(57)【要約】【課題】光学特性及び表面平滑性が優れており、かつ、製造時の作業性が良好な光学部品用積層フィルム、光学部品及び光ディスクを得る。【解決手段】光透過層及び粘着層の少なくとも２層のフィルムが積層された積層フィルムであり、積層フィルムの膜厚が３０〜３００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過層及び粘着層の少なくとも２層のフィルムが積層された積層フィルムであり、当該積層フィルムの膜厚が３０〜３００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする光学部品用積層フィルム。
【請求項２】
前記光透過層上にさらに鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が積層されていることを特徴とする請求項１に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層の膜厚が０．５〜８μｍであり、膜厚精度が±１．０μｍ以内であることを特徴とする請求項２に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層が、架橋構造体であることを特徴とする請求項２または３に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層が、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層が、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０．０重量％含むことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項７】
前記光透過層は、主としてアクリル系重合体から成ることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項８】
前記光透過層の膜厚が１５〜２５０μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項９】
前記光透過層は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種の受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを含み、前記ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを混合することにより前記プロトン供与性原子団と前記プロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成された熱可塑性樹脂から主として成ることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１０】
表面平滑性が２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１１】
前記光透過層と前記粘着層との屈折率差が、０．１以下であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１２】
光ディスクの光透過層用であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１３】
請求項１乃至１２に記載の光学部品用積層フィルムを光透過層及び粘着層として適用したことを特徴とする光学部品。
【請求項１４】
光ディスクであることを特徴とする請求項１３に記載の光学部品。
【請求項１５】
支持基盤上に記録層、粘着層及び光透過層が順次形成された光ディスクであって、前記光透過層及び粘着層は、これら２層が少なくとも積層された積層フィルムを貼り付けることにより構成されると共に、当該積層フィルムの膜厚が３０〜３００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする光ディスク。
【請求項１６】
前記光透過層上にさらに鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項１５に記載の光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大容量化した高密度ＤＶＤ、有機ＥＬ、フレキシブルディスプレイ又は電子ペーパー等の光学用部品の部材として適用可能な光学部品用積層フィルム、光学部品及び光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクは、透明なプラスチック基盤より成る支持基盤上に、微細な凹凸から成るビット列や溝から成る信号情報を記録した記録層を形成しており、記録層が形成された面と対向する面側からレーザー光等を照射し、支持基盤上の信号情報に応じて反射光量が変化することにより、情報を読み出すシステムである。
【０００３】
このような光ディスクの種類として、コンパクトディスク（ＣＤ：Compact Disk）、ＤＶＤ( Digital Versatile Disk)または光磁気記録ディスク等が挙げられる。代表的な光ディスクであるＣＤにおいては、厚さが０．６ｍｍである支持基盤上に情報を読み出す透明な光透過層が形成されており、光透過層は記録層を有する支持基盤を兼ねた構造である。ＣＤでは、記録再生用として波長７８０ｎｍのレーザー光を使用しており、光透過層側から記録再生用のレーザー光を照射し、支持基盤上の記録層に刻印されたビット列や溝から成る信号情報に応じて変化する反射光量に基づき記録層に記録された情報を再生する。
【０００４】
ＣＤよりも記録容量の高いＤＶＤに代表される光ディスクにおいては、記録再生用のレーザー波長は６３５ｎｍであり、基本的には、前述したＣＤと同様に、記録層にレーザー光を照射して信号情報の記録及び再生を行う。
【０００５】
図３は、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図であり、図４はその断面図である。図３及び図４に示すように、ＤＶＤ１０は、支持基盤１１と、支持基盤１１上に形成された記録層１２と、記録層１２上に形成された光透過層１３と、を備える。さらに、具体的に説明すると、単層板においては情報を読み出す透明な支持基盤１１の厚さは０．６ｍｍであり、この支持基盤１１上にビット１４列や記録用溝等の情報が記録された記録層１２が形成され、記録層１２上に支持基盤１１と同厚さ（０．６ｍｍ）の透明支持基盤を張り合わせて光透過層１３が形成される。なお、記録層１２上に張り合わせて形成された光透過層１３は、通常「ダミー」と呼ばれ、光ディスク自体の強度を向上させる役割を果たしている。上記図３及び図４に示すように、光透過層１３側からレーザー光１５を照射して、記録層の情報を記録及び再生する。
【０００６】
さらに、ここ数年、映像情報や動画情報等の発展に伴い、記録容量を大容量化したＤＶＤが求められ、次世代ディスクと呼ばれる記録容量が２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤの開発が進められている。高密度ＤＶＤは、直径１２センチのサイズであり従来と同様のサイズであるため、記録層におけるトラックピッチを狭小化しあるいはビット長を縮小化する等により微細化し、高密度化を図ることが要求されている。
【０００７】
具体的には、厚さが１．１ｍｍ程度の支持基盤上にビット列や溝等により信号情報が記録された記録層が形成され、記録層の表面には透明な厚さ０．１ｍｍ程度のフィルムを接着して光透過層が形成される。そして、光透過層の面側から４００ｎｍ程度の短波長の青色レーザーを照射して、信号情報の記録及び再生を行う。
【０００８】
上記ＣＤ、ＤＶＤ及び次世代ディスク等の支持基盤及びダミー層である光透過層として、通常、ポリカーボネートが使用されており、次世代ディスクの光透過層としてもポリカーボネートが使用されているが、ポリカーボネートに替わる新たな高分子材料の開発が進められている。
【０００９】
開発が進められている代表的な高分子材料として、例えば、アクリル系樹脂が挙げられるが、アクリル系樹脂は、比較的安価であり、透明性が高く、ゴム状物やガラス状ポリマ等の多様な特徴を有するポリマを比較的容易に製造でき、さらには、変性が容易である等の優れた特性を有している。しかし、優れた特性を備えている反面、アクリル系樹脂をフィルム形状とするためには、強度、耐熱性と靱性の相反する特性を両立させる必要があり、従来のアクリル樹脂では、上記特性を両立させることが困難であるため、大きな課題となっていた。アクリル樹脂全般に共通して靱性が低いことが課題であるが、例えば、樹脂中にゴム粒子を添加して、アクリル樹脂から形成されるフィルムの靭性を高める方法が幾つか報告されている（特許文献１、特許文献２参照）。しかし、樹脂中にゴム粒子を添加する等してフィルムの靭性を改善することが可能であるが、フィルムを折り曲げた際に白化現象が生じてしまい、フィルムの折り曲げ加工性が低下していた。このため、室温（２５℃）以上のガラス転移点と靱性の必要な薄膜フィルムの形成能(折り曲げ加工性)を両立するアクリル樹脂は見出されていなかった。
【００１０】
そこで、例えば、１種又は２種以上の合成高分子を混合して分子間に水素結合を形成して擬似的な架橋構造を持たせ、従来の材料では実現できなかった新たな特性を導入した樹脂組成物が開発されている（特許文献３参照）。その一例として、ガラス転移温度が低い重合体としてプロトン供与性原子団である水酸基を含んだアクリル重合体と、ガラス転移温度が高い重合体としてプロトン受容性原子団であるアミン基を含んだアクリル重合体をブレンドし、分子間に水素結合を形成し擬似的な架橋構造として耐熱性と靱性との各特性を両立した光透過層用のフィルムが得られることが報告されている（特許文献４参照）。
【特許文献１】特公昭５８−１６７６０５号公報
【特許文献２】特開平３−５２９１０号公報
【特許文献３】特開２０００−２７３３１９号公報
【特許文献４】特開２００２−３８０３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上記方法により作製された光透過層用のフィルムは、耐熱性と靭性との両特性を得られるため、本フィルムを使用して、光ディスク等の光学部品を作製している。例えば、支持基盤用のフィルム上に粘着層を貼り合わせる工程の後、粘着層上にアクリル樹脂から成る光透過層用のフィルムをさらに貼り合わせてフィルムを積層して光ディスクを構成している。このように各フィルムを順次貼り合わせて光ディスクを構成しているため、各層のフィルムを貼り合わせた際にフィルム表面に凹凸が生じてしまい、フィルムの表面平滑性が悪化してしまうという問題を有していた。特に、大容量化した高密度ＤＶＤ等の光ディスクでは、前述したように高記録密度化に伴い各層のフィルムを薄肉化しているため、フィルム表面に数μｍ程度の凹凸が存在すると、読みとりエラーが発生する等の不具合が生じ、その結果、光学特性が低下してしまうという問題を有していた。このため、光学部品を構成するフィルムには、その表面が平滑であることが要求されている。
【００１２】
また、上述したように、支持基盤上に粘着層を形成した上で、粘着層上に光透過層を貼り合わせて形成すると、表面平滑性が低下するだけでなく、各層を順次貼り合わせる必要があるため作業工程数が多くなり、作業性の観点からも問題を有していた。
【００１３】
さらに、上述した光透過層は、４００ｎｍ程度の短波長であるレーザー光を透過させて記録層に刻印された信号情報の記録及び再生をするため、光透過層の光透過率が低いと記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下するという問題を有していた。このため、高い信号精度を得るために、４００ｎｍ程度の短波長レーザーによる光透過率の高い光透過層が要求されており、光透過性の良好な材料が望まれていた。
【００１４】
また、実使用時においては、光ディスクの光透過層は直接種々の物体と接触するため表面に傷が付いてしまうことがある。この場合、傷が付いた部分は光の透過率が著しく低下するため、信号を読みとることが困難となり、記録容量が低下するという問題がある。
【００１５】
本発明は、上述した問題を解決するためのものであり、光学特性及び表面平滑性が良好であり、かつ、製造時における作業性が良好な光学部品用積層フィルム、光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。
【００１６】
さらに、本発明は、上記に加え、実用時の表面耐擦傷性が優れた光学部品用フィルム、これを用いた光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記目的を達成すべく本発明者らは種々研究した結果、光透過層の片面に粘着層を形成した積層フィルムを予め形成し、この積層フィルムの膜厚を３０〜３００μｍの間に調節することにより、膜厚精度が±２．０μｍ以内であり、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率を８７％以上とすることができることを見出し、本発明を完成させたものである。また、このように予め光透過層及び粘着層を積層した積層フィルムとしたため、各層のフィルムを貼り付ける工程数を減らすことができ、その結果、光学特性及び表面平滑性が良好であるだけでなく、製造時の作業性をも改善できることを見出したものである。
【００１８】
すなわち、本発明の光学部品用積層フィルムは、光透過層及び粘着層の少なくとも２層のフィルムが積層された積層フィルムであり、当該積層フィルムの膜厚が３０〜３００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする。
【００１９】
上記発明において、前記光透過層上に鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が形成され、該ハードコート層上または該ハードコート層と反対側の前記光透過層上に前記基材層が積層されていてもよい。これにより、実用時の表面耐擦傷性が優れた光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを提供することができる。
【００２０】
このハードコート層の膜厚は０．５〜８．０μｍであることが好ましく、その膜厚精度は±１．０μｍ以内であることが好ましい。また、ハードコート層は、特に限定されないが、架橋体構造であることが好ましく、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることがより好ましい。さらに、ハードコート層は、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０．０重量％含有することが好ましい。
【００２１】
本発明の積層フィルムの膜厚は、３０μｍ〜３００μｍであることが必要である。膜厚が３０μｍ未満になると表面平滑性や作業性が悪くなり、膜厚が３００μｍを超えると表面平滑性や、４０５ｎｍの光透過率が悪くなるからである。積層フィルムの膜厚は、好ましくは４０〜２５０μｍ、さらに好ましくは５０〜２００μｍの範囲である。また、積層フィルムの膜厚精度は±２μｍ以内であり、４０５ｎｍにおける光透過率は８７％以上である。なお、膜厚、膜厚精度及び光透過率の測定は、後述する実施例において説明する。
【００２２】
また、上記光学部品用積層フィルムにおいて、光透過層の膜厚が１５〜２５０μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が９０％以上であることが好ましい。光透過層の膜厚が３０μｍ未満であると表面平滑性や作業性が悪く、膜厚が２５０μｍを超えると表面平滑性や４０５ｎｍにおける光透過率が悪くなるからである。また、光透過層の膜厚は、好ましくは２５〜２００μｍ、さらに好ましくは３５〜１５０μｍの範囲である。
【００２３】
また、上記光学部品用積層フィルムにおいて、光透過層は、主としてアクリル系重合体から成ることが好ましい。
【００２４】
さらに、上記光学部品用積層フィルムにおいて、光透過層は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種の受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを含み、前記ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを混合することにより前記プロトン供与性原子団と前記プロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成された熱可塑性樹脂から主として成ることが好ましい。
【００２５】
本発明における光透過層は、特性の異なる２種以上のビニル系重合体を混合し、分子内の相互間に擬似的な架橋を形成したビニル系重合体から形成したものであり、擬似的な架橋という表現を使用したが、これは、本発明のビニル系重合体の架橋が、熱分解温度以下の熱や溶剤等により切断され、温度を下げるか、或いは溶剤を除去すると架橋構造が再形成されるためである。上記ビニル系重合体を使用してフィルムを形成することにより、１種のビニル系重合体からフィルムとした場合には得ることができない複数の特性を待たせることが可能となる。例えば、２種のビニル系重合体を混合する場合に、耐熱性が良好であり正複屈折である一方のビニル系重合体と、柔軟性を有し負複屈折である他方のビニル系重合体とを使用して、両者のビニル系重合体を混合して擬似架橋を形成する。擬似架橋を形成することにより、耐熱性及び柔軟性の特性を両立すると共に、正負複屈折を相殺しゼロ複屈折化して低複屈折とし、フィルムに相反する特性を持たせることが可能となる。また、２種以上のビニル系重合体を混合することにより相反する特性を導入することができる。
【００２６】
また、上記プロトン供与性原子団は、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、フェノール性水酸基、メルカプト基、チオフェノール性メルカプト基、１級アミノ基、２級アミノ基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましく、プロトン受容性原子団は、カルボニル基、スルホニル基、ホスホリル基、シアノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、含窒素複素環基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましい。
【００２７】
さらに、上記プロトン供与性原子団は、カルボキシル基、水酸基、フェノール性水酸基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましく、プロトン受容性原子団は、２級アミノ基、３級アミノ基、含窒素複素環基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましい。
【００２８】
また、本発明の積層フィルムの表面平滑性、具体的には、１５ミクロン幅における凹凸は２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２９】
本発明の光学部品用積層フィルムは、光ディスクの光透過層用に特に好適なものである。
【００３０】
さらに、本発明の積層フィルムの前記光透過層と前記粘着層との屈折率差が、０．１以下であることが好ましく、より好ましくは０．０７以下である。光透過層と粘着層との屈折率差が０．１を超えると光透過層と粘着層の界面で光散乱がおき、４０５ｎｍの光透過率が悪くなるからである。なお、屈折率差は、アッベ屈折計を用い光透過層、粘着層それぞれの屈折率を測定し、その差から求めることができる。
【００３１】
また、本発明の光学部品は、上記本発明の積層フィルムを、光透過層及び粘着層として適用されていることを特徴としており、当該光学部品は光ディスクに好適である。
【００３２】
さらに、本発明の光ディスクは、支持基盤上に記録層、粘着層及び光透過層が順次形成された光ディスクであって、光透過層及び粘着層は、これら２層が少なくとも積層された積層フィルムを貼り付けることにより構成されると共に、積層フィルムの膜厚が３０〜３００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする。
【００３３】
また、本発明の光ディスクの光透過層上に上記した鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が形成されていてもよい。
【発明の効果】
【００３４】
本発明の光学部品用積層フィルムによれば、表面平滑性及び光学特性が良好であり、かつ、製造時の作業性を改善することができ、その結果、本光学部品用積層フィルムを光ディスク等の光学部品に適用することにより、光ディスク等の光学部品の高品質化を実現することができる。さらに、ハードコート層が表面上に形成された積層フィルムであれば、実使用時の耐擦傷性にも優れるため、長期にわたり高品質の光ディスク等の光学部品を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の光学部品用積層フィルムを使用して光ディスクを構成し、２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤとした例を挙げて説明する。
【００３６】
図１は、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図であり、図２はその断面図である。図１及び図２に示すように、高密度ＤＶＤ１は、支持基盤２上に記録層３を備え、記録層３上に粘着層４を介して光透過層５が形成される。
【００３７】
ＤＶＤは、４０５nmの短波長レーザー光６を光透過層５側から照射し、光透過層５を介して記録層３の信号情報を再生及び記録するものであり、高密度ＤＶＤ１は、光透過層５を薄肉化している。
【００３８】
本発明の光学部品用積層フィルムは、基本的に、光透過層と粘着層との少なくとも２層が積層されたフィルムであり、このフィルムは上記構成の高密度ＤＶＤの光透過層及び粘着層として使用される。
【００３９】
上記高密度ＤＶＤを構成する各層は、例えば、上記高密度ＤＶＤを構成する各層は、例えば、支持基盤２及び記録層３の合計した膜厚を０．５５mm〜１．１５mmとし、より好ましくは０．６ｍｍ〜１．１ｍｍとすることが好ましい。なお、粘着層４及び光透過層５は、粘着層４の膜厚を５μｍ〜５０μｍとすることが好ましく、光透過層５の膜厚を１５μｍ〜２５０μｍとすることが好ましい。
【００４０】
上記高密度ＤＶＤを構成する各層の構成材料について説明する。なお、光透過層５及び粘着層４は、本発明の光学部品用積層フィルムを使用したものであり、また、支持基盤２及び記録層３は、従来と同様の材料から形成されるものを適用することができ、例えば、支持基盤２は、ポリカーボネート等のプラスチック基板から構成される。
【００４１】
粘着層４は、粘着剤をフィルム状に形成した粘着剤フィルムを用いることができる。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体系粘着剤、シリコーン系粘着剤、エステル系粘着剤等を選択することができる。特に、粘着剤としてアクリル系粘着剤を使用することが好ましい。但し、ここに示した粘着剤は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。上記粘着剤フィルムは、上記のような粘着剤を基材に予め塗布、乾燥して形成することができる。基材としては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレン系エラストマーフィルム、ポリオレフィン系エラストマーフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカーボネートセロハンフィルム、アセテートフィルム、各種フッ素フィルム、ポリイミドフィルム等を選択することができる。但し、ここに示した基材は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００４２】
また、光透過層フィルムに上記粘着層フィルムをラミネートする時期は、特に限定されないが、光透過層フィルムとなる熱可塑性樹脂ワニスを基材に塗工、乾燥した後とすることが特に好ましい。
【００４３】
上記方法により得られた積層フィルムは、強靱かつ柔軟性を有しており、機械特性に優れ、形状を維持することが容易である。
【００４４】
光透過層５は、主として熱可塑性樹脂から形成されたフィルムであり、この熱可塑性樹脂は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと分子内に少なくとも１種の受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂと、を含むビニル系重合体である。このビニル系重合体は、ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂの両者を混合することにより、プロトン供与性原子団とプロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成されている。
【００４５】
分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａを作製するためのビニル系単量体としては、例えば、アクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイロキシプロピルアクリレート、ビニル安息香酸、安息香酸ビニル及びその誘導体等が挙げられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００４６】
また、分子内に少なくとも１種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂを作製するためのビニル系単量体としては、例えば、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、ビニルピリジン及びその誘導体等が挙げられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００４７】
さらに、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとのそれぞれに対して、後述する他のビニル系重合体とを共重合することができる。使用できる単量体としては、得られる共重合体の透明性を損なわない物であれば特に限定されず、具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル酸ノルボルニルメチル、アクリル酸シアノノルボルニル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェンチル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸ジメチルアダマンチル、アクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル、アクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−４−メチル、アクリル酸シクロデシル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ブトキシエチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ナフチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸シアノノルボルニル、メタクリル酸フェニルノルボルニル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−４−メチル、メタクリル酸シクロデシル等のメタクリル酸エステル類、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、α−クロルスチレン、α−ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリル酸カルシウム、アクリル酸バリウム、アクリル酸鉛、アクリル酸アクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸カルシウム、メタクリル酸バリウム、メタクリル酸鉛、メタクリル酸すず、メタクリル酸亜鉛等の（メタ）アクリル酸金属塩、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ��プロピルマレイミド、Ｎ−ｉ−プロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｉ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、 Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ブロモフェニル）フェニルマレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ベンジルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリブロモフェニル）マレイミド等が挙げられる。また、これらは１種又は２種以上で使用してもよい。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００４８】
また、本発明において、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種以上のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを混合する方法は、溶融混練法、ワニスブレンド法等を適用することができ、特に方法は問わない。
【００４９】
また、重合方法としては、塊状重合、懸濁重合、乳化重合、溶液重合等の既存の方法を使用することができる。
【００５０】
重合を行う際には、重合開始剤を用いることができる。具体的には、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用可能である。
【００５１】
分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することもできる。なお、ここに示した分子量調整剤は、一種または二種以上により使用しても良いものであるが、ここに示した分子量調整剤は一例を示したにすぎず、例示した分子量調整剤に制限されるものではない。
【００５２】
重合方法として熱重合を使用する場合には、重合温度は、０〜２００℃の間で適宜選択することができ、より好ましい重合温度は５０〜１２０℃の範囲である。
【００５３】
本発明における熱可塑性樹脂は、その使用にあたって、劣化防止、熱的安定性、成形性及び加工性などの観点から、フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系などの抗酸化剤、脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤などを添加して使用しても良い。
【００５４】
本発明では、得られた重合体から、溶融混練法や溶媒キャスト法により有機溶媒を揮発させてフィルムを得ることができる。係るキャストの条件は特に限定されるものではないが、例えば、空気中や不活性ガス中において５０℃〜１６０℃の温度条件下で行うことが可能である。また、これら条件を用いて予備乾燥した後、フィルムを剥がし、さらに、これを１６０〜３５０℃の高温で乾燥して乾燥時間を短縮することが可能である。
【００５５】
上記材料を使用して光透過層としてのフィルムを作成する場合には、基材上に上記熱可塑性樹脂を主とする材料を塗布、乾燥すると良い。基材としては、具体的に、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ステンレス、テフロン（登録商標）フィルム、ポリエステルフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリル樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ノルボルネン系高分子およびこれをブレンドした樹脂等が選択でき、特に、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルムを使用するのが好ましく、より好ましくはＰＥＴフィルムを使用すると良い。なお、ここに示した基材は、一例を示したものであり、基材は表面平滑性が良好であれば良く、上述したフィルムに限定されるものではない。
【００５６】
また、光透過層および粘着層が少なくとも積層された本発明の積層フィルムの光透過層上にさらに鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が積層されてもよい。
【００５７】
上記ハードコート層の鉛筆硬度が３Ｈ未満であると実使用時の耐擦傷性が不十分である。また、ハードコート層は、特に限定されないが、架橋体構造であることが好ましく、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることがより好ましい。また、ハードコート層の膜厚は０．５〜８．０μｍであることが好ましく、その膜厚精度は±１．０μｍ以内であることが好ましい。ハードコート層の膜厚が０．５μｍ未満であると耐擦傷性の向上効果が低く、８．０μｍを越えると環境性試験時にクラックが生じる。
【００５８】
このようなハードコート層を光透過層上に形成する方法としては、特に制限されないが、例えば、予め作製した光透過層フィルム上に硬化触媒を添加したハードコート前駆体を均一な厚みに塗布し、その後、これを加熱もしくは紫外線照射することにより硬化させ、形成することができる。
【００５９】
上記シリコーン系架橋構造体となるハードコート前駆体としては、例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリエトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリメトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリエトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）メトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）エトキシシラン等の加水分解縮合物を用いることができる。尚、これらのシラン化合物は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【００６０】
上記ハードコート前駆体に添加される硬化触媒としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属水酸化物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、メチルアミン、エチルアミン、（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、シクロヘキシアミン、モルホリン、トリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、トリエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジメチルハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジエチルハイドロオキサイド等のアミン化合物を用いることができ、中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が好適である。中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等がより好適である。但し、これらは一例でありここに示したものに限定されるものではない。また、これらは単独で用いても良いし、２種類以上を併用することもできる。添加する硬化触媒量は、特に制限されないが、ハードコート前駆体の固形分に対して０．０５重量％〜１０重量％の範囲で適宜選択することができる。
【００６１】
加熱による硬化温度は、ハードコート前駆体が硬化できる温度であれば特に制限はないが、一般に６０℃〜１８０℃程度が好適である。最も好ましい温度は１２０℃〜１６０℃程度である。
【００６２】
また、上記ハードコート前駆体を製造する際には触媒を用いるが、その触媒としては、例えば、上記の硬化触媒と同様のアルカリ水酸化物、アミン化合物、さらには、塩酸、硫酸、硝酸、パラトルエンスルフォン酸、燐酸、フェノールスルフォン酸、ポリリン酸等の酸を用いることができる。これらは単独で用いることもできるし、２種類以上を併用することもできる。尚、ここに示したものは一例であり、これらに制限されるものではない。
【００６３】
本発明におけるハードコート前駆体を製造する際の反応温度には特に制限はないが、２０℃〜１００℃程度の温度が好適である。２０℃を下回ると、反応速度が低下し生産性が低下する。１００℃を越えると、加水分解又は縮合により生成するアルコール又は水が沸騰するため危険を伴う。また、反応は、溶液中でおかなうことが好適である。用いることのできる溶媒は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等のアルコールを挙げることができる。ここに示したものは１例であり、これらに制限されるものではない。
【００６４】
本発明におけるハードコート層となる、アクリル系架橋構造体としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する重合性化合物を含む重合性材料（ハードコート材料）を用いて形成することができる。
【００６５】
このハードコート材料で用いることができる、重合性化合物としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、オリゴエステル（メタ）アクリレートなどの２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡにアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）が付加した付加体のジ（メタ）アクリレート［例えば、２，２−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル］プロパンなど］などの２官能性（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ホスファゾ基−Ｐ＝Ｎ−と（メタ）アクリロイル基とを有する（メタ）アクリレートなどの多官能性（メタ）アクリレートが含まれる。
【００６６】
また、硬化塗膜の特性を調整するため、単官能性（メタ）アクリレート、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートなどのＣ１−２０アルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの塩基性窒素原子含有（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートなどのハロゲン含有（メタ）アクリレートなどを併用してもよい。
【００６７】
このような重合性ハードコート材料は、熱重合開始剤（ベンゾイルパーオサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどの有機過酸化物など）を含む熱硬化性のものでもよいが、生産性を向上させるため、光重合開始剤を含む光硬化型のものが好ましく、特に紫外線硬化型のものが好ましい。
【００６８】
光重合を開始するために使用する化合物としては、例えば、ベンゾイン又はその誘導体（ベンゾイン，ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなど）、ケトン類（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンやその誘導体（アルコキシアセトフェノンなど）、プロピオフェノン又はその誘導体（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなど）、ベンゾフェノン又はその誘導体（４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ケトンなど）、ベンジル又はその誘導体（ベンジルおよびベンジルメチルケタールなど）、チオキサントン又はその誘導体（２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントンなど）などの慣用の光重合開始剤や増感剤を使用することができ、これらは単独で使用してもよく、二種以上組み合わせて使用してもよい。
【００６９】
熱重合開始剤や光重合開始剤の量は、前記重合性化合物１００重量部に対して、０．１〜１０重量部程度用いることが好ましい。
【００７０】
またハードコート材料は、必要に応じて、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類などの有機溶媒を含む有機溶媒含有塗布剤であってもよい。
【００７１】
また、本発明におけるハードコート層は、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０．０重量％含有することが好ましい。シリコーン系熱可塑性樹脂を含有することにより、ハードコート層表面の滑り性が向上し、耐擦傷性をより向上させることができる。
【００７２】
また、光透過層上にハードコート層を形成して本発明の光学部品用フィルムとする場合、光透過層とハードコート層をあわせた２層の複屈折は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、特に２０ＧＢを超えるような高密度ＤＶＤの場合、２ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、光透過層単独での複屈折の好ましい値の範囲も上記と同様であることが好ましい。
【００７３】
また、本発明の光学部品用積層フィルムに、これを支持し、使用時には剥離除去される基材層を設けてもよい。また、粘着層が最外層に積層される場合には、これを保護し、使用時には剥離除去される保護層を形成してもよい。このように、本発明の光学部品用積層フィルムは、光透過層および粘着層のほかに、ハードコート層、基材層、保護層等が積層され、２〜５層構造の積層フィルムとなりうるものである。
【００７４】
次に、以下に示す実施例１〜実施例５及び比較例１及び比較例３により、光学部品用積層フィルムの特性評価を行った。
【実施例】
【００７５】
以下の実施例１〜実施例４は、いずれも光透過層及び粘着層を有する２層積層構造の光学部品用積層フィルムに関し、２層積層フィルム及び光透過層の膜厚、膜厚精度、４０５ｎｍにおける光透過率を本発明の範囲内としたものである。また、実施例５は、実施例１の積層フィルムの光透過層上にさらにハードコート層を形成したものである。また、比較例１は、２層積層フィルムを形成せずに粘着層と光透過層を順次支持基盤上に形成したものであり、比較例２及び比較例３は、２層積層フィルムの膜厚を本発明の範囲外としたものであり、比較例２は膜厚が３０μｍ未満、比較例３は膜厚が３００μｍを超えるものである。
【００７６】
[実施例１]
本実施例では、光透過層として、ポリマＡとポリマＢとを混合した溶液を使用して混合溶液を使用して光透過層用のフィルムを作製し、光透過層用のフィルムと粘着層用のフィルムから２層積層フィルムとし、２層積層フィルムを支持基盤上に形成した。
【００７７】
（ポリマＡ）
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、アクリル酸ブチル（ＢＡ、和光純薬（株）製）９９４ｇ、アクリル酸（ＡＡ、和光純薬（株）製）８６ｇ、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ、トクヤマ（株）製）１６０ｇを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド（ＬＰＯ、日本油脂（株）製）０．７２ｇ、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサネート（ＰＢＯ、日本油脂（株）製）０．２４ｇ、分子量調整剤としてα−メチルスチレンダイマー０．０５４ｇをアセトン４０ｇに溶解して、室温にて窒素ガスを約１０分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、オートクレーブ内を加圧・密閉にして、６０℃まで昇温し、同温度で約２０時間保持した後、９０℃まで昇温した。その後同温度で約１０時間保持して高分子溶液を得た。得られた高分子溶液の重合率は９７％以上であった。
【００７８】
（ポリマＢ）
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ、旭化成（株）製）８１０ｇ、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ、日立化成（株）製）２０５ｇ、アクリル酸ブチル（ＢＡ）３２ｇ、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート（ＦＡ７１２ＨＭ、日立化成（株）製）３２ｇを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ、和光純薬（株）製）２．８８ｇ、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル（ＡＣＨＮ、和光純薬（株）製）０．９６ｇをアセトン４０ｇに溶解して、室温にて窒素ガスを約１０分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、オートクレーブ内を加圧・密閉にして６０℃まで昇温し、同温度を約２０時間保持した。さらに、９０℃まで昇温した後、同温度で約１０時間保持し、高分子溶液を得た。得られた高分子溶液の重合率は９７％以上であった。
【００７９】
得られたポリマＡワニスとポリマＢワニスを１：９の固形分の比率で混合して混合溶液を得た。
【００８０】
＜積層フィルムの作製＞
上記ポリマＡ及びポリマＢの混合溶液を、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、基材上に塗工し、乾燥して光透過層フィルムを作製した。その後、ダブルタックテープ＃５５１１（積水化学工業（株））の粘着層を、上記基材を剥離しつつ光透過層フィルム上にラミネートし、積層フィルムを作製した。なお、この積層フィルムは、光透過層／粘着層／粘着層側の基材層の３層構造であり、粘着層側の基材層は使用時に剥離されるものである。
【００８１】
作製した積層フィルムのうち、光透過層と粘着層からなる２層積層フィルムの厚さは１１０μｍであり、４０５ｎｍにおける光透過率は、８８．４％であった。また、光透過層の単独のフィルムにおける波長４０５ｎｍの光透過率は９２．３％であった。
【００８２】
＜ポリカーボネート支持基盤の作製＞
射出成形機ＩＳ−５５ＥＰＮ（東芝機械（株）製）を使用し、シリンダー温度３００℃、金型温度１００℃の条件下で成形し、外形８６ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚み１．２ｍｍのサイズである円盤状のポリカーボネートから形成される支持基盤とした。その後、上記方法で作製された３層構造の積層フィルムの基材層を剥離しつつ、光透過層と粘着層からなる２層積層フィルムを円盤状ポリカーボネート基盤上に貼り付けて、これをサンプルとした。
【００８３】
[実施例２]
本実施例では、２層積層フィルムの膜厚を変えたものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。作製した２層積層フィルムの膜厚は５０μｍであり、４０５ｎｍにおける光透過率は８９．１％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は９３．２％であった。
【００８４】
[実施例３]
本実施例では、２層積層フィルムの膜厚を変えたものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。作製した２層積層フィルムの膜厚は１５０μｍであり、４０５ｎｍにおける光透過率は８８．１％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は９１．３％であった。
【００８５】
[実施例４]
本実施例では、２層積層フィルムの膜厚を変えたものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。作製した２層積層フィルムの膜厚は２００μｍであり、４０５ｎｍにおける光透過率は８７．９％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は９０．８％であった。
【００８６】
[実施例５]
本実施例では、実施例１で作製した積層フィルムの光透過層上に下記ハードコート前駆体を塗工積層し、加熱硬化することでハードコート層を形成し、ハードコート層／光透過層／粘着層／粘着層側の基材層からなる４層構造の積層フィルム作製した。その後、この４層構造の積層フィルムの基材層を剥離しつつ、ハードコート層、光透過層および粘着層からなる３層積層フィルムを支持基盤上に貼り付けサンプルとした。
【００８７】
（ハードコート前駆体）
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに溶媒としてブタノール（和光純薬（株）製）１２００ｇを投入し、テトラエトキシシラン（信越化学（株）製）３２ｇ、メチルトリエトキシシラン（信越化学（株）製）１８７．６ｇ、ジメチルジエトキシシラン（信越化学（株）製）１８０．４ｇを秤取し、撹拌しながら蒸留水８０ｇを添加した。その後、１０％水酸化カリウム溶液０．０４ｇを添加し、撹拌しながら６０℃に昇温した。同温度を２時間保持し、ハードコート前駆体を得た。このときの固形分量は２０％であった。
【００８８】
（ハードコート層の形成）
得られたハードコート前駆体の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１５％水溶液（和光純薬（株）製）を３．３重量％添加してハードコート前駆体溶液を調整した。この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、上記実施例１で作製した積層フィルムの、粘着層と反対側の光透過層上に塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１５０℃の乾燥路を３分通して積層フィルムを形成した。このときの積層フィルムの膜厚は９８μｍであったので、光透過層の膜厚を差し引きすると、ハードコート層の膜厚は３．０μｍとなる。
【００８９】
[比較例１]
本比較例では、実施例１の円盤状ポリカーボネート基盤上にダブルタックテープ＃５５１１（積水化学工業（株））を粘着層として貼り付け、ついで該粘着層上に、実施例１の光透過層フィルムよりも膜厚を薄くした光透過層フィルムを貼り合わせることでサンプルを作製した。光透過層と粘着層の膜厚の合計は２５μｍであり、４０５ｎｍにおける光透過率は８８．９％であった。また、光透過層のフィルム単独の膜厚は１０μｍであり、波長４０５ｎｍにおける光透過率は９２．９％であった。
【００９０】
[比較例２]
本比較例では、２層積層フィルムの膜厚を本発明の範囲よりも薄くしたものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。作製した２層積層フィルムの膜厚は２５μｍであり、４０５ｎｍにおける光透過率は８９．４％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は９３．４％であった。
【００９１】
[比較例３]
本比較例では、２層積層フィルムの膜厚を本発明の範囲よりも厚くしたものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。作製した２層積層フィルムの膜厚は３３０μｍであり、４０５ｎｍにおける光透過率は８５．４％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は８９．４％であった。
【００９２】
上記実施例１〜実施例５および比較例１〜比較例３により作製されたサンプルについて、以下に示す測定方法を用いて各種の特性を評価し、評価結果を表１に示した。
【００９３】
［４０５ｎｍにおける光透過率］
光透過率は、ＪＡＳＣＯ社製Ｖ−５７０の分光光度計を用いて測定し、測定条件は、室温（２５℃）で波長４０５ｎｍの領域とした。
【００９４】
［膜厚（μｍ）、膜厚精度（μｍ）］
膜厚は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８１００）を使用し、サイズ１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形フィルムについて測定した。
【００９５】
正方形フィルムの４つの辺を、それぞれ直線Ａ、直線Ｂ、直線Ｃ、直線Ｄとし、直線Ａに対向する辺を直線Ｃとし、直線Ｂに対向する辺を直線Ｄとした。直線Ａから直線Ｃに向かって３ｃｍの間隔を空けた３本の平行直線を各々直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３とし、これら３本の平行直線（Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３）と、直線Ａと、直線Ｃとの合計５本について、以下の手順により直線上の各点におけるフィルムの膜厚を測定した。まず、直線Ａの一端部から正方形内側の１ｃｍの点を基準点とし、基準点から直線Ａの他端部に向かい１ｍｍの間隔を空けた各点について、他端部から正方形内側１ｃｍの点までの長さ１０ｃｍに亘る合計１０１個の各点についてフィルムの膜厚を測定した。次に、直線Ａと同様の方法を用いて、直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３及び直線Ｃについての各点の膜厚を測定し、５本の直線について合計５０５個の各点の膜厚を測定した。さらに、前述した直線Ａから直線Ｃまでの各直線と同様に、直線Ｂから直線Ｄに向かう５本の直線（直線Ｂ、直線Ｂ１、直線Ｂ２、直線Ｂ３、直線Ｄ）の合計５０５個の各点について膜厚を測定した。最後に、前述した方法により測定された正方形フィルム内の総計１０１０個についての膜厚の平均値をフィルムの膜厚とした。
【００９６】
また、膜厚の最大値から平均膜厚を差し引いた値、及び平均膜厚から膜厚の最小値を差し引いた値を各々算出し、算出した値のうち大きい値を膜厚精度とした。
【００９７】
［表面平滑性（ｎｍ）]
表面平滑性は、幅１５μｍにおける凹凸を測定した。なお、測定には、ＳＥＩＫＯ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴ社製、ＡＦＭを使用した。幅１５μｍにおける凹凸を求めた点は、１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形であるフィルムの中央部の点と、四辺の各中央部から１ｃｍ内側の点とについて合計５点を測定し、最も大きい凹凸の大きさを表面平滑性とした。
【００９８】
［サンプル作製時の作業性］
光透過層フィルム、粘着層及び円盤状のポリカーボネート基盤を張り合わせて支持基盤サンプルを作製する際に、光透過層及び粘着層を備えた２層積層フィルムとポリカーボネート支持基盤とを張り合わせる工程のみの作業である場合に、サンプル作製時の作業性を○と評価した。また、円盤状のポリカーボネート支持基盤上に粘着層を形成する工程の後に、光透過層フィルムを張り合わせる工程が必要である場合に、サンプル作製時の作業性を×と評価した。
【００９９】
［ガラス転移温度（Ｔｇ）］ 
ポリマのガラス転移温度をＤＶＡにより測定した。測定装置として、（株）ユービーエム製レオスペクトラーＤＶＥ−Ｖ４を使用した。測定条件は、昇温速度３．０℃／ｍｉｎ、周波数１０．０ｈｚとして引張り弾性率を測定し、得られたデータのうちｔａｎδのピークトップをガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
【０１００】
［光透過層と粘着層との屈折率差］
アッベ屈折計を用いて、光透過層と粘着層それぞれ単独で測定した。測定装置として、アタゴ（株）製アッベ屈折計を使用した。
【０１０１】
［ハードコート層の鉛筆硬度］
ハードコート前駆体の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１５％水溶液（和光純薬（株）製）を３．３重量％添加したものをガラス板状に塗布した後、５０℃／３分の後直ちに１５０℃／３分加熱し、ハードコート層を作製し、その鉛筆硬度をＪＩＳ  K５４００に準拠して測定した。
【０１０２】
［積層フィルムの耐擦傷性］
積層フィルムの耐擦傷性は、摩耗試験器を用いて、荷重２５０ｇ、摩耗輪ＣＳＦ−１、回転数１００回転で行い、試験後のヘイズ（曇価）を耐擦傷性の尺度とした。ヘイズは、ヘーズメータ（スガ試験器（株）製、ＨＧＭ−２）を用いて、室温（２５℃）にて測定した。
【表１】
2004288349.tif 000003
【０１０３】
表１に示すように、実施例１乃至実施例４の２層積層フィルムの膜厚は、いずれも３０〜３００μｍの範囲内であり、膜厚精度及び光透過率も本発明の範囲内となっており、作業性も良好であった。さらに、実施例５のようにハードコート層を光透過層上に形成することにより、積層フィルムの耐擦傷性を向上させることができる。これに対し、比較例１では、ポリカーボネートの支持基盤上に粘着層を貼り付けた後、さらに、光透過層用のフィルムを貼り付ける工程が必要となり、工程数が増えて作業性が低下した。また、比較例２は、本発明の範囲外の膜厚としたため、良好な表面平滑性を得ることができなかった。さらに、比較例３は、本発明の範囲外の膜厚としたため、良好な光透過率及び膜厚精度を得ることができなかった。
【０１０４】
本実施形態によれば、光透過層及び粘着層の少なくとも２層のフィルムを積層した積層フィルムとし、積層フィルムの膜厚を３０〜３００μｍの範囲とすることにより、膜厚精度を±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率を８７％以上とすることができ、製造時の作業性のみならず、優れた表面平滑性及び光学特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の実施形態における、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図。
【図２】図１に示した高密度ＤＶＤの一部の構造を示す断面図。
【図３】従来例における、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図。
【図４】図３に示したＤＶＤの断面図。
【符号の説明】
【０１０６】
１  高密度ＤＶＤ
２  支持基盤
３  記録層
４  粘着層
５  光透過層
６  レーザー光
【図１】
2004288349.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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