(57)【要約】【課題】搬送台車による発塵の影響を容易に低減することができる生産設備ならびに搬送台車の制御方法およびその制御装置を提供する。【解決手段】生産設備１０は、第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０と、各第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０で加工された物品を他の半導体製造ラインに搬送する工程間搬送装置５０と、各第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０および工程間搬送装置５０を制御するホストコンピュータ６０とを有する。各第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０は、シリコンウエハを複数枚収納したカセットを保管するストッカＳ、およびストッカＳを搬送する搬送台車ｖを有する。この搬送台車ｖを搬送終了後、一定時間経過した後、次の搬送指示がなければ、待機位置（スペース１２ａ、１２ｂ）に移動させる。これにより、搬送台車ｖからの発塵により生産装置に与える影響を容易に低減できる。【選択図】図１
2004221277.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
清浄雰囲気内を走行する搬送台車が、ストッカと生産装置との間でウエハカセットを搬送する生産設備であって、
前記搬送台車が前記ストッカと前記生産装置のそれぞれと前記ウエハカセットの受け渡しを行う受渡位置と、
前記ウエハカセットを前記ストッカまたは前記生産設備に渡した後の前記搬送台車が待機する待機位置とを設け、前記待機位置を前記受渡位置とは、別に設けたことを特徴とする生産設備。
【請求項２】
前記受渡位置のいずれかにおける前記搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合、前記搬送台車が前記待機位置に移動することを特徴とする請求項１に記載の生産設備。
【請求項３】
前記停止時間は、前記受渡位置のいずれかにおいて前記ストッカまたは前記生産装置に前記ウエハカセットを渡した後の停止時間であることを特徴とする請求項２に記載の生産設備。
【請求項４】
清浄雰囲気内をストッカと生産装置との間でウエハカセットを搬送する搬送台車の制御方法であって、
前記ストッカおよび前記生産装置に対してそれぞれ設けられた前記搬送台車と前記ウエハカセットの受け渡しを行う受渡位置のいずれかにおける前記搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合に、前記搬送台車に対して前記受渡位置のいずれとも異なる待機位置への移動指示を行うことを特徴とする搬送台車の制御方法。
【請求項５】
清浄雰囲気内をストッカと生産装置との間でウエハカセットを搬送する搬送台車を制御する制御装置であって、
ホスト制御装置から搬送要求を受けて、前記搬送台車に対して、前記ストッカおよび前記生産装置に対してそれぞれ設けられた前記搬送台車と前記ウエハカセットの受け渡しを行う受渡位置のいずれかへの移動指示を行うとともに、
前記受渡位置のいずれかにおける前記搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合に、前記搬送台車に対して前記受渡位置のいずれとも異なる待機位置への移動指示を行うことを特徴とする制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、クリーンルームなどの清浄雰囲気内で被搬送物（被処理体）の搬送に用いられる搬送台車を有する生産設備ならびに搬送台車の制御方法およびその制御装置に関し、特に、半導体デバイス、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、および有機エレクトロルミネッセンスディスプレイなどの、清浄雰囲気内で製造される製品の、生産設備ならびに搬送台車の制御方法およびその制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイス、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、および有機エレクトロルミネッセンスディスプレイなどが製造されるクリーンルームなどの清浄雰囲気内において、物品（被搬送物）の搬送に用いられるＡＧＶ（Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｇｕｉｄｅｄ  Ｖｅｈｉｃｌｅ）やＲＧＶ（Ｒａｉｌ  Ｇｕｉｄｅｄ  Ｖｅｈｉｃｌｅ  ）などの自動搬送手段（以下、搬送台車という）は、ホストコンピュータによって制御されている。図４に、従来の半導体装置の生産設備を模式的に示す。
【０００３】
図４に示す半導体装置の生産設備１００は、３つの半導体製造ライン１１０、１２０、１３０と、被搬送物を各半導体製造ライン１１０、１２０、１３０間で搬送する工程間搬送装置１４０と、ホストコンピュータ１５０とを有する。
【０００４】
半導体製造ライン１１０は、直線上に、例えば、５台直列して配置された半導体処理装置１１２ａ乃至１１２ｅと、この半導体処理装置１１２ａ乃至１１２ｅの配列方向と平行に配置されたレールｒ上を、図中矢印Ｍで示すように、走行する搬送台車Ｖと、レールｒの一端に設けられたストッカＳとを有する。
半導体処理装置１１２ａ乃至１１２ｅは、シリコンウエハなどの基板（図示せず）に対して成膜や加工などの所定の処理を行うものである。
【０００５】
ストッカＳは、処理される基板、または半導体製造ラインでの処理を終え、他の半導体製造ラインに搬送される基板などを保管するものであり、これらの基板が複数枚まとめて収納される収納容器（カセット）を複数個収納することができる。さらに、これらの収納容器を搬送台車Ｖに渡すクレーンなどが設けられている。保管された基板（カセット）は、搬送台車Ｖにより、各半導体処理装置１１２ａ乃至１１２ｅ、または後述する工程間搬送装置１４０により他の半導体製造ライン１２０、１３０に搬送される。
【０００６】
また、半導体製造ライン１２０および半導体製造ライン１３０は、半導体製造ライン１１０に比して、それぞれ半導体処理装置１２２ａ乃至１２２ｇおよび１３２ａ乃至１３２ｆの台数が異なるとともに、処理内容も異なる。しかし、それ以外の構成は、半導体製造ライン１１０と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
【０００７】
工程間搬送装置１４０は、例えば、各半導体製造ライン１１０、１２０、１３０において処理され、ストッカＳに保管された基板が収納されたカセットを、他の半導体製造ライン１１０、１２０、１３０に搬送するものである。工程間搬送装置１４０は、カセットＣを搬送する搬送台車１４２を有し、この搬送台車１４２は所定の軌道レール１４４上を、図中矢印ｍで示すように移動する。
【０００８】
ホストコンピュータ１５０は、３つの半導体製造ライン１１０、１２０、１３０および工程間搬送装置１４０を管理するものである。ホストコンピュータ１５０は、さらに、各半導体処理装置１１２ａ乃至１１２ｅ、１２２ａ乃至１２２ｇ、および１３２ａ乃至１３２ｆの状態を監視し、生産状況に応じて、各搬送台車Ｖに搬送指示を出す。搬送台車Ｖは、ホストコンピュータ１５０の命令により、カセットを各半導体処理装置１１２ａ乃至１１２ｅなどまたはストッカＳ間で搬送し、半導体装置の生産を進める。さらに、工程間搬送装置１４０は、ホストコンピュータ１５０の命令により、各半導体製造ライン１１０、１２０、１３０のストッカＳに保管されているカセットを各ストッカＳ間で搬送する。
【０００９】
図４に示すように、搬送台車Ｖが、カセットをストッカＳと各半導体処理装置との間、または半導体処理装置の間を搬送している。この搬送台車Ｖは、ホストコンピュータ１５０から、搬送開始位置、および搬送先の搬送指示を受ける。そして、搬送終了後、搬送先となるストッカＳまたは半導体処理装置の前で、搬送台車Ｖは、ホストコンピュータ１５０から、次の搬送指示を受けるまで停止し続ける。
【００１０】
次に、搬送台車Ｖについて図５および図６を参照して説明する。図５は、従来の搬送台車Ｖを示す概略的斜視図であり、図６はその模式的平面図である。
図５に示すように、搬送台車Ｖは、レールｒ上を駆動する駆動機構（図示せず）を備えた台車本体１５６と、台車本体１５６上に垂直に設けられた昇降シャフト１５８と、昇降シャフト１５８上に設けられた、支持・搬送機構を形成する筐体１６０およびアーム１８０とを有して構成される。アーム１８０の先端には、シリコンウエハが複数枚収納されるウエハカセットＣ（以下、カセットＣという）を把持する把持部材１８４が設けられている。また、昇降シャフト１５８は、図５に矢印Ｚで示すように、上下に昇降するとともに、矢印Ｒで示すように、昇降シャフト１５８の長手方向を回転軸として、回転し、これにより、筐体１６０およびアーム１８０も昇降および回転をする。
【００１１】
また、図６に示すように、アーム１８０は、筐体１６０にシャフト１７０、１７２、１７４を介して接続されている。各シャフト１７０、１７２、１７４は、筐体１６０の側面１６０ａに形成された各穴（図示せず）に挿通されている。
また、筐体１６０は、シャフト１７０、１７２、１７４を伸縮させて、アーム１８０の間隔を変える駆動機構１６２と、アーム１８０をレールｒ側（図５参照）、すなわち、下向きにチルトさせるチルト機構１６４と、筐体１６０およびアーム１８０をＲ方向に回転させる回転機構１６６とを有する。駆動機構１６２、チルト機構１６４、および回転機構１６６は、エアシリンダまたはモータなどの駆動部品をその構成要素に含むものである。
アーム１８０の先端部には、回転軸１８２を介して把持部材１８４が設けられている。駆動機構１６２により、シャフト１７０、１７２、１７４を伸縮させ、アーム１８０をｗ方向に移動させて、把持部材１８４間の間隔を変えることによってカセットＣが挟持および開放される。これにより、カセットＣを受け渡しすることができる。
搬送台車Ｖは、マイクロコンピュータ、またはパーソナルコンピュータなどによって構成される、図示しない、制御装置を有する。この制御装置がホストコンピュータ１５０の指示に従って、台車本体１５６、昇降シャフト１５８、および筐体１６０を制御し、カセットＣの搬送および受け渡しを行う。
【００１２】
搬送台車Ｖには、エアシリンダ、およびモータなどの駆動部品が数多く用いられている。これらの駆動部品は、動作中にはもちろんのこと、停止中でも微少の発塵がある。具体的には、エアシリンダにおいては、シャフトまたは継手部分が発塵源となり、直流モータでは、ブラシ粉の拡散が発塵源となる。これらの発塵源による発塵を抑制するために、図５または図６に示すように、筐体１６０でカバーをしている。しかしながら、図６に示すように搬送台車Ｖにおいては、筐体１６０に設けられたシャフト１７０、１７２、１７４を通すための穴と、シャフト１７０、１７２、１７４との隙間から発塵してしまう。
【００１３】
このような搬送台車Ｖが、ストッカＳまたは半導体処理装置の前で、ホストコンピュータ１５０から、次の搬送指示を受けるまで停止した場合、周辺環境に対して発塵による悪影響を与える。例えば、パーティクルが処理装置内に入って、所望の成膜特性や加工精度が維持できなくなる。これにより、生産設備１００で製造される製品の歩留まりの低下を引き起こす。
【００１４】
具体的には、ストッカＳは、カセットＣの一時保管が目的のため、非常に高い洗浄度が要求されている。ストッカＳの構造にも依るが、搬送台車ＶがストッカＳを構成しているパーティションなどの壁の内側でカセットＣの取り合いを行う場合もある。このような状況下でストッカＳが搬送先であるとき、ホストコンピュータ１５０から、次の搬送指示が来ない場合には、発塵源となる搬送台車Ｖが長時間ストッカＳ内で停止することになるので、ストッカＳ内で保管しているカセットＣに異物が付着する。これにより、製品の歩留まり低下を引き起こすという問題点がある。
【００１５】
一方、搬送先が半導体処理装置である場合に、ホストコンピュータ１５０から、次の搬送指示がなく、半導体処理装置前で長時間停止してしまうと、特にクリーンルームのダウンフローを取り込むような半導体処理装置は、搬送台車Ｖからの発塵を、内部に直接取り込む結果となり、シリコンウエハに異物が付着し、製品の歩留まり低下を引き起こすという問題点がある。
【００１６】
なお、筐体１６０の隙間を完全にシールすることは難しく、シール材を用いてシールしたとしても、シール材とシャフト１７０、１７２、１７４との摺動によって発塵する可能性があるとともに、コストが嵩むという問題点もある。さらに、発塵源となる駆動機構１６２、チルト機構１６４、および回転機構１６６を頻繁に交換することにより、発塵は抑制できるが、メンテナンス時間がかかり生産性が低下するとともに、ランニングコストが嵩むという問題点がある。
【００１７】
上述の問題点を解決するために、搬送台車または半導体製造装置からの発塵による清浄度の低下を抑制するものが従来種々提案されている（特許文献１参照）。
特許文献１には、半導体製造装置が配置されるとともに、天井部から床部へ流下する清浄空気流が形成されたクリーンルームで使用されるクリーンロボットが開示されている。このクリーンルームロボットは、自律して被搬送物を搬送する走行台車と、半導体製造装置に対して被搬送物の移載作業を行う多関節型マニュピレータと、走行台車上で被搬送物を保持する載せ台とからなる。走行台車には、床部に向けて流れる空気流を形成する送風機を備える。
これにより、特許文献１においては、クリーンルームロボットが半導体製造装置に接近して停止している場合、それらの隙間に生じる気流の乱れを、強制的に送風機で流すことにより、浮遊しているパーティクルの滞留時間を短くし、周辺の清浄度を高く保つことができる。
【００１８】
【特許文献１】
特開平６−２９７３８１号公報
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１に記載の発明においては、送風機を設ける必要があるので、コストが嵩む。また、送風機自体が発塵源になる虞があるという問題点がある。
【００２０】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、搬送台車による発塵の影響を容易に低減することができる生産設備ならびに搬送台車の制御方法およびその制御装置を提供することを目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本願第１の発明は、清浄雰囲気内を走行する搬送台車が、ストッカと生産装置との間でウエハカセットを搬送する生産設備であって、前記搬送台車が前記ストッカと前記生産装置のそれぞれと前記ウエハカセットの受け渡しを行う受渡位置と、前記ウエハカセットを前記ストッカまたは前記生産設備に渡した後の前記搬送台車が待機する待機位置とを設け、前記待機位置を前記受渡位置とは、別に設けたことを特徴とする生産設備を提供するものである。
【００２２】
本発明においては、前記受渡位置のいずれかにおける前記搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合、前記搬送台車が前記待機位置に移動することが好ましい。この場合、前記停止時間は、例えば、前記受渡位置のいずれかにおいて前記ストッカまたは前記生産装置に前記ウエハカセットを渡した後の停止時間である。また、本発明においては、前記停止時間は、少なくとも前記搬送台車を管理するホスト制御装置、または前記搬送台車に設けられた制御装置により計測されることが好ましい。
【００２３】
本願第２の発明は、清浄雰囲気内をストッカと生産装置との間でウエハカセットを搬送する搬送台車の制御方法であって、前記ストッカおよび前記生産装置に対してそれぞれ設けられた前記搬送台車と前記ウエハカセットの受け渡しを行う受渡位置のいずれかにおける前記搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合に、前記搬送台車に対して前記受渡位置のいずれとも異なる待機位置への移動指示を行うことを特徴とする搬送台車の制御方法を提供するものである。
【００２４】
本発明においては、前記停止時間は、例えば、前記受渡位置のいずれかにおいて、前記ストッカまたは前記生産装置に前記ウエハカセットを渡した後の停止時間である。
【００２５】
本願第３の発明は、清浄雰囲気内をストッカと生産装置との間でウエハカセットを搬送する搬送台車を制御する制御装置であって、ホスト制御装置から搬送要求を受けて、前記搬送台車に対して、前記ストッカおよび前記生産装置に対してそれぞれ設けられた前記搬送台車と前記ウエハカセットの受け渡しを行う受渡位置のいずれかへの移動指示を行うとともに、前記受渡位置のいずれかにおける前記搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合に、前記搬送台車に対して前記受渡位置のいずれとも異なる待機位置への移動指示を行うことを特徴とする制御装置を提供するものである。
【００２６】
本発明においては、前記停止時間は、例えば、前記受渡位置のいずれかにおいて、前記ストッカまたは前記生産装置に前記ウエハカセットを渡した後の停止時間である。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る生産設備ならびに搬送台車の制御方法およびその制御装置について、添付の図面に示される好適実施例を基に詳細に説明する。
図１は、本発明の実施例に係る生産設備を示す模式図である。図１に示すように、本実施例の生産設備１０は、例えば、３つの半導体製造ライン、すなわち第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０を有するものである。図２は、図１に示す生産設備１０の第１の半導体製造ライン２０を示す模式図である。
【００２８】
図１に示すように本発明の実施例の生産設備１０は、第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０と、各第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０で加工された物品を他の半導体製造ラインに搬送する工程間搬送装置５０と、各第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０および工程間搬送装置５０を制御するホストコンピュータ（ホスト制御装置）６０とを有する。
各第１乃至第３の半導体製造ライン２０、３０、４０は、クリーンルームなどの清浄雰囲気内に設けられている。
【００２９】
本実施例の生産設備１０における工程間搬送装置５０は、図４に示す従来の生産設備１００における工程間搬送装置１４０に対応しており、搬送台車１４２および搬送台車５２と、軌道レール１４４および軌道レール５４とは、構成が同様である。
また、ホストコンピュータ６０は、図４に示す従来の生産設備１００におけるホストコンピュータ１５０に対応している。
【００３０】
また、本実施例の第１の半導体製造ライン２０は、図４に示す従来の半導体製造ライン１１０に比して、搬送台車ｖの構成、および半導体処理装置（生産装置）２２ａ乃至２２ｅの配置が異なり、それ以外の構成は、図４に示す半導体製造ライン１１０の構成と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
図１、さらに詳しくは図２に示すように、本実施例の第１の半導体製造ライン２０における半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅは、例えば、半導体処理装置２２ｂと半導体処理装置２２ｃとの間隔が従来よりも搬送台車ｖのＭ方向における長さ分以上離間して配置されている。すなわち、半導体処理装置２２ｂと半導体処理装置２２ｃとの間には、搬送台車ｖのＭ方向における長さ分以上のスペース１２ｂが設けられている。さらに、半導体処理装置２２ａのストッカＳが配置された反対側（ストッカＳよりも遠い側）にも、レールｒが延設され、搬送台車ｖのＭ方向における長さ分以上のスペース１２ａが設けられている。
【００３１】
第１の半導体製造ライン２０において、各半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅ、およびストッカＳの前がカセットＣの受渡位置であり、各スペース１２ａ、１２ｂが設けられた位置に対応するレールｒ上の位置が待機位置である。この待機位置（待機場所）とは、搬送台車ｖからの発塵の影響が、ストッカＳおよび各半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅに及ばないようにするために設けられた場所のことである。
半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅには、搬送台車ｖのＭ方向の長さを越える配置寸法を持つものもある。従って、半導体製造ライン２０を新設する場合、同じ台数の半導体処理装置を配置した従来の半導体製造ライン１２０と、全体の長さを同一にできる場合も多い。また、従来の半導体製造ライン１２０内に、半導体処理装置の配置をそのままにして、待機位置を設けることが可能な場合も多い。
【００３２】
図２に示すように、搬送台車ｖは、図５あるいは図６に示す搬送台車Ｖに、更に制御装置６２が設けられたものである。
搬送台車ｖは、ホストコンピュータ６０からの搬送指示により、レールｒ上を走行し、半導体処理装置またはストッカから他の半導体処理装置にカセットＣを供給するか、または回収する。搬送台車ｖは、ホストコンピュータ６０からの搬送指示により、さらに、任意の半導体処理装置から半導体処理装置にもカセットＣを搬送する。
制御装置６２は、従来の搬送台車Ｖの図示しない制御装置と同様に、ホストコンピュータ６０から搬送指示を受け、この搬送指示の内容に基づいて、台車本体１５６、昇降シャフト１５８、および筐体１６０内の駆動機構１６２、チルト機構１６４、および回転機構１６６を駆動させる。制御装置６２は、更に時間を計測するカウンタ（図示せず）も有する。この制御装置６２は、例えば、筐体１６０あるいは台車本体１５６に設けられる。
【００３３】
本実施例の搬送台車ｖの制御装置６２は、ホストコンピュータ６０からの搬送指示に対して、搬送指示応答をホストコンピュータ６０に返す。また、搬送台車ｖは、カセットＣを把持した場合、ピックアップ報告、すなわち、動作開始報告を制御装置６２を介してホストコンピュータ６０に出力する。さらに、搬送台車ｖは、カセットＣを開放した場合にも、セットダウン報告、すなわち、動作終了報告を制御装置６２を介してホストコンピュータ６０に出力する。また、制御装置６２は、図示しないカウンタを利用して、例えば、動作終了報告から、時間を測定し、すなわち、搬送台車ｖの停止時間を計測し、停止時間が一定時間を超えた場合に、搬送台車ｖを、スペース１２ａ、１２ｂが設けられた位置に対応するレールｒ上の待機位置のうち現在の停止位置から近い方の待機位置に移動させる。
【００３４】
ホストコンピュータ６０は、動作開始位置（搬送元）および動作終了位置（搬送先）、ならびに回収または搬送の処理内容を搬送台車ｖに搬送指示として指示する。
【００３５】
第２の半導体製造ライン３０は、第１の半導体製造ライン２０に比して、半導体処理装置３２ａ乃至３２ｇの数、および搬送台車ｖの方向Ｍにおける長さ以上の長さを持つスペース１２ａ乃至１２ｃの数、および処置内容が異なる。しかし、それ以外の構成は第１の半導体製造ラインと同様であるので詳細な説明は省略する。また、第３の半導体製造ライン４０も、第１の半導体製造ライン２０に比して、半導体処理装置４２ａ乃至４２ｇの数、および処理内容が異なるが、それ以外の構成は第１の半導体製造ラインと同様であるので詳細な説明は省略する。
【００３６】
本実施例においては、制御装置６２内にカウンタを設けて、停止時間を計測しているが、本発明は、これに限定されるものではない。搬送台車ｖの制御装置６２とは、別に、半導体製造ライン２０、３０、４０毎に時間計測手段を設けてもよい。ホストコンピュータ６０に、時間計測手段を設け、ホストコンピュータ６０によって停止時間を測定し、停止時間が一定時間を超えた場合、搬送台車ｖに待機位置に移動する命令を出すようにしてもよい。また、停止時間の測定開始時期は、特に限定されるものではない。搬送台車ｖが搬送先に到達した時点からでもよく、さらに、搬送台車ｖが搬送または回収を開始した時点からでもよい。
【００３７】
なお、本実施例の生産設備１０においては、少なくともスペース１２ａ、１２ｂに対応するレールｒが敷設された床をグレーティングにすることが好ましい。これにより、搬送台車ｖが待機しているときに、ダウンフローにより、パーティクルを逃がすことができるので、発塵の影響を効果的に低減することができる。さらに好ましくは、レールｒが敷設されている床を全てグレーティングとするとよい。これにより、ダウンフローにより、さらに一層効果的に発塵の影響を低減することができる。また、少なくともスペース１２ａ、１２ｂに対応するレールｒが敷設された床をグレーティングにすることにより、パーティクルを逃がすことができるので、ダウンフローがない場合であっても、発塵の影響を低減できる。
【００３８】
次に、本発明の搬送台車の制御方法について説明する。図３は、本発明の実施例に係る生産設備における搬送台車の制御方法を工程順に示すフローチャートである。本実施例の搬送台車の制御方法においては、ストッカＳから半導体処理装置２２ｂにカセットＣを搬送することを例に説明する。
図３のステップＳ１において、先ず、ホストコンピュータ６０（図２参照）から搬送台車ｖの制御装置６２に、ストッカＳから半導体処理装置２２ｂにカセットＣを搬送する搬送指示が入力される。
【００３９】
次に、ステップＳ２において、ホストコンピュータ６０からの搬送指示に対して、搬送台車ｖの制御装置６２が搬送指示応答する。そして、搬送台車ｖはストッカＳに移動し、ストッカＳからカセットＣを受け取る。このとき、制御装置６２は、カセットＣを受け取ったことをホストコンピュータ６０に報告する（ピックアップ報告）。そして、ステップＳ３において、カセットＣを把持しつつ、目的地である半導体処理装置２２ｂまで移動する。
【００４０】
次に、ステップＳ４において、搬送台車ｖは、半導体処理装置２２ｂの前（搬送先）で停止し、半導体処理装置２２ｂにカセットＣを渡す。このとき、カセットＣを半導体処理装置２２ｂに渡したことをホストコンピュータ６０に報告する（セットダウン報告）。
次に、ステップＳ５において、搬送台車ｖの制御装置６２から、ホストコンピュータ６０に報告した時点からの時間を、制御装置６２のカウンタで計測し、この時間を停止時間とする。この停止時間が一定時間、例えば、３０秒間、ホストコンピュータ６０から搬送指示入力を待つ。
【００４１】
ステップＳ５において、ホストコンピュータ６０から、一定時間内に、次の搬送指示があったか否かを判断し、一定時間内に次の搬送指示があると判断した場合には、ステップＳ２に戻り、搬送台車ｖは、制御装置６２により、その搬送指示内容に応じてストッカＳまたは半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅの搬送元に移動し、カセットＣを受け取り、ストッカＳまたは半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅの搬送先にカセットＣを搬送する。
一方、ステップＳ５において、一定時間内にホストコンピュータ６０から搬送指示がないと判断された場合、ステップＳ６に進み搬送台車ｖは、制御装置６２により、レールｒ上において半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅが配置されていないスペース１２ａ、１２ｂに対応する位置、すなわち、待機場所に移動する。このとき、搬送台車ｖが停止していた搬送先（半導体装置２２ｂ）から最も近い待機場所（この場合は、スペース１２ｂに対応する位置）に移動させることが好ましい。
そして、ホストコンピュータ６０から搬送指示入力があるまで、その待機場所で待機する。ホストコンピュータ６０から次の搬送指示入力があった場合、搬送台車ｖはその搬送指示に従ってカセットＣを搬送する。
【００４２】
本実施例においては、ストッカＳから半導体処理装置２２ｂにカセットＣを搬送する場合について、説明したが、本発明は、特にこれに限定されるものではない。例えば、半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅ間の搬送、および半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅからストッカＳへの搬送であっても、同様にして、搬送し、搬送終了後、その位置で一定時間、次の搬送指示入力を待つ。次に、搬送指示入力がない場合には、待機場所に搬送台車ｖを移動させる。
【００４３】
なお、ステップＳ５において、一定時間、ホストコンピュータ６０からの搬送指示入力を待つが、本実施例は、これに限定されるものではなく、制御装置６２からホストコンピュータ６０に搬送指示の有無を問い合わせ、搬送指示がない場合には、搬送台車ｖをそこから最も近い待機位置に移動させるようにしてもよい。
【００４４】
このように、本実施例においては、搬送終了後、一定時間内に、次の搬送指示がない場合には、待機場所に搬送台車ｖを移動させる。これにより、搬送終了後、搬送台車ｖが、ストッカＳまたは半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅの前に長時間停止することがなくなるので、ストッカＳおよび半導体処理装置２２ａ乃至２２ｅに対して発塵による影響を与えることなく、カセットＣを搬送することができる。従って、発塵による製品の歩留り低下を抑制することができる。さらには、発塵による影響が小さいので、搬送台車ｖのモータまたはエアシリンダなどの構成部品の交換時期を、従来の制御方法に比して延長することができる。これにより、半導体製造ラインのダウンタイムを短くすることができるとともに、ランニングコストも低減することができる。
【００４５】
なお、本発明においては、半導体装置を製造する生産設備について説明したが、本発明は、これに限定されるものではない。本発明は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、および有機エレクトロルミネッセンスディスプレイなどの製品を清浄雰囲気内（クリーンルーム内）で製造するための生産設備であれば、特に限定されるものではない。
【００４６】
以上、本発明の生産設備ならびに搬送台車の制御方法およびその制御装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施例に示したものに、特に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行ってもよいのはもちろんである。
【００４７】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように本発明の生産設備によれば、搬送台車がストッカおよび生産装置にウエハカセット（被搬送物）を受け渡す受渡位置とは異なる位置に待機位置を設けることにより、搬送台車からの発塵により生産装置に与える影響を、容易に低減できる。このため、生産装置の発塵による歩留まりの低下を抑制することができる。
【００４８】
また、本発明の搬送台車の制御方法によれば、ストッカおよび生産装置にウエハカセットを受け渡す受渡位置における搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合に、受渡位置とは異なる位置の待機位置に移動させることにより、搬送台車からの発塵により、生産装置に与える影響を容易に低減できる。このため、生産装置の発塵による歩留まりの低下を抑制することができる。
【００４９】
さらに、本発明の搬送台車の制御装置によれば、ストッカおよび生産装置にウエハカセットを受け渡す受渡位置における搬送台車の停止時間が一定時間を超えた場合に、受渡位置とは異なる待機位置への移動指示を行うことにより、搬送台車からの発塵により生産装置に与える影響を、容易に低減できる。このため、生産装置の発塵による歩留まりの低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る生産設備を示す模式図である。
【図２】図１の生産設備の第１の半導体製造ラインを示す模式図である。
【図３】本発明の実施例に係る生産設備における搬送台車の制御方法を工程順に示すフローチャートである。
【図４】従来の半導体装置の生産設備を示す模式図である。
【図５】従来の搬送台車Ｖを示す概略斜視図である。
【図６】従来の搬送台車Ｖを示す模式的平面図である。
【符号の説明】
１０、１００  生産設備
１２ａ、１２ｂ、１２ｃ  スペース
２０  第１の半導体製造ライン
２２ａ〜２２ｅ  半導体処理装置
３０  第２の半導体製造ライン
３２ａ〜３２ｇ  半導体処理装置
４０  第３の半導体製造ライン
４２ａ〜４２ｆ  半導体処理装置
５０、１４０  工程間搬送装置
５２、１４２  搬送台車
５４、１４４  軌道レール
６０、１５０  ホストコンピュータ
６２  制御装置
１１０、１２０、１３０  半導体製造ライン
１１２ａ〜１１２ｅ  半導体処理装置
１２２ａ〜１２２ｇ  半導体処理装置
１３２ａ〜１３２ｆ  半導体処理装置
１５６  台車本体
１５８  昇降シャフト
１６０  筐体
１６２  駆動機構
１６４  チルト機構
１６６  回転機構
１７０、１７２、１７４  シャフト
１８０  アーム
ｒ  レール
Ｓ  ストッカ
Ｖ、ｖ  搬送台車
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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