(57)【要約】【課題】面倒れ誤差補正機能を有する場合においてその面倒れ誤差により生ずる走査線の終端位置の誤差を減少させ得る反射型走査光学系を提供する。【解決手段】面倒れ誤差補正機能付きの反射型走査光学系において、走査速度補正用のｆθミラー５と、水平同期を取るために配置されている受光素子７との間に、副走査方向から母線が傾いたシリンドリカル面を有するレンズを備えるように、構成する。当該レンズのシリンドリカル面の母線の傾きが、受光素子７へ向かうべきレーザービームの収束位置が面倒れ誤差によって変位する方向に応じた方向となるように、反射型走査光学系を構成する。【選択図】　　図３
2004013110.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
等角速度で回転する回転多面鏡の各反射面で動的に偏向されたレーザービームを、走査速度補正ミラーに反射させることによって、走査対象面上を主走査方向に沿って等速度で走査するとともに、その走査対象面上で主走査方向に直交する副走査方向において前記回転多面鏡の反射面近傍と前記走査対象面とを光学的に共役にする収束パワーが、前記走査速度補正ミラーに設定されている反射型走査光学系であって、
前記走査速度補正ミラーは、前記主走査方向の断面形状の湾曲状態が前記副走査方向の高さに応じて変化する形状を有するとともに、
前記回転多面鏡の一反射面による一回の走査で前記走査対象面に形成される一走査線の始端から終端までの走査範囲の外側且つ上流側においてレーザービームを受光する受光素子と、
前記走査速度補正ミラーと前記受光素子との間に配置されるとともに、前記副走査方向に対してその母線が傾いているシリンドリカル面を有しているレンズとを備えた
ことを特徴とする反射型走査光学系。
【請求項２】
前記シリンドリカル面の母線が前記副走査方向に対して傾く角度は、面倒れによって前記受光素子の受光面に向かうレーザービームが前記主走査方向にずれた場合でも、前記走査範囲の中心を通るレーザービームが前記走査対象面上の主走査方向における同じ箇所に入射するような角度である
ことを特徴とする請求項１記載の反射型走査光学系。
【請求項３】
前記シリンドリカル面の母線が前記副走査方向に対して傾く角度は、前記各走査線について、前記走査速度補正ミラーの光軸と前記走査対象面との交点から始端と終端とを等距離にするような角度である
ことを特徴とする請求項１記載の反射型走査光学系。
【請求項４】
前記レンズは、前記シリンドリカル面がある側とは反対側に、前記主走査方向にその母線を向けた別のシリンドリカル面を有する
ことを特徴とする請求項１，２又は３記載の反射型走査光学系。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回転多面鏡によって動的に偏向したレーザービームを走査速度補正ミラーによって反射させることにより走査対象面上を走査する反射型走査光学系に、関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、反射型走査光学系は、等角速度で回転する回転多面鏡の各反射面によって動的に偏向されたレーザービームを、曲面状の反射面を有する走査速度補正ミラー（ｆθミラー）で反射させることによって、走査対象面上で主走査方向に沿って等速度に走査させる。そして、走査対象面が、主走査方向に直交する副走査方向へ等速度で移動されると、この走査対象面には、複数の走査線が一定の間隔で形成される。このため、レーザービームが画像情報に従ってオンオフ変調されていれば、走査対象面上には二次元状の画像が形成される。
【０００３】
なお、反射型に限らず、通常の走査光学系は、画像を構成する一走査線の始端から終端までの走査範囲の外側且つ上流側においてレーザービームを受光する受光素子を、備えている。この受光素子は、レーザービームを検出すると、検出信号を水平同期信号として変調器（又は変調出力可能な光源）に送信する。変調器は、水平同期信号を受信すると、一旦レーザービームをオフ状態に変調し、所定時間経過後にその走査線におけるオンオフ変調を開始する。このように、受光素子が配置されることによって、各走査線の書き出しのタイミングが機械的に決定され、その結果、各走査線の始端が主走査方向において揃えられる。
【０００４】
ところで、反射型走査光学系の中には、回転多面鏡の有するいわゆる面倒れ誤差を補正する機能が付加されているものがある。面倒れ誤差補正機能付きの反射型走査光学系では、回転多面鏡の反射面近傍と走査対象面とを副走査方向において光学的に共役にする収束パワーが、ｆθミラーに設定されている。また、これに対応して、回転多面鏡へ入射するレーザービームをその反射面近傍で副走査方向において一旦収束させるアナモフィックレンズが、備えられている。このアナモフィックレンズとしては、一般にシリンドリカルレンズが用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述したような面倒れ誤差補正機能を有する反射型走査光学系では、実際に回転多面鏡の反射面が倒れても、走査対象面上の走査線が副走査方向へ変位することはないが、レーザービームのｆθミラーへの入射位置は、副走査方向へ変位する。このｆθミラーの反射面は、図４（ａ），（ｂ）に示されるように、走査対象面上での走査線の湾曲や波面のねじれを補正するため、副走査方向の高さ（Ａ，Ｂ，Ｃ）に応じて主走査方向の断面形状の湾曲状態が僅かに変化する形状に、形成されている。このため、回転多面鏡により等しい偏向角で偏向されたレーザービームが、回転多面鏡の反射面の倒れ量に応じて、ｆθミラーにより主走査面内で異なる方向に反射されることとなる。
【０００６】
この結果、面倒れ誤差がないときに比べて、走査対象面上での走査速度が変動し、走査線の長さは拡大又は縮小される。このとき、走査線書き出し位置も主走査方向にずれることになるが、受光素子に入射するレーザービームと走査線の始端を書き出すレーザービームとの間の回転多面鏡による偏向角の差はあまりないので、ずれ量は僅かである。このため、走査線の長さの拡縮は、専ら、その終端の位置の主走査方向へのずれとして現れる（図５のΔ）。このように、各走査線の終端位置が、回転多面鏡の回転に伴って変位するために、走査対象面に形成された画像の走査線終端側の輪郭には、主走査方向への揺らぎ（ジッター）が生じる。
【０００７】
そこで、本発明の課題は、面倒れ誤差補正機能を有する場合においてその面倒れ誤差により生ずる走査線の終端位置の誤差を減少させ得る反射型走査光学系を、提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明による反射型走査光学系は、以下のような構成を採用した。
【０００９】
すなわち、本発明による反射型走査光学系は、等角速度で回転する回転多面鏡の各反射面で動的に偏向されたレーザービームを、走査速度補正ミラーに反射させることによって、走査対象面上を主走査方向に沿って等速度で走査するとともに、その走査対象面上で主走査方向に直交する副走査方向において前記回転多面鏡の反射面近傍と前記走査対象面とを光学的に共役にする収束パワーが、前記走査速度補正ミラーに設定されている反射型走査光学系であって、前記走査速度補正ミラーは、前記主走査方向の断面形状の湾曲状態が前記副走査方向の高さに応じて変化する形状を有するとともに、前記回転多面鏡の一反射面による一回の走査で前記走査対象面に形成される一走査線の始端から終端までの走査範囲の外側且つ上流側においてレーザービームを受光する受光素子と、前記走査速度補正ミラーと前記受光素子との間に配置されるとともに、前記副走査方向に対してその母線が傾いているシリンドリカル面を有しているレンズとを備えたことを、特徴としている。
【００１０】
このように構成されると、回転多面鏡の各反射面に同じ偏向角で偏向されて受光素子の受光面上の同じ箇所へ入射すべきレーザービームは、それらを反射させた反射面の有する面倒れ誤差によって走査速度補正ミラーへの入射位置が変化すると、シリンドリカル面を有するレンズに入射する際に主走査方向及び副走査方向に対して斜めな方向へ変位する。しかし、これらレーザービームは、副走査方向と平行な方向からその母線が傾けられている当該シリンドリカル面により、そのレンズの光軸に近寄る方向へ屈折され、然も、その屈折量は、走査速度補正ミラーへの入射位置の変位量が増えるに従って増える。このため、シリンドリカル面の母線が傾く角度が適宜選択されていれば、そのレンズに入射する際における当該レーザービームの変位の主走査方向への成分を打ち消すように、各レーザービームを屈折させることができる。その結果、回転多面鏡の各反射面により互いに同じ偏向角で偏向されたレーザービームは、同じタイミングで受光面を横切るようになり、面倒れ誤差による走査幅の変化は、走査線の終端の位置の変化としてではなく、走査線の始端と終端の位置の変化として現れるようになる。これにより、走査線終端の揺らぎは減少し、ジッターは目立たなくなる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。
【００１２】
図１に、本実施形態の反射型走査光学系の光学構成図を示す。この図１に示されるように、この反射型走査光学系は、レーザー光源１，コリメートレンズ２，アナモフィックレンズ３，ポリゴンミラー４，ｆθミラー５，補正素子６及び受光素子７を、備えている。
【００１３】
レーザー光源１は、レーザービームを発振する半導体レーザーである。コリメートレンズ２は、レーザー光源１から発散光として発せられるレーザービームを平行光束に変換するレンズである。アナモフィックレンズ３は、主走査方向では負のパワーを有し、副走査方向では正のパワーを有するレンズであり、ポリゴンミラー４の反射面近傍に主走査方向に延びる線像を形成する。ポリゴンミラー４は、扁平な正六角柱状に形成されており、その各側面は反射面として構成されている。このポリゴンミラー４は、その中心軸４ａ周りに等角速度で回転駆動されるようになっている。ｆθミラー５は、アナモフィックな曲面形状の反射面を持つ走査速度補正ミラーである。このｆθミラー５は、本実施形態では、裏面反射タイプの光学素子として構成されている。なお、ｆθミラー５の表面（透過面）５ａ又は裏面（反射面）５ｂは、非回転対称な形状である場合があり、回転対称な光学面での対称軸に相当する軸を持たないことがある。そこで、光学面の形状を式によって表現する時に設定される原点を通る軸を「光学面基準軸」と言うことにし、この光学面基準軸を、回転対称な光学面での対称軸、即ち、光軸に相当するものとして取り扱うことにする。
【００１４】
レーザー光源１から発せられるレーザービームは、コリメートレンズ２及びアナモフィックレンズ３を順に透過し、副走査断面にビーム軸Ａｘが沿うように進行して、回転するポリゴンミラー４の反射面に対して副走査方向に所定の角度をもって入射し、この反射面によって動的に偏向される。ポリゴンミラー４により偏向されたレーザービームは、ｆθミラー５に対して副走査方向に所定の角度をもって入射し、反射面５ｂによって反射されることにより、走査対象面Ｓ上を露光するスポット光として収束され、ポリゴンミラー４の回転に伴って走査対象面Ｓ上を主走査方向に沿って等速度に走査する。スポット光は、走査対象面Ｓ上に線状の軌跡（走査線）を描くが、走査対象面Ｓ自体が、主走査方向に直交する副走査方向へ等速度で移動されるので、走査対象面Ｓ上には、複数の走査線が等間隔に形成される。また、このように走査対象面Ｓ上で繰り返し走査されるレーザービームは、図示せぬ変調器（又はレーザー光源１そのもの）により、画像情報に従ってオンオフ変調されているので、走査対象面Ｓ上には、画像情報に基づく二次元状の画像が描画される。
【００１５】
ところで、アナモフィックレンズ３を透過したレーザービームは、主走査方向においては、平行光束のままポリゴンミラー４によって反射され、ｆθミラー５の収束パワーによって走査対象面Ｓ上に収束されるが、副走査方向においては、アナモフィックレンズ３の収束パワーによってポリゴンミラー４の反射面近傍で一旦収束され、発散光束としてｆθミラー５に入射し、ｆθミラー５の収束パワーによって再び走査対象面Ｓ上に収束される。このとき、ポリゴンミラー４の反射面近傍と走査対象面Ｓとがｆθミラー５によって副走査方向において光学的に共役となっているために、ポリゴンミラー４の各反射面の僅かな傾き（いわゆる「面倒れ」）による走査対象面Ｓ上の走査位置の副走査方向へのずれが、補正される。このため、レーザービームは、ポリゴンミラー４のどの反射面によって反射されても、走査対象面Ｓにおける同一線上を走査する。
【００１６】
以下に示す表１は、本実施形態の反射型走査光学系の具体的な数値構成である。この表１において、記号ＮＯは、アナモフィックレンズ３の入射側の面を１番としてこのレンズ面より射出側に向かって昇順に各光学面に付された面番号を示す。具体的には、第１面及び第２面は、アナモフィックレンズ３を、第３面は、ポリゴンミラー４の反射面を、第４面及び第６面は、ｆθミラー５の表面（透過面）５ａを、第５面は、ｆθミラー５の裏面（反射面）５ｂを、それぞれ示す。また、記号Ｒｙは、光学面の主走査方向の曲率半径（単位は［ｍｍ］）であり、記号Ｒｚは、それの副走査方向の曲率半径（単位は［ｍｍ］）であり、記号ｄは、次の光学面までの光学面基準軸上での距離（単位は［ｍｍ］）であり、記号ｎは、設計波長７８０ｎｍでの各レンズの屈折率である。なお、副走査断面内でポリゴンミラー４の反射面がレーザービームを上方（図１の手前側）へ反射する角度（分離角）は、１０．０度に設定されている。また、ｆθミラー５の光学面基準軸は、副走査断面内において、ｆθミラー５に入射するレーザービームのビーム軸Ａｘに対し、図１の下側から見て反時計回り方向に傾けられており、そのビーム軸Ａｘに対する傾き角度は、８．３度に設定されている。
【００１７】
【表１】
2004013110.tif 000003
【００１８】
本実施形態では、ｆθミラー５の表面（透過面：第４面すなわち第６面）５ａは、凹のアナモフィック非球面として形成され、その裏面（反射面：第５面）５ｂは、凹の二次元多項式非球面として形成されている。
【００１９】
アナモフィック非球面は、ｘ方向と平行な光学面基準軸を含むとともに主走査方向（ｙ方向）と平行な仮想平面を想定すると、この仮想平面に沿って切断された際にできる曲線においては、主走査方向の高さｙの点での光学面基準軸上の接線からのサグ量Ｘ（ｙ）、
Ｘ（ｙ）＝Ｃｙ２／｛１＋√［１−（１＋κ）Ｃ２ｙ２］｝＋ＡＭ１ｙ１＋ＡＭ２ｙ２＋ＡＭ３ｙ３＋…　−−−（１）
によって表現される。なお、上式（１）中、Ｃは、光学面基準軸上での主走査方向の曲率半径（表１のＲｙ）の逆数（曲率）であり、κは円錐係数、ＡＭ１，ＡＭ２，ＡＭ３，…は、それぞれ、１次，２次，３次，…の非球面係数である。
【００２０】
また、このアナモフィック非球面は、高さｙの点においてｘｚ平面と平行な平面に沿って切断されてできる円弧においては、この円弧の曲率半径Ｒｚ（ｙ）の逆数（すなわち曲率）、
2004013110.tif 000004
によって、式（１）とは無関係に表現される。なお、上式（２）中、Ｒｚ０は、光学面基準軸上での副走査方向（ｚ方向）の曲率半径（表１のＲｚ）であり、ＡＳ１，ＡＳ２，ＡＳ３，…は、高さｙでの副走査方向の曲率を決定する１次，２次，３次，…の非球面係数である。
【００２１】
第４面（第６面）を式（１）及び式（２）によって表現したときの具体的な数値構成として、それらの非球面係数を表２に示す。なお、ゼロである非球面係数は、表示を省略されている。また、式（１）によって表現された第４面（第６面）の円錐係数κは、０．０００である。
【００２２】
【表２】
2004013110.tif 000005
【００２３】
一方、二次元多項式非球面は、ｙ＝ｚ＝０の点でこの面に交わる仮想的な基準平面からのサグ量が基準平面内で主走査方向（ｙ方向）及び副走査方向（ｚ方向）の二次元座標を変数とする多項式によって定義される光学曲面である。なお、この二次元座標では、基準平面に直交する単一の基準軸とこの基準平面との交点が、原点として定義されている。この二次元多項式非球面の形状を具体的に式で表すと、以下のようになる。
【００２４】
即ち、この二次元多項式非球面は、基準平面上での点（ｙ，ｚ）におけるサグ量Ｘ（ｙ，ｚ）、
2004013110.tif 000006
によって表現される。なお、上式（３）中、Ｃは、光学面基準軸上での主走査方向の曲率半径（表１のＲｙ）の逆数（曲率）であり、κは、円錐係数であり、Ｂ（ｍ，ｎ）は、非球面係数であり、ｍとｎは、ゼロ以上の整数である。
【００２５】
第５面を式（３）によって表現したときの具体的な数値構成として、それらの非球面係数を表３に示す。なお、ゼロである非球面係数は、表示を省略されている。また、式（３）によって表現された第５面の円錐係数κは、０．０００である。
【００２６】
【表３】
2004013110.tif 000007
【００２７】
この表３において、ｍが奇数次である項（ｍ＝１，３，５，…）の非球面係数は、全てゼロであるので、第５面は、主走査方向に関しては、形状の変化が原点に関して対称となっている。また、この第５面は、副走査方向の高さによって主走査方向の曲率が変化する形状（すなわち、図４（ａ）のような形状）となっている。
【００２８】
なお、この反射型走査光学系の光学性能を、図２に示す。ここで、図２（ａ）は、ｆθ誤差（走査対象面Ｓ上でのスポット光の理想位置からの主走査方向へのずれ）を示し、図２（ｂ）は、主走査方向（破線）及び副走査方向（実線）の像面湾曲（軸外の結像位置の近軸像面からの光軸方向へのずれ）を示す。
【００２９】
図１に戻り、本実施形態の反射型走査光学系は、画像を構成する一走査線の始端から終端までの走査範囲の外側且つ上流側（走査範囲よりも前にレーザービームが当たる側）に、受光素子７を備えており、更に、その受光素子７とｆθミラー５との間には、補正素子６を備えている。より具体的には、この受光素子７は、ｆθミラー５と走査対象面Ｓとの間において補正素子６を配置する空間を確保するために、走査範囲の外側且つ上流側を通るレーザービームの光路上に配置されたミラーＭによってそのレーザービームが反射された先に、配置されている。従って、補正素子６は、ミラーＭと受光素子７との間に配置されている。なお、ミラーＭは無くても良いが、その場合、補正素子６及び受光素子７は、ｆθミラー５によって当該レーザービームが反射された先に、配置される。
【００３０】
受光素子７は、補正素子６を透過したレーザービームを検出すると、検出信号を水平同期信号として図示せぬ変調器（又は変調出力可能な光源）に送信する。変調器は、水平同期信号を受信すると、一旦レーザービームをオフ状態に変調し、所定期間経過後にその走査線におけるオンオフ変調を開始する。このように、受光素子７が配置されることによって、各走査線の書き出しのタイミングが機械的に決定されている。
【００３１】
補正素子６は、両面にシリンドリカル面を備えるレンズである。但し、両シリンドリカル面の曲率中心軸は互いに平行ではなく、一方のシリンドリカル面の曲率中心軸が、両面の曲率中心軸に共に直交する軸（以下、補正素子６の光軸と言う）周りに回転しており、他方のシリンドリカル面の曲率中心軸との間でねじれの位置の関係を形成している。なお、本実施形態では、入射側の第１シリンドリカル面６ａの母線が、副走査方向に対して傾けられており、射出側の第２シリンドリカル面６ｂの母線が、主走査方向へ向けられている。
【００３２】
＜本実施形態の機能＞
以上のように構成される本実施形態の反射型走査光学系においても、従来の反射型走査光学系と同様に、レーザービームのｆθミラー５における入射位置は、そのレーザービームを反射したポリゴンミラー４の反射面の倒れ量に応じて、副走査方向へずれる。すると、上述したｆθミラー５の形状に因り、特にｆθミラー５の軸外で反射されるレーザービームの反射方向は、そのｆθミラー５の反射位置に応じて、主走査方向及び副走査方向に対して斜めな方向へ変位する。従って、面倒れ誤差がないときに受光素子７で検出されるようなタイミングで出力されるレーザービームが、ミラーＭによって反射された後に補正素子６の第１シリンドリカル面６ａへ入射する位置も、図３（ａ）の概略図に示されるように、面倒れ誤差によってｆθミラー４での反射位置が副走査方向へ変位することに応じて、主走査方向及び副走査方向へ変位する。
【００３３】
しかし、本実施形態の反射型走査光学系では、上述したように、第１シリンドリカル面６ａの母線が副走査方向から傾けられているので、上記タイミングで出力されたレーザービームは、補正素子６の光軸に近寄るように屈折され、然も、その屈折量は、ｆθミラー５での反射位置の変位量が増えるに従って増える。このため、第１シリンドリカル面６ａの母線の傾き角度が適宜選択されていれば、図３（ｂ）に示されるように、この第１シリンドリカル面６ａは、補正素子６へ入射した際に当該レーザービームに生じていた変位の主走査方向への成分を打ち消す方向へ、そのビームを屈折させることができる。その結果、当該レーザービームは、面倒れ誤差が無いときでも面倒れが有るときでも、受光面において主走査方向における同じ位置に、入射する。つまり、ポリゴンミラー４の各反射面により互いに同じ偏向角で偏向されたレーザービームは、面倒れ誤差とは無関係に、何れも受光素子７の受光面へ入射するようになる。
【００３４】
ところで、補正素子６の第２シリンドリカル面６ｂは、その母線が主走査方向へ向けられているので、副走査方向にのみ収束パワーを有する。このため、この第２シリンドリカル面６ｂは、受光素子７へ入射する際における当該レーザービームの副走査方向の集光度合いを高めるように、そのビームを屈折させる。
【００３５】
なお、補正素子６の第１シリンドリカル面６ａの母線の傾き角度については、上記タイミングで出力されたレーザービームの受光面を含む面内での入射位置が面倒れ量に応じてずれる量に従って決定されているが、その具体例については以下に示す。
【００３６】
以下では、まず、補正素子６を除いた場合の具体例を比較例として説明し、続いて、補正素子６が有る場合の具体例を実施例として説明する。
【００３７】
【比較例】
以下に示す表４は、本実施形態から補正素子６を除外するとともに、受光素子７の受光面を走査対象面Ｓと等価な位置に配置した構成において、面倒れ誤差がなかった場合での受光素子７入射レーザービーム（同期光），走査線始端書き込み用レーザービーム（始端光），及び、走査線終端書き込み用レーザービーム（終端光）の走査対象面Ｓへの入射位置（単位は［ｍｍ］）と走査幅（単位は［ｍｍ］）とを示したものである。この表４において、座標原点は、走査範囲の中心（走査中心となるビームの入射位置）にある。
【００３８】
【表４】
2004013110.tif 000008
【００３９】
次に、ポリゴンミラー４の反射面が１８０秒（３．０分）だけ倒れている状態において、上記３つのビームが表４と同じタイミングで出力されたときの走査対象面Ｓへの入射位置及び走査幅を、表５に示す。なお、各入射位置の下側にある括弧内の数値は、表４の入射位置との誤差を示す。
【００４０】
【表５】
2004013110.tif 000009
【００４１】
そして、実際に受光素子７に入射するレーザービームによって水平同期が取られた場合において、レーザービームの受光素子７への入射位置の表４の入射位置に対する受光面上での変化量，並びに、走査対象面Ｓ上での走査線始端，終端及び走査幅に関して面倒れがあるときとないときでの誤差を、表６に示す。
【００４２】
【表６】
2004013110.tif 000010
【００４３】
この表６に示されるように、面倒れがある場合での走査線始端の位置は、面倒れがない場合での走査線始端の位置とさほど変わらない。しかしながら、面倒れがある場合での走査線終端の位置は、走査幅が拡張した分のずれの影響を受けて、１６ミクロンと大幅にずれている。このように、各走査線の終端位置が、回転多面鏡の回転に伴って変位するために、走査対象面Ｓに形成された画像の走査線終端側の輪郭には、主走査方向への揺らぎ（ジッター）が生じる。
【００４４】
【実施例】
以下に示す表７は、補正素子６の光軸上での具体的な数値構成である。この表７において、第０面はｆθミラー５の表面（透過面）５ａを示し、第１面は補正素子６の入射側の第１シリンドリカル面６ａを示し、第２面は射出側の第２シリンドリカル面６ｂを示す。その他の記号の意味は、表１のものと同じである。また、第１面と補正素子６自体の光軸との交点は、ｆθミラー５の光学面基準軸から主走査方向における高さ７２．５５０［ｍｍ］の位置にあり、補正素子６の光軸は、ｆθミラー５の光学面基準軸と平行な方向に対し、図１の下側から見て時計回り方向に傾いており、その傾き角度は、２１．６３０°に設定されている。さらに、第１シリンドリカル面６ａの母線は、入射側から見て、補正素子６自体の光軸に直交する面内で、副走査方向と平行な方向から時計回り方向に回転しており、副走査方向から６．５°傾けられている。
【００４５】
【表７】
2004013110.tif 000011
【００４６】
次に、補正素子６が受光素子７の前に配置されている反射型走査光学系において、面倒れ誤差がなかった場合での受光素子６入射レーザービーム（同期光），走査線始端書き込み用レーザービーム（始端光），及び、走査線終端書き込み用レーザービーム（終端光）の入射位置（単位は［ｍｍ］）と走査幅（単位は［ｍｍ］）とを、表８に示す。なお、受光素子６入射レーザービームの入射位置は、補正素子６の光軸が受光面を貫く点を原点とした場合での入射位置を示しており、他の入射位置と区別するために角括弧で括られている。
【００４７】
【表８】
2004013110.tif 000012
【００４８】
次に、ポリゴンミラー４の反射面が１８０秒（３．０分）だけ倒れている状態において、上記３つのビームが表８と同じタイミングで出力された時での受光面及び走査対象面Ｓへの入射位置と走査幅とを、表９に示す。なお、各入射位置の下側にある括弧内の数値は、表８の入射位置との誤差を示す。
【００４９】
【表９】
2004013110.tif 000013
【００５０】
表９に示されるように、ポリゴンミラー４の反射面が１８０秒だけ倒れると、面倒れがなかったときに受光素子７へ入射するタイミングと同じタイミングで出力されたレーザービームの受光面上での入射位置は、副走査方向には５ミクロンずれるものの、主走査方向にはずれていない。然も、面倒れ誤差による走査幅の変化は、走査線の始端と終端の位置の変化として均等に現れている。つまり、走査対象面Ｓ上に描画された画像における走査幅終端側の輪郭が主走査方向に揺らぐ量が、補正素子６が備えられていないときよりも小さくなり、画像に生じるジッターが目立たなくなる。
【００５１】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、面倒れ誤差補正機能を有する場合においてその面倒れ誤差により生ずる走査線の終端位置の誤差を減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態による反射型走査光学系の光学構成図
【図２】反射型走査光学系の光学性能（（ａ）ｆθ誤差と（ｂ）像面湾曲）を示すグラフ
【図３】（ａ）面倒れ誤差による補正素子への入射位置のずれを示す説明図と（ｂ）補正素子のシリンドリカル面によってレーザービームが屈折される様子を示す概略図
【図４】（ａ）ｆθミラーの反射面の説明図と（ｂ）副走査方向の各高さでの主走査方向の断面形状の説明図
【図５】面倒れがあるときとないときでの走査線の始端位置と終端位置の関係を示す説明図
【符号の説明】
１　　レーザー光源
２　　コリメートレンズ
３　　アナモフィックレンズ
４　　ポリゴンミラー
４ａ　中心軸
５　　ｆθミラー
５ａ　表面（透過面）
５ｂ　裏面（反射面）
６　　補正素子
７　　受光素子
Ｓ　　走査対象面
Ａｘ　ビーム軸
【図１】
2004013110.tif 000014
【図２】
2004013110.tif 000015
【図３】
2004013110.tif 000016
【図４】
2004013110.tif 000017
【図５】
2004013110.tif 000018