(57)【要約】【課題】基板に形成された配向膜の表面にラビング処理を行う際、装置を小型化し、かつ効率良くラビングを行うことができる電気光学装置における基板のラビング装置とそのラビング方法を提供する。【解決手段】回転軸２ｂが所定の平面内に固定配置され基板３の配向膜をラビング処理するラビングローラ２と、上記基板３を載置して移動するステージ１０と、上記ステージ１０を上記ラビングローラ２に対し、上記平面に平行な平面上に規定したＸ軸方向にガイドする第１のガイド１３と、上記ステージ１０を上記ラビングローラ２に対し、上記平面に平行な平面上に規定したＹ軸方向にガイドする第２のガイド１４と、上記ステージ１０の移動を制御する制御手段５０とを具備することを特徴とする。【選択図】　図１
2004125884.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された配向膜に、ラビングローラを当接させラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、
上記ラビングローラを固定配置し、上記ラビングローラに対し、上記基板をＸ軸とＹ軸の２軸によってバイアス角度を制御して進行させ、ラビングすることを特徴とする電気光学装置における基板のラビング装置。
【請求項２】
回転軸が所定の平面内に固定配置され基板の配向膜をラビング処理するラビングローラと、
上記基板を載置して移動するステージと、
上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したＸ軸方向にガイドする第１のガイドと、
上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したＹ軸方向にガイドする第２のガイドと、
上記ステージの移動を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とする電気光学装置における基板のラビング装置。
【請求項３】
上記ステージは、基板の位置を規定する回動台を有し、載置した基板を上記平面に平行な平面上で回動自在に支持することを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
【請求項４】
上記ステージは、回動台に載置した基板の円周方向の位置を規定することを特徴とする請求項２または３に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
【請求項５】
上記ステージは、載置した上記基板の位置を検出するＣＣＤカメラを有していることを特徴とする請求項２または３あるいは４に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
【請求項６】
上記ステージは、配設された回動台の回動中心がラビング処理時に、回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心に少なくとも当接して移動することを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
【請求項７】
配向膜の形成された基板を、所定の平面上に規定したＸ軸とＹ軸との２軸によりバイアス角度を制御し、ラビングローラに対して搬送し、ラビング処理した基板を用いて構成された電気光学装置。
【請求項８】
基板上に形成された配向膜に、ラビングローラを当接させてラビング処理を施すラビング処理工程において、
上記基板を平面上に規定したＸ軸とＹ軸の２軸によりバイアス角度を制御し、ローラに進行させてラビングする工程を有することを特徴とする電気光学装置における基板のラビング方法。
【請求項９】
基板をステージ上に載置する工程と、
載置した基板の位置のＸ軸方向の位置を規定する工程と、
上記ステージ上に載置した基板の位置を、ＣＣＤカメラによって検出する工程と、
上記ステージ上に載置した基板の厚みを、厚み検出手段によって検出し、上記ラビングローラ及び上記ステージを上記ラビングローラの高さ方向に制御する工程と、
上記ステージ上に載置した基板を、平面上に規定したＸ軸、Ｙ軸の２軸の原点座標位置に移動させる工程と、
上記２軸の原点座標位置に移動した上記ステージに載置した基板を、ラビングの開始位置に移動させる工程と、
上記ステージ上に載置した基板を、上記２軸によってバイアス角度を制御して進行させることにより上記ラビングローラに当接させ、載置した上記基板のラビングを行う工程と、
を具備したことを特徴とする電気光学装置における基板のラビング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置における基板のラビング装置及びラビング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、液晶装置等の電気光学装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＴＦＴと称す）等のスイッチング素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組み立て工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【０００４】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板とを対向させ、その対向面、即ち、対向基板及びＴＦＴ基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部を形成し、このシール部を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【０００５】
ここで、ラビング処理とは、布等のクロス材で表面が形成されたラビングローラを、基板表面に形成された配向膜上に回転しながら直線的に摺動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００６】
このラビング処理は、従来、図６に示すように、固定された基板１５０に対して直動する移動テーブル１０５に、回転軸が垂直となるようにラビングローラ１０１を配設したラビング装置１００により行われていた。しかし、この装置１００では、ラビングローラ１０１の表面に、例えば、１つの傷があるかまたは異物１０２が付着すると、ラビングローラ１０１が基板１５０の配向膜上を直線的に回転しながら摺動する際、配向膜に１本のスジ１５１がついてしまい、このスジ１５１がついた基板を使用して構成された液晶装置を、プロジェクタ等に用いて投影すると、画面にも１本のスジが写ってしまうといった問題があった。
【０００７】
そこで、このような問題を解決するための手段として、図７に示すバイアスラビング装置２００が一般的に用いられている。即ち、このバイアスラビング装置２００は、基板２５０を、図６で示した基板１５０が配置された位置の中心軸線１５２をθ角だけ傾けることによりθ角回動した位置に配置し、これとともに、直動する移動テーブル２０５及びラビングローラ２０１も、図６で示した移動テーブル１０５及びラビングローラ１０１の配置位置の中心軸線１０３を任意の上記θ角と同じだけ傾けた位置に設定し、その後、ラビングローラ２０１で基板２５０の配向膜上を回転しながら直線的に摺動するようにしたもので、所謂、バイアスラビングを行うようにしたものである。
【０００８】
このバイアスラビング装置２００によれば、ラビングローラ２０１の表面に、例えば１つの傷があるかまたは異物２０２が付着したとしても、ラビングローラ２０１は、設定されたある角度θをもって基板２５０の配向膜上を、回転しながら直線的に摺動するため、配向膜につく傷は、１本のスジにはならず、ある幅を持った、ぼやけた傷２５１となる。これにより、基板をプロジェクタ等に用いて投影した際、画面に写る傷痕を軽減することができる。このバイアスラビングで用いられるバイアスラビング装置は、特許文献１等に種々開示されている。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−３１８０３号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなバイアスラビング装置では、大型のラビングローラを支持する移動テーブルまで任意の所定角θ、傾けるために回動しなければならず、また、固定した基板に対して大型のラビングローラが移動することにより基板上に形成された配向膜をラビングするため、装置が大型化してしまうといった問題がある。
【００１１】
さらに、ラビングローラを支持する移動テーブルのみならず、基板をも任意の所定角θに回動しなければならないため、角度精度を両者に求めなければならず、作業の効率が良くない。
【００１２】
本発明は上記問題に着目してなされたものであり、その目的は、基板に形成された配向膜の表面にラビング処理を行う際、装置を小型化し、かつ効率良くラビングを行うことができる電気光学装置における基板のラビング装置及びラビング方法を提供するにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係る電気光学装置における基板のラビング装置の一つの態様としては、基板上に形成された配向膜に、ラビングローラを当接させラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、上記ラビングローラを固定配置し、上記ラビングローラに対し、上記基板をＸ軸とＹ軸の２軸によってバイアス角度を制御して進行させ、ラビングすることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、回転軸が所定の平面内に固定配置され基板の配向膜をラビング処理するラビングローラと、上記基板を載置して移動するステージと、上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したＸ軸方向にガイドする第１のガイドと、上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したＹ軸方向にガイドする第２のガイドと、上記ステージの移動を制御する制御手段とを具備することを特徴とする。
【００１５】
本発明の電気光学装置における基板のラビング装置によれば、上記基板を載置した上記ステージを、上記第１のガイド及び上記第２のガイドを用いた平面上の２軸制御により、バイアス角度を設定して上記ラビングローラに対して移動させ当接させるので、上記基板のみを移動させるだけで、上記基板上に形成された配向膜のラビングを行うことができ、従って、装置を小型化することができるという効果を有する。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、基板の位置を規定する回動台を有し、載置した基板を上記平面に平行な平面上で回動自在に支持することを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、上記ステージは、配設された回動台によって、載置した上記基板を平面上に回動自在に支持することにより、バイアスラビング時のラビングローラに対する基板の平面上の当接角度を自在に調節することができるという効果を有する。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、回動台に載置した基板の円周方向の位置を規定することを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、上記ステージは、載置した基板の円周方向に対する位置を規定することにより、基板の処理枚数を増やしても、バイアスラビングを常に精度良く同角度で行うことができるという効果を有する。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、載置した上記基板の位置を検出するＣＣＤカメラを有していることを特徴とする。
【００２１】
この構成によれば、ステージに載置した基板の位置決め用切り欠きにより、基板の位置決めを行う際、ＣＣＤカメラを用いることにより、確度良く基板の円周方向に対する位置決めを行うことができるという効果を有する。
【００２２】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、配設された回動台の回動中心がラビング処理時に、回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心に少なくとも当接して移動することを特徴とする。
【００２３】
この構成によれば、上記ステージに配設された回動台の回動中心が、上記制御手段による２軸制御により上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心に必ず当接することにより、基板全面を効率良くバイアスラビングすることができるという効果を有する。
【００２４】
また、本発明の電気光学装置としては、配向膜の形成された基板を、所定の平面上に規定したＸ軸とＹ軸との２軸によりバイアス角度を制御し、ラビングローラに対して搬送し、ラビング処理した基板を用いて構成される。
【００２５】
この構成によれば、電気光学装置に用いる基板の配向膜は、バイアスラビング処理によりラビングが施されていることにより、ラビングローラの表面に、例えば１つの傷があるかまたは異物が付着したとしても、基板に付着する傷が１本のスジにはならず、ぼやけた傷となるので、基板を電気光学装置に用いてプロジェクタ等で投影した際、画面に写る傷痕を軽減することができるという効果を有する。
【００２６】
本発明の電気光学装置における基板のラビング方法の１つの態様としては、基板上に形成された配向膜に、ラビングローラを当接させてラビング処理を施すラビング処理工程において、上記基板を平面上に規定したＸ軸とＹ軸の２軸によりバイアス角度を制御し、ローラに進行させてラビングする工程を有することを特徴とする。
【００２７】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング方法は、基板をステージ上に載置する工程と、載置した基板の位置のＸ軸方向の位置を規定する工程と、上記ステージ上に載置した基板の位置を、ＣＣＤカメラによって検出する工程と、上記ステージ上に載置した基板の厚みを、厚み検出手段によって検出し、上記ラビングローラ及び上記ステージを上記ラビングローラの高さ方向に制御する工程と、上記ステージ上に載置した基板を、平面上に規定したＸ軸、Ｙ軸の２軸の原点座標位置に移動させる工程と、上記２軸の原点座標位置に移動した上記ステージに載置した基板を、ラビングの開始位置に移動させる工程と、上記ステージ上に載置した基板を、上記２軸によってバイアス角度を制御して進行させることにより上記ラビングローラに当接させ、載置した上記基板のラビングを行う工程とを具備したことを特徴とする。
【００２８】
本発明の電気光学装置における基板のラビング方法によれば、上記基板を載置した上記ステージを、平面上に規定した２軸によってバイアス角度を制御して上記ラビングローラに向けて移動させ当接させる工程により、上記基板のみを前記２軸でバイアス制御させるだけで、上記基板上に形成された配向膜のラビングを行うことができるため、効率良くラビングを行うことができ、かつ装置を小型化することができるという効果を有する。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の一実施の形態を示す電気光学装置における基板のラビング装置の構成を示した平面図、図２は図１のラビング装置を用いて行うラビング動作を説明した要部拡大平面図、図３は、図１のラビング装置における第１の回動台２４の要部拡大平面図、図４は、図１のラビング装置におけるステージ台１０及びステージ回動台１１の要部拡大平面図である。
【００３０】
本実施形態においてＸ軸方向とは、後述するラビングローラ２の回転軸２ｂと平行な方向のことであり、また、Ｙ軸方向とは、ラビングローラ２の回転軸２ｂと直交する方向のことである。さらに、本実施形態は電気光学装置として液晶パネルを例に挙げて説明する。
【００３１】
図１に示すように、ラビング装置１は、図示しない基台上面（以下、基準平面と称す）に対して固定されたラビングローラ２と、ラビング処理時に基板３を載置してＸ軸、Ｙ軸を規定した上記基準平面に平行な平面上を移動するステージ１０と、このステージ１０に配設され、基板３を上記基準平面に平行な平面で回動自在に保持するステージ回動台１１と、ステージ１０をＸ軸方向にガイドする第１のガイド１３と、この第１のガイド１３をＹ軸方向にガイドする第２のガイド１４と、第１のガイド１３及び第２のガイド１４の移動の制御を行う制御手段５０と、ステージ１０上に載置した基板３の厚みを測定する厚み測定機１５と、配向膜の形成されたラビング処理前の基板３が複数枚収納された第１のキャリアカセット２０と、この第１のキャリアカセット２０から基板３を１枚づつ基板搬入室２６に抽出する取出しハンド２１と、一対の第１の基板保持アーム２３を有し、この第１の基板保持アーム２３で基板３を保持してステージ１０に搬送する第１の搬送シャトル２２と、この第１の搬送シャトル２２の移動の制御を行う第１の搬送シャトル制御機構２５と、上記基準平面に固定され、基板の第１の位置決めを行う第１の回動台２４と、一対の第２の基板保持アーム３３を有し、この第２の基板保持アーム３３でラビング処理の終えた基板３を保持して後述する収納ハンド３１に搬送するための第２の搬送シャトル３２と、この第２の搬送シャトル３２の移動の制御を行う第２の搬送シャトル制御機構３５と、上記基準平面に固定され、ラビング処理後の基板３を必要に応じて収納方向を一定に整える第２の回動台３４と、この第２の回動台３４から搬送された基板３を収納する基板収納室３６と、ラビング処理後の基板３を第２のキャリアカセット３０に収納するための収納ハンド３１とで、その主用部が構成されている。
【００３２】
上記ラビングローラ２は、布等のクロス材で形成されたローラ周面２ａを有するローラと、回転軸２ｂと、一対の軸受け２ｃとでその主用部が構成されており、回転軸２ｂは、一対の軸受け２ｃにより上記基準平面に平行な平面上に回転自在に軸支されている。一対の軸受け２ｃは、その各々の一端面が上記基準平面に固定されており、上記基準平面に対し高さ調節機構を有している。このように構成されたラビングローラ２は、軸受け２ｃで支持された回転軸２ｂを中心に周面２ａが一方向に回転しながら基板３の表面に形成された配向膜に当接し、基板３の配向膜表面に細かい溝を形成して前記配向膜を配向異方性の膜にするものである。
【００３３】
上記ステージ１０は、ラビング処理時には制御手段５０に位置を制御され、図示しないサーボモータ及びボールネジを用いた第１のガイド１３及び第２のガイド１４により上記基準平面に平行な平面を直線的に移動し、載置した基板３をラビングローラ２の周面２ａに当接させ、摺動させることにより、基板３に形成された配向膜のラビングを行うものである。
【００３４】
上記ステージ回動台１１は、ステージ１０の上面に配設され、後述するＣＣＤカメラ１１ａ（図４参照）を有し、このＣＣＤカメラ１１ａで後述する載置した基板３のアライメントマーク３ｂを検出して上記基準平面に平行な平面上を回動し、基板３の円周方向に対する位置合わせを行うものである。
【００３５】
上記厚み検出器１５は、ステージ上に載置した基板３の厚みを検出し、ラビング処理時に、ラビングローラ２と基板３が適切な高さで当接するよう、ラビングローラ２、または基板３を載置するステージ１０の上記基準平面に対する高さ方向を制御するものである。
【００３６】
上記第１の回動台２４は、後述するＣＣＤカメラ２４ａ（図３参照）を有し、このＣＣＤカメラ２４ａで、載置した基板３の後述するアライメントマーク３ｂを検出して、上記基準平面に平行な平面上を回動し、基板３のＸ軸方向に対する位置合わせを行うものである。
【００３７】
次にこのように構成されたラビング装置１を用いた基板３のラビング方法について説明する。
【００３８】
まず、図１に示すように、配向膜が形成された基板３が複数枚収納された第１のキャリアカセット２０から基板３を１枚づつ、取出しハンド２１によって基板搬入室２６に抽出する。次に、基板３を第１の基板保持アーム２３で保持しながら第１の搬送シャトル制御機構２５によって移動が制御される第１の搬送シャトル２２で、上述したラビングローラ２を固定した上記基準平面と同一平面に固定された第１の回動台２４に搬送し、回動台２４上に載置する。
【００３９】
第１の回動台２４では、図３に示すように、載置した基板３のアライメントマーク３ｂを第１の回動台２４に配設されたＣＣＤカメラ２４ａで検出して、上記基準平面に平行な平面上を回動することにより、基板３の円周方向に対する仮の位置合わせを行う。
【００４０】
次に、第１の位置合わせの終えた基板３を第１の基板保持アーム２３で保持して図２のポジションＡにステージ１０を搬送し、このステージ１０の上面に配設されたステージ回動台１１に基板３を載置する。そして、図１に示す厚み測定機１５により、ステージ１０上に載置した基板３の厚みを検出し、ラビング処理時に、ラビングローラ２と基板３が適切な高さで当接するよう、ラビングローラ２、または基板３を載置するステージ１０の上記基準平面に対する高さ方向を調節する。
【００４１】
その後、図２に示すように、ステージ１０を、制御手段５０によってポジションＡから第１のガイド１３によってＸ軸方向、つまりラビングローラの軸方向に移動させ、次いで第２のガイド１４によってＹ軸方向、つまりラビングローラ２の回転軸２ｂと直交する方向に移動させ、２軸の原点座標位置（不図示）に移動させ制御手段５０に原点座標を認識させた後、図２のポジションＢに移動させる。
【００４２】
ポジションＢに移動後、ステージ１０のステージ回動台１１上では、図４に示すように、この回動台１１に配設されたＣＣＤカメラ１１ａにより、載置した基板３のアライメントマーク３ｂを検出して、上記基準平面に平行な平面上を回動することにより、基板３のＸ軸方向に対する精密な位置合わせを行う。
【００４３】
基板３の位置合わせ終了後、基板３を載置したステージ１０を、上記ポジションＢから図２のポジションＣに、ラビングローラ２の当接面に対して所定のバイアス角度をもって当接、摺動するように上記基準平面に平行な平面上を直動させる。尚、このとき、ステージ１０は、このステージ１０に配設されたステージ回動台１１の回動中心が、ローラ周面２ａが回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心４に少なくとも当接するよう、第１のガイド１３、第２のガイド１４によって直動するよう階段状に移動する。このことにより、基板３に形成された配向膜は、ステージ１０が直動した方向に所謂、バイアスラビングされる。
【００４４】
ラビング終了後は、ラビングローラ２またはステージ１０を上記基準平面に対し高さ方向に移動させ、ラビングローラの周面２ａと、基板３の配向膜が当接しないように、第１のガイド１３及び第２のガイド１４により、ステージ１０は、ポジションＡに復帰する。
【００４５】
ポジションＡに復帰後、図１に示すように、基板３は、第２の基板保持アーム３３により保持され、第２の搬送シャトル制御機構３５により移動される第２の搬送シャトル３２で搬送され、上述したラビングローラ２を固定した上記基準平面と同一平面に固定された第２の回動台３４に載置される。その後、ラビング処理後の基板３を必要に応じて収納方向を一定に整えられた後、再度、第２の搬送シャトル３２により、基板収納室３６に搬送され、収納ハンド３１により、ラビング処理後の基板３を第２のキャリアカセット３０に収納する。このようにして、ラビング装置１により、基板３上に形成された配向膜のラビングが行われる。
【００４６】
このように本発明の一実施の形態を示す電気光学装置における基板のラビング装置とそのラビング方法においては、ラビングローラ２の角度制御を行うことなく、基板３を載置したステージ台１０を、平面上の２軸制御のみで、ラビングローラの傷または付着した異物により基板に形成された配向膜に直線状のスジが付くことを防止することができるバイアスラビングを行うことができるため、装置を小型化することができる。
【００４７】
尚、本実施形態においては、上述したラビング装置１は、所定のバイアス角度θをもってラビングを行うようにしたが、これに限らず、バイアス角θは、上述した第１のガイド１３及び第２のガイド１４（図１、２参照）の可動範囲であれば、どの角度でも良いことは云うまでもない。
【００４８】
また、バイアスラビング時、基板３を載置したステージ台１０を２軸の原点座標位置（不図示）に移動させ制御手段５０に原点座標を認識させた後、図２のポジションＢに移動させポジションＣまで直動させることにより、ラビングは行われると示したが、これに限らず、原点座標認識後、図２に示すポジションＤに移動させ、その後ポジションＥまで直動させることにより、ラビングを行っても良い。このことにより、ポジションＡ〜Ｃにステージ台１０を移動させたときとは別方向のラビングを行うことができる。
【００４９】
また、本実施形態においては、第１のガイド１３は、ラビングローラ２の回転軸２ｂと平行な方向に移動し、また、上記第２のガイド１４は、ラビングローラ２の回転軸２ｂと直交する方向に移動するとしたが、これに限らず、ラビングローラ２を固定した基準平面に平行な平面上の２軸であれば、どのように２軸を設定しても上述した実施形態と同様の効果が得られることは勿論である。
【００５０】
さらに、図５に示すように、基板３をポジションＢからポジションＣ、叉はポジションＤからポジションＥにステージ１０を直動させ、上述したように、このステージ１０に配設されたステージ回動台１１の回動中心が、ローラ周面２ａが回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心４に少なくとも当接するよう直動する経路▲１▼で基板３の配向膜をラビングした後、次の基板３の配向膜をラビングする際には、経路▲１▼からラビングローラ２の回転軸２ｂに直交する方向に上下にずらした図５に示す経路▲２▼でラビングを行い、さらに、次の基板３の配向膜をラビングする際には、経路▲２▼からさらにラビングローラ２の回転軸２ｂに直交する方向に上下にずらした図５に示す経路▲３▼でラビングを行うことにより、仮にラビングローラ２に異物等が付着したとしても、ラビング処理後の基板の配向膜への傷が付着する位置を基板によってずらすことができるため、製造工程における製品信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態を示すラビング装置の構成を示した平面図、
【図２】図１のラビング装置によるラビング方法を示した要部拡大平面図、
【図３】図１のラビング装置における第１の回動台の要部拡大平面図、
【図４】図１のラビング装置におけるステージ台及びステージ回動台の要部拡大平面図、
【図５】本発明の一実施の形態のラビング装置によるラビング方法の変形例を示す要部拡大平面図、
【図６】従来のラビング装置の一例を示す平面図、
【図７】バイアスラビングを行う従来のラビング装置の一例を示す平面図。
【符号の説明】
１…ラビング装置
２…ラビングローラ
３…基板
１０…ステージ
１１ａ，２４ａ…ＣＣＤカメラ
１３…第１のガイド
１４…第２のガイド
５０…制御手段
【図１】
2004125884.tif 000003
【図２】
2004125884.tif 000004
【図３】
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【図４】
2004125884.tif 000006
【図５】
2004125884.tif 000007
【図６】
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【図７】
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