(57)【要約】【課題】本発明は、ブロックポリイソシアネート、その製造及び一成分コーティング材料へのその利用に関する。【解決手段】少なくとも二つのイソシアネート基を有する有機ポリイソシアネートについて、イソシアネート基が、一般式（Ｉ）で示されるＣＨ酸性環状ケトンを用いてブロックされている。本発明のブロックポリイソシアネート系は、ブロック剤を放出をすることなく反応し、低い架橋温度を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも二つのイソシアネート基を有する有機ポリイソシアネートであって、
イソシアネート基は、下記一般式（Ｉ）：
【化学式１】
2004035552.tif 000015
［式中、
Ｘは、電子吸引基を示し、
Ｒ１及びＲ２は、相互に独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキル基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリール基、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルエステル基もしくはＣ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルアミド基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールエステル基もしくはＣ６〜Ｃ２４のアリールアミド基、１〜２４の炭素原子を有する脂肪族／芳香族が混在した基であって、Ｒ１及びＲ２は、４〜８員環の一部であってもよい、
ｎは、０〜５の整数である。］
で示されるＣＨ−酸性環状ケトンでブロックされており、
全体のブロックされたイソシアネート基の（ＮＣＯとして計算された）含有量は、２５〜０．１重量％である有機ポリイソシアネート。
【請求項２】
電子吸引基Ｘは、エステル−アミド基、スルホキサイド基、スルホン基、ニトロ基、ホスホネート基、ニトリル基、イソニトリル基、ポリハロアルキル基、ハロゲン基及びカルボニル基から成る群から選択される請求項１に記載の有機ポリイソシアネート。
【請求項３】
一般式（Ｉ）で示されるＣＨ−酸性環状ケトンは、シクロペンタノン２−カルボキシメチルエステル、シクロペンタノン２−カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン−２−カルボニトリル、シクロヘキサノン２−カルボキシメチルエステル、シクロヘキサノン２−カルボキシエチルエステル及びシクロペンタノン−２−カルボニルメチルから選択される一つである請求項１に記載の有機ポリイソシアネート。
【請求項４】
一般式（Ｉ）で示されるＣＨ−酸性環状ケトンは、シクロペンタノン２−カルボキシメチルエステル、シクロペンタノン２−カルボキシエチルエステル、シクロヘキサノン２−カルボキシメチルエステル及びシクロヘキサノン２−カルボキシエチルエステルから選択される一つである請求項１に記載の有機ポリイソシアネート。
【請求項５】
請求項１に記載の有機ポリイソシアネートの製造方法であって、
ポリイソシアネートを、下記式（Ｉ）：
【化学式２】
2004035552.tif 000016
［式中、
Ｘは、電子吸引基を示し、
Ｒ１及びＲ２は、相互に独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキル基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリール基、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルエステル基もしくはＣ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルアミド基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールエステル基もしくはＣ６〜Ｃ２４のアリールアミド基、１〜２４の炭素原子を有する脂肪族／芳香族が混在した基であって、Ｒ１及びＲ２は、４〜８員環の一部であってもよい、
ｎは、０〜５の整数である。］
で示されるＣＨ−酸性環状ケトンと、
触媒の存在下、ブロックするポリイソシアネートのイソシアネート基の一当量当たり、０．８〜１．２モルの式（Ｉ）の環状ケトンを用いて反応させる製造方法。
【請求項６】
有機ポリイソシアネートは、ウレトジオン、イソシアヌレート、イミノオキサジアジンジオン、アシルウレア、ビウレット及びアロファネート構造の一つを含む請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
アルカリ金属塩基、アルカリ土類金属塩基、亜鉛の塩及び他のルイス酸の一つを、触媒として使用する請求項５に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載の有機ポリイソシアネートを配合物に加えることを含んで成る、ポリウレタンコーティング材料の製造方法。
【請求項９】
ポリウレタンコーティング材料は、一成分ポリウレタン焼付ワニスである請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の有機ポリイソシアネートを含んで成るポリウレタンコーティング材料。
【請求項１１】
請求項９に記載のコーティング材料をコイルに塗工することを含んで成るコイルのコーティング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブロックポリイソシアネート、それの製造及び一成分コーティング材料（もしくは一成分系塗料）での使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
イソシアネート基を一時的に保護するためにポリイソシアネートをブロックすることは、既知の作業方法であり、例えば、ＨｏｕｂｅｎＷｅｙｌ，ＭｅｔｈｏｄｅｎｄｅｒｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎＣｈｅｍｉｅＸＩＶ／２，ｐｐ．６１―７０に記載されている。ブロックポリイソシアネートを含んで成る硬化性組成物は、例えば、ポリウレタン（ＰＵ）コーティング材料に使用される。
【０００３】
ブロックポリイソシアネートを、ＯＨ含有重縮合物又は付加ポリマー（ポリエステル又はポリアクリレート）とブレンドすることで、ポリウレタン焼付ワニス用一成分保存安定性バインダーを製造することが既知である。
【０００４】
これらの一成分コーティング材料中で、ブロック剤は下記の二つの機能を果たす：第一に、ＯＨ成分と、それがブロックするＮＣＯ基との早まった反応を防止し、第二に、そのブロックが外れる特定の特性のために、それは特定の温度範囲内でコーティング材料の硬化を制御する。しかし、これらの必要な性質と同様に、個々のブロック剤は、例えば、結晶化もしくは黄変性、不十分な経済性、環境問題および重大な生理的な影響等の好ましくない性質も伴う。
【０００５】
このことを、ブタノンオキシム及び３，５−ジメチルピラゾールを例として用いて説明することができる。両方のブロック剤は、既知の塗料ポリイソシアネートと容易に相溶し、１３０〜１４０℃で約３０分以内でブロックが外れる。不利な面としては、ブタノンオキシムは、焼付られたコーティングの熱的黄変をもたらし、そのもの自体が、毒性の点から好ましくない。ジメチルピラゾールは、アセチルアセトンとヒドラジン水和物から製造するので比較的高価であり、不快な臭いをコーティングにもたらす（例えば、Ｔ．Ｅｎｇｂｅｒｔ，Ｅ．Ｋｏｅｎｉｇ，Ｅ．Ｊｕｅｒｇｅｎｓ，Ｆａｒｂｅ＆Ｌａｃｋ，ＣｕｒｔＲ．ＶｉｎｃｅｎｔｚＶｅｒｌａｒｇ，Ｈａｎｏｖｅｒ９７／１９９６を参照）。
【０００６】
更に、コーティング膜からのブロック剤の除去及びその気体の状態は、コーティング中にブリスター（もしくは膨れ）をもたらし得る。適当な場合、放出されたブロック剤の焼却が必要となり得る。主に適当なブロック剤の概観は、例えば、Ｗｉｃｋｓｅｔａｌ．によるＰｒｏｇｒｅｓｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＣｏａｔｉｎｇｓ１９７５，３，７３―７９，１９８１，９，ｐｐ．３―２８及び１９９９，３６，ｐｐ．１４８―１７２に記載されている。
【０００７】
コイルコーティングの分野では、ブロックポリイソシアネートは、２５４℃のＰＭＴ（ｐｅａｋｍｅｔａｌｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）までの焼付温度において極めて短時間内で架橋可能でなければならず、その焼付作業中にポリマーは、ほとんで熱的な黄変を示してはならず、好ましくは全く黄変を示してはならない。必要な焼付温度は、主にブロックポリイソシアネートの反応性及び／又はその製造に用いる触媒に依存する。
【考案の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の簡潔な要約
従って、ブロック剤を放出することなく反応し、低い架橋温度、換言すれば高い反応性を有する新規なブロックポリイソシアネート系（もしくはシステム）を提供するという目的に基づく。更に、これらのブロックポリイソシアネート系は、常温で保存に際して安定であるべきであり、とりわけ適当なポリオール成分と特に組み合わせた場合、一成分コーティング材料、特に焼付ワニスの製造に適当であるべきである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に基づくブロックされたポリイソシアネートとこれらのポリイソシアネートに基づいて得られるバインダーを用いて、この目的を達成することができた。
【００１０】
活性化された環状ケトン構造を有するＣ−Ｈ酸性化合物、好ましくはシクロペンタノン２−カルボキシエステル構造を有するものは、ポリイソシアネートをブロックするために極めて適し、黄変性が低く、好ましくない揮発性物質の放出がないコーティングを与える。
【００１１】
従って、本発明は、活性化された環状ケトンを用いてブロックされたポリイソシアネート、それらの製造方法、及びそれらに基づいて得られ、本発明のブロックポリイソシアネートが有機ポリヒドロキシ化合物用の架橋化合物として用いられることに特徴を有する一成分コーティング材料、特に焼付ワニスを提供する。
【００１２】
発明の詳細な説明
本発明は、有機ポリイソシアネートを配合物に加えて、ポリウレタンコーティング材料を製造することを提供する。これらのコーティング材料は、一成分ポリウレタン焼付ワニスであってよい。これらのコーティング材料を、コイルをコーティングする際に使用し、当業者に既知の方法を用いてコイルに適用（又は塗布）してよい。
【００１３】
ここで、他に特に明示しない限り、全ての数値の範囲、量、値及び百分率、例えば、材料の量、反応時間及び反応温度、量の比、分子量の値及びその他は、明細書の以下の部分において、たとえ用語「約」が、明示的に値、量又は範囲に付されていなくても、まるで用語「約」がその前に付されているように読んでよい。
【００１４】
本発明の製造方法のために、少なくとも二つのイソシアネート基を有する有機ポリイソシアネートを使用する。これらの有機ポリイソシアネート中で、イソシアネート基は、一般式（Ｉ）：
【化学式１】
2004035552.tif 000002
［式中、
Ｘは、電子吸引基を示し、
Ｒ１及びＲ２は、相互に独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキル基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリール基、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルエステル基もしくはＣ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルアミド基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールエステル基もしくはＣ６〜Ｃ２４のアリールアミド基、１〜２４の炭素原子を有する脂肪族／芳香族が混在した基であって、Ｒ１及びＲ２は、４〜８員環の一部であってもよい、
ｎは、０〜５の整数である。］
で示されるＣＨ−酸性環状ケトンでブロックされている。
【００１５】
これらのポリイソシアネートは、０．１〜２５重量％の全体のブロックされたイソシアネート基含有量（ＮＣＯとして計算）を有する。このことは、本出願人による先の出願において記載した（ドイツ国特許明細書ＤＥ−Ａ　１０　１３２　０１６参照）。
【００１６】
ブロックされたイソシアネート基の含有量（ＮＣＯとして計算）は、ポリイソシアネートに基づいて、０．１〜１５．６重量％であることが好ましい。ブロックされたイソシアネート基の含有量（ＮＣＯとして計算）は、０．１〜１４重量％であることがより好ましい。適切である場合、ポリイソシアネートの部分的なブロックが行われてもよい；その後更に、ブロックされていないイソシアネート基を、反応に用いることができる。典型的には、全てのイソシアネート基をブロックする。
【００１７】
電子吸引性基Ｘは、α水素のＣＨ−酸性をもたらすいずれの置換基であってもよい。例えば、エステル基、アミド基、スルホキサイド基、スルホン基、ニトロ基、ホスホネート基、ニトリル基、イソニトリル基、カルボニル基もしくはポリハロアルキル基及びハロゲン（特にフッ素及び塩素）を例示できる。ニトリル基及びエステル基が好ましく、カルボキシリックメチルエステル及びカルボキシリックエチルエステル基がより好ましい。
【００１８】
適当であれば、例えば、酸素、硫黄、窒素原子等のヘテロ原子を環が含んで成る一般式（Ｉ）で示される化合物も適する。
【００１９】
式（Ｉ）で示される活性化された環状ケトンは、５（ｎ＝１）又は６（ｎ＝２）のサイズの環を有することが好ましい。
【００２０】
一般式（Ｉ）で示される好ましい化合物は、シクロペンタノン２−カルボキシメチルエステル及び２−カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン−２−カルボニトリル、シクロヘキサノン２−カルボキシメチルエステル及び２−カルボキシエチルエステル又はシクロペンタノン−２−カルボニルメチルである。特に、シクロペンタノン２−カルボキシメチルエステル及び２−カルボキシエチルエステル、シクロヘキサノン２−カルボキシメチルエステル及び２−カルボキシエチルエステルが好ましい。シクロペンタノンの系は、技術的な観点から、ジメチルアジペート又はジエチルアジペートのディークマン縮合（Ｄｉｅｃｋｍａｎｎｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ）によって、容易に得ることができる。シクロヘキサノン２−カルボキシメチルエステルは、メチルサリチレートを水素化することによって製造することができる。
【００２１】
ブロックするポリイソシアネートは、活性水素を含む架橋化合物に適するいずれの有機ポリイソシアネート、即ち、少なくとも二つのイソシアネート基を有する、脂環族を含む脂肪族ポリイソシアネート、芳香族及び複素環式ポリイソシアネート、及びそれらの混合物であってよい。
【００２２】
ポリイソシアネートの典型例は、例えば、ブタンジイソシアネート（ＢＤＩ）、ペンタンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート（ＨＤＩ）、４−イソシアナトメチル−１，８−オクタンジイソシアネート（トリイソシアナトノナン、ＴＩＮ）等のジ−もしくはトリイソシアネート等の脂肪族イソシアネート又は、例えば、４，４’−メチレンビス−（シクロヘキシルイソシアネート）（デスモジュール（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ）（登録商標）Ｗ、バイエル社（ＢａｙｅｒＡＧ）、レーフェルクーゼン（Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ））、３，５，５−トリメチル−１−イソシアナト−３−イソシアナトメチルシクロヘキサン（ＩＰＤＩ）及びω，ω’−ジイソシアナト−１，３−ジメチルシクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）等の環状のシステムである。芳香族ポリイソシアネートの例は、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ジイソシアナトジフェニルメタン（ＭＤＩ）もしくはモノメリックＭＤＩ、ジイソシアナトメチルベンゼン（ＴＤＩ）、特に、２，４−及び２，６−異性体とその二つの異性体の工業グレードの混合物、並びに１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン（ＸＤＩ）である。
【００２３】
イソシアネート基として、ジ−もしくはトリイソシアネートをそれら自身と反応させることによって得られる、ウレトジオンもしくはカルボジイミド化合物等のポリイソシアネート、又は三つのイソシアネート基の反応によって形成される、イソシアヌレート及びイミノオキサジアジンジオン等のポリイソシアネートも同様に極めて適する。ポリイソシアネートは、ビウレット、アロファネート及びアシルウレアの構造要素を含むモノメリックなジ−及び／もしくはトリイソシアネート及び／もしくはオリゴマーのポリイソシアネート、モノマー含有量が少ないもしくは部分的に変性されたモノメリックなジ−、トリイソシアネート、並びに上述したポリイソシアネートのいずれかの所望の混合物を同様に含んで成ってよい。
【００２４】
平均で一分子当たり一より多いイソシアネートを含むポリイソシアネートプレポリマーが極めて好ましい。それらは、まず、例えば、モル比で過剰の上述のポリイソシアネートの一つを、一分子当たり少なくとも二つの活性水素原子（例えば、水酸基の形態）を有する有機物と反応させることで得られる。
【００２５】
好ましいポリイソシアネートは、ウレトジオン、イソシアヌレート、イミノオキサジアジンジオン、アシルウレア、ビウレットもしくはアロファネート構造を含むものであって、例えば、ブタンジイソシアネート（ＢＤＩ）、ペンタンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート（ＨＤＩ）、４−イソシアナトメチル−１，８−オクタンジイソシアネート（トリイソシアナトノナン、ＴＩＮ）又は４，４’−メチレンビス−（シクロヘキシルイソシアネート）（デスモジュール（登録商標）Ｗ、バイエル社、レーフェルクーゼン）、３，５，５−トリメチル−１−イソシアナト−３−イソシアナトメチルシクロヘキサン（ＩＰＤＩ）及びω，ω’−ジイソシアナト−１，３−ジメチルシクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）等の環状のシステムに基づくものである。芳香族ポリイソシアネートの好ましい例は、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ジイソシアナトジフェニルメタン（ＭＤＩ）もしくはモノメリックＭＤＩ、ジイソシアナトメチルベンゼン（ＴＤＩ）、特に、２，４−及び２，６−異性体とその二つの異性体の工業グレードの混合物、並びに１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン（ＸＤＩ）である。
【００２６】
より好ましいポリイソシアネートは、ヘキサンジイソシアネート（ＨＤＩ）、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）及び３，５，５−トリメチル−１−イソシアナト−３−イソシアナトメチルシクロヘキサン（ＩＰＤＩ）に基づくものである。
【００２７】
本発明に基づくブロックされた有機ポリイソシアネートの製造方法を以下に記載する。本発明の製造方法は、ポリイソシアネートを、一般式（Ｉ）：
【化学式２】
2004035552.tif 000003
［式中、
Ｘは、電子吸引基を示し、
Ｒ１及びＲ２は、相互に独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキル基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリール基、Ｃ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルエステル基もしくはＣ１〜Ｃ２０の（シクロ）アルキルアミド基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールエステル基もしくはＣ６〜Ｃ２４のアリールアミド基、１〜２４の炭素原子を有する脂肪族／芳香族が混在した基であって、Ｒ１及びＲ２は、４〜８員環の一部であってもよい、
ｎは、０〜５の整数である。］
で示されるＣＨ−酸性環状ケトンと、
触媒の存在下、ブロックするポリイソシアネートのイソシアネート基の一当量当たり、０．８〜１．２モルの式（Ｉ）の環状ケトンを用いて反応させることを特徴とする。
【００２８】
ブロックするポリイソシアネート成分の一当量のイソシアネート基を、一当量のブロック剤と反応させることが好ましい。
【００２９】
適当な触媒は、例えば、粉末状の炭酸ナトリウム（ソーダ）等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩基である。使用する環状ケトンに応じて、リン酸三ナトリウム又はダブコ（ＤＡＢＣＯ）（１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）等のアミン塩基を用いることもできる。２族の金属の炭酸塩も同様に適する。炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムを用いることが好ましい。また、環状ケトンとイソシアネートとの反応は、亜鉛塩触媒の存在下で行ってもよい。亜鉛２−エチルヘキサノエートを用いる反応がより好ましい。触媒の混合物も使用できる。
【００３０】
本発明の製造方法では、使用したポリイソシアネートを基準として、０．０５〜１０重量％の触媒を加える。０．０７〜３重量％の触媒を加えることが好ましい。０．１〜１重量％の触媒を用いることがより好ましい。
【００３１】
反応は、０℃〜１４０℃で行うことができる。１５℃〜９０℃の温度範囲が好ましい。
【００３２】
焼付は、溶媒なしで行っても、適当な溶媒の存在下で行ってもよい。適する溶媒は、常套の塗料の溶媒であって、例えば、ブチルアセテート、メトキシプロポキシアセテートもしくは溶媒ナフサ、例えば、芳香族含有溶媒としてエクソン−ヘミー（Ｅｘｘｏｎ―Ｃｈｅｍｉｅ）社から供給されているもの、更に該溶媒の混合物である。該溶媒中でブロック反応を行うことが好ましいが、その場合固形分は、一般に１０〜９０％の間に設定する。
【００３３】
本発明に基づいて使用される一般式（Ｉ）で示される環状ケトンに加え、いずれかの所望のブロック剤との混合物を、所望の特定のコーティング特性を得るために、本発明の製造方法に使用してよく、その際に式（Ｉ）で示される化合物の割合は、少なくとも３０重量％、好ましくは５０重量％、より好ましくは１００重量％である。
【００３４】
本発明は、本発明の有機ポリイソシアネートを、有機ポリヒドロキシ化合物のための架橋化合物として使用することを特徴とする、一成分焼付ワニスの製造方法も提供する。
【００３５】
本発明に基づいて使用されるブロックされたポリイソシアネートの特徴は、それらは、適当な有機ポリヒドロキシ化合物と組み合わせて、適当な触媒の存在下、２分を越えない焼付時間で、好ましくは、５から最大６０〜８０秒までで、より好ましくは５から最大３５秒までで、硬化するということである。オーブンの温度は、ここでは３００〜４００℃である。もちろん焼付条件は、使用される材料と、コーティングする金属コイルの厚さに依存する。一般に、オーブンの温度は、１８０℃ＰＭＴより低くない温度で、２６０℃ＰＭＴより高くない温度にある。２１０℃〜２４５℃ＰＭＴの温度範囲であることが好ましい。２１６℃〜２４１℃ＰＭＴの温度範囲であることがより好ましい。所定の焼付温度及び所定の焼付時間でのＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶媒に対する耐性、硬度及び弾性等の焼付られたコーティング膜（又は塗膜）の技術的特性は、他のことのなかでも、使用した触媒の量に依存する。焼付は、２３２℃の温度で、３８秒間かけて行うことが好ましい。２１６℃の温度も可能である。アルミニウム基材の場合、これによって、焼付時間は３３秒となる。特定の最適条件は、予め範囲を見出す試験を行う当業者には既知の方法で決定され、適用する際は、コイルコーティングオーブン内の温度は、感温性ストリップを用いてモニターされる。
【００３６】
架橋するために適当な触媒の例は、ＤＢＴＬ（ジブチル錫ジラウレート）、チタン２−エチルヘキサノエート、チタンテトライソプロポキサイド及び他の常套のチタン（ＩＶ）化合物、ジルコニウム２−エチルヘキサノエート及び他の常套のジルコニウム（ＩＶ）化合物、アルミニウムトリエトキサイド、スカンジウムトリフルオロメタンスルホネート、イットリウム２−エチルヘキサノエート、イットリウムトリフルオロメタンスルホネート、ランタン２−エチルヘキサノエート、ランタントリフルオロメタンスルホネート、コバルト２−エチルヘキサノエート、銅２−エチルヘキサノエート、インジウムトリフルオロメタンスルホネート、ガリウムアセチルアセトネート（もしくはアセチルアセトナート）、ニッケルアセチルアセトネート、リチウム２−エチルヘキサノエート、リチウムトリフルオロメタンスルホネート、ナトリウム２−エチルヘキサノエート、酢酸ナトリウム、ナトリウムトリフルオロメタンスルホネート、マグネシウム２−エチルヘキサノエート、マグネシウムトリフルオロメタンスルホネート、カルシウム２−エチルヘキサノエート、カルシウムトリフルオロメタンスルホネート、亜鉛２−エチルヘキサノエート、亜鉛ジチオカルバメート、亜鉛アセチルアセトネート、亜鉛テトラメチルヘプタジオネート（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｌｙｈｅｐｔａｄｉｏｎａｔｅ）、亜鉛サリチレート、塩化亜鉛及び他の亜鉛（ＩＩ）化合物、ビスマス２−エチルヘキサノエート及び酢酸ビスマスである。好ましい触媒は、亜鉛及びビスマス化合物である；亜鉛２−エチルヘキサノエート及びビスマス２−エチルヘキサノエートがより好ましい。
【００３７】
この目的の使用に適するポリヒドロキシ化合物、及び更にこの種の焼付ワニスの製造と応用に関する詳細は、例えば、ドイツ国特許明細書ＤＥ−Ａ　１９　７３８　４９７又は欧州特許明細書ＥＰ−Ａ　０　１５９　１１７等の文献から得ることができる。本発明の生成物のより好ましい用途は、コイルコーティングの分野における架橋剤としての使用である。
【００３８】
コイルコーティング方法に使用できるポリオールの概略を下記の表に示した。ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール及びポリアクリレートポリオールを使用できる。主に、十分に高いＯＨ含有量を有するいずれのバインダーも使用することができる。
【００３９】
【表１】
2004035552.tif 000004
【００４０】
本発明に基づくブロックされたポリイソシアネートを使用すると、高品質で、放出される生成物を含まない、著しく黄変の程度が低いコーティングが得られる。
【００４１】
上述の成分の他に、本発明のバインダーは、例えば、ＨＡＬＳアミンもしくは溶媒及び５重量％までのＯＨ官能性ヒドラジド化合物（最終コーティング材料の固形分を基準とする）等の安定化添加剤を更に含むことができる。更に、適当な添加剤には、例えば、ＣＡＢ（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅａｃｅｔｏｂｕｔｙｒａｔｅ）及びアクロナ−ル（Ａｃｒｏｎａｌ）（登録商標）４Ｆ（均展剤及び脱泡剤）が含まれる。
【００４２】
熱的な黄変に対して安定化する成分として、欧州特許明細書ＥＰ−Ａ　０　８２９　５００に記載された、ヒドラジン水和物と２モルのプロピレンカーボネートとの付加反応生成物を使用することができ、これは、下記の式を有する（分子量２３６）：
【化学式３】
2004035552.tif 000005
【実施例】
【００４３】
出発材料：ブロックポリイソシアネート
α−酸性環状ケトンでブロックされたポリイソシアネートの製造
ブロックポリイソシアネートＡ：
１４ｇのメトキシプロピルアセテート（８部）と２９．９ｇのキシレン（１７部）の溶液中の１９３．５ｇ（１当量）のデスモジュール（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ）（登録商標）Ｎ３３００の溶液（合計で７０％強の溶液）に、０．１７ｇの亜鉛２−エチルヘキサノエート（０．０５重量％）触媒を加えた。下記の反応を窒素雰囲気下で行った。混合物を一緒に均一に撹拌した後、１５６．２ｇ（１当量）のシクロペンタノン２−カルボキシエチルエステル（蒸留したもの）を、注意深く滴下して加えた。加える間に反応温度は、４０℃以上に上昇するべきではない。エステルの添加を終了した後、ＮＣＯ価がゼロになるまで（約６時間後まで）撹拌を４０℃で続けた。理論的なブロックされたＮＣＯ含有量は、８．３％である。その後、固形分を基準として７％の２−ブタノールを用いて所望の粘度に設定した。更に、固形分を基準として２．５％（８．７ｇ）のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）７７０ＤＦ（ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート）を加えた。使用したポリイソシアネートは、ＮＣＯ含有量は２１．８％であり、粘度は３０００ｍＰａｓである、イソシアヌレート構造を有するＨＤＩポリイソシアネート（デスモジュール（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ）（登録商標）Ｎ３３００、バイエル社、レーフェルクーゼン）である。
【００４４】
ブロックポリイソシアネートＢ：
３当量（５８０．５ｇ）のデスモジュール（登録商標）Ｎ３３００と１当量（３５３ｇ）のデスモジュール（登録商標）Ｚ４４７０（イソホロンジイソシアネート（ＩＤＰＩ）に基づく脂肪族ポリイソシアネートであって、Ａｒｏｍａｔｉｃ１００とｎ−ブチルアセテート（２：１）に溶かされている）を、窒素下、４１５ｇのキシレンに溶かした（反応後は、７０％濃度の混合物である）。この混合物に、１．４５ｇ（０．１重量％）の亜鉛２−エチルヘキサノエート触媒を加えた。混合物を一緒に均一に撹拌した後、４当量（６２４．８ｇ）のシクロペンタノン２−カルボキシエチルエステルを、注意深く滴下して加えた。加える間に反応温度は、４０℃以上に上昇するべきではない。エステルの添加を終了した後、ＮＣＯ価がゼロになるまで（約１２時間）撹拌を４０℃で続けた。ブロックされたＮＣＯ含有量は、８．１％である。反応の終了後、１０１．７ｇの２−ブタノール（固形分を基準として７％）、及び２９ｇ（固形分を基準として２％）のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）７７０ＤＦを加えた。使用したポリイソシアネートは、ＮＣＯ含有量は２１．８％であり、粘度は３０００ｍＰａｓである、イソシアヌレート構造を有するＨＤＩポリイソシアネート（デスモジュール（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ）（登録商標）Ｎ３３００、バイエル社、レーフェルクーゼン）と、ＩＰＤＩに基づくイソシアネレート構造を有するポリイソシアネート（ＮＣＯ含有量は１１．９％であり、粘度は２０００ｍＰａｓである、デスモジュール（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ）（登録商標）Ｚ４４７０、バイエル社、レーフェルクーゼン）との混合物である。
【００４５】
ブロックポリイソシアネートＣ：
０．９当量（１７４．２ｇ）のデスモジュール（登録商標）Ｎ３３００と０．１当量（２９ｇ）のデスモジュール（登録商標）Ｗ（ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン）三量体を、窒素下、１４１．６ｇのキシレンに溶かした（反応後は、７０％濃度の混合物である）。この混合物に、０．３５１ｇ（０．１重量％）の亜鉛２−エチルヘキサノエート触媒を加えた。混合物を一緒に均一に撹拌した後、１当量（１５６．２ｇ）のシクロペンタノン２−カルボキシエチルエステルを、注意深く滴下して加えた。加える間に反応温度は、４０℃以上に上昇するべきではない。エステルの添加を終了した後、ＮＣＯ価がゼロになるまで（約１２時間）撹拌を４０℃で続けた。ブロックされたＮＣＯ含有量は、８．１６％である。反応の終了後、７ｇ（固形分を基準として２％）のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）７７０ＤＦを加えた。使用したポリイソシアネートは、ＮＣＯ含有量は２１．８％であり、粘度は３０００ｍＰａｓである、イソシアヌレート構造を有するＨＤＩポリイソシアネート（デスモジュール（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ）（登録商標）Ｎ３３００、バイエル社、レーフェルクーゼン）と、デスモジュールＷに基づくイソシアネレート構造を有するポリイソシアネート（１３．５％のデスモジュール（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ）（登録商標）Ｎ３３００、三量化率は２０％、ＮＣＯ含有量は１４．５％であり、固形分は６５％である（キシレン／メトキシプロピルアセテート中の溶液））との混合物である。
【００４６】
比較のために使用したブロックポリイソシアネート：
ＢＬ３１７５（バイエル社）、ヘキサメチレンジイソシアネートに基づく架橋ウレタン焼付樹脂、溶媒ナフサ１００中の７５％強の溶液、粘度は約３３００ｍＰａｓ、（ブロックされた）ＮＣＯ含有量は約１１．１％、ブロック剤はブタノンオキシム。
ＢＬ３３７０（バイエル社）、脂肪族架橋ウレタン焼付樹脂、１−メトキシプロピル　２−アセテート（ＭＰＡ）中の約７０％強の溶液、粘度は約３５００　１２００ｍＰａｓ、（ブロックされた）ＮＣＯ含有量は約８．９％、ブロック剤はジイソプロピルアミン。
【００４７】
使用したポリオール：下記の表を参照されたい。
【００４８】
本発明のポリウレタンコーティング材料の製造
ブロックイソシアネート成分の製造を説明した後に、本発明のコーティング材料の製造を記載する。
【００４９】
【表２】
2004035552.tif 000006
【００５０】
一成分ポリウレタンコイルコーティングトップコート材料、白色、ポリオール成分Ａｌｋｙｎｏｌ（登録商標）１６６５
【表３】
2004035552.tif 000007
【００５１】
【表４】
2004035552.tif 000008
【００５２】
注、ＣＡＢとＡｃｒｏｎａｌ（登録商標）４Ｆの組み合わせ（４＋５）は、不揮発性と均展性をもたらす。
供給元
（１）ＫｒｏｎｏｓＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＩＮＣ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ
（２）ＤｅｕｔｓｃｈｅＥｘｘｏｎ，Ｃｏｌｏｇｎｅ
（３）Ｂｒｅｎｎｔａｇ，Ｍｕｅｌｈｅｉｍ／Ｒｕｈｒ
（４）ＢＡＳＦＡＧ，Ｌｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ
（５）ＫｒａｈｎＣｈｅｍｉｅ，Ｈａｍｂｕｒｇ
【００５３】
使用した原材料
Ａｌｋｙｎｏｌ（登録商標）１６６５、イソフタル酸／アジピン酸／ＮＰＧ／プロピルグリコールに基づくオイルを含まない飽和ポリエステル、バイエル社、レーフェルクーゼン、ＯＨ含有量：溶媒ナフサ１００／イソブタノール　３１．５：３．５中に６５％である供給形態を基準として１．７％
ＣＡＢ（セルロースアセトブチレート）供給元：ＫｒａｈｎＣｈｅｍｉｅＨａｍｂｕｒｇ、製造元：ＥａｓｔｍａｎＫｉｎｇｓｐｏｒｔＵＳＡ；ＣＡＢ５３１−１（約５３％のブチリル含有量、ヒドロキシ含有量１．７％は、計算に含まれていない）
Ａｃｒｏｎａｌ（登録商標）４Ｆ、製造元ＢＡＳＦＬｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ、ブチルアクリレートに基づくポリマー（均展剤及び脱泡剤）
Ｓｏｌｖｅｓｓｏ（登録商標）２００Ｓ、製造元　Ｅｓｓｏ／Ｅｘｘｏｎ　溶媒芳香族含有量９９％、蒸発数（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎｎｕｍｂｅｒ）（エーテルは１）〜１０００
【００５４】
白色指数の測定
ＡＳＴＭ　Ｅ　３１３、白色指数
商用のベルガー（Ｂｅｒｇｅｒ）の白色度（ＤＩＮを用いない）
白色度＝Ｒｙ＋３（Ｒｚ−Ｒｘ）
ＤＩＮ６１６７に基づく黄色度指数を下記式を用いて計算した：
【数式１】
2004035552.tif 000009
Ｘ、Ｙ＋Ｚ＝ＤＩＮ５０３３に基づく三刺激値
ａ＝赤色／緑色軸＊
ｂ＝青色／黄色軸＊＊
＊　　正の値はより赤色、負の値はより緑色
＊＊　正の値はより黄色、負の値はより青色
【００５５】
ＭＥＫ耐性（又は耐ＭＥＫ性）の測定
測定方法の説明（ＥＣＣＡ−Ｔ１１及びＤＩＮ　ＥＮ　ＩＳＯ　２８１２−１及びＤＩＮ　ＥＮ　１２７２０に基づく）：
ＭＥＫふき取り（又はこすりつけ）試験（ｗｉｐｅｔｅｓｔ）は、コーティング膜の最終的な硬化をチェックするための迅速な試験である。コーティング膜の上で、一定の圧力を加えながら、ＭＥＫで浸した綿のパッドを前後に動かす。
装置／補機：重り（Ｂｉｚｅｒｂａｂｒａｎｄ）、重さ１００ｇ、１ｋｇ及び２ｋｇ
手順：
２０μｍまでの膜厚については、１ｋｇの圧力（又は対向圧力）を用い、２０μｍ以上の膜厚については、２ｋｇの圧力を用いた。
フィルムクリップと対スリップ性フィルムを用いて、重りの秤量プレートに、金属テストパネルを固定した。はかりを１００ｇの重りと風袋補償器を用いて調節した。コーティング膜が破壊されるまで、選択した試験圧力で、コーティング膜上において、ＭＥＫで浸した綿のパッドを前後に動かした。
評価：
コーティングが破壊されるまで行ったダブルストローク（又は二重の工程：ｄｏｕｂｌｅｓｔｒｏｋｅ）の数をテストレポートに記載すべきであり、最大１００回のダブルストロークを行った。１００回のダブルストロークに達した後、膜の変化（ぐったりした、軟化した）を評価した。
【００５６】
Ｔ−曲げ試験の測定
ＥＣＣＡ　Ｔ７（ＥＣＣＡ：ＥｕｒｏｐｅａｎＣｏｉｌＣｏａｔｉｎｇＡｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）に基づく
測定方法の説明：
範囲：
この方法は、１８０°曲げた場合、クラックに対する有機コーティングの耐性を測定する。
原理：
この試験では、回転方向に並行に１８０°まで、試料を１〜２秒間曲げる。コーティングは、外側にある。均一な曲げを確保するために金属シートの間に密接な接触がなければならない。試料をクラックなく曲げることができる最小の曲げる半径が、１８０°曲げた場合の耐性を決定する。各曲げ操作の後、接着性を接着テープを用いて試験した。
装置：
この方法を実施するために使用できる装置は、バイス（万力）と一組の保護チャックから成る。
準備：
試料は、実験室の室温と実験室の湿度で、少なくとも２４時間保管した。測定は、同一条件下で行った。
より正確な条件を規定する場合、又は論争となる場合、ＩＳＯ３２７０−１９８４に規定された詳細を観察するべきであり、即ち、温度は２３±２℃であり、相対湿度は５０±５％である。
方法：曲げる方向に対して幅約２ｃｍのシート状金属ストリップを切った。この金属ストリップを、コーティングを外側として、曲げ方向に並行に１８０°まで曲げた。その後金属をバイス内で十分に加圧した。
曲がっている縁を２０×の拡大鏡を用いてクラックの有無を調べた。その後、接着テープを押し付けては引き剥がすことを三回繰り返して、接着性を試験した。
この０Ｔ曲げの評価は、クラックについてはＲ、接着についてはＨを用い、０〜５の評価を付して行った。但し、０は、最良の成績であり、５は、最悪の成績である。
クラックと接着の成績が０に成るまで、金属をその周りに曲げた。
３．０Ｔになるまでに試験を終えた。
【００５７】
次の耐クラック性
変形したＴ−曲げストリップを１００℃の温度で３０分間さらして、再びクラックについて評価した。
【００５８】
塗料の製造：
標準的な配合（ガイドラインの配合ＲＲ６８３０）に基づいて、白色コイルコーティングトップコート材料中で、試験を行った。この目的のために、下記のビードミル（ｂｅａｄｍｉｌｌ）の配合に基づき、オイルを含まない飽和ポリエステルを用いて、まずミルベース（ｍｉｌｌｂａｓｅ）を製造した。
【表５】
2004035552.tif 000010
ミルベースを２ｍｍシリクオーツビーズ（又は石英ビーズ：Ｓｉｌｉｑｕａｒｔｚｂｅａｄｓ）と分散した。分散をＳｋａｎｄｅｘ（登録商標）ミキサーを用いて１時間行った（注：同じ配合をビードミルとＳｋａｎｄｅｘ（登録商標）ミキサー（撹拌機）に用いることができる）。Ｓｋａｎｄｅｘ（登録商標）ミキサーを用いると、複数の試料を同時に分散させることができ、閉じた容器の中でグラインディング（ひく、とぐ又は研く）を行うことができる。次に、ふるいを使用して、ビーズの除去をドラフトチャンバー内で行う。
ミルベースをふるいを用いてガラズビースから分離する。
撹拌しながら、塗料の残りの成分を加えた。
【表６】
2004035552.tif 000011
Ｓｏｌｖｅｓｓｏ（登録商標）２００Ｓを用いて、約７０秒ＤＩＮ４／２３℃の処理（又は加工）粘度に塗料を調節した。
塗料を、ナイフコーターを用いて、クロメートアルミニウムパネル（ｃｈｒｏｍａｔｅｄａｌｕｍｉｎｉｕｍｐａｎｅｌ）（１ｍｍ厚）に塗工した。
塗料を塗工した後直ちに、パネルをアールボーグ（Ａａｌｂｏｒｇ）オーブン中の回転プレート上で焼付た。
【表７】
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【００５９】
【表８―１】
2004035552.tif 000013
【００６０】
【表８―２】
2004035552.tif 000014
【００６１】
本発明を説明することを目的として、詳細に本発明を説明したが、そのような詳細な説明は、単にその目的のためであり、特許請求の範囲によって制限され得ることを除いて、本発明の精神と範囲から離れることなく、当業者であれば変更することができることが理解される。
【外国語明細書】
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