(57)【要約】【課題】弁開度の調整を行う際に、弁体および弁座に過大な力を加えることなく、また、多量の流体が流れない流量制御弁を提供すること。【解決手段】空気圧を導入する操作ポート５４と、シリンダ２４ａ，２４ｂに摺動可能に嵌装さているピストン６０と、一端に弁体３０を備えるとともに他端近傍に係合リング３３が設けられ、ピストン６０に摺動可能に嵌装されているピストンロッド３１と、弁体３０を弁座２２に当接させる方向へピストンロッド３１を付勢する付勢バネ３９と、操作ポート３４に空気圧が印加されたときに、ピストン６０の移動量を規制する規制板７０と、規制板７０の位置を移動させるための調整ツマミ２６とを設け、係合リング３３により、ピストン６０がピストンロッド３１に対して弁体３０を弁座２２から離間させる方向へ移動する場合に、ピストンロッド３１をピストン６０とともに移動させるようにする。【選択図】　　　　　　図１
2004125101.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入口ポートと、出口ポートと、弁座と、弁座に対し離間または当接して前記入口ポートと前記出口ポートとを連通または遮断する弁体とを有し、外部から印加される空気圧によって開閉動作することにより流体の流量を制御する流量制御弁において、
空気圧を導入する操作ポートと、
前記操作ポートに連通するシリンダ内に摺動可能に嵌装さているピストンと、
一端に前記弁体を備えるとともに他端近傍に前記ピストンに係合する係合片が設けられ、前記ピストンに摺動可能に嵌装されているピストンロッドと、
前記弁体を前記弁座に当接させる方向へ前記ピストンロッドを付勢する付勢バネと、
前記操作ポートに空気圧が印加されたときに、前記弁体が前記弁座から離間する方向への前記ピストンの移動量を規制する規制部材と、
前記ピストンの移動量を調整するために前記規制部材の位置を移動させるための調整部とを有し、
前記係合片は、前記ピストンが前記ピストンロッドに対して前記弁体を前記弁座から離間させる方向へ移動する場合に、前記ピストンに係合して前記ピストンロッドを前記ピストンとともに移動させるものであることを特徴する流量制御弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、流体の流量を制御するための流量制御弁に関する。特に、半導体製造行程における薬液などのプロセス流体の流量制御を行うのに好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、ノーマルクローズ動作の流量制御弁における弁開度の調整においては、操作室にパイロットエアを印加した弁開状態にて、ストローク調整機構により弁体と連結したピストンロッドを変位させることで弁開度を調整している。この種の流量制御弁の１つとして、例えば、特開平７−２１７７６７号公報に開示されたものがある。
【０００３】
この流量制御弁１０１は、図４に示すように、弁体１１１を一端に備える第１ピストン１０６と、弁体１１１を弁座１１５から離間させる方向へ第１ピストン１０６を付勢する第１復帰バネ１１６と、弁体１１１を弁座１１５に当接させる方向へ、第１復帰バネ１１６の付勢力に抗して第１ピストン１０６を押圧するように空気圧を導入する第１操作ポート１１８と、第１操作ポート１１８に空気圧が印加されないときに、第１復帰バネ１１６の付勢による第１ピストン１０６の移動を規制する規制ロッド１０８と、規制ロッド１０８を、第１復帰バネ１１６の付勢方向と逆向きに第１復帰バネ１１６の付勢力より強く付勢する第２復帰バネ１１７と、第２復帰バネ１１７の付勢力に抗して規制ロッド１０８を第１ピストン１０６から遠隔する方向へ押圧するように空気圧を導入する第２操作ポート１１９と、第２操作ポート１１９に空気圧が印加されないときに、第２復帰バネ１１７の付勢による規制ロッド１０８の移動を規制する規制面１２０とを有するものである。
【０００４】
そして、この流量制御弁１０１では、第１操作ポート１１８と第２操作ポート１１９とのいずれにも空気圧が印加されないときには、第１復帰バネ１１６の付勢により第１ピストン１０６が移動し、弁体１１１が弁座１１５から離間する。一方、第２復帰バネ１１７の付勢により規制ロッド１０８が規制面１２０に当接するまで移動している。従って第１ピストン１０６の移動は、規制ロッド１０８との当接により規制され、第２復帰バネ１１７の付勢力が第１復帰バネ１１６の付勢力より強いので、第１ピストン１０６はそれ以上移動できない。これにより、弁体１１１と弁座１１５との間隔が一定に保たれ、入口ポート１１３から出口ポート１１４への流量が一定に維持されるようになっている。
【０００５】
第２操作ポート１１９には空気圧を印加せず第１操作ポート１１８から空気圧を印加すると、第１復帰バネ１１６の付勢に抗して第１ピストン１０６が移動する。このため弁体１１１が弁座１１５に当接して入口ポート１１３と出口ポート１１４とが遮断される。第１操作ポート１１８には空気圧を印加せず第２操作ポート１１９から空気圧を印加すると、第２復帰バネ１１７の付勢に抗して規制ロッド１０８が移動し、第１ピストン１０６の移動の規制が解除される。このため第１ピストン１０６は第１復帰バネ１１６の付勢により更に移動する。このため弁体１１１が弁座１１５から大きく離間し、入口ポート１１３から出口ポート１１４への大流量の流体が流れるようになっている。
【０００６】
ここで、流量制御弁１０１では、弁開度の調整を調整ネジ１１０を操作することにより行うようになっている。すなわち、調整ネジ１１０を操作して、上ボディ１０５に対して下方に移動させると、やがて調整ネジ１１０の当接端１３７が第２ピストン１０７の当接面１４１に当接する。そして更に調整ネジ１１０の操作を続けると、第２ピストン１０７が当接端１３７に押下され徐々に下方に移動する。これに伴い規制ロッド１０８も徐々に下方に移動するので、やがて規制ロッド１０８の下端が第１ピストン１０６の上面１２６に当接する。そして更に調整ネジ１１０の操作を続けると、第１ピストン１０６が規制ロッド１０８の下端に押下され徐々に下方に移動する。かくして、調整ネジ１１０の操作により、弁体１１１と弁座１１５との間隔を微調整して、弁開度を調整することができるようになっている。
【０００７】
【特許文献１】
特開平７−２１７７６７号公報（第３頁および第７頁、第１図）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した特開平７−２１７７６７号公報に開示された流量制御弁では、弁開度の調整を行う際に、弁体および弁座が変形してしまうおそれがあった。なぜなら、微少な弁開度および弁開度ゼロを調整するときに、弁体が弁座に当接した後も、さらに調整ネジ１０の操作を続けてしまうおそれがあり、そうすると弁座および弁体に過大な力が加わってしまうからである。そして、弁体および弁座が変形してしまうと、流体の漏れ、流量調整域の減少、および調整性の悪化を招き、正確な流量制御を行うことができなくなるという問題が生じる。
【０００９】
特に、半導体製造行程における薬液などのプロセス流体の制御に使用される流量制御弁（薬液弁）では、耐薬品性が必要とされるため、ＰＴＦＥ（四ふっ化エチレン樹脂）、ＰＦＡ（四ふっ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂）等の樹脂が使用されるため、弁座および弁体に過大な力が加わってしまうと、変形してしまうおそれがある。
【００１０】
また、特開平７−２１７７６７号公報に開示された流量制御弁では、弁座および弁体に過大な力を加えないように、空気圧を印加した状態で弁開度を徐々に閉じる方向で弁開度の調整を行っている。このため、流量調整時に多量の流体が流れてしまうという問題もある。
【００１１】
そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、弁開度の調整を行う際に、弁体および弁座に過大な力を加えることなく、また、多量の流体が流れない流量制御弁を提供することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するためになされた本発明に係る流量制御弁は、入口ポートと、出口ポートと、弁座と、弁座に対し離間または当接して入口ポートと出口ポートとを連通または遮断する弁体とを有し、外部から印加される空気圧によって開閉動作することにより流体の流量を制御する流量制御弁において、空気圧を導入する操作ポートと、操作ポートに連通するシリンダ内に摺動可能に嵌装さているピストンと、一端に弁体を備えるとともに他端近傍にピストンに係合する係合片が設けられ、ピストンに摺動可能に嵌装されているピストンロッドと、弁体を弁座に当接させる方向へピストンロッドを付勢する付勢バネと、操作ポートに空気圧が印加されたときに、弁体が弁座から離間する方向へのピストンの移動量を規制する規制部材と、ピストンの移動量を調整するために規制部材の位置を移動させるための調整ネジとを有し、係合片は、ピストンがピストンロッドに対して弁体を弁座から離間させる方向へ移動する場合に、ピストンに係合してピストンロッドをピストンとともに移動させるものであることを特徴するものである。
【００１３】
この流量制御弁では、閉弁時、つまり操作ポートに空気圧が印加されていないときには、付勢バネによりピストンロッドが弁体を弁座に当接させる方向へ付勢されている。このため、弁体が弁座に当接しているので、入口ポートと出口ポートとは遮断されている。そして、操作ポートに空気圧が印加されると、ピストンが弁体を弁座から離間させる方向に移動する。このとき、係合片によって、ピストンロッドがピストンの移動に連動して、弁体を弁座から離間させる方向に移動する。このため、弁体が弁座から離間する。そして、ピストンが規制部材に当接すると、ピストンおよピストンロッドの移動が止まり全開状態となる。これにより、入口ポートと出口ポートとが連通して、一定流量の流体が流れる。
【００１４】
その後、操作ポートへの空気圧の印加を止めると、付勢バネの付勢力により、ピストンロッドが弁座を弁体に当接させる方向に移動する。なお、係合片によって、ピストンもピストンロッドの移動に連動して、弁体を弁座に当接させる方向に移動する。このピストンロッドの移動により、弁体が弁座に当接する。したがって、入口ポートと出口ポートとが遮断されて、流体が流がれなくなる。
【００１５】
ここで、調整部により弁開度を調整する場合において、弁開度を小さくする方向へ調整する際に、規制部材とピストンとが、弁体を弁座に当接させる方向へ移動させられる。このとき、ピストンロッドに設けられた係合片は、ピストンに係合しないから、ピストンロッドはピストンの移動に連動することはない。したがって、弁開度を小さくするために、規制部材を弁体が弁座に当接する方向へ移動させても、ピストンロッドに対して不要な力がかからない。このため、弁体および弁座に対して過大な力が加わることがない。したがって、弁開度を調整する際に、弁座および弁座を変形させることがない。また、弁開度ゼロ付近における微調整を行うことができる。さらに、弁座および弁座を変形させることがないので、弁開度ゼロから調整を行うことができる。このため、弁開度の調整が容易になるとともに、流量調整（弁開度調整）時に流量制御弁を流れるプロセス流体の量を少なくすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の逆流防止装置を具体化した最も好適な実施の形態について図面に基づいて詳細に説明する。本実施の形態は、半導体製造工程における薬液などのプロセス流体の流量制御を行う薬液弁として具体化したものである。そこで、本実施の形態に係る流量制御弁の概略構成を図１に示す。なお、図１は、流量制御弁１０の概略構成を示す断面図である。この流量制御弁１０は、入口ポート２０、出口ポート２１、および弁座２２が形成された下ボディ１１と、シリンダ２３ａ，２３ｂが形成された中ボディ１２と、シリンダ２４ａ，２４ｂが形成された上ボディ１３とを備えている。これらの下ボディ１１と、中ボディ１２と、上ボディ１３とは、下から下ボディ１１、中ボディ１２、上ボディ１３の順に接合されて一体となっている。そして、上ボディ１３の上方に、規制板７０のネジ部７０に固設された調整ツマミ２６が配置され、これらをもって全体の外形をなしている。なお、流量制御弁１０には耐薬品性が要求されるため、その材質にはＰＴＦＥ、ＰＦＡ等の樹脂を使用している。
【００１７】
下ボディ１１には、薬液などのプロセス流体の入力を受ける入口ポート２０と、そのプロセス流体を出力する出口ポート２１とが形成されている。下ボディ１１の中央には、円筒形状の弁座２２が形成されている。弁座２２の外周り部分と入口ポート２０とが、弁座２２の内部と出口ポート２１とが、それぞれ連通している。したがって、後述する弁体３０が弁座２２に当接すると入口ポート２０と出口ポート２１とが遮断され、一方、弁体３０が弁座２２から離間すると入口ポート２０と出口ポート２１とが連通するようになっている。
【００１８】
下ボディ１１の上方には、中ボディ１２が固接されている。中ボディ１１は略円筒形状をなしており、下半分においては小径のシリンダ２３ａが、上半分においては大径のシリンダ２３ｂが形成されている。この中ボディ１２の内部には、略円筒形状のピストンロッド３１が、図１中上下方向に摺動可能に嵌装されている。なお、ピストンロッド３１の詳細については後述する。
【００１９】
中ボディ１２の上方には、上ボディ１３が固接されている。上ボディ１３は、シリンダ２４ａ，２４ｂが形成された筒状部分５０と、蓋部分５１とを有している。筒状部分５０の下半分においては小径のシリンダ２４ａが、上半分においては大径のシリンダ２４ｂが形成されており、シリンダ２４ａとシリンダ２４ｂとの間には、凸部５２ａが設けられたステップ面５２が形成されている。これらのシリンダ２４ａ，２４ｂは、後述するピストン６０を摺動可能に挿設するためのものである。
【００２０】
そして、シリンダ２４ｂにおいて、ピストン６０とステップ面５２とにより、圧力室５３が区画されている。また、この圧力室５３へ外部から空気圧を印加するための操作ポート５４が筒状部分５０に設けられている。操作ポート５４から空気圧が印加され、圧力室５３が高圧となると、ピストン６０の下面にその圧力がかかり、図１中上方、すなわち、弁体３０を弁座２２から離間させる方向へ、ピストン６０が移動するようになっている。
【００２１】
一方、蓋部分５１の中央には、ピストン６０の移動量を規制するための規制板７０のネジ部７１を螺設するためのネジ溝が切られたネジ穴５２が形成されている。ここで、規制板７０は、シリンダ２４ｂ内であってピストン６０の上方に配置された円盤形状のものであり、その下面がピストン６０が移動した際に当接するようになっている。そして、この規制板７０の中心部上方にネジ部７１が形成されている。このネジ部７１にはネジ山が形成され、上ボディ１３の蓋部分５１に形成されたネジ穴５２に螺設され、その上部が蓋部分５２から突出している。そして、このネジ部７１の突出した部分の先端に、調整ツマミ２６が固設されている。そして、この調整ツマミ２６を操作してネジ部７１を回転させることにより、ネジ動により規制板７０の位置を図１中上下方向に移動させられるようになっている。
【００２２】
次に、中ボディ１２に設けられているピストンロッド３１について説明する。ピストンロッド３１は、大径の円筒部分３１ａと小径の円筒部分３１ｂとを有する部材である。大径の円筒部分３１ａは、中ボディ１２のシリンダ２３ａに摺動可能に嵌装され、小径円筒部分３１ｂは、ピストン６０に形成された貫通孔６５に摺動可能に嵌装されている。ここで、大径円筒部分３１ａと小径円筒部分３１ｂとの間には、ステップ面３２が形成されている。
【００２３】
そして、大径円筒部分３１ａの先端に、弁座２２に対し当接又は離間する弁体３０が取り付けられている。一方、小径円筒部分３１ｂにはバネ受け３８が挿設されている。このバネ受け３８は、円盤形状の部材であり、ステップ面３２に当接している。そして、バネ受け３８と上ボディ１３の下面とにより、付勢バネ３９を狭持している。これにより、付勢バネ３９は、その付勢力によって、バネ受け３８を介してピストンロッド３１を図１中下方、すなわち、弁体３０を弁座２２に当接させる方向へ付勢している。また、小径円筒部分３１ｂの先端付近には、係合リング３３が設けられている。なお、係合リング３３の詳細については後述する。
【００２４】
続いて、上ボディ１３に設けられているピストン６０について説明する。ピストン６０は、小径の円筒部分６０ａと大径の円筒部分６０ｂとを有する部材である。小径円筒部分６０ａは、上ボディ１２のシリンダ２４ａに摺動可能に嵌装され、大径円筒部分６０ｂは、上ボディ１２のシリンダ２４ｂに摺動可能に嵌装されている。そして、大径円筒部分６０ｂにＯリングが嵌持されているとともに、上ボディ１２のシリンダ２４ａにもＯリングが嵌持されている。これにより、ピストン６０は、圧力室５３の気密性を維持しつつスムーズな摺動ができるようになっている。
【００２５】
また、ピストン６０の中心には、ピストンロッド３１を貫通して取り付けるための貫通孔６５が形成されている。この貫通孔６５は、二段孔になっており、小径孔６５ａと大径孔６５ｂとを有する。そして、小径孔６５ａにピストンロッド３１の小径円筒部分３１ｂが挿入され、その小径円筒部分３１ｂの先端部分が小径孔６５ａから突出して、大径孔６５ｂ内に配置されている。
【００２６】
この小径円筒部分３１ｂの先端部分の下端に、上記した係合リング３３が設けられている。係合リング３３は、ピストン６０の小径孔６０ａと大径孔６０ｂとの境界面（大径孔６０ｂの底面）に係合して、ピストンロッド３１とピストン６０との相対的な移動を規制するものである。すなわち、係合リング３３により、ピストン６０が図１中上方に移動する際には、ピストンロッド３１もピストン６０に連動して移動し、ピストンロッド３１が図１中下方に移動する際には、ピストン６０もピストンロッド３１に連動して移動するようになっている。
【００２７】
ここで、ピストン６０の図１中上方への移動は、ピストン６０の大径円筒部分６０ｂの上面が規制板７０に当接することにより規制される。そして、この規制板７０の位置を調整ツマミ２６を操作して移動させることにより、ピストン６０の図１中上方への移動量を調整することができるようになっている。一方、ピストン６０の図１中下方への移動は、ピストン６０の大径円筒部分６０ｂの底面がステップ面５２に形成されている凸部５２ａに当接することにより規制される。
【００２８】
次に、上記のような構成を有する流量制御弁１０の動作について説明する。ここでは、特に言及しない限り、調整ツマミ２６は操作しないものとする。最初に、基本的状態、すなわち、操作ポート５４に空気圧を印加しない場合について説明する。図１はこの状態を示している。
【００２９】
この状態では、操作ポート５３に空気圧が印加されていないので、圧力室５３内における圧力上昇はない。このため、ピストン６０を図１中上方へ移動させる力は働かない。一方、ピストンロッド３１は、付勢バネ３９の付勢力をバネ受け３８を介して受ける。このため、ピストンロッド３１を図１中下方へ移動させる力が働く。これにより、ピストンロッド３１の小径円筒部分３１ｂに設けられた係合リング３３がピストン６０の大径孔６０ｂの底面に当接する。したがって、ピストン６０には、図１中下方へ移動させる力が働く。このため、ピストン６０とピストンロッド３１は、ピストンロッド３１の先端に取り付けられた弁体３０が弁座２２に当接するまで移動する。これにより、入口ポート２０と出口ポート２１とが遮断される。すなわち、流量制御弁１０は閉状態となる。
【００３０】
続いて、操作ポート５３に外部から空気圧を印加した場合の動作を、図２を用いて説明する。なお、図２は、開弁状態における流量制御弁１０を示す断面図である。操作ポート５３に空気圧を印加すると、その空気圧は、圧力室５３に導入され、圧力室５３が高圧となる。この空気圧の供給源は、ボンベ、コンプレッサ等、特に限定はなく何でもよい。ただし、その圧力は、付勢バネ３９の付勢力に打ち勝って、ピストン６０およびピストンロッド３１を図２中上方へ移動させられる圧力以上であることが必要である。
【００３１】
そして、圧力室５３が高圧になると、ピストン６０の大径円筒部分６０ｂの下面がその圧力を受ける。このため、ピストン６０は、付勢バネ３９の付勢力に抗して図２中上方へ移動する。このピストン６０の移動は、ピストン６０の大径円筒部分６０ｂの上面が規制板７０に当接するまで行われる。このとき、ピストン６０の大径孔６５ａの底面に、ピストンロッド３１の小径円筒部分３１ｂに設けられた係合片３３が当接する。したがって、ピストン６０の図２中上方への移動に連動してピストンロッド３１も図２中上方へ移動する。これにより、弁体３０が弁座２２から離間して、入口ポート２０と出口ポート２１とが連通する。すなわち、流量制御弁１０は開状態となり、入口ポート２０に供給されているプロセス流体が出力ポート２１へ流れる。
【００３２】
その後、この状態から、操作ポート５３を開放して圧力室５３を常圧に戻すと、付勢バネ３９の付勢によりピストンロッド３１およびピストン６０が図２中下方へ移動する。かくして、流量制御弁１０は、図１に示す閉状態に戻る。
【００３３】
ここで、流量制御弁１０における弁開度の調整について、図１および図３を参照しつつ説明する。なお、図３は、流量制御弁１０における開度ゼロ点以下での弁開度調整時の状態を示す断面図である。弁開度の調整は、調整ツマミ２６を操作して、規制板７０の位置を図１上下方向へ移動させることにより行われる。つまり、この操作により、ピストン６０（ピストンロッド３１）の移動量が変化するので、弁開度を調整することができるのである。そして、調整ツマミ２６を操作して、規制板７０を図１中下方へ移動させていくと、規制板７０はピストン６０の大径円筒部分６０ｂの上面に当接した状態で、ピストン６０を図１中下方へ移動する。このとき、ピストンロッド３１もピストン６０の移動に追従して図１中下方へ移動する。なぜなら、ピストンロッド３１は、付勢バネ３９により図１中下方へ常に付勢されているからである。
【００３４】
そして、さらに規制板７０を図１中下方へ移動させていくと、途中までは、ピストンロッド３１はピストン６０の移動に追従して図１中下方へ移動する。しかしながら、ピストンロッド３１の先端に取り付けられた弁体３０が弁座２２に当接すると、ピストン６０の移動に追従するピストンロッド３１の移動は止まる。その後は、ピストン６０のみが図１中下方へ、ピストンロッド３１とは独立して移動する。このピストン６０の移動は、ピストン６０の大径円筒部分６０ｂの下面がステップ面５２の凸部５２ａに当接するまで行われる。そして、ピストン６０の大径円筒部分６０ｂの下面がステップ面５２の凸部５２ａに当接すると、調整ネジを２６を操作するためのトルクが一気に大きくなる。これにより、作業者は、規制板７０を図１中下方へ移動させるための調整ネジ２６の操作を止める。このときの流量制御弁１０における状態が、図３に示す状態である。
【００３５】
このように、弁開度を小さくする方向へ調整する際に、ピストンロッド３１に対して不要な力がかからないので、弁体３０および弁座２２に対して過大な力が加わることがない。したがって、弁開度を調整する際に、弁座３０および弁座２２を変形させることがない。また、弁開度ゼロ付近における微調整を行うことができる。さらに、弁座３０および弁座２２を変形させることがないので、弁開度ゼロから調整を行うことができる。このため、弁開度の調整が容易になるとともに、流量調整（弁開度調整）時に流量制御弁１０を流れるプロセス流体の量を少なくすることができる。
【００３６】
以上、詳細に説明したように本実施の形態に係る流量制御弁１０では、ピストン６０とピストンロッド３１とを分割して構成し、ピストンロッド３１に係合リング３３を設けているので、ピストン６０とピストンロッド３１との相対的な移動が規制される。具体的には、係合リング３３によって、ピストン６０がピストンロッド３１に対して弁体３０を弁座２２から離間させる方向へ移動する場合には、ピストンロッド３１はピストン３１とともに移動するが、ピストン６０がピストンロッド３１に対して弁体３０を弁座２２に当接させる方向へ移動する場合には、ピストンロッド３１はピストン３１とともに移動しない。
【００３７】
したがって、弁開度の調整を行う場合において、弁開度を小さくする方向へ調整する際には、ピストンロッド３１に対して不要な力がかからない。このため、弁体３０および弁座２２に対して過大な力が加わることがない。したがって、弁開度を調整する際に、弁座３０および弁座２２を変形させることがない。また、弁開度ゼロ付近における微調整を行うことができる。さらに、弁座３０および弁座２２を変形させることがないので、弁開度ゼロから調整を行うことができる。このため、弁開度の調整が容易になるとともに、流量調整（弁開度調整）時に流量制御弁１０を流れるプロセス流体の量を少なくすることができる。
【００３８】
なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。
【００３９】
【発明の効果】
以上説明した通り本発明に係る流量制御弁によれば、入口ポートと、出口ポートと、弁座と、弁座に対し離間または当接して入口ポートと出口ポートとを連通または遮断する弁体とを有し、外部から印加される空気圧によって開閉動作することにより流体の流量を制御する流量制御弁において、空気圧を導入する操作ポートと、操作ポートに連通するシリンダ内に摺動可能に嵌装さているピストンと、一端に弁体を備えるとともに他端近傍にピストンに係合する係合片が設けられ、ピストンに摺動可能に嵌装されているピストンロッドと、弁体を弁座に当接させる方向へピストンロッドを付勢する付勢バネと、操作ポートに空気圧が印加されたときに、弁体が弁座から離間する方向へのピストンの移動量を規制する規制部材と、ピストンの移動量を調整するために規制部材の位置を移動させるための調整部とを有し、係合片は、ピストンがピストンロッドに対して弁体を弁座から離間させる方向へ移動する場合に、ピストンに係合してピストンロッドをピストンとともに移動させるものであるので、調整部により弁開度を小さくする方向へ調整する際には、ピストンロッドに対して不要な力がかからない。このため、弁体および弁座に対して過大な力が加わることがない。したがって、弁開度を調整する際に、弁座および弁座を変形させることがない。また、弁開度ゼロ付近における微調整を行うことができる。さらに、弁座および弁座を変形させることがないので、弁開度ゼロから調整を行うことができる。このため、弁開度の調整が容易になるとともに、流量調整（弁開度調整）時に流量制御弁を流れるプロセス流体の量を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態に係る流量制御弁における閉状態を示す断面図である。
【図２】実施の形態に係る流量制御弁における開状態を示す断面図である。
【図３】実施の形態に係る流量制御弁における開度ゼロ点以下での弁開度調整時の状態を示す断面図である。
【図４】従来の流量制御弁の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１０　　流量制御弁
２０　　入口ポート
２１　　出口ポート
２２　　弁座
２４ａ，２４ｂ　シリンダ
３０　　弁体
３１　　ピストンロッド
３３　　係合リング
５４　　操作ポート
６０　　ピストン
７０　　規制板
７１　　ネジ部
２６　　調整ツマミ
【図１】
2004125101.tif 000003
【図２】
2004125101.tif 000004
【図３】
2004125101.tif 000005
【図４】
2004125101.tif 000006