(57)【要約】【課題】ウエハ上の形状と設計データとに差異があるとき、最適な製造方法を選択できる集積回路装置製造に関する情報提供システムを提供する。【解決手段】製造者１１側からコンサルタント１３側が、集積回路装置における目標とする回路パターンの設計データと、前記設計データを用いて基板上に形成されたパターン形状と前記設計データとの差異と、前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報とを、ネットワーク１２を介して受け取る。コンサルタント１３側は、前記設計データ、差異、及び製造工程情報に基づいて、前記差異を縮小する手段を求め、求めた前記手段に対して必要な費用及び時間、及び前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出する。さらに、前記差異を縮小する手段、費用及び時間、及び製造費用削減効果を、ネットワーク１２を介して製造者１１側に提供する。【選択図】　　図１
2004111875.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークにより集積回路装置の製造に関する情報を提供する情報提供システムであって、
情報受給者側から情報提供者側が、集積回路装置における目標とする回路パターンに関する設計情報と、この設計情報を作成した際の設計工程と、前記設計情報を用いて基板上に形成されたパターン形状と前記目標とする回路パターンとの差異と、前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報とを、ネットワークを介して受け取るステップと、
前記情報提供者側が、前記情報受給者側から受け取った前記設計情報、設計工程、差異、及び製造工程情報に基づいて、前記差異を縮小するための手段を求めるステップと、
前記情報提供者側が、求めた前記手段に対して必要な費用及び時間を算出するステップと、
前記情報提供者側が、前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出するステップと、
前記情報提供者側が、前記差異を縮小するための手段、費用及び時間、及び製造費用削減効果を、ネットワークを介して前記情報受給者側に提供するステップと、
を具備することを特徴とする集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項２】
ネットワークにより集積回路装置の製造に関する情報を提供する情報提供システムであって、
情報受給者側から情報提供者側が、集積回路装置における目標とする回路パターンに関する設計情報と、前記回路パターンを基板上に形成する際の製造工程情報とを、ネットワークを介して受け取るステップと、
前記情報提供者側が、前記設計情報及び製造工程情報に基づき、プロセスシミュレーションを用いて前記回路パターンが基板上に形成されるときのパターン形状を求めるステップと、
前記情報提供者側が、前記プロセスシミュレーションにより求めた前記パターン形状と前記目標とする回路パターンとを比較し、これらの差異を得るステップと、
前記情報提供者側が、前記設計情報及び製造工程情報の中から、前記差異を縮小するための手段を求めるステップと、
前記情報提供者側が、求めた前記差異を縮小するための手段に対して必要な費用及び時間を算出するステップと、
前記情報提供者側が、前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出するステップと、
前記情報提供者側が、前記差異を縮小するための手段、費用及び時間、及び製造費用削減効果を、ネットワークを介して前記情報受給者側に提供するステップと、
を具備することを特徴とする集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項３】
前記情報受給者側が、提供された前記差異を縮小するための手段、費用及び時間、及び製造費用削減効果に基づいて、前記差異を縮小するための手段の中から、変更を行う手段を選択するステップをさらに具備することを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項４】
前記差異を縮小するための手段に対して必要な費用及び時間は、前記手段を実施し、前記差異を縮小するまでに発生する費用及び時間であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項５】
前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果は、差異を縮小した場合と差異をそのままにした場合の歩留まりを計算する歩留まりシミュレータにより求めた歩留まり改善率と、前記集積回路装置の生産数とを用いて算出されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項６】
前記差異を縮小するための手段を求めるステップは、前記設計情報を作成した際の設計工程、及び前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報の中から、前記差異を縮小するために適した工程を抽出し、抽出した工程における変更内容を案出するステップであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項７】
前記目標とする回路パターンに関する設計情報は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項８】
前記目標とする回路パターンに関する設計情報は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データに対してデータ処理を施した処理データであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項９】
前記目標とする回路パターンに関する設計情報は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データに対してデータ処理を施すことにより作成した露光用マスクの描画データであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項１０】
前記差異を縮小するための手段は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データを変更することを含むことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項１１】
前記差異を縮小するための手段は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データに対してデータ処理を施すことで露光マスク用の描画データを作成する際の、前記データ処理におけるパラメータの変更を含むことを特徴とする請求項９に記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項１２】
前記差異を縮小するための手段は、前記基板上に前記パターン形状を形成する際の、製造工程情報の変更を含むことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項１３】
前記基板上のパターン形状は、
前記設計情報に対してデータ処理を施すことにより、露光マスク用の描画データを作成するステップと、前記描画データを用いて露光マスクを作製するステップと、を経て作製された前記露光マスクを用いて形成されたことを特徴とする請求項１に記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項１４】
前記情報受給者は前記集積回路装置の製造者を含み、前記情報提供者は前記集積回路装置の製造に関する情報を提供するコンサルタントを含むことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造に関する情報提供システム。
【請求項１５】
集積回路装置における目標とする回路パターンに関する設計情報を作成する工程と、
前記設計情報を用いて、基板上にパターン形状を形成する工程と、
前記基板上のパターン形状と前記目標とする回路パターンとを比較し、これらの差異を得る工程と、
前記回路パターンに関する設計情報を作成する工程及び前記パターン形状を形成する工程の中から、前記差異を縮小するための手段を求める工程と、
求めた前記手段に対して必要な費用及び時間を算出する工程と、
前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出する工程と、
前記差異を縮小するための手段、費用及び時間、及び製造費用削減効果に基づいて、前記差異を縮小するための手段の中から、変更を行う手段を選択する工程と、
を具備することを特徴とする集積回路装置の製造方法。
【請求項１６】
集積回路装置における目標とする回路パターンに関する設計情報を作成する工程と、
前記回路パターンを基板上に形成する際の製造工程情報、及び前記設計情報に基づき、プロセスシミュレーションを用いて前記回路パターンが基板上に形成されるときのパターン形状を求める工程と、
前記プロセスシミュレーションにより求めた前記パターン形状と前記目標とする回路パターンとを比較し、これらの差異を得る工程と、
前記設計情報及び製造工程情報の中から、前記差異を縮小するための手段を求める工程と、
求めた前記手段に対して必要な費用及び時間を算出する工程と、
前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出する工程と、
前記差異を縮小するための手段、前記費用及び時間、及び前記製造費用削減効果に基づいて、前記差異を縮小するための手段の中から、変更を行う手段を選択する工程と、
を具備することを特徴とする集積回路装置の製造方法。
【請求項１７】
前記プロセスシミュレーションは、前記基板上にパターン形状を形成する際のプロセス変動、及び製造装置個々の特性を考慮するように設定されていることを特徴とする請求項１６に記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項１８】
前記差異を縮小するための手段に対して必要な費用及び時間は、前記手段を実施し、前記差異を縮小するまでに発生する費用及び時間であることを特徴とする請求項１５乃至１７のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項１９】
前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果は、差異を縮小した場合と差異をそのままにした場合の歩留まりを計算する歩留まりシミュレータにより求めた歩留まり改善率と、前記集積回路装置の生産数とを用いて算出されることを特徴とする請求項１５乃至１８のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２０】
前記差異を縮小するための手段を求める工程は、前記設計情報を作成した際の設計工程、及び前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報の中から、前記差異を縮小するために適した工程を抽出し、抽出した工程における変更内容を案出することを特徴とする請求項１５乃至１９のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２１】
前記目標とする回路パターンに関する設計情報は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データであることを特徴とする請求項１５乃至２０のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２２】
前記目標とする回路パターンに関する設計情報は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データに対してデータ処理を施した処理データであることを特徴とする請求項１５乃至２０のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２３】
前記目標とする回路パターンに関する設計情報は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データに対して、データ処理を施すことにより作成した露光用マスクの描画データであることを特徴とする請求項１５乃至２０のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２４】
前記差異を縮小するための手段は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データを変更することを含むことを特徴とする請求項１５乃至２３のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２５】
前記差異を縮小するための手段は、前記目標とする回路パターンの形状を直に示す設計データに対してデータ処理を施すことで露光マスク用の描画データを作成する際の、前記データ処理におけるパラメータの変更を含むことを特徴とする請求項２３に記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２６】
前記差異を縮小するための手段は、前記基板上に前記パターン形状を形成する際の、製造工程情報の変更を含むことを特徴とする請求項１５乃至２５のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２７】
前記パターン形状を形成する工程は、
前記設計情報に対してデータ処理を施すことにより、露光マスク用の描画データを作成する工程と、
前記描画データを用いて、露光マスクを作製する工程と、
前記露光マスクを用いて、基板上に前記パターン形状を形成する工程と、
を具備することを特徴とする請求項２１に記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２８】
前記変更を行う手段を選択する工程により、選択された手段によって変更された前記設計情報を用いて、基板上にパターン形状を形成する工程をさらに具備することを特徴とする請求項１５乃至２７のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項２９】
前記変更を行う手段を選択する工程により、選択された手段によって設定された製造工程情報を用いて、基板上にパターン形状を形成する工程をさらに具備することを特徴とする請求項１５乃至２７のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【請求項３０】
前記情報受給者は前記集積回路装置の製造者を含み、前記情報提供者は前記集積回路装置の製造に関する情報を提供するコンサルタントを含むことを特徴とする請求項１５乃至２９のいずれか１つに記載の集積回路装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、集積回路装置の製造方法、あるいは集積回路装置の製造方法を選択する際に使用される集積回路装置の製造に関する情報提供システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、集積回路装置における回路パターンの設計寸法は、ますます微細化が進行している。この微細化に伴い、集積回路装置の回路パターンのウエハ上形状と、設計データとの差異を測定し、この差異を縮小する重要性が高まってきている。前記ウエハ上形状と設計データとの差異を測定する技術（形状計測）は、各種の文献にて公表されている（例えば、非特許文献１参照）
ウエハ上の形状と設計データと間に差異があった場合には、その差異を縮小するために様々な手法が用いられている。前記様々な手法には、例えば、マスクデータ作成の際に用いられるＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ　Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ：光近接効果補正）のパラメータを変更する方法や、設計データを変更する方法などがある。
【０００３】
【非特許文献１】
松岡良一、「ＣＡＤシステムとＳＥＭ装置を融合　パターン形状の定量評価を可能に」、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｊｏｕｒｎａｌ、２０００年７月号、ｐ．１０４−
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、回路パターンにおいてウエハ上の形状と設計データと間に差異があった際に、複数の解決方法のうち、どのような方法を用いて解決するかを選択するための手法は従来存在しなかった。
【０００５】
そこでこの発明は、前記課題に鑑みてなされたものであり、回路パターンにおけるウエハ上の形状と設計データと間に差異があった場合に、最適な製造方法を選択することができる集積回路装置の製造に関する情報提供システム及び集積回路装置の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、この発明に係る集積回路装置の製造に関する情報提供システムは、ネットワークにより集積回路装置の製造に関する情報を提供する情報提供システムであって、情報受給者側から情報提供者側が、集積回路装置における目標とする回路パターンに関する設計情報と、この設計情報を作成した際の設計工程と、前記設計情報を用いて基板上に形成されたパターン形状と前記目標とする回路パターンとの差異と、前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報とを、ネットワークを介して受け取るステップと、前記情報提供者側が、前記情報受給者側から受け取った前記設計情報、設計工程、差異、及び製造工程情報に基づいて、前記差異を縮小するための手段を求めるステップと、前記情報提供者側が、求めた前記手段に対して必要な費用及び時間を算出するステップと、前記情報提供者側が、前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出するステップと、前記情報提供者側が、前記差異を縮小するための手段、費用及び時間、及び製造費用削減効果を、ネットワークを介して前記情報受給者側に提供するステップとを具備する。
【０００７】
また、前記目的を達成するために、この発明に係る集積回路装置の製造方法は、集積回路装置における目標とする回路パターンに関する設計情報を作成する工程と、前記設計情報を用いて、基板上にパターン形状を形成する工程と、前記基板上のパターン形状と前記目標とする回路パターンとを比較し、これらの差異を得る工程と、前記回路パターンに関する設計情報を作成する工程及び前記パターン形状を形成する工程の中から、前記差異を縮小するための手段を求める工程と、求めた前記手段に対して必要な費用及び時間を算出する工程と、前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出する工程と、前記差異を縮小するための手段、費用及び時間、及び製造費用削減効果に基づいて、前記差異を縮小するための手段の中から、変更を行う手段を選択する工程とを具備する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明の実施の形態について説明する。説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。
【０００９】
［第１の実施の形態］
まず、この発明の第１の実施の形態の集積回路装置製造に関する情報提供システムについて説明する。ここで述べる情報提供システムの概要を記すと以下のようになる。集積回路装置を製造する製造者側と、集積回路装置の製造に関しての情報提供を行うコンサルタント側とは、ネットワークで結ばれている。コンサルタント側は、製造者側に対して製造者側が必要とする情報の提供を行い、製造者側はコンサルタント側から提供された情報に基づいて、適切な製造工程を選択し集積回路装置の製造方法を最適化する。
【００１０】
図１は、第１の実施の形態の集積回路装置製造に関する情報提供システムに用いられるハード構成の概念図である。
【００１１】
集積回路装置の製造者１１側の端末（情報入出力部）は、ネットワーク１２に接続されている。集積回路装置製造に関する情報を提供するコンサルタント１３側の端末（情報入出力部）は、サーバ１４を介してネットワーク１２に接続されている。前記ネットワーク１２は、例えばインターネット（公衆通信回線網）の伝送路から構成されている。サーバ１４は、このシステムにおける情報を管理する。製造者１１側及びコンサルタント１３側の端末には、パーソナルコンピュータなどが用いられる。
【００１２】
なお、図１にはコンサルタント１３側の端末がサーバ１４を介してネットワーク１２に接続された例を示したが、コンサルタント１３側の端末とサーバ１４はこれとは別の接続構成を取っていてもよい。すなわち、集積回路装置の製造者１１側の端末と、コンサルタント１３側の端末とが、ネットワーク１２を介して接続され、情報の授受ができように構成されていればよい。また、サーバ１４は、このシステムにおける情報を管理できるように、ネットワーク１２に接続されていればよい。
【００１３】
次に、前記集積回路装置の製造者１１が実施する、回路パターンの設計から回路パターンの形成を経て変更工程の選択までの製造工程について説明する。
【００１４】
図２は、集積回路装置の製造者が実施する製造工程のフローを示す図である。
【００１５】
製造者１１は、デザインルール、シフター配置、ＳＲＡＦ配置などを考慮し、集積回路装置における目標とする回路パターンを設計する（Ｓ２１〜Ｓ２２）。続いて、設計した回路パターンの設計データに対して、ＯＰＣツール選択、ターゲット設定、設計データ移動条件設定、及びＯＰＣ用パラメータ設定（シミュレーションのモデルとルールの設定）などのデータ処理を施すことにより、露光マスクの描画データを作成する（Ｓ２２〜Ｓ２３）。描画データをもとに、設定されたブランクス、描画ツール、及び加工ツールにより、露光マスクを作製する（Ｓ２３〜Ｓ２４）。
【００１６】
続いて、ウエハに対し露光マスクを用いて露光を行い、さらに現像を行って、露光マスク上の回路パターンをウエハ上に転写する。さらに、ウエハの加工を行い、ウエハ上に回路パターンを形成する（Ｓ２４〜Ｓ２５）。
【００１７】
次に、ウエハ上に形成された回路パターンのパターン形状を測定し（形状計測）、前記パターン形状と前記回路パターンの設計データ（目標とする回路パターン）とを比較する。これにより、ウエハ上のパターン形状が集積回路装置の製造者（多くの場合、設計者、プロセス技術者、またはインテグレーション技術者等）１１が所望する形状（多くの場合、設計データによる回路パターン）になっているかを検証する。
【００１８】
図３に、実際のウエハ上に形成されたパターン形状の観察結果を示す。これは、回路動作シミュレーションで問題があると指摘された箇所を、形状計測システムを用いて観察した結果である。設計データ３１Ａに対して、パターン形状３１Ｂが形成されている。前記パターン形状は、例えばメタル膜からなる。この図３中の丸で囲った危険パターン部分３１に示すように、コンタクトホールが形成されるパターン形状の終端部分（以下、終端と記す）は、製造者１１が所望する形状よりも小さくなっていることが分かる。なお、コンタクトホールは、領域３１Ｃに形成される。
【００１９】
このように、所望する形状（目標とする回路パターン）と処理基板上のパターン形状が異なっている場合、その異なっている部分を縮小できるように設計工程及び製造工程を変更する必要がある。工程を変更する場合にはその変動量の大きさ応じて、工程を変更するために必要な費用及び時間が発生する。
【００２０】
そこで、製造者１１は、コンサルタント１３側にて案出された変更すべき工程や、それに伴う費用及び時間などの情報をコンサルタント１３側から提供してもらう（Ｓ２５〜Ｓ２６）。そして、製造者１１は、案出された工程や、それに伴う費用及び時間などの提供された情報に基づいて、変更を行うのに最適な工程を選択する（Ｓ２６〜Ｓ２７）。前述したコンサルタント１３側からの情報提供、及び変更を行う工程の選択については後で詳述する。
【００２１】
以下に、図３に示した設計データとパターン形状の差異を小さくするために案出される手法（工程）の事例を記す。
【００２２】
（Ａ）　パターン形状の終端を伸ばす設計変更を行う。
【００２３】
（Ｂ）　ＯＰＣツールを変更して、描画データを再び作製する。
【００２４】
（Ｃ）　ＯＰＣのパラメータ（モデル・エッジ移動アルゴリズム・セリフサイズなど）を変更し、描画データを再び作製する。
【００２５】
（Ｄ）　露光マスクのプロセス（描画ツール、加工条件など）を変更し、パターン形状の終端がより伸びるように変更する。
【００２６】
（Ｅ）　ウエハプロセスを変更し、よりパターン形状の終端が伸びる加工条件を選択する。
【００２７】
（Ｆ）　ウエハ管理を厳密化し、コンタクトホールが終端からはみ出さないようにする（コンタクトホールが終端に形成される場合）。
【００２８】
これらの手法のうち、例えば（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）などは設計データの再処理、およびその変更ルールを作成するための費用や時間が発生するが、根本的な解決手段を提供する。また、（Ｄ）、（Ｅ）については、例えばパターン形状の終端の後退量が少なくなるようなレジストを再び選定するということが考えられる。しかしながら、プロセスを変更するため指摘箇所以外の形状が変わる可能性があり、非常に費用及び時間がかかる手法である。しかし、これも根本的な解決手段を提供する。（Ｆ）については、設計データ処理や実験を再び行う必要はなく、短期的な解決手段を提供する。しかしながら、管理を厳密化する費用や、歩留まり低下を引き起こすことによる費用が発生する。また、集積回路を製造した際の歩留まりや前記（Ａ）〜（Ｆ）の手法を実行した際の費用を考え、何もしないという選択もあり得る。
【００２９】
この第１の実施の形態は、前述した事情を鑑み、集積回路装置の製造者が解決手法の選択を適切に行うためのシステムを提供するものである。
【００３０】
次に、前記集積回路装置の製造者１１側とコンサルタント１３側との間で行われる情報の授受について説明する。
【００３１】
図４は、製造者側とコンサルタント側との間の情報の授受を示す図である。
【００３２】
この図４に示すように、集積回路装置の製造者１１は、設計データ情報（Ｓ４１）、形状計測結果（Ｓ４２）、及び集積回路装置の製造工程情報（Ｓ４３）を端末から入力する。前記設計データ情報（Ｓ４１）は、設計により作成した、目標とする回路パターンを直に示す設計データ、及び露光マスク作製のための描画データなどの目標とする回路パターンに関する設計情報を含む。形状計測結果（Ｓ４２）は、計測したウエハ上のパターン形状と設計データとの差異であり、例えば両者の面積の差分、及び寸法の差分などを含む。集積回路装置の製造工程情報（Ｓ４３）は、集積回路装置の製造に使用した製造装置及び製造条件、及び各工程での費用及び時間などを含む。
【００３３】
集積回路装置の製造に関するコンサルタント１３は、ネットワーク１２を介してこれら設計データ情報、形状計測結果、及び集積回路装置の製造工程情報を受け取る。コンサルタント１３は、受け取った情報を基に、前記設計データ（目標とする回路パターン）とパターン形状との差異を小さくするための手段を求める。詳述すると、コンサルタント１３は、設計データとパターン形状との差異を小さくするために、適する工程を抽出し、抽出した工程における変更内容を案出する。ここでは、前記（Ａ）〜（Ｆ）に列挙された工程を案出するものとする。コンサルタント１３は、続いて、案出された前記（Ａ）〜（Ｆ）の工程に対して必要な費用及び時間を算出する。さらに、算出した費用及び時間、さらに歩留まりシミュレータを用いて、設計データとパターン形状との差異を小さくした場合に得られる、設計工程及び製造工程を全て含めた製造費用削減効果を算出する（Ｓ４４）。
【００３４】
続いて、コンサルタント１３は、案出した工程、これら工程に対して必要な費用と時間、及び製造費用低減効果を、ネットワーク１２を介して集積回路装置の製造者１１側に送信する。送信されたこれら情報は、製造者１１側の端末から出力される（Ｓ４５）。
【００３５】
次に、集積回路装置の製造者１１は、コンサルタント１３側から提供された情報を基に、設計データとパターン形状との差異を小さくするために最適な解決手段、すなわち変更を行うのに最適な工程を選択する（Ｓ４６）。
【００３６】
図５に、集積回路装置の製造において各工程に戻った場合の費用及び時間の算出方法を示す。各工程に戻った場合の費用及び時間については、図５に示すように、各工程に必要な費用及び時間を累積して加算することで算出できる。例えば、工程（１）に戻った場合の総費用は（費用１＋費用２＋費用３）となる。また、総時間は（時間１＋時間２＋時間３）となる。
【００３７】
また、工程改善後に得られる製造費用削減量については、歩留まりと今後の生産数（計画）とを乗算することにより算出できる。例えば、１０、０００円の集積回路装置を今後１００個生産する計画があるとする。この場合、歩留まりが５０％から５１％に改善すれば約３９、０００円、工程を変更しない場合に比べて削減することができる。
【００３８】
このような集積回路装置製造に関する情報提供システムを用いれば、集積回路装置の製造者は提供された情報を基に、より信頼性のあるデータに基づいた正確な判断を下すことができ、適切なフィードバック工程（変更すべき工程）を選択することが可能になる。
【００３９】
以上説明したようにこの第１の実施の形態では、回路パターンにおけるウエハ上の形状と設計データ（目標とする回路パターン）との間に差異があった場合に、この差異を縮小するための最適な製造方法を選択することができ、設計工程を含む集積回路装置の製造費用を最大限に削減することができる。
【００４０】
［第２の実施の形態］
次に、この発明の第２の実施の形態の集積回路装置製造に関する情報提供システムについて説明する。ここで述べる情報提供システムでは、製造者側で露光マスクの描画データを作製した段階で、製造者側に対して製造者側が必要とする情報の提供を行い、製造者側はコンサルタント側から提供された情報に基づいて、適切な製造工程を選択し集積回路装置の製造方法を最適化する。
【００４１】
前記第１の実施の形態では、ウエハ上に作成された回路パターンを含む情報を受け取り、コンサルタント業務を行ったが、ここでは回路パターンを作成する前に設計データを含む情報を受け取り、コンサルタント業務を行う。なお、第２の実施の形態のハード構成は、図１に示した前記第１の実施の形態と同様である。
【００４２】
次に、前記集積回路装置の製造者１１が実施する、回路パターンの設計から変更工程の選択を経て回路パターンの形成までの製造工程について説明する。
【００４３】
図６は、集積回路装置の製造者が実施する製造工程のフローを示す図である。
【００４４】
前述したように、第１の実施の形態との違いは露光マスクの描画データを作成段階で、製造工程にフィードバックを行っている点である。
【００４５】
製造者１１は、デザインルール、シフター配置、ＳＲＡＦ配置などを考慮し、回路パターンを設計する（Ｓ２１〜Ｓ２２）。続いて、設計した回路パターンのデータに対して、ＯＰＣツール選択、ターゲット設定、設計データ移動条件設定、及びＯＰＣ用パラメータ設定（シミュレーションのモデルとルールの設定）などのデータ処理を施すことにより、露光マスクの描画データを作成する（Ｓ２２〜Ｓ２３）。
【００４６】
次に、製造者１１は、前記描画データを含む設計データ情報をコンサルタント１３側に送信し、コンサルタント１３側にて前記設計データ情報に基づいて案出された変更すべき工程や、それに伴う費用及び時間などの情報をコンサルタント１３側から提供してもらう（Ｓ６１）。そして、製造者１１は、案出された工程や、それに伴う費用及び時間などの提供された情報に基づいて、変更を行うのに最適な工程を選択する（Ｓ６２）。前述したコンサルタント１３側からの情報提供、及び変更を行う工程の選択については後で詳述する。
【００４７】
変更を行う工程を選択し、その工程を実行した後、再度作成した描画データをもとに、設定されたブランクス、描画ツール、及び加工ツールにより、露光マスクを作製する（Ｓ２４）。続いて、ウエハに対し露光マスクを用いて露光を行い、さらに現像を行って、露光マスク上の回路パターンをウエハ上に転写する。さらに、ウエハの加工を行い、ウエハ上に回路パターンを形成する（Ｓ２５）。
【００４８】
次に、前記集積回路装置の製造者１１側とコンサルタント１３側との間で行われる情報の授受について説明する。
【００４９】
図７は、製造者側とコンサルタント側との間の情報の授受を示す図である。
【００５０】
この図７に示すように、集積回路装置の製造者１１は、設計データ情報（Ｓ４１）、及び集積回路装置の製造工程情報（Ｓ４３）を端末から入力する。前記設計データ情報（Ｓ４１）は、設計により作成した、目標とする回路パターンを直に示す設計データ、及び露光マスク作製のための描画データなどの目標とする回路パターンに関する設計情報を含む。集積回路装置の製造工程情報（Ｓ４３）は、集積回路装置の製造に使用した製造装置及び製造条件、及び各工程での費用及び時間などを含む。
【００５１】
集積回路装置の製造に関するコンサルタント１３は、ネットワーク１２を介してこれら設計データ情報、及び集積回路装置の製造工程情報を受け取る。コンサルタント１３は、受け取った描画データ及び製造工程情報を用いて、ウエハ上に形成されるパターン形状を予測するためのプロセスシミュレーションを実施する（Ｓ７１）。そして、このシミュレーション結果と設計データ（目標とする回路パターン）とを比較する（Ｓ７２）。これにより、ウエハ上のパターン形状が集積回路装置の製造者（多くの場合、設計者、プロセス技術者、またはインテグレーション技術者等）１１が所望する形状（多くの場合、設計データによる回路パターン）になっているかを検証する。
【００５２】
前記プロセスシミュレーションを実施する際には、各種プロセスの変動要因、及び使用する製造装置個々の特性などを入れることができる。例えば、露光時の照明形状、収差、フォーカス値、露光量、露光マスクの揺らぎや、ウエハ加工条件のばらつきなどである。
【００５３】
前述した設計データとシミュレーション結果とを比較した結果（Ｓ７２）、設計データとシミュレーション結果との間に差異がある場合、この差異を縮小できるように設計工程及び製造工程を変更する必要がある。工程を変更する場合には、工程を変更するために必要な費用及び時間が発生する。
【００５４】
コンサルタント１３は、設計データとシミュレーション結果との間に差異がある場合、この差異を小さくするための工程を求める。詳述すると、コンサルタント１３は、設計データとパターン形状との差異を小さくするために、適する工程を抽出し、抽出した工程における変更内容を案出する。ここでは、前記（Ａ）〜（Ｆ）に列挙された工程を案出するものとする。コンサルタント１３は、続いて、案出された前記（Ａ）〜（Ｆ）の工程に対して必要な費用及び時間を算出する。さらに、算出した費用及び時間、さらに歩留まりシミュレータを用いて、設計データとシミュレーション結果との差異を小さくした場合に得られる、設計工程及び製造工程を全て含めた製造費用削減効果を算出する（Ｓ７３）。
【００５５】
続いて、コンサルタント１３は、案出した工程、これら工程に対して必要な費用と時間、及び製造費用低減効果を、ネットワーク１２を介して集積回路装置の製造者１１側に送信する（Ｓ７４）。送信されたこれら情報は、製造者１１側の端末から出力される。
【００５６】
次に、集積回路装置の製造者１１は、コンサルタント１３側から提供された情報を基に、設計データとシミュレーション結果（シミュレーションによるウエハ上のパターン形状）との差異を小さくするために最適な解決手法、すなわち変更を行うのに最適な工程を選択する（Ｓ７５）。
【００５７】
なお、設計データとシミュレーション結果とを比較した結果（Ｓ７２）、設計データとシミュレーション結果との間に差異がない場合、コンサルタント１３は、両者間に差異がないことをネットワーク１２を介して集積回路装置の製造者１１側に送信する。
【００５８】
集積回路装置の各工程に戻った場合の費用及び時間の算出方法、及び工程改善後に得られる製造費用削減量については、前記第１の実施の形態と同様である。
【００５９】
このような集積回路装置製造に関する情報提供システムを用いれば、集積回路装置の製造者は提供された情報を基に、より信頼性のあるデータに基づいた正確な判断を下すことができ、適切なフィードバック工程（変更すべき工程）を選択することが可能になる。
【００６０】
以上説明したようにこの第２の実施の形態では、シミュレーションによるウエハ上の回路パターンと設計データ（目標とする回路パターン）との間に差異があった場合に、この差異を縮小するための最適な製造方法を選択することができ、設計工程を含む集積回路装置の製造費用を最大限に削減することができる。
【００６１】
［第３の実施の形態］
次に、この発明の第３の実施の形態の集積回路装置の製造方法について説明する。ここで述べる製造方法は、前述した第１の実施の形態においてコンサルタント１３側で行っていた業務を製造者１１側で行い、集積回路装置の製造、及び製造に関する情報提供を一括して製造者１１が行うものである。
【００６２】
図８は、第３の実施の形態の集積回路装置の製造方法のフローを示す図である。
【００６３】
製造者１１は、デザインルール、シフター配置、ＳＲＡＦ配置などを考慮し、集積回路装置における目標とする回路パターンを設計する（Ｓ８１）。続いて、設計した回路パターンの設計データに対して、ＯＰＣツール選択、ターゲット設定、設計データ移動条件設定、及びＯＰＣ用パラメータ設定（シミュレーションのモデルとルールの設定）などのデータ処理を施すことにより、露光マスクの描画データを作成する（Ｓ８２）。描画データをもとに、設定されたブランクス、描画ツール、及び加工ツールにより、露光マスクを作製する（Ｓ８３）。
【００６４】
続いて、ウエハに対し露光マスクを用いて露光を行い、さらに現像を行って、露光マスク上の回路パターンをウエハ上に転写する。さらに、ウエハの加工を行い、ウエハ上に回路パターンを形成する（Ｓ８４）。
【００６５】
次に、製造者１１は、ウエハ上に形成された回路パターンのパターン形状を測定する（形状計測）。そして、前記パターン形状と回路パターンの設計データ（目標とする回路パターン）とを比較して、両者の差異を算出する（Ｓ８５）。
【００６６】
続いて、製造者１１は、設計データ情報、及び製造工程情報を基に、設計データとパターン形状との差異を小さくするための手段を求める（Ｓ８６）。詳述すると、製造者１１は、設計データとパターン形状との差異を小さくするために、適する工程を抽出し、抽出した工程における変更内容を案出する。前記設計データ情報は、設計により作成した、目標とする回路パターンを直に示す設計データ、露光マスク作製のための描画データなどの目標とする回路パターンに関する設計情報、さらに前述した回路パターンの設計、描画データの作成、及び露光マスクの作成時における情報を含む。また、製造工程情報は、前述した回路パターンの形成における製造工程、製造条件、及び各製造工程での費用及び時間を含む。
【００６７】
さらに、案出した工程に対して必要な費用及び時間を算出する（Ｓ８７）。算出した費用と時間、及び歩留まりシミュレータを用いて、設計データとパターン形状との差異を小さくした場合に得られる、設計工程及び製造工程を全て含めた製造費用削減効果を算出する（Ｓ８８）
次に、製造者１１は、案出した工程や、それに伴う費用及び時間、及び製造費用削減効果などの情報に基づいて、変更を行うのに最適な工程を選択する（Ｓ８９）。
【００６８】
このような集積回路装置の製造方法を用いれば、集積回路装置の製造者はより信頼性のあるデータに基づいた正確な判断を下すことができ、適切なフィードバック工程（変更すべき工程）を選択することが可能になる。
【００６９】
以上説明したようにこの第３の実施の形態では、回路パターンにおけるウエハ上の形状と設計データ（目標とする回路パターン）との間に差異があった場合に、この差異を縮小するための最適な製造方法を選択することができ、設計工程を含む集積回路装置の製造費用を最大限に削減することができる。
【００７０】
［第４の実施の形態］
次に、この発明の第４の実施の形態の集積回路装置の製造方法について説明する。ここで述べる製造方法は、前述した第２の実施の形態においてコンサルタント１３側で行っていた業務を製造者１１側で行い、集積回路装置の製造、及び製造に関する情報提供を一括して製造者１１が行うものである。
【００７１】
図９は、第４の実施の形態の集積回路装置の製造方法のフローを示す図である。
【００７２】
製造者１１は、デザインルール、シフター配置、ＳＲＡＦ配置などを考慮し、集積回路装置における目標とする回路パターンを設計する（Ｓ８１）。続いて、設計した回路パターンの設計データに対して、ＯＰＣツール選択、ターゲット設定、設計データ移動条件設定、及びＯＰＣ用パラメータ設定（シミュレーションのモデルとルールの設定）などのデータ処理を施すことにより、露光マスクの描画データを作成する（Ｓ８２）。
【００７３】
続いて、製造者１１は、設計データ情報、製造工程情報に基づき、描画データに対してウエハ上に形成されるパターン形状を予測するためのプロセスシミュレーションを実施する（Ｓ９１）。前記設計データ情報は、前記設計データ情報は、設計により作成した、目標とする回路パターンを直に示す設計データ、露光マスク作製のための描画データなどの目標とする回路パターンに関する設計情報、さらに前述した回路パターンの設計、描画データの作成、及び露光マスクの作成時における情報を含む。また、製造工程情報は、後述する回路パターンの形成において用いる製造工程、製造条件、及び各製造工程での費用及び時間を含む。さらに、製造者１１は、シミュレーション結果（前記パターン形状）と回路パターンの設計データ（目標とする回路パターン）とを比較して、両者の差異を算出する（Ｓ９２）。
【００７４】
なお、前記プロセスシミュレーションを実施する際には、各種プロセスの変動要因、及び使用する製造装置個々の特性などを入れることができる。例えば、露光時の照明形状、収差、フォーカス値、露光量、露光マスクの揺らぎや、ウエハ加工条件のばらつきなどである。
【００７５】
次に、製造者１１は、設計データとシミュレーション結果との間に差異がある場合、この差異を小さくするための手段を求める（Ｓ９３）。詳述すると、製造者１１は、設計データとパターン形状との差異を小さくするために、適する工程を抽出し、抽出した工程における変更内容を案出する。続いて、案出した工程に対して必要な費用及び時間を算出する（Ｓ９４）。さらに、算出した費用及び時間、さらに歩留まりシミュレータを用いて、設計データとシミュレーション結果との差異を小さくした場合に得られる、設計工程及び製造工程を全て含めた製造費用削減効果を算出する（Ｓ９５）。
【００７６】
続いて、製造者１１は、案出した工程や、それに伴う費用及び時間、及び製造費用削減効果などの情報に基づいて、設計データとシミュレーション結果（ウエハ上のパターン形状）との差異を小さくするために最適な解決手段、すなわち変更を行うのに最適な工程を選択する（Ｓ９６）。
【００７７】
その後、変更を行う工程を選択し、その工程を実行した後、再度作成した描画データをもとに、設定されたブランクス、描画ツール、及び加工ツールにより、露光マスクを作製する（Ｓ８３）。続いて、ウエハに対し露光マスクを用いて露光を行い、さらに現像を行って、露光マスク上の回路パターンをウエハ上に転写する。さらに、ウエハの加工を行い、ウエハ上に回路パターンを形成する（Ｓ８４）。
【００７８】
この製造方法では、前述したように前記第２の実施の形態においてコンサルタント１３側が行っていた、描画データに対するプロセスシミュレーション、設計データとシミュレーション結果の比較、工程の案出、案出した各工程での費用及び時間の算出、各工程を実行した場合の製造費用削減効果の算出を製造者１１側で行う。
【００７９】
このような集積回路装置の製造方法を用いれば、集積回路装置の製造者はより信頼性のあるデータに基づいた正確な判断を下すことができ、適切なフィードバック工程（変更すべき工程）を選択することが可能になる。
【００８０】
以上説明したようにこの第４の実施の形態では、シミュレーションによるウエハ上の回路パターンと設計データ（目標とする回路パターン）との間に差異があった場合に、この差異を縮小するための最適な製造方法を選択することができ、設計工程を含む集積回路装置の製造費用を最大限に削減することができる。
【００８１】
この発明の前述した実施の形態は、ウエハ上に形成された回路パターンの形状計測の結果から得られる計測結果と設計データとの差異を解消するために、選択可能なフィードバック先を費用及び時間の算出結果を基に決定し、最も少ない費用及び時間で済む解決手段を選択して集積回路装置の製造を行う手法を提供する。さらに、ある解決手段を選択した際のメリットあるいはデメリットを費用と時間の観点で製造者に情報提供するシステムにより、製造者に対して客観的な判断材料に基づいた解決手段の選択を提供できる。
【００８２】
また、前述した各実施の形態はそれぞれ、単独で実施できるばかりでなく、適宜組み合わせて実施することも可能である。さらに、前述した各実施の形態には種々の段階の発明が含まれており、各実施の形態において開示した複数の構成要件の適宜な組み合わせにより、種々の段階の発明を抽出することも可能である。
【００８３】
【発明の効果】
以上述べたようにこの発明によれば、回路パターンにおけるウエハ上の形状と設計データとの間に差異があった場合に、最適な製造方法を選択することができる集積回路装置製造に関する情報提供システム及び集積回路装置の製造方法を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、この発明の第１の実施の形態の集積回路装置製造に関する情報提供システムに用いられるハード構成の概念図である。
【図２】図２は、前記第１の実施の形態における集積回路装置の製造者が実施する製造工程のフローを示す図である。
【図３】図３は、ウエハ上に形成された回路パターンの観察結果を示す図である。
【図４】図４は、前記第１の実施の形態における製造者側とコンサルタント側との間の情報の授受を示す図である。
【図５】図５は、この発明の実施の形態における集積回路装置の各製造工程に戻った場合の費用及び時間の算出方法を示す図である。
【図６】図６は、この発明の第２の実施の形態における集積回路装置の製造者が実施する製造工程のフローを示す図である。
【図７】図７は、前記第２の実施の形態における製造者側とコンサルタント側との間の情報の授受を示す図である。
【図８】図８は、この発明の第３の実施の形態の集積回路装置の製造方法のフローを示す図である。
【図９】図９は、この発明の第４の実施の形態の集積回路装置の製造方法のフローを示す図である。
【符号の説明】
１１…集積回路装置の製造者
１２…ネットワーク
１３…コンサルタント
１４…サーバ
【図１】
2004111875.tif 000003
【図２】
2004111875.tif 000004
【図３】
2004111875.tif 000005
【図４】
2004111875.tif 000006
【図５】
2004111875.tif 000007
【図６】
2004111875.tif 000008
【図７】
2004111875.tif 000009
【図８】
2004111875.tif 000010
【図９】
2004111875.tif 000011