(57)【要約】【課題】複数のレーザ光を出射可能な光源装置を提供し、光源装置内の光学レイアウト自由度を向上させる。【解決手段】少なくとも、複数のレーザ光を放射する、一つ又は複数のレーザチップ１と、上記複数のレーザ光を近接して出射するビーム合成手段２−１とから構成される光源装置２１において、上記複数のレーザ光の発光点間隔ｐ１が、上記ビーム合成手段２−１により比例変換されて比例縮小又は比例拡大されるようにした。【選択図】　　　図１
2004013021.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも複数のレーザ光を出射する一つ又は複数のレーザチップと、上記複数のレーザ光を入射し近接させてから出射するビーム合成手段と、を備えた光源装置において、上記複数のレーザ光の発光点間隔が、上記ビーム合成手段により比例変換されて比例縮小又は比例拡大されるようにしたことを特徴とする光源装置。
【請求項２】
上記レーザチップを複数個備えたことを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項３】
上記レーザチップ内には複数の発光点を備えたことを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項４】
上記レーザチップ内の発光点毎に発振波長が異なることを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項５】
上記ビーム合成手段は、透過型光学素子であることを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項６】
上記ビーム合成手段は、ハーフミラーを利用したものであることを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項７】
上記ビーム合成手段は、レーザ光の有する偏光特性を利用したものであることを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項８】
上記ビーム合成手段から出射された複数のレーザ光のファーフィールドパターンの長軸は、互いに略平行であることを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項９】
請求項１〜８記載の光源装置において、複数のレーザ光を放射するレーザチップと、上記レーザ光を近接させて出射するビーム合成手段とは同一基板上に実装され、且つ同一パッケージ内に収納されていることを特徴とする光源装置。
【請求項１０】
少なくとも請求項１〜９記載の光源装置と、上記光源装置から出射された複数のレーザ光をカップリングするためのカップリングレンズと、を備えたことを特徴とする光源モジュール。
【請求項１１】
複数のレーザビームにより同時に被走査面上を走査する光走査装置において、上記複数のレーザビームの光源モジュールとして、請求項１０記載の光源モジュールを用いたことを特徴とする光走査装置。
【請求項１２】
少なくとも、請求項１１記載の光走査装置によって静電潜像が形成される感光手段と、静電潜像をトナーで顕像化する現像手段と、顕像化されたトナー像をシート状の記録媒体に転写する転写手段と、から構成されることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１３】
被走査面となる感光手段を複数有することを特徴とする請求項１２記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ書込光学系の光書込ユニット、光ピックアップに関するもので、更に詳しくは、レーザプリンタ、デジタル複写機、レーザファクシミリ及び光ディスク装置等の光源装置及び光源モジュール及び光走査装置並びに画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
被走査面における複数の走査線を同時に光走査するマルチビーム走査装置が実現されつつある。マルチビーム走査装置には、発光強度を独立に変調できる複数の発光源を持つマルチビーム光源装置が必要であり、種々のマルチビーム光源装置が提案され、また実現されている。
その一つの提案として、本出願人の先願である特願２０００−３５４０４４「マルチビーム光源装置・マルチビーム走査装置・画像形成装置」がある。同出願は、複数の発光点からのレーザ光を、反射型光学素子（多角錐型ミラー）にて反射させることで、同一の側へ出射する光源装置、及びそれを用いた光走査装置、及びそれを用いた画像形成装置に関するものであり、査線ピッチむらを補正することを目的としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記先願においては、ビーム合成手段として反射型光学素子を用いているため、光源装置における光学配置に制約があり、設計の自由度が少なかった。
本発明は従来にない全く新規なマルチビーム光源装置の実現を目的とする。具体的には、請求項１では、複数のレーザ光を出射可能な光源装置を提供することを目的とし、請求項２、３、５、６、７では、光源装置内の光学レイアウト自由度を向上させることを目的とし、請求項４では、波長切替可能（ＣＤ⇔ＤＶＤ）とすることを目的とし、請求項８では、ビーム整形用のアパーチャ（開口絞り）で遮光されるビーム強度を適切に設定可能とすることを目的とし、請求項９では、取扱性の向上を目的とし、請求項１０では、出射されるレーザビームのビーム特性（コリメート性、光軸方向）の設定が容易になることを目的とし、請求項１１では、光走査の高速化／高密度化、及び環境負荷低減を目的とし、請求項１２、１３においては、画像形成装置におけるプリント速度の高速化／高密度化／高品位化、及び環境負荷低減を目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するために、請求項１記載の発明では、少なくとも複数のレーザ光を放射する一つ又は複数のレーザチップと、上記複数のレーザ光を近接して出射するビーム合成手段とから構成される光源装置において、上記複数のレーザ光の発光点間隔が、上記ビーム合成手段により比例変換されて比例縮小又は比例拡大されるようにした光源装置を最も主要な特徴とする。
請求項２記載の発明では、上記レーザチップは複数個である請求項１記載の光源装置を主要な特徴とする。
請求項３記載の発明では、上記レーザチップ内の発光点は複数個である請求項１記載の光源装置を主要な特徴とする。
請求項４記載の発明では、上記レーザチップ内の発光点毎に発振波長が異なる請求項１記載の光源装置を主要な特徴とする。
請求項５記載の発明では、上記ビーム合成手段は、透過型光学素子である請求項１記載の光源装置を主要な特徴とする。
請求項６記載の発明では、上記ビーム合成手段は、ハーフミラーを利用したものである請求項１記載の光源装置を主要な特徴とする。
請求項７記載の発明では、上記ビーム合成手段は、レーザ光の有する偏光特性を利用したものである請求項１記載の光源装置を主要な特徴とする。
請求項８記載の発明では、上記ビーム合成手段を出射した複数のレーザ光のファーフィールドパターンの長軸は、互いに略平行である請求項１記載の光源装置を主要な特徴とする。
請求項９記載の発明では、請求項２〜８記載の光源装置において、複数のレーザ光を放射するレーザチップと、上記レーザ光を近接して出射するビーム合成手段とは同一基板上に実装されており、それらが同一パッケージに収納されている光源装置を主要な特徴とする。
【０００５】
請求項１０記載の発明では、少なくとも請求項１〜９記載の光源装置と、上記光源装置から出射された複数のレーザ光をカップリングするためのカップリングレンズから構成される光源モジュールを主要な特徴とする。
請求項１１記載の発明では、複数のレーザビームを同時に被走査面上を走査する光走査装置において、上記複数のレーザビームの光源モジュールとして、請求項１０記載の光源モジュールを用いた光走査装置を主要な特徴とする。
請求項１２記載の発明では、少なくとも、請求項１１記載の光走査装置によって静電潜像が形成される感光手段と、静電潜像をトナーで顕像化する現像手段と、顕像化されたトナー像をシート状の記録媒体に転写する転写手段とから構成される画像形成装置を主要な特徴とする。
請求項１３記載の発明では、被走査面となる感光手段を複数有する請求項１２記載の画像形成装置を主要な特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、図面により本発明の実施の形態を詳細に説明する。近年、光書込装置の走査密度の高密度化あるいは光ディスク装置における書込密度の高密度化等の理由により、赤色レーザ（発振波長：６５０ｎｍ前後）の使用が主流となってきている。上記高密度化には、複数ビームを用いることが有効であり、種々のビーム合成方法が考案されている。例えばシングルビーム半導体レーザからのレーザビームをビーム合成手段により合成する方法や、複数の発光点を有する半導体レーザアレイ等を用いる方法等がある。
しかしながら、ビーム合成手段を用いてビーム合成する場合、装置の大型化に繋がり、又経時／環境変動の影響を受けやすい等の問題があり、一方半導体レーザアレイを使用する場合には、特に短波長側（赤色レーザ〜青色レーザ）においては、製造プロセス上チャンネル数を増加することが困難であり、また熱的／電気的なクロストークの影響を除去することが難しく、短波長化及び狭ピッチ（発光点間隔）化が困難であるといった理由により、高価な光源手段であった。
例えば、赤色半導体レーザアレイにおいては、発光点間隔ｐ１＝１００μｍ程度以上であれば比較的低コストで製造することが容易であるが、発光点間隔ｐ１＝数十μｍ以下を達成するには技術的に困難であり、産業上事業採算性は低い。そこで下記のように、発光点間隔ｐ１をビーム間隔ｑ１に「比例変換」（ｑ１／ｐ１＜１；比例縮小の場合）する構成に関する発明を提案する（請求項１に対応する形態例）。
ここで『比例変換』とは、「実際の発光点間隔」ｐ１に対し、ビーム合成手段により近接して（合成された）レーザビームの間隔（すなわち変換後の「見かけの発光点間隔」）ｑ１が、比例縮小又は比例拡大される、という意味である。また『実際の発光点間隔』とは、同方向（平行）に出射する複数のレーザ光の発光点間の距離を意味し、『見かけの発光点間隔』とは、ビーム合成手段により近接して出射されたレーザ光の間の距離を意味するものとする。
【０００７】
次に、本発明の第１の実施の形態の動作・構成について具体的に説明する。図１（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、２つの発光点３ａ、３ｂ（発光点間隔ｐ１）を有するレーザチップ１（半導体レーザアレイ）から放射されたレーザ光は、ビーム合成手段２−１により近接して出射される。これにより実際の発光点間隔ｐ１は、ビーム間隔ｑ１に変換され、『見かけの発光点間隔』を狭くすることが可能となる（請求項２に対応する形態例）。本形態例では、レーザチップ１とビーム合成手段２−１は、同一基板１７上に実装されて、光源装置２１を構成する。このように光源装置２１を構成することにより、複数ビーム用の光源装置の小型化を図ることが可能となる。
本形態例の構成の光源装置２１の場合、全体寸法は、０．１ミリメートルから数ミリメートル程度であるため、ビーム合成手段はフォトリソグラフィ及びエッチングの工法（基板上にフォトレジスト膜を形成し、グラデーションマスク露光を行い、現像してフォトレジスト膜の立体形状としてビーム合成手段の形状を製作し、この形状を異方性のエッチングで基板に転写する）にて形成することよりビーム合成手段を基板と一体に形成することができる。そのあとで、レーザチップを基板に接着等で設ければよい。
光源装置２１から出射したレーザ光をカップリングレンズによりカップリングする場合、発光点間隔ｐ１が広い光源装置２１ではレーザ光がカップリングレンズの光学軸から離れたところ（高像高）を通過するため、波面劣化をもたらす恐れがあるのに対し、発光点間隔ｐ１が狭い光源装置では、レーザ光がカップリングレンズの光学軸近傍を通過するため、良好な光学性能を維持することができる。
【０００８】
図１（ａ）、（ｂ）ではレーザチップ１として、２つの発光点３ａ、３ｂを有する半導体レーザアレイ（２ｃｈ−ＬＤアレイ）を用いたが、より多くの発光点３を有するレーザチップ１による半導体レーザアレイ、例えば４ｃｈ−ＬＤアレイを用いて、４ビーム用光源装置を実現した構成の例を、図１２（ａ）及び（ｂ）に示す。
半導体レーザアレイの各発光点３、３ａ、３ｂを出射したレーザ光の諸特性（発振波長、Ｉ−Ｌ特性等）は、発光点間の偏差が比較的小さいため、後述の異なるレーザチップから出射するレーザ光を合成する場合よりも良好なビーム特性を得ることができる。また発光点間隔ｐ１も比較的安定しているため、経時／温度変化に伴うビーム間隔ｑ１の変化も小さい。
ビーム合成手段２−１により近接して出射する複数のレーザ光は、図６（ａ）に示すように、互いに平行（比例変換；既述）とすることもできるし、図６（ｂ）に示すように非平行（この場合は比例変換ではない）とすることも可能である。ここで「複数のレーザ光が平行／非平行」とは、各レーザ光の主光線（レーザ光の重心の方向）が互いに平行／非平行である、という意味である。
このように発光点間隔を単に比例変換（例えば比例縮小）するだけではなく、出射するレーザ光を互いに非平行に設定することで、以降の光学系の特性に応じたビーム特性を得ることが可能となり、光学設計の自由度を拡げることが可能となる。
また、レーザチップ内の発光点毎に発振波長を異ならせることも可能である（請求項４に対応する形態例）。これにより選択的に波長の切替が可能となるので、目的に応じた波長を選択して使用することができる。例えば光ディスク装置のピックアップ部に使用し、ＣＤ用として７８０ｎｍ程度、ＤＶＤ用として６５０ｎｍ程度の発振波長を有する発光点（レーザチップ）を備えればよい。
【０００９】
次に、本発明の実施の第２の形態を説明する。複数（Ｎ個）の発光点を有するレーザチップ（半導体レーザアレイ；Ｎｃｈ−ＬＤアレイ）の代替として、図１（ｄ）のように２つの「発光点が一つのレーザチップ１ａ、１ｂ」からのレーザ光を、ビーム合成手段２−１により合成する構成を採用しても構わない（請求項３に対応する形態）。このようにレーザチップを同一基板上に実装する場合でも、発光点間隔を数十μｍ以下とすることは量産上困難であり、狭発光点間隔の光源装置を実現するには、ビーム合成手段２−１が必要となる。
図２（ａ）のようにレーザチップ１ａ、１ｂを分離して実装することにより、ビーム合成手段２−２を出射する複数のレーザ光の「光路長」を一致させることが可能となり、以降の光学系と組み合わせた場合に、各レーザ光の間の光学性能、例えばコリメート性の偏差の発生を抑制することが可能となる。
なお図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、レーザチップ１内の発光点３の個数は、１個（シングルチャンネル）でも良いし、複数（マルチチャンネル）でも構わない。複数個の「マルチチャンネルのレーザチップ」から出射したレーザ光を合成（比例変換）する場合には、一つのレーザチップから放射されるレーザ光（発光点）の間隔は、比例変換されなくても構わない。例えば図５（ｃ）に示すものは、発光点間隔ｐ１ｃはビーム合成手段２−２により比例変換されているのに対し、発光点間隔ｐ１ａ及びｐ１ｂは比例変換されていない。
【００１０】
図２（ａ）及び図１２（ａ）、（ｂ）のビーム合成手段は「直角二等辺三角形プリズム」と「平行四辺形プリズム」を接合した構成であるが、両者の界面を図２（ｂ）のように「ハーフミラー５」としても良い（請求項６に対応する形態例）し、図２（ｃ）に示すように「偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）６」としても構わない（請求項７に対応する形態例）。ハーフミラー５を用いた場合には、ビーム合成する際に（界面；ハーフミラー）にてエネルギが１／２に減衰する。それに対し偏光ビームスプリッタ６を用いた場合にはレーザ光のもつ偏光特性を利用するため、直交する偏光面を有する２レーザ光の合成の場合にはエネルギの減衰はほとんど発生しない。
レーザチップを出射したレーザ光の偏光は周知の通り、活性層１６に平行な偏光面をもつ直線偏光である（図１４（ａ）、（ｂ）参照）。そのため図５（ｂ）に示すように２つのレーザチップ１ａ、１ｂの活性層１６が互いに直交するように配した場合、２つのレーザ光は、ビーム合成手段２−２の偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）面で互いに直交する偏光面を有することになり（図４（ｂ）参照）、エネルギ減衰を生じない。
一方、レーザチップを出射したレーザ光は周知の通り、活性層１６方向に長い「楕円形状」のファーフィールドパターンを示す。そのため図５（ａ）に示すように２つのレーザチップ１ａ、１ｂの活性層１６を互いに平行に配した場合、図４（ａ）のように、ビーム合成手段２−２を出射したレーザ光のファーフィールドパターンの長軸方向を互いに平行にすることが可能となる（請求項８に対応する形態例）。
このようにファーフィールドパターンの長軸方向を平行にすることにより、本光源装置を走査光学系等と組み合わせた場合には、以降の光路内に設けられたビーム整形用のアパーチャ（開口絞り）で遮光されるビーム強度を適切に（光利用効率良く）設定することが可能となり、適切なビームスポットを得ることができる。
但しこの場合には、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）面でのエネルギ減衰を抑制するため、一方のレーザ光の偏光方向を９０゜回転させる必要がある。例えば図２（ｃ）や図５（ａ）に示すように、入射レーザ光の偏光面とのなす角度が４５°となるように１／２波長板７の光学軸を設定して、１／２波長板７をビーム合成手段２−２の一方の入射面に接着等の工法により取り付けるなどすればよい。
【００１１】
次に、本発明の実施の第３の形態を説明する。図３のように透過型光学素子によるビーム合成手段２−３を利用しても、発光点間隔ｐ１を変換することができる（請求項５に対応する形態例）。この例では、２つの「三角プリズム」Ｐ１、Ｐ２の組合せによりビーム合成手段２−３を構成しているが、屈折率ｎの三角プリズムの頂角αを設定することにより、出射ビームの間隔ｑ２を任意に設定することが可能となる。
次に、本発明の実施の第４の形態を説明する。少なくとも光源装置を構成するレーザチップ、ビーム合成手段及びそれらを実装する基板を、同一のパッケージに収納することが可能である（請求項９に対応する形態例）。例えば、図７に示すフラット型パッケージ９内に収納しても良いし、通常のキャン型パッケージに収納しても構わない。なお、図７のフラット型パッケージ９においては、基板１７に実装したビーム合成手段２−２を出射したレーザ光は、折り返しミラー８にて光路を９０°折り曲げられて、パッケージ９から出射している。光源装置の構成部品を同一のパッケージに収容することで、取り扱い（ハンドリング）が容易となり、また環境／温度変動等の影響の低減、防塵性の向上、メカ的破壊の防止を図ることが可能となる。
更に、光源装置からの出射レーザ光をカップリングレンズによりカップリングすることができる（請求項１０に対応する形態例）。図８（ａ）はパッケージされた光源装置２１からの出射レーザ光をカップリングレンズ１０によりカップリングした例（光源モジュール１１の光学配置）を示す。光源装置２１とカップリングレンズ１０の相対位置関係を適切に設定（調整）することにより、以降の光学系の特性に応じたビーム特性（コリメート性及び光軸方向）を得ることができる。
図８（ｂ）、（ｃ）は「キャン型パッケージに収納された光源装置２１」と「カップリングレンズ１０」の相対位置関係を維持することが可能な光源モジュール１１の構成例を示す。
図１２（ａ）、（ｂ）のように出射される各レーザ光の光路長が異なる構成では、カップリングレンズでカップリングする場合に、各レーザビーム毎にコリメート性が異なることになる。このような場合には、すべてのレーザビームのコリメート性が平均化されるように、すなわちピント位置（ビームウェスト位置）の平均が像面に略一致するようにカップリングすればよい。
【００１２】
次に、本発明の実施の第５の形態を説明する。更に、光源装置からの出射レーザ光をカップリングレンズによりカップリングした請求項１０に対応する形態例の光源モジュール１１を光源として、複数のレーザビームを同時に被走査面上を走査する『光走査装置』を構成することができる（請求項１１に対応する形態例）。
光源モジュール１１から出射されたレーザビームを被走査面上にビームスポットとして走査する光走査装置２０の光学配置の一例を図９に示す。図中の構成要素（光学素子等）は、図示しない光学ハウジングに保持される。光源モジュール１１を出射した複数のレーザビームはシリンドリカルレンズ１２の作用により偏向器であるポリゴンミラー１３の偏向反射面上に（副走査方向に結像し、主走査方向に長い）線像として結像されたのち、走査光学系（走査レンズ）１４により、被走査面（感光体ドラム）１５上をビームスポットとして走査される。
被走査面での走査線間隔（複数のビームスポットの副走査方向の間隔）ｑ２（図１０（ａ）を所望の値にするには、「光走査装置２０の走査光学系の副走査結像倍率ｍ」と「光源モジュール１１の取付姿勢（傾け角度φ）」を下記のように設定すればよい。光源モジュール１１内のビーム合成手段を出射したレーザ光の間隔をｐ１、傾け角度をφ（図１０（ｂ））としたとき図１０（ｃ）のｑ２が『ｑ２＝ｑ１×ｃｏｓφ×ｍ』となるように、角度φを設定すればよい。
【００１３】
次に、本発明の実施の第６の形態を説明する。本発明の請求項１１に対応する形態例の光走査装置２０を、周知の、少なくとも静電潜像が形成される感光手段（感光体１５）と、静電潜像をトナーで顕像化する現像器と、顕像化されたトナー像をシート状の記録媒体に転写（及び定着）する転写装置と、からなる電子写真プロセスを利用した画像形成装置２２（図１３（ａ）、（ｂ）、（ｃ））の光書込装置として使用した場合には、複数ビームを同時に走査することによりプリント速度の高速化／高密度化が図れる画像形成装置２２を得ることが可能となる。（請求項１２に対応する形態例）。
またデジタルカラー複写機、カラープリンタ等の画像出力装置においては、各色（例えば、ブラック：Ｋ、シアン：Ｃ、マゼンタ：Ｍ、イエロー：Ｙ）に対応する感光手段（例えば感光体ドラム５Ｋ、５Ｃ、５Ｍ、５Ｙ）を、画像記録媒体（例えば紙）の搬送方向に直列に配列したタンデム方式が採用されることが多い。図１３（ａ）に示すように、各色に対応する光走査装置２０を別体（１０Ｋ、１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ）としても良いし、図１３（ｂ）に示すように共通体（１０Ａ）としても構わない。あるいは図１３（ｃ）、（ｄ）に示すように光走査装置を二体化した構成としても構わない。
このような構成により、１感光体ドラム型の画像出力装置の場合（４色に対応して４回の書込が必要）と比較して、４倍の出力画像を得ることが可能となる。
各色に対応する光走査装置２０を１Ｋ、１Ｃ、１Ｍ、１Ｙと呼ぶことにする。
すべての光走査装置１Ｋ、１Ｃ、１Ｍ、１Ｙから出射されるビームの本数が各々１本の場合には、この光走査装置２０を適用した画像出力装置によりフルカラー（４色）画像を得ることができる。それに対し、４つの光走査装置２０の少なくとも一つ（例えばブラックに対応する光走査装置１Ｋ）を本発明の構成の４ビーム光走査装置とし、この光走査装置のみで光走査を行うことにより、フルカラー画像時と比較して４倍の高密度化が可能となる。あるいは記録媒体の搬送速度（及びプロセス速度）を４倍に変更すれば、画像出力枚数を４倍に増加することが可能となる。またフルカラー画像時においても、文字画像についてはブラックにて書き込むことが多く高解像度も要求されることが多いため、上記の４ビーム光走査装置１Ｋ（ブラック）に付加して、他の光走査装置（１Ｃ、１Ｍ、１Ｙ；１ビーム）も同時に書き込むことにより、文字／写真／線画イメージ等が混在した画像においてもより高品位な出力画像を得ることが可能となる（請求項１３に対応する形態例）。
【００１４】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１によれば、発光点間隔が広い半導体レーザアレイチップのビーム間隔を比例変換（通常比例縮小）して出射可能な小型の光源装置が構成できる。
請求項２、３、５、６、７によれば、光源装置内の光学レイアウトの自由度が向上するので、要求仕様に基づく光源装置の設計が容易になる。
請求項４によれば、波長の切替が可能となるので、目的に応じた波長を選択して使用することができる。例えば光ディスク装置のピックアップ部に使用し、７８０ｎｍ（ＣＤ用）⇔６５０ｎｍ（ＤＶＤ用）とすることができる。
請求項８によれば、ビーム整形用のアパーチャ（開口絞り）で遮光されるビーム強度を適切に（光利用効率よく）設定可能なので、像面で適切なビームスポットを得ることができる。
請求項９によれば、光源装置の構成部品を同一基板上に実装した状態でパッケージ内に収納した構成であるため、取り扱い（ハンドリング）が容易となり、また環境／温度変動等の影響の低減、防塵性の向上、メカ的破壊の防止を図ることが可能となる。
請求項１０によれば、光源装置とカップリングレンズの位置関係の調整により、出射されるレーザビームのビーム特性（コリメート性、光軸方向）の調整を容易に行うことができる。
請求項１１によれば、請求項１０記載の光源モジュールを適用するため、光走査の高速化／高密度化、及び環境負荷低減を達成することができる。
請求項１２によれば、請求項１１記載の光走査装置を電子写真プロセスを用いた画像形成装置の光走査装置として使用し、複数の光ビームを同時に走査することが可能となるため、プリント速度の高速化／高密度化を図ることが可能となる。
またシングルビーム光源装置と同じプリント速度／走査密度を達成するには、ポリゴンスキャナの回転数を低減すればよいため、消費電力の低減や振動／騒音／熱発生の低減に繋がり、環境に対する負荷を低減することが可能となる。
請求項１３によれば、前記光走査装置を、電子写真プロセスを用いたタンデム式の多色画像出力装置の光走査装置として使用したので、単色及び多色の出力画像の高密度化／高速度化、及び出力画像の高品位化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明における２つの発光点を有するレーザチップから放射されたレーザ光をビーム合成手段により近接して出射する例を示す概要図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ矢視図、（ｃ）は光源装置の斜視図、（ｄ）は２つの「発光点が一つのレーザチップ１ａ、１ｂ」からのレーザ光を、ビーム合成手段２−１により合成する構成を説明する説明図である。
【図２】（ａ）はレーザチップを分離して実装した例の概略図、（ｂ）はハーフミラーとした場合の説明図、（ｃ）は偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）とした場合の説明図である。
【図３】透過型光学素子によるビーム合成手段を利用して発光点間隔を変換する例の概略図である。
【図４】（ａ）はレーザチップの活性層を互いに平行に配した場合の射出レーザ光の模式図、（ｂ）はレーザチップの活性層を互いに直交に配した場合の射出レーザ光の模式図である。
【図５】（ａ）は２つのレーザチップの活性層を互いに平行に配した場合の模式図、（ｂ）は２つのレーザチップの活性層を互いに垂直に配した場合の模式図、（ｃ）は発光点間隔はビーム合成手段により比例変換されているのに対して発光点間隔は比例変換されていないことを表わす模式図である。
【図６】（ａ）は複数のレーザ光を互いに平行（比例変換）とした場合の説明図、（ｂ）は複数のレーザ光を非平行（比例変換ではない）とした場合の説明図である。
【図７】光源装置を構成するレーザチップ、ビーム合成手段及びそれらを実装する基板をフラット型パッケージに収納した状態を示す斜視図である。
【図８】（ａ）はパッケージされた光源装置からの出射レーザ光をカップリングレンズによりカップリングした例を示す説明図、（ｂ）及び（ｃ）はキャン型パッケージに収納された光源装置とカップリングレンズの相対位置関係を維持することが可能な光源モジュールの構成例を示す側断面図である。
【図９】光源モジュールから出射されたレーザビームを被走査面上にビームスポットとして走査する光走査装置の光学配置の一例を示す概略図である。
【図１０】（ａ）は被走査面での走査線間隔（複数のビームスポットの副走査方向の間隔）を所望の値にするための説明図、（ｂ）は傾け角度の説明図、（ｃ）は走査線間隔が調整された状態を示す説明図である。
【図１１】（ａ）はレーザチップ内の発光点の個数が１個のシングルチャンネルの場合の斜視図、（ｂ）はレーザチップ内の発光点の個数が複数のマルチチャンネルの場合の斜視図である。
【図１２】（ａ）及び（ｂ）は４ｃｈ−ＬＤアレイを用いて、４ビーム用光源装置を実現した構成例を示す説明図である。
【図１３】（ａ）は各色に対応する光走査装置を別体とした場合、（ｂ）は共通体とした場合、（ｃ）、（ｄ）は光走査装置を二体化した場合の概略構成図である。
【図１４】（ａ）及び（ｂ）はレーザチップを出射したレーザ光の偏光が活性層に平行な偏光面をもつ直線偏光であることを表わす説明図である。
【符号の説明】
１、１ａ、１ｂ　レーザチップ
２、２ａ、２ｂ　ビーム合成手段
３、３ａ、３ｂ　発光点
５　ハーフミラー
６　偏向ビームスプリッタ
９　フラット型パッケージ
１０　カップリングレンズ
１１　光源モジュール
１５　感光体ドラム（被走査面）
１７　基板
２０　光走査装置
２１　光源装置
２２　画像形成装置
【図１】
2004013021.tif 000003
【図２】
2004013021.tif 000004
【図３】
2004013021.tif 000005
【図４】
2004013021.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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