(57)【要約】【課題】チャンバーのメンテナンス時の作業効率を向上させると共に、メンテナンス作業を確実に行うことができ、基板処理の歩留まりを向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板を搬入または搬出するための開口を有し、基板に処理を施すチャンバーと、チャンバー内の雰囲気を排気する排気手段と、チャンバー内の雰囲気に不活性ガスや表面処理用ガスを給気する給気手段とを有し、チャンバーが基板処理装置本体に対して引き出し可能とされた基板処理装置であって、排気手段と給気手段を構成するチャンバー側の接続配管と基板処理装置側の接続管とを着脱自在に係止する排気係止機構および給気係止機構が設けられていることを特徴とする基板処理装置。【選択図】  図２
2004296500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬入または搬出するための開口を有し、基板に処理を施すチャンバーと、前記チャンバー内の雰囲気を排気する排気手段と、前記チャンバー内の雰囲気に不活性ガスや表面処理用ガスを給気する給気手段とを有し、前記チャンバーが前記基板処理装置本体に対して引き出し可能とされた基板処理装置であって、
前記排気手段を構成する前記チャンバー側の排気接続配管と前記基板処理装置側の排気接続管とを着脱自在に係止する排気係止機構、および、前記給気手段を構成する前記チャンバー側の給気接続配管と前記基板処理装置側の給気接続管とを着脱自在に係止する給気係止機構とが設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板を搬入または搬出するための開口を有し、基板に処理を施すチャンバーと、前記チャンバー内の雰囲気を排気する排気手段を有し、前記チャンバーが前記基板処理装置本体に対して引き出し可能とされた基板処理装置であって、
前記排気手段を構成する前記チャンバー側の排気接続配管と前記基板処理装置側の排気接続管とを着脱自在に係止する排気係止機構が設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
基板を搬入または搬出するための開口を有し、基板に処理を施すチャンバーと、前記チャンバー内の雰囲気に不活性ガスや表面処理用ガスを給気する給気手段とを有し、前記チャンバーが前記基板処理装置本体に対して引き出し可能とされた基板処理装置であって、
前記給気手段を構成する前記チャンバー側の給気接続配管と前記基板処理装置側の給気接続管とを着脱自在に係止する給気係止機構が設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
前記チャンバー側の接続配管と前記基板処理装置側の接続管とを着脱自在に係止する前記排気係止機構および前記給気係止機構の係止手段は、
ラッチ式ロック手段であることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記排気係止機構および前記給気係止機構に前記接続配管の着脱状態を検出する検出手段をさらに設けたことを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記基板処理装置の前記排気接続管は、該基板処理装置の構成部材を兼ねることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板や半導体ウエハ等の各被処理基板に対して処理を行う基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板の処理装置は、液晶表示用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板や半導体ウエハ等の基板を処理するために使用される。例えば、基板にフォトレジスト膜が塗布された状態で、この塗膜中の溶剤を蒸発させるために、基板処理装置は、基板を加熱処理するのに使用される。この加熱処理は、プロセス工程において、ムラが生じないようにするために、できるだけ均一に行なわれることが求められる。加熱手段としては、ホットプレートが使用され、基板がホットプレートの加熱面と所定の間隔を置いて支持されて、ホットプレートにより、
近接した位置から専ら輻射熱伝達を通して加熱されるようになっている。このホットプレートは、ほぼ周囲に対して密閉され、基板処理装置本体から引き出し可能に構成されたチャンバー内に収納されている。基板処理装置においては、省スペースや複数枚の基板を同時に処理するために、チャンバーを縦方向に複数段に配設しているものもある（例えば、特許文献１参照）。
また、基板の加熱処理や冷却処理においては、基板の温度の均一性を確保するために、チャンバーの内部に外気が流入するのを遮断している。
各チャンバーには、チャンバー内の雰囲気を排気するための排気管と排気ホースが設けられている。また、チャンバー内の雰囲気中に窒素ガスなどのパージガスを供給するための給気管と給気ホースが設けられている。これらの排気管および給気管は、図８に示すように、チャンバー０２側のホース０３と基板処理装置０１側に設けられた短管０４とをバンドなどの固定具０５で直接的に固定接続されていた。
【０００３】
【特許文献１】
特開８−３２１４７０号公報（第３−５頁、第１図）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、チャンバーは縦方向に複数段に配設され、各チャンバー内の雰囲気の給排気管はメイン配管に接続集合され、チャンバー自体は密閉構造であるため、連続運転で基板に塗布した薬液が乾燥し脱落したものや基板自体に付着しているパーティクル等がチャンバー内に付着堆積し、基板処理の歩留まりを低下させる虞がある。歩留まりの低下を防ぐために、チャンバーを基板処理装置本体から引き出し、チャンバー内に付着堆積したパーティクル等を除去・清掃するメンテナンス作業が必要となり、その作業実施の容易さがより重要となった。
【０００５】
しかし、チャンバーを基板処理装置本体から引き出す場合、排気管および給気管において、チャンバー側のホースが基板処理装置側の短管に固定具で固定接続されているため、チャンバーを基板処理装置本体から引き出す度に、手作業にて固定具を取り外し、チャンバーのホースと基板処理装置の短管との接続を解除しなければならなかった。このように、従来の基板処理装置では、チャンバーのメンテナンスを行う際、作業が複雑・面倒であるため、作業性が極めて悪かった。
【０００６】
また、メンテナンス作業の後、チャンバーを基板処理装置本体に戻した際に、排気管や給気管において、ホースと短管との接続忘れや接続不良があり、メンテナンス作業の確実性が乏しかった。
【０００７】
本発明の目的は、上述の技術的課題を解決し、チャンバーのメンテナンス時の作業効率を向上させると共に、メンテナンス作業を確実に行うことができ、基板処理の歩留まりを向上させることができる基板処理装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板処理装置は、基板を搬入または搬出するための開口を有し、基板に処理を施すチャンバーと、チャンバー内の雰囲気を排気する排気手段と、チャンバー内の雰囲気に不活性ガスや表面処理用ガスを給気する給気手段とを有し、チャンバーが基板処理装置本体に対して引き出し可能とされた基板処理装置であって、排気手段と給気手段を構成するチャンバー側の接続配管と基板処理装置側の接続管とを着脱自在に係止する排気係止機構および給気係止機構が設けられていることを特徴とするものである。
【０００９】
この構成によれば、排気手段と給気手段を構成するチャンバー側の接続配管と基板処理装置側の接続管とを着脱自在に係止するラッチ式ロック手段からなる排気係止機構および給気係止機構が設けられているので、チャンバー内に付着堆積したパーティクル等を除去・清掃するのにチャンバーを基板処理装置本体から引き出す際、接続配管と接続管との着脱が簡単であり、チャンバーの引き出しが容易になるため、チャンバーのメンテナンス時の作業効率を向上させることができ、
基板処理の歩留まりを向上させることができる。
【００１０】
上記構成において、排気係止機構および給気係止機構に接続配管の着脱状態を検出する検出手段をさらに設けたことを特徴とするものである。
この構成によれば、排気係止機構および給気係止機構に接続配管と接続管との着脱状態を検出する検出手段がさらに設けられているので、チャンバー内に付着堆積したパーティクル等を除去・清掃した後に、チャンバーを基板処理装置本体に戻した際に、接続配管と接続管との接続忘れや接続不良などがなくなり、メンテナンス作業が確実に行われることになる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
図１ないし図５は、本発明に係わる基板処理装置の一実施形態を示すものであり、図１は基板処理装置の概略斜視図、図２は排気係止機構部の正面図、図３は排気係止機構部の平面図、図４は排気係止機構部の側面図、図５は接続配管と接続管との接続が解除された状態を示す概略斜視図である。
【００１２】
基板処理装置１０は、図１に示すように、基板処理装置１０の略中央に配置されたチャンバー１１、チャンバー１１の前側（図１に向かって、手前側）の左右両側面に設けられた排気接続部１２（１２ａ，１２ｂ）、排気接続部１２に設けら
れたチャンバー１１側の排気接続配管と基板処理装置１０側の排気接続管とを着脱自在に係止する排気係止機構部１３（１３ａ，１３ｂ）、チャンバー１１の後側
の左右両側面に設けられた給気接続部（図示せず）及び給気接続部に設けられたチャンバー１１側の給気接続配管と基板処理装置１０側の給気接続管とを着脱自在に係止する給気係止機構部（図示せず）を含み、移送されてきた基板（図示せず）に対してチャンバー１１内にて、種々の処理を施すものである。
チャンバー１１は、メンテナンスが必要になった時には、基板処理装置１０の前側に引き出し可能となっている。
【００１３】
排気接続部１２（１２ａ，１２ｂ）は、図２及び図３に示すように、チャンバー１１側の排気接続配管であるチャンバー１１に固定された排気接続管１２１（１２１ａ、１２１ｂ）、伸縮自在な排気ホース１２２（１２２ａ、１２２ｂ）、
シール部材１２３ａ、１２３ｂを持った排気ホース先端部１２４（１２４ａ、１２４ｂ）、基板処理装置１０側の排気接続管である排気ダクト１０１（１０１ａ、
１０１ｂ）、排気ダクト１０１（１０１ａ、１０１ｂ）の側面に空けられ排気ホー
ス先端部１２４（１２４ａ、１２４ｂ）と係合する係合孔１０２（１０２ａ、１０２ｂ）（図５参照）等から構成されている。
チャンバー１１内の雰囲気は、排気接続管１２１ｂ、排気ホース１２２ｂ、排気ホース先端部１２４ｂ、排気ダクト１０１ｂ等を通って、基板処理装置１０の上部に設けられた排気手段（図示せず）によって、外部に排気される。
【００１４】
メンテナンス作業時には、シール部材１２３ｂを持った排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂとの接続が排気係止機構部１３ｂによって解除され、チャンバー１１が基板処理装置１０から外部に引き出される。
図５に、排気係止機構部１３ｂによって、排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂの係合孔１０２ｂとの接続が解除された状態を示す。
【００１５】
排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂとの接続を着脱自在に係止する排気係止機構部１３ｂは、図２ないし図４に示すように、チャンバー１１に固定されたブロック１３１ｂ、ブロック１３１ｂに対して摺動可能な上シャフト１３２ｂと下シャフト１３３ｂ、上シャフト１３２ｂと下シャフト１３３ｂを連結する固定プレート１３４ｂ（固定プレート１３４ｂは、排気ホース先端部１２４ｂとも連結・固定されている）と連結プレート１３５ｂ、上シャフト１３２ｂに固定された固定ブロック１３６ｂ、ブロック１３１ｂと固定ブロック１３６ｂとに跨いで設けられたラッチ式ロック手段１３７ｂ等から構成されている。
ブロック１３１ｂには、排気接続管１２１ｂと排気ホース１２２ｂが連結・固定されている。ブロック１３１ｂと固定ブロック１３６ｂとに跨いで設けられたラッチ式ロック手段１３７ｂを操作することによって、排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂとの接続が着脱自在に行われる。
【００１６】
図６及び図７に、ラッチ式ロック手段１３７ｂの操作による排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂとの接続の着脱状態を示す。図６は、接続の着状態から脱状態への動作を示し、図７は、接続の脱状態から着状態への動作を示している。
【００１７】
図６において、図６ａは、排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂとの接続が着の状態を示し、図６ｂは、ラッチ式ロック手段１３７ｂの旋錠を開錠した結果、接続が脱の状態になったことを示している。図６ａで、閉錠されているラッチ式ロック手段１３７ｂの旋錠を開錠する（ラッチ式ロック手段１３７ｂのレバーを押し上げる）ことにより、ラッチ式ロック手段１３７ｂのロック機構が解除され、チャンバー１１に固定されたブロック１３１ｂに対して摺動可能な上シャフト１３２ｂと下シャフト１３３ｂとが連動して、排気ダクト１０１ｂに対して離れる方向（図６に向かって、左方向）に移動する。上シャフト１３２ｂと下シャフト１３３ｂとに連結された固定プレート１３４ｂと連結プレート１３５ｂも一緒に左方向に移動する。排気ホース先端部１２４ｂは、固定プレート１３４ｂに連結・固定されているので、排気ホース先端部１２４ｂも左方向に移動し、排気ダクト１０１ｂとの接続が解除され、脱の状態になる。
【００１８】
図７において、図７ａは、排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂとの接続が脱の状態を示し、図７ｂは、ラッチ式ロック手段１３７ｂの旋錠を閉錠した結果、接続が着の状態を示している。図７ａで、開錠されているラッチ式ロック手段１３７ｂの旋錠を閉錠する（ラッチ式ロック手段１３７ｂのレバーを押し下げる）ことにより、ラッチ式ロック手段１３７ｂのロック機構が働き、チャンバー１１に固定されたブロック１３１ｂに対して摺動可能な上シャフト１３２ｂと下シャフト１３３ｂとが連動して、開錠の場合と逆に、排気ダクト１０１ｂに対して近づく方向（図６に向かって、右方向）に移動する。上シャフト１３２ｂと下シャフト１３３ｂとに連結された固定プレート１３４ｂと連結プレート１３５ｂも一緒に右方向に移動する。排気ホース先端部１２４ｂも右方向に移動し、
排気ダクト１０１ｂとの接続・係止がなされ、着の状態になる。
【００１９】
また、図３に示すように、排気係止機構部１３に接続配管と接続管との着脱状態を検出するための検出手段１６（１６ａ，１６ｂ）｛着脱検出センサ１６１（１
６１ａ，１６１ｂ）と検出用ドグ１６２（１６２ａ，１６２ｂ）から構成される｝
が設けられている。同様に、不図示の給気係止機構部にも同様な検出手段が設けられている。
排気ホース先端部１２４ａ、１２４ｂと排気ダクト１０１ａ、１０１ｂとの接続の着脱状態を検出する着脱検出センサ１６１ａ、１６１ｂがブロック１３１ａ、
１３１ｂに設けられ、検出用ドグ１６２ａ、１６２ｂが固定ブロック１３６ａ、１３６ｂに設けられている。
【００２０】
着脱検出センサ１６１のＯＮ、ＯＦＦによって、排気ホース先端部１２４と排気ダクト１０１との接続の着脱状態が検出される。着脱検出センサ１６１がＯＮの時は、接続の着状態を示し、着脱検出センサ１６１がＯＦＦの時は、接続の脱状態を示す。
例えば、排気ホース先端部１２４ｂと排気ダクト１０１ｂとの着脱状態が着状態でなければならないのに、着脱検出センサ１６１ｂがＯＦＦの時は、メンテナンス作業後の接続忘れか、接続不良と考えられる。
【００２１】
接続配管と接続管との着脱状態を検出する検出手段を設けることにより、チャンバー内に付着堆積パーティクル等を除去・清掃した後に、チャンバーを基板処理装置本体に戻した際に、接続配管と接続管との接続忘れや接続不良などがなくなり、メンテナンス作業が確実に行われることになる。
【００２２】
また、この基板処理装置１０では、基板処理装置１０の構成部材である四隅の縦フレーム（中空部材）１８の内、装置前側の左右両側面に設けられた縦フレーム１８ａ，１８ｂ（図１参照）は、排気部の排気ダクトを兼ねている。これと同様に、装置後側の左右両側面に設けられた縦フレーム（図示せず）は、給気部の給気ダクトを兼ねている。
従来の基板処理装置０１では、図８に示すように、基板処理装置０１の構成部材である四隅の縦フレーム０６の近傍に排気部の排気ダクト０７や給気部の給気ダクトが設けられていた。
このように、装置の構成部材（フレーム）と給排気部の給排気ダクトとを兼用することにより、基板処理装置１０のコンパクト化とコストダウンが可能となる。
【００２３】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の基板処理装置によれば、チャンバーのメンテナンス時の作業効率を向上させると共に、メンテナンス作業を確実に行うことができ、
基板処理の歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】基板処理装置の概略斜視図である。
【図２】排気係止機構部の正面図である。
【図３】排気係止機構部の平面図である。
【図４】排気係止機構部の側面図である。
【図５】接続配管の接続が解除された状態を示す概略斜視図である。
【図６】接続の着状態から脱状態への動作図である。
【図７】接続の脱状態から着状態への動作図である。
【図８】従来の基板処理装置の一部側面図である。
【符号の説明】
１０  基板処理装置
１１  チャンバー
１２  排気接続部
１３  排気係止機構部
１６  検出手段
１８  縦フレーム（中空部材）
【図１】
2004296500.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2004296500.tif 000008
【図７】
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【図８】
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