(57)【要約】　　【課題】スライダーの露出した磁性面の腐食を大幅に減少させる。　　【解決手段】スライダー１００はサブストレート４０４上に形成される。スライダー１００の腐食性のコンポーネント４０６はスライダー１００に接した状態で環境（化学薬品、水、空気など）に曝される。サブストレート４０４の切り溝領域４０８はスライダー１００の近くに位置している。切り溝領域４０８をスライダー１００から除去することが可能である。犠牲アノード４１０は切り溝領域４０８に埋め込まれ、環境に曝される。犠牲アノード４１０はスライダー１００の腐食性のコンポーネント４０６に電気的に結合されており、それにより電気化学的な電池を構成する。犠牲アノード４１０は腐食性のスライダー・コンポーネント４０６より活性度が高い、すなわち腐食性が強いので、最初に腐食する。切り溝領域４０８が除去されると、腐食した犠牲アノード４１０も同様に除去される。【選択図】　図４
2004111033.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
　サブストレート上に形成されたスライダーと、
前記スライダーと接触した状態で環境に曝される前記スライダーの腐食性のコンポーネントと、
　前記スライダーから除去可能であり、前記スライダーに隣接する前記サブストレートの切り溝領域と、
　前記切り溝領域に埋め込まれ、環境に曝されており、前記スライダーの腐食性のコンポーネントに電気的に結合され、前記スライダーの腐食性のコンポーネントより活性度が高い犠牲アノードと、
を有していることを特徴とするスライダー組み立てアセンブリ。
【請求項２】
　前記犠牲アノードは、前記スライダーの空気ベアリング面の近傍で環境に曝されていることを特徴とする請求項１に記載のスライダー組み立てアセンブリ。
【請求項３】
　前記犠牲アノードは、少なくとも一部は、アルミニューム、亜鉛、マンガン、マグネシュームの少なくとも一つで構成されていることを特徴とする請求項１に記載のスライダー組み立てアセンブリ。
【請求項４】
　さらに、前記犠牲アノードを前記スライダーの腐食性のコンポーネントに結合させるコネクターを有し、該コネクターは前記犠牲アノードの材料と異なった材料のものであることを特徴とする請求項１に記載のスライダー組み立てアセンブリ。
【請求項５】
　前記切り溝領域は、並んだスライダーの間に形成され、前記犠牲アノードは前記スライダーを分離する際に前記切り溝領域と共に除去されることを特徴とする請求項１に記載のスライダー組み立てアセンブリ。
【請求項６】
　前記切り溝領域はノコ切断により除去されることを特徴とする請求項１に記載のスライダー組み立てアセンブリ。
【請求項７】
　前記切り溝領域はレーザー切断により除去されることを特徴とする請求項１に記載のスライダー組み立てアセンブリ。
【請求項８】
　サブストレート上に、腐食性のコンポーネントを含み、切り溝領域が隣接して形成される、スライダーの最初の部分を作成するステップと、
　前記スライダーの近傍の環境に曝され、前記スライダーの腐食性のコンポーネントより活性度が高い犠牲アノードを前記切り溝領域に追加するステップと、
　前記犠牲アノードを前記スライダーの腐食性のコンポーネントに接続するステップと、
　前記スライダーの残りの部分を構成するステップと、
　前記スライダーを処理するステップと、
　前記切り溝領域を除去し、前記犠牲アノードを前記切り溝領域と共に除去するステップと、
を含むことを特徴とするスライダーの製造方法。
【請求項９】
　さらに、空気ベアリング面を形成するために前記スライダーをラッピングするステップを含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
　前記犠牲アノードは、少なくとも一部は、アルミニューム、亜鉛、マンガン、マグネシュームの少なくとも一つで構成されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
　前記犠牲アノードは、該犠牲アノードとは異なる材料のコネクターを介して前記スライダーの腐食性のコンポーネントに接続されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
　さらに、前記スライダーに保護層を追加するステップを含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
　前記切り溝領域は、並んだスライダーの間に形成されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
　前記切り溝領域は、ノコ切断により除去されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
　前記切り溝領域は、レーザー切断により除去されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
　サブストレート上に、それぞれが腐食性のコンポーネントを含み、切り溝領域が間に形成される、複数のスライダーの最初の部分を作成するステップと、
　前記スライダー近辺の環境に曝され、少なくとも部分的にはアルミニューム、亜鉛、マンガン、マグネシュームの少なくとも一つで構成される犠牲アノードを前記切り溝領域に追加するステップと、
　前記犠牲アノードを前記スライダーの腐食性のコンポーネントに接続するステップと、
　各スライダーの残りを構成するステップと、
　前記スライダーを腐食性物質に暴露するステップと、
　前記サブストレートを棒状体に切り分けるステップと、
　前記棒状体を空気ベアリング面を形成するためにラッピングするステップと、
　前記棒状体上に空気ベアリング面を形成するステップと、
　前記スライダーの各々に保護層を追加するステップと、
　前記棒状体から前記スライダーを切り取るために前記切り溝領域を除去し、前記犠牲アノードを前記切り溝領域と共に除去するステップと、
を含むことを特徴とする複数スライダーの製造方法。
【請求項１７】
　前記切り溝領域は、ノコ切断により除去されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
　前記切り溝領域は、レーザー切断により除去されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は磁気ヘッドの製造に関連し、さらに詳しくは、本発明はスライダーの露出した磁性面の腐食を減らすための、サブストレート上のスライダーに隣接する切り溝領域におかれる犠牲アノードに関する。
【背景技術】
【０００２】
　パーマロイなどの磁性金属合金はコンピュータのデータ記憶装置に用いられる磁気ヘッドアセンブリを形成する材料の一つとして広く用いられている。この技術分野においては、磁気ヘッド・アセンブリの磁性面が湿気や化学薬品に侵され、その結果ヘッドの信頼性や精度が低下し、またディスク・ドライブの全面的な障害に至る可能性があることは周知である。
【０００３】
　パーマロイは優れた磁気特性を持つニッケルと鉄の磁性合金であるが、腐食しやすい。特に、水分、塩化物、硫化物はパーマロイを腐食させることで知られている。他の磁性合金もまた腐食しやすいことが知られている。腐食は、一般に多量の水を使用する、ウエーハ上にスライダーを加工する際に発生する。
【０００４】
　磁気ヘッドアセンブリは一般に、たとえば「浮上ヘッド」アセンブリの空気ベアリング面の、あるいはその上のポールチップのような、複数の露出した磁性面を含んでいる。本明細書で開示する空気ベアリング面は、磁気記録媒体が動いていない時には磁気記録媒体と接触する磁気ヘッド表面である。起動あるいは停止時に生じる空気ベアリング面の磁性部分の間の摩擦接触は、それ以上の腐食を防止する。
【０００５】
　磁気ヘッドの空気ベアリング面を耐食性材料の層で覆うことが出来ることはこの技術分野では一般に知られているが、この層はスライダーの組み立てが完了してから付けられるものであり、したがってウエーハ処理が終了してからヘッドに耐食材料の層を付加するまでの間で生じる腐食を防止することは出来なかった。
【０００６】
　スライダーの製造時において腐食を防止する従来技術の一つは、ヘッド・アセンブリに腐食性のアノードを置くことである。腐食性のアノードは磁性材料のイオン化傾向より大きいイオン化傾向を持つ材料で作られ、従って被保護材料に代わって犠牲的に腐食する。前記の材料は被保護材料にポテンシャルを与えて、被保護材料に代わって腐食する。
【０００７】
　例えば、後藤博一他による特許文献１では、ヘッド構造に薄膜の腐食性アノードを埋め込んでいる。腐食性アノードは磁性薄膜に接触している。
【０００８】
　しかしながら、腐食性のアノードを用いる従来技術においては、腐食性のアノードは処理が完了してもヘッドの中に残留する。アノードが腐食すると、ヘッドに生じた腐食物質が残り、完成したディスク・ドライブに残ることになる。ヘッドはこの残留物にぶつかり、エラーを発生させる可能性がある。
【０００９】
　他の従来技術の方法では、腐食を防止するために電源を使用することを示している。しかしながら、電源の使用は、ディスク・ドライブの他の構造物を接地する必要があるので困難である。
【００１０】
【特許文献１】特開平０１−１０２７１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
　上記の従来技術による方法は、磁気記録ヘッド・アセンブリのスライダー製造工程で磁気ヘッドの磁性表面を保護する方法について開示することは出来なかった。製造した後にヘッド構造に残らない、大幅に腐食を減少させ、磁気記録ヘッドが生成する信号を歪ませず、破滅的なハード・ディスク障害を起こす可能性も大きくしない腐食性のアノードは大変望ましいものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
　スライダー組み立てアセンブリが一つの実施例にしたがって提供される。スライダーはサブストレート上に形成される。読み出し素子そして/あるいは書き込み素子のような腐食性のコンポーネントはスライダーと接触した状態で環境（化学薬品、水、空気など）に曝される。サブストレートの切り溝領域はスライダーの近くに位置している。切り溝領域はスライダーから除去可能であって、スライダーを横に並んだスライダー列から切り出す際などのスライダー製造のある段階で除去される。犠牲アノードは、スライダーの空気ベアリング面側が好ましいが、切り溝領域に埋め込まれ、そして環境に曝される。犠牲アノードは、それにより電気化学的な電池を形成するように、スライダーのコンポーネントに電気的に結合される。犠牲アノードは、スライダーの腐食性のコンポーネントよりも活性度が高く、すなわちより腐食しやすく、最初に腐食する。切り溝領域が除去されると、腐食した犠牲アノードも同様に除去される。このように、犠牲アノードは処理の間、腐食性のスライダー・コンポーネントを保護することが出来るし、しかもそれは切り溝領域とともに除去されるのでディスク・ドライブにゴミを残さない。
【００１３】
　犠牲アノードは、少なくとも一部はアルミニューム、亜鉛、マンガン、及び／あるいはマグネシュームで、あるいはそれらの一つ以上の合金で作られることが好ましい。一実施例では、犠牲アノードとは異なった材料のコネクターが、犠牲アノードをスライダーのコンポーネントに結合する。
【００１４】
　もし多数のスライダーを製作する場合は、切り溝領域は整列したスライダーの間に形成される。スライダーを分離する際には、犠牲アノードは切り溝領域と共に除去される。切り溝領域は、ノコ切断及び／あるいはレーザ切断で除去される。
【００１５】
　複数のスライダーを製造する方法も提供される。スライダーの最初の部分がサブストレート上に作成される。各最初の部分は腐食性のコンポーネントを含んでいる。切り溝領域がスライダーの間に形成される。犠牲アノードは切り溝領域に追加される。犠牲アノードは前記スライダー（少なくとも棒状に並んだスライダー列をラッピングして空気ベアリング面を形成した後の）に接触した状態で環境に曝される。再度、犠牲アノードは、少なくとも一部がアルミニューム、亜鉛、マンガン、マグネシューム、またはこれらの合金で作られるのが好ましい。犠牲アノードがスライダーのコンポーネントに結合される。各スライダーの残りが構築される。これらのスライダーは腐食性の可能性のある物質に曝される。サブストレートは、切断されて棒状体になる。棒状体は空気ベアリング面を形成するためにラッピングされる。空気ベアリング面は棒状体上に形成される。さらなる腐食を防止し、対摩耗性を付与するために、保護層が各スライダーに追加される。保護層は炭素ベースの層であることが望ましい。切り溝領域は棒状体からスライダーを切り出すためにノコ及び、あるいはレーザーで切ることなどにより除去される。犠牲アノードは切り溝領域とともに除去される。
【発明の効果】
【００１６】
　本発明によれば、スライダーの露出した磁性面の腐食を大幅に減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
　本発明の本質と利点を十分に理解するために、以下の詳細説明を付随する図面と共に参照されたい。以下に、本発明を遂行するために現在考えられている最良の実施例を説明する。本説明は、本発明の一般的な原理を説明する目的のためであって、ここで権利主張する発明の概念を限定することを意味するものではない。
【００１８】
　本発明は、スライダーの製造工程で残された残存腐食ゴミに起因する障害から、磁気ヘッドを保護するものである。環境的な腐食に起因する障害は、主としてスライダーの製造時に発生するので、一実施例における磁気スライダー・アセンブリは、主としてウエーハ工程の終わりから、スライダー・アセンブリ上に保護用の耐食被覆が付けられるまでの間で腐食から保護される。
【００１９】
　図１はコンピュータ用ディスク・ドライブのヘッドアーム・アセンブリの、磁気読み出し/書き込みスライダー１００を示す。スライダー１００は矢印１０５の方向に空気ベアリング面１０４と相対的に動いている磁気記録媒体１０２に情報を送信し、またそれを受信する。スライダー１００の後縁１０６に近く、空気ベアリング面１０４と同一平面に、それぞれが複数のポールチップ３００（図３を参照）を持つ一対のトランスデューサ２００Ａと２００Ｂ（図２を参照）が装着されている。
【００２０】
　動作状態（スライダー１００と磁気記録媒体１０２が相対的に動いている時）では、一般に「浮上高さ」と呼ばれる空隙３０４が形成される。浮上高さは、スライダー１００の最終の保護膜３０２と記録媒体１０２の間の自動的な空気動圧軸受（図示せず）効果により形成される。
【００２１】
　図４は一実施例によるスライダー組み立てアセンブリ４００を説明する。サブストレート４０４上に複数のスライダー１００が形成される。ポールチップ３００（図３を参照）、読み出し素子及び／あるいは書き込み素子のような各スライダー１００の腐食性のコンポーネント４０６は、スライダー１００と接触した状態で環境（化学薬品、水、空気など）に曝される。
【００２２】
　サブストレート４０４の切り溝領域４０８は各スライダー１００に隣接して位置決めされ、スライダー１００の間に配置されているのが望ましい。切り溝領域４０８はノコであるいはレーザーで切るなどしてサブストレートから切り離すことが出来る。犠牲アノード４１０は各切り溝領域４０８に埋め込まれ、環境に曝される。図６に示すようにスライダーの空気ベアリング面側上で環境に曝されるるのが望ましい。犠牲アノード４１０は、腐食性のコンポーネント４０６よりも活性度が高く、すなわちより腐食しやすく、したがって最初に腐食する。犠牲アノード４１０は、少なくとも一部はアルミニューム、亜鉛、マンガン、及び／あるいはマグネシュームで、あるいはそれらの一つ以上の合金で作られることが好ましい。
【００２３】
　各犠牲アノード４１０はスライダー１００の腐食性コンポーネント４０６にコネクター４１４を介して電気的に結合され、それにより電気化学的な電池を形成する。各コネクター４１４は関連した犠牲アノード４１０のエクステンションであることもある。このような実施例では、犠牲アノード４１０はコネクター４１４の腐食を防止するための材料を十分含んでいることが好ましい。
【００２４】
　図５では、そのコネクター４１４が犠牲アノード４１０の材料とは異なった材料で出来ている、別の実施例５００を示す。コネクター４１４に使用される材料の例はタンタル（Ta）と/あるいはチタン（Ti）を含んでいる。
【００２５】
　犠牲アノード４１０は切り溝領域４０８と一緒にスライダー１００を切り離す際に除去される。切り溝領域４０８が除去される時に、腐食した犠牲アノード４１０も同様に除去される。このように、犠牲アノードは処理の間腐食性のスライダー・コンポーネント４０６を保護するが、しかしディスク・ドライブにゴミを作り出さない。
【００２６】
　図７は複数のスライダー１００を製造する処理７００を示す。スライダー１００の最初の部分はステップ７０２でサブストレート４０４上に作られる。最初の部分は、たとえば、アルティク（Al2O3-TiC）で出来たサブストレート４０４の上に蒸着した、たとえば、アルミナ（Al2O3）で出来たオプションの絶縁層を含むこともある。最初の部分は、またたとえば、フェライト-ニッケル（Ni-Fe）そして/あるいはコバルト-フェライト（CoFe）で出来た磁性層コンポーネントを含む。これらの材料は腐食しやすい。
【００２７】
　切り溝領域４０８はスライダー１００の間に形成される。ステップ７０４では、犠牲アノード４１０が電気メッキやスパッタリングやその他の適当な手段で切り溝領域４０８に追加される。犠牲アノード４１０はスライダー１００の近辺の環境に曝される（少なくとも空気ベアリング面を形成するために、棒状体をラッピングした後に）。上述のように、犠牲アノード４１０を形成する説明例としての材料はアルミニューム、亜鉛、マンガン、マグネシュームあるいはこれらの合金を含んでいる。
【００２８】
　ステップ７０６では、各犠牲アノード４１０はコネクター４１４経由で、スライダー１００の近くの、磁性層コンポーネント４０６のような腐食性のコンポーネント４０６に接続される。コンポーネント４０６は、処理（続いての）の間、腐食性の環境に曝されているか、後で曝されるため、これが、スライダー１００が液体に浸ったときに電気化学電池を形成する。コネクターが、切り溝領域４０８に犠牲アノード４１０を追加する際に形成され、ステップ７０４と７０６が結合されることがあることに注意を要する。一つの犠牲アノード４１０が多数のコンポーネント４０６に接続されることがあることにも注意を要する。
【００２９】
　ステップ７０８では、スライダー１００の残りの部分が作られる。たとえば、ステップ７０８では、スライダー１００の残りの層が追加出来る。このような層は、たとえば磁気銅で出来た非磁性中間層を含むことが可能である。薄いコバルト鉄の薄膜のようなピンド（固定）磁性層も提供可能である。たとえば、パラジューム、プラチナ、マンガン（PdPtMn）のような反強磁性層は固定磁性層上に形成することが可能である。しかしながら、本発明を実施するに際し必要なコンポーネントは磁性層コンポーネント４０６であることに注意すべきである。他のコンポーネントは必ずしも必要ではない。
【００３０】
　ステップ７１０では、スライダー１００は水などの腐食性物質に曝される。ステップ７１２では、サブストレートは切断されて棒状体になる。ステップ７１４では、棒状体は空気ベアリング面の輪郭を形成するためにラッピングされる。ステップ７１６では、空気ベアリング面が棒状体上に形成される。ステップ７１８では、さらなる腐食を防止するために、保護層がスライダー１００の各々に追加され、そして対摩耗性が付与される。保護層は炭素ベースの層であることが望ましい。
【００３１】
　ステップ７２０では、切り溝領域４０８は、棒状体からスライダー１００を切り取るためのノコそして/あるいはレーザー切断などで除去され、それにより、磁気記録ディスク・ドライブの中の読み出し/書き込みヘッドを支持するための各スライダーを形成する。犠牲アノード４１０は切り溝領域４０８とともに除去される。
【００３２】
　ノコを用いて切り溝領域４０８を除去する場合は、各々の切り溝領域４０８の幅はノコの歯の幅とほぼ同じであることが望ましい。
【００３３】
　レーザー切断を用いる実施例によると、たとえば、パルス上のレーザー・ビームが棒状体の空気ベアリング面上（すなわち、ディスク・ドライブのディスクに対向するスライダー１００の側面）の切り溝領域４０８に向けられている。レーザー・ビームは切り溝領域４０８の一般にＶ型をした溝に線を引いたり部分的に切削したりする。１ないしはそれ以上のレーザー・スキャンを行いウエーハの棒状体を切り進み、スライダー１００を完全に切り離すことが出来る。ダイヤモンド・チップを付けたノコ切断処理を用いた場合に失われるセラミック材料の量よりずっと少ない量のセラミック材料しか失われないので、レーザー切削処理により単一のセラミック・ウエーハからより多くのスライダー１００を形成出来る。
【００３４】
　上記において各種の実施例が説明されたが、これらは単に例を示すのみであって、限定を意味するものではないことを理解すべきである。特に、この技術分野に熟練した人にとっては、ここに述べた構造や処理は、如何なる形式の読み出し/書き込みヘッドを製造するために使用できるように翻案が可能である。このように、実施例の範囲と意図は、上述の例示的な実施例のいずれによっても限定されるものではなく、特許請求の範囲あるいは同等のものによってのみ定義されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】磁気記録媒体と関連して磁気スライダーを説明する図である。
【図２】磁気スライダーの空気ベアリング面に装着された一対の書き込み／読み出しトランスデューサを示す図である。
【図３】図２で示す線３−３に沿った切断面で磁気スライダーのポールチップを示す断面図である。
【図４】一実施例におけるスライダー組み立てアセンブリの側面図である。
【図５】他の実施例におけるスライダー組み立てアセンブリの側面図である。
【図６】図４の線６−６から見たスライダー組み立てアセンブリの側面図である。
【図７】一実施例における、複数のスライダーを製造する手順を説明する図である。
【符号の説明】
【００３６】
１００…スライダー、１０２…記録媒体、１０４…空気ベアリング面、１０６…後縁、
２００Ａ，２００Ｂ…トランスデューサ、３００…ポールチップ、３０２…保護膜、
３０４…空隙、４００，５００…スライダー組み立てアセンブリ、４０４…サブストレート、４０６…腐食性のコンポーネント、４０８…切り溝領域、４１０…犠牲アノード、４１４…コネクター。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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