(57)【要約】【課題】感度、耐刷性、汚し回復及び網点再現性に優れた感光性平版印刷版を提供する。【解決手段】支持体上に、光重合性感光層を有する感光性平版印刷版において、下記一般式（１）で表される化合物と、吸収極大波長が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍである増感色素化合物とを含有することを特徴とする感光性平版印刷版。【化１】2004086178.tif 000037【選択図】　　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、光重合性感光層を有する感光性平版印刷版において、
下記一般式（１）で表される化合物と、吸収極大波長が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍである増感色素化合物とを含有することを特徴とする感光性平版印刷版。
【化１】
2004086178.tif 000028
〔式中、Ｑ１は、
【化２】
2004086178.tif 000029
または−Ｓ−を表し、Ｒ４は、アルキル基、ヒドロキシアルキル基または、アリール基を表し、Ｒ１及びＲ２は、各々水素原子、アルキル基または、アルコキシアルキル基を表し、Ｒ３は、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、Ｘ１は２〜１２個の炭素原子を有する２価の基を表し、Ｘ２は２価の基〜４価の基または、
【化３】
2004086178.tif 000030
を表し、Ｚは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシル基、複素環基を表し、ｐは１〜４の整数、ｑは１〜３の整数を表す。Ｄ１及びＤ２は、各々１〜５個の炭素原子を有する２価の基を表し、Ｅは、２〜１２個の炭素原子を有する２価の基、５員環〜７員環であり、且つ、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる１種または２種の原子を含む複素環を有する脂肪族基、６〜１２個の炭素原子を有するアリーレン基、または、５員環または６員環を有する芳香族複素環基を表し、ａは０または１〜４の整数を表し、ｂは０または１を表し、ｃは１〜３の整数を表し、ｍはＱ１の原子価により２〜４の整数を表し、ｎは１〜ｍの整数を表す。〕
【請求項２】
増感色素化合物が下記一般式（２）〜（６）で表される化合物群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の感光性平版印刷版。
【化４】
2004086178.tif 000031
〔式中、Ｒ４は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または、複素環基を表す。Ｒ５、Ｒ６は、各々連結して環を形成しうる置換基を表す。Ｘ１、Ｘ２は、各々独立に、−ＣＲ７Ｒ８−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ９−を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または、複素環基を表す。〕
【化５】
2004086178.tif 000032
〔式中、Ａは、芳香族炭化水素環、芳香族複素環または複素環をあらわし、Ｘは、酸素原子、硫黄原子または、−Ｎ（Ｒ３）−をあらわす。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、各々独立に、水素原子または、置換基を表し、ＡとＲ１及びＲ２とＲ３は、各々互いに、結合して、炭化水素環、芳香族炭化水素環または、芳香族複素環を形成できる。〕
【化６】
2004086178.tif 000033
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、各々独立に水素原子または、置換基を表す。但し、Ｒ１およびＲ３のうちの少なくとも一つは、下記部分構造式に示す有機残基で表される。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、各々独立に、結合して炭化水素環、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を形成することができる。〕
【化７】
2004086178.tif 000034
〔式中、Ｒ１０は、水素原子または、置換基を表し、Ｚは隣接する原子と共同して、５員環酸性核を形成するのに必要な２価の非金属原子団を表す。また、Ｒ１０は前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８またはＲ９と炭化水素環または、芳香族環を形成することができる。〕
【化８】
2004086178.tif 000035
〔式中、Ｘ１〜Ｘ５は、各々独立に置換基を表し、Ｚはアリール基、または、芳香族複素環基を表す。〕
【化９】
2004086178.tif 000036
〔式中、Ｒ１〜Ｒ６は、各々独立に水素原子または置換基を表す。〕
【請求項３】
光重合性感光層上に、直接またはその他の層を介して、４１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲において吸光度が０．２〜３．０である着色層を有することを特徴とする請求項１または２に記載の感光性平版印刷版。
【請求項４】
光重合性感光層上に、直接またはその他の層を介して、少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有するオーバーコート層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版。
【請求項５】
光重合性感光層上に、直接またはその他の層を介して、少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有するオーバーコート層を有し、且つ、該オーバーコート層上に、直接またはその他の層を介して、４１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲において吸光度が０．２〜３．０である着色層を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は感光性平版印刷版に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、平版印刷版では画像露光後、露光部分を硬化させ、未露光部分を溶解除去後、水洗処理、フィニッシャーガム処理を行い、平版印刷版を得ている。近年、高い解像力と鮮鋭性を得るため、画像情報に基づいてレーザ光によるデジタル露光を行った後、現像処理して平版印刷版を作製する方法が検討されている。その一例を挙げると、通信回線により伝送される画像信号や電子製版システム、画像処理システム等からの出力信号により露光光源を変調し、感光材料に直接走査露光を行って平版印刷版を作製するシステムである。
【０００３】
しかし、従来型のジアゾ樹脂を用いる平版印刷版用材料では、デジタル露光によるレーザ光の発振波長に併せた分光増感法及び高感度化が困難であるという問題を抱えていた。
【０００４】
近年、光重合開始剤を含有する光重合性の感光層を有した平版印刷版用材料が、レーザ光に適した高感度化が可能のためレーザ光によるデジタル露光向けに注目されてきている。このレーザ光源でデジタルデータを記録するＣＴＰ用の版材に対しては、記録を短時間で行う目的から、より高感度であることが求められている。
【０００５】
光重合開始剤を含有する光重合性の感光層を有した平版印刷版用材料においては、用いる光重合開始剤としては、露光により、イメージワイズにラジカルが発生すること、また、そのラジカルを開始種としてラジカル連鎖重合が起きることから高感度での画像記録に適しているといわれている。
【０００６】
上記課題に対し、光重合組成物をＣＴＰ用のレーザ光源に適応させるためには、使用するレーザ光源の発振波長に対応する分光感度を有する分光増感色素と、分光増感色素からのエネルギー移動または、電子移動によって分解して、ラジカルを発生するラジカル発生剤とを組み合わせて使用する技術が知られており、既に実用化されている。
【０００７】
近年、これらの光重合開始剤や分光増感色素からなる光重合性組成物と、光源としてＡｒレーザ（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザ（５３２ｎｍ）のような長波長の可視光源を用いた、いわゆる、フォトポリマーＣＴＰ（コンピューター・トゥー・プレート）システムが市場に広がりを見せている。これらのＣＴＰの問題点は、赤色灯下での取り扱いが求められ、作業上まだ暗室下での取り扱いに近いことである（例えば、特許文献１、２参照）。
【０００８】
そこで、上記のＡｒレーザ（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザ（５３２ｎｍ）に代わり４００ｎｍ付近の発光波長を有するレーザを搭載したプレートセッターが市場に出回り始めている。前記プレートセッターは、赤色灯下ではなくより明るい黄色灯下での取り扱いが出来るため、より明るいセーフライト下での作業を可能とし、且つ、短波長のためポリゴンミラーの光学系をコンパクトにできることから高速化をも同時に実現可能となるというメリットがある。
【０００９】
しかしながら、従来公知の長波長の可視光源を用いるレーザパワーは、例えばＦＤ−ＹＡＧ（５３２ｎｍ）では１５０ｍＷ〜２５０ｍＷと大きなパワーが得られるのに対して、４００ｎｍ付近のレーザパワーは５ｍＷ〜３０ｍＷと光源の出力が十分高くないことや、更に平版印刷版材料の感度が十分高くないため、その目的を充分に達成できていないのが現状である。
【００１０】
【特許文献１】
特開２００３−６６５９２号公報
【００１１】
【特許文献２】
特開２００３−６６５９３号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、感度、セーフライト性、耐刷性、汚し回復及び網点再現性に優れた感光性平版印刷版を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記の構成１〜５によって達成された。
【００１４】
１．支持体上に、光重合性感光層を有する感光性平版印刷版において、
前記一般式（１）で表される化合物と、吸収極大波長が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍである増感色素化合物とを含有することを特徴とする感光性平版印刷版。
【００１５】
２．増感色素化合物が前記一般式（２）〜（６）で表される化合物群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする前記１に記載の感光性平版印刷版。
【００１６】
３．光重合性感光層上に、直接またはその他の層を介して、４１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲において吸光度が０．２〜３．０である着色層を有することを特徴とする前記１または２に記載の感光性平版印刷版。
【００１７】
４．光重合性感光層上に、直接またはその他の層を介して、少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有するオーバーコート層を有することを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版。
【００１８】
５．光重合性感光層上に、直接またはその他の層を介して、少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有するオーバーコート層を有し、且つ、該オーバーコート層上に、直接またはその他の層を介して、４１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲において吸光度が０．２〜３．０である着色層を有することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版。
【００１９】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明者等は、上記記載の問題点を種々検討した結果、請求項１に記載のように、親水性表面を有する支持体上に、光重合性感光層を有する感光性平版印刷版に前記一般式（１）で表される化合物と、吸収極大波長が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍである増感色素化合物とを含有させることにより、本発明に記載の効果、即ち、感度、耐刷性、汚し回復及び網点再現性に優れた感光性平版印刷版を得られることを見出した。
【００２０】
《一般式（１）で表される化合物》
本発明に係る一般式（１）で表される化合物は、具体的には、光重合性を有する化合物である。以下、更に詳細に説明する。
【００２１】
一般式（１）において、Ｒ４で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ドコサデシル基等が挙げられる。
【００２２】
一般式（１）において、Ｒ４で表されるヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシペンチル基等が挙げられる。
【００２３】
一般式（１）において、Ｒ４で表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００２４】
一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基は、前記Ｒ４で表されるアルキル基と同義である。
【００２５】
一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２で表されるアルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、プロポキシエチル基等が挙げられる。
【００２６】
一般式（１）において、Ｘ１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基としては、例えば、２価の飽和炭化水素基を有する基、２価の不飽和炭化水素基を有する基、２価の芳香族基を有する基、２価の複素環基を有する基等が挙げられるが、中でも好ましいのは、２価の不飽和炭化水素基を有する基、２価の芳香族基を有する基、２価の複素環基を有する基である。
【００２７】
一般式（１）において、２価の飽和炭化水素基を有する基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、２，２，４−トリメチルヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、シクロヘキシレン基（例えば、１，６−シクロヘキサンジイル基等）、シクロペンチレン基（例えば、１，５−シクロペンタンジイル基など）等が挙げられる。
【００２８】
一般式（１）において、２価の不飽和炭化水素基を有する基としては、上記の２価の飽和炭化水素基を有する基を構成する少なくとも二つの炭素原子を結びつける結合の一つが、２重結合、３重結合等の不飽和結合で置き換えられることにより形成される基を表す。例えば、プロペニレン基、ビニレン基（エチニレン基ともいう）、４−プロピル−２−ペンテニレン基等が挙げられる。
【００２９】
一般式（１）において、Ｘ１で表される２価の芳香族基を有する基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、ピリジンジイル基、ピロールジイル基、チオフェンジイル基、フランジイル基等が挙げられる。
【００３０】
一般式（１）において、Ｘ１で表される２価の複素環基を有する基としては、例えば、オキサゾールジイル基、ピリミジンジイル基、ピリダジンジイル基、ピランジイル基、ピロリンジイル基、イミダゾリンジイル基、イミダゾリジンジイル基、ピラゾリジンジイル基、ピラゾリンジイル基、ピペリジンジイル基、ピペラジンジイル基、モルホリンジイル基、キヌクリジンジイル基等が挙げられる。
【００３１】
一般式（１）において、Ｘ２で表される２価の基は、前記Ｘ１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基として挙げられる、２価の飽和炭化水素基、２価の不飽和炭化水素基、２価の芳香族基、２価の複素環基等を用いることができるが、更に、前記飽和炭化水素基の中で、５個までのメチレン基が酸素原子によって置換されたものも用いることが出来る。
【００３２】
一般式（１）において、Ｘ２で表される３価の基は、上記のＸ１で表される２価の基に更にひとつ結合基がついたものであり、例えば、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ウンデカントリイル基、ドデカントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロペンタントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基等が挙げられる。
【００３３】
一般式（１）において、Ｘ２で表される４価の基は、上記のＸ２で表される３価の基に更にひとつ結合基がついたものであり、例えば、プロパンジイリデン基、１，３−プロパンジイル−２−イリデン基、ブタンジイリデン基、ペンタンジイリデン基、ヘキサンジイリデン基、ヘプタンジイリデン基、オクタンジイリデン基、ノナンジイリデン基、デカンジイリデン基、ウンデカンジイリデン基、ドデカンジイリデン基、シクロヘキサンジイリデン基、シクロペンタンジイリデン基、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基等が挙げられる。
【００３４】
一般式（１）のＸ２において、Ｚで表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
【００３５】
一般式（１）のＸ２において、Ｚで表されるアルケニル基としては、例えば、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基等が挙げられる。
【００３６】
一般式（１）のＸ２において、Ｚで表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００３７】
一般式（１）のＸ２において、Ｚで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。
【００３８】
一般式（１）のＸ２において、Ｚで表されるアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【００３９】
一般式（１）のＸ２において、Ｚで表される複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピロリル基、２−メチルピロリル基、インドリル基、イミダゾリル基、フリル基、チアゾリル基、ピリミジニル基等が挙げられる。
【００４０】
一般式（１）において、Ｄ１及びＤ２で表される、１〜５個の炭素原子を有する２価の基としては、メチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、シクロペンチレン基等が挙げられる。
【００４１】
一般式（１）において、Ｅで表される、２〜１２個の炭素原子を有する２価の基は、Ｘ１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基と同義である。
【００４２】
一般式（１）において、Ｅで表される、５員環〜７員環であり、且つ、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる２つまでの原子を含む複素環を置換基として有する脂肪族基を構成する複素環としては、例えば、ピリジン環、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラン環、チオフェン環、イソオキサゾール環、ピロリン環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、キヌクリジン環等が挙げられる。
【００４３】
前記の脂肪族基としては、上記記載の複素環を有する炭素数２〜１２の２価の基が挙げられ、前記２価の基は、Ｘ１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基と同義である。
【００４４】
一般式（１）において、Ｅで表される、６〜１２個の炭素原子を有するアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
【００４５】
一般式（１）において、Ｅで表される５員環または６員環を有する芳香族複素環基を構成する芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ｓ−トリアジン環、ベンゾフラン環、インドール環、ベンゾチオフェン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、プリン環、キノリン環及びイソキノリン環等が挙げられる。
【００４６】
ここで、上記記載の一般式（１）で表される各々の置換基は、更に置換基を有していてもよい。
【００４７】
本発明に係る一般式（１）で表される化合物の含有量は、光重合性感光層中の不揮発成分の３０質量％〜７０質量％が好ましく、４０質量％〜６０質量％がより好ましい。また、一般式（１）で表される化合物は、当該業者周知の方法、例えば、特許第２５０９２８８号、特開昭６０−１５８４３９号公報等に記載の方法を参照して合成できる。
【００４８】
以下、一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００４９】
【化１０】
2004086178.tif 000002
【００５０】
【化１１】
2004086178.tif 000003
【００５１】
【化１２】
2004086178.tif 000004
【００５２】
【化１３】
2004086178.tif 000005
【００５３】
【化１４】
2004086178.tif 000006
【００５４】
【化１５】
2004086178.tif 000007
【００５５】
【化１６】
2004086178.tif 000008
【００５６】
《増感色素化合物》
本発明に係る増感色素化合物は、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍに吸収極大を有するが、本発明では、上記記載の一般式（２）〜（６）で表される化合物が好ましく用いられるが、中でも好ましく用いられるのは、一般式（６）で表される化合物である。
【００５７】
一般式（２）で表される化合物について説明する。
一般式（２）において、Ｒ４で表されるアルキル基は、一般式（１）において、Ｒ４で表されるアルキル基と同義である。
【００５８】
一般式（２）において、Ｒ４で表されるアルケニル基としては、例えば、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基等が挙げられる。
【００５９】
一般式（２）において、Ｒ４で表されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００６０】
一般式（２）において、Ｒ４で表される複素環基としては、例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等が挙げられる。
【００６１】
一般式（２）において、Ｒ５、Ｒ６は、前記Ｒ４と同義であるが、連結して形成される環としては、炭化水素環、複素環等が挙げられる。炭化水素環としては、シクロヘキサン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロオクタン環、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
【００６２】
複素環としては、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ｓ−トリアジン環、ベンゾフラン環、インドール環、ベンゾチオフェン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環等が挙げられる。
【００６３】
上記の炭素環、複素環は更に置換基を有してもよい。
一般式（２）において、Ｘ１、Ｘ２は、各々独立に、−ＣＲ７Ｒ８−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ９−を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または、複素環基を表すが、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基、前記アリール基、前記複素環基は、一般式（２）において、Ｒ４で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基と各々同義である。
【００６４】
以下、一般式（２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００６５】
【化１７】
2004086178.tif 000009
【００６６】
一般式（３）で表される化合物について説明する。
一般式（３）において、Ａで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、フルオレン環、フェナレン環、アントラセン環等が挙げられる。
【００６７】
一般式（３）において、Ａで表される芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ｓ−トリアジン環、ベンゾフラン環、インドール環、ベンゾチオフェン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、プリン環、キノリン環及びイソキノリン環等が挙げられる。
【００６８】
一般式（３）において、Ａで表される複素環基としては、例えば、モルホリニル基、ピラゾリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、インドリニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、チエニル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドリル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、インドリジニル基、ピラジニル基等が挙げられる。
【００６９】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表される置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環残基、アルコキシル基、アルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【００７０】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表されるアルキル基は、上記一般式（１）におけるＲ４で表されるアルキル基と同義である。
【００７１】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表されるアルケニル基は、一般式（２）において、Ｒ４で表されるアルケニル基と同義である。
【００７２】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表されるアリール基は、一般式（２）において、Ｒ４で表されるアリール基と同義である。
【００７３】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表される芳香族複素環基は、フリル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基等が挙げられる。
【００７４】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表されるアルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
【００７５】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表されるアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基等が挙げられる。
【００７６】
一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。
【００７７】
以下、一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００７８】
【化１８】
2004086178.tif 000010
【００７９】
【化１９】
2004086178.tif 000011
【００８０】
【化２０】
2004086178.tif 000012
【００８１】
一般式（４）で表される化合物について説明する。
一般式（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９で各々表される置換基としては、上記一般式（３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３で、各々表される置換基と同義である。
【００８２】
一般式（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９が、各々独立に、結合して形成可能な炭化水素環としては、シクロヘキサン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロオクタン環、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
【００８３】
一般式（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９で各々表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、フルオレン環、フェナレン環、アントラセン環等が挙げられる。
【００８４】
一般式（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９で各々表される芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ｓ−トリアジン環、ベンゾフラン環、インドール環、ベンゾチオフェン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、プリン環、キノリン環及びイソキノリン環等が挙げられる。
【００８５】
一般式（４）において、前記部分構造式（１）で表される有機残基中の置換基Ｒ１０は、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９と、各々独立に、結合して炭化水素環、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を形成することができるが、ここで、前記炭化水素環、芳香族炭化水素環、芳香族複素環は、一般式（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９で表されるものと同義である。
【００８６】
前記部分構造式（１）において、Ｚは隣接する原子と共同して、５員環酸性核を形成するのに必要な非金属原子団を表すが、ここで、“酸性核”の定義は、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ，“Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　Ｔｈｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓｓ”　ｆｏｕｒｔｈ　ｅｄｉｔｉｏｎ　Ｍａｃｍｉｌｌａｎ　の第８章に記載されている。メロシアニンに代表される増感色素は、一般的に１）塩基性（電子供与性）および２）酸性（電子受容性）のヘテロ環を末端に有するが、１）塩基性（電子供与性）ヘテロ環を塩基性核、２）の酸性（電子受容性）ヘテロ環を酸性核と呼ぶ。酸性核、塩基性核の例は先述のＴ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ，“Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　Ｔｈｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓｓ”ｆｏｕｒｔｈ　ｅｄｉｔｉｏｎ　Ｍａｃｍｉｌｌａｎ　の第８章に多数記載されているものと同義である。
【００８７】
本発明に係る、酸性核の具体例としては、１，３−ジカルボニル核（例えば、１，３−インダンジオン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン等）、ピラゾリノン核（例えば、３−メチル−１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−（２−ベンゾチアゾリル）−３−メチル−２−ピラゾリン−５−オン等）、イソオキサゾリノン核（例えば、３−フェニル−２−イソオキサゾリン−５−オン、３−メチル−２−イソオキサゾリン−５−オン等）、オキシインドール核（例えば、１−アルキル−２，３−ジヒドロ−２−オキシインドール等）、２−チオ−２，４−チアゾリジンジオン核（例えば、ローダニンおよびそのＮ置換誘導体、例えば、３−メチルローダニン、３−エチルローダニン、３−フェニルローダニン、３−アリルローダニン、３−ベンジルローダニン、３−カルボキシメチルローダニン、３−カルボキシエチルローダニン、３−メトキシカルボニルメチルローダニン、３−ヒドロキシエチルローダニン、３−モルフォリノエチルローダニン等）、２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン核（即ち、２−チオ−２，４−（３Ｈ，４Ｈ）−オキサゾールジオン核、例えば、２−エチル−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン等）、チアナフテノン核（例えば、３（２Ｈ）−チアナフテノン、３（２Ｈ）−チアノフテノン−１，１−ジオキサイド等）、２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン核（例えば、３−エチル−２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン等）、２，４−チアゾリジンジオン核（例えば、２，４−チアゾリジンジオン、３−エチル−４−チアゾリジンジオン、３−フェニル−２，４−チアゾリジンジオン等）、チアゾリジノン核（例えば、４−チアゾリジノン、３−エチル−４−チアゾリジノン、２−エチルメルカプト−４−チアゾリジノン、２−メチルフェニルアミノ−４−チアゾリジノン等）、２−イミノ−２−オキサゾリン−４−オン核（即ち、擬ヒダントイン核）、２，４−イミダゾリジンジオン核（即ち、ヒダントイン核、例えば、２，４−イミダゾリジンジオン、３−エチル−２，４−イミダゾリジンジオン、１，３−ジエチル−２，４−イミダゾリジンジオン等）、２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン核（即ち、チオヒダントイン核、例えば、２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン、３−エチル−２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン、１，３−ジエチル−２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン等）、イミダゾリン−５−オン核（例えば、２−プロピルメルカプト−２−イミダゾリン−５−オン等）、フラン−５−オン核、チオインドキシル核（例えば、５−メチルチオインドキシル等）が挙げられ、これらの酸性核はさらに置換基を有してもよい。
【００８８】
以下、一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００８９】
【化２１】
2004086178.tif 000013
【００９０】
【化２２】
2004086178.tif 000014
【００９１】
【化２３】
2004086178.tif 000015
【００９２】
一般式（５）で表される化合物について説明する。
一般式（５）において、Ｘ１〜Ｘ５で、各々表される置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環残基、アルコキシル基、アルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子等が挙げられるが、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基、前記アリール基、前記芳香族複素環基、前記アルコキシル基、前記アルキルチオ基、前記ハロゲン原子等は、各々、一般式（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９で表されるものと同義である。
【００９３】
以下、一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００９４】
【化２４】
2004086178.tif 000016
【００９５】
【化２５】
2004086178.tif 000017
【００９６】
【化２６】
2004086178.tif 000018
【００９７】
【化２７】
2004086178.tif 000019
【００９８】
本発明に係る下記一般式（２）〜（５）で、各々表される増感色素化合物は、当業者においては、従来公知の方法に準じて合成して得ることができ、また、特開２０００−２０６６９０、同２００１−４２５２４、同２００１−１００４１２等に記載の方法を参照することによっても合成することができる。
【００９９】
本発明に係る一般式（２）〜（５）で各々表される増感色素化合物の添加方法としては、水または、有機溶媒等の適当な溶媒を選択し、それらに溶解して添加することができ、有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することができる。
【０１００】
本発明に係る一般式（２）〜一般式（５）で各々表される増感色素化合物の添加量としては、溶媒を除く光重合性感光層中の組成物１００質量部に対し、０．１質量部〜１０質量部の範囲が好ましく、更に好ましくは、０．５質量部〜５質量部の範囲である。
【０１０１】
一般式（６）で表される化合物について説明する。
一般式（６）において、Ｒ１〜Ｒ６で表される置換基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシル基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシル基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
【０１０２】
これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１０３】
中でも、特に好ましいのは、Ｒ５にアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基を有するクマリンである。この場合、アミノ基に置換したアルキル基が、Ｒ４、Ｒ６の置換基と環を形成しているものも好ましく用いることができる。
【０１０４】
更に、本発明では、Ｒ１、Ｒ２のいずれか、あるいは両方が、上記Ｒ１〜Ｒ６で表される置換基であることが好ましい。
【０１０５】
以下、一般式（６）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１０６】
【化２８】
2004086178.tif 000020
【０１０７】
【化２９】
2004086178.tif 000021
【０１０８】
上記具体例の他に、特開平８−１２９２５８号公報のＢ−１〜Ｂ−２２のクマリン誘導体、特開２００３−２１９０１号公報のＤ−１〜Ｄ−３２のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０６号公報の１〜２１のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０７号公報の１〜４０のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０８号公報の１〜３４のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０９号公報の１〜５６のクマリン誘導体等も好ましく使用可能である。
【０１０９】
本発明に係る増感色素化合物として使用される、上記一般式（６）で表される化合物の、光重合性感光層中への添加量は、記録光源波長における、版面の反射濃度が、０．１〜１．２の範囲となる量であることが好ましい。この範囲となる、該色素の感光層中における質量比率は、各色素の分子吸光係数と、光重合性感光層中における結晶性の程度により、大幅に異なるが、一般的には、０．５質量パーセント〜１０質量パーセントの範囲であることが多い。
【０１１０】
一般式（６）で表される化合物の吸収極大の測定は、ＨＩＴＡＣＨＩ社製、Ｓｐｅｃｔｒｏ　ｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ　Ｕ−３３００を用いて測定した。測定スピードは６００ｎｍ／分に調整し、化合物はメタノールに溶解し、吸光度が０．４以上３．０以下になるよう濃度を調製した。メタノールに溶解しづらく吸光度が０．４未満の化合物については適宜、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）等の溶剤を加えて測定した。
【０１１１】
一般式（６）で表される化合物の具体例である、化合物６−１〜６−２４の各々の極大吸収波長λｍａｘ（ｎｍ）を下記に示す。
【０１１２】
化合物Ｎｏ．　　　　　　　λｍａｘ（ｎｍ）
６−１　　　　　　　　　　　４０８
６−２　　　　　　　　　　　４１７
６−３　　　　　　　　　　　４０９
６−４　　　　　　　　　　　４００
６−５　　　　　　　　　　　４２６
６−６　　　　　　　　　　　４０５
６−７　　　　　　　　　　　４１９
６−８　　　　　　　　　　　３９５
６−９　　　　　　　　　　　３９７
６−１０　　　　　　　　　　４２５
６−１１　　　　　　　　　　３９４
６−１２　　　　　　　　　　４２０
６−１３　　　　　　　　　　４３６
６−１４　　　　　　　　　　４２５
６−１５　　　　　　　　　　４３４
６−１６　　　　　　　　　　４００
６−１７　　　　　　　　　　４２５
６−１８　　　　　　　　　　４１９
６−１９　　　　　　　　　　４２９
６−２０　　　　　　　　　　３７０
６−２１　　　　　　　　　　４１５
６−２２　　　　　　　　　　４１２
６−２３　　　　　　　　　　４２９
６−２４　　　　　　　　　　４１９
《着色層》
本発明に係る着色層について説明する。
【０１１３】
本発明の感光性平版印刷版の作製にあたっては、従来のように実質的に暗室に近い赤色灯下ではなく、格段に明るい黄色灯下での作業を行うことができる。
【０１１４】
しかしながら、厳密には黄色蛍光灯の発光スペクトルは、４７０ｎｍ付近まで観測されるため、黄色蛍光灯によって感光し、いわゆる光カブリを効果的に防止する観点から、光重合性感光層上に直接または、その他の層を介して、着色層を設けることが好ましい。
【０１１５】
本発明の感光性平版印刷版に高感度を付与しながら、良好な熱安定性を示し、且つ、セーフライト性をも同時に向上させるという観点から、本発明に係る着色層は、請求項３に記載のように、４１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲において吸光度が０．２〜３．０であるように調整されることが好ましく、更に好ましくは、０．４〜２．０の範囲であり、特に好ましくは、０．５〜１．５の範囲である。
【０１１６】
（着色層の吸光度の調整及び測定）
ここで、本発明に係る着色層の吸光度の調整及び測定は、装置として、分光光度計Ｕ−３３００（日立社製）を用い、透明な１００μｍのペットベースに着色層を塗布し、同時並行で、前記着色層構成成分の中から、染料のみを除去した層を塗布し、両者の吸光度の差から着色層の吸光度を求めた。
【０１１７】
（着色層中の着色剤の含有量）
本発明に係る着色層中の着色剤の含有量としては、５ｍｇ／ｍ２〜５００ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましく、更に好ましくは、１０ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２の範囲である。
【０１１８】
（着色剤）
本発明に係る着色層に用いられる着色剤としては、染料または顔料が使用可能であるが、特に、以下に挙げる水溶性染料を単独または、組合せて使用するのが好ましい。
【０１１９】
水溶性染料（水溶性の染料ともいう）としては、カチオン染料、反応性染料、酸性染料、直接染料が挙げられる。更に具体的には、ナフトールグリーンＢ等のニトロソ染料；ナフトールイエローＳ、ポーラーイエローブラウン等のニトロ染料；ダイヤクロンスカーレットＲＮ、ダイヤミラレッドＢ、ダイヤミラブリリアントレッドＢＢ、ダイヤミラブリリアントバイオレット５Ｒ、ダイヤミラブリリアントレッドＧＧ、ダイヤミラブリリアントオレンジＦＲ、ダイヤミラブリリアントオレンジ３Ｒ、ダイアクリルブリリアントレッドＧＴＬ−Ｎ、ダイアクリルレッドＧＬ−Ｎ、ダイアクリルブリリアントレッドＧＲＬ−Ｎ、ビクトリアスカーレット３Ｒ、スルホンアシドブルーＲ、スプラミンレッドＧＧ、スプラミンレッドＢ、スプラミンブルーＲ、ポーラーレッドＧ、ポーラーオレンジＲ、メタクロームレッド５Ｇ、メタクロームブリリアントブルーＢＬ、スプラノールオレンジＲＲ、スプラノールブリリアントレッド等のアゾ染料；ダイアクリルレッドＣＳ−Ｎ、チアジンレッドＲ、シリウススカーレットＢ、チオフラビンＴ等のチアゾール染料；オーラミン等のジフェニルメタン染料；ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、クリスタルバイオレット、メチルバイオレット、エチルバイオレット、スピリットブルー、アシドバイオレット６Ｂ、マラカイトグリーン等のトリフェニルメタン染料；ピロニンＧ、ローダミンＳ、エオシンＧ、エオシンＹ、エリスロシン、ローズベンガルＢ、ローダミンＢ、ローダミン３ＧＯ等のキサンテン染料；アクリジンオレンジ２Ｇ、オイクリシン２ＧＮＸ等のアクリジン染料；ニュートラルバイオレット、ニュートラルレッド、アゾカーミンＧ、サフラニンＴ、ウールファーストブルーＢＬ、インドシアニンＢ等のアジン染料；メルドラズブルー、ニールブルーＡ、ガロシアニン等のオキサジン染料；シリウスライトブルーＦＦＲＬ、シリウスライトブルーＦ３ＧＬ等のジオキサジン染料；メチレンブルー、メチレングリーンＢ等のチアジン染料；ダイアシドライトブルーＢＲ、アリザリンダイレクトバイオレットＥＦＦ、スプラセンバイオレット４ＢＦ、アリザリンスカイブルーＢ、アリザリンシアニングリーンＧ、カーボラングリーンＧ、アリザリンサフイロールＢ、アリザリンシアニングリーン５Ｇ、アリザリンブリリアントピュアブルーＲ、ブリリアントアリザリンライトレッド４Ｂ、アリザリンウラノール２Ｂ等のアントラキノン染料；ヘリオゲンブルーＳＢＰ、ドラゾールフアーストブルー８ＧＳ等のフタロシアニン染料；ダイアクリルブリリアントレッド３ＧＮ、ダイアクリルブリリアントピンクＧＮ、ダイアクリルブリリアントピンクＲＮ、ダイアクリルブリリアントレッド６ＢＮ等のシアニン染料；キノリンイエロー、スプラライトイエローＧＧＬ等のキノリン染料等が使用可能である。
【０１２０】
また、その他、従来公知の着色剤として、例えば、改訂新版「顔料便覧」，日本顔料技術協会編（誠文堂新光社）、カラーインデックス便覧等に述べられているものも本発明に用いることができる。
【０１２１】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的には、無機顔料（二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等）及び有機顔料（アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等）が挙げられる。
【０１２２】
これらの中でも、使用する露光レーザに対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場合、使用するレーザ波長での積分球を用いた顔料の反射吸収が０．０５以下であることが好ましい。また、顔料の添加量としては、上記組成物の固形分に対し０．１質量％〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．２質量％〜５質量％である。
【０１２３】
露光光源として、アルゴンレーザ（４８８ｎｍ）またはＳＨＧ−ＹＡＧレーザ（５３２ｎｍ）を使用する場合には、上記の感光波長領域での顔料吸収及び現像後の可視画性の観点から、紫色顔料、青色顔料を用いるのが好ましい。このようなものとしては、例えばコバルトブルー、セルリアンブルー、アルカリブルーレーキ、フォナトーンブルー６Ｇ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブルーフアーストスカイブルー、インダンスレンブルー、インジコ、ジオキサンバイオレット、イソビオランスロンバイオレット、インダンスロンブルー、インダンスロンＢＣ等を挙げることができる。これらの中で、より好ましくはフタロシアニンブルー、ジオキサンバイオレットである。
【０１２４】
上記組成物は、本発明の性能を損わない範囲で、界面活性剤を塗布性改良剤として含有することができる。中でも好ましいのはフッ素系界面活性剤である。
【０１２５】
また、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は全固形分の１０％以下が好ましい。
【０１２６】
《オーバーコート層》
本発明の感光性平版印刷版は、黄色灯使用下での安全時間（セーフライト性）向上、感度向上の観点から、請求項５に記載のように、光重合性感光層上に、直接またはその他の層を介して、少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有するオーバーコート層を有し、且つ、該オーバーコート層上に、直接またはその他の層を介して、４１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲において吸光度が０．２〜３．０である着色層を有す有する構成が好ましく用いられる。
【０１２７】
ここで、本発明に係るオーバーコート層とは、少なくともポリビニルアルコールを含有する層であり、前記ポリビニルアルコールの含有量としては、５質量％以上が好ましく、更に好ましくは５０質量％以上であり、特に好ましくは８０質量％以上である。
【０１２８】
また、本発明に係るオーバーコート層に上記記載の着色剤を含有させることにより、着色層として用いることも出来る。
【０１２９】
《支持体》
本発明の平版印刷版に係る支持体は、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムに前述の金属薄膜をラミネートまたは蒸着したもの、また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したもの等が使用できるが、アルミニウム板が好ましく使用され、この場合、純アルミニウム板及びアルミニウム合金板等であってもかまわない。
【０１３０】
支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。
【０１３１】
本発明に係る支持体は、粗面化（砂目立て処理）するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。
【０１３２】
粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
【０１３３】
用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径０．２〜０．８ｍｍのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。また、例えば、支持体表面に、粒径１０〜１００μｍの研磨剤粒子を、１００〜２００μｍの間隔で、２．５×１０３〜１０×１０３個／ｃｍ２の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。
【０１３４】
上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜５ｇ／ｍ２が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【０１３５】
電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報、英国特許第８９６，５６３号、特開昭５３−６７５０７号公報に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、１〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、１０ボルト〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０Ａ／ｄｍ２〜２００Ａ／ｄｍ２の範囲を用いることができるが、５０Ａ／ｄｍ２〜１５０Ａ／ｄｍ２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００ｃ／ｄｍ２〜５０００ｃ／ｄｍ２の範囲を用いることができるが、１００ｃ／ｄｍ２〜２０００ｃ／ｄｍ２の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、１０℃〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５℃〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。
【０１３６】
電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、１ボルト〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、１０ボルト〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０Ａ／ｄｍ２〜２００Ａ／ｄｍ２の範囲を用いることができるが、２０Ａ／ｄｍ２〜１００Ａ／ｄｍ２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００ｃ／ｄｍ２の範囲を用いることができるが、１００ｃ／ｄｍ２〜２０００ｃ／ｄｍ２の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、１０℃〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５℃〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は０．１質量％〜５質量％が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
【０１３７】
電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、１ボルト〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、２ボルト〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０Ａ／ｄｍ２〜２００Ａ／ｄｍ２の範囲を用いることができるが、５０Ａ／ｄｍ２〜１５０Ａ／ｄｍ２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００ｃ／ｄｍ２の範囲を用いることができるが、１００ｃ／ｄｍ２〜２０００ｃ／ｄｍ２、更には２００ｃ／ｄｍ２〜１０００ｃ／ｄｍ２の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、１０℃〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５℃〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は０．１質量％〜５質量％が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
【０１３８】
上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜５ｇ／ｍ２が好ましい。また、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【０１３９】
機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、また、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。
【０１４０】
粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことができる。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び／または燐酸等を１０〜５０％の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ２で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第１，４１２，７６８号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、同３，５１１，６６１号に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種または二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、１〜５０ｍｇ／ｄｍ２が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／ｄｍ２である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液（燐酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロム（ＩＶ）：２０ｇを１Ｌの水に溶解して作製）に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。
【０１４１】
陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。
【０１４２】
更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えばホウ酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更に、特開平５−３０４３５８号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。
【０１４３】
支持体としては上述の様に各種のものが使用でき、また例えば、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したもの等も使用することができ、プラスチックフィルムの親水化処理方法としては、硫酸処理、酸素プラズマエッチング処理、コロナ放電処理、水溶性樹脂層塗布層を設ける等が好ましく用いられる。本発明の実施においては、表面を粗面化処理、陽極酸化処理、封孔処理、及び下塗り処理を施したアルミニウム板が特に好ましい。
【０１４４】
（高分子結合剤）
本発明に係る光重合性感光層は高分子結合剤（バインダー）を含有することが好ましい。前記高分子結合材としては、下記（１）〜（１７）に記載のモノマ（単量体）の少なくとも１種を重合して生成されたビニル系共重合体を含有することが好ましい。
【０１４５】
（１）芳香族水酸基を有するモノマ、例えばｏ−（またはｐ−，ｍ−）ヒドロキシスチレン、ｏ−（またはｐ−，ｍ−）ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【０１４６】
（２）脂肪族水酸基を有するモノマ、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【０１４７】
（３）アミノスルホニル基を有するモノマ、例えばｍ−（またはｐ−）アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−（またはｐ−）アミノスルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。
【０１４８】
（４）スルホンアミド基を有するモノマ、例えばＮ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド等。
【０１４９】
（５）α，β−不飽和カルボン酸類、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【０１５０】
（６）置換または無置換のアルキルアクリレート、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
【０１５１】
（７）置換または無置換のアルキルメタクリレート、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
【０１５２】
（８）アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ニトロフェニル）アクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【０１５３】
（９）弗化アルキル基を含有するモノマ、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
【０１５４】
（１０）ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
【０１５５】
（１１）ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
【０１５６】
（１２）スチレン類、例えばスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１５７】
（１３）ビニルケトン類、例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
【０１５８】
（１４）オレフィン類、例えばエチレン、プロピレン、ｉ−ブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
【０１５９】
（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１６０】
（１６）シアノ基を有するモノマ、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノエチルアクリレート、ｏ−（またはｍ−，ｐ−）シアノスチレン等。
【０１６１】
（１７）アミノ基を有するモノマ、例えばＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【０１６２】
上記高分子結合剤には、必要に応じてポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等、他の任意の高分子結合剤が、上記の本発明に係るビニル系共重合体と併用されてもよい。
【０１６３】
光重合性感光層中における上記高分子結合剤の含有量は、光重合性感光層の１０質量％〜９０質量％が好ましく、１５質量％〜７０質量％が更に好ましく、２０質量％〜５０質量で使用することが感度の面から特に好ましい。更に、上記のビニル系共重合体は、該高分子結合剤において、５０質量％〜１００質量％であることが好ましい。
【０１６４】
本発明に係る高分子結合剤に含まれる重合体の酸価については、１０〜１５０が好ましく、３０〜１２０がより好ましく、５０〜９０が、感光層全体の極性のバランスをとる観点から特に好ましく、これにより感光層塗布液での顔料の凝集を防ぐこと等ができる。
【０１６５】
《光重合開始剤》
本発明に用いられる光重合開始剤として好ましく使用できるものは、例えばＪ．コーサー（Ｊ．Ｋｏｓａｒ）著「ライト・センシテイブ・システムズ」第５章に記載されるような、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素等が挙げられ、英国特許第１，４５９，５６３号に開示されている化合物も好ましい。
【０１６６】
具体的には、以下の例を挙げることができるが、これらに限定されない。即ち、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン−ｉ−プロピルエーテル、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体；ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；２−クロロチオキサントン、２−ｉ−プロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体；Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体；α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物の他、特公昭５９−１２８１号公報、同６１−９６２１号公報ならびに特開昭６０−６０１０４号公報に記載のトリアジン誘導体；特開昭５９−１５０４号公報、同６１−２４３８０７号公報に記載の有機過酸化物；特公昭４３−２３６８４号公報、同４４−６４１３号公報、同４４−６４１３号公報、同４７−１６０４号公報ならびに米国特許第３，５６７，４５３号に記載のジアゾニウム化合物；米国特許第２，８４８，３２８号、同２，８５２，３７９号ならびに同２，９４０，８５３号に記載の有機アジド化合物；特公昭３６−２２０６２号公報、同３７−１３１０９号公報、同３８−１８０１５号公報ならびに同４５−９６１０号公報に記載のｏ−キノンジアジド類；特公昭５５−３９１６２号公報、特開昭５９−１４０２３号公報ならびに「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」１０巻，１３０７頁（１９７７年）記載の各種オニウム化合物；特開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物；特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９，８５１号、同１２６，７１２号ならびに「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」３０巻，１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体；特開平５−２１３８６１号公報及び同５−２５５３４７号公報記載の（オキソ）スルホニウム有機硼素錯体；特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報に記載のチタノセン類；「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｒｅｖｉｅｗ）」８４巻，８５〜２７７頁（１９８８年）ならびに特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体；特開平３−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；四臭化炭素、特開昭５９−１０７３４４号公報に記載の有機ハロゲン化合物等。
【０１６７】
中でも好ましい物は、チタノセン類である。チタノセン類の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７８４：チバスペシャリティーケミカルズ社製）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０１６８】
光源にレーザ光を用いる場合、好ましくは感光層に増感色素を添加することが好ましい。
【０１６９】
可視光から近赤外まで波長増感させる化合物としては、例えばシアニン、フタロシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体等が挙げられ、更に欧州特許５６８，９９３号、米国特許４，５０８，８１１号、同５，２２７，２２７号、特開２００１−１２５２５５号公報、特開平１１−２７１９６９号公報等に記載の化合物も用いられる。
【０１７０】
本発明において、上記の光重合開始剤と増感色素の組合せの好ましい具体例としては、特開２００１−１２５２５５号公報、特開平１１−２７１９６９号公報に記載のある組合せが挙げられる。
【０１７１】
これら重合開始剤の配合量は特に限定されないが、好ましくは、本発明に係る付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合含有単量体１００質量部に対して０．１〜２０質量部である。光重合開始剤と増感色素の配合比率は、モル比で１：１００〜１００：１の範囲が、好ましい。
【０１７２】
《各種添加剤》
本発明に係る光重合性感光層の塗布組成物には、上記した成分の他に、平版印刷版の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合単量体の不要な重合を阻止するために、重合防止剤を添加することが望ましい。適当な重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート等があげられる。
【０１７３】
重合防止剤の添加量は、上記組成物の全固形分の質量に対して、約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で感光性層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好ましい。
【０１７４】
《塗布》
本発明に係る光重合性感光層の感光性組成物を調製する際に使用する溶剤としては、例えば、アルコール：多価アルコールの誘導体類では、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ヘキサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、またエーテル類：プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、またケトン類、アルデヒド類：ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、またエステル類：乳酸エチル、乳酸ブチル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル等が好ましく挙げられる。
【０１７５】
調製された感光性組成物（感光層塗布液）は、従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、平版印刷版を作製することができる。塗布液の塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることができる。
【０１７６】
感光層の乾燥温度は、低いと十分な耐刷性を得ることができず、また高過ぎるとマランゴニーを生じてしまうばかりか、非画線部のカブリを生じてしまう。好ましい乾燥温度範囲としては、６０℃〜１６０℃の範囲が好ましく、より好ましくは８０℃〜１４０℃、特に好ましくは、９０℃〜１２０℃の範囲で乾燥することが好ましい。
【０１７７】
《保護層》
本発明に係る光重合性感光層の上側には、保護層を設けることが好ましい。該保護層（酸素遮断層）は、後述する現像液（一般にはアルカリ水溶液）への溶解性が高いことが好ましい。
【０１７８】
該保護層を構成する素材として好ましい例は、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等が挙げられる。これらの化合物を単独または２種以上併用し塗布組成物とし用いることができる。特に好ましい化合物としてはポリビニルアルコールが挙げられる。
【０１７９】
保護層塗布組成物を調製するには、上記の素材を適当な溶剤に溶解して塗布液とすることができ、この塗布液を本発明に係る光重合性感光層上に塗布し、乾燥して保護層を形成することができる。保護層の厚みは０．１〜５．０μｍが好ましく、特に好ましくは０．５〜３．０μｍである。保護層には、更に必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有することができる。
【０１８０】
保護層の塗布方法としても、上記例に挙げた公知の方法を好適に用いることができる。保護層の乾燥温度は、感光層の乾燥温度よりも低い方がより好ましい。好ましくは感光層乾燥温度との差が１０℃以上、より好ましくは２０℃以上である場合が好ましく、その場合の上限はせいぜい５０℃程度が好ましい。
【０１８１】
また、保護層の乾燥温度が、感光層が含有するバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）より低いことが好ましい。保護層の乾燥温度と、感光層が含有するバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）の差は２０℃以上であることが好ましく、より好ましくは４０℃以上であり、その差の上限はせいぜい６０℃程度が好ましい。
【０１８２】
《画像形成方法》
本発明の感光性平版印刷版を用いて、平版印刷版を形成する画像形成方法について説明する。
【０１８３】
本発明の感光性平版印刷版（平版印刷版材料ともいう）に画像露光する光源としては、例えばレーザ、発光ダイオード、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。
【０１８４】
一括露光する場合には、光重合性感光層上に、所望の露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマスク材料を重ね合わせ、露光すればよい。
【０１８５】
発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ等の光源を、液晶、ＰＬＺＴ等の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ましい。この場合は、マスク材料を使用せず、直接書込みを行うことができる。
【０１８６】
レーザ露光の場合には、光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。また、レーザを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。
【０１８７】
レーザ光源としては、アルゴンレーザ、Ｈｅ−Ｎｅガスレーザ、ＹＡＧレーザ、半導体レーザ等を何れも好適に用いることが可能である。レーザの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査等がある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザ露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザ光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザビームを内側から照射し、光学系の一部または全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部または全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとｆθレンズ等を組み合わせてレーザ光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。
【０１８８】
《現像液》
画像露光した光重合性感光層は露光部が硬化する。これをアルカリ現像液で現像処理することにより、未露光部が除去され画像形成が可能となる。このような現像液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば珪酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；第二燐酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；重炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム及び同リチウム等の無機アルカリ剤を使用するアルカリ現像液が挙げられる。
【０１８９】
また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ−ｉ−プロピルアミン、ジ−ｉ−プロピルアミン、トリ−ｉ−プロピルアミン、ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ−ｉ−プロパノールアミン、ジ−ｉ−プロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いることができる。
【０１９０】
これらのアルカリ剤は、単独または２種以上組み合わせて用いられる。また、該現像液には、必要に応じてアニオン性界面活性剤、両性活性剤やアルコール等の有機溶媒を加えることができる。
【０１９１】
画像形成に適用される現像では、現像スラッジ性能の改良、耐刷性の改良等の性能も同時に改善させる観点からは、珪酸アルカリを含有するｐＨ１２．５未満の現像液で現像することが好ましく、ｐＨ１０．５〜１２．４の範囲のｐＨに調整された現像液が更に好ましく用いられる。
【０１９２】
【実施例】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【０１９３】
実施例１
《アクリル系共重合体１の合成》：バインダ合成
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタクリル酸１２部、メタクリル酸メチル７０部、アクリロニトリル８部、メタクリル酸エチル１０部、エタノール５００部及びα，α′−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド３部及び、グリシジルメタクリレート２部を加えて３時間反応させ、アクリル系共重合体１を得た。市販のＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）装置を用いて測定した重量平均分子量は約５０，０００、ＤＳＣ（示差熱分析法）を用いて測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は約８５℃であった。
【０１９４】
《支持体の作製》
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、１分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、２５℃に保たれた１０％塩酸水溶液中に１分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、０．３質量％の硝酸水溶液中で、２５℃、電流密度１００Ａ／ｄｍ２の条件下に交流電流により６０秒間、電解粗面化を行った後、６０℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液中で１０秒間のデスマット処理を行った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、１５％硫酸溶液中で、２５℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ２、電圧１５Ｖの条件下に１分間、陽極酸化処理を行った後に、ポリビニルホスホン酸処理（ポリビニルホスホン酸１．５％の８０℃の溶液中に３０秒間通し、乾燥）を行った。この時、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に規定される、表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．６５μｍであった。
【０１９５】
《支持体への下引き層設置》
上記支持体上に、下記組成の下引き層塗工液を乾燥時０．１ｇ／ｍ２になるようワイヤーバーで塗布し、９０℃で１分間乾燥し、更に１１０℃で３分間の加熱処理を行って、下引き済み支持体を作製した。
【０１９６】
（下引き層塗工液の組成）
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン　　　　　　　　　１部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０部
シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１９部
《平版印刷版材料１−１〜１−２６の作製》
上記下引き済み支持体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液を乾燥時１．４ｇ／ｍ２になるようワイヤーバーで塗布し、９５℃で１．５分間乾燥した。その後、更に該感光層上に、下記組成のオーバーコート層塗工液を乾燥時２．０ｇ／ｍ２になるようアプリケーターで塗布し、７５℃で１．５分間乾燥して、光重合性感光層上にオーバーコート層を有する平版印刷版材料１−１〜１−２６を各々作製した。
【０１９７】
2004086178.tif 000022
比較１：ポリテトラメチレングリコールジアクリレート（ＰＴＭＧＡ−２５０、共栄化学社製）
【０１９８】
【化３０】
2004086178.tif 000023
【０１９９】
（オーバーコート層塗工液の組成）
ポリビニルアルコール（ＧＬ−０３：日本合成化学社製）　　　　８９部
水溶性ポリアミド（Ｐ−７０：東レ社製）　　　　　　　　　　　１０部
界面活性剤（サーフィノール４６５：日信化学工業）　　　　　１．０部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９００部
《画像形成：平版印刷版１〜２６の作製》
上記で作製した光重合型平版印刷版材料１−１〜１−２６について、バイオレットレーザ光源（４０８ｎｍ，３０ｍＷ）を搭載したＣＯＢＡＬＴ−８（Ｅｓｃｈｅｒ−Ｇｒａｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　Ｉｎｃ．）を用いて２５４０ｄｐｉ（ｄｐｉは２．５４ｃｍ当りのドット数を表す）の解像度で画像露光を行った。次いで、現像前にオーバーコート層を除去する前水洗部、下記組成の現像液を充填した現像部、版面に付着した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム液（ＧＷ−３：三菱化学社製を２倍希釈したもの）を備えたＣＴＰ自動現像機（ＰＨＷ３２−Ｖ：Ｔｅｃｈｎｉｇｒａｐｈ社製）でプレヒート／現像処理を行い、平版印刷版１〜２６を得た。
【０２００】
（現像液組成）
Ａケイ酸カリ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８．０質量％
ペレックスＮＢＬ：花王（株）製　　　　　　　　　　　　２．０質量％
Ｎｅｗｃｏｌ　Ｂ１３：日本乳化剤（株）　　　　　　　　１．０質量％
苛性カリ　　　　　　　　　　　　　　　　ｐＨ＝１２．３となる添加量
《平版印刷版の評価》
上記のようにして得られた平版印刷版１〜２６について、各々以下の評価をした。
【０２０１】
《感度評価》
１７５線・５０％の網点露光部が、作製した平版印刷版面上で５０％に再現できる版面上での露光量を測定した。この露光量が小さいほど、高感度であることを示す。本発明では、露光量が２７０μＪ／ｃｍ２以下の試料を実用可とした。
【０２０２】
《耐刷性評価》：クリーナ耐性
１７５線の画像を適性露光量（画像部の膜減りが観察されず、かつ、１７５線・５０％の網点露光部が、作製した平版印刷版面上で５０％に再現できる露光量の２倍の光量）で露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機（三菱重工業（株）製ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１）で、コート紙、印刷インキ（東洋インク（株）製トーヨーキングハイエコーＭ紅）及び湿し水（東京インク（株）製Ｈ液ＳＧ−５１濃度１．５％）を用いて印刷を行い、１０００枚連続印刷後、クリーナで版面をふき、ハイライト部の点細りの発生する印刷枚数を耐刷力の指標とした。耐刷力１回は１０００枚連続印刷後クリーナでふく作業をあらわし、ここでは、回数が多いほど耐刷性が良好であることを示す。
【０２０３】
ここで、クリーナとは、版面上の不必要なインクの除去に使用する事が主目的であるが、画像部にもクリーナが浸透し、画像部の強度が弱くなり耐刷枚数が減少する。この一連の操作は耐刷力を確認する加速実験である。
【０２０４】
耐刷力については、ハイライトの点細りが確認された場合、実用不可レベルになるので、ハイライトの点細りで評価した。おおよそ、耐刷１０回が１０万枚の印刷に耐えうるレベルである。
【０２０５】
◎◎：５０回以上
◎　：３５回以上５０回未満
○　：３０回以上３５回未満
△　：２５回以上３０回未満
×　：２５回未満
本発明では、○以上が実用可であると判断した。
【０２０６】
《汚し回復評価》
１０００枚連続印刷後クリーナでふき、１５分後に印刷を再開し、非画線部の地汚れがなくなる枚数とした。少ないほど良好。
【０２０７】
《９０％網点再現性評価》
レーザ描画パワーでリニアリティ未補正で網（アミ）点を描画して、９０％に再現されるはずの網（アミ）点領域を５００倍の光学顕微鏡で撮影し、２ｍｍ×２ｍｍの範囲の画像部の面積を算出してアミ点％とした。
【０２０８】
本発明では、８７％〜９７％の範囲を実用可能とした。
得られた結果を表１に示す。
【０２０９】
【表１】
2004086178.tif 000024
【０２１０】
表１から、比較の試料に比べて、本発明の試料は、高感度、高耐刷性を示し、汚し回復も良好であり、且つ、９０％網点再現性にも優れていることが明らかである。
【０２１１】
実施例２
《平版印刷版材料２−１の作製》
実施例１の平版印刷版材料１−１の作製において、オーバーコート層塗工液に、表２に記載の染料を表２に記載の吸光度になるように加えて、着色層として用いた以外は同様にして、平版印刷版材料２−１を作製した。
【０２１２】
（着色層塗工液の組成）：オーバーコート層の機能を有する。
ポリビニルアルコール（ＧＬ−０３：日本合成化学社製）　　　　８９部
水溶性ポリアミド（Ｐ−７０：東レ社製）　　　　　　　　　　　１０部
界面活性剤（サーフィノール４６５：日信化学工業）　　　　　１．０部
染料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（表２に記載）
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９００部
【０２１３】
【化３１】
2004086178.tif 000025
【０２１４】
（吸光度（Ａｂｓ）の測定）
オーバーコート層塗工液を１００μｍのＰＥＴベースに同様に塗布し、染料を添加せずに塗布したものとのλｍａｘにおける吸光度の差を表２に示した。吸光度は、日立社製分光光度計Ｕ−３３００で測定した。
【０２１５】
《平版印刷版材料２−２〜２−１８の作製》
平版印刷版材料２−１の作製において、光重合性化合物、増感色素、染料、吸光度（Ａｂｓ）等を表２に記載のように変更した以外は同様にして、平版印刷版材料２−２〜２−１８を作製した。
【０２１６】
得られた平版印刷版材料２−１〜２−１８を、実施例１に記載と同様な方法を用いて評価した。また、黄色灯安全時間は、下記のように評価した。
【０２１７】
《黄色灯安全時間》
上記オーバーコート層を塗布した試料を黄色灯（三菱電気社製ネオルミスーパーイエローラピッドＦＬＲ４０Ｙ／Ｍ）下１００Ｌｕｘの照度で照射し、現像処理後に残膜が発生する照射時間とした。
【０２１８】
得られた結果を表２に示す。
【０２１９】
【表２】
2004086178.tif 000026
【０２２０】
表２から、比較の試料に比べて、本発明の試料は、高感度、高耐刷性を示し、汚し回復も良好であり、且つ、９０％網点再現性にも優れていることが明らかである。また、染料を加えることにより、黄色灯安全時間が増加するが、本発明の試料は安全灯時間の増大の大きさが比較例に比べて極めて大きいことが判る。
【０２２１】
実施例３
《平版印刷版材料３−１の作製》
実施例１の平版印刷版材料１−１の作製において、光重合性感光層の上に、下記の組成を有する中間層塗工液Ａを用いて中間層Ａを設けた後に実施例１に記載のオーバーコート層塗工液に表３に記載の着色剤を添加して着色層塗工液とし用いて着色層Ｂを塗設し、更に、前記着色層Ｂ上に下記の保護層塗工液Ｃを用いて保護層Ｃを塗設した以外は、同様にして平版印刷版材料３−１を作製した。
【０２２２】
（中間層塗工液Ａの組成）及び（保護層塗工液Ｃの組成）
ポリビニルアルコール（ＧＬ−０３：日本合成化学社製）　　　　８９部
水溶性ポリアミド（Ｐ−７０：東レ社製）　　　　　　　　　　　１０部
界面活性剤（サーフィノール４６５：日信化学工業）　　　　　１．０部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９００部
（着色層塗工液）
ポリビニルアルコール（ＧＬ−０３：日本合成化学社製）　　　　８９部
水溶性ポリアミド（Ｐ−７０：東レ社製）　　　　　　　　　　　１０部
界面活性剤（サーフィノール４６５：日信化学工業）　　　　　１．０部
染料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（表３に記載）
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９００部
《平版印刷版材料３−２の作製》
平版印刷版材料３−１の作製において、光重合性感光層の上に、中間層Ａ上に実施例１に記載のオーバーコート層塗工液を用いてオーバーコートＢ層を塗設し、次いで、上記記載の着色層塗工液を用いて着色層Ｃを塗設した以外は、同様にして平版印刷版材料３−２を作製した。
【０２２３】
《平版印刷版材料３−３の作製》
平版印刷版材料３−１の作製において、中間層塗工液Ａに表３に記載の着色剤を添加して着色層Ａを塗設し、次いで、実施例１に記載のオーバーコート層塗工液を用いてオーバーコート層Ｂを塗設し、前記オーバーコート層上に、上記保護層Ｃ用塗工液を用いて保護層Ｃを塗設した以外は同様にして、平版印刷版材料３−３を作製した。
【０２２４】
ここで、平版印刷版材料３−１〜３−３の作製において、染料は表３に記載の染料を表３に示す吸光度になるよう添加した。
【０２２５】
上記で作製した平版印刷版材料３−１〜３−３を用い実施例１と同様に平版印刷版試料１〜３を各々作製して評価した。得られた結果を表３に示す。
【０２２６】
【表３】
2004086178.tif 000027
【０２２７】
表３から、光重合性感光層の上層に、オーバーコート層、着色層を配設した試料１〜３は、各々高感度、高耐刷性を示し、汚し回復も良好であり、且つ、９０％網点再現性にも優れていることが明らかである。中でも、試料２の評価結果から、光重合性感光層の上層に、オーバーコート層、前記オーバーコート層上に着色層を設けた試料２は、更に高感度であり、且つ、黄色灯安全時間をも増加できていることが明らかである。
【０２２８】
【発明の効果】
本発明により、感度、耐刷性、汚し回復及び網点再現性に優れた感光性平版印刷版を提供することが出来た。