(57)【要約】【課題】チャンバー開放時に有毒フッ化物が発生しにくくなるドライエッチング装置のクリーニング方法等を提供すること。【解決手段】図２は、この実施の形態２に係るドライエッチング装置のクリーニング方法を示す説明図である。最上段左側はエッチングチャンバー９に反応性気体１０を導入することを示している。同段右側は、その次の工程として、有毒フッ化物を排出する工程を示している。同図中段は、上記二工程を繰り返すことを示しており、同図下段左側は、上記繰り返し工程の最後に、エッチングチャンバー９内に窒素２０を導入し、充満させることを示している。こららの工程は制御装置で自動的に実行される。この発明に係るクリーニング方法によれば、上記窒素２０の導入によって、開放前のエッチングチャンバー内には有毒フッ化物がない状態となっているので、安心して開放することもできる。【選択図】　　　　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングプロセスガスに含まれるフッ素系ガス及びその生成物に対して反応性を有する気体をドライエッチングチャンバー内に導入する工程と、
前記ドライエッチングチャンバー内における前記反応性を有する気体と、フッ化物たるエッチング反応生成物との化合物を真空引きする工程と、
を有し、
制御装置によって前記二工程を順に繰り返すことを特徴とするドライエッチング装置のクリーニング方法。
【請求項２】
前記エッチングプロセスガスに含まれるフッ素系ガス及びその生成物に対して反応性を有する気体は、水素であることを特徴とする請求項１に記載のドライエッチング装置のクリーニング方法。
【請求項３】
前記エッチングプロセスガスに含まれるフッ素系ガス及びその生成物に対して反応性を有する気体は、水蒸気であることを特徴とする請求項１に記載のドライエッチング装置のクリーニング方法。
【請求項４】
前記エッチングプロセスガスに含まれるフッ素系ガス及びその生成物に対して反応性を有する気体は、水分を含む気体であることを特徴とする請求項１に記載のドライエッチング装置のクリーニング方法。
【請求項５】
前記エッチングプロセスガスに含まれるフッ素系ガス及びその生成物に対して反応性を有する気体は、空気であることを特徴とする請求項１に記載のドライエッチング装置のクリーニング方法。
【請求項６】
前記制御装置によって前記二工程を繰り返す最後には、前記エッチングチャンバー内に窒素を導入することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載のドライエッチング装置のクリーニング方法。
【請求項７】
前記反応性気体を導入する工程は、エッチング反応生成物の排出手段で導入することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載のドライエッチング装置のクリーニング方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一つに記載のドライエッチング装置のクリーニング方法を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一つに記載のドライエッチング装置のクリーニング方法をコンピュータで実現するためのプログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造方法およびそれをコンピュータで実現するためのプログラムに関し、更に詳しくは、ドライエッチング装置のドライエッチングチャンバー開放時に有毒フッ化物が発生しにくくなるドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造方法およびそれをコンピュータで実現するためのプログラムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来技術を説明するために、ここでは、ドライエッチング装置の例としてプラズマドライエッチング装置について説明する（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照。）。プラズマドライエッチングは、一定圧に保ったエッチングプロセスガスを高周波が流される電極付近でプラズマ化し、それによって発生するイオンを電極上のエッチング対象に衝突させることにより行うものである。この動作原理により、エッチング対象に衝突したイオンは、当該対象と化学反応を起こして気化し、当該対象から取り除かれる。
【０００３】
上記気化した反応生成物の大部分は、ポンプによる排出工程を経てチャンバー外に排出されるが、その一部は、当該対象付近をはじめ、エッチングチャンバー内に飛び散り、付着してしまう。このため、ドライエッチング装置は、そのチャンバーを定期的にクリーニングして用いられている。チャンバーのクリーニングは、単に開放して付着物を取り除くという作業はできない。なぜなら、エッチングガスがフッ素系（ＳＦ６、ＣＦ４＋Ｏ２、ＣＨＦ３、Ｃ４Ｆ８等）である場合、上記反応生成物は、空気中の水分に曝されるとＨＦという有毒ガスを発生するからである。
【０００４】
そこで、従来、エッチング装置のチャンバーでは、サイクルパージという工程によってクリーニングされていた。このサイクルパージは、チャンバー内を真空にした後、窒素を導入して大気圧にし、上記反応物と混合させ、再び真空引きするサイクルを複数回行うという工程である。なお、窒素は、それ自体が化学反応をするわけではなく、反応生成物の追い出し、混合、または置換を目的とするものである。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−４３２７９号公報（第３頁、［図１］）
【特許文献２】
特開２００２−４３２８０号公報（第３頁、［図１］）
【特許文献３】
特開２００２−１６４３２１号公報（第２頁―第３頁、［図１］）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のサイクルパージでは、反応生成物と窒素との混ざり合いが悪く、反応生成物（デポ物）の置換、排出効率が悪かった。このため、上記サイクルパージ終了後にチャンバーを開放すると、チャンバー内に残留していた反応生成物が空気に曝され、高濃度の有毒ガスが発生するという問題点があった。
【０００７】
ＨＦといった有毒ガスは一定基準以上の濃度で発生すると、そこにいる作業員の身体に対して有毒である。したがって、ドライエッチングに携わる作業員にとっては効率よくチャンバー内の内部反応物を取り除く手段が強く望まれていた。
【０００８】
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ドライエッチング装置のドライエッチングチャンバー開放時に有毒フッ化物が発生しにくくなるドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造方法およびそれをコンピュータで実現するためのプログラムを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、本発明に係るドライエッチング装置のクリーニング方法は、エッチングプロセスガスに含まれるフッ素ガスとその生成物に対して反応性を有する気体をドライエッチングチャンバー内に導入する工程と、前記ドライエッチングチャンバー内における前記反応性を有する気体と、フッ化物たるエッチング反応生成物との化合物を真空引きする工程と、を有し、制御装置によって前記二工程を順に繰り返すようにしたものである。
【００１０】
本発明は、エッチングプロセスガスに含まれるフッ素ガスとその生成物に対して反応性を有する気体を当該ドライエッチングチャンバー内に導入する工程を有する。これにより、当該チャンバー内に付着したフッ化物たるエッチング反応生成物と、導入された反応性気体とを積極的に反応させ、新たなフッ化物を生成させる。
【００１１】
また、本発明は、前記ドライエッチングチャンバー内における反応性気体とエッチング反応生成物との化合物を、真空引きして排出する工程を有する。これにより、有毒フッ化物たる当該化合物が排出される。これらの工程を順に繰り返せば、有毒フッ化物を効率よく排除することができる。ここで、上記反応性気体の例としては、水素、水蒸気、水分を含む気体、又は空気などが挙げられる。
【００１２】
また、この発明では、制御装置によって前記二工程が順に繰り返されるので、ドライエッチング装置のクリーニングに携わる作業員は、それぞれの工程を手動で行うことなく、簡単な操作で当該クリーニングを行うことができる。
【００１３】
また、本発明に係るドライエッチング装置のクリーニング方法は、前記ドライエッチング装置のクリーニング方法において、前記エッチングプロセスガスに含まれるフッ素に対して反応性を有する気体を、水素、水蒸気、又は水分を含む気体としたものである。
【００１４】
ドライエッチングチャンバー内に導入される水素等は、エッチング反応生成物と反応して有毒なＨＦ等となる。この発明では、このＨＦ等有毒フッ化物の排出、真空引きを繰り返し、当該有毒フッ化物を効率よく排除する。なお、水素の取扱いは特に慎重を期す必要があるので、上記導入される水素は他の元素との混合物としてもよい。
【００１５】
また、本発明に係るドライエッチング装置のクリーニング方法は、前記ドライエッチング装置のクリーニング方法において、前記エッチングプロセスガスに含まれるフッ素に対して反応性を有する気体を、空気としたものである。
【００１６】
ドライエッチングチャンバー内に導入される空気は、水分を含んでいるので、エッチング反応生成物と反応して有毒なＨＦ等となる。この発明では、このＨＦ等有毒フッ化物の排出、真空引きを繰り返し、当該有毒フッ化物を効率よく排除する。
【００１７】
また、本発明に係るドライエッチング装置のクリーニング方法は、前記ドライエッチング装置のクリーニング方法において、前記制御装置によって前記二工程を繰り返す最後には、前記エッチングチャンバー内に窒素を導入するようにしたものである。
【００１８】
エッチング装置のエッチングチャンバーのクリーニング後には、エッチングチャンバーを開放するのが一般的である。この発明では、反応性気体を導入する工程と、当該反応性気体とエッチング反応生成物との化合物を排出する工程とを繰り返す工程の最後として、エッチングチャンバー内に窒素を導入する。
【００１９】
つまり、それまでの繰り返し工程では、エッチングチャンバー内に積極的に有毒フッ化物を発生させて、その後排出していたが、最後は当該チャンバー内に付着しているエッチング反応生成物と反応しない窒素を導入して当該チャンバー内を大気圧にする。これにより、開放前のエッチングチャンバー内には有毒フッ化物がない状態になる。
【００２０】
また、本発明に係るドライエッチング装置のクリーニング方法は、前記ドライエッチング装置のクリーニング方法において、前記反応性気体を導入する工程は、エッチング反応生成物の排出手段で導入するようにしたものである。
【００２１】
ドライエッチング装置には、エッチング反応生成物を排出する配管等の手段を有しているのが普通である。この発明では、この排出手段から逆に反応性気体を導入することを特徴とする。（反応性気体の導入前は、真空引きしている状態なので、当該反応性気体は容易にエッチングチャンバー内に導入される。）これにより、余計な配管等が不要になり、コストを抑えたドライエッチング装置のクリーニングができる。
【００２２】
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、前記ドライエッチング装置のクリーニング方法を用いるようにしたものである。
【００２３】
また、本発明に係るプログラムは、前記ドライエッチング装置のクリーニン方法をコンピュータで実現するようにしたものである。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、この実施の形態の構成要素には、当業者が置換可能かつ容易なもの、或いは実質的に同一のものを含む。
【００２５】
（実施の形態１）
図１は、この発明に係るドライエッチング装置を示す説明図である。この発明の実施の形態は、エッチングプロセスガス（以下エッチングガスという。）１を導入する手段と、当該エッチングガス１と基板被膜との反応によって生じるエッチング反応生成物を排出する手段と、を有するドライエッチング装置Ｃに関するものである。
【００２６】
エッチングガス１を導入する手段は、弁２を有する配管３が用いられ、当該弁２の開閉によってガスの流通を制御する。エッチング反応生成物を排出する手段には、上記と同様に弁４を有する配管５が用いられ、必要なときに反応ガスの排気が行われる。また、プラズマエッチングでは、プラズマを発生させやすくするためにエッチングチャンバー９の中を減圧し、真空引きする手段が必要になる。そのため、弁６を有する配管７のさきに真空ポンプ８が設けられる。なお、同図では、エッチング反応生成物を排出する配管５とチャンバー内を真空引きする配管７を別々としたが、真空ポンプ８を用いてエッチング反応生成物を排出するようにしてもよい。このようにして、プラズマエッチングは行われる。
【００２７】
ところで、エッチングに用いるエッチングガスは、取り除く皮膜の種類によって様々なものがあるが、皮膜がＳｉ，ＰｏｌｙＳｉ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｗ等では、フッ素系（ＳＦ６、ＣＦ４＋Ｏ２、ＣＨＦ３、Ｃ４Ｆ８等）が用いられる。したがって、エッチング反応生成物もフッ化物となり、上記にように排出する配管５は有していても、エッチングを何回も繰り返すうちにエッチングチャンバー９内には、当該エッチング反応生成物が付着してしまう。
【００２８】
そこで、定期的なクリーニングが必要になるわけだが、上記フッ化物が上記チャンバー９内に残っているときに、クリーニングとして当該チャンバー９を開放すれば、空気中の水分と反応し、有毒フッ化物ガスがドライエッチング装置Ｃ周辺に広がってしまう。この有毒フッ化物ガスの濃度によっては、周辺にいる人間に対して危険となる。
【００２９】
そこで、この発明に係るドライエッチング装置Ｃでは、クリーニングの際にエッチングガス１に含まれるフッ素に対して反応性を有する気体（以下、反応性気体という。）１０をエッチングチャンバー９内に導入する手段を有するようにした。フッ素に対して反応性を有する気体１０としては、水素、水蒸気、水分を含んだ気体、または空気が挙げられる。
【００３０】
これらの気体が弁１１付き配管１２を通してドライエッチング装置Ｃに導入されると、エッチングチャンバー９内でフッ素と水素が反応して有毒フッ化物であるＨＦ（気体）となる。この発明では、チャンバー内で積極的にこの反応を起こさせる点が特徴の一つである。
【００３１】
そして、この発明に係るドライエッチング装置Ｃは、エッチング反応生成物を排出する手段である配管５で、上記有毒フッ化物ガスを排出する。また、このドライエッチング装置Ｃは、上述したようにエッチングチャンバー９内を真空引きする真空ポンプ等の手段も有するので、この手段により、有毒フッ化物の排出と共にエッチングチャンバー９内を真空引きする。
【００３２】
このように、反応性気体１０の導入と有毒フッ化物の排出、真空引きを繰り返せば、有毒なフッ化物を効率よく排除することができる。したがって、クリーニング後には、既に有毒フッ化物は排除されているので、作業員も安心してエッチングチャンバー９を開放することができる。換言すれば、ドライエッチング装置Ｃのクリーニング時の作業環境を改善できる。
【００３３】
ここで、反応性気体をエッチングチャンバー内に導入する手段としての配管１２は、逆止弁等の逆流防止手段を有するようにしてもよい。反応性気体が、エッチングチャンバー９内に導入されるとき、上記逆流防止手段を当該導入手段が有すれば、その後にチャンバー９内で発生する有毒フッ化物が反応性気体の導入手段から逆流することがなくなる。
【００３４】
なお、当該逆流防止手段は、反応性気体導入手段のチャンバー９への出口Ｅに設けてもよいし、反応性気体供給源からの入口（図示省略）に設けてもよい。このようにすれば、配管等の反応性気体導入手段が有毒フッ化物に侵され傷むことがなくなる。特に反応性気体が空気である場合は、当該逆流を防止することで、ドライエッチング作業環境を害することがなくなる。
【００３５】
また、上記導入手段にフィルターを取り付けてもよい。フィルターを設ければ、パーティクルがチャンバー内へ進入しなくなる。パーティクルは小さなちりであるが、エッチングでは大きな障害になるので、可能な限り取り除くことが望まれる。上記フィルターの他、パーティクルを取り除く手段としては、反応性気体１０が通る配管１２を水槽にくぐらせるという手段も採れる。こうすれば、反応性気体の供給元から、又はチャンバー９内からのパーティクルが水槽の水に沈殿する。また、反応性気体が空気である場合は、空気に適度な湿気が与えられるので、チャンバー内でのエッチング反応生成物との反応もよくなる。
【００３６】
なお、同図では、反応性気体１０を独立した配管１２に通すようにしているが、ドライエッチング装置によっては、この配管１２が他の配管３と出口を共にするように設計される場合がある。反応性気体専用の独立した配管であれば、反応性気体がエッチングガス１に混じることもなく、エッチングプロセスに影響を及ぼさなくなるという効果がある。また、反応性気体が水分を含んだ空気である場合には、配管の腐食を心配する必要もなくなる。
【００３７】
一方、配管１２が他の配管３と出口を共にするように設計されている場合や、エッチングガス１と共用されている場合は、水分等が当該出口部の配管に付着し、エッチングプロセスに悪影響を及ぼすことが懸念され得る。そのような場合は、エッチング反応生成物や、有毒フッ化物を排出するための配管５を用いて反応性気体１０をエッチングチャンバー内に導入してもよい。反応性気体の導入前は、真空引きしている状態なので、当該反応性気体は容易にエッチングチャンバー内に導入される。これにより、余計な配管等が不要になり、コストを抑えたドライエッチング装置のクリーニングができる。
【００３８】
（実施の形態２）
実施の形態１では、ドライエッチング装置のクリーニングとして、反応性気体を導入する工程と、当該反応性気体とエッチング反応生成物との化合物を排出する工程とを繰り返すということを説明した。この実施の形態２では、上記繰り返し工程の最後に、エッチングチャンバー内に窒素を導入する場合を説明する。
【００３９】
図２は、この実施の形態２に係るドライエッチング装置のクリーニング方法を示す説明図である。最上段左側はエッチングチャンバー９に反応性気体１０を導入することを示している。同段右側は、その次の工程として、有毒フッ化物を排出する工程を示している。同図中段は、上記二工程を繰り返すことを示しており、何回繰り返すかは、ドライエッチングチャンバーの種類や、大きさ、使用頻度等を勘案して適当な回数が選択される。一般的には、上記二工程を１０回程度またはそれ以上行うのが好ましい。
【００４０】
そして、同図下段左側は、上記繰り返し工程の最後に、エッチングチャンバー９内に窒素２０を導入し、充満させることを示している。これは、窒素２０を導入して当該チャンバー内を大気圧にすることを意味する。窒素２０は、エッチング反応生成物と反応しないので、有毒フッ化物も発生しない。
【００４１】
同図同段右側は、エッチング装置のエッチングチャンバー９のクリーニング後にエッチングチャンバー９を開放することを示している。このように、クリーニング後や、メンテナンス時にはエッチングチャンバーを開放することがよく行われる。この発明に係るクリーニング方法によれば、従来技術と異なり、上記窒素２０の導入によって、開放前のエッチングチャンバー内には有毒フッ化物がない状態となっているので、安心して開放することもできる。
【００４２】
図３は、本発明に係る制御装置を説明するための説明図であり、（ａ）は、機能ブロック図であり、（ｂ）は、ハードウェア構成図である。同図（ａ）に示すように、制御装置３０は、入力部３１、演算部３２、および出力部３３で構成される。メンテナンス等のためには、上記に加え、モニター等のユーザーインターフェース部を設けてもよい。入力部３１には、エッチングチャンバー内の圧力を計測する圧力センサー３４の値が電気信号として入力される。
【００４３】
演算部３２は、入力部３１に入力された電気信号の値を基に、後述する演算を行う。出力部３３は、演算部３２で導き出された反応性気体導入弁３５、排出弁３６、および窒素導入弁３７を電気信号として出力する。なお、演算部３２は、記憶部を内包するもので、当該記憶部へのデータの読み書きにより演算処理を行う。
【００４４】
制御装置３０のハードウェア構成は、同図（ｂ）に示すように、ＣＰＵまたはＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｓｉｇｎａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）といったプロセッサー３８を中心に、ＲＯＭ３９，ＲＡＭ４０、入出力インターフェース（Ｉ／Ｏ）４１、書き込み、読み出しが可能な記録媒体であるハードディスク４２、およびユーザーインターフェース４３をバス４４で接続した構成である。
【００４５】
プロセッサー３８の実行プログラムは、ＲＯＭ３９に予め格納される。また、このＲＯＭ３９には、入出力インターフェース４１との通信プログラムやユーザーインターフェース４３と入出力するためのプログラムも格納される。なお、図では省略したが、入出力インターフェース４１には、その先に接続されるデバイス（電磁弁、各種センサー等）に応じてＡ／Ｄコンバータ、Ｄ／Ａコンバータが設けられる。なお、ここでは、ソフトウェアによるデジタル処理を想定して説明したが、ハードウエアによるアナログ処理により実現されるものであってもよい。
【００４６】
図４は、この発明に係るドライエッチング装置のクリーニング方法の大まかな流れを示したフローチャートである。このクリーニング方法は、エッチングチャンバー内を真空処理（真空引き）することが前提となる（ステップＳ１０１）。そして、次にエッチングチャンバー内に反応性気体を導入する（ステップＳ１０２）。当該反応性気体は、エッチングチャンバー内に付着しているエッチング反応生成物と反応し、フッ化物ガスを発生するので、当該ガスを真空引きして排出する（ステップＳ１０３）。
【００４７】
上記二つの工程（ステップＳ１０２、Ｓ１０３）は、予め制御装置に設定した回数だけ繰り返される（ステップＳ１０４）。当該繰り返し工程が完了したら、クリーニングの最後としてエッチングチャンバー内に窒素が導入される（ステップＳ１０５）。以上が大まかな流れである。次に制御装置の役割を加味した具体的な流れを説明する。
【００４８】
図５は、この発明に係るドライエッチング装置のクリーニング方法の具体的な流れを示したフローチャートである。図４で説明したとおり、このクリーニング方法は、エッチングチャンバー内を真空にしておくことが前提となる。そして、まず、水素、空気等の反応性気体をエッチングチャンバー内に導入するために、制御装置から反応性気体弁を開くべく電気信号が出力される（ステップＳ２０１）。制御装置には、圧力センサーからの信号が入力され、エッチングチャンバーが大気圧になるまで、上記弁が開いたままになる（ステップＳ２０２）。
【００４９】
エッチングチャンバーが大気圧になったら、制御装置は、反応性気体弁を閉じるべく電気信号を出力する（ステップＳ２０３）。ここで、反応性気体をエッチング反応生成物と十分に反応させるために、予め制御装置に設定してあった指定時間だけ、例えば５分程度、待機する（ステップＳ２０４）。そして、指定時間が過ぎたら、（ステップＳ２０５）制御装置は、排出弁を開くべく電気信号を出力する（ステップＳ２０６）。今度は真空になるまでフッ化物ガスを排出するため、制御装置は、圧力センサーからの信号を読み続ける（ステップＳ２０７）。真空になったら、排出弁を閉める（ステップＳ２０８）。
【００５０】
上記のような反応性気体導入工程と真空引き工程とは予め制御装置に設定された回数だけ繰り返され（ステップＳ２０９）、それが終わると、最後に窒素をエッチングチャンバー内に導入すべく窒素弁を開くための電気信号を制御装置は出力する（ステップＳ２１０）。そして、エッチングチャンバー内が大気圧になるまで弁を開き続ける（ステップＳ２１１）。大気圧になったら窒素弁を閉める（ステップＳ２１２）。以上のようにして、制御装置は、反応性気体導入工程と真空引き工程との繰り返しを自動化する。
【００５１】
図６は、制御装置で予め設定しおく項目を示す概念図である。設定しておく項目は、大気圧待機時間（ｓ）、真空待機時間（ｓ）、および繰り返し回数（回）である。ドライエッチングチャンバーの種類や大きさ、または、使用頻度によって、上記３項目は違った値が必要となる。そこで、同図に示すように、当該値を、たとえば、６セット５１〜５６、設定しておく。制御装置は、このうちの一つを実行するか、または２以上の値を使って連続的にクリーニングする。
【００５２】
また、１台のドライエッチング装置がエッチングチャンバーを２以上有している場合は、どのチャンバーをクリーニングするか設定するようにしてもよい。例えば、まず、左側のチャンバーをクリーニングし、次に右側をクリーニングするようにすれば、エッチング作業を完全に止めずにクリーニングすることができる。
【００５３】
以上のようにコンピュータたる制御装置を構成し、各種信号を処理すれば、当該制御装置によって、反応性気体を導入する工程、および有毒フッ化物を真空引きする工程が順に繰り返されるようになるので、自動的に、しかも効率よく有毒フッ化物を排除することが可能となり、ドライエッチング装置のクリーニング時の作業環境を改善できるという効果を有する。
【００５４】
また、本発明のドライエッチング装置のクリーニング方法は、電気光学装置の製造方法に用いることができる。適用可能な電気光学装置の例としては、液晶装置、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管、液晶シャッター等を用いた小型テレビ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いた装置などの各種の電気光学装置の製造方法および製造装置に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係るドライエッチング装置を示す説明図である。
【図２】ドライエッチング装置のクリーニング方法を示す説明図である。
【図３】本発明に係る制御装置を説明するための説明図である。
【図４】クリーニング方法の流れを示したフローチャートである。
【図５】クリーニング方法の流れを示したフローチャートである。
【図６】制御装置で予め設定しおく項目を示す概念図である。
【符号の説明】
１　エッチングガス
２、１１　弁
３、５、７、１２　配管
４、６　弁
８　真空ポンプ
９　エッチングチャンバー
１０　反応性気体
２０　窒素
３０　制御装置
３１　入力部
３２　演算部
３３　出力部
３４　圧力センサー
３５　反応性気体導入弁
３６　排出弁
３７　窒素導入弁
【図１】
2004111812.tif 000003
【図２】
2004111812.tif 000004
【図３】
2004111812.tif 000005
【図４】
2004111812.tif 000006
【図５】
2004111812.tif 000007
【図６】
2004111812.tif 000008