(57)【要約】【課題】基板の表面処理を行う際の紫外線の照射のムラに起因する、表面処理のムラを防止する。【解決手段】基板９をステージ５上のステージ回転中心５ａ以外の部分に配置・固定する。紫外線ランプ３はステージ５上所定の間隔で並べられているので、紫外線も所定の間隔で強弱を有して基板９に照射される。紫外線ランプ３の照射と同時に、ステージ５がステージ回転中心５ａを中心として回転する。その回転は、紫外線ランプ中心４と所定の基板９の基板外縁９ｂとの交差部１０のうちの１つが、処理の工程の時間内に少なくとも前記の交差部１０を形成する紫外線ランプ中心４のステージ５の回転方向側の隣の紫外線ランプ中心４と交差するまで回転する。この結果、基板９は複数の紫外線ランプ３で周期的に照射する紫外線の照射強度の少なくとも１周期分を通過するので、照射強度のムラに起因する、基板９の表面処理のムラが無くなる。【選択図】      図４
2004342920.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に紫外線を照射するランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、
前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられており、
前記基板支持面に対して垂直な中心軸を中心として回転可能に形成され、
前記中心軸以外の部分の基板支持面に前記基板を配置することを特徴する基板処理装置。
【請求項２】
基板に紫外線を照射するランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、
前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられており、
前記ランプは、前記基板支持面に対して垂直な中心軸を中心として回転可能に形成され、
前記中心軸の直下以外の部分の基板支持面に前記基板を配置することを特徴する基板処理装置。
【請求項３】
基板に紫外線を照射するランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、
前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられ、
前記基板支持面に対して垂直な中心軸を中心として回転可能に形成されており、
前記基板支持手段は、基板支持手段支持部に複数設けられ、当該基板支持手段支持部は前記中心軸と平行な中心軸を有しており、前記複数の基板支持手段は、この基板支持手段支持部の中心軸を避けて設けられており、
前記基板支持手段支持部は、当該基板支持手段支持部の中心軸を中心として回転可能に形成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられており、
前記基板支持手段は、１回の処理工程で少なくとも、前記ランプの照射方向側から見た場合の、基板支持手段に支持されている基板の外縁と、当該外縁と最も近いランプとの交差部のうちの１つが、当該ランプと隣り合い、且つ、基板支持手段の回転方向側にあるランプと交差するまで回転することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、
前記基板支持手段或いは前記基板支持手段支持部は、１回の処理工程で基板の処理面のいずれの位置も、前記照射強度の周期のうちの少なくとも１周期分は移動するように回転することを特徴とする請求項１又は３に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、
前記基板支持手段支持部の中心軸を中心とし、且つ円周部が基板支持手段の回転の中心を通る軌道円と、前記基板支持手段上の基板の外縁との交点のうち、前記支持手段支持部の回転方向側の前記交点が、前記照射強度の周期のうちの少なくとも１周期分は１回の処理工程で移動するように、前記基板支持手段支持部が回転することを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項７】
円筒形状に形成され基板に紫外線を照射する複数のランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、
前記紫外線を照射する複数のランプは所定の間隔を開けて設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、
前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられており、
前記ランプが形成している範囲の面に対して平行に当該基板支持手段は移動し、
前記基板支持手段の移動の方向は、前記ランプの照射方向から見た場合に、前記ランプと直角に或いは斜めに交差する方向であり、
前記基板支持手段は、当該基板支持手段で支持される基板のいずれの位置も１回の処理工程で、前記照射強度の周期のうちの少なくとも１周期は移動することを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、
前記の基板支持手段の中心軸から所定の距離で離れた位置には第２中心軸が設けられ、この第２中心軸は前記中心軸と平行に形成されおり、
当該中心軸と第２中心軸とは連結部材によって連結され、さらに、中心軸と第２中心軸と間の所定の距離は、少なくとも前記ランプの間隔の１／２は離れており、
前記基板支持手段は、基板支持面を常に前記ランプに面した状態で、第２中心軸を回転の中心として偏心回転可能に形成され、
前記基板支持手段が偏心回転した際に、その偏心回転中の基板支持手段の基板を支持する面のどの部分も照射できるように、前記ランプの照射範囲が形成されていることを特徴する請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項９】
基板の処理面を、紫外線を照射するランプの紫外線により処理する際に、
前記ランプの、ある照射方向に対して平行に形成されている回転軸を避けて基板を配置し、
前記基板の処理面を前記ランプの方向に向けた状態で、前記回転軸を中心として前記基板とランプとを相対的に回転させつつ、基板に向けてランプから紫外線を照射することを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板処理装置で処理された基板を備えた電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板処理装置で処理された基板を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体基板に紫外線を照射することにより、表面処理を行う基板処理装置に係るものである。特に、この発明は、半導体基板の製造過程において、紫外線を照射する際に、均一に照射できる基板処理装置、基板の製造方法、並びにこの基板処理装置によって製造された基板を備える電気光学装置及び電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
電気光学装置及び電子機器では、半導体デバイスがその構造において中心的な役割を果たしているが、この半導体デバイスで使用する半導体基板は、構造が大変微細なものとなっている。このため、肉眼では認識できない程に小さな有機物などの付着物も、当該半導体基板にとっては大変悪影響を及ぼすものであるため、製造過程ではこれらを完全に取り除かなければならない。しかし、それらのような付着物を除去する際に、洗浄水などで洗い流すだけでは付着物は取りきれず、また、通常の他の機械などの洗浄のように、付着物を除去する際に表面を拭いたのでは、表面に傷が付いて使い物にならなくなってしまう。
【０００３】
これらのため、従来は上記のように半導体基板に付着した有機物を除去する工程では、半導体基板上に紫外線を照射するランプを配置し、このランプから照射される紫外線により付着物を除去している。この紫外線の波長は、紫外線を照射するランプによって異なり、例えば、低圧水銀ランプを使用する場合は１８５μｍ、２５４μｍ、誘電体バリア放電ランプを使用した場合は１７２μｍ程度となっている。この紫外線を半導体基板上に照射して酸素を励起させ、生成されるオゾンや発生期の酸素によって基板表面上の有機物を酸化・気化させることによって除去する。
【０００４】
この紫外線ランプは通常は、基板上に均一に紫外線を照射するために、直線状のランプを並列に数本配置している。しかし実際には、ランプの直下とランプ間の下では、基板上に照射される紫外線の照射強度が異なり、処理を均一に行うことが出来なかった。そこで、この問題を解決するための従来技術として、１本或いは複数本の紫外線ランプをランプハウジングに収め、このランプハウジングを回転運動させる方法がある（例えば、特許文献１参照）。この従来技術は、当該ランプハウジングの上部に回転軸を通し、この軸を中心として所定の範囲で円弧を描くようにランプハウジングを回転させている。また、ランプハウジングの基板側の先端には、集光レンズが設けられており、この集光レンズで集めた紫外線を基板に照射する。
【０００５】
しかし、回転運動では集光レンズ高さ方向に位置が、ランプハウジングの回転運動中の角度によって異なるため、基板との距離が異なることとなる。そこで、ランプハウジングの回転運動による集光レンズの高さ方向の変化に合わせて、基板を備えるステージの高さを変化させて、この距離を一定に保っている。また、ランプハウジングの回転の角度によって基板に照射する紫外線の照射角も変わり、この照射角の変化によって基板に照射される単位面積当りの紫外線照射量も変化する。この変化する紫外線照射量を受ける基板の、単位時間当りの紫外線の照射量を基板全体で均一にするために、ランプハウジングの角度によって、ランプハウジングの回転の速度、及びステージの上下方向の移動の速度を変化させている。これらにより、紫外線が基板に対して均一に照射されることになり、表面処理を均一に行うことができる。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−７５９４５号公報（第４−７頁、第３−１２図）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の構造では、小さな基板に合わせた基板処理装置で大きな基板を処理する場合には、ランプハウジングを水平に近い角度まで回転させなければならず、紫外線照射角度の変化が大きくなり、ランプハウジングの回転速度、及びステージの上下方向の移動速度の変化が大きくなり、制御が困難になる。また、基板処理装置を大きな基板に合わせて製造する場合には、ランプハウジングの回転半径を大きく取らねばならず、基板処理装置の高さが高くなってしまう。これらのために、上記の基板処理装置は、基板に大きさに対する汎用性が小さく、処理をする基板に合わせた紫外線ユニットが必要である。このため、複数の大きさの基板を処理する場合には、その大きさに合わせた複数の基板処理装置が必要であった。さらに、上記の構造では、基板上へ紫外線を均一に照射するために、ランプハウジングの回転による集光レンズの高さの変化に合わせて、ステージを上下方向に動かし、集光レンズとステージ上にある基板との距離を一定に保つ必要がある。さらに、ランプハウジングの回転による基板への紫外線照射角度の変化に合わせて、ランプハウジング及びステージの移動速度も変化させる必要があり、これらを正確に対応させないと、紫外線の照射強度にムラが発生するおそれがあった。
【０００８】
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、基板に紫外線を照射させる工程において基板へ紫外線を均一に照射すること、簡易な構造で基板へ紫外線を均一に照射することのうち少なくとも１つを達成できる基板処理装置、並びにこの処理装置によって製造された基板を備える電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、この発明に係る基板処理装置は、基板に紫外線を照射するランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられており、前記基板支持面に対して垂直な中心軸を中心として回転可能に形成され、前記中心軸以外の部分の基板支持面に前記基板を配置することを特徴する。
【００１０】
この基板処理装置においては、基板支持面を紫外線照射ランプに面するように設け、基板支持面に対して垂直な中心軸を中心として基板支持手段を回転させている。また、基板をこの基板支持面上の前記中心軸以外の部分に配置している。この中心軸は、基板支持手段が回転した際でも移動しない部分、つまり、紫外線照射ランプとの相対位置が変化しない部分である。これらのため、基板支持手段の回転により、基板のどの部分も紫外線照射ランプとの相対位置が変化する。この結果、紫外線照射ランプの照射にムラがある場合でも、基板支持手段が回転することにより紫外線の基板上での照射は均一化され、紫外線の照射のムラに起因する基板上の処理にムラが生じずに、処理が均一に行われる。さらに、基板支持手段を回転方向に回転させるだけなので、紫外線照射ランプと基板との距離は制御する必要が無く、紫外線を基板に均一に照射するための構造が簡単なものとなる。
【００１１】
また、次の発明に係る基板処理装置は、基板に紫外線を照射するランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられており、前記ランプは、前記基板支持面に対して垂直な中心軸を中心として回転可能に形成され、前記中心軸の直下以外の部分の基板支持面に前記基板を配置することを特徴する。
【００１２】
この基板処理装置においては、基板支持手段の基板支持面を紫外線照射ランプに面する状態で、当該紫外線照射ランプを回転させている。また基板は、この基板支持手段の基板支持面上で、前記紫外線照射ランプの回転の中心軸以外の部分に配置されている。またこの中心軸は、前記紫外線照射ランプとの相対位置が変化しない部分である。これらのため、紫外線照射ランプは、回転することによりどの基板とも相対位置が変化するので、紫外線の照射は、どの基板に対しても移動しながら照射する。この結果、紫外線照射ランプの照射にムラがある場合でも、紫外線照射ランプが回転することにより紫外線の基板上での照射は均一化され、紫外線の照射のムラに起因する基板上の処理にムラが生じずに、処理が均一に行われる。さらに、紫外線照射ランプを回転方向に回転させるだけなので、紫外線照射ランプと基板との距離は制御する必要が無く、紫外線を基板に均一に照射するための構造が簡単なものとなる。
【００１３】
また、次の発明に係る基板処理装置は、基板に紫外線を照射するランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられ、前記基板支持面に対して垂直な中心軸を中心として回転可能に形成されており、前記基板支持手段は、基板支持手段支持部に複数設けられ、当該基板支持手段支持部は前記中心軸と平行な中心軸を有しており、前記複数の基板支持手段は、この基板支持手段支持部の中心軸を避けて設けられており、前記基板支持手段支持部は、当該基板支持手段支持部の中心軸を中心として回転可能に形成されていることを特徴とする。
【００１４】
この基板処理装置においては、基板支持手段支持部に、基板支持面を紫外線照射ランプに向けた複数の基板支持手段が設けられている。また、基板支持手段支持部及び基板支持手段は、それぞれ中心軸を有しており、基板支持手段は、基板支持手段支持部の中心軸以外の部分に設けられている。また、基板支持手段支持部及び基板支持手段は、それぞれ中心軸を中心として、基板支持面が常に紫外線照射ランプに面した状態で回転している。従って、基板支持面に支持される基板の全ての部分と紫外線照射ランプとが、相対的に移動することになり、紫外線は移動しながら基板に照射される。この結果、紫外線照射ランプの照射にムラがある場合でも、前記の回転により紫外線の基板上での照射は均一化され、紫外線の照射のムラに起因する基板上の処理にムラが生じずに、処理が均一に行われる。さらに、基板支持手段及び基板支持手段支持部を回転させるだけなので、紫外線照射ランプと基板との距離は制御する必要が無く、紫外線を基板に均一に照射するための構造が簡単なものとなる。
【００１５】
また、次の発明に係る基板処理装置は、前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられており、前記基板支持手段は、１回の処理工程で少なくとも、前記ランプの照射方向側から見た場合の、基板支持手段に支持されている基板の外縁と、当該外縁と最も近いランプとの交差部のうちの１つが、当該ランプと隣り合い、且つ、基板支持手段の回転方向側にあるランプと交差するまで回転することを特徴とする。
【００１６】
この基板処理装置においては、紫外線照射ランプを複数設けている。これにより、基板上に照射される紫外線は、ランプの直下とランプの間隔部とでは、その照射の強度が異なっている。このため、これを基板に均一に照射させるために、上記のように基板支持手段を回転させるが、回転が速すぎる場合は基板が基板支持手段から外れてしまい、回転が遅すぎる場合は、紫外線を基板に均一に照射することができない。この回転を適正な回転とし、且つ、紫外線の基板への照射を均一に照射するために、１回の処理工程での最低限の回転を、照射方向から見た基板の外縁と紫外線照射ランプとの交差部の１つが、当該ランプと隣り合うランプと交差するまで回転することとしている。これにより、基板のこの部分は、照射強度の強い場所であるランプの直下から、ランプの間隔部の下を通り過ぎ、再びランプの直下まで移動している。これと同様に、他の部分もランプの直下からランプの直下、或いはランプの間隔部の下からランプの間隔部の下までなど、複数に設けられたランプの一つの周期を通過している。この結果、当該基板には、紫外線がムラなく照射されることとなり、紫外線による基板の処理を均一に行うことができる。さらに、基板支持手段を回転方向に回転させるだけなので、紫外線照射ランプと基板との距離は制御する必要が無く、紫外線を基板に均一に照射するための構造が簡単なものとなる。
【００１７】
また、次の発明に係る基板処理装置は、前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、前記基板支持手段或いは前記基板支持手段支持部は、１回の処理工程で基板の処理面のいずれの位置も、前記照射強度の周期のうちの少なくとも１周期分は移動するように回転することを特徴とする。
【００１８】
この基板処理装置においては、基板は複数の紫外線照射ランプによって処理される。紫外線照射ランプは所定の間隔を有して設けられているが、ランプの直下と、ランプとランプとの間の部分とでは紫外線の照射強度が異なり、ランプの直下の方が強く照射される。このため、上記のように所定の間隔を有して複数のランプが設けられている場合は、その間隔に沿った周期で照射強度に強弱を有して紫外線が照射される。また、基板支持手段及び基板支持手段支持部は回転をしているが、上記のように、回転が早過ぎると基板が基板支持手段から外れ、遅過ぎると紫外線が均一に照射できない。このため、基板が脱落しない程度の回転速度で、且つ、基板支持手段上の基板の全ての部分が、少なくとも前記の照射強度の周期の１周期分は移動するように、前記基板支持手段及び基板支持手段支持部を回転させる。この結果、基板に紫外線を均一に照射でき、ムラなく処理できる。さらに、基板支持手段及び基板支持手段支持部を回転させるだけなので、紫外線照射ランプと基板との距離は制御する必要が無く、紫外線を基板に均一に照射するための構造が簡単なものとなる。
【００１９】
また、次の発明に係る基板処理装置は、前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、前記基板支持手段支持部の中心軸を中心とし、且つ円周部が基板支持手段の回転の中心を通る軌道円と、前記基板支持手段上の基板の外縁との交点のうち、前記支持手段支持部の回転方向側の前記交点が、前記照射強度の周期のうちの少なくとも１周期分は１回の処理工程で移動するように、前記基板支持手段支持部が回転することを特徴とする。
【００２０】
この基板処理装置においては、上記のように、所定の間隔を有する複数の紫外線照射ランプが設けられ、基板は回転する基板支持手段及び基板支持手段支持部によって支持されている。また、基板への紫外線の照射は、前記の紫外線照射ランプの間隔に沿って照射強度が異なって照射されるため、照射強度は所定の周期を有して照射される。基板支持手段は、基板支持面を紫外線照射ランプに面して基板支持手段支持部に設けられており、基板支持手段及び基板支持手段支持部は、上記のそれぞれの中心軸を中心として回転する。この基板支持手段支持部の回転の中心を中心とし、且つ円周部が基板支持手段の回転中心を通る軌道円と、基板支持手段に支持される基板の外縁との交点のうち、基板支持手段支持部の回転方向側の交点が、少なくとも１回の処理工程で前記の照射強度の周期の１周期分は通過するように、前記基板支持手段及び基板支持手段支持部は回転する。このように回転する結果、基板支持手段に支持された基板の全ての部分が、前記の照射強度の周期の１周期分を通過することとなり、基板に紫外線を均一に照射できるので、紫外線による基板の処理を均一にできる。さらに、基板支持手段及び基板支持手段支持部を回転させるだけなので、紫外線照射ランプと基板との距離は制御する必要が無く、紫外線を基板に均一に照射するための構造が簡単なものとなる。
【００２１】
また、次の発明に係る基板処理装置は、円筒状に形成され基板に紫外線を照射する複数のランプと、基板支持面を有する基板支持手段と、を備える基板処理装置において、前記紫外線を照射する複数のランプは所定の間隔を開けて設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、前記基板支持手段は、基板支持面を前記ランプに面するように設けられており、前記ランプが形成している範囲の面に対して平行に当該基板支持手段は移動し、前記基板支持手段の移動の方向は、前記ランプの照射方向から見た場合に、前記ランプと直角に或いは斜めに交差する方向であり、前記基板支持手段は、当該基板支持手段で支持される基板のいずれの位置も１回の処理工程で、前記照射強度の周期のうちの少なくとも１周期は移動することを特徴とする。
【００２２】
この基板処理装置においては、紫外線照射ランプが所定の間隔を開けて複数設けられており、これにより照射範囲も前記の間隔に沿って、照射強度が所定の間隔を有して照射している。また、紫外線照射ランプの照射範囲には基板支持手段が設けられており、基板はこの基板支持手段の紫外線照射ランプに面する側に支持される。当該基板処理装置を紫外線照射ランプの照射方向からみた場合、基板支持手段は、紫外線照射ランプと直角に或いは斜めに交差する方向に移動する。またこの基板処理手段は、１回の処理工程で前記の照射強度の周期の少なくとも１周期は移動する。これにより、強弱を有して照射する紫外線を基板で受ける際に、基板の全ての部分が強弱の１つの周期分の紫外線を受けることになり、単位時間当りの紫外線の照射量は平均化される。この結果、紫外線による基板の処理は、基板のどの部分でも均一化され、ムラのない処理を行うことができる。さらに、基板支持手段を基板支持面の形成方向に可動させるだけなので、紫外線照射ランプと基板との距離は制御する必要が無く、紫外線を基板に均一に照射するための構造が簡単なものとなる。
【００２３】
また、次の発明に係る基板処理装置は、前記紫外線を照射するランプは所定の間隔を開けて複数設けられ、前記ランプの照射範囲には、前記ランプの直下は紫外線の照射強度が強く、前記ランプとランプの間の部分は紫外線の照射強度が弱く照射されることにより前記のランプの間隔と同じ間隔で照射強度の強弱の周期が形成されており、前記の基板支持手段の中心軸から所定の距離で離れた位置には第２中心軸が設けられ、この第２中心軸は前記中心軸と平行に形成されおり、当該中心軸と第２中心軸とは連結部材によって連結され、さらに、中心軸と第２中心軸と間の所定の距離は、少なくとも前記ランプの間隔の１／２は離れており、前記基板支持手段は、基板支持面を常に前記ランプに面した状態で、第２中心軸を回転の中心として偏心回転可能に形成され、前記基板支持手段が偏心回転した際に、その偏心回転中の基板支持手段の基板を支持する面のどの部分も照射できるように、前記ランプの照射範囲が形成されていることを特徴する。
【００２４】
この基板処理装置においては、基板支持手段が有する中心軸と、当該中心軸から離れた位置にある第２中心軸とを、連結部材によって連結している。これにより、中心軸は第２中心軸の周囲を回転し、中心軸が回転の中心軸となっている基板支持手段も中心軸に合わせて回転するので、基板支持手段全体が第２中心軸を回転の中心として偏心回転をする。この回転と同時に、基板支持手段は前記のように中心軸を中心として回転する。また、紫外線の照射は、強弱を有して所定の周期で照射されているが、前記の中心軸と第２中心軸との距離は、少なくとも、この所定の周期の１／２は離れている。これらのため、第２中心軸が１／２回転すれば基板支持手段は照射範囲の強弱の周期の１周期は移動するので、基板支持手段に支持される基板も、１周期分は移動する。この結果、紫外線の基板への照射は均一化され、紫外線のムラによる処理のムラを防止できる。また、基板支持手段は第２中心軸を中心として基板支持手段全体が偏心回転をすると同時に、中心軸を中心として基板支持手段自体も回転しているので、紫外線の基板への照射の均一化をより確実の行うことができ、紫外線による基板の処理を、より確実に行うことができる。
【００２５】
また、次の発明に係る基板の製造方法は、基板の処理面を、紫外線を照射するランプの紫外線により処理する際に、前記ランプの、ある照射方向に対して平行に形成されている回転軸を避けて基板を配置し、前記基板の処理面を前記ランプの方向に向けた状態で、前記回転軸を中心として前記基板とランプとを相対的に回転させつつ、基板に向けてランプから紫外線を照射することを特徴とする。
【００２６】
この基板の製造方法においては、紫外線照射ランプの、ある照射方向に対して平行に形成されている回転軸以外の部分に基板を配置し、当該基板の処理面を紫外線照射ランプに常に向けた状態で、紫外線を基板に照射させつつ、基板と紫外線照射ランプとを相対的に回転させている。回転軸以外の部分は、基板と紫外線照射ランプとが相対的に回転すると、双方は相対的に移動することとなるが、回転軸の部分が、双方の位置は相対的に移動せず、同じ位置関係のまま、その場で回転するだけである。従って、回転軸以外の部分に基板を配置し、双方を相対的に回転させることにより、基板の全ての部分が紫外線照射ランプと相対的に移動する。この結果、紫外線照射ランプの照射にムラがある場合でも、基板が移動することにより、それぞれの基板は、それぞれ紫外線の照射強度の強い所と弱い所を通過し、紫外線による処理が均一化される。
【００２７】
また、次の発明に係る電気光学装置は、上記基板処理装置で処理された基板を備えたことを特徴とする。このため、ムラが無く、均一な処理を施された基板を備えた電気光学装置とすることができる。この結果、不十分な基板の処理に起因する電気光学装置の動作不良を起こすことも無く、高品質な電気光学装置を得ることができる。また、確実な処理を施された基板を使用する事により、製造時の不良率を低下させることができ、利益率の上昇若しくはコストの低下を得ることができる。
【００２８】
また、次の発明に係る電子機器は、上記基板処理装置で処理された基板を備えたことを特徴とする。このため、ムラが無く、均一な処理を施された基板を備えた電子機器とすることができる。この結果、不十分な基板の処理に起因する電子機器の動作不良を起こすことも無く、高品質な電子機器を得ることができる。また、確実な処理を施された基板を使用する事により、製造時の不良率を低下させることができ、利益率の上昇若しくはコストの低下を得ることができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの或いは実質的に同一のものが含まれる。
【００３０】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る基板処理装置の構造を示す一部断面図である。図２は、図１のＡＡ断面図である。図３は、図２のＢＢ断面図である。図４は、図３の紫外線ランプの中心線と基板との関係図である。図５は、図３のＣＣ断面図である。この基板処理装置２は、基板支持手段であるステージ５及び紫外線を照射する紫外線ランプ３から形成されている。さらに、この基板処理装置２は、洗浄処理室１内に設けられている。洗浄処理室１の側壁には、ステージ５の上面付近の高さに開閉口１ａが設けられている。この開閉口１ａは、前処理工程から洗浄処理前の基板９が基板処理装置２に受け渡される時、或いは、基板処理装置２で洗浄処理をした基板９を、後処理工程受け渡す時に使用する。また、この洗浄処理室１には不活性ガス流通機構（図示省略）が備えられており、基板洗浄処理中の洗浄処理室１内は、窒素などの不活性ガスで満たされている。
【００３１】
基板処理装置２のステージ５は、駆動部７の上方に設けられており、その形状は、所定の厚みを有する円形となっている。このステージ５の上面は基板支持面６として形成されており、この基板支持面６上には、複数の吸引口（図示省略）が形成設けられている。このステージ５は、下方にある駆動部７に内設されているモーターなどの駆動装置８の出力軸８ａに固定されている。この出力軸８ａは、駆動部７から上方に向かって形成されており、軸方向が上下方向となる向きで形成されている。出力軸８ａとステージ５との固定位置は、ステージ５を形成する円形の中心であるステージ回転中心５ａが、出力軸８ａの回転中心と一致する位置となって固定されている。また、前記のように固定されているので、出力軸８ａが回転すると、ステージ回転中心５ａを中心として、ステージ５を形成する円形の円周方向にステージ５が回転する。なお、この出力軸８ａは、モーター等の出力軸のように駆動装置から直接出力される軸以外に、駆動装置等の出力軸からギア、チェーンなどを介して動力を伝えられて、最終的にステージ５に出力する軸としてもよい。
【００３２】
ステージ５の基板支持面６の上部には、複数の紫外線ランプ３が保持手段（図示省略）に保持されて設けられている。この紫外線ランプ３は、電源（図示省略）と電気的に接続されており、電源から電気の供給を受けると、紫外線を照射する。紫外線ランプ３が照射する紫外線の波長は、使用する紫外線ランプ３によって異なり、例えば、低圧水銀ランプを使用すると１８５μｍ、２５４μｍ、誘電体バリア放電ランプを使用すると１７２μｍとなっている。なお、この紫外線ランプ３は、所定の波長の紫外線を照射するランプ３なら、前記の例以外のランプを使用しても良い。この紫外線ランプ３は、通常の可視光線を照射する蛍光ランプのように、直線状の形状で形成されている。この紫外線ランプ３は、複数本が平行に並べて形成されている。この複数の紫外線ランプ３の並べ方は、基板９に対し紫外線をなるべく平均して照射できるように、間隔を一定にして並べられている。なお、この間隔は、１０ｃｍ〜１５ｃｍ程度とするのが好ましい。
【００３３】
基板９の基板処理装置２への固定方法は、基板９の処理面９ａ側を紫外線ランプ３に面するようにしてステージ５の基板支持面６上に配置する。なお、基板９を配置する位置は、ステージ回転中心５ａを避けて配置する。基板９を配置した後に基板支持面６に形成された吸引口で基板９を吸引することにより、基板９は基板処理装置２のステージ５の基板支持面６上で、且つ、ステージ回転中心５ａ以外の位置に固定される。なお、このような基板処理装置２で処理する基板９の大きさは、通常は直径が８インチ程度の円形、或いは、３７ｃｍ×４７ｃｍ程度の矩形となっているため、前記ステージ５の大きさは、この大きさの基板９がステージ回転中心５ａを避けて、基板支持面６上に完全に収まる程度の大きさが好ましい。さらに、紫外線ランプ３は、この大きさの基板支持面６の全範囲を照らせるように、所定の間隔で並べることが好ましい。もちろん、より大きい基板９を処理する場合には、ステージ５及び紫外線の照射範囲を大きくし、小さい基板９を処理する場合は、ステージ５及び紫外線の照射範囲は小さくしても構わない。各部の大きさは、その基板処理装置２で処理する基板９の大きさに合わせて寸法を決定しても構わない。
【００３４】
この実施の形態１に係る基板処理装置は、洗浄処理室１の開閉口１ａを通して、前処理工程から、洗浄処理前の基板９を必要な数だけ、基板処理装置２のステージ５の基板支持面６上の、ステージ回転中心５ａ以外の部分に配置する。また、その際には、基板９の洗浄処理面である処理面９ａを、紫外線ランプ３に面する向きで配置する。基板９を基板支持面６に配置し終わったら、開閉口１ａは閉じられる。基板支持面６上の基板９は、基板支持面６に形成された吸引口内が負圧になることにより、吸引口に吸引され、ステージ５に固定される。その後、紫外線ランプ３が点灯して紫外線を照射すると同時に、ステージ５下方の駆動部内の駆動装置が可動し、ステージ５が、ステージ回転中心５ａを中心として基板９を常に紫外線ランプ３に面する方向、つまり、ステージ５を形成する円の円周方向に回転する。なお、この時点までに洗浄処理室１内は、不活性ガス流通機構により、窒素などの不活性ガスにより満たされている。この不活性ガスを満たすことにより酸素が外部に排出され、紫外線ランプ３で照射する紫外線が酸素に吸収されなくなるので、紫外線は照度を低下することなく、基板９に照射される。
【００３５】
基板９に照射された紫外線により、基板９の処理面９ａ付近の酸素は励起され、酸素原子ラジカルＯ＊やオゾンＯ３が生成される。この酸素原子ラジカル等により、基板９の処理面９ａに付着している有機物が二酸化炭素と水とに分解して処理面９ａから除去される。分解・気化した有機物は、洗浄処理室１に形成された排気口（図示省略）から排出される。
【００３６】
図６は、紫外線ランプ３と照射強度の関係図である。図の上部は紫外線ランプで、下部は紫外線ランプの紫外線の照射強度の周期のグラフである。照射強度の周期のグラフの縦方向は照射強度で、上に行くほど照射強度は強くなっている。横方向は、紫外線ランプの配置に対応した距離である。紫外線ランプ３は、前記のように直線状の紫外線ランプ３が、所定の間隔Ｅを有して、複数が平行に並べられている（図６上部）。このため、この紫外線ランプ３から基板９への照射強度は、紫外線ランプ３の直下が最も強く（図６、ａ部）、隣り合った紫外線ランプ３同士間における中心部直下の照射強度が最も弱い（図６、ｂ部）。さらに、複数の紫外線ランプ３は一定の間隔Ｅで平行に並んでいるので、基板９上に照射されている紫外線も、周期的に一定の間隔の強弱を有して照射されている。つまり、隣り合った紫外線ランプ３同士の間隔Ｅと、照射強度の強弱の間隔ｅとは、等しくなっている。この照射強度の強弱の間隔ｅが、照射強度の１周期となっている。
【００３７】
紫外線ランプ３の点灯と同時に回転を始めたステージ５は、ステージ５を照射方向側から見た場合の紫外線ランプ中心４と、所定の基板９の基板外縁９ｂとの交差部１０のうちの１つが、洗浄処理の工程の時間内に少なくとも、前記の交差部１０を形成する紫外線ランプ中心４のステージ５の回転方向側の隣の紫外線ランプ中心４と交差するまで回転する。
【００３８】
図７の（ａ）は、ステージの回転前の図、（ｂ）は、ステージの回転後の図である。図７は、矢印で示すように、ステージ５がステージ回転中心５ａを中心として右回りに回転する場合を表している。図７で説明すると、ステージ５の回転前の、紫外線ランプ中心Ａ線４ａと基板外縁９ｂとの交差Ｌ部１０ａが（図７（ａ））、紫外線ランプ中心Ａ線４ａの、ステージ５回転方向側の隣の紫外線ランプ中心４である紫外線ランプ中心Ｂ線４ｂと交差するまで、ステージ５を回転させる（図７（ｂ））。この結果、基板９は複数の紫外線ランプ３で周期的に照射する紫外線の照射強度の、少なくとも１周期分を通過するので、照射強度のムラに起因する、基板９の処理面９ａに付着した前記の処理のムラが無くなり、処理面９ａの処理が均一化される。特に、ノズルプレートなど穴の開いたものを処理する場合には、回転させることによりノズル内壁に均一な照射を行うことが可能となる。均一な洗浄が施された基板は、洗浄処理室１の開閉口１ａより、後工程に搬送され、その後の処理が施される。
【００３９】
これらの結果、この基板９を使用する電気光学装置などの製品の品質の均一化を図ることができ、且つ、高品質に保つことができる。さらに、洗浄処理のムラを低減することにより不良品の発生率を減少させることができ、これにより利益率の上昇、若しくはコストの低減を図ることができる。さらに、紫外線を基板９に均一に照射させるための構造として、ステージ５を回転させるだけで、紫外線ランプ３と基板９との距離は一定となっている。この結果、紫外線ランプ３と基板９との距離を制御する機構、つまり、鉛直方向の可動部を持たないので、構造及び制御が簡単になる。
【００４０】
（実施の形態２）
図８は、実施の形態２に係る基板処理装置の構造を示す図である。図９は、図８のＦＦ矢視図である。図１０は、図９のＧＧ断面図である。この基板処理装置２０は、実施の形態１に係る基板処理装置２と略同様の構成であるが、ステージ２１に、さらに回転する基板支持部２２を設けていることに特徴がある。他の構成は実施の形態１と同様なので、その説明を省略するとともに、同一の符号を付す。
【００４１】
ステージ２１は、前記のようにステージ回転中心２１ａを中心として、ステージ２１を形成する円形の円周方向に回転可能に形成されている。また、このステージ２１の上方には、実施の形態１の基板処理装置２と同様に、直線状に形成されている紫外線ランプ３が、所定の間隔を有して複数本設けられている。このため、基板２５上に照射される紫外線の照射強度も同様に、一定の間隔で周期的に強弱を有して照射されている。
【００４２】
ステージ２１の紫外線ランプ３側の面に、基板支持部２２が複数形成されている。この基板支持部２２は、ステージ２１のステージ回転中心２１ａ以外の部分に形成されている。さらにこの基板支持部２２は、円形の形状で形成されており、その円形の中心を基板支持部回転中心２２ａとして、円形の円周方向に回転可能に形成されている。なお、この基板支持部２２の直径は、直径が８インチ程度の円形の基板２５が収まる大きさ、若しくは、３７ｃｍ×４７ｃｍ程度の矩形の基板２５が収まる大きさであることが好ましい。または、それ以外の大きさの基板２５を処理する基板処理装置の場合でも、基板支持部２２の直径は、処理をする基板２５が完全に収まる大きさにすることが必要である。
【００４３】
ステージ２１内には、この基板支持部２２用の駆動装置２８が内設されており、この駆動装置に設けられている出力軸２８ａの回転中心と基板支持部回転中心２２ａとが一致するように、当該出力軸２８ａに基板支持部２２を固定する。これにより、基板支持部２２は、基板支持部回転中心２２ａを中心として、基板支持面２３を常に紫外線ランプ３に面にして回転することができる。また、基板支持部２２は、基板支持面２３に前記と同様な吸引口（図示省略）が設けられており、この吸引口によって基板２５の洗浄処理時には、基板２５は基板支持部２２に固定される。
【００４４】
この実施の形態２に係る基板処理装置は、前記と同様に、洗浄処理室１の開閉口１ａから洗浄処理前の基板２５を、洗浄処理室１内の基板支持部２２上に取り入れる。その際に、基板２５の洗浄処理をする面を紫外線ランプ３に面するようにし、且つ、基板２５が基板支持部２２の基板支持面２３に完全に収まるように、基板支持面２３上に配置する。必要な基板２５を洗浄処理室１内に取り入れたら、開閉口１ａは閉じられ、洗浄処理室１内は、不活性ガス流通機構により、不活性ガスで満たされる。基板支持面２３上に配置された基板２５は、基板支持面２３に設けられた吸引口内を負圧にすることにより基板支持部２２に固定される。その後、紫外線ランプ３が点灯して紫外線が照射されると同時に、ステージ２１、及び基板支持部２２が、ステージ回転中心２１ａ、及び基板支持部回転中心２２ａを中心として、それぞれ回転する。
【００４５】
ここで、ステージ回転中心２１ａを中心とし、基板支持部回転中心２２ａを通る仮想の円を、基板支持部軌道円２４とする。紫外線ランプ３の点灯と同時に回転を始めたステージ２１及び基板支持部２２は、洗浄処理を終えるまでに、基板支持面２３上の基板２５の基板外縁２５ａと基板支持部軌道円２４との交点２６のうち、ステージ２１の回転方向側の交点２６が、少なくとも前記照射強度の周期の１周期を過ぎるまで回転する。
【００４６】
図１１の（ａ）は、ステージの回転前の図、（ｂ）は、ステージの回転後の図である。図１１は、矢印で示すように、ステージ２１がステージ回転中心２１ａを中心として右回りに回転する場合を表している。図１１で説明すると、ステージ２１及び基板支持部２２の回転前の、基板２５の基板外縁２５ａと基板支持部軌道円２４との交点２６で、ステージ２１の回転方向側の交点２６である交点Ｍ部２６ａは、紫外線ランプ中心Ｐ線２７ａから距離Ｘだけ離れている（図１１（ａ））。ステージ２１及び基板支持部２２が回転を始めると、交点Ｍ部２６ａは、基板支持部回転中心２２ａを中心として回転しつつ、ステージ回転中心２１ａを中心として回転する。この交点Ａ部２６ａが、紫外線ランプ中心Ａ線２７ａと隣り合い、且つ、ステージ２１の回転方向側にある紫外線ランプ中心Ｑ線２７ｂとの距離が、距離Ｘになるまでステージ２１及び基板支持部２２は回転をする（図１１（ｂ））。
【００４７】
この結果、基板２５は複数の紫外線ランプ３で周期的に照射する紫外線の照射強度の、少なくとも１周期分を、基板２５のほほ全ての位置が通過するので、照射強度のムラに起因する、基板２５の処理面２５ｂに付着した前記の処理のムラが無くなり、処理面２５ｂの洗浄処理が均一化される。特に、ノズルプレートなど穴の開いたものを処理する場合には、回転させることによりノズル内壁に均一な照射を行うことが可能となる。均一な洗浄が施された基板２５は、洗浄処理室１の開閉口１ａより、後工程に搬送され、その後の処理が施される。これらの結果、この基板２５を使用する電気光学装置などの製品の品質の均一化を図ることができ、且つ、高品質に保つことができる。さらに、洗浄処理のムラを低減することにより不良品の発生率を減少させることができ、これにより利益率の上昇、若しくはコストの低減を図ることができる。
【００４８】
（実施の形態３）
図１２は、実施の形態３に係る基板処理装置の構造を示す図である。この基板処理装置３０は、実施の形態１に係る基板処理装置２と略同様の構成であるが、ステージ３１の可動が回転方向ではなく、紫外線ランプ３を形成する直線上の形状と交差する方向に可動する点に特徴がある。他の構成は実施の形態１と同様なのでその説明を省略するとともに同一の符号を付す。
【００４９】
ステージは、前記のように円形で形成されおり、また、このステージ３１の上方には、実施の形態１と同様に、直線状に形成されている紫外線ランプ３が、所定の間隔を有して複数本設けられている。基板３３上に照射される紫外線の照射強度も同様に、一定の間隔で周期的に強弱を有して照射されている。ステージ３１の下方に設けられている駆動部７には、駆動装置（図示省略）が内設されており、この駆動装置によって当該ステージ３１は、紫外線ランプ３との距離を一定に保ちつつ、紫外線ランプ３を形成する直線状の形状と交差する方向に可動する。つまり、紫外線ランプ３が並べられている方向と同方向、或いは斜め方向に可動する。また、このステージ３１の基板支持面３２には、実施の形態１と同様に吸引口が設けられている。
【００５０】
この実施の形態３に係る基板処理装置は、前記と同様に、洗浄処理室１の開閉口１ａから洗浄処理前の基板３３を、洗浄処理室１内の基板支持部３２上に取り入れる。その際に、基板３３の洗浄処理をする面を紫外線ランプ３に面するようにし、且つ、基板３３が基板支持面３２に完全に収まるように、基板支持面３２上に配置する。実施の形態３の場合は、実施の形態１の基板処理装置と異なり、基板３３が基板支持面３２に完全に収まる位置ならば、基板３３は基板支持面３２のどの位置に配置しても構わない。つまり、実施の形態１のように、ステージ回転中心５ａを避ける必要がない。必要な基板３３を洗浄処理室１内に取り入れたら、開閉口１ａは閉じられ、洗浄処理室１内は、不活性ガス流通機構により、不活性ガスで満たされ、また、吸引口によって、基板３３はステージ３１に固定される。その後、紫外線ランプ３が点灯して紫外線が照射されると同時に、ステージ３１が前記の方向に可動する。
【００５１】
図１３の（ａ）は、ステージの可動前の図、（ｂ）は、ステージの可動後の図である。図１３は、矢印で示すように、ステージ３１が右方向に可動する場合を表している。紫外線ランプ３の点灯と同時に可動を始めたステージ３１は、洗浄処理を終えるまでに、少なくとも前記の方向に紫外線の照度周期の１周期分は可動する。この結果、基板３３の全ての位置が紫外線の照度周期の１周期分を通過するので、照射強度のムラに起因する、基板３３の処理面３３ａに付着した前記の処理のムラが無くなり、処理面３３ａの洗浄処理が均一化される。特に、ノズルプレートなど穴の開いたものを処理する場合には、移動させることによりノズル内壁に均一な照射を行うことが可能となる。均一な洗浄が施された基板３３は、洗浄処理室１の開閉口１ａより、後工程に搬送され、その後の処理が施される。これらの結果、この基板３３を使用する電気光学装置などの製品の品質の均一化を図ることができ、且つ、高品質に保つことができる。さらに、洗浄処理のムラを低減することにより不良品の発生率を減少させることができ、これにより利益率の上昇、若しくはコストの低減を図ることができる。
【００５２】
また、基板３３の配置１をする際に、ステージ回転中心５ａを避けなければならないようなことも無く、基板支持面３２上に収まればどこに配置してもよいので、基板３３を容易に配置することができ、作業工程が容易になる。なお、前記のステージ３１の可動方向は、図１３のように紫外線ランプ３と直交する方向以外に、紫外線ランプ３に対して斜め方向に可動してもよい。斜め方向に可動した場合でも、１回の処理工程で図１３のように紫外線の照度周期の１周期を通過すれば、上記と同様に処理面３３ａの洗浄処理が均一化されるので、紫外線ランプ３と直交する方向に可動させた場合と同様な効果が得られる。
【００５３】
（実施の形態４）
図１４は、実施の形態４に係る基板処理装置の構造を示す図である。図１５は、図１４の一部断面図である。この基板処理装置４０は、実施の形態１に係る基板処理装置２と略同様の構成であるが、第２中心軸として有するステージ軌道円中心４３ａを中心として、ステージ４１全体が回転する点に特徴がある。他の構成は実施の形態１と同様なのでその説明を省略するとともに同一の符号を付す。
【００５４】
ステージ４１は、実施の形態１のステージ５のように、ステージ回転中心４１ａを中心に回転をする。さらに、ステージ回転中心４１ａから所定の距離だけ離れた位置にある、ステージ軌道円中心４３ａを中心として、ステージ４１全体が回転する。換言すると、まず、ステージ軌道円中心４３ａを中心とし、且つ、ステージ軌道円中心４３ａからステージ回転中心４１ａまでの距離ｄを半径とする仮想の円をステージ軌道円４３とする。これにより、ステージ軌道円４３上にあるステージ回転中心４１ａが、ステージ軌道円中心４３ａを中心としてステージ軌道円４３に沿って回転することにより、ステージ４１全体が回転する。このため、ステージ４１全体は、ステージ軌道円中心４３ａを中心として偏心回転をする。
【００５５】
なお、ステージ４１を、ステージ回転中心４１ａを中心に回転させた場合、ステージ回転中心４１ａ以外の部分のステージ４１は、紫外線ランプ３に対して相対的に移動するが、ステージ回転中心４１ａの部分は、その場で自転をするだけで、移動はしない。ステージ４１全体を、ステージ軌道円中心４３ａを中心に回転させて、ステージ回転中心４１ａを上記のように紫外線の照射強度の１周期分移動させるには、ステージ軌道円４３の半径は、最低でも移動距離の１／２、つまり、前記照射強度の周期の１／２は必要である。このため、ステージ軌道円中心４３ａとステージ回転中心４１ａとの距離ｄは、最低でも、前記の照射強度の周期の１／２は必要となる。
【００５６】
ステージ４１の上方には、実施の形態１と同様に、直線状に形成されている紫外線ランプ３が、所定の間隔を有して複数本設けられている。さらに、この紫外線照射ランプ３は、前記の偏心回転をするステージ４１がいずれの状態の場合でも、基板支持面４２の、どの部分も照射できるように配置されている。つまり、紫外線ランプ３は、偏心回転をするステージ４１の外端が通る外端軌道円４４の内側全てを照射するように配置されている。なお、この外端軌道円４４は、ステージ軌道円中心４３ａを中心として、ステージ４１の外径を、前記のステージ軌道円中心４３ａとステージ回転中心４１ａとの距離ｄ分、外側に大きくした円形となっている。また、前記の紫外線ランプ３から照射される紫外線の照度強度は、上記と同様に、紫外線照射ランプ３の配置と合わせて、一定の間隔で周期的に強弱を有して照射されている。
【００５７】
ステージ４１下方に設けられている駆動部７には、実施の形態１と同様にステージ回転中心４１ａを中心にステージを回転させる第１駆動装置４５と、さらに、ステージ軌道円中心４３ａを中心として回転させるための第２駆動装置４６が形成されている。この第２駆動装置４６は駆動部７内にあり、その出力軸である第２駆動装置出力軸４６ａは、上方に向けて駆動部７より突出している。この第２駆動装置出力軸４６ａと第１駆動装置４５とは、連結部材となるアーム４７を介して固定され、アーム４７の第１駆動装置側アーム４７ａには第１駆動装置４５が固定され、第２駆動装置側アーム４７ｂには、第２駆動装置出力軸４６ａが固定される。また、第１駆動装置４５の出力軸である第１駆動装置出力軸４５ａは、アーム４７から上方に向けて突出しており、基板支持面４２を紫外線ランプ３に向けたステージ４１のステージ回転中心４１ａに固定されている。これにより、第１駆動装置出力軸４５ａは、ステージ回転中心４１ａとして形成されている。
【００５８】
第１駆動装置４５と第２駆動装置出力軸４６ａとの固定方法は、第２駆動装置出力軸４６ａと平行な向きに第１駆動装置出力軸４５ａを形成させ、且つ、第２駆動装置出力軸４６ａから前記ステージ軌道円４３の半径と同じ距離ｄだけ離した位置に第１駆動装置出力軸４５ａが形成するように、前記アーム４７によって第１駆動装置４５は第２駆動装置出力軸４６ａに固定されている。この第１駆動装置４５の第１駆動装置出力軸４５ａがステージ回転中心４１ａとなり、第２駆動装置出力軸４６ａがステージ軌道円中心４３ａとなる。これにより、第１駆動装置出力軸４５ａと第２駆動装置出力軸４６ａとの距離ｄが、ステージ軌道円４３の半径となる。この第１駆動装置４５の回転によりステージ４１が回転し、第２駆動装置４６の回転により、第１駆動装置４５が第２駆動装置出力軸４６ａの周囲を回転するので、ステージ４１全体が回転する。また、このステージ４１の基板支持面４２にも、実施の形態１と同様に吸引口が設けられている。なお、上記の２種類の回転は、それぞれ別の駆動装置を使用しているが、駆動装置とギアやチェーン等とを組合せて、駆動装置を１つとしてもよい。
【００５９】
この実施の形態４に係る基板処理装置も、実施の形態１と同様に基板４８を基板支持面４２に配置する。この配置は、実施の形態１の場合はステージ回転中心５ａを避けて配置するが、当該実施の形態４の場合は、基板支持面４２に収まる位置ならば、基板支持面４２上のどの位置に配置しても良い。配置が終わったら、吸引口によって基板４８はステージ４１に固定される。その後、紫外線ランプ３が点灯して紫外線が照射されると同時に、ステージ４１がステージ回転中心４１ａを中心として回転し、さらに、ステージ４１全体がステージ軌道円中心４３ａを中心として回転する。
【００６０】
図１６の（ａ）は、ステージの回転前の図、（ｂ）は、ステージの回転後の図である。図１６は、矢印で示すように、ステージ４１全体がステージ軌道円中心４３ａを中心として右回りに回転する場合を表している。紫外線ランプ３の点灯と同時に回転を始めたステージ４１は、洗浄処理を終えるまでに、少なくとも、ステージ４１全体が前記の紫外線の照射強度の、１周期分は移動するまで回転する。例えば、ステージ軌道円４３の半径を１周期の１／２にした場合で、ステージ回転中心４１ａが、ステージ軌道円４２上の前記紫外線の照射強度の形成方向の端部にある場合は（図１６（ａ））、ステージ軌道円中心４３ａの回転は半回転、つまり、ステージ回転中心４１ａが、ステージ軌道円４３の半周分移動する（図１６（ｂ））。
【００６１】
また、ステージ軌道円４３の内側の部分は、ステージ４１が回転をしない場合は、ステージ軌道円４３内のステージ回転中心４１ａとステージ軌道円中心４３ａとを通る直線以外の部分は、前記の照射強度の１周期分を移動しない。このステージ軌道円４３の内側の部分も含めて、ステージ４１の全ての部分を前記の１周期部分を移動させるためには、ステージ４１を、ステージ回転中心４１ａを中心として、ステージ軌道円中心４３ａを中心とする回転と同等以上回転させる必要がある。例えば、上記の場合は、ステージ軌道円中心４３ａの回転は半回転、つまり、１８０°回転しているので、ステージ回転中心４１ａの回転は、１８０°以上回転させる。この結果、ステージ軌道円中心４３ａの中心に１８０°することにより１周期分移動するステージ４１を、ステージ回転中心４１ａを中心に１８０°させることにより、ステージ４１は双方の回転を合わせて３６０°回転することになる。従って、ステージ４１は最終的には、回転をしないで前記の照射強度の１周期分移動することと同じ状態となるので、ステージ４１は全ての部分が前記の照射強度の１周期分を移動したことになる。
【００６２】
この結果、基板４８は複数の紫外線ランプ３で周期的に照射する紫外線の照射強度の、少なくとも１周期分を、基板４８のほほ全ての位置が通過するので、照射強度のムラに起因する、基板４８の処理面４８ａに付着した前記の処理のムラが無くなり、処理面４８ａの洗浄処理が均一化される。特に、ノズルプレートなど穴の開いたものを処理する場合には、回転させることによりノズル内壁に均一な照射を行うことが可能となる。均一な洗浄が施された基板４８は、洗浄処理室１の開閉口１ａより、後工程に搬送され、その後の処理が施される。これらの結果、この基板４８を使用する電気光学装置などの製品の品質の均一化を図ることができ、且つ、高品質に保つことができる。さらに、洗浄処理のムラを低減することにより不良品の発生率を減少させることができ、これにより利益率の上昇、若しくはコストの低減を図ることができる。また、基板４８の配置する際に、ステージ回転中心４１ａを避けなければならないようなことも無く、基板支持面４２上に収まればどこに配置してもよいので、基板４８を容易に配置することができ、作業工程が容易になる。
【００６３】
（変形例）
図１７及び図１８は、実施の形態２の変形例である。実施に形態２では、基板支持部２２は円形の基板をステージ２１上に設けているが、図１７に示すように、駆動装置５２のみをステージ２１に内設させ、基板支持部５１は、ステージ２１から離した状態にしてもよい。これにより、回転させる基板支持部５１が円形に限定されず、矩形やその他の形状でも形成することができる。また、図１８に示すように、基板支持部５３の上面とステージ２１の上面とが面一になるように形成し、駆動部５４はステージ２１の下面に配置してもよい。これにより、ステージ２１の上下方向の寸法を小さく抑えることができ、コンパクトな基板処理装置にすることができる。また、実施の形態２のステージ２１と基板支持部２２の回転方向、または、実施の形態４のステージ回転中心４１ａを中心とする回転とステージ軌道円中心４３ａを中心とする回転の回転方向は、同方向でも反対方向でも構わない。１回の処理工程における最低限の回転の角度を満たしていれば、回転の方向は、どちらに回転した場合でも紫外線を基板に均一に照射させることができる。
【００６４】
また、上記のステージは、その形状が円形となっているが、矩形や、回転の中心部から基板を配置する部分までアームを伸ばした形状等、その他の形状で形成しても構わない。処理をする基板の形状や大きさ等の条件や、当該基板処理装置を設置する環境などに合わせて、その形状を決めてもよい。また、前記の処理中のステージの可動は、基板が最低限紫外線の照度強度の１周期分を移動することになっているが、それ以上移動するように可動しても構わない。基板の移動量が増加すると紫外線の照射がより均一化され、処理のムラが、より軽減される。また、上記の実施の形態では、紫外線ランプは動かずに固定されているが、ステージを固定し、紫外線ランプを回転させてもよい。または、紫外線ランプとステージとを、反対方向に回転させてもよい。その際に、上記の実施の形態と同様に、紫外線ランプの回転軸の部分への基板の配置は避けるべきである。紫外線ランプと基板との相対関係が、上記の実施の形態の動作と同様な関係となっていれば、紫外線の基板への照射は均一化されるので、基板処理装置は上記実施の形態以外の構造でも構わない。
【００６５】
（本発明の適用対象）
本発明に係る基板処理装置で処理をした基板が適用できる電子機器としては、携帯電話機の他に、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である電気光学パネルを用いる機器が挙げられる。したがって、これらの電子機器における電気的接続構造であっても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。
【００６６】
また、電気光学パネルを構成するカラーフィルタ基板や素子基板等を製造する場合にも、本発明は適用することができる。このような電気光学パネルには、透過型又は反射型のいずれの電気光学パネルも含まれ、図示しない照明装置をバックライトとして用いることができる。なお、アクティブマトリックス型のカラー電気光学パネルであっても同様である。また、パッシブマトリクス型の電気光学パネルのみならず、アクティブマトリクス型の電気光学パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた電気光学パネル）にも同様に本発明を適用することができる。また、電気光学パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置に使用する基板においても本発明を同様に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１に係る基板処理装置の構造を示す一部断面図。
【図２】図１のＡＡ矢視図。
【図３】図２のＢＢ矢視図。
【図４】図３の紫外線ランプの中心線と基板との関係図。
【図５】図３のＣＣ断面図。
【図６】紫外線ランプと照射強度の関係図。
【図７】（ａ）はステージの回転前の図、（ｂ）はステージの回転後の図。
【図８】実施の形態２に係る基板処理装置の構造を示す図。
【図９】図８のＦＦ矢視図。
【図１０】図９のＧＧ断面図。
【図１１】（ａ）はステージ回転前の図、（ｂ）はステージ回転後の図。
【図１２】実施の形態３に係る基板処理装置の構造を示す図。
【図１３】（ａ）はステージ可動前の図、（ｂ）はステージ可動後の図。
【図１４】実施の形態４に係る基板処理装置の構造を示す図。
【図１５】図１４の一部断面図。
【図１６】（ａ）はステージ回転前の図、（ｂ）はステージ回転後の図。
【図１７】実施の形態２の変形例。
【図１８】実施の形態２の変形例。
【符号の説明】
１  洗浄処理室、２  基板処理装置、３  紫外線ランプ、４  紫外線ランプ中心、５  ステージ、５ａ  ステージ回転中心、６  基板支持面、９  基板、９ａ  処理面、９ｂ  基板外縁、１０  交差部、２２  基板支持部、２２ａ  基板支持部回転中心、２４  基板支持部軌道円、４３  ステージ軌道円、４３ａ  ステージ軌道円中心、４４  外端軌道円、４７  アーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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