(57)【要約】【課題】配向状態のメモリ性を有する高品質の液晶素子を提供する。【解決手段】一対の、配向処理を施され、電極を備える基板と、基板間に、電極から電圧を印加されうるように、挟持される液晶層であって、ネマティック液晶を含んで形成される液晶層と、配向したネマティック液晶を含み、基板間に、液晶層の内部に形成されるポリマ壁とを有し、一対の基板の各々の配向方向と、ポリマ壁に含まれるネマティック液晶の配向方向とが交差している液晶素子を提供する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の、配向処理を施され、電極を備える基板と、
前記基板間に、前記電極から電圧を印加されうるように、挟持される液晶層であって、ネマティック液晶を含んで形成される液晶層と、
配向したネマティック液晶を含み、前記基板間に、前記液晶層の内部に形成されるポリマ壁と
を有し、
前記一対の基板の各々の配向方向と、前記ポリマ壁に含まれるネマティック液晶の配向方向とが交差している液晶素子。
【請求項２】
前記一対の基板の各々の配向方向と、前記ポリマ壁に含まれるネマティック液晶の配向方向とがほぼ直交している請求項１に記載の液晶素子。
【請求項３】
前記ポリマ壁に含まれるネマティック液晶がベンド配向である請求項１または２に記載の液晶素子。
【請求項４】
前記一対の基板の各々の配向方向が平面視上平行であって、プレティルトが同じ方向である請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶素子。
【請求項５】
前記ネマティック液晶が二周波駆動ネマティック液晶である請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶素子。
【請求項６】
（ａ）一対の、電極を備える基板の、各々の一方の主面に、配向処理を施す工程と、
（ｂ）ネマティック液晶及びモノマを含む光硬化型の液晶性材料を準備する工程と、
（ｃ）前記一対の基板を、配向処理を施された主面同士を向き合わせて対向配置し、前記液晶性材料を前記一対の基板間に供給する工程と、
（ｄ）前記一対の基板に備えられた電極間に電圧を印加して、前記一対の基板の各々の配向方向と交差する方向に、前記液晶性材料を配向させる工程と、
（ｅ）前記配向させた液晶性材料の一部に光を照射して、光が照射された領域の前記液晶性材料に含まれるモノマを重合硬化させ、ポリマ壁を形成する工程とを有する液晶素子の製造方法。
【請求項７】
前記工程（ｃ）において、前記一対の基板の各々の配向方向が平面視上平行であって、前記液晶性材料をプレティルトが同じ方向であるパラレル配向させるように、前記一対の基板を対向配置する請求項６に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項８】
前記工程（ｄ）において、前記一対の基板の各々の配向方向とほぼ直交する方向に、前記液晶性材料を配向させる請求項６または７に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ｄ）において、前記液晶性材料をベンド配向させる請求項６〜８のいずれか１項に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項１０】
前記ネマティック液晶が二周波駆動ネマティック液晶である請求項６〜９のいずれか１項に記載の液晶素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶素子とその製造方法、殊に、配向状態のメモリ性を有する液晶素子とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図７（Ａ）及び（Ｂ）は、従来の液晶素子を示す概略図である。
【０００３】
図７（Ａ）を参照する。液晶素子４８は、一対の基板４９，５０と、両基板４９，５０間に挟持される液晶層５９、たとえば正の誘電率異方性（Δε＞０）をもつネマティック液晶材料で形成されるツイストネマティック液晶層とを含んで構成される。各基板４９，５０は、それぞれ、透明基板５１，５２、透明基板５１，５２上に形成される透明電極５３，５４、透明電極５３，５４上に形成される配向膜５５，５６とを含んで構成される。
【０００４】
一対の基板４９，５０は、配向膜５５，５６が向き合うように平行配置され、両配向膜５５，５６間に、液晶層５９が挟持される。一対の基板４９，５０の配向膜５５，５６は、両基板４９，５０間で液晶ダイレクタ配向が平面視上９０°ねじれるように、水平配向処理が施されている。図示のように、互いに直交する３方向（Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向）を画定するとき、たとえば基板４９の配向膜５５は図中Ｙ方向に、基板５０の配向膜５６は図中Ｘ方向に配向処理がなされている。
【０００５】
液晶素子４８の一対の基板４９，５０のそれぞれの外側に、偏光板５７，５８がクロスニコル状に配置される。基板４９に対向配置される偏光板５７は、たとえばＹ方向に偏光する光だけを透過させ、基板５０に対向配置される偏光板５８は、たとえばＸ方向に偏光する光だけを透過させる。
【０００６】
光６０が、偏光板５７に入射する。偏光板５７を透過することにより、Ｙ方向の直線偏光となった光６０は、液晶素子４８の基板４９を経て液晶層５９に入射する。光６０は、９０°ねじれて配向している液晶ダイレクタに沿って旋光し、Ｘ方向を偏光方向とする直線偏光となって、基板５０に入射する。基板５０を出射した光６０は、偏光板５８を透過する。液晶素子４８が、液晶表示装置の画素として用いられた場合、液晶素子４８に入射する光６０を透過させるこの状態で、「明」を表示する。
【０００７】
図７（Ｂ）を参照する。次に、２つの透明電極５３，５４間に、電圧印加手段６１により、電圧を印加する。液晶層５９に電圧が印加されると、液晶ダイレクタが、液晶分子長軸方向と電界方向とが一致するように再配向し、両基板４９，５０に対して、ほぼ垂直に配向する。このため、偏光板５７でＹ方向を偏光方向とする直線偏光とされた光６０は、液晶層５９において旋光せず、基板５０を透過後、クロスニコル配置の偏光板５８に遮られる。液晶素子４８が、液晶表示装置の画素として用いられた場合、液晶素子４８に入射する光６０を透過させないこの状態で、「暗」を表示する。
【０００８】
偏光板５７，５８をクロスニコル配置から平行ニコル配置に変更すると、「明」と「暗」の状態が交換される。ノーマリホワイトの表示を行うかノーマリブラックの表示を行うかに応じて、偏光子配置は選択される。
【０００９】
図７（Ｂ）に示す状態から、印加電圧を取り去ると、基板４９，５０と液晶層５９との界面におけるアンカリング力により、液晶ダイレクタが図７（Ａ）に示す配向状態に戻る。このように、図７（Ａ）及び（Ｂ）に示す液晶素子４８は、配向状態（液晶表示装置においては明暗の表示）のメモリ性を有さない。液晶素子４８の配向状態（液晶表示装置においてはある一定の表示）を保持させるためには、電圧を印加し続ける必要があり、絶えずエネルギが消費される。低消費電力が望まれる携帯移動端末や、省エネルギ化にとっては望ましくない。
【００１０】
配向状態のメモリ性を有する液晶素子も提案されている。たとえば、印加する交流電圧の周波数に応じて正負両方の誘電率異方性を有する液晶である二周波駆動液晶と紫外線硬化型モノマを混合、相溶させ、等方相で紫外線を照射してモノマを重合硬化させ、高分子化合物層中に液晶滴を分散配置する。印加電圧の除去後も、電圧除去前の配向状態（液晶表示装置においてはある一定の表示）を維持する、散乱／透明遷移型液晶素子が提案されている。（たとえば特許文献１参照。）
【００１１】
【特許文献１】
特開２００２−１６９１４６号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、配向状態のメモリ性を有する高品質の液晶素子及びその製造方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、一対の、配向処理を施され、電極を備える基板と、前記基板間に、前記電極から電圧を印加されうるように、挟持される液晶層であって、ネマティック液晶を含んで形成される液晶層と、配向したネマティック液晶を含み、前記基板間に、前記液晶層の内部に形成されるポリマ壁とを有し、前記一対の基板の各々の配向方向と、前記ポリマ壁に含まれるネマティック液晶の配向方向とが交差している液晶素子が提供される。
【００１４】
この液晶素子は、液晶の配向状態が維持される、双安定性を有する液晶素子である。液晶の配向状態は、たとえば周波数の異なる電圧を印加することにより変更することができる。更に、基板間にポリマ壁が形成されているため、強度が補強された液晶素子である。
【００１５】
また、本発明の他の観点によれば、（ａ）一対の、電極を備える基板の、各々の一方の主面に、配向処理を施す工程と、（ｂ）ネマティック液晶及びモノマを含む光硬化型の液晶性材料を準備する工程と、（ｃ）前記一対の基板を、配向処理を施された主面同士を向き合わせて対向配置し、前記液晶性材料を前記一対の基板間に供給する工程と、（ｄ）前記一対の基板に備えられた電極間に電圧を印加して、前記一対の基板の各々の配向方向と交差する方向に、前記液晶性材料を配向させる工程と、（ｅ）前記配向させた液晶性材料の一部に光を照射して、光が照射された領域の前記液晶性材料に含まれるモノマを重合硬化させ、ポリマ壁を形成する工程とを有する液晶素子の製造方法が提供される。
【００１６】
この液晶素子の製造方法によれば、液晶の配向状態について双安定性を有する液晶素子を、効率的に製造することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１（Ａ）〜（Ｃ）は、実施例による液晶素子の製造方法を説明するための概略的な断面図である。
【００１８】
図１（Ａ）を参照する。たとえば透明ガラスで形成された透明基板３，４上に、たとえばＩＴＯ等の透明導電材で形成された透明電極５，６を備えた一対の基板１，２を準備する。次に、基板１，２の、それぞれ透明電極５，６の側の主面に、所定の一方向に、水平配向処理、たとえばラビング処理、によるプレティルト角付きの水平配向構造の付与を行う。
【００１９】
両基板１，２を、たとえば水平配向処理の方向が平面視上平行であって、プレティルトが同じ方向であるように、水平配向処理の施された主面を向き合わせて略平行配置する。両基板１，２間に、ネマティック液晶、たとえば、低周波数（たとえば１０Ｈｚ）の交流電圧を印加した場合は誘電率異方性が正（Δε＞０）となり、高周波数（たとえば１０ｋＨｚ）の交流電圧を印加した場合は誘電率異方性が負（Δε＜０）となる二周波駆動ネマティック液晶（たとえば、チッソ石油化学株式会社製のＬＩＸＯＮＤＦ−０５ＸＸ）に、光反応開始剤を数％含んだ光硬化型（紫外線硬化型）の液晶性モノマ（たとえば、ＤＩＣ社製ＵＣＬシリーズ、または、Ｍｅｒｃｋ社製の材料）を数ｗｔ％〜数十ｗｔ％添加した液晶性材料を供給し液晶層７を形成する。水平配向構造と接する液晶分子は強いアンカリング力で基板表面にほぼ固定される。液晶層７はスプレイ配向する。
【００２０】
図１（Ｂ）を参照する。続いて、液晶層７の液晶性材料を、基板１，２の配向方向と交差する方向、たとえばほぼ直交する方向に配向させる。たとえば、電圧印加手段８により、透明電極５，６間に、液晶の誘電率異方性が正（Δε＞０）となる領域の周波数（たとえば２００Ｈｚ）をもつ、たとえば１０Ｖの交流電圧を印加する。液晶層７の中央部の液晶性材料は、液晶ダイレクタが、基板１，２面に対し略垂直に配向する。水平配向構造と接する液晶分子は強いアンカリング力で水平配向構造により配向されているので、液晶層７はベンド配向状態に遷移する。
【００２１】
ベンド配向した液晶性材料の一部に、光を照射して、光が照射された領域の液晶性材料に含まれる液晶性モノマを重合硬化させる。電圧を印加した状態で貫通孔２０ａを有するマスク２０を、たとえば基板１の上側に配置する。貫通孔２０ａは、たとえば閉曲線に沿って形成された開口である。マスク２０は、たとえば液晶層７の中央部を遮光できるように配置される。
【００２２】
続いて、たとえば波長２５４ｎｍ〜３６５ｎｍの紫外線２１を、マスク２０の貫通孔２０ａを通して、液晶性材料に照射する。紫外線２１は、たとえば略平行配置された一対の基板１，２に、略垂直に入射させる。紫外線２１の照射強度は、たとえば７Ｊ／ｍ２である。
【００２３】
図１（Ｃ）を参照する。マスク２０の貫通孔２０ａを透過した紫外線２１が照射された液晶性材料中のモノマがポリマに重合硬化した結果、液晶層７の内部にポリマ壁９が形成される。ポリマ壁９はベンド配向した液晶分子を固定する。このようにして、液晶素子１０を得ることができる。
【００２４】
液晶素子１０においては、ポリマ壁９に含まれる２周波駆動ネマティック液晶が、基板１，２の延在方向（配向方向）に対して略垂直に配向（ベンド配向）している。なお、一対の基板１，２間に挟持される液晶層７には、２つの透明電極５，６間に接続された電圧印加手段８により、任意の電圧を印加することができる。
【００２５】
なお、紫外線２１の照射されていない液晶性材料中に残った微量の未反応のモノマは、不純物となってしまうため、ポリマ壁９を形成した後、マスク２０を除去し、液晶性材料の全体に紫外線２１を照射してポリマ化させることが望ましい。
【００２６】
更に、実施例による液晶素子の製造方法では、透明電極５，６間に電圧を印加することにより、２周波駆動ネマティック液晶をベンド配向させたが、たとえば磁界を用いてベンド配向させることもできる。
【００２７】
実施例による液晶素子の製造方法によれば、液晶層７を構成する材料と、ポリマ壁９を構成する材料を同一とし、液晶素子１０を効率的に製造することができる。
【００２８】
図２（Ａ）〜（Ｅ）は、液晶素子１０の動作を説明するための概略図である。
【００２９】
図２（Ａ）を参照する。初期状態において、液晶素子１０の液晶層７の中央部の液晶は、スプレイ配向をしている。
【００３０】
図２（Ｂ）を参照する。電圧印加手段８により、誘電率異方性が正（Δε＞０）となる領域の周波数、たとえば１０Ｈｚを有する、たとえば１０Ｖの低周波数（ＬＦ）交流電圧を、透明電極５，６間に印加する。電圧の印加によって、液晶層７に含まれる二周波駆動ネマティック液晶は、電界方向と平行に配列しようとし、ベンド配向となる。
【００３１】
図２（Ｃ）を参照する。図２（Ｂ）に示した状態から、両透明電極５，６間に印加した交流電圧を除去する。ポリマ壁９は、ベンド配向状態の二周波ネマティック液晶を含んで構成されている。このため、ポリマ壁９からは、液晶層７の液晶をベンド配向にするような規制力が働いており、その規制力が液晶層７の全体に伝搬する。このため、印加電圧除去後も、液晶層７に含まれる液晶は、ベンド配向を半永久的に保持することができる。
【００３２】
図２（Ｄ）を参照する。次に、図２（Ｃ）に示す状態から、誘電率異方性が負（Δε＜０）となる領域の周波数、たとえば１０ｋＨｚを有する、１０Ｖの高周波数（ＨＦ）交流電圧を、透明電極５，６間に印加する。電圧の印加によって、液晶分子は電界方向に対して垂直に配列しようとする。液晶層７に含まれる二周波ネマティック液晶は、スプレイ配向となる。
【００３３】
図２（Ｅ）を参照する。図２（Ｄ）に示した状態から、両透明電極５，６間に印加した交流電圧を除去する。基板１，２に施されている水平配向処理のために、基板１，２と液晶層７との界面において、基板１，２から、液晶層７の液晶をスプレイ配向にするような規制力が働く。その規制力が液晶層７の全体に伝搬するため、印加電圧除去後も、液晶層７に含まれる液晶は、スプレイ配向を半永久的に保持することができる。
【００３４】
なお、液晶素子１０は、スプレイ配向状態とベンド配向状態とにおける液晶層７全体の液晶ダイレクタ歪みの総エネルギ量の極小値が等しくなるように形成されることが望ましい。ポリマ壁９の密度を調整することにより、２つの配向状態の総エネルギ量の調整を行うことができる。２つの安定状態間の励起エネルギが低すぎると双安定性が悪く、高すぎると配向状態を遷移させるために加える外部からのエネルギ（印加電圧）を大きくする必要がある。
【００３５】
図３（Ａ）〜（Ｆ）は、液晶素子１０の液晶層７内部におけるポリマ壁９の形成態様の例を示す。
【００３６】
図３（Ａ）を参照する。ポリマ壁９は液晶層７内の表示領域周辺部に、閉曲線に沿って連続的に形成されている。
【００３７】
図３（Ｂ）を参照する。ポリマ壁９は液晶層７内の表示領域周辺部に、閉曲線に沿って離散的に形成されている。
【００３８】
図３（Ｃ）を参照する。ポリマ壁９は液晶層７中に、格子状に連続的に形成されている。
【００３９】
図３（Ｄ）を参照する。ポリマ壁９は液晶層７中に、格子状に離散的に形成されている。
【００４０】
図３（Ｅ）を参照する。ポリマ壁９は液晶層７中に、短冊状に連続的に形成されている。
【００４１】
図３（Ｆ）を参照する。ポリマ壁９は液晶層７中に、短冊状に離散的に形成されている。
【００４２】
液晶分子の配向は、最近接の配向構造の影響を最も強く受ける。図３（Ａ）〜（Ｆ）のポリマ壁の配置は、目的とする表示に応じて選択すればよい。図３（Ｃ）〜（Ｆ）においては、画素と画素内のポリマ壁の配置は自由に選択できる。ポリマ壁の部分は表示を変更できないので、ブラックマスク等で遮光してもよい。
【００４３】
図４は、液晶素子１０の両側に偏光板１１を、基板１，２の延在方向と略平行に配置した液晶ディスプレイを表す概略図である。図示のように、直交する３方向（Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向）を画定するとき、たとえば光６０が入射する側の基板１には、平面視上Ｘ方向に水平配向処理が施されており、光６０が出射する側の基板２にも、平面視上Ｘ方向に水平配向処理が施されている。また、２枚の偏光板１１は、たとえば、基板１，２の配向方向に対して４５°傾けた平行ニコルに配置される。光６０が、たとえばＺ方向から、液晶ディスプレイに入射する。
【００４４】
電圧印加手段８により誘電率異方性が正（Δε＞０）となる領域の周波数を有する交流電圧を印加し、液晶素子１０の液晶配向状態をベンド配向としたとき、一方の偏光板１１から入射した光６０は他方の偏光板１１を透過することができる。このため、液晶ディスプレイは、「明」を表示する。電圧印加手段８により誘電率異方性が負（Δε＜０）となる領域の周波数を有する交流電圧を印加し、液晶素子１０の液晶配向状態をスプレイ配向としたとき、一方の偏光板１１から入射した光６０は、他方の偏光板１１を透過できない。このため液晶ディスプレイは、「暗」を表示する。
【００４５】
印加電圧を除去しても、液晶分子がベンド配向している場合は、ポリマ壁９からの配向規制力により、液晶分子の配向はベンド配向状態を維持される。液晶分子がスプレイ配向をしている場合は、基板の水平配向構造からの配向規制力によりスプレイ配向が保持される。電圧印加手段８により、液晶層７に、液晶の配向状態を遷移させる電圧を印加するまでは、表示（明暗）の状態は半永久的に維持される。この液晶ディスプレイは、光学的に２つの状態（明暗）を表示することができ、２つの表示状態（明暗）が双安定性をもつ液晶ディスプレイである。
【００４６】
図５（Ａ）及び（Ｂ）は、偏光板を付与した液晶素子の光学顕微鏡写真である。平面視上平行な方向に水平配向処理が施されている一対の基板１，２を有する液晶素子１０の両側に、偏光板を配置した。偏光板の配置は、偏光軸が光が入射する側の基板の配向方向と４５°をなす平行ニコル配置とした。これは直交ニコル配置でもかまわない。
【００４７】
図５（Ａ）は、図２（Ｂ）に示したように、１０Ｖ、１０Ｈｚの交流電圧を２つの透明電極間に印加し、液晶層に含まれる液晶をベンド配向にした液晶素子の光学顕微鏡写真である。一方の偏光板を透過して液晶素子に入射した光が、他方の偏光板から出射しているのがわかる。液晶素子が、液晶表示装置に用いられた場合、液晶素子は、この状態において、「明」を表示する。
【００４８】
図５（Ｂ）は、図２（Ｄ）に示したように、１０Ｖ、１０ｋＨｚの交流電圧を２つの透明電極間に印加し、液晶層に含まれる液晶をスプレイ配向にした液晶素子の光学顕微鏡写真である。一方の偏光板を透過して液晶素子に入射した光は、他方の偏光板を透過していない。液晶素子が、液晶表示装置に用いられた場合、液晶素子は、この状態において、「暗」を表示する。
【００４９】
実施例による液晶素子１０は、液晶層７に、液晶の配向状態を遷移させる電圧を印加するまでは、電圧を印加し続けなくても、液晶層７に含まれる液晶のそれまでの配向状態が半永久的に維持される、双安定性を有する液晶素子である。ベンド配向、スプレイ配向、いずれの配向状態のときも、安定して配向状態を維持することができる。また、２つの配向状態は、周波数が異なる電圧を印加することで、何度でも切り替えることができる。この液晶素子１０を用いて、超低消費電力型のディスプレイ、記録媒体等を製造することができる。また、基板間にポリマ壁９が形成されているため、この液晶素子１０の強度は強い。したがって、たとえば基板をフレキシブルな透明プラスチックで形成した場合、この液晶素子は、曲げに対して強い耐久力を有する。このため、ハードな環境下で使用される電子ペーパーやＩＣカード等にも応用可能である。
【００５０】
この液晶素子は、液晶テレビ、各種モニタ、各種カードの表示などディスプレイ装置全般に利用が可能である。また、児童用玩具、紙、印刷物（新聞、雑誌、ポスターなど）の代替品（電子ペーパー）に利用することもできる。更に、カメラの絞り、ストロボの光量調整、印画紙用書き込み光源等の光学制御部品全般、光学メモリ（記録媒体）にも利用可能である。
【００５１】
図６（Ａ）及び（Ｂ）は、液晶素子１０の変形例を示す。
【００５２】
図６（Ａ）を参照する。実施例による液晶素子１０は、水平配向処理に当たって、基板１，２に配向膜を形成していないが、透明電極５，６上にそれぞれ配向膜１３，１４を形成し、液晶層７に含まれる液晶を略水平方向に配向させる、水平配向処理を施してもよい。
【００５３】
図６（Ｂ）を参照する。実施例においては、基板１，２に水平配向処理を施し、ポリマ壁９に含まれる二周波駆動ネマティック液晶をベンド配向状態にしたが、基板１，２に垂直（ベンド）配向処理を施し、ポリマ壁９に含まれる二周波駆動ネマティック液晶を水平（スプレイ）配向状態にしてもよい。この場合、液晶層７に含まれる液晶には、基板１，２から液晶をベンド配向状態にするような規制力が働き、ポリマ壁９から液晶をスプレイ配向状態にするような規制力が働く。
【００５４】
図６（Ｂ）に示す液晶素子は、図１（Ａ）〜（Ｃ）を用いて説明した工程中、たとえば図１（Ａ）に示す工程において一対の基板１，２に垂直配向処理を施し、図１（Ｂ）に示す工程において両透明電極５，６間に高周波電圧を印加して二周波駆動ネマティック液晶をスプレイ配向状態にした後、マスク２０の貫通孔２０ａを通して紫外線を液晶性材料に照射し製造することができる。
【００５５】
また、実施例に記したように、一対の基板１，２とポリマ壁９とがそれぞれ液晶層７に含まれる液晶をスプレイ配向、ベンド配向に配向させるのでなく、それぞれたとえば一対の基板１，２に、ほぼ平行、ほぼ垂直に配向させるように配向処理を施してもよい。
【００５６】
以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【００５７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、配向状態のメモリ性を有する高品質の液晶素子及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）〜（Ｃ）は、実施例による液晶素子の製造方法を説明するための概略的な断面図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｅ）は、液晶素子１０の動作を説明するための概略図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｆ）は、液晶素子１０の液晶層７内部におけるポリマ壁９の形成態様の例を示す。
【図４】液晶素子１０の両側に偏光板１１を、基板１，２の延在方向と略平行に配置した液晶ディスプレイを表す概略図である。
【図５】（Ａ）及び（Ｂ）は、偏光板を付与した液晶素子の光学顕微鏡写真である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は、液晶素子１０の変形例を示す。
【図７】（Ａ）及び（Ｂ）は、従来の液晶素子を示す概略図である。
【符号の説明】
１、２  基板
３、４  透明基板
５、６  透明電極
７  液晶層
８  電圧印加手段
９  ポリマ壁
１０  液晶素子
１１  偏光板
１３、１４  配向膜
２０  マスク
２０ａ  貫通孔
２１  紫外線
４８  液晶素子
４９、５０  基板
５１、５２  透明基板
５３、５４  透明電極
５５、５６  配向膜
５７、５８  偏光板
５９  液晶層
６０  光
６１  電圧印加手段
【図１】
2004333923.tif 000003
【図２】
2004333923.tif 000004
【図３】
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【図４】
2004333923.tif 000006
【図５】
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【図６】
2004333923.tif 000008
【図７】
2004333923.tif 000009