光方式が用いられる場合がある。
【０００５】
また、ステップさせない場合であっても、例えば、１台の近接露光装置で多種類の大きさの基板の露光を行えるようにするため、このようなマスキングアパーチャ機構を用いる場合もある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の近接露光装置においては、マスキングアパーチャ機構による遮光範囲を拡大して種々の大きさの基板に対応するためには、遮光ブレードを大型化する必要があるが、極力マスクに接近配置された遮光ブレードの上方には、基板（又は基板ステージ）側のアライメントマークとマスク側のアライメントマークとのずれ等を検出するためのアライメントカメラや、基板とマスクとのすき間寸法を測定するギャップセンサ等の他のユニットがマスクに近接配置されているため、遮光ブレードを大型化すると該遮光ブレードがこれらのユニットの検出領域と干渉（覆う）して機能を阻害することになり、この結果、スペース的制約で遮光ブレードの大きさに限界があり、遮光範囲に限界があった。
【０００７】
この場合、センサ等の台数を増やすか、或いはセンサ等を個々に移動可能にすることで対応することもできるが、このようにすると構造が複雑となってコスト高になるという別の問題が生じてしまう。
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、遮光範囲を拡大して種々の大きさの基板に対応することができると共に、簡単な構造で低コスト化を図ることができる近接露光装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１に係る発明は、被露光材としての基板を保持する基板ステージと、露光すべきパターンを有するマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、前記マスク上の任意の範囲の露光光を遮光することで露光範囲を制限する遮光ブレードを有するマスキングアパーチャ機構とを備え、前記基板と前記マスクとを微少すき間を介した状態で該マスクのパターンを前記基板に露光転写する近接露光装置において、
前記マスキングアパーチャ機構の遮光ブレードは、露光と遮光の境界部を含む第１領域を遮光する主ブレードと、前記マスクの表面からの距離が前記主ブレードより離れて配置され、前記第１領域に連続する第２領域を遮光する副ブレードとを備えることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に係る発明は、請求項１において、前記主ブレードをアームの下部に固定すると共に、前記副ブレードを前記アームの上部に固定したことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図を参照して説明する。
図１は本発明の実施の形態の一例であるステップ式の近接露光装置の概略側面図、図２はマスクステージの概略平面図、図３はマスキングアパーチャ機構の一部を破断した平面図、図４は図３のａ方向から見た図、図５は図３のｂ方向から見た図、図６は主ブレード及び副ブレードによる遮光領域を説明するための説明図、図７は本発明の作用効果を説明するための説明図、図８は図７との比較に用いる比較例を説明するための説明図、図９〜図１１はマスキングアパーチャ機構の変形例を示す図である。
【００１１】
本発明の実施の形態一例であるステップ式近接露光装置は、図１に示すように、被露光材としての基板Ｗより小さいマスクＭを用い、該マスクＭをマスクステージ１で保持すると共に、基板Ｗを基板ステージ２で保持して両者を近接して対向配置し、この状態で基板ステージ２をマスクＭに対してＹ軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にマスクＭ側から基板Ｗにパターン露光用の光を照射することにより、マスクＭの複数のパターンを基板Ｗ上に露光転写するようにしたものである。
【００１２】
基板ステージ２は、Ｚ軸ステージ３上にリニアガイド４を介してＹ軸方向に移動可能に支持されている。Ｚ軸ステージ３は、Ｚ軸方向に昇降可能に配置されてマスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に調整する昇降機能と、水平面に対する傾斜の調整を行うチルト機能を有している。また、基板ステージ２にはＹ軸方向に沿って配置されたボールねじのナット（図示せず）が取り付けられており、該ボールねじのねじ軸５をＺ軸ステージ３上の端部に設置されたモータ５ａで間欠的に回転駆動させることで、基板ステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるようになっている。
【００１３】
マスクステージ１は、図２に示すように、略矩形状の枠体からなるマスクフレーム６と、該マスクフレーム６の中央部開口６ａにすき間を介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスク保持枠７とを備えており、マスクフレーム６は図示しない支持部によって基板ステージ２の上方の定位置に保持されている。
【００１４】
マスク保持枠７は、マスクフレーム６のＸ軸方向に沿う二辺にそれぞれ２個ずつ（合計４個）互いにＸ軸方向に離間配置されたガイド部８を介して前記すき間分だけＸ，Ｙ，θ方向に移動可能に支持されている。また、マスク保持枠７の中央部開口７ａの下面には内方に張り出すフランジ９が開口７ａの全周に沿って設けられている（図５参照）。このフランジ９の下面に露光すべきパターンが描かれているマスクＭが真空式吸着装置１０を介して着脱自在に保持されるようになっている。
【００１５】
フランジ９のＸ軸方向に互いに対向する二辺の内側上方には、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のギャップを測定する手段としてのギャップセンサ１１と、マスクＭ側に設けられたアライメントマーク（図示せず）と基板Ｗ（又は基板ステージ２）側に設けられたアライメントマーク（図示せず）とを撮像する手段としてのアライメントカメラ１２とが配置されている。
【００１６】
ギャップセンサ１１は、フランジ９のＸ軸方向に互いに対向する二辺の内の一方の辺の内側上方にＹ軸方向に互いに離間して２カ所配置されると共に、他方の辺の内側上方でＹ軸方向の略中央部に１カ所配置されている。これらの３個のギャップセンサ１１による測定結果に基づいて図示しない制御装置で演算処理を行うことでマスクＭと基板Ｗとの対向面間の距離（すき間の大きさ）と平行度のずれ量を検出することができ、この検出ずれ量に応じて上述したＺ軸ステージ３の昇降機能とチルト機能が制御されてマスクＭと基板Ｗとの対向面間の距離（すき間）を所定の値に確保されるようになっている。
【００１７】
アライメントカメラ１２はフランジ９のＸ軸方向に互いに対向する二辺の各内側上方でＹ軸方向の略中央部にそれぞれ一カ所ずつ合計２カ所配置されおり、これらの２個のアライメントカメラ１２の画像データに基づいて図示しない制御装置で演算処理を行うことでマスクＭと基板Ｗとの平面ずれ量を検出することができ、この検出平面ずれ量に応じてマスク位置調整手段がマスク保持枠７をＸ，Ｙ，θ方向に移動させて該マスク保持枠７に保持されたマスクＭの基板Ｗに対する位置を調整するようになっている。
【００１８】
マスク位置調整手段は、図２に示すように、マスクフレーム６のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられたＸ軸方向駆動装置１４ｘと、マスク保持枠１３のＸ軸方向に沿う一辺にガイド部８の外側に位置して互いに離間して取り付けられた二台のＹ軸方向駆動装置１４ｙとを備えている。
Ｘ軸方向駆動装置１４ｘは、例えばＸ軸方向に伸縮するロッド１４１ｒを有する駆動用アクチュエータ（例えば電動アクチュエータ）等で構成されており、ロッド１４１ｒの先端は、マスク保持枠７のＹ軸方向に沿う辺部に沿って案内レール１４３ｒが固定されたリニアガイド（直動軸受案内）のスライダ１４３ｓにピン等を介して連結されている。
【００１９】
一方、Ｙ軸方向駆動装置１４ｙは、例えばＹ軸方向に伸縮するロッド１４１ｒを有する駆動用アクチュエータ（例えば電動アクチュエータ）等で構成されており、ロッド１４１ｒの先端は、マスク保持枠７のＸ軸方向に沿う辺部に沿って案内レール１４３ｒが固定されたリニアガイド（直動軸受案内）のスライダ１４３ｓにピン等を介して連結されている。
【００２０】
そして、Ｘ軸方向駆動装置１４ｘによりマスク保持枠７のＸ軸方向の調整を、二台のＹ軸方向駆動装置１４ｙによりマスク保持枠７のＹ軸方向及びθ軸方向（Ｚ軸まわりの揺動）の調整を行うようになっている。
なお、図２において符号１４１ｘはＸ軸方向駆動装置１４ｘに対向するマスクフレーム６のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられてマスク保持枠７をＸ軸方向駆動装置１４ｘの押圧方向と逆方向に付勢するための付勢装置で例えばエアシリンダ等で構成されており、また、符号１４１ｙはＹ軸方向駆動装置１４ｙに対向するマスクフレーム６のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられてマスク保持枠７をＹ軸方向駆動装置１４ｙの押圧方向と逆方向に付勢するための付勢装置で例えばエアシリンダ等で構成されている。
【００２１】
なお、Ｘ軸方向駆動装置１４ｘ及びＹ軸方向駆動装置１４ｙの各アクチュエータとマスク保持枠７とをガタなく連結可能であれば、付勢装置１４１ｘ及び１４１ｙは省略してもよい。また、ガイド部８の配置やＸ軸方向駆動装置，Ｙ軸方向駆動装置の配置なども上記に限定されるものではない。
また、マスク保持枠７のＸ軸方向に沿う二辺の各ガイド部８間には、それぞれマスク保持枠７に保持されたマスクＭ上の任意の範囲の露光光を遮光することで露光範囲を制限するマスキングアパーチャ機構１５ａ及び１５ｂが取り付けられている。ここで、この実施の形態では、マスキングアパーチャ機構１５ａ及び１５ｂの内でＹ軸方向駆動装置１４ｙ側の各ガイド部８間に配置されたマスキングアパーチャ機構１５ａについてのみ本発明を適用し、他方のマスキングアパーチャ機構１５ｂについては従前のものを用いるが、マスキングアパーチャ機構１５ａ及び１５ｂ共に本発明を適用してもよいのは勿論である。
【００２２】
マスキングアパーチャ機構１５ａは、図３〜図４に示すように、Ｙ軸方向に沿って設置されたボールねじ１６と、該ボールねじ１６と平行に設置されたリニアガイド１７とを備えている。ボールねじ１６のねじ軸１６ａに螺合されたナット１６ｂとリニアガイド１７の案内レール１７ａに跨架されたスライダ１７ｂとは連結部材１８によって連結されており、また、ボールねじ１６のねじ軸１６ａの両端は軸受１９を介して回転可能に支持されている。
【００２３】
ボールねじ１６のねじ軸１６ａのマスク保持枠７の開口７ａから離間する側の端部はブラケット２０に取り付けられたモータ２１のモータ軸２２にカップリング２３を介して連結されている。モータ２１のモータ軸２２を正逆方向に回転駆動させることにより、ナット１６ｂ、スライダ１７ｂ及び連結部材１８が一体となってＹ軸方向に往復移動するようになっている。
【００２４】
連結部材１８のボールねじ１６から離間する側の端部はリニアガイド１７からＸ軸方向に突出しており、該突出端にはアーム３０がマスク保持枠７の開口７ａの幅方向の略中央に位置して連結されている。
アーム３０は、マスク保持枠７の上方でＹ軸方向に延びる水平部３１と、該水平部３１の先端からＺ軸方向に下方に延びる垂直部３２とを備えており、該垂直部３２の先端（下端）には補強板３３を介して主ブレード（遮光ブレード）４０ａが連結されている。主ブレード４０ａはＸ軸方向にマスク保持枠７の開口７ａの幅より長く延びており、また、ボールねじ１６のナット１６ｂが最もマスク保持枠７の開口７ａから離間する位置に配置されたときに、フランジ９の上面に位置して該フランジ９からマスク保持枠７の開口７ａ側に突出しないようになっている。また、主ブレード４０ａは露光と遮光との範囲の境界部を鮮明にするためにできるだけフランジ９の上面に接近配置されて極力マスクＭに接近させた位置に設置される。
【００２５】
一方、アーム３０の水平部３１の上面には主ブレード４０ａより幅広の副ブレード（遮光ブレード）４０ｂが固定されている。副ブレード４０ｂは、主ブレード４０ａと同様に、Ｘ軸方向にマスク保持枠７の開口７ａの幅より長く延びており、また、マスク保持枠７の開口７ａ側を向く端部の一部が平面視して主ブレード４０ａの一部と重なるように配置されている。なお、主ブレード４０ａ、副ブレード４０ｂ及びアーム３０については例えば黒色として反射しにくい表面にするのが好ましい。また、副ブレード４０ｂと主ブレード４０ａとの間には上述したギャップセンサ１１及びアライメントカメラ１２がアーム３０の両側に位置して配置されている。
【００２６】
そして、モータ２１のモータ軸２２を回転駆動させることにより、ナット１６ｂ、スライダ１７ｂ、連結部材１８、アーム３０、副ブレード４０ｂ及び主ブレード４０ａが一体となってマスク保持枠７の開口７ａ側に向けてＹ軸方向に移動し、この移動量を調整することで主ブレード４０ａ及び副ブレード４０ｂによってマスク保持枠７に保持されたマスクＭ上の任意の範囲の露光光を遮光して露光範囲を制限するようになっている。
【００２７】
ここで、図６に示すように、主ブレード４０ａによって露光と遮光の境界部を含む第１領域Ｓ１　の遮光が行われ、副ブレード４０ｂによって第１領域Ｓ１　に連続する第２領域Ｓ２　の遮光が行われる。
なお、反対側のマスキングアパーチャ機構１５ｂについては、図２を参照して、上述したマスキングアパーチャ機構１５ａに対して、ボールねじ２６及びリニアガイド２７のストロークが短い点、アーム３０ａの水平部３１ａの長さが短い点、副ブレード４０ｂはなく主ブレード４０ａのみで遮光ブレードを構成している点を除いてマスキングアパーチャ機構１５ａと略同様であるので、説明を省略する。
【００２８】
図７は、２ステップ目の露光において、本発明に係るマスキングアパーチャ機構１５ａの主ブレード４０ａ及び副ブレード４０ｂで露光範囲を制限した状態を示し、図８は、２ステップ目の露光において、遮光範囲が主ブレード４０ａ及び副ブレード４０ｂと同一の一枚の遮光ブレードで露光範囲を制限した状態を示している。
【００２９】
図７及び図８において、Ｅは１ステップ目の露光領域、Ｆは２ステップ目の露光領域、Ｇは２ステップ目の遮光領域（ハッチングで示す）である。また、Ａ１　，Ｂ１　，Ｃ１　は１ステップ目の３個のギャップセンサ１１の位置関係、Ａ２　，Ｂ２　，Ｃ２　は２ステップ目の３個のギャップセンサ１１の位置関係である。
図８に示すように、一枚の遮光ブレードを大きくして２ステップ目の遮光範囲を拡大した場合は、図７のように、Ａ２　位置のギャップセンサ１１とＢ２　位置のギャップセンサ１１の位置関係を変えないままにすると、遮光ブレードがＡ２　とＢ２　位置のギャップセンサ１１の検出領域と干渉（覆う）して機能を阻害することになるため、Ａ２　とＢ２　位置のギャップセンサ１１を図８のように移動させるか、センサの台数を増やす必要がある。
【００３０】
これに対し、図７に示すように、本発明に係るマスキングアパーチャ機構１５ａの主ブレード４０ａ及び副ブレード４０ｂで２ステップ目の遮光範囲を拡大した場合は、Ａ２　位置のギャップセンサ１１とＢ２　位置のギャップセンサ１１は副ブレード４０ｂの下方に配置されるため、各ギャップセンサ１１の検出領域と干渉（覆う）しないようにすることができる。即ち、３個のギャップセンサ１１の位置関係を１ステップ目と２ステップ目とで同じにすることができ、各ギャップセンサ１１を動かしたり、センサの個数を増やしたりする必要をなくすことができる。
【００３１】
このようにこの実施の形態では、露光と遮光の境界部を含む第１領域Ｓ１　を遮光する主ブレード４０ａと、マスクＭの表面からの距離が主ブレード４０ａより離れて配置されて第１領域Ｓ１　に連続する第２領域Ｓ２　を遮光する副ブレード４０ｂとによって遮光範囲を拡大しているので、遮光ブレードとギャップセンサ１１等の検出領域とが干渉することなく、より広範囲な遮光を可能にすることができ、種々の大きさの基板に対応することができる。
【００３２】
また、ギャップセンサ１１を動かしたり、センサの個数を増やしたりしなくて済むため、簡単な構造になって低コスト化を図ることができる。
更に、ギャップセンサ１１を動かさなくて済むため、狭い範囲の露光の場合でもギャップセンサ１１同士の距離を大きくとることができ、高精度な測定を可能にすることができる。
【００３３】
更に、マスク保持枠７の開口部７ａに設けるべき遮光ブレード（主ブレード４０ａ）の退避部分（図６のＰ参照）を小さくすることができるので、マスク保持枠７ひいてはマスクステージ１の剛性低下を防止することができる。
なお、本発明の近接露光装置は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【００３４】
例えば、上記実施の形態では、アーム３０の水平部３１の上面のみに副ブレード４０ｂを固定した場合を例に採ったが、図９に示すように、アーム３０の垂直部３２を副ブレード４０ｂに連続する副ブレード４０ｃで覆うようにして遮光をより確実に行うようにしてもよい。
この場合、副ブレード４０ｃの両側にギャップセンサ１１等の逃げ用の切欠きを設けるか、或いはギャップセンサ１１等を副ブレード４０ｃの外側に退避できるように移動可能に構成するとよい。なお、副ブレード４０ｃと主ブレード４０ａは一体でも別体でもよい。
【００３５】
更に、上記実施の形態では、アーム３０の垂直部３２の下端に主ブレード４０ａを連結することで該主ブレード４０ａをフランジ９の上面に配置して該フランジ９からマスク保持枠７の開口７ａ側に突出しないようしているが、これに代えて、図１０に示すように、副ブレード４０ｂとは別に、アーム３０の垂直部３２の下端に副ブレード４０ｄを介して主ブレード４０ａを連結して該主ブレード４０ａをフランジ９からマスク保持枠７の開口７ａ側に突出させてマスクＭにより接近させることにより、露光と遮光との範囲の境界部がより鮮明になるようにしてもよく、更には、図１１に示すように、図９と図１０を組み合わせた構造と採用してもよい。
【００３６】
更に、上記実施の形態では、各送り手段として、リニアガイドとボールねじを組合せたものを用いているが、必ずしもこれに限定する必要はなく、例えば、各送り手段として、リニアモータを用いたもの、モータ、プーリとベルトとの組合せによるもの、エアシリンダを用いたもの等を用いてもよい。
更に、上記実施の形態では、マスキングアパーチャ機構１５ａ及び１５ｂをマスク保持枠７に取り付けた場合を例に採ったが、マスク保持枠７の枠幅が狭い場合には、マスキングアパーチャ機構１５ａ及び１５ｂをマスクフレーム６側に取り付けるようにしてもよい。
【００３７】
更に、上記実施の形態では、ステップ式の近接露光装置に本発明を適用した場合を例に採ったが、種々のサイズの基板に対応可能な一括露光式の近接露光装置に本発明を適用してもよいのは勿論である。
更に、上記実施の形態では、基板ステージ２をＹ軸方向にステップ移動可能な構成としたが、これに代えて、マスクステージ１を露光装置と共にＹ軸方向にステップ移動可能な構成を採用してもよい。
【００３８】
【発明の効果】
上記の説明から明らかなように、本発明によれば、露光と遮光の境界部を含む第１領域を遮光する主ブレードと、マスクの表面からの距離が主ブレードより離れて配置されて第１領域に連続する第２領域を遮光する副ブレードとによって遮光範囲を拡大しているので、遮光ブレードとセンサ等の検出領域とが干渉することなく、より広範囲な遮光を可能にすることができ、種々の大きさの基板に対応することができるという効果が得られる。
また、センサ等を動かしたり、センサの個数を増やしたりしなくて済むため、簡単な構造になって低コスト化を図ることができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例であるステップ式の近接露光装置の概略側面図である。
【図２】マスクステージの概略平面図である。
【図３】マスキングアパーチャ機構の一部を破断した平面図である。
【図４】図３のａ方向から見た図である。
【図５】図３のｂ方向から見た図である。
【図６】主ブレード及び副ブレードによる遮光領域を説明するための説明図である。
【図７】本発明の作用効果を説明するための説明図である。
【図８】図７との比較に用いる比較例を説明するための説明図である。
【図９】マスキングアパーチャ機構の変形例を示す図である。
【図１０】マスキングアパーチャ機構の変形例を示す図である。
【図１１】マスキングアパーチャ機構の変形例を示す図である。
【符号の説明】
１…マスクステージ
２…基板ステージ
１１…ギャップセンサ
１２…アライメントカメラ
１５ａ…マスキングアパーチャ機構
４０ａ…主ブレード（遮光ブレード）
４０ｂ…副ブレード（遮光ブレード）
３０…アーム
Ｗ…基板（被露光材）
Ｍ…マスク
Ｓ１　…第１領域
Ｓ２　…第２領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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