(57)【要約】【課題】高密度記録において、バックコート層表面に存在する突起の磁性層表面への写りを抑制するとともにドロップアウトを低減することで、良好な走行安定性及び耐久性を得ることができる磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】非磁性支持体上に強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層を有し、磁性層と反対側の面に非磁性粉末及び結合剤を含むバックコート層を有する磁気記録媒体。前記非磁性粉末は、平均粒径が５〜３００ｎｍの針状粒子であり、かつ前記バックコート層の鋼球磨耗量が５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層を有し、磁性層と反対側の面に非磁性粉末及び結合剤を含むバックコート層を有する磁気記録媒体であって、
前記非磁性粉末は、平均粒径が５〜３００ｎｍの針状粒子であり、かつ
前記バックコート層の鋼球磨耗量が５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記バックコート層が、針状粒子とカーボンブラックを６０：４０〜９０：１０の割合で含有する請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記バックコート層が、前記針状粒子とカーボンブラックの合計重量を１００重量部として１０〜４０重量部の結合剤を含有する請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記針状粒子が酸化物である請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記バックコート層が、炭素数が１０以上２６以下の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステル及び／又は脂肪酸アミドを５重量％以下含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
前記バックコート層の厚みが０．１〜０．７μｍである請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
前記バックコート層の表面粗さＲａが７ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項８】
前記バックコート層表面において、原子間力顕微鏡によって測定された高さ５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の突起密度が９０μｍ角当たり７００個以下である請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、走行安定性及び耐久性に優れた高密度記録用磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気テープの分野において、近年ミニコンピューター、パーソナルコンピューター、ワークステーションなどのオフィスコンピューターの普及に伴って、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記録するための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テープの実用化に際しては、特にコンピューターの小型化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量化、小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求される。
【０００３】
従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性酸化鉄、ＣｒＯ２、強磁性金属粉末、六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したものが広く用いられていた。この中でも微粒子の強磁性合金粉末や六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優れていることが知られている。しかし、従来、フレキシブルメディアを使用したシステムで主流として使われてきたインダクティブヘッドを用いた場合は、これらの強磁性粉末では飽和磁化が小さく、充分な出力を得ることができなかった。しかしながら、上記の様なフレキシブルメディアを用いたリムーバブル記録においても、ハードディスクで使われている磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）が用いられ始めている。
【０００４】
ＭＲヘッドは高感度なので前記微粒子合金粉末や六方晶フェライト微粉末を用いても充分な再生出力が得られ、これら微粒子粉末の特徴である低ノイズ化によって高いＣ／Ｎ比が得られることが知られている。ＭＲヘッドを用いて高密度記録する場合、分解能を改善するために、前記微粒子強磁性粉末を使用すること、磁性層表面を平滑にすること、磁性層を薄くすることが提案されてきた。
【０００５】
一方、平滑な磁性層を有する磁気記録媒体の走行性を改善するために、突起を設けたバックコート層を用いることが知られている。しかしながらバック層に突起を設けたことで、前記バック層と磁性面が重なりあうと、突起が磁性面に食い込み磁性面に陥没が生じ（いわゆる「写り」）、これにより出力の低下が引き起こされるという問題があった。この「写り」は、線記録密度が高く、かつ狭トラック化が進むと、単なる出力の低下だけではなく、信号の欠落にもつながる。
【０００６】
このような写りを防止する手段として、特許文献１では、高さ１００ｎｍ以上の突起密度を規定し、磁性層に剛性の高いウレタンを用い、８ｍｍビデオにおいてバック写りの影響が低減されることが記載されている。この特許文献１には、平均粒子径１０〜３０ｎｍの微粒子粉末と平均粒子径１００〜３００ｎｍの粗粒子粉末との混合物を含むバックコート層が開示されている。
【０００７】
また、特許文献２には、原子間力顕微鏡により測定された磁性層の表面形状における自乗平均表面から２０ｎｍの深さでの横断面積が、再生ビット面積の３％以上である窪みの個数が３個／１００μｍ２以下であれば、優れた電磁変換特性と低ドロップアウトおよび磁性層の優れた走行性と耐久性を両立し、高密度デジタル記録に好適な媒体を提供できると記載されている。この特許文献２には、粒径の異なる２種類のカーボンブラックを含むバックコート層が開示されている。
【０００８】
また、特許文献３及び４では、粒状酸化物とカーボンブラックを含むバックコート層が開示され、バックコート層とアラミドベースの接着強度が８０ｇ／（８ｍｍ幅）以上であれば、走行耐久性が良好であると記載されている。しかし、上記公報に記載されているカーボンブラックや粒状酸化物を用いたバックコート層は強度が低く、また、バックコート層に含まれる非磁性粉末の分散が不十分なためにバックコート層表面に存在する突起が磁性層表面の平滑性を低下させるという問題もあった。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１０−６４０４１号公報
【特許文献２】
特開２０００−４０２１８号公報
【特許文献３】
特開平１１−２１３３７７号公報
【特許文献４】
特開平１１−２５９８５１号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、高密度記録において、バックコート層表面に存在する突起の磁性層表面への写りを抑制するとともにドロップアウトを低減することで、良好な走行安定性及び耐久性を得ることができる磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための手段は、以下の通りである。
（１）  非磁性支持体上に強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層を有し、磁性層と反対側の面に非磁性粉末及び結合剤を含むバックコート層を有する磁気記録媒体であって、
前記非磁性粉末は、平均粒径が５〜３００ｎｍの針状粒子であり、かつ
前記バックコート層の鋼球磨耗量が５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３であることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）  前記バックコート層が、針状粒子とカーボンブラックを６０：４０〜９０：１０の割合で含有する（１）に記載の磁気記録媒体。
（３）  前記バックコート層が、前記針状粒子とカーボンブラックの合計重量を１００重量部として１０〜４０重量部の結合剤を含有する（２）に記載の磁気記録媒体。
（４）  前記針状粒子が酸化物である（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（５）  前記バックコート層が、炭素数が１０以上２６以下の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステル及び／又は脂肪酸アミドを５重量％以下含有する（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（６）  前記バックコート層の厚みが０．１〜０．７μｍである（１）〜（５）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（７）  前記バックコート層の表面粗さＲａが７ｎｍ以下であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（８）  前記バックコート層表面において、原子間力顕微鏡によって測定された高さ５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の突起密度が９０μｍ角当たり７００個以下である（１）〜（７）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について更に詳細に説明する。
［バックコート層］
本発明の磁気記録媒体において、バックコート層は、平均粒径が、平均一次粒子サイズで５〜３００ｎｍの針状粒子を含有し、かつ、その鋼球磨耗量が５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３であることを特徴とする。なお、ここで、針状粒子の「平均粒径」とは、平均長軸径をいう。
従来、バックコート層にはカーボンブラックや粒状酸化物が主成分として含有されていた。しかし、これらを主成分とするバックコート層は強度に劣り、更にバックコート層に含まれる非磁性粉末の分散が不十分なために表面に大きな突起が存在していた。このバックコート層表面に存在する突起が磁性層に転写されると、磁性層の表面平滑性を低下させ、電磁変換特性や走行耐久性の劣化を引き起こすという問題があった。そこで、本発明では、針状粒子をバックコート層に含有させ、更に、この針状粒子やカーボンブラックを高度に分散させ、バックコート層の鋼球磨耗量を５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３の範囲内とする。針状粒子を用いることで、粒状粒子を用いた場合と比較して媒体の強度を向上させ、耐久性を向上させることができる。バックコート層に含まれる針状粒子の平均粒径は、５〜３００ｎｍであり、好ましくは５〜２５０ｎｍ、更に好ましくは１０〜２００ｎｍである。針状粒子の平均粒径が５ｎｍ未満では、凝集しやすくなり分散することが困難になる。さらに、針状粒子の平均粒径が５ｎｍ未満では、微粒子化に伴い、高い塗膜強度を得るためにバインダーを増量することが必要となるが、バインダーの増量により、表面電気抵抗Ｒｓが増加するという問題もある。一方、針状粒子の平均粒径が３００ｎｍを超えると、バックコート層の表面粗さが増加するという問題がある。このことは、バックコート層の薄層化により、より顕著になる。
【００１３】
前記針状粒子の針状比は、２〜２０であることが好ましく、より好ましくは３〜１０である。針状比が上記範囲内であれば、バックコート層の薄層化と平滑化を同時に達成することができ、更に、充填性および塗膜強度の高いバックコート層を得ることができ、好ましい。
【００１４】
前記針状粒子は、バックコート層の厚みの５％から１００％、より好ましくは５〜７０％で、一次粒子サイズの標準偏差σが平均粒径の３０％以下であることが好ましく、より好ましくは２５％以下である。針状粒子の大きさが、バックコート層の厚みの５％から１００％の範囲、より好ましくは５〜７０％の範囲であれば、分散性、表面平滑性および塗膜強度に優れたバックコート層を得ることができる。また、一次粒子サイズの標準偏差σが平均粒径の３０％以下であれば、より均一な分散性および塗膜強度を得ることができる。
【００１５】
バックコート層に含まれる針状粒子としては、前記粒子サイズ、サイズ分布を満たすものであれば、例えば、アルミナ、シリカ、酸化クロム、α−酸化鉄等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の塩類、メラミン、ベンゾグアナミン等の樹脂粒子、カーボンブラック粒子を用いることができる。前記針状粒子として、モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することで強度および耐久性を上げることが可能である。また、前記針状粒子が酸化物であれば、大気中で化学的に安定であり、製造においても取り扱いが容易である。
【００１６】
本発明の磁気記録媒体において、バックコート層には、カーボンブラックが含まれることが好ましく、導電性カーボンブラックが含まれることがより好ましい。導電性カーボンブラックは、バックコート層の導電性を向上させ、帯電による走行障害を防止するだけでなく、クッション剤の役目も果たし、バックコート層表面に存在する突起の磁性層への食い込みを低減させることができる。バックコート層に含まれるカーボンブラックの平均一次粒子サイズは、１０〜１５０ｎｍであることが好ましい。また、前記カーボンブラックとして、粒子分布、クラスターサイズ分布の揃ったものを用いることで、バックコート層表面に存在する突起高さを均一化することができる。バックコート層に含まれるカーボンブラックの平均一次粒子サイズが上記範囲内であれば、表面平滑性および塗膜強度に優れ、かつ表面電気抵抗が低いバックコート層を得ることができる。
【００１７】
バックコート層において、針状粒子とカーボンブラックを添加する割合は、６０／４０〜９０／１０であることが好ましい。針状粒子の割合が６０／４０より小さい場合には、カーボンブラックが主粉体となるため、バックコート層の耐久性が低下する。また、９０／１０を超える場合は、カーボンブラックの割合が少なくなるため、バックコート層の電気抵抗が高くなり、帯電する可能性がある。
【００１８】
バックコート層には、更に結合剤が含有される。バックコート層における結合剤量は、針状粒子とカーボンブラックの合計重量を１００部として１０〜４０重量部とすることが好ましい。バックコート層における結合剤量が上記範囲内であれば、走行時における針状粒子とカーボンブラックの脱離が少なく、高い塗膜強度を得ることができる。また、結合剤を多量に使用することは、コストアップにつながるため、経済的な観点からも、バックコート層における結合剤量は上記範囲内であることが好ましい。結合剤としては、後述の磁性層、非磁性層に用いられているものと同様の結合剤を用いることができる。また、バックコート層の厚みは、０．１〜０．７μｍであることが好ましい。バックコート層の厚みが上記範囲内であれば、表面平滑性および塗膜強度を確保することができ、更に、高密度化、薄層化を図ることができる。
【００１９】
バックコート層に含まれるカ−ボンブラック及び針状粒子各々の水溶性イオン量は、カチオン（例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、ＮＨ４＋等）の総和が１００ｐｐｍ以下、アニオン（例えば、Ｆ−、Ｃｌ−、ＮＯ２−、ＮＯ３−、ＳＯ４２−、ＰＯ４３−等）の総和が１００ｐｐｍ以下であることが好ましい。多量のカチオンやアニオンが含まれると、例えば、高温高湿等の保存下で、両者が塩を形成することによって析出物が生じるという問題がある。上記析出物が生じると、それが磁性層に転写され、ドロップアウトの増加につながる等の弊害が生じる。本発明において、バックコート層に含まれるカ−ボンブラック及び針状粒子各々の水溶性カチオン量、アニオン量がそれぞれ１００ｐｐｍ以下であれば、そのような析出物の発生を回避することができ、ドロップアウトの増加を防ぐことができる。
特に、Ｃｌ−、ＳＯ４２−は、針状粒子、カーボンブラックの製法により、混入しやすく、かつ塩として析出し、ドロップアウト等の弊害を生じやすい。また、これらイオンが多量に含まれると、ＭＲヘッドの腐食が懸念される。よって、本発明では、特に、Ｃｌ−、ＳＯ４２−が７０ｐｐｍ以下、更に好ましくは５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００２０】
また、バックコート層には、潤滑効果目的として、炭素数が１０以上２６以下の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステル及び／又は脂肪酸アミドが５重量％以下含まれることが好ましい。好ましくは、０．１〜３重量％である。潤滑剤として含まれる脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドの炭素数が１０以上であれば、融点が高く揮発しにくく、２６以下であれば分子量が適当であり潤滑剤としての浸み出し性に優れている。これらの量が５重量％以下であれば、適当な摩擦係数、高い走行耐久性を得ることができるとともに、塗膜の可塑化の問題を回避することもできる。
【００２１】
具体的には、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）、または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などを使用することができる。
【００２２】
これらの具体例としては脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイルが挙げられる。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。これらの脂肪酸の脂肪酸エステル、脂肪酸アミドも同様にバックコート層に用いることができる。
【００２３】
本発明の磁気記録媒体において、バックコート層の鋼球磨耗量は、５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３であり、好ましくは１×１０−７〜５×１０−５ｍｍ３であり、更に好ましくは５×１０−７〜１×１０−６ｍｍ３である。鋼球磨耗量とは、走行耐久性の指標であり、走行時に接触する部材、走行位置規制ガイドピン、ガイドローラー等によるバックコート層表面の磨耗量を表す指標となる。バックコート層の鋼球磨耗量が１×１０−５ｍｍ３を超えると、繰り返し走行での磨耗が大きくなり、デブリによってドロップアウトが顕著に増加する。また、鋼球磨耗量が５×１０−８ｍｍ３未満では、高温多湿環境等での繰り返し走行において、スティックやスリップが発生しやすくなるという問題がある。
【００２４】
本発明において、バックコート層の鋼球磨耗量は、以下の方法によって測定した値である。鋼球として、玉軸受け用鋼球で、直径１／４インチのものを使用する。荷重３０ｇで、テープ３０ｍｍ長を１パス（１往復）擦り、テープ位置をずらしつつ１５回擦る。鋼球の擦られた表面を顕微鏡で観察し、顕微鏡付属のカメラで写真を撮り、磨耗面の直径を計測し、球近似して磨耗体積を求め、これを鋼球磨耗量とした。なお、本発明の磁気記録媒体が磁気ディスクの場合も、バックコート層の鋼球磨耗量は、上記と同様の方法で測定することができる。
【００２５】
本発明において、バックコート層の鋼球磨耗量を５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３の範囲にするための手段を以下に説明する。
例えば、バックコート層に含まれる針状粒子やカーボンブラックを高度に分散させることで、上記範囲の鋼球磨耗量とすることができる。針状粒子は、使用する針状粒子の表面特性に適合した分散剤やバインダーを用いることにより、針状粒子を高度に分散させることができる。このような分散剤の具体例としては、Ｓ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物又は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤を挙げることができる。また、このようなバインダーとしては、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−ＯＨ、−ＮＲ２、−Ｎ＋Ｒ３、エポキシ基、ＳＨ基、ＣＮ基等の一種以上の極性基を有するものを用いることが好ましい。この場合、極性基の量は、例えば１０−１〜１０−８モル／ｇであることができる。
【００２６】
また、カーボンブラックを分散するためには、カーボンブラックの分散に有効な分散剤、例えば、トリアゾール環を含むアゾ化合物やフタロシアニン誘導体等を処方する。これらの具体例としては、塩基性の誘導体を有するフタロシアニン化合物や、特開２００２−１０９７１９号公報に記載のアゾ化合物を挙げることができる。針状粒子とカーボンブラックは、最初から混合して分散するよりも、別々に分散した後に混合し、更に追加分散を行って塗料化する方が、両者を良好に分散させることができる。このように針状粒子とカーボンブラックを高度に分散した塗布液を用いることにより、表面性が良好で、摩擦係数、磨耗特性及び実用特性が良好なバックコート層を得ることができる。
【００２７】
上記のように針状粒子とカーボンブラックが高度に分散されたバックコート層の表面粗さＲａは、７ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１．０〜６．５ｎｍである。バックコート層のＲａが７ｎｍ以下であれば、後述の原子間力顕微鏡によって測定される高さ５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の突起密度を低くすることができ、磁性層への食い込みが低減され、磨耗性および実用特性が良好なバックコート層を得ることができる。
【００２８】
また、上記のように針状粒子やカーボンブラックを高度に分散させたバックコート層表面において、原子間力顕微鏡によって測定された高さ５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の突起密度は、９０μｍ角当たり７００個以下であることが好ましく、より好ましくは１０〜６００個である。バックコート層表面における突起密度が上記範囲内であれば、磁性層への食い込みが低減され、磁性層の陥没を防ぐことができる。突起密度を低減させると、圧力が分散されないため磁性層への食い込みが大きくなる。しかし、食い込みには突起の高さが支配的であるため、高さ５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の突起数が上記範囲内に制御することにより、写りへの影響を低減することができる。磁性層が薄くなるほど、バックコート層の突起が磁性層を貫通し、磁性層が欠落する傾向があるため、バックコート層表面に存在する突起数を制御することによる効果は、磁性層が薄くなるほど顕著である。また、磁性粒子が小さくなると粒子の境界が増えて塗膜のひび割れが起こりやすいので、バックコート層表面に存在する突起による磁性層の陥没が顕著になる。従って、磁性粒子が小さいほど、バックコート層表面に存在する高さ５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の突起数を制御することによる効果が顕著となる。
【００２９】
［磁性層］
本発明の磁気記録媒体は、支持体上に直接磁性層を設けても、非磁性下層を介して磁性層を設けてもよい。ＭＲヘッドで用いる場合は磁性層を薄くするので、非磁性下層を用いた重層構成とすることが好ましい。磁性層の抗磁力Ｈｃは１５９ｋＡ／Ｍ（２０００Ｏｅ）以上であることが好ましく、１５９ｋＡ／Ｍ（２０００Ｏｅ）〜４００ｋＡ／Ｍ（５０００Ｏｅ）で有ることがより好ましい。さらに、磁性層の磁化分布に於いて、８０ｋＡ／Ｍ（１０００Ｏｅ）以下の印可磁場によって磁化反転する成分が最大１％未満、好ましくは０．７％以下、さらに０．５％以下に規定されることがさらに好ましい。
【００３０】
磁性層厚みは０．０３〜０．２５μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．２μｍ、さらに好ましくは０．０５〜０．２μｍである。０．０３μｍ以上であれば、高い再生出力を得ることができ、０．２５μｍ以下であれば高い分解能を得ることができる。磁性層の面内方法に測定した角形比ＳＱは０．６〜０．９５であることが好ましく、より好ましくは０．６５〜０．８５である。
【００３１】
［強磁性粉末］
本発明において、磁性層に使用する強磁性粉末は、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ等のＦｅを主体とした針状強磁性合金粉末又は六方晶フェライト粉末であることができる。六方晶フェライトとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等を用いることができる。具体的には、マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００３２】
粒子サイズは合金、六方晶フェライトともに一次粒子の平均体積が１０００〜１００００ｎｍ３であることが好ましく、より好ましくは１５００〜８５００ｎｍ３、さらに好ましくは１５００〜６５００ｎｍ３である。針状合金粉末の場合、平均長軸長が２０〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２５〜８０ｎｍである。結晶子サイズは５〜１５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８〜１３ｎｍである。六方晶フェライトの場合、六角板径で１０〜５０ｎｍであることが好ましく、好ましくは１０〜４０ｎｍであり、特に好ましくは１５〜３５ｎｍである。特にトラック密度を上げるためＭＲヘッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、板径は３５ｎｍ以下であることが好ましいが、１０ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。５０ｎｍを越えるとノイズが高く、本発明における高密度磁気記録には向かない。板状比（板径／板厚）は１〜１５であることが望ましい。好ましくは１〜７である。板状比が１未満であると、磁性層中の充填性は高くなるが、十分な配向性を得ることができない。１５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜１００ｍ２／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定することで比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００３３】
通常、抗磁力Ｈｃが４０〜４００ｋＡ／Ｍ程度の磁性体は作成可能である。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。本発明では磁性体のＨｃは１１９〜３９７ｋＡ／Ｍ程度であることができ、好ましくは１５９〜３２０ｋＡ／Ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１７５ｋＡ／Ｍ以上にすることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは強磁性合金粉末の場合９０〜１５０Ａｍ２／ｋｇ、六方晶フェライトの場合４０〜８０Ａｍ２／ｋｇである。σｓは微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。
【００３４】
磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物を使用することができる。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％であることができる。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六方晶フェライトの製法としては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。
【００３５】
［非磁性層］
次に支持体と磁性層の間に下層である非磁性層を設ける場合の下層に関する詳細な内容について説明する。
本発明において、下層は実質的に非磁性であればその構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得る。
【００３６】
下層に含まれる非磁性粉末は、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどを単独または組合せで使用することができる。特に好ましいものは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいものは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍであることが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍであることが特に好ましい。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下であることが好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であることがさらに好ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌであることが好ましく、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることができ、５．５〜１０の間であることが特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ２／ｇであることが好ましく、より好ましくは５〜８０ｍ２／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ２／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍであることが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍであることが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇであることが好ましく、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２であることが好ましく、より好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ２であることが好ましく、より好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ２、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ２である。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３で表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいものは、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２であり、更に好ましいものは、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミ��で処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００３７】
本発明において、下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【００３８】
下層にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。下層に用いるカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【００３９】
下層に用いられるカーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ２／ｇであることが好ましく、より好ましくは１５０〜４００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇであることが好ましく、より好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍであることが好ましく、より好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌであることがそれぞれ好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００４０】
また下層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。
【００４１】
下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００４２】
［結合剤］
本発明に使用される結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を使用することができる。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものを用いることができる。
【００４３】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂が挙げられる。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等が挙げられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【００４４】
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ２、Ｎ＋Ｒ３（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０−１〜１０−８モル／ｇとすることができ、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。
【００４５】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としては、ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。
【００４６】
本発明において、非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲で用いることができ、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いることができる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、更に好ましくは３０℃〜９０℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ２、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ２であることがそれぞれ好ましい。
【００４７】
本発明の磁気記録媒体は二層以上から構成され得る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層の結合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００４８】
本発明に用いられるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、等があり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００４９】
［カーボンブラック、研磨剤］
本発明において、磁性層に使用されるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇであることができ、粒子径は５〜３００ｎｍであることができ、好ましくは１０〜２５０ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍである。ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃ、であることがそれぞれ好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、旭カーボン社製＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  １５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製ケッチェンブラックＥＣ、などが挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する量の０．１〜３０％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００５０】
本発明に用いられる研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料を、単独または組合せで使用することができる。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果に変わりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．０５〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ２／ｇであることがそれぞれ好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００５１】
［添加剤］
本発明において、磁性層と非磁性層に使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつものを使用することができる。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。
【００５２】
これらの具体例としては、脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、ラウリルアルコール、などが挙げられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００５３】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。一般には潤滑剤の総量は、磁性体または非磁性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２５％の範囲で選択される。
【００５４】
また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８４５３号公報に記載の溶剤を用いることができる。
【００５５】
［支持体］
本発明に用いられる支持体は、特に制限されるべきものではないが、実質的に非磁性で可撓性のものが好ましい。本発明に用いられる可撓性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリアラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベース面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号公報に示されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良い。また本発明では、支持体としてアルミまたはガラス基板を適用することも可能である。
【００５６】
本発明の目的を達成するには、支持体としてＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で測定した中心面平均表面粗さが８．０ｎｍ以下、好ましくは４．０ｎｍ以下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下のものを用いることが好ましい。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーの一例としては、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末が挙げられる。支持体の最大高さＳＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さはＳＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは１０％以上、９０％以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ以下であることがそれぞれ好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールできるものであり、０．０１μｍから１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ２あたり０個から２０００個の範囲でコントロ−ルすることができる。本発明に用いられる支持体のＦ−５値は、好ましくは５〜５０ｋｇ／ｍｍ２、また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１００ｋｇ／ｍｍ２、弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２であることがそれぞれ好ましい。温度膨張係数は１０−４〜１０−８／℃であることが好ましく、より好ましくは１０−５〜１０−６／℃である。湿度膨張係数は１０−４／ＲＨ％以下であることが好ましく、より好ましくは１０−５／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【００５７】
［層構成］
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は、支持体が２〜１００μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜８０μｍである。コンピューターテープの支持体は、３．０〜６．５μｍであることが好ましく、より好ましくは３．０〜６．０μｍ、更に好ましくは４．０〜５．５μｍである。
【００５８】
支持体と非磁性層または磁性層の間に密着性向上のための下塗層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０１〜０．５μｍであることができ、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。
【００５９】
本発明の磁気記録媒体の下層である非磁性層の厚みは、０．２μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．３μｍ以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μｍ以下である。なお、本発明媒体の下層は実質的に非磁性層であればその効果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なすことができることは言うまでもない。実質的に非磁性層とは下層の残留磁束密度が０．０１Ｔ（１００Ｇ）以下または抗磁力が７９６０Ａ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。
【００６０】
［製法］
本発明の磁気記録媒体の磁性塗布液、非磁性塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉体、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性体または非磁性粉体と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層塗布液および非磁性層塗布液を分散させるにはガラスビーズを用いることができるが、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。
【００６１】
本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布する場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状態のうちに特公平１−４６１８６号公報や特開昭６０−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法；第二に特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法；第三に特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示されている数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠陥を少なくし、ドロップアウトの低減などの品質向上を図るためには、前述の同時重層塗布を用いることが好ましい。
【００６２】
磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、また磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なうこともできる。
【００６３】
カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルを用いることができ、特に両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ以上、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。
【００６４】
［物理特性］
本発明の磁気記録媒体において、磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属粉末を用いた場合、０．２Ｔ（２０００Ｇ）以上０．５Ｔ（５０００Ｇ）以下、六方晶フェライトを用いた場合は０．１Ｔ（１０００Ｇ）以上０．３Ｔ（３０００Ｇ）以下である。抗磁力ＨｃおよびＨｒは１１９ｋＡ／ｍ（１５００Ｏｅ）以上３９８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）以下であることが好ましく、より好ましくは１３５ｋＡ／ｍ（１７００Ｏｅ）以上、２３９ｋＡ／ｍ（３０００Ｏｅ）以下である。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下であることが好ましい。角形比は２次元ランダムの場合は０．５５以上０．６７以下であることが好ましく、より好ましくは０．５８以上、０．６４以下であり、３次元ランダムの場合は０．４５以上、０．５５以下であることが好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に０．６以上好ましくは０．７以上であることが好ましく、反磁界補正を行った場合は０．７以上であることが好ましく、より好ましくは０．８以上である。２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度比は０．８以上であることが好ましい。２次元ランダムの場合、垂直方向の角形比、Ｂｒ、ＨｃおよびＨｒは面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好ましい。
【００６５】
磁気テープの場合、角型比は０．７以上であることが好ましく、より好ましくは０．８以上である。本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は、温度−１０℃から４０℃、湿度０％から９５％の範囲において０．５以下であることが好ましく、より好ましくは０．３以下であり、表面固有抵抗は、好ましくは磁性面１０４〜１０１２オ−ム／ｓｑであることが好ましく、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内であることが好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２）、破断強度は好ましくは９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋｇ／ｍｍ２）、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは０．９８〜１４．７ＧＰａ（１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ２）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下であることが好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１００℃であることが好ましい。損失弾性率は１×１０８〜８×１０９ｄｙｎｅ／ｃｍ２（１×１０７〜８×１０８Ｐａ）の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は、好ましくは１００ｍｇ／ｍ２以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ２以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。
【００６６】
磁性層の中心面平均表面粗さＲａは、ＷＹＣＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法を用いて、約２５０μｍ×２５０μｍの面積での測定で、４．０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３．８ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＳＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは２０％以上、８０％以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ以下であることがそれぞれ、電磁変換特性、摩擦係数を最適化することができるという点で好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや前述したように磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。
【００６７】
本発明の磁気記録媒体が非磁性層と磁性層を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。
【００６８】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるべきものではない。
＜塗料の作成＞
2004265563.tif 000002
【００６９】
＜非磁性塗料＞
2004265563.tif 000003
【００７０】
＜バックコート層＞
１．カーボンブラックの分散組成
2004265563.tif 000004
【００７１】
【化１】
2004265563.tif 000005
【００７２】
２．針状粒子の分散組成
2004265563.tif 000006
【００７３】
ａ）分散液ａ
上記カーボンブラック分散液を、３本ロールミルで混練した後、サンドミルを用いて６時間分散させた。
ｂ）分散液ｂ
上記針状粒子分散液を、ニーダーで混練した後、サンドミルを用いて４時間分散させた。
【００７４】
得られた分散液ａ及びｂを混合し、ディスパーで攪拌した後、更にサンドミルで２時間分散させた。その後、ポリイソシアネート２０部とメチルエチルケトン１０００部を加えて１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、バックコート層用塗布液を得た。
【００７５】
製法：コンピューターテープ
上記の磁性層塗布液及び非磁性層用塗布液の各成分をニーダーで混練した後、サンドミルを用いて４時間分散させた。得られた分散液に、ポリイソシアネートを非磁性層の塗布液には２．５部、磁性層の塗布液には３部加え、更にそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加えて、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用塗布液及び磁性層形成用塗布液をそれぞれ調製した。得られた非磁性層用塗布液を、乾燥後の下層の厚さが１．７μｍになるように、更にその直後にその上に磁性層の厚さが０．１μｍになるように、厚さ４．４μｍで中心面平均粗さが２ｎｍのアラミドし自体上に同時重層塗布し、両層がまだ湿潤状態にあるうちに、０．６Ｔ（６０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と０．６Ｔ（６０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後、金属ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎ．で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバックコート層を塗布した。８ｍｍ幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を備えた装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、テープ試料を得た。
【００７６】
コンピューターテープの各々の性能を下記の測定法により評価した。
＜測定法＞
（１）バックコート層中心面平均表面粗さ（Ｒａ）
３Ｄ−ＭＩＲＡＵでの表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いて、ＭＩＲＡＵ法で約２５０×２５０μｍの面積のＲａ、Ｒｒｍｓ、Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍにて球面補正、円筒補正を加えている。本方式は光干渉にて測定する非接触表面粗さ計である。
（２）バック層の鋼球摩耗量
鋼球として、玉軸受け用鋼球で、直径１／４インチのものを使用し、荷重３０ｇで、テープ３０ｍｍ長を１パス（１往復）擦り、テープ位置をずらしつつ１５回擦った。鋼球の擦られた表面を顕微鏡で観察し、顕微鏡付属のカメラで写真を撮り、磨耗面の直径を計測し、球近似して磨耗体積を求め、これを鋼球磨耗量とした。
（３）バック層摩擦係数
ＳＵＳ４２０Ｊ、直径４ｍｍのポールに９０度ラップさせ、荷重２０ｇ、引っ張り速度１４ｍｍ／ｓｅｃで２３℃７０％の環境で測定した。
（４）ガイドポールの汚れ
ＤＤＳドライブでカートリッジを５巻走行後のバック面タッチのガイドポールの汚れを目視観察し、ティシュで拭き取りその汚れを官能評価した。評価は５段階とし、汚れが少ないものを１とし、数字が多いほうが汚れが多く、最も汚れが多いものを５として、１〜５点数評価した。
（５）バックコート層表面の突起密度
バックコート層表面において、原子間力顕微鏡によって、高さ５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の突起密度（９０μｍ角当たり）を測定した。
【００７７】
実施例２
実施例２では、バックコート層処方及び磁性層処方において塩化ビニル共重合体を除き、ポリウレタン樹脂の含有量を、バックコート層処方では６部、磁性層処方では１２部とした以外は実施例１と同様に作製した。
【００７８】
実施例３
バックコート層処方を下記の通り変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
＜バックコート層＞
１．カーボンブラックの分散組成
2004265563.tif 000007
【００７９】
２．針状粒子の分散組成
2004265563.tif 000008
【００８０】
実施例４
バックコート層に含まれる針状粒子を、平均長軸径７２ｎｍ、針状比４．７のヘマタイトに変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
【００８１】
比較例１
バックコート層に針状粒子を用いずに、かつカーボンブラックの含有量を１００部に変更し、下記組成とした以外は、実施例１と同様に作製した。
＜バックコート層＞
１．カーボンブラックの分散組成
2004265563.tif 000009
【００８２】
比較例２
針状粒子とカーボンブラックの比率を８／２から９５／５に変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
【００８３】
比較例３
バックコート層に含まれる針状粒子を、平均長軸径３５０ｎｍ、針状比５のヘマタイトに変更した以外は、実施例１と同様に作製した。
【００８４】
【表１】
2004265563.tif 000010
【００８５】
バックコート層に平均粒径が５〜３００ｎｍの範囲内の針状粒子を含み、かつバックコート層の鋼球磨耗量が５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３の範囲内である実施例１〜４の磁気テープは、バックコート層の表面粗さが小さく、突起密度も低く、平滑であり、かつドライブ走行での汚れが少なかった。また、繰り返し走行による摩擦係数の変化も少なく走行耐久性にも優れていた。
バックコート層に針状粒子を含まない比較例１は、バックコート層の表面粗さが大きく、突起密度が高く、ガイドポールの汚れも多かった。また、繰り返し走行による摩擦係数の変化も大きかった。
バックコート層の鋼球磨耗量が５×１０−８〜１×１０−５ｍｍ３の範囲外である比較例２は、バックコート層の表面粗さが大きく、突起密度が高く、ガイドポールの汚れも多かった。
バックコート層に平均粒径が３００ｎｍを超える針状粒子を含有する比較例３は、ガイドポールの汚れが少なく、繰り返し走行による摩擦係数の変化も小さかったが、バックコート層の表面粗さ及び突起密度が大きく、表面平滑性に劣っていた。
【００８６】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体は、表面平滑性に優れ、かつ繰り返し走行によるガイドポールの汚れの発生も少ないことから、粒子脱落等によるドロップアウトも少なく、従来のインダクティブヘッドを用いた磁気記録システムにおいて使用できるのはもちろんのこと、よりノイズが重要なＭＲヘッドを用いたシステムにも好適である。