(57)【要約】【課題】穏和な酸化的条件下除去可能で、かつヌクレオシドの５’−水酸基への導入が容易な新しい水酸基の保護基、とその導入試薬、およびその保護基を用いたヌクレオシドホスホロアミダイト化合物を提供する。【解決手段】下記の一般式（Ｉ）：【化１】2004168684.tif 000062〔式（Ｉ）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ｂ１、Ｂ２は水素原子などを表し、Ｘは酸素原子などを表し、Ｙはトリチル基などを表す。〕で表されるカルボン酸もしくはその塩。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（Ｉ）：
【化１】
2004168684.tif 000056
〔式（Ｉ）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、窒素原子上に炭素数１から６の同一もしくは異なるアルキル基をふたつ有するジアルキルアミノ基、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の各原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１から７のアシル基、置換基を有してもよい炭素数１から６のアルカンスルホニル基、又は１から５個の置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表し、Ｂ１、Ｂ２は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、又はフェニル基を表し、Ｘは酸素原子、炭素数２から６のアルキル基をひとつ有する窒素原子、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基をひとつ有する窒素原子、又は炭素数１から６のアルコキシをひとつ有する窒素原子を表し、Ｙは一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）：
【化２】
2004168684.tif 000057
【化３】
2004168684.tif 000058
で表される基を表す（式中、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４は水素原子、又は炭素数１から６のアルコキシ基を表す。）。〕
で表されるカルボン酸もしくはその塩。
【請求項２】
一般式（Ｉ）におけるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４が同一または異なって、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、又はｐ−トルエンスルホニル基を表し、Ｂ１、Ｂ２が同一または異なって、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘが酸素原子、炭素数２から５のアルキルを有する窒素原子、又は炭素数１から６のアルコキシを有する窒素原子を表し、一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）におけるＥ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４が水素原子、又はメトキシ基を表す、請求項１記載のカルボン酸もしくはその塩。
【請求項３】
一般式（Ｉ）におけるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４のいずれかもしくは全てが、フッ素原子又は塩素原子を表す、請求項２記載のカルボン酸もしくはその塩。
【請求項４】
一般式（Ｉ）におけるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４のいずれかひとつがニトロ基であり、他の三つは同一または異なって、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子のいずれかを表す、請求項２記載のカルボン酸もしくはその塩。
【請求項５】
一般式（Ｉ）におけるＡ１、Ａ３，Ａ４が水素原子を表し、Ａ２が水素原子もしくはニトロ基を表す、請求項２記載のカルボン酸もしくはその塩。
【請求項６】
下記の一般式（ＩＶ）：
【化４】
2004168684.tif 000059
〔式（ＩＶ）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、窒素原子上に炭素数１から６の同一もしくは異なるアルキル基をふたつ有するジアルキルアミノ基、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の各原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１から７のアシル基、置換基を有してもよい炭素数１から６のアルカンスルホニル基、又は１から５個の置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表し、Ｂ１、Ｂ２は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、又はフェニル基を表し、Ｘは酸素原子、炭素数２から６のアルキル基をひとつ有する窒素原子、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基をひとつ有する窒素原子、又は炭素数１から６のアルコキシをひとつ有する窒素原子を表し、Ｙは一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）：
【化５】
2004168684.tif 000060
【化６】
2004168684.tif 000061
で表される基を表し（式中、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４は水素原子、又は炭素数１から６のアルコキシ基を表す。）、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上に炭素数１から６の同一もしくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキルアミノ基（ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形成してもよい）もしくはモルホリン−１−イル基を表し、Ｒ４は水素原子又はＯ−Ｒ５（但し、Ｒ５はＲＮＡ化学合成における２’−水酸基の保護基を表す）を表し、Ｂは保護基を有していてもよい天然、もしくは非天然の核酸塩基を表す。〕
で表されるヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項７】
一般式（ＩＶ）におけるＲ１がメチル基、２−シアノエチル基、又は２―トリメチルシリルエチル基を表す、請求項６記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項８】
一般式（ＩＶ）におけるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４が同一または異なって、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、又はｐ−トルエンスルホニル基を表し、Ｂ１、Ｂ２が同一または異なって、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘが酸素原子、炭素数２から５のアルキルを有する窒素原子、又は炭素数１から６のアルコキシを有する窒素原子を表し、一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）におけるＥ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４が水素原子、又はメトキシ基を表す、請求項７記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項９】
一般式（ＩＶ）におけるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４のいずれかもしくは全てが、フッ素原子又は塩素原子を表す、請求項７記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項１０】
一般式（ＩＶ）におけるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４のいずれかひとつがニトロ基であり、他の三つは同一または異なって、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子のいずれかを表す、請求項７記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項１１】
一般式（ＩＶ）におけるＡ１、Ａ３、Ａ４が水素原子を表し、Ａ２が水素原子もしくはニトロ基を表す、請求項７記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水酸基の新規な保護基、それら保護基の導入試薬である安息香酸誘導体、およびそれらの保護基によりヌクレオシド５’−水酸基を保護した新規ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物に関する。これらの化合物は有機化合物の合成における水酸基の保護基およびその導入試薬および、核酸合成試薬として各々用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】
化学的に合成されたオリゴデオキシリボヌクレオチド（オリゴＤＮＡ）は、ＰＣＲ用のＤＮＡプローブ、ＤＮＡ医薬品素材（アンチセンスＤＮＡ、デコイＤＮＡ、オリゴＤＮＡを利用した遺伝子修復用の素材）、遺伝子解析用プローブとして有用である。また化学的に合成されたオリゴリボヌクレオチド（オリゴＲＮＡ）は遺伝子解析のＲＮＡプローブ、ＲＮＡ医薬品素材（アンチセンスＲＮＡ、リボザイム、ＲＮＡｉを利用した遺伝子発現制御）、人工酵素、アプタマーとして有用である。
【０００３】
現在行われているＤＮＡおよびＲＮＡの化学合成法においては、ヌクレオチドの５’−水酸基を酸性条件下除去可能な、４，４’−ジメトキシトリチル（ＤＭＴｒ）基で保護し、その他の官能基を適当な保護基で保護したヌクレオチドホスホロアミダイトを用いて固相合成法が主流である。
【０００４】
現行のＤＮＡ化学合成法の問題点は、ＤＭＴｒ基を除去する際の酸処理で、アミノ基を保護した２’−デオキシアデノシンや２’−デオキシグアノシンの塩基部が脱落するデプリネーションの副反応が起きることである。
【０００５】
一方、現行ＲＮＡ化学合成では、５’−水酸基の保護基としてＤＭＴｒ基を用いているために、２’−水酸基の保護基としては酸に安定なｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基を用いることが必然的に要求されるが、これらの保護基の脱保護に用いるテトラブチルアンモニウムフルオリドやトリエチルアミン三フッ化水素などは塩基性を有するため、脱保護後の３’，５’−ホスホジエステル結合の切断や、２’，５’−ホスホジエステル結合への転位などの副反応の危険性がある。またこれらの試薬は腐食性を有するため、大量の使用、廃棄には適していない。
【０００６】
これらの問題点を解決するには、ＤＭＴｒにかわる、酸を用いずに、かつ核酸化学合成に用いうる穏和な反応条件下で脱保護可能な５’−水酸基の保護基を考案するのが有効である。
【０００７】
このような性質を満たす保護基として、４−メトキシトリチルチオ基（Ｋ．  Ｓｅｉｏ，  Ｍ．  Ｓｅｋｉｎｅ  テトラヘドロンレターズ  ４２，  ８６５７−８６６０，  ２００１）がある。この保護基は、一般的なオリゴＤＮＡ合成で用いられるヨウ素水溶液で酸化的加水分解が可能であるため、上記のＤＮＡ化学合成およびＲＮＡ化学合成の問題点を克服しうる、有用な保護基であると考えられる。しかし、この保護基はヌクレオシドの５’−水酸基に選択的に導入するのが困難で、ヌクレオシドから出発して、５−６工程を有する問題点があった。
【０００８】
この保護基導入の困難性を解決するため、トリチルチオ基を２−ホルミル安息香酸由来の化合物へ導入して合成される保護基が本発明者により提案された（非特許文献１参照）。しかし、この保護基の導入された化合物は非常に不安定で、容易に保護基が脱落してしまうという問題があった（この問題点については未発表）。
【０００９】
【非特許文献１】
日本化学会第８１春季年会講演要旨集９３７頁
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は穏和な酸化的条件下除去可能で、かつヌクレオシドの５’−水酸基への導入が容易な新しい水酸基の保護基、とその導入試薬、およびその保護基を用いたヌクレオシドホスホロアミダイト化合物を創製することを目的する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、２位の水酸基をスルフェン酸エステルとして保護した２−ヒドロキシメチルベンゾイル骨格を有する保護基が上記の要望を満たした水酸基の保護基となりうることを見出した。すなわち、これらの保護基は、対応する安息香酸誘導体を保護基導入試薬として用い、一般的なカルボン酸エステル形成反応を適用することで、容易に目的とする化合物の水酸基に導入できる。また、これらの保護基は、ヨウ素水溶液で処理することで、（１）スルフェン酸エステルの酸化的加水分解による、水酸基の遊離と（２）遊離になった水酸基が、隣接するカルボニル基を攻撃することによる、分子内環化反応により、完全に水酸基から除去可能である。従って、上記の保護基は、水酸基に導入が容易で、かつ穏和な酸化的条件下で除去可能であるという、上記の要望を満たすものである。
【００１２】
即ち、本発明は、下記の一般式（Ｉ）：
【００１３】
【化７】
2004168684.tif 000002
〔式（Ｉ）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、窒素原子上に炭素数１から６の同一もしくは異なるアルキル基をふたつ有するジアルキルアミノ基、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の各原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１から７のアシル基、置換基を有してもよい炭素数１から６のアルカンスルホニル基、又は１から５個の置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表し、Ｂ１、Ｂ２は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、又はフェニル基を表し、Ｘは酸素原子、炭素数２から６のアルキル基をひとつ有する窒素原子、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基をひとつ有する窒素原子、又は炭素数１から６のアルコキシをひとつ有する窒素原子を表し、Ｙは一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）：
【００１４】
【化８】
2004168684.tif 000003
【００１５】
【化９】
2004168684.tif 000004
で表される基を表す（式中、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４は水素原子、又は炭素数１から６のアルコキシ基を表す。）。〕
で表されるカルボン酸もしくはその塩である。
【００１６】
また、本発明は、下記の一般式（ＩＶ）：
【００１７】
【化１０】
2004168684.tif 000005
〔式（ＩＶ）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、窒素原子上に炭素数１から６の同一もしくは異なるアルキル基をふたつ有するジアルキルアミノ基、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の各原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１から７のアシル基、置換基を有してもよい炭素数１から６のアルカンスルホニル基、又は１から５個の置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表し、Ｂ１、Ｂ２は同一または異なって、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、又はフェニル基を表し、Ｘは酸素原子、炭素数２から６のアルキル基をひとつ有する窒素原子、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基をひとつ有する窒素原子、又は炭素数１から６のアルコキシをひとつ有する窒素原子を表し、Ｙは一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）：
【００１８】
【化１１】
2004168684.tif 000006
【００１９】
【化１２】
2004168684.tif 000007
で表される基を表し（式中、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４は水素原子、又は炭素数１から６のアルコキシ基を表す。）、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上に炭素数１から６の同一もしくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキルアミノ基（ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形成してもよい）もしくはモルホリン−１−イル基を表し、Ｒ４は水素原子又はＯ−Ｒ５（但し、Ｒ５はＲＮＡ化学合成における２’−水酸基の保護基を表す）を表し、Ｂは保護基を有していてもよい天然、もしくは非天然の核酸塩基を表す。〕
で表されるヌクレオシドホスホロアミダイト化合物である。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
本発明において、「ハロゲン原子」とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子を示す。
【００２２】
本発明において、「炭素数１から６のアルキル基」とは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル基を示し、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基などのように分枝したもの、もしくはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのようなシクロアルキル基も含む。また、「炭素数２から６のアルキル基」とは、前記「炭素数１から６のアルキル基」からメチル基を除いたものをいい、「炭素数２から５のアルキル基」とは、「炭素数２から６のアルキル基」から更にヘキシル基及びシクロヘキシル基を除いたものをいう。
【００２３】
本発明において、「１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基」とは、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基などを含む。
【００２４】
本発明において、「炭素数１から６のアルコキシ基」とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、１−ブチルオキシ基、１−ペンチルオキシ基、１−ヘキシルオキシ基などのアルコキシ基を表し、２−プロピルオキシ基、イソブチルオキシ基などのように分枝したもの、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロプロピルメチルオキシ基などのように、側鎖の一部もしくは全部が環化したものも含む。
【００２５】
本発明において、「窒素原子上に炭素数１から６の同一もしくは異なるアルキル基をふたつ有するジアルキルアミノ基」とは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基などのジアルキルアミノ基をあらわし、Ｎ−メチルエチルアミノ基のように、ふたつの異なるアルキル基を窒素原子上に有しているものも含む。またふたつのアルキル基が互いに結合して環を形成した、ピロリジン−１−イル基、ピペリジン−１−イル基なども含まれる。
【００２６】
本発明において、「炭素数１から７のアシル基」とは、ホルミル基、アセチル基、プロピル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基などのアシル基を表し、イソブチリル基などのように分枝構造を有するもの、シクロヘキシルカルボニル基、シクロプロピルメチルカルボニル基のように、側鎖の一部、もしくは全部が環化したものも含まれる。
【００２７】
本発明において、「置換基を有してもよい炭素数１から６のアルカンスルホニル基」とは、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などのアルカンスルホニル基を表す。
【００２８】
本発明において、「１から５個の置換基を有してもよいアリールスルホニル基」とは、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、４−クロロベンゼンスルホニル基、２，６−ジメチルベンゼンスルホニル基、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル基などを表す。
【００２９】
一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸の塩は、前記カルボン酸と有機塩基もしくは無機塩基とから生成する塩を含む。ここでいう「有機塩基」としては、例えば窒素原子上に炭素数１から６のアルキル基が１から３個結合した第１級アルキルアミン、第２級アルキルアミン、第３級アルキルアミン、もしくはピリジン、キノリンなどの含窒素芳香族化合物、アセトアミジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７エンなどのアミジン化合物、テトラメチルグアニジンなどのグアニジン化合物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどの４級アンモニウムなどがこれに含まれる。具体的な化合物名としては、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、４−メトキシピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、キノリン、イソキノリン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、アセトアミジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７エン、テトラブチルアンモニウムヒヒドロキシド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどを挙げることができる。また第１級アルキルアミン、第２級アルキルアミン、第３級アルキルアミンとしては、エチレンジアミン、Ｎ−メチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンなどのように、一分子中に複数の窒素原子を含むアミンや、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、キヌクリジンなどの環状アミン、もしくはピペラジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンのように環構造を有し、かつ一分子中に複数の窒素原子を有するものも含む。また、「無機塩基」としては、例として、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウムなどを挙げることができる。
【００３０】
一般式（Ｉ）におけるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４は、好適には、同一または異なって、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、又はｐ−トルエンスルホニルを表し、更に好適には、以下の（１）乃至（３）のいずれかを表す。
（１）Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４のいずれかもしくは全てが、フッ素原子又は塩素原子を表す。
（２）Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４のいずれかひとつがニトロ基であり、他の三つは同一または異なって、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子のいずれかを表す。
（３）Ａ１、Ａ３、Ａ４が水素原子を表し、Ａ２が水素原子もしくはニトロ基を表す。
【００３１】
一般式（Ｉ）におけるＢ１、Ｂ２は、好適には、同一または異なって、水素原子、又はメチル基を表す。
【００３２】
一般式（Ｉ）におけるＸは、好適には、酸素原子、炭素数２から５のアルキルを有する窒素原子、又は炭素数１から６のアルコキシを有する窒素原子を表し、更に好適には、酸素原子を表す。
【００３３】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）におけるＥ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４は、好適には、水素原子、又はメトキシを表す。
【００３４】
本発明のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物は、下記の一般式（ＩＶ）
【００３５】
【化１３】
2004168684.tif 000008
で表される。
【００３６】
Ｒ１はリン酸保護基を表す。ここでリン酸保護基としては、ホスホロアミダイト法に使用されるものであればどのようなものででもよいが、メチル基、２−シアノエチル基、２−トリメチルシリルエチル基などを好ましい基としてあげることができる。
【００３７】
Ｒ２は窒素原子上に炭素数１から５の同一もしくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキルアミノ基（ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形成してもよい）、又はモルホリンー１−イル基を表す。このようなジアルキルアミノ基としてはジエチルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペリジン−１−イル基、ピロリジン−１−イル基、ジイソプロピルアミノ基、又はジメチルアミノ基などを好ましい基としてあげることができる。
【００３８】
Ｒ４は水素原子又はＯ−Ｒ５を表す。ここで、Ｒ５はＲＮＡ化学合成で２’−水酸基の保護基として用いられている基ならばどのようなものでもよいが、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基、ビス（２−アセトキシエトキシ）メチル基などが好ましい基としてあげられる。
【００３９】
Ｂは保護基を有してもよい核酸塩基の残基を表す。核酸塩基とは生物の染色体ＤＮＡ，プラスミドＤＮＡ、メッセンジャーＲＮＡ、リボソーマルＲＮＡ、トランスファーＲＮＡ、核内小分子ＲＮＡなど、天然に存在する核酸に見出される全ての核酸塩基および、核酸の合成に使用可能な、置換基を有してもよいヘテロ芳香環全般を含み、また保護基も核酸の合成に使用されるものであればどのようなものでもよい。代表的な核酸塩基の残基としては、下記の一般式（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）：
【００４０】
【化１４】
2004168684.tif 000009
【００４１】
【化１５】
2004168684.tif 000010
【００４２】
【化１６】
2004168684.tif 000011
【００４３】
【化１７】
2004168684.tif 000012
【００４４】
【化１８】
2004168684.tif 000013
で表される基を例示することができる。式中のＲ９は水素原子又はアミノ基の保護基を表す。アミノ基の保護基としては、核酸の化学合成に用いうるものであればどのようなものでもよいが、例としては、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基などを例示することができる。
【００４５】
その他の記号Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ｂ１、Ｂ２、Ｘ、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４に関しては、式（Ｉ）で説明したのと同じ意味である。
【００４６】
本発明における式（Ｉ）で表される化合物のうちＸが置換基をひとつもつ窒素原子である化合物は、以下の（合成法１−１）により合成することができる。
（合成法１−１）
式（Ｘ）：
【００４７】
【化１９】
2004168684.tif 000014
（式中Ｇは炭素数２から６のアルキル基、１から７個のハロゲン原子を有する炭素数１から３のハロゲン化アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基を表す。
その他の各記号は前記のとおりである。）
で表される化合物と、式（ＸＩ）：
【００４８】
【化２０】
2004168684.tif 000015
（式中の各記号は前記のとおりである。）
で表される化合物とを、反応を阻害しない溶媒、例えば、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、水など、もしくはこれらの任意の混合溶媒に溶解し、有機塩基、例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン等、もしくは無機塩基  すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物、例えばＮ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウム  リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム２，６−ジメチルピペラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマブネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔｅｒｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下、または非存在下、−７８℃から１００℃で５分間から７２時間攪拌することにより、式（Ｉ）で表される化合物を得る。
【００４９】
ここで用いた式（ＸＩ）で表される化合物は、式（ＸＩＩ）：
【００５０】
【化２１】
2004168684.tif 000016
（式中の各記号は前記のとおりである。）
で表される化合物と塩素化剤、例えば塩素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロスクシミド、１，３−ジクロロー５，５−ジメチルヒダントイン、などとを反応を阻害しない溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、水などに溶解し、有機塩基、例えば、ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基、即ち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物、例えばＮ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム  ２，６−ジメチルピペラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマブネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔｅｒｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下、または非存在下、−７８℃から１００℃で５分間から７２時間攪拌することにより、式（ＸＩ）で表される化合物を得る。
【００５１】
ここで用いた式（ＸＩＩ）で表される化合物は、文献公知の方法を用いて得るか、式（ＸＩＩＩ）：
【００５２】
【化２２】
2004168684.tif 000017
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物と硫化試薬例えば、五硫化リン、ローソン試薬などを反応を阻害しない溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、室温から１００℃で５分間から７２時間攪拌することにより得られる。
【００５３】
ここで用いた一般式（Ｘ）で表される化合物のうちＸが置換基をひとつ有する窒素原子で、かつＢ２が水素原子である化合物については、式（ＸＩＶ）：
【００５４】
【化２３】
2004168684.tif 000018
（式中の各記号は前記の通りである）
で表される化合物と、式（ＸＶ）：
【００５５】
【化２４】
2004168684.tif 000019
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物とを、反応を阻害しない溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロピルアルコール等もしくはこれらの任意の混合溶媒中、酸触媒、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの存在下、もしくは非存在下反応させて得られる、式（ＸＶＩ）：
【００５６】
【化２５】
2004168684.tif 000020
（式中各記号は前記の通りである。）
で表される化合物を単離精製することなく、適当な還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ボラン、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどを−７８℃から１００℃で５分間から７２時間反応させるか、式（ＸＶＩ）で表される化合物を、単離精製後、適当な溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロピルアルコール、酢酸、トリフルオロ酢酸など、もしくはこれらの任意の混合溶媒中で、適当な還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ボラン、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどと−７８℃から１００℃で５分間から７２時間反応させることにより得られる。
【００５７】
また式（Ｘ）で表される化合物で、Ｘが置換基をひとつ含む窒素原子で、Ｂ２が水素原子でない化合物については、上記の式（ＸＶＩ）で表される化合物と式（ＸＶＩＩ）：
【００５８】
【化２６】
2004168684.tif 000021
（Ｂ２は水素原子を除く以外は前記の通りである。Ｊはリチウム、ナトリウム、カリウムなどを表す。）
で表される化合物もしくは式（ＸＶＩＩＩ）：
【００５９】
【化２７】
2004168684.tif 000022
（Ｂ２は水素原子を除く以外は前記の通りである。Ｌは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す。）
で表される化合物を反応を阻害しない溶媒例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トルエンなど、もしくはこれらの任意の混合溶媒中−７８℃から１００℃で５分間から７２時間反応させることにより得られる。
【００６０】
ここで用いた式（ＸＩＶ）で得られる化合物については、市販品を用いるか、もしくは文献公知の方法で合成可能である。
【００６１】
本発明における式（Ｉ）で表される化合物のうちＸが酸素原子である化合物は、以下の（合成法１−２）により合成することができる。
（合成法１−２）
式（ＸＩＸ）：
【００６２】
【化２８】
2004168684.tif 000023
（式中Ｍは、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンなどの一価のカチオンを表す。その他の記号は前記の通りである。）
で表される化合物と、式（ＸＩ）：
【００６３】
【化２９】
2004168684.tif 000024
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物とを、反応を阻害しない溶媒、たとえば、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエンなど、もしくはこれらの任意の混合溶媒に溶解し、有機塩基、例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等、もしくは無機塩基  すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物、例えばＮ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム２，６−ジメチルピペラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマブネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔｅｒｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下、または非存在下、−７８℃から１００℃で５分間から７２時間核酸することにより、式（Ｉ）でＸが酸素原子である化合物を得る。
【００６４】
ここで用いる式（ＸＩＸ）で表される化合物は、式（ＸＸ）：
【００６５】
【化３０】
2004168684.tif 000025
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物を、反応を阻害しない溶媒、例えば、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロピルアルコール、水などもしくはこれらの任意の混合溶媒中で、式（ＸＸＩ）：
【００６６】
【化３１】
2004168684.tif 000026
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物と０℃から１００℃で５分間から７２時間反応させることで得られる。
【００６７】
ここで用いた、式（ＸＸ）で表される化合物は、市販品を用いるか、文献既知の方法により合成が可能である。また文献に記載のない場合には一般に次の（合成法２−１）、（合成法２−２）、（合成法２−３）、（合成法２−４）で合成できる。
【００６８】
（合成法２−１）
一般式（ＸＸ）で表される化合物で、Ｂ１が水素原子、Ｂ２が炭素数１から６のアルキル基である化合物は、式（ＸＸＩＩ）：
【００６９】
【化３２】
2004168684.tif 000027
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物を、反応を阻害しない有機溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ヘキサン、ベンゼンなどに溶解し、強塩基、例えば、Ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、  リチウム  リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、フェニルリチウムなどの存在下、式（ＸＸＩＩＩ）：
【００７０】
【化３３】
2004168684.tif 000028
（式中Ｑは炭素数１から６のアルキルを表し、Ｔはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基などを表す。）
で表される化合物と反応を行い合成できる。
【００７１】
（合成法２−２）
一般式（ＸＸ）で表される化合物で、Ｂ１が水素原子、Ｂ２がフェニル基である化合物は、Ｂ１が水素原子である式（ＸＩＶ）で表される化合物とフェニルマグネシウムブロミド、フェニルリチウムなどとを反応を阻害しない溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ヘキサン、ベンゼン中で、反応させることで得られる。
【００７２】
（合成法２−３）
一般式（ＸＸ）で表される化合物で、Ｂ１が炭素数１から６のアルキル基で、Ｂ２が炭素数１から６のアルキル基もしくはフェニル基である化合物は、（合成法２−１）、（合成法２−２）で得られるＢ１が水素原子で、Ｂ２が炭素数１から６のアルキル基もしくはフェニル基である式（ＸＸ）で表される化合物を、反応を阻害しない溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ヘキサン、ベンゼン中、強塩基、例えばＮ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウム  リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、フェニルリチウムなどの存在下、式（ＸＸＩＩＩ）で表される化合物との反応を行い合成する。
【００７３】
ここで用いた式（ＸＸＩＩ）で表される化合物は、文献公知の、式（ＸＸＩＶ）
【００７４】
【化３４】
2004168684.tif 000029
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物を、反応を阻害しない溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ヘキサン、ベンゼン中、適当な還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ボラン、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどと−７８℃から１００℃で５分間から７２時間反応させることで得られる。
【００７５】
（合成法２−４）
一般式（ＸＸ）で表される化合物でＢ１とＢ２がともにフェニル基である化合物は、式（ＸＸＩＶ）で表される化合物と、フェニルマグネシウムブロミド、フェニルリチウムなどとを、反応を阻害しない溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ヘキサン、ベンゼン中反応させ合成する。
【００７６】
一般式（ＩＶ）で表されるヌクレオシドホスホロアミダイト化合物は、一般に次の（合成法３−１）、（合成法３−２）で合成できる。
【００７７】
（合成法３−１）
式（ＸＸＶ）：
【００７８】
【化３５】
2004168684.tif 000030
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される、ヌクレオシド誘導体と、文献公知の方法により得られる式（ＸＸＶＩ）：
【００７９】
【化３６】
2004168684.tif 000031
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物とを、反応を阻害しない溶媒、例えば、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエンなどの溶媒中で、有機塩基、例えば、ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンカ−７−エンなどの存在下、−７８℃から室温で５分間から７２時間攪拌することにより、式（ＩＶ）で表される化合物を得る。
【００８０】
（合成法３−２）
式（ＸＸＶ）（★ＸＸＩＩではないように思います）で表される化合物と、文献公知の方法で得られる式（ＸＸＶＩＩ）：
【００８１】
【化３７】
2004168684.tif 000032
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表される化合物とを、反応を阻害しない溶媒、例えば、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエンなどの溶媒中で、１Ｈ−テトラゾール、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドなどの存在下、−７８℃から室温で５分間から７２時間攪拌することにより式（ＩＶ）で表される化合物を得る。
【００８２】
これらの方法で用いた式（ＸＸＶ）で表される化合物は、文献公知の方法によって得られる、適当に保護されてもよい式（ＸＸＶＩＩＩ）：
【００８３】
【化３８】
2004168684.tif 000033
（式中の各記号は前記の通りである。）
で表されるヌクレオシドもしくはヌクレオシド誘導体と、式（Ｉ）で表される化合物、もしくはその塩とを、適当な溶媒、例えば、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、一般に、カルボン酸とアルコールからカルボン酸エステルを作る際に用いられる脱水縮合剤を用いて、有機塩基、例えば、ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどの溶媒存在下、もしくは非存在下、−７８℃から室温で５分間から７２時間反応させることにより得られる。ここで、脱水縮合剤の例としては、例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’―（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、塩化ビス（２−オキソー３−オキサゾリジニル）ホスフィニル、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム、ヘキサフルオロホスフェート、塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル、トリホスゲン、塩化オキザリル、塩化チオニル、カルボニルジイミダゾール、塩化２，４，６−トリクロロベンゾイル、塩化ピバロイル、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウムなどが例示できるが、これらに限定されるものではない。またこの反応において、一般に求核触媒として知られる、エステル化反応の促進剤を用いて反応を加速することもできる。求核触媒の例としては、例えば、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、１−メチルイミダゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンなどを例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００８４】
式（ＩＶ）で表される化合物は、ＤＮＡ、ＲＮＡなどの核酸およびその類似物質の合成試薬として使用することができる。本化合物を用いた核酸などの合成は、既存の核酸合成試薬を用いた場合と同様の方法で行うことができる。例えば、オリゴＤＮＡ、オリゴＲＮＡの合成は、文献公知の方法により自分で調整するか、もしくは市販品として入手可能な式（ＸＸＩＸ）：
【００８５】
【化３９】
2004168684.tif 000034
（式中Ｒ６は４，４’−ジメトキシトリチルなどの水酸基保護基を表す、その他の記号については前記の通りである。）
で表される物質をを原料として、以下の反応式１にしたがって行うことができる。また、反応式１の工程のすべてを市販の核酸自動合成機を用いて行うこともできる。
【００８６】
（反応式１）
工程１：酸処理
工程２：式（ＩＶ）で表されるヌクレオシドホスホロアミダイト＋活性化剤＋反応溶媒
工程３：キャップ化剤添加
工程４：酸化剤添加（インターヌクレオチド結合の酸化および５’−水酸基の脱保護）
（工程２、３，４は所望のオリゴデオキシヌクレオドの鎖長から１引いた回数繰り返し行う）
工程５：切り出し剤添加
工程６：脱保護剤添加（リン酸保護基、核酸塩基部位、２’−水酸基の保護基（ＲＮＡの場合のみ）の脱保護））
工程７：精製操作
【００８７】
反応式１に記載されている化合物および試薬のうち、式（ＩＶ）で表される化合物以外については、オリゴＤＮＡ合成、オリゴＲＮＡ合成に一般的に使用可能なものであれば、特に限定されない。固相担体に結合した保護ヌクレオシドとしては、式中Ｂがチミン−１−イル、６−Ｎ−ベンゾイルシトシン−１−イル、４−Ｎ−アセチルシトシン−１−イル、６−Ｎ−ベンゾイルアデニン−９−イル、２−Ｎ−イソブチリルグアニン−９−イル、２−Ｎ−フェノキシアセチルグアニン−９−イル、ウラシル−１−イル等で表されるものを例示することができる。
【００８８】
固相担体としては表面にアミノ基を有するコントロールドポアグラス（ＣＰＧ）、表面にアミノ基を有するスライドガラス、表面にアミノ基を有するポリスチレンなどを例示することができる。式（ＸＸＶ）中のヌクレオシド部分、固相担体部分とＬで表される基をあわせたものの化学構造は、反応式１で示される工程で核酸を合成するのに適したものであれば特に限定はされないが、例えば、式（ＸＸＸ）で表される、アシル型リンカーを有するものが例示される。
【００８９】
【化４０】
2004168684.tif 000035
（ｎは０から８の整数を表す、他の記号については前記の通りである。）
【００９０】
酸としては、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸などを、体積％もしくは重量％で、１から５％の濃度になるようにジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどの有機溶媒に溶解した溶液などを例示することができる。
【００９１】
反応溶媒としては、アセトニトリル、テトヒドロフランなど、活性化剤としては、ホスホロアミダイト法による核酸化学合成における、水酸基とホスホロアミダイト化合物とのカップリングの目的に用いる試薬であれば特に限定はされないが、１Ｈ−テトラゾール、４−エチルチオテトラゾール、３，４−ジクロロイミダゾール、３，４−ジシアノイミダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾールトリフラートなどを例示することができる。キャップ化試薬としては、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンやＮ−メチルイミダゾールをピリジン、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどの任意の混合溶媒に０．０５Ｍから１０Ｍの濃度になるように溶かした溶液と無水酢酸もしくは無水メトキシ酢酸などとを適当な混合比で混合した溶液などを例示することができる。
【００９２】
酸化剤としては、ホスホロアミダイト法による核酸化学合成における、酸化剤として用いうるものであれば、特に限定されないが、ヨウ素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｍ−クロロ安息香酸、過酸化水素水、をピリジン、水、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどの単独溶媒もしくはこれらの任意の混合溶媒に０．０５Ｍから２Ｍの濃度になるように溶解した溶液などを例示することができる。また、種々の有機塩基例えば、ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン等もしくは無機塩基、すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどを酸化剤とともに添加するか、もしくは一度酸化剤を反応系より除いたあとにこれらの有機塩基もしくは無機塩基を適当な溶媒、例えばピリジン、水、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどの単独溶媒もしくはこれらの任意の混合溶媒、に溶解した溶液を添加し、５’−水酸基の脱保護反応の速度を加速することも可能である。
【００９３】
切り出し剤はリンカー部分の化学構造に応じて適当なものを用いることができるが、濃アンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、と反応を阻害しない有機溶媒たとえば、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコールなどを任意の比率で混合した溶液、あるいは有機塩基、例えば、メチルアミン、ｔｅｒｔ―ブチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどを反応を阻害しない溶媒、例えばエタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフランの単独溶媒もしくは任意の比率の混合溶媒に溶解した溶液、あるいはフッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム−酢酸、トリエチルアミン・３フッ化水素、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸などを反応を阻害しない有機溶媒たとえば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、テトヒドロフランなどに溶解した溶液などを、式（ＸＸＩＸ）のＬで表される基を合成したオリゴ核酸から切り出すことのできる条件に応じて用いることができる。
【００９４】
工程６で加える脱保護剤には、工程５に用いる試薬と同じ試薬を用いて工程５と工程６を一段階で行うこともできる。保護基と式（ＸＸＩＸ）のＬで表される基との組み合わせにより、工程５と工程６を一段階で行うことができない場合には、工程５の切り出し操作を行った後、脱保護剤として、濃アンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、と反応を阻害しない有機溶媒たとえば、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコールなどを任意の比率で混合した溶液、あるいは有機塩基、例えば、メチルアミン、ｔｅｒｔ―ブチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ「５．４．０」ウンデカー７−エンなどを反応を阻害しない溶媒、例えばエタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフランの単独溶媒もしくは任意の比率の混合溶媒に溶解した溶液、あるいはフッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウムー酢酸、トリエチルアミン・３フッ化水素、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸などを反応を阻害しない有機溶媒たとえば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、テトヒドロフランなどに溶解した溶液などを用いて脱保護操作を行うことができる。
【００９５】
また可能であれば、工程５と工程６はその順序を逆にして、工程６の脱保護操作を先に行った後、工程５の切り出しを行うこともできる。
【００９６】
合成したオリゴヌクレオチドの精製はＣ８もしくはＣ１８の逆相カラムクロマトグラフィー、Ｃ８もしくはＣ１８逆相カートリッジカラム、陽イオン交換カラムクロマトグラフィー、陰イオン交換カラムクロマトグラフィーなどの方法を単独で、もしくは高速液体クロマトグラフィー装置との組み合わせにより用いて行う。この際溶出溶媒としては例えばアセトニトリル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、水等の単独溶媒もしくは任意の比率の混合溶媒等があげられる。この場合添加物としてリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、酢酸アンモニウム、酢酸トリエチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、トリス塩酸、エチレンジアミン四酢酸等を１ｍＭから２Ｍの濃度で添加し、溶媒のｐＨを１から９の範囲で調整することもできる。
この方法で単離精製し収率１％から９９％で目的としてオリゴ核酸を得ることができる。
【００９７】
【実施例】
（実施例１）  ２−｛（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル｝安息香酸  トリエチルアンモニウム塩
【００９８】
【化４１】
2004168684.tif 000036
２−ヒドロキシメチル安息香酸  テトラブチルアンモニウム塩（３９３  ｍｇ，  １  ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４  ｍｌ）に溶解し、４５℃に加熱した。ここに水素化ナトリウム（４０  ｍｇ，  １  ｍｍｏｌ）を加え１５分間攪拌した。反応系を室温に戻し、４−メトキシトリチルチオクロリド（６１２  ｍｇ，  １．８  ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応を濃アンモニア水（２  ｍｌ）を加えて停止させ、ジクロロメタン（４０  ｍｌ）で希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４０  ｍｌ）で３回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクマトグラフィーに吸着させ、トリエチルアミン−クロロホルム−メタノール（１０：１００：２）で溶出し、標題化合物（３５１  ｍｇ，６３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ２７０  ＭＨｚ）  １．１１（９Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．２  Ｈｚ），  ３．０３  （６Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．２  Ｈｚ），  ３．７８（３Ｈ，  ｓ），  ４．８４（２Ｈ，  ｓ），６．８０（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝９．０  Ｈｚ），  ７．２０−７．４１（１３Ｈ，  ｍ），  ７．９２  （１Ｈ，  ｍ）．
【００９９】
（実施例２）  ２−トリフェニルメタンスルフェニルオキシメチル安息香酸  トリエチルアンモニウム塩
【０１００】
【化４２】
2004168684.tif 000037
２−ヒドロキシメチル安息香酸  テトラブチルアンモニウム塩をテトラヒドロフランに溶解し、水素化ナトリウムを加え、室温で攪拌した。反応系を氷冷し、トリチルチオクロリドを加え、室温で攪拌した。反応を濃アンモニア水を加えて停止させ、ジクロロメタンで希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクマトグラフィーに吸着させ、トリエチルアミン−クロロホルム−メタノール（１０：１００：２）で溶出し、標題化合物を得た。
【０１０１】
（実施例３）  ５−ニトロ−２−トリフェニルメタンスルフェニルオキシメチル安息香酸
【０１０２】
【化４３】
2004168684.tif 000038
２−ヒドロキシメチル−５−ニトロ安息香酸  テトラブチルアンモニウム塩（１．０  ｇ，  １．８  ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１８  ｍｌ）に溶解し、ここに水素化ナトリウム（１４４  ｍｇ，  ３．６  ｍｍｏｌ）を加え加熱還流下１時間攪拌した。反応系を室温に戻し、トリチルチオクロリド（５６０  ｍｇ，  １．８  ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３５分間攪拌したところで、５６０ｍｇのトリチルチオクロリドを追加し、さらに１時間攪拌した。反応を濃アンモニア水を加えて停止させ、ジクロロメタン（３０  ｍｌ）で希釈した。水（５０  ｍｌ）で１回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクマトグラフィーで精製し、標題化合物（５０３  ｍｇ，  ５９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ２７０  ＭＨｚ）  １．２８（９Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ），  ３．１１（６Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ），４．９９（２Ｈ，  ｓ），  ７．１９−７．４０（１６Ｈ，  ｍ），  ８．００（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝８．６  Ｈｚ，  Ｊ＝２．６  Ｈｚ），  ８．６３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．６  Ｈｚ）．
【０１０３】
（実施例４）  ５−ニトロ−２−｛（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニル｝オキシメチル安息香酸  トリエチルアンモニウム塩
【０１０４】
【化４４】
2004168684.tif 000039
２−ヒドロキシメチル−５−ニトロ安息香酸  テトラブチルアンモニウム塩をテトラヒドロフランに溶解し、ここに水素化ナトリウムを加え、加熱還流下１時間攪拌した。反応系を室温に戻し、４−メトキシトリチルチオクロリドを加え、室温で攪拌した。反応を濃アンモニア水を加えて停止させ、ジクロロメタンで希釈した。水で１回（？）洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１０５】
（実施例５）  ５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝チミジン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１０６】
【化４５】
2004168684.tif 000040
５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝チミジン  （２７３  ｍｇ，０．４０  ｍｍｏｌ）をピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタン（３  ｍｌ）を加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィン（１３３  ｍｇ，０．４４  ｍｍｏｌ）と、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（２７  ｍｇ，０．１６  ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。応系に水（５  ｍｌ）を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテル（５０  ｍｌ−５０  ｍｌ）で希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液（５０  ｍｌ）で８回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物（１３１  ｍｇ，３７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ２７０  ＭＨｚ）  １．１６（１２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．９Ｈｚ），  １．５３（３Ｈ，  ｓ），  ２．１５（１Ｈ，ｍ），  ２．５９（３Ｈ，  ｍ），  ３，８１（３Ｈ，  ｓ），  ３．５５−３．８２（４Ｈ，  ｍ），  ４．２５−４．５９（４Ｈ，  ｍ），  ４．６５（２Ｈ，  ｓ），  ６．２９（１Ｈ，  ｍ），  ６．７９（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．９  Ｈｚ），  ７．１４−７．７６（１６Ｈ，  ｍ），  ７．７８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．３  Ｈｚ）．    ３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  １０９  ＭＨｚ）  １４９．９，  １５０．０．
【０１０７】
（実施例６）  ４−Ｎ−ベンゾイルー５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝−２’−デオキシシチジン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１０８】
【化４６】
2004168684.tif 000041
４−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシ−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝シチジンをピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタンを加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンと、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドを加え、室温で２時間攪拌した。反応系に水を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテルで希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１０９】
（実施例７）  ６−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシ−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝アデノシン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１１０】
【化４７】
2004168684.tif 000042
６−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシ−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝アデノシンをピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタンを加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンと、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドを加え、室温で２時間攪拌した。反応系に水を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテルで希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１１１】
（実施例８）  ２―Ｎ−イソブチリル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝グアノシン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１１２】
【化４８】
2004168684.tif 000043
２’−デオキシ−２−Ｎ−イソブチリル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝アデノシンをピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタンを加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンと、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドを加え室温で２時間攪拌した。反応系に水を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテルで希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１１３】
（実施例９）  ５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝チミジン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１１４】
【化４９】
2004168684.tif 000044
５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝チミジンをピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタンを加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンと、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドを加え、室温で２時間攪拌した。
反応系に水を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテルで希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１１５】
（実施例１０）  ４−Ｎ−ベンゾイル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝−２’−デオキシシチジン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１１６】
【化５０】
2004168684.tif 000045
４−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシ−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝シチジンをピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタンを加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンと、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドを加え、室温で２時間攪拌した。反応系に水を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテルで希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し標題化合物を得た。
【０１１７】
（実施例１１）  ６−Ｎ−ベンゾイル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝−２’−デオキシアデノシン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１１８】
【化５１】
2004168684.tif 000046
６−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシ−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝アデノシンをピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタンを加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンと、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドを加え、室温で２時間攪拌した。反応系に水を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテルで希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し標題化合物を得た。
【０１１９】
（実施例１２）  ４−Ｎ−ベンゾイル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル  −５−ニトロベンゾイル｝−２’−デオキシグアノシン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【０１２０】
【化５２】
2004168684.tif 000047
２’−デオキシ−４−Ｎ−イソブチリルー５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝グアノシンをピリジンで３回共沸乾燥した後、トルエンで３回共沸してピリジンを除いた。残渣にジクロロメタンを加え、さらに（２−シアノエトキシ）ビス（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンと、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリドを加え、室温で２時間攪拌した。反応系に水を加え、ジイソプロピルエーテル−ジエチルエーテルで希釈し、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し標題化合物を得た。
【０１２１】
（原料合成例１）  ５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝チミジン
【０１２２】
【化５３】
2004168684.tif 000048
チミジン（２４２  ｍｇ，１．０  ｍｏｌ）をピリジンで３回、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで３回共沸脱水した。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４  ｍｌ）に溶解し、ここに２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）安息香酸  トリエチルアンモニウム塩（５５７  ｍｇ，１．０  ｍｍｏｌ）とＯ−ベンゾトリアゾールー１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（３７９  ｍｇ，１．０  ｍｍｏｌ）、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（１２２  ｍｇ，１．０  ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１３９  ｍｇ，１．０  ｍｍｏｌ）を加え、室温で２１時間攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５  ｍｌ）を加え、酢酸エチル（８０  ｍｌ）で希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（８０  ｍｌ）で２回、飽和食塩水（８０  ｍｌ）で３回洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物（２３４  ｍｇ、３４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ２７０  ＭＨｚ）  １．５５（３Ｈ，  ｓ），  ２．０９（１Ｈ，  ｍ），  ２．３６（１Ｈ，  ｍ），    ３．７８（３Ｈ，  ｓ），  ４．１４（１Ｈ，  ｍ），  ４．４０−４．７６（５Ｈ，  ｍ），  ６．２７（１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝６．３  Ｈｚ），  ６．８０（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．９  Ｈｚ），  ７．１３（１Ｈ，  ｓ），  ７．２４−７．７９（１５Ｈ，  ｍ），  ７．７７（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．０  Ｈｚ）．
【０１２３】
（原料合成例２）  ４−Ｎ−ベンゾイル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝−２’−デオキシシチジン
【０１２４】
【化５４】
2004168684.tif 000049
４−Ｎ−ベンゾイルー２’−デオキシシチジン（９９４  ｍｇ，３  ｍｍｏｌ）、  ２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）安息香酸  トリエチルアンモニウム塩（１．６７  ｇ，３．０  ｍｍｏｌ）、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（３６７  ｍｇ，３  ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（４１８  ｍｇ，３．０  ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２  ｍｌ）に溶解した。ここに、Ｏ−ベンゾトリアゾールー１−イルーＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（１．１  ｇ，  ３，０  ｍｍｏｌ）を加え、室温で１１時間攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０  ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１００  ｍｌ）で希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００  ｍｌ）で４回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物（９１０  ｍｇ、３９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，  ２７０  ＭＨｚ）  ２．１８（１Ｈ，  ｍ），  ２．４０（１Ｈ，  ｍ），  ３．７２（３Ｈ，  ｓ），  ４．１５（１Ｈ，  ｍ），  ４．３１（１Ｈ，  ｍ），  ４．４６（２Ｈ，  ｍ），  ４．５７（２Ｈ，  ｓ），  ５．５２（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝４．３  Ｈｚ），  ６．１７（１Ｈ，  ｍ），  ６．８８（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．５  Ｈｚ），  ７．１２−８．１３（２５Ｈ，  ｍ），  １１．２０（１Ｈ，  ｂｒ）．
【０１２５】
（原料合成例３）  ６−Ｎ−ベンゾイル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝−２’−デオキシアデノシン
【０１２６】
【化５５】
2004168684.tif 000050
６−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン（１．１  ｇ，３  ｍｍｏｌ）、  ２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）安息香酸  トリエチルアンモニウム塩（１．６７  ｇ，３．０  ｍｍｏｌ）、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（３６７  ｍｇ，３  ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（４１８  ｍｇ，３．０  ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２  ｍｌ）に溶解した。ここに、Ｏ−ベンゾトリアゾールー１−イルーＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（１．１  ｇ，  ３，０  ｍｍｏｌ）を加え、室温で１１時間攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０  ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１５０  ｍｌ）で希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５０  ｍｌ）で４回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物（９４９  ｍｇ、４０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，  ２７０  ＭＨｚ）２．４２（１Ｈ，  ｍ），  ２．９７（１Ｈ，  ｍ），  ３．７２（３Ｈ，  ｓ），  ４．１６（１Ｈ，  ｍ），  ４．３６（１Ｈ，  ｍ），  ４．５０（１Ｈ，  ｍ），  ４．５５（２Ｈ，  ｓ），  ４．６３（１Ｈ，  ｍ），  ５．６０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝４．５  Ｈｚ），  ６．５１（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ６．８８（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．５  Ｈｚ），  ７．１−７．７（１９Ｈ，  ｍ），    ８．０２（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．３  Ｈｚ），  ８．６１（１Ｈ，  ｓ），  ８．６７（１Ｈ，  ｓ），  １１．１６（１Ｈ，  ｂｒ）．
【０１２７】
（原料合成例４）  ２−Ｎ−イソブチリル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝−２’−デオキシグアノシン
【０１２８】
【化５６】
2004168684.tif 000051
２’−デオキシ−２−Ｎ−イソブチリルグアノシン（１．０  ｇ，３  ｍｍｏｌ）、  ２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）安息香酸  トリエチルアンモニウム塩（１．６７  ｇ，３．０  ｍｍｏｌ）、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（３６７  ｍｇ，３  ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（４１８  ｍｇ，３．０  ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２  ｍｌ）に溶解した。ここに、Ｏ−ベンゾトリアゾールー１−イルーＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（１．１  ｇ，  ３，０  ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時間攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０  ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１５０ｍｌ）で希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００  ｍｌ）で４回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物（８６４  ｍｇ、３７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，  ２７０  ＭＨｚ）１．１０（６Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．３  Ｈｚ），  ２．３８（１Ｈ，  ｍ），  ２．７３（２Ｈ，  ｍ），  ３，７２（３Ｈ，  ｓ），  ４．０９（１Ｈ，  ｍ），  ４．２９−４．４８（３Ｈ，  ｍ），  ４．５３（２Ｈ，  ｓ），  ５．５３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝  ４．３  Ｈｚ），  ６．２５（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝  ６．６Ｈｚ），  ６．８８（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．９  Ｈｚ），７．１０−７．４０（１４Ｈ，  ｍ），  ７．５４（１Ｈ，  ｍ），  ７．６８（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝  ６，６  Ｈｚ），  ８．１６（１Ｈ，  ｓ），  １１．６１（１Ｈ，  ｂｒ），  １２．０４（１Ｈ，  ｂｒ）．
【０１２９】
（原料合成例５）  ５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝チミジン
【０１３０】
【化５７】
2004168684.tif 000052
チミジンをピリジンで３回、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで３回共沸脱水した。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、ここに２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）−５−ニトロ安息香酸  トリエチルアンモニウム塩とＯ−ベンゾトリアゾールー１−イルーＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、トリエチルアミンを加え、室温で攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１３１】
（原料合成例６）  ４−Ｎ−ベンゾイル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝−２’−デオキシシチジン
【０１３２】
【化５８】
2004168684.tif 000053
４−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシシチジンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、ここに２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）−５−ニトロ安息香酸  トリエチルアンモニウム塩とＯ−ベンゾトリアゾール−１−イルーＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、トリエチルアミンを加え、室温で攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１３３】
（原料合成例７）  ６−Ｎ−ベンゾイル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル−５−ニトロベンゾイル｝−２’−デオキシアデノシン
【０１３４】
【化５９】
2004168684.tif 000054
６−Ｎ−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、ここに２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）−５−ニトロ安息香酸  トリエチルアンモニウム塩とＯ−ベンゾトリアゾールー１−イルーＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、トリエチルアミンを加え、室温で攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１３５】
（原料合成例８）  ２−Ｎ−イソブチリル−５’−Ｏ−｛２−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝−２’−デオキシグアノシン
【０１３６】
【化６０】
2004168684.tif 000055
２’−デオキシ−２−Ｎ−イソブチリルグアノシンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、ここに２−（４−メトキシフェニルジフェニルメタンスルフェニルオキシメチル）−５−ニトロ安息香酸  トリエチルアンモニウム塩とＯ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−（Ｎ，  Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、トリエチルアミンを加え、室温で攪拌した。反応系に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標題化合物を得た。
【０１３７】
（参考例１）  ５’−Ｏ−｛（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝チミジン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）を用いたテトラチミジル酸の合成
ペンタチミジル酸は以下の工程に従い合成した。
（１）市販の５’−Ｏ−４，４’−ジメトキシトリチルチミジンを担持したＣＰＧ固相担体（１１  ｍｇ，０．５  μｍｏｌ）をグラスフィルターに入れ、１％トリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（０．５  ｍｌ）で３回洗浄する。
（２）固相担体をアセトニトリル（０．５  ｍｌ）で３回洗浄する。
（３）反応容器にアセトニトリル（０．１３  ｍｌ）を加え、ここに２−シアノエチル  ５’−Ｏ−｛（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルオキシメチルベンゾイル｝チミジン  ３’−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（１７．６  ｍｇ，２０μｍｏｌ）と１Ｈ−テトラゾール（２．８  ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え、室温で２分間振盪する。
（４）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３回洗浄する。
（５）反応容器に０．１  Ｍ  ジメチルアミノピリジンのピリジン溶液と無水酢酸とを体積比９：１で混合した溶液を加え、室温で２分間振盪する。
（６）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３回洗浄する。
（７）反応容器にヨウ素をピリジン−アセトニトリル−水を９：１０：１の体積比で混合した溶媒に０．１Ｍになるように溶解した溶液を加え、室温で２分間振盪する。
（８）反応容器にトリエチルアミンをアセトニトリル−水を９：１の体積比で混合した溶媒に０．２Ｍになるように溶解した溶液を加え、室温で５分間振盪する。
（９）（３）から（７）の操作を合計３回繰り返す。
（１０）反応容器に濃アンモニア水を加え、室温で３０分振盪する。
（１１）上清を集め減圧下濃縮する。
【０１３８】
残渣を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｗａｔｅｒｓ  μＢｏｎｄａｓｐＨｅｒｅ，アセトニトリル：０．１Ｍ酢酸アンモニウム＝０：１００から３０：７０、３０分の均等勾配）で精製して目的物（高速液体クロマトグラフィー保持時間、１１．３分）を得る。
【０１３９】
【発明の効果】
本発明は、新規な水酸基保護基導入試薬となりうる安息香酸誘導体および、それらの保護基を利用したヌクレオシドホスホロアミダイト化合物を提供する。前者は、有機化合物の合成における水酸基の保護基として有用であり、後者は試薬としての調整が容易で、核酸合成試薬として用いることにより、ＤＮＡのデプリネーションやＲＮＡのインターヌクレオチド結合の転位や切断などの副反応を抑制するのに有効である。