(57)【要約】【課題】研削されることによって薄くなった基板を収納するための基板収納装置において、ウェハ自重による反りと、ウェハに形成される膜応力による反りの両方を防止し、ウェハの安定した収納・搬送が可能となることを課題とする。【解決手段】装置本体１０ａに設けられ基板が収納されるウェハ収納部１０ｃと、ウェハを載置するウェハ載置面１１と、ウェハの吸着部１２および１３を設けたウェハ収納カセットによって、薄くなったウェハを反りや割れが生じることなく安定に収納する。【選択図】　　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体に設けられ基板が収納される基板収納部と、
前記基板を載置する基板載置面と、
前記基板を前記基板載置面に略全面吸着する吸着機構とを設けたことを特徴とする基板収納装置。
【請求項２】
前記吸着機構は真空吸着機構であることを特徴とする請求項１記載の基板収納装置。
【請求項３】
前記吸着機構は静電吸着機構であることを特徴とする請求項１記載の基板収納装置。
【請求項４】
前記吸着機構を駆動するための電力供給源を前記装置本体に装脱着可能な構成としたことを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項５】
前記基板載置面に互いに独立した複数の基板吸着部を設け、前記各基板吸着部の吸着力を個別に調整する吸着力調整機構を設けたことを特徴とする請求項１または２まはた４のいずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項６】
前記基板載置面に接続されたガス導入配管と、
前記ガス導入配管に接続されると共に前記ガス導入配管を導入ガスで加圧することで前記基板載置面に吸着された前記基板に前記基板載置面より離れる方向の力を加える加圧ポンプとを設けたことを特徴とする請求項１乃至５いずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項７】
前記真空吸着機構による減圧発生部に大気を導入する大気導入ラインを設けたことを特徴とする請求項２または４乃至６のいずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項８】
導入される大気を濾過するフィルタを前記大気導入ラインに設けたことを特徴とする請求項７記載の基板収納装置。
【請求項９】
前記基板載置面に接続されたガス導入配管と、
前記ガス導入配管に接続されると共に前記装置本体の外部に配設されたガス供給設備と接続されるガス導入口とを設けたことを特徴とする請求項１乃至８いずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項１０】
入力される制御情報に基づき前記吸着力調整機構を制御する制御装置を設けたことを特徴とする請求項２または４乃至９いずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項１１】
前記制御情報は、前記真空吸着機構の前記減圧発生部に設けた圧力計によって計測される圧力に基づき生成されていることを特徴とする請求項１０記載の基板収納装置。
【請求項１２】
前記制御情報を記録した記録媒体を前記装置本体に対し装脱着可能な構成としたことを特徴とする請求項１０または１１記載の基板収納装置。
【請求項１３】
前記装置本体に外部接続端子を設け、前記装置本体の外部装置から該外部接続端子を介して前記制御情報が前記制御装置に入力される構成としたことを特徴とする請求項１０乃至１２いずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項１４】
前記基板載置面に載置された前記基板の略全面に当接する基板蓋と、
前記基板蓋を上下に駆動させる駆動機構とを設けたことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項記載の基板収納装置。
【請求項１５】
前記基板載置面を含み、装置本体から着脱可能な構成とされた基板載置部と、
前記基板載置部の着脱動作をガイドする基板載置部支持部とを設けたことを特徴とする請求項１乃至１４記載の基板収納装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板収納装置に係り、特に研削されることによって薄くなった基板を収納するための基板収納装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体ウェハは大口径化、薄膜化が急速に進んできている。半導体生産ラインでは、主流は既に２００ｍｍウェハから３００ｍｍウェハにシフトしている。また、各種携帯用機器などの市場の拡大や積層型半導体の開発の要求から半導体素子の薄膜化が急務であり、従来は２００〜３００μｍ程度であったものが最近では５０μｍ程度の素子が登場してきており、さらに薄膜化が検討されている。
【０００３】
このような半導体素子の製造工程で、特に３００ｍｍウェハのように口径の大きいウェハで背面研削の後のウェハが薄くなった工程においては以下の問題があった。従来用いられている、ウェハを収納および搬送するウェハカセットではウェハエッジでのみウェハを保持する方法が一般的であったため、ウェハ自重で生じる反りによってウェハが破損してしまう、またはクラックがはいることがあった。この対策としてウェハエッジに加えてウェハ中心部を支持するウェハ支持部を設けてウェハを保持するウェハ収納キャリアが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし近年の、より大口径・薄膜化したウェハにおいては、ウェハ自重によっていわゆる下に凸に反りが生じる場合に加えて、ウェハおよびウェハに形成された薄膜の応力によって自重で反る場合と反対の向き、いわゆる上に凸に反る場合が生じている。このように上に凸に反ったウェハに関しては、前記ウェハ支持部で反りを強制するのは不可能であり、ウェハを収納・移動する際にウェハ破損の原因になってしまう。
【０００５】
本発明は上記の点に鑑みなされたものであり、ウェハ自重による反りと、ウェハに形成される膜応力による反りの両方を防止し、ウェハの安定した収納・搬送が可能となることを統括的目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するために本発明では、次に述べる手段を講じたことを特徴とするものである。
【０００７】
請求項１の発明は、
装置本体に設けられ基板が収納される基板収納部と、
前記基板を載置する基板載置面と、
前記基板を前記基板載置面に略全面吸着する吸着機構とを設けたことを特徴とする基板収納装置である。
【０００８】
請求項２の発明は、
前記吸着機構は真空吸着機構であることを特徴とする請求項１記載の基板収納装置である。
【０００９】
請求項３の発明は、
前記吸着機構は静電吸着機構であることを特徴とする請求項１記載の基板収納装置である。
【００１０】
請求項４の発明は、
前記吸着機構を駆動するための電力供給源を前記装置本体に装脱着可能な構成としたことを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項記載の基板収納装置である。
【００１１】
請求項５の発明は、
前記基板載置面に互いに独立した複数の基板吸着部を設け、前記各基板吸着部の吸着力を個別に調整する吸着力調整機構を設けたことを特徴とする請求項１または２まはた４のいずれか一項記載の基板収納装置である。
【００１２】
請求項６の発明は、
前記基板載置面に接続されたガス導入配管と、
前記ガス導入配管に接続されると共に前記ガス導入配管を導入ガスで加圧することで前記基板載置面に吸着された前記基板に前記基板載置面より離れる方向の力を加える加圧ポンプとを設けたことを特徴とする請求項１乃至５いずれか一項記載の基板収納装置である。
【００１３】
請求項７の発明は、
前記真空吸着機構による減圧発生部に大気を導入する大気導入ラインを設けたことを特徴とする請求項２または４乃至６のいずれか一項記載の基板収納装置。
【００１４】
請求項８の発明は、
導入される大気を濾過するフィルタを前記大気導入ラインに設けたことを特徴とする請求項７記載の基板収納装置である。
請求項９の発明は、
前記基板載置面に接続されたガス導入配管と、
前記ガス導入配管に接続されると共に前記装置本体の外部に配設されたガス供給設備と接続されるガス導入口とを設けたことを特徴とする請求項１乃至８いずれか一項記載の基板収納装置である。
【００１５】
請求項１０の発明は、
入力される制御情報に基づき前記吸着力調整機構を制御する制御装置を設けたことを特徴とする請求項２または４乃至９いずれか一項記載の基板収納装置である。
【００１６】
請求項１１の発明は、
前記制御情報は、前記真空吸着機構の前記減圧発生部に設けた圧力計によって計測される圧力に基づき生成されていることを特徴とする請求項１０記載の基板収納装置である。
【００１７】
請求項１２の発明は、
前記制御情報を記録した記録媒体を前記装置本体に対し装脱着可能な構成としたことを特徴とする請求項１０または１１記載の基板収納装置である。
【００１８】
請求項１３の発明は、
前記装置本体に外部接続端子を設け、前記装置本体の外部装置から該外部接続端子を介して前記制御情報が前記制御装置に入力される構成としたことを特徴とする請求項１０乃至１２いずれか一項記載の基板収納装置である。
【００１９】
請求項１４の発明は、
前記基板載置面に載置された前記基板の略全面に当接する基板蓋と、
前記基板蓋を上下に駆動させる駆動機構とを設けたことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項記載の基板収納装置である。
【００２０】
請求項１５の発明は、
前記基板載置面を含み、装置本体から着脱可能な構成とされた基板載置部と、前記基板載置部の着脱動作をガイドする基板載置部支持部とを設けたことを特徴とする請求項１乃至１４記載の基板収納装置である。
【００２１】
【発明の実施の形態】
次に、発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。本実施例では、背面研削されることによってウェハ厚が薄くなったウェハを収納する装置であるウェハ収納カセットについて説明する。
［第１実施例］
図１に、本発明のウェハ収納カセット１０の外観図を示す。前記ウェハ収納カセット１０は、大略するとカセット本体１０ａと、ウェハ載置部１０ｂにより構成されている。前記ウェハ載置部１０ｂは、ウェハ収納部１０ｃ、ウェハ載置面１１、周辺吸着部１２、中心吸着部１３を有する。本実施例では、前記ウェハ収納カセット１０に前記ウェハ収納部は３つ形成されている。すなわち、本実施例に係るウェハ収納カセットは１０は、その内部に３枚のウェハを収納することが可能である。しかるに、ウェハ収納部の個数およびウェハの収納枚数はこれに限定されるものではない。
【００２２】
ウェハを前記ウェハ収納カセットに収納する際は、前記ウェハ収納部１０ｃのウェハ載置部１１に被処理基板であるウェハが載置される。また周辺吸着部１２と中心吸着部１３は前記ウェハ載置面より低くなっており、それぞれ真空吸着が可能なようにポンプ（後述）に接続されており、ウェハが載置されると真空排気され、ウェハを真空吸着する。
【００２３】
次に前記ウェハ収納カセット１０をＡ−Ａ断面で切断した断面図を図２に示す。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。本図ではウェハＷを収納した例を示す。前記ウェハ載置面１１に載置されたウェハＷは以下の方法で吸着される。周辺吸着部１２が、周辺部排気ライン１４から集合排気ライン１６を介してポンプ２３にて排気され、前記ウェハＷの周辺部を吸着する。また、同様に中心吸着部１３が、中心部排気ライン１５から集合排気ライン１６を介してポンプ２３にて排気され、前記ウェハＷの中心部を吸着する。また、周辺部排気ライン１４には開度を調整することでコンダクタンスを調整することが可能なコンダクタンスバルブ１７が設置されている。これは前記コンダクタンスバルブ１７の開度を調整することで前記周辺吸着部１２の圧力を調整し、周辺吸着部の吸着力を調整するためである。同様に、中心部排気ライン１５には開度を調整することでコンダクタンスを調整することが可能なコンダクタンスバルブ１８が設置されている。これは前記コンダクタンスバルブ１８の開度を調整することで前記中心吸着部１２の圧力を調整し、中心吸着部の吸着力を調整するためである。このように、前記ウェハに対して中心部と周辺部の吸着力をそれぞれ調整することが可能であるために、以下の種類の異なるウェハに対して吸着の信頼性を向上させることができる。例えば、ウェハに形成された膜の応力のためにウェハがいわゆる下に凸形状に反ろうとする力、すなわち前記ウェハ周辺部が前記ウェハ載置面から離れようとする力を持つ場合がある。この場合は前記コンダクタンスバルブ１７の開度を大きくして前記周辺吸着部の吸着力をあげて、前記ウェハ周辺部を確実に周辺吸着部に吸着することができる。
【００２４】
同様にウェハに形成された膜の応力のためにウェハがいわゆる上に凸形状に反ろうとする力、すなわち前記ウェハ中心部が前記ウェハ載置面から離れようとする力を持つ場合がある。この場合は前記コンダクタンスバルブ１８の開度を大きくして前記中心吸着部の吸着力をあげて、前記ウェハ中心部を確実に中心吸着部に吸着することができる。このように本発明によるウェハ収納カセット１０は、ウェハの応力の特性が変化した場合でも確実にウェハ載置面に吸着することができる。
【００２５】
また、ポンプ２３の駆動のための電源であるバッテリ２４は、前記ウェハ収納カセット本体１０ａより取り外して外部で充電または交換することが可能な形態としている。また、前記バッテリ２４には下部に端子３０が設けてある。このため前記端子３０に接続が可能なよう制作された端子をもつ例えば本発明の前記ウェハ収納カセット１０を運搬するキャリアや前記ウェハ収納カセット載置場などで、前記バッテリ２４を充電、または前記ポンプ２３に給電することが可能である。
【００２６】
また、本実施例においては、前記ウェハ載置面に吸着された前記ウェハを脱着する際に、脱着を容易にするために以下の方法をとることができる。
【００２７】
まず、本図中に示したパージバルブ１９を開放することにより、パージライン２０を介して前記カセット本体１０ａ底部に設置したガス導入口２２より大気を導入する。導入された大気は、前記周辺部排気ライン１４および前記中心部排気ライン１５を介して前記ウェハ吸着の際に真空排気されている前記周辺吸着部１２および前記中心吸着部１３を大気圧状態にする。そのため、前記ウェハを前記ウェハ載置面より脱着することが容易になる。大気を導入する際は前記パージライン２０に設置されたフィルタ２１が、パーティクルや汚染物質などが導入されることを防止する。さらに、前記パージガス導入口２２から例えば圧縮された空気を導入することで前記吸着部を大気に戻す作業を速やかに行うことができる。この場合パージガスは空気以外に窒素、アルゴン、ヘリウムなども使用することができる。前記ガス導入口２２に接続が可能なガス供給口を有し、パージガスとして圧縮した空気を供給する設備を有する、例えば本発明の前記ウェハ収納カセットを運搬するキャリアや前記ウェハ収納カセット載置場に、前記ウェハ収納カセット１０を載置した場合は、前記ガス導入口２２から圧縮された空気を導入することができる。この場合、前記ガス導入口２２から大気を導入する場合に比較して速やかに前記周辺吸着部１２および前記中心吸着部１３を大気圧に戻すことが可能である。更に前記周辺吸着部１２および前記中心吸着部１３を加圧状態にして前記ウェハＷに前記ウェハ載置面１１から離脱する向きの力を加えることができるので、前記ウェハＷを脱着するのが容易になる。なお、導入されるパージガスが清浄でパーティクルや汚染物質が問題にならない場合は前記フィルタ２１は除去してもかまわない。
【００２８】
また、次の方法によっても前記ウェハの脱着を容易にすることができる。前記ポンプを前記ポンプ内臓のインバータ（図示せず）を用いることによって逆回転させることが可能である。その結果、前記ポンプに接続された集合配管１６を介して前記周辺部排気ライン１４および前記中心部排気ライン１５に空気を送り込み、前記周辺吸着部１２および前記中心吸着部１３を加圧状態にすることになる。そのため、前記ウェハを前記ウェハ載置面より脱着する方向の力を加えることができる。
【００２９】
さらに、本発明のウェハ収納カセット１０においては、前記ウェハの吸着を安定させるため、下記の機構を設けている。
【００３０】
前記周辺吸着部１２には圧力計２８が設けられている。これは、ウェハを吸着した際に前記圧力計２８によって前記周辺吸着部の圧力をモニタするためである。例えば、前記ウェハ吸着中に該圧力が上昇した場合、前記ウェハと前記ウェハ載置面の間の隙間が大きくなって周囲の大気がはいっていることを示しており、前記ウェハの前記周辺吸着部からの剥離が始まっていることを検知している。その場合は吸着力を増加させる必要があるため、前記コンダクタンスバルブ１７の開度を大きくして前記周辺部排気ライン１４からの排気速度を上昇させて前記周辺吸着部の圧力を下げることで前記周辺吸着部の吸着力を増加させて前記ウェハを吸着する。
【００３１】
また、同様に前記中心吸着部１３には圧力計２９が設けられている。前記圧力計２９の示す圧力が上昇した場合は同様に前記ウェハの前記中心吸着部からの剥離が始まっていることを検知している。その場合は吸着力を増加させる必要があるため、前記コンダクタンスバルブ１８の開度を大きくして前記中心部排気ライン１５からの排気速度を上昇させて前記中心吸着部の圧力を下げることで前記中心吸着部の吸着力を増加させて前記ウェハを吸着する。
【００３２】
これら前記圧力計２８、２９の圧力検知と、前記コンダクタンスバルブ１７および１８への開度調整へのフィードバックは、図中２５で示した制御装置２５によって行われる。また前記制御装置は前記したようなパージガスバルブ１９、ポンプ２３の動作の制御を行う。前記制御装置２５の電気配線は省略してある。
【００３３】
また、前記制御装置２５を介して、前記ウェハ収納カセット１０は以下の使い方をすることができる。
【００３４】
所定の応力を有する前記ウェハに対する最適な前記周辺吸着部１２と前記中心吸着部１３の吸着力、すなわち前記コンダクタンスバルブ１７および１８の開度のデータを制御端子部２６を介して外部より前記制御装置２５が受け取ることができる。例えば制御端子部２６に接続可能な情報出力端子を有し、前記データを出力する設備を有する例えば本発明の前記ウェハ収納カセットを運搬するキャリアや前記ウェハ収納カセット載置場に前記ウェハ収納カセット１０を設置したとする。その場合、前記キャリアや前記載置場の前記情報出力端子が、前記制御端子部２６に接続される。そこから前記したような前記コンダクタンスバルブ１７および前記コンダクタンスバルブ１８の開度のデータを受け取ることが可能である。すなわち外部から前記データを受け取ることにより、所定の応力を持った前記ウェハに対する最適な前記周辺吸着部の吸着力と、前記中心吸着部の吸着力に調整することが可能な構成となっている。
【００３５】
また前記データは、本図中２７で示した前記ウェハ収納カセット本体１０ａから装脱着が可能な記録媒体２７、たとえばフラッシュメモリなどに記憶させることが可能である。そのため、前記データを前記記録媒体２７を介して前記制御装置２５に供給することが可能であり、前記記録媒体２７を外部に持ち出して所望のデータを書き込む、もしくは既にデータが入力済みの記録媒体に交換するという使い方が可能である。
［第２実施例］
次に、第２実施例であるウェハ収納カセット５０を図３に示す。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００３６】
図３を参照するに、前記ウェハを静電吸着するための高電圧印加電極５１および５２が設けられている。この前記高電圧印加電極５１および５２に、前記バッテリ２４によって高電圧が印加されることにより、前記ウェハを前記ウェハ載置面１１に吸着する機構となっている。
【００３７】
また、本実施例２においても、前記実施例１の場合と同様に前記ウェハ載置面に吸着された前記ウェハを脱着する際に、脱着を容易にするために以下の方法をとることができる。
【００３８】
前記パージガス導入口２２から例えば圧縮された空気を導入することで、前記ウェハ載置面に静電吸着された前記ウェハを容易に前記ウェハ載置面より脱着できる。この場合パージガスは空気以外に窒素、アルゴン、ヘリウムなども使用することができる。前記ガス導入口２２に接続が可能なガス供給口を有し、パージガスとして圧縮した空気を供給する設備を有する、例えば本発明の前記ウェハ収納カセットを運搬するキャリアや前記ウェハ収納カセット載置場に、前記ウェハ収納カセット１０を載置した場合は、前記ガス導入口２２から圧縮された空気を導入することができる。ここで前記パージバルブ１９を開放することでパージライン５３に圧縮された空気を導入する。圧縮された空気は前記ウェハＷに前記ウェハ載置面１１から離脱する向きの力を加えることができるので、前記ウェハＷを脱着するのが容易になる。パージガスを導入する際は、前記パージライン２０に設置されたフィルタ２１が、パーティクルや汚染物質などが導入されることを防止する。導入されるパージガスが清浄でパーティクルや汚染物質が問題にならない場合は前記フィルタ２１は除去してもかまわない。
【００３９】
また、次の方法によっても前記ウェハの脱着を容易にすることができる。前記ポンプ２３に接続された集合ライン１６を介して前記パージライン５３に空気を送り込み、加圧状態にする。そのため、前記ウェハを前記ウェハ載置面より脱着する方向の力を加えることができ、前記ウェハの脱着が容易になる。なお、この場合前記ガス導入口２２は塞いでおく。
［第３実施例］
図４に第３実施例として、図２の第１実施例の変更例であるウェハ収納カセット６０の例を示す。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００４０】
図４を参照するに前記ウェハ載置面１１に載置された前記ウェハの略全面に係合させる基板蓋６１と、前記基板蓋６１を上下に駆動させる上下機構６２が設けられている。前記ウェハが前記載置面１１に載置されて前記周辺吸着部１２および中心吸着部１３によって吸着された後、前記上下機構６２によって前記基板蓋６１が下に駆動されて前記ウェハに係合し、前記ウェハを保持する。この基板蓋によってウェハが押さえつけられているため、前記ウェハの前記ウェハ載置面１１への吸着がさらに安定する。そのため、前記ウェハ収納カセット６０に前記ウェハを収納して移動する際に前記ウェハが前記載置面から剥離して破損することがなくなり、ウェハ保持の信頼性が向上する。
［第４実施例］
図５に第４実施例として、図３の第２実施例の変更例であるウェハ収納カセット７０の例を示す。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００４１】
図５を参照するに、図４に示した前記ウェハ収納カセット６０の場合と同様に前記ウェハ載置面１１に載置された前記ウェハの略全面に係合させる基板蓋６１と、前記基板蓋６１を上下に駆動させる上下機構６２が設けられている。前記ウェハが前記載置面１１に載置されて前記静電吸着機構で吸着された後、前記上下機構６２によって前記基板蓋６１が下に駆動されて前記ウェハに係合し、前記ウェハを保持する。この基板蓋によってウェハが押さえつけられているため、前記ウェハの前記ウェハ載置面１１への吸着がさらに安定する。そのため、前記ウェハ収納カセット６０に前記ウェハを収納して移動する際に前記ウェハが前記載置面から剥離して破損することがなくなり、ウェハ保持の信頼性が向上する。
［第５実施例］
次に図６に、図２に示した実施例１の変更例である実施例５のウェハ収納カセット８０の例を示す。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００４２】
図６を参照するに、ウェハ載置部８２を支持する支持８１が設置されている。また、ウェハ載置面１１を含むウェハ載置部８２が前記ウェハ収納カセット本体１０ａより切り離しが可能となり、前記ウェハ載置部８２底面に設置されたスライド機構（図示せず）によって平行移動させることが可能な機構としている。その結果前記ウェハを前記載置面１１に載置する際および取り上げる際に、前記ウェハへのアクセスが容易になっている。
［第６実施例］
次に図７に、図３に示した実施例２の変更例である実施例６のウェハ収納カセット９０の例を示す。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００４３】
図７を参照するに、ウェハ載置部９２を支持する支持９１が設置されている。また、ウェハ載置面１１を含むウェハ載置部９２が前記ウェハ収納カセット本体１０ａより切り離しが可能となり、前記ウェハ載置部９２底面に設置されたスライド機構（図示せず）によって平行移動させることが可能な機構としている。その結果前記ウェハを前記載置面１１に載置する際および取り上げる際に、前記ウェハへのアクセスが容易になっている。
【００４４】
【発明の効果】
本発明では、薄いウェハを収納するウェハ収納カセットにウェハ吸着機構を有するウェハ載置面を設けた。その結果、薄いウェハが自重により反りが生じることなく、更にウェハに形成された膜の応力によりウェハに反りが生じることなくウェハ収納カセットに収納することが可能となった。その結果ウェハの破損、クラックなどが生じることなく安定に薄いウェハの収納・搬送が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるウェハ収納カセットの外観図である。
【図２】本発明による実施例１であるウェハ収納カセットの断面図である。
【図３】本発明による実施例２であるウェハ収納カセットの断面図である。
【図４】本発明による実施例３であるウェハ収納カセットの断面図である。
【図５】本発明による実施例４であるウェハ収納カセットの断面図である。
【図６】本発明による実施例５であるウェハ収納カセットの断面図である。
【図７】本発明による実施例６であるウェハ収納カセットの断面図である。
【符号の説明】
１０，５０，６０，７０，８０，９０　ウェハ収納カセット
１０ａ　ウェハ収納カセット本体
１０ｂ　ウェハ載置部
１０ｃ　ウェハ収納部
１１　ウェハ載置面
１２　周辺吸着部
１３　中心吸着部
１４　中心部排気ライン
１５　周辺部排気ライン
１６　集合排気ライン
１７，１８　コンダクタンスバルブ
１９　パージバルブ
２０　パージライン
２１　フィルタ
２２　ガス導入口
２３　ポンプ
２４　バッテリ
２５　制御装置
２６　制御端子
２７　記録媒体
２８，２９　圧力計
３０　端子
５１，５２　高電圧印加電極
５３　パージライン
６１　基板蓋
６２　上下機構
８１，９１　ウェハ載置部支持部
８２，９２　ウェハ載置部
【図１】
2004022816.tif 000003
【図２】
2004022816.tif 000004
【図３】
2004022816.tif 000005
【図４】
2004022816.tif 000006
【図５】
2004022816.tif 000007
【図６】
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【図７】
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