(57)【要約】【課題】反応性イオンエッチング法により、シリコン基板に深さが均一なビアホールを形成する。また、シリコン基板を被覆する保護膜の特定部分だけが、エッチングにより消失することを防ぐ。【解決手段】チャンバー２内部に、被処理シリコン基板１を載置する導電性材料からなる基板載置台８を設ける。この基板載置台を、チャンバー２内にあるモータを内蔵した回転駆動装置１０の回転力で、毎分１〜２回転させ、被処理シリコン基板１に均一にエッチングガスが接触するようにする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバー内部に被処理シリコン基板を載置する基板載置台が設けられ、チャンバーの側部にガスを排出する排気口が形成された反応性イオンエッチング装置であって、
上記基板載置台を回転させる回転駆動装置を設けたこと特徴とする反応性イオンエッチング装置。
【請求項２】
回転駆動装置が、チャンバー内に設置されていることを特徴とする請求項１の反応性イオンエッチング装置。
【請求項３】
基板載置台の回転速度は毎分１〜２回転であることを特徴とする請求項１の反応性イオンエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、反応性イオンエッチング装置に関し、シリコン基板に深さの均一なビアホールを形成することができるようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】
シリコン基板にビアホールを形成する方法には、反応性ガスによってエッチングをおこなう反応性イオンエッチング法（Ｄｅｅｐ−ＲＩＥ法）がある。このＤｅｅｐ−ＲＩＥ法では、シリコン基板全面に、速いエッチング速度で、高アスペクト比のビアホールの形成が可能である。
【０００３】
図２は、Ｄｅｅｐ−ＲＩＥ法に用いられる反応性イオンエッチング装置の一例を示すものである。図中符号２は、エッチングを行うチャンバーである。このチャンバー２の上壁にはエッチングガス及びデポジションガスをチャンバー内に送り込む吸気口６が、また下壁の側方には上記の２種類のガスをチャンバー内から排出する排気口７が設けられている。この排気口７は、図示しない真空ポンプなどの排気装置に接続されている。チャンバー２の内部の上方には、電極４が、下方には電極５が設置され、電極５上に導電性材料からなる基板載置台８が置かれている。さらに、基板載置台８上にシリコン基板１が置かれるようになっている。
【０００４】
これら電極４及び５には高周波電源３接続され、高周波電源３に通電することにより、チャンバー２内の電極４と電極５の間に高周波電界が発生する。この高周波電界により、エッチングガス及びデポジションガスがイオン化される。
【０００５】
このエッチング装置を用いて、シリコン基板にビアホールを形成するには、吸気口６からエッチングガスである六フッ化硫黄（ＳＦ６）をチャンバー２の内部に流し、エッチングを行った後、エッチングガスを排気する。次に、デポジションガスである八フッ化シクロブタン（Ｃ４Ｆ８）をチャンバー２内に流し、エッチングで形成されたビアホール１２の側壁に有機物膜を形成させる。その後、デポジションガスを排気する。この工程を繰り返してエッチッグを進行させ、シリコン基板１にビアホール１２を形成する。
【０００６】
エッチングガス及びディポジションガスの２種類のガスを短時間でチャンバー２内に残留させることなく迅速に入れ替えるために、上記排気装置には、排気速度の大きなターボ分子ポンプなどが使用される。エッチングガス及びディポジションガスガスの排気はチャンバー２に設けられた排気口７から排気される。排気口７は、排気装置を設置する構成上、チャンバーの底部中央に置くことは不可能であり、図２に示すように、装置の中心からはずれた位置に作られている。
【０００７】
図３及び図４は、シリコン基板１とチャンバー２に設けられた排気口７の位置関係を示す概略図である。
チャンバー２内のエッチングガス及びデポジションガスは排気口７を中心に排気されるために、シリコン基板１の排気口７に近い側にガスの流れが引き寄せられる。このため、シリコン基板１上ではガス流量が不均一となる。局所的にガスが集中すると、その部分のエッチング速度が速くなる。Ｄｅｅｐ−ＲＩＥ法では、本来シリコン基板の周辺部のエッチング速度が中心部よりも速い。また、ガス流量の局所的な集中により、さらにエッチング速度のばらつきは大きくなり、シリコン基板１上に形成されるビアホール１２の深さが不均一になる。
【０００８】
所定量のエッチングが終了した後、シリコン基板１の底面を研磨してすることにより、シリコン基板１に貫通孔を形成する。しかし、研磨前の状態でシリコン基板１に形成されたビアホール１２の深さにばらつきがあると、シリコン基板１の底面を所定量研磨しても貫通孔が作れない不具合が発生する。また、貫通孔ができるまでシリコン基板１の底面を研磨した場合、シリコン基板の厚さが揃わない。このため、ビアホール１２の深さは、ばらつきなく一定であることが要求される。
【０００９】
図５は、シリコン基板上に形成されるエッチング保護膜の減少速度の分布を示す模式図である。シリコン基板１の表面のうち、エッチングが必要でない部分は有機物層で被覆され、保護膜が形成されている。エッチングガスはこの保護膜も侵食するが、通常は、保護膜を十分残して、エッチングは終了する。
ところが、シリコン基板１の排気口７に近い部分１３は、エッチングガスの濃度が高くなり、保護膜の減少速度が他の部分よりも平均１０％、最大２５％速くなっている。このため、保護膜の消失により、シリコン基板１の表面のうち、エッチングされてはならない部分をもエッチングしてしまう。
【００１０】
反応性イオンエッチングによるシリコン基板への貫通孔形成に関する先行技術文献としては、例えば以下に示すものがある。
【００１１】
【特許文献１】
特開平６−２４４５２７号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
よって、本発明の課題は、Ｄｅｅｐ−ＲＩＥ法により、シリコン基板に深さが均一なビアホールを形成することにある。また、シリコン基板を被覆する保護膜の一部が、エッチングにより消失することを防ぐことにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、請求項１に記載した発明は、チャンバー内部に被処理シリコン基板を載置する基板載置台が設けられ、チャンバーの側部にガスを排出する排気口が形成された反応性イオンエッチング装置であって、上記基板載置台を回転させる回転駆動装置を設けたこと特徴とする反応性イオンエッチング装置である。
【００１４】
請求項２に記載した発明は、回転駆動装置が、チャンバー内に設置されていることを特徴とする、請求項１の反応性イオンエッチング装置である。
請求項３に記載した発明は、基板載置台の回転速度は毎分１〜２回転であることを特徴とする、請求項１の反応性イオンエッチング装置である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の反応性イオンエッチング装置の一例を示す概略構成図である。図中符号８は基板載置台である。この基板載置台８の上面に、ビアホール１２が形成されるシリコン基板１が置かれる。基板載置台８は導電性の材料からなり、円盤状をしており、円盤の中心に回転駆動装置１０の回転軸１１が接合されている。回転駆動装置１０はモータを内蔵し、モータの回転力は、回転駆動装置１０に内蔵する減速装置を介し基板載置台８に伝えられ、基板載置台８を回転させる。
【００１６】
本発明の装置のうち、電気系に関する部分を説明する。金属棒９は電極５に接合され、また基板載置台８の底面と接触し基板載置台８に通電する。電極４及び５は高周波電源３と接続しており、高周波電源３に通電して、電極４とシリコン基板１の間に高周波電界を発生させる。
【００１７】
次にエッチングガス及びデポジションガスの流し方について説明する。
エッチングガスであるＳＦ６及びデポジションガスであるＣ４Ｆ８のそれぞれを、交互に８〜１２秒間、吸気口６からチャンバー２内に送り込む。エッチングガスは、高周波電界によりイオン化され、シリコン基板１の表面を侵食し、ビアホール１２を形成する。デポジションガスも、高周波電界によりイオン化され、シリコン基板１に形成されたビアホール１２の側壁に付着し、ビアホール１２の横への成長を防ぐ。
【００１８】
エッチングガス及びデポジションガスが、同時にチャンバー２内に存在すると、エッチング及びデポジションの効率が低下する。ゆえに、前記の２種類のガスがチャンバー２内に混在する時間を短くする必要がある。これには、ターボ分子ポンプを用いて、排気口７から、前工程のデポジションガスもしくはエッチングガスを強制排気する。
エッチング及びデポジションを交互に行い、シリコン基板２にビアホールを形成する。
【００１９】
次に、基板載置台の回転について説明する。
シリコン基板１を載せた基板載置台８を回転駆動装置１０により、毎分１〜２回転させる。回転速度が２回転／分を越えると、エッチングガスから生成したフッ素ラジカルが飛ばされてしまい、シリコン基板１上でのフッ素ラジカルの濃度が希薄になりエッチング速度が低下する。また、１回転未満／分では、シリコン基板１の周辺部の各箇所が、フッ素ラジカルの濃度の高い区域を通過する時間差が大きく、エッチングの速度にばらつきが生じる。
【００２０】
図６ないし図９は、シリコン基板１のビアホール１３と排気口７の位置関係を示す概略図である。図６に示すように、シリコン基板１の周辺部分にあるビアホール１３は、シリコン基板１が回転し始めた時には、排気口７に近い位置にある。一方、図７及び図８に示すように、シリコン基板１が回転するに伴い、ビアホール１３は排気口７から遠い位置に移動する。このように、シリコン基板１を回転させることで、排気口７に近いエッチングガスやデポジションガスの濃度が高い場所に、シリコン基板１の周辺の一部分が留まることがなくなり、シリコン基板１に形成されるビアホールの形成速度を均一にする。
【００２１】
【作用】
回転駆動装置１０によりシリコン基板１が回転することで、シリコン基板１の周辺の各部分は、エッチングガス及びデポジションガスの濃度の高い排気口７に近い領域に留まることなく移動し、シリコン基板１に形成させるビアホールホールの形成速度を均一にする。また、シリコン基板１を覆う保護膜の一部が消失するのを防ぐ。
【００２２】
なお、本発明では、回転駆動装置１０をチャンバー２の外部に設置して、その回転軸をチャンバー２内に延長して、基板載置台に連結するようにしても良い。
さらに、本発明の範囲外ではあるが、被処理シリコン基板を、手動にてエッチング操作を一旦停止して、載置位置を変えるようにする方法もある。
【００２３】
【実施例】
以下、実施例により本発明を説明する。
直径１００ｍｍのシリコンウエハーの表面にＳｉＯ２膜を形成した後、レジスト液を塗布し、８０℃の高温電気炉で２０分間加熱した。加熱後、露光及び現像により、レジストマスクを表面に形成したシリコン基板を得た。
上記シリコン基板を、本発明の反応性イオンエッチング装置に設置し、エッチングを行った。高周波電源に通電し、チャンバー内の電極間に電界を発生させた後、回転駆動装置に通電し、毎分２回転の速度で基板載置台を回転させた。
【００２４】
エッチングガスのＳＦ６を１２秒間及びデポジションガスのＣ４Ｆ８を９秒間、交互にチャンバー内に流し、エッチングを２１０分間行った。その後、シリコン基板を切断し、合計８００個のビアホールの深さを測定したところ、ビアホールの深さは、最大４３０μｍ、最小４２２μｍ、平均値は４２６μｍであり、平均値の２％以内のばらつきであった。
また、シリコン基板の保護膜に状態を、光学式膜圧測定器により観察した結果、保護膜の厚さは最大３．５μｍ、最小３．２μｍであり、保護膜の局部的な減少は見られなかった。
【００２５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の反応性イオンエッチング装置によりれば、シリコン基板を回転させるようにしたので、エッチングガス及びデポジションガスの濃度の高い部分がシリコン基板上に生じることがなくなり、シリコン基板上に、穴の深さが均一なビアホールを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反応性イオンエッチング装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】従来の反応性イオンエッチング装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】シリコン基板とチャンバーの排気口の位置関係の一例を示す概略図である。
【図４】シリコン基板とチャンバーの排気口の位置関係及びエッチングガスの流れの一例を示す概略図である。
【図５】シリコン基板の保護膜の消失が大きい部分とチャンバーの排気口の位置関係の一例を示す概略図である。
【図６】シリコン基板の回転とチャンバーの排気口の位置関係の一例を示す概略図である。
【図７】シリコン基板の回転とチャンバーの排気口の位置関係の一例を示す概略図である。
【図８】シリコン基板の回転とチャンバーの排気口の位置関係の一例を示す概略図である。
【図９】シリコン基板の回転とチャンバーの排気口の位置関係の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
１・・・・シリコン基板，２・・・・チャンバー，３・・・・高周波電源，４・・・・電極，５・・・・電極，６・・・・吸気口，７・・・・排気口，８・・・・基板載置台、９・・・・金属棒，１０・・・・回転駆動装置，１１・・・・回転軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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