(57)【要約】      （修正有）【課題】バンドパスフィルタを用いた簡単な構成で、発光波長のズレにも対応でき、かつ監視精度の向上、低コストを図ることができるプラズマ処理の終点検知方法およびプラズマモニターシステムを提供する。【解決手段】監視するプラズマ光源の複数点において、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタを用いた透過工程と、この透過工程で透過された複数の分光を信号化して出力する信号化工程と、この信号化工程で信号化された複数の出力信号について光量・波長等の情報を演算処理して調整する検知出力制御工程と、この検知出力制御工程で調整された調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を演算処理して出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御工程とでプラズマ処理の終点検知方法を構成している。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
監視するプラズマ光源の複数点あるいは監視する複数のプラズマ光源において、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタを用いた透過工程と、この透過工程で透過された複数の分光を検知し信号化して出力する信号化工程と、この信号化工程で信号化された複数の出力信号について光量・波長等の情報を検知出力制御装置で演算処理して調整する検知出力制御工程と、この検知出力制御工程で調整された調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を集中制御出力装置で演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御工程とを含むことを特徴とするプラズマ処理の終点検知方法。
【請求項２】
監視するプラズマ光源を複数点で検知する、あるいは監視する複数のプラズマ光源を検知する、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタ、このバンドパスフィルタを透過した分光を検知し信号化して出力する信号化手段とからなる複数の検知装置と、この複数の検知装置からの各検知出力が入力され、光量・波長等の情報を演算処理して調整する検知出力制御装置と、この検知出力制御装置からの各検知出力の調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御出力装置とからなることを特徴とするプラズマモニターシステム。
【請求項３】
プラズマ光源を複数点で監視するためのチャンバーと、このチャンバーの複数の監視箇所において、前記プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタ、このバンドパスフィルタを透過した分光を検知し信号化して出力する信号化手段とからなる複数の検知装置と、この複数の検知装置からの各検知出力が入力され、光量・波長等の情報を演算処理して調整する検知出力制御装置と、この検知出力制御装置からの各検知出力の調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御出力装置とからなることを特徴とするプラズマモニターシステム。
【請求項４】
監視するプラズマ光源の複数点あるいは監視する複数のプラズマ光源を同時に検知することができるように構成したことを特徴とする請求項１、２、３に記載のプラズマ処理の終点検知方法あるいはプラズマモニターシステム。
【請求項５】
監視するプラズマ光源からの光を１組の検知装置および検知出力制御装置のみで検知、制御することができるように構成したことを特徴とする請求項２、３に記載のプラズマモニターシステム。
【請求項６】
検知装置には、監視するプラズマ光源からの入射光を複数個の入射角を持つ光に変化させるように入射角変化手段が備えられていることを特長とする請求項２、３記載のプラズマモニターシステム。
【請求項７】
検知装置の信号化手段において、透過した分光を検知してデジタル処理することを特徴とする請求項１、２、３記載のプラズマ処理の終点検知方法あるいはプラズマモニターシステム。
【請求項８】
監視するプラズマ光源の１点あるいは複数点において、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタを用いた透過工程、この透過工程で透過された分光を検知し信号化して出力する信号化工程とからなる第１の検知工程と、前記監視するプラズマ光源の１点あるいは複数点においてプラズマ温度・密度・反応圧・膜厚等を検知し信号化して出力する第２の検知工程と、前記第１の検知工程および第２の検知工程で信号化された複数の出力信号について光量・波長等の情報を検知出力制御装置で演算処理して調整する検知出力制御工程と、この検知出力制御工程で調整された調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を集中制御出力装置で演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御工程とを含むことを特徴とするプラズマ処理の終点検知方法。
【請求項９】
監視するプラズマ光源を１点あるいは複数点で検知することができる、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタ、このバンドパスフィルタを透過した分光を検知し信号化して出力する信号化手段とからなる第１の検知装置と、前記監視するプラズマ光源の１点あるいは複数点でプラズマ温度・密度・反応圧・膜厚等を検知し信号化して出力するプラズマ温度等検知器・圧力計・レーザー干渉計等からなる第２の検知装置と、前記第１の検知装置および第２の検知装置からの各検知出力が入力され、光量・波長等の情報を演算処理して調整する検知出力制御装置と、この検知出力制御装置からの各検知出力の調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御出力装置とからなることを特徴とするプラズマモニターシステム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体部品製造工程において、エッチングやアッシング装置の終点監視のプラズマ処理の終点検知方法およびプラズマモニターシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、比較的狭い波長領域で分光特性を求める場合、グレーティングを用いた分光器を使用したり、特定の波長のみを透過させるバンドパスフィルタを用いて短波長のみを検知するものが一般的に使われている。
【０００３】
従来のグレーティングを用いた分光器によるプラズマ処理の終点を関するシステムでは、装置が大型であり、多点の分光特性を同時にモニタする場合には非常にコスト高になるため、複数検知が容易でないという欠点があった。また、バンドパスフィルタを用いる場合は、比較的安価ではあるが、検知精度が低くなるという欠点があった。
【０００４】
本発明は以上のような従来の欠点に鑑み、バンドパスフィルタを用いた簡単な構成で安価、高い安定性、かつ同時に発行波長のズレにも対応でき、監視精度の向上、高分解能測定を図ることができるとともに、複数点が監視可能なコンパクト化した構造で、かつ安価で複数点が検出可能なプラズマ処理の終点検知方法およびプラズマモニターシステムを提供することを目的とする。
【０００５】
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は次の説明を添付図面と照らし合わせて読むと、より完全に明らかになるであろう。
ただし、図面は専ら解説のためのものであって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、監視するプラズマ光源の複数点あるいは監視する複数のプラズマ光源において、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタを用いた透過工程と、この透過工程で透過された複数の分光を検知し信号化して出力する信号化工程と、この信号化工程で信号化された複数の出力信号について光量・波長等の情報を検知出力制御装置で演算処理して調整する検知出力制御工程と、この検知出力制御工程で調整された調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を集中制御出力装置で演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御工程とでプラズマ処理の終点検知方法を構成している。
【０００７】
また、本発明は、監視するプラズマ光源を複数点で検知する、あるいは監視する複数のプラズマ光源を検知する、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタ、このバンドパスフィルタを透過した分光を検知し信号化して出力する信号化手段とからなる複数の検知装置と、この複数の検知装置からの各検知出力が入力され、光量・波長等の情報を演算処理して調整する検知出力制御装置と、この検知出力制御装置からの各検知出力の調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御出力装置とでプラズマモニターシステムを構成している。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、図面に示す実施の形態により、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
図１ないし図６に示す本発明の第１の実施の形態において、１は、監視するプラズマ光源２の複数点あるいは監視する複数のプラズマ光源、本実施の形態では監視するプラズマ光源２の４点において、該プラズマ光源２の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタ３を用いた透過工程で、この透過工程１は、図２に示すように、プラズマ光源２を複数点で監視するためのチャンバーＸにおいて、監視するプラズマ光源２からの光が、前記チャンバーＸの監視箇所に設けられた検知装置４に取付けられた対物レンズ５に入射され、この対物レンズ５を透過した光が、複数個の入射角を持つ光に変化させる凸レンズ、ロッドレンズ等からなる入射角変化手段６に入射され、この入射角変化手段６からの光がバンドパスフィルタ３に透過されるように構成されている。なお、本実施の形態において、検知装置４は、前記対物レンズ５と、入射角変化手段６と、バンドパスフィルタ３と、後述する信号化手段７とで構成され、監視するプラズマ光源２を４点で同時に検知すべく、４個の検知装置４、４、４、４が用いられる。
【００１０】
８は、図３に示すように、前記透過工程１で透過された複数の分光を信号化手段７で検知してデジタル処理して出力する信号化工程で、この信号化工程８で用いられる信号化手段７は、フォトダイオードアレイ９と、このフォトダイオードアレイ９で検知された信号をデジタル処理するＡＤコンバータ１０とで構成されている。
【００１１】
１２は、図４に示すように、前記信号化工程８でデジタル処理された複数の出力信号について、光量・波長等の情報を検知出力制御装置１１で演算処理して調整する検知出力制御工程で、この検知出力制御工程１２で用いられる検知出力制御装置１１は、前記信号化工程８でデジタル処理された複数の出力信号が入力されることにより、入射角度が変化しても透過波長の検知出力が入射角度を変化させないで得られる値になるようにする波長変換手段１３および出力補正手段１４を備え、反応中と反応前の光量・波長等の情報を比較演算して調整できるように構成されている。
なお、本実施の形態において、前記検知出力制御装置１１は、前記検知装置４、４、４、４と組になるように４個で構成されている。
【００１２】
１７は、図５に示すように、前記検知出力制御工程１２において４個の検知出力制御装置１１、１１、１１、１１でそれぞれ調整された各調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を集中制御出力装置１５で演算処理して出力装置１６にプラズマ処理の終点を出力する集中制御工程で、この集中制御工程１７によって、監視するプラズマ光源２の発光波長の微妙なズレ等に対応して高精度に測定することができる。
【００１３】
上記のような透過工程１、信号化工程８、検知出力制御工程１２および集中制御工程１７で行うプラズマ処理の検知方法は、４個の検知装置４、４、４、４および検知出力制御装置１１、１１、１１、１１と、集中制御出力装置１５とで構成されるプラズマモニターシステム１８で行われる。このプラズマモニターシステム１８は、検知装置４でデジタル処理された信号を同軸ケーブルを介して検知出力制御装置１１に転送するが、この検知出力制御装置１１、１１、１１、１１は前記集中制御出力装置１５にインターフェースコネクタ１９を介して接続されている。また、前記検知出力制御装置１１、１１、１１、１１と前記集中制御出力装置１５は、ＤＩＮレール２０に取付けられて一つのユニットとなるように構成され、前記集中制御出力装置１５から出力される調整データは前記インターフェースコネクタ１９を介してパソコンモニタ等の出力装置１６に出力できるように構成されている。なお、前記検知出力制御装置１１にはＵＳＢ等の出力端子２１が別個に設けられ、前記出力装置１６に直接調整データを出力できるように構成されている。したがって、１組の検知装置４と検知出力制御装置１１だけで監視するプラズマ光源２を検知・測定することも可能である。なお、本実施の形態では、前記集中制御出力装置１５から出力される調整データを前記インターフェースコネクタ１９を介して出力装置１６に出力できるように構成したものについて説明したが、本発明ではこれに限らず、前記集中制御出力装置１５にＵＳＢ等の出力端子を別個に設け、該出力端子から出力装置１６に調整データを出力するように構成してもよい。
【００１４】
上記のように構成されたプラズマ処理の終点検知方法およびプラズマモニターシステム１８は、監視するプラズマ光源を４点で同時に検知して各検知出力を比較演算し調整して出力するため、発光波長の微妙なズレ等に対応して高精度に測定することができる。
【００１５】
なお、本実施の形態において、バンドパスフィルタ３に対する入射角が変化すると、透過光量は減少するものの透過波長が短波長側にシフトするという特性を用いて、多波長における終点監視が可能となり、発光波長の微妙なズレが生じた場合でも対応することができる。また、検知出力制御装置１１は各入射角による中心波長シフトと光量の変化との関係から監視波長のズレを補正することができる。これは、まず、入射角毎の光量を測定し、波長と光量との関係を求める。この際、入射角が増すと光量は減少するが、光量は補正係数を用い、入射角にかかわらず、同じレベルになるように補正する。次に、入射角毎の光量の時間変化量を１次微分あるいは２次微分を行い、その時のピーク値を用いて終点の監視を行う。
【００１６】
【発明の異なる実施の形態】
次に、図７ないし図２２に示す本発明の異なる実施の形態につき説明する。なお、これらの本発明の実施の形態の説明に当って、前記本発明の第１の実施の形態と同一構成部分には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【００１７】
図７ないし図９に示す本発明の第２の実施の形態において、前記本発明の第１の実施の形態と主に異なる点は、監視する複数のプラズマ光源、本実施の形態では４個のプラズマ光源２、２、２、２において、１個のプラズマ光源２に対して１個の検知装置４で検知する透過工程１Ａを行うとともに、検知出力制御装置１１、１１、１１、１１からの調整データを集中制御出力装置１５Ａに集中させ、常に各プラズマ光源２、２、２、２間における平均値、傾向等の演算処理を行い、その結果から特にバラツキが激しかったり、平均レートから外れたりする調整データについては補正をかけ、全ての調整データにおいてバラツキ等がないように制御する検知出力制御工程１７Ａを行った点で、このような透過工程１Ａおよび検知出力制御工程１７Ａを行ったプラズマ処理の終点検知方法およびこのプラズマ処理の終点検知方法で用いられプラズマモニターシステム１８Ａにしても前記本発明の第１の実施の形態と同様な作用効果が得られる。
【００１８】
図１０および図１１に示す本発明の第３の実施の形態において、前記本発明の第２の実施の形態と主に異なる点は、１個の監視するプラズマ光源２に対して複数の検知装置、本実施の形態では４個の検知装置４、４、４、４および検知出力制御装置１１、１１、１１、１１を用いて検知・測定する透過工程１Ｂ、信号化工程８Ａおよび検知出力制御工程１２Ａを行うとともに、この検知出力制御工程１２Ａにおける検知出力制御装置１１、１１、１１、１１、・・・からの各調整データを集中制御出力装置１５Ｂに集中させ、監視するプラズマ光源２ごとに各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を演算処理を行い、さらに、各プラズマ光源２、２、２、２間における平均値、傾向等の演算処理を行い、その結果から特にバラツキが激しかったり、平均レートから外れたりする調整データについては補正をかけ、全ての調整データにおいてバラツキ等がないように制御する集中制御工程１７Ｂを行った点で、このような透過工程１Ｂ、信号化工程８Ａ、検知出力制御工程１２Ａおよび集中制御工程１７Ｂを行うプラズマ処理の終点検知方法およびこのプラズマ処理の終点検知方法で用いられるプラズマモニタシステム１８Ｂにしても前記本発明の第２の実施の形態と同様の作用効果が得られるとともに、監視する複数のプラズマ光源２、２、２、２におけるプラズマ処理の終点の検知をより高精度に行うことができる。
【００１９】
図１２および図１３に示す本発明の第４の実施の形態において、前記本発明の第３の実施の形態と主に異なる点は、４個の検知装置４、４、４、４を１個の検知出力制御装置１１Ａで制御する検知出力制御工程１２Ｂを行った点で、このような検知出力制御装置１１Ａを用いたプラズマモニターシステム１８Ｃでプラズマ処理の終点検知方法を行っても前記本発明の第３の実施の形態と同様の作用効果が得られる。
【００２０】
図１４ないし図１６に示す本発明の第５の実施の形態において、前記本発明の第１の実施の形態と主に異なる点は、監視するプラズマ光源２からの入射光を複数個の入射角を持つように集光可能な光学レンズ２２を用いてアパーチャ２３を介してバンドパスフィルタ３に入射できる入射角変化手段６Ａを用いた検知装置４Ａで透過工程１Ｃを行った点で、このような検知装置４Ａを構成したプラズマモニターシステム１８Ｄを用いてプラズマ処理の終点検知方法を行っても前記本発明の第１の実施の形態と同様の作用効果が得られる。
【００２１】
図１７ないし図２０に示す本発明の第６の実施の形態において、前記本発明の第１の実施の形態と主に異なる点は、バンドパスフィルタ３を回転ステージ２４を介してステッピングモータ２５で回動させる入射角度変化手段６Ｂを用いた検知装置４Ｂで透過工程１Ｄを行うとともに、この透過工程１Ｄの入射角度変化手段６Ｂで変化する角度を検出する角度センサー２６等の角度出力が入力されることにより、入射角度が変化しても透過波長の検知出力が入射角度を変化させないで得られる値になるようにする波長変換手段１３Ａ・出力補正手段１４Ａを備えた検知出力制御装置１１Ｂを用いて検知出力制御工程１２Ｃを行った点で、このような検知装置４Ｂおよび検知出力制御装置１１Ｂを構成したプラズマモニターシステム１８Ｅを用いてプラズマ処理の終点検知方法を行っても前記本発明の第１の実施の形態と同様の作用効果が得られる。なお、本実施の形態の検知装置４Ｂにおいては、バンドパスフィルタ３からの分光を検知する手段としてフォトダイオード２７を構成した信号化手段７Ａが用いられている。
【００２２】
図２１および図２２に示す本発明の第７の実施の形態において、前記本発明の第１の実施の形態と主に異なる点は、監視するプラズマ光源２の１点あるいは複数点、本実施の形態では１点で検知装置４（第１の検知装置）を用いた透過工程１Ｅおよび信号化工程８Ｂを行う第１の検知工程２８と、前記監視するプラズマ光源２の１点あるいは複数点、本実施の形態では３点でプラズマ温度・密度・反応圧・膜厚等を検知し信号化して出力するプラズマ温度等検知器・圧力計・レーザー干渉計等からなる第２の検知装置２９、２９、２９を用いた第２の検知工程３０と、前記第１の検知工程２８および第２の検知工程３０で信号化された複数の出力信号について光量・波長等の情報を検知出力制御装置１１Ｃで演算処理して調整する検知出力制御工程１２Ｃと、この検知出力制御工程１２Ｃで調整された調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を集中制御出力装置１５Ｃで演算処理して調整し出力装置１６にプラズマ処理の終点を出力する集中制御工程１７Ｃとを行った点で、このようなプラズマ処理の終点検知方法およびプラズマモニターシステム１８Ｆを用いても前記本発明の第１の実施の形態と同様の作用効果が得られる。
なお、本発明の実施の形態においては、監視するプラズマ光源２について１個の第１の検知装置４と３個の第２の検知装置２９、２９、２９との組合せで行うものについて説明したが、本発明はこれに限らず、第１の検知装置４を複数個、第２の検知装置２９を１個で構成したり、第１の検知装置４および第２の検知装置２９をそれぞれ複数個づつで構成する等、その組合せ・個数等は、任意に構成してもよい。
【００２３】
なお、本発明の各実施の形態において、監視するプラズマ光源２を４点で検知する、あるいは監視する４つのプラズマ光源２、２、２、２を検知するものについて説明したが、本発明はこれに限らず、監視するプラズマ光源２を少なくとも２点以上で検知する、あるいは監視する少なくとも２つ以上のプラズマ光源２、２、・・・を検知する構成であればどのような構成であってもよい。
【００２４】
また、本発明の各実施の形態では、検知装置４（４Ａ）（４Ｂ）でデジタル処理するものについて説明したが、本発明はこれに限らす、検知出力制御装置１１（１１Ａ）（１１Ｂ）にＡ／Ｄコンバータ１０を設けて、該検知出力制御装置１１（１１Ａ）（１１Ｂ）でデジタル処理するように構成してもよい。
【００２５】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明にあっては次に列挙する効果が得られる。
【００２６】
（１）監視するプラズマ光源の複数点あるいは監視する複数のプラズマ光源において、該プラズマ光源の全領域において特定波長領域のみを選択的に透過させるバンドパスフィルタを用いた透過工程と、この透過工程で透過された複数の分光を検知し信号化して出力する信号化工程と、この信号化工程で信号化された複数の出力信号について光量・波長等の情報を検知出力制御装置で演算処理して調整する検知出力制御工程と、この検知出力制御工程で調整された調整データが入力され、各データの平均値・傾向・レート・変更等の情報を集中制御出力装置で演算処理して調整し出力装置にプラズマ処理の終点を出力する集中制御工程とからなるので、特定波長領域のバンドパスフィルタを用いた簡単な構成で、発光波長のズレにも対応することができるとともに、複数点で検知した各調整データを集中制御出力装置でさらに調整するため、より高精度にプラズマ処理の終点を検知することができる。
したがって、時間的遅れの防止や監視精度の向上、低コストを図ることができる。
【００２７】
（２）前記（１）によって、小型コンパクト化を図ることができる。
【００２８】
（３）前記（１）によって、多波長同時監視や、微妙な波長のズレの補正ができる。
【００２９】
（４）請求項２、３、４、５、６、８、９も前記（１）〜（３）と同様な効果が得られる。
【００３０】
（５）請求項７も前記（１）〜（３）と同様な作用効果が得られるとともに、検知装置でデジタル処理する場合は、該検知装置でデジタル処理された信号が検知出力制御装置に転送されるため、転送時のノイズの影響を著しく少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の工程図。
【図２】本発明の第１の実施の形態の透過工程の説明図。
【図３】本発明の第１の実施の形態の信号化工程の説明図。
【図４】本発明の第１の実施の形態の検知出力制御工程の説明図。
【図５】本発明の第１の実施の形態の集中制御工程の説明図。
【図６】本発明の第１の実施の形態の概略説明図。
【図７】本発明の第２の実施の形態の工程図。
【図８】本発明の第２の実施の形態の透過工程の説明図。
【図９】本発明の第２の実施の形態の概略説明図。
【図１０】本発明の第３の実施の形態の工程図。
【図１１】本発明の第３の実施の形態の概略説明図。
【図１２】本発明の第４の実施の形態の工程図。
【図１３】本発明の第４の実施の形態の概略説明図。
【図１４】本発明の第５の実施の形態の工程図。
【図１５】本発明の第５の実施の形態の透過工程の説明図。
【図１６】本発明の第５の実施の形態の概略説明図。
【図１７】本発明の第６の実施の形態の工程図。
【図１８】本発明の第６の実施の形態の透過工程の説明図。
【図１９】本発明の第６の実施の形態の検知出力制御工程の説明図。
【図２０】本発明の第６の実施の形態の概略説明図。
【図２１】本発明の第７の実施の形態の工程図。
【図２２】本発明の第７の実施の形態の概略説明図。
【符号の説明】
１、１Ａ〜１Ｅ：透過工程、      ２：監視するプラズマ光源、
３：バンドパスフィルタ、        ４、４Ａ、４Ｂ：検知装置、
５：対物レンズ、                ６、６Ａ：入射角変化手段、
７、７Ａ：信号化手段、          ８、８Ａ、８Ｂ：信号化工程、
９：フォトダイオードアレイ、    １０：ＡＤコンバータ、
１１、１１Ａ〜１１Ｃ：検知出力制御装置、
１２、１２Ａ〜１２Ｃ：検知出力制御工程、
１３、１３Ａ：波長変換手段、    １４、１４Ａ：出力補正手段、
１５、１５Ａ〜１５Ｃ：集中制御出力装置、
１６：出力装置、                １７、１７Ａ、１７Ｂ：集中制御工程、
１８、１８Ａ〜１８Ｆ：プラズマモニターシステム、
１９：インターフェースコネクタ、
２０：ＤＩＮレール、            ２１：出力端子、
２２：光学レンズ、              ２３：アパーチャ、
２４：回転ステージ、            ２５：ステッピングモータ、
２６：角度センサー、            ２７：フォトダイオード、
２８：第１の検知工程、          ２９：第２の検知装置、
３０：第２の検知工程。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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