(57)【要約】【課題】素子の微細化で問題となるチャネル抵抗とＪＦＥＴ抵抗のトレードオフの関係を改善し、ソース領域とベース領域をイオン注入で作製するときに同一のマスクを用いて作製する半導体装置及びその製造方法を得る。【解決手段】ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴにおいて、ソース領域４とベース領域５とを、テーパ形状の同一マスク９を用いてイオン注入を行うことにより形成し、ベース領域５の形状をテーパ形状とする。また、テーパ形状の同一マスク９の材料として、イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合、マスク９のテーパ角度を３０°〜６０°とし、ＳｉＯ２を用いた場合、２０°〜４５°とする。【選択図】図１０
2004319964.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴにおいて、
ベース領域の形状をテーパ形状とした
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記ベース領域のテーパ角度を３０°以上６０°以下とした
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴを製造する際、ソース領域とベース領域とを、同一マスクを用いてイオン注入を行うことにより形成する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置の製造方法において、
前記同一マスクとしてテーパ形状の同一マスクを用い、同一マスクの材料として、イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用い、前記マスクのテーパ角度を３０°以上６０°以下とする
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３に記載の半導体装置の製造方法において、
前記同一マスクとしてテーパ形状の同一マスクを用い、同一マスクの材料として、ＳｉＯ２を用い、前記マスクのテーパ角度を２０°以上４５°以下とする
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項３に記載の半導体装置の製造方法において、
前記イオン注入は、基板に対して垂直方向と斜め方向とから行う
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体装置の製造方法において、
前記同一マスクの材料として、イオン注入の飛程がＳｉＣより長いものを用いる
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載の半導体装置の製造方法において、
前記同一マスクの材料として、イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用い、イオン注入角度を７０°以下とする
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項６に記載の半導体装置の製造方法において、
前記同一マスクの材料として、ＳｉＯ２を用い、イオン注入角度を７５°以下とする
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項３に記載の半導体装置の製造方法において、
前記イオン注入は、基板に対して斜め方向から行い、
前記基板に対する注入角度として、ソース領域よりもベース領域のイオン注入角度を小さくする
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項６に記載の半導体装置の製造方法において、
前記同一マスクとしてテーパ形状の同一マスクを用いてイオン注入を行う
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の半導体装置の製造方法において、
前記同一マスクとしてテーパ形状の同一マスクを用いてイオン注入を行う
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴを、イオン注入を用いて作製する半導体装置の構造及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴを、イオン注入を用いて作製する場合には、ソース領域とベース領域のイオン注入に用いるマスクの幅を変える必要がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２３３５０３号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した従来の半導体装置の製造方法においては、ソース領域とベース領域のイオン注入において異なるマスクを使用するために、ＭＯＳＦＥＴを作製する工程数が増加するという問題がある。また、ＭＯＳＦＥＴの特性を決定する要素の一つであるチャネル長は各マスクの加工精度や２つのマスクの合わせ精度に左右され、素子の微細化を進める場合に大きな問題となる。また、素子の微細化を進めた場合、微細化によるチャネル抵抗の低減とトレードオフの関係にあるＪＦＥＴ抵抗の増大という問題がある。
【０００５】
この発明は上述した点に鑑みてなされたもので、素子の微細化で問題となるチャネル抵抗とＪＦＥＴ抵抗のトレードオフの関係を改善することができる半導体装置を得ることを目的とする。
【０００６】
また、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴのソース領域とベース領域をイオン注入で作製するときに同一のマスクを用いて作製することができ、かつ素子の微細化を進めることができる半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明に係る半導体装置は、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴにおいて、ベース領域の形状をテーパ形状とする。
【０００８】
また、この発明に係る半導体装置の製造方法は、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴを製造する際、ソース領域とベース領域とを、同一マスクを用いてイオン注入を行うことにより形成する。
【発明の効果】
【０００９】
この発明に係る半導体装置によれば、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴのベース領域にテーパを入れることでチャネル抵抗とＪＦＥＴ抵抗のトレードオフの関係を改善することができ、素子の微細化を進めることができる。
【００１０】
また、この発明に係る半導体装置の製造方法によれば、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴを製造する際、ソース領域とベース領域とを、同一マスクを用いてイオン注入により形成して、選択的な不純物のドーピングをセルフアラインで行いＭＯＳＦＥＴを作製することができ、素子の微細化を進めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
まず、この発明の概要について説明する。ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴを作製する場合、熱処理による不純物の拡散は困難であり、Ｓｉを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴの作製で用いられているような不純物の熱拡散によるセルフアラインプロセスを行うことができない。通常、選択的な不純物のドーピングはイオン注入により行われる。
【００１２】
イオン注入により形成される領域の形状に関して、Ｓｉの場合では熱拡散が大きいためにイオン注入領域の形状（テーパ角度）を制御することが困難であったが、ＳｉＣの場合は熱拡散がほとんど無視できるためイオン注入領域の深さ方向と横方向の形状（テーパ角度）を容易に制御できる。
【００１３】
また、これまでは注入マスクの側面は垂直であり、イオン注入も基板に対して垂直方向から行っていたが、その際、同一マスクを用いたセルフアラインプロセスにより不純物をドーピングすることは不可能であり、ソース領域とベース領域をイオン注入するときに幅の異なるマスクを使う必要があった。また、イオン注入後は１５００℃程度の活性化アニールが必要であり、活性化アニールを行うときにＳｉＣ表面が荒れるなどのダメージを受ける可能性がある。
【００１４】
このため、イオン注入を行うときに用いる同一マスクとしてゲート電極を用いた場合、活性化アニールを行ったときにゲート電極やゲート酸化膜にダメージを受けるためにゲート電極を注入用のマスクとして使用することは困難である。
【００１５】
そこで、この発明に係るＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴは、ソース領域とベース領域をイオン注入で作製するときにイオン注入用の同一のマスクを用いることを特徴とする。マスクの形状をテーパ状にする、あるいは斜め方向からのイオン注入を行うことにより、選択的な不純物のドーピングをセルフアラインで行いＭＯＳＦＥＴを作製する。この方法により作製したベース領域はテーパ形状となるため、従来のベース領域の形状がほぼ垂直であるものに比べてＪＦＥＴ抵抗が小さくなるという特徴を持つ。以下、具体的な実施の形態について説明する。
【００１６】
実施の形態１．
図１は、この発明の実施の形態１により作製した半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）を示す断面図である。基板７上にエピタキシャル成長したドリフト領域６中にイオン注入によりソース領域４、ベース領域５を形成し、ゲート酸化膜２、ゲート電極１、ソース電極３、ドレイン電極８を形成することでＭＯＳＦＥＴを作製する。
【００１７】
この半導体装置において、図２に示すように、ｐベース領域５にテーパ角度θを入れることの効果について説明する。半導体装置（縦型ＭＯＳＦＥＴ）の性能を表すオン抵抗は、図３に示すように、いくつかの成分、つまり、ソースコンタクト抵抗Ｒｃｓ、ｎソースシート抵抗Ｒｎ＋、チャネル抵抗Ｒｃｈ、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊ、ドリフト抵抗Ｒｄ、基板抵抗Ｒｓｕｂ及びドレインコンタクト抵抗Ｒｃｄに分けられる。ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴの場合、現状ではチャネル抵抗Ｒｃｈが最も大きく、ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴの実用化に向けた最大の課題になっている。
【００１８】
チャネル抵抗Ｒｃｈを低減する方法として、素子の微細化（ＭＯＳＦＥＴのチャネル長を短くし、チャネル幅を大きくする）がある。この場合、ｐベース領域５の間隔（図２参照、Ｌｄ１：ｐベース領域５の上部間隔、Ｌｄ２：ｐベース領域５の下部間隔）が短くなり、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊが大きくなるというトレードオフの関係がある。Ｐベース領域５のテーパ角度θを入れることは、チャネル抵抗ＲｃｈとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊのトレードオフ関係を改善する効果がある。
【００１９】
この効果を具体的に見積もるために、まず、テーパ角度θが０°のＭＯＳＦＥＴのテスト試料を作製し、ｐベース領域５の間隔とＪＦＥＴ抵抗Ｒｊの関係を実験により調べた結果を図４に示す。テスト試料は、車載用や産業用のインバータに用いられる耐圧１２００Ｖの素子を想定し、ドリフト領域６にキャリア濃度１×１０１６ｃｍ−３、１０μｍの基板を用いて作製した。その結果、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊはｐベース領域５の間隔Ｌｄ（Ｌｄ＝Ｌｄ１＝Ｌｄ２）が小さくなると急激に増大することが分かる。
【００２０】
図４に示す結果から、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊを小さくするにはｐベース領域５の間隔Ｌｄを大きくすれば良いが、この場合、ＭＯＳＦＥＴの耐圧が低下する。実際に、テスト試料を作製して評価した結果、ｐベース領域５の間隔Ｌｄが４μｍ以上の場合、ゲート酸化膜２にかかる電界が大きくなり、ｐｎ接合から予測される理論耐圧に比べてＭＯＳＦＥＴの耐圧が低下することがわかった。
【００２１】
以上をまとめると、ｐベース領域５の間隔Ｌｄについて微細化の観点では、ｐベース領域５の間隔Ｌｄが小さい方が望ましいが、ｐベース領域５の間隔Ｌｄが２μｍ以下になると、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊが急激に増大する。また、ｐベース領域５の間隔Ｌｄが４μｍ以上になると、ＭＯＳＦＥＴの耐圧が下がる。したがって、ｐベース領域５の間隔Ｌｄは２〜４μｍが最適である。
【００２２】
以上の結果を元に、ｐベース領域５のテーパ角度θを入れた場合のＪＦＥＴ抵抗Ｒｊとチャネル抵抗Ｒｃｈのトレードオフ関係について検討する。つまり、テーパ角度θとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊ、チャネル抵抗Ｒｃｈの関係を車載用や産業用のインバータに用いられる耐圧１２００Ｖの素子を想定した仮定を入れて計算する。
【００２３】
ＭＯＳＦＥＴの構造として、簡単化のため、ｐベース領域５にテーパ角度θを入れた時にｎソース領域４にも同じテーパ角度θを入れた場合と入れない場合（θ＝０°）とについて図５と図６を参照して考える。この時、ｐベース領域５の注入深さをｄｐ、ｎソース領域４の注入深さをｄｎとすると、チャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域５の間隔Ｌｄ１、Ｌｄ２は図５と図６に示すような関係になる。すなわち、ｎソース領域４にも同じテーパ角度θを形成した場合は、図５から、チャネル長Ｌｃｈ＝（ｄｐ−ｄｎ）ｓｉｎθ、Ｌｄ２＝Ｌｄ１＋２ｄｐｓｉｎθの関係となる。他方、ｎソース領域４にテーパ角度θを形成しない場合は、図６から、チャネル長Ｌｃｈ＝ｄｐｓｉｎθ、Ｌｄ２＝Ｌｄ１＋２ｄｐｓｉｎθの関係となる。
【００２４】
ここで、ＭＯＳＦＥＴのパラメータとして、車載用や産業用のインバータに用いられる耐圧１２００Ｖの素子を想定し、現在試作を行っているドリフト領域６として、キャリア濃度＝１×１０１６ｃｍ−３、１０μｍの基板、ｄｐ＝０．９μｍ、ｄｎ＝０．３μｍとする。また、Ｌｄ１＝２．５μｍとしてテーパ角度θに対して間隔Ｌｄ２を計算し、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊは間隔Ｌｄ２で決まると仮定として、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊを図４から求める。また、チャネル抵抗Ｒｃｈについては、我々が行った試作結果ではチャネル長Ｌｃｈ＝２μｍの場合でチャネル抵抗Ｒｃｈ＝２０ｍΩcｍ２である。今後、素子の微細化（ＭＯＳＦＥＴのチャネル長を短くし、チャネル幅を大きくする）やプロセスの改善によりチャネル抵抗Ｒｃｈが小さくなると考えられるため、ここでは、チャネル長Ｌｃｈ＝２μｍの場合のチャネル抵抗ＲｃｈをＲｃｈ＝２０，１０，５ｍΩcｍ２と仮定した。チャネル抵抗Ｒｃｈはチャネル長Ｌｃｈに比例するとしてテーパ角度θに対するチャネル長Ｌｃｈからチャネル抵抗Ｒｃｈを計算した。
【００２５】
以上の方法により、ｎソース領域４にテーパ角度θを入れた場合と入れない場合とのオン抵抗（＝Ｒｊ＋Ｒｃｈ）とテーパ角度θの関係を計算した結果が図７と図８である。テーパ角度θが小さい方（６０°以下）は、チャネル長Ｌｃｈが小さくチャネル抵抗Ｒｃｈが小さくなるが、テーパ角度θが３０°以下では、ｐベース領域５の下部間隔Ｌｄ２が小さくなりＪＦＥＴ抵抗Ｒｊが増大する影響が出てくる。したがって、テーパ角度θとしては、３０°〜６０°（３０°以上６０°以下）が良く、より小さい３０°〜４５°（３０°以上４５°以下）が好ましい。
【００２６】
図７及び図８において、テーパ角度θが３０°以上でパンチスルーなしと記載しているが、これは、図９に示す間隔（ソース領域４とベース領域５の間隔の最小値）Ｌｐがテーパ角度θが３０°以下で０．３μｍ以下となり、パンチスルーが生じてＭＯＳＦＥＴの耐圧が下がることを示している。具体的に想定している耐圧１２００Ｖの素子の場合、ｐベース領域５の濃度は５×１０１７〜１×１０１8ｃｍ−３、ドリフト領域の濃度１×１０１６ｃｍ−３である。ＭＯＳＦＥＴのドレイン電圧が１２００Ｖの時の空乏層はｐベース領域５側に０．１１〜０．２３μｍ伸びる。間隔Ｌｐが空乏層より小さくなるとパンチスルーが生じる。素子作製プロセスのマージンを考慮して間隔Ｌｐが０．３μｍ以下ではパンチスルーが生じる可能性が高いため、パンチスルーを防ぐにはテーパ角度θを３０°以上として、間隔Ｌｐが０．３μｍ以上になるようにする必要がある。
【００２７】
また、図７及び図８では、Ｌｄ１＝２．５μｍの場合の結果のみを示したが、ｐベース領域５の間隔Ｌｄの最適値であるＬｄ１＝２〜４μｍにおいてオン抵抗のテーパ角度依存性は何れも同じである。ｐベース領域５の上部間隔Ｌｄ１が２．５μｍ以上ではＪＦＥＴ抵抗Ｒｊの影響が小さく、オン抵抗のテーパ角度依存性は図７及び図８とほぼ同じ結果となる。また、ｐベース領域５の上部間隔Ｌｄ１が２．５μｍ以下ではＪＦＥＴ抵抗Ｒｊの影響が大きく、図７及び図８と比較してオン抵抗の絶対値が何れのテーパ角度においても大きくなるがテーパ角度に対する依存性は同じである。したがって、Ｌｄ１＝２〜４μｍにおいて、ｐベース領域５のテーパ角度θは３０°〜６０°が良く、より小さい３０〜４５°が好ましい。
【００２８】
従って、実施の形態１によれば、ＳｉＣを用いた縦型のＭＯＳＦＥＴのベース領域５にテーパを入れることで、チャネル抵抗とＪＦＥＴ抵抗のトレードオフの関係を改善することができ、素子の微細化を進めることができる。
【００２９】
実施の形態２．
図１０は、図１に示す半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）のソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成するようにした、この発明の実施の形態２に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。図１０に示すようなテーパ形状の注入マスク９を用いてイオン注入を行った場合、テーパの端部１０では注入マスク９の下にもイオンが注入される。注入マスク９の下にイオンが注入される領域の幅はイオン注入の深さに比例する。ソース領域４に比べてベース領域５は深い注入を行うために、マスク９の下の領域でソース領域４の注入が行われず、ベース領域５の注入のみが行われる領域が形成される。この部分がＭＯＳＦＥＴのチャネルとなる。また、ソース領域４及びベース領域５ともにテーパ形状となり、実施の形態１で述べたように微細化を行ったときにＪＦＥＴ抵抗Ｒｊとチャネル抵抗Ｒｃｈのトレードオフの関係を改善する効果がある。
【００３０】
チャネル長やベース領域５のテーパ角度は注入マスク９の材質とテーパ角度θで決まる。具体的に、注入マスク９として、（ａ）イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合と、（ｂ）我々が現在試作に用いているＳｉＯ２（注入飛程がＳｉＣの１．７倍）の場合について、注入マスクの形状とチャネル長Ｌｃｈ、ベース領域５のテーパ角度の関係がどうなるかを図１１と図１２に示す。注入マスク９として、（ａ）イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合、図１１に示すように、注入マスク９のテーパ角度θとｐベース領域５のテーパ角度θは一致し、（ｂ）ＳｉＯ２を用いた場合、図１２に示すように、注入マスク９のテーパ角度θに比べてｐベース領域５のテーパ角度θ'は、ＳｉＯ２の飛程はＳｉＣの１．７倍となるので、１．７ｔａｎθ＝ｔａｎθ’の関係から大きくなる。
【００３１】
前述した実施の形態１に記載の通り、車載用や産業用のインバータに用いられる耐圧１２００Ｖの素子を作製する場合、ｐベース領域５のテーパ角度θとして３０°〜６０°が良く、より小さい３０〜４５°が好ましい。したがって、イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合、注入マスク９のテーパ角度θは３０°〜６０°、より好ましくは３０〜４５°が良く、注入マスク９がＳｉＯ２の場合、注入マスク９のテーパ角度θ’は、１．７ｔａｎθ＝ｔａｎθ’の関係から２０°〜４５°、より好ましくは２０〜３０°が良い。
【００３２】
また、注入マスク９を所望の形状に加工する方法として、注入マスク９として、ＳｉＯ２を用いる場合、レジストマスクを用いてＳｉＯ２をドライエッチングするときにＳｉＯ２とレジストのエッチングの選択比が大きければ、ドライエッチング時にＳｉＯ２のみがエッチングされ、ＳｉＯ２の注入マスクの側面は垂直になるが、エッチングの選択比を小さくすると、ＳｉＯ２をドライエッチングしている間にレジストもエッチングされ、マスクとして用いているレジストの幅が小さくなる。このような条件でエッチングを行えば、ＳｉＯ２の注入マスクはテーパ形状となり、その角度は、ＳｉＯ２とレジストの選択比によって制御できる。
【００３３】
従って、実施の形態２によれば、上述した方法により、選択的な不純物のドーピングを、同一マスク９を用いたセルフアラインプロセスにより行うことが出来る。また、ＭＯＳＦＥＴのチャネル長やｐベース領域５のテーパ角度は注入マスク９の形状により容易に制御でき、ＭＯＳＦＥＴの微細化を行う場合に有利である。さらに、ｐベース領域５のテーパ角度を付けることでチャネル抵抗ＲｃｈとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊのトレードオフ関係を改善することができる。
【００３４】
実施の形態３．
図１３は、この発明の実施の形態３により作製した半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）を示す断面図である。基板７上にエピタキシャル成長したドリフト領域６中にイオン注入によりソース領域４、ベース領域５を形成し、ゲート酸化膜２、ゲート電極１、ソース電極３、ドレイン電極８を形成することでＭＯＳＦＥＴを作製する。
【００３５】
図１４は、この発明の実施の形態３に係る半導体装置の製造方法を説明するもので、ソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成する方法を説明するための図である。図１４に示すように、例えばＮイオンを基板に対して垂直方向から注入すると共に、Ａｌイオンを基板に対してＮイオンに比べて注入角度の小さい斜め方向から注入すると、従来と同じ側面が垂直である注入マスク１１を用いた場合、Ｎイオンは注入マスク１１下には注入されず、Ａｌイオンのみが注入マスク１１下に注入される。この部分がＭＯＳＦＥＴのチャネルとなる。また、注入マスク１１の材料として、ＳｉＣよりイオン注入の飛程が長いＳｉＯ２などを用いた場合、ベース領域５がテーパ形状となり、実施の形態１で述べたように微細化を行ったときにＪＦＥＴ抵抗Ｒｊとチャネル抵抗Ｒｃｈのトレードオフの関係を改善する効果がある。
【００３６】
チャネル長やベース領域５のテーパ角度は注入マスク１１の材質とイオン注入角度で決まる。具体的には、注入マスク１１として、（ａ）イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合と、（ｂ）我々が現在試作に用いているＳｉＯ２（注入飛程がＳｉＣの１．７倍）の場合について、イオン注入角度とチャネル長Ｌｃｈ、ベース領域５のテーパ角度の関係がどうなるかを図１５と図１６に示す。（ａ）イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合、図１５に示すように、ｐベース領域５のテーパ角度はマスク形状に一致し、垂直となる。（ｂ）ＳｉＯ２の場合、図１６に示すように、ｐベース領域５にはテーパが形成され、テーパ角度θ'は０°より大きくなる。
【００３７】
ここで、前述した実施の形態１と同様に、ＭＯＳＦＥＴのパラメータとして車載用や産業用のインバータに用いられる耐圧１２００Ｖの素子を想定して現在試作を行っているドリフト領域６のキャリア濃度１×１０１６ｃｍ−３、基板の厚さ＝１０μｍ、ｄｐ＝０．９μｍ、ｄｎ＝０．３μｍとして注入角度の最適値を検討する。
【００３８】
まず、注入マスク１１として、（ａ）イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合について考える。注入角度θによってｐベース領域５の角度は変化しないのでＪＦＥＴ抵抗Ｒｊは変化しない。また、イオン注入角度θに対してチャネル長Ｌｃｈが計算でき、チャネル抵抗Ｒｃｈが求められる。実施の形態１で述べたように、ｐベース領域５の間隔Ｌｄ１＝２．５μｍとしてイオン注入角度θに対するオン抵抗（＝Ｒｊ＋Ｒｃｈ）を求めると図１７のようになる。ここでは、Ｌｄ１＝２．５μｍの場合を示したが、ｐベース領域５の間隔Ｌｄ１がいくらの値であっても注入角度θに対して単調にオン抵抗が下がっている傾向はいずれも同じである。つまり、注入角度θが大きくチャネル長Ｌｃｈが小さい方がオン抵抗は下がる。しかし、チャネル長Ｌｃｈが小さくなると、実施の形態１で述べたのと同様に、パンチスルーが生じ、耐圧が下がってしまう。すなわち、図１５の場合、チャネル長Ｌｃｈは、Ｌｃｈ＝ｄｐ・ｃｏｓθと表すことができ、Ｌｐ＝Ｌｃｈ＝０．３μｍ以下でパンチスルーが生じる。このことを考慮すると、間隔Ｌｐを０．３μｍ以上にするには、イオン注入角度θを７０°以下にする必要がある。
【００３９】
以上をまとめると、注入マスク１１として、（ａ）イオン注入の飛程がＳｉＣと同じ材料を用いた場合、イオン注入角の最適値はθが７０°以下であり、マージンを考慮して注入角度の大きい６０°〜７０°とするのが好ましい。
【００４０】
次に、注入マスク１１として、（ｂ）ＳｉＯ２（注入飛程がＳｉＣの１．７倍）を用いた場合について考える。イオン注入角度θに対して、チャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域５のテーパ角度θ'が計算できる。実施の形態１で述べたように、Ｌｄ１＝２．５μｍとしてテーパ角度θ'に対してＬｄ２を計算し、ＪＦＥＴ抵抗ＲｊはＬｄ２で決まると仮定として、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊを図４から求める。チャネル抵抗Ｒｃｈについてもチャネル長Ｌｃｈから同様に計算するとイオン注入角度θに対するオン抵抗（＝ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊ＋チャネル抵抗Ｒｃｈ）は図１８のようになる。
【００４１】
ここでは、Ｌｄ１＝２．５μｍの場合を示したが、Ｌｄ１＝２〜４μｍであれば、注入角度θに対して単調にオン抵抗が下がっている傾向は何れも同じである。つまり、注入角度θが大きくチャネル長Ｌｃｈが小さい方がオン抵抗が下がり、ＪＦＥＴ抵抗Ｒｊが変化する影響は小さい。また、パンチスルーについて検討すると、Ｌｐを０．３μｍ以上にするには注入角度θを７５°以下にする必要がある。すなわち、図１６の場合、Ｌｃｈ＝１．７ｄｐ・ｃｏｓθ、ｔａｎθ＝０．７ｃｏｔθ’、Ｌｐ＝Ｌｃｈ・ｃｏｓθ’−ｄｎ・ｓｉｎθ’と表すことができ、Ｌｐ＝０．３μｍ以下でパンチスルーが生じる。このことを考慮すると、間隔Ｌｐを０．３μｍ以上にするには、イオン注入角度θを７５°以下にする必要がある。
【００４２】
以上をまとめると、注入マスク１１として、（ｂ）ＳｉＯ２（注入飛程がＳｉＣの１．７倍）を用いた場合、イオン注入角度の最適値はθが７５°以下であり、マージンを考慮して注入角度の大きい６５°〜７５°とするのが好ましい。
【００４３】
また、実際のイオン注入においては、注入角度を基板のオリエンテーションフラットを利用して注入マスクの向きに合わせて基板を傾けるだけでイオン注入角度を制御できる。図１４では、Ａｌの注入を左右の異なる２つの角度から注入しているが、左右それぞれ２つ以上の異なる注入角度でイオン注入しても良い。また、基板を左右に傾けるだけでなく、イオン注入時に基板を傾けて回転させれば１回の注入で図１４と同じ注入を実現できる。
【００４４】
従って、実施の形態３によれば、上述した法により、選択的な不純物のドーピングを同一マスクを用いたセルフアラインプロセスにより行うことが出来る。特に、ＭＯＳＦＥＴのチャネル長は、イオン注入の深さや角度により容易に制御でき、ＭＯＳＦＥＴの微細化を行う場合、従来のイオン注入に異なるマスクを用いる場合に比べて有利である。また、注入マスクとしてイオン注入の飛程がＳｉＣより長い材料を用いれば、ｐベース領域５にテーパを形成することができ、ＭＯＳＦＥＴの微細化を行う場合にチャネル抵抗ＲｃｈとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊのトレードオフ関係を改善することができる。
【００４５】
実施の形態４．
図１９は、この発明の実施の形態４により作製した半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）を示す断面図である。基板７上にエピタキシャル成長したドリフト領域６中にイオン注入によりソース領域４、ベース領域５を形成し、ゲート酸化膜２、ゲート電極１、ソース電極３、ドレイン電極８を形成することでＭＯＳＦＥＴを作製する。
【００４６】
図２０は、この発明の実施の形態４に係る半導体装置の製造方法を説明するもので、ソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成する方法を説明するための図である。図２０に示すように、テーパ形状の注入マスク９を用いて基板に対して垂直方向と斜め方向からのイオン注入を行うことで、前述した実施の形態２，３と同様に、注入マスク９下にベース領域５のみが注入される領域を形成する。この部分がＭＯＳＦＥＴのチャネルとなる。チャネルの長さ、ｐベース領域５のテーパ角度は、イオン注入の深さと注入角度、注入マスクの形状（テーパの角度）により制御できる。
【００４７】
従って、実施の形態４によれば、上述した方法により、選択的な不純物のドーピングを同一マスクを用いたセルフアラインプロセスにより行うことが出来る。特に、実施の形態２，３に比べてチャネル長やｐベース領域５のテーパ角度を制御するパラメータが多く、ＭＯＳＦＥＴの微細化を容易に行うことが出来、かつチャネル抵抗ＲｃｈとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊのトレードオフ関係を改善することができる。
【００４８】
実施の形態５．
図２１は、図１３に示す半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）のソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成するようにした、この発明の実施の形態５に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。図２１に示すように、ソース領域４とベース領域５のいずれも基板に対して斜め方向からイオン注入で作製する。注入角度θが小さい方がマスク１０下に注入される領域の幅が大きくなるのでソース領域４よりもベース領域５のイオン注入角度を小さくすれば、マスク１０下でベース領域５のみが注入されるところが形成される。この部分がＭＯＳＦＥＴのチャネルとなる。チャネルの長さは、実施の形態３と同様に、イオン注入の深さと注入角度により制御できる。
【００４９】
従って、実施の形態５によれば、上述した方法により、選択的な不純物のドーピングを同一マスクを用いたセルフアラインプロセスにより行うことが出来る。特に、ＭＯＳＦＥＴのチャネル長は、イオン注入の深さや角度により容易に制御でき、ＭＯＳＦＥＴの微細化を行う場合、従来のイオン注入に異なるマスクを用いる場合に比べて有利である。また、同一マスクの材料としてイオン注入の飛程がＳｉＣより長い材料を用いれば、ｐベース領域５にテーパを形成することができ、ＭＯＳＦＥＴの微細化を行う場合にチャネル抵抗ＲｃｈとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊのトレードオフ関係を改善することができる。
【００５０】
実施の形態６．
図２２は、図１９に示す半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）のソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成するようにした、この発明の実施の形態６に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。図２２に示すように、テーパ形状の注入マスク９を用いて基板に対してソース領域４とベース領域５のいずれも基板に対して斜め方向からイオン注入で作製する。注入角度θが小さい方がマスク９下に注入される領域の幅が大きくなるのでソース領域４よりもベース領域５のイオン注入角度を小さくすれば、マスク９下でベース領域５のみが注入されるところが形成される。この部分がＭＯＳＦＥＴのチャネルとなる。注入マスクがテーパ形状である効果も加わり、チャネルの長さやｐベース領域５のテーパ角度は、イオン注入の深さと注入角度、注入マスクの形状（テーパの角度）により制御できる。
【００５１】
従って、実施の形態６によれば、上述した方法により、選択的な不純物のドーピングを同一マスクを用いたセルフアラインプロセスにより行うことが出来る。特に実施の形態２，３に比べてチャネル長、ｐベース領域５のテーパ角度を制御するパラメータが多く、ＭＯＳＦＥＴの微細化を容易に行うことが出来る。また、ｐベース領域５のテーパ角度を付けることでチャネル抵抗ＲｃｈとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊのトレードオフ関係を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）を示す断面図である。
【図２】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置の素子構造を説明するための図である。
【図３】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置のオン抵抗を説明するための図である。
【図４】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置におけるｐベース領域５の間隔ＬｄとＪＦＥＴ抵抗Ｒｊの関係を実験で調べた結果を示す図である。
【図５】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置におけるｐベース領域５のテーパ角度θとチャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域の間隔Ｌｄ１、Ｌｄ２の関係を説明するための図で、ｎソース領域４にテーパを形成した場合を示す。
【図６】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置におけるｐベース領域５のテーパ角度θとチャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域の間隔Ｌｄ１、Ｌｄ２の関係を説明するための図で、ｎソース領域４にテーパを形成しない場合を示す。
【図７】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置におけるｐベース領域５のテーパ角度とオン抵抗の関係を表す図で、ｎソース領域４にテーパを形成した場合を示す。
【図８】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置におけるｐベース領域５のテーパ角度とオン抵抗の関係を表す図で、ｎソース領域４にテーパを形成しない場合を示す。
【図９】この発明の実施の形態１により作製した半導体装置におけるｐベース領域５のテーパ角度とパンチスルーが生じる限界を説明する図である。
【図１０】この発明の実施の形態２に係る半導体装置の製造方法を説明するもので、ソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成する方法を説明するための図である。
【図１１】この発明の実施の形態２により作製した半導体装置におけるマスクのテーパ角度とチャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域５のテーパ角度の関係を示す図で、注入マスクとＳｉＣの飛程が同じ場合を示す図である。
【図１２】この発明の実施の形態２により作製した半導体装置におけるマスクのテーパ角度とチャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域５のテーパ角度の関係を示す図で、注入マスクがＳｉＯ２の場合を示す図である。
【図１３】この発明の実施の形態３及び５により作製した半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）を示す断面図である。
【図１４】この発明の実施の形態３に係る半導体装置の製造方法を説明するもので、ソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成する方法を説明するための図である。
【図１５】この発明の実施の形態３により作製した半導体装置におけるイオン注入角度とチャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域５のテーパ角度の関係を示す図で、注入マスクとＳｉＣの飛程が同じ場合を示す図である。
【図１６】この発明の実施の形態３により作製した半導体装置におけるイオン注入角度とチャネル長Ｌｃｈ、ｐベース領域５のテーパ角度の関係を示す図で、注入マスクがＳｉＯ２の場合を示す図である。
【図１７】この発明の実施の形態３により作製した半導体装置におけるイオン注入角度とオン抵抗の関係を示す図で、注入マスクとＳｉＣの飛程が同じ場合を示す図である。
【図１８】この発明の実施の形態３により作製した半導体装置においてイオン注入角度とオン抵抗の関係を示す図で、注入マスクがＳｉＯ２の場合を示す図である。
【図１９】この発明の実施の形態４及び６により作製した半導体装置（ＳｉＣ縦型ＭＯＳＦＥＴ）を示す断面図である。
【図２０】この発明の実施の形態４に係る半導体装置の製造方法を説明するもので、ソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成する方法を説明するための図である。
【図２１】この発明の実施の形態５に係る半導体装置の製造方法を説明するもので、ソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成する方法を説明するための図である。
【図２２】この発明の実施の形態６に係る半導体装置の製造方法を説明するもので、ソース領域４とベース領域５をイオン注入で形成する方法を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５３】
１  ゲート電極、２  ゲート酸化膜、３  ソース電極、４  ソース領域、５  ベース領域５、６  ドリフト領域、７  基板、８  ドレイン電極、９，１０  注入マスク。
【図１】
2004319964.tif 000003
【図２】
2004319964.tif 000004
【図３】
2004319964.tif 000005
【図４】
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【図５】
2004319964.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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