(57)【要約】【課題】ＰＤＰを構成する基板上に誘電体層を形成する誘電体層形成用転写シートとそれを用いたＰＤＰ基板の製造方法を提供する。【解決手段】支持フィルム３０１上にガラスペースト組成物層３０３と感光性ガラスペースト組成物層３０４からなる膜形成材料層３０２を形成した誘電体層形成用転写シート１を基板に貼り付けた後、もしくはシート状態で感光性ガラスペースト組成物層３０４を露光、現像により所望形状に形成し、基板に貼着させた膜形成材料層３０２を焼成して３次元形状の誘電体層を基板上に形成する。【選択図】　図１
2004095486.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＤＰを構成する基板上に設けられた電極を被覆して誘電体層を形成するためのＰＤＰの誘電体層形成用転写シートであって、
ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とからなる膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上に所定厚さに形成されてなることを特徴とするＰＤＰの誘電体層形成用転写シート。
【請求項２】
ＰＤＰを構成する基板上に設けられた電極を被覆して誘電体層を形成するためのＰＤＰの誘電体層形成用転写シートであって、
ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とに加え、この第２層と感光感度が異なる感光性のガラスペースト組成物からなる層によって、少なくとも３層の膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上にそれぞれ所定厚さに形成されてなることを特徴とするＰＤＰの誘電体層形成用転写シート。
【請求項３】
電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、
ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とからなる膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上に所定厚さに形成された誘電体層形成用シートを、電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、前記フィルムを剥離して前記膜形成材料層の第２層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、所望形状に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とするＰＤＰ用基板の製造方法。
【請求項４】
電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、
ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とからなる膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上に所定厚さに形成された誘電体層形成用シートに対し、前記第２層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、前記フィルムを剥離して所望形状に形成された膜形成材料層を電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、基板上に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とするＰＤＰ用基板の製造方法。
【請求項５】
電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、
ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とに加え、この第２層と感光感度が異なる感光性のガラスペースト組成物からなる層によって、少なくとも３層の膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上にそれぞれ所定厚さに形成された誘電体層形成用シートを、電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、前記フィルムを剥離して感光性の層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、所望形状に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とするＰＤＰ用基板の製造方法。
【請求項６】
電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、
ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とに加え、この第２層と感光感度が異なる感光性のガラスペースト組成物からなる層によって、少なくとも３層の膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上にそれぞれ所定厚さに形成された誘電体層形成用シートに対し、感光性の層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、前記フィルムを剥離して所望形状に形成された膜形成材料層を電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、基板上に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とするＰＤＰ用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰ）を構成する基板上に誘電体層を形成するためのＰＤＰの誘電体層形成用転写シート及びこれを用いたＰＤＰ用基板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図１１は、交流型ＰＤＰの構成を前面板１０と背面板２０とを分離させた状態で示すものである。前面板１０は、前面ガラス基板１０１に透明電極１０３が形成され、この透明電極１０３上には、そのライン抵抗を下げるためのバス電極１０４が形成されている。前面ガラス基板１０１の透明電極１０３及びバス電極１０４が形成された面には、それらを被覆して前面誘電体層１０５が形成され、更に前面誘電体層１０５を被覆して酸化マグネシウムによる保護膜１０６が形成されている。背面板２０は、背面ガラス基板２０１上にアドレス電極２０３が形成され、それを被覆して背面誘電体層２０４が形成され、その上に隔壁２０５によって溝状に形成されたセル２０７内に蛍光物質２０６が保持されている。
【０００３】
上記構成において、前面誘電体層１０５は、放電電流を制限し、放電電荷を蓄積する役割があるため、絶縁性に優れていることが要求され、更に光の透過性、即ち高い透明度が要求される。この要求を満たすべく前面誘電体層１０５は、ガラス粉末、結着樹脂、溶剤を含有するペースト状のガラスペースト組成物をスクリーン印刷によって前面ガラス基板１０１の表面に塗布し、乾燥させることによって膜形成材料層を形成し、次いで膜形成材料層を焼成することにより有機物質を除去してガラス粉末を焼結させ、溶融したガラス粉末による透明な誘電体層を得ている。
【０００４】
前面誘電体層１０５に良好な透明性を発現させるためには、焼成工程において膜形成材料から充分に脱泡させる必要がある。充分な脱泡を得るためには、軟化点の低いガラス粉末を含有するガラスペースト組成物により膜形成材料を形成すると共に、高い温度で長時間にわたる焼成条件を設定することにより、焼成工程における膜形成材料の流動性を高めることが好ましい。
【０００５】
また、近年のＰＤＰでは高輝度化が進んでおり、特公３２２４４８６号公報に開示されたＰＤＰでは、前面板に並列配置された透明電極に放電ギャップを画定する伸長部（図示せず）を形成し、図１２に示すように、前記放電ギャップに対応する位置の誘電体層６０５の厚さを増加させた突出部６０７を形成して、面内の誘電特性を任意に制御することにより壁電荷特性を制御し、パネルの放電特性を安定化することが提案されている。
【０００６】
この突出部６０７を設けた誘電体層６０５の形成は、透明電極６０３及びバス電極６０４が形成されたガラス基板６０１上に、スクリーン印刷による第１印刷によりガラスペースト組成物を一様に塗布し、更にその上に突出部６０７を形成するための第２印刷により部分的にガラスペースト組成物を塗り重ね、これを焼成することにより突出部６０７を設けた誘電体層６０５を形成する製造方法が開示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ガラス基板上に塗布する膜形成材料の厚さは、焼成工程における有機物質の除去に伴う膜厚の目減り量を考慮して形成すべき誘電体層の膜厚の１．３〜２．０倍程度とすることが必要である。例えば、誘電体層の膜厚を２０〜５０μｍとするためには、３０〜１００μｍ程度の厚さに膜形成材料層を形成する必要がある。
【０００８】
しかしながら、ガラスペースト組成物をスクリーン印刷法によって塗布する場合、１回の塗布処理によって形成される塗膜の厚さは１５〜２５μｍ程度である。このため、膜形成材料層を所定の厚さにするためには、ガラスペースト組成物を複数回（例えば、２〜７回）にわたり繰り返して塗布する多重印刷が用いられる。しかし、多重印刷によって膜形成材料層を形成する場合には、塗布された膜形成材料層を焼成して得られる誘電体層が均一な膜厚（例えば、公差が±５％以内）を有するものとはならない。これは、スクリーン印刷法による多重印刷ではガラス基板の表面に対してガラスペースト組成物を均一な厚さに塗布することが困難であることにあり、塗布面積（パネルサイズ）が大きくなるほど、塗布回数が多くなるほどに、誘電体層の膜厚のバラツキは大きくなる。このような塗布工程を経て得られたパネル材料では、膜厚のバラツキに起因して誘電特性にバラツキが生じ、ＰＤＰにおける表示欠陥（輝度ムラ）の原因となる。また、ＰＤＰ駆動時の放電開始電圧が不安定となり、画像表示品質を低下させることにもなる。
【０００９】
また、スクリーン印刷法では、スクリーン版のメッシュ形状が膜形成材料層の表面に転写される場合があり、これを焼成して得られる誘電体層は表面の平滑性の劣るものとなる問題がある。
【００１０】
上記問題点は、ダイコート法を用いた膜形成方法の場合にもあり、膜厚精度、表面粗さが課題となっている。
【００１１】
また、誘電体層の厚さを変化させて突出部を形成する場合においても、誘電体層の厚さが放電開始電圧に影響を与えるため、更なる膜厚精度が要求される。
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みて創案されたもので、その第１の目的は面内で誘電体層の厚さが異なる３次元形状を有するＰＤＰにおける膜厚精度の高い誘電体層の形成方法を提供することにあり、第２の目的は膜厚精度の高い誘電体層を形成することを可能にする転写フィルムを提供することにあり、第３の目的は前記転写フィルムを用いたＰＤＰの製造方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本願第１発明は、ＰＤＰを構成する基板上に設けられた電極を被覆して誘電体層を形成するためのＰＤＰの誘電体層形成用転写シートであって、ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とからなる膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上に所定厚さに形成されてなることを特徴とする。
【００１４】
上記第１発明に係る転写シートは、ＰＤＰを構成する基板上に形成する誘電体層の厚さに対応する厚さの膜形成材料層が形成されているので、従来技術のようにスクリーン印刷による多重印刷によって所望の厚さに膜形成材料層を形成する場合の課題である膜厚の均一性や表面の平滑性に欠ける問題を解消させ、基板上に膜形成材料を容易に形成することが可能となる。また、感光性の層が形成されているので、露光、現像により第２層を所望形状に形成することができ、３次元形状の誘電体層を容易に形成することができる。
【００１５】
また、上記目的を達成するための本願第２発明は、ＰＤＰを構成する基板上に設けられた電極を被覆して誘電体層を形成するためのＰＤＰの誘電体層形成用転写シートであって、ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とに加え、この第２層と感光感度が異なる感光性のガラスペースト組成物からなる層によって、少なくとも３層の膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上にそれぞれ所定厚さに形成されてなることを特徴とする。
【００１６】
上記第２発明に係る転写シートは、感光性の層が感光感度が異なる複数層に形成されているので、感光性の層は一括した露光、現像により複雑な形状に形成することが可能となり、誘電体層の厚さ変化により誘電特性を制御して放電特性を安定化させたＰＤＰを得ることができる。
【００１７】
また、上記目的を達成するための本願第３発明は、電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とからなる膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上に所定厚さに形成された誘電体層形成用シートを、電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、前記フィルムを剥離して前記膜形成材料層の第２層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、所望形状に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１８】
上記第３発明に係るＰＤＰ用基板の製造方法によれば、誘電体層形成用シートを基板上に貼り付けることにより基板上に膜形成材料層を形成することができるので、従来技術のようにスクリーン印刷による多重印刷によって所望の厚さに膜形成材料層を形成する場合の課題である膜厚の均一性や表面の平滑性に欠ける問題を解消させ、基板上に膜形成材料を容易に形成することが可能となる。また、感光性の層が形成されているので、露光、現像により第２層を所望形状に形成することができ、３次元形状の誘電体層を容易に形成することができる。
【００１９】
また、上記目的を達成するための本願第４発明は、電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とからなる膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上に所定厚さに形成された誘電体層形成用シートに対し、前記第２層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、前記フィルムを剥離して所望形状に形成された膜形成材料層を電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、基板上に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２０】
上記第４発明に係るＰＤＰ用基板の製造方法によれば、誘電体層形成用シートの感光性の第２層を露光、現像により所望形状に形成した後、これを基板に貼り付けることにより基板上に所望形状に膜形成材料層が形成され、これを焼成することにより基板上に所望形状の誘電体層を形成することができる。従って、所望形状の誘電体層を形成したＰＤＰ基板の製造が容易であるばかりでなく、均一な膜厚で優れた平滑性を有する誘電体層を容易に形成することが可能となる。
【００２１】
また、上記目的を達成するための本願第５発明は、電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とに加え、この第２層と感光感度が異なる感光性のガラスペースト組成物からなる層によって、少なくとも３層の膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上にそれぞれ所定厚さに形成された誘電体層形成用シートを、電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、前記フィルムを剥離して感光性の層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、所望形状に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２２】
上記第５発明に係るＰＤＰ用基板の製造方法によれば、基板上に貼り付けられた転写シートの感光性の層は感光感度が異なる複数層に形成されているので、一括した露光、現像により複雑な形状に形成することが可能で、これを焼成することにより基板上に複雑な形状に誘電体層を形成することができる。誘電体層形状の変化により誘電特性を制御することができ、放電特性を安定化させたＰＤＰの製造を可能にすることができる。
【００２３】
また、上記目的を達成するための第６発明は、電極が設けられた基板上に誘電体層を形成するＰＤＰ用基板の製造方法であって、ガラスペースト組成物からなる第１層と、この第１層上に形成された感光性のガラスペースト組成物からなる第２層とに加え、この第２層と感光感度が異なる感光性のガラスペースト組成物からなる層によって、少なくとも３層の膜形成材料層が、剥離可能なフィルム上にそれぞれ所定厚さに形成された誘電体層形成用シートに対し、感光性の層にフォトマスクを介して露光させ、現像により膜形成材料層を所望形状に形成する工程と、前記フィルムを剥離して所望形状に形成された膜形成材料層を電極が形成された基板上に貼り付けて基板に膜形成材料層を形成する工程と、基板上に形成された膜形成材料層を焼成して基板上に誘電体層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２４】
上記第６発明に係るＰＤＰ基板の製造方法によれば、誘電体層形成用シートの感光性の複数層を露光、現像により所望形状に形成した後、これを基板に貼り付けることにより基板上に所望形状に膜形成材料層が形成され、これを焼成することにより基板上に所望形状の誘電体層を形成することができる。従って、所望形状の誘電体層を形成したＰＤＰ基板の製造が容易であるばかりでなく、均一な膜厚で優れた平滑性を有する誘電体層を容易に形成することが可能となる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明し、本発明の理解に供する。尚、以下に示す実施形態は本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
【００２６】
本実施形態は、ＰＤＰを構成するガラス基板に誘電体層を形成するための誘電体層形成用転写シート１と、それを用いたＰＤＰ用基板の製造方法について示すものである。
【００２７】
実施形態に係る誘電体層形成用転写シート１は、図１（ｂ）に示すように、支持フィルム３０１上に剥離可能に膜形成材料層３０２が形成され、膜形成材料層３０２の表面を被覆するカバーフィルム３０５を配した長尺物に構成され、図１（ａ）に示すように、ロールに巻回した状態にして保管、供給することができるように構成されている。
【００２８】
前記膜形成材料層３０２は、第１層のガラスペースト組成物層３０３と、第２層の感光性ガラスペースト組成物層３０４との２層に形成されている。尚、前記カバーフィルム３０５は、ロールの重量を軽減させるため、使用しないで構成することもできる。
【００２９】
前記ガラスペースト組成物層３０３は、ガラス粉末及び結着樹脂、特定無機酸化剤を必須成分として含有する。また、感光性ガラスペースト組成物層３０４は、ガラス粉末及び結着樹脂の必須成分に加えて光重合性化合物を含む有機成分を含有する。
【００３０】
前記ガラス粉末としては特に限定されるものではないが、軟化点が４０〜６００℃の範囲内にあるものが好ましい。ガラス粉末の軟化点が４００℃未満である場合には、膜形成材料層の焼成工程において結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成された誘電体層内に有機物質の一部が残留する結果、誘電体層が着色されて透明性が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が６００℃を越える場合には、６００℃より高い温度で焼成する必要があるため、ガラス基板に歪みが発生しやすくなる。
【００３１】
好適なガラス粉末の具体例として、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＰｂＯ−Ｂ２　Ｏ３　−ＳｉＯ２　系）の混合物、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＺｎＯ−Ｂ２　Ｏ３　−ＳｉＯ２　系）の混合物、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ＰｂＯ−Ｂ２　Ｏ３　−ＳｉＯ２　−Ａｌ２　Ｏ２系）の混合物、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２　Ｏ３　−ＳｉＯ２　系）の混合物などがある。
【００３２】
また、前記結着樹脂としては、アクリル樹脂が好適である。このアクリル樹脂が含有されていることにより、膜形成材料層３０２のガラス基板３１０に対する優れた加熱接着性を得ることができる。また、アクリル樹脂は適度な粘着性を有してガラス粉末を結着させることができ、膜形成材料層３０２の焼成処理によって完全に酸化除去される重合体の中から選択される。結着樹脂の含有割合は、ガラス粉末１００重量部に対し、５〜４０重量部であることが好ましく、より好ましくは１０〜３０重量部とする。結着樹脂の割合が過小である場合には、ガラス粉末を確実に結着保持することができず、過大である場合には、焼成時間が長くなり、形成されるガラス焼結体（誘電体層）の充分な強度や膜厚が得られないことになる。
【００３３】
また、前記感光性ガラスペースト組成物層３０４を構成する光重合性成分として、感光性モノマー、オリゴマーの他、感光性バインダーを適用することができる。また、有機成分としては、溶剤や分散剤、光重合開始剤、安定剤等が含有される。光重合性成分の含有割合としては、組成物全量の５〜５０重量部の割合で配合することが好ましいものとなる。
【００３４】
また、支持フィルム３０１は、耐熱性及び耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムが好適である。支持フィルム３０１が可撓性を有することにより、ロールコーター、ブレードコーターなどを用いてペースト状の組成物を塗布することができ、膜厚が均一な膜形成材料層３０２を形成することができ、形成された転写シート１をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルム３０１を形成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂や、ナイロン、セルロースなどを用いることができる。この支持フィルム３０１の厚さは２０〜１００μｍが好適である。
【００３５】
膜形成材料層３０２の厚さは、ガラス粉末の含有率、ＰＤＰの種類やサイズなどによって異なるが、例えば５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍに形成される。また、ガラスペースト組成物層３０３と感光性ガラスペースト組成物層３０４との膜厚比率は、最終的に所望の誘電体層１０５の形状が得られるように任意に構成することができる。
【００３６】
また、カバーフィルム３０５は、膜形成材料層３０２のガラス基板１０１との接触面を保護するためのもので、可撓性を有する樹脂フィルムで、前記支持フィルム３０１と同様の樹脂材料を用いることができ、その厚さは２０〜１００μｍが好適である。
【００３７】
誘電体層形成用転写シート１は、支持フィルム３０１上に感光性ガラスペースト組成物層３０４を塗布し、その上にガラスペースト組成物層３０３を塗布し、塗膜を乾燥させて溶剤の一部又は全部を除去して膜形成材料層３０２を形成し、その上にカバーフィルム３０５を圧着することにより製造することができる。
【００３８】
支持フィルム３０１上に組成物を塗布する方法は、ロールコーターによる塗布、ドクターブレードなどのブレードコーターによる塗布、カーテンコーターによる塗布、ワイヤーコーターによる塗布、ファウンテンコーターによる塗布などを用いることができ、特にファウンテンコーターによる塗布方法は所定量の塗布液を再循環させることなく支持フィルム３０１上に直接コーティングするため、表面平滑性及び膜厚均一性に優れた塗膜を得ることができる。
【００３９】
支持フィルム３０１上に塗布された塗膜は乾燥により溶剤の一部が除去されて膜形成材料層３０２となる。乾燥条件は４０〜１５０℃で０．１〜３０分程度がよく、乾燥後における溶剤の残存割合（膜形成材料層３０２中の溶剤含有割合）は、通常１０重量％以下が望ましく、ガラス基板３１０に対する粘着性及び適度な形状保持性を得るためには１〜５重量％であることが好ましい。
【００４０】
尚、支持フィルム３０１の表面には離型処理を施すことが好ましく、膜形成材料層３０２をガラス基板３１０に転写した後、膜形成材料層３０２から支持フィルム３０１を剥離することが容易となる。また、カバーフィルム３０５の表面にも離型処理を施すことが好ましく、膜形成材料層３０２をガラス基板３１０に転写する前に膜形成材料層３０２から剥離する作業が容易となる。
【００４１】
次に、上記構成になる誘電体層形成用転写シート１を用いたＰＤＰ用基板の製造方法について、第１及び第２の各実施形態を以下に説明する。
【００４２】
まず、第１の実施形態に係るＰＤＰ用基板の製造方法は、図１（ａ）に示すように、ロール状に形成された誘電体層形成用転写シート１からガラス基板３１０の面積に対応する大きさに裁断する。次に、裁断した誘電体層形成用転写シート１の膜形成材料層３０２からカバーフィルム３０５を剥離した後、図２に示すように、バス電極（図示せず）を設けた透明電極３２０が形成されたガラス基板３１０の表面に膜形成材料層３０２が接するように誘電体層形成用転写シート１を重ね合わせ、誘電体層形成用転写シート１上に加熱ローラを移動させて膜形成材料層３０２をガラス基板３１０に熱圧着させる。その後、支持フィルム３０１を膜形成材料層３０２から剥離する。これによって、支持フィルム３０１上の膜形成材料層３０２がガラス基板３１０に転写される。
【００４３】
上記転写条件は、加熱ローラの表面温度が６０〜１２０℃、ロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ２　、移動速度が０．２〜１０．０ｍ／分が好適であり、この操作はラミネータ装置により実施することができる。尚、ガラス基板３１０を予熱してもよく、予熱温度は４０〜１００℃が好適である。
【００４４】
次いで、図３に示すように、膜形成材料層３０２の表面に所定パターンに形成されたフォトマスク３３０を重ね合わせ、露光、現像を行うことにより、膜形成材料層３０２の露光した部分が残った状態が得られる。膜形成材料層３０２はガラスペースト組成物層３０３と感光性ガラスペースト組成物層３０４との２層構造であるため、感光性を有する感光性ガラスペースト組成物層３０４の一部が残るようになる。
【００４５】
次いで、膜形成材料層３０２は焼成により図４に示すように、無機焼結体である誘電体層４０２に形成される。焼成は膜形成材料層３０２が形成されたガラス基板３１０を高温雰囲気下に配置する方法で実施することができる。この焼成により、膜形成材料層３０２に含有されている有機物質（例えば、結着樹脂、残留溶剤、各種の添加剤）が分解されて除去され、ガラス粉末が溶融して焼結する。焼成温度は、ガラス基板３１０の溶融温度、膜形成材料層３０２の構成物質などによって異なるが、例えば３００〜８００℃が好ましく、より好ましくは４００〜６００℃とする。
【００４６】
焼成された後の誘電体層４０２の第１層４０３の厚さｄ１と第２層４０４の厚さｄ２は、転写シート１に形成されたガラスペースト組成物層３０３及び感光性ガラスペースト組成物層３０４の厚さ精度が高いため、高精度に誘電体層４０２が形成され、第１層４０３の厚さｄ１と第２層４０４の厚さｄ２を共に±０．２μｍの精度に形成することができる。厚さ精度は、ＰＤＰの駆動時の表面電荷蓄積度合いを決定するため、それがそのまま画像表示品質の安定化につながることになる。更に、第１層４０３及び第２層４０４の誘電率を任意に変えることも可能であるため、電荷の蓄積度合いを左右する誘電体の静電容量を任意に制御することができる。尚、第１層４０３の厚さｄ１及び第２層４０４の厚さｄ２は、通常５〜３０μｍである。
【００４７】
前述した感光性ガラスペースト組成物層３０４の形成において、感光感度が異なる感光性のガラスペースト組成物層を複数層に形成することができ、例えば、感光感度が異なる２層に形成して一括露光、現像を行うと、図５に示すように、誘電体層５０２は第１層５０３、第２層５０４、第３層５０５の３層構造に形成することができる。また、図５に示した第２層５０４、第３層５０５を形成する感光性のガラスペースト組成物層の感光感度を逆にすると、図６に示すような誘電体層５０２の形状を得ることができる。このように誘電体層５０２を任意の形状に形成できることから、誘電体層５０２の表面の電荷の蓄積度合いを任意に制御することができ、画像表示品質の安定化を図ることができる。
【００４８】
上記のように形成された誘電体層４０２、５０２の表面には保護膜が形成される。保護膜は一般に酸化マグネシウムが用いられ、その膜厚は３００〜１０００ｎｍである。
【００４９】
次に、第２の実施形態に係るＰＤＰ用基板の製造方法について説明する。尚、第１の実施形態に係る製造方法と同一の工程の説明は省略する。
【００５０】
第２の実施形態に用いる誘電体層形成用転写シート１は、図７に示すように、図１（ｂ）に示した状態から支持フィルム３０１を膜形成材料層３０２から剥離した状態、あるいはカバーフィルム３０５上に膜形成材料層３０２を形成したものを用いる。
【００５１】
図８に示すように、膜形成材料層３０２の感光性ガラスペースト組成物層３０４上に所定パターンに形成したフォトマスク３３０を重ね合わせ、露光、現像により、図９に示すように、感光性ガラスペースト組成物層３０４は露光した部分が残った形状に形成される。このように誘電体層形成用転写シートの状態で露光、現像を行うため、処理装置が小型化でき、コストダウンを図ることができる。
【００５２】
膜形成材料層３０２が所定形状に形成されたシートは、カバーフィルム３０５を剥離した後、図１０に示すように、ガラス基板３１０の透明電極３２０が形成された表面に重ね合わせ、加熱ローラにより熱圧着されることによりガラス基板３１０に膜形成材料層３０２が転写される。転写条件は、第１に実施形態の場合と同様に実施することができる。
【００５３】
上記のようにガラス基板３１０に膜形成材料層３０２を転写した後、焼成することにより、図４に示したものと同様に誘電体層４０２が形成される。
【００５４】
上記第２の実施形態の誘電体層形成用転写シート１の状態で膜形成材料層３０２を所望形状に形成する方法は、図５及び図６に示したように感光性の層を複数層に形成した場合にも適用可能である。
【００５５】
以上説明した構成は、ＰＤＰの前面板に形成した場合の構成であるが、背面板を構成する基板に誘電体層を形成する場合にも同様に適用することができる。
【００５６】
また、複数の層に形成される膜形成材料層３０２は、各層の誘電率を変えて構成することもできるので、電荷の蓄積度合いを左右する誘電体層の静電容量を任意に制御することもできる。
【００５７】
【発明の効果】
以上の説明の通り本発明に係るＰＤＰの誘電体層形成用転写シートは、所定厚さに膜形成材料層が形成された誘電体層形成用転写シートを基板に貼り付けて基板上に膜形成材料層を転写することができるので、従来技術のようにスクリーン印刷による多重印刷によって所望の厚さに膜形成材料層を形成する場合の課題である膜厚の均一性や表面の平滑性に欠ける問題を解消させ、基板上に膜形成材料を容易に形成することが可能となる。また、感光性の層が形成されているので、露光、現像により第２層を所望形状に形成することができ、３次元形状の誘電体層を容易に形成することができる。また、感光性の層は感光感度が異なる複数層に形成することができるので、誘電体層をより複雑な形状に形成することが可能となる。
【００５８】
また、上記誘電体層形成用転写シートを用いたＰＤＰ基板の製造方法によれば、誘電体層形成用シートを基板上に貼り付けることにより基板上に膜形成材料層を形成することができるので、従来技術のようにスクリーン印刷による多重印刷によって所望の厚さに膜形成材料層を形成する場合の課題である膜厚の均一性や表面の平滑性に欠ける問題を解消させ、基板上に膜形成材料を容易に形成することが可能となる。また、感光性の層が形成されているので、露光、現像により第２層を所望形状に形成することができ、３次元形状の誘電体層を容易に形成することができる。また、誘電体層形成用シートの感光性の第２層を露光、現像により所望形状に形成した後、これを基板に貼り付けることにより基板上に所望形状に膜形成材料層が形成され、これを焼成することにより基板上に所望形状の誘電体層を形成することができる。従って、所望形状の誘電体層を形成したＰＤＰ基板の製造が容易であるばかりでなく、均一な膜厚で優れた平滑性を有する誘電体層を容易に形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る誘電体層形成用転写シートの（ａ）は供給状態を示す側面図、（ｂ）はＡ部分の拡大断面図。
【図２】ＰＤＰ基板の製造方法の第１の実施形態における基板に転写シートを貼り付ける工程を示す断面図。
【図３】同上露光工程を示す断面図。
【図４】基板上に誘電体層を形成した状態を示す断面図。
【図５】感光性の層を複数層にして得られる誘電体層の状態を示す断面図。
【図６】同上の変形例を示す断面図。
【図７】第２の実施形態における転写シートを示す断面図。
【図８】同上の露光工程を示す断面図。
【図９】同上工程により形成された膜形成材料層を示す断面図。
【図１０】同上膜形成材料層を基板に貼り付けた状態を示す断面図。
【図１１】ＰＤＰの構成を説明する部分斜視図。
【図１２】ＰＤＰの別構成を説明する部分斜視図。
【符号の説明】
１　誘電体層形成用転写シート
３０１　支持フィルム
３０２　膜形成材料層
３０３　ガラスペースト組成物層
３０４　感光性ガラスペースト組成物層
３０５　カバーフィルム
３１０　ガラス基板
３２０　透明電極
３３０　フォトマスク
４０２、５０２　誘電体層
４０３、５０３　第１層
４０４、５０４　第２層
５０５　第３層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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