(57)【要約】【課題】測定パルス光のパラメータを変えられるようにした距離測定装置を得る。【解決手段】ＮＰモードにおいて、マイクロプロセッサ１０１は、パルス間隔生成回路１０２に指令を出力してパルス光の間隔（レート）をＬｏｗ（１０００ｐｐｓ）にセットするとともに、レーザ駆動回路１０４に指令を出力してパルス光のピークパワーをＨｉｇｈ（６Ｗ）にセットする。Ｐモードにおいて、マイクロプロセッサ１０１は、パルス間隔生成回路１０２に指令を出力してパルス光の間隔（レート）をＨｉｇｈ（２００００  ｐｐｓ）にセットするとともに、レーザ駆動回路１０４に指令を出力してパルス光のピークパワーをＬｏｗ（３Ｗ）にセットする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象に向けて測定パルス光を送出する送光光学系と、
前記測定対象によって反射された反射パルス光を受光する受光光学系と、
前記測定パルス光と前記反射パルス光とのタイミングに基づいて、前記測定対象までの距離を演算する演算手段と、
前記測定パルス光のパワー、前記測定パルス光のパルス幅、および前記測定パルス光の送出間隔のうち少なくとも２つを同時にかつ平均パワーを所定範囲に保つように変化させるパルス光変更手段とを備えることを特徴とする距離測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の距離測定装置において、
設定される測定条件に応じて、前記測定パルス光のパワー、前記測定パルス光のパルス幅、および前記測定パルス光の送出間隔のうち少なくとも２つを変化させるように、前記パルス光変更手段を制御する制御手段をさらに備えることを特徴とする距離測定装置。
【請求項３】
請求項２に記載の距離測定装置において、
前記制御手段は、前記測定条件が測定距離を優先するとき、前記測定パルス光のパワーを大きくするとともに前記測定パルス光の送出間隔を長くするように前記パルス光変更手段を制御することを特徴とする距離測定装置。
【請求項４】
請求項２に記載の距離測定装置において、
前記制御手段は、前記測定条件が測定時間を優先するとき、前記測定パルス光のパワーを小さくするとともに前記測定パルス光の送出間隔を短くするように前記パルス光変更手段を制御することを特徴とする距離測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、パルス光による距離測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
測定対象物（ターゲット）に向けてパルス光を発光し、パルス光を送出してからターゲットで反射されたパルス反射光を受光するまでの時間に基づいて、当該ターゲットまでの距離を求めるパルス光方式の距離測定装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。この方式の距離測定装置は、測定精度を向上させるためにパルス光の発光およびパルス反射光の受光を繰り返し行い、複数の測定値から平均値を算出する。パルス光は、所定のピークパワー（波高値）、パルス幅、およびパルス間隔で繰り返し発光される。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−２８１７４４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述したパルス光方式の距離測定装置において、測定時間を優先（短時間で測る）して測定したい、あるいは、測定距離を優先（長距離を測る）して測定したいという要求がある。一般に、短時間で測定するためにはパルス光のパルス間隔を短くするとよい。また、長距離を測定するためには、パルス光のピークパワーを大きくするとよい。従来の装置では、このようなパルス光のパラメータ、すなわち、▲１▼ピークパワー、▲２▼パルス幅、▲３▼パルス間隔が固定されていたので、ユーザーの要求に応じた測定を行うことができなかった。
【０００５】
本発明は、ユーザーの要求に応じた測定パルス光のパラメータ、すなわち、パワー、パルス幅、パルス間隔で測定するようにした距離測定装置を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明による距離測定装置は、測定対象に向けて測定パルス光を送出する送光光学系と、測定対象によって反射された反射パルス光を受光する受光光学系と、測定パルス光と反射パルス光とのタイミングに基づいて、測定対象までの距離を演算する演算手段と、測定パルス光のパワー、測定パルス光のパルス幅、および測定パルス光の送出間隔のうち少なくとも２つを同時にかつ平均パワーを所定範囲に保つように変化させるパルス光変更手段とを備えることを特徴とする。
上記距離測定装置はさらに、設定される測定条件に応じて、測定パルス光のパワー、測定パルス光のパルス幅、および測定パルス光の送出間隔のうち少なくとも２つを変化させるように、パルス光変更手段を制御する制御手段を備えてもよい。
上記制御手段は、測定条件が測定距離を優先するとき、測定パルス光のパワーを大きくするとともに測定パルス光の送出間隔を長くするように、パルス光変更手段を制御することもできる。
上記制御手段は、測定条件が測定時間を優先するとき、測定パルス光のパワーを小さくするとともに測定パルス光の送出間隔を短くするように、パルス光変更手段を制御することもできる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
（第一の実施の形態）
図１は、本発明の第一の実施の形態による距離測定装置の構成を示す図である。距離測定装置１は、電気システム１１と、光学システム１２とによって構成される。電気システム１１は、マイクロプロセッサ１０１と、パルス間隔生成回路１０２と、パルス発生回路１０３と、レーザ駆動回路１０４と、受光回路１０５と、パルス成形回路１０６と、時間計測回路１０７とを含む。
【０００８】
マイクロプロセッサ１０１には、オペレータによって操作される操作部材（不図示）から測定指令信号が入力される。マイクロプロセッサ１０１は、入力された測定指令信号にしたがって各ユニットに対して制御信号を出力するとともに、時間計測回路１０７から入力される計測値に基づいて距離情報を算出する。パルス間隔生成回路１０２は、マイクロプロセッサ１０１からの制御信号が示すパルス間隔ごとにトリガ信号を繰り返し生成し、生成したトリガ信号をパルス発生回路１０３へ逐次出力する。
【０００９】
パルス発生回路１０３は、入力されたトリガ信号に同期してマイクロプロセッサ１０１からの制御信号が示すパルス幅のパルス信号を生成し、レーザ駆動回路１０４へ出力するとともに、時間計測回路１０７へも出力する。パルス信号は、パルス間隔ごとに繰り返し出力される。ここで、パルス光のパルス幅は、光学システム１２の対物レンズ１１２から射出されるパルス光の半値幅とする。
【００１０】
レーザ駆動回路１０４は、入力されたパルス信号に応じてパルス電流を生成し、不図示の半導体レーザをパルス発光させる。半導体レーザから射出されたパルス光は、不図示の結合光学系で光ファイバ１１３に集光され、光ファイバ１１３によって光学システム１２へ導かれる。レーザ駆動回路１０４は、パルス光のピークパワーをマイクロプロセッサ１０１からの制御信号が示す値にするように、パルス電流のピーク値（波高値）を調節する。ここで、パルス光のピークパワーは、光学システム１２の対物レンズ１１２から射出される値とする。
【００１１】
受光回路１０５は、光ファイバ１１４によって光学システム１２から導かれる光を受光する。受光回路１０５は不図示の受光素子を有し、光信号を電気信号に変換してパルス成形回路１０６へ出力する。パルス成形回路１０６は、電気信号を矩形波形に波形整形し、波形整形後の信号を時間計測回路１０７へ出力する。時間計測回路１０７は、パルス発生回路１０３から入力されたパルス信号を基準信号として、この基準信号に対する波形整形後の信号の遅延時間を計測する。時間計測回路１０７は、計測値を示す情報をマイクロプロセッサ１０１へ送出する。
【００１２】
光学システム１２は、プリズム１１１と、対物レンズ１１２と、内部光路１１５と、シャッタ１１６と、減衰フィルタ１１７とを含む。シャッタ１１６は、光ファイバ１１３を介して光学システム１２に入力されたパルス光を、内部光路１１５およびプリズム１１１のいずれか一方へ選択的に導く。シャッタ１１６は、たとえば、光ファイバ１１３の開口端１１３Ａおよびプリズム１１１間の光路上に配設した回動可能部材によって構成する。
【００１３】
図２は、シャッタ１１６を説明する図である。シャッタ１１６は、中心Ｏの円形フィルム上に、パルス光を通過させる開口１１６Ａと、パルス光を反射する反射膜１１６Ｂとが形成されたものである。シャッタ１１６は、中心Ｏを回転中心にしてモータＭによって回転駆動される。これにより、モータＭが光路中に開口１１６Ａを挿入した状態で停止すると、パルス光を通過させてプリズム１１１へ導き、モータＭが光路中に反射膜１１６Ｂを挿入した状態で停止すると、パルス光を反射して内部光路１１５へ導く。
【００１４】
モータＭは、たとえば、ステッピングモータであり、マイクロプロセッサ１０１から送出される駆動パルス信号に応じて回転角が制御される。マイクロプロセッサ１０１は、パルス光を内部光路１１５に導く場合に反射膜１１６Ｂを、パルス光をプリズム１１１に導く場合に開口１１６Ａを、それぞれ光路中に挿入するように、モータＭを回転させるパルス信号を生成する。
【００１５】
シャッタ１１６によってパルス光がプリズム１１１に導かれたとき、プリズム１１１は、入射されたパルス光を対物レンズ１１２に向けて反射する。対物レンズ１１２は、パルス光を測定対象物（不図示）へ向けて射出する。測定対象物によって反射された反射パルス光は、対物レンズ１１２を介してプリズム１１１に入射される。プリズム１１１は、入射された反射パルス光を減衰フィルタ１１７に向けて反射する。
【００１６】
減衰フィルタ１１７は、たとえば、連続的な減衰勾配を有するＮＤフィルタによって構成された可変減衰フィルタであり、反射パルス光を所定の光レベルに減衰する。減衰フィルタ１１７の減衰量は、マイクロプロセッサ１０１から出力される指令によって変化するように構成されている。具体的には、ＮＤフィルタが形成された円形フィルムを不図示のモータが回転駆動し、光路中に挿入されるＮＤフィルタの濃淡を変える。このように、減衰フィルタ１１７による光減衰量は、マイクロプロセッサ１０１が出力するモータ駆動信号により調節される。減衰後の反射パルス光は光ファイバ１１４の開口端１１４Ａに入射され、光ファイバ１１４によって受光回路１０５の受光素子（不図示）へ導かれる。
【００１７】
一方、シャッタ１１６によってパルス光が内部光路１１５に導かれたとき、内部光路１１５は、入射されたパルス光を減衰フィルタ１１７に導く。内部光路１１５は、たとえば、光ファイバによって構成され、内部光路１１５から射出したパルス光を、減衰フィルタ１１７を介して光ファイバ１１４の開口端１１４Ａに入射するように構成されている。この場合にも、減衰フィルタ１１７による光減衰量は、マイクロプロセッサ１０１が出力するモータ駆動信号により調節される。
【００１８】
以上説明したように、測定対象物によって反射された反射パルス光、および内部光路１１５を介して入力されるパルス光が、それぞれ減衰フィルタ１１７によって測定に必要な受光レベルが得られるように減衰され、受光回路１０５へ入射される。
【００１９】
上述した距離測定装置のマイクロプロセッサ１０１で行われる測距処理の流れを、図３のフローチャートを参照して説明する。図３による処理は、オペレータが操作部材（不図示）を操作し、当該操作部材から測定指令信号がマイクロプロセッサ１０１に入力されると起動する。ステップＳ１１において、マイクロプロセッサ１０１は、測定モードがＮＰ（ノンプリズム）モード、あるいは、Ｐ（プリズム）モードかを判定する。Ｐモードは、キューブリフレクタと呼ばれるプリズムを測定対象物として使用する測定モードであり、ＮＰモードは、測定対象物にキューブリフレクタを使用しない場合の測定モードである。マイクロプロセッサ１０１は、測定指令信号がＮＰモードを示す場合にステップＳ１２へ進み、測定指令信号がＰモードを示す場合にステップＳ１８へ進む。
【００２０】
ＮＰモードは、Ｐモードに比べて測定対象物の反射率が低いため、反射光の光パワーが小さくなる。そこで、反射光レベルが高まるように、送出するパルス光の光パワーを大きくするのが望ましい。このとき、対物レンズ１１２から射出されるレーザ光によるエネルギーが、レーザ製品の安全規格（たとえば、ＩＥＣ６０８２５−１）に準拠するように、（ａ）パルス間隔を長くする（パルスレートを下げる）、（ｂ）パルス幅を狭くする、の少なくとも１つを行う。
【００２１】
ステップＳ１２において、マイクロプロセッサ１０１は、パルス間隔生成回路１０２へパルス間隔（レート）をＬｏｗにセットする指令を出力するとともに、レーザ駆動回路１０４にパルス光のパワーをＨｉｇｈにセットする指令を出力してステップＳ１３へ進む。これにより、パルス間隔生成回路１０２がパルス間隔を１０００  ｐｐｓ（ｐｕｌｓｅ  ｐｅｒ  ｓｅｃｏｎｄ）にセットし、レーザ駆動回路１０４がパルス光のピークパワーを６Ｗにセットする。
【００２２】
本発明は、測定モードに応じてパルス光のパラメータである▲１▼ピークパワー、▲２▼パルス幅、▲３▼パルス間隔の少なくとも２つを変更することに特徴を有する。なお、第一の実施の形態ではパルス幅を５ｎｓｅｃのまま固定にする。
【００２３】
ステップＳ１３において、マイクロプロセッサ１０１は、受光回路１０５による受光量を調整する。マイクロプロセッサ１０１は、受光される信号レベルを所定の範囲に収めるように、減衰フィルタ１１７のモータ（不図示）に駆動信号を出力してステップＳ１４へ進む。
【００２４】
ステップＳ１４において、マイクロプロセッサ１０１は、シャッタ１１６を内部光路１１５側に設定してステップＳ１５へ進む。マイクロプロセッサ１０１は、反射膜１１６Ｂ（図２）を光路中に挿入するように、モータＭを回転させるパルス信号を出力する。マイクロプロセッサ１０１は、レーザ駆動回路１０４からパルス光を繰り返し発光させるとともに、受光回路１０５で反射パルス光を繰り返し受光させる。マイクロプロセッサ１０１は、時間計測回路１０７から入力される計測値を示す情報を内部のメモリ（不図示）に逐次記憶し、計測値の平均値を算出する。この場合の平均値（ＭＢ）は、電気システム１１における伝播遅延時間を示す。
【００２５】
ステップＳ１５において、マイクロプロセッサ１０１は、シャッタ１１６をプリズム１１１側に設定してステップＳ１６へ進む。マイクロプロセッサ１０１は、反射膜１１６Ａ（図２）を光路中に挿入するように、モータＭを回転させるパルス信号を出力する。マイクロプロセッサ１０１は、レーザ駆動回路１０４からパルス光を繰り返し発光させるとともに、受光回路１０５で反射パルス光を繰り返し受光させる。マイクロプロセッサ１０１は、時間計測回路１０７から入力される計測値を示す情報を内部のメモリ（不図示）に逐次記憶し、計測値の平均値を算出する。この場合の平均値（ＭＡ）は、電気システム１１における伝播遅延時間と、対物レンズ１１２から測定対象物（不図示）までのパルス光の往復時間との和を示す。
【００２６】
ステップＳ１６において、マイクロプロセッサ１０１は、計測値Ｍ＝ＭＡ−ＭＢを算出し、次式（１）により距離Ｄを算出する。
【数１】
Ｄ＝Ｃ×Ｍ／（２×Ｎ）                          （１）
ただし、Ｃは光速度、Ｎは空気の屈折率である。ステップＳ１７において、マイクロプロセッサ１０１は、算出結果を距離測定値として不図示の表示器に表示させ、図３による処理を終了する。
【００２７】
上述したステップＳ１１においてＰモードが判定され、ステップＳ１８に進む場合について説明する。Ｐモードは、ＮＰモードに比べて測定対象物の反射率が高いため、反射光のパワーが大きくなる。そこで、単位時間に繰り返し測定する平均回数を増やすために、送出するパルス光の間隔を短くするのが望ましい。このとき、対物レンズ１１２から射出されるレーザ光によるエネルギーが、レーザ製品の安全規格（ＩＥＣ６０８２５−１）に準拠するように、（ｂ）パルス幅を狭くする（パルスレートを上げる）、（ｃ）パルス光のピークパワーを小さくする、の少なくとも１つを行う。マイクロプロセッサ１０１は、パルス間隔生成回路１０２へパルス間隔（レート）をＨｉｇｈにセットする指令を出力するとともに、レーザ駆動回路１０４にパルス光のパワーをＬｏｗにセットする指令を出力してステップＳ１３へ進む。これにより、パルス間隔生成回路１０２がパルス間隔を２００００ｐｐｓ  にセットし、レーザ駆動回路１０４がパルス光のピークパワーを３Ｗにセットする。
【００２８】
以上説明した第一の実施の形態についてまとめる。
（１）マイクロプロセッサ１０１は、ＮＰモードにおいて、パルス光の間隔（レート）をＬｏｗ（１０００  ｐｐｓ）にセットするとともに、パルス光のピークパワーをＨｉｇｈ（６Ｗ）にセットするようにした。これにより、反射光レベルが高まることによって距離測定装置の測定距離範囲が広がり、測定距離を優先した測定を行うことができる。
（２）上記（１）において、パルス光のピークパワーの上昇に応じてパルス間隔を長く拡げる（パルスレートを下げる）ようにしたので、レーザ製品の安全規格を考慮してパルス光のパラメータを変化させることができる。
【００２９】
（３）マイクロプロセッサ１０１は、Ｐモードにおいて、パルス光の間隔（レート）をＨｉｇｈ（２００００  ｐｐｓ）にセットするとともに、パルス光のピークパワーをＬｏｗ（３Ｗ）にセットするようにした。これにより、パルス間隔が短くなることによって繰り返し測定に要する時間が短縮され、測定時間短縮を優先した測定を行うことができる。
（４）上記（３）において、パルス光の間隔の短縮に応じてパルス光のピークパワーを下げるようにしたので、レーザ製品の安全規格を考慮してパルス光のパラメータを変化させることができる。
【００３０】
以上の説明では、パルス幅を５ｎｓｅｃに設定して変化させない例を説明したが、次のように変化させてもよい。測定距離を優先にした測定では、ピークパワーを高めるとともに、パルス幅を広く、パルス間隔を長くする。なお、受信波形においてパルス波形の劣化が生じない状態では、パルス幅を広くする必要はない。むしろ、パルス波形が劣化しないで十分な受信波形が得られる状態ではパルス幅を狭くする。測定時間短縮を優先した測定では、ピークパワーを下げるとともに、パルス幅を狭く、パルス間隔を短くする。
【００３１】
上述した説明では、ＮＰモードが１つの場合を説明したが、ＮＰ１とＮＰ２の２つのＮＰモードを選択するようにしてもよい。たとえば、測定対象物にプリズムを使用しないで１００ｍ程度の近距離測定をする場合は、ＮＰ１モードを使用する。ＮＰ１モードは、たとえば、パルス光の間隔（レート）をＨｉｇｈ（２００００  ｐｐｓ）にセットするとともに、パルス光のピークパワーをＬｏｗ（３Ｗ）にセットする。パルス間隔を短くすることによって繰り返し測定に要する時間が短縮され、後述するＮＰ２モードより測定時間を短縮することができる。
【００３２】
測定対象物にプリズムを使用しないで上記１００ｍより長い距離測定をする場合は、ＮＰ２モードを使用する。ＮＰ２モードは、たとえば、パルス光の間隔（レート）をＬｏｗ（１０００  ｐｐｓ）にセットするとともに、パルス光のピークパワーをＨｉｇｈ（６Ｗ）にセットする。反射光レベルが高まることによって上述したＮＰ１モードより測定距離範囲が広がる。
【００３３】
（第二の実施の形態）
第一の実施の形態では、レーザ駆動回路１０４が半導体レーザに供給するパルス電流のピーク値（波高値）を調節することによってパルス光のピークパワーを変化させたが、第二の実施の形態では、対物レンズ１１２から射出されるピークパワーを光学的に変化させる。図４は、本発明の第二の実施の形態による距離測定装置の構成を示す図である。図４において図１と共通のものは、図１と共通の符号を付して説明を省略する。
【００３４】
電気システム１１Ｂには、図１のマイクロプロセッサ１０１の代わりにマイクロプロセッサ１０１Ｂが、レーザ駆動回路１０４の代わりにレーザ駆動回路１０４Ｂが、それぞれ設けられている。光学システム１２Ｂには、図１のシャッタ１１６の代わりにシャッタ１１８が設けられている。レーザ駆動回路１０４Ｂは、パルス発生回路１０３から入力されたパルス信号に応じてパルス電流を生成し、不図示の半導体レーザをパルス発光させる。半導体レーザから射出されたパルス光は、光ファイバ１１３によって光学システム１２へ導かれる。レーザ駆動回路１０４Ｂは、光学システム１２Ｂの対物レンズ１１２から射出されるパルス光のピークパワーの最大値が、たとえば、６Ｗになるようにパルス電流のピーク値（波高値）を調節する。
【００３５】
シャッタ１１８は、光ファイバ１１３を介して光学システム１２Ｂに入力されるパルス光を、内部光路１１５およびプリズム１１１のいずれか一方へ選択的に導くとともに、プリズム１１１へ導くパルス光のピークパワーを変化させる。シャッタ１１８は、たとえば、光ファイバ１１３の開口端１１３Ａおよびプリズム１１１間の光路上に配設した回動可能部材によって構成する。
【００３６】
図５は、シャッタ１１８を説明する図である。シャッタ１１８は、中心Ｏの円形フィルム上に、パルス光を通過させる開口１１８Ａと、パルス光を反射する反射膜１１８Ｂと、パルス光を減衰させるＮＤフィルタ１１８Ｃとが形成されたものである。シャッタ１１８は、中心Ｏを回転中心にしてモータＭによって回転駆動される。これにより、モータＭが光路中に開口１１８Ａを挿入した状態で停止すると、パルス光を減衰させることなく通過させてプリズム１１１へ導き、モータＭが光路中にＮＤフィルタ１１８Ｃを挿入した状態で停止すると、パルス光を所定量（たとえば、３ｄＢ）減衰させてプリズム１１１へ導く。また、モータＭが光路中に反射膜１１８Ｂを挿入した状態で停止すると、パルス光を反射して内部光路１１５へ導く。
【００３７】
パルス光に対する減衰量をさらに変えたい場合は、ＮＤフィルタ１１８Ｃと異なる減衰量を有するＮＤフィルタ１１８Ｄを設け、ＮＤフィルタ１１８Ｄを光路中に挿入するようにすればよい。
【００３８】
マイクロプロセッサ１０１Ｂは、パルス光を内部光路１１５に導く場合に反射膜１１８Ｂを、パルス光をプリズム１１１に導く場合に開口１１８ＡもしくはＮＤフィルタ１１８Ｃ（１１８Ｄ）を、それぞれ光路中に挿入するように、モータＭを回転させるパルス信号を生成する。光路中に開口１１８Ａが挿入された場合に、ピークパワーが６Ｗのパルス光が対物レンズ１１２から射出される。光路中にＮＤフィルタ１１８Ｃが挿入された場合に、ピークパワーが３Ｗのパルス光が対物レンズ１１２から射出される。
【００３９】
以上説明した第二の実施の形態によれば、第一の実施の形態と同様に、ＮＰモードにおいて、測定距離を優先した測定を行うことができる一方、Ｐモードにおいて、測定時間短縮を優先した測定を行うことができる。
【００４０】
上述した第一の実施の形態、および第二の実施の形態では、オペレータによる操作によってＮＰモードおよびＰモードのいずれかを選択するようにしたが、受光回路１０５による受光信号レベルに応じて、マイクロプロセッサ１０１（１０１Ｂ）が自動的に選択するようにしてもよい。受光信号レベルが所定値より高いとき、Ｐモードを選択し、受光信号レベルが所定値より低いとき、ＮＰモードを選択すればよい。
【００４１】
測定パルス光のピークパワー（上述した例では６Ｗおよび３Ｗ）、パルス幅（上述した例では５ｎｓｅｃ）、パルス送出間隔（上述した例では１０００ｐｐｍおよび２００００  ｐｐｍ）は上記の数値例に限らず、レーザ製品の安全規格を満たす範囲で適宜設定してよい。
【００４２】
特許請求の範囲における各構成要素と、発明の実施の形態における各構成要素との対応について説明する。送光光学系は、たとえば、プリズム１１１および対物レンズ１１２によって構成される。受光光学系は、たとえば、対物レンズ１１２、プリズム１１１および減衰フィルタ１１７によって構成される。演算手段および制御手段は、たとえば、マイクロプロセッサ１０１によって構成される。パルス光変更手段は、たとえば、レーザ駆動回路１０４（シャッタ１１８）、パルス発生回路１０３およびパルス間隔生成回路１０２によって構成される。測定条件は、たとえば、ＮＰモードとＰモードとが対応する。なお、本発明の特徴的な機能を損なわない限り、各構成要素は上記構成に限定されるものではない。
【００４３】
【発明の効果】
本発明による距離測定装置では、パルス光のパワー、パルス幅、パルス間隔のうち少なくとも２つを可変にしたので、ユーザーの要求に応じたパルス光のパラメータで測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施の形態による距離測定装置の構成を示す図である。
【図２】シャッタを説明する図である。
【図３】距離測定装置のマイクロプロセッサで行われる測距処理の流れを説明するフローチャートである。
【図４】本発明の第二の実施の形態による距離測定装置の構成を示す図である。
【図５】第二の実施の形態によるシャッタを説明する図である。
【符号の説明】
１（１Ｂ）…距離測定装置、        １１（１１Ｂ）…電気システム、
１２（１２Ｂ）…光学システム、    １０１（１０１Ｂ）…マイクロプロセッサ、
１０２…パルス間隔生成回路、      １０４（１０４Ｂ）…レーザ駆動回路、
１０５…受光回路、                １０７…時間計測回路、
１１１…プリズム、                １１２…対物レンズ、
１１６，１１８…シャッタ
【図１】
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【図２】
2004157061.tif 000004
【図３】
2004157061.tif 000005
【図４】
2004157061.tif 000006
【図５】
2004157061.tif 000007