(57)【要約】【課題】電子ビームのＴＦＴ基板への照射位置精度を向上させること。【解決手段】ステージの位置を測定し、この位置測定に基づいてステージの移動方向に対する移動誤差やステージの振れの位置誤差を求め、この位置誤差をフィードバックして電子ビームを偏向させることにより、電子ビームのＴＦＴ基板への照射位置を補正する。ＴＦＴアレイ検査装置１は、ステージを移動させながら、電子ビームを試料に照射して試料電位情報を得る電子ビーム検査装置において、ステージの位置を測定するステージ位置測定手段１００と、ステージ位置測定手段で測定した測定位置に基づいて電子ビーム偏向に対して位置補正を行う補正手段２００を備えた構成とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージを移動させながら、電子ビームを試料に照射して試料電位情報を得る電子ビーム検査装置において、
ステージの位置を測定するステージ位置測定手段と、
前記ステージ位置測定手段で測定した測定位置に基づいて、電子ビーム偏向に対して位置補正を行う補正手段とを備えたことを特徴とするＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項２】
前記補正手段は、
前記ステージ位置測定手段の測定位置からステージの位置誤差を検出する誤差検出手段と、
前記位置誤差を電子ビームの偏向位置にフィードバックさせるフィードバック手段を備え、
前記位置誤差をフィードバックすることにより電子ビームの偏向を制御して電子ビームの照射位置を補正することを特徴とする、請求項１に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項３】
前記誤差検出手段は、
ステージの位置制御値と前記ステージ位置測定手段で測定した測定位置の差からステージの移動方向の移動誤差、及び／又は、前記ステージ位置測定手段で測定した測定位置からステージの振れを位置誤差として検出することを特徴とする、請求項２に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項４】
前記ステージ位置測定手段は、ステージの一移動軸に対して２台の位置検出手段を備え、前記２台の位置検出手段で検出した検出位置に基づいてステージの振れを検出することを特徴とする、請求項３に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項５】
前記フィードバック手段は、
前記位置誤差に基づいてビーム照射位置信号を補正して電子ビーム偏向信号を形成する電子ビーム位置補正部を備え、当該電子ビーム偏向信号により電子ビームを偏向して走査を行うことを特徴とする、請求項２又は３に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項６】
前記フィードバック手段は、電子ビームを照射方向を補正する補正用偏向電極を備え、当該補正用偏向電極は前記位置誤差に基づいて電子ビームを偏向させることを特徴とする、請求項２又は３に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどに使われるＴＦＴアレイ基板の検査に使用するＴＦＴアレイ検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
非接触による電圧を測定する技術として、電子ビームによって生成される電圧コントラスト現象を用いた方法が知られている。この電圧コントラスト現象は、導電性試料に電子ビームを照射すると、試料表面から二次電子が放出される。この二次電子のエネルギー分布は、試料に印加される電圧に比例してシフトする。この変化を検出することにより、試料の電圧を測定することができる。この電圧コントラスト現象を用い、電子ビームにＴＦＴアレイに照射し、放出される二次電子を検出することによりＴＦＴアレイを検査するＴＦＴアレイ検査装置は、例えば特許文献１，２に示されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−３１４２
【０００４】
【特許文献２】
特開平１１−２６５６７８
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従来の電子ビーム方式のＴＦＴアレイ検査装置では、広い面積のＴＦＴ基板を検査するために、図８に示すように、ＴＦＴ基板２０をステージ５により移動させながら順次繰り返すことにより電子ビームの走査を行っている。これは、電子銃２の走査範囲３０がＴＦＴ基板２０に比べて狭く、一度の走査でＴＦＴ基板２０全体を走査することができないためである。
【０００６】
そのため、電子銃２は、図８中において、ＴＦＴ基板２０内に平行四辺形で示すような狭い領域を順次検査していくことになる。図中に示す測定領域３１，３２，３３は、ステージ５の移動（ここではＹ方向の移動）に伴って移動する測定領域を示している。このステージ移動をＸ方向とＹ方向で行うことにより、ＴＦＴ基板２０全体を走査する。なお、電子銃２−１〜２−ｎは、ステージ５がＸ方向に移動したときのＴＦＴ基板２０との相対的な位置を示している。
【０００７】
なお、電子銃は複数本設置する構成とすることもできる。図８（ｂ）は、複数本の電子銃を設置した構成例である。領域を分割し複数の測定領域を設定し、この各測定領域を各電子銃で測定する。この構成では、Ｘ方向のステージに移動範囲は部分的なものとなる。
【０００８】
このとき、ステージは連続して移動させても、一定距離を移動させて測定時に停止させてもどちらとしても良い。ステージを連続移動させた場合には測定時間が短くなるなどの利点があるが、電子銃から見た基板位置は測定中に連続して移動していくのため、電子ビームの照射位置もこのステージ移動に追従して移動させる必要がある。
【０００９】
基板内の個々のＴＦＴピクセルの大きさは数１０〜数１００μｍであるため、各ＴＦＴセルの位置に正確にビームを照射するためには、基板への電子ビームの照射位置精度も数１０μｍが必要になる。例えば、ビーム照射精度としてピクセルサイズの１／２が必要な場合には、ピクセルサイズ４０×１２０μｍといったような高精細ＴＦＴ基板では、ｘ方向２０μｍ、Ｙ方向６０μｍの高いビームの照射位置精度が必要になる。
【００１０】
しかし、ＴＦＴ基板は、例えば現在では１２００ｍｍ×１６００ｍｍといった大型基板になってきており、この基板を移動させるステージも大型になる。そのため、ステージの移動範囲も大きくなっている。このような大きなステージの移動範囲全域に渡って、数１０μｍのステージの位置制御精度とすることはきわめて困難である。このため、従来では個々のＴＦＴ基板の正確な位置に電子ビームを照射することが困難であるという問題がある。
【００１１】
そこで、本発明は前記した従来の問題点を解決し、電子ビームのＴＦＴ基板への照射位置精度を向上させることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
ステージの位置制御精度を決める要素として、試料テージを駆動する駆動機構の移動誤差や、ステージの移動をガイドするレールの湾曲等によるステージの振れがある。
【００１３】
本発明は、ステージの位置を測定し、この位置測定に基づいてステージの移動方向に対する移動誤差やステージの振れの位置誤差を求め、この位置誤差をフィードバックして電子ビームを偏向させることにより、電子ビームのＴＦＴ基板への照射位置を補正する。
【００１４】
ステージの位置測定は、ステージに設けた位置測定器で行うことができ、その位置測定の結果と位置制御値とから移動誤差を演算したり、位置測定の結果からステージの振れを求める。これらの位置誤差を電子ビームの偏向量にフィードバックすることで電子ビームの照射位置を補正する。位置誤差の電子ビームへのフィードバックは、電子ビームを走査するビーム照射位置信号の補正、あるいは補正用偏向電極により電子ビーム自体を補正することができる。
【００１５】
本発明は、ステージの移動誤差や振れの位置誤差を検出し、その位置誤差を電子ビームの移動量にフィードバックして補正する構成とすることにより、電子ビームのＴＦＴピクセルヘの照射位置精度が向上する。
【００１６】
本発明の電子ビーム検査装置は、ステージを移動させながら、電子ビームを試料に照射して試料電位情報を得る電子ビーム検査装置において、ステージの位置を測定するステージ位置測定手段と、ステージ位置測定手段で測定した測定位置に基づいて電子ビーム偏向に対して位置補正を行う補正手段を備えた構成とする。
【００１７】
図１は本発明のＴＦＴアレイ検出装置の概略を説明するための図である。図１において、ＴＦＴアレイ検出装置は、ステージの位置を測定するステージ位置測定手段１００と、ステージ位置測定手段１００で測定した測定位置に基づいて、電子ビーム偏向に対して位置補正を行う補正手段２００を備える。
【００１８】
ステージはＴＦＴ基板を支持した状態でＸ方向及び／又はＹ方向に移動し、この移動の間に電子銃は電子ビームを試料に照射し走査を行う。この走査において試料から放出される二次電子を検出することによりＴＦＴ基板の検査を行う。
【００１９】
ステージ位置測定手段は、ステージが移動している間にその位置を検出する。ステージは、位置制御値に基づいて位置制御が行われるが、実際の位置と位置制御値との間にはずれが生じる場合や、また、ステージの機構精度からステージが面内で振られる場合がある。これにより、移動誤差や振れといった位置誤差が生じる。
【００２０】
本発明の電子ビーム検査装置は、ステージ位置測定手段によりステージの位置を測定し、補正手段によりステージ位置測定手段で測定した測定位置に基づいて電子ビーム偏向に対して位置補正を行うことにより、位置誤差を解消して電子ビームのＴＦＴピクセルヘの照射位置精度を向上させる。
【００２１】
補正手段２００は、ステージ位置測定手段１００の測定位置からステージの位置誤差を検出する誤差検出手段２１０と、位置誤差を電子ビームの偏向位置にフィードバックさせるフィードバック手段２２０を備える構成とすることができ、位置誤差をフィードバックすることにより電子ビームの偏向を制御して電子ビームの照射位置を補正する。
【００２２】
また、誤差検出手段２１０は、ステージの移動方向の誤差、及び／又は、ステージの振れを位置誤差として検出する。ステージの移動方向の誤差は、ステージの位置制御値とステージ位置測定手段１００で測定した測定位置の差から検出することができ、また、ステージの振れは、ステージ位置測定手段１００で測定した測定位置から検出することができる。
【００２３】
ステージ位置測定手段１００は、ステージの移動軸に対して少なくとも１つの位置検出手段を備える構成とすることにより移動軸方向の位置を検出することができる。Ｘ軸方向及びＹ軸方向に位置検出器を設けることにより、Ｘ軸方向の位置及びＹ軸方向の位置を検出することができる。
【００２４】
また、ステージ位置測定手段１００は、ステージの一移動軸に対して２台の位置検出手段を備える構成とすることにより、２台の位置検出手段で検出した検出位置に基づいてステージの振れを検出することができる。２台の位置検出手段は、ステージのＸ軸方向あるいはＹ軸方向のいずれか一つの移動軸に設ける構成とすることも、あるいは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の二つの移動軸に設ける構成とすることもできる。
【００２５】
フィードバック手段２２０は、電子ビーム照射位置信号を補正する態様、あるいは電子ビームを直接偏向して補正する態様により、位置誤差をフィードバックして位置補正を行うことができる。
【００２６】
電子ビーム照射位置信号を補正する態様のフィードバック手段２２０は、電子ビーム位置補正部２２１を備える。この電子ビーム位置補正部２２１は、位置誤差に基づいてビーム照射位置信号を補正して電子ビーム偏向信号を形成する。形成された電子ビーム偏向信号は、位置誤差を補正する補正分を含んでいるため、電子ビームは位置誤差が解消された位置を走査することになる。
【００２７】
また、電子ビームを直接偏向して補正する態様のフィードバック手段２２０は、電子ビームを照射方向を補正する補正用偏向電極２２２を備える。この補正用偏向電極２２２は、位置誤差に基づいて電子ビームを偏向させる。通常の電子ビーム偏向電極により走査される電子ビームは、補正用偏向電極により位置誤差を解消する方向に偏向されるため、電子ビームは位置誤差が解消された位置を走査することになる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。
【００２９】
図２は本発明のＴＦＴアレイ検出装置の一構成例を説明するための概略図である。
【００３０】
図２において、ＴＦＴアレイ検出装置１は、真空チャンバ４内に、ＴＦＴ基板２０を支持してＸ，Ｙ方向に移動するステージ５と、電子銃２アレイから照射された電子ビームを偏向してＴＦＴ基板２０上で走査させる電子ビーム偏向電極３を備える。なお、図１では、ＴＦＴ基板２０から放出された二次電子を検出する検出器、及び検出信号の処理装置は省略している。
【００３１】
電子ビームの走査は、ビームスキャンパターン生成部７で生成したビームスキャンパターンによりビーム偏向ドライバ部９を駆動することで行われる。ビームスキャンパターンは、電子銃２からの電子ビームをＴＦＴ基板の照射位置に照射させるための電子ビーム照射位置信号であり、この信号に基づいて電子ビームを偏向させて走査を行う。
【００３２】
ビームスキャンパターンは、電子ビームの走査中にステージが連続移動した場合、このステージが移動することによって電子ビームが予定した走査ラインからのずれの補正を含んだ走査信号である。したがって、このビームスキャンパターンはステージの移動速度に応じて設定される必要がある。そこで、ビームスキャンパターン生成部７は、測定制御部６からステージの移動速度情報を取り込んで、移動速度に対応した電子ビームのずれ量の補正量を計算してビームスキャンパターンを生成する。ビーム偏向ドライバ部９は、生成されたビームスキャンパターンに基づいて電子ビーム偏向電極３を駆動することにより、電子銃２から照射された電子ビームを偏向させ、移動するステージ上で所定の走査ラインに沿って電子ビームを走査する。
【００３３】
ステージ５は、サーボモータ１１によりボールスクリュー１２を介して駆動される。ステージ５の移動制御は、ステージ制御部１０によりサーボモータ１１を制御することで行う。ステージ５の移動は、ステージ制御部１０が測定制御部６からトリガ信号を受けることにより開始される。また、ステージ制御部１０は、測定制御部６で設定されたステージ移動速度に応じてサーボモータ１１の回転速度を調整することによりステージの移動速度を制御する。
【００３４】
この構成では、ビームスキャンパターンの信号を補正し、補正したビームスキャンパターンを用いて形成した電子ビーム偏向信号により電子ビームを駆動させることにより位置誤差を補正する。
【００３５】
そこで、この構成では、ステージの位置を測定するステージ位置測定手段と、ステージ位置測定手段で測定した測定位置を用いて位置誤差を求め、この位置誤差を電子ビームの偏向位置にフィードバックさせて、電子ビーム偏向に対する位置補正を行うフィードバック手段を備える。
【００３６】
ステージ位置測定手段は、ステージ位置測定部１３とスケール計測回路１４とにより構成することができる。ステージ位置測定部１３は、ステージ５に設けた位置測定器により構成することができ、例えば、レーザー光を用いたレーザースケールを用いることができる。スケール計測回路１４は、ステージ位置測定部１３の測定信号を信号処理してステージ５の位置あるいは移動量を計測する。
【００３７】
また、フィードバック手段は、ステージ誤差検出部１５と、電子ビーム位置補正部８とにより構成することができる。ステージ誤差検出部１５は、ステージ制御部１０から制御位置を入力すると共に、スケール計測回路１４からステージの測定位置を入力し、制御位置と測定位置との差からステージの移動誤差を検出する他、ステージの測定位置を用いてステージの振れを検出する。電子ビーム位置補正部８は、ステージ誤差検出部１５で検出したステージの位置誤差（ステージの移動誤差及び／又はステージの振れ）に基づいて、ビームスキャンパターン生成部７で生成したビームスキャンパターンを補正する。
【００３８】
電子ビーム位置補正部８は、補正したビームスキャンパターンをビーム偏向ドライバ部９に送り、電子ビームビーム偏向電極３を駆動して、電子ビームを走査する。ビームスキャンパターンは、電子ビーム位置補正部８においてステージの位置誤差が補正されているため、ＴＦＴ基板に照射される電子ビームの照射位置精度は向上する。
【００３９】
以下、図２に示す構成の動作例について説明する。この構成例はステージ５を連続移動させながら測定を行う。測定制御部６では、ＴＦＴ基板の性状に合ったステージ移動速度を設定し、その設定値をビームスキャンパターン生成部７と、ステージ制御部１０に送る。ビームスキャンパターン生成部７には、各ＴＦＴセルの位置情報に基づく電子ビームのスキャンパターン信号がプリセットされている。
【００４０】
測定中においてステージは移動し続けることになるので、このステージ移動量に応じてビームスキャン位置も移動させる必要がある。例えば、図３は、ステージが一定速度で移動しているときに、ＴＦＴ基板のあるラインＡを直線スキャンする場合を示している。この場合、ラインスキャンの開始点▲１▼からラインスキャンの終点▲２▼に達するまでの間に、ＴＦＴ基板はＤだけ移動することになる。電子ビームがＴＦＴ基板上を直線状にスキャンするためには、図３（ｂ）のように移動量を補正して斜めにビームを走査する必要がある。
【００４１】
ビームスキャンパターン生成部７でプリセットされているＴＦＴ位置情報には、ステージ移動速度の設定値を用いてビーム照射位置の移動量をあらかじめ計算によって求めて補正した位置情報がプリセットされている。この補正により、電子ビームは、図３（ｂ）中の破線で示した、補正したスキャンパターンに従って斜めに走査される。なお、図３は移動量を明確に示すために実際より移動量を大きく誇張して描いている。
【００４２】
測定開始時には、まず測定制御部６から測定開始トリガ信号が出力される。このトリガ信号によってビームスキャンパターン生成部７では、ステージ移動速度に応じたビームスキャン信号が出力される。これと同時に、トリガ信号によってステージ制御部１０でもサーボモータ１１の動作が開始し、ステージ５の移動が開始する。ステージ５は、サーボモータ１１とボールスクリュー１２により直進駆動する。なお、この実施例では１軸方向の移動のみを示しているが、Ｘ，Ｙステージであれば２軸方向の移動とすることができ、各軸方向について補正を行うことができる。
【００４３】
ステージ５の移動量は、ステージ位置測定部１３及びスケール計測回路１４によって測定する。ステージ位置測定部１３は、レーザー光を使った位置測定装置を使用することができる。ステージ誤差検出部１５は、この測定値とステージ制御部１０からのステージ制御値とを比較して、ステージの移動誤差を求める。なお、ステージ制御値は、ステージ制御部１０においてサーボモータのエンコーダ値より演算で求めることができる。また、設定速度から計算により求めることもできる。また、ステージ誤差検出部１５は、測定位置を用いてステージ５の振れを求める。ステージの振れは、ベースに対するステージ面の回転方向のずれである。
【００４４】
移動誤差量及び振れ量は、電子ビーム位置補正部８に入力される。電子ビーム位置補正部８は、ビームスキャンパターン生成部７からのビームスキャン信号に対して、この移動誤差量や振れ量を用いて補正する。補正する手段としては、アナログ加算回路を用いても良く、またＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｓｉｇｎａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）やコンピュータを用いてデジタル的に行っても良い。その他、ＰＬＤ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅ）などを使っても良い。
【００４５】
ステージの位置誤差を補正したスキャン信号（ビームスキャンパターン）はビーム偏向ドライバ部９で増幅され、電子銃の電子ビーム偏向電極３に印加される。
【００４６】
図４は本発明のＴＦＴアレイ検出装置の他の構成例を説明するための概略図である。
【００４７】
この構成例は、位置誤差を補正する態様として、フィードバック手段において電子ビームを直接偏向することにより補正を行う例である。なお、以下、この位置誤差を補正するフィードバック手段の構成について説明し、図２に示す構成と共通する部分については説明を省略する。
【００４８】
位置誤差を補正するフィードバック手段として、ステージ誤差検出部１５と、ビーム偏向ドライブ部９ｂと、電子ビーム偏向電極３ｂとにより構成することができる。ステージ誤差検出部１５は、ステージ制御部１０から制御位置を入力すると共に、スケール計測回路１４からステージの測定位置を入力し、制御位置と測定位置との差からステージの移動誤差を検出する他、ステージの測定位置を用いてステージの振れを検出する。
【００４９】
電子ビーム偏向電極３ｂは補正用偏向電極を構成する電極であり、ＴＦＴ基板に照射される電子ビームの位置誤差のみの補正を行う。
【００５０】
通常の電子ビームの走査は、ビームスキャンパターン生成部７で生成されたビームスキャンパターンをビーム偏向ドライバ部９ａで増幅し、電子ビーム偏向電極３ａを駆動することにより行う。電子ビーム偏向電極３ｂは、電子ビーム偏向電極３ａで走査される電子ビームの照射方向を補正する。
【００５１】
この構成例では、ビームスキャンパターン生成部７からのスキャン信号（ビームスキャンパターン）は、ステージの誤差を補正せずにそのままビーム偏向ドライバ部９ａで増幅され、電子ビーム偏向電極３ａを駆動する。一方、ステージ誤差検出部１５で検出された誤差信号は、ビーム偏向ドライバ部９ｂへ入り、ここで誤差量に応じたビーム偏向信号に変換増幅され、電子ビーム偏向電極３ｂに印加される。
【００５２】
この構成例によれば、電子ビーム偏向電極３ｂを補正用偏向電極として用いてステージ位置誤差を補正することにより、前記した構成例の電子ビーム位置補正部が不要となる。
【００５３】
次に、ステージ位置測定部が備える位置測定器について説明する。図５は、ステージの移動状態を説明するための概略図である。ステージ５はステージレール５０をガイドとして移動するが、このステージレール５０は、レール材の作製精度や温度等の環境条件により完全な直線とはならず、わずかに湾曲している。そのため、ステージ５の移動は完全な直線移動とはならず、ステージレールに沿って移動すると、その移動に伴ってステージの角度がわずかに変化し、ステージ平面上において振れることになる。例えば、図５において、ステージレール５０の湾曲により、ステージ５は図５中において５Ａで示される位置と５Ｂで示される位置で異なる方向を向くことになる。
【００５４】
そこで、本発明のステージ位置測定部は、位置測定器をステージの両側に配置することにより、ステージの位置及び／又は移動を測定すると共に、ステージの振れも測定する。図６は、本発明のステージ位置測定部の位置測定器の配置を説明するための図である。図６（ａ）において、ステージ位置測定部は、ステージ５の両側に配置した位置測定器１６ａ，１６ｂと、位置測定スケール１７ａ，７ｂとを備える。位置測定器１６ａは位置測定スケール１７ａ上の位置を測定し、位置測定器１６ｂは位置測定スケール１７ｂ上の位置を測定する。これによりステージの位置及び／又は移動を測定することができる。
【００５５】
ステージレールが直線であってステージ５に振れがない場合には、位置測定器１６ａと位置測定器１６ｂの測定値は一致する。これに対して、図６（ｂ）に示すように、ステージレールの湾曲等によりステージ５の向きが変化して振れが生じた場合には、ステージ５の両側に配置した位置測定器１６ａと位置測定器１６ｂの測定値にずれが生じる。この測定値のずれはステージの振れの程度を表しており、これによりステージの振れを測定することができる。
【００５６】
図７は、本発明のステージ位置測定部の構成例である。この構成例は、Ｘ，Ｙステージ５に対して、Ｘ，Ｙ軸のそれぞれに２台ずつ位置測定器１６Ｘａ，１６Ｘｂ、及び１６Ｙａ，１６Ｙｂを設置し、また、Ｘ軸レール５０Ｘ，Ｙ軸レール５０Ｙに沿ってステージ５の両側にそれぞれ位置測定スケール１７Ｘａ，１７Ｘｂ、及び１７Ｙａ，１７Ｙｂを設置する。
【００５７】
位置測定器１６Ｘａ，１６Ｘｂと位置測定スケール１７Ｘａ，１７Ｘｂとの組み合わせにより、Ｘ軸方向の移動におけるステージの位置及び／又は移動を検出し、また、Ｘ軸方向のステージの振れを検出することができる。また、位置測定器１６Ｙａ，１６Ｙｂと位置測定スケール１７Ｙａ，１７Ｙｂとの組み合わせにより、Ｙ軸方向の移動におけるステージの位置及び／又は移動を検出し、また、Ｙ軸方向のステージ振れを検出することができる。
【００５８】
なお、ステージ５のＸ軸方向の移動はＸ軸ボールスクリュー１２Ｘにより行い、ステージ５のＹ軸方向の移動はＹ軸ボールスクリュー１２Ｙにより行う。
【００５９】
上記の配置の他にも、例えば、Ｘ軸方向のステージの振れが小さいときには、Ｘ軸方向の位置計測器を１台、Ｙ軸方向２台としても良く、また、ステージの振れの検出が不要なときは、Ｘ軸、Ｙ軸それぞれに位置検出器を１台ずつとする構成としても良い。
【００６０】
また、Ｘ軸のみあるいはＹ軸のみに位置測定器を設置する構成としても良い。
【００６１】
本発明の実施形態によれば、実際のステージの移動誤差やステージの振れを測定して、その情報をリアルタイムにフィードバックしてビーム位置を補正することが可能となる。このため、ステージの移動誤差によるビーム照射位置の誤差を小さくすることが可能となる。
【００６２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、電子ビームのＴＦＴ基板への照射位置精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＴＦＴアレイ検出装置の概略を説明するための図である。
【図２】本発明のＴＦＴアレイ検出装置の一構成例を説明するための概略図である。
【図３】ステージ移動時の走査を説明するための図である。
【図４】本発明のＴＦＴアレイ検出装置の他の構成例を説明するための概略図である。
【図５】ステージの移動状態を説明するための概略図である。
【図６】本発明のステージ位置測定部の位置測定器の配置を説明するための図である。
【図７】本発明のステージ位置測定部の構成例である。
【図８】電子ビーム方式のＴＦＴアレイ検査装置による電子ビームの走査を説明するための図である。
【符号の説明】
１…ＴＦＴ検出装置、２…電子銃、３，３ａ，３ｂ…電子ビーム偏向電極、４…真空チャンバ、５，５Ａ，５Ｂ…ステージ、６…測定制御部、７…ビームスキャンパターン生成部、８…電子ビーム位置補正部、９，９ａ，９ｂ…ビーム偏向ドライバ部、１０…ステージ制御部、１１…サーボモータ、１２，１２Ｘ，１２Ｙ…ボールスクリュー、１３…ステージ位置測定部、１４…スケール計測回路、１５…ステージ誤差検出部、１６，１６ａ，１６ｂ，１６Ｘａ，１６Ｘｂ，１６Ｙａ，１６Ｙｂ…位置測定器、１７，１７ａ，１７ｂ…位置測定スケール、２０…ＴＦＴ基板、５０，５０Ｘ，５０Ｙ…ステージレール。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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