(57)【要約】【課題】信頼性の高い配線基板及びその製造方法並びに半導体装置を提供することにある。【解決手段】配線基板の製造方法は、ランド３０を有する配線２０が形成された基板１０に、ランド３０の少なくとも中央部を露出させる開口４２を有するレジスト４０を、開口４２の端部４５の第１の部分４４が基板１０の上に配置され、開口４２の端部４５の第２の部分４６がランド３０の上に配置されるように形成した状態で、ランド３０に対してメッキ処理を行うことを含む。【選択図】        図１
2004221404.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ランドを有する配線が設けられた基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記開口の端部の第１の部分が前記基板の上に配置され、前記開口の端部の第２の部分が前記ランドの上に配置されるように形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことを含む配線基板の製造方法。
【請求項２】
凹部を有する外形をなすランドを有する配線が形成された基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部が前記開口から露出するように形成することを含む配線基板の製造方法。
【請求項３】
ランドを有する配線が形成されてなる基板に、前記ランドの周縁部の一部及び中央部を露出する開口を有するレジストを、前記ランドの前記レジストに覆われた第１の辺の長さの合計が前記開口から露出した第２の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成することを含む配線基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１又は請求項３記載の配線基板の製造方法において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部が前記開口から露出するように、前記レジストを形成する配線基板の製造方法。
【請求項５】
請求項２、請求項３又は請求項３を引用した請求項４のいずれかに記載の配線基板の製造方法において、
前記レジストを形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことをさらに含む配線基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかの製造方法によって製造されてなる配線基板。
【請求項７】
基板と、
前記基板に形成された、凹部を有する外形をなすランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、を有し、
前記レジストは、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部を前記開口から露出するように形成されてなる配線基板。
【請求項８】
基板と、
前記基板に形成された、ランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、を有し、
前記レジストは、前記ランドの前記レジストに覆われた第１の辺の長さの合計が前記開口から露出した第２の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成されてなる配線基板。
【請求項９】
請求項８記載の配線基板において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部は前記開口から露出してなる配線基板。
【請求項１０】
請求項６から請求項９のいずれかに記載の配線基板を有する半導体装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の半導体装置を有する電子モジュール。
【請求項１２】
請求項１１記載の電子モジュールを有する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板及びその製造方法、半導体装置及び電子モジュール並びに電子機器に関する。
【０００２】
【発明の背景】
配線を保護すること等を目的として、配線基板に開口を有するレジストを形成することは従来から行われている技術である。そして、レジストの開口及び配線のランドの形状を調整することよって、より信頼性の高い配線基板を製造することが可能となる。
【０００３】
本発明の目的は、信頼性の高い配線基板及びその製造方法、半導体装置及び電子モジュール並びに電子機器を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明に係る配線基板の製造方法は、ランドを有する配線が設けられた基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記開口の端部の第１の部分が前記基板の上に配置され、前記開口の端部の第２の部分が前記ランドの上に配置されるように形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことを含む。本発明によれば、レジストの開口の端部の少なくとも一部は基板の上に配置される。そして、レジストと基板との密着性が高いため、レジストの開口の端部の少なくとも一部に、基板との密着性が高い部分を形成することができる。そのため、レジストと基板、あるいは、レジストとランドとの間に不純物が入り込むことを防止することができ、信頼性の高い回路基板を製造することができる。
（２）本発明に係る配線基板の製造方法は、凹部を有する外形をなすランドを有する配線が形成された基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部が前記開口から露出するように形成することを含む。本発明によれば、ランドに外接する最も小さな矩形の各辺がレジストによって覆われるため、ランドの頂点のそれぞれがレジストによって覆われる。そのため、ランドが基板からはがれにくい、信頼性の高い回路基板を製造することができる。
（３）本発明に係る配線基板の製造方法は、ランドを有する配線が形成されてなる基板に、前記ランドの周縁部の一部及び中央部を露出する開口を有するレジストを、前記ランドの前記レジストに覆われた第１の辺の長さの合計が前記開口から露出した第２の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成することを含む。
本発明によれば、ランドの外周のうちレジストに覆われた辺の長さの合計は、レジストに覆われていない辺の長さの合計よりも大きくなっている。そのため、ランドにハンダを形成する場合等に、ハンダがランドから流れ出すことを防止することが可能な、信頼性の高い配線基板を製造することができる。
（４）この配線基板の製造方法において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部が前記開口から露出するように、前記レジストを形成してもよい。
（５）この配線基板の製造方法において、
前記レジストを形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことをさらに含んでもよい。
（６）本発明に係る配線基板は、上記配線基板の製造方法によって製造されてなる。
（７）本発明に係る配線基板は、基板と、
前記基板に形成された、凹部を有する外形をなすランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、
を有し、
前記レジストは、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部を前記開口から露出するように形成されてなる。本発明によれば、ランドに外接する最も小さな矩形の各辺がレジストによって覆われるため、ランドの頂点のそれぞれがレジストによって覆われる。そのため、ランドが基板からはがれにくい、信頼性の高い回路基板を提供することができる。
（８）本発明に係る配線基板は、基板と、
前記基板に形成された、ランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、を有し、
前記レジストは、前記ランドの前記レジストに覆われた第１の辺の長さの合計が前記開口から露出した第２の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成されてなる。本発明によれば、ランドの外周のうちレジストに覆われた辺の長さの合計は、レジストに覆われていない辺の長さの合計よりも大きくなっている。そのため、ランドにハンダを形成する場合等に、ハンダがランドから流れ出すことを防止することが可能な、信頼性の高い配線基板を提供することができる。
（９）この配線基板において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部は前記開口から露出してもよい。
（１０）本発明に係る半導体装置は、上記配線基板を有する。
（１１）本発明に係る電子モジュールは、上記半導体装置を有する。
（１２）本発明に係る電子機器は、上記電子モジュールを有する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではない。なお、図１は、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板の一部拡大図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【０００６】
（配線基板）
本実施の形態に係る配線基板は、基板１０を有する。基板１０の材料は特に限定されるものではなく、有機系（例えばエポキシ基板）、無機系（例えばセラミック基板、ガラス基板）、又は、それらの複合構造（例えばガラスエポキシ基板）からなるものであってもよい。基板１０は、ポリエステル基板やポリイミド基板などのフレキシブル基板であってもよい。基板１０は、ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｆｉｌｍ）用の基板やＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）用の基板であってもよい。また、基板１０の形状や厚みについても、特に限定されるものではない。
【０００７】
配線基板は、複数の配線２０を有する。配線２０は、基板１０の一方の面に形成されてもよく、あるいは両方の面に形成されてもよい。配線２０とは、少なくとも２点の電気的な接続を図る部分を指し、独立して形成された複数の配線２０を配線パターンと称してもよい。配線２０は、単一層で構成されていてもよく、複数の層で構成されていてもよい。
【０００８】
配線２０は、ランド（パッド）３０及びランド３０に接続するライン２２からなる。ランド３０は、電子素子との電気的な接続を図るための端子であり、ライン２２は、ランド３０に電気信号を供給するための導電線である。ランド３０は、表面実装用の端子であってもよく、貫通穴を有する挿入実装用の端子であってもよい。また、図１に示すように、ランド３０は凸部３３と凹部３４とを有する外形をなしてもよい。
【０００９】
配線基板は、開口４２が形成されたレジスト４０を有する。レジスト４０は、開口４２によってランド３０の周縁部の一部及び中央部が露出するように配線２０を覆っていてもよい。また、レジスト４０は、ランド３０に外接する最も小さな矩形３２を基準として、矩形３２の各辺を覆い、ランド３０の凹部３４の一部を開口４２から露出するように形成されていてもよい。一般的に、複数の辺によって外周が形成されてなるランドは、その頂点が基板から剥離しやすい。しかし、本実施の形態に係る配線基板は、ランド３０に外接する最も小さな矩形３２の各辺がレジスト４０によって覆われるため、凸部３３がレジスト４０に覆われ、ランド３０の頂点のそれぞれがレジスト４０によって覆われることになる。そのため、ランド３０が基板１０からはがれにくい、信頼性の高い回路基板を提供することができる。なお、レジスト４０は、絶縁性を有する材料（例えば樹脂）で形成されてもよい。また、凹部３４は矩形３２の角部を避けて形成されてもよい。
【００１０】
レジスト４０は、ランド３０のレジスト４０に覆われた第１の辺３６の長さの合計が、開口４２から露出した第２の辺３８の長さの合計よりも大きくなるように、形成されていてもよい。言い換えると、ランド３０の外周のうち、開口４２から露出した辺（第２の辺３８）の長さの合計が、レジスト４０に覆われた辺（第１の辺３６）の長さの合計よりも小さくなるように、レジスト４０が形成されてもよい。レジスト４０が凸部３３と凹部３４とを有する外形をなす場合、凸部３３の一部がレジスト４０に覆われ、凹部３４の一部が開口４２から露出するように、レジスト４０が形成されてもよい。ランドの外周を形成する辺のうちレジストの開口から露出する辺の長さが長い配線基板では、その露出する辺からランドの外へハンダが流れ出すことがあった。しかし、本実施の形態に係る配線基板においては、開口４２から露出する第２の辺３８の長さの合計が、レジスト４０に覆われた第１の辺３６の長さの合計よりも短くなっている。そのため、その後の工程でランド３０に形成されるハンダが、ランド３０の外（詳しくは、開口４２から露出した基板１０の上）に流れ出しにくくなる。そのため、設計通りにハンダを形成することが可能な、信頼性の高い配線基板を提供することができる。
【００１１】
なお、配線２０には金属皮膜５０が形成されていてもよい（図３参照）。金属皮膜５０は、ランド３０の開口４２から露出した部分にのみ形成されていてもよい。金属皮膜５０は金によって形成されてもよい。
【００１２】
図３には、上述した配線基板に半導体チップ１が搭載された半導体装置１００を示す。また、図４は、半導体装置１００を有する電子モジュール１０００を示す図である。なお、電子モジュール１０００は、半導体装置１００と基板２００とを有する。基板２００は例えばガラス基板であってもよい。基板２００は、電気光学パネル（液晶パネル、エレクトロルミネセンスパネル等）の一部であってもよい。電子モジュールを有する電子機器として、図５にはノート型パーソナルコンピュータ２０００が示され、図６には携帯電話３０００が示されている。
【００１３】
（配線基板の製造方法）
以下、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板の製造方法について説明する。
【００１４】
はじめに、基板１０にランド３０を有する配線２０を形成する。配線２０は、例えば、銅箔等の金属箔を図示しない接着剤を介して基板１０に貼り付けて、フォトリソグラフィを適用した後にエッチングして形成してもよい。この場合、３層基板が構成される。あるいは、接着剤なしで配線２０を形成して２層基板を構成してもよい。例えばスパッタリングによって、配線２０を形成してもよい。あるいは、無電解メッキで配線２０を形成するアディティブ法を適用してもよい。
なお、ランド３０が凸部３３と凹部３４とを有する外形をなすように、配線２０を形成してもよい。
【００１５】
次に、基板１０に、ランド３０の少なくとも中央部を露出させる開口４２を有するレジスト４０を形成する。レジスト４０は、既に公知となっているいずれの方法（例えば、スクリーン印刷法など）で形成してもよい。レジスト４０は、開口４２の端部４５の第１の部分４４が基板１０の上に配置され、端部４５の第２の部分４６がランド３０の上に配置されるように形成してもよい。すなわち、開口４２の端部４５が、基板１０の上に配置される第１の部分４４とランド３０の上に配置される第２の部分４６とを有するように、レジスト４０を形成してもよい。この場合、第１の部分４４は基板１０に接触し、第２の部分４６はランド３０に接触する（図２参照）。なお、ランド３０が凸部３３と凹部３４とを有する外形をなしてもよく、この場合、凸部３３の一部がレジスト４０に覆われ、凹部３４の一部が開口４２から露出するように、レジスト４０を形成してもよい。
【００１６】
なお、レジスト４０を、開口４２によってランド３０の周縁部の一部及び中央部３２が露出するように形成してもよい。このとき、ランド３０は、凹部３４を有する外形をなしていてもよい。この場合、ランド３０に外接する最も小さな矩形３２を基準として、矩形３２の各辺を覆い、ランド３０の凹部３４の一部を開口４２から露出するように、レジスト４０を形成してもよい。
【００１７】
また、レジスト４０を、ランド３０のレジスト４０に覆われた第１の辺３６の長さの合計が、開口４２から露出した第２の辺３８の長さの合計よりも大きくなるように形成してもよい。このとき、ランド３０は凸部３３と凹部３４とを有する外形をなしていてもよく、レジスト４０を、凸部３３の一部がレジスト４０に覆われ、凹部３４の一部が開口４２から露出するように形成してもよい。
【００１８】
次に、基板１０にレジスト４０が形成された状態で、ランド３０に対してメッキ処理を行う。詳しくは、ランド３０のレジスト４０から露出した部分に金属皮膜５０を形成する（図３参照）。金属皮膜５０は、例えば金で形成してもよい。
メッキ処理は、電解メッキによって行ってもよい。先に説明したとおり、本実施の形態ではレジスト４０は、開口４２の端部４５が基板１０の上に配置される第１の部分４４とランド３０の上に配置される第２の部分４６とを有するように形成されている。基板１０とレジスト４０とは密着性が高いため、レジスト４０の開口４２の端部４５の少なくとも一部は、基板１０と密着性の高い部分（第１の部分４４）となる。そのため、レジスト４０と基板１０、あるいはレジスト４０とランド３０との間に不純物が入り込みにくくなる。メッキ処理工程について述べると、レジスト４０と基板１０あるいはレジスト４０とランド３０との間にメッキ液が浸透することを防止することができる。そのため、信頼性の高い配線基板を製造することができる。
【００１９】
なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果をそうする構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。
また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板を示す図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図３は、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板を有する半導体装置を示す図である。
【図４】図４は、本発明を適用した実施の形態に係る電子モジュールを示す図である。
【図５】図５は、本発明を適用した実施の形態に係る電子機器を示す図である。
【図６】図６は、本発明を適用した実施の形態に係る電子機器を示す図である。
【符号の説明】
１０  基板、  ２０  配線、  ３０  ランド、  ３４  凹部、  ３６  第１の辺、  ３８  第２の辺、  ４０  レジスト、  ４２  開口、  ４４  第１の部分、  ４５  端部、  ４６  第２の部分
【図１】
2004221404.tif 000003
【図２】
2004221404.tif 000004
【図３】
2004221404.tif 000005
【図４】
2004221404.tif 000006
【図５】
2004221404.tif 000007
【図６】
2004221404.tif 000008