(57)【要約】【課題】くっきりしていて深い沈みレリーフを磁器あるいは陶器に形成する方法を提供すること。【解決手段】模様を裏当てに印刷することにより形成されたマスクであって、第一に研磨材の噴射に耐えるレジスト部（３）を有し、第二に研磨材を通過させるように働く開口を有しているマスクが器（８）の表面に配置される。所望の形と深さの一つ以上の沈みレリーフを得るために、少なくとも開口に向けて、磁器あるいは陶器を食刻するのに適した研磨材（１６）が噴射される。【選択図】　　　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁器あるいは陶器の器（８）に沈みレリーフ（２０）を形成する方法であって、該方法において：
第一に研磨材の噴射に耐えるのに適した割込み不能のレジスト部（３）を有し、第二に前記研磨材を通過させるための開口（４）を有するマスク（２）が準備され；
マスク（２）が器（８）の表面に配置され；
所望の形及び深さの一つ以上の沈みレリーフくぼみ（２０）を得るために、磁器あるいは陶器を食刻するのに適した材料（１６）が、マスク（２）の上に少なくとも開口（４）に向けて噴射され；
前記方法が：
マスク（２）が、裏当て（１）に印刷される工程と；
裏当て（１）が、印刷されたマスク（２）の上と近傍とを皮膜（５）で覆われる工程と；
マスク・皮膜アセンブリ（２・５）が、裏当て（１）から分離される工程と；
マスク・皮膜アセンブリ（２・５）が、器（８）に張り付けられる工程と；
皮膜（５）が除去されて、マスク（２）が器（８）に固定されて残る工程と；を更に含んでなることを特徴とする、磁器あるいは陶器の器（８）に沈みレリーフ（２０）を形成する方法。
【請求項２】
マスク（２）がスクリーン印刷によって裏当て（１）に印刷されることを特徴とする、請求項１に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項３】
最初は液体で、乾燥後にマスク（２）を形成するのに適した物質（１２）が、器（８）に塗布されることを特徴とする、請求項１または２に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項４】
マスク（２）が器（８）の全体を覆うことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項５】
粒子状の研磨材（１６）が器（８）に噴射されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項６】
砂もしくはコランダムが器（８）に噴射されることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項７】
研磨材（１６）が、１００μｍ〜１５０μｍの範囲にある直径の粒子の形をしていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項８】
研磨材（１６）が、約３〜４ｂａｒの範囲にある圧力のもとで噴射されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項９】
研磨材（１６）が少なくとも一つのノズル（１７）を使って器（８）に噴射されることと、器（８）の所望の領域の全てに研磨材（１６）を噴射するために、器（８）がノズル（１７）に対して移動することとを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項１０】
研磨材（１６）が器（８）に噴射された後に、前記器（８）が清浄にされて、マスク（２）が洗浄もしくはブラシがけによって除去されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法によって得られる磁器または陶器の器。
【請求項１２】
器が、１ｍｍ〜３ｍｍの範囲にある深さの沈みレリーフ（２０）を有していることを特徴とする、請求項１１に記載の磁器または陶器の器。
【請求項１３】
沈みレリーフ（２０）の底（２２）が、つや消しであることを特徴とする、請求項１２に記載の磁器または陶器の器。
【請求項１４】
沈みレリーフ（２０）が、明瞭にしるし付けられて、移行接続ショルダが実質的にないことを特徴とする、請求項１３に記載の磁器または陶器の器。
【請求項１５】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法を実行するためのマスクであって、該マスクが、第一に研磨材の噴射に耐えるのに適した割込み不能のレジスト部（３）を有し、第二に前記研磨材を通過させるように働く開口（４）を有していて、前記開口（４）が、所望の形の一つ以上の沈みレリーフくぼみ（２０）を器（８）に得ることを可能にするように構成されていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の陶器あるいは磁器の器に沈みレリーフを形成する方法を実行するためのマスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁器あるいは陶器に沈みレリーフを形成する方法と、前記方法を実施することにより獲得される磁器あるいは陶器とに関するものである。
【０００２】
本発明は、限定されるものではないが特に、取り皿、受け皿、盛り皿、カップ、若しくは灰皿等の、正餐用食器あるいは装飾的器に適用可能である。
【０００３】
一般的に磁器は装飾されるので、消費者の多様な期待を満足させるために、広い範囲の様々な器を得ることが可能である。
【０００４】
【従来の技術】
特許文献１が、器に沈みレリーフを形成する方法を開示しており、その方法においては補助的な装飾手段が、開口を備えたポリ塩化ビニールのマスクの形で提供されている。これらの手段は器の上に配設され、装飾を形作るために砂がマスクに噴射される。
【０００５】
特許文献２が、磁器におけるレリーフの中の装飾模様を形作る方法を開示しており、この方法では、マスクが器に配設されて、前記マスクから装飾模様の形が切り抜かれ、そして砂が、器における所望の装飾深さに達するまでマスクに向かって噴射される。
【０００６】
最後に特許文献３が、器のレリーフに装飾模様を形作る方法を説明しており、この方法においては、マスクが、裏当てフィルムに配設されたプラスチックフィルムから切り出される。そしてトランスファーフィルムが、マスク・裏当てフィルムアセンブリに付加され、そしてマスクが、裏当てから分離されてトランスファーフィルムに付着する。トランスファーフィルムは、器に付けられ、そしてマスクを器に固定したまま残すために取り除かれる。次いでサンドブラストが、装飾模様若しくは“しるし”を器に形作ることを可能にする。
【０００７】
残念なことに、前述の方法は、所望の装飾形状が切り抜かれるマスクを用いるので、切断作業と切断工具とを必要とする。更に、その結果できたマスクは、装飾される器から離れて保持されるか若しくは器に貼り付けられるように作られる。従って前述の方法は、マスクが特定の装置もしくは手によって器から離れて保持されること、そうでなければマスクが器に接着される工程のいずれかを必要とする。
【０００８】
最後に、複雑な模様若しくは繊細な模様を形作ることは、模様の形状を形作ることに高い精度を必要とする。特許文献３にあるように、例えばプレスをつかった打ち抜きによって模様が形成される場合、高い精度を得ることは困難であるかあるいは不可能でさえある。
【０００９】
【特許文献１】
東独国特許第２２９８５９号明細書
【特許文献２】
西独国特許出願公開第１７９６２７１号明細書
【特許文献３】
米国特許第４２６３０８５号明細書
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、特に複雑なあるいは繊細な模様をもった器の新しい領域を磁器愛好家に提供するために、従来技術を使っては形成できない装飾模様の斬新なタイプを得ることを可能にする装飾方法を提供することである。
【００１１】
特に、本発明の目的は、くっきりして比較的深い沈みレリーフを得ることを可能にする装飾方法を提供することである。
【００１２】
本発明の別の目的は、手動工程がより少なくて少なくとも部分的には工業化できる装飾方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
この目的のために、第一の態様では、本発明は磁器もしくは陶器に沈みレリーフを形成する方法を提供しており、その方法において：
マスクは、第一に研磨材の噴射に耐えるのに適した割込み不能のレジスト部と、第二に前記研磨材を通過させる開口とを備えており；
マスクは器の表面に配置され；
所望の形と深さの一つ以上の沈みレリーフくぼみを得るために、磁器もしくは陶器を食刻するのに適した材料が、少なくとも開口に向かってマスクに噴射される。
前記方法は、更に：
マスクが裏当てに印刷される工程と；
裏当てが、印刷されたマスクの上と近傍とを皮膜で覆われる工程と；
マスク・皮膜アセンブリが裏当てから分離される工程と；
マスク・皮膜アセンブリが器に張り付けられる工程と；
皮膜が除去されてマスクが器に固定されて残る工程と；を含んでいる。
【００１４】
マスクが、装飾される器の全体を覆ってもよい。
【００１５】
最初は液体の物質であって、乾燥後にマスクを形成するのに適した物質を器に塗布することも可能である。
【００１６】
他の特徴によると、砂あるいはコランダム等の粒子状の研磨材が器に噴射され、前記粒子が１００μｍ〜１５０μｍの範囲にある直径のものであることが可能である。
【００１７】
例えば、研磨材が少なくとも一つのノズルを使って器に噴射され、そして器の所望の領域の全てに研磨材を噴射するために、器がノズルに対して移動させられる。
【００１８】
研磨材が器に噴射された後、前記器は通常は清浄になっており、マスクは洗浄もしくはブラシがけによって除去される。
【００１９】
第二の態様において、本発明は前述の方法によって得られた磁器もしくは陶器を提供する。
【００２０】
本発明の方法により、沈みレリーフくぼみの輪郭は、明瞭にしるしを付けられ、移行接続ショルダが実質的にない。更に、裏当てに模様を印刷することにより、複雑な模様を形作ることができ、また模様の形がマスクから切り出されるところの単調な切り出し工程を削除することができる。
【００２１】
最後に、第三の態様では、本発明は前述の方法を実行するためのマスクを提供する。マスクは、第一に研磨材の噴射に耐えるのに適した割込み不能のレジスト部と、第二に前記研磨材を通過させるように働く開口とを有しており、前記開口は、所望の形の一つ以上の沈みレリーフくぼみを器に得ることを可能にするように構成されている。
【００２２】
本発明の他の特徴は、添付図への参照と共になされる以下の説明から明らかになる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
最初に図１及び２を参照する。
【００２４】
例えばガムペーパーのシート等の裏当て１に、（灰色の陰影で示された）印刷部分３と（白で示された）開口４とから作り上げられたマスク２が印刷される。例えば、マスク２は裏当て１の上にスクリーン印刷されることがある。
【００２５】
スクリーン印刷によりマスクを印刷することは、模様の形をマスクから切り抜くことによっては得ることが難しい繊細で複雑な模様を実現することを可能にする。
【００２６】
マスク２は、沈みレリーフを磁器または陶器に形成する目的のために前記器が研磨材を噴射される前に、磁器または陶器に張り付けられるものである。
【００２７】
マスク２は、ステンシルのように作用する。第一に、開口４が研磨材を通過させる。第二に、印刷部分３が、研磨材の噴射に耐える材料、例えばプラスチックのフィルムから作り出されている。結果として、印刷部分３は、印刷部分３が張り付けられている器の部分を保護する。
【００２８】
このようにマスク２は、マスク２が張り付けられる器に沈みレリーフが形成されることを可能にする。
【００２９】
裏当て１に印刷されたマスク２は、ワニスの皮膜５で印刷部分３及び開口４の両方を覆われている。皮膜５は、マスク２の近傍の裏当て１の部分も覆っている。
【００３０】
マスク２は、マスク２が張り付けられる器に合うように作られた形状を有している。示された実施例では、マスク・皮膜アセンブリ２・５は、ほぼ環状であって、皿の縁に付着されるように作られている。
【００３１】
磁器または陶器に沈みレリーフを形成することを可能にする、本発明の方法における様々な工程の説明が以下に続き、説明は図３ａ〜３ｅを参照しながら為される。
【００３２】
最初に、裏当て１、マスク２、及び皮膜５が、例えば水等の液体７を収容している容器６の中に浸るように置かれ、それによりマスク・皮膜アセンブリ２・５を柔軟にして前記アセンブリを裏当て１から分離することを可能にする（図３ａ）。そして皮膜５は、マスク２の印刷部分３に対する裏当て要素を形成する。
【００３３】
そしてマスク・皮膜アセンブリ２・５は、磁器または陶器の器８を装飾するために、前記器８に移される。
【００３４】
図に断面で示されている器８は皿であり、それは、ほぼ円板状で平らな底９と、ほぼ円錐切頭体で底９の周縁から外側へ延びている傾斜した壁１０と、底９にほぼ平行で、傾斜した壁１０を延長する環状縁１１とを具備している。
【００３５】
もちろん本発明はこの形状を有する皿に限定されるものではなく、磁器あるいは陶器のどのような器、特にどんな正餐用食器あるいは装飾用の器にも適用可能である。
【００３６】
マスク・皮膜アセンブリ２・５が液体７との接触によって軟らかくされると、前記アセンブリは器８に手で張り付けられることができ、そしてどんな器８の形状（複雑な形状であっても）にもなじんで付着可能で、その結果所望の模様が器８上に形成される。
【００３７】
示されている実施例では、マスク・皮膜アセンブリ２・５は、ほぼ環状であり、そして皿の縁１１に張り付けられている（図３ｂ）。
【００３８】
マスク・皮膜アセンブリ２・５が乾くと、ワニスの皮膜５は、例えばこの目的のために準備された引き裂きタブを引張ることにより引き剥がされ、マスク２が器８に固定されたままになる（図３ｃ）。
【００３９】
装飾される器にマスクを固定するために接着剤を使うことは必要ではないので、このことは、方法の工程を単純化し、そして模様が器に形成されて器をきれいにするときの問題をより少なくする。
【００４０】
マスク２は、図３ａ〜３ｅの中では、理解を助けるために器８に対して拡大されて示されている。
【００４１】
最初は例えば皮膜５のワニスと同じワニス等の液体である物質１２が、器８の追加的に保護が必要な部分に塗布されてよい。
【００４２】
前記物質１２は刷毛１３を使って塗布され、又物質１２は乾燥後にマスクを形成することに適している（図３ｃ）。例えば、物質１２は、皿の底９と、傾斜した壁１０と、皿の縁１１の外縁１５ａの近傍に位置する第一環状部１４ａと、皿の縁１１の内縁１５ｂの近傍に位置する第二環状部１４ｂとに塗布される。
【００４３】
刷毛１３を使って物質１２を塗布することは、正確さを提供するので、マスク２が器８に不正確に位置決めされた後に必要とされる修正を実施することを可能にする。
【００４４】
刷毛を使ったマスキングについての可能な変形形態において、樹脂マスクが、例えば皿の底９及び傾斜した壁１０等の保護されるべき領域を覆って位置決めされることがある。
【００４５】
これらの保護工程が完了すると、器８がサンドブラストブースの中に挿入されて、彫刻そのものが実行される。
【００４６】
器８は、例えば直径が１００μｍ〜１５０μｍの範囲にあって特に１２０μｍの近傍にある砂もしくはコランダム粒子のような粒子状の研磨材１６を噴射される。
【００４７】
研磨材１６は、３ｂａｒ〜３．５もしくは４ｂａｒの範囲にある圧力でノズル１７を経由して噴射され、また、器８の所望の領域の全てを研磨材１６の噴射に曝すために、器８がノズル１７に対して移動させられる。
【００４８】
図３ｄに示される皿ついては、二つのノズル１７が、それらの各々が縁１１に向いて正反対に配置される。各々のノズル１７は約２ｃｍ２の領域をカバーする。皿はその軸１８を中心にして回転させられ、その結果、縁１１の全てが研磨材１６の噴射を受ける。皿は、比較的ゆっくりと、即ち約６ｒｐｍ〜８ｒｐｍで回転し、回転時間は、約５分〜１０分で例えば７分である。
【００４９】
ノズル１７に関するこの構成はもちろん変更されることがあり、器８の形状に、及び前記器８上の装飾の所望の位置に相関してノズル１７の数量が変更されることがある。
【００５０】
様々なパラメータ（空気圧、流量、ノズルの傾き、ノズルの高さ、使用する研磨材の種類、粒度、その他）の正確な制御が、特に審美的に魅力的な所望の効果を得るために実施される。
【００５１】
上述したように、マスク２の印刷部分３で覆われた器８の部分は研磨材１６による食刻から保護され、一方マスク２の開口４に向き合って位置している器８の部分は研磨材１６によって食刻され、その結果沈みレリーフが器８に彫刻によって形成されることになる。
【００５２】
所定の時間の後、器８はサンドブラストブースから取り出される。
【００５３】
そして器８は図３ｅに示されるように清浄化される。この清浄化の間に、マスク２の印刷部分３、及び樹脂製のどんな付加的マスクも、洗浄もしくはブラシがけのどちらかにより取り除くことができる。
【００５４】
結果としてできた器８の例が図４及び５に示される。
【００５５】
図５は、皿の彫刻された縁１１を断面で示しており、破線が、中央層の非うわぐすり材１８と、表面層のうわぐすり１９との間の境界を示している。
【００５６】
器８は、マスク２の開口４に対応した沈みレリーフ２０と領域２１とを有しており、前記領域２１は、それらが研磨材１６によるブラストの際にマスク２の印刷部分３によって保護されていたので食刻されていない。
【００５７】
沈みレリーフくぼみ２０は、１ｍｍ〜３ｍｍ範囲にあり、特に１．２ｍｍ〜２ｍｍの範囲にある。従って図５に示されるように、彫刻は、うわぐすり１９を越えて実施され、非うわぐすり層１８も同様に食刻する。
【００５８】
このように本発明の方法は、非常に深い沈みレリーフを有する器を技術的もしくは審美的などんな問題も引き起こさずに獲得することを可能にする。
【００５９】
沈みレリーフくぼみ２０の底２２は、外観上はつや消しであるのに対して、研磨材１６によって食刻されていない領域２１は、磁器あるいは陶器の光沢の外観を有している。
【００６０】
更に、沈みレリーフくぼみ２０を非食刻領域２１に接続するエッジ２３がほぼ鉛直である。エッジ２３にどんな移行接続ショルダも実質的にないので、従って沈みレリーフくぼみの輪郭は、図５に示されるように極めて正確で明瞭に形成されてくっきりしている。従って、沈みレリーフくぼみ２０は、明瞭に視認でき、そして領域２１は、沈みレリーフくぼみ２０に対して突出しているので明確に目立っている。従って、在来の装飾模様より際立っていて深い装飾模様を得ることが可能である。
【００６１】
本発明の斬新で落ち着いていて独創的な美的外観の故に、結果としてできた器が、それ自身を彫刻することの他に装飾を持たないことが可能である。
【００６２】
本発明の方法は、手動工程を一つだけ、即ちマスク２を装飾されるべき器８に移す工程を含んでおり、　他の工程は自動化された方法で実行される。このことは、時間と費用を著しく減らす。
【００６３】
図６及び７は、本発明の他の実施例を示している。
【００６４】
割込み不能の領域３と、少なくとも一つの開口４とから作られたマスク２が器８の上に置かれる。ノズル１７が、研磨材１６を器８に向けて少なくとも開口の上でマスク２に噴射する。
【００６５】
図６では、研磨材１６の噴射は、器８に対してほぼ垂直に方向付けられている。結果として、器８に形成された沈みレリーフくぼみ２０は、開口４の形状に一致した形状のものである。
【００６６】
図７では、研磨材１６の噴射は、器８に対して９０度未満の角度で傾いている。従って、その結果できる沈みレリーフくぼみ２０の形状は、マスク２の対応する開口４の形状に一致しない。
【００６７】
図８ａはマスク２を示しており、前記マスク２が：
割込み不能で円板状の中央部分３ａと；
中央部分３ａの周囲の、王冠状の開口４ａと；
開口４ａの周囲の、例えば長方形輪郭を有する割込み不能の周辺部分３ｂと；
中央部分３ａを周辺部分３ｂに接続する非常に細い割込み不能のスポーク３ｃと；を具備するマスク２である。
【００６８】
マスクを器８とノズル１７との間に置いて、研磨材１６を使って傾けた方式で器８をブラストすることにより、マスクの開口４の形に一致しない沈みレリーフくぼみ２０が得られる（図８ｂ）。
【００６９】
研磨材１６を器８に垂直な平面Ｐに対称に噴射する第二のブラストにより、図８ｃに示される器８が得られる。
【００７０】
研磨材１６が傾いて噴射されるので、割込み不能のスポーク３ｃは向き合う器８の面を保護しない。従って、器は：
マスク２の割込み不能の中央部分３ａによって保護されていたので食刻されていない中央部分２１ａと；
食刻されないスポークを含んでいない（ハッチングで示される）沈みレリーフ帯２０ａと；
マスク２の周辺部分３ｂによって保護されていたので食刻されていない周辺部分２１ｂと；を有している。
【００７１】
一般的に、マスク２の開口４とノズル１７の方向とは、器８の中に所望の形の沈みレリーフ２０を得るように選択される。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、マスクが印刷される裏当ての平面図であり、前記裏当ては皮膜で覆われている。
【図２】図２は、図１の切断線ＡＡにおける断面図である。
【図３】図３ａ〜３ｅは、本発明の方法における様々な工程を概略的に示した図である。
【図４】図４は、本発明の方法を図１のマスクを使って実行することによって得られた皿の平面図である。
【図５】図５は、図４の切断線ＢＢにおける部分断面図である。
【図６】図６は、研磨材の器へのブラストに関する一つの実施例を示した図である。
【図７】図７は、研磨材の器へのブラストに関する一つの実施例を示した図である。
【図８】図８ａは、マスクの平面図である。
図８ｂは、研磨材の噴射を受けている器に結合された図８ａのマスクの、切断線ＣＣにおける断面図である。
図８ｃは、ブラストの後に得られた、図８ｂにおいて示された器の平面図である。
【符号の説明】
１…裏当て
２…マスク
３…レジスト部分
４…開口
５…皮膜
８…器
１６…研磨材
２０…沈みレリーフ
【図１】
2004035397.tif 000003
【図２】
2004035397.tif 000004
【図３】
2004035397.tif 000005
【図４】
2004035397.tif 000006
【図５】
2004035397.tif 000007
【図６】
2004035397.tif 000008
【図７】
2004035397.tif 000009
【図８】
2004035397.tif 000010