(57)【要約】【課題】蒸着用の基板を保持する基板保持装置において、基板の変形をより小さく抑えてこの基板を保持する。【解決手段】蒸着用の基板１０を、この基板１０の厚さ方向と直交する方向から押圧手段２０Ａおよび押圧手段２０Ｂにより押圧し、基板１０自身の自重によりこの基板１０の中央部が下方に撓んだときの撓みに比してこの撓みがより小さくなるように上記基板１０を重力方向とは反対方向に撓ませてこの基板１０を保持する。【選択図】　　　　　図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着装置に配設して使用される、蒸着用の基板を保持する基板保持装置において、
前記基板保持装置が、前記基板を該基板の厚さ方向と直交する方向から押圧する押圧手段を備え、該押圧手段により前記基板を押圧して該基板を重力方向とは反対方向に撓ませた状態で前記基板を保持するものであることを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記基板を保持する際に前記基板の撓み形状に沿って該基板を当て受ける撓み受板をさらに備えていることを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【請求項３】
蒸着装置に配設して使用される、無機材料からなる蒸着用の基板を保持する基板保持装置において、
前記基板保持装置が、前記基板に該基板の厚さ方向と直交する方向への張力を与える引張手段を備え、該引張手段により前記基板に張力を与えて該基板の自重による撓みを少なくした状態で前記基板を保持するものであることを特徴とする基板保持装置。
【請求項４】
前記基板が、蓄積性蛍光体が蒸着される、蓄積性蛍光体パネル用の基板であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の基板保持装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板保持装置に関し、詳しくは、蒸着装置に配設して使用される、蒸着用の基板を保持する基板保持装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、Ｘ線等の放射線を照射するとこの放射線エネルギの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光を照射すると蓄積された放射線エネルギに応じて輝尽発光を示す蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）を利用して、人体等の被写体の放射線像を蓄積性蛍光体層に一旦潜像として記録し、この蓄積性蛍光体層にレーザ光等の励起光を照射して輝尽発光光を生じせしめ、この輝尽発光光を光電的に検出して被写体の放射線像を示す画像信号を取得する放射線画像記録装置および放射線画像読取装置等からなる放射線画像記録再生システムがＣＲ（ＣｏｍｐｕｔｅｄＲａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）としてが知られている。
【０００３】
上記放射線画像記録再生システムに使用される記録媒体として、蓄積性蛍光体を基板上に塗布して、この基板上に蓄積性蛍光体層を形成した蓄積性蛍光体パネルが知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記蓄積性蛍光体パネルには、放射線像を高い解像力で記録再生したいという要求があり、一方で、蓄積性蛍光体を密度高く充填した蓄積性蛍光体層は放射線像を高い解像力で記録再生できることが知られている。そこで、蒸着により、蓄積性蛍光体を密度高く充填した蓄積性蛍光体層を基板上に形成して蓄積性蛍光体パネルを作成する検討が行なわれている。
【０００５】
しかしながら、一般に蓄積性蛍光体パネルの作成に使用される基板は基板面の面積が大きく（例えば基板の大きさが３００ｍｍ×３００ｍｍ以上）、これに対して基板の厚さが薄いので、この蓄積性蛍光体パネルが蒸着装置内に基板の周縁部を介して保持されると、基板自身の自重によりこの基板の中央部が下方に大きく撓んでしまう。そのため、後述する理由により、蓄積性蛍光体層が基板から剥離したり、蓄積性蛍光体層中にひび割れが生じたりする虞がある。
【０００６】
すなわち、蒸着装置内での基板への蒸着に際し、この基板の中央部が下方に撓んだまま蒸着が施されて基板上に蓄積性蛍光体層が形成されると、この撓んだ基板を所定の平板形状に戻したときに、蓄積性蛍光体層と基板との間にせん断応力が生じて蓄積性蛍光体層が剥離したり、蓄積性蛍光体層内に生じた内部応力によって蓄積性蛍光体層にひび割れが生じることがある。特に、この蓄積性蛍光体層は通常の層厚より厚く形成されるので（例えば厚さ５００μｍ）、上記撓んだ形状を平板状に戻すときに通常の層厚で形成された蒸着層（例えば厚さ数μｍ）に比してより大きな上記せん断応力や内部応力が発生する。
【０００７】
なお、上記問題は、基板への蒸着により蓄積性蛍光体層を形成する場合に限らず、基板上へ蒸着を施す際に一般に考慮しておかねばならない問題である。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基板の変形をより小さく抑えてこの基板を保持することができる基板保持装置を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の基板保持装置は、蒸着装置に配設して使用される、蒸着用の基板を保持する基板保持装置において、基板保持装置が前記基板をこの基板の厚さ方向と直交する方向から押圧する押圧手段を備え、この押圧手段により前記基板を押圧して該基板を重力方向とは反対方向に撓ませた状態でこの基板を保持することを特徴とするものである。
【００１０】
前記基板保持装置は、基板を保持する際に、基板の撓み形状に沿ってこの基板を当て受ける撓み受板をさらに備えることができる。
【００１１】
本発明の第２の基板保持装置は、蒸着装置に配設して使用される、無機材料からなる蒸着用の基板を保持する基板保持装置において、基板保持装置が、前記基板にこの基板の厚さ方向と直交する方向への張力を与える引張手段を備え、この引張手段により前記基板に張力を与えて該基板の自重による撓みを少なくした状態でこの基板を保持するものであることを特徴とする。
【００１２】
前記基板は、蓄積性蛍光体が蒸着される、蓄積性蛍光体パネル用の基板とすることができる。
【００１３】
【発明の効果】
本発明の第１の基板保持装置によれば、押圧手段により基板を押圧してこの基板を重力方向とは反対方向に撓ませた状態で上記基板を保持するようにしたので、基板自身の自重によりこの基板の中央部が下方へ撓んだときの撓みに比してこの撓みをより小さくした状態で上記基板を保持することができ、基板の変形をより小さく抑えてこの基板を保持することができる。これにより、上記基板に蒸着を施してこの基板上に蒸着層を形成した後、この基板を所定の平板形状に戻したときに生じる基板と蒸着層との間のせん断応力、および蒸着層内に生じる内部応力をより小さく抑えることができる。これにより、基板上に形成された蒸着層の剥離やひび割れを防止することができる。
【００１４】
また、基板を保持する際に、基板の撓み形状に沿ってこの基板を当て受ける撓み受板をさらに備えれば、基板の撓み形状をより正確に定めることができ、基板の変形をより小さく抑えてこの基板を保持することができる。
【００１５】
本発明の第２の基板保持装置によれば、引張手段により基板に張力を与えて基板の自重による撓みを少なくした状態で上記基板を保持するようにしたので、基板の変形をより小さく抑えてこの基板を保持することができ、これにより、上記基板に蒸着を施してこの基板上に蒸着層を形成した後、この基板を所定の平板形状に戻したときに生じる基板と蒸着層との間のせん断応力、および蒸着層内に生じる内部応力をより小さく抑えることができる。これにより、基板上に形成された蒸着層の剥離やひび割れを防止することができる。
【００１６】
また、蓄積性蛍光体パネル用の基板上には、蒸着によって蓄積性蛍光体層が特に厚く形成されるので、蒸着が施された後、この基板を所定の平板形状に戻したときに基板と蒸着層との間に生じるせん断応力、および蒸着層内に生じる内部応力が特に大きくなることが知られている。そのため、基板が蓄積性蛍光体パネル用の基板の場合には、上記基板上に形成された蒸着層の剥離やひび割れを防止する顕著な効果を期待することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。図１は蒸着用の基板を保持する基板保持装置の第１の実施の形態の概略構成を示す側面図、図２は上記装置の押圧手段の拡大斜視図、図３は基板を一対の保持部で保持するときの様子を示す側面図、図４は一対の保持部で保持された基板が自重により撓んだ様子を示す側面図、図５は押圧手段により押圧されて撓んだ基板を撓み受板で当て受けた様子を示す側面図、図６は撓み受板を取り除いて、基板を撓み受板で当て受けることなく保持した様子を示す側面図である。
【００１８】
本発明の第１の実施の形態による基板保持装置は、蒸着装置に配設して使用される、蒸着用の基板を保持する基板保持装置である。この基板保持装置は、基板１０をこの基板１０の厚さ方向と直交する方向（図１中矢印Ｙ方向）から押圧する１対の押圧手段２０と、この基板保持装置によって基板１０を保持する際に、基板１０の撓み形状に沿ってこの基板１０を当て受ける撓み受板３０とを備え、この１対の押圧手段２０により基板１０を押圧し、基板１０自身の自重によりこの基板１０の中央部が下方に撓んだときの撓みに比してこの撓みがより小さくなるように上記基板１０を重力方向とは反対方向に撓ませてこの基板１０を保持するものである。なお、基板１０は、蓄積性蛍光体が柱状結晶として蒸着される蓄積性蛍光体パネル用の基板であり、基板１０の寸法は、３００ｍｍ×３００ｍｍ以上、厚さは１ｍｍ以下である。
【００１９】
この基板保持装置は、さらに、蒸着装置内に固定される基台４０と、基台４０の下面４８に互いに対向して配設され上記各押圧手段２０をそれぞれ支持する一対の支持部４２とを備えている。一対の支持部４２それぞれは押圧手段２０を支持軸４１の回りに回動可能に支持している。基台４０の下面４８の上記一対の支持部４２の間には撓み受板３０が配設されている。なお、上記基板保持装置は基台４０の上面４９を介して蒸着装置内に固定されるものである。
【００２０】
図２の拡大斜視図に示すように、一対の押圧手段２０それぞれは、支持軸４１の回りに回動可能に支持されているハウジング部２１と、ハウジング部２１内に出し入れ可能に支持され後述する保持部２３を先端に備えた保持軸２２と、基板１０の周縁部１１が挿入される保持溝２８を有し保持軸２２に固定された保持部２３とを備えている。この押圧手段２０は、さらに、ハウジング部２１中の前記保持軸２２の同軸上に配設された雌ネジ部２９に螺合される雄ネジ軸２５を有する位置調節ネジ部２４を備え、位置調節ネジ部２４は、雄ネジ軸２５の一端にこの雄ネジ軸２５を回転させるための溝付回転ヘッド部２６を有している。また、上記雄ネジ軸２５の他端は、保持軸２２に対して回動可能に、かつ、上記保持軸２２に対してこの雄ネジ軸２５が一体的に移動可能となるようにこの保持軸２２に接続されている。この位置調節ネジ部２４が回転ヘッド部２６を介して回転されることによりハウジング部２１に対して保持軸２２が出し入れされる。
【００２１】
次に上記実施の形態における作用について説明する。
【００２２】
図３に示すように、位置調節ネジ部２４の回転により、ハウジング部２１に対する保持部２３の突出量（図３中のＴ１で示す）を調節して上記一対の保持部２３のそれぞれの保持溝２８に基板１０の周縁部１１を挿入する。ここで、図４に示すように基板１０は自重により重力方向に撓み量Ｗ１だけ撓んだ状態で保持される。
【００２３】
次に、位置調節ネジ部２４の回転により、ハウジング部２１からの保持軸２２の突出量を増大させて、一対の保持部２３間の間隔を狭め、この一対の保持部２３によって基板１０を重力方向とは反対方向に撓むように押圧する。ここで、図５に示すように、基板１０自身の自重によりこの基板１０の中央部が下方に撓んだ状態に比して撓みが極小さくなるように、一対の押圧手段２０を支持軸４１の回りに僅かに回転させてこの基板１０を保持する。すなわち、図中左側の押圧手段２０Ａを図中矢印ＣＣＷ方向に僅かに回転させ、図中右側の押圧手段２０Ｂを図中矢印ＣＷ方向に僅かに回転させる。
【００２４】
その後、さらに、位置調節ネジ部２４の回転により、一対の保持部２３間の間隔を狭めて基板１０を押圧し、この撓んだ基板１０を撓み受板３０で当て受ける。
【００２５】
ここで、上記撓み受板３０で基板１０を当て受けたときの基板１０の撓み量Ｗ２が、基板１０が押圧されることなく一対の保持部２３の間に保持されているときの撓み量Ｗ１（図４参照）より小さくなるように、撓み受板３０の撓み受面３１の形状および位置が設定されている。そして、上記撓み受板３０で基板１０を当て受けた状態において基板１０に蒸着が施され厚さ５００μｍの蓄積性蛍光体層が形成される。
【００２６】
上記のように本発明によれば、基板自身の自重によりこの基板の中央部が下方に撓んだときの撓みに比してより小さな撓みとなるようにこの基板を保持することができる。これにより、基板上に形成された蒸着層の剥離や割れを防止することができる。
【００２７】
なお、上記第１の実施の形態においては、基台４０の下面４８に撓み受板３０を配設する例を示したが、必ずしも撓み受板３０を配設する必要はない。すなわち、図６に示すように基板保持装置から撓み受板を取り除き、位置調節ネジ部２４の回転により一対の保持部２３の間の間隔を狭めて基板１０を押圧し、この基板１０を重力方向とは反対方向に上記と同様の撓み量Ｗ２となるように撓ませた状態でこの基板１０を保持するようにしても、上記と同様に基板の変形を小さく抑える効果を得ることができる。
【００２８】
次に、本発明の第２の実施の形態による基板保持装置について説明する。
【００２９】
図７は本発明の蒸着用の基板を保持する第２の実施の形態による基板保持装置の概略構成を示す側面図、図８は上記装置の引張手段の拡大斜視図、図９は１対の保持部で保持され自重により重力方向に撓んだ基板を示す側面図、図１０は引張手段により基板に張力を与えて撓みを少なくした様子を示す側面図である。
【００３０】
本発明の第２の実施の形態による基板保持装置は、蒸着装置に配設して使用される、蒸着用の基板を保持する基板保持装置である。この基板保持装置は、基板５０に、この基板５０の厚さ方向と直交する方向（図中矢印Ｙ方向）への張力を与える１対の引張手段６０を備え、この引張手段６０により基板５０に張力を与えて基板５０の自重による撓みを少なくした状態で基板５０を保持するものであり、基板５０は、蓄積性蛍光体が柱状結晶として蒸着される蓄積性蛍光体パネル用の基板であり、基板５０の寸法は、３００ｍｍ×３００ｍｍ以上、厚さは１ｍｍ以下である。
【００３１】
この基板保持装置は、さらに、蒸着装置内に固定される基台７０と、基台７０の下面７８に互いに対向して配設され上記一対の引張手段６０それぞれを支持する一対の支持部７２とを備えている。なお、上記基板保持装置は基台７０の上面７９を介して蒸着装置内に固定されるものである。
【００３２】
図８の拡大斜視図に示すように、一対の引張手段６０それぞれは、支持部７２に支持されているハウジング部６１と、ハウジング部６１内に出し入れ可能に支持され後述する保持部６３を先端に備えた保持軸６２と、基板５０中の周縁部５１をクランプする保持部６３とを備えている。
【００３３】
上記引張手段６０は、さらに、ハウジング部６１中の前記保持軸６２の同軸上に配設された雌ネジ部６９に螺合される雄ネジ軸６５を有する位置調節ネジ部６４を備え、雄ネジ軸６５の一端には、この雄ネジ軸６５を回転させるための溝付回転ヘッド部６６が配設され、雄ネジ軸６５の他端は、保持軸６２に対して回動可能に、かつ、上記保持軸６２に対してこの雄ネジ軸６５が一体的に移動可能となるようにこの保持軸６２に接続されている。この位置調節ネジ部６４が溝付回転ヘッド部６６を介して回転されることによりハウジング部６１に対して保持軸６２が出し入れされる。
【００３４】
また、上記一対の保持部６３それぞれは、保持軸６２に固定された下クランプ板６５と、下クランプ板６５の雌ネジ部Ｈ１に螺合する押しネジ６６と、押しネジ６６が挿通される孔Ｈ２を有する上クランプ板６７と、下クランプ板６５と上クランプ板６７との間に配設され、下クランプ板６７に対して上クランプ板６５が離れる方向にこの上クランプ板６５を付勢するコイルバネ６８とを備えている。押しネジ６６は上クランプ板６７の孔Ｈ２および円筒状のコイルバネ６８の中央の空洞部Ｈ３を通して下クランプ板６７の雌ネジ部Ｈ１に螺合され、この押しネジ６６の回転により、上クランプ板６５がコイルバネ６８による付勢力を受けながら下クランプ板６３に近づく方向および離れる方向に移動される。
【００３５】
次に上記実施の形態における作用について説明する。
【００３６】
位置調節ネジ部６４の回転により、ハウジング部６１に対する保持部６３の突出量（図９中のＴ２で示す）を調節するとともに、押しネジ６６の回転により上クランプ板６５と下クランプ板６７との間隔を広げた後、上クランプ板６７と下クランプ板６５との間に基板５０を挿入する。そして、図９に示すように、押しネジ６６の回転によって上クランプ板６５と下クランプ板６７との間の間隔を狭めて、基板５０の周縁部５１を上クランプ板６５と下クランプ板６７との間にクランプする。このとき、基板５０は自重により、重力方向に撓み量Ｗ３だけ撓んだ状態で保持される。
【００３７】
次に、位置調節ネジ部６４の回転により保持軸６２をハウジング部６１内に引き入れ、保持部６３のハウジング部６１からの突出量Ｔ２を減少させて一対の保持部６３の間の間隔を広げ、この一対の保持部６３を介して基板５０に張力を与える。この張力によって、図１０に示すように、基板５０の重力方向への撓みは少なくなり、この基板５０の撓みは撓み量Ｗ４となる。
【００３８】
そして、上記基板５０の撓みが撓み量Ｗ４となった状態において基板５０に蒸着が施され厚さ５００μｍの蓄積性蛍光体層が形成される。
【００３９】
上記のように本発明によれば、基板自身の自重によるこの基板の中央部の下方への撓みをより少なく抑えてこの基板を保持することができ、これにより、基板上に形成された蒸着層の剥離や割れを防止することができる。
【００４０】
なお、基板をこの基板の厚さ方向と直交する方向から押圧する押圧手段、および基板にこの基板の厚さ方向と直交する方向への張力を与える引張手段は、上記実施の形態に示した方式に限らずどのような方式であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態による基板保持装置の概略構成を示す側面図
【図２】押圧手段の拡大斜視図
【図３】基板を一対の保持部で保持するときの様子を示す側面図
【図４】一対の保持部で保持された基板が自重により撓んだ様子を示す側面図
【図５】押圧されて撓んだ基板を撓み受板で当て受けた様子を示す側面図
【図６】撓み受板を取り除き基板を撓み受板で当て受けることなく保持した様子を示す側面図
【図７】本発明の第２の実施の形態による基板保持装置の概略構成を示す側面図
【図８】引張手段の拡大斜視図
【図９】一対の保持部で保持され自重により重力方向に撓んだ基板を示す側面
【図１０】引張手段により基板に張力を与えて撓みを少なくした様子を示す側面
【符号の説明】
１０　　基板
２０　　押圧手段
３０　　撓み受板
４０　　基台
【図１】
2004037234.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004037234.tif 000009
【図８】
2004037234.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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