(57)【要約】【課題】極めて表面性状の良い薄膜光ファイバ素線並びにその製造方法を提供すること、また前記薄膜光ファイバ素線を用いた、その上に設けられる紫外線硬化型樹脂被覆の除去性が良好な薄膜光ファイバ心線を提供すること、さらにはその薄膜光ファイバ心線を用いた、接続時の同心度が優れたコネクタ接続部を提供することにある。【解決手段】光ファイバ上に施される薄膜の紫外線硬化型樹脂皮膜が、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で硬化処理され薄膜光ファイバ素線とすることによって、また前記薄膜光ファイバ素線上に設けた、高ヤング率の紫外線硬化型樹脂被覆の易除去性が、被覆の除去力として３．９Ｎ以下（被覆除去速度５００ｍｍ／ｍｉｎ）である、薄膜光ファイバ心線とすることによって、解決される。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ上に施される薄膜の紫外線硬化型樹脂皮膜が、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で紫外線硬化処理されたものであることを特徴とする、薄膜光ファイバ素線。
【請求項２】
前記薄膜光ファイバ素線上にソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆が設けられた薄膜光ファイバ心線であって、前記ソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆は易除去性を有することを特徴とする、薄膜光ファイバ心線。
【請求項３】
前記ソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆の易除去性が、被覆の除去力として３．９Ｎ以下（被覆除去速度５００ｍｍ／ｍｉｎ）であることを特徴とする、請求項２に記載の薄膜光ファイバ心線。
【請求項４】
請求項２または３に記載する前記薄膜光ファイバ心線を用いたコネクタ接続部であって、その同心度が１．２μｍ以下であることを特徴とする、コネクタ接続部。
【請求項５】
光ファイバを、紫外線硬化型樹脂の加圧供給部を通過させて薄膜の被覆を形成し、ついで前記加圧供給部に接続される酸素濃度検出器を備えた不活性ガス供給部、さらに前記不活性ガス供給部に接続された、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガスが充填された紫外線硬化装置を、順次通過させることを特徴とする、薄膜光ファイバ素線の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は表面性状の優れた薄膜光ファイバ素線並びにその製造方法、また前記薄膜光ファイバ素線を用いた易除去性被覆を有する薄膜光ファイバ心線、さらにその薄膜光ファイバ心線用いた接続の際の同心度が優れた、コネクタ接続部に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜光ファイバ心線は、光ファイバ上に薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆を施して薄膜光ファイバ素線とし、この上に着色層やプラスチック２次被覆を設けて前記光ファイバ素線を保護するように構成される。より具体的には、例えば外径が８０〜１００μｍの石英ファイバ上に薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆を設けて、通常外径が１２５μｍの薄膜光ファイバ素線とし、その上に厚肉のソフトタイプ紫外線硬化型樹脂被覆、ハードタイプ紫外線硬化型樹脂被覆が順次設けられる。そしてこのような薄膜光ファイバ心線の製造は、前記の紫外線硬化型樹脂被覆の硬化を大気中で行うので、酸素に曝されながら硬化処理が行われることになる。このため、前記紫外線硬化型樹脂被覆は酸素阻害によって、十分な硬化が行われないことがある。このような現象は、紫外線硬化型樹脂被覆の表面が荒れて表面性が悪くなる。特に前記光ファイバ上に設ける薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆にこのような現象が生じると、薄膜光ファイバ素線の外径が変動したりして、接続に際しての同心度が悪くなる。さらにはその上に設けるソフトタイプやハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆との密着力が、前記光ファイバとの密着力よりも大きくなり、薄膜光ファイバ心線のコネクタ接続のために行われる研磨加工処理時の被覆の除去性が悪くなり、場合によっては前記薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆が剥がれたりすることがあった。さらには、このような薄膜光ファイバ心線のガラス端面にＰＣ研磨（フィジカルコンタクト）、ＡＰＣ研磨（アドバンストフィジカルコンタクト）やフラット研磨等を実施すると、前記ガラス端面に傷やガラス欠け等が生じることがあり、そしてこのような傷等が生じた薄膜光ファイバ心線を用いてコネクタ接続すると、接続損失が大きくなり問題となっていた。なお、不活性ガス雰囲気中で紫外線硬化型インクを硬化させる技術に関しては、塗布から硬化までの間を不活性ガスが満たされた雰囲気下で行う、光ファイバテープ心線の製造方法が、特許文献１に開示されている。
【０００３】
【特許文献１】
特許第２５６６９９２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
よって本発明が解決しようとする課題は、極めて表面性状の良い薄膜光ファイバ素線並びにその製造方法を提供すること、また前記薄膜光ファイバ素線を用いた、その上に設けられる紫外線硬化型樹脂被覆の除去性が良好な薄膜光ファイバ心線を提供すること、さらにはその薄膜光ファイバ心線を用いた、接続時の同心度が優れたコネクタ接続部を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
前記解決しようとする課題は、請求項１に記載されるように、光ファイバ上に施される薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆が、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で硬化処理された薄膜光ファイバ素線とすることによって、解決される。さらには請求項５に記載されるように、光ファイバを、紫外線硬化型樹脂の加圧供給部を通過させて薄膜の被覆を形成し、ついで前記加圧供給部に接続される酸素濃度検出器を備えた不活性ガス供給部、さらに前記不活性ガス供給部に接続された、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の窒素ガスが充填される紫外線硬化装置を順次通過させる薄膜光ファイバ素線の製造方法とすることによって、解決される。
【０００６】
また請求項２に記載されるように、前記薄膜光ファイバ素線上にソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆が設けられた薄膜光ファイバ心線であって、前記ソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆は易除去性を有する薄膜光ファイバ心線とすることによって、解決される。さらに請求項３に記載されるように、前記ソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆の易除去性が、被覆の除去力として３．９Ｎ以下（被覆除去速度５００ｍｍ／ｍｉｎ）である薄膜光ファイバ心線とすることによって、解決される。
【０００７】
さらには、請求項４に記載されるように、前記薄膜光ファイバ心線を用いたコネクタ接続部であって、その同心度が１．２μｍ以下であるコネクタ接続部とすることによって、解決される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。まず、薄膜光ファイバ素線に関する請求項１に記載される発明は、光ファイバ上に施される薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆が、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で硬化処理された薄膜光ファイバ素線とすることによって、極めて表面性状の良い薄膜光ファイバ素線を提供することができる。そしてこのような発明に至ったのは、通常薄膜光ファイバ素線は、紫外線硬化型樹脂被覆の硬化を大気中で行うので酸素に曝されながら硬化処理が行われるため、前記紫外線硬化型樹脂被覆は酸素阻害による十分な硬化が行われないことがある。このような現象は、前記紫外線硬化型樹脂被覆の表面が荒れて表面性が悪くなって、薄膜光ファイバ素線の外径が変動したりして接続に際しての同心度が悪くなる。さらにはその上に設けるソフトタイプやハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆との密着力が光ファイバとの密着力よりも大きくなり、得られた薄膜光ファイバ心線をコネクタ接続のための研磨加工処理を行うと前記被覆の除去性が悪くなり、場合によっては前記薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆が剥がれたりすることがあった。このために、前記薄膜光ファイバ素線の薄膜紫外線硬化型被覆の形成について種々検討をした結果、前記紫外線硬化時の酸素阻害を少なくするためには、酸素濃度を０．１％（ｖｏｌ）以下にすればこの問題が解決されることを見出したことによる。このような酸素濃度の不活性ガス雰囲気中で硬化された紫外線硬化型樹脂被覆は、酸素阻害による表面の荒れや外形変動が生じることのない表面性を有するものとなり、このことによって、その上に設けるソフトタイプやハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆の密着力が均等化され、その除去力を小さなものとすることになり、さらに機械的に前記被覆を除去した際にも、前記光ファイバに傷が発生することもなくなる。
【０００９】
そして前記のような薄膜光ファイバ素線は、請求項５に記載されるような薄膜光ファイバ素線の製造方法によって、得ることができる。すなわち、光ファイバを、紫外線硬化型樹脂の加圧供給部を通過させて薄膜の皮膜を形成し、ついで前記加圧供給部に接続される酸素濃度検出器を備えた不活性ガス供給部、さらに前記不活性ガス供給部に接続された、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガスが充填される紫外線硬化装置を順次通過させる薄膜光ファイバ素線の製造方法とすることによって、得られる薄膜光ファイバ素線は、薄膜の紫外線効果型樹脂皮膜の硬化処理が大量の酸素に触れることなく硬化させることができるので、前記皮膜には酸素阻害による表面の荒れや外径変動を生じさせるようなことがなくなる。
【００１０】
より詳細に説明すると、例えば図１に示すような薄膜光ファイバ素線の製造装置を用いて製造するものである。すなわち石英ガラス等からなる光ファイバ１が上方から供給され、紫外線硬化型樹脂の供給加圧部２において、前記光ファイバ１に紫外線硬化型樹脂を必要厚さ被覆して薄膜光ファイバ素線３とする。ついでこの薄膜光ファイバ素線３は紫外線硬化装置６に導入されて、前記薄膜の紫外線効果型樹脂皮膜を硬化処理するものであるが、この時、前記紫外線硬化装置６を特定量の酸素濃度を有する不活性ガス雰囲気にするために、前記紫外線硬化型樹脂の供給加圧部２と紫外線硬化装置６の間に、酸素濃度検出器４を備えた不活性ガス供給部５を接続介在させるようになっている。また、前記紫外線硬化型樹脂の供給加圧部２と窒素ガス供給部５の間は、酸素が不活性ガス供給部に侵入しないように遮断されている。このような構成の薄膜光ファイバ素線の製造装置とすることによって、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下にコントロールされた不活性ガス雰囲気中で、紫外線硬化処理を行うことが可能となる。このように不活性ガス雰囲気中の酸素濃度を０．１％（ｖｏｌ）以下となるような条件としたのは、前記不活性ガス雰囲気中の酸素濃度を種々代えた条件で薄膜光ファイバ素線を作製し、得られた薄膜光ファイバ素線の紫外線硬化型樹脂皮膜を、ストリッパを用いて除去して光ファイバの傷の発生状況を観察することを繰り返し行うことによって、決定されたものである。実験結果からは、酸素濃度が高いものほど傷の発生率が高く、前記被覆の除去作業性も劣っていた。よって、薄膜光ファイバ素線の製造においては、薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆の硬化処理を、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で行うことが、重要なことである。なお前記不活性ガスとしては、通常窒素ガスが使用される。
【００１１】
つぎに、薄膜光ファイバ心線に関する発明である請求項２および３について説明する。まず、この種の薄膜光ファイバ心線について簡単に説明すると、例えば外径が８０〜１００μｍの石英ファイバ上に、薄膜の紫外線硬化型樹脂皮膜を設けた外径が１２５μｍの薄膜光ファイバ素線上に、比較的厚肉のソフトタイプ紫外線硬化型樹脂被覆、ハードタイプ紫外線硬化型樹脂被覆が順次設けられたものであるが、前記薄膜光ファイバ素線の紫外線硬化型樹脂皮膜が酸素阻害等によって十分な硬化が行われないと、その表面が荒れて表面性が悪く、この上に被覆された前記ソフトタイプやハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆との密着力が、前記光ファイバとの密着力よりも大きくなり、コネクタ接続のために行われる研磨加工処理時に被覆の除去性が悪くなったり、場合によっては前記薄膜の紫外線硬化型樹脂皮膜の方が剥がれて、前記光ファイバに傷が発生する等の問題があった。このような薄膜光ファイバ心線は、コネクタ接続を行うと接続損失が大きくなり、光通信用として好ましくない。なお、前記紫外線硬化型樹脂としては、エポキシアクリレートやウレタンアクリレートなどが好ましく使用される。
【００１２】
よって前記薄膜光ファイバ心線は、請求項２に記載されるように、前記の薄膜光ファイバ素線を用い、その上にソフトタイプやハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆が設けられた、薄膜光ファイバ心線とすることが必要であり、このような構成とすることによって、前記ソフトタイプ或いはハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆は、易除去性を有する薄膜光ファイバ心線とすることができる。さらには請求項３に記載されるように、前記紫外線硬化型樹脂被覆の除去性が、前記被覆の除去力として３．９Ｎ以下（被覆除去速度５００ｍｍ／ｍｉｎにおいて）となるような薄膜光ファイバ心線とすることにより、前記被覆の除去力を好ましいものとすることができる。すなわち、被覆の除去作業において比較的小さな力で除去ができるとともに、前記光ファイバにも傷を発生させることがほとんどなくなる。具体的には、前記の除去力を被覆除去速度が５００ｍｍ／ｍｉｎにおける値として、３．９Ｎ以下となるようにすることによって、被覆の除去作業において光ファイバに傷の発生がなくその作業性も向上させることができるものとなる。このように前記被覆の除去力を、３．９Ｎ以下（被覆除去速度５００ｍｍ／ｍｉｎ）とすると、コネクタ接続作業等においても、好ましい薄膜光ファイバ心線とすることができることになる。
【００１３】
さらに、コネクタ接続部に関する発明である請求項４について説明すると、前記薄膜光ファイバ素線を使用した薄膜光ファイバ心線を用いたコネクタ接続部とすることによって、コネクタ接続部の同心度を１．２μｍ以下であるコネクタ接続部とすることができる。従来のように光ファイバ上に設ける薄膜の紫外線硬化型樹脂皮膜が、酸素阻害により前記皮膜に表面粗さ等の問題が生じると、薄膜光ファイバ素線は外径が変動したり、さらにはその上に設けるソストタイプやハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆との密着力が、光ファイバとの密着力よりも大きくなることにより、このような薄膜光ファイバ心線のガラス端面にＰＣ研磨（フィジカルコンタクト）、ＡＰＣ研磨（アドバンストフィジカルコンタクト）やフラット研磨等を実施すると、場合によっては前記薄膜の紫外線硬化型樹脂皮膜の方が剥がれたりすることがあった。また、外径変動の大きい薄膜光ファイバ素線を用いたコネクタ接続では、コネクタ接続のためのフェルールの穴径を大きくする必要があり、同心度が悪く接続損失が大きくなり問題となっていた。
【００１４】
より詳細に説明すると、例えば外径を１２５μｍとした薄膜光ファイバ素線をコネクタ接続する場合に、前記光ファイバ素線の表面性に問題があると、使用するフェルールに挿入することが困難となる。前記フェルールはその穴径が精密に成形されているので、その穴に正確に挿入できることがコネクタ接続部の接続損失を少なくすることになる。逆に言うと、フェルールの穴径を大きめにしないと挿入できないような薄膜光ファイバ心線を用いると、同心度が大きなものとなって接続損失が大きくなることになる。そしてこの同心度とは、前記フェルールの中心から内壁までの距離と薄膜光ファイバ素線の中心から前記薄膜素線の表面までの距離の差の２倍値として定義されるものである。すなわち、前記薄膜光ファイバ素線の外径と前記フェルールの内径との差ということになり、この値は小さいほど、前記薄膜光ファイバ素線外径と前記フェルールの内径に差がないことになり、コネクタ接続部を形成した場合に接続損失が少ないものとすることができる。そこでこの問題について、種々の酸素濃度の窒素ガス雰囲気中で製造した薄膜光ファイバ素線を用いて、前記同心度と接続損失の関係を調べたところ、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の窒素ガス雰囲気中で作製した薄膜光ファイバ素線を用いた薄膜光ファイバ心線を使用するコネクタ接続部では、同心度が１．２μｍ以下であり、接続損失が０．１ｄＢ以下のものであった。このような特性のコネクタ接続部は、光ファイバ通信用のものとして十分好ましい特性のものである。これに対して、酸素濃度が１％（ｖｏｌ）や２０％（ｖｏｌ）のように酸素濃度が高い窒素ガス雰囲気中で製造した薄膜光ファイバ素線を用いた、薄膜光ファイバ心線を使用したコネクタ接続部では、同心度が３．４μｍ以上で、挿入損失が０．２５以上となって、好ましくないものとなっている。
【００１５】
【実施例】
以下に実施例を示して、本発明の効果を述べる。
【００１６】
実施例１：薄膜光ファイバ素線の製造条件と、傷の発生率並びにソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型被覆の除去性について調べた。すなわち、外径１００μｍの石英ファイバ上に、外径が１２５μｍとなるようにエポキシアクリレート紫外線硬化型樹脂皮膜を施して、薄膜光ファイバ素線とした。そしてこの時の窒素ガス雰囲気として、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）、１％（ｖｏｌ）並びに２０％（ｖｏｌ）の３種類の条件について調べた。ついでこの薄膜光ファイバ素線上に、外径が２５０μｍになるように高ヤング率の紫外線硬化型樹脂被覆を設けて、薄膜光ファイバ心線を作製した。ついで、この薄膜光ファイバ心線の前記被覆を除去するために、メカニカルストリッパ（ＭＳ）並びにホットジャケットストリッパ（ＨＪＳ）を用いて、長さ３０ｍｍの除去処理を行った。このものについて、光ファイバである石英ガラス部分での傷の発生率並びに前記被覆の除去力を測定した。なお除去力は、前記被覆を除去速度５００ｍｍ／ｍｉｎで、除去したときの値をニュートン値（Ｎ）で示した。結果を、表１に示す。
【００１７】
【表１】
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【００１８】
結果は表１に示されるとおり、酸素濃度０．１％（ｖｏｌ）以下の窒素ガス雰囲気中で製造された薄膜光ファイバ素線を用いたものは、実験例１、２、５および５に示されるように、ストリッパの種類に関係なく傷の発生率が１０％以下、除去力も３．９Ｎ以下であることがわかる。これに対して、酸素濃度０．５％（ｖｏｌ）で製造した実験例３や８は、傷の発生率が２０％、除去力は４．２であり、酸素濃度１％（ｖｏｌ）で製造した実験例４や９は、傷の発生率が４０〜５０％、除去力は４．２Ｎ以上であり、また酸素濃度２０％（ｖｏｌ）で製造したものを用いる実験例５や１０は、傷の発生率が９０〜１００％であり、除去力が５．０Ｎ以上であった。このように、窒素ガスのような不活性ガス雰囲気中の酸素濃度が高くなるほど、傷の発生率が高くなり、除去力（Ｎ）も大きくなることが判る。よって、薄膜の光ファイバ素線の製造に当たっては、不活性ガス雰囲気中の酸素濃度を０．１％（ｖｏｌ）以下とすることが傷の発生を低下させ、除去力（Ｎ）も小さなものとすることが可能となる。なお前記のように、酸素濃度０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で製造された薄膜光ファイバ素線を用いたものは、薄膜の紫外線硬化型皮膜の表面は、表面荒れのない平滑性に優れたものであることも確認された。
【００１９】
実施例２：前記実施例１で作製した各種薄膜光ファイバ心線を用いて、前記薄膜光ファイバ素線の製造条件とコネクタ接続部における同心度および挿入損失の関係について調べた。すなわち、前記各種薄膜光ファイバ心線から前記高ヤング率の紫外線硬化型樹脂被覆を除去してコネクタ接続加工を行い、同心度（μｍ）並びに挿入損失（ｄＢ）を、３種類の穴径１２８μｍ、１２７μｍ並びに１２５μｍを有するフェルールを用いて、測定した。なお同心度（μｍ）は、前記フェルールの中心から内壁までの距離と薄膜光ファイバ素線の中心から前記薄膜素線の表面までの距離の差の２倍値として表示した。また挿入損失（ｄＢ）は、ＰＣタイプとして、ＳＭ並びにＧＩについて評価した。結果を、表２に示した。
【００２０】
【表２】
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【００２１】
表２の実験例１１に記載されるように、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の窒素ガス雰囲気中で製造された、薄膜光ファイバ素線を用いた薄膜光ファイバ心線を使用したコネクタ接続部は、フェルールとして穴径が１２５μｍのものに適用でき、同心度としても１．２μｍであり、ＳＭタイプ並びにＧＩタイプ共に、挿入損失は０．１０ｄＢ以下のものであった。これに対して、酸素濃度が０．５％（ｖｏｌ）では、フェルール穴径が１２６μｍのものにしか適用できず、同心度が２．２μｍであり、挿入損失もＳＭタイプ並びにＧＩタイプ共に、０．２０ｄＢであった。また酸素濃度が１％（ｖｏｌ）のものでは、フェルール穴径が１２７μｍのものにしか適用できず、同心度が３．４μｍであり、挿入損失もＳＭタイプが０．４０ｄＢ、ＧＩタイプが０．２５ｄＢであった。さらにまた、酸素濃度２０％（ｖｏｌ）のものでは、フェルール穴径が１２８μｍのものにしか適用できず、同心度が４．４μｍであり、挿入損失はＳＭタイプで０．７ｄＢ、ＧＩタイプで０．４ｄＢと、大きな損失のものとなっており、いずれも使用できないものである。このように、薄膜光ファイバ心線を用いてコネクタ接続部を形成するには、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で製造した、表面性に優れた薄膜光ファイバ素線を用いるのが、好ましいことが判る。
【００２２】
【発明の効果】
以上説明したとおり、光ファイバ上に施される薄膜の紫外線硬化型樹脂被覆が、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で硬化処理された薄膜光ファイバ素線とすることによって、さらには光ファイバを紫外線硬化型樹脂の加圧供給部を通過させて薄膜の皮膜を形成し、ついで前記加圧供給部に接続される酸素濃度検出器を備えた不活性ガス供給部、さらに前記不活性ガス供給部に接続された、酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガスが充填された紫外線硬化装置を、順次通過させる薄膜光ファイバ素線の製造方法とすることによって、従来のように薄膜光ファイバ素線は酸素に曝されながら紫外線硬化処理が行われことがなく、前記紫外線硬化型樹脂皮膜には、酸素阻害による十分な硬化が行われないというようなことがなくなる。そのため前記紫外線硬化型樹脂皮膜の表面が荒れて表面性が悪くなり、また薄膜光ファイバ素線の外径が変動したりして、接続に際しての同心度が悪くなったりすることがない。さらには、その上に設けるソフトタイプやハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆との密着力が光ファイバとの密着力よりも大きくなり、得られた薄膜光ファイバ心線のコネクタ接続のための研磨加工処理時に、前記紫外線硬化型樹脂被覆の除去性が悪くなり、場合によっては前記薄膜の紫外線硬化型樹脂皮膜が剥がれたりすることがない。このように、薄膜光ファイバ素線として好ましいものとなる。
【００２３】
また、得られた薄膜光ファイバ心線は、前記ソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆が易除去性を有する薄膜光ファイバ心線となり、さらに、前記ソフトタイプ、ハードタイプの紫外線硬化型樹脂被覆の易除去性が、前記被覆の除去力として、３．９Ｎ以下（被覆除去速度５００ｍｍ／ｍｉｎ）である薄膜光ファイバ心線とすることによって、より好ましい薄膜光ファイバ心線とすることができる。そしてこのような薄膜光ファイバ心線を用いて、接続加工処理を行なっても光ファイバには傷の発生がほとんどなく、前記紫外線硬化型樹脂被覆も易除去性となり、作業性も優れたものとすることができる。さらには、前述のような酸素濃度が０．１％（ｖｏｌ）以下の不活性ガス雰囲気中で製造した、薄膜光ファイバ素線を用いた薄膜光ファイバ心線を使用して、コネクタ接続部を形成することによって、ＰＣ加工のような研磨加工処理を施しても、フェルールとの同心度が１．２μｍ以下で、かつ挿入損失が０．１ｄＢ以下と非常に優れたものとすることができ、光ファイバ通信において十分に使用可能なコネクタ接続部とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の薄膜光ファイバ素線の製造方法の一例を示す、概略面図である。
【符号の説明】
１　　石英ファイバ
２　　供給加圧部
３　　薄膜光ファイバ素線
４　　酸素濃度検出器
５　　窒素ガス供給部
６　　紫外線硬化装置
【図１】
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