(57)【要約】【課題】単独スライダーで使用するのに適したエアー・ベアリング構成法が必要。【解決手段】薄い重合開始剤層５０４がスライダー５０２の表面に加えられる。次いで重合開始剤層５０４に望まれるパターンを作り出すためにＵＶ光５０８がマスク５１０を通される。このパターニングの後で、スライダー表面の望まれる領域にポリマー・ブラシ５１６が作製される。次いでスライダー５０２の基板材料の露光された部分を取り除くためにイオン・ミリングが用いられ、リセス領域５１４を作り出す。このようにして作られた一つ以上のリセス領域５１４，５２６がエアー・ベアリング５１８，５２０，５３４の一部を形作る。【選択図】　図６
2004111023.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法であって、
前記スライダーの表面に重合開始剤層を塗布するステップと、
ＵＶ光によりマスクを通して前記重合開始剤層の一部を露光するステップと、
前記重合開始剤層上にポリマー・ブラシの層を形成するステップと、
前記スライダーをイオン・ミリングするステップと、
前記ポリマー・ブラシの層と残存する重合開始剤層を除去するステップと、
を含むことを特徴とする単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項２】
前記スライダーは実質的に純シリコンを含むことを特徴とする請求項１記載の単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項３】
前記スライダーはアルミナとチタニウム・カーバイドの複合材を含むことを特徴とする請求項１記載の単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項４】
前記重合開始剤層はアゾモノクロルシランを含むことを特徴とする請求項１記載の単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項５】
異なったリセス距離を持った二つ以上の領域を有するエアー・ベアリングをスライダー上に構成する方法であって、
前記スライダーの表面に重合開始剤層を塗布するステップと、
ＵＶ光によりマスクを通して前記重合開始剤層の一部を露光するステップと、
前記重合開始剤層上にポリマー・ブラシの層を形成するステップと、
前記スライダーをイオン・ミリングするステップと、
前記ポリマー・ブラシの層と残存する重合開始剤層を除去するステップと、
を含むことを特徴とするスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項６】
前記スライダーは実質的に純シリコンを含むことを特徴とする請求項５記載のスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項７】
前記スライダーはアルミナとチタニウム・カーバイドの複合材を含むことを特徴とする請求項５記載のスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項８】
前記重合開始剤層はアゾモノクロルシランを含むことを特徴とする請求項５記載のスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項９】
単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法であって、スタンプに重合開始剤層を塗布するステップと、
前記スタンプを用いて前記スライダーの表面に重合開始剤層を塗布するステップと、
前記重合開始剤層上にポリマー・ブラシの層を形成するステップと、
前記スライダーをイオン・ミリングするステップと、
前記ポリマー・ブラシの層と残存する重合開始剤層を除去するステップと、
を含むことを特徴とする単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項１０】
前記スライダーは実質的に純シリコンを含むことを特徴とする請求項９記載の単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項１１】
前記スライダーはアルミナとチタニウム・カーバイドの複合材を含むことを特徴とする請求項９記載の単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項１２】
前記重合開始剤層はアゾモノクロルシランを含むことを特徴とする請求項９記載の単独スライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項１３】
異なったリセス距離を持った二つ以上の領域を有するエアー・ベアリングをスライダー上に構成する方法であって、
スタンプに重合開始剤層を塗布するステップと、
前記スタンプを用いて前記スライダーの表面に重合開始剤層を塗布するステップと、
前記重合開始剤層上にポリマー・ブラシの層を形成するステップと、
前記スライダーをイオン・ミリングするステップと、
前記ポリマー・ブラシの層と残存する重合開始剤層を除去するステップと、
を含むことを特徴とするスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項１４】
前記スライダーは実質的に純シリコンを含むことを特徴とする請求項１３記載のスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項１５】
前記スライダーはアルミナとチタニウム・カーバイドの複合材を含むことを特徴とする請求項１３記載のスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【請求項１６】
前記重合開始剤層はアゾモノクロルシランを含むことを特徴とする請求項１３記載のスライダーの表面にエアー・ベアリングを構成する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録ディスク・ドライブに用いられるエアー・ベアリング・スライダーに関し、特に単独のスライダー製造時にポリマー・ブラシ形成を用いるプロセスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ディジタル情報の磁気記録を利用するディスク・ドライブは、当代のコンピュータ・システムに於ける情報の大部分を記憶している。ディスク・ドライブは、少なくとも一枚の回転ディスクに同心状のディスクリートなデータ・トラックを有している。
【０００３】
トラック上のデータを書き込み、読み出すために、通常別々の書き込み素子及び読み出し素子を有する少なくとも一つの記録ヘッドが存在する。記録ヘッドはスライダー上に組み立てられ、スライダーはサスペンションに取り付けられる。記録ヘッド、スライダー、サスペンションの組み合わせはヘッド・ジンバル・アセンブリーと呼ばれる。
【０００４】
更に、記録ヘッドを対象となる特定のトラック上に位置決めするアクチュエーターが存在する。アクチュエーターは先ず対象となるトラックにシークするために回転し、記録ヘッドを当該トラックに位置決めした後、該トラックにヘッドを近接して位置決めを維持する。ディスク・ドライブ中のディスクはサブストレート及び、サブストレート上に磁気記録用の磁性層を有する。
【０００５】
記録ヘッドを保持するスライダーは、エアー・ベアリングを構成する表面を有する。エアー・ベアリングの目的は、スライダーをエアークッション上で浮動させ、ディスク表面に接近した位置に置くことである。ディスクの表面に記録されたデータ密度は、一般に新しいディスク・ドライブ製品が世に出る度に増大している。記録されたデータの密度が増大するにつれ、ディスク表面上を完成したスライダーが浮動する高さのばらつきを改善し、又記録トランスデューサの寸法精度を改良する必要性が絶えず存在する。
【０００６】
記録ヘッドは薄膜法を用いて、ウエハー上に作製される。記録ヘッドを作製した後、ウエハーが列形状にスライスされる。各列形状は通常２０から８０個の記録ヘッドを有している。列形状は先ず読み出し及び書き込み素子に対して仕上げ寸法となるようにラップされる。非常に高い記録密度に対しては、列形状のラッピングでは読み出し素子のストライプ高さ及び書き込み素子のスロート高さに要求される寸法精度を実現し得ない。
【０００７】
ラッピング後、エアー・ベアリングが列形状の一つの表面に同時に作製される。先ず比較的厚いフォトレジスト層がスピン・コーティングによって或いはフォトレジスト・シートを使用して、表面に形成される。スピン・コーティング或いはシートを使用して得られる比較的厚いフォトレジスト層はエアー・ベアリング上に作られる主要寸法に限界を与える。
【０００８】
もう一つの方法としてポリマー・コーティングが、列形状の表面にポリマーを吸収させることで適用され得る。前もって形成されたポリマー分子を吸収させる手順は、一般にその後のミリングやエッチングに耐えることが出来ないほど薄すぎるコーティングになってしまう。コーティングの形成の後にパターン作成及びミリング又はエッチングが続く。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
もし最初に列形状が個々のスライダーにスライスされ、次いでエアー・ベアリングの作製とラッピングが各個々のスライダーで行われる場合には、エアー・ベアリング形状の正確さと記録ヘッドの寸法精度は大幅に改良され得る。しかしながら、スライスしない列形状でエアー・ベアリングを作製するために用いられる方法は単独スライダーで使用するには適当ではない。
【００１０】
例えば、単独のスライダーへのフォトレジストのスピン・コーティングは非常に制御するのが難しい。一旦列形状が個々のスライダーにスライスされ、キャリアに置かれたら、リソグラフィーで用いられる方法は単独スライダーで使用するのに適したものでなければならない。
【００１１】
上記したことから、単独スライダーで使用するのに適したエアー・ベアリング構成法の必要性があることが明らかである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
好適な実施例の中で、本発明は単独スライダーで使用するのに適したエアー・ベアリング構成方法を提供する。
【００１３】
一つの実施例では、薄い重合開始剤層がスライダーの表面に加えられる。次いで開始層に望まれるパターンを作り出すためにＵＶ光がマスクを通される。このパターニングの後で、スライダー表面の望まれる領域にポリマー・ブラシが作製される。次いでスライダーの基板材料の露光された部分を取り除くためにイオン・ミリングが用いられ、リセス領域を作り出す。このようにして作られた一つ以上のリセス領域がエアー・ベアリングの一部を形作る。
【００１４】
他の実施例では、薄い重合開始剤層がスタンピング法を用いて加えられる。この実施例では望まれるパターンを作り出すためにＵＶ光に露光する必要がない。ポリマー・ブラシの形成とその後のイオン・ミリングは前記実施例と同様に行われる。
【００１５】
この発明がもたらす実施例は、シリコンのように大規模結晶構造をもつ材料のみならず、アルミナとチタニウム・カーバイドのような複合材料から構成されるスライダーにも適用できる。多くの材料が重合開始剤層を形成するのに用いられ得る。特に有効な材料はアゾモノクロルシランである。
【００１６】
本発明の他の特徴と長所は、添付の図面とあわせて、本発明の原理を例によって示した以下の詳細な説明により明らかになるであろう。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明は単独スライダーに使用するのに適したエアー・ベアリング作製の有効な方法を提供するものである。この方法は、エアー・ベアリングの構成前にスライダーが列形状からスライスされ、ラップされるのを可能にする。更に、ポリマー層の厚さはイオン・ミリング或いはエッチング作業のために最適化できる。
【００１８】
図１はサスペンション１０４に取り付けられディスク１０８の表面１０６上を浮動するスライダー１０２を示す。動作時には、ディスク１０８は参照番号１１０で示される方向に回転している。スライダー１０２は、通常エアー・ベアリングが構成される面（図示していない）を有している。このスライダー面は、エアー・ベアリング表面自体は通常複数のリセス面から構成されてはいるが、時としてエアー・ベアリング面と呼ばれる。スライダーのエアー・ベアリング側はディスク表面１０６に近接している。
【００１９】
記録ヘッド１１２はスライダー１０２の後面１１４に形成される。スライダーのエアー・ベアリング面（図示していない）と前面（図示していない）の交差する部分にテーパー領域１１６が存在する。テーパー領域１１６は一様なエアー・ベアリングを形成するのに役立つ。
【００２０】
図２（ａ）は通常のスライダー２０２の斜視図を示す。図２（ａ）はスライダー２０２の前面２０４、テーパー領域２０６、エアー・ベアリング２０８を示す。幾何学的な特徴が若干異なったエアー・ベアリングの設計が数多く存在する。エアー・ベアリング設計の共通の特徴は、相互にリセス、又はオフセットした二つ以上の表面から成っているということである。
【００２１】
図２（ａ）に示された例ではそのような三つの表面が存在している。第一の表面はセグメント２１０、２１２、２１４で示される。これらのセグメントは連続しておらず、ほぼ同じ平面に存在し、それ故に単一表面とみなされる。次の表面はセグメント２１６、２１８、２２０で示される。これらのセグメントも又連続しておらず、ほぼ同じ平面に存在する。セグメント２１６、２１８、２２０で定義される平面は、セグメント２１０、２１２、２１４で定義される平面に比べてリセスしている。リセス又はオフセット距離はエアー・ベアリングの設計要求により変わってくるが、通常０．１から０．５μｍである。
【００２２】
図２（ａ）の第三の表面２２２はセグメント２１０、２１２、２１４によって定義される平面から通常約０．５から４μｍリセス、又はオフセットしている。記録ヘッド２２４の位置はエアー・ベアリング２０８の後端２２６付近に存在する。
【００２３】
図２（ｂ）はスライダー２０２の側面図を示す。前面２０４とテーパー領域２０６がプロファイルから見ることができる。セグメント２１０、２１２、２１４で定義される平面と、セグメント２１６、２１８、２２０で定義される平面との間のリセス距離２２６が示されている。セグメント２１６、２１８、２２０で定義される平面と参照番号２２２で定義される平面との間のリセス距離２２８も示されている。
【００２４】
図２（ｃ）はスライダー２０２のエアーベアリング側２０８を示す。テーパー領域２０６が示されている。セグメント２１０、２１２、２１４で定義される表面が示されている。セグメント２１６、２１８、２２０で定義されている表面が示されている。そして最後に表面２２２が示されている。
【００２５】
イオン・ミリングを行うことになっているスライダー表面に、望まれるパターンを形成するにはポリマー・ブラシの形成が有効である。ポリマー・ブラシの使用はポリマー膜のエッチング耐性と切り離して、望まれるパターンを光学的に形成することを可能にする。ポリマー・ブラシを用いるもう一つの利点は、スピン・コーティングを必要とせずにポリマーを成長させることによって表面コーティングが実現できることである。この利点は、単独スライダー・プロセスの場合は特に重要である。
【００２６】
本発明のいくつかの長所の例が図３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄに示される。図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）はノットスケールの図である。図３（ａ）では基板材料としてシリコンを採用した場合が示されている。図３（ａ）に示すように、記録ヘッド３０４はシリコン基板３０２上に形成され、ディープ・トレンチ・リアクティブ・イオン・エッチングが記録ヘッド３０４間の溝３０６を形成するのに用いられる。この結果シリコン基板３０２から個々のスライダー３０８が切り離される。
【００２７】
しかしながら、このプロセスはシリコン３０２に台形状の溝３０６を形成しがちである。このようにしてシリコン・スライダー３０８は台形形状となる傾向がある。一群の台形形状の個々のスライダーをエアー・ベアリングを形成する準備として支持体上に配置すると、その表面プロファイルは、図３（ｂ）に示すように鋸歯構造になる。この鋸歯構造は、スピン・コーティングのような通常の方法でポリマーを塗布するには望ましくないプロファイルである。
【００２８】
一つの解決法は図３（ｃ）に示すようにスライダー３０８を比較的柔らかい支持体３１０に埋め込むことで、エアー・ベアリングを形成する表面を平坦化することである。しかしながらスライダー３０８はこのように埋め込まれた後、取り出されなければならない。
【００２９】
これよりもずっと望ましい解決法は図３（ｄ）に示すようにポリマー・ブラシ３１２を利用した方法を使用することである。ポリマー・ブラシ３１２を使用した方法は、個々のスライダーを形成するために用いられる方法と、エアー・ベアリングを形成するために用いられるプロセスとを分離できる。
【００３０】
図４（ａ）はポリマー・ブラシを図で示したものである。ポリマー・ブラシ４０６は先ずスライダー４１２の表面４１０に重合開始剤層４０８を塗布することによって形成される。有効な重合開始剤の一つの例は、アゾモノクロルシランである。理想的には重合開始剤４０８はスライダー表面、特に表面の−ＯＨ基と共有結合し、その上にモノマー分子が重合を始める層を形成する。通常スライダーの表面は−ＯＨ基を含む薄い酸化物層を有している。通常空気中の湿気は十分な量の−ＯＨ基を十分生成できるが、−ＯＨ基の密度を高めるために加水分解プロセスが使用されても良い。シリコン基板を用いる場合、シリコン酸化物の層が始めに形成され、次いで加水分解される。
【００３１】
アゾモノクロルシランのような重合開始剤４０８はスライダー４１２の表面４１０上の−ＯＨ基と結合して通常厚さ１〜５ｎｍのモノマー層４０８を形成し、適当なモノマーの重合を促進し、ＵＶ光により簡単に非活性となる。−ＯＨ基を含んだ表面とアゾモノクロルシランの反応の説明図が図４（ｂ）に示される。図４（ｃ）はスチレン・モノマーを用いて作られる典型的なポリマー・ブラシの化学構造を示す。アゾモノクロルシランの重合開始能力はＵＶ光に露光することにより非活性化される。
【００３２】
適当なモノマーにはスチレン、メタクリル酸塩、或いは当業者に知られた他の高分子モノマーがある。芳香族環状構造を有するモノマーは一般に優れたエッチング耐性を持ったポリマーを作り出す。重合開始剤層を形成した後、スライダーはモノマー分子とＡＩＢＮ（２−２′−アゾ−ビス−イソブチロニトリル）のような自由開始剤の混合したものに曝され、望まれる厚さまでポリマー成長が進行する。反応速度は控えめの上昇温度、約６０℃において適当となる。
【００３３】
この方法の一つの利点はポリマー・コーティングがスピン・コーティングやポリマー・シートを押し付けることで加えられるのではないことである。というのはこれら両者とも単独スライダーでは難しい作業となるからである。最終的なフォトレジスト層の厚さは付着した開始剤分子の密度によって制御できるが、更に簡単な方法としては、高分子モノマーに温度を上昇させた状態で曝す時間によって制御できる。
【００３４】
ポリマー・ブラシの厚さの範囲は広範囲にわたって制御できる。エアー・ベアリングを構成するときのブラシの有用な厚さ範囲は約０．５μｍから約５μｍである。厚さと一様性を制御することができることは、外観の解像度とイオン・ミリングやエッチングに対する耐性との間のトレードオフを最適化するときに有利である。ポリマー・ブラシの形成後、未結合の自由ポリマーを除去するために適当な溶剤による洗浄ステップが行われる。最終的なエアー・ベアリングの外観の鮮明さや解像力は薄い重合開始剤層に主として依存し、よりずっと厚いポリマー層には殆ど依存しない。
【００３５】
更なる改良として、光に反応する基を加えてその後にＵＶ光を照射することで、ポリマー・ブラシ間に架橋結合が誘起される。結果としてできる架橋結合したポリマーは、その後のイオン・ミリングに対してより耐性がある。
【００３６】
エアー・ベアリング作製のための本発明方法の実施例が図５（ａ）から図９（ｍ）に示される。図５（ａ）〜図９（ｍ）はノットスケールの図である。スライダー基板材料で最も通常用いられるのはアルミナとチタニウム・カーバイドの複合材料である。しかしながら、本発明は、結晶シリコンのような他の材料により作製されるスライダーにも同等に有用である。これらの材料のエッチング速度は異なっており、従ってポリマー・ブラシの最適厚さは基板材料によって変わってくるであろう。
【００３７】
図５（ａ）は単独スライダー５０２の断面図を示す。図５（ｂ）は溶液により薄い重合開始剤層５０４を塗布した後のスライダー５０２を示す。重合開始剤層５０４はエアー・ベアリングが形成されるスライダーの側５０６に塗布される。図６（ｃ）は、重合開始剤層５０４を持ったスライダー５０２がマスク５１０を通してＵＶ光５０８に露光されているところを示す。マスク５１０を通してＵＶ光５０８に露光させると、重合開始剤層５０４にパターンが作り出される結果となる。
【００３８】
図６（ｄ）を参照すると、ＵＶ光５０８で露光された重合開始剤層５０４の領域５１４は重合を開始する能力を失う。ＵＶ光５０８で露光されていない重合開始剤層５０４の領域５１２は重合の成長開始剤として有効であり続ける。
【００３９】
図６（ｅ）を参照すると、パターン形成された重合開始剤層５０４を持ったスライダー５０２は、ポリマー層を形成するために適当なモノマー分子に曝される。重合開始剤層上の重合は通常熱処理によって開始する。このようにして成長したポリマー分子はスライダー表面に対して垂直方向に向かう傾向を持ち、このようにしてポリマー「ブラシ」５１６が作り出される。
【００４０】
図７（ｆ）はイオン・ミリング後のスライダー５０２を示す。ポリマー分子５１６はイオン・ミリングの間に若干浸食されるが、ポリマー分子５１６に隣接するスライダー５０２の表面５１８は保護される。スライダー５０２の保護されていない表面の部分５１４は部分的にイオン・ミリングされ、保護された表面５１８と保護されない表面５２０との間にリセス距離を作り出す。図７（ｇ）は残存ポリマー５１６と重合開始剤層５０４が除去された後のスライダー５０２を示す。
【００４１】
図２に示すように、エアー・ベアリングは異なったオフセット又はリセス距離を持った二つ以上の表面を有している。もう一つの表面が望まれる場合は、図５（ａ）〜図７（ｇ）で概要を説明した方法が、図７（ｇ）に示されるようなスライダー５０２から始まって、繰り返される。
【００４２】
図７（ｈ）はエアー・ベアリングを有するスライダー５０２の側に第二の重合開始剤層５２２を塗布したところを示す。図８（ｉ）は第二の重合開始剤層５２２を第二のマスク５２４を通してＵＶ光５０８に露光させるところを示す。図８（ｊ）は非活性となった重合開始剤を有するスライダー表面部分５２６を示す。
【００４３】
図９（ｋ）は重合開始剤層５２２上に成長した第二のポリマー・ブラシ５２８を示す。図９（ｌ）はイオン・ミリング後、残存するポリマー・ブラシ５２８を示す。リアクティブ・イオン・エッチングが材料を除去するのにより強力な方法なので、使用に適しているであろう。というのは最後の表面５３４のリセス距離５３０は第二の表面５２０のリセス距離５３２よりも一般には大であるからである。最後に、図９（ｍ）はポリマー・ブラシと重合開始剤層を除去した後の完成したエアー・ベアリングを示す。
【００４４】
本発明の別の実施例では、重合開始剤層は図１０〜図１５に示すように、スタンピング法で加えられる。図１０〜図１５はノットスケールの図である。図１０を参照すると、スタンピング・ツール６０２が、前に図６（ｃ）にて示されたマスクのパターンと同様なパターンを一つの表面６０４上に有する。このスタンピング・ツール６０２上のパターンは、好ましくはエッチング、イオン・ミリング或いは任意の他の適当な手段で表面のオフセット部分を作り出すことによって作製される。
【００４５】
スタンピング・ツール６０２は便宜的にシリコンのような比較的柔らかい材料から作製されても良い。次いで重合開始剤層は図１０に示されるように重合開始剤を含んだ溶液６０６に浸漬６０８することによってスタンピング・ツール６０２に塗布される。重合開始剤層は又「インキング」と呼ばれる接触コーティングのような他の手段でスタンピング・ツールに塗布することもできる。
【００４６】
図１１（ｂ）はスライダー６１４の目的とするエアー・ベアリング側６１２に重合開始剤層６１０を有するスタンピング・ツール６０２を接触させるところを示す。図１１（ｃ）を参照すると、スタンピング・ツール６０２をスライダー６１４に押し付けた後、望まれるパターンに対応して高くなった表面を持つスタンピング・ツール６０２の、当該部分の重合開始剤層６１０がスライダー６１４に転写される。
【００４７】
この実施例に於いてスライダー上の重合開始剤層６１６は、スタンピング・ツール６０２上に存在していた望まれるパターンを有しており、故にＵＶ光に露光したり又は付加的なマスクを使用する必要がない。
【００４８】
ポリマー・ブラシ６１８は図１２（ｄ）に示されるように形成される。図１２（ｅ）はイオン・ミリングで処理した後のスライダー６１４を示す。図１２（ｅ）でイオン・ミリングによって作り出されるリセス領域６２０が示される。図１２（ｆ）は重合開始剤層６１６とポリマー・ブラシ６１８を除去した後のスライダー６１４を示す。
【００４９】
もしエアー・ベアリングに付加的な表面が望まれる場合は、図６１０〜図１２（ｆ）に示されるプロセスが、異なったスタンピング・ツール６２２を用いて繰り返されよう。図１３は重合開始剤６０６を他のスタンピング・ツール６２２に塗布するところ６０８を示す。
【００５０】
図１４（ｈ）は第二の重合開始剤層６２４を持った第二のスタンピング・ツール６２２が、部分的にエアー・ベアリング６２８が形成されたスライダー６１４に押し付けられたところ６２６を示す。図１４（ｉ）は第二のスタンピング・ツール６２２を用いて第二の重合開始剤層６３０を塗布した後のスライダー６１４を示す。
【００５１】
図１５（ｊ）は第二のポリマー・ブラシ６３２を形成した後のスライダー６１４を示す。図１５（ｋ）は第二のイオン・ミリング或いはリアクティブ・イオン・エッチング後のスライダー６１４を示す。最後に、図１５（ｌ）は重合開始剤層とポリマー・ブラシを除去した後の完成したエアー・ベアリング６３４を持つスライダー６１４を示す。
【００５２】
以上詳細に説明し、図１０〜図１５に示したスタンピング法は、単独スライダー・プロセスに特に適している。すべてのスライダーを列形状でスタンピングできるようにスタンピング・ツールの整列を維持するのは困難な作業だからである。
【００５３】
前述から、本発明の実施例は単独スライダーに対してエアー・ベアリングを構成する有利で有効な方法を提供することが明らかであろう。本発明の特定の実施例が詳細に説明されたが、本発明は説明され、図示された例に制限されるものでなく、特許請求範囲にのみ制限されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】回転するディスクの表面上を浮動するスライダーを示す。
【図２】完成したスライダーの斜視図、側面図、エアー・ベアリング側を見た図を示す。
【図３】（ａ）はシリコン・ウエハーからのスライダーの形成を示す。（ｂ）はエアー・ベアリング形成前の個々のスライダーの配置を示す。（ｃ）はエアー・ベアリング形成前の比較的柔らかい支持体に埋め込んだ個々のスライダーを示す。（ｄ）は個々のスライダーへのポリマー・ブラシの形成を示す。
【図４】（ａ）はポリマー・ブラシの断面図を示す。（ｂ）はスライダー表面のＯＨ基とのアゾモノクロルシランの結合を示す。（ｃ）はスチレン・モノマーから作られるポリマー分子を示す。
【図５】（ａ）は本発明の一実施例による、エアー・ベアリングがその上に作製されるべき単独スライダーを示す。（ｂ）は重合開始剤層が形成された後の単独スライダーを示す。
【図６】（ｃ）は本発明の一実施例による、マスクを通してのスライダーのＵＶ光露光を示す。（ｄ）は重合開始剤層の露光部分を除去した後の単独スライダーを示す。（ｅ）はポリマー・ブラシの形成を示す。
【図７】（ｆ）は本発明の一実施例による、イオン・ミリング後のスライダーを示す。（ｇ）はポリマー・ブラシと重合開始剤層を除去した後のスライダーを示す。（ｈ）は第二の重合開始剤層が加えられた後のスライダーを示す。
【図８】（ｉ）は本発明の一実施例による、第二のマスクを通してのスライダーのＵＶ光露光を示す。（ｊ）は第二の重合開始剤層の露光した部分を除去した後の単独スライダーを示す。
【図９】（ｋ）は本発明の一実施例による、第二のポリマーブラシの形成を示す。（ｌ）は第二のイオンミリング後のスライダーを示す。（ｍ）はスライダーの完成したエアー・ベアリングを示す。
【図１０】本発明の他の実施例による、スタンピング・ツールに重合開始剤層を塗布するところを示す。
【図１１】（ｂ）は本発明の他の実施例による、スタンピング・ツールを用いて、単独スライダーに重合開始剤層を形成するところを示す。（ｃ）は単独スライダー上でパターン化された重合開始剤層を示す。
【図１２】（ｄ）は本発明の他の実施例による、ポリマー・ブラシの形成を示す。（ｅ）はイオン・ミリング後のスライダーを示す。（ｆ）はポリマー・ブラシと重合開始剤層を除去した後のスライダーを示す。
【図１３】本発明の他の実施例による、第二のスタンピングツールに、第二の重合開始剤層を塗布するところを示す。
【図１４】（ｈ）は本発明の他の実施例による、第二のスタンピング・ツールを用いてスライダーに第二の重合開始剤層を形成するところを示す。（ｉ）は単独スライダーとパターン化された重合開始剤層を示す。
【図１５】（ｊ）は本発明の他の実施例による、第二のポリマー・ブラシの形成を示す。（ｋ）は第二のイオン・ミリング後の単独スライダーを示す。（ｌ）は完成したエアー・ベアリングを有する単独スライダーを示す。
【符号の説明】
１０２，２０２，３０８，４１２，５０２，６１４…スライダー
１０４…サスペンション
１０８…ディスク
１１２，２２４，３０４…記録ヘッド
２０８，５１８，５２０，５３４，６２８，６３４…エアー・ベアリング
２１０，２１２，２１４…セグメント（第一の表面）
２１６，２１８，２２０…セグメント（第二の表面）
２２２…第三の表面
３０２…シリコン基板
３０６…溝
３１２，４０６，５１６，６１８…ポリマー・ブラシ
４０８，５０４，６１０，６１６…重合開始剤層
５０８…ＵＶ光
５１０…マスク
５１４，５２６…リセス領域
５２２，６２４，６３０…第二の重合開始剤層
５２４…第二のマスク
５２８，６３２…第二のポリマー・ブラシ
５３０，５３２…リセス距離
６０２…スタンピング・ツール
６０６…重合開始剤を含んだ溶液
６２２…第二のスタンピング・ツール。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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