(57)【要約】【課題】機能分離型有機系感光体の下引き層に熱硬化性樹脂が使用されても、純アルミから合金アルミまで、どの材質の基体が使用されても再生後の基体に擦り傷が付き難く、さらに基体再生後形成される感光層塗膜に外観欠陥を与えるような擦り傷の発生しない基体の再生方法を提供する。【解決手段】アルミ円筒状基体上に熱硬化性樹脂下引き層、電荷発生層、電荷輸送層が順次形成される機能分離型有機系感光体の前記基体の再生方法であって、前記熱硬化性樹脂下引き層、電荷発生層または電荷輸送層のいずれかの塗布工程で塗膜不良となった感光体に帯電および除電処理を繰り返し行うことにより該基体表面を不動態化して酸化皮膜を形成し、その後、前記塗布層全層を除去洗浄する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミ円筒状基体上に熱硬化性樹脂下引き層、電荷発生層、電荷輸送層が順次形成される機能分離型有機系感光体の前記基体の再生方法において、前記熱硬化性樹脂下引き層、電荷発生層および電荷輸送層のいずれかの塗布工程で塗膜不良となった感光体に帯電および除電処理を繰り返し行うことにより該基体表面を不動態化して酸化皮膜を形成し、その後、前記塗布層全層を除去洗浄することを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項２】
請求項１記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記帯電および除電処理を行う前に、前記不良感光体を７０〜１００℃の熱水中に浸漬することを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項３】
請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記不動態化処理により形成される酸化皮膜の厚さは１０〜１００ｎｍであることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項４】
請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記帯電処理は負帯電電位を与えることにより行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項５】
請求項４記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記負帯電電位の付与は−８００〜−１２００Ｖを与えることにより行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項６】
請求項５記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記負帯電電位の付与は帯電電位をグリッド制御するスコロトロン方式の帯電器により行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項７】
請求項２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記熱水中での浸漬処理は、電気伝導率１０〜１５μＳ／ｃｍの逆浸透水を用いて行なうことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項８】
請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記除電処理は光照射により繰返し帯電電位を減衰させることにより行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項９】
請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記熱硬化性樹脂下引き層が、アルキド樹脂とメラミン樹脂との重量比１．５／１〜４／１の樹脂溶液と０．４μｍ以下の酸化チタン微粒子との重量比１／３〜１／４を含むＭＥＫ溶液から形成された塗膜を１２０〜１４０℃の温度で１０〜２０分間焼成して厚さ３〜５μｍとした下引き層であることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項１０】
請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記不動態化処理した感光体の感光層をＮメチルピロリドン溶剤を用いて除去洗浄した後、メタノールまたはエタノール溶剤を用いてＮメチルピロリドン溶剤を置換洗浄することを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項１１】
請求項１０記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記感光層の除去洗浄が、前記不動態化処理した感光体の上部から４５〜５０℃に加熱されたＮメチルピロリドン溶剤が感光体表面を流下するよう供給し濾過循環させ、感光体外周面及び軸方向にＮメチルピロリドン溶剤耐性の分割された直線ブラシの線径０．２〜０．４ｍｍ、穂先長さが３〜５ｍｍの範囲である接触部材を被洗浄物軸方向に自在に回動又は軸方向と円周方向に自在に回動させ、ねじりコイルばねにより個々の接触部材を２００〜５００ｇで回動圧接させる構成で、感光体又は接触部材のどちらか一方又は両方を回転および、感光体又は接触部材のどちらか一方を軸方向に移動させて感光体全層を除去洗浄すると共に、該基体の下端部内径面をＮメチルピロリドン溶剤耐性の回転接触するブラシ線径０．２〜０．４ｍｍ、穂先長さが１０〜１５ｍｍ、被洗浄物の内径より０．５〜２ｍｍ大径の円形外巻きブラシにより洗浄する装置を用いることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項１２】
請求項１０記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記メタノールまたはエタノール溶剤によるＮメチルピロリドン溶剤との置換洗浄が、軸芯が被洗浄物に自在に合芯するＮメチルピロリドン溶剤耐性のブラシ線径０．１〜０．３ｍｍ、穂先長さが１０〜１５ｍｍ、被洗浄物の外径より０．５〜２ｍｍ小径の円形内巻きブラシの上部よりＮメチルピロリドン溶剤置換用低沸点洗浄液メタノール又はエタノールを用い、回転接触する該円形内巻きブラシと該基体外周面に流下するよう供給し、濾過循環させ、該基体を通過させて洗浄する装置を用いることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記Ｎメチルピロリドン溶剤耐性ブラシの材質が、１００℃以上の熱変形温度を持った合成樹脂であることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【請求項１４】
請求項１３記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、前記１００℃以上の熱変形温度を持った合成樹脂がポリプロピレン樹脂であることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像形成装置用電子写真感光体の基体の再生方法、特にアルミ円筒状基体の再生方法に関する。また本発明の方法は円筒状部品であれば洗浄方法として広く適用することができる。
【０００２】
【従来の技術】
画像形成装置に用いる有機系円筒状電子写真感光体の感光層は機能分離型が主流であり、上層から電荷輸送層、電荷発生層、及び円筒状金属基体表面に下引き層が形成される。該下引き層には熱硬化性樹脂が使用され、帯電性と残留電位とのバランスを保つために１０μｍ以下の薄膜で形成される。また画像形成用光書き込みにはレーザ光が使用されるため、余剰光の散乱に粒径０．４μｍ以下の酸化チタン等の分散剤が添加されている。
【０００３】
ところで上記感光層の塗布工程では数％の塗膜欠陥が発生するため、塗膜欠陥の発生した感光層を除去して円筒状金属基体を再生使用するための除去洗浄工程が設けられている。この円筒状金属基体は表面に要求される粗さの形成などから加工性の良いアルミが使用され、材質も純アルミから合金アルミまで幅広く使用される。しかし、円筒状金属基体再生のための除去洗浄工程では、純アルミに近い軟質材には基体表面に擦り傷が付きやすい。また、コスト面から一本の感光体を数分で処理しなければならず、除去洗浄力を強めに作用させるため、アルミ基体の表面は、感光層塗膜に外観欠陥を与えるような擦り傷が発生しやすく、再生品の歩留まりを一層低下させている。
【０００４】
従来、このような問題に対して、特開２００１−１５４４３７７号公報（特許文献１）では、導電性基体上に感光層が形成された電子写真感光体を溶存酸素量を規定したＮメチルピロリドン洗浄液に浸漬させ、超音波洗浄して感光層を剥離する方法が提案されている。
また、特開２０００−２７５８６７号公報（特許文献２）では、水分含有率ｘ重量％及び浴温ｙ℃としたとき式ｙ＞３ｘ＋２５の関係を満たすＮメチルピロリドン浴中に不良品を浸漬及び超音波処理、バブリングすることにより有機系機能材料膜を剥離、溶解除去した後、界面活性剤０．１％を含んだ水によりリンスを行ない導電性基体を再生する方法が提案されている。
【０００５】
さらにまた、特開平１０−３９５２０号公報（特許文献３）では、導電性基体上にバインダー樹脂を主成分とする感光層を有する有機感光体をバインダー樹脂を溶解させる有機溶剤と水とを混合した剥離液に所定時間浸漬して感光層を膨潤させ、感光体表面をパイル長さ５〜５０ｍｍ、太さ２．５〜３０デニール、密度１０００〜２万本／ｃｍ２のブラシで摺擦する工程を含む基板再生方法が提案されている。
また、特開平９−２１１８７５号公報（特許文献４）では、織布の表面に有機溶剤を供給し、電子感光体の周面の全部又は一部に接触又は圧接して導電性基体上に形成されている下引き層、感光層などの塗膜を除去すると共に、織布に付いた塗膜残さを有機溶剤を含有させ、ブラシをあてがい塗膜残さを掻きとって織布を清浄にする操作を繰り返し行なう塗膜除去方法が提案されている。
【０００６】
さらにまた、特開２０００−３４３４３１号公報（特許文献５）では、平均粒径５μｍ〜２ｍｍの砥粒を回転する感光体に噴射させて感光層を剥離洗浄する、あるいは事前に感光体を所定温度以下に冷却しておくことを併用する方法が提案されている。
また、特開平１１−２９５９０８号公報（特許文献６）では、下引き層にアルキド樹脂とメラミン樹脂の混用溶液を用いたときの塗膜除去の困難さを下引き層上の電荷輸送層を溶解可能な溶剤とポリウレタンフォーム洗浄ブラシを使用して回転接触除去洗浄をした後、下引き層に弾力性の研磨ホイールを回転接触させて下引き層を研磨除去する方法が提案されている。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−１５４４３７７号公報
【特許文献２】
特開２０００−２７５８６７号公報
【特許文献３】
特開平１０−３９５２０号公報
【特許文献４】
特開平９−２１１８７５号公報
【特許文献５】
特開２０００−３４３４３１号公報
【特許文献６】
特開平１１−２９５９０８号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の方法はいずれも下引き層に熱硬化性樹脂が使用された場合は除去困難であるか、あるいは基体再生後形成される感光層塗膜に外観欠陥を与えるような擦り傷の発生を防止することは困難である。
本発明は上記背景からなされたもので、機能分離型有機系感光体の下引き層に熱硬化性樹脂を使用しても、純アルミから合金アルミまで、どの材質の基体でも擦り傷が付き難く、さらに基体再生後形成される感光層塗膜に外観欠陥を与えるような擦り傷の発生しない基体の再生方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記本発明の目的は次の手段により達成される。
すなわち本発明によれば、第一に、請求項１では、アルミ円筒状基体上に熱硬化性樹脂下引き層、電荷発生層、電荷輸送層が順次形成される機能分離型有機系感光体の前記基体の再生方法において、前記熱硬化性樹脂下引き層、電荷発生層または電荷輸送層のいずれかの塗布工程で塗膜不良となった感光体に帯電および除電処理を繰り返し行うことにより該基体表面を不動態化して酸化皮膜を形成し、その後、前記塗布層全層を除去洗浄することを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１０】
第二に、請求項２では、上記請求項１記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記帯電および除電処理を行う前に、上記不良感光体を７０〜１００℃の熱水中に浸漬することを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１１】
第三に、請求項３では、上記請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記不動態化により形成される酸化皮膜の厚さは１０〜１００ｎｍであることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１２】
第四に、請求項４では、上記請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記帯電処理は負帯電電位を与えることにより行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１３】
第五に、請求項５では、上記請求項４記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記負帯電電位の付与は−８００〜−１２００Ｖを与えることにより行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１４】
第六に、請求項６では、上記請求項５記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記負帯電電位の付与は帯電電位をグリッド制御するスコロトロン方式の帯電器により行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１５】
第七に、請求項７では、上記請求項２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記熱水中での浸漬処理は、電気伝導率１０〜１５μＳ／ｃｍの逆浸透水を用いて行なうことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１６】
第八に、請求項８では、上記請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記除電処理は光照射により繰返し帯電電位を減衰させることにより行うことを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１７】
第九に、請求項９では、上記請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記熱硬化性樹脂下引き層が、アルキド樹脂とメラミン樹脂との重量比１．５／１〜４／１の樹脂溶液と０．４μｍ以下の酸化チタンとの重量比１／３〜１／４を含むＭＥＫ溶液から形成された塗膜を１２０〜１４０℃の温度で１０〜２０分間焼成して３〜５μｍとした下引き層であることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１８】
第十に、請求項１０では、上記請求項１または２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記不動態化処理した感光体の感光層をＮメチルピロリドン溶剤を用いて除去洗浄した後、メタノールまたはエタノール溶剤を用いてＮメチルピロリドン溶剤を置換洗浄することを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００１９】
第十一に、請求項１１では、上記請求項１０記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記感光層の除去洗浄が、上記不動態化処理した感光体の上部から４５〜５０℃に加熱されたＮメチルピロリドン溶剤が感光体表面を流下するよう供給し、濾過循環させ、該感光体外周面及び軸方向にＮメチルピロリドン溶剤耐性の分割された直線ブラシの線径０．２〜０．４ｍｍ、穂先長さが３〜５ｍｍの範囲である接触部材を被洗浄物軸方向に自在に回動又は軸方向と円周方向に自在に回動させ、ねじりコイルばねにより個々の接触部材を２００〜５００ｇで回動圧接させる構成で、感光体又は接触部材のどちらか一方又は両方を回転および、感光体又は接触部材のどちらか一方を軸方向に移動させて感光体全層を除去洗浄すると共に、該基体の下端部内径面をＮメチルピロリドン溶剤耐性の回転接触するブラシ線径０．２〜０．４ｍｍ、穂先長さが１０〜１５ｍｍ、被洗浄物の内径より０．５〜２ｍｍ大径の円形外巻きブラシにより洗浄する装置を用いることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００２０】
第十二に、請求項１２では、上記請求項１０記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記メタノールまたはエタノール溶剤によるＮメチルピロリドン溶剤との置換洗浄が、軸芯が被洗浄物に自在に合芯するＮメチルピロリドン溶剤耐性のブラシ線径０．１〜０．３ｍｍ、穂先長さが１０〜１５ｍｍ、被洗浄物の外径より０．５〜２ｍｍ小径の円形内巻きブラシの上部よりＮメチルピロリドン溶剤置換用低沸点洗浄液メタノール又はエタノールを用い、回転接触する該円形内巻きブラシと該基体外周面に流下するよう供給し、濾過循環させ、該基体を通過させて洗浄する装置を用いることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００２１】
第十三に、請求項１３では、上記請求項１１または１２記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記Ｎメチルピロリドン溶剤耐性ブラシの材質が、１００℃以上の熱変形温度を持った合成樹脂であることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００２２】
第十四に、請求項１４では、上記請求項１３記載のアルミ円筒状基体の再生方法において、上記１００℃以上の熱変形温度を持った合成樹脂がポリプロピレン樹脂であることを特徴とするアルミ円筒状基体の再生方法が提供される。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
図１（ａ）は、本発明が対象とする機能分離型有機系感光体の一例を示す断面図で、アルミ円筒状基体１の表面に画像光書込み時の反射防止用光散乱剤として０．４μｍ以下の酸化チタン微粒子を含んだメラミン樹脂、アルキド樹脂等の熱硬化性樹脂を結着剤とした下引き層２が形成され、順次、ブチラール樹脂等を結着剤とした０．１〜０．３μｍ厚みの電荷発生層３及び、ポリカーボネート樹脂等を結着剤とした２０〜３０μｍ厚みの電荷輸送層４が形成される。
【００２４】
上記基体１の表面は０．４〜１．５μｍ程度の粗さや、０．２μｍ程度の鏡面に仕上げられ、その最表面には自然酸化皮膜５が３０〜５０Åの厚みで形成される。この酸化皮膜５の厚みは、該基体１の表面をダイヤモンドバイトなどによって高速で旋削加工すると５０〜１００Å程度の厚みが形成され、機能分離型有機系感光体表面に帯電電位を与える際のバリヤー層ともなっている。
【００２５】
上記下引き層２の膜厚は、アルミ円筒状基体１の表面粗さがレベリングされて下引き層２の最表面６と、尚且つ電荷発生層３の最表面７に０．１〜０．２μｍの粗さがレベリングされて再現されるように３〜５μｍの厚みで形成され、機能分離型有機系感光体にレーザービームで画像を光書き込みする際に、電荷発生層３がチタニルフタロシアニン等の電荷発生剤の反射率が高い場合には光反射率を低下させ干渉縞の発生を緩和する。
【００２６】
また、基体１を再生利用する際にしても、下引き層２の熱硬化性樹脂を膨潤させ除去洗浄時間を短時間で容易にするためにも下引き層２は５μｍ以下の厚みであることが好ましい。
【００２７】
本発明は上記のような熱硬化性樹脂下引き層２及び電荷発生層３、電荷輸送層４からなる機能分離型有機系感光体のアルミ円筒状基体１の最表面５を陽極化して不動態化させ、基体表面に基材より硬化した酸化皮膜を形成させてから感光層を除去するものである。かかる本発明によれば、感光層に除去洗浄力を強めに作用させても基体再生後形成された感光層塗膜に外観欠陥を与えるような擦り傷が発生し難い基体表面とすることができる。
【００２８】
図１（ｂ）は本発明による不動態化処理を説明するための図である。
感光層が形成したままの状態のアルミ円筒状基体１を、帯電電位を制御可能とするグリッドを有したスコロトロン方式コロナ帯電器８で−８００〜−１２００Ｖに帯電させて、その機能分離型有機系感光体の感光波長領域の光を光照射器９で照射し、感光体表面１０に負帯電している帯電電位を光減衰させて光電流１１を流し、その繰返しを行なえば、アルミ円筒状基体１の光照射面１２には機能分離型有機系感光体層１３を固体電解質として１０〜３０μＡの電流が繰返し減衰しながら流れることとなるため、不動態化を起こし陽極酸化されて膜厚１０〜１００ｎｍの酸化皮膜１４が形成されるようになる。
【００２９】
また、不良品となった感光体を、逆浸透膜を通した導電度１０〜１５μＳ／ｃｍの処理水で、７０〜１００℃の温水中に１０〜３０分浸漬処理すれば、機能分離型有機系感光体層が水分を吸湿した固体電解質となり、アルミ円筒状基体１の表面が陽極酸化不動態化を起こしやすくなって酸化皮膜の形成を容易にさせるようになる。
【００３０】
陽極酸化不動態化を起こし、酸化皮膜が形成された機能分離型有機系感光体を、Ｎメチルピロリドン溶剤を用いて感光層を除去洗浄すれば、円筒状基体１の表面は擦り傷の発生のほとんどないアルミ円筒状基体として再生することができる。
【００３１】
図２は上記の陽極酸化不動態化処理をした機能分離型有機系感光体の除去洗浄に用いる装置の洗浄槽の構成例で、アルミ製円筒状基体上に形成された機能分離型有機系感光体１５の上部より４０〜６０℃に加熱したＮメチルピロリドン液１６が感光体表面を流下するように供給し、流下した液を外部タンクに回収し濾過循環させて洗浄する。
【００３２】
機能分離型有機系感光体１５の外周面及び軸方向にＮメチルピロリドン洗浄液耐性の分割された接触部材１７を、被洗浄物軸方向１８に自在に回動、又は、被洗浄物軸方向１８と円周方向１９に自在に回動するようにし、ねじりコイルばね２０により個々の接触部材１７を回動圧接させ、機能分離型有機系感光体１５又は接触部材１７のどちらか一方又は両方を回転、及び、機能分離型有機系感光体１５又は接触部材１７のどちらか一方を軸方向に移動させて感光体全層を除去洗浄するもので、接触部材１７が機能分離型有機系感光体１５表面に自在に接触して擦り洗浄され、接触部材１７の個々に洗浄力が働くため、効率良く機能分離型有機系感光体１５の熱硬化性下引き層をも除去洗浄することができ、陽極酸化不動態化処理をした機能分離型有機系感光体１５のアルミ円筒状基体は擦り傷の発生のない再生処理が可能となる。
【００３３】
図３は上記陽極酸化不動態化処理をした機能分離型有機系感光体の全層を除去洗浄するための実施構成図で、投入口２１より搬送チャックにクランプされた機能分離型有機系感光体２２は、Ｎメチルピロリドン洗浄液２３が上部循環液供給駒２４より流下する第一洗浄槽上２５に搬送され、感光体の外周面及び軸方向にＮメチルピロリドン耐性の分割された接触部材２６が回転する中へ下降される。
【００３４】
接触部材２６の軸方向分割数が感光体全長全面に至らない場合は、機能分離型有機系感光体２２を上昇下降させて全長範囲を繰り返し擦り、膨潤除去洗浄を行なう。接触部材２６の軸方向分割数を一段としたときの上昇下降サイクル数は５〜８サイクルを施せば熱硬化樹脂性下引き層２までの除去洗浄が５分以下の洗浄で可能である。
【００３５】
この洗浄方法では接触部材２６を４０〜１００ｒｐｍで回転させ、加熱されたＮメチルピロリドン液を３〜６Ｌ／毎分で供給して機能分離型有機系感光体２２の表面を流下させ、外部タンク２７に回収された液を５０〜１００μｍのフィルター２８で濾過し、再度、送液ポンプ２９で供給循環して洗浄液として使用する。
【００３６】
アルミ円筒状基体１上に形成された機能分離型有機系感光体層１３の全層を除去洗浄した後、循環するＮメチルピロリドン液の供給を停止させ、Ｎメチルピロリドン新液を新液タンク３０より１０〜５０μｍのフィルター３１で濾過して送液ポンプ３２で供給し、循環液供給駒２４の上部の新液供給駒３３より供給して酸化チタン微粒子の残留無きよう仕上洗浄する。
【００３７】
清浄なＮメチルピロリドン液に切り替えて仕上洗浄することで除去された感光層の酸化チタン微粒子等やの樹脂分の溶解残さから円筒状基体の表面の汚染と次洗浄液の汚染とが防止できる。
【００３８】
機能分離型有機系感光層の全層の除去洗浄と伴に洗浄下降端３４で、機能分離型有機系感光体２２の下端部内面をＮメチルピロリドン液耐性の回転接触する円形外巻きブラシ３５により内面の５〜１５ｍｍを洗浄しておけば、次洗浄液の汚染防止と感光層浸漬塗布ラインでの円筒状基体の下端部内面からの感光層塗液汚染を防止でき、感光体塗膜品質不良の増加を招かないものとすることができる。
【００３９】
機能分離型有機系感光体層を除去されたアルミ円筒状基体３６は、第二洗浄槽上３７に搬送され、Ｎメチルピロリドン洗浄液置換用低沸点洗浄液メタノール又はエタノール３８を円筒状基体の外周面とＮメチルピロリドン洗浄液耐性の回転接触する円形内巻きブラシ３９に循環液供給駒４０から流下させ、Ｎメチルピロリドン洗浄液の付着した円筒状基体３６を、円形内巻きブラシ３９内を下降させてＮメチルピロリドン洗浄液を置換洗浄する。
【００４０】
この洗浄方法では接触部材である円形内巻きブラシ３９を４０〜６０ｒｐｍで回転させ、２〜４Ｌ／毎分で加熱された置換用低沸点洗浄液３８を上部の循環液供給駒４０より供給してアルミ円筒状基体３６表面を流下させて洗浄する。外部タンク４１に回収されたメタノール又はエタノール液は１０〜５０μｍのフィルター４２で濾過し再度送液ポンプ４３で供給循環して再使用する。
【００４１】
アルミ円筒状基体３６に付着したＮメチルピロリドン液をメタノール又はエタノール液で置換洗浄した後、循環するメタノール又はエタノール液３８の供給を停止させ、メタノール又はエタノール洗浄液新液タンク４４より５〜１０μｍのフィルター４５で濾過し、送液ポンプ４６で供給し、新液供給駒４７より供給して仕上洗浄する。清浄なメタノール又はエタノール液に切り替えて洗浄することで円筒状基体３６を速乾させ、アルミ円筒状基体３６の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染がより防止できる。
【００４２】
また、洗浄下降端４８では、円筒状基体の下端部内径をＮメチルピロリド液耐性の回転接触する円形外巻きブラシ４９により内面下端の５〜２０ｍｍを置換洗浄する、この際に小型の貯液槽５０を設けて下端をＮメチルピロリド液置換用洗浄液メタノール又はエタノール液に浸漬して行なうと効率よく置換洗浄でき、次工程の洗浄液の汚染防止と感光層塗布ラインでの円筒状基体３６下端内面からの塗液汚染が防止でき感光体塗膜品質の安定がより図れる。
【００４３】
循環使用されるＮメチルピロリドン洗浄液２３は機能分離型有機系感光体の処理本数が所定本数に達したら真空蒸留器５１で蒸留し、新液タンク３０に貯液して循環再使用する。同じく、置換用低沸点洗浄液メタノール又はエタノール液も機能分離型有機系感光体の処理本数が所定本数に達したら蒸留器５２で蒸留し、新液タンク４４に貯液して循環再使用する。
【００４４】
この再生方法と洗浄装置を使用することにより感光層塗布工程で塗膜不良となった熱硬化性樹脂を使用して除去し難い機能分離型有機系感光体でも擦り傷の発生無くアルミ円筒状基体を効率よく再生することが可能となる。
【００４５】
また、再生されたアルミ円筒状基体に熱硬化性樹脂のアルキド樹脂とメラミン樹脂をバインダーとして０．４μｍ以下の酸化チタン微粒子を含む下引き層３〜５μｍ、ブチラール樹脂をバインダーとする電荷発生層０．１〜０．３μｍ、ポリカーボネート樹脂をバインダーとする電荷輸送層２５〜３０μｍの機能分離型有機系感光体を形成し、感光体電気特性測定装置で負帯電電位８００〜８５０Ｖを印加し、光減衰特性を再生処理なし機能分離型有機系感光体と比較測定したが、再生処理なし機能分離型有機系感光体での残留電位の上昇は５０Ｖ以下であって、再生処理により酸化皮膜厚さ１０〜１００ｎｍ範囲の機能分離型有機系感光体の残留電位上昇は１００Ｖ以下であり、地肌電位を１００Ｖに設定すれば画像形成装置での地汚れ画像とは成らない範囲であって、オゾン発生量低減及び、電源装置のコスト抑制等の目的から、必要な帯電電位の付与に無理の無いスコロトロン帯電器を用いない接触式ローラー帯電器や近接式帯電器のような１〜３ＫＶ電位での帯電電位付与方式の帯電に対しては陽極酸化不動態化することで帯電電位の局所的な微小部の電位リークを起こさず、白ポチ等の画像の発生し難い機能分離型有機系感光体となる。
【００４６】
【発明の効果】
以上のように、請求項１の再生方法によれば、塗布工程で塗膜外観の不良となった機能分離型有機系感光体に帯電、除電処理を繰返し与えると、アルミ円筒状基体表面は不動態化して酸化皮膜が形成され、この酸化皮膜は基材より硬化するため、ブラシなど接触部材による感光層の除去洗浄装置を使用しても擦り傷の発生し難い表面を持つアルミ円筒状基体を得ることができる。また、この基体を用いて機能分離型有機系感光体を形成すると不動態化されて形成した酸化皮膜が帯電時の電位に対してバリヤー層となり、帯電電位の微小部分でのリークを抑制するため、黒ポチ等の微小画像欠陥の発生を抑制することができる。
【００４７】
請求項２の再生方法によれば、上記塗膜不良となった機能分離型有機系感光体を７０〜１００℃の熱水中に浸漬処理することから、基体表面と接触する感光体層が吸湿して水分が増加し、これに帯電、除電処理を繰返し与えると、基体表面が不動態化し易くなって酸化皮膜を容易に形成することができる。
【００４８】
請求項３の再生方法によれば、上記不動態化処理により形成される酸化皮膜の厚さは１０〜１００ｎｍであることから、基体再生後の機能分離型有機系感光体の光照射後残留電位は２００Ｖ以下が得られ、画像形成に支障がない。また、感光体層の除去洗浄装置に投入して基体再生を行なっても、該酸化皮膜の厚さは維持でき、擦り傷の発生し難い基体表面が得られる。
【００４９】
請求項４の再生方法によれば、上記帯電処理は負帯電電位を与えることから、基体が陽極化し不動態化されて酸化皮膜を形成することができ、しかも基体より硬い酸化皮膜が得られる。
【００５０】
請求項５の再生方法によれば、上記負帯電電位の付与は−８００〜−１２００Ｖを与えることから、除電の際の光照射により基体に流れる総電流は１０μＡ以上となり、不動態化ができ、酸化皮膜が形成され易くなる。
【００５１】
請求項６の再生方法によれば、上記負帯電電位の付与は帯電電位をグリッド制御するスコロトロン方式の帯電器により行うことから、塗膜欠陥であっても帯電時表面電位のリークはし難く、アルミ表面の微小部分を焼損するような問題は起こさず陽極酸化不動態化ができる。
【００５２】
請求項７の再生方法によれば、上記熱水中での浸漬処理は、電気伝導率１０〜１５μＳ／ｃｍの逆浸透水を用いて行なうことから、感光層の形成されていないアルミ円筒状基体の内径表面は、熱水浸漬処理においてベーマイト化し難く、感光体本体のアース部となる内径表面の電気抵抗増加を引き起こすことが無く、画像形成時に感光体の残留電位増加等を引き起こすことが無くなる。
【００５３】
請求項８の再生方法によれば、上記除電処理は光照射により繰返し帯電電位を減衰させることにより行うことから、陽極化したアルミ基体表面に向かって電荷発生層で光励起したキャリアが繰返し流れ、アルミ基体表面が不動態化するのに必要な電流となって酸化皮膜が形成され、この酸化皮膜は基材より硬化するため、感光体層の除去洗浄装置に投入して基体再生を行なっても、擦り傷の発生し難い基体表面となる。
【００５４】
請求項９の再生方法によれば、上記規定の下引き層であることから、塗膜内に硫酸イオンや塩素イオンが含まれていない絶縁性塗膜であって、基体表面はこれらのイオンが含まれていないため不動態化がし易く、かつまた孔触欠陥の発生のない酸化皮膜を形成することができる。
【００５５】
請求項１０の再生方法によれば、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂と電荷輸送剤で形成される電荷輸送層及び、ポリビニルブチラール樹脂等の熱可塑性樹脂と電荷発生剤で形成される電荷発生層は、Ｎメチルピロリドン溶剤で容易に溶解除去され、アルキド樹脂とメラミン樹脂を焼成して形成される三次元架橋硬化反応された熱硬化性樹脂下引き層は、Ｎメチルピロリドン溶剤を使用すれば膨潤して除去洗浄が可能となり、感光体層除去洗浄後、メタノール又はエタノールを用い、Ｎメチルピロリドン溶剤を置換すれば容易に基体を乾燥仕上することができる。
【００５６】
請求項１１の再生方法によれば、下引き層が熱硬化性樹脂である機能分離型有機系感光体では感光層が溶解しても下引き層は容易に溶解しないため、感光層に溶解性があって、下引き層に膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドン溶剤を洗浄液として使用し、感光体上部より加熱された上記洗浄液を感光体周面に流下させながら供給し濾過循環させ、感光体外周面と軸方向に分割された接触部材を自在に接触するように回動させ、ばねにより個々の接触部材を回動圧接させて擦り洗浄すれば、接触部材の個々に洗浄力が働くため効率良く感光層を溶解させ、下引き層を膨潤溶解し除去洗浄することができる。
【００５７】
請求項１２の再生方法によれば、Ｎメチルピロリドン液は２０２℃と高沸点であって蒸発しにくいため、低沸点の置換用洗浄溶剤を用いてＮメチルピロリドン耐性の被洗浄物に自在に合芯する円形内巻きブラシ内に円筒状基体を通過させれば、基体全周面を容易に洗浄置換でき、低沸点の置換用洗浄剤はすばやく乾燥するため、基体表面への塵の付着が防止でき、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき、感光体塗膜品質不良の増加を招かず、また基体の表面粗さをほとんど変化させずに基体を再生することができる。
【００５８】
請求項１３の再生方法によれば、感光層を効率良く除去洗浄するためにＮメチルピロリドン溶剤の液温を４０〜６０℃に加熱して使用するため、ブラシ先端が変形して除去洗浄効果を低下させない合成樹脂材が必要であり、熱変形温度１００℃以上の合成樹脂材を選定すれば効率良く感光層の除去洗浄ができる。
【００５９】
請求項１４の再生方法によれば、熱変形温度１００℃以上の合成樹脂材はポリプロピレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、珪素樹脂、フッ素樹脂等があるが、使用温度が８０℃以下であって、Ｎメチルピロリドン溶剤に特に耐性があるポリプロピレンのブラシを使用すれば、擦り傷の発生がなく感光層を効率良く除去洗浄できて基体を再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は機能分離型有機系感光体の一例を示す断面図。（ｂ）は該断面図を利用した本発明の基体再生方法の説明図。
【図２】機能分離型有機系感光体の感光層の除去洗浄に用いる装置の洗浄槽の例を示す斜視図。
【図３】機能分離型有機系感光体の全層を除去洗浄するための実施構成図。
【符号の説明】
１  アルミ円筒状基体
２  下引き層
３  電荷発生層
４  電荷輸送層
５  基体最表面
６  下引き層最表面
７  電荷発生層最表面
８  コロナ帯電器
９  光照射器
１０  感光体表面
１１  光電流
１２  光照射面
１３  機能分離型有機系感光体層
１４  酸化皮膜
１５，２２  機能分離型有機系感光体
１６，２３  Ｎメチルピロリドン液
１７，２６  接触部材
１８  被洗浄物軸方向
１９  円周方向
２０  コイルばね
２７，４１  外部タンク
３０，４４  新液タンク
３４，４８  洗浄下降端
３５，４９  円形外巻きブラシ
３８  メタノールまたはエタノール
５０  貯液槽
５１，５２  蒸留器
【図１】
2004333863.tif 000003
【図２】
2004333863.tif 000004
【図３】
2004333863.tif 000005