(57)【要約】【課題】液晶表示装置の製造工程においてラビングむらを防止し、歩留まりを向上させる。【解決手段】透明基板１上に表示領域画素部２および外部接続端子４を形成し、表示領域画素部２および外部接続端子４部分を覆うように配向膜６材料を塗布した後、ラビング処理を行う。ラビング処理時にラビング布が外部接続端子４部分および対向共通電極接続端子５部分と接触しなくなるため、ラビング布の毛先が受ける力が均一になり、ラビング布は摩擦抵抗の違いによるダメージを受けなくなる。その結果、表示領域画素部２にラビングむらが生じるのを防止することができる。【選択図】　　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に表示領域画素部および外部接続端子部を配置し、前記表示領域画素部上に配向膜を備えた液晶表示装置において、
前記配向膜を、前記外部接続端子部上にも設けたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記配向膜を、前記基板上の全面に設けたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記配向膜を、さらに前記基板上の前記表示領域画素部とは材質が異なる部分上にも設けたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項４】
基板上に表示領域画素部および外部接続端子部を形成し、前記表示領域画素部および外部接続端子部を覆うように配向膜材料を塗布した後、前記基板上にラビング処理を行う工程を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記配向膜材料を塗布する際、前記基板上の全面に塗布することを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記配向膜材料を塗布する際、さらに前記基板上の前記表示領域画素部とは材質が異なる部分を覆うように塗布することを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
基板上に表示領域画素部および外部接続端子群を配置し、前記表示領域画素部上に配向膜を備えた液晶表示装置において、
前記外部接続端子群における各外部接続端子の間隙に、前記外部接続端子群の最表面の導電膜と同様の摩擦力を生じる材料によりダミーパターンを設けたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記ダミーパターンは、前記外部接続端子群と接触しないように形成されたものであることを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記ダミーパターンは、前記外部接続端子群にオーバーラップし、かつ隣り合う外部接続端子の間で分断されるように形成されたものであることを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記ダミーパターンは、前記外部接続端子群にオーバーラップして形成された絶縁膜上に形成されたものであることを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
基板上に表示領域画素部および外部接続端子群を形成し、前記表示領域画素部上に配向膜材料を塗布した後、前記基板上にラビング処理を行う工程を含む液晶表示装置の製造方法において、
前記配向膜材料を塗布する前に、前記ラビング処理において前記外部接続端子群の最表面と同様の摩擦力を生じる材料によって前記外部接続端子群の間隙にダミーパターンを設けることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記ダミーパターンは、前記外部接続端子群における各外部接続端子と接触しないように形成することを特徴とする請求項１１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記ダミーパターンは、前記外部接続端子群にオーバーラップし、かつ隣り合う外部接続端子の間で分断されるように形成することを特徴とする請求項１１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記ダミーパターンは、前記外部接続端子群にオーバーラップして形成した絶縁膜の上に形成することを特徴とする請求項１１記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ラビング処理によって配向膜を作製する液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置の製造に欠かせない技術として液晶配向を制御する配向膜の作製がある。現在、この配向膜の作製は、配向膜材料であるポリイミド膜を布で擦るというラビング法により行われている。図９を参照して、ラビング処理の詳細について説明する。同図（ａ）は側面図、（ｂ）は斜視図である。
【０００３】
円柱状の金属製ラビングローラ１０には、ラビング布１１が取り付けられている。ラビングローラ１０は回転しながら、配向膜（図示せず）が塗布された基板１２上を通過する。このとき、ラビング布１１は基板１２に接触しており、ラビング布１１の毛先がラビングローラ１０の回転によって基板１２の配向膜上を次々に擦ることでラビング処理がなされる。
【０００４】
図１０は電極基板のレイアウトを示している。透明基板１上には表示領域画素部２が配置され、これら表示領域画素部２は駆動のための周辺回路３に接続されている。さらに、周辺回路３は、外部との信号のやり取りをするために外部接続端子４へと接続されている。また、周辺回路３は、対向基板（図示せず）と電極基板を接続するための対向共通電極接続端子５にも接続されている。従来、配向膜６は、その目的から図１１に示すように表示領域画素部２にのみ塗布されている。
【０００５】
図１２は外部接続端子部分の拡大図を示している。外部接続端子４は、ＩＴＯ（インジウム・すず酸化物）などの導電性薄膜によって形成されている。この外部接続端子４は、周辺回路３に接続されて電極基板の外部との接続に使われる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
図１２に示すように、外部接続端子４部分には、導電性薄膜が存在する部分（外部接続端子４）と、存在しない部分（外部接続端子４間の部分）とがあるため、その表面状態に差がある。すなわち、導電性薄膜が存在する部分と存在しない部分とでは表面状態が異なるため、ラビング時にラビング布１１の毛先が受ける摩擦力が異なる。
【０００７】
このため、外部端子接続４部分を通過した後のラビング布１１は、外部接続端子４間隔のダメージを受けており、このようにダメージを受けた状態のまま表示領域画素部２をラビングすると、表示領域画素部２に外部接続端子４間隔のラビングむらを生じてしまう。このラビングむらは、液晶表示装置の表示欠陥となって現れるため、歩留まりが低下する要因となる。
【０００８】
そこで、本発明においては、上記ラビングむらを防止して歩留まりを向上させた液晶表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置は、基板上に表示領域画素部および外部接続端子部を配置し、表示領域画素部上に配向膜を備えた液晶表示装置において、配向膜を、外部接続端子部上にも設けたことを特徴とするものである。
【００１０】
このような液晶表示装置の製造方法は、基板上に表示領域画素部および外部接続端子部を形成し、表示領域画素部および外部接続端子部を覆うように配向膜材料を塗布した後、基板上にラビング処理を行う工程を含む。
【００１１】
配向膜材料を外部接続端子部上にも設けることで、外部接続端子部の外部接続端子とその外部接続端子間の部分との表面状態の差をなくし、ラビング処理においてラビング布が外部接続端子部を通過する際に、その毛先が外部接続端子とその外部接続端子間の部分から受ける摩擦力を均一にすることができる。
【００１２】
ここで、配向膜材料は、基板上の全面に設けることが望ましい。配向膜材料を基板上の表示領域画素部および外部接続端子部を含む全面に設けることで、基板上の全面で表面状態の差をなくし、ラビング処理においてラビング布が基板上を通過する際にその毛先が受ける摩擦力を均一にすることができる。
【００１３】
あるいは、配向膜材料を、さらに基板上の表示領域画素部とは材質が異なる部分上にも設けることが望ましい。表示領域画素部とは材質が異なる外部接続端子部だけでなくその他の部分上にも配向膜材料を設けることで、これらの上での表面状態の差をなくし、ラビング布の毛先が受ける摩擦力を均一にすることができる。
【００１４】
また、本発明の別の液晶表示装置は、基板上に表示領域画素部および外部接続端子群を配置し、表示領域画素部上に配向膜を備えた液晶表示装置において、外部接続端子群における各外部接続端子の間隙に、外部接続端子群の最表面の導電膜と同様の摩擦力を生じる材料によりダミーパターンを設けたことを特徴とするものである。
【００１５】
このような液晶表示装置の製造方法は、基板上に表示領域画素部および外部接続端子群を形成し、表示領域画素部上に配向膜材料を塗布した後、基板上にラビング処理を行う工程を含む液晶表示装置の製造方法において、配向膜材料を塗布する前に、ラビング処理において外部接続端子群の最表面と同様の摩擦力を生じる材料によって外部接続端子群の間隙にダミーパターンを設けることを特徴とする。
【００１６】
外部接続端子群の間隙に、外部接続端子群の最表面の導電膜と同様の摩擦力を生じる材料によりダミーパターンを設けることで、外部接続端子群の外部接続端子そのものの最表面と外部接続端子間の部分との表面状態の差をなくし、ラビング布が外部接続端子群を通過する際にその毛先が受ける摩擦力を均一にすることができる。
【００１７】
ここで、外部接続端子間は短絡しないように絶縁状態を保つ必要がある。そのため、ダミーパターンは、外部接続端子群における各外部接続端子と接触しないように形成するか、外部接続端子群にオーバーラップし、かつ隣り合う外部接続端子の間で分断されるように形成するか、あるいは、外部接続端子群にオーバーラップして形成した絶縁膜の上に形成することが望ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
図１は液晶表示装置製造における液晶セル組立工程フロー図である。
まず、厚さ１ｍｍの透明基板の片面に透明電極群を形成した電極基板と、これと対になる厚さ１ｍｍの対向基板を洗浄する（Ａ，Ｇ）。次に、電極基板および対向基板の両基板に配向膜材料としてのポリイミド膜を塗布する（Ｂ，Ｈ）。両基板にラビング処理を行い（Ｃ，Ｊ）、その後再び洗浄する（Ｄ，Ｋ）。
【００１９】
ここで、電極基板には、液晶セルのギャップを均一にするためのスペーサ（樹脂やガラス製の円柱や球で直径数μｍ程度）を散布する（Ｅ）。対向基板に、両基板を接着するためのシール剤を塗布する（Ｌ）。電極基板に、導電ペースト（直径数μｍ程度の樹脂製の球体に金やニッケルなどの導体をコーティングしたものを含んだペースト）を塗布する（Ｆ）。
【００２０】
電極基板と対向基板を貼り合わせる（Ｍ）。このとき、導電ペーストによって、対向基板側の対向共通電極と電極基板側の対向共通電極接続端子とが接続される。また、スペーサによって、両基板の間隔は数μｍに保たれる。セルに液晶を注入し（Ｎ）、液晶の注入口を封じて（Ｐ）、次工程へと進める。
【００２１】
本発明の第１実施形態における液晶表示装置は、上述した配向膜材料の塗布工程（Ｂ）に特徴がある。
図２は本発明の第１実施形態における電極基板の配向膜作製の例を示す図である。
【００２２】
図２において、本発明の第１実施形態における電極基板は、透明基板１上に表示領域画素部２が配置され、その周辺部に周辺回路３が配置されている。また、周辺回路３は、外部との信号のやり取りをするための外部接続端子４と、対向基板側の対向共通電極と接続するための対向共通電極接続端子５に接続されている。
【００２３】
また、図２の例では、配向膜６が、電極基板上の表示領域画素部２、外部接続端子４部分および対向共通電極接続端子５部分を含む全面に設けられている。この配向膜６は、塗布工程（Ｂ）において、配向膜材料を電極基板上の全面に塗布し、その後にラビング処理（Ｃ）を行うことにより作製する。このとき、配向膜材料の塗布は、スピンコートやオフセット印刷等のどのような方法で形成してもよい。
【００２４】
このように配向膜材料を電極基板上の全面に設けることで、電極基板上の全面が同一の配向膜材料で覆われることになるため、電極基板上でラビング布が通過する部分の表面状態の差がなくなる。すなわち、ラビング処理時にラビング布が外部接続端子４部分および対向共通電極接続端子５部分と接触しなくなる。
【００２５】
したがって、ラビング布が電極基板上を通過する際、その毛先が受ける摩擦力が均一になるため、ラビング布は摩擦力の違いによるダメージを受けない。その結果、表示領域画素部２にラビングむらが生じることがないため、ラビングむらによる表示欠陥を防止することができる。これにより、歩留まりが向上し、液晶表示装置の画質が向上する。
【００２６】
図３は本発明の第１実施形態における電極基板の別の配向膜作製の例を示す図である。
図３の例では、配向膜６が、電極基板上の表示領域画素部２および外部接続端子４部分にのみ設けられている。この配向膜６は、塗布工程（Ｂ）において、電極基板上の表示領域画素部２および外部接続端子４部分を覆うように配向膜材料を塗布した後、ラビング処理（Ｃ）を行うことにより作製する。配向膜材料の塗布は、前述と同様、スピンコートやオフセット印刷等のどのような方法で形成してもよい。
【００２７】
このように配向膜材料を表示領域画素部２および外部接続端子４部分にのみ設けた状態であっても、ラビング処理において最も問題となる外部接続端子４部分の外部接続端子４とその外部接続端子４間とが同一の配向膜材料で覆われることになる。すなわち、この外部接続端子４部分の表面状態の差をなくすことができるため、ラビング処理においてラビング布が外部接続端子４部分を通過する際にその毛先が受ける摩擦力を均一にすることができ、ラビングむらを防止することができる。
【００２８】
図４はさらに別の配向膜作製の例を示す図である。図４の例では、配向膜６が、図３の例からさらに電極基板上の対向共通電極接続端子５部分に設けられている。
【００２９】
表示領域画素部２とは材質が異なる外部接続端子４部分だけでなく対向共通電極接続端子５上にも配向膜材料を設けることで、これらの上での表面状態の差をなくし、ラビング布の毛先が受ける摩擦力を均一にすることができる。これにより、前述と同様、ラビングむらを防止することができる。
【００３０】
また、電極基板上に、その他位置合わせ用のマークなど、表示領域画素部２とは材質が異なり、ラビング布にダメージを与えそうな部分にも配向膜材料を設けることで、上記と同様の効果を得ることが可能である。
【００３１】
（実施の形態２）
図５は本発明の第２実施形態における配向膜作製前の電極基板を示す図、図６は図５の外部接続端子４部分の拡大図である。
【００３２】
図５において、本発明の第２実施形態における電極基板は、厚さ１ｍｍの透明基板１の片面に表示領域画素部２が配置され、その周辺部に周辺回路３が配置されている。また、周辺回路３は、外部との信号のやり取りをするための外部接続端子４と、対向基板側の対向共通電極と接続するための対向共通電極接続端子５に接続されている。
【００３３】
また、本発明の第２実施形態においては、図６に示すように、複数の外部接続端子４が並んだ部分の間隙に、それぞれ外部接続端子４の最表面の導電膜と同一の導電膜によりダミーパターン７ａを設けている。各ダミーパターン７ａは、隣り合う外部接続端子４との間に、短絡を防止するための微小な隙間（０．５μｍ以上）を空けて接触しないように形成されている。
【００３４】
以下、図１の液晶セル組立工程フロー図を参照して、本発明の第２実施形態における液晶表示装置の製造方法について説明する。
まず、図５の電極基板と、これと対になる厚さ１ｍｍの対向基板を洗浄する（Ａ，Ｇ）。次に、この電極基板および対向基板の両基板に配向膜材料としてのポリイミド膜を塗布し（Ｂ，Ｈ）、両基板にラビング処理を行う（Ｃ，Ｊ）。
【００３５】
ここで、電極基板側においては、外部接続端子４の間隙に、外部接続端子４の最表面の導電膜と同一の導電膜により形成されたダミーパターン７ａが設けられているため、ラビング処理時に外部接続端子４とダミーパターン７ａの表面で同様の摩擦力を生じる。そのため、ラビング布が外部接続端子４部分を通過する際、その毛先に均一な摩擦力を受けるようになる。これにより、ラビング布が電極基板上を通過する際、ラビング布は摩擦力の違いによるダメージを受けないことになり、表示領域画素部２にラビングむらを生じることがない。ラビング処理後の工程については、本発明の第１実施形態と同様である。
【００３６】
このような工程を経て製造される液晶表示装置は、ラビング工程（Ｃ）において表示領域画素部２にラビングむらが生じることがないため、ラビングむらによる表示欠陥が発生しない。この結果、液晶表示装置の歩留まりは向上し、その画質が向上する。
【００３７】
図７は本発明の第２実施形態における別のダミーパターン形成の例を示す図である。
図７の例では、ダミーパターン７ｂ，７ｃが外部接続端子４にオーバーラップするように設けてある。ダミーパターン７ｂ，７ｃは、外部接続端子４の最表面の導電膜と同一の導電膜により形成されたものである。ただし、この場合、外部接続端子４間の短絡を防止するために、ダミーパターン７ｂ，７ｃは隣り合う外部接続端子４の間で分断してある。
【００３８】
このような構成においても、ラビング処理時に外部接続端子４とダミーパターン７ｂ，７ｃの表面で同様の摩擦力を生じ、ラビング布が外部接続端子４部分を通過する際、その毛先に均一な摩擦力を受けるようになる。これにより、表示領域画素部２にラビングむらが生じるのを防止することができる。
【００３９】
図８はさらに別のダミーパターン形成の例を示す図である。
図８の例では、外部接続端子４間の短絡を防止するために、まず外部接続端子４にオーバーラップするように絶縁膜８ａを形成し（同図（ａ），（ｂ））、その後、この絶縁膜８ａ上にダミーパターン８ｂを形成している。ここでも、ダミーパターン８ｂは、外部接続端子４の最表面の導電膜と同一の導電膜により形成する。
【００４０】
このような構成においても、ラビング処理時に外部接続端子４とダミーパターン８ｂの表面で同様の摩擦力を生じ、ラビング布が外部接続端子４部分を通過する際、その毛先に均一な摩擦力を受けるようになる。これにより、表示領域画素部２にラビングむらが生じるのを防止することができる。
【００４１】
なお、第２実施形態においては、ダミーパターン７ａ，７ｂ，７ｃ，８ｂを、外部接続端子４の最表面の導電膜と同一の導電膜により形成した例について説明している。導電膜の材質は一般的にＩＴＯであるが、アルミニウムやチタンを採用することもある。しかし、ダミーパターン７ａ，７ｂ，７ｃ，８ｂの材質は、このような導電膜に限定されるものではない。要するに、ラビング布との関係において外部接続端子４と同様の摩擦力を生じるような材質であればよい。すなわち、外部接続端子群の外部接続端子そのものの最表面と外部接続端子間の部分との表面状態の差をなくし、ラビング布が外部接続端子群を通過する際にその毛先が受ける摩擦力を均一にすることができるものであればよい。
【００４２】
また、第２実施形態においては、外部接続端子４部分のみにダミーパターン７ａ，７ｂ，７ｃ，８ｂを設けているが、これ以外の部分、たとえば対向共通電極接続端子５部分などにも同様にダミーパターンを設けてもよい。要するに、ラビング布へ不均一なダメージを与える部分が、外部接続端子４部分のみに限定されるものではないので、このような部分にも同様のダミーパターンを形成することでラビングむらが生じるのを防止することが可能となる。
【００４３】
【発明の効果】
本発明により、以下の効果を奏することができる。
【００４４】
（１）基板上に表示領域画素部および外部接続端子部を形成し、表示領域画素部および外部接続端子部を覆うように配向膜材料を塗布した後、基板上にラビング処理を行うことにより、外部接続端子部の外部接続端子とその外部接続端子間との表面状態の差をなくし、ラビング布が受ける摩擦力の違いによるダメージを受けなくすることができる。
【００４５】
（２）配向膜材料を塗布する際、基板上の全面、あるいは、さらに基板上の表示領域画素部とは材質が異なる部分を覆うように塗布することにより、基板上にラビング布がダメージを受けそうな部分が存在しても、この部分の摩擦力の差をなくして、ラビング布がダメージを受けるのを防止することができる。
【００４６】
（３）基板上に表示領域画素部および外部接続端子群を形成し、表示領域画素部上に配向膜材料を塗布した後、基板上にラビング処理を行う工程を含む液晶表示装置の製造方法において、配向膜材料を塗布する前に、ラビング処理において外部接続端子群の最表面と同様の摩擦力を発生する材料によって外部接続端子群の間隙にダミーパターンを設けることにより、外部接続端子群の外部接続端子そのものの最表面と外部接続端子間の部分との表面状態の差をなくし、ラビング布が摩擦力の違いによるダメージを受けなくすることができる。
【００４７】
（４）ラビング布がダメージを受けるのを防止することができるため、表示領域画素部にラビングむらが生じなくなり、ラビングむらによる表示欠陥を防止することができる。これにより、歩留まりを向上させ、液晶表示装置の画質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】液晶表示装置製造における液晶セル組立工程フロー図である。
【図２】本発明の第１実施形態における電極基板の配向膜作製の例を示す図である。
【図３】本発明の第１実施形態における電極基板の別の配向膜作製の例を示す図である。
【図４】本発明の第１実施形態における電極基板のさらに別の配向膜作製の例を示す図である。
【図５】本発明の第２実施形態における配向膜作製前の電極基板を示す図である。
【図６】図５の外部接続端子部分の拡大図である。
【図７】本発明の第２実施形態における別のダミーパターン形成の例を示す外部接続端子部分の拡大図である。
【図８】本発明の第２実施形態におけるさらに別のダミーパターン形成の例を示す外部接続端子部分の拡大図である。
【図９】ラビング処理の詳細を示す説明図であって、（ａ）は側面図、（ｂ）は斜視図である。
【図１０】電極基板のレイアウトを示す図である。
【図１１】従来の電極基板の配向膜作製の例を示す図である。
【図１２】外部接続端子部分の拡大図である。
【符号の説明】
１　透明基板
２　表示領域画素部
３　周辺回路
４　外部接続端子
５　対向共通電極接続端子
６　配向膜
７ａ，７ｂ，７ｃ，８ｂ　ダミーパターン
８ａ　絶縁膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004062056.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
2004062056.tif 000012
【図１１】
2004062056.tif 000013
【図１２】
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