(57)【要約】【課題】製品サイズ、基板サイズ、及び装置構成の変更等に対して自由度があり、投資の少ない製造ラインを構築することができる有機ＥＬ発光デバイスの製造方法、及びこの方法に使用するのに最適なコンテナを提供する。【解決手段】陽極１２と陰極１７との間に、少なくとも有機発光材料からなる発光層１４を含む有機層を挟んだ積層構造体を基板１１上に配し、この積層構造体を封止材１８により封止して成る有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法であって、少なくともデバイスの構成膜の作成工程において、複数の製造装置を使用すると共に、製造装置間に雰囲気制御された大気圧の搬送経路１０を配し、この搬送経路１０を介してワークの搬送を行う。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を挟んだ積層構造体を基板上に配し、該積層構造体を封止材により封止して成る有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法であって、少なくともデバイスの構成膜の作成工程において、複数の製造装置を使用すると共に、製造装置間に雰囲気制御された大気圧の搬送経路を配し、該搬送経路を介してワークの搬送を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項２】
有機層を構成する層のうちの少なくとも一層をウエットプロセスにより形成することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項３】
搬送経路が、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度が５％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項４】
複数の製造装置が、大気圧の雰囲気下に配されていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項５】
各搬送期間の前にワークに対して対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を施し、各搬送期間の後にワークに対して施した対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を除去することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項６】
陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を挟んだ積層構造体を基板上に配し、該積層構造体を封止材により封止して成る有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法であって、少なくともデバイスの構成膜の作成工程において、複数の製造装置を使用し、内部が雰囲気制御された大気圧のコンテナを用いて、製造装置間におけるワークの搬送を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項７】
コンテナ内が、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度５％以下であることを特徴とする請求項６に記載の有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項８】
各搬送期間においてワークをコンテナ内に入れる前工程でワークに対して対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を施し、ワークをコンテナから出した後工程でワークに対して施した対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を除去することを特徴とする請求項６または７に記載の有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法。
【請求項９】
請求項６から８のいずれかに記載の方法に使用するコンテナであって、その内部の雰囲気が制御可能であり、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度が５％以下であることを特徴とするコンテナ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機発光材料を発光層として利用した注入型発光素子である有機エレクトロルミネセンス発光素子（以下、「有機ＥＬ発光素子」と称する。）を用いた有機発光表示体等の有機エレクトロルミネセンス発光デバイス（以下、「有機ＥＬ発光デバイス」と称する。）の製造方法、及びこの方法に使用するコンテナに関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ発光素子は、陰極と陽極との間に蛍光性有機化合物を含む薄膜を挟んだ構成を有しており、前記薄膜に電子および正孔（ホール）を注入して再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して発光させる素子である。
【０００３】
有機ＥＬ発光素子の特徴は、１０Ｖ以下の低電圧で１００〜１００，０００ｃｄ／ｍ２程度の高輝度の面発光が可能であり、また蛍光物質の種類を選択することにより青色から赤色までの発光が可能なことである。
【０００４】
また、有機ＥＬ発光素子は、安価な大面積フルカラー表示体や、安価で消費電力が少なく小型の光源を実現するものとして注目を集めている（電子情報通信学会技術報告、第８９巻、ＮＯ．１０６、４９ページ、１９８９年）。この報告によると、強い蛍光を発する有機色素を発光層に使用し、青、緑、赤色の明るい発光を得ている。これは、薄膜状で強い蛍光を発し、ピンホール欠陥の少ない有機色素を用いたことで、高輝度なフルカラー表示を実現できると考えられている。
【０００５】
この有機ＥＬ発光素子を用いた有機ＥＬ発光デバイスの製造方法としては、一般的には発光部に対応したストライプ状の陽極電極（透明性）を有する基板上に有機層を形成し、さらにその上にシャドウマスクを用いて陽極電極と直角に交わるストライプ状の陰極電極（金属）を形成する方法がある。
【０００６】
これは、特開２０００−１５０１４９号公報に開示されているように、ストライプ状の陽極電極（透明性）を有する基板を真空チャンバー内に入れ、順次その中で有機発光層及び金属電極層を形成する方法であり、この真空系の中でアライメントや基板表面の活性化処理も行い、外気に触れない状態で不純物の付着を防止し、その後窒素雰囲気中で封止を行う方法である。
【０００７】
また、特開２０００−３６３８２号公報に開示されているように、封止雰囲気として露点が０℃以下の気体を用いることにより、乾燥状態を得る方法がある。
【０００８】
さらに、特許第２９１７７９５号公報においては、真空中または不活性ガス中に保持された状態で単層または複層の有機層を形成する方法が開示されている。
この特許公報では、単層または複層の有機層（正孔層、電子層）の成膜環境が限定されており、さらに有機層の材料や構成、金属層の材料や構成、及び基板の清浄度を保持する方法等について開示されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の有機ＥＬ発光デバイスの製造方法においては、真空及び特定の環境下における一貫プロセス、または複数のデバイス構成膜を一まとまりとしたプロセスとして装置が構成されており、装置が大型化して過大な設備投資が必要であった。
【００１０】
このような大型装置による製造ラインは、製品サイズや基板サイズ、また装置の構成変更に対して自由度がなく、変更の度に更なる大型投資が必要となっていた。
【００１１】
本発明は、上記の課題に鑑みて創案されたものであり、その目的は、製品サイズ、基板サイズ、及び装置構成の変更等に対して自由度があり、投資の少ない製造ラインを構築することができる有機ＥＬ発光デバイスの製造方法、及びこの方法に使用するのに最適なコンテナを提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成すべく、第１の発明に係る有機ＥＬ発光デバイスの製造方法は、陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を挟んだ積層構造体を基板上に配し、該積層構造体を封止材により封止して成る有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法であって、
少なくともデバイスの構成膜の作成工程において、複数の製造装置を使用すると共に、製造装置間に雰囲気制御された大気圧の搬送経路を配し、該搬送経路を介してワークの搬送を行うことを特徴とする。
【００１３】
この有機ＥＬ発光デバイスの製造方法において、有機層を構成する層のうちの少なくとも一層をウエットプロセスにより形成してもよい。
【００１４】
また、搬送経路が、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度が５％以下であることが好ましい。
【００１５】
さらに、複数の製造装置が、大気圧の雰囲気下に配されていることが好ましい。
【００１６】
そして、各搬送期間の前にワークに対して対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を施し、各搬送期間の後にワークに対して施した対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を除去することが好ましい。
【００１７】
第２の発明に係る有機ＥＬ発光デバイスの製造方法は、陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を挟んだ積層構造体を基板上に配し、該積層構造体を封止材により封止して成る有機エレクトロルミネセンス発光デバイスの製造方法であって、
少なくともデバイスの構成膜の作成工程において、複数の製造装置を使用し、内部が雰囲気制御された大気圧のコンテナを用いて、製造装置間におけるワークの搬送を行うことを特徴とする。
【００１８】
また、コンテナ内が、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度５％以下であることが好ましい。
【００１９】
そして、各搬送期間においてワークをコンテナ内に入れる前工程でワークに対して対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を施し、ワークをコンテナから出した後工程でワークに対して施した対酸素保護処理及び／又は対水分保護処理を除去することが好ましい。
【００２０】
第２の発明のいずれかに記載の方法に使用するコンテナであって、その内部の雰囲気が制御可能であり、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度が５％以下であることを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明するが、本発明は本実施形態に限られない。
【００２２】
本発明は、基材上に設けられた一対の陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を挟んで構成される有機ＥＬ発光素子を用いた有機ＥＬ発光デバイスの製造方法である。
【００２３】
有機ＥＬ発光素子を構成する有機層は単層でも良いが、正孔注入層または正孔輸送層のいずれか一方と、発光層と、電子注入層または電子輸送層のいずれか一方とからなる積層構造を有することが好ましい。
【００２４】
図２は、有機ＥＬ発光デバイスの積層構造の一例を示す模式図である。図示するように、有機ＥＬ発光デバイスは、基板１１上に陽極１２及び正孔輸送層１３を形成し、その上に発光層１４、電子輸送層１５、及び電子注入層１６を形成し、さらに陰極１７を形成し、封止材としての封止缶１８の内側に水分吸収剤１９を配して、この封止缶１８を基板１１上に張り合わせて成る積層構造を有している。
【００２５】
水分吸収剤（ゲッター）１９を封止缶１８の内側に配して封止領域内に存在させることにより、封止缶１９の内部空間内の水分を吸着させ、素子の劣化を抑制することができる。その他に、例えば、酸化カルシウムやゼオライト等の粉末状のゲッター剤を表示部周辺の基板１１上に貼り付ける等の方法が挙げられる。
【００２６】
有機層を構成する材料としては、分子量５０００以下のものが好ましく、発光材料、正孔注入材料、電子注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料より少なくとも１種を選択して用いることができ、正孔注入材料または正孔輸送材料に発光材料をドーピングしたり、電子注入材料または電子輸送材料に発光材料をドーピングすることにより、発光波長の選択の幅を広げることができ、発光効率も向上させることができる。また、有機発光層を発光効率のよいアモルファス膜とするためには、融点ｍｐとガラス転移点Ｔｇとの温度差が５０℃以上であることが好ましい。
【００２７】
各色の有機発光材料としては、例えば、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン、芳香族縮合多環化合物、芳香族複素環化合物、芳香族複素縮合環化合物、金属錯体化合物及びこれらの単独オリゴ体あるいは複合オリゴ体等が使用できるが、これらに限るものではない。
【００２８】
また、正孔注入材料及び正孔輸送材料としては、例えば、可溶性のフタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Ｅｕ錯体等が使用できるが、これらに限るものではない。
【００２９】
特に、正孔注入材料としては、例えば、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンをコーティングし、加熱により得たポリフェニレンビニレン等が使用できるが、これらに限るものではない。
【００３０】
また、電子注入材料及び電子輸送材料としては、例えば、アルミニウムに（８−ヒドロキシキノリン）の３量体が配位したＡｌｑ３、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等が使用できるが、これらに限るものではない。
【００３１】
ウエットプロセス法により有機層を形成するに際しては、有機層を構成する材料を常温で水分溶解度が低い疎水系有機溶媒に希釈または溶解させて用いる。溶媒としては、例えば、クロロホルム、トルエン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、キシレン、シメン、シクロヘキサノン、オクチルベンゼン、ドデシルベンゼン、デカリン、キノリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、チモール、ニトロベンズアルデヒド、ニトロベンゼン、二硫化炭素、２ヘプタノン、ベンゼン、ターピネオール、ブチルカルビトールアセテート、セルソルブ類等の単一もしくは混合溶媒等が使用できるが、これらに限るものではない。
【００３２】
各有機材料には溶解特性（溶解パラメータやイオン化ポテンシャル、極性）がそれぞれあり、溶解できる溶媒には限定がある。またその際には溶解度もそれぞれ違うため、一概に濃度も決めることはできないが、例えば、ＴＰＡはトルエンに１％未満しか溶解しない。
【００３３】
また、有機発光層、電子注入層及び電子輸送層、正孔注入層及び正孔輸送層のいずれの層においても、適当な結着樹脂中に各機能物質を分散して使用することも可能である。
【００３４】
有機層は、発光効率の観点からアモルファス膜であることが好ましい。また、有機発光層は、正孔輸送等の各単機能を持つ層であってもよいし、複合機能を持つ層であってもよい。さらに、正孔輸送等の機能を持つ層を別に形成してもよく、その際、この層もウエットプロセス法で形成し、有機発光層を積層構造とすることにより、発光効率を向上させ、製造プロセスを簡略化することもできる。
【００３５】
また、電極と発光層とのエネルギー障壁を減じ、発光層へのキャリア移動を容易にすることを目的として、電極と発光層との間に正孔注入層、正孔輸送層や電子注入層、電子輸送層を設けても良い。
【００３６】
有機層の膜厚は０．０１〜０．３μｍ程度必要であり、好ましくは０．１〜０．２μｍ程度である。
【００３７】
ウエットプロセスとしては、塗布法や印刷法等が挙げられる。
【００３８】
塗布法は、スピン塗布法、転写塗布法、イクストリュージョン塗布法等が使用できる。材料使用効率を考慮すると、転写塗布法、イクストリュージョン塗布法のようなパターン塗布可能な方法が好ましく、特に転写塗布法が好ましい。
【００３９】
印刷法は、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等が使用できる。表示素子として、膜が薄く、素子サイズが微小で、ＲＧＢのパターンの重ね等が必要な場合などを考慮すると、オフセット印刷法、インクジェット印刷法のような高精度高精細印刷法が好ましい。
【００４０】
例えば、オフセット印刷機は、枚葉の校正印刷機を基本とするが、紙に印刷する一般的な水無し平版印刷機や凹版印刷機よりも印刷位置精度や印刷条件の設定が精度良くできるように改良したものが良い。
【００４１】
ここで陽極電極は、光取り出し構造の違いにより、透明性が必要な場合と必要としない場合とがある。ただし、仕事関数が大きい（４ｅＶ以上）材料が適している。透明性陽極としては、例えば、ＣｕＩ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２、ＺｎＯなどが良い。なお、光透過性に関しては可視光波長にて透過率が大きいほど良く、好ましくは８０％以上である。
【００４２】
不透明な陽極としては、上記透明性陽極材料の下に、例えば、アルミニウム、クロム、金、銅などの一般的な材料及びそれらの合金や酸化物などを用いても良い。ＩＴＯ透明電極のパターン形成方法としては、例えば、マスク蒸着法またはフォトリソパターニング法等が使用できるが、これらに限るものではない。
【００４３】
陰極電極についても、光取り出し構造の違いにより、透明性が必要な場合と必要としない場合とがある。ただし、仕事関数が小さい（４ｅＶ以下）材料が適している。透明性陰極としては、例えば、セシウム、マグネシウム、ナトリウム、リチュウム、インジュウム、希土類金属及び合金、酸化物、炭酸化物などの薄膜が良い。なお、光透過性に関しては可視光波長にて透過率が大きいほど良く、好ましくは８０％以上であり、抵抗値を下げるためにはＩＴＯと複合化させることが好ましい。
【００４４】
不透明な陰極材料としては、例えば、セシウム、マグネシウム、ナトリウム、リチュウム、インジュウム、希土類金属及び合金、酸化物、炭酸化物などが良い。さらに、抵抗値を下げるために、上記陰極材料に、例えば、アルミニウム、クロム、金、銅などの一般的な材料及びそれらの合金や酸化物などを複合化しても良い。また、その形成方法としては、例えば、マスク蒸着法、フォトリソパターニング法、めっき法、印刷法等が使用できるが、これらに限るものではない。
【００４５】
図１は、本実施形態の有機ＥＬ発光デバイスの製造方法を工程順に示す説明図である。図１に示すように、各構成の成膜工程ごとに分割された装置とそれらを繋ぐ環境制御された搬送経路１０を有している。
【００４６】
まず、ＷＥＴ洗浄は、液晶ディスプレイプロセスで一般的に用いられている洗浄方法である。アルカリ液洗浄、ブラシ洗浄、静電除去、メガソニック洗浄、ウルトラソニック洗浄、純水リンス、水切り、乾燥等のプロセスを用いるが、これに限るものではない。
【００４７】
ＤＲＹ洗浄は、半導体プロセスで一般的に用いられている洗浄方法である。真空中で行う酸素プラズマ処理、大気プラズマ処理、コロナ放電処理、ＶＵオゾン処理、エキシマレーザー処理等のプロセスを用いるが、これに限るものではない。
【００４８】
各搬送経路１０及び各装置の周辺環境は、一般的には酸素、水分や大気中の化学物質の影響により劣化があると云われているため、純度の高い窒素、ＤＲＹエアーによるパージにより制御するが、これに限るものではない。
【００４９】
なお、陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光材料から成る発光層を含む有機層を設けた有機ＥＬ発光素子を用いる有機ＥＬ発光デバイスの製造方法において、前述したように、デバイスの構成膜ごとに装置を配置することに関しては、ある一つの装置にて複数のデバイス膜を製造可能なように構成しうることは言うまでもない。
【００５０】
また、装置間の搬送経路１０への前工程でワークに対酸素保護処理および対水分保護処理を施し、搬送経路からの後工程でワークに施した対酸素保護処理および対水分保護処理を除去することにより、素子をより安定した状態で搬送することができる。この対酸素保護処理および対水分保護処理は、搬送に要するに足る時間だけ保護するような仮保護であってもよい。このような処理としては、対酸素保護処理、対水分保護処理として、酸素吸収剤、吸湿剤を添加した樹脂フィルムで密封することなどが挙げられる。
【００５１】
さらに、陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光材料から成る発光層を含む有機層を設けた有機ＥＬ発光素子を用いる有機ＥＬ発光デバイスの製造方法において、デバイスの構成膜の作成工程に対応した複数の製造装置を配置し、ワークを保持するコンテナにより、製造装置間を移動することも可能である。
【００５２】
また、複数の製造装置を異なる工場間に配置することも可能である。この場合、工場が異なる会社であれば、装置に対する投資金額を各工場に分担することができるため、経営的に合理的な利点がある。勿論、製造装置を配置する工場群は、例えば、ワークシェアリングや他の製品の製造と兼用するためなどの理由により、一つの会社の別工場や同一敷地内の別棟であってもよい。
【００５３】
製造装置間の移動に使用するコンテナは、前述したように、その内部の雰囲気が制御可能であり、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度が５％以下であることで実現できる。
【００５４】
この製造装置間をコンテナで移動する場合にも、前述した様に、ワークをコンテナに出し入れする前工程で対酸素保護処理および対水分保護処理を施し、コンテナから出した後工程でワークに施した対酸素保護処理および対水分保護処理を除去することにより、素子をより安定した状態で搬送することができる。
【００５５】
【実施例】
以下に、本発明の好適な実施例を図面に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限られない。
【００５６】
〔実施例１〕
図１及び図２に基づいて、実施例１の有機ＥＬ発光素子の製造方法を説明する。本実施例では、デバイスの各製造工程において、複数の製造装置を使用すると共に、製造装置間に雰囲気制御された大気圧の搬送経路１０を配し、この搬送経路１０を介してデバイスの搬送を行うものであり、有機ＥＬ発光デバイスとして緑色発光のパッシブマトリクス表示体を作成した。
【００５７】
ガラス基板１１（コーニング１７３７、０．７ｍｍ）上に陽極１２としてＩＴＯ（１５Ω／□）を成膜後、フォトリソエッチング法にてパターンを形成した基板１１を図１のフローに沿って各工程を順に行い、有機ＥＬ発光デバイスを作成した。
【００５８】
ガラス基板１１には１００ｍｍ角のものを用い、１枚ずつの枚葉送りとした。ＷＥＴ洗浄では、純水超音波洗浄の後に、ＩＰＡ超音波洗浄とＩＰＡベーパー水切りを行った（ＳＴＥＰ１）。ＤＲＹ洗浄ではＵＶオゾン洗浄を行い、この環境はＤＲＹエアーとした（ＳＴＥＰ２）。
【００５９】
ＷＥＴ塗布ではスピンコーターを用い、正孔輸送層１３としてトリフェニルアミン６量体（ＴＰＡ−６：分子量１４６１、融点２７７℃、Ｔｇ１５６℃）をトルエンに溶解して０．５％溶液としたものをコーティングし、乾燥後の膜厚を０．０２μｍとした（ＳＴＥＰ３）。
【００６０】
ＤＲＹ成膜の発光層１４は１．０ｗｔ％のクマリンを９，９−ジオクチルフルオレンの５量体にドープしたものを蒸着法で０．０２μｍ成膜し、電子輸送層１５は９，９−ジオクチルフルオレンの５量体を蒸着法で０．０４μｍ成膜し、電子注入層１６はＡｌにＬｉを１．８％ドープしたものを蒸着法で０．０１μｍ成膜し、陰極１７（金属層）はＡｌを蒸着法で０．１２μｍ成膜した（ＳＴＥＰ４〜７）。
【００６１】
陽極のＩＴＯと陰極のＡｌはストライプのクロス構造で、Ａｌはシャドーマスクを用いてパターニングした。最後に、ステンレス製の封止缶１８に酸化カルシウムの水分吸収剤１９を形成したもので素子側の封止を行い、表示体が完成した（ＳＴＥＰ８）。
【００６２】
〔実施例２〕
図２及び図３に基づいて、実施例２の有機ＥＬ発光素子の製造方法を説明する。本実施例では、デバイスの各製造工程において、複数の製造装置を使用すると共に、製造装置間に雰囲気制御された大気圧の搬送経路１０を配し、この搬送経路１０を介してデバイスの搬送を行うものであり、有機ＥＬ発光デバイスとして緑色発光のパッシブマトリクス表示体を作成した。
【００６３】
ガラス基板１１（コーニング１７３７、０．７ｍｍ）に陽極１２としてＩＴＯ（１５Ω／□）を成膜後、フォトリソエッチング法にてパターンを形成した基板を図３のフローに沿って各工程を順に行い、有機ＥＬ発光デバイスを作成した。
【００６４】
ガラス基板サイズは１００ｍｍ角であり、１枚ずつの枚葉送りとした。ＷＥＴ洗浄は純水超音波洗浄の後、ＩＰＡ超音波、ＩＰＡベーパー水切りとした（ＳＴＥＰ２１）。ＤＲＹ洗浄はＵＶオゾン洗浄を行い、この環境はＤＲＹエアーとした（ＳＴＥＰ２２）。
【００６５】
正孔輸送層はＤＲＹ成膜を用い、正孔注入層１３としてトリフェニルアミン６量体（ＴＰＡ−６：分子量１４６１、融点２７７℃、Ｔｇ１５６℃）をトルエンに溶かし０．５％溶液としてコーティングし、乾燥後の膜厚を０．０２μｍとした（ＳＴＥＰ２３）。
【００６６】
ＤＲＹ成膜の発光層１４は１．０ｗｔ％のクマリンを９，９−ジオクチルフルオレンの５量体にドープしたものを蒸着法で０．０２μｍ成膜し、電子輸送層１５は９，９−ジオクチルフルオレンの５量体を蒸着法で０．０４μｍ成膜し、電子注入層１６はＡｌにＬｉを１．８％ドープしたものを蒸着法で０．０１μｍ成膜し、陰極１７（金属層）はＡｌを蒸着法で０．１２μｍ成膜した（ＳＴＥＰ２４〜２７）。
【００６７】
陽極のＩＴＯと陰極のＡｌはストライプのクロス構造で、Ａｌはシャドーマスクを用いてパターニングした。最後に、ステンレス製の封止缶１８に酸化カルシウムの水分吸収剤１９を形成したもので素子側の封止を行い、表示体が完成した（ＳＴＥＰ２８）。
【００６８】
〔比較例１〕
比較例１では、アルバック製真空一貫装置（サテラ）にて有機ＥＬ発光デバイスの作成を行い、有機ＥＬ発光デバイスとして緑色発光のパッシブマトリクス表示体を作成した。
【００６９】
ガラス基板１１（コーニング１７３７、０．７ｍｍ）に陽極１２としてＩＴＯ（１５Ω／□）を成膜後、フォトリソエッチングにてパターンを形成した基板１１を図３のフローに準じて各工程を行い、有機ＥＬ発光デバイスを作成した。
【００７０】
ガラス基板サイズは１００ｍｍ角であり、１枚ずつの枚葉送りとした。ＷＥＴ洗浄は純水超音波洗浄の後、ＩＰＡ超音波、ＩＰＡベーパー水切りとした。
【００７１】
ＷＥＴ洗浄の後、アルバック製の真空一貫装置（サテラ）に基板１１を投入し、各チャンバーにて処理を行った。ただし、ＤＲＹ洗浄は酸素プラズマ処理とし、正孔輸送層１３は蒸着とした。
【００７２】
実施例１と同様に、発光層１４、電子輸送層１５、電子注入層１６及び陰極１７（金属層）を成膜し、同装置内の封止チャンバーにて窒素環境下で実施例１と同様の封止を行い、表示体が完成した。
【００７３】
そして、実施例１、実施例２、及び比較例１で作成した各表示体の輝度、寿命及び劣化率、ダークスポットについて、結果を比較検討した。
【００７４】
実施例１にて作成した表示体の輝度は１５万カンデラであり、寿命は５０００時間で３０％劣化であった。ダークスポットは０．５ｍｍ□内に１〜２個であった。
【００７５】
実施例２にて作成した表示体の輝度は１０万カンデラであり、寿命は５０００時間で４０％劣化であった。ダークスポットは０．５ｍｍ□内に５〜１０個であった。
【００７６】
比較例１にて作成した表示体の輝度は１０万カンデラであり、寿命は５０００時間で４０％劣化であった。ダークスポットは０．５ｍｍ□内に５〜１０個であった。
【００７７】
したがって、実施例１及び実施例２の表示体では、有機ＥＬ発光デバイスの性能を劣化させることなく、初期投資を削減することができ、製品サイズ、基板サイズ、及び装置構成の変更等に対して自由度の高い製造ラインを構築することができることが確認された。
【００７８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、製品サイズ、基板サイズ、及び装置構成の変更等に対して自由度があり、投資の少ない製造ラインを構築することができる有機ＥＬ発光デバイスの製造方法を提供することができる。
【００７９】
コンテナの内部の雰囲気が制御可能であり、窒素によりパージされ、酸素濃度が３０ｐｐｍ以下で、水分濃度が５％以下であるので、本発明の有機ＥＬ発光デバイスの製造方法に使用するのに最適なコンテナを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の有機ＥＬ発光デバイスの製造方法を工程順に示す説明図である。
【図２】有機ＥＬ発光デバイスの積層構造の一例を示す模式図である。
【図３】実施例２の有機ＥＬ発光デバイスの製造方法を工程順に示す説明図である。
【符号の説明】
１０　搬送経路
１１　ガラス基板
１２　陽極
１３　正孔輸送層
１４　発光層
１５　電子輸送層
１６　電子注入層
１７　陰極
１８　封止缶
１９　水分吸収剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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