(57)【要約】【課題】従来のポリカーボネート系樹脂シートを用いてディスプレイを製造しようとすると、次第に劣化し、最初に得られた状態での性能が維持できない上、カラーフィルター層を構成する各色のカラーフィルター層の位置合わせの際に、基板の線膨張係数が十分に小さくないため、位置合わせを精度よく行なうのに支障があった点を解消することを課題とするものである。【解決手段】ビスフェノール（Ａ）のプロパン部分を脂環式炭化水素に置換したビスフェノール骨格を有する化合物の重合物を用いてシートを構成したものに対し、電離放射線の照射を行なうことにより架橋を起こさせ、耐熱性等を有すると共に寸法安定性にも優れたディスプレイ基板用途に適したポリカーボネート系樹脂シートを得ることができた。【特許請求の範囲】
【請求項１】
脂肪族環状炭化水素基を含むビスフェノール化合物が重合した重合物から構成されたポリカーボネート系樹脂シートに、電離放射線の照射を行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法。
【請求項２】
脂肪族環状炭化水素基を含む下記化学式（１）のビスフェノール化合物が重合した重合物から構成されたポリカーボネート系樹脂シートに、電離放射線の照射を行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法。
【化１】
2004292598.tif 000012
［光学式１において、Ｒ１およびＲ２は互いに独立に、水素、ハロゲン、炭素数が１〜８のアルキル基、炭素数が５〜６のシクロアルキル基、炭素数が６〜１０のアリール基、もしくは炭素数が７〜１２アラルキル基であり、Ｘは炭素であり、ｍは４または５であり、Ｒ３およびＲ４は各Ｘに対して独立に選ばれ、そして互いに独立に水素または炭素数が１〜６のアルキル基を意味し、少なくとも１個のＸ原子上でＲ３およびＲ４は同時にアルキル基を意味する。］
【請求項３】
脂肪族環状炭化水素基を含む下記化学式（２）のビスフェノール化合物が重合した重合物から構成されたポリカーボネート系樹脂シートに、電離放射線の照射を行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法。
【化２】
2004292598.tif 000013
［化学式２において、Ｒ５〜Ｒ８は水素、または炭素数１〜７のアルキル基、アラルキル基、もしくはアルコキシ基であり、Ｒ５〜Ｒ８のそれぞれは同じでも異なってもよい。］
【請求項４】
前記の電離放射線の照射を脱酸素雰囲気中で行なうことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれか記載のポリカーボネート系樹脂シートの改質方法。
【請求項５】
前記の電離放射線の照射を脱酸素雰囲気中、加熱下で行なうことを特徴とする請求項４記載のポリカーボネート系樹脂シートの改質方法。
【請求項６】
前記の電離放射線の照射の後に、脱酸素雰囲気中での加熱を行なうことを特徴とする請求項１〜請求項４記載のポリカーボネート系樹脂シートの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜請求項６いずれかの製造方法により得られたことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シート。
【請求項８】
請求項７記載の前記ポリカーボネート系樹脂シートに、さらにカラーフィルター層が積層されたことを特徴とするディスプレイ基板。
【請求項９】
前記カラーフィルター層がブラックマトリックスを介して積層されたことを特徴とする請求項８記載のディスプレイ基板。
【請求項１０】
請求項７記載の前記ポリカーボネート系樹脂シート上、または請求項８もしくは請求項９における前記カラーフィルター層上に、さらに、電極間に有機ＥＬ発光層が積層されて構成された有機ＥＬ素子が積層されたことを特徴とする請求項７〜請求項９いずれか記載のディスプレイ。
【請求項１１】
請求項７記載の前記ポリカーボネート系樹脂シート上、または請求項８もしくは請求項９における前記カラーフィルター層上に、さらに、電極間に液晶層が積層されて構成された液晶表示素子が積層されたことを特徴とする請求項７〜請求項９いずれか記載のディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、種々のディスプレイ基板用途、特に、有機ＥＬディスプレイの基板用途に適合させるための、ポリカーボネート系樹脂シートの改質方法、および得られたポリカーボネート系樹脂シートに関するものである。また、本発明は、そのようなポリカーボネート系樹脂シートを用いたディスプレイ基板、およびディスプレイにも関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
携帯用のコンピュータ、端末機器、もしくは携帯電話等の可搬型の情報機器のディスプレイとして、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイが多く用いられている。これらのディスプレイが比較的大型であり、かつ固定型として使用されているときは、ディスプレイの基板としては専らガラス板が使用されているが、比較的小型で可搬型として使用される場合を想定して、プラスチックフィルムの使用が検討されている。
【０００３】
プラスチックフィルムを、これらのディスプレイの基板として用いると、軽量であり、ガラスのように割れることが無く、薄型化が可能である利点があり、また、得られるフレキシビリティーの程度にもよるが、ディスプレイを腕に巻いたり、衣料品に適用する等、適用範囲が拡大されると言われている。
【０００４】
このようなディスプレイの基板用として検討されているプラスチックフィルムには、表面の平滑性および透明度に加え、ディスプレイを製造する際の熱に耐えうる高いレベルの耐熱性が要求され、また、寸法安定性の高さや線膨張係数の低さも要求される。
【０００５】
そこで、従来、ビスフェノール（Ａ）骨格を有する（メタ）アクリレート、分子内に２個以上のラジカル反応性不飽和結合を有する脂環式炭化水素骨格（メタ）アクリレート化合物、および分子内に２個以上のチオール基を有するメルカプト化合物との樹脂組成物を活性エネルギー線により重合硬化させることにより、高衝撃性低複屈折光学部材を得ることが提案されている。（例えば、特許文献１参照。）
【０００６】
【特許文献１】
特開平１１−２２３７０３号公報（第５−７頁、第８−９頁）
【０００７】
上記の特許文献１に記載されたやり方によれば、例えば、厚みが０．４ｍｍ以上の光学部材（シートであり得る。）を、注型および紫外線照射等により効率よく製造することができ、機械的強度、特に耐衝撃性に優れたものが得られるとされているが、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイの基板として用い、例えば、赤色、緑色、および青色の三種類のカラーフィルター層を作成する際には、着色感光層のプリベーク、紫外露光、溶剤による現像、およびポストベーク等の工程を三回繰り替えす必要があるため、次第に劣化を起こし、最初に得られた状態での性能が維持できない上、カラーフィルター層を作成する際の各色のカラーフィルター層の位置合わせ時に、基板の寸法安定性が十分でなく、特に線膨張係数の点で、位置合わせを精度よく行なうのに支障があった。
【０００８】
また、上記の特許文献１に記載されたやり方によるときは、所定の間隔に配置された二枚のガラス板の間に注型して、紫外線を照射することにより架橋させるために、連続シートを作成することが困難であった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明においては、上記の従来技術で得られたシートを用いてディスプレイを製造しようとすると、次第に劣化を起こし、最初に得られた状態での性能が維持できない上、カラーフィルター層を構成する各色のカラーフィルター層の位置合わせの際に、基板の線膨張係数が十分に小さくないため、位置合わせを精度よく行なうのに支障があった点を解消することを課題とするものである。
【００１０】
【課題を解決する手段】
発明者の検討により、通常のポリカーボネート樹脂の原料として用いられるビスフェノール（Ａ）を、そのプロパンの部分を脂環式炭化水素に置き換えたビスフェノール骨格を有するものに置き換えたポリカーボネート系樹脂シートに電離放射線を照射することにより、寸法安定性の向上や線膨張係数の低下が得られる上に、耐熱性も高くすることが可能であることが見出された。
【００１１】
第１の発明は、脂肪族環状炭化水素基を含むビスフェノール化合物が重合した重合物から構成されたポリカーボネート系樹脂シートに、電離放射線の照射を行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法に関するものである。
【００１２】
第２の発明は、脂肪族環状炭化水素基を含む下記化学式（１）のビスフェノール化合物が重合した重合物から構成されたポリカーボネート系樹脂シートに、電離放射線の照射を行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法に関するものである。
【００１３】
【化３】
2004292598.tif 000002
【００１４】
［光学式１において、Ｒ１およびＲ２は互いに独立に、水素、ハロゲン、炭素数が１〜８のアルキル基、炭素数が５〜６のシクロアルキル基、炭素数が６〜１０のアリール基、もしくは炭素数が７〜１２アラルキル基であり、Ｘは炭素であり、ｍは４または５であり、Ｒ３およびＲ４は各Ｘに対して独立に選ばれ、そして互いに独立に水素または炭素数が１〜６のアルキル基を意味し、少なくとも１個のＸ原子上でＲ３およびＲ４は同時にアルキル基を意味する。］
【００１５】
第３の発明は、脂肪族環状炭化水素基を含む下記化学式（２）のビスフェノール化合物が重合した重合物から構成されたポリカーボネート系樹脂シートに、電離放射線の照射を行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法に関するものである。
【００１６】
【化４】
2004292598.tif 000003
【００１７】
［化学式２において、Ｒ５〜Ｒ８は水素、または炭素数１〜７のアルキル基、アラルキル基、もしくはアルコキシ基であり、Ｒ５〜Ｒ８のそれぞれは同じでも異なってもよい。］
【００１８】
第４の発明は、第１〜第３いずれかの発明において、前記の電離放射線の照射を脱酸素雰囲気中で行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法に関するものである。
【００１９】
第５の発明は、第４の発明において、前記の電離放射線の照射を脱酸素雰囲気中、加熱下で行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの改質方法に関するものである。
【００２０】
第６の発明は、第１〜第４いずれかの発明において、前記の電離放射線の照射の後に、脱酸素雰囲気中での加熱を行なうことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートの製造方法に関するものである。
【００２１】
第７の発明は、第１〜第６いずれかの発明の製造方法により得られたことを特徴とするポリカーボネート系樹脂シートに関するものである。
【００２２】
第８の発明は、第７の発明の前記ポリカーボネート系樹脂シートに、さらにカラーフィルター層が積層されたことを特徴とするディスプレイ基板に関するものである。
【００２３】
第９の発明は、第８の発明において、前記カラーフィルター層がブラックマトリックスを介して積層されたことを特徴とするディスプレイ基板に関するものである。
【００２４】
第１０の発明は、第７の発明の前記ポリカーボネート系樹脂シート上、または第８もしくは第９の発明における前記カラーフィルター層上に、さらに、電極間に有機ＥＬ発光層が積層されて構成された有機ＥＬ素子が積層されたことを特徴とするディスプレイに関するものである。
【００２５】
第１１の発明は、第７の発明の前記ポリカーボネート系樹脂シート上、または第８もしくは第９の発明における前記カラーフィルター層上に、さらに、電極間に液晶層が積層されて構成された液晶表示素子が積層されたことを特徴とするディスプレイに関するものである。
【００２６】
【発明の実施の形態】
本発明において用いるビスフェノール化合物は、代表的には上記化学式（１）もしくは、上記化学式（２）で示されるものである。
【００２７】
上記化学式（１）で示されるビスフェノール化合物としては、例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−シクロヘキサン、もしくは１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロペンタンを挙げることができ、特に、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサンが好ましい。
【００２８】
化学式（１）で示され、具体的に例示したビスフェノール化合物は、これらのうちから１種もしくは二種類以上を選択して使用することができる。
【００２９】
また、化学式（１）で示され、具体的に例示したビスフェノール化合物は、単独で用いてもよいが、化学式（１）で示される以外のビスフェノール化合物と組み合わせて使用することもでき、化学式（１）で示される以外のビスフェノール化合物としては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンを挙げることができる。
【００３０】
上記化学式（２）で示されるビスフェノール化合物としては、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３、５−ジメチルフェニル）フルオレン、もしくは９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレンを挙げることができる。また、これらの中でも９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが特に好ましい。
【００３１】
化学式（２）で示され、具体的に例示したビスフェノール化合物は、これらのうちから１種もしくは二種類以上を選択して使用することができる。
【００３２】
また、化学式（２）で示され、具体的に例示したビスフェノール化合物は、単独で用いてもよいが、化学式（１）で示される以外のビスフェノール化合物と組み合わせて使用することもでき、化学式（１）で示される以外のビスフェノール化合物としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン［通称ビスフェノールＦ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通称ビスフェノールＡ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４−ジヒドロキシジフェニルスルホン［通称ビスフェノールＳ］、もしくは４，４−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４−ジヒドロキシビフェノールなどのビスフェノールを挙げることができる。
【００３３】
上記の化学式（１）および化学式（２）で示され、具体的に例示した以外の脂肪族環状炭化水素を含む次のような構造のビスフェノール化合物も、同様に用いることができる。なお、下記化学式（３）〜（７）におけるＲ５〜Ｒ８は、化学式（２）におけるものと同じであり、また、下記化学式（８）、（９）におけるＭｅはメチル基を示す。
【００３４】
【化５】
2004292598.tif 000004
【００３５】
【化６】
2004292598.tif 000005
【００３６】
【化７】
2004292598.tif 000006
【００３７】
【化８】
2004292598.tif 000007
【００３８】
【化９】
2004292598.tif 000008
【００３９】
【化１０】
2004292598.tif 000009
【００４０】
【化１１】
2004292598.tif 000010
【００４１】
化学式（１）および化学式（２）で示され、具体的に例示した以外の、上記のような脂肪族環状炭化水素を含むビスフェノール化合物も、これらのうちから１種もしくは二種類以上を選択して使用することができ、また、これら以外のビスフェノール化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００４２】
本発明において、以上のように例示されたビスフェノールを用いて、それぞれの化学式で示される以外のビスフェノールを伴なうか、もしくは伴なわないで、ポリカーボネート系樹脂シートを得るには、ビスフェノール化合物をエステル交換法もしくはホスゲン法の常法により重合させて樹脂を得た後、得られた樹脂を用いての溶融押出し法、もしくは流延法による。本発明のポリカーボネート系樹脂シートの厚みとしては、５０μｍ〜５００μｍであることが好ましい。このように本発明によれば、電離放射線の照射を受ける前に、長尺の連続シートを作成し、後述する電離放射線の照射を、連続シートを走行させつつ行なうことができるから、最終的に、長尺の連続シート状のものを得ることができる。
【００４３】
上記のようにして得られた、ポリカーボネート系樹脂シートは、ビスフェノールとして、以上のように例示された脂肪族環状炭化水素基を有するものを原料としていることから、特に、２個のヒドロキシフェノールが付着する部分がプロパンであるビスフェノールＡを原料としたものにくらべ、ガラス転移温度（Ｔｇ）が向上し、従って、耐熱性が向上したものであるが、本発明においては、さらに、電離放射線照射により、特性の向上、特に、寸法安定性および線膨張係数の点の改善を行なう。
【００４４】
利用可能な電離放射線としては、紫外線、電子線、γ線、α線、中性子線、もしくはＸ線を挙げることができるが、樹脂シートへの透過性、樹脂シートを電離する電離作用、および取扱いの容易さから、電子線加速器による電子線、もしくはコバルト６０によるγ線が好ましく、電子線が特に好ましい。電離放射線の照射量としては、１Ｇｙ〜５Ｇｙ程度であり、電子線の加速電圧としては、０．１ＭｅＶ〜５ＭｅＶ程度である。また、装置が小型で比較的簡易であり、遮蔽等の問題の無い点で紫外線も好ましい。
【００４５】
本発明において、ポリカーボネート系樹脂シートに電離放射線を照射すると、寸法安定性の向上、特に、線膨張係数の低下が生じるので、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の基板に用いるのに適した樹脂シートを得ることができる。一般に、樹脂シートに電離放射線の照射を行うと、高分子鎖中の結合の切断が生じる場合と、高分子間の架橋が生じる場合とがあるが、ポリカーボネート系樹脂シート、特に、本発明で用いるポリカーボネート系樹脂シート誘導体はその素材に由来して耐熱性が高いため、架橋が優先して生じるためと考えられる。
【００４６】
電離放射線の照射は、空気中でも行ない得るが、空気中の酸素の存在により、上記の架橋が抑制されることを避けるため、電離放射線の照射を脱酸素雰囲気中、例えば、窒素中もしくは不活性ガス中で行なうか、または真空中で行なうことが好ましい。
【００４７】
また、本発明において、ポリカーボネート系樹脂シートは、加熱下で電離放射線の照射を受けることが好ましく、加熱下で電離放射線の照射を行なうにより、寸法安定性の向上、特に、線膨張係数の低下が促進される。ポリカーボネート系樹脂シートは、電離放射線の照射を受ける際に、空気中にあるよりは、脱酸素雰囲気中、例えば、窒素中もしくは不活性ガス中にあることが好ましい。
【００４８】
本発明において、電離放射線の照射を受けたポリカーボネート系樹脂シートは、さらに加熱、好ましくは脱酸素雰囲気中で加熱することが好ましく、この加熱により、内部歪みを一層緩和して、寸法安定性のより一層の向上、特に、線膨張係数のより一層の低下を実現することができる。
【００４９】
本発明のポリカーボネート系樹脂シートは、種々の層を積層して、さらに物理的特性が付加されたディスプレイ基板、およびディスプレイを構成することができる。
【００５０】
例えば、上記のポリカーボネート系樹脂シートを基板として、赤色、緑色、および青色に着色された微細なカラーフィルター領域を所定の配置になるよう配列して、カラーフィルター層を積層し、カラーフィルター用のディスプレイ基板を構成することができ、例えば、微細な顔料を分散した感光性樹脂組成物を用いて、塗布、パターン露光、および現像を各色毎に行なうことによって、カラーフィルター層を形成することができる。
【００５１】
上記のカラーフィルター用のディスプレイ基板は、上記のポリカーボネート系樹脂シート上に、ブラックマトリックスを介してカラーフィルター層が積層されたものとしてもよく、カラーフィルター用のディスプレイ基板として用いたときに外光の反射を抑制し、画像のコントラストの向上を図ることができる。ブラックマトリックスは、例えば、クロムの薄膜を一面に形成した後、フォトレジストを用いて、塗布、パターン露光、および現像を行なうことによって、レジストを作成し、エッチングによって不要部を除去することによって形成することができる。
【００５２】
上記のポリカーボネート系樹脂シートを基板として、ＩＴＯ（酸化錫インジウム）等の薄膜を形成し、必要に応じてフォトリソグラフィー法によりパターンして透明電極層を形成したディスプレイ基板を構成することもできる。
【００５３】
上記のポリカーボネート系樹脂シートの基板に、透明電極層、有機ＥＬ発光層、および背面電極からなる有機ＥＬ素子を、直接に、もしくはほかの層を介して積層することにより、ディスプレイを構成することができる。基板側には、カラーフィルター層やブラックマトリックスを伴なってもよい。有機ＥＬ素子における有機ＥＬ発光層は、有機蛍光体のごく薄い膜として構成されるので、基板の凹凸があると、有機ＥＬ発光層の厚みムラが生じて、発光ムラを生じるため、ポリカーボネート系樹脂シートの製造の際のキャスティングベルトとして、平滑度を向上させたものを用いることが好ましく、また、ポリカーボネート系樹脂シートを形成する際には、流延法によることが好ましい。
【００５４】
有機ＥＬ素子の代りに、電極間に液晶層が積層されて構成された液晶表示素子が積層されることによってもディスプレイを構成すえうことができ、この場合、液晶を配向させるための層を付加して、液晶層に接触させることが好ましい。対向電極は、別の基板に設けておき、積層することが好ましい。
【００５５】
【実施例】
（実施例１）
出発原料のモノマーが（イ）；１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよび（ロ）；２，２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの２種類で、（イ）／（ロ）のモル比が３５／６５であり、相対溶液粘度が１．２９５（２５℃の塩化メチレン中、０．５ｇ／１００ｍＬの濃度で測定した値）のコポリカーボネートを、溶融押出し法により成形加工を行ない、厚みが２００μｍの３枚のシートＡ、Ｂ、Ｃを得た。そのうちＡ、Ｂの各々には次の電離放射線照射を行ない、また、Ｃは比較のため、シート化したまま、電離放射線の照射を行なわなかった。
Ａ；加速電圧；１７５ｋＶ、照射線量；１０Ｍｒａｄの電子線を照射した。
Ｂ；照射線量；２００ｍＪの紫外線を照射した。
Ｃ；何も照射せず。
各々の架橋シートにつき、光線の透過率、ガラス転移温度（Ｔｇ）、および５０℃〜１５０℃における熱線膨張係数（単位；ｐｐｍ／℃）を測定した結果を、「表１」に示す。
【００５６】
【表１】
2004292598.tif 000011
【００５７】
「表１」に示されるように、電子線もしくは紫外線を電子線を照射することにより、フィルムの耐熱性、特に加熱時の寸法安定性が向上した優れたものとなった。このほか、エンジニアリングプラスチックであるポリアリレートのフィルムについても、上記と同様の電離放射線を行ったところ、同傾向の結果を得た。従って、エンジニアリングプラスチックのシートに電離放射線の照射を行なったものは、ディスプレイの基板として使用するのに適していることが確かめられた。また、このようにエンジニアリングプラスチックのシートに電離放射線の照射を行なったものの上に、超高ガスバリヤ性フィルムを積層することにより、有機ＥＬディスプレイの基材として使用した際に、ディスプレイの高寿命化も併せて実現できる複合シートが得られることが判った。
【００５８】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、脂肪族環状炭化水素基を含むビスフェノール化合物が重合した重合物から構成されたポリカーボネート系樹脂シートに、電離放射線を照射するので、耐熱性が高く、寸法安定性および線膨張係数の点が改善された製品を得ることが可能なポリカーボネート系樹脂シートの製造方法を提供することができる。また、シート状に成形する際には、常法を利用でき、連続シート状の製造を容易に行なうことが可能である。
【００５９】
請求項２または請求項３の発明によれば、特定された取り扱いやすいビスフェノール化合物を用いて、耐熱性が高く、寸法安定性および線膨張係数の点が改善された製品を得ることが可能なポリカーボネート系樹脂シートの製造方法を提供することができる。また、シート状に成形する際には、常法を利用でき、連続シート状の製造を容易に行なうことが可能である。
【００６０】
請求項４の発明によれば、請求項１〜請求項３いずれかの発明の効果に加え、電離放射線の照射を脱酸素雰囲気中で行なうため、酸素による架橋の抑制を避けることが可能なポリカーボネート系樹脂シートの製造方法を提供することができる。また、シート状に成形する際には、常法を利用でき、連続シート状の製造を容易に行なうことが可能である。
【００６１】
請求項５の発明によれば、請求項４の発明の効果に加え、電離放射線の照射を脱酸素雰囲気中、加熱下で行なうため、寸法安定性の向上、特に、線膨張係数の低下を促進することが可能なポリカーボネート系樹脂シートの製造方法を提供することができる。
【００６２】
請求項６の発明によれば、請求項１〜請求項４いずれかの発明の効果に加え、電離放射線の照射の後に、脱酸素雰囲気中での加熱を行なうため、寸法安定性のより一層の向上、特に、線膨張係数のより一層の低下を実現することが可能なポリカーボネート系樹脂シートの製造方法を提供することができる。
【００６３】
請求項７の発明によれば、請求項１〜請求項６いずれかの発明の製造方法によって特性を備えたポリカーボネート系樹脂シートを提供することができる。
【００６４】
請求項８の発明によれば、カラーフィルター層が加えられたことによって、請求項７の発明におけるポリカーボネート樹脂シートの特性を有した、カラー表示を行なわせるのに適したディスプレイ基板を提供することができる。
【００６５】
請求項９の発明によれば、請求項８の発明の効果に加え、ブラックマトリックスを伴なったことにより、ディスプレイの観察側における外光反射防止の可能なディスプレイ基板を提供することができる。
【００６６】
請求項１０の発明によれば、請求項７〜請求項９いずれかの発明の効果に加え、有機ＥＬ素子として作動するのにふさわしいディスプレイ基板を提供することができる。
【００６７】
請求項１１の発明によれば、請求項７〜請求項９いずれかの発明の効果に加え、有機ＥＬ素子として作動するのにふさわしいディスプレイ基板を提供することができる。