(57)【要約】【課題】樹脂およびその添加剤の酸化分解反応を抑制し、スタンパを長寿命化することによって、高磁気記録密度に対応した低価格の情報記録媒体用基板の製造方法、及びこれを用いた情報記録媒体を提供する。【解決手段】熱可塑性樹脂を成形金型内に射出し、情報記録媒体用基板を成形する情報記録媒体用基板の製造方法において、前記成形金型内の成形用空間内の酸素濃度を５％以下に保ち、射出成形を行うことを特徴とする。【選択図】　　　　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂を成形金型内に射出し、情報記録媒体用基板を成形する情報記録媒体用基板の製造方法において、
前記成形金型内の成形用空間内の酸素濃度を５％以下に保ち、射出成形を行うことを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２】
前記成形金型内の成形用空間内の酸素濃度が２％以下であることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用基板の製造方法。
【請求項３】
前記熱可塑性樹脂を前記成形金型内に射出する前に、前記成形金型内の前記成形用空間内に、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン、二酸化炭素からなる群の中から選ばれた少なくとも一種類を含有する不活性ガスを導入することを特徴とする請求項１または２に記載の情報記録媒体用基板の製造方法。
【請求項４】
前記不活性ガスは、粒径０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３当り５０個以下であることを特徴とする請求項３に記載の情報記録媒体用基板の製造方法。
【請求項５】
前記不活性ガスは、イオン化されていることを特徴とする請求項３または４に記載の情報記録媒体用基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の方法で製造された情報記録媒体用基板。
【請求項７】
請求項６に記載の情報記録媒体用基板を含むことを特徴とする情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はコンピュータの外部記憶装置などの各種磁気記録装置に搭載される情報記録用媒体用基板の製造方法、及びそれを用いた情報記録媒体用基板、情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ディスクの高密度記録化が進み、これに伴いディジタル信号を記録する磁性層の性能向上のみならず、記録の読み出しを司る磁気ヘッド、更には基板の性能向上が要求されている。このようなニーズに応える手段として、基板に関しては、従来から使用されているアルミニウム基板、ガラス基板の高度化・高精密化が推進されている。
【０００３】
一方、これまでのようなコンピュータの外部記憶分野ではなく、ＶＴＲ（Ｖｉｄｅｏ　Ｔａｐｅ　Ｒｅｃｏｒｄｅｒ）やＭＤ（Ｍｉｎｉ　Ｄｉｓｃ）に代わるＡＶ（Ａｕｄｉｏ＆Ｖｉｓｕａｌ）用途向けのＨＤＤ（Ｈａｒｄ　Ｄｉｓｃ　Ｄｒｉｖｅ）も注目されている。ＡＶ用ＨＤＤの普及のためには、記録密度が高いだけではなく、価格が安いことも重要な要素となっている。低価格の媒体を供給するために、従来の基板材料であるアルミニウム基板、ガラス基板を用いた媒体の低価格化の取り組みはもちろん、新規材料である樹脂（プラスチック）による低価格化基板の取り組みも始まっている（例えば、特許文献１〜３参照）。
【０００４】
アルミニウム基板やガラス基板では、磁気記録媒体として使用可能な表面粗さ（Ｒａ）を確保するためには、長時間の研磨が必要なため価格が下がり難いと考えられている。一方、プラスチック基板は研磨工程を必要としないほど転写性の高い表面粗さを達成できる可能性を有しているため、研磨工数が大幅に削減でき、低価格の基板が供給できる可能性がある。
【０００５】
このようにプラスチック基板は低価格な基板を供給できるポテンシャルを持っているが、その一方で、成形時に使用する金型、及びスタンパの初期投資が大きく、また、これらの寿命はプラスチック基板の価格を左右する大きな要因となっている。
【０００６】
これまでに用いられてきた光ディスク基板においては、成形金型、あるいはスタンパの寿命は金型へのスタンパ取り付け面の磨耗、あるいは磨耗破片による微小変形などが寿命を決定する主な要因である。これを解決するために耐磨耗性が高く、また摩擦性が低いＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）を金型にスタンパを固定する面に被膜する方法が開示されている（例えば、特許文献４〜６参照）。
【０００７】
他方、本発明が対象としている磁気記録用媒体では、磁気記録密度が高くなるにつれて、ヘッドの浮上高さが低下し、現在では浮上高さが２０ｎｍをきっている。浮上量の低下に伴い、基板の表面粗さは、Ｒｍａｘ（最大高さ）≦１０ｎｍ、Ｒａ（中心線平均粗さ）≦１ｎｍが要求されている。このため、現状ではスタンパの寿命はスタンパ表面の粗さが寿命を決定する主な要因となっている。
【０００８】
【特許文献１】
特開平５−４２３１号公報
【０００９】
【特許文献２】
特開平５−６５３５号公報
【００１０】
【特許文献３】
特開平５−２８４８８号公報
【００１１】
【特許文献４】
特許第２８２６８２７号公報
【００１２】
【特許文献５】
特許第２８５７１３８号公報
【００１３】
【特許文献６】
特開２０００−２２８０３７号公報
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
スタンパ母材として、例えばステンレスを用い、これを鏡面研磨後、この表面にＮｉをスパッタ法により、数ｎｍの膜厚のコート膜を施したものをスタンパとして用いると、成形回数が少ない時点から、基板の表面粗さが急激に増加し、５千回以内にＲａ＞１ｎｍとなってしまい、磁気ディスク用基板としては使用できなくなってしまうという問題が発生した。この原因は樹脂およびその添加剤が酸化分解し、堆積したものであることが、ＦＴ−ＩＲ分光法やＧＣ−ＭＡＳＳ法を用いて分析することで明らかとなった。
【００１５】
基板粗さが増した基板を媒体として用いると、磁気ヘッドと記録媒体との間の所定の距離を維持することができず、最悪の場合には磁気ヘッドが浮上せず、実際の読み書きが行えないという問題を引き起こす。
【００１６】
本発明は、かかる従来の実情を鑑みて提案されたものであり、樹脂およびその添加剤の酸化分解反応を抑制し、スタンパを長寿命化することによって、高磁気記録密度に対応した低価格の情報記録媒体用基板の製造方法、及びこれを用いた情報記録媒体を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の情報記録媒体用基板の製造方法は、熱可塑性樹脂を成形金型内に射出し、情報記録媒体用基板を成形する情報記録媒体用基板の製造方法において、前記成形金型内の成形用空間内の酸素濃度を５％以下に保ち、射出成形を行うことを特徴とする。
ここで、前記成形金型内の成形用空間内の酸素濃度が２％以下であってもよい。
【００１８】
また、前記熱可塑性樹脂を前記成形金型内に射出する前に、前記成形金型内の前記成形用空間内に、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン、二酸化炭素からなる群の中から選ばれた少なくとも一種類を含有する不活性ガスを導入してもよい。
さらに、前記不活性ガスは、粒径０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３当り５０個以下であってもよい。
さらにまた、前記不活性ガスは、イオン化されていてもよい。
本発明の情報記録媒体用基板は、上述の方法で製造されてもよい。
本発明の情報記録媒体は、上述の情報記録媒体用基板を含むことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
上記目的を達成するために鋭意検討した結果、従来から使用されてきたスタンパのコート層であるＮｉ表面において、樹脂およびその添加剤の酸化分解が進み、これらがスタンパ表面に付着堆積し、Ｒａの悪化を招くことが判明した。また、有機材料には自動酸化と呼ばれる自己増殖酸化作用があり、一度酸化が始まると加速的に酸化が進むことが知られている。したがって、酸化要因は極力取り除く必要がある。
【００２０】
本発明においては、成形雰囲気の酸素量を低減させることにより、成形回数の増加に伴うスタンパ表面Ｒａの増加を抑えられるのではないかとの結論に達し、成形雰囲気の脱酸素化に着目して、検討を行なった。
【００２１】
なお、その際に使用する不活性ガス自体もパーティクルを含んでいると、基板欠陥数を増加させる可能性があり、この観点での検討も行なった。
【００２２】
本発明において作製される磁気ディスク基板は、中心部に円形の孔を有する円盤の形状を有することができる。中心部円形孔は、該磁気ディスク基板を用いた磁気記録媒体を磁気記録装置中に設置する際に、スピンドルモータを取り付けるために用いられる。中心部円形孔および円盤の径は、磁気記録装置の設計に応じて変更し得る。
【００２３】
本発明の射出成形においては、当該技術において知られている射出成形装置を用いることができる。樹脂の均一性を高めるためには、スクリュー式の射出成形装置を使用することが好ましい。樹脂の溶融および計量をスクリューを用いて行い、樹脂の射出をプランジャーを用いて行うことも可能であるが、溶融、計量および射出の機能を集約したインラインスクリュー式の射出成形装置を使用することが好ましい。
【００２４】
本発明で用いることができるインラインスクリュー式射出成形装置の模式的断面図を図１に示す。このインラインスクリュー式射出成形装置は、加熱手段１４および金型に対する射出口１６を具えた加熱シリンダ１３と、該加熱シリンダ内にあり、樹脂の溶融、計量および射出を行うための（可動）スクリュー１１と、スクリュー１１に対して樹脂を供給する供給手段１５（ホッパなど）と、スクリュー１１の計量および射出駆動を行うためのスクリュー駆動手段１２とを具える。金型としては、分離可能な２つの部分（固定部１７および可動部１８）からなる金型を用い、さらに金型に型締め圧力を与え、可動部１８を駆動するための駆動手段１９を具えることが好ましいが、それに限定されるものではない。
【００２５】
本発明において用いることができる金型の模式的断面図を図２に示す。金型は、成形用空間、すなわち作製される基板形状に対応する空間（以後、基板キャビティ２２と称する）と、基板キャビティ２２と射出口１６を連絡する空間（以後、スプル部２１と称する）とを有する。基板キャビティ２２に充填された樹脂とスプル部２１の樹脂とを切り離す（ゲートカットする）ためのゲートカット手段２４が設けられている。
【００２６】
この金型を用いて成形する際に、金型雰囲気中の酸素量を低減させることが、樹脂およびその添加剤の酸化分解反応を遅らせることに有効であることが分った。金型キャビティ内雰囲気の酸素濃度を５％以下、好ましくは２％以下にまで低減することで、１０，０００ｓｈｏｔの成形を行っても、樹脂およびその添加剤の酸化分解反応がほとんど起こらず、それらがスタンパ表面に付着堆積し、Ｒａの悪化を招くことを最小限に抑えうることを見出した。しかしながら、金型周囲の雰囲気を全て脱酸素化することは、装置が複雑となるため、実際のプロセスとしては使用しづらい。
【００２７】
そこで、金型全体ではなく、金型キャビティ内のみ脱酸素化を図ることを検討した。樹脂充填前に金型キャビティへ不活性ガスを導入することで、キャビティ部に存在する酸素を追い出すという方法でもスタンパ表面付着物が低減し、スタンパの長寿命化を図れることを見出した。この不活性ガスは、酸素を含まず、かつスタンパ表面材料と反応するようなものでなければよく、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン、二酸化炭素からなる群の中から選ばれた少なくとも一種類を含有することが好ましい。
【００２８】
この際の不活性ガスは除電（イオン化）され、かつ０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３あたり５０個以下であることが好ましい。この範囲の不活性ガスにおいては、成形後に基板に付着するパーティクルが少なく、基板の表面欠陥が増大しない。
【００２９】
上記のように作製された磁気ディスク基板に対してアニール処理を施すことにより、基板内に残留する応力を緩和することが好ましい。アニール処理は、（Ｔｇ−７０）℃以上（Ｔｇ−１５）℃以下の温度（Ｔｇは、樹脂のガラス転移温度を意味する）において、０．５時間から４８時間にわたって行うことが好ましい。樹脂の劣化および基板の局所的形状変化をもたらさないことを条件として、アニール処理温度は可能な限り高いことが好ましい。アニール処理は、大気雰囲気下あるいは低酸素雰囲気下で行うことができる。また、アニール処理中に基板自重による撓みが発生することを防止するために、基板を縦置きにしてアニール処理を行うことが好ましい。十分なアニールを行うことにより残留応力を減少させ、残留応力の経時的な開放による形状変化を最小限とし、かつ局所的な変形の発生を防止することができる。
【００３０】
本発明において用いられる熱可塑性樹脂は、一般的に光磁気ディスク基板に使用されているポリカーボネート樹脂やポリメチルメタクリレート樹脂の他にポリオレフィン系樹脂を含む。特に高耐熱性・低吸湿性で、剛直構造のポリオレフィン系樹脂、例えばノルボルネン系ポリシクロオレフィン樹脂などを用いることが望ましい。また、樹脂構造に由来したガラス転移点（以下、Ｔｇと称する。）は、１３５℃〜１７０℃であり、この範囲でＴｇが大きいほど望ましい。
【００３１】
上記のように作製した磁気ディスク基板を用いて磁気記録媒体を作製する際には、少なくとも該基板上に磁気記録層を積層する。また、必要に応じて、下地層、保護層、潤滑層などを設けることができる。用途に応じて、前述のような層を磁気ディスクの片面または両面上に設けて、それぞれ片面および両面磁気記録媒体を得ることができる。
【００３２】
ハードディスク装置などに一般に用いられている水平記録方式の磁気記録媒体を作製する場合には、下地層、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順に設けることが好ましい。磁気記録層の性能向上などを目的として、下地層と磁気記録層との間に、中間層を設けても良い。また、記録密度向上の可能性などによって近年注目を集めている垂直記録方式の磁気記録媒体を作製する場合には、下地層、軟磁性裏打ち層、磁性記録層、保護層、潤滑層をこの順に設けることが好ましい。この場合にも、記録特性などの向上を目的として、下地層と軟磁性裏打ち層との間、および／または軟磁性裏打ち層と磁性記録層との間に、中間層を設けても良い。
【００３３】
上記の各層は、当該技術において知られている任意の材料から作製することができる。例えば、下地層はＣｒまたはＣｒを主とする合金の非磁性金属材料から作製することができ、磁性記録層はＣｏおよびＣｒを主とする合金磁性材料から作製することができる。また、保護層は炭素（特にダイヤモンド様炭素）などから作製することができ、軟磁性裏打ち層は、非晶質Ｃｏ合金、ＮｉＦｅ合金、あるいはセンダスト（ＦｅＳｉＡｌ）合金などを用いて作製することができる。中間層として、ＴｉまたはＴｉＣｒ合金などの材料を用いても良い。
【００３４】
潤滑層を除く上記の各層は、スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法などの従来知られている方法によって磁気ディスク基板上に積層することができる。特に、スパッタ法を用いることが好ましい。また、潤滑層は、ディップコート、スピンコ一ト、吹き付けなどの方法により作製することができる。
【００３５】
高耐熱性熱可塑性樹脂を用い、金型キャビティ雰囲気中の酸素量を５％以下、好ましくは２％以下にまで低減させることによって、スタンパ表面付着物が低減でき、スタンパの長寿命化を図ることができることを見出した。
【００３６】
また、その際に使用する不活性ガスは除電（イオン化）され、かつ０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３あたり５０個以下であると、成形後に基板に付着するパーティクルを低減でき、基板欠陥を低減できることを見出した。
【００３７】
この条件を満たす射出成形により、１０，０００ｓｈｏｔ後の基板を成形しても、ヘッド高さが２５ｎｍのＧｌｉｄｅ　Ｈｅｉｇｈｔ試験において、エラー箇所が１面あたり５個以下の基板の作製が可能となった。
【００３８】
以下に、本発明を適用した具体的な実施例について図面を参照しながら詳細に説明する。
（実施例１）
市販されている最大射出成形圧力７０ｔの射出成形装置に、表面がＮｉメッキしたスタンパを固定した金型を装着した。樹脂としてノルボルネン系ポリオレフィン樹脂（Ｔｇ＝１３８℃）を用いて、樹脂温度３２０℃、射出速度１２０ｍｍ／秒、型締め圧力１２０ｋｇ／ｃｍ２（約１１．８Ｍｐａ）、金型温度（固定側／可動側）＝１１０℃／１１０℃、ゲートカットのタイミングが樹脂充填終了後より０．２秒という成形条件にて射出成形を行った。この際、金型はＳＵＳの板で囲い込み、その環境にＮ２を注入することで、金型雰囲気の酸素濃度は０．５％にして成形を行った。
【００３９】
その後、１ｈｒ以内に、大気雰囲気下で、基板を縦置きに保持した状態にて、１０ｈｒにわたって９０℃のアニールを行い、直径９５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの寸法を有する円盤状の磁気ディスク基板を得た。その基板上にＤＣスパッタ法により下地層５０ｎｍ（５００Å）、ＣｏＣｒＴａ磁性層（Ｃｏ：Ｃｒ：Ｔａ＝８２：１４：４）を３０ｎｍ（３００Å）、カーボン保護層を８ｎｍ（８０Å）と順次成膜し、さらにスパッタ後の表面にテープバニッシュを行い、フッ素系潤滑剤（アウジモント製ＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ−ＤＯＬ）をスピンコート法で２ｎｍ（２０Å）形成し、磁気記録媒体を得た。
【００４０】
（実施例２）
金型雰囲気の酸素濃度を２％にして成形を行った以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を得た。
【００４１】
（実施例３）
金型を大気雰囲気中に保持し、樹脂充填直前に、キャビティ中へＮ２ガスを０．３ＭＰａで１秒間導入した。このガスは、金型部品のすき間からブローした。このガスは、０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３当り３０個であり、かつイオン化している。それ以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を得た。
【００４２】
（比較例１）
金型雰囲気の酸素濃度を１０％にして成形を行った以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を得た。
【００４３】
（比較例２）
大気中で成形（酸素濃度約２１％）を行った以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を得た。
【００４４】
（比較例３）
基板キャビティへ導入したＮ２ガスが、０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３当り１５０個含んでいる以外は、実施例３と同様にして磁気記録媒体を得た。
【００４５】
（比較例４）
基板キャビティへ導入したＮ２ガスが、０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３当り１，０００個含んでいる以外は、実施例３と同様にして磁気記録媒体を得た。
【００４６】
（比較例５）
基板キャビティへ導入したＮ２ガスを、イオン化していない以外は、実施例３と同様にして磁気記録媒体を得た。
【００４７】
−評価方法−
基板の表面粗さ（Ｒａ）は、１０，０００枚の成形を行った後の基板を、Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製原子間力顕微鏡（ＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩＩａ　型式：Ｄ３１００ａ）を用いて、基板のＲ＝２０およびＲ＝４０における０°、９０°、１８０°、２７０°の合計８ポイントを測定し、その平均値を採用した。
【００４８】
また、ＧＨエラー個数の評価は、ヘッドの浮上高さ２５ｎｍに設定し、測定範囲を半径２０〜４５ｍｍ、ＰＩＴＣＨ：５０μｍの条件で、ソニー・テクトロニクス製のハードディスク・メディアテスト・システム（ＤＳ３４００−２型）を用いて行った。媒体１面あたりのエラー個数は、５個以下であることが好ましい。
【００４９】
−実験結果−
金型雰囲気中の酸素濃度と１０，０００ｓｈｏｔ後の成形基板の表面粗さの関係を図３に示す。
【００５０】
酸素濃度を低減させることで、基板表面粗さは大きく低減することが分かった。この結果は、スタンパ周囲に存在する酸素量を低減させることによって、樹脂およびその添加剤の酸化分解物成分のスタンパ表面への付着を、ほぼ完全に防止することが可能であることを示している。
【００５１】
初期のスタンパ表面粗さは、０．２ｎｍにしていることから、基板表面粗さは、酸素濃度が２％以下では、初期状態のままほとんど増大しなかった。また、図３のグラフを内挿することにより、酸素濃度が５％以下であれば、１０，０００ｓｈｏｔの成形後においても、基板表面粗さは前述した要求水準である１ｎｍ以下になると推定される。したがって、金型キャビティ雰囲気中の酸素量は、５％以下、好ましくは２％以下に低減させることが好ましい。ただし、前述のように金型雰囲気全体の酸素濃度を低減することは、プロセスが複雑となるため、実際のプロセスとしては使用しづらい。そこで、樹脂を充填する直前に、金型キャビティ内に不活性ガスを導入し、樹脂がスタンパに触れる際の雰囲気の脱酸素化を検討した。
【００５２】
表１に示す通り、樹脂の充填直前に不活性ガスを導入することで、実施例１のような金型の雰囲気全体を脱酸素化するのと同様な効果を得られることが分かった。また、このガスの導入方式は、今までの装置構成のままで行うことができることから、低コストにスタンパ寿命の増大を図ることができる。
【００５３】
この時に用いる不活性ガスは、酸素を含まず、かつスタンパ表面材料と反応するようなものでなければよく、窒素以外にも、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン、二酸化炭素を用いても同様な効果が得られることを確認した。したがって、これらの群の中から選ばれた少なくとも一種類のガスを含有することが好ましい。
【００５４】
【表１】
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【００５５】
次に、その導入ガスに関するその他の必要事項について考察する。
図４に、不活性ガス中の０．５μｍ以下のパーティクル個数と１０，０００ｓｈｏｔ後の成形基板のＧＨエラー数をプロットした結果を示す。この結果からは、ガス中のパーティクル数が多いと、基板へ多量のパーティクルが付着し、それが基板欠陥となり、ＧＨエラーが多数発生してしまうことが分かる。したがって、ガス中の０．５μｍ以下のパーティクル個数は、１ｍ３当り５０個以下に低減させることが好ましい。
【００５６】
図５には、ガスをイオン化したものとそうでないものを用いた際の１０，０００ｓｈｏｔ後における媒体の比較結果を示す。この結果から、イオン化ブローを用いた方が、ＧＨエラーが低減することが分かる。これは、イオン化されたガスを使用する方が、基板へのパーティクル付着を低減できることを示している。
【００５７】
本発明の成形条件である金型キャビティ雰囲気中の酸素量を５％以下、好ましくは２％以下に低減させることによって、成形によって発生するスタンパ表面付着物を低減でき、一つのスタンパで成形できる枚数を大幅に増加させることが可能となる。
【００５８】
また、それを成形プロセスに安価に導入する手法として、離型時に用いる不活性ガスを流用することができるが、そのガスをイオン化し、０．５μｍ以下のパーティクルを１ｍ３あたり５０個以下にすることにより、ヘッド浮上高さ２５ｎｍのグライドハイト試験において、面あたり５個以下のＧＨエラーであるプラスチック磁気ディスク基板を得ることができる。
【００５９】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の情報記録媒体用基板の製造方法によれば、高耐熱性熱可塑性樹脂を用い、金型キャビティ雰囲気中の酸素濃度を５％以下、好ましくは２％以下にまで低減させることによって、樹脂およびその添加剤の酸化分解物成分のスタンパ表面への付着を、ほぼ完全に防止することが可能となり、スタンパの長寿命化を図ることができる。
【００６０】
なお、不活性ガスはイオン化され、かつ０．５μｍ以下のパーティクルが１ｍ３当り５０個以下であるものを使用することができる。
【００６１】
これらの方法によって磁気ディスク基板を作製すると、樹脂およびその添加剤の酸化分解の発生頻度が大幅に低減することでスタンパ付着物が少なくなり、スタンパの寿命が増大する。
【００６２】
さらに、ヘッド高さが２５ｎｍのＧｌｉｄｅ　Ｈｅｉｇｈｔ試験において、エラー箇所を１面あたり１０個以下にすることが可能となる。したがって、本発明によって作製された磁気ディスク基板を有する磁気記録媒体は、ヘッド浮上特性に優れたものとなる。
【００６３】
これにより、ヘッドの浮上特性に優れた情報記録基板を大量かつ安価に生産することが可能となり、ひいてはこのような情報記録基板を用いた情報記録媒体を大量かつ安価に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に用いることができる射出成形装置の一例を示す模式的断面図である。
【図２】本発明に用いることができる金型の概要を示す模式的断面図である。
【図３】金型雰囲気の酸素濃度と１０，０００ｓｈｏｔ後の成形基板の表面粗さとの関係を示す図である。
【図４】ガス中の０．５μｍ以下のパーティクル個数と１０，０００ｓｈｏｔ後の成形基板のＧＨエラー数との関係を示す図である。
【図５】イオン化した不活性ガスと通常の不活性ガスについて、１０，０００ｓｈｏｔ後の成形基板のＧＨエラー数を示す図である。
【符号の説明】
１１　　可動スクリュー
１２　　スクリュー駆動手段
１３　　加熱シリンダ
１４　　加熱手段
１５　　ホッパ
１６　　射出口
１７　　固定部
１８　　可動部
１９　　駆動手段
２１　　スプール
２２　　基板キャビティ
２４　　ゲートカット手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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