(57)【要約】【課題】シール材を跨いで形成された引き出し配線、及びこれに接続された外部接続端子を効果的に保護することができ、かつ液晶層厚を一定に保持して高画質の表示を得ることが可能な液晶装置、及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の液晶装置は、互いに対向して配置された素子基板１０及び対向基板２０と、前記の両基板間に挟持された液晶層５０と、前記液晶層５０を封止するシール材５２とを備え、前記素子基板１０の内面側に、ＴＦＴ層３５と、配線層６と、層間絶縁膜７（オーバーコート層）とが形成され、前記配線層６が、前記シール材５２の外側まで延出されて当該素子基板１０の辺端部に設けられた外部接続端子と接続されており、前記外部接続端子が設けられた素子基板１０辺端部において、前記シール材５２の外側に延設された層間絶縁膜７の縁端部が、前記素子基板１０の基板面に対して傾斜したテーパー状を成している。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された素子基板及び対向基板と、前記の両基板間に挟持された液晶層と、前記液晶層を封止するシール材とを備え、前記素子基板の内面側に、薄膜トランジスタ素子と、該薄膜トランジスタ素子と接続された配線と、前記薄膜トランジスタ及び配線を覆って前記シール材の外側まで延設されたオーバーコート層とが形成された液晶装置であって、
前記配線が、前記シール材の外側まで延出されて当該素子基板の辺端部に設けられた外部接続端子と接続されており、
前記外部接続端子が設けられた素子基板辺端部において、前記シール材の外側に延設されたオーバーコート層の縁端部が、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状を成していることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記対向基板の内面側にカラーフィルタ層が設けられ、該カラーフィルタ層を覆う第２のオーバーコート層が形成されており、
前記外部接続端子が形成された素子基板辺端部において、前記シール材の外側に延設された前記第２のオーバーコート層の縁端部が、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状を成していることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記素子基板の全ての辺端部において、前記シール材の外側に延設されたオーバーコート層の縁端部が、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状を成していることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置。
【請求項４】
互いに対向して配置された素子基板及び対向基板と、前記の両基板間に挟持された液晶層と、前記液晶層を封止するシール材とを備え、前記素子基板の内面側に、薄膜トランジスタ素子と、該薄膜トランジスタ素子と接続された配線と、前記配線と素子基板辺端において接続された外部接続端子とを具備した液晶装置の製造方法であって、
前記薄膜トランジスタ及び配線を覆うオーバーコート層を形成するに際して、
前記オーバーコート層を前記シール材の外側まで延設するとともに、前記外部接続端子が形成された素子基板辺端部において、前記オーバーコート層の縁端部を、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状に形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記素子基板の全ての辺端部において、前記オーバーコート層の縁端部を、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状に形成することを特徴とする請求項４に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置、及びその製造方法、並びに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶装置の基本構成としては、対向して配置された２枚の基板を、平面視略矩形枠状のシール材により貼り合わせるとともに、両基板と、シール材とに囲まれた空間に液晶を封止した構成が知られている。このような液晶装置において前記シール材の内側に液晶を封止する方法としては、シール材に一部設けられた開口部から液晶を注入し、しかる後、この開口部を封止材により封止する方法が知られている。そして、このような方法で上記液晶を注入、封止する場合、シール材外側の両基板の間隙に液晶が付着するため、前記封止材による封止を行った後、液晶装置を洗浄し、余分の液晶を除去している。
また、液晶装置では、前記シール材の内側の基板上に、電極やスイッチング素子を備えた表示領域が形成されており、これら表示領域の構成部材と外部回路との電気的接続を行うために、前記電極やスイッチング素子から引き出された配線が、シール材の外側の領域に設けられた外部接続端子と接続されている。このような構成において、上記洗浄が不十分であると、シール材外側の液晶残渣により配線ないし外部接続端子のコロージョンを引き起こすおそれがある。
【０００３】
このようなシール材を跨ぐ引き出し配線の構造については、断線や短絡、コロージョンを防止するために種々の提案が成されている。例えば下記特許文献１では、シール材の形成領域を平坦化することでシール材に混入されたギャップ材による引き出し配線の配線不良を防止するようにすることが提案されており、特許文献２では、シール材の外側の領域の引き出し配線を、金属配線と透明導電層との２層構造とすることで、引き出し配線のコロージョンの防止を図っている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−５６３１９号公報
【特許文献２】
特開２００２−２５８３０４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献１又は特許文献２に記載の技術では、表示領域から外部接続端子へ至る領域における平坦化膜、あるいはオーバーコート膜の形成に関して、部分的な観点で行われているため、上記液晶注入工程で付着した液晶の洗浄残渣によるコロージョンを充分に抑制し得る配線保護構造を実現しているとは言い難い。例えば、特許文献１に記載の液晶装置では、素子基板側の平坦化膜は表示領域からシール材形成領域を経て外部接続端子の一部にまで延設されているが、この構造では、対向配置された基板間の間隙が、液晶層厚と同等の極めて狭い間隙となってしまうため、この狭い間隙に液晶や洗剤が残り易く、この残渣により外部接続端子にコロージョンが生じるおそれがある。
【０００６】
また、特許文献２に記載の液晶装置では、シール領域よりも内側に平坦化膜が形成されている。この構造では、対向配置された基板間の間隙は広くなるものの、基板の間隙に液晶や洗剤が残ると、外部接続端子にコロージョンが生じる可能性がある。また、平坦化膜の縁端とシール材との間の液晶層中に、前記平坦化膜の厚さに相当する段差が生じるため、この段差に起因する液晶の配向不良により表示品質が低下するおそれがある。
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために成されたものであって、シール材を跨いで形成された引き出し配線、及びこれに接続された外部接続端子を効果的に保護することができ、かつ液晶層厚を一定に保持して高画質の表示を得ることが可能な液晶装置、及びその製造方法を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の液晶装置は、互いに対向して配置された素子基板及び対向基板と、前記の両基板間に挟持された液晶層と、前記液晶層を封止するシール材とを備え、前記素子基板の内面側に、薄膜トランジスタ素子と、該薄膜トランジスタ素子と接続された配線と、前記薄膜トランジスタ及び配線を覆って前記シール材の外側まで延設されたオーバーコート層とが形成された液晶装置であって、前記配線が、前記シール材の外側まで延出されて当該素子基板の辺端部に設けられた外部接続端子と接続されており、前記外部接続端子が設けられた素子基板辺端部において、前記シール材の外側に延設されたオーバーコート層の縁端部が、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状を成していることを特徴としている。
【０００９】
この構成によれば、前記素子基板の辺端部のうち、前記オーバーコート層により被覆されない外部接続端子が設けられている辺端部において、前記オーバーコート層の端縁部の形状を、基板面に対して傾斜したテーパー状としているので、シール材外側における素子基板と対向基板の間隙を、外側に向かって広くなる形状とすることができる。そしてこの形状により、シール材に囲まれる領域内への液晶の注入を行ったときに基板に付着する液晶を洗浄する際に、前記シール材外周部に付着した液晶を効率よく掃き出すことができるので、大気に露出されている外部接続端子の近傍において液晶や洗剤の残渣が生じるのを防止することができ、前記残渣による外部接続端子や配線のコロージョンを効果的に防止することができる。従って、本構成によれば信頼性に優れる液晶装置を提供することができる。
また、前記オーバーコート層がシール材の外側まで延設されているので、シール材の内側における素子基板表面を平坦化することができ、もって液晶層内に段差がある場合に生じる液晶の配向の乱れを無くし、高画質の液晶装置を提供することができる。
【００１０】
本発明の液晶装置では、前記対向基板の内面側にカラーフィルタ層が設けられ、該カラーフィルタ層を覆う第２のオーバーコート層が形成されており、前記外部接続端子が形成された素子基板辺端部において、前記シール材の外側に延設された前記第２のオーバーコート層の縁端部が、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状を成している構成とすることもできる。
この構成によれば、対向基板に設けられたカラーフィルタ層の凹凸を平坦化するために設けられるオーバーコート層についても、そのシール材外側の縁端部がテーパー状に形成された構成とするので、液晶注入時に基板に付着した液晶を洗浄する工程における洗浄度を高めることができ、もってさらに信頼性に優れる液晶装置を提供することが可能になる。
【００１１】
本発明の液晶装置では、前記素子基板の全ての辺端部において、前記シール材の外側に延設されたオーバーコート層の縁端部が、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状を成している構成とすることもできる。
この構成によれば、外部接続端子が設けられた基板辺端部のみならず、全ての基板の辺端部において洗浄効率を高めることができ、もって、液晶注入時に付着した液晶の残渣を装置全体でほぼ無くすことができ、さらに信頼性に優れる液晶装置とすることができる。
また、上記構成において、対向基板に設けられた第２のオーバーコート層についても、全ての対向基板辺端部で、前記シール材の外側に延設されたオーバーコート層の縁端部が、当該対向基板の基板面に対して傾斜して形成されたテーパー状を成している構成とすることもでき、その場合には、さらなる洗浄効率の向上が基体できる。
【００１２】
次に、本発明の液晶装置の製造方法は、互いに対向して配置された素子基板及び対向基板と、前記の両基板間に挟持された液晶層と、前記液晶層を封止するシール材とを備え、前記素子基板の内面側に、薄膜トランジスタ素子と、該薄膜トランジスタ素子と接続された配線と、前記配線と素子基板辺端において接続された外部接続端子とを具備した液晶装置の製造方法であって、前記薄膜トランジスタ及び配線を覆うオーバーコート層を形成するに際して、前記オーバーコート層を前記シール材の外側まで延設するとともに、前記外部接続端子が形成された素子基板辺端部において、前記オーバーコート層の縁端部を、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状に形成することを特徴とする。
この製造方法によれば、素子基板上にオーバーコート層を形成するに際して、その端縁部が基板面に対して傾斜したテーパー状を成すように形成するので、液晶注入時に基板に付着する液晶を洗浄する工程において、シール材外周部に付着している液晶を効率よく洗い流すことができ、液晶や洗剤の残渣がシール材の外周部に生じるのを効果的に防止することができる。従って、本製造方法によれば、上記液晶や洗剤の残渣を起因とする外部接続端子や配線のコロージョンを効果的に防止でき、信頼性に優れる液晶装置を製造することができる。
【００１３】
本発明の液晶装置の製造方法では、前記素子基板の全ての辺端部において、前記オーバーコート層の縁端部を、前記素子基板の基板面に対して傾斜したテーパー状に形成することもできる。
この製造方法によれば、素子基板の全ての辺端部において、付着した液晶を洗浄する際の洗浄度を高めることができ、さらに液晶や洗剤の残渣が生じ難くなるので、製造される液晶装置の信頼性をさらに高めることができる。
【００１４】
次に、本発明の電子機器は、先に記載の本発明の液晶装置を備えたことを特徴としている。この構成によれば、外部接続端子及びそれに接続された配線におけるコロージョンが極めて生じ難く、信頼性に優れた表示部を有する電子機器を提供することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。本実施形態の液晶装置は、画素のスイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置である。図１（ａ）は、本実施形態の液晶装置の全体構成を示す平面構成図、図１（ｂ）は、同図（ａ）に示すＨ−Ｈ線に沿う断面構成図、図２は、同、回路構成を示す図、図３は、図１（ａ）に示すＨ−Ｈ線における基板辺端部の部分断面構成図である。
【００１６】
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、本実施形態の液晶装置は、素子基板（ＴＦＴアレイ基板）１０と、対向基板２０とが平面視略矩形枠状のシール材５２によって貼り合わされ、このシール材５２に囲まれた領域内に液晶層５０が封入された構成を備えている。シール材５２内周側に沿って平面視矩形枠状の周辺見切り５３が形成され、この周辺見切りの内側の領域が画像表示領域１１とされている。シール材５２の外側の領域には、データ線駆動回路２０１及び外部回路実装端子２０２が素子基板１０の１辺（図示下辺）に沿って形成されており、この１辺に隣接する２辺に沿ってそれぞれ走査線駆動回路２０４，２０４が形成されている。素子基板１０の残る１辺（図示上辺）には、画像表示領域１１の両側の走査線駆動回路２０４，２０４間を接続する複数の配線２０５が設けられている。また、対向基板２０の各角部においては、素子基板１０と対向基板２０との間の電気的導通をとるための基板間導通材２０６が配設されている。
【００１７】
なお、データ線駆動回路２０１および走査線駆動回路２０４，２０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に形成する代わりに、例えば、駆動用ＬＳＩが実装されたＣＯＦ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｆｉｌｍ）基板とＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に形成された端子群とを異方性導電膜を介して電気的および機械的に接続するようにしてもよい。また、液晶装置においては、使用する液晶の種類、すなわち、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、垂直配向モード等の動作モードや、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、位相差板、偏光板等が所定の向きに配置されるが、ここでは図示を省略する。
【００１８】
次に、図２に示すように、本実施形態の液晶装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に配置された複数のドットには、画素電極９と当該画素電極９を制御するためのスイッチング素子であるＴＦＴ３０がそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給される。また、走査線３ａがＴＦＴ３０のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極９はＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけオンすることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００１９】
画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述する共通電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークするのを防止するために、画素電極９と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。なお、符号３ｂは容量線である。
【００２０】
図３は、図１（ａ）に示すＨ−Ｈ線における基板辺端部の部分断面構成図である。この図に示すように、素子基板１０と、これに対向配置される対向基板２０との間に、液晶層５０が挟持されている。素子基板１０は、ガラスや石英等の透光性材料からなる素子基板本体１０Ａとその液晶層５０側表面に積層形成されたＴＦＴ層３５と、層間絶縁膜（オーバーコート層）７と、電極層１９と、配向膜４０とを主体として構成されており、対向基板２０はガラスや石英等の透光性材料からなる対向基板本体２０Ａとその液晶層５０側表面に形成されたカラーフィルタ層２２と、平坦化膜２３と、共通電極２１と、配向膜６０とを主体として構成されている。
尚、図３ではデータ線駆動回路２０１の図示を省略しているが、実際は、データ線駆動回路２０１は、ＴＦＴ層３５において画素スイッチング用のＴＦＴと同層にて形成されており、シール材５２の外側において配線層６を介して図１（ａ）に示す外部接続端子２０２と電気的に接続されている。
【００２１】
前記ＴＦＴ層３５は、各画素を駆動するＴＦＴ３０が複数形成された層であり、その詳細な構成は後述するが、図３に示すように、アクリル樹脂等からなる層間絶縁膜４に設けられたコンタクトホール５を介して、配線層６と図示略のＴＦＴとが電気的に接続されている。上記ＴＦＴ層３５上にアクリル樹脂等からなる層間絶縁膜７を介して画素電極９を含む電極層１９が形成され、層間絶縁膜４，７を貫通するコンタクトホール（図示略）を介して電極層１９とＴＦＴ層３５のＴＦＴとが電気的に接続されている。対向基板２０の辺端部に設けられたシール材５２により前記両基板１０，２０が貼り合わされており、素子基板１０上の画素電極９が設けられた層及び配向膜４０が設けられた層の端縁部と、対向基板２０上の共通電極２０、配向膜６０の端縁部とは、シール材５２の形成領域と一部平面的に重なっている。
上記電極層１９は、図２ではシール材５２と一部重なる位置から面方向に延在する平面形状に図示しているが、実際には、先の画素電極９が平面視略矩形状を成して配列形成されたものである。また、カラーフィルタ層２２は、上記画素電極９の形成領域と対応する平面形状を有し、異なる色（例えば赤、緑、青）を呈する色材層が配列形成されたものである。
【００２２】
上記構成を備えた本実施形態の液晶装置は、例えば、（１）ＴＦＴアレイ作製工程、（２）配向処理工程、（３）シール材印刷工程、（４）貼り合わせ工程、（５）液晶注入・封止工程、（６）パネル洗浄工程、（７）パネル検査工程、を基本とする製造工程を経る製造方法により製造することができる。これらの工程の他、複数の液晶装置を同時に製造するべく大型のマザー基板を用いて製造を行う場合には、上記各工程に加えて、マザー基板を複数の液晶装置に分離する分離工程が適宜追加される。
【００２３】
より詳細には、（１）ＴＦＴアレイ作製工程において、図３に示す素子基板本体１０Ａ上に、ＴＦＴ３０や画素電極９、配向膜４０等を形成して素子基板１０を得る。次いで、（２）配向処理工程において前記配向膜４０にラビング処理等の配向処理が施される。次に、（３）シール材印刷工程において、図１に示すように平面視略矩形枠状のシール材５２を素子基板１０上に印刷した後、（４）貼り合わせ工程にて、別途作製された対向基板２０と素子基板１０とを上記シール材５２を介して貼り合わせる。
次に、（５）液晶注入・封止工程にて、図１に示すシール材５２の開口部から液晶を注入した後、封止材５４によりシール材５２の開口部を封止する。次いで、（６）パネル洗浄工程にて、液晶注入時にシール材５２の外側に付着した余分の液晶を洗浄する。次に、（７）パネル検査工程にて、作製された液晶装置の製品検査を行う。
【００２４】
本実施形態の液晶装置は、素子基板１０及び対向基板２０の辺端部におけるオーバーコート層（層間絶縁膜７及び平坦化膜２３）の構造に特徴を有している。図３に示すように、本実施形態の液晶装置では、素子基板１０の内面側に設けられた層間絶縁膜７が、シール材５２の外側まで延設されるとともに、その縁端部に素子基板本体１０Ａに対して傾斜した斜面部７ａを有するテーパー部７ｂが形成されている。また対向基板２０の内面側に設けられた平坦化膜２３も、シール材５２の外側まで延設されるとともに、その縁端部に対向基板本体２０Ａに対して傾斜した斜面部２３ａを有するテーパー部２３ｂが形成されている。
上記層間絶縁膜７のテーパー部７ｂは、上述の製造工程におけるＴＦＴアレイ作製工程において、層間絶縁膜７のパターニングを行う際に形成することができる。その具体的な形成方法としては、例えば層間絶縁膜７を所定形状にエッチングする際に、意図的にオーバーエッチングすることで端縁部にテーパー形状を有する層間絶縁膜を形成することができる。更に詳しく説明するならば、現像後のポストベーク温度を制御する事により、エッチング後のテーパ角度を管理する事が出来る。例えば、ポストベーク温度を高くするとテーパー角度（後述する傾斜面７ａ、２３ａの傾斜角α、βに相当）は小さく、ポストベーク温度を低くすると前記テーパー角度は大きくなる。
【００２５】
このように、シール材５２の外側まで延設された層間絶縁膜７及び平坦化膜２３が、先のテーパー部７ｂ、２３ｂを有していることで、本実施形態の液晶装置は、その製造に際して、上記（５）液晶注入・封止工程にて素子基板１０と対向基板２０とシール材５２とに囲まれる領域内に液晶を封止した後の、（６）パネル洗浄工程による洗浄度を向上させることができる。これは、上記テーパー部７ｂ、２３ｂを設けたことにより、シール材５２の外側における基板間隔を実質的に広げることができるため、シール材５２の外面や層間絶縁膜７及び平坦化膜２３の上面に付着している液晶を効果的に除去することができるようになるからである。
【００２６】
上記テーパー部７ｂ、２３ｂの作用を図４を参照してさらに詳細に説明する。図４は、図３に示す液晶装置において、仮に上記テーパー部７ｂ、２３ｂが形成されていない構成とした場合の部分断面構成図である。
図４に示す液晶装置は、対向配置された素子基板１０及び対向基板２０とを有し、両基板１０、２０の間に液晶層５０を挟持するとともにシール材５２により封止した構成を備えており、素子基板本体１０Ａ内面側に、配線層６と、層間絶縁膜１０７とが形成され、対向基板本体２０Ａ内面側に平坦化膜１２３が形成されるとともに、前記層間絶縁膜１０７及び平坦化膜１２３がシール材５２の外側まで延設されている。尚、図４では、図面を見易くするために、説明に不要の画素電極や共通電極、配向膜等はその図示を省略しているが、実際には、層間絶縁膜１０７及び平坦化膜１２３以外の構成は、図３に示す実施形態の液晶装置と同様である。
【００２７】
図４に示すように、層間絶縁膜１０７及び平坦化膜１２３の端縁部が、テーパー部を有して形成されていない場合、基板１０，２０間の間隙がセルギャップ（液晶層５０の層厚）とほぼ同等にまで狭くなる。図４に示す対向基板２０と素子基板１０側の配線層６との間隔Ｌ１は、通常５〜６μｍ程度であり、層間絶縁膜１０７の層厚Ｌ２は、２〜３μｍ程度である。従って、シール材５２の外側における層間絶縁膜１０７と平坦化膜１２３との間隔は、３〜４μｍ程度であり、洗浄工程において除去しきれなかった液晶や洗剤が、シール材５２の外周部に残渣Ｃとして残り易くなる。このような残渣Ｃは、層間絶縁膜１０７上に位置している限りにおいては、配線６に対してコロージョンを生じさせる可能性は低いが、図４に示すように、層間絶縁膜１０７により被覆されていない配線層６へ移動した場合には、配線層６の配線や外部接続端子に容易にコロージョンを生じさせて配線不良の原因となるおそれがある。
【００２８】
これに対して、図３に示す本実施形態の液晶装置では、層間絶縁膜７及び平坦化膜２３が、それぞれテーパー部７ｂ、２３ｂを有しているので、基板１０，２０間の間隔が比較的狭くなるシール材５２外周面近傍に液晶が付着していたとしても、各テーパー部７ｂ、２３ｂの斜面部７ａ、２３ａに沿って外側へ排出され易くなっており、パネル洗浄工程における洗浄度を容易に向上させることができるようになっている。これにより、従来液晶や洗剤の残渣が生じやすかった基板１０，２０の間隙部における液晶や洗剤の除去を確実に行うことが可能になり、もって配線層６のコロージョンや図１（ａ）に示す外部接続端子２０２におけるコロージョンが極めて生じ難い構成とすることができ、高信頼性の液晶装置を提供することができる。
【００２９】
図３に示す本実施形態の液晶装置では、層間絶縁膜７の斜面部７ａ及び平坦化膜２３の斜面部２３ａは、紙面に垂直な方向に延在する傾斜平面とされているが、前記斜面部７ａ、２３ａは、いずれも曲面形状に形成することができる。前記傾斜面７ａ、２３ａの傾斜角α、βは、基板面に対して５°以上８５°以下とすることが好ましい。前記傾斜角α、βが、５°未満の場合には、傾斜面７ａ、２３ａの平面領域が必要以上に大きくなり、液晶装置の額縁が大きくなるため、液晶装置の小型化の点で好ましくない。また、８５°を超える場合には、前記斜面部７ａ、２３ａによる洗浄度の向上効果が得られ難くなるため好ましくない。これらを勘案して、液晶装置の額縁を小さくでき、かつ効果的に洗浄を行える傾斜角α、βの範囲としては、３０°以上６０°以下である。
【００３０】
また、本実施形態では、素子基板１０の層間絶縁膜７と、対向基板２０の平坦化膜２３の双方が、それぞれテーパー部７ｂ、２３ｂを有する構成としており、係る構成とすることが液晶装置の洗浄工程における洗浄度の点で好ましいのは勿論であるが、本発明において、少なくとも素子基板１０側のオーバーコート層を成す層間絶縁膜７がテーパー部７ｂを有していれば、基板間の間隙を実質的に広げることができ、また、洗浄時に斜面部７ａに沿って当該間隙に付着した液晶が掃き出され易くなるため、洗浄度の向上について一定の効果を期待できる。
【００３１】
以上では、図３により、データ線駆動回路２０１が設けられた基板１０，２０辺端部について図示するとともに説明したが、本実施形態に係る層間絶縁膜７及び平坦化膜２３は、データ線駆動回路２０１側の端縁部のみならず、図１（ａ）に示す走査線駆動回路２０４，２０４側の端縁部においても前記テーパー部７ｂ、２３ｂを有する構成とすることもできる。本実施形態の場合、走査線駆動回路２０４，２０４は、図３に示すＴＦＴ層３５に形成されており、通常は層間絶縁膜７により覆われているため、これらの駆動回路２０４，２０４や配線をコロージョンから保護する効果は小さいが、走査線駆動回路２０４，２０４が、素子基板１０上に露出された配線に対して異方性導電膜等を介して接続される構成である場合には、駆動回路の端子や配線をコロージョンから保護する効果は大きく、液晶装置の歩留まりや信頼性を向上させる上で本発明は極めて有用である。
【００３２】
図１（ａ）に示す配線２０５が引き回された素子基板１０辺端部においても、通常配線２０５は素子基板１０の前記層間絶縁膜７により覆われているため、上記テーパー部７ｂ、２３ｂは必ずしも形成する必要はないが、前記配線２０５が露出されている場合には、係る基板辺端部においても、上記テーパー部７ｂ、２３ｂを設けることが好ましい。また、層間絶縁膜７により配線２０５が覆われている場合であっても、対向基板２０の平坦化膜２３にテーパー部２３ｂを形成しておけば、配線２０５側の対向基板２０辺端部における洗浄度を高めることができるため、液晶装置の信頼性を向上させる点で好ましい。
【００３３】
また、本実施形態の液晶装置では、図３に示すように、層間絶縁膜７の斜面部７ａ、平坦化膜２３の斜面部２３ａが、いずれもシール材５２の形成領域と一部平面的に重なるように形成されている。このような構成とすることで、シール材５２の外側に基板面と平行な平坦面が生じないようにすることができ、パネル洗浄工程において、上記斜面部７ａ、２３ａによる付着液晶の掃き出しを効果的に行うことができるようになる。また、図３に示すように、層間絶縁膜７、平坦化膜２３の平坦面もシール材５２の形成領域と一部平面的に重なって配置されており、これにより、シール材５２に混入されている液晶層５０の層厚（セルギャップ）を保持するためのギャップ材を安定に保持できるようになり、セルギャップを正確に制御できるようになる。
【００３４】
またさらに、図３に示すように、シール材５２は、素子基板１０上において電極層１９及び配向膜４０と一部重なるように形成されており、対向基板２０上においては、共通電極２１及び配向膜６０と一部重なるように形成されている。このような構成とすることで、配向膜４０，６０の端縁における段差を、液晶層５０が封止された空間より外側に配置することができ、もって前記段差に起因する液晶分子の配向の乱れを防止することができ、高画質の液晶装置を提供することができる。
【００３５】
以下、本実施形態のアクティブマトリクス型液晶装置の各部の詳細構成を図面を参照して説明する。
図５は、上記実施形態に係る素子基板１０における１ドット領域の平面構成を示す図である。同図に示すように、素子基板１０上に、平面視略矩形状の画素電極９が設けられており、画素電極９の縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａ、走査線３ａおよび容量線３ｂが設けられている。本実施の形態において、各画素電極９および各画素電極９を囲むように配置されたデータ線６ａ、走査線３ａ、容量線３ｂ等が形成された領域の内側が一つのドット領域であり、マトリクス状に配置された各ドット領域毎に表示が可能な構造になっている。図５では、画素電極９を１つのみ図示しているが、本実施の形態の液晶装置では、平面視略長方形状の画素電極９を備えた３ドットにより１画素が構成されるようになっている。
【００３６】
データ線６ａは、ＴＦＴ３０を構成する、例えばポリシリコン膜からなる半導体層１ｆのうち、後述のソース領域にコンタクトホール５を介して電気的に接続されており、画素電極９は、半導体層１ｆのうち、後述のドレイン領域にコンタクトホール８を介して電気的に接続されている。また、半導体層１ｆと走査線３ａとが平面視において交差している領域（図中左上がりの斜線で示す領域）にＴＦＴ３０のチャネル領域１ａが形成されており、走査線３ａはチャネル領域１ａに対向する部分でゲート電極として機能する。
【００３７】
容量線３ｂは、走査線３ａに沿って略直線状に延びる本線部（すなわち、平面的に見て、走査線３ａに沿って形成された第１領域）と、データ線６ａと交差する箇所からデータ線６ａに沿って前段側（図中上向き）に突出した突出部（すなわち、平面的に見て、データ線６ａに沿って延設された第２領域）とを有する。そして、図５中、右上がりの斜線で示した領域には、複数の遮光膜１１ａが設けられている。
【００３８】
上記遮光膜１１ａは、各々、半導体層１ｆのチャネル領域１ａを含むＴＦＴ３０を素子基板本体１０Ａ側から見て覆う位置に設けられており、さらに、容量線３ｂの本線部に対向して走査線３ａに沿って直線状に延びる本線部と、データ線６ａと交差する箇所からデータ線６ａに沿って隣接する後段側（すなわち、図中下向き）に突出した突出部とを有する。遮光膜１１ａの各段（画素行）における下向きの突出部の先端は、データ線６ａ下において次段における容量線３ｂの上向きの突出部の先端と平面的に重なっている。この重なった箇所には、遮光膜１１ａと容量線３ｂとを相互に電気的に接続するコンタクトホール１３が設けられている。すなわち、遮光膜１１ａは、コンタクトホール１３によって前段あるいは後段の容量線３ｂと電気的に接続されている。
【００３９】
次に、図６に基づいて、本実施形態の液晶装置の詳細な断面構造について説明する。図６は、図５に示すＡ−Ａ’線に沿う断面構造を示す図である。同図に示すように、本実施形態の透過型液晶装置においては、素子基板１０と、これに対向配置される対向基板２０との間に誘電異方性が負の液晶からなる垂直配向モードの液晶層５０が挟持されている。素子基板１０は、素子基板本体１０Ａと、その液晶層５０側表面に形成された、ＴＦＴ３０、画素電極９、配向膜４０とを主体として構成され、対向基板２０は対向基板本体２０Ａと、その液晶層５０側表面に形成された、カラーフィルタ層２２、平坦化膜２３、共通電極２１、配向膜６０とを主体として構成されている。
【００４０】
素子基板１０において、画素電極９に隣接する位置に、各画素電極９をスイッチング制御する画素スイッチング用ＴＦＴ３０が設けられている。ＴＦＴ３０は、ＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造を有しており、走査線３ａと、当該走査線３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体層１ａのチャネル領域１ａ’と、走査線３ａと半導体層１ａとを絶縁するゲート絶縁膜２と、データ線６ａと、半導体層１ａの低濃度ソース領域１ｂ及び低濃度ドレイン領域１ｃ、半導体層１ａの高濃度ソース領域１ｄ及び高濃度ドレイン領域１ｅとを備えている。
【００４１】
また、上記走査線３ａ上、ゲート絶縁膜２上を含む素子基板本体１０Ａ上には、高濃度ソース領域１ｄへ通じるコンタクトホール５、及び高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第２層間絶縁膜４が形成されている。つまり、データ線６ａは、第２層間絶縁膜４を貫通するコンタクトホール５を介して高濃度ソース領域１ｄに電気的に接続されている。さらに、データ線６ａ上及び第２層間絶縁膜４上には、高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第３層間絶縁膜７が形成されている。つまり、高濃度ドレイン領域１ｅは、第２層間絶縁膜４及び第３層間絶縁膜７を貫通するコンタクトホール８を介して画素電極９に電気的に接続されている。また、本実施形態では、ゲート絶縁膜２を走査線３ａに対向する位置から延設して誘電体膜として用い、半導体膜１ａを延設して第１蓄積容量電極１ｆとし、更にこれらに対向する容量線３ｂの一部を第２蓄積容量電極とすることにより、蓄積容量７０が構成されている。
【００４２】
素子基板本体１０Ａの液晶層５０側表面において、各画素スイッチング用ＴＦＴ３０が形成された領域には、遮光膜１１ａが設けられており、係る遮光膜１１ａは、素子基板１０を透過した後、素子基板１０の図示下面で反射されて液晶層５０側へ戻る光が、少なくとも半導体層１ａのチャネル領域１ａ’及び低濃度ソース、ドレイン領域１ｂ、１ｃに入射するのを防止するために設けられている。前記遮光膜１１ａとＴＦＴ３０との間には、ＴＦＴ３０を構成する半導体層１ａを遮光膜１１ａから電気的に絶縁するための第１層間絶縁膜１２が形成されている。さらに、図５に示したように、素子基板１０に遮光膜１１ａを設けるのに加えて、コンタクトホール１３を介して遮光膜１１ａは、前段あるいは後段の容量線３ｂに電気的に接続するように構成されている。
また、素子基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち、画素電極９及び第３層間絶縁膜７上には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜４０が形成されている。
【００４３】
他方、対向基板本体２０Ａの液晶層５０側表面であって、データ線６ａ、走査線３ａ、画素スイッチング用ＴＦＴ３０の形成領域に対向する領域、すなわち各画素部の開口領域と対応する平面形状を有する複数色の色材層を備えたカラーフィルタ層２２が設けられている。さらに、カラーフィルタ層２２が形成された対向基板本体２０Ａの液晶層５０側には、そのほぼ全面に渡って、アクリル樹脂等からなる平坦化膜２３が設けられ、平坦化膜２３上にＩＴＯ等からなる共通電極２１、及び電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜６０が形成されている。
【００４４】
尚、図５及び図６を参照して説明した液晶装置の詳細構成は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明の技術範囲を何ら限定するものではない。
【００４５】
（電子機器）
図７は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。この図に示す携帯電話１３００は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。
上記各実施の形態の表示装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器に対しても高画質で高信頼性の表示部を提供し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（ａ）は、実施形態の液晶装置の平面構成図、図１（ａ）に示すＨ−Ｈ線に沿う断面構成図。
【図２】図２は、同、回路構成図。
【図３】図３は、同、基板辺端部における断面構成図。
【図４】図４は、オーバーコート層の作用を説明するための図であって、他の構成の液晶装置の基板辺端部における断面構成図。
【図５】図５は、実施形態の液晶装置の１ドット領域の平面構成図。
【図６】図６は、図５のＡ−Ａ’線に沿う断面構成図。
【図７】図７は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視構成図。
【符号の説明】
１０  素子基板、２０  対向基板、１０Ａ  素子基板本体、２０Ａ  対向基板本体、７  層間絶縁膜（オーバーコート層）、２３  平坦化膜（（第２の）オーバーコート層）、７ａ，２３ａ  斜面部、７ｂ，２３ｂ  テーパー部、４０，６０  配向膜、５０  液晶、３ａ  走査線、６  配線層（配線）、６ａ  データ線、３０  ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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