(57)【要約】【課題】支持具本体の製作時における支持具本体の反りを防止することにより、スリップ転位の発生を抑制し得る。支持具自身の撓みを低減するとともにウェーハとの不均一な接触に起因するスリップ転位の発生を抑制し得る。ウェーハを支持具本体に載せる作業及び降ろす作業をスムーズに行うことができる。【解決手段】円板状の支持具本体２２と、支持具本体の上面に上方に突出して形成された支持突起２３とを備え、支持突起を介して支持具本体の上面にウェーハ２４を載せて熱処理するためのウェーハ支持具の改良である。その特徴ある構成は、ウェーハの直径をＤとするとき、支持具本体の外径が１．０５Ｄ〜１．２５Ｄの範囲内に形成され、支持突起は両端部が支持具本体の周縁又はその近傍まで延びる４又は５本の凸条からなり、４又は５本の凸条は支持具本体の所定の中心線２２ａに対して互いに平行にかつ互いに等間隔に設けられたところにある。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円板状の支持具本体（２２，３２，４２，５２）と、前記支持具本体（２２，３２，４２，５２）の上面に上方に突出して形成された支持突起（２３，３３，４３，５３）とを備え、
前記支持突起（２３，３３，４３，５３）を介して前記支持具本体（２２，３２，４２，５２）の上面にウェーハ（２４）を載せて熱処理するためのウェーハ支持具において、
前記ウェーハ（２４）の直径をＤとするとき、支持具本体（２２，３２，４２，５２）の外径が１．０５Ｄ〜１．２５Ｄの範囲内に形成され、
前記支持突起（２３，３３，４３，５３）は両端部が前記支持具本体（２２，３２，４２，５２）の周縁又はその近傍まで延びる４又は５本の凸条からなり、
前記４又は５本の凸条（２３，３３，４３，５３）は前記支持具本体（２２，３２，４２，５２）の所定の中心線（２２ａ，３２ａ，４２ａ，５２ａ）に対して互いに平行にかつ互いに等間隔に設けられたことを特徴とするウェーハ支持具。
【請求項２】
ウェーハ（２４）の直径が３００ｍｍであるとき、４本の凸条（２３，４３）が所定の中心線（２２ａ，４２ａ）から４０ｍｍと１２０ｍｍの位置に前記中心線（２２ａ，４２ａ）を中心とした線対称に設けられた請求項１記載のウェーハ支持具。
【請求項３】
ウェーハ（２４）の直径が３００ｍｍであるとき、５本の凸条（３３，５３）が所定の中心線（３２ａ，５２ａ）の位置と、前記中心線（３２ａ，５２ａ）から６０ｍｍと１２０ｍｍの位置に前記中心線を中心とした線対称に設けられた請求項１記載のウェーハ支持具。
【請求項４】
支持具本体（２２，３２，４２，５２）の上面から突出した凸条（２３，３３，４３，５３）の高さをＨとするとき、前記凸条（２３，３３，４３，５３）の高さＨが３ｍｍ≦Ｈ≦１０ｍｍである請求項１ないし３いずれか記載のウェーハ支持具。
【請求項５】
４本又は５本の凸条（２３，３３，４３，５３）が全て同じ高さに形成された請求項１ないし４いずれか記載のウェーハ支持具。
【請求項６】
凸条の長さ方向に直交する断面の外形がハット状（２３，３３）又は逆Ｕ字状（４３，５３）である請求項１ないし５いずれか記載のウェーハ支持具。
【請求項７】
逆Ｕ字状の凸条（４３，５３）が曲率半径１〜５０ｍｍの凸面に形成された請求項１ないし６いずれか記載のウェーハ支持具。
【請求項８】
支持具本体（２２，３２，４２，５２）及び凸条の材質（２３，３３，４３，５３）がＳｉＣである請求項１ないし７いずれか記載のウェーハ支持具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェーハに熱処理を施す際にウェーハを搭載するウェーハ支持具に関し、特に大口径ＳＩＭＯＸ（Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ  ｂｙ  ＩＭｐｌａｎｔｅｄ  ＯＸｙｇｅｎ）ウェーハ作製時の高温アニール処理に適した、シリコンウェーハの支持具に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、複数の支柱が略平行に配設され、これらの支柱に取付けられたウェーハ支持板によりシリコンウェーハが保持され、更に上記支持板に凹状に切り欠かれた切欠きが形成されたウェーハ保持装置が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。この装置では、ウェーハ支持板がＳｉＣ焼結体等の高融点セラミックにより形成される。
このように構成されたウェーハ保持装置では、支柱に取付けられたウェーハ支持板上にウェーハを載せて電気炉内に挿入するので、ウェーハ支持板とウェーハとの接触面積が増大する。この結果、ウェーハの一部の領域に荷重が集中して加わることがないため、熱処理時におけるウェーハの塑性変形を防止できる。
またウェーハ支持板に切欠きを形成することにより、装置全体の軽量化を図ることができるとともに、シリコンウェーハをピンセット等で挟んで出し入れできる。
【０００３】
しかし、上記従来の特許文献１に示されたウェーハ保持装置では、ウェーハ支持板に切欠きを形成することにより、支持板がこの支持板の中心に対して点対称でなくなるため、この支持板の製造時に切欠きで反る場合があった。このため、ウェーハ支持板にシリコンウェーハを載せたときに、ウェーハが切欠きの縁部に接触し、熱処理した後でウェーハにスリップが発生するおそれもあった。
この点を解消するために、上板及び下板間に配設された支柱にリング状の炭化珪素質からなるウェーハ支持体が着脱可能に取付けられた半導体縦型拡散炉用治具が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。この治具では、上記ウェーハ支持体によりウェーハの周縁部が水平に支持されるように構成される。
このように構成された半導体縦型拡散炉用治具では、ウェーハ支持部をウェーハ外周に対して均一に配置し、かつウェーハ支持部の面積を増加させたので、ウェーハ支持部に作用する面圧を減少させかつ荷重を分散させることができる。この結果、ウェーハへのスリップの発生を防止できるようになっている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平５−１１４６４５号公報
【特許文献２】
特開平６−１６３４４０号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の特許文献２に示された半導体縦型拡散炉用治具では、ウェーハの外周縁がウェーハ支持部に接触すると、ウェーハ外周部の面だれの影響により外周縁でウェーハを均等に保持することが難しいため、ウェーハにスリップが発生するおそれがあった。
一方、大口径ＳＩＭＯＸウェーハを作製する際には高温での熱処理が必要である。このような高温熱処理にリング状支持具を用いると、従来の熱処理に比べてウェーハが大きく撓み、更にリング状支持具自身の撓みによりウェーハとの接触が不均一となるため、スリップ転位が発生し易い問題があった。
【０００６】
本発明の第１の目的は、支持具本体の製作時における支持具本体の反りを防止することにより、スリップ転位の発生を抑制し得るウェーハ支持具を提供することにある。
本発明の第２の目的は、支持具自身の撓みを低減するとともにウェーハとの不均一な接触に起因するスリップ転位の発生を抑制し得るウェーハ支持具を提供することにある。
本発明の第３の目的は、ウェーハを支持具本体に載せる作業及び降ろす作業をスムーズに行うことができるウェーハ支持具を提供することにある。
本発明の第４の目的は、製造コストを削減し得るウェーハ支持具を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、図１又は図４に示すように、円板状の支持具本体２２，３２と、支持具本体２２，３２の上面に上方に突出して形成された支持突起２３，３３とを備え、支持突起２３，３３を介して支持具本体２２，３２の上面にウェーハ２４を載せて熱処理するためのウェーハ支持具の改良である。
その特徴ある構成は、ウェーハ２４の直径をＤとするとき、支持具本体２２，３２の外径が１．０５Ｄ〜１．２５Ｄの範囲内に形成され、支持突起２３，３３は両端部が支持具本体２２，３２の周縁又はその近傍まで延びる４又は５本の凸条からなり、４又は５本の凸条２３，３３は支持具本体２２，３２の所定の中心線２２ａ，３２ａに対して互いに平行にかつ互いに等間隔に設けられたところにある。
【０００８】
この請求項１に記載されたウェーハ支持具では、支持具本体が切欠きのない円板状に形成されているため、支持具本体の制作時における支持具本体の反りを防止し、切り欠きを起因とするスリップ転位を抑制できる。また支持具本体の上面に４本又は５本の凸条からなる支持突起が支持具本体の所定の中心線に対して互いに平行にかつ互いに等間隔に突出して形成されるため、ウェーハの撓みパターンは線対称となり、非線対称時に見られる局所的な大きな撓みが解消される。即ち、ウェーハの最大曲げ応力が低減され、スリップの伸展を抑制できる。また、従来のリング状支持具と比較して簡易な形状であるため、容易に製造することができ、支持具の製造コストを低減できる。
【０００９】
請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明であって、図１及び図２に示すように、ウェーハ２４の直径が３００ｍｍであるとき、４本の凸条２３が所定の中心線から４０ｍｍと１２０ｍｍの位置に中心線２２ａを中心とした線対称に設けられたウェーハ支持具である。
請求項２に係る発明では、３００ｍｍウェーハ用として上記間隔に支持突起である凸条を設けることにより、ウェーハの撓み量及び曲げ応力を最小にすることができ、このウェーハ支持具はウェーハをシングルフォークにより搬送する際の用途に好適であり、ウェーハを支持具本体に載せる作業及び降ろす作業をスムーズに行うことができる。
【００１０】
請求項３に係る発明は、請求項１に係る発明であって、図４及び図５に示すように、ウェーハ２４の直径が３００ｍｍであるとき、５本の凸条３３が所定の中心線３２ａの位置と、中心線３２ａから６０ｍｍと１２０ｍｍの位置に中心線３２ａを中心とした線対称に設けられたウェーハ支持具である。
請求項３に係る発明では、３００ｍｍウェーハ用として上記間隔に支持突起である凸条を設けることにより、ウェーハの撓み量及び曲げ応力を最小にすることができ、このウェーハ支持具はウェーハをダブルフォークにより搬送する際の用途に好適であり、ウェーハを支持具本体に載せる作業及び降ろす作業をスムーズに行うことができる。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項１ないし３いずれかに係る発明であって、支持具本体２２，３２の上面から突出した凸条２３，３３の高さをＨとするとき、凸条２３，３３の高さＨが３ｍｍ≦Ｈ≦１０ｍｍであるウェーハ支持具である。
請求項５に係る発明は、請求項１ないし４いずれかに係る発明であって、４本又は５本の凸条２３，３３が全て同じ高さに形成されたウェーハ支持具である。請求項６に係る発明は、請求項１ないし５いずれかに係る発明であって、凸条の長さ方向に直交する断面の外形がハット状２３，３３又は逆Ｕ字状４３，５３であるウェーハ支持具である。
請求項７に係る発明は、請求項１ないし６いずれかに係る発明であって、図７又は図９に示すように、凸条２３，３３が曲率半径１〜５０ｍｍの凸面に形成されたウェーハ支持具である。
請求項７に係る発明では、凸条の長さ方向に直交する断面形状が逆Ｕ字状のとき、曲率半径１〜５０ｍｍの凸面であると、ウェーハの撓みによるスリップ転位が抑制される。
【００１２】
請求項８に係る発明は、請求項１ないし７いずれかに係る発明であって、支持具本体２２，３２及び凸条２３，３３の材質がＳｉＣであるウェーハ支持具である。
請求項８に係る発明では、支持具本体及び凸条の材質をＳｉＣにすると高温での強度に優れる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
次に本発明の第１の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図３に示すように、縦型の熱処理炉１０は鉛直方向に延びるＳｉＣ製の反応管１１と、この反応管１１内に所定の間隔をあけて立設されかつＳｉＣにより形成された棒状の複数の支持柱１２と、複数の支持柱１２に長手方向に所定の間隔をあけてそれぞれ形成されかつウェーハ支持具１３の外周縁を遊挿可能な多数の支持具用凹溝１４とを備える。反応管１１の外周面は均熱管１６を介して筒状のヒータ１７により覆われる。支持柱１２はベース１８及び保温筒１９を介してボートキャップ２１に立設される。また複数の支持柱１２は４本が好適であり、この場合同一半円上に等間隔に設けられる。この支持柱１２は熱処理時の高熱により支持柱１２自体の変形を防止するために、ＳｉＣにより形成される。ウェーハ支持具１３は４本の支持柱１２の同一水平面内に位置する４つの支持具用凹溝１４の下部水平面に載り、このウェーハ支持具１３の上面には被処理基板であるシリコンウェーハが載るように構成される。
【００１４】
図１に示すように、ウェーハ支持具１３は円板状に形成された支持具本体２２と、この支持具本体２２の上面に上方に突出して形成された支持突起２３とを備える。支持具本体２２はシリコンウェーハ２４の直径をＤとするとき、その外径が１．０５Ｄ〜１．２５Ｄの範囲内に形成される。１．０５Ｄ〜１．１５Ｄの範囲内に形成されることが好ましい。外径が１．０５Ｄ未満であるとウェーハ２４を載せたウェーハ支持具１３を支持柱１２に形成された支持具用凹溝１４下部水平面に載せる際に、ウェーハ２４の外周縁が支持具用凹溝１４に接触するおそれがある。１．２５Ｄを越えると熱処理炉自体が大がかりとなるため、経済的とはいえない。具体的には直径が３００ｍｍのシリコンウェーハの場合、支持具本体２２は３１５ｍｍ〜３７５ｍｍ、好ましくは３１５ｍｍ〜３４５ｍｍの範囲内に形成される。
支持突起２３はその両端部が支持具本体２２の周縁まで延びる４本の凸条からなる。図６又は図８に示すように、支持突起２３はその両端部が支持具本体２２の周縁の近傍まで延びる凸条でもよい。図１に戻って、この４本の凸条２３は支持具本体２２の所定の中心線２２ａに対して互いに平行にかつ互いに等間隔に設けられる。シリコンウェーハの直径が３００ｍｍであるとき、４本の凸条２３は、所定の中心線２２ａから４０ｍｍと１２０ｍｍの位置に中心線２２ａを中心とした線対称に設けられる。４本の凸条をこのような配置にすることにより、シングルフォークによるウェーハの搬送作業をスムーズに行うことができる。図２に示すように、凸条の長さ方向に直交する断面の外形はハット状に形成される。また支持具本体２２の上面から突出した凸条２３は、その高さをＨとするとき、３ｍｍ≦Ｈ≦１０ｍｍの範囲内で形成される。好ましくは３ｍｍ≦Ｈ≦５ｍｍである。高さＨが３ｍｍ未満であると搬送フォークを挿入する空間が形成されず、１０ｍｍを越えるとウェーハの支持が不安定になる。ハット状凸条２３のウェーハ２４との接触部分は１〜４０ｍｍの範囲内で形成される。この４本の凸条２３は全て同じ高さに形成される。このウェーハ支持具１３を構成する支持具本体２２と支持突起２３はそれぞれＳｉＣにより形成される。
【００１５】
このように構成されたウェーハ支持具１３を用いてウェーハ２４を熱処理炉１０に収容するときには、先ず搬送フォーク（図１及び図２ではシングルフォーク）にウェーハ２４を載せて搬送フォークを移動させ、この搬送フォークが凸条２３と支持具本体２２上面とで形成された空間の上方に位置し、かつウェーハ２４の中心が支持具本体２２の中心と一致するようにウェーハ２４を支持具本体２２の上方に搬送する。搬送フォークを下降させるとウェーハ２４の下面が凸条２３上面に接触し、更に搬送フォークを下降させると搬送フォークがウェーハ２４から離れる。この状態で搬送フォークを凸条２３と支持具本体２２上面とで形成された空間から引抜いて、ウェーハ２４を搭載したウェーハ支持具１３を熱処理炉１０に収容する。
次いでウェーハ２４を熱処理炉１０まで搬送した後、ウェーハ支持具１３を構成する支持具本体２２の外周縁を支持柱１２の同一水平面内の支持具用凹溝１４に挿入してこれらの支持具用凹溝１４の下部水平面に載せる。これでウェーハ支持具１３に載せたウェーハ２４の熱処理炉１０への収容作業が完了する。その後熱処理炉１０を稼働すると、熱処理炉１０内の温度はヒータ１７により１３００℃以上に上昇する。
【００１６】
このようにシリコンウェーハ２２を熱処理炉１０に収容した状態で、熱処理炉１０を稼働すると、熱処理炉１０内の温度はヒータ１７により１３００℃以上に上昇する。このとき支持具本体２２が切欠きのない円板状であるため、この支持具本体２２が上記のように熱せされても、支持具本体２２に反りが発生することはない。また４本の凸条２３が支持具本体２２の所定の中心線２２ａに対して線対称となっているため、ウェーハ支持具１３自体の撓みは小さく、ウェーハ２４が凸条２３の上面に均一に接触するので、ウェーハ２４には殆ど曲げ応力が発生せず、従ってウェーハ２４内にスリップ転位の発生を抑制できる。
熱処理炉１０内でのウェーハ２４の熱処理が終了すると、上記とは逆の手順で支持具本体２３をウェーハ２４とともに熱処理炉１０から取出す。具体的には、搬送フォークを凸条２３と支持具本体２２上面とで形成された空間に挿入する。搬送フォークを上昇させると搬送フォークがウェーハ２４の下面に接触し、更に搬送フォークを上昇させるとウェーハ２４が凸条２３上面から離れて搬送フォークに載る。この状態で搬送フォークを引抜いて、ウェーハ２４を熱処理炉１０から取出す。
【００１７】
次に本発明の第２の実施の形態を図４及び図５に基づいて説明する。
図４及び図５において、図１及び図２と同一符号は同一構成要素を示す。この実施の形態では、次の点が第１の実施の形態と相違する。即ち、支持具本体３２の上面に上方に突出する支持突起である凸条３３の数が５本からなり、ウェーハ２４の直径が３００ｍｍであるとき、５本の凸条３３が所定の中心線３２ａの位置と、中心線３２ａから６０ｍｍと１２０ｍｍの位置に中心線３２ａを中心とした線対称に設けられる。上記以外の構成は第１の実施の形態と同様である。
第１の実施の形態と比較して、第２の実施の形態では、５本の凸条３３をこのような配置にすることにより、ダブルフォークによるウェーハの搬送作業をスムーズに行うことができる。
【００１８】
なお、上記実施の形態では、凸条の長さ方向に直交する断面の外形がハット状のものを用いて説明したが、図６〜図９に示すように、凸条の断面の外形が逆Ｕ字状４３，５３のものを用いても良い。この逆Ｕ字状の凸条４３，５３は曲率半径１〜５０ｍｍの範囲内の凸面に形成されたものが好適である。また、上記実施の形態では、ウェーハとしてシリコンウェーハを挙げたが、ＧａＰウェーハ、ＧａＡｓウェーハ等でもよく、ウェーハの外径は３００ｍｍに限らずその他の外径を有するウェーハでもよい。更に、上記実施の形態では、支持具本体裏面に形成された凸条と直交する別の１本又は２本以上の凸条を設けることにより、凸条が形成された方向だけでなく、凸条と直交する方向へのウェーハ支持具の反りを抑制できる。
【００１９】
【実施例】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
＜実施例１＞
直径３００ｍｍのシリコンウェーハを用意した。また、支持突起が４本の凸条からなり、この４本の凸条が所定の中心線から４０ｍｍと１２０ｍｍの位置に中心線を中心とした線対称に設けられた図１に示されるウェーハ支持具を用意した。シリコンウェーハをウェーハ支持具の上に載せてウェーハを水平状態に支持した。このウェーハを載せたウェーハ支持具を図３に示す処理炉内に入れ、炉内温度１３５０℃でウェーハを熱処理した。
＜実施例２＞
実施例１と同一のウェーハを用意し、５本の凸条からなり、この５本の凸条が所定の中心線の位置と、中心線から６０ｍｍと１２０ｍｍの位置に中心線を中心とした線対称に設けられた図４に示されるウェーハ支持具を用いた以外は実施例１と同様の条件でウェーハを熱処理した。
【００２０】
＜比較例１＞
実施例１と同一のウェーハを用意し、３本の凸条からなり、この３本の凸条が所定の中心線の位置と、中心線から１２０ｍｍの位置に中心線を中心とした線対称に設けられたウェーハ支持具を用いた以外は実施例１と同様の条件でウェーハを熱処理した。
＜比較例２＞
実施例１と同一のウェーハを用意し、ウェーハ中心点から４０ｍｍ及び１２０ｍｍの位置にそれぞれリング状支持突起が形成されたウェーハ支持具を用いた以外は実施例１と同様の条件でウェーハを熱処理した。
【００２１】
＜比較試験及び評価＞
ＦＥＭ（Ｆｉｎｉｔｅ  Ｅｌｅｍｅｎｔ  Ｍｅｔｈｏｄ、有限要素法）を用いて、熱処理時のシリコンウェーハの撓みについて解析した。このＦＥＭ法は、構造物を仮想的に有限の大きさの要素に分割し、各要素についての剛性方程式を重ね合わせたマトリックスからなる方程式に境界条件（拘束条件）を導入し、未知量を解析する方法である。
実施例１、２及び比較例１、２のウェーハの撓み量を図１０〜図１３にそれぞれ示す。なお、図中の矢印は各支持突起位置を示す。
【００２２】
図１２及び図１３より明らかなように、比較例１及び２では撓み量の異なる３つの領域が現われた。即ち、支持突起位置を含む撓み量が比較的小さい領域ａと、ウェーハ中心に現われた撓み量が大きい領域ｃと、領域ａと領域ｃとの中間の撓み量が中程度の領域ｂとが現われた。各支持突起位置を挟んで領域ｃが大きくなり、撓みが大きいことが判る。これに対して、実施例１及び２では、図１０及び図１１に示すように、領域ｃが殆ど確認されない程度の面積となり、撓み量の異なる２つの領域ａ及びｂのみが現われ、撓みが小さくなっていることが判る。
【００２３】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明は、円板状の支持具本体と、支持具本体の上面に上方に突出して形成された支持突起とを備え、支持突起を介して支持具本体の上面にウェーハを載せて熱処理するためのウェーハ支持具の改良である。その特徴ある構成は、ウェーハの直径をＤとするとき、支持具本体の外径が１．０５Ｄ〜１．２５Ｄの範囲内に形成され、支持突起は両端部が支持具本体の周縁又はその近傍まで延びる４又は５本の凸条からなり、４又は５本の凸条は支持具本体の所定の中心線に対して互いに平行にかつ互いに等間隔に設けられたところにある。
【００２４】
このように支持具本体が切欠きのない円板状に形成されているため、支持具本体の制作時における支持具本体の反りを防止し、切欠きを起因とするスリップ転位を抑制できる。また支持具本体の上面に４本又は５本の凸条からなる支持突起が支持具本体の所定の中心線に対して互いに平行にかつ互いに等間隔に突出して形成されるため、この支持突起は所定の中心線に対して線対称となるので、支持具自体の撓みを低減できる。従って、ウェーハが凸条の上面に均一に接触するので、ウェーハには殆ど内部応力が発生しない。また、従来のリング状支持具と比較して簡易な形状であるため、容易に製造することができ、支持具の製造コストを低減できる。また各支持突起間に搬送フォークを挿入する空間があるため、ウェーハを支持具本体に載せる作業及び降ろす作業をスムーズに行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態のウェーハ支持具を含む上面図。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図。
【図３】ウェーハ支持具を含む熱処理炉の断面構成図。
【図４】本発明の第２実施形態のウェーハ支持具を含む上面図。
【図５】図４のＢ−Ｂ線断面図。
【図６】図１に対応する本発明の別の実施形態のウェーハ支持具を含む上面図。
【図７】図６のＣ−Ｃ線断面図。
【図８】図４に対応する本発明の別の実施形態のウェーハ支持具を含む上面図。
【図９】図８のＥ−Ｅ線断面図。
【図１０】実施例１のウェーハ支持具の上にシリコンウェーハを載せたときの撓みを示す模式図。
【図１１】実施例２のウェーハ支持具の上にシリコンウェーハを載せたときの撓みを示す模式図。
【図１２】比較例１のウェーハ支持具の上にシリコンウェーハを載せたときの撓みを示す模式図。
【図１３】比較例２のウェーハ支持具の上にシリコンウェーハを載せたときの撓みを示す模式図。
【符号の説明】
１０  熱処理炉
１１  反応管
１２  支持柱
１３  ウェーハ支持具
１４  支持具用凹溝
１６  均熱管
１７  ヒータ
１８  ベース
１９  保温筒
２１  ボートキャップ
２２  支持具本体
２２ａ  中心線
２３  支持突起、凸条
２４  シリコンウェーハ
【図１】
2004221220.tif 000003
【図２】
2004221220.tif 000004
【図３】
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【図４】
2004221220.tif 000006
【図５】
2004221220.tif 000007
【図６】
2004221220.tif 000008
【図７】
2004221220.tif 000009
【図８】
2004221220.tif 000010
【図９】
2004221220.tif 000011
【図１０】
2004221220.tif 000012
【図１１】
2004221220.tif 000013
【図１２】
2004221220.tif 000014
【図１３】
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