(57)【要約】【課題】陽極酸化膜のおもてうらを識別する識別装置を提供する。【解決手段】識別装置は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に光ビームを照射する照射部１０２と、識別対象面で反射された光ビームの強度を検出する検出部１０４とを有している。照射部１０２は、そこから射出された光ビームが陽極酸化膜Ｓの識別対象面に６０度の入射角で照射されるように配置されている。検出部１０４は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面で反射された光ビームの光路を横切って配置されている。検出部１０４は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面で反射された光ビームの強度を反映した検出信号を出力する。検出部１０４から出力される検出信号を、予め設定された閾値と比較することにより、陽極酸化膜Ｓの識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが分かる。【選択図】    図１
2004149814.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極酸化膜（陽極酸化により作製された金属酸化物の多孔質膜）の処理方法であり、陽極酸化膜は、一対の面（おもて面とうら面）と、それらの面の間に延びている多数の孔とを有し、おもて面とうら面は互いに異なる表面構造を有しており、陽極酸化膜の処理方法は、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程を含んでおり、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程は、陽極酸化膜の識別対象面（おもて面かうら面のいずれかであるが、どちらであるかは不明である）に光ビームを照射する工程と、識別対象面からの光ビームの強度を検出する工程と、検出した光ビームの強度を予め設定された閾値と比較する工程とを含んでおり、比較結果に基づいて識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが識別される、陽極酸化膜の処理方法。
【請求項２】
請求項１において、光ビームの強度を検出する工程は、陽極酸化膜の識別対象面で反射された光ビームの強度を検出する、陽極酸化膜の処理方法。
【請求項３】
請求項１において、光ビームの強度を検出する工程は、陽極酸化膜の識別対象面で散乱された光ビームの強度を検出する、陽極酸化膜の処理方法。
【請求項４】
請求項１において、識別結果に基づいておもてうらの識別を容易にする二次加工を陽極酸化膜に施す工程を更に含んでいる、陽極酸化膜の処理方法。
【請求項５】
請求項１において、識別結果に基づいて特定の面（おもて面かうら面かのいずれか）に対して処理を施す工程を更に含んでいる、陽極酸化膜の処理方法。
【請求項６】
請求項５において、処理を施す工程は、インクジェットの液滴を噴霧する工程を含んでいる、陽極酸化膜の処理方法。
【請求項７】
請求項６において、インクジェットの液滴は、生体活性物質あるいは合成生体活性物質類似体を含んでおり、その結果、陽極酸化膜の孔の内壁にプローブＤＮＡが固相化され、陽極酸化膜を基板とするＤＮＡマイクロアレイが製造される、陽極酸化膜の処理方法。
【請求項８】
陽極酸化膜（陽極酸化により作製された金属酸化物の多孔質膜）のおもてうらを識別する装置であり、陽極酸化膜は、一対の面（おもて面とうら面）と、それらの面の間に延びている多数の孔とを有し、おもて面とうら面は互いに異なる表面構造を有しており、装置は、陽極酸化膜の識別対象面（おもて面かうら面のいずれかであるが、どちらであるかは不明である）に光ビームを照射する照射部と、識別対象面からの光ビームの強度を検出する検出部とを有しており、検出部で検出された光ビームの強度を予め設定された閾値と比較することにより、識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが識別される、陽極酸化膜のおもてうら識別装置。
【請求項９】
請求項８において、照射部は、陽極酸化膜の識別対象面に対して所定の入射角で光ビームを照射し、検出部は、識別対象面からの反射光ビームの光路を横切って配置されている、陽極酸化膜の識別装置。
【請求項１０】
請求項８において、照射部は、陽極酸化膜の識別対象面に対して所定の入射角で光ビームを照射し、検出部は、光ビームの照射位置を通り、識別対象面と入射面（識別対象面に立てた法線と入射光ビームの軸（主光線）とで規定される平面）との交線に対して直交する軸を横切って配置されている、陽極酸化膜の識別装置。
【請求項１１】
陽極酸化膜製のＤＮＡマイクロアレイであり、陽極酸化膜（陽極酸化により作製された金属酸化物の多孔質膜）と、陽極酸化膜に点在する多数のプローブスポットとを有しており、陽極酸化膜は、一対の面（おもて面とうら面）と、それらの面の間に延びている多数の孔とを有し、おもて面とうら面は互いに異なる表面構造を有しており、プローブスポットの各々は、陽極酸化膜の孔の内壁に固相化されたプローブＤＮＡを含んでおり、プローブスポットは、陽極酸化膜の特定の面（おもて面かうら面かのいずれか）に対して生体活性物質あるいは合成生体活性物質類似体を含む液滴を噴霧することにより形成されている、陽極酸化膜製のＤＮＡマイクロアレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、陽極酸化膜すなわち陽極酸化により作製された多孔質膜に関する。詳しくは、ＤＮＡマイクロアレイの基板に好適な陽極酸化膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】
その各々が特定の遺伝子とハイブリダイズ反応する特定の核酸プローブを含む多数の微小なスポットを基板上に整列させて形成し、それぞれのスポット中の核酸プローブと検体中の遺伝子との間のハイブリダイズ反応を光学的にハイブリシグナルを検出することにより、遺伝子の発現量や変異などの情報を網羅的に解析するためのツールとしてＤＮＡマイクロアレイが知られている。
【０００３】
このようなＤＮＡマイクロアレイは、反応時間の短縮、スポットの高密度化、検出感度の向上、再現性の向上、安定した品質が要求されている。
【０００４】
このようなＤＮＡマイクロアレイの反応時間の短縮を目的として、陽極酸化膜による多孔性の基板を利用したフロースルー型のＤＮＡマイクロアレイが例えば特許３２０８３９０号公報に知られている。
【０００５】
代表的な陽極酸化膜である多孔質酸化アルミニウム基板は、例えば特公平５−３３３１９号公報に開示されているように、その製造工程により、おもて面とうら面とでその表面構造が異なることが知られている。また、この表面構造の違いのため、多孔質酸化アルミニウム基板は、おもて面とうら面とで各種の物理化学的な特性が異なっている。
【０００６】
【特許文献１】
特公平５−３３３１９号公報
【０００７】
【特許文献２】
特許３２０８３９０号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
このように多孔質酸化アルミニウム基板に代表される陽極酸化膜を基板とするＤＮＡマイクロアレイを作製する際、基板すなわち陽極酸化膜のおもてうらを区別せずに各種の処理を施すと、安定した品質が得られないという不具合が確認されている。
【０００９】
この製造工程を管理して、基板すなわち陽極酸化膜のおもてうらを識別して各種の処理を施すことは可能であるが、これは製造工程を煩雑にする。また、取り扱い中に基板のおもてうらが混ざってしまうと、それを容易に識別することは困難である。
【００１０】
電子顕微鏡を用いてその表面構造を確認することにより、基板すなわち陽極酸化膜のおもてうらを識別することは可能であるが、電子顕微鏡による観察は、多大な工数を必要とすること、蒸着により表面特性が変わってしまう破壊検査であることを考慮すると、これは適切な手法ではない。
【００１１】
陽極酸化膜の基板に対してインクジェットの液滴を噴霧した場合、噴霧された液滴は毛管現象により基板に浸透してスポットとなるが、基板のおもてうらが統一されていない場合には、液滴が浸透する際に基板のおもてうらの表面構造の違いの影響を受けるため、インクジェットの液滴が噴霧された複数の基板の間において、スポットの大きさが揃わないということが知られている。
【００１２】
また、陽極酸化膜の基板をＤＮＡマイクロアレイに用いる場合、インクジェットによりＤＮＡの含有溶液を整然と配列させるが、この場合にも基板のおもてうらを統一させないと、スポットの大きさが一定しないため、安定した品質を得ることが難しい。スポットの大きさのばらつきは、過度に接近したスポットを生じさせるため、スポット間のピッチを更に狭めて更なる高集積度のＤＮＡマイクロアレイを作製することにとって障害となる。
【００１３】
本発明の目的は、ひとつには、ＤＮＡマイクロアレイの製造にとって有用な陽極酸化膜の処理方法を提供することである。
【００１４】
本発明の別の目的は、陽極酸化膜のおもてうらを識別する装置を提供することである。
【００１５】
本発明の別の目的は、陽極酸化膜の特定の面にスポットが形成されているＤＮＡマイクロアレイを提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ひとつには、陽極酸化膜の処理方法である。陽極酸化膜は、一対の面（おもて面とうら面）と、それらの面の間に延びている多数の孔とを有し、おもて面とうら面は互いに異なる表面構造を有している。本発明の陽極酸化膜の処理方法は、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程を含んでおり、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程は、陽極酸化膜の識別対象面（おもて面かうら面のいずれかであるが、どちらであるかは不明である）に光ビームを照射する工程と、識別対象面からの光ビームの強度を検出する工程と、検出した光ビームの強度を予め設定された閾値と比較する工程とを含んでおり、比較結果に基づいて識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが識別される。
【００１７】
光の強度を検出する工程は、一例においては、陽極酸化膜の識別対象面で反射された光の強度を検出する。光の強度を検出する工程は、別の例においては、陽極酸化膜の識別対象面で散乱された光の強度を検出する。
【００１８】
陽極酸化膜の処理方法は、一例においては、識別結果に基づいておもてうらの識別を容易にする二次加工を陽極酸化膜に施す工程を更に含んでいる。
【００１９】
陽極酸化膜の処理方法は、別の例においては、識別結果に基づいて特定の面（おもて面かうら面かのいずれか）に対して処理を施す工程を更に含んでいる。処理を施す工程は、例えば、インクジェットの液滴を噴霧する工程を含んでいる。インクジェットの液滴は、例えば、生体活性物質あるいは合成生体活性物質類似体を含んでおり、その結果、陽極酸化膜の孔の内壁にプローブＤＮＡが固相化され、陽極酸化膜を基板とするＤＮＡマイクロアレイが製造される。
【００２０】
本発明は、またひとつには、陽極酸化膜のおもてうらを識別する装置である。陽極酸化膜は、一対の面（おもて面とうら面）と、それらの面の間に延びている多数の孔とを有し、おもて面とうら面は互いに異なる表面構造を有している。本発明の陽極酸化膜のおもてうら識別装置は、陽極酸化膜の識別対象面（おもて面かうら面のいずれかであるが、どちらであるかは不明である）に光ビームを照射する照射部と、識別対象面からの光ビームの強度を検出する検出部とを有しており、検出部で検出された光ビームの強度を予め設定された閾値と比較することにより、識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが識別される。
【００２１】
一例においては、照射部は、陽極酸化膜の識別対象面に対して所定の入射角で光ビームを照射し、検出部は、識別対象面からの反射光ビームの光路を横切って配置されている。
【００２２】
別の例においては、照射部は、陽極酸化膜の識別対象面に対して所定の入射角で光ビームを照射し、検出部は、光ビームの照射位置を通り、識別対象面と入射面（識別対象面に直交し、入射光ビームの軸（主光線）を含む平面）との交線に対して直交する軸を横切って配置されている。
【００２３】
本発明は、またひとつには、陽極酸化膜製のＤＮＡマイクロアレイである。本発明のＤＮＡマイクロアレイは、陽極酸化膜（陽極酸化により作製された金属酸化物の多孔質膜）と、陽極酸化膜に点在する多数のプローブスポットとを有しており、陽極酸化膜は、一対の面（おもて面とうら面）と、それらの面の間に延びている多数の孔とを有し、おもて面とうら面は互いに異なる表面構造を有しており、プローブスポットの各々は、陽極酸化膜の孔の内壁に固相化されたプローブＤＮＡを含んでおり、プローブスポットは、陽極酸化膜の特定の面（おもて面かうら面かのいずれか）に対して生体活性物質あるいは合成生体活性物質類似体を含む液滴を噴霧することにより形成されている。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。
【００２５】
陽極酸化膜は、陽極酸化により作製された金属酸化物の多孔質膜、例えば陽極酸化アルミニウム基板であり、一対の面と、それらの面の間に延びている多数の孔とを有し、一対の面は互いに異なる表面構造を有している。より詳しくは、図４と図５に示されるように、一対の面の一方は、比較的小さい多数の開口（孔の終端部）を有し、一対の面の他方は、比較的大きな多数の開口（孔の終端部）を有している。本明細書においては、便宜上、図４に示される面をおもて面または第１面、図５に示される面をうら面または第２面と呼ぶことにする。
【００２６】
第一実施形態
本実施形態は、陽極酸化膜のおもてうらを識別するための識別装置と処理方法に向けられている。
【００２７】
本実施形態による陽極酸化膜のおもてうらを識別する識別装置を図１に示す。図１に示されるように、識別装置は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に光ビームを照射する照射部１０２と、識別対象面からの光ビーム、より詳しくは識別対象面で反射された光ビームの強度を検出する検出部１０４とを有している。なお、陽極酸化膜Ｓの識別対象面は、おもて面かうら面のいずれかであるが、どちらであるかは不明である。
【００２８】
照射部１０２は、例えば、出力５ｍＷのＨｅ−Ｎｅレーザーと、その射出口に取り付けられた５０％のＮＤフィルターと直径１ｍｍのピンホールとで構成される。検出部１０４は、例えば、二次元的に整列した複数のフォトダイオードを有する二次元フォトダイオードアレイと、二次元フォトダイオードアレイのすべてのフォトダイオードの出力電圧信号の和信号を出力するバッファーアンプとで構成される。つまり、検出部１０４は、識別対象面で反射された光ビームをその強度を反映した電気信号に変換する光電変換部を含んでいる。
【００２９】
照射部１０２は、そこから射出された光ビームが、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に対して３０度の角度で入射するように、言い換えれば、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に６０度の入射角で照射されるように配置されている。また、検出部１０４は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面で反射された光ビームの光路を横切って配置されている。
【００３０】
照射部１０２から射出された光ビームは、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に照射される。陽極酸化膜Ｓの識別対象面に照射された光ビームは、識別対象面の多孔質構造により、反射光ビームと多数の散乱光ビームとに分かれる。
【００３１】
検出部１０４は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面で反射された光ビームの強度を反映した検出信号を出力する。検出部１０４から出力される検出信号を、予め設定された閾値と比較することにより、陽極酸化膜Ｓの識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが分かる。
【００３２】
言い換えれば、本実施形態による陽極酸化膜の処理方法は、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程を含み、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程は、陽極酸化膜の識別対象面に光ビームを照射する工程と、識別対象面からの光ビームの強度を検出する工程と、検出した光ビームの強度を予め設定された閾値と比較する工程とを含んでおり、比較結果に基づいて識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが識別される。光ビームの強度を検出する工程は、陽極酸化膜の識別対象面で反射された光ビームの強度を検出する。
【００３３】
これまでの説明から分かるように、本実施形態によれば、検出部１０４の出力信号を所定の閾値と比較するという簡単な作業によって、陽極酸化膜Ｓの識別対象面がおもて面であるかうら面であるかを容易に識別できる。
【００３４】
以下、本発明者らが実施した陽極酸化アルミニウム基板のおもてうらの識別の実例について述べる。
【００３５】
平均孔径０．２μｍの陽極酸化アルミニウム基板のおもて面（第１面）とうら面（第２面）を予め電子顕微鏡で確認した。この陽極酸化アルミニウム基板を、図１に示される識別装置で測定したところ、以下の表１に示す値が得られた。
【００３６】
【表１】
2004149814.tif 000003
【００３７】
ここで、検出信号の閾値を｛（第１面の検出信号の最大値）＋（第２面の検出信号の最小値）｝／２＝（０．４＋１．６５）／２＝１．０２５Ｖに設定した。
【００３８】
１．０２５Ｖを閾値として、８枚の陽極酸化アルミニウム基板に対しておもてうらの識別を行なったところ、以下の表２に示す結果が得られた。これら８枚の陽極酸化アルミニウム基板のおもてうらを電子顕微鏡で確認したところ、識別結果に間違いないことが確認された。
【００３９】
【表２】
2004149814.tif 000004
【００４０】
１．０２５Ｖを閾値として、さらに１００枚の陽極酸化アルミニウム基板のおもてうらの識別を行なったが、すべての基板に対して識別間違いがないことが確認された。
【００４１】
本実施形態は様々な変更や修正が加えられてもよい。例えば、識別装置の光学系は、より良い検出感度を実現するために、適当な光学系と組み合わされてもよい。例えば、照射部１０２や検出部１０４は集光光学系と適宜組み合わされてもよい。また、検出部１０４に含まれる光電変換部は、二次元フォトダイオードアレイに限定されるものではなく、単一のフォトダイオードやＣＣＤ等で構成されてもよい。
【００４２】
第二実施形態
本実施形態は、陽極酸化膜のおもてうらを識別するための識別装置と処理方法に向けられている。
【００４３】
本実施形態による陽極酸化膜のおもてうらを識別する識別装置を図２に示す。図２に示されるように、識別装置は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に光ビームを照射する照射部２０２と、識別対象面からの光ビーム、より詳しくは識別対象面で散乱された光ビームの強度を検出する検出部２０４とを有している。なお、陽極酸化膜Ｓの識別対象面は、おもて面かうら面のいずれかであるが、どちらであるかは不明である。
【００４４】
照射部２０２は、例えば、出力２０ｍＷのＨｅ−Ｎｅレーザーと、その射出口に取り付けられた５０％のＮＤフィルターと直径１ｍｍのピンホールとで構成される。検出部２０４は、例えば、二次元的に整列した複数のフォトダイオードを有する二次元フォトダイオードアレイと、二次元フォトダイオードアレイのすべてのフォトダイオードの出力電圧信号の和信号を出力するバッファーアンプとで構成される。つまり、検出部２０４は、識別対象面で反射された光ビームをその強度を反映した電気信号に変換する光電変換部を含んでいる。
【００４５】
照射部２０２は、そこから射出された光ビームが、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に対して３０度の角度で入射するように、言い換えれば、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に６０度の入射角で照射されるように配置されている。また、検出部２０４は、光ビームの照射位置を通り、識別対象面と入射面との交線に対して直交する軸を横切って配置されている。なお、入射面は、識別対象面に立てた法線と入射光ビームの軸（主光線）とで規定される平面である。
【００４６】
照射部２０２から射出された光ビームは、陽極酸化膜Ｓの識別対象面に照射される。陽極酸化膜Ｓの識別対象面に照射された光ビームは、識別対象面の多孔質構造により、反射光ビームと多数の散乱光ビームとに分かれる。
【００４７】
検出部２０４は、陽極酸化膜Ｓの識別対象面で散乱された光ビームの強度を反映した検出信号を出力する。検出部２０４から出力される検出信号を、予め設定された閾値と比較することにより、陽極酸化膜Ｓの識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが分かる。
【００４８】
これまでの説明から分かるように、本実施形態によれば、検出部２０４の出力信号を所定の閾値と比較するという簡単な作業によって、陽極酸化膜Ｓの識別対象面がおもて面であるかうら面であるかを容易に識別できる。
【００４９】
言い換えれば、本実施形態による陽極酸化膜の処理方法は、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程を含み、陽極酸化膜のおもてうらを識別する工程は、陽極酸化膜の識別対象面に光ビームを照射する工程と、識別対象面からの光ビームの強度を検出する工程と、検出した光ビームの強度を予め設定された閾値と比較する工程とを含んでおり、比較結果に基づいて識別対象面がおもて面であるかうら面であるかが識別される。光ビームの強度を検出する工程は、陽極酸化膜の識別対象面で散乱された光ビームの強度を検出する。
【００５０】
以下、本発明者らが実施した陽極酸化アルミニウム基板のおもてうらの識別の実例について述べる。
【００５１】
１００枚の陽極酸化アルミニウム基板に対して、図２に示される識別装置で、閾値０．４１Ｖを閾値として、おもてうらの識別を行なったが、すべての基板に対して識別間違いはなかった。識別結果の一部として、１００枚中の１０枚の陽極酸化アルミニウム基板に関する識別結果を表３に示す。
【００５２】
【表３】
2004149814.tif 000005
【００５３】
第三実施形態
本実施形態は、おもてうらを識別した後の陽極酸化膜の処理方法に向けられている。
【００５４】
本実施形態による陽極酸化膜の処理方法は、陽極酸化膜に対して、第一実施形態の識別装置により、おもてうらを識別した後、識別結果に基づいておもてうらの識別を容易にする二次加工を陽極酸化膜に施す工程を含んでいる。
【００５５】
陽極酸化膜は、例えば、長辺４ｃｍ、短辺１ｃｍ、厚さ６０μｍの陽極酸化アルミニウム基板であり、長方形の輪郭を有している。二次加工は、例えば、特定の面（おもて面かうら面かのいずれか）を基準にして特定の角を切り欠く工程を含んでいる。
【００５６】
例えば、陽極酸化アルミニウム基板Ｓは、図３（Ａ）に示されるように、おもて面を上に向けて横長に置いた状態において、図３（Ｂ）に示されるように、右上の角をレーザーカッターで切断して切り欠かれる。これにより、その後の工程において、陽極酸化アルミニウム基板のおもてうらの識別を容易に確実に行なえる。
【００５７】
おもてうらの識別を容易にする二次加工は、陽極酸化膜に切り欠きを形成することに限定されるものではなく、おもてうらの判断を可能にしさえすれば、どのような加工であってもよい。例えば、おもてうらの判断を可能にするに、一方の面に対して、特定の目印を付けたり、別の部材を貼り付けたりしてもよい。
【００５８】
また、本実施形態による陽極酸化膜の処理方法は、識別結果に基づいて特定の面（おもて面かうら面かのいずれか）に対して処理を施す工程を更に含んでいる。
【００５９】
ここにおいて、陽極酸化膜の特定の面に対する処理は、漬浸や塗布や溶液の通過（フィルタリング）や蒸着や吸着など、物理的あるいは化学的な手法により陽極酸化膜の表面の状態を変更するあらゆる処理を指している。
【００６０】
本実施形態による陽極酸化膜の処理方法は、一例においては、陽極酸化膜を基板としてＤＮＡマイクロアレイを製造するための方法でもある。このための陽極酸化膜の処理方法では、陽極酸化膜の特定の面に対して処理を施す工程は、生体活性物質あるいは合成生体活性物質類似体を含むインクジェットの液滴を噴霧する工程を含んでいる。その結果、陽極酸化膜の孔の内壁にプローブＤＮＡが固相化され、陽極酸化膜を基板とするＤＮＡマイクロアレイが製造される。
【００６１】
ここで、生体活性物質あるいは合成生体活性物質類似体は、生体由来のＤＮＡやＲＮＡあるいは合成のＤＮＡやＲＮＡなどの核酸やタンパクなどを指している。
【００６２】
本実施形態は、言い換えれば、陽極酸化膜を基板とするＤＮＡマイクロアレイにも向けられている。本実施形態によるＤＮＡマイクロアレイは、陽極酸化膜と、陽極酸化膜に点在する多数のプローブスポットとを有しており、プローブスポットの各々は、陽極酸化膜の孔の内壁に固相化されたプローブＤＮＡを含んでおり、プローブスポットは、陽極酸化膜の特定の面（おもて面かうら面かのいずれか）に対して生体活性物質あるいは合成生体活性物質類似体を含むインクジェットの液滴を噴霧することにより形成されている。
【００６３】
インクジェットは、液滴の着弾後の大きさを厳密に制御できる。陽極酸化膜に着弾した液滴は、陽極酸化膜に浸透しながら乾燥する。従って、インクジェットは、乾燥しない成分の着弾痕を均一に揃えることができる。すなわち、インクジェットによって均一の大きさのスポットを陽極酸化膜に形成することができる。
【００６４】
インクジェットによって形成されるスポットの大きさは陽極酸化膜のおもてうらに依存する。つまり、インクジェットによって陽極酸化膜に形成されるスポットは、陽極酸化膜のおもてとうらで大きさが異なる。
【００６５】
より詳しくは、陽極酸化膜のおもて面（図４に示される）に形成されるスポットと陽極酸化膜のうら面（図５に示される）に形成されるスポットとでは、径の大きさが２０％程度異なり、陽極酸化膜のおもて面に形成されるスポットの方が陽極酸化膜のうら面に形成されるスポットよりも大きい径を有する。
【００６６】
従って、ＤＮＡマイクロアレイのスポットの高密度化のために、スポットは陽極酸化膜のうら面に対して形成されるとよい。
【００６７】
以下、おもてうら識別後の陽極酸化アルミニウム基板に対して本発明者らが実施した処理の実例すなわちＤＮＡマイクロアレイの製造について述べる。
【００６８】
陽極酸化アルミニウム基板に対して、アミノシランをうら面からおもて面へ通過させ１時間静置した。この陽極酸化アルミニウム基板を乾燥させた後、インクジェットタイプのＤＮＡマイクロアレイ製造装置に設置し、うら面よりＤＮＡの溶液をアレイ状にスポットした。さらに、余剰のＤＮＡサンプルを除去する目的で、うら面からおもて面にＳＳＰＥバッファーを通過させ、さらに水を通過させた後に乾燥させて、ＤＮＡマイクロアレイを作製した。
【００６９】
さらに、このように陽極酸化アルミニウム基板のおもてうらを識別して形成されたＤＮＡマイクロアレイのスポットの大きさを評価した。比較例として、陽極酸化アルミニウム基板のおもてうらを識別することなく形成されたＤＮＡマイクロアレイのスポットの大きさを評価した。両者の評価結果を表４に示す。
【００７０】
【表４】
2004149814.tif 000006
【００７１】
基板のおもてうらの識別してＤＮＡマイクロアレイを形成する場合には、基板のおもてうらを識別した後、スポットが小さく形成される面すなわちうら面に対して各種の処理を行なってスポットを形成した。この場合、スポット径の分布のＣＶ値は１．６％を示した。つまり、非常にばらつきの小さい均一なスポットが形成された。
【００７２】
一方、基板のおもてうらの識別せずにＤＮＡマイクロアレイを形成する場合には、適当に選択した基板の面（おもて面かうら面のいずれか）に対して各種の処理を行なってスポットを形成した。この場合、スポット径のヒストグラムは、２つのピークを持つものとなった。スポットは、同一基板内でのばらつきは比較的小さいものの、他の基板との間でのばらつきが大きく、ＣＶ値は９．９％を示した。
【００７３】
このように、本実施形態に従うことで、品質の安定したＤＮＡマイクロアレイが作製できることが確認された。
【００７４】
これまで、図面を参照しながら本発明の実施の形態を述べたが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において様々な変形や変更が施されてもよい。
【００７５】
【発明の効果】
本発明によれば、ＤＮＡマイクロアレイの製造にとって有用な陽極酸化膜の処理方法が提供される。陽極酸化膜の処理方法は、陽極酸化膜のおもてうらを識別することができる。これにより、品質の安定したＤＮＡマイクロアレイが製造されるようになる。
【００７６】
また本発明によれば、陽極酸化膜のおもてうらを識別する装置が提供される。
【００７７】
また本発明によれば、陽極酸化膜の特定の面にスポットが形成されているＤＮＡマイクロアレイが提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】第一実施形態による陽極酸化膜のおもてうらを識別する識別装置を示している。
【図２】第二実施形態による陽極酸化膜のおもてうらを識別する識別装置を示している。
【図３】おもてうらの識別後に陽極酸化膜に施す、おもてうらの識別を容易にする二次加工を示している。
【図４】陽極酸化膜のおもて面または第１面の表面構造を示している。
【図５】陽極酸化膜のうら面または第２面の表面構造を示している。
【符号の説明】
１０２  照射部
１０４  検出部
【図１】
2004149814.tif 000007
【図２】
2004149814.tif 000008
【図３】
2004149814.tif 000009
【図４】
2004149814.tif 000010
【図５】
2004149814.tif 000011