(57)【要約】【課題】主露光ビームと補助露光ビームの照射タイミングのズレによるグレーコードパターンの歪みが発生せず、設計値に近い情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法を提供することである。【解決手段】原盤上にフォトレジストを塗布した後、主露光ビーム及び補助露光ビームを有する原盤露光装置を用いて、グレーコードパターン４６を露光する。この際、主露光ビームはグレーコード４６の形状に同期させて露光する（図４（ａ）中の領域４１）。一方、補助露光ビームは、グレーコード４６を含む領域で連続的に露光する（図４中の領域４２）。現像後、原盤の表面に残存したレジストをマスクとして、原盤表面をリアクティブイオンエッチングを行い、情報記録媒体用原盤を作製する。【選択図】　図４
2004086980.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トラックと直交する方向にピットまたはバンプが連続して形成されているディスク状の情報記録媒体用原盤を製造するための方法であって、
上記情報記録媒体用原盤の表面にフォトレジストを形成する工程と、
上記原盤上のフォトレジストを露光する主露光ビームと、該主露光ビームの照射位置から原盤の半径方向にずれた位置でフォトレジストを照射するための補助露光ビームとを用い、上記主露光ビームをトラックに沿ってピットまたはバンプが形成されるべき領域のみに照射するとともに、補助露光ビームをトラック方向に沿って上記領域よりも広い領域に照射してフォトレジストを露光する工程と、
露光されたフォトレジストを現像する工程と、
現像後の原盤の表面をドライエッチングする工程とを含む情報記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項２】
主露光ビーム及び補助露光ビームを上記原盤に対してトラックに沿って相対的に移動させながら、主露光ビームをピットまたはバンプの形成領域に応じて照射させるとともに補助露光ビームを連続的に照射させることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項３】
上記ドライエッチング工程後に、フォトレジストを除去する工程を含む請求項１または２に記載の情報記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項４】
補助露光ビームの出力強度が、主露光ビームの出力強度よりも小さいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の情報記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項５】
主露光ビームの中心と補助露光ビームの中心が、トラックと直交する方向にトラック幅の半分の距離だけ離れていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の情報記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項６】
上記ドライエッチングが、リアクティブイオンエッチングであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の情報記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の情報記録媒体用原盤の製造方法で、トラックと直交する方向にピットまたはバンプが連続して形成されているディスク状の情報記録媒体用原盤を製造する工程と、
上記原盤のピット及びバンプが形成されている側の表面に、電鋳によりスタンパを形成する工程と、
上記スタンパを上記原盤から剥離する工程と、
上記スタンパを用いて射出成形によりピット及びバンプを情報記録媒体用基板に転写する工程とを含む情報記録媒体用基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の情報記録媒体用原盤の製造方法で、トラックと直交する方向にピットまたはバンプが連続して形成されているディスク状の情報記録媒体用原盤を製造する工程と、
上記原盤を用いて射出成形によりピット及びバンプを情報記録媒体用基板に転写する工程とを含む情報記録媒体用基板の製造方法。
【請求項９】
請求項７または８に記載の情報記録媒体用基板の製造方法で製造された情報記録媒体用基板を用いて作製された情報記録媒体。
【請求項１０】
トラックと直交する方向にピットまたはバンプが連続して設けられている情報記録媒体であって、
上記トラックに垂直な方向に連続して設けられているピットとそれにトラック方向に隣接するバンプとの境界部に沿って生じる歪みの振幅がピットまたはバンプの最小記録単位に対して０．２以下の比率を有し、且つピットまたはバンプのコーナーの曲率半径が、ピットまたはバンプの最小記録単位に対して０．２５以下の比率を有することを特徴とする情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、高密度記録可能な情報記録媒体にアドレスパターンを形成するための情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法に関し、より詳細には、情報記録媒体のトラックと直交する方向に連続して形成されたアドレスピットまたはバンプを有する情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
情報化社会の到来により、大量のディジタルデータを高密度に記録でき、且つ高速なランダムアクセス性を備えた情報記録媒体に対する要求が高まっている。そのような要求に応える情報記録媒体として、相変化記録膜若しくは光磁気記録膜等を用いたＲＡＭ記録媒体や、予め基板に設けた凹凸に反射膜を施したＲＯＭ記録媒体が開発されている。
【０００３】
上記のような情報記録媒体で、さらなる高記録密度を達成するためには、狭トラック化や記録マークの一層の微小化が必要である。しかし、光ディスク等の情報記録媒体では、追記や書換情報が記録されるデータ記録領域の記録密度を向上させると同時に、凹凸パターンで予め形成されるヘッダー情報（プリヘッダー情報）が記録されるヘッダー領域も、狭トラック化する必要がある。狭トラック化と高速ランダムアクセス性を備えたプリヘッダーの形態として、図１に示すようなピット１２及びバンプ１３をトラックの半径方向に連続して設けたグレーコード１１が、特開平６−２５９７０９に開示されている。図１に示したグレーコード１１を、一般に用いられている光ディスク原盤露光装置で露光する場合の様子を図２に示す。図２（ａ）は露光パターンを示しており、図２（ａ）中の色の濃い領域２１が、光ディスク原盤露光装置によりトラック方向に沿って露光される領域である。この際、図２（ａ）に示すように、トラック間の領域は露光されないので、現像を行うと、図２（ｂ）に示すような光ディスクの半径方向に不連続なグレーコードパターン２２が形成される。図２（ｂ）に示したグレーコードパターン２２を有する光ディスク上でシーク動作を実施すると、再生装置の光スポットがグレーコードパターン２２の不連続な位置を通過する際に、グレーコード再生信号が乱れ、トラック情報を誤検出するという問題があった。
【０００４】
上記問題を解決するための一つの手段が、特開２００１−３５７５３５に開示されている。この文献では、図１に示すような光ディスクの半径方向に連続して設けられたピット及びバンプを有するグレーコードを形成するために、主露光ビームと補助露光ビームを有する光ディスク原盤露光装置を使用する。この文献では、主露光ビームに対して、補助露光ビームを半径方向に半トラックだけオフセットさせて配置させ、主露光ビームと補助露光ビームの照射タイミングを同期させて重ね合わせ露光を行う方法が提案されている。この露光方法の一例を示したのが図９である。図９（ａ）中の色の濃い領域９１が主露光ビームによりトラック方向に沿って露光される主露光部であり、色の薄い領域９２が補助露光ビームによりトラック方向に沿って露光される補助露光部である。この方法を用いると、トラック間のグレーコードの継ぎ目部分は補助露光ビームで露光されるので、現像後は、図９（ｃ）に示すように、光ディスクの半径方向にピットが途切れていない連続して設けられたグレーコードパターン９３を形成することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前述した特開２００１−３５７５３５で開示されている露光方法では、図１に示すようなグレーコードを形成するために、主露光ビームに対して、補助露光ビームの照射のタイミング（及び照射時間）を正確に同期させる必要がある。
【０００６】
主露光ビームと補助露光ビームとの露光タイミングが若干ずれた場合のグレーコードパターンを図１０に示す。図１０は、本発明者らが特開２００１−３５７５３５で開示されている露光方法を用いて、試験的に作製したグレーコードパターンを有する情報記録媒体用原盤の表面形状を示した図であり、図９（ｃ）中の破線Ａで囲まれた領域を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した時の画像である。図１０中の領域１０１が、グレーコードパターンに対応した連続ピット部であり、いわゆる底切りの状態にある。図１０中の領域１０２は、バンプに相当し、現像後に記録媒体用原盤の表面上にレジストとして残存している。図１０に示すように、主露光ビームと補助露光ビームの露光タイミングが僅かにずれると、残存したレジスト１０２の側壁１０３の形状が、半径方向に沿って波状になり、グレーコードパターンに歪みが生じる。また、残存したレジスト１０２のコーナー１０４で鋭角な形状が得られない。従って、特開２００１−３５７５３５で開示されている露光方法を用いてグレーコードを形成する場合には、図１０に示すようなグレーコードパターンの歪みを防止するために、主露光ビームと補助露光ビームとの照射タイミングを正確に同期させなければならない。
【０００７】
主露光ビーム及び補助露光ビームを有する原盤露光装置で、主露光ビーム及び補助露光ビームをグレーコードパターンに応じて変調するためには、それぞれ別個に変調器が必要になる。しかし、変調器はそれぞれ固有の信号遅延特性をもっているので、主露光ビーム用の変調器と補助露光ビーム用の変調器との変調タイミングを正確に合わせることは難しい。また、ある時点で、主露光ビームと補助露光ビームとの照射タイミングを正確に合わせたとしても、変調器の特性には経時変化があるので、長期に渡り双方の露光ビームの照射タイミングを一致させることは困難である。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するものであって、主露光ビームと補助露光ビームとの照射タイミングのズレによるグレーコードパターンの歪みが生じない情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第一の態様に従えば、トラックと直交する方向にピットまたはバンプが連続して形成されているディスク状の情報記録媒体用原盤を製造するための方法であって、上記情報記録媒体用原盤の表面にフォトレジストを形成する工程と、上記原盤上のフォトレジストを露光する主露光ビームと、該主露光ビームの照射位置から原盤の半径方向にずれた位置でフォトレジストを照射するための補助露光ビームとを用い、上記主露光ビームをトラックに沿ってピットまたはバンプが形成されるべき領域のみに照射するとともに、補助露光ビームをトラック方向に沿って上記領域よりも広い領域に照射してフォトレジストを露光する工程と、露光されたフォトレジストを現像する工程と、現像後の原盤の表面をドライエッチングする工程とを含む情報記録媒体用原盤の製造方法が提供される。
【００１０】
本発明の情報記録媒体用原盤の製造方法では、少なくとも情報記録媒体用原盤のトラックと直交する方向に連続して設けられているピットまたはバンプ、即ち、図１に示すようなグレーコードを有する情報記録媒体用原盤を製造する。まず、上記情報記録媒体用原盤の一方の表面にフォトレジストを塗布し、主露光ビーム及び補助露光ビームを用いて、原盤表面に塗布されたフォトレジストをグレーコードパターンに従い、トラック方向に沿って露光する。この際、主露光ビームは意図するグレーコードパターンを形成するための信号と同期させて照射するが、補助露光ビームは、主露光ビームの露光領域よりもトラック方向の前後の領域まで露光されるように照射する。即ち、補助露光ビームは主露光ビームにより照射される領域よりトラック方向において長い領域を照射する。より好ましくは、主露光ビーム及び補助露光ビームを原盤に対してトラックに沿って相対的に移動させながら、主露光ビームをピットまたはバンプの形成領域に応じて照射させるとともに補助露光ビームを連続的に照射させる。こうすることにより、主露光ビームと補助露光ビームの照射タイミングを変調するための回路の遅延特性や応答性の遅れがあったとしても、補助露光ビームは少なくともトラック方向において主露光ビームが照射された位置と重なるように照射される。それゆえ、本発明では主露光ビームと補助露光ビームの照射タイミングを正確に同期させる必要が無い。
【００１１】
このような露光方法の詳細を図４を用いて説明する。図４（ａ）は露光パターンを示した図であり、図４（ａ）中の色の濃い領域４１が主露光ビームによりトラック方向に沿って露光される領域であり、図４（ａ）中の色の薄い領域４２が補助露光ビームによりトラック方向に沿って露光される領域である。図４（ａ）中の破線ａ−ａ上の主露光ビームの照射タイミングと、破線ｂ−ｂ上の補助露光ビームの照射タイミングを図４（ｂ）に示す。また、グレーコードパターン形成信号も図４（ｂ）に示す。主露光ビームは、グレーコードパターン形成信号に同期しているので、図４（ｂ）に示すように、グレーコードパターン形成信号がＯＮの時にはそれに一致してＯＮとなり、グレーコードパターン形成信号がＯＦＦの時にはそれに一致してＯＦＦとなる。一方、補助露光ビームは、図４（ｂ）に示すように、グレーコードパターン形成信号に関係無く、グレーコードを含む領域全体で連続的に出力ＯＮの状態で露光する。ただし、この例では、主露光ビームと補助露光ビームの強度比は１：０．４５である。この露光方法で露光された情報記録媒体用原盤を現像すると、図４（ｃ）に示すような、グレーコードパターンが形成される。図４（ｃ）中の色の濃い領域４７が、完全に露光された部分であり、エッチングにより底切りされる部分であり、色の薄い領域４８は、補助露光ビームのみで露光されている領域である。色の薄い領域４８は、補助露光ビームのみで露光されているので、露光が不完全であるために現像によりフォトレジスト表面だけが部分的に除去されることとなる。
【００１２】
図４（ｃ）に示した現像後の情報記録媒体用原盤の表面の様子を立体的に示したのが、図５である。図５は、図４（ｃ）中の破線Ａで囲まれた領域を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した状態を示す。図５中の領域５１は現像によりフォトレジストが完全に除去されている領域であり、エッチング後にグレーコードパターンの底切り部となる領域である。領域５２が現像後に情報記録媒体用原盤の表面に残存したレジストである。また、図４（ａ）中の太線で囲まれた補助露光部４３，４４及び４５、並びに、主露光部４６が、図５中の太線で囲まれた領域４３，４４及び４５、並びに、領域４６にそれぞれ対応している。
【００１３】
図５に示すように、主露光部の領域４６は、主露光ビームで直接露光するので、充分な露光量が得られてフォトレジストが完全に露光されるため、現像後はフォトレジストが完全に除去されて、いわゆる底切り部となる。補助露光部の領域４４では、領域４４の半径方向に隣接する両側の領域が主露光部であるので、露光時には補助露光ビームの光だけでなく、主露光ビームから漏れてくる光（主露光ビームの裾野の部分に相当する光）も照射される。従って、領域４４のような補助露光部では、それらの光の重ね合わせ光量、すなわち、充分大きな露光量が得られ、現像後はフォトレジストが完全に除去されて底切り部となる。これに対して、補助露光ビームのみによる露光となる領域４３では、露光量が不充分なためフォトレジストの表面しか感光しておらず、図５に示すように、現像後はフォトレジスト表面が部分的に削られ浅い溝が形成される。また、領域４５のように、半径方向に隣接する片側にだけが主露光部が存在する補助露光部では、領域４５の主露光部側に近い領域４５ａでは、露光時に補助露光ビームの光だけでなく、主露光ビームから漏れてくる光が重なるので、露光量が充分多くなり、図５に示すように、現像後にはフォトレジストが完全に除去されて底切り部が形成されるが、領域４５の主露光部が隣接していない側の領域４５ｂでは、補助露光ビームのみによる露光となるため、図５に示すように、現像後にもレジストが残存する。
【００１４】
次に、図５に示した現像後の残存レジスト５２側の情報記録媒体用原盤の表面を、残存レジスト５２をマスクとしてドライエッチングすると、残存レジスト５２でマスクされていない原盤表面のみが原盤の深さ方向にエッチングされる。そして、ドライエッチング後に残存レジスト５２を除去すると、図６に示すようなグレーコードに対応した表面形状を有する情報記録媒体用原盤が得られる。図６は、図４（ｃ）中の破線Ａで囲まれた領域のＡＦＭ画像であり、図６中の領域６１がグレーコードパターンに対応している。図６に示すように、本発明の情報記録媒体用原盤の製造方法では、トラックと直交する方向に連続して設けられているピットとそれにトラック方向に隣接するバンプとの境界部の歪みを非常に少さくすることができる。また、図６に示すように、グレーコードパターン６１、特にバンプのコーナー６４では、非常に鋭角なコーナー形状、即ち、曲率半径の非常に小さいコーナー形状が得られる。
【００１５】
本発明の情報記録媒体用原盤の製造方法では、主露光ビーム及び補助露光ビームを用いてグレーコードパターンを露光する際、主露光ビームの中心と補助露光ビームの中心が、トラックと直交する方向にトラック幅の半分の距離だけ離れているのが好ましい。
【００１６】
本発明の情報記録媒体用原盤の製造方法では、現像後の残存レジストをマスクとして、情報記録媒体用原盤の表面をドライエッチングする際、ドライエッチングの方法として、リアクティブイオンエッチングを用いることが好ましい。
【００１７】
上記情報記録媒体用原盤の製造方法で製造された情報記録媒体用原盤から情報記録媒体を製造する場合、情報記録媒体用原盤から直接、射出成形により情報記録媒体を製造しても良い。また、情報記録媒体用原盤から、電鋳によりグレーコードパターンを転写したスタンパを作製し、次いで、作製したスタンパから射出成形により情報記録媒体を製造しても良い。
【００１８】
本発明の第二の態様に従えば、トラックと直交する方向にピットまたはバンプが連続して設けられている情報記録媒体であって、上記トラックに垂直な方向に連続して設けられているピットとそれにトラック方向に隣接するバンプとの境界部に沿って生じる歪みの振幅がピットまたはバンプの最小記録単位に対して０．２以下の比率を有し、且つピットまたはバンプのコーナーの曲率半径が、ピットまたはバンプの最小記録単位に対して０．２５以下の比率を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
【００１９】
本発明の情報記録媒体では、少なくともトラックと直交する方向に連続して設けられているピットとそれにトラック方向に隣接したバンプの境界部に生じる歪みが非常に小さく、その境界部に沿って生じる歪みの振幅がピットまたはバンプの最小記録単位に対して０．２以下の比率を有し、且つピットまたはバンプのコーナーの曲率半径が、ピットまたはバンプの最小記録単位に対して０．２５以下の比率を有するので、高密度記録再生に極めて有用となる。このような情報記録媒体は、第一の態様に従う方法で製造することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
【実施例】
本発明に従う光ディスク用原盤及び基板の製造方法を、図３に示した。図３を用いて、本発明の光ディスク用原盤及び基板の製造方法を説明する。まず、図３（ａ）に示すように、円盤状の石英のガラス原盤３０上にフォトレジスト３１を１００ｎｍ塗布する。この例では、フォトレジスト３１に、シプレイ・フォーイースト（株）製のフォトレジストＳ１８０５を使用した。次いで、波長３５１ｎｍのレーザーである主露光ビーム及び補助露光ビームを照射する図示しない原盤露光装置を用いて、主露光ビーム及び補助露光ビームをそれぞれフォトレジスト３１に照射し、図１に示したグレーコードパターンを露光した。図３（ｂ）中の領域３３が主露光ビームで露光された主露光部であり、領域３４が補助露光ビームで露光された補助露光部である。この例では、主露光ビームと補助露光ビームの強度比は１：０．４５とした。また、露光時のトラックピッチは０．４μｍとし、半径方向における主露光ビームと補助露光ビームの中心間距離を０．２μｍとした。この例では、図４で用いて先に説明したような露光方法に従いグレーコードパターンを露光した。
【００２１】
次に、図示しないシプレイ・フォーイースト（株）製の現像液ＭＰデベロッパーを用いて、露光されたフォトレジスト３１上を現像すると、図３（ｃ）に示すように、露光量の不充分な領域のレジスト３５、即ち、補助露光ビームのみで露光されたレジスト部分と主露光ビーム及び補助露光ビームともに露光しなかったレジスト部分がガラス原盤３０上に残る。現像後のガラス原盤３０を、図示しないリアクティブイオンエッチング装置にセットし、図３（ｄ）に示すように、残存レジスト３５をマスクとして、Ｃ２Ｆ６ガスを用いてガラス原盤３０の残存レジスト３５側の表面をリアクティブイオンエッチングした。リアクティブイオンエッチングは、ガラス原盤３０の深さ方向へのエッチング速度が水平方向へのエッチング速度より大きい異方性エッチングであるので、図３（ｄ）に示すように、残存レジスト３５でマスクされていない領域のガラス原盤３０の表面は、ガラス原盤３０の深さ方向にエッチングされる。エッチング後、Ｏ２プラズマを用いて、残存レジスト３５を除去すると、図３（ｅ）に示すように、グレーコードパターン３６が形成されたガラス原盤３０が得られた。
【００２２】
次に、図３（ｆ）に示すように、ガラス原盤３０のグレーコードパターン３６が形成されている側の表面に、公知の電鋳技術を用いてＮｉスタンパ３７を形成した。Ｎｉスタンパ３７の厚さは２９０ｎｍとした。次いで、図３（ｇ）に示すように、Ｎｉスタンパ３７をガラス原盤３０から剥離した。最後に、図３（ｈ）に示すように、剥離されたＮｉスタンパ３７から、公知の射出成形技術を用いて、グレーコードパターン３６が転写された光ディスク用基板３８を作製した。
【００２３】
上述の光ディスク用原盤及び基板の製造方法で、現像工程（図３（ｃ））後、残存レジスト側のガラス原盤表面を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した。その結果を図５に示した。図５は、図４（ｃ）中の破線で囲まれた領域ＡのＡＦＭ画像である。図５中の領域５１がグレーコードパターンの底切り部に相当する領域であり、領域５２が残存レジストである。
【００２４】
また、エッチング工程（図５（ｄ））でガラス原盤表面に残存したレジストを図５（ｅ）の工程で除去した後のガラス原盤のエッチング面を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した。その結果を図６に示した。図６中の領域６１がグレーコードに対応する領域である。図６に示すように、この例で作製したガラス原盤では、トラックと直交する方向に連続して設けられているピットとそれにトラック方向に隣接するバンプとの境界部６３で非常に歪みの少ないグレーコードパターンが得られた。この例では、ピットまたはバンプの最小記録単位は４００ｎｍであったのに対して、ピットとバンプの境界部に沿った歪みの振幅は８０ｎｍ以下であり、ピットまたはバンプの最小記録単位に対する歪みの振幅は０．２以下の比率であった。また、図６に示すように、グレーコードパターン（特にバンプ）のコーナー（例えば、図６中の６４）における曲率半径は非常に小さかった。この例では、コーナーの曲率半径は１００ｎｍ以下であり、ピットまたはバンプの最小記録単位に対する曲率半径は０．２５以下の比率であった。
【００２５】
さらに、上記光ディスク用原盤の製造方法で、グレーコードパターン露光工程時のガラス原盤上の露光強度分布をシミュレーションした。このシミュレーションでは、主露光ビームと補助露光ビームの強度比を１：０．４５としてシミュレーションを行った。その結果を図７に示した。図７中の色が濃い領域ほど露光強度が強い領域であり、領域７０がグレーコードパターンの底切れ部に対応する領域である。図７に示したように、シミュレーション結果からも、本発明の光ディスク用原盤の製造方法を用いることにより、トラックと直交する方向に連続して設けられているピットとそれにトラック方向に隣接するバンプとの境界部で非常に歪みの少ない形状を有するグレーコードを形成することができた。また、グレーコード（特にバンプ）のコーナーにおける曲率半径は非常に小さくなることが分かった。
【００２６】
上記実施例では、グレーコードパターンを露光する際、主露光ビームと補助露光ビームの強度比を１：０．４５としたが、本発明はこれに限定されず、主露光ビームと補助露光ビームの強度比が１：０．４〜１：０．５の範囲であれば良い。また、露光装置やフォトレジストなどの条件が異なる場合には、主露光ビームと補助露光ビームの強度比は上記数値範囲と異なり得る。
【００２７】
【比較例】
比較例では、特開２００１−３５７５３５で開示されている露光方法を用いて光ディスク用原盤及び基板を作製した。図８にその手順を示した。まず、図８（ａ）に示すように、石英のガラス原盤８０上にフォトレジスト８１を塗布した。次いで、図８（ｂ）に示すように、フォトレジスト８１側から主露光ビーム及び補助露光ビームを同期させた露光ビーム８２をグレーコードパターンに従い照射し、フォトレジスト８１を露光した。グレーコードパターン形成信号は実施例と同様にした。この例では、主露光ビームと補助露光ビームの強度比を１：１とした。露光後、フォトレジスト８１を現像すると、図８（ｃ）に示すように、残存レジスト８５により画成されたグレーコードパターン８６を有する光ディスク用原盤が得られた。その後、図８（ｄ）に示すように、残存したレジスト８５側のガラス原盤８０の表面に、実施例で用いた電鋳技術を用いてスタンパ８７を形成した。次いで、図８（ｅ）に示すように、スタンパ８７をガラス原盤８０から剥離する。最後に、図８（ｆ）に示すように、剥離したスタンパ８７から、実施例と同様にして射出成形により光ディスク用基板８８を成形した。
【００２８】
この例の製造過程で、図８（ｂ）に示すように、主露光ビーム及び補助露光ビームを同期させた露光ビーム８２でフォトレジスト８１を露光する際、図９（ａ）に示した露光パターンに従い露光した。図９（ａ）中の色の濃い領域９１が主露光ビームによりトラック方向に沿って露光される領域であり、図９（ａ）中の色の薄い領域９２が補助露光ビームによりトラック方向に沿って露光される領域である。図９（ａ）中の破線ｃ−ｃ上の主露光ビームの照射タイミングと、破線ｄ−ｄ上の補助露光ビームの照射タイミングを図９（ｂ）に示した。また、グレーコードパターン形成信号も図９（ｂ）に示した。この例では、主露光ビームと補助露光ビームをグレーコードパターン形成信号に同期させて露光したので、図９（ｂ）に示すように、グレーコードパターン形成信号がＯＮの時にはそれに一致して主露光ビーム及び補助露光ビームはともにＯＮにした。一方、グレーコードパターン形成信号がＯＦＦの時にはそれに一致して主露光ビーム及び補助露光ビームはともにＯＦＦにした。次いで、露光されたレジスト面を現像すると、図９（ｃ）に示すようなグレーコードパターン９３が得られた。
【００２９】
この例で作製したガラス原盤の表面形状を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて観察した。その結果を図１０に示した。図１０は、図９（ｃ）中の破線で囲まれた領域ＡのＡＦＭ画像である。図１０に示したように、残存したレジスト１０２の側壁１０３が、半径方向に沿って波状になった。この例で作製したガラス原盤では、ピットまたはバンプの最小記録単位は４００ｎｍであったのに対して、残存したレジスト１０２の側壁１０３に沿った歪みの振幅は９０ｎｍ以上であり、ピットまたはバンプの最小記録単位に対する歪みの振幅は０．２２以上の比率であった。従って、この例で作製したガラス原盤は、実施例で作製したガラス原盤よりもグレーコードパターン１０１に大きな歪みが生じ、目的とするグレーコードパターンを形成することが出来なかった。この原因は、主露光ビームと補助露光ビームとの僅かな照射タイミングのズレによるものと考えられる。また、この例で作製したガラス原盤のグレーコードのコーナー、例えば、図１０中の１０４の領域は、図６に示した実施例で作製したガラス原盤のグレーコードのコーナー（図６中の６４の領域）より曲率半径の大きい形状になった。この例で作製したガラス原盤では、グレーコードのコーナーの曲率半径は、１３０ｎｍ以上であり、ピットまたはバンプの最小記録単位に対する曲率半径は０．３２以上になった。即ち、この例で作製したガラス原盤のグレーコードのコーナーの曲率半径は、実施例で作製したガラス原盤のグレーコードのコーナーの曲率半径より大きくなった。この原因として次のことが考えられる。この例のグレーコードパターンの露光方法では、グレーコードのコーナーは主露光ビームあるいは補助露光ビームのどちらか一方だけで露光することになるので、この例で形成されたグレーコードのコーナーの曲率半径は主露光ビームあるいは補助露光ビームのビーム半径とほぼ同じ値になる。それゆえ、この例で用いた主露光ビーム及び補助露光ビームのビーム半値半径が１３０ｎｍであるので、この例の露光方法で１３０ｎｍより小さい曲率半径のコーナーを有するグレーコードを実現することは原理的に困難であると考えられる。
【００３０】
また、主露光ビームと補助露光ビームとの照射タイミングのズレを調節して検討した結果、照射タイミングのズレが、ピットまたはバンプの最小記録単位の２０％の場合でも、図１０に示すように、グレーコードパターンに歪みが生じた。従って、特開２００１−３５７５３５で開示されている露光方法でグレーコードを作製する場合、グレーコードの歪みを防止するために、主露光ビームと補助露光ビームとの照射タイミングのズレを、ピットまたはバンプの最小記録単位の２０％よりも低く抑えなければならないことが分かった。
【００３１】
この例の光ディスク用原盤の製造方法で、グレーコードパターン露光工程時のガラス原盤上の露光強度分布をシミュレーションした。このシミュレーションでは、主露光ビームと補助露光ビームの強度比を１：１とし、照射タイミングのズレをピットまたはバンプの最小記録単位の２０％に設定してシミュレーションを行った。その結果を図１１に示した。図１１中の色が濃い領域ほど露光強度が強い領域であり、領域１１０がグレーコードパターンの底切れ部に対応した領域である。図１１に示すように、シミュレーション結果からも領域１１０のグレーコードパターンは半径方向に沿って波状になり歪みが生じた。また、図１１に示すように、シミュレーション結果からもグレーコードのコーナーの曲率半径が大きくなることが分かった。
【００３２】
さらに、比較例及び実施例でそれぞれ作製した光ディスク用基板のグレーコードが形成されている側の表面に、アルミ反射膜を形成し光ディスクを完成させた。これらの光ディスクを、光ディスク再生装置に装着してシーク動作を実施して比較した。その結果、実施例で作製した光ディスク用基板の方が比較例で作製した光ディスク用基板よりエラー発生が少なかった。これは、実施例の光ディスク用基板では、グレーコードパターンの歪みが非常に小さく、設計値に近いグレーコードを形成することができたためであると考えられる。
【００３３】
上記実施例では、グレーコードパターンを露光する際、補助露光ビームはトラックに沿って連続的に出力ＯＮにして露光したが、連続露光でなくても良く、例えば、主露光ビームで露光される領域（グレーコード領域）よりトラック方向にわずかに広い領域で補助露光ビームの出力がＯＮの状態であっても良い。
【００３４】
【発明の効果】
本発明の情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法によれば、主露光ビームと補助露光ビームとの照射タイミングを正確に同期させる必要が無いので、グレーコードパターンを露光する際、主露光ビームと補助露光ビームの照射タイミングのズレによるグレーコードパターンの歪みが発生せず、設計値に近い情報記録媒体用原盤及び基板を容易に製造することができる。これにより、情報記録媒体のシーク動作時に、グレーコードの再生信号をより正確に検出することができ、トラック情報の誤検出を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】グレーコードパターンの概略図である。
【図２】主露光ビームのみを有する原盤露光装置を用いた場合のグレーコード露光方法の概略図であり、図２（ａ）は、露光パターンの概略平面図であり、図２（ｂ）は、現像後のグレーコードパターンの概略平面図である。
【図３】実施例の光ディスク用原盤及び基板の製造フローチャートである。
【図４】実施例のグレーコードパターンの露光方法の概略図であり、図４（ａ）は、露光パターンの概略平面図であり、図４（ｂ）は、グレーコードパターン形成信号、図４（ａ）中の破線ａ−ａ上の主露光ビームの照射タイミング及び破線ｂ−ｂ上の補助露光ビームの照射タイミングを示した図であり、図４（ｃ）は、現像後のグレーコードパターンの概略平面図である。
【図５】実施例の製造過程で、現像後のガラス原盤表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した時の画像である。
【図６】実施例で作製した光ディスク用ガラス原盤の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した時の画像である。
【図７】実施例の露光方法でガラス原盤を露光した時の露光強度分布のシミュレーション結果である。
【図８】比較例の光ディスク用原盤及び基板の製造フローチャートである。
【図９】比較例のグレーコードパターンの露光方法の概略図であり、図９（ａ）は、露光パターンの概略平面図であり、図９（ｂ）は、グレーコードパターン形成信号、図９（ａ）中の破線ｃ−ｃ上の主露光ビームの照射タイミング及び破線ｄ−ｄ上の補助露光ビームの照射タイミングを示した図であり、図９（ｃ）は、現像後のグレーコードパターンの概略平面図である。
【図１０】比較例で作製した光ディスク用ガラス原盤の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した時の画像である。
【図１１】比較例の露光方法でガラス原盤を露光した時の露光強度分布のシミュレーション結果である。
【符号の説明】
１１，４７，９３　グレーコード
２１，４１，９１　主露光部
２２，４２，９２　補助露光部
３０，８０　ガラス原盤
３１，８１　フォトレジスト
３５，８５　残存レジスト
３７，８７　スタンパ
３８，８８　光ディスク基板
【図１】
2004086980.tif 000003
【図２】
2004086980.tif 000004
【図３】
2004086980.tif 000005
【図４】
2004086980.tif 000006
【図５】
2004086980.tif 000007
【図６】
2004086980.tif 000008
【図７】
2004086980.tif 000009
【図８】
2004086980.tif 000010
【図９】
2004086980.tif 000011
【図１０】
2004086980.tif 000012
【図１１】
2004086980.tif 000013