(57)【要約】【課題】均一な膜厚の有機層を形成することができる有機電子材料の塗布装置を提供する。【解決手段】基板１を固定する基板ステージ部２と、その基板ステージ部２に固定された基板２に向けて有機電子材料を吐出する吐出部３と、それら基板ステージ部２および吐出部３のいずれか一方または両方をスライド移動させるモーター部とを備えた塗布装置であって、前記モーター部が、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されて配置される複数の磁石を有するリニアサーボモーター４であることにより、前記課題を解決した。【選択図】        図１
2004335492.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を固定する基板ステージ部と、その基板ステージ部に固定された基板に向けて有機電子材料を吐出する吐出部と、それら基板ステージ部及び吐出部のいずれか一方又は両方をスライド移動させるモーター部とを備えた塗布装置であって、
前記モーター部が、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されて配置される複数の磁石を有するリニアサーボモーターであることを特徴とする有機電子材料の塗布装置。
【請求項２】
前記有機電子材料は、有機エレクトロルミネッセンス材料、有機薄膜トランジスタ材料、太陽電池材料等の有機半導体材料である請求項１に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項３】
前記複数の磁石は、ステータ部に配設されている請求項１又は請求項２に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項４】
前記複数の磁石は、それぞれ筒状に形成され、これら筒状の磁石の開口部に非磁性材製のセンター軸が挿入されている請求項１乃至３のいずれか１項に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項５】
前記複数の磁石の外周部に、これら磁石を囲繞する非磁性材製の筒状体を配設した請求項４に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項６】
前記磁石はリング状に形成され、前記筒状体は、前記リング状の磁石の外周部に密接する内径の円筒形のパイプである請求項５に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項７】
前記センター軸又は前記パイプの他方の端部には、前記配置される複数の磁石の他方の端部の磁石が当接して該磁石の隣接する磁石とは反対方向への移動を防止する当接部材が取り付けられ、前記センター軸又は前記パイプの一方の端部には、前記一方の端部の磁石を隣接する磁石方向に沿って押圧する磁石押圧部材が着脱自在に取り付けられている請求項４乃至６のいずれか１項に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項８】
前記磁石は、希土類又はフェライト系磁石材料からなる永久磁石である請求項１乃至７のいずれか１項に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項９】
前記吐出部は、インクジェットヘッド、ディスペンスノズル、ダイヘッド又はナイフブレードを有する請求項１乃至８のいずれか１項に記載の有機電子材料の塗布装置。
【請求項１０】
基板上に、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の塗布装置を用いて有機電子材料を塗布して有機層を形成し、有機電子素子を製造することを特徴とする有機電子素子の製造方法。
【請求項１１】
前記有機電子素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ、太陽電池等の有機半導体素子である請求項１０に記載の有機電子素子の製造方法。
【請求項１２】
前記有機層の膜厚誤差は、２％以下である請求項１０又は請求項１１に記載の有機電子素子の製造方法。
【請求項１３】
前記有機層の膜厚は、１０ｎｍ〜１０００ｎｍである請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載の有機電子素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板の表面に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）材料、有機薄膜トランジスタ材料、太陽電池材料等の有機半導体材料に代表される有機電子材料を塗布するための有機電子材料の塗布装置およびそれを使用した有機半導体素子の製造方法に関し、さらに詳しくは、均一な膜厚の有機層が得られる有機電子材料の塗布装置およびそれを使用した有機電子素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大きな占有面積と大きな重量を有するＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ  ブラウン管）ディスプレイに代わるディスプレイとして、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ））が開発・実用化されている。ＦＰＤとしては、各種携帯型電子機器やノート型パソコンや小型テレビのディスプレイとして液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が一般に広く普及しているとともに、ＬＣＤ以外のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ））等も開発・実用化されている。
【０００３】
ＦＰＤの一つとしてＥＬディスプレイがあり、このＥＬディスプレイは、比較的古くから開発が進められているが、フルカラー化や輝度や寿命などの点に課題があり、未だあまり普及していないのが現状である。
【０００４】
また、ＥＬディスプレイとなる有機ＥＬ素子のＥＬ層（有機層）である発光層としては、従来、無機化合物薄膜が用いられていたが、無機化合物薄膜を用いたＥＬ素子は、駆動電圧が高いとともに発光効率が低く、低輝度の表示しかできなかった。近年、ＥＬ素子の発光層として、駆動電圧が低く、かつ、発光効率が高い有機化合物薄膜を用いたものが使われるようになった。また、有機化合物薄膜を用いた有機ＥＬ素子（有機電界発光素子）は、寿命の点で問題があったが、長寿命化が可能な有機発光層用の材料の開発が進められ、ＬＣＤに対抗可能なレベルでの実用化も可能となった。
【０００５】
このような発光層、及びそれに隣接して必要に応じて形成されるキャリア輸送層、キャリア注入層等からなるＥＬ層は、真空蒸着法により形成されていた。しかしながら、真空蒸着を行うために用いられる有機化合物は低分子量のものに限られ、低分子有機化合物を用いた有機ＥＬ素子においては、経時的に有機層の結晶化や凝集が起こり素子が劣化し素子寿命に多大な影響を与えるといった問題があった。このため、高分子有機化合物（有機ＥＬ材料）を前記発光層等に用いた有機ＥＬ素子が提案され、今までに、不活性なポリマーバインダー中にキャリア輸送性低分子有機化合物や発光性化合物を分散させたもの、キャリア輸送性低分子有機化合物にビニル基を導入し重合することで高分子化を行うものなどが提案されている。
【０００６】
前記ＥＬ層を有機ＥＬ材料で形成する手段としては、溶媒を用いる湿式法が用いられている。このような湿式法としては、スピンコート法が一般に用いられている。しかし、スピンコート法では溶液の利用効率が低いといった問題があり、また大面積塗布に不向きであるといった問題があった。特に、ＥＬ層を湿式法を用いて製造する場合は、ＥＬ層である有機層の乾燥後の膜厚が通常１０ｎｍから２００ｎｍ程度であることから、塗工液の濃度を非常に小さくし、結果として低粘度の塗工液を用いることが必要となる。したがって、塗膜が濡れている状態での流動性が大きく膜厚むらが生じやすい。また、膜厚が非常に薄いため小さな膜厚むらが大きな膜厚誤差となるため、発光むらを引き起こす可能性が高い。このような課題があるため、スピンコート法を用いた場合は、滴下した塗工液の滴下跡ですら、それがそのまま発光むらとなって現れやすいといった問題があった。また、スピンコート法単独で１５０ｍｍ×１５０ｍｍ以上の基板に均一な膜を形成することは非常に困難であった。
【０００７】
スピンコート法以外の湿式の塗布方法としては、ダイコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、ビードコート法といった塗布方法が知られており、このなかでもダイコート法を用いて塗布を行うことが知られている（例えば特許文献１、特許文献２等）。
【０００８】
このダイコート法を用いた塗布装置は、基板上に配置したダイを所定の方向に基板の表面に沿ってスライドさせながら、ダイの噴出口から塗布液を基板表面に噴出させて、有機層を形成するものである。
【０００９】
この塗布装置において、ダイの噴出口から噴出させる塗布液の噴出量を同じにすることにより、均一な膜厚の有機層を形成することができることになる。
【００１０】
また、ダイコート法を用いた塗布装置としては、基板を移動させて塗布を行う塗布装置も知られている（例えば特許文献３等）。
【００１１】
この塗布装置は、図９に示すように、ガラス板１００を供給する供給手段としてのガラス板供給部１０１と、このガラス板１００をエアで浮上させる基板浮上手段とてのエア吹出し孔付精密テーブル１０２と、このガラス板１００を所定の塗布速度で移動させる基板移動手段としてのガラス板送り精密リニアモータ１０３が付いたガラス板押出しブロック１０４と、ガラス板１００へ塗液を塗布する塗布手段としてのヘッド上下シリンダー１０５付ダイヘッド１０６と、このダイヘッド１０６に塗液を供給する塗液供給手段としての塗液供給用ポンプ１０７と塗液タンク１０８と、塗布されたガラス板１００を排出する基板排出手段としてのガラス板排出部１０９とを具備しているものである。
【００１２】
【特許文献１】
特開２００３−１０７５５（図１）
【特許文献２】
特開２００２−１５３７９５（図１）
【特許文献３】
特開２００２−３４６４６３（図１）
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述の塗布装置は、ダイ又は基板をスライド移動させて有機層を形成する場合、ダイ又は基板の移動速度が一定であれば均一な膜厚の有機層を形成することができるが、スライドさせるスライド手段の主たる構成要素であるモータによっては、ダイを一定の速度でスライド移動できないこともある。このようにダイ又は基板の等速性が悪い（不等速性になる）と、基板表面上には塗布液がむらになって塗布されて、不均一な膜厚の有機層が形成されることになる。特にＥＬ層は、膜厚が非常に薄いため小さな膜厚むらが大きな膜厚誤差となり、発光むらを引き起こす原因にもなりかねない。また、塗布のスループットをあげるためには、ダイのスライド移動を高速化する必要があり、速度が上がれば上がるほど、不等速性の影響が大きくなると思われる。また、塗布する範囲が広くなればなるほど、不等速性の影響が大きくなると思われる。
【００１４】
本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、均一な膜厚の有機層を形成することができる有機電子材料の塗布装置およびそれを使用した有機半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明の有機電子材料の塗布装置は、基板を固定する基板ステージ部と、その基板ステージ部に固定された基板に向けて有機電子材料を吐出する吐出部と、それら基板ステージ部及び吐出部のいずれか一方又は両方をスライド移動させるモーター部とを備えた塗布装置であって、前記モーター部が、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されて配置される複数の磁石を有するリニアサーボモーターであるものである。
【００１６】
この発明によれば、モーター部が、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されているリニアサーボモーターであるため、複数の磁石の間に隙間がないので、等速性よく移動させることができる。このため、基板ステージ部及び吐出部が一定の速度でスライド移動するので、この移動と共に基板に向けて有機電子材料を吐出することで、基板上には、均一な膜厚の有機層が形成されることになる。
【００１７】
前記有機電子材料は、有機エレクトロルミネッセンス材料、有機薄膜トランジスタ材料、太陽電池材料等の有機半導体材料であることが好ましい。
【００１８】
前記複数の磁石は、ステータ部に配設されていることが好ましい。これにより、基板ステージ部及び吐出部のスライド移動を確実に等速性よく行える。
【００１９】
前記複数の磁石は、それぞれ筒状に形成され、これら筒状の磁石の開口部に非磁性材製のセンター軸が挿入されていることが好ましい。これにより、センター軸の外周に複数の磁石を順次配置すれば、複数の磁石の配置を行えるので、組み付け作業性が向上する。
【００２０】
前記複数の磁石の外周部に、これら磁石を囲繞する非磁性材製の筒状体を配設することが好ましい。これにより、センター軸と筒状体との間に複数の磁石を挿入すればよいので、一層組み付け作業性が向上する。
【００２１】
前記磁石はリング状に形成され、前記筒状体は、前記リング状の磁石の外周部に密接する内径の円筒形のパイプであることが好ましい。これにより、複数の磁石の軸方向のズレを防止することができるため、基板ステージ部及び吐出部がより一定の速度でスライド移動するので、より均一な膜厚の有機層を形成することができる。
【００２２】
前記センター軸又は前記パイプの他方の端部には、前記配置される複数の磁石の他方の端部の磁石が当接して該磁石の隣接する磁石とは反対方向への移動を防止する当接部材が取り付けられ、前記センター軸又は前記パイプの一方の端部には、前記一方の端部の磁石を隣接する磁石方向に沿って押圧する磁石押圧部材が着脱自在に取り付けられていることが好ましい。これにより、簡単な構造で製造することができる。
【００２３】
前記磁石は、希土類又はフェライト系磁石材料からなる永久磁石であることが好ましい。
【００２４】
前記吐出部が、インクジェットヘッド、ディスペンスノズル、ダイヘッド又はナイフブレードを有することが好ましい。
【００２５】
また、本発明の有機電子素子の製造方法は、基板上に、前記有機電子材料の塗布装置を用いて有機電子材料を塗布して有機層を形成し、有機電子素子を製造するものである。これにより、基板上には均一な膜厚の有機層が形成されるので、良好な特性を示す有機電子素子を製造することができる。
【００２６】
前記有機電子素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ、太陽電池等の有機半導体素子であることが好ましい。
【００２７】
前記有機層の膜厚誤差は、２％以下であることが好ましい。
【００２８】
前記有機層の膜厚は、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の有機電子材料の塗布装置及びについて図面を参照しつつ説明する。
【００３０】
図１は本発明の有機電子材料の塗布装置の一例を示す概略構成図である。
【００３１】
本発明の有機電子材料の塗布装置は、図１に示すように、基板１を固定する基板ステージ部２２と、その基板ステージ部２に固定された基板１に向けて有機電子材料を吐出する吐出部３と、それら基板ステージ部２及び吐出部３のいずれか一方又は両方をスライド移動させるモーター部４とを備え、基板１に有機電子材料を塗布して有機層を形成し、有機電子素子を製造するのに適している。
【００３２】
本発明における有機電子材料としては、一般的に知られている有機電子素子に用いられる有機材料であれば特に限定されず、例えば、有機ＥＬ材料、有機薄膜トランジスタ材料、太陽電池材料等の有機半導体材料等が挙げられる。本実施の形態では、有機半導体材料として有機ＥＬ材料を用いる場合について詳細に説明する。つまり、本発明の有機電子材料の塗布装置は、例えば、図６に示すように、基板１に有機ＥＬ材料を塗布して、有機ＥＬ素子５のＥＬ層６を成膜することができる。
【００３３】
有機ＥＬ素子５は、一般的に知られている構造のもので、基板１上に、第１電極層７、ＥＬ層６、第２電極層８を順次積層してなるものである。なお、基板１が第１電極層７を兼ねる場合には、基板１上にＥＬ層６が積層され、このＥＬ層６上に第２電極層８を兼ねる他の基板が積層される。
【００３４】
本発明に用いられる基板１は、有機ＥＬ素子５の基板１として一般的に用いられるもの、つまり、有機ＥＬ素子５を強度的に支持するものであれば特に限定されるものではなく、電極層７として必要な強度を有していれば第１電極層７を兼ねたものであってもよい。
【００３５】
基板１の材質としては、用途に応じて、例えばフレキシブルな材質であっても、硬質な材質であってもよい。具体的に用いることができる材料としては、例えば、ガラス、石英、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート等を挙げることができる。これらの基板１の材質は、ＥＬ層６の発光層で発光された光が基板１側を透過して取り出される場合は、例えばガラス等の透明な材質である必要があるが、基板１と反対側に取り出される場合は、透明な材質に限定されるものではない。また、基板１の形状としては、枚葉状でも連続状でもよく、具体的な形状としては、例えば、カード状、フィルム状、ディスク状、チップ状等を挙げることができる。
【００３６】
本発明における第１電極層７及び第２電極層８は、例えば真空スパッタリング、真空蒸着といった方法や、塗工液を塗布することにより形成する方法等により薄膜状に形成され、その製造方法は特に限定されるものではないが、本発明の塗布装置１０を用いて塗布することにより形成してもよい。
【００３７】
第１電極層７及び第２電極層８は、基板１と同様に、発光層から発光された光の取り出し方向により、どちらの電極層７，８に透明性が要求されるか否かが異なり、基板１側から光を取り出す場合は、第１電極層７は透明な材料で形成する必要があり、また基板１と反対側から取り出す場合には第１電極層７は透明である必要はない。さらに、第１電極層７及び第２電極層８は、どちらが陽極であっても陰極であってもよいが、通常は第１電極層７が陽極として形成される。
【００３８】
陽極として形成される場合の電極層７の材料としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、金のような仕事関数の大きな金属、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリシラン誘導体のような導電性高分子等を挙げることができる。
【００３９】
一方、陰極として形成される場合の電極層８の材料としては、ＭｇＡｇ等のマグネシウム合金、ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等のアルミニウム合金、Ｌｉ、Ｃａをはじめとするアルカリ金属類、それらアルカリ金属類の合金のような仕事関数の小さな金属等を挙げることができる。
【００４０】
第１電極層７及び第２電極層８の膜厚は、使用する材料等によってことなるが、例えば、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００４１】
本発明におけるＥＬ層６は、発光層からなる１層もしくは発光層を含む２層以上の有機層から形成されるものである。すなわち、ＥＬ層６は、少なくとも発光層を含む有機層であり、その層構成が有機層１層以上の層をいう。
【００４２】
ＥＬ層６を構成する有機層は、本発明の塗布装置により薄膜状に形成されており、溶媒との関係で多数の層を積層することが困難であることから、１層もしくは２層の有機層でＥＬ層６が形成される場合が多いが、有機材料を工夫したりすることにより、ＥＬ層６は３層以上の多数層とすることも可能である。
【００４３】
発光層以外のＥＬ層６内に形成されるその他の有機層としては、正孔注入層や電子注入層といったキャリア注入層を挙げることができる。さらに、その他の有機層としては、正孔輸送層、電子輸送層といったキャリア輸送層を挙げることができるが、通常これらは前記キャリア注入層にキャリア輸送の機能を付与することにより、キャリア注入層と一体化されて形成される場合が多い。その他の有機層としては、正孔ブロック層、電子ブロック層等のキャリアのつきぬけを防止し、効率よくキャリアの再結合させるための有機層等を挙げることができる。
【００４４】
各有機層の膜厚は、有機ＥＬ素子の種類、有機層を構成する材料の種類等に応じて適切な膜厚に設定するようにすることが好ましい。膜厚が厚すぎると、一定の光出力を得るために大きな印加電圧が必要になり、効率が悪くなる。一方、膜厚が薄すぎると、ピンホール等が発生して、電界を印加しても十分な発光輝度が得られない。これらの観点から、各有機層の膜厚は、例えば５ｎｍ〜１０μｍ程度の範囲から任意に選択することが好ましい。
【００４５】
本発明におけるＥＬ層６を形成する有機ＥＬ材料、例えばＥＬ層６に必須である発光層６（有機層）に用いられる発光材料としては、ＥＬ層６の発光層として一般的に用いられている材料であれば特に限定されず、例えば、色素系発光材料、金属錯体系発光材料、高分子系発光材料等を挙げることができる。
【００４６】
色素系発光材料としては、例えば、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００４７】
金属錯体系発光材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、又はＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【００４８】
高分子系発光材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレノン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、及びそれらの共重合体等を挙げることができる。
【００４９】
発光層中には、発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピング剤等の添加剤を添加するようにしてもよい。ドーピング剤としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン、キノキサリン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体等を挙げることができる。
【００５０】
また、正孔注入層の形成材料（有機ＥＬ材料）としては、例えば、発光層の発光材料に例示した化合物の他、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウムなどの酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェンなどの誘導体等を挙げることができる。
【００５１】
また、電子注入層の形成材料（有機ＥＬ材料）としては、発光層の発光材料に例示した化合物の他、アルミニウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、カルシウム、ポリメチルメタクリレートポリスチレンスルホン酸ナトリウム、リチウム、セシウム、フッ化セシウム等のようにアルカリ金属類、及びアルカリ金属類のハロゲン化物、アルカリ金属の有機錯体等を挙げることができる。
【００５２】
オリゴマー材料、デンドリマー材料の発光材料、電荷輸送注入材料も有機層に含有させるようにしてもよい。
【００５３】
これら各有機層を形成する材料（有機ＥＬ材料）を、トルエン、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒に溶解又は分散させ、この材料（有機ＥＬ材料（溶媒を含んだ有機ＥＬ材料であるが、便宜上以下、「有機ＥＬ材料｝と省略する。）を本発明の有機電子材料の塗布装置１０を用いて基板１上に塗布して薄膜状に形成する。
【００５４】
本発明の有機電子材料の塗布装置１０は、図１及び図２に示すように、基板ステージ部２と吐出部３とモーター部４とを備えてなり、本発明の特徴とするところは、モーター部が、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されている複数の磁石を有するリニアサーボモーター４であるところである。
【００５５】
塗布装置１０は、リニアサーボモーター４によって基板ステージ部２及び吐出部３のいずれか一方又は両方をスライド移動させながら、基板１に有機ＥＬ材料を吐出させて塗布するものである。このようにスライド移動形態は、▲１▼基板ステージ部２及び吐出部３の両方、▲２▼基板ステージ部２、▲３▼吐出部３の３つの形態があるが、スライド移動する際のスライド機構はほぼ同じであることから、本実施の形態では、基板ステージ部２のみをスライド移動させる場合について説明する。
【００５６】
塗布装置１０の架台１１は、上面が水平面となるように脚部１２を介して設置されるものである。この架台１１上に、基板ステージ部２、吐出部３、及びリニアサーボモーター４が設けられている。
【００５７】
架台１１上には、垂直方向に沿って延在する支柱１３が固定され、この支柱１３の先端部近傍に吐出部３が移動機構１４を介して、基板ステージ部２（基板）１がスライド移動する移動路１５の上方に配設されている。
【００５８】
移動機構１４は、吐出部３を上下方向（高さ方向（架台１１の上面にほぼ直交する方向））に沿って移動させる上下移動部１６と、吐出部３を左右方向（上下方向及び基板ステージ部２のスライド方向とそれぞれ直交する方向）に沿って移動させる左右移動部１７とからなる。この移動機構１４により、吐出部３の位置（有機ＥＬ材料を吐出する位置）が任意の位置に調節することができるようになっている。
【００５９】
吐出部３には、有機ＥＬ材料を吐出するノズル１８が設けられている。ノズル１８は、塗布装置１０として使用されているものであれば特に限定されず、好ましくは、インクジェットヘッド、ディスペンスノズル、ダイヘッド又はナイフブレード等が用いられる。
【００６０】
吐出部３には、ノズル１８から吐出させる有機ＥＬ材料を供給する材料供給装置（図示せず）が接続されている。材料供給装置としては、加圧供給装置やギヤポンプ、ダイヤフラムポンプ、プランジャーポンプ等のポンプ等が用いられる。この材料供給装置を用いて有機ＥＬ材料を塗布するときには、材料供給装置が供給量を調節することができるものであれば、供給量を調節して所定の一定量の有機ＥＬ材料がノズル１８から基板１上に吐出させるようにしてもよいし、また、材料供給装置の下流側に電磁弁、パイロットバルブ等の流量調節バルブ（図示せず）を介設して所定の一定量の有機ＥＬ材料がノズル１８から基板１上に吐出させるようにしてもよい。
【００６１】
その基板１は、基板ステージ部２のテーブル２０上に着脱自在に載置されて固定される。テーブル２０の基板１を固定する手段は、基板１の一方の表面に有機ＥＬ材料を吐出させて塗布することができるならばどのように構成してもよい。テーブル２０は、リニアサーボモーター４の可動部２１に取り付けられている。
【００６２】
リニアサーボモーター４は、架台１１上に固定されたステータ部２２と、そのステータ部２２に沿って往復スライド移動する可動部２１とからなる。
【００６３】
ステータ部２２は、可動部２１をスライド移動させるべく案内するガイトとなる円筒状のスライド部２３と、そのスライド部２３に両端部が取り付けられると共に、架台１１上に固定されるブラケット２４，２５とからなる。ブラケット２４，２５は、それぞれ架台１１上の任意の箇所例えば対向する側部近傍に例えばボルト等のネジ部材等により着脱自在に固定されて、スライド部２３を架台１１の上面の上方の所定の位置に架設するものである。
【００６４】
ブラケット２４，２５の互いに対向する壁部に、スライド部２３の端部がそれぞれ着脱自在に取り付けられている。スライド部２３のブラケット２４，２５への取付は、可動部２１のスライド移動等によってスライド部２３がずれることがなければどのように構成してもよく、例えば、ネジ機構により行うようにしてもよいし、係合手段により行うようにしてもよい。ブラケット２４，２５は、ブラケット２４，２５を先に架台１１に固定してからスライド部２３をブラケット２４，２５に取り付けるようにしてもよいが、好ましくはスライド部２３をブラケット２４，２５に取り付けてからブラケット２４，２５をスライド部２３と共に架台１上に固定するようにしてもよい。
【００６５】
また、架台１１の上面であって、基板ステージ部２がスライド移動する移動方向に沿って延材する測部近傍には、図２に示すように、基板ステージ部２のテーブル２０のスライド移動をガイドするガイド部２６を支持するガイド支持部２７をそれぞれ設けるようにしてもよい。
【００６６】
また、架台１１上には、基板１（基板ステージ部２）の位置を検出する検出手段としてのエンコーダー２８を設けるようにしてもよい。なお、図２中、符号２９は、可動部２１に接続されるケーブル等を保護するケーブルベアを示す。
【００６７】
可動部２１は、図１及び図２に示すように、矩形箱状に形成されて、この可動部２１には、その長手方向に沿って、かつ可動部２１のほぼ中央部を貫通する貫通部３０が設けられている。貫通部３０の径は、スライド部２３の外径より若干大きな寸法に形成されており、この貫通部３０にスライド部２３が挿入された状態で可動部２１がステータ部２３にスライド移動可能に支持されている。この可動部２１がスライド移動する移動路１５の一部の上方に、前述したように吐出部３（ノズル１８）が位置調節可能に配置されている。
【００６８】
可動部２１の上面となる面にテーブル２０が着脱自在に取り付けられている。具体的には、テーブル２０は、テーブル２０上に固定された基板１の塗布面が水平面（例えば架台１１の上面）とほぼ平行になるように可動部２１に取り付けられている。
【００６９】
これらステータ部２２及び可動部２１のどちらか一方、例えばステータ部２２には、図３及び図４に示すように、隣接する永久磁石（磁石）３１の極性（Ｎ極、Ｓ極）が交互に異なるように配置された複数の永久磁石３１が設けられている。また、他方、例えば可動部２１には複数のコイル３２が設けられて、これらコイル３２に適当な周波数と位相を有する電流を流すことにより、移動磁界３３が作り出されて、この磁界３３の移動に追従して可動部２１がスライド移動するようになっている。なお、ステータ部に複数のコイル３２を設けると共に、可動部に複数の永久磁石３１を設けて、可動部をスライド移動させるようにしてもよいことは言うまでもない。
【００７０】
コイル３２は、例えば可動部２１内の貫通部３０の外周に配置されている。コイル３２は３系列にグループ化されて、Ｕ、Ｖ、Ｗの順に並ぶように繰り返し配置されて、例えば、図５に示すように、Ｕ、Ｖ、Ｗの各相に接続されて、これらそれぞれ対応する相の電流が供給されることで、Ｕ、Ｖ、Ｗのコイル３２それぞれに流れる電流によって発生する磁界３３は電流の位相により変化し、図４に示すように、全体としてコイル３２の列上を一方向に移動する移動磁界３３が作り出される。
【００７１】
ステータ部２２のスライド部２３には、図３及び図４に示すように、隣接する永久磁石３１の極性が交互に異なると共に一方の端部の永久磁石３１が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する永久磁石３１が密着されて配置される複数の永久磁石３１が設けられている。
【００７２】
スライド部２３は、例えば、同一の筒状に形成された複数の永久磁石３１と、それら永久磁石３１が収容される非磁性材の筒状体３４と、永久磁石３１の開口部３５に挿入された状態で使用される非磁性材のセンター軸３６と、そのセンター軸３６の一端部側に設けられる固当接部材３７と、センター軸３６の他端部側に設けられる磁石押圧部材３８とからなる。
【００７３】
永久磁石３１は、例えば円形、多角形状等の筒状、好ましくは円筒状（リング状）に形成されている。永久磁石３１の材料としては、リニアサーボモーター４に使用されるものであればどのようなものでもよく、例えば、磁束密度の大きい希土類又はフェライト系材料等が好ましい。
【００７４】
筒状体３４は、永久磁石３１の形状に応じて形成されるが、例えば永久磁石３１がリング状に形成されている場合には、円筒形のパイプ３４により形成される。
【００７５】
この場合のパイプ３４の内径は、パイプ３４に永久磁石３１を収容したとき、永久磁石３１の外周がパイプ３４の内周と密接するか密接しないまでもほぼ接する状態になる寸法に形成することが好ましい。
【００７６】
パイプ３４の厚さは、その外側に可動部２１が配置されるので、磁界３３を減少させないようにできるだけ薄い方が好ましく、例えば１ｍｍ程度である。
【００７７】
パイプ３４の長さは、所定の個数の永久磁石３１をその軸方向に沿って直列に収容し得る寸法から任意に選択される。
が用いられる。
【００７８】
センター軸３６は、永久磁石３１の開口部３５に挿入されるものであり、永久磁石３１の開口部３５の形状に応じて形成されるが、例えば、断面円状の棒や図示するように円筒状の円筒体に形成されている。
【００７９】
この場合のセンター軸３６の外径は、パイプ３４の内径が前述のような寸法に形成されている場合には特に限定されることはないが、好ましくは、センター軸３６を永久磁石３１の開口部３５に挿入したとき、センター軸３６の外周が永久磁石３１の開口部３５の内壁と接するか、接しないまでも近接する状態になる寸法に形成することが好ましい。
【００８０】
センター軸３６の長さは、後述するように磁石押圧部材３８を螺合することからパイプ３４の長さより所定の寸法長い寸法に形成することが好ましい。センター軸３６の材料としては、ステンレス等の非磁性材料が用いられる。
【００８１】
当接部材３７は、配置される複数の永久磁石３１の一端部の永久磁石３１ａが当接してその永久磁石３１ａの移動を防止するものである。例えば、当接部材３７は、スライド部２３が取り付けられるブラケット２４であってもよい。この場合、スライド部２３のブラケット２４への取付は、図３に示すように、外周にネジ溝が螺刻された取付部材３９をセンター軸３６の端部に突設させて、この取付部材３９と螺合する螺合凹部４０をブラケット２４に設けるようにしてもよい。また、スライド部のブラケットへの取付は、センター軸の端部を延出させてこの延出端部の外周にネジ溝を螺刻したり、パイプの端部の外周にネジ溝を螺刻して行うようにしてもよい。これにより、簡単な構造で当接部材３７を取り付けることができる。このとき、ブラケット２４には、スライド部２３の端部が着座するように凹部４１を設けることが好ましい。
【００８２】
磁石押圧部材３８は、パイプ３４内に隣接する永久磁石３１の極性が交互に異なるように配置された複数の永久磁石３１の他端部の永久磁石３１ｂを隣接する永久磁石方向に押圧して、互いに隣接する永久磁石３１を密着するものである。例えば、磁石押圧部材３８は、ナット等のリング状で中央の開口部にネジ溝が螺刻されている螺合部材により形成されるものである。この場合、センター軸３６の当接部材３７とは反対側の端部外周にネジ溝を螺刻すると共に、螺合部材例えばナット３８の開口部をそのセンター軸３６の端部に螺合する大きさに形成するようにしてもよい。これにより、簡単な構造で磁石押圧部材３８を取り付けることができる。
【００８３】
このステータ部２２の組立方法の一例を説明すると、センター軸３６の端部の取付部材をブラケット３９を螺合凹部４０に螺入して、センター軸３６をブラケット２４に取り付ける。このセンター軸３６の外周に、センター軸３６を覆うようにパイプ３４を被せ、パイプ３４の先端部をブラケット２４の凹部４１に着座させて、パイプ３４の一方の開口部を閉塞させる。つまり、センター軸３６とパイプ３４とで２重管構造を形成させる。
【００８４】
次に、パイプ３４の他方の開口部からセンター軸３６とパイプ３４との間にリング状の永久磁石３１を隣接する永久磁石３１の極性が交互に異なるように順次所定個数挿入する。つまりパイプ３４内に所定個数の永久磁石３１を収容する。収容後、パイプ３４内の永久磁石３１は隣接する永久磁石３１の極性が同じであるため反発するが、この反発力に抗して、パイプ３４の他方の開口部側の端部の永久磁石３１ｂをパイプ３４内に押し込みながら、例えばナット３８をセンター軸３６のネジ溝に螺合させる。このナット３８を回転させてパイプ３４の内部方向に移動させることで、パイプ３４の他方の開口部側の端部の永久磁石３１ｂがブラケット方向に押圧されて（閉めつけられて）、パイプ３４内に収容された複数の永久磁石３１が互いに隣接する永久磁石３１の極性が同じでも密着した状態となる。このように永久磁石３１を組み付けた後、パイプ３４の他方の開口部を例えばキャップ４２によって閉塞する。
【００８５】
次に、パイプ３４の端部（キャップ４２側の端部）を可動部２１の貫通部３０に挿入して、パイプ３４（スライド部２３）の外周部に可動部２１を配置する。配置後、パイプ３４の端部にもう１つのブラケット２５を取り付ける。この可動部２１を配置したステータ部２２を、図１に示すように、架台１１上の所定の位置に位置させ、例えばボルトをブラケット２４，２５の取付穴４３（図３参照）に挿入してボルトによりブラケット２４，２５を架台１１にそれぞれ固定する。
【００８６】
これにより、架台１１上にリニアサーボモーター４が固定されて、塗布装置１０のモーター部が組み立てられることになる。
【００８７】
この塗布装置１０を用いて有機ＥＬ材料を基板１に塗布するには、基板１を基板ステージ部２のテーブル２０上に載置して固定する。なお、吐出部３の位置（ノズル１８の位置）は、所望の形成する有機層に応じて移動機構１４により位置決めを予め行っておくようにする。
【００８８】
固定後、リニアサーボモーター４を駆動させて、基板ステージ部２を吐出部３の下方を通過させるようにスライド移動させながら、この移動と共に所定の一定量の所望の有機ＥＬ材料を吐出部３のノズル１８から基板１上に吐出させる。
【００８９】
これにより、基板１上に有機ＥＬ材料が塗布されて有機層が形成される。このとき、基板のスライド移動速度が一定になるように制御すると共に、有機ＥＬ材料の吐出量が一定になるように制御する。この制御は、例えば、架台１１上に設けたエンコーダー２８や材料供給装置の下流側に流量計を設けて、これら機器２８によって可動部２１のスライド移動速度や有機ＥＬ材料の吐出量を制御することにより行うことができる。
【００９０】
このように本発明の有機電子材料の塗布装置１０を用いて、基板１上に有機ＥＬ材料を塗布したので、均一な膜厚の有機層（ＥＬ層）を形成することができる。
【００９１】
すなわち、基板ステージ部２をスライド移動させるリニアサーボモーター４は、パイプ３４内に複数の永久磁石３１が、隣接する永久磁石３１の極性が交互に異なるように順次収容されると共に、ナット３８により一方の端部の永久磁石３１ａがブラケット方向に押圧されて、互いに隣接する磁石３１が密着しているため、基板１（可動部２１）を一定の速度でスライド移動することができる。
【００９２】
つまり、従来知られているリニアモーターは、複数の永久磁石が接着剤を用いて固定されているため、接着を行うときには、複数の永久磁石が互いに隣接する永久磁石の極性が同じであるので、反発力が作用し、複数の永久磁石を密着させて接着し難く、永久磁石間に隙間が生じる。また、複数の永久磁石の接着を密着させた状態にできたとしても、繰り返し使用すると、永久磁石の反発力により永久磁石間に隙間ができてしまう。このように、永久磁石間に隙間があると、永久磁石の位置精度が悪くなり、可動部を一定速度でスライド移動させることができなくなる。特にＥＬ層を構成する各有機層は、膜厚が例えば５ｎｍ〜１０μｍと非常に薄いため小さな膜厚むらが大きな膜厚誤差となり、発光むらを引き起こす原因にもなりかねない。言いかえれば、従来知られているリニアモーターでは対応できず、もっと精度のよいものが要求されている。
【００９３】
これに対して、本発明の有機電子材料の塗布装置１０は、複数の永久磁石３１を押圧力により密着させるため、永久磁石３１間に隙間がないので、永久磁石３１の位置精度がよく、基板ステージ部２のスライド移動を等速性よく行える。このため、基板１が一定速度にスライド移動するので、基板１上には、膜厚誤差２％以下、有機電子材料の種類によっては０．５％以下となり均一な膜厚の有機層（ＥＬ層６）が形成されることになる。
【００９４】
したがって、本発明の有機電子材料の塗布装置１０は、特に比較的大きな基板表面に湿式法でナノオーダーの薄膜である有機層（ＥＬ層６）を形成した場合であっても、平滑性に優れ、均一な膜厚の有機層を形成することができる。この塗布装置１０は、膜厚が１０ｎｍ〜１０００ｎｍ、特に５０ｎｍ〜２００ｎｍのＥＬ層６を形成するのに従来の塗布装置に比べて優れた効果を発揮するものである。
【００９５】
また、複数の永久磁石３１は、固定されているステータ部２２に配設されているため、固定部分の精度がよいので、基板１（基板ステージ部２）のスライド移動を確実に等速性よく行える。
【００９６】
また、複数の永久磁石３１を筒状に形成し、これら筒状の永久磁石３１の開口部３５に非磁性材のセンター軸３６を挿入することで、センター軸３６の外周に複数の永久磁石３１を順次配置すれば、複数の永久磁石３１の配置を行えるので、組み付け作業性が向上する。
【００９７】
また、複数の永久磁石３１の外周部に、これら永久磁石３１を囲繞する非磁性材の筒状体３４を配設することで、センター軸３６と筒状体３４との間に複数の永久磁石３１を挿入すればよいので、一層組み付け作業性が向上する。
【００９８】
また、永久磁石３１がリング状に形成されて、リング状の磁石３１の外周部に密接する内径の円筒形のパイプ３４が設けられることにより、複数の磁石３１の軸方向のズレ（段差）を防止することができるため、より等速性が向上することになる。このため、基板１（基板ステージ部２）をより一定の速度でスライド移動することができ、より均一な膜厚の有機層（ＥＬ層６）を形成することができる。
【００９９】
このように、本発明の有機電子材料の塗布装置１０は、有機電子材料として有機ＥＬ材料を用いることにより、平滑性に優れ、均一な膜厚のＥＬ層６を形成することができるため、他の有機電子材料、例えば有機薄膜トランジスタ材料、太陽電池材料等を用いれば、例えば、有機薄膜トランジスタにおいては、平滑性に優れ、均一な膜厚の半導体層や絶縁層、太陽電池においては、平滑性に優れ、均一な膜厚の電極層や酸化物半導体膜（発電層（多孔質膜））をそれぞれ形成することができる。
【０１００】
有機薄膜トランジスタ材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリチオフェン誘導体等の有機発光素子材料、具体的には、ポリチエニレンビニレン、ポリ３−ヘキシルチオフェン、９，９−ジオクチルフルオレン−ビチオフェン等の半導体層材料や、ポリビニルフェノール、ポリハイドロキシスチレン等の絶縁層材料等が挙げられる。
【０１０１】
太陽電池材料としては、白金ペースト等の電極層材料や、ＴｉＯ２（二酸化チタン）微粒子を有機溶剤例えばポリエチレングリコールに分散した二酸化チタンコロイド等の発電層材料等が挙げられる。ＴｉＯ２（二酸化チタン）微粒子は、好ましくは粒子径が１〜１００ｎｍのものを用いることがよい。
【０１０２】
次に本発明の有機電子材料の塗布装置を用いて、有機電子素子、例えば有機ＥＬ素子を製造する場合について説明する。
【０１０３】
基板例えばガラス基板１の表面上に、図６に示すように、電極材料、例えば透明なＩＴＯ（インジウム錫酸化物）を用いて成膜する。この成膜は、例えば真空スパッタリング、真空蒸着といった方法や、塗工液を塗布することにより形成する方法等により行われ、また、本発明の塗布装置１０を用いて塗布することにより行うようにしてもよい。
【０１０４】
ガラス基板１上に成膜されたＩＴＯ膜を、例えばフォトリソグラフィー技術を用いて、複数本のストライプ状の第１電極層７にパターニング形成する。
【０１０５】
このストライプ状の第１電極層７以外のガラス基板１上に絶縁材料を用いて絶縁部を形成する。この絶縁部の形成は、フォトリソグラフィー技術を用いて行ってもよいし、他の成膜技術や本発明の塗布装置１０を用いて行ってもよい。
【０１０６】
次に、本発明の有機電子材料の塗布装置１０を用いて、有機ＥＬ材料を第１電極層７上に向けて吐出させ、ストライプ状の第１電極層７上に有機ＥＬ材料をそれぞれ塗布して、ＥＬ層６形成する。
【０１０７】
これらストライプ状の各第１電極層７への有機ＥＬ材料の塗布は、例えば、赤、緑、青の有機ＥＬ材料が順になるように行う。このとき、塗布装置１０の吐出部３のノズル１８は、１つでもよいが、好ましくは３つのノズル１８を設け、これらノズル１８にそれぞれ赤、緑、青の有機ＥＬ材料が供給されるようにして、１回の基板１のスライド移動により３つの第１電極層７への有機ＥＬ材料の塗布を行えるようにしてもよい。
【０１０８】
そして、ＥＬ層６を形成した後に、第１電極層７に直交するように対向させるストライプ状に電極材料を本発明の塗布装置１０を用いて成膜する。この成膜は、例えば真空スパッタリング、真空蒸着といった方法や、塗工液を塗布することにより形成する方法等により行われ、また、本発明の塗布装置１０を用いて塗布することにより行うようにしてもよい。
【０１０９】
これにより、第１電極層７と第２電極層８とがＸＹマトリスク状に配置されたフルカラー表示可能な有機ＥＬ素子５が製造される。
【０１１０】
この有機ＥＬ素子５は、第１電極層７、ＥＬ層６及び第２電極層８が本発明の塗布装置１０を用いて成膜されているので、膜厚誤差２％以下の均一な膜厚の第１電極層７、ＥＬ層６及び第２電極層８を有したものとなる。特にＥＬ層６を構成する各有機層は、膜厚が例えば５ｎｍ〜１０μｍと非常に薄いため小さな膜厚むらが大きな膜厚誤差となり、発光むらを引き起こす原因にもなりかねないが、その心配もなく、均一な発光を有する有機ＥＬ素子５が得られることになる。
【０１１１】
したがって、この有機ＥＬ素子５を用いることで、均一な発光をするＥＬディスプレイを製造することができる。
【０１１２】
なお、本発明の有機電子材料の塗布装置を用いて有機電子素子である有機ＥＬ素子を製造する場合について説明したが、他の有機電子素子、例えば、有機薄膜トランジスタや太陽電池を同様にして製造することができる。例えば、有機薄膜トランジスタにおいては、活性半導体層を本発明の塗布装置１０を用いて成膜することにより、膜厚誤差２％以下の平滑性に優れ、均一な膜厚の活性半導体層を有するものとなるので、増幅特性に優れた有機薄膜トランジスタを製造することができる。また、太陽電池においては、裏面電極層や酸化物半導体膜（多孔質膜）を本発明の塗布装置１０を用いて成膜することにより、膜厚誤差２％以下の平滑性に優れ、均一な膜厚の裏面電極層や酸化物半導体膜（多孔質膜）を有するものとなるので、良好な光起電力を示す太陽電池を製造することができる。
【０１１３】
【実施例】
以下、実施例及び比較例により、本発明をさらに詳しく説明する。
【０１１４】
塗布装置：
（塗布装置Ａ）
吐出部のノズル：インクジェット用ヘッド
モーター部：リニアサーボモーター
モーター部の移動媒体：基板ステージ部
【０１１５】
（塗布装置Ｂ）
吐出部のノズル：ディスペンスノズル
モーター部：リニアサーボモーター
モーター部の移動媒体：基板ステージ部
【０１１６】
（塗布装置Ｃ）
吐出部のノズル：ダイヘッド
モーター部：リニアサーボモーター
モーター部の移動媒体：基板ステージ部
【０１１７】
（塗布装置Ｄ）
吐出部のノズル：ナイフブレード
モーター部：リニアサーボモーター
モーター部の移動媒体：基板ステージ部
【０１１８】
（塗布装置Ｅ）
吐出部のノズル：ナイフブレード
モーター部：リニアサーボモーター
モーター部の移動媒体：吐出部
【０１１９】
（塗布装置Ｆ）
吐出部のノズル：ナイフブレード
モーター部：リニアモーター
モーター部の移動媒体：基板ステージ部
【０１２０】
（塗布装置Ｇ）
吐出部のノズル：ナイフブレード
モーター部：ボールネジ
モーター部の移動媒体：基板ステージ部
【０１２１】
前記塗布装置Ａ〜Ｅは、本発明の有機電子材料の塗布装置であり、この塗布装置に用いた永久磁石、センター軸、パイプとしては次のものを用いた。
【０１２２】
永久磁石：内径１１ｍｍ、外径３０ｍｍ、長さ６０ｍｍの円筒体
永久磁石の個数：１０個
永久磁石の材質：Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ
センター軸：外径１０ｍｍ、長さ６８０ｍｍの円筒体
センター軸の材質：ステンレス
パイプ：内径３０ｍｍ、外径３２ｍｍ、長さ７００ｍｍ、厚さ１ｍｍの円筒体
パイプの材質：ステンレス
【０１２３】
塗布装置Ｆとしては、長さ５０ｍｍ、幅３０ｍｍ、厚さ５ｍｍの直方体の磁石を１５個一列にタイル張りのように並べ接着した図１０に示すような塗布装置８０を用いた。図１０中、８１は、直方体の磁石８２を１５個磁石８２の極性が交互に異なるように固定部材８３上に接着剤を用いて固着（接着）したステータ部を示し、８４は、そのステータ部８３上を磁石８２の配置方向に沿ってケーブル８５によって案内されると共にコイルを有する可動部を示す。
【０１２４】
塗布装置Ｇとしては、径２０ｍｍ、ネジのリード６ｍｍのボールネジを用いた塗布装置である。
【０１２５】
【表１】
2004335492.tif 000003
【０１２６】
基板：
縦横が１５０ｍｍ×１５０ｍｍで、厚みが１．１ｍｍの透明ガラス板である基板の表面にスパッタ法により成膜して、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）の透明導電性膜を形成した。次いでＩＴＯを下記のパターンに加工した基板を準備した。
【０１２７】
（基板Ａ）
基板の周囲１０ｍｍのＩＴＯをエッチング処理により除去し、基板の中心部に１４０ｍｍ×１４０ｍｍのＩＴＯのパターンを形成した。
【０１２８】
（基板Ｂ）
基板Ａにおける１４０ｍｍ×１４０ｍｍのＩＴＯのパターンにおいて、ＩＴＯライン幅１００μｍをギャップ幅１００μｍのパターンで形成した。さらに、ＩＴＯラインパターンのエッジを覆うようにＩＴＯラインのギャップ上に絶縁性材料としてレジスト材料を１２０μｍの幅で設けた。
【０１２９】
塗布液：
化１で示した構造のポリビニルカルバゾール、発光色素、化２で示した構造のオキサジアゾール化合物を以下の組成でトルエン溶剤に溶解させ、３種の発光材料の塗布液（有機ＥＬ材料）を作成した。なお、発光色素として、緑色、赤色、青色の異なる発光色のものが得られるように、化３で示した構造のクマリン６、化４で示した構造のナイルレッド、化５で示した構造のペリレン化合物をそれぞれ用いた。
【０１３０】
塗布液Ｇ
ポリビニルカルバゾール          ７重量部
発光色素；クマリン６            ０．１重量部
オキサジアゾール化合物          ３重量部
トルエン                    ５０１０重量部
【０１３１】
塗布液Ｒ
ポリビニルカルバゾール          ７重量部
発光色素；ナイルレッド          ０．１重量部
オキサジアゾール化合物          ３重量部
トルエン                    ５０１０重量部
【０１３２】
塗布液Ｂ
ポリビニルカルバゾール          ７重量部
発光色素；ペリレン化合物        ０．１重量部
オキサジアゾール化合物          ３重量部
トルエン                    ５０１０重量部
【０１３３】
【化１】
2004335492.tif 000004
【０１３４】
【化２】
2004335492.tif 000005
【０１３５】
【化３】
2004335492.tif 000006
【０１３６】
【化４】
2004335492.tif 000007
【０１３７】
【化５】
2004335492.tif 000008
【０１３８】
（実施例１）
基板Ｂを超音波洗浄装置を用いてアセトン、イソプロパノール、純水中でそれぞれ充分に洗浄した後、ＩＴＯ表面にＵＶを照射した。次いで、発光材料の塗布液Ｇを前記塗布装置Ａを用いて下記の塗布条件でＩＴＯライン上に塗布した。
塗布条件
基板の移動速度：５ｍｍ／ｓｅｃ〜２００ｍｍ／ｓｅｃ
発光材料の吐出量：４μＬ／ｓｅｃ〜３００ｍＬ／ｓｅｃ
基板とノズル（吐出口）との距離：０．１μｍ〜５０μｍ
【０１３９】
塗布後、８０℃のクリーンオーブンで３０分間乾燥して厚み１００ｎｍの発光層単独からなるＥＬ層を形成した。卓上型プローブ顕微鏡（セイコーインスツルメンツ社製）で膜厚分布を測定した結果、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は２％以内であり、有機層表面の凹凸が５ｎｍ以下であることが分かった。
【０１４０】
次いで、得られたＥＬ層上に、第２の電極としてＭｇＡｇ合金（Ｍｇ：Ａｇ＝１０：１）を厚み１５０ｎｍになるように蒸着し、さらにその上に、保護層としてＡｇを２００ｎｍの厚みになるように蒸着して、有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４１】
作製した有機ＥＬ素子のＩＴＯ電極を正極に接続し、ＭｇＡｇ電極を負極に接続し、ソースメーターにより直流電流を印加したところ、１０Ｖの電位を印加した時に発光が認められ、その時の発光スペクトルをスペクトロフォトメーター（大塚電子社製、商品名：ＩＭＵＣ７０００）で測定したところ、クマリン６に由来する５０１ｎｍをピークに持つ緑色の均一な面発光が認められた。
【０１４２】
（実施例２）
塗布装置Ｂを用いる以外は実施例１と同様の方法で有機ＥＬ素子を作製した。得られたＥＬ層の膜厚分布は、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差が２％以内であり、有機層表面の凹凸が５ｎｍ以下であった。また、同様にクマリン６に由来する５０１ｎｍをピークに持つ緑色の均一な面発光が認められた。
【０１４３】
（実施例３）
基板Ａを用いて塗布装置Ｃ用いる以外は実施例１と同様の方法で有機ＥＬ素子を作製した。得られたＥＬ層の膜厚分布は、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差が２％以内であり、有機層表面の凹凸が５ｎｍ以下であった。また、同様にクマリン６に由来する５０１ｎｍをピークに持つ緑色の均一な面発光が認められた。
【０１４４】
（実施例４）
ステージ上に基板Ａを設置し、この上に塗布装置Ｄのナイフブレードを設置した。次いで発光材料の塗布液Ｇをナイフブレードに沿って基板上に滴下した後、ステージを移動させることによりナイフブレードが塗布液を基板上に広げ、塗布液が基板上に塗布された。これを８０℃のクリーンオーブンで３０分間乾燥して厚み１００ｎｍの発光層単独からなるＥＬ層を形成した。卓上型プローブ顕微鏡（セイコーインスツルメンツ社製）で膜厚分布を測定した結果、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は２％以内であった。
【０１４５】
次いで、ＥＬ層上に、第２の電極としてＭｇＡｇ合金（Ｍｇ：Ａｇ＝１０：１）を厚み１５０ｎｍになるように蒸着し、さらにその上に、保護層としてＡｇを２００ｎｍの厚みになるように蒸着して、有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４６】
作製した有機ＥＬ素子のＩＴＯ電極を正極に接続し、ＭｇＡｇ電極を負極に接続し、ソースメーターにより直流電流を印加したところ、１０Ｖの電位を印加した時に発光が認められ、その時の発光スペクトルをスペクトロフォトメーター（大塚電子社製、商品名：ＩＭＵＣ７０００）で測定したところ、クマリン６に由来する５０１ｎｍをピークに持つ緑色の均一な面発光が認められた。
【０１４７】
（実施例５）
実施例４において塗布装置Ｄを用いて基板をセットしたステージを移動させる代わりに、塗布装置Ｅを用いてナイフブレードを移動させること以外は実施例４と同様の方法で有機ＥＬ素子を作製した。実施例４と同様に、得られたＥＬ層の膜厚分布は、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は２％以内であった。また、同様にクマリン６に由来する５０１ｎｍをピークに持つ緑色の均一な面発光が認められた。
【０１４８】
（実施例６）
塗布装置Ｃを用いてステージの進行方向に対して、発光材料の塗布液Ｇ、塗布液Ｒ、塗布液Ｂを順次塗布した以外は実施例３と同様の方法でエリアカラーの有機ＥＬ素子を作製した。実施例４と同様に、得られたＥＬ層の膜厚分布は、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は２％以内であり、また、複数色が混在しない均一な３色の発光が得られた。
【０１４９】
（比較例１）
塗布装置Ｆを用いること以外は実施例４と同様の方法で有機ＥＬ素子を作製した。発光層の膜厚分布を測定した結果、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は５％であった。また、発光には目視でむらが確認できた。
【０１５０】
（比較例２）
塗布装置Ｇを用いること以外は実施例４と同様の方法で有機ＥＬ素子を作製した。発光層の膜厚分布を測定した結果、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は１０％であった。また、発光は、ボールネジの送りに相当する縞状の発光ムラが確認できた。
【０１５１】
（実施例７）
図７に示すように、石英ガラス基板５１上にゲート電極５２として金をパターン状に成膜した後、窒化シリコンを１０００Åの膜厚でスパッタし絶縁層５３とした。この上に活性半導体層５４としてポリチオフェン誘導体を塗布装置Ｄを用いて乾燥膜厚が１０００Åの膜厚になるように塗布した後、ソース電極５５及びドレイン電極５６として金を１００μｍの間隔で蒸着により成膜し、有機薄膜トランジスタ５０を作製した。
【０１５２】
この活性半導体層は、上記実施例１〜６と同様に「卓上型プローブ顕微鏡（セイコーインスツルメンツ社製）で膜厚分布を測定した結果、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は２％以内であり、有機層表面の凹凸が５ｎｍ以下であることが分かった。
【０１５３】
作製したトランジスタ５０をピコアンメーター（ヒューレットパッカード社製４１４０Ｂ）を用いてゲート電極５２に一定電圧を印加した状態で、ドレイン−ソース電極５６，５５間に−１５Ｖから１５Ｖまで電圧を印加したところ明瞭な飽和電流を観測することができた。また、ゲート電圧による飽和電流値の変化が観測され、増幅特性を確認した。
【０１５４】
（実施例８）
図８に示すように、裏面基板６１として、ガラス板上に塗布装置Ｂを用いて白金ペーストをパターン状に塗布、乾燥し、厚さ３μｍの裏面電極層６２を形成した。この上に粒子径１〜１０ｎｍのＴｉＯ２微粒子をポリエチレングリコールに分散した塗布液を塗布装置Ｂを用いてパターン状に塗布し、予備乾燥後、４５０℃で３０分間、乾燥、焼成して、厚さ１０μｍの酸化物半導体膜（発電層（多孔質膜））６３を形成した。
【０１５５】
この裏面電極層及び酸化物半導体膜は、上記実施例１〜６と同様に「卓上型プローブ顕微鏡（セイコーインスツルメンツ社製）で膜厚分布を測定した結果、塗布面の中心部の１４０ｍｍ×１４０ｍｍの範囲において膜厚誤差は２％以内であり、有機層表面の凹凸が５ｎｍ以下であることが分かった。
【０１５６】
そして、この積層体の酸化物半導体膜に色素増感剤を担持させるため、この積層体をルテニウム錯体のエタノール溶液に浸漬して多孔質膜に含浸させた後、乾燥して、ルテニウム錯体を酸化物半導体膜に担持させた。次いで、この積層体の酸化物半導体膜形成面に、別に用意したガラス板（透明基板）６４上にＳｎＯ２の薄膜層（透明電極層）６５がパターン状に形成された積層体のＳｎＯ２の薄膜層形成面が対向するように重ね合わせ、電極リード６６を引き出すと共に、周囲の端部をエポキシ系接着剤で電解質溶液の注入口のみを残して封止し、接着剤の硬化後、その注入口からヨウ素電解質溶液を注入し、注入後、その注入口をシール材で封止して色素増感型太陽電池セル６０を作製した。
【０１５７】
このように作製した太陽電池セル６０を用いた太陽電池の光電変換効率〔η％〕を測定した結果、９％であり、良好な光起電力を示すことが確認された。
【０１５８】
【発明の効果】
本発明の有機電子材料の塗布装置によれば、モーター部が、隣接する磁石の極性が交互に異なると共に一方の端部の磁石が隣接する磁石方向に沿って押圧されて互いに隣接する磁石が密着されて配置される複数の磁石を有するリニアモーターであるものであるため、基板ステージ部及び吐出部が一定の速度でスライド移動するので、この移動と共に基板に向けて有機電子材料を吐出することで、基板上には、均一な膜厚の有機層を形成することができる。
【０１５９】
本発明の有機電子素子の製造方法によれば、基板上には均一な膜厚の有機層が形成されるので、良好な特性を示す有機電子素子を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機電子材料の塗布装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明の有機電子材料の塗布装置の他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の有機電子材料の塗布装置のステータ部の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明のリニアサーボモーターの原理を説明するための説明図である。
【図５】本発明のリニアサーボモーターのコイルの接続状態の例を示す図である。
【図６】有機ＥＬ素子の一例を示す概略断面図である。
【図７】有機薄膜トランジスタの一例を示す概略断面図である。
【図８】太陽電池の一例を示す概略断面図である。
【図９】従来の塗布装置を示す側面図である。
【図１０】従来の塗布装置を示す図であり、その（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【符号の説明】
１    基板
２    基板ステージ部
３    吐出部
４    リニアサーボモーター
５    有機ＥＬ素子
６    ＥＬ層
７    第１電極層
８    第２電極層
１０  塗布装置
２１  可動部
２２  ステータ部
２３  スライド部
２４  ブラケット（３７  当接部材）
３１  永久磁石
３４  パイプ（筒状体）
３５  開口部
３６  センター軸
３８  ナット（磁石押圧部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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