(57)【要約】【課題】高い防御指数を有し、使用が容易で化粧品的に好ましい、スプレー形態の抗日光組成物を付与するための装置を提供する。【解決手段】(Ａ)皮膚及び／又は毛髪を紫外線から保護するための少なくとも一の化粧品用組成物を収容した容器と、(Ｂ)前記組成物を加圧下に置くことができる手段とを少なくとも具備する装置において、前記組成物を、化粧品的に許容可能な水性担体中に、(ａ)紫外線を遮蔽可能な光保護系と、(ｂ)多孔質シリカの球状微小粒子とを少なくとも含有せしめたものとする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
(Ａ)皮膚及び／又は毛髪を紫外線から保護するための少なくとも一の組成物を収容した容器と、(Ｂ)前記組成物を加圧下に置くことができる手段とを少なくとも具備する装置において、前記組成物が、化粧品的に許容可能な水性担体中に、少なくとも：
(ａ)紫外線を遮蔽可能な光保護系と；
(ｂ)多孔質シリカの球状微小粒子と；
を含有してなることを特徴とする装置。
【請求項２】
多孔質シリカの球状微小粒子が、０．５〜２０μｍ、特に３〜１５μｍの範囲の平均粒子径を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
多孔質シリカの球状微小粒子が、５０〜１０００ｍ２／ｇ、特に１５０〜８００ｍ２／ｇの範囲の比表面積を有する、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
多孔質シリカの球状微小粒子が、０．５〜５ｍｌ／ｇ、特に１〜２ｍｌ／ｇの範囲の比細孔容積を有する、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
多孔質シリカの球状微小粒子が、組成物の全重量に対して０．１〜１０重量％、特に０．２〜５重量％の範囲の濃度で組成物に存在している、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
光保護系が、一又は複数の有機遮蔽剤及び／又は一又は複数の無機(ナノ)顔料からなる、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
有機遮蔽剤が、アントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；ジベンゾイルメタン誘導体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；トリアジン誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体；ベンゾオキサゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類；α-アルキルスチレンから誘導された二量体；４,４-ジアリールブタジエン誘導体、及びそれらの混合物から選択される、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
有機遮蔽剤が：
サリチル酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-３、
ベンゾフェノン-４、
ベンゾフェノン-５、
２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘキシル、
４-メチルベンジリデンショウノウ、
テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン、
アニソトリアジン、
エチルヘキシルトリアゾン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-１５、
１,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチル-プロピル)-４,４-ジフェニルブタジエン、
２,４-ビス-[５-１(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-２-イル-(４-フェニル)イミノ]-６-(２-エチルヘキシル)-イミノ-１,３,５-トリアジン、
及びそれらの混合物、
から選択される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の金属酸化物から選択される、請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
無機紫外線遮蔽剤が、被覆又は非被覆の、チタン、鉄、亜鉛、ジルコニウム又はセリウムの酸化物から選択される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
光保護系が、組成物の全重量に対して０．１重量％〜３０重量％、好ましくは０．５重量％〜１５重量％の範囲の量で存在している、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
組成物が、少なくとも一の噴霧剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
噴霧剤が、組成物の全重量に対して１５〜５０重量％の範囲の量で存在している、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
組成物が、少なくとも一の自己サンタン剤をさらに含有していることを特徴とする、請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
自己サンタン剤がモノ-又はポリカルボニル化合物から選択される、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
自己サンタン剤が、イサチン、アロキサン、ニンヒドリン、グリセルアルデヒド、メソ酒石酸アルデヒド、グルタルアルデヒド、エリトルロース、ピラゾリン-４,５-ジオン誘導体、ジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)、４,４-ジヒドロキシピラゾリン-５-オン誘導体から選択される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
自己サンタン剤がジヒドロキシアセトンである、請求項１４ないし１６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１８】
自己サンタン剤が、組成物の全重量に対して０．１〜１０重量％、好ましくは組成物の全重量に対して０．２〜８重量％の範囲の割合で存在している、請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１９】
組成物が、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、緩和剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、消泡剤、保湿剤、香料、防腐剤、ポリマー、フィラー、金属イオン封鎖剤、抗菌剤及び／又は臭気吸収剤、アルカリ性化又は酸性化剤、界面活性剤、乳化剤、抗フリーラジカル剤、酸化防止剤、ビタミンＥ及びＣ等のビタミン類、α-ヒドロキシ酸から選択される少なくとも一の化粧品用アジュバントをさらに含有している、請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
組成物が、イソフタル酸又はスルホイソフタル酸の少なくとも一のポリマーをさらに含有している、請求項１ないし１９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２１】
イソフタル酸又はスルホイソフタル酸の前記ポリマーが、フタラート／スルホイソフタラート／グリコールのコポリマー、特にジエチレングリコール／フタラート／イソフタラート／１,４-シクロヘキサンジメタノールのコポリマーである、請求項１９に記載の装置。
【請求項２２】
組成物が単純又は複合エマルションの形態で提供されることを特徴とする、請求項１ないし２１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２３】
組成物が、水中油型又は油中水型エマルションの形態で提供されることを特徴とする、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
ノンエアゾールポンプであることを特徴とする、請求項１ないし２３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２５】
エアゾール容器又はエアゾールポンプであることを特徴とする、請求項１ないし２３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２６】
化粧品的に許容可能な水性担体中に請求項１ないし２５のいずれか１項に記載の紫外線を遮蔽可能な少なくとも一の光保護系を含有せしめてなる噴霧性組成物の製造における、日光防御指数(ＳＰＦ)を増加させる薬剤としての、多孔質シリカの球状微小粒子の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、(Ａ)化粧品的に許容可能な水性担体中に、
(ａ)紫外線を遮蔽可能な光保護系と；
(ｂ)多孔質シリカの球状微小粒子と；
を少なくとも含有してなることを特徴とする、皮膚及び／又は毛髪を紫外線から保護することを意図した少なくとも一の組成物を収容した容器と、(Ｂ)前記組成物を加圧下に置くことができる手段とを少なくとも具備する加圧装置(pressurizing device)に関する。
【背景技術】
【０００２】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有する光線によりヒトの表皮はサンタン状態となり、ＵＶ-Ｂ線の名称で知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長を有する光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成を妨害するサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている；よって、ＵＶ-Ｂ線は遮蔽すべきである。
また、皮膚をサンタン状態にする３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａ線が皮膚に損傷を誘発するおそれがあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている皮膚の場合にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ-Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。よって、ＵＶ-Ａ線も遮蔽することが望ましい。
【０００３】
皮膚を光保護(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)することを意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提案されている。
これらの抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に許容可能な担体)の形態であり、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の親油性及び／又は親水性の一般的な有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなるもので、これらの遮蔽剤(及びそれらの量)は、所望の日光防御指数に従って選択され、日光防御指数(ＳＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な紫外線の線量に対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な紫外線の線量の比率を数学的に表したものである。
従って、高い防御指数を有する抗日光製品の必要性がますます増加している。高い防御指数は高濃度でより多くの遮蔽剤を導入することで達成することができる。しかし、これは、多量の遮蔽剤を添加すると、抗日光処方物のコストと皮膚刺激の危険性をかなり増加させるために、必ずしも行われるものではない。
【０００４】
スプレーの形態で提供される抗日光製品は、使用が容易で化粧品としての心地よさから、使用者にますます求められている。
従来の抗日光ミルク及びクリームとは異なり、高い防御指数を有するスプレー形態の抗日光組成物を得ることは、特に困難である。
【発明の開示】
【０００５】
しかしながら、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったところ、本出願人は、驚くべきことに、少なくとも一のＵＶ遮蔽系を含有する組成物を収容する加圧装置に、多孔質シリカの球状微小粒子を使用することで、同じ光保護系単独で得られるよりも高い防御指数を有する抗日光組成物が得られることを見出した。
この発見が本発明の基礎を形成する。
【０００６】
よって、本発明の第１の主題によれば、(Ａ)皮膚及び／又は毛髪を紫外線から保護するための少なくとも一の組成物を収容する容器と、(Ｂ)該組成物を加圧下に置くことができる手段とを少なくとも具備する加圧装置において、組成物が、化粧品的に許容可能な水性担体中に、少なくとも：
(ａ)紫外線を遮蔽可能な光保護系；
(ｂ)多孔質シリカの球状微小粒子；
を含有してなることを特徴とする装置が提供される。
本発明において、紫外線を遮蔽可能な光保護系という表現は、一般的に、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ線の吸収及び／又は反射及び／又は拡散というそれ自体既知のメカニズムにより、この又はこれらの化合物が塗布された表面(皮膚、毛髪)に前記光線が接触することを防止し、又は少なくとも制限することを可能にするあらゆる化合物又は化合物のあらゆる組合せを示すものと理解される。換言すれば、これらの化合物は、紫外線を吸収する光防御有機遮蔽剤又は紫外線を拡散及び／又は反射させる無機(ナノ)顔料、及びそれらの混合物でありうる。
【０００７】
本発明の他の主題は、紫外線を遮蔽可能な少なくとも一の光保護系を化粧品的に許容可能な水性担体中に含有せしめてなる噴霧性組成物中に多孔質シリカの球状微小粒子を、日光防御指数(ＳＰＦ)を増加させることができる薬剤として使用することからなる。
本発明において、「噴霧性組成物(vaporizable composition)」なる表現は、適切な装置で加圧下にて微細粒子を生成可能なあらゆる組成物を一般的に示すものと理解される。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【０００８】
本発明の多孔質シリカの球状微小粒子(ミクロ粒子)は、０．５〜２０μｍ、より詳細には３〜１５μｍの範囲の平均粒子径を有することが好ましい。
それらは、５０〜１０００ｍ２／ｇ、特に１５０〜８００ｍ２／ｇの範囲の比表面積を有することが好ましい。
またそれらは、０．５〜５ｍｌ／ｇ、特に１〜２ｍｌ／ｇの範囲の比細孔容積を有することが好ましい。
多孔質シリカのマイクロビーズの具体例としては、次の市販品：
ミヨシ社(Myoshi)のシリカビーズＳＢ１５０
旭硝子(Asahi Glass)のサンスフェア(Sunsphere)Ｈ-５１
サンジン社(Sunjin)のサンシル(Sunsil)１３０
イケダ・コーポレーション(Ikeda Corporation)のスフェリカ(Spherica)Ｐ-１５００
フジ・シリシア社(Fuji Silysia)のシロスフェア(Sylosphere)
を使用することができる。
【０００９】
本発明の多孔質シリカの球状微小粒子は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．１〜１０重量％、特に０．２〜５重量％の範囲の濃度で本発明の組成物に使用される。
【００１０】
本発明において、光保護系は、一又は複数の有機遮蔽剤及び／又は一又は複数の無機(ナノ)顔料からなるものであってよい。
有機遮蔽剤は、特にアントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；ジベンゾイルメタン誘導体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特許第４３６７３９０号、欧州特許出願第８６３１４５号、欧州特許出願第５１７１０４号、欧州特許出願第５７０８３８号、欧州特許出願第７９６８５１号、欧州特許出願第７７５６９８号、欧州特許出願第８７８４６９号、欧州特許出願第９３３３７６号、欧州特許出願第５０７６９１号、欧州特許出願第５０７６９２号、欧州特許出願第７９０２４３号、及び欧州特許出願第９４４６２４号に記載されているもの；ベンゾフェノン誘導体；β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；欧州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４号に記載されているようなビス-ベンゾアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出願第８９３１１９号に記載されているような、メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体；欧州特許出願第０８３２６４２号、欧州特許出願第１０２７８８３号、欧州特許出願第１３００１３７号及び独国特許出願第１０１６２８４４号に記載されているようなベンゾオキサゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、例えば特に国際公開第９３／０４６６５号に記載されているもの；α-アルキルスチレンから誘導された二量体、例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に記載されているもの；４,４-ジアリールブタジエン類、例えば欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号、独国特許出願第１９７５５６４９号、欧州特許出願公開第１００８５８６号、欧州特許出願第１１３３９８０号及び欧州特許出願第１３３９８１号に記載されているもの、及びそれらの混合物から選択される。
【００１１】
ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下に示すものが挙げられる：
パラ-アミノ安息香酸誘導体：
ＰＡＢＡ、
エチルＰＡＢＡ、
エチル-ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
特にＩＳＰ社から「エスカロール(ESCALOL)５０７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチルＰＡＢＡ、
グリセリルＰＡＢＡ、
ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(UVINUL)Ｐ２５」の名称で販売されているＰＥＧ-２５-ＰＡＢＡ。
【００１２】
サリチル酸誘導体：
ロナ(Rona)／ＥＭインダストリーズから「ユーソレックス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサラート(homosalate)、
ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and REIMER)から「ネオ・ヘリオパン(NEO HELIOPAN)ＯＳ」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
シェア社(SCHER)から「ディプサル(DIPSAL)」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
ジベンゾイルメタン誘導体：
特に、ホフマン・ラ・ロシュ社(HOFFMANN LA ROCHE)から「パルソール(PARSOL)１７８９」の商品名で販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタン、
イソプロピルジベンゾイルメタン。
【００１３】
ケイ皮酸誘導体：
特にホフマン・ラ・ロシュ社から「パルソールＭＣＸ」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸イソプロピル、
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＥ１０００」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル、
シノキサート、
ＤＥＡメトキシシンナマート、
メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
グリセリルエチルヘキサノアートジメトキシシンナマート。
【００１４】
β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体：
特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
ベンゾフェノン誘導体：
ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売されているベンゾフェノン-１、
ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-２、
ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、
ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-４、
ベンゾフェノン-５、
ノーケイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-６、
アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)から「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商品名で販売されているベンゾフェノン-８、
ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で販売されているベンゾフェノン-９、
ベンゾフェノン-１２、
ｎ-ヘキシル-２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾアート。
【００１５】
ベンジリデンショウノウ誘導体：
シメックス社(CHIMEX)から「メギゾリル(MEXORYL)ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウノウ、
メルク社(MERCK)から「ユーソレックス６３００」の名称で販売されている４-メチルベンジリデンショウノウ、
シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、
シメックス社から「メギゾリルＳＸ」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
ベンゾイミダゾール誘導体：
特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００１６】
トリアジン誘導体：
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社(CIBA SPECIALTY CHEMICALS)から「チノソーブ(TINOSORB)Ｓ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(UVASORB)ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン。
ベンゾトリアゾール誘導体：
ロ−ディア・シミー社(RHODIA CHIMIE)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン、
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から「チノソーブＭ」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル(FAIRMOUNT CHEMICAL)から「ミキシム(MIXXIM)ＢＢ／１００」の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール。
【００１７】
アントラニル誘導体：
ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
エチルヘキシルジメトキシベンジリデン-ジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体：
ホフマン・ラ・ロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の商品名で販売されている製品ポリシリコーン-１５のようなベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
４,４-ジアリールブタジエン誘導体：
１,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチルプロピル)-４,４-ジフェニルブタジエン。
ベンゾオキサゾール誘導体：
シグマ３Ｖ社からユバソーブＫ２Ａの商品名で販売されている２,４-ビス-[５-１(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-２-イル-(４-フェニル)イミノ]-６-(２-エチルヘキシル)-イミノ-１,３,５-トリアジン、
及びそれらの混合物。
【００１８】
特に好ましい有機遮蔽剤は次の化合物：
サリチル酸エチルヘキシル、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-３、
ベンゾフェノン-４、
ベンゾフェノン-５、
２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘキシル、
４-メチルベンジリデンショウノウ、
テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン、
アニソトリアジン、
エチルヘキシルトリアゾン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-１５、
１,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチルプロピル)-４,４-ジフェニルブタジエン、
２,４-ビス-[５-１(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-２-イル-(４-フェニル)イミノ]-６-(２-エチルヘキシル)-イミノ-１,３,５-トリアジン、
及びそれらの混合物、
から選択される。
【００１９】
無機遮蔽剤は、被覆されているか又は非被覆の、金属酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、全てＵＶ光保護剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料から選択される。また従来からのコーティング剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料は、特に、欧州特許出願第５１８７７２号及び欧州特許出願第５１８７７３号に記載されている。
【００２０】
本発明の光保護系は、組成物の全重量に対して０．１重量％〜３０重量％、好ましくは０．５重量％〜１５重量％の範囲の量で、本発明の組成物に一般的に存在する。
【００２１】
本発明の噴霧性組成物は、加圧装置により、微細粒子の形態で、皮膚又は毛髪に適用される。本発明の装置は当業者によく知られており、ノンエアゾール又は「噴霧(atomizer)」ポンプ、噴霧剤を含有するエアゾール容器、及び噴霧剤として圧縮空気を使用するエアゾールポンプが含まれる。後者は、米国特許第４０７７４４１号及び米国特許第４８５０５１７号(本明細書の内容の主要部分を形成)に記載されている。
エアゾールとして包装される本発明の組成物は、一般的に従来からの噴霧剤、例えばフッ化水素化化合物ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、ｎ-ブタン、プロパン又はトリクロロフルオロメタンを含有する。それらは、組成物の全重量に対して１５〜５０重量％の範囲の量で存在する。
【００２２】
また、本発明の組成物は、皮膚を人工的に褐色にする及び／又はサンタン状態にするための薬剤(自己サンタン剤)をさらに含有してもよい。
自己サンタン剤は、例えばイサチン、アロキサン、ニンヒドリン、グリセルアルデヒド、メソ酒石酸アルデヒド、グルタルアルデヒド、エリトルロース、仏国特許出願第２４６６４９２号及び国際公開第９７／３５８４２号に記載されているようなピラゾリン-４,５-ジオン誘導体、ジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)、欧州特許出願第９０３３４２号に記載されているような４,４-ジヒドロキシピラゾリン-５-オン誘導体等のモノ-又はポリカルボニル化合物から一般的に選択される。好ましくはＤＨＡが使用される。
ＤＨＡは遊離の形態及び／又はカプセル化された形態、例えば特に、国際公開第９７／２５９７０号に記載されているリポソーム等の脂質小胞体にカプセル化された形態で使用されてもよい。
【００２３】
モノ-又はポリカルボニルの自己サンタン剤は、組成物の全重量に対して０．１〜１０重量％、好ましくは０．２〜８重量％の範囲の割合で本発明の組成物に一般的に存在する。
【００２４】
また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、緩和剤(demulcents)、乳白剤、安定剤、エモリエント、消泡剤、保湿剤、香料、防腐剤、ポリマー、フィラー、金属イオン封鎖剤、抗菌剤及び／又は臭気吸収剤、アルカリ性化又は酸性化剤、界面活性剤、乳化剤、抗フリーラジカル剤、酸化防止剤、ビタミン類、例えばビタミンＥ及びＣ、α-ヒドロキシ酸、化粧品、特に噴霧性の水性抗日光組成物の製造に通常使用される任意の他の成分から選択される一般的な化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【００２５】
脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール類及び脂肪酸エステルをさらに含有する。油は、動物性、植物性、鉱物性又は合成油、特に流動パラフィン、パラフィン油、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、フッ化油及び過フッ化油から選択され得る。同様に、ロウは、それ自体公知の動物性ロウ、化石ロウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択され得る。
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
【００２６】
増粘剤は、特に架橋したアクリルポリマー、例えばカーボマー(Carbomers)、アメルコール社(Amerchol)からビスコフォーブ(VISCOPHOBE)ＤＢ１０００の名称で販売されているポリアクリラート-３又はペミュレン(Pemulen)タイプの架橋したアクリラート／アクリル酸Ｃ１０-Ｃ３０アルキルのポリマー；ポリアクリルアミド類、例えばセピック社(SEPPIC)からセピゲル(SEPIGEL)３０５の名称で販売されているポリアクリルアミド、Ｃ１３-Ｃ１４イソパラフィン及びラウレス(laureth)-７のエマルション、AMPSのホモポリマー又はコポリマー、例えばクラリアント社(CLARIANT)から販売されているホスタセリン(HOSTACERIN)AMPS、グアーガム及び変性又は未変性のセルロース類、例えばヒドロキシプロピル化グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロース、キサンタンガム、エアロシル(Aerosil)タイプのナノメートルサイズのシリカ類から選択され得る。
【００２７】
乳化剤又はエマルション安定剤は、非イオン性、アニオン性又はカチオン性界面活性剤から選択され得る。エマルション安定剤としては、イソフタル酸又はスルホイソフタル酸のポリマー、特にイーストマン・ケミカル社(Eastman Chemical)から「イーストマンＡＱポリマー」(ＡＱ３５Ｓ、ＡＱ３８Ｓ、ＡＱ５５Ｓ、ＡＱ４８ウルトラ)の名称で販売されているフタラート／スルホイソフタラート／グリコール(例えばジエチレングリコール／フタラート／イソフタラート／１,４-シクロヘキサンジメタノール)のコポリマーを使用することができる。
もちろん、当業者であれば、本発明の組合せ[光保護系＋多孔質シリカのマイクロビーズ]に本質的に付随する有利な特性が、考えられる添加により損なわれないか、実質的に損なわれないように留意して、上述した付加的な化合物又は化合物類及び／又はその量を選択するであろう。
【００２８】
本発明の組成物は、噴霧性組成物の調製を意図した、当業者によく知られている技術に従い調製され得る。
本発明の組成物は、特に、単純又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリーム又はミルクの形態、特にローションの形態で提供される。
特に本発明の組成物は、水中油型又は油中水型エマルションの形態で提供される。
エマルションである場合、その水相は、公知の方法［バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【実施例】
【００２９】
本発明を例証するものであって限定するものではない実施例を以下に記載する。
以下全ての実施例において、量は組成物の全重量に対する重量％で表される。
実施例１
ノンエアゾール又はエアゾールスプレーとして包装可能で、微細粒子の形態で噴霧可能な本発明の抗日光組成物Ａを調製した。
【表１】
2004168781.tif 000002
【００３０】
ついで、組成物Ａと同じ担体を含有するが、多孔質シリカのマイクロビーズを含有しない、比較抗日光組成物Ｂを調製した。
ついで、組成物Ａ及びＢのそれぞれに対して、それに付随する日光防御指数(ＳＰＦ)を測定した。これは、B.L. DIFFEYらによりJ. Soc. Cosmet. Chem. 40-127-133(1989)に記載されているインビトロ法を使用して決定した；この方法は、２９０〜４００ｎｍの範囲の波長において、単色光防御ファクターを測定し、それから、与えられた数式によって日光防御指数を算出することからなる。測定は、トランスポア(Transpore)(登録商標)ストリップに２ｍｇ／ｃｍ２の製品を広げ、ラブスフェア社(Labsphere)の装置ＵＶ-１０００Ｓを用い、１ｎｍのステップで実施した。
【００３１】
結果(５回の試行に対する平均値)を次表(Ｉ)にまとめる：
【表２】
2004168781.tif 000003
これらの結果には、噴霧性の担体中で、オクトクリレン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エチルヘキシルトリアゾン、ドロメトリゾールトリシロキサン、テレフタリリデンジショウノウスルホン酸及びＴｉＯ２のナノ顔料からなる光保護系に多孔質シリカの球状微小粒子を添加すると、その日光防御指数を有意に上げることができることが明瞭に示されている。