(57)【要約】【課題】有機ＥＬディスプレーパネル及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明は、ＩＴＯストリップ、補助電極513、有機ＥＬ層514、陰極ストリップ515からなる発光セルと、陰極ストリップ515を絶縁する隔壁517が形成された有機ＥＬディスプレーパネルにおいて、前記隔壁の間に、該隔壁517を繋ぐ少なくとも一つ以上の補助隔壁517−Aを形成する。これにより、シーラントが隔壁517に沿って発光セルへ染みこむことを防止するので、素子不良を減らして歩留まりを向上させることができる。【選択図】図５Ｆ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＩＴＯストリップ、補助電極、有機ＥＬ層、陰極ストリップからなる発光セルと、該発光セルを前記陰極ストリップから絶縁する隔壁が形成された有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、
前記隔壁の間に、該隔壁の間を繋ぐ少なくとも一つ以上の補助隔壁を形成することを特徴とする有機ＥＬ ディスプレイパネル。
【請求項２】
前記補助隔壁は、前記発光セルとシーラントとの間の領域に形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記補助隔壁は、前記隔壁と所定の角をなして形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
前記補助電極は、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）等の金属からなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
前記絶縁膜は、前記シーラントと補助電極が交差する領域を含む所定領域と前記ガラス基板の一部まで拡張して、有機ＥＬ層の周囲に形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項６】
前記陰極ストリップは、Ｍｇ−Ａｇ合金とアルミニウム等の導電性物質からなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項７】
ガラス基板上に両極を印加するために透明電極である ＩＴＯストリップを形成する第1過程と、
ＩＴＯストリップの幅より小さい補助電極を形成する第２過程と、
絶縁膜を形成する第３過程と、
隔壁を形成し、前記隔壁の間に、該隔壁の間を繋ぐ少なくとも一つ以上の補助隔壁を形成する第４過程と、
有機ＥＬ層を形成した後、陰極ストリップを形成する第4過程と、
シーラントを使って封止板と前記ガラス基板を接着させる第５過程と、
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記第１過程は、前記隔壁の間に、前記ＩＴＯストリップより長さが短いＩＴＯストリップを前記ガラス基板上に同時に形成することを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
前記第３過程は、前記絶縁膜が、前記シーラントと補助電極が交差する領域を含む所定領域と前記ガラス基板の一部まで拡張して、有機ＥＬ層の周囲に形成されることを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
前記第４過程は、前記隔壁及び補助隔壁を同時に形成することを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイパネルに関するもので、特に有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
自己発光型の発光ディスプレイ素子においては、近年さまざまな開発がなされているが、基本的な構造は、一つのピクセルを駆動できる発光素子を要素として、この発光素子を平面的に配列したものである。このようなディスプレイ素子では、放電空間によって区画されたセルを発光素子とするＰＤＰ（Plasma Display Panel）を含めてＶＦＥ(Vacuum Fluorescence Display)、ＥＬ(Electro-Luminescence)、ＬＥＤ(Light Emitting Diode)、ＦＥＤ(Field Emission Display)などが挙げられる。
【０００３】
このようなディスプレイ素子の中で、特に低電圧で高輝度の面発光を得ることができ、 材料選択によって色純度が高いＲ、Ｇ、Ｂ発光を得ることができる有機ＥＬ素子を要素とした有機ＥＬディスプレイパネルは、超薄型、軽量化及びフルカラー化できるディスプレイ素子として注目されている。
この有機ＥＬ素子は、正電圧が印加される陽極と負電圧が印加される陰極とからなる一対の電極間に、発光機能層を含む有機層を形成したものであり、電極間に電圧を印加することで、陰極から電子が、また陽極から正孔が、それぞれ有機層に注入され、この有機層の中で電子と正孔の再結合が生じることで発光が可能となる。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子からなる有機ＥＬディスプレイパネルを添付した図面を利用して説明する。
図１は、一般的な有機ＥＬディスプレイパネルを示す平面図である。
ここに示したように、有機ＥＬディスプレイパネルは、ガラス基板１０１ 上に帯状(ストリップ)に一列に配列したＩＴＯ(インジュウム−錫−酸化物Indium-Tin-Oxide))ストリップ１０２と、このＩＴＯストリップ１０２上にＩＴＯストリップ１０２に比べて小幅である補助電極１０３と、ＩＴＯストリップ１０２上に正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を積層して形成された有機ＥＬ層１０４と、ＩＴＯストリップ１０２と隔壁との間に形成された絶縁膜１０６と、有機ＥＬ層１０４上にＩＴＯストリップ１０２と交差して帯模様に形成された陰極ストリップ１０５と、隣り合う陰極ストリップ１０５を分離するために陰極ストリップ１０５の間に帯状に形成された隔壁１０７からなり、また陰極ストリップ１０５が形成された基板を、シーラント１０８を利用して封止板１０９と結合することで形成される。
【０００５】
この時、有機ＥＬディスプレイパネルは、ガラス基板１０１上に仕事関数の高いＩＴＯストリップ１０２と仕事関数の低い陰極ストリップ１０５との間に有機ＥＬ層１０４が挿入される構造で形成される。仕事関数の高いＩＴＯストリップ１０２は正孔を入れ込むアノード電極として使われ、低い陰極ストリップ１０５は電子を入れ込むカソード電極として使われる。
【０００６】
図２Ａ乃至図２Ｆは、従来技術による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す斜視図である。
先に、図２Ａに示したように、ガラス基板１０１上に陽極を印加するために透明電極であるＩＴＯストリップ１０２を形成する。この時、隔壁１０７の間に長さが短いＩＴＯストリップ(102-A)を同時に形成する。これは、後で陰極ストリップ１０５の抜き取りを容易にするためである。
【０００７】
以後、図２Ｂに示したように、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）などのように導電性の良い金属で補助電極１０３を形成する。この時、封止時に利用されるシーラント１０８と補助電極１０５とが垂直に交差する部分において、補助電極１０３の幅がＩＴＯストリップ１０２より狭く設定する。
後でＵＶを使ってシーラント１０８を硬化させる時、補助電極１０３上にあるシーラント１０８は硬化しないので、シーラント１０８と補助電極１０３が交差する部分の補助電極１０３の幅をその下のＩＴＯストリップ１０２より狭く設定する。
引き続き、図２Ｃ及び図２Ｄに示したように、陰極ストリップ１０５との絶縁のために ＩＴＯストリップ１０２に絶縁膜１０６及び隔壁１０７を形成する。この時、絶縁膜１０６は有機物、無機物、高分子及びこれらをブレンドした形態からなる。
そして、図２Ｅ及び２Ｆに示したように、絶縁膜１０６及び隔壁１０７上に有機ＥＬ層１０４を加えてから、Ｍｇ-Ａｇ合金とアルミニウムまたはその他の導電性物質で構成された陰極ストリップ１０５を形成する。以後、シーラント１０８を使って封止板１０９を接着させて完成する。
【０００８】
図３は、従来技術に従って、シーラントを使ってガラス基板と封止板を接着させた後の有機ＥＬディスプレイパネルを示す平面図である。ここに示したように、シーラント１０８を使ってガラス基板１０１と封止板１０９を接着する時に、シーラント１０８が隔壁１０７に沿って発光セルまで入りこむという問題点が発生する。
【０００９】
これを添付した図４Ａ及び図４Ｂを参照して説明する。
図４Ａは、図３に示したパネルのＡ方向による断面図であり、図４Ｂは、図３に示したパネルのＢ方向による断面図である。
ここに示したように、シーラント１０８が隔壁１０７に触れる場合、隔壁１０７に沿って発光セルまで入りこむことを確認することができる。従って、発光セルまで流れ込んだシーラント(108-A)は、陰極ストリップと有機物に影響を及ぼし、これにより、その発光セル不良の原因になるという不具合があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、シーラントを使ってガラス基板と封止板を接着する時に、シーラントが隔壁に沿って発光セルまで入りこむ現象を防止することができる有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
このような目的を達成するために、本発明による有機ＥＬディスプレイパネルは、ＩＴＯストリップ、補助電極、有機ＥＬ層、陰極ストリップからなる発光セルと、陰極ストリップを絶縁する隔壁が形成された有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、隔壁の間に、該隔壁を繋ぐ少なくとも一つ以上の補助隔壁を形成することを特徴とする。
【００１２】
望ましくは、補助隔壁は、発光セルとシーラントの間の領域に形成し、隔壁と所定の角を有して形成されることを特徴とする。また、本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、ガラス基板上に両極を印加するために透明電極であるＩＴＯストリップを形成する第1過程と、ＩＴＯストリップの幅より小さい補助電極を形成する第２過程と、絶縁膜を形成する第３過程と、隔壁を形成して、隔壁の間に、該隔壁を繋ぐ少なくとも一つ以上の補助隔壁を形成する第４過程と、有機ＥＬ層を形成した後、陰極ストリップを形成する第４過程と、シーラントを使って封止板とガラス基板を接着させる第５過程とを含むことを特徴とする。
望ましくは、第４過程は、隔壁及び補助隔壁を同時に形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明による有機ＥＬディスプレイパネルは、隔壁端の部分で隔壁５１７の間を繋ぐ補助隔壁を形成することでシーラントが隔壁に沿って発光セルへ染み込むことを防止することができるので、素子不良を減らし歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図５Ａないし図５Ｇは、本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示した断面図である。
先に、図５Ａに示したように、ガラス基板５１１上に陽極を印加するためにＩＴＯストリップ５１２を形成する。この時、後述する隔壁の間に長さが短いＩＴＯストリップ(５１２−Ａ)を同時に形成する。これは、後述する陰極ストリップの抜き取りを容易にするためである。
引き続き、図５Ｂに示したように、ＩＴＯストリップ５１２の幅より小さくモリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）等の導電性が良い金属で補助電極５１３を形成する。
【００１５】
そして、図５Ｃに示したように、絶縁膜５１６を形成する。この時、絶縁膜５１６は、シーラントと補助電極５１３が交差する領域を含む所定領域とガラス基板５１１の一部まで拡張して、後述する有機ＥＬ層の周囲に形成される。
また、後述する陰極ストリップとの間を絶縁するために、図５Ｄに示したように、電気的に絶縁される隔壁５１７を形成する。この時、後にシーラント５１８(図５Ｇ参照）を使ってガラス基板５１１と封止板を接着する時に、シーラント５１８が隔壁に沿って発光セルまで入り込むのを阻止するために、隔壁５１７の横に翼がつくような形態の補助隔壁（５１７−Ａ）を形成する。
【００１６】
即ち、図６に示したように、補助隔壁（５１７−Ａ）は、発光セルから距離ａだけ離れて設けられ、距離ｂの長さを有し、隔壁５１７先端から距離ｃだけ内側へ形成されている。 この時、 距離a、b、ｃのそれぞれは、０より大きく設定する。
一方、補助隔壁（５１７−Ａ）の模様は多様な形態として形成されることができる。即ち、図７Ａないし図７Ｃに示したように、補助隔壁（５１７−Ａ）が隔壁５１７から直角ではない所定の角(０度より大きく１８０度より小さい)を有して形成される。この時、符号ｄ及びｄ’は、隔壁５１７と補助隔壁（５１７−Ａ）との間の角度を示す。
【００１７】
また、図７Ｄ乃至図７Ｅに示したように、補助隔壁（５１７−Ａ）を様々な多角形及び円形、楕円形のような模様で形成することもできる。 これと同様に、図７Fに示したように、二つ以上からなる補助隔壁（５１７−Ａ）として隔壁５１７を通じて入って来るシーラントを防止することもできる。
【００１８】
その後、図５Ｅに示したように、正孔輸送層、発光層、電子輸送層からなる有機ＥＬ層５１４を被覆した後、Ｍｇ−Ａｇ合金とアルミニウムまたはその他の導電性物質からなる陰極ストリップ５１５を形成する。
最後に、図５Ｆ及び図５Ｇに示したように、シーラント５１８を使って封止板５１９を接着させて有機ＥＬディスプレイパネルを完成する。ここに示したように、隔壁に沿って入りこむシーラント５１８が、補助隔壁（５１７−Ａ）によって止まったことを確認することができる。
【００１９】
以上で詳しく説明したように、本発明による有機ＥＬディスプレイパネルは、隔壁端の部分で隔壁５１７の間を引き継ぐ補助隔壁を形成することでシーラント５１８が隔壁５１７に沿って発光セルへ染みこむことを防止することができるため、素子不良を減らし歩留まりを向上させる効果がある。
以上、本発明の好適な一実施態様について説明したが、この実施態様に限定されず、本発明の技術思想に基づいて種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】一般的な有機ＥＬディスプレイパネルの平面図である。
【図２Ａ】一般的な有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第１段階の斜視図である。
【図２Ｂ】一般的な有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第２段階の斜視図である。
【図２Ｃ】一般的な有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第３段階の斜視図である。
【図２Ｄ】一般的な有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第４段階の斜視図である。
【図２Ｅ】一般的な有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第５段階の斜視図である。
【図２Ｆ】一般的な有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第６段階の斜視図である。
【図３】従来技術によってシーラントを使ってガラス基板と封止板を接着させた後の有機ＥＬディスプレイパネルを示す平面図である。
【図４】図４Ａは、図３に示した有機ＥＬディスプレイパネルのＡ方向断面図あり、図４Ｂは、図３に示したパネルのＢ方向断面図である。
【図５Ａ】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第１段階の斜視図である。
【図５Ｂ】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第２段階の斜視図である。
【図５Ｃ】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第３段階の斜視図である。
【図５Ｄ】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第４段階の斜視図である。
【図５Ｅ】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第５段階の斜視図である。
【図５Ｆ】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第６段階の斜視図である。
【図５Ｇ】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの製造過程を示す第７段階の斜視図である。
【図６】本発明による補助隔壁を詳しく示す構造図である。
【図７】図７Ａないし図７Ｆは、本発明による補助隔壁の多様な形態を示す構造図である。
【符号の説明】
【００２１】
５１１：ガラス基板
５１２、５１２-A：ＩＴＯ ストリップ
５１３：補助電極
５１６： 絶縁膜
５１７： 隔壁
５１７−Ａ： 補助隔壁
５１８：シーラント
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図５Ｆ】
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【図５Ｇ】
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【図６】
2004319510.tif 000019
【図７】
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