(57)【要約】【課題】処理槽と振動板とを基板処理装置に取りつける前に、基板処理装置とほぼ同様な環境で、簡便かつ迅速に、処理槽と振動板とを検査することのできる基板処理ユニット検査装置および検査方法を提供する。【解決手段】基板処理ユニット検査装置１００の外槽１０内に、基板処理装置を構成するユニットである振動板２０と処理槽５０とを取りつける。処理槽５０は、保持部３０およびガイドレール１１によって移動可能なため、外槽１０に貯留された純水のみを伝播した超音波の音圧だけでなく、外槽１０に貯留された純水と、処理槽５０底部と、処理槽５０に貯留された純水とを伝播した超音波の音圧を測定することができる。そのため、振動板２０の良否判定と、処理槽５０底部の透過率の判定とを行うことができる。【選択図】　　　　図１
2004022578.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置を構成ユニットするとして使用される処理槽と超音波発生手段とを検査する基板処理ユニット検査装置であって、
液体を貯留可能な箱体と、
前記箱体の底面近傍の所定領域に設けられ、前記箱体の内部空間側に向けた前記超音波発生手段と、
前記箱体の前記内部空間において、前記処理槽を保持しつつ、前記所定領域の上方に設定された基準位置と、前記基準位置から略水平方向に離れた待避位置との間での前記処理槽の移動させる可動手段と、
前記内部空間の上側から超音波検出手段を昇降可能に支持する支持機構と、
を備えることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記基準位置と前記待避位置との距離が、前記略水平方向における前記処理槽の幅寸法以上であることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記可動手段が、
前記箱体の側壁に沿って略水平方向に伸びたガイド部材と、
前記処理槽を保持して前記ガイド部材に沿って移動する保持移動体と、
を備えることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記支持機構が、前記超音波検出手段を略水平方向に移動可能に支持することを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記超音波発生手段が、複数の超音波振動子を含み、
前記支持機構は、前記複数の超音波振動子のそれぞれの略直上に前記超音波検出手段を移動可能であることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項６】
請求項１に記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記箱体の側壁の少なくとも一部が透明とされていることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記箱体の複数の側壁が透明とされていることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記可動手段が、
前記箱体の側壁に沿って略水平方向に伸びたガイド部材と、
前記処理槽を保持して前記ガイド部材に沿って移動する保持移動体と、
を備え、
前記保持移動体の少なくとも一部が透明であることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記処理槽が、槽体の外側に突出した突起部を有しており、
前記保持移動体が、前記処理槽を挿通可能な貫通孔を有しており、
前記処理槽を前記貫通孔に挿入したときに、前記貫通孔の縁部に形成した凹部に前記突起部が係合することを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置であって、
前記箱体の内部空間と前記処理槽とに所定の液体を供給する供給路を備えることを特徴とする基板処理ユニット検査装置。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項１０のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置を用いて、前記処理槽と前記超音波発生手段とを検査する方法であって、
前記処理槽を前記待避位置に待避させ、前記箱体中に貯留させた第１液体の中に前記超音波発生手段から超音波を出射しつつ、前記第１液体内での超音波状況を前記超音波検出手段によって検出する第１検査プロセスと、
前記処理槽を前記基準位置に配置し、前記箱体中に貯留させた第１液体の中に前記超音波発生手段から超音波を出射しつつ、前記処理槽内に貯留させた第２液体内での超音波状況を前記超音波検出手段によって検出する第２検査プロセスと、
を有し、
前記可動手段によって前記処理槽を前記基準位置と前記待避位置との間で移動させる際には、前記超音波検出手段を昇降方向に退避させることを特徴とする基板処理ユニット検査方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等（以下、「基板」と称する）に超音波を付与して洗浄する基板洗浄装置を構成するユニットを検査する基板処理ユニット検査技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体や液晶ディスプレイなどの製品は、基板に対して洗浄、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、層間絶縁膜の形成、熱処理、ダイシングなどの一連の諸処理を施すことにより製造されている。これらのうち洗浄処理は、基板に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する処理であり、その洗浄処理の１つとして超音波を付与することによって洗浄効果を高める超音波洗浄が知られている。この超音波洗浄には多くの手法が存在しているが、複数の基板を一括して処理するバッチ式の基板洗浄装置においては、図１５に示すような手法が一般的に採用されている。
【０００３】
図１５は、超音波洗浄を行う基板洗浄装置の一例を示す図である。図１５に示すように、基板洗浄装置２００は、主として、貯留された薬液や純水等１６０（以下、「処理液」とも呼ぶ）に複数の基板Ｗを浸漬して洗浄処理等の薬液処理を行う処理槽１５０と、処理槽１５０の周囲に配置され、少なくとも処理槽１５０の底部が浸るように伝播水としての純水１７０を貯留する外槽１１０と、外槽１１０の底部に配設され超音波を発生させる超音波振動板（以下、単に「振動板」と呼ぶ）１２０とから構成されている。
【０００４】
図１５に示すように、振動板１２０で発生した超音波は、外槽１１０に貯留された純水１７０、処理槽１５０の底部、および処理槽１５０に貯留された処理液１６０を伝播して基板Ｗに到達する。このように、処理液１６０による洗浄処理中に振動板１２０から超音波を放射することにより、基板Ｗの表面に付着したパーティクル等の汚染物質を迅速かつ確実に除去することができる。
【０００５】
以上のような基板洗浄装置２００による洗浄能力を出荷前に検査する方法として、従来、図１６に示す振動板１２０から出射して処理槽１５０内に到達する超音波の音圧（以下、単に「音圧」とも呼ぶ）を音圧測定子１８０によって測定する方法が知られている。ここで、音圧とは、その超音波が有するエネルギー（以下、「超音波エネルギー」とも呼ぶ）に比例するものであり、超音波エネルギーが増加すると、それにともなって基板の洗浄能力が向上する。そのため、音圧は洗浄能力の指標とすることができる。音圧測定子１８０で測定される音圧が低すぎると、基板上に十分な超音波エネルギーを付与することができないため、付着した汚染物質を除去することができない。また、音圧が高すぎると、基板Ｗ上に形成されたトレンチ構造等の微細パターンを破壊してしまうおそれがある。したがって、出荷前の洗浄能力検査では、音圧測定子１８０で測定される音圧が、基板上に形成された微細パターンを破壊せず、かつ十分な洗浄能力を得ることができる所定範囲内となるかどうかの判定を行う。
【０００６】
この出荷前に行われる洗浄能力に関する検査は、以下の手順により行われる。まず、図１６に示すように、外槽１１０、振動板１２０および処理槽１５０を基板洗浄装置２００の所定位置に組み付ける。次に、外槽１１０と処理槽１５０とに純水１６０、１７０を貯留する。その際、処理槽１５０の底部が外槽１１０に貯留した純水１７０に浸るように純水１７０の供給量を調整する。続いて、振動板１２０から出射して、外槽１１０に貯留された純水１７０と、処理槽１５０の底部と、処理槽１５０に貯留された純水１６０とを介して伝播される超音波の音圧を音圧測定子１８０によって測定する。そして、測定された音圧が複数の基板Ｗを洗浄するのに十分とされる許容範囲内である場合、基板Ｗ上に付着した汚染物質を十分除去して洗浄することができると判定する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述したように、基板Ｗに到達する超音波の音圧が基板Ｗを洗浄するのに十分とされる許容範囲外となると、基板Ｗの洗浄能力の低下や基板破壊の原因となる。この原因として次の２点が挙げられる。
【０００８】
（ｉ）　振動板１２０から出射する超音波のエネルギー値が、その振動板の生産時に定められる許容値の範囲外となっている。
【０００９】
（ｉｉ）　超音波が処理槽１５０の底部を透過する際に、超音波のエネルギーの一部が吸収されるが、処理槽１５０の吸収量が過大であるために、基板Ｗに到達する超音波エネルギーが低下する。
【００１０】
さらに、（ｉ）および（ｉｉ）の双方に該当するため測定される音圧が減少する場合も考えられる。
【００１１】
しかしながら、上記出荷前の洗浄能力検査では、常に処理槽１５０の底部を透過した音圧を測定することになる。そのため、音圧測定子１８０によって測定された音圧が、許容範囲の下限値より低くなった場合、その低下要因が、上記（ｉ）のように振動板１２０から出射する超音波のエネルギーが振動板の生産時に定められる許容値の範囲とならないのか、または、上記（ｉｉ）のように処理槽１５０底部で超音波のエネルギーが過剰に吸収されているのかを判断することができない。
【００１２】
さらに、上記（ｉ）、（ｉｉ）を調査するためには、処理槽１５０底部において超音波のエネルギーの吸収・透過の影響を受けない音圧値、つまり、処理槽１５０を外槽１１０内部から取り外し、振動板１２０から出射されて外槽１１０に貯留された純水１７０のみを伝播した音圧も測定する必要がある。しかし、この純水１７０のみを伝播した音圧の測定は、一度組み立てた基板洗浄装置２００から処理槽１５０を取り外し、純水１７０のみを伝播した音圧を測定した後、再度処理槽１５０を組み付けなければならないため、重複した組み立て作業が必要となり、基板洗浄装置２００の製造コスト増につながる。
【００１３】
そこで、本発明は、基板洗浄装置を構成するユニットとして使用される処理槽と超音波発生手段とを基板処理装置に取りつける前に検査する基板処理ユニット検査装置において、基板処理装置とほぼ同様な環境で、簡便かつ迅速に、処理槽と超音波発生手段とを検査することのできる基板処理ユニット検査装置および検査方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく、請求項１に記載の発明は、基板処理装置を構成ユニットするとして使用される処理槽と超音波発生手段とを検査する基板処理ユニット検査装置であって、液体を貯留可能な箱体と、前記箱体の底面近傍の所定領域に設けられ、前記箱体の内部空間側に向けた前記超音波発生手段と、前記箱体の前記内部空間において、前記処理槽を保持しつつ、前記所定領域の上方に設定された基準位置と、前記基準位置から略水平方向に離れた待避位置との間での前記処理槽の移動させる可動手段と、前記内部空間の上側から超音波検出手段を昇降可能に支持する支持機構と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記基準位置と前記待避位置との距離が、前記略水平方向における前記処理槽の幅寸法以上であることを特徴とする。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記可動手段が、前記箱体の側壁に沿って略水平方向に伸びたガイド部材と、前記処理槽を保持して前記ガイド部材に沿って移動する保持移動体と、を備えることを特徴とする。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記支持機構が、前記超音波検出手段を略水平方向に移動可能に支持することを特徴とする。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記超音波発生手段が、複数の超音波振動子を含み、前記支持機構は、前記複数の超音波振動子のそれぞれの略直上に前記超音波検出手段を移動可能であることを特徴とする。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記箱体の側壁の少なくとも一部が透明とされていることを特徴とする。
【００２０】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記箱体の複数の側壁が透明とされていることを特徴とする。
【００２１】
請求項８に記載の発明は、請求項６または請求項７に記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記可動手段が、前記箱体の側壁に沿って略水平方向に伸びたガイド部材と、前記処理槽を保持して前記ガイド部材に沿って移動する保持移動体と、を備え、前記保持移動体の少なくとも一部が透明であることを特徴とする。
【００２２】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記処理槽が、槽体の外側に突出した突起部を有しており、前記保持移動体が、前記処理槽を挿通可能な貫通孔を有しており、前記処理槽を前記貫通孔に挿入したときに、前記貫通孔の縁部に形成した凹部に前記突起部が係合することを特徴とする。
【００２３】
請求項１０に記載の発明は、請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置であって、前記箱体の内部空間と前記処理槽とに所定の液体を供給する供給路を備えることを特徴とする。
【００２４】
請求項１１に記載の発明は、請求項１ないし請求項１０のいずれかに記載の基板処理ユニット検査装置を用いて、前記処理槽と前記超音波発生手段とを検査する方法であって、前記処理槽を前記待避位置に待避させ、前記箱体中に貯留させた第１液体の中に前記超音波発生手段から超音波を出射しつつ、前記第１液体内での超音波状況を前記超音波検出手段によって検出する第１検査プロセスと、前記処理槽を前記基準位置に配置し、前記箱体中に貯留させた第１液体の中に前記超音波発生手段から超音波を出射しつつ、前記処理槽内に貯留させた第２液体内での超音波状況を前記超音波検出手段によって検出する第２検査プロセスと、を有し、前記可動手段によって前記処理槽を前記基準位置と前記待避位置との間で移動させる際には、前記超音波検出手段を昇降方向に退避させることを特徴とする。なお、第１検査プロセスと第２検査プロセスとは、どちらを先に行ってもよい。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２６】
＜１．基板処理ユニット検査装置の構成＞
図１は、本発明の実施形態における基板処理ユニット検査装置１００の斜視図を、図２は、図１に示す基板処理ユニット検査装置１００の上面図を、図３は、図１に示す基板処理ユニット検査装置１００の外槽１０部分の正面図を、図４は、図１に示す基板処理ユニット検査装置１００の外槽１０部分の側面図をそれぞれ示す。なお、図１および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするため必要に応じてＺ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平平面とするＸＹＺ直交座標系を付している。
【００２７】
本実施形態における基板処理ユニット検査装置１００は、基板処理装置に組み込む前の処理槽５０および振動板２０を基板処理ユニット検査装置１００に装着し、超音波付与による洗浄能力が十分に確保されるか否かの検査を行うための検査装置である。図１に示すように、基板処理ユニット検査装置１００は、その上部に処理槽５０、保持部３０、振動板２０、およびガイドレール１１等を収容する外槽１０と、その下部に後述するバルブ１３、１６および制御部４０（図２参照）等を装着または収容する計器・制御部２５とを備えている。
【００２８】
図１に示すように、外槽１０は、底板１０ｂと、各支柱２１間に固定された４枚の側壁１０ａとに囲まれ、その囲まれた内部空間１０ｆに純水等の液体を貯留可能な箱体である。
【００２９】
側壁１０ａは、アクリル板やガラス等を材料とする板状の透明部材であり、側壁１０ａの透明部１０ｅを介して外槽１０に貯留された純水を装置１００の外部側方から目視することができるため、外槽１０に貯留された純水に付与された超音波の状況や、処理槽５０底部に付着した気泡の状況等を装置の使用中に観察することができる。また、各側壁１０ａ、各支柱２１および底板１０ｂの間には、例えばゴム製のシール材が配設されているため、外槽１０は水密構造となりその内部空間１０ｆに純水等の液体を貯留することができる。さらに、外槽１０内には図示しない純水吐出口が設けられており、この純水吐出口は図２に示す配管１５（１５ａ、１５ｂ）、およびバルブ１３を介して外槽１０用純水供給源１４に接続されている。そのため、バルブ１３を開放することにより外槽１０内に配管１５を供給路として純水を供給して貯留することができる。ここで、純水としては、純水に溶解している窒素ガス濃度を２ｐｐｍ以下とした脱気後純水を使用することができる。
【００３０】
図１および図４に示すように、外槽１０のＹ軸方向の長さは、少なくとも保持部３０のＹ軸方向の長さの２倍になるように設定されている。これは、後述する振動板２０の検査において、外槽１０に貯留された純水のみを伝播する超音波の音圧を測定するため、処理槽５０を振動板２０の上方からＹ軸正方向に退避させるためである。
【００３１】
また、図４に示すように外槽１０には、外槽１０内に貯留される純水（伝播水）Ｌ１の水位を調整する回収管１２が立設されている。回収管１２は中空状の配管であり、その下端は、図２に示す配管２８を介して排液ドレイン２７に連通接続されている。以下、この純水Ｌ１を「外側純水」と呼び、後述するような処理槽５０に貯留された純水Ｌ２を「内側純水」と呼ぶこととする。
【００３２】
外槽１０用純水供給源１４から純水が供給され続けて、外側純水Ｌ１の水位が所定の基準水位Ｚ＝Ｚ２より高くなると、外側純水Ｌ１の一部は、回収管１２の上端に流入し、回収管１２および配管２８を介して基板処理ユニット検査装置１００外の排液ドレイン２７に排出される。そのため、外側純水Ｌ１の水位を一定値Ｚ２に保つことができる。
【００３３】
さらに、回収管１２はその上端に延長管１２ａを接続することができる。延長管１２ａは、回収管１２と同様な内径、外径を有する配管であり、回収管１２の上端に接続することにより、外側純水Ｌ１の下限水位を低位側Ｚ２から高位側Ｚ１に変更することができる。
【００３４】
処理槽５０は、基板処理装置を構成するユニットであって、フッ酸等の薬液や純水（以下、「処理液」とも呼ぶ）を貯留し、処理液により順次洗浄処理を行う石英製の槽である。処理槽５０の底部近傍には図示しない処理液吐出ノズルが配置されており、配管１８（１８ａ、１８ｂ）、およびバルブ１６を介して処理槽５０用純水供給源１７に接続されている。そのため、バルブ１６を開放することにより処理槽５０内に配管１８を供給路を介して内側純水Ｌ２を供給して貯留することができる。
【００３５】
また、バルブ１６を開放し続けて処理槽５０から溢れ出た内側純水Ｌ２は、処理槽５０の上端部外側に設けられた図示しない回収部によって回収され、配管２８を介して基板洗浄ユニット検査装置１００外の排液ドレイン２７に排出される。
【００３６】
バルブ１３、１６は、図１に示すように計器・制御部２５の外側に装着されている。オペレータは、これらバルブを手動で開放したり閉鎖することによって外槽１０や処理槽５０に純水を貯留したり排出したりする。ただし、バルブ１３、１６はオペレータによって手動操作されることに限定されるものでなく、これらバルブを電磁バルブとし、制御部４０によってバルブの開放・閉鎖制御を行っても良い。
【００３７】
保持部３０は、アクリル製の板状等の透明部材であり、処理槽５０を保持するものである。保持部３０の透明部３０ｅを介して外側純水Ｌ１を目視することができるため、外側純水Ｌ１に付与された超音波の状況等を観察することができる。また、保持部３０の中央部には、孔部３５が形成されており、また、保持部３０の主面の孔部３５の縁部には、４つの受容部３４が配設されている。孔部３５に処理槽５０を挿入し、処理槽５０の側面に突設される４つの突起部５１を、その突起部５１に対応する受容部３４に係合させることにより処理槽５０を保持する。
【００３８】
さらに、保持部３０の側面には４つの摺体３２が設けられている。この４つの摺体３２は、図３に示すようにＸ軸と略鉛直に交わる２枚の側壁１０ａのそれぞれに固定され、Ｙ軸方向と略水平に伸びるガイドレール１１の溝部１１ａと摺動可能に嵌合している。そのため、基板処理ユニット検査装置１００のオペレータ（以下、単に「オペレータ」と呼ぶ）は、２つのハンドル３３を押し引きして、４つの摺体３２を２本のガイドレール１１内で摺動させることにより、保持部３０に保持された処理槽５０の中心位置Ｃを、内部空間１０ｆにおいて、ガイドレール１１に沿って振動板２０の上方位置となるＹ＝Ｙ２（処理槽５０の中心位置Ｃが基準位置Ｃ２となる状態）からＹ１（処理槽５０の中心位置Ｃが退避位置Ｃ１となる状態）の範囲でＹ軸正負方向に移動させることができる（図５参照）。この基準位置Ｃ２と退避位置Ｃ１との間の距離は略水平なＹ軸方向における処理槽５０以上とされている。
【００３９】
図１、図３〜図５に示す振動板２０は、基板処理装置を構成するユニットであり、超音波を発生させるために使用される。図６に示すように、振動板２０のフランジ部２２には、その端部を貫通する複数のネジ孔２２ａが設けられており、外槽１０の底板１０ｂには、複数のネジ孔２２ａのそれぞれと対応し、底板１０ｂを貫通する複数のネジ孔１０ｄが設けられている。また、移動台６１が固定された側壁１０ａ付近で、保持部３０をガイドレール１１に沿って移動することにより処理槽５０の略直下となる底板１０ｂの所定領域には、底板１０ｂを貫通する孔部１０ｃが設けられている。そのため、振動板２０を、孔部１０ｃと、孔部１０ｃに対応するネジ孔２２ａと、ネジ孔１０ｄとにボルト２３ａに挿通し、ボルト２３ａをナット２３ｂにねじ込むことにより、振動板２０を外槽１０の底面近傍の孔部１０ｃに保持することができる。なお、外槽１０は、その内部を水密構造とするため、フランジ部２２下部と底板１０ｂ上部との間に、例えばゴム製のシール材２４が配設される。
【００４０】
また、振動板２０の上面には複数の圧電素子が配置されている。図７は、振動板２０の上面に配置される圧電素子の例を示す図である。圧電素子の形状には、矩形（図７（ａ）：２０ａ）、円形（図７（ｂ））、六角形（図７（ｃ））と種々のものがある。圧電素子は、電力が供給されると、圧電素子の共振周波数（例えば、６００ｋＨｚ〜２０００ｋＨｚ）で振動し、また、供給電力に応じた振動エネルギーを発生する。そのため、振動板２０から内部空間１０ｆ（図１、図６参照）方向に超音波を付与し、外側純水Ｌ１を伝播水として超音波エネルギーを伝播することができる。
【００４１】
移動機構６０は、昇降アーム６４に設けられた音圧測定子８０をＸＹＺ方向に３次元に移動させる機構である。図１〜図５に示すように、移動機構６０は、移動台６１と、Ｘ軸方向に移動可能な第１移動部６２と、Ｙ軸方向に移動可能な第２移動部６３と、Ｚ軸方向に移動可能であって音圧測定子８０が取り付けられる昇降アーム６４と備えている。
【００４２】
移動台６１は、保持部３０の移動方向（Ｙ軸方向）と垂直な側壁１０ａであって、振動板２０からの距離が近い側壁１０ａの上部に設けられている。移動台６１は、図示しない回転モータとＸ軸方向に延設されてたボールネジとから構成されている。また、ボールネジは、第１移動部６２の下部に設けられた図示しない雌ねじ部とが噛み合って接している。そのため、回転モータを回転させることにより、第１移動部６２を移動台６１上でＸ軸正負方向に移動することができる。
【００４３】
第１移動部６２は、移動台６１とほぼ同様の構成（ただし、第１移動部６２のボールネジ（図示せず）は、Ｙ軸方向に延設されている。）により、第２移動部６３を第１移動部６２上でＹ軸正負方向に移動することができる。
【００４４】
昇降アーム６４は、第２移動部６３を貫通する孔部６５（図１参照）に挿入されて設けられおり、図示しないネジによって当接・圧接して固定されている。そのため、ネジを緩めて孔部６５の下部から突き出す昇降アーム６４の長さを調整し、次にネジを締めて昇降アーム６４を固定することによって、昇降アーム６４の下端位置Ｚを設定することができる。
【００４５】
昇降アーム６４の下端部には、振動板２０で発生して外側純水Ｌ１等を伝播した超音波を検出する音圧測定子８０が固定されている。音圧測定子８０は、その下端部に図示しない圧電素子が固定されている。この圧電素子に振動板２０で発生した超音波が入射すると、圧電素子は、その音圧（超音波の音圧）に応じた電圧信号を発生させる。そのため、この電圧信号を検出することにより音圧値を測定することができる。このように、移動機構６０によって音圧測定子８０を振動板２０に配置された複数の圧電素子のそれぞれの略直上に移動させることにより、各圧電素子のから出射する超音波の音圧を測定することが可能となる。
【００４６】
制御部４０は、計器・制御部２５に収容されており、プログラムや変数等を格納するメモリ４１と、メモリ４１に格納されたプログラムに従った制御を実行するＣＰＵ４２とを備えている。ＣＰＵ４２は、メモリ４１に格納されているプログラムに従って、第１移動部６２および第２移動部６３の位置制御、振動板２０上の各圧電素子への供給電力制御等を所定のタイミングで行う。
【００４７】
＜２．検査手順＞
ここでは、基板処理ユニット検査装置１００による振動板２０および処理槽５０の検査手順について説明する。本検査は大きく分けると、（１）振動板２０の検査と、（２）処理槽５０を透過する超音波の透過率の検査とに分けることができる。以下では、これら２つの検査について説明する。以下の手順に先立って、図６に示すように、孔部１０ｃに振動板２０を挿入し、複数のボルト２３ａをそれに対応するナット２３ｂにねじ込んで振動板２０を底板１０ｂに固定するとともに、図２等に示すように、保持部３０の孔部３５に振動板２０を挿入し、振動板２０に突設した複数の突起部５１を、それぞれに対応する受容部３４に係合させることにより、処理槽５０を保持部３０に保持する。
【００４８】
（１）　振動板の検査プロセス（第１検査プロセス）
例えば、複数の基板を一括して処理するバッチ式の基板処理装置によって基板を洗浄する際、基板を洗浄するのに十分な超音波のエネルギーを付与できない圧電素子が存在すると、超音波の指向性・直進性のため圧電素子によって洗浄される基板の全体またはその一部分の洗浄能力が低下し、その結果、洗浄不良が発生する。そのため、基板処理装置に取りつける前に、振動板２０上の各圧電素子から基板を洗浄するのに十分な所定の超音波エネルギーが出射されているかどうかの検査を行うことが好ましい。そこで、以下では、基板処理ユニット検査装置１００による振動板２０の検査について説明する。
【００４９】
図８に、振動板２０の検査手順を示す。振動板２０の検査では、まず、オペレータによって、ハンドル３３をＹ軸正方向に引っ張り、保持部３０とともに処理槽５０をガイドレール１１に沿って退避位置Ｙ１まで移動させる（Ｓ１０１）（図９参照）。これは、処理槽５０を振動板２０の上方位置から退避させることによって、後述する音圧測定において処理槽５０を透過した音圧が測定されるのを防止するためである。この移動の際には、音圧測定子８０を上方に退避させて、音圧測定子８０と処理槽５０の槽壁との干渉を防止する。
【００５０】
次に、オペレータは、図９に示すように回収管１２に延長管１２ａを接続し、バルブ１３を開放して外槽１０用純水供給源１４から純水を供給して外槽１０の内部空間１０ｆに純水を貯留する（Ｓ１０２）。ここで、外槽１０に純水を貯留するのは、貯留される純水に溶解している窒素ガス（以下、「溶存窒素」とも呼ぶ）濃度が高く（例えば、１０ｐｐｍ以上）なると、振動板２０から出射する超音波のエネルギーが純水中の溶存窒素に吸収され、その結果、音圧測定子８０によって測定される音圧値が、本来測定されるべき音圧値より低くなることを防止するためである。
【００５１】
外槽１０に純水を供給する際、外側純水Ｌ１の水面位置Ｚが高位側Ｚ１より高くなると、外側純水Ｌ１の一部は回収管１２および延長管１２ａによって基板処理ユニット検査装置１００外の排液ドレイン２７に排出されるため、外側純水Ｌ１の水面位置Ｚは高位側Ｚ１に保たれる。ここで、水面位置が高位側Ｚ１となった後も外槽１０用純水供給源１４から純水を供給し続ける。これは、外側純水Ｌ１に大気中の窒素ガスが溶解し、純水中の溶存窒素濃度が増加するのを防止するためである。
【００５２】
続いて、オペレータは、第２移動部６３の下部から突き出す昇降アーム６４の長さを調整して、音圧測定子８０の位置が外側純水Ｌ１の水位Ｚ１よりも低い測定位置Ｚ０となるように設定し、音圧測定子８０の下端部を外側純水Ｌ１に浸るようにする。続いて、制御部４０によって第１移動部６２と第２移動部６３とを移動させて音圧測定子８０を所定の音圧測定位置まで移動させる（Ｓ１０３）。ここで、音圧測定位置とは、振動板２０に配置された各圧電素子の中心位置のことであり、例えば、図７（ａ）に振動板２０上に配置された圧電素子の１つである圧電素子２０ａの場合はＰ１のＸＹ座標を、図７（ｂ）に示す円形状の圧電素子２０ｂの場合はＰ２のＸＹ座標を、図７（ｃ）に示す六角形状の圧電素子２０ｃの場合はＰ３のＸＹ座標を示す。このように、第１移動部６２と第２移動部６３とを移動させ、音圧測定子８０を振動板２０上の各圧電素子の中心位置の上方に移動させることにより、音圧測定位置に対応する圧電素子から出射する超音波の音圧を測定し、各圧電素子から出射して外側純水Ｌ１を伝播する超音波の伝播状況を調べる。
【００５３】
続いて、制御部４０によって、振動板２０に供給する電力を設定し（Ｓ１０４）、振動板２０を振動させる。振動板２０の検査では、圧電素子から発生する音圧と供給電力との関係を調べるため、各音圧測定位置において供給電力値を複数変化させて音圧を測定する。なお、この複数の供給電力値は、圧電素子の特性（例えば、圧電素子で使用可能な電力範囲）によって予め決定する。
【００５４】
続いて、圧電素子から出射され、外側純水Ｌ１を伝播して音圧測定子８０に到達する音圧（超音波の音圧）の測定を行う（Ｓ１０５）。ここで、超音波は指向性・直進性に優れた疎密波であるため、ある音圧測定位置で測定された音圧は、その音圧測定位置に対応する圧電素子から出射する超音波とすることができる。
【００５５】
そして、ステップＳ１０５の音圧の測定が終了すると、すべての供給電力値について測定が終了したか否か判断する（Ｓ１０６）。すべての供給電力値について測定が終了していないとき、ステップＳ１０４に戻ってステップＳ１０４〜Ｓ１０５の工程を行う。ステップＳ１０６において、すべての供給電力値いついて測定が終了したと判断されると、すべての音圧測定位置（振動板２０上のすべての圧電素子）について測定が終了したか否か判断する（Ｓ１０７）。すべての音圧測定位置について測定が終了していないとき、ステップＳ１０３に戻って別の音圧測定位置へ移動し、ステップＳ１０４〜Ｓ１０６の音圧測定を繰り返し行う。
【００５６】
続いて、ステップＳ１０７において、すべての音圧測定位置について測定が終了したと判断されると、ステップＳ１０１〜Ｓ１０７で測定した各音圧測定位置における音圧値によって各圧電素子の判定を行う（Ｓ１０８）。図１０は、ステップＳ１０４〜Ｓ１０６における音圧測定結果の一例を示すものである。横軸は振動板２０に供給された電力値Ｗに、縦軸は音圧測定子８０によって測定された音圧値Ｐにそれぞれ対応する。また、図１０の実線で示す曲線Ｃ１１と、点線で示す曲線Ｃ１２はいずれもステップＳ１０１における測定結果の例を示す音圧値曲線であり、さらに、一点鎖線で示す曲線ＣＵ、ＣＬは、それぞれ各供給電力値Ｗにおける音圧値の許容上限、許容下限を示す曲線である。なお、各供給電力値Ｗにおける音圧値の許容上限、許容下限は、基板処理装置で必要とされる洗浄能力等により予め実験等によって求めるものとする。
【００５７】
各音圧測定位置において、ステップＳ１０４〜Ｓ１０６の音圧測定結果が、曲線Ｃ１１のように許容上限曲線ＣＵと許容下限曲線ＣＬとによって挟まれた範囲に存在する場合、その音圧測定位置に対応する圧電素子は、正常に動作していると判定する。一方、音圧測定結果が、曲線Ｃ１２のように許容上限曲線ＣＵと許容下限曲線ＣＬとによって挟まれた範囲に存在しない場合、その音圧測定位置に対応する圧電素子で、振動不良等の洗浄不良の原因となる不具合が生じていると判定する。
【００５８】
この曲線ＣＬおよびＣＵによる判定をすべての音圧測定位置（すべての圧電素子）について実施する。そして、すべての圧電素子とも正常に動作していると判定した場合、その圧電素子を備える振動板２０は正常に動作しているとして「検査結果ＯＫ」と判定する（Ｓ１０９）。一方、振動板２０上の圧電素子のうち少なくとも１つの圧電素子において不具合が生じていると判定された場合、その振動板２０は、洗浄不良が発生するおそれがあるとして、「検査結果ＮＧ」と判定する（Ｓ１１０）。
【００５９】
（２）　処理槽底部における超音波透過率の検査プロセス（第２検査プロセス）
基板洗浄洗浄装置により基板を洗浄する際、（１）振動板２０の検査で「検査結果ＯＫ」と判定された場合であっても、処理槽５０底部を透過する超音波の透過率（以下、単に「透過率」とも呼ぶ）が低いと、振動板２０から出射する超音波エネルギーが処理槽５０底部で吸収され、基板を洗浄するのに十分な超音波のエネルギーを付与できず、その結果、洗浄不良が発生する。そのため、洗浄装置に取りつける前に、透過率が基板を洗浄するのに十分な許容値以上であるかどうかの検査を行うことが好ましい。そこで、以下では、超音波の透過率の検査手順について説明する。
【００６０】
図１１および図１２に、透過率の検査手順を示す。透過率の検査では、まず、オペレータによって、ハンドル３３をＹ軸負方向に引っ張り、保持部３０とともに処理槽５０をガイドレール１１に沿って退避位置Ｙ１から基準位置Ｙ２まで移動させる（Ｓ２０１）（図１３参照）。この移動によって、処理槽５０を振動板２０の上方に移動させることができるため、後述する音圧測定において、処理槽５０底部を透過した超音波の音圧を測定することが可能となる。この移動の際には音圧測定子８０を上方に退避させて処理槽５０の内壁と音圧測定子８０との干渉を防止する。この干渉防止は、オペレータによって、保持部３０を移動させる前に、音圧測定子８０の位置を測定位置Ｚ０から処理槽５０の上端高さＺ３より上方位置に移動させ、保持部３０を移動させた後に再度、音圧測定子８０を測定位置Ｚ０まで移動させることにより、音圧測定子８０と処理槽５０とが干渉することを防止する。
【００６１】
次に、オペレータは、図１３の回収管１２に接続された延長管１２ａを取り外すことにより、外側純水Ｌ１の水面位置Ｚを高位側Ｚ１から低位側Ｚ２に変更し、処理槽５０の一部（底部付近）が外側純水Ｌ１に浸るようする。この水面位置の変更は、外側純水Ｌ１を介して処理槽５０に付与される超音波の付与状況を実際の基板処理装置における超音波の付与状況と同一にするためのものであり、その結果、基板処理ユニット検査装置１００に振動板２０と処理槽５０とを取りつけることによって、実際の基板処理装置と同様な透過率を検査することができる。
【００６２】
外側純水Ｌ１の水面位置を変更した後、オペレータは、バルブ１３を開放し、外槽１０用純水供給源１４から純水の供給を開始する（Ｓ２０２）。このとき、外側純水Ｌ１の水面位置がＺ２より高くなると、回収管１２によって基板処理ユニット検査装置１００外の排液ドレイン２７に排出されるため、外側純水Ｌ１の水面位置Ｚは基準位置Ｚ２に保たれる。ここで、純水を供給するのは、振動板２０の検査の場合と同様に、貯留されている純水に大気中の窒素ガスが溶解し、純水中の溶存窒素濃度が増加するのを防止するためである。
【００６３】
続いて、オペレータは、バルブ１６を開放し、処理槽５０用純水供給源１７から純水を供給して処理槽５０内に純水を貯留する（Ｓ２０２）。ここで、処理槽５０に純水を貯留するのは、外槽１０の場合と同様に、超音波エネルギーが純水中の溶存窒素に吸収されるのを防止するためである。
【００６４】
また、処理槽５０には純水供給源１７から純水が供給し続けられるため、内側純水Ｌ２の水面位置Ｚが上限位置Ｚ３以上になると、処理槽５０上部から溢れ出て、基板処理ユニット検査装置１００外に排出される。そのため、内側純水Ｌ２に大気中の窒素ガスが溶解し、純水中の溶存窒素濃度が増加するのを防止することができる。
【００６５】
次に、ステップＳ２０３〜Ｓ２０７において、振動板２０上の各圧電素子で発生し、外側純水Ｌ１と、処理槽５０底部と、内側純水Ｌ２とを伝播して音圧測定子８０に到達した超音波の音圧の測定を行う。測定手順は、図８に示すステップＳ１０３〜Ｓ１０７と同様な手順であり、移動機構６０によって昇降アーム６４に固定された音圧測定子８０を各音圧測定位置（圧電素子の上方位置）に移動させ、各音圧測定位置において、振動板２０への供給電力を変化させたときの音圧値の測定を行い、音圧測定位置に対応する圧電素子から出射して外側純水Ｌ１と処理槽５０底部と内側純水Ｌ２とを伝播する超音波の状況を調べる。つまり、移動機構６０によって音圧測定子８０を振動板２０上の各圧電素子の中心位置の上方に移動させることにより、音圧測定位置に対応する圧電素子から出射する超音波の音圧を測定し、各圧電素子から出射した超音波の伝播状況を調べる。
【００６６】
続いて、Ｓ２０３〜Ｓ２０７において測定された音圧（以下、「透過後音圧」とも呼ぶ）と、Ｓ１０３〜Ｓ１０７において測定された音圧（以下、「透過前音圧」とも呼ぶ）とによって透過率Ｔの計算を行い、透過率Ｔの判定を行う。透過率Ｔは、透過前音圧値をＰｂ、透過後音圧値をＰａとすると、透過率Ｔは数１によって求められる。
【００６７】
【数１】
2004022578.tif 000003
【００６８】
そして、数１によって求められた透過率Ｔが、透過率下限値ＴＬ以上となる場合は、検査に使用した処理槽５０および振動板２０を基板処理装置に取りつけて洗浄処理をすると、十分な洗浄能力を得ることができると判定し、また、透過率Ｔが透過率下限値ＴＬより小さくなる場合は、十分な洗浄能力を得ることができないと判定する。なお、この透過率下限値ＴＬは、基板Ｗの洗浄能力を確保するために満たすべき透過率の最低値であって、０≦ＴＬ＜１．０を満足する値であり、処理槽５０底部の厚さの許容差や振動板２０上に配置された圧電素子から発生する超音波の周波数の許容差等を基にして実験等により予め求められる。
【００６９】
また、ｔを処理槽５０底部の厚さ、λを処理槽５０底部を透過する超音波の波長、ｃ１を処理槽５０底部を透過する超音波の速度、ρ１を処理槽５０底部の密度を、ｃ２を内側純水Ｌ２中を進行する超音波の速度を、ρ２を純水の密度とすると、透過率Ｔ０は、数２の近似式することができる。
【００７０】
【数２】
2004022578.tif 000004
【００７１】
以下、測定値によって求められる透過率Ｔと区別する目的で、数２に示す近似式によって求められる透過率をＴ０とする。
【００７２】
ここで、数２は、量ａを数３のように定義すると数４のように変形することができる。
【００７３】
【数３】
2004022578.tif 000005
【００７４】
【数４】
2004022578.tif 000006
【００７５】
数４より、透過率Ｔ０は、処理槽５０底部の厚さｔが超音波の半波長（λ／２）の自然数倍となるときに、最大（Ｔ＝１、すなわち透過率１００％）となる。
【００７６】
また、超音波の波長λは、処理槽５０底部を透過する超音波の速度ｃ１と、超音波の周波数ｆ１とから数５によって求められる。
【００７７】
【数５】
2004022578.tif 000007
【００７８】
本実施形態で使用する石英製の処理槽５０の底部を透過する超音波の速度ｃ１は約５９００ｍ／ｓｅｃであり、また振動板２０から出射する超音波の周波数ｆ１は７３０ｋＨｚであることより、超音波の波長λは約８．２２ｍｍとなる。そのため、透過率を高めるには、処理槽５０底部の厚さｔを約４ｍｍとすることが好ましい。
【００７９】
また、数４は、数５を代入することによって数６のように変形することができる。
【００８０】
【数６】
2004022578.tif 000008
【００８１】
処理槽５０底部を透過する超音波の速度ｃ１、を処理槽５０底部の密度ρ１、内側純水Ｌ２中を進行する超音波の速度ｃ２、および純水の密度ρ２は定数であり、さらに、数４に示すａは定数とすることができるため、透過率Ｔ０は、数６により処理槽５０底部の厚さｔと、振動板２０から出射する超音波の周波数ｆ１とによって近似することができる。言い換えると、数１によって求められた透過率Ｔが基板を洗浄するのに十分な所定値より小さい場合、処理槽５０底部の厚さｔと、振動板２０から出射する超音波の周波数ｆ１とを実測することにより、透過率低下の要因解析を行うことができる。
【００８２】
図１４は、音圧測定位置における透過前音圧値曲線および透過後音圧値曲線の例を示すものであり、横軸は振動板２０に対して供給された電力値Ｗに、縦軸は音圧測定子８０によって測定された音圧値Ｐにそれぞれ対応する。
【００８３】
図１４（ａ）は、透過率が透過率下限値ＴＬ以上であると判定される場合の一例を示す図であり、図１４（ａ）中の実線Ｃ２１は透過前音圧値曲線を、点線Ｃ２２は透過後音圧値曲線を、一点鎖線Ｃ２３は透過前音圧曲線Ｃ２１の各供給電力値Ｗに対応する音圧値Ｐに透過率下限値ＴＬを乗じたものをそれぞれ示す。
【００８４】
また、図１４（ｂ）は、透過率が透過率下限値ＴＬより小さいと判定される場合の一例を示す図であり、図１４（ｂ）中の実線Ｃ３１は透過前音圧値曲線を、点線Ｃ３２は透過後音圧値曲線を、一点鎖線Ｃ３３は透過前音圧曲線Ｃ３１の各供給電力値Ｗに対応する音圧値Ｐに透過率下限値ＴＬを乗じたものをそれぞれ示す。
【００８５】
図１４（ａ）に示すように、透過後音圧曲線Ｃ２２は、透過前音圧曲線Ｃ２１と透過率下限値曲線Ｃ２３とに挟まれた範囲に存在する。したがって、図１４（ａ）の音圧測定位置において、各供給電力値Ｗに対応する透過前音圧値Ｐｂ、透過後音圧値をＰａを数１に代入して求められる透過率は、すべて透過率下限値ＴＬ以上となり基板を洗浄するのに十分な洗浄能力を有すると判定する。
【００８６】
一方、図１４（ｂ）に示すように、透過後音圧曲線Ｃ３２は、透過前音圧曲線Ｃ３１と透過率下限値曲線Ｃ３３とに挟まれた範囲に存在しないため、図１４（ｂ）の音圧測定位置における透過率は、基板を洗浄するのに十分な洗浄能力を有せず、洗浄不良が発生する可能性があると判定する。
【００８７】
そして、すべての音圧測定位置において、透過後音圧曲線が透過前音圧曲線と透過率下限値曲線とに挟まれた範囲に存在するかどうかの判定を行う。すべての音圧測定位置において、透過後音圧曲線が透過前音圧曲線と透過率下限値曲線とに挟まれた範囲に存在する場合、基板Ｗを洗浄するのに十分な透過率が確保されているとして「検査結果ＯＫ」と判定する（Ｓ２０９）。
【００８８】
一方、図１４（ｂ）のように透過後音圧曲線が透過前音圧曲線と透過率下限値曲線とに挟まれた範囲に存在しない音圧測定位置については、さらに、その音圧測定位置における超音波の周波数ｆ１を測定する（Ｓ２１０）。そして、音圧測定位置に対応する圧電素子の周波数ｆ１が、圧電素子製作時に定められる圧電素子の周波数の規格値ｆ０と、許容範囲を示す閾値としての上限値ΔｆＨ（≧０）および下限値ΔｆＬ（≧０）とから求められる許容範囲（ｆ０−ΔｆＬ、ｆ０＋ΔｆＨ）に存在しない時は、圧電素子の振動状態に不良等の不具合があると判定する（Ｓ２１２）。一方、周波数ｆ１が許容範囲内の時は、音圧測定位置に対応する処理槽５０底部の厚さｔが、処理槽５０製作時に定められる処理槽５０底部の厚さｔの規格値ｔ０と、許容範囲を示す閾値としての上限値ΔｔＨ（≧０）および下限値ΔｔＬ（≧０）とから求められる許容範囲（ｔ０−ΔｔＬ、ｔ０＋ΔｔＨ）に存在しないため透過率Ｔが低下したと判定する（Ｓ２１２）。
【００８９】
＜３．本実施形態の基板処理ユニット検査装置の利点＞
以上の実施の形態において、基板処理ユニット検査装置１００は，基板処理装置を構成するユニットである振動板２０を外槽の底部に配設し、基板処理装置の構成ユニットである処理槽５０を保持部３０によって保持し、ガイドレール１１によって移動可能とすることにより、（ｉ）振動板２０から出射し、外側純水Ｌ１と、処理槽５０底部と、内側純水Ｌ２とを伝播して音圧測定子８０に到達する超音波の音圧を測定するだけでなく、（ｉｉ）振動板２０から出射し、外側純水Ｌ１のみを伝播して音圧測定子８０に到達する超音波の音圧をも測定することができる。そのため、従来の（ｉ）のみの音圧測定のみを行っていた洗浄能力の検査では、音圧測定子８０で測定される音圧値が許容範囲外の場合、十分な洗浄能力を得ることができないと判定されるのみだったが、本実施の形態における基板処理ユニット検査装置１００おいては、その要因が振動板２０にあるのか、または、処理槽５０底部を超音波が透過する際の透過率の低下によるものであるのかを容易に判定することできる。
【００９０】
また、基板処理ユニット検査装置１００は、処理槽５０を保持部３０によって移動可能に保持されており、処理槽を取り外すことなく振動板２０から出射し、外側純水Ｌ１のみを伝播して音圧測定子８０に到達する超音波の音圧を測定することができる。そのため、処理槽５０および振動板２０を基板処理装置に取りつけた後に行っていた従来の洗浄能力の検査のように、処理槽５０を基板処理装置から一旦取り外し、検査後に再度５０を取りつけるといった重複した作業を必要とせず、その結果、装置の組み立て時間を低減し、製造コストを減少させることができる。
【００９１】
＜４．変形例＞
以上、本発明について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【００９２】
本実施の形態における基板処理ユニット検査装置１００では、（ｉ）外側純水Ｌ１のみを伝播した超音波の音圧を測定し、続いて、（ｉｉ）外槽１０に貯留した純水と、処理槽５０底部と、内側純水Ｌ２とを伝播した音圧を測定し、振動板２０の検査および透過率の検査を行っているが、検査手順はこれに限定されるものではない。例えば、従来の検査手順と同様に、まず（ｉｉ）の測定を行い、超音波の音圧が、実験等により予め求められた洗浄能力の指標として求められた音圧下限値以上の場合は、十分な洗浄能力を得ることができるとして「検査結果ＯＫ」とする。一方、超音波の音圧が、音圧下限値より小さい場合は、（ｉ）の測定を行い、（ｉ）と（ｉｉ）の測定結果により振動板の検査および透過率の検査を行ってもよい。すなわち、第１検査プロセスと第２検査プロセスとの順序は任意である。
【００９３】
外槽１０の側壁１０ａは、４枚すべて透明部材としているが、これに限定されるものではなく、オペレータが外槽１０に貯留された純水を装置１００の外部側方から目視することができれば、例えば、そのうち１枚だけを透明部材によって構成してもよい。また、側壁１０ａの一部を透明に、残りの部分を不透明にしてもよい。
【００９４】
保持部３０は、アクリル製の板状の透明部材としているが、これに限定されるものではなく、オペレータが外槽１０に貯留された純水を装置１００の外部側方から目視することができれば、保持部３０の一部を透明に、残りの部分を不透明にしてもよい。
【００９５】
【発明の効果】
請求項１から請求項１１に記載の発明によれば、基板処理装置を構成するユニットとして使用される処理槽を可動手段に保持しつつ、基板処理装置の構成ユニットとして使用される超音波発生手段を支持機構に支持することにより、処理槽を、超音波発生手段の上方位置となる基準位置と、前記基準位置から離れた退避位置とに移動することができ、（ｉ）超音波発生手段から出射して箱体に貯留された液体を伝播して超音波検出手段に到達する超音波の音圧と、（ｉｉ）超音波発生手段から出射して箱体に貯留された液体、処理槽の底部、および処理槽に貯留された液体を伝播して超音波検出手段に到達する超音波の音圧とを検出することができる。そのため、検出された超音波の音圧が許容範囲内になく、十分な洗浄能力を得ることができないと判定された場合に、その要因が超音波発生手段にあるのか、または、超音波が処理槽底部を透過するときの透過率の低下によるものであるのかを容易に判定することできる。
【００９６】
また、請求項１から請求項１１に記載の発明によれば、処理層が可動手段によって移動可能に保持されており、処理槽を取り外すことなく超音波発生手段から出射して箱体に貯留された液体を伝播して超音波検出手段に到達する超音波の音圧を検出することができる。そのため、処理槽および超音波発生手段を基板処理装置に取りつけた後に行っていた従来の洗浄能力検査のように、処理槽を一旦取り外し、検査後に再度処理槽を取りつける重複した作業を必要とせず、その結果、装置の組み立て時間を低減し、製造コストを減少させることができる。
【００９７】
特に、請求項２に記載の発明によれば、退避位置に処理槽を移動させ、超音波発生手段から出射することにより、処理槽を伝播せず、箱体と箱体に貯留された液体を伝播した超音波の音圧を検出することができる。
【００９８】
特に、請求項３に記載の発明によれば、処理槽を可動手段に保持し、ガイド部材に沿って移動可能なため、処理槽を手動で容易に移動させることができる。
【００９９】
特に、請求項４に記載の発明によれば、支持機構によって超音波検出手段を略水平方向に移動させることができるため、超音波検出手段を超音波発生手段の上方で略水平方向に移動することができる。
【０１００】
特に、請求項５に記載の発明によれば、支持機構によって超音波検出手段を複数の超音波振動子のそれぞれの略直上に移動させることにより、前記複数の超音波振動子のそれぞれから出射される超音波の音圧を検出することができるため、各超音波振動子から出射する超音波が、十分な洗浄能力を持つかどうかの判定を行うことができる。
【０１０１】
特に、請求項６に記載の発明によれば、基板処理ユニット検査装置の外部から側壁の透明部を介して箱体内部を側方から目視することができるため、基板処理ユニット検査装置の使用中に、箱体に貯留されている液体に付与された超音波の状況や処理槽底部の状況を側方から観察することができる。
【０１０２】
特に、請求項７に記載の発明によれば、複数の側壁のそれぞれに設けられた透明部を介して箱体内部を複数の方向から目視することができるため、基板処理ユニット検査装置の使用中に、箱体に貯留されている液体に付与された超音波の状況や処理槽の状況等を複数の方向から観察することができる。
【０１０３】
特に、請求項８に記載の発明によれば、保持移動体の透明部を介して箱体内部を上方から目視することができるため、基板処理ユニット検査装置の使用中に箱体に貯留されている液体に付与された超音波状況を上方から観察することができる。
【０１０４】
特に、請求項９に記載の発明によれば、処理槽を貫通孔に挿通し、保持移動体上に形成した凹部と、処理槽の槽体の外側に突出した突起部とを係合することができるため、処理槽を容易に保持移動体に保持することができる。
【０１０５】
特に、請求項１０に記載の発明によれば、処理槽および箱体の内部空間に、所定の液体を供給し、液体を貯留することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における基板処理ユニット検査装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１の基板処理ユニット検査装置の上面図である。
【図３】図１の基板処理ユニット検査装置の正面図である。
【図４】図１の基板処理ユニット検査装置の側面図である。
【図５】図１の基板処理ユニット検査装置の上面図である。
【図６】振動板の取り付け方法を示す図である。
【図７】振動板上に配置された圧電素子の配置例を示す図である。
【図８】振動板の検査手順を示すフローチャートである。
【図９】検査時における処理槽と振動板の位置関係を説明する図である。
【図１０】音圧値と振動板の消費電力の関係を示す図である。
【図１１】透過率の検査手順を示すフローチャートである。
【図１２】透過率の検査手順を示すフローチャートである。
【図１３】検査時における処理槽と振動板の位置関係を説明する図である。
【図１４】音圧値と振動板の消費電力の関係を示す図である。
【図１５】基板洗浄装置の一例を示す図である。
【図１６】基板洗浄装置の検査方法を示す図である。
【符号の説明】
１００　基板処理ユニット検査装置
１０　外槽
２０　振動板
２５　計器・制御部
３１　保持板
５０　処理槽
８０　音圧測定子
【図１】
2004022578.tif 000009
【図２】
2004022578.tif 000010
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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