(57)【要約】【課題】非磁性支持体に磁性塗料を塗布して磁気記録媒体を製造する方法において、製造工程条件の最適化を図り、工程内の歪みを最小化する。【解決手段】非磁性支持体を試料とし、熱機械分析手段によって所定温度、所定荷重雰囲気で前記試料の熱収縮率を測定する測定工程と、前記測定された熱収縮率が零となる平衡荷重を求め、該平衡荷重を製造条件として設定する設定条件決定工程とを備え、前記設定された条件によって磁気記録媒体の製造を行う。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体に磁性塗料を塗布して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法において、
非磁性支持体を試料とし、熱機械分析手段によって所定温度、所定荷重雰囲気で前記試料の熱収縮率を測定する測定工程と、
前記測定工程によって測定された熱収縮率が零又は略零となる条件を求め、該条件を製造条件として設定する設定条件決定工程とを備え、
前記設定条件決定工程によって設定された条件によって製造を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記設定条件決定工程は、所定温度における前記熱収縮率が零又は略零となる平衡荷重を求め、該平衡荷重を製造条件として設定することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記設定条件決定工程は、所定荷重における前記熱収縮率が零又は略零となる温度を求め、該温度を製造条件として設定することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記非磁性支持体は、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート又はアラミドで構成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記非磁性支持体は、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート又はアラミドで構成されていることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記非磁性支持体は、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート又はアラミドで構成されていることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、非磁性支持体に磁性塗料を塗布して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
塗布型磁気記録媒体は、例えば、フィルム状の非磁性支持体（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）上に磁性塗料を塗布する工程、バック層を塗布する工程、カレンダー処理を行う工程、磁気テープを裁断する工程等を経て製造される。
【０００３】
これらの全ての工程では、磁気記録媒体を走行させる為に張力が加わる。また塗布工程では、磁性あるいはバック塗料乾燥時に１００℃前後の加熱炉を通過する。又カレンダー工程でも磁気記録媒体は、１００℃前後に加熱され、鏡面化が促進される。これらの、記録媒体に張力と熱を与える工程では、それが媒体の、伸びあるいは縮みに顕著に影響を及ぼし、「歪み」発生の原因となっている。
【０００４】
尚、前記磁気記録媒体の伸びや縮みを測定する手段としては、例えば特許文献１に記載されている熱機械分析（ＴＭＡ；Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）装置が知られている。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−５４９３９号公報。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年、高密度記録及び短波長記録化が進み、塗布型記録媒体の薄層化が要求されてきている。しかし、薄層化にともない、前記のような製造工程においては、前述した熱及び張力による記録媒体の「歪み」が増加し、ヘッド出力の不安定  や画質不良による不良の原因となり、生産工程上の大きな障害であった。
【０００７】
本発明はこのような従来の実状にある問題を改善するためになされ、その目的は、製造工程条件の最適化を図り、工程内の「歪み」を最小化することができる磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、磁気記録媒体製造の各工程で非磁性支持体に加えられる各荷重について、伸びも縮みもしない平衡荷重ポイントを求め、それを利用して塗布やカレンダー等の工程を最適条件とすることで、前記目的を達成した。
【０００９】
すなわち本発明は、非磁性支持体に磁性塗料を塗布して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法において、非磁性支持体を試料とし、熱機械分析手段によって所定温度、所定荷重雰囲気で前記試料の熱収縮率を測定する測定工程と、前記測定工程によって測定された熱収縮率が零又は略零となる条件を求め、該条件を製造条件として設定する設定条件決定工程とを備え、前記設定条件決定工程によって設定された条件によって製造を行うことを特徴としている。
【００１０】
また前記設定条件決定工程は、所定温度における前記熱収縮率が零又は略零となる平衡荷重を求め、該平衡荷重を製造条件として設定することを特徴としている。
【００１１】
また前記設定条件決定工程は、所定荷重における前記熱収縮率が零又は略零となる温度を求め、該温度を製造条件として設定することを特徴としている。
【００１２】
また前記非磁性支持体は、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート又はアラミドで構成されていることを特徴としている。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。本発明の測定工程で用いる熱機械分析手段としては、例えば特許文献１にも開示されている熱機械分析機（以下ＴＭＡ装置と称する）を利用する。このＴＭＡ装置は、高分子等の応力と歪みを温度または時間の関数として測定する熱応力歪測定、及び熱膨張・熱収縮・軟化などの熱機械的測定を行うための装置であり、簡易かつ高精度に測定できるように配慮されている。
【００１４】
ＴＭＡ装置の測定原理は、例えば図１に示すように、底面を加熱炉１内に貫入させた試験管２と、プローブ３に固定されたチャック４との間に試料５を挟んで保持し、力発生部６の力をプローブ３に印加するとともに加熱炉１で加熱し、プローブ３の変位、すなわち試料５の収縮／伸び（長さ方向寸法）を差動トランス７によって検出するものである。尚８は熱電対である。
【００１５】
本実施形態例のＴＭＡ装置は、セイコーインスツルメンツ社製のＴＭＡ／ＳＳ６１００を使用している。
【００１６】
またＴＭＡ装置の測定条件は例えば次のとおりである。
【００１７】
試料寸法：（長さ方向）１０ｍｍ×（幅方向）４ｍｍ
荷重    ：任意
設定温度：３０℃〜１２０℃〜３０℃（昇温及び降温サイクル）から任意温度のところを決定する
昇温速度：１０℃／分
以上の条件と、更に湿度の影響をなくす為に、測定部を窒素パージして測定を行った。そして、加熱前の長さ方向寸法を０とし、温度を３０℃〜１２０℃〜３０℃に昇降し、所定温度の値を読み取るものとした。
【００１８】
（実験例１）
以下に、本発明の具体的な実施形態例について述べるが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
【００１９】
尚、本実施形態例では、非磁性支持体としてポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を使用している。
（１）８ｍｍ幅のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）について、前述した測定条件でＴＭＡ測定を行った。その測定結果の一例を図２のグラフに示す。
【００２０】
図２のＬ１〜Ｌ４は各荷重時の温度と熱収率の関係を表し、Ｌ１は荷重１０Ｋｇ、Ｌ２は荷重１２Ｋｇ、Ｌ３は荷重１３Ｋｇ、Ｌ４は荷重１４Ｋｇの場合の特性線を示している。
【００２１】
図２のグラフによれば、例えば荷重１４ｋｇの温度１２０℃の時の熱収率は約０．１％であり、荷重１０ｋｇの温度１２０℃の時の熱収率は約−０．４％であることがわかる。
【００２２】
そこで、各荷重毎に熱収率を読み取り、伸びも縮みもしない平衡荷重ポイント（熱収率０％近辺）を探し出した。
【００２３】
その結果、所定温度、例えば１２０℃のときの荷重と熱収率の関係は図３のとおりとなった。
（２）図２、図３のグラフに示す結果より、温度１２０℃においては、約１３．５ｋｇが、伸びも縮みもしない（熱収率０％近辺）平衡荷重である事がわかった。
（３）次に上記ＰＥＴに、塗布装置の荷重を上記１３．５ｋｇに設定して、８ｍｍ用の磁性塗料をダイコートにて１μｍ塗布した。
（４）次にカレンダー装置の荷重を上記の１３．５ｋｇに設定して、上記磁性塗料を塗布したロールを温度１２０℃で処理した。次に裁断装置にて８ｍｍ幅に裁断してカセットに組み込んだ。
（５）次に上記８ｍｍテープのＲＦ出力変動及び画質を測定した。測定条件は、以下の通りである。
【００２４】
使用ＶＴＲ：ＥＶ−Ｓ９００
測定方法：カラーバー信号を記録後、再生しＲＦ信号の変動をオシロスコープにて確認する。同時にモニターにて画質のチェックを行なう。
【００２５】
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【００２６】
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（実験例２）
実験例１に基づき塗布装置の荷重を１０ｋｇにしテープを作成し、ＲＦ出力変動及び画質を測定した。
（実験例３）
実験例１に基づき塗布装置の荷重を１２ｋｇにしテープを作成し、ＲＦ出力変動及び画質を測定した。
（実験例４）
実験例１に基づき塗布装置の荷重を１４ｋｇにしテープを作成し、ＲＦ出力変動及び画質を測定した。
（実験例５）
実験例１に基づき塗布装置の荷重を１３．５ｋｇにしテープを作成し、ＲＦ出力変動及び画質を測定した。
【００２７】
実験例２から実験例５までのテープのＲＦ出力及び画質結果を表１に示す。
【００２８】
【表１】
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【００２９】
上記結果から、塗布及びカレンダー装置の荷重を１３．５ｋｇに設定したところ、歪みは改善され、ＲＦ出力の安定性や画質不良が改善された。
（実験例６）
前記と同様の方法により、前記以外のフィルム状の非磁性支持体についても実験を行なって、１２０℃の場合の平衡荷重を求めた。その結果を表２に示す。
【００３０】
【表２】
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【００３１】
各サンプルとも、塗布及びカレンダー装置の荷重を前記表２の各平衡荷重に設定したところ、歪みは改善されＲＦ出力や画質不良が改善された。
【００３２】
また本発明は、非磁性支持体がアラミドで構成される場合であっても、前記同様の作用、効果が得られる。
【００３３】
尚前記実施形態例では、所定温度における熱収縮率が零又は略零となる平衡荷重（張力）を求め、その平衡荷重を製造条件として設定し製造するようにしたが、これに限らず、温度を設定変更しても支障のない工程（温度を変えても特性が劣化しないような状況下において）であれば、所定荷重における熱収縮率が零又は略零となる温度を求め、その温度を製造条件として設定し、製造を行うようにしても良い。
【００３４】
すなわち例えば図２のグラフから、荷重１０Ｋｇ時であれば特性線Ｌ１から熱収率零点の温度を求め、荷重１２Ｋｇ時であれば特性線Ｌ２から熱収率零点の温度を求め、荷重１３Ｋｇ時であれば特性線Ｌ３から熱収率零点の温度を求め、荷重１４Ｋｇ時であれば特性線Ｌ４から熱収率零点の温度を求め、それらを設定温度とするものである。
【００３５】
このように構成した場合も、前記と同様の作用、効果が得られる。
【００３６】
また本発明は、ほとんど全ての種類の塗布型磁気記録媒体の製造に適用することができ、非常に有用である。
【００３７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、磁気記録媒体の製造工程条件の最適化を図ることができるとともに、熱、張力に起因する「歪み」が改善され、出力の不安定さや画質不良を改善した、優れた磁気記録媒体を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明で用いるＴＭＡ装置の測定原理を表す概略構成図。
【図２】本発明の測定工程において、ＴＭＡ測定を行ったときの温度と熱収率の関係を示すグラフ。
【図３】本発明の設定条件決定工程において、熱収率が零となる平衡荷重を求めるためのグラフ。
【符号の説明】
１…加熱炉、２…試験管、３…プローブ、４…チャック、５…試料、６…力発生部、７…差動トランス、８…熱電対。
【図１】
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【図２】
2004288232.tif 000008
【図３】
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