(57)【要約】【課題】安全性が高く，安価で施工性が良いバルブ開閉センサーを備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】基板を処理する処理流体を供給及び／又は排出させるライン１６２に，前記ライン１６２を栓体２１７の移動によって連通及び遮断するバルブ１８０を設けた基板処理装置であって，バルブ開閉検出用の流体を通過させる流体路２５０を設け，前記流体路２５０を，前記栓体２１７の移動に伴って移動する移動体２３０で開閉自在に構成し，前記流体路２５０の流体の圧力を計測する圧力センサー２６２又は流量を計測する流量センサーを設けることとした。【選択図】　図４
2004049989.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理流体を供給及び／又は排出させるラインに，前記ラインを栓体の移動によって連通及び遮断するバルブを設けた基板処理装置であって，
バルブ開閉検出用の流体を通過させる流体路を設け，
前記流体路を，前記栓体の移動に伴って移動する移動体で開閉自在に構成し，
前記流体路の流体の圧力を計測する圧力センサー又は流量を計測する流量センサーを設けることを特徴とする，基板処理装置。
【請求項２】
基板を処理する処理流体を供給及び／又は排出させるラインに，前記ラインを栓体の移動によって連通及び遮断するバルブを設けた基板処理装置であって，
前記バルブの筐体内部に，前記栓体と一体的に摺動する摺動体と，前記摺動体によって仕切られる第１の空間及び第２の空間を備え，
前記第１の空間に対して流体を導入出させる第１の導入出口と，前記第２の空間に対して流体を導入出させる第２の導入出口と，前記第１の空間から流体を流出させる第１の流出口と，前記第２の空間から流体を流出させる第２の流出口を備え，
前記第１の空間に導入された流体の圧力によって前記摺動体を移動させたとき，前記ラインを遮断する位置に前記栓体を移動させるとともに，前記摺動体によって前記第２の流出口を閉塞し，前記第１の流出口を前記第１の空間に開口させ，
前記第２の空間に導入された流体の圧力によって前記摺動体を移動させたとき，前記ラインを連通させる位置に前記栓体を移動させるとともに，前記摺動体によって前記第１の流出口を閉塞し，前記第２の流出口を前記第２の空間に開口させる構成とし，
前記第１の流出口及び／又は第２の流出口の開閉を検出する圧力センサー又は流量センサーを備えることを特徴とする，基板処理装置。
【請求項３】
前記圧力センサー又は流量センサーを，処理流体雰囲気から離隔させて配置することを特徴とする，請求項１又は２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記ラインは，主ラインと，複数種類の処理流体を主ラインに供給及び／又は主ラインから排出させる複数の副ラインを備え，
前記各副ラインに，前記バルブをそれぞれ設けたことを特徴とする，請求項１，２又は３に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板を洗浄処理などする基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造工程においては，半導体ウェハ（以下，「ウェハ」という）に処理液を供給して洗浄処理する基板処理装置が使用される。かかる基板処理装置には，ウェハに数種類の処理液を吐出するノズルが備えられ，ノズルに処理液を供給する主供給ラインには，各処理液の供給源がそれぞれバルブを介して接続されている。これらのバルブは，主供給ラインと処理液の供給源に接続する処理液供給管とを，栓体を上下移動させることにより連通及び遮断する構成となっている。また，ウェハに供給する薬液を確実に切り換え，誤動作による処理液の混合を防止するため，バルブの開閉を検出するためのセンサーが取り付けられる。例えば，バルブの筐体外部に，栓体と一体的に上下する移動体を突出させ，この移動体の上下動を検出することにより，バルブの開閉を検出している。この場合，バルブ近辺は処理液雰囲気となっているため，例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などの可燃性の有機溶剤を使用する場合等，電気を使用するセンサー等を配置すると危険な場合があり，好ましくない。そこで，従来，光ファイバーを利用して，処理液雰囲気から十分離隔した位置にて発光及び光センサーによる受光を行い，移動体の上下動を検出するようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，上記のような光センサーを使用する場合，光センサー，光ファイバー，アンプ等のコストが高い問題があった。また，光ファイバーは切断，折り曲げ，接続等が困難なため，施工性が悪い欠点があった。さらに，例えば，多数の種類の処理液を使用する場合，各処理液のラインに設けたバルブに，それぞれ光ファイバーと光センサーを備える必要があり，高価で施工性が悪いだけでなく，光ファイバーが錯綜してメンテナンス性が悪い問題があった。
【０００４】
従って，本発明の目的は，安全性が高く，安価で施工性が良いバルブ開閉のセンサーを備えた基板処理装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために，本発明によれば，基板を処理する処理流体を供給及び／又は排出させるラインに，前記ラインを栓体の移動によって連通及び遮断するバルブを設けた基板処理装置であって，バルブ開閉検出用の流体を通過させる流体路を設け，前記流体路を，前記栓体の移動に伴って移動する移動体で開閉自在に構成し，前記流体路の流体の圧力を計測する圧力センサー又は流量を計測する流量センサーを設けることを特徴とする，基板処理装置が提供される。この基板処理装置にあっては，流体の圧力又は流量を利用してラインの連通及び遮断を検知するため，安全性が高い。また，流体路には通常のガス配管等を使用することができ，安価で施工性が良く，さらに，バルブ，ラインその他の基板処理装置内のメンテナンス性が良い。
【０００６】
また，本発明によれば，基板を処理する処理流体を供給及び／又は排出させるラインに，前記ラインを栓体の移動によって連通及び遮断するバルブを設けた基板処理装置であって，前記バルブの筐体内部に，前記栓体と一体的に摺動する摺動体と，前記摺動体によって仕切られる第１の空間及び第２の空間を備え，前記第１の空間に対して流体を導入出させる第１の導入出口と，前記第２の空間に対して流体を導入出させる第２の導入出口と，前記第１の空間から流体を流出させる第１の流出口と，前記第２の空間から流体を流出させる第２の流出口を備え，前記第１の空間に導入された流体の圧力によって前記摺動体を移動させたとき，前記ラインを遮断する位置に前記栓体を移動させるとともに，前記摺動体によって前記第２の流出口を閉塞し，前記第１の流出口を前記第１の空間に開口させ，前記第２の空間に導入された流体の圧力によって前記摺動体を移動させたとき，前記ラインを連通させる位置に前記栓体を移動させるとともに，前記摺動体によって前記第１の流出口を閉塞し，前記第２の流出口を前記第２の空間に開口させる構成とし，前記第１の流出口及び／又は第２の流出口の開閉を検出する圧力センサー又は流量センサーを備えることを特徴とする，基板処理装置が提供される。この場合も，流体の圧力又は流量を利用してラインの連通及び遮断を検知するため，安全性が高い。また，流体路には通常のガス配管等を使用することができ，安価で施工性が良く，さらに，バルブ，ラインその他の基板処理装置内のメンテナンス性が良い。
【０００７】
前記圧力センサー又は流量センサーを，処理流体雰囲気から離隔させて配置することが好ましい。そうすれば，圧力センサー又は流量センサーの電気を使用する配線などを処理流体雰囲気から離隔させるので，さらに安全性を高めることができる。
【０００８】
前記ラインは，主ラインと，複数種類の処理流体を主ラインに供給及び／又は主ラインから排出させる複数の副ラインを備え，前記各副ラインに，前記バルブをそれぞれ設けても良い。このようにバルブを複数備える場合であっても，流体路に通常のガス配管等を使用すれば，流体路の経済性，施工性，メンテナンス性が良い。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態を，基板の一例としてウェハを洗浄するように構成された基板処理装置に基づいて説明する。図１に示すように，基板処理装置１は，固定された外側チャンバー５と，外側チャンバー５の内側と外側に水平方向に移動する内側チャンバー６から構成される二重チャンバー８を備えている。また，複数枚，例えば２５枚のウェハＷを，互いに平行に等間隔で並べて保持し，回転させるロータ回転機構１０を備えている。ロータ回転機構１０は，二重チャンバー８の内側と外側に水平方向に移動することができる。
【００１０】
外側チャンバー５は，図示しないフレームによって所定位置に支持された筒状体５ａと，筒状体５ａの両端面にそれぞれ固定されたリング部材５ｂ，５ｃによって形成されている。筒状体５ａの上方には，水平方向に多数の処理流体吐出口１２が形成された処理流体吐出ノズル１３が配設されている。筒状体５ａの下方には，外側チャンバー５内からの処理液の排液及び排気を行う排出管１４が配設されている。
【００１１】
リング部材５ｂには，二重チャンバー８内にロータ回転機構１０が進入又は退出するためのロータ回転機構入出口１７が形成されている。このロータ回転機構入出口１７は，二重チャンバー８内からロータ回転機構１０が退出しているときは，図示しない蓋体によって開閉自在となっている。ロータ回転機構入出口１７の内周面には，環状のシール機構１８が配設されている。また，リング部材５ｂの外側には，ロータ回転機構入出口１７の下部に位置する液受け２１が設けられており，ウェハＷの処理後に二重チャンバー８内からロータ回転機構１０を退出させる際に，シール機構１８等に付着した処理液を液受け２１で受け止めるようになっている。
【００１２】
リング部材５ｃには，外側チャンバー５内に内側チャンバー６が進入又は退出するための内側チャンバー入出口２７が形成されている。内側チャンバー入出口２７の内周面には，環状のシール機構２８が配設されている。リング部材５ｃの外側には，内側チャンバー６を洗浄するクリーニング機構３０が配設されている。内側チャンバー６は，外側チャンバー５内から退出するとクリーニング機構３０を囲繞する状態となる。
【００１３】
クリーニング機構３０は，外側チャンバー５内から退出した内側チャンバー６に囲繞される筒状体３０ａと，筒状体３０ａのリング部材５ｃ側の端面に形成され，内側チャンバー入出口２７の内周面に囲繞される状態に配設された円盤３０ｂと，筒状体３０ａの他端面に形成されたリング部材３０ｃから構成されている。筒状体３０ａには，筒状体３０ａの外周側，即ち筒状体３０ａを囲む内側チャンバー６の内周に向かってガスを吐出するガス吐出ノズル３２と，筒状体３０ａを囲む内側チャンバー６の内周と筒状体３０ａの外周とに挟まれた空間から雰囲気を排気する排気管３４が設けられている。円盤３０ｂには，外側チャンバー５内に洗浄液及びガスを吐出する洗浄液吐出ノズル３６と，外側チャンバー５内の雰囲気を排気する排気管３８が設けられている。以上のように構成されたクリーニング機構３０は，退避位置に移動した内側チャンバー６の内周面を，ガス吐出ノズル３２から供給されるガスによって洗浄する。
【００１４】
内側チャンバー６は，リング部材５ｂの中央から筒状体５ａの内部に移動可能な大きさに形成され，ロータ回転機構１０の外周を囲繞することが可能な大きさに形成され，さらに，筒状体３０ａの外周を囲繞することが可能な大きさに形成された筒状体６ａと，筒状体６ａの両端面にそれぞれ固定されたリング部材６ｂ，６ｃから構成されている。筒状体６ａの上方には，水平方向に多数の処理液吐出口４２が形成された処理流体吐出ノズル４３が配設されている。筒状体６ａの下方には，内側チャンバー６内からの処理液の排液及び排気を行う排出管４４が配設されている。
【００１５】
リング部材６ｂには，外側チャンバー５内においてロータ回転機構１０が内側チャンバー６に相対的に進入又は退出するためのロータ回転機構入出口４７が形成されている。ロータ回転機構入出口４７の内周面には，環状のシール機構４８が配設されている。リング部材６ｃには，クリーニング機構３０を内部に相対的に通過させることが可能な大きさに形成された通過口５１が形成されている。リング部材６ｃの内周面には，環状のシール機構５２が配設されている。
【００１６】
ロータ回転機構１０は，モータ５６と，モータ５６の回転軸６７と，回転軸６７の先端に取り付けられ，２５枚のウェハＷを互いに平行に等間隔で並べて保持するロータ７０を備えている。モータ５６は，回転軸５７を囲繞するケーシング７２に支持されており，ケーシング７２は，図示しない移動支持機構によって支持されている。この移動支持機構によって，ロータ回転機構１０全体を水平方向に移動させ，ロータ７０を二重チャンバー８内に進入又は退出させることができる。また，ケーシング７２とロータ７０との間は，ケーシング７２の先端に取り付けられ，ロータ７０が二重チャンバー８内に進入した際にロータ回転機構入出口１７，４７を塞ぐ大きさに形成された，円盤状の蓋体７３が配置されている。
【００１７】
図１に示すように，内側チャンバー６が外側チャンバー５内の処理位置に配置され，ロータ７０が内側チャンバー６内に配置されている場合には，リング部材６ｃは内側チャンバー入出口２７と円盤３０ｂとの間を閉塞するように配置され，リング部材５ｃとリング部材６ｃとの間はシール機構２８によってシールされ，リング部材６ｃと円盤３０ｂとの間は，シール機構５２によってシールされる。また，蓋体７３はロータ回転機構入出口１７，４７を閉塞するように配置され，リング部材５ｂと蓋体７３との間は，シール機構１８によってシールされる。また，リング部材６ｂと蓋体７３との間は，シール機構４８によってシールされる。こうして，円盤３０ｂ，リング部材６ｃ，筒状体６ａ，リング部材６ｂ，蓋体７３によって，処理空間Ｓ１が形成される。
【００１８】
図２に示すように，内側チャンバー６が外側チャンバー５から退出し，退避位置に配置され，ロータ７０が外側チャンバー５内に配置されている場合には，リング部材６ｂは内側チャンバー入出口２７と円盤３０ｂとの間を閉塞するように配置され，リング部材５ｃとリング部材６ｂとの間はシール機構２８によってシールされ，リング部材６ｂと円盤３０ｂとの間は，シール機構４８によってシールされる。また，蓋体７３はロータ回転機構入出口１７を閉塞するように配置され，リング部材５ｂと蓋体７３との間は，シール機構１８によってシールされる。こうして，円盤３０ｂ，リング部材６ｃ，リング部材５ｃ，筒状体５ａ，リング部材５ｂ，蓋体７３によって，処理空間Ｓ２が形成される。
【００１９】
ロータ７０は，２６枚のウェハＷを挿入可能に所定の間隔をおいて配置された一対の円盤９１，９２を備えている。円盤９１は，回転軸６７の先端に取り付けられており，円盤９２はリング部材５ｃ側に配置されている。さらに，これら円盤９１，９２の間に挿入した２５枚のウェハＷの周縁を共働して保持する６本の保持棒９５，９６，９７，９８，９９，１００が，回転軸６７を中心とした円周上に，それぞれ水平方向に互いに平行な姿勢に配置されている（図３参照）。保持棒９５〜１００に囲まれる空間は，ウェハＷの保持空間Ｓ３となっている。また，保持棒９５〜１００には，ウェハＷの周縁を挿入する溝が，それぞれ２６個ずつ形成されている。これら６本の保持棒９５〜１００の溝にウェハＷの周縁を支持することにより，ロータ７０に装入された２６枚のウェハＷを互いに平行な姿勢で保持する。
【００２０】
保持棒９５，９６は開閉可能となっており，基板処理装置１の外部で，図示しないウェハ搬入出機構によってロータ７０にウェハＷが装入される際，及びロータ７０からウェハ搬入出機構によってウェハＷを退出させる際には，保持棒９５，９６を開き，保持棒９５，９６の間からウェハＷを装入又は退出させる。保持空間Ｓ３に挿入したウェハＷを保持する際には保持棒９５，９６を閉じ，保持棒９５，９６をそれぞれウェハＷの周縁に当接させる。また，図示しないロックピンによって保持棒９５，９６を閉じた状態を維持してロータ７０を回転させることができる。
【００２１】
図３は，基板処理装置１の配管系統を示す説明図である。外側チャンバー５には，処理流体吐出ノズル１３に接続して，ウェハＷを処理する処理流体としてＩＰＡ（イソプロピルアルコール），純水（ＤＩＷ），Ｎ２ガス（窒素）を供給する外側チャンバー供給ライン１２０と，排出管１４に接続して，ウェハＷを処理した処理流体を排出させる外側チャンバー排出ライン１２１とが配設されている。内側チャンバー６には，処理流体吐出ノズル４３に接続して，ウェハＷを処理する処理流体として薬液，ＩＰＡ，純水，Ｎ２ガスを供給する内側チャンバー供給ライン１２２と，排出管４４に接続して，ウェハＷを処理した処理流体を排出させる内側チャンバー排出ライン１２３が配設されている。
【００２２】
外側チャンバー供給ライン１２０は，主供給ライン１３０と，ＩＰＡタンク１３５から主供給ライン１３０にＩＰＡを送液する，主供給ライン１３０の副ラインとしてのＩＰＡ供給ライン１３６と，純水供給源１３９から主供給ライン１３０に純水を送液する，主供給ライン１３０の副ラインとしての純水供給ライン１４０と，Ｎ２ガス供給源１４３から主供給ライン１３０にＮ２ガスを送出する，主供給ライン１３０の副ラインとしてのＮ２ガス供給ライン１４４と，を備えている。さらに，ＩＰＡ供給ライン１３６，純水供給ライン１４０，Ｎ２ガス供給ライン１４４には，バルブ１５１，１５２，１５３がそれぞれ介設されている。
【００２３】
外側チャンバー排出ライン１２１は，バルブ１５５が介設されており，外側チャンバー５から排出した純水，Ｎ２ガス等の処理流体を基板処理装置１外に排出する。
【００２４】
内側チャンバー供給ライン１２２は，主供給ライン１６０と，薬液タンク２０５から主供給ライン１６０に薬液を送液する，主供給ライン１６０の副ラインとしての薬液供給ライン１６２と，ＩＰＡタンク１３５から主供給ライン１６０にＩＰＡを送液する，主供給ライン１６０の副ラインとしてのＩＰＡ供給ライン１６６と，純水供給源１３９から主供給ライン１６０に純水を送液する，主供給ライン１６０の副ラインとしての純水供給ライン１７０と，Ｎ２ガス供給源１４３から主供給ライン１６０にＮ２ガスを送出する，主供給ライン１６０の副ラインとしてのＮ２ガス供給ライン１７４と，を備えている。さらに，薬液供給ライン１６２，ＩＰＡ供給ライン１６６，純水供給ライン１７０，Ｎ２ガス供給ライン１７４には，バルブ１８０，１８１，１８２，１８３がそれぞれ介設されている。
【００２５】
内側チャンバー排出ライン１２３は，主排出ライン１９０と，主排出ライン１９０から薬液を送液する副ラインとしての薬液排出ライン１９２と，主排出ライン１９０からＩＰＡを送液する副ラインとしてのＩＰＡ排出ライン１９６と，主排出ライン１９０から純水及びＮ２ガスを送出する副排出ライン１９８と，を備えている。さらに，薬液排出ライン１９２，ＩＰＡ排出ライン１９６，副排出ライン１９８には，バルブ２００，２０１，２０２がそれぞれ介設されている。
【００２６】
薬液排出ライン１９２の下流端は薬液タンク２０５に接続されており，内側チャンバー６から排出した薬液を，薬液タンク２０５に回収し，再利用する構成となっている。ＩＰＡ排出ライン１９６の下流端はＩＰＡタンク１３５に接続されており，内側チャンバー６から排出したＩＰＡを，ＩＰＡタンク１３５に回収し，再利用する構成となっている。副排出ライン１９８は，内側チャンバー６から排出した純水，Ｎ２ガス等の処理流体を基板処理装置１外に排出する。
【００２７】
バルブ１５１，１５２，１５３，１５５，１８０，１８１，１８２，１８３，２００，２０１，２０２は，互いに同じ構成を有するので，代表として，薬液供給ライン１６２に介設されたバルブ１８０の構成について説明する。図４に示すように，バルブ１８０の筐体２１０には，薬液供給ライン１６２から筐体２１０内部に薬液を流入させる処理流体流入口２１１と，筐体２１０内部から薬液供給ライン１６２に薬液を流出させる処理流体流出口２１２が設けられている。さらに，処理流体流入口２１１から処理流体流出口２１２に処理流体を通過させる通過口２１５が設けられている。また，処理流体流出口２１２側から通過口２１５に密着して処理流体流入口２１１と処理流体流出口２１２を遮断すると共に，通過口２１５から離隔して処理流体流入口２１１と処理流体流出口２１２を連通させる栓体２１７が備えられている。
【００２８】
栓体２１７はロッド２２０の先端に支持されており，ロッド２２０の周面と筐体２１０の内面との間にはダイアフラム２２２が形成されている。筐体２１０内部の空間は，ダイアフラム２２２によって，処理流体流入口２１１，処理流体流出口２１２，通過口２１５，栓体２１７が設けられた薬液通過部２２５と，ロッド２２０を摺動させる駆動部２２６と，に仕切られている。駆動部２２６は，ロッド２２０を摺動させることにより，栓体２１７を通過口２１５に密着させる位置（遮断位置）と栓体２１７を通過口２１５から離隔させる位置（連通位置）に移動させる。
【００２９】
駆動部２２６内部には，ロッド２２０に支持され栓体２１７及びロッド２２０と一体的に摺動する摺動体２３０が設けられている。摺動体２３０はロッド２２０の周面と筐体２１０の内面との間を閉塞する板状に形成されている。摺動体２３０の外周面と筐体２１０の内面との間には，リング部材２３１，２３２がそれぞれ摺動体２３０外周面の上端と下端に設けられている。摺動体２３０外周面と筐体２１０の内面との間は，リング部材２３１，２３２によって，摺動体２３０が筐体２１０の内面に対して摺動可能な状態で密閉されている。これにより，駆動部２２６内部には，摺動体２３０によって仕切られる第１の空間２３５及び第２の空間２３６が形成されている。
【００３０】
駆動部２２６には，栓体２１７の駆動用流体を第１の空間２３５に対して導入出させる第１の導入出口２４０と，駆動用流体を第２の空間２３６に対して導入出させる第２の導入出口２４１が備えられている。なお，第１の導入出口２４０，第２の導入出口２４１にそれぞれ接続して，駆動用流体を導入及び導出する流体導入出路２４２，２４３には，図示しないソレノイドバルブが設けられており，このソレノイドバルブによって，駆動用流体の第１の空間２３５及び第２の空間２３６に対する導入及び導出が切り換えられる。
【００３１】
第１の導入出口２４０から第１の空間２３５に駆動用流体を導入すると，導入された駆動用流体の圧力によって摺動体２３０が第２の空間２３６側へ押され，栓体２１７が通過口２１５に向かって近接移動させられて遮断位置に移動し，通過口２１５が閉塞され，処理流体流入口２１１と処理流体流出口２１２の間が遮断される（二点鎖線）。即ち，薬液供給ライン１６２が遮断される。一方，第２の空間２３６においては，摺動体２３０の移動によって，第２の空間２３６内の雰囲気の一部が，第２の導入出口２４１より流体導入出路２４３に押し出される。
【００３２】
一方，第２の導入出口２４１から第２の空間２３６に駆動用流体を導入すると，導入された駆動用流体の圧力によって摺動体２３０が第１の空間２３５側へ押され，栓体２１７が通過口２１５から離れた離隔位置に移動させられ，通過口２１５が開口し，処理流体流入口２１１と処理流体流出口２１２の間が連通する。即ち，薬液供給ライン１６２が連通する。一方，第１の空間２３５においては，摺動体２３０の移動によって，第１の空間２３５内の雰囲気の一部が，第１の導入出口２４０より流体導入出路２４２に押し出される。
【００３３】
次に，バルブ開閉検出用の流体を通過させるバルブ開閉検出用流体路２５０について説明する。前述のように，ロッド２２０は先端において栓体２１７を支持しており，ロッド２２０の他端は筐体２１０に設けられた穴２４４から突出して，突出ピン２４５となっている。穴２４４には，穴２４４の内周面と突出ピン２４５の周面との間を密閉するパッキン２４６が備えられており，第１の空間２３５から駆動用流体が漏出したり，筐体２１０の外側から第１の空間２３５に雰囲気が入り込むことを防止するとともに，突出ピン２４５が穴２４４の内側で摺動可能に構成されている。
【００３４】
筐体２１０の外側には，バルブ開閉検出用の流体を通過させるバルブ開閉検出用流体路２５０が配設されている。バルブ開閉検出用流体路２５０は，筐体２１０の外面に固着され前述の突出ピン２４５を囲む開閉部２５１と，開閉部２５１に接続する配管２５２と，配管２５２に接続してＮ２ガス等をバルブ開閉検出用流体として供給するバルブ開閉検出用流体供給源２５３と，から構成されている。
【００３５】
図４に示すように，開閉部２５１は，突出ピン２４５の周囲を囲むと共に突出ピン２４５の摺動方向から突出ピン２４５の先端を覆い，筐体２１０の外側から穴２４４を塞ぐように形成されている。さらに，突出ピン２４５の周囲に形成された開閉部２５１の壁面に，開閉部２５１内にバルブ開閉検出用流体を導入させる導入口２５６と，開閉部２５１内からバルブ開閉検出用流体を導出させる導出口２５７が開口している。導入口２５６は，配管２５２に継ぎ手２５８を介して接続される。バルブ開閉検出用流体供給源２５３から供給されるバルブ開閉検出用流体は，配管２５２，導入口２５６，開閉部２５１内，導出口２５７の順に通過して，導出口２５７から開閉部２５１の外部に排出される。突出ピン２４５は，導入口２５６と導出口２５７との間で摺動して，導入口２５６と導出口２５７の間を連通及び遮断する。これにより，バルブ開閉検出用流体路２５０は，栓体２１７の移動に伴って一体的に移動する移動体としての突出ピン２４５で開閉自在に構成されている。
【００３６】
配管２５２には圧力検出部２６０が介設されている。圧力検出部２６０において，配管２５２には絞り部２６１が形成されており，絞り部２６１より下流側に，バルブ開閉検出用流体路２５０を通過するバルブ開閉検出用流体の圧力を計測する圧力センサーとしての圧力スイッチ２６２が介設されている。圧力スイッチ２６２は，微小な圧力変化にも反応できるものが使用される。
【００３７】
なお，圧力スイッチ２６２は，バルブ１８０，薬液供給ライン１６２，二重チャンバー８等から発生する処理流体雰囲気から離隔した状態で，例えば，二重チャンバー８の周囲の雰囲気を密閉する図示しない囲繞壁の外側などに配設される。そうすれば，電気を使用する圧力スイッチ２６２及び圧力スイッチ２６２の配線などが，ＩＰＡ等の可燃性の処理液や処理流体雰囲気に接触しないので，安全である。
【００３８】
図４において栓体２１７を離隔位置に移動させ，通過口２１５を開口させると，突出ピン２４５が栓体２１７と一体的に上昇して，突出ピン２４５の先端を覆う開閉部２５１の面に近接し，導入口２５６及び導出口２５７が開閉部２５１の内側から突出ピン２４５の周囲面によって閉塞される。そして，圧力スイッチ２６２が検出する圧力が最大となる。また，栓体２１７が通過口２１５に接触して通過口２１５が閉塞されると，突出ピン２４５が栓体２１７と一体的に下降して，導入口２５６及び導出口２５７が開口され，開閉部２５１内の流路が最大に広くなる。そして，圧力スイッチ２６２が検出する圧力が最小となる。このように，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，通過口２１５の開口及び閉塞，即ち，バルブ１８０の開閉による薬液供給ライン１６２の連通及び遮断を確認できる。
【００３９】
このバルブ１８０及びバルブ開閉検出用流体路２５０によれば，バルブ開閉検出用流体の圧力を利用して薬液供給ライン１６２の連通及び遮断を検出するため，安全性が高い。また，圧力スイッチ２６２が，ＩＰＡ等の可燃性の処理液や処理流体雰囲気に接触しないので，さらに安全性が高い。加えて，バルブ開閉検出用流体路２５０の配管２５２は，例えば通常のガス配管等を使用することができ，安価である。従来の光ファイバーを使用するセンサーと比較すると，約５０％程度のコストで実現可能である。また，光ファイバーは，施行に対してデリケートであるため，施行効率が悪い問題があるが，これに対し，配管２５２にガス配管等を使用する場合，光ファイバーと比較して施工効率が良い。さらに，光ファイバーを切断したり繋ぐことにより配設する場合は，光ファイバーの性能が劣化する虞があるため，設計に制約があるが，これに対し，配管２５２にガス配管等を使用する場合，そのような制約が無く，施工性が良い。また，光ファイバーは曲げ変形させることができず，デリケートであるため，バルブ，ラインその他の基板処理装置内のメンテナンス性が悪い問題があるが，これに対し，配管２５２にガス配管等を使用する場合，メンテナンスを行う箇所に応じて適宜退避させることができるので，メンテナンス性が良い。
【００４０】
さらに，ＩＰＡ供給ライン１６６，純水供給ライン１７０，Ｎ２ガス供給ライン１７４に介設されたバルブ１８１，１８２，１８３に，上述した薬液供給ライン１６２のバルブ１８０に備えるものと同様の構成を有するバルブ開閉検出用流体路２５０をそれぞれ備え，各バルブ１８０，１８１，１８２，１８３の連通及び遮断を検知することにより，内側チャンバー６に供給する処理流体を，薬液，ＩＰＡ，純水，Ｎ２ガスのいずれかに確実に切り換えることができる。これにより，内側チャンバー供給ライン１２２内で，薬液，ＩＰＡ，純水，Ｎ２ガスが互いに混入することを防止する。また，ＩＰＡ供給ライン１３６，純水供給ライン１４０，Ｎ２ガス供給ライン１４４に介設されたバルブ１５１，１５２，１５３に，それぞれバルブ開閉検出用流体路２５０を備え，それぞれの連通及び遮断を検知することにより，外側チャンバー５に供給する処理流体を確実に切り換えることができる。これにより，外側チャンバー供給ライン１２０内で，ＩＰＡ，純水，Ｎ２ガスが互いに混入することを防止する。このように処理流体の混合を防止することにより，ウェハＷに重大なダメージを与える懸念を無くすことができる。また，洗浄処理の信頼性が向上する。
【００４１】
また，薬液排出ライン１９２，ＩＰＡ排出ライン１９６，副排出ライン１９８に介設されたバルブ２００，２０１，２０２に，それぞれバルブ開閉検出用流体路２５０を備え，それぞれの連通及び遮断を検出することにより，内側チャンバー６から主排出ライン１９０によって排出した処理流体を薬液タンク２０５に送出する状態と，ＩＰＡタンク１３５に送出する状態と，副排出ライン１９８に送出する状態とを確実に切り換えることができる。これにより，薬液がＩＰＡタンク１３５に流入したり，ＩＰＡが薬液タンク２０５に流入することを防止できるので，薬液とＩＰＡを確実に分離して回収し，再利用できる。
【００４２】
さらに，このバルブ開閉検出用流体路２５０によれば，複数のバルブ１５１，１５２，１５３，１５５，１８０，１８１，１８２，１８３，２００，２０１，２０２に，それぞれバルブ開閉検出用流体路２５０を備える場合も安価である。そして，各バルブ開閉検出用流体路２５０の配管２５２に，すべて通常のガス配管等を使用すれば，複数本が配設される場合であっても，施工性，メンテナンス性が良い。
【００４３】
次に，以上のように構成された基板処理装置１を用いた実施の形態にかかる処理方法について説明する。先ず，二重チャンバー８の外において，図示しない開閉機構によって保持棒９５，９６を開き，図示しないウェハ搬入出機構によって，ロータ７０に２６枚のウェハＷを装入する。その後，保持棒９５，９６を閉じ，ウェハ搬入出機構を退出させ，ロックピンをロックさせると，ウェハＷは，保持棒９５，９６，９７，９８，９９，１００によって保持される状態となる。
【００４４】
続いて，移動支持機構によってロータ回転機構１０を基板処理装置１に搬送し，回転中心軸ＲＯを水平方向にし，かつ，円盤９２をロータ回転機構入出口１７に対向させた状態で支持する。そして，ウェハＷを挿入したロータ７０を水平方向に前進させ，ロータ回転機構入出口１７から二重チャンバー８内へ進入させる。二重チャンバー８は，内側チャンバー６が外側チャンバー５内の処理位置に配置された状態で待機しており，ロータ７０は内側チャンバー６内に配置され，蓋体７３はロータ回転機構入出口１７，４７を閉塞する。こうして，密閉状態の処理空間Ｓ１が形成される。
【００４５】
次に，ロータ７０の回転を開始して，静止状態から所定の回転速度に加速し，ウェハＷとロータ７０を一体的に回転させる。一方，処理流体吐出ノズル４３から薬液を吐出して，回転する各ウェハＷに薬液を吹き付ける。これにより，ウェハＷに付着しているパーティクル，有機汚染物等のコンタミネーションを除去する。
【００４６】
薬液を供給する際，内側チャンバー供給ライン１２２においては，バルブ１８０を開いて薬液供給ライン１６２，主供給ライン１６０を連通させ，処理流体吐出ノズル４３に薬液を送液する。一方，ＩＰＡ供給ライン１６６，純水供給ライン１７０，Ｎ２ガス供給ライン１７４にそれぞれ介設されたバルブ１８１，１８２，１８３は閉じた状態とし，ウェハＷに供給される薬液にＩＰＡ，純水，Ｎ２ガスが混入することを防止する。これにより，信頼性の高い薬液処理を行うことができる。
【００４７】
ここで，バルブ１８０に備えたバルブ開閉検出用流体路２５０において，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ１８０が開いたことが確認される。これにより，薬液供給ライン１６２が連通し，主供給ライン１６０と連通したことが確認される。また，バルブ１８１，１８２，１８３に備えた各バルブ開閉検出用流体路２５０において，各圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ１８１，１８２，１８３が閉じたことが確認される。これにより，ＩＰＡ供給ライン１６６，純水供給ライン１７０，Ｎ２ガス供給ライン１７４が遮断されていることが確認される。従って，内側チャンバー６に供給する処理流体を薬液に確実に切り換えることができる。
【００４８】
ウェハＷに供給された薬液は，内側チャンバー排出ライン１２３によって内側チャンバー６から排液される。内側チャンバー排出ライン１２３においては，バルブ２００を開いて主排出ライン１９０と薬液排出ライン１９２を連通させ，排液した薬液を薬液タンク２０５に送液する。一方，ＩＰＡ排出ライン１９６，副排出ライン１９８にそれぞれ介設されたバルブ２０１，２０２は閉じた状態とし，排液した薬液がＩＰＡタンク１３５に流入したり，薬液タンク２０５に回収されずに副排出ライン１９８によって基板処理装置１外に排液されることを防止する。これにより，薬液を確実に回収し，再利用できる。
【００４９】
ここで，バルブ２００に備えたバルブ開閉検出用流体路２５０において，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ２００が開いたことが確認される。これにより，主排出ライン１９０と薬液排出ライン１９２が連通したことが確認される。また，バルブ２０１，２０２に備えた各バルブ開閉検出用流体路２５０において，各圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ２０１，２０２が閉じたことが確認される。これにより，ＩＰＡ排出ライン１９６，副排出ライン１９８が遮断されていることが確認される。従って，薬液を確実に薬液タンク２０５に送出できる。
【００５０】
薬液処理終了後，ウェハＷを薬液処理時よりも高速回転させて，ウェハＷに付着した薬液を遠心力によって振り切って除去する。振り切り処理後，処理流体吐出ノズル４３からＩＰＡを吐出して，回転する各ウェハＷにＩＰＡを吹き付け，リンス処理する。ＩＰＡによるリンス処理時は，振り切り処理時よりもロータ７０を低速に回転させる。
【００５１】
ＩＰＡを供給する際，内側チャンバー供給ライン１２２においては，バルブ１８１を開いてＩＰＡ供給ライン１６６，主供給ライン１６０を連通させ，処理流体吐出ノズル４３にＩＰＡを送液する。一方，薬液供給ライン１６２，純水供給ライン１７０，Ｎ２ガス供給ライン１７４にそれぞれ介設されたバルブ１８０，１８２，１８３は閉じた状態とし，ウェハＷに供給されるＩＰＡに薬液，純水，Ｎ２ガスが混入することを防止する。これにより，信頼性の高いＩＰＡ処理を行うことができる。
【００５２】
ここで，バルブ１８１に備えたバルブ開閉検出用流体路２５０において，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ２０１が開いたことが確認される。これにより，ＩＰＡ供給ライン１６６と主供給ライン１６０が連通したことが確認される。また，バルブ１８０，１８２，１８３に備えた各バルブ開閉検出用流体路２５０において，各圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ１８０，１８２，１８３が閉じたことが確認される。これにより，薬液供給ライン１６２，純水供給ライン１７０，Ｎ２ガス供給ライン１７４が遮断されていることが確認される。従って，内側チャンバー６に供給する処理流体をＩＰＡに確実に切り換えることができる。
【００５３】
ウェハＷに供給されたＩＰＡは，内側チャンバー排出ライン１２３によって内側チャンバー６から排液される。内側チャンバー排出ライン１２３においては，バルブ２０１を開いて主排出ライン１９０，ＩＰＡ排出ライン１９６を連通させ，排液したＩＰＡをＩＰＡタンク１３５に送液する。一方，薬液排出ライン１９２，副排出ライン１９８にそれぞれ介設されたバルブ２００，２０２は閉じた状態とし，排液したＩＰＡが薬液タンク２０５に流入したり，ＩＰＡタンク１３５に回収されずに副排出ライン１９８によって基板処理装置１外に排液されることを防止する。これにより，ＩＰＡを確実に回収し，再利用できる。
【００５４】
ここで，バルブ２０１に備えたバルブ開閉検出用流体路２５０において，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ２０１が開いたことが確認される。これにより，主排出ライン１９０と薬液排出ライン１９２が連通したことが確認される。また，バルブ２００，２０２に備えた各バルブ開閉検出用流体路２５０において，各圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ２００，２０２が閉じたことが確認される。これにより，薬液排出ライン１９２，副排出ライン１９８が遮断されていることが確認される。従って，ＩＰＡを確実にＩＰＡタンク１３５に送出できる。
【００５５】
ＩＰＡ処理後，内側チャンバー６を外側チャンバー５から退出させ，退避位置に配置し，外側チャンバー５内に密閉状態の処理空間Ｓ２を形成する。そして，処理流体吐出ノズル１３から純水を吐出して，各ウェハＷに純水を吹き付けてリンス処理する。
【００５６】
純水を供給する際，外側チャンバー供給ライン１２０においては，バルブ１５２を開いて純水供給ライン１４０，主供給ライン１３０を連通させ，処理流体吐出ノズル１３に純水を送液する。一方，ＩＰＡ供給ライン１３６，Ｎ２ガス供給ライン１４４にそれぞれ介設されたバルブ１５１，１５３は閉じた状態とし，ウェハＷに供給される純水にＩＰＡ，Ｎ２ガスが混入することを防止する。これにより，信頼性の高い純水処理を行うことができる。ウェハＷに供給された純水は，バルブ１５５を開いた外側チャンバー排出ライン１２１によって外側チャンバー５から基板処理装置１外に排気される。
【００５７】
ここで，バルブ１５２に備えたバルブ開閉検出用流体路２５０において，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ１５２が開いたことが確認される。これにより，純水供給ライン１４０と主供給ライン１３０が連通したことが確認される。また，バルブ１５１，１５３に備えた各バルブ開閉検出用流体路２５０において，各圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ１５１，１５３が閉じたことが確認される。これにより，ＩＰＡ供給ライン１３６，Ｎ２ガス供給ライン１４４が遮断されていることが確認される。従って，外側チャンバー５に供給する処理流体を純水に確実に切り換えることができる。
【００５８】
純水によるリンス処理終了後，ウェハＷを純水処理時よりも高速で回転，例えば８００ｒｐｍで回転させながら，外側チャンバー５内の処理空間Ｓ２において，処理流体吐出ノズル１３からＮ２ガスを吐出して，各ウェハＷにＮ２ガスを吹き付けて乾燥処理する。なお，乾燥処理においては，Ｎ２ガスの他の不活性ガスや，揮発性及び親水性の高いＩＰＡ蒸気等をウェハＷに吹き付けて行ってもよい。
【００５９】
Ｎ２ガスを供給する際，外側チャンバー供給ライン１２０においては，バルブ１５３を開いてＮ２ガス供給ライン１４４と主供給ライン１３０を連通させ，処理流体吐出ノズル１３にＮ２ガスを送出する。一方，ＩＰＡ供給ライン１３６，純水供給ライン１４０にそれぞれ介設されたバルブ１５１，１５２は閉じた状態とし，ウェハＷに供給されるＮ２ガスにＩＰＡ，純水が混入することを防止する。これにより，信頼性の高い乾燥処理を行うことができる。ウェハＷに供給されたＮ２ガスは，バルブ１５５を開いた外側チャンバー排出ライン１２１によって外側チャンバー５から基板処理装置１外に排気される。
【００６０】
ここで，バルブ１５２に備えたバルブ開閉検出用流体路２５０において，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ１５３が開いたことが確認される。これにより，純水供給ライン１４０，主供給ライン１３０が連通したことが確認される。また，バルブ１５１，１５２に備えた各バルブ開閉検出用流体路２５０において，各圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，バルブ１５１，１５２が閉じたことが確認される。これにより，ＩＰＡ供給ライン１３６，純水供給ライン１４０が遮断されていることが確認される。従って，外側チャンバー５に供給する処理流体をＮ２ガスに確実に切り換えることができる。
【００６１】
乾燥処理終了後，バルブ１５３を閉じて処理流体吐出ノズル１３からのＮ２ガスの吐出を停止し，ロータ７０の回転を停止させ，図示しない移動支持機構によってロータ７０を水平方向に後退させ，ロータ回転機構入出口１７から二重チャンバー８外へ退出させる。基板処理装置１外の図示しない開閉機構によって，ロータ７０のロックピンのロックを解除し，保持棒９５，９６を開き，図示しないウェハ搬入出機構によって，２６枚のウェハＷをロータ７０外へ退出させる。
【００６２】
かかる基板処理装置１によれば，バルブ開閉検出用流体の圧力を利用して薬液供給ライン１６２の連通及び遮断を検出するため，安全性が高い。また，バルブ開閉検出用流体路２５０は通常のガス配管を使用できるため，安価で施工性が良い。圧力スイッチ２６２の電気を使用する配線などをＩＰＡなどの可燃性の処理流体雰囲気から離隔させるので，さらに安全性を高めることができる。バルブを複数備える場合であっても，経済性，施工性，メンテナンス性が良い。
【００６３】
以上，本発明の好適な実施の形態の一例を示したが，本発明はここで説明した形態に限定されない。例えば，基板は半導体ウェハに限らず，その他のＬＣＤ基板用ガラスやＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板などであっても良い。
【００６４】
バルブ開閉検出用流体路２５０の形状は，突出ピン２４５で開閉自在に構成されればよく，本実施の形態に示した形状に限定されない。例えば，開閉部２５１は，図５に示すように，突出ピン２４５周囲の壁面に，開閉部２５１内にバルブ開閉検出用流体を導入させる導入口２５６を設け，突出ピン２４５の摺動方向から突出ピン２４５の先端を覆う面に，開閉部２５１内からバルブ開閉検出用流体を導出させる導出口２５７を，突出ピン２４５の先端と対向するように設けてもよい。この場合，図５において突出ピン２４５が上昇すると，導入口２５６が突出ピン２４５の周囲面によって閉塞されるとともに，導出口２５７が開閉部２５１の内側から突出ピン２４５の先端によって閉塞される。突出ピン２４５が下降すると，導入口２５６及び導出口２５７が開放される。このように，突出ピン２４５の摺動に伴って流路が開閉されるので，圧力スイッチ２６２が検出する圧力の変動より，バルブ１８０の開閉を検知できる。
【００６５】
さらに，図６に示すように，突出ピン２４５周囲の壁面に導入口２５６を設け，突出ピン２４５の摺動方向から突出ピン２４５の先端を覆う面に導出口２５７を設けた開閉部２５１において，導出口２５７の周囲にパッキン２６０を備えてもよい。このように，上昇した突出ピン２４５の先端と導出口２５７との間をパッキン２６０によって密着させると，連通時と遮断時の圧力検出値の差が大きくなり，バルブ１８０の開閉状態を明確に区別することができる。
【００６６】
また，導出口２５７に配管を接続し，この配管に圧力スイッチを介設しても良い。この場合も，導入口２５６側に圧力スイッチ２６２を介設する場合と同様に，バルブ開閉検出用流体路２５０を通過するバルブ開閉検出用流体の圧力を検出できる。
【００６７】
配管２５２に介設する圧力検出部２６０の圧力スイッチ２６２に代えて，バルブ開閉検出用流体の流量を計測する流量センサーを設けても良い。即ち，図４において栓体２１７を離隔位置に移動させ，通過口２１５を開口させると，突出ピン２４５が上昇して，導入口２５６及び導出口２５７が突出ピン２４５によって閉塞されるので，流量センサーが検出する流量が最小となる。また，栓体２１７が通過口２１５に接触して通過口２１５が閉塞されると，突出ピン２４５が下降して，導入口２５６及び導出口２５７が開口されるので，流量センサーが検出する流量が最大となる。このように，流量センサーの流量検出値によっても，通過口２１５の開口及び閉塞，即ち，バルブ１８０の開閉による薬液供給ライン１６２の連通及び遮断を確認できる。
【００６８】
図７に示すように，バルブ開閉検出用の流体を通過させる流体路と，栓体２１７を駆動する駆動用流体を通過させる流体路を，バルブ１８０に一体化させ，バルブ開閉検出用の流体と駆動用流体を兼用する構成としても良い。この実施形態におけるバルブ１８０は，筐体２１０に，第１の空間２３５から駆動用流体を流出させる第１の流出口２７０と，第２の空間２３６から駆動用流体を流出させる第２の流出口２７１を備えている。
【００６９】
第１の空間２３５に導入された駆動用流体の圧力によって摺動体２３０を第２の空間２３６側へ移動させ，遮断位置に栓体２１７を移動させた状態では，摺動体２３０によって第２の流出口２７１を閉塞するとともに，第１の流出口２７０を第１の空間２３５に開口させる構成となっている。一方，第２の空間２３６に導入された駆動用流体の圧力によって摺動体２３０を第１の空間２３５側へ移動させ，連通位置に栓体２１７を移動させた状態では，摺動体２３０によって第１の流出口２７０を閉塞するとともに，第２の流出口２７１を第２の空間２３６に開口させる構成となっている。
【００７０】
さらに，第１の流出口２７０から流出する駆動用流体の圧力を検出することにより，第１の流出口２７０の開閉を検出する圧力センサー２７３が設けられている。
【００７１】
第１の導入出口２４０によって第１の空間２３５に駆動用流体を導入することにより，栓体２１７を遮断位置に移動させた状態（二点鎖線）では，第１の空間２３５に駆動用流体の導入を継続させて，第１の空間２３５に導入した駆動用流体が第１の流出口２７０から流出を続けるようにする。この場合，第１の流出口２７０から流出する駆動用流体の圧力を，圧力センサー２７３によって計測することにより，栓体２１７が遮断位置に位置していることが検知できる。一方，第２の流出口２７１は摺動体２３０によって塞がれているので，第２の流出口２７１から駆動用流体が流出することはない。
【００７２】
第２の導入出口２４１によって第２の空間２３６に駆動用流体を導入することにより，栓体２１７を連通位置に移動させた状態では，第２の空間２３６に駆動用流体の導入を継続させて，第２の空間２３６に導入した駆動用流体が第２の流出口２７１から流出を続けるようにする。一方，第１の流出口２７０は摺動体２３０によって塞がれているので，第１の流出口２７０から駆動用流体が流出することはない。この場合，第１の流出口２７０から駆動用流体が流出しないことを圧力センサー２７３の計測値より検知でき，栓体２１７が遮断位置に位置していることが検知できる。
【００７３】
なお，圧力センサー２７３は，第２の流出口２７１に設けても良く，また，第１の流出口２７０と第２の流出口２７１にそれぞれ設けても良い。この場合も，圧力センサー２７３の計測値より，薬液供給ライン１６２の遮断及び開放が検知できる。
【００７４】
また，第１の流出口２７０又は第２の流出口２７１の開閉を検出する圧力センサー２７３に代えて，駆動用流体の流量を計測する流量センサーを設けても良い。即ち，例えば，図７において，栓体２１７を遮断位置に移動させた状態（二点鎖線）では，第１の空間２３５に導入する駆動用流体が第１の流出口２７０から流出を続けるので，第１の流出口２７０から流出する駆動用流体の流量を，流量センサーによって計測することにより，栓体２１７が遮断位置に位置していることが検知できる。一方，栓体２１７を連通位置に移動させた状態では，第２の空間２３６に導入した駆動用流体が第２の流出口２７１から流出を続け，第１の流出口２７０は摺動体２３０によって塞がれるので，第１の流出口２７０から駆動用流体が流出しないことを流量センサーにより検知でき，栓体２１７が遮断位置に位置していることが検知できる。
【００７５】
また，本実施の形態のバルブ１８０及びバルブ開閉検出用流体路２５０を用いることにより，薬液供給ライン１６２の連通及び遮断だけでなく，薬液供給ライン１６２の流量調整量を検知することも可能である。即ち，栓体２１７を，通過口２１５から最大に離隔させる位置と遮断する位置との間の任意の位置に静止させ，通過口２１５との距離に応じた流量を通過させる場合に適用できる。栓体２１７が図４において下降し，通過口２１５に近接移動するときは，突出ピン２４５が栓体２１７と一体的に下降移動するので，開閉部２５１の導入口２５６と導出口２５７との間の流路が広くなる。すると，圧力スイッチ２６２が検出する圧力が低下する。一方，栓体２１７が図４において上昇し，通過口２１５に対して離隔移動するときは，突出ピン２４５が栓体２１７と一体的に上昇移動するので，開閉部２５１の導入口２５６と導出口２５７との間の流路が狭くなる。すると，圧力スイッチ２６２が検出する圧力が上昇する。従って，圧力スイッチ２６２の圧力検出値より，流量調整量を検知することができる。
【００７６】
なお，圧力スイッチ２６２に代えて流量センサーを設けた場合では，栓体２１７が通過口２１５に対して近接移動して流量調整量が減少するときは，開閉部２５１の導入口２５６と導出口２５７との間の流路が広くなることにより，流量センサーが検出する流量が上昇する。一方，栓体２１７が通過口２１５に対して離隔移動して流量調整量が増加するときは，開閉部２５１の導入口２５６と導出口２５７との間の流路が狭くなることにより，流量センサーが検出する流量が低下する。従って，流量センサーの流量検出値より，薬液供給ライン１６２の流量調整量を検知することができる。
【００７７】
【発明の効果】
本発明の基板処理装置及び基板処理方法によれば，ラインの連通及び遮断を検出する機構の安全性が高く，安価で施工性が良い。電気を使用する機器などをＩＰＡなどの可燃性の処理流体雰囲気から離隔させるので，さらに安全性を高めることができる。バルブを複数備える場合であっても，経済性，施工性，メンテナンス性が良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】内側チャンバーを外側チャンバーの内部に進入させた状態である基板処理装置の断面図である。
【図２】内側チャンバーを外側チャンバーの外部に退出させた状態である基板処理装置の断面図である。
【図３】基板処理装置の配管系統を示す説明図である。
【図４】バルブ及びバルブ開閉検出用流体路の構成を示す説明図である。
【図５】別の実施の形態にかかるバルブ開閉検出用流体路の構成を示す説明図である。
【図６】別の実施の形態にかかるバルブ開閉検出用流体路の構成を示す説明図である。
【図７】別の実施の形態にかかるバルブの構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
Ｃ　　　キャリア
Ｗ　　　ウェハ
１　　　基板処理装置
５　　　外側チャンバー
６　　　内側チャンバー
１３　　処理流体吐出ノズル
１４　　排出管
４３　　処理流体吐出ノズル４３
４４　　排出管
７０　　ロータ
１２０　外側チャンバー供給ライン
１２１　外側チャンバー排出ライン
１２２　内側チャンバー供給ライン
１２３　内側チャンバー排出ライン
１６０　主供給ライン
１６２　薬液供給ライン
２０５　薬液タンク
１５１，１５２，１５３，１５５，１８０，１８１，１８２，１８３，２００，２０１，２０２　　バルブ
２１０　筐体
２１１　処理流体流入口
２１２　処理流体流出口
２１５　通過口
２１７　栓体
２２０　ロッド
２３０　摺動体
２３５　第１の空間
２３６　第２の空間
２４０　第１の導入出口
２４１　第２の導入出口
２４５　突出ピン
２５０　バルブ開閉検出用流体路
２５１　開閉部
２５２　配管
２５３　バルブ開閉検出用流体供給源
２５６　導入口
２５７　導出口
２６０　圧力検出部
２６２　圧力スイッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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