(57)【要約】【課題】ガラス製ＥＬ素子用封止板、及び該ＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板を提供する。【解決手段】有機ＥＬ素子１００は、パッシブ構造をとり、板状の透明な無アルカリガラス製の基板１０と、基板１０の上に形成された有機ＥＬ積層体２０と、この有機ＥＬ積層体２０を覆うように形成された封止板３０とから成る。封止板３０は、例えばウェットエッチング法により板状の透明な無アルカリガラス製のガラス素板から加工され、中央部を凹状に規定すべく周辺部に周辺突条部３１が形成される。周辺突条部３１の頂部は、基板１０に接着層４０を介して基板１０に接着される。封止板３０は、波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下である。【選択図】　　　図１
2004111233.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に積層されたＥＬ積層体を覆うように中央部が凹状に規定されたガラス製ＥＬ素子用封止板において、波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下であることを特徴とするガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項２】
紫外線吸収成分を含有することを特徴とする請求項１記載のガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項３】
前記紫外線吸収成分は、ＣｅＯ２：１．０〜３．５質量％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜１．０質量％、ＴｉＯ２：０〜２．０質量％を含み、且つこれらの総計が１．５質量％以上であり、さらにＬａ２Ｏ３：０〜５．０質量％、ＮｉＯ：０〜０．０２質量％、ＳｎＯ２：０〜１．０質量％を含むことを特徴とする請求項２記載のガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項４】
表面に紫外線反射多層膜がコーティングされていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項５】
前記紫外線反射多層膜は、蒸着法及びスパッタリング法を含む真空成膜法により形成されることを特徴とする請求項４記載のガラス製ＥＬ素子用封止板。
【請求項６】
前記紫外線反射多層膜は、ＣＶＤ法により形成されることを特徴とする請求項４記載のガラス製ＥＬ素子用封止板。
【請求項７】
前記紫外線反射多層膜は、低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とから成ることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載のガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項８】
前記低屈折率誘電体膜は、厚さが４０〜８０ｎｍであることを特徴とする請求項７記載のガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項９】
前記高屈折率誘電体膜は、厚さが１５〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項７記載のガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項１０】
前記紫外線反射多層膜は、紫外線を吸収するフィルム材料を含むことを特徴とする請求項４記載のガラス製ＥＬ素子封止板。
【請求項１１】
前記フィルム材料は、紫外線を吸収するコーティング液を前記ガラス製ＥＬ素子用封止板の表面に塗布し、当該塗布されたコーティング液を乾燥させることにより形成されることを特徴とする請求項１０記載のガラス製ＥＬ素子用封止板。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のガラス製ＥＬ素子用封止板がほぼマトリックス状に形成されたことを特徴とするＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス製ＥＬ（エレクトロ・ルミネッセンス）素子用封止板、及び該封止板多面取り用マザーガラス基板に関し、特に、基板上に積層されたＥＬ積層体を覆うように中央部が凹状に規定されたガラス製ＥＬ素子用封止板、及び該封止板多面取り用マザーガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＥＬ素子は、携帯電話やカーナビゲーションシステム等の電子機器の表示部分として好適に用いられ、一般的には、上面にＥＬ積層膜を含むＥＬ積層体が形成された基板と、基板上に形成されたＥＬ積層体を覆うように、頂面が接着剤を介して基板に接着される周辺突条部を周辺部に規定すべく中央部が凹状に加工されたＥＬ素子用封止板とから構成される。基板と封止板とは、基板と周辺突条部の間の封止部分に配された接着剤から成る接着層を介して接着される。
【０００３】
この封止板の材料としては、金属、ガラス、又は樹脂等が用いられる。これらのうち封止板が金属から成る場合は、基板に形成された引出し電極部分の電気的絶縁性の保持を目的として、基板と周辺突条部の間の封止部分に配される接着剤に絶縁性のスペーサーを混ぜる必要があるため、基板と周辺突条部との隙間がスペーサーの分だけ大きくなってしまい、この部分から外部の水分が侵入する可能性が高くなる。また、発光層からの光を封止板側から取出すトップエミッション構造では、封止板に透明性が要求されるため、金属から成る封止板は使用できない。
【０００４】
従って、ＥＬ素子がトップエミッション構造をとる場合は、封止板は絶縁性と透明性を有するプラスチック又はガラスが用いられる。しかし、プラスチックは、それ自体がもつ吸水性のために封止板の材料として用いられることは少ないのに対して、ガラスは絶縁性、透明性、及び耐水性に優れているため封止板の材料としてよく用いられる。
【０００５】
ガラス製の封止板の加工方法としては、ガラス素板自体を曲げて加工するプレス法や、ガラス素板の中央部分を取り除くサンドブラスト法があり、これら以外にも、エッチング法がある。このエッチング法によれば、周辺突条部の頂面の平坦度が高く、また、中央凹部の表面に微小なクラックが発生しないので、基板と封止板の接着のために圧力をかけても封止部分において均一な接着を行うことができる。
【０００６】
上述した携帯電話やカーナビゲーション等の電子機器に用いられるＥＬ素子は屋外で使用されることが多く、ＥＬ積層膜に対する紫外線の照射が避けられず、特に、有機系の発光部材を有する封止板側からの紫外線によるＥＬ積層膜の劣化が起こり易い。
【０００７】
紫外線によるＥＬ積層膜の劣化を抑制すべく、基板表面に酸化スズ等の単層膜たる金属酸化物膜を形成すること（例えば、特許文献１参照）や、基板表面に紫外線吸収層を形成すること（例えば、特許文献２参照）が行われている。
【０００８】
【特許文献１】
特開平４−３３４８９５号公報
【特許文献２】
特開２００２−１８４５７２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記基板表面に金属酸化物膜又は紫外線吸収層が形成されたＥＬ素子は、基板側からの紫外線によるＥＬ積層膜の劣化を抑制するものの、封止板側からの紫外線によるＥＬ積層膜の劣化を抑制することができず、トップエミッション型のＥＬ素子として用いることが困難であった。
【００１０】
本発明の目的は、封止板側からの紫外線によるＥＬ積層膜の劣化を抑制して、ＥＬ素子の寿命を長くすることができるガラス製ＥＬ素子用封止板、及び該ＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、請求項１記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、基板上に積層されたＥＬ積層体を覆うように中央部が凹状に規定されたガラス製ＥＬ素子用封止板において、波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下であることを特徴とする。
【００１２】
請求項２記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、請求項１記載のガラス製ＥＬ素子封止板において、紫外線吸収成分を含有することを特徴とする。
【００１３】
請求項３記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、請求項２記載のガラス製ＥＬ素子封止板において、前記紫外線吸収成分は、ＣｅＯ２：１．０〜３．５質量％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜１．０質量％、ＴｉＯ２：０〜２．０質量％を含み、且つこれらの総計が１．５質量％以上であり、さらにＬａ２Ｏ３：０〜５．０質量％、ＮｉＯ：０〜０．０２質量％、ＳｎＯ２：０〜１．０質量％を含むことを特徴とする。
【００１４】
請求項４記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のガラス製ＥＬ素子封止板において、表面に紫外線反射多層膜がコーティングされていることを特徴とする。
【００１５】
請求項５記載のガラス製ＥＬ素子用封止板は、請求項４記載のガラス製ＥＬ素子用封止板において、前記紫外線反射多層膜は、蒸着法及びスパッタリング法を含む真空成膜法により形成されることを特徴とする。
【００１６】
請求項６記載のガラス製ＥＬ素子用封止板は、請求項４記載のガラス製ＥＬ素子用封止板において、前記紫外線反射多層膜は、ＣＶＤ法により形成されることを特徴とする。
【００１７】
請求項７記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、請求項４乃至６のいずれか１項に記載のガラス製ＥＬ素子封止板において、前記紫外線反射多層膜は、低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とから成ることを特徴とする。
【００１８】
請求項８記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、請求項７記載のガラス製ＥＬ素子封止板において、前記低屈折率誘電体膜は、厚さが４０〜８０ｎｍであることを特徴とする。
【００１９】
請求項９記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、請求項７記載のガラス製ＥＬ素子封止板において、前記高屈折率誘電体膜は、厚さが１５〜４０ｎｍであることを特徴とする。
【００２０】
請求項１０記載のガラス製ＥＬ素子封止板は、請求項４記載のガラス製ＥＬ素子封止板において、前記紫外線反射多層膜は、紫外線を吸収するフィルム材料を含むことを特徴とする。
【００２１】
請求項１１記載のガラス製ＥＬ素子用封止板は、請求項１０記載のガラス製ＥＬ素子用封止板において、前記フィルム材料は、紫外線を吸収するコーティング液を前記ガラス製ＥＬ素子用封止板の表面に塗布し、当該塗布されたコーティング液を乾燥させることにより形成されることを特徴とする。
【００２２】
請求項１２記載のＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板は、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のガラス製ＥＬ素子用封止板がほぼマトリックス状に形成されたことを特徴とする。
【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、基板上に積層されたＥＬ積層体を覆うように中央部が凹状に規定されたガラス製ＥＬ素子用封止板において、波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下であると、好ましくは、ガラス製ＥＬ素子用封止板が、例えば、ＣｅＯ２：１．０〜３．５質量％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜１．０質量％、ＴｉＯ２：０〜２．０質量％を含み、且つこれらの総計が１．５質量％以上であり、さらにＬａ２Ｏ３：０〜５．０質量％、ＮｉＯ：０〜０．０２質量％、ＳｎＯ２：０〜１．０質量％を含む紫外線吸収成分を含有すると、さらに好ましくは、ガラス製ＥＬ素子用封止板の表面に、例えば、低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とから成る紫外線反射多層膜、又は、紫外線を吸収するフィルム材料を含む紫外線反射多層膜がコーティングされていると、封止板側からの紫外線によるＥＬ積層膜の劣化を抑制して、ＥＬ素子の寿命を長くすることができることを見出した。
【００２４】
本発明は、上記研究の結果に基づいてなされたものである。
【００２５】
以下、本発明の実施の形態にかかるＥＬ素子用封止板を図面を参照しながら説明する。
【００２６】
図１は、本発明の実施の形態に係るガラス製ＥＬ素子用封止板を備えるＥＬ素子の断面図である。
【００２７】
図１において、トップエミッション型有機ＥＬ素子１００は、パッシブ構造をとり、大きさ７．０ｃｍ角、厚さ１．０ｍｍの板状の透明な無アルカリガラス製の基板１０と、基板１０の上に形成された有機ＥＬ積層体２０と、この有機ＥＬ積層体２０を覆うように形成された封止板３０とから成る。
【００２８】
封止板３０は、大きさ５．０ｃｍ角、厚さ１．１ｍｍの板状の透明な無アルカリガラス製のガラス素板から加工されると共に、表面に、中央部を凹状に規定すべく中央の凹部３２の周辺部に幅２．０ｍｍの周辺突条部３１が形成され、底部の厚さが０．８ｍｍである。基板１０と周辺突条部３１とは、基板１０と周辺突条部３１の頂部との間に形成された封止部分に配された、例えば紫外線硬化型エポキシ樹脂製の接着剤から成る接着層４０を介して接着される。
【００２９】
封止板３０の基板１０への接着は、まず、周辺突条部３１に接着剤を一定量塗布した後、封止板３０を基板１０上に載置し、次に、封止板３０を基板１０に押圧しつつ接着剤に紫外線を照射することにより行われる。
【００３０】
ガラス素板への凹部３２の形成は、上記ガラス素板を、後述するウェットエッチング法により凹状に形成することにより行われる。
【００３１】
封止板３０は、波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下である。具体的には、後述する紫外線吸収成分を含んだ、又は、表面に後述する紫外線反射多層膜がコーティングされた無アルカリガラス製のガラス素板が封止板３０の材料として用いられる。
【００３２】
紫外線吸収成分は、ＣｅＯ２：１．０〜３．５質量％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜１．０質量％、ＴｉＯ２：０〜２．０質量％を含み、且つこれらの総計が１．５質量％以上であり、さらにＬａ２Ｏ３：０〜５．０質量％、ＮｉＯ：０〜０．０２質量％、ＳｎＯ２：０〜１．０質量％を含む。
【００３３】
紫外線反射多層膜としては、低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とから成るもの、又は、紫外線を吸収するフィルム材料を含むものが用いられ、封止板３０のエッチングされた凹部３２の底部表面及びエッチングがなされていない表面の少なくとも一方にコーティングされていればよく、コーティング方法は限定されず、例えば、蒸着法及びスパッタリング法を含む真空製膜法、ＣＶＤ法等のいずれかであってもよい。
【００３４】
低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とから成る紫外線反射多層膜に関し、低屈折率誘電体膜（屈折率１．５未満）はＭｇＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＳｉＯ２、ＣａＦ２、ＮａＦ，ＬｉＦのいずれかを含むと共に厚さが４０〜８０ｎｍであり、高屈折率誘電体膜（屈折率２．０超）は、ＣｅＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、ＺｎＳのいずれかを含むと共に厚さが１５〜４０ｎｍであることが好ましい。
【００３５】
なお、透過率及び透過波長を調整すべく、低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜との間に、例えば、ＬａＦ３、ＮｄＦ３、Ａｌ２Ｏ３，ＣｅＦ３，ＭｇＯ、ＴｈＯ２、ＳｎＯ２，Ｌａ２Ｏ３，ＳｉＯのいずれかを含むと共に厚さが３５〜５５ｎｍである中屈折率誘電体膜を（屈折率１．５超、２．０未満）を必要に応じて用いる。
【００３６】
封止板３０の凹部３２の底部の厚さは、０．３〜２．０ｍｍが好ましい。厚さが、０．３ｍｍ未満では封止板３０の強度が不十分であり、２．０ｍｍで封止板３０の強度は十分得られる。
【００３７】
有機ＥＬ積層体２０は、基板１０上に導電膜２１が形成され、該導電膜２１の上面には後述する発光層を含む有機ＥＬ積層膜２２が積層され、有機ＥＬ積層膜２２の上面には上部透明電極２３が形成され、さらに引出し電極２４が上部透明電極２３に接続されて構成されている。
【００３８】
有機積層ＥＬ膜２２は、導電膜２１側から順に、トリフェニルジアミンから成る高さ７０ｎｍの正孔輸送層、次いでキノリノールアルミ錯体から成る高さ７０ｎｍの発光層が配されて構成されている。さらには、上部透明電極２３と発光層との間に、さらにトリアゾールやオキサジアゾールから成る透明な電子輸送層が配されて構成されていてもよい。
【００３９】
上記エッチング形成に２０ｗｔ％フッ化水素酸、１ｗｔ％ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの混合液をエッチング液として用いたが、これに限定されるものではなく、エッチング力を大きくするためにフッ化水素酸５〜５０質量％に、硫酸、塩酸、硝酸、及びリン酸から成る無機酸の群から選択された少なくとも１つの酸を適量含有させたものであってもよい。なお、無機酸の群から選択される強酸は、単体でも２種類以上の混合物でもよい。
【００４０】
また、上記エッチング液は、カルボン酸類、ジカルボン酸類、アミン類、及びアミノ酸類からなる群から選択された１種又は２種以上の有機の酸や塩基の類を適量含有することが好ましい。
【００４１】
また、上記エッチング液に界面活性剤を適宜添加してもよく、添加される界面活性剤を適宜変更してもよい。
【００４２】
上述したようなエッチング液の成分とその濃度は、エッチング液の温度、並びにエッチングされるガラスの組成及び種類等によって適宜変更される。また、エッチング処理を施す際に、エッチングされるガラスを揺動させたり、弱い出力の超音波を付与したりすることも有効である。これにより、エッチング液を均一な溶液にすることができる。さらに、エッチング処理を施しているときに、エッチング液から取出して一旦水又は、硫酸、塩酸、硝酸、及びリン酸からなる無機酸の群から選択された少なくとも１つの酸、又はカルボン酸類、ジカルボン酸類、アミン類及びアミノ酸類から成る群から選択された１種又は２種以上の有機酸や塩基の類に浸漬することも有効である。これにより、エッチング処理を均一に施すことができる。
【００４３】
本実施の形態によれば、封止板３０の波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下であるので、封止板３０側からの紫外線による有機ＥＬ積層膜２２の劣化を抑制して、ＥＬ素子の寿命を長くすることができる。
【００４４】
上記実施の形態では、ガラス素板に凹部３２を形成する方法として、ウェットエッチング法を用いているが、ドライエッチング法でもよく、ドライエッチング法とウェットエッチング法とを併用してもよい。ウェットエッチング法では、エッチング液の成分とエッチング温度とを選択することによりバッチ処理を行うことができ、もって封止板３０の生産性を向上させることができる。これに対して、ドライエッチング法では、エッチング処理を精密に行うことができるものの、バッチ処理を行うことができず、枚葉処理を余儀なくされるので、封止板３０の生産性が低い。
【００４５】
本実施の形態では、封止板３０として無アルカリガラスを用いたが、有機ＥＬ素子１００の構成に応じて低アルカリガラス、又はエッチング後にアルカリ溶出防止処理を施したソーダライムガラス又は石英ガラスを用いることができる。
【００４６】
本実施の形態では、有機ＥＬ積層膜２２はパッシブ構造をとるものであったが、アクティブ構造をとるものであってもよい。また、本実施の形態では、有機ＥＬ素子１００はトップエミッション構造をとるものとしたが、ボトムエミッション構造をとるものであってもよい。
【００４７】
また、ＥＬ積層膜は、有機ＥＬ積層膜２２に代えて、無機ＥＬ積層膜であってもよい。この場合、透明導電膜側から順に、絶縁層、発光層、絶縁層からなるものや、電子障壁層、発光層、電流制限層からなるものが用いられる。
【００４８】
図１の有機ＥＬ素子１００に用いられる封止板３０は、上記のように枚葉処理による作製に加えて、下記図２の封止板多面取り用マザーガラス基板から切り出すことができる。
【００４９】
図２は、図１の有機ＥＬ素子１００に用いられる封止板３０がほぼマトリックス状に形成された封止板多面取り用マザーガラス基板の平面図である。
【００５０】
図２において、縦３０ｃｍ、横４０ｃｍの封止板多面取り用マザーガラス基板２００は、５×６のマトリックス状に形成された封止板３０を有する。
【００５１】
ガラス素板に封止板３０を５×６のマトリックス状に形成する方法としては、ウェットエッチング法によりガラス素板の所定部分を凹状に取り除く方法がある。使用されるガラス素板は、その取り扱い上厚さ０．５ｍｍ以上、有機ＥＬ素子１００の薄型化の観点から１．１ｍｍ以下のものが好適に用いられる。
【００５２】
この方法では、まず、ガラス素板に、露出部を５×６のマトリックス状に形成すべく幅が２．５ｍｍのテープ状のレジストによりマスキング処理し、このマスキング処理されたガラス素板を、上述のエッチング液中に１０〜１８０分間程度浸漬して、ガラス素板から突条部１０１を残して凹状に取り除いて凹部１０２を形成するものである。このガラス素板を純水で十分洗浄した後にレジストを剥離する。
【００５３】
このようにガラス素板の所定部分をウェットエッチング法により凹状に取り除くので、封止板３０の凹部３２の底部表面を確実に平坦にすることができ、外部圧力に対して封止板３０の強度を増大させることができる。
【００５４】
また、封止板３０における凹部３２の底部の厚さは、エッチング深さが紫外線吸収成分の含有量により適宜選択されることで決定される。
【００５５】
次いで、上記のように５×６のマトリックス状に凹部１０２が形成された封止板多面取り用マザーガラス基板２００を、凹部１０２を規定する突条部１０１の部位で切断する。これにより、封止板３０を３０（５×６）個取得することができる。
【００５６】
上記実施の形態では、ガラス素板に凹部１０２を形成する方法として、ウェットエッチング法を用いているが、ドライエッチング法でもよく、ドライエッチング法とウェットエッチング法とを併用してもよい。
【００５７】
封止板多面取り用マザーガラス基板２００は、封止板３０の配列をマトリックス状としたが、多面取りに適した配列であればマトリックス状以外のものであってもよい。
【００５８】
また、レジストの幅は、２．５ｍｍに限定されることはなく、取得された封止板３０の周辺突条部３１の幅が当該周辺突条部３１の厚さ以上であればよく、封止板３０の取りしろとして確保すべく１ｃｍ程度であってもよい。
【００５９】
また、封止板多面取りマザーガラス基板２００を切断した後の形状が上記封止板３０と同様の形状であることが望ましい。
【００６０】
図２の封止板多面取り用マザーガラス基板２００によれば、切断分離により各封止板３０を取得することができ、切断時に外部圧力に対して強度を増大させ、且つ枚葉処理を行うことをなくして封止板３０の生産性を向上させることができる。
【００６１】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。
【００６２】
本発明者は、ＣｅＯ２を３質量％添加した紫外線吸収成分を含有する厚さ１．１ｍｍの無アルカリガラス製のガラス素板（実施例１、実施例４、実施例５）と、紫外線吸収成分を含有しない厚さ１．１ｍｍの無アルカリガラス製のガラス素板（実施例２，実施例３、比較例）を準備した。
【００６３】
さらに、２０質量％フッ化水素酸、１質量％ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの混合液から成るエッチング液を調製し、実施例１〜５及び比較例のガラス素板の外面、周辺面、及び周辺突条部３１を覆う耐酸性テープでマスキング処理を施し、これらの実験片を２５℃に保った上記エッチング液中に６０分間浸積した後、エッチング液中から取り出して、純水で充分洗浄した後に耐酸性テープを剥離することにより、深さ０．３ｍｍの凹部３２と幅２．０ｍｍの周辺突条部３１とをガラス素板に形成し、実施例１〜５及び比較例の封止板３０の実験片を取得した。
【００６４】
さらに、実施例２及び実施例４については、図３に示すように、封止板３０のエッチングがなされていない面に、厚さが１７ｎｍのＴｉＯ２から成る高屈折率誘電体膜（屈折率２．４）と、この高屈折率誘電体膜の上に形成された厚さが５５ｎｍのＳｉＯ２から成る低屈折率誘電体膜（屈折率１．４６）及びこの低屈折率誘電体膜の上に形成された厚さが３３ｎｍのＴｉＯ２から成る高屈折率誘電体膜（屈折率２．４）から成る２層膜をこの順で７回繰り返し積層させた積層膜とで構成された紫外線反射多層膜５２をコーティングした。
【００６５】
さらに、実施例３及び実施例５については、図４に示すように、封止板３０の凹部３２の底部表面に波長３８０ｎｍの光を効率よく反射する紫外線反射多層膜としての紫外線吸収フィルム５３（富士写真フィルム製、ＵＶ　ＧＵＡＲＤ、厚さ９０μｍ）をコーティングした。ここで、紫外線吸収フィルム５３は、紫外線を吸収するコーティング液を封止板３０の表面に塗布し、この塗布されたコーティング液を乾燥させることにより形成される。
【００６６】
このようにして作製した封止板３０は、波長３８０ｎｍにおける透過率が、実施例１〜５については１５％以下であり、比較例については１６％以上である。
【００６７】
次いで、実施例１〜５及び比較例の封止板３０の実験片の周辺突条部３１に、夫々、紫外線硬化型のエポキシ樹脂製の接着剤を適量塗布し、基板１０と封止板３０の実験片との両側から基板１０と周辺突条部３１の間に形成された封止部分に対して９８０Ｎ／ｍ２（１００ｋｇ／ｍ２）程度の力を加えつつ基板１０を通して接着剤に紫外線を照射することにより、基板１０と周辺突条部３１の間の封止部分に接着層４０を形成して、有機ＥＬ素子１００を作製した。
【００６８】
このようにして作製した有機ＥＬ素子１００に、封止板３０側からＵＶ照射装置（入江製作所製、ＭＯＤＥＬ　ＬＳ−Ｄ１、中心波長２５４ｎｍ及び３６５ｎｍ）を用いて紫外線を照射し、駆動電流１０ｍＡ／ｃｍ２で連続駆動を行って初期の輝度を維持するための駆動電圧上昇（Ｖ）及び輝度の半減寿命（時間）を測定し、その測定結果を表１に示した。
【００６９】
【表１】
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【００７０】
表１から、波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下の封止板３０を用いると、封止板３０側からの紫外線による有機ＥＬ積層膜２２の劣化を抑制して、ＥＬ素子の寿命を増大することに加えて、駆動電圧上昇を抑制することが分かった。
【００７１】
また、ＣｅＯ２を３質量％添加した紫外線吸収成分を含有する無アルカリガラスをガラス素板として用いると、封止板３０側からの紫外線による有機ＥＬ積層膜２２の劣化を確実に抑制することが分かった。
【００７２】
さらに、紫外線反射多層膜が表面にコーティングされた封止板３０を用いると、封止板３０側からの紫外線による有機ＥＬ積層膜２２の劣化をより確実に抑制することが分かった。
【００７３】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項１記載の封止板によれば、波長３８０ｎｍにおける透過率が１５％以下であるので、封止板側からの紫外線によるＥＬ積層膜の劣化を抑制して、ＥＬ素子の寿命を長くすることができる。
【００７４】
請求項２記載の封止板によれば、紫外線吸収成分を含有するので、請求項１記載の封止板による効果をより確実に奏することができる。
【００７５】
請求項３記載の封止板によれば、紫外線吸収成分が、ＣｅＯ２：１．０〜３．５質量％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜１．０質量％、ＴｉＯ２：０〜２．０質量％を含み、且つこれらの総計が１．５質量％以上であり、さらにＬａ２Ｏ３：０〜５．０質量％、ＮｉＯ：０〜０．０２質量％、ＳｎＯ２：０〜１．０質量％を含むので、請求項２記載の封止板による効果をより確実に奏することができる。
【００７６】
請求項４記載の封止板によれば、表面に紫外線反射多層膜がコーティングされているので、請求項１記載の封止板による効果をより確実に奏することができる。
【００７７】
請求項５記載の封止板によれば、紫外線反射多層膜が蒸着法及びスパッタリング法を含む真空成膜法により形成されるので、請求項４記載の封止板を確実に提供することができる。
【００７８】
請求項６記載の封止板によれば、紫外線反射多層膜がＣＶＤ法により形成されるので、請求項４記載の封止板を確実に提供することができる。
【００７９】
請求項７記載の封止板によれば、紫外線反射多層膜が低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とから成るので、請求項４記載の封止板による効果をより確実に奏することができる。
【００８０】
請求項８記載の封止板によれば、低屈折率誘電体膜は厚さが４０〜８０ｎｍであるので、請求項７記載の封止板による効果をより確実に奏することができる。
【００８１】
請求項９記載の封止板によれば、高屈折率誘電体膜は厚さが１５〜４０ｎｍであるので、請求項７記載の封止板による効果をより確実に奏することができる。
【００８２】
請求項１０記載の封止板によれば、紫外線反射多層膜は紫外線を吸収するフィルム材料を含むので、請求項４記載の封止板による効果をより確実に奏することができる。
【００８３】
請求項１１記載の封止板によれば、フィルム材料が、紫外線を吸収するコーティング液を封止板の表面に塗布し、塗布されたコーティング液を乾燥させることにより形成されるので、請求項１０記載の封止板を確実に提供することができる。
【００８４】
請求項１２記載のＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板によれば、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の封止板がほぼマトリックス状に形成されたので、寿命が長い封止板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るガラス製ＥＬ素子用封止板を備えるＥＬ素子の断面図である。
【図２】図１の有機ＥＬ素子１００に用いられる封止板３０がほぼマトリックス状に形成された封止板多面取り用マザーガラス基板の平面図である。
【図３】図１の有機ＥＬ素子１００の変形例の断面図である。
【図４】図１の有機ＥＬ素子１００の他の変形例の断面図である。
【図５】比較例のガラス製ＥＬ素子用封止板を備えるＥＬ素子の断面図である。
【符号の説明】
１０　基板
２０　有機ＥＬ積層体
２１　導電膜
２２　有機ＥＬ積層膜
２３　上部透明電極
２４　引出し電極
３０　封止板
３１　周辺突条部
４０　接着層
１００　有機ＥＬ素子
【図１】
2004111233.tif 000004
【図２】
2004111233.tif 000005
【図３】
2004111233.tif 000006
【図４】
2004111233.tif 000007
【図５】
2004111233.tif 000008