(57)【要約】【課題】ガス導入器の材料の補充を効率よく行う。また、ガス導入器内部のガス導入路の加熱を確実に行う。【解決手段】ガス導入器１は、ガス導入器本体１ａと、材料収納室１ｂと、材料収納室１ｂ内の材料２を加熱するためのヒータ９とから構成される。材料収納室１ｂは、ガス連通路３ｂを横断する面を介して、ガス導入器本体１ａに着脱自在に接続されている。また、ヒータ９の一部は、ガス導入器本体１ａのガス導入路６と材料収納室１ｂの材料収納室３との間に介在して、ガス導入路６と材料収納室３の双方を直接加熱する。【選択図】  図２
2004269996.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端部にガス導入口を有し、ガス導入口と連通するガス導入路が内部に形成され、基端部において開閉口を介してガス導入路と連通する開閉室が設けられ、開閉室内に開閉口を開閉するためのバルブが配置されたガス導入器本体と、前記ガス導入路の周囲に配置され、ガス連通路を介して前記開閉室に連通された材料収納室が設けられた材料収納部と、前記材料収納室内の材料を加熱してガス化するための第１の加熱手段とを有するガス導入器において、前記ガス導入器本体と前記材料収納部とが前記ガス連通路を横断する面を介して着脱自在に接続されていることを特徴とするガス導入器。
【請求項２】
前記材料収納部が、前記第１の加熱手段の少なくとも一部を介して前記ガス導入器本体のガス導入路の周囲に配置され、これにより前記第１の加熱手段の当該一部が、前記ガス導入器本体のガス導入路と前記材料収納部の材料収納室との間に介在していることを特徴とする請求項１記載のガス導入器。
【請求項３】
前記ガス導入器本体の開閉室内に配置されたバルブを加熱するための第２の加熱手段を有することを特徴とする請求項１若しくは２記載のガス導入器。
【請求項４】
内部が真空雰囲気とされる処理チャンバーと、処理チャンバー内に設置されるガス導入器であって、先端部にガス導入口を有し、ガス導入口と連通するガス導入路が内部に形成され、基端部において開閉口を介してガス導入路と連通する開閉室が設けられ、開閉室内に開閉口を開閉するためのバルブが配置されたガス導入器本体と、前記ガス導入路の周囲に配置され、ガス連通路を介して前記開閉室に連通された材料収納室が設けられた材料収納部と、前記材料収納室内の材料を加熱してガス化するための第１の加熱手段とを有するガス導入器とを備える処理装置において、前記ガス導入器における前記ガス導入器本体と前記材料収納部とが、前記ガス連通路を横断する面を介して着脱自在に接続されていることを特徴とする処理装置。
【請求項５】
前記ガス導入器における前記材料収納部が、前記第１の加熱手段の少なくとも一部を介して前記ガス導入器本体のガス導入路の周囲に配置され、これにより前記第１の加熱手段の当該一部が、前記ガス導入器本体のガス導入路と前記材料収納部の材料収納室との間に介在していることを特徴とする請求項４記載の処理装置。
【請求項６】
前記ガス導入器が、前記ガス導入器本体の開閉室内に配置されたバルブを加熱するための第２の加熱手段を有することを特徴とする請求項４若しくは５記載の処理装置。
【請求項７】
先端部にガス導入口を有し、ガス導入口と連通するガス導入路が内部に形成され、基端部において開閉口を介してガス導入路と連通する開閉室が設けられ、開閉室内に開閉口を開閉するためのバルブが配置されたガス導入器本体と、前記ガス導入路の周囲に配置され、ガス連通路を介して前記開閉室に連通された材料収納室が設けられた材料収納部とを有するガス導入器を用いたガス導入方法において、前記ガス導入器本体のガス導入路と前記材料収納部の材料収納室との間に介在された加熱手段によって材料収納室内の材料をガス化するために加熱し、ガス化された材料ガスを前記ガス導入器本体のガス導入口から導入することを特徴とするガス導入方法。
【請求項８】
前記ガス導入器におけるガス導入器本体の開閉室内に配置されたバルブが加熱されていることを特徴とする請求項７記載のガス導入方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する分野】
本発明は、集束イオンビーム装置等の処理装置において用いられるガス導入器及び当該ガス導入器を備えた処理装置並びにガス導入方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
イオン源からのイオンビームをターゲット（被処理体）上で集束して照射する集束イオンビーム装置等の処理装置において、ターゲットのエッチングやデポジション等を行うために、ターゲットのイオンビーム照射点に適宜なガスを吹き付けるためのガス導入器を備えた装置がある。
【０００３】
このようなガス導入器を備えた処理装置として、特開２０００−３２３０８６号公報（特許文献１）に開示された集束イオンビーム装置があり、ここで当該特許文献１に記載された装置について説明する。
【０００４】
特許文献１に記載された集束イオンビーム装置は、集束イオンビーム光学鏡筒を有し、その内部には、イオン源、イオン源からのイオンビームをターゲット上で集束させるための集束レンズ、イオンビームのターゲット上での照射位置をコントロールするための偏向器、イオンビームのターゲット方向への照射／非照射（オン／オフ）を行うためのブランキング機構等が設けられている。
【０００５】
さらにこの集束イオンビーム装置は、上記集束イオンビーム光学鏡筒が上部に載置されるターゲットチャンバーを有し、その内部には、ターゲットを載置するステージとガス導入器（ガス導入機構）が設けられている。
【０００６】
以下、図４を参照して、このような従来技術において用いられるガス導入器の構造の一例を説明する。
【０００７】
図４は、従来技術におけるガス導入器を示す断面図である。同図において、１０１はガス導入器であり、このガス導入器１０１は二重管構造とされ、外管１０１ａがガス化するための材料（ガス化材料）１０２を収納するための材料収納室１０３となるとともに、内管１０１ｂがガス導入管１０４となっている。ここで、材料収納室１０３は、内管１０１ｂにおける突出部１ｃを除く部分を取り囲んで一周するように形成されている。
【０００８】
ガス導入管１０４は、その先端部１０４ａがノズル状となって外管１０１ａから突出しており、当該先端部１０４ａにはガス化された材料を噴出するためのガス導入口１０５が設けられている。そして、ガス導入管１０４の内部には、このガス導入口１０５と連通するガス導入路１０６が形成されている。
【０００９】
ガス導入管１０４の基端側には、その内部のガス導入路１０６と外管１０１ａの材料収納室１０３とを連通する開閉室１０７が設けられている。開閉室１０７内には、開閉室１０７においてガス導入路１０６と材料収納室１０３との連通の開閉制御（オン／オフ）を行うためのバルブ１０８が配置されている。
【００１０】
また、材料収納室１０３が設けられた外管１０１ａの周囲と、導入路１０６が設けられた内管１０１ｂにおける外管１０１ａからの突出部１０１ｃの周囲とには、加熱手段である線状のヒータ１０９が巻回されて設けられており、外管１０１ａの周囲に巻回されたヒータ１０９ａと内管１０１ｂの突出部１０１ｃの周囲に巻回されたヒータ１０９ｂとは、双方が近接している位置の端部において電気的に接続されている。そして、ヒータ１０９ａとヒータ１０９ｂとを含むヒータ１０９の両端部には、図示しないヒータ電源が接続されて電流が供給される。そして、ヒータ１０９ａとヒータ１０９ｂの周囲には、それぞれヒータケース１１０及び１１１が配置されている。
【００１１】
ガス導入器１０１の基端部には、開閉室１０７を密閉するように蓋体１１２が設けられており、この蓋体１１２はネジ１１３によって外管１０１ａの基端側に固定されている。
また、開閉室１０７内に配置されたバルブ１０８の開閉駆動動作を行うためにアクチュエータ１１４が設けられている。このアクチュエータ１１４のアクチュエータ本体１１４ａは、ガス導入器１０１の蓋体１１２の外側に固定され、アクチュエータ１１４の駆動ロッド１１４ｂは、アクチュエータ本体１１４ａから蓋体１１２を貫通して、その先端がバルブ１０８に接続されている。アクチュエータ１１４の動作により、駆動ロッド１１４ｂが、その先端に接続されたバルブ１０８を適宜移動するように駆動される。この結果、開閉室１０７においてガス導入路１０６と材料収納室１０３との連通の開閉制御が行われる。なお、図４は、駆動ロッド１１４ｂによってバルブ１０８がアクチュエータ本体１１４ａの方向に移動し、これにより開閉室１０７においてガス導入路１０６と材料収納室１０３との連通が開かれた（ＯＮされた）状態を示している。
【００１２】
アクチュエータ１１４は、ターゲットチャンバー内に設けられた支持部１１５に係合手段（図示せず）により取付けられており、この結果、ガス導入器１０１は当該支持部１１５によってターゲットチャンバー内での所定の位置に支持される。
【００１３】
ガス導入器１０１のバルブ１０８には、上述のヒータ１０９とは個別にヒータ１１６が配置されている。このヒータ１１６は、バルブ１０８の内部に設けられており、上述のヒータ１０９への電流の供給とは独立して電流が供給される。
【００１４】
なお、図中の１１７及び１１８は、それぞれ温度を測定するための熱電対である。熱電対１１７は、その先端部においてガス導入器１０１の外管１０１ａの温度を測定するものであり、熱電対１１８は、その先端部においてガス導入器１０１のバルブ１０８の温度を測定するものである。ここで、図中の１１７ａは、熱電対１１７の先端部（測定部）を外管１０１ａに取付けるための取付け部材である。なお、図示していないが、これら熱電対１１７，１１８の基端部は、ターゲットチャンバー内においてそれぞれ対応する所定の端子（図示せず）に接続されている。
【００１５】
【特許文献１】
特開２０００−３２３０８６号公報
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
このようなガス導入器１０１を用いた場合において、材料収納室１０３内の材料１０２の補充を行う際には、ガス導入器１０１をターゲットチャンバー内から取り出す必要があった。
この際には、まず、熱電対１１７，１１８の各の基端部を、ターゲットチャンバー内においてそれぞれ対応する所定の端子から取り外す。次に、上述の図示しない係合手段を解除して、ターゲットチャンバー内の支持部１１５からガス導入器１０１のアクチュエータ１１４を取り外す。これにより、熱電対１１７，１１８がその先端部において取付けられた状態でガス導入器１０１をターゲットチャンバー内の支持部１１５から取り外され、取り外したガス導入器１０１をターゲットチャンバー内から取り出す（取り外し作業）。
【００１７】
そして、ターゲットチャンバー内から取り出されたガス導入器１０１の蓋体１１２を開ける。このときには、蓋体１１２を外管１０１ａの基端側に固定しているネジ１１３を外し、蓋体１１２を外管１０１ａの基端部から分離する。このとき、アクチュエータ１１４は蓋体１１２に固定されており、アクチュエータ本体１１４及び駆動ロッド１１４ｂも蓋体１１２と一体的に外管１０１ａから分離し、またバルブ１０８は駆動ロッド１１４ｂの先端に固定されているので、このバルブ１０８も同時に外管１０１ａから分離される。
【００１８】
この結果、ガス導入器１０１における開閉室１０７が露出することとなり、当該開閉室１０７を介して材料収納室１０３に材料１０２を補充する。なお、この際には、ガス導入路１０６には材料１０２を入れないようにする。
【００１９】
ガス導入室１０１の材料収納室１０３への材料１０２の補充が終了した後、アクチュエータ１１４及びバルブ１０８が固定された蓋体１１２を外管１０１ａの基端側にネジ１１３を介して取付ける。この後、上述した取り外し作業の逆となる作業を行い、材料１０２が補充されたガス導入器１０１をターゲットチャンバー内部に取付けることとなる。
【００２０】
このように、従来技術の例においては、ガス導入器１０１に材料１０２を補充する際には、ガス導入器１０１全体を一旦ターゲットチャンバー内から取り外さなければならず、作業性が良くないという問題があった。また、材料１０２を補充後にガス導入器１０１をターゲットチャンバー内に取付けるときに、ターゲットチャンバー内でのガス導入器１０１の位置調整を改めて行う必要があり、作業に手間がかかるものであった。さらに、熱電対１１７，１１８が取付けられた状態でガス導入器１０１の着脱（取付け／取り外し）を行うこととなり、細線からなる熱電対１１７，１１８の断線を引き起こしやすいという問題があった。
【００２１】
なお、上記の例の他に、図５に示すガス導入器１０１も検討されている。当該ガス導入器１０１では、図４のガス導入器１０１の構造を改造し、材料収納室１０３に連通する材料補充口２０１を外管１０１ａの先端側に形成し、当該材料補充口２０１を開閉するための栓部材２０２を設けたものである。
【００２２】
このガス導入器１０１の例では、蓋体１１２を取り外さなくても、栓部材２０２を外して材料補充口２０１を介して材料１０２を材料収納室１０３内に補充すれば良いという構成であるが、依然として、材料１０２の補充の際にはガス導入器１０１全体を一旦ターゲットチャンバー内から取り外さなければならないものであった。
【００２３】
また、上述のこれら従来技術の例におけるガス導入器１０１の構造では、内管１０１ｂの導入路１０６において、外管１０１ａからの突出部１０１ｃの部分を除く部分（以下、内側導入路という）１０６ａは、その周囲が外管１０１ａの材料収納室１０３によって取り囲まれている。そして、この内側導入路１０６ａ及び材料収納室１０３を加熱するヒータ１０９ａは、材料収納室１０３の外側周囲に配置されているので、内側導入路１０６ａは、材料収納室１０３を介してこのヒータ１０９ａによって加熱されることとなり、内側導入路１０６ａの加熱が不完全となる可能性があった。すなわち、この内側導入路１０６ａとヒータ１０９ａとの間に材料収納室１０３が介在しているので、材料収納室１０３の加熱が十分に行われた後に内側導入路１０６ａが加熱されるので、加熱時間を十分にとらないと内側導入路１０６ａの加熱が十分な状態とならないことがあった。このように内側導入路１０６ａの加熱が十分に行われていない状態であると、材料収納室１０３内で加熱されてガス化された材料ガスが開閉室１０７を介して内側導入路１０６ａに入っていったときに、当該材料ガスの一部が内側導入路１０６ａの内壁に接触して固化することとなり、この固化した材料が当該内壁から剥離するとパーティクルの発生の原因となる。
【００２４】
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、効率良く材料の補充を行うことができるガス導入器及びそれを備えた処理装置を提供することを目的とする。
【００２５】
また、本発明は、パーティクルの発生を抑えることができるガス導入方法を提供することを目的とする。
【００２６】
【課題を解決する手段】
本発明におけるガス導入器は、先端部にガス導入口を有し、ガス導入口と連通するガス導入路が内部に形成され、基端部において開閉口を介してガス導入路と連通する開閉室が設けられ、開閉室内に開閉口を開閉するためのバルブが配置されたガス導入器本体と、前記ガス導入路の周囲に配置され、ガス連通路を介して前記開閉室に連通された材料収納室が設けられた材料収納部と、前記材料収納室内の材料を加熱してガス化するための第１の加熱手段とを有するガス導入器であって、前記ガス導入器本体と前記材料収納部とが前記ガス連通路を横断する面を介して着脱自在に接続されていることを特徴とする。
また、本発明における処理装置は、内部が真空雰囲気とされる処理チャンバーと、処理チャンバー内に設置されるガス導入器であって、先端部にガス導入口を有し、ガス導入口と連通するガス導入路が内部に形成され、基端部において開閉口を介してガス導入路と連通する開閉室が設けられ、開閉室内に開閉口を開閉するためのバルブが配置されたガス導入器本体と、前記ガス導入路の周囲に配置され、ガス連通路を介して前記開閉室に連通された材料収納室が設けられた材料収納部と、前記材料収納室内の材料を加熱してガス化するための第１の加熱手段とを有するガス導入器とを備える処理装置であって、前記ガス導入器における前記ガス導入器本体と前記材料収納部とが、前記ガス連通路を横断する面を介して着脱自在に接続されていることを特徴とする。
さらに、本発明におけるガス導入方法は、先端部にガス導入口を有し、ガス導入口と連通するガス導入路が内部に形成され、基端部において開閉口を介してガス導入路と連通する開閉室が設けられ、開閉室内に開閉口を開閉するためのバルブが配置されたガス導入器本体と、前記ガス導入路の周囲に配置され、ガス連通路を介して前記開閉室に連通された材料収納室が設けられた材料収納部とを有するガス導入器を用いたガス導入方法であって、前記ガス導入器本体のガス導入路と前記材料収納部の材料収納室との間に介在された加熱手段によって材料収納室内の材料をガス化するために加熱し、ガス化された材料ガスを前記ガス導入器本体のガス導入口から導入することを特徴とする。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２８】
図１は、本発明における処理装置である集束イオンビーム装置の概要を示すものである。同図において、２０１は集束イオンビーム装置であり、この集束イオンビーム装置２０１は、ターゲットチャンバー２０２と、このターゲットチャンバー２０２の上部に載置された集束イオンビーム光学鏡筒２０３とを有する。
【００２９】
この集束イオンビーム光学鏡筒２０３は、上述した従来技術の例と同様に、その内部にイオン源、イオン源からのイオンビームをターゲット（被処理体）２０４上で集束させるための集束レンズ、イオンビームのターゲット２０４上での照射位置をコントロールするための偏向器、イオンビームのターゲット方向への照射／非照射を行うためのブランキング機構等が設けられている。
【００３０】
ターゲットチャンバー２０２の内部には、ターゲット２０４を載置するためのステージ２０５が配置され、また本発明の特徴となるガス導入器１を支持するための支持部２０６が設置されている。
【００３１】
このような集束イオンビーム装置２０１を用いてターゲット２０４の上面（被処理面）に例えばデポジション（成膜処理）を行う場合には、集束イオンビーム光学鏡筒２０３の内部及びターゲットチャンバー２０２内部をそれぞれ所定の真空度に減圧して真空雰囲気とし、ターゲット２０４の上面にイオンビームを照射する。このとき、成膜材料となる材料ガスをガス導入器１のノズル先端部からターゲット２０４の上面に導入する。これにより、ターゲット２０４の上面には例えば金属等からなる膜が形成される。
【００３２】
以下、図２を参照して、本発明において用いられるガス導入器について説明する。
【００３３】
図２は、本発明におけるガス導入器を示す断面図である。同図において、１はガス導入器であり、このガス導入器１は、ガス導入器本体１ａと、材料収納部１ｂとから構成されている。
【００３４】
ガス導入器本体１ａは、基端部１ｃと、当該基端部１ｃから突出するガス導入管部１ｄと、当該ガス導入管部１ｄの先端にノズル状に形成された先端部１ｅとを備えている。当該先端部１ｅには、ガス化された材料（材料ガス）を噴出するためのガス導入口５が設けられている。また、ガス導入管部１ｄの内部には、ガス導入口５と連通するガス導入路６が形成されている。
【００３５】
ガス導入器本体１ａの基端部１ｃには開閉室７が形成されており、ガス導入管部１ｄのガス導入路６は、その基端側に位置する開閉口７ａを介して開閉室７と連通している。また、この開閉室７には、ガス導入路６の開閉口７ａを開閉するためのバルブ８が設けられている。
【００３６】
そして、ガス導入器１の基端側には、ガス導入器本体１ａに形成された開閉室７を密閉するように蓋体１２が設けられており、この蓋体１２はネジ１３によってガス導入器本体１ａの基端部１ｃに固定されている。
【００３７】
また、開閉室７内に配置されたバルブ８の開閉駆動動作を行うためのアクチュエータ１４が設けられている。このアクチュエータ１４のアクチュエータ本体１４ａは、ガス導入器１の蓋体１２の外側に固定され、アクチュエータ１４の駆動ロッド１４ｂは、アクチュエータ本体１４ａからから蓋体１２を貫通し、その先端がバルブ８に接続されている。アクチュエータ１４の動作により、駆動ロッド１４ｂが、その先端に接続されたバルブ８を適宜移動するように駆動される。すなわち、バルブ８の移動によってガス導入路６における開閉口７ａの開閉が制御される。この結果、開閉室７内のバルブ８によって、開閉口７ａを介した開閉室７とガス導入路６との連通の開閉制御が行われる。なお、図２は、駆動ロッド１４ｂによってバルブ８がアクチュエータ本体１４ａの方向に移動し、これにより開閉口７ａが開かれて、開閉室７とガス導入路６とが開閉口７ａを介して連通されている状態を示している。
【００３８】
アクチュエータ１４は、ターゲットチャンバー２０２（図１参照）内に設けられた支持部２０６に係合手段（図示せず）により取付けられており、この結果、ガス導入器１は当該支持部２０６によってターゲットチャンバー２０２内での所定の位置に支持される。
【００３９】
ガス導入器１のガス導入器本体１ａの周囲には、このガス導入器本体１ａと材料収納部１ｂとを加熱するための加熱手段（第１の加熱手段）である線状のヒータ９が巻回されて設けられている。このヒータ９は、ガス導入器１ａの基端部１ｃの外周部に巻回されたヒータ部９ａと、ガス導入器１ａのガス導入管部１ｄの外周部に巻回されたヒータ部９ｂとから構成されている。ヒータ部９ａとヒータ部９ｂとはその近接側において直列に接続されており、またヒータ部９ａとヒータ部９ｂとを含むヒータ９の両端部には、図示しないヒータ電源が接続されて電流が供給される。ここで、ヒータ部９ａの周囲にはヒータケース１０が配置されている。また、ヒータ部９ｂにおいて、材料収納部１ｂによって外周が覆われていない部分（先端側部分）１ｇの周囲には、ヒータケース１１が配置されている。
【００４０】
ガス導入器本体１ａの開閉室７内に配置されたバルブ８には、上記ヒータ９とは個別にヒータ１６（第２の加熱手段）が配置されている。このヒータ１６は、バルブ８を加熱するためにその内部に設けられており、ヒータ９とへの電流の供給とは独立して電流が供給される。
【００４１】
ここで、図中の１７及び１８は、それぞれ温度を測定するための熱電対である。熱電対１７は、その先端部においてガス導入器１におけるガス導入管部１ａの基端部１ｃの温度を測定するものであり、熱電対１８は、その先端部においてガス導入器１のバルブ８の温度を測定するものである。なお、図示していないが、これら熱電対１７，１８の基端部は、ターゲットチャンバー２０２内においてそれぞれ対応する所定の端子（図示せず）に接続されている。
【００４２】
ガス導入器１を構成する材料収納部１ｂは、ガス導入管部１ｄにおけるガス導入路６の周囲に、ガス導入器本体１ａの基端部１ｃにネジ２１によって着脱自在に取付けられている。この材料収納部１ｂは、その断面が貫通口３ａを有するリング形状（ドーナッツ形状）となっており、当該貫通口３ａを取り囲んで一周するように材料収納室３が設けられている。
【００４３】
図２に示すように、材料収納部１ｂがガス導入器本体１ａにネジ２１によって取付けられている状態において、材料収納部１ｂの材料収納室３は、ガス連通路３ｂを介して、ガス導入器本体１ａの開閉室７に連通している。なお、このガス連通路３ｂは、材料収納部１ｂとガス導入器本体１ａの双方に形成されている。材料収納部１ｂに形成されたガス連通路３ｂは材料収納室３につながっており、またガス導入路本体１ａに形成されたガス連通路３ｂは開閉室７につながっている。従って、材料収納部１ｂが、図２のように、ガス導入器本体１ａに取付けられた状態では、材料収納部１ｂのガス連通路３ｂとガス導入器本体１ａのガス連通路３ｂとが合わされてつながることとなり、この結果、材料収納部１ｂの材料収納室３は、双方のガス連通路３ｂを介して、ガス導入器本体１ａの開閉室７に連通する。なお、図中の３ｄはＯリング等からなるシール部材である。
【００４４】
このような構成のガス導入器１において、材料収納部１ｂの材料収納室３内に材料（ガス化材料）２を補充する際には、材料収納部１ｂをガス導入器本体１ａから取り外して行う。このときには、まずヒータケース１１をヒータ部９ｂの周囲から外し、その後ネジ２１をネジ穴２１ａから取り外す。このとき、ネジ２１は、材料収納部１ｂの側面に形成された凹部１ｆ内に位置しているので、Ｌ字形の六角レンチ等の工具を用いてネジ２１を回す。その後、材料収納部１ｂの貫通口３ａからガス導入器本体１ａのガス導入管部１ｄが外れるように、材料収納部１ｂをガス導入器本体の先端部１ｅの位置する方向（図２での右方向）に移動させることにより、材料収納部１ｂをガス導入器本体１ａから分離する。このとき、ガス導入器本体１ａは、ターゲットチャンバー２０２内において支持部２０６によって支持された状態のままである。なお、材料収納部１ｂがガス導入器本体１ａから分離されると、材料収納部１ｂに形成されている連通路３ｂは露出されることとなる。
【００４５】
ガス導入器本体１ａから分離された材料収納部１ｂは、ターゲットチャンバー２０２から取り出されてターゲットチャンバー２０２の外に置かれる。そして、材料収納部３ｂの連通路３ｄを介して材料収納室３内に材料２が補充される。
その後、材料２が補充された材料収納部１ｂをガス導入部本体１ａに取付ける際には、まずその材料収納部１ｂをターゲットチャンバー内２０２内に入れる。そして、図２に示すように、材料収納部１ｂの貫通口３ａにガス導入器本体１ａのガス導入管部１ｄを貫通させて、材料収納部１ｂをガス導入器本体１ａに結合させ、ネジ２１をネジ穴２１ａに係合して固定する。そして、ヒータケース１１を所定に位置に取付ける。
このような、取付け及び取り外しが行われるように、本発明の実施の形態では、ガス導入器本体１ａと材料収納部１ｂは、図２に示すガス連通路３ｃを横断する面Ｆ（２点鎖線で図示）を介して着脱自在に接続されることとなる。なお、参考として、図２の当該横断面ＦによるＡ−Ａ断面図を図３に示す。同図に示すように、この実施の形態においては、連通路３ｂは３個形成されており、またネジ２１が係合されるネジ穴２１ａも３個形成されている。そして、ヒータ部９ａとヒータ部９ｂは、同一のヒータ線からなる接続部９ｃを介して接続されている。
【００４６】
このように、本発明の実施の形態においては、材料２の補充の際に、ガス導入器１を構成するガス導入器本体１ａがターゲットチャンバー２０２内で支持部２０６に支持された状態で、材料収納部１ｂのみをターゲットチャンバー２０２内から取り出せばよい。従って、ガス導入器１全体をターゲットチャンバー２０２から取り外す必要がなく、作業性が非常に良い。また、材料補充後に、ターゲットチャンバー２０２内でのガス導入器１の位置調整を改めて行う必要がなく、作業に手間がかからない。そして、熱電対１７，１８に一切触れることなく材料の補充ができるので、作業中に熱電対１７，１８の断線を引き起こすことはない。
【００４７】
また、上述の構成では、材料収納部１ｂは、ヒータ部９ｂのうちのヒータケース１１によって覆われていない部分（以下、一部という）９ｅを介してガス導入管部１ｄ（ガス導入路６）の周囲に配置されており、この結果、ヒータ部９ｂの当該一部９ｅが、ガス導入器本体１ａのガス導入路６と材料収納部１ｂの材料収納室３との間に介在している。
【００４８】
そして、このような構成からなるガス導入器１を用いてガスをターゲットチャンバー２０２内に導入する際には、ヒータ部９ｂ（上記の当該一部９ｅを含む）によって材料収納室３とガス導入路６とを直接加熱して、材料収納部３内の材料２をガス化するとともに、ガス化された材料ガスがガス導入路６の内部において固化することを確実に防ぎながらガス導入口５より材料ガスが噴出される。また、このときに、ヒータ部９ａによってガス導入器本体１ａの基端部１ｃが加熱されるとともに、ヒータ１６によってバルブ８が加熱される。よって、材料収納室３内でガス化された材料ガスが、ガス導入路６に到達する際に、その間にある連通路３ｂ及び開閉室７内にて固化することを確実に防ぐことができる。
【００４９】
上述のごとく、このような構成及びガス導入方法においては、ヒータ部９ｂの当該一部９ｅがガス導入路６と材料収納室３の双方を直接加熱することとなる。よって、図４に示した従来例（従来技術の例）と対比すると、この従来例における導入路１０６の内側導入路１０６ａの部分は材料収納室１０３を介してヒータ１０９ａによって加熱されていたのに対し、本発明の実施の形態においては、従来例での内側導入路に対応する部分も含むガス導入路６全体がヒータ部９ｂ（上記の当該一部９ｅを含む）によって直接加熱されるので、ガス導入路６全体が効率良く十分に加熱することができ、ガス導入路６内での材料ガスの固化を確実に防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における処理装置の概要を示す概要図である。
【図２】本発明におけるガス導入器を示す断面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図４】従来技術におけるガス導入器を示す断面図である。
【図５】従来技術におけるガス導入器の他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
１…ガス導入器、  １ａ…ガス導入器本体、  １ｂ…材料収納部、  １ｃ…基端部、
１ｄ…ガス導入管部、  １ｅ…先端部、  ２…材料、  ３…材料収納室、
３ｂ…ガス連通路、  ５…ガス導入口、  ６…ガス導入路、  ７…開閉室、
８…バルブ、  ９…ヒータ（第１の加熱手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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