(57)【要約】　　　（修正有）【課題】面倒れ誤差補正機能を有する場合においてその面倒れ誤差により生ずる走査線の終端位置の誤差を減少させ得る反射型走査光学系を提供する。【解決手段】面倒れ誤差補正機能付きの反射型走査光学系において、走査速度補正用のｆθミラー５の反射面のうち、受光素子６へ向かうレーザービームを反射させる領域が、主走査方向の断面形状が副走査方向の高さの変化に対してほぼ一定である形状に、形成されるように、構成する。また、当該領域のｄ２ｘ／ｄｙｄｚができるだけ小さくなるように、構成する。【選択図】　　図１
2004013111.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
等角速度で回転する回転多面鏡の各反射面で動的に偏向されたレーザービームを、走査速度補正ミラーに反射させることによって、走査対象面上を主走査方向に沿って等速度で走査するとともに、その走査対象面上で主走査方向に直交する副走査方向において前記回転多面鏡の反射面近傍と前記走査対象面とを光学的に共役にする収束パワーが、前記走査速度補正ミラーに設定されている反射型走査光学系であって、
前記回転多面鏡の一反射面による一回の走査で前記走査対象面に形成される一走査線の始端から終端までの走査範囲の外側且つ上流側においてレーザービームを受光する受光素子を、備えているとともに、
前記走査速度補正ミラーの反射面は、
前記走査範囲の外側を通るレーザービームを反射させる領域を有し、
前記主走査方向の傾きを前記副走査方向に微分したｄ２ｘ／ｄｙｄｚの前記走査範囲の始端側での値をαＳＯＳとし、前記走査範囲の外側であって前記受光素子へ向かう光束に対応する位置での値をαＢＤとしたとき、
｜αＢＤ／αＳＯＳ｜＜１．５
を満足する
ことを特徴とする反射型走査光学系。
【請求項２】
等角速度で回転する回転多面鏡の各反射面で動的に偏向されたレーザービームを、走査速度補正ミラーに反射させることによって、走査対象面上を主走査方向に沿って等速度で走査するとともに、その走査対象面上で主走査方向に直交する副走査方向において前記回転多面鏡の反射面近傍と前記走査対象面とを光学的に共役にする収束パワーが、前記走査速度補正ミラーに設定されている反射型走査光学系であって、
前記走査速度補正ミラーの反射面のうち、前記回転多面鏡の一反射面による一回の走査で前記走査対象面に形成される一走査線の始端から終端までの走査範囲に至るレーザービームを反射させる領域は、前記主走査方向の傾きが前記副走査方向の高さの変化に応じて変化する形状であり、前記走査範囲の外側を通るレーザービームを反射させる領域は、前記主走査方向の傾きが前記副走査方向の高さの変化に対してほぼ一定である形状に、形成されている
ことを特徴とする反射型走査光学系。
【請求項３】
前記走査速度補正ミラーは、透過面と反射面を有する裏面反射型の素子であることを特徴とする請求項１又は２記載の反射型走査光学系。
【請求項４】
前記走査速度補正ミラーの反射面は、連続面である
ことを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の反射型走査光学系。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回転多面鏡によって動的に偏向したレーザービームを走査速度補正ミラーによって反射させることにより走査対象面上を走査する反射型走査光学系に、関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、反射型走査光学系は、等角速度で回転する回転多面鏡の各反射面によって動的に偏向されたレーザービームを、曲面状の反射面を有する走査速度補正ミラー（ｆθミラー）で反射させることによって、走査対象面上で主走査方向に沿って等速度に走査させる。そして、走査対象面が、主走査方向に直交する副走査方向へ等速度で移動されると、この走査対象面には、複数の走査線が一定の間隔で形成される。このため、レーザービームが画像情報に従ってオンオフ変調されていれば、走査対象面上には二次元状の画像が形成される。
【０００３】
なお、反射型に限らず、通常の走査光学系は、画像を構成する一走査線の始端から終端までの走査範囲の外側且つ上流側においてレーザービームを受光する受光素子を、備えている。この受光素子は、レーザービームを検出すると、検出信号を水平同期信号として変調器（又は変調出力可能な光源）に送信する。変調器は、水平同期信号を受信すると、一旦レーザービームをオフ状態に変調し、所定時間経過後にその走査線におけるオンオフ変調を開始する。このように、受光素子が配置されることによって、各走査線の書き出しのタイミングが機械的に決定され、その結果、各走査線の始端が主走査方向において揃えられる。
【０００４】
ところで、反射型走査光学系の中には、回転多面鏡の有するいわゆる面倒れ誤差を補正する機能が付加されているものがある。面倒れ誤差補正機能付きの反射型走査光学系では、回転多面鏡の反射面近傍と走査対象面とを副走査方向において光学的に共役にする収束パワーが、ｆθミラーに設定されている。また、これに対応して、回転多面鏡へ入射するレーザービームをその反射面近傍で副走査方向において一旦収束させるアナモフィックレンズが、備えられている。このアナモフィックレンズとしては、一般にシリンドリカルレンズが用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述したような面倒れ誤差補正機能を有する反射型走査光学系では、実際に回転多面鏡の反射面が倒れても、走査対象面上の走査線が副走査方向へ変位することはないが、レーザービームのｆθミラーへの入射位置は、副走査方向へ変位する。このｆθミラーの反射面は、図７（ａ），（ｂ）に示されるように、走査対象面上での走査線の湾曲や波面のねじれを補正するため、副走査方向の高さ（Ａ，Ｂ，Ｃ）に応じて主走査方向の断面形状の湾曲状態が僅かに変化する形状に、形成されている。このため、回転多面鏡により等しい偏向角で偏向されたレーザービームが、回転多面鏡の反射面の倒れ量に応じて、ｆθミラーにより主走査面内で異なる方向に反射されることとなる。
【０００６】
この結果、面倒れ誤差がないときに比べて、走査対象面上での走査速度が変動し、走査線の長さは拡大又は縮小される。このとき、走査線書き出し位置も主走査方向にずれることになるが、受光素子に入射するレーザービームと走査線の始端を書き出すレーザービームとの間の回転多面鏡による偏向角の差はあまりないので、ずれ量は僅かである。このため、走査線の長さの拡縮は、専ら、その終端の位置の主走査方向へのずれとして現れる（図８のΔ）。このように、各走査線の終端位置が、回転多面鏡の回転に伴って変位するために、走査対象面に形成された画像の走査線終端側の輪郭には、主走査方向への揺らぎ（ジッター）が生じる。
【０００７】
そこで、本発明の課題は、面倒れ誤差補正機能を有する場合においてその面倒れ誤差により生ずる走査線の終端位置の誤差を減少させ得る反射型走査光学系を、提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明による反射型走査光学系は、以下のような構成を採用した。
【０００９】
すなわち、本発明による反射型走査光学系は、等角速度で回転する回転多面鏡の各反射面で動的に偏向されたレーザービームを、走査速度補正ミラーに反射させることによって、走査対象面上を主走査方向に沿って等速度で走査するとともに、その走査対象面上で主走査方向に直交する副走査方向において前記回転多面鏡の反射面近傍と前記走査対象面とを光学的に共役にする収束パワーが、前記走査速度補正ミラーに設定されている反射型走査光学系であって、前記走査速度補正ミラーの反射面のうち、前記回転多面鏡の一反射面による一回の走査で前記走査対象面に形成される一走査線の始端から終端までの走査範囲に至るレーザービームを反射させる領域は、前記主走査方向の傾きが前記副走査方向の高さの変化に応じて変化する形状であり、前記走査範囲の外側を通るレーザービームを反射させる領域は、前記主走査方向の傾きが前記副走査方向の高さの変化に対してほぼ一定である形状に、形成されていることを、特徴としている。
【００１０】
このように構成されると、回転多面鏡の各反射面に同じ偏向角で偏向されて受光素子の受光面上の同じ箇所へ入射すべきレーザービームが走査速度補正ミラーの反射面に入射する位置は、それらを反射させた反射面の有する面倒れ誤差により、副走査方向へ変位する。しかし、走査速度補正ミラーの反射面のうち、走査範囲の外側を通るレーザービームを反射させる領域は、前記主走査方向への傾きが前記副走査方向の高さの変化に対してほぼ一定である形状に、形成されているので、この領域に入射するレーザービームは、面倒れ誤差によって副走査方向へ入射位置が変位しても、主走査方向において、面倒れ誤差がないときとほぼ同じ反射角度で反射される。従って、回転多面鏡の各反射面により互いに同じ偏向角で偏向されたレーザービームは、ほぼ同じタイミングで受光面を横切るようになる。また、面倒れ誤差により走査幅は拡大又は縮小してしまうものの、その変化は、走査線の始端と終端の位置の変化としてほぼ均等に現れるようになる。従って、走査線終端の揺らぎは減少し、ジッターは目立たなくなる。
【００１１】
なお、本発明の反射型走査光学系において、走査速度補正ミラーの反射面は、連続面であっても良いし、不連続面であっても良いが、受光素子に入射するレーザービームと走査線の始端を書き出すレーザービームとが近接しているので、当該反射面は連続面であることが望ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。
【００１３】
図１に、本実施形態の反射型走査光学系の光学構成図を示す。この図１に示されるように、この反射型走査光学系は、レーザー光源１，コリメートレンズ２，アナモフィックレンズ３，ポリゴンミラー４，ｆθミラー５及び受光素子６を、備えている。
【００１４】
レーザー光源１は、レーザービームを発振する半導体レーザーである。コリメートレンズ２は、レーザー光源１から発散光として発せられるレーザービームを平行光束に変換するレンズである。アナモフィックレンズ３は、主走査方向では負のパワーを有し、副走査方向では正のパワーを有するレンズであり、ポリゴンミラー４の反射面近傍に主走査方向に延びる線像を形成する。ポリゴンミラー４は、扁平な正六角柱状に形成されており、その各側面は反射面として構成されている。このポリゴンミラー４は、その中心軸４ａ周りに等角速度で回転駆動されるようになっている。ｆθミラー５は、アナモフィックな曲面形状の反射面を持つ走査速度補正ミラーである。このｆθミラー５は、本実施形態では、裏面反射タイプの光学素子として構成されている。なお、ｆθミラー５の表面（透過面）５ａ又は裏面（反射面）５ｂは、非回転対称な形状である場合があり、回転対称な光学面での対称軸に相当する軸を持たないことがある。そこで、光学面の形状を式によって表現する時に設定される原点を通る軸を「光学面基準軸」と言うことにし、この光学面基準軸を、回転対称な光学面での対称軸、即ち、光軸に相当するものとして取り扱うことにする。
【００１５】
レーザー光源１から発せられるレーザービームは、コリメートレンズ２及びアナモフィックレンズ３を順に透過し、副走査断面にビーム軸Ａｘが沿うように進行して、回転するポリゴンミラー４の反射面に対して副走査方向に所定の角度をもって入射し、この反射面によって動的に偏向される。ポリゴンミラー４により偏向されたレーザービームは、ｆθミラー５に対して副走査方向に所定の角度をもって入射し、反射面５ｂによって反射されることにより、走査対象面Ｓ上を露光するスポット光として収束され、ポリゴンミラー４の回転に伴って走査対象面Ｓ上を主走査方向に沿って等速度に走査する。スポット光は、走査対象面Ｓ上に線状の軌跡（走査線）を描くが、走査対象面Ｓ自体が、主走査方向に直交する副走査方向へ等速度で移動されるので、走査対象面Ｓ上には、複数の走査線が等間隔に形成される。また、このように走査対象面Ｓ上で繰り返し走査されるレーザービームは、図示せぬ変調器（又はレーザー光源１そのもの）により、画像情報に従ってオンオフ変調されているので、走査対象面Ｓ上には、画像情報に基づく二次元状の画像が描画される。
【００１６】
ところで、アナモフィックレンズ３を透過したレーザービームは、主走査方向においては、発散光束のままポリゴンミラー４によって反射され、ｆθミラー５の収束パワーによって走査対象面Ｓ上に収束されるが、副走査方向においては、アナモフィックレンズ３の収束パワーによってポリゴンミラー４の反射面近傍で一旦収束され、発散光束としてｆθミラー５に入射し、ｆθミラー５の収束パワーによって再び走査対象面Ｓ上に収束される。このとき、ポリゴンミラー４の反射面近傍と走査対象面Ｓとがｆθミラー５によって副走査方向において光学的に共役となっているために、ポリゴンミラー４の各反射面の僅かな傾き（いわゆる「面倒れ」）による走査対象面Ｓ上の走査位置の副走査方向へのずれが、補正される。このため、レーザービームは、ポリゴンミラー４のどの反射面によって反射されても、走査対象面Ｓにおける同一線上を走査する。
【００１７】
以下に示す表１は、本実施形態の反射型走査光学系の具体的な数値構成である。この表１において、記号ＮＯは、アナモフィックレンズ３の入射側の面を１番としてこのレンズ面より射出側に向かって昇順に各光学面に付された面番号を示す。具体的には、第１面及び第２面は、アナモフィックレンズ３を、第３面は、ポリゴンミラー４の反射面を、第４面及び第６面は、ｆθミラー５の表面（透過面）５ａを、第５面は、ｆθミラー５の裏面（反射面）５ｂを、それぞれ示す。また、記号Ｒｙは、光学面の主走査方向の曲率半径（単位は［ｍｍ］）であり、記号Ｒｚは、それの副走査方向の曲率半径（単位は［ｍｍ］）であり、記号ｄは、次の光学面までの光学面基準軸上での距離（単位は［ｍｍ］）であり、記号ｎは、設計波長７８０ｎｍでの各レンズの屈折率である。なお、副走査断面内でポリゴンミラー４の反射面がレーザービームを上方（図１の手前側）へ反射する角度（分離角）は、１０．０度に設定されている。また、ｆθミラー５の光学面基準軸は、副走査断面内において、ｆθミラー５に入射するレーザービームのビーム軸Ａｘに対し、図１の下側から見て反時計回り方向に傾けられており、そのビーム軸Ａｘに対する傾き角度は、８．３度に設定されている。
【００１８】
【表１】
2004013111.tif 000003
【００１９】
本実施形態では、ｆθミラー５の表面（透過面：第４面すなわち第６面）５ａは、凹のアナモフィック非球面として形成され、その裏面（反射面：第５面）５ｂは、凹の二次元多項式非球面として形成されている。
【００２０】
アナモフィック非球面は、ｘ方向と平行な光学面基準軸を含むとともに主走査方向（ｙ方向）と平行な仮想平面を想定すると、この仮想平面に沿って切断された際にできる曲線においては、主走査方向の高さｙの点での光学面基準軸上の接線からのサグ量Ｘ（ｙ）、
Ｘ（ｙ）＝Ｃｙ２／［１＋√［１−（１＋κ）Ｃ２ｙ２］］＋ＡＭ１ｙ１＋ＡＭ２ｙ２＋ＡＭ３ｙ３＋…　−−−（１）
によって表現される。なお、上式（１）中、Ｃは、光学面基準軸上での主走査方向の曲率半径（表１のＲｙ）の逆数（曲率）であり、κは円錐係数、ＡＭ１，ＡＭ２，ＡＭ３，…は、それぞれ、１次，２次，３次，…の非球面係数である。
【００２１】
また、このアナモフィック非球面は、高さｙの点においてｘｚ平面と平行な平面に沿って切断されてできる円弧においては、この円弧の曲率半径Ｒｚ（ｙ）の逆数（すなわち曲率）、
１／［Ｒｚ（ｙ）］＝（１／Ｒｚ０）＋ＡＳ１ｙ１＋ＡＳ２ｙ２＋ＡＳ３ｙ３＋…　−−−（２）
によって、式（１）とは無関係に表現される。なお、上式（２）中、Ｒｚ０は、光学面基準軸上での副走査方向（ｚ方向）の曲率半径（表１のＲｚ）であり、ＡＳ１，ＡＳ２，ＡＳ３，…は、高さｙでの副走査方向の曲率を決定する１次，２次，３次，…の非球面係数である。
【００２２】
第４面（第６面）を式（１）及び式（２）によって表現したときの具体的な数値構成として、それらの非球面係数を表２に示す。なお、ゼロである非球面係数は、表示を省略されている。また、式（１）によって表現された第４面（第６面）の円錐係数κは、０．０００である。
【００２３】
【表２】
2004013111.tif 000004
【００２４】
一方、二次元多項式非球面は、ｙ＝ｚ＝０の点でこの面に交わる仮想的な基準平面からのサグ量が基準平面内で主走査方向（ｙ方向）及び副走査方向（ｚ方向）の二次元座標を変数とする多項式によって定義される光学曲面である。なお、この二次元座標では、基準平面に直交する単一の基準軸とこの基準平面との交点が、原点として定義されている。この二次元多項式非球面の形状を具体的に式で表すと、以下のようになる。
【００２５】
即ち、この二次元多項式非球面は、基準平面上での点（ｙ，ｚ）におけるサグ量Ｘ（ｙ，ｚ）、
Ｘ（ｙ，ｚ）＝Ｃ（ｙ２＋ｚ２）／［１＋√［１−（１＋κ）Ｃ２（ｙ２＋ｚ２）］］＋ΣΣＢ（ｍ，ｎ）ＹｍＺｎ　　−−−（３）
によって表現される。なお、上式（３）中、Ｃは、光学面基準軸上での主走査方向の曲率半径（表１のＲｙ）の逆数（曲率）であり、κは、円錐係数であり、Ｂ（ｍ，ｎ）は、非球面係数であり、ｍとｎは、ゼロ以上の整数である。
【００２６】
第５面を式（３）によって表現したときの具体的な数値構成として、それらの非球面係数を表３に示す。なお、ゼロである非球面係数は、表示を省略されている。また、式（３）によって表現された第５面の円錐係数κは、０．０００である。
【００２７】
【表３】
2004013111.tif 000005
【００２８】
この表３において、ｍが奇数次である項（ｍ＝１，３，５，…）の非球面係数は、全てゼロであるので、第５面は、主走査方向に関しては、形状の変化が原点に関して対称となっている。また、この第５面において、一走査線の始端から終端までの走査範囲を通るレーザービームが入射する領域は、副走査方向の変化に対して主走査方向の湾曲状態が変化する形状（すなわち、図９（ａ）のような形状）に、形成されている。一方、第５面において、走査範囲の外側を通るレーザービームが入射する領域は、主走査方向の傾きが副走査方向の変化に対してほぼ一定である形状に、形成されている。
【００２９】
図１に戻り、本実施形態の反射型走査光学系は、画像を構成する一走査線の始端から終端までの走査範囲の外側且つ上流側（走査範囲よりも前にレーザービームが当たる側）に、受光素子６を備えている。この受光素子６は、レーザービームを検出すると、検出信号を水平同期信号として図示せぬ変調器（又は変調出力可能な光源）に送信する。変調器は、水平同期信号を受信すると、一旦レーザービームをオフ状態に変調し、所定期間経過後にその走査線におけるオンオフ変調を開始する。このように、受光素子６が配置されることによって、各走査線の書き出しのタイミングが機械的に決定されている。
【００３０】
＜本実施形態の機能＞
以上のように構成される本実施形態の反射型走査光学系においても、従来の反射型走査光学系と同様に、レーザービームがｆθミラー５の反射面へ入射する位置は、ポリゴンミラー４の反射面の倒れに応じて副走査方向へ変位する。
【００３１】
しかしながら、本実施形態の反射型走査光学系では、上述したように、ｆθミラー５の反射面のうち、走査範囲の外側において受光素子６へ向かうレーザービームが入射する領域は、主走査方向への傾きが副走査方向への変化に対して殆ど変化しない形状に、形成されている。
【００３２】
このため、受光素子６へ向かおうとするレーザービームのｆθミラー５での反射位置が面倒れによって副走査方向へ変位しても、このレーザービームの収束位置が主走査方向に変位する成分が殆どない。これにより、このレーザービームは、面倒れ誤差の有無にかかわらず、受光素子６の受光面を含む面において主走査方向におけるほぼ同じ位置に、入射するようになる。
【００３３】
以下では、既存の反射型走査光学系の具体例を比較例として説明し、続いて、本実施形態の反射型走査光学系の具体例を説明する。
【００３４】
【比較例】
以下の表４乃至表６に、本実施形態と同じ光学構成を有する既存の反射型走査光学系の諸元（近軸における具体的な数値構成，アナモルフィック非球面である第４面（第６面）の非球面係数，二次元多項式非球面である第５面の非球面係数）を示す。なお、各記号の意味は、表１乃至表３のものと同じである。また、本実施形態と同様に、副走査断面内でポリゴンミラー４の反射面によってレーザービームが反射される角度（分離角）は、１０．０度に設定され、ｆθミラー５の光学面基準軸は、ｆθミラー５に入射するレーザービームのビーム軸Ａｘから副走査方向へ８．３度傾けられている。
【００３５】
【表４】
2004013111.tif 000006
【００３６】
【表５】
2004013111.tif 000007
【００３７】
【表６】
2004013111.tif 000008
【００３８】
そして、以上に示した既存の反射型走査光学系において、面倒れ誤差が無いときと有るときの具体例を、以下に示す。表７は、受光素子の受光面が走査対象面と同じ面に含まれると想定したときにおいて、面倒れ誤差がなかった場合での受光素子６入射レーザービーム（同期光），走査線始端書き込み用レーザービーム（始端光），及び、走査線終端書き込み用レーザービーム（終端光）の走査対象面Ｓへの入射位置（単位は［ｍｍ］）と走査幅（単位は［ｍｍ］）とを示したものである。この表７において、座標原点は、走査範囲の中心（走査中心となるビームの入射位置）にある。
【００３９】
【表７】
2004013111.tif 000009
【００４０】
次に、ポリゴンミラーの反射面が１８０秒（３．０分）だけ倒れている状態において、上記３つのビームが表７と同じタイミングで出力されたときの走査対象面への入射位置及び走査幅を、表８に示す。なお、各入射位置の下側にある括弧内の数値は、表７の入射位置との誤差を示す。
【００４１】
【表８】
2004013111.tif 000010
【００４２】
そして、実際に受光素子６に入射するレーザービームによって水平同期が取られた場合の、走査対象面Ｓ上での同期光位置、走査線始端、終端及び走査幅について、面倒れがあるときとないときでの誤差を、表９に示す。
【００４３】
【表９】
2004013111.tif 000011
【００４４】
この表９に示されるように、既存の反射型走査光学系において、面倒れがある場合での走査線始端の位置は、面倒れがない場合での走査線始端の位置とさほど変わらない。しかしながら、面倒れがある場合での走査線終端の位置は、走査幅が拡張した分のずれの影響を受けて、１６ミクロンと大幅にずれている。このように、各走査線の終端位置が、回転多面鏡の回転に伴って変位するために、走査対象面Ｓに形成された画像の走査線終端側の輪郭には、主走査方向への揺らぎ（ジッター）が生じる。
【００４５】
【実施例】
以下に示す表１０は、受光素子６の受光面が走査対象面Ｓと同じ面に含まれると想定したときにおいて、面倒れ誤差がなかった場合での受光素子６入射レーザービーム（同期光），走査線始端書き込み用レーザービーム（始端光），及び、走査線終端書き込み用レーザービーム（終端光）の走査対象面Ｓへの入射位置（単位は［ｍｍ］）と走査幅（単位は［ｍｍ］）とを示したものである。この表１０において、座標原点は、走査範囲の中心にある。
【００４６】
【表１０】
2004013111.tif 000012
【００４７】
次に、ポリゴンミラー４の反射面が１８０秒（３．０分）だけ倒れている状態において、上記３つのビームが表１０と同じタイミングで出力された時での走査対象面Ｓへの入射位置及び走査幅を、表１１に示す。なお、各入射位置の下側にある括弧内の数値は、表１０の入射位置との誤差を示す。
【００４８】
【表１１】
2004013111.tif 000013
【００４９】
そして、実際に受光素子６に入射するレーザービームによって水平同期が取られた場合の、走査対象面Ｓ上での同期光位置，走査線始端，終端及び走査幅について、面倒れがあるときとないときでの誤差を、表１２に示す。
【００５０】
【表１２】
2004013111.tif 000014
【００５１】
表１１に示されるように、本実施形態の反射型走査光学系において、面倒れ誤差が発生しても、面倒れがなかったときに受光素子６へ入射するタイミングと同じタイミングで出力されたレーザービームが受光面を含む面内に入射する位置は、２ミクロンしかずれていない。つまり、面倒れ誤差が無いときと有るときとで、当該レーザービームの検出タイミングは殆ど変わらない。
【００５２】
なお、ｆθミラー５において、走査線を形成するレーザービームが入射する範囲は、既存のｆθミラーと同じように、副走査方向の変化に対して主走査方向の湾曲状態が変化する形状に、形成されている。そのため、面倒れ誤差により走査幅が拡大又は縮小されてしまう。しかし、走査範囲の外側且つ上流側を通るレーザービームが入射する領域は、副走査方向の高さが変化しても主走査方向の傾きがほぼ一定である形状であるので、表１２に示されるように、面倒れ誤差による走査幅の変化が、走査線の始端と終端の位置の変化としてほぼ均等に現れるようになっている。
【００５３】
これらの結果、走査対象面Ｓ上に描画された画像における走査幅終端側の輪郭が主走査方向に揺らぐ量が、既存の反射型走査光学系よりも小さくなり、画像に生じるジッターが目立たなくなる。
【００５４】
なお、図２には比較例の光学性能が、図３には実施例の光学性能が、それぞれ示されている。ここで、図２（ａ）及び図３（ａ）は、ｆθ誤差（走査対象面Ｓ上でのスポット光の理想位置からの主走査方向へのずれ）を示し、図２（ｂ）及び図３（ｂ）は、主走査方向（破線）及び副走査方向（実線）の像面湾曲（結像位置の光軸方向へのずれ）を示す。
【００５５】
ところで、図４には実施例の、図５には比較例のｆθミラーの反射面の形状における主走査方向（ｙ）への傾き（ｄｘ／ｄｙ）の値を主走査方向に沿ってプロットしてなる曲線が、副走査方向（ｚ）の各高さ（−２，−１，０，＋１，＋２）について、示されている。但し、Ｚ＝−２，−１，＋１，＋２での４曲線は、Ｚ＝０での値が減じられることによって、Ｚ＝０を基準とした変化として示されている。
【００５６】
これら図４及び図５に示されるように、受光素子６へ向かうレーザービームが入射する位置（Ｙ＝−５４）及びその近傍において、副走査方向の高さの変化に対する主走査方向への傾き（ｄｘ／ｄｙ）の変化については、比較例よりも実施例のほうが小さくなっている。
【００５７】
そして、図６には、面倒れがない反射面で動的に偏向されたレーザービームが裏面（反射面）５ｂに描く軌跡上でのｄ（ｄｘ／ｄｙ）／ｄｚをプロットしてなる曲線が、比較例及び実施例について、それぞれ示されている。
【００５８】
この図６に示されるように、受光素子６へ向かうレーザービームが入射する位置（Ｙ＝−５４）及びその近傍（曲線における破線部分）において、裏面（反射面）５ｂの形状の（ｄ（ｄｘ／ｄｙ）／ｄｚ）＝αＢＤの絶対値は、比較例（αＢＤ＝−０．９４×１０−３）よりも、実施例（αＢＤ＝−０．５７×１０−３）の方が十分小さい。
【００５９】
つまり、ｆθミラー５の裏面（反射面）５ｂにおける走査範囲の外側を通るレーザービームが入射する領域の形状を、ｄ（ｄｘ／ｄｙ）／ｄｚができるだけ小さくなる（ような形状にすることにより、当該領域を、主走査方向の傾きが副走査方向の変化に対してほぼ一定である形状に形成することができる。
【００６０】
なお、実施例と比較例の形状的特徴を数値的に比較すると、以下の表１３のようになる。
【００６１】
【表１３】
αＢＤ　　　　　αＳＯＳ　　αＢＤ／αＳＯＳ
実施例　−０．０００５７　　−０．０００４２　　　１．３５７
比較例　−０．０００９４　　−０．０００５６　　　１．６７９
【００６２】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、面倒れ誤差補正機能を有する場合においてその面倒れ誤差により生ずる走査線の終端位置の誤差を減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態による反射型走査光学系の光学構成図
【図２】本実施形態の反射型走査光学系の光学性能（（ａ）ｆθ誤差と（ｂ）像面湾曲）を示すグラフ
【図３】既存の反射型走査光学系の光学性能（（ａ）ｆθ誤差と（ｂ）像面湾曲）を示すグラフ
【図４】実施例のｆθミラーにおける副走査方向の各高さでのｄｘ／ｄｙを示すグラフ
【図５】比較例のｆθミラーにおける副走査方向の各高さでのｄｘ／ｄｙを示すグラフ
【図６】光の軌跡上での比較例と実施例とのｄ（ｄｘ／ｄｙ）／ｄｚを示すグラフ
【図７】（ａ）ｆθミラーの反射面の説明図と（ｂ）副走査方向の各高さでの主走査方向の断面形状の説明図
【図８】面倒れがあるときとないときでの走査線の始端位置と終端位置の関係を示す説明図
【符号の説明】
１　　レーザー光源
２　　コリメートレンズ
３　　アナモフィックレンズ
４　　ポリゴンミラー
４ａ　中心軸
５　　ｆθミラー
５ａ　表面（透過面）
５ｂ　裏面（反射面）
６　　受光素子
Ｓ　　走査対象面
Ａｘ　ビーム軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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