(57)【要約】【課題】　電気化学的な各種の信号を伝達するための装置および当該装置を製造するための方法を提供する。【解決手段】　本発明の装置は一定の層状構造を有しており、この層状構造はその材料を傷つける作用に対して抵抗するように設計されていることにより、その材料の導電性を維持することのできる少なくとも１個の表面模様付きの導電性の皮膜、層または表面部分を有している。さらに具体的に言えば、本発明の装置は内部において複数の山頂部および谷部が形成されている薄い金属の皮膜または金属蒸着処理した表面部分を有していて、その皮膜または表面部分内の一定の傷またはスクラッチがその谷部の底面部まで完全に貫通しないようになっており、これにより、その皮膜または表面部分を通る一定の導電性の通路が維持できる。【選択図】　　　　図１
2004138612.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
　一定の層状構造において、
　一定の支持体、
　前記支持体の一定の表面部分を被覆している一定の導電性の皮膜、および
　前記層状構造内における一定の表面模様付きのパタンの凹部を備えており、当該凹部が前記導電性の皮膜の厚さよりも大きな一定の深さを有している層状構造。
【請求項２】
　一定の層状構造において、
　一定の支持体、
　前記支持体の一定の表面部分を被覆している一定の導電性の被膜、および
　前記層状構造内における一定の表面模様付きのパタンの微小構造部分を備えており、当該微小構造部分が前記導電性の皮膜の厚さよりも大きな一定の高さを有している層状構造。
【請求項３】
　一定の層状構造において、
　一定の支持体、
　前記支持体の一定の表面部分を被覆していて一定の厚さを有している一定の導電性の皮膜、および
　前記層状構造内における一定の表面模様付きのパタンの山頂部分および谷部を備えており、当該山頂部分と谷部との間の垂直方向の距離が前記導電性の皮膜の厚さよりも約５倍以上大きい層状構造。
【請求項４】
　一定の装置において、
　一定の厚さを有する金属蒸着処理した表面部分、および
　一定の表面模様付きのパタンの凹部を備えており、当該凹部が前記厚さよりも少なくとも５倍大きい一定の深さを有している装置。
【請求項５】
　一定の装置において、
　一定の厚さを有する金属蒸着処理した表面部分、および
　一定の表面模様付きのパタンの微小構造部分を備えており、当該微小構造部分が前記厚さよりも少なくとも５倍大きい一定の高さを有している装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は一般に表面模様付きの金属皮膜および金属蒸着表面に関連している。
【背景技術】
【０００２】
　金属スパッタリングおよび熱蒸発の技法等により作成される皮膜構造のような各種の金属蒸着表面または薄い金属の皮膜または層は各種の電子部品、食品包装材料、窓被覆材料等において一般的に用いられている。これらの金属表面の層または皮膜の多くは１００Å程度であり、それゆえ、通常の処理および取り扱いにおいて容易に生じる可能性のある各種のスクラッチまたは掻き傷の影響を極めて受けやすい。このようなスクラッチを避けるために、上記の金属層は一般的に２５０，０００Å程度の一定の厚さを有する一定のポリマー材料の付加的な層により被覆されていて、その金属層の耐スクラッチ性の程度を比較的に高くしている。しかしながら、この金属層が各種の半導体および、例えば、電気化学的セル等の他の電気部品のような、電気的な各種の信号を伝達するために用いられる場合に、その金属を一定のポリマー層により被覆することが実行できなくなる。この結果として、このような導電性の金属皮膜はスクラッチの影響を極めて受けやすくなる。ほこりにより生じる傷のようなわずかなスクラッチでさえも、その金属層を通る一定の導電性の通路を有効に除去する可能性がある。
【０００３】
　各種の薄い金属皮膜の特定の用途として、電気化学的な分析物濃度決定の分野がある。具体的に言えば、これらの金属皮膜は、多くの場合に一定の試験片の形態における、一定の電気化学的セルを形成する各種の電極の製造において用いられている。さらに、このような電気化学的試験片は血液、間質液、尿等のような各種の生理学的な流体中の分析物濃度の決定において用いられている。一般的な分析物はグルコース、ヘモグロビン、コレステロール等を含む。
【０００４】
　上記試験片の金属層は一般的に表面の模様を全く伴わない平坦で平面状の一定の支持材料の上に形成されている。従って、例えば、１００オングストローム等のような、上記金属層と同程度の厚さを有する一定のスクラッチがその分析物測定の正確さおよび精度に悪影響を及ぼし、その金属層を通る一定の導電性の通路を完全に除去してしまう可能性がある。この問題は、例えば、ウエブ進行用の各ローラー等のような、各種試験片の多大な取り扱いを含み、これにより、その試験片を傷つける可能性を高めているウエブに基づく試験片の各種製造プロセスによりさらに悪化する。さらに、例えば、一定の傷ついたローラー等のような一定の製造プロセスにおける一定の欠陥部分は反復性のスクラッチを生じる可能性があり、これにより、これらの試験片のバッチが損傷して、実質的な費用が発生する。加えて、ほこりの粒子等も製造プロセス中およびその後の各種金属皮膜の不規則なスクラッチを生じる可能性がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
　従って、比較的に高い耐スクラッチ性の薄い金属の層または皮膜を作成し、これにより、このような金属の層または皮膜の製造可能性を改善し、これらが用いられる、例えば、各種の電気化学的試験片の正確さおよび精度を改善して、ウエブに基づく各種の製造プロセスにおける費用の有効性を高める一定の手段に対する要望が存在している。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
　各種の電気的な信号を伝達するための一定の層状構造を有する装置およびこれら主題の構造を製造するための方法が本発明により提供されている。このような本発明の装置は当該装置におけるスクラッチの影響に耐えてその導電層の導電率を維持するように設計されている少なくとも１個の模様付きの導電層を含む各種の層状構造である。さらに具体的に言えば、本発明の装置は谷部における底面部までその皮膜または表面内の一定のスクラッチが完全に貫通しないように内部に形成されている各種の山頂部および谷部を有する薄い金属の皮膜または蒸着表面部分を含み、これによりその皮膜または表面部分を通る一定の導電性の通路が維持できる。
【発明の効果】
【０００７】
　従って、本発明によれば、比較的に高い耐スクラッチ性の薄い金属の層または皮膜を作成し、これにより、このような金属の層または皮膜の製造可能性を改善し、これらが用いられる、例えば、各種の電気化学的試験片の正確さおよび精度を改善して、ウエブに基づく各種の製造プロセスにおける費用の有効性を高める一定の手段が提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
　本発明を詳細に説明する前に、本発明が本明細書において記載されている特定の変形例に限定されず、本発明の真の趣旨および範囲から逸脱することなく、種々の変形または変更が記載されている本発明に対して行なうことが可能であり、これらの等価物が置換可能であることが理解されるべきである。加えて、本発明の各種の目的、趣旨または範囲に対する特定の状況、材料、物質の組成、プロセス、プロセスの各作用または各工程に適合するために多くの変更を行なうことができる。さらに、これらの変更の全ては本明細書に添付されている特許請求の範囲に含まれると考えられる。
【０００９】
　本明細書において列挙されている方法は論理的に可能なそれぞれの列挙されている状態の任意の程度ならびに各状態の列挙されている程度において行なうことができる。さらに、一定の値の範囲が与えられている場合に、その範囲およびその他の述べられているあらゆる範囲における上限値および下限値の間の中間の値またはその述べられている範囲内の中間の値は本発明の範囲に含まれることが理解されると考える。また、記載されている本発明の変形例におけるあらゆる随意的な特徴がそれぞれ独立して、あるいは、本明細書において記載されている任意の１個以上の特徴との組み合わせにおいて記載および主張できることも考慮されると考える。
【００１０】
　本明細書において述べられている全ての既存の発明（例えば、各種の刊行物または公報、特許、特許出願およびハードウエア）はその発明が本発明の主体に対して抵触する可能性がある場合（このような場合には、本明細書における記載内容が優る）を除いてその内容の全体が本明細書において参考文献として含まれる。これらの参照されている文献は本特許出願の出願日の前におけるそれぞれの開示について引用されているのみであり、（この引用を）、本発明が先の発明の効力により当該資料よりも先行する権利がないという承認として何ら本明細において解釈する必要はない。
【００１１】
　一定の単数形の物品に対する表現は複数の同一の物品が存在する可能性を含む。さらに具体的に言えば、本明細書および添付の特許請求の範囲において用いられているように、各種の単一の形態「一定の（a, an）」および「このまたは上記または前記の（the, said）」はその内容が明瞭に特別に示さない限りにおいて複数の表現も含む場合がある。さらに、特許請求の範囲における各請求項はあらゆる随意的な構成要素を排除するように作成されている可能性があることを述べておく。従って、この陳述は主張する各要素の列挙に関連する「単にまたはのみ（solely, only）」等のような排他的な用語の使用または一定の「否定的な（negative）」限定の使用に対する一定の優先の基礎として役立つことを目的としている。また、特別に定められていない限りにおいて、本明細書において用いられている全ての技術的および科学的な用語は本発明が属する当該技術分野における通常の熟練者により一般的に理解されている意味と同一の意味を有することが当然に認識されると考える。さらに、用語の「皮膜（film）」、「層（layer）」および「表面（部分）（surface）」が本明細書において交換可能に使用できることに注目する必要がある。
【００１２】
　本発明をさらに説明する場合に、その主体の装置、すなわち、蒸着処理した表面部分または金属の皮膜または層を含む各種の層状構造が最初に説明されており、その次に、この主体の装置を製造する各種の方法が説明されている。
【００１３】
主体の装置
　次に、各図面、特に図１において、本発明の一定の例示的な層状構造５０の概略的な表現の拡大側面図が示されている。この層状構造５０は一定の支持層５２および一定の導電性の皮膜または層５４を有している。さらに、この層状構造５０の上面部は模様付きのパタン５６を有している。この模様付きとは、上記の皮膜、層または表面部分が一定の輪郭を有する三次元の形態を有することを意味している。本発明のこの層状構造はその内部における微小凹部またはその上部における微小構造またはこれらの両方により形成されている複数の山頂部５８および谷部６０を有しているものとして説明することができる。このような微小凹部および微小構造は一定の反復状または均一な幾何学的パタンあるいは一定の不規則で非幾何学的な一定のフロスト状等のような形状を定めることができる。また、これらの凹部または構造は一定の全方向性または単一方向性の構成を有することができる。この全方向性のパタンは不規則な方向に生じるスクラッチまたは掻き傷に対して抵抗することに特に有用であり、単一方向性のパタンは、例えば、一定のウエブに基づく製造プロセスにおける一定のウエブの長さに沿う、単一の方向におけるスクラッチに対して抵抗することに特に有用である。
【００１４】
　上記の模様付きの特徴はその金属の皮膜、層または表面部分５４の厚さよりも大きいその山頂部から谷部までの距離を有しており、この場合に、この距離は最も薄い皮膜の厚さの約５倍からその金属皮膜の厚さの約２５０倍までの範囲である。従って、この模様付きの特徴は従来の金属の皮膜または層よりもそれぞれの最も深い位置において深い大きさの程度を有しており、それゆえ、上記層状構造の支持層の中に延在している。
【００１５】
　上記の山頂部から山頂部までまたは谷部から谷部までの距離は当面の用途に対応する任意の適当な距離にすることができるが、一般的に約１０，０００Å乃至約１，０００，０００Å、さらに一般的に約５０，０００Å乃至約２５０，０００Åの範囲である。また、垂直方向の山頂部から谷部までの距離、すなわち、上記凹部の深さまたは上記微小構造の高さは一般的に約５００Å乃至約５００，０００Å、さらに一般的に約１０，０００Å乃至約２５，０００Åの範囲であり、約１００Åよりも小さくはない。
【００１６】
　次に図２，３および４において、本発明の各種の模様付きの導電性の皮膜または層または蒸着処理した表面部分の例示的な実施形態がそれぞれ示されている。図２Ａおよび図２Ｂの蒸着処理した表面部分は一定の平面状の上面部８において形成されていて当該上面部８から底部の平面状のランド部分または表面部分４まで下方に傾斜している複数の壁部６を有している一定の模様付きのパタンまたは複数の反復状のまたは均一の幾何学的なポケット部分または凹部２を有している。これらの凹部２は互いに同一であって同一の寸法または形状を有していることが好ましいが、必ずしも必要ではない。例えば、これらの凹部２は一定のさかさまのピラミッド形状または円錐台形状を有することができるが、さかさまのダイアモンド形状、三角形、長方形および円錐形を含むがこれらに限らない任意の適当な形状が採用可能であり、この場合に、各凹部２は一定の傾斜状または直立状の形態を定めることができる。
【００１７】
　図３Ａおよび図３Ｂは一定の模様付きのパタンまたは複数の反復状または均一な微小構造２２を有する一定の蒸着処理した表面部分２０の別の実施形態を示している。これらの微小構造２２は互いに同一であって同一の寸法および形状を有していることが好ましいが、必ずしも必要ではない。例えば、これらの微小構造２２はそれぞれ４個の側面部または壁部２６を有する一定のピラミッド形状または円錐台形状を有することができ、これらの壁部２６は一定の平面状の床部または底面部２８から一定の平坦な平面状のランド部分または上面部２４まで上方に延在している。しかしながら、ダイアモンド形状、三角形、長方形および円錐形を含むがこれらに限らない任意の適当な形状が採用可能であり、この場合に、上記の各微小構造は一定の傾斜状または直立状の形態を定めることができる。
【００１８】
　図２Ａは蒸着処理した皮膜１０内における「ダウン・ウエブ型（down-web）」のスクラッチ部分１２および１４を示しており、これらのスクラッチ部分は金属皮膜１０を含むウエブ処理における動作方向１６に対して実質的に平行に延在している。一方、図３Ａは「クロス・ウエブ型（cross-web）」のスクラッチ部分２６を示しており、これらのスクラッチ部分は金属皮膜２０を含むウエブ処理の動作方向３０に対して実質的に垂直に延在している。もちろん、各スクラッチ部分は上記金属皮膜の動作方向に対して任意の角度で生じることが可能である。
【００１９】
　上記のスクラッチ部分１２は皮膜１０の上面部８における浅いスクラッチであり、上記凹部２の深さに対して、例えば、約１００Åを超えない、一定の最小の深さを有している。従って、これらのスクラッチ部分は皮膜１０の電気的な連続性に対して影響を及ぼさない。一方、別のスクラッチ部分１４はスクラッチ部分１２よりも比較的に深く、約１００Å乃至約２０，０００Åの範囲内であるが２５，０００Åを超えない一定の深さを有している。また、クロス・ウエブ型のスクラッチ部分２６も比較的に深く、ダウン・ウエブ型のスクラッチ部分１４と同一範囲内の一定の深さを有している。本発明の表面模様付きの金属皮膜によれば、これらのような比較的に深いスクラッチ部分２６でさえもその金属皮膜の抵抗を有意義に高めることがない。すなわち、各金属皮膜１０および２０の底面部４および２８までそれぞれ延在しているスクラッチ部分のみがその金属皮膜を通る導電性の通路の連続性を有効に中断できる。しかしながら、このような深いスクラッチ部分は一定の清浄な管理されている環境内においてその製造プロセスが行なわれている場合に生じることが稀である。
【００２０】
　図４Ａおよび図４Ｂは表面模様付きの金属皮膜の実施形態３０および４０をそれぞれ示しており、これらは一定のフロスト状のパタンまたは一定のフロスト構造を有している。図４Ａにおける微小構造および図４Ｂにおける微小構造は不規則に分散しており、その皮膜の表面にわたり均一に分離しておらず、異なる高さを有することができる。また、これらの微小構造の密度もその皮膜の表面積にわたり変化していてもよい。例えば、図４Ｂの皮膜４０は図４Ａの皮膜３０の密度よりも高い一定のフロスト構造を有しており、この皮膜４０は互いに比較的に密接している比較的に多数の微小構造を有しているが、皮膜３０は互いに比較的に離れている比較的に少ない微小構造を有している。これらの実施形態におけるそれぞれの微小構造は各種の幾何学的なパタンを有する金属皮膜について上述した各範囲内の山頂部から谷部までの高さおよび山頂部から山頂部までの距離をそれぞれ有している。
【００２１】
　上記の各図面においてそれぞれ示されている実施形態は反復状の幾何学的パタンおよび不規則なフロスト状のパタンを示しているが、これらの実施形態は例示を目的としていて、本発明を限定することを何ら目的としていない。
【００２２】
主体の装置の製造方法
　上述したように、本発明の模様付きの金属蒸着処理した表面部分または金属の皮膜は、例えば、分析物測定の分析において使用する一定の電気化学的試験片等のような各種の電子装置および電気化学的装置において使用する導電性の層を製造することに使用するために高度に適している。例示の目的のために、上記の模様付きの金属蒸着処理した表面部分および金属の皮膜の製造が一定の電気化学的試験片等の製造の概念において説明されており、この場合に、これら金属の表面部分および皮膜は一定の電気化学的セルを構成するために用いられる各種電極の一部分を形成している。
【００２３】
　上記模様付きの金属表面部分および皮膜は微小型押し、エンボス加工、および注入成型処理を含む微小複製技法を含むがこれらに限らない従来的な任意の技法により本発明に従って製造できる。本発明の皮膜およびこれらの皮膜により形成されている試験片が平面状であるので、これらの皮膜は好ましくは適当な材料の１個以上のウエブ、層またはシートによりこれらの上に製造されている。このようなウエブに基づく製造技法は各種の金属皮膜、試験片などを一度に製造する比較的に従来的な方法に優る有意義なコスト面における利点を提供している。
【００２４】
　本発明の製造方法の以下における説明はウエブに基づく製造の内容において行なわれているが、これらの論じられている技法は単一の試験片等において適するだけの一定の面積を有する金属皮膜を作成するために使用することもできる。加えて、特定の製造技法のみが強調されているが、当該技術分野における熟練者であれば複雑な特徴部分を有する小形の構造を形成することが望まれる場合に低コストの製造を可能にする別の既知の製造技法も使用可能であることが認識できる。
【００２５】
　一定の電気化学的試験片の各電極を製造する場合に、これらの電極に対する構造的な支持を行なうために十分に剛性である一定の不活性な支持材料が供給される。その後、これらの電極の導電層を上記不活性な支持材料の表面上にスパッタリング処理することにより、一定の金属皮膜を製造することができる。集合的に、上記の支持体および金属皮膜は一定の層状構造を定め、この層状構造は１種類以上の別の付加的な材料の層を有することができる。本発明と共に使用することに適している金属皮膜はコネチカット州ウインドソーのテクニ−メット社（Techni-Met, Inc.）により製造されており、例えば、１平方単位長さ当たりに７オーム以下の抵抗を有する１２５ミクロンのポリエステル上にスパッタリング処理したパラジウムおよび１平方単位長さ当たりに７オーム以下の抵抗を有する１２５ミクロンのポリエステル上にスパッタリング処理した金等を含む。
【００２６】
　各種の電気化学的試験片を作成するための一定の製造プロセスの詳細な説明が２００１年１２月１０日に出願されている「パッシブ・サンプル・デイテクション・トウ・イニシエート・タイミング・オブ・アン・アッセイ（Passive Sample Detection to Initiate Timing of an Assay）」を発明の名称とする米国特許出願第１０／０１３，８５６号において開示されており、この場合に、本発明の模様付きの蒸着処理した表面部分および金属皮膜をこの参考文献において開示されている金属の表面部分または皮膜の代わりに用いることができる。図５に基づいて、本発明と共に使用するために適している上記のような例示的な電気化学的試験片１００の簡単な説明を行なう。
【００２７】
　この試験片１００は一定の薄いスペーサー層１０６により分離されている一定の下部層１０２および一定の上部層１０４により作成されており、このスペ−サー層は一定の反応領域または区域１０８を定めている一定の切除部分を有している。一般に、下部層１０２および上部層１０４は約２ｃｍ乃至６ｃｍ、通常的に約３ｃｍ乃至４ｃｍの範囲内の一定の長さ、約０．３ｃｍ乃至１．０ｃｍ、通常的に約０．５ｃｍ乃至０．７ｃｍの範囲内の一定の幅、および約０．２ｍｍ乃至１．２ｍｍ、通常的に約０．３８ｍｍ乃至０．６４ｍｍの範囲内の一定の厚さをそれぞれ有する細長い長方形の試験片の形態で構成されている。
【００２８】
　上記の下部層１０２および上部層１０４は一定の不活性な支持材料または基材により作成されている一定の支持基部１１０および１１２をそれぞれ定めており、これらの基部の上に、基準電極１１４および作用電極１１６をそれぞれ形成する一定の導電性の材料が一般的にスパッタリング処理により蒸着されている。この不活性の支持材料は一般的に剛性の材料であり、各電極１１４および１１６、さらに、全体として電気化学的試験片の構造的な支持を行なうことができる。このような適当な材料は各種のプラスチック（例えば、ＰＥＴ、ＰＥＴＧ、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、およびポリエステル等）、シリコン、セラミック、ガラス等を含む。さらに、上記の導電性の材料は好ましくは一定の金属であり、この場合の関連の金属はパラジウム、金、プラチナ、イリジウム、ドーピング処理した酸化スズ、ステンレス・スチール、カーボン等を含む。例えば、一定のパラジウム被膜は作用電極１６を形成することができ、一定の金被膜は基準電極１４を形成する。
【００２９】
　スペーサー層１０６は上記の各電極１１４および１１６の間に位置決めまたは挟まれている。このスペーサー１０６の厚さは一般に約１μｍ乃至５００μｍ、通常的に約５０μｍ乃至１５０μｍの範囲である。また、このスペーサー層１０６は任意の好都合な材料により作成可能であり、この場合の代表的な適当な材料はＰＥＴ、ＰＥＴＧ、ポリイミド、ポリカーボネート等を含む。さらに、このスペーサー層１０６の各表面を処理して各電極１１４および１１６に対して接着性にすることができ、これにより、電気化学的試験片１０の構造が維持できるようになる。
【００３０】
　上記スペーサー層１０６は円形、正方形、三角形、長方形、または不規則な形状の反応領域を含む任意の適当な形状を有する一定の反応領域または区域１０８を形成するために切断されている。この反応領域１０８の上部および下部は各電極１１４，１１６の対向している各面部により定められており、スペーサー層１０６はこの反応領域１０８の側壁部を定めている。また、この反応領域の容積は約０．１μｌ乃至１０μｌ、通常的に約０．２μＬ乃至５．０μＬ、さらに通常的に約０．０５μＬ乃至１．６μＬの範囲である。
【００３１】
　一般に一定の信号生成システムとして呼ばれている一定のレドックス（酸化還元）試薬システムが上記反応領域１０８内に存在していて上記電極１１４の一端部の近くに付着しており、この試薬システムは標的の分析物に対して化学的に相互作用して一定の生物学的サンプル中の分析物の濃度を導出する特定の各種試薬成分を供給する。このレドックス試薬システムまたは信号生成システムは一般的に少なくとも１種類の酵素成分および一定の媒介成分を含む。
【００３２】
　多くの実施形態において、上記レドックス試薬システムの酵素成分は関連の分析物を協働で酸化／還元するために作用する１種類以上の酵素を含む。換言すれば、このレドックス試薬システムの酵素成分は単一の分析物の酸化／還元用の酵素または関連の分析物を協働で酸化／還元するために作用する２種類以上の酵素の集合体により作成されている。一般的な関連の酵素は各種のオキシド・レダクターゼ、ヒドロラーゼ、トランスフェラーゼ、デヒドロゲナーゼ、エステラーゼ等を含むが、上記反応領域内に存在する特定の酵素は一定の電気化学的試験片が検出するように設計されている特定の分析物に応じて決まる。上記レドックス試薬システムの第２の成分は一定の媒介成分であり、この成分は１種類以上の媒介物質により作成されている。グルコースが関連の分析物であり、グルコース・オキシダーゼまたはグルコース・デヒドロゲナーゼがその酵素成分である場合の実施形態において、その特定の関連の媒介物質はフェリシアニドである。さらに、上記反応領域内において存在可能な別の試薬は、例えば、シトラコン酸塩、クエン酸塩、リン酸塩、および「グッド（Good）」緩衝液等の緩衝剤を含む。このようなレドックス試薬システムは乾燥状態の形態で一般に存在している。また、各種成分の量は変更可能であり、この場合に、上記酵素成分の量は一般的に約０．１重量％乃至２０重量％の範囲である。
【００３３】
　以上において、本発明をその理解の明瞭化のために図示および例示によりある程度において詳細に説明したが、当該技術分野における通常の熟練者であれば、本発明の教示に鑑みて、特定の各種の変形および変更が添付の特許請求の範囲の趣旨または範囲から逸脱することなく上記の実施例に対して行なうことができることが容易に明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００３４】
　本発明は各種の電気的な信号を伝達するための一定の層状構造を有する装置およびその構造を製造するための方法に適用可能である。このような本発明の装置は当該装置におけるスクラッチの影響に耐えてその導電層の導電率を維持するように設計されている少なくとも１個の模様付きの導電層を含む各種の層状構造である。さらに具体的に言えば、本発明の装置は谷部における底面部までその皮膜または表面内の一定のスクラッチが完全に貫通しないように内部に形成されている各種の山頂部および谷部を有する薄い金属の皮膜または蒸着表面部分を含み、これによりその皮膜または表面部分を通る一定の導電性の通路が維持できる。
【００３５】
　本発明の具体的な実施態様は以下のとおりである。
（１）前記表面模様付きのパタンが幾何学的である請求項１または請求項２に記載の層状構造。
（２）前記表面模様付きのパタンがふぞろいである請求項１または請求項２に記載の層状構造。
（３）前記表面模様付きのパタンが一定のフロスト状構造を含む請求項１または請求項２に記載の層状構造。
（４）前記山頂部から山頂部までの距離が約１０，０００Å乃至約１，０００，０００Åの範囲である請求項３に記載の層状構造。
（５）前記谷部から山頂部までの距離が約１００Å以上である請求項３に記載の層状構造。
（６）前記装置が一定の電気化学的試験片であり、前記金属蒸着処理した表面部分が一定の電極である請求項４または請求項５に記載の装置。
（７）前記表面模様付きのパタンが１種類以上の微小複製技法により形成されている請求項４または請求項５に記載の装置。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
　理解を容易にするために、各図面に共通している類似の各構成要素を示すために同一の参照番号または符号が（実際に役立つ場合に）用いられている。しかしながら、このような符号による指示は図示の簡明化のために省略されている場合がある。
【図１】本発明の一定の層状構造の拡大側面図を示している。
【図２】図２（Ａ）及び図２（Ｂ）は、一定の幾何学的なパタンを有する本発明の一定の金属蒸着表面部分または金属皮膜の一例の実施形態の平断面図を示している。
【図３】図３（Ａ）及び図３（Ｂ）は、同様に一定の幾何学的なパタンを有する本発明の一定の金属蒸着表面部分または金属皮膜の別の実施形態の平断面図を示している。
【図４】図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、フロスト状のパタンを有している金属蒸着表面部分または金属皮膜の別の実施形態の平面図を示している。
【図５】本発明の金属蒸着表面部分および金属皮膜を採用できる一定の電気化学的試験片の例示的な実施形態の分解図を示している。
【符号の説明】
【００３７】
１０　金属蒸着表面部分
５０　層状構造
５２　支持層
５４　導電性の皮膜または層
５６　模様付きパタン
５８　山頂部
６０　谷部
１００　試験片
【図１】
2004138612.tif 000003
【図２】
2004138612.tif 000004
【図３】
2004138612.tif 000005
【図４】
2004138612.tif 000006
【図５】
2004138612.tif 000007