(57)【要約】【課題】非対称ジスルフィド化合物の新規製造方法の提供。【解決手段】Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とチオール化合物を反応させることによる（イ）で示される非対称ジスルフィド化合物を製造する方法。【化１】2004099508.tif 000012（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜５の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（イ）で表される非対称ジスルフィド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物と下記一般式（ハ）で表されるチオール類を反応させることを特徴とする非対称ジスルフィド化合物の製造方法。
【化１】
2004099508.tif 000009
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜５の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【化２】
2004099508.tif 000010
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜５の整数である。Ｒ３は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、あるいは、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【化３】
2004099508.tif 000011
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、非対称ジスルフィド化合物の製造方法に関するものである。
さらに詳しくは、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とチオール類を反応させることにより非対称ジスルフィド化合物を効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ジスルフィド化合物は、加硫ゴム、硫化染料、酸化防止剤、潤滑油、殺虫剤などに数多く見られる化合物である。また、抗ＨＩＶ活性（非特許文献１、非特許文献２）や抗肝炎作用（非特許文献３）が報告されている。これらジスルフィド化合物のうち、双方の硫黄原子上に異なる置換基を有する非対称ジスルフィド化合物においても、チアミンに示されるような生理活性を有する化合物など実用的な化合物が報告されている（非特許文献４）。また非対称ジスルフィド化合物の抗菌作用も報告されている（非特許文献５）。
【０００３】
非対称ジスルフィド化合物は、一般的には塩化スルフェニル化合物とチオール化合物との反応により製造されているほか、スルフェンアミド化合物やチオールスルホナート化合物などを出発原料としてチオール化合物との反応により製造されてきた（非特許文献６）。しかし、塩化スルフェニル化合物はチオール化合物あるいはジスルフィド化合物と塩素ガスとの反応により製造しなければならない。塩素ガスは有毒な気体であり、取り扱い上の困難さを有しているので、安全な製造方法が望まれている。スルフェンアミド化合物を出発原料とする場合も、スルフェンアミド化合物が塩化スルフェニル化合物から製造されるので、塩素ガスの問題は残されたままである。チオールスルフォナート化合物を出発原料とする反応においては、出発物質と生成物との間に平衡反応があり、対称ジスルフィド化合物が混合してしまうという問題がある。
また、チオナイトライとメルカプタンを反応させて、非対称又は対称ジスルフィドを製造する方法も知られている（非特許文献７）が、この方法では酸化窒素を用いる点で問題がある。
【０００４】
【特許文献１】特開昭５９−１７２４５７号公報
【特許文献２】特開昭５９−１７２４５８号公報
【特許文献３】特開昭５３−１２１７１５号公報
【非特許文献１】Ｓｃｉｅｎｃｅ，　２７０，　１１９４−１１９７　（１９９５）．
【非特許文献２】Ｐｒｏｃ．　Ｎａｔｌ．　Ａｃａｄ．　Ｓｃｉ．　ＵＳＡ，　９３，　９６９−９７３　（１９９６）．
【非特許文献３】Ｃｈｅｍ．　Ｐｈａｒｍ．　Ｂｕｌｌ．，　４１，　１０６６−１０７３　（１９９３）．
【非特許文献４】大饗茂編、有機硫黄化学（合成化学編）、ｐ．８５、化　　　学同人
【非特許文献５】Ｆａｒｍａｃｏ，　Ｅｄ．　Ｓｃｉ．，　４０，　８０３−８０７　（１９８５）．
【非特許文献６】大饗茂編、有機硫黄化学（合成化学編）、ｐ．１００−１　　０５、化学同人
【非特許文献７】Ｊ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ．，　Ｃｈｅｍ．　Ｃｏｍｍｕｎ．，　４０７−４０８　（１９７７）．
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、非対称ジスルフィド化合物を製造するにあたり、通常の方法である取り扱いにくい塩素ガス又は酸化窒素を用いるという欠点を克服し、非対称ジスルフィド化合物を製造するための工業的に有利な方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、非対称ジスルフィド化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とチオール化合物を反応することにより、安全かつ容易に非対称ジスルフィド化合物が得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち，本発明によれば，以下の発明が提供される。
下記一般式（イ）で表される非対称ジスルフィド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物と下記一般式（ハ）で表されるチオール類を反応させることを特徴とする非対称ジスルフィド化合物の製造方法。
【化４】
2004099508.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜５の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
で示される非対称ジスルフィド化合物を製造する方法において、下記一般式
【化５】
2004099508.tif 000003
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜５の整数である。Ｒ３は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、あるいは炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【化６】
2004099508.tif 000004
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の一方の出発化合物である、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物は、以下の一般式（ロ）で示される。
【化７】
2004099508.tif 000005
式中、Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓ−ヘプチル基、ｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓ−オクチル基、ｔ−オクチル基等が挙げられる。
前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基の具体例を示すと、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ｎは、０または１〜５の整数を示す。
【０００９】
また、Ｒ３は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、あるいは炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
前記ペルフフオロアルキル基の具体例を示すと、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基、ペルフロロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓ−ヘプチル基、ｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｓ−ノニル基、ｔ−ノニル基、ｎ−デカニル基、イソデカニル基、ｓ−デカニル基、ｔ−デカニル基、ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、ｓ−デカニル基、ｔ−デカニル基、ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基、ｓ−ドデカニル基、ｔ−ドデカニル基を挙げることができる。
また、前記芳香族基の具体例を示すと、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、これらの芳香族基は環上にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基といった置換基を有していてもよい。
【００１０】
前記原料物質である一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物は、Ｎ−無置換スルフェンアミド化合物とペルフルオロ酸無水物あるいは酸塩化物を反応させて製造される。
【００１１】
本発明の一方の出発化合物である、チオール類は、下記一般式（ハ）で示される。
【化８】
2004099508.tif 000006
式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓ−ヘプチル基、ｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｓ−ノニル基、ｔ−ノニル基、ｎ−デカニル基、イソデカニル基、ｓ−デカニル基、ｔ−デカニル基、ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、ｓ−デカニル基、ｔ−デカニル基、ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基、ｓ−ドデカニル基、ｔ−ドデカニル基を挙げることができる。
前記シクロアルキル基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
前記芳香族基は、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基等が挙げられ、これらの芳香族基は環上にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基といった置換基を有していてもよい。
【００１２】
前記原料物質である一般式（ハ）で表されるチオール類は、ハロゲン化物と水硫化アルカリ化合物から製造される。
【００１３】
本発明の方法では、前記原料物質（ロ）と前記原料物質（ハ）を反応させる。
この反応は、次のような反応式（ニ）よって表すことができる。
【化９】
2004099508.tif 000007
【００１４】
この反応は、反応溶媒を用いることなく進行させることができるが、好ましくは反応溶媒の存在下で実施される。
この場合の反応溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール、アセトン等の溶媒中で行われる。
また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【００１５】
前記製造方法における温度は、０℃〜１２０℃の範囲の温度で行うことができる。この範囲未満の温度で、あまりに温度が低すぎると反応時間が遅くなり、この範囲の温度を超えて、高すぎると分解反応や副反応が多くなる。前記範囲のうち、１０℃〜１００℃の範囲で行うことが、好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は５分〜５時間で十分である。
【００１６】
前記反応により得られる本発明の目的生成物は、下記一般式（イ）で表される非対称ジスルフィド化合物である。
【化１０】
2004099508.tif 000008
式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜５の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
本発明の製造目的化合物である非対称ジスルフィド化合物を示す前記一般式（イ）において、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
アルキル基には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓ−ヘプチル基、ｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｓ−ノニル基、ｔ−ノニル基、ｎ−デカニル基、イソデカニル基、ｓ−デカニル基、ｔ−デカニル基、ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、ｓ−デカニル基、ｔ−デカニル基、ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基、ｓ−ドデカニル基、ｔ−ドデカニル基などを挙げることができる。
シクロアルキル基では、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基の具体例を示すと、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
また、前記芳香族基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基、ベンジル基等が挙げられ、これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。
【００１７】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。なお、本発明の実施例は、本発明の理解を容易にするために代表的な化合物の製法をあげたものである。本発明はこれだけに限定されるものではない。製造した非対称ジスルフィド化合物は、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、未知のものについては各種スペクトルを主要な判定基準として同定した。
【００１８】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にＮ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミド（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）とチオフェノール（４９．６ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３ｍｌ）に溶解させ、室温で５分反応を行った。溶媒を減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより２−メトキシカルボニルフェニル＝フェニル＝ジスルフィドを収量７３．５ｍｇ、収率８９％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ　３．９６　（３Ｈ，　ｓ），　７．２０−７．２９　（４Ｈ，　ｍ），　７．４６−７．５０　（３Ｈ，　ｍ），　８．００　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝８．３，　０．６　Ｈｚ），　８．０４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝７．７，　１．５　Ｈｚ）．
【００１９】
実施例２
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にＮ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミド（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）とドデカンチオール（９１．０ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を、メタノール（３ｍｌ）に溶解させ、加熱還流下で２．５時間反応を行った。溶媒を減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：ヘキサン＝１：１）で精製することにより、ドデシル＝２−メトキシカルボニルフェニル＝ジスルフィドを収量１００．４ｍｇ、収率９１％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５　Ｈｚ），　１．２４−１．３８　（１８Ｈ，　ｍ），　１．６６　（２Ｈ，　ｑｕｉｎｔ，　Ｊ＝７．５　Ｈｚ），　２．７１　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５　Ｈｚ），　３．９４　（３Ｈ，　ｓ），　７．２３　（１Ｈ，　ｔｄ，　Ｊ＝７．５，　１．３　Ｈｚ），　７．５６　（１Ｈ，　ｄｄｄ，　Ｊ＝８．０，　７．５，　１．０　Ｈｚ），　８．０２　（１Ｈ，　ｄｄ，Ｊ＝８．０，　１．３　Ｈｚ），　８．１８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝７．５，　１．０　Ｈｚ）．
【００２０】
実施例３
実施例２において、溶媒をメタノールの代わりにアセトンを用い、加熱還流下で１時間反応を行うことによりドデシル＝２−メトキシカルボニルフェニル＝ジスルフィドを収量９９．３ｍｇ、収率９０％で得た。
【００２１】
実施例４
実施例１において、２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに２−ブロモベンゼンスルフェンアミドを用い、チオフェノールの代わりに、４−メチルチオフェノールを用いて、同様な反応を行うことにより、２−ブロモフェニル＝４’−メチルフェニル＝ジスルフィドを収率９１．２ｍｇ、収率９８％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ２．３０　（３Ｈ，　ｓ），　７．０５　（１Ｈ，　ｄｄｄ，　Ｊ＝８．０，　７．４，　１．６　Ｈｚ），　７．１０　（２Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝８．６，　０．６　Ｈｚ），　７．２８　（１Ｈ，　ｄｄｄ，　Ｊ＝８．０，　７．６，　１．５　Ｈｚ），　７．３７　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．２，　２．２　Ｈｚ），　７．５０　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝７．９，　１．２　Ｈｚ），　７．６９　（１Ｈ，　ｄｄ，
Ｊ＝７．９，　１．５　Ｈｚ）．
【００２２】
実施例５
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりにＮ−トリフルオロアセチル−４−ニトロベンゼンスルフェンアミドを用い、同様な反応を行うことにより、４−ニトロフェニル＝フェニル＝ジスルフィドを、収量６１．８ｍｇ、収率７８％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ７．２６　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．０　Ｈｚ），　７．３２　（２Ｈ，　ｔｄ，　Ｊ＝７．０，　１．９　Ｈｚ），　７．４７　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝７．４，　１．６　Ｈｚ），　７．６５　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．０，　２．５　Ｈｚ），　８．１６　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．０，　２．５　Ｈｚ）．
【００２３】
実施例６
実施例５において、チオフェノールの代わりに４−メチルチオフェノールを用いて同様な反応を行うことにより、４−メチルフェニル＝４’−ニトロフェニル＝ジスルフィドを、収量６０．７ｍｇ、収率７３％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ２．３２　（３Ｈ，　ｓ），　７．１３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０　Ｈｚ），　７．３７　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．２，　１．８　Ｈｚ），　７．６５　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．９，　１．９　Ｈｚ），　８．１６　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝９．２，　２．１　Ｈｚ）．
【００２４】
実施例７
実施例５において、チオフェノールの代わりにドデカンチオールを用い、溶媒としてアセトンを用いて１時間加熱還流を行うことにより、ドデシル＝４−ニトロフェニル＝ジスルフィドを収量９３．２ｍｇ、収率７２％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．１　Ｈｚ），　１．２７−１．３９　（１８Ｈ，　ｍ），　１．６６　（２Ｈ，　ｑｕｉｎｔ，　Ｊ＝７．７　Ｈｚ），　２．７６　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３　Ｈｚ），　７．６６　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝９．２，　２．５　Ｈｚ），　８．１８　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．９，　２．８　Ｈｚ）．
【００２５】
実施例８
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりにＮ−トリフルオロアセチル−ベンゼンスルフェンアミドを用い、チオフェノールの代わりに４−メチルチオフェノールを用いて同様な反応を行うことにより、４−メチルフェニル＝フェニル＝ジスルフィドを収率６５．１ｍｇ、収率９４％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ２．３１　（３Ｈ，　ｓ），　７．１１　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．９　Ｈｚ），　７．２２　（１Ｈ，　ｔｔ，　Ｊ＝７．３，　１．５　Ｈｚ），　７．３０　（２Ｈ，　ｔｔ，　Ｊ＝８．０，　１．６　Ｈｚ），　７．３９　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．２，　２．１　Ｈｚ），　７．５０　（２Ｈ，　ｄｑ，　Ｊ＝８．６，　１．４　Ｈｚ）．
【００２６】
実施例９
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりにＮ−トリフルオロアセチル−ベンゼンスルフェンアミドを用い、チオフェノールの代わりにドデカンチオールを用いて同様な反応を６０分行うことによりドデシル＝フェニル＝ジスルフィドを収率９０．９ｍｇ、収率９８％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．０　Ｈｚ），　１．２４−１．３６　（１８Ｈ，　ｍ），　１．６６　（２Ｈ，　ｑｕｉｎｔ，　Ｊ＝７．４　Ｈｚ），　２．７３　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４　Ｈｚ），　７．２１　（１Ｈ，　ｔｔ，　Ｊ＝９．６，　１．４　Ｈｚ），　７．３２　（２Ｈ，　ｔｔ，　Ｊ＝７．２，　１．９　Ｈｚ），　７．５３　（２Ｈ，　ｄｄｄ，　Ｊ＝８．６，　２．２，　１．２　Ｈｚ）．
【００２７】
実施例１０
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりにＮ−トリフルオロアセチル−４−メチルベンゼンスルフェンアミドを用い、同様な反応を行うことにより４−メチルフェニル＝フェニル＝ジスルフィドを収率６５．３ｍｇ、収率９４％で得た。
【００２８】
実施例１１
実施例１０において、フェニルチオールの代わりに４−クロロフェニルチオールを用いることにより、４−クロロフェニル＝４’−メチルフェニル＝ジスルフィドを収量７２．８ｍｇ、収率９１％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ２．３２　（３Ｈ，　ｓ），　７．１１　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．６，　２．２　Ｈｚ），　７．２５−７．２７　（２Ｈ，　ｍ），　７．３６　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．６，　２．２　Ｈｚ），　７．４１　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝８．９，　２．２
Ｈｚ）．
【００２９】
実施例１２
実施例１０において、フェニルチオールの代わりにドデカンチオールを用いて室温で１時間反応させることにより、ドデシル＝４−メチルフェニル＝ジスルフィドを収量１０２ｍｇ、収率８５％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．７　Ｈｚ），　１．２４−１．３５　（１８Ｈ，　ｍ），　１．６５　（２Ｈ，　ｑｕｉｎｔ，　Ｊ＝７．３　Ｈｚ），　２．３３　（３Ｈ，　ｓ），　２．７２　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４　Ｈｚ），　７．１３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０　Ｈｚ），　７．４３　（２Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ＝１０．４，　２．５　Ｈｚ）．
【００３０】
実施例１３
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりにＮ−ベンゾイル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを用いて同様な反応を行い、２−メトキシカルボニルフェニル＝フェニル＝ジスルフィドを収量５１．４ｍｇ、収率６２％で得た。
【００３１】
比較例１
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを用いて同様な反応を行ったが、非対称ジスルフィド化合物は得られなかった。
【００３２】
【発明の効果】
本発明におけるＮ−アシルスルフェンアミド化合物とチオール類の反応により、非対称ジスルフィド化合物を収率よく製造することができる。しかも、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できるので、工業的な非対称ジスルフィド化合物の合成法として最適である。