(57)【要約】【課題】温調エアーのゆらぎによる位置計測精度の劣化を防止し、ステージ位置決め精度の向上を図る。【解決手段】ステージ定盤５Ｄの定盤面上で移動するスライダ５Ｃの位置を計測するための干渉計をスライダ側に搭載し、反射ミラー９，１０を定盤側に固定したステージ装置において、反射ミラーの下面と定盤面との間に、反射ミラーの背面側空間から反射面側空間へ温調エアーを通過させるための空隙孔９Ｃ，１０Ｃを設ける。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準面を有する定盤と、該基準面上で移動する移動体と、反射ミラーの反射面の位置までの距離により該移動体の位置を計測する位置計測用干渉計とを有し、前記位置計測用干渉計は前記移動体に搭載され、前記反射ミラーは前記定盤に一体的に取り付けられたステージ装置において、
前記反射ミラーの下面と前記基準面との間に該反射ミラーの背面側空間から反射面側空間へ連通する開口が設けられていることを特徴とするステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体露光装置などの精密機械において半導体ウエハや露光原版等の基板を移動または位置決めするために用いられるステージ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造工程において、原版であるレチクルのパターンを被露光基板であるシリコンウエハ上に投影して転写する投影露光装置では、レチクルパターンをウエハ上に投影露光する際、レチクルおよびシリコンウエハを投影露光系に対して順次移動させるためにステージ装置であるレチクルステージおよびウエハステージが用いられる。
【０００３】
図８〜図１０は、従来の投影露光装置の構成および動作を示す。図において、１は照明系ユニットで、露光光源（不図示）からの露光光を整形しレチクル（原版：不図示）に対して照射する。２は露光パターンの原版であるレチクルを搭載するレチクルステージで、搭載したレチクルをウエハ（基板）８に対して所定の縮小露光倍率比で、スキャン動作させる。３は縮小投影レンズで、レチクルに形成された原版パターンをウエハ８に縮小投影する。
【０００４】
４は露光装置本体、５はウエハステージで、露光装置本体４は、前記レチクルステージ２、投影レンズ３およびウエハステージ５を支持する。ウエハステージ５は、ウエハ８を順次の露光位置にステップ移動させるとともにレチクルのスキャン動作時、それと同期してウエハ８をスキャン動作させる。ウエハステージ５は、ステージ定盤５Ｄおよびスライダ（移動体）５Ｃを備える。
【０００５】
ウエハステージ５の上面（スライダ５Ｃの上面）には、照度センサ５Ａおよびステージ基準マーク５Ｂが設けられている。照度センサ５Ａは、露光光の照度を露光前にキャリブレーション計測し、露光量を補正するために用いられる。基準マーク５Ｂには、ステージアライメント計測用のターゲットが設けられている。スライダ５Ｃは、図１０（２）の断面図に示されるように、内部にスライダ５Ｃをステージ定盤５Ｄの上面（基準面）で面内駆動する駆動コイル５Ｆが設けられている。この駆動コイル５Ｆに対向して、ステージ定盤５Ｄに櫛歯鉄心ヨーク５Ｅが設けられ、駆動コイル５Ｆにて励磁されたヨークと櫛歯鉄心ヨーク５Ｅとの相互作用によりスライダ５Ｃがステージ定盤５Ｄ上でＸＹの二次元方向に面内駆動される。
【０００６】
６はフォーカススコープで、縮小投影レンズ３の鏡筒から、ウエハ８のフォーカス計測を行う。６Ａはアライメントスコープで、ウエハ上のアライメントマーク（不図示）およびウエハステージ上のアライメント用基準マーク５Ｂを計測し、ウエハ内アライメントおよびレチクルとウエハ間のアライメントを行う際の計測を行う顕微鏡である。７はウエハ搬送ロボットで、ウエハ８をウエハステージ５に供給する。８はレチクルに描かれたレチクルパターンを縮小露光系を通して投影転写するために、単結晶シリコン基板表面にレジストが塗られたウエハである。なお、図８（１）において、スライダ５Ｃの上面のウエハチャックおよびウエハ部分は、縮小投影レンズ３、フォーカススコープ６の光線およびウエハ８の関係が分かるように、断面で表している。
【０００７】
スライダ５Ｃには、スライダ５Ｃの位置（以下、ウエハステージの位置という）、すなわちウエハ８の位置を計測するため複数のレーザ干渉計（不図示）が搭載されている。９はＸバーミラー（Ｘ干渉計ミラー）で、ウエハステージのＸ方向の位置をレーザ干渉計により計測するターゲットである。９ＡはＸ干渉計計測光、９ＢはＸバーミラー９を保持位置決めするＸ干渉計ベースである。１０はＹバーミラー（Ｙ干渉計ミラー）で同じくウエハステージ５のＹ方向の位置を計測するターゲットである。１０ＡはＹ干渉計計測光、１０ＢはＹ干渉計ミラー１０を保持位置決めするＹ干渉計ミラーベースである。１１１、１１２はステージ空間の温調を行う温調エアー吹き出しで、図示位置から温調エアーを吹き流す。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、本発明者らは、上記従来例においては、ステージ位置決め精度が位置計測系およびステージ駆動系の構成から予測および期待されるレベルに達していないことを見出した。本発明者らは、この従来例における制御精度悪化の原因を検討した結果、以下の知見を得た。
【０００９】
すなわち、図８の構成で、図１０（１）に示すように、スライダ５Ｃを移動制御する際に、駆動コイル５Ｆに駆動電流が印加されることにより、スライダ５Ｃの外周部温度が上昇する。この状態で、温調エアー吹き出し１１１および温調エアー吹き出し１１２からの温調エアー１１１Ａおよび１１２Ａは、Ｘ干渉計ミラーベース９ＢおよびＹ干渉計ミラーベース１０Ｂが送風の障害にならないように図９に図示した位置から図示方向で送風される。スライダ５Ｃの温度上昇部位により、温調エアーの吹き出し直後の温調エアー１１１Ａ、１１２Ａの温度に対して、温調エアー（ゆらぎ）１１１Ｂおよび温調エアー（ゆらぎ）１１２Ｂの温度は上昇し、空間空気のゆらぎ現象により、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａに対して計測誤差要因として働き、計測誤差を生む。結果として、ウエハステージ（スライダ５Ｃ）を干渉計計測値により、目標位置に位置決めする際に、目標値誤差発生となり、ステージ装置の制御精度が悪化する。
【００１０】
本発明では、上記従来例の構成で問題になっていた以下の問題点に着目する。従来は、平面モータステージの位置計測干渉計で、スライダへの干渉計搭載の場合、固定側にバーミラー固定部材をステージ定盤上からミラー全面ベタ受け構造にて支持していたため、スライダおよびステージ温調エアーの一方向の吹き出しを構成する際、バーミラー固定側と逆方法から吹き出していたので、スライダの熱源からの温度上昇エアーによる干渉計計測光軸部へのゆらぎの影響が発生し、制御精度が劣化するというする問題があった。
本発明は、スライダの位置を計測するための干渉計をスライダに搭載し、ステージ定盤に反射ミラーを固定したステージ装置において、位置計測精度の劣化を防止し、ステージ位置決め精度の向上を図ることを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を達成するため、本発明では、基準面を有する定盤と、該基準面上で移動する移動体と、反射ミラーの反射面の位置までの距離により該移動体の位置を計測する位置計測用干渉計とを有し、前記位置計測用干渉計は前記移動体に搭載され、前記反射ミラーは前記定盤に一体的に取り付けられたステージ装置において、前記反射ミラーの下面と前記基準面との間に、該反射ミラーの背面側空間から反射面側空間へ連通する開口が設けられていることを特徴とする。
【００１２】
【作用】
本発明によれば、移動体位置計測用反射ミラーの下面と移動体の支持面である基準面との間に、該反射ミラーの背面側空間と反射面側空間とを連通する開口を設けている。これにより、反射ミラーの外側から移動体のある内側方向へ温調エアーを吹き流すことができ、移動体の熱源の影響を受けずに干渉計計測空間の温調が可能になり、ステージ位置決め精度が向上する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の好ましい実施の形態において、本発明は、スキャナもしくは走査露光装置と呼ばれるステップアンドスキャン型の投影露光装置またはステッパと呼ばれるステップアンドリピート型の投影露光装置のウエハステージもしくはウエハステージとレチクルステージに適用される。
すなわち、本発明の好ましい実施の形態に係る露光装置は、原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置であって、基板あるいは原版ステージの可動部に位置計測用干渉計が搭載され、該干渉計に対応し基板あるいは原版ステージ固定部側に反射ミラーが設けられ、該反射ミラーは該可動部を移動可能に支持する定盤に支持固定され、該反射ミラー下面と該定盤間に基板ステージ外周部から該定盤面に連通する開口を設けたことを特徴とする露光装置である。
【００１４】
上記露光装置においては、前記反射ミラーの外周部近傍から略一定温度に保たれた温調エアーを、該反射ミラー下面と該定盤間に設けられた開口および該反射ミラー上部を透過する方向に送風する。また、前記反射ミラーは複数が直交して設けられ、複数の該反射ミラー下面と該定盤間に設けられた開口に対して、該温調エアーの吹き出しが略斜め方向から送風するとよい。さらに、前記ステージ装置は、定盤上平面内を移動可能な可動部を持つ平面モータとすることができる。この平面モータは、定盤上平面内を移動可能に駆動する電磁子可動部を持つとものすることができる。なお、ここで、エアーとは、清浄化および乾燥化した空気の他、窒素ガスやヘリウムガスなどの不活性ガスまたはこれらの不活性ガスと空気の混合ガスをも含む概念で用いている。
【００１５】
【実施例】
以下に本発明の実施例を説明する。
［実施例１］
図１および図２は、本発明の第１の実施例に係る投影露光装置の構成および動作を示す。本実施例に係る投影露光装置は、図８〜図１０を用いて説明した従来例が、温調エアー吹き出し１１１および１１２をＸバーミラー９およびＹバーミラー１０に関し、移動体であるスライダ５Ｃと同じ側に配置しているのに対し、温調エアー吹き出し１１１および１１２に対応する温調エアー吹き出し１１および１２をＸバーミラー９およびＹバーミラー１０の背面側に配置し、さらに、Ｘバーミラー９およびＹバーミラー１０を固定支持するＸ干渉計ミラーベース９ＢおよびＹ干渉計ミラーベース１０Ｂに温調エアーを通過させるための開口である空調用空隙孔９Ｃおよび１０Ｃを設けたものである。他の構成は同一であるので、図１および図２において、図８および図９と共通する部分には同一の符号を付して説明を省略する。
【００１６】
図１および図２の構成において、１１、１２はステージ空間の温調を行う温調エアー吹き出しで、図示位置から温調エアーを吹き流す。一方、スライダ５Ｃを移動制御する際に、駆動コイル５Ｆに駆動電流が印加されることにより、スライダ５Ｃの外周部温度が上昇する。この状態で温調エアー吹き出し１１および温調エアー吹き出し１２からの温調エアー１１Ａおよび１２Ａは、Ｘ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０の上面部をミラー背面から送風され、かつＸ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０とステージ定盤５Ｄの間に設けられた空調用空隙孔９Ｃおよび１０Ｃの背面から送風されている。したがって、温調エアー１１Ａおよび１２Ａは、温度上昇したスライダ５Ｃの外周部に達する前に、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調するため、干渉計光路は、スライダ５Ｃの温度上昇外乱を受けることなくエアー１１Ａおよび１２Ａと変わらない温度の温調エアー１１Ｂおよび１２Ｂでの温調が可能となる。
【００１７】
最終的に、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調した温調エアー１１Ｂおよび１２Ｂは、スライダ５Ｃの周辺を流れて温度上昇部の影響で、温度が若干上昇した温調エアー１１Ｃおよび１２Ｃの状態となり、温調エアーは流れ終わる。以上より、目標値誤差発生要因である、ゆらぎの影響を防ぎ、ステージ装置の制御精度の悪化を防ぐことができる。
【００１８】
［実施例２］
第２の実施例を図３に示す。第１の実施例では、２個の温調エアー吹き出し１１および１２を用いていたが、ここでは、温調エアー吹き出しは温調エアー吹き出し１３を１個だけ用いている。１個の温調エアー吹き出し１３でＸ干渉計計測光９ＡとＹ干渉計計測光１０Ａの２つの干渉計光路を温調するため、Ｘ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０に対して斜め方向から温調エアー１３Ａを吹き流すようにしている。
【００１９】
ここで、第１の実施例と同じく、スライダ５Ｃを移動制御する際に、駆動コイル５Ｆに駆動電流が印加されることにより、スライダ５Ｃ外周部温度が上昇する。この状態で本実施例では、温調エアー吹き出し１３からの温調エアーは、Ｘ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０の上面部がミラー斜め背面から両方のミラーに同時に送風され、かつＸ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０とステージ定盤５Ｄの間に設けられた空調用空隙孔９Ｃ背面および空調用空隙孔１０Ｃ背面から一定温度の温調エアー１３Ａが送風され、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調するため、干渉計光路における温調エアー１３Ｂはスライダ５Ｃの温度上昇外乱を受けることがなく、干渉光路はエアー１３Ａと変わらない温度での温調が可能となる。最終的に、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調した温調エアーは、スライダ５Ｃの周辺を流れて温度上昇部の影響で温度が若干上昇した温調エアー１３Ｃの状態で、温調エアーは流れ終わる。以上より、目標値誤差発生要因である、ゆらぎの影響を防ぎ、ステージ装置の制御精度の悪化を防ぐことができる。
【００２０】
［実施例３］
第３の実施例を図４に示す。第１の実施例では、２個の温調エアー吹き出し１１および１２は、ステージ定盤５Ｄの定盤面（基準面）と略平行に温調エアー吹き出すように配置されているが、ここでは、温調エアー吹き出し１４および１５は、斜め上方から、すなわち上記定盤面に対し所定の俯角をもって温調エアー吹き出すように配置されている。
【００２１】
ここで、第１の実施例と同じく、スライダ５Ｃを移動制御する際に、駆動コイル５Ｆに駆動電流が印加されることにより、スライダ５Ｃ外周部温度が上昇する。この状態で本実施例では、温調エアー吹き出し１４および１５からの温調エアーは、Ｘ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０の上面部をミラー背面斜め上方から送風され、かつＸ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０とステージ定盤５Ｄの間に設けられた空調用空隙孔９Ｃ背面および空調用空隙孔１０Ｃ背面から一定温度の温調エアー１４Ａおよび１５Ａが送風され、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調するため、干渉計光路における温調エアー１４Ｂおよび１５Ｂは、スライダ５Ｃの温度上昇外乱を受けることなくエアー１４Ａおよび１５Ａと変わらない温度での温調が可能となる。
【００２２】
また、第１の実施例と異なり斜め上方からの温調エアーの送風により、定盤温度の影響およびスライダ周囲温度の影響を受けることなく、干渉計計測光路の温調を可能にする。最終的に、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調した温調エアーは、スライダ５Ｃの周辺を流れて温度上昇部の影響で、温度が若干上昇した温調エアー１４Ｃおよび１５Ｃの状態で、温調エアーは流れ終わる。以上より、目標値誤差発生要因である、ゆらぎの影響を防ぎ、ステージ装置の制御精度の悪化を防ぐことができる。
【００２３】
［実施例４］
第４の実施例を図５に示す。本実施例は、第２の実施例のように１個の温調エアー吹き出し１６を用いて、第３の実施例のように、温調エアーを斜め上方から吹き出すようにしたものである。ここで、第２の実施例と同じく、スライダ５Ｃを移動制御する際に、駆動コイル５Ｆに駆動電流が印加されることにより、スライダ５Ｃ外周部温度が上昇する。この状態で本実施例では、温調エアー吹き出し１６からの温調エアーは、Ｘ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０の上面部をミラー斜め背面の斜め上方から一括して温調送風され、かつＸ干渉計ミラー９およびＹ干渉計ミラー１０とステージ定盤５Ｄの間に設けられた空調用空隙孔９Ｃおよび空調用空隙孔１０Ｃの背面から一定温度の温調エアー１６Ａが送風され、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調するため、干渉光路における温調エアー１６Ｂは、スライダ５Ｃの温度上昇外乱を受けることなくエアー１６Ａと変わらない温度での温調が可能となる。
【００２４】
また、第１および第２の実施例と異なり斜め上方からの温調エアーの送風により、定盤温度の影響およびスライダ周囲温度の影響を受けることなく、干渉計計測光路の温調を可能にする。最終的に、Ｘ干渉計計測光９ＡおよびＹ干渉計計測光１０Ａの干渉計光路を温調した温調エアーは、スライダ５Ｃの周辺を流れて温度上昇部の影響で温度が若干上昇した温調エアー１６Ｃの状態で、温調エアーは流れ終わる。以上より、目標値誤差発生要因である、ゆらぎの影響を防ぎ、ステージ装置の制御精度の悪化を防ぐことができる。
【００２５】
［実施例５］
第５の実施例を図６に示す。第１〜５の実施例におけるスライダ５Ｃの上部に６軸微動ステージ５Ｇを搭載することにより粗微動駆動する構成も考えられる。図６は、第１の実施例におけるスライダ５Ｃの上部に６軸微動ステージ５Ｇを搭載することにより粗微動駆動するようにした礼を示す。
【００２６】
本実施例では、スライダ５Ｃの粗動計測には、計測分解能が数十ｎｍ程度の半導体レーザを用いた干渉計を搭載し、６軸微動ステージ５Ｇの計測には、計測分解能が数ｎｍ以下のＨｅ−Ｎｅレーザ干渉計を用いる。その際に、Ｈｅ−Ｎｅレーザ干渉計のレーザヘッドは大型となるため、可動部への搭載ができなくなるので、６軸微動ステージ５Ｇ上に微動Ｘ干渉計ミラー９Ｅを設けることにより、ステージ外部から微動ステージ５Ｇの位置計測を微動Ｘ干渉計計測光９Ｃにより行う。なお、微動Ｘ干渉計支柱９Ｄにより、微動Ｘ干渉計計測光９Ｃの位置が位置決めされる。
【００２７】
第５の実施例の構成においては、空調用空隙９Ｃおよび１０Ｃを透過した温調エアーによりＸ干渉計計測光９Ａおよび１０Ａの干渉光路を温調することによって、スライダ５Ｃの周囲温度の影響で干渉光路のゆらぎが発生しないようにし、微動Ｘ干渉計計測光９Ｃの光路は、温調エアー吹き出し１１および１２のＸ干渉計ミラー９および１０上部を透過する温調エアーにより温調することにより、スライダ５Ｃの周囲温度の影響による干渉光路のゆらぎが発生しないようにする。このように、スライダ５Ｃおよび微動ステージ５Ｇ両者の干渉計光路温度の安定化すなわち、ゆらぎ防止を図ることも可能である。
【００２８】
［実施例６］
第６の実施例を図７に示す。図６に示すように、温調エアー吹き出し１７を空調用空隙孔内に設けても良い。
【００２９】
以上の実施例によれば、干渉計搭載粗動平面モータで、固定側バーミラー支持部材をステージ定盤との間に隙間がある構成にし、温調エアーの吹き出し方向を、バーミラー背面方向からスライダに向けて、一部温調エアーをバーミラー上部と下部空隙を介して吹き流すことにより、スライダの熱源の影響を受けずに干渉計計測空間の温調が可能になり、ステージ位置決め精度が向上する。
【００３０】
【発明の適用範囲】
本発明は、上記実施例の限定されることなく適宜変形して実施することができる。例えば、温調エアーは、窒素ガスやヘリウムガスなどの不活性ガスまたは不活性ガスと空気との混合気体であっても良い。また、上述においては、主に、本発明をいわゆるスキャナに適用した例について説明したが、本発明は、いわゆるステッパ等他の方式の露光装置や、露光装置以外の半導体製造装置や走査型電子顕微鏡などの精密機械にも適用可能である。また、上述において空調用空隙孔は、矩形のものを反射ミラー支持体ごとに１個ずつ設けた例を示したが、空隙孔を複数個を設けても良く、また形状も円形もしくは楕円形、三角形または矩形以外の多角形であってもよい。結果、反射ミラー支持体を格子状またはハニカム状等に構成することも可能である。
【００３１】
【実施態様】
本発明の実施態様の例を以下のように列挙する。
［実施態様１］  基準面を有する定盤と、該基準面上で移動する移動体と、反射ミラーの反射面の位置までの距離により該移動体の位置を計測する位置計測用干渉計とを有し、前記位置計測用干渉計は前記移動体に搭載され、前記反射ミラーは前記定盤に一体的に取り付けられたステージ装置において、
前記反射ミラーの下面と前記基準面との間に、該反射ミラーの背面側空間から反射面側空間へ連通する開口が設けられていることを特徴とするステージ装置。
［実施態様２］  前記反射ミラーの外側から略一定温度に保たれた温調エアーを該反射ミラーの上方および前記開口を通して前記移動体あるいは前記定盤基準面上に送風する手段をさらに有することを特徴とする実施態様１に記載のステージ装置。
［実施態様３］  前記送風手段は前記温調エアーを前記基準面あるいは前記移動体に対し所定の俯角をもって送風することを特徴とする実施態様２に記載のステージ装置。
［実施態様４］  一対の前記反射ミラーが直交して設けられ、前記送風手段は前記一対の反射ミラーの双方に対応して略単一方向から送風することを特徴とする実施態様２または３に記載のステージ装置。
［実施態様５］  前記移動体に設けられた可動子と、前記定盤に設けられた固定子を有する平面モータにより、前記移動体を基準面で駆動することを特徴とする実施態様１〜４のいずれか１つに記載のステージ装置。
［実施態様６］  原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置であって、
前記原版または基板を前記投影光学系に対し相対的に移動させるためのステージ装置の少なくとも１つが実施態様１〜５のいずれか１つに記載のステージ装置であることを特徴とする露光装置。
【発明の効果】
本発明では、ステージ定盤上の基準面上で移動する移動体側に位置計測用の干渉計を搭載し、ステージ定盤側に位置計測用反射ミラーを固定した構成において、反射ミラーの下面と基準面との間に、反射ミラーの背面側から反射面側へ連通する開口を設けたため、温調エアーを反射ミラーの背面側から吹き流すことができる。そのため、移動体の熱源の影響を受けずに干渉計計測空間の温調が可能になり、ステージ位置決め精度が向上する。また、ステージ定盤基準面上面に対しても、一定温度の温調エアーを吹き流すことにより、ステージ定盤基準面の温度を一定に保ち、ステージ定盤基準面上面の温度上昇の影響を受けずに干渉計計測空間の温調が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係る投影露光装置の全体図および平面モータステージ（ウエハステージ）の部分詳細図である。
【図２】第１の実施例に係る平面モータステージ説明図である。
【図３】第２の実施例に係る平面モータステージ説明図である。
【図４】第３の実施例に係る平面モータステージ説明図である。
【図５】第４の実施例に係る平面モータステージ説明図である。
【図６】第５の実施例に係る平面モータステージ説明図である。
【図７】第６の実施例に係る平面モータステージ説明図である。
【図８】従来例に係る露光装置全体図の全体図および平面モータステージの部分詳細図である。
【図９】図８の従来例における平面モータステージの説明図である。
【図１０】図９の平面モータステージの動作範囲の説明図である。
【符号の説明】１：照明系ユニット、２：レチクルステージ、３：縮小投影レンズ、４：露光装置本体、５：ウエハステージ、５Ａ：照度センサ、５Ｂ：基準マーク、５Ｃ：スライダ、５Ｄ：ステージ定盤、５Ｅ：櫛歯鉄心ヨーク、５Ｆ：駆動コイル、５Ｇ：６軸微動ステージ、６：フォーカススコープ、６Ａ：アライメントスコープ、７：ウエハ搬送ロボット、８：ウエハ、９：Ｘ干渉計ミラー、９Ａ：Ｘ干渉計計測光、９Ｂ：Ｘ干渉計ミラーベース、９Ｃ：空調用空隙孔、９Ｄ：微動Ｘ干渉計支柱、９Ｅ：微動Ｘ干渉計ミラー、１０：Ｙ干渉計ミラー、１０Ａ：Ｙ干渉計計測光、１０Ｂ：Ｙ干渉計ミラーベース、１０Ｃ：空調用空隙孔、１１〜１６，１１１，１１２：温調エアー吹き出し、１１Ａ〜１１Ｃ，１２Ａ〜１２Ｃ，１３Ａ〜１３Ｃ，１４Ａ〜１４Ｃ，１５Ａ〜１５Ｃ，１６Ａ〜１６Ｃ，１１１Ａ〜１１１Ｃ，１１２Ａ〜１１２Ｃ：温調エアー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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