(57)【要約】【課題】隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル及びその製造方法の提供。【解決手段】２枚の既に配光膜工程を完成した基板中の１枚の基板を選択し、その上に液晶との相互排斥特性を具えた複数のクローズ隔離壁構造を形成する。続いて基板上に閉じたシーラントを形成し、このシーラントは基板の外側辺縁と該隔離壁構造の間に配置する。続いて２枚の基板を組み合わせて液晶を隔離壁構造内に制限し、該液晶をシーラントより隔離する。【選択図】        図５
2004333806.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルギャップを以て一体に組み合わされて一体とされ、内側表面に既に配向膜が形成された二つの基板と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置する隔離壁構造と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置すると共に該二つの基板の外側辺縁と該隔離壁構造の間に位置するシーラントと、
該隔離壁構造の間に位置し、該隔離壁構造との間で相互排斥効果を発生する液晶材料と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル。
【請求項２】
前記隔離壁構造の材料がアクリル樹脂とされたことを特徴とする、請求項１記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル。
【請求項３】
前記隔離壁構造の材料のアクリル樹脂がエポキシ樹脂とされたことを特徴とする、請求項２記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル。
【請求項４】
前記隔離壁構造が閉じた形状の複数の隔離壁で形成されたことを特徴とする、請求項１記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル。
【請求項５】
配向膜工程を完成し並びに洗浄された二つの基板を提供する工程と、
そのうち一つの基板に一層のホトレジストを設ける工程と、
該ホトレジスト層に対して露光と現像を行ない、基板の上に閉じた形状の隔離壁構造を形成する工程と、
隔離壁を硬化させる工程と、
そのうちの一枚の基板にシーラント材料の塗布を行ない、該シーラント材料の位置は基板の外周辺縁と硬化済みの隔離壁構造の間とする工程と、
設定された液晶滴下量を直接隔離壁構造中に滴下する液晶滴下工程と、
減圧室中で、二つの基板のシーラント材料をアライメントさせ並びに接着させて一体となしてＬＣＤパネルを形成する、二つの基板のアライメントと圧着の工程と、
該シーラント材料を硬化させる工程と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記隔離壁構造を閉じた形状の複数の隔離壁で形成したことを特徴とする、請求項５記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記隔離壁構造の材料をエポキシ樹脂としたことを特徴とする、請求項５記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
セルギャップを以て一体に組み合わされて一体とされ、内側表面に既に配向膜が形成された二つの基板と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置する複数の隔離壁構造と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置すると共に該二つの基板の外側辺縁と該複数の隔離壁構造の最外側の隔離壁の間に位置するシーラントと、
該隔離壁構造の最内側の隔離壁の間に位置し、該複数の隔離壁構造との間で相互排斥効果を発生する液晶材料と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル。
【請求項９】
前記複数の隔離壁構造の材料がアクリル樹脂とされたことを特徴とする、請求項８記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記複数の隔離壁構造の材料のアクリル樹脂がエポキシ樹脂とされたことを特徴とする、請求項９記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネル。
【請求項１１】
配向膜工程を完成し並びに洗浄された二つの基板を提供する工程と、
そのうち一つの基板に一層のホトレジストを設ける工程と、
該ホトレジストに対する露光と現像を行ない、基板上面に閉じた形状の複数の隔離壁構造を形成する工程と、
隔離壁構造を硬化させる工程と、
そのうち一つの基板上の、基板の外側辺縁と該複数の隔離壁構造の最外側の隔離壁の間にシーラント材料を塗布する工程と、
設定された液晶滴下量を複数の隔離壁構造の内側の隔離壁の間に直接滴下する液晶滴下工程と、
減圧室中で、二つの基板のシーラント材料をアライメントさせ並びに接着させて一体となしてＬＣＤパネルを形成する、二つの基板のアライメントと圧着の工程と、
該シーラント材料を硬化させる工程と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記複数の隔離壁構造の材料のアクリル樹脂がエポキシ樹脂とされたことを特徴とする、請求項１１記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一種の液晶ディスプレイパネル（ＬＣＤパネル）中に使用される液晶滴下（Ｏｎｅ−Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ；ＯＤＦ）工程に係り、特に、液晶滴下工程中に液晶と相互に排斥する性質を有する隔離壁構造を配置した構造、及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶材料は流動する性質を有し、このため、非常に微小な力を外部より加えるだけで、液晶分子が運動し異なる配列状況を発生する。最も一般に見られるネマティック型液晶（Ｎｅｍａｔｉｃ  ｔｙｐｅ  ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ）を例に挙げると、それは電場作用により液晶分子の転向を形成し、液晶の光軸とその分子軸を一致させることにより光学効果を発生する。もし我々が液晶の配列方向をレイアウトしようとしても、液晶に加える電場が消失すると、液晶分子はそれ自身の弾性及び粘性により、十分迅速に元来の電場未印加の状態に回復する。
【０００３】
従来の液晶注入（ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ）技術は、ほとんどが液晶真空注入の工程を使用し、それは切断及び組合せ完成したＬＣＤパネルを真空の密封箱中に入れ、続いてベースにＬＣＤパネルを固定し、さらに下方の液晶を入れた液晶トレイより液晶を提供し、密封箱を減圧して真空となし、毛細管現象により液晶を完全にＬＣＤパネル中間に吸入させ、液晶注入の動作を完成する。
【０００４】
しかし、この真空で液晶を注入する工程は、極めて長い時間がかかり、セルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）が３．５μｍの１５インチのＬＣＤパネルの場合、真空液晶注入工程には４０時間近くがかかり、且つ液晶注入工程にかかる時間は、ＬＣＤパネルサイズの増加及びセルギャップの縮小により長くなり、これが工程上のネックとなった。
【０００５】
この工程上のネックを克服するため、現在、迅速に液晶を注入する工程として、液晶滴下法（Ｏｎｅ−Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ；ＯＤＦ）が発展し、この技術は未裁断の大サイズ基板上に、ＵＶシール（ＵＶ  ｓｅａｌ）を塗布（ｃｏａｔｉｎｇ）し、複数の略矩形構造の封鎖領域を形成し、その後、滴下装置を使用して液晶を滴下量を制御しつつ直接基板上に滴下し、これにより滴下した液晶をシールの形成する封鎖領域に制限して、液晶を基板外に溢出させない。続いて、基板を真空中に置いてもう一つの基板と貼り合わせ、並びに貼り合わせ完成後にシールの圧縮と紫外線照射による硬化の工程を進行し、その後、さらにセルの切り分けと封止を行ない、以上でセル工程を完成する。この液晶滴下の工程をセルギャップ３．５μｍの１５インチＬＣＤパネルに使用すると、その工程に必要な時間は１．５時間までに短縮でき、且つ液晶滴下工程時間とＬＣＤパネルのセルギャップの大きさは関係がない。これにより液晶滴下技術は工程を簡易化し、工程時間を短縮し、工程を単純化でき（則ちセルギャップサイズと無関係である）、液晶溢出による浪費を減少し、液晶注入が不完全な時に発生する気泡を減らせる等の長所がある。
【０００６】
図１（非特許文献１より抜粋）に示されるように、液晶滴下技術は前述の長所を有しているが、液晶４を直接基板１ａ或いは１ｂに滴下する前に、基板１ａ或いは１ｂに高粘稠度のシーラント３（ｓｅａｌａｎｔ）を塗布し、液晶４を封止すると共にＬＣＤパネル組合せ時の接着剤となす必要があり、また、シーラント３はパネル組合せ完成後に、紫外線６０を照射しなければ完全に硬化させられない。これにより、液晶４を液晶滴下法で基板１ａ或いは１ｂ上に滴下する時、液晶４は未硬化（ｕｎｃｕｒｅｄ）のシーラント３と接触し、このためシーラント３中のエポキシ樹脂（Ｅｐｏｘｙ  Ｒｅｓｉｎ）分子が液晶４内に拡散して、液晶４が汚染（ｃｏｎｔａｍｉｎａｔｅｄ）され並びに欠陥（ｄａｍａｇｅ）を発生しうる。特に、紫外線６０照射による硬化の工程で、紫外線６０がシーラント３と接触する一部の液晶４にも照射されるため、液晶４の汚染状況が更に厳重となりうる。この欠陥は液晶４の配向上の欠陥を形成して、ＬＣＤパネルの画像品質（Ｉｍａｇｅ  Ｑｕａｌｉｔｙ）を低下させるほか、液晶の電圧保留の減衰（ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｖｏｌｔａｇｅ  ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ）を発生して画像のちらつき（ｆｌｉｃｋｅｒ）等の現象を形成しうる。
【０００７】
ＬＣＤパネルの製造工程中で未硬化のエポキシ樹脂材料の形成する接着帯（ａｄｈｅｓｉｖｅ  ｆｉｌｌｅｔ）による液晶４の汚染、即ちシーラントの分子の液晶内への拡散による汚染を防止するため、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｂｕｓｉｎｅｓｓ  Ｍａｃｈｉｎｅ（ＩＢＭ）社はすでにバリア帯２（Ｂａｒｒｉｅｒ  Ｆｉｌｌｅｔ）を使用した技術を開発しており、それは図２に示されるようである。この技術は、バリア帯２を粘着帯と液晶４の間に配置して、液晶４と未硬化のシーラント２ａｂを隔離して接触を防止するのに用い、これにより液晶４が未硬化のエポキシ樹脂により汚染されるのを防止する、というものである。以上の説明については、特許文献１を参照されたい。このＩＢＭ社の特許中に記載のバリア帯２は、それに使用される材料が、圧縮性を具えた材料（ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ  ｍａｔｅｒｉａｌ）、例えば、すでに硬化完成したシリコンエラストマー（ｓｉｌｉｃｏｎ  ｅｌａｓｔｏｍｅｒ）とされる。しかし、この工程は、新しい材料のコストと製造にかかる工程数を増加するほか、紫外線照射によるシーラント硬化の工程中で紫外線を遮蔽することができず、ゆえに紫外線が液晶に直接照射され、液晶の配向に欠陥を発生させるという問題がある。
【０００８】
【特許文献１】
米国特許第００６，２１９，１２６号明細書
【非特許文献１】
１３５０−ＳＩＤ  ０１  ＤＩＧＥＳＴ  ５６．２／Ｓ．Ｙａｍａｄａ
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ＬＣＤパネル製造工程中の未硬化のシーラントによる液晶の汚染を防止し、液晶滴下技術により、ＬＣＤパネル製造工程を簡易化し、工程時間を減らし、工程を単純化し、液晶溢出を減らし、及び液晶注入不完全時に発生する気泡を減少する、という長所を完全に現出させるため、本発明は、ＬＣＤパネル内の液晶とシーラントの間に隔離壁（ｓｅｐａｒａｔｉｎｇ  ｗａｌｌ）の構造を加え、該隔離壁の材料の特性及び製造方法を利用し、液晶と未硬化のシーラントを完全に不接触とするほか、隔離壁の構造上の配置を利用し、紫外線の液晶に対する直接照射を防止する。これにより、本発明の主要な目的の一つは、一種の、液晶と相互に排斥する性質を有する隔離壁の配置構造とその製造方法を提供することにあり、それは、隔離壁をＬＣＤパネル中の液晶とシーラントの間に配置して、液晶とシーラントを隔離して接触防止し、これにより液晶の汚染を防止する構造、及びその製造方法であるものとする。
【００１０】
本発明のもう一つの主要な目的は、この隔離壁構造の配置を利用し、熱硬化シーラントの製造方法を提供し、これにより熱工程（ｔｈｅｒｍａｌ）を使用してシーラントを硬化させ、この熱工程製造方法により生産量を増すほか、紫外線による硬化が液晶に対して及ぼす影響を排除できるようにすることにある。
【００１１】
本発明のさらに一つの主要な目的は、隔離壁の構造を利用し、さらにマスク（ｍａｓｋ）とレイアウト（ｌａｙｏｕｔ）を組み合わせることにより紫外線を遮蔽し、紫外線をシーラントに照射して硬化（ｃｕｒｉｎｇ）を実行する時、液晶が影響を受けるのを防止することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、セルギャップを以て一体に組み合わされて一体とされ、内側表面に既に配向膜が形成された二つの基板と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置する隔離壁構造と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置すると共に該二つの基板の外側辺縁と該隔離壁構造の間に位置するシーラントと、
該隔離壁構造の間に位置し、該隔離壁構造との間で相互排斥効果を発生する液晶材料と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルとしている。
請求項２の発明は、前記隔離壁構造の材料がアクリル樹脂とされたことを特徴とする、請求項１記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルとしている。
請求項３の発明は、前記隔離壁構造の材料のアクリル樹脂がエポキシ樹脂とされたことを特徴とする、請求項２記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルとしている。
請求項４の発明は、前記隔離壁構造が閉じた形状の複数の隔離壁で形成されたことを特徴とする、請求項１記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルとしている。
請求項５の発明は、配向膜工程を完成し並びに洗浄された二つの基板を提供する工程と、
そのうち一つの基板に一層のホトレジストを設ける工程と、
該ホトレジスト層に対して露光と現像を行ない、基板の上に閉じた形状の隔離壁構造を形成する工程と、
隔離壁を硬化させる工程と、
そのうちの一枚の基板にシーラント材料の塗布を行ない、該シーラント材料の位置は基板の外周辺縁と硬化済みの隔離壁構造の間とする工程と、
設定された液晶滴下量を直接隔離壁構造中に滴下する液晶滴下工程と、
減圧室中で、二つの基板のシーラント材料をアライメントさせ並びに接着させて一体となしてＬＣＤパネルを形成する、二つの基板のアライメントと圧着の工程と、
該シーラント材料を硬化させる工程と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項６の発明は、前記隔離壁構造を閉じた形状の複数の隔離壁で形成したことを特徴とする、請求項５記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項７の発明は、前記隔離壁構造の材料をエポキシ樹脂としたことを特徴とする、請求項５記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項８の発明は、セルギャップを以て一体に組み合わされて一体とされ、内側表面に既に配向膜が形成された二つの基板と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置する複数の隔離壁構造と、
閉じた形状とされて該二つの基板の内側表面の間に位置すると共に該二つの基板の外側辺縁と該複数の隔離壁構造の最外側の隔離壁の間に位置するシーラントと、
該隔離壁構造の最内側の隔離壁の間に位置し、該複数の隔離壁構造との間で相互排斥効果を発生する液晶材料と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルとしている。
請求項９の発明は、前記複数の隔離壁構造の材料がアクリル樹脂とされたことを特徴とする、請求項８記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルとしている。
請求項１０の発明は、前記複数の隔離壁構造の材料のアクリル樹脂がエポキシ樹脂とされたことを特徴とする、請求項９記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルとしている。
請求項１１の発明は、配向膜工程を完成し並びに洗浄された二つの基板を提供する工程と、
そのうち一つの基板に一層のホトレジストを設ける工程と、
該ホトレジストに対する露光と現像を行ない、基板上面に閉じた形状の複数の隔離壁構造を形成する工程と、
隔離壁構造を硬化させる工程と、
そのうち一つの基板上の、基板の外側辺縁と該複数の隔離壁構造の最外側の隔離壁の間にシーラント材料を塗布する工程と、
設定された液晶滴下量を複数の隔離壁構造の内側の隔離壁の間に直接滴下する液晶滴下工程と、
減圧室中で、二つの基板のシーラント材料をアライメントさせ並びに接着させて一体となしてＬＣＤパネルを形成する、二つの基板のアライメントと圧着の工程と、
該シーラント材料を硬化させる工程と、
を具えたことを特徴とする、隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項１２の発明は、前記複数の隔離壁構造の材料のアクリル樹脂がエポキシ樹脂とされたことを特徴とする、請求項１１記載の隔離壁構造を具えた液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明は一種の隔離壁構造を具えたＬＣＤパネルを提供する。それは、内側表面に配向膜の製作が既に完成し、ギャップを保持するように相互に組み合わされた二つの基板と、該二つの基板の内側表面の間に位置し、閉じた形状を具えた隔離壁構造と、閉じた形状を有して二つの基板の内側表面の間に位置し、且つ二つの基板の外側辺縁と隔離壁構造の間に位置するシーラントと、最も内側の隔離壁構造の間に位置し、隔離壁との間に相互排斥効果を発生する液晶材料と、を具えている。
【００１４】
本発明は一種の、隔離壁構造を具えたＬＣＤパネルの製造方法を提供する。それは、すでに配向膜工程を完成し並びに洗浄された二つの基板を提供する工程と、そのうち一つの基板を選択し、選択した基板に一層のホトレジストを設ける工程と、露光と現像を行ない、並びに基板上面に閉じた形状の隔離壁構造を形成する工程と、一枚の基板にシーラントの塗布を行ない、該シーラントの位置は基板の外周辺縁と硬化済みの隔離壁構造の間とする工程と、設定された液晶滴下量を直接隔離壁構造中に滴下する液晶滴下工程と、二片の該基板を減圧室中に移送し、組合せと圧縮を行ない、二つの基板をシーラントで接着して一体となしてＬＣＤパネルを形成する工程と、最後に紫外線をシーラントに照射し、シーラントを完全に硬化させる工程と、からなる。
【００１５】
本発明はさらに一種の隔離壁構造を具えたＬＣＤパネルの製造方法を提供する。それは、すでに配向膜工程を完成し並びに洗浄された二つの基板を提供する工程と、そのうち一つの基板を選択し、選択した基板に一層のホトレジストを設ける工程と、露光と現像を行ない、並びに基板上面に閉じた形状の隔離壁構造を形成する工程と、隔離壁構造を硬化させる工程と、一つの基板上の基板の外周辺縁と硬化済みの隔離壁構造の間の位置に熱硬化樹脂を塗布する工程と、設定された液晶滴下量を直接隔離壁構造中に滴下する液晶滴下工程と、二片の該基板を減圧室中に移送し、組合せと圧縮を行ない、二つの基板を熱硬化樹脂で接着して一体となしてＬＣＤパネルを形成する工程と、最後にＬＣＤパネルを炉中に置きベークして熱硬化樹脂を完全に硬化させる工程と、からなる。
【００１６】
【実施例】
以下の本発明の実施方式について詳細に説明する。以下の説明中、ＬＣＤパネル工程と構造に係る記載は製造の完全なフローを含んでいない。本発明の使用する現存の技術は、ここでは重点式の引用にとどめ、本発明の説明を補助するものである。且つ以下の説明中、関係する図面は実際の比率により描かれているのではなく、その作用は本発明の構造の特徴を表現することのみにある。
【００１７】
図３から図６は本発明の実施方式を詳細に説明し並びに好ましい実施例を説明するものである。
【００１８】
図３は本発明の構造の断面表示図である。まず、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、カラーフィルタ（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）及び配光膜工程（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｐｒｏｃｅｓｓ）を終えた二つの基板のうち一方、例えば基板１０に、液晶４０と相互に排斥する特性を具えた閉じた矩形の隔離壁２０を形成する。そのうち、隔離壁２０と液晶４０の相互排斥の特性は、図４に示される要求に符合するものとし、即ち、液晶４０と隔離壁２０の材質上の接触角度θは必ず１０度より大きくし、それにより隔離壁２０の液晶４０との相互排斥の特性を確保する。
【００１９】
図４の測定方式は、まず特定の材料、例えばアクリル材料（ＰＭＭＡ）をダミーウエハ（ｄｕｍｍｙ  ｗａｆｅｒ）の上に塗布し、ベーク硬化後、測定したい液晶材料をＰＭＭＡ材料の上に滴下し、その後、測定機器で測定し、その結果が、「測定する液晶４０のＰＭＭＡ材料上にあっての接触角度θが１０度より大きい規格」に符合するようにする。この規格の目的は、液晶４０が正常な滴下の状況で、張力により隔離壁２０に沿って盛り上がり並びに隔離壁２０を乗り越えることにより、液晶４０の量が減り充填が不完全となるのを防止することにある。このほか、液晶４０の滴下工程時に、滴下位置の偏差により液晶４０が隔離壁２０の中間位置に滴下不能となる時に、この相互排斥の特性により、液晶４０が適当な位置に停留するようにする。
【００２０】
続いて図３を参照されたい。液晶滴下の工程を行う時、液晶４０の滴下量が多過ぎる時に、液晶４０が隔離壁２０に沿って盛り上がり隔離壁２０を超えて溢れるのを防止するため、隔離壁２０の幅は５μｍより大きく設ける。また、複数の隔離壁２０の形成する隔離壁構造は、その構造間の距離を、製品の要求及び製造設備により異なる配置となしうる。このほか、隔離壁構造の高さはＬＣＤパネル１００の間のセルギャップｇ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）より大きくなければならず、これによりＴＦＴ及びカラーフィルタを設けた二つの基板１０、１１を組み合わせる時に、液晶４０を隔離壁２０の領域内に密封することができる。
【００２１】
続いて、基板１０の外側辺縁と隔離壁２０の間に、閉じた矩形のシーラント３０を形成する。このシーラント３０は隔離壁２０を囲み、且つ両者の間の距離は好ましくは約５ｍｍとする。この距離は、複数の隔離壁構造を形成するのに必要な空間であり、このほか、この距離はさらに、ＬＣＤパネル１００を組合せ及び圧縮する工程にあって、隔離壁２０とシーラント３０の延伸する空間とされ、並びに紫外線をシーラントに照射する硬化工程を行う時、紫外線を遮蔽する干渉区とされる。
【００２２】
図５は隔離壁２０構造を具え並びに既に組合せを完成したＬＣＤパネル１００の断面図である。その製造工程は以下のとおりである。
【００２３】
まず、すでに配向膜工程（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｐｒｏｃｅｓｓ）を完成し並びに洗浄（ｃｌｅａｎｉｎｇ）した二つの基板を提供する。その後、そのうちの一つの基板、例えば基板１０を選択し、その上に一層のアクリル材料（ＰＭＭＡ）ホトレジストを塗布し、さらに露光（ｅｘｐｏｓｉｎｇ）と現像（ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）工程の後、基板１０の上面に閉じた形状の隔離壁２０を形成する。その後、さらにこの基板１０を炉に送り、硬化（ｐｏｓｔ  ｃｕｒｉｎｇ）を行ない、アクリル材料のホトレジストを硬化させる。このアクリル材料のホトレジストは硬化後に液晶４０を排斥する性質を具備する。続いて、基板１０にシーラント３の塗布（ｃｏａｔｉｎｇ）を行ない、それはノズルで高粘稠度のアクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、例えばエポキシ樹脂で、規定の形状と位置により、基板１０の外周辺縁上にあって閉じたシーラント３０を形成する。このシーラント３０の位置は基板１０の外縁とすでに硬化した隔離壁２０の間とし、そのうち、未硬化のアクリル樹脂のシーラント３０と既に硬化した隔離壁２０の間の好ましい距離として、約５ｍｍを保持するものとする。続いて、液晶滴下（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ；ＯＤＦ）の工程を行ない、既に設定された液晶滴下量を、ノズルで直接隔離壁２０内に滴下させる。その後、二つの基板を減圧室（ｖａｃｕｕｍｃｈａｍｂｅｒ）中に移し、組合せ（ａｓｓｅｍｂｌｙ）と圧縮（ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｎｇ）の工程を行ない、基板１０及び１１をアライメントさせ並びにシーラントで接着して一体となし、ＬＣＤパネル１００を形成する。続いて、ＬＣＤパネル１００を減圧室より送出し並びに紫外線６０でシーラント３０を硬化させる工程を行ない、シーラント３０の硬化を完成する。シーラント３０と隔離壁２０の間には十分な空間距離が保留されているため、紫外線６０マスク５０を経過して硬化照射される時、液晶４０に照射されず、これにより液晶４０の品質を確保できる。これについては図６を参照されたい。
【００２４】
上述のシーラント３０塗布の工程中、当然、シーラント３０を基板１１に塗布することを選択できるが、但し、その位置は基板１０への塗布位置と同じとされる。このほか、基板１１に隔離壁２０を形成した後に、前述の工程によりＬＣＤパネル１００を形成することも可能である。
【００２５】
続いて本発明の第１の好ましい実施例の製造方法について説明する。
図５に示されるように、すでに配光膜工程（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｐｒｏｃｅｓｓ）を完成し並びに洗浄（ｃｌｅａｎｉｎｇ）した二つの基板を提供する。その後、そのうちの一つの基板、例えば基板１０を選択し、その上に一層のアクリル材料（ＰＭＭＡ）のホトレジストを塗布し、さらに露光（ｅｘｐｏｓｉｎｇ）と現像（ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）工程の後、基板１０の上面に閉じた形状の隔離壁２０を形成する。その後、さらにこの基板１０を炉に送り、硬化（ｐｏｓｔｃｕｒｉｎｇ）を行ない、アクリル材料のホトレジストを硬化させる。このアクリル材料のホトレジストは硬化後に液晶４０を排斥する性質を具備する。続いて、基板１０にシーラント３の塗布（ｃｏａｔｉｎｇ）を行ない、ノズルで高粘稠度のアクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、例えばエポキシ樹脂で、規定の形状と位置により、基板１０の外周辺縁上にあって閉じたシーラント３０を形成する。このシーラント３０の位置は基板１０の外縁とすでに硬化した隔離壁２０の間とし、そのうち、未硬化のアクリル樹脂のシーラント３０と既に硬化した隔離壁２０の間の好ましい距離として、約５ｍｍを保持するものとする。続いて、液晶滴下（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ；ＯＤＦ）の工程を行ない、既に設定された液晶滴下量を、ノズルで直接隔離壁２０内に滴下させる。その後、二つの基板を減圧室（ｖａｃｕｕｍ  ｃｈａｍｂｅｒ）中に移し、組合せ（ａｓｓｅｍｂｌｙ）と圧縮（ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｎｇ）の工程を行ない、基板１０及び１１をアライメントさせ並びにシーラントで接着して一体となし、ＬＣＤパネル１００を形成する。続いて、ＬＣＤパネル１００を減圧室より送出し並びに紫外線６０でシーラント３０を硬化させる工程を行ない、シーラント３０の硬化を完成する。シーラント３０と隔離壁２０の間には十分な空間距離が保留されているため、紫外線６０マスク５０を経過して硬化照射される時、液晶４０に照射されず、これにより液晶４０の品質を確保できる。これについては図６を参照されたい。
【００２６】
上述のシーラント３０塗布の工程中、当然、シーラント３０を基板１１に塗布することを選択できるが、但し、その位置は基板１０への塗布位置と同じとされる。このほか、基板１１に隔離壁２０を形成した後に、前述の工程によりＬＣＤパネル１００を形成することも可能である。
【００２７】
続いて本発明の第１実施例の製造方法について説明する。
図５に示されるように、先ず、配光膜工程（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｐｒｏｃｅｓｓ）を完成し並びに洗浄（ｃｌｅａｎｉｎｇ）した二つの基板１０、１１を提供する。その後、そのうちの一つの基板、例えば基板１０を選択し、その上に一層のアクリル材料（ＰＭＭＡ）のホトレジストを塗布し、さらに露光（ｅｘｐｏｓｉｎｇ）と現像（ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）工程の後、基板１０の上面に閉じた形状の隔離壁２０を形成する。各隔離壁２０の幅はいずれも５μｍとし、各隔離壁２０間の距離は照射する紫外線６０の波長により適当な設計を行うが、一般には、その距離は５から５０μｍの間で変化可能である。その後、さらにこの基板１０を炉に送り、硬化（ｐｏｓｔ  ｃｕｒｉｎｇ）を行ない、アクリル材料のホトレジストを硬化させる。続いて、基板１０にシーラント３の塗布（ｃｏａｔｉｎｇ）を行ない、ノズルを利用して高粘稠度のアクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、例えばエポキシ樹脂で、規定の形状と位置により、基板１０の外周辺縁上にあって閉じたシーラント３０を形成する。このシーラント３０の位置は基板１０の外縁とすでに硬化した隔離壁２０の間とし、そのうち、未硬化のアクリル樹脂のシーラント３０と既に硬化した隔離壁２０の間の好ましい距離として、約５ｍｍを保持するものとする。続いて、液晶滴下（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ；ＯＤＦ）の工程を行ない、既に設定された液晶滴下量を、ノズルで直接隔離壁２０内に滴下させる。その後、二つの基板を減圧室（ｖａｃｕｕｍ  ｃｈａｍｂｅｒ）中に移し、組合せ（ａｓｓｅｍｂｌｙ）と圧縮（ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｎｇ）の工程を行ない、基板１０及び１１をアライメントさせ並びにシーラントで接着して一体となし、ＬＣＤパネル１００を形成する。続いて、ＬＣＤパネル１００を減圧室より送出し並びに紫外線６０でシーラント３０を硬化させる工程を行ない、シーラント３０の硬化を完成する。
【００２８】
上述のシーラント３０の塗布過程で、シーラント３０を基板１１に塗布することも選択できるが、その対応位置は、基板１０に塗布した位置と同じとする。このほか、基板１１を選択して隔離壁２０を形成し、その後、前述の工程によりＬＣＤパネル１００を形成することもできる。
【００２９】
本発明の第２実施例は、図５に示される構造であり、それは、前述の第１実施例中で複数の隔離壁２０の工程と硬化の工程を完成した後に、隔離壁２０により液晶を完全に隔離する。これによりシーラント材料として、液晶との排斥作用を有する熱硬化樹脂をアクリル樹脂の代わりに選択使用できる。この熱硬化樹脂はエポキシ樹脂とされうる。熱硬化樹脂の工程は、上述の実施例と同様に、ノズルを使用して、規定の形状と位置により、基板１０の外周辺縁に、熱硬化樹脂で形成した閉じたシーラント３０を形成し、このシーラント３０は基板１０の外縁と既に硬化し隔離壁２０の間に位置するものとする。そのうち、未硬化の熱硬化樹脂の形成するシーラント３０と既に硬化し隔離壁２０の間の距離は５ｍｍを保持するものとする。続いて、液晶滴下（ＯＤＦ）の工程により、設定した液晶滴下量を、ノズルで直接隔離壁２０内に滴下させる。その後、二つの基板を減圧室中に移動し、組合せと圧縮の工程を行ない、基板１０及び１１をアライメントさせ並びに熱硬化樹脂で接着して一体となし、こうしてＬＣＤパネル１００を形成する。最後に、ＬＣＤパネル１００を炉（ｆｕｒｎａｃｅ）に送り熱硬化樹脂を硬化させ、ＬＣＤパネル１００の工程を完成する。本実施例は、紫外線照射工程を必要としないため、液晶４０の品質を確保しＬＣＤパネル１００の信頼度を高めることができるほか、マスクと紫外線露光機のコストを節約できる長所を有する。
【００３０】
上述の熱硬化樹脂（シーラント３０）塗布の工程中、熱硬化樹脂を基板１１に塗布することを選択できるが、但し、その位置は基板１０への塗布位置と同じとされる。このほか、基板１１に隔離壁２０を形成した後に、前述の工程によりＬＣＤパネル１００を形成することも可能である。
【００３１】
【発明の効果】
総合すると、本発明の提供する液晶と相互に排斥する性質を有する隔離壁の配置構造及びその製造方法は、液晶とシーラントの接触を隔離するのに用いられ、液晶の汚染を防止する。また、この隔離壁の構造を利用し、さらにマスクのレイアウトを組み合わせることでさらに紫外線を遮蔽し、紫外線照射時に、液晶に対して不良な影響を形成するのを防止することができる。このほか、本発明は更に熱硬化樹脂を使用してシーラントを形成する製造方法も提供し、それは熱工程を使用してシーラントを硬化させ、生産量を増加するほか、紫外線照射が液晶に対して形成する影響を排除することができ、これも大幅にＬＣＤパネルの製造工程の信頼度を高めることができる。
以上は本発明の好ましい実施例の説明であって、本発明の実施範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【図１】周知の技術の、紫外線照射によりシーラントを硬化させる工程表示図である。
【図２】図１の従来の技術の表示図である。
【図３】本発明の構造断面図である。
【図４】本発明の液晶接触角定義の表示図である。
【図５】本発明のＬＣＤパネル製造工程完成後の構造表示図である。
【図６】本発明の紫外線照射工程時の表示図である。
【符号の説明】
θ  液晶接触角
ｇ  セルギャップ
１ａ、１ｂ  基板
２  バリア帯
１０、１１  基板
２０  隔離壁
２ａｂ、３、３０  シーラント
４、４０  液晶
５０    マスク
６０  紫外線
１００  ＬＣＤパネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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