(57)【要約】【課題】真空成形、圧空成形が可能であり、食品、医療等の分野で使用される容器に好適なポリエチレンシートおよびこのようなシートを低コストで、生産性よく製造することができる製造方法を提供する。【解決手段】密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）を含む最外層１，１と、これらの間に密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）を含む内層２とを有するインフレーション成形法によるシートであって、最外層の合計の厚さが内層の厚さ１に対して１〜２０であり、厚さ０．４ｍｍ〜５ｍｍであるポリエチレンシート；およびインフレーション成形法にて高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層とエチレン系重合体（Ｂ）からなる最内層とを有する中空状のチューブを成形し、これをニップロールで挟み潰すポリエチレンシートの製造方法。【選択図】        図１
2004154942.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）を含む最外層と、２つの最外層の間に、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）を含む内層とを有するインフレーション成形法によるシートであって、内層以外の厚さが、内層の厚さ１に対して１〜２０の範囲であり、全体の厚さが０．４ｍｍ〜５ｍｍであることを特徴とするポリエチレンシート。
【請求項２】
前記最外層と内層との間に、高分子量ポリエチレンからなる層を有することを特徴とする請求項１記載のポリエチレンシート。
【請求項３】
前記最外層と内層との間に、接着性樹脂からなる層、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物からなる層および接着性樹脂からなる層をこの順序で有することを特徴とする請求項１記載のポリエチレンシート。
【請求項４】
請求項１ないし３いずれか一項に記載のポリエチレンシートを真空成形法、圧空成形法または真空・圧空成形法で成形してなることを特徴とする成形体。
【請求項５】
空冷インフレーション成形法によって、密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層と、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）からなる最内層とを有する中空状のチューブを成形し、このチューブをニップロールで挟み潰すことを特徴とするポリエチレンシートの製造方法。
【請求項６】
ブローアップ比１．２〜６の範囲で空冷インフレーション成形を行うことを特徴とする請求項５記載のポリエチレンシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空成形、圧空成形が可能なポリエチレンシートおよびその製造方法に関し、特に、乳等省令に適合し、食品、医療等の分野で使用される容器に好適なポリエチレンシートおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
牛乳、乳製品等の食品、医薬品の容器としては、樹脂中の添加剤、低分子量物等が内容物（被接触物）に移行せず、内容物の臭気や味覚への影響がないクリーンな容器が要望されている。クリーンな容器の材料としては、添加剤無添加にすることによって乳等省令等に適合することができるポリエチレンが注目されている。
【０００３】
しかしながら、ポリエチレンは結晶性が高いため、ポリエチレンシートは成形のために加熱すると急激に軟化して垂れ下がってしまう。このようにポリエチレンシートは耐ドローダウン性が悪いため、ポリエチレンシートからは、真空成形法や圧空成形法による成形が難しく、特にカップ状等の薄肉容器の成形は困難であった。このため、真空成形や圧空成形に用いられるシートには、一般にポリスチレンやポリプロピレンが使用されていた。
【０００４】
また、従来のＴダイ法によるシート成形では、樹脂を広く流れさせる必要があるため、成形温度を２２０〜２３０℃の高温に設定しないと成形が難しく、ポリエチレンの熱劣化を防ぐための酸化防止剤や触媒に起因するハロゲンを除くハロゲン中和剤等の添加剤を配合せざるを得なかった。そのため、ポリエチレンシートの食品、医療等の分野への使用が制限されているのが現状である。
【０００５】
真空成形、圧空成形可能で、添加剤無添加が可能なポリエチレンシートとしては、高密度ポリエチレンと特定の線状低密度ポリエチレンとを含む樹脂組成物を、空冷インフレーション法により成形した単層シートが、特開２００１−２２６４９６号公報（特許文献１）に提案されている。
【０００６】
しかしながら、このような単層シートにおいては、真空成形を安定して行うためには樹脂組成物を高密度にする必要がある一方、空冷インフレーション法により成形された中空状のチューブを挟み潰したり、複数枚のシートを接合して厚手のシートとするためには樹脂組成物を低密度にして接着性を上げる必要があり、真空成形性と接着性とのバランスをとることが難しかった。また、単層シートは、腰が弱く（剛性が低く）、真空成形や圧空成形によるカップ状の容器等の成形体には不向きであるという問題もあった。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−２２６４９６号公報（第４−１４頁）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
よって、本発明の目的は、耐ドローダウン性が良好で、真空成形、圧空成形が可能であり、樹脂の熱劣化が少なく、添加剤無添加が可能な厚手のポリエチレンシート、およびこのようなシートを低コストで、生産性よく製造することができる製造方法を提供することにある。
また、本発明の目的は、乳等省令に適合し、食品、医療等の分野で使用される容器に好適なポリエチレンシートおよびその製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明のポリエチレンシートは、密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）を含む最外層と、２つの最外層の間に、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）を含む内層とを有するインフレーション成形法によるシートであって、内層以外の厚さが、内層の厚さ１に対して１〜２０の範囲であり、全体の厚さが０．４ｍｍ〜５ｍｍであることを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明のポリエチレンシートは、前記最外層と内層との間に、高分子量ポリエチレンからなる層を有することを特徴とするものである。
また、本発明のポリエチレンシートは、前記最外層と内層との間に、接着性樹脂からなる層、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物からなる層および接着性樹脂からなる層をこの順序で有することを特徴とするものである。
また、本発明の成形体は、本発明のポリエチレンシートを真空成形法、圧空成形法または真空・圧空成形法で成形してなることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明のポリエチレンシートの製造方法は、空冷インフレーション成形法によって、密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層と、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）からなる最内層とを有する中空状のチューブを成形し、このチューブをニップロールで挟み潰すことを特徴とする。
また、本発明のポリエチレンシートの製造方法においては、ブローアップ比１．２〜６の範囲で空冷インフレーション成形を行うことが望ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における高密度ポリエチレン（Ａ）としては、その密度が０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上のものであれば各種のものを利用することができる。具体的には、エチレンのみからなるホモポリマー、エチレンと他のモノマー（例えばプロピレン、１−ブテン、１−ヘキセンなどのα−オレフィン）とからなる共重合体、あるいはエチレンと２種以上のモノマーからなる多元共重合体などを例示することができる。
【００１３】
高密度ポリエチレン（Ａ）の密度が０．９３５ｇ／ｃｍ３  未満では、得られるポリエチレンシートの腰の強さ、滑りやすさなどが損なわれる。高密度ポリエチレン（Ａ）の密度は、好ましくは０．９４０ｇ／ｃｍ３  以上である。
また、高密度ポリエチレン（Ａ）のメルトフローレート（以下ＭＦＲと記す）は、０．０１〜５ｇ／１０分が好ましく、０．０５〜３０ｇ／１０分がより好ましく、０．１〜１０ｇ／１０分が最も好ましい。ＭＦＲ（１９０℃）が０．０１ｇ／１０分未満では、押出成形性が悪くなる傾向にあり、５０ｇ／１０分を超えると、インフレーション成形時の樹脂の引き上げに問題を生じることがある。
【００１４】
また、高密度ポリエチレン（Ａ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３〜５０、より好ましくは５〜３０の範囲である。Ｍｗ／Ｍｎが３未満では、インフレーション成形が困難となる傾向にあり、Ｍｗ／Ｍｎが５０を超えると、低分子量成分の表面ブリードが問題となることがある。
ここで、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により質量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）を求め、それらの比（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出することにより求めることができる。
【００１５】
高密度ポリエチレン（Ａ）の製造に用いられる触媒としては、フィリップス触媒、チーグラー触媒、メタロセン触媒等が挙げられる。
高密度ポリエチレン（Ａ）は、前記触媒の存在下、実質的に溶媒の存在しない気相重合法、スラリー重合法、溶液重合法等で製造され、実質的に酸素、水等を断った状態で、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素等に例示される不活性炭化水素溶媒の存在下または不存在下で製造される。重合条件は特に限定されないが、重合温度は通常１５〜３５０℃、好ましくは２０〜２００℃、さらに好ましくは５０〜１１０℃であり、重合圧力は低・中圧法の場合通常常圧〜７０ｋｇ／ｃｍ２  Ｇ、好ましくは常圧〜２０ｋｇ／ｃｍ２  Ｇであり、高圧法の場合は通常１５００ｋｇ／ｃｍ２  Ｇ以下が望ましい。重合時間は低中圧法の場合通常３分〜１０時間、好ましくは５分〜５時間程度であり、高圧法の場合、通常１分〜３０分、好ましくは２分〜２０分程度である。また、重合方法は、一段重合法はもちろん、水素濃度、モノマー濃度、重合圧力、重合温度、触媒等の重合条件が互いに異なる２段階以上の多段重合法など特に限定されるものではない。
【００１６】
本発明におけるエチレン系重合体（Ｂ）は、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満の低密度のエチレン系重合体である。このようなエチレン系重合体としては、例えば、低圧法低密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレンコポリマーなどが挙げられる。
【００１７】
ここで、低圧法低密度ポリエチレンとは、チーグラー触媒、メタロセン触媒の存在下、低圧法でエチレンとα−オレフィンを共重合させて得られるエチレン共重合体である。
また、高圧法低密度ポリエチレンとは、高圧ラジカル重合法による低密度ポリエチレンである。
【００１８】
低圧法低密度ポリエチレンのα−オレフィンとは、炭素数が３〜２０、好ましくは３〜１２のものであり、具体的には、プロピレン、１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセンなどが挙げられる。また、これらのα−オレフィンの含有量は、合計で通常３０モル％以下、好ましくは３〜２０モル％以下の範囲である。
【００１９】
エチレン系重合体（Ｂ）の密度は、０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満、好ましくは０．８６ｇ／ｃｍ３  以上０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満の範囲である。密度が０．９４０ｇ／ｃｍ３  以上では、空冷インフレーションにより成形された中空状のチューブを挟み潰す際の接着性が不十分となる。
【００２０】
また、エチレン系重合体（Ｂ）のＭＦＲは、好ましくは０．０１〜５０ｇ／１０分、より好ましくは０．０３〜３０ｇ／１０分、特に好ましくは０．１〜１０ｇ／１０分の範囲である。ＭＦＲが０．０１ｇ／１０分未満では、成形加工性が劣る傾向にあり、ＭＦＲが５０ｇ／１０分を超えると、引裂強度、耐衝撃性が劣る傾向にある。
【００２１】
また、エチレン系重合体（Ｂ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．５〜４．５、より好ましくは２．０〜３．０、さらに好ましくは２．５〜３．０の範囲である。Ｍｗ／Ｍｎが１．５未満では、成形加工性が劣る傾向にあり、Ｍｗ／Ｍｎが４．５を超えると、引裂強度、耐衝撃性が劣る傾向にある。
【００２２】
以上のようなエチレン系重合体（Ｂ）の中でも、メタロセン触媒の存在下にエチレンを単独重合、またはエチレンとα−オレフィンを共重合させて得られるエチレン（共）重合体が本発明では好適に用いられる。メタロセン触媒は、塩素含有量が少なく、触媒に起因するハロゲンを除くハロゲン中和剤の添加量を抑えることができる。
さらに、エチレン系重合体（Ｂ）は、少なくとも共役二重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第ＩＶ族の遷移金属化合物を含む触媒の存在下にエチレンを単独重合、またはエチレンとα−オレフィンを共重合させて得られる直鎖状のエチレン（共）重合体であることが望ましい。このような直鎖状のエチレン（共）重合体は、分子量分布および組成分布が狭いため、機械的特性に優れ、ヒートシール性、耐熱ブロッキング性等に優れ、しかも耐熱性の良い重合体である。
【００２３】
本発明におけるエチレン系重合体（Ｂ）は、特に以下のａ１〜ａ４の化合物を混合して得られる触媒で製造することが望ましい。
ａ１：一般式Ｍｅ１Ｒ１ｐＲ２ｑ（ＯＲ３）ｒＸ１４−ｐ−ｑ−ｒ  で表される化合物（式中Ｍｅ１  はジルコニウム、チタン、ハフニウムを示し、Ｒ１  およびＲ３  はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基、Ｒ２  は、２，４−ペンタンジオナト配位子またはその誘導体、ベンゾイルメタナト配位子、ベンゾイルアセトナト配位子またはその誘導体、Ｘ１  はハロゲン原子を示し、ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ０≦ｐ≦４、０≦ｑ≦４、０≦ｒ≦４、０≦ｐ＋ｑ＋ｒ≦４の範囲を満たす整数である）
ａ２：一般式Ｍｅ２Ｒ４ｍ（ＯＲ５）ｎＸ２ｚ−ｍ−ｎ  で表される化合物（式中Ｍｅ２  は周期律表第Ｉ〜ＩＩＩ  族元素、Ｒ４  およびＲ５  はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基、Ｘ２  はハロゲン原子または水素原子（ただし、Ｘ２  が水素原子の場合はＭｅ２  は周期律表第ＩＩＩ  族元素の場合に限る）を示し、ｚはＭｅ２  の価数を示し、ｍおよびｎはそれぞれ０≦ｍ≦ｚ、０≦ｎ≦ｚの範囲を満たす整数であり、かつ、０≦ｍ＋ｎ≦ｚである）
ａ３：共役二重結合を持つ有機環状化合物
ａ４：Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウムオキシ化合物および／またはホウ素化合物
【００２４】
以下、さらに詳説する。
上記触媒成分ａ１の一般式Ｍｅ１Ｒ１ｐＲ２ｑ（ＯＲ３）ｒＸ１４−ｐ−ｑ−ｒ  で表される化合物の式中、Ｍｅ１  はジルコニウム、チタン、ハフニウムを示し、これらの遷移金属の種類は限定されるものではなく、複数を用いることもできるが、共重合体の耐候性の優れるジルコニウムが含まれることが特に好ましい。Ｒ１  およびＲ３  はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基で、好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは１〜８である。具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、インデニル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フェニルブチル基、ネオフイル基などのアラルキル基などが挙げられる。これらは分岐があってもよい。Ｒ２  は、２，４−ペンタンジオナト配位子またはその誘導体、ベンゾイルメタナト配位子、ベンゾイルアセトナト配位子またはその誘導体を示す。Ｘ１  はフッ素、ヨウ素、塩素および臭素などのハロゲン原子を示す。ｐおよびｑはそれぞれ、０≦ｐ≦４、０≦ｑ≦４、０≦ｒ≦４、０≦ｐ＋ｑ＋ｒ≦４の範囲を満たすを整数である。
【００２５】
上記触媒成分ａ１の一般式で示される化合物の例としては、テトラメチルジルコニウム、テトラエチルジルコニウム、テトラベンジルジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム、トリプロポキシモノクロロジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタン、テトラブトキシハフニウムなどが挙げられ、特にテトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウムなどのＺｒ（ＯＲ）４  化合物が好ましく、これらを２種以上混合して用いても差し支えない。また、前記２，４−ペンタンジオナト配位子またはその誘導体、ベンゾイルメタナト配位子、ベンゾイルアセトナト配位子またはその誘導体の具体例としては、テトラ（２，４−ペンタンジオナト）ジルコニウム、トリ（２，４−ペンタンジオナト）クロライドジルコニウム、ジ（２，４−ペンタンジオナト）ジクロライドジルコニウム、（２，４−ペンタンジオナト）トリクロライドジルコニウム、ジ（２，４−ペンタンジオナト）ジエトキサイドジルコニウム、ジ（２，４−ペンタンジオナト）ジ−ｎ−プロポキサイドジルコニウム、ジ（２，４−ペンタンジオナト）ジ−ｎ−ブトキサイドジルコニウム、ジ（２，４−ペンタンジオナト）ジベンジルジルコニウム、ジ（２，４−ペンタンジオナト）ジネオフイルジルコニウム、テトラ（ジベンゾイルメタナト）ジルコニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）ジエトキサイドジルコニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）ジ−ｎ−プロポキサイドジルコニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）ジ−ｎ−ブトキサイドジルコニウム、ジ（ベンゾイルアセトナト）ジエトキサイドジルコニウム、ジ（ベンゾイルアセトナト）ジ−ｎ−プロポキサイドジルコニウム、ジ（ベンゾイルアセトナト）ジ−ｎ−ブトキサイドジルコニウム等があげられる。
【００２６】
上記触媒成分ａ２の一般式Ｍｅ２Ｒ４ｍ（ＯＲ５）ｎＸ２ｚ−ｍ−ｎ  で表される化合物の式中Ｍｅ２  は周期律表第Ｉ〜ＩＩＩ  族元素を示し、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素、アルミニウムなどである。Ｒ４  およびＲ５  はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基、好ましくは炭素数１〜１２、さらに  好ましくは１〜８であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、インデニル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フェニルブチル基、ネオフイル基などのアラルキル基などが挙げられる。これらは分岐があってもよい。Ｘ２  はフッ素、ヨウ素、塩素および臭素  などのハロゲン原子または水素原子を示すものである。ただし、Ｘ２  が水素原子の場合はＭｅ２  はホウ素、アルミニウムなどに例示される周期律表第ＩＩＩ  族元素の場合に限るものである。また、ｚはＭｅ２  の価数を示し、ｍおよびｎはそれぞれ、０≦ｍ≦ｚ、０≦ｎ≦ｚの範囲を満たす整数であり、かつ、０≦ｍ＋ｎ≦ｚである。
【００２７】
上記触媒成分ａ２の一般式で示される化合物の例としては、メチルリチウム、エチルリチウムなどの有機リチウム化合物；ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、メチルマグネシウムクロライド、エチルマグネシウムクロライドなどの有機マグネシウム化合物；ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛などの有機亜鉛化合物；トリメチルボロン、トリエチルボロンなどの有機ボロン化合物；トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリデシルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチルアルミニウムエトキサイド、ジエチルアルミニウムハイドライドなどの有機アルミニウム化合物等の誘導体が挙げられる。
【００２８】
上記触媒成分ａ３の共役二重結合を持つ有機環状化合物は、環状で共役二重結合を２個以上、好ましくは２〜４個、さらに好ましくは２〜３個有する環を１個または２個以上もち、全炭素数が４〜２４、好ましくは４〜１２である環状炭化水素化合物；前記環状炭化水素化合物が部分的に１〜６個の炭化水素残基（典型的には、炭素数１〜１２のアルキル基またはアラルキル基）で置換された環状炭化水素化合物；共役二重結合を２個以上、好ましくは２〜４個、さらに好ましくは２〜３個有する環を１個または２個以上もち、全炭素数が４〜２４、好ましくは４〜１２である環状炭化水素基を有する有機ケイ素化合物；前記環状炭化水素基が部分的に１〜６個の炭化水素残基またはアルカリ金属塩（ナトリウムまたはリチウム塩）で置換された有機ケイ素化合物が含まれる。特に好ましくは分子中のいずれかにシクロペンタジエン構造をもつものが望ましい。
【００２９】
上記の好適な化合物としては、シクロペンタジエン、インデン、アズレンまたはこれらのアルキル、アリール、アラルキル、アルコキシまたはアリールオキシ誘導体などが挙げられる。また、これらの化合物がアルキレン基（その炭素数は通常２〜８、好ましくは２〜３）を介して結合（架橋）した化合物も好適に用いられる。
【００３０】
環状炭化水素基を有する有機ケイ素化合物は、下記一般式で表示することができる。
ＡＬＳｉＲ４−Ｌ
ここで、Ａはシクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基、置換インデニル基で例示される前記環状水素基を示し、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基；フェニル基などのアリール基；フェノキシ基などのアリールオキシ基；ベンジル基などのアラルキル基で示され、炭素数１〜２４、好ましくは１〜１２の炭化水素残基または水素を示し、Ｌは１≦Ｌ≦４、好ましくは１≦Ｌ≦３である。
【００３１】
上記成分ａ３の有機環状炭化水素化合物の具体例として、シクロペンタジエン、メチルシクロペンタジエン、エチルシクロペンタジエン、１，３−ジメチルシクロペンタジエン、インデン、４−メチル−１−インデン、４，７−ジメチルインデン、シクロヘプタトリエン、メチルシクロヘプタトリエン、シクロオクタテトラエン、アズレン、フルオレン、メチルフルオレンのような炭素数５〜２４のシクロポリエンまたは置換シクロポリエン、モノシクロペンタジエニルシラン、ビスシクロペンタジエニルシラン、トリスシクロペンタジエニルシラン、モノインデニルシラン、ビスインデニルシラン、トリスインデニルシランなどが挙げられる。
【００３２】
触媒成分ａ４のＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウムオキシ化合物とは、アルキルアルミニウム化合物と水とを反応させることにより、通常アルミノキサンと称される変性有機アルミニウムオキシ化合物が得られ、分子中に通常１〜１００個、好ましくは１〜５０個のＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含有する。また、変性有機アルミニウムオキシ化合物は線状でも環状でもいずれでもよい。
【００３３】
有機アルミニウムと水との反応は通常不活性炭化水素中で行われる。該不活性炭化水素としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素が好ましい。
水と有機アルミニウム化合物との反応比（水／Ａｌモル比）は通常０．２５／１〜１．２／１、好ましくは０．５／１〜１／１であることが望ましい。
【００３４】
ホウ素化合物としては、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリエチルアルミニウム（トリエチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸ジメチルアニリニウム（ジメチルアニリニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ブチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラ（３，５ージフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００３５】
上記触媒はａ１〜ａ４を混合接触させて使用しても良いが、好ましくは無機担体および／または粒子状ポリマー担体（ａ５）に担持させて使用することが望ましい。
該無機物担体および／または粒子状ポリマー担体（ａ５）とは、炭素質物、金属、金属酸化物、金属塩化物、金属炭酸塩またはこれらの混合物あるいは熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。該無機物担体に用いることができる好適な金属としては、鉄、アルミニウム、ニッケルなどが挙げられる。
具体的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ２等またはこれらの混合物が挙げられ、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、ＳｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＳｉＯ２−ＭｇＯ、ＳｉＯ２−Ｃｒ２Ｏ３等が挙げられる。これらの中でもＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３からなる群から選択された少なくとも１種の成分を主成分とするものが好ましい。
また、有機化合物としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも使用でき、具体的には、粒子状のポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリノルボルネン、各種天然高分子およびこれらの混合物等が挙げられる。
【００３６】
上記無機物担体および／または粒子状ポリマー担体は、このまま使用することもできるが、好ましくは予備処理としてこれらの担体を有機アルミニウム化合物やＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム化合物などに接触処理させた後に成分ａ５として用いることもできる。
【００３７】
エチレン系重合体（Ｂ）は、前記触媒の存在下、実質的に溶媒の存在しない気相重合法、スラリー重合法、溶液重合法等で製造され、実質的に酸素、水等を断った状態で、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素等に例示される不活性炭化水素溶媒の存在下または不存在下で製造される。重合条件は特に限定されないが、重合温度は通常１５〜３５０℃、好ましくは２０〜２００℃、さらに好ましくは５０〜１１０℃であり、重合圧力は低中圧法の場合通常常圧〜７０ｋｇ／ｃｍ２  Ｇ、好ましくは常圧〜２０ｋｇ／ｃｍ２  Ｇであり、高圧法の場合通常１５００ｋｇ／ｃｍ２  Ｇ以下が望ましい。重合時間は低中圧法の場合通常３分〜１０時間、好ましくは５分〜５時間程度であり、高圧法の場合、通常１分〜３０分、好ましくは２分〜２０分程度である。また、重合方法は、一段重合法はもちろん、水素濃度、モノマー濃度、重合圧力、重合温度、触媒等の重合条件が互いに異なる２段階以上の多段重合法など特に限定されるものではない。
【００３８】
エチレン系重合体（Ｂ）は、上述の触媒成分の中に塩素等のハロゲンを含まない触媒を使用して製造することにより、ハロゲン濃度としては多くとも１０ｐｐｍ以下、好ましくは５ｐｐｍ以下、さらに好ましくは実質的に含まない（ＮＤ：２ｐｐｍ以下）ものとすることが可能である。
このような塩素等のハロゲンフリーのエチレン（共）重合体を用いることにより、従来のようなハロゲン中和剤を使用する必要がなくなり、化学的安定性、衛生性が優れ、特に食品の分野において好適に活用されるポリエチレンシートを提供することができる。
【００３９】
本発明においては、高密度ポリエチレン（Ａ）やエチレン系重合体（Ｂ）に酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、有機系あるいは無機系顔料、造核剤、架橋剤などの公知の添加剤が配合されていてもよいが、これらの添加剤がない、もしくは、高密度ポリエチレン（Ａ）やエチレン系重合体（Ｂ）に添加剤が配合されたとしても、配合された添加剤が実質的に内容物等の被接触物に移行しない添加剤であることが望ましい。
本発明においては、外部に溶出してしまうような添加剤、例えば、内容物が液体の場合は、該液体に溶出されてしまうような添加剤、臭気が移行してしまう添加剤、あるいは時間とともにシート表面に偏在するような添加剤が、高密度ポリエチレン（Ａ）やエチレン系重合体（Ｂ）に含まれていないことにより、クリーンなポリエチレンシート、容器等の成形体を提供することが可能となる。
【００４０】
本発明における、実質的に被接触物（内容物）に移行しない添加剤とは、有機あるいは無機フィラーのような充填剤であって、被接触物を変質させず、かつ本発明のポリエチレンシートの特性を本質的に阻害しない範囲で添加が可能な添加剤である。なお、乳等省令ではステアリン酸カルシウムの添加は認められているので、ステアリン酸カルシウムも被接触物（内容物）に移行しない添加剤と同様に扱うことができる。
無機フィラーとしては、炭酸カルシウム、タルク、シリカ、クレー、カリオン、アルミナ、水酸化アルミニウム、マグネシア、水酸化マグネシウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム、硫酸バリウム、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、酸化カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、マイカ、ガラスフレーク、ゼオライト、珪藻土、パーライト、パーミキュライト、シラスバルーン、ガラスマイクロフェアー、フライアッシュ、ガラスビーズなどが挙げられる。
有機フィラーとしては、ポリメチルメタクリレート架橋物、ポリエチレンテレフタレート架橋物、フェノール樹脂その他の合成樹脂の粉末および微小ビーズ、木粉、パルプ粉等が挙げられる。
【００４１】
本発明のポリエチレンシートは、例えば、図１に示すように、高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層１，１と、２つの最外層１，１の間に、互いにブロッキングまたは部分融着したエチレン系重合体（Ｂ）からなる内層２，２とを有する４層構造のものである。
また、本発明のポリエチレンシートの他の例としては、図２に示すように、高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層１，１と、２つの最外層１，１の間に、２つのエチレン系重合体（Ｂ）からなる層が互いに融着して一体化したエチレン系重合体（Ｂ）からなる内層２とを有する３層構造ものが挙げられる。
【００４２】
また、最外層と内層との間に、その他の層を介在させてもよい。例えば、高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層（略号ＨＤ）とエチレン系樹脂（Ｂ）からなる内層（略号ＬＬＤ）との間に、バランスフィルムグレードのような高分子量の高密度ポリエチレンからなる層（略号バランスフィルムグレード）を設け、６層構造（ＨＤ／バランスフィルムグレード／ＬＬＤ／ＬＬＤ／バランスフィルムグレード／ＨＤ）または５層構造（ＨＤ／バランスフィルムグレード／ＬＬＤ／バランスフィルムグレード／ＨＤ）としてもよい。高分子量の高密度ポリエチレンは、溶融張力が高いため、ドローダウンしにくく、真空・圧空成形性に優れるものの、酸化防止剤が添加されているので、これを最外層に使用すると、ポリエチレンシートを食品用に使用することが難しくなる。したがって、高分子量の高密度ポリエチレンよりも外側に、添加剤無添加の高密度ポリエチレンからなる層を設けることが好ましい。ここで、高分子量ポリエチレンとは、メルトフローレートが０．１ｇ／１０分以下、好ましくは０．０５ｇ／１０分以下のものである。メルトフローレートが０．１ｇ／１０分を超えると、高分子量ポリエチレンの特徴である高溶融張力が得にくい。
また、高分子量の高密度ポリエチレンのかわりに、両面から接着性樹脂からなる層で挟まれた、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物（ＥＶＯＨ）からなる層を設けることもできる。この場合、シート全体としては、１０層構造（ＨＤ／接着性樹脂／ＥＶＯＨ／接着性樹脂／ＬＬＤ／ＬＬＤ／接着性樹脂／ＥＶＯＨ／接着性樹脂／ＨＤ）または９層構造（ＨＤ／接着性樹脂／ＥＶＯＨ／接着性樹脂／ＬＬＤ／接着性樹脂／ＥＶＯＨ／接着性樹脂／ＨＤ）となり、酸素不透過性に優れたシートを提供することができる。ここで、接着性樹脂としては、例えば、ポリエチレンを無水マレイン酸などの不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリエチレンなどが挙げられる。
【００４３】
本発明のポリエチレンシートの厚さは、０．４ｍｍ〜５ｍｍである。厚さが０．４ｍｍ未満では、腰がなく、容器として不適当であり、厚さが５ｍｍを超えると、インフレーション成形が困難となる。
また、本発明のポリエチレンシートにおける内層の厚さと内層以外の厚さとの比は、内層の厚さ１に対して、内層以外の厚さが１〜２０の範囲である。内層の厚さ１に対して内層以外の厚さが１未満では、腰がなく、容器として不適当であり、内層の厚さ１に対して内層以外の厚さが２０を超えると、内層による接着力が弱くなる。
【００４４】
本発明のポリエチレンシートの弾性率は、好ましくは４５０〜１２００ＭＰａ、より好ましくは５００〜１２００ＭＰａの範囲である。弾性率が４５０ＭＰａ未満では、シートの熱成形時や容器としての剛性が不十分となる傾向にある。
弾性率が１２００ＭＰａを超えると、第二次成形することが難しいことがある。
ここで、弾性率は、ＡＳＴＭ  Ｄ８８２に準拠して測定された値である。
【００４５】
本発明のポリエチレンシートは、インフレーション成形法で製造されるものである。すなわち、本発明のポリエチレンシートの製造は、空冷法インフレーションフィルム製造装置で実行可能であり、例えば、高密度ポリエチレン（Ａ）およびエチレン系重合体（Ｂ）を、融点以上〜２００℃の温度、好ましくは融点以上〜１８０℃、ブローアップ比１．２〜６で押出機よりサーキュラーダイを通して共押出し、形成された中空状のチューブを空冷式エアーリングより吹き出す空気に接触させて冷却し、ニップロールで挟み潰して最内層同士をブロッキングまたは一部融着させて内層とする方法；各材料をサーキュラーダイを通して共押出して形成された中空状のチューブを空冷式エアーリングより吹き出す空気に接触させて冷却し、最内層のエチレン系重合体（Ｂ）の融点よりも高い温度の状態でニップロールで挟み潰し、最内層同士を接着、一体化してシートの内層とする方法；各材料をサーキュラーダイを通して共押出して形成された中空状のチューブを空冷式エアーリングより吹き出す空気に接触させて冷却し、固化させた後、加熱したニップロールで挟み潰し、最内層同士を接着、一体化してシートの内層とする方法によって行われる。このような方法により従来、困難であった空冷インフレーション法による厚手のポリエチレンシートの成形が可能となる。
【００４６】
本発明のポリエチレンシートの製造方法においては、中空状のチューブの最内層がエチレン系重合体（Ｂ）からなる層とされ、最外層が高密度ポリエチレン（Ａ）からなる層とされる。中空状のチューブの最内層をエチレン系重合体（Ｂ）からなる層とすることで、中空状のチューブ挟み潰す際に、最内層が接着層の役割を果たす。また、中空状のチューブの最外層を高密度ポリエチレン（Ａ）とすることで、中空状のチューブ挟み潰す際に、ニップロールにシートがくっついてしまうことがない。
【００４７】
空冷インフレーション成形におけるブローアップ比は、１．２〜６の範囲が好ましい。ブローアップ比を高くすることにより、得られるポリエチレンシートに収縮応力が生じ、真空成形、圧空成形の加熱時における垂れ下がり（ドローダウン）が小さくなる。従来の厚手のシートは、キャスティング（Ｔダイ法）で製造されていたため、加熱時に垂れ下がりやすかったが、本発明における、空冷インフレーション成形法によるシートは、加熱時における垂れ下がりが小さく、真空成形、圧空成形に好適である。耐ドローダウン性を考慮すると、ブローアップ比は、３〜６の範囲がより好ましい。
【００４８】
このように空冷インフレーション成形法によってポリエチレンシートを製造することによって、▲１▼Ｔダイ法で得られたポリエチレンシートのように、加熱時に垂れ下がったり、成形時に皺ができたりしないので、真空成形、圧空成形が可能となる、▲２▼低温成形が可能であり、樹脂の熱劣化が少ない、▲３▼低温成形が可能であり、添加剤フリーで成形でき、内容物に悪影響を与えない容器を得ることができる、▲４▼シートの幅に合わせてブローアップ比を調節し、サイズ合わせのための耳のスリットを不要にでき、Ｔダイ法に比べ生産性が非常によい、▲５▼耳ロスがなく、経済性に優れる（低コストである）という利点が得られる。
【００４９】
本発明の成形体としては、本発明のポリエチレンシートを真空成形または圧空成形してなる容器、ボトル、トレー、カップ等が挙げられる。
本発明の成形体の主要用途である容器は、食品、飲料、洗剤、薬剤、医療用輸液、化粧品、入浴剤などに用いられる。
【００５０】
以上説明した本発明のポリエチレンシートにあっては、密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層と、２つの最外層の間に、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）からなる内層とを有するするインフレーション成形法によるシートであるので、耐ドローダウン性に優れる。そして、耐ドローダウン性に優れることから、真空成形、圧空成形によって成形品を成形しても、成形品に皺、偏肉、穴あきなどの不良が発生しにくい。
また、耐ドローダウン性に優れる上に、内層以外の厚さが、内層の厚さ１に対して１〜２０の範囲であり、シートの厚さが０．４ｍｍ〜５ｍｍであるので、このようなポリエチレンシートは、真空成形、圧空成形、真空・圧空成形に好適である。
【００５１】
また、本発明のポリエチレンシートは、空冷インフレーション法により得られるシートであるので、低温で成形できる。低温でポリエチレンシートの成形を行えば、熱による樹脂の熱劣化が起きにくく、酸化防止剤を添加する必要がなくなる利点を有する。また、低温で成形されることにより、樹脂のブロッキングも少なくなるので、アンチブロッキング剤なども添加する必要がない。また、ハロゲンを含まない触媒を用いて高密度ポリエチレン（Ａ）やエチレン系重合体（Ｂ）を製造すれば、ハロゲン中和剤（酸吸収剤）を添加する必要がない。
このように、本発明のポリエチレンシートは、添加剤無添加が可能となっており、そして、このようなポリエチレンシートから得られる成形体は、内容物（被接触物）に添加剤が移行せず、クリーンな成形体となる。そして、樹脂の熱劣化による内容物の臭気や味覚への影響、および添加剤の以降による内容物の臭気や味覚への影響がないので、本発明のポリエチレンシートは、食品、医療等の分野において使用される容器に好適である。
【００５２】
また、本発明のポリエチレンシートの製造方法は、空冷インフレーション成形法によって、高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層と、エチレン系重合体（Ｂ）からなる最内層とを有する中空状のチューブを成形し、このチューブをニップロールで挟み潰す方法であるので、耐ドローダウン性が良好で、真空成形、圧空成形が可能であり、樹脂の熱劣化が少なく、添加剤無添加が可能な厚手のポリエチレンシートを、低コストで、生産性よく製造することができる。
【００５３】
【実施例】
以下、実施例を示して本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００５４】
本実施例における物性測定方法、評価方法は以下の通りである。
［密度］
ＪＩＳ  Ｋ６７６０に準拠した。
［ＭＦＲ］
ＪＩＳ  Ｋ６７６０に準拠した。
［Ｍｗ／Ｍｎ］
ＧＰＣ（ウォータース社製１５０Ｃ型）を用い、溶媒として１３５℃のＯＤＣＢを使用した。カラムは東ソーのＧＭＨＨＲ−Ｈ（Ｓ）を使用した。
［ハロゲン濃度］
蛍光Ｘ線法により測定し、１０ｐｐｍ以上の塩素が検出された場合はこれをもって分析値とした。１０ｐｐｍを下回った場合は、ダイアインスツルメンツ（株）製ＴＯＸ−１００型塩素・硫黄分析装置にて測定し、２ｐｐｍ以下については、実質的に含まないものとし、ＮＤ（ｎｏｎ−ｄｅｔｅｃｔ）とした。
【００５５】
＜空冷インフレーション成形時の評価＞
［内面のブロッキング性］
シートから幅５０ｍｍのサンプルを切り出し、サンプルの両面の中央部に幅２０ｍｍのセロハンテープを貼り付け、手でセロハンテープを引き剥がして状態を観察し、１シートについて５点評価した。
◎：全く剥がれない。
○：剥がれないが、界面がめくれて白化する。
△：一部サンプルに剥がれが認められる。
×：相当に剥離。
［インフレ成形性］
空冷インフレーション成形時の成形性を、以下の基準で評価した。
◎：非常に安定して成形が可能である。
○：樹脂を安定的に引き上げることができ、フロストが揺らがずに成形が可能である。
△：フロストが揺らぐが、一応成形ができる。
×：樹脂を安定的に引き上げることができず成形ができない。
【００５６】
＜ポリエチレンシートの評価＞
［弾性率］
ＡＳＴＭ  Ｄ８８２に準拠した。
［透明性（ヘイズ）］
ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に準拠した。
【００５７】
［熱成形性］
熱成形性の評価として、耐ドローダウン性と真空成形性の評価を行った。
１）耐ドローダウン性
内寸３０ｃｍ角のステンレス製字具にポリエチレンシートをクランプし、固定した。あらかじめ２１０℃に加熱し、この温度を保持したオーブンに、ポリエチレンシートを水平に字具ごと挿入した。ポリエチレンシートが溶融とともに不定形に変化した後、ポリエチレンシートの分子配向および溶融張力により、張戻った時刻（Ｔ１）からポリエチレンシート中央部が加熱溶融により垂れ下がり、ポリエチレンシート下部表面が字具の水平線より１５ｍｍ垂れ下がった時刻（Ｔ２）までを測定し、耐ドローダウン性の指標としてＴ２−Ｔ１（ｓｅｃ）を求めた。この値が大きいほど、熱成形時の垂れ下がりが少なく、成形が容易となる。
【００５８】
２）真空成形性
（株）浅野研究所製、形式ＦＬＸ−０２を用い、下記条件にてプリン容器形状（開口部直径６４ｍｍ、底部直径５０ｍｍ、深さ５２ｍｍ）の真空成形を行った。成形品の外観により、皺の有無、偏肉の善し悪し、穴あきの発生といった真空成形性の評価を実施した。
（成形条件）
プラグアシスト：有り（アシスト率４３％）、
上ヒーター温度：４５０℃、
下ヒーター温度：４５０℃、
加熱時間：１５秒、
上テーブル遅れ：１秒、
上テーブル時間：１０秒、
下テーブル遅れ：０．８秒、
下テーブル時間：１０秒、
金型温度：６０℃、
真空遅れ：３秒、
冷却時間：１０秒、
離型時間：１．７秒。
【００５９】
［臭気および衛生性］
ポリエチレンシートを成形した容器に蒸留水５００ｍｌを充填し、４０℃オーブン中にて７２時間保存したのち室温まで冷却し、内容液を２０ｍｌを磁器製の器に移し、浮遊物の有無と臭気および味覚について官能試験を実施した。
◎：良い。
○：比較的良い。
△：やや不良。
×：不良。
【００６０】
［総合評価］
◎：シートについての特性を満たし、かつクリーン性に優れる。
○：成形性や得られたポリエチレンシートについての特性、例えば、均一性（ムラがなく）、剛性（弾性率等）などについて実用上問題がない。
△：ポリエチレンシートとしてシート化が可能であるが、シート特性（弾性率等）が不十分である。
×：ポリエチレンシートを成形できない。
【００６１】
実施例および比較例に用いた各樹脂は以下の通りである。
＜（Ａ）高密度ポリエチレン＞
ＨＤ−１：フィリップス触媒により製造、密度＝０．９５７ｇ／ｃｍ３  、ＭＦＲ＝０．３ｇ／１０分、Ｍｗ／Ｍｎ＝７．１、添加剤（酸化防止剤、中和剤）なし。
ＨＤ−２：チーグラー触媒、２段重合により製造、密度＝０．９５０ｇ／ｃｍ３  、ＭＦＲ＝０．０４ｇ／１０分、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．０、添加剤（酸化防止剤、中和剤）あり。
ＨＤ−３：チーグラー触媒により製造、密度＝０．９５６ｇ／ｃｍ３  、ＭＦＲ＝０．７ｇ／１０分、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．５、添加剤（酸化防止剤、中和剤）あり。
ＨＤ−４：フィリップス触媒により製造、密度＝０．９４８ｇ／ｃｍ３  、ＭＦＲ＝０．２ｇ／１０分、Ｍｗ／Ｍｎ＝７．５、添加剤（酸化防止剤、中和剤）なし。
ＨＤ−５：チーグラー触媒により製造、密度＝０．９４８ｇ／ｃｍ３  、ＭＦＲ＝７．０ｇ／１０分、Ｍｗ／Ｍｎ＝５．２、添加剤（酸化防止剤、中和剤）あり。
【００６２】
＜（Ｂ）エチレン系重合体＞
［エチレン・ヘキセン−１共重合体（ＬＬ−１〜３）］
（固体触媒の調製）
電磁誘導攪拌機を備えた触媒調製装置に、窒素下で精製したトルエン１０００ｍｌ，テトラエトキシジルコニウム（Ｚｒ（ＯＥｔ）４  ）２２ｇおよびインデン７４ｇを加え、９０℃に保持しながらトリプロピルアルミニウム１００ｇを１００分かけて滴下し、その後、同温度で２時間反応させた。４０℃に冷却した後、メチルアルモキサンのトルエン溶液（濃度２．５ｍｍｏｌ／ｍｌ）を３２００ｍｌ添加し２時間撹拌した。次にあらかじめ４５０℃で５時間焼成処理したシリカ（グレース社製、＃９５２、表面積３００ｍ２  ／ｇ）２０００ｇを加え、室温で１時間攪拌の後、４０℃で窒素ブローおよび減圧乾燥を行い、流動性のよい固体触媒を得た。
【００６３】
（気相重合）
連続式の流動床気相重合装置を用い、重合温度８０℃、全圧２０ｋｇｆ／ｃｍ２  Ｇでエチレンと１−ヘキセンの共重合を行った。前記固体触媒を連続的に供給し、エチレン、１−ヘキセンおよび水素を所定のモル比に保つように供給して重合を行い、エチレン共重合体（ＬＬ−１、ＬＬ−２、ＬＬ−３）を得た。その物性を表１に示した。
【００６４】
［一般のメタロセン触媒によるエチレン・ヘキセン−１共重合体（ＬＬ−４）］窒素で置換した撹拌機付き加圧反応器に精製トルエンを入れ、次いで、１−ヘキセンを添加し、さらにビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、メチルアルモキサン（ＭＡＯ）の混合液を（Ａｌ／Ｚｒモル比＝５００）を加えた後、８０℃に昇温し、メタロセン触媒を調整した。ついでエチレンを張り込み、エチレンを連続的に重合しつつ全圧を６ｋｇ／ｃｍ３  に維持して重合を行い、エチレン・ヘキセン−１共重合体（ＬＬ−４）を製造した。その物性を表１に示した。
【００６５】
［市販の線状低密度ポリエチレン（ＬＬ−５）］
物性を表１に示した。
［高圧ラジカル法による低密度ポリエチレン］
ＬＤ：密度＝０．９２０ｇ／ｃｍ３  、ＭＦＲ＝１．０ｇ／１０分、添加剤（酸化防止剤、中和剤）なし。
【００６６】
【表１】
2004154942.tif 000003
【００６７】
［成形機］
２種２層共押出成形機（押出機−１：６５ｍｍφ押出機、Ｌ／Ｄ＝３０、モーター４０ｋＷ。押出機−２：５５ｍｍφ押出機、Ｌ／Ｄ＝２８、モーター３０ｋＷ。ダイ：２種２層ダイ、１５０ｍｍφ。エアーリング：多重吹出リップ方式。）
［成形条件］
シリンダー温度：１６０〜１９０℃、ブローアップ比（ＢＵＲ）：１．２〜４．０。
【００６８】
［実施例１〜８、比較例１〜６］
表１に示す高密度ポリエチレン（Ａ）を上記２種２層共押出機の外層から、表１に示すエチレン系重合体（Ｂ）を２種２層共押出機の内層から押出し、先に示した成形条件下で空冷インフレーション法により、表１に示すポリエチレンシートを成形した。さらに、ポリエチレンシートをヒートシールして内容量５００ｍｌの袋を製造した。
得られたポリエチレンシートについて評価を行った。結果を表２および表３に示す。
【００６９】
【表２】
2004154942.tif 000004
【００７０】
【表３】
2004154942.tif 000005
【００７１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のポリエチレンシートは、密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）を含む最外層と、２つの最外層の間に、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）を含む内層とを有するインフレーション成形法によるシートであって、内層以外の厚さが、内層の厚さ１に対して１〜２０の範囲であり、全体の厚さが０．４ｍｍ〜５ｍｍであるので、耐ドローダウン性が良好で、真空成形、圧空成形が可能であり、樹脂の熱劣化が少なく、添加剤無添加が可能であり、食品、医療等の分野で使用される容器に好適である。
【００７２】
また、本発明の成形体は、本発明のポリエチレンシートを真空成形法、圧空成形法または真空・圧空成形で成形してなるものであるので、食品、医療等の分野で使用される容器に好適である。
また、本発明のポリエチレンシートの製造方法は、空冷インフレーション成形法によって、密度０．９３５ｇ／ｃｍ３  以上の高密度ポリエチレン（Ａ）からなる最外層と、密度０．９４０ｇ／ｃｍ３  未満のエチレン系重合体（Ｂ）からなる最内層とを有する中空状のチューブを成形し、このチューブをニップロールで挟み潰す方法であるので、耐ドローダウン性が良好で、真空成形、圧空成形が可能であり、樹脂の熱劣化が少なく、添加剤無添加が可能な厚手のポリエチレンシートを低コストで、生産性よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のポリエチレンシートの一例を示す断面図である。
【図２】本発明のポリエチレンシートの他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
１  最外層
２  内層
【図１】
2004154942.tif 000006
【図２】
2004154942.tif 000007