(57)【要約】【課題】封体容器の加熱に伴って発生した微粉末による真空引き用配管系ヘの悪影響を有効に防止できる高圧ランプの製造装置を提供する。【解決手段】非酸化性雰囲気の作業容器（Ｇ）内で開口端部（５３ｂ）の溶着・閉塞が完了済みの封体容器（５１）を排気台（１）から取り外すに先だって、作業容器（Ｇ）内の非酸化性雰囲気と同種で、且つ作業容器（Ｇ）内の気圧よりも高く設定されている洗浄用ガス（Ａｒ２）を洗浄ガス供給配管（２１）から排気台（１）側に供給する。これにより、溶着時に発生した珪化物微粉末が排気台（１）から真空引き用メイン配管（１１）内に侵入するのを防止することができ、次の封体容器（５１）内の真空引き時におけるトラブル発生を防止できる。【選択図】　　　　図１
2004111267.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）　　内部が所定気圧の非酸化性雰囲気に設定されている作業容器と、
（ｂ）　　作業容器内に配置され、封体容器が取り付けられる排気台と、
（ｃ）　　排気台に取着された封体容器の開口端部を加熱して溶着・密封するための加熱手段と、
（ｄ）　　上流端が排気台に接続され、下流端が作業容器の外部まで引き出されると共に真空ポンプに接続された真空引き用メイン配管と、
（ｅ）　　真空引き用メイン配管に設けられた第１バルブと、
（ｆ）　　第１バルブ（１２）の下流側にて真空引き用メイン配管に設けられ、排気台に取着された封体容器内を高真空状態にする高真空ポンプと、
（ｇ）　　前記第１バルブの上流側にてメイン配管に接続され、排気台に取り付けられて真空状態に減圧されている封体容器に必要ガスを封体容器に供給する必要ガス供給配管とを備えた高圧ランプの製造装置であって、
（ｈ）　　作業容器内の非酸化性雰囲気と同種で且つ作業容器内気圧よりも高く設定されている洗浄用ガスを排気台側に供給する洗浄用ガス供給配管が第１バルブの上流側にて前記メイン配管に接続されている事を特徴とする高圧ランプの製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載の高圧ランプの製造装置において、
（ｉ）　　第１バルブと高真空ポンプとの間に第２バルブを設け、
（ｊ）　　作業容器内の非酸化性雰囲気と同種で且つ作業容器内気圧よりも高く設定されている補助洗浄用ガスを排気台側に供給する補助洗浄用ガス供給配管が第１バルブと第２バルブとの間にてメイン配管に接続されている事を特徴とする高圧ランプの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般照明や光学機器或いは車両などに用いられる高圧ランプの製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近、映像機器用、車両用、一般照明用を始めとするあらゆる分野でより特性の高いランプが要求されるようになってきた。特に、メタルハライドランプや超高圧水銀灯等の放電灯において前記要求が顕著である。具体的に言えば、ランプ効率（ルーメン／消費電力）、ランプ寿命、演色性、輝度の大幅な向上が要求されている。
【０００３】
このような高圧ランプにおけるランプ特性の改良を推し進めて行くための１つの方策として、製造環境雰囲気から発光管部内に混入する不純物の排除がある。即ち、高圧ランプの製造が全て大気中で行われると、製造環境雰囲気のいずれかから不純物が発光管部内に侵入し、これを排除することができない。この不純物は高圧ランプの黒化や失透などによる短寿命化或いはこれらの現象に起因する発光管部の破裂などを招く恐れがある。
【０００４】
そこで、このような不純物の発光管部内への混入を排除するため、電極マウントが挿入された封体容器の開口端部の溶着・閉塞作業をアルゴンガスのような不活性ガスで満たされたグローボックスのような作業容器内で行うような技術が採用されている。
【０００５】
作業容器を備えた高圧ランプ（Ｐ）の従来の製造装置（Ｘ）を図３に基づいて簡単に説明する。この高圧ランプ（Ｐ）の従来の製造装置（Ｘ）は、作業容器（Ｇ）と、作業容器（Ｇ）の両側に出入口（Ｇａ）〜（Ｇｂ’）が設置されているアンチチャンバ（Ｇ１）（Ｇ２）と、出入口（Ｈａ）によって作業容器（Ｇ）と接続されている真空加熱炉（Ｈ）とで構成されている。
【０００６】
作業容器（Ｇ）内には、石英ガラス製の封体容器（１０１）が取り付けられる排気ホルダ（２０１）を具備する排気台（２０２）と、その上流端が前記排気台（２０２）に接続され、その下流端が作業容器（Ｇ）の外部に引き出された真空引き用メイン配管（２０３）と、真空引き用メイン配管（２０３）に設けられた第１バルブ（２０４）と、封体容器（１０１）の加熱溶着用のプラズマバーナ（２１０）あるいはレーザ装置などが配備されており、作業容器（Ｇ）の外部に真空引き用メイン配管（２０３）の下流端に接続された真空ポンプ（２０５）と、第１バルブ（２０４）の下流側と真空ポンプ（２０５）との間に位置して真空引き用メイン配管（２０３）に設けられたターボモレキュラポンプ（２０６）と、第１バルブ（２０４）とターボモレキュラポンプ（２０６）との間にて真空引きメイン配管（２０３）に接続されたイオンゲージなどの真空計（２０７）などが配備されている。
【０００７】
更に、前記第１バルブ（２０４）の上流側に位置し、第１バルブ（２０４）と排気台（２０２）との間にて真空引き用メイン配管（２０３）に封体容器（１０１）内に必要封入ガス（Ｘｅ）である例えばキセノンガスなどを供給する必要ガス供給配管（２０８）の下流端が接続され、この必要ガス供給配管（２０８）に必要ガス供給バルブ（２０９）が設置されている。
【０００８】
この従来の製造装置（Ｘ）を使って高圧ランプ（Ｐ）を製作する場合の一例を説明すると、まず、従来の製造装置（Ｘ）の外部で高圧ランプ（Ｐ）の第１封止まで行い、第１封止以後の第２開口端部（１０３ｂ）の閉塞作業［後で詳述する。］を従来の製造装置（Ｘ）内で行う。以下、第１封止以後に行われる従来の製造装置（Ｘ）内の閉塞作業における問題点について説明する。
【０００９】
さて、メタルハライドなどの金属ハロゲン化物のペレット（１１７）や水銀粒（１１８）等の必要材料を第１封止された封体容器（１０１）に封入した後、封体容器（１０１）の他端側の第２封止管部（１０３ａ）内に第２電極マウント（１０６）を挿入し、然る後、図３に示すように第１封止された封体容器（１０１）の開口端部（１０３ｂ）を排気台（２０２）に装着し、第１バルブ（２０４）を開放して真空ポンプ（２０５）によりメイン配管（２０３）を介して封体容器（１０１）内を減圧して高真空状態にする。この高真空状態はターボモレキュラポンプのような高真空ポンプ（２０６）によって達成され、真空度は真空計（２０７）によって計測される。この高真空状態で第１バルブ（２０４）を閉成する一方、必要ガス供給バルブ（２０９）を開放し、必要ガス供給配管（２０８）を通してキセノンガスを始めとする各種の必要封入ガス（Ｘｅ）を封体容器（１０１）内に供給する。
【００１０】
必要ガスの供給が終わると必要ガス供給バルブ（２０９）が閉じられる。必要ガスが封入された封体容器（１０１）内の内圧及び前記封体容器（１０１）に連通している第１バルブ（２０４）の上流側の管内の内圧は、作業容器（Ｇ）の内圧より低い。続いて、この封体容器（１０１）の他方の開口端部（１０３ｂ）の封止部分を前記プラズマバーナ（２１０）により加熱して加熱部分を軟化させると、周囲気圧よりも低い内圧のため前記軟化部分が次第に収縮し、当該部分が溶着して閉塞することになる。
【００１１】
処で、上記封体容器（１０１）の開口端部（１０３ｂ）を加熱軟化させる時、当該部分を高温に加熱するため、当該加熱部分の、封体容器（１０１）の構成材である石英ガラスが分解して珪化物の微粉末が加熱部分の周囲に大量に発生し、排気台（２０２）の周辺の雰囲気中に漂っている。そして閉塞作業等を終えた封体容器（１０１）をそのまま排気台（２０２）から取り外すと、排気ホルダ（２０１）から第１バルブ（２０４）及び必要ガス供給バルブ（２０９）に至る配管（２０３）（２０８）内は作業容器（Ｇ）内の内圧より低いので、内外の差圧により前記珪化物の微粉末が浮遊している排気ホルダ（２０１）周囲の非酸化性（不活性）雰囲気ガス（Ａｒ１）を吸い込む。
【００１２】
この状態で、次の封体容器（１０１）を排気ホルダ（２０１）に取り付けて上記と同様、真空引きにより封体容器（１０１）内を減圧すると、吸い込まれて配管（２０３）（２０８）内に浮遊していた珪化物の微粉末がメイン配管（２０３）を通して下流側に引き出され、当該微粉末がターボモレキュラポンプのような高真空ポンプ（２０６）、或いは真空計（２０７）に侵入して次第に蓄積する。その結果、この蓄積された微粉末がこれらの機器の回転部分や可動部分の摩耗を招き、ターボモレキュラポンプのような高価な機器（２０７）や真空計（２０７）などの配管設置機器の短期間での交換を余儀なくさせられる事態となって多大な出費を強いられることになる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、封体容器の加熱に伴って発生した珪化物の微粉末による真空引き用配管系ヘの悪影響を有効に防止できる高圧ランプの製造装置を提供することを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１は高圧放電ランプの製造装置（第１実施例）に関し、
（ａ）　　内部が所定気圧の非酸化性雰囲気に設定されている作業容器（Ｇ）と、
（ｂ）　　作業容器（Ｇ）内に配置され、封体容器（５１）が取り付けられる排気台（１）と、
（ｃ）　　排気台（１）に取着された封体容器（５１）の開口端部（５３ｂ）を加熱して溶着・密封するための加熱手段（２）と、
（ｄ）　　上流端が排気台（１）に接続され、下流端が作業容器（Ｇ）の外部まで引き出されると共に真空ポンプ（４）に接続された真空引き用メイン配管（１１）と、
（ｅ）　　真空引き用メイン配管（１１）に設けられた第１バルブ（１２）と、
（ｆ）　　第１バルブ（１２）の下流側にて真空引き用メイン配管（１１）に設けられ、排気台（１）に取着された封体容器（５１）内を高真空状態にする高真空ポンプ（１３）と、
（ｇ）　　第１バルブ（１２）と高真空ポンプ（１３）との間にて真空引きメイン配管（１１）に接続された真空計（５）と、
（ｈ）　　前記第１バルブ（１２）の上流側にてメイン配管（１１）に接続され、排気台（１）に取り付けられて真空状態に減圧されている封体容器（５１）に必要封入ガス（Ｘｅ）を供給する洗浄ガス供給配管（２１）とを備えた高圧ランプの製造装置であって、
（ｉ）　　作業容器（Ｇ）内の非酸化性雰囲気ガス（Ａｒ１）と同種で且つ作業容器（Ｇ）内気圧よりも高く設定されている洗浄用ガス（Ａｒ２）を排気台（１）側に供給する洗浄用ガス供給配管（２３）が第１バルブ（１２）の上流側にて前記メイン配管（１１）に接続されている事を特徴とする」ものである。
【００１５】
この第１実施例の高圧ランプの製造装置（Ａ１）では、作業容器（Ｇ）内の非酸化性雰囲気ガス（Ａｒ１）と同種で且つ作業容器（Ｇ）内の気圧よりも高く設定されている洗浄用ガス（Ａｒ２）を排気台（１）側に供給する洗浄用ガス供給配管（２３）が第１バルブ（１２）の上流側にて前記メイン配管（１１）に接続されているので、封体容器（５１）を排気台（１）から取り外す前に予め洗浄用気体（Ａｒ２）を洗浄用ガス供給配管（２３）から排気台（１）側に供給しておくことで、第１バルブ（１２）から排気台（１）に至る配管（１１）内の内圧を作業容器（Ｇ）の雰囲気圧力より高くすることができ、それ故、作業の終わった封体容器（５１）を排気台（１）から取り外した時に前記配管（１１）内の洗浄用ガス（Ａｒ２）が圧力差で作業容器（Ｇ）に吐出され、排気台（１）の周囲に漂ってる珪化物の微粉末を含む雰囲気ガス（Ａｒ１）を配管（１１）中に吸い込まず配管（１１）内を清浄な状態に保つ。
【００１６】
このため、次の封体容器（５１）を排気台（１）に取り付けて前記真空引きを行った際に、微粉末がメイン配管（１１）の下流側に移行することもなく下流側の各種機器の寿命を延ばすことができる。
【００１７】
請求項２の発明（第２実施例）は、請求項１に記載の製造装置（Ａ２）の改良に関するもので、
（ｉ）　　第１バルブ（１２）と高真空ポンプ（１３）との間に第２バルブ（４２）を設け、
（ｊ）　　作業容器（Ｇ）内の非酸化性雰囲気ガス（Ａｒ１）と同種で且つ作業容器（Ｇ）内の気圧よりも高く設定されている補助洗浄用ガス（Ａｒ３）を排気台（１）側に供給する補助洗浄用ガス供給配管（４１）が第１バルブ（１２）と第２バルブ（４２）との間にてメイン配管（１１）に接続されている事を特徴とする」ものである。
【００１８】
この第２実施例の高圧ランプの製造装置（Ａ２）では、第１実施例（Ａ１）に加えて、第１バルブ（１２）と高真空ポンプ（１３）との間に第２バルブ（４２）を設け、作業容器（Ｇ）内の非酸化性雰囲気ガス（Ａｒ１）と同種で且つ作業容器（Ｇ）内の気圧よりも高く設定されている補助洗浄用ガス（Ａｒ３）を排気台（１）側に供給する補助洗浄用ガス供給配管（４１）が第１バルブ（１２）と第２バルブ（４２）との間にてメイン配管（１１）に接続されているので、前述の作用に加えて、誤って閉塞作業の終わった封体容器（５１）を排気台（１）から引き抜いた時、第１バルブ（１２）の上流側の配管（１１）に珪化物の微粉末を含む雰囲気ガス（Ａｒ１）が侵入したとしても、第１バルブ（１２）を開く前に作業容器（Ｇ）内の雰囲気ガス（Ａｒ１）の内圧よりも高圧の補助洗浄用ガス（Ａｒ３）を第２バルブ（４２）から上流側の配管（１１）に予め供給・充填しておき、然る後、第１バルブ（１２）を開くことで、第１バルブ（１２）の上流側の配管（１１）に入り込んだ珪化物の微粉末を含む侵入雰囲気ガス（Ａｒ１）をその圧力差で作業容器（Ｇ）に吐出させ、これにより第２バルブ（４２）より下流のメイン配管（１１）内に珪化物の微粉抹が移行することを防止することが出来、下流側の各種機器の寿命を延ばすことができる。
【００１９】
【発明の実施の態様】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する説明する。図１は、本発明の第１実施形態にかかる高圧ランプ（Ｐ）の製造方法が適用された高圧ランプの製造装置（Ａ１）を示す全体構成図であり、点灯時の内圧が数１０気圧〜数１００気圧に達する両口タイプの高圧ランプ（Ｐ）の製造に供される。
【００２０】
図１において、この製造装置（Ａ１）は、アルゴン雰囲気或いは窒素雰囲気のような非酸化性雰囲気（ここではアルゴン雰囲気である）形成用の作業容器（Ｇ）と、高圧ランプ（Ｐ）の封体容器（５１）が取着される排気台（１）と、封体容器（５１）の開口端部（５３ｂ）を加熱するための加熱手段（２）と、真空ポンプ（４）を有する真空引き用配管系（３）と、真空計（５）と、必要ガス（キセノンガス始めとする各種封入ガス）供給配管系（６）と、洗浄用ガス（アルゴンガス）供給配管系（７）、気体循環濾過用配管系（８）とを備えている。
【００２１】
作業容器（Ｇ）は、アルゴンガスなどのような非酸化性（＝不活性）雰囲気ガス（Ａｒ１）が封入されたグローボックスのような容器からなり、大気中の不純物が侵入しないように、内部が大気圧よりも僅かに高い気圧に設定されており、その出入口（Ｇａ）（Ｇａ’）側には、アンチチャンバ（Ｇ１）（Ｇ２）が付設され、更に出入口（Ｈａ）を介して真空加熱炉（Ｈ）が併設されている。封体容器（５１）等の部品の作業容器（Ｇ）への搬入は、アンチチェンバ（Ｇ１）を通して行われる。なお、（Ｇｂ）（Ｇｂ’）は、各アンチチェンバ（Ｇ１）（Ｇ２）に設けられた出入り口である。
【００２２】
又、作業容器（Ｇ）には、前述のように出入口（Ｈａ）を有する高温の真空加熱炉（Ｈ）が設けられているが、ここで後述する１次封止の完了した封体容器（５１）が高温処理されその表面に付着している不純物の除去や内部に吸蔵されている不純物ガスの脱ガスが行われる。
【００２３】
排気台（１）は、作業容器（Ｇ）内で１次シールの終わった封体容器（５１）を片持ち状態で垂直にチャッキングにて保持するためのものであり、封体容器（５１）の開口端部（５３ｂ）を図示しないＯリングにて気密状態にて着脱可能に保持する排気ホルダ（１ａ）を有している。
【００２４】
加熱手段（２）は、作業容器（Ｇ）内で封体容器（５１）の開口端部（５３ｂ）の閉塞すべき部分［第２電極マウント（５６）から離れた部分］を加熱して溶着・閉塞するためのものであり、例えばアルゴンプラズマバーナ、レーザ等が使用される。又、封体容器（５１）の開口端部（５３ｂ）に導電部材が付設されておれば、高周波加熱装置も使用可能である。
【００２５】
真空引き用配管系（３）は、上流端側が排気台（１）に接続され、下流端側が作業容器（Ｇ）の外部まで延びるメイン配管（１１）と、メイン配管（１１）の下流端に接続された真空ポンプ（４）と、作業容器（Ｇ）内においてメイン配管（１１）に設けられた第１バルブ（１２）と、作業容器（Ｇ）の外部において、第１バルブ（１２）と真空ポンプ（４）との間に位置してメイン配管（１１）に設けられたターボモレキュラポンプのような高真空ポンプ（１３）とを備えている。
【００２６】
真空計（５）は、作業容器（Ｇ）の外部に配置され、且つ前記第１バルブ（１２）の下流側に位置し、第１バルブ（１２）と高真空ポンプ（１３）との間にてメイン配管（１１）に接続されており、例えばイオンゲージ等が使用されている。この真空計（５）により封体容器（５１）内の真空度が計測表示される。
【００２７】
必要ガス供給配管系（６）は、前記第１バルブ（１２）の上流側に位置して前記メイン配管（１１）に接続された必要ガス供給配管（２１）と、この必要ガス供給配管（２１）に設けられた必要ガス供給用バルブ（２２）とから構成されている。これは真空に減圧された封体容器（５１）内にメイン配管（１１）を通してキセノンガスを始めとする各種必要封入ガス（Ｘｅ）を外部から供給するためのものである。
【００２８】
洗浄用ガス供給配管系（７）は、前記第１バルブ（１２）の上流側に位置して前記メイン配管（１１）に接続された洗浄用ガス供給配管（２３）と、この洗浄用ガス供給配管（２３）に設けられた洗浄用バルブ（２４）とから構成されており、開口端部（５３ｂ）が加熱・閉塞された封体容器（５１）が排気台（１）から取り外されるに先だって、真空引きメイン配管（１１）側に作業容器（Ｇ）内の雰囲気ガス（Ａｒ１）と同じ種類で前記雰囲気ガス（Ａｒ１）より若干高圧の洗浄用ガス（Ａｒ２）［ここではアルゴンガス］を供給して排気ホルダ（１ａ）から封体容器（５１）を引き抜いた時に、珪化物の微粉末を含む雰囲気ガス（Ａｒ１）が第１バルブ（１２）に至るメイン配管（１１）内に排気ホルダ（１ａ）から侵入してくるのを防止する役目を持っている。なお、洗浄用ガス供給配管（２３）の接続は、第１バルブ（１２）に近い程好ましい。
【００２９】
気体循環濾過用配管系（８）は、作業容器（Ｇ）内にて排気台（１）の近傍に配備されて、該封体容器（Ｇ）の加熱時に発生する珪化物の微粉末を、作業容器（Ｇ）内の雰囲気ガス（Ａｒ１）［ここではアルゴンガス］と共に吸引する吸引部材（３１）と、上流端が吸引部材（３１）に接続され、下流端側が作業容器（Ｇ）の外部を迂回して該作業容器（Ｇ）内に戻されている循環用配管（３２）と、この作業容器（Ｇ）の外部において、該循環用配管（３２）に設けられたフィルタ（３３）とを備え、前記珪化物等の微粉末等がこのフィルタ（３３）で濾過・捕集され、作業容器（Ｇ）に戻される雰囲気ガス（Ａｒ１）の浄化を図るようになっている。なお、前記吸引部材（３１）は排気台（１）の周囲を取り囲み、その開口が排気台（１）側に開口しているリング状のもので、排気台（１）の周囲の雰囲気ガス（Ａｒ１）を吸引するようになっている。
【００３０】
次に、上記構成の装置により製作される高圧ランプ（Ｐ）の構造について簡単に説明する（図４）。封体容器（５１）は、略球状の発光管部（５１ａ）と、この発光管部（５１ａ）の両端から延びる第１、２封止用管部（５２）（５３）とで構成され、第１、２封止用管部（５２）（５３）に第１、２封止部（５２ａ）（５３ａ）が形成されており、前記発光管部（５１ａ）内に対向電極（５５ａ）（５６ａ）が所定の電極間間隔を以て配設されている。第１、２封止部（５２ａ）（５３ａ）は、シュリンク或いはピンチシールにより形成されるもので、第１、２封止部（５２ａ）（５３ａ）内に第１、２電極マウント（５５）（５６）における被埋設部分である第１、２金属箔（５５ｂ）（５６ｂ）と、第１、２電極マウント（５５）（５６）や外部リード棒（５５ｃ）（５６ｃ）の溶接部分が埋入されている。
【００３１】
前記第１、２金属箔（５５ｂ）（５６ｂ）の一端には、発光管部（５１ａ）内に延びる一対の対向電極（５５ａ）（５６ａ）の端部が接続されており、前記第１、２金属箔（５５ｂ）（５６ｂ）の他端には、外部に延びる外部リード棒（５５ｃ）（５６ｃ）の端部が接続されている。
【００３２】
発光管部（５１ａ）内には水銀（５８）や金属ハロゲン化物のペレットその他必要充填物（５７）並びに必要封入ガス（Ｘｅ）が封入されている。必要封入ガス（Ｘｅ）としては、例えばキセノンガスやアルゴンガスがある。
【００３３】
このように形成された両口タイプ高圧水銀放電ランプ（Ｐ）は、そのまま或いは図示しないリフレクタに装着されて使用され、点灯時の色温度が５，０００〜８，０００Ｋが、内圧が数１０気圧〜数１００気圧に達し白っぽい光を放つ。
【００３４】
次に、両口タイプ高圧水銀放電ランプ（Ｐ）の製造手順を説明する。通常、第１封止（第１封止部（５２ａ）の封止）までは本装置（Ａ１）外で行い、開口端閉塞（排気ホルダ（１ａ）に装着されている開口端部（５３ｂ）の閉塞）を本装置（Ａ１）内で行い、開口端閉塞の終了後、本装置（Ａ１）から取り出し、第２封止（第２封止部（５３ａ）の封止）を行うことになる。
【００３５】
以下、順次説明する。まず、本装置（Ａ１）外で２．５ｍｍ程度の厚肉の石英ガラス管を所定の長さでカットし、続いて、例えば水酸素炎バーナで石英ガラス管の所定箇所を回転させつつ加熱し、ロール型で加熱部分を変形させ、略回転楕円体或いは球状の発光管部（５１ａ）を成形する。これにより、発光管部（５１ａ）の両端に第１、２封止用管部（５２）（５３）が延びている封体容器（５１）が成形される。
【００３６】
続いて、第１電極マウント（５５）を第１封止用管部（５２）内に挿入し、第１電極マウント（５５）の外部リード棒（５５ｃ）の屈曲部（５５ｄ）のばね性を利用して第１電極（５５ａ）を所定位置に仮止めする。なお、本実施形態における第１、２電極マウント（５５）（５６）は、第１、２金属箔（５５ｂ）（５６ｂ）の一端に第１、２電極（５５ａ）（５６ａ）が接続され、他端には外部リード棒（５５ｃ）（６６ｃ）が接続された形状となっている。
【００３７】
そして外部リード棒（５５ｃ）（５６ｃ）は、第１、２封止用管部（５２）（５３）内に挿入された時、第１、２電極マウント（５５）（５６）が第１、２封止用管部（５２）（５３）の所定部位に固定できるように、略Ｃ字形に屈曲された屈曲部（５５ｄ）（５６ｄ）を有する。前記屈曲部（５５ｄ）（５６ｄ）の幅は、第１、２封止用管部（５２）（５３）の内径より若干大きく形成されており、挿入時に屈曲部（５５ｄ）（５６ｄ）の弾性力が作用するようになっている。
【００３８】
第１電極マウント（５５）の封体容器（５１）への挿入が終了すれば、この封体容器（５１）の他方の開口端部（５３ｂ）を図示しない本装置（Ａ１）外の排気台における排気ホルダにチャックし、排気ホルダから窒素ガスやアルゴンガスのような不活性ガスを内部に通流させながら開口端部（５３ｂ）の反対側の封止部分（５２ａ）を図示しない本装置（Ａ１）外のバーナで加熱し、収縮シール或いはピンチシールする。これにより、第１金属箔（５５ｂ）と第１電極（５５ａ）、外部リード棒（５５ｃ）の溶接部分が第１封止部（５２ａ）に埋設・固定されることになる。このようにして第１封止が本装置（Ａ１）外で行われ、第１封止が終了すると本装置（Ａ１）外の排気台から封体容器（５１）が外される。
【００３９】
次に、第１封止が終了した封体容器（５１）は本装置（Ａ１）の真空加熱炉（Ｈ）内に挿入され、真空加熱によって内部に吸蔵されている不純物ガスや表面に付着している不純物が除去され、次に行われる開口端部（５３ｂ）の閉塞作業に供される。なお、封体容器（５１）の出し入れは出入口（Ｇｂ）（Ｇａ）（Ｇｂ’）（Ｇａ’）及び（Ｈａ）によって行われる。アンチチャンバ（Ｇ１）（Ｇ２）はその際の外部空気の作業容器（Ｇ）内への侵入を防止するためのセクションである。
【００４０】
真空加熱が終了した封体容器（５１）は、作業容器（Ｇ）内に持ち込まれ、封体容器（５１）内に必要充填物（５７）（５８）及び第２電極マウント（５６）が挿入された後、作業容器（Ｇ）の排気ホルダ（１ａ）に装着され、ホルダ装着側の開口端部（５３ｂ）の端部封止が行われる。この封止部分は第２外部リード棒（５６ｃ）から離れた位置である。
【００４１】
前記必要充填物（５７）（５８）は発光管部（５１ａ）内に挿入され、第２電極マウント（５６）は第２封止用管部（５３）内に挿入されるが、この時、第１、２電極マウント（５５）（５６）の第１、２電極棒（５５ａ）（５６ａ）が封体容器（５１）の中心線に一致し且つ両者の先端の間隔（電極間隔）が所定間隔となるようにセットされる。
【００４２】
作業容器（Ｇ）内で必要充填物（５７）（５８）及び第２電極マウント（５６）の封体容器（５１）への挿入が終了すれば、図１に示すように、この封体容器（５１）の他方の開口端部（５３ｂ）を排気台（１）における排気ホルダ（１ａ）により図示しないＯリングを介して気密状にてチャックし、該封体容器（５１）を垂設させる。これにより、封体容器（５１）の他方の開口端部（５３ａ）が排気台（１）に連通状態に接続される。
【００４３】
この状態で図１に示す第１バルブ（１２）を開放すると共に高真空ポンプ（１３）及び真空ポンプ（４）を作動させ、排気ホルダ（１ａ）を通して真空引きを行う事により、封体容器（５１）内に存在しているアルゴンガス（Ａｒ１）を吸い出し、封体容器（５１）内を高真空に減圧させる。封体容器（５１）内が高真空に達したことを真空計（５）にて確認した後、第１バルブ（１２）を閉成する一方、洗浄ガス供給配管（２１）の必要ガス供給用バルブ（２２）を開放すると、外部から洗浄ガス供給配管（２１）から供給されたキセノンガスを始めとする必要封入ガス（Ｘｅ）がメイン配管（１１）及び排気ホルダ（１ａ）を介して封体容器（５１）内に封入される。ここに供給される必要封入ガス（Ｘｅ）は、大気圧未満、例えば０．３〜０．５ｍｍ／ａｔｍに設定される。
【００４４】
必要封入ガス（Ｘｅ）の充填が終了すると、封体容器（５１）のチャック側の開口端部（５２ｂ）の第２外部リード棒（５６ｃ）から離れた位置をプラズマバーナのような加熱手段（２）により加熱する。封体容器（５１）の内部は作業容器（Ｇ）の内圧よりも気圧が低いので、加熱軟化した部分は作業容器（Ｇ）の内圧に押されて次第に全周から押し潰されてその内周面が融着し、該開口端部（５２ｂ）の加熱部分が溶着・閉塞していく。
【００４５】
このように該開口端部（５２ｂ）の端部が溶着・閉塞された封体容器（５１）は、内部が不純物で汚染されるおそれもなくなるので、作業容器（Ｇ）から取り出し、第２封止用管部（５３）を上にし、封体容器（５１）を垂直に保持した状態で大気中において第２封止を行う。即ち、発光管部（５１ａ）と第２封止用管部（５３）との境界部分に遮蔽板（６１）を配設し、発光管部（５１ａ）に向けて液体窒素を吹き付け（或いは発光管部（５１ａ）以下を液体窒素内に浸漬し）、必要充填物（５７）（５８）の冷却と必要封入ガスの液化による発光管部（５１ａ）内での留置を行いつつ第２封止部（５３ａ）を加熱する。
【００４６】
封体容器（５１）の内圧は前述のように大気圧より低いので、前述同様第２封止部（５３ａ）の加熱部分は次第に収縮して収縮シールされることになる。（必要があればピンチシールをすることも可能である。）これにより第２マウント（５６）の第２金属箔（５６ｂ）と、第２電極（５６ａ）及び第２外部リード棒（５６ｃ）の、この第２金属箔（５６ｂ）との溶接部分が第２封止部（５３ａ）に埋設されることになる。
【００４７】
このようにして、少なくとも第１封止後の封体容器（５１）の開口端部（５３ｂ）の溶着・閉塞が外気と隔絶され、内部が非酸化性雰囲気となっている作業容器（Ｇ）内で行われるので、発光管部（５１ａ）内に空気や不純物等が外部から侵入するおそれがなく、ランプ性能の更に優れた高圧ランプ（Ｐ）を効率よく製造することが可能となった。
【００４８】
作業容器（Ｇ）を使用する製造方法はこのように優れた製造方法であるが、前記プラズマバーナのような加熱手段（２）により、封体容器（５１）の開口端部（５３ｂ）を加熱して溶着・閉塞する時に、当該加熱部分が分解して珪化物の微粉末が排気台（１）の周辺に多量に発生する。この珪化物の微粉末その他作業容器（Ｇ）内の不純物を除去し、雰囲気ガス（Ａｒ１）の清浄度を一定値以上に保つために気体循環濾過用配管系（８）が用意され、循環している雰囲気ガス（Ａｒ１）をフィルタ（３３）にて濾過しているのであるが、吸引部材（３１）から逃れてなお雰囲気ガス（Ａｒ１）内に漂っている珪化物の微粉末が存在する。
【００４９】
そして従来例では、この残留珪化物の微粉末が閉塞作業の終了した封体容器（５１）を排気ホルダ（１ａ）から抜き取ったときに内外の気圧差によりメイン配管（１１）に侵入していたが、本装置（Ａ１）ではこれに対処するために、封体容器（５１）を排気ホルダ（１ａ）から取り外すに先だって、図１に示す第１バルブ（１２）を閉成する一方、洗浄用バルブ（２４）を開放し、洗浄用ガス供給配管（２３）から雰囲気ガス（Ａｒ１）と同種の例えばアルゴンガスのような洗浄用ガス（Ａｒ２）をメイン配管（１１）に供給する。
【００５０】
この洗浄用ガス（Ａｒ２）の気圧は、作業容器（Ｇ）内の気圧よりも高く設定されているので、封体容器（５１）を排気台（１）から取り外した際にこれと同時にメイン配管（１１）内に予め供給されている洗浄用ガス（Ａｒ２）が作業容器（Ｇ）内との気圧差によって該作業容器（Ｇ）内に噴き出す。これにより、排気台（１）の周囲の雰囲気ガス（Ａｒ１）内に高濃度で漂っていた珪化物の微粉末は従来と異なり排気ホルダ（１ａ）からメイン配管（１１）内に吸い込まれるようなことがない。これにより封体容器（５１）を抜き取った後でもメイン配管（１１）内は清浄な状態に保たれ、次の封体容器（５１）を排気ホルダ（１ａ）に取り付けて真空作業を行った際に前記微粉末が真空計（５）やターボモレキュラポンプのような高真空ポンプ（１３）側に至るという不具合がなくなり、高真空ポンプ（１３）等の長寿命化が保証される。
【００５１】
なお、前述のバルブ操作は制御部（ｃｏｎｔ）において行われているが、封体容器（５１）への必要充填物（５７）（５８）、第２マウント（５６）の挿入及び排気台（１）への着脱などは作業者による手作業が普通である。勿論、自動化することも可能である。
【００５２】
つぎに、本発明の第２実施例（Ａ２）について説明する（図２）。第１実施例（Ａ１）と第２実施例（Ａ２）とは殆どの点で一致するので、説明の煩雑を避けるため相違点を主に説明する。本発明の第２実施例（Ａ２）のポイントは、前述のように封体容器（５１）の排気台（１）への着脱が作業者による手作業であるので、洗浄用バルブ（２４）を作動させて洗浄用ガス（Ａｒ２）をメイン配管（１１）に充填する前に作業者が誤って封体容器（５１）を排気台（１）から引き抜いてしまうと、従来例で説明した場合と同様、メイン配管（１１）内が作業容器（Ｇ）内の内圧より低いため、珪化物の微粉末を含んだ排気台（１）周辺の雰囲気ガスを吸い込んでしまうことになるが、このような作業ミスに対処することができるように配管構造を改良した点にある。
【００５３】
図２に示すように、第１実施例（Ａ１）の配管系に加えて前記第１バルブ（１２）の下流側に位置してメイン配管（１１）（即ち、第１バルブ（１２）と高真空ポンプ（１３）との間）に第２バルブ（４２）を設け、前記第１バルブ（１２）と第２バルブ（４２）との間に位置してメイン配管（１１）に作業容器（Ｇ）内の雰囲気ガス（Ａｒ１）と同種の補助洗浄用ガス（Ａｒ３）を供給する補助洗浄用ガス供給配管（４１）を接続し、作業容器（Ｇ）内の気圧よりも若干高く設定されている補助洗浄用ガス（Ａｒ３）を外部から補助洗浄用バルブ（４３）を通って排気台（１）側に供給するように配管されている。
【００５４】
前述のように誤って不用意に封体容器（５１）を排気台（１）から抜き取ってしまった場合には、第１バルブ（１２）まで珪化物の微粉末を含んだ雰囲気ガス（Ａｒ１）が侵入するが、第１バルブ（１２）を閉じ状態のままとし、第２バルブ（４２）を閉成する一方、補助洗浄用バルブ（４３）を開いて補助洗浄用ガス供給配管（４１）からアルゴンガスのような雰囲気ガスと同種の補助洗浄用ガス（Ａｒ３）を供給することにより、第１、２バルブ（１２）（４２）間の内圧が作業容器（Ｇ）の雰囲気圧力より若干高く保持されることになり、この状態で第１バルブ（１２）を開くことで第１、２バルブ（１２）（４２）間の補助洗浄用ガス（Ａｒ３）が排気ホルダ（１ａ）から吹き出し、前述の誤作業によって第１バルブ（１２）に至るメイン配管（１１）内の珪化物微粉末含有侵入雰囲気ガス（Ａｒ１）を作業容器（Ｇ）内に吹き戻すことができ、高真空ポンプ（１３）や真空計（５）の誤作業によるトラブル発生を未然に防止できる。
【００５５】
【発明の効果】
以上のように、請求項１，２の発明によれば、開口端部の溶着・閉塞完了済封体容器を排気台から取り外すに先だって洗浄用ガスをメイン配管に予め供給・充填して排気台に至るメイン配管内を作業容器内の内圧に対して若干正圧状態に保持しておき、この状態で開口端部の溶着・閉塞完了済封体容器を排気台から取り外すようにする事で、正圧状態の洗浄用ガスを作業容器内に吐き出させる事が出来、封体容器を加熱するに伴って発生し、排気台の周辺で浮遊している珪化物微粉末を含有する雰囲気ガスのメイン配管内への浸入を防止する事が出来、下流側のターボモレキュラポンプのような高真空ポンプ等の高価な機器を効果的に保護できる。
【００５６】
また、請求項２の発明によれば、前記効果に加えて、第１バルブの下流側に第２バルブを設け、ここに補助洗浄用ガス供給配管を設置したので、封体容器を排気台から不用意に取り外し、排気バルブから第１バルブ迄のメイン配管内に珪化物微粉末を含む雰囲気ガスが浸入したとしても、この浸入雰囲気ガスを作業容器内に吹き戻す事が出来、下流側の高真空ポンプ等の高価な機器を効果的に保護できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態における高圧ランプの製造方法を運用するための製造装置を示す全体構成図である。
【図２】同じく本発明の製造装置の別の例を示す全体構成図である。
【図３】従来の高圧ランプの製造装置を示す全体構成図である。
【図４】密封終了後に封体容器の所定部分を切り離して得られた高圧ランプを示す断面図である。
【符号の説明】
（１）　　排気台
（１ａ）　排気ホルダ
（２）　　加熱手段
（４）　　真空ポンプ
（１１）　真空引き用メイン配管
（１２）　第１バルブ
（１３）　高真空ポンプ
（２１）　洗浄ガス供給配管
（４１）　補助洗浄用ガス供給配管
（４２）　第２バルブ
（５１）　封体容器
（５２ｂ）（５３ｂ）　封体容器の開口端部
（５５）　第１電極マウント
（５６）　第２電極マウント
（５７）（５８）　必要充填物
（Ａｒ１）　　雰囲気ガス
（Ａｒ２）　　洗浄用ガス
（Ａｒ３）　　補助洗浄用ガス
（Ｇ）　　作業容器
（Ｘｅ）　必要封入ガス
【図１】
2004111267.tif 000003
【図２】
2004111267.tif 000004
【図３】
2004111267.tif 000005
【図４】
2004111267.tif 000006