(57)【要約】【課題】いかなる材料や分散方法、塗布方式その他の製造手法に対しても、有効に研磨能をコントロールすることができ、これにより、ＭＲヘッドに十分対応し得る高耐久性および高信頼性を備えた磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体の一方の面上に、少なくとも非磁性層と磁性層とが順次積層されてなり、磁性層が磁性粉末、結合剤樹脂および研磨材を含有し、かつ、原子間力顕微鏡を用いて測定された、磁性層表面からの研磨材の平均突出高さが、７．０〜１５．０ｎｍの範囲内である磁気記録媒体である。好適には、ＭＲヘッドを再生ヘッドとする磁気記録システムにおいて用いられる。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一方の面上に、少なくとも非磁性層と磁性層とが順次積層されてなり、該磁性層が磁性粉末、結合剤樹脂および研磨材を含有し、かつ、原子間力顕微鏡を用いて測定された、前記磁性層表面からの前記研磨材の平均突出高さが、７．０〜１５．０ｎｍの範囲内であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
ＭＲヘッドを再生ヘッドとする磁気記録システムにおいて用いられる請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記磁性層が、前記非磁性層上に、ウェットオンドライ方式にて塗布形成されている請求項１または２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記磁性層表面のＡＦＭ表面平均粗さＲａが５ｎｍ以下である請求項１〜３のうちいずれか一項記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気記録媒体に関し、詳しくは、ＭＲヘッド対応として適切な研磨能を有する重層磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録媒体の研磨能は、その耐久性や信頼性を維持するために、非常に重要な要素の一つである。そのため、磁性層中に含有させる研磨材と研磨能との関係については、従来より様々に検討がなされてきている。
【０００３】
磁気記録媒体の研磨能を評価するための基準としては、例えば、センダストバーを用いた研磨試験がよく知られている（特許文献１等に記載）。また、特許文献２には、高密度記録に適し、かつ耐久性および生産性に優れた磁気記録媒体を得るために、磁性層の膜厚を所定以下とするとともに、磁性層に含有させる研磨材の硬度および研磨材の磁性層表面からの露呈平均高さと、磁性層表面平均粗さとを、夫々所定範囲に規定する技術が記載されている。さらに、特許文献３には、磁性層表面に存在する研磨材突起を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ；Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて測定し、所定高さ以上の研磨材突起数の割合を所定以下とすることにより、高出力、高密度記録であって走行耐久性に優れた磁気記録媒体を得る技術が記載されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１１−８６２６５号公報（特許請求の範囲、［０００８］等）
【特許文献２】
特開平１１−２８３２３７号公報（特許請求の範囲等）
【特許文献３】
特開２００２−３１２９２０号公報（特許請求の範囲等）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、重要な要素であるこの研磨能をどのようにコントロールすればよいか、即ち、テープの表面状態をどのような形状とすれば良好な研磨能が得られるかという点については、これまで十分には解明されていなかった。
【０００６】
特に、近年では、高記録密度化に対応するためにＭＲヘッドを採用したシステムが採用され、テープの研磨能をコントロールすることがより重要となってきている。高記録密度化に対応するためには、通常、テープ表面の平坦化、磁性粉末の微粒子化、および、これに伴う磁性塗料分散時の分散メディアの小径化等の観点から磁気記録媒体を設計する必要があるが、これら諸問題とともに、相反する特性である研磨能をコントロールすることが、磁気記録媒体における大きな課題であるといえる。
【０００７】
そこで本発明の目的は、いかなる材料や分散方法、塗布方式その他の製造手法に対しても、有効に研磨能をコントロールすることができる技術を確立して、これにより、ＭＲヘッドに十分対応し得る高耐久性および高信頼性を備えた磁気記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定される磁気記録媒体表面の研磨材の高さを所定範囲に規定することで、磁気記録媒体の材料や製造手法のいかんに関わらず、研磨能を適切にコントロールすることができ、これにより、高耐久性と高信頼性とを兼ね備えた磁気記録媒体が実現できることを見出して、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の一方の面上に、少なくとも非磁性層と磁性層とが順次積層されてなり、該磁性層が磁性粉末、結合剤樹脂および研磨材を含有し、かつ、原子間力顕微鏡を用いて測定された、前記磁性層表面からの前記研磨材の平均突出高さが、７．０〜１５．０ｎｍの範囲内であることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明は、特に、ＭＲヘッドを再生ヘッドとする磁気記録システムにおいて用いられる場合に効果的であり、また、前記磁性層は、前記非磁性層上に、ウェットオンドライ方式にて塗布形成されていることが好ましい。また、前記磁性層表面のＡＦＭ表面平均粗さＲａは、５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１１】
なお、前記特許文献２に記載の技術は単層媒体に係る技術であり、重層媒体に係る本発明とは技術思想を異にする。また、前記特許文献３に記載の技術についても、特に、再生ヘッドとして、高感度であって磁気記録媒体との摺動によりダメージを生じやすいＭＲヘッドに好適に対応可能な本発明の技術とは技術思想の異なるものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の一方の面上に、少なくとも非磁性層と磁性層とが順次積層されてなる重層媒体であり、その磁性層中に含まれる研磨材の表面からの突出状態が、以下に規定する所定の条件を満足する点に特徴がある。
【００１３】
具体的には、本発明の磁気記録媒体においては、ＡＦＭを用いて測定した際の、磁性層表面からの研磨材の平均突出高さが、７．０〜１５．０ｎｍの範囲内、好適には８．５〜１４．０ｎｍの範囲内である。研磨材の平均突出高さが７．０ｎｍ未満では、磁気記録媒体の研磨能が小さくなるために耐久性が悪化する。一方、平均突出高さが１５．０ｎｍより大きくなると、磁気記録媒体の研磨能が大きくなりすぎて、再生ヘッドを損傷し、耐久性を損なう結果となる。本発明においては、研磨材の平均突出高さを上記のように規定したことにより、損傷を生じやすいＭＲヘッドを再生ヘッドとする磁気記録システムに対応可能な磁気記録媒体を実現したものである。
【００１４】
ここで、磁性層中には少なくとも磁性粉末、結合剤樹脂および研磨材が含まれるため、その表面は、磁性粉末や研磨材が突出した状態となっているものと考えられる。この磁性層表面における磁性粉末および研磨材の存在箇所を特定するためには、ＡＦＭと走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）とを併用して、磁性層表面のＡＦＭ像とＳＥＭ像とを対比する手法を用いることができる。
【００１５】
上記したように、磁性層表面には磁性粉末や研磨材の突出による微細な凹凸が存在するため、研磨剤の突出高さの基準となる磁性層表面は、単純には定まらない。そこで、本発明においては、以下のようにして当該基準となる磁性層表面を定めることとする。
即ち、表面に微細な凹凸を有する磁性層において、非磁性支持体表面と平行な平面の、該非磁性支持体表面からの高さを横軸に取り、前記平面により上記微細な凹凸の凸が切断される際のその断面積の総和ｐと前記平面の面積ｑとの面積比（ｐ／ｑ）を縦軸に取った際に、前記高さに対する前記面積比を表す曲線が変曲点を示す高さでの、非磁性支持体表面と平行な平面を基準とする。具体的には、非磁性支持体表面からの高さに対して、上記面積比（ｐ／ｑ）をプロットして、高さごとの水平面内に占める磁性層の割合の変動を表す曲線を描き、この曲線が変曲点を示す高さを基準となる磁性層表面として定めることとした。この手順についてもＡＦＭを用いて行うことができ、具体的には、例えば、図３に示すような高さ−磁性層占有率曲線が描かれる。図示するように、最低高さ（ｂ）では磁性層占有率Ｙ＝１００（％）となり、最大高さ（ａ）ではＹ＝０（％）となる。基準面となる高さは図中に矢視で示す変曲点に対応する高さであり、即ち、変曲点でのＸ軸の値に対応する水平面が基準となる磁性層表面となる。従って、この面を基準として、この面からの研磨材の突出高さをＡＦＭにより測定し、その平均値を算出することで、上記平均突出高さを得ることができる。
【００１６】
具体的には、上記突出高さは、ＡＦＭおよびＳＥＭの併用により研磨材の存在箇所を特定した後、特定した研磨材の最大高さの位置にて、ＡＦＭを用いて当該磁性層表面の断面形状を得ることにより、この断面における磁性層表面高さから研磨材最大高さまでの距離として得られる。なお、上記手順に係るデータ処理は、例えば、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ社製  ＳＰＭＬａｂ  ＮＴ  Ｖｅｒ．５０１ｂ１１（データ処理アプリケーション）を用いて行うことができる。
【００１７】
本発明に係る研磨材の平均突出高さを実現して、適切に研磨能をコントロールするための手法としては、例えば、磁気記録媒体の製造工程において、磁性層用塗料の作製時における分散を所定条件下で行ったり、磁気記録媒体形成後にその表面を研磨テープやブレードにより研磨して研磨材高さを低減するなどの手法を挙げることができる。これら手法を適宜用いることにより、所望の研磨材高さを得ることができ、研磨能を良好に調整することができる。
【００１８】
例えば、塗料の分散条件によりコントロールを行う手法としては、塗料の分散時に、分散機の回転周速や、分散メディアの材質、粒径等を適宜設定することにより、塗料に含まれる研磨材の分散の度合いを調節する手法を挙げることができ、これにより、塗料中に含まれる研磨材の分散状態を調整して、磁気記録媒体表面の研磨材高さを適度に制御することができる。具体的には、研磨材高さをより低くしたい場合には、より周速を速く、ビーズの比重を重く、ビーズの粒径を小さくする。分散条件としては、例えば、分散機としてピンミルを使用し、周速５〜１５ｍ／ｓ程度で、分散媒体として粒径０．０５〜０．８ｍｍ程度のジルコニアビーズを使用することができる。
【００１９】
また、研磨テープを用いた磁性層表面の研磨によりコントロールを行う手法としては、ロール状の磁気記録媒体を切断するに際し、切断してからリールハブに巻き取る間に、一定方向に走行する研磨テープを磁気記録媒体表面に押し当てて、研磨を行う手法を用いることができる（切断ラッピング）。この場合、研磨テープの材質や押し込み量等を適宜変えることにより、磁気記録媒体表面の研磨材高さを適度に調整することができる。具体的には、研磨材高さをより低くしたい場合には、研磨テープの材質としてより硬いものを使用し、押し込み量を大きくする。研磨テープによる表面研磨を用いた場合、研磨材の高さの高いものから低いものまで、比較的一様に高さが低減する傾向にある。研磨条件としては、例えば、研磨粒子としてアルミナを用いた５０００〜１００００メッシュ程度の材質の研磨テープを使用することができる。押し込み量は、例えば、５〜４０ｍｍとすることができる。
【００２０】
さらに、ブレードを用いた磁性層表面の研磨（ブレード研磨）によりコントロールを行う手法としては、リールハブに巻き回された磁気記録媒体をガイドロールに沿って走行させ、別のリールハブに巻き直しする際に、走行する磁気記録媒体表面にブレードを押し当てて、表面を研磨する手法を用いることができる。これにより、ブレードを表面に押し当てる程度を変えることで、磁気記録媒体表面の研磨材高さを適度に調整することができる。具体的には、研磨材高さをより低くしたい場合には、より大きく表面に押し当てる。ブレードとしては、例えば、三角柱形状のサファイアを用いることができ、三角柱の長辺を磁気記録媒体に対して垂直に、０．５〜３ｍｍ程度にて押し込むことで、研磨を行うことができる。ブレードによる表面研磨を行った場合、研磨材高さの高いものが比較的優先的に低くなる傾向にある。
【００２１】
このように、磁性層表面の研磨による研磨能のコントロール方法としては、上記切断ラッピングおよびブレード研磨の２つの手法が挙げられるが、これらはいずれかを単独で用いても、また双方を併用してもよい。切断ラッピングを用いた場合、切断時に、磁気記録媒体の原反ロールと同程度の幅の研磨テープを用いることで、切断しながらすべての磁気テープを同時に研磨できる利点がある。もちろん、切断後の個々の磁気テープの研磨に使用することも可能である。また、ブレード研磨の手法では、通常、サファイア製の長さ３ｃｍ程度の三角柱形状のブレードを使用するため、主として切断後の磁気テープの研磨に好適に適用することができる。なお、塗料の分散条件によるコントロール方法についても、適宜組み合わせて用いることができることは言うまでもない。
【００２２】
また、本発明においては、磁性層表面のＡＦＭ表面平均粗さＲａが、５ｎｍ以下、特には１．５〜４．５ｎｍであることが好ましい。表面平均粗さＲａを５ｎｍ以下とすることで、より良好に本発明の効果を得ることができる。表面平均粗さが１．５ｎｍ未満であると、摩擦が上昇して走行状態が不安定となる傾向がある一方、４．５ｎｍを超えると、スぺーシングロスにより出力が低下し、エラーが悪化する傾向がある。
【００２３】
本発明の磁気記録媒体においては、研磨材の平均突出高さが上記範囲を満足するものであれば、磁性層や非磁性支持体等の材料や構成、塗布方法等の具体的な形成条件については特に制限されるものではない。例えば、以下のような構成とすることができる。
【００２４】
磁性層に用いる磁性粉末としては、好ましくは平均長軸長が０．１５μｍ以下、より好ましくは０．０３〜０．１０μｍの針状強磁性金属粉末である。平均長軸長が０．１５μｍを超えると、磁気記録媒体に要求される電磁変換特性（特に、Ｓ／ＮおよびＣ／Ｎ特性）を十分に満足することができなくなる傾向にある。また、バリウムフェライト等の六方晶形酸化鉄粉末を用いることもできる。六方晶形酸化鉄粉末の板状比は２〜７が好ましい。また、ＴＥＭ観察による平均一次板径が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。大きいと、磁性層表面が悪化する傾向にある。
【００２５】
このような磁性粉末は、磁性層組成中に６５〜９０質量％程度含まれていればよい。磁性粉末の含有量が多すぎると結合剤樹脂の含有量が減少するためカレンダ加工による表面平滑性が悪化しやすくなり、一方、少なすぎると高い再生出力が得られにくくなる。
【００２６】
磁性層用の結合剤樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に使用することができ、特に制限されるべきものではない。これらの結合剤樹脂の含有量は、磁性粉末１００質量部に対して５〜４０質量部、特には１０〜３０質量部とすることが好ましい。結合剤樹脂の含有量が少なすぎると磁性層の強度が低下するので、走行耐久性が悪化しやすくなる。一方、多すぎると強磁性金属粉末の含有量が低下するので、電磁変換特性が低下してくる。
【００２７】
これらの結合剤樹脂を硬化させる架橋剤としては、例えば、熱硬化型樹脂の場合は、既知の各種ポリイソシアナートを挙げることができ、この架橋剤の含有量は、結合剤樹脂１００質量部に対し、１０〜３０質量部とすることが好ましい。また、磁性層には、少なくとも磁性粉末、結合剤樹脂および研磨材を含有させるが、必要に応じて、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸その他の各種添加物を添加してもよい。
【００２８】
また、磁性層に用いる研磨材としては、例えば、α−アルミナ（モース硬度９）、酸化クロム（モース硬度９）、炭化珪素（モース硬度９．５）、酸化珪素（モース硬度７）、窒化アルミニウム（モース硬度９）、窒化ホウ素（モース硬度９．５）等の、モース硬度６以上の研磨材を好適に用いることができる。中でも特に、モース硬度９以上の研磨材を少なくとも１種含有させることが好適である。また、研磨材として、平均粒径の異なる２種以上のものを併用した場合には、出力変動の低下や耐久走行性のさらなる向上を図ることができる。
【００２９】
研磨材の平均粒径は、磁性層の膜厚よりも小さいことが好ましく、通常０．０１〜０．２μｍ、好適には０．０５〜０．２μｍ程度である。平均粒径が大きすぎると、磁性層表面からの突出量が大きくなりやすく、電磁変換特性の低下やドロップアウトの増加、ヘッド摩耗量の増大等を招く傾向がある。一方、平均粒径が小さすぎると、磁性層表面からの突出量が小さくなりやすく、ヘッド目詰まりの防止効果が不十分となる。なお、平均粒径は、一般に、透過型電子顕微鏡により測定することができる。かかる研磨材の含有量は、磁性粉末１００質量部に対し、通常３〜２５質量部、好ましくは５〜２０質量部であり、例えば、平均粒径０．２μｍ以下のアルミナの場合には、磁性粉末１００質量部に対して５〜２０質量部とすることが好ましい。この範囲であると、表面研磨等の処理により、研磨材の高さを調整することが容易となる。
【００３０】
磁性層形成用の塗料は、上記成分に有機溶剤を加えることにより調製される。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤やトルエン等の芳香族系溶剤などの各種溶剤の１種または２種以上を、適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、固形分（磁性粉末や各種無機粒子等）と結合剤樹脂との合計量１００質量部に対して１００〜１１００質量部程度とすればよい。
【００３１】
本発明における磁性層の厚みは通常０．５０μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．５０μｍであり、より好ましくは０．０２〜０．３０μｍである。磁性層が厚すぎると、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる。一方、薄すぎると、塗膜の強度が低下する傾向がある。
【００３２】
磁性層は、非磁性支持体の一方の面上に、非磁性層上に積層して形成されるが、その塗布に際しては、下層である非磁性層が均一に塗布形成、乾燥された後に上層である磁性層を塗布するウェットオンドライ（Ｗ／Ｄ）方式を用いることが好適である。ウェットオンウェット（Ｗ／Ｗ）方式にて塗布する場合、塗布時に磁性層中の固形分が塗膜内に埋もれやすいことから、磁性層の研磨材としては粒径の大きなものを用いることが必要となり、ＭＲヘッドに損傷を生じやすい。一方、Ｗ／Ｄでは、粒径の小さな研磨材を用いることができるので、ＭＲヘッドに与える衝撃を緩和することができる。また、磁性層の塗布厚みの均一性を高めることができるので、磁性層の塗膜における研磨材の表面への出方を均一化することができ、研磨能や耐傷強度のバラツキを適切に防止することができる。
【００３３】
非磁性支持体としては、ポリエステル、ポリアミドまたは芳香族ポリアミドなどの既知の樹脂フィルムもしくはこれらの積層樹脂フィルムから適宜選定することができる。また、その厚み等についても既知の範囲内であり、特に制限されるべきものではない。
【００３４】
非磁性層は、主として非磁性粉末と結合剤樹脂とにより構成され、非磁性支持体上に設けられる。非磁性粉末としては、各種無機質粉末を用いることができ、好ましくは、針状非磁性粉末、例えば、針状の非磁性酸化鉄（α−Ｆｅ２Ｏ３）などを挙げることができる。その他、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、α−アルミナ（α−Ａｌ２Ｏ３）等の各種非磁性粉末を適宜配合してもよい。また、非磁性層にはカーボンブラックを用いることが好ましい。かかるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を挙げることができる。
【００３５】
カーボンブラックと無機質粉末の配合比率は、質量比で１００／０〜１０／９０とすることが好ましい。無機質粉末の配合比率が９０を上回ると、表面電気抵抗の点で問題が生じやすくなる。
【００３６】
非磁性層用の結合剤樹脂としては、磁性層と同様に、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化型樹脂やこれらの混合物等を適宜用いることができ、特に制限はされない。ここで、結合剤樹脂としてＥＢ（電子線）硬化樹脂を用いる場合には、形成した塗膜を硬化させる際のＥＢ照射量を、例えば、３．５〜６．０Ｍｒａｄ程度に抑えることが好ましい。これにより、磁気テープのスティフネスを抑えて、ＭＲヘッドに柔らかく当たるようにすることができるため、ＭＲヘッドの摩耗防止効果を向上することができる。
【００３７】
また、非磁性層中には、さらに、所望に応じて、界面活性剤等の分散剤、その他の各種添加物を添加してもよい。非磁性層用の塗料は、上記磁性層と同様の有機溶剤を同程度の添加量にて用いて作製することができる。
【００３８】
非磁性層の厚みは、好ましくは２．５μｍ以下、より好ましくは０．１〜２．３μｍである。この厚みを２．５μｍより厚くしても性能の向上は望めず、却って、塗膜を設ける際に厚みが不均一になり易く、塗布条件が厳しくなり、表面平滑性も悪くなりがちになる。また、０．１μｍよりも薄いと、非磁性支持体の凹凸を平滑化することが難しく、さらに、磁性層に潤滑剤を供給する量が減少して、耐久性が悪化する。
【００３９】
バックコート層は、走行安定性の改善や磁性層の帯電防止等のために、非磁性支持体の非磁性層および磁性層を形成した面とは反対側の面上に、必要に応じて設けることができる。バックコート層には、３０〜８０質量％のカーボンブラックを含有させることが好ましく、かかるカーボンブラックとしては通常使用されるものであればどのようなものであってもよく、上述の非磁性層に用いるものと同様のものを用いることができる。また、カーボンブラック以外に、必要に応じ、磁性層に用いた各種研磨材等の非磁性無機粉末や、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００４０】
バックコート層の厚み（カレンダー加工後）は、０．１〜１．０μｍ、好ましくは０．２〜０．８μｍである。この厚さが１．０μｍを超えると、媒体摺接経路との間の摩擦が大きくなりすぎて、走行安定性が低下する傾向にある。一方、０．１μｍ未満では、磁気記録媒体の走行時にバックコート層の塗膜削れが発生しやすい。
【００４１】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
以下に示すようにして、非磁性層用塗料、磁性層用塗料およびバックコート層用塗料を夫々作製した。なお、以下において、組成の数値「部」とは、「質量部」を表す。
【００４２】
＜非磁性層組成＞
針状α−ＦｅＯＯＨ                                            ８０．０部
（平均長軸長：０．１μｍ、結晶子径：１２ｎｍ）
カーボンブラック                                              ２０．０部
（三菱化学（株）製  ＃９５０Ｂ、平均粒径：１７ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：２５０ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量：７０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８）
塩化ビニル系樹脂                                              １１．０部
（東洋紡績（株）製  ＴＢ−０２４６、（固形分）塩化ビニル−エポキシ含有モノマー共重合体、平均重合度：３１０、過硫酸カリ使用Ｓ含有量：０．６％（質量百分率）、２−イソシアネートエチルメタクリレート（ＭＯＩ）を使用して日本ゼオン（株）製  ＭＲ１１０をアクリル変性したもの、アクリル含有量：６モル／１モル）
ポリウレタン樹脂                                                ９．０部
（東洋紡績（株）製  ＴＢ−０２１６、（固形分）ヒドロキシ含有アクリル化合物−ホスホン酸基含有リン化合物−ヒドロキシ含有ポリエステルポリオール、平均分子量：１３０００、Ｐ含有量：０．２％（質量百分率）、アクリル含有量：８モル／１モル）
分散剤
（東邦化学工業（株）製、ＲＥ６１０）                            １．２部
（フェニルホスホン酸）                                          ２．０部
研磨材                                                          ５．０部
（住友化学工業（株）製  ＨＩＴ６０Ａ、α−アルミナ、平均粒径：０．２２μｍ）
ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量比）
【００４３】
上記の材料をニーダーを用いて混練した後、粒径０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率５０容積％）で充填した横型のピンミルにて、分散周速７．０ｍ／ｓで分散を行い、固形分濃度（ＮＶ）３３％（質量百分率）の混合液を得た。
【００４４】
上記混合液に、下記潤滑剤および溶剤を添加して、ＮＶが２５％（質量百分率）となるようさらに分散を行った。
潤滑剤
（日本油脂（株）製  ＮＡＡ１８０、脂肪酸）                      ０．５部
（花王（株）製  脂肪酸アマイドＳ、脂肪酸アマイド）              ０．５部
（日光ケミカルズ（株）製  ＮＩＫＫＯＬＢＳ、脂肪酸エステル）    １．０部
ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝１／１／３（質量比）
【００４５】
上記混合物を、さらに、平均孔径０．５μｍのフィルターで濾過して、非磁性層用塗料を作製した。
【００４６】
＜磁性層組成＞
Ｆｅ系針状磁性粉末                                              １００部
（Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝１００／２４／５／８（原子比）、Ｈｃ：１９４ｋＡ
／ｍ、σｓ：１４０Ａｍ２／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：５６ｍ２／ｇ、平均長軸長＝
０．０７５μｍ）
塩化ビニル系樹脂                                              １４．０部
（日本ゼオン（株）製  ＭＲ１１０、塩化ビニル共重合体）
ポリウレタン                                                    ２．０部
（東洋紡績（株）製  ＵＲ８７００、ポリエステルポリウレタン）
分散剤                                                          ３．０部
（東邦化学工業（株）製  ＲＥ６１０）
研磨材
（住友化学工業（株）製  ＨＩＴ８２、α−アルミナ、平均粒径：０．１２μｍ
）                                                            ７．０部
（住友化学工業（株）製  ＨＩＴ６０Ａ、α−アルミナ、平均粒径：０．１８μ
ｍ）                                                            ３．０部
潤滑剤
（日本油脂（株）製  ＮＡＡ１８０、脂肪酸）                      １．２部
（日光ケミカルズ（株）製  ＮＩＫＫＯＬＢＳ、脂肪酸エステル）    １．０部
ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／１（質量比）
【００４７】
上記の材料をニーダーを用いて混練した後、粒径０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率５０容積％）で充填した横型のピンミルにて、分散周速５．４ｍ／ｓで分散を行い、固形分濃度（ＮＶ）３０％（質量百分率）の混合液を得た。
【００４８】
上記混合液に、下記溶剤を添加して、ＮＶが１６％（質量百分率）となるようさらに分散を行った。
ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／３（質量比）
【００４９】
上記混合液に下記硬化剤を添加混合し、さらに、平均孔径０．５μｍのフィルターで濾過して、磁性層用塗料を作製した。
硬化剤                                                            １０部
（日本ポリウレタン工業（株）製  コロネートＬ）
【００５０】
＜バックコート層組成＞
カーボンブラック
（キャボット社製  ＢＰ−８００、平均粒径：１７ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：６８ｃ
ｃ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積：２１０ｍ２／ｇ）              ７５部
（キャボット社製  ＢＰ−１３０、平均粒径：７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：６９ｃ
ｃ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積：２５ｍ２／ｇ）                １０部
炭酸カルシウム                                                    １５部
（白石工業（株）製  白艶華Ｏ、平均粒径：３０ｎｍ）
ニトロセルロース                                                  ６５部
（旭化成工業（株）製  ＢＴＨ１／２）
ポリウレタン樹脂                                                  ３５部
（脂肪族ポリエステルジオール／芳香族ポリエステルジオール＝４３／５３）
ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／１（質量比）
【００５１】
上記の材料をニーダーを用いて混練した後、粒径０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率５０容積％）で充填した横型のピンミルにて、分散周速５．４ｍ／ｓで分散を行い、固形分濃度（ＮＶ）３０％（質量百分率）の混合液を得た。
【００５２】
上記混合液に、下記溶剤を添加して、ＮＶが１２％（質量百分率）となるようさらに分散を行った。
ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝５／４／１（質量比）
【００５３】
上記混合液に下記硬化剤を添加混合し、さらに、平均孔径０．５μｍのフィルターで濾過して、バックコート層用塗料を作製した。
硬化剤                                                              ５部
（日本ポリウレタン工業（株）製  コロネートＬ）
【００５４】
上記のようにして得られた非磁性層用塗料、磁性層用塗料およびバックコート層用塗料を用いて、下記の要領で磁気記録媒体のサンプルを作製した。
＜塗布工程＞
６．２μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体の一方の面上に、カレンダー加工後の厚みが２．０μｍになるように、非磁性層をノズルで塗布して、乾燥させた。その後、プラスチックロールと金属ロールとの組合わせで、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１５０ｍ／分の条件でカレンダー加工を行い、さらに、４．５Ｍｒａｄで電子線照射を行って、非磁性層を形成した。
【００５５】
上記のようにして形成された非磁性層上に、カレンダー加工後の厚みが０．１５μｍになるように、磁性層をノズルで塗布して、配向、乾燥させた。その後、プラスチックロールと金属ロールとの組合わせで、ニップ数６回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１５０ｍ／分の条件でカレンダー加工を行い、磁性層を形成した。
【００５６】
次いで、ＰＥＴ支持体の、非磁性層および磁性層とは反対側の面上に、カレンダー加工後の厚みが０．７μｍになるように、バックコート層をノズルで塗布して、乾燥させた。その後、プラスチックロールと金属ロールとの組合わせで、ニップ数４回、加工温度８０℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１５０ｍ／分の条件でカレンダー加工を行って、バックコート層を形成した。
【００５７】
上記のようにして作製した磁気記録媒体原反を、６０℃で４８時間、熱硬化させた。硬化後の磁気記録媒体原反を１／２幅に切断し、切断後の磁気記録媒体の磁性層表面をブレードにより研磨して（ブレード研磨）、実施例１の磁気テープサンプルを得た。ブレード研磨の研磨条件は以下の通りである（実施例２を除き、以下の実施例および比較例において同様）。
＜ブレード研磨の研磨条件＞
リールハブに巻き回された磁気記録媒体をガイドロールに沿って走行させ、別のリールハブに巻き直しする際に、走行する磁気記録媒体表面にブレード（材質：サファイア、形状：三角柱）を押し込み量（突き出し量）１ｍｍにて押し当てて、表面を研磨した。
【００５８】
実施例２
ブレード研磨の研磨条件として、ブレードの押し込み量を０．５ｍｍとした以外は実施例１と同様にして、実施例２の磁気テープサンプルを得た。
【００５９】
実施例３
硬化後の磁気記録媒体原反の１／２幅切断時に、研磨テープにより磁性層表面を研磨し（切断ラッピング）、その後さらに、ブレード研磨を行った以外は実施例１と同様にして、実施例３の磁気テープサンプルを得た。切断ラッピングの研磨条件は以下の通りである（以下の実施例および比較例において同様）。
＜切断ラッピングによる研磨条件＞
磁気記録媒体を切断してからリールハブに巻き取る間に、送り量１００ｍｍ／ｍｉｎにて一定方向に走行させた研磨テープ（材質：酸化アルミニウム、８０００メッシュ、商品名：ＷＡ＃８０００、（株）フジミインコーポレイテッド製）を、押し込み量（突き出し量）２５ｍｍにて磁気記録媒体表面に押し当てて、研磨を行った。
【００６０】
実施例４
硬化後の磁気記録媒体原反の１／２幅切断時に、実施例３と同様の研磨条件にて、研磨テープにより磁性層表面を研磨し、その後のブレード研磨を行わなかった以外は実施例１と同様にして、実施例４の磁気テープサンプルを得た。
【００６１】
実施例５〜８
磁性層組成における研磨材の添加量を下記表１中に示すように変え、さらに、硬化後の磁気記録媒体原反の研磨条件を、同表１中に示すように変えた以外は実施例１と同様にして、実施例５〜８の磁気テープサンプルを得た。
【００６２】
比較例１
磁性層組成における研磨材の添加量を下記表１中に示すように変え、さらに、硬化後の磁気記録媒体原反の研磨を行わなかった以外は実施例１と同様にして、比較例１の磁気テープサンプルを得た。
【００６３】
実施例９
研磨材の添加量を下記表１中に示すように変えて作製した磁性層用塗料を、非磁性層の塗布後、乾燥前に非磁性層上に塗布し、さらに、硬化後の磁気記録媒体原反の研磨条件を、同表１中に示すように変えた以外は実施例１と同様にして、実施例９の磁気テープサンプルを得た。
【００６４】
実施例１０
磁性層用塗料作製時のピンミルにおける分散周速を下記表１中に示すように変えた以外は実施例３と同様にして、実施例１０の磁気テープサンプルを得た。
【００６５】
実施例１１
磁性層用塗料作製時のピンミルにおける分散メディア（ジルコニアビーズ）径を下記表１中に示すように変えた以外は実施例１０と同様にして、実施例１１の磁気テープサンプルを得た。
【００６６】
比較例２
磁性層用塗料作製時のピンミルにおける分散メディア（ジルコニアビーズ）径および分散周速を下記表１中に示すように変えた以外は実施例１０と同様にして、比較例２の磁気テープサンプルを得た。
【００６７】
＜ＡＦＭによる研磨材平均高さ測定＞
実施例および比較例の磁気テープサンプルにつき、ＡＦＭとＳＥＭを用いて、研磨材の平均突出高さを測定した。ＡＦＭとしては、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ社製  Ａｕｔｏ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍ５を用い、下記の走査条件にて測定を行った。また、ＳＥＭとしては日本電子データム（株）製  ＪＥＯＬ  ＪＳＭ−６３４０Ｆを用いた。
分析回数；Ｎ＝３
探針；シリコン単結晶プローブ（曲率半径２ｎｍ、ナノセンサーズ社製）
走査モード；ノンコンタクトモード
走査面積（ｓｃａｎ  ａｒｅａ）；３×３μｍ
（「平面の面積ｑ」に対応する）
画素数；１２８×１２８データポイント
走査速度（ｓｃａｎ  ｒａｔｅ）；０．６Ｈｚ
測定環境；室温、大気中
イメージデータの傾き、湾曲補正；イメージ全体のデータに対して、縦横両方向の傾き補正を行った（２Ｄ補正）。（手順（入力コマンド）：Ｐｒｏｃｅｓｓ／Ｌｅｖｅｌｉｎｇ／Ａｕｔｏ  Ｌｅｖｅｌｉｎｇ／２Ｄ）
【００６８】
具体的な手順としては、まず、各磁気記録媒体サンプルの磁性層上の任意の部位につき、ＡＦＭとおよびＳＥＭにて夫々１回のスキャンを行い、得られたＡＦＭ像とＳＥＭ像との対比より、研磨材の存在箇所を特定した。その後、ＡＦＭで当該磁性層表面の断面形状を磁気記録媒体の幅方向にて得て、この断面上において、基準となる磁性層表面からの研磨材の突出高さを、計３点の研磨材につき求めた。この際の基準となる磁性層表面は、ＡＦＭ測定より得られた磁性層における高さ−磁性層占有率曲線から、その変曲点を示す高さに対応する水平面に定めた。
【００６９】
上記手順を各磁気記録媒体サンプルの他２箇所の部位につき繰り返して、夫々３箇所の部位ごとに３点の研磨材、即ち、計９点の研磨材の突出高さの測定値を得た。この測定値を平均することにより、平均突出高さを求めた。なお、上記各測定値のデータ処理には、データ処理アプリケーションとして、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ社製  ＳＰＭＬａｂ  ＮＴ  Ｖｅｒ．５０１ｂ１１を用いた。
【００７０】
＜摩耗量測定方法＞
各磁気テープサンプルのセンダスト摩耗量を、図２（イ）に示す装置にて測定した。図示する装置には、長さ２５ｍｍ、断面６．０ｍｍ平方のセンダストバー（トーキン（株）製  Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、商品名：ブロック、材質：ＳＤ−５）が、角部が鉛直方向を向くよう固定具１２により装置本体１３に固定されている。なお、測定においては、センダストバー１１として、角部に摩耗がなく、１μｍ以上のチップや欠けがないものを用いた。
【００７１】
このセンダストバー１１の角部に対し、片側のテープラップθを１２°として、テープ張力１．０Ｎにて各サンプルテープを押し当てた状態でテープを走行させ、図２（ロ）に示すように、走行後のセンダストバー１１の摩耗パターン（幅）により摩耗量を評価した。各サンプルテープ長は５８０ｍとし、テープ速度３．０ｍ／ｓにて１００パス（５０サイクル）の走行を行った。摩耗パターンの測定は、図２（ロ）に示すテープ幅方向１／４、１／２、３／４の計３点において行い、これらの平均値より、各サンプルテープの摩耗量を得た。
【００７２】
＜耐久性評価方法＞
４５℃  ２０％の環境下において、Ｕｌｔｒｉｕｍｌ用、Ｓｅａｇａｔｅ製  Ｖｉｐｅｒ２００を用いて評価を行った。評価の手順としては、１００Ｍｂｙｔｅの記録後に、先頭より２０ＭＢ送った位置で３０ＭＢ分を９９往復させ、先頭に巻き戻して１００ＭＢを１回再生する読み込みサイクルを２５０サイクル行い、そのときのＣ１エラーレートを測定した。
測定：１００ＭＢ書き込み＆巻き戻し→（２０ＭＢ送り→（３０ＭＢ×９９往復）→１００ＭＢ読み込み＆巻き戻し）×２５０サイクル
判断基準は、以下のとおりである。
◎：エラーレートの変化もなく、２５０サイクル走行。
○：若干のエラーレートの増加が見られるが２５０サイクル走行。
×：エラー上昇により２５０サイクル走行せずに停止。
これらの結果を下記表１中および図１に示す。
【００７３】
【表１】
2004326863.tif 000002
【００７４】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、いかなる材料や分散方法、塗布方式その他の製造手法に対しても、研磨能を適切にコントロールすることができ、これにより、ＭＲヘッドに十分対応し得る高耐久性および高信頼性を備えた磁気記録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例における研磨材平均高さと摩耗量との関係を示すグラフである。
【図２】（イ）はセンダスト摩耗量の測定装置を示す断面図であり、（ロ）はセンダストバーの摩耗量の評価方法を示す説明図である。
【図３】基準となる磁性層表面の規定方法に係る、非磁性支持体表面からの高さを横軸に、これに対応する磁性層占有率を縦軸に取ったグラフである。
【符号の説明】
１１  センダストバー
１２  固定具
１３  装置本体
【図１】
2004326863.tif 000003
【図２】
2004326863.tif 000004
【図３】
2004326863.tif 000005