(57)【要約】【課題】データのエラーを検出することができる診断方法を提供すること。【解決手段】描画パターンデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数し、そのチップ単位毎の累積データおよび計数データをチップ単位で互いに比べることを特徴とする。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画パターンデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数し、そのチップ単位毎の累積データおよび計数データをチップ単位で互いに比べることを特徴とする描画データの診断方法。
【請求項２】
コントローラと、このコントローラの描画情報で半導体チップの描画パターンデータを出力する描画パターン発生回路と、前記描画パターンデータを累積する累積演算回路と、前記描画パターンデータを計数するデータ数計数回路とを有し、
前記累積演算回路で演算されるチップ単位毎の累積データおよび前記データ数計数回路で計数されるチップ単位毎の計数データを読み込む前記コントローラで前記累積データおよび前記計数データをチップ単位で互いに比較することを特徴とする描画データの診断方法。
【請求項３】
コントローラと、このコントローラの描画情報を受けて半導体チップの描画パターンデータを作る第１の処理ユニットと、前記描画パターンデータを受けてビットマップデータを作る第２の処理ユニットとを有し、
前記描画パターンデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数し、そのチップ単位毎の累積データおよび計数データをチップ単位で互いに比較し、
前記ビットマップデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数し、そのチップ単位毎の累積データおよび計数データをチップ単位で互いに比較することを特徴とする描画データの診断方法。
【請求項４】
請求項３に記載された描画データの診断方法において、
前記第１の処理ユニットと前記第２の処理ユニットとの間に前記描画パターンデータを入力するメモリを設けたことを特徴とする描画データの診断方法。
【請求項５】
描画パターンを生成する描画パターン発生手段と、生成された半導体チップの描画パターンデータをラスタ操作にあわせてビットマップ展開を行なうビットマップ変換手段と、該ビットマップ変換手段から出力されたビットマップデータに従って、各画素毎に露光時間を制御する露光時間制御手段を有する電子ビーム描画装置において、
前記描画パターン発生手段と前記ビットマップ変換手段との間にＦＩＦＯ（ファースイン・ファーストアウト）メモリ（１）を、前記ビットマップ変換手段と前記露光時間制御手段との間にＦＩＦＯメモリ（２）を設け、
前記ＦＩＦＯメモリ（１）に入力する前記描画パターンデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数する累積演算手段（１）およびデータ計数手段（１）を設け、
前記ＦＩＦＯメモリ（２）に入力する前記ビットマップデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数する累積演算手段（２）およびデータ計数手段（２）を設け、
前記累積演算手段（１）で演算されるチップ単位毎の累積データおよび前記データ数計数手段（１）で計数されるチップ単位毎の計数データをチップ単位で互いに比較し、
前記累積演算手段（２）で演算されるチップ単位毎の累積データおよび前記データ数計数手段（２）で計数されるチップ単位毎の計数データをチップ単位で互いに比較することを特徴とする電子ビーム描画装置の描画データ診断方法。
【請求項６】
描画パターンを生成する描画パターン発生手段と、生成された半導体チップの描画パターンデータを読み取りながらラスタ操作にあわせてビットマップ展開を行なうビットマップ変換手段と、該ビットマップ変換手段から出力されたビットマップデータに従って、各画素毎に露光時間を制御する露光時間制御手段を有する電子ビーム描画装置において、
前記描画パターン発生手段と前記ビットマップ変換手段との間にＦＩＦＯメモリを設け、
前記ＦＩＦＯメモリに格納される描画パターンデータを累積演算する累積演算手段を設け、かつ累積演算した累積データをＦＩＦＯメモリに格納し、
前記ビットマップ変換手段に読まれる前記ＦＩＦＯメモリが格納する前記描画パターンデータを累積演算し、かつその累積演算結果と前記ＦＩＦＯメモリから読み出す前記累積データとを比較する累積演算チェック手段を設け、
前記比較はチップ単位毎の累積データをチップ単位で互いに比べることを特徴とする電子ビーム描画装置の描画データ診断方法。
【請求項７】
請求項６に記載の電子ビーム描画装置の描画データ診断方法において、
前記累積演算手段を形成する加算回路とレジスタを有することを特徴とする電子ビーム描画装置の描画データ診断方法。
【請求項８】
請求項６に記載の電子ビーム描画装置の描画データ診断方法において、
前記累積演算手段を形成する排他的論理和回路とレジスタを有することを特徴とする電子ビーム描画装置の描画データ診断方法。
【請求項９】
請求項１から８の何れか一つに記載された電子ビーム描画装置の描画データ診断方法において、
チップ単位毎で互いに比べることにより求めた一致／不一致情報から、描画エラーが発生したウエハ上の位置やチップ番号を算出する算出手段を設け、その描画エラーが発生したウエハ上の位置やチップ番号を上位のコントローラで収集する収集手段を設けたことを特徴とする電子ビーム描画装置の描画データ診断方法。
【請求項１０】
描画データを発生する描画データ発生回路と、前記描画データに基づき電子ビームの照射時間を制御するデータを発生するブランキング時間制御信号発生回路と、このブランキング時間制御信号発生回路のブランキング時間制御信号をアナログに変えるブランキングアナログ制御信号発生回路と、前記描画データに基づき電子ビームをラスタ走査するための偏向信号発生回路と、この偏向信号発生回路の偏向信号をアナログに変えるアナログ偏向信号発生回路とを有し、
前記ブランキング時間制御信号発生回路と前記ブランキングアナログ制御信号発生回路との間に累積演算回路（１）を設け、
前記偏向信号発生回路と前記アナログ偏向信号発生回路との間に累積演算回路（２）を設け、
前記累積演算回路（１）で演算されるチップ単位毎の累積データをチップ単位で互いに比較し、
前記累積演算回路（２）で演算されるチップ単位毎の累積データをチップ単位で互いに比較することを特徴とする電子ビーム描画装置の描画データ診断方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビームを用いて、マスクやウエハにパターンを描画する電子ビーム描画装置に係り、データ処理を行っているハードウエアにおける、データ転送の信頼性を診断する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の電子ビーム描画装置は、図１１に示すように、描画パターン発生回路９０２から出力されるデータをもとに、図形データ処理回路９０３によって描画可能な図形に図形処理を行い、偏向信号と露光時間データに変換された後、偏向データは偏向信号発生回路１０６とＤＡＣ偏向アンプ１０７を介して電子ビームを所定の位置に偏向して、ＬＳＩパターンなどの図形を描画する。
【０００３】
一方、図形データ処理回路から出力されるビーム照射量にあたる露光時間データは、露光時間制御回路９０４とブランキングアンプ１０５を介して、電子ビームのオン、オフを行う。
【０００４】
また、従来の電子ビーム描画装置は可変整形ビームを使用して、任意の位置に偏向して図形を描画するベクタスキャン方式が用いられており、最終的な描画データは、任意な大きさの矩形（あるいは三角形、平行四辺形）データとしてアナログ回路に出力されていた。上記従来の描画装置において、描画データのチェック方法として、ショット数計数回路９０５を用いて、アナログ回路へ出力される図形（ショット）データの数を計数する方法が用いられていた。
【０００５】
ショット数計数回路は、ＬＳＩパターンについて、各チップ単位、または描画フィールド単位に計数し、同一パターンを描画する場合には、この計数結果が等しいか否かをチェックすることで、描画パターンのエラーがないことを評価、診断する方法が用いられていた。
【０００６】
上述した従来技術は、例えば、特開平５−０４７６４７号公報（特許文献１）に示されている。
【０００７】
【特許文献１】
特開平５−０４７６４７号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来技術によれば、ショット数すなわち描画図形の数についてはチェックすることができるので、処理の途中でデータが欠落（データの抜けなど）したかどうかについては診断することができた。しかし、データ自身の値が変化したり、たとえば処理の途中で演算した値自身に間違いがあった場合には、ショット数は変化しないため、正常とみなしてしまい、データのエラーが検出できないという問題があった。
【０００９】
また、データ自身の間違いを検出する手段として、処理ユニットと処理ユニットの間のデータ転送には、データにパリティビットを付加するなどの方法で、データのビット落ちなどのエラーを検出できるようになっていた。
【００１０】
しかし、これはあくまでも、データの伝送系でのエラーを検出する手段であって、各種の演算処理で間違えた演算を行ったとしてもエラーとして検出できないケースがあるという問題もあった。
【００１１】
また、ラスタ走査方式による電子ビーム描画装置においては、電子ビームのＯＮ／ＯＦＦ回数が図形の数とはならないため、電子ビームの照射回数を計数する方法では、正常に描画が行なわれているというチェックにならないという問題もある。ラスタ走査方式の描画装置では、偏向信号のデータに誤りが無いことをチェックする必要があった。
【００１２】
本発明の目的は、電子ビーム描画装置において、上記のような演算ミス（エラー）や、偏向信号のデータに誤りが発生した場合にも、これをエラーとして検出する診断方法を提供することによって、電子ビーム描画装置の信頼性を向上することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、描画パターンデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数し、そのチップ単位毎の累積データおよび計数データをチップ単位で互いに比べることを特徴とする。
【００１４】
また本発明は、パターン発生手段とビットマップ変換手段との間にＦＩＦＯメモリを設け、ＦＩＦＯメモリに格納される描画パターンデータを累積演算する累積演算手段を設け、かつ累積演算した累積データをＦＩＦＯメモリに格納し、ビットマップ変換手段に読まれる前記ＦＩＦＯメモリが格納する描画パターンデータを累積演算し、かつその累積演算結果と前記ＦＩＦＯメモリから読み出す累積データとを比較する累積演算チェック手段を設け、その比較はチップ単位毎の累積データをチップ単位で互いに比べることを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００１６】
図１は、本発明の電子ビーム描画装置の全体構成を主として電気回路の面から示す図である。描画データは、電子ビーム描画装置の全体を制御するコントローラ１０１によって、描画パターン発生回路１０２（描画パターン発生手段）に格納される。描画データは、描画パターン発生回路１０２により、描画パターンの展開などのいくつかの処理を行い、ビットマップ変換回路１０３（ビットマップ変換手段）に送られ、ラスタスキャンに同期したビットマップデータに変換される。ビットマップデータ展開回路１０３からは、ラスタスキャンに同期した画素ごとの濃淡データが出力される。ビットマップデータ展開回路１０３から出力される濃淡データは、露光時間制御回路１０４（露光時間制御手段）によって、電子ビーム照射時間（アンブランキング時間）に変換され、ブランキングアンプ１０５を介してブランキング電極１２１を駆動する。
【００１７】
一方、電子ビームの位置を制御する偏向信号は、コントローラ１０１から設定された、各種の条件にしたがって、偏向信号発生回路１０６で生成される。偏向信号発生回路１０６は、電子ビームをラスタスキャンするためのＸ／Ｙ方向の鋸歯状波データを発生させ、ＤＡＣ偏向アンプ１０７を介し、アナログ偏向信号となって、偏向器１２２を駆動する。
【００１８】
偏向信号発生回路１０６は、ラスタ偏向信号を生成するとともに、偏向歪の補正や、ステージ連続移動描画時の追従補正などを行う。また、本実施例では、偏向系の回路は一回路であらわしているが、多段偏向方式の電子ビーム描画装置に関しても、偏向信号発生回路１０６、ＤＡＣ偏向アンプ１０７、偏向器１２２が複数となり、同様な制御を行う。
【００１９】
電子ビーム描画装置の電子線鏡筒部（またはカラムという）１２０は、電子源１２３から出力される電子ビームを、ブランキング電極１２１でＯＮ／ＯＦＦ制御して、偏向器１２２をとおり、ステージ１２５に搭載されたウエハ（またはマスク用レティクル）１２４にビーム照射を行い、ＬＳＩパターンを描画する。
また、ステージ１２５は、ステージ制御回路１０８によって、連続移動するように制御している。
【００２０】
図２は、本発明の第１の実施例を表す図である。
【００２１】
この実施例の回路は、図１に累積演算回路２０３（累積演算手段）と、データ数計数回路２０５（データ数計数手段）、累積演算回路２０４と、データ数計数回路２０６を付加したものである。
【００２２】
描画パターン発生回路１０２から出力される描画データ（Ｘ／Ｙ座標データは、ＦＩＦＯメモリ２０１を介してビットマップ変換回路１０３に入力する。一方、描画パタン発生回路１０２の出力データは、累積演算回路２０３でＦＩＦＯメモリ２０１に入力されるデータの累積演算を行い、同時にデータ数計数回路２０５によって、ＦＩＦＯメモリ２０１に入力されたデータの総数を計数する。
【００２３】
また、ビットマップ変換回路１０３の出力データ（濃淡画像データ）は、ＦＩＦＯメモリ２０２を介して露光時間制御回路１０４に入力する。一方、ビットマップ変換回路１０３の出力データは、累積演算回路２０４でＦＩＦＯメモリ２０２に入力されるデータの累積演算を行い、同時にデータ数計数回路２０６によって、ＦＩＦＯメモリ２０２に入力されたデータの総数を計数する。
【００２４】
累積演算回路２０３、２０４で処理されたデータ、およびデータ数計数回路２０５、２０６で計数されたデータ数は、描画の区切り単位、例えばチップ単位ごとに、データバス２１０を介して前記コントローラ１０１に読み取られ、各チップの累積演算結果およびデータの総数が一致かどうかをチェックし、もし一致していない場合には、エラーを発生させる。
【００２５】
特に、ウエハに直接パターンを描画する電子ビーム直接描画装置では、ウエハ上に同一のチップを複数描画するため、チップ単位で累積データの一致をチェックすることは、描画データの変換などが間違いなく行われていることを診断する有効な手段となると同時に、描画装置の制御系の信頼性を向上することができる。
【００２６】
図３は、本発明の第２の実施例を表す図である。
【００２７】
描画パターン発生回路１０２から出力される描画データについて、累積演算回路３０１によって、累積演算を行い、描画データ３２１と累積データ３２２として累積演算結果をＦＩＦＯメモリ２０１に格納する。ＦＩＦＯメモリ２０１に格納されたデータは、ビットマップ変換回路１０３によって読み出され、同時に読み出しデータについても、累積演算チェック回路３０２（累積演算チェック手段）によって、読み出し描画データ３２３の累積演算を行い、かつＦＩＦＯメモリ２０２への書き込み時に格納された累積データ３２４と一致しているかどうかのチェックを行なう。
【００２８】
上記のようなチェックの動作を行なうことによって、描画パターンデータ発生回路から出力されたデータが、データの誤りやデータの欠落などの誤りが無くビットマップ変換回路に入力されていることを保証することができる。累積演算チェック回路３０２でチェックされたエラー出力は、上位のコントローラなどにエラー情報として送られる。
【００２９】
なお、この図３に示す実施例は、図２に示す実施例に追加するような構成にすることも可能である。
【００３０】
図４は、累積演算チェック回路３０２の詳細構成図である。ＦＩＦＯメモリ２０１から出力された描画データ３２２は、累積演算回路３１１により累積演算を行なう。
【００３１】
また、ＦＩＦＯメモリ２０１にデータの最後に入力された、入力時の累積演算データ３２４はレジスタ３１２に格納される。累積演算回路３１１（算出手段としての機能を有する）で算出された累積結果と、レジスタ３１２に格納された入力時累積データとは、比較回路３１４によって一致しているかどうかの比較処理を行い、不一致の場合にはエラー信号を出力する。
【００３２】
また、デコード回路３１３は、ＦＩＦＯメモリからの出力データが描画データか、データの最後に吹かされた累積演算データであるかどうかを判定するための回路である。
【００３３】
図５は、累積演算回路３０１、または累積演算回路３１１に関する詳細構成図である。累積演算回路３０１は、加算回路５０１とレジスタ５０２とによって、入力データの累積加算（シグマ演算）を行なう。セレクタ５０３は、ＦＩＦＯメモリ２０１に書き込むデータを選択するための回路であり、通常は描画データ（図中入力データ）が選択されており、データの区切りごとに、描画データの最後に付加されている累積データが選択されＦＩＦＯメモリ２０１に格納する。
【００３４】
図６は、累積演算回路３０１、に関する別の詳細構成図である。累積演算回路３０１は、排他論理回路５０５とレジスタ５０２とによって、入力データのビットごとの排他的論理和演算（ＥＯＲ演算）を行なう。その他は図５の動作と同様である。図５および図６にて演算された累積データは、セレクタ５０３を介してＦＩＦＯメモリ２０１に格納されると共に、データバス２１０を経由して描画制御コントローラ１０１に送られる。
【００３５】
図７は、ＦＩＦＯメモリ２０１や２０２に格納されたデータフォーマットを表す図である。データは、ＤＡＴＡ１（例えばＸ座標）、ＤＡＴＡ２（例えばＹ座標）のほかにデータの属性を表すＣＯＤＥとパリティービットＰを有している。ＣＯＤＥは、ＦＩＦＯメモリ２０１のデータが、描画データであるか、制御データであるか、累積データであるかなどの識別ができる構成となっている。
【００３６】
図８は、転送データのＣＯＤＥの一例を示した図であり、開始コードの場合にはＣＯＤＥ＝１、描画データの場合ＣＯＤＥ＝２、終了コードの場合ＣＯＤＥ＝Ａ、累積演算データの場合ＣＯＤＥ＝Ｆというような構成となっており、このＣＯＤＥを識別することによって、データの属性が分かるようになっている。
【００３７】
図９は、図３のＦＩＦＯメモリ２０１に入力されたデータの例を示した図である。データは、開始コード（１０００００００）ｈから始まり、図形データ１（２１ＡＡ０２５５）ｈ〜図形データ１０（２８０Ａ０６５４）ｈ、終了コード（Ａ０００００００）ｈであり、開始コードから終了コードまでの総加算データの下位２８ｂｉｔを累積データ（累積データ（１））（Ｆ９９８Ｆ０２８）ｈとして入力する。
【００３８】
ＦＩＦＯメモリ２０１のデータを読み出すときに、開始コードから終了コードまでの累積演算を同様な方法で行い、最後に読み出された累積データと比較することによって、一致していれば正常、不一致の場合にはデータ異常が発生していることを検出する。データ異常としては、（１）複数データのうちいくつかのデータが欠落している、（２）データの欠落はない（デー多数は合っている）がデータ自信にビット落ちなどの異常がある、などを検出することができる。
【００３９】
図１０は、データが欠落している場合の一例である。図９の中で、データ８（２３ＦＦ１５４５）ｈが欠落した場合、累積データは、累積データ（２）（Ｆ５９９ＤＡＥ３）ｈとなり、本来の累積データ（１）（Ｆ９９８Ｆ０２８）ｈと一致せずエラーを検出する。
【００４０】
図１６は、ウエハ上に配置されたＬＳＩパターンの一例を示す図である。
【００４１】
ウエハ１２０１には、複数のＬＳＩチップ１２０２が配置されており、これらのチップを電子ビーム描画装置で描画する場合、チップの中をさらに細かくフィールド１２０３、サブフィールド１２０４に分割し、サブフィールド毎に、図９に示すような、開始コードで始まり終了コードおよび累積データで終わる一連のデータが入力されている。
【００４２】
たとえば、図において、サブフィールド１２１３でデータエラーが発生したとすると、その時点のサブフィールド位置から、フィールド位置は、フィールド１２１２であり、チップ位置はチップ１２１１であることをエラー履歴として収集する。この収集は上位コントローラ等に備わる収集手段で行なう。
【００４３】
このように、このデータの区切り（開始コードから累積データまで）単位でエラーを検出することによって、描画中にウエハ上のどのチップのどのフィールドのどのサブフィールドで、データ異常が発生したかを検出できるため、描画不良の位置を特定することができる。
【００４４】
図１１は、従来装置の構成を示す図である。従来装置の制御系は、全体を制御するコントローラ１０１を中心として、描画パターンを記憶し出力する描画パターン発生回路９０２、描画パターンから描画可能な図形へデータ処理を行う図形データ処理回路９０３、各図形のビーム照射時間を制御する露光時間制御回路９０４、図形データから図形位置にビームを位置決めするための偏向信号発生回路９０６の各ユニットから構成されている。
【００４５】
一方、露光時間制御回路から出力された信号は、ブランキングアンプ１０５を介し、ブランキング電極１２１を駆動する。また、偏向信号発生回路から出力された信号は、ＤＡＣ偏向アンプ１０７を介して、偏向電極１２２を駆動する。
【００４６】
従来装置は、可変整形ビームによる図形描画方式を採用しており、最終的に描画される矩形や斜辺図形の図形（ショットという）の数は、ブランキングのＯＮ／ＯＦＦ回数と一致する。
【００４７】
従来装置においては、露光時間制御回路９０４から出力されるブランキングパルスを計数するために、ショット数計数回路９０５を設けており、ブランキングのＯＮ／ＯＦＦ回数（ビーム照射された回数）計数することで描画図形に抜けがないことを確認する方法となっていた。
【００４８】
図１２は、従来装置における図形描画の一例を示す図である。
【００４９】
従来の可変整形によるベクタスキャン方式の描画装置においては、台形形状をした描画図形１００１は、三角形１００２や１００４と四角形１００３に分割され、さらに、図１３に示すように、三角形はさらに微細な矩形１００５や１００７に分割され、四角形も一度に照射可能な電子ビームの大きさの矩形に分割されて描画が行われる。ショット数計数回路９０５は、上記の微細矩形１００５、１００７や矩形１００６の数を計数する。
【００５０】
図１５は、ラスタスキャン方式の描画の一例を示す図である。
【００５１】
図１４に示す台形図形１１０１は、スポット（丸型）ビーム１１０２を用いて、ビームスキャン方向１１０３に示すように、左から右へ、下から上へ逐次ラスタスキャンすることで描画を行う。
【００５２】
ラスタスキャン方式の描画の場合は、台形エリア１１０４の部分では、ビームをオン状態とし、その他の部分１１０５の領域では、ビームをオフ状態として図形を描画する。
【００５３】
このような方法においては、ビームのＯＮ／ＯＦＦ回数を計数するだけでは、正常に描画が行われているかどうかを診断することは難しく、操作信号データとブランキング時間データそのものが正常にアナログ回路に伝送されているかを診断する必要がある。
【００５４】
図１７は、アナログ回路へのデータ転における本発明の一実施例である。ブランキング時間制御信号発生回路１３０２は、描画データ発生回路１３０１から出力されるデータにしたがって、ラスタスキャンに同期したブランキング時間を発生させる。
【００５５】
一方、偏向信号発生回路１３０３は、描画データ発生回路１３０１からの情報をもとにラスタスキャン信号を発生させる。ブランキング時間制御信号発生回路１３０２は、電子ビーム走査の同期して、電子ビームの各位置における電子ビームの照射時間データをブランキングアナログ制御信号発生回路１３０４に転送し、電子ビームのＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
【００５６】
また、偏向信号発生回路１３０３の出力データは、アナログ偏向信号発生回路に転送され、電子ビームのラスタスキャンのための偏向信号を発生させる。
【００５７】
このような回路において、ブランキング制御時間発生回路１３０２とブランキングアナログ制御信号発生回路１３０４との間に累積演算回路（１）１３０６を設け、さらに、偏向信号発生回路１３０３とアナログ偏向信号発生回路１３０５との間に累積演算回路（２）１３０７を設ける。
【００５８】
累積演算回路（１）１３０６および累積演算回路（２）１３０７は、出力されているデータの全てについて、累積演算を行い、データの区切りの最後に累積結果データをそれぞれのアナログ回路に転送し、アナログ回路（偏向信号発生回路１３０３／アナログ偏向信号発生回路１３０５）では、前記図３にて説明したと同様の方法によって、累積データのチェックを行う。
【００５９】
こうすることによって、データの数だけのチェックではなく、データの信憑性をチェックできるため、より信頼性の高い電子ビーム描画装置を提供できる。
【００６０】
【発明の効果】
本発明により、描画データの処理ユニット間のデータ転送のチェックや診断を行うことができるため、より信頼性の高い電子ビーム描画装置を提供することができる。また、データのエラーを検出することで、その発生場所が特定できるため、描画結果の診断を行うことができるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電子ビーム描画装置の全体構成を主として回路の面から示す図。
【図２】本発明に係る第１の実施例を表す図。
【図３】本発明に係る第２の実施例を表す図。
【図４】本発明に係るもので、累積演算チェック回路３０２の詳細構成図。
【図５】本発明に係るもので、累積演算回路に関する詳細構成図。
【図６】本発明に係るもので、累積演算回路に関する別の詳細構成図。
【図７】本発明に係るもので、ＦＩＦＯメモリ格納されたデータフォーマットを表す図。
【図８】本発明に係るもので、転送データのＣＯＤＥの一例を示した図。
【図９】本発明に係るもので、ＦＩＦＯメモリ２０１に入力されたデータの例を示した図。
【図１０】本発明に係るもので、データが欠落している場合の一例を示す図。
【図１１】従来装置の構成を示す図。
【図１２】従来装置における図形描画の一例を示す図。
【図１３】従来装置の微細矩形による描画図形の一例を示す図。
【図１４】本発明に係るもので、台形形状の図形描画の一例を示す図。
【図１５】本発明に係るもので、ラスタスキャン方式の描画の一例を示す図。
【図１６】本発明に係るもので、ウエハ上に配置されたＬＳＩパターンの一例を示す図。
【図１７】アナログ回路へのデータ転における本発明の一実施例。
【符号の説明】
１０１…コントローラ、１０２…描画パターン発生回路、１０３…ビットマップ変換回路、１０４…露光時間制御回路、１０５…ブランキングアンプ、１０６…偏向信号発生回路、１０７…ＤＡＣ偏向アンプ、１２０…電子ビーム描画装置のカラム、１２１…ブランキング電極、１２２…偏向器、１２３…電子源、１２４…ウエハ、１２５…ステージ、２０１…ＦＩＦＯメモリ、２０２…ＦＩＦＯメモリ、２０３…累積演算回路、２０４…累積演算回路、２０５データ数計数回路、２０６…データ数計数回路、３０１…累積演算回路、３１１…累積演算回路、３０２…累積演算チェック回路、３１２…レジスタ、３１３…デコード回路、３１４…比較回路、５０１…加算回路、５０２…レジスタ、５０３…セレクタ、５０５…排他論理回路、９０２…描画パターン発生回路、９０３…図形処理回路、９０４…露光時間制御回路、９０５…ショット数計数回路、１００１…描画図形、１００２…描画図形、１００３…描画図形、１００４…描画図形、１００５…微細な矩形、１００６…微細な矩形、１００７…微細な矩形、１１０１…台形図形、１１０２…スポットビーム、１３０１…描画データ発生回路、１３０２…ブランキング時間制御信号発生回路、１３０３…偏向信号発生回路、１３０４…ブランキングアナログ制御信号発生回路、１３０５…アナログ偏向信号発生回路、１３０６…累積演算回路（１）、１３０７…累積演算回路（２）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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