(57)【要約】【課題】良好な磁気特性を有する磁気抵抗効果素子、及びこの磁気抵抗効果素子を備えて優れた書き込み・読み込み特性を有する磁気メモリ装置を提供する。【解決手段】対の強磁性層（磁化固定層５と磁化自由層７）が中間層６を介して対向され、膜面に対して垂直に電流を流すことによって磁気抵抗変化を得る構成であり、磁化自由層７の膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下である磁気抵抗効果素子１、並びにこの磁気抵抗効果素子１と磁気抵抗効果素子１を厚み方向に挟むビット線及びワード線とを備えた磁気メモリ装置を構成する。【選択図】　図１
2004022135.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対の強磁性層が中間層を介して対向されてなり、膜面に対して垂直に電流を流すことによって磁気抵抗変化を得る構成の磁気抵抗効果素子であって、
上記強磁性層の一方が磁化固定層であり、もう一方が磁化自由層であり、
上記磁化自由層は、膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、該規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下である
ことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項２】
上記中間層として絶縁体もしくは半導体から成るトンネルバリア層を用いたトンネル磁気抵抗効果素子であることを特徴とする請求項１に記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項３】
積層フェリ構造を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項４】
対の強磁性層の間にトンネルバリア層を挟んで成る強磁性トンネル結合を有し、膜面に垂直方向に電流が流れるように設計された磁気抵抗効果素子と、
上記磁気抵抗効果素子を厚み方向に挟むワード線及びビット線とを備えた磁気メモリ装置であって、
上記強磁性層の一方が磁化固定層であり、もう一方が磁化自由層であり、
上記磁化自由層は、膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、該規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下である
ことを特徴とする磁気メモリ装置。
【請求項５】
上記磁気抵抗効果素子は、上記中間層として絶縁体もしくは半導体から成るトンネルバリア層を用いたトンネル磁気抵抗効果素子であることを特徴とする請求項４に記載の磁気メモリ装置。
【請求項６】
上記磁気抵抗効果素子が、積層フェリ構造を有することを特徴とする請求項４に記載の磁気メモリ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、膜面に対して垂直に電流を流すことによって磁気抵抗変化を得る構成の磁気抵抗効果素子及び磁気抵抗効果素子を備えて成る磁気メモリ装置に係わる。
【０００２】
【従来の技術】
情報通信機器、特に携帯端末などの個人用小型機器の飛躍的な普及に伴い、これを構成するメモリやロジック等の素子には、高集積化、高速化、低電力化等、一層の高性能化が要請されている。特に不揮発性メモリの高密度・大容量化は、可動部分の存在により本質的に小型化が不可能なハードディスクや光ディスクを置き換える技術として、ますます重要になってきている。
【０００３】
不揮発性メモリとしては、半導体を用いたフラッシュメモリや、強誘電体を用いたＦＲＡＭ（Ｆｅｒｒｏ　ｅｌｅｃｔｒｉｃ　Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ　）等が挙げられる。
しかしながら、フラッシュメモリは、書き込み速度がμ秒のオーダーと遅いという欠点がある。一方、ＦＲＡＭにおいては、書き換え可能回数が少ないという問題が指摘されている。
【０００４】
これらの欠点がない不揮発性メモリとして注目されているのが、例えば「Ｗａｎｇｅｔ　ａｌ．，ＩＥＥＥ　Ｔｒａｎｓ．　Ｍａｇｎ．　３３（１９９７），４４９８　」に記載されているような、ＭＲＡＭ（Ｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ　）と呼ばれる磁気メモリである。このＭＲＡＭは、構造が単純であるため高集積化が容易であり、また磁気モーメントの回転により記録を行うために書き換え可能回数が大である。またアクセス時間についても非常に高速であることが予想され、既にナノ秒台で動作可能であることが確認されている。
【０００５】
このＭＲＡＭに用いられる、磁気抵抗効果素子、特にトンネル磁気抵抗効果（Ｔｕｎｎｅｌ　Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ：ＴＭＲ）素子は、基本的に強磁性層／トンネルバリア層／強磁性層の積層構造で構成される。この素子では、強磁性層間に一定の電流を流した状態で強磁性層間に外部磁場を印加した場合、両磁性層の磁化の相対角度に応じて磁気抵抗効果が現れる。双方の強磁性層の磁化の向きが反平行の場合は抵抗値が最大となり、平行の場合は抵抗値が最小となる。メモリ素子としての機能は外部磁場により反平行と平行の状態を作り出すことによってもたらされる。
【０００６】
特にスピンバルブ型のＴＭＲ素子においては、一方の強磁性層が隣接する反強磁性層と反強磁性的に結合することによって磁化の向きが常に一定とされた磁化固定層とされる。他方の強磁性層は、外部磁場等によって容易に磁化反転する磁化自由層とされる。そして、この磁化自由層が磁気メモリにおける情報記録層となる。
【０００７】
スピンバルブ型のＴＭＲ素子において、その抵抗値の変化率は、それぞれの強磁性層のスピン分極率をＰ１，Ｐ２とすると、下記の式（１）で表される。
２Ｐ１Ｐ２／（１−Ｐ１Ｐ２）　（１）
このように、それぞれのスピン分極率が大きい程、抵抗変化率が大きくなる。
【０００８】
強磁性層に用いる材料と、この抵抗変化率の関係については、これまでにＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等のＦｅ族の強磁性体元素やそれら３種類のうちの合金についての報告がなされている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ＭＲＡＭの基本的な構成は、例えば特開平１０−１１６４９０号公報等に開示されているように、複数のビット書き込み線（いわゆるビット線）と、これら複数のビット書き込み線に直交する複数のワード書き込み線（いわゆるワード線）とを設け、これらビット書き込み線とワード書き込み線との交点に磁気メモリ素子としてＴＭＲ素子が配されて成る。そして、このようなＭＲＡＭで書き込み（情報の記録）を行う際には、アステロイド特性を利用してＴＭＲ素子に対して選択書き込みを行う。
【００１０】
その際の書き込み線には、ＣｕやＡｌといった半導体で通常使用される導体薄膜が使用され、例えば反転磁界２０Ｏｅの素子に０．２５μｍ線幅の書き込み線で書き込むためには、約２ｍＡの電流が必要であった。書き込み線の厚さが線幅と同じ場合、その際の電流密度は３．２×１０６　Ａ／ｃｍ２　となり、エレクトロマイグレーションによる断線限界値に近い。また、書き込み電流による発熱の問題や、消費電力低減の観点からもこの書き込み電流を低減させる必要がある。
【００１１】
ＭＲＡＭにおける書き込み電流の低減を実現する手法として、ＴＭＲ素子の保磁力を低減させることが挙げられる。ＴＭＲ素子の保磁力は、素子の大きさ、形状、膜構成、材料の選択等によって適宜決定されるものである。
しかしながら、例えばＭＲＡＭの記録密度の向上を目的としてＴＭＲ素子を微細化した場合には、ＴＭＲ素子の保磁力が上昇するといった不都合が生じる。
従って、ＭＲＡＭの微細化（高集積化）と書き込み電流の低減とを同時に達成するためには、材料面からＴＭＲ素子の保磁力低減を達成する必要がある。
【００１２】
また、ＭＲＡＭにおいてＴＭＲ素子の磁気特性が素子毎にばらつくことや、同一素子を繰り返し使用した場合のばらつきが存在すると、アステロイド特性を使用した選択書き込みが困難になるという問題点がある。
従って、ＴＭＲ素子には、理想的なアステロイド曲線を描かせるための磁気特性も求められる。
理想的なアステロイド曲線を描かせるためには、ＴＭＲ測定を行った際のＲ−Ｈ（抵抗−磁場）ループにおいてバルクハウゼンノイズ等のノイズがないこと、波形の角形性がよいこと、磁化状態が安定しており保磁力Ｈｃのばらつきが少ないことが必要である。
【００１３】
一方、ＭＲＡＭのＴＭＲ素子における情報の読み出しは、絶縁層を挟んだ一方の強磁性層と他方の強磁性層の磁気モーメントの向きが反平行であり抵抗値が高い場合を例えば“１”、その逆に各々の磁気モーメントが平行である場合を“０”として、一般に定電圧源を用いてそれらの状態での差電流により読出しを行う。
従って、素子間の抵抗ばらつきが同じである場合には、ＴＭＲ比（磁気抵抗変化率）が高いほど有利であり、高速で集積度が高く、エラーレートの低いメモリが実現される。
【００１４】
また、強磁性層／トンネル絶縁層／強磁性層の基本構造を有するＴＭＲ素子にはＴＭＲ比のバイアス電圧依存性が存在し、バイアス電圧が上昇するにつれてＴＭＲ比が減少していくことが知られている。多くの場合にＴＭＲ比がバイアス電圧依存性により半減する電圧（Ｖｈ）近傍で読み出し信号の最大値をとることが知られているので、バイアス電圧依存性も少ない方が読み出しエラーの低減において有効である。
【００１５】
従って、ＭＲＡＭに用いられるＴＭＲ素子としては、上述の書き込み特性要件と読み出し特性要件を同時に満足する必要がある。
【００１６】
しかしながら、ＴＭＲ素子の強磁性層に、式（１）のＰ１及びＰ２で示されるスピン分極率が大きくなるような合金組成をＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉの強磁性遷移金属元素のみを成分とする材料から選択すると、一般にＴＭＲ素子の保磁力Ｈｃが増大する傾向にある。
【００１７】
例えばＣｏ７５Ｆｅ２５（原子％）合金等を、磁化自由層（フリー層）即ち情報記録層に用いた場合には、スピン分極率が大きく４０％以上の高いＴＭＲ比が確保できるが、保磁力Ｈｃも大きくなる。
【００１８】
代わりに、軟磁性材料として知られるパーマロイと呼ばれるＮｉ８０Ｆｅ２０（原子％）合金等を用いた場合には、保磁力Ｈｃは低減させることができるものの、上述のＣｏ７５Ｆｅ２５（原子％）合金と比較してスピン分極率が低いためにＴＭＲ比が３３％程度まで低下してしまう。
【００１９】
さらに、上述の２つの組成の合金の中間の特性を有するＣｏ９０Ｆｅ１０（原子％）合金を用いると、約３７％のＴＭＲ比が得られると共に、保磁力Ｈｃを上述のＣｏ７５Ｆｅ２５（原子％）合金とＮｉ８０Ｆｅ２０（原子％）合金との中間程度に抑えられるが、Ｒ−Ｈループの角形性が劣り、書き込みを可能とするアステロイド特性が得られない。
【００２０】
上述した問題の解決のために、本発明においては、良好な磁気特性を有する磁気抵抗効果素子、及びこの磁気抵抗効果素子を備えて優れた書き込み・読み込み特性を有する磁気メモリ装置を提供するものである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気抵抗効果素子は、対の強磁性層が中間層を介して対向されてなり、膜面に対して垂直に電流を流すことによって磁気抵抗変化を得る構成であって、強磁性層の一方が磁化固定層であり、もう一方が磁化自由層であり、磁化自由層は、膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下であるものである。
【００２２】
本発明の磁気メモリ装置は、対の強磁性層の間にトンネルバリア層を挟んで成る強磁性トンネル結合を有し、膜面に垂直方向に電流が流れるように設計された磁気抵抗効果素子と、この磁気抵抗効果素子を厚み方向に挟むワード線及びビット線とを備え、強磁性層の一方が磁化固定層であり、もう一方が磁化自由層であり、磁化自由層は、膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下であるものである。
【００２３】
上述の本発明の磁気抵抗効果素子の構成によれば、磁化自由層は、膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下であることにより、外部磁界に対する周波数特性を高めることができ、磁気抵抗変化率（磁気抵抗比）を向上し、抵抗−外部磁界曲線の角形性を改善することが可能になる。
また、磁気抵抗変化率（磁気抵抗比）のバイアス電圧依存性や保磁力のばらつきも改善することができる。
【００２４】
上述の本発明の磁気メモリ装置の構成によれば、磁気抵抗効果素子と、磁気抵抗効果素子を厚み方向に挟むワード線及びビット線とを備え、磁気抵抗効果素子が上記の本発明の磁気抵抗効果素子の構成であることにより、上述のように外部磁界に対する周波数特性、磁気抵抗比、抵抗−外部磁界曲線の角形性、バイアス電圧依存性、保磁力のばらつき等の磁気抵抗効果素子の磁気特性が改善されることから、情報の書き込みや読み込みにおけるエラーを低減することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明は、対の強磁性層が中間層を介して対向されてなり、膜面に対して垂直に電流を流すことによって磁気抵抗変化を得る構成の磁気抵抗効果素子であって、強磁性層の一方が磁化固定層であり、もう一方が磁化自由層であり、磁化自由層は、膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下である磁気抵抗効果素子である。
【００２６】
また本発明は、上記磁気抵抗効果素子において、中間層として絶縁体もしくは半導体から成るトンネルバリア層を用いたトンネル磁気抵抗効果素子である構成とする。
【００２７】
また本発明は、上記磁気抵抗効果素子において、積層フェリ構造を有する構成とする。
【００２８】
本発明は、対の強磁性層の間にトンネルバリア層を挟んで成る強磁性トンネル結合を有し、膜面に垂直方向に電流が流れるように設計された磁気抵抗効果素子と、この磁気抵抗効果素子を厚み方向に挟むワード線及びビット線とを備えた磁気メモリ装置であって、強磁性層の一方が磁化固定層であり、もう一方が磁化自由層であり、磁化自由層は、膜厚方向に電流を流したときの比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上、１００００Ωｎｍ２　以下である磁気メモリ装置である。
【００２９】
また本発明は、上記磁気メモリ装置において、磁気抵抗効果素子は、中間層として絶縁体もしくは半導体から成るトンネルバリア層を用いたトンネル磁気抵抗効果素子である構成とする。
【００３０】
また本発明は、上記磁気メモリ装置において、磁気抵抗効果素子が積層フェリ構造を有する構成とする。
【００３１】
まず、本発明の磁気抵抗効果素子の一実施の形態の概略構成図を図１に示す。この図１に示す実施の形態は、本発明をトンネル磁気抵抗効果素子（以下、ＴＭＲ素子と称する。）に適用した場合を示している。
【００３２】
このＴＭＲ素子１は、シリコン等からなる基板２上に、下地層３と、反強磁性層４と、強磁性層である磁化固定層５と、トンネルバリア層６と、強磁性層である磁化自由層７と、トップコート層８とがこの順に積層されて構成されている。
即ち、強磁性層の一方が磁化固定層５とされ、他方が磁化自由層７とされた、いわゆるスピンバルブ型のＴＭＲ素子を構成しており、対の強磁性層である磁化固定層５と磁化自由層７とでトンネルバリア層６を挟み込むことにより、強磁性トンネル接合９を形成している。
そして、磁気メモリ装置等にこのＴＭＲ素子１を適用した場合には、磁化自由層７が情報記録層となり、そこに情報が記録される。
【００３３】
反強磁性層４は、強磁性層の一方である磁化固定層５と反強磁性的に結合することにより、書き込みのための電流磁界によっても磁化固定層５の磁化を反転させず、磁化固定層５の磁化の向きを常に一定とするための層である。即ち、図１に示すＴＭＲ素子１においては、他方の強磁性層である磁化自由層７だけを外部磁場等によって磁化反転させる。磁化自由層７は、ＴＭＲ素子１を例えば磁気メモリ装置等に適用した場合に情報が記録される層となるため、情報記録層とも称される。
反強磁性層４を構成する材料としては、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｈ等を含むＭｎ合金、Ｃｏ酸化物、Ｎｉ酸化物等を使用することができる。
【００３４】
磁化固定層５を構成する強磁性体材料としては、特に限定はないが、鉄、ニッケル、コバルトの１種もしくは２種以上から成る合金材料を使用することができる。
【００３５】
図１に示すスピンバルブ型のＴＭＲ素子１においては、磁化固定層５は、反強磁性層４と反強磁性的に結合することによって磁化の向きを一定とされる。このため、書き込みの際の電流磁界によっても磁化固定層５の磁化は反転しない。
【００３６】
トンネルバリア層６は、磁化固定層５と磁化自由層７とを磁気的に分離するとともに、トンネル電流を流すための層である。
トンネルバリア層６を構成する材料としては、例えばＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｌｉ、Ｃａ等の酸化物、窒化物、ハロゲン化物等の絶縁材料を使用することができる。
【００３７】
このようなトンネルバリア層６は、スパッタリング法や蒸着法等によって成膜された金属膜を、酸化又は窒化することにより得ることができる。
また、有機金属と、酸素、オゾン、窒素、ハロゲン、ハロゲン化ガス等とを用いるＣＶＤ法によっても得ることができる。
【００３８】
本実施の形態においては、特に磁化自由層７の比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この磁化自由層７の規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上１００００Ωｎｍ２　以下である構成とする。
このような構成とすることにより、外部磁界に対する周波数特性を高めることができ、磁気抵抗変化率（ＴＭＲ比）を向上し、抵抗−外部磁界曲線の角形性や保磁力のばらつき、並びにバイアス電圧依存性を改善することが可能になる。
【００３９】
このような規格化抵抗の範囲となる強磁性体から成る構成であれば、磁化自由層７の組成や構造は特に限定されず、金属、合金その他の材料を使用することができ、また単層膜でも積層膜でもよい。
積層膜により磁化自由層７を構成する場合には、積層膜のトータルの規格化抵抗が上述の範囲内に入っていればよい。
【００４０】
上述の本実施の形態のＴＭＲ素子１によれば、磁化自由層７の比抵抗と膜厚との積を規格化抵抗と定義したとき、この磁化自由層７の規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上１００００Ωｎｍ２　以下である構成とすることにより、外部磁界に対する周波数特性を高めることができ、磁気抵抗変化率（ＴＭＲ比）を向上し、抵抗−外部磁界曲線の角形性や保磁力のばらつき、並びにバイアス電圧依存性を改善することが可能になる。
【００４１】
これにより、例えば多数のＴＭＲ素子を有して成る磁気メモリ装置にＴＭＲ素子１を適用した場合に、メモリ装置の動作の安定性が向上すると共に、読み出しにおいては、ＴＭＲ比のバイアス依存性が改善されて低抵抗状態と高抵抗状態の判別が容易となり、読み出し特性が向上する。
また、書き込みにおいては、抵抗−外部磁界曲線のノイズが低減され、ＴＭＲ素子１のアステロイド曲線の形状（アステロイド特性）が向上することから、書き込みエラーが低減され、書き込み特性が向上する。
【００４２】
尚、本発明においては、図１に示すような磁化固定層５及び磁化自由層７のそれぞれが単層から構成されたＴＭＲ素子１に限定されない。
例えば図２に示すように、磁化固定層５が、第１の磁化固定層５ａと第２の磁化固定層５ｂとで非磁性導電体層５ｃを挟み込んでなる積層フェリ構造とされる場合であっても、本発明の効果を得ることができる。
【００４３】
図２に示すＴＭＲ素子１０では、第１の磁化固定層５ａが反強磁性層４と接しており、これらの層間に働く交換相互作用によって、第１の磁化固定層５ａは強い一方向の磁気異方性を持つ。また、第２の磁化固定層５ｂは、トンネルバリア層６を介して磁化自由層７と対向し、スピンの向きが磁化自由層７と比較され直接ＭＲ比に関わる強磁性層となるため、参照層とも称される。
【００４４】
積層フェリ構造の非磁性導電体層５ｃに用いられる材料としては、例えばＲｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｕ、Ａｇ等が挙げられる。図２のＴＭＲ素子１０において、その他の層は図１に示したＴＭＲ素子１とほぼ同様の構成であるため、図１と同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
【００４５】
この積層フェリ構造を有するＴＭＲ素子１０においても、磁化自由層７の規格化抵抗を２０００Ωｎｍ２　以上１００００Ωｎｍ２　以下である構成とすることにより、図１に示したＴＭＲ素子１と同様に、抵抗−外部磁界曲線の角形性を向上し、バルクハウゼンノイズを低減することができる。また、保磁力Ｈｃのばらつきを抑制して、ＴＭＲ素子１０のアステロイド曲線の形状を改善することができる。
【００４６】
尚、上述の実施の形態では、磁気抵抗効果素子としてＴＭＲ素子（トンネル磁気抵抗効果素子）１，１０を用いたが、本発明は、対の強磁性層が中間層を介して対向され、膜面に対して垂直に電流を流して磁気抵抗変化を得る構成を有するその他の磁気抵抗効果素子にも適用することができる。
例えば中間層としてＣｕ等の非磁性導電層を用いた巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ素子）で、膜面に対して垂直に電流を流して磁気抵抗効果を得る構成、即ちいわゆるＣＰＰ型のＧＭＲ素子にも本発明を適用することができる。
【００４７】
さらに、磁化固定層や反強磁性体の材料、反強磁性体層の有無、磁化固定層側における積層フェリ構造の有無等は、本発明の本質を損なわない限り種々の変形が可能である。
【００４８】
上述のようなＴＭＲ素子１，１０等の磁気抵抗効果素子は、例えばＭＲＡＭ等の磁気メモリ装置に用いられて好適である。以下、本発明のＴＭＲ素子を用いたＭＲＡＭについて、図を参照しながら説明する。
【００４９】
本発明のＴＭＲ素子を有するクロスポイント型のＭＲＡＭアレイを、図３に示す。このＭＲＡＭアレイは、複数のワード線ＷＬと、これらワード線ＷＬと直交する複数のビット線ＢＬとを有し、ワード線ＷＬとビット線ＢＬとの交点に本発明のＴＭＲ素子が配置されて成るメモリセル１１とを有する。即ち、このＭＲＡＭアレイでは、３×３のメモリセル１１がマトリクス状に配置される。
【００５０】
尚、ＭＲＡＭアレイに用いられるＴＭＲ素子としては、図１に示したＴＭＲ素子１に限定されず、積層フェリ構造を有する図２に示すＴＭＲ素子１０等、膜面に対して垂直に電流を流すことによって磁気抵抗変化を得る構成の磁気抵抗効果素子において磁化自由層の規格化抵抗が上述した特定範囲内である構成であればいかなる構成であっても構わない。
【００５１】
また、メモリ素子に多数あるメモリセルから１つのメモリセルを取り出して、断面構造を図４に示す。
各メモリセル１１は、図４に示すように、例えばシリコン基板１２上に、ゲート電極１３、ソース領域１４及びドレイン領域１５からなるトランジスタ１６を有する。ゲート電極１３は、読み出し用のワード線ＷＬ１を構成している。ゲート電極１３上には、絶縁層を介して書き込み用のワード線（前述したワード書き込み線に相当する）ＷＬ２が形成されている。トランジスタ１６のドレイン領域１５にはコンタクトメタル１７が接続され、さらにコンタクトメタル１７には下地層１８が接続されている。この下地層１８上の書き込み用のワード線ＷＬ２の上方に対応する位置に、本発明のＴＭＲ素子１が形成されている。このＴＭＲ素子１上に、ワード線ＷＬ１及びＷＬ２と直交するビット線（前述したビット書き込み線に相当する）ＢＬが形成されている。尚、下地膜１８は、平面位置の異なるＴＭＲ素子１とドレイン領域１５との電気的接続をする役割から、バイパスとも称される。
また、各ワード線ＷＬ１，ＷＬ２とＴＭＲ素子１とを絶縁するための層間絶縁膜１９及び絶縁膜２０と、全体を保護するパッシベーション膜（図示せず）等を有して成る。
【００５２】
このＭＲＡＭは、磁化自由層７の規格化抵抗が上述した特定範囲内である構成とされたＴＭＲ素子１を用いているので、ＴＭＲ素子１のＴＭＲ比のバイアス電圧依存性が改善され、低抵抗状態と高抵抗状態との判別が容易となり、読み取りエラーの低減を図ることができる。また、抵抗−外部磁界曲線（Ｒ−Ｈ曲線）においてノイズが低減し、アステロイド特性が向上するので、書き込みエラーの低減を図ることができる。
【００５３】
（実施例）
以下、本発明を適用した具体的な実施例について、実験結果に基づいて説明する。
尚、図４に示したように、ＭＲＡＭにはＴＭＲ素子１以外にスイッチング用のトランジスタ１６が存在するが、本実施例ではＴＭＲ特性を調べるために、図５及び図６に示すような強磁性トンネル接合のみを形成したウェハにより特性の測定・評価を行った。図５は平面図、図６Ａは図５のＡ−Ａ´における断面図、図６Ｂは図５のＢ−Ｂ´における断面図を示す。
そして、強磁性トンネル接合の磁化自由層の組成と膜厚を種々変形してサンプルを作製し、各サンプルの磁気特性を調べた。
【００５４】
＜サンプル１＞
図５及び図６に示すように、特性評価用素子ＴＥＧ（Ｔｅｓｔ　Ｅｌｅｍｅｎｔ　Ｇｒｏｕｐ）として、基板２１上にビット線ＢＬと２本のワード線ＷＷＬ，ＲＷＬとが直交して配置され、一方のワード線ＷＷＬとビット線ＢＬとの交差する部分にＴＭＲ素子２２が形成された構造を作製した。２本のワード線ＷＷＬ，ＲＷＬのうち、ＴＭＲ素子２２と平面位置が重なる方をライト線ＷＷＬとし、もう一方をリード線ＲＷＬとする。ＴＭＲ素子２２とリード線ＲＷＬとは、バイパス膜２８及びコンタクト層２９を介して電気的に接続されている。
このＴＥＧは、ＴＭＲ素子２２が短軸０．５μｍ×長軸１．０μｍの楕円形状であり、ワード線ＷＷＬ，ＲＷＬ及びビット線ＢＬの両端にはそれぞれ端子パッド２３，２４及び２５が形成され、ワード線ＷＷＬ，ＲＷＬとビット線ＢＬとをＡｌ２　Ｏ３　から成る絶縁膜２６，２７によって互いに電気的に絶縁した構成となっている。
【００５５】
この構成のＴＥＧも、ＴＭＲ素子を磁気メモリ装置に使用する場合と同様に、電流磁界によってＴＭＲ素子２２の磁化自由層の磁化が反転される。
そして、ライト線ＷＷＬに流れる電流により、磁化自由層に対して−１５０Ｏｅから＋１５０Ｏｅまで掃引することができる。
【００５６】
具体的には、次のようにして図５及び図６に示すＴＥＧを作製した。
まず、表面に熱酸化膜（厚さ２μｍ）が形成された厚さ２ｍｍのシリコンから成る基板２１を用意した。
次に、この基板２１上にワード線の材料としてＣｕ膜を成膜し、フォトリソグラフィによってマスクした後にワード線以外の部分をＡｒプラズマにより選択的にエッチングし、２本のワード線ＷＷＬ，ＲＷＬを形成した。このとき、ワード線ＷＷＬ，ＲＷＬ以外の領域は、基板２１の深さ５ｎｍまでエッチングした。
その後、ワード線ＷＷＬ，ＲＷＬを覆って、厚さ１００ｎｍ程度の絶縁膜２７を形成し、表面を平坦化した。このとき、絶縁膜２７は、ワード線の測定用パッド２３，２４及びリード線ＲＷＬとＴＭＲ素子とのコンタクト層２９を形成する部分以外に形成する。
【００５７】
続いて、下記の層構成（Ａ）からなるＴＭＲ素子２２を、公知のリソグラフィ法及びエッチングにより作製した。層構成（Ａ）は、／の左側が基板側となっており、（）内は膜厚を示す。
Ｔａ（３ｎｍ）／ＰｔＭｎ（３０ｎｍ）／ＣｏＦｅ（２ｎｍ）／Ｒｕ（０．８ｎｍ）／ＣｏＦｅ（２ｎｍ）／Ａｌ（１ｎｍ）−Ｏｘ　／磁化自由層（ｔｎｍ）／Ｔａ（５ｎｍ）　−（Ａ）
【００５８】
尚、上記の層構成（Ａ）のうち、磁化自由層の組成をＣｏ７５Ｆｅ２５（原子％）とし、磁化自由層の膜厚ｔを３ｎｍとした。このとき、磁化自由層の比抵抗は１１５Ωｎｍであるので、磁化自由層の規格化抵抗は３４５Ωｎｍ２　となる。
また、各ＣｏＦｅ膜の組成を、Ｃｏ９０Ｆｅ１０（原子％）とした。
【００５９】
トンネルバリア層６のＡｌ−Ｏｘ　膜は、まず金属Ａｌ膜をＤＣスパッタ法により１ｎｍ堆積させ、その後酸素／アルゴンの流量比を１：１とし、チャンバーガス圧を０．１ｍＴｏｒｒとし、ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）からのプラズマにより金属Ａｌ膜をプラズマ酸化させることにより形成した。酸化時間はＩＣＰプラズマ出力に依存するが、本実施例では３０秒とした。
【００６０】
また、トンネルバリア層６のＡｌ−Ｏｘ　膜以外の膜は、ＤＣマグネトロンスパッタ法で成膜した。
【００６１】
次に、磁場中熱処理炉にて、１０ｋＯｅの磁界中、２７０℃で、４時間の熱処理を行い、反強磁性層であるＰｔＭｎ層の規則化熱処理を行い、強磁性トンネル接合９を形成した。
【００６２】
さらに、リード線ＲＷＬとＴＭＲ膜とのコンタクト部分を含む５０μｍ×７５μｍの範囲（バイパス層２８の平面パターンが最終的にこの範囲になる）を、フォトリソグラフィによってマスクした後に、Ｃｕ層直上までをＡｒプラズマにより選択エッチングを行った。これにより、バイパス層２８は、Ｔａ（３ｎｍ）／ＰｔＭｎ（３０ｎｍ）／ＣｏＦｅ（２ｎｍ）／Ｒｕ（０．８ｎｍ）／ＣｏＦｅ（２ｎｍ）／Ａｌ−Ｏｘ　、という層構成になる。
【００６３】
次に、ＴＭＲ素子２２となる部分をフォトリソグラフィによりマスクした後に、トンネルバリア層６の直上までエッチングすることにより、図５に示す平面パターンを有するＴＭＲ素子２２を形成した。
続いて、Ａｌ２　Ｏ３　をスパッタすることにより、厚さ１００ｎｍ程度の絶縁層２６を成膜して、ＴＭＲ素子２２以外の部分を絶縁した。
さらに、フォトリソグラフィにより、ＴＭＲ素子２２部を含むように、ビット線ＢＬ及び測定用の端子パッド２５を形成し、図５及び図６に示したＴＥＧを得た。
【００６４】
＜サンプル２＞
磁化自由層の組成をＮｉ８１Ｆｅ１９（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を４ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２３３Ωｎｍであるので、磁化自由層の規格化抵抗は９３２Ωｎｍ２　となる。
【００６５】
＜サンプル３〜サンプル８＞
磁化自由層の組成をＣｏ７２Ｆｅ８Ｂ２０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ１ｎｍ、２ｎｍ、３ｎｍ、５ｎｍ、６ｎｍ、８ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は１１９８Ωｎｍである。
【００６６】
＜サンプル９〜サンプル１１＞
磁化自由層の組成をＣｏ８１Ｆｅ９Ｂ２０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は９８３Ωｎｍである。
【００６７】
＜サンプル１２〜サンプル１４＞
磁化自由層の組成をＣｏ６３Ｆｅ７Ｂ３０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ２ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は１３０５Ωｎｍである。
【００６８】
＜サンプル１５〜サンプル１７＞
磁化自由層の組成をＣｏ４８Ｆｅ３２Ｂ２０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ１ｎｍ、３ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は１４５８Ωｎｍである。
【００６９】
＜サンプル１８〜サンプル２０＞
磁化自由層の組成をＣｏ６０Ｆｅ２０Ｂ２０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ１ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は１２９６Ωｎｍである。
【００７０】
＜サンプル２１〜サンプル２３＞
磁化自由層の組成をＣｏ４０Ｆｅ４０Ｂ２０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は１５５２Ωｎｍである。
【００７１】
＜サンプル２４＞
磁化自由層の組成をＣｏ７０Ｆｅ５Ｓｉ１０Ｂ１５（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を３ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２００４Ωｎｍであるので、磁化自由層の規格化抵抗は６０１２Ωｎｍ２　となる。
【００７２】
＜サンプル２５〜サンプル２８＞
磁化自由層の組成をＣｏ７５．３Ｆｅ４．７Ｓｉ４Ｂ１６（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２４５３Ωｎｍである。
【００７３】
＜サンプル２９〜サンプル３２＞
磁化自由層の組成をＣｏ６５．７Ｆｅ４．３Ｓｉ１７Ｂ１３（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２２４１Ωｎｍである。
【００７４】
＜サンプル３３〜サンプル３６＞
磁化自由層の組成をＣｏ６７Ｆｅ４Ｓｉ１９Ｂ１０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を、それぞれ２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２０９８Ωｎｍである。
【００７５】
＜サンプル３７＞
磁化自由層の組成をＣｏ６１．６Ｆｅ４．２Ｎｉ４．２Ｓｉ１０Ｂ２０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を４ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２３５０Ωｎｍであるので、磁化自由層の規格化抵抗は９４００Ωｎｍ２　となる。
【００７６】
＜サンプル３８＞
磁化自由層の組成をＣｏ６９．６Ｆｅ４．６Ｍｏ１．８Ｓｉ８Ｂ１６（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を４ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２８６５Ωｎｍであるので、磁化自由層の規格化抵抗は１１４６０Ωｎｍ２　となる。
【００７７】
＜サンプル３９＞
磁化自由層の組成をＣｏ７０Ｍｎ６Ｂ２４（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を４ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は２７１３Ωｎｍであるので、磁化自由層の規格化抵抗は１０８５２Ωｎｍ２　となる。
【００７８】
＜サンプル４０＞
磁化自由層の組成をＣｏ８１．５Ｍｏ９．５Ｚｒ９．０（原子％）とし、磁化自由層の膜厚を４ｎｍとした以外はサンプル１と同様にしてＴＥＧを得た。このとき磁化自由層の比抵抗は３０７５Ωｎｍであるので、磁化自由層の規格化抵抗は１２３００Ωｎｍ２　となる。
【００７９】
そして、得られた各サンプル１〜サンプル４０のＴＥＧに対して、下記のようにしてＲ−Ｈ曲線の測定を行って、さらにＲ−Ｈ曲線から、磁気抵抗変化率（ＴＭＲ比）、繰り返し測定時の保磁力のばらつき、角形比を求めた。また、動作最大周波数とバイアス電圧依存性を測定した。
【００８０】
（Ｒ−Ｈ曲線の測定）
ライト線ＷＷＬに電流を流すことにより、ＴＭＲ素子２２の磁化自由層を磁化反転させるための外部磁界を印加する。
次に、磁化自由層の磁化容易軸の一方側から見て−１５０Ｏｅから＋１５０Ｏｅまで掃引すると同時に、ライト線ＷＷＬの端子パッド２３とビット線ＢＬの端子パッド２４とにかかるバイアス電圧が１００ｍＶとなるように調節して、強磁性トンネル接合にトンネル電流を流した。このときの各外部磁界に対する抵抗値を測定してＲ−Ｈ曲線を得た。
【００８１】
（磁気抵抗変化率）
磁化固定層と磁化自由層の磁化が反平行の状態にあって抵抗が高い状態の抵抗値と、磁化固定層と磁化自由層の磁化が平行の状態にあって抵抗が低い状態の抵抗値とから、磁気抵抗変化率（ＴＭＲ比）を求めた。
【００８２】
（繰り返し測定時の保磁力Ｈｃのばらつき）
上記の測定方法によりＲ−Ｈ曲線を測定し、Ｒ−Ｈ曲線から、磁化固定層と磁化自由層の磁化が反平行の状態であって抵抗が高い状態での抵抗値と、磁化固定層と磁化自由層の磁化が平行の状態であって抵抗が低い状態での抵抗値との平均値を求め、この平均値の抵抗値が得られるときの外部磁界の値を保磁力Ｈｃとした。そして、この保磁力Ｈｃを、同一素子（ＴＥＧ）において５０回繰り返して測定し、これらの標準偏差ΔＨｃを求めた。そして、ΔＨｃ／（Ｈｃの平均値）を保磁力Ｈｃのばらつきの値とした。
【００８３】
（角形比）
Ｒ−Ｈ曲線から、波形の角形比を求めた。即ち、測定時の−５００Ｏｅから＋５００Ｏｅまでの磁場範囲におけるＲ−Ｈ曲線のＲ１ｍａｘ−Ｒ１ｍｉｎとゼロ磁場（Ｈ＝０）でのＲ２ｍａｘ−Ｒ２ｍｉｎとの比、（Ｒ２ｍａｘ−Ｒ２ｍｉｎ）／（Ｒ１ｍａｘ−Ｒ１ｍｉｎ）の値を求めて、これを角形比とした。
【００８４】
（動作最大周波数の測定）
ライト線ＷＷＬに掃引する電流の周波数を増加させていき、磁気抵抗変化率（ＴＭＲ比）が３ｄＢ低くなったときの周波数を求め、これを動作最大周波数とした。
【００８５】
（バイアス依存性の測定）
バイアス電圧を１００〜１０００ｍＶまで１０ｍＶ刻みに変化させながら、Ｒ−Ｈ曲線の測定を行って磁気抵抗変化率（ＴＭＲ比）を求めた。
そして、バイアス電圧に対して磁気抵抗変化率（ＴＭＲ比）をプロットして、外挿された０ｍＶでのＴＭＲ比に対して、半分になるバイアス電圧を求めて、これをＶｈａｌｆとした。
【００８６】
各サンプル１〜サンプル４０について、磁化自由層の組成及び膜厚、比抵抗、規格化抵抗を表１に示し、また動作最大周波数、ＴＭＲ比、繰返し測定時の保磁力Ｈｃのばらつき、角形比、Ｖｈａｌｆを表２に示す。
【００８７】
【表１】
2004022135.tif 000003
【表２】
2004022135.tif 000004
【００８８】
また、各サンプル１〜サンプル４０について、磁化自由層の規格化抵抗を横軸にとり、縦軸にそれぞれＴＭＲ比、動作最大周波数、保磁力ばらつき、角形比をとって、図７Ａ、図７Ｂ、図７Ｃ、図７Ｄに示す。
【００８９】
図７Ａ〜図７Ｄから、磁化自由層の規格化抵抗を２０００Ωｎｍ２　以上１００００Ωｎｍ２　以下とする、即ち図中の破線で囲んだ範囲内とすることにより、動作最大周波数及び角形比は各段に改善されることがわかる。また、ＴＭＲ比や保磁力Ｈｃのばらつきも改善されることがわかる。
【００９０】
また、表２から、磁化自由層の規格化抵抗が２０００Ωｎｍ２　以上１００００Ωｎｍ２　以下となる場合（サンプル４〜サンプル１４、サンプル１６、サンプル１７、サンプル１９〜サンプル２７、サンプル２９〜サンプル３１、サンプル３３〜サンプル３５、サンプル３７）は、Ｖｈａｌｆも５５０ｍＶ以上の高い値となり、バイアス電圧依存性も改善されることがわかる。
この場合、磁化自由層以外は一般的なＴＭＲ膜の構成であるが、磁化自由層の規格化抵抗は一般的なＴＭＲ膜（ＦｅＣｏ合金等）よりも大きくなっている。
【００９１】
具体的には、磁化自由層の規格化抵抗を上述の範囲内とすることにより、図７Ｃより保磁力Ｈｃのばらつきが４％以下に制御されており、ＴＭＲ素子が磁気的に非常に安定していると言える。
さらに、図７ＡよりＴＭＲ比が４５％以上、表２よりＶｈａｌｆ値も５５０ｍＶ以上と高くなっている。これにより、ＭＲＡＭの動作時における“１”と“０”の差電圧が大きくなる。
【００９２】
一方、磁化自由層にＣｏＦｅ等の合金を用いた従来の構成では、表１から規格化抵抗が２０００Ωｎｍ未満と低くなることがわかる。
このような従来の構成と比較して、本発明では、磁化自由層の規格化抵抗を２０００Ωｎｍ２　以上１００００Ωｎｍ２　以下と大きくしていることにより、動作最大周波数及び角形比を大幅に改善し、ＴＭＲ比や保磁力Ｈｃのばらつきも改善することができる。
【００９３】
従って、ＴＭＲ素子の磁化自由層の規格化抵抗を上述した２０００Ωｎｍ２　以上１００００Ωｎｍ以下である構成とすることにより、ＴＭＲ素子を磁気メモリ装置に適用した場合に、アステロイド特性を向上すると共に、動作時の“１”と“０”の差電圧を大きくして、書き込み、読み取り共にエラーの非常に少ないＭＲＡＭを構成することができることがわかる。
【００９４】
尚、本発明の磁気抵抗効果素子（ＴＭＲ素子等）は、前述した磁気メモリ装置のみならず、磁気ヘッド及びこの磁気ヘッドを搭載したハードディスクドライブや磁気センサ、集積回路チップ、さらにはパソコン、携帯端末、携帯電話を始めとする各種電子機器、電子機器等に適用することができる。
【００９５】
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【００９６】
【発明の効果】
上述の本発明の磁気抵抗効果素子によれば、磁化自由層の規格化抵抗の範囲を規定することにより、外部磁界に対する周波数特性を高めることができ、磁気抵抗変化率（磁気抵抗比）を向上し、抵抗−外部磁界曲線の角形性を改善することが可能になる。
また、磁気抵抗変化率（磁気抵抗比）のバイアス電圧依存性や保磁力のばらつきも改善することができる。
従って、良好な磁気特性を安定して有する磁気抵抗効果素子を構成することができる。
【００９７】
本発明の磁気メモリ装置によれば、読み出しにおいて、磁気抵抗変化率（磁気抵抗比）のバイアス依存特性が向上して、低抵抗状態と高抵抗状態の判別が容易となり、読み出し特性が向上する。また、書き込みにおいて、抵抗−外部磁界曲線のノイズが低減されて、アステロイド特性が向上して、書き込みエラーが低減され、書き込み特性が向上する。
従って、書き込みエラーや読み込みエラーが非常に少なく、優れた書き込み特性及び読み込み特性を有し、安定して動作する磁気メモリ装置を構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態のＴＭＲ素子の概略構成図である。
【図２】積層フェリ構造を有するＴＭＲ素子の概略構成図である。
【図３】本発明のＴＭＲ素子をメモリセルとして有する、クロスポイント型ＭＲＡＭアレイの要部を示す概略構成図である。
【図４】図３に示すメモリセルの拡大断面図である。
【図５】ＴＭＲ素子の評価用のＴＥＧの平面図である。
【図６】Ａ　図５のＡ−Ａ´における断面図である。
Ｂ　図５のＢ−Ｂ´における断面図である。
【図７】Ａ　磁化自由層の規格化抵抗とＴＭＲ比との関係を示す図である。
Ｂ　磁化自由層の規格化抵抗と動作最大周波数との関係を示す図である。
Ｃ　磁化自由層の規格化抵抗と保磁力ばらつきとの関係を示す図である。
Ｄ　磁化自由層の規格化抵抗と角形比との関係を示す図である。
【符号の説明】
１，１０，２２　トンネル磁気抵抗効果素子（ＴＭＲ素子）、２，２１　基板、３　下地層、４　反強磁性層、５　磁化固定層、５ａ　第１の磁化固定層、５ｂ第２の磁化固定層（参照層）、５ｃ　非磁性導電体層、６　トンネルバリア層、７　磁化自由層、９　強磁性トンネル接合、１１　メモリセル、２３，２４，２５　パッド、ＷＬ，ＷＬ１，ＷＬ２　ワード線、ＷＷＬ　ライト線（ワード線）、ＲＷＬ　リード線（ワード線）、ＢＬ　ビット線
【図１】
2004022135.tif 000005
【図２】
2004022135.tif 000006
【図３】
2004022135.tif 000007
【図４】
2004022135.tif 000008
【図５】
2004022135.tif 000009
【図６】
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【図７】
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