(57)【要約】　　　（修正有）【課題】大きさの異なる表示用基板を受けることができるにもかかわらず、小型で簡単な構造の受け材支持機構とすることにある。【解決手段】処理装置は、処理すべき表示用基板の隅角部を個々に受ける４つの受けベース５０，５２、５４、５６と、隣り合う受けベースを前記表示用基板と平行の面内で相寄り相離れる方向に移動可能に支持する支持機構５８とを含むことを特徴とする。【選択図】　　　　　図４
2004022903.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理すべき表示用基板の隅角部を個々に受ける４つの受けベースと、隣り合う受けベースを前記表示用基板と平行の面内で相寄り相離れる方向に移動可能に支持する支持機構とを含む、表示用基板の処理装置。
【請求項２】
さらに、前記表示用基板の隣り合う一対の第１及び第２の辺の一端部が当接可能に１つの前記受けベースに配置された第１のストッパと、前記第１の辺の他端部が当接可能に前記１つの受けベースの隣の受けベースに配置された第２のストッパとを含む、請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
さらに、前記表示用基板を前記第１のストッパに向けて押圧すべく前記隣の受けベースに配置された第１のプッシャと、前記表示用基板を前記第１及び第２のストッパに向けて押圧すべく残りの前記受けベースに配置された第２のプッシャとを含む、請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記支持機構は、第１の方向に隣り合う受けベースを前記第１の方向へ移動可能に前記隣り合う受けベースの対毎に受ける一対の第１の支持手段と、前記第１の支持手段を前記第１の方向と交差する第２の方向へ移動可能に受ける第２の支持手段とを含む、請求項１から３のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項５】
さらに、前記第２の方向に隣り合う受けベースを前記第２の方向へ移動可能に連結する一対の連結手段を含む、請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
さらに、前記第２の支持手段を前記表示用基板と平行の面内で二次元的に移動させるべく前記第２の支持手段を支持する支持台と、照明光を前記表示用基板に下方側から照射すべく前記表示用基板と前記支持台との間に配置された照明手段と、加工用光線を前記表示用基板に上方から照射する加工用光線照射手段とを含む、請求項１から５のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項７】
前記照明手段は、前記支持台が配置された基台に少なくとも前記支持台を跨ぐ状態に配置されたアームと、該アームに配置されて前記照明光を前記表示用基板に照射する光ファイバとを含む、請求項６に記載の処理装置。
【請求項８】
さらに、前記第２の支持手段を前記表示用基板と平行の面内で二次元的に移動させると共に前記表示用基板に垂直の軸線方向へ移動させるべく前記第２の支持手段を受けるステージと、前記受けベースから上方に間隔をおいて配置された１以上のプローブユニットとを含み、前記プローブユニットは前記表示用基板に押圧される複数の接触子を備えている、請求項１から５のいずれか１項に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜トランジスタを形成したガラス基板や表示パネルのような表示用基板を処理する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネルのように高密度に配置された多数の画素を有する表示用パネルにおいては、欠陥画素に修正加工を行って、その表示用パネルを不良品とすることなく、良品として用いることが行われている。
【０００３】
そのような修正加工技術は、一般に、欠陥画素を有する表示用パネルを二次元的に移動させるＸＹステージに載置し、その表示用パネルに照明用光を下方から照射しつつ、欠陥画素のような欠陥箇所に加工用レーザ光線を上方から照射することにより、行われている（例えば、特開平９−９０３０４号、特開２００１−９１９１９号、特開２００２−４０６７４号）。
【０００４】
この種の修正加工を行う処理装置においては、加工用レーザ光線及び照明用光をそれぞれ表示用パネルに上方及び下方から照射しなければならないことから、修正加工を行うべき表示用パネルの寸法に応じた大きさの開口をＸＹステージに形成している。このため、従来の処理装置では、寸法が異なる表示用パネルに変更されるたびに、ＸＹステージを交換しなければならない。
【０００５】
上記の課題を解決するために、液晶表示パネルのように矩形の表示用基板の辺を受けるように配置された長方形の４つの枠材を受け材として用い、１つの枠材を固定受け材とし、この固定受け材と対向する他の１つの枠材を固定枠材に対しＸ及びＹ方向に二次元的に移動させる第１の可動枠材とし、残りの２つの枠材を固定受けに対しＸ方向又はＹ方向に移動させる第２及び第３の可動受け材とした処理装置が提案されている（特開２００２−９１３３６号）。
【０００６】
この処理装置においては、大きさが異なる表示用基板に変更されても、その表示用基板の各辺を受け材に受けることができるように、各受け材を長方形の板の形に形成しており、また各可動受け材を固定受け材に対して移動させることにより、４つの受け材で形成される開口の大きさを処理すべき表示用基板の大きさに適合させている。
【０００７】
【解決しようとする課題】
しかし、上記の処置装置では、処理可能の最大寸法の表示用基板を受けることができる長さ寸法を有する受け材を用いなければならないし、受け材の移動方向が受け材毎に異なるから、受け材の支持機構が大型であると共に、複雑である。
【０００８】
本発明の目的は、大きさの異なる表示用基板を受けることができるにもかかわらず、小型で簡単な構造の受け材支持機構とすることにある。
【０００９】
【解決手段、作用、効果】
本発明に係る処理装置は、処理すべき表示用基板の隅角部を個々に受ける４つの受けベースと、隣り合う受けベースを前記表示用基板と平行の面内で相寄り相離れる方向に移動可能に支持する支持機構とを含む。
【００１０】
表示用基板は、その隅角部を受けベースに受けられる。大きさが異なる表示用基板に変更されると、隣り合う受けベースが表示用基板の大きさに応じて表示用基板と平行の面内で相寄り相離れる方向に移動される。
【００１１】
本発明によれば、表示用基板の隅角部を受けベースに受けると共に、隣り合う受けベースを相寄り相離れる方向に移動させるから、受けベースの移動方向が同じになり、したがって受けベースの支持機構が小型化すると共に、簡単な構造になる。
【００１２】
本発明に係る処理装置は、さらに、前記表示用基板の隣り合う一対の第１及び第２の辺の一端部が当接可能に１つの前記受けベースに配置された第１のストッパと、前記第１の辺の他端部が当接可能に前記１つの受けベースの隣の受けベースに配置された第２のストッパとを含むことができる。そのようにすれば、表示用基板の隣り合う２つの辺をストッパに当接させることにより、装置に対する表示用基板に位置決めをすることができる。
【００１３】
本発明に係る処理装置は、さらに、前記表示用基板を前記第１のストッパに向けて押圧すべく前記隣の受けベースに配置された第１のプッシャと、前記表示用基板を前記第１及び第２のストッパに向けて押圧すべく残りの前記受けベースに配置された第２のプッシャとを含むことができる。そのようにすれば、装置に対する表示用基板に位置決めがストッパとプッシャとにより行われる。
【００１４】
前記支持機構は、第１の方向に隣り合う受けベースを前記第１の方向へ移動可能に前記隣り合う受けベースの対毎に受ける一対の第１の支持手段と、前記第１の支持手段を前記第１の方向と交差する第２の方向へ移動可能に受ける第２の支持手段とを含むことができる。そのようにすれば、第１及び第２の方向への各受けベースの移動が円滑及び正確になり、また支持機構がより小型化すると共に、より簡単な構造になる。
【００１５】
本発明に係る処理装置は、さらに、前記第２の方向に隣り合う受けベースを前記第２の方向へ移動可能に連結する一対の連結手段を含むことができる。そのようにすれば、第２の方向への受けベースの移動がより円滑及び正確になる。
【００１６】
本発明に係る処理装置は、さらに、前記第２の支持手段を前記表示用基板と平行の面内で二次元的に移動させるべく前記第２の支持手段を支持する支持台と、照明光を前記表示用基板に下方側から照射すべく前記表示用基板と前記支持台との間に配置された照明手段と、加工用光線を前記表示用基板に上方から照射する光線照射手段とを含むことができる。そのようにすれば、処理装置を、表示用基板に修正加工を行う修正装置として用いることができる。また、修正すべき箇所を明示することができるし、照明手段のための大きな配置空間を必要としない。
【００１７】
前記照明手段は、前記支持台が配置された基台に少なくとも前記支持台を跨ぐ状態に配置されたアームと、該アームに配置されて前記照明光を前記表示用基板に照射する光ファイバとを含むことができる。そのようにすれば、照明手段のための配置空間をより小さくすることができる。
【００１８】
本発明に係る処理装置は、さらに、前記第２の支持手段を前記表示用基板と平行の面内で二次元的に移動させると共に前記表示用基板に垂直の軸線方向へ移動させるべく前記第２の支持手段を受けるステージと、前記受けベースから上方に間隔をおいて配置された１以上のプローブユニットとを含み、前記プローブユニットは前記表示用基板に押圧される複数の接触子を備えていてもよい。そのようにすれば、処理装置を、表示用パネルやガラス基板のような表示用基板の検査装置、特に点灯検査装置として用いることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
図１〜図３を参照するに、処理装置１０は、液晶表示パネルのような表示用基板１２に修正加工のための処理を行う修正装置として用いられる。表示用基板１２は、欠陥画素のような欠陥箇所を有しており、その欠陥箇所をレーザ光線のような加工用光線により修正される。
【００２０】
本発明においては、図２において、左右方向をＸ方向といい、紙面に垂直の方向をＹ方向といい、上下方向を上下方向又はＺ方向という。
【００２１】
処理装置１０は、基台１４と、基台１４の上に設置された第１の支持台１６と、第１の支持台１６の上に設置された第２の支持台１８と、第１の支持台１６に組み付けられたフェンス２０と、処理すべき表示用基板１２を受ける受けステージ２２と、受けられた表示用基板１２に下方から照明光を照射する照明装置２４と、受けられた表示用基板１２に上方から加工用の光線を照射する光線照射装置２６とを含む。
【００２２】
基台１４は、厚い板状部材２８の４つの隅部に４つの脚部材３０を取り付けたテーブルの形を有しており、また処理装置１０のフレーム（図示せず）に設置される。
【００２３】
第１の支持台１６は平面サーボモータステージとして市販されている、ＸＹ方向への二次元ステージの固定子装置であり、第２の支持台１８はそのような平面サーボモータステージの可動子装置である。平面サーボモータステージは、駆動源としてリニアモータを用いており、リニアモータをサーボ制御すなわち位置制御している。
【００２４】
図示の例では、第１及び第２の支持台１６及び１８は、両者で、受けステージ２２をこれに受けられた表示用基板１２と平行の面内でＸＹ方向に二次元的に移動させるステージを構成している。
【００２５】
しかし、第１及び第２の支持台１６及び１８は、平面サーボモータステージ以外の二次元ステージを用いてもよいし、受けステージ２２を上下方向に移動させるＺステージの機能させるを兼ね備えたＸＹＺの三次元ステージに構成されていてもよく、さらに受けステージ２２をＺ軸線の周りに角度的に回転させるθステージを兼ね備えたＸＹＺθのステージに構成されていてもよい。
【００２６】
フェンス２０は、矩形の枠の形を有しており、また第１の支持台１６の上に取り付けられている。フェンス２０はＸＹステージの可動子装置としての第２の支持台１８が固定子装置としての第１の支持台１６から落下することを防止するためのものであり、したがってフェンス２０を備えていなくてもよい。
【００２７】
照明装置２４は、門型に形成されたアーム３２を備えている。アーム３２は、第１の支持台１６及び第２の支持台１８を跨ぐ状態に基台１４に取り付けられている。
【００２８】
アーム３２には、図４及び図５に示すように、光ファイバー３４が配置されている。光ファイバー３４は、図示しない光源で発生された光を受け、その光をスポット状の照明光３６として、アーム３２の上部部材の長手方向中央部に形成された穴３８から表示用基板１２の下面に照射する。
【００２９】
光ファイバー３４を用いる代わりに、図７に示すように、スポット状の照明光３６を穴３８から表示用基板１２の下面に照射する光源３６ａをアーム３２に配置してもよい。
【００３０】
光線照射装置２６は、レーザ光線を加工用光線４０として発生するレーザ装置であり、レーザ発生器及び光学系を筐体４２に収容している。光線照射装置２６は、加工用光線４０を表示用基板１２の欠陥箇所にその真上から照射するように、筐体４２において複数の支持部材４４により基台１４に取り付けられている。加工用光線４０は、レーザ鏡筒４６から出力される。
【００３１】
照明装置２４及び光線照射装置２６は、照明光３６及び加工用光線４０が表示用基板１２のＸＹ方向における同一箇所に照射されるように、予め設定されている。
【００３２】
第１及び第２の支持台１６，１８は、表示用基板１２を照明装置２４と光線照射装置２６との間に位置させて、照明光３６及び加工用光線４０が表示用基板１２の欠陥箇所に照射されるように、表示用基板１２及び受けステージ２２を移動させるときに駆動される。
【００３３】
受けステージ２２は、図４から図８に示すように、表示用基板１２の４つの隅角部を個々に受ける４つの受けベース５０，５２，５４，５６と、隣り合う受けベース５０及び５２並びに５４及び５６を表示用基板１２と平行の面内で相寄り相離れる方向（ＸＹ方向）に移動可能に支持する支持機構５８とを含む。
【００３４】
受けベース５０，５２，５４，５６の各々は、矩形の板部材により形成されており、また１つの隅角部がＬ字状に欠如された欠如部６０を有しており、さらに４つの受けベース５０，５２，５４，５６により矩形をした仮想的な開口又は空間を形成するように、欠如部６０を中央に向けた状態に支持機構５８に取り付けられている。
【００３５】
支持機構５８は、Ｙ方向に隣り合う受けベース５０及び５２の対並びに５４及び５６の対をリニアガイドレール６２及び６２に対毎のリニアガイド６４及び６４を介してＹ方向へ移動可能に受け、両リニアガイドレール６２及び６２をリニアガイドレール６６及び６６に複数のリニアガイド６８を介してＸ方向へ移動可能に受けている。このため、各受けベースは、Ｘ方向及びＹ方向に移動可能である。
【００３６】
受けステージ２２は、また、Ｘ方向に隣り合う受けベース５０及び５４の対並びに５２及び５６の対をそれぞれＸ方向へ移動可能に対毎に連結する一対の連結棒７０及び７０と、連結棒７０及び７０がそれぞれその長手方向に移動可能に貫通する複数のボールブッシュ７２及び７２とを含む。
【００３７】
連結棒７０及び７０は、それぞれ、受けベース５０及び５２から相手側の受けベース５４及び５６に向けて伸びるように、受けベース５０及び５２に取り付けられている。ボールブッシュ７２及び７２は、それぞれ、受けベース５４及び５６に取り付けられている。各連結棒７０として、リニアシャフトを用いることができる。
【００３８】
図示の例では、リニアガイドレール６２，６２及びリニアガイド６４，６４は第１の支持手段を形成しており、リニアガイドレール６６，６６及びリニアガイド６８は第２の支持手段を形成しており、連結棒７０，７０及びボールブッシュ７２，７２は連結手段を形成している。
【００３９】
図示の例では、照明装置２４のアーム３２は、両リニアガイド６６，６６の間にあって第２の支持台１８と両リニアガイド６２，６２の間を伸びている。
【００４０】
受けステージ２２は、さらに、表示用基板１２の隣り合う一対の第１及び第２辺（Ｙ辺及びＸ辺）の一端部が個々に当接可能に１つの受けベース５０に配置された一対のストッパ７４，７６と、第１の辺（Ｙ辺）の他端部が当接可能に、受けベース５０に対しＹ方向に隣り合う受けベース５２に配置されたストッパ７８と、表示用基板１２をストッパ７４に向けて押圧すべく受けベース５２に配置されたプッシャ８０と、表示用基板１２をストッパ７６，７８に向けて押圧すべく受けベース５４及び５６にそれぞれ配置された一対のプッシャ８２及び８４とを含む。
【００４１】
ストッパ７４，７６，７８の各々は、ピンの形状を有しており、したがって表示用基板１２を受けステージ２２に対して位置決める位置決めピンとして作用するのみならず、表示用基板１２を受けステージ２２に設置するときに表示用基板１２を案内するガイドピンとして作用する。
【００４２】
プッシャ８０，８２，８４の各々は、プッシュ片を表示用基板１２の所定の辺に押すプランジャを備えており、プランジャにおいて所定の受けベースに取り付けられている。
【００４３】
表示用基板１２の処理に先立って、受けベース５０，５２，５４，５６が、処理すべき表示用基板１２の大きさに適合する位置に移動され、その位置に止めねじのような適宜な部材により一時的に維持される。この作業は、光線照射装置１６が作業の妨げにならない位置において行われる。
【００４４】
次いで、処理すべき表示用基板１２が、４つの隅角部を受けステージ２２の受けベース５０，５２，５４，５６に受けられる状態に、受けステージ２２に載せられる。
【００４５】
次いで、表示用基板１２が、プッシャ８０，８２，８４により押されて、所定の辺を所定のストッパ７４，７６，７８に当接される。これにより、受けステージ２２に対する表示用基板１２に位置決めが自動的に行われる。
【００４６】
次いで、受けステージ２２が、第１及び第２の支持台１６，１８により、照明装置２４と光線照射装置２６との間に移動されると共に、照明装置２４と光線照射装置２６との間でさらに移動される。これにより、表示用基板１２は、照明光３６及び加工用光線４０が欠陥箇所８６に照射されない、図８（Ａ）に示す位置を経て、照明光３６及び加工用光線４０が欠陥箇所８６に照射される、図８（Ｂ）に示す位置に移動される。
【００４７】
欠陥箇所８６のＸＹ座標位置は、表示用基板１２の良否が、点灯検査装置のような検査装置により検査されたとき、知ることができる。したがって、欠陥箇所８６のＸＹ座標位置をその表示用基板１２の番号と共にメモリに予め記憶しておき、記憶しているＸＹ座標位置を用いて、第１及び第２の支持台１６及び１８を制御装置により制御しつつ駆動させてもよい。この場合、照明装置２４を省略してもよい。
【００４８】
しかし、照明光３６を表示用基板１２に照射させて、その照射箇所を目視により確認しつつ、照明光３６が欠陥箇所８６に照射するように第１及び第２の支持台１６，１８により受けステージ２２を移動させて、照明光３６及び加工用光線４０が欠陥箇所に照射する位置に表示用基板１２を移動させてもよい。
【００４９】
上記の代わりに、微弱な加工用光線４０を表示用基板１２に照射して、その照射箇所を目視により確認しつつ、微弱な加工用光線４０が欠陥箇所６８に照射するように第１及び第２の支持台１６，１８により受けステージ２２を移動させて、加工用光線４０が欠陥箇所６８に照射する位置に表示用基板１２を移動させてもよい。
【００５０】
次いで、加工用光線４０が欠陥箇所８６に照射される。これにより、欠陥箇所８６に存在する、画素要素、配線、回路素子等が破壊又は切断されて、表示用基板１２が点灯されたときに欠陥箇所８６が黒色表示となるように修正される。欠陥箇所６８が修正されたか否かの確認は、照明光３６を欠陥箇所６８に下側から照射して、欠陥箇所６８のパターンが切断又は破壊されたか否かを確認することにより、行うことができる。
【００５１】
処理装置１０によれば、以下のような種々の利点を生じる
【００５２】
表示用基板１２の隅角部を受けベース５０，５２，５４，５６に受けると共に、隣り合う受けベースを相寄り相離れる方向に移動させるから、受けベースの移動方向がいずれもＸＹ方向と同じになり、したがって支持機構５８が小型化すると共に、簡単な構造になる。
【００５３】
支持機構５８が、Ｙ方向に隣り合う受けベース５０，５２の対及び５４，５６の対をリニアガイドレール６２及び６２にＹ方向へ移動可能に受けると共に、リニアガイドレール６２，６２をリニアガイド６６，６６にＸ方向へ移動可能に受けるから、ＸＹ方向への各受けベースの移動が円滑及び正確になり、また支持機構５８がより小型化すると共に、より簡単な構造になる。
【００５４】
Ｘ方向に隣り合う受けベース５０，５４及び５２，５６を一対の連結棒７０及び一対のボールブッシュ７２によりＸ方向へ移動可能に連結しているから、Ｘ方向への受けベースの移動がより円滑及び正確になる。
【００５５】
照明装置２４のアーム３２が、リニアガイドレール６６，６６の間にあって第２の支持台１８とリニアガイドレール６２，６２の間を通っているから、修正すべき箇所を明示することができるのみならず、照明装置２４のための大きな配置空間を必要としない。
【００５６】
照明装置２４のアーム３２が第１及び第２の支持台１６及び１８を跨ぐ状態に基台１４に配置され、照明光３６のための光ファイバ３４がアーム３２に配置されているから、照明装置２４のための配置空間をより小さくなる。
【００５７】
上記の実施例では、表示用基板１２の隅角部を受けベース５０，５２，５４，５６に直接載せているが、図９に受けステージ２２の平面図を示すと共に、図１０に受けベース５２を代表して示すように、矩形の開口８７を有する枠部材８８を受けベース５０，５２，５４，５６に載せ、この枠部材８８に表示用基板１２の隅角部を載せることにより、枠部材８８を介して表示用基板１２の隅角部を含む４辺部を受けベース５０，５２，５４，５６に載せてもよい。
【００５８】
図９及び図１０に示す実施例において、枠部材８８は、受けベース５０，５２，５４，５６に取り外し可能に取り付けることができる。また、表示用基板１２をプッシャ８０，８２，８４により所定のストッパに向けて押すようにしてもよい。
【００５９】
上記いずれの実施例においても、照明装置２４を少なくともＹ方向に、好ましくはＸＹ方向に移動させるようにしてもよい。この場合、第２の支持台１８は受けステージージ２２及び表示用基板１２を少なくともＹ方向へ移動させるステージとしなくてもよい。
【００６０】
図１１を参照するに、処理装置９０は、表示用パネルやガラス基板のような表示用基板１２の、特に点灯検査のための装置として用いられる。
【００６１】
処理装置９０においては、検査ステージ９２を第１及び第２の支持台１６及び１８の代わりに備えており、バックライチユニット９４を検査ステージ９２に配置し、表示用基板１２を受ける受けステージ２２をバックライチユニット９４に配置している。
【００６２】
検査ステージ９２は、バックライトユニット９４、受けステージ２２及び表示用基板１２を、Ｘ，Ｙ，Ｚの三方向に移動させると共に、Ｚ軸線の周りに回転させる公知の装置であり、また処理装置９０の板状の下部フレーム９６に設置されている。バックライトユニット９４も、表示用基板１２を背面から照明する公知の装置である。
【００６３】
処理装置９０は、また、プローブユニット９８を処理装置９０の板状の上部フレーム１００に、受けステージ２２から上方に間隔をおいた状態に配置している。プローブユニット９８は、基板１０２を上部フレーム１００に取り付け、それぞれが表示用基板１２の電極に押圧される複数の接触子１０４を備えた複数のプローブブロック１０６を基板１０２に取り付けている。
【００６４】
基板１００は、表示用基板１２よりやや大きい開口１０８を有しており、開口１０８が上部フレーム１００の開口１１０と対向するように上部フレーム１００の下側に取り付けられている。プローブブロック１０６は、接触子１０４の先端が下方に突出するように基板１０２に取り付けられている。接触子１０４は、図示の例では、ニードルタイプのプローブである。
【００６５】
検査時、表示用基板１２は、検査ステージ９２により、接触子１０４に対する位置合わせをされた後、上昇されて、電極を接触子１０４に押圧される。この状態で接触子１０４を介して通電される。このとき、バックライトユニット９４は点灯されており、したがって表示用基板１２の点灯状態は開口１１０及び１０８を介して観察される。
【００６６】
処理装置９０において、点灯検査の結果、その表示用基板１２が欠陥箇所を有しているときは、加工用光線４０を欠陥箇所に照射して、修正するようにしてもよい。
【００６７】
上記実施例では、いずれも、表示用基板１２を水平の状態で処理しているが、本発明は、表示用基板１２を斜めの状態、上下に立てた状態等で処理する装置にも適用することができる。それゆえに、本発明でいう各方向特に上下方向は、必ずしも重力の方向と一致するとは限られず、むしろ表示用基板に垂直のいわゆるＺ方向のことを意味する。
【００６８】
本発明は、上記実施例に限定されず、その趣旨を逸脱しない限り、種々変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る処理装置の一実施例を示す斜視図である。
【図２】図１に示す処理装置の正面図である。
【図３】図１に示す処理装置の右側面図である。
【図４】図１に示す処理装置で用いる受けステージの一実施例を示す斜視図である。
【図５】図４に示す受けステージに表示用基板を載置した状態を示す斜視図である。
【図６】図４に示す受けステージの平面図である。
【図７】図４に示す受けステージの右側面図である。
【図８】図４に示す受けステージの動作を説明するための図である。
【図９】図４に示す受けステージにおいて枠部材を用いる実施例を示す平面図である。
【図１０】図９における１０−１０線に沿って得た断面図である。
【図１１】本発明に係る処理装置の他の実施例を示す縦断面図である。
【符号の説明】
１０，９０　処理装置
１２　表示用基板
１４　基台
１６，１８　第１及び第２の支持台
２２　受けステージ
２４　照明装置
２６　加工用光線の照射装置
３２　照明装置のアーム
３４　照明光用の光ファイバ
３６　照明光
３６ａ　照明光用の光源
３８　照明光用の穴
４０　加工用光線
５０，５２，５４，５６　受けベース
５８　支持機構
６２，６６　リニアガイドレール
６４，６８　リニアガイド
７０　連結棒
７２　ボールブッシュ
７４，７６，７８　ストッパ
８０，８２，８４　プッシャ
８６　欠陥箇所
９２　検査ステージ
９４　バックライトユニット
９８　プローブユニット
【図１】
2004022903.tif 000003
【図２】
2004022903.tif 000004
【図３】
2004022903.tif 000005
【図４】
2004022903.tif 000006
【図５】
2004022903.tif 000007
【図６】
2004022903.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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