(57)【要約】【課題】透明ポリマーフィルムに反射防止性と防眩性とを両立して発現させる。【解決手段】セルロースアシレートを含む反射防止フィルムの反射防止層側にエンボス加工を施し防眩性を付与する。エンボスローラ２２は、電極３８として銅、加工液３５ａとしてケロシン、印加電圧１００〜４００Ｖとしたマイナス放電で凹凸形成されたエンボス版を表面に有する。その算術平均粗さＲａは０．３〜１．０μｍ、平均凹凸周期は５〜３０μｍ、ビッカース硬度は５００〜１０００Ｈｖである。加工液３５ａには平均粒子径が１〜１０μｍ以下の微粒子が１〜２０ｇ／リットルで含まれており、微粒子としてはグラファイト等を用いる。得られた防眩性反射防止フィルム１１ｂは良好な防眩性と反射防止性を有し、これを使用した偏光板、画像表示装置はいずれも高品質なものである。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーフィルムまたは少なくとも片面に反射防止層を有するポリマーフィルムの、少なくとも片面に、エンボス版を有する表面加工手段により凹凸形成加工を施す防眩性フィルムの製造方法において、
前記エンボス版を、放電加工により作製し、
前記エンボス版の表面の算術平均粗さＲａを０．３μｍ以上１．０μｍ以下とし、平均凹凸周期ＲＳｍを５μｍ以上３０μｍ以下とすることを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記放電加工は、
加工液にケロシンを含み、銅または真鍮を含む材料を放電電極として用いるマイナス放電加工であって、印加電圧を１００Ｖ以上４００Ｖ以下とすることを特徴とする請求項１記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記加工液は、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下の微粒子を１ｇ／リットル以上２０ｇ／リットル以下で含み、
前記微粒子は、グラファイト、シリコン、モリブデンサルファイドの少なくともいずれかひとつを含むことを特徴とする請求項１または２記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記エンボス版を形成する材料のビッカース硬度が、５００Ｈｖ以上１５００Ｈｖ以下であることを特徴とする請求項１ないし３いずれかひとつ記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記エンボス版を形成する材料が、
ハードクロムメッキ、
リン、あるいはリンとホウ素とを含むニッケルメッキ、
炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ４  Ｃ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ２  ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物の微粒子を共析させるクロムメッキまたはニッケルメッキ、
のいずれかひとつのメッキを施されたものであることを特徴とする請求項１ないし４いずれかひとつ記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記メッキを施して形成されたメッキ層を熱硬化処理し、
前記熱硬化処理を３００℃以上１０００℃以下で少なくとも１時間行うことを特徴とする請求項５記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記ポリマーフィルムが、セルロースアシレートを含むことを特徴とする請求項１ないし６いずれかひとつ記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記ポリマーフィルムが、
透明樹脂支持体と複層部とを有し、
前記複層部は、前記透明樹脂支持体側から順にハードコート層と反射防止層とを有することを特徴とする請求項１ないし７いずれかひとつ記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記ポリマーフィルムが、
透明樹脂支持体と複層部とを有し、
前記複層部は、前記透明樹脂支持体側から順にプライマー層とハードコート層と反射防止層とを有することを特徴とする請求項１ないし７いずれかひとつ記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９いずれかひとつ記載の製造方法において製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項１１】
請求項１０記載の防眩性フィルムを有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１２】
偏光子の両側に保護膜を有する偏光板において、
前記保護膜の少なくとも一方が、請求項１０記載の防眩性フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
請求項１０記載の防眩性フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学用途等に用いられる防眩性フィルム及びその製造方法と、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている他に、眼鏡やカメラのレンズにも使用されている。反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層フィルムが従来より用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。
【０００３】
金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタ法は生産性が低く大量生産に適していない。
【０００４】
また、ＰＶＤ法による反射防止フィルムとしては、用途に応じて、表面凹凸の形成により防眩性を付与された支持体上に金属薄膜を形成されてつくられるものがある。このようなフィルムは、平滑な支持体上に形成されたものよりも、平行光線の透過率は減少するが、表面凹凸による光散乱のために背景の映り込みが低下して防眩性を発現し、反射防止効果とあいまって、画像表示装置に適用した場合には、その表示品位が著しく改善されるという利点がある。
【０００５】
一方、上記の蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布による反射防止フィルムやその製造方法が種々提案されている。例えば、塗布により形成されて、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層であって、この微細空孔を、反射防止層の塗布後に活性化ガス処理を行なってガスが層から離脱することによって形成するという提案がなされている（例えば、特許文献１参照。）。また、低屈折率層がポリマーまたは無機微粒子の塗布により形成され、支持体と、高屈折率層と、低屈折率層とを順に積層した反射防止フィルムや、支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けたものが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
また、例えばＭｇＦ２  とＳｉＯ２  等の、２種類以上の超微粒子を混在させて、フィルムの厚み方向にその混合比を変化させた反射防止フィルムも提案されている（例えば、特許文献３参照）。前記特許文献３によると、混在された２種類以上の超微粒子の混合比を変化させることによりフィルムの屈折率を変化させ、上記特許文献２に記載される高屈折率層と低屈折率層とが設けられた反射防止フィルムと同様の光学的性質を得ている。なお、これらの超微粒子は、エチルシリケートの熱分解で生じたＳｉＯ２  により基板上に固着されている。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼によって二酸化炭素と水蒸気も発生し、この二酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒子の間に間隙が生じている。
【０００７】
さらに、特許文献３記載の反射防止フィルムに存在する超微粒子間隙をバインダーで充填したもの（例えば、特許文献４参照。）や、多孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有するものが提案されている（例えば、特許文献５参照。）。その他には、低屈折率層に無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねてミクロボイドを含有させ、ウエット塗布によって３層構成とされた反射防止層を有するフィルムであって、オールウェット塗布による安価な製造コストにて、膜強度と低反射率とを両立させる提案がなされている（例えば、特許文献６参照。）。
【０００８】
上述のような、塗布による反射防止フィルムへの防眩性付与手段としては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を、反射防止層形成用の塗布液に添加する方法の他に、平滑な反射防止フィルムの作成後に、エンボス法等によって表面凹凸構造を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献７，８参照。）。
【０００９】
一方、画像表示装置用の防眩性フィルム、あるいは反射防止フィルムは、その機能により、装置の最外面に装着されることが多い。テレビやコンピューター用モニター、携帯用デジタル機器に用いられる場合には、特に、使用中に様々な外力を受けることがあるため、スクラッチや押し込みに対しての耐性が要求される。外力に対する耐性を向上させるためには、表面における摩擦係数や表面エネルギーを下げて表面の滑りを良くしたり、積層された層と層との間の結合力を上げて剥離抵抗を持たせたりするが、基本的には、外力に勝る硬さを有する層、つまりハードコート層を少なくとも一つ設ける必要がある。このハードコート層は、透明ポリマーフィルムに隣接して数μｍから数十μｍの厚みで設けられ、鉛筆硬度として少なくともＨ、好ましくは２Ｈ以上の硬さに設計される。
【００１０】
【特許文献１】
特公昭６０−５９２５０号公報
【特許文献２】
特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献３】
特開平２−２４５７０２号公報
【特許文献４】
特開平５−１３０２１号公報
【特許文献５】
特開平７−４８５２７号公報
【特許文献６】
特開平１１−６９０２号公報
【特許文献７】
特開２０００−２７５４０１号公報
【特許文献８】
特開２０００−２７５４０４号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献等で提案されている反射防止フィルムでは、積み重なった超微粒子の間に空隙が生じているが、その層構造が図に示されているだけであって、空隙の光学的機能については全く記載されていない。また、微粒子間の空隙をバインダで充填すると強度は付与されるが、空隙の光学的機能は失われてしまうという問題がある。
【００１２】
また、反射防止フィルムに、凹凸を形成して防眩性を付与する、上記のような方法は、画像表示セルよりも大きな凹凸が反射防止フィルムの表面に存在することにより、単一セルからの透過光がレンズ効果により集光したり、隣接する幾つかのセルからのＲＧＢ透過光が混色を起こしたりすることによって、描画故障が発生する。この描画故障は、一般にはギラツキと呼ばれるものであって、特に、近年における液晶ディスプレイの高視野角化、高速応答化とならび、高精細化、つまり高画質に対する要求が高まる中で、表示品質を劣化させるという問題につながる。すなわち、高精細化の実現には液晶セルサイズの微細化が重要であって、セルサイズが小さくなるにつれて、例えば１３３ｐｐｉ（１３３ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）以上の領域になると、場合によっては防眩性を有する反射防止フィルムを透過した後の像に輝度バラツキを生じさせ、これがギラツキとして認識されるというものである。
【００１３】
さらに、ハードコート層が付与されている場合には、防眩性をフィルムに付与するためのエンボス加工の際に、この硬い層の存在のために、エンボス版の凹凸（パターン）が、層の深さ方向にも面内方向にも十分に付与されないため、防眩性の発現効果が十分でなかったり、上記ギラツキの欠陥が発生していた。
【００１４】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、透明なポリマーフィルムに対して、反射防止フィルム等の用途に十分な性能を有する防眩性フィルム及びその製造方法を提供することを目的とし、さらに蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを有する反射防止フィルムを提供する。また、この防眩性を従来の反射防止フィルムの塗布層に付与ことによって、反射防止機能を低下させることなく、蒸着層と同様の表面凹凸を形成し、光学機能と強度を満足する偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明では、ポリマーフィルムまたは少なくとも片面に反射防止層を有するポリマーフィルムの少なくとも片面に、エンボス版を有する表面加工手段により凹凸形成加工を施す防眩性フィルムの製造方法において、前記エンボス版を、加工液を放電媒体とする放電加工により作製し、前記エンボス版の表面の算術平均粗さＲａを０．３μｍ以上１．０μｍ以下とし、平均凹凸周期ＲＳｍを５μｍ以上３０μｍ以下とすることを特徴として構成されている。
【００１６】
前記放電加工は、加工液にケロシンを含み、銅または真鍮を含む材料を放電電極として用いるマイナス放電加工であって、印加電圧を１００Ｖ以上４００Ｖ以下とすることが好ましく、前記加工液は、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下の微粒子を１ｇ／リットル以上２０ｇ／リットル以下で含み、前記微粒子は、グラファイト、シリコン、モリブデンサルファイドの少なくともいずれかひとつを含むことがさらに好ましい。
【００１７】
前記エンボス版を形成する材料のビッカース硬度は、５００Ｈｖ以上１５００Ｈｖ以下であることが好ましく、前記エンボス版を形成する材料は、ハードクロムメッキ、リンあるいはリンとホウ素とを含むニッケルメッキ、炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ４  Ｃ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ２  ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物の微粒子を共析させるクロムメッキまたはニッケルメッキのうちのいずれかひとつのメッキを施されたものであることがさらに好ましい。さらに、前記メッキを施して形成されたメッキ層を熱硬化処理し、前記熱硬化処理を３００℃以上１０００℃以下で少なくとも１時間行うことが好ましい。
【００１８】
また、前記ポリマーフィルムが、セルロースアシレートを含むことが好ましい。そして、前記ポリマーフィルムは、透明樹脂支持体と複層部とを有しており、前記複層部は、前記透明樹脂支持体側から順にハードコート層と反射防止層とを有すること、あるいは、前記複層部は、前記透明樹脂支持体側から順にプライマー層とハードコート層と反射防止層とを有することが好ましい。
【００１９】
さらに、本発明は、上記の製造方法において製造された防眩性フィルムと、反射防止フィルムとを含んでおり、偏光子の両側に保護膜を有する偏光板においてはその保護膜の少なくとも一方が前記防眩性フィルムである偏光板と、さらに、前記防眩性フィルム画像表示装置とを含んで構成されている。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態について図を引用しながら説明するが、本発明は下記実施形態に限定されるものではない。
［防眩性の付与］
図１は、本発明の実施形態であるポリマーフィルムに対する防眩性付与工程を示す概略図である。本実施形態におけるポリマーフィルムは反射防止フィルムであって、以下の説明においては、防眩性を付与される前のフィルムを反射防止フィルム１１ａと称し、この反射防止フィルム１１ａに防眩性を付与したものを防眩性反射防止フィルム１１ｂと称するものとする。防眩性付与工程は、加熱装置としてのジャケットローラ１２と、エンボス加工装置としての片面エンボシングカレンダ装置１３とを有している。片面エンボシングカレンダ装置１３の下流には送風機１６が設置されている。片面エンボシングカレンダ装置１３はエンボスローラ２２とバックアップローラ２３とを備えており、これらのローラ２２，２３は、駆動制御手段２６，２７と温度制御手段２８，２９とをそれぞれ有している。また、本実施形態の防眩性付与工程には、必要に応じて適宜、フィルム搬送用のローラを設置しているが、図１においては図示を省略する。
【００２１】
反射防止フィルム１１ａは、透明支持体を含む積層部３１に無機微粒子層を塗布により付設したものとなっており、この塗布層が反射防止層３２となっている。
【００２２】
ジャケットローラ１２は、前記塗布液を塗布された反射防止フィルム１１ａをエンボス加工前に加熱する（以降、プレ加熱処理と称することがある。）。ジャケットローラ１２は温度制御手段１２ａを備えた二重ジャケットローラであって、温度制御手段１２ａによりジャケット内部の熱媒温度が調節され、この熱が反射防止フィルム１１ａに伝達されて、反射防止フィルム１１ａは所定の温度に加熱される。
【００２３】
エンボスローラ２２は、その表面が金属製のエンボス版とされており、バックアップローラ２３は、その表面が金属製の平滑面とされている。エンボスローラ２２は反射防止フィルム１１ａの反射防止層３２側に位置し、また、バックアップローラ２３は積層部３１側に位置している。エンボスローラ２２とバックアップローラ２３は反射防止フィルム１１ａに対して押しつけ圧力をかけて挟み込みながらこれを搬送するように回転する。これらのローラ２２，２３による挟み込み圧力及びそれぞれの回転速度は、駆動制御手段２６，２７により制御される。この両ローラ２２，２３により反射防止フィルム１１ａにはエンボス加工が施され、防眩性反射防止フィルム１１ｂとして搬送される。また、エンボスローラ２２とバックアップローラ２３は、温度制御手段２８，２９によりそれぞれの外周面温度を制御され、エンボス加工に好適な所定の温度とされる。さらに、送風機１６は、エンボス加工直後の防眩性フィルムｂのエンボス加工面である反射防止層３２側に対して風を送り、防眩性反射防止フィルム１１ｂの温度を低下させる。
【００２４】
以上の方法により、反射防止フィルム１１ａは、その反射防止層３２側の表面にエンボス形状が付与された防眩性反射防止フィルム１１ｂとされ、反射防止性を失うことなく、実質的に膜厚が均一で防眩性を発現する。反射防止性を損なわないために必要な防眩性反射防止フィルム１１ｂの均一性は、光干渉層である反射防止層３２の層数や光学設計によって異なる。例えば、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層が空気相側より、この順序に各層ともｎλ／４（ｎは屈折率を表す）の厚みで積層された３層型設計の反射防止層３２の場合には、その各層の厚みの変動は平均厚み±３％が最大であって、それ以上になると反射防止性能が著しく低下するので好ましくない。
【００２５】
［フィルム表面形状］
ところで、画像表示装置に組み込むための防眩性反射防止フィルムには、近年の高精細化により、微細な周期の凹凸が要求されるので、本発明の防眩性反射防止フィルム１１ｂにおいては、５０ｐｐｉ以上の画素密度に好ましく利用できるように、表面の凹凸に関し、平均凹凸周期（ＲＳｍ）が５μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、５μｍ以上５０μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以上３０μｍ以下が最も好ましい。
【００２６】
この表面凹凸（以降、パターンと称することもある。）の大きさは、求められる防眩性の程度によって決まる。表面の凹凸が小さいと防眩性フィルムとして必要な外光を散乱する効果が低下し、凹凸が大きすぎると著しい散乱によって解像度が低下したり、画像が白味をおびてしまう。本発明において、防眩性反射防止フィルム１１ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０１μｍ以上２μｍ以下が好ましく、０．０５μｍ以上２μｍ以下がさらに好ましく、０．０５μｍ以上１μｍ以下が最も好ましい。
【００２７】
また、本発明において、凹凸プロファイルの傾斜角は小さい方が好ましい。不規則な凹凸プロファイルの傾斜角は一義でなく分布をもって存在するが、大きい傾斜角の存在頻度が高くなると防眩性反射防止フィルム１１ｂが白味をおびてくることがあるので、傾斜角は０．５度以上１０度以下に分布していることが好ましく、０．５度以上５度以下に分布していることがさらに好ましい。
【００２８】
本実施形態においては、平均凹凸周期（ＲＳｍ）と、算術平均粗さ（Ｒａ）と、平均傾斜角とは、（株）ミツトヨ社製２次元粗さ計ＳＪ−４００型もしくは、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製のマイクロマップ機を用いて測定しているが、その他の市販の二次元表面粗さ計測器を用いて計測することができる。
【００２９】
［エンボス加工］
本実施形態におけるエンボス加工の方式は、ロール版プレスであるが、これに限定されない。例えば、平板版プレスや、連続ベルト版プレスも採用することができる。このうち、長尺物の連続加工としては連続ベルト版プレスとロール版プレスが好ましく、さらにプレス圧やプレス温度の自由度の点でロール版プレスが最も好ましい。
【００３０】
本発明において、エンボス加工は、ホットエンボスと通常呼ばれる方法であり、加熱した版を被加工物に押し当てながらパターンを形成させる方法である。これは、加熱溶融製膜や、加熱溶融ラミネート、あるいは、予め加熱したフィルムの温度以下の版を押し当ててパターンを形成させるコールドエンボスとは異なる。エンボス版を加熱する手段としては、８０℃以上に加熱することができ、版表面の温度分布が小さければ限定されないが、電熱線ヒーター、電磁誘導加熱、赤外線ヒーター、版内部を中空構造にして温水、オイル、スチームなどの温度制御熱媒を循環させるジャケット式ヒーターなどを好ましく利用することができる。このうち、ロール版プレスに利用できる方法としては、電熱線ヒーターや、電磁誘導加熱機（例えば、トクデン社製ヒートロール）や、ジャケット式ヒーター等が好ましく、版表面の温度分布が小さい点では、電磁誘導加熱ならびにジャケット式ヒーターがさらに好ましい。
【００３１】
ロール版プレスに用いるエンボスローラ２２の材質は、プレス圧に耐えられる剛性を有するものであれば金属、セラミックス、合成樹脂、合成樹脂と金属やガラスのコンポジットなど、限定されず使用できるが、エンボス版の耐久性の観点より、少なくともエンボス版表面は、ビッカーズ硬度が５００Ｈｖ以上の、炭素とクロムを含む鉄合金で被覆されていることが好ましい。この被覆厚み等を含めてのエンボス版の材質についての詳細は後に述べる。
【００３２】
前記ロール版プレスに用いるエンボスローラ２２の外径には特に限定はない。ロールとして製作できる５０ｍｍ以上３０００ｍｍ以下の外径を適用することができるが、反射防止フィルム１１ａの幅方向における真直度を数μｍ／ｍとして精度良く加工できる点、ならびに重量の肥大化を避ける点により、実質的には５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下の外径である。
【００３３】
エンボスローラ２２に対向して設置するバックアップローラ２３の材質もプレス圧に耐えられる剛性を有するものであればよく、金属や、セラミックス、合成樹脂、合成樹脂と金属、ガラスのコンポジットなど、限定されず使用できる。耐久性の観点より、ビッカーズ硬度が５００Ｈｖ以上の炭素とクロムを含む鉄合金で被覆されていることが好ましい。この被覆厚みは、１０μｍ以上５０ｍｍ以下であり、好ましくは５０μｍ以上５０ｍｍ以下である。また、ビッカーズ硬度が高く、耐食性に優れ、表面研摩しやすいハードクロムメッキも好ましく利用することができる。バックアップローラ２３の表面粗さは、反射防止フィルム１１ａの積層部３１側の表面の平滑さを維持した防眩性フィルムを得るために、可能な限り小さいことが好ましい。具体的には金属表面の鏡面仕上げとして得られる算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍ以下であることが好ましい。
【００３４】
本発明において、ロール版プレスに用いるバックアップローラ２３の外径に特に限定はない。ロールとして製作できる５０ｍｍ以上３０００ｍｍ以下の外径が適用できるが、反射防止フィルム１１ａの幅方向における真直度を数μｍ／ｍとして精度良く加工できる点、ならびに重量の肥大化を避ける点において、実質的には５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下の外径である。
【００３５】
バックアップローラ２３は冷却されてもよい。この場合には、バックアップローラ２３の内部を中空構造にして冷水などの冷媒を循環させるジャケット構造、または、これに対する冷風吹き付けを好ましく利用することができる。バックアップローラ２３を冷却することにより、防眩性反射防止フィルム１１ｂに可塑剤等の添加剤が含まれる場合には、これらの添加剤のフィルム内部からの揮散や蒸発を軽減できたり、プレス部を通過した直後の防眩性反射防止フィルム１１ｂがバックアップローラ２３と接触することにより即時に冷却されてエンボスパターンを固定できる等の利点がある。
【００３６】
プレス条件としては、反射防止フィルム１１ａにかける圧力と、エンボス版の表面温度と、プレス時間とがある。プレス圧力は１×１０５  Ｐａ以上が好ましく、１×１０５  Ｐａ以上１×１０７  Ｐａ以下がさらに好ましく、５×１０５  Ｐａ以上５×１０６  Ｐａ以下が最も好ましい。本発明に用いられるエンボスローラ２２ならびにバックアップローラ２３の直径の範囲では、これら圧力範囲に対応する線圧として、１０００Ｎ／ｃｍ以上が好ましく、１０００Ｎ／ｃｍ以上し５００００Ｎ／ｃｍ以下がさらに好ましく、５０００Ｎ／ｃｍ以上３００００Ｎ／ｃｍ以下が最も好ましい。
【００３７】
本発明において、エンボス加工における版の表面温度は、８０℃以上であることが好ましい。８０℃以上２２０℃以下であることがさらに好ましく、１００℃以上２００℃以下であることが最も好ましい。
【００３８】
また、プレス時間が厳密に定義できるのは平板版プレスと連続ベルト版プレスである。プレス時間は１秒以上６００秒以下が好ましく、１０秒以上６００秒以下がさらに好ましく、１０秒以上３００秒以下が最も好ましい。本実施形態のように、ロール版プレスの場合には、プレス圧によるエンボスローラ２２とバックアップローラ２３とに挟まれた部分（ニップ部分）の接触長と反射防止フィルム１１ａの搬送速度とにより、実効プレス時間が決まる。ニップ部分の搬送方向における接触長は、エンボスローラ２２とバックアップローラ２３の各外径や弾性率等の物理性や、圧力、温度等のプレス条件等によって変化する。搬送速度は、１ｍ／分以上５０ｍ／分以下が好ましく、１ｍ／分以上３０ｍ／分以下がさらに好ましく、５ｍ／分以上３０ｍ／分以下が最も好ましい。
【００３９】
本実施形態のように、ロール版プレスの場合には、回転軸を介してプレス圧を掛けるとローラがたわんで幅方向に均一な圧力が作用しなくなる。これを軽減するためには、プレス圧に対応したたわみ量を予め予測してローラの径を補正するクラウンロール方式や、プレス方向に対向して回転軸に圧力を掛けるベンド補正方式を適用することができる。エンボスローラ２２またはバックアップローラ２３のいずれか一方の幅方向における外径がローラ幅１ｍ当り５μｍ以上５０μｍ以下となるように、テーパー状にすることが好ましく、このテーパー形状は、外径差が５μｍ以上３０μｍ以下とすることがさらに好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下とすることが最も好ましい。ベンド補正圧は、エンボスローラ２２とバックアップローラ２３の径や弾性率などの物理性や、圧力や温度等のプレス条件等によって変化するが、プレス圧の３％以上２０％以下で反作用する圧力とすることが好ましく、プレス圧の３％以上１５％以下で反作用する圧力とすることがさらに好ましく、プレス圧の５％以上１０％以下で反作用する圧力とすることが最も好ましい。
【００４０】
本発明において、画像表示装置に組み込む光学フィルムとしてのエンボス加工では、塵埃の制御を厳密に行う必要がある。具体的には、エンボス加工し、再び巻き取るまでの工程は、クラス１００以上、好ましくはクラス１０以上のクリーンルーム環境で実施する。また、エンボス加工工程前に除塵機を使用することも好ましい。
【００４１】
周知の乾式の除塵方法としては、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のように、フィルム表面に不織布やブレード等を押し付ける方法や、特開平１０−３０９５５３号公報に記載されているように、清浄度の高い空気を高速で吹き付け、付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口に導入して除去する方法等を適用することができる。特に、超音波振動する圧縮空気を吹き付けると共に付着物を吸引する機能を有するものは、例えば、ニューウルトラクリーナーの商品名で（  株）  伸興から市販されている。これらの装置の特徴は、空気流による剪断力と超音波を組み合わせて、厚み数十〜百μｍの、空気流の境界層の中で、付着物が受ける剪断力によって剥離させる作用と超音波による振動作用を組み合わせて、高い除塵作用を実現していることである。また、静電力で付着した異物を除去する方法としては、特開平１０−２９０９６４号公報に記載されているように、正、負の空気イオンを注入しながら電荷を中和させ、剥離した異物を別の空気流によって除去する手段がある。一般的な除電方法としては特開昭６２−１３１５００号公報に記載の方法、除塵方法としては特開平２−４３１５７号公報に記載の方法も利用することができる。
【００４２】
一方、これら乾式の方法に対して湿式の除塵方法も考案されている。例えば、洗浄槽内にフィルムを導入し、ここで超音波振動子により付着物を剥離させる方法や、特公昭４９−１３０２０号公報に開示のフィルムに洗浄液を供給した後に高速空気の吹き付け、吸い込みを行う方法や、特開２００１−０３８３０６号公報、特開２００２−０７９２００号公報、特開２００２−０４０２４５号公報等に記載されているように、液体で濡らした弾性体でフィルム面を連続的に擦る方法が知られている。
【００４３】
以上の方法によりクリーンルーム内で除塵処理した後の反射防止フィルム１１ａまたは防眩性反射防止フィルム１１ｂの表面における１０μｍ径以上の異物は、１０コ／ｍ２  未満であることが好ましく、１コ／ｍ２  未満であることがさらに好ましく、０．１コ／ｍ２  未満であることが最も好ましい。
【００４４】
エンボス加工前に反射防止フィルム１１ａを予熱するプレ加熱工程を設けることも好ましい。このプレ加熱工程を設ける場合には、反射防止フィルム１１ａが、常温からエンボス加工温度へと徐々に昇温されることが好ましい。この工程を設けることにより、常温付近となっている反射防止フィルム１１ａを８０℃以上のエンボスローラ２２に導入したときに起こる反射防止フィルム１１ａの急激な軟化と体積変化、さらには反射防止フィルム１１ａとエンボスローラ２２との摩擦等による、シワ等の発生を防止することができる。
【００４５】
このプレ加熱方法としては、反射防止フィルム１１ａに対して、熱風を衝突させたり、加熱ローラによる接触伝熱を行ったり、マイクロ波による誘導加熱を行ったり、あるいは、赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等を好ましく利用することができる。特に、加熱ローラによる接触伝熱は、反射防止フィルム１１ａに対する熱伝達効率が高く、小さな設置面積で行え、また、搬送開始時のフィルム温度の立上りが速い点で好ましい。加熱ローラとしては、例えば、本実施形態にて用いたような、一般の２重ジャケットローラ１２や電磁誘導ロール（トクデン社製）等を利用することができる。プレ加熱後のフィルム温度は、２５℃以上２２０℃以下であることが好ましく、２５℃以上１５０℃以下がさらに好ましく、４０℃以上１００℃以下が最も好ましい。また、上記温度範囲に制御するために、上記の各加熱手段に対してコントローラ（図示なし）によるフィードバック制御を行ってもよい。
【００４６】
ホットエンボス後のフィルムは高温状態にあり、温度低下して十分に圧縮弾性率が下がらないまま、搬送に伴うテンションや各種ローラーとの接触を受けると、パターニングが変形したり緩和したりすることがしばしば発生する。そこで、本実施形態のように、ホットエンボス加工直後に強制冷却工程を設けることによってこの現象を回避することができる。ただし、本発明はエンボス加工直後のフィルム冷却工程の有無、ならびに、冷却方法に依存するものではない。
【００４７】
冷却方法としては、図１に示すように、防眩性反射防止フィルム１１ｂに対して送風機１６により冷風を衝突させたり、あるいは、冷却ローラ等により接触伝熱を行う等の方法を好ましく採用することができる。冷却後の防眩性反射防止フィルム１１ｂの温度は、８０℃以下であることが好ましく、１０℃以上８０℃以下であることがさらに好ましく、１５℃以上７０℃以下であることが最も好ましい。フィルム温度は、非接触式の赤外線温度計で測定することが好ましい。また、上記の各冷却手段に対して、別途設けるコントローラによるフィードバック制御を行い、冷却温度を調節することもできる。
【００４８】
本実施形態のように長尺物をロールエンボス加工する場合には、巻取り工程の前に調湿処理を施すこともできる。これは、長尺物内部に含まれている水分の量を調節する処理である。ただし、本発明は、この調湿処理工程の有無ならびに調湿処理方法に依存するものではない。調湿処理装置には、温湿度制御手段や、送風手段等を設けることが好ましい。この工程の付設により、防眩性反射防止フィルム１１ｂをロール状に巻き取る前に、好ましい含水率となるように調整するための加熱乾燥処理や、あるいは、設定された湿度を有する風を送ることによってフィルム中における含水率の調整処理を行うことができ、好ましいエンボスパターンを形成された良好な光学フィルムとして得ることができる。ただし、樹脂は、過度な昇温及び昇湿により変形や変性を起こすので、調湿処理においては、付与したエンボスパターン及び光学特性をはじめとする所定用途の要求スペックを損なわない範囲で、処理条件を適宜設定することが好ましい。例えば、処理対象の透明ポリマーフィルムのガラス転移点（Ｔｇ）あるいは熱変形温度、あるいは流動開始点等における樹脂変性を考慮して、加熱温度等を設定することが好ましい。
【００４９】
次に、本発明に用いるエンボスローラ２２におけるエンボス版について、詳細に説明する。エンボスローラ２２は、金属表面に凹凸を形成する種々の方法、つまり、放電加工、ショット加工、エッチング加工、レーザー加工等にて作成することができるが、本発明においては、放電加工を適用する。光学フィルム製造用のエンボス版への適用に際し、施される凹凸配列の規則性が高い加工方法は、光干渉が発生するため好ましくなく、自動的に不規則な凹凸パターンを形成できる点で放電加工は好ましい。しかし、エッチングやレーザー加工においても、レジストパターンの作成方法やレーザービームの操作方法によって不規則なパターニングが可能ではある。
【００５０】
図２は、本発明を実施したエンボス版作製工程としての放電加工を示す概略図である。放電加工機３３は、市販の放電加工機を使用している。放電加工機３３は、ヘッド３４と、加工液３５ａの供給槽３５と、電源３７と、電極３８とを有している。電極３８と被加工物であるエンボスローラとは近接しており、ポンピングによりヘッド３４を通過して電極３８に送られる加工液３５ａは、被加工物であるエンボスローラ２２の表面の加工対象箇所に達する。電極３８及びエンボスローラ２２の両表面は、完全な平滑面ではないために、電源３７がオンとされ次第に電界強度が増すと、電極あるいはエンボスローラの表面のある１点で、電界強度がその点の加工液３５ａの局部電離を引き起こすのに十分な値となり、この間でスパーク放電が発生する。この各単発放電により、エンボスローラ２２の表面に微小なクレータが生成される。このクレータの累積により、エンボスパターンが形成される。別途加工液槽を設けて、エンボスローラ２２及び電極３８を、加工液３５ａの中に浸漬した状態で放電させることもできる。
【００５１】
スパーク温度は数１０００℃以上となるので、スパークが発生した微小な領域では、エンボスローラ２２の表面材料が溶融したり揮発したりする。本実施形態においては加工液３５ａとしてケロシンを用いており、ケロシンも同時に局部加熱され、急速に気化し、体積が膨張する。周辺のケロシンの慣性による閉じこめ作用が起こり、スパーク箇所周辺は高圧力が発生するが、この圧力により、溶融あるいは揮発したエンボスローラ２２の材料は、その表面から急速に除去されるものとなっている。また、エンボスローラ２２は、幅方向への駆動及び回転駆動されることにより、その外周面全体を連続して放電加工される。ただし、外周面全体に対する加工は、エンボスローラ２２の幅方向駆動と回転駆動とによる連続方式に限定されるものではなく、電極側を稼働式とするものや、あるいは一定範囲毎に加工を施す方式であってもよい。
【００５２】
エンボス版として好ましく用いられる金属は、ビッカーズ硬度が５００Ｈｖ以上の、炭素とクロムを含む鉄合金であればいずれでも良く、好ましくは５００Ｈｖ以上１５００Ｈｖ以下のものである。これらには高炭素鋼、クロム−モリブデン鋼、ステンレス鋼などが挙げられる。ここで、ビッカーズ硬度は、対面角１３６度の正四角錐ダイアモンド圧子を用いて、材料に荷重を加え、その際の荷重量と材料面上のピラミッド形圧痕の対角線長さから評価される物性値である。ただし好ましい硬さは、ビッカース硬度による上記値に限定されず、他の硬さ測定法においても、上記好ましい値と一般的に対応されるべく同等なレベルであればよい。
【００５３】
また、表面を硬化する目的で、窒化処理や、メッキ処理等の適用することができる。窒化処理は、ステンレスに代表される鉄合金を真空下でアンモニアなどの窒素化合物を導入して、高温反応させるものであり、メッキ処理としては、ハードクロムメッキが代表的な例であり、さらに、リンあるいはリンとホウ素とを含むニッケルメッキ（日本カニゼン株式会社のカニゼンメッキ、カニボロンメッキ）や、炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ４  Ｃ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ２  ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物の微粒子を共析させたクロムメッキまたはニッケルメッキも挙げることができ、エンボス版を形成する前に表面に施される。これらのメッキ層が付与されたあと、このメッキ層を３００℃以上１０００℃以下で少なくとも１時間熱硬化させるとさらに好ましい。なお、共析とは、冷却につれて、固体から２種類以上の固体が同時に析出することである。これら硬質層の被覆厚は、５μｍ以上３００μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上１００μｍ以下がさらに好ましい。
【００５４】
エンボスローラ２２の材質の重要なパラメータは硬度と、融点と、熱伝導係数とであり、これらは放電によって発生する熱で表面が彫られていく形状や速度に影響する。すなわち、硬度や融点が異なると、放電で同じ熱量が発生しても、エンボス版の表面材料が融解して彫られる量や形が異なるものとなる。また、熱伝導係数もスパークで局所的に加熱された熱が拡散する速度に影響するため、凹凸周期や深さに反映されるものとなる。
【００５５】
上述の様々な表面硬化処理を行った場合、同じ放電加工によって得られるエンボス版は、算術平均粗さＲａや平均凹凸周期ＲＳｍのみならず、大小の凹凸が重なりあった結果の複合波形や凹凸配置の不規則性が変化する。その結果、エンボスパターンが付与された後のフィルムの防眩性やギラツキ性といった光学的特性だけでなく、ざらつきやしっとり感などの表面質感にも大きく影響する。本発明のように、エンボス版を放電加工により作成することにより、放電加工条件とエンボス版の表面材質との組み合わせを適宜設定して、様々な質感の透明ポリマーフィルムを作製することができる。
【００５６】
本発明において、放電加工は、汎用の形彫放電加工機（例えば、三菱電機社製、Ｓｏｄｉｃｋ社製等）等を利用することができる。微細な凹凸形状を得るためには、μｍ単位の位置制御が可能な、ＣＡＤ／ＣＡＭ機能を搭載している機種が好ましい。
【００５７】
放電加工には電極に正の電位を掛けるプラス放電と負の電位を掛けるマイナス放電とがあるが、マイナス放電とすることが好ましい。プラス放電の場合、ワーク表面で発生する熱量が高いため加工速度は速いが、不均一な凹凸形状となることがしばしば起こり、一方、マイナス放電では、電極の消耗は激しいが、ワーク表面の凹凸形状はより均一となるからである。
【００５８】
本発明においては、放電電極は、電気抵抗が低く熱伝導係数が高い銅を用いることが好ましい。ここで、一つ一つの局所放電を微小にし、放電エネルギーを小さくして微細な凹凸形状を得るためには、平板電極の厚みを好ましくは５ｍｍ以下、更に好ましくは３ｍｍ以下、最も好ましくは２ｍｍ以下にする必要があるが、銅で十分な剛性が得られない場合には、真鍮を用いることが好ましい。
【００５９】
また、放電電圧の制御には、電源側でパルスを発生させる方法と、電源回路と放電加工機とが形成するＲＣ回路を利用するコンデンサー放電とがある。近年では電源のスイッチング技術が向上し、高い電圧−電流においても正確なパルス制御が可能となっているが、本発明においては、コンデンサー放電の方が広い面積で、均質な凹凸形状が得られ好ましい。本発明の目的とする不規則で微細な凹凸面に対して放電を発生させる場合には、電源側のパルス発生では十分な制御が困難であり、放電電流の波形が乱れているからである。
【００６０】
また、印加電圧は高い方が電極とワーク間の距離が大きい状態で放電できるため、熱や溶融片の放出効率が高く好ましい。半導体電源の上限に当たる１００Ｖ以上５００Ｖ以下を用いるが、本発明においては、１００Ｖ以上４００Ｖ以下とすることが好ましい。
【００６１】
本発明における放電加工に用いる加工液３５ａは、一般的な加工液としての各種ケロシンを利用することができる。また、ケロシンに、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下のグラファイト、シリコン、モリブデンサルファイド、アルミナ、シリコンカーバイド等の粒子を、１ｇ／Ｌ以上２０ｇ／Ｌの濃度で添加することによって、より微細なパターニングを施すことができる。これらの微粒子は、それぞれを単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。
【００６２】
本発明においては、エンボス版の形状は、防眩性反射防止フィルム１１ｂの表面凹凸と同様に、３つのパラメータで決定することができる。平均凹凸周期（ＲＳｍ）は５μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、５μｍ以上５０μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以上３０μｍ以下が最も好ましい。算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０５μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、０．１以上１０μｍ以下がさらに好ましく、０．３μｍ以上５μｍ以下が最も好ましい。凹凸の傾斜角は０．５度以上１０度以下に分布していることが好ましく、０．５度以上５度以下に分布していることがさらに好ましい。
【００６３】
さらに、エンボスローラ２２とバックアップローラ２３に対するポリマーフィルムの搬送路に関して、図３〜図７を用いて詳細に説明する。図３〜図７は、本発明において適用することができる、エンボス加工処理での反射防止フィルム１１ａの搬送路を示す概略図である。なお、図３〜図７において、図１と同様の部材、装置については図１と同じ符号を付し、説明を略する。また、符号３９は、搬送用のローラを示しているが、これは、必要性に鑑みて適宜設置すればよいものである。
【００６４】
最も一般的な経路は、図３に示すように、エンボスローラ２２とバックアップローラ２３とのプレス部に対し入出角度をつけずに反射防止フィルム１１ａを誘導する経路である。また、プレスに先立って反射防止フィルム１１ａを予熱したい場合には、図４に示すように、エンボスローラ２２にラップさせてからプレス部に誘導する経路を採用するとよい。一方、反射防止フィルム１１ａをプレスに先立って冷却したい場合には、図５に示すように、冷却したバックアップローラ２３にラップさせてからプレス部に誘導する経路を採用するとよい。
【００６５】
プレス部の出口側についても同様の経路が考えられ、加熱時間を長く取りたい場合には、図６に示すように、プレス部出口よりエンボスローラ２２にラップさせる経路を採用することができ、また、プレス直後に冷却したい場合には、図７に示すように、バックアップローラ２３にラップさせる経路がそれぞれ採用できる。
【００６６】
以上のように、エンボスローラ２２とバックアップローラ２３に対するポリマーフィルムの基本搬送パスは５通りあるが、図３に示すように、入口、出口ともにラップさせない方法が好ましく、図４に示すように入口でエンボスローラ２２にラップさせ、出口はいずれのローラにもラップさせない方法がさらに好ましく、図４と図７の組み合わせである先の図１に示したような、入口でエンボスローラ２２にラップさせ、出口で、冷却したバックアップローラ２３にラップさせる方法が最も好ましい。それぞれのローラ２２，２３にラップさせる角度は、ポリマーフィルムの例えば厚みや、弾性率、伝熱係数、表面粗さ等のフィルム特性と、例えばローラ径や、温度、伝熱係数、表面粗さ等のローラ特性、ならびに、搬送速度やテンション等の搬送条件等によって適宜決定する。
【００６７】
［反射防止フィルムの形成］
図８〜１０は、本発明におけるエンボス加工を施した後の防眩性反射防止フィルム１１ｂを示す断面図である。防眩性反射防止フィルム１１ｂは、その使用目的によって、様々な層構造とされる。図８に示す態様は、最下層から順に、透明支持体４１、プライマー層４２、ハードコート層４３、そして低屈折率層４４の順序の層構成を有する。図９に示す態様は、最下層から順に、透明支持体４１、プライマー層４２、ハードコート層４３、高屈折率層５０、そして低屈折率層４４の順序の層構成を有する。図１０に示す態様は、最下層から順に、透明支持体４１、プライマー層４２、ハードコート層４３、中屈折率層５５、高屈折率層５０、そして低屈折率層４４の順序の層構成を有する。
【００６８】
図８〜１０の透明支持体４１、プライマー層４２、ハードコート層４３からなる積層部は、図１における積層部３１に対応し、また、それ以外の低屈折率層４４、高屈折率層５０、中屈折率層５５の少なくとも１層から構成される単一層または複層が反射防止層３２に対応している。図８〜１０に示すように、いずれの層構造の防眩性反射防止フィルム１１ｂにおいても、エンボス加工による変形がそれぞれのプライマー層４２に集中しており、ハードコート層４３や反射防止層３２は、厚みがほぼ均一である。支持体は若干変形する。
【００６９】
図８〜１０に示すように、本発明において、防眩性反射防止フィルム１１ｂは、特許文献２に記載されているように、中屈折率層５５、高屈折率層５０、低屈折率層４４のそれぞれの層の光学厚み、すなわち屈折率ｎと膜厚ｄの積（ｎ・ｄ）が、設計波長λに対してｎλ／４前後、またはその倍数であることが好ましい。
【００７０】
しかしながら、低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率特性を実現するためには、特に設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層５５が下式（Ｉ）を、高屈折率層５０が下式（ＩＩ）を、低屈折率層４４が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足する必要がある。なお、下記の式中において、ｎ１、ｎ２、ｎ３はそれぞれ中屈折率層５５、高屈折率層５０、低屈折率層４４の屈折率を表し、ｄ１、ｄ２、ｄ３はそれぞれ中屈折率層５５、高屈折率層５０、低屈折率層４４の層厚み（ｎｍ）を表す。
１００．００＜（ｎ１・ｄ１）＜１２５．００          （Ｉ）
１８７．５０＜（ｎ２・ｄ２）＜２３７．５０          （ＩＩ）
１１８．７５＜（ｎ３・ｄ３）＜１３１．２５          （ＩＩＩ）
【００７１】
さらに、例えばセルローストリアセテート（ＴＡＣ）（屈折率：１．４９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明支持体４１に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要がある。また、ポリエチレンテレフタレート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が１．５５〜１．６５の透明支持体４１に対しては、ｎ１は１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要がある。
【００７２】
上記のような屈折率を有する中屈折率層５５や高屈折率層５０の素材が選択できない場合には、等価膜の原理を用いて、所定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層とを複数層組み合わせ、実質的に所定屈折率の中屈折率層５５あるいは高屈折率層５０と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも適用することができる。また、本発明では、このように等価膜を用いた３層以上の任意の積層構造を有する反射防止層３２を含む。
【００７３】
本発明において、透明支持体４１としては、ポリマーフィルムを用いることが好ましい。ポリマーフィルムの例としては、セルロースエステル（例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリー１，４ーシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンー１，２ージフェノキシエタンー４，４’ージカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等）、ポリスチレン（例えば、シンジオタクチックポリスチレン等）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。
【００７４】
特に、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いるために、本発明の防眩性反射防止フィルム１１ｂを反射防止フィルムとして偏光板の表面保護フィルムの片側に用いる場合には、セルローストリアセテートが好ましく用いられる。セルローストリアセテートフィルムの作成法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合には、ポリエチレンテレフタレート、あるいはポリエチレンナフタレートを用いることが好ましい。
【００７５】
透明支持体４１の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体４１のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体４１の屈折率は、１．４以上１．７以下であることが好ましい。
【００７６】
中屈折率層５５および高屈折率層５０は、屈折率の高い微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマ−、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化によって形成される。前記微粒子としては、高屈折率の無機微粒子がより好ましく、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物からなるものが好ましい。このようにして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８  Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
【００７７】
上記微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１ｎｍより大きく１００ｎｍ未満であることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好ましくない。１００ｎｍ以上では、バインダとの屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折率層５０および中屈折率層５５のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。
【００７８】
本発明の低屈折率層４４を形成する材料について以下に説明する。本発明の低屈折率層４４としては、例えば、低屈折率材料、中でもＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ２  （ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３  （ｎ＝１．４）、ＡｌＦ３  （ｎ＝１．４）、Ｎａ３  ＡｌＦ６  （ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ２  （ｎ＝１．４５）等の低屈折率の無機材料が好ましく、あるいはこれらを微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた材料、フッ素系、シリコーン系の有機材料等を用いることができる。これらの中でも本発明では特に熱または電離放射線により硬化する含フッ素化合物を用いることが好ましい。該硬化物の動摩擦係数は好ましくは０．０２〜０．１８、より好ましくは０．０３〜０．１５、純水に対する接触角は好ましくは９０〜１３０度、より好ましくは１００〜１２０度である。動摩擦係数が高いと、表面を擦った時に傷つきやすくなり、好ましくない。また、純水に対する接触角が小さいと指紋や油汚れ等が付着しやすくなるため、防汚性の観点で好ましくない。また本発明において、低屈折率層４４には膜強度向上を目的として適宜シリカ粒子等のフィラーを添加しても良い。
【００７９】
低屈折率層４４に用いられる硬化性の含フッ素化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロー１，１，２，２ーテトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００８０】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロー２，２ージメチルー１，３ージオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００８１】
硬化反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己硬化性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の硬化反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【００８２】
また、上記含フッ素モノマー単位、硬化反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００８３】
上記のポリマーに対しては特開平８−９２３２３号公報、同１０−２５３８８号公報、同１０−１４７７３９号公報、同１２−１７０２８号公報に記載されているように、適宜、硬化剤を併用しても良い。特に、ポリマーの硬化反応性基が水酸基、カルボキシル基のような単独で硬化反応性を持たない基の場合には、硬化剤を併用することが必要である。硬化剤としては、例えば、ポリイソシアネート系、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物などを挙げることができる。一方、硬化反応性基が自己硬化反応性の基である場合には、特に硬化剤を添加しなくても良いが、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物等種々の硬化剤を適宜併用することもできる。
【００８４】
本発明において、低屈折率層４４に特に有用な含フッ素共重合体は、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５モル％以上７０モル％以下を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０モル％以上６０モル％以下の場合である。
【００８５】
また、本発明において、含フッ素ポリマーには、防汚性を付与する目的でポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが、例えば特開平１１−１８９６２１号公報、同１１−２２８６３１号公報、特開２０００−３１３７０９号公報に記載されるように、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法や、特開平２−２５１５５５号公報、同２−３０８８０６号公報に記載されているようにシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらの場合、ポリシロキサン成分はポリマー中の０．  ５質量％ないし１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１質量％ないし５質量％の場合である。
【００８６】
防汚性の付与に対しては、上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン（例えば、商品名；ＫＦ−１００Ｔ，Ｘ−２２−１６９ＡＳ，ＫＦ−１０２，Ｘ−２２−３７０１ＩＥ，Ｘ−２２−１６４Ｂ，Ｘ−２２−５００２，Ｘ−２２−１７３Ｂ，Ｘ−２２−１７４Ｄ，Ｘ−２２−１６７Ｂ，Ｘ−２２−１６１ＡＳ、以上信越化学工業（株）製、商品名；ＡＫ−５，ＡＫ−３０，ＡＫ−３２、以上東亜合成（株）製、商品名；サイラプレーンＦＭ０２７５，サイラプレーンＦＭ０７２１、以上チッソ（株）製等）を添加する手段も好ましい。この際、これらのポリシロキサンは、低屈折率層４４の全固形分の０．  ５質量％以上１０質量％以下の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１質量％以上５質量％以下の場合である。
【００８７】
本発明において、低屈折率層４４では、市販の含フッ素化合物として、例えば、ＴＥＦＲＯＮ（登録商標）    ＡＦ１６００（デュポン社製    屈折率ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製    ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製    ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２（ＪＳＲ（株）社製ｎ＝１．４０）、オプスターＪＮ−７２２８（ＪＳＲ（株）社製    ｎ＝１．４２）、ＬＲ２０１（日産化学工業（株）社製    ｎ＝１．３８）（いずれも商品名）等を利用することもできる。
【００８８】
プライマー層４２には、（メタ）アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリエステルが好ましく用いられる。使用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えば、（メタ）アクリル系ポリマーでは、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルアクリレート、（メタ）ウレタンアクリレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルを挙げることができる。また、スチレン系ポリマ−では、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンを例示することができ、ポリエステルでは、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールと無水フタル酸、フタル酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、マレイン酸等との縮合物等が挙げられる。
【００８９】
ポリマーの分子量（または重合度）は、ポリマーのガラス転移温度を考慮して決定する。プライマー層４２に含まれるポリマーのガラス転移温度や、透明支持体４１のガラス転移温度は、エンボス加工の処理温度より低いことが好ましく、６０℃ないし１３０℃であることがさらに好ましい。また、プライマー層４２の厚さとしては０．１μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．１μｍ以上２０μｍ以下の範囲である。
【００９０】
常温においては、プライマー層４２は透明支持体４１より高い圧縮弾性率を有する。プライマー層４２の常温における圧縮弾性率としては、好ましくは３ＧＰａ以上８ＧＰａ以下の範囲であり、さらに好ましくは４ＧＰａ以上７ＧＰａ以下の範囲である。透明支持体４１の常温における圧縮弾性率との差は０．１ＧＰａ以上５ＧＰａ以下の範囲が好ましく、０．２ＧＰａ以上４ＧＰａ以下がより好ましい。
【００９１】
エンボス加工温度Ｔ℃における圧縮弾性率については、プライマー層４２はハードコート層４３より低いことが好ましい。プライマー層４２とハードコート層４３とのＴ℃における圧縮弾性率の差は、０．１ＧＰａ以上８ＧＰａ以下が好ましく、０．５以上７．５ＧＰａ以下がより好ましい。本発明においては、プライマー層４２を設けることで高精細モードの液晶表示装置においても輝度バラツキ、即ちギラツキを低減させることができるほか、表面硬度を向上させることができる。
【００９２】
プライマー層４２には、上記の各種ポリマーと他のポリマーや粒子を併用してもよい。また、架橋構造を有していても良い。ほかのポリマーと粒子の例には、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアルギン酸およびその塩、セルロースエステル（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリエーテルケトン、多価アルコール、シリカ粒子およびアルミナ粒子が含まれる。
【００９３】
架橋構造を得るためには、二つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３ーシクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン等）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。
【００９４】
二つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わり、またはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造を導入してもよい。架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基を挙げることができ、ヒドラジンアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン等も、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。ここでの架橋基とは、上記化合物に限らず、上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。
【００９５】
プライマー層４２は、溶剤中にポリマーおよびまたはモノマー、重合開始剤を溶解し、塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成することが好ましい。重合開始剤については、ベンゾフェノン系等の水素引き抜き型、アセトフェノン系、トリアジン系等のラジカル開列型を単独あるいは併用してモノマーと共に塗布液に添加するのが好ましい。
【００９６】
プライマー層４２は、透明支持体４１とその上の層との接着を強化する機能を有する。接着強化については、モノマーを用いることがより好ましい。ポリマーとモノマーの含有量比は、ポリマー：モノマー＝（７５〜２５）：（２５〜７５）の重量比であることが好ましく、より好ましくはポリマー：モノマー＝（６５〜３５）：（３５〜６５）の重量比である。
【００９７】
本発明の反射防止フィルムの製造方法において、ハードコート層４３は、透明支持体４１に耐傷性を付与するために設けられている。ハードコート層４３は、透明支持体４１とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層４３は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してもよい。
【００９８】
ハードコート層４３に用いる材料としては、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましく、架橋構造を有していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているポリマーを得るためには、二つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００９９】
二つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。
【０１００】
二つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造を導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジンアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン等も、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用することができる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、ここでの架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。
【０１０１】
ハードコート層４３は、溶剤中にモノマーおよび重合開始剤を溶解し、塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成することが好ましい。重合開始剤については、ベンゾフェノン系等の水素引き抜き型、アセトフェノン系、トリアジン系等のラジカル開列型を単独であるいは複数を併用してモノマーと共に塗布液に添加するのが好ましい。ハードコート層の塗布液に、少量のポリマー（例：ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。
【０１０２】
ハードコート層４３の厚みとしては０．５μｍ以上５μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下の範囲である。このようなハードコート層４３の厚さは、エンボス処理の適性に大きく影響する。即ち、ハードコート層４３が厚すぎるとエンボス適性を低下し、同じエンボス処理を行っても必要とする粗さを得ることができない。本発明に用いる反射防止フィルム１１では、薄くしたハードコート層４３の硬さを、高い表面弾性率のプライマー層４２でカバーしている。さらに、本発明におけては、防眩性反射防止フィルム１１ｂには、さらに、防湿層、帯電防止層や保護層を設けてもよい。
【０１０３】
防眩性が付与される前の反射防止フィルム１１ａの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）等の塗布により形成することができる。ウェット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくすという観点では、マイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点では、特にグラビア法が好ましい。また、２層以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１０４】
また、本発明の製造方法における防眩性反射防止フィルム１１ｂを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体４１の反射防止層３２が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが必要である。アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。
【０１０５】
ひとつの方法は、透明支持体４１の上に反射防止層３２を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、フィルムの裏面を鹸化処理する方法であり、２つめの方法は、透明支持体４１の上に反射防止層３２を形成する前または後に、アルカリ液を反射防止層３２を形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、フィルムの裏面だけを鹸化処理するというものである。
【０１０６】
汎用のセルローストリアセテートフィルムと同一の工程で処理できる点では前者の方法が優れているが、反射防止フィルム面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、後者の方法が優れる。
【０１０７】
本発明の製造方法における反射防止フィルム１１は、これを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。また、液晶表示装置の視野角を改良する視野角拡大フィルムなどの光学補償フィルム、位相差板等を組み合わせて使用することもできる。また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
【０１０８】
また、λ／４板と組み合わせることで、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減する目的で用いることができる。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。
【０１０９】
【実施例】
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（プライマー層用塗布液Ａの調整）
重量平均分子量２５０，０００のメタクリル酸メチル樹脂２００質量部を４８０質量部のメチルエチルケトンと３２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液を、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してプライマー層４２用塗布液Ａを調製した。
【０１１０】
（プライマー層用塗布液Ｂの調整）
重量平均分子量４４０，０００のアリルメタクリレート−メタクリル酸共重合体樹脂１００質量部を９００質量部のメチルイソブチルケトンに溶解した。得られた溶液を、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してプライマー層４２用塗布液Ｂを調製した。
【０１１１】
（ハードコート層用塗布液の調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０質量部のＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２  ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層４３用塗布液を調製した。
【０１１２】
（二酸化チタン分散物Ｃの調製）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）３００質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、（株）興人製）１０質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤（商品名；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＭ−２１、日本化薬（株）製）６０質量部およびシクロヘキサノン６３０質量部を、サンドグラインダによって、コールター法で測定した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物Ｃを調製した。
【０１１３】
（二酸化チタン分散物Ｄの調製）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）２５０ｇ、化１で示される架橋反応性基含有アニオン性ポリマーを３７．５ｇ、カチオン性モノマー（ＤＭＡＥＡ、（株）興人製）を２．５ｇ、およびシクロヘキサノンを７１０ｇ混合して、ダイノミルにより分散し、重量平均径６５ｎｍの二酸化チタン分散液Ｄを調整した。
【０１１４】
【化１】
2004333936.tif 000003
【０１１５】
（中屈折率層用塗布液の調製）
シクロヘキサノン７５０質量部およびメチルエチルケトン１９０質量部に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．１質量部および光増感剤（商品名；カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量部を溶解した。さらに、３１質量部の二酸化チタン分散物Ｃ質量部と、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２１質量部とを加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、中屈折率層５５用塗布液を調製した。
【０１１６】
（高屈折率層用塗布液の調製）
シクロヘキサノン５４０質量部およびメチルエチルケトン１８０質量部に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．３質量部および光増感剤（商品名；カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量部を溶解した。さらに、２６４質量部の二酸化チタン分散物Ｄと、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１６質量部とを加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層５０用塗布液を調製した。
【０１１７】
（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）
化２で示される含フッ素共重合体を下記の方法で合成した後、シクロヘキサノン１９３重量部およびメチルエチルケトン６２３重量部に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．７重量部および反応性シリコーン（商品名；Ｘ−２２−１６４Ｂ、信越化学工業（株）製）１．７重量部を溶解した。さらに、化２で示される含フッ素共重合体ＰＦ１の１８．４重量パーセントのメチルイソブチルケトン溶液１８２重量部を添加、撹拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、低屈折率層４４用塗布液Ｅを調製した
【０１１８】
【化２】
2004333936.tif 000004
【０１１９】
化２で示される含フッ素共重合体ＰＦ１の合成を以下に説明する。内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらに、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇを、オートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４×１０５  Ｐａであった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２×１０５  Ｐａに達した時点で加熱をやめて放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。
【０１２０】
得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらに、このポリマーを少量の酢酸エチルに溶解して、ヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥した後、ポリマー２８ｇを得た。次に、このポリマーの２０ｇをＮ，  Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解し、氷冷下でアクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗し、有機層を抽出した後に濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより化２の含フッ素共重合体ＰＦ１を１９ｇ得た。得られた含フッ素共重合体ＰＦ１の数平均分子量は３．１万であり、屈折率は１．４２１であった。
【０１２１】
（低屈折率層用塗布液Ｆの調製）
化３で示される含フッ素共重合体ＰＦ２を下記の方法で合成した後、シクロヘキサノン１９３重量部およびメチルエチルケトン６２３重量部に、光重合開始剤（商品名；ＵＶＩ１６９９０、ユニオンカーバイト社製）３．４重量部および反応性シリコーン（商品名；Ｘ−２２−１６９ＡＳ、信越化学工業（株）製）３．４重量部を溶解した。さらに、化３で示される含フッ素共重合体ＰＦ２の１８．４重量パーセントのメチルイソブチルケトン溶液１８２重量部を添加、撹拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、低屈折率層４４用塗布液Ｆを調製した
【０１２２】
【化３】
2004333936.tif 000005
【０１２３】
化３に示される含フッ素共重合体ＰＦ２の合成方法を以下に説明する。内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル３０ｍｌ、グリシジルビニルエーテル１１．５ｇおよび過酸化ジラウロイル０．４２ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらに、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２１ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は６．２×１０５  Ｐａであった。この温度を保持して８時間反応を続け、圧力が３．６×１０５  Ｐａに達した時点で加熱をやめて放冷した。
【０１２４】
室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらに、このポリマーを少量の酢酸エチルに溶解して、ヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥した後、含フッ素共重合体ＰＦ２を２１ｇ得た。得られた含フッ素共重合体ＰＦ２の数平均分子量は２．８万であり、屈折率は１．  ４２４であった。
【０１２５】
（エンボスローラ２２Ａの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールを放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）２５μｍのエンボス版Ａを得た。放電加工は、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、放電加工機（型式；型彫放電加工機ＥＡ８型、三菱電機社製）を用いて、厚み０．５ｍｍの銅電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖの条件とした。なお、表面の硬度は３００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。
【０１２６】
（エンボスローラ２２Ｂの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面を、メッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。次に、エンボスローラ２２Ａと同様の条件で放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．６μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１３μｍ、表面硬度９００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｂを得た。
【０１２７】
（エンボスローラ２２Ｃの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をカニゼンメッキ処理（日本カニゼン株式会社）して３０μｍ厚のメッキ層を得た。続いて、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、厚み２ｍｍの真鍮電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖで実施した。算術平均粗さ（Ｒａ）０．４μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）２０μｍ、表面硬度５００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｃを得た。
【０１２８】
（エンボスローラ２２Ｄの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をカニゼンメッキ処理（日本カニゼン株式会社）して、３０μｍ厚のメッキ層を得た後に４００℃で熱処理した。続いて、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、厚み２ｍｍの真鍮電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖで実施した。算術平均粗さ（Ｒａ）０．４μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１８μｍ、表面硬度９００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｃを得た。
【０１２９】
（エンボスローラ２２Ｅの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をカニボロンメッキ処理（日本カニゼン株式会社）し、３０μｍ厚のメッキ層を得た後に４００℃で熱処理した。続いて、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、厚み２ｍｍの真鍮電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖで実施した。算術平均粗さ（Ｒａ）０．５μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１５μｍ、表面硬度９５０Ｈｖのエンボスローラ２２Ｃを得た。
【０１３０】
（エンボスローラ２２Ｆの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、電源のスイッチングにより、２μｓ周期のパルス放電した以外はエンボスローラ２２Ｂと同様の条件で放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）３５μｍ、表面硬度９００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｆを得た。
【０１３１】
（エンボスローラ２２Ｇの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、プラス放電した以外はエンボスローラ２２Ｂと同様の条件で放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．８μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）４２μｍ、表面硬度９００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｇを得た。
【０１３２】
（エンボスローラ２２Ｈの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、グラファイト粒子を添加しなかった以外はエンボスローラ２２Ｂと同様の条件で放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．４μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）２３μｍ、表面硬度９００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｈを得た。
【０１３３】
（エンボスローラ２２Ｉの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、グラファイトを平均粒径７μｍのシリコン粒子に換えた以外はエンボスローラ２２Ｂと同様の条件で放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．６μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１５μｍ、表面硬度９００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｉを得た。
【０１３４】
（エンボスローラ２２Ｊの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、電圧を７０Ｖに下げた以外はエンボスローラ２２Ｂと同様の条件で放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．１μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１２μｍ、表面硬度９００Ｈｖのエンボスローラ２２Ｊを得た。
【０１３５】
〔実施例１−１〕
厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフイルム（商品名；ＴＡＣ−  ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）の片面に、エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、線圧５．００×１０３  Ｎ／ｃｍ、プレ加熱温度を常温、エンボスローラ２２の温度を１２０℃、バックアップローラ２３を常温、搬送速度１ｍ／分の条件で、上記エンボスローラ２２と版加工していない同一構造のバックアップローラ２３とでプレス操作を行い、防眩性フィルム試料１を作製した。なおここで用いたエンボス版は、上記のように作成したエンボスローラ２２Ｈである。
【０１３６】
〔実施例１−２〕
厚さ１００μｍのポリカーボネートフイルム（商品名；ピュアエース、帝人（株）製）の片面に、上記実施例１−１と同様にエンボス加工し、防眩性フィルム試料２を作製した。
【０１３７】
〔実施例１−３〕
エンボス版を、上記エンボスローラ２２Ｆとした他は、実施例１−２と同様に実施した。
【０１３８】
〔実施例１−４〕
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（商品名；ＴＡＣ−  ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記のハードコート層４３用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗膜を硬化させ、ハードコート層４３（屈折率：１．５１、膜厚：７μｍ）を設けた。
【０１３９】
続いて、上記の中屈折率層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗膜を硬化させ、中屈折率層５５（屈折率：１．６３、膜厚：６７ｎｍ）を設けた。
【０１４０】
中屈折率層５５の上に、高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗膜を硬化させ、高屈折率層５０（屈折率：１．９０、膜厚：１０７ｎｍ）を設けた。
【０１４１】
さらに高屈折率層５０の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ｅをグラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃で８分間、塗膜を硬化させ、低屈折率層４４（屈折率：１．４３、膜厚：８６ｎｍ）を設けた。このようにして反射防止フィルム１１ａを作製した。
【０１４２】
得られた反射防止フィルム１１ａの片面に、エンボスローラ２２Ｈを設置したエンボシングカレンダ装置１３（由利ロール（株）製）を用いて、線圧５．００×１０３  Ｎ／ｃｍ、プレ加熱温度９０℃、エンボスローラ２２の温度を１６０℃、バックアップローラ２３を常温、搬送速度１ｍ／分の条件で、上記エンボスローラ２２と版加工していない同一構造のバックアップローラ２３とでプレス操作を行い、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料４を作製した。
【０１４３】
〔実施例１−５〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ａとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料５を作製した。
【０１４４】
〔実施例１−６〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ｂとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料６を作製した。
【０１４５】
〔実施例１−７〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ｃとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料７を作製した。
【０１４６】
〔実施例１−８〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ｄとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料８を作製した。
【０１４７】
〔実施例１−９〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ｅとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料９を作製した。
【０１４８】
〔実施例１−１０〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ｉとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１０を作製した。
【０１４９】
〔実施例１−１１〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ｇとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１１を作製した。
【０１５０】
〔実施例１−１２〕
エンボスローラ２２を、上記で作成したエンボスローラ２２Ｊとした他は、実施例１−４と同様に実施して、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１２を作製した。
【０１５１】
実施例１−１〜１２にて得られた各試料に関し、以下の項目及び方法で評価を実施した。各評価結果については表１に示している。
（１）平均反射率（単位；％）
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定して、このデータから４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率を算出し、この値をもって反射防止性の評価とした。
【０１５２】
（２）算術平均粗さ（Ｒａ）
エンボス加工したフイルム面をマイクロマップ機（（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製）を用いて測定した。
【０１５３】
（３）鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてＪＩＳ  Ｋ  ５４００による鉛筆硬度評価を行った。各試料１〜１１を、温度２５℃、相対湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定するＨ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とした。
５回の試験において傷なし〜傷１つ        ：ＯＫ
５回の試験において傷が３つ以上          ：ＮＧ
【０１５４】
（４）スチールウール擦り耐性の評価
♯００００のスチールウールを各試料１〜１１に載せて、スチールウールに１．９６Ｎ／ｃｍ２  の荷重をかけ、１０往復した後の傷の状態を観察して、以下の４段階で評価した。
◎：傷が全く付かなかったもの
○：殆ど見えない傷が少しついたもの
△：明確に見える傷が付いたもの
×：明確に見える傷が顕著に付いたもの
【０１５５】
（５）ギラツキ評価
得られた試料１〜１１を、それぞれ、１３３ｐｐｉ（１３３ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）に模したセル上、距離１ｍｍの位置に乗せ、ギラツキ（防眩性フイルムの表面凸部が起因の輝度バラツキ）の程度を、以下の基準で目視評価した。
全くギラツキが見られない              ：◎
ほとんどギラツキが見られない          ：○
わずかにギラツキがある                ：△
不快なギラツキがある                  ：×
【０１５６】
（６）防眩性評価
得られた各試料１〜１１に、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２  ）を映し、各試料上に映った蛍光灯の反射像のボケの程度を以下の基準で目視評価した。
蛍光灯がぼけている（防眩性あり）            ：○
蛍光灯がほとんどぼけない（防眩性不足）      ：×
【０１５７】
（７）質感
エンボス加工した防眩性フイルムの質感について定性評価を実施した。１０ｃｍ四方のガラス板の両面に偏光フィルムをクロスニコルス配置で貼り合わせ、さらに片面にエンボス面を上にして得られた試料１〜１２をそれぞれ貼り付けた。１００Ｗの白色電球から２ｍ離した位置でエンボス面を観察し、それぞれの質感について以下のランク付けを行った。
反射光の強度が視覚的にばらついており、ざらざらした質感である：ランク５
反射光の強度が視覚的に均一で、しっとりした質感である        ：ランク１
予めランク５と１の両極端を定め、この間のランクは相対評価した。
【０１５８】
【表１】
2004333936.tif 000006
【０１５９】
本発明による放電加工条件で作製したエンボスローラを用いてエンボス加工した試料１、２、４〜１０については、算術平均粗さが高く、良好な防眩性とギラツキ抑制が得られた。一方、試料３、１１、１２については、液晶格子がギラツイて見えたり、十分な防眩性が得られないなど、高品位画像表示用の光学フイルムとして満足できないレベルであった。また、質感については、しっとりしたランク１から多少ザラツキ感があるランク３まで、版の表面材質を変えることで種々の質感が得られ、テレビ用途など画面の質感が商品価値に大きく影響する場合にも、様々な嗜好に対応できることが示唆された。
【０１６０】
〔実施例２−１〕
８０μｍの厚さのセルローストリアセテートフィルム（商品名；ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製、）に、上記のプライマー層用塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。その後、この塗膜に紫外線を照射して硬化させ、プライマー層４２を設けた。このプライマー層４２の厚みは７μｍであり、屈折率は１．５１であった。
【０１６１】
プライマー層４２の上に、上記のハードコート層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、この塗布層を硬化させ、ハードコート層４３を設けた。ハードコート層４３の厚みは７μｍであり、屈折率は１．５１であった。
【０１６２】
続いて、上記の中屈折率層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射してこの塗布層を硬化させ、中屈折率層５５を設けた。中屈折率層５５の厚みは６７ｎｍであり、屈折率は１．６３であった。
【０１６３】
中屈折率層５５の上に、上記の高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射してこの塗布層を硬化させ、高屈折率層５０を設けた。高屈折率層５０の厚みは１０７ｎｍであり、屈折率は１．９０である。
【０１６４】
さらに、高屈折率層５０の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ｆをグラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃で８分間乾燥した後、紫外線を照射してこの塗布層を硬化させ、低屈折率層４４を形成した。このようにして反射防止フィルム１１ａを作製した。なお、低屈折率層４４の膜厚は８６ｎｍであり、屈折率は１．４３である。
【０１６５】
上記の反射防止フィルムの片面に、エンボスローラ２２Ａをセットしたエンボシングカレンダ装置１５（由利ロール（株）製）を用いて、線圧５．００×１０３  Ｎ／ｃｍ、プレ加熱温度７０℃、エンボスローラ２２の温度を１４０℃、バックアップローラ２３を常温、搬送速度を５ｍ／分として、プレスを行い、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１３を作製した。
【０１６６】
〔実施例２−２〕
エンボスローラ２２Ａをエンボスローラ２２Ｂに代えた他は、実施例２−１と同様に実施し、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１４を得た。
【０１６７】
〔実施例２−３〕
エンボスローラ２２Ａをエンボスローラ２２Ｆに代えた他は、実施例２−１と同様に実施し、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１５を得た。
【０１６８】
〔実施例２−４〕
エンボスローラ２２Ａをエンボスローラ２２Ｊに代えた他は、実施例２−１と同様に実施し、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１６を得た。
【０１６９】
〔実施例２−５〕
８０μｍの厚さのセルローストリアセテートフィルム（商品名；ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製、）に、上記のプライマー層用塗布液Ｂを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。その後、この塗膜に紫外線を照射して硬化させ、プライマー層４２を設けた。このプライマー層４２の厚みは７μｍであり、屈折率は１．５１であった。
【０１７０】
プライマー層４２の上に、上記のハードコート層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、この塗布層を硬化させ、ハードコート層４３を設けた。ハードコート層４３の厚みは７μｍであり、屈折率は１．５１であった。
【０１７１】
続いて、上記の中屈折率層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射してこの塗布層を硬化させ、中屈折率層５５を設けた。中屈折率層５５の膜厚は６７ｎｍであり、屈折率は１．６３であった。
【０１７２】
中屈折率層５５の上に、上記の高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射してこの塗布層を硬化させ、高屈折率層５０を設けた。高屈折率層５０の厚みは１０７ｎｍであり、屈折率は１．９０であった。
【０１７３】
さらに、高屈折率層５０の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ｆをグラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃で８分間乾燥した後、紫外線を照射してこの塗布層を硬化させ、低屈折率層４４を形成した。このようにして反射防止フィルム１１ａを作製した。なお、低屈折率層４４の膜厚は８６ｎｍであり、屈折率は１．４３である。
【０１７４】
上記の反射防止フィルムの片面に、エンボスローラ２２Ｃをセットしたエンボシングカレンダ装置１５（由利ロール（株）製）を用いて、線圧５．００×１０３  Ｎ／ｃｍ、プレ加熱温度６０℃、エンボスローラ２２の温度を１４０℃、バックアップローラ２３を常温、搬送速度を３ｍ／分として、上記エンボスローラ２２と版加工していない同一構造のバックアップローラ２３とでプレスを行いエンボスパターンを形成し、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１７を作製した。
【０１７５】
〔実施例２−６〕
エンボスローラ２２Ｃをエンボスローラ２２Ｅに代えた他は、実施例２−５と同様に実施し、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１８を得た。
【０１７６】
〔実施例２−７〕
エンボスローラ２２Ｃをエンボスローラ２２Ｈに代えた他は、実施例２−５と同様に実施し、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料１９を得た。
【０１７７】
〔実施例２−８〕
エンボスローラ２２Ｃをエンボスローラ２２Ｇに代えた他は、実施例２−５と同様に実施し、防眩性反射防止フィルム１１ｂの試料２０を得た。
【０１７８】
実施例２−１〜８にて得られた各試料に関し、実施例１−１〜１２と同様の項目及び方法で評価を実施した。各評価結果については表２に示しており、表２中の記載方法は、表１におけるそれと同様である。
【０１７９】
【表２】
2004333936.tif 000007
【０１８０】
透明樹脂フイルム上に塗設されたプライマー層、ハードコート層、反射防止層の構成に対しても、本発明による放電加工条件で作製したエンボスローラを用いてエンボス加工した試料１３、１４、１７〜１９については、算術平均粗さが高く、良好な防眩性とギラツキ抑制が得られた。一方、本発明による放電加工条件外で作成した版を用いた試料１５、１６、２０については、液晶格子がギラツイて見えたり、十分な防眩性が得られないなど、高品位画像表示用の光学フイルムとして満足できないレベルであった。また、質感についても、しっとりしたランク１から多少ザラツキ感があるランク３まで、版の表面材質を変えることで種々の質感が得られ、テレビ用途など画面の質感が商品価値に大きく影響する場合にも、様々な嗜好に対応できることが示唆された。また、試料１３〜２０については、エンボス加工速度が速い条件においても、好ましい防眩性を付与することができた。
【０１８１】
〔実施例３〕
実施例１−７で作成した試料７の防眩性反射防止フィルム１１ｂを、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬することにより、防眩性反射防止フィルム１１ｂの裏面のトリアセチルセルロース面をけん化処理した。また、同条件により、厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をけん化処理した。これら２つのフィルムを保護フィルムとして、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させてこれをすることにより作成された偏光子の両面の、互いに異なる面に接着し、偏光板を作成した。この偏光板を、透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤーＢＥＦを、バックライトと液晶セルとの間に有するもの）の視認側の偏光板と貼り代えた。このとき、反射板は、その反射防止膜側が最表面となるようにした。得られた液晶表示装置は、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位が非常に高いものであった。
【０１８２】
〔実施例４〕
けん化処理に関して、１．０規定のＫＯＨの水／イソプロパノール溶液を＃３バーにて防眩性反射防止フィルム１１ｂの裏面に塗布し、塗布層表面温度を４０℃として１０秒間維持した後に水洗、乾燥して行った。この他の条件は、実施例３と同様にして偏光板を作成した。なお、ここで、水／イソプロパノール溶液は、水：イソプロパノール＝７５：２５（質量％）とした。このた偏光板を用いることにより、実施例３と同様にして液晶表示装置を得たところ、実施例３と同様、表示品位の高い表示装置が得られた。
【０１８３】
〔実施例５〕
実施例３における透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムを視野角拡大フィルム（ワイドビュ−フイルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）に代えた。また、そのバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムを視野角拡大フィルム（ワイドビュ−フイルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）に代えた。この視野角拡大フィルムは、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つそのディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有するものである。明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【０１８４】
〔実施例６〕
実施例１−７で作成した試料７の防眩性反射防止フィルム１１ｂを、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせた。得られた表示装置は、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高いものであった。
【０１８５】
〔実施例７〕
実施例３で作成した片面反射防止フイルム付き偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けた。得られた表示装置は、表面反射、および表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示を示した。
【０１８６】
〔実施例８〕
実施例２−２で作成した試料１４を、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルム裏面のセルローストリアセテート面をけん化処理した。また、厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を、同条件でけん化処理した。これら２つのフィルムを保護フィルムとして、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ延伸して作成した偏光子の両面に接着し、偏光板を作成した。得られた偏光板を、透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フイルムである住友３Ｍ（株）製のＤーＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えた。このとき、反射防止層側が最表面となるようにした。得られた表示装置は、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高いものであった。
【０１８７】
〔実施例９〕
けん化処理を、１．０規定のＫＯＨの水／イソプロパノール溶液を＃３バーにて防眩性フィルムの裏面に塗布し、膜面温度４０℃にて１０秒間維持した後に水洗、乾燥して行い、このほかの条件は、実施例３と同様に実施して偏光板を作成した。なお、ここで水／イソプロパノール溶液は、水：イソプロパノール＝７５：２５（質量％）とした。この偏光板を用いることにより、実施例３と同様にして液晶表示装置を得たところ、実施例３と同様、表示品位の高い表示装置が得られた。
【０１８８】
〔実施例１０〕
実施例８における透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フイルムを、視野角拡大フィルムに代えた。また、そのバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムを、視野角拡大フィルムに代えた。いずれの視野角拡大フィルムも、富士写真フイルム（株）製ワイドビュ−フイルムＳＡ−１２Ｂであり、これは、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ、該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有するものである。得られた表示装置は、明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高いものであった。
【０１８９】
〔実施例１１〕
実施例２−５による試料１７を、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に、粘着剤を介して貼り合わせた。得られた表示装置は、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高いものであった。
【０１９０】
〔実施例１２〕
実施例３で作成した片面反射防止フィルム付き偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けた。得られた表示装置は、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性のものであった。
【０１９１】
【発明の効果】
以上のように、本発明により、エンボス加工効率が向上し、優れた防眩フイルムを得ることができる。つまり、透明樹脂フィルムの表面のホットエンボス加工においては、放電加工で表面加工したエンボス版を用いることによって、優れた防眩性フィルムを得ることができる。また、エンボス版の材質や表面処理方法の組み合わせよって、多様なフィルム表面の質感を作り出すことが可能となる。
【０１９２】
本発明は、特に、高い耐傷性が求められる反射防止フィルムにおいて、圧縮弾性率が高いハードコート層を組み込む場合に有効である。さらに、本発明の防眩性反射防止フィルムは、低屈折率層が塗布層であるにもかかわらず、蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止性能、防眩性能及び高精細適性を有しており、塗布とエンボス加工との簡単な工程によりこれを製造することができる。したがって、蒸着層からなる反射防止フィルムに比べて、大量生産に適している。以上のような反射防止フィルムを用いることで、画像表示装置の画像表示面における外光の反射を有効に防止すると同時に、背景の映り込みを有効に減少することができる。また、本発明で得られた防眩性フィルムは、偏光板や反射防止フィルム、表示装置の構成材料として適している。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態としての防眩性フィルムの製造工程を示す概略図である。
【図２】エンボスローラの放電加工工程を示す概略図である。
【図３】本発明におけるエンボシングカレンダ装置におけるフィルム搬送路を示す概略図である。
【図４】エンボシングカレンダ装置における別のフィルム搬送路を示す概略図である。
【図５】エンボシングカレンダ装置におけるさらに別のフィルム搬送路を示す概略図である。
【図６】エンボシングカレンダ装置におけるさらに別のフィルム搬送路を示す概略図である。
【図７】エンボシングカレンダ装置におけるさらに別のフィルム搬送路を示す概略図である。
【図８】エンボス加工後の防眩性反射防止フィルムを示す断面図である。
【図９】エンボス加工後の別の防眩性反射防止フィルムである。
【図１０】エンボス加工後の別の防眩性反射防止フィルムである。
【符号の説明】
１１ａ  反射防止フィルム
１１ｂ  防眩性反射防止フィルム
１３    片面エンボシングカレンダ装置
２２    エンボスローラ
２３    バックアップローラ
３１    積層部
３２    反射防止層
３３    放電加工機
３５ａ  加工液
３８    電極
４１    透明支持体
４２    プライマー層
４３    ハードコート層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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