(57)【要約】【課題】サンドブラスト加工において、所望形状のリブを精度良く作製する。【解決手段】プラズマディスプレイパネルのリブをサンドブラスト処理により形成する場合、基板２に対する一つのサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ１と、他のサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ２を異ならせる。このことによってサンドブラストノズル２３からの研磨材によってリブ形成材料の特定部分を過度に研削することはなく、所望形状のリブを精度良く作製することができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にリブ形成材料層を設ける工程と、
リブ形成材料層上に耐サンドブラスト用マスクを設ける工程と、
基板を第１速度で搬送させながら、複数のサンドブラストノズルを基板の搬送方向と直交する方向に第２速度で移動させて耐サンドブラスト用マスク上からサンドブラスト処理を施す工程とを備え、
サンドブラスト処理を施す際、基板に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡と、基板に対する他のサンドブラストノズルの軌跡とが異なるよう、各サンドブラストノズル間の距離と、基板の第１速度と、サンドブラストノズルの第２速度を定めたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
基材に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡間に、基材に対する他のサンドブラストノズルの軌跡が入るよう、各サンドブラストノズル間の距離と、基板の第１速度と、サンドブラストノズルの第２速度を定めたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
一つのサンドブラストノズルの第２速度と、他のサンドブラストノズルの第２速度とを互いに相違させたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造方法に係り、とりわけ精度良くプラズマディスプレイパネルを製造することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にＮｅ、Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式とメモリー駆動方式とに分類される。
【０００３】
ＰＤＰの一方の基板はリブを有し背面板を構成する。このような背面板におけるリブの形成方法としては、スクリーン印刷によりガラスペーストを重ね刷りしてパターニングした後で焼成を施すのが一般的であった。しかしながらこの方法は工程が複雑である割には良好な線幅精度が得られないことから、最近では、ガラス基板上にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させ、その上に耐サンドブラスト性を有するマスクをパターン状に形成してから、このマスクを介してサンドブラスト加工を施すことによりガラスペースト（リブ形成材料層）を研削して所望形状のリブをパターニングした後で焼成する方法が採られている。そして、そのサンドブラスト加工では、研削材として粒径が２〜５０μｍ程度のガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２等の無機微粒子が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述したサンドブラスト加工は、ガラス基板を搬送させながら複数のサンドブラストノズルを基板に対して搬送方向と直交する方向に移動させサンドブラストノズルから研磨材を噴射させることにより行なわれる。
【０００５】
しかしながら、基材に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡が他のサンドブラストノズルの軌跡に重なると、ガラスペーストの特定部分が大きく研削され、所望形状のリブが得られないことや、品質上ＮＧレベルのムラが発生することがある。
【０００６】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、サンドブラスト処理において基板に対する各サンドブラストノズルの軌跡が重ならないようにして、所望形状のリブを得ることができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板上にリブ形成材料層を設ける工程と、リブ形成材料層上に耐サンドブラスト用マスクを設ける工程と、基板を第１速度で搬送させながら、複数のサンドブラストノズルを基板の搬送方向と直交する方向に第２速度で移動させて耐サンドブラスト用マスク上からサンドブラスト処理を施す工程とを備え、サンドブラスト処理を施す際、基板に対する１本目のノズルの中間を２本目のノズルが通過することによって研削量、研削形状を均一にすることが可能となることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【０００８】
本発明は、基材に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡間に、基材に対する他のサンドブラストノズルの軌跡が入るよう、各サンドブラストノズル間の距離と、基板の第１速度と、サンドブラストノズルの第２速度を定めたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【０００９】
本発明は、一つのサンドブラストノズルの第２速度と、他のサンドブラストノズルの第２速度とを互いに相違させたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。また、第２速度を互いに相違させる以外にも、ノズルの振幅を変更すること、ノズルが揺動する開始位置をノズルごとに変えることによっても、基板に対するノズルの軌跡を重ならないようにすることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図６は本発明の一実施の形態を示す図である。
【００１１】
まず図６によりＡＣ型ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）について説明する。図６において、ＰＤＰを構成する２枚のガラス基板１，２が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス基板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されている。誘電体層６上には保護層７（ＭｇＯ層）が形成されている。また、背面板となるガラス基板２の前面側には前記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置するアドレス電極８が互いに平行に形成されている。このアドレス電極８を覆って誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体１０が設けられている。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体１０を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっている。
【００１２】
次に図１乃至図５により、プラズマディスプレイパネルの製造方法について説明する。
【００１３】
プラズマディスプレイパネルの製造方法は、サンドブラスト処理によりＰＤＰのリブをパターニングする通常の方法が採用される。
【００１４】
まず、図５に示すように電極８と誘電体層９が形成されたガラス基板２上にリブ形成用ペーストを塗布して乾燥させることでリブ形成材料層１１を形成する。次にリブ形成材料層１１上に耐サンドブラスト性を有する感光性樹脂組成物層を設けた後、フォトマスクを介して活性光線を選択的に照射し、続けて現像することでサンドブラスト用のマスク１２を形成する。その後リブ形成材料層１１とサンドブラスト用マスク１２が設けられた基板２に対してサンドブラスト処理を施す。サンドブラスト処理において、研摩材として粒径が２〜５０μｍ程度のガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２等の無機微粒子が用いられる。
【００１５】
このようにしてガラス基板２から背面板を作製し、この背面板とガラス基板１からなる前面板を組合せてＰＤＰを製造する。
【００１６】
次に図１乃至図４によりサンドブラスト処理装置について説明する。図１において、被加工物である基板２がフレームＦに設置された搬送ローラ２２により図１の紙面に対して直交する方向に所定の第１速度で搬送されるようになっている。
【００１７】
基板２上には複数、例えば４個のサンドブラストノズル（噴射ノズル）２３が設けられ、このサンドブラストノズル２３は基板２の搬送方向Ｌ１方向に対して直交するＬ２方向に第２速度で往復移動するようになっている。
【００１８】
また、基板２の上方に、基板２の搬送方向Ｌ１方向に延びる保護部材１３が設置されている。この保護部材１３は基板２のように移動することなく、フレームＦに固定して配置されている。
【００１９】
保護部材１３はサンドブラストノズル２３から噴出される研摩材が基板２の所望部分に当たらないように保護するものであり、基板２上方の所望位置、例えば基板２の両側縁近傍に設けられている。
【００２０】
保護部材１３は断面円形状をなしているか、又は断面長円形状をなしている（図３（ａ）（ｂ））。このように保護部材１３の断面形状を定めることにより、サンドブラストノズル２３からの研摩材から基板２のうち保護部材１３の下方部分を確実に保護することができる。
【００２１】
他方、保護部材１３の断面形状として、他に矩形状等も考えられるが、研削不良によるムラや、残りが発生しなければどのような断面形状でもかまわない。
【００２２】
図１乃至図４において、予めリブ形成材料層１１とサンドブラスト用マスク１２とが形成された基板２が搬送ローラ２２によって矢印Ｌ１方向に搬送される（図２）。この間、複数のサンドブラストノズル２３が矢印Ｌ２方向に移動し、このサンドブラストノズル２３から研摩材が基板２に対して噴出される。
【００２３】
この場合、サンドブラストノズル２３から噴出される研摩材によって、マスク１２により覆われていないリブ形成材料層１１が研削され、このようにしてマスク１２により覆われているリブ形成材料層１１が残ってリブ３が形成される。同時にリブ３周縁に、リブ３を保護する保護リブ３ａがリブ形成材料層１１により形成される。
【００２４】
上記のリブ３および保護リブ３ａはマスク１２により研摩材から保護されて形成される部分である。更に保護部材１３により覆われた基材２の所望部分についても、保護部材１３により保護することができ、この所望部分において電極端子部やガラス面を研摩材から確実に保護することができる。
【００２５】
次に基板２の第１速度と、各サンドブラストノズル２３の第２速度と、各サンドブラストノズル２３間の距離について説明する。上述のようにサンドブラスト処理装置は複数のサンドブラストノズル２３を有し、各サンドブラストノズル２３間の距離はＬ０となっている。
【００２６】
基板２が搬送ローラ２２により第１速度で矢印Ｌ１方向に搬送され、各サンドブラストノズル２３がＬ１方向に直交するＬ２方向に第２速度で往復移動する。この場合、基板２に対する一つのサンドブラストノズル２３の軌跡はＰ１で示され、同一の基板２に対する他のサンドブラストノズル２３の軌跡はＰ２で示される（図４参照）。
【００２７】
図４に示すように、基板２に対する一つのサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ１との間に、同一の基板２に対する他のサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ２が入り込むようにすることにより、基板２上のリブ形成材料層１１について特定部分が重複して研磨材により研削されることはない。このため、リブ形成材料層１１の特定部分が研磨材により過大に研削されることはなく、所望形状のリブ３を得ることができる。
【００２８】
サンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ１、Ｐ２は、基板２の矢印Ｌ１の第１速度とサンドブラストノズル２３の矢印Ｌ２方向の第２速度とにより定まる。
【００２９】
例えば基板２の形状をＷ１４６０×Ｌ１０００ｍｍとし、基板２の第１速度を６００ｍｍ／ｍｉｎとする。またサンドブラストノズル２３のノズル噴射幅を８０ｍｍとし、第２速度を６０ｍ／ｍｉｎとした場合であって、かつサンドブラストノズル２３間の距離を５８０ｍｍ（ノズルの往復に要する時間を４（ｓ）程度とする）とした場合、一つのサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ１と、一つのサンドブラストノズル２３に隣合う他のサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ２が全く逆転し、軌跡Ｐ１のちょうど中間に軌跡Ｐ２が入り込む。
【００３０】
なお、上記実施の形態において、一つのサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ１の中間に、他のサンドブラストノズル２３の軌跡Ｐ２が入り込む例を示したが、軌跡Ｐ１とＰ２が重ならない限り、リブ形成材料層１１の過大な研削を防止することができる。
【００３１】
例えば、一つのサンドブラストノズル２３の第２速度と、他のサンドブラストノズル２３の第２速度を異ならせて、一つのサンドブラストノズルの軌跡Ｐ１と他のサンドブラストノズルの軌跡Ｐ２とを異なるようにしてもよい。
【００３２】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、サンドブラスト処理において、基材に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡と、基板に対する他のサンドブラストノズルの軌跡を異ならせることができる。このためサンドブラストノズルからの研磨材によってリブ形成材料の特定部分を過度に研削することはなく、所望形状のリブを精度良くムラなく作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるサンドブラスト処理装置を示す側面図。
【図２】本発明によるサンドブラスト処理装置を示す平面図。
【図３】保護部材の断面形状を示す図。
【図４】サンドブラストノズルの軌跡を示す図。
【図５】プラズマディスプレイパネルの製造方法の概略を示す図。
【図６】プラズマディスプレイパネルの概略を示す図。
【符号の説明】
１，２  ガラス基板
３  リブ
３ａ  保護リブ
４  維持電極
５  バス電極
６  誘電体層
７  保護層
８  アドレス電極
９  誘電体層
１０  蛍光体
１１  リブ形成材料層
１２  マスク
１３，１３ａ  保護部材
２２  搬送ローラ
２３  噴射ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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