(57)【要約】　　　（修正有）【課題】洗浄処理部の遮蔽性に優れ、メンテナンス作業を効率的に行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】回転式基板処理装置の洗浄処理部の隔壁部位に設けられる遮蔽装置６であって、洗浄処理部の少なくとも１面の隔壁は、着脱可能な外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃによって、その内部に中空部６ｄが形成されるように整合して構成されており、この中空部６ｄは排気手段に連通され、強制排気されることを特徴とする基板洗浄に用いられる遮蔽装置６である。この遮蔽装置６では、洗浄処理部の隔壁全面を着脱可能な外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃによって構成し、外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃには着脱が容易になるように取手６ｅ，６ｅ’を設けるのが望ましい。さらに、この遮蔽装置を用いた基板洗浄に用いられる遮蔽方法である。【選択図】図３
2004041992.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理すべき基板を水平に支持して回転させて基板を洗浄する洗浄処理部の隔壁部位に設けられる遮蔽装置であって、前記洗浄処理部の少なくとも１面の隔壁は、着脱可能な外側パネルおよび内側パネルによって、その内部に中空部が形成されるように整合して構成されており、この中空部は排気手段に連通され、強制排気されることを特徴とする基板洗浄に用いられる遮蔽装置。
【請求項２】
上記洗浄処理部の全面の隔壁が着脱可能な外側パネルおよび内側パネルによって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄に用いられる遮蔽装置。
【請求項３】
上記外側パネルおよび内側パネルには着脱が容易になるように取手が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄に用いられる遮蔽装置。
【請求項４】
処理すべき基板を水平に支持して回転させて基板を洗浄する洗浄処理部で用いられる遮蔽方法であって、
前記洗浄処理部の少なくとも１面の隔壁に外側パネルおよび内側パネルの装着部を設け、この装着部に外側パネルおよび内側パネルを装着する際には両者の間に中空部が形成されるように構成して、この中空部は排気手段に連通して負圧の状態で保持することを特徴とする基板洗浄に用いられる遮蔽方法。
【請求項５】
上記洗浄処理部の全面の隔壁に外側パネルおよび内側パネルの装着部を設け、この装着部に外側パネルおよび内側パネルを装着することを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄に用いられる遮蔽方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示用またはプラズマ表示用のガラス基板や半導体ウェーハのような基板を薬液等で処理する洗浄処理部に設けられる遮蔽装置およびこれを用いた遮蔽方法に関し、さらに詳しくは、その基板を１枚ずつ処理する枚葉タイプの回転式基板処理装置に適用され、洗浄雰囲気を装置外に漏出することなく、同時に大気雰囲気を装置内に侵入させることがない遮蔽装置およびこれを用いた遮蔽方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示用またはプラズマ表示用の基板として使用するガラス基板や、半導体デバイスとして用いられる半導体ウェーハは、その表面に、洗浄を初めとして様々な処理が施され、所定の機能が付与されて最終的に電子機器類に組み込まれる。例えば、液晶表示用として用いられるガラス基板は、種々の工程を経て製造され、各工程では現像液やレジスト膜の塗布、その剥離用の薬液、または洗浄液等の各種の処理液がガラス基板に対して塗布されて、所定の機能が付与される。
【０００３】
最近では、機能の高度化の観点から、基板洗浄における精密仕上げが要請されることから、基板を１枚ずつ処理する枚葉タイプの回転式基板処理装置が多用されるようになっている。
【０００４】
この枚葉タイプの回転式基板処理装置では、洗浄処理部において基板をロータ上に水平に載せ、このロータを所定速度で回転させながら、基板の上面に薬液を散布することにより、その上面を湿式処理する方式である。洗浄処理部では基板の上面に散布された薬液は遠心力により周囲に飛散させ、また、薬液の散布後に基板上に溜まる薬液を除去するために、ロータを高速で回転させて基板から周囲に薬液を飛散させる。これらの飛散した薬液を回収するために、ロータ回転機構の周囲に、回収用カップが設けられている。
【０００５】
このような基板処理装置では、洗浄処理部の汚れを定期的に浄化して、装置内を清潔にする必要がある。さらに、洗浄液を噴射する手段を構成する部品、例えば、噴射ノズル等に損傷が生じた場合には、これを交換する必要がある。また、トラブル時に限定されることなく、定期的に噴射ノズルやロータを定期的にメンテナンスするのが望ましい。したがって、このようなメンテナンス作業を行なうために、基板処理装置は、洗浄処理部を含む装置全体を解放できる構造にしておく必要がある。
【０００６】
ところが、上述した基板処理装置で使用される薬液は腐食性が高く、気化し易いという特性を有しており、さらに薬液の噴射ノズルから噴射される際にミスト状になる。このように気化した薬液を含む洗浄雰囲気が洗浄処理部外に漏出すると、装置周辺の機械、器具や人体に悪影響を与えることになる。
【０００７】
一方、上記基板処理装置の洗浄処理部では、基板の洗浄効率を高めるとともに洗浄用薬液の汚染を防止するため、特に清浄な洗浄雰囲気を保持する必要がある。このため、基板の洗浄処理に際しては、基板処理装置の外部から大気雰囲気に含まれる塵埃が侵入するのを有効に防止することが求められる。
【０００８】
このため、従来の基板処理装置では、前記洗浄処理部の隔壁部にメンテナンス用の開口部を設けて、この開口部にパッキンなどのシール材を介在させ、この状態で洗浄処理部と多数のボルトによって締結し、処理装置内の気化したり、ミスト状になった薬液が装置外に漏出するのを防止すると同時に、大気雰囲気に含まれる塵埃が洗浄処理部内に侵入するのを阻止していた。
【０００９】
しかしながら、基板処理装置の洗浄処理部にメンテナンス用の開口部を設けて、この開口部にパッキンなどのシール材を介在させ、多数のボルトによって締結する構成では、洗浄雰囲気の装置外への漏出や、大気雰囲気の侵入に対し、所定の効果を発揮することができるものの、上述のメンテナンス作業に際し、多数のボルトの取り外しおよびシール施工が必要となるため、その作業が極めて煩雑なものとなる。このため、メンテナンス作業に多大な工数を要し、この基板処理装置の稼働率が低下するという問題が発生する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した基板処理装置が包含する問題点に鑑みてなされたものであり、洗浄処理部の薬液を含む洗浄雰囲気を装置外に漏出するのを確実に防止すると同時に、塵埃を含む大気雰囲気が洗浄処理部内に侵入するのを有効に阻止することができ、しかもメンテナンス性も著しく向上させることができる、基板洗浄に用いられる遮蔽装置およびこれを用いた遮蔽方法を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記（１）の基板洗浄に用いられる遮蔽装置、および（２）の基板洗浄に用いられる遮蔽方法を要旨としている。
（１）　処理すべき基板を水平に支持して回転させて基板を洗浄する洗浄処理部の隔壁部位に設けられる遮蔽装置であって、前記洗浄処理部の少なくとも１面の隔壁は、着脱可能な外側パネルおよび内側パネルによって、その内部に中空部が形成されるように整合して構成されており、この中空部は排気手段に連通され、強制排気されることを特徴とする基板洗浄に用いられる遮蔽装置である。
【００１２】
上記の遮蔽装置では、洗浄処理部の隔壁全面を着脱可能な外側パネルおよび内側パネルによって構成するのが望ましい。さらに、メンテナンス性を一層向上させるために、外側パネルおよび内側パネルには着脱が容易になるように取手を設けるのが望ましい。
（２）　処理すべき基板を水平に支持して回転させて基板を洗浄する洗浄処理部で用いられる遮蔽方法であって、前記洗浄処理部の少なくとも１面の隔壁に外側パネルおよび内側パネルの装着部を設け、この装着部に外側パネルおよび内側パネルを装着する際には両者の間に中空部が形成されるように構成して、この中空部は排気手段に連通して負圧の状態で保持することを特徴とする基板洗浄に用いられる遮蔽方法である。
【００１３】
上記の遮蔽方法では、洗浄処理部の全面の隔壁に外側パネルおよび内側パネルの装着部を設け、この装着部に外側パネルおよび内側パネルを装着するのが望ましい。
【００１４】
本発明の遮蔽装置および遮蔽方法であれば、基板洗浄する洗浄処理部の少なくとも１面の隔壁を、着脱可能な外側パネルおよび内側パネルを整合して構成し、その内部に中空部を形成し、その中空部を排気手段に連通させ、強制排気させることによって、常時、中空部を負圧の状態を保持していることを特徴としている。
【００１５】
ここで、外側パネルの外表面は大気雰囲気と接しており、内側パネルの内表面は洗浄雰囲気を接している。このため、洗浄処理部で気化またはミスト状となった薬液は、内側パネルを通過した場合であっても、確実に、負圧状態の中空部に吸引されて、装置外に漏出することがない。
【００１６】
また、装置外の大気雰囲気が塵埃をともなって外側パネルを通過した場合であっても、確実に負圧状態の中空部に吸引されて、装置内に侵入することがなく、洗浄処理部はで高い清浄な雰囲気を保つことができる。
【００１７】
さらに、洗浄処理部の隔壁部位に設けられた外側パネルおよび内側パネルは、隔壁に設けられた装着部に取付、取り外しする構造である。そして装着部の断面は山形形状で構成され、各パネルは両端の凹溝に装着される構造になっている。このため、基板処理装置の洗浄処理部を定期的に清掃したり、損傷した噴射ノズルを交換する場合に、外側パネルおよび内側パネルの着脱は容易であり、短時間にこれらの取付、取り外しができるので、メンテナンス性が著しく向上する。
【００１８】
このため、本発明の遮蔽装置および遮蔽方法では、洗浄処理部の隔壁を限定することなく、その隔壁全面を着脱可能な外側パネルおよび内側パネルによって構成するのが望ましい。洗浄雰囲気と大気雰囲気の遮蔽性を確保したままで、洗浄処理部の隔壁を可能な限り多く取り外すことによって、メンテナンス性を大幅に改善することができるからである。
【００１９】
さらに、本発明の遮蔽装置では、一層、外側パネルおよび内側パネルの着脱を短時間で完了させるために、外側パネルおよび内側パネルに取付、取り外し用の取手を設けるのが望ましい。これにより、メンテナンス作業の工数を低減でき、この基板処理装置の稼働率をさらに向上させることができる。
【００２０】
本発明において外側パネルおよび内側パネルの装着とは、パネルの上端部および下端部が隔壁に設けられた装着部に対し、しっくりと嵌め合わされる場合の他、かなりの遊びをもって嵌め合わされた場合も含むものとする。いずれの場合であっても、外側パネルと内側パネルとが構成する中空部を強制排気させ、常時、負圧の状態を保持することができるからである。したがって、本発明における装着では、洗浄処理部の気密性を意図するものではない。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の遮蔽装置およびこの装置を備える基板処理装置について、図面に基づき詳細に説明する。図１および図２は本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の全体構成を説明する平面図であり、図３は本発明の実施形態に係る遮蔽装置主要部の縦断面図である。
【００２２】
本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置１は、ガラス基板に洗浄処理を施す装置であって、上部で基板の洗浄を行う洗浄処理部２と、下部で回転機構や薬液の排出機構を収容する機構部３とに区分される。また、図１に示すように、基板処理装置には、その上方に洗浄処理部に清潔な雰囲気を供給するファンフィルターユニット（ＦＦＵ）４とともに、排気ダンパー５が備えられている。通常、洗浄処理部２の内部は、正圧の状態で保たれる。さらに、上部の洗浄処理部２を覆う隔壁部位には遮蔽装置６が配置されている。
【００２３】
図２は本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の全体構成を示す平面図であるが、隔壁部位に設けられた遮蔽装置６を取り外した状態を示すとともに機構部３における回転機構の配置も示している。図２に示すように、本発明が対象とする基板処理装置１は、処理すべき基板１０を水平に支持して回転させるロータ１１と、基板１０の回転によって基板１０から飛散する薬液を回収するべくロータ１１の周囲に設けられたカップ（図示せず）を備えている。
【００２４】
上部の洗浄処理部２では、基板１０を水平に支持するロータ１１と、基板に薬液を噴射する噴射ノズル（図示せず）が配置され、一方、下部の機構部３には回転機構１２と、基板１０から飛散する薬液を回収する排出手段が収容されている。前記洗浄処理部２と機構部３とは、シール部を設けて遮断した構造になっている。
【００２５】
図３に示すように、本発明の遮蔽装置６では、洗浄処理部２の隔壁に凹溝を組み合わせた山形形状の装着部６ａを設けて、この装着部６ａに外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃを装着している。外側パネル６ｂはその外表面を大気雰囲気と接しており、これに対して内側パネル６ｃの内表面は装置内の洗浄雰囲気と接する構成になっている。
【００２６】
山形形状の装着部６ａの形状や材質は特に限定されるものではなく、慣用されるものでよい。例えば、アルミニウム材の引抜加工によって成形したものを使用することができる。さらに、耐薬液性を考慮すれば、塩化ビニールで作製するのが望ましい。
【００２７】
外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃを装着部６ａに取り付けることによって、外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃとの間に中空部６ｄを形成する。この中空部６ｄは、排気口６ｆを介して排気手段に連通し、強制的に装置外に排出することによって負圧状態を保持する構成である。
【００２８】
前述の通り、外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃの装着は、パネルの上端部および下端部が隔壁に設けられた装着部６ａに対し、しっくりと嵌め合わされる場合に限らず、遊びをもって装着する場合も許容するものである。このため、メンテナンス作業にともなって、外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃの着脱が容易となる。
【００２９】
外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃの表面には、着脱用の取手６ｅ、６ｅ’を設けるのが望ましく、この取手６ｅ、６ｅ’を把持してパネルを隔壁に設けられた装着部６ａから容易に着脱することができる。内側パネル６ｃに設けられた取手６ｅ’は、大気雰囲気側からの着脱を想定するものであるが、内側パネル６ｃの遮蔽構造に支障を生ずるものではない。また、外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃに透明な素材によって閉じられた覗き窓を設けるようにすれば、この覗き窓から洗浄処理部の内部を観察できるようにできる。
【００３０】
以上のように構成された基板処理装置１では、１枚づづ処理される基板１０が洗浄処理部２に搬入されて、ロータ１１上で水平に支持されて所定の速度で回転される。そして、基板１０の上面に薬液が噴射ノズルから噴射されて洗浄が行われる。このとき、洗浄処理部２の内部は正圧の状態でコントロールされる。
【００３１】
前述の通り、噴射される薬液は、気化し易いという特質を備えており、また、噴射ノズルから噴射される際にミスト状になる。このため、このように気化した薬液やミストが洗浄雰囲気となって、洗浄処理部２内に充満する。かかる洗浄雰囲気は、極めて腐食性が高く、これが装置の外部に漏出すると、装置周辺の機器、器具および人体に悪影響を与える。
本発明の遮蔽装置６では、外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃは隔壁に設けられた装着部６ａに当接しているが、気密的な当接でないため、上記の洗浄雰囲気は内側パネル６ｃの周辺部から中空部６ｄに侵入する。中空部６ｄは排気手段に連通され、強制排気されているので、中空部６ｄに侵入した洗浄雰囲気は、排気口６ｆから系外に排出される。このため、装置周辺の機器、器具および人体に悪影響を与えることがない。
【００３２】
一方、上記基板処理装置の洗浄処理部２では、基板１０の洗浄効率を高めるとともに洗浄用薬液の汚染を防止するため、特に清浄な洗浄雰囲気を保持する。このため、塵埃を含んだ大気雰囲気が外部から侵入するのを阻止することが必要になる。
【００３３】
本発明の遮蔽装置６では、大気雰囲気は外側パネル６ｂの周辺部から中空部６ｄに侵入するが、前述の通り、中空部６ｄに入った洗浄雰囲気は、排気口６ｆから強制排気されて系外に排出される。このため、塵埃を含んだ大気雰囲気が基板処理装置の洗浄処理部に侵入することがない。
【００３４】
図３に示すように、本発明の遮蔽装置６では排気口６ｆを下部に１箇所設ける構成になっているが、その構成はこれに限定されるものではなく、洗浄雰囲気や大気雰囲気が外側パネル６ｂおよび内側パネル６ｃの周辺部から中空部に侵入する状況に応じて、適宜配置すればよい。これにより、洗浄雰囲気と大気雰囲気の遮蔽性に優れた構造となる。
【００３５】
【発明の効果】
本発明の遮蔽装置、またはこれを用いた遮蔽方法によれば、洗浄処理部の薬液を含む洗浄雰囲気を装置外に漏出するのを確実に防止すると同時に、塵埃を含む大気雰囲気が洗浄処理部内に侵入するのを有効に防止することができる。しかも、隔壁部位に設けられた開口部を遮蔽する外側パネルおよび内側パネルの着脱が容易であることから、基板処理装置の定期時または緊急時におけるメンテナンス作業を効率的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の全体構成を説明する平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の全体構成を示す平面図であり、隔壁部位に設けられた遮蔽装置を取り外した状態を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る遮蔽装置主要部の縦断面図である。
【符号の説明】
１：基板処理装置、　２：洗浄処理部
３：機構部、　４：ファンフィルターユニット
５：排出ダンパー、　６：遮蔽装置
６ａ：装着部、　６ｂ：外側パネル
６ｃ：内側パネル、　６ｄ：中空部
６ｅ、６ｅ’：取手、　６ｆ：排気口
１０：基板、　１１：ロータ
１２：回転機構
【図１】
2004041992.tif 000003
【図２】
2004041992.tif 000004
【図３】
2004041992.tif 000005