(57)【要約】【課題】光源装置の動作状況を円滑に把握できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置ＥＸは、光源装置Ａと、光源装置Ａからの照明光により感光基板Ｐを露光処理する露光装置本体Ｂと、露光装置本体Ｂの露光動作を制御する制御装置ＣＯＮＴと、光源装置Ａの動作状況に関する情報を制御装置ＣＯＮＴに通信する通信装置５０とを備えている。【選択図】　　　　図１
2004095785.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源装置と、前記光源装置からの照明光により感光性の基板を露光処理する露光装置本体とを備えた露光装置において、
前記露光装置本体の露光動作を制御する制御装置と、
前記光源装置の動作状況に関する情報を前記制御装置に通信する通信装置とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御装置は前記通信装置より得た前記情報に基づいて前記露光装置本体を制御することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光装置本体は前記通信装置より得た前記情報を表示する表示装置を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記動作状況に関する情報は、前記光源装置の駆動時間に関する情報、及び前記光源装置の駆動電力に関する情報を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
前記光源装置は、前記照明光を発するランプであり、
前記動作状況に関する情報は、前記ランプの点灯及び消灯に関する履歴情報と、前記ランプの点灯が安定するまでの時間情報と、前記ランプの寿命に関する情報との少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６】
前記光源装置の動作状況に関する情報に基づいて、前記感光性の基板に生じた不良発生を解析する解析装置を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
前記解析装置は、前記不良発生が生じた時間、又は該時間の前後の少なくとも一方における前記光源装置の動作状況に関する情報を表示する表示装置を有することを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
前記解析装置は、前記不良発生が生じた時間、又は該時間の前後の少なくとも一方における前記光源装置の動作状況に関する情報と、前記感光性の基板上に対する前記照明光の照射領域とを対応付けて記憶するメモリを有することを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光源装置と、光源装置からの照明光により感光性の基板を露光処理する露光装置本体とを備えた露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示デバイスや半導体デバイスを製造する際のフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、光源装置からの照明光によりマスクを照明してマスクのパターンの像を感光性の基板上に転写するものであるが、近年の高スループット化の要求に伴い、光源装置を大型化、大出力化して照明光強度を高めることにより露光時間を短縮化することが図られている。ところで、光源装置、例えば水銀ランプには寿命があるため、寿命がきたランプは新しいランプと交換される。そして、交換した新しいランプの総使用時間や寿命時期などは、光源装置に設けられたアワーメータ（時間計）の表示に基づき作業者により確認される。また、水銀ランプを用いて露光処理する際、ランプの点灯を開始してから発光状態が安定するまでにはある程度時間（例えば１５分間）がかかるため、このランプの点灯を開始してから発光状態が安定するまでの時間（以下、「安定待ち時間」と称する）が経過した後、露光処理が開始されるようになっている。この場合、安定待ち時間が経過したかどうかは、アワーメータの表示に基づき作業者により確認される。そして、作業者により安定待ち時間の経過が確認された後、露光処理が開始される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来技術には以下に述べる問題が生じる。
従来において、ランプやこのランプを駆動制御する点灯装置は、ランプからの照明光により基板を露光処理する露光処理本体とは独立して設けられていた。そして、ランプの寿命時期の確認や安定待ち時間が経過したかどうかの確認を、光源装置に取り付けられているアワーメータの表示に基づき作業者が行う構成では煩わしさがあった。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、光源装置の動作状況を円滑にモニタ・管理できる露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため本発明は、実施の形態に示す図１〜図４に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の露光装置（ＥＸ）は、光源装置（１０、Ａ）と、光源装置（１０、Ａ）からの照明光（ＥＬ）により感光性の基板（Ｐ）を露光処理する露光装置本体（Ｂ）とを備えた露光装置において、露光装置本体（Ｂ）の露光動作を制御する制御装置（ＣＯＮＴ）と、光源装置（Ａ）の動作状況に関する情報を制御装置（ＣＯＮＴ）に通信する通信装置（５０）とを備えることを特徴とする。
本発明によれば、光源装置の動作状況に関する情報を通信する通信装置を設けたので、露光装置本体側において光源装置の動作状況を円滑にモニタ・管理することができる。
【０００６】
本発明の露光装置において、制御装置（ＣＯＮＴ）は通信装置（５０）より得た情報に基づいて露光装置本体（Ｂ）を制御する構成が採用される。これによれば、制御装置は、通信装置より得た光源装置の動作状況に関する情報に基づいて光源装置の良好な発光状態のもとで精度良い露光処理を行うことができる。
【０００７】
本発明の露光装置において、露光装置本体（Ｂ）は通信装置（５０）より得た情報を表示する表示装置（６０）を備える構成が採用される。これによれば、光源装置の動作状況は表示装置の表示に基づいて確認可能となる。
【０００８】
本発明の露光装置において、動作状況に関する情報は、光源装置（１０、Ａ）の駆動時間に関する情報、及び光源装置（１０、Ａ）の駆動電力に関する情報を含む構成が採用される。これによれば、例えば駆動時間に関する情報に基づいて、光源装置の総駆動時間、ひいては光源装置の寿命時期を確認することができる。また、駆動時間に関する情報に基づいて、安定待ち時間が経過したかどうかを確認可能となる。更に、光源装置の駆動電力に関する情報をモニタすることにより、光源装置の発光状態が安定しているかどうかを確認することができる。
【０００９】
この場合において、光源装置（１０、Ａ）は、照明光（ＥＬ）を発するランプ（１）であり、動作状況に関する情報は、ランプ（１）の点灯及び消灯に関する履歴情報と、ランプ（１）の点灯が安定するまでの時間情報と、ランプ（１）の寿命に関する情報との少なくとも１つを含む構成とすることにより、このランプの動作状況をモニタすることで安定した発光状態のもとで露光処理できる。
【００１０】
本発明の露光装置において、光源装置（１０、Ａ）の動作状況に関する情報に基づいて、感光性の基板（Ｐ）に生じた不良発生を解析する解析装置（７０）を備える構成が採用される。これによれば、露光処理した基板に不良が発生した場合、通信装置を介して得た光源装置の動作状況に関する情報に基づいて不良発生を解析し、不良発生の原因が例えば光源装置にあることを特定できる。すなわち、解析装置は、光源装置の動作状況に関する情報に基づいて、例えば安定待ち時間経過前に露光処理が開始されてしまったのか、あるいは寿命がきた光源装置を用いて露光処理が行われてしまったのか、といったことを把握でき、これに基づいて不良発生の原因や不良発生が生じた時間などを解析することができる。
【００１１】
この場合において、解析装置（７０）は、不良発生が生じた時間、又は該時間の前後の少なくとも一方における光源装置（１０、Ａ）の動作状況に関する情報を表示する表示装置（６０）を有する構成が採用される。これによれば、不良発生が生じた時間やその時間の前後における光源装置の動作状況が表示装置により表示されるので、表示装置の表示結果に基づいて不良発生の原因や発生時期などを特定でき、これに対して適切な処置を施すことができる。
【００１２】
また、この場合において、解析装置（７０）は、不良発生が生じた時間、又は該時間の前後の少なくとも一方における光源装置（１０、Ａ）の動作状況に関する情報と、感光性の基板（Ｐ）上に対する照明光（ＥＬ）の照射領域とを対応付けて記憶するメモリを有する構成が採用される。これによれば、基板上を複数の照射領域で露光処理する場合において、複数の照射領域のうち特定の照射領域に不良が発生した場合、メモリに記憶してある、照射領域の位置情報に対応する光源装置の動作状況に関する情報に基づいて不良発生原因を解析できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の露光装置について図面を参照しながら説明する。図１は本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
図１において、露光装置ＥＸは、光源装置Ａと、光源装置Ａからの照明光により感光性の基板（感光基板）Ｐを露光処理する露光装置本体Ｂとを備えている。光源装置Ａは、照明光を射出する光源１０と、この光源１０を駆動制御する点灯装置３０とを備えている。露光装置本体Ｂは、パターンが形成されたマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、光源１０からの照明光（露光光）でマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を感光基板Ｐに転写する投影光学系ＰＬと、露光装置本体Ｂの露光動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。マスクＭのパターン形成面（所定面）と感光基板Ｐの露光処理面（所定面）とは投影光学系ＰＬに関して共役な位置関係にある。
【００１４】
光源１０は、発光部である陰極及び陽極を有する超高圧水銀ランプ１と、水銀ランプ１から射出した光を反射集光する楕円鏡２とを備えている。水銀ランプ１は楕円鏡２のほぼ第１焦点付近に設けられている。本実施形態では、水銀ランプ１の陽極が楕円鏡２の第２焦点から遠い側、陰極が第２焦点側になるように、また陰極と陽極とを結ぶ線が第１焦点と第２焦点とを結ぶ線とほぼ一致するように設けられている。水銀ランプ１から射出した光は楕円鏡２により楕円鏡２の第２焦点付近に集光する。水銀ランプ１はこの水銀ランプ１の位置を調整する保持部４０に保持されている。水銀ランプ１は保持部４０により楕円鏡２とは独立に保持されている。この保持部４０は水銀ランプ１をＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向に移動可能となっており、水銀ランプ１の楕円鏡２に対する相対的な、あるいは照明光学系ＩＬに対する相対的な位置決めが可能となっている。そして、保持部４０を駆動することにより、水銀ランプ１はＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向へ移動することができ、楕円鏡２（照明光学系ＩＬ）に対して位置決め可能となる。
【００１５】
照明光学系ＩＬは、光源１０から射出した光のうち露光光ＥＬとしての波長を有する光を照明対象であるマスクＭの方向へ反射しその他の一部の波長の光を透過するダイクロイックミラー３と、楕円鏡２の第２焦点付近に配置されダイクロイックミラー３で反射した光の光路を遮蔽・開放するシャッタ４と、シャッタ４の位置に結像した水銀ランプ１からの光を平行光にするコリメータレンズ５と、コリメータレンズ５を通過した光のうち所定の波長光（本実施形態ではｉ線（３６５ｎｍ））を選択的に透過する波長選択フィルタ（干渉フィルタ）６と、射出面に２次光源を形成するオプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ７と、フライアイレンズ７の光路下流側に設けられたフィールドレンズ８と、フィールドレンズ８を通過した露光光ＥＬの大部分（全光量の例えば９７％）を透過するとともに残り部分（３％）を反射するハーフミラー９と、ハーフミラー９を透過した露光光ＥＬが入射するリレーレンズ１０と、リレーレンズ１０の光路下流側に設けられ、その開口部を可変とする視野絞りとしてのブラインド部１１と、マスクＭを均一な照度で照明するコンデンサレンズ１２と、コンデンサレンズ１２からの露光光ＥＬの向きを変えてマスクＭに導く折り曲げミラー１３とを備えている。シャッタ４、コリメータレンズ５、干渉フィルタ６、フライアイレンズ７、フィールドレンズ８、ハーフミラー９、リレーレンズ１０、ブランド部１１、及びコンデンサレンズ１２はダイクロイックミラー３で反射した光（露光光ＥＬ）の光路上に配置されている。
【００１６】
マスクステージＭＳＴは２次元方向（ＸＹ方向）に移動可能に設けられておりマスクステージＭＳＴのＸＹ方向の位置はレーザ干渉計１６により検出される。レーザ干渉計１６の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴはレーザ干渉計１６の検出結果に基づいてマスクステージ駆動部ＭＳＴＤを駆動し、マスクＭを支持したマスクステージＭＳＴの位置調整をする。基板ステージＰＳＴもＸＹ方向に移動可能に設けられており基板ステージＰＳＴのＸＹ方向の位置はレーザ干渉計１７により検出される。レーザ干渉計１７の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴはレーザ干渉計１７の検出結果に基づいて基板ステージ駆動部ＰＳＴＤを駆動し、感光基板Ｐを支持した基板ステージＰＳＴの位置調整をする。すなわち、制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計１７の検出結果に基づいて、感光基板Ｐ上の複数の露光領域（ショット領域）のうち、どの露光領域に露光光が照射されているかを計測することができる。
【００１７】
ハーフミラー９から分岐した一部の露光光ＥＬは受光器１５に導かれる。受光器１５の受光面はマスクＭ（感光基板Ｐ）と略共役な位置に設けられており、ハーフミラー９から分岐した一部の露光光ＥＬを受光する。この受光器１５は受光した結果に基づいて感光基板Ｐに対する積算露光量を算出する露光量モニタ（インテグレータセンサ）であり、積算露光量を常時監視可能である。制御装置ＣＯＮＴは、受光器１５による積算露光量のモニタの結果に基づいて、感光基板Ｐを露光するための目標積算露光量になるように、シャッタ４の開閉を制御する。
【００１８】
ブラインド部１１はハーフミラー９より光路下流側においてマスクＭに対して共役な位置に設けられており、露光光ＥＬを通過させる可変の開口部を有している。ブラインド部１１の開口部の大きさの調整は制御装置ＣＯＮＴにより行われ、制御装置ＣＯＮＴはブラインド部１１の開口部の大きさを調整することによりマスクＭに対する露光光ＥＬの照明領域を設定する。そして、制御装置ＣＯＮＴは開口部を閉じることにより露光光ＥＬの光路を遮断してマスクＭ及び投影光学系ＰＬに対する露光光ＥＬの照射を遮蔽可能となっている。一方、制御装置ＣＯＮＴは開口部を開けることにより露光光ＥＬの光路を開放してマスクＭ及び投影光学系ＰＬに対して露光光ＥＬを照射する。
【００１９】
露光装置ＥＸは水銀ランプ１の位置を確認・表示するためのモニタ装置２０を備えている。図１において、モニタ装置２０は、ダイクロイックミラー３を透過した光の光路中のうち楕円鏡２のほぼ第２焦点の位置に設けられたリレーレンズ２１と、リレーレンズ２１を通過した光を偏向する反射ミラー２２と、反射ミラー２２からの光が入射するフィールドレンズ２３と、結像レンズ系２４と、モニタ部２５とを備えている。結像レンズ系２４は２系統の組み合わせレンズにより構成されている。これら２系統の組み合わせレンズはフィールドレンズ２３の光軸の方向からモニタ部を見たときに、その光軸まわりに９０°の角度ピッチで光軸から等距離に配置されている。そして、ダイクロイックミラー３を透過した光は反射ミラー２２で反射し、フィールドレンズ２３及び結像レンズ系２４を通過し、モニタ部２５上に光源像（光源１０のうち水銀ランプ１の像）を投影する。
【００２０】
光源１０はランプハウス（ハウジング部、ダクト）Ｈに収容されている。本実施形態において、ハウジング部Ｈは、光源１０と、照明光学系ＩＬの一部であるダイクロイックミラー３、シャッタ４、及びコリメータレンズ５と、モニタ装置２０とを収容している。
【００２１】
光源１０の駆動制御は点灯装置３０により行われる。点灯装置３０は、光源１０（水銀ランプ１）に対して入力する駆動電力を設定する電力制御部３１と、電力制御部３１で設定した駆動電力に関する情報に基づいて光源１０に電力を供給する電力ドライバ部３２とを備えている。電力制御部３１は操作盤などからなる操作入力部３３に接続しており、操作入力部３３は、所定値の電力を水銀ランプ１に入力するように指令する指令信号を電力制御部３１に対して入力する。電力制御部３１は操作入力部３３からの指令信号に基づいて、光源１０に対して入力する駆動電力の値を設定し、この設定値に基づいて電力ドライバ部３２に制御信号を送る。なお、電力制御部３１に対する指令信号は操作入力部３３によらずに露光装置本体Ｂの制御装置ＣＯＮＴから入力してもよい。
【００２２】
電力ドライバ部３２は電力制御部３１で設定した設定値に基づく電力をスタータ３４に送る。スタータ３４は点灯装置３０からの電力に基づき水銀ランプ１を始動（点灯）するものであってハウジング部Ｈの外側に設けられている。スタータ３４と点灯装置３０（電力ドライバ部３２）とは電力供給線３５により接続されており、電力ドライバ部３２からの電力は電力供給線３５を介してスタータ３４に送られる。また、スタータ３４と水銀ランプ１とは電力供給線３６により接続されている。したがって、点灯装置３０からの水銀ランプ１に対する入力電力（駆動電力）は、電力供給線３５、スタータ３４、及び電力供給線３６を介して水銀ランプ１に供給される。
【００２３】
点灯装置３０はマイクロプロセッサなどからなる処理部３７を備えている。処理部３７は電力制御部３１に接続しており、水銀ランプ１の駆動時間（点灯時間）、及び水銀ランプ１に対して入力する駆動電力など水銀ランプ１の動作状況に関する情報をモニタする機能、及び前記情報を記憶保持する機能を有している。
【００２４】
光源装置Ａの処理部３７と露光装置本体Ｂの制御装置ＣＯＮＴとは、通信装置５０を介して接続されている。なお、通信装置５０と処理部３７とは点灯装置３０に設けられたインターフェース部３８を介して接続されている。通信装置５０は、例えば、ＬＡＮ（ローカルエリアネットワーク）により構成されている。そして、処理部３７からは、光源１０（水銀ランプ１）の動作状況に関する情報が通信装置５０を介して制御装置ＣＯＮＴに通信される。制御装置ＣＯＮＴは通信装置５０で得た情報に基づいて露光装置本体Ｂを制御するようになっている。また、露光装置本体Ｂには、制御装置ＣＯＮＴに接続し、通信装置５０より得た光源１０の動作状況に関する情報を表示する表示装置６０が設けられている。このような構成により、光源装置Ａの動作状況を露光装置本体Ｂ側で集中管理できるようになっている。
【００２５】
図２は、光源装置Ａより通信装置５０を介して露光装置本体Ｂの制御装置ＣＯＮＴに通信される情報を模式的に示した図である。
図２に示すように、通信装置５０は、光源装置Ａの動作状況に関する情報を通信する。具体的には、通信装置５０は、光源１０の駆動時間（点灯時間）に関する情報、及び光源１０の駆動電力に関する情報を通信する。
【００２６】
光源１０の駆動時間に関する情報は、水銀ランプ１の点灯及び消灯に関する履歴情報、水銀ランプ１の点灯を開始後水銀ランプ１の発光状態が安定するまでの時間である安定待ち時間情報、及び水銀ランプ１の寿命に関する情報を含む。
水銀ランプ１の点灯及び消灯に関する履歴情報は、点灯動作及び消灯動作を行った回数及びこのときの点灯時間及び消灯時間に関する情報を含む。
水銀ランプ１の寿命に関する情報は、水銀ランプ１の総点灯時間、及び水銀ランプ１に入力された電力に関する情報を含む。
【００２７】
光源１０の駆動電力に関する情報は、水銀ランプ１に対して供給入力した電力値、水銀ランプ１での電圧値あるいは電流値をモニタしたモニタ値を含む。また、光源１０の駆動電力に関する情報は、感光基板Ｐを露光処理する露光領域（照射領域）に対応付けられる。すなわち、感光基板Ｐ上の各露光領域の位置情報をレーザ干渉計１７の検出結果に基づいて求め、その検出結果と、駆動電力に関する情報とが対応付けられる。
【００２８】
制御装置ＣＯＮＴには、通信装置５０を介して通信された情報に基づいて、感光基板Ｐに生じた不良発生を解析する解析装置７０が設けられている。解析装置７０は、光源１０の動作状況に関する情報に基づいて、露光処理された感光基板Ｐに不良が発生している場合、この不良発生を解析し、原因を特定する。
例えば、制御装置ＣＯＮＴは、通信装置５０を介して光源１０の動作状況のうち水銀ランプ１での電圧値をモニタ可能であるが、水銀ランプ１の安定待ち時間経過前に露光処理が行われたり、なんらかの原因で水銀ランプ１の発光状態が不安定な状態で露光処理が行われた場合、感光基板Ｐには露光不良が発生する。そして、安定待ち時間経過前や発光状態が不安定な状態においては水銀ランプ１の電圧のモニタ値は変動する。解析装置７０はこの変動するモニタ値を通信装置５０及び制御装置ＣＯＮＴを介してモニタ可能であるため、感光基板Ｐに露光不良が発生した場合には、前記モニタ値に基づいて、不良発生の原因が水銀ランプ１の電圧値の変動（すなわち、射出された照明光の照度変動）であると解析し、特定する。あるいは、解析装置７０は、水銀ランプ１の寿命に関する情報に基づいて、不良発生の原因は、水銀ランプ１の寿命による照度低下であることを特定し、感光基板Ｐに生じた不良発生を解析する。
【００２９】
また、解析装置７０は、電圧値の変動（照度の変動）を常時モニタ可能であるため、電圧値の変動が発生した時間を特定し、これを解析することにより感光基板Ｐに不良発生が生じた時間を特定する。そして、解析装置７０は、この不良発生が生じた時間、あるいは不良発生が生じた前後の時間における電圧値情報を表示装置６０に表示する。すなわち、解析装置７０は、感光基板Ｐに露光不良が発生した時間やその前後の時間における光源１０の動作状況に関する情報を表示装置７０に表示するようになっている。
【００３０】
また、解析装置７０はメモリを有しており、感光基板Ｐの複数の露光領域のそれぞれに露光光が照射されている間の光源１０の動作状況に関する情報（駆動電力に関する情報）を、露光光が照射されている露光領域の位置に対応付けてメモリに記憶する。そして、解析装置７０は、感光基板Ｐの複数の露光領域のうち、特定の露光領域に不良が発生した場合に、その特定の露光領域の位置情報に対応する光源１０の駆動電力に関する情報に基づいて、不良発生原因を解析する。
【００３１】
なお、この解析装置７０は露光装置本体Ｂの制御装置ＣＯＮＴに設けられている必要はなく、光源装置Ａの点灯装置３０に設けられていてもよい。光源装置Ａ側に解析装置７０が設けられている場合、解析装置７０は処理部３７より光源１０の動作状況に関する情報を得ることができ、この得た情報に基づいて感光基板Ｐに生じた不良発生を解析する。そして、解析結果は通信装置５０を介して制御装置ＣＯＮＴに通信され、表示装置６０に表示される。
【００３２】
次に、上述した露光装置ＥＸの動作について説明する。
制御装置ＣＯＮＴにより露光処理の開始が指令されると、操作入力部３３より電力制御部３１に対して水銀ランプ１を発光させるための駆動電力に関する指令信号が入力される。電力制御部５１は電力ドライバ部３２により水銀ランプ３２に電力を供給し、水銀ランプ１を点灯させる。
【００３３】
ここで、処理部３７は、水銀ランプ１の点灯を開始してからの経過時間に関する情報を通信装置５０を介して制御装置ＣＯＮＴに出力する。制御装置ＣＯＮＴはこの情報を表示装置６０に表示する。そして、制御装置ＣＯＮＴは、予め実験的に求められている水銀ランプ１の安定待ち時間が経過したら、露光処理動作を開始する。あるいは、処理部３７は通信装置５０を介して水銀ランプ１の電圧のモニタ値を制御装置ＣＯＮＴに通信可能であるため、制御装置ＣＯＮＴは、水銀ランプ１の電圧値が安定したら（電圧値の変動幅が所定範囲内におさまったら）、水銀ランプ１の発光状態が安定したと判断し、露光処理動作を開始するようにしてもよい。
【００３４】
露光処理中においては、制御装置ＣＯＮＴは通信装置５０で得た情報に基づいて、光源１０の動作（発光状態）が安定しているかどうかを確認することができる。例えば、水銀ランプ１の電圧のモニタ値が安定していれば（電圧の変動幅が所定範囲内にあれば）露光処理を継続する。一方、電圧のモニタ値が不安定となって水銀ランプ１の発光状態が不安定であると判断したら、制御装置ＣＯＮＴは、例えば、発光状態が不安定である旨を表示装置６０に表示する。この表示装置６０の表示により、作業者は光源装置Ａに異常が発生した、あるいは水銀ランプ１が寿命となったことを確認でき、ランプ交換など適切な処置を施すことができる。　更にこの場合、水銀ランプ１の電圧のモニタ値が大きく変動して不安定となった場合には、制御装置ＣＯＮＴは表示装置６０にエラー情報を表示し、露光処理動作を中止することができる。これにより、感光基板Ｐの不良発生を最小限に抑えることができる。
また、制御装置ＣＯＮＴは、通信装置５０を介して水銀ランプ１の寿命が近づいたことを認識したら、例えば表示装置６０に交換時期が近づいたことを知らせる自動メッセージを表示することができる。これにより、適切な時期にランプ交換を効率良く行うことができる。
【００３５】
以上説明したように、光源装置の動作状況に関する情報を通信する通信装置を設けたので、露光装置本体側において光源装置の動作状況を集中管理でき、動作状況を常時モニタ可能となる。したがって、ランプ交換時期を効率良く行うことができたり、安定した発光状態のランプを用いて露光処理することができ、不良基板の発生を未然に防ぐことができる。
【００３６】
なお、図３に示すように、例えば１つの工場において複数台の露光装置が設置されている場合には、複数の露光装置のそれぞれをオンラインホストコンピュータＣＰで接続し、複数台の露光装置それぞれにおける光源装置の動作状況に関する情報をオンラインホストコンピュータＣＰで集中管理するようにしてもよい。
【００３７】
なお、本実施形態の露光装置ＥＸとして、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを露光する走査型の露光装置に適用することができる。あるいは、本実施形態の露光装置ＥＸとして、マスクＭと感光基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し感光基板Ｐを順次ステップ移動するステップ・アンド・リピート型の露光装置にも適用することができる。
【００３８】
本実施形態の露光装置ＥＸとして、投影光学系ＰＬを用いることなくマスクＭと感光基板Ｐとを密接させてマスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用することができる。
【００３９】
露光装置ＥＸの用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
【００４０】
本実施形態の露光装置ＥＸの光源は、ｉ線（３６５ｎｍ）のみならず、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）でもよい。更には、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）を用いることもできる。
【００４１】
投影光学系ＰＬの倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればいい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。
【００４２】
基板ステージＰＳＴやマスクステージＭＳＴにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。
【００４３】
ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニット（永久磁石）と電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。
【００４４】
基板ステージＰＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００４５】
マスクステージＭＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００４６】
半導体デバイスは、図４に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板（ウエハ、ガラスプレート）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板に露光する基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００４７】
【発明の効果】
光源装置の動作状況に関する情報を通信する通信装置を設けたので、露光装置本体側において光源装置の動作状況を集中管理できる。そして、光源装置の動作状況を常時モニタ可能であるので、安定した発光状態の光源装置を用いて精度良い露光処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】通信装置で通信される情報を示す模式図である。
【図３】複数の露光装置がホストコンピュータを介して接続されている状態を説明するための図である。
【図４】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
１…水銀ランプ（ランプ）、１０…光源（光源装置）、５０…通信装置、
６０…表示装置、７０…解析装置、Ａ…光源装置、Ｂ…露光装置本体、
ＣＯＮＴ…制御装置、ＥＬ…露光光（照明光）、ＥＸ…露光装置、
Ｐ…感光基板（感光性の基板）
【図１】
2004095785.tif 000003
【図２】
2004095785.tif 000004
【図３】
2004095785.tif 000005
【図４】
2004095785.tif 000006