(57)【要約】【課題】ホログラム装飾体において、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないこと。【解決手段】ホログラム装飾体１は、プラスチック製の基材４の表面に、多数の半球形の微細凸部２が設けられ、これらの微細凸部２の間の平坦面にホログラムパターン３が転写されてなるものである。ここで、ホログラムパターン３の凹凸の高さｔよりも、半球形の微細凸部２の高さｈの方が高くなっている。これによって、ホログラム装飾体１が硬いもので擦られても、半球形の微細凸部２に守られてホログラムパターン３が摩耗することはない。その代わりに微細凸部２が摩耗することになるが、この微細凸部２にはホログラムパターン３が転写されていないので、微細凸部２がいくら摩耗してもホログラムの見え方には全く変化がなく、当初の意匠性を長期間保持することができるホログラム装飾体となる。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上にホログラムパターンが転写されるとともに表面に多数の微細凸部が形成されたホログラム装飾体であって、
前記微細凸部の高さは前記ホログラムパターンの凹凸高さより高いことを特徴とするホログラム装飾体。
【請求項２】
前記ホログラムパターンは前記微細凸部以外の部分に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のホログラム装飾体。
【請求項３】
基材上にホログラムパターンが転写されるとともに表面に多数の微細凹部が形成されたホログラム装飾体であって、
前記ホログラムパターンは前記微細凹部に形成されていることを特徴とするホログラム装飾体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ホログラムパターンを転写して形成したホログラム装飾体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ホログラフィー技術を用いて作成された干渉縞を凹凸で基材の表面にホログラムパターンとして記録し、転写したホログラム装飾体は、ホログラム転写面が表面に出ているため、硬いもので擦ると摩耗し易くホログラムの意匠性を保持することが困難であった。そこで、かかる問題点を解消するために、特開平５−２７３８９８号公報の「ホログラム」においては、基材上に形成された凹凸状のホログラム層の上にトップコート層を設けることにより耐摩耗性を向上させている。また、特開平７−８９２１１号公報の「化粧材」においては表面が平坦部と木材組織の仮導管、繊維等に対応する凹部からなり、木材の質感をできるだけ良く再現するとともに、表面の摩耗により木材の質感が損なわれにくい化粧材としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前者の技術においては、ホログラム層を形成した後にトップコート層を形成するために余分な工程が必要になる。また、後者の技術においては平坦部と凹部の両者で木目模様を形成しているもので、構成が極めて複雑であった。
【０００４】
そこで、本発明は、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないホログラム装飾体を提供することを課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明にかかるホログラム装飾体は、基材上にホログラムパターンが転写されるとともに表面に多数の微細凸部が形成されたホログラム装飾体であって、前記微細凸部の高さは前記ホログラムパターンの凹凸高さより高いものである。
【０００６】
したがって、硬いもので擦られた場合には微細凸部が摩耗していくことになるが、微細凸部以外の部分で装飾性が保持されるので、ホログラムの意匠性が失われることはない。
【０００７】
このようにして、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないホログラム装飾体となる。
【０００８】
請求項２の発明にかかるホログラム装飾体は、請求項１の構成において、前記ホログラムパターンは前記微細凸部以外の部分に形成されているものである。
【０００９】
したがって、ホログラムパターンは多数の微細凸部の間の平坦部に形成されることになり、微細凸部には形成されないので、微細凸部が摩耗してもホログラムの意匠性には全く影響がない。この結果、微細凸部がホログラムパターンの高さまで摩耗するまで当初のホログラムの意匠性が保たれるので、当初の意匠性を長期間保持することができるホログラム装飾体となる。
【００１０】
請求項３の発明にかかるホログラム装飾体は、基材上にホログラムパターンが転写されるとともに表面に多数の微細凹部が形成されたホログラム装飾体であって、前記ホログラムパターンは前記微細凹部に形成されているものである。
【００１１】
したがって、硬いもので擦られた場合でも微細凹部は僅かに摩耗するのみで、微細凹部に形成されたホログラムパターンには殆ど変化がないので、ホログラムの意匠性が失われることはない。また、このようなホログラム装飾体は、微細凹部に対応する多数の微細凸部を有する上型をホログラムの原版に押し付けてホログラムを転写する際に、プレス圧を加減して微細凸部のみにホログラムが転写されるようにして、この上型を用いて基材に微細凹部及びホログラムパターンを転写することによって製造することができる。
【００１２】
このようにして、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないホログラム装飾体となる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００１４】
実施の形態１
まず、本発明の実施の形態１について、図１及び図２を参照して説明する。図１（ａ）は本発明の実施の形態１にかかるホログラム装飾体の表面を拡大して示す拡大平面図、（ｂ）は拡大断面図である。図２は本発明の実施の形態１にかかるホログラム装飾体の製造方法を示す断面図である。
【００１５】
図１に示されるように、本実施の形態１にかかるホログラム装飾体１は、プラスチック製の基材４の表面に、多数の半球形の微細凸部２が設けられ、これらの微細凸部２の間の平坦面にホログラムパターン３が転写されてなるものである。ここで、ホログラムパターン３の凹凸の高さｔよりも、半球形の微細凸部２の高さｈの方が高くなっている。具体的な寸法としては、ｔ＝約０．２μｍ、ｈ＝約１０μｍである。また、微細凸部２の直径は約５０μｍ、ピッチは約１００μｍである。これによって、ホログラム装飾体１が硬いもので擦られても、半球形の微細凸部２に守られてホログラムパターン３が摩耗することはない。
【００１６】
その代わりに微細凸部２が摩耗することになるが、図１に示されるようにこの微細凸部２にはホログラムパターン３が転写されていないので、微細凸部２がいくら摩耗してもホログラムの見え方には全く変化がない。微細凸部２全体が摩耗して初めてホログラムパターン３に影響が及ぶことになる。したがって、微細凸部２がホログラム３の高さまで摩耗するまで当初のホログラムの意匠性が保たれるので、本実施の形態１のホログラム装飾体１は、当初の意匠性を長期間保持することができるホログラム装飾体となる。
【００１７】
このホログラム装飾体１の製造方法は、図２に示されるように射出成形金型７を用いてプラスティックを射出成形するものである。この射出成形金型７は上型５及び下型６からなり、上型５の下面にはニッケル製の電気鋳造膜が嵌め込まれており、この電気鋳造膜に微細凸部２に対応する多数の微細凹部５ａとホログラムパターン５ｂが作り込まれている。また、下型６の上面（キャビティ面）は平坦面となっている。上型５を下げて射出成形金型７を閉じると、想像線でその断面が描かれるようなキャビティが形成される。したがって、熱可塑性樹脂を射出注入することによって、微細凹部５ａが微細凸部２に転写され、ホログラムパターン５ｂがホログラムパターン３に転写されて、図１（ｂ）にその断面が示されるようなプラスティック製のホログラム装飾体１が形成される。
【００１８】
このように、本実施の形態１のホログラム装飾体１においては、ホログラムパターン３を守る多数の微細凸部２が設けられているので、硬いもので擦られても意匠性が損なわれることがない。しかも、微細凸部２にはホログラムパターン３が施されていないので微細凸部２が摩耗してもホログラムの見え方には全く変化がなく、長期間に亘って製作時の意匠性を保持することができるホログラム装飾体となる。
【００１９】
実施の形態２
次に、本発明の実施の形態２について、図３を参照して説明する。図３（ａ）は本発明の実施の形態２にかかるホログラム装飾体の表面を拡大して示す拡大平面図、（ｂ）は拡大断面図である。
【００２０】
本実施の形態２のホログラム装飾体１１は、図２に示される実施の形態１のホログラム装飾体１と同様に、射出成形金型を用いてプラスティックの射出成形で製作されたものである。このホログラム装飾体１１においても、基材１４の表面に多数の半球形の微細凸部１２が設けられている。実施の形態１と異なるのは、ホログラムパターン１３が微細凸部１２の上にも設けられている点である。したがって、微細凸部１２が摩耗するにしたがって微細凸部１２上のホログラムパターン１３も摩耗していくことになるが、微細凸部１２以外の部分のホログラムパターン１３で装飾性が保持されるので、ホログラム装飾体１１の意匠性が失われることはない。
【００２１】
このようにして、本実施の形態２のホログラム装飾体１１は、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないホログラム装飾体となる。
【００２２】
実施の形態３
次に、本発明の実施の形態３について、図４を参照して説明する。図４は本発明の実施の形態３にかかるホログラム装飾体の断面を拡大して示す拡大断面図である。
【００２３】
図４に示されるように、本実施の形態３のホログラム装飾体２１は、基材２４の表面に多数の半球形の微細凹部２２が設けられており、この微細凹部２２に沿ってホログラムパターン２３が形成されている。したがって、硬いもので擦られた場合でも微細凹部２２は僅かに摩耗するのみで、微細凹部２２に形成されたホログラムパターン２３には殆ど変化がないので、ホログラムの意匠性が失われることはない。
【００２４】
また、このようなホログラム装飾体２１は、微細凹部２２に対応する多数の微細凸部を有する上型をホログラムの原版に押し付けてホログラムを転写する際に、プレス圧を加減して微細凸部のみにホログラムが転写されるようにして、この上型を用いて基材２４に微細凹部２２及びホログラムパターン２３を転写することによって製造することができる。
【００２５】
このようにして、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないホログラム装飾体となる。
【００２６】
上記各実施の形態においては、射出成形によって製作したプラスチック製のホログラム装飾体について説明したが、これ以外にも熱硬化性樹脂による射出成形、金属への転写等によって、種々の物品、部品をホログラム装飾体とすることができる。
【００２７】
また、上記各実施の形態においては、基材表面に設けられる微細凸部または微細凹部の形状として半球形状のものを設けた場合について説明したが、これに限られず、円錐形状、円錐台形状等、種々の形状とすることができる。
【００２８】
ホログラム装飾体のその他の部分の構成、形状、数量、材質、大きさ、接続関係等についても、上記各実施の形態に限定されるものではない。
【００２９】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明にかかるホログラム装飾体は、基材上にホログラムパターンが転写されるとともに表面に多数の微細凸部が形成されたホログラム装飾体であって、前記微細凸部の高さは前記ホログラムパターンの凹凸高さより高いものである。
【００３０】
したがって、硬いもので擦られた場合には微細凸部が摩耗していくことになるが、微細凸部以外の部分で装飾性が保持されるので、ホログラムの意匠性が失われることはない。
【００３１】
このようにして、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないホログラム装飾体となる。
【００３２】
請求項２の発明にかかるホログラム装飾体は、請求項１の構成において、前記ホログラムパターンは前記微細凸部以外の部分に形成されているものである。
【００３３】
したがって、ホログラムパターンは多数の微細凸部の間の平坦部に形成されることになり、微細凸部には形成されないので、微細凸部が摩耗してもホログラムの意匠性には全く影響がない。この結果、微細凸部がホログラムパターンの高さまで摩耗するまで当初のホログラムの意匠性が保たれるので、当初の意匠性を長期間保持することができるホログラム装飾体となる。
【００３４】
請求項３の発明にかかるホログラム装飾体は、基材上にホログラムパターンが転写されるとともに表面に多数の微細凹部が形成されたホログラム装飾体であって、前記ホログラムパターンは前記微細凹部に形成されているものである。
【００３５】
したがって、硬いもので擦られた場合でも微細凹部は僅かに摩耗するのみで、微細凹部に形成されたホログラムパターンには殆ど変化がないので、ホログラムの意匠性が失われることはない。また、このようなホログラム装飾体は、微細凹部に対応する多数の微細凸部を有する上型をホログラムの原版に押し付けてホログラムを転写する際に、プレス圧を加減して微細凸部のみにホログラムが転写されるようにして、この上型を用いて基材に微細凹部及びホログラムパターンを転写することによって製造することができる。
【００３６】
このようにして、通常の製作工程で形成することができ、表面が摩耗してもホログラムの意匠性が失われることがないホログラム装飾体となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（ａ）は本発明の実施の形態１にかかるホログラム装飾体の表面を拡大して示す拡大平面図、（ｂ）は拡大断面図である。
【図２】図２は本発明の実施の形態１にかかるホログラム装飾体の製造方法を示す断面図である。
【図３】図３（ａ）は本発明の実施の形態２にかかるホログラム装飾体の表面を拡大して示す拡大平面図、（ｂ）は拡大断面図である。
【図４】図４は本発明の実施の形態３にかかるホログラム装飾体の断面を拡大して示す拡大断面図である。
【符号の説明】
１，１１，２１　ホログラム装飾体
２，１２　微細凸部
３，１３，２３　ホログラムパターン
４，１４，２４　基材
２２　微細凹部
【図１】
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【図２】
2004037882.tif 000004
【図３】
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【図４】
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