(57)【要約】【課題】　ガラス基板の大きさに関係なく、ガラス基板の板厚を薄くしつつ、表面を均一に平坦化することができ、ガラスの再利用が可能である各種フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の化学加工方法及び化学加工装置を提供することを主たる目的とする。【解決手段】　フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽１１の底部から気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬して、ガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工する。【選択図】　図１
2004099437.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽の底部から気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬して、ガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工することを特徴とするガラス基板の化学加工方法。
【請求項２】
上昇液流を化学加工液貯溜槽の周縁部から溢出させる請求項１に記載のガラス基板の化学加工方法。
【請求項３】
化学加工液貯溜槽の周縁部から溢出させた化学加工液を再度、化学加工液貯溜槽に供給する請求項２に記載のガラス基板の化学加工方法。
【請求項４】
化学加工液貯溜槽の周縁部から溢出させた化学加工液をフィルターに通し、化学加工により生じた反応生成物を除去した後、化学加工液貯溜槽に供給する請求項３に記載のガラス基板の化学加工方法。
【請求項５】
化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽を備えた化学加工装置において、気泡発生装置と、前記化学加工液貯溜槽から溢出させた化学加工液を受ける溢出液受け槽と、前記溢出液受け槽に受けた化学加工液を再度、化学加工液貯溜槽に送るポンプとを備えたことを特徴とする化学加工装置。
【請求項６】
ガラス基板若しくは一対のガラス基板を貼り合わせたものの１又は複数を配置するためのガラス基板収納治具を備える請求項５記載の化学加工装置。
【請求項７】
超音波振動子又は揺動攪拌翼を供える請求項５または請求項６に記載の化学加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、各種ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、例えばＬＣＤ（液晶ディスプレイ）用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）用ガラス基板等の１枚或いは一対の貼り合せ基板の外表面の片側の一部或いは全面、或いは外表面の両側を加工することを特徴とするガラス基板の化学加工方法及びその実施に用いる化学加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
　従来のガラス基板の加工方法には物理的な方法と化学的な方法がある。物理的な方法には、機械を用いた加工やブラストによる加工があり、化学的な方法にはウェットエッチングによる加工がある。最近では、以下に示すような品質改善が要求される趨勢にある。
１）ガラス基板に元々存在する表面キズを無くす。
２）パターニングされた薄膜を剥離した基板に残っているパターン跡を無くす。
３）ガラス基板の外表面の片側の全部を薄くし、その平坦性を高める。
４）ガラス基板の外表面の両側の全部を薄くし、その平坦性を高める。
５）ガラス基板の外表面の片側の一部に凹み部を作製し、各部の寸法と各面の平坦性を高める。
６）ガラス基板の外表面の両側の一部に凹み部を作製し、各部の寸法と各面の平坦性を高める。
７）３）〜６）のガラス基板を２枚の貼り合わせ基板と読み替えて、同じ目的のことを行なう。
【０００３】
　前記品質改善項目のうち、例えば１）〜４）に対して、従来の機械を用いた加工、例えば機械研磨では、平坦性の不足、割れや表面キズの発生、研磨模様の残留、研磨能力の限界等、避けられない課題が残る。一方、従来のウェットエッチングによる加工では、ガラス基板に初めから存在する表面キズ及びパターン跡を無くすのは困難であり、板厚を薄くする場合でも下記の例に示すように種々の問題が発生し、素ガラスと同等以上の品質を確保するのは困難であった。以降、代表例として液晶ガラス基板を対象として記述を進めていく。
【０００４】
　例えば、特許第2722798号公報には、液晶表示素子複数個分の面積を有する一対のガラス基板を各素子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシール材を介して接着して素子集合体を組み立て、この素子集合体をフッ酸をベースとするエッチング液に浸漬して液晶ガラス基板の外面をエッチングする方法が開示されているが、板厚を薄くすることはできても後述する欠陥が生じるという問題がある。
【０００５】
　また、特開2000-147474号公報には、フッ酸を含むエッチング溶液を貯溜するエッチング溶液槽の底部に気泡発生装置を備え、この気泡発生装置から発生した気泡によって前記エッチング溶液を攪拌して、エッチング溶液槽に入れたガラスの表面をエッチングする自動エッチング装置の発明が開示されているが、１５〜１７％のフッ酸を用いて液晶ガラス基板の外面を加工した場合、後述する欠陥が生じるという問題がある。
【０００６】
　この発明においては、窒素ガス上昇気泡により加工液を攪拌させることによりガラス表面の均一な加工を実現しようとしているが、上昇した気泡と加工液とが液表面に達した後に下降する流れが上昇流の均一性を阻害するので、表面が均一に加工されないという問題がある。
【０００７】
　上述の２つの例に示した従来のウェットエッチングにより、５０〜３００μｍ加工した場合の問題点を以下に示す。
１）蛍光灯下でも確認できる白濁が発生する。
２）最大０．２ｍｍ径のピットが発生する。図１２は加工後の表面粗度計により測定した結果を示したグラフである。
３）ピットの直径は加工量の増大とともに大きくなる。図１３はピットの直径と加工量との関係を示したグラフである。
４）最大５０個／ｃｍ2のピットが発生する。図１４は単位面積当りのピット数と加工量との関係を示したグラフである。図１４より単位面積当りのピット数は加工量の増大とともに増加することが判る。
５）蛍光灯下で見えるウネリが発生する。図１５は加工後の表面のウネリの状態を示したグラフである。
６）板厚の最大値と最小値との差が２０〜１００μｍであり、不均一である。
７）加工前に人為的に付けた表面キズが加工により、幅も深さも大きくなる（図１６及び１７参照）。図１６は加工前に意図的にキズを付けた表面の断面を示すグラフであり、図１７は加工後の表面の断面を示すグラフである。
【０００８】
　また、例えば液晶ガラス基板にＣｒをスパッタリング後、カラーフィルター用画素をパターニングした場合、その基板が不良になったときには、通常、パターニングされたＣｒを剥離して機械研磨を行ない、パターン跡を消すことにより素ガラスとして再利用しているが、機械研磨に代えて従来のウェットエッチングを実施した場合はパターン跡が消えず、素ガラスとして再利用できないという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
　本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、フッ酸を主成分とした化学加工液に、ガラス基板を浸漬し、ガラス基板の外表面の片側の一部或いは全面、或いは外表面の両側を所定の形状に加工することにより、各種フッ化物の反応生成物をガラス基板の表面に再付着させることなく、平坦性の高いガラス基板表面を得ることができる各種ＦＰＤ用ガラス基板の化学加工方法を提供することを目的とする。
【００１０】
　また、本発明は、化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽を備えた化学加工装置において、気泡発生装置と、前記化学加工液貯溜槽から溢出させた化学加工液を受ける溢出液受け槽と、前記溢出液受け槽に受けた化学加工液を再度、化学加工液貯溜槽に送るポンプとを備えた化学加工装置を提供することを目的とする。
【００１１】
　そして、本発明は、ガラス基板若しくは一対のガラス基板を貼り合わせたものの１又は複数を配するためのガラス基板収納治具を備えることにより、ガラス基板若しくは一対のガラス基板を貼り合わせたものを同時に複数枚、均一に加工することができる化学加工装置を提供することを目的とする。
【００１２】
　さらに、本発明は、超音波振動子又は揺動攪拌翼を備えることにより、より均一に化学加工液を攪拌することができる化学加工装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
　第１発明のガラス基板の化学加工方法は、フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽の底部から気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬してガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工することを特徴とする。
【００１４】
　第２発明のガラス基板の化学加工方法は、第１発明において、前記上昇液流を前記化学加工液貯溜槽の周縁部から溢出させることを特徴とする。第３発明のガラス基板の化学加工方法は、第２発明において、前記化学加工液貯溜槽の周縁部から溢出させた化学加工液を再度、前記化学加工液貯溜槽に供給することを特徴とする。第４発明のガラス基板の化学加工方法は、第３発明において、前記化学加工液貯溜槽の周縁部から溢出させた化学加工液をフィルターに通し、化学加工により生じた反応生成物を除去した後、前記化学加工液貯溜槽に供給することを特徴とする。
【００１５】
　第１乃至第４発明においては、化学加工液を均一に上昇させるので、ガラス基板の表面に常に新鮮な加工液が供給されるとともに、反応生成物がガラス基板の表面に物理的に再付着するのが防止される。加工速度は拡散速度及び反応速度から決まるが、ガラス基板の表面の凸部においては微細気泡の上昇流によって、常に活性な化学加工液が供給されるので、反応律速となり、加工速度は十分に速くなる。これに対して、ガラス基板の表面の凹部は、加工液がよどんだ状態にあるので、拡散律速となり、加工速度が遅くなる。したがって、微細気泡の上昇流によって加工速度を制御することができ、ガラス基板の厚みを薄くしつつ、表面を平坦化させることができる。また、ガラス基板の表面に初めから存在していたキズを無くすことができ、ガラスの再利用が可能となる。
【００１６】
　第２発明においては、化学加工液の上昇液流が化学加工液貯溜槽の表面に達した後に下降して、以後に化学加工液が均一に上昇するのを阻害することがないので、ガラス基板の表面をより均一に研磨することができる。第３発明においては、化学加工液をスムーズに循環させることができる。第４発明においては、化学加工液中の反応生成物がガラス基板の表面に付着するのを防止することができる。
【００１７】
　第５発明の化学加工装置は、化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽を備えた化学加工装置において、気泡発生装置と、前記化学加工液貯溜槽から溢出させた化学加工液を受ける溢出液受け槽と、前記溢出液受け槽に受けた化学加工液を再度、化学加工液貯溜槽に送るポンプとを備えている。気泡発生装置は、好適には、ガスの導入を受け、多孔質から成る気泡吐出部から吐出するものである。なお、ポンプによる循環流路には、研磨により生じた反応生成物を除去するためのフィルター、及び／又は、前記気泡発生装置の下側に配され、前記ポンプにより送り出された化学加工液を前記化学加工液貯溜槽に吐出するための多数の孔を有した化学加工液吐出装置を設けるのが好ましい。
【００１８】
　第５発明においては、化学加工液を均一に上昇させて、溢出させて再度化学加工液貯溜槽に供給することができ、更に、フィルターを設ければ、反応生成物を除去した後の加工液を循環させることができる。したがって、均質な化学加工液を得ることができる上、フィルターを用いるだけで、ガラス基板の表面に常に新鮮な加工液が供給される。また、反応生成物がガラス基板の表面に物理的に再付着するのを防止することもできる。ガラス基板の表面の凸部においては微細気泡の上昇流によって、常に活性な化学加工液が供給されるので、反応律速となり、加工速度は十分に速くなり、ガラス基板の表面の凹部は、加工液がよどんだ状態にあるので、拡散律速となり、加工速度が遅くなるので、結果として、ガラス基板の厚みを薄くしつつ、表面を平坦化させることができる。
【００１９】
　第６発明の化学加工装置は、第５発明において、ガラス基板若しくは一対のガラス基板を貼り合わせたものの１又は複数を配するためのガラス基板収納治具を備えることを特徴とする。第６発明においては、ガラス基板又は一対のガラス基板を貼り合わせたものを同時に複数枚、均一に加工することができる。
【００２０】
　第７発明の化学加工装置は、第５又は第６発明において、超音波振動子又は揺動攪拌翼を備えることを特徴とする。第７発明においては、より均一に化学加工液を攪拌することができる。
【発明の効果】
【００２１】
　以上詳述したように、第１発明による場合は、フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽の底部から微細気泡を伴なう上昇液流を発生させ、その加工液中にガラス基板を浸漬し、前記ガラス基板の外表面の片側の一部或いは全面、或いは外表面の両側を加工すること、並びに各種フッ化物を前記ガラス基板の表面に再付着しないようにすることによって、ガラス基板の板厚を薄くするとともに、表面を平坦化させることができる。
【００２２】
　第１乃至第４発明による場合は、化学加工液を均一に上昇させるので、ガラス基板の表面に常に新鮮な加工液が供給されるとともに、反応生成物がガラス基板の表面に物理的に再付着するのが防止される。したがって、気泡の上昇流により加工速度を制御することができ、ガラス基板の厚みを薄くしつつ表面をより平坦化することができる。そして、本発明の化学加工方法により、ガラス基板の大きさに関係なく、生産性高く均一に加工を実施することができる。また、ガラス基板の表面に初めから存在していたキズを無くすことができ、ガラスの再利用が可能となる。
【００２３】
　第５発明による場合は、化学加工液を均一に上昇させ、溢出させて、反応生成物を除去した後、再度化学加工液貯溜槽に供給し、化学加工液を循環させるので、ガラス基板の表面に常に新鮮な化学加工液が供給されるとともに、反応生成物がガラス基板の表面に物理的に再付着するのが防止される。ガラス基板の表面の凸部では、気泡の上昇流によって常に活性な化学加工液が供給されるので、反応律速となって加工速度が十分に速くなり、液晶ガラス基板の凹部では、加工液がよどんだ状態にあるので、拡散律速となって加工速度が遅くなるので、結果として、ガラス基板の厚みを薄くしつつ、表面を平坦化させることができる。
【００２４】
　第６発明による場合は、ガラス基板又は一対のガラス基板を貼り合わせたものを同時に複数枚、均一に加工することができる。第７発明による場合は、超音波振動子又は揺動攪拌翼を備えるので、より均一に化学加工液を攪拌することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
　以下に、本発明をその実施の形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。図１は、本発明の化学加工装置の一例を示す断面図である。化学加工装置１は化学加工液貯溜槽１１を備えており、化学加工液貯溜槽１１の底部には、ガスを導入して、多孔質からなる気泡吐出部１２ａから吐出すべく構成された気泡発生装置１２が配置されており、気泡発生装置１２の上側には、ガラス基板又は一対のガラス基板を貼り合わせたものを縦方向に挿入して保持するためのガラス基板収納治具１８が配置されている。このガラス基板収納治具１８は、ガラス基板収納治具用保持具１７の中に配置されている。化学加工液貯溜槽１１には、フッ酸を主成分とした化学加工液が投入される。
【００２６】
　化学加工液貯溜槽１１の周縁部には、化学加工液貯溜槽１１から溢出させた前記化学加工液を受ける溢出液受け槽１３が設けられており、溢出液受け槽１３には、加工により生じた反応生成物を除去するためのフィルター１４、及びこのフィルター１４により濾過された化学加工液を再度化学加工液貯溜槽１１に送るためのポンプ１５が連結されている。そして、気泡発生装置１２の下側に配され、ポンプ１５により送り出された化学加工液を化学加工液貯溜槽の底部に向けて吐出するための多数の孔を有する化学加工液吐出部１６ａを備えた化学加工液吐出装置１６により、再度、化学加工液が化学加工液貯溜槽１１に供給される。
【００２７】
　また、化学加工装置１には、超音波振動子又は揺動攪拌翼を備えてもよい（図示せず）。この場合には、化学加工液をより均一に攪拌することができる。
【００２８】
　図２は、気泡発生装置１２の一例を示す斜視図である。気泡発生装置１２は、窒素ガス等のガスを導入するガス導入管１２ｂと、ガス導入管１２ｂに垂直に複数連結された、多孔質からなるパイプ状の気泡吐出部１２ａ，１２ａ，・・・とを備えている。また、図３は他の気泡発生装置１２の気泡吐出部１２ａの一例を示す斜視図である。この気泡吐出部１２ａは多孔質からなり、板状を有している。図２及び図３ともに、気泡吐出部１２ａの孔径は１０〜５００μｍにするのが好ましい。そして、これらの気泡発生装置１２を液晶ガラス基板収納治具用保持具１７の下側に配置して、微細気泡を上方に吐出させ、化学加工液を均一に上昇させる。この上昇液流により、ガラス基板の表面に常に新鮮な化学加工液を供給することができるとともに、フッ化物等の反応生成物がガラス基板の表面に再付着するのを防止することができる。
【００２９】
　微細気泡の上昇流が化学加工液の表面に達した後は、化学加工液貯溜槽１１の周縁部から溢出し、溢出液受け槽１３で受けられ、フィルター１４を通した後、再度、化学加工液貯溜槽１１に供給される。化学加工液を溢出させない場合、上昇液流が下降液流に転じる部分の断面積が小さいと、下降液流が上昇液流と交錯して均一な上昇液流が確保できなくなる。図４は、化学加工液貯溜槽１１及びガラス基板収納治具用保持具１７の一例を示す平面図である。図４に示したように、ガラス基板収納治具用保持具１７の外側部分に相当する下降液流の通過断面積が、ガラス基板収納治具用保持具１７の内側部分に相当する上昇液流の通過断面積の１〜３倍である場合、均一な上昇液流が確保できることが確保されている。
【００３０】
　ガラス基板の成分と化学加工液とのフッ化物等の反応生成物は、微細気泡の上昇流によって上昇するが、これが化学加工液貯溜槽１１内を循環して化学加工液貯溜槽１１の底部に堆積すると、微細気泡の吐出に悪影響を及ぼすので、反応生成物の堆積を防止する必要がある。図５は、化学加工液吐出装置１６の一例を示す斜視図である。この化学加工液吐出装置１６には、多数の孔を有した化学加工液吐出部１６ａが複数、平行に設けられており、ポンプ１５によって送り出された化学加工液を化学加工液吐出部１６ａから下向き又は斜め下向きに吐出させることにより、化学加工液の供給とともに、反応生成物の堆積を防止するように設計することが好ましい。
【実施例】
【００３１】
　以下に、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
［実施例１］本発明の化学加工装置１を用いて、素ガラスの化学加工を行なった例を以下に示す。
（１）素ガラスのサイズとそれぞれの目標の化学加工量No.1；縦320mm×横400mm×厚み1.1mm。目標の化学加工量；0.3mm。
No.2；縦400mm×横500mm×厚み0.7mm。目標の化学加工量；0.2mm。
（２）化学加工液の組成水を溶媒として、フッ酸５％、塩酸１０％、硝酸５％を含有する化学加工液を使用した。
（３）素ガラスの受入検査と最終検査の方法
＜板厚測定＞超音波式板厚計を用いて図６に示した測定位置の板厚を測定した。
＜外観検査＞検査機器として蛍光灯（1500Lx以上）、集光灯（１万Lx以上）を使用し、検査機器の光源からガラス基板までの距離とガラス基板から測定者までの距離を共に３００ｍｍにして、ガラス基板に対する反射光と透過光を目視で確認した。
（４）実験結果
＜加工速度＞素ガラスの片面に対して２．５μｍ／分であった。
＜板厚＞表１に超音波板厚計によって測定した素ガラスの板厚を示した。
【００３２】
【表１】
2004099437.tif 000003
＜キズの有無＞図７に化学加工前後における素ガラスのキズの有無を検査した結果を示した。図７より、化学加工前に存在したキズが化学加工により消失したことが判る。
＜表面の平坦性＞No.2の素ガラスを化学加工した後の表面状態を測定した結果を図８に示した。表１及び図８より、素ガラスの各位置において、均一に目標量を加工することができ、素ガラスの表面が平坦化されたことが判る。
【００３３】
　［実施例２］
　化学研磨装置１を用いて、２枚の貼り合わせ液晶ガラス基板の化学加工を行なった例を示す。
（１）貼り合わせ液晶ガラス基板のサイズとそれぞれの目標の化学加工量No.3；400mm×500mm×1.4mm。目標の化学加工量；両面合わせて0.4mm。
（２）化学加工液の組成実施例１と同じ。
（３）受入検査と最終検査の方法板厚測定；２枚の貼り合わせ液晶ガラス基板の表側の測定位置を図１０に、裏側の測定位置を図１１に示した。
外観検査；実施例１と同様に行なった。
（４）実験結果
＜加工速度＞貼り合わせ液晶ガラス基板の片面に対して２．５μｍ／分であった。
＜板厚＞表２に超音波板厚計によって測定した結果を示した。
【００３４】
【表２】
2004099437.tif 000004
＜キズの有無＞化学加工前後におけるキズの有無を検査した結果を図９に示した。図９より、化学加工前に存在したキズが化学加工により消失したことが判る。
＜表面の平坦性＞表２から、貼り合わせガラス基板の各位置において、均一に目標量を加工することができ、表面が平坦化されていることが判る。
【００３５】
　［実施例３］
　カラーフィルター用画素がＣｒでパターニングされた液晶ガラス基板が不良になったので、Ｃｒを剥離した後、パターン跡を無くすため化学加工装置１により化学加工を行なった。
（１）Ｃｒ剥離後のガラス基板のサイズとそれぞれの目標の化学加工量No.4；縦400mm×横500mm×厚み0.7mm。目標の化学加工量；５μｍ。
（２）化学加工液の組成実施例１と同様のものを用いた。
（３）受入検査と最終検査の方法板厚測定；超音波式板厚計を用いて図６に示した測定位置の板厚を測定した。
外観検査；実施例１と同様に行なった。
（４）実験結果
＜加工速度＞ガラス基板の片面に対して２．５μｍ／分であった。
＜板厚＞表３に超音波板厚計によって測定した結果を示した。
【００３６】
【表３】
2004099437.tif 000005
＜パターン跡の有無＞パターン跡は化学加工により全て消失していることが確認された。
＜表面の平坦性＞表３とパターン跡の消失結果から、液晶ガラス基板を均一に目標量加工することができ、表面が平坦化されたことが判る。
【００３７】
　以上のように本発明の化学加工方法を実施することにより、液晶ガラス基板の板厚を薄くしつつ、表面を平坦化できることが確認された。また、液晶ガラス基板の表面に初めから存在していたキズを消失させることができるのいでガラスの再利用が可能となる。さらに、本発明の化学加工方法においては、ガラス基板の大きさに関係なく生産性高くガラス基板の加工を実施することができる。なお、本発明の化学加工装置１は前記実施の形態において説明したものに限定されるものではなく、本発明の目的を損なわない限り種々の設計変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明に係る化学加工装置の一例を示す断面図である。
【図２】気泡発生装置の第一実施例を示す斜視図である。
【図３】気泡発生装置の第二実施例を示す斜視図である。
【図４】化学加工液貯溜槽及びガラス基板収納治具用保持具の一例を示す平面図である。
【図５】化学加工液吐出装置の一例を示す斜視図である。
【図６】実施例１のガラス基板の板厚の測定位置を示す平面図である。
【図７】化学加工の前後で表面キズの有無を調べた結果を示す平面図である。
【図８】表面粗度計により実施例１のガラス基板の表面状態を調べた結果を示す平面図である。
【図９】化学加工の前後でキズの有無を調べた結果を示す平面図である。
【図１０】実施例２のガラス基板を２枚貼り合わせたものの外側表面の板厚の測定位置を示した平面図である。
【図１１】実施例２のガラス基板を２枚貼り合わせたものの外側裏面の板厚の測定位置を示した平面図である。
【図１２】従来の化学加工方法により加工した後の表面を測定した結果を示すグラフである。
【図１３】ピットの直径と加工量との関係を示したグラフである。
【図１４】単位面積当りのピット数と加工量との関係を示したグラフである。
【図１５】加工後の表面のウネリの状態を示したグラフである。
【図１６】加工前に意図的にキズを付けた表面の断面を示すグラフである。
【図１７】加工後の表面の断面を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３９】
１　化学加工装置
１１　化学加工液貯溜槽
１２　気泡発生装置
１２ａ　気泡吐出部
１３　溢出液受け槽
１４　フィルター
１５　ポンプ
１６　化学加工液吐出装置
１７　ガラス基板収納治具用保持具
１８　ガラス基板収納治具
【図１】
2004099437.tif 000006
【図２】
2004099437.tif 000007
【図３】
2004099437.tif 000008
【図４】
2004099437.tif 000009
【図５】
2004099437.tif 000010
【図６】
2004099437.tif 000011
【図７】
2004099437.tif 000012
【図８】
2004099437.tif 000013
【図９】
2004099437.tif 000014
【図１０】
2004099437.tif 000015
【図１１】
2004099437.tif 000016
【図１２】
2004099437.tif 000017
【図１３】
2004099437.tif 000018
【図１４】
2004099437.tif 000019
【図１５】
2004099437.tif 000020
【図１６】
2004099437.tif 000021
【図１７】
2004099437.tif 000022