(57)【要約】【課題】複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれを精度良く補正することができる光ピックアップ装置の製造方法を提供する。【解決手段】互いに近接して配置された複数の光源のうちの少なくとも２つの特定光源から出射された各光束は、調整光学素子でその発散角がそれぞれ調整された後、その出射方向に関する情報が取得される（ステップ４０３〜４１５）。そして、取得された出射方向に関する情報に基づいて、調整光学素子を通過した各光束の出射方向がほぼ一致するように調整光学素子の位置が補正される（ステップ４１７、４１９）。これにより、例えば少なくとも２つの特定光源から出射された各光束の出射方向が、出射位置においては互いに一致しなくても、調整光学素子を通過した後には、各光束の出射方向が互いに一致することとなる。【選択図】　図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに近接して配置された少なくとも２つの特定光源を含む少なくとも２つの光源と、前記少なくとも２つの特定光源から出射される各光束の発散角をそれぞれ調整する調整光学素子を含み、前記各光源から出射される各光束を対応する情報記録媒体の記録面に導くとともに、該記録面で反射された戻り光束を所定の受光位置まで導く光学系とを含む光ピックアップ装置を製造する光ピックアップ装置の製造方法であって、
前記少なくとも２つの特定光源からそれぞれ光束を出射し、前記調整光学素子を通過した各光束の出射方向に関する情報をそれぞれ取得する情報取得工程と；前記取得された出射方向に関する情報に基づいて前記調整光学素子の位置を補正し、前記調整光学素子を通過した各光束の出射方向をほぼ一致させる補正工程と；を含む光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項２】
前記調整光学素子を通過した光束の光路上に該光束を略平行光とするための光学素子を配置する工程を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項３】
前記少なくとも２つの特定光源は第１の光源と第２の光源とを含み、
前記情報取得工程では、前記第１の光源及び前記第２の光源を同時に発光させることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項４】
前記情報取得工程では、前記第１の光源における発光強度と前記第２の光源における発光強度とを互いに異ならせることを特徴とする請求項３に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の光源から出射される光束を選択的に透過させる第１のフィルタ及び前記第２の光源から出射される光束を選択的に透過させる第２のフィルタのいずれかを、前記第１，第２の光源から出射される光束の光路上に配置する工程を更に含むことを特徴とする請求項３に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項６】
前記情報取得工程では、前記調整光学素子を通過した光束の受光位置を検出する位置検出器を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１の光源から出射される光束を透過させるとともに、前記第２の光源から出射される光束を反射する分岐光学素子を前記調整光学素子を通過した光束の光路上に配置し、前記分岐光学素子を透過した光束の受光位置に第１の位置検出器を配置し、前記分岐光学素子で反射された光束の受光位置に第２の位置検出器を配置する工程を更に含み、
前記情報取得工程では、前記第１の位置検出器を用いて前記第１の光源から出射される光束の出射方向に関する情報を取得し、前記第２の位置検出器を用いて前記第２の光源から出射される光束の出射方向に関する情報を取得することを特徴とする請求項３に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項８】
前記情報取得工程では、前記各特定光源が順次発光されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項９】
前記取得された出射方向に関する情報を表示する工程を更に含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項１０】
前記調整光学素子は、メニスカスレンズであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光ピックアップ装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光ピックアップ装置の製造方法によって製造された光ピックアップ装置。
【請求項１２】
情報記録媒体に対して、情報の記録、再生、及び消去のうち少なくとも再生を行う光ディスク装置であって、
請求項１１に記載の光ピックアップ装置と；
前記光ピックアップ装置の出力信号を用いて、前記情報の記録、再生、及び消去のうち少なくとも再生を行う処理装置と；を備える光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ピックアップ装置の製造方法、光ピックアップ装置、及び光ディスク装置に係り、更に詳しくは、複数種類の情報記録媒体の記録面に光を照射し、その記録面からの反射光を受光する光ピックアップ装置の製造方法、該製造方法により製造された光ピックアップ装置、並びに該光ピックアップ装置を備える光ディスク装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスク装置では、光ディスクなどの情報記録媒体が用いられ、そのスパイラル状又は同心円状のトラックが形成された記録面にレーザ光を照射することにより情報の記録及び消去を行い、記録面からの反射光に基づいて情報の再生などを行っている。そして、光ディスク装置には、情報記録媒体の記録面にレーザ光を照射して光スポットを形成するとともに、記録面からの反射光を受光するための装置として、光ピックアップ装置を備えている。
【０００３】
通常、光ピックアップ装置は、対物レンズを含み、光源から出射される光束を情報記録媒体の記録面に導くとともに、記録面で反射された戻り光束を所定の受光位置まで導く光学系、及び受光位置に配置された受光素子などを備えている。そして、それらは光ピックアップ装置の筐体内に組み付けられている。
【０００４】
光ディスクとしては、すでにＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ　Ｄｉｓｃ）が広く普及している。さらに、近年、記録容量がＣＤよりも飛躍的に大きなＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ　Ｄｉｓｃ）が一般化されてきた。ＣＤに対して記録及び再生などを行なうには、波長が７８０ｎｍのレーザ光が用いられ、ＤＶＤに対して記録及び再生などを行なうには、波長が６５０ｎｍのレーザ光が用いられるため、従来は、ＣＤ用の光ディスク装置とＤＶＤ用の光ディスク装置とがそれぞれ独立して、パーソナルコンピュータ（以下「パソコン」という）などの情報機器の周辺装置として用いられていた。
【０００５】
その後、上記情報機器の小型軽量化に伴い、ＣＤとＤＶＤの両方をアクセスできる光ディスク装置の必要性が高まってきた。この場合、光ピックアップ装置には、波長が６５０ｎｍの光束（以下「６５０ｎｍ光束」ともいう）を出射する半導体レーザと波長が７８０ｎｍの光束（以下「７８０ｎｍ光束」ともいう）を出射する半導体レーザとが光源として必要であり、さらに、６５０ｎｍ光束に対応した光学系及び７８０ｎｍ光束に対応した光学系が必要である。しかしながら、６５０ｎｍ光束用の光学系と７８０ｎｍ光束用の光学系とをそれぞれ個別に配置すると、光ピックアップ装置が大型化してしまうという不都合があった。なお、以下では、２つの光源を備え、各光源からは互いに波長の異なる光束が出射される光ピックアップ装置を「２波長光ピックアップ装置」ともいう。
【０００６】
そこで、薄型化及び軽量化のために、光学系を構成するコリメートレンズ及び対物レンズを波長の異なる光束に対して共通化した２波長光ピックアップ装置が開発され、実用化されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
さらに、ノート型パソコンなどの小型情報機器にもＣＤとＤＶＤの両方に対応した光ディスク装置を搭載することが望まれるようになり、更なる小型化及び薄型化のために、２つの光源を互いに近接して配置し、ユニット化することが提案された。
【０００８】
一般的に光源として用いられる半導体レーザから出射される光束は、一例として図１５に示されるように、半導体レーザＬＤの活性層（ヘテロ接合面）ＡＬに対して垂直な方向を長軸方向とする楕円形状の強度分布を持つ発散光である。
【０００９】
この場合に、各光源の実装位置が設計上の位置からずれていたり、各光源における活性層の位置に製造誤差などによるばらつきがあると、少なくともいずれかの光源から出射される光束の最大強度出射方向（以下「出射方向」と略述する）が予定していた方向と異なり、波面収差が発生したり、光利用効率が低下するという不都合があった。
【００１０】
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第１の目的は、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれを精度良く補正することができる光ピックアップ装置の製造方法を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の第２の目的は、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれに起因する波面収差の発生及び光利用効率の低下が抑制された光ピックアップ装置を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の第３の目的は、複数種類の情報記録媒体に対応可能で、各情報記録媒体への高速度でのアクセスを、精度良く安定して行うことができる光ディスク装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、互いに近接して配置された少なくとも２つの特定光源を含む少なくとも２つの光源と、前記少なくとも２つの特定光源から出射される各光束の発散角をそれぞれ調整する調整光学素子を含み、前記各光源から出射される各光束を対応する情報記録媒体の記録面に導くとともに、該記録面で反射された戻り光束を所定の受光位置まで導く光学系とを含む光ピックアップ装置を製造する光ピックアップ装置の製造方法であって、前記少なくとも２つの特定光源から光束をそれぞれ出射し、前記調整光学素子を通過した各光束の出射方向に関する情報をそれぞれ取得する情報取得工程と；前記取得された出射方向に関する情報に基づいて前記調整光学素子の位置を補正し、前記特定光源から出射される各光束の出射方向をほぼ一致させる補正工程と；を含む光ピックアップ装置の製造方法。
【００１４】
これによれば、互いに近接して配置された複数の光源のうちの少なくとも２つの特定光源から出射された各光束は、調整光学素子でその発散角がそれぞれ調整された後、その出射方向に関する情報が取得される（情報取得工程）。そして、取得された出射方向に関する情報に基づいて、調整光学素子を通過した各光束の出射方向がほぼ一致するように調整光学素子の位置が補正される（補正工程）。このため、例えば少なくとも２つの特定光源から出射された各光束の出射方向が、出射位置においては互いに一致しなくても、調整光学素子を通過した後には、各光束の出射方向が互いに一致することとなる。すなわち、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれを補正することが可能となる。なお、補正工程における調整光学素子の位置補正は、手動で行っても良いが、駆動手段を用いて自動的に行っても良い。ここで、「出射方向に関する情報」とは、出射方向の情報だけでなく、出射方向の変化に対応して変化する情報、及び出射方向の情報に変換することができる情報などを含む情報である。
【００１５】
この場合において、請求項２に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記調整光学素子を通過した光束の光路上に該光束を略平行光とするための光学素子を配置する工程を更に含むこととすることができる。
【００１６】
上記請求項１及び２に記載の各光ピックアップ装置の製造方法において、請求項３に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記少なくとも２つの特定光源が第１の光源と第２の光源とを含む場合に、前記情報取得工程では、前記第１の光源及び前記第２の光源を同時に発光させることとすることができる。かかる場合には、第１の光源から出射された光束の出射方向に関する情報と第２の光源から出射された光束の出射方向に関する情報とをほぼ同時に取得したり、あるいは第１の光源から出射された光束の出射方向に関する情報の取得後、直ちに第２の光源から出射された光束の出射方向に関する情報の取得処理に移行することができるため、情報取得工程での処理時間を短縮することが可能となる。
【００１７】
この場合において、請求項４に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記情報取得工程では、前記第１の光源における発光強度と前記第２の光源における発光強度とを互いに異ならせることとすることができる。あるいは、請求項５に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記第１の光源から出射される光束を選択的に透過させる第１のフィルタ及び前記第２の光源から出射される光束を選択的に透過させる第２のフィルタのいずれかを、前記第１，第２の光源から出射される光束の光路上に配置する工程を更に含むこととすることができる。
【００１８】
上記請求項１〜５に記載の各光ピックアップ装置の製造方法において、請求項６に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記情報取得工程では、前記調整光学素子を通過した光束の受光位置を検出する位置検出器を用いることとすることができる。かかる場合には、検出された光束の受光位置に基づいて幾何学的な演算により、その光束の出射方向を求めることができる。
【００１９】
上記請求項３に記載の光ピックアップ装置の製造方法において、請求項７に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記第１の光源から出射される光束を透過させるとともに、前記第２の光源から出射される光束を反射する分岐光学素子を前記調整光学素子を通過した光束の光路上に配置し、前記分岐光学素子を透過した光束の受光位置に第１の位置検出器を配置し、前記分岐光学素子で反射された光束の受光位置に第２の位置検出器を配置する工程を更に含み、前記情報取得工程では、前記第１の位置検出器を用いて前記第１の光源から出射される光束の出射方向に関する情報を取得し、前記第２の位置検出器を用いて前記第２の光源から出射される光束の出射方向に関する情報を取得することとすることができる。かかる場合には、ほぼ同時に第１の光源から出射される光束の出射方向に関する情報と第２の光源から出射される光束の出射方向に関する情報とを取得することができるため、情報取得工程での処理時間を短縮することが可能となる。
【００２０】
上記請求項１及び２に記載の各光ピックアップ装置の製造方法において、請求項８に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記情報取得工程では、前記各特定光源が順次発光されることとすることができる。
【００２１】
上記請求項１〜８に記載の各光ピックアップ装置の製造方法において、請求項９に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記取得された出射方向に関する情報を表示する工程を更に含むこととすることができる。かかる場合には、例えば表示内容を参照しつつ補正工程での処理を行うことにより、各光束の出射方向のずれを確実に小さくすることが可能となる。
【００２２】
上記請求項１〜９に記載の各光ピックアップ装置の製造方法において、請求項１０に記載の光ピックアップ装置の製造方法の如く、前記調整光学素子は、メニスカスレンズであることとすることができる。
【００２３】
請求項１１に記載の発明は、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光ピックアップ装置の製造方法によって製造された光ピックアップ装置である。
【００２４】
これによれば、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光ピックアップ装置の製造方法によって製造されることにより、製造段階で、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれが極めて小さくなるように調整光学素子の実装位置が補正される。従って、各光束における波面収差の発生及び光利用効率の低下を抑制することが可能となる。
【００２５】
請求項１２に記載の発明は、情報記録媒体に対して、情報の記録、再生、及び消去のうち少なくとも再生を行う光ディスク装置であって、請求項１１に記載の光ピックアップ装置と；前記光ピックアップ装置の出力信号を用いて、前記情報の記録、再生、及び消去のうち少なくとも再生を行う処理装置と；を備える光ディスク装置である。
【００２６】
これによれば、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれが極力低減され、波面収差の発生及び光利用効率の低下が抑制された請求項１１に記載の光ピックアップ装置を備えているので、複数種類の情報記録媒体に対応可能であり、情報の記録、再生、及び消去のうち少なくとも再生を伴うアクセスを高速度で精度良く安定して行うことが可能となる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図８に基づいて説明する。
【００２８】
図１には、本発明に係る光ピックアップ装置を備える第１の実施形態に係る光ディスク装置２０の概略構成が示されている。
【００２９】
この図１に示される光ディスク装置２０は、情報記録媒体としての光ディスク１５を回転駆動するためのスピンドルモータ２２、光ピックアップ装置２３、レーザコントロール回路２４、エンコーダ２５、モータドライバ２７、再生信号処理回路２８、サーボコントローラ３３、バッファＲＡＭ３４、バッファマネージャ３７、インターフェース３８、ＲＯＭ３９、ＣＰＵ４０及びＲＡＭ４１などを備えている。なお、図１における矢印は、代表的な信号や情報の流れを示すものであり、各ブロックの接続関係の全てを表すものではない。
【００３０】
前記光ピックアップ装置２３は、光ディスク１５等の情報記録媒体の記録面にレーザ光を照射するとともに、記録面からの反射光を受光するための装置である。なお、この光ピックアップ装置２３の構成等については後に詳述する。
【００３１】
前記再生信号処理回路２８は、光ピックアップ装置２３からの出力信号に基づいてウォブル信号、ＲＦ信号及びサーボ信号（フォーカスエラー信号、トラックエラー信号）などを検出する。そして、再生信号処理回路２８はウォブル信号からアドレス情報及び同期信号等を抽出する。ここで抽出されたアドレス情報はＣＰＵ４０に出力され、同期信号はエンコーダ２５に出力される。さらに、再生信号処理回路２８はＲＦ信号に対して誤り訂正処理等を行なった後、バッファマネージャ３７を介してバッファＲＡＭ３４に格納する。また、サーボ信号は再生信号処理回路２８からサーボコントローラ３３に出力される。
【００３２】
前記サーボコントローラ３３は、サーボ信号に基づいて光ピックアップ装置２３を制御する各種制御信号を生成し、モータドライバ２７に出力する。
【００３３】
前記バッファマネージャ３７は、バッファＲＡＭ３４へのデータの入出力を管理し、蓄積されたデータ量が所定の値になるとＣＰＵ４０に通知する。
【００３４】
前記モータドライバ２７は、サーボコントローラ３３からの制御信号及びＣＰＵ４０の指示に基づいて、光ピックアップ装置２３及びスピンドルモータ２２を制御する。
【００３５】
前記エンコーダ２５は、ＣＰＵ４０の指示に基づいて、バッファＲＡＭ３４に蓄積されているデータをバッファマネージャ３７を介して取り出し、エラー訂正コードの付加などを行ない、光ディスク１５への書き込みデータを作成するとともに、再生信号処理回路２８からの同期信号に同期して書き込みデータをレーザコントロール回路２４に出力する。
【００３６】
前記レーザコントロール回路２４は、エンコーダ２５からの書き込みデータ及びＣＰＵ４０の指示に基づいて、光ピックアップ装置２３から出射されるレーザ光の出力を制御する。なお、レーザコントロール回路２４では、ＣＰＵ４０の指示に基づいて、後述する光ピックアップ装置２３の２つの光源の一方を制御対象とする。
【００３７】
前記インターフェース３８は、ホスト（例えばパソコン）との双方向の通信インターフェースであり、ＡＴＡＰＩ（ＡＴ　Ａｔｔａｃｈｍｅｎｔ　Ｐａｃｋｅｔ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）及びＳＣＳＩ（Ｓｍａｌｌ　Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｓｙｓｔｅｍ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）等の標準インターフェースに準拠している。
【００３８】
前記ＲＯＭ３９には、ＣＰＵ４０にて解読可能なコードで記述されたプログラムが格納されている。そして、ＣＰＵ４０は、ＲＯＭ３９に格納されているプログラムに従って上記各部の動作を制御するとともに、制御に必要なデータ等を一時的にＲＡＭ４１に保存する。
【００３９】
次に、前記光ピックアップ装置２３の構成等について図２〜図４に基づいて説明する。
【００４０】
光ピックアップ装置２３は、図２に示されるように、光源ユニット５１と、調整光学素子としての発散角調整レンズ７０、コリメートレンズ５２、ビームスプリッタ５４、対物レンズ６０、検出レンズ５８等を含み、光源ユニット５１から出射される光束を光ディスク１５の記録面に導くとともに、その記録面で反射された戻り光束を所定の受光位置まで導く光学系と、その受光位置に配置された受光器５９などを備えている。これら光源ユニット５１、光学系及び受光器５９は、光ピックアップ装置の筐体内に所定の位置関係で組み付けられている。なお、これについては更に後述する。
【００４１】
前記光源ユニット５１は、図３に示されるように、波長が６５０ｎｍのレーザ光を出射する第１の半導体レーザ５１ａ、波長が７８０ｎｍのレーザ光を出射する第２の半導体レーザ５１ｂなどを含んで構成されている。各半導体レーザは互いに近接して不図示の基板上に実装されており、Ｘ軸方向に所定の距離だけ離れて配置されている。光源ユニット５１から出射される各光束の設計上の最大強度出射方向を−Ｚ方向とする。第１の半導体レーザ５１ａは光ディスク１５がＤＶＤの場合に選択され、第２の半導体レーザ５１ｂは光ディスク１５がＣＤの場合に選択される。
【００４２】
前記発散角調整レンズ７０は、光源ユニット５１の−Ｚ側に配置され、一例として図４に示されるように、第１の半導体レーザ５１ａから出射される光束（以下「第１の光束」ともいう）の発散角を調整（拡大）する負メニスカスレンズ７０ａ、及び第２の半導体レーザ５１ｂから出射される光束（以下「第２の光束」ともいう）の発散角を調整（縮小）する正メニスカスレンズ７０ｂを含んで構成されている。すなわち、負メニスカスレンズ７０ａと正メニスカスレンズ７０ｂとは一体化されており、発散角調整レンズ７０がシフトすると、両方のメニスカスレンズも同じ方向に同じ距離だけシフトする。なお、各メニスカスレンズにおけるシリンダ母線は互いに直交している。
【００４３】
発散角調整レンズ７０の−Ｚ側には前記コリメートレンズ５２が配置され、発散角調整レンズ７０を通過した光束を略平行光とする。このコリメートレンズ５２の−Ｚ側には前記ビームスプリッタ５４が配置されている。
【００４４】
前記対物レンズ６０はビームスプリッタ５４の−Ｚ側に配置され、ビームスプリッタ５４を透過した光束を集光し、光ディスク１５の記録面に光スポットを形成する。
【００４５】
ビームスプリッタ５４の−Ｘ側には前記検出レンズ５８が配置され、ビームスプリッタ５４で反射された戻り光束を集光する。この検出レンズ５８の−Ｘ側には前記受光器５９が配置されている。受光器５９としては、通常の光ディスク装置と同様に、４分割受光素子が用いられている。この受光器５９は、光ディスク１５の記録面からの反射光を受光し、通常の光ピックアップ装置と同様に、ウォブル信号情報、再生データ情報、フォーカスエラー情報及びトラックエラー情報などを含む信号を出力する。
【００４６】
図２に戻り、上記のように構成される光ピックアップ装置２３の作用を説明すると、第１の半導体レーザ５１ａから出射された光束（第１の光束）は、負メニスカスレンズ７０ａでその発散角が拡大され、コリメートレンズ５２で略平行光とされた後、ビームスプリッタ５４に入射する。ビームスプリッタ５４を透過した第１の光束は、対物レンズ６０を介して光ディスク１５の記録面に微小スポットとして集光される。
【００４７】
一方、第２の半導体レーザ５１ｂから出射された光束（第２の光束）は、正メニスカスレンズ７０ｂでその発散角が縮小され、コリメートレンズ５２で略平行光とされた後、ビームスプリッタ５４に入射する。ビームスプリッタ５４を透過した第２の光束は、対物レンズ６０を介して光ディスク１５の記録面に微小スポットとして集光される。
【００４８】
光ディスク１５の記録面にて反射した反射光は、戻り光束として対物レンズ６０で略平行光とされ、ビームスプリッタ５４に入射する。ビームスプリッタ５４で−Ｘ方向に分岐された戻り光束は、検出レンズ５８を介して受光器５９で受光される。受光器５９からは、受光量に応じた信号が再生信号処理回路２８に出力される。
【００４９】
次に、上記のように構成される光ピックアップ装置２３の製造方法について、光ピックアップ装置２３を製造する手順を示す図５のフローチャートに沿って、かつ適宜他の図面を参照しつつ、説明する。
【００５０】
最初のステップ４０１では、図６（Ａ）に示されるように、光源ユニット５１、発散角調整レンズ７０を光ピックアップ装置の筐体５０に組み付ける。このとき、光源ユニット５１は、筐体５０に対してホルダ６１にホールドされた状態で組み付けられる。
【００５１】
次のステップ４０３では、図６（Ａ）に示されるように、発散角調整レンズ７０の各メニスカスレンズを透過した各光束を略平行光とするための光学素子としてのコリメートレンズ８１を発散角調整レンズ７０の−Ｚ側に配置する。ここでは、コリメートレンズ８１の光軸がコリメートレンズ５２の光軸とほぼ一致するようにコリメートレンズ８１を配置する。続いて、コリメートレンズ８１で略平行光とされた光束を受光するための第１の位置検出器としての検出用受光素子８２を、コリメートレンズ８１の−Ｚ側の所定位置に配置する。筐体５０には、Ｙ軸方向の一側の壁に、図６（Ｂ）に示されるように、内側に突出したＵ字状のスライドガイド５０ａが形成されている。このため、検出用受光素子８２はスライドガイド５０ａに沿って上記所定位置に正確に位置決めされる。なお、コリメートレンズ８１と検出用受光素子８２とは一体化されていても良い。また、検出用光学素子８２には、図６（Ａ）に示されるように、計測制御装置８３が接続されている。
【００５２】
検出用受光素子８２としては、一例として図７に示されるように、Ｘ軸方向の分割線ＤＸとＹ軸方向の分割線ＤＹとによって４分割された４分割受光素子が用いられている。すなわち、検出用受光素子８２は、第１部分受光素子８２ａ、第２部分受光素子８２ｂ、第３部分受光素子８２ｃ、第４部分受光素子８２ｄとから構成されている。ここでは、分割線ＤＸの＋Ｙ側で分割線ＤＹの＋Ｘ側（紙面左上側）を第１部分受光素子８２ａ、分割線ＤＸの−Ｙ側で分割線ＤＹの＋Ｘ側（紙面右上側）を第２部分受光素子８２ｂ、分割線ＤＸの−Ｙ側で分割線ＤＹの−Ｘ側（紙面右下側）を第３部分受光素子８２ｃ、分割線ＤＸの＋Ｙ側で分割線ＤＹの−Ｘ側（紙面左下側）を第４部分受光素子８２ｄとする。そして、各部分受光素子での光電変換信号は計測制御装置８３に出力されるようになっている。なお、本実施形態では、各分割線の交点を原点とし、Ｘ軸方向をＸ座標、Ｙ軸方向をＹ座標として受光光束の強度中心の位置を示すものとする。
【００５３】
次のステップ４０５では、発散角調整レンズ７０に駆動装置８８を取り付ける。この駆動装置８８は計測制御装置８３の指示に基づいて発散角調整レンズ７０をＸ軸方向及びＹ軸方向に駆動するようになっている。
【００５４】
前記計測制御装置８３は、一例として図８に示されるように、第１部分受光素子８２ａからの出力信号を電圧信号Ｓ８２ａに変換し、第２部分受光素子８２ｂからの出力信号を電圧信号Ｓ８２ｂに変換し、第３部分受光素子８２ｃからの出力信号を電圧信号Ｓ８２ｃに変換し、第４部分受光素子８２ｄからの出力信号を電圧信号Ｓ８２ｄに変換するためのＩ−Ｖ変換回路８３ａ、信号Ｓ８２ａと信号Ｓ８２ｂとを加算する加算器８３ｂ、信号Ｓ８２ｃと信号Ｓ８２ｄとを加算する加算器８３ｃ、信号Ｓ８２ａと信号Ｓ８２ｄとを加算する加算器８３ｄ、信号Ｓ８２ｂと信号Ｓ８２ｃとを加算する加算器８３ｅ、加算器８３ｂの出力信号Ｓ８３ｂと加算器８３ｃの出力信号Ｓ８３ｃと差信号を求める減算器８３ｆ、加算器８３ｄの出力信号Ｓ８３ｄと加算器８３ｅの出力信号Ｓ８３ｅとの差信号を求める減算器８３ｇ、減算器８３ｆの出力信号ＳＰｘと減算器８３ｇの出力信号ＳＰｙとに基づいて発散角調整レンズ７０の位置補正量を演算する補正量演算回路８３ｈ、該補正量演算回路８３ｈでの位置補正量の演算に必要な各種情報が格納された不揮発メモリ８３ｉ、補正量演算回路８３ｈでの演算結果に基づいて駆動装置８８に駆動信号を出力するドライバ８３ｊなどを備えている。また、補正量演算回路８３ｈは、各半導体レーザのオンオフも制御する。すなわち、信号ＳＰｘは次の（１）式の演算処理によって求められ、信号ＳＰｙは次の（２）式の演算処理によって求められる。
【００５５】
ＳＰｘ＝（Ｓ８２ａ＋Ｓ８２ｂ）−（Ｓ８２ｃ＋Ｓ８２ｄ）　……（１）
【００５６】
ＳＰｙ＝（Ｓ８２ａ＋Ｓ８２ｄ）−（Ｓ８２ｂ＋Ｓ８２ｃ）　……（２）
【００５７】
そして、計測制御装置８３に発散角調整レンズ７０の位置補正を指示する。これにより、計測制御装置８３では、次のステップ４０７〜ステップ４１９の位置補正処理が実行される。
【００５８】
このステップ４０７では、補正量演算回路８３ｈによって第１の半導体レーザ５１ａがオン状態とされ、光源ユニット５１から第１の光束が出射される。この第１の光束は、負メニスカスレンズ７０ａにてその発散角が拡大された後、コリメートレンズ８１を介して検出用受光素子８２で受光される。検出用受光素子８２を構成する各部分受光素子からはその受光量に応じた信号が計測制御装置８３に出力される。そして、計測制御装置８３では上記演算処理が行われ、信号ＳＰｘ及び信号ＳＰｙが算出される。
【００５９】
次のステップ４０９では、信号ＳＰｘと信号ＳＰｙとに基づいて、補正量演算回路８３ｈによって検出用受光素子８２の受光面における第１の光束の強度中心位置の座標（Ｐｘ１，Ｐｙ１）が求められ、その結果は不揮発メモリ８３ｉに格納される。そして、補正量演算回路８３ｈによって第１の半導体レーザ５１ａはオフ状態とされ、第１の光束の出射が停止する。
【００６０】
次のステップ４１１では、補正量演算回路８３ｈによって第２の半導体レーザ５１ｂがオン状態とされ、光源ユニット５１から第２の光束が出射される。この第２の光束は、正メニスカスレンズ７０ｂにてその発散角が縮小された後、コリメートレンズ８１を介して検出用受光素子８２で受光される。検出用受光素子８２を構成する各部分受光素子からはその受光量に応じた信号が計測制御装置８３に出力される。そして、計測制御装置８３では上記演算処理が行われ、信号ＳＰｘ及び信号ＳＰｙが算出される。
【００６１】
次のステップ４１３では、信号ＳＰｘと信号ＳＰｙに基づいて、補正量演算回路８３ｈによって検出用受光素子８２の受光面における第２の光束の強度中心位置の座標（Ｐｘ２，Ｐｙ２）が求められる。そして、補正量演算回路８３ｈによって第２の半導体レーザ５１ｂはオフ状態とされ、第２の光束の出射が停止する。
【００６２】
次のステップ４１５では、補正量演算回路８３ｈによって第１の光束の強度中心位置の座標（Ｐｘ１，Ｐｙ１）と第２の光束の強度中心位置の座標（Ｐｘ２，Ｐｙ２）とが一致するように次の（３）式に基づいてＸ軸方向に関する発散角調整レンズ７０の位置補正量Ｍｘが算出され、次の（４）式に基づいてＹ軸方向に関する発散角調整レンズ７０の位置補正量Ｍｙが算出される。
【００６３】
Ｍｘ＝Ｒｘ×（Ｐｘ２−Ｐｘ１）　……（３）
【００６４】
Ｍｙ＝Ｒｙ×（Ｐｙ１−Ｐｙ２）　……（４）
【００６５】
ここで、Ｒｘは発散角調整レンズ７０をＸ軸方向にＴｘだけ移動したときに、検出用受光素子８２における受光光束の強度中心のＸ軸方向に関する移動量がｔｘである場合に、次の（５）式で得られる値である。
【００６６】
Ｒｘ＝Ｔｘ／ｔｘ　……（５）
【００６７】
また、Ｒｙは発散角調整レンズ７０をＹ軸方向にＴｙだけ移動したときに、検出用受光素子８２における受光光束の強度中心のＹ軸方向に関する移動量がｔｙである場合に、次の（６）式で得られる値である。
【００６８】
Ｒｙ＝Ｔｙ／ｔｙ　……（６）
【００６９】
Ｒｘ及びＲｙは、予め理論計算あるいは実験により求められ、不揮発メモリ８３ｉに格納されている。発散角調整レンズ７０の位置補正量Ｍｘ，Ｍｙは、補正量演算回路８３ｈからドライバ８３ｊに出力される。
【００７０】
次のステップ４１７では、発散角調整レンズ７０の位置補正量Ｍｘ，Ｍｙに基づいて、ドライバ８３ｊによって駆動信号が生成され、駆動装置８８に出力される。
【００７１】
次のステップ４１９では、駆動信号に基づいて駆動装置８８が発散角調整レンズ７０を駆動する。これによって、計測制御装置８３による発散角調整レンズ７０の位置補正処理が終了する。そして、発散角調整レンズ７０を不図示のねじ等で筐体５０に固定する。
【００７２】
次のステップ４２１では、コリメートレンズ８１及び検出用受光素子８２を光路上から取り外す。また、駆動装置８８も発散角調整レンズ７０から取り外す。
【００７３】
次のステップ４２３では、これまでに組み付けられていない、残りの光学部品（図２に示されるコリメートレンズ５２、ビームスプリッタ５４、対物レンズ６０、検出レンズ５８）及び受光器５９を筐体５０内に設計値に従って組み付けた後、筐体の蓋（カバー）を取り付けるなどの処理を行うことにより、光ピックアップ装置２３の製造が終了する。このとき、光学系、光源ユニット５１、及び受光器５９は、理想的な位置関係で組み付けられている。
【００７４】
《記録処理》
次に、前述の光ディスク装置２０を用いて、光ディスク１５にデータを記録する場合の処理動作について簡単に説明する。なお、光ディスク１５がＣＤであるかＤＶＤであるかは、その記録面からの反射光の強度から判別することができる。通常、この判別は光ディスク１５が光ディスク装置２０の所定位置にセットされたとき、すなわちローディング時に行われる。また、光ディスク１５に予め記録されているＴＯＣ（Ｔａｂｌｅ　Ｏｆ　Ｃｏｎｔｅｎｔｓ）情報、ＰＭＡ（Ｐｒｏｇｒａｍ　Ｍｅｍｏｒｙ　Ａｒｅａ）情報及びウォブル信号などに基づいて光ディスク１５の種類を判別することも可能である。そして、その判別結果はレーザコントロール回路２４に通知され、レーザコントロール回路２４によって、制御対象の半導体レーザが選択される。従って、ここでは、すでにいずれかの半導体レーザが選択されるものとする。
【００７５】
ＣＰＵ４０はホストから記録要求のコマンドを受信すると、指定された記録速度に基づいてスピンドルモータ２２の回転を制御するための制御信号をモータドライバ２７に出力するとともに、ホストから記録要求のコマンドを受信した旨を再生信号処理回路２８に通知する。また、ＣＰＵ４０はホストから受信したデータをバッファマネージャ３７を介してバッファＲＡＭ３４に蓄積する。
【００７６】
光ディスク１５の回転が所定の線速度に達すると、再生信号処理回路２８は、受光器５９の出力信号に基づいて、トラックエラー信号及びフォーカスエラー信号を検出し、サーボコントローラ３３に出力する。サーボコントローラ３３は、トラックエラー信号に基づいて、モータドライバ２７を介して光ピックアップ装置２３のトラッキングアクチュエータを駆動し、トラックずれを補正する。また、サーボコントローラ３３は、フォーカスエラー信号に基づいて、モータドライバ２７を介して光ピックアップ装置２３のフォーカシングアクチュエータを駆動し、フォーカスずれを補正する。このようにして、トラッキング制御及びフォーカス制御が行われる。
【００７７】
また、再生信号処理回路２８は受光器５９の出力信号に基づいてアドレス情報を取得し、ＣＰＵ４０に通知する。そして、ＣＰＵ４０はアドレス情報に基づいて、指定された書き込み開始地点に光ピックアップ装置２３が位置するように光ピックアップ装置２３のシークモータを制御する信号をモータドライバ２７に出力する。
【００７８】
ＣＰＵ４０はバッファマネージャ３７からバッファＲＡＭ３４に蓄積されたデータ量が所定の値を超えたとの通知を受けると、エンコーダ２５に書き込みデータの作成を指示する。また、ＣＰＵ４０はアドレス情報に基づいて光ピックアップ装置２３の位置が書き込み開始地点であると判断すると、エンコーダ２５に通知する。そして、エンコーダ２５はレーザコントロール回路２４及び光ピックアップ装置２３を介して、書き込みデータを光ディスク１５に記録する。
【００７９】
《再生処理》
次に、前述した光ディスク装置２０を用いて、光ディスク１５に記録されているデータを再生する場合の処理動作について簡単に説明する。なお、記録処理と同様にすでにいずれかの半導体レーザが選択されるものとする。
【００８０】
ＣＰＵ４０はホストから再生要求のコマンドを受信すると、再生速度に基づいてスピンドルモータ２２の回転を制御するための制御信号をモータドライバ２７に出力するとともに、ホストから再生要求のコマンドを受信した旨を再生信号処理回路２８に通知する。そして、光ディスク１５の回転が所定の線速度に達すると、上記記録処理の場合と同様に、トラッキング制御及びフォーカス制御が行われる。また、再生信号処理回路２８は上記記録処理の場合と同様に、アドレス情報を検出し、ＣＰＵ４０に通知する。
【００８１】
ＣＰＵ４０はアドレス情報に基づいて、指定された読み込み開始地点に光ピックアップ装置２３が位置するようにシークモータを制御する信号をモータドライバ２７に出力する。ＣＰＵ４０はアドレス情報に基づいて、光ピックアップ装置２３の位置が読み込み開始地点であると判断すると、再生信号処理回路２８に通知する。
【００８２】
そして、再生信号処理回路２８は、受光器５９の出力信号に基づいてＲＦ信号を検出し、誤り訂正処理等を行った後、バッファＲＡＭ３４に蓄積する。バッファマネージャ３７は、バッファＲＡＭ３４に蓄積された再生データがセクタデータとして揃ったときに、インターフェース３８を介してホストに転送する。
【００８３】
なお、記録処理及び再生処理が終了するまで、トラッキング制御及びフォーカス制御は随時行われる。
【００８４】
以上の説明から明らかなように、本第１の実施形態では、図５のステップ４０３〜ステップ４１５の処理によって、本発明に係る製造方法の情報取得工程が実施され、図５のステップ４１７及びステップ４１９の処理によって補正工程が実施されている。
【００８５】
また、本第１の実施形態に係る光ディスク装置２０では、再生信号処理回路２８と、ＣＰＵ４０及び該ＣＰＵ４０によって実行されるプログラムとによって処理装置が実現されている。
【００８６】
以上説明したように、本第１の実施形態に係る光ピックアップ装置の製造方法によると、光源ユニット５１と発散角調整レンズ７０とを組み付けた段階で、第１の半導体レーザ５１ａ及び第２の半導体レーザ５１ｂを順次発光させ、負メニスカスレンズ７０ａでその発散角が拡大された第１の光束及び、正メニスカスレンズ７０ｂでその発散角が縮小された第２の光束をそれぞれ検出用受光素子８２で受光し、各光束の強度中心位置をそれぞれ検出している。そして、各光束の強度中心位置が一致していない場合には、各光束の強度中心位置が一致するように、発散角調整レンズ７０の実装位置を補正している。このため、光源ユニット５１から出射されたときの第１の光束の出射方向と第２の光束の出射方向とが互いに一致しなくても、発散角調整レンズ７０を通過した時点では、各光束の出射方向が互いに一致することとなる。すなわち、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれを補正することが可能となる。また、検出用受光素子８２として、安価な４分割受光素子を用いているために、低コストで発散角調整レンズ７０の位置補正処理を行うことができる。
【００８７】
また、本第１の実施形態に係る光ピックアップ装置２３は、上述の製造方法によって製造されることから、発散角調整レンズ７０を通過した後では、第１の光束の出射方向と第２の光束の出射方向とがほぼ一致することとなる。従って、複数の光源から出射される各光束における波面収差の発生及び光利用効率の低下を抑制することが可能となる。
【００８８】
また、本第１の実施形態に係る光ディスク装置２０では、複数の光源から出射される各光束における波面収差の発生及び光利用効率の低下が抑制された光ピックアップ装置を備えているので、複数種類の情報記録媒体に対応可能であり、情報の記録、再生、及び消去のうち少なくとも再生を含むアクセスを高速度で精度良く安定して行うことが可能となる。さらに、光ピックアップ装置の小型化によって、光ディスク装置自体の小型化及び消費電力の低減も促進することができ、例えば携帯用として用いられる場合には、持ち運びが容易となり、さらに長時間の使用が可能となる。
【００８９】
《第２の実施形態》
以下、本発明の第２の実施形態を図９〜図１１に基づいて説明する。
【００９０】
この第２の実施形態は、前述した発散角調整レンズの位置補正処理の際に、第１の半導体レーザ５１ａと第２の半導体レーザ５１ｂとを同時に発光させるとともに、第１の光束及び第２の光束のいずれかを選択するためのフィルタを用いる点に特徴を有する。なお、その他、光ピックアップ装置、光ディスク装置の構成などは、前述した第１の実施形態と同様である。従って、以下においては、第１の実施形態との相違点を中心に説明するとともに、前述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については同一の符号を用いるとともに、その説明を簡略化し若しくは省略するものとする。
【００９１】
図９には、本第２の実施形態における光ピックアップ装置２３を製造する手順がフローチャートにて示されている。
【００９２】
最初のステップ５０１では、前記ステップ４０１と同様の処理が行われる。
【００９３】
次のステップ５０３では、先ず前記ステップ４０３と同様にしてコリメートレンズ８１を所定位置に配置する。次に図１０（Ａ）に示されるように、コリメートレンズ８１の−Ｚ側にフィルタ８４を配置する。ここでは、コリメートレンズ８１にて略平行光とされた光束がフィルタ８４の一部分（図１０（Ａ）では下半分）に入射するように配置する。このフィルタ８４は、一例として図１０（Ｂ）に示されるように、円盤形状を有し、中心を通る直線によって２つの透過領域（第１の透過領域８４ａ，第２の透過領域８４ｂ）に分割されている。第１の透過領域８４ａは、第１の光束を選択的に透過させる特性を有し、第２の透過領域８４ｂは、第２の光束を選択的に透過させる特性を有している。さらに、フィルタ８４は、不図示の回転駆動機構を備えており、計測制御装置８３’の指示により、その中心を通るＺ軸方向の軸を回転軸としてＸＹ平面内で回転可能となっている。続いて、検出用受光素子８２をフィルタ８４の−Ｚ側に配置する。また、検出用光学素子８２には、図１０（Ａ）に示されるように、計測制御装置８３’が接続されている。
【００９４】
前記計測制御装置８３’は、一例として図１１に示されるように、前述した計測制御装置８３における補正量演算回路８３ｈの代わりにフィルタ８４の制御機能が付加された補正量演算回路８３ｈ’が用いられている。そして、その他の構成は計測制御装置８３と同様である。従って、以下においては、計測制御装置８３と同一若しくは同等の構成部分については同一の符号を用いるとともに、その説明を省略する。
【００９５】
次のステップ５０５では、前記ステップ４０５と同様の処理が行われる。
【００９６】
そして、計測制御装置８３’に発散角調整レンズ７０の位置補正を指示する。これにより、計測制御装置８３’では、次のステップ５０７〜ステップ５２１の位置補正処理が実行される。
【００９７】
次のステップ５０７では、コリメートレンズ８１にて略平行光とされた光束が第１の透過領域８４ａに入射するように、補正量演算回路８３ｈ’によってフィルタ８４の回転が制御される。
【００９８】
次のステップ５０９では、補正量演算回路８３ｈ’によって第１の半導体レーザ５１ａ及び第２の半導体レーザ５１ｂがオン状態とされ、光源ユニット５１から第１の光束と第２の光束とが出射される。第１の光束は負メニスカスレンズ７０ａにてその発散角が拡大された後、コリメートレンズ８１を介してフィルタ８４に入射する。第２の光束は正メニスカスレンズ７０ｂにてその発散角が縮小された後、コリメートレンズ８１を介してフィルタ８４に入射する。フィルタ８４では第１の光束のみが透過し、検出用受光素子８２で受光される。検出用受光素子８２を構成する各部分受光素子からはその受光量に応じた信号が計測制御装置８３’に出力される。そして、計測制御装置８３’では上記第１の実施形態と同様にして信号ＳＰｘ及び信号ＳＰｙが算出される。
【００９９】
次のステップ５１１では、前記ステップ４０９と同様の処理が行われる。
【０１００】
次のステップ５１３では、コリメートレンズ８１にて略平行光とされた光束が第２の透過領域８４ｂに入射するように、補正量演算回路８３ｈ’によってフィルタ８４の回転が制御される。すなわち、フィルタ８４は１８０度回転する。これにより、フィルタ８４では第２の光束のみが透過し、検出用受光素子８２で受光される。検出用受光素子８２を構成する各部分受光素子からはその受光量に応じた信号が計測制御装置８３’に出力される。そして、計測制御装置８３’では上記第１の実施形態と同様にして信号ＳＰｘ及び信号ＳＰｙが算出される。
【０１０１】
次のステップ５１５〜５２１では、前記ステップ４１３〜４１９と同様の処理が行われる。そして、計測制御装置８３’による発散角調整レンズ７０の位置補正処理が終了する。
【０１０２】
次のステップ５２３では、コリメートレンズ８１、フィルタ８４及び検出用受光素子８２を光路上から取り外す。また、駆動装置８８も発散角調整レンズ７０から取り外す。
【０１０３】
次のステップ５２５では、前記ステップ４２３と同様の処理が行われ、光ピックアップ装置２３の製造が終了する。このとき、光学系、光源ユニット５１、及び受光器５９は、理想的な位置関係で組み付けられている。
【０１０４】
以上の説明から明らかなように、本第２の実施形態では、図９のステップ５０３〜ステップ５１７の処理によって、本発明に係る製造方法の情報取得工程が実施され、図９のステップ５１９及びステップ５２１の処理によって補正工程が実施されている。
【０１０５】
また、本第２の実施形態に係る光ディスク装置２０では、上記第１の実施形態と同様に、再生信号処理回路２８と、ＣＰＵ４０及び該ＣＰＵ４０によって実行されるプログラムとによって処理装置が実現されており、上記第１の実施形態と同様にして、記録処理及び再生処理が行われる。
【０１０６】
以上説明したように、本第２の実施形態に係る光ピックアップ装置の製造方法によると、光源ユニット５１と発散角調整レンズ７０とを組み付けた段階で、第１の半導体レーザ５１ａと第２の半導体レーザ５１ｂとを同時に発光させ、負メニスカスレンズ７０ａでその発散角が拡大された第１の光束と、正メニスカスレンズ７０ｂでその発散角が縮小された第２の光束とを順次フィルタ８４を介して検出用受光素子８２で受光し、各光束の強度中心位置をそれぞれ検出している。そして、各光束の強度中心位置が一致していない場合には、各光束の強度中心位置が一致するように、発散角調整レンズ７０の実装位置を補正している。従って、上記第１の実施形態に係る光ピックアップ装置の製造方法と同等の効果を得ることが可能となる。
【０１０７】
また、本第２の実施形態に係る光ピックアップ装置２３は、上述の製造方法によって製造されることから、発散角調整レンズ７０を通過した後では、第１の光束の出射方向と第２の光束の出射方向とがほぼ一致することとなる。従って、上記第１の実施形態に係る光ピックアップ装置と同等の効果を得ることが可能となる。
【０１０８】
また、本第２の実施形態に係る光ディスク装置２０では、複数の光源から出射される各光束における波面収差の発生及び光利用効率の低下が抑制された光ピックアップ装置を備えているので、上記第１の実施形態に係る光ディスク装置と同等の効果を得ることが可能となる。
【０１０９】
《第３の実施形態》
次に、本発明の第３の実施形態を図１２及び図１３に基づいて説明する。
【０１１０】
この第３の実施形態は、前述した発散角調整レンズ７０の位置補正処理の際に、第１の半導体レーザ５１ａと第２の半導体レーザ５１ｂとを同時に発光させるとともに、第１の光束と第２の光束とを分離するための分岐光学素子としてのダイクロイックプリズムを用いる点に特徴を有する。なお、その他、光ピックアップ装置、光ディスク装置の構成などは、前述した第１の実施形態と同様である。従って、以下においては、第１の実施形態との相違点を中心に説明するとともに、前述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については同一の符号を用いるとともに、その説明を簡略化し若しくは省略するものとする。
【０１１１】
図１２には、本第３の実施形態における光ピックアップ装置２３を製造する手順がフローチャートにて示されている。
【０１１２】
最初のステップ６０１では、前記ステップ４０１と同様の処理が行われる。
【０１１３】
次のステップ６０３では、先ず前記ステップ４０３と同様にしてコリメートレンズ８１を配置する。次に図１３（Ａ）に示されるように、コリメートレンズ８１の−Ｚ側にダイクロイックプリズム８５を配置する。ここでは、一例としてコリメートレンズ８１にて略平行光とされた第１の光束はダイクロイックプリズム８５を透過し、第２の光束はダイクロイックプリズム８５で＋Ｘ方向に反射されるように設定されている。続いて、ダイクロイックプリズム８５を透過した第１の光束を受光するための検出用受光素子８２をダイクロイックプリズム８５の−Ｚ側に配置し、ダイクロイックプリズム８５で＋Ｘ方向に反射された第２の光束を受光するための第２の位置検出器としての検出用受光素子８６をダイクロイックプリズム８５の＋Ｘ側に配置する。ここでは、各検出用受光素子は筐体に形成されたＵ字状のスライドガイドを介してそれぞれ所定位置に配置される。検出用受光素子８６としては、図１３（Ｂ）に示されるように、検出用受光素子８２と同様に４分割受光素子（第１部分受光素子８６ａ、第２部分受光素子８６ｂ、第３部分受光素子８６ｃ、及び第４部分受光素子８６ｄ）が用いられる。また、検出用光学素子８２及び検出用光学素子８６には、図１３（Ａ）に示されるように、計測制御装置８３’’が接続されている。
【０１１４】
前記計測制御装置８３’’は、一例として図１４に示されるように、次の（７）式に基づいて信号ＳＰｘ’が、次の（８）式に基づいて信号ＳＰｙ’が得られるような加算器及び減算器が付加されている。ここで、信号Ｓ８６ａは第１部分受光素子８６ａの出力信号を変換した電圧信号であり、信号Ｓ８６ｂは第２部分受光素子８６ｂの出力信号を変換した電圧信号であり、信号Ｓ８６ｃは第３部分受光素子８６ｃの出力信号を変換した電圧信号であり、信号Ｓ８６ｄは第４部分受光素子８６ｄの出力信号を変換した電圧信号である。そして、信号ＳＰｘ’及び信号ＳＰｙ’は、信号ＳＰｘ及び信号ＳＰｙとともに、補正量演算回路８３ｈ’’に出力される。
【０１１５】
ＳＰｘ’＝（Ｓ８６ａ＋Ｓ８６ｂ）−（Ｓ８６ｃ＋Ｓ８６ｄ）　……（７）
【０１１６】
ＳＰｙ’＝（Ｓ８６ａ＋Ｓ８６ｄ）−（Ｓ８６ｂ＋Ｓ８６ｃ）　……（８）
【０１１７】
なお、その他の構成は計測制御装置８３と同様である。従って、以下においては、計測制御装置８３と同一若しくは同等の構成部分については同一の符号を用いるとともに、その説明を省略する。
【０１１８】
次のステップ６０５では、前記ステップ４０５と同様の処理が行われる。
【０１１９】
そして、計測制御装置８３’’に発散角調整レンズ７０の位置補正を指示する。これにより、計測制御装置８３’’では、次のステップ６０７〜ステップ６１７の位置補正処理が実行される。
【０１２０】
次のステップ６０７では、補正量演算回路８３ｈ’’によって第１の半導体レーザ５１ａ及び第２の半導体レーザ５１ｂがオン状態とされ、光源ユニット５１から第１の光束と第２の光束とが出射される。第１の光束は負メニスカスレンズ７０ａにてその発散角が拡大された後、コリメートレンズ８１を介してフィルタ８４に入射する。第２の光束は正メニスカスレンズ７０ｂにてその発散角が縮小された後、コリメートレンズ８１を介してダイクロイックプリズム８５に入射する。ダイクロイックプリズム８５を透過した第１の光束は検出用受光素子８２で受光される。検出用受光素子８２を構成する各部分受光素子からはその受光量に応じた信号が計測制御装置８３’’に出力される。そして、計測制御装置８３’’では上記第１の実施形態と同様にして信号ＳＰｘ及び信号ＳＰｙが算出される。一方ダイクロイックプリズム８５で反射された第２の光束は検出用受光素子８６で受光される。検出用受光素子８６を構成する各部分受光素子からはその受光量に応じた信号が計測制御装置８３’’に出力される。そして、計測制御装置８３’’では前述したようにして信号ＳＰｘ’及び信号ＳＰｙ’が算出される。
【０１２１】
次のステップ６０９では、信号ＳＰｘ及び信号ＳＰｙに基づいて、補正量演算回路８３ｈ’’によって第１の光束の強度中心位置の座標（Ｐｘ１，Ｐｙ１）が求められる。
【０１２２】
次のステップ６１１では、信号ＳＰｘ’及び信号ＳＰｙ’に基づいて、補正量演算回路８３ｈ’’によって第２の光束の強度中心位置の座標（Ｐｘ２，Ｐｙ２）が求められる。
【０１２３】
次のステップ６１３〜６１７では、前記ステップ４１５〜４１９と同様の処理が行われる。そして、計測制御装置８３’’による発散角調整レンズ７０の位置補正処理が終了する。
【０１２４】
次のステップ６１９では、コリメートレンズ８１、ダイクロイックプリズム８５及び検出用受光素子８２，８６を光路上から取り外す。また、駆動装置８８も発散角調整レンズ７０から取り外す。
【０１２５】
次のステップ６２１では、前記ステップ４２３と同様の処理が行われ、光ピックアップ装置２３の製造が終了する。このとき、光学系、光源ユニット５１、受光器５９は、理想的な位置関係で組み付けられている。
【０１２６】
以上の説明から明らかなように、本第３の実施形態では、図１２のステップ６０３〜ステップ６１３の処理によって、本発明に係る製造方法の情報取得工程が実施され、図１２のステップ６１５及びステップ６１７の処理によって補正工程が実施されている。
【０１２７】
また、本第３の実施形態に係る光ディスク装置２０では、上記第１の実施形態と同様に、再生信号処理回路２８と、ＣＰＵ４０及び該ＣＰＵ４０によって実行されるプログラムとによって処理装置が実現されており、上記第１の実施形態と同様にして、記録処理及び再生処理が行われる。
【０１２８】
以上説明したように、本第３の実施形態に係る光ピックアップ装置の製造方法によると、光源ユニット５１と発散角調整レンズ７０とを組み付けた段階で、第１の半導体レーザ５１ａと第２の半導体レーザ５１ｂとを同時に発光させ、負メニスカスレンズ７０ａでその発散角が拡大された第１の光束と、正メニスカスレンズ７０ｂでその発散角が縮小された第２の光束とをダイクロイックプリズム８５で分離し、第１の光束を検出用受光素子８２で、第２の光束を検出用受光素子８６で受光し、各光束の強度中心位置をそれぞれ検出している。そして、各光束の強度中心位置が一致していない場合には、各光束の強度中心位置が一致するように、発散角調整レンズ７０の実装位置を補正している。従って、上記第１の実施形態に係る光ピックアップ装置の製造方法と同等の効果を得ることが可能となる。また、第１の光束の強度中心位置と第２の光束の強度中心位置とをほぼ同時に求めることができるので、発散角調整レンズ７０の位置補正処理を短時間で行うことが可能となる。
【０１２９】
また、本第３の実施形態に係る光ピックアップ装置２３は、上述の製造方法によって製造されることから、発散角調整レンズ７０を通過した後では、第１の光束の出射方向と第２の光束の出射方向とがほぼ一致することとなる。従って、上記第１の実施形態に係る光ピックアップ装置と同等の効果を得ることが可能となる。
【０１３０】
また、本第３の実施形態に係る光ディスク装置２０では、複数の光源から出射される各光束における波面収差の発生及び光利用効率の低下が抑制された光ピックアップ装置を備えているので、上記第１の実施形態に係る光ディスク装置と同等の効果を得ることが可能となる。
【０１３１】
なお、上記各実施形態では、検出用受光素子として４分割受光素子を用いる場合について説明したが、これに限らず、例えばＰＤＳ（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ　Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ｄｅｖｉｃｅ）およびＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｄｅｖｉｃｅ）カメラなどを用いても良い。要するに光束の強度中心の位置が検出できれば良い。
【０１３２】
また、上記各実施形態では、検出用受光素子の所定位置への位置決めを、筐体に形成されたＵ字状のスライドガイドを介して行うものとしたが、これに限らず、適宜な位置決め治具を用いて、検出用受光素子の所定位置への位置決めを行っても良い。
【０１３３】
また、上記各実施形態では、各半導体レーザでの発光強度がほぼ等しい場合について説明したが、これに限らず、互いの発光強度が異なっていても良い。これにより、例えば各半導体レーザを同時に発光させた場合であっても、第１の光束と第２の光束とを分離することなく、各光束の強度中心をほぼ同時に求めることができる。すなわち、前述したフィルタやダイクロイックプリズムなどが不要となり、低コストで発散角調整レンズ７０の位置補正処理を行うことができる。
【０１３４】
また、上記各実施形態では、各光束の強度中心のずれに基づいて自動的に発散角調整レンズ７０の位置補正を行う場合について説明したが、これに限らず、例えば各光束の強度中心を表示装置（モニタ）に表示し、作業者がそれを見ながら発散角調整レンズ７０の位置補正を行っても良い。これにより、各半導体レーザから出射される各光束の出射方向のずれを確実に補正することができる。
【０１３５】
なお、上記各実施形態では、ビームスプリッタ５４として、その反射率が入射する光束の偏光方向に依存しない無偏光ビームスプリッタが用いられる場合について説明したが、これに限らず、入射する光束の偏光方向に応じて反射率が異なる偏光ビームスプリッタを用いても良い。これにより、光ディスクの記録面に照射される光束の光量低下が極めて少なくなり、高速化に対応することが容易となる。また、受光器での受光量が増加し、受光器からの出力信号における信号レベル及びＳ／Ｎ比を向上させることができる。さらに、ビームスプリッタ５４の代わりにホログラム素子を用いても良い。これにより、光ピックアップ装置の小型化を促進することができる。
【０１３６】
また、上記各実施形態では、発散角調整レンズとして２つのレンズが一体化されている場合について説明したが、これに限らず、いずれかの半導体レーザから出射された光束の発散角を調整するレンズのみが設けられていても良い。
【０１３７】
また、上記各実施形態では、発散角調整レンズとしてメニスカスレンズを用いる場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。
【０１３８】
また、上記各実施形態では、第１の半導体レーザからの光束の出射方向と第２の半導体レーザからの光束の出射方向とがほぼ同一である場合について説明したが、光源ユニットから出射されるときに各光束の出射方向がほぼ同一であれば良い。
【０１３９】
また、上記各実施形態において、発散角調整レンズの位置補正後に、発散角調整レンズと光源ユニットとを一体化しても良い。
【０１４０】
また、上記各実施形態では、発散角調整レンズ７０を通過した光束を略平行光とするコリメートレンズ８１が用いられる場合について説明したが、例えば発散角調整レンズ７０と検出用受光素子８２とが近接している場合には、コリメートレンズ８１がなくても良い。
【０１４１】
また、上記各実施形態では、発散角調整レンズ７０が実装された直後に発散角調整レンズ７０の位置補正処理を行う場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。例えば光学系の組み付け完了後に発散角調整レンズ７０の位置補正処理を行っても良い。要するに発散角調整レンズ７０が実装された後であれば良い。
【０１４２】
また、上記各実施形態では、波長が６５０ｎｍの光束を出射する光源と波長が７８０ｎｍの光束を出射する光源とを用いる場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。いずれかの光源の代わりに、例えば波長が４０５ｎｍの光束を出射する光源が用いられても良い。さらに、３つ以上の光源を備えていても良い。
【０１４３】
なお、上記各実施形態では、情報の記録及び再生が可能な光ディスク装置について説明したが、これに限らず、情報の記録、再生及び消去のうち少なくとも再生が可能な光ディスク装置であれば良い。
【０１４４】
なお、上記各実施形態において、ＣＰＵ４０によるプログラムに従う処理によって実現した処理装置の少なくとも一部をハードウェアによって構成することとしても良いし、あるいは処理装置の全てをハードウェアによって構成することとしても良い。
【０１４５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る光ピックアップ装置の製造方法によれば、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれを精度良く補正することができるという効果がある。
【０１４６】
また、本発明に係るピックアップ装置によれば、複数の光源から出射される各光束の出射方向のずれに起因する波面収差の発生及び光利用効率の低下を抑制することができるという効果がある。
【０１４７】
また、本発明に係る光ディスク装置によれば、複数種類の情報記録媒体に対応可能で、各情報記録媒体への高速度でのアクセスを、精度良く安定して行うことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光ディスク装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】第１の実施形態に係る光ピックアップ装置の構成を説明するための図である。
【図３】図２の光源ユニット５１に実装されている２つの半導体レーザを説明するための図である。
【図４】図２における発散角調整レンズ７０を説明するための図である。
【図５】第１の実施形態に係る光ピックアップ装置を製造する手順を説明するためのフローチャートである。
【図６】図６（Ａ）は、図５のステップ４０５の処理が完了した状態を示す図であり、図６（Ｂ）は検出用受光器８２を所定位置に固定するためのスライドガイドを説明するための斜視図である。
【図７】図２における検出用受光器８２の構成を説明するための図である。
【図８】図２における計測制御装置８３の詳細を説明するためのブロック図である。
【図９】第２の実施形態に係る光ピックアップ装置を製造する手順を説明するためのフローチャートである。
【図１０】図１０（Ａ）は、図９のステップ５０５が完了した状態を示す図であり、図１０（Ｂ）はフィルタ８４を説明するための図である。
【図１１】図１０における計測制御装置８３’の詳細を説明するためのブロック図である。
【図１２】第３の実施形態に係る光ピックアップ装置を製造する手順を説明するためのフローチャートである。
【図１３】図１３（Ａ）は、図１２のステップ６０５が完了した状態を示す図であり、図１３（Ｂ）は検出用受光器８６を説明するための図である。
【図１４】図１３における計測制御装置８３’’の詳細を説明するためのブロック図である。
【図１５】半導体レーザから出射される光束の強度分布と活性層との位置関係を説明するための図である。
【符号の説明】
１５…光ディスク（情報記録媒体）、２０…光ディスク装置、２３…光ピックアップ装置、２８…再生信号処理回路（処理装置の一部）、４０…ＣＰＵ（処理装置の一部）、５１ａ…第１の半導体レーザ（光源）、５１ｂ…第２の半導体レーザ（光源）、５２…コリメートレンズ（光学系の一部）、５４…ビームスプリッタ（光学系の一部）、６０…対物レンズ（光学系の一部）、７０…発散角調整レンズ（調整光学素子）、７０ａ…負メニスカスレンズ（調整光学素子の一部）、７０ｂ…正メニスカスレンズ（調整光学素子の一部）、８１…コリメートレンズ（光学素子）、８２…検出用受光器（位置検出器、第１の位置検出器）、８４…フィルタ、８５…ダイクロイックプリズム（分岐光学素子）、８６…検出用受光器（第２の位置検出器）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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