(57)【要約】【課題】マザーガラスから多面取りされる液晶パネルであって、切り出される前の基板状態において静電チャックにより確実に吸着されるマザー基板、液晶パネル及びその製造方法並びに当該液晶パネルを用いた液晶表示装置を提供すること。【解決手段】本発明にかかる液晶パネルは、マザーガラスから多面取りされる液晶パネルである。このマザー基板（上基板４）は液晶パネルに対応するセルパターン１２を備えている。さらにセルパターン１２を導電性素材１３によって相互に電気的に接続し、第１電極９と第２電極１０をまたぐように一体化している。そして静電チャックの第１電極９と第２電極１０に電圧を印加して吸着する。【選択図】　図１
2004053670.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マザー基板より多面取りされる液晶パネルであって、
前記液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターンを有するマザー基板より複数の液晶パネル用基板を切り出すことによって製造された液晶パネル。
【請求項２】
マザー基板より多面取りされる液晶パネルであって、
前記液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターンを有するマザー基板を静電チャックにより吸着する工程と、
前記マザー基板より複数の液晶パネル用基板を切り出す工程により製造された液晶パネル。
【請求項３】
前記複数のセルパターンが前記静電チャックの電極対にまたがるようにして電気的に接続されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記マザー基板を静電チャックにより吸着する工程が液晶の滴下工程にて行われる請求項２又は３いずれかに記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記マザー基板は、薄膜トランジスタアレイ基板が複数切り出されるマザー基板であり、
前記薄膜トランジスタアレイ基板上にソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つが形成され、
前記ソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つを延長することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とする請求項１乃至４いずれかに記載の液晶パネル。
【請求項６】
前記マザー基板は、カラーフィルター基板が複数切り出されるマザー基板であり、
前記マザー基板上のカラーフィルター基板に対向電極が形成され、
前記対向電極を接続することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とする請求項１乃至５いずれかに記載の液晶パネル。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれかに記載の液晶パネルを用いた液晶表示装置。
【請求項８】
複数の液晶パネル用基板が切り出される液晶パネル用マザー基板であって、
液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターンを有する液晶パネル用マザー基板。
【請求項９】
前記複数のセルパターンは、前記静電チャックの電極対にまたがるようにして電気的に接続されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶パネル用マザー基板。
【請求項１０】
前記マザー基板は、薄膜トランジスタアレイ基板が複数切り出されるマザー基板であり、
前記薄膜トランジスタアレイ基板上にソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つが形成され、
前記ソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つを延長することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とする請求項８又は９いずれかに記載の液晶パネル用マザー基板。
【請求項１１】
前記マザー基板は、カラーフィルター基板が複数切り出されるマザー基板であり、
前記マザー基板上のカラーフィルター基板に対向電極が形成され、
前記対向電極を接続することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とする請求項８乃至１０いずれかに記載の液晶パネル。
【請求項１２】
マザー基板より液晶パネルを多面取りする液晶パネルの製造方法であって、
前記基板上に前記液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターンを有するマザー基板を静電チャックにより吸着する工程と、
前記マザー基板を複数の液晶パネル用基板に切り出す工程を備えた液晶パネルの製造方法。
【請求項１３】
マザー基板より液晶パネルを多面取りする液晶パネルの製造方法であって、
第１のマザー基板に電気的に接続された複数のセルパターンを形成する工程と、
第２のマザー基板に複数のセルパターンを形成する工程と、
前記第２のマザー基板のセルパターン周辺にシール剤を塗布する工程と、
前記第２のマザー基板の記シール剤に囲まれた領域に液晶を滴下する工程と、
前記第１のマザー基板を静電チャックにより吸着する工程と、
前記第１のマザー基板と前記第２のマザー基板を貼り合わせる工程を備えた液晶パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記第１のマザー基板は、薄膜トランジスタアレイ基板が複数切り出されるマザー基板であり、
前記マザー基板上の薄膜トランジスタアレイ基板上はソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つが形成され、
前記ソース配線、前記ゲート配線、前記補助容量配線、前記ショートリングの少なくともいずれか一つを延長することにより、前記複数のセルパターンを電気的に接続することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記マザー基板は、カラーフィルター基板が複数切り出されるマザー基板であり、
前記マザー基板上の前記カラーフィルター基板に対向電極が形成され、
前記対向電極を接続することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とする請求項１２乃至１３いずれかに記載の液晶パネル。
【請求項１６】
前記複数のセルパターンは、静電チャックの電極対をまたがるようにして相互に電気的に接続されていることを特徴とする請求項１２乃至１５いずれかに記載の液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マザー基板、液晶パネル及びその製造方法並びに液晶表示装置に関し、特に詳しくは製造工程において静電チャック法が用いられる多面取りの液晶パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は液晶パネルと当該液晶パネルの裏面に設けられた面状光源装置を備えている。この液晶パネルは液晶層を狭持する薄膜トランジスタアレイ基板（ＴＦＴアレイ基板）とカラーフィルター基板（ＣＦ基板）により構成される。このＴＦＴアレイ基板にはスイッチング素子とＩＴＯ等の透明性導電膜からなる画素電極が設けられている。ＣＦ基板にはＩＴＯ等の透明性導電膜からなり、画素電極に対向する対向電極が設けられている。このＴＦＴアレイ基板とＣＦ基板の間には基板の間隔を一定にするためにスペーサーが設けられている。
【０００３】
この液晶表示装置の製造工程は大別すると、ガラス基板上に配線パターンやスイッチング素子（アクティブマトリクス型の場合）等を形成するアレイ工程と、もう一方の基板にカラーフィルター等を形成するカラーフィルター工程と、配向処理やスペーサーの配置、及び対向するガラス基板間に液晶を封入するセル工程と、ドライバＩＣの取付けやバックライト装着などを行うモジュール工程からなる。また液晶表示装置の製造装置では基板又は液晶セルの立体的な搬送に真空吸着を多用する。
【０００４】
上記のセル工程での液晶の注入方法としては、例えば特開平８−１７９３３号公報に示されているような真空注入法（加圧注入法ともいう）が従来は用いられていた。この液晶の真空注入法について説明する。まずシール剤によってＴＦＴアレイ基板とＣＦ基板を貼り合わせる。そして貼り合せた基板の一部に液晶注入口を設ける。そして液晶を入れた液晶皿と基板をチャンバーに置き、チャンバーを排気し中高真空環境にする。つぎに液晶注入口を液晶皿に含浸させる。そして復圧させて、圧力差によって液晶を基板間に注入する。さらに、液晶注入口に繊維束を設け毛細管現象を利用する注入法もある。
【０００５】
しかし、真空注入法では、真空にする工程、復圧する工程及び液晶注入口を封口する工程を必要とし、工程が複雑であり製造コストの低減が難しかった。また、液晶皿に基板を浸漬させて液晶を注入するため、高価な液晶材料を所定の注入量以上に消費してしまい経済的ではなかった。また、大面積の基板の場合には、注入するのに長時間を要し、そのため、生産効率が悪かった。さらに、液晶注入口を封口するに当たり気泡が生じやすく、従って、生産技術上細かい管理が必要であった。
【０００６】
上記の問題点を解決するため、近年では例えば特開２００２―０４０３９８号公報に示されているような滴下法が用いられるようになっている。滴下法について図５を用いて説明する。図５は滴下法の構成をしめす断面図である。ここで１は液晶、２はシール剤、３は下基板、４は上基板、５は下定盤、６は上定盤、７はチャンバー、８は水平方向移動機構である。チャンバー７内にＴＦＴアレイ基板又はＣＦ基板いずれか１枚の基板を水平な下定盤５の上に配置する。この基板を下基板３とする。ここではパターン（図示せず）とスペーサー（図示せず）が設けられている面を上向きにしており、その周囲にシール剤２が塗布されている。このシール剤で囲まれた領域にディスペンサー（図示せず）を用いて所定の量の液晶１を滴下する。また下基板３に対向する上基板４が静電チャックによって上定盤６に保持されている。この上定盤６をモーター等によって下げ、下基板３と上基板４を貼り合わせる。下定盤５には基板を精度よく貼り合わせるために、水平（Ｘ、Ｙ、θ方向）移動機構８が備えられている。そして紫外線の照射、加熱によってシール剤を硬化させる。さらに貼り合わされた基板を所定の数に切断し分割する。
【０００７】
上記のような滴下方法では液晶注入口を封止する工程がなく、液晶の封入（滴下、貼り合わせ）を同一のチャンバーで行うことができる。よって製造工程が簡略化される。また封入工程を全て真空中で行うことができるため、汚染（コンタミ）の影響が少ない。
【０００８】
ここで、チャンバー７の内部は真空になっているため、上基板４の保持に真空吸着が機能しなくなる。よって上定盤６には静電チャックが組み込まれている。この静電チャックの構成について図６、図７を用いて説明する。図６は静電チャックの構成を示す断面図であり、図７は静電チャックの構成を示す平面図である。図５で付した符号と同一の符号は同じ構成を示すため説明を省略する。９は第１電極、１０は第２電極、１１は絶縁体、１２はセルパターンである。
【０００９】
図６に示すように上定盤６には第１電極９と第２電極１０が組み込まれている。第１電極９と第２電極１０の間の間には絶縁体１１が設けられている。この第１電極９及び第２電極１０は安定した吸着力を発生させるため、電気特性を制御したＳｉＣ等が用いられている。また絶縁体１１には絶縁性が高く、真空中での放出ガスが少ないアルミナ等が用いられている。
【００１０】
これらの電極対に電圧を印加させ、第１電極９には正に、第２電極１０は負に帯電させる。これらの電極対の下に導電性のセルパターン１２が形成された上基板４が設けられている。このセルパターン１２は絶縁性の上基板４を介して電極対と対峙している。そのため導電性素材中で第１電極９と対向する部分は負の、第２電極と対向する部分は正の電荷が誘起される。従って、電極対とセルパターン１２が絶縁性の上基板４を介する平行平板のコンデンサーとなり、これらの間に発生するジョンソン―ラベック力によって上基板４を静電的に吸着、固定することができる。
【００１１】
この第１電極９と第２電極１０は図７の点線に示すようにそれぞれ２個ずつ設けられている。また上基板４がＴＦＴアレイ基板の場合、このセルパターン１２は画素電極、ソース配線、ゲート配線等のアレイパターンである。ＣＦ基板の場合は画素電極に対向する対向電極等である。これらのセルパターン１２は各セル毎に分けられている。そして図７では一対のマザーガラスから２つの液晶パネルを切り出すため、２つのセルパターン１２が形成されている。それぞれのセルパターン１２が正負に分極され、上基板４が静電チャックされる。
【００１２】
ところで、近年では生産性を向上するために、マザーガラスが大型化し、１枚のマザーガラスから切り出される液晶パネルの枚数が増加している。また基板サイズが小さくても、携帯電話やＰＤＡ等に用いられる小型サイズの液晶パネルが多数形成され、多数の液晶パネルが切り出されることになる。このように多数の液晶パネルが形成される多面取りの基板に対して上記の静電チャックを用いる場合には、以下のような問題点があった。
【００１３】
図８、図９を用いて問題点を説明する。図８は上基板４と電極対の構成を示す断面図であり，図９は平面図である。図５、図６、図７で付した符号と同一の符号は同一の構成を示すため説明を省略する。ここでは上基板４には小型のセルパターン１２が４２個設けられている。また静電チャックの構成は図６、図７と同一の構成であるため説明を省略する。
【００１４】
図９のように多数のセルパターン１２が設けられている上基板４を静電チャックする場合、第１電極９、第２電極１０に比べてセルパターン１２が小さくなる。従って、セルパターン１２は第１電極９と第２電極１０の両方にまたがらなくなる。これらの個々のセルパターン１２は独立している。よって第１電極９と第２電極１０に正負の電圧を印加しても、個々のセルパターン１２に対して正負の電荷を同時に与えることができないため、セルパターン１２が分極されず静電吸着することができないという問題点があった。また、セルパターン１２が第１電極９、第２電極１０に比べてある程度小さくなり、両電極をまたがる面積が小さくなると分極される電荷量が減り、吸着力（ジョンソン―ラベック力）が弱くなるといった問題点があった。
【００１５】
以上より、セルパターン１２が静電チャックの電極に比べて小さいと、吸着されなかったり、吸着力が弱くなるという問題点があった。吸着力が弱くなると、上基板４が吸着されなくなることや、また吸着している途中で基板が落下してしまうことがあった。また、貼り合わせ工程で上基板４の位置がずれてしまうという問題点もあった。
【００１６】
この対策として、第１電極９と第２電極１０を小さくして電極の数を増やす方法が考えられられるが、電極の数を増やすと構造が複雑になり、ＳｉＣやアルミナ等の高価な部品を多数使用することとなり、経済的ではない。またセルサイズ（面取り数）によって、電極の形状を最適化し少ない電極数で吸着させるようにした場合は、セルサイズを変更した時にこれらの電極と絶縁体１１を交換する必要が生じるため、手間がかかり生産性がよくない。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のマザー基板より多面取りされる液晶パネルでは、マザー基板が静電チャックにより確実に吸着することができないという問題点があった。
【００１８】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、マザー基板から多面取りされる液晶パネルであって、マザー基板が静電チャックにより確実に吸着されるマザー基板、液晶パネル及びその製造方法並びに当該液晶パネルを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる液晶パネルは、マザー基板（例えば、本実施の形態における上基板４）より多面取りされる液晶パネルであって、前記液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターン（例えば、本発明の実施の形態におけるセルパターン１２）を有するマザー基板より複数の液晶パネル用基板を切り出すことによって製造されるものである。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００２０】
本発明にかかる液晶パネルは、マザー基板より多面取りされる液晶パネルであって、前記液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターンを有するマザー基板を静電チャックにより吸着する工程と、前記マザー基板より複数の液晶パネル用基板を切り出す工程により製造されたものである。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００２１】
上記の液晶パネルにおいて、前記複数のセルパターンが前記静電チャックの電極対にまたがるようにして電気的に接続されていることことが望ましい。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００２２】
上述の前記マザー基板を静電チャックにより吸着する工程は、液晶の滴下工程において行われることが望ましい。これにより、真空中で行われる液晶の滴下工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００２３】
上述の好適な実施例として、前記マザー基板は、薄膜トランジスタアレイ基板が複数切り出されるマザー基板であり、前記薄膜トランジスタアレイ基板上にソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つが形成され、前記ソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つを延長することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することが望ましい。これにより、製造工程において静電チャックにより容易に吸着できる。
【００２４】
上述の好適な実施例として、前記マザー基板は、カラーフィルター基板が複数切り出されるマザー基板であり、前記マザー基板上のカラーフィルター基板に対向電極が形成され、前記対向電極を接続することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することが望ましい。これにより、製造工程において静電チャックにより容易に吸着できる。
【００２５】
上述の液晶パネルは液晶表示装置に用いることが望ましい。
【００２６】
本発明にかかるマザー基板は複数の液晶パネル用基板が切り出される液晶パネル用マザー基板であって、液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターンを有するものである。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００２７】
上記のマザー基板において前記複数のセルパターンは、前記静電チャックの電極対にまたがるようにして電気的に接続されていることが望ましい。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００２８】
本発明に好適な実施の形態は、前記マザー基板が、薄膜トランジスタアレイ基板が複数切り出されるマザー基板であり、前記薄膜トランジスタアレイ基板上にソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つが形成され、前記ソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つを延長することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とするものである。これにより、製造工程において静電チャックにより容易に吸着できる。
【００２９】
本発明に好適な実施の形態は、前記マザー基板が前記マザー基板は、カラーフィルター基板が複数切り出されるマザー基板であり、前記マザー基板上のカラーフィルター基板に対向電極が形成され、前記対向電極を接続することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とするものである。これにより、製造工程において静電チャックにより容易に吸着できる。
【００３０】
本発明にかかる液晶パネルの製造方法はマザー基板より液晶パネルを多面取りする液晶パネルの製造方法であって、前記基板上に前記液晶パネルに対応し、相互に電気的に接続された複数のセルパターンを有するマザー基板を静電チャックにより吸着する工程と、前記マザー基板を複数の液晶パネル用基板に切り出す工程を備えたものである。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００３１】
本発明にかかる液晶パネルの製造方法はマザー基板より液晶パネルを多面取りする液晶パネルの製造方法であって、第１のマザー基板（例えば、本実施の形態における上基板４）に電気的に接続された複数のセルパターンを形成する工程と、第２のマザー基板（例えば、本実施の形態における下基板３）に複数のセルパターン（例えば、本実施の形態におけるセルパターン１２）を形成する工程と、前記第２のマザー基板のセルパターン周辺にシール剤（例えば、本実施の形態におけるシール剤２）を塗布する工程と、前記第２のマザー基板の記シール剤に囲まれた領域に液晶（例えば、本実施の形態における液晶１）を滴下する工程と、前記第１のマザー基板を静電チャックにより吸着する工程と、前記第１のマザー基板と前記第２のマザー基板を貼り合わせる工程を備えたものである。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００３２】
上述の製造方法の好適な実施の形態は、前記第１のマザー基板が、薄膜トランジスタアレイ基板が複数切り出されるマザー基板であり、前記マザー基板上の薄膜トランジスタアレイ基板上はソース配線、ゲート配線、補助容量配線、ショートリングの少なくとも一つが形成され、前記ソース配線、前記ゲート配線、前記補助容量配線、前記ショートリングの少なくともいずれか一つを延長することにより、前記複数のセルパターンを電気的に接続することを特徴とするものである。これにより、製造工程において静電チャックにより確実に吸着できる。
【００３３】
上述の製造方法の好適な実施の形態は、前記マザー基板が、カラーフィルター基板が複数切り出されるマザー基板であり、前記マザー基板上の前記カラーフィルター基板に対向電極が形成され、前記対向電極を接続することにより、前記複数のセルパターンが電気的に接続することを特徴とするものである。これにより、液晶パネルの製造工程で、静電チャックにより容易にマザー基板を吸着することができる。
【００３４】
上述の製造方法において、前記複数のセルパターンは、静電チャックの電極対をまたがるようにして相互に電気的に接続されていることが望ましい。これにより、液晶パネルの製造工程で、静電チャックにより確実に吸着することができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態１．
本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルについて、図１、図２、図５を用いて説明する。図１は本実施の形態にかかる液晶パネルが設けられたマザーガラスの平面図である。図２はそのマザーガラスが静電チャックされている時の構成を示す断面図である。図５は静電チャックを利用した液晶滴下法の構成を示す断面図である。ここで１は液晶、２はシール剤、３は下基板、４は上基板、５は下定盤、６は上定盤、７はチャンバー、８は水平方向移動機構、９は第１電極、１０は第２電極、１１は絶縁体、１２はセルパターン、１３は導電性素材である。
【００３６】
従来技術でも説明しているように、液晶表示装置の製造工程において静電チャックは液晶の滴下工程でよく用いられる。以下に静電チャックによる基板吸着を用いた液晶の滴下法を説明する。
【００３７】
チャンバー７内にＴＦＴアレイ基板又はＣＦ基板いずれか１枚の基板を水平な下定盤５の上に配置する。この基板を下基板３とする。ここではセルパターン（ここでは図示せず）とスペーサー（図示せず）が設けられている面を上向きにしている。このセルパターンは液晶パネルに対応して設けられており、その周囲にシール剤２が塗布されている。このシール剤２で囲まれた領域にディスペンサーを用いて所定の量の液晶１を滴下する。次に下基板３に対向する上基板４が静電チャックによって上定盤６に保持されている。この上定盤６をモーターによって下げ、下基板３と上基板４を貼り合わせる。下定盤５には基板を精度よく貼り合わせるために、水平（Ｘ、Ｙ、θ方向）移動機構８が備えられている。そして紫外線の照射、加熱によってシール剤を硬化させる。その後、貼り合わされた基板をセルパターン毎に切断し分割する。
【００３８】
上記のような滴下方法では液晶注入口を封止する工程がなく、液晶の封入（滴下、貼り合わせ）を同一のチャンバーで行うことができる。よって製造工程が簡略化される。また封入工程を全て真空中で行うことができるため、汚染（コンタミネーション）の影響が少ない。
【００３９】
本発明は上述の静電チャックを一対のマザーガラスから多数の液晶パネルが切り出されるよう多数のセルパターン１２が設けられた上基板４に用いる。この多数のセルパターン１２が設けられたマザーガラス（上基板４）及び静電チャックについて図１、図２を用いて説明する。
【００４０】
図２に示すように本実施の形態では第１電極９、第２電極１０及び絶縁体１１の電極対が上定盤６に組み込まれている。この第１電極９と第２電極１０は図１に点線で示すようにそれぞれ２個ずつ設けられているため２対の電極対（４個の電極）が１枚の上基板４（マザーガラス）に対応することになる。この第１電極９及び第２電極１０は安定した吸着力を発生させるため、電気特性を制御したＳｉＣ等が用いられている。また絶縁体１１には絶縁性が高く、真空中での放出ガスが少ないアルミナ等が用いられている。もちろん電極は導電性、絶縁体は絶縁性があれば、これ以外の材質でもよい。この上基板４には各液晶パネルに対応する６×７の小型セルのセルパターン１２が設けられている。上基板４がＴＦＴアレイ基板の場合、このセルパターン１２はソース配線、ゲート配線、補助容量配線等の配線やゲート電極、ソース電極、画素電極等の電極となる。またＣＦ基板の場合は、セルパターン１２は画素電極と対向する対向電極等となる。そして、本発明ではこのセルパターン１２を導電性素材１３によって電気的に接続し、導通している点で従来技術とは異なる。
【００４１】
この導電性素材１３が設けられている上基板４を静電チャックにより吸着した場合、図２に示すようになる。この導電性素材１３によって、個々のセルパターン１２が電気的に接続されているため、大きな導電膜が形成されていることになる。従って、１つの電極に対して複数のセルパターン１２が設けられており。電極対にまたがってセルパターン１２が形成されていなくても、全体が大きな導体になっているため、それぞれの電極に対応して正負の電荷が誘起される。これにより、全体のセルパターン１２が分極され絶縁体（ガラス基板）越しに吸着されるようになる。
【００４２】
上基板４がＣＦ基板の場合は導電性素材にＩＴＯ等により対向電極を形成する工程で図１に示す様なＩＴＯパターンを形成して、各セルパターン１２を導通させてもよい。これにより対向電極と同じ工程で導電性素材を形成することができるので工程を増やさずに本発明の効果を得ることができる。上基板４がＴＦＴアレイ基板の場合は、ソース配線、ゲート配線等を延長して、各セルパターン１２を導通させてもよい。また画素電極の下に形成され、画素電極に電荷を蓄積させる補助容量配線（蓄積容量配線）を用いてもよい。さらには静電気による破壊を防ぐため各配線の終端どうしをＴＦＴアレイ基板上でショートさせる配線パターンであるショートリングを用いて、各セルパターンを接続してもよい。これらのうち少なくとも１つ又は２つ以上を利用することにより、工程を増やさずに本発明の効果を得ることができる。もちろんセルパターン１２を連結するための導電性の専用パターンを設けて接続してもよい。
【００４３】
発明の実施の形態２．
本発明にかかる液晶パネルについて図３を用いて説明する。図３は液晶パネルが切り出される前の基板状態を示す平面図ある。図１で付した符号と同一の符号は同一の構成を示すため説明を省略する。また静電チャックの構成も図２、図５と同一であるため説明を省略する。
【００４４】
基板状態において、本実施の形態ではセルパターン１２が横一列のみ導電性素材１３によって電気的に接続されている点で実施の形態１と異なる。このような構成でもセルパターンと導電性素材が電極対をまたがっているために正負の電荷が誘起され、分極される。従って吸着力が下がることなく、小型のセルパターンが形成された基板を吸着することができる。
【００４５】
またセルパターン１２と導電性素材１３の構成は図示した形態に限られるものではなく、セルパターン１２を導電性素材１３により接続して導体を一体化し、電極対にまたがるように構成されていれば同様の効果を得ることができる。もちろん全てのセルパターンを接続し、一体化しなくてもよく、電極対にあわせた形状にセルパターンを接続してもよい。電極対にまたがるようにセルパターン１２を接続すれば同様の効果を得ることができる。
【００４６】
その他の実施の形態．
このように静電チャックを利用して基板を吸着、保持するには１つの導電体（導電膜）につき最低限一対の電極が絶縁体越しに形成する必要がある。このため、１つの導電体の大きさが電極よりも小さくなるセルを形成した基板においては、より小さい電極対を多数用いて基板を静電チャックにより吸着させる必要がある。本発明ではセルパターンが電極より小さくても、少ない電極対を用いて静電チャックによる吸着を可能とする。上記のように基板上に形成された小さいセルパターン間を導電性素材により接続し一体化した導電体とすることによりセルパターンよりも少ない電極対による静電吸着を可能とする。
【００４７】
上述のように本発明を用いればセルパターンを一体化するために、電極対の数を減らすことができる。例えば図４に示すように第１電極９と第２電極１０を１つずつ組み込んだ１対の電極対でも静電チャックの吸着力を上げることができる。これにより、静電チャックの部品点数を減らし電極の構成を簡易なものにすることができ、製造コストを低減することが可能となる。
【００４８】
本発明にかかる液晶パネルは、液晶の滴下工程の上基板４に用いるだけでなく、下基板３を静電チャックにて吸着、固定してもよい。これにより、下基板３の吸着力が上がり、精度よく基板の貼り合わせを行うことができるようになる。もちろん上基板４と下基板３を同時に静電チャックしてもよい。さらに液晶の滴下工程のみではなく、切り出される前のマザーガラスを静電チャックにて吸着、搬送、固定する工程に対して用いることが可能である。この場合水平に基板を置く場合のみではなく、傾斜させて置いてもよい。これにより、多数のセルパターンが設けられた基板の吸着、保持、固定、搬送、移動を容易に行うことができる。
【００４９】
本発明は、液晶パネルやマザーガラスのサイズに関係なく複数のセルパターンが形成されており、静電チャックの電極対よりも小さければ利用することができる。同様に本発明は多面取りの枚数に関係なく、２枚以上の液晶パネルに対応するセルパターンが形成されていれば利用することができる。また、本発明は図示したセルパターンや電極対の形状に限らずに利用することができる。なお実施の形態ではマザー基板をガラスとしたが、プラスチック等の他の材質でもよい。
【００５０】
上記のような製造工程で製造した液晶パネルは液晶表示装置に用いることが好適である。
【００５１】
【発明の効果】
本発明によれば、マザーガラスから多面取りされる液晶パネルであって、静電チャックにより確実に吸着されるマザー基板、液晶パネル及びその製造方法並びに当該液晶パネルを用いた液晶表示装置を提供ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの基板状態における構成を示す平面図である。
【図２】本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの基板の静電チャックによる吸着の構成を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態２にかかる液晶パネルの基板状態における構成を示す平面図である。
【図４】本発明のその他の実施の形態にかかる液晶パネルの基板状態における構成を示す平面図である。
【図５】静電チャックを利用した液晶の滴下法の構成を示す断面図である。
【図６】液晶パネルの基板の静電チャックによる吸着の構成を示す断面図である。
【図７】液晶パネルの基板状態における構成を示す平面図である。
【図８】従来の液晶パネルの基板の静電チャックによる吸着の構成を示す断面図である。
【図９】従来の液晶パネルの基板状態における構成を示す平面図である。
【符号の説明】
１　液晶
２　シール剤
３　下基板
４　上基板
５　下定盤
６　上定盤
７　チャンバー
８　水平方向移動機構
９　第１電極
１０　第２電極
１１　絶縁体
１２　セルパターン
１３　導電性素材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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