(57)【要約】【課題】色選別機構のビーム透過孔エッジの精度を緩和しつつ、より高精度のブラックマトリックス型のカラー蛍光面を有したカラー陰極線管及びその製造方法を提供する。【解決手段】色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔２７のパターンと独立したレジスト膜パターン２６Ｂを形成し、レジストパターン２６Ｂを露光用マスクに用いて蛍光面４４を作成する。蛍光面作成後にレジストパターン２６Ａ，２６Ｂを除去して色選別機構を形成する。この色選別機構を、上記のようにして作成したカラー蛍光面に対向して配置してカラー陰極線管を構成する。【選択図】　　　　図７
2004095478.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔と独立したレジストパターンを形成し、該レジストパターンを露光用マスクに用いて作成したカラー蛍光面を有し、
前記レジストパターンを除去した後の前記色選別機構を備えて成る
ことを特徴とするカラー陰極線管。
【請求項２】
色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔パターンと独立したレジスト膜パターンを形成する工程と、
前記レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面を作成する工程と、
蛍光面作成後に前記レジストパターンを除去して前記色選別機構を形成する工程とを有する
ことを特徴とするカラー陰極線管の製造方法。
【請求項３】
基材の一方の面に第１の開口幅又は開口径を有する第１レジストパターンを形成し、該基材の他方の面に前記第１の開口幅又は開口径より小さい第２の開口幅又は開口径を有する第２レジストパターンを形成し、前記基材を実質的に第１レジストパターンをマスクに選択除去して成るマスク部材を形成する工程と、
前記マスク部材の第２レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面を作成する工程と、
蛍光面作成後に前記マスク部材の第１レジストパターン及び第２レジストパターンを除去して色選別機構を形成する工程とを有する
ことを特徴とするカラー陰極線管の製造方法。
【請求項４】
基材の両面に第１フォトレジスト材及び第２フォトレジスト材を形成する工程と、
前記第１フォトレジスト材と前記第２フォトレジスト材を、互いに異なるパターンに露光する工程と、
前記第１フォトレジスト材を現像して第１の開口幅又は開口径を有する第１レジストパターンを形成し、該第１レジストパターンをマスクにして前記基材を前記第２フォトレジスト材に達するまで選択除去する工程と、
前記第２フォトレジスト材を現像して前記第１の開口幅又は開口径より小さい第２の開口幅又は開口径を有する第２レジストパターンを形成する工程とを有して、マスク部材を形成し、
前記マスク部材の第２レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面を作成し、
蛍光面作成後に前記マスク部材の第１レジストパターン及び第２レジストパターンを除去して色選別機構を形成する
ことを特徴とするカラー陰極線管の製造方法。
【請求項５】
基材の両面に第１フォトレジスト材及び第２フォトレジスト材を形成する工程と、
前記第１フォトレジスト材と前記第２フォトレジスト材を、互いに異なるパターンに露光する工程と、
前記第１フォトレジスト材を現像して第１の開口幅又は開口径を有する第１レジストパターンを形成し、前記第２フォトレジスト材を現像して前記第１の開口幅又は開口径より小さい第２の開口幅又は開口径を有する第２レジストパターンを形成する工程と、
前記第１レジストパターン及び第２レジストパターンをマスクにして前記基材を第１レジストパターンに対応したパターンに選択除去する工程とを有して、マスク部材を形成し、
前記マスク部材の第２レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面を作成し、
蛍光面作成後に前記マスク部材の第１レジストパターン及び第２レジストパターンを除去して色選別機構を形成する
ことを特徴とするカラー陰極線管の製造方法。
【請求項６】
色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔パターンと独立したレジスト膜パターンを形成する工程と、
前記レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面作成の露光を行う工程を有する
ことを特徴とする蛍光面作成方法。
【請求項７】
基材の一方の面に第１の開口幅又は開口径を有する第１レジストパターンを形成し、該基材の他方の面に前記第１の開口幅又は開口径より小さい第２の開口幅又は開口径を有する第２レジストパターンを形成し、前記基材を実質的に第１レジストパターンをマスクに選択除去して成るマスク部材を形成する工程と、
前記マスク部材の第２レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面作成の露光を行う工程を有する
ことを特徴とする蛍光面作成方法。
【請求項８】
基材の両面に第１フォトレジスト材及び第２フォトレジスト材を形成する工程と、
前記第１フォトレジスト材と前記第２フォトレジスト材を、互いに異なるパターンに露光する工程と、
前記第１フォトレジスト材を現像して第１の開口幅又は開口径を有する第１レジストパターンを形成し、該第１レジストパターンをマスクに前記基材を前記第２フォトレジスト材に達するまで選択除去する工程と、
前記第２フォトレジスト材を現像して前記第１の開口幅又は開口径より小さい第２の開口幅又は開口径を有する第２レジストパターンを形成する工程とを有して、マスク部材を形成し、
前記マスク部材の第２レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面作成の露光を行う
ことを特徴とする蛍光面作成方法。
【請求項９】
基材の両面に第１フォトレジスト材及び第２フォトレジスト材を形成する工程と、
前記第１フォトレジスト材と前記第２フォトレジスト材を、互いに異なるパターンに露光する工程と、
前記第１フォトレジスト材を現像して第１の開口幅又は開口径を有する第１レジストパターンを形成し、前記第２フォトレジスト材を現像して前記第１の開口幅又は開口径より小さい第２の開口幅又は開口径を有する第２レジストパターンを形成する工程と、
前記第１レジストパターン及び第２レジストパターンをマスクに前記基材を第１レジストパターンに対応したパターンに選択除去する工程とを有して、マスク部材を形成し、
前記マスク部材の第２レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面作成の露光を行う
ことを特徴とする蛍光面作成方法。
【請求項１０】
前記第１フォトレジスト材及び前記第２フォトレジスト材は、光透過性樹脂フィルムの面にフォトレジスト膜を形成して成る
ことを特徴とする請求項７、８又は９記載の蛍光面作成方法。
【請求項１１】
前記第１レジストパターンと前記第２レジストパターンが共にストライプ状パターンである
ことを特徴とする請求項７、８又は９記載の蛍光面作成方法。
【請求項１２】
前記第１レジストパターンがストライプ状パターンであり、前記第２レジストパターンが隣り合うストライプ状間を局部的に連結たパターンである
ことを特徴とする請求項７、８又は９記載の蛍光面作成方法。
【請求項１３】
前記第１レジストパターンと前記第２レジストパターンが共にドット状パターンである
ことを特徴とする請求項７、８又は９記載の蛍光面作成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー陰極線管とその製造方法、及び蛍光面作成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般にカラー陰極線管は、図１２に示すように、管体のパネル２内面に赤色蛍光体層４Ｒ、緑色蛍光体層４Ｇ、青色蛍光体層４Ｂ及び各色蛍光体層間の光吸収層であるカーボン層５からなる、いわゆるブラックマトリクス型のカラー蛍光面３が形成され、このカラー蛍光面３に対向して色選別機構６が配置されて成る。電子銃から出射された各色に対応した電子ビームは、色選別機構６のビーム透過孔７を透過して各色蛍光体層４〔４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ〕に照射される。各ビーム幅Ｗ１　は、各色蛍光体層４の幅Ｗ２　より大きく、カーボン層５に跨がって照射される。
【０００３】
図１１は、アパーチャグリルと呼ばれる色選別機構６を示す。この色選別機構６は、１対の相対向する支持部材１１及び１２と、この支持部材１１及び１２間に差し渡された弾性付与部材１３及び１４とからなる枠状の金属フレーム１５が設けられ、このフレーム１５の相対向する支持部材１１及び１２間に一方向、例えば画面水平方向に沿って多数のスリット状のビーム透過孔１６を有するマスク部材、即ち色選別用電極薄板１８が架張されて成る。色選別用電極薄板１８は、金属薄板からなり、多数の細長いグリッド素体１７を上記一方向に配列し、各隣り合うグリッド素体１７間にスリット状のビーム透過孔１６を形成して構成される。スリット状のビーム透過孔１６は、エッチングによって形成される。
【０００４】
上述のようなカラー蛍光面３の作成は、色選別機構６を露光用マスクに用いて行われる。即ち、光の回折による広がりを利用してビーム透過孔幅（スリット幅）より狭いストライプ幅の各色蛍光体層を形成している。例えば感光性を有する蛍光体塗膜は所要の膜厚を有しており、この蛍光体塗膜にビーム透過孔１６を通して光強度分布がガウス分布の露光光を照射すると、そのガウス分布に対応した露光がなされる。現像は水を吹きつけて機械的に削り取る方法をとるので、その時間、水圧を制御することで、ビーム透過孔幅より狭いストライプ幅の蛍光体層が形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、色選別機構６のビーム透過孔１６のスリットエッジは、電子ビーム幅制御と蛍光面露光用マスクを兼ねるため、非常に高い精度が要求される。即ち、露光用マスクとしては、誤差が拡大されるため、高い精度が必要となる。但し、電子ビーム幅制御としては、それほどの精度は不要である。何故なら、電子ビームは蛍光体層の両側のカーボン層に跨がって照射されるので、ビーム透過孔１６のストライプエッジがシャープでなくともカーボン層で隠されて問題にならない。
また、色選別用電極薄板１８は、スリット構造であり多数の細長いグリッド素体１７が設けられているので、大型且つファインピッチ化するにつれて強度が劣化し、ピッチむら等が発生し易くなる。そのため色選別用電極薄板１８のハンドリング等の取り扱い上、板厚を増やさざるを得ない。
【０００６】
一方、色選別機構６のビーム透過孔１６はエッチングで形成しているので、ミクロ的に見るとそのスリットエッジの精度には限界があり、この色選別機構６をマスクにして露光・現像して得られる蛍光体層のストライプエッジのシャープさにも限界がある。また、光の回折による広がりを利用してビーム透過孔より狭い幅の蛍光体ストライプ層を形成するため、大幅にストライプ幅を制御することが難しい。
【０００７】
本発明は、上述の点に鑑み、色選別機構のビーム透過孔エッジの精度を緩和しつつ、より高精度のブラックマトリックス型のカラー蛍光面を有したカラー陰極線管及びその製造方法を提供するものである。
特に、ビーム透過率の大きい色選別機構を有した後段収束型にも適用可能にしたカラー陰極線管及びその製造方法を提供するものである。
本発明は、より高精度のブラックマトリックス型のカラー蛍光面、あるいは後段収束型カラー陰極線管の蛍光面の作成を可能にした蛍光面作成方法を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るカラー陰極線管は、色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔と独立したレジストパターンを形成し、このレジストパターンを露光用マスクに用いて作成したカラー蛍光面を有し、レジストパターンを除去した後の色選別機構を備えた構成とする。
【０００９】
本発明のカラー陰極線管によれば、色選別機構上の該色選別機構のビーム透過孔と独立したレジストパターンを用いて露光・現像して作成されたカラー蛍光面を有するので、各色蛍光体層のエッジがよりシャープとなり、蛍光面がより高精度化され高画質の画像が得られる。また、色選別機構が、レジストパターンを除去した後の色選別機構で構成されるので、色選別機構のビーム透過孔エッジの精度が緩和される。そして、このような色選別機構を備えることにより、蛍光体層と色選別機構のビーム透過孔との高い位置精度が得られると共に、色選別機構のビーム透過孔の幅又は径と蛍光体層の幅又は径の比を任意に設定できる。これにより、ブラックマトリックス型、あるいは後段収束型の陰極線管のより高精度化が可能になる。
【００１０】
本発明に係るカラー陰極線管の製造方法は、色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔パターンと独立したレジスト膜パターンを形成する工程と、レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面を作成する工程と、蛍光面作成後にレジストパターンを除去して色選別機構を形成する工程とを有する。
【００１１】
本発明のカラー陰極線管の製造方法によれば、色選別機構と蛍光面作成の露光用マスクとなるレジストパターンの透過率を互いに独立に設定できるので、安定した蛍光体層の露光条件が可能になる。しかも、レジストパターンは露光・現像処理により形成されるので、そのパターンエッジの精度は、エッチングによる場合に比べて高い。このレジストパターンを用いて蛍光面を作成することにより、より高精度の蛍光面の作成が可能になる。一方、レジストパターンを除去して色選別機構を形成するので、色選別機構のビーム透過孔エッジは蛍光面作成時の露光に不要となり、大幅に精度要求が緩和される。
【００１２】
本発明に係る蛍光面作成方法は、色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔パターンと独立したレジスト膜パターンを形成する工程と、レジストパターンを露光用マスクに用いて蛍光面作成の露光を行う工程を有する。
【００１３】
本発明の蛍光面作成方法によれば、色選別機構と蛍光面作成の露光用マスクとなるレジストパターンの透過率を互いに独立に設定できるので、安定した蛍光体層の露光条件が可能になる。しかも、レジストパターンは露光・現像処理により形成されるので、そのパターンエッジの精度は、エッチングによる場合に比べて高い。このレジストパターンを用いて蛍光面を作成することにより、より高精度の蛍光面の作成が可能になる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００１５】
図４〜図５は、最終的に本発明に係るカラー陰極線管の色選別機構となるも、蛍光面作成時に露光用マスクとなるマスク部材の作成法の一実施の形態を示す。本例の色選別機構は、アパーチャグリルとよばれる色選別機構に適用した場合である。
先ず、図４Ａに示すように、最終的に色選別用電極薄板となる基材、例えば金属薄板２１と、光透過性樹脂フィルムの例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム２２の一面に感光性レジスト層２３を形成してなる感光性レジストフィルム、いわゆるドライフィルム２４を用意する。このドライフィルム２４の感光性レジスト層２３は強度が高い。感光性レジスト層２３としては、例えば東京応化学（株）商品名Ｆ１２３０が適用できる。
次に、図４Ｂに示すように、金属薄板２１の両面に夫々第１及び第２のドライフィルム２４〔２４Ａ，２４Ｂ〕をその感光性レジスト層２３が金属薄板２１側に向くように貼り付ける。本例ではネガ型の感光性レジスト層２３を用いている。本例では金属薄板２１の板厚を５０〜１００μｍ程度、ドライフィルム２４の膜厚を３０μｍ程度にしている。
【００１６】
次に、図４Ｃに示すように、最終的に色選別用電極薄板のビーム透過孔となるスリットパターンに対応したパターンを有する第１の露光用マスク２５Ａを介して、第１のドライフィルム２４Ａを露光する。つまり、第１の露光用マスク２５Ａの光遮蔽部の幅Ｗ１　はビーム透過孔幅の決定に寄与する。また、最終的に蛍光面作成用マスクとなるストライプパターンに対応したパターンを有する第２の露光用マスク２５Ｂを介して、第２のドライフィルム２４Ｂを露光する。つまり、第２のドライフィルム２４Ｂの光遮蔽部の幅Ｗ２　は蛍光体ストライプ幅の決定に寄与する。この幅Ｗ２　は幅Ｗ１　より小さく設定される。これらの露光処理は、ＰＥＴフィルム２２を透過して感光性レジスト層２３のみが露光される。
【００１７】
次に、図４Ｄに示すように、第１のドライフィルム２４ＡのＰＥＴフィルム２２を剥離した後、現像処理して未感光部を除去し、第１の開口幅（いわゆるスリット幅）Ｗ１　を有する第１レジストパターン２６Ａを形成する。
【００１８】
次に、図５Ｅに示すように、第１レジストパターン２６Ａをマスクにしてエッチング液の例えば塩化第二鉄液により金属薄板２１を第２のドライフィルム２４Ｂに達するまで選択的にエッチング加工する。即ち、金属薄板２１のエッチングは、金属薄板２１を貫通し第２のドライフィルム２４Ｂが露出するまで行われるが、重合の有無にかかわらず、感光性レジスト２３の耐酸強度が高いので、このまま第２のドライフィルム２４Ｂの露光部分より広い領域が現れるまで（つまり後に形成される適正な小口径スリットが得られる）まで続ける。このエッチング加工により、金属薄板２１には最終的な所定スリット幅を有するスリット状ビーム透過孔２７とグリッド素体２９を多数有したパターンが形成される。このエッチング加工では、片側から第２のドライフィルム２４Ｂに達するようにエッチングされるので、ビーム透過孔２７の第２ドライフィルム２４Ｂ側のエッジ部２８は、鋭角に形成される。また、第２のドライフィルム２４Ｂが現像されていない状態で、第１のドライフィルム２４Ａ側からエッチング処理するので、後に形成される第２レジストパターンのエッジ精度が維持される。
【００１９】
次に、図５Ｆに示すように、第１レジストパターン２６Ａ側から第２のドライフィルム２４Ｂの未露光部を現像処理して除去し、第２レジストパターン２６Ｂを形成する。次いで、図５Ｇに示すように、第２のドライフィルム２４ＢのＰＥＴフィルム２２を剥離する。このようにして、蛍光面作成用の露光用マスク薄板３０を得る。なお、この露光用マスク薄板３０において、そのスリット状ビーム透過孔２７の延長方向の両端部分（いわゆる溶接に供される連結部分）はレジスト層が除去されている。この露光用マスク薄板３０は、蛍光面作成後にレジストパネル２６Ａ，２６Ｂを除去することにより色選別用電極薄板として構成される。
【００２０】
次に、図５Ｈに示すように、１対の相対向する支持部材３１及び３２と、この支持部材３１及び３２の両端間に差し渡された弾性付与部材３及び３４とからなる枠状の金属フレーム３５を設け、このフレーム３５の相対向する支持部材３１及び３２間に上記の露光用マスク薄板３０を架張し溶接等で固着して、蛍光面を作成するためのマスク部材３６を作成する。
【００２１】
図６は、本発明に係るマスク部材の作成法の他の実施の形態を示す。
本実施の形態は、図６Ａに示すように、前述の図４Ｃの工程と同様に第１の露光用マスク２５Ａを介して第１のドライフィルム２４Ａを露光し、第２の露光用マスク２５Ｂを介して第２のドライフィルム２４Ｂを露光する。
次に、図６Ｂに示すように、第１及び第２のドライフィルム２４Ａ及び２４ＢのＰＥＴフィルム２２を剥離した後、現像処理して未重合部を除去し、第１レジストパターン２６Ａ及び第２レジストパターン２６Ｂを形成する。
次に、図６Ｃに示すように、第１レジストパターン２６Ａ及び第２レジストパターン２６Ｂをマスクにして金属薄板２１を両面側から選択的にエッチングし、実質的に第１レジストパターン２６で規定されるスリット状ビーム透過孔２７のパターンを形成する。このエッチング処理でも、スリット状ビーム透過孔２７の第２レジストパターン２６Ｂ側のエッジ部２８は、鋭角に形成される。このようにして露光用マスク薄板３０を得る。この露光用マスク薄板３０の作成方法では、エッチング処理を金属薄板２１の両面から行うので、露光用マスク薄板３０の作成の作業能率が良くなる。
このようにして作成された露光用マスク薄板３０を前述と同様にフレーム３５に架張され固着されて蛍光面作成のためのマスク部材３６を作成する。
【００２２】
本発明は、上述のマスク部材３６を用いてカラー陰極線管の蛍光面を作成する。図７は、本発明のカラー蛍光面の作成方法の一実施の形態を示す。
図７Ａに示すように、マスク部材３６の第２レジストパターン２６Ｂを露光用マスクに用いて、通常の方法により、陰極線管体のパネル４１の内面に光吸収層となるカーボンストライプ４２のパターンを形成する。このカーボンストライプパターンは、図示せざるもパネル４１の内面に感光性レジスト塗膜（例えばＰＶＡ感光膜）を形成し、マスク部材３６の第２レジストパターン２６Ｂをマスクにして、露光光源を相対的に赤、緑、青の位置に移動して各位置で露光し、現像して赤、緑、青の位置にレジストが残るようにレジストパターンを形成する。次いで、全面にカーボン膜を塗布し、反転現像してレジストパターンと共にその上のカーボン膜を除去し、残ったカーボン膜によりカーボンストライプパターンを形成する。
【００２３】
次に、第１色目、例えば緑色の蛍光体スラリーを塗布し、乾燥後に上記マスク部材３０の第２レジストパターン２６Ｂをマスクに用いて露光し、現像処理して緑色蛍光体ストライプ４３Ｇを形成する。同様にして第２色目の例えば赤色蛍光体ストライプ４３Ｒ、第３色目の例えば青色蛍光体ストライプ４３Ｂを形成して、図７Ｂに示す目的のブラックマトリックス型のカラー蛍光面４４を作成する。
【００２４】
そして、カラー蛍光面４４を作成した後に、マスク部材３６の両面の第１及び第２レジストパターン２６Ａ及び２６Ｂを溶解除去して、図８に示す多数のグリッド素体２９とその間にスリット状のビーム透過孔２７が形成された金属薄板２１のみによる色選別用電極薄板４７を有した色選別機構４６を得る。この色選別機構４６は、そのスリット状のビーム透過孔２７のスリット幅が蛍光体ストライプ４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂのストライプ幅より大きい幅を有して構成される。本発明では、この色選別機構４６をパネル内面に装着してカラー陰極線管を構成する。
【００２５】
図１及び図２は、この本発明に係るカラー陰極線管の一実施の形態を示す。本実施の形態に係るカラー陰極線管５１は、陰極線管体（ガラス管体）５２のパネル５２Ｐの内面に上述のマスク部材３６を用いてブラックマトリックス型の蛍光面４４が形成され、この蛍光面４４に対向してマスク部材３６のレジストパターン２６Ａ，２６Ｂを除去して形成した色選別機構４６が配置され、ネック部５２Ｎ内に電子銃５３が配置されて成る。管体５２の外側には、電子銃５３からの各色の電子ビーム６０〔ＢＲ　，ＢＧ　，ＢＢ　〕を水平、垂直方向に偏向させる偏向ヨーク５４が配置される。
【００２６】
上述の実施の形態によれば、マスク部材３６の第２レジストパターン２６Ｂをマスクに用いて蛍光面作成の露光を行い、蛍光面作成後に第１、第２レジストパターン２６Ａ，２６Ｂを除去して色選別機構４６として構成することにより、露光時のマスク透過率を、色選別機構４６のビーム透過率とは独立に最適条件で設定することができる。このため、第２レジストパターンのスリット幅で蛍光体ストライプの露光幅を決めることができ、安定した蛍光体ストライプの露光条件が可能になる。従って、色選別機構４６のビーム透過孔２７の幅より狭い所望幅の蛍光体ストライプ４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂの形成が可能になる。即ち、色選別機構のビーム透過孔幅はビーム幅を最適化するように設計するが、蛍光体ストライプ幅は両者のアローアンス分勘案してより細く作成することができる。また、色選別機構４６のビーム透過孔のスリット幅に対し、蛍光体ストライプ幅を大幅に制御することが可能になる。
【００２７】
色選別機構４６のビーム透過孔２７のスリットエッジは、蛍光面作成時の露光に不要となるため、大幅に精度要求を緩和することができる。
露光用マスク薄板３０は、ＰＥＴフィルム２２を有したまま扱えるためＰＥＴフィルム２２が保護膜として作用し十分強度が得られ、ハンドリングでの破損などを防止でき、取り扱い易くなる。また、強度が得られるので金属薄板２１を薄くでき、大型ファインピッチ化してもピッチムラが生じない。これにより、薄い鋼板での大型ファインピッチ化した色選別機構の形成も可能になる。
【００２８】
露光用マスクとなる第２レジストパターン２６Ｂは、露光・現像処理で形成されるので、そのパターンエッジ（即ち、スリットエッジ）がエッチングによる場合に比べてよりシャープに形成され、蛍光体ストライプ４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂをより高精度に形成することができる。
【００２９】
このようなストライプエッジがよりシャープな蛍光体ストライプからなるカラー蛍光面を有する陰極線管は、画像のより高精細化を可能にする。
【００３０】
本実施の形態は、通常のブラックマトリックス型のカラー陰極線管に適用できる以外に、特に、図３に示すように、色選別機構４８のビーム透過率を例えば５０％程度に大幅に上げた所謂後段収束型のカラー陰極線管５５及びその製造方法、蛍光面作成等に適用して好適である。
【００３１】
図９は、マスク部材の他の実施の形態を示す。本実施の形態に係るマスク部材６１は、金属薄板２１の一方の面に前述と同様のスリット状開口を有する第１レジストパターン６２Ａが形成され、他方の面に第１レジストパターン６２Ａのスリット幅より狭いスリット幅を有すると共に、スリットを挟んで隣り合うストライプ状体６３間を局部的に連結部（所謂ブリッジ部）６４で連結した第２レジストパターン６２Ｂが形成されて構成される。連結部６４は、ストライプ状体６３の幅より狭く形成される。金属薄板２１のエッチングは、前述の図５Ｅで示すと同様に第１レジストパターン６２Ａ側から行われ、ビーム透過孔となるスリット２７が形成される。
本実施の形態のマスク部材６１によれば、第２レジストパターン６２Ｂが連結部６４を有したスロット状パターンに形成されるので、金属薄板２１のエッチング後もグリッド素体２９がバラバラにならず、第２レジストパターンのピッチが安定し、良好なスリット幅の均一性が得られ、同時に取り扱い易くなる。このマスク部材６１を用いて蛍光面作成時の露光を行うときは、線状光源を用いて行うことにより、連結部６４は転写されず、ストライプ構造の蛍光面作成が可能になる。蛍光面作成後は、第１、第２のレジストパターン６２Ａ，６２Ｂを除去して色選別機構を形成する。
【００３２】
図１０は、マスク部材の更に他の実施の形態を示す。本実施の形態は、蛍光体ドットからなるブラックマトリックス型のカラー蛍光面の作成に適用した場合である。本実施の形態に係るマスク部材７１は、金属薄板２１の一方の面に色選別機構のドット状のビーム透過孔の決定に寄与するドット状開口７２ａを有する第１レジストパターン７２Ａが形成され、他方の面に形成すべき蛍光体ドットの径の決定に寄与するドット状開口７２ｂを有した第２レジストパターン７２Ｂが形成されて構成される。金属薄板２１のエッチングは、第１レジストパターン７２Ａ側から、或いは第１、第２のレジストパターン７２Ａ，７２Ｂ両側から行われ、ビーム透過孔となるドット状開口７４が形成される。
【００３３】
このマスク部材７１を用いることにより、ドット構造のブラックマトリックス型のカラー蛍光面を作成することができる。蛍光面作成後は、第１、第２のレジストパターン７２Ａ，７２Ｂを除去することにより、ドット状のビーム透過孔を有する色選別機構を形成する。
【００３４】
なお、本発明は、図示せざるも最終的にスロット型色選別機構を形成し得るマスク部材の作成も可能である。このスロット型のマスク部材を用いてストライプ型カラー蛍光面を作成し、その後、第１、第２のレジストパターンを除去してスロット型色選別機構を形成し、これをパネル内に装着してカラー陰極線管を構成することも可能である。
【００３５】
【発明の効果】
本発明に係るカラー陰極線管によれば、色選別機構のビーム透過孔エッジの精度を緩和しつつ、蛍光体層エッジがシャープでより高精度のブラックマトリックス型の蛍光面を有した高画質のカラー陰極線管を提供することができる。より高精細のカラー陰極線管を提供できる。さらに、後段収束型のカラー陰極線管に適用して好適である。
【００３６】
本発明に係るカラー陰極線管の製造方法によれば、色選別機構のビーム透過孔エッジの精度を緩和しつつ、蛍光体層エッジがシャープでより高精度のブラックマトリックス型の蛍光面を有した高画質のカラー陰極線管を、安定して且つ精度良く製造することができる。より高精細のカラー陰極線管の製造に適する。さらに、後段収束型のカラー陰極線管の製造に適用して好適である。
【００３７】
本発明に係る蛍光面作成方法によれば、ブラックマトリックス型のカラー蛍光面を、蛍光体層エッジがよりシャープとなるように高精度に作成することができる。高精細のカラー蛍光面の作成に適する。さらに、後段収束型のカラー陰極線管の蛍光面作成に適用して好適である。
【００３８】
第２のフォトレジスト材を現像する前に、基材を第１レジストパターン側から選択除去するときは、より精度の良い第２レジストパターンの形成が可能になる。
基材を第１及び第２の両レジストパターン側から選択除去するときは、マスク部材を作成する際の作業効率の向上が図れる。
フォトレジスト材として、光透過性フィルムの面にフォトレジスト膜を形成した所謂ドライフィルムを用いるので、強度の高いレジストパターンの形成が可能になり、且つ基材の薄板化を可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラー陰極線管の一実施の形態を示す構成図である。
【図２】図１の要部の拡大断面図である。
【図３】本発明に係るカラー陰極線管の他の実施の形態であり、後段収束型のカラー陰極線管に適用した場合の要部の拡大断面図である。
【図４】Ａ〜Ｄ　本発明に係るカラー陰極線管の製造に適用されるマスク部材の作成の一実施の形態を示す製造工程図（その１）である。
【図５】Ｅ〜Ｈ　本発明に係るカラー陰極線管の製造に適用されるマスク部材の作成の一実施の形態を示す製造工程図（その２）である。
【図６】Ａ〜Ｃ　本発明に係るカラー陰極線管の製造に適用されるマスク部材の作成の他の実施の形態を示す製造工程図である。
【図７】Ａ〜Ｂ　本発明にカラー陰極線管の蛍光面の作成方法の一実施の形態を示す製造工程図である。
【図８】Ａ　本発明に係るカラー陰極線管用の色選別機構の一実施の形態を示す構成図である。
Ｂ　その要部の拡大断面図である。
【図９】Ａ　本発明に係るカラー陰極線管の製造に適用されるマスク部材の他の実施の形態を示す平面図である。
Ｂ　その背面図である。
Ｃ　その拡大断面図である。
【図１０】Ａ　本発明に係るカラー陰極線管の製造に適用されるマスク部材の他の実施の形態を示す平面図である。
Ｂ　その断面図である。
【図１１】従来の露光マスクを兼ねる色選別機構の一例を示す構成図である。
【図１２】図１１の色選別機構を露光マスクに用いて蛍光面を作成する工程図である。
【符号の説明】
２１・・・基材、２２・・・ＰＥＴフィルム、２３・・・感光性レジスト層、２４〔２４Ａ，２４Ｂ〕・・・ドライフィルム、２５Ａ，２５Ｂ・・・露光マスク、２６Ａ，２６Ｂ・・・レジストパターン、２７・・・ビーム透過孔、２９・・・グリッド素体、３０・・・露光用マスク薄板、３５・・・フレーム、３６・・・マスク部材、４１・・・パネル、４２・・・カーボンストライプ、４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂ・・・蛍光体ストライプ、４４・・・カラー蛍光面、４６・・・色選別機構、５１・・・カラー陰極線管、５２・・・管体、５３・・・電子銃、５４・・・偏向ヨーク、５５・・・後段収束型カラー陰極線管、６１・・・マスク部材、６２Ａ，６２Ｂ・・・レジストパターン、６３・・・ストライプ状体、６４・・・連結部、７１・・・マスク部材、７２Ａ，７２Ｂ・・・レジストパターン、７２ａ，７２ｂ・・・ドト状開口、７４・・・ドット状のビーム透過孔
【図１】
2004095478.tif 000003
【図２】
2004095478.tif 000004
【図３】
2004095478.tif 000005
【図４】
2004095478.tif 000006
【図５】
2004095478.tif 000007
【図６】
2004095478.tif 000008
【図７】
2004095478.tif 000009
【図８】
2004095478.tif 000010
【図９】
2004095478.tif 000011
【図１０】
2004095478.tif 000012
【図１１】
2004095478.tif 000013
【図１２】
2004095478.tif 000014