(57)【要約】【課題】ワークを持ち替える作業が不要でありしかもウェハの研磨面に接触する領域を大きくすることができる円盤状ワーク外周部研磨装置を提供する。【解決手段】研磨部材２は、ワークＷの外周面Ｗａを研磨する円筒状の外周研磨面３ａと、ワーク表面チャンファ部Ｗｂを研磨する表面チャンファ部研磨面３ｂと、ワーク裏面チャンファ部Ｗｃを研磨する裏面チャンファ部研磨面３ｃとを有している。各チャンファ部研磨面３ｂ，３ｃは、外周研磨面３ａの中心軸上に中心を有する仮想球面の一部をなすように形成されている。ワーク保持手段４は、ワークＷの一方の面のみを保持する。ワークＷと研磨部材２とを相対移動させる移動手段は、ワークＷの中心の法線方向がチャンファ部研磨面３ｂ，３ｃの仮想球面の中心を向くようにワークＷと研磨部材２とを相対移動させる傾斜手段を有している。【選択図】    図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内周に研磨面を有するドラム状研磨部材と、ワークを保持するワーク保持手段と、ワークと研磨部材とを相対移動させる移動手段と、ワークと研磨部材とを相対的に回転させる回転手段とを備えている円盤状ワーク外周部研磨装置において、
研磨部材は、ワークの外周面を研磨する円筒状の外周研磨面と、ワークの中心面に対して所定の傾斜角を有するワーク表面チャンファ部を研磨する表面チャンファ部研磨面と、ワークの中心面に対して所定の傾斜角を有するワーク裏面チャンファ部を研磨する裏面チャンファ部研磨面とを有し、各チャンファ部研磨面は、外周研磨面の中心軸上に中心を有する仮想球面の一部をなすように形成されており、
ワーク保持手段は、ワークの一方の面のみを保持するものであり、
移動手段は、ワークの中心の法線方向がチャンファ部研磨面の仮想球面の中心を向くようにワークと研磨部材とを相対移動させる傾斜手段を有していることを特徴とする円盤状ワーク外周部研磨装置。
【請求項２】
研磨部材は、ワークの外周面とチャンファ部との間の曲面部分を研磨する中間研磨面をさらに有している請求項１記載の円盤状ワーク外周部研磨装置。
【請求項３】
研磨部材の外周研磨面の一側に表面チャンファ部研磨面が、同他側に裏面チャンファ部研磨面が設けられており、外周研磨面から外部へ通じる加工液抜き用孔が研磨部材に形成されている請求項１または２記載の円盤状ワーク外周部研磨装置。
【請求項４】
隣り合う研磨面同士が互いの大径側で隣接するようになされており、研磨面から外部へ通じる加工液抜き用孔が隣接部分に形成されている請求項１または２記載の円盤状ワーク外周部研磨装置。
【請求項５】
外周研磨面の直径は、ワークの直径より小さいが、その差はごく僅かである請求項１、２および４のいずれかに記載の円盤状ワーク外周部研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウェハ、ガラス基板、電子材料ウェハなどの円盤状ワークの外周部を鏡面研磨加工する際などに使用されるワーク外周部研磨装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウェハの加工工程においては、円盤状とされたウェハの外周部の角部を面取りする工程、面取り部（以下、チャンファ部と称す）を含む外周部を研磨する工程および外周部を鏡面仕上げする工程が必要とされている。
【０００３】
チャンファ部を含む外周部を鏡面研磨するに際し、研磨部材の外周部でワークの外周部を研磨する研磨装置（外接形）を使用することが一般的であったが、接触領域を増大させて研磨効率を改善するために、内面に研磨面を有する研磨部材を使用し、研磨部材の内面でワークの外周部を研磨する研磨装置（内接形）が提案されている（特許文献１および２）。
【０００４】
例えば、特許文献１には、内周に球面凹状の研磨面を有する研磨部材と、ワークの一方の面を保持するワーク保持手段と、ワークと研磨部材とを相対移動させる移動手段と、ワークと研磨部材とを相対的に回転させる回転手段とを備えている円盤状ワーク外周部研磨装置が記載されている。この研磨装置によると、まず、一方のチャンファ部が研磨され、この研磨が終わると、ワークを一旦ワーク保持手段から外してワークの表と裏とが逆にされて、他方のチャンファ部が研磨される。ワークが研磨部材の内周に押し当てられた際には、そのチャンファ部のほぼ全周がワークの研磨面に押し付けられることになり、各チャンファ部の研磨を非常に短い時間で行うことができる。
【０００５】
また、特許文献２には、内周に研磨面を有するドラム状研磨部材と、ワークの両面を保持するワーク保持手段と、ワークと研磨部材とを相対移動させる移動手段と、ワークと研磨部材とを相対的に回転させる回転手段とを備えている円盤状ワーク外周部研磨装置が記載されている。その移動手段としては、両端部側が小径で中央部が大径の研磨部材を軸方向に移動させるもの、あるいは、研磨部材を傾斜させるものなどが開示されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１０−２９１４２号公報
【０００７】
【特許文献２】
特開平１１−１６５２４６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１のものでは、１回の操作では、一方のチャンファ部しか研磨できないため、他方のチャンファ部の研磨のためには、ワークを持ち替える作業を必要とし、そのための付帯機構や持ち替え時間が必要となるという問題があった。また、持ち替えに伴って、ワークの清浄にすべき面までワーク保持手段が接触するという問題や面取りされていない外周面は別途研磨が必要という問題もあった。
【０００９】
特許文献２のものでは、接触領域を増大させるという点からは、ワークの外径と研磨部材の内径との差が小さい方が好ましいが、ワークの中心面に対してある程度大きな傾斜角（例えば、２２°）を有するワークチャンファ部を研磨するに際しては、ワークまたはワークを保持する軸と研磨部材との最大傾斜時における干渉を防止するため、ワークの外径と研磨部材の内径との差を大きく取っておく必要があり、これにより、ウェハの研磨面に接触する領域が小さくなるという問題があった。
【００１０】
この発明の目的は、ワークを持ち替える作業が不要でありしかもウェハの研磨面に接触する領域を大きくすることができる円盤状ワーク外周部研磨装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
この発明による円盤状ワーク外周部研磨装置は、内周に研磨面を有するドラム状研磨部材と、ワークを保持するワーク保持手段と、ワークと研磨部材とを相対移動させる移動手段と、ワークと研磨部材とを相対的に回転させる回転手段とを備えている円盤状ワーク外周部研磨装置において、研磨部材は、ワークの外周面を研磨する円筒状の外周研磨面と、ワークの中心面に対して所定の傾斜角を有するワーク表面チャンファ部を研磨する表面チャンファ部研磨面と、ワークの中心面に対して所定の傾斜角を有するワーク裏面チャンファ部を研磨する裏面チャンファ部研磨面とを有し、各チャンファ部研磨面は、外周研磨面の中心軸上に中心を有する仮想球面の一部をなすように形成されており、ワーク保持手段は、ワークの一方の面のみを保持するものであり、移動手段は、ワークの中心の法線方向がチャンファ部研磨面の仮想球面の中心を向くようにワークと研磨部材とを相対移動させる傾斜手段を有していることを特徴とするものである。
【００１２】
ワークは、例えば、ワークの表面が面取りされて形成された断面直線状の表面チャンファ部、ワークの裏面が面取りされて形成された断面直線状の裏面チャンファ部、およびこれらの間にあって最も径が大きい断面曲線状の外周部を有した形状とされることがあり、また、最も径が大きい部分の外周面は円筒面とされることもある。後者の場合には、外周面とチャンファ部との間に、断面曲線状または直線状の中間部が設けられることもある。
【００１３】
研磨部材は、例えば、内周に所定形状の環状凹所が形成されている研磨ドラムおよび研磨ドラムの凹所に貼り付けられた研磨バフからなるものとされ、研磨バフの内面が研磨面とされる。研磨ドラムの一端には、ワークの径にほぼ等しい開口が設けられており、この開口からワークが研磨ドラム内に搬入・搬出される。研磨ドラムの他端は、開口していてもよく閉じられていてもよい。研磨部材の外周研磨面、表面チャンファ部研磨面および裏面チャンファ部研磨面は、互いに連続するように形成されていてもよいし、所定の間隔をおいて分離されていてもよい。そして、例えば、外周研磨面の一側に表面チャンファ部研磨面が、同他側に裏面チャンファ部研磨面が形成されたものとされるが、外周研磨面、表面チャンファ部研磨面および裏面チャンファ部研磨面の配置順序は、これに限られるものではない。
【００１４】
ワーク保持手段としては、例えば、真空チャックが使用されるが、ワークの一方の面を保持し他方の面を接触フリーにするものであれば、種々の保持手段が使用可能である。
【００１５】
ワークと研磨部材とを相対的に回転させる回転手段としては、例えば、ワーク保持手段を回転させるワーク回転手段および研磨部材を回転させる研磨部材回転手段からなるものとされる。この場合に、研磨部材回転手段の回転軸の軸心は、研磨部材の外周研磨面の中心軸と一致させられる。研磨部材回転手段の回転方向とワーク回転手段の回転方向とは、同一方向でもよく反対方向でもよい。回転手段は、ワーク回転手段および研磨部材回転手段のいずれか一方だけからなるものであってもよい。
【００１６】
移動手段の傾斜手段は、チャンファ部研磨面となる仮想球面にチャンファ部のできるだけ多くの部分が内接するようにするためのもので、移動手段は、例えば、ワーク保持手段を垂直方向に移動させる垂直方向移動手段、ワーク保持手段を水平方向に移動させる水平方向移動手段、およびワーク保持手段を水平軸回りに揺動させる傾斜手段からなるものとされ、ワーク保持手段の水平位置、垂直位置および傾斜角度が変更されることによって、ワークの研磨部材に対する位置および傾斜角度が任意に制御される。移動手段には、例えば、ワーク保持手段を垂直方向に押す垂直方向シリンダと、ワーク保持手段を水平方向に押す水平方向シリンダが付加されることが好ましく、この場合には、各シリンダのストロークをそれぞれ制御することにより、ワークの研磨部材への押し付け力を調整することができる。
【００１７】
この発明の円盤状ワーク外周部研磨装置によると、ワークの外周面が円筒状の外周研磨面に研磨され、ワークの中心面に対して所定の傾斜角を有するワーク表面チャンファ部およびワーク裏面チャンファ部がそれぞれ表面および裏面チャンファ部研磨面によって研磨されるので、ワークを持ち替える作業が不要である。また、ワーク保持手段がワークの一方の面を保持するものとされていることから、ゴミの付着やワークへの傷付けなく、ワークを清浄に保つことができる。チャンファ部の研磨に際しては、移動手段の傾斜手段によって、ワークの中心の法線方向がチャンファ部研磨面の仮想球面の中心を向くようにワークと研磨部材とが相対移動させられるが、このときのワークの相対傾斜角度は、チャンファ部のワークの中心面に対する傾斜角度が例えば２０°以上であっても、例えば５°程度でよく、これにより、チャンファ部研磨面とワークのチャンファ部との接触領域を大きくすることができ、短い時間で研磨を行うことができる。
【００１８】
上記の円盤状ワーク外周部研磨装置において、研磨部材は、ワークの外周面とチャンファ部との間の曲面部分を研磨する中間研磨面をさらに有していることがある。中間研磨面は、例えば、直円錐を底面に平行に輪切りにした周面を研磨面とするリング状とされることがあり、また、仮想球面の一部を研磨面とするリング状とされることがある。このようにすると、ワークが、外周面とチャンファ部との間に中間部を有している場合でも、持ち替え作業を行わずに、ワークの外周部のすべての要研磨部分を研磨することができる。
【００１９】
また、研磨部材の外周研磨面の一側に表面チャンファ部研磨面が、同他側に裏面チャンファ部研磨面が設けられていることがあり、この場合に、外周研磨面から外部へ通じる加工液抜き用孔が研磨部材に形成されていることが好ましい。研磨時には、加工液（研磨液）が使用されるが、加工液は、例えば、ワークの吸着される面側ではワーク保持部（真空チャック）に当たるようにかつワークと研磨面が接触する手前で供給され、ワークの他方の面側ではワークと研磨面が接触する手前の加工面に供給される。研磨部材の外周研磨面の両側にチャンファ部研磨面がそれぞれ設けられている場合には、加工液が外周研磨面上に溜まることになり、この部分に加工液抜き用孔を設けることにより、研磨廃液が外部へ排出され、きれいな加工液が研磨面にあるようにすることができる。
【００２０】
また、隣り合う研磨面同士が互いの大径側で隣接するようになされていることがあり、この場合に、研磨面から外部へ通じる加工液抜き用孔が隣接部分に形成されていることが好ましい。互いの大径側で隣接する部分は加工液が溜まる部分となるため、この部分に研磨面から外部へ通じる加工液抜き用孔を設けることにより、研磨廃液が外部へ排出され、きれいな加工液が研磨面にあるようにすることができる。
【００２１】
さらにまた、外周研磨面の直径は、ワークの直径より小さいが、その差はごく僅かであることが好ましい。外周研磨面の曲率とワークの曲率とが近く、また、研磨面を形成する研磨部（研磨バフ）に若干の柔軟性があることから、ワーク面の法線と外周研磨面の中心軸とを平行に保ってワークを研磨面に押し付けることにより、接触範囲が大となり、研磨効率が向上する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
この発明の実施の形態を、以下図面を参照して説明する。以下の説明において、左右および上下は、図１の左右および上下をいうものとする。
【００２３】
図１は、この発明の円盤状ワーク外周部研磨装置の実施形態を示している。円盤状ワーク外周部研磨装置（１）は、内周に研磨面（３）を有するドラム状研磨部材（２）と、ワーク（Ｗ）の上面を保持するワーク保持手段（４）と、ワーク保持手段（４）を移動させることによりワーク（Ｗ）を研磨部材（２）に対して相対移動させる移動手段と、ワーク回転手段（５）および研磨部材回転手段（６）からなりワーク（Ｗ）と研磨部材（２）とを相対的に回転させる回転手段とを備えている。
【００２４】
この実施形態では、研磨部材（２）は、横置き、すなわち、その開口が上下を向くように配置されており、ワーク（Ｗ）は、研磨開始前および終了後には、ワーク（Ｗ）の中心面（ワークの表面と裏面の中間の面）が水平となるように保持されている。
【００２５】
研磨部材（２）は、内周に所定形状の環状凹所（７ａ）が形成されている研磨ドラム（７）と、研磨ドラム（７）の凹所（７ａ）に貼り付けられた研磨バフ（８）とからなり、研磨バフ（８）の内面が研磨面（３）とされている。研磨ドラム（７）の上端には、ワーク（Ｗ）の径にほぼ等しい開口（９）が設けられており、この開口（９）を介してワーク（Ｗ）が研磨部材（２）内に搬入・搬出される。研磨部材（２）の下端は、支持台（１０）に支持されている。
【００２６】
ワーク保持手段（４）は、真空チャックとされている。真空チャック（４）は、基準状態で垂直状の中空軸（４ａ）を有しており、この中空軸（４ａ）は、垂直円筒ケース（１１）内に回転可能に保持されている。垂直円筒ケース（１１）は、図示省略した移動手段としてのサーボ機構に取り付けられている。
【００２７】
サーボ機構は、ワーク保持手段（４）を垂直方向に移動させる垂直方向移動手段、ワーク保持手段（４）を水平方向に移動させる水平方向移動手段、およびワーク保持手段（４）を水平軸回りに揺動させる傾斜手段を有している。移動手段には、このサーボ機構のほかに、図１に示すように、真空チャック（４）の垂直円筒ケース（１１）の上端に設けられてワーク保持手段（４）を垂直方向に押す垂直方向シリンダ（１２）と、真空チャック（４）の垂直円筒ケース（１１）の中間部に設けられてワーク保持手段（４）を水平方向に押す水平方向シリンダ（１３）とが設けられている。サーボ機構によってワーク保持手段（４）の水平位置、垂直位置および傾斜角度が制御されることによって、ワーク（Ｗ）の研磨部材（２）に対する位置および傾斜角度が任意に設定され、各シリンダ（１２）（１３）のストロークをそれぞれ制御することにより、ワーク（Ｗ）の研磨部材（２）への押し付け力を調整することができる。
【００２８】
研磨部材（２）およびその支持台（１０）には、有底筒状のカバー（１４）が被せられており、支持台（１０）の下面には、カバー（１４）の底壁を貫通した回転軸（１５）の上端部が固定されている。研磨部材回転手段（６）は、この回転軸（１５）がベルト（１６）を介してモータ（図示略）の駆動軸に連結されることによって構成されている。
【００２９】
ワーク回転手段（５）は、真空チャック（４）の垂直円筒ケース（１１）の上端部に設けられており、真空チャック（４）は、この回転手段（５）によって、研磨部材（２）とは逆方向に回転させられている。
【００３０】
図３は、この円盤状ワーク外周部研磨装置（１）で研磨されるワーク（Ｗ）の一例を示すもので、ワーク（Ｗ）は、例えば、図３（ａ）および（ｂ）に示すように、ワーク（Ｗ）の表面が面取りされて形成されかつワーク（Ｗ）の中心面に対して所定の傾斜角θを有する断面直線状の表面チャンファ部（Ｗｂ）、ワーク（Ｗ）の裏面が面取りされて形成されかつワーク（Ｗ）の中心面に対して所定の傾斜角θを有する断面直線状の裏面チャンファ部（Ｗｃ）、およびこれらの間にあって最も径が大きい断面曲線状の外周部（Ｗａ）を有した形状とされることがあり、また、図３（ｃ）に示すように、最も径が大きい部分の外周面（Ｗａ）は円筒面とされ、さらに、外周面（Ｗａ）とチャンファ部（Ｗｂ）（Ｗｃ）との間に、断面曲線状または直線状の中間部（Ｗｄ）（Ｗｅ）が設けられることもある。
【００３１】
図２に拡大して示すように、研磨部材（２）の研磨面（３）は、ワーク（Ｗ）の外周面（Ｗａ）を研磨する円筒状の外周研磨面（３ａ）と、ワーク（Ｗ）の中心面に対して所定の傾斜角を有するワーク表面チャンファ部（Ｗｂ）を研磨する表面チャンファ部研磨面（３ｂ）と、ワーク（Ｗ）の中心面に対して所定の傾斜角θを有するワーク裏面チャンファ部（Ｗｃ）を研磨する裏面チャンファ部研磨面（３ｃ）と、外周研磨面（３ａ）と表面チャンファ部研磨面（３ｂ）との間にあり、一端が外周研磨面（３ａ）に連なるように大径部とされ、他端が表面チャンファ部研磨面（３ｂ）に連なるように小径とされた表側中間研磨面（３ｄ）と、外周研磨面（３ａ）と裏面チャンファ部研磨面（３ｃ）との間にあり、一端が外周研磨面（３ａ）に連なるように大径部とされ、他端が裏面チャンファ部研磨面（３ｃ）に連なるように小径とされた裏側中間研磨面（３ｅ）とを有している。図示した例では、各研磨面（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）は、上から、表面チャンファ部研磨面（３ｂ）、表側中間研磨面（３ｄ）、外周研磨面（３ａ）、裏側中間研磨面（３ｅ）および裏面チャンファ部研磨面（３ｃ）の順序で配置されている。
【００３２】
この発明の円盤状ワーク外周部研磨装置（１）によると、図４に拡大して示すように、ワーク（Ｗ）の外周面（Ｗａ）を研磨する際には、ワーク（Ｗ）は、同図に実線で示す水平位置に保持され、研磨部材（２）の外周研磨面（３ａ）によって研磨される。この際、水平方向シリンダ（１３）によって適切な押し付け力が水平方向に付与される。また、ワーク（Ｗ）の表面チャンファ部（Ｗｂ）または裏面チャンファ部（Ｗｃ）を研磨する際には、同図に二点鎖線で示す傾斜位置に保持され、研磨部材（２）のチャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）によって研磨される。表面チャンファ部（Ｗｂ）を研磨する場合には、垂直シリンダ（１２）および水平シリンダ（１３）によってワーク（Ｗ）には右上向きに適切な押し付け力が付与され、裏面チャンファ部（Ｗｃ）を研磨する場合には、垂直シリンダ（１２）および水平シリンダ（１３）によってワーク（Ｗ）には右下向きに適切な押し付け力が付与される。同様にして、ワーク（Ｗ）の外周面（Ｗａ）とチャンファ部（Ｗｂ）（Ｗｃ）との間の部分が対応する表側中間研磨面（３ｄ）および裏側中間研磨面（３ｅ）によってそれぞれ研磨される。この間、ワーク（Ｗ）は、設定された範囲内を所要の速度で上下に移動させられ、１回の着脱操作によってワーク（Ｗ）の要研磨部分のすべての研磨が終了する。
【００３３】
チャンファ部（Ｗｂ）（Ｗｃ）研磨時のワーク（Ｗ）の位置および傾斜角度は、チャンファ部（Ｗｂ）（Ｗｃ）と研磨部材（２）のチャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）との接触長が最大となるように制御される。適切な位置制御を行うことにより、図５に示すように、例えば、チャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）の両側の径をそれぞれφ３００およびφ３５０とし、ワーク（Ｗ）の傾斜角度を３．５°程度とした場合、チャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）は、φ３００とφ３５０の範囲で、ワーク（Ｗ）の約半分の範囲（角度αおよび斜線で示されている範囲）で均等に接触し、効率的な研磨が可能となる。なお、接触領域を大きくするためには、外周研磨面（３ａ）の直径とワーク（Ｗ）の直径との差をできるだけ小さくすることが好ましい。
【００３４】
なお、研磨部材（２）の各研磨面（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）は、図２に示すように、互いに連続するように形成されていてももちろんよいが、所定の間隔をおいて分離されていてもよく、また、図６に示すように、外周研磨面（３ａ）およびチャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）を有する第１の研磨部材（２Ａ）（同図（ａ）に示すもの）と、外周研磨面（３ａ）および中間研磨面（３ｄ）（３ｅ）を有する第２の研磨部材（２Ｂ）（同図（ｂ）に示すもの）との２種類の研磨部材（２Ａ）（２Ｂ）によって研磨するようにしてもよい。さらにまた、図７に例示するように、外周研磨面（３ａ）、表面チャンファ部研磨面（３ｂ）、裏面チャンファ部研磨面（３ｃ）、表側中間研磨面（３ｄ）および裏側中間研磨面（３ｅ）の配置順序は、図２または図６のものに限られるものではなく、また、中間部分の径が端部の径より相対的に大きくする必要もない。
【００３５】
円盤状ワーク外周部研磨装置（１）により研磨する際には、加工液（研磨液）が使用されるが、加工液は、例えば、ワーク（Ｗ）の吸着される面側ではワーク保持部（真空チャック）（４）に当たるようにかつワーク（Ｗ）と研磨面（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）が接触する手前で供給され、ワーク（Ｗ）の他方の面側ではワーク（Ｗ）と研磨面（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）が接触する手前の加工面に供給される。良好な研磨を行うためには、加工液が研磨面（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）上に溜まることなく、その研磨廃液がきれいな加工液に置き換えられることが好ましい。
【００３６】
図８には、研磨廃液を外部に排出しやすい研磨部材（２）の例を示す。図８（ａ）および（ｂ）に示す研磨部材（２）の研磨バフ（８）は、図６（ａ）に示されているものと同じであり、その外周研磨面（３ａ）の両側にチャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）が設けられたものである。そして、この研磨バフ（８）には、外周研磨面（３ａ）から外部へ通じる加工液抜き用孔（１７）（１８）が形成されている。したがって、遠心力によって外周研磨面（３ａ）上に移動した研磨廃液は、この加工液抜き用孔（１７）（１８）から外部へ排出され、きれいな加工液が研磨面（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）に常にあるようにすることができる。図８（ｃ）に示す研磨部材（２）の研磨バフ（８）は、図７（ａ）に示されているものと同じであり、隣り合うチャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）同士が互いの大径側で隣接するように設けられたものである。そして、この研磨バフ（８）には、チャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）同士が隣接する部分（すなわち最大径部分）に、研磨面（３ｂ）（３ｃ）から外部へ通じる加工液抜き用孔（１９）が形成されている。したがって、遠心力によってチャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）同士が隣接する部分に移動した研磨廃液は、この加工液抜き用孔（１９）から外部へ排出され、きれいな加工液が研磨面（３ａ）（３ｂ）（３ｃ）に常にあるようにすることができる。図示省略するが、図７の（ｃ）から（ｇ）までに示されている研磨部材については、隣り合う研磨面（チャンファ部研磨面（３ｂ）（３ｃ）同士または中間研磨面（３ｄ）（３ｅ）同士）が互いの大径側で隣接する部分に、研磨面（３ｂ）（３ｃ）（３ｄ）（３ｅ）から外部へ通じる加工液抜き用孔が形成されているようにすればよい。
【００３７】
なお、本実施の形態では、装置設置の基準を水平面として水平や垂直等表現をとっているがこれに限るものではなく、装置設置の基準が水平以外になれば、それに対応してそれぞれの方向性に関する表現が変わることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による円盤状ワーク外周部研磨装置を示す正面図である。
【図２】研磨部材を示す断面図である。
【図３】研磨対象となるワークの形状の一例を示す図である。
【図４】この発明による円盤状ワーク外周部研磨装置によりワークを研磨している状態を示す要部の拡大断面図である。
【図５】研磨部材とワークとの接触状態を示す平面図である。
【図６】研磨部材の変形例を示す図である。
【図７】研磨部材のさらなる変形例を示す図である。
【図８】研磨部材に設けられる加工液抜き孔の配置例を示す図である。
【符号の説明】
（１）            円盤状ワーク外周部研磨装置
（２）            研磨部材
（３）            研磨面
（３ａ）          外周研磨面
（３ｂ）          表面チャンファ部研磨面
（３ｃ）          裏面チャンファ部研磨面
（３ｄ）          表側中間研磨面
（３ｅ）          裏側中間研磨面
（４）            真空チャック（ワーク保持手段）
（５）            ワーク回転手段
（６）            研磨部材回転手段
（１７）（１８）（１９）  加工液抜き用孔
（Ｗ）            ワーク
（Ｗａ）          外周面
（Ｗｂ）（Ｗｃ）      チャンファ部
【図１】
2004154880.tif 000003
【図２】
2004154880.tif 000004
【図３】
2004154880.tif 000005
【図４】
2004154880.tif 000006
【図５】
2004154880.tif 000007
【図６】
2004154880.tif 000008
【図７】
2004154880.tif 000009
【図８】
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