(57)【要約】【課題】反射半透過型の電気光学装置に用いた場合に好適な電気光学装置用基板、その製造方法、その基板を含む電気光学装置、および、その電気光学装置を含む電子機器を提供する。【解決手段】基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板およびその基板を含む電気光学装置等であって、基板と、反射層との間に、基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層を備えるとともに、当該位置調整層の反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設ける。【選択図】　図１
2004037945.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板において、
前記反射層と、前記着色層との間に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層を備えるとともに、
当該位置調整層の前記反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設けることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
前記位置調整層の厚さをｔ１とし、前記着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項３】
前記位置調整層の端部をテーパ状とすることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】
前記位置調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項５】
前記着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の前記反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設けることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項６】
前記着色層または保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面に凹部を設けることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項７】
前記基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、前記反射層の開口部を設けることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項８】
前記反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、その上の反射膜とを含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項９】
前記反射層の開口部を実質的に覆う着色層と、前記反射層の反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色剤から構成することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項１０】
前記反射層の開口部を実質的に覆う着色層の下方に、当該着色層の厚さを調整するための厚さ調整層を設けることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項１１】
基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板の製造方法において、
前記基板上に、反射層を形成する工程と、
当該反射層上に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層であって、前記反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を有する位置調整層を形成する工程と、
当該位置調整層上に、着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１２】
対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含み、
当該反射層と、着色層との間に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層を備えるとともに、当該位置調整層の前記反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設けることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、反射部および開口部を有する反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、第２の基板と、着色層と、を含み、
前記一つの電気光学装置用基板における反射層上に、前記電気光学的物質の厚さを調整するための厚さ調整層を備えるとともに、当該厚さ調整層の前記反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設けることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
前記反射層の反射部と重なる領域における電気光学的物質の厚さをｔａとし、前記反射層の開口部と重なる領域における電気光学的物質の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することを特徴とする請求項１２または１３に記載の電気光学装置。
ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａ
【請求項１５】
前記電気光学的物質の屈折率異方性をΔｎとしたとき、下記式を満足することを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ
【請求項１６】
請求項１２〜１５のいずれか一項に記載された電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。特に、反射半透過型の電気光学装置に用いた場合に好適な電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、自然光や室内照明光等の外光を表面側から入射させ、この光を反射させて表示を行う反射型表示と、光源からの光を裏面側から入射させて表示を行う透過型表示とを必要に応じて切換えることのできる、いわゆる反射半透過型電気光学装置が知られている。
【０００３】
このような従来の液晶表示パネルの典型例を図２３に示すが、反射半透過型としての液晶表示パネル１００の構造を模式的に示している。この液晶表示パネル１００は、対向する第１の基板１０１と、第２の基板１０２とを、接着剤等のシール材１０３によって貼り合せ、かかる第１の基板１０１と、第２の基板１０２との間に形成された空間に、液晶材料１０４を封入した構成のセル構造を備えている。そして、第１の基板１０１の内面上には、画素毎に開口部１１１ａを備えた反射層１１１が形成され、この反射層１１１の上に、着色層１１２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂおよび表面保護層１１２ｐを備えたカラーフィルタ基板１１２がさらに形成されている。また、表面保護層１１２ｐにおけるカラーフィルタ基板１１２が設けられた反対側には、液晶材料１０４を駆動させるべく電圧を印加するための透明電極１１３が形成されている。
【０００４】
一方、第２の基板１０２の内面上には、対極としての透明電極１２１が形成されており、対向する基板１０１上の透明電極１１３に対して交差するように配置されている。そして、基板１０１上に形成された透明電極１１３、および基板１０２上に形成された透明電極１２１のそれぞれの表面に、配向膜や硬質透明膜（保護膜）などが、必要に応じて適宜形成されている。
また、基板１０２の外面上には、位相差板（１／４波長板）１０５および偏光板１０６が順次配置され、基板１０１の外面上には、別の位相差板（１／４波長板）１０７および偏光板１０８がそれぞれ順次配置されている。
【０００５】
以上のように構成された液晶表示パネル１００は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に使用された場合、その背後にバックライト１０９が取付けられることになる。この液晶表示パネル１００は、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路Ｒに沿って外光が液晶材料１０４を透過した後、反射層１１１によって反射され、再び液晶１０４を透過した後、外部に放出される。したがって、液晶表示パネル１００における外光による反射型表示が視認されることになる。
一方、夜間や野外などの暗い場所では、バックライト１０９を点灯させることにより、バックライト１０９の照明光のうち開口部１１１ａを通過した光が、透過経路Ｔに沿って液晶表示パネル１００を通過して放出される。したがって、液晶表示パネル１００におけるバックライト１０９による透過型表示が視認されることになる。
【０００６】
また、特開平１１−２４２２２６号公報には、図２４に示すように、視認性に優れ、高解像度表示が可能であり、かつ、反射光と透過光を共に表示に利用することができる液晶表示装置を提供することを目的として、液晶層における表示に利用される少なくとも二種類の異なる配向状態をとらせるための配向機構を具備した液晶表示装置３００が開示されている。
より具体的には、液晶層１１における表示に利用される少なくとも二種類の異なる配向状態をとらせるための配向機構、例えば、反射表示部１９と、透過表示部２０とで異なる膜厚に形成された絶縁膜２１を具備し、かつ、異なる配向状態を示す領域のうち少なくとも一つの領域に反射手段１３が配置されている。さらに、その配向状態を示す領域としての液晶表示を、反射表示を行う反射表示部１９と、透過表示を行う透過表示部２０との両方において、同時に用いることを特徴とした液晶表示装置３００が開示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図２３に示すような従来の反射半透過型の液晶表示パネル１００において、反射型表示を明るくするためには、反射層の開口部の面積を小さくする必要があるが、そのために透過型表示の明るさが低下してしまうという新たな問題が見られた。
特に、反射型表示で視認される反射光は、液晶層を２度通過した光であるのに対して、透過型表示において透過光は液晶層を１度だけ通過するので、光透過状態において反射光と透過光の双方を共に有効に表示に利用し、明るく視認できるように光学的に構成することができなかった。例えば、通常は暗くなりやすい反射型表示において反射光を有効に液晶パネルから出射できるように光学的に構成されることが多いことから、透過型表示を実現する透過光の利用効率が低くなっていた。
すなわち、液晶パネルに入射する光量に対して、液晶パネルを透過して出射する光量の比が低いため、反射層の開口部の面積を低減しすぎると透過型表示が暗くなるという問題が見られた。
したがって、反射型表示と透過型表示とを共に明るく構成することはきわめて困難であり、反射層の開口部の面積を低減させて反射型表示を明るくすると、透過型表示の明るさを確保するためにバックライトの照明光量を大きくする必要が生じ、その結果、電気光学装置の小型化、薄型化、軽量化、あるいは、消費電力の低減といった、携帯型電子機器において重要な目標の達成を妨げるという問題が見られた。
【０００８】
また、従来の反射型表示では、一般的に表示の明るさが不足しがちであるので、カラーフィルタの光透過率を高く設定して、表示の明るさを確保しなければならないという問題が見られた。
しかしながら、カラーフィルタの光透過率を高く設定すると、今度は、カラーフィルタを１回だけ透過する光に基づく透過型表示において十分な彩度を得ることができなくなるという問題が見られた。
さらにまた、反射型表示と、透過型表示とは、それぞれ光がカラーフィルタを通過する回数が異なるので、反射型表示において認識される画像の色彩と、透過型表示において認識される画像の色彩とが大きく異なり、違和感を与えるという問題が見られた。
そこで、反射層の開口部に位置する着色層と、反射層の反射部に位置する着色層とにおいて、フォトリソグラフィ技術等を用いて、それぞれを構成する着色剤の種類を異ならせるという試みもなされている。しかしながら、多色の着色層を形成する場合、工程数が著しく増えるという製造上の問題が見られた。
【０００９】
また、図２４に示される反射半透過型の液晶表示装置３００は、配向機構として、基材１５と反射層１３との間に、厚さが異なる絶縁層２１を設ける必要があり、かかる絶縁層２１上に、反射層１３を均一な厚さの薄膜として形成することが困難になるという問題が見られた。
特に、反射層に光散乱機能を付与するために凹凸を設ける場合があるが、反射層の下地として、厚さが異なる絶縁層を設けた場合、反射層を均一な凹凸を有する薄膜として形成することは実質的に困難であった。
【００１０】
そこで、本発明は、上記問題点を解決するものであり、その課題は、使用する着色剤の種類を少なくしたままで、反射型表示および透過型表示の明るさおよび色再現性をより高い次元で両立させることのできる電気光学装置の構成部品や構造等を効率的に提供することにある。
すなわち、本発明は、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく、認識される色彩の差異を極めて少なくすることができる電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学装置用基板によれば、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板において、反射層と、着色層との間に、基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層を備えるとともに、当該位置調整層の反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設けたことにより、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、位置調整層を所定位置に設けることによって、電気光学装置用基板の光透過部における着色層上に凹部が容易に形成される。そのため、反射半透過型の電気光学装置を形成した場合に、反射層の開口部における電気光学物質の厚さがその他の部分よりも厚くなる。したがって、透過型表示を構成する透過光に作用する電気光学物質のリタデーション値（電気光学物質層透過時の光学的作用値）が、反射型表示を実現する反射光に作用する電気光学物質のリタデーション値（電気光学物質層往復時の合計の光学的作用値）に近くなるため、透過型表示における透過光の利用効率を従来よりも高めることができる。よって、透過光の利用効率が高まることによって、透過型表示を得るための照明光量を低減することが可能になり、また、反射層の開口部の面積を低減して反射型表示をより明るくすることも可能になる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、位置調整層の厚さをｔ１とし、着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、着色層の表面、ひいては着色層上に形成した保護層や配向膜上にも容易に凹部を形成することができる。したがって、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれにおける色再現性と、明るさのバランスを良好なものとすることができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、位置調整層の端部をテーパ状とすることが好ましい。
このように構成することにより、位置調整層に対して、着色層をより密着して形成することができる。
【００１４】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、位置調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、位置調整層における光吸収を抑制し、反射層に到達する光量および反射層から外部に取り出される光量の低下を有効に防止することができる。
【００１５】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設けることが好ましい。
このように特定の保護膜を備えた構成とすることにより、光の透過を妨げることなく、電気光学装置用基板の機械的強度や耐熱性を高めることができる。
【００１６】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、着色層または保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面に凹部を設けることが好ましい。
このように構成することにより、電気光学物質が凹部内に容易に入り込むことができ、反射層の開口に重なる領域における電気光学物質の厚さをさらに容易に調整することができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、反射層の開口部を設けることが好ましい。このように構成することにより、電気光学物質が凹部内に容易に入り込むことができ、反射層の開口に重なる領域における電気光学物質の厚さをさらに容易に調整することができる。
【００１８】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、反射膜とを含むことが好ましい。
このように構成することにより、外部から入射した光が、反射層において過度に反射することを有効に防止することができる。
【００１９】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、反射層の開口部を実質的に覆う着色層と、反射層の反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色剤から構成することが好ましい。
このように構成することにより、比較的種類の少ない着色剤を使用した場合であっても、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれにおける色再現性と、明るさのバランスを良好なものとすることができる。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、反射層の開口部を実質的に覆う着色層の下方に、当該着色層の厚さを調整するための厚さ調整層を設けることが好ましい。
このように構成することにより、反射層の開口部を実質的に覆う着色層の厚さを容易に調整することができる。したがって、厚さが適当な着色層を介して、反射層の開口部を光透過させた場合に、十分かつ均一に光吸収をして、色再現性に優れた着色光を外部に取り出すことができる。
【００２１】
また、本発明の別の態様は、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板の製造方法において、
基板上に、反射層を形成する工程と、
当該反射層上に、基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層であって、反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を有する位置調整層を形成する工程と、
当該位置調整層上に、着色層を形成する工程と、
を含む電気光学装置用基板の製造方法が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、得られた電気光学装置用基板によれば、電気光学装置用基板の光透過部における着色層上に凹部が容易に形成される。そのため、反射半透過型の電気光学装置を形成した場合に、反射層の開口部における電気光学物質の厚さがその他の部分よりも厚くなる。
したがって、透過型表示を構成する透過光に作用する電気光学物質のリタデーション値が、反射型表示を実現する反射光に作用する電気光学物質のリタデーション値に近くなるため、透過型表示における透過光の利用効率が高い電気光学装置用基板を効率的に得ることができる。
よって、このような電気光学装置用基板を製造することにより、透過光の利用効率が高まることによって、透過型表示を得るための照明光量を低減することが可能になり、また、反射層の開口部の面積を低減して反射型表示をより明るくすることも可能になる。
【００２２】
また、本発明の別の態様は、対向する一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
一つの電気光学装置用基板が、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含み、当該反射層と、着色層との間に、基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層を備えるとともに、当該位置調整層の前記反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部が設けてある電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、得られた電気光学装置によれば、透過型表示を構成する透過光に作用する電気光学物質のリタデーション値が、反射型表示を実現する反射光に作用する電気光学物質のリタデーション値に近くなる。
したがって、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれ明るい上に色再現性に優れた画像表示が得られる電気光学装置、例えば、反射半透過型の液晶表示装置等を提供することができる。
【００２３】
また、本発明の別の態様は、対向する一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
一つの電気光学装置用基板が、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、基板と、着色層と、を含み、
一つの電気光学装置用基板における反射層上に、電気光学的物質の厚さを調整するための厚さ調整層を備えるとともに、当該厚さ調整層の反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部が設けてある電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、得られた電気光学装置によれば、透過型表示を構成する透過光に作用する電気光学物質のリタデーション値が、反射型表示を実現する反射光に作用する電気光学物質のリタデーション値に近くなる。
したがって、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれ明るい上に色再現性に優れた画像表示が得られる電気光学装置、例えば、反射半透過型の液晶表示装置等を提供することができる。
【００２４】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射層の反射部と重なる領域における電気光学的物質の厚さをｔａとし、反射層の開口部と重なる領域における電気光学的物質の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することが好ましい。　ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００２５】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気光学的物質の屈折率異方性をΔｎとしたとき、下記式を満足することが好ましい。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００２６】
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えたことを特徴とする電子機器である。
このように構成することにより、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれ明るい上に、色再現性に優れた画像表示が得られる電気光学装置を利用した電子機器を効率的に提供することができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００２８】
［第１実施形態］
図１および図２を参照して、本発明の第１実施形態の電気光学装置用基板およびそれを用いた電気光学装置について、カラーフィルタ基板およびそれを用いた液晶パネルを例に採って説明する。
ここで、図１は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図である。また、図２（ａ）は、液晶パネル２００において、反射層２１２と、着色層２１４との間に、基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えるとともに、当該位置調整層２１３において、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を有することを示す断面図である。さらに、図２（ｂ）は、着色層２１４が、反射層２１２の開口部２１２ａおよび反射部２１２ｒを実質的に覆うように配置されているカラーフィルタ基板２１０の部分拡大平面図である。
【００２９】
１．液晶パネルの基本構造
図１に示される電気光学装置を構成する液晶パネル２００は、いわゆる反射半透過方式のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることが好ましい。
また、当該液晶パネル２００は、用途に応じて、パッシブマトリクス型構造のかわりに、反射半透過方式のアクティブマトリクス型構造、例えば、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｄｉｏｄｅ）やＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のアクティブ素子（能動素子）を用いた液晶パネルであっても良い。
【００３０】
（１）セル構造
図１に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１の基板２１１を基体とする電気光学装置用基板、すなわち、カラーフィルタ基板２１０と、これに対向して、実質的に同様の構成を有する第２の基板２２１を基体とする対向基板２２０とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられていることが好ましい。
そして、図２に示すように、カラーフィルタ基板２１０と、対向基板２２０とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
【００３１】
（２）配線
図１に示すように、第１の基板２１１の内面であって第２の基板２２１に対向する表面上に、並列した複数のストライプ状の透明電極２１６を形成し、第２の基板２２１の内面上には、当該透明電極２１６に直交する方向に並列した、複数のストライプ状の透明電極２２２を形成することが好ましい。また、透明電極２１６を、配線２１８Ａに対して接続するとともに、もう一方の透明電極２２２を、配線２２８に対して接続することが好ましい。
そして、透明電極２１６と透明電極２２２とは相互に直交するため、その交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域（Ａ）を構成することになる。
【００３２】
また、図１に示すように、第１の基板２１１は、第２の基板２２１の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、この基板張出部２１０Ｔ上には、配線２１８Ａと、配線２２８に対して、シール材２３０の一部で構成される上下導通部を介して接続された配線２１８Ｂと、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部２１９と、が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部２１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ、２１８Ｂおよび入力端子部２１９に対して接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子（ＩＣ）２６１が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部２１０Ｔの端部には、入力端子部２１９に接続されるように、フレキシブル配線基板２６３が実装されていることが好ましい。
【００３３】
（３）位相差板および偏光板
図１に示される液晶パネル２００において、図２に示すように、第１の基板２１１の外面の所定位置に、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
そして、第２の基板２２１の外面においても、鮮明な画像表示が認識できるように、別の位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
【００３４】
２．カラーフィルタ基板
次いで、図１および図２、あるいは図３〜図１３を適宜参照しながら、本発明の電気光学装置用基板としての構造的特徴や動作を、カラーフィルタ基板２１０を例に採って詳細に説明する。
【００３５】
（１）位置調整層
▲１▼位置
本発明の電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板２１０は、図４〜図６に示すように、反射層２１２と、着色層２１４との間であって、基板表面からの着色層２１４の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えることを特徴とする。
この理由は、図１３に示すように、着色層２１４の高さ位置を調整するための部材としての位置調整層２１３を備えることにより、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置であって、かつ、着色層２１４（着色層２３３）の表面に、容易に凹部２３７を設けることができるためである。したがって、当該凹部２３７に影響されて、液晶材料２３２が入り込むために、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置の液晶材料２３２の厚さ（図１３中、記号ｂで表示した厚さ）を、反射層２１２の反射部２１２ｒに対応した位置の液晶材料２３２の厚さ（図１３中、記号ａで表示した厚さ）よりも厚くすることができる。すなわち、透過型表示における液晶材料２３２のリタデーション値（液晶層透過時の光学的作用値）が、反射型表示における液晶材料２３２のリタデーション値（液晶層往復時の合計の光学的作用値）に近くなるため、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
よって、着色層２１４の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えることにより、透過光の利用効率が高まり、透過型表示を得るための照明光量を低減することが可能になる。また、反射層２１２の開口部２１２ａの面積を低減した場合であっても反射型表示をより明るくすることが可能になる。
【００３６】
▲２▼動作モデル
ここで、図３を参照して、位置調整層によって、液晶材料（液晶層）の厚さを変えた場合の効果をモデル的に説明する。上述したように、開口部Ｒａを備えた反射層Ｒの上に着色層Ｃを形成し、その上に透光層Ｔを形成し、この透光層Ｔに、反射層Ｒの開口部Ｒａ上に重なるように、開口部を設けることにより、開口部Ｒａと平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）を、それ以外の領域の液晶層の厚さ（記号ａ）の２倍にしたとする。また、説明の都合上、ホモジニアス方式の液晶セルが構成されているとする。そして、この液晶セルのリタデーションがΔｎ・ａ＝λ／４、Δｎ・ｂ＝λ／２（Δｎは液晶の光学異方性、λは光の波長）であるとする。
【００３７】
そして、液晶セルが光透過状態にある場合、透過型表示では、図３中に記号（Ａ）で示すように、バックライト等からの照明光が偏光板Ｐ２を通過して直線偏光となる。次いで、位相差板（１／４波長板）Ｄ２を通過することにより、例えば右回りの円偏光となった後に、セル厚Ｄ２の液晶層を通過することから位相差がさらに１／２波長進んで左回りの円偏光となる。次いで、さらに位相差板Ｄ１を通過して、元の直線偏光になり、偏光板Ｐ１を通過する。
一方、液晶セルが光透過状態にあるとき、反射型表示では、図３中に記号（Ｂ）で示すように、外光が偏光板Ｐ１を通過することにより直線偏光となる。次いで、位相差板（１／４波長板）Ｄ１を通過することにより、例えば右回りの円偏光になった後、セル厚Ｄ１の液晶層を往復２度通過することから、位相差がさらに１／２波長進んで左回りの円偏光となる。次いで、再び位相差板Ｄ１を通過することにより、元の直線偏光に戻って偏光板Ｐ１を通過する。
【００３８】
このような透過型表示においては、仮に通過する液晶層の厚さが、図３中に示す液晶層の厚さ（記号ｂ）の半分であるとすると、そのリタデーションはλ／４となる。そのため、図３中に記号（Ｃ）で示すように、照明光が偏光板Ｐ２、位相差板Ｄ２を経て液晶層を通過した後の偏光状態は、当初とは直交する方向の直線偏光となる。次いで、位相差板Ｄ１を通過して左回りの円偏光となり、さらに偏光板Ｐ１を通過する。このとき、偏光板Ｐ１を通過できる偏光成分は、液晶層の厚さがｂのときに通過できる光量のほぼ半分となる。
したがって、本実施形態のような反射半透過型の液晶表示パネルの場合には、反射層の開口部と平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）がそれ以外の領域の液晶層の厚さ（記号ａ）より厚くなると、光透過状態における光透過率が高くなり、特に、開口部と平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）が、それ以外の領域の液晶層の厚さ（記号ａ）のほぼ２倍になると、光透過量もまたほぼ２倍になる。
【００３９】
なお、液晶セルがホモジニアス方式ではなく、液晶層にツイストが存在すると透過率が向上しない場合もあるが、例えば４０度ツイストの液晶では、開口部と平面的に重なる領域の液晶厚をそれ以外の２倍にすれば４０％程度の透過率の向上が得られる。一般的に、反射層の開口部と重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）は、反射面上の液晶層の厚さ（記号ａ）よりも大きく、２ａ以下であることが好ましい。
この理由は、このように構成することによって、透過型表示に対する透過光の利用効率がさらに向上し、透過型表示を明るくすることができるためである。したがって、例えば、バックライトの照明光量を低減することができるため、バックライトの小型化、薄型化、軽量化や消費電力の低減を図ることが可能になる。また、反射層の開口部の面積を従来よりも低減することができるので、反射型表示の明るさを向上させることも可能になる。
【００４０】
また、第１実施形態においては、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域において薄肉部２１５ｃが存在する場合があるが、基本的に表面保護層２１５は透明であるため、光学的には第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
さらに、第１実施形態においては、着色層２１４が開口部２１２ａと重なる領域においても表面保護層２１５によって覆われているため、着色層２１４をより確実に保護することが可能になる。
【００４１】
▲３▼形態
また、第１実施形態においては、位置調整層２１３における反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域に、図４（ａ）に示すように開口部を設けたり、図４（ｂ）に示すように実質的に光が通過できるための薄肉部を設けたりすることを特徴とする。
この理由は、このように構成することにより、位置調整層２１３に起因した反射層２１２の開口部２１２ａを透過する光の吸収を有効に防止することができるためである。
【００４２】
また、図４（ａ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層２１３の端部を垂直面とすることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、反射層２１２の開口部２１２ａに該当する光透過部と、反射層２１２の反射部２１２ｒに該当する光反射部とが明確に区別されるため、透過型表示および反射型表示において得られる着色のバランスを良好なものとすることができる。
【００４３】
また、図５（ａ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の端部に階段部を設けることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層に形成される凹部の断面を、階段状に制御することができるとともに、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大して、密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４４】
また、図５（ｂ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の端部に緩やかな円錐状の斜面を設けることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層に形成される凹部の断面を、同様に円錐状に制御することができるとともに、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大して、密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４５】
また、図５（ｃ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の薄肉部にこぶ状の突起物を設けることが好ましい。
この理由は、位置調整層の薄肉部をこのような形状とすることにより、着色層を構成する着色剤を容易に流動させて、凹部の形状を再現良く、かつ迅速に制御することができるためである。また、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大するため、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４６】
また、図６（ａ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層における薄肉部にピラミッド状の突起物を設けることも好ましい。
この理由は、このように構成することにより、反射層の開口部を透過する光の指向性が高まり、鮮明な画像が認識できるためである。また、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大するため、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４７】
また、図６（ｂ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層２１３の端部に斜面を設けてテーパ状とすることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層を形成する際に、空気等を巻き込むことが少なくなり、位置調整層上に精度良く形成することができるとともに、容易になじんで、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４８】
また、図６（ｃ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の端部に基板に向かって拡大する方向の斜面を設けて逆テーパ状とすることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層に形成される凹部の断面を、結果として垂直面あるいは垂直面に近い形状とすることができるためである。また、着色層の一部が位置調整層の下方に進入しているため、着色層と、位置調整層との間の接触面積が増大するとともに、アンカー効果によって、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４９】
▲４▼厚さ
また、位置調整層の厚さをｔ１とし、着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるｔ１／ｔ２で表される比率が０．１未満の値になると、反射層の開口部に対応した位置の液晶材料の厚さを、反射層の反射部に対応した位置の液晶材料よりも厚くすることが困難になる場合があるためである。
一方、かかるｔ１／ｔ２で表される比率が１０を超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなったり、着色層自体の形成、あるいは着色層上に透明電極や配向膜を均一な厚さに形成したりすることが困難になる場合があるためである。
したがって、着色層等の形成がより容易となるばかりか、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスがより良好となることから、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．８〜５の範囲内の値とすることがより好ましく、ｔ１／ｔ２で表される比率を１〜３の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５０】
また、位置調整層の厚さを具体的に、０．１〜１００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる位置調整層の厚さが０．１μｍ未満の値になると、反射層の開口部に対応した位置の液晶材料の厚さを、反射層の反射部に対応した位置の液晶材料よりも厚くすることが困難になる場合があるためである。
一方、かかる位置調整層の厚さが１００μｍを超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなったり、着色層自体の形成、あるいは着色層上に透明電極や配向膜を均一な厚さに形成したりすることが困難になる場合があるためである。
したがって、反射型表示および透過型表示のそれぞれにおける色再現性のバランスがより良好となることから、厚さ調整層の厚さを１〜５０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２〜３０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５１】
また、位置調整層の厚さに関して、反射層の反射部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔａとし、反射層の開口部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することが好ましい。
ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００５２】
さらに、位置調整層の厚さに関して、液晶材料の屈折率異方性を考慮して定めることが好ましい。すなわち、反射層の反射部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔａとし、反射層の開口部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔｂとし、液晶材料の屈折率異方性をΔｎとしたときに、下記式を満足することが好ましい。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００５３】
▲５▼光透過率
また、位置調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることが好ましい。この理由は、かかる可視光透過率が９０％未満の値になると、位置調整層における光吸収量が多くなって、明るい画像が認識できない場合があるためである。したがって、位置調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることにより、位置調整層における光吸収を効果的に抑制し、反射層に到達する光量および反射層から外部に取り出される光量の低下を有効に防止することができる。
ただし、かかる可視光透過率の値が過度に大きいと、使用可能な材料や添加剤の種類が過度に制限される場合がある。
したがって、位置調整層の可視光透過率を９２〜９９．９％の範囲内の値とすることがより好ましく、９５〜９９．５％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５４】
（２）反射層
図１および図２に示すように、第１の基板２１１の表面には、反射層２１２が形成されている。この反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、反射基部とから構成することが好ましい。また、反射層２１２には、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部２１２ａとが設けられていることが好ましい。
そして、反射層２１２の上には、画素毎に着色層２１４が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる表面保護層（オーバーコート層）３１５が被覆していることが好ましい。この着色層２１４と表面保護層２１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。
【００５５】
また、図１１に、反射層２１２の構成の好適例を示す。この反射層の例では、基材７４の表面に独立して形成された複数の凸部を有する第１の反射基部（例えば、厚さ１．６μｍ）７６と、その上に形成された比較的なだらかな表面状態を有する連続層からなる第２の反射基部（例えば、厚さ１．３μｍ）７９と、さらにその上に形成された金属薄膜からなる反射膜（例えば、厚さ０．２μｍ）７２と、を含んでいる。
【００５６】
（３）着色層
▲１▼構成
また、図１および図２に示す着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を除去することによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
【００５７】
▲２▼遮光膜
また、図２に示すように、画素毎に形成された着色層２１４の間の画素間領域に、黒色遮光膜（ブラックマトリクス或いはブラックマスク）２１４ＢＭが形成してあることが好ましい。
この黒色遮光膜２１４ＢＭとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
【００５８】
▲３▼配列パターン
また、着色層の配列パターンとして、図２（ｂ）に示す図示例ではストライプ配列を採用しているが、このストライプ配列の他に、図１２（ｂ）に示すような斜めモザイク配列や、図１２（ｃ）に示すようなデルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００５９】
▲４▼分光透過率
また、反射層の開口部および反射部にそれぞれ位置する着色層（赤色着色層、青色着色層、緑色着色層）の分光透過率を所定範囲の値に制限することが好ましい。
例えば、図７に示すように、反射層の開口部に位置する赤色着色層の波長６００〜７８０ｎｍの最大透過率を８０％以上の値とし、同様に緑色着色層の波長５００〜６００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とし、さらに、同様に青色着色層の波長４００〜５００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とするとともに、波長４００〜７８０ｎｍにおける白色光の平均透過率を３０〜５０％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、所定範囲の波長における赤色着色層、青色着色層、および緑色着色層の各最大透過率をこのような範囲内の値とするとともに、白色光の平均透過率をこのような範囲内の値とすることにより、一定の色再現性が得られるとともに、彩度に優れた着色した透過光が得られるためである。
【００６０】
また、図８に示すように、反射層の反射部に位置する赤色着色層の波長６００〜７８０ｎｍの最大透過率を８０％以上の値とし、緑色着色層の波長５００〜６００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とし、さらに、青色着色層の波長４００〜５００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とするとともに、波長４００〜７８０ｎｍにおける白色光の平均透過率を５８〜７０％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、所定範囲の波長における赤色着色層、青色着色層、および緑色着色層の各最大透過率をこのような範囲内の値とするとともに、白色光の平均透過率をこのような範囲内の値とすることにより、一定の色再現性が得られるとともに、比較的明るい着色した反射光が得られるためである。
【００６１】
▲５▼色域面積
また、反射層の開口部および反射部にそれぞれ位置する着色層（赤色着色層、青色着色層、緑色着色層）の色域面積を所定範囲の値に制限することが好ましい。すなわち、ＣＩＥ色度座標上において、赤、青、緑の各表示のｘ座標およびｙ座標の３点を結んでできる三角形の面積を所定範囲の値に制限することが好ましい。
例えば、図９に示すように、反射層の開口部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を０．６×１０−２〜２．０×１０−２の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる色域面積が０．６×１０−２未満の値になると、着色光における彩度が低下する場合があるためであり、一方、かかる色域面積が２．０×１０−２を超えると、着色層を透過して得られる着色光の明るさが、著しく低下する場合があるためである。
したがって、反射層の開口部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を１×１０−２〜１．８×１０−２の範囲内の値とすることがより好ましく、１．２×１０−２〜１．６×１０−２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６２】
また、図１０に示すように、反射層の反射部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を０．４×１０−２〜１．８×１０−２の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる色域面積が０．４×１０−２未満の値になると、着色光の彩度が過度に低下する場合があるためであり、一方、かかる色域面積が１．８×１０−２を超えると、着色した反射光の明るさが著しく低下する場合があるためである。
したがって、反射層の開口部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を０．６×１０−２〜１．７×１０−２の範囲内の値とすることがより好ましく、０．８×１０−２〜１．５×１０−２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６３】
（４）厚さ調整層
▲１▼位置
図１４（ａ）に示すように、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域に、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４の厚さを調整するための厚さ調整層２３５を設けることが好ましい。
この理由は、かかる着色層２１４の下方に、このように厚さ調整層２３５を備えることにより、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４の厚さの調整が容易となるためである。したがって、透過型表示の場合に、適当な光量が得られるとともに、色再現性に優れた着色光を得ることができる。
また、図１４（ｂ）に示すように、基材２１１の一部に凹部２３６を設けるとともに、その一部または全部において、厚さ調整層２３５を設けることも好ましい。このように構成すると、反射膜２１２や着色層２１４を形成する前であっても厚さ調整層２３５を設けることが可能となる。
【００６４】
▲２▼厚さ
また、図１４（ａ）に示すように、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４（２３３）の厚さを調整するための厚さ調整層２３５の厚さをｔ３とし、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４の厚さをｔ４としたときに、ｔ３／ｔ４で表される比率を０．０１〜１０の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるｔ３／ｔ４で表される比率が０．０１未満の値になると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に多くなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
一方、かかるｔ３／ｔ４で表される比率が１０を超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
したがって、反射型表示および透過型表示における、それぞれの色再現性のバランスがより良好となることから、ｔ３／ｔ４で表される比率を０．０５〜５の範囲内の値とすることがより好ましく、ｔ３／ｔ４で表される比率を０．１〜２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６５】
また、厚さ調整層の厚さを具体的に、０．１〜１００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる厚さ調整層の厚さが０．１μｍ未満の値になると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に多くなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
一方、かかる厚さ調整層の厚さが１００μｍを超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
したがって、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスがより良好となることから、厚さ調整層の厚さを１〜５０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２〜３０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６６】
（５）表面保護層
図１３に示すように、着色層２１４上に、表面保護層２１５が設けてあることが好ましい。このように表面保護層２１５を設けることにより、着色層２１４自体、ひいては着色層２１４を含むカラーフィルタ基板２１０の耐久性や耐熱性等を著しく向上させることができる。
また、着色層２１４の位置調整層２３０に対応し、反射層２１２の開口部２１２ａと平面的に重なる領域であって、着色層２１４（２３３）上に、凹部２３７が形成してあることが好ましい。このように凹部２３７を形成して、そこを表面保護層２１５で覆うことにより、着色層２１４（２３３）の所定形状を強固に保持することができるためである。
また、表面保護層２１５にも、その表面に凹部２１５ａが形成されていることが好ましい。この理由は、かかる凹部２１５ａに起因して、図１３に示すように、液晶材料２３２の厚さを厚くすることができるためである。
なお、表面保護層２１５の凹部２１５ａにおけるエッジ部２１５ｂを、薄肉部２１５ｃとすることが好ましい。この理由は、かかる凹部２１５ａのエッジ部２１５ｂが厚肉であると、表面保護層２１５の表面に凹部２１５ａを形成することが困難になる場合があるためである。
また、表面保護層２１５の凹部２１５ａにおけるエッジ部２１５ｂを、着色層２１４と比較して、なだらかな斜面とすることが好ましい。この理由は、かかる凹部２１５ａのエッジ部２１５ｂが垂直面であると、液晶材料２３２の配向不良が生じ易くなる場合があるためである。
【００６７】
（６）透明電極および配向膜
図１３に示すように、表面保護層２１５の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２１６を形成することが好ましい。かかる透明電極２１６は、図２（ｂ）において、上下方向に伸びる帯状に形成されているが、複数の透明電極２１６が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、図１３に示すように、透明電極２１６の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板２１０を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料の電圧駆動を容易に実施することができるためである。
【００６８】
（７）対向基板
また、図２および図１３に示すカラーフィルタ基板２１０と対向する対向基板２２０は、ガラス等からなる第２の基板２２１上に、第１の基板と同様の透明電極２２２、ＳｉＯ２やＴｉＯ２などからなる硬質保護膜２２３や配向膜２２４を順次積層させたものであることが好ましい。
なお、このカラーフィルタ基板２１０の例では、着色層２１４が第１の基板２１０に設けてあるが、かかる着色層２１４を、対向基板２２０における第２の基板２２１上に設けることも好ましい。
【００６９】
（８）液晶層
図２（ａ）および図１３に示すように、上記のように構成されたカラーフィルタ基板２１０と対向基板２２０との間に液晶材料２３２が充填されていることが好ましい。このとき、カラーフィルタ基板２１０における着色層２１４（２３３）の表面上には、画素毎に凹部２３７が形成されているので、液晶材料２３２は、この凹部２３７に起因して、表面保護層２１５の開口部２１５ａの内側に入り込んだ状態になるように構成されていることが好ましい。このため、液晶材料２３２の厚さは、表面保護層２１５の開口部２１５ａが形成された領域、すなわち、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域において、それ以外の領域、すなわち反射部２１２ｒが形成された領域に比べて厚く構成されることとなる。
【００７０】
（９）動作
以上、図１３に示すように構成された本実施形態において、対向基板２２０側から入射した外光は、液晶材料２３２を透過してカラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を透過した後に、反射部２１２ｒにて反射し、再び、着色層２１４、液晶材料２３２、および対向基板２２０をそれぞれ透過して外部に出射する。すなわち、反射光はカラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を２回通過することになる。
一方、着色層２１４は、反射層２１２の開口部２１２ａを全面的に覆っているので、例えばカラーフィルタ基板２１０の背後にバックライト等を配置して、背後から照明光を照射した場合には、当該照明光の一部が反射層２１２の開口部２１２ａを通過して着色層２１４を透過し、液晶材料２３２および対向基板２２０を通過して出射する。このとき、透過光は、カラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を１回だけ透過することになる。
【００７１】
このような状況において、位置調整層２１３に対応し、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域において、第１の基板２１１上に形成された着色層２１４（２３３）および表面保護層２１５がそれぞれ下方に沈み込み、カラーフィルタ基板２１０の表面に、凹部２１５ａが設けられている。そして、この表面の凹部２１５ａ内に液晶材料２３２が入り込むことにより、液晶層の厚さが厚くなるように構成されている。
したがって、本実施形態によれば、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーション（Δｎ・ｄ、ここでΔｎは屈折率異方性、ｄは厚さ）が増大し、透過型表示と同様のリタデーションに近づいて、透過型表示における透過光についても利用効率を高めることができる。
【００７２】
［第２実施形態］
次いで、図１５を参照して本発明に係る第２実施形態について説明する。なお、第２実施形態は、対向基板４２０に凹部４２５ａを設けた点に特徴があるため、その他の構成の説明については適宜省略する場合がある。
【００７３】
１．構成
第２実施形態における対向基板４２０において、第２の基板４２１の内面（第１の基板２１１に対向する表面）上に、凹部４２５ａが形成されている。また、第２の基板４２１においては、凹部４２５ａも含めた表面上に透明電極４２２、硬質保護層４２３、および配向膜４２４がそれぞれ形成されている。そして、第２の基板４２１上において、第１の基板２１１上に形成されている反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置であって、平面的に重なる領域に開口部４２５ａが設けられている。
【００７４】
また、図１５に示すように、カラーフィルタ基板２１０における着色層２１４上に、表面保護層２１５が形成されている。また、表面保護層２１５上には、第１実施形態と同様の構成の透明電極２１６および配向膜２１７が、それぞれ形成されている。
一方、カラーフィルタ基板２１０は、図１５に示すように、反射層２１２と、着色層２１４との間であって、基板２１１の表面からの着色層２１４の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えることを特徴とする。
【００７５】
２．動作
着色層２１４上には、透明電極２１６および配向膜２１７が積層されているが、
着色層２１４（２３３）の表面に形成された凹部２３７に影響されて、透明電極２１６および配向膜２１７の表面にも凹部２１０ａが形成される。すなわち、表面に形成された凹部２１０ａに液晶材料４３２が入り込むため、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置の液晶材料４３２の厚さを、反射層２１２の反射部２１２ｒに対応した位置の液晶材料の厚さよりも厚くすることができる。
【００７６】
また、対向基板４２０の内面においても凹部４２５ａを反映した凹部４２０ａが形成される。そして、この表面の凹部４２０ａに液晶材料４３２が入り込むように構成されている。
したがって、カラーフィルタ基板２１０と、対向基板４２０の双方の内面に、それぞれ凹部２１０ａ、４２０ａが設けられているので、反射層２１２の開口部２１２ａと平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）を、反射層２１２の反射部２１２ｒにおける液晶層の厚さ（記号ａ）よりも容易に大きく構成することが可能である。
すなわち、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００７７】
［第３実施形態］
次いで、図１６を参照して本発明に係る第３実施形態について説明する。この実施形態において、カラーフィルタ基板２１０の構造の一部のみが第１実施形態と異なるので、同様の部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する場合がある。
【００７８】
１．構成
この実施形態では、第１の基板２１１の透過部に対応する位置に凹部２３４が形成されていることを特徴とする。
そして、第１の基板２１１の表面上に設けられた凹部２３４以外の箇所に、反射部２１２ｒを有する反射層２１４および位置調整層２１３が順次に形成されている。この反射層２１４および位置調整層２１３は、第１の基板２１１に設けられた凹部２３４に対応して、それぞれ開口部を備えている。
また、第１の基板２１１の凹部２３４および位置調整層２１３にわたって、着色層２１４（２３３）が設けられている。この着色層２１４の一部は、第１の基板２１１の表面上に設けられた凹部２３４内に侵入しており、それに影響されて着色層２１４（２３３）の表面にも凹部２３７が形成されている。
【００７９】
２．動作
カラーフィルタ基板２１０の着色層２１４上には、表面保護層２１５、透明電極２１６および配向膜２１７が積層されているが、着色層２１４（着色層２３３）の表面に形成された凹部２３７に影響されて、表面保護層２１５、透明電極２１６および配向膜２１７の表面にも凹部２１８がそれぞれ形成されている。すなわち、表面に形成された凹部２１８に液晶材料２３２が入り込むため、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置の液晶材料２３２の厚さを、反射層２１２の反射部２１２ｒに対応した位置の液晶材料２３２よりも厚くすることができる。
したがって、カラーフィルタ基板２１０における着色層２１４（着色層２３３）の表面に凹部２３７が設けられているので、反射層２１２の開口部２１２ａと平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）を、反射面２１２の反射部２１２ｒにおける液晶層の厚さ（記号ａ）よりも容易に大きく構成することが可能である。
すなわち、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００８０】
［第４実施形態］
次いで、図１７を参照して本発明に係る第４実施形態について説明する。この実施形態においては、着色層７３５が、第１の基板７１１のかわりに、第２の基板７２１に設けられている点で第１実施形態と異なっており、他の構成部分についての説明は、適宜省略する場合がある。
【００８１】
１．構成
この実施形態においては、第１の基板７１１上に、反射層７１２が形成され、この反射層７１２には、反射面を備えた反射部７１２ｒと、開口部７１２ａとが設けられている。反射層７１２上には、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２などの絶縁膜７２４が形成され、この絶縁膜７２４上には透明電極７２２が形成されている。また、透明電極７２２上には、配向膜７２３が形成されている。
なお、反射層７１２が画素毎に分離して形成されている場合には、反射層７１２上に絶縁膜７２４を介することなく、透明電極７２２を直接形成しても良い。
【００８２】
一方、第２の基板７２１の下方には、着色層７３５が形成され、画素間領域には黒色遮光層７１４ＢＭが形成されている。また、着色層７３５の下方には、表面保護層７１５が形成されており、第１の基板７１１上の反射層７１２の開口部７１２ａと平面的に重なるように、表面保護層７１５の表面に、凹部７１８が下方に向かって形成されている。また、表面保護層７１５の下方には、透明電極７１６が形成され、その下方にはさらに配向膜７１７が形成されている。
【００８３】
２．動作
本実施形態では、反射層７１２の形成された第１の基板７１１とは反対側の第２の基板７２１上に、位置調整層７３０、カラーフィルタの着色層７３５、および表面保護層７１５がそれぞれ形成されており、それらに影響されて、表面保護層７１５の表面に、凹部７１８が構成されている。
したがって、反射層７１２の開口部７１２ａと重なる領域における液晶層７３２の厚さ（記号ｂ）が、他の部分の厚さ（記号ａ）よりも厚くなるように構成されている。
すなわち、第４実施形態においても、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００８４】
［第５実施形態］
次いで、図１８（ａ）〜図１８（ｄ）および図１９を参照して、本発明に係る電気光学装置あるいは電気光学装置用基板の製造方法の実施形態について詳細に説明する。
なお、本実施形態において製造する電気光学装置は、図１に示す上記第１実施形態の液晶パネル２００を備えたものである。
【００８５】
１．構成
まず、図１９を参照して、図１に示す液晶パネル２００の概略構造について説明する。図１９は、図１に示す液晶パネル２００における半導体素子（ＩＣ）およびフレキシブル配線基板の実装前の状態を模式的に図示するものであり、各寸法は、図示の都合上、適宜調整し、構成要素も適宜省略してある。
また、液晶パネル２００は、第１の基板２１１上に、反射層２１２、着色層２１４、表面保護層２１５からなる積層構造体、および透明電極２１６がそれぞれ形成されたカラーフィルタ基板２１０と、これに対向する対向基板２２０とがシール材２３０にて貼り合わされ、内部に液晶材料２３２が配置されたものである。この透明電極２１６は、配線（図示せず。）に接続され、この配線がシール材２３０と第１の基板２１１との間を通過して、基板張出部２１０Ｔの表面上に引き出されている。また、基板張出部２１０Ｔ上には、入力端子部が形成されている。
【００８６】
２．製造工程
図１８（ａ）〜図１８（ｄ）は、図１９に示す液晶パネルを構成するカラーフィルタ基板２１０を形成するための製造工程を示すものである。
【００８７】
（１）着色層の形成
図１８（ａ）に示すように、第１の基板２１１上には、図１に示す液晶表示領域Ａに相当する領域に、反射層２１２、黒色遮光層２１４ＢＭ、および位置調整層２１３を順次形成する。
【００８８】
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。
また、例えば、図１１に示すような表面になだらかな凹凸を有する反射層７０を形成する場合、以下の工程▲１▼〜▲３▼を含むことが好ましい。
▲１▼透過部または光不透過部を独立した円および多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、平面方向にランダムに配列した光反射膜用マスクパターンを介して、光硬化プロセスによって、基材７４上に、基板表面からの高さが実質的に等しく、平面方向にランダムに配列され、かつ、独立した複数の凸部を有する第１の基材７６を形成する工程
▲２▼第１の基材７６の表面に光硬化性樹脂を塗布して、光硬化プロセスによって、連続した複数の凸部を有する第２の基材７９を形成する工程
▲３▼第２の基材７９の表面に、アルミニウム等の金属からなる反射層７２を蒸着法により形成する工程
また、黒色遮光層２１４ＢＭは、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成する。
さらに、位置調整層２１３は、透明樹脂等からなる感光性樹脂を部分的または全面的に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって、所定場所に形成することが好ましい。
また、着色層２１４についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、位置調整層２１３等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成することができる。
なお、複数の色の着色層２１４を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
【００８９】
（２）表面保護層の形成
次いで、第１の基板２１１上に全面的に透光樹脂を塗布する。この透光樹脂は、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、透光樹脂に対して、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、図１８（ｂ）に示すように、表面保護層２１５を形成する。
なお、位置調整層２１３および着色層２１４の表面の一部に形成された凹部に影響されて、表面保護層２１５の上にも凹部が形成されることになる。
【００９０】
（３）透明電極および配向膜の形成
次いで、図１８（ｃ）に示すように、基板上に全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２１６および配向膜２１７を形成する。
例えば、透明電極２１６はスパッタリング法により成膜できる。すなわち、透明導電層を全面的に形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、透明電極２１６を形成することができる。
また、配向膜２１７については、例えば、スピンコート法を用いて形成することができる。
【００９１】
（４）対向基板の形成
次いで、図１８（ｄ）に示すように、第２の基板２２１上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明導電層を、スパッタリング法等を用いて全面的に形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、透明電極２２２を形成することが好ましい。
【００９２】
次いで、透明電極２２２上に、ＳｉＯ２やＴｉＯ２などからなる硬質保護膜２２３や配向膜２２４を順次積層し、対向基板２２０とすることが好ましい。
そして、カラーフィルタ基板２１０と、これに対向する対向基板２２０とをシール材（図示せず）にて貼り合わせるとともに、内部に液晶材料２３２を配置することにより、液晶パネルを構成することができる。
このとき、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域における液晶層２３２の厚さが他の部分よりも厚くなるので、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００９３】
［第６実施形態］
本発明に係る第６実施形態としての電気光学装置を、電子機器における表示装置として用いた場合について具体的に説明する。
【００９４】
（１）電子機器の概要
図２０は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル１８０と、これを制御するための制御手段１９０とを有している。また、図２０中では、液晶パネル１８０を、パネル構造体１８０Ａと、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路１８０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１９０は、表示情報出力源１９１と、表示処理回路１９２と、電源回路１９３と、タイミングジェネレータ１９４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１９２に供給するように構成されていることが好ましい。
【００９５】
また、表示情報処理回路１９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１８０Ｂへ供給することが好ましい。そして、駆動回路１８０Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
【００９６】
（２）モバイル型コンピュータ
また、本発明に係る電気光学装置（液晶表示装置）を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆる携帯型パーソナルコンピュータ）の表示部に適用した電子機器例について説明する。
図２１は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図２１に示すように、パーソナルコンピュータ１６０は、キーボード１６２を備えた本体部１６３と、本発明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１６４とを備えている。表示部１６４は、窓部１６４ｂに対応してプラスチックの保護板１６５が配設された筐体１６６に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成となっている。より詳細には、液晶表示装置は、その観察側の基板面が保護板１４５と近接するように、筐体１６６に収容されている。なお、かかるパーソナルコンピュータ１６０においては、外光が十分に存在しない状況下であっても表示の視認性を確保すべく、上記第６実施形態に示したように、背面側にバックライトユニットを備えた半透過反射型液晶表示装置を用いることが望ましい。
【００９７】
（３）携帯電話機
次いで、本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。
図２２は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。図２２に示すように、携帯電話機１７０は、複数の操作ボタン１７１のほか、受話口１７２、送話口１７３とともに、本発明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１７４を備えている。この携帯電話機１７０においては、窓部１７４ｂに対応してプラスチックの保護板１７５が配設された筐体１７６に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成となっている。なお、携帯電話機１７０においても、上記パーソナルコンピュータと同様、液晶表示装置は、その観察側の基板面が保護板１７５に近接するように、筐体１７６に収容されている。
【００９８】
（４）他の電子機器
本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、図２０に示したパーソナルコンピュータや、図２１に示した携帯電話機のほかにも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器などが挙げられる。
【００９９】
さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構造を有しているが、ＩＣチップを直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
また、液晶表示装置だけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトミッティングダイオード）表示装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【０１００】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置用基板によれば、複数の着色層が、それぞれ反射層の開口部と重なる領域に、厚さが異なる厚肉部を備えていることにより、光透過させた場合に、十分かつ均一に光吸収をして、色再現性に優れた着色光を外部に取り出すことができるようになった。したがって、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができるようになった。
さらに、本発明の電気光学装置用基板によれば、着色層の面積を、反射層全体の面積よりも小さくすることができるため、着色層を形成する際のマージンを大きくすることができるようになった。よって、製造時における着色層のマージンを厳格に制御する必要が少なくなった。
【０１０１】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法によれば、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができる電気光学装置用基板を効率的に製造することができるようになった。
【０１０２】
また、本発明の電気光学装置によれば、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができるようになった。
【０１０３】
さらに、本発明の電子機器によれば、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図２】第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図（ａ）およびカラーフィルタ基板の平面構造を示す拡大部分平面図（ｂ）である。
【図３】液晶分子の動作を説明するために供する図である。
【図４】位置調整層を説明するために供する図である（その１）。
【図５】位置調整層を説明するために供する図である（その２）。
【図６】位置調整層を説明するために供する図である（その３）。
【図７】反射層の開口部に位置する着色層における分光透過率曲線を示す図である。
【図８】反射層の反射部に位置する着色層における分光透過率曲線を示す図である。
【図９】反射層の開口部に位置する着色層におけるＣＩＥ色度座標を示す図である。
【図１０】反射層の反射部に位置する着色層におけるＣＩＥ色度座標を示す図である。
【図１１】反射層を説明するために供する図である。
【図１２】着色層におけるパターン配列を説明するために供する図である。
【図１３】第１実施形態の液晶パネルにおける画素内の構造を拡大して示す断面図である。
【図１４】第１実施形態の液晶パネルにおける変形例を説明するために供する図である。
【図１５】本発明に係る第２実施形態の液晶パネルの画素内の構造を模式的に示す断面図である。
【図１６】本発明に係る第３実施形態の液晶パネルの画素内の構造を模式的に示す断面図である。
【図１７】本発明に係る第４実施形態の液晶パネルの画素内の構造を模式的に示す断面図である。
【図１８】本発明に係る第５実施形態の電気光学装置の製造方法に関する工程図（ａ）〜（ｄ）である。
【図１９】本発明に係る第５実施形態である電気光学装置を示す断面図である。
【図２０】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図２１】本発明に係る電子機器の実施形態の一例として携帯型パーソナルコンピュータの外観を示す斜視図である。
【図２２】本発明に係る電子機器の実施形態の一例として携帯電話の外観を示す斜視図である。
【図２３】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を模式的に示す概略断面図である（その１）。
【図２４】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を模式的に示す概略断面図である（その２）。
【符号の説明】
２００　　液晶パネル
２１０　　カラーフィルタ基板
２１１　　第１の基板
２１２　　反射層
２１２ａ　開口部
２１２ｒ　反射部
２１３　　位置調整層
２１４　　着色層
２１５　　表面保護層
２１５ａ　開口部
２１６　　透明電極
２２０　　対向基板
２２１　　第２の基板
２２２　　透明電極
２３５　　厚さ調整層
２３７　　凹部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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