(57)【要約】【課題】液体窒素により極低温に保持したドラム表面のクライオターゲット層を速やかに修復できるレーザプラズマＸ線発生装置を提供する。【解決手段】シャフト１２１の下端にドラム１２２を固定し、そのドラム１２２をクライオ化カバー１０６の内部に回転方向および軸方向に移動可能に配置する。そして、シャフト１２１に液体窒素供給パイプ１３１を挿入し、クライオ化カバー１０６にターゲットガス供給用の配管１４４を接続する。また、クライオ化カバー１０６の周囲にジャケット１７１を配置し、配管１４４の周りにパイプ１８５を配置して熱交換器を形成する。そして、シャフト１２１と液体窒素供給パイプ１３１との隙間Ｓから液体窒素のベーパガスを取り出して、配管１４４とパイプ１８５の間に導き、さらにジャケット１７１内に導いて、ターゲットガスを冷却し、ターゲット材の付着効率を向上させる。【選択図】　　　　図１
2004037324.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学的に不活性で室温ではガス状態であるターゲット材を、ガス状態にて供給し、液体窒素等の冷媒により極低温に冷却された回転円筒体の外表面に接触させることにより、冷却し、固体化して前記回転円筒体の外表面に堆積したクライオターゲット層を形成させ、該クライオターゲット層の表面に、高尖頭パワーを有し所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光を集光照射するとともに、前記回転円筒体の回転方向または軸方向への移動あるいはそれら２方向への移動の組み合わせにより、空間的に固定されたパルスレーザ光の集光照射点に対して前記クライオターゲット層を有する回転円筒体表面を面方向へ移動させて、該回転円筒体表面上で前記集光照射点を移動させ、前記パルスレーザ光の集光照射により高温高密度プラズマを生成するとともに、該パルスレーザ光の集光照射によるプラズマ化によってクレータ穴が発生したクライオターゲット層を前記ターゲット材の連続的な供給により修復させ、前記高温高密度プラズマからパルスＸ線を連続的に繰り返し発生させるレーザプラズマＸ線発生装置において、
ガス状態にて前記回転円筒体の外表面に供給するターゲット材を、前記回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスにより冷却することを特徴とするレーザープラズマＸ線発生装置。
【請求項２】
前記ターゲット材をガス状態にて前記回転円筒体の外表面に向け移送する配管の周囲に、前記回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスを導くことにより、前記ターゲット材を冷却することを特徴とする請求項１記載のレーザープラズマＸ線発生装置。
【請求項３】
移送されたガス状態のターゲット材を前記回転円筒体の周囲に閉じ込める壁の周囲に、前記回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスを導くことにより、前記ターゲット材を冷却することを特徴とする請求項１または２記載のレーザープラズマＸ線発生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この出願の発明は、高尖頭パワーを有し所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光を、固体標的物質をターゲットとして集光照射することにより、高温高密度プラズマを生成し、該高温高密度プラズマからパルスＸ線（レーザプラズマＸ線）を連続的に繰り返し発生させるレーザプラズマＸ線発生装置に関し、特に、化学的に不活性で室温ではガス状態であるターゲット材を液体窒素等により極低温に冷却された回転体の表面に接触させ、冷却することにより回転体表面に固定化して堆積したクライオターゲット層をパルスレーザ光照射のターゲットとするレーザプラズマＸ線発生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
高尖頭パワーを有し所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光を、直径１００μｍ以下の点に集光して、固体標的物質をターゲットとして集光照射することにより、高温高密度プラズマを生成し、該高温高密度プラズマから高輝度のパルスＸ線を発生させ、発生したパルスＸ線をＸ線リソグラフィーやＸ線顕微鏡等の光源として利用するレーザプラズマＸ線発生装置において、化学的に不活性で室温ではガス状態である物質、例えば、クリプトン、キセノン、アルゴン等の希ガスを液体化または固体化したものをターゲット材として連続的に供給し、回転体表面に堆積させ、パルスレーザ光の集光照射点にクライオターゲット層を形成する手段として、例えば特開平１−６３４９号公報（特許番号第２６１４４５７号）に開示されているような、回転無端ベルトを利用した装置が従来から知られている。
【０００３】
特開平１−６３４９号公報に開示された装置は、図５に示すように、真空チャンバー１の内部に、連続移動する回転無端ベルト２を備えたベルトコンベア３が設けられ、液体化または固体化したクライオターゲット材４が、ターゲット材供給装置５から供給路６を介して回転無端ベルト２の表面上に連続供給され、回転無端ベルト２の表面に付着して、クライオターゲット層７を形成するよう構成されている。そして、真空チャンバー１側壁の入射口８から、レーザ集光レンズ９を通してパルスレーザ発生装置１０からのパルスレーザ光１１が入射され、回転無端ベルト２の表面の集光照射点１２においてクライオターゲット層７のクライオ材をプラズマ化してパルスＸ線１３を放射させ、そのパルスＸ線１３がＸ線出射口１４から外部へ取り出される。また、パルスレーザ光１１の集光照射によりプラズマ化してクレータ穴が残ったクライオターゲット層７は、回転無端ベルト２と共に移動し、その移動する回転無端ベルト２の表面上にクライオターゲット材が連続して供給されることにより、修復される。
【０００４】
また、これとは別に、ごく最近では、Ｐｒｏｃ．　ＳＰＩＥ　Ｖｏｌ．３８８６　（１９９９）に、ベルトコンベアの代わりに、液体窒素で極低温に冷却された回転円筒体の表面に、化学的に不活性で室温ではガス状態である希ガス等のターゲット材をガス状態にて連続的に供給し、凝縮させてクライオターゲット層を形成し、その回転円筒体表面に形成されたクライオターゲット層を、回転円筒体の回転方向および軸方向へ移動させることにより、固体化されたクライオ材を集光照射点に供給する方法が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の技術のうち、回転無端ベルトの表面に、予め液体化または固体化したターゲット材を供給するの方法では、ターゲット材の付着が不安定で、クライオターゲット層を確実に形成できない。
【０００６】
一方、極低温に冷却した回転円筒体の表面に、化学的に不活性で室温ではガス状態である希ガス等のターゲット材をガス状態にて供給し、凝縮させてクライオターゲット層を形成する方法では、ターゲット材の付着が安定し、クライオターゲット層の確実な形成が可能である。しかし、この方法でクライオターゲット層を形成しても、その形成したクライオターゲット層の表面には、パルスレーザー光の集光照射によるプラズマ化によって集光照射点に半球状のクレータ穴が発生し、そのクレータ穴が発生した箇所を再びパルスレーザ光が照射したのでは、集光度の安定性が悪化し、安定した高平均出力のパルスＸ線を連続的に繰り返し発生することができない。そのため、クレータ穴が発生したクライオターゲット層を速やかに修復できるように、連続的にターゲット材を供給し、その供給したガス状態のターゲット材を、クライオ化カバー等の壁により回転円筒体の周囲に閉じ込めるようにしている。
【０００７】
しかし、従来の技術では、極低温に冷却した回転円筒体の表面に凝縮させてクライオターゲット層を形成させるターゲット材は、室温のまま供給されるため、分子エネルギーが大きくて、極低温に冷却された回転円筒体表面のクライオターゲット層への付着の効率が悪く、付着が遅くて、クライオターゲット層を速やかに修復させることができない。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、液体窒素等により極低温に冷却した回転円筒体の表面に、化学的に不活性で室温ではガス状態である希ガス等のターゲット材をガス状態にて供給し、凝縮させて形成するクライオターゲット層の修復を速やかに行うことができるレーザプラズマＸ線発生装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明のレーザプラズマＸ線発生装置は、化学的に不活性で室温ではガス状態であるターゲット材を、ガス状態にて供給し、液体窒素等の冷媒により極低温に冷却された回転円筒体の外表面に接触させることにより、冷却し、固体化して前記回転円筒体の外表面に堆積したクライオターゲット層を形成させ、該クライオターゲット層の表面に、高尖頭パワーを有し所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光を集光照射するとともに、前記回転円筒体の回転方向または軸方向への移動あるいはそれら２方向への移動の組み合わせにより、空間的に固定されたパルスレーザ光の集光照射点に対して前記クライオターゲット層を有する回転円筒体表面を面方向へ移動させて、該回転円筒体表面上で前記集光照射点を移動させ、前記パルスレーザ光の集光照射により高温高密度プラズマを生成するとともに、該パルスレーザ光の集光照射によるプラズマ化によってクレータ穴が発生したクライオターゲット層を前記ターゲット材の連続的な供給により修復させ、前記高温高密度プラズマからパルスＸ線を連続的に繰り返し発生させるレーザプラズマＸ線発生装置において、ガス状態にて前記回転円筒体の外表面に供給するターゲット材を、前記回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスにより冷却することを特徴とする。
【００１０】
このレーザプラズマＸ線発生装置は、より具体的には、ターゲット材をガス状態にて回転円筒体の外表面に向け移送する配管の周囲に、回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスを導くことにより、ターゲット材を冷却するようにでき、また、移送されたガス状態のターゲット材を回転円筒体の周囲に閉じ込める壁の周囲に、回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスを導くことにより、ターゲット材を冷却するようにできる。
【００１１】
このレーザプラズマＸ線発生装置には、化学的に不活性で室温ではガス状態であるターゲット材が、ガス状態にて供給される。そして、そのガス状態のターゲット材が、極低温に冷却された回転円筒体の外表面に接触し、冷却され、凝縮して回転円筒体の外表面に堆積し、クライオターゲット層を形成する。そして、そのクライオターゲット層の表面に、高尖頭パワーを有するパルスレーザ光が集光照射されることにより、高温高密度プラズマが生成され、該高温高密度プラズマからパルスＸ線が発生する。
【００１２】
また、回転円筒体の回転方向または軸方向への移動あるいはそれら２方向への移動の組み合わせにより、空間的に固定されたパルスレーザ光の集光照射点に対してクライオターゲット層を有する回転円筒体表面が面方向へ移動して、回転円筒体表面上で集光照射点が移動し、その間、ターゲット材が連続的に供給されて、パルスレーザ光の集光照射によるプラズマ化によってクレータ穴が発生したクライオターゲット層は修復される。その際、ガス状態にて回転円筒体の外表面に供給されるターゲット材は、配管や、ターゲット材を回転円筒体の周囲に閉じ込める壁部を介して、回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスにより冷却され、低温で分子エネルギーの小さいガスとなって供給される。そのため、極低温に冷却された回転円筒体表面のクライオターゲット層へのターゲット材の付着の効率がよくなり、クライオターゲット層は確実かつ速やかに修復される。そして、所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光が、順次、クライオターゲット層表面の修復した箇所へ集光照射され、パルスＸ線が連続的に繰り返し発生する。
【００１３】
こうして、ガス状態にて回転円筒体の外表面に供給するターゲット材を、回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスにより冷却することにより、クライオターゲット層の修復を確実かつ速やかに行うことができる。また、回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスを使用してターゲット材を冷却するので、液体窒素等の冷媒を回転円筒体の冷却以外だけに使用するのではなく、有効再利用することができて、省エネルギーとなり、また、装置の構成が簡単で、小型化が可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１５】
図１は本発明の実施の形態のレーザプラズマＸ線発生装置の一例の縦断面図、図２は図１の一部詳細図である。
【００１６】
この図１および図２に示す実施の形態のレーザプラズマＸ線発生装置は、中央部が開口した水平なフレーム１０１に、上方からフランジ体１０２がボルト固定され、そのフランジ体１０２に、下方から、上下両端にフランジ状の連結部１０３、１０４が一体に溶接された連結スリーブ１０５を介して、概略円筒状のクライオ化カバー１０６が垂直状態で配設され、ボルト連結されている。
【００１７】
そして、クライオ化カバー１０６の内面に接するよう、概略円筒状の銅リング１０７が嵌め込まれ、クライオ化カバー１０６のボス部に取付けられた止めねじで所定位置に保持されている。そして、その銅リング１０７の下部は、中央が開口した有底円筒状に形成され、その有底円筒状の下部底面に、下方から軸受ホルダー１０９がボルト固定され、この軸受ホルダー１０９にジャーナル軸受１１０が保持されている。
【００１８】
また、フランジ体１０２の上面には、概略円筒状の真空カバー１１１が垂直状態で配設されて、一体溶接されたフランジ状の連結部１２０を介してボルト固定され、その真空カバー１１１に囲まれるよう、概略円筒状で真空カバー１１１より小径の軸受アセンブリーホルダー１１２がやはり垂直状態で配置され、ボルト固定されている。
【００１９】
そして、軸受アセンブリーホルダー１１２の内側に、上下２段の配置で転がり軸受１１３、１１４が保持され、それら上下の転がり軸受１１３、１１４の中間に磁気シール１１５が配設されている。
【００２０】
真空カバー１１１は、軸受アセンブリーホルダー１１２の周囲および上方に密閉空間を形成し、その密閉空間を図示しない真空ポンプにより真空に保持するもので、軸受アセンブリーホルダー１１２の上方において内側に張り出すようリング状の隔壁１１６が一体溶接され、そのリング状の隔壁１１６に、上下２段にシール１１７、１１８を保持したシールホルダー１１９が上方から配設され、ボルト固定されている。
【００２１】
また、図示しないが、真空カバー１１１の上方には、回転用および上下用のステッピングモータを備えた駆動機構が配設されている。そして、この駆動機構により上下方向および回転方向へ駆動されるパイプ状のシャフト１２１が、真空カバー１１１の内側を貫通して上下に配置され、このシャフト１２１の下端延設部分に、クライオ化カバー１０６の内部で銅リング１０７の内周に一定のギャップを持って回転方向および軸方向に移動する回転円筒体としてのドラム１２２が一体に溶接されている。
【００２２】
ドラム１２２は、底部中央に下方へ突設したシャフト部１２３を有し、このシャフト部１２３が、軸受ホルダー１０９に保持されたジャーナル軸受１１０で支持されている。
【００２３】
一方、シャフト１２１の外周には、軸受アセンブリーホルダー１１２の内側に保持された転がり軸受１１３、１１４のインナーレールと一体に回転するガイドスリーブ１２４が、軸方向に相対移動可能に装着され、そして、このガイドスリーブ１２４の下方で、ドラム１２２の上方に位置する外周上に、フランジ状の突起部１２５が設けられて、ガイドスリーブ１２４の下端と、フランジ状の突起部１２５の上端との間に、シャフト１２１を囲んでベローズ１２６が配設され、また、ガイドスリーブ１２４の上部内周側に、シャフト１２１を囲んで軸受１２７が装着されている。
【００２４】
シャフト１２１の内側には、ドラム１２２の内側下部まで達するよう液体窒素供給パイプ１３１が挿入されている。この液体窒素供給パイプ１３１は、装置上部の図示しない液体窒素供給口から供給される液体窒素をドラム１２２の内部に導入するためのもので、外径がシャフト１２１の内径より小さく、周囲に隙間Ｓができるよう配置されている。また、液体窒素供給パイプ１３１の内部には、液面計１３８が挿入されている。
【００２５】
シャフト１２１と液体窒素供給パイプ１３１との隙間Ｓは、下方にはドラム１２２内部に開放され、上方には、例えば図示のようにシールホルダー１１９の上方でシール１３２により密封されている。
【００２６】
シールホルダー１１９には、上下２段のシール１１７、１１８に挟まれた内周部分に環状の溝１３３が形成されている。また、シャフト１２１には、このシールホルダー１１９内周の環状の溝１３３に液体窒素供給パイプ１３１周囲の隙間Ｓを開口させる横穴１３４が形成されている。そして、シールホルダー１１９内周の環状の溝１３３に連通して側方へ延びるようシールホルダー１１９に連通穴１３５が形成され、この連通穴１３５に連通する取出穴１３６が隔壁１１６に形成され、この隔壁１１６の取出穴１３６に開口する配管挿入口１３７が真空カバー１１１に形成されている。
【００２７】
クライオ化カバー１０６には、照射フランジ１０８を挿嵌する位置とは反対側の上部側方位置に、ターゲットガス導入用の開口１４１が設けられ、その開口１４１に連通するよう配管接続用の入口金具１４２が溶接固定されている。そして、この入口金具１４２に、接続金具１４３を介してターゲットガス供給用の配管１４４が接続されている。
【００２８】
また、クライオ化カバー１０６には、ターゲットガス導入用の開口１４１の下方に、温度センサ設置用のボス部１４５が形成され、このボス部１４５に、装着金具１４６を介して温度センサ挿入用のパイプ１４７が接続されている。
【００２９】
銅リング１０７は、上端部分の外周に２段に円周溝１５１が形成され、それら２段の円周溝１５１が所定位置で上下に連通するとともに下段の円周溝１５１に連通して下方に延びるよう、外面に複数本の縦溝１５２が周方向に所定間隔で形成され、内周側は、外周に円周溝１５１を有する上端部分の内周面と、照射フランジ１０８の入出射口１６０と周方向に並ぶ位置の上下に形成された上下複数段の内周側の環状リブ１５３とが、ドラム１２２と一定のギャップ（Ｇ）を持っている。それ以外の部位ではドラム１２２外周との間にギャップ（Ｇ）以上の隙間ができる構成で、中段の二つの環状リブ１５３の間に、外周側の縦溝１５２を内周側へ連通させる連通穴１５４が形成されている。
【００３０】
また、クライオ化カバー１０６には、周囲に密封空間を形成するようジャケット１７１が溶接固定されている。
【００３１】
クライオ化カバー１０６の開口１４１に連通する入口金具１４２に接続金具１４３を介して接続されたターゲットガス供給用の配管１４４は、フレーム１０１に固定された三股のニップル１８１と、その上方に配置された三股のニップル１８２を貫通して、フレーム１０１の上方へ延び、各ニップル１８１、１８２に接続金具１８３、１８４を介して密着固定され、それら上下のニップル１８１、１８２の間に、配管１４４の周りに密閉空間を形成するようパイプ１８５が取り付けられている。
【００３２】
これら上下のニップル１８１、１８２の間の配管１４４と、パイプ１８５とは、ガス冷却熱交換器を構成するもので、上側のニップル１８２には、隔壁１１６の取出穴１３６に開口する真空カバー１１１の配管挿入口１３７との間に、ドラム１２２内に発生したベーパガスを取り出して上下のニップル１８１、１８２の間の配管１４４とパイプ１８５との間に導くための配管１８６が接続されている。
【００３３】
また、下側のニップル１８１には、配管１４４とパイプ１８５との間を流れたベーパガスを、ジャケット１７１内の密封空間に導くための配管１８７が接続されている。ガス冷却熱交換器の配管１４４とパイプ１８５との間を流れたベーパガスは、配管１８７を通ってジャケット１７１内の密封空間に導入され、クライオ化カバー１０６の周囲を流れ、出口側の配管１８８を通って大気中に放出される。
【００３４】
このレーザプラズマＸ線発生装置では、液体窒素供給パイプ１３１によりドラム１２２の内部に冷媒としての液体窒素が導入され、ドラム１２２が冷却されて、その外表面が極低温に保持される。そして、化学的に不活性で室温でガス状態であるターゲット材（クリプトン、キセノン、アルゴン等の希ガス等）がガス状態でターゲットガスとして配管１４４により供給され、そのターゲットガスが、クライオ化カバー１０６の開口１４１から銅リング１０７の上段の円周溝１５１に入り、上下の円周溝１５１を流れ、縦溝１５２を流れて、連通穴１５４からドラム１２２の外表面に向けて噴出し、それがドラム表面に接触して冷却され、凝縮してドラム１２２の外表面上に堆積することによりクライオターゲット層が形成される。
【００３５】
ドラム１２２は、シャフト１２１と一体に、回転方向および軸方向へ移動する。そして、パルスレーザ光発生装置（図示せず）により、高尖頭パワーを有し所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光が、照射フランジ１０８の穴を通して入射し、ドラム１２２の外表面近傍に位置する空間的に固定された集光照射点においてクライオターゲット層の表面に集光照射され、そのパルスレーザ光の集光照射により、高温高密度プラズマが生成し、その高温高密度プラズマからパルスＸ線が発生する。また、ドラム１２２が回転方向および軸方向へ移動することにより、空間的に固定されたパルスレーザ光の集光照射点に対して、クライオターゲット層が形成されたドラム表面が面方向へ移動し、ドラム１２２の表面上でパルスレーザ光の集光照射点が所定の軌跡を描いて移動し、その間、ターゲットガスが連続的に供給されて、パルスレーザ光の集光照射によるプラズマ化によってクレータ穴が発生したクライオターゲット層が修復され、所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光の集光照射により、パルスＸ線が連続的に繰り返し発生する。
【００３６】
その際、ドラム１２２内には、液体窒素のベーパガスが発生し、そのベーパガスが、シャフト１２１と液体窒素供給パイプ１３１との間隙Ｓを上昇し、配管１８６に取り出されて、ガス冷却熱交換器のパイプ１８５内に導かれる。そして、配管１４４を流れるターゲットガスがこの部分でベーパガスとの熱交換によって冷却される。
【００３７】
また、ガス冷却熱交換器の配管１４４とパイプ１８５との間を流れたベーパガスが、配管１８７を通ってジャケット１７１内の密封空間に導入され、クライオ化カバー１０６の周囲を流れることにより、クライオ化カバー１０６が冷却され、クライオ化カバー１０６に接する銅リング１０７が冷却される。そのため、クライオ化カバー１０６の開口１４１から銅リング１０７の上段の円周溝１５１に入り、上下の円周溝１５１を流れ、縦溝１５２を流れる際に、ターゲットガスは、さらに冷却される。そして、低温で分子エネルギーの小さいガスとなってドラム１２２の外表面に供給される。そのため、極低温に冷却されたドラム１２２表面のクライオターゲット層へのターゲット材の付着の効率がよくなり、クライオターゲット層は確実かつ速やかに修復される。
【００３８】
以上、実施の形態の一例について説明したが、上記実施の形態のレーザプラズマＸ線発生装置は、図３および図４に示すように、銅リング１０７を設けない構成に変更することもできる。図３はレーザプラズマＸ線発生装置の縦断面図、図４は図３の一部詳細図である。以下、この変更例のレーザプラズマＸ線発生装置について、図１および図２に示すレーザプラズマＸ線発生装置と共通する部分については図に同じ符号を付すにとどめ、特有な構成を中心に説明する。
【００３９】
この図３および図４に示すレーザプラズマＸ線発生装置は、ドラム１２２の外周にクライオ化カバー２０６の内周の環状リブ２５３が接するよう構成されたもので、環状リブ２５３は、照射フランジ１０８の入出射口１６０と周方向に並ぶ位置の上下に上下複数段に形成され、中段の二つの環状リブ２５３の間に、ターゲットガス導入用の開口２４１が設けられている。そして、その開口２４１が設けれた部分がボス部２４５を構成し、このボス部２４５に、接続金具１４３を介してターゲットガス供給用の配管１４４が接続され、ボス部２４５を跨いでジャケット２７１が溶接固定されている。また、クライオ化カバー２０６の下部は軸受ホルダー部を構成し、この部分でジャーナル軸受１１０を保持している。
【００４０】
この図３および図４に示すレーザプラズマＸ線発生装置では、配管１４４により供給されるターゲットガスは、クライオ化カバー２０６の開口２４１から直接ドラム１２２の外表面に向けて噴出する。そして、そのターゲットガスは、ガス冷却熱交換器のパイプ１８５内に導かれた液体窒素のベーパガスとの熱交換によって冷却され、さらに、そのベーパガスが配管１８７を通ってジャケット２７１内の密封空間に導入され、クライオ化カバー２０６が冷却されることにより、クライオ化カバー２０６のボス部２４５を流れる際にさらに冷却される。そのため、ターゲットガスはやはり低温で分子エネルギーの小さいガスとなってドラム１２２の外表面に供給され、それにより、極低温に冷却された回転円筒体表面のクライオターゲット層へのターゲット材の付着の効率がよくなり、クライオターゲット層は確実かつ速やかに修復される。
【００４１】
以上、実施の形態の一例およびその変更例を説明したが、本発明はそれらに限定されるものではなく、発明の技術的思想の範囲において適宜構成を変更して実施できることは勿論である。
【００４２】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明のレーザプラズマＸ線発生装置は、ガス状態にて回転円筒体の外表面に供給するターゲット材を、回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスにより冷却することにより、クライオターゲット層の修復を確実かつ速やかに行うことができ、また、回転円筒体の冷却に使用した冷媒から発生する極低温ガスを使用してターゲット材を冷却するので、液体窒素等の冷媒を回転円筒体の冷却以外だけに使用するのではなく、有効再利用することができて、省エネルギーとなり、また、装置の構成が簡単で、小型化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態のレーザプラズマＸ線発生装置の一例の縦断面図である。
【図２】図１の一部詳細図である。
【図３】本発明の実施の形態のレーザープラズマＸ線発生装置の変更例の縦断面図である。
【図４】
図３の一部詳細図である。
【図５】従来のレーザプラズマＸ線発生装置の概略構成図である。
【符号の説明】
１０６、２０６　クライオ化カバー
１０７　銅リング
１２１　シャフト
１２２　ドラム
１３１　液体窒素供給パイプ
１４４　配管（ターゲットガス供給用）
１７１　ジャケット
１８５　パイプ
１８６、１８７、１８８　配管
Ｓ　隙間
【図１】
2004037324.tif 000003
【図２】
2004037324.tif 000004
【図３】
2004037324.tif 000005
【図４】
2004037324.tif 000006
【図５】
2004037324.tif 000007