(57)【要約】【課題】感光性画像形成材を形成する際に、均一な塗布膜を形成する為の製造方法を提供する。【解決手段】支持体上に、感光性組成物を塗布し、次いで乾燥することにより、画像形成材を形成する方法において、乾燥工程が溶媒の蒸発速度の異なる少なくとも２つの工程を含むことを特徴とする感光性画像形成材の製造方法。【選択図】　　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、感光性組成物を塗布し、次いで乾燥することにより、画像形成材を形成する方法において、乾燥工程が溶媒の蒸発速度の異なる少なくとも２つの工程を含むことを特徴とする感光性画像形成材の製造方法。
【請求項２】
感光性組成物が、少なくともアルカリ可溶性樹脂及び光熱変換物質を含有することを特徴とする請求項１に記載の感光性画像形成材の製造方法。
【請求項３】
乾燥工程における乾燥雰囲気の温度が、５〜５０℃であることを特徴とする請求項１又は２に記載の感光性画像形成材の製造方法。
【請求項４】
溶媒の蒸発速度が異なる少なくとも２つの工程のうち、溶媒の蒸発速度の低い工程が、以下の方法から選ばれる少なくともひとつの方法により行なわれることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の感光性画像形成材の製造方法。
（１）乾燥を５〜２５℃で行う方法
（２）支持体上に塗布された感光性組成物近傍の溶媒蒸気の拡散を抑制する　方法
（３）乾燥工程の雰囲気を大気圧より高い圧力とする方法
【請求項５】
使用される溶媒が下記から選ばれる溶媒を含有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の感光性画像形成材の製造方法。
（溶媒１）ケトン系又はエーテル系溶媒
（溶媒２）大気圧下での沸点が１２０℃未満である溶媒
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平版印刷版の製版、レーザーグラビア製版やプリント配線板製造用の金属エッチングレジスト、プリント配線板、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、カラーフィルター、有機エレクトロルミネッセンス、薄型トランジスタ等における導体回路や電極基板等の形成の為のメッキレジストあるいはソルダーレジスト、ホログラフィー、三次元造形、印刷校正用カラープルーフ、ＬＳＩ製造用フォトレジスト等に使用される感光性画像形成材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
コンピュータ画像処理技術の進歩に伴い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィルムへの出力を行わずに、レーザー光により直接画像を形成するＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　ｔｏ　Ｐｌａｔｅ）システムが注目されている。特に、高出力の半導体レーザーやＹＡＧレーザー等を用いるＣＴＰシステムは、製造工程の短縮化、作業時の環境光、及び製造コスト等の面から、その実用化が急速に進みつつある。
このような要求を満たす、レーザー感光または感熱を利用した画像形成方法としては、所謂化学増幅型感光性組成物として、赤外線吸収色素、潜伏性ブレンステッド酸、レゾール樹脂およびノボラック樹脂を含む感光層を半導体レーザー等により像状に露光し平版印刷版を作製する技術、更に、前記潜伏性ブレンステッド酸に代えｓ−トリアジン化合物を用いる技術等が知られている。
【０００３】
また一方、ＣＴＰシステム用の平版印刷版として、赤外レーザー光を用い、主として化学変化以外の変化により露光部の現像液に対する溶解性を増大させることによってポジ画像を形成する感光性組成物の層を支持体表面に有する感光性平版印刷版等の画像形成材も提案されている。
【０００４】
しかしながら、従来一般に、画像形成材の製造方法における乾燥工程に関しては、乾燥温度を上げて製造効率を上げる、または低沸点の溶剤を使用したり、乾燥条件を厳しくしたりして、残留溶媒量を少なくする（特開２００１−２４２６２１参照）、等の手段が知られているが、いずれも感光性組成物層中の残留溶媒を早く少なくすることに主眼を置いている。しかしながら、本発明者らの検討によれば、例えば低沸点の溶剤を使用した場合に、塗布ムラが起きやすいなどの不具合があることが判明した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前述の従来技術に鑑みてなされたもので、従って本発明は、レベリング性を改良して、均一な塗布膜を形成するのに好適な感光性画像形成材の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、通常ならば乾燥工程においては感光性組成物層中の残留溶媒を早く少なくするべく処理がなされるのに反して、乾燥工程の一部で蒸発速度が低い状態となる措置を積極的に講ずることにより、驚くべきことに、蒸発速度の比較的早い溶媒を用いた場合においても、特にレベリングをする時間を設けることが出来、形成される塗布膜の均一性を向上させることが出来ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
即ち、本発明の要旨は、支持体上に、感光性組成物を塗布し、次いで乾燥することにより、画像形成材を形成する方法において、乾燥工程が溶媒の蒸発速度の異なる少なくとも２つの工程を含むことを特徴とする感光性画像形成材の製造方法に存する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に使用される感光性組成物としては、（１）アルカリ可溶性樹脂と光熱変換物質を組み合わせたポジ型感光性組成物、（２）アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、ラジカル発生剤からなる光重合型ネガ型感光性組成物、（３）熱または酸によりアルカリ水溶液に対する溶解性の変化しうる樹脂と光酸発生剤からなる化学増幅型ポジ型感光性組成物、（４）アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤、架橋剤からなる化学増幅型ネガ型感光性組成物等を用いることが出来る。
以下に、（１）のアルカリ可溶性樹脂と光熱変換物質を組み合わせたポジ型感光性組成物を例に詳細に記載するが、上述のように本発明に使用される感光性組成物としては、これらに限定されるものではない。
【０００９】
（アルカリ可溶性樹脂（Ａ））
本発明のポジ型感光性組成物を構成する（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂としては、その主鎖骨格として、ポリビニルフェノール樹脂、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、フェノール性水酸基を有するアクリル酸誘導体の共重合体、フェノール性水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂、これらの樹脂の構成成分の共重合体等のアルカリ可溶性樹脂が好ましいものとして挙げられるが、これらのうち、ポリビニルフェノール樹脂及び／又はノボラック樹脂が好ましい。
【００１０】
ポリビニルフェノール樹脂は、例えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、ペンタヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピレン等のヒドロキシスチレン類（尚、これらは、ベンゼン環に塩素、臭素、沃素、フッ素等のハロゲン原子、或いは炭素数１〜４のアルキル基を置換基として有していてもよい。）の単独又は２種以上を、ラジカル重合開始剤又はカチオン重合開始剤の存在下で重合させた樹脂が挙げられる。またかかるポリビニルフェノール樹脂は、一部水素添加を行なったものでもよい。中で、本発明においては、ベンゼン環に炭素数１〜４のアルキル基を置換基として有していてもよいヒドロキシスチレン類の重合体が好ましく、特に、無置換のベンゼン環のヒドロキシスチレン類の重合体が好ましい。又、重量平均分子量（ＭＷ　）が、１，０００〜１００，０００のものが好ましく、１，５００〜５０，０００のものが更に好ましい。
【００１１】
又、ノボラック樹脂は、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、１−ナフトール、２−ナフトール、４，４’−ビフェニルジオール、ビスフェノール−Ａ、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、１，２，４−ベンゼントリオール、フロログルシノール等のフェノール類の少なくとも１種を、酸触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類（尚、ホルムアルデヒドに代えてパラホルムアルデヒドを、アセトアルデヒドに代えてパラアルデヒドを、用いてもよい。）、又は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、の少なくとも１種と重縮合させた樹脂であって、中で、本発明においては、フェノール類としてのフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、レゾルシノールと、アルデヒド類又はケトン類としてのホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドとの重縮合体が好ましい。
【００１２】
特に、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレノール：３，５−キシレノール：レゾルシノールの混合割合がモル比で４０〜１００：０〜５０：０〜２０：０〜２０：０〜２０の混合フェノール類、又は、フェノール：ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で１〜１００：０〜７０：０〜６０の混合フェノール類と、ホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましく、又、後述する如く本発明における感光性組成物は溶解抑止剤を含有していてもよく、その場合、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレノール：３，５−キシレノール：レゾルシノールの混合割合がモル比で７０〜１００：０〜３０：０〜２０：０〜２０：０〜２０の混合フェノール類、又は、フェノール：ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で１０〜１００：０〜６０：０〜４０の混合フェノール類と、ホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。
【００１３】
前記ノボラック樹脂は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量（ＭＷ　）が、１，０００〜１５，０００のものが好ましく、１，５００〜１０，０００のものが更に好ましい。
又、レゾール樹脂は、ノボラック樹脂の重縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以外は同様にして重縮合させた樹脂であって、本発明においては、前記ノボラック樹脂におけると同様の、フェノール類及びその混合組成、及び、アルデヒド類又はケトン類が好ましく、又、同様の重量平均分子量（ＭＷ　）のものが好ましい。
【００１４】
本発明の新規の感光性組成物を得るためには、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、下記の（１）及び／又は（２）のものを使用するとよい。
【００１５】
（１）有機基で保護されているフェノール性水酸基を有するポリスチレン骨格の構成単位ａと、フェノール性水酸基を有するポリスチレン骨格の構成単位ｂの両者を含有する
（２）フェノール性水酸基を有する共重合構成単位を４０〜９５モル％含有する
【００１６】
上記（１）の特徴に関しては、構成単位ａと構成単位ｂの比率は、通常ａ：ｂ＝３：９７〜８０：２０であり、好ましくは、ａ：ｂ＝４：９６〜７０：３０、更に好ましくはａ：ｂ＝５：９５〜６０：４０である。
【００１７】
フェノール性水酸基を保護する有機基としては、好ましくは、カーボネート型、エーテル型、シリルエーテル型、エステル型の置換基が挙げられる。カーボネート型としては、ｔｅｒｔ‐ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基が、エーテル型としては、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ‐ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、１−メトキシエチル基、１−エトキシプロピル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、グリシジル基等の炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、環状エーテル基が、シリルエーテル型としては、トリアルキルシリル基、トリアルコキシシリル基等のシリル基が、エステル型としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基などが好ましいものとして挙げられる。これらに限定はされないが、中でも、エーテル型、エステル型が好ましい。
また、上述した必須の構成単位の他に使用可能な共重合構成単位としては、フェノール性水酸基を含有せず、且つ共重合等により樹脂中に導入することの出来る共重合構成単位で有れば特に限定されないが、例えば、置換されていても良いスチレン類、アクリル酸誘導体等が挙げられる。
【００１８】
また上記（２）の特徴に関しては、本発明に用いられる樹脂中の置換されていないフェノール性水酸基を有する共重合構成単位の割合は、通常４０〜９０モル％、好ましくは４５〜８５モル％、更に好ましくは５０〜８０モル％である。この共重合構成単位の割合は、アルカリ可溶性樹脂を混合して用いた場合には、全ての樹脂（合計）中の構成単位として算出される。
【００１９】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂の含有割合は、５０〜９９重量％であるのが好ましく、６０〜９８重量％であるのが更に好ましく、７０〜９７重量％であるのが特に好ましい。
本発明の感光性組成物が、低温での乾燥条件でも良好な画像を形成する理由は定かでないが、上記（１）又は（２）のアルカリ可溶性樹脂を使用することにより、従来の樹脂とは異なるコンフォメーションとなり、マイルドな乾燥条件で良好な画像の形成が可能となると考えられる。
【００２０】
（光熱変換物質（Ｂ）））
本発明のポジ型感光性組成物を構成する（Ｂ）成分の光熱変換物質としては、画像露光光源の光を吸収して熱に変換し得る化合物であれば特に限定されないが、波長域３９０〜１，３００ｎｍに吸収極大を有する有機又は無機の染顔料、有機色素、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属硼化物等が挙げられる中で、光吸収色素が特に有効である。これらの光吸収色素に中でも、特に波長域３９０〜４３０ｎｍ、波長域６５０〜１３００ｎｍの光を効率よく吸収する光吸収色素が好ましい。これらの光吸収色素は、前記波長域の光を効率よく吸収する一方、紫外線領域の光は殆ど吸収しないか、吸収しても実質的に感応せず、白色灯に含まれるような弱い紫外線によっては感光性組成物を変性させる作用のない化合物である。
波長域６５０〜１３００ｎｍの光を効率よく吸収する光吸収色素としては、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の複素原子がポリメチン（−ＣＨ＝）ｎ　鎖で結合された構造のものであり、代表的には、その複素原子が複素環を形成し、ポリメチン鎖を介して複素環が結合された構造の所謂、広義のシアニン系色素、具体的には、例えば、キノリン系（所謂、狭義のシアニン系）、インドール系（所謂、インドシアニン系）、ベンゾチアゾール系（所謂、チオシアニン系）、ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、アズレニウム系等、及び、ポリメチン鎖を介して非環式複素原子が結合された構造の所謂、ポリメチン系色素等が挙げられ、中で、キノリン系、インドール系、ベンゾチアゾール系、ピリリウム系、チオピリリウム系等のシアニン系色素、及びポリメチン系色素が好ましい。
【００２１】
又、その他の光吸収色素として、ジイミニウム系色素、フタロシアニン系色素等も代表的なものとして挙げられ、中で、ジイミニウム系色素が好ましい。
本発明においては、前記シアニン系色素の中で、キノリン系色素としては、特に、下記一般式（Ｉａ）　、（Ｉｂ）、又は（Ｉｃ）で表されるものが好ましい。
【００２２】
【化１】
2004086103.tif 000002
【００２３】
〔式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、及び（Ｉｃ）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ１は置換基を有していてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成していてもよく、キノリン環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成していてもよい。Ｘ−　は対アニオンを示す。〕
【００２４】
ここで、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、及び（Ｉｃ）中のＲ１及びＲ２がアルキル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、フェニル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常１〜１５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げられ、Ｌ１における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、キノリン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
又、インドール系、及びベンゾチアゾール系色素としては、特に、下記一般式（ＩＩ）で表されるものが好ましい。
【００２５】
【化２】
2004086103.tif 000003
【００２６】
〔式（ＩＩ）中、Ｙ１及びＹ２は各々独立して、ジアルキルメチレン基又は硫黄原子を示し、Ｒ３及びＲ４は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ２は置換基を有していてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成していてもよく、縮合ベンゼン環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成していてもよい。Ｘ−　は対アニオンを示す。〕
【００２７】
ここで、式（ＩＩ）中のＲ３　及びＲ４　がアルキル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、フェニル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常１〜１５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げられ、Ｌ２　における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、縮合ベンゼン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
【００２８】
又、ピリリウム系、及びチオピリリウム系色素としては、特に、下記一般式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）、又は（ＩＩＩｃ）で表されるものが好ましい。
【００２９】
【化３】
2004086103.tif 000004
【００３０】
〔式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）、及び（ＩＩＩｃ）中、Ｚ１及びＺ２は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８は各々独立して、水素原子又はアルキル基、又は、Ｒ５とＲ７、及びＲ６とＲ８が互いに連結して炭素数５又は６のシクロアルケン環を形成していてもよく、Ｌ３は置換基を有していてもよいモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示し、該トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成していてもよく、ピリリウム環及びチアピリリウム環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成していてもよい。Ｘ−　は対アニオンを示す。〕
【００３１】
ここで、式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）、及び（ＩＩＩｃ）中のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８がアルキル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０であり、Ｌ３における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、ピリリウム環及びチアピリリウム環における置換基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられる。
又、ポリメチン系色素としては、特に、下記一般式（ＩＶ）で表されるものが好ましい。
【００３２】
【化４】
2004086103.tif 000005
【００３３】
〔式（ＩＶ）中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、及びＲ１２は各々独立して、アルキル基を示し、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、フリル基、又はチエニル基を示し、Ｌ４は置換基を有していてもよいモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示し、該トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成していてもよく、キノン環及びベンゼン環は置換基を有していてもよい。Ｘ−　は対アニオンを示す。〕
【００３４】
ここで、式（ＩＶ）中のＲ９、Ｒ１０、Ｒ１１、及びＲ１２のアルキル基の炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０、Ｒ１３及びＲ１４がアリール基であるときの炭素数は通常６〜２０、好ましくは６〜１５であり、Ｒ１３及びＲ１４として具体的には、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基等が挙げられ、それらの置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、Ｌ４　における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、キノン環及びベンゼン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
更に、ジイミニウム系色素としては、特に、Ｎ，Ｎ−ジアリールイミニウム塩骨格を少なくとも１個有する下記一般式（Ｖａ）、又は（Ｖｂ）で表されるものが好ましい。
【００３５】
【化５】
2004086103.tif 000006
【００３６】
〔式（Ｖａ）、及び（Ｖｂ）中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、及びＲ１８は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示し、Ｒ１９、及びＲ２０は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示し、ベンゼン環及びイミノキノン環は置換基を有していてもよい。Ｘ−　は対アニオンを示す。尚、式（Ｖｂ）中の電子結合（点線）は他の電子結合との共鳴状態を示す。〕
【００３７】
ここで、式（Ｖａ）、及び（Ｖｂ）中のＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、及びＲ２０がアルキル基、アルコキシ基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、それらにおける置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、カルボキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキル基、又はハロゲン原子等が挙げられ、ベンゼン環及びイミノキノン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、アシル基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
【００３８】
これらのジイミニウム系色素の中では、前記一般式（Ｖａ）、及び（Ｖｂ）中のＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、及びＲ１８がアルキル基で、Ｒ１９、及びＲ２０もアルキル基であるか、Ｒ１９、及びＲ２０がジアルキルアミノ基を置換基として有するフェニル基であるものが、特に好ましい。
尚、前記一般式（Ｉａ　〜ｃ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩａ　〜ｃ）、（ＩＶ）、及び（Ｖａ　〜ｂ）における対アニオンＸ−　としては、例えば、Ｃｌ−　、Ｂｒ−　、Ｉ−　、ＣｌＯ４　−、ＰＦ６　−　、ＳｂＦ６　−　、ＡｓＦ６　−　、及び、ＢＦ４　−　、ＢＣｌ４　−　等の無機硼酸等の無機酸アニオン、並びに、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、酢酸、及び、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、チエニル、ピロリル等の有機基を有する有機硼酸等の有機酸アニオンを挙げることができる。
【００３９】
又、前記一般式（Ｉａ　〜ｃ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩａ　〜ｃ）、及び（ＩＶ）においては、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及びＬ４のポリメチン鎖上に、下記一般式（ＶＩａ）　で表されるバルビツル酸アニオン基又はチオバルビツル酸アニオン基を置換基として有することにより、又は、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及びＬ４のポリメチン鎖中に、下記一般式（ＶＩｂ）で表されるスクエア酸アニオン基又はチオスクエア酸アニオン基、或いは、下記一般式（ＶＩｃ）　で表されるクロコン酸アニオン基又はチオクロコン酸アニオン基を形成することにより、分子内塩を形成していてもよい。
【００４０】
【化６】
2004086103.tif 000007
【００４１】
〔式（ＶＩａ）　、（ＶＩｂ）　、及び（ＶＩｃ）　中、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、Ｚ７、及びＺ８は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２１及びＲ２２は各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。〕
【００４２】
ここで、式（ＶＩａ）　中のＲ２１及びＲ２２がアルキル基、アルコキシ基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜５、アルケニル基であるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜５であるが、アルキル基であるのが好ましく、そのアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基等が挙げられる。
【００４３】
以上の前記一般式（Ｉａ　〜ｃ）で表されるキノリン系、前記一般式（ＩＩ）で表されるインドール系又はベンゾチアゾール系、前記一般式（ＩＩＩａ　〜ｃ）で表されるピリリウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、前記一般式（ＩＶ）で表されるポリメチン系色素、及び前記一般式（Ｖａ　〜ｂ）で表されるジイミニウム系色素の中で、本発明においては、前記一般式（ＩＩ）で表されるインドール系又はベンゾチアゾール系のシアニン色素、及び前記一般式（ＩＶ）で表されるポリメチン系色素が特に好ましい。
【００４４】
尚、前記一般式（Ｉａ　〜ｃ）で表されるキノリン系、前記一般式（ＩＩ）で表されるインドール系又はベンゾチアゾール系、前記一般式（ＩＩＩａ　〜ｃ）で表されるピリリウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、前記一般式（ＩＶ）で表されるポリメチン系色素、及び前記一般式（Ｖａ　〜ｂ）で表されるジイミニウム系色素の具体例を以下に示す。
【００４５】
【化７】
2004086103.tif 000008
【００４６】
【化８】
2004086103.tif 000009
【００４７】
【化９】
2004086103.tif 000010
【００４８】
【化１０】
2004086103.tif 000011
【００４９】
【化１１】
2004086103.tif 000012
【００５０】
【化１２】
2004086103.tif 000013
【００５１】
【化１３】
2004086103.tif 000014
【００５２】
【化１４】
2004086103.tif 000015
【００５３】
【化１５】
2004086103.tif 000016
【００５４】
【化１６】
2004086103.tif 000017
【００５５】
【化１７】
2004086103.tif 000018
【００５６】
【化１８】
2004086103.tif 000019
【００５７】
波長域３９０〜４３０ｎｍの光を効率よく吸収する光吸収色素としては、ジアルキルアミノベンゼン系化合物、ピロメテン系化合物、トリヒドロキシピリミジン誘導体などが挙げられ、その中でも、ジアルキルアミノベンゼン系化合物のうち、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。
好ましいジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式（ＶＩＩ）で表されるものが挙げられる。
【００５８】
【化１９】
2004086103.tif 000020
【００５９】
〔式（ＶＩＩ）中、Ｒ２３及びＲ２４は各々独立して、（ハロ）アルキル基を示し、Ｒ２５及びＲ２６は各々独立して、（ハロ）アルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ２３とＲ２５、Ｒ２３とＲ２４及びＲ２４とＲ２６とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。Ｙは下記式（ＶＩＩａ）又は（ＶＩＩｂ）で表される置換基を表す。〕
【００６０】
【化２０】
2004086103.tif 000021
【００６１】
〔式中、Ｘ１及びＸ２は各々独立して、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ａｒは置換されていても良いアリール基を表す。〕
前記一般式（ＶＩＩａ）又は（ＶＩＩｂ）で表される化合物の具体例としては、下記構造の化合物を挙げることができる。
【００６２】
【化２１】
2004086103.tif 000022
【００６３】
その他の好ましいジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるものが挙げられる。
【００６４】
【化２２】
2004086103.tif 000023
【００６５】
〔式（ＶＩＩ）中、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ３２は各々独立して、（ハロ）アルキル基を示し、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は各々独立して、（ハロ）アルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ２７とＲ２９、Ｒ２７とＲ２８及びＲ２８とＲ３０とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。〕
前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、下記構造の化合物を挙げることができる。
【００６６】
【化２３】
2004086103.tif 000024
【００６７】
その他の好ましいジアルキルアミノベンゼン系化合物として、下記一般式（ＩＸａ）で表されるジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物が挙げられる。
【００６８】
【化２４】
2004086103.tif 000025
【００６９】
〔式（ＩＸａ）中、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、及びＲ３６は各々独立して、アルキル基を示し、Ｒ３７、Ｒ３８、Ｒ３９、及びＲ４０は各々独立して、アルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ３３とＲ３４、Ｒ３５とＲ３６、Ｒ３３とＲ３７、Ｒ３４とＲ３８、Ｒ３５とＲ３９、及びＲ３６とＲ４０とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。〕
ここで、式（ＩＸａ）中のＲ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、及びＲ３６のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ３７、Ｒ３８、Ｒ３９、及びＲ４０がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましく、６員環が特に好ましい。
前記一般式（ＩＸａ）で表される化合物の具体例としては、例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、及び、下記構造の化合物が挙げられる。
【００７０】
【化２５】
2004086103.tif 000026
【００７１】
その他の好ましいジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に、縮合ベンゼン環を有していても良い窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含む５又は６員環複素環置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物が挙げられ、その中でも特に好ましくは、下記一般式（ＩＸｂ）及び（ＩＸｃ）で表される縮合ベンゼン環を有する複素環を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物が挙げられる。
【００７２】
【化２６】
2004086103.tif 000027
【００７３】
〔式（ＩＸｂ）及び（ＩＸｃ）中、Ｒ４１及びＲ４２は各々独立して、アルキル基を示し、Ｒ４３及びＲ４４は各々独立して、アルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ４１とＲ４２、Ｒ４１とＲ４３、及びＲ４２とＲ４４とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。Ｙは、酸素原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示す。Ｘ１は、水酸基又はメルカプト基を示し、Ｘ２は、酸素原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示す。複素環に縮合するベンゼン環は置換基を有していてもよい。〕
ここで、式（ＩＸｂ）及び（ＩＸｃ）中のＲ４１及びＲ４２のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ４３及びＲ４４がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましく、６員環が特に好ましい。又、Ｘがジアルキルメチレン基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であるのが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であるのが好ましい。
前記一般式（ＩＸｂ）又は（ＩＸｃ）で表される化合物の具体例としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔４，５〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔６，７〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドール、及び、下記構造の化合物が挙げられる。
【００７４】
【化２７】
2004086103.tif 000028
【００７５】
又、前記一般式（ＩＸｂ）及び（ＩＸｃ）で表される化合物以外の、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）キノリン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）キノリン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリミジン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリミジン、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−チアジアゾール等が挙げられる。
好ましいピロメテン系化合物としては、特開２０００−２５０２０６公報に記載のピロメテンボーレート系色素を挙げることができ、下記式（Ｘ）で表されるものが好ましい。
【００７６】
【化２８】
2004086103.tif 000029
【００７７】
〔式中、Ｒ４５〜Ｒ５０は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、芳香族複素環基、又は−ＳＯ３　−Ｒ５２基（Ｒ５２は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルカリ金属原子又はオニウムイオンを表す。）を表す。Ｒ５１は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｘ１　、Ｘ２　はそれぞれハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、芳香族複素環基を表す。これらの基は、更に置換されていても良く、例えば縮合ベンゼン環を形成していても良い〕
好ましいトリヒドロキシピリミジン誘導体としては、下記式（ＸＩ）で表される化合物が挙げられる。
【００７８】
【化２９】
2004086103.tif 000030
【００７９】
〔式中、Ｒ５３及びＲ５４は、それぞれ独立して（アラ）アルキル基を示す。Ｙは、置換基されていても良いアリール基を有するメチレン基又はイミノ基を示す。〕
前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の具体例としては、下記構造の化合物を挙げることができる。
【００８０】
【化３０】
2004086103.tif 000031
【００８１】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｂ）成分の光熱変換物質の含有割合は、０．５〜３０重量％であるのが好ましく、１〜２０重量％であるのが更に好ましく、２〜１０重量％であるのが特に好ましい。これらの光熱変換物質は、２種以上が用いられても良い。
【００８２】
（溶解抑止剤（Ｃ））
尚、本発明において、前記（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂と前記（Ｂ）成分の光熱変換物質を含有するポジ型感光性組成物には、露光部と非露光部のアルカリ現像液に対する溶解性の差を増大させる目的で、赤外領域の光で分解されない溶解抑止剤（Ｃ）成分が含有されているのが好ましく、その溶解抑止剤としては、例えば、特開平１０−２６８５１２号及び特開平１１−２８８０８９号各公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル類、燐酸エステル類、芳香族カルボン酸エステル類、芳香族ジスルホン類、カルボン酸無水物類、芳香族ケトン類、芳香族アルデヒド類、芳香族アミン類、芳香族エーテル類、トリアリールメタン骨格を有する化合物類等、特開平１１−１９０９０３号公報に詳細に記載されている、ラクトン骨格、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有する酸発色性色素類、特開平１１−１４３０７６号公報に詳細に記載されている、ラクトン骨格、チオラクトン骨格、スルホラクトン骨格を有する塩基発色性色素類等が挙げられる。
【００８３】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｃ）成分の溶解抑止剤の含有割合は、５０重量％以下であるのが好ましく、０．０１〜３０重量％であるのが更に好ましく、０．１〜２０重量％であるのが特に好ましい。
【００８４】
（有機酸又はその無水物（Ｄ））
又、本発明のポジ型感光性組成物には、該組成物中に酸に対して不安定な化合物を含有しない場合においては、アンダー現像性の付与等の現像性の改良を目的として、好ましくはｐＫａが２以上の有機酸或いはその無水物（Ｄ）成分が含有されていても良く、その有機酸或いはその無水物としては、例えば、特開昭６０−８８９４２号、特開昭６３−２７６０４８号、特開平２−９６７５４号各公報等に記載されたもの、具体的には、グリセリン酸、メチルマロン酸、ジメチルマロン酸、プロピルマロン酸、コハク酸、リンゴ酸、メソ酒石酸、グルタル酸、β−メチルグルタル酸、β，β−ジメチルグルタル酸、β−エチルグルタル酸、β，β−ジエチルグルタル酸、β−プロピルグルタル酸、β，β−メチルプロピルグルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸等の脂肪族飽和カルボン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタコン酸等の脂肪族不飽和カルボン酸、１，１−シクロブタンジカルボン酸、１，３−シクロブタンジカルボン酸、１，１−シクロペンタンジカルボン酸、１，２−シクロペンタンジカルボン酸、１，１−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等の炭素環式飽和カルボン酸、１，２−シクロヘキセンジカルボン酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，４−ジメチル安息香酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、３，５−ジメトキシ安息香酸、ｐ−トルイル酸、２−ヒドロキシ−ｐ−トルイル酸、２−ヒドロキシ−ｍ−トルイル酸、２−ヒドロキシ−ｏ−トルイル酸、マンデル酸、没食子酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の炭素環式不飽和カルボン酸、及び、メルドラム酸、アスコルビン酸、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、シクロヘキセンジカルボン酸無水物、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、無水フタル酸等の無水物が挙げられる。中で、本発明においては、シクロヘキサンジカルボン酸或いはその無水物が特に好ましい。
【００８５】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｄ）成分の有機酸或いはその無水物の含有割合は、０．１〜３０重量％であるのが好ましく、０．５〜２０重量％であるのが更に好ましく、１〜１０重量％であるのが特に好ましい。
【００８６】
（界面活性剤（Ｅ））
又、本発明のポジ型感光性組成物には、感度の向上や現像性の改良等を目的として、ノニオン性、アニオン性、カチオン性、両性、フッ素系、或いはシリコン系等の界面活性剤（Ｅ）成分が含有されているのが好ましい。
そのノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールブロックコポリマー等のポリエチレングリコール類、ポリエチレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコールステアリルエーテル、ポリエチレングリコールオレイルエーテル、ポリエチレングリコールベヘニルエーテル等のポリエチレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールデシルテトラデシルエーテル等のポリエチレングリコールポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル等のポリエチレングリコールアルキルフェニルエーテル類、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステアリン酸エチレングリコール、ステアリン酸ジエチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、モノラウリン酸ポリエチレングリコール、モノステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ポリエチレングリコール等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、モノミリスチン酸グリセリル、モノステアリン酸グリセリル、モノイソステアリン酸グリセリル、ジステアリン酸グリセリル、モノオレイン酸グリセリル、ジオレイン酸グリセリル等のグリセリン脂肪酸エステル類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリグリセリン脂肪酸エステル類、モノステアリン酸ペンタエリスリット、トリステアリン酸ペンタエリスリット、モノオレイン酸ペンタエリスリット、トリオレイン酸ペンタエリスリット等のペンタエリスリット脂肪酸エステル類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、モノパルミチン酸ソルビタン、モノステアリン酸ソルビタン、トリステアリン酸ソルビタン、モノオレイン酸ソルビタン、トリオレイン酸ソルビタン等のソルビタン脂肪酸エステル類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、モノラウリン酸ソルビット、テトラステアリン酸ソルビット、ヘキサステアリン酸ソルビット、テトラオレイン酸ソルビット等のソルビット脂肪酸エステル類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリエチレングリコールアルキルアミン類、ポリエチレングリコールアルキルアミノエーテル類、ヒマシ油のポリエチレンオキサイド付加物類、ラノリンのポリエチレンオキサイド付加物類等が挙げられる。
【００８７】
又、そのアニオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等の高級脂肪酸塩類、ラウリルスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム等のアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテルスルホン酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル塩類、オクチルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアルコール硫酸エステルアンモニウム等の高級アルコール硫酸エステル塩類、アセチルアルコール硫酸エステルナトリウム等の脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩類、ラウリル燐酸ナトリウム、ステアリル燐酸ナトリウム等のアルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテル燐酸ナトリウム、ポリオキシエチレンステアリルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸塩類、スルホコハク酸類、不飽和脂肪酸硫酸化油類、タウリン塩類、ヒマシ油硫酸エステル塩類等が挙げられる。
【００８８】
又、そのカチオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ベヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド等の第４級アンモニウムクロライド類、同様の第４級アンモニウムサルフェート類、同様の第４級アンモニウムナイトレート類、２−オクタデシル−ヒドロキシエチル−２−イミダゾリン等のイミダゾリン誘導体類、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ステアロアミド−メチルアミン塩酸塩、ポリオキシエチレンステアリルアミン等のアミン塩類等が挙げられる。
【００８９】
又、その両性界面活性剤としては、例えば、Ｎ−ラウリル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウム、Ｎ−ステアリル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウム、Ｎ−ラウリル−Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウム、Ｎ−ラウリル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（カルボキシメチル）アンモニウム等のベタイン型化合物類、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム塩類、イミダゾリン−Ｎ−ナトリウムエチルスルホネート、イミダゾリン−Ｎ−ナトリウムエチルスルフェート等のイミダゾリン類、アミノカルボン酸類、アミノ硫酸エステル類等が挙げられる。
【００９０】
又、そのフッ素系界面活性剤としては公知のものが使用でき、例えば特開昭５４−１３５００４号公報、特開昭５９−１３７９４３号公報、特開昭５７−１７８２４２号公報、特開昭６１−２４８０５４号公報、特開昭６２−１７０９５０号公報、特開昭６２−２２６１４３号公報、特開平３−１７２８４９号公報、特開平４−３３５３５４号公報に記載のものが挙げられ、市販のものとしては例えば、住友３Ｍ社製ＦＣ−４３０、ＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−９５、秋田化成製ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、大日本インキ製Ｆ−１４１、Ｆ−１９１、Ｆ−８１５、Ｆ−１７１、Ｆ−１７７、旭硝子（株）製Ｓ−１４１、Ｓ−１４５、Ｓ−３８１、Ｓ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０５、ダイキン工業（株）製ＤＳ−４０１、ＤＳ−４０３、ＤＳ−４５１等が挙げられる。これらのうち、パーフルオロアルキル基を有するアクリル系オリゴマーが好ましく、フッ素置換基はアクリル系オリゴマーの主鎖に有していてもよいが、アクリル系オリゴマーの側鎖にパーフルオロアルキル基を有するのが好ましい。
【００９１】
又、そのシリコン系界面活性剤としては、公知の種々のものが挙げられる。例えば、ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサンＢＹＫ−３０１／３０２、同ＢＹＫ−３０７、同ＢＹＫ−３２５、同ＢＹＫ−３３１、同ＢＹＫ−３３３、同ＢＹＫ−３４１、同ＢＹＫ−３４５、同ＢＹＫ−３４６、同ＢＹＫ−３４８、同ＢＹＫ−３７５（ビックケミー・ジャパン社製）、アロンＧＳ−３０（東亜合成社製）、シリコーンＬ−７５、シリコーンＬ−７６、シリコーンＬ−７７、シリコーンＬ−７８、シリコーンＬ−７９、シリコーンＬ−５２０及びシリコーンＬ−５３０（以上、日本ユニカ社製）、シリコーンＦ−２６０及びシリコーンＦ−２３９（信越化学社製）等が挙げられる。
【００９２】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｅ）成分の界面活性剤の含有割合は、０．００１〜２０重量％であるのが好ましく、０．００２〜１０重量％であるのが更に好ましく、０．００５〜５重量％であるのが特に好ましい。またこれらの（Ｅ）成分は２種以上を同時に用いても良い。
【００９３】
（その他の添加剤）
又、本発明のポジ型感光性組成物には、着色剤（Ｆ）成分が含有されていても良い。着色剤としては、例えば、ビクトリアピュアブルー（４２５９５）、クリスタルバイオレット（４２５５５）、オーラミンＯ（４１０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミンＢ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、ファーストブラックＨＢ（２６１５０）、Ｎｏ．１２０／リオノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、シムラーファーストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（２１０９５）、シムラーファーストレッド４０１５（１２３５５）、リオノールレッドＢ４４０１（１５８５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）等の染顔料等の着色剤が挙げられる。尚、ここで、括弧内の数字はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する。
【００９４】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｆ）成分の着色剤の含有割合は、５０重量％以下であるのが好ましく、０．５〜３０重量％であるのが更に好ましく、２〜２０重量％であるのが特に好ましい。
【００９５】
又、本発明のポジ型感光性組成物には、（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂が前記フェノール樹脂であるとき、現像後の後加熱により該樹脂を架橋させてポジ画像に耐薬品性、耐刷性等を付与することを目的として、フェノール樹脂を架橋させる作用を有する架橋剤（Ｇ）成分が含有されていてもよく、その架橋剤としては、代表的には、官能基としてメチロール基、それをアルコール縮合変性したアルコキシメチル基、その他、アセトキシメチル基等を少なくとも２個有するアミノ化合物が挙げられ、具体的には、メラミン誘導体、例えば、メトキシメチル化メラミン〔三井サイテック社製、サイメル３００シリーズ（１）等〕、ベンゾグアナミン誘導体〔メチル／エチル混合アルコキシ化ベンゾグアナミン樹脂（三井サイテック社製、サイメル１１００シリーズ（２）等）、グリコールウリル誘導体〔テトラメチロールグリコールウリル樹脂（三井サイテック社製、サイメル１１００シリーズ（３）等）や、尿素樹脂誘導体、レゾール樹脂等が挙げられる。
【００９６】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｇ）成分の架橋剤の含有割合は、２０重量％以下であるのが好ましく、１０重量％以下であるのが更に好ましく、５重量％以下であるのが特に好ましい。
【００９７】
又、本発明のポジ型感光性組成物は、前記（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂と前記（Ｂ）成分の光熱変換物質に加えて、感光性層と支持体との密着性の改良等を目的として、シランカップリング剤等のカップリング剤や複素環チオール化合物等の密着改良剤（Ｈ）成分が含有されていても良い。そのカップリング剤の一例としてのシランカップリング剤を例示すれば、トリス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、３−（メタクリロキシプロピル）トリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−アリル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−グリシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミン、Ｎ−グリシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−（メチルジメトキシシリル）プロピル］アミン、Ｎ−グリシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アミン、Ｎ−グリシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アミンなどを挙げることができる。
【００９８】
また、その複素環チオール化合物とは、複素環化合物にメルカプト基が置換した構造を有する化合物であるが、好ましい複素環チオール化合物を例示するに、例えば、２−メルカプトチアゾール、２−メルカプトオキサゾール、２−メルカプトイミダゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンズオキサゾールおよび２−メルカプトベンズイミダゾール、２，４，６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン及びそのアルカリ金属塩、２−ジブチルアミノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン及びそのアルカリ金属塩、２−アニリノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン及びそのアルカリ金属塩などを挙げることができる。
【００９９】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｈ）成分の密着改良剤の含有割合は、０．０１〜５０重量％であるのが好ましく、０．０５〜４０重量％であるのが更に好ましく、０．１〜３０重量％であるのが特に好ましい。（Ｈ）成分の含有割合が前記範囲未満では、ポジ型感光性組成物として、支持体表面の密着性が低い場合に画像の剥離が発生し易くなり、一方、前記範囲超過では、均質な組成物を得ることが困難となる。
【０１００】
又、本発明のポジ型感光性組成物には、例えば（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂がフェノール性水酸基の保護基となる置換基を有している場合には特に、感光性組成物の保存安定性の向上を目的として、塩基性化合物（Ｉ）成分が含有されていることが好ましい。塩基性化合物（Ｉ）としては、前述の成分（Ｃ）〜（Ｈ）のうち、塩基性を有するものを用いることが合理的であり好ましいが、これらとは別の有機塩基等の塩基性化合物を用いることも好ましい。
【０１０１】
その有機塩基としては、１〜３級のアミン類が挙げられるが、好ましくは３級アミン類が用いられ、具体例としては、ピリジン、ピコリン、キノリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリベンジルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、トリエタノールアミン、トリプロパノールアミン等が挙げられ、この中でもトリベンジルアミンが好ましく用いられる。
【０１０２】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｉ）成分の有機塩基の含有割合は、０．０１〜２０重量％であるのが好ましく、０．０５〜１５重量％であるのが更に好ましく、０．１〜１０重量％であるのが特に好ましい。
又、本発明のポジ型感光性組成物は、前記（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂と前記（Ｂ）成分の光熱変換物質に加えて、成膜性の改善等を目的として可塑剤（Ｊ）成分が含有されていても良い。その可塑剤としては、例えばフタル酸エステル、燐酸エステル、脂肪酸エステル、グリコール誘導体トリアセチレン、塩化パラフィン、ヒマシ油等が好ましく、具体的には、例えば、アジピン酸ジ−２−エチルへキシル、アジピン酸（ｎ−ヘキシル−ｎ−オクチル−ｎ−デシル）、アゼライン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、ドデカン二酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸−２−エチルヘキシル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソデシル、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリエチル、リン酸トリクレジル等が挙げられる。
【０１０３】
本発明において、ポジ型感光性組成物における前記（Ｊ）成分の可塑剤の含有割合は、０．０１〜５０重量％であるのが好ましく、０．０５〜４０重量％であるのが更に好ましく、０．１〜３０重量％であるのが特に好ましい。（Ｊ）成分の含有割合が前記範囲未満では、周囲環境によらずに安定して感光性組成物層を形成することが難しく、一方、前記範囲超過では、均質な組成物を得ることが困難となる。
【０１０４】
又、本発明のポジ型感光性組成物には、露光及び現像後の画像強度の向上を目的として、膜強度改良剤（Ｋ）が含有されていても良い。その具体例としては、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノニルアルコール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、ステアリルアルコール、ヘキセングリコール、ヘプテングリコール、オクテングリコール、ノネングリコール、デカングリコール、ウンデカングリコール、ドデカングリコール等の炭素数６以上の直鎖アルキルアルコール類、ヘキシルメルカプタン、ヘプチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、デシルメルカプタン、ウンデシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等の炭素数６以上の直鎖アルキルメルカプタン類、ブチルエチルエーテル、ペンチルメチルエーテル、ペンチルエチルエーテル、ヘキシルメチルエーテル、ヘキシルエチルエーテル、ヘプチルメチルエーテル、ヘプチルエチルエーテル、オクチルメチルエーテル、オクチルエチルエーテル、ノニルメチルエーテル、ノニルエチルエーテル、デシルメチルエーテル、デシルエチルエーテル、ウンデシルメチルエーテル、ウンデシルエチルエーテル、ドデシルメチルエーテル、ドデシルエチルエーテル、トリデシルメチルエーテル、トリデシルエチルエーテル、ステアリルメチルエーテル、ステアリルエチルエーテル等の炭素数６以上の直鎖アルキルエーテル類等が挙げられる。
【０１０５】
又、膜強度改良剤（Ｋ）は、アルコールの場合がより好ましく、炭素数６〜１８のアルキルアルコールが特に好ましい。
本発明の感光性組成物における前記成分（Ｋ）の含有割合は、０．１〜３０重量％が好ましく、特に好ましくは１〜２０重量％である。
本成分（Ｋ）の含有割合が０．１重量％未満の場合は本発明の効果である塗膜強度が充分付与されず、３０重量％より多い場合は、現像時に膜減りし易い傾向が見られる。
【０１０６】
又、本発明のポジ型感光性組成物には、前記成分以外の、例えば、染料、顔料、塗布性改良剤、密着性改良剤、感度改良剤、感脂化剤、現像性改良剤等の感光性組成物に通常用いられる各種の添加剤が更に２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されていてもよい。
本発明のポジ型感光性組成物は、該感光性組成物を支持体上に塗布し、次いで２５℃で１５分間乾燥して感光性層を形成させた際に、形成された感光性層のガラス転移温度Ｔｇ（２５℃）が６０℃以上となるものが好ましい。
【０１０７】
本発明のポジ型感光性組成物は、通常、前記各成分を適当な溶媒に溶解或いは分散させた塗布液として支持体表面に塗布した後、加熱、乾燥させることにより、支持体表面に前記ポジ型感光性組成物の層が形成されたポジ型感光性画像形成材とされる。
【０１０８】
（支持体）
ここで、その支持体としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、或いは、飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルフォン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等の熱可塑性樹脂等の樹脂シート、紙、前記樹脂を塗布した紙、ガラス板、及び、アルミナ、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等の無機質板、並びに、ガラス織布基材エポキシ樹脂、ガラス不織布基材エポキシ樹脂、紙基材エポキシ樹脂、紙基材フェノール樹脂等に代表される複合材シート等の、厚み０．０２〜１０ｍｍ程度のものを絶縁基板とし、その基板表面に導電層が形成されたものが好適に用いられ、その導電層の構成材料としては、例えば、銅、金、銀、クロム、亜鉛、錫、アルミニウム、鉛、ニッケル、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）、半田等の金属が挙げられる。尚、前記絶縁基板表面への導電層の形成方法としては、例えば、前記金属の箔を加熱、圧着ラミネートするか、前記金属をスパッタリング、蒸着、メッキする等の方法が採られ、その厚みは、通常、１〜１００μｍ程度である。
【０１０９】
又、本発明における支持体としては、前記導電層の構成材料として挙げた金属の板、及び、前記導電層を表面に形成していない、前記絶縁基板として挙げた樹脂シート、紙、前記樹脂を塗布した紙、ガラス板、無機質板、複合材シート等も用いることもできる。
【０１１０】
（溶媒）
本発明の感光性組成物に使用される溶媒としては、公知の感光性組成物に対して使用されるものから選択することが出来るが、好ましくは下記より選ばれる特定の溶媒が使用される。（溶媒１）及び（溶媒２）の総量は全溶媒量の５０％以上、好ましくは６０％以上、より好ましくは７０％以上であれば、その他の溶媒が含まれていても良い。
（溶媒１）ケトン系又はエーテル系溶媒
（溶媒２）沸点が１２０℃未満の溶媒
【０１１１】
（溶媒１）のケトン系溶媒とは、水酸基を置換基として有さず、少くとも１つのエーテル構造（−Ｏ−）を有する溶媒である。（溶媒１）のケトン系溶媒の具体例としては、アセトン（沸点５５．５℃、相対蒸発速度６．３）、メチルエチルケトン（沸点７９．６℃）、メチルイソプロピルケトン（沸点９４℃）、メチルノルマルプロピルケトン（沸点１０１℃）、メチルイソブチルケトン（沸点１１４℃）、エチルノルマルプロピルケトン（沸点１２３℃）、メチルノルマルブチルケトン（沸点１２７℃）、メチルイソアミルケトン（沸点１４１℃）、シクロヘキサノン（沸点１５５．７℃）等を挙げることができ、中でもメチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルノルマルプロピルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましく、更にはメチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルノルマルプロピルケトンが特に好ましい。
【０１１２】
（溶媒１）のエーテル系溶媒とは、水酸基を置換基として有さず、少くとも１つのエーテル構造（−Ｏ−）を有する溶媒である。エーテル系溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン（沸点６５℃）、ジイソプロピルエーテル（沸点６８℃）、ｔｅｒｔ−ブチルエチルエーテル（沸点７２℃）、１，３−ジオキソラン（沸点７４℃）、２−メチルテトラヒドロフラン（沸点７８℃）、エチレングリコールジメチルエーテル（沸点８５℃）、テトラヒドロピラン（沸点８８℃）、ノルマルブチルエチルエーテル（沸点９１℃）、プロピレングリコールジメチルエーテル（沸点９６℃）、１，４−ジオキサン（沸点１００℃）、エチレングリコールジエチルエーテル（沸点１２１℃）、ジブチルエーテル（沸点１４２℃）等を挙げることができ、中でもテトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルエチルエーテル、１，３−ジオキソラン、２−メチルテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ノルマルブチルエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンが好ましく、更には１，３−ジオキソラン、２−メチルテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルが特に好ましい。
【０１１３】
（溶媒２）の沸点が１２０℃未満の溶媒としては、（溶媒１）に挙げたものの内、沸点が１２０℃未満の溶媒に加えて、イソプロピルアルコール（沸点８０．８℃）、ノルマルプロピルアルコール（沸点９６℃）、ｓｅｃ−ブチルアルコール（沸点９８℃）、イソプチルアルコール（沸点１０６℃）、ノルマルブチルアルコール（沸点１１６℃）、酢酸エチル（沸点７５．５℃）、酢酸イソプロピル（沸点８５℃）、酢酸ノルマルプロピル（沸点９９℃）、酢酸イソブチル（沸点１１２℃）等が挙げられ、中でもイソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソブチルが好ましく、更にイソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピル等の沸点が１００℃以下の溶媒が特に好ましい。
【０１１４】
又、その他の溶媒としては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶媒、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶媒、ヘプタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶媒、、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の高極性溶媒、或いはこれらの混合溶媒、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。
これらの溶媒の使用割合は、感光性組成物の総量に対して、通常、重量比で１〜１５０倍程度の範囲である。
【０１１５】
（塗布方法）
又、その塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は用途により異なるが、乾燥膜厚として、通常、０．３〜７μｍ、好ましくは０．５〜６μｍ、特に好ましくは１〜５μｍの範囲とする。
本発明は、塗布後の乾燥工程に特徴があり、溶媒の乾燥工程が溶媒の蒸発速度の異なる少なくとも２つの工程を含むことを特徴とする。ここで、それぞれの工程中での溶媒の蒸発速度は必ずしも一定である必要はなく、２つの工程の溶媒蒸発速度が異なるとは、各工程の溶媒蒸発速度の平均値が異なることを意味する。より具体的には、乾燥工程が、乾燥工程（Ａ）と乾燥工程（Ｂ）を含み、下式の条件となる。
【０１１６】
【式１】
乾燥工程（Ａ）における溶媒の平均蒸発速度＜乾燥工程（Ｂ）における溶媒の平均蒸発速度
ここで、乾燥工程（Ａ）は乾燥工程（Ｂ）よりも先に行われるのが好ましく、又、塗布後直ちに乾燥するのがよい。即ち、工程（Ａ）で比較的ゆっくり乾燥を行うことにより、塗布膜のレベリング性をあげ、かつ工程（Ｂ）で残留溶媒を比較的速く蒸発させることで、効率良く、レベリング性の良い感光層を形成できる。
乾燥工程（Ａ）及び（Ｂ）を含む乾燥温度及び工程Ａ及びＢの合計の乾燥時間としては、含有する成分が変質しない温度以下であり、且つ用いた溶媒の９５％以上が蒸発し終える温度及び時間であれば良く、例えば、１〜１５０℃程度、好ましくは３〜１３０℃程度、更に好ましくは１５〜１２０℃であり、特に溶媒として、前述の（溶媒１）且つ（溶媒２）であるものを用いる場合のより好ましい温度は、５〜５０℃である。また乾燥時間としては、例えば、５秒〜６０分間程度、好ましくは１０秒〜２０分間程度が採られる。また、乾燥の際に、乾燥を補助する手段として、ハロゲンランプにより加熱する方法、送風機により送風する方法、回転可能なシリンダー上に取り付けて回転させる等感光性組成物が塗布された支持体を動かす方法などが併用されても良い。
【０１１７】
本発明の方法において、溶媒の蒸発速度の低い工程は、具体的方法としては、
（１）乾燥を２５℃以下で行う方法
（２）支持体上に塗布された感光性組成物近傍の溶媒蒸気の拡散を抑制する　方法
（３）乾燥工程の雰囲気を大気圧より高い圧力とする方法
などにより達成される。（１）の具体的な方法としては、例えば、１〜２５℃程度、好ましくは３〜２３℃程度、更に好ましくは５〜２０℃程度の雰囲気下で乾燥を行う方法である。ここで、これより低い温度では溶媒の蒸発が遅すぎる上に、該温度に環境を制御するのが困難である為、実用的ではなく、これより高い温度では溶媒の蒸発速度を十分に低下させることが出来ずに、本発明の効果を発現する事が困難となる傾向にある。
【０１１８】
尚乾燥工程（Ａ）に於いて（１）の方法を単独で採用する場合、乾燥工程（Ｂ）は、上記の乾燥温度の範囲内で乾燥工程Ａより高温で行なわれる。
また（２）の具体的な方法としては、感光性組成物を塗布した支持体ごと全体を覆う、即ち密閉あるいは拡散してくる蒸気の拡散を抑制する空間に保持する方法、支持体上に塗布された感光性組成物近傍に風が当たらないようにする方法などが挙げられる。
また（３）の具体的な方法としては、乾燥環境を加圧器などにより、大気圧より高い圧力とする方法が挙げられ、この際の圧力としては、ゲージ圧で、０．１〜５気圧、より好ましくは０．５〜４気圧、更に好ましくは１〜３気圧である。
これらの（１）〜（３）の方法は、それぞれ単独で実施されても良いが、複数を組み合わせて実施しても良い。
乾燥工程（Ａ）は、感光層中の固型分に対する残留溶媒量が５０重量％以下、好ましくは３０重量％以下、更に好ましくは２０重量％以下となる時間行うのが好ましい。
【０１１９】
本発明のポジ画像形成方法は、前記ポジ型感光性組成物の層を支持体表面に有する前記ポジ型感光性画像形成材を、画像露光した後、アルカリ現像液で現像処理してポジ画像を形成することよりなる。
【０１２０】
（露光）
ここで、前記ポジ型感光性組成物層を画像露光する光源としては、主として、ＨｅＮｅレーザー、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、ＨｅＣｄレーザー、半導体レーザー、ルビーレーザー等のレーザー光源が挙げられるが、特に、該ポジ型感光性組成物層に含有される（Ｂ）成分の光熱変換物質が効率的に吸収する波長域に応じて、波長域３９０〜４３０ｎｍの青紫色領域のレーザー光、或いは波長域６５０〜１，３００ｎｍの範囲の赤外レーザー光を発生する光源が好ましく、具体的には、例えば、４１０ｎｍを発振する窒化インジウムガリウム半導体レーザー、８３０ｎｍを発振する半導体レーザー、１０６４ｎｍを発振するＹＡＧレーザー等が挙げられる。又、その走査露光方法も、特に限定されるものではなく、例えば、平面走査露光方式、外面ドラム走査露光方式、内面ドラム走査露光方式等が挙げられる。
【０１２１】
波長域３９０〜４３０ｎｍの青紫色領域のレーザー光を発生する光源を用いる場合には、レーザーの出力光強度を、好ましくは１〜１００ｍＷ、更に好ましくは３〜７０ｍＷ、発振波長を、好ましくは３９０〜４３０ｎｍ、更に好ましくは４００〜４２０ｎｍ、ビームスポット径を、好ましくは２〜３０μｍ、更に好ましくは４〜２０μｍ、走査速度を、好ましくは５０〜５００ｍ／秒、更に好ましくは１００〜４００ｍ／秒、走査密度を、好ましくは２，０００ｄｐｉ以上、更に好ましくは４，０００ｄｐｉ以上として、走査露光する。
【０１２２】
波長域６５０〜１３００ｎｍの範囲の赤外レーザー光を発生する光源を用いる場合には、光源の光強度としては、２．０×１０６　ｍＪ／ｓ・ｃｍ２　以上とすることが好ましく、１．０×１０７　ｍＪ／ｓ・ｃｍ２　以上とすることが更に好ましい。光強度が前記範囲であれば、本発明でのポジ型感光性組成物層の感度特性を向上させ得て、走査露光時間を短くすることができ実用的に大きな利点となる。ここで、レーザービームの光強度は、光パワーメーターにより測定したレーザービームの単位時間当たりのエネルギー量（ｍＪ／ｓ）を感光性組成物層表面におけるレーザービームの照射面積（ｃｍ２　）で除することにより求めることができる。レーザービームの照射面積は、通常、レーザーピーク強度の１／ｅ２　強度を越える部分の面積で定義されるが、簡易的には相反則を示す感光性組成物を感光させて測定することもできる。
【０１２３】
（現像）
本発明の前記ポジ型感光性画像形成材を画像露光したポジ型感光体の現像処理に用いる現像液としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等の無機アルカリ塩、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、モノブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン等の有機アミン化合物、或いは、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等の水酸化テトラアルキルアンモニウム化合物等の０．１〜５重量％程度の水溶液からなるアルカリ現像液を用いる。中で、無機アルカリ塩である珪酸ナトリウム、珪酸カリウム等のアルカリ金属の珪酸塩が好ましい。尚、現像液には、現像条件の幅を安定して広げ得る等の点から、前記感光性組成物の界面活性剤成分として挙げたと同様のノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等の界面活性剤や、アルコール等の有機溶媒を加えることができる。
【０１２４】
又、現像処理は、従来公知の方法、例えば、浸漬現像、スプレー現像、スピン現像、ブラシ現像、超音波現像等により、好ましくは１０〜５０℃程度、特に好ましくは１５〜４５℃程度の温度で、通常５秒〜３分程度の時間でなされる。現像後は、乾燥し、更に、その後、必要に応じて、形成された画像の密着性向上等を目的として、１００〜２５０℃程度の温度範囲でポストベーク処理を施すこともできる。又、例えば、特開平１１−１０８２７号公報等に記載されるように、前述のアルカリ現像液、又は、それに添加される前述の界面活性剤或いは水溶性有機溶剤等、若しくはそれらの溶液等、を浸透剤として露光後の感光層に浸透させ、必要に応じて物理的刺激を加えることにより、露光部を支持体表面から剥離させ現像する、所謂浸透現像法、又は、特開平１０−３３３３２１号公報等に記載されるように、感光層上に印刷インキを供給し、インキの粘着力を利用して被着体に該インキを露光部と共に転写させることにより、露光部を支持体表面から剥離させ現像する、所謂印刷現像法、等の方法を採ることもできる。
【０１２５】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２６】
実施例１、２、比較例
支持体として銅張り板（三菱ガス化学社製、ＣＣＬ−ＥＬ−１７０）を用い、その支持体上に、（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂として、ヒドロキシスチレンとスチレンの共重合体（丸善石油化学社製、ヒドロキシスチレン／スチレン比＝７：３、Ｍｗ：３，０００、Ｍｎ：２，０００）６５重量部及びポリビニルフェノール〔丸善石油化学（株）製マルカリンカーＳ−２Ｐ、Ｍｗ：４，８００、Ｍｎ：２，５００〕３５重量部、（Ｂ）成分の光熱変換物質として下記式（１）の色素７重量部、（Ｃ）成分の溶解抑止剤としてクリスタルバイオレットラクトン（山田化学工業社製）１０重量部、（Ｅ）成分の界面活性剤として、ノニオン系界面活性剤であるテトラオレイン酸ソルビットのポリエチレンオキサイド付加物（日光ケミカルズ社製「ＮＩＫＫＯＬ　ＧＯ−４３０Ｎ」）５重量部、（Ｋ）成分の膜強度改良剤として１−ドデカノール５重量部を、メチルエチルケトン２３１８重量部に室温で攪拌することにより調液して得られるポジ型感光性組成物塗布液を、ワイヤーバー（＃４０）を用いて塗布し、表１に示した乾燥条件にて乾燥させることにより、膜厚約３μｍのポジ型感光性組成物層を有するポジ型感光性画像形成材を作製した。ここで、実施例２における「覆い」とは、蒸発してくる溶媒蒸気の拡散を抑制するべく設けられたものであり、ここではプラスチック製容器を塗布面に伏せて置く事で、覆いとした。
【０１２７】
【化３１】
2004086103.tif 000032
【０１２８】
得られたポジ型感光性画像形成材につき、スリーワンモーターを用いて回転可能とした直径７ｃｍのアルミ製シリンダーに固定して回転させつつ、波長８３０ｎｍ、３０ｍＷのアプライドテクノ社製半導体レーザーにより、感光性層表面の露光量を変化させつつ走査露光した。次いで、アルカリ現像液（１．６％ＫＯＨ水溶液）を２５℃で接触させることにより現像処理し水洗して、露光量約３００ｍＪ／ｃｍ２となる部分にて、細線画像のポジ画像が得られた。
またレベリング性について、現像時間を１１０秒として感光層の膜厚を減少させた際の、使用したワイヤーバー由来の筋ムラの有無により評価し、筋ムラなしを「良」、筋ムラありを「不良」とした。
これらの結果を表１に示したが、乾燥速度を遅くする措置を行うことにより、レベリング性が向上し、またこれらの措置によっては画像形成性に悪影響を及ぼすことはないことが明らかとなった。
【０１２９】
【表１】
2004086103.tif 000033
【０１３０】
【発明の効果】
本発明により、感光性層を支持体上に塗布・乾燥する際に、レベリング性を改良して、均一な塗布膜を形成するのに好適な感光性画像形成材の製造方法を提供することが可能となる。