(57)【要約】【課題】全長が短く、基板の熱処理の精度が高く、生産性が高く、また基板の汚染の恐れの少ない基板熱処理装置を提供しようとする。【解決手段】従来の基板を熱処理する基板熱処理装置にかわって、基板を縦置きに支持可能な基板搬送架台と、複数の前記基板搬送架台を長手方向に並べて収納可能な収納空間を持った熱処理室と前記熱処理室内に前記長手方向に交差する方向に配置された複数の加熱源とを有する熱処理炉と、基板の表面を前記長手方向に平行にして前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送り可能な基板搬送架台送り機構と、を備え、前記基板搬送架台送り機構が前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送る際に、前記基板搬送架台が支持する基板が前記複数の加熱源の互いの隙間を通過する、ものとした。【選択図】    図１
2004333074.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を熱処理する基板熱処理装置であって、
基板を縦置きに支持可能な基板搬送架台と、
複数の前記基板搬送架台を長手方向に並べて収納可能な収納空間を持った熱処理室と前記熱処理室内に前記長手方向に交差する方向に配置された複数の加熱源とを有する熱処理炉と、
基板の表面を前記長手方向に平行にして前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送り可能な基板搬送架台送り機構と、
を備え、
前記基板搬送架台送り機構が前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送る際に、前記基板搬送架台が支持する基板が前記複数の加熱源の互いの隙間を通過する、
ことを特徴とする基板熱処理装置。
【請求項２】
前記熱処理炉が前記収納空間を長手方向に複数の区画に間仕切る様に閉止し開放することの可能な間仕切り壁を有し、
前記基板搬送架台が前記区画に収納可能になっている、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板熱処理装置。
【請求項３】
前記複数の加熱源が前記区画毎に制御可能になっている、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板熱処理装置。
【請求項４】
基板搬送架台送り機構が基板搬送架台を長手方向に並んだ前記区画に順次移動させ、前記複数の加熱源が前記区画毎に個別の温度制御をされ、基板搬送架台に支持された基板が所望の温度履歴を与えられる、
ことを特徴とする請求項２又は請求項３のうちのひとつに記載の基板熱処理装置。
【請求項５】
前記加熱源が前記熱処理室の上方からつり下げられている、
ことを特徴とする請求項１乃至請求項４に記載の基板熱処理装置。
【請求項６】
前記基板搬送架台が表面を平行に揃えて並んだ複数の基板を縦置きに支持可能である、
ことを特徴とする請求項１乃至請求項５に記載の基板熱処理装置。
【請求項７】
前記基板搬送架台が、基板の縁を支持する支持部材と基板の前記表面に側面を向き合わせて前記複数の基板の群を挟む一対の壁構造とを有する、
ことを特徴とする請求項６に記載の基板熱処理装置。
【請求項８】
前記壁構造が断熱材製の断熱部材と該断熱部材を隙間なく覆う金属板でできた被覆部材とを持つ、
ことを特徴とする請求項７に記載の基板熱処理装置。
【請求項９】
前記支持部材が基板の上の辺に係合する上桟と基板の下の辺に係合する下桟とを持つ、
ことを特徴とする請求項７に記載の基板熱処理装置。
【請求項１０】
前記収納空間の上下方向に気体を通気可能な気体配管系を、
備えることを特徴とする請求項１乃至請求項９に記載の基板熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板等の基板を熱処理する基板熱処理装置に係る。特に、基板の支持構造と基板を加熱するための構造に特徴のある基板熱処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス基板等の基板を熱処理する従来の基板熱処理装置は、炉と搬送装置とで構成される。
搬送装置は、ローラーにガラス基板を水平に乗せ、ローラーを回転して１枚づつガラス基板を炉内で搬送する。
炉は、ガラス基板の送り方向に長い空間をもっており、炉内温度が長手方向に所定の分布をもっている。ガラス基板が、炉内を搬送されると、所望の温度履歴を受ける。ガラス基板は、炉内を搬送される際に、加熱され、所定時間だけ所定温度に維持され、冷却されて、炉から取りだされる。一般に、炉長の中央部の温度が最高になる。
【０００３】
一般に、搬送装置のガラス基板を送るための送り速度は、炉の長手方向について、一定である。従って、高温の熱処理をするには炉の長さを長くする必要が生じる。
また、炉内には長手方向に温度勾配が生ずるので、炉内を搬送されるガラス基板の先端部と後端部とでは常に温度が異なっている。この温度差を小さくするには、炉の単位長さ当たりの温度勾配を小さく必要が有るので、炉の長さを長くする必要が生ずる。
また、ガラス基板を搬送用ローラーに平置して搬送するので、ガラス基板の表面に不純物が付着するおそれがあった。
また、ローラーハウスからは粉塵が発生するので、その粉塵が不純物となってガラス基板に付着しない様に注意が必要であった。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１１−３７６６０号公報
【特許文献２】
特開平１１−２５８５４号広報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、全長が短く、基板の熱処理の精度が高く、生産性が高く、また基板の汚染の恐れの少ない基板熱処理装置を提供しようとする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る基板を熱処理する基板熱処理装置を、基板を縦置きに支持可能な基板搬送架台と、複数の前記基板搬送架台を長手方向に並べて収納可能な収納空間を持った熱処理室と前記熱処理室内に前記長手方向に交差する方向に配置された複数の加熱源とを有する熱処理炉と、基板の表面を前記長手方向に平行にして前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送り可能な基板搬送架台送り機構と、を備え、前記基板搬送架台送り機構が前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送る際に、前記基板搬送架台が支持する基板が前記複数の加熱源の互いの隙間を通過する、ものとした。
【０００７】
上記本発明の構成により、基板搬送架台が基板を縦置きに支持可能であり、熱処理炉の熱処理室が複数の前記基板搬送架台を長手方向に並べて収納可能な収納空間を持ち、熱処理炉の複数の加熱源が前記熱処理室内に前記長手方向に交差する方向に配置され、基板搬送架台送り機構が基板の表面を前記長手方向に平行にして前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送り可能であり、前記基板搬送架台送り機構が前記基板搬送架台を前記収納空間の前記長手方向に送る際に、前記基板搬送架台が支持する基板が前記複数の加熱源の互いの隙間を通過するので、基板搬送架台送り機構が収納空間に収納された基板搬送架台を前記熱処理炉の長手方向へ送ると、複数の加熱源が互いの隙間を通過する基板を加熱し、基板が熱処理される。
【０００８】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記熱処理炉が前記収納空間を長手方向に複数の区画に間仕切る様に閉止し開放することの可能な間仕切り壁を有し、前記基板搬送架台が前記区画に収納可能になっているのが好ましい。
上記本発明の構成により、前記熱処理炉の間仕切り壁が前記熱処理室の前記収納空間を長手方向に複数の区画に間仕切る様に閉止し開放することができ、前記基板搬送架台が前記区画に収納可能であるので、前記収納空間を間仕切られてできた複数の区画で、互いに異なる熱処理の条件を設定することが容易になる。
【０００９】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記複数の加熱源が前記区画毎に制御可能になっている、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記複数の加熱源が前記区画毎に制御可能になっているので、基板搬送架台に支持された基板を、区画ごとに互いに異なる条件で熱処理することが容易になる。
【００１０】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、基板搬送架台送り機構が基板搬送架台を長手方向に並んだ前記区画に順次移動させ、前記複数の加熱源が前記区画毎に個別の温度制御をされ、基板搬送架台に支持された基板が所望の温度履歴を与えられる、のが好ましい。
上記本発明の構成により、基板搬送架台が長手方向に並んだ区画に順次移動し、基板搬送架台に支持された基板が区画毎に個別の温度制御で加熱され、所望の温度履歴をうけるので、間仕切り壁がない場合に比べ収納空間の長さを短くすることができる。
【００１１】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記加熱源が前記熱処理室の上方からつり下げられている、が好ましい、
上記本発明の構成により、前記加熱源が前記熱処理室の上方からつり下げられているので、前記基板搬送架台が基板を下方から支持することで、前記加熱源と基板との機械的接触を防ぐことができる。
【００１２】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記基板搬送架台が表面を平行に揃えて並んだ複数の基板を縦置きに支持可能である、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記基板搬送架台が表面を平行に揃えて並んだ複数の基板を縦置きに支持可能であるので、基板の単位当たりの熱処理のスループットを上げることができる。
【００１３】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記基板搬送架台が、基板の縁を支持する支持部材と基板の表面に側面を向き合わせて前記複数の基板の群を挟む一対の壁構造とを有する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記基板搬送架台の支持部材が基板の縁を支持し、前記基板搬送架台の一対の壁構造が、前記複数の基板の群を挟み、前記基板の熱処理する面に側面を向き合わせるので、加熱源により基板を加熱する際に、複数の基板の群の中での基板の熱処理する面の温度のばらつきを抑制できる。
【００１４】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記壁部材が断熱材製の断熱部材と該断熱部材を隙間なく覆う金属板でできた被覆部材とを持つ、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記壁構造の断熱部材が断熱材製であり、前記壁構造の被覆部材が該断熱部材を隙間なく覆う金属板であるので、断熱部材が基板からの熱の放散を抑制し、被覆部材が断熱部材による基板の汚染を防止できる。
【００１５】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記支持部材が基板の上の辺に係合する上桟と基板の下の辺に係合する下桟とを持つ、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記支持部材の上桟と下桟とが基板の上の辺と下の辺とに係合するので、基板を水平移動して桟へ係合でき、基板の基板搬送架台への搭載が容易にできる。
【００１６】
さらに、本発明に係る基板熱処理装置は、前記収納空間の上下方向に気体を通気可能な気体配管系を、備えるのが好ましい。
上記本発明の構成により、気体配管系が前記収納空間の上下方向に気体を通気可能であるので、基板を、表面を通過する様に、収納空間に流すことができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施形態に係る基板熱処理装置を、図面を参照して説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。
【００１８】
図１は、実施形態に係る基板熱処理装置の鳥瞰図である。図２は、実施形態に係る基板熱処理装置の部分鳥瞰図である。図３は、実施形態にかかる基板熱処理装置の側面断面図である。図４は、実施形態にかかる基板熱処理装置のＡ−Ａ断面図である。
基板熱処理装置１は、基板２を熱処理する装置であって、基板搬送架台１０と熱処理炉２０とロードロック装置６０とアンロードロック装置７０と基板搬送架台送り装置８０と気体配管系（図示せず）とで構成される。
【００１９】
基板搬送架台１０は、基板を縦置きに支持可能なものであって、台車１１と複数の支持部材１２と一対の壁構造１３とで構成される。
基板搬送架台１０は、表面を平行に揃えて並んだ複数の基板を縦置きに支持可能であるのが好ましい。
台車１１は、基板搬送架台の下部構造であって、所定の厚みの四辺形の台であり、両方の側面に車輪を設けられ、下面にラックが設けられている。ここで、説明の便宜の為に、車輪の転動方向を搬送方向と呼ぶ。搬送方向が、後述する長手方向に一致する。
例えば、台車１１は、断熱材製の断熱部材と該断熱部材を隙間なく覆う金属板でできた被覆部材とで構成される。
【００２０】
支持部材１２は、基板２の縁を支持する部材である。支持部材１２は、基板の上の辺に係合する上桟と下の辺に係合する下桟とを持つのが好ましい。
例えば、基板搬送架台１０は、複数の支持部材１２を搬送方向に直交する向きに並べて設けられる。一個の支持部材は、矩形に曲ったパイプとそのパイプの上部に設けられた上桟と下部に設けられた下桟とを持ち、矩形で形作る面が搬送方向に平行になるように、台車の上面に固定される。上桟は、下向きの溝をもち、下桟は、上向きの溝をもつ。上桟は、縦になった基板２の上辺に係合する。下桟は、縦になった基板２の下辺に係合する。
【００２１】
壁構造１３は、基板２の表面に側面を向かい合わせて複数の基板２の群を挟む壁である。壁構造１３は、断熱材製の断熱部材と該断熱部材を隙間なく覆う金属板でできた被覆部材とで構成されるのが好ましい。
例えば、壁構造は、基板２の面よりも広い側面をもった６面体であり、６面を覆う薄い金属板と６面体の内部に充満したアルミナブランケットで構成される。壁構造１３は、側面を搬送方向に平行にして、複数の支持部材の群を挟んで、搬送方向に向かった台車１１の左右の上部に固定される。
【００２２】
熱処理炉２０は、基板を加熱または冷却する炉であり、熱処理室３０と加熱源４０と間仕切り壁５０とで構成される。
熱処理室３０は、複数の基板搬送架台１０を長手方向に並べて収納可能な収納空間を持った部屋である。
熱処理室３０は、収納空間を長手方向に向かって上下左右を覆う壁構造を持つ。壁構造は、左右一対の側壁と天井壁と床壁とで構成される。その壁構造は、断熱材製の断熱部材と該断熱部材を隙間なく覆う金属板でできた被覆部材とで構成されるのが好ましい。
【００２３】
加熱源４０は、熱処理室３０の収納空間に長手方向に交差して水平方向に配置されたヒーターであり、後述する基板搬送架台送り機構８０が基板搬送架台１０を収納空間の長手方向に送る際に、基板搬送架台１０が支持する基板２が複数の加熱源４０の互いの隙間を通過する様になっている。
加熱源４０が熱処理室３０の上方からつり下げられているのが好ましい。
例えば、加熱源４０は、ニクロム線等の電気を通電して発熱する電気ヒータである。
図１乃至図４は、基板搬送架台１０が搬送方向に搬送された際に、一つの支持部材が熱処理室３０の上方からつり下げられた加熱源４０の隙間に位置している、のを示している。
図４が、電気ヒーターの両端の端子が熱処理炉の天井部に固定され、電気ヒーターの本体部が熱処理炉の上部空間と下部空間とを縫うように配置される、のを示している。
【００２４】
間仕切り壁５０が熱処理室３０の収納空間を長手方向に複数の区画に間仕切る様に閉止しさらに開放することをできるのが好ましい。
基板搬送架台１０が区画に収納可能になっている。
図３は、４つの間仕切り壁５０が熱処理室３０を５つの区画に間仕切っており、それぞれの区画に基板搬送架台１０が収納されている、のを示している。熱処理室３０の夫々の区画を、第一昇温室３０ａ、第一保持室３０ｂ、第二昇温室３０ｃ、第三昇温室３０ｄ、第二保持室３０ｅと呼称する。
間仕切り壁５０は、電気駆動により、隣合った区画を閉止または開放できるゲート弁である。
【００２５】
複数の加熱源４０が区画毎に温度制御可能になっているのが好ましい。
図３は、加熱源４０が後述する間仕切り壁５０に間仕切られた区画ごとに独立している、のを示している。
図２は、区画に区切られた加熱源４０に相当する電気ヒータが、長手方向に３個、長手方向に直交する方向に７個に分割された、のを示している。従って、区画に収納された基板搬送架台に支持される複数の基板を熱処理する際に、総計２１個の電気ヒータを個別に温度制御して、基板毎の熱処理のむらと基板の表面の場所毎の熱処理のむらを抑制することが可能になる。
【００２６】
ロードロック装置６０は、熱処理炉２０の収納空間に周囲雰囲気が混入するのを防止しつつ品物を熱処理炉２０を入れる入口であり、ロードロック室６１と一対のロードロックゲート６２，６３で構成される。
ロードロック室６１は、基板搬送架台１０が収納可能な空間を持った部屋であり、前方に前部開口、後方に後部開口をもつ。ロードロックゲート６２，６３が、前部開口と後部開口に設けられる。ロードロックゲート６２、６３は、前部開口または後部開口を気密に閉止することができる。
一対のロードロックゲート６２、６３を交互に開閉して、基板搬送架台１０を熱処理炉２０の収納空間にロードできる。
【００２７】
アンロードドック装置７０は、熱処理炉２０の収納空間に周囲雰囲気が混入するのを防止しつつ品物を熱処理炉２０から出す出口であり、アンロードロック室７１と一対のアンロードロックゲート７２，７３で構成される。
アンロードロック室７１は、基板搬送架台１０が収納可能な空間を持った部屋であり、前方に前部開口、後方に後部開口をもつ。アンロードロックゲート７２，７３が、前部開口と後部開口に設けられる。アンロードロックゲート７２、７３は、前部開口または後部開口を気密に閉止することができる。
一対のアンロードロックゲート７２、７３を交互に開閉して、基板搬送架台１０を熱処理炉２０の収納空間からアンロードできる。
【００２８】
基板搬送架台送り装置８０は、基板２の表面を長手方向に平行にして基板搬送架台１０を収納空間の長手方向に送る装置であり、レール８１とラック８２とピニオン８３と駆動機構（図示せず）とで構成される。
レール８１は、基板搬送架台１０の車輪が転動するものであり、熱処理炉の下面に長手方向に伸びて設けられる。
ラック８２は、ラック歯の切られた長手部材であり、ラック歯を下に向けて基板搬送架台１０の下面に設けられる。
ピニオン８３は、ラックのラック歯に噛みあって、ラックを送る機械要素であり、回転送り方向を長手方向に一致させて、熱処理炉３０の収納空間の下部に回転軸を回転自在に固定される。
駆動機構（図示せず）は、ピニオンを回転させる機構である。
駆動機構がピニオン８３を回転させると、ラック８２を長手方向（搬送方向に一致する）に送り、基板搬送架台１０が、車輪をレール８１の上を転がせて、長手方向へ送られる。
【００２９】
気体配管系（図示せず）は、収納空間の上下方向に気体を通気可能な配管系である。例えば、気体配管系は、所定の流量の清浄空気を熱処理室３０の上部から収納空間へ入れ、熱処理室３０の下部から引く。
清浄空気が、基板搬送架台１０の支持する複数の基板の隙間を上方から下方へ流れる。
清浄空気が、基板から熱を奪っているので、加熱源が基板への入熱を減らすと、基板の温度が低下する。
【００３０】
次に、実施形態に係る基板熱処理装置１の作用を説明する。
図５は、実施形態に係る基板熱処理装置の温度履歴図の一例である。図６は、実施形態に係る基板熱処理装置のサイクルタイム図である。
【００３１】
最初に温度履歴を説明する。
第一昇温処理：基板を加熱し所定時間で室温からＴ１度までに昇温する。
第一保持処理：基板を所定時間Ｔ１度に維持する。
第二昇温処理：基板を加熱し所定時間でＴ１度からＴ２度に昇温する。
第三昇温処理：基板を加熱し所定時間でＴ２度からＴ３度に昇温する。
第二保持処理：基板を所定時間Ｔ３度に維持する。
冷却処理：基板を所定時間でＴ３度からＴ１度にする。
【００３２】
一つの基板搬送架台１０に支持された基板２に着目して、基板熱処理装置の作用を説明する。
基板搬送架台１０が、ロードロック室６１へ入る。基板の温度は、周囲環境の温度（室温）である。
基板搬送架台送り装置８０が、基板搬送架台１０を第一昇温室３０ａへ入れ、ロードロックゲート６３と間仕切り壁５０で、第一昇温室３０ａの前後の開口を閉止する。
加熱源４０が、熱処理室温度センサ４５の出力を基に温度制御をして、基板の温度を所定時間で室温からＴ１度までに昇温させる。温度制御パターンは、予めシミュレーションまたは試験により定められている。
以下、順次、基板搬送架台１０を第一昇温室３０ａ、第一保持室３０ｂ、第二昇温室３０ｃ、第三昇温室３０ｄ、第二保持室３０ｅ、アンロードロック室７１へと送り、所定の温度制御をおこなう。
アンロードロック室７１からアンロードされた基板搬送架台１０に支持された基板は所望の温度履歴をうけており、基板の熱処理が完了する。
【００３３】
上述の実施形態の基板熱処理装置１を用いれば、複数の基板２を基板搬送架台１０に縦置きに並べて、基板２の面が熱処理炉２０の長手方向に平行して、基板搬送架台１０を長手方向におくり、基板２が長手方向に直交して並んだ加熱源４０の隙間を通過する様にしたので、基板搬送架台１０が熱処理炉２０の収納空間に搬送されるにつれ、基板２は熱処理される。
また、間仕切り壁５０で収納空間を複数の区間に間仕切り、基板搬送架台１０がその区画に収納可能な様にしたので、区画毎に異なる熱処理をすることができる。
また、加熱源４０である電気ヒータを区画ごとに制御できる様にしたので、区画毎に異なる熱処理条件を設定することが容易になる。
また、基板２を乗せた基板搬送架台１０を順次区画に送るようにしたので、基板２が区画ごとに所定の熱処理をうけることができ、間仕切り壁５０がない従来熱処理炉に比べて、長手方向の熱処理炉２０の長さを短く出来る。
また、基板搬送架台１０に複数の基板２を乗せる様にしたので、複数の基板２を同時に熱処理でき、熱処理のスループットが向上する。
また、基板２を縦置きにしたので、基板２の表面の汚れをさけるのが容易になる。
また、加熱源４０を熱処理炉２０の上方から吊るしたので、加熱源４０の構造が簡単になる。
また、加熱源４０と基板搬送架台１０に積まれた複数の基板２との機械的干渉を防止するのが容易になる。
また、基板２を上下に配置した上桟と下桟に係合する様にしたので、基板の基板搬送架台への搭載が容易になり、自動化に適した構造となる。
また、気体配管系により、気体を収納空間の上下方向に通気する様にしたので、気体が並んだ複数の基板の隙間に流すのが容易であり、基板の気体を使用した処理が容易になる。
【００３４】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
図では、２台の基板搬送架台が並んで、一つの区画に入る例を示したがこれに限定されず、１台の基板搬送架台が一つの区画に入ってもよいし、３台以上の基板搬送架台が一つの区画に入ってもよい。
また、基板搬送架台が間を明けることなく順次後ろの区画に搬送される例で説明したが、これに限定されず、熱処理の要請によっては、基板搬送架台の搬送される速度が異なっていてもよい。
基板搬送架台送り装置をラック・ピニオン式で説明したがこれに限定されず、その他の搬送機構でもよい。
【００３５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の基板を熱処理する基板熱処理装置は、その構成により、以下の効果を有する。
複数の基板搬送架台を長手方向に並べて収納可能な収納空間を持った熱処理炉を用意し、基板を基板搬送架台に縦置きにし、その基板の表面を熱処理炉の長手方向に平行にして、基板搬送架台を長手方向に送り、基板を長手方向に直交して配置した加熱源の隙間に通すので、基板搬送架台送り機構が収納空間に収納された基板搬送架台を前記熱処理炉の長手方向へ送ると、複数の加熱源が互いの隙間を通過する基板を加熱し、基板が熱処理される。
また、間仕切り壁で収納空間を複数の区画に間仕切り、基板搬送架台がその区画に収納可能なので、前記収納空間を間仕切られてできた複数の区画で、互いに異なる熱処理の条件を設定することが容易になる。
また、加熱源を区画毎に制御可能にするので、基板搬送架台に支持された基板を、区画ごとに互いに異なる条件で熱処理することが容易になる。
また、基板搬送架台が長手方向に並んだ区画に順次移動し、基板搬送架台に支持された基板が区画毎に個別の温度制御で加熱され、所望の温度履歴をうけるので、間仕切り壁がない場合に比べ収納空間の長さを短くすることができる。
また、加熱源が熱処理室の上方からつり下げられているので、基板搬送架台が基板を下方から支持することで、前記加熱源と基板との機械的接触を防ぐことができる。
また、基板搬送架台が表面を平行に揃えて並んだ複数の基板を縦置きに支持するので、基板の単位枚数あたりの熱処理のスループットを上げることができる。
また、壁構造が前記複数の基板の群を挟み基板の熱処理する面に側面を向かい合わせるので、加熱源により基板を加熱する際に、複数の基板の群の中での基板の熱処理する面の温度のばらつきを抑制できる。
また、壁構造の被覆部材が該断熱部材を隙間なく覆う金属板であるので、断熱部材が基板からの熱の放散を抑制し、被覆部材が断熱部材による基板の汚染を防止できる。
また、桟が基板の上下の辺に係合するので、基板を水平移動して桟へ係合でき、基板の基板搬送架台への搭載が容易にできる。
また、前記収納空間の上下方向に気体を通気可能であるので、気体を、基板の表面を通過する様に、収納空間に流すことができる。
従って、全長が短く、基板の熱処理の精度が高く、生産性が高く、また基板の汚染の恐れの少ない基板熱処理装置を提供できる。
【００３６】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態にかかる基板熱処理装置の鳥瞰図である。
【図２】実施形態にかかる基板熱処理装置の部分鳥瞰図である。
【図３】実施形態にかかる基板熱処理装置の側面断面図である。
【図４】実施形態にかかる基板熱処理装置のＡ−Ａ断面図である。
【図５】実施形態にかかる基板熱処理装置の温度履歴の一例図である。
【図６】実施形態にかかる基板熱処理装置のサイクルタイム図である。
【符号の説明】
１    基板熱処理装置
２    基板（ガラス基板）
１０    基板搬送架台
２０    熱処理炉
３０    熱処理室
３０ａ  第一昇温室
３０ｂ  第一保持室
３０ｃ  第二昇温室
３０ｄ  第三昇温室
３０ｅ  第二保持室
４０    加熱源
４５    熱処理室温度センサ
５０    間仕切り壁
６０    ロードロック装置
６１    ロードロック室
６２    ロードロックゲート
６３    ロードロックゲート
７０    アンロードロック装置
７１    アンロードロック室
７２    アンロードロックゲート
７３    アンロードロックゲート
８０    基板搬送架台送り装置
８１    レール
８２    ラック
８３    ピニオン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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