(57)【要約】【課題】干渉ディスプレイ装置の製法を提供することである。【解決手段】第１のプレートと犠牲層がその順に基体の上に形成され、少なくとも２つの開口部が第１のプレート及び犠牲層中に形成される。光レジスト層が犠牲層上にスピンーコーティングされ、その開口部を充填する。光リソグラフィ法がフォトレジスト層をパターン化し、腕部を有する支持部を決める。第２のプレートが犠牲層及びポスト上に形成される。腕部の応力は熱処理の間に解放される。腕部の位置は変えられ、第１プレートと第２プレートの間の距離はそれにより決まる。最後に、犠牲層が除去される。【選択図】図６
2004326077.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に第１の電極を形成し；
該第１の電極上に犠牲層を形成し；
該犠牲層及び第１の電極の上に少なくとも２個の開口部を、光学的干渉ディスプレイ装置の位置決めのために形成し；
各開口部に支持部を形成し及び該支持部上に少なくとも１つの腕部を形成し、それにより、その支持部と少なくとも１つの腕部はポストを形成し；
該犠牲層及び少なくとも１つの腕部の上の第２の電極を形成し；
該ポストを処理するために、熱処理法を行う；そして、
該犠牲層を除去することを特徴とする基体上に設けた光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２】
該開口部を充填し、犠牲層を被覆する感光性材料層を形成し；そして、
該感光性材料層をパターン化し、それにより、各開口部上に支持部を形成し、該支持部上に少なくとも１つの腕部を形成し、それにより、該支持部及び少なくとも１つの腕部が該ポストを形成することを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３】
該感光性材料層はフォトレジストであることを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項４】
該感光性材料層のパターン化の工程では、光リソグラフィ処理法を行うことを特徴とする請求項２に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項５】
該開口部を充填し、犠牲層を被覆するために、感光性でない材料層を形成し；そして、
該非感光性材料層をパターン化し、光リソグラフィ  エッチング処理法により、各開口部上に支持部を形成し、該支持部上に少なくとも１つの腕部を形成し、それにより、該支持部及び少なくとも１つの腕部が該ポストを形成することを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項６】
該熱処理法はベイキング（焼成）法であることを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項７】
該熱処理法は、少なくとも１つの腕部に、応力による移動を行わすことを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項８】
該第１の電極は、基体；吸収層；及び誘電体層を有することを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項９】
該基体は透明材料であることを特徴とする請求項８に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１０】
該誘電体層は、酸化珪素、窒化珪素或いは酸化金属から作られることを特徴とする請求項８に記載の測定方法。
【請求項１１】
該吸収層は金属であることを特徴とする請求項８に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１２】
該基体はＩＴＯガラス或いはＩＺＯガラスであることを特徴とする請求項８に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１３】
該第１及び第２の電極は、ナロウバンド  ミラー、ブロードバンド  ミラー、非金属  ミラー、金属  ミラー及びそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１４】
第２の電極は、変形可能な電極であることを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１５】
第２の電極は移動可能な電極であることを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１６】
第２の電極は少なくとも不透明材料或いは半透明材料であることを特徴とする請求項１に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１７】
半透明材料はＩＴＯガラス或いはＩＺＯガラスであることを特徴とする請求項１６に記載の光学的干渉ディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学干渉ディスプレイの製造法に関する。特に、本発明は、腕部ポストを有する光学干渉ディスプレイの製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プレイナディスプレイは、ポータブルディスプレイとして人気があり、明るくサイズが小さいので、限られたスペースでディスプレイできる。今日まで、プレナディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセントディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などに加えて、光学干渉ディスプレイのモードとして関心があるものである。
【０００３】
米国特許第５，８３５，２５５号は、プレイナディスプレイに使用できる可視光のディスプレイ装置の配列を開示する。図１を参照すると、従来技術のディスプレイ装置の断面図が示される。各光学干渉ディスプレイ装置１００は、２つのウオル（壁体）１０２と１０４を有する。ポスト１０６はこれらの２つのウオル１０２と１０４を支持し、空洞１０８がほぼ形成される。２つのウオル１０２と１０４の間の距離、即ち、空洞１０８の長さは、Ｄである。ウオル１０２、１０４の１つは、可視光を部分的に吸収する吸収率を持つ半透明／半反射の層であり、もう１つは、電圧付与により変形される光反射層である。入射光が、全可視光スペクトルで、ウオル１０２或いは１０４を通過して空洞１０８に達すると、式１．１に相当する波長内の可視光のみが、収縮干渉光を作ることができ、発光することができる。即ち、
Ｄ＝Ｎλ              (1.1)
（但し、Ｎは自然数である）
【０００４】
空洞の長さＤが、波長の半分の倍数（自然数）であると、収縮干渉が生じ、鋭い波長が発光される。とにかく、観察者が入射光の方向にあると、波長λ１を持 つ反射光が観察される。従って、ディスプレイ装置１００は”オープン”にされる。
【０００５】
第１のウオル１０２は、半−透明／半−反射の電極であり、基体、吸収層及び誘電体層を備える。第１のウオルを通過する入射光は、部分的に吸収層により吸収される。基体は、ＩＴＯガラスやＩＺＯガラスのような導電性で透明な材料で作られる。吸収層は、アルミニウム、クロム或いは銀などの金属で作られる。誘電体層は、酸化珪素、窒化珪素或いは酸化金属で作られる。酸化金属は吸収層の一部を直接に酸化することにより得られる。第２のウオル１０４は変形性の反射性電極である。それは、電圧を付与することにより、上げたり下げたりする。第２のウオル１０４は、典型的には誘電体／導電性で透明な材料或いは金属／導電性で透明材料で作られる。
【０００６】
図２は、電圧付与後の従来技術のディスプレイ装置の断面図である。図２に示されるように、電圧駆動されると、ウオル１０４は変形され、静電気の引力によりウオル１０２に向けて下がる。このときに、ウオル１０２と１０４の間の距離、即ち、空洞１０８の長さは正確にはゼロでないが、ｄはゼロにできる。式１．１のＤの代わりにｄを用いると、式１．１を満足する波長（λ２）の可視光のみ が、構成干渉を生成でき、そして、ウオル１０４により反射でき、ウオル１０２を通過できる。ウオル１０２は、波長λ２の光に対して高い光吸収性があり、可 視光スペクトルのすべての入射光が濾別され、そして、入射光の方向にある観察者は、可視光スペクトルの反射光を観察できなくなる。ディスプレイ装置１００は、従って、”クローズ”にある。
【０００７】
また図１を参照して説明すると、ディスプレイ装置１００のポスト１０６は、一般的にネガテブフォトレジスト材料で作られる。図３Ａ〜３Ｃを参照すると、従来技術のディスプレイ装置の製造疱が示される。図３Ａを参照し、第１ウオル１０２と犠牲層１１０が、その順に、透明基体１０９上に形成され、そして、開口部１１２がウオル１０２と犠牲層１１０中に形成される。開口部１１２は、その中にポストを形成するに適するものである。次に、ネガテブフォトレジスト層１１１が、犠牲層１１０上にスピン−コーティングされ、開口部１１２を充填する。ネガテブフォトレジスト層１１１を形成する目的は、第１ウオル１０２と第２ウオル（図示せず）の間にポストを形成するためである。バックサイド露光処理が、矢印１１３で示す方向に透明基体１０９に、開口部１１２中のネガテブフォトレジスト層１１１上に行われる。犠牲層１１１は、バックサイド露光処理の必要性を満たすために、金属のような不透明材料で作られなければならない。
【０００８】
図３Ｂを参照すると、ポスト１０６は、非露光のネガテブフォトレジスト層を除去した後に、開口部１１２中に残る。従って、ウオル１０４は犠牲層１１０とポスト１０６の上に形成される。図３Ｃを参照すると、犠牲層１１０は、開放エッチ処理により除去され、空洞１１４が形成される。空洞１１４の長さＤは、犠牲層１１０の厚さである。従って、犠牲層の種々の厚さが、異なる波長の光の反射を制御するためには、異なるディスプレイ装置の異なる処理法に用いなければならない。
【０００９】
電圧操作により制御されるディスプレイ装置を有する配列は、単一のカラープレイナディスプレイには十分であるが、カラープレイナディスプレイにはそうではない。従来の製法では、図４に示されるように、従来技術のマトリックスカラープレイナディスプレイの断面図を示すように、異なる空洞長さを有する３つのディスプレイ装置を有するピクセルを製造するものである。３つのディスプレイ装置３０２、３０３及び３０６は、各々、基体３００上に配列として形成される。ディスプレイ装置３０２、３０３及び３０６は、入射光３０８を、ディスプレイ装置３０２、３０３及び３０６の空洞の種々の長さにより、例えば、赤、緑、青の色のように、異なる波長のカラー光に反射できるものである。異なる反射ミラーが、この配列のディスプレイ装置に用いられる必要性はないものである。より重要なものは、良好な解像力が得られ、カラー光の輝度が均一であることである。然し乍ら、異なる空洞長さの３つのディスプレイ装置が、別々に製造される必要がある。
【００１０】
従来技術のマトリックスカラープレイナディスプレイを製造方法の断面を示す図５Ａ〜５Ｄを参照する。図５Ａでは、第１のウオル３１０と犠牲層３１２が、透明基体上にその順に形成され、そして、開口部３１４、３１６、３１８及び３２０が第１ウオル３１０と犠牲層３１２で、予め定めた位置を決めて形成され、ディスプレイ装置３０２、３０４及び３０６が形成される。第２の犠牲層３２２は、第１の犠牲層３１２上に及び開口部３１４、３１６、３１８及び３２０中に一致させて形成される。
【００１１】
図５を参照すると、開口部３１４及び３１６の間に、そして、開口部３１８と３２０の中で、犠牲層３２２は、光リソグラフィエッチ処理により除去された後に、第３の犠牲層３２４が、第１の犠牲層３１２上に、そして、第２犠牲層３２２中にそして開口部３１４、３１６、３１８及び３２０の中で、適合させて形成される。
【００１２】
図５Ｃを参照すると、開口部３１８及び３２０中に第３の犠牲層３２４が残り、第３の犠牲層３２４の残った部分は、光リソグラフィエッチ処理により除去される。次に、ネガテブフォトレジストで、第１の犠牲層３１２、第２の犠牲層３２２の上をそして第３の犠牲層３２４、及び開口部３１４、３１６、３１８及び３２０中をスピン被膜し、すべての開口部を充填し、ネガテブフォトレジト層３２６を形成する。ネガテブフォトレジト層３２６は、第１のウオル３１０と第２のウオル（図示せず）の間にポスト（図示せず）を形成するために用いられる。
【００１３】
図５Ｄを参照すると、バックサイド露光処理が、開口部３１４、３１６、３１８及び３２０中のネガテブフォトレジト層３２６上に透過基体３００の方向に成されることが示される。犠牲層１１０は、バックサイド露光処理の必要性を満たすためには、少なくとも金属材料のような不透明材料から作らねばならない。ポスト３２８は、非露光のネガテブフォトレジスト層３２６を除去した後も、開口部３１４、３１６、３１８及び３２０中に残る。次に、第２ウオル３３０が、第１犠牲層３１２、第２犠牲層３２２、第３犠牲層３２４及びポスト３２８を一致して被覆する。
【００１４】
その後、第１犠牲層３１２、第２犠牲層３２２、第３犠牲層３２４を、解放エッチ処理により除去し、図４に示されるディスプレイ３０２、３０４及び３０６を形成する。その３つのディスプレイ３０２、３０４及び３０６の長さd1、d2、d3は、各々、第１犠牲層３１２、第２犠牲層３２２、第３犠牲層３２４の厚さである。従って、犠牲層の種々の厚さは、異なる波長光の反射を制御するために目的を達成するためには、異なるディスプレイ装置の異なる処理疱に用いられなけらばならない。
【００１５】
従来技術でマトリックスカラープレイナディスプレイを製造するに要する、少なくとも３つの光リソグラフィエット処理法はあり、それは、ディスプレイ装置３０２、３０４及び３０６の空洞の長さを決めるものである。ポストを形成するために、バックサイド露光と協働するために、金属材料を、犠牲層形成には使用しなければならない。複雑な製造方法のコストは、高くなり、そして、その収率は、その複雑な製造方法のために上げることができないものである。
【００１６】
従って、高い解像力と高い輝度と簡単な処理法と高い収率で光学干渉ディスプレイを製造するための方法、光学干渉ディスプレイ装置構造を製造する簡単な方法を提供することが、重要な目的である。                                
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の目的は、光学干渉ディスプレイ装置構造を製造する方法を提供することであり、その方法は、解像力と高輝度を有するカラー光学干渉ディスプレイを製造するに適するものである。                                            
【００１８】
本発明の更なる目的は、光学干渉ディスプレイ構造を製造する方法を提供することであり、その方法は、簡単で容易な製造方法であり、高収率の、カラー光学干渉ディスプレイを製造するに適するものである。
【００１９】
本発明の他の目的は、光学干渉ディスプレイ装置構造を製造する方法を提供することであり、その方法は、ポストを有する、カラー光学干渉ディスプレイを製造するに適するものである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の前記の目的によれば、本発明の１つの好適な具体例は、光学干渉ディスプレイ装置構造を製造する方法を提供することである。第１ウオル及び犠牲層を、その順に透明基体上に形成し、次に、開口部を第１ウオル及び犠牲層の中に形成する。開口部は、その中にポストを形成するに適するものである。次に、フォトレジスト層を犠牲層上にスピン−コーティングし、その開口部を充填する。光リソグラフィ処理により、フォトレジスト層をパターン化し、腕部を有する支持部を決める。支持部と腕部は、ポストのために用いられ、腕部の長さを決める。マスクの助けにより、フォトレジスト層を露光することにより、犠牲層は、もはや、金属のような不透明材料でなければならない必要はなく、通常の誘電体材料も、犠牲層作製に用いられる。
【００２１】
第２のウオルが、犠牲層及びポストの上に形成され、次に、ポストについて、焼成を行う。腕部には、応力作用により生じる支持部のピボット軸旋回運動として、位置移動が生じる。支持部に隣接する腕部の終端は、位置移動は少ないが、腕部の他の終端では、より移動がある。腕部の位置移動は、第２ウオルの位置を変える。その後、犠牲層は、開放エッチ処理により除去され、空洞を形成する。空洞の長さＤは、腕部の移動により、犠牲層の厚さに等しくならない。
【００２２】
種々の長さと厚さの割合を有する腕部は、種々の量の応力を有し、そして、腕部により生じた位置移動と方向は焼成の間に種々である。従って、種々の長さと厚さの割合を有する腕部は、従来技術での反射された光の種々の波長を制御するためのディスプレイ装置の種々の処理法に用いられる犠牲層の種々の厚さの代りに、空洞の長さを制御するために用いられる。このような方法に多くの長所がある。第１に、コストが劇的に下げられる。従来技術では、空洞の厚さは、犠牲層の厚さであり、犠牲層は、処理の最終段では除去の必要がある。然し乍ら、本発明出は、腕部は上に移動するので、空洞の長さは大きくなり、そのために、空洞の長さが、犠牲層の厚さよりも大きくなり、犠牲層の厚が、同じ長さの空洞の形成でも基本的に小さくなるのである。従って、犠牲層製造に用いる材料は基本的に低減される。第２に、処理時間が短くなる。従来技術での、金属犠牲層の開放エッチ処理は、長い時間がかかるものである。それは、犠牲層が、ポストの間の空間に浸透しなければならないエッチングガスにより除去するからである。本発明は、全面露光のためにマスクを利用するので、犠牲層は、従来技術での金属のような不透明材料の代わりに誘電体材料のような透明材料にできる。更に、犠牲層により使用された厚さが、基本的に低減でき、そのために、開放エッチ処理に必要な時間は、劇的に減らすことができる。第３に、ポストを用いて形成されるカラー光学干渉ディスプレイでは、基本的に処理の複雑さを低減できる。ポストの腕部の長さと厚さの割合は、腕部の応力を変えるために用いられる。焼成した後に、種々の光学干渉ディスプレイ装置は、腕部の位置移動による空洞の種々の長さを持ち、そのために、反射された光は、種々の波長、例えば、赤、緑、青の色の光に変えられ、種々の色の光が得られるのである。
【００２３】
本発明の他の目的によれば、本発明の好適な具体例では、マトリックスカラープレイナディスプレイ構造体の製造法を提供するものである。各マトリックスカラープレイナディスプレイ装置は、３つの光学干渉ディスプレイ装置を有する。第１のウオルと犠牲層が、その順に透明基体上に形成され、そして、開口部が、その第１ウオル及び犠牲層中に形成される。開口部は、ポスト形成に適する。次に、フォトレジト層を、その犠牲層上にスピン−コーティングし、その開口部を充填する。光リソグラフィ処理は、腕部を持つ支持体を決めるようにフォトレジト層をパターン化する。支持体及び腕部が、ポストのために用いられ、腕部の長さを決める。単一な光リソグラフィ処理が、３つの光学干渉ディスプレイ装置の腕部形成を行う。マスクの助けにより、フォトレジスト層の露光が行われるために、犠牲層はもはや金属などのような不透明材料である必要はなく、通常の誘電体材料も犠牲層形成に用いられる。
【００２４】
第２のウオルが犠牲層とポストの上に形成され、そして焼成がポスト上に行われる。腕部は、応力作用により生じる支持体のピボット旋回軸運動として位置移動を生じる。支持体に対する腕部調整の端部で、位置移動はなくなるが、腕部の他の端部では、より位置移動が大きい。腕部の位置移動は、第２のウオルの位置を変える。その後、犠牲層が、空洞を形成する解放エッチング処理により、除去され、そして、空洞の長さＤは、腕部の移動による犠牲層の厚さに等しくなくなる。
【００２５】
第１のウオルは第１電極であり、第２ウオルは第２電極である。光学干渉ディスプレイ装置の各Ｔ−型腕部は、種々の長さと応力を有する。従って、焼成した後に、各光学干渉ディスプレイ装置は、腕部の種々の位置変化による種々の空洞長さを有し、そのために、反射光は、異なる波長に、即ち、赤色、緑色及び青色の光に変られる。そのために、逆に、それらは、マトリックスカラープレイナディスプレイ構造のための種々のカラー光を与える。
【００２６】
本発明により開示された光学干渉ディスプレイ装置の配列からなるカラープレイナディスプレイによれば、従来技術によるマトリックスカラープレイナディスプレイの長所が、維持され、それは、高解像力、高輝度と同様に、従来技術による簡単な処理法と高い収率を有する多層カラープレイナディスプレイを含むものである。本発明は、高い解像力、高輝度、単純処理法と配列形成での高い収率のような、従来の光学干渉カラープレイナディスプレイのすべての利点を保持するが、処理の間の窓（ウインドウ）を高め、そして、光学干渉カラープレイナディスプレイの収率を高めることは、理解される。
【００２７】
次の一般的な説明と以下の詳細な説明は例示であり、それらは、請求された本発明を更に説明する意図であることが理解されるべきである。
これら及び本発明の他の特徴、範囲及び長所は、以下の好適な具体例の詳細な説明から、そして、添付の図面を参照すると、より完全に理解されよう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
光学干渉ディスプレイ装置の構造についての情報を更に与えるために、第１の具体例は、本発明において、光学干渉ディスプレイを説明するためにある。更に、第２の具体例は、光学干渉ディスプレイ装置の配列（アレイ）に形成される光学干渉カラープレイナディスプレイを更に説明するためである。
【００２９】
具体例１
図６Ａ〜６Ｃは、本発明の好適な具体例による光学干渉ディスプレイ装置の製造方法を示す。第１に、図６Ａを参照すると、第１の電極５０２と犠牲層５０６が、その順に透明基体５０１の上に形成される。犠牲層５０６は、誘電体材料のような透明材料で作られ、或いは金属のような不透明な材料で作られる。開口部５０８は、第１の電極５０２に形成され、犠牲層５０６は光リソグラフィエッチ処理法により形成される。開口部５０８はそこのポストを形成するために適するものである。
【００３０】
次に、材料層５１０が犠牲層５０６に形成され、開口部５０８を充填する。材料層５１０は、ポスト形成に適し、そして、材料層５１０は一般的にフォトレジストのような感光性材料を用い、或いは、ポリエステル、ポリアミドなどのような感光性のない高分子を用いる。非感光性材料は、材料層５１０の形成に用いられ、光リソグラフィエッチ処理が、材料層５１０でポストを決めるために必要である。この具体例において、感光性材料は、材料層５１０の形成に用いられ、そのために、光リソグラフィエッチ処理のみが、材料層５１０の形成に必要である。
【００３１】
図６Ｂを参照すると、ポスト５１２は、光リソグラフィ処理の間に材料層５１０をパターン化することにより決められる。ポスト５１２は、開口部５０８中に配置された支持体５１４を有し、そして、ポスト５１２は腕部５１２１と５１２２を有する。同じ光リソグラフィ処理が、腕部５１２１と５１２２の長さを決める。腕部５１２１と５１２２の厚さは、材料層５１０形成の工程において決められる。第２の電極５０４は、犠牲層５０６とポスト５１２の上に形成される。
【００３２】
次に、図６Ｃを参照する。熱的処理が焼成（ベイキング）のように行われる。ポスト５１２の腕部５１２１と５１２２により、応力作用により生じる支持体５１２のピボット旋回軸運動として位置移動が発生する。支持体５１２に隣接する腕部５１２１と５１２２は各々位置移動は少ないが、腕部５１２１と５１２２の他の端部では、より移動が生じる。従って、犠牲層５０６は、空洞５１６形成のための解放エッチ処理により除去される。
【００３３】
図６Ａ〜６Ｃで製造された光学干渉ディスプレイ装置が、図６Ｄに示され、それは、本発明の１つの好適な具体例の光学干渉ディスプレイ装置の断面図である。光学干渉ディスプレイ装置５００は、カラー変換ピクセル装置でもあり、少なくとも、第１の電極５０２及び第２の電極５０４を有する。第１の電極５０２と第２の電極５０４は、互いにほとんど並行にある。第１の電極５０２と第２の電極５０４は、ナロウバンドミラー、ブロウドバンドミラー、非金属ミラー或いはその組合せからなる群から選択される。
【００３４】
ポスト５１２は、第１の電極５０２及び第２の電極５０４を支持する。ポスト５１２の腕部５１２１と５１２２が上に上げられる。空洞の長さは、従来技術の光学干渉ディスプレイ装置の犠牲層の厚である。犠牲層の厚さがＤの場合、空洞の長さもＤである。この具体例において、空洞５１６は、ポスト５１２で支持された第１の電極５０２と第２の電極５０４の間に形成される。ポスト５１２は、腕部５１２１と５１２２を有する。腕部５１２１と５１２２の長さと厚さの割合が、その応力を決め、点線５１２１’と５１２２’が、腕部５１２１と５１２２の熱処理を行う前に位置を示す。熱処理を行った後では、腕部５１２１と５１２２は位置移動が生じ、そのために、第１の電極５０２及び第２の電極５０４は、点線５０４’で示す元の位置から変えられ、第１の電極５０２と第２の電極５０４の間の空洞５１６の長さＤ’が、元の長さＤから変えられる。
【００３５】
空洞５１６の長さが変わるので、反射光の周波数も空洞５１６の長さによって変わる。一般的には、ポスト５１２がポリアミド化合物の場合、腕部５１２１と５１２２の長さと厚さの比率は、５〜５０であり、空洞５１６の長さＤ’は、犠牲層のあつさんの長さＤの約１．５〜３倍である。勿論、腕部５１２１と５１２２の長さと厚さの割合は、変えられ、犠牲層の厚さよりも小さい、空洞５１６の長さＤ’となる。
【００３６】
本発明では、ポスト５１２を形成に適する材料は、ポジテブホトレジスト、ネガテブフォトレジスト及びアクリル酸樹脂、エポシキ樹脂などのような高分子のすべての種類でできる。
【００３７】
具体例２
図７Ａ〜６Ｄは、本発明の第２の好適な具体例によるマトリックスカラープレイナディスプレイ構造体の製造方法を示す。先ず、図７Ａを参照すると、第１の電極６０２と犠牲層６０４が、その順に透明基体６０１の上に形成される。犠牲層６０４は、誘電体材料のような透明材料で作られ、或いは金属のような不透明な材料で作られる。開口部６０６、６０８、６１０及び６１２が、第１の電極６０２に形成され、犠牲層６０４は、光リソグラフィエッチ処理法により形成される。開口部６０６、６０８、６１０及び６１２は、そこのポストを形成するために適するものである。
【００３８】
次に、材料層６１４が、犠牲層６０４に形成され、開口部６０６、６０８、６１０及び６１２を充填する。光学干渉ディスプレイ装置６２４は、開口部６０６及び６０８により決められ、そして、光学干渉ディスプレイ装置６２６が、開口部６１０及び６１２により決められる。材料層６１４は、ポスト形成に適し、そして、材料層６１４は、一般的に、ポリエステルのような感光性材料を用い、或いは、ポリエステル、ポリアミドなどのような感光性のない材料で作られる。非感光性材料を、材料層６１４の形成に用いた場合、光リソグラフィエッチ処理が、材料層６１４上に、ポストを決めるために必要である。この具体例において、感光性材料が、材料層６１４の形成に用いられ、そのために、単一の光リソグラフィエッチ処理が、材料層６１４の形成に必要である。
【００３９】
図７Ｂを参照すると、光リソグラフィ処理が、第１の材料層６１４をパターン化することにより、ポスト６１６、６１８、６２０及び６２２は決められる。ポスト６１６、６１８、６２０及び６２２は、開口部６０６、６０８、６１０及び６１２中に各々配置された支持体６１６１、６１８１、６２０１及び６２２１を有する。また、ポスト６１６、６１８、６２０及び６２２は、腕部６１６２、６１８２、６１８３、６２０２、６２０３及び６２２２を有する。腕部６１６２、６１８２、６１８３、６２０２、６２０３及び６２２２は、同じ長さである。第２の電極６３０は、犠牲層６０４、ポスト６１６、６１８、６２０及び６２２の上に形成される。
【００４０】
次に、図７Ｃを参照する。熱的処理が焼成（ベイキング）のように行われる。ポスト６１６、６１８、６２０及び６２２の腕部６１６２、６１８２、６１８３、６２０２、６２０３及び６２２２により、応力作用により生じる支持体６１６１、６１８１、６２０１及び６２２１の軸ピボット旋回運動として位置移動が行われる。支持体６１６１、６１８１、６２０１及び６２２１に隣接する腕部６１６２、６１８２、６１８３、６２０２、６２０３及び６２２２の端部は、位置移動が少ないが、腕部６１６２、６１８２、６１８３、６２０２、６２０３及び６２２２の他の端部では、より移動が生じる。腕部６１６２と６１８２の位置移動は同じであり、腕部６１８３と６２０２の位置移動は同じであり、腕部６２０３と６２２２も同じである。然し乍ら、腕部の上記の３つの対の間では、種々の位置移動が生じる。従って、腕部６１６２と６１８２、腕部６１８３と６２０２、腕部６２０３と６２２２により、生じる第２の電極の位置の変化は、種々である。
【００４１】
次に、図７Ｄを参照する。犠牲層６０４を解放エッチ処理により除去し、光学干渉ディスプレイ装置６２４、６２６と６２８の空洞６２４１、６２６１及び６２８１を形成する。その空洞６２４１、６２６１及び６２８１は各々ｄ１、ｄ２、ｄ３の種々の長さである。光学干渉ディスプレイ装置６２４、６２６と６２８が 、式１．１に示すように”オープン”にある場合、空洞６２４１、６２６１及び６２８１の長さｄ１、ｄ２、ｄ３の設計は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）或いは青（Ｂ）の光のような異なる波長を有する反射光を作る。
【００４２】
空洞６２４１、６２６１及び６２８１の長さd1、d2及びd3は、犠牲層の厚さにより決められないが、腕部６１６２及び６１８２、６１８３及び６２０２、６２０３及び６２２２の長さにより各々決められる。従って、種々の犠牲層の厚さを形成する種々の空洞の長さを決める、従来技術の複雑な光リソグラフィ法は、必要なくなる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
この具体例により開示された光学干渉ディスプレイ装置の配列を構成するカラープレイナディスプレイによると、従来技術のマトリックスカラープレイナディスプレイの利点を保持しながら、高い解像力、高い輝度を保持し、また、従来技術の多層のカラープレイナディスプレイの利点、例えば、シンプル処理や高い収率を保持している。従来技術のマトリックスカラーディスプレイと比べて、この具体例では、従来技術での、種々の犠牲層の厚さを形成することにより、空洞の種々の厚さを決めるための、複雑な光リソグラフィ処理を必要としない光学干渉ディスプレイ装置を開示している。従って、光学干渉ディスプレイ装置は、簡単な処理で高い収率のものである。従来技術のマトリックスカラープレイナディスプレイに比べて、反射の種々の色の光を、その多層化合物ディスプレイ装置の中を通して生成する光学干渉ディスプレイ装置の配列が同じ面に配置された具体例が開示される。換言すれば、入射光が、多層光学干渉ディスプレイ装置を通過することなく、種々の色の光を反射することができ、従って、光学干渉ディスプレイ装置は、高い解像力で高い輝度のものである。更に、従来の多層光学干渉ディスプレイでは、入射光を前のディスプレイ装置を通過させ、効率的に後のディスプレイ装置に入れるようにするが、後のディスプレイ装置（緑或いは青光の波長の反射光）での光干渉の結果、前のディスプレイ装置を効率的に通過させるものであり、３つのタイプのディスプレイ装置の第１の電極と第２の電極の厚さは、異なるものである。本発明で開示した光学干渉ディスプレイ装置を配列する方法は、従来技術のものよりも、困難でないものである。
【００４４】
本発明を、その好適な具体例を参照して考察したが、他の具体例も可能である。従って、付属の請求項の精神及び範囲は、ここにする好適な具体例の説明に限定されるべきでない。上記を斟酌すると、本発明は、以下の請求項及びそれの等価物の範囲内にある変化例や変体例を含むものを意図するものである。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】従来技術のディスプレイ装置の断面図である。
【図２】従来技術の、電圧付与後のディスプレイ装置の断面図である。
【図３】従来技術のディスプレイ装置の製造方法を示す。
【図４】従来技術の、マトリックスカラープレイナディスプレイ装置の断面図である。
【図５】従来技術の、マトリックスカラープレイナディスプレイ装置の製法を示す。
【図６】本発明の好適な具体例による、光学干渉ディスプレイ装置の製法を示す。
【図７】本発明の、第２の好適な具体例による、マトリックスカラープレイナディスプレイ装置の製法を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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