(57)【要約】【課題】パッケージ素子１の強度に対する信頼性を高める。【解決手段】基板２の表面２ａにパッケージ本体１１が接合して成るパッケージ素子１において、基板表面２ａには、当該基板表面２ａの中央領域を囲繞し素子動作関連パターン３，４ａ，４ｂを横断する形態で、接着層６を形成する。パッケージ本体１１は、接着層６により、基板表面２ａに接着接続する。この接着層６によるパッケージ本体１１と基板表面２ａとの接着接合によって、パッケージ本体１１の内部空間を気密封止空間にすることができる。また、素子動作関連パターン３，４ａ，４ｂが形成されていない平坦な基板表面２ａの部分（２２）にパッケージ本体１１を陽極接合する。つまり、基板２とパッケージ本体１１を接着接合するだけでなく、接着接合よりも接合強度が強い陽極接合でも基板２とパッケージ本体１１を接合する。【選択図】        図１
2004288826.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面部に素子動作関連パターンが部分的に形成されている基板と、基板表面の中央領域を囲繞し前記素子動作関連パターンを横断する形態で基板表面に形成された接着層の周回パターンと、基板表面上に配置され前記接着層によって基板表面に接着されているパッケージ本体とを有し、接着層により囲まれた内部空間は、基板表面とパッケージ本体との接着によって気密封止された気密封止空間と成しており、前記パッケージ本体は、前記接着層による基板表面との接合に加えて、素子動作関連パターンが形成されていない平坦な基板表面部分に陽極接合されていることを特徴とするパッケージ素子。
【請求項２】
素子動作関連パターンが形成されていない平坦な基板表面部分には陽極接合用パターンが形成されており、パッケージ本体はその陽極接合用パターンに陽極接合して基板に接合されていることを特徴とする請求項１記載のパッケージ素子。
【請求項３】
接着層は、加熱によって接着する接着材料により形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のパッケージ素子。
【請求項４】
気密封止空間の内部には、可動部が収容配置されていることを特徴とする請求項１又は請求項２又は請求項３記載のパッケージ素子。
【請求項５】
素子動作関連パターンは、導体パターンであることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１つに記載のパッケージ素子。
【請求項６】
素子動作関連パターンは、高周波信号を導通させるための高周波用配線パターンであることを特徴とする請求項５記載のパッケージ素子。
【請求項７】
基板表面には、素子動作関連パターンとして、高周波信号を導通させるための高周波用配線パターンが形成されると共に、その高周波用配線パターンの両側には間隔を介してグランドパターンが形成されてコプレーナ線路が構成されており、そのコプレーナ線路を構成する高周波用配線パターンとその両側のグランドパターンに共通に対向するスイッチング用導体部が気密封止空間内の可動部に設けられ、また、気密封止空間には、そのスイッチング用導体部を高周波用配線パターンに対して遠近方向に変位させるための駆動手段が形成されており、その駆動手段によるスイッチング用導体部の変位によって、高周波用配線パターンがスイッチング用導体部を介して高周波的にグランドパターンに接続することにより高周波用配線パターンの高周波信号の導通をオフし、高周波用配線パターンとグランドパターン間を高周波的に非接続状態とすることにより高周波用配線パターンの高周波信号の導通をオンさせる構成と成し、パッケージ素子は、高周波信号導通制御用スイッチと成していることを特徴とする請求項４記載のパッケージ素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板表面上にパッケージ本体が接合されて成るパッケージ素子に関するものである。
【０００２】
【背景技術】
図５（ａ）にはパッケージ素子の一構成例が簡略化された断面図により示され、また、図５（ｂ）には図５（ａ）のａ−ａ部分の断面図が示されている（例えば特許文献１参照）。このパッケージ素子３０は、基板（例えばガラス基板）３１と、この基板３１の表面を部分的に間隔を介して覆うパッケージ本体３２とを有して構成されている。この例では、パッケージ本体３２は、基板３２ａ（例えばシリコン基板）と基板３２ｂ（例えばガラス基板）がフリットガラス等の溶着ガラス材から成る接着材料３６により接着され一体化されて構成されている。このパッケージ本体３２の基板３２ａが加工されて基板３１の表面を部分的に覆う内部空間３３が形成されている。パッケージ本体３２は基板３１の表面に接着材料（例えば溶着ガラス材）３７によって接着されている。
【０００３】
ところで、基板３１の表面には、当該基板表面よりも突出した凸パターン（例えば配線パターン）３４が、内部空間３３からパッケージ本体３２の外に引き出される態様で形成されている。この例では、パッケージ本体３２には、その凸パターン３４に対向する部分に、凸パターン３４との接触を避けるための段差３８が形成されている。この段差３８と基板３１に囲まれている空間部に接着材料（例えば溶着ガラス材）３９が充填形成されて、段差３８による隙間が塞がれている。
【０００４】
接着材料３７，３９によって、パッケージ本体３２は隙間無く基板３１に接着されており、それら基板３１とパッケージ本体３２によって囲まれている内部空間３３は、気密封止された気密封止空間となっている。
【０００５】
上記構成を持つパッケージ素子３０が例えば加速度センサやジャイロである場合には、気密封止空間３３には、例えば加速度や角速度などを検知するセンサ検知部が収容される。また、パッケージ素子３０が例えばスイッチ素子である場合には、気密封止空間３３には、例えば信号の導通オン・オフを制御するためのスイッチング動作部が収容される。
【０００６】
【特許文献１】
特開２０００−３１０６４８号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記構成のパッケージ素子３０では、パッケージ本体３２は基板３１に接着材料３７，３９により接着接合されている。その接着材料３７，３９は、温度変動などの影響を受けて劣化し易いため、基板３１からパッケージ本体３２が剥離してしまうという問題が生じる虞がある。これにより、パッケージ素子３０の強度に対する信頼性が低いという問題がある。
【０００８】
また、基板３１とパッケージ本体３２間の間隔Ｈ（図５（ｂ）参照）を精度良く設定通りの寸法にしなければならない場合があるが、接着材料３７，３９を利用して基板３１とパッケージ本体３２を接着接合した場合には、接着材料３７，３９の柔軟性のために、基板３１とパッケージ本体３２間の間隔Ｈを設定通りの寸法に高精度に制御することは非常に難しいという問題がある。また、接着材料３７，３９は温度変動によって膨張したり、収縮するので、基板３１とパッケージ本体３２間の間隔Ｈが、温度に応じて変動してしまうという問題がある。
【０００９】
本発明は上記課題を解決するために成されたものであり、その目的は、素子動作関連パターンが形成されている部分も含めた基板表面部分にパッケージ本体を接合しなければならない場合であっても、強い接合強度でもって基板表面とパッケージ本体とを接合できると共に内部空間を気密封止することができ、また、基板表面に対するパッケージ本体の高さ制御を容易に行うことができるパッケージ素子を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明は次に示す構成をもって前記課題を解決するための手段としている。すなわち、この発明は、基板表面部に素子動作関連パターンが部分的に形成されている基板と、基板表面の中央領域を囲繞し前記素子動作関連パターンを横断する形態で基板表面に形成された接着層の周回パターンと、基板表面上に配置され前記接着層によって基板表面に接着されているパッケージ本体とを有し、接着層により囲まれた内部空間は、基板表面とパッケージ本体との接着によって気密封止された気密封止空間と成しており、前記パッケージ本体は、前記接着層による基板表面との接合に加えて、素子動作関連パターンが形成されていない平坦な基板表面部分に陽極接合されていることを特徴としている。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明に係る実施形態例を図面に基づいて説明する。
【００１２】
図１（ａ）には本発明に係るパッケージ素子の一実施形態例が模式的な平面図により示され、図１（ｂ）には図１（ａ）のＡ−Ａ部分の模式的な断面図が示され、また、図１（ｃ）には図１（ａ）のＢ−Ｂ部分の模式的な断面図が示されている。
【００１３】
この実施形態例のパッケージ素子１はシリコンから成る基板２を有しており、この基板２の表面２ａには、素子動作関連パターンである高周波用配線パターン（導体パターン）３が、基板表面２ａの一端側から直線状に中央領域を通って他端側に至る形態でもって形成されている。また、基板表面２ａにはその高周波用配線パターン３の両側にそれぞれ間隔を介してグランドパターン（導体パターン）４ａ，４ｂが形成されている。つまり、それら高周波用配線パターン３とグランドパターン４ａ，４ｂによりコプレーナ線路５が形成されている。この実施形態例では、それら高周波用配線パターン３とグランドパターン４ａ，４ｂは、それぞれ、基板表面２ａよりも突出した凸パターンとなっている。
【００１４】
また、この実施形態例では、基板表面２ａには、当該基板表面２ａの中央領域を囲繞しコプレーナ線路５を横断する態様でもって接着層６の周回パターンが形成されている。この接着層６はコプレーナ線路５の厚みよりも厚い層と成している。この接着層６を構成する接着材料は、陽極接合工程での加熱の熱（例えば３００℃〜４００℃程度の熱）に耐え得る材料であれば、特に限定されるものではないが、その例を挙げると、例えば、ポリイミド系接着材料や、エポキシ系接着材料や、フリットガラスなどがある。なお、ポリイミド系接着材料により接着層６を形成した場合には、陽極接合時の熱を硬化の為に利用することができる。また、フリットガラスにより接着層６を形成した場合には、フリットガラスを融点以上に加熱して溶融した後に、冷却させて接着させることになる。
【００１５】
この接着層６には、基板表面２ａの中央領域を囲繞する側壁部７が接着接合されている。この実施形態例では、側壁部７は単結晶シリコンにより構成されている。
【００１６】
また、この実施形態例では、基板表面２ａの上方側にはガラス基板８が配置されており、このガラス基板８は、側壁部７に陽極接合して側壁部７および接着層６により囲まれている空間１０の上部を塞いでいる。この実施形態例では、側壁部７とガラス基板８の陽極接合体によって、基板表面２ａの中央領域を空間１０を介して覆うパッケージ本体１１が構成されている。このパッケージ本体１１と基板表面２ａとの接着層６による接着接合によって、パッケージ本体１１の内部空間１０は気密封止空間と成している。
【００１７】
この実施形態例では、パッケージ素子１は高周波信号導通制御用スイッチと成しており、基板表面２ａとパッケージ本体１１により囲まれている気密封止空間１０の内部には、高周波信号（例えば１ＧＨｚ以上の周波数を持つ信号）の導通オン・オフ制御を行うためのスイッチング動作部が収容されている。
【００１８】
つまり、気密封止空間１０の内部には、コプレーナ線路５を構成する高周波用配線パターン３およびその両側のグランドパターン４ａ，４ｂに共通に対向する可動部１３が収容配置されている。この可動部１３は、梁１４と固定部１５を介してガラス基板８に、基板２に対して遠近方向に変位自在な状態で支持されている。この可動部１３には、コプレーナ線路５と対向する面にスイッチング用導体部１６が、また、ガラス基板８に対向する面に駆動用可動電極１７が、それぞれ、形成されている。さらに、ガラス基板８には駆動用固定電極１８が駆動用可動電極１７に対向させて形成されている。
【００１９】
さらにまた、ガラス基板８には、駆動用固定電極１８を外部の電圧供給手段１９に接続させるためのスルーホール２０ａおよび配線パターン２１（図１（ａ）参照）が形成されている。また、この実施形態例では、可動部１３および梁１４および固定部１５は単結晶シリコンにより構成されており、可動部１３に形成されている駆動用可動電極１７を、それら可動部１３と梁１４と固定部１５を介して外部の電圧供給手段１９に接続させるためのスルーホール２０ｂがガラス基板８に形成されている。そのようなスルーホール２０ａ，２０ｂや配線パターン２１などによって、外部の電圧供給手段１９から、互いに対向し合う駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間に電圧を印加することができる。
【００２０】
その駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間に電圧が印加されると、それら駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間に静電引力が発生し、この静電引力によって、可動部１３がガラス基板８側へ変位する。つまり、可動部１３は基板２（コプレーナ線路５）から離れる方向に変位する。この実施形態例では、駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８が、可動部１３をコプレーナ線路５に対して遠近方向に変位させる駆動手段と成している。
【００２１】
この実施形態例では、高周波用配線パターン３は、スイッチング用導体部１６によって、次に示すようなＬＣ共振回路を介しグランド（グランドパターン４ａ，４ｂ）に接続されたような状態となる。そのＬＣ共振回路とは、スイッチング用導体部１６に基づいたインダクタンス成分と、スイッチング用導体部１６と、高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂとの間に形成される容量とを有するものである。
【００２２】
この実施形態例では、駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間に静電引力が発生していないとき（非駆動時）に、前記ＬＣ共振回路の共振周波数が、高周波用配線パターン３を通電する高周波信号の周波数とほぼ等しくなるように、スイッチング用導体部１６と、高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂとの間の間隔（容量）が設定されている。このため、非駆動時には、ＬＣ共振回路の共振周波数と、高周波用配線パターン３を通電する高周波信号の周波数とがほぼ等しくなり、これにより、高周波用配線パターン３は、高周波的にグランドパターン４ａ，４ｂに接地された状態となる。よって、高周波用配線パターン３の高周波信号の導通はオフ状態となる。
【００２３】
また、電圧供給手段１９からの電圧供給によって、駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間に静電引力が発生して可動部１３がガラス基板８側に変位し、これにより、スイッチング用導体部１６と、高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂとの間の間隔が広がると、当該スイッチング用導体部１６と、高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂとの間の容量が小さくなって、前記ＬＣ共振回路の共振周波数が、高周波用配線パターン３を通電する高周波信号の周波数とは異なるものとなる。これにより、高周波用配線パターン３は、高周波的にグランドパターン４ａ，４ｂと非接続状態となり、高周波用配線パターン３の高周波信号の導通はオン状態となる。
【００２４】
この実施形態例のパッケージ素子１において最も特徴的なことは、パッケージ本体１１が、接着層６による基板表面２ａとの接着接合に加えて、コプレーナ線路５が形成されていない平坦な基板表面部分に陽極接合されていることである。
【００２５】
すなわち、この実施形態例では、基板表面２ａには、コプレーナ線路５の形成領域を避けた平坦な部分に、陽極接合用パターン２２が形成されている。ここでは、接着層６により囲繞されている内側に、複数の陽極接合用パターン２２（２２ａ，２ｂ）がコプレーナ線路５を間隔を介して挟み込むように配置されている。それら陽極接合用パターン２２はガラス（例えばＮａイオンやＫイオンが含有されたＳｉＯ２（例えばパイレックス（登録商標）））により構成され、それら陽極接合用パターン２２ａ，２２ｂの高さ（厚み）は揃えられ、接着層６とほぼ同様な厚みとなっている。
【００２６】
また、ガラス基板８には、その陽極接合用パターン２２の配置位置に対応する位置に、陽極接合用突起部２３が立設されている。この陽極接合用突起部２３は単結晶シリコンにより構成されており、ガラス基板８とは別部材のものであり、当該陽極接合用突起部２３はガラス基板８に陽極接合されている。このパッケージ本体１１の陽極接合用突起部２３と、陽極接合用パターン２２とが陽極接合されて、パッケージ本体１１は基板表面２ａに陽極接合されている。
【００２７】
この実施形態例では、その陽極接合用パターン２２と陽極接合用突起部２３によって、基板表面２ａとガラス基板８間の間隔が定まる構成となっている。その陽極接合用パターン２２は例えばスパッタ等の成膜形成技術を利用して作製され、また、陽極接合用突起部２３は例えば単結晶シリコンをエッチング等により加工して作製されるものであり、陽極接合用パターン２２および陽極接合用突起部２３は両方共に、寸法精度高く形成することができる。また、陽極接合用パターン２２は例えばガラスにより、また、陽極接合用突起部２３は例えば単結晶シリコンによって、それぞれ、形成されるものであり、それら陽極接合用パターン２２および陽極接合用突起部２３は柔軟性や弾力性が低い。これら作製手法と材料により、陽極接合用パターン２２および陽極接合用突起部２３によって、基板表面２ａとガラス基板８間の間隔をほぼ設定通りの寸法にすることができる。
【００２８】
この実施形態例では、スイッチング用導体部１６と、高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂとの間の間隔は、前述したように、高周波用配線パターン３の高周波信号の導通オン・オフ制御に非常に重要である。非駆動時（駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間に静電引力が発生していないとき）のスイッチング用導体部１６と、高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂとの間の間隔Ｄは、基板表面２ａとガラス基板８間の間隔によって定まる。この基板表面２ａとガラス基板８間の間隔は前記したように、ほぼ設定通りの寸法とすることができることから、前記間隔Ｄをほぼ設定通りの間隔とすることができる。
【００２９】
この実施形態例では、高周波用配線パターン３の高周波信号の導通オン・オフ制御を考慮して、前記間隔Ｄが、高周波用配線パターン３の高周波信号の導通をオフ状態とするための間隔となるように、基板表面２ａとガラス基板８間の間隔（つまり、陽極接合用パターン２２および陽極接合用突起部２３の高さ）が設定されている。また、基板表面２ａに対してガラス基板８が傾かないように、複数の陽極接合用パターン２２および陽極接合用突起部２３の高さが揃えられている。
【００３０】
このように、この実施形態例では、陽極接合用パターン２２を介したパッケージ本体１１と基板表面２ａ間の陽極接合によって、前記高周波信号の導通オン・オフ制御に重要な間隔Ｄを、ほぼ設定通りの寸法とすることができるので、高性能で、損失が少ない高周波信号導通制御用スイッチを提供することができる。
【００３１】
また、この実施形態例では、可動部１３をガラス基板８に支持固定するための固定部１５と、ガラス基板８とは、接着接合ではなく、陽極接合により接合されている。このため、可動部１３とガラス基板８との間の間隔、換言すれば、駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８との間の間隔をほぼ設定通りとすることができる。駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間の間隔は可動部１３を変位させるための駆動電圧の大きさに関与しているため、駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間の間隔が製品毎にばらついてしまう場合には、その駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間の間隔に応じて可動部変位用の駆動電圧を変化させなければならず、これに起因して、駆動電圧がばらつくという問題が発生する。これに対して、この実施形態例では、ガラス基板８と固定部１５の陽極接合により駆動用可動電極１７と駆動用固定電極１８間の間隔をほぼ設定通りにできるので、製品によらずに可動部変位用の駆動電圧をほぼ一定とすることができて、駆動電圧が安定化したパッケージ素子１を提供することができる。
【００３２】
さらに、この実施形態例では、基板表面２ａとパッケージ本体１１とを接合して内部空間１０を封止する部分には、基板表面２ａとパッケージ本体１１間にコプレーナ線路５が挟み込まれるような箇所があるが、その基板表面２ａとパッケージ本体１１を接着材料を利用して接着接合することにより、基板表面２ａとパッケージ本体１１間に隙間が生じることを防止しながら、基板表面２ａとパッケージ本体１１間を接着接合させて内部空間１０を良好に気密封止することができる。その上、この実施形態例では、その接着接合に加えて、パッケージ本体１１を基板表面２ａに陽極接合しているので、基板表面２ａとパッケージ本体１１間の接合強度を、接着接合だけの場合よりも格段に向上させることができる。
【００３３】
よって、この実施形態例において特徴的な構成を備えることによって、強度に対する信頼性が高く、かつ、性能に優れた高周波信号導通制御用スイッチを提供することができるというものである。
【００３４】
以下に、この実施形態例のパッケージ素子１の製造工程の一例を説明する。例えば、まず、図２（ａ）に示されるように、シリコンから成る基板２の表面２ａに高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂを形成してコプレーナ線路５を設ける。その高周波用配線パターン３およびグランドパターン４ａ，４ｂは、例えば、厚さ１μｍのＡｕの導体パターンにより形成する。
【００３５】
その後、図２（ｂ）に示されるように、基板表面２ａに例えばガラス（パイレックス（登録商標））によって陽極接合用パターン２２をコプレーナ線路５の形成領域を避けた平坦な部分に形成する。この陽極接合用パターン２２の厚みは、スイッチング用導体部１６とコプレーナ線路５間の間隔が設定の間隔となるように、陽極接合用突起部２３の高さや、コプレーナ線路５の厚み等を考慮して定められるものであり、特に限定されるものではないが、その一例として、例えば陽極接合用パターン２２は厚さ約２μｍに形成される。また、陽極接合用パターン２２を形成するための手法には様々な手法があり、ここでは、何れの形成手法を採用して陽極接合用パターン２２を形成してもよいが、その具体例を挙げると、例えば、スパッタ法や、電子線蒸着法などがある。
【００３６】
陽極接合用パターン２２を形成した後には、図２（ｃ）に示されるように、例えばフォトリソグラフィ工法を利用して、基板表面２ａに接着層６を形成する。つまり、基板２の全面に接着材料（例えば紫外線感光型のポリイミド系やエポキシ系の接着剤など）をスピン塗布手法やスプレー塗布手法を利用して形成する。そして、接着層形成用のマスクを利用して、接着層６となる部分だけに紫外線を照射させて当該紫外線が照射された接着材料部分だけを感光させる。その後、基板表面２ａから、感光していない接着材料部分を除去する。これにより、基板表面２ａの中央領域を囲繞する形態の周回パターンの接着層６が形成される。
【００３７】
この実施形態例では、接着層６は、後工程で熱による硬化処理が施される。その熱硬化により接着層６は収縮するので、接着層６の形成工程では、後工程の熱硬化による収縮を考慮して、後工程の熱硬化による収縮後の接着層６が陽極接合用パターン２２とほぼ同じ厚みとなるように、陽極接合用パターン２２よりも厚い接着層６を形成する。例えば、陽極接合用パターン２２の厚みが約２μｍである場合に、接着層６がポリイミドにより構成される場合には、接着層６の形成工程では、接着層６の厚みを約２．２μｍとする。
【００３８】
一方、基板２に陽極接合用パターン２２や接着層６を形成する工程とは別に、図２（ｄ）に示すように、ガラス基板８に、スルーホール２０ａ，２０ｂを形成し、また、成膜技術等を利用して駆動用固定電極１８や配線パターンを形成する。また、図２（ｅ）に示すように、シリコン基板２４において可動部１３および梁１４となる部分に凹部２５をエッチング等によって形成し、その後、そのシリコン基板２４にスイッチング用導体部１６や駆動用可動電極１７を形成する。
【００３９】
そして、図２（ｆ）に示すように、ガラス基板８とシリコン基板２４を陽極接合する。然る後に、図２（ｇ）に示すように、その陽極接合体のシリコン基板２４を例えばエッチング加工して可動部１３と梁１４と固定部１５と陽極接合用突起部２３と側壁部７を形作る。これにより、パッケージ本体１１が作製されると同時に、パッケージ本体１１に支持固定された可動部１３等が作製される。
【００４０】
その後、図２（ｈ）に示されるように、コプレーナ線路５等が形成された基板２と、パッケージ本体１１とを次のように接合する。この接合工程では、まず、パッケージ本体１１の側壁部７を、基板２の接着層６に、また、パッケージ本体１１の陽極接合用突起部２３を、基板２の陽極接合用パターン２２に、それぞれ、位置合わせして、パッケージ本体１１を基板２に重ね合わせる。そして、それら基板２およびパッケージ本体１１を加熱する。この加熱温度は、接着層６の溶融温度や、陽極接合を行うための装置の能力や、陽極接合する部分の面積などを考慮して決定されるものである。その加熱温度の一例として、例えば、約４００℃を挙げることができる。
【００４１】
そのように加熱している状態で、基板２とパッケージ本体１１間に直流電圧を印加する。これにより、基板２の陽極接合用パターン２２と、パッケージ本体１１の陽極接合用突起部２３とが陽極接合する。具体例を挙げると、例えば、基板２とパッケージ本体１１間に印加する直流電圧を５００Ｖとし、この直流電圧を３０分間印加する。
【００４２】
この陽極接合工程での加熱の熱によって、接着層６が柔軟化してパッケージ本体１１の側壁部７に接着する。その後、接着層６が熱硬化して、側壁部７は接着層６を介して基板２に接着接合する。なお、加熱温度の一例として、約４００℃を例に挙げたが、例えば、４００℃程度に加熱してしまうと、接着層６が分解して接着材料としての機能を果たさなくなってしまうような場合には、例えば、加熱温度を３５０℃程度に下げ、直流電圧を上げたり、直流電圧の印加時間を長くして陽極接合することができる。
【００４３】
ところで、パッケージ素子１を１個ずつ上記したような工程を経て作製してもよいが、パッケージ素子１の製造効率を高めるために、例えば、複数の基板２を作り出すことができる親基板の状態のままで、その親基板の予め定めた各パッケージ素子形成領域にそれぞれコプレーナ線路５や陽極接合用パターン２２等を同時に形成する。また同様に、複数のガラス基板８やシリコン基板２４を作り出すことができる親基板の状態のままで、前記したような製造工程を経て複数のパッケージ本体１１や可動部１３等を同時に形成する。そして、親基板の状態のままで、基板２とパッケージ本体１１の陽極接合を行って、複数のパッケージ素子１が形成された親基板接合体を作製する。その後、その親基板接合体を設定の切断ラインに沿って例えばダイシングにより切断して、各パッケージ素子１毎に分離分割する。このように製造することにより、複数のパッケージ素子１を同時に作製することができるので、製造効率を高めることができる。
【００４４】
この実施形態例では、基板２とパッケージ本体１１の接合部分に凸パターンであるコプレーナ線路５が形成されているが、そのコプレーナ線路５が形成されている接合部分は、接着層６を利用して接着接合しているので、コプレーナ線路５が形成されている部分であっても基板２とパッケージ本体１１を隙間無く接着接合することができる。このため、親基板接合体をダイシングする際に、ダイシングに利用する水や、ダイシングにより発生した切削くずなどがパッケージ素子１の気密封止空間３３内に侵入してしまうことを防止できる。
【００４５】
また、基板２とパッケージ本体１１は接着接合だけでなく、陽極接合によっても接合されているので、ダイシング工程において、ダイシングの衝撃で、基板２とパッケージ本体１１が剥離してしまうという問題を回避することができる。
【００４６】
なお、この発明はこの実施形態例の形態に限定されるものではなく、様々な実施の形態を採り得る。例えば、この実施形態例では、陽極接合用パターン２２は直線状であったが、例えば、陽極接合用パターン２２は、図３（ａ）に示されるような円形状や、図３（ｂ）に示すようなＬ字形状や、図３（ｃ）に示されるようなコ字形状など、様々な形状を採り得り、その形状は特に限定されるものではない。また、その陽極接合用パターン２２の形成位置や形成数も特に限定されるものではないが、例えば、可動部３の配置領域を囲むように、あるいは、挟み込むように、複数の陽極接合用パターン２２を点在配置することが好ましい。これにより、基板２に対するガラス基板８の傾きを防止することができる。
【００４７】
さらに、この実施形態例では、シリコンから成る基板２の表面２ａに、ガラスの陽極接合用パターン２２を形成し、当該陽極接合用パターン２２に、パッケージ本体１１のシリコンから成る陽極接合用突起部２３を陽極接合させる構成であったが、例えば、基板２がガラス基板により構成されているような場合には、陽極接合用突起部２３を、側壁部７よりも突出させて、その陽極接合用突起部２３を直接的に基板２に陽極接合させてもよい。
【００４８】
さらに、この実施形態例では、基板２の表面２ａは平坦面であったが、例えば、図４（ａ）の斜視図に示されるように、基板２の表面２ａに凹部２６を形成し、この凹部２６の底面にコプレーナ線路５を形成してもよい。このように、基板表面２ａに凸パターンが形成されているだけでなく、基板表面２ａ自体にも凹凸がある構成であっても、その基板表面２ａの中央領域を囲繞する形態の接着層６の周回パターンを基板表面２ａに形成し、この接着層６を利用して、基板表面２ａにパッケージ本体１１を接着接合することにより、基板表面２ａとパッケージ本体１１を隙間無く接合させることができる。なお、もちろん、接着層６の厚みは、基板表面２ａの凹凸の高低差よりも厚くする。
【００４９】
また、この実施形態例では、コプレーナ線路５の高周波用配線パターン３とグランドパターン４ａ，４ｂは基板表面２ａよりも突出した凸パターンであったが、図４（ｂ）に示すように、それら高周波用配線パターン３とグランドパターン４ａ，４ｂは当該パターンの表面側部分を露出させた態様で基板２の表面部分に埋設されている構成としてもよい。また、図４（ｃ）に示されるように、基板２の表面２ａに凹部２６を形成し、この凹部２６の底面部分に高周波用配線パターン３とグランドパターン４ａ，４ｂが埋設されている構成としてもよい。このように、この発明を構成する素子動作関連パターンは基板表面に突出形成された凸パターンだけでなく、基板表面部分に一部を露出させて埋設されたパターンをも含むものである。また、素子動作関連パターンは導体パターンに限定されず、素子の動作に関連する絶縁体パターンをも含むものである。
【００５０】
さらに、この実施形態例では、高周波用配線パターン３はコプレーナ線路を構成するものであったが、例えば、マイクロストリップ線路を構成する高周波用配線パターンが形成されていてもよい。
【００５１】
さらに、この実施形態例では、パッケージ素子１は、高周波信号導通制御用スイッチであったが、この発明は、高周波信号導通制御用スイッチに限定されるものではなく、例えば、加速度センサやジャイロなどのセンサであるパッケージ素子にも適用することができる。この場合には、基板２とパッケージ本体１１により形成される気密封止空間１０の内部には、加速度や角速度などを検知するための可動部が収容配置される。
【００５２】
さらに、この実施形態例では、基板２とパッケージ本体１１の陽極接合部位は、接着層６により囲繞されている空間内に配置されていたが、接着層６よりも外側位置でパッケージ本体１１が基板表面２ａに陽極接合されている構成としてもよい。
【００５３】
さらに、この実施形態例では、基板２とパッケージ本体１１により構成される気密封止空間１０の内部には、可動部が収容配置されている例を示したが、例えば、可動部を持たない例えば精巧な回路が形成されていてもよい。
【００５４】
さらに、この実施形態例では、パッケージ本体１１は、ガラス基板８と、シリコンから成る側壁部７との接合体により構成されていたが、例えば、パッケージ本体１１は一つの材料により構成されていてもよい。
【００５５】
【発明の効果】
この発明によれば、基板表面と、パッケージ本体とは、基板表面の中央領域を囲繞し基板表面部の素子動作関連パターンを横断する形態で基板表面に形成された接着層を介して、接着接合されている。その接着層の柔軟性によって、基板表面の接着接合部分に凹凸が有ったとしても、パッケージ本体を接着層を介して基板表面に隙間無く接合することができて、パッケージ本体内部の空間を気密封止することができる。
【００５６】
その上、この発明では、パッケージ本体は、基板表面に接着接合するだけでなく、素子動作関連パターンが形成されていない平坦な基板表面部分に陽極接合されている。陽極接合は、原子・分子間の結合によるものであることから、接合強度が非常に強く、これにより、パッケージ本体を基板表面に接着接合するだけの場合に比べて、パッケージ本体と基板表面間の接合強度を格段に強めることができる。また、陽極接合は、温度変動などの環境からの影響を受け難いので、パッケージ本体と基板表面の接合は、環境の影響に対して強いものとなる。よって、パッケージ本体が基板表面から剥がれるという事態発生を抑制することができて、強度に対する信頼性の高いパッケージ素子を提供することができる。
【００５７】
さらに、接着層は温度変動に応じて層の厚み（高さ）が変動してしまうので、パッケージ本体を基板表面に接着層だけで接合している場合には、例えば温度変動などによって、接着層を介したパッケージ本体と基板表面間の間隔が変動してしまうが、この発明では、パッケージ本体は接着接合に加えて陽極接合でもっても基板表面に接合しており、その陽極接合は温度変動の影響を受け難いので、当該陽極接合によって、接着層に起因したパッケージ本体と基板表面間の間隔変動を防止することができる。
【００５８】
さらにまた、接着層によりパッケージ本体を基板表面に接着接合させる際に、接着層の柔軟性に起因して、パッケージ本体と基板表面間の間隔を設定通りの寸法とすることは難しいのに対して、陽極接合は、例えばガラスとシリコンというように、柔軟性が低い材料同士が接合するので、そのような材料の柔軟性に起因した問題を回避することができる。
【００５９】
このため、例えば、接着層を介したパッケージ本体と基板表面間の予め定められた設定間隔と同じ高さ（厚み）を持つ陽極接合用パターンを、素子動作関連パターンが形成されていない平坦な基板表面部分に形成し、その陽極接合用パターンにパッケージ本体を陽極接合する構成とすることで、接着層を介したパッケージ本体と基板表面間の間隔を設定通りの寸法とすることができる。
【００６０】
接着層が、加熱によって接着性が生ずる接着材料により構成されているものにあっては、パッケージ本体を基板表面に陽極接合すると同時に、接着層を介してパッケージ本体と基板表面を接着接合させることが可能となる。このため、製造工程の簡略化を図ることができる。
【００６１】
気密封止空間の内部に可動部が収容配置されているものにあっては、空気のダンピングの影響を無くして可動部の動作を円滑にするために、可動部を減圧した空間内に封止することが好ましい。この発明では、接着層によるパッケージ本体と基板表面間の接着接合によって、パッケージ本体の内部の空間に可動部を収容し当該空間を減圧した状態で気密封止することができる。可動部の動作はパッケージ素子の性能に関与するので、減圧した気密封止空間内に可動部を収容配置して可動部の動作を良好にできることによって、パッケージ素子の性能を高めることができる。
【００６２】
パッケージ本体の内部空間と、パッケージ本体の外部との間で、導通損失を抑制しながら高周波信号を導通させるためには、例えばパッケージ本体や基板に形成されるスルーホールを用いることなく、素子動作関連パターンである高周波用配線パターンだけで、パッケージ本体の内部空間と外部間の高周波信号の導通を行うことが好ましい。この発明では、そのような素子動作関連パターンを形成しても、パッケージ本体の内部の空間を気密封止することができ、かつ、強いパッケージ本体と基板表面との接合強度を持たせながら、高周波信号の導通損失を抑制することができるという効果を得ることができる。
【００６３】
また、パッケージ素子が高周波信号導通制御用スイッチと成しているものにあっては、高周波用配線パターンおよびその両側のグランドパターンと、それらに共通に対向するスイッチング用導体部との間の間隔が、高周波信号の導通制御にとって、非常に重要である。この発明では、陽極接合によって、その高周波信号の導通制御に大きく関与する間隔を精度高く制御することができる。これにより、高性能で、損失が少ない高周波信号導通制御用スイッチを提供することが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るパッケージ素子の一実施形態例を説明するための図である。
【図２】図１に示すパッケージ素子の製造工程例を説明するための図である。
【図３】陽極接合用パターンのその他の形態例を示すモデル図である。
【図４】基板のその他の形態例を示す斜視図である。
【図５】パッケージ素子の一例を簡略化して表した断面図である。
【符号の説明】
１  パッケージ素子
２  基板
３  高周波用配線パターン
４ａ，４ｂ  グランドパターン
６  接着層
１０  気密封止空間
１１  パッケージ本体
１３  可動部
１６  スイッチング用導体部
２２  陽極接合用パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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