(57)【要約】      （修正有）【課題】熱放散素子の熱放散性、重量、コスト、機械加工性、及びその他の特徴を最適化する。【解決手段】電子部品７４４から熱を放散させるための特定用途向けヒートシンク素子であって、サイズ、形状、質量、コスト、熱伝導性、環境耐性のうちの１つ以上に基づいて選択された熱放散基板７４３と、ＣＴＥ及び機械加工性に基づいて選択された熱放散スタッド７４５とを具備し、電子部品が熱放散スタッドへと取り付けられるように、熱放散スタッドが熱放散基板に取り付けられている。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品から熱を放散させるための特定用途向けヒートシンク素子であって、
サイズ、形状、質量、コスト、熱伝導性、環境耐性のうちの１つ以上に基づいて選択された熱放散基板と、
ＣＴＥ及び機械加工性に基づいて選択された熱放散スタッドと
を具備し、前記電子部品が前記熱放散スタッドへと取り付けられるように、前記熱放散スタッドが前記熱放散基板に取り付けられていることを特徴とする、特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項２】
前記熱放散基板が、アルミニウムケイ素炭化物で形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項３】
前記熱放散基板が、炭素−金属合金で形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項４】
前記熱放散基板が、セラミックで形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項５】
前記熱放散スタッドが、冷却すべき前記電子部品のＣＴＥに相対的に近似する値のＣＴＥを有する材料で形成されていることを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれかに記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項６】
前記熱放散スタッドが、冷却すべき前記電子部品と前記熱放散基板のＣＴＥの相対的に中間のＣＴＥを有する材料で形成されていることを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれかに記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項７】
前記熱放散スタッドが、金属、合金、又はそれらの組み合わせで形成されていることを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれかに記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項８】
前記熱放散基板が、第一の面上に空洞を備え、前記熱放散スタッドが前記熱放散基板の前記第一の面上の前記空洞中に取り付けられ、前記空洞がアライメント手段を提供するものであることを特徴とする、請求項１から請求項７のいずれかに記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項９】
前記熱放散基板の上面に特定用途向けに選択された材料の層を形成し、前記特定用途向けに選択された材料で前記熱放散スタッドを形成していることを特徴とする、請求項１から請求項８のいずれかに記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【請求項１０】
前記特定用途向けに選択された材料の層を機械加工、レーザー切断、又は化学エッチングすることにより前記熱放散スタッドが形成されていることを特徴とする、請求項１から請求項９のいずれかに記載の特定用途向けヒートシンク素子。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
集積回路又はプリント回路基板などの電子部品は、様々なデバイスにおいて一般的に使用されるようになってきている。例えば、中央演算装置、インターフェース、グラフィックス及びメモリ回路は、一般に複数の集積回路を備えている。集積回路などの多くの電子部品は、通常作動中、相当な熱を発生する。これら及び他のデバイスの作動中に生じる熱を除去しない場合、電子部品及びその周囲にある他のデバイスは過熱され、部品の破損又は部品性能の劣化を生じることになる。
【０００２】
このような過熱による問題を回避するために、電子部品と一緒に熱を放散させるためのヒートシンク又は他の熱放散素子を使用することが多い。ヒートシンクの熱放散条件は、他の要因とバランスが取れたものでなければならない。ヒートシンクの熱膨張係数（以下、ＣＴＥという）が電子部品のＣＴＥと大幅に異なる場合、電子部品に取り付けられたヒートシンクは、電子部品にクラックや損傷を与えたり、又は電子部品から離間したりする可能性がある。また、多くのヒートシンク材料は相対的に重い。ヒートシンクを取り付
けた電子部品が振動や衝撃に晒された場合、電子部品に取り付けられたヒートシンクの重量によって電子部品にクラックや損傷が生じたり、ヒートシンクが取り付けられていた電子部品から離間したりする可能性がある。
【０００３】
一部の材料は良好な熱伝導性を有しているが、成形が困難であったり、高額であったり、重かったり、又は特定の熱放散環境においてあまり好ましくないその他の特徴を有するものがある。
【０００４】
ゆえに、当該産業では、熱放散素子の熱放散性、重量、コスト、機械加工性、及びその他の特徴を最適化することが望まれている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
熱放散素子の、熱放散性、ＣＴＥ整合性、重量、コスト、機械加工性、又は他の特徴を最適化するための装置及び方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この装置は、電子部品から熱を放散させるための特定用途向けヒートシンク素子を備えている。その特定用途向けヒートシンク素子は、サイズ、形状、質量、コスト、熱伝導性、及び環境耐性のうちの１つ以上が選択された熱放散基板と、ＣＴＥ及び機械加工特性について選択された熱放散スタッドとを備えている。この熱放散スタッドは、熱放散基板に取り付けられており、電子部品は、熱放散スタッドへと取り付けることができるようになっている。
【０００７】
特定用途向けヒートシンク素子の製造方法は、熱放散基板を選択又は形成するステップと、冷却すべき電子部品と結合させることができる形状及びサイズに熱放散スタッドを形成するステップと、そして熱放散スタッドを基板へと取り付けるステップを含む。
【０００８】
本発明に対するより深い理解、及びこれに付随する利点の多くは、添付図を参照しつつ以下の詳細説明を読むことにより明らかとなる。添付図においては、同様の符号は同一又は同様の部品を示すものである。
【０００９】
説明用の図に示したように、本発明は、熱伝導性、正確な許容範囲、低質量、良好なボンディング性、コスト、機械加工性などの様々な特徴を選択的に最適化することが可能な熱放散素子を提供するための技術に関する。ヒートシンク素子の様々な特徴の最適化は、複数材料から成るヒートシンクであって、モノリシック(monolithic)なヒートシンク構造よりも容易に異なる場所、異なる条件に適合させることができる特定用途向けヒートシンクを製作することにより実現される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１は、本発明の第一の実施例に基づく熱放散素子を示している。熱放散基板１１０が設けられている。熱放散基板１１０は、既知のヒートシンク材料、合金、又はその組み合わせによって形成されており、例えばアルミニウムケイ素炭化物、銅、アルミニウム、炭素／金属複合物、炭素―金属合金(carbon-metal alloy)、セラミック、又は他の既知のヒートシンク材料が使用されている。一つの例としては、その熱伝導性と低重量から、ＡｌＳｉＣを選択することができる。熱放散スタッド１２０は、銅、タングステン、モリブデン、アルミニウム、銅／モリブデン／銅、又は他の既知のヒートシンク材料などが使用されており、これらの既知のヒートシンク材料、合金又はその組み合わせを、スタンピング、機械加工、エッチング、又はレーザー切断することにより形成することができる。
【００１１】
熱放散スタッド１２０は、そのＣＴＥ（熱膨張係数）が、それに取り付けられるデバイス（集積回路チップ、集積回路パッケージ、集積回路モジュール、プリント回路基板など）のＣＴＥと近似する値となるように選択されている。図４のフローチャートに示したように、熱放散スタッド１２０は、熱放散基板１１０の表面１８０の所定位置１３０に取り付けられており、この取付方法としては、ロウ付け、はんだ付け、接着剤ボンディング、圧力ばめ、ねじ締め、鋲留め、溶接、高圧下での低温拡散、拡散接合、又は熱伝導性金属接着など、いずれかの周知の取り付け方法を用いることができる。熱放散スタッド１２０は、機械加工、スタンピング、エッチング又はレーザー切断という手段により高い精度で成形されており、熱放散基板１１０の所定位置１３０へと取り付けられる。
【００１２】
本発明の特定用途向けヒートシンクのアプリケーションは用途が広いため、様々な材料及びサイズで形成された様々な熱放散基板１１０を使用することができる。様々な材料及びサイズで形成された様々な熱放散スタッド１２０を使用することができる。よって冷却すべきデバイス（図７、図８に示した実施例）の製造者は、特定の熱放散アプリケーション用に、要求される形状、コスト、低質量、良好な熱伝導性、正確な許容範囲などに基づいて基板１１０とスタッド１２０を選択することができる。この場合、図４に示したように、製造者は基板１１０を選択し（ステップ４１０）、スタッド１２０を選択し、そしてヒートシンクコストを抑制しつつもその特定のアプリケーション向けにヒートシンクの特徴を最適化するためにそのアプリケーションが必要とする適切な取り付け方法を選択（ステップ４２０）することができる。冷却すべきデバイスは、そのスタッド１２０に取り付けることができる（ステップ４３０）。留意すべきは、スタッド１２０は、基板１１０へと取り付ける前に、冷却すべきデバイスへと取り付けることも可能である点である。
【００１３】
一方、製造者は、ストックとして、又は販売者からの注文に応じて、様々な材料及びサイズの様々な熱放散基板１１０を保有していても良い。ある特定の用途向けに熱放散基板１１０が選択された（ステップ４１０）場合、その特定用途向けにカスタマイズした熱放散スタッド１２０を特定のサイズ、熱伝導性条件などに合わせて製作することができる。スタッド１２０の製造後、これをその用途に適正な取り付け方法で取り付ける（ステップ４２０）ことができる。この実施例においては、基板１１０は良好な熱伝導性、低価格性、低質量などの他のヒートシンク特性を有してはいるが、容易には機械加工出来ない材料、合金又は複合材料であっても良く、スタッド１２０が冷却すべきデバイスとのＣＴＥ整合性や、冷却すべきデバイスに適合したサイズにするためにより精度の高い機械加工性を提供することができるものである。
【００１４】
図２は、本発明の第二の実施例に基づく熱放散素子を示す。図２においては、熱放散スタッド２２０を整列させて取り付けるためのアライメント空洞２３０を備えた熱放散基板２１０が設けられている。熱放散基板２１０は、機械加工又はスタンピングなどのようないずれの周知の方法により形成されたものであっても良い。空洞２３０は、機械加工又は鋳造／スタンピングにより基板２１０中に形成することができる。図５のフローチャートに示したように、基板が選択されると（ステップ５１０）、スタッド２２０がとロウ付け、はんだ付け、接着剤ボンディング、拡散ボンディング、高圧下での低温拡散、熱伝導性金属接着又は他の周知の取り付け手段によりアライメント空洞２３０中へ取り付けられる（ステップ５２０）。冷却すべきデバイス（図示せず）は、エポキシ又は共晶ダイ・アタッチ法(die attach method)を含むいずれかの標準的ダイ・アタッチ法により、スタッド２２０へと取り付けられる（ステップ５３０）。本実施例は、スタッド２２０の基板２１０上におけるより正確なアライメントを提供するものである。
【００１５】
図３は、本発明の第三の実施例に基づく熱放散素子を示す図である。図３においては、熱放散基板３１０が特定の熱放散アプリケーションの正確な条件に合わせて所定のサイズに、そして所定の材料、金属、合金、又は複合材料で形成されている。図６に示したように、熱放散基板３１０が選択された（ステップ６１０）後、熱放散スタッド３２０を形成するために選択された層３９０が、ロウ付け、はんだ付け、接着剤ボンディング、拡散ボンディング、減圧下での高温加圧などのような既知の取り付け手段により取り付けられる（ステップ６２０）。層３９０が取り付けられた後、冷却すべきデバイスと結合させるための所定サイズのスタッド３２０が、機械加工、レーザー切断、化学エッチング又は他の周知のプロセスにより、層３９０の上面の所定の位置３３０に形成される（ステップ６３０）。層３９０中に熱放散スタッド３２０が形成された後、冷却すべきデバイスが取り付けられる（ステップ６４０）。熱放散スタッドは、冷却すべきデバイスに合う形状に作られている。
【００１６】
上述した熱放散組み立て部品を用いて集積回路デバイスを冷却するという状況下におけるアプリケーションを、図７及び図８を参照しつつ以下に説明する。集積回路デバイス７４１は、ポリアミド又は他の高分子誘電体などの相対的に安価な誘電体材料、又は相対的に高いＣＴＥを持つエポキシ材料などの１つ以上の層で構成された電気相互接続支持構造(electrical interconnect support structure)７４２を備えている。電気相互接続支持構造７４２は、基板１１０、２１０、３１０及び図１〜図８を参照しながら先に説明したように、特定用途向けの品質に応じて選択された熱放散基板７４３を支持している。
【００１７】
熱放散基板７４３の上面７４６から隆起した熱放散スタッド７４５は、マイクロチップ又はダイ７４４を支持している。熱放散スタッド７４５は、熱放散基板７４３とは別に製作され、その後ロウ付け、抵抗溶接、超音波溶接、高圧下での低温拡散などの圧着、はんだ付け、接着剤ボンディング、圧力ばめ、ねじ締め、鋲留め、拡散ボンディング、又は熱伝導性接着材料で構成された接着層７５１又は熱性能条件により決定した厚さを持つ他の薄膜接着材料の利用により、熱放散基板７４３に取り付けられている。一連のワイヤボンディング７４７は、ダイ７４４上の接触ポイントを支持構造体７４２の上面７４９又はその中にパターニングされたメタライゼーション７４８へと接続している。このメタライゼーション７４８は、集積回路デバイス７４１から外に向かって延びる複数のリード７５０と接続している。熱放散基板７４３は、図示していない封入構造体の一部を形成するサイズ／形状に作られていても良い。
【００１８】
留意すべきは、集積回路デバイスにおける熱放散費用を低減するために、熱放散基板７４３を様々な一般材料から、その熱放散品質、低質量、環境条件耐性、価格などに基づいて選択されたサイズ及び形状で選択することができるという点である。デバイスの様々な部品との接合部における機械的ストレスを分散及び低減させるために、支持構造体７４２に用いられる材料としては、熱放散基板７４３とメタライゼーション７４８の中間のＣＴＥを持つものが選択される。熱放散スタッド７４５は、ＣＴＥのダイとの整合性、サイズ調整、環境耐性、値段、質量などをカスタマイズした他の所望の特定用途向けの特徴を持つと共に、熱放散基板７４３と集積回路ダイ７４４の中間のＣＴＥを提供する様々な材料から選択されている。
【００１９】
本発明により、エンドユーザーは特定の用途向けに様々なヒートシンクの特徴を正確に選択することができる。ヒートシンクの本体、即ち基板は、例えば熱伝導性、低質量、低価格材料、低価格製造プロセス、環境耐性、ボンディング性など、選択されたヒートシンクの特徴を最適化する一般的なサイズ、形状及び材料とすることができる。一方でインターフェース表面、即ちスタブについては、冷却すべきデバイスとの改善されたＣＴＥ整合性や、ボンディング性、正確な許容範囲での機械加工性といった選択特性を最適化するための材料、サイズ及び形状が選択される。すなわち、特定用途向けにカスタマイズされるのである。
【００２０】
熱放散スタッドの特定用途向けの形状は、これが熱放散基板へと取り付けられる前に形成されるものでも、取り付けられた後に形成されるものでも良い点に留意する必要がある。また、熱放散スタッドを冷却すべきデバイスに取り付ける作業は、スタッドが熱放散基板へと取り付けられる前に実施されるものでも、後に実施されるものでも良い。更に、図７及び図８においては、冷却対象を集積回路デバイス７４４として描いたが、本発明は、これがプリント回路基板、マルチチップ・モジュール、パッケージされたデバイスなどであっても、本発明の基本的概念から離れることなく適用することができるものである。
【００２１】
本発明に推奨される実施例を説明目的で記載したが、本発明の範囲から離れることなく様々な変更、付加、及び代替により請求項の範囲に入る同等の実施例を得ることが可能であることは、当業者に明らかである。例えば、一般的な熱放散基板とは、羽根、又は他の一般的な熱放散性の物理的特徴を持つ熱放散基板であっても良いのである。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に基づく熱放散素子の第一の実施例を描いたものである。
【図２】本発明に基づく熱放散素子の第二の実施例を描いたものである。
【図３】本発明に基づく熱放散素子の第三の実施例を描いたものである。
【図４】本発明の第一の実施例に基づく熱放散素子の製造方法のフローチャートである。
【図５】本発明の第二の実施例に基づく熱放散素子の製造方法のフローチャートである。
【図６】本発明の第三の実施例に基づく熱放散素子の製造方法のフローチャートである。
【図７】封入前の、本発明の第四の実施例に基づく集積回路素子パッケージの上面図である。
【図８】図７に示した集積回路素子を、線８−８に沿って切断した場合の断面図である。
【符号の説明】
【００２３】
１００、２００、３００  特定用途向けヒートシンク素子
１１０、２１０、３１０、７４３  熱放散基板
１２０、２２０、３２０、７４５  熱放散スタッド
７４４  電子部品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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