(57)【要約】【課題】チャンバ内の環境汚染を防止できる、あるいは、外乱磁場の悪影響を回避できる等の利点を有するステージ装置等を提供する。【解決手段】主チャンバ５内には、Ｘ軸ガイドバー１５、１６及びＹ軸ガイドバー２１、２２と、各ガイドバー上をスライドするＸ軸スライダ１７、１８、Ｙ軸スライダ２３、２４が配置されている。Ｘ軸スライダ１７、１８は、リニアモータチャンバ６内のＸ軸リニアモータ３１、３２の駆動バー３１ａ、３２ａに連結されている。Ｙ軸スライダ２３、２４は、リニアモータチャンバ７内のＹ軸リニアモータ４１、４２の駆動バー４１ａ、４２ａに連結されている。各リニアモータが主チャンバ５外に配置されているので、リニアモータの駆動に伴い発生するアウトガスで主チャンバ５内が汚染されることがない。さらに、リニアモータの駆動に伴い発生する外乱磁場の悪影響も低減できる。【選択図】　　　図１
2004095949.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空又は非空気雰囲気のチャンバ内において被処理物を移動・位置決めするステージ装置であって、
前記チャンバ内に配置された直線ガイド及びその上をスライドするスライダと、
該スライダに間接的又は直接的に連結された、前記被処理物を載置するステージ本体と、
該スライダ又はステージ本体を駆動する、前記チャンバの壁を貫通して延びる駆動バーと、
該駆動バーを駆動する、前記チャンバ外に配置されたリニアモータと、
前記駆動バーが前記チャンバを貫通する部分に設けられた、排気手段を有する直線導入機と、
を具備することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
真空又は非空気雰囲気のチャンバ内において被処理物を移動・位置決めするステージ装置であって、
前記チャンバ内に配置された、同一平面内の２方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）に延びる２軸ガイド（Ｘ軸ガイド、Ｙ軸ガイド）と、
該Ｘ軸ガイド、Ｙ軸ガイドのそれぞれの上をスライドするＸスライダ、Ｙスライダと、
該Ｘスライダ又はＹスライダに間接的又は直接的に連結された、前記被処理物を載置するステージ本体と、
前記スライダ又はステージ本体を前記Ｘ軸方向又はＹ軸方向のぞれぞれの方向に駆動する、前記チャンバの壁を貫通して延びる駆動バー（Ｘ駆動バー、Ｙ駆動バー）と、
該駆動バーをそれぞれ駆動する、前記チャンバ外に配置されたリニアモータ（Ｘリニアモータ、Ｙリニアモータ）と、
前記Ｘ駆動バー又はＹ駆動バーと前記ステージ又はスライダとの間に設けられた、該バー駆動方向と直角の方向に対しての、該バーと前記ステージ本体との間のスライドを許容しつつ、該バーから前記ステージ又はスライダへの駆動力を伝達する推力伝達用スライダと、
を具備することを特徴とするステージ装置。
【請求項３】
前記チャンバ（主チャンバ）の他に、前記リニアモータを外気と隔離するチャンバ（リニアモータチャンバ）をさらに具備することを特徴とする請求項１又は２記載のステージ装置。
【請求項４】
前記リニアモータチャンバ内が真空又は低水分雰囲気とされていることを特徴とする請求項３記載のステージ装置。
【請求項５】
前記駆動バーが外気と接しないように、前記主チャンバ、直線導入機及びリニアモータチャンバが連続して配置されていることを特徴とする請求項４記載のステージ装置。
【請求項６】
前記リニアモータチャンバ内の雰囲気が前記主チャンバ内よりも低質な真空であるか乾燥窒素であることを特徴とする請求項４記載のステージ装置。
【請求項７】
真空又は非空気雰囲気下で感応基板にエネルギ線を選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、
前記感応基板及び／又はパターン原版（マスク、レチクル）を移動・位置決めするための請求項１〜６いずれか１項記載のステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
前記リニアモータチャンバが磁気シールド材からなることを特徴とする請求項１〜６いずれか１項記載のステージ装置又は請求項７記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空等の特殊雰囲気チャンバ内で被処理物を移動・位置決めするためのステージ装置、及び、そのようなステージ装置を備える露光装置に関する。
特には、チャンバ内の環境汚染を防止できる、あるいは、外乱磁場の悪影響を回避できる等の利点を有するステージ装置及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスのリソグラフィー等に使用される露光装置内には、ウェハやレチクル等（試料）を載置するためのステージ装置が備えられている。ステージ装置は、直線ガイド及びその上をスライドするスライダや、このスライダやステージ本体を駆動するリニアモータ等を備えている。このようなステージ装置は、電子線やＸ線を使用する露光装置の場合には、真空チャンバ内に設置される。あるいは、Ｆ２レーザを使用する露光装置の場合には、Ｈｅ等の特殊ガス環境のチャンバ内に設置される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような特殊雰囲気露光装置の場合、ステージ装置のリニアモータがチャンバ内に設置されていると、リニアモータの駆動に伴い発生するアウトガスがチャンバ内の真空や特殊ガス環境を汚染するおそれがある。あるいは、荷電粒子線露光装置の場合、リニアモータの駆動に伴い発生する外乱磁場が電子線等の軌道を曲げ、露光に悪影響を与えるおそれもある。
【０００４】
本発明は、前記の課題に鑑みてなされたものであって、チャンバ内の環境汚染を防止できる、あるいは、外乱磁場の悪影響を回避できる等の利点を有するステージ装置を提供することを目的とする。
また、そのようなステージ装置を備える露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため、本発明のステージ装置は、真空又は非空気雰囲気のチャンバ内において被処理物を移動・位置決めするステージ装置であって、　前記チャンバ内に配置された直線ガイド及びその上をスライドするスライダと、　該スライダに間接的又は直接的に連結された、前記被処理物を載置するステージ本体と、　該スライダ又はステージ本体を駆動する、前記チャンバの壁を貫通して延びる駆動バーと、　該駆動バーを駆動する、前記チャンバ外に配置されたリニアモータと、　前記駆動バーが前記チャンバを貫通する部分に設けられた、排気手段を有する直線導入機と、を具備することを特徴とする。
【０００６】
本発明によれば、リニアモータがチャンバ外に配置されているので、リニアモータの駆動に伴い発生するアウトガスでチャンバ内が汚染されることがない。さらに、リニアモータの駆動に伴い発生する外乱磁場の悪影響も低減できる。
【０００７】
本発明の２軸ステージ装置は、真空又は非空気雰囲気のチャンバ内において被処理物を移動・位置決めするステージ装置であって、　前記チャンバ内に配置された、同一平面内の２方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）に延びる２軸ガイド（Ｘ軸ガイド、Ｙ軸ガイド）と、　該Ｘ軸ガイド、Ｙ軸ガイドのそれぞれの上をスライドするＸスライダ、Ｙスライダと、　該Ｘスライダ又はＹスライダに間接的又は直接的に連結された、前記被処理物を載置するステージ本体と、　前記スライダ又はステージ本体を前記Ｘ軸方向又はＹ軸方向のぞれぞれの方向に駆動する、前記チャンバの壁を貫通して延びる駆動バー（Ｘ駆動バー、Ｙ駆動バー）と、　該駆動バーをそれぞれ駆動する、前記チャンバ外に配置されたリニアモータ（Ｘリニアモータ、Ｙリニアモータ）と、　前記Ｘ駆動バー又はＹ駆動バーと前記ステージ又はスライダとの間に設けられた、該バー駆動方向と直角の方向に対しての、該バーと前記ステージ本体との間のスライドを許容しつつ、該バーから前記ステージ又はスライダへの駆動力を伝達する推力伝達用スライダと、を具備することを特徴とする。
【０００８】
例えば、推力伝達用スライダを、Ｙ方向駆動用駆動バーとステージとの間にＸ方向にスライド可能に設けるとする。そして、Ｙ方向にステージをスライドさせる際には、Ｙ方向駆動用駆動バーから推力伝達用スライダを介してステージに推力を伝える。すなわち、推力伝達用スライダを設けることで、リニアモータ及び駆動バーの繰り出し軸を定位置に固定した状態で、ステージをＸＹ方向に移動させることができる。これにより、チャンバを駆動バーが貫通する位置（直線導入機の位置）を動かすことができないという制約に対処しつつ、２軸ステージ装置を実現できる。
【０００９】
本発明のステージ装置においては、前記チャンバ（主チャンバ）の他に、前記リニアモータを外気と隔離するチャンバ（リニアモータチャンバ）をさらに具備することができる。
この場合、リニアモータチャンバによって、リニアモータやその先に接続されている駆動バーを外気と隔離することができる。そのため、アウトガスの悪影響をより一層低減できる。
【００１０】
本発明のステージ装置においては、前記リニアモータチャンバ内を真空又は低水分雰囲気とすることができる。また、前記駆動バーが外気と接しないように、前記主チャンバ、直線導入機及びリニアモータチャンバを連続して配置することができる。
この場合、駆動バー表面に外気の水分が付着しない。そのため、駆動バーが主チャンバ内に繰り出されたときに、駆動バー表面からチャンバ内に蒸発する水分が少なくなるので、主チャンバの雰囲気劣化を抑制できる。
【００１１】
本発明のステージ装置においては、前記リニアモータチャンバ内の雰囲気が前記主チャンバ内よりも低質な真空であるか乾燥窒素であるものとすることができる。
この場合、リニアモータチャンバ内において水分を主とした不純物が少なくなり、直進導入機にかかる排気の負担が低減される。
【００１２】
本発明の露光装置は、真空又は非空気雰囲気下で感応基板にエネルギ線を選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、　前記感応基板及び／又はパターン原版（マスク、レチクル）の移動・位置決めするための前記ステージ装置を備えることを特徴とする。
なお、エネルギ線が電子線やイオンビーム等の荷電粒子線、あるいはＥＵＶ光（軟Ｘ線）の場合は、真空雰囲気下での露光が想定されており、Ｆ２レーザの場合は窒素やヘリウム雰囲気下での露光が想定されている。本発明の露光装置は、露光の方式は限定されず、縮小投影露光及び等倍近接転写、描画式等いずれであってもよい。
【００１３】
本発明においては、前記リニアモータチャンバが磁気シールド材からなるものとすることができる。
この場合、リニアモータの駆動に伴い発生する外乱磁場の悪影響をより一層低減できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
まず、電子線露光装置の概要を説明する。
図８は、本発明の実施の形態に係る電子線露光装置の全体構成例を模式的に示す図である。
図８に示す電子線露光装置１００の上部には、照明光学系１０Ｘを含む真空チャンバ１０１が配置されている。真空チャンバ１０１には真空ポンプ１０２が接続されており、同チャンバ内を真空排気している。
【００１５】
真空チャンバ１０１の上部には、電子銃１０３が配置されており、下方に向けて電子線を放射する。電子銃１０３の下方には、コンデンサレンズ１０４ａや電子線偏向器１０４ｂ等を含む照明光学系１０４、レチクルＲが配置されている。
【００１６】
電子銃１０３から放射された電子線は、コンデンサレンズ１０４ａによって収束されるとともに偏向器１０４ｂにより図の横方向に順次走査（スキャン）され、光学系１０４の視野内にあるレチクルＲの各小領域（サブフィールド）の照明が行われる。なお、図では一段のコンデンサレンズ１０４ａのみが示されているが、実際の照明光学系には、数段のレンズやビーム成形開口等が設けられている。
【００１７】
レチクルＲは、レチクルステージ１１１の上部に設けられたチャック１１０に静電吸着等により固定されている。レチクルステージ１１１は、定盤１１６に載置されている。
【００１８】
レチクルステージ１１１には、図の左方に示す駆動装置１１２が接続されている。駆動装置１１２及びステージ１１１の構造については後述する。駆動装置１１２は、ドライバ１１４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、レチクルステージ１１１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１１３が設置されている。レーザ干渉計１１３は、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１１３で計測されたレチクルステージ１１１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。レチクルステージ１１１の位置を目標位置とすべく、制御装置１１５からドライバ１１４に指令が送出され、駆動装置１１２が駆動される。
【００１９】
定盤１１６の下方には、ウェハチャンバ（真空チャンバ）１２１が示されている。ウェハチャンバ１２１の側方（図の右側）には、真空ポンプ１２２が接続されており、ウェハチャンバ１２１内を真空排気している。
ウェハチャンバ１２１内（又は別途の投影光学系鏡筒内）には、コンデンサレンズ（投影レンズ）１２４ａや偏向器１２４ｂ等を含む投影光学系１２４、及びウェハステージ１３１が配置されている。
【００２０】
レチクルＲを通過した電子線は、コンデンサレンズ１２４ａにより収束される。コンデンサレンズ１２４ａを通過した電子線は、偏向器１２４ｂにより偏向され、ウェハＷ上の所定の位置にレチクルＲの像が結像される。なお、図中にはコンデンサレンズ１２４ａが一段示されているのみであるが、実際には、投影光学系中には複数段のレンズや収差補正用のレンズやコイルが設けられている。
【００２１】
ウェハＷは、ウェハステージ１３１の上部に設けられたチャック１３０に静電吸着等により固定されている。ウェハステージ１３１は、定盤１３６に載置されている。
【００２２】
ウェハステージ１３１には、図の左方に示す駆動装置１３２が接続されている。駆動装置１３２は、ドライバ１３４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、ウェハステージ１３１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１３３が設置されている。レーザ干渉計１３３は、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１３３で計測されたウェハステージ１３１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。ウェハステージ１３１の位置を目標位置とすべく、制御装置１１５からドライバ１３４に指令が送出され、駆動装置１３２が駆動される。
【００２３】
次に、本発明の実施の形態に係るステージ装置について説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る露光装置のステージ装置及びチャンバを示す平面図（チャンバの天井を取った状態）である。
図２は、同ステージ装置及びチャンバを示す斜視図である。
図３は、図２の斜視図からチャンバを除いた図である。
図４は、図３を下側（裏側）から見た斜視図である。
図５は、本発明の一実施の形態に係るステージ装置の直進導入機の構成例を示す断面図である。
図６は、本発明の一実施の形態に係る露光装置のステージ装置のリニアモータの構成例を示す断面図である。
図７は、本実施の形態に係るステージ本体の動作を説明する平面図である。
【００２４】
図１及び図２に示すように、ステージ装置１のガイドバー１５、１６、２１、２２やステージ本体２５等の被駆動部分は、鉄等の磁気シールド材からなる主チャンバ５内に配置されている。ステージ装置１は、図８におけるレチクルステージ１１１に相当する。一方、主チャンバ５は、図８における真空チャンバ１０１に相当する。
【００２５】
図２〜図４にわかり易く示すように、ステージ装置１は、４本のポスト１１、１２、１３、１４を備えている。ポスト１１〜１４は、主チャンバ５底部（定盤）の四隅にそれぞれ立ち上げられている（図１、図２参照）。ポスト１１と１２の間、並びに、ポスト１３と１４の間には、Ｘ軸ガイドバー（直線ガイド）１５、１６がそれぞれ架設されている。各Ｘ軸ガイドバー１５、１６には、気体軸受（図示されず）を介して、Ｘ軸スライダ１７、１８が嵌合されている。各Ｘ軸スライダ１７、１８は、後述するＸ軸リニアモータ３１、３２の駆動に応じて、Ｘ軸ガイドバー１５、１６上を摺動する。
【００２６】
両Ｘ軸スライダ１７、１８間には、平行な２本のＹ軸ガイドバー（直線ガイド）２１、２２が架設されている。各Ｙ軸ガイドバー２１、２２には、気体軸受（図示されず）を介して、Ｙ軸スライダ２３、２４が嵌合されている。各Ｙ軸スライダ２３、２４は、後述するＹ軸リニアモータ４１、４２の駆動に応じて、Ｙ軸ガイドバー２１、２２上を摺動する。
【００２７】
図３及び図４にわかり易く示すように、両Ｙ軸スライダ２３、２４の下面には、ステージ本体２５が固定されている。ステージ本体２５の中央には、レチクルを載せられるように円形の孔２５ａが形成されている。ステージ本体２５の側面（図１の右側側面）は高精度に研磨されており、図８に示したレーザ干渉計１１３、１３３の検出光の反射面として利用される。
【００２８】
図１〜図３にわかり易く示すように、Ｘ軸スライダ１７、１８は、Ｘ軸リニアモータ３１、３２の駆動バー３１ａ、３２ａに連結されている。これら駆動バー３１ａ、３２ａのバー端部３１ｆ、３２ｆは、Ｘ軸スライダ１７、１８側面にボルト固定されて連結されている。一方、前述の通り、Ｙ軸スライダ２３、２４の下面には、ステージ本体２５が固定されている。このステージ本体２５の側面は、推力伝達用スライダ６３、ガイドバー６１等（図７を参照しつつ後述する）、並びに、駆動バー４１ａ、４２ａを介して、Ｙ軸リニアモータ４１、４２に連結されている（図４参照）。ステージ本体２５は、これらリニアモータの駆動に伴い各スライダが摺動することで、精密にＸＹ駆動されるようになっている。
【００２９】
図１に示すように、Ｘ軸リニアモータ３１、３２及びＹ軸リニアモータ４１、４２は、それぞれリニアモータチャンバ６及び７内に配置されている。各リニアモータチャンバ６、７は、主チャンバ５と同様に鉄等の磁気シールド材からなる。各リニアモータチャンバ６、７は主チャンバ５に繋がって形成されているが、リニアモータチャンバ６、７内部と主チャンバ５内部はチャンバ壁部５Ａ、５Ｂで仕切られている。各リニアモータチャンバ６、７内のリニアモータ３１、３２、４１、４２は、主チャンバ５内部及び外気とは隔離される。各リニアモータチャンバ６、７内は、主チャンバ５内よりも低質な真空であるか乾燥窒素が充填されている。
【００３０】
Ｘ軸リニアモータ３１、３２の駆動バー３１ａ、３２ａがチャンバ壁部５Ａを貫通する部分、並びに、Ｙ軸リニアモータ４１、４２の駆動バー４１ａ、４２ａがチャンバ壁部５Ｂを貫通する部分には、それぞれ直線導入機３３、３４、４３、４４が設けられている。主チャンバ５、リニアモータチャンバ６、７及び直線導入機３３、３４、４３、４４は、駆動バー３１ａ、３２ａ、４１ａ、４２ａが外気と接しないように連続して配置されている。
【００３１】
このように構成することにより、各駆動バー３１ａ、３２ａ、４１ａ、４２ａに外気の水分が付着しないので、これら駆動バーが主チャンバ５内に繰り出されたときに、駆動バー表面からチャンバ内に蒸発する水分が少なくなる。そのため、主チャンバ５の雰囲気劣化を抑制できる。さらに、前述の通り、各リニアモータチャンバ６、７内は、主チャンバ５内よりも低質な真空であるか乾燥窒素が充填されているので、リニアモータチャンバ６、７内において水分を主とした不純物が少なくなり、各直進導入機３３、３４、４３、４４にかかる排気の負担が低減される。
【００３２】
ここで、図５を参照して、直進導入機の構成について説明する。直進導入機３３、３４、４３、４４の構成はほぼ同一であるので、図５では直進導入機３３の符号を付して説明する。
図５に示すように、直進導入機３３は、チャンバ壁部５Ｂの一部に組み込まれている。直進導入機３３の中心には、リニアモータ３１の駆動バー３１ａを通す貫通孔３３ａが形成されている。この貫通孔３３ａの内周面において、軸方向中央部には、多孔性材料からなるエアパッド３３ｂが設けられている。そして、このエアパッド３３ｂよりもリニアモータチャンバ６側（図５の上側）には、２つの排気溝３３ｃが形成されており、エアパッド３３ｂよりも主チャンバ５側（図５の下側）には、３つの排気溝３３ｄが形成されている。
【００３３】
直線導入機３３は、エアパッド３３ｂに供給された空気を介して、リニアモータの駆動バー３１ａを非接触ガイドする。エアパッド３３ｂに供給された空気は、排気溝３３ｃ、３３ｄを通して排気される。なお、リニアモータの駆動バー３１ａが直線導入機３３以外の部分で充分に軸受けされている場合には、エアパッド３３ｂは設けなくてもよい。また、リニアモータチャンバ６側が大気の場合は、排気溝３３ｄは設けなくてもよい。
【００３４】
次いで、前述した各リニアモータの構成について説明する。
図６（Ａ）にわかり易く示すように、Ｘ軸リニアモータ３１は、縦断面コ字状の固定子３１ｂに対して、縦断面Ｔ字状の可動子３１ｃがスライド可能に組み合わされてなる。固定子３１ｂは、リニアモータチャンバ６内に固定されており、内部にはマグネットが埋め込まれている。可動子３１ｃには、コイル３１ｄや、このコイル３１ｄを制御する電気配線及び冷却媒体を循環させる配管等（図示されず）が接続されている。可動子３１ｃの端面には、駆動バー３１ａを連結するケース３１ｅが取り付けられている。このケース３１ｅ内には、駆動バー３１ａが挿入固定されている。
【００３５】
Ｘ軸リニアモータ３２も、基本的には前記Ｘ軸リニアモータ３１と同様の構成を有し、固定子３２ｂや可動子３２ｃ、コイル３２ｄ、ケース３２ｅを備えている。Ｘ軸リニアモータ３２の可動子３２ｃは、前記Ｘ軸リニアモータ３１の可動子３１ｃとは対称的に、端面が外側（チャンバ壁側）に突出するように組み付けられている。そして、両Ｘ軸リニアモータ３１、３２の可動子３１ｃ、３２ｃの下端部同士は、連結部材３５で繋がれている。この連結部材３５は、各可動子３１ｃ、３２ｃの下端にそれぞれボルトＢで固定されている。両可動子３１ｃ、３２ｃは、連結部材３５で連結されることにより一体で動く。
【００３６】
図６（Ｂ）にわかり易く示すＹ軸リニアモータ４１、４２も、基本的には前記Ｘ軸リニアモータ３１、３２と同様の構成を有する。すなわち、Ｙ軸リニアモータ４１は、固定子４１ｂ、可動子４１ｃ、コイル４１ｄ、ケース４１ｅを備えている。Ｙ軸リニアモータ４２は、固定子４２ｂ、可動子４２ｃ、コイル４２ｄ、ケース４２ｅを備えている。これらＹ軸リニアモータ４１、４２は、固定子４１ｂ、４２ｂの背面同士が隣り合わせに密接して配置されている。そして、可動子４１ｃ、４２ｃの下端部同士は、前述のＸ軸リニアモータ３１、３２と同様に連結部材４５で連結されており、両者は一体で動くようになっている。
【００３７】
次に、リニアモータの反力処理機構について説明する。
図１に示すように、各リニアモータ３１、３２、４１、４２の固定子の後端には、シャフト５１がそれぞれ設けられている。各シャフト５１は、リニアモータチャンバ６、７を貫通して外部に突き出ている。リニアモータチャンバ６、７外面とシャフト５１間には、ベローズ５２及び封止板５３が設けられている。これらベローズ５２及び封止板５３は、リニアモータチャンバ６、７とシャフト５１との干渉を避けつつ、チャンバ貫通部分を封止するものである。さらに、各シャフト５１の端部には、それぞれリアクションフォースキャンセラ５４が設けられている。このリアクションフォースキャンセラ５４は、リニアモータの駆動によって生じる力を打ち消すために、反力を生じさせる機器である。
【００３８】
図４及び図７にわかり易く示すように、Ｙ軸リニアモータ４１、４２の駆動バー４１ａ、４２ａとステージ本体２５側面間には、前述の通り、推力伝達用スライダ６３及び連結部材６０が介装されている。より詳しくは、両駆動バー４１ａ、４２ａの先端部は、コ字状の連結部材６０の後面に固定されている。連結部材６０の端部間には、ガイドバー（直線ガイド）６１が架設されている。そして、このガイドバー６１には、推力伝達用スライダ６３が気体軸受（図示されず）を介して嵌合されている。推力伝達用スライダ６３側面とステージ本体２５側面は接合されており、両者は一体に移動する。つまり、この実施例においては、推力伝達用スライダ６３は、Ｘ軸スライダと同方向にステージ本体２５とともにスライドする。
【００３９】
図７を参照して、推力伝達用スライダ６３を含むステージ本体２５の動作について説明する。図７では、わかりやすくするために推力伝達用スライダ６３の周り等一部を実線で示し、他を破線で示してある。
図７（Ａ）は、Ｘ軸リニアモータの駆動バー３１ａ、３２ａ、及び、Ｙ軸リニアモータの駆動バー４１ａ、４２ａがともに主チャンバ５から後退した（主チャンバ５外に引き出された）状態を示している（図中の矢印参照）。Ｘ軸駆動バー３１ａ、３２ａが後退すると、この動きがバー端部３１ｆ、３２ｆを介してＸ軸スライダ１７、１８に伝わる。すると、これらスライダ１７、１８がＸ軸ガイドバー１５、１６上をスライドして後退し、これとともにスライダ１７、１８間に架設されているＹ軸ガイドバー２１、２２もＸ軸後退方向に移動する。Ｙ軸ガイドバー２１、２２が移動すると、Ｙ軸スライダ２３、２４を介してステージ本体２５もＸ軸後退方向に同時に移動する。このとき、ステージ本体２５のＸ軸後退方向への移動に伴い、ステージ本体２５に固定されている推力伝達用スライダ６３もガイドバー６１上をＸ軸後退方向にスライドする。
【００４０】
一方、Ｙ軸駆動バー４１ａ、４２ａが後退すると、この動きが連結部材６０に伝わり、さらに連結部材６０に取り付けられているガイドバー６１及び推力伝達用スライダ６３を介してステージ本体２５に伝わる。すると、ステージ本体２５に固定されているＹ軸スライダ２３、２４がＹ軸ガイドバー２１、２２上をＹ軸後退方向にスライドするとともに、ステージ本体２５がＹ軸後退方向に移動する。このＹ軸駆動バー４１ａ、４２ａが後退する際には、推力伝達用スライダ６３はスライドしないが、駆動バー４１ａ、４２ａとステージ本体２５を繋ぐ役割を果たす。
【００４１】
図７（Ｂ）は、Ｘ軸リニアモータの駆動バー３１ａ、３２ａ、及び、Ｙ軸リニアモータの駆動バー４１ａ、４２ａがともに主チャンバ５内に進出した（主チャンバ５内に繰り出された）状態を示している（図中の矢印参照）。Ｘ軸駆動バー３１ａ、３２ａが進出すると、この動きがバー端部３１ｆ、３２ｆを介してＸ軸スライダ１７、１８に伝わり、これらスライダ１７、１８がＸ軸ガイドバー１５、１６上をＸ軸進出方向にスライドする。これと同時に、Ｙ軸ガイドバー２１、２２及びステージ本体２５もＸ軸進出方向に移動する。このとき、ステージ本体２５のＸ軸進出方向への移動に伴い、ステージ本体２５に固定されている推力伝達用スライダ６３もガイドバー６１上をＸ軸進出方向にスライドする。
【００４２】
一方、Ｙ軸駆動バー４１ａ、４２ａが進出すると、この動きが連結部材６０、ガイドバー６１及び推力伝達用スライダ６３を介してステージ本体２５に伝わる。すると、ステージ本体２５に固定されているＹ軸スライダ２３、２４がＹ軸ガイドバー２１、２２上をＹ軸進出方向にスライドし、ステージ本体２５がＹ軸進出方向に移動する。この際にも、前述と同様に推力伝達用スライダ６３はスライドしないが、駆動バー４１ａ、４２ａとステージ本体２５を繋ぐ役割を果たす。
【００４３】
なお、図７ではＸ軸、Ｙ軸駆動バーがともに進出・後退した場合について説明したが、Ｘ軸駆動バーを進出させてＹ軸駆動バーを後退させる、逆にＹ軸駆動バーを進出させてＸ軸駆動バーを後退させる、あるいは、Ｘ軸、Ｙ軸駆動バーの進出・後退量を変化させてステージ本体２５を所定位置に移動する場合等も、同様に行うことができる。
【００４４】
このように、推力伝達用スライダ６３を設けることで、Ｘ軸、Ｙ軸リニアモータ及び各駆動バーの繰り出し軸を定位置に固定した状態で、ステージ本体２５をＸＹ方向に移動させることができる。これにより、主チャンバ５を各駆動バー３１ａ、３２ａ、４１ａ、４２ａが貫通する位置（直線導入機３３、３４、４３、４４の位置）を動かすことができないという制約に対処しつつ、２軸ステージ装置を実現できる。
【００４５】
本実施の形態で述べたステージ装置１は、Ｘ軸及びＹ軸リニアモータ３１、３２、４１、４２が、それぞれリニアモータチャンバ６、７内に配置されており、主チャンバ５内とは隔離されている。そのため、各リニアモータ３１、３２、４１、４２の駆動に伴い発生するアウトガスが主チャンバ５内を汚染することがない。そのため、アウトガスの発生量が比較的大きいリニアモータを用いることができる。さらに、各リニアモータ３１、３２、４１、４２の駆動に伴い発生する外乱磁場を遮蔽することもできるので、露光への悪影響も低減できる。
【００４６】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、チャンバ内の環境汚染を防止できる、あるいは、外乱磁場の悪影響を回避できる等の利点を有するステージ装置等を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る露光装置のステージ装置及びチャンバを示す平面図（チャンバの天井を取った状態）である。
【図２】同ステージ装置及びチャンバを示す斜視図である。
【図３】図２の斜視図からチャンバを除いた図である。
【図４】図３を下側（裏側）から見た斜視図である。
【図５】本発明の一実施の形態に係るステージ装置の直進導入機の構成例を示す断面図である。
【図６】本発明の一実施の形態に係る露光装置のステージ装置のリニアモータの構成例を示す断面図である。
【図７】本実施の形態に係るステージ本体の動作を説明する平面図である。
【図８】本発明の実施の形態に係る電子線露光装置の全体構成例を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１　ステージ装置
５　主チャンバ　　　　　　　　　　　５Ａ、５Ｂ　チャンバ壁部
６、７　リニアモータチャンバ　　　　１１、１２、１３、１４　ポスト
１５、１６　Ｘ軸ガイドバー（直線ガイド）
１７、１８　Ｘ軸スライダ
２１、２２　Ｙ軸ガイドバー（直線ガイド）
２３、２４　Ｙ軸スライダ
２５　ステージ本体
３１、３２　Ｘ軸リニアモータ　　　　３１ａ、３２ａ　駆動バー
３３、３４、４３、４４　直線導入機
４１、４２　Ｙ軸リニアモータ　　　　４１ａ、４２ａ　駆動バー
５１　シャフト　　　　　　　　　　　５２　ベローズ
５３　封止板　　　　　　　　　　　　５４　リアクションフォースキャンセラ６０　連結部材　　　　　　　　　　　６１　ガイドバー（直線ガイド）
６３　推力伝達用スライダ
１００　電子線露光装置　　　　　　　１０１　光学鏡筒（真空チャンバ）
１０２　真空ポンプ　　　　　　　　　１０３　電子銃
１０４　照明光学系　　　　　　　　　１１０　チャック
１１１　レチクルステージ　　　　　　１１２　駆動装置
１１３　レーザ干渉計　　　　　　　　１１４　ドライバ
１１５　制御装置　　　　　　　　　　１１６　定盤
１２１　ウェハチャンバ　　　　　　　１２２　真空ポンプ
１２４　投影光学系　　　　　　　　　１３０　チャック
１３１　ウェハステージ　　　　　　　１３２　駆動装置
１３３　レーザ干渉計　　　　　　　　１３４　ドライバ
１３６　定盤　　　　　　　　　　　　１５１　固定ガイド
１５３　Ｘ軸スライダ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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