(57)【要約】【課題】高い光学性能を得ることのできる光学部品冷却方法を提供する。【解決手段】光学部品１に接する冷却部材２中に冷媒流路３を設け、該流路３に温度を管理した冷媒を流すことにより光学部品１を冷却する。前記冷媒流路３に、開放孔を有する弾性部材（スポンジ状部材）４を配置し、該スポンジ状部材４で冷媒流振動を吸収又は緩衝する。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部品自身又はそれと接する冷却部材中に冷媒流路を設け、該流路に温度を管理した冷媒を流すことにより前記光学部品を冷却する方法であって、
前記冷媒流路に、開放孔を有する弾性部材（スポンジ状部材）を配置し、該スポンジ状部材で冷媒流振動を吸収又は緩衝することを特徴とする光学部品冷却方法。
【請求項２】
光学部品自身又はそれと接する冷却部材中に冷媒流路を設け、該流路に温度を管理した冷媒を流すことにより前記光学部品を冷却する装置であって、
前記冷媒流路に、冷媒流振動を吸収又は緩衝する、開放孔を有する弾性部材（スポンジ状部材）が配置されていることを特徴とする、光学部品冷却装置。
【請求項３】
前記スポンジ状部材が前記流路の内壁に沿って配置されていることを特徴とする、請求項２に記載の光学部品冷却装置。
【請求項４】
光学部品自身又はそれと接する冷却部材中に冷媒流路を設け、該流路に温度を管理した冷媒を流すことにより前記光学部品を冷却する方法であって、
開放孔を有する弾性部材（スポンジ状部材）を前記流路を満たすように配置し、該スポンジ状部材で冷媒流振動を吸収又は緩衝することを特徴とする光学部品冷却方法。
【請求項５】
感応基板上にＥＵＶ光を選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、
ＥＵＶ反射鏡又はマスクを冷却するための請求項２、３及び４のいずれか１項に記載の光学部品冷却装置を備えることを特徴とするＥＵＶ露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学部品冷却方法、光学部品冷却装置、及びそれを有するＥＵＶ露光装置に関する。特には、冷却用冷媒が流れることにより生じる振動を原因とする反射鏡やマスク等（多層膜基板）の振動及び変形を軽減することができ、光学部品の性能を高めることのできる光学部品冷却装置等に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、Ｘ線分析装置やＸ線露光装置の光源として、レーザプラズマＸ線源や放電プラズマＸ線源が注目されている。
レーザプラズマＸ線源（以下、ＬＰＸと呼ぶ）は、励起用のパルスレーザ光を真空容器内の標的材料に集光照射してプラズマを生成し、このプラズマからＸ線を輻射させる光源である。このＬＰＸは、小型でありながらアンジュレータ（シンクロトロンラジエーション）に匹敵するほどの輝度をもつ。
【０００３】
また、Ｄｅｎｓｅ　Ｐｌａｓｍａ　Ｆｏｃｕｓ　（ＤＰＦ）などの放電プラズマを用いたＸ線源は、電極にパルス高電圧を印加して放電を起こし、この放電で動作ガスをイオン化してプラズマを生成し、このプラズマから輻射されるＸ線を利用する光源である。この放電プラズマＸ線源は、小型であり、輻射されるＸ線量が多く、低コストであるという特徴がある。放電プラズマＸ線源の代表的なものは、デンスプラズマフォーカス（以下、ＤＰＦと呼ぶ）やホローカソード型、キャピラリー型である。
【０００４】
上述したような、ＬＰＸや放電プラズマＸ線源は、次世代半導体露光装置として期待されている波長１３ｎｍのＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ　Ｕｌｔｒａ　Ｖｉｏｌｅｔ）光を用いた縮小露光装置の光源として近年注目を集めている。
【０００５】
一方、近年、半導体集積回路素子の微細化の進展に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、従来の紫外線に代わって、これより波長の短い波長１１〜１４ｎｍ程度の軟Ｘ線を使用した投影リソグラフィ技術が開発されている（例えば、Ｄ．Ｔｉｃｈｅｎｏｒ，　ｅｔ　ａｌ．，　ＳＰＩＥ　２４３７　（１９９５）　２９２参照）。この技術は、最近ではＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ　Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ：極紫外線）リソグラフィとも呼ばれている。このＥＵＶリソグラフィは、従来の光リソグラフィ（波長１９０ｎｍ程度以上）では実現不可能な、７０ｎｍ以下の解像力を有する将来のリソグラフィ技術として期待されている。
【０００６】
１１〜１４ｎｍ程度の波長域では物質の屈折率が１に非常に近いので、屈折や反射を利用した従来の光学素子は使用できない。それに替わって、屈折率が１よりも僅かに小さいことによる全反射を利用した斜入射ミラーや、界面での微弱な反射光を位相を合わせて多数重畳させて、全体として高い反射率を得る多層膜反射鏡などが使用される。１３．４ｎｍ付近の波長域では、モリブデン（Ｍｏ）層とシリコン（Ｓｉ）層を交互に積層したＭｏ／Ｓｉ多層膜を用いると直入射で６７．５％の反射率を得ることができ、波長１１．３ｎｍ付近の波長域では、Ｍｏ層とベリリウム（Ｂｅ）層を交互に積層したＭｏ／Ｂｅ多層膜を用いると直入射で７０．２％の反射率を得ることができる（例えば、Ｃ．Ｍｏｎｔｃａｌｍ，　Ｐｒｏｃ．　ＳＰＩＥ，　Ｖｏｌ．　３３３１　（１９９８）　Ｐ．４２参照）。
【０００７】
ＥＵＶリソグラフィ装置は、主として軟Ｘ線光源、照明光学系、マスクステージ、結像光学系、ウェハステージ等により構成される。軟Ｘ線光源には、レーザープラズマ光源、放電プラズマ光源や放射光等が使用される。照明光学系は、反射面に斜め方向から入射した軟Ｘ線を反射させる斜入射ミラー、反射面が多層膜により形成される多層膜反射鏡、および所定の波長の軟Ｘ線のみを透過させるフィルター等により構成され、フォトマスク上を所望の波長の軟Ｘ線で照明する。なお、上述のように、軟Ｘ線の波長域では透明な物質は存在しないので、フォトマスクには従来の透過型のマスクではなく反射型のマスクが使用される。フォトマスク上に形成された回路パターンは、複数の多層膜反射鏡等で構成された投影結像光学系により、フォトレジストが塗布されたウェハ上に結像して該フォトレジストに転写される。なお、軟Ｘ線は大気に吸収されて減衰するため、その光路は全て所定の真空度（例えば、１×１０−５Ｔｏｒｒ以下）に維持されている。
【０００８】
投影結像光学系は複数の多層膜反射鏡により構成される。多層膜反射鏡の反射率は１００％ではないので、光量の損失を抑えるためにミラーの枚数はできるだけ少なくすることが好ましい。これまでに、４枚の多層膜反射鏡からなる光学系（例えば、Ｔ．Ｊｅｗｅｌｌ　ａｎｄ　Ｋ．Ｔｈｏｍｐｓｏｎ，　ＵＳＰ　５，３１５，６２９、Ｔ．Ｊｅｗｅｌｌ，　ＵＳＰ　５，０６３，５８６）や、６枚の多層膜反射鏡からなる光学系（例えば、Ｄ．Ｗｉｌｌｉａｍｓｏｎ，特開平９−２１１３３２、ＵＳＰ　５，８１５，３１０参照）等が報告されている。光束が一方向に進行する屈折光学系と異なり、反射光学系では光学系の中で光束が往復することになるので、反射鏡による光束のけられを避けるという制限のために、開口数（ＮＡ）を大きくすることが難しい。４枚光学系ではＮＡを０．１５程度までにしかできないが、６枚光学系では更にＮＡの大きい光学系の設計が可能になる。マスクステージとウェハステージが投影結像光学系の両側に配置できるように、反射鏡の枚数は通常は偶数になっている。このような投影結像光学系は、限られた面数で光学系の収差を補正しなければならないので、各反射鏡には非球面形状が適用され、また、所定の像高の近傍でのみ収差の補正されたリングフィールド光学系になっている。フォトマスク上のパターン全体をウェハ上に転写するためには、マスクステージとウェハステージとを、光学系の倍率分だけ異なる速度でスキャンさせながら露光を行う。
【０００９】
上記のような露光装置の投影結像光学系は、いわゆる回折限界の光学系であり、波面収差を十分に小さくしないと設計通りの性能を得ることはできない。回折限界の光学系における波面収差の許容値の目安としては、Ｍａｒｅｃｈａｌによる二乗平均価（ＲＭＳ）で使用波長の１／１４以内という基準がある（Ｍ．Ｂｏｒｎ　ａｎｄ　Ｅ．Ｗｏｌｆ，　Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ　ｏｆ　Ｏｐｔｉｃｓ，　４ｔｈ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｐｅｒｇａｍｏｎ　Ｐｒｅｓｓ　１９７０，　ｐ．４６９参照）。これはＳｔｒｅｈｌ強度（収差のある光学系と無収差光学系との間の点像強度の最大値の比）が８０％以上になるための条件である。実際の露光装置の投影結像光学系は、これよりも更に低い収差になるように製造されている。
【００１０】
現在盛んに研究開発が行われているＥＵＶリソグラフィ技術においては、露光波長は主として１３ｎｍあるいは１１ｎｍ付近の波長が使われている。光学系の波面収差（ＷＦＥ）に対して、個々の反射鏡に許容される形状誤差（ＦＥ）は次式で与えられる。
ＦＥ＝ＷＦＥ／２／√ｍ　（ＲＭＳ）
ｍは光学系を構成する反射鏡の数であり、更に２で割るのは、反射光学系では入射光と反射光の両方がそれぞれ形状誤差の影響を受けるので、波面収差には形状誤差の２倍の誤差が乗るからである。結局、回折限界の光学系において、個々の反射鏡に許容される形状誤差（ＦＥ）は波長λと反射鏡の枚数ｍに対して次式で与えられる。
ＦＥ＝λ／２８／√ｍ　（ＲＭＳ）
この値は、波長１３ｎｍでは４枚の反射鏡で構成された光学系の場合０．２３ｎｍＲＭＳとなり、６枚の反射鏡で構成された光学系の場合０．１９ｎｍＲＭＳとなる。
【００１１】
しかしながら、このような高精度の非球面形状の反射鏡を製造することは非常に困難であり、ＥＵＶリソグラフィがなかなか実用化できない第一の原因となっている。現在までに達成されている非球面の加工精度は０．４〜０．５ｎｍＲＭＳの程度であり（Ｃ．　Ｇｗｙｎ，　Ｅｘｔｒｅｍｅ　Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ　Ｗｈｉｔｅ　Ｐａｐｅｒ，　ＥＵＶ　ＬＬＣ，　１９９８，　ｐ１７参照）、ＥＵＶリソグラフィを実現するためには非球面の加工技術および計測技術の大幅な向上が必要とされている。
【００１２】
ＥＵＶリソグラフィに用いられる縮小投影光学系においては、上述のように非常に高い形状精度が必要であるため、光学系を形成する反射鏡やマスク（成膜された基板）の温度の管理が非常に重要である。前述のように、ＥＵＶ光学系表面に形成される多層膜の反射率は７０％程度であるため、照射されるＥＵＶ光エネルギーの３０％は多層膜に吸収され基板の温度を上昇させ、熱膨張による基板変形を引き起こす。縮小投影露光機では、十分な処理速度を確保するためにＥＵＶ光源部では５０〜１００ＷのＥＵＶ光（波長１３．４ｎｍ、２％ＢＷ）が必要となる。
【００１３】
投影光学系に入射するＥＵＶ光のエネルギーはマスクパターンにも依存するが、数Ｗ〜１０Ｗである。このＥＵＶの照射による熱膨張の影響を回避するため、ＥＵＶ光学系の基板は、一般には低熱膨張ガラスで制作されるが、ＥＵＶ光学系に要求される精度は０．３ｎｍＲＭＳ以下であるため、光学系を構成する多層膜基板の温度管理は必須である。ＥＵＶ光学系は真空中に配置されるため、雰囲気ガス温度の制御による温度管理は困難である。ただし、反射鏡の反射面の反対側の裏面の温度を制御することにより反射鏡の温度管理が可能となる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
そのような温度管理の手法の一例として、媒質を流す流路を設けた冷却部材を多層膜基板の裏面に直接又は間接的に接触させる方法がある。ところが、この冷却部材の流路に媒質を流すと、振動が生じることが多い。というのは、媒質を流す流路は、一般に複雑に曲がりくねっており、流れの方向が変化する際に流れの状態がゆらぐことによって、媒質から部材に加わる力が変化して振動の原因となるのである。
【００１５】
また、流路内部で生じる乱流も振動の原因となることが知られている。流路内の媒質の流れの状態は、流路の断面形状や流量によって変化するが、流れを完全に制御し、振動が全く生じないようにすることは困難である。この振動はわずかであるが多層膜反射鏡基板を変形させる原因となる。上述したように、ＥＵＶ投影光学系にはサブｎｍオーダーの精度が求められるため、上記振動を無視することはできない。そのため、媒質の流れによって生じる振動を低減させることが求められている。
【００１６】
本発明は、上述した従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、高い光学性能を得ることのできる光学部品冷却装置等を提供することを目的とする。また、本発明は、上記光学部品冷却装置を有するＥＵＶ露光装置を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の光学部品冷却方法は、光学部品自身又はそれと接する冷却部材中に冷媒流路を設け、該流路に温度を管理した冷媒を流すことにより前記光学部品を冷却する方法であって、前記冷媒流路に、開放孔を有する弾性部材（スポンジ状部材）を配置し、該スポンジ状部材で冷媒流振動を吸収又は緩衝することを特徴とする。
【００１８】
本発明の光学部品冷却装置は、光学部品自身又はそれと接する冷却部材中に冷媒流路を設け、該流路に温度を管理した冷媒を流すことにより前記光学部品を冷却する装置であって、前記冷媒流路に、冷媒流振動を吸収又は緩衝する、開放孔を有する弾性部材（スポンジ状部材）が配置されていることを特徴とする。
本発明によれば、冷媒流路にスポンジ状部材が配置されているので、冷媒が流れることにより生じる振動に起因する光学部品の振動を吸収又は緩衝し、その振動による光学部品の変形を軽減することができ、光学部品の光学性能を高めることができる。
本発明の光学部品冷却装置においては、前記スポンジ状部材を前記流路の内壁に沿って配置することができる。この場合、流路中央部の冷媒流は阻害されず、かつ有効な防振が可能である。
【００１９】
本発明の光学部品冷却方法は、光学部品自身又はそれと接する冷却部材中に冷媒流路を設け、該流路に温度を管理した冷媒を流すことにより前記光学部品を冷却する方法であって、開放孔を有する弾性部材（スポンジ状部材）を前記流路を満たすように配置し、該スポンジ状部材で冷媒流振動を吸収又は緩衝することを特徴とする。
本発明の光学部品冷却装置によれば、冷媒流路にスポンジ状部材が配置されているので、冷媒が流れることにより生じる振動に起因する光学部品の振動を吸収又は緩衝し、その振動による光学部品の変形を権限することができ、高精度なパターンを転写する露光装置に用いることが可能である。
【００２０】
本発明のＥＵＶ露光装置は、感応基板上にＥＵＶ光を選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、ＥＵＶ反射鏡又はマスクを冷却するための本発明の光学部品冷却装置を備えることを特徴とする。
上記ＥＵＶ露光装置によれば、上記光学部品冷却装置を備えているので、冷媒が流れることにより生じる振動に起因する光学部品の振動を吸収又は緩衝し、その振動による光学部品の変形を軽減することができ、高精度なパターニングを転写する露光装置となる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の光学部品冷却装置について説明する。
図１は、本発明の光学部品冷却装置を用いて光学部品を冷却する方法について説明する図である。図１（ａ）は、冷却される光学部品である多層膜反射鏡１が本発明の光学部品冷却装置に接している状態を示す断面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）における多層膜反射鏡１と光学部品冷却装置の底面の図である。図２は、冷却装置の流路を模式的に示す斜視断面図である。
【００２２】
図１に示すように、光学部品である多層膜反射鏡１は、上が反射面１ａであり、反射面１ａの反対側の裏面１ｂは冷却部材２に接触して配置されている。なお、多層膜反射鏡１は、ＥＵＶ縮小投影露光に用いられる投影光学系を構成する６枚の多層膜反射鏡のうちの１枚を示したものである。ＥＵＶ光は大気に強く吸収されてしまうため、光学系全体は真空容器の内部に配置されているが、図１及び図２においては真空容器は図示していない。多層膜反射鏡１の反射面１ａには周期長６．９ｎｍのＭｏ／Ｓｉ多層膜が形成されている。
【００２３】
冷却部材２は円板状に形成されており、その内部には、冷媒が通過する流路３が形成されている。この流路３の内壁にはスポンジ状部材４が配置されている。図２にわかりやすく示すように、スポンジ状部材４は流路３の内壁に沿って配置されている。中央部には空間があり、その空間内に冷媒である水が通過する。冷媒の通過速度及び通過量に制限はなく、多層膜反射鏡１を冷却するのに十分な通過速度及び通過量であればよい。スポンジ状部材４には水が浸透し、流路３の内部を流れる水と冷却部材２との間の熱的接触は保持されており、これにより多層膜反射鏡１が冷却される。図１に示す冷却部材２においては、その内壁にスポンジ状部材が配置されているので、冷却用冷媒が流れることにより生じる振動を原因とする多層膜反射鏡１の振動を吸収又は緩衝し、その振動による多層膜反射鏡１の変形を軽減することができる。そのため、ＥＵＶ露光装置等の光学性能を高めることができる。このスポンジ状部材４は、具体的には例えばポリウレタンを発砲成形（空孔体積率３０〜９０％）したものを用いることができる。
【００２４】
図１（ｂ）は、図１（ａ）における多層膜反射鏡１と光学部品冷却装置２の底面の図である。冷却水の動きについて簡単に説明すると、例えば、冷却水は、図の左側の流路３の左側から供給され、冷却部材２の内部を図の上下に蛇行しながら、左側から右側へ通過する。この間に、水は多層膜反射鏡１を冷却し、右側から流れ出るようになっている。なお、流路に供給される冷却水の温度は０．１℃の精度で制御され、多層膜反射鏡１を冷却するのに必要な温度に制御されている。冷却水は、図示しない駆動ポンプによって流路３に供給され、流路３から排出された冷却水は、図示しない冷却装置によって再度冷却された後、流路３を再び循環する。
【００２５】
前述のように、多層膜反射鏡１に到達するＥＵＶ光のエネルギーはマスクパターンにも依存するが、数Ｗ〜１０Ｗ程度である。この光エネルギーが多層膜反射鏡１に入射するが、本発明の光学部品冷却装置によって多層膜反射鏡１が冷却されるので、ＥＵＶ光照射による多層膜反射鏡の温度上昇が抑制され、温度上昇による多層膜反射鏡１の熱変形が抑制される。
【００２６】
冷却水は真空容器の外部から供給されるが、供給装置の動作部分（ポンプ）において発生する振動が基板側に伝わらないように、冷水配管５の一部は弾性体で形成されている。ただし、冷水配管の内部の冷却水の流れに乱れを生じさせないように、配管内部の形状はその他の部分と同じように形成されている。また、冷却水が流路３を流れる際に生じる乱流によって振動が生じるが、その振動は流路３の内壁に配置されたスポンジ状部材４によって吸収され、冷却部材２には伝達されないようになっている。
【００２７】
また、流路３に供給される冷却水の流量や圧力は厳密に一定に保持されていないため、そのゆらぎによって流路の内壁に加わる圧力は変化し、振動の原因となる。しかし、ゆらぎによって生じる圧力変化に対してもスポンジ状部材４は緩衝剤となり、冷却部材２には振動の伝達が軽減され、多層膜反射鏡１の振動が軽減し、多層膜反射鏡１の変形が軽減される。
【００２８】
上述した説明においては、多層膜反射鏡１を冷却するための冷媒として水を使用したが、冷媒は水に限定されるものではなく、例えばフロリナート等が使用可能である。また、上述の説明においては、投影光学系を構成する多層膜反射鏡の冷却を行っているが、冷却の対象は投影光学系を構成する多層膜反射鏡に限定されるものではなく、照明光学系を構成する多層膜反射鏡や、斜入射全反射鏡等に対しても使用可能である。
【００２９】
次に、本発明のＥＵＶ露光装置について図面を参照しつつ説明する。図３は、本発明の実施の形態に係る光学部品冷却装置を備えたＸ線露光装置の一例を示す構成図である。
図３に示すように、Ｘ線発生装置１９９は、露光チャンバ５０の上部に設置されている。露光チャンバ５０内には、Ｘ線発生装置１９９からのＥＵＶ光照射を受ける照明光学系５６が配置されている。照明光学系５６は、コンデンサー系の反射鏡、フライアイ光学系の反射鏡等で構成されており、ミラー２０５で反射したＸ線を円弧状に整形し、図３の左方に向かって照射する。
【００３０】
照明光学系５６の図３の左方には、Ｘ線反射鏡５２が配置されている。Ｘ線反射鏡５２は、図３の右側の反射面５２ａが凹型をした円形をしており、図示せぬ保持部材により垂直に保持されている。Ｘ線反射鏡５２の図３の右方には、光路折り曲げ反射鏡５１が斜めに配置されている。光路折り曲げ反射鏡５１の上方には、反射型マスク５３が、反射面が下になるように水平に配置されている。照明光学系５６から放出されたＸ線は、Ｘ線反射鏡５２により反射集光された後に、光路折り曲げ反射鏡５１を介して、反射型マスク５３の反射面に達する。
【００３１】
反射鏡５１、５２の基体は、反射面５２ａが高精度に加工された石英の基板からなる。この反射面５２ａには、Ｘ線発生装置のミラー２０５の反射面と同様に、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が形成されている。なお、波長が１０〜１５ｎｍのＸ線を用いる場合には、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）等の物質と、Ｓｉ、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｂ４Ｃ（４ホウ化炭素）等の物質とを組み合わせた多層膜でもよい。
【００３２】
反射型マスク５３の反射面にも多層膜からなる反射鏡が形成されている。この反射膜には、ウェハ５９に転写するパターンに応じたマスクパターンが形成されている。マスクステージ５５は、少なくともＹ方向に移動可能であり、光路折り曲げ反射鏡５１で反射されたＸ線を順次マスク５３上に照射する。
【００３３】
反射型マスク５３の下部には、順に投影光学系５７、ウェハ５９が配置されている。投影光学系５７は、複数の反射鏡等からなり、反射型マスク５３で反射されたＸ線を所定の縮小倍率（例えば１／４）に縮小し、ウェハ５９上に結像する。ウェハ５９は、ＸＹＺ方向に移動可能なウェハステージ５４に吸着等により固定されている。
【００３４】
露光動作を行う際には、照明光学系５６により反射型マスク５３の反射面にＸ線を照射する。その際、投影光学系５７に対して反射型マスク５３及びウェハ５９を投影光学系の縮小倍率により定まる所定の速度比で相対的に同期走査する。これにより、反射型マスク５３の回路パターンの全体をウェハ５９上の複数のショット領域の各々にステップアンドスキャン方式で転写する。なお、ウェハ５９のチップは例えば２５×２５ｍｍ角であり、レジスト上で０．０７μｍＬ／ＳのＩＣパターンが露光できる。
【００３５】
図３に示す露光装置において、多層膜楕円ミラー２０５や光路折り曲げ反射鏡５１、Ｘ線反射鏡５２、反射型マスク５３及び図示しない投影光学系中の反射鏡の裏に冷却部材２（図１）が接触するように設けられている。これらの多層膜楕円ミラー２０５、Ｘ線反射鏡５２、反射型マスク５３、投影光学系の反射鏡は、冷却部材２により冷却されている。前述のように、冷却部材２には冷却用冷媒が流れることにより生じる振動が生じないので、振動によるミラー、反射鏡、反射型マスク、投影光学系の反射鏡の変形を防止することができる。
【００３６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光学部品冷却方法によれば、光学部品を冷却する際に、冷却用冷媒が流れることにより生じる振動を原因とする多層膜基板の振動を吸収又は緩衝するので、その振動による多層膜の変形を軽減することができ、高い光学性能を得ることができる。
本発明の光学部品冷却装置によれば、光学部品を冷却する際に、冷却用冷媒が流れることにより生じる振動を原因とする多層膜基板の振動を吸収又は緩衝するので、その振動による多層膜の変形を軽減することができ、高い光学性能を得ることができる
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学部品冷却装置を用いて光学部品を冷却する方法について説明する図である。
【図２】冷却装置２の斜視図である。
【図３】本発明の実施例の形態に係る光学部品冷却装置を備えたＸ線露光装置の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
１　多層膜反射鏡　　　　　　　　　　　１ａ　多層膜反射鏡の反射面
１ｂ　多層膜反射鏡の裏面　　　　　　　２　冷却部材
３　流路　　　　　　　　　　　　　　　４　スポンジ状部材
５　冷水配管　　　　　　　　　　　　　２０５　多層膜楕円ミラー
２０６　ＥＵＶ光　　　　　　　　　　　２０７　真空容器
２０９　可視光カットＸ線フィルター　　１９９　Ｘ線発生装置
５０　露光チャンバ　　　　　　　　　　５１　光路折り曲げ反射鏡
５２　Ｘ線反射鏡　　　　　　　　　　　５３　反射型マスク
５４　ウェハステージ　　　　　　　　　５５　マスクステージ
５６　照明光学系　　　　　　　　　　　５７　投影光学系
５９　ウェハ
【図１】
2004095993.tif 000003
【図２】
2004095993.tif 000004
【図３】
2004095993.tif 000005