(57)【要約】　　　（修正有）【課題】２回転式搬送系の間で一方の回転搬送系で処理を受ける処理対象品の同期的受け渡しの円滑化。【解決手段】第１回転盤から容器を受け取る第２回転盤が設けられている。第１回転盤と同体的に容器４６が回転する第１公転軌道５１と第２回転盤と同体的に容器４６が回転する第２公転軌道５６とは互いに交叉している。第２支持面に嵌まった状態で降下又は上昇する容器４６は、第１公転軌道から第２公転軌道に移行する際に、オフセットを有する両軌道の一方の軌道上にあり他方の軌道からはずれるが、第１支持面と容器との間に隙間Ｓが設けられていて、円滑な軌道遷移が可能である。軌道間遷移する容器は、第１回転盤に同期して回転する第２回転盤に規定された位置に配置されている第２支持面に同期して嵌まり込みその同期性を失うことはない。【選択図】　　　　　図５
2004099304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１回転盤と、
前記第１回転盤から容器を受け取る第２回転盤とを具え、
前記第１回転盤は、前記第１回転盤と同軸に公転する容器を回転方向に遊動的に支持する複数の第１支持面を有し、
前記第２回転盤は、前記第２回転盤と同軸に公転する前記容器を回転方向に固定的に支持する複数の支持面を有し、
前記第１回転盤と同体的に前記容器が回転する第１公転軌道と前記第２回転盤と同体的に前記容器が回転する第２公転軌道とは互いに交叉し、
前記第１公転軌道と前記第２公転軌道とが交叉する交叉角度領域で前記容器が半径方向にガイドに支持されて往復運動するための隙間が前記容器と前記第１支持面との間に与えられ、
前記第１回転盤に支持され前記第１回転盤の軸方向に前記容器を前記第１回転盤に鉛直方向に支持し鉛直方向に昇降させる複数の昇降機構を更に具え、
前記交叉角度領域で前記容器は、前記第２支持面に支持されながら前記第２回転盤の軸方向に前記昇降機構により鉛直方向に降下する
回転的容器の受け渡し装置。
【請求項２】
前記第１支持面に接触する前記容器の接触面は円筒面である
請求項１の回転的容器の受け渡し装置。
【請求項３】
前記第１支持面は前記昇降機構の昇降部分に形成されている
請求項１の回転的容器の受け渡し装置。
【請求項４】
前記第１回転盤の周域に固定的に配置されるガイドを更に具え、
前記ガイドは、前記第１支持面に支持されながら公転する前記容器の公転運動を案内する案内面を有する
請求項１の回転的容器の受け渡し装置。
【請求項５】
前記ガイドは、
第１ガイド面と、
第２ガイド面とを有し、
前記第１ガイド面は、前記交叉角度領域にある前記容器を案内し、前記第２ガイド面は前記交叉角度領域以外の領域にある前記容器を案内する
請求項４の回転的容器の受け渡し装置。
【請求項６】
第１回転盤と、
前記第１回転盤から容器を受け取る第２回転盤と、
前記第１回転盤に同体に回転する複数のチャンバと、
複数の前記チャンバに異なる真空度で真空引きを行う複数の真空引きラインと、
前記第２回転盤に同体に回転し、前記複数の真空引きラインに前記複数のチャンバを切替自在に接続する真空分配器とを具え、
前記第１回転盤は、前記第１回転盤と同軸に公転する容器を回転方向に遊動的に支持する複数の第１支持面を有し、
前記第２回転盤は、前記第２回転盤と同軸に公転する前記容器を回転方向に固定的に支持する複数の第２支持面を有し、
前記第１回転盤と同体的に前記容器が回転する第１公転軌道と前記第２回転盤と同体的に前記容器が回転する第２公転軌道とは互いに交叉し、
前記第１公転軌道と前記第２公転軌道とが交叉する交叉角度領域で前記容器が半径方向に前記第１支持面に支持されて往復運動するための隙間が前記容器と前記第１支持面との間に与えられ、
前記第１回転盤に支持され前記第１回転盤の軸方向に前記容器を前記第１回転盤に鉛直方向に支持し鉛直方向に昇降させる複数の昇降機構を更に具え、
前記交叉角度領域で前記容器は、前記第２支持面に支持されながら前記第２回転盤の軸方向に前記昇降機構により鉛直方向に降下し、
前記第２回転盤に同体に回転し複数の前記容器をそれぞれに支持する支持器を更に具え、
前記第２支持面は前記支持器に形成され、
前記支持器は、前記チャンバの中で前記容器に蒸着するプラズマガスに電力を供給する電極である
成膜装置の受け渡し回転構造。
【請求項７】
前記昇降機構は、
鉛直方向案内器と、
前記鉛直方向案内器に案内されて昇降する昇降器と、
前記昇降器に支持され前記容器を回転方向に支持する回転方向支持器とを備え、
前記第１支持面は前記回転方向支持器に形成されている
請求項６の成膜装置の受け渡し回転構造。
【請求項８】
前記回転方向支持器は、前記昇降器に交換自在に支持されている
請求項７の成膜装置の受け渡し回転構造。
【請求項９】
前記昇降器を鉛直方向に案内する鉛直方向案内レールを更に具え、
前記鉛直方向案内レールは固定的に配置され、
前記昇降器は転動ローラを具え、
前記昇降機構は、前記昇降器を鉛直方向上方に常態的に押し上げるコイルスプリングを更に備え、
前記転動ローラは前記鉛直方向案内レールの下面で転動する
請求項８の成膜装置の受け渡し回転構造。
【請求項１０】
前記電極が形成する前記第２支持面は、
前記容器の底面を支持する底面と、
前記容器の外周面を支持する面とを有する
請求項８又は９の成膜装置の受け渡し回転構造。
【請求項１１】
前記電極は交換自在に前記第２回転盤に支持されている
請求項１０の成膜装置の受け渡し回転構造。
【請求項１２】
前記第１回転盤の周域に固定的に配置されるガイドを更に具え、
前記ガイドは、前記第１支持面に支持されながら公転する前記容器の公転運動を案内する案内面を有する
請求項６〜１１から選択される１請求項の成膜装置の受け渡し回転構造。
【請求項１３】
前記ガイドは前記容器の底面を案内する軌道面を有し、前記軌道面は、前記交叉角度領域以外の領域で水平面に形成されている
請求項１２の成膜装置の受け渡し回転構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回転的容器受け渡し装置、及び、成膜装置の受け渡し回転構造に関し、特に、ＰＥＴボトルの内面に成膜処理を行う回転的容器受け渡し装置、及び、成膜装置の受け渡し回転構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＥＴボトルは、多様な液体を封入する容器として、日常生活で欠かすことができない容器である。ＰＥＴボトルのＰＥＴは、空気遮断性が乏しい。酸化を防止するために、ＰＥＴボトルの内周面には、空気遮断性皮膜が形成される。皮膜を形成するための成膜装置（例示：ＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｌｉｋｅ　Ｃａｒｂｏｎ）膜形成装置）には、真空チャンバが用いられている。成膜原料のガス分子は、その真空チャンバの中で、高周波電源又はイオン化電源に接続された電極によりイオン化され、ペットボトルの内周面に蒸着され、皮膜に形成される。
【０００３】
ＰＥＴボトルの大量生産のために、多数のチャンバが用いられる成膜装置として、同一円周上で回転する多数のチャンバを有し、一周する間に真空度が高められて最高真空度段階で成膜が実行される装置（未公開）の開発が進められている。連続流（一定間隔流）を形成して搬送される多数のＰＥＴボトルは、その１つ１つが順次にロータリー式分配器に転送又は転置される。
【０００４】
開発中の成膜装置では、搬送系の一部を形成するスターホイールとロータリー式真空分配器の回転盤との間の転置は、スターホイールを形状化しているポケットピッチ円の円周上で行われる。ロータリー式真空分配器の周域には、受け渡されたボトルの底面部分を固定的に支持して受け取るための受け具が必須的に同一円周上に配列されている。そのような受け具は、ＤＬＣ装置では、特に、チャンバの中で材料ガスをプラズマ化する電極を兼ねている。スターホイールの搬送面から受け具のポケット部に干渉なしに転置するためには、回転しているボトルを降下させながらスターホイールの搬送面から受け具のポケットに挿入させることが要求される。ピッチ円上の受け渡しでは、時間的制約があって干渉を回避することが困難であり実質的に不可能である。ポケットの深さ分だけ降下させながら回転させることが重要である。このような受け渡しを確実に行うための同期時間に余裕が与えられることが重要である。
【０００５】
２回転式搬送系の間で一方の回転搬送系で処理を受ける処理対象品を受け渡す際の同期的受け渡しを円滑化し、特に、回転式搬送系からロータリー成膜装置に容器を受け渡す際の同期的受け渡しを円滑化することが求められる。
【０００６】
【特許文献１】
日本国特許第２７２６７５９号
【特許文献２】
特開平１１−３２２０６７号
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、２回転式搬送系の間で一方の回転搬送系で処理を受ける処理対象品を受け渡す際の同期的受け渡しを円滑化することができる回転的容器受け渡し装置、及び、成膜装置の受け渡し回転構造を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
その課題を解決するための手段が、下記のように表現される。その表現中に現れる技術的事項には、括弧（）つきで、番号、記号等が添記されている。その番号、記号等は、本発明の実施の複数の形態又は複数の実施例のうちの少なくとも１つの実施の形態又は複数の実施例を構成する技術的事項、特に、その実施の形態又は実施例に対応する図面に表現されている技術的事項に付せられている参照番号、参照記号等に一致している。このような参照番号、参照記号は、請求項記載の技術的事項と実施の形態又は実施例の技術的事項との対応・橋渡しを明確にしている。このような対応・橋渡しは、請求項記載の技術的事項が実施の形態又は実施例の技術的事項に限定されて解釈されることを意味しない。
【０００９】
本発明による回転的容器の受け渡し装置は、第１回転盤（１３）と、第１回転盤（１３）から容器を受け取る第２回転盤（１２）とから構成されている。第１回転盤（１３）は、第１回転盤（１３）と同軸に公転する容器（４６）を回転方向に遊動的に支持する複数の第１支持面（３５又は４９：ポケット）を有している。第２回転盤（１２）は、第２回転盤（１２）と同軸に公転する容器（４６）を回転方向に固定的に支持する複数の第２支持面（４４：容器受け）を有している。第１回転盤（１３）と同体的に容器（４６）が回転する第１ピッチ円（５１）と第２回転盤（１２）と同体的に容器（４６）が回転する第２ピッチ円（５６）とは互いに交叉している。この意味で、両ピッチ円（５１，５６）は交叉してオフセットを有している。第１回転盤（１３）に支持され第１回転盤（１３）の軸方向に容器（４６）を昇降させる複数の昇降機構が追加されている。交叉角度領域（５４）で容器（４６）は、ガイド（４５）に支持されながら第２回転盤（１２）の軸方向にその昇降機構により鉛直方向に降下する。
【００１０】
第２支持面（４４）に嵌まった状態で降下又は上昇する容器（４６）は、第１ピッチ円（５１）から第２ピッチ円（５６）に移行する際に、オフセットを有する両軌道の一方の軌道上にあり他方の軌道から外れるが、第２支持面（４４）と容器との間に隙間（Ｓ）が設けられていて、円滑な軌道遷移が可能である。軌道間遷移する容器は、第１回転盤（１３）に同期して回転する第２回転盤（１２）に規定された位置に配置されている第２支持面（４４）に同期して嵌まり込みその同期性を失うことはない。
【００１１】
第１回転盤（１３）の周域に固定的に配置されるガイド（４５）が追加される。ガイド（４５）は、第１支持面（３５）に支持されながら公転する容器（４６）の公転運動を案内する案内面（提示：円筒面）を有する。ガイド（４５−１，２）は、第１ガイド面と第２ガイド面とから形成されている。第１ガイド面は、交叉角度領域（５４）にある容器（４６）を案内し、第２ガイド面は交叉角度領域以外の領域にある容器（４６）を案内する。
【００１２】
本発明による成膜装置の受け渡し回転構造は、第１回転盤（１３）と、第１回転盤（１３）から容器（４６）を受け取る第２回転盤（１２）と、第２回転盤（１２）に同体に回転する複数のチャンバ（１１）と、複数のチャンバ（１１）に異なる真空度で真空引きを行う複数の真空引きラインと、第２回転盤（１２）に同体に回転し、複数の真空引きラインに複数のチャンバ（１１）を切替自在に接続する真空分配器（８）とから構成されている。第１回転盤（１３）は、第１回転盤（１３）と同軸に公転する容器（４６）を回転方向に遊動的に支持する複数の第１支持面（４９）を有している。第２回転盤（１２）は、第２回転盤（１２）と同軸に公転する容器（４６）を回転方向に固定的に支持する複数の第２支持面（４４）を有している。第１回転盤（１３）と同体的に容器（４６）が回転する第１ピッチ円（５１）と第２回転盤（１２）と同体的に容器（４６）が回転する第２ピッチ円（５６）とは互いに交叉し、オフセットに配置されている。第１ピッチ円（５１）と第２ピッチ円（５６）とが交叉する交叉角度領域（５４）で容器（４６）が半径方向に第１支持面（４９）に支持されて往復運動するための隙間（Ｓ）が容器（４６）と第１支持面（４９）との間に与えられている。第１回転盤（１３）に支持され第１回転盤（１３）の軸方向に容器（４６）を昇降させる複数の昇降機構が追加されている。交叉角度領域（５４）で容器は、第２支持面（４４）に支持されながら第２回転盤（１２）の軸方向に昇降機構により鉛直方向に降下し、第２回転盤（１２）に同体に回転し複数の容器（４６）をそれぞれに支持する支持器（３９）が更に追加されている。第２支持面（４４）は支持器（３９）に形成されている。支持器（３９）は、チャンバ（１１）の中で容器に蒸着するプラズマガスに電力を供給する電極である。支持器（３９）は電極を兼ねている。
【００１３】
チャンバ（１１）としては、成膜装置が好適に例示される。成膜装置は、第２回転盤（１２）の周囲で多数に円周方向に規定角度位置に配列されている。このため、多数の容器（４６）は、多数のチャンバ（１１）の中の規定位置に位置づけられ、且つ、第２回転盤（１２）の回転位置に同期して回転する必要がある。その同期性のために、容器の確実な位置づけが行われて、第１ピッチ円から第２ピッチ円に移行する。成膜処理は、容器の導入と導出に同期して実行される。
【００１４】
昇降機構は、鉛直方向案内器（２４）と、鉛直方向案内器（２４）に案内されて昇降する昇降器（２５）と、容器（４６）を回転方向に支持する回転方向支持器（３４）とから構成されている。第１支持面（３５）は回転方向支持器（３４）に形成されている。回転方向支持器（３４）は、第１支持面（３５）に容器（４６）を収容し、容器（４６）の回転を支持する回転方向支持器（３４）は、昇降器（２５）に交換自在に支持されていて、容器の種類の変更に対応することができる。
【００１５】
昇降器（２５）を鉛直方向に案内する鉛直方向案内レール（２１）が追加される。鉛直方向案内レール２１は、その下面として受け渡し挿入角度区間（５４）で鉛直方向案内軌道面（２１’）を有している。鉛直方向案内レール（２１）は固定的に配置されている。昇降器（２５）は転動ローラ（３１）を構成している。昇降機構は、昇降器（２５）を鉛直方向上方に常態的に押し上げるコイルスプリング（２７）を含んでいる。転動ローラ（３１）は鉛直方向案内レール（２１）の下面（２１’）で転動する。このような昇降機構は機械的であり、電子的制御装置を必要とせずに、厳密な位置制御と同期制御を可能にする。
【００１６】
電極が形成する第２支持面（４４）は、容器（４６）の底面を支持する底面と、容器（４６）の外周面を支持する面とを有していて、容器（４６）の位置を確実に軌道上で保持することができる。電極（３９）は、第２回転板（１２）に対して交換自在であり、容器の種類の変更に対応することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図に対応して、本発明による回転的容器の受け渡し装置の実施の形態は、真空装置と成膜装置が搬送系とともに配置されて設けられている。その成膜装置１は、図１に示されるように、それぞれに真空装置２に接続している。搬送系３は、多数のＰＥＴボトルを連続流に形成する導入コンベア４と、成膜後のＰＥＴボトルを連続流に排出する排出コンベア５とから構成されている。
【００１８】
成膜装置１は、真空分配器８と、回転するチャンバ群９とから構成されている。チャンバ群９の要素であるチャンバ１１は、真空分配器８の外側環状領域に等角度間隔で１つ又は複数の同心円の上に配列されている。真空装置２は、２つの互いに異なる真空度別真空装置２−１，２から構成されている。真空分配器８とチャンバ群９との間には、真空引き用パイプ群が介設されている。１つの真空引き用パイプ１０は、１つのチャンバ１１に対応して半径方向に延びている。
【００１９】
複数のチャンバ１１は、真空分配器８と同体に概ね一周する間に実行される成膜プロセス中で段階的に高真空度に真空引きされ、そのプロセス中で互いに真空度能力が異なる２つの真空装置のいずれかに接続されて真空引きされる。成膜対象物品（例示：ＰＥＴボトル）は、回転円盤構造１２に載置されチャンバ１１の中に密封される。そのチャンバ１１の内部は、真空引きされ、その内部に材料ガスが導入されプラズマ化される。チャンバ１１は、上部チャンバと下部チャンバに分かれて構成され、その下部チャンバが後述されるように昇降し、それの上昇時に上部チャンバとともに密閉空間を形成する。成膜対象物品は、下部チャンバに保持されて、チャンバ１１の中で安定的に支持されている。チャンバの中では、公知技術により、容器の内面側に皮膜が形成される。そのような皮膜は、特には、酸素不透過膜である。
【００２０】
図１に示されるように、回転円盤構造１２と導入コンベア４との間に、導入側スターホイール１３が介設されている。回転円盤構造１２と排出コンベア５との間に、排出側スターホイール１３’が介設されている。図２は、回転円盤構造１２と導入側スターホイール１３のオフセット位置取り構造を示している。導入側スターホイール１３は、床構造１５に支持される軸受筒１６を構成している。軸受筒１６に、回転基軸１７が回転自在に支持されている。軸受筒１６に、軌道支持板１８が支持されている。
【００２１】
軌道支持板１８に、円筒状カム２１が支持されている。回転基軸１７の上方部位２２は、軸受筒１６の上端面から上方に突き出ている。上方部位２２に、回転支持板２３が支持されている。回転支持板２３に同体に、回転筒３２が取り付けられている。回転筒３２に、下方側第１スターホイル板３３と上方側第２スターホイル板３４とが同心的に取り付けられている。下方側第１スターホイル板３３と上方側第２スターホイル板３４は、それぞれに、処理対象容器４６を後述のガイドレール４５との間で保持し、容器搬送時に容器進行方向に向かって後方を押し、且つ、容器の軌道を妨げないように最小限にカットしたポケット（又は支持面）３５を外周面の一部として形成している。ポケット３５は、回転軸７の回転軸心線Ｌのまわりに等角度間隔で同一円周上に、複数個が配列されている。１個のポケット３５に対して、２個の鉛直方向筒２４が回転支持板２３の外周面に固定されて支持されている。
【００２２】
鉛直方向案内筒２４にはそれぞれに、鉛直方向に高さ方向昇降柱２５が案内されて通されている。高さ方向昇降柱２５の上端部位の鍔２６の下面と鉛直方向案内筒２４の上端面との間にコイルスプリング２７が介設されている。高さ方向昇降柱２５の下端部位は、転輪支持部位２８として形成されている。転輪支持部位２８に、転輪３１が回転自在に支持されている。鍔２６、転輪支持部位２８、転輪３１は、１個のポケット３５に対して各１個が設けられている。
【００２３】
鍔２６には、処理対象容器４６の首部の円形状はり出し部の下面を支える形状を有するネックホルダ下部３６ａが固定されている。ネックホルダ下部３６ａには、処理対象容器４６の首部の円形状はり出し部の上方に向かう運動を規制するための形状を有するネックホルダ上部３６ｂが固定されている。処理対象容器４６の首部の円形状はり出し部を挿入したとき、ネックホルダ下部３６ａとネックホルダ上部３６ｂとの間には僅かに隙間が残っている。
【００２４】
複数の転輪３１の回転軸心線は、それぞれに、回転軸心線Ｌに対する放射線を形成している。常態的に上方向にコイルスプリング２７により付勢されている高さ方向昇降柱２５に同体である転輪３１は、円筒状カム２１の環状軌道面に接している。円筒状カム２１は、回転円盤構造１２と導入側スターホイール１３との間で受け渡しが行われる角度範囲で滑らかに低位に下っていて、受け渡しの終了位置（後述される受け渡し実行終了位置５８）では、最低位に形成されている。その後に、ネックホルダ下部３６ａとネックホルダ上部３６ｂと容器との干渉がなくなるまで、最低位を維持した後に、滑らかに最高位まで上昇し、導入コンベア４より次の処理対象容器４６を受け取る。容器を受け取った後に最高位を維持し、再び、回転円盤構造１２と導入側スターホイル１３との間の受け渡し領域に至る。ネックホルダ３６は、鍔２６に放射方向に取り付けられている。
【００２５】
回転円盤構造１２は、それの外周面側に支持円筒台３７を構成している。支持円筒台３７の鍔部位３８に下部チャンバ３９がそれぞれに個別的に取り付けられ、下部チャンバ３９には、容器の側面と容器の底面を安定的に支持する容器受け（又は支持面）４４を形成している。容器受け４４は、処理対象容器４６が挿入可能である形状を有している。
【００２６】
回転円盤構造１２は、その外周側領域に非回転的にガイドレール４５を構成している。ガイドレール４５の内外の内周面の間の距離は、処理対象容器４６の直径に概ね等しい。下部チャンバ３９には、処理が実行される回転領域で上部チャンバ７０まで上昇して接合し、上部チャンバ７０と下部チャンバ３９とでそれらの内側に真空処理室が形成される。ガイドレール４５は、容器４６が回転円盤構造１２に接近する容器受け渡し領域に配置される第１ガイド４５−１と、その領域とスターホイル１３（又は１３’）の円周領域に配置される第２ガイド４５−２とから構成されている。
【００２７】
図３は、ネックホルダ３６を示している。各ネックホルダ３６は、第１把持面４８を有している。処理対象容器４６の上側部位を形成する口部分の外周面と第１把持面４８とは、２点又は２鉛直線で外接している。図４は、下方側第１スターホイル板３３又は下方側第２スターホイル板３４を示している。
【００２８】
図５は、受け渡しの幾何学的・力学的作用を示している。回転支持板２３と回転円盤構造１２とは、互いに歯車（図示されず）で噛み合って力学的に同期して回転する。回転支持板２３のピッチ円５１は、回転円盤構造１２のピッチ円５６と同じ周速度で機械的に同期して回転する。
【００２９】
処理対象容器４６は、ガイドレール４５の内周面とポケット３５の内周面４９に案内され、回転する内周面４９に押されて回転方向Ａに公転している。非受け渡し移行角度区間５３に位置する処理対象容器４６は、スターホイル１３の回転による遠心力により外周側に押された状態でガイドレール４５−２に案内されて、その中心線がピッチ円５１に一致して公転している。受け渡し挿入角度区間５４（＝２θ）に接近する受け渡し動作開始角度位置５５に処理対象容器４６が到達した時点で、高さ方向昇降柱２５が円筒状カム２１のカムプロフィルに規制されて降下を開始する。処理対象容器４６の中心線が通過する軌跡は、その後に、ガイドレール４５−１，２に案内されて、ピッチ円５６に乗り移る。
【００３０】
このとき、処理対象容器４６の中心線が通過するピッチ円５１とピッチ円５６は、互いに外接せず、２点Ｐ，Ｑで交叉している。受け渡し動作開始角度位置５５で降下し始める処理対象容器４６は、その中心線が、点Ｐまで進んだ受け渡し実行開始角度位置５７で、容器受け４４の中心線に一致する。回転支持板２３と同体的に角度２θの範囲で受け渡し実行開始角度位置５７から進む区間は、受け渡し挿入角度区間５４として設定されている。
【００３１】
受け渡し挿入角度区間５４は、受け渡し実行開始角度位置５７と受け渡し実行終了角度位置５８との間の角度領域である。処理対象容器４６の中心線は、点Ｐでピッチ円５１からピッチ円５６に乗り移り、その後に、ピッチ円５６に一致して公転する。
【００３２】
受け渡し実行開始角度位置５７と受け渡し実行終了角度位置５８との間の受け渡し挿入角度区間５４では、処理対象容器４６の中心線と回転支持板２３の回転軸心線Ｌとの間の距離は、連続的に減少し再び増大する。処理対象容器４６が回転支持板２３に対して最接近する受け渡し挿入角度区間５４の中間角度位置５９で、その減少距離は最小減少距離になり、その最小減少距離はオフセット量Ｄとして設定されている。
【００３３】
受け渡し挿入角度区間５４の範囲で、処理対象容器４６は、容器受け４４の中に挿入され、容器受け４４の底面に接触する直前まで移動する。その後に、処理対象容器４６は、回転円盤構造１２と同体に回転方向Ｂに回転し、ネックホルダ３６の拘束が外れた時点で、容器受け４４の底面に着床する。更に、スターホイル板３３，３４がガイドレール４５−１，２の拘束を外れた状態になった後に、溝カム７６，７７（図２参照）により、下部チャンバ３９が上昇し、次の密封・成膜工程に移行する。
【００３４】
受け渡し実行開始角度位置５７では、処理対象容器４６はポケット３５に対して最大に放射方向（半径方向外側）に離隔し、処理対象容器４６とポケット３５の間の隙間Ｓは半径方向に最大に拡大している。中間角度位置５９では、処理対象容器４６はポケット３５に対して最大に求心方向（半径方向内側）に接近し、処理対象容器４６とポケット３５の間の隙間Ｓは半径方向に最小に縮小し、特には、隙間Ｓは半径方向に零になっている。
【００３５】
その隙間Ｓの半径方向長さは、オフセット量Ｄに等しく、又は、そのオフセット量Ｄより僅かに大きい。図２は、そのようなオフセット量Ｄを示している。導出側の受け渡しは、既述の幾何学的・力学的作用の点で、既述の導入側の受け渡しに同じである。回転方向Ａと回転方向Ｂとをそれぞれに逆転させた図５が中間角度位置５９を鏡面対称面として対称に描かれた図面は、導出側の受け渡しを記述する。
【００３６】
導出側の受け渡しでは、処理対象容器４６は、容器受け４４に嵌まり込んだ状態から、導入側の受け渡し挿入角度区間５４に相当するピッチ円が重なっている間、即ち、受け渡し取り出し角度区間で、高さ方向昇降柱２５が上昇し、容器受け４４から抜き出される。その後に、排出スターホイル１３’のピッチ円の軌道に円滑に乗り移る移載運動が行われる。
【００３７】
以上に述べられたこのような受け渡しは、受け渡しの同期の制御が電子的制御によらずに機械的に確実に実行され、結果的に、コストの増大が抑制される。回転支持板２３と回転円盤構造１２の同期回転は、歯車により可能である。
【００３８】
図２に示されるように、非受け渡し移行角度区間５３にある処理対象容器４６の底面の軌道を軌道面６２とすると、軌道面６２は、下部チャンバ３９の上端面６３より僅かに上方の位置にある。
【００３９】
図２で、高さ方向昇降柱２５に対する高さ位置を調整自在に、ポケット３５の形状が異なる複数のスターホイル板３３，３４を高さ方向昇降柱２５に対して交換自在に取り付け、容器受け４４の寸法が異なる複数の下部チャンバ３９を交換自在に回転円盤構造１２に対して取り付けることにより、長さと太さが異なる複数の容器に対して成膜処理を実行することができる。
【００４０】
実施例：
ピッチ円５６が約１０００ｍｍφであり、ピッチ円５１が約６４０φであり、点Ｐと点Ｑとの間の角度がピッチ円５６に関して約３゜〜約６゜（同期角度）である設計例では、ある回転速度では、次の計算結果が得られる。
オフセット量（ｍｍ）　　　　２　　　３　　　４　５　６
線分ＰＱの長さ（ｍｍ）５７．４　７０．０　８０．７　９０．２　９８．８
同期角度（゜）　　　　　３．２　３．９　４．５　５．０　５．５
【００４１】
このように、同期時間と同期角度と同期時間がともに大きくなり過ぎず、且つ、オフセット量が小さくなり過ぎない範囲で、適正なパラメータが決定される。オフセット量が５ｍｍであることは、適正である。
【００４２】
【発明の効果】
本発明による回転的容器受け渡し装置、及び、成膜装置の受け渡し回転構造は、一方の軌道面の軌道から低位側の軌道面の他方の軌道に容器を移載する受け渡しを機械的に円滑に実行することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明による回転的容器の受け渡し装置の実施の形態を示す平面図である。
【図２】図２は、搬送系を示す断面図である。
【図３】図３は、図２の一部を示す平面図である。
【図４】図４は、図２の他の一部を示す平面図である。
【図５】図５は、受け渡しを示す幾何学的作用図である。
【符号の説明】
８…真空分配器
１１…チャンバ
１２…第２回転盤
２１…鉛直方向案内レール
２１’…下面
２３…第１回転盤
２４…鉛直方向案内器
２５…昇降器
２７…コイルスプリング
３１…転動ローラ
３４…歯面形成板
３５…第１支持面
３９，４１…支持器
４２…電極
４４…第２支持面
４５，４５−１，２…ガイド
４６…容器
４９…第１支持面
５１…第１ピッチ円
５４…交叉角度領域
５６…第２ピッチ円
Ｓ…隙間
【図１】
2004099304.tif 000003
【図２】
2004099304.tif 000004
【図３】
2004099304.tif 000005
【図４】
2004099304.tif 000006
【図５】
2004099304.tif 000007