(57)【要約】【課題】外側のシール剤に混入したスペーサの径よりも大きい径のスペーサを内側のシール剤に混入すると、内側のシール剤を支点としたてこの応力が作用する範囲が限られるため、セルギャップを均一化するのに十分とは言えない。【解決手段】単結晶シリコンウエハと透明絶縁基板とを素子単位で塗布したシール剤を介して貼り合わせ、素子単位で分断した後液晶材料を注入して得られる液晶表示素子において、有効画素領域近傍の素子周縁部にスペーサ入りの内側シール剤１８を塗布するとともに、当該第１のシール剤の外側にスペーサ無しの外側シール剤１９を塗布して二重シール構造とする。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
単結晶シリコンウエハと透明絶縁基板とを素子単位で塗布したシール剤を介して貼り合わせ、素子単位で分断した後液晶材料を注入して得られる液晶表示素子であって、
前記シール剤は、有効画素領域近傍の素子周縁部に塗布されたスペーサ入りの第１のシール剤と、前記第１のシール剤の外側に塗布されたスペーサ無しの第２のシール剤とからなる
ことを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】
前記第１のシール剤は、その塗布位置および線幅が前記シリコンウエハおよび前記透明絶縁基板の反り量に応じて決定される
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項３】
前記液晶材料は、基板面と垂直な方向に液晶分子を配向させて駆動させる垂直配向液晶材料である
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項４】
透明絶縁基板およびシリコンウエハの反り量を素子形成位置ごとに取得する第１の工程と、
前記第１の工程で素子形成位置ごとに取得した反り量を基に、前記透明絶縁基板に対して素子ごとに有効画素領域近傍の素子周縁部にスペーサ入りの第１のシール剤を塗布するとともに、当該第１のシール剤の外側にスペーサ無しの第２のシール剤を塗布する第２の工程と、
前記第２の工程でシール剤を塗布した前記透明絶縁基板と前記シリコンウエハとを貼り合わせる第３の工程と、
前記第３の工程で貼り合わせて一体化した前記透明絶縁基板および前記シリコンウエハを素子単位で分断する第４の工程と、
前記第４の工程で分断した各素子に液晶材料を注入する第５の工程と
を少なくとも含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
前記第２の工程では、前記第１の工程で素子形成位置ごとに取得した反り量に応じて前記第１のシール剤の塗布位置および線幅を決定する
ことを特徴とする請求項４記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】
前記第２の工程では、前記透明絶縁基板上の前記シリコンウエハ周縁に対応する部分にも、少なくとも前記第１のシール剤を塗布する
ことを特徴とする請求項４記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
前記第５の工程では、液晶材料として基板面と垂直な方向に液晶分子を配向させて駆動させる垂直配向液晶材料を注入する
ことを特徴とする請求項４記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示素子およびその製造方法に関し、特に単結晶シリコン基板に画素回路や周辺駆動回路等の回路部を形成し、その上に液晶層を形成するＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｏｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）構造の反射型液晶表示素子およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示素子（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）は、基本的に、少なくとも一方が透明絶縁基板（例えば、ガラス基板）からなり、各々の表面に配向膜を塗布した２枚の基板を、有効画素領域（表示領域）の周縁部に封止剤を塗布し、約５〜７μｍ程度の間隔を設けて貼り合わせ、２枚の基板の隙間（以下、これを「セルギャップ」と呼ぶ）に液晶材料を注入して液晶層を形成したパネル状のディスプレイ構成となっている。
【０００３】
このＬＣＤパネルにおいて、２枚の基板間における周縁部にはシール剤が塗布されることになる。ここで、シール剤を塗布する目的は、通常、当該シール剤に混入されるスペーサにてセルギャップ（液晶層の厚み）を均一に保ち、かつ、パネル（２枚の基板）の密着強度を確保するとともに、外部からのパネル内への水分の浸入やダストの進入などを防ぐことである。
【０００４】
ところで、近年のＬＣＤパネルの高輝度化に伴い、従来問題視されていなかったレベルのわずかなセルギャップのムラが画質低下につながっている。通常のシール塗布パターンでは、シール剤の塗布量が増加するに連れて、重ね合わせ（貼り合わせ）後のシール剤の幅が拡大し、それに伴ってシール剤に混入しているスペーサの分散する範囲も広がる。
【０００５】
セルギャップを形成するスペーサが塗布される部分の基板の表面がフラットでない場合、スペーサの分散する範囲が広くなるほどセルギャップの均一性を確保しにくくなる。これは、駆動側の基板の有効画素領域とシール剤を塗布する周辺部分とでは、経ている工程および回路等の密度が異なるため、基板の全体的な段差がフラットになりにくく、そのためセルギャップが均一にならないことに基づくものである。
【０００６】
実際、基板の表面はサブミクロン単位で見ると凹凸があり、これを完全に平坦化するのは難しい。したがって、シール剤によってセルギャップの均一化を図らざるを得ない。因みに、セルギャップが均一でないと、例えばナトリウムランプ下でＬＣＤパネルを見ると、ニュートリングと呼称されるリング状の輝度ムラが発生し、画質を低下させる一因となる。
【０００７】
一方、シール剤を細い線幅で塗布すると、駆動側の基板の段差の影響を最小限に抑えることができるため、セルギャップの均一性を確保できる傾向にある。しかしながら、シール剤の塗布幅が細くなる分だけ、シール材塗布の目的の一つである、外部からのパネル内への水分の浸入やダストの進入などに対する防止効果が低下し、ＬＣＤパネルの長期信頼性の点で劣ってしまうことになる。
【０００８】
従来、セルギャップの均一性を確保するために、２枚のガラス基板間のシール壁を二重に設けるとともに、内側のシール壁のシール剤に対して、外側のシール壁のシール剤に混入したスペーサの径よりも大きい径のスペーサを混入するようにしていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００９】
【特許文献１】
特開昭６０−１０１５２０号公報（特に、第２頁左上欄、第４図）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来技術では、内側のシール剤中のスペーサ径が外側のシール剤中のスペーサ径により大きいことから、内側のシール壁を支点としたてこの応力の作用によってセルギャップのムラを小さく抑えることができるものの、てこの応力が作用するのは内外のスペーサ径の差の範囲であり、その範囲を越えるとてこの応力が効かなくなるため、必ずしもセルギャップを均一化するのに十分であるとは言えなかった。
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、セルギャップをより確実に均一化し、かつ、パネルの長期信頼性を確保することが可能な液晶表示素子およびその製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明による液晶表示素子は、単結晶シリコンウエハと透明絶縁基板とを素子単位で塗布したシール剤を介して貼り合わせ、素子単位で分断した後液晶材料を注入して得られる液晶表示素子であって、前記シール剤が、有効画素領域近傍の素子周縁部に塗布されたスペーサ入りの第１のシール剤と、前記第１のシール剤の外側に塗布されたスペーサ無しの第２のシール剤とからなることを特徴としている。
【００１３】
上記構成の液晶表示素子において、有効画素領域近傍の素子周縁部に塗布された第１のシール剤は、スペーサが混入されていることで、そのスペーサによってセルギャップを確保するとともに、単結晶シリコンウエハと透明絶縁基板との貼り合わせ時に基板面の反りを修正する作用をなす。これにより、貼り合わせ前に基板面に反りがあったとしてもセルギャップを均一にできる。また、第２のシール剤は、第１のシール剤と共に二重シール構造を形成する。この二重シール構造により、２枚の基板間の密着強度を確保できるとともに、両基板間への外部からの水分の浸入やダストの進入などを確実に防止できるため、パネルの長期信頼性を確保できる。
【００１４】
本発明による液晶表示素子の製造方法は、透明絶縁基板およびシリコンウエハの反り量を素子形成位置ごとに取得する第１の工程と、素子形成位置ごとに取得した反り量を基に、前記透明絶縁基板に対して素子ごとに有効画素領域近傍の素子周縁部にスペーサ入りの第１のシール剤を塗布するとともに、当該第１のシール剤の外側にスペーサ無しの第２のシール剤を塗布する第２の工程と、シール剤を塗布した前記透明絶縁基板と前記シリコンウエハとを貼り合わせる第３の工程と、貼り合わせて一体化した前記透明絶縁基板および前記シリコンウエハを素子単位で分断する第４の工程と、分断した各素子に液晶材料を注入する第５の工程とを少なくとも含むことを特徴としている。
【００１５】
この製造方法によれば、一枚のシリコンウエハ上において、多数の液晶表示素子を一括してパネル化することができるため、高い量産性を確保できる。特に、透明絶縁基板およびシリコンウエハの各々について反り量を素子形成位置ごとに取得し、その取得した反り量を基にスペーサ入りの第１のシール剤を塗布することで、透明絶縁基板とシリコンウエハとを貼り合わせる段階で、当該第１のシール剤が素子個々の位置における基板表の反りを修正する作用をなすため、セルギャップを均一できる。しかも、第１のシール剤の外側に、スペーサ無しの第２のシール剤を塗布して二重シール構造としたことで、貼り合わせた後の２枚の基板間の密着強度を確保できるとともに、両基板間への外部からの水分の浸入やダストの進入などを確実に防止できるため、パネルの長期信頼性を確保できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１７】
図１は、本発明の一実施形態に係る液晶表示素子の構成例を示す断面構造図である。図１から明らかなように、本実施形態に係る液晶表示素子は、単結晶シリコン基板１１に画素回路や周辺駆動回路等の回路部１２を形成し、その上に液晶層１３を形成するＬＣＯＳ構造を採っている。このＬＣＯＳ構造の液晶表示素子は、単結晶シリコン基板１１が光を透過しないので反射型のデバイスとなり、例えばプロジェクタ用の表示デバイスとして用いられる。
【００１８】
図１において、単結晶シリコン基板１１には、ＬＳＩプロセスを用いてＭＯＳトランジスタ等の回路素子を含む回路部１２が形成される。この回路部１２を形成するに当たっては、高密度に素子を配置し、配線を形成するために多層配線構造が用いられる。ここでは、回路部１２についての多層配線構造は周知であり、図面の簡略化のために等価回路で示している。
【００１９】
また、本実施形態では、シリコン基板１１に形成する回路部１２として、画素トランジスタＴｒおよび保持容量Ｃを含む画素回路を例に挙げて示しているが、これに限られるものではない。具体的には、画素を行単位で選択する垂直駆動回路や、当該垂直駆動回路によって選択された行の各画素に映像信号を書き込む水平駆動回路などを含む周辺駆動回路を、画素回路と共に回路部１２として単結晶シリコン基板１１に形成することも可能である。
【００２０】
画素回路の基本的な構成例を図２に示す。同図から明らかなように、画素回路２０は、画素トランジスタＴｒであるＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；薄膜トランジスタ）２１と、このＴＦＴ２１のドレイン電極に画素電極２２が接続された液晶セル２３と、ＴＦＴ２１のドレイン電極に一方の電極が接続され、他端が例えば接地された保持容量（Ｃ）２４とを有する構成となっている。この画素回路２０において、ＴＦＴ２１はゲート電極が走査線２５に、ソース電極が信号線２６にそれぞれ接続されている。また、液晶セル２２は、図１の液晶層１３の液晶容量を意味し、その対向電極２６が画素間で共通に接続される。
【００２１】
再び図１において、シリコン基板１１の最上層には、画素回路２０の画素電極２２に相当する画素電極１４が例えば０．３５μｍ程度の極めて狭い間隔で配列されている。この狭画素間スペースにより、例えば対角０．７８インチ中に９μｍピッチで約２００万個程度の画素を配列し、フルＨＤＴＶ（１９２０Ｈ×１０８０Ｖ）対応した画質の高精細化・高品位化を実現している。画素電極１４としては、高反射率を実現するために例えばアルミニウム電極が用いられる。すなわち、画素電極１４は反射鏡としての機能をも持つことになる。
【００２２】
画素回路２０や周辺駆動回路を含む回路部１２が形成された単結晶シリコン基板１１に対して、透明絶縁基板、例えばガラス基板１５が対向配置されている。そして、シリコン基板１１とガラス基板１５との間に、これら基板と垂直な方向に液晶分子を配向させて駆動させる垂直配向液晶材料が封止されることで液晶層１３を形成している。垂直配向液晶材料を採用することにより、例えば２．０μｍ以下の非常に薄いセルギャップ（液晶セル厚）でも良好な駆動特性が得られるため、高コントラストおよび高速応答を実現できる。
【００２３】
シリコン基板１１およびガラス基板１５の各内面には、液晶（液晶層１３）を挟む配向膜１６，１７が配されている。配向膜１６，１７の素材としては、例えば無機材料が用いられる。配向膜１６，１７として無機配向膜を採用することにより、配向膜１６，１７の耐久性を向上でき、ひいては本デバイスの特長である高精細・高品位の性能をより長く維持することが可能になる。
【００２４】
有効画素領域（映像表示に寄与する画素の領域）の周縁部において、シリコン基板１１とガラス基板１５との間に二重シール構造を形成するために、第１のシール剤である内側シール剤１８と、その外側の第２のシール剤である外側シール剤１９とが介在している。図１では、内側シール剤１８および外側シール剤１９を模式的に示しているが、これらシール剤１８，１９は、製造段階で別々に塗布された後、シリコン基板１１およびガラス基板１５の貼り合わせ時の加圧処理および焼成処理を経ることによって一体化される。
【００２５】
具体的には、内側シール剤１８は、セルギャップを規定しかつ当該ギャップを均一に保つスペーサが混入されたスペーサ入りシール剤であり、従来の塗布幅に比べて細めに有効画素領域の近傍に塗布される。スペーサ入りのシール剤１８を有効画素領域の近傍に細めに塗布することにより、駆動側の基板、即ちシリコン基板１１の表面における段差バラツキの影響を最少にできるため、有効画素領域（画面）内にビーズスペーサやポストスペーサを設けてギャップ制御を行わなくても、有効画素領域全面に亘って均一なセルギャップを形成できる。
【００２６】
このように、セルギャップを均一化できることにより、リング状の輝度ムラであるニュートリングの発生を抑えることができ、しかもセルギャップの均一化を図る上で有効画素領域（画面）内にスペーサを全く配置しなくて済むことによって画質を向上できるため、プロジェクタ用の表示デバイスとして用いた場合であっても、映画フィルムのような高品位な映像の表示を実現できる。
【００２７】
外側シール剤１９は、スペーサが混入されていないスペーサ無しのシール剤であり、内側シール剤１８の外側に当該シール剤１８の塗布幅よりも広めに塗布されることによって二重シール構造を形成する。この二重シール構造を採用し、シリコン基板１１とガラス基板１５とを貼り合わせた後の一体化されたシール剤の幅を従来と同程度にすることにより、シリコン基板１１とガラス基板１５との間の密着強度を確保できるとともに、両基板１１，１５間への外部からの水分の浸入やダストの進入などを確実に防止できるため、パネルの長期信頼性を確保することができる。
【００２８】
次に、上記構成の本実施形態に係る液晶表示素子を製造する際の本発明による製造方法について説明する。本発明による製造方法では、ウエハ単位でパネル化するプロセス技術、即ち一枚のシリコンウエハ上において多数の液晶表示素子を一括してパネル化した後個々に切断する多面取りの技術を用いている。なお、本実施形態に係る液晶表示素子では、ＬＣＯＳ構造を採ることから、シリコンウエハには画素回路や周辺駆動回路などが形成されることになる。
【００２９】
先ず、図３に示すように、透明導電膜、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜付きの矩形のガラス基板３１と単結晶シリコンウエハ３２を用意する。そして、ガラス基板３１と単結晶シリコンウエハ３２とを後述するように貼り合わせた後、図４に示すように、シリコンウエハ３２の領域内から多数の空パネル（液晶が注入されていないパネル）として切り出すことになる。図４において、シリコンウエハ３２の領域内の太線で囲っている部分が実際に液晶表示素子として用いられる空パネルであり、シリコンウエハ３２の周縁に対応する部分（図中、斜線を付した部分）は補助シールパネルとなる。
【００３０】
この製造工程に入るに先立って、ガラス基板３１および単結晶シリコンウエハ３２の各表面の反り具合をあらかじめ測定しておく。この測定に当たっては、ガラス基板３１およびシリコンウエハ３２の各々について、全体的な面の反り量を測定するするとともに、中心部分を含む任意の部分についても局所的な面の反り量を測定する。そして、その測定結果を基に、液晶表示素子個々の各位置ごとに基板表面の反り量をあらかじめ算出しておく。
【００３１】
以下、ガラス基板３１およびシリコンウエハ３２の各基板面の反り量を取得する工程後の本発明による製造方法の処理手順について図５の工程図にしたがって説明する。
【００３２】
先ず、ガラス基板３１にシール剤を塗布する（工程１）。このシール剤を塗布する処理が本発明の特に特徴とする処理であり、図４において、シリコンウエハ３２の領域内の太線で囲っている部分の空パネルのみならず、シリコンウエハ３２の周縁に対応する部分の補助シールパネル（図中、斜線を付したパネル）に対してもシール剤を塗布することになる。以下に、シール剤塗布の処理について具体的に説明する。
【００３３】
最初に、図６に示すように、直径が１．５〜１．９μｍ程度のスペーサが混入されているスペーサ入りの内側シール剤１８を、液晶表示素子ごとに有効画素領域近傍の素子周縁部にシリンジ３３によって塗布する。なお、図６には、理解を容易にするために、一つの液晶表示素子のみについて示している。スペーサ入りの内側シール剤１８を塗布するに当たっては、あらかじめ取得してあるガラス基板３１およびシリコンウエハ３２の各反り量の情報を参照し、シール剤１８の位置や線幅（塗布幅）を決定する。
【００３４】
具体的には、ガラス基板３１およびシリコンウエハ３２上における液晶表示素子個々の位置が異なり、その位置に応じて各基板の反り具合も異なることから、液晶表示素子個々の位置ごとにあらかじめ取得してある基板表面の反り量を用いて、ガラス基板３１とシリコンウエハ３２とを貼り合わせたときに、各位置における基板表面の反りが小さくなるように、塗布する内側シール剤１８の線幅Ｗ１や、塗布位置を決めるための有効画素領域の周縁からの距離ｄ（上下左右の距離ｄ１〜ｄ４）などを決定する。
【００３５】
スペーサ入りの内側シール剤１８を塗布した後、図７に示すように、その外側にスペーサが混入されていないスペーサ無しの外側シール剤１９を、内側シール剤１８に近接して当該シール剤１８よりも広い線幅Ｗ２（Ｗ２＞Ｗ１）でシリンジ３４によって液晶表示素子ごとに塗布する。図７には、外側シール剤１９を一点鎖線で模式的に示しているが、これは内側シール剤１８と差別化するためであって、一点鎖線状に塗布することを表している訳ではない。シール剤１８，１９としては、紫外線硬化樹脂が用いられる。
【００３６】
再び図５の工程図において、工程１でのシール剤塗布の処理と並行して、シリコンウエハ３２に電気的な接触をとるためのコモン剤を塗布する処理を行う（工程２）。このコモン剤の塗布は、周知の技術を用いることによって行われる。次に、シール剤が塗布されたガラス基板３１とコモン剤が塗布されたシリコンウエハ３２とを、ガラス基板３１のシリコン剤塗布面が内側に、シリコンウエハ３２のコモン剤塗布面が外側になるようにして貼り合わせる（工程３）。
【００３７】
この工程３の処理では、例えば、ガラス基板３１を上、シリコンウエハ３２を下にし、上を基準にして下から加圧すると同時に、紫外線をガラス基板３１を透して照射してシール剤１８，１９を固めることによってガラス基板３１とシリコンウエハ３２とを貼り合わせる。この貼り合わせの段階で、スペーサ入りの内側シール剤１８は、液晶表示素子個々の位置ごとにあらかじめ取得してある基板表面の反り量を基に、線幅Ｗ１や有効画素領域の周縁からの距離ｄなどが決められて細めに塗布されているため、シリコンウエハ３２の表面における段差バラツキの影響を最少にできる。これにより、内側シール剤１８は、液晶表示素子個々の位置における基板表面の反りを修正するように作用し、その結果有効画素領域全面に亘って均一なセルギャップを形成できる。このとき、外側シール剤１９は、スペーサが混入されていないため、反りを修正する内側シール剤１８の作用に何ら悪影響を及ぼすことはない。
【００３８】
ガラス基板３１とシリコンウエハ３２とを貼り合わせた後、通常のベーク処理（工程４）を経て、個々の空パネルに分断する（工程５）。分断されて得られる個々の空パネルのうち、図４において、シリコンウエハ３２の領域内の太線で囲っている部分の空パネルが実際に液晶表示素子として用いられるパネルとなる。そして、これら空パネル個々に対して、液晶材料、例えば垂直配向液晶材料を注入し（工程６）、しかる後液晶材料が漏れないように、注入口をアクリル系の紫外線硬化樹脂にて圧力を加えながら封じ込む（工程７）。
【００３９】
以上の一連の製造工程を経ることにより、一枚のシリコンウエハ３２上において、内側シール剤１８に混入されているスペーサによってセルギャップが１．５〜１．９μｍ程度に規定された多数の液晶表示素子を一括してパネル化することができる。このウエハ単位でのパネル化プロセス技術の採用により、高い量産性を確保することができる。
【００４０】
特に、ガラス基板３１およびシリコンウエハ３２の各々について、全体的な面の反り量を測定するするとともに、中心部分を含む任意の部分についても局所的な面の反り量を測定し、その測定結果を基に液晶表示素子（空パネル）個々の各位置ごとに基板表面の反り量をあらかじめ取得しておき、その取得した反り量を基にスペーサ入りの内側シール剤１８の線幅Ｗ１や有効画素領域の周縁からの距離ｄなどを決めて塗布することにより、ガラス基板３１とシリコンウエハ３２とを貼り合わせる段階で、当該内側シール剤１８の作用によって液晶表示素子個々の位置における基板表面の反りを修正できるため、セルギャップを均一にすることができる。
【００４１】
しかも、スペーサ入りの内側シール剤１８の外側に、スペーサ無しの外側シール剤１９を塗布して二重シール構造としたことにより、パネルの２枚の基板（ガラス基板３１とシリコンウエハ３２）間の密着強度を確保できるとともに、パネル内への外部からの水分の浸入やダストの進入などを確実に防止できるため、パネルの長期信頼性を確保することができる。シール剤１８，１９の各線幅については、一例として、内側シール剤１８の線幅を上限で９００μｍ２  （断面積）、内外トータルで２０００μｍ２  （断面積）以上に設定することにより、セルギャップの均一化を図るとともに、パネルの長期信頼性を確保する上で良好な結果が得られている。
【００４２】
また、図４において、シリコンウエハ３２の領域内の太線で囲っている空パネル部分のみならず、シリコンウエハ３２の周縁に対応する補助シールパネル部分に対しても、空パネル部分と同様に、個々の基板表面の反り量を考慮して少なくとも内側シール剤１８を塗布することにより、ガラス基板３１およびシリコンウエハ３２の中央部分のみならず、全面に亘って基板表面の反りを修正できる。これにより、シリコンウエハ３２のほぼ全面に亘って空パネルのセルギャップを均一にできるため、一枚のウエハから切り出す空パネルの理収（理論的収率）を上げることができる。
【００４３】
なお、駆動側の基板、即ちシリコン基板の有効画素領域とシール剤を塗布する素子周縁部分とでは、経ている工程および回路等の密度が異なるため、基板の全体的な段差がフラットになりにくい。これにより、セルギャップを形成する際には、シリコン基板表面の段差形状の影響を受けることになるため、その段差形状に合わせたシール剤の塗布パターンを選択するようにすることにより、セルギャップをより均一にすることができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、単結晶シリコンウエハと透明絶縁基板とを素子単位で塗布したシール剤を介して貼り合わせ、素子単位で分断した後液晶材料を注入して得られる液晶表示素子において、有効画素領域近傍の素子周縁部にスペーサ入りの第１のシール剤を塗布することにより、セルギャップをより確実に均一化できるとともに、当該第１のシール剤の外側にスペーサ無しの第２のシール剤を塗布して二重シール構造とすることにより、パネルの長期信頼性を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶表示素子の構成例を示す断面構造図である。
【図２】画素回路の基本的な構成例を示す回路図である。
【図３】ガラス基板およびシリコンウエハを示す概略斜視図である。
【図４】一枚のシリコンウエハから空パネルがとられる領域を示す図である。
【図５】本発明による製造方法の処理手順を示す工程図である。
【図６】スペーサ入り内側シール剤の塗布の状態を示す図である。
【図７】スペーサ無し外側シール剤の塗布の状態を示す図である。
【符号の説明】
１１…シリコン基板、１２…回路部、１３…液晶層、１４，２２…画素電極、１５，３１…ガラス基板、１６，１７…配向膜、１８…スペーサ入り内側シール剤、１９…スペーサ無し外側シール剤、２０…画素回路、２１…ＴＦＴ（画素トランジスタ）、２３…液晶セル、２４…保持容量、２５…走査線、２６…信号線、２７…対向電極、３２…シリコンウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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