(57)【要約】【課題】アンテナ面の温度変化によるアンテナ特性の変化を抑制する。【解決手段】プラズマＰが生成される処理容器１と、処理容器１内に高周波電磁界を供給するＲＬＳＡ１３と、ＲＬＳＡ１３に高周波電源１１を接続する導波管１２とを備えたプラズマ処理装置において、導波管１２に接続された冷媒供給路３１と、ＲＬＳＡ１３のアンテナ面２４に対向する導体板２２に接続された冷媒排出路３４とを設ける。そして、冷媒供給路３１から導波管１２内に冷媒を供給し、導波管１２内を通ってＲＬＳＡ１３のラジアル導波路２１内を回流した後の冷媒を冷媒排出路３４から排出する。冷媒がラジアル導波路２１内を回流する間に、ラジアル導波路２１の下面となるアンテナ面２４から熱を奪うことにより、アンテナ面２４が冷却される。【選択図】        図１
2004265919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理容器に収容されるとともに被処理体を載置する載置台と、この載置台に対向して配置される導体板に形成されたアンテナ素子と、このアンテナ素子を介して前記処理容器に供給される高周波電磁界を導く導波路を前記導体板とともに構成する導体からなる導波部材とを備えたプラズマ処理装置において、
前記導体板を冷却する冷却手段を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載されたプラズマ処理容器において、
前記冷却手段は、
前記導波路内に外部から冷媒を供給する冷媒供給手段と、
前記導波路内を回流した冷媒を外部に排出させる冷媒排出手段と
を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載されたプラズマ処理容器において、
前記冷媒供給手段は、前記導波部材に複数形成され前記導体板に向けて前記冷媒を供給する貫通孔を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載されたプラズマ処理容器において、
前記冷媒は、不活性ガスであることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項２または３に記載されたプラズマ処理容器において、
前記冷媒は、霧状にした液剤を含むガスであることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項２に記載されたプラズマ処理容器において、
前記冷媒は、液体であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項７】
請求項１に記載されたプラズマ処理容器において、
前記冷却手段は、前記導体板と前記導波部材との間に延在して両者を接続し、前記導体板の熱を前記導波部材に伝達する誘電体からなる熱伝達部材を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載されたプラズマ処理容器において、
前記熱伝達部材は、柱状をしていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項９】
請求項７または８に記載されたプラズマ処理容器において、
前記冷却手段は、前記導体板の熱によって加熱される前記導波部材を冷却する導波部材冷却手段を更に有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１０】
導波路に形成されたアンテナ素子を介して処理容器内に高周波電磁界を供給することにより前記処理容器内にプラズマを生成し、前記処理容器内に配置された被処理体に対して前記プラズマを用いて処理を行うプラズマ処理方法において、
前記導波路を冷却することを特徴とするプラズマ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマ処理装置および方法に関し、より詳しくは高周波電磁界を用いてプラズマを生成し、半導体やＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｅｓｐｌａｙ）、有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  ｐａｎｅｌ）などの被処理体を処理するプラズマ処理装置および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置やフラットパネルディスプレイの製造において、酸化膜の形成や半導体層の結晶成長、エッチング、またアッシングなどの処理を行うために、プラズマ処理装置が多用されている。このプラズマ処理装置の一つに、処理容器内に高周波電磁界を供給することにより、処理容器内のガスを電離および解離させてプラズマを生成する高周波プラズマ処理装置がある。この高周波プラズマ処理装置は、低圧力で高密度のプラズマを生成できるので、効率のよいプラズマ処理が可能である。
【０００３】
図１０は、従来の高周波プラズマ処理装置の全体構成を示す図である。このプラズマ処理装置は、上部が開口した有底円筒形の処理容器１を有している。この処理容器１の底面中央部には、絶縁板２を介して載置台３が固定されている。この載置台３の上面に、被処理体として例えば半導体やＬＣＤなどの基板４が載置される。処理容器１の底面周縁部には、真空排気用の排気口５が設けられている。処理容器１の側壁には、処理容器１内にガスを導入するガス導入用ノズル６が設けられている。例えばプラズマ処理装置がエッチング装置として用いられる場合には、ノズル６からＡｒなどのプラズマガスと、ＣＦ４  などのエッチングガスとが導入される。
【０００４】
処理容器１の上部開口は、そこから高周波電磁界を導入しつつ、処理容器１内で生成されるプラズマＰを外部に漏らさないように、誘電体板７で閉塞されている。なお、処理容器１の側壁上面と誘電体板７の周縁部下面との間にＯリングなどのシール部材８を介在させ、処理容器１内の気密性を確保している。
誘電体板７の上には、処理容器１内に高周波電磁界を供給する電磁界供給装置の例えばラジアルラインスロットアンテナ（以下、ＲＬＳＡと略記する）１３が配設されている。このＲＬＳＡ１３は、誘電体板７によって処理容器１から隔離され、プラズマＰから保護されている。誘電体板７およびＲＬＳＡ１３の外周は、処理容器１の側壁上に環状に配置されたシールド材９によって覆われ、ＲＬＳＡ１３から処理容器１内に供給される高周波電磁界が外部に漏れない構造になっている。
【０００５】
電磁界供給装置は、例えば０．９ＧＨｚ〜十数ＧＨｚの範囲内の所定周波数の高周波電磁界を生成する高周波電源１１と、上述したＲＬＳＡ１３と、高周波電源１１とＲＬＳＡ１３との間を接続する導波管１２とを有している。なお、図示しないが、導波管１２に円偏波変換器および負荷整合器の少なくとも一方を設けてもよい。
【０００６】
ここで、ＲＬＳＡ１３は、ラジアル導波路２１を形成する互いに平行な２枚の円形導体板２２，２４と、これら２枚の導体板２２，２４の外周部を接続してシールドする導体リング２３とを有している。ラジアル導波路２１の上面となる導体板２２と導体リング２３とが一体に形成され、導体リング２３の下面にラジアル導波路２１の下面となる導体板２４が複数のネジ２５によって固定された構造をしている。さらに、ラジアル導波路２１の上面となる導体板２２の中心部には、導波管１２に接続される開口２６が形成され、この開口２６からラジアル導波路２１内に高周波電磁界が導入される。また、ラジアル導波路２１の下面となる導体板２４には、ラジアル導波路２１内を伝搬する高周波電磁界を誘電体板７を介して処理容器１内に供給するスロット２７が複数形成されている。これらのスロット２７によりスロットアンテナ（アンテナ素子）が構成されるので、スロット２７が形成される導体板２４をＲＬＳＡ１３のアンテナ面と呼ぶ。
【０００７】
アンテナ面２４上の中心部にはバンプ２８が設けられている。バンプ２８は導体板２２の開口２６に向かって突出する略円錐状に形成され、その先端は球面状に丸められている。バンプ２８は導体または誘電体のいずれで形成してもよい。このバンプ２８により、導波管１２からラジアル導波路２１へのインピーダンスの変化を緩やかにし、導波管１２とラジアル導波路２１との結合部での高周波電磁界の反射を抑制することができる。
【０００８】
このような構成のプラズマ処理装置において、高周波電源１１を駆動して高周波電磁界を発生させると、この高周波電磁界は導波管１２を介してラジアル導波路２１内に導入される。ラジアル導波路２１内に導入された高周波電磁界は、ラジアル導波路２１の中心部から周縁部へ向かって放射状に伝搬しつつ、ラジアル導波路２１の下面にあたるアンテナ面２４に複数形成されたスロット２７から徐々に処理容器１内に供給される。処理容器１内では、供給された高周波電磁界により、ノズル６から導入されたプラズマガスが電離および解離してプラズマＰが生成され、基板４に対する処理が行われる（例えば、特許文献１を参照）。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２１７１８７号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
高周波電源１１を駆動しＲＬＳＡ１３のラジアル導波路２１内に高周波電磁界を導入すると、ラジアル導波路２１の下面にあたるアンテナ面２４に電流が生じ、アンテナ面２４の抵抗によりジュール熱が発生する。アンテナ面２４はＲＬＳＡ１３の導体リング２３の下面にネジ止めされているものの、アンテナ面２４と導体リング２３の下面とは密着した構造にはなっていないので、アンテナ面２４に発生した熱は導体リング２３と導体板２２とからなる導波部材に伝わりにくい。また、アンテナ面２４は、処理容器１およびシールド材９のいずれとも接触していないので、アンテナ面２４に発生した熱は処理容器１およびシールド材９にも伝わらない。よって、熱はアンテナ面２４に留まり、アンテナ面２４が加熱されて１００℃以上の高温となることがある。アンテナ面２４がこのような高温になると、微小ではあるがアンテナ面２４が変形し、アンテナ特性が変化する。アンテナ特性が変化し、高周波電磁界の放射量や放射方向などが変化すると、高周波電磁界によって処理容器１内に生成されるプラズマの分布が変化し、載置台３上の基板４に対し均一な処理を行うことができなくなるという問題があった。
【００１１】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、アンテナ面の温度変化によるアンテナ特性の変化を抑制することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明のプラズマ処理装置は、処理容器に収容されるとともに被処理体を載置する載置台と、この載置台に対向して配置される導体板に形成されたアンテナ素子と、このアンテナ素子を介して処理容器に供給される高周波電磁界を導く導波路を前記導体板とともに構成する導体からなる導波部材と、前記導体板を冷却する冷却手段とを備えたことを特徴とする。導体板を冷却することにより、アンテナ素子を介する処理容器への高周波電磁界の供給の際に発熱する導体板の温度変化が抑制される。
【００１３】
より具体的には、冷却手段は、導波路内に外部から冷媒を供給する冷媒供給手段と、導波路内を回流した冷媒を外部に排出させる冷媒排出手段とから構成されるものであってもよい。導波路を構成する導体板に発生した熱が導体板よりも低温の冷媒に移動することにより、導体板は冷却される。このとき冷媒は加熱される。この加熱された冷媒を導波路内から排出するとともに低温の冷媒を導波路内に導入することにより、導体板と冷媒との温度差が保たれ、導体板から冷媒への熱の移動が促進される。このため、導体板が効率よく冷却される。
【００１４】
ここで、冷媒供給手段は、導波部材に複数形成され導体板に向けて冷媒を供給する貫通孔を有していてもよい。冷媒がガスの場合、導波路内に導入された冷媒は、その瞬間に断熱膨張し、温度が低下する。この温度が低下した冷媒が直接導体板に当たるので、導体板が効率よく冷却される。
また、冷媒として、不活性ガスを使用してもよい。
あるいは、冷媒として、霧状にした液剤を含むガスを使用してもよい。このような冷媒を使用した場合、霧状にした液剤が導体板に付着すると、気化する際に導体板から気化熱を奪うので、導体板が効率よく冷却される。
あるいは、冷媒として、液体を使用してもよい。
【００１５】
また、冷却手段は、導体板と導波部材との間に延在して両者を接続し、導体板の熱を導波部材に伝達する誘電体からなる熱伝達部材を有するものであってもよい。導体板の熱は熱伝達部材によって導波部材に伝達され、導波部材から外部へ放出される。このようにして導体板は熱を奪われ冷却される。
【００１６】
ここで、熱伝達部材は、柱状をしたものであってもよい。熱伝達部材を柱状にすることにより、ラジアル導波路内に占める熱伝達部材の体積比が小さくなり、ラジアル導波路を伝搬する高周波電磁界に熱伝達部材が及ぼす影響が小さくなる。
また、冷却手段は、導体板の熱によって加熱される導波部材を冷却する導波部材冷却手段を更に有すものであってもよい。導体板から導波部材に伝達された熱は冷却手段に奪われるので、導体板が効率よく冷却される。
【００１７】
また、本発明のプラズマ処理方法は、導波路に形成されたアンテナ素子を介して処理容器内に高周波電磁界を供給することにより処理容器内にプラズマを生成し、処理容器内に配置された被処理体に対してプラズマを用いて処理を行うプラズマ処理方法であって、導波路を冷却することを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の図面において、図１０に示した構成要素に相当する構成要素については図１０と同一符号で示し、適宜その説明を省略する。
【００１９】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るプラズマ処理装置の全体構成を示す図である。本実施の形態に係るプラズマ処理装置は、処理容器１へ高周波電磁界を供給する際に発熱するＲＬＳＡ１３のアンテナ面２４を冷却する冷却手段を備えている。この冷却手段は、ＲＬＳＡ１３のラジアル導波路２１内に冷媒を供給する冷媒供給手段と、ラジアル導波路２１内を回流した冷媒をラジアル導波路２１の外部に排出させる冷媒排出手段とから構成される。
【００２０】
より具体的には、冷媒供給手段は、導波管１２内に開口する冷媒供給路３１と、冷媒供給路３１に設けられた供給開閉弁３２および冷媒ポンプ３３とから構成される。また、冷媒排出手段は、ラジアル導波路２１内に開口する冷媒排出路３４と、冷媒排出路３４に設けられた排出開閉弁３５とから構成される。図２に示すように、冷媒排出路３４の開口３４Ａは、ラジアル導波路２１の上面となる導体板２２の周縁部に等間隔に複数設けられる。図１において、冷媒ポンプ３３の駆動および開閉弁３２，３４の開閉は、図示しない制御装置により制御される。冷媒としては、常温のエアが用いられる。
【００２１】
開閉弁３２，３４を開きポンプ３３でエアを送ると、冷媒供給路３１から導波管１２内にエアが供給される。そして、エアは導波管１２内を通り、ラジアル導波路２１の上面となる導体板２２の中央部の開口２６からラジアル導波路２１内に導入される。ラジアル導波路２１内に導入されたエアは、ラジアル導波路２１の央部から周縁部に向かって広がっていく。また、一部のエアは、アンテナ面２４に複数形成されたスロット２７を通って、アンテナ面２４と誘電体板７との間の空間を同様に中央部から周縁部に向かって広がっていく。そして、周縁部に至ったエアは、ラジアル導波路２１の上面となる導体板２２の周縁部に複数開口する冷媒排出路３４からラジアル導波路２１の外部に排出される。なお、誘電体板７の周縁部下面と処理容器１の側壁上面との間にはシール部材８が介在しているので、エアが処理容器１内に入ることはない。
【００２２】
高周波電源１１を駆動しＲＬＳＡ１３のラジアル導波路２１内に高周波電磁界を導入すると、上述したようにアンテナ面２４にジュール熱が発生する。この熱がアンテナ面２４よりも低温のエアに移動することにより、アンテナ面２４は冷却されるが、その一方でエアは加熱される。本実施の形態では、加熱されたエアをラジアル導波路２１から排出するとともに、低温のエアをラジアル導波路２１内に導入することにより、アンテナ面２４とエアとの温度差が保たれ、アンテナ面２４からエアへの熱の移動が促進される。このため、アンテナ面２４を効率よく冷却し、アンテナ面２４の温度変化を抑制することができる。
このようにしてアンテナ面２４の温度変化を抑制することにより、アンテナ特性の変化を防止することができる。このため、アンテナ特性の変化の影響で処理容器１内に生成されるプラズマの分布が変化することがなく、載置台３上に配置された基板４に対し均一な処理を行うことができる。
【００２３】
なお、図１に示したプラズマ処理装置では、冷媒供給路３１が導波管１２に接続され、冷媒排出路３４がラジアル導波路２１に接続されているが、その逆であってもよい。すなわち、図３に示すように、冷媒供給路４１がラジアル導波路２１に分岐して接続され、冷媒排出路４４が導波管１２に接続される構成であってもよい。この場合、冷媒供給路４１の開口は、図２と同様にラジアル導波路２１の上面となる導体板２２の周縁部に等間隔に設けられる。また、冷媒供給路４１には共通に供給開閉弁４２と冷媒ポンプ４３とが設けられる。さらに、冷媒排出路４４には排出開閉弁４５が設けられる。
【００２４】
（第２の実施の形態）
図４は、本発明の第２の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。この図において、処理容器１などの構成要素の図示は省略されている。
本実施の形態に係るプラズマ処理装置は、冷媒供給手段の冷媒供給路と冷媒排出手段の冷媒排出路とが接続された構成の冷媒流路５１を有している。冷媒流路５１の供給口は導波管１２に開口するとともに、図２と同様に複数の排出口はラジアル導波路２１の上面となる導体板２２の周縁部に等間隔に開口する。冷媒流路５１の供給口の側には供給開閉弁５２が設けられ、排出口の側には排出開閉弁５５が設けられている。また、両開閉弁５２，５５の間に、冷媒を送り出す冷媒ポンプ５３と、加熱された冷媒を冷やして元の温度にする冷却器５４とが設けられている。冷媒としては、エアのほか、Ｎ２  などの不活性ガスを用いることができる。
【００２５】
このように構成すると、冷媒流路５２と導波管１２とラジアル導波路２１とからなる閉路が形成される。冷媒はこの閉路を循環しながら、アンテナ面２４の熱を奪ってアンテナ面２４を冷却し、その後アンテナ面２４から奪った熱を冷却器５４に奪われ元の温度に戻る。したがって、同じ冷媒を用いて、繰り返しアンテナ面２４を冷却することができる。
なお、図３と同様に、冷媒流路５１の供給口をラジアル導波路２１の上面となる導体板２２に設け、排出口を導波管１２に設け、冷媒を逆方向に循環させるようにしてもよい。
以上の第１および第２の実施の形態では、冷媒として冷却水などの液体を用いてもよい。この場合、冷媒がプラズマ処理装置から漏れない構成をとる必要がある。
【００２６】
（第３の実施の形態）
図５は、本発明の第３の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。この図において、処理容器１などの構成要素の図示は省略されている。
本実施の形態に係るプラズマ処理装置では、ＲＬＳＡ１３の導体板２２の上に、アンテナ面２４に向けて冷媒を噴射するための冷媒噴射部材６０が配設されている。冷媒噴射部材６０は、導波管１２の周りを囲むように環状に形成された管路６１を有している。なお、管路６１の内半径は導波管１２の半径とほぼ等しく、管路６１の外半径はラジアル導波路２１の半径とほぼ等しい。
【００２７】
図５および図６に示すように、管路６１の下面全域には、小径の貫通孔６２が複数形成されている。また、管路６１の下面と接触するＲＬＳＡ１３の導体板２２にも、管路６１の貫通孔６２に対応する位置に、小径の貫通孔２９が複数形成されている。
一方、管路６１の上面には、冷媒供給路６３が開口している。この冷媒供給路６３には供給開閉弁６４および冷媒ポンプ６５が設けられている。
導波管１２には、図３と同様に冷媒排出路４４が開口し、この冷媒排出路４４に排出開閉弁４５が設けられている。
冷媒としては、常温のエアが用いられる。
【００２８】
上述したような冷媒噴射部材６０において、ポンプ６５によりエアを管路６１に送り、管路６１内部の圧力をラジアル導波路２１内部の圧力に対して十分高くすると、エアが管路６１から貫通孔６２，２９を介してＲＬＳＡ１３のアンテナ面２４に向けて噴射される。ラジアル導波路２１内に導入されたエアは、その瞬間に断熱膨張し、温度が低下する。この温度が低下したエアが直接アンテナ面２４に当たるので、アンテナ面２４を効率よく冷却することができる。
なお、第２の実施の形態のように冷媒の循環路を形成し、冷媒として不活性ガスを用いてもよい。
【００２９】
（第４の実施の形態）
図７は、本発明の第４の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。この図において、処理容器１などの構成要素の図示は省略されている。
本実施の形態に係るプラズマ処理装置では、冷媒として、霧状にした液剤を含むエアを用いる。具体的には、第１の実施の形態において、液剤を霧状にして放出する噴霧器７１を冷媒供給路３１に接続する。
【００３０】
噴霧器７１を駆動すると、霧状にした液剤が冷媒供給路３１に放出され、そこを流れるエアと混合し、導波管１２に供給される。そして、霧状にした液剤を含むエアが導波管１２からラジアル導波路２１へ広がっていく過程で、霧状にした液剤がアンテナ面２４に付着すると、液剤が気化する際にアンテナ面２４から気化熱を奪うので、アンテナ面２４を効率よく冷却することができる。
液剤の例としては、水を挙げることができるが、より気化熱が大きいものを用いてもよい。また、エアの代わりに、不活性ガスを用いてもよい。なお、図３における冷媒供給路４１に噴霧器７１を接続しても、同様の作用効果を得られる。
【００３１】
（第５の実施の形態）
図８は、本発明の第５の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。この図において、処理容器１などの構成要素の図示は省略されている。
本実施の形態に係るプラズマ処理装置では、ＲＬＳＡ１３のアンテナ面２４と導体板２２との間に延在して両者を接続し、アンテナ面２４の熱を導体板２２に伝達する熱伝達部材８１が設けられている。熱伝達部材８１は、全体としてＲＬＳＡ１３のラジアル導波路２１と同じ大きさで同じ形状をしているが、導体板２２の開口２６に対応する部分に孔が空いている。したがって、熱伝達部材８１は、導体板２２における開口２６を除く全域と、またアンテナ面２４におけるその対向領域と接触している。熱伝達部材８１はまた、アルミナセラミックスやボロンナイトライド（ＢＮ）など、熱伝導性のよい誘電体材料で形成される。
【００３２】
また、ＲＬＳＡ１３の導体板２２の上には、導体板２２と接触するように冷却器８２が設けられている。冷却器８２は、例えばペルチェ素子などの電子冷熱素子で構成することができる。また、板状部材の内部に流路が形成され、この流路に冷却水などの冷媒を流すことにより導体板２２を冷却する冷却器を用いてもよい。
ＲＬＳＡ１３のアンテナ面２４の熱は、熱伝達部材８１によって導体板２２（または導体リング２３）に伝達され、さらに導体板２２から冷却器８２によって外部に放出される。このようにしてアンテナ面２４の熱を外部に放出することにより、アンテナ面２４を冷却することができる。
【００３３】
なお、アンテナ面２４の熱を導体板２２に伝達する熱伝達部材として、図９に示すような柱状の誘電体柱８３を用いてもよい。この誘電体柱８３は、アンテナ面２４上に均等に複数配置される。熱伝達部材として柱状の誘電体柱８３を用いることにより、ラジアル導波路２１内に占める熱伝達部材の体積比が小さくなり、ラジアル導波路２１を伝搬する高周波電磁界に熱伝達部材が及ぼす影響が小さくなる。さらに、冷却器８２としてペルチェ素子などの電子冷熱素子を用いる場合には、誘電体柱８１が導体板２２に接続される位置の真上に電子冷熱素子を配置することにより、アンテナ面２４から伝達された熱を効率よく外部に放出することができる。
また、冷却器８２は必ずしも必要ではなく、自然放熱により導体板２２を冷却するようにしてもよい。
【００３４】
以上では、ＲＬＳＡ１３のアンテナ面２４を冷却する例を説明したが、本発明は、導波路の一つの面にアンテナ素子が形成されたアンテナのアンテナ面の冷却に有用である。例えば、導波管スロットアンテナや、導波路を構成する対向配置された２枚の導体板の一方にスロットが形成され、その導波路の側面から給電されるスロットアンテナにも利用できる。
【００３５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、アンテナ素子が形成された導体板を冷却する冷却手段を設けることにより、導体板の発熱による温度変化が抑制される。これにより、導体板が加熱により変形しアンテナ特性が変化することを防止できる。このため、アンテナ特性の変化の影響で処理容器内に生成されるプラズマの分布が変化することがなく、処理容器内に配置された被処理体に対し均一な処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るプラズマ処理装置の全体構成を示す図である。
【図２】ラジアル導波路の上面となる導体板の平面図である。
【図３】図１に示したプラズマ処理装置の変形例の一部の構成を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。
【図６】配管の下面を示す図である。
【図７】本発明の第４の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。
【図８】本発明の第５の実施の形態に係るプラズマ処理装置の一部の構成を示す図である。
【図９】図８に示したプラズマ処理装置の変形例の一部の構成を示す図である。
【図１０】従来の高周波プラズマ処理装置の全体構成を示す図である。
【符号の説明】
１…処理容器、２…絶縁板、３…載置台、４…基板（被処理体）、５…排気口、６…ガス導入用ノズル、７…誘電体板、８…シール部材、９…シールド材、１１…高周波電源、１２…導波管、１３…ラジアルラインスロットアンテナ、２１…ラジアル導波路、２２…円形導体板、２３…リング部材、２４…アンテナ面（円形導体板）、２５…ネジ、２６…開口、２７…スロット、２８…バンプ、２９…貫通孔、３１，４１，６３…冷媒供給路、３２，４２，５２，６４…供給開閉弁、３３，４３，５３，６５…冷媒ポンプ、３４，４４…冷媒排出路、３４Ａ…開口、３５，４５，５５…排出開閉弁、５１…冷媒流路、５４…冷却器、６０…冷媒噴射部材、６１…管路、６２…貫通孔、７１…噴霧器、８１…熱伝達部材、８２…冷却器、８３…誘電体柱。
【図１】
2004265919.tif 000003
【図２】
2004265919.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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