(57)【要約】【課題】表面が平滑であって、膜面方向に濁度の異なる相が任意の形状で交互配列した微細パターンを容易に形成することができる新規なパターン形成用材料、それを用いた光学パターン、及びその形成方法を提供する。【解決手段】熱可逆的に濁度が変化する材料であって、異なる濁度状態を電磁波照射によって固定可能であるパターン形成用材料、およびそれを用いたパターン形成方法。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波照射による固定前において濁度が熱可逆であるとともに、電磁波照射による固定後には濁度が熱不可逆であることを特徴とするパターン形成用材料。
【請求項２】
透明状態と白濁状態を電磁波照射によって固定可能であることを特徴とする請求項１記載のパターン形成用材料。
【請求項３】
膜面方向に少なくとも２種類の異なる濁度を有する相が交互に配列されている膜状パターンであって、少なくとも２種類の異なる濁度を有する相が請求項１または２記載のパターン形成用材料からなることを特徴とする膜状パターン。
【請求項４】
膜面方向に透明相と白濁相が交互に配列していることを特徴とする請求項３記載の膜状パターン。
【請求項５】
電磁波照射による固定前において濁度が熱可逆であるとともに、電磁波照射による固定後には濁度が熱不可逆であるパターン形成用材料を基材上に塗設し、所望のパターンに応じた電磁波照射を行い照射部位の濁度を固定化し、次いで温度条件を変えることにより、照射部位の濁度は保持したまま未照射部位の濁度を変化させ、その状態で全面に電磁波照射を行うことにより第一の照射工程における未照射部位の濁度を固定化することを特徴とするパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はパターン形成用材料、膜状パターン及びパターン形成方法に関するものであり、それら材料と製法を用いて形成したパターンは各種分野、とりわけ光学機能素子分野に適用することが可能である。
【０００２】
【従来の技術】
電子部品の性能の高度化により、微細な膜状パターンや構造の必要性はますます高まっている。各種分野におけるパターン形成は、ますます微細化する傾向にある。たとえば半導体集積回路の最小加工寸法は年々微細化しており、研究開発レベルでは、１μｍ以下のレベルになるに至っている。これに伴い、フォトリソグラフィー工程においても、微細寸法を高精度で制御しなければならなくなっており、露光波長の短波長化の試み等が検討されている現状である。
【０００３】
また、パターンの微細化だけではなく、高度な構造制御が重要になってきており、新たな機能を創出すべく検討が進んでいる。例えば、透明相と白濁相の配列構造を高度に制御した微細なパターンは、新規高効率回折格子、光回路、光学素子、光制御材料など、各種分野への応用が可能な光機能性材料として期待される。そのため、この構造のパターンの具現化が望まれ、様々な技術により試みられている。例えば、リソグラフィーや、金型成型により一方の相を先に形成した後、相間の空隙に他の樹脂を注入する方法や、透明フィルムと白濁フィルムを交互に多数積層させ、その積層体の断面をスライスする方法などがあげられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、リソグラフィーや、金型成型を用いた方法ではパターンの精度が低い上、空隙間への樹脂の注入が困難であり、また積層体のスライスを用いた方法では、パターン構造がストライプ構造に制限される。その上、微細な加工を要求するほど、製造コストが高くなってくる。そのため、本発明は、透明相と白濁相の配列構造を高度に制御した微細なパターンを容易に形成できる材料および、パターン形成方法を工業的に確立することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため本発明のパターン形成用材料は、主として次の構成を有する。すなわち、
電磁波照射による固定前において濁度が熱可逆であるとともに、電磁波照射による固定後には濁度が熱不可逆であることを特徴とするパターン形成用材料である。
【０００６】
また、パターン形成用材料の好ましい態様としては、透明状態と白濁状態を電磁波照射によって固定可能であることである。
【０００７】
また、本発明の膜状パターンは、主として次の構成を有する。すなわち、
膜面方向に少なくとも２種類の異なる濁度を有する相が交互に配列されている膜状パターンであって、少なくとも２種類の異なる濁度を有する相が上記パターン形成用材料からなることを特徴とする膜状パターンである。
【０００８】
膜状パターンの好ましい態様としては、膜面方向に透明相と白濁相が交互に配列していることである。
【０００９】
本発明のパターン形成方法は、主として次の構成を有する。すなわち、
電磁波照射による固定前において濁度が熱可逆であるとともに、電磁波照射による固定後には濁度が熱不可逆であるパターン形成用材料を基材上に塗設し、所望のパターンに応じた電磁波照射を行い照射部位の濁度を固定化し、次いで温度条件を変えることにより、照射部位の濁度は保持したまま未照射部位の濁度を変化させ、その状態で全面に電磁波照射を行うことにより第一の照射工程における未照射部位の濁度を固定化することを特徴とするパターン形成方法である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明のパターン形成用材料は、電磁波照射による固定前において熱可逆的に濁度が変化することを特徴とする。濁度とは、下記の関係式で得られる濁度（ヘイズ）のことを表している。濁度とは、光源より入射光が試料を通る間に、入射光束からはずれて散乱透過した光量の百分率をいい、全光線透過率をＴｔ、拡散透過率をＴｄ、直線透過率をＴｐとすると、全光線透過率Ｔｔは次式で示される。
【００１１】
Ｔｔ＝Ｔｄ＋Ｔｐ
また、濁度Ｈｔは、次式で表される。
【００１２】
Ｈｔ＝１００×（Ｔｄ／Ｔｔ）
本発明のパターン形成用材料において、電磁波照射による固定前において熱可逆的に濁度が変化するのは、熱的作用によって該材料の相状態が変化するからである。つまり、温度によって相分離状態が異なる。その変化は、（１）下限臨界共溶温度（ＬＣＳＴ：ｌｏｗｅｒ　ｃｒｉｔｉｃａｌ　ｓｏｌｕｔｉｏｎ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）をもち、低温で相溶性を示し、高温で相分離が誘起される高温相分離型、（２）上限臨界共溶温度（ＵＣＳＴ：ｕｐｐｅｒ　ｃｒｉｔｉｃａｌ　ｓｏｌｕｔｉｏｎ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）をもち、低温で相分離状態で、高温で相溶性を示す低温相分離型に分かれるが、そのいずれであってもよい。該相分離構造は、相互に連通した構造であっても、液滴が分散した構造であっても、またそれらが混在した状態であってもよい。
【００１３】
濁度は、材料の温度条件を変化させることで制御可能である。例えばＵＣＳＴ型相分離の場合、材料の温度が高くなるほど、相溶性が高くなる結果、相分離が少なくなり、濁度が低下する。
【００１４】
また相分離構造の粒径、密度の制御は、透明状態からの熱的条件の変化速度を制御することで可能である。例えばＵＣＳＴ型相分離の場合、高温透明状態から急冷すると粒径が小さくなり、逆に徐冷すると大きくなる。また、徐冷すると相分離構造の密度も高くなる。
【００１５】
透明相、白濁相とは、同膜厚での濁度を比較したとき、濁度が低い方を透明相、高い方を白濁相とする。
【００１６】
本発明のパターン形成用材料は、電磁波照射により相状態が固定する、すなわち電磁波照射により固定した後においては、濁度はもはや熱不可逆となるものである。ここでいう電磁波としては、例えば、電子線、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線などが挙げられる。これらのうち、装置及び取扱いの簡便さから紫外線を用いるのが好ましい。
【００１７】
本発明のパターン形成用材料は、相状態を電磁波により固定するため、電磁波により分子間、及び分子内で架橋する化合物を含有することが好ましい。パターン形成用材料の組成としては、バインダー樹脂、架橋性化合物、重合開始剤、溶媒などから構成される。
【００１８】
本発明に好ましく用いられるバインダー樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプレピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアミド、ポリエーテル、ポリエステルアミド、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリビニルアルコールおよびこれらを主たる成分とする共重合体、またはこれら樹脂の混合物等の熱可塑性樹脂が挙げられる。また、感光性、非感光性のどちらであってもよいし、熱硬化性樹脂であってもよい。また、バインダー樹脂の分子量に特別制限はなく、高分子量体、オリゴマー、低分子量のバインダーも用いることができる。これらの化合物は、単独で用いても、二種類以上の化合物を混合して用いても構わない。
【００１９】
また、本発明に用いられる架橋性化合物は、電磁波の作用により分子内または分子間で反応し架橋重合するものである。ここでいう架橋性化合物としては、該化合物自体が分子間、及び分子内で架橋するするもの、または、重合開始剤の存在下で電磁波を照射することにより架橋するものどちらでも使用できる。前者の例として、分子内に（アザ）スチルベン、ケイ皮酸、ナフタレン、アントラセン、クマリン、チミンといった光二量化性の構造を持つものなど、後者の例としては分子内に、ビニル基、ビニリデン基、アクリロイル基、メタクリロイル基［以下、アクリロイル基とメタクリロイル基を併せて（メタ）アクリロイル基と称する。（メタ）アクリル、（メタ）アクリレート等についても同様の表現とする。］、マレイミド基等の構造を持つものなどが挙げられる。これらの中でも架橋速度が速いことから、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく用いられる。　（メタ）アクリロイル基を有する架橋性化合物の例としては、単官能化合物として、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類、２−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メチルα−（ヒドロキシメチル）アクリレート、エチルα−（ヒドロキシメチル）アクリレート、ｎ−ブチルα−（ヒドロキシメチル）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシ）イソシアヌレートジアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸グリセリンモノメタクリレート等のヒドロキシル基を有するアクリレート類、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−コハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−フタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、等カルボン酸基を有するアクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェニルセロソルブ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルキル基末端ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、その他１分子中に（メタ）アクリル基を１個有する化合物；
二官能化合物として、トリス（２−ヒドロキシ）イソシアヌレートジアクリレート、３−アクリロイロキシグリセリンモノメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，２’−ビス（４−（メタ）アクリロイロキシポリエチレンオキシフェニル）プロパン２，２’−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシポリプロピレンオキシフェニル）プロパン、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、フェニルグリシジルエーテルアクリレートトリレンジイソシアネート、アジピン酸ジビニル等、その他１分子中に（メタ）アクリル基を２個有する化合物；
三官能化合物として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアネート、その他１分子中に（メタ）アクリル基を３個有する化合物；
四官能化合物として、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、その他１分子中に（メタ）アクリル基を４個有する化合物；五官能化合物として、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、その他１分子中に（メタ）アクリル基を５個有する化合物；六官能化合物ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートその他１分子中に（メタ）アクリル基を６個の有する化合物、などが挙げられる。
【００２０】
また、その他に、ビスフェノールＡ−ジエポキシ−（メタ）アクリル酸付加物の如きエポキシ樹脂の（メタ）アクリル酸エステル、ポリエーテル樹脂の（メタ）アクリル酸エステル、ポリブタジエン樹脂の（メタ）アクリル酸エステル、分子末端に（メタ）アクリル基を有するポリウレタン樹脂等、樹脂を変性して分子中に（メタ）アクリロイル基等、架橋性置換基を導入した化合物も用いることができる。これらは、単独で用いても、二種類以上の化合物を混合して用いても構わない。
【００２１】
重合開始剤としては、照射する電磁波の波長に合致するものであれば特に制約はないが、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、４，４’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のケトン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール類、などが挙げられる。
【００２２】
また、好ましく用いられる溶媒としては、上記組成物を均一に溶解させるものであればよく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶媒、メタノール、エタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素系溶媒、その他、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水などが挙げられる。これらは単独で用いても、２種類以上混合させて用いてもよく、組成物の溶解性、塗膜の塗工性等を考慮して適宜選択する。
【００２３】
本発明のパターン形成用材料として用いられる組成物としては、上記化合物のうち、熱可逆的に相分離状態が変化する組み合わせを選択する。組み合わせとは、バインダー樹脂と架橋性化合物からなる組み合わせをいい、この２種類の組成の組み合わせが本発明において重要である。その好ましい組み合わせとしては、例えば、熱可塑性樹脂としてポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート等、およびこれらを主たる成分とする共重合体等のポリエステル系樹脂、架橋性化合物としてヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、リン酸基等の置換基を持つ（メタ）アクリルモノマーの組み合わせが挙げられるが、この組み合わせに制限されない。
【００２４】
本発明のパターン形成方法は、少なくとも、熱可逆的に濁度が変化するパターン形成用材料を基材上に塗設し、所望のパターンに応じた電磁波照射（以下、パターン照射と称する）を行い照射部位の濁度を固定化し、次いで温度条件を変えることにより、照射部位の固定された濁度は維持されたままで温度条件を変えることにより、熱可逆である未照射部位の濁度を変化させ、その状態で全面に電磁波照射を施すことによって第一の照射工程における未照射部位の濁度を固定化させることを特徴とする。
【００２５】
本発明において、同じ面内に異なる濁度の相からなるパターンを形成するためには、どちらか一方の相状態で所望のパターン照射して照射部を固定し、熱処理によって未照射部分の相状態を変化させ、その状態を保ったまま全面照射することにより得られる。このパターン照射の方法としては、フォトマスクを介した照射や、レーザー走査による書き込み等が挙げられる。生産性の面でフォトマスクを介した一括照射のほうが好ましいが、特別これに限定されるものではない。また、低濁度相と高濁度相からなるパターンを形成する場合、パターン照射する相はどちらでも可能であるが、厚膜かつ微細パターンの加工においては、低濁度相にパターン照射するほうが加工精度の面で好ましい。また、後で行う全面照射により塗膜全体が固定化される。更に好ましくは、低濁度相が透明相である場合、高いパターン精度が得られる。
【００２６】
透明相とは、すべての成分が相溶した状態で固定された相であり、以後熱処理をして臨界共溶温度を越えて変化させても、そのまま安定に存在する。一方、その透明相と比べ高濁度の白濁相は、バインダー樹脂中に架橋性化合物が相分離して互いに独立に存在しているため、電磁波を照射した場合にはそのまま各々独立した状態で固定化される。
【００２７】
本発明のパターン形成用材料を用いれば、パターン形成工程において、電磁波照射時の温度条件、照射条件等を適宜設定することにより、所望の濁度を持った相を同一組成物から形成することができる。パターンの濁度の制御は、電磁波照射時の材料の温度を制御することで可能である。例えばＵＣＳＴ型相分離の場合、材料の温度が高くなるほど濁度が低くなる。そのため、パターン照射時の材料の温度と、全面照射時の材料の温度をそれぞれ、所望の濁度となるよう制御した状態で照射する、所望の濁度のパターンを同一組成物から形成することができる。
【００２８】
また、相分離させて白濁相とするためには、相分離した二相の屈折率が異なることが重要であり、これにより界面での光屈折・乱反射が生じ白濁状態が発現する。相分離した二相の屈折率差の絶対値は０．０１以上、好ましくは０．０５である。また濁度は、相分離径、密度、膜厚等にも依存するため、これらを適宜制御することが重要である。さらに言えば、屈折率差、混合比率、膜厚、照射量などにより任意にコントラストをコントロールできることを表している。また、白濁相の濁度を調整するその他の成分、あるいは他機能を付与する成分が添加・分散されていることも好ましい。このようなその他添加剤としては、例えば、無機微粒子または有機微粒子、気泡等が挙げられる。
【００２９】
本発明の膜状パターンは、膜面方向に少なくとも２種類の異なる濁度を有する相が交互に配列されている膜状パターン、例えば、透明相と白濁相が形成されているものであって、膜面方向も透明相と白濁相が交互に配列していることを特徴とする。その配列構造はデルタ状、ストライプ状または蜂の巣状など規則的なものであってもよいし、全く不規則なものであっても良い。フォトマスクを介した照射の場合は、そのデザインにより、また、レーザー走査による書き込みの場合は、その走査形式により、構造に制限されることなく任意のパターンを塗布膜中に形成することができる。
【００３０】
本発明のパターンは特に限定されることなく各種用途に使用することが可能であるが、用途の一例としては、意匠部材、光回路、光コネクタ部材、及びディスプレイ用部材、例えばバックライトユニットに組み込んだときに、輝度向上効果をもつ光学シート、視野角制御シートなどが挙げられる。
【００３１】
また、本発明のパターン形成用材料は、本発明の効果が失われない範囲内で各種の添加剤を加えることができる。添加配合する添加剤の例としては、例えば、顔料、染料、蛍光増白剤、酸化防止剤、耐熱剤、耐光剤、耐候剤、帯電防止剤、重合禁止剤離型剤、増粘剤、ｐＨ調整剤、塩などが挙げられる。また、本発明のパターニング材料を用いて形成した光学パターンは、表面が平滑であるため、その上に、さらに帯電防止層、ハードコート層などを形成したり、他のフィルム等を積層させたり、高次加工することも可能である。
【００３２】
【実施例】
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。なお、諸特性は以下のように測定し、評価した。
（評価方法）
Ａ．透過率、濁度
電磁波照射により透明相、白濁相を固定した１５０μｍの塗膜を作製し、スガ試験機（株）製、全自動直読ヘーズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰを用い、透過率および濁度を測定した。
【００３３】
Ｂ．積層比、アスペクト比
フィルム断面を薄く切り出し、オリンパス光学工業（株）製光学顕微鏡ＢＨ−２および付属のカメラを用い１００倍で写真（透過像）を撮影し、断面観察を行ない、その積層比、アスペクト比を測定した。
（実施例１）
ポリエステル樹脂（”エリーテル”ＵＥ３２５０：ユニチカ（株）製）１００重量部とアクリルモノマー（”ブレンマー”ＡＰ−１５０：日本油脂（株）製）５０重量部、及び光重合開始剤（”イルガキュア”６５１：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５部をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン混合溶媒（１／１，重量比）１００重量部に溶解させた。この溶液を厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（“ルミラー”　１００　ＱＴ１０：東レ（株）製）上にブレードコーターを用いて塗布し、８０℃で９０分乾燥させた後、冷却して、塗膜厚１５０μｍの樹脂シートを得た。
【００３４】
このシートは低温で白濁状態であるが、これを９０℃に加熱すると相溶して透明状態になる低温相分離型（ＵＣＳＴ型）であった。
【００３５】
室温で白濁状態のこのシートに超高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２照射した塗膜を１００℃に加熱しても白濁状態のままで、透明相には変換せず、白濁相を固定することができた。この塗膜の厚さは１５０μｍで、光線透過率は７６．５２％で、濁度は９３．５４％で高い拡散透過性を示した。
【００３６】
また、樹脂シートを９０℃に加熱し、透明状態にした後、その状態を保ったまま高圧水銀光を１００ｍＪ／ｃｍ２照射した。これを室温まで冷却しても透明状態のままで白濁せず、相溶相を固定できた。この塗膜厚さは１６０μｍで、光線透過率は９１．２８％、濁度は４．６０％で、高い直進透過性を示した。
【００３７】
次に、得られた樹脂シートを、１００℃で透明状態にした後、そのまま１００μｍのギャップフィルムを挟んで、ピッチ５０μｍ幅３０μｍのストライプパターンのフォトマスクを重ね、超高圧水銀灯を３５ｍＪ／ｃｍ２照射した。照射後、室温まで冷却し、１時間放置した後１０００ｍＪ／ｃｍ２全面照射してストライプパターンを形成した。
【００３８】
得られた塗膜の断面を薄くスライスし、光学顕微鏡で観察したところ、パターン照射部は３０μｍの透明相、パターン未照射部は２０μｍの白濁相が交互に配列し、かつ透明相のアスペクト比が５．３である光学パターンを形成できていることを確認した。
（実施例２）
組成をポリエステル樹脂（”エリーテル”ＵＥ３２５０：ユニチカ（株）製）１００重量部とアクリルモノマー（”ブレンマー”ＡＰ−１５０：日本油脂（株）製）４０重量部、アクリルモノマー（”アロニックス”Ｍ−６２５０：東亞合成（株）製）１０重量部、及び光重合開始剤（”イルガキュア”６５１：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５部にした以外は実施例１と同様に樹脂シートを得た。この樹脂シートの塗膜厚は１５０μｍで、実施例１と同様、低温で白濁状態であるが、これを９０℃に加熱すると相溶して透明状態になる低温相分離型（ＵＣＳＴ型）であった。
【００３９】
このシートは実施例１と同様の操作で、白濁相、透明相を光固定が可能であった。この塗膜の厚さは１５０μｍで、白濁相の光線透過率は８８．３６％、濁度は６２．１５％、透明相の光線透過率は９１．７１％で、濁度は３．２４％であった。
【００４０】
次に、実施例１と同様の操作でストライプパターンを形成し、得られた塗膜の断面を薄くスライスし、光学顕微鏡で観察したところ、パターン照射部は３０μｍの透明相、パターン未照射部は２０μｍの白濁相が交互に配列し、かつ透明相のアスペクト比が５．０である光学パターンを形成できていることを確認した。
（実施例３）
組成をポリエステル樹脂（”エリーテル”ＵＥ３２５０：ユニチカ（株）製）１００重量部とアクリルモノマー（”ブレンマー”ＡＰ−１５０：日本油脂（株）製）４０重量部、アクリルモノマー（”ライトアクリレート”ＰＥ−３Ａ：共栄社化学（株）製）１０重量部、及び光重合開始剤（”イルガキュア”６５１：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５部にした以外は実施例１と同様に樹脂シートを得た。この樹脂シートの塗膜厚は１５０μｍで、実施例１、２と同様、低温で白濁状態であるが、これを９０℃に加熱すると相溶して透明状態になる低温相分離型（ＵＣＳＴ型）であった。
【００４１】
このシートは実施例１と同様の操作で、白濁相、透明相を光固定が可能であった。この塗膜の厚さは１５０μｍで、白濁相の光線透過率は８８．８２％、濁度は６０．３１％、透明相の光線透過率は９２．８１％で、濁度は３７．４６％であった。
【００４２】
次に、実施例１と同様の操作でストライプパターンを形成し、得られた塗膜の断面を薄くスライスし、光学顕微鏡で観察したところ、パターン照射部は３０μｍの透明相、パターン未照射部は２０μｍの白濁相が交互に配列し、かつ透明相のアスペクト比が５．０である光学パターンを形成できていることを確認した。
【００４３】
【発明の効果】
本発明によれば、一枚の膜中に透明相と白濁相を同一の組成物から形成でき、また表面が平滑で、かつ生産性に優れたパターン形成用材料が得られる。
【００４４】
また本発明のパターニング材料を用いると、リソグラフィーや、金型成形、張り合わせといった複雑な工程を経由せず、表面が平滑でかつ透明相と白濁相が任意の構造で交互に配列し、その繰り返し単位が非常に小さい、厚膜かつ高アスペクト比のパターンを容易に形成することが可能となる。