(57)【要約】【課題】  最小限の製造コストでもって非常に容易に使用し得る人工メンブランを形成し得るような、方法を提供すること。【解決手段】  バイオミメティックメンブランの製造方法であって、ａ）プレート（Ａ）の面上に層（Ｂ）を成膜し、ｂ）層（Ｂ）内に貫通穴を形成し、ｃ）層（Ｂ）上と貫通穴の壁（２１）上と貫通穴の底面（２２）上とに、層（Ｃ）を成膜し、ｄ）直下に位置している層（Ｂ）から、また、各穴の中央部においては、直下に位置するプレート（Ａ）から、層（Ｃ）を除去するとともに、同時に、各穴の壁上においては、層（Ｃ）の残留物（２３）を残し、これにより、ポア（２４）を形成し、ｅ）プレートの一部または全部を除去することにより、ポアを有した部分を解放する。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイオミメティックメンブランの製造方法であって、
ａ）微小機械加工可能な材料からなるプレート（Ａ）の少なくとも一方の面上に、各々が微小機械加工可能な材料から形成された１つまたは複数の層を有してなる層（Ｂ）を成膜し、
ｂ）前記層（Ｂ）内において、１つまたは複数の貫通穴（２０）を形成し、この場合、各貫通穴を、前記層（Ｂ）と同じ材料から形成された壁（２１）と、前記プレート（Ａ）と同じ材料から形成された底面（２２）と、を有したものとし、
ｃ）前記層（Ｂ）上と前記各貫通穴（２０）の前記壁（２１）上と前記各貫通穴（２０）の前記底面（２２）上とに、微小機械加工可能な材料からなるとともに前記各穴の前記壁および前記底面に沿って配置されている層（Ｃ）を成膜し、
ｄ）直下に位置している層（Ｂ）から、また、前記各穴（２０）の中央部においては、直下に位置する前記プレート（Ａ）から、層（Ｃ）を除去するとともに、同時に、前記各穴（２０）の前記壁上においては、前記層（Ｃ）の残留物（２３）を残し、この場合、前記残留物（２３）が、壁（２５）が前記層（Ｃ）と同じ材料から形成されかつ底面（２６）が前記プレート（Ａ）と同じ材料から形成されたポア（２４）を形成するものとし、
ｅ）前記プレート（Ａ）の一部または全部を除去することにより、前記層（Ｂ）のうちの、前記ステップｄ）において形成された前記少なくとも１つのポアを有した少なくとも一部を、解放する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記層（Ｂ）の厚さを、５ｎｍ〜５μｍとすることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の方法において、
前記層（Ｂ）内に形成される前記貫通穴（２０）の数を、前記層（Ｂ）の表面積１ｍｍ２ あたりにおいて１個〜１００×１００万個とし、好ましくは、前記層（Ｂ）の表面積１ｍｍ２ あたりにおいて１個〜２０×１００万個とすることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法において、
前記層（Ｂ）内に形成される前記貫通穴（２０）を、実質的に円筒形とすることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法において、
前記層（Ｂ）内に形成される前記貫通穴（２０）を、リソグラフィーと、その後の、好ましくはドライエッチングとされるようなエッチングと、によって形成することを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップｂ）においては、前記層（Ｃ）の異方性エッチングを行うことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法において、
前記層（Ｃ）の前記異方性エッチングを、反応性イオンエッチングとすることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップｅ）においては、前記プレート（Ａ）の全部を除去することを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップｅ）においては、
ｅ１） 前記層（Ｂ）の自由面上に、微小機械加工可能な材料からなるプレート（Ａ’）を固定し、
ｅ２） 前記両プレート（Ａ，Ａ’）に中空部分を形成することにより、前記層（Ｂ）のうちの、前記ポアが形成されている部分を解放し、これと同時に、前記両プレートのエッジと、前記層（Ｂ）に対して接触して配置されている面とは反対側の面からなる部分と、を残すことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項９記載の方法において、
前記両プレート（Ａ，Ａ’）を、同じ材料から形成するとともに、前記層（Ｂ）に対して接触して配置されている面とは反対側の面を、微小機械加工可能な材料からなる層（Ｄ）によって被覆することを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項９または１０記載の方法において、
前記ステップｅ２）においては、
−リソグラフィーと、その後にウェットエッチングまたはドライエッチングと、を行うことにより、前記層（Ｄ）を部分的に除去し、
−ウェットエッチングを行うことによって、前記両プレート（Ａ，Ａ’）に中空部分を形成するとともに、前記層（Ｂ）を被覆しているような、前記両プレートからなる残留物を残し、
−ドライエッチングを行うことによって、前記層（Ｂ）のうちの、前記ポアが形成されている部分を解放することを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法において、
前記層（Ｂ）を、単一層からなるものとし、
その単一層を、前記層（Ｃ）をなす材料とは異なるような、微小機械加工可能な材料から形成することを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法において、
前記層（Ｂ）を、２つの層からなるものとし、
それら層を、前記層（Ｃ）をなす材料とは異なるような、かつ、互いに相違するような、微小機械加工可能な材料から形成することを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法において、
前記両プレート（Ａ，Ａ’）と前記層（Ｂ）と前記層（Ｃ）とを形成する微小機械加工可能な材料を、シリコンと、多結晶シリコンと、シリカと、酸化シリコンと、窒化シリコンと、の中から選択することを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップｅ）の後に、前記ポア（２４）の壁に対して、および／または、前記メンブランの面のうちの前記壁とは無関係な部分に対して、機能を付与することを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の方法において、
前記機能付与ステップにおいては、前記ポア（２４）の壁に対して、および、前記メンブランの面のうちの前記壁とは無関係な部分に対して、それぞれ、機能を付与し、
その際、それら機能付与を互いに異なるものとすることを特徴とする方法。
【請求項１７】
１つまたは複数の貫通穴（２４）を備えたバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
互いに異なる少なくとも２つの微小機械加工可能な材料から形成され、
一方の微小機械加工可能な材料が、前記ポアの壁（２３）を形成しており、
他方の微小機械加工可能な材料が、前記メンブランの残部を形成していることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項１８】
請求項１７記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
表面積が、１μｍ２〜１ｃｍ２であることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項１９】
請求項１７または１８記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
厚さが、５ｎｍ〜５μｍであることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２０】
請求項１７〜１９のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
１ｍｍ２ という表面積あたりに、前記ポアを１個〜１００×１００万個有している、好ましくは、１ｍｍ２ という表面積あたりに、１個〜２０×１００万個有していることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２１】
請求項１７〜２０のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
前記ポア（２４）が、実質的に円筒形であるとともに、５〜５００ｎｍという直径を有していることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２２】
請求項１７〜２１のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
互いに異なる２つまたは３つの微小機械加工可能な材料から形成されていることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２３】
請求項１７〜２２のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
形成材料が、シリコンと、多結晶シリコンと、シリカと、酸化シリコンと、窒化シリコンと、の中から選択されていることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２４】
請求項１７〜２３のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
２つのチャンバ（２６，２７）が、一体的に設けられ、
これらチャンバ（２６，２７）が、前記メンブランの各面上に配置され、
各チャンバが、ベースと、側壁と、前記ベースとは反対側に位置した壁と、を有し、
前記ベースが、前記メンブランから形成されているとともに、前記ベースとは反対側に位置した前記壁には、開口（２８，２９）が形成されていることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２５】
請求項２４記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
前記チャンバ（２６，２７）の前記側壁と、前記ベースとは反対側に位置した前記壁とが、微小機械加工可能な材料から形成されていることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２６】
請求項２５記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
前記微小機械加工可能な材料が、シリコンと、多結晶シリコンと、シリカと、酸化シリコンと、窒化シリコンと、の中から選択されていることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２７】
請求項１７〜２６のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
前記ポアの壁が、化学的および／または生物学的機能を有し、
この機能が、前記メンブランの前記面のうちの、前記壁とは無関係な部分が有している化学的および／または生物学的機能とは相違していることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２８】
請求項１７〜２７のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
生物学的メンブランの動特性および機能特性の研究を行うためのものであることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【請求項２９】
請求項１７〜２７のいずれか１項に記載のバイオミメティックメンブラン（１０）であって、
生物触媒的マイクロシステムの製造のためのものである、あるいは、物質の検出または投与のためのものであることを特徴とするバイオミメティックメンブラン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バイオミメティックメンブランの製造方法、および、バイオミメティックメンブラン、ならびに、バイオミメティックメンブランの応用、に関するものである。
【０００２】
より詳細には、本発明による製造方法によれば、安定な多孔性メンブランであって、その構造が、生物学的メンブランの構造的特性を模倣しているとともに、さらに、生物学的メンブランをひな型として特定の物理的／化学的特性を有した領域を備えているような、メンブランを製造することができる。
【０００３】
そのタイプのメンブランは、生物学的メンブランの動的性質や機能的性質に関するすべての研究作業において、実験的モデルとして機能することができる。特に、メンブランを挿通しての分子の輸送機構や、メンブランの電位や、生物学的境界における拡散プロセスや反応プロセスや相互作用プロセスや、隔離されたメンブランタンパク質の機能動特性やメンブランの配位子／受容体の認識や、親和反応や、生物学的境界上におけるマクロ分子アーキテクチャーの構成とさえいったもの、に関しての研究において、実験的モデルとして機能することができる。そのようなタイプの研究は、産業や健康に関して直接的に興味があり、特に、製薬産業において興味がある。
【０００４】
さらに、上記メンブランは、また、生物学的触媒マイクロシステムの製造や、物質の検出や投与のためのマイクロシステムの製造、において使用することができ、特に、バイオセンサにおける感応層として使用することができる。
【背景技術】
【０００５】
細胞生物学におけるここ数十年にわたるかなりの進展にもかかわらず、生物学的メンブランは、構成と機能との双方の観点から、主要な研究対象のままである。
【０００６】
現在使用されている実験的メンブランモデルは、多くの場合、例えばホスファチジルコリンやホスファチジルエタノールアミンやホスファチジルセリンによる二重層といったようなリン脂質二重層から形成されており、その二重層の中に、例えばλ−溶血素といったようなダクトとして機能するタンパク質が組み込まれる。
【０００７】
上記タイプの実験モデルであると、メンブランタンパク質の挿入モードおよび機能モードを研究することができるけれども、他方においては、そのような実験モデルは、細胞内媒体と細胞外媒体との間の交換作用といったような生物学的メンブランの１つのキー機能を含有していない。
【０００８】
さらに、脂質二重層は、不安定であって、取扱いが容易ではない、という欠点を有している。二重層内においてダクトとして機能するタンパク質は、変性しやすく、直径の調節を行うことができない。
【０００９】
したがって、生物学的メンブランを構成する脂質二重層を、機能タンパク質を収容することができおよび／または生物学的メンブランと同様の透過特性を有しているような人工的インターフェースによって、代替することには著しい興味が存在する。
【００１０】
あるいくつかの研究チームは、電子マイクロシステムを形成するための技術によってもたらされるような小型化の可能性を使用することによる人工メンブランの形成を想定した。しかしながら、この分野においては、ごくわずかの文献しか、人工メンブランの形成に課せられた困難性に対するヒントを与えてくれない。
【００１１】
現在形成されている中で最も先進的な人工メンブランは、疑う余地なく、LI氏他によって形成されたものである（Nature, 412, 166-169, 2001、参考文献（１））。
【００１２】
このメンブランは、窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）から形成されるとともに、直径が１〜５ｎｍという単一のポアを備えている。このメンブランは、以下の方法によって形成される。
−低圧化学気相蒸着法（low pressure chemical vapour deposition,ＬＰ−ＣＶＤ）により、シリコン基板の前面上に、Ｓｉ３Ｎ４層を成膜し；
−リソグラフィー法によって窒化シリコン層を部分的に解放するとともに、シリコン基板の裏面をウェットエッチングし；
−焦点合わせされたイオンビームにより、Ｓｉ３Ｎ４層のうちの解放された部分内に、非横向きキャビティを形成し、この際、キャビティの底面を、窒化シリコン層の前面の側面上に位置させ；
−アルゴンイオンビームを印加することによって、キャビティの底面が穿孔される程度にまで、窒化シリコン層の前面を平坦化し、この際、その穿孔によって、約１００ｎｍ直径のポアを形成し；
−制御が困難であるような臨界実験条件下でもって、アルゴンイオンビームによって、ポアを部分的に変形させる。
【００１３】
このようなプロセスにおいては、開発者自身が認識しているように、産業的スケールでの使用を想定する前に多数の補完的研究を実行しなければならないこととは別に、壁が必然的にメンブランの残部と同じ材料から形成されていることにより、ポアが形成されてしまうという主要な欠点を有していることがわかった。
【００１４】
さらに、ポアの直径を制御し得るフィードバックループは、一度につき１つのポアしか形成することができない。
【００１５】
しかしながら、多くの分野においては、校正済みの複数のポアからなるマトリクスを有した人工メンブランを、自由に得ることが不可欠である。その場合、壁には、メンブランの非多孔性面の機能とは異なる機能が付与される。このことは、ポアをなす壁が、メンブランの残部を形成するために使用されている材料とは異なる材料から形成できなければならないことを意味している。
【００１６】
加えて、国際公開第０１／３６３２１号明細書（参考文献（２））には、５０ｎｍ未満という直径を有した複数のナノポアを有しているとともに生物学的物質のフィルタリングに対しての使用を意図した人工メンブランを形成するための方法が開示されている。
【００１７】
この方法においては、最も単純な実施形態において、
−低圧化学気相蒸着法により、基板（例えば、シリコン基板）の前面上に、犠牲的エッチング境界層（例えば、Ｓｉ３Ｎ４層）を成膜し；
−犠牲的エッチング境界層上に、構造層（例えば、多結晶シリコン層あるいはＳｉ３Ｎ４層）を成膜し；
−酸化シリコン層（ＳｉＯ２ ）の熱成長後に塩素プラズマによって構造層をエッチングすることによって、約１μｍ幅の複数の穴を構造層内に形成し、この場合、それら穴は、メンブランに将来的に形成される複数のポアの形状を決定することを意図したものとされており；
−構造層上に、ＳｉＯ２ 製の犠牲層を熱成長させ、この場合、犠牲層の厚さが、複数のポアの形状をナノ寸法を決定するものとされ；
−ＳｉＯ２ 製犠牲層の内部に、複数の特定のアンカー止めポイントを形成することにより、犠牲層と、その後のステップにおいてその犠牲層をカバーすることを意図した層と、の間における機械的連結を確保し、この場合、複数のアンカー止めポイントの形成は、表面上とポア内面との双方において、ＳｉＯ２ 製犠牲層の部分的エッチングによって行い；
−ＳｉＯ２ 製の犠牲層上において、多結晶シリコン製『プラグ』層を成膜し、この場合、プラグ層の厚さを、このプラグ層の成膜によってポアを充填し得るようなものとして（約１．５μｍ）、選択し；
−多結晶シリコン製『プラグ』層を、ポア内に多結晶シリコンだけが残る程度にまで、平坦化し；
−多結晶シリコン製『プラグ』層の残留物を研磨し；
−そのようにして得られたアセンブリの両面上に、保護層（例えば、Ｓｉ３Ｎ４層）を成膜し；
−保護層のうちの、基板背面上に位置した部分を除去し、その後、化学的エッチング（ＫＯＨ）によって、そのようにして裸とされた基板と、エッチング境界層と、を除去し；
−化学的エッチング（ＨＦまたはＳＦ６ ）と酸素プラズマエッチングとを併用することにより、犠牲的境界層とＳｉＯ２ 製犠牲層とを除去する。
【００１８】
よって、最も単純な実施形態であっても、この方法は、７個以上のステップを有している。このことは、この方法をかなりコスト高のものとするとともに、得られるメンブランは、構造層（多結晶シリコンまたはＳｉ３Ｎ４）によって形成され、構造層を貫通する複数のポアをなす壁が、一様ではない。それは、壁が、構造層をなす材料と、『プラグ』層をなす多結晶シリコン材料と、から形成されているからである。
【００１９】
生物学的物質のフィルタリングに関するメンブランの使用においては、このような構成が障害となることはないけれども、そのような構成は、生物学的メンブランに関する研究における実験的モデルとしての使用を阻害する。
【特許文献１】国際公開第０１／３６３２１号明細書（参考文献（２））
【非特許文献１】LI 氏他による Nature, 412, 166-169, 2001（参考文献（１））
【非特許文献２】MARTIN 氏および GROVE 氏による Biochemical Microdevices,3(2), 97-108, 2001（参考文献（３））
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００２０】
したがって、本発明の目的は、生物学的メンブランの構造特性および機能特性の再現に適した人工メンブランを形成することができ、それと同時に、そのようなメンブランの製造コストが最小限であるといったようにして非常に容易に使用し得る人工メンブランを形成し得るような、方法を提供することである。
【００２１】
上記目的は、本発明によって達成され、本発明においては、バイオミメティックメンブランの製造方法であって、
ａ）微小機械加工可能な材料からなるプレート（Ａ）の少なくとも一方の主面上に、各々が微小機械加工可能な材料から形成された１つまたは複数の層を有してなる層（Ｂ）を成膜し、
ｂ）層（Ｂ）内において、１つまたは複数の貫通穴を形成し、この場合、各貫通穴を、層（Ｂ）と同じ材料から形成された壁と、プレート（Ａ）と同じ材料から形成された底面と、を有したものとし、
ｃ）層（Ｂ）上と各貫通穴の壁上と各貫通穴の底面上とに、微小機械加工可能な材料からなるとともに各穴の壁および底面に沿って配置されている層（Ｃ）を成膜し、
ｄ）直下に位置している層（Ｂ）から、また、各穴の中央部においては、直下に位置するプレート（Ａ）から、層（Ｃ）を除去するとともに、同時に、各穴の壁上においては、層（Ｃ）の残留物を残し、この場合、残留物が、壁が層（Ｃ）と同じ材料から形成されかつ底面がプレート（Ａ）と同じ材料から形成されたポアを形成するものとし、
ｅ）プレートの一部または全部を除去することにより、層（Ｂ）のうちの、ステップｄ）において形成された少なくとも１つのポアを有した少なくとも一部を、解放する、
ことを特徴とする方法を提供する。
【００２２】
よって、ポアの壁以外のところにおいては、層（Ｂ）をなす材料から形成されているメンブランを得ることができる。実際、ポアの壁は、層（Ｃ）をなす材料から形成されている。
【００２３】
したがって、層（Ｂ）を、１つの層からあるいは複数の層から形成するかを決定することにより、また、層を形成する材料を、一方においては層どうしの間において同一の微小機械加工可能材料とするかあるいは異なる微小機械加工可能材料とするかを決定することにより、他方においては層（Ｃ）をなす材料と同一の微小機械加工可能材料とするかあるいは異なる微小機械加工可能材料とするかを決定することにより、本発明による方法に基づいて、様々なタイプの多孔性メンブランを得ることができる。特に、以下のタイプのメンブランを得ることができる。
−ポアの壁が、メンブランの２つの主面のうちの、壁以外の部分をなす材料と同じ材料から形成されているような、メンブラン（例えば、層（Ｂ）が、層（Ｃ）を形成するのに使用されている材料と同じ材料から形成されたただ１つの層を備えている場合）。
−ポアの壁が、メンブランの２つの主面のうちの、壁以外の部分をなす材料と異なる材料から形成されているような、メンブラン（例えば、層（Ｂ）が、層（Ｃ）を形成するのに使用されている材料と同じ材料から形成されたただ１つの層を備えている場合）。
−ポアの壁が、メンブランの２つの主面のうちの、壁以外の部分をなす材料と異なる材料から形成されており、実際、そのような部分が、メンブランの他方の面とは異なる材料から形成されているような、メンブラン（例えば、層（Ｂ）が、互いに相違するだけではなく層（Ｃ）をなす材料とも相違する材料からそれぞれ形成された２つの層を備えている場合）。
【００２４】
上述したように、本発明による方法においては、第１ステップとしてすなわちステップａ）として、微小機械加工可能な材料からなるプレート（Ａ）の少なくとも一方の主面上に、各々が微小機械加工可能な材料から形成された１つまたは複数の層を有してなる層（Ｂ）を成膜する。この場合、層（Ｂ）の複数の層をなす材料は、同一とすることも、また、互いに相違するものとすることも、できる。
【００２５】
本明細書においては、『微小機械加工可能な材料』という用語は、マイクロ構造やナノ構造の製造において使用される技術において適切であるような、特に薄膜成膜技術やリソグラフィー技術やエッチング技術といったような技術において適切であるような、すべての材料を意味している。
【００２６】
このタイプの材料は、特に、シリコンや、多結晶シリコン（あるいは、ポリシリコン）や、例えば酸化シリコンや酸化チタンといったような酸化物や、例えば窒化シリコンや窒化アルミニウムといったような窒化物や、例えば金や銅やニッケルといったような金属や、例えばアルミニウム合金や銅／ニッケル合金といったような金属合金や、例えばホウケイ酸ガラスやリンケイ酸ガラスといったようなガラスや、例えばシリコンカーバイドといったようなセラミクスや、例えばポリイミドやゾルゲル形成ポリマーとさえいったようなポリマー、とすることができる。
【００２７】
本発明においては、層（Ａ）上への、層（Ｂ）をなす単一層または複数層の成膜は、層（Ｂ）の形成のために選択された材料に関して適合している限りにおいてかつ被覆対象をなす層としてのプレート（Ａ）の形成のために選択された材料に関して適合している限りにおいて、薄膜を形成するために使用される任意の技術によりあるいはこれら技術の組合せにより、得ることができる。
【００２８】
よって、例えば、そのような成膜は、熱酸化によって、あるいは、化学気相蒸着（ＣＶＤ）によって、あるいは、低圧化学気相蒸着（ＬＰ−ＣＶＤ）によって、あるいは、熱蒸着によって、あるいは、電解成膜すなわち電気化学的成膜によって、あるいは、陰極線スパッタリングによって、あるいは、パルスレーザーによってさえも、得ることができる。
【００２９】
層（Ｂ）をなす層数に関係なく、また、層（Ｂ）の成膜のために選択された技術に関係なく、層（Ｂ）は、メンブランをもたらすのに適した厚さに対応した厚さを有している。好ましくは、メンブランの目的に応じて、５ｎｍ〜５μｍという厚さを有している。
【００３０】
層（Ｂ）の成膜後に、本発明においては、ステップｂ）として、層（Ｂ）内に、１つまたは複数の貫通穴を形成する。この場合、得られた各貫通穴は、層（Ｂ）と同じ材料から形成された壁と、プレート（Ａ）と同じ材料から形成された底面と、を有している。
【００３１】
本発明による方法は、単一のポアを有しているような、あるいは、層（Ｂ）の表面積１ｍｍ２ あたりにおいて１００×１００万個にも達するような典型的には２０×１００万個にも達するような複数のポアを有しているような、メンブランを形成することを意図している。
【００３２】
よって、層（Ｂ）内に形成される貫通穴の数は、（層（Ｂ）の全表面積に対して）１個から、層（Ｂ）の表面積１ｍｍ２ あたりにおいて１００×１００万個まで、好ましくは、層（Ｂ）の表面積１ｍｍ２ あたりにおいて２０×１００万個まで、とされる。
【００３３】
上述した内容を考慮するとともに、説明をできる限り単純化するために、以下においては、層（Ｂ）およびメンブランが、それぞれ複数の貫通穴および複数のポアを有しているものとする。
【００３４】
好ましくは、層（Ｂ）内に形成される貫通穴は、実質的に円筒形とされるとともに、例えばＤＵＶ（“deep-ultraviolet”）タイプや電子ビームタイプといったようなリソグラフィーと、その後のエッチングと、によって形成される。
【００３５】
このエッチングは、ウェットエッチングとすることもまたドライエッチングとすることもできるけれども、ドライエッチングが使用されることの方が多い。それは、第１に、ウェットエッチングの場合と比較して、より小さな断面積の穴を得ることができるからであり、第２に、円筒形の穴の場合には好ましくは１０ｎｍ〜１μｍとされるような穴の断面積を、また、穴の鉛直性を、高精度で制御できるからである。
【００３６】
本発明による方法における第３ステップにおいては、すなわち、ステップｃ）においては、層（Ｂ）上と各貫通穴の壁上と各貫通穴の底面上とに、微小機械加工可能な材料からなるとともに各穴の壁および底面に沿って配置されている層（Ｃ）を成膜する。この場合、層（Ｂ）と接触して配置されている面とは反対側の面と、穴の壁と、穴の底面とは、穴内において、Ｕ字形の凹所を形成する。
【００３７】
層（Ｃ）の厚さは、実質的に一定のものとすべきであるとともに、穴の断面内における最小寸法の半分よりも小さいものとすべきであり、少なくとも層（Ｂ）の厚さと同じものとすべきである。よって、実質的に円筒形の穴の場合には、層（Ｃ）の厚さは、円筒形穴の半径以下でなければならない。
【００３８】
この場合においても、層（Ｃ）の成膜は、層（Ｃ）の形成のために選択された材料に対しておよび直下の層（Ｂ）の形成のために選択された材料に対して適合している限りにおいて、薄膜を形成するために使用される任意の技術により、得ることができる。
【００３９】
層（Ｃ）の成膜後に、本発明による方法においては、ステップｄ）として、直下に位置している層（Ｂ）から、また、各穴の中央部においては、直下に位置するプレート（Ａ）から、層（Ｃ）を除去するとともに、同時に、各穴の壁上においては、層（Ｃ）の残留物を残し、これにより、各残留物が、壁が層（Ｃ）と同じ材料から形成されかつ底面がプレート（Ａ）と同じ材料から形成されたポアを形成するものとする。
【００４０】
このような除去は、層（Ｃ）の異方性エッチングによって、言い換えれば、プレートの主面に対して垂直であるようなドライエッチングによって、得ることができる。これにより、壁を被覆している部分の腐食を避けることができる。
【００４１】
これにより、各穴内において、層（Ｃ）をなす材料からなる残留物を形成することができる、すなわち、穴の壁の全体を被覆するような『スペーサ』を形成することができる。このような残留物は、製造されるべきメンブランのポアに対応した開口の開口度合いを規定する。
【００４２】
本発明による方法におけるステップｃ）ｄ）により、ステップｂ）において層（Ｂ）内に形成された穴の断面積を、所望の程度にまで、調節することができかつ小さくすることができる。
【００４３】
さらに、層（Ｃ）をなす材料として、層（Ｂ）をなす材料と相違する材料を選択した場合には、ステップｃ）ｄ）により、ポアの壁がメンブラン残部とは化学的に相違しているようなメンブランポアをもたらすことができる。
【００４４】
よって、層（Ｂ，Ｃ）の形成材料として例えばシリカといったような親水性タイプの材料を使用しかつ他の層の形成材料として例えばシリコンといったような疎水性タイプの材料を使用することにより、例えば化学的化合物や生物学的化合物をグラフトするといったようにして、適切であるような様々な材料を官能基付加する（機能付加する）ことにより、疎水性を有したサイトと親水性を有したサイトとの双方を備えているとともに、様々なイオン電荷密度を備えているような、メンブランを製造することができる。
【００４５】
本発明においては、層（Ｃ）の異方性エッチングは、主に、反応性イオンエッチングとされる。反応性イオンエッチングは、ＲＩＥ（reactive ion etching）装置や、ＭＲＩＥ（magnetically enhanced RIE）装置や、 ＴＣＰ（transformer coupled plasma）装置や、ＩＣＰ（inductively coupled plasma）装置や、ＤＰＳや、ＥＣＲや、ＤＥＣＲや、類似手段を使用して、行うことができる。
【００４６】
その後、本発明による方法においては、ステップｅ）として、プレート（Ａ）の一部または全部を除去することにより、層（Ｂ）のうちの、先のステップにおいて形成されたポアを有した少なくとも一部を、解放する。
【００４７】
本発明による方法の第１の好ましい実施形態においては、ステップｅ）において、プレート（Ａ）の全部を除去することにより、層（Ｂ）を完全に解放する。
【００４８】
これにより、シートの形態とされたメンブランが得られる。シートは、円形とすることも、平行六面体形状とすることも、他の形状とすることも、できる。メンブランのタイプは、特に、物質の検出のためのマイクロシステムを形成するのに適したものとされる。特に、バイオセンサ内における薄膜と使用されるのに適したメンブランとされる。
【００４９】
本発明による方法の他の好ましい実施形態においては、ステップｅ）において、
ｅ１） 層（Ｂ）の自由面上に、微小機械加工可能な材料からなるプレート（Ａ’）を固定し、
ｅ２） 両プレート（Ａ，Ａ’）に中空部分を形成することにより、層（Ｂ）のうちの、ポアが形成されている部分を解放し、これと同時に、両プレートのエッジと、層（Ｂ）に対して接触して配置されている面とは反対側の面からなる部分と、を残す。
【００５０】
これにより、２つのチャンバが、一体的に設けられ、これらチャンバが、メンブランの各主面上に配置され、メンブランの内部へのアクセスを可能とするような開口が形成されているような、メンブランが得られる。
【００５１】
それらチャンバは、特に、細胞内媒体や細胞外媒体を模擬したポリマーゲル溶液や他の溶液によって充填することができる。これにより、メンブランを、生理学的状況と同等の状況下に配置することができる、あるいは、反応チャンバとして使用することができる。
【００５２】
したがって、このタイプのメンブランは、生物学的メンブランに関する研究を行うのに特に好適であり、特に境界のところにおける拡散プロセスや反応プロセスや相互作用プロセスに関する研究を行うのに特に好適である。また、メンブランタンパク質の動特性に関する研究を行うのに特に好適である。
【００５３】
好ましくは、両プレート（Ａ，Ａ’）は、同じ材料から形成されるとともに、層（Ｂ）に対して接触して配置されている面とは反対側の面が、微小機械加工可能な材料からなる層（Ｄ）によって被覆される。
【００５４】
そのような場合には、好ましくは、ステップｅ２） において、
−リソグラフィーと、その後にウェットエッチングまたはドライエッチングと、を行うことにより、層（Ｄ）を部分的に除去し、
−ウェットエッチングを行うことによって、両プレート（Ａ，Ａ’）に中空部分を形成するとともに、層（Ｂ）を被覆しているような、両プレートからなる残留物を残し、
−ドライエッチングを行うことによって、層（Ｂ）のうちの、ポアが形成されている部分を解放する。
【００５５】
本発明においては、層（Ｂ）は、好ましくは、１つまたは２つの層を備えて構成される。
【００５６】
層（Ｂ）が、単一層からなる場合には、その単一層は、多くの場合、層（Ｃ）をなす材料とは異なるような、微小機械加工可能な材料から形成される。
【００５７】
層（Ｂ）が、２つの層からなる場合には、それら層は、多くの場合、層（Ｃ）をなす材料とは異なるような、かつ、互いに相違するような、微小機械加工可能な材料から形成される。
【００５８】
いずれにしても、両プレート（Ａ，Ａ’）と層（Ｂ）と層（Ｃ）とを形成する材料は、好ましくは、シリコンと、多結晶シリコンと、シリカと、酸化シリコンと、窒化シリコンと、の中から選択される。
【００５９】
本発明による方法の特に好ましい実施形態においては、ステップｅ）の後に、ポアの壁に対して、および／または、メンブランの主面のうちの壁とは無関係な部分に対して、機能が付与される。
【００６０】
本発明においては、『機能付与』という用語は、その目的が物理的性質や化学的性質を変更することであるようなすべての処理、また、その目的が特定の物理的性質や化学的性質を付与することであるようなすべての処理、を意味するものとして解釈される。
【００６１】
メンブランの用途に応じて選択されるような、そのような機能付与は、特に、例えばヒドロキシル化（化学的手段や酸素プラズマによる）といったような前処理と、（使用されるシランのタイプに応じて）被処理領域を疎水化することができるようなあるいは逆に親水化することができるような液相シラン化処理、あるいは、特に生物学的分子（ポリペプチド、タンパク質、オリゴヌクレオチド、ＤＮＡまたはＲＮＡのフラグメント、等）といったような興味のある分子をその後にグラフトするのに適した化学的性質を被処理領域に対して付与し得るような処理、とを行うことができる。
【００６２】
上記すべての処理自体は、公知であることに注意されたい。そのような処理は、特に、MARTIN 氏および GROVE 氏による Biochemical Microdevices, 3(2), 97-108, 2001 （参考文献（３））に記載されている。
【００６３】
シランをベースとした機能付与は、被処理領域上において、およそ２〜４ｎｍという単分子層を形成し得るという利点を有している、したがって、メンブランの厚さを、大きくは変更しないという利点を有している。
【００６４】
好ましくは、機能付与ステップにおいては、ポアの壁に対して、および、メンブランの主面のうちの壁とは無関係な部分に対して、それぞれ、機能を付与し、その際、それら機能付与は、互いに異なるものとされる。
【００６５】
そのようなタイプの様々な機能付与は、メンブランのバイオミメティック特性をさらに強化するのに適したように、境界における物理的／化学的環境を有利に変更することができる。実際、これにより、特定の物理的／化学的性質を有した複数の領域を局所的に形成することができ、これと同時に、全体の一様性（厚さ、ポア直径、全体的化学構造）を維持することができる。
【００６６】
さらに、メンブランのポア内に、メンブランタンパク質を組み込み得るという可能性がもたらされる。それは、特に、ラングミュア−ブロジェット法によって行うことができる。その場合、空気と水との境界に形成された単分子膜を固体基板上へと移送することによって、厚さと分子組織化とを厳密に制御しつつ、層状の脂質積層を、形成することができる。また、タンパク質のメンブラン外領域の親水性部分の保持に適しているように、ポアの壁を、より親水的なものへと機能付与することができる。
【００６７】
よって、メンブランの各面上に、脂質二重層を成膜することができる。そのような脂質二重層は、メンブランの面とポアの壁とを被覆し、ラングミュア−ブロジェット層を形成するに際して使用される両親媒性分子を適切に選択することにより、タンパク質の向きを制御しつつタンパク質を組み込むことができる。これにより、生物学的メンブランに対して厚さおよび多孔性が類似している構造に関連した脂質環境内に、タンパク質を見出すことができる。
【００６８】
本発明のさらなる目的は、１つまたは複数の貫通穴を備えたバイオミメティックメンブランであって、互いに異なる少なくとも２つの微小機械加工可能な材料から形成され、一方の微小機械加工可能な材料が、ポアの壁を形成しており、他方の微小機械加工可能な材料が、メンブランの残部を形成していることを特徴とするバイオミメティックメンブランである。
【００６９】
本発明によるメンブランの第１の有利な実施形態においては、表面積は、１μｍ２ 〜１ｃｍ２ とされ、厚さは、５ｎｍ〜５μｍとされる。
【００７０】
本発明によるメンブランのさらに有利な実施形態においては、メンブランは、単一のポアを有している、あるいは、表面積１ｍｍ２ あたりにおいて１００×１００万個にも達するような複数のポアを有している。好ましくは、メンブランは、１ｍｍ２ という表面積あたりに、ポアを１個〜１００×１００万個有している、好ましくは、１ｍｍ２ という表面積あたりに、１個〜２０×１００万個有している。
【００７１】
本発明によるメンブランの別の有利な実施形態においては、メンブランのポアは、実質的に円筒形であるとともに、５〜５００ｎｍという直径を有している。
【００７２】
好ましくは、メンブランは、互いに異なる２つまたは３つの微小機械加工可能な材料から形成される。
【００７３】
メンブランが、２つの微小機械加工可能な材料から形成されている場合には、一方の微小機械加工可能な材料が、ポアの壁を形成し、他方の微小機械加工可能な材料が、メンブランの残部を形成する。
【００７４】
メンブランが、３つの微小機械加工可能な材料から形成されている場合には、好ましくは、第１の材料が、ポアの壁を形成し、第２の材料が、メンブランの一方の主面のうちの、壁以外の部分を形成し、最後の材料が、メンブランの他方の主面のうちの、壁以外の部分を形成する。
【００７５】
いずれの場合においても、メンブランを形成する微小機械加工可能な材料は、好ましくは、シリコンと、多結晶シリコンと、シリカと、酸化シリコンと、窒化シリコンと、の中から選択される。
【００７６】
本発明によるメンブランの好ましい実施形態においては、２つのチャンバが、一体的に設けられ、これらチャンバが、メンブランの各主面上に配置され、各チャンバが、ベースと、側壁と、ベースとは反対側に位置した壁と、を有し、ベースが、メンブランから形成されているとともに、ベースとは反対側に位置した壁には、開口が形成されている。
【００７７】
好ましくは、チャンバの側壁と、ベースとは反対側に位置した壁とは、微小機械加工可能な材料から形成され、これら微小機械加工可能な材料は、多くの場合、シリコンと、多結晶シリコンと、シリカと、酸化シリコンと、窒化シリコンと、の中から選択される。
【００７８】
本発明によるメンブランの特に好ましい実施形態においては、ポアの壁は、化学的および／または生物学的機能を有し、この機能は、メンブランの主面のうちの、壁とは無関係な部分が有している化学的および／または生物学的機能とは相違している。
【００７９】
本発明による方法は、多数の利点を有している。
【００８０】
特に、『測定用途に形成された』バイオミメティックメンブランを製造することができる。言い換えれば、特に以下のような様々な可能性をもたらし得るという点において、メンブランの用途に厳密に適した構造と機能特性とを有しているメンブランを製造することができる。すなわち、
−ナノメートル領域からマイクロメートル領域までという寸法範囲にわたって、メンブランの厚さと、ポアのサイズと、ポアの密度と、を調節できるという可能性。
−ポアを形成する材料と、メンブランの残部を形成する材料と、の双方に関して、物理的／化学的性質（親水性／疎水性、イオン帯電、等）を調節できるという可能性。
−特に生物学的分子（ポリペプチド、タンパク質、オリゴヌクレオチド、ＤＮＡまたはＲＮＡのフラグメント、等）といったような興味のある分子を、材料上にグラフトできるという可能性。
−メンブランタンパク質を収容するのに適しているように、メンブランタンパク質のサイズと同じポアを形成できるという可能性。このことは、本発明によるメンブランを、分離させたタンパク質に関する研究を行うに際して、特に興味深いものとする。
−アクセス可能な複数のチャンバが設けられたメンブランを形成できるという可能性。このことは、実験的研究を行うに際して、本発明によるメンブランの使用を、かなり単純化させる。
【００８１】
上記すべての利点に加えて、本発明は、使用が単純であるという利点を有しており、したがって、経済的に興味深いという利点を有している。
【００８２】
本発明のさらなる目的は、生物学的メンブランの動特性および機能特性の研究を行うに際しての、上述したメンブランの応用である。
【００８３】
本発明の別の目的は、生物触媒的マイクロシステムの製造に際しての、あるいは、物質の検出または投与に際しての、上述したメンブランの応用である。
【００８４】
ごく限られた厚さでもって特に数ｎｍ〜数十ｎｍといったような範囲の厚さでもって本発明によるメンブランを形成できるという可能性は、従来技術によるポリマー製メンブランにおいて観測される拡散速度と比較して、メンブランを挿通しての拡散速度を増大させることができる。
【００８５】
したがって、本発明によるメンブランを使用すれば、ポリマー製メンブランの場合には数時間をかけて行われるようなあるいは数日間をかけて行われるようなある種の操作（透析、輸送、等）を、数秒間で行うことができる。
【００８６】
上記複数の特徴点に加えて、本発明は、さらに他の複数の特徴点を具備している。それら他の複数の特徴点は、添付図面を参照しつつ、本発明を何ら限定するものではなく単なる例示として与えられるような本発明による方法の２つの実施形態と本発明によって製造されたメンブランに関する１つの例とに関しての以下の詳細な説明を読むことにより、明瞭となるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８７】
まず最初に、図１〜図５には、本発明の第１実施形態による方法におけるステップａ）〜ｅ）のそれぞれが概略的に示されている。
【００８８】
図１に示すように、本発明による方法の第１ステップにおいては、すなわち、ステップａ）においては、例えばシリコン製プレートといったようなプレート（Ａ）の両面（両主面）上に、例えば熱形成された酸化シリコンから形成された層といったような、各層（Ｂ，Ｄ）を成膜する。
【００８９】
図２に示すように、本発明による方法の第２ステップにおいては、すなわち、ステップｂ）においては、層（Ｂ）内において、リソグラフィーと、例えばフッ素化合物や塩素化合物を使用したドライエッチングといったようなドライエッチングと、によって、層（Ｂ）を貫通して延在するような複数の穴（２０）を、形成する。
【００９０】
したがって、このようにして形成された穴（２０）の壁（２１）は、層（Ｂ）と同じ材料から形成されている。一方、穴（２０）の底面（２２）は、プレート（Ａ）と同じ材料から形成されている。
【００９１】
図３に示すように、その次のステップにおいては、すなわち、ステップｃ）においては、層（Ｂ）上と複数の穴（２０）の壁（２１）上と複数の穴（２０）の底面（２２）上とに、層（Ｃ）を成膜する。層（Ｃ）は、層（Ｂ）と同様にＳｉＯ２ 材料から、あるいは、例えば窒化シリコンや多結晶シリコンといったような微小機械加工可能な材料から、形成される。
【００９２】
そのような層（Ｃ）は、実質的に一定の厚さを有している。この厚さは、複数の穴（２０）の断面における最小寸法の半分よりも小さく、また、層（Ｂ）の厚さよりも小さい。そのため、層（Ｃ）のうちの、層（Ｂ）に対して接触している面に対して反対側に位置している面、および、層（Ｃ）のうちの、穴（２０）の壁（２１）および底面（２２）に対して接触している面に対して反対側に位置している面は、穴（２０）内においてＵ字形をなす凹所を形成している。
【００９３】
図４に示すようなステップｄ）においては、異方性エッチング（図４においては、矢印によって模式的に示されている）によって、直下に位置している層（Ｂ）の面に対して到達するまで、また、複数の穴（２０）の中央部においては、直下に位置するプレート（Ａ）の面に到達するまで、層（Ｃ）を除去する。このエッチングにより、各穴（２０）内においては、層（Ｃ）の残留物（２３）、すなわち、『スペーサ』が形成される。この残留物（２３）は、穴の壁（２１）を被覆しており、よって、製造されるべきメンブランのポア（２４）に対応した開口を規定している。
【００９４】
図５に示すように、ステップｅ）においては、ドライエッチングまたはウェットエッチングによって、プレート（Ａ）を除去する。これにより、層（Ｂ）を解放することができ、これにより、シートの形態とされた多孔性メンブラン（１０）を得ることができる。この多孔性メンブラン（１０）は、層（Ｃ）をなす材料から形成されている複数のポア（２４）の壁を除いては、層（Ｂ）をなす材料から形成されている。
【００９５】
次に、図６〜図９を参照する。図６〜図９は、複数のアクセス可能なチャンバが設けられているメンブランを形成し得るような、本発明による方法の第２実施形態におけるステップｅ）を概略的に示している。
【００９６】
図６に示すように、ステップｅ）においては、まず最初に、例えば分子接着によってといったようにして、層（Ｂ）の自由面上に、プレート（Ａ’）を固定する。この場合、プレート（Ａ’）は、層（Ｂ）に対して接触する面とは反対側の面が、層（Ｄ）によって被覆されている。
【００９７】
図６に示す実施形態においては、プレート（Ａ’）と層（Ｄ）とは、それぞれ、プレート（Ａ）および層（Ｂ）をなす各材料と同じ材料から形成されている。
【００９８】
しかしながら、別の手法を行うことができる。
【００９９】
図７に示すように、層（Ｄ）のうちの、複数のポア（２０）が形成されている部分に対向して位置している部分が、リソグラフィーとその後のドライエッチングまたはウエットエッチングとによって、除去される。
【０１００】
その後、ウェットエッチングによって、プレート（Ａ，Ａ’）に中空部分を形成することができる。この際、層（Ｂ）の両面上において、プレート（Ａ，Ａ’）からなる残留物（２５）を残すことができる。この残留物（２５）は、その後には、例えば塩素系プラズマを使用したドライエッチングといったようなドライエッチングによって、除去される（図９）。
【０１０１】
これにより、２つのチャンバ（２６，２７）が一体的に形成されているようなメンブラン（１０）を得ることができる。これらチャンバ（２６，２７）は、メンブランの両面に配置されているとともに、それぞれ開口（２８，２９）を有している。これら開口（２８，２９）により、チャンバの内部にアクセスすることができる。
【０１０２】
図１０は、本発明による方法の第３実施形態におけるステップｅ）の完了時点において得られたメンブランに関して、光学顕微鏡によって撮影した２つの写真を示している。この場合、層（Ｂ）は、（『ダウンストリーム』タイプのあるいは『アフターグロー』タイプの反応容器内において、および、酸素の存在下においてフッ素化合物を利用したような）プラズマを使用したプレート（Ａ）の異方性ドライエッチングによって、プレート（Ａ）から部分的に解放されている。そのような異方性エッチングは、層（Ｂ）内に形成されたポアを挿通して行われた。
【０１０３】
図１０Ａは、１０００倍という拡大倍率に対応しており、図１０Ｂは、２００倍という拡大倍率に対応している。
【０１０４】
このメンブランは、約１０ｍｍ２ という表面積を有しているとともに、厚さが１００ｎｍであり、ポアの直径は、３５０ｎｍであり、ポアどうしは、７００ｎｍという離間距離でもって互いに離間されている。
【０１０５】
このメンブランは、シリコン製のプレート（Ａ）と、酸化シリコン製の層（Ｂ，Ｃ）と、を使用することにより、形成されたものである。
【０１０６】
図１０Ａにより、メンブランにおける複数のポアからなるマトリクスを認識することができる。一方、図１０Ｂは、メンブランのフレキシブルさを示しており、虹色の部分は、メンブランが、直下に位置するシリコンプレートによって支持されているゾーンに対応している。
【０１０７】
［参考文献］
（１）LI 氏他による Nature, 412, 166-169, 2001
（２）国際公開第０１／３６３２１号明細書
（３）MARTIN 氏および GROVE 氏による Biochemical Microdevices, 3(2), 97-108,
2001
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明の第１実施形態による方法におけるステップａ）を概略的に示す断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態による方法におけるステップｂ）を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態による方法におけるステップｃ）を概略的に示す断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態による方法におけるステップｄ）を概略的に示す断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態による方法におけるステップｅ）を概略的に示す断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態による方法におけるステップｅ）を概略的に示す断面図である。
【図７】本発明の第２実施形態による方法におけるステップｅ）を概略的に示す断面図である。
【図８】本発明の第２実施形態による方法におけるステップｅ）を概略的に示す断面図である。
【図９】本発明の第２実施形態による方法におけるステップｅ）を概略的に示す断面図である。
【図１０】本発明による方法におけるステップｅ）の完了時点において得られたメンブランに関しての、異なる倍率（１０００倍、および、２００倍）における顕微鏡写真である。
【符号の説明】
【０１０９】
１０  バイオミメティックメンブラン
２０  貫通穴
２１  壁
２２  底面
２４  ポア
２６  チャンバ
２７  チャンバ
２８  開口
２９  開口
Ａ  プレート
Ａ’プレート
Ｂ  層
Ｃ  層
Ｄ  層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2004154769.tif 000011
【図１０】
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【外国語明細書】
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