(57)【要約】【課題】色付きを低減できる拡散反射板、これを用いたカラーフィルタ、この拡散反射板の製造に使用するフォトマスク、および、この拡散反射板の製造方法を提供する。【解決手段】同一の外形寸法を有すると共に表面に同一の凹凸パターン２２ａが形成された単位反射領域Ｐを複数有し、単位反射領域Ｐが所定方向に沿って隣接して繰り返し配置された拡散反射板２２において、所定方向に沿う単位反射領域Ｐの幅を６００μｍ以上とする。また、同一の外形寸法を有すると共に複数の光透過部を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を複数有し、単位マスク領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置されたフォトマスクにおいて、所定方向における前記単位マスク領域の幅が６００μｍ以上であるフォトマスクを用い、フォトリソグラフィー法を用いて拡散反射板を形成する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一の外形寸法を有すると共に表面に同一の凹凸パターンが形成された単位反射領域を複数有し、前記単位反射領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置された拡散反射板において、
前記所定方向に沿う前記単位反射領域の幅が、６００μｍ以上である拡散反射板。
【請求項２】
前記単位反射領域は外形が正方形であり、前記単位反射領域は行列配置され、前記単位反射領域の一辺の長さは６００μｍ以上である請求項１に記載の拡散反射板。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の拡散反射板と、前記拡散反射板上に設けられた着色材と、を有するカラーフィルタ。
【請求項４】
同一の外形寸法を有すると共に複数の孤立する光透過部を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を複数有し、前記単位マスク領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置されたフォトマスクにおいて、前記所定方向における前記単位マスク領域の幅が６００μｍ以上であるフォトマスク。
【請求項５】
前記単位マスク領域は外形が正方形であり、前記単位マスク領域は行列配置され、前記単位マスク領域の一辺の長さは６００μｍ以上である請求項４に記載のフォトマスク。
【請求項６】
請求項４又は５に記載のフォトマスクを介して感光性樹脂に対して露光を施す露光工程と、
前記露光が施された感光性樹脂を現像して凹凸面を有する樹脂層を形成する現像工程と、
前記樹脂層の凹凸面に対して反射膜を形成する反射膜形成工程と、
を含む拡散反射板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、主として液晶表示素子に用いられる拡散反射板、これを有するカラーフィルタ、拡散反射板の生産に用いるフォトマスク、およびこのフォトマスクを用いた拡散反射板の製造方法を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】
２インチから４インチ程度の小型の液晶表示素子は、携帯電話や携帯型情報端末において使用されることが多い。このような小型の液晶表示素子においては、省エネルギー性の要求等からバックライトおよび外光の両方を光源として利用できる半透過反射型のものが主流となっている。
【０００３】
例えば、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）アレイ基板を用いた半透過反射型液晶表示素子の場合、観察者側にＴＦＤアレイ基板が配置される一方、観測者とは反対側にカラーフィルタが配置され、ＴＦＤアレイ基板とカラーフィルタとの間に液晶が封入されている。そして、カラーフィルタの外側にはバックライトが置かれている。カラーフィルタには、観察者側からの光を反射するための凹凸パターンが形成された拡散反射板と、拡散反射板上に形成された色素樹脂部と、が設けられており、この拡散反射板には、バックライトからの光を観測者側に透過させるための開口部が形成されている。
【０００４】
そして、このような半透過反射型液晶表示素子は、反射型表示時には、観察者側から入射される外光を拡散反射板における開口部を除く部分で反射することにより反射型表示を行い、透過型表示時には、バックライトからの光源光を拡散反射板の開口部を通して観察者側に出射させることで透過型表示を行う。
【０００５】
このような拡散反射板の凹凸パターンの形成方法として、例えば、特開平１１−３２６６１５号公報に開示されているように、同一の外形寸法を有すると共に、複数の孤立する光透過部を有する同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を隣接して繰り返し配置してなるフォトマスクを用い、フォトリソグラフィー技術によって行う方法が知られている。この方法によれば、フォトマスクに対応して、同一の外形寸法を有すると共に同一の凹凸パターンが形成された単位反射領域を、隣接して繰り返し配置してなる拡散反射板が得られる。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１１−３２６６１５号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような拡散反射板においては、反射光の干渉によって拡散反射板上に虹状の縞模様が見える、いわゆる、色付きが発生する場合があった。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、色付きを低減できる拡散反射板、これを用いたカラーフィルタ、この拡散反射板の製造に使用するフォトマスク、および、この拡散反射板の製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討を進めた結果、拡散反射板の表面に隣接して繰り返し形成される単位反射領域において、その繰り返しの方向の幅が６００μｍ以上になると、干渉により生じる色付きが十分低減されることを見いだし、本発明に想到するに至った。
【００１０】
本発明に係る拡散反射板は、同一の外形寸法を有すると共に表面に同一の凹凸パターンが形成された単位反射領域を複数有し、単位反射領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置された拡散反射板において、所定方向に沿う単位反射領域の幅が、６００μｍ以上である。
【００１１】
これによれば、拡散反射板における色付きが低減される。
【００１２】
ここで、単位反射領域は外形が正方形であり、単位反射領域は行列配置され、単位反射領域の一辺の長さは６００μｍ以上であると、色付きが十分に低減できる。
【００１３】
また、本発明に係るカラーフィルタは、上述の拡散反射板と、拡散反射板上に設けられた着色材と、を有する。
【００１４】
これによれば、拡散反射板における色付きが低減されたカラーフィルタを得ることができる。
【００１５】
本発明に係るフォトマスクは、同一の外形寸法を有すると共に複数の光透過部を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を複数有し、前記単位マスク領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置されたフォトマスクにおいて、所定方向における単位マスク領域の幅が６００μｍ以上である。
【００１６】
このようなフォトマスクを用いて感光性樹脂を露光、現像し、拡散反射板を形成することにより、上述の如き、所定方向における単位反射領域の長さが６００μｍ以上である拡散反射板が好適に製造される。
【００１７】
ここで、上記のフォトマスクにおいて、単位マスク領域は外形が正方形であり、単位マスク領域は行列配置され、単位マスク領域の一辺の長さは６００μｍ以上であると好適である。
【００１８】
本発明に係る拡散反射板の製造方法は、上述のフォトマスクを介して感光性樹脂に対して露光を施す露光工程と、露光が施された感光性樹脂を現像して凹凸面を有する樹脂層を形成する現像工程と、樹脂層の凹凸面に対して反射膜を形成する反射膜形成工程と、を含む。
【００１９】
このような製造方法によれば、色付きを低減できる拡散反射板を好適に製造できる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００２１】
（拡散反射板及びカラーフィルタ）
まず、本発明の実施形態に係るカラーフィルタＣＦおよび拡散反射板２２について説明する。図１は、半透過反射板としての拡散反射板２２を有するカラーフィルタＣＦの断面を示すものであり、図２は、図１のカラーフィルタＣＦの透明基板２１および拡散反射板２２の平面図である。
【００２２】
本実施形態に係るカラーフィルタＣＦは、図１に示すように、主として、ガラス等の透明基板２１と、透明基板２１上に設けられその表面に凹凸パターン２２ａが形成された拡散反射板２２と、拡散反射板２２上に並設された着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ（着色材）と、着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ上にわたって設けられた保護膜２６と、保護膜２６上に設けられた透明電極２７と、を有する。
【００２３】
拡散反射板２２上の着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂは、各々、一画素を構成する赤、緑、青の光を各々透過させるものである。この着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂを合わせた一組が一画素に対応する。この着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂとしては、染色された樹脂、染料分散された樹脂、顔料分散された樹脂などを利用できる。特に、製造プロセスの簡便さや耐候性などの面から、着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂには、顔料分散された樹脂を用いることが好ましい。樹脂として、具体的には、例えば、アクリル、ポリビニルアルコール、ポリイミドを含む樹脂を使用することができる。なお、着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂに代えて、例えば、任意の波長の光のみを透過するように膜厚制御された無機膜を使用してもよい。要は、後述する液晶中に表示不良の原因となる不純物を溶出しない着色材であれば良い。
【００２４】
着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ上には必要に応じて透明な保護膜２６が設けられ、その上にＩＴＯ等により形成される液晶駆動用の透明電極２７が形成されている。
【００２５】
拡散反射板２２は、表面に凹凸パターン２２ａが形成された樹脂層３１と、この樹脂層３１の上面に形成された反射膜３２を有している。
【００２６】
反射膜３２としては、純アルミニウム、アルミニウム合金（Ａｌ−Ｎｄ合金など）や銀合金（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金）等の高反射率の金属膜を採用でき、たとえば、蒸着等の手法によって形成すればよい。
【００２７】
樹脂層３１は、感光性樹脂に対してフォトリソグラフィーを適用することにより形成されている（詳しくは後述）。このような感光性樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂系ポジ型レジスト、（メタ）アクリル樹脂系ポジ型レジスト等を用いることができる。さらに好ましくは、この感光性樹脂として、カーボンブラックや色素を添加して露光光に対して吸光性を付与したポジ型レジストを用いることができる。なお、これらのポジレジストは、フォトリソグラフィーにおいて露光工程、現像工程後に行われる加熱工程で硬化する性質を有し、その表面が平滑化するので、なだらかな凹凸面の形成が実現できて拡散反射板として好適である。
【００２８】
この拡散反射板２２は、図２に示すように、一画素に対応する３００μｍ×３００μｍの正方形の画素領域Ｄをマトリクス状に隣接して複数有している。この各画素領域Ｄは、各々３原色に対応するＲ部３７Ｒ、Ｇ部３７Ｇ、Ｂ部３７Ｂを有している。各Ｒ部３７Ｒ、Ｇ部３７Ｇ、Ｂ部３７Ｂは、各々３００μｍ×１００μｍの大きさの矩形形状を呈する。
【００２９】
拡散反射板２２の各Ｒ部３７Ｒ、Ｇ部３７Ｇ、Ｂ部３７Ｂには、図１および図２に示すように、透明基板２１を挟んで拡散反射板２２とは反対側から入射する光を透過させるべく、透明基板２１に直交する方向からみて矩形形状の開口部２５が形成されている。この開口部の矩形の大きさは、２０〜８０×２０〜２８０μｍ程度である。そして、図１に示すように、着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂは、拡散反射板２２の開口部２５にも充填されており、これらはこの開口部２５で各々透明基板２１に接している。
【００３０】
そして、本実施形態に係るカラーフィルタＣＦにおいて、図２に示すように、拡散反射板２２には、同一の外形寸法を有し表面に同一形状の凹凸パターン２２ａが形成された複数の単位反射領域Ｐを有している。これらの単位反射領域Ｐは、各々外形寸法が６００μｍ×６００μｍの正方形であり、互いに隣接して行列状に配置されている。ここで、凹凸パターン２２ａは、単位反射領域Ｐにおいて開口部２５を除く部分の全面に形成され、多数の凹凸部を有している。図２において、凹凸パターン２２ａにおける丸印１は各々凹凸パターン２２ａにおける凹部を示している。
【００３１】
ここで、本実施形態では、一画素の大きさである画素領域Ｄを４つ分、正方形状にまとめた領域が、単位反射領域Ｐに対応する。
【００３２】
本実施形態によれば、単位反射領域Ｐの寸法が６００μｍ×６００μｍとされ、この単位反射領域Ｐが行列配置されている。このため、単位反射領域Ｐが繰り返して配置されている互いに直交する２つの方向（図示上下方向及び左右方向）において、単位反射領域Ｐの幅が各々６００μｍとなるので、拡散反射板２２の色付きが十分低減される。
【００３３】
（液晶表示素子）
次に本発明の実施形態に係る半透過反射型の液晶表示素子ＬＣＤについて説明する。本実施形態に係る半透過反射型の液晶表示素子ＬＣＤは、１枚偏光板方式のカラー液晶表示素子である。この液晶表示素子ＬＣＤは、主として、上述の拡散反射板２２付きのカラーフィルタＣＦと、このカラーフィルタＣＦと対向するＴＦＤ基板３００とを有している。
【００３４】
ＴＦＤ基板３００は、ガラス基板１０１と、ガラス基板１０１上に各画素毎に形成され図示しないＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）に接続された透明な画素電極１１１と、ガラス基板１０１を挟んで画素電極１１１と反対側に形成された偏光膜１１５とを有している。
【００３５】
ＴＦＤ基板３００とカラーフィルタＣＦとはシール部材１１３を介して互いに対向するように固定されており、ＴＦＤ基板３００とカラーフィルタＣＦとの間に所定の厚みの空間が形成されている。そして、この空間内には液晶１２０が充填されている。
【００３６】
このような液晶表示素子ＬＣＤは、反射型表示時には、観察者側（図示上方から）から入射される外光をカラーフィルタＣＦの拡散反射板２２における開口部２５を除く部分で反射することにより反射型表示を行い、透過型表示時には、カラーフィルタＣＦの透明基板２１の下方に設けられるバックライトからの光を拡散反射板２２の開口部２５を通して観察者側に出射させることで透過型表示を行う。
【００３７】
そして、本実施形態に係る液晶表示素子ＬＣＤにおいては、上述の拡散反射板２２を有しているので、観察者側からみたときに、表示部における色付きが低減されて視認性が向上する。
【００３８】
（フォトマスク）
続いて、上述の拡散反射板２２の製造に用いるフォトマスクＭについて図４を参照して説明する。このフォトマスクＭはプロキシミティー露光に用いられるものであり、拡散反射板２２の凹凸パターン２２ａに対応したパターンの光を感光性樹脂層に照射させるためのものである。
【００３９】
フォトマスクＭは、光を透過させるガラス基板２上に、光を遮蔽可能な金属膜３が形成されてなる。金属膜３には、光を透過可能とさせる複数の開口領域（詳しくは後述）が形成されており、パターン領域ＭＰＰを形成している。
【００４０】
パターン領域ＭＰＰは、上述したカラーフィルタＣＦの拡散反射板２２における１画素の大きさ（画素領域Ｄ）に対応する３００μｍ×３００μｍの正方形の画素領域ＭＤを、互いに隣接して行列状に多数含んでいる。また、各画素領域ＭＤは、この画素領域ＭＤを図示横方向に同じ大きさの縦長の領域に３つに分割してなるＲ部７Ｒ、Ｇ部７Ｇ、Ｂ部７Ｂを各々有しており、これらはカラーフィルタＣＦの拡散反射板２２におけるＲ部３７Ｒ、Ｇ部３７Ｇ、Ｂ部３７Ｂに対応する。
【００４１】
各画素領域ＭＤにおける各Ｒ部７Ｒ、Ｇ部７Ｇ、Ｂ部７Ｂの中央部には、フォトマスクＭの表裏面間で光を透過可能とする開口である第一透過部１０が各々形成されている。この第一透過部１０は、図示上下方向に延びる矩形形状をなし、その開口寸法は、例えば、６０×１５０μｍ程度である。この第一透過部１０は、拡散反射板２２における開口部２５に各々対応する。
【００４２】
また、パターン領域ＭＰＰにおいて第一透過部１０以外の部分には、光を透過させるための円形の開口である第二透過部９（光透過部に対応）が多数形成されている。
【００４３】
この第二透過部９は、第一透過部１０よりも外径の小さな開口であり主として回折光を透過させ、上述の拡散反射板２２の凹凸パターン２２ａに対応する光を対象となる感光性樹脂層に照射させるためのものである。この第二透過部９は、拡散反射板２２の凹部を示す丸印１に対応する。
【００４４】
ここで、第二透過部９の外径は、３μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは３μｍ以上１５μｍ以下であることが好適である。外径が２０μｍ以上の場合には、光が透過する際に光の回折が少ないため連続したエネルギー分布を有する露光像を感光性樹脂に形成することが困難となる傾向がある。一方、外径が３μｍ以下の場合には、一括露光法（プロキシミティー露光法）で最低限必要とされる露光ギャップでは光が拡散してしまい、感光性樹脂の表面に安定な露光像を形成しにくい傾向がある。
【００４５】
そして、本実施形態に係るフォトマスクＭにおいて、多数の第二透過部９は、６００μｍ×６００μｍの正方形の単位マスク領域ＭＰ毎に各々同一のランダム配列で配置され、さらに、この単位マスク領域ＭＰが互いに隣接して行列状にパターン領域ＭＰＰ内に繰り返し設けられている。すなわち、パターン領域ＰＰにおいては、同一の外形寸法で、かつ、多数の第二透過部９を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域ＭＰが、複数繰り返し形成されている。ここで、この単位マスク領域ＭＰは、拡散反射板２２の単位反射領域Ｐに対応する。
【００４６】
このようなフォトマスクＭは、例えば、ガラス基板２上に、金属膜３、図示しないレジスト膜を順次形成した後、電子線等によってレジストパターンを形成し、これをマスクとして金属膜３をエッチング除去して第一透過部１０および第二透過部９を形成し、レジストパターンを除去することにより容易に形成できる。
【００４７】
（拡散反射板、カラーフィルタ、液晶表示素子の製造方法）
次に、上述のフォトマスクＭを用いて、拡散反射板、カラーフィルタ及び、液晶表示素子を製造する方法について説明する。
【００４８】
まず、図５（ａ）に示すように、透明基板２１上に吸光性を備えたポジ型レジストを塗布し感光性樹脂層７２を形成する。
【００４９】
ここで、感光性樹脂層７２は、その感光域での透過率が０．０１／μｍ以上０．３／μｍ以下となるように、吸光性等を設定することが好ましい。感光性樹脂層７２の感光域での透過率が０．０１／μｍ未満である場合には、加工性が悪く、凹凸を形成するために多くの露光エネルギーを必要とする傾向がある。一方、透過率が０．３／μｍを超える場合には、加工深さが露光や現像条件に対して急峻に変化するため、安定した凹凸の構造を形成することが難しくなる傾向がある。
【００５０】
次に、図５（ｂ）に示すように上述のフォトマスクＭを用いて感光性樹脂層７２に対して一括露光（プロキシミティー露光）を行う。これにより、感光性樹脂層７２には、フォトマスクＭの第一透過部１０、第二透過部９に対応した露光部７２ａが形成される。ここで、露光時間等の条件は、感光性樹脂層７２において、第一透過部１０に対応する部分が感光性樹脂層７２の下端まで感光する一方、第二透過部９に対応する部分が回折光によって感光性樹脂層７２の上部のみが凹凸状に感光する程度に設定する。
【００５１】
次に、図５（ｃ）に示すように感光性樹脂層７２の現像を行う。ここでは、感光性樹脂に応じた現像液を適宜選定して使用すればよく、例えば、ナトリウムやカリウム等の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩といった無機アルカリ、有機アンモニウムなどの有機アルカリ等の溶液を現像液として使用できる。具体的には、２０℃〜４０℃の条件で、現像液中に感光性樹脂層７２を浸漬し、または、感光性樹脂層７２に現像液をシャワーすればよい。これによって、第一透過部１０に対応する開口部２５が形成されると共に、第二透過部９に対応する凹凸パターン２２ａが形成された樹脂層３１が形成される。
【００５２】
そして、現像後の樹脂層３１を純水で充分に洗浄したのち、樹脂層３１の熱処理を行う。熱処理工程では、樹脂層３１は硬化に先だって、溶融軟化し、樹脂層３１の凹凸面上の微細な凹凸が消失してなだらかな凹凸面が形成される。熱処理温度としては１２０〜２５０℃が好ましく、１５０〜２３０℃がより好ましい。また、熱処理時間としては１０〜６０分が好ましい。
【００５３】
次に、図６（ａ）に示すように樹脂層３１上に金属等の反射膜３２を形成する。反射膜３２を構成する材料としては純アルミニウム、アルミニウム合金（Ａｌ−Ｎｄ合金など）や銀合金（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金）などが好ましい。反射膜３２の厚みは、０．１〜０．３μｍの範囲が好ましく、０．１５〜０．２５μｍの範囲がより好ましい。ここでは、例えば、上述の合金を全面に亘って蒸着して金属層を形成した後、エッチング等により金属層の不要部分、すなわち、開口部２５内に形成された金属層等を除去すればよい。また、このとき図示しないマーク類を形成することもできる。これにより拡散反射板２２が完成する。
【００５４】
さらに、拡散反射板２２上及び拡散反射板２２の開口部２５内に、図６（ｂ）に示すように、赤、緑、青の着色樹脂２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂを形成し、さらに、保護膜２６、及び、ＩＴＯ等の透明電極２７を公知の方法により順次形成し、拡散反射板２２付のカラーフィルタＣＦが完成する。
【００５５】
引き続いて、図３に示すように、公知の方法によって製造したＴＦＤ基板３００と、上述のカラーフィルタＣＦとを、シール部材１１３を介して張り合わせ、内部に液晶を注入し、さらに、ＴＦＴ基板３００に偏光膜１１５を形成することにより、液晶表示素子ＬＣＤが完成する。
【００５６】
本実施形態に係る製造方法によれば、６００μｍ×６００μｍの正方形の単位マスク領域ＭＰを、行列状に隣接して繰り返し設けたフォトマスクＭを用いて拡散反射板２２の凹凸パターン２２ａを形成している。このため、拡散反射板２２において、単位マスク領域ＭＰにおける第二透過部９に対応して６００μｍ×６００μｍの正方形の単位反射領域Ｐが行列状に隣接して繰り返し形成された拡散反射板２２が好適に得られる。
【００５７】
そして、このような拡散反射板は、色付きが低減されるので、視認性の高いカラーフィルタ、液晶表示素子を提供できる。
【００５８】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形態様をとることが可能である。
【００５９】
例えば、上記実施形態では、拡散反射板２２の単位反射領域Ｐ、及び、これに対応するフォトマスクＭの単位マスク領域ＭＰの外形が正方形となっているが、長方形、平行四辺形、菱形、６角形等の外形としてもよい。要は、単位反射領域Ｐ、単位マスク領域ＭＰの繰り返し方向における長さが各々６００μｍ以上であればよい。
【００６０】
また、単位反射領域Ｐにおける凹凸パターンや、単位マスク領域ＭＰにおける第二透過部９の配列の形態は何ら限定されず、単位反射領域Ｐ間、単位マスク領域ＭＰ間で各々同一であればよい。また、第二透過部９の外形は、円形でなく、多角形、リング状等でもよく、これらの形状が混合していてもよい。
【００６１】
また、上記実施形態は、半透過型反射板に係る実施形態であり、単位反射領域Ｐには第一透過部１０が、単位マスク領域ＭＰには開口部２５が、各々形成されているが、これらが形成されていなくてもよく、また、他の透過部や開口部が形成されていてもよい。例えば、単位反射領域Ｐや単位マスク領域ＭＰに、透過部、開口部が形成されていない場合には、全反射型の反射板としての利用が可能である。
【００６２】
また、このような拡散反射板２２は、カラーフィルタＣＦに用いるだけでなく、その上に配線や駆動素子を形成するための素子基板としても用いることも可能である。
【００６３】
つぎに、本発明の効果を確認すべく、種々の拡散反射板を製造して色付きの程度を観察した。
【００６４】
（実施例１）
まず、ポジ型レジスト（東京応化工業製ＰＲ−１３）に所定の比率でカーボンブラックを添加し、吸光性を付与したポジ型フォトレジストを調製した。次に、ガラス基板上に、この吸光性フォトレジストを塗布し、ホットプレートで１００℃×９０秒間プリベークして、吸光性フォトレジスト層を形成した。ここで、プレベーク後における吸光性フォトレジスト層の厚みが１．２μｍとなるように、吸光性フォトレジストを塗布した。また、プレベーク後の吸光性フォトレジスト層の主感度波長（４０５ｎｍ）における透過率は０．２／μｍであった。
【００６５】
次に、単位マスク領域ＭＰとして、直径９μｍの円形の第二透過部９がランダムに配置され、外形が正方形のものを採用し、この単位マスク領域ＭＰを行列状に隣接して繰り返し配置したフォトマスクＭを用意した。ここで、単位マスク領域ＭＰの大きさを６００×６００μｍとした。そして、吸光性フォトレジスト層に対して、フォトマスクＭを介して３００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ光をプロキシミティーギャップ１３５μｍで照射し、露光を行った。次に、露光された吸光性フォトレジスト層を０．５％ＫＯＨ溶液中で８０秒間現像して、所定の凹凸を有する樹脂層を得た。
【００６６】
さらに、現像後の樹脂層を洗浄し、乾燥した後、２００℃に保持したクリーンオーブン中で樹脂層を２０分間熱処理した。さらに、スパッタ装置を用いて樹脂層上にアルミニウム膜を２００ｎｍ形成し実施例１の拡散反射板とした。ここで、単位反射領域Ｐの大きさは６００×６００μｍの正方形となった。そして、製造した拡散反射板とカバーグラスとをグリセリンで貼り合せ、色付き特性評価用のサンプルＳとした。
【００６７】
（実施例２、３）
単位マスク領域ＭＰの大きさが９００×９００μｍ、１５００×１５００μｍの正方形であるフォトマスクを各々用いる以外は、実施例１と同様にして、実施例２、３の拡散反射板のサンプルＳを得た。拡散反射板の単位反射領域Ｐの大きさは、各々９００×９００μｍ、１５００×１５００μｍの正方形となる。
【００６８】
（比較例１〜３）
単位マスク領域ＭＰの大きさが６６×１９８μｍ、１２７×１２７μｍ、２８０×２８０μｍであるフォトマスクを各々用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例１〜３の拡散反射板のサンプルＳを得た。単位反射領域Ｐの大きさは６６×１９８μｍ、１２７×１２７μｍ、２８０×２８０μｍとなる。
そして、図７に示すように、これらの拡散反射板のサンプルＳを、各々台２００上に載置すると共に、拡散反射板のサンプルＳ上に減光用のＮＤフィルタ２０３を重ね、この拡散反射板のサンプルＳに対して太陽光２１０を当て、拡散反射板からの反射光２１２をデジタルカメラ２０５で撮影した。このときの写真を実施例１〜３、比較例１〜３の順に図８〜図１３に示す。また、各サンプル毎の色付き度合いを表にまとめて図１４に示す。
【００６９】
図８〜図１４より明らかなように、単位反射領域Ｐが６００×６００μｍ以上の正方形である場合（実施例１〜３）には干渉による色付きはほとんど観察されなかった。一方、単位反射領域Ｐが６００×６００μｍよりも小さい場合（比較例１〜３）には、干渉による色付き（図中の縦方向の縞模様に対応）が明瞭に認められた。
【００７０】
これによって、同一の凹凸パターンが形成された単位反射領域Ｐの大きさを６００×６００μｍ、すなわち、単位反射領域Ｐの繰り返し方向における単位反射領域Ｐの幅を６００μｍ以上にすれば、拡散反射板における光の干渉が抑制され、拡散反射板の色付きを低減できることが確認された。
【００７１】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば、色付きが低減された拡散反射板、これを有するカラーフィルタ、を簡便かつ安定に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るカラーフィルタを示す断面図である。
【図２】図１の基板及び拡散反射板の平面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液晶表示素子を示す断面図である。
【図４】本発明の実施形態に係るフォトマスクを示す断面図である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｃ）は、液晶表示素子等の製造方法を説明する断面図である。
【図６】図６（ａ）〜図６（ｂ）は、液晶表示素子等の製造方法を説明する図５（ｃ）に続く断面図である。
【図７】拡散反射板の色付き度合いを観測する方法を示す模式図である。
【図８】実施例１の拡散反射板に太陽光を照射した状態を撮影した写真である。
【図９】実施例２の拡散反射板に太陽光を照射した状態を撮影した写真である。
【図１０】実施例３の拡散反射板に太陽光を照射した状態を撮影した写真である。
【図１１】比較例１の拡散反射板に太陽光を照射した状態を撮影した写真である。
【図１２】比較例２の拡散反射板に太陽光を照射した状態を撮影した写真である。
【図１３】比較例３の拡散反射板に太陽光を照射した状態を撮影した写真である。
【図１４】実施例１〜３、比較例１〜３の拡散反射板の色付きの程度を示す表である。
【符号の説明】
９…第二透過部（光透過部）、２２…拡散反射板、２２ａ…凹凸パターン、２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ…着色樹脂（着色材）、３１…樹脂層、３２…金属膜（反射膜）、７２…感光性樹脂、Ｐ…単位反射領域、ＭＰ…単位マスク領域、ＣＦ…カラーフィルタ、Ｍ…フォトマスク、ＬＣＤ…液晶表示素子。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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