(57)【要約】【課題】透明支持体上に、防眩性層及び低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム、偏光子（偏光膜）、および液晶性化合物からなる光学異方性層を設けることにより、視野角（特に下方向視野角）を拡大し、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することがなく、しかも安価で、ブツ状の面状欠陥のない液晶表示装置を提供する。【解決手段】透明支持体２上に、透光性バインダーマトリックスに透光性微粒子が分散された少なくとも１層の防眩性層３と、下層よりも屈折率の低い低屈折率層４とを有する防眩性反射防止フィルムであって、表面粗さＲａが０．０２〜１．００μｍであり、かつＲｚ／Ｒａが３０以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィルムを用いて偏光板、更には液晶表示装置を得る。【選択図】　図１
2004125958.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、透光性バインダーマトリックスに透光性微粒子が分散された少なくとも１層の防眩性層と、下層よりも屈折率の低い低屈折率層とを有する防眩性反射防止フィルムであって、表面粗さＲａが０．０２〜１．００μｍであり、かつＲｚ／Ｒａが３０以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【請求項２】
該防眩性層における透光性バインダーマトリックスの屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあり、透光性バインダーマトリックスと透光性微粒子との屈折率の差Δｎが０．００〜０．５０であることを特徴とする請求項１に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項３】
偏光子の両面を保護フイルムで挟持した偏光板において、保護フイルムの少なくとも一方が、請求項１又は２に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項４】
偏光子の両面を保護フイルムで挟持した偏光板において、保護フイルムの一方に液晶性化合物からなる光学異方性層を有し、かつ他方の保護フィルムが、請求項１又は２記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項５】
液晶性化合物がディスコティック化合物であることを特徴とする請求項４に記載の偏光板。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれかに記載の偏光板の光学異方性層側を液晶セル面に配置したことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピュータ、ワードプロセッサ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、テレビジョン等の画像表示に用いる液晶表示素子や画像表示素子に関し、特に、視角特性の向上を図る防眩性層を有する防眩性反射防止フイルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム等の各種機能フィルム、それらを用いた偏光板、液晶表示装置及び画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。
現時点での液晶表示装置の表示品位上の課題は、視野角の拡大と外光の写り込み防止及び面状欠陥の解消である。
視野角に関しては、現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置において、特許文献１〜３に記載のように光学補償フィルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、極めて広視野角の液晶表示装置が実現されている。ところが、上記液晶表示装置はパネルの下方向の階調反転が生じるという問題が残っていた。
【０００３】
この問題に対して、特許文献４（特許第２８２２９８３号）には光拡散手段を、特許文献５（特開２００１−３３７８３号公報）には光軸変換板を、および特許文献６（特開２００１−５６４６１号公報）には出射光を拡散する光学手段を、視認側表面に設けることで著しく表示品位が改善されることが提案されている。しかしながら、これらに記載の具体的手段は高度に制御されたレンズ構造、あるいは回折構造を有する光拡散手段であり、高価であり、かつ大量生産が非常に困難であった。
【０００４】
これに対して、安価かつ大量生産可能な光拡散手段として、透光性粒子を含有する透光性樹脂を塗工した光拡散フィルム、例えば透明支持体の表面に、二酸化ケイ素（シリカ）等のフィラーを含む樹脂を塗工して形成したもの（例えば、特許文献７参照）が提案されている。更には、表面ヘイズ値３以上で、表面粗さ（Ｒａ）０．２μｍ以下の表面平坦化した拡散フィルム（特許文献８参照）、表面ヘイズ値と内部ヘイズ値とを規定した防眩性フィルム（特許文献９参照）、粒径０．５〜５μｍで、透光性樹脂との屈折率差が０．０２〜０．２である透光性微粒子を含有する防眩性フィルム（特許文献１０参照）、粒径や透光性樹脂との屈折率差が異なる２種以上の透光性微粒子を含有する防眩性フィルム（特許文献１１及び１２参照）、中心線平均粗さ（Ｒａ）と１０点平均粗さ（Ｒｚ）とを規定した防眩性フィルム（特許文献１３参照）が知られている。
【０００５】
【特許文献１】
特開平８−５０２０６号公報
【特許文献２】
特開平７−１９１２１７号公報
【特許文献３】
欧州特許０９１１６５６Ａ２号明細書
【特許文献４】
特許第２８２２９８３号
【特許文献５】
特開２００１−３３７８３号公報
【特許文献６】
特開２００１−５６４６１号公報
【特許文献７】
特開平６−１８７０６号公報
【特許文献８】
特開平１１−１６０５０５号公報
【特許文献９】
特開平１１−３０５０１０号公報
【特許文献１０】
特開平１１−３２６６０８号公報
【特許文献１１】
特開２０００−１２１８０９号公報
【特許文献１２】
特開２０００−１８０６１１号公報
【特許文献１３】
特開２０００−３３８３１０号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらに記載の光拡散層を用いることにより、画像のボケが生じることが分かり、表示品位の向上は不充分であることが判明した。加えて、これらに記載の塗工により光拡散層を形成しようとするとフィルム全面のブツ状の面状欠陥が存在し、更なる改善が望まれていた。
【０００７】
一方、外光の写り込みに対する対策としては、表面凹凸による防眩性付与、あるいは低屈折率層による反射防止付与が一般に用いられる。上述のような光拡散層を透明基材に直接塗設する場合、表面凹凸の制御が非常に困難であり、防眩性を満足するフイルムも得られていない。また、反射防止層は、外光の反射によるコントラスト低下や像の写り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するディスプレイの最表面に配置される。しかしながら、従来の光拡散フイルムには上述のような視野角の問題を解決しうるものではなく、外光の写り込みに優れ、かつ視野角の問題を解決できるような光拡散フイルムが望まれていた。
【０００８】
本発明の目的は、透明支持体上に、防眩性層及び低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム、偏光子（偏光膜）、および液晶性化合物からなる光学異方性層を設けることにより、視野角（特に下方向視野角）を拡大し、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することがなく、しかも安価で、ブツ状の面状欠陥のない液晶表示装置を提供することのできる、防眩性反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板を提供することにある。すなわち、液晶表示装置の品位、更には面状均一性にも優れた性能を付与できる防眩性反射防止フィルム及び偏光板を提供することにある。
本発明の更なる目的は、上記性能に優れた偏光板を備えた液晶表示装置、画像表示装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記構成の防眩性反射防止フィルム、偏光板、液晶表示装置および画像表示装置により達成されることが見出された。
（１）　透明支持体上に、透光性バインダーマトリックスに透光性微粒子が分散された少なくとも１層の防眩性層と、下層よりも屈折率の低い低屈折率層とを有する防眩性反射防止フィルムであって、表面粗さＲａが０．０２〜１．００μｍであり、かつＲｚ／Ｒａが３０以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
（２）　該防眩性層における透光性バインダーマトリックスの屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあり、透光性バインダーマトリックスと透光性微粒子との屈折率の差Δｎが０．００〜０．５０であることを特徴とする上記（１）に記載の防眩性反射防止フィルム。
【００１０】
（３）　該防眩性層の内部散乱による内部ヘイズ値が３０〜８０％であり、該防眩性層の表面凹凸による表面ヘイズ値が、７〜２５％であり、全ヘイズ値が、４０〜９０％であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の防眩性反射防止フィルム。
（４）　該防眩性層に、少なくとも２種類以上の透光性微粒子を含有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【００１１】
（５）　偏光子の両面を保護フイルムで挟持した偏光板において、保護フイルムの少なくとも一方が、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
（６）　偏光子の両面を保護フイルムで挟持した偏光板において、保護フイルムの一方に液晶性化合物からなる光学異方性層を有し、かつ他方の保護フィルムが、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
（７）　液晶性化合物がディスコティック化合物であることを特徴とする上記（６）に記載の偏光板。
【００１２】
（８）　上記（５）〜（７）のいずれかに記載の偏光板の光学異方性層側を液晶セル面に配置したことを特徴とする液晶表示装置。
（９）　上記（１）〜（４）のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム、又は上記（５）〜（７）のいずれかに記載の偏光板の低屈折率層側が最表面になるように配置したことを特徴とする画像表示装置。
【００１３】
本発明は、防眩性層及び低反射率層を有する防眩性反射防止フィルムのブツ状の欠陥が表面の局所的な凹凸の多少と関連が深く、Ｒｚ／Ｒａ値と相関することを見出し、防眩性層のＲａ値を０．０２〜１．００μｍとし、Ｒｚ／Ｒａ値を３０以下とした後、低屈折率層を均一薄層に形成することにより、フィルム表面のＲａ値、Ｒｚ／Ｒａ値を実質的に変えることなく、ブツ状の欠陥が少ない良好な防眩性反射防止フィルムを提供できることを知見したものである。更に、それを用いて、優れた性能の偏光板、液晶表示装置、画像表示装置を得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態につき詳細に説明する。
本発明の好ましい防眩性反射防止フイルムの一形態は、透光性バインダーマトリックスに透光性微粒子が分散した防眩性層、および下層よりも屈折率の低い低屈折率層（すなわち反射防止層）を透明支持体上に有する防眩性反射防止フィルムである。
【００１５】
［防眩性反射防止フィルム］
概略断面図を模式的に示した図１に示す通り、本発明の防眩性反射防止フィルム１は、透明支持体２上に防眩性層３、そして低屈折率層４の層構成を有する。防眩性層３には、透光性微粒子である防眩性付与粒子５、あるいは更に、透光性微粒子である内部散乱付与粒子６が分散している。
なお、本発明の防眩性反射防止フィルムの層構成は、図１に示されているものに制限されず、多くのバリエーションがあることは勿論のことである。例えば、防眩性層の下層に、平滑なハードコート層を設け、フィルム強度を上げる構成としたものも含まれる。
【００１６】
防眩性反射防止フィルムの表面凸凹は、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定される基準長２．５ｍｍ、カットオフ値が０．８ｍｍで測定したときの中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ以下であり、０．８μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましく、０．２μｍ以下であることが特に好ましい。ただし、０．０２μｍ未満では、フイルム搬送性が悪くなり好ましくない。また、本発明の防眩性反射防止フィルム表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）とＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ値）は、３０以下であり、２５以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましい。
【００１７】
中心線平均粗さＲａは表面の凹凸の平均的な粗さを表すパラメータであり、この値が大きいほど表面の平均的な粗さが大きくなる。またＲｚは局所的な凹凸の大きさを表すパラメータであり、この値の中心線平均粗さに対する比率（Ｒｚ／Ｒａ値）が大きいと局所的に大きなブツによる突起が多く存在し、Ｒｚ／Ｒａが大きいほど、液晶表示装置として適用した場合に、面状欠陥が多いことを見出した。更に、Ｒｚ／Ｒａを３０以下とすることにより、低屈折率層の均一薄層塗布に大きく貢献することを見出した。
【００１８】
防弦性反射防止フィルムの表面粗さＲａは、（１）防眩性や内部散乱性を付与する透光性微粒子の添加量、（２）それらの粒径と防眩性層の厚み、膜厚に対する粒径の割合と差、（３）透光性微粒子の素材種とその表面処理状態や分散性、（４）塗布液の溶剤組成や透光性微粒子との親和性、（５）乾燥条件、（６）ウェット塗布量、（７）電離線硬化樹脂に対する硬化条件などにより制御することができる。
表面粗さＲａを本発明の範囲内で大きくするには、透光性微粒子、中でも防眩性層厚に対する粒径が大きいものを多く含有させること、防眩性層厚に対する透光性微粒子の粒径の割合及び差を大きくすることにより、効果的に達成できる。また、表面粗さＲａを所定の範囲に留めるには、透光性微粒子に表面処理を行うなどして透光性微粒子の分散性を高め、溶剤組成は透明基材にしみ込みにくい（溶解させない）組成にする、塗布層が十分にレベリング（平滑化）できるように乾燥を遅くするなどを方法を適宜用いることができる。
【００１９】
一方、防眩性反射防止フィルムのＲｚ／Ｒａ値を３０以下とするためには、防眩性層を形成するための塗布液の溶剤として、沸点１００℃以上の溶剤を塗布液中の全溶剤の１〜９５％、より好ましくは３〜８０％含むように調整することが好ましく、Ｒｚ／Ｒａ値を２０以下とするには、沸点１００℃以上の溶剤を塗布液中の全溶剤の１０〜７０％とすることにより実現することができる。沸点１００℃以上の溶剤が全くないと、乾燥時にブラッシング面状が発生し、Ｒｚ／Ｒａ値が大きくなりやすく、９５％よりも多くても乾燥温度を高くする必要があり、乾燥ムラが大きくなり反射防止フィルムとしては不適となってしまう。
【００２０】
我々が更に検討を進めた結果、同じ防眩性を与える防眩性反射防止フィルムであっても、このトータルの防眩性を発現するための、ひとつひとつの表面突起形状が異なると、ディスプレイ電源ＯＦＦ時または液晶の黒表示の時に、表面散乱性の違いで、外観状の黒の締まり（逆にいうと、白味）が異なることがわかった。表面突起の突起傾斜角が大きいと、広角域への表面散乱性が強くなるため、黒の締まりが損なわれて白っぽくなり、高級感が失われ、好ましくないことがわかった。特に、黒の締まりは、突起傾斜角度（９５％頻度）とよく相関があることを見出し、該角度が、好ましくは２０度以下、より好ましくは１５度以下、更に好ましくは１３度以下であるときに、黒の締まりが良好であることがわかった。ここで、「突起傾斜角度（９５％頻度）」とは、突起傾斜角度分布の角度の小さい側から９５％頻度の角度のことをいい、具体的には、表面の傾斜角を一定の範囲（１００点）にわたって計測し、その角度を小さい順にならべたときの９５番目の値を言う。
また、防眩性によく相関する、平均の表面突起傾斜角度（突起傾斜角度分布の角度の小さい側から５０％頻度の角度に相当）は、好ましくは１〜５度、より好ましくは１．５〜４．５度、更に好ましくは２〜４度である。
【００２１】
上記のようにして形成された特定のＲａ及びＲｚ／Ｒａ値を有する防眩性層の上に、通常の方法により低屈折率層を塗布することにより、均一薄層の低屈折率層を良好に塗布することができ、面状欠陥を生じることなく、良好な反射率と防眩性を有する防眩性反射防止フィルムを得ることができる。より好ましくは、均一で薄い低屈折率層を得るために、防眩性層の表面エネルギーを２５ｍＮ・ｍ−１〜７０ｍＮ・ｍ−１としたり、低屈折率層の塗布溶剤の５０〜１００質量％を１００℃以下の沸点を有する溶剤とすることが好ましい。防眩性層の表面エネルギーの調整は、フッ素系および／またはシリコーン系の界面活性剤の構造と添加量を調整することにより行うことができる。
【００２２】
このようにして形成された本発明の防眩性反射防止フィルムは、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍでの鏡面平均反射率及び積分反射率がともに２．５％以下であることが好ましく、２．２％以下がより好ましく、１．９％以下がさらに好ましい。鏡面反射率が２．５％を越えると、背景の写り込みが明確となり、表示装置の表面に適用したときにの視認性が低下し、好ましくない。また、積分反射率が２．５％を越えると、コントラストが低下し、表示画面が白化し、表示装置の表示品位が低下し、好ましくない。
【００２３】
防眩性反射防止フイルムの表面のヘイズ値については、表面ヘイズ値が低いほど、画像のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得ることができるため、好ましい。しかしながら、表面ヘイズ値が低すぎると、写り込み及び面ギラ（シンチレーション）と呼ばれるキラキラ光る輝きが発生する。逆に、ヘイズ値が高すぎると白っぽくなり（白化；黒濃度低下）、好ましくない。防眩性層に適度な表面凹凸を設け、外光による写り込みの起こらない防眩性を付与するには透光性バインダーマトリックスと防眩性を付与する透光性微粒子の屈折率の差をゼロ又は０．５０以下とし、表面ヘイズを７〜２５％に制御することが好ましく、１０〜２０％とすることがより好ましい。表面ヘイズ値を制御する方法としては、防眩性層厚みと防眩性に付与する透光性微粒子（防眩性微粒子）の粒径比率を上げる、防眩性微粒子の濃度を上げる、防眩性層の膜厚を薄くする等の方法が挙げられ、これらを適宜選択して制御することができる。
【００２４】
一方、防眩性反射防止フィルムの内部散乱ヘイズ値については、視野角特性を改良するにはバックライトから出射された光が視認側の防眩性層で内部散乱されればされるほど視野角特性が良くなるが、しかし、あまり散乱されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減少したり、散乱が大きすぎて画像鮮明性が劣化する等の問題が生じ、好ましくない。従って、透光性バインダーマトリックスと内部散乱性を付与する透光性微粒子の屈折率の差を０．０５〜０．５０とし、内部散乱へイズを３０〜８０％とすることが好ましく、３５〜７０％とすることが更に好ましく、４０〜６０％とすることが特に好ましい。内部散乱ヘイズを制御する方法としては、透光性バインダーマトリックスと透光性微粒子との屈折率差を上げる、透光性微粒子の濃度を上げる、膜厚を厚くする等の方法があり、これらを適宜選択して内部散乱ヘイズを制御することができる。
【００２５】
内部散乱ヘイズと表面ヘイズが存在する状態は、全ヘイズ値として４０％以上であることにより視野角改良効果が発揮され、好ましい。全ヘイズ値は、４０〜９０％であることがより好ましく、４５〜８０％が更に好ましく、５０〜７０％が特に好ましい。
なお、ヘイズ値（曇価）は、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じ、村上色彩技術研究所製ＨＲ−１００を用いてを測定できる。
【００２６】
［透明支持体］
本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。透明支持体の光透過率は８０％以上が好ましく、８６％以上がより好ましい。透明支持体のヘイズは２．０％以下が好ましく、１．０％以下がより好ましい。透明支持体の屈折率は１．４〜１．７が好ましい。また、厚さは２５〜１０００μｍが好ましい。
【００２７】
透明支持体には各種添加剤を添加することができる。例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤、赤外線吸収剤等の各種添加剤が含有される。これらの添加量は、光透過性や力学特性に影響をあたえない範囲で添加することができ、透明支持体の０．０１〜２５％であることが好ましく、０．１〜２０％であることがより好ましい。
また、滑り性を付与するために、不活性無機化合物又は有機化合物の粒子を透明支持体に添加しても良い。無機化合物としては、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルク、カオリン等が含まれる。また、発明協会公開技報２００１−１７４５号、１９頁（２００１刊）に記載のものも使用できる。
また、透明支持体に表面処理を実施しても良い。表面処理の例には、薬品処理、機械処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、オゾン酸化処理など既存の処理を用いることができ、薬品処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、グロー放電処理が好ましく用いられる。
その他、支持体としてセルロースアセテートを用いる場合、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行に記載の技術を利用することができる。
【００２８】
［防眩性層］
防眩性層は、防眩性や内部散乱性を付与するための透光性微粒子と透光性微粒子を保持する透光性バインダーマトリックスからなる。透光性バインダーマトリックスは後述するバインダー樹脂や重合開始剤、屈折率調整や高強度化のために添加される超微粒子フィラーやその他の添加剤を含む塗布液を塗布・乾燥・硬化させたものである。
防眩性層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、更に好ましくは３〜５μｍである。膜厚が薄すぎると、防眩性反射防止フィルムとしての表面硬度が低下する、好ましい範囲の透光性微粒子を含有できなくなる、といった弊害が生じ、一方、膜厚が厚すぎると、塗液中のバインダー成分の比率が高くなり、液粘度上昇による塗布性不良といった弊害が生じ、好ましくない。防眩性層の厚みの定義は、防眩性層の下層成分（あるいは、下層が無い場合は支持体成分）の最も防眩性層側箇所から、防眩性層の透光性微粒子が無い、最も薄い箇所を基準として、その間の垂直距離とする。防眩性層の厚みは、断面ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で調べることができる。
【００２９】
［透光性微粒子］
防眩性層には、防眩性や内部散乱性付与の目的で、透光性微粒子を含有させる。本発明において、「透光性」とは、光を透過させる性質を有するもの、又は屈折率を有するものと定義される。透光性微粒子としては、無機化合物の粒子および／又は有機高分子（樹脂）の粒子が挙げられる。
透光性微粒子の平均粒径は０．４〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは１．０〜１２μｍ、更に好ましくは１．８〜６．０μｍである。
【００３０】
そのうち、防眩性を付与するための透光性微粒子（防眩性微粒子とも称する）の粒径は、０．８〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは１．６〜１２μｍ、更に好ましくは２．４〜６μｍであり、特に、防眩性層の表面に凸形状を形成させるために、防眩性層の厚みと同程度か、該厚みよりも大きな粒径の粒子が好ましく、防眩性層の厚みの０．８倍〜２．０倍の粒径であることがより好ましく、０．９倍〜１．４倍の粒径であることが更に好ましい。また、防眩性粒子の屈折率は、透光性バインダーマトリックスの屈折率との差がゼロであるか、又は０．０５以下であることが好ましい。
【００３１】
一方、内部散乱性を付与する粒子（散乱粒子とも称する）は、内部散乱を起こすために、粒径は０．４μｍ以上で、屈折率は、透光性バインダーマトリックスの屈折率との差が０．０５〜０．５のものであることが好ましい。屈折率差が０．０５よりも小さいと、十分な散乱を起こさせるために多量の散乱粒子を添加する必要が生じ、好ましくない。
散乱粒子は、防眩性を付与する粒径であってもよく、または防眩性付与に寄与せず、防眩性層内に埋め込まれる粒子であってもよい。防眩性を高めすぎないために、防眩性層の厚みよりも小さな粒径の粒子であることが好ましく、その粒径は０．４〜８．０μｍが好ましく、より好ましくは１．０〜６．０μｍ、特に好ましくは１．８〜４．０μｍである。
【００３２】
透光性微粒子において、２種類以上の粒子径の異なる透光性微粒子を用い、それらの混合を行なうことにより、表示品位に関わる視野角特性と外光の写り込みを各々独自に最適化することができ、透光性微粒子の混合比により細かい設定が可能となり、１種類の場合よりも制御が可能となり、様々な設計が容易とすることができ、好ましい。
【００３３】
透光性微粒子の屈折率としては、透光性微粒子以外の透光性バインダーマトリックスの屈折率との関係で選択すべきであり、先に示した透光性バインダーマトリックスの屈折率と好ましい屈折率差を満たす範囲の中で、１．４０〜１．８０の範囲にあることがより好ましい。また、単分散性が高いほど、拡散特性にばらつきが少なくなり、ヘイズの設計が容易となり好ましい。
透光性微粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子（例えば日本触媒（株）製シーホスタシリーズ　屈折率＝１．４３）、アルミナ粒子（例えば住友化学工業（株）製スミコランダムシリーズ　屈折率＝１．６４）、ＴｉＯ２粒子等の無機化合物の粒子、あるいは　ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、アクリル−スチレン共重合体粒子（屈折率１．５５）、架橋アクリル粒子（例えば綜研化学（株）製ＭＸシリーズ　屈折率＝１．４９）、メラミン粒子（屈折率１．５７）、架橋メラミン粒子、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン粒子（屈折率１．６８）、架橋ベンゾグアナミン粒子（例えば日本触媒（株）製エポスターシリーズ　屈折率＝１．６８）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（例えば綜研化学（株）製ＳＸシリーズ　屈折率＝１．６１）などの樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子が好ましい。透光性微粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できるが、表面突起形状が揃う真球状粒子がより好ましい。
また、異なる２種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。素材種が２種類以上でも、粒径が２種類以上でも、その制限は無い。
透光性微粒子の好ましい添加量は防眩性層中に、１００〜１０００ｍｇ／ｍ２であり、より好ましくは３００〜８００ｍｇ／ｍ２である。
【００３４】
［透光性バインダーマトリックス］
透光性バインダーマトリックスは後述するバインダー樹脂や重合開始剤、屈折率調整や高強度化のために添加される超微粒子フィラーやその他の添加剤を含む塗布液を塗布・乾燥・硬化させたものであり、透光性バインダーマトリックスの屈折率は防眩性や内部散乱性を付与するための透光性微粒子を含まない防眩性層の屈折率であり、防眩性や内部散乱性を付与するための透光性微粒子を除いた層を作成して評価することができる。
【００３５】
透光性バインダーマトリックスの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．９０であり、更に好ましくは１．６４〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、主たる構成素材であるバインダー樹脂及び無機超微粒子フィラー等の種類及び量割合を適宜選択すれることにより達成される。屈折率が小さすぎると反射防止性が低下する。さらに、これが大きすぎると、本発明の防眩性フイルムの反射光の色味が強くなり好ましくない。
【００３６】
透光性バインダーマトリックスと透光性微粒子の屈折率の差は、０．００〜０．５０であることが好ましい。透光性微粒子に内部散乱性を持たせない場合には、光散乱効果をもたせないように屈折率の差は、０．００〜０．０５であることが好ましい。透光性微粒子に内部散乱性をもたせて視野角特性を改良する場合の屈折率の差は、０．０５〜０．５０であることが好ましく、０．０５〜０．２５がより好ましく、０．０５〜０．２０が最も好ましい。屈折率差が０．５０よりも大きい場合は、光散乱性が高すぎて、フイルム全体が白化し、好ましくない。
【００３７】
透光性バインダーマトリックスと透光性微粒子の屈折率の大小は、特に制限はないが、文字ボケをより少なくするためには、上記記載の屈折率差の範囲内で、防弦性層の屈折率を低くする方が好ましいし、防眩性反射防止フィルムとして、より反射率を低くするためには、防眩性層の屈折率を高くする方が好ましく、設計コンセプトによって適宜選択される。
【００３８】
［バインダー樹脂］
防眩性層に用いるバインダー樹脂は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダー樹脂は架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダー樹脂を得るためには、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
また、屈折率を高屈折率化するように調整するためには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことも好ましい。
【００３９】
上記のエチレン性不飽和基を有するモノマーは、重合性基を２〜１０個含有することが好ましく、２〜８個の多官能モノマーが好ましい。具体的には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。これらのなかでも、３官能〜８官能のアクリレートあるいはメタクリレートが、膜硬度、即ち耐傷性の観点で好ましい。
【００４０】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４′−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００４１】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤及び／又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射及び／又は加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤及び／又は熱ラジカル開始剤、透光性微粒子および無機超微粒子フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後、電離放射線照射及び／又は熱による重合反応により硬化して防眩性層を形成することができる。
【００４２】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が挙げられる。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
上記のラジカル重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【００４３】
光の作用により酸を発生する化合物としては、例えば有機エレクトロニクス材料研究会（ぶんしん出版）編「イメージング用有機材料」ｐ１８７〜１９８、特開平１０−２８２６４４号等に種々の例が記載されておりこれら公知の化合物を使用することができる。具体的には、ＲＳＯ３−（Ｒはアルキル基、アリール基を表す）、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−等をカウンターイオンとするジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換したオキサジアゾール誘導体やＳ−トリアジン誘導体等の有機ハロゲン化物、有機酸のｏ−ニトロベンジルエステル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン化合物等が挙げられ、好ましくは、オニウム塩類、特に好ましくはスルホニウム塩、ヨードニウム塩類である。光の作用で塩基を発生する化合物も公知のものを使用することができ、具体的にはニトロベンジルカルバメート類、ジニトロベンジルカルバメート類等を挙げることができる。
【００４４】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、エポキシ基、オキセタン基から選ばれるカチオン重合性基を２個以上含有する多官能化合物のカチオン開環重合体が好ましい。多官能化合物の開環重合は光酸発生剤及び／又は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射及び／又は加熱により行うことができる。
特に、カチオン重合性基含有化合物として、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する脂環式ポリエポキシ化合物を含有し且つ該脂環式ポリエポキシ化合物の含有量がエポキシ化合物の全質量に基づいて３０質量％以上、より好ましくは５０質量％以上であるエポキシ化合物（エポキシ化合物の混合物）を用いると、カチオン重合速度、厚膜硬化性、解像度、紫外線透過性などが一層良好になり、しかも樹脂組成物の粘度が低くなって製膜が円滑に行われるようになる。具体例として、例えば特開平１１−２４２１０１号の明細書中の段落番号［００８４］〜［００８６］に記載の化合物等が挙げられる。
【００４５】
オキセタニル基を含有する化合物としては、分子中に含有されるオキセタニル基の数は１〜１０、好ましくは１〜４である。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−２３９３０９号明細書中の段落番号［００２４］〜［００２５］に記載の化合物を挙げることができる。　従って、エポキシ基、オキセタン基から選ばれるカチオン重合性基を２個以上含有する多官能化合物、光酸発生剤及び／又は熱酸発生剤、透光性微粒子および無機超微粒子フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後、電離放射線の照射及び／又は熱による重合反応により硬化して防眩性層を形成することができる。
【００４６】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わり、またはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダー樹脂に導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、ホルミル基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダー樹脂は塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００４７】
［超微粒子フィラー］
透光性バインダーマトリックスの屈折率を調整するため、上記の透光性微粒子とは別に平均粒径が０．２μｍ以下の珪素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンなどより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物、あるいは有機高分子から成る超微粒子フィラーを添加することができる。バインダー樹脂との屈折率差の大きい無機超微粒子フィラーが好ましい。その平均粒径は好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である。
超微粒子フィラー形状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく用いられるが、球状が分散性がより良く好ましい。この超微粒子フィラーは、その充填量によりカール防止、表面硬度向上にも寄与できる。防眩性層が超微粒子フィラーを含有する場合、透光性バインダーマトリックスの屈折率は、主に防眩性層を構成するバインダー樹脂と無機超微粒子フィラー各々の屈折率とこれらの混合比率で決まる。
【００４８】
無機超微粒子フィラーの具体例としては、ＴｉＯ２（屈折率；２．３〜２．７）、ＺｒＯ２（屈折率；２．０５）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率；１．６３）、Ｙ２Ｏ３（屈折率；１．８７）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率；１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＳｉＯ２等が挙げられる。ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、およびＺｒＯ２が無機超微粒子フィラーの中で、取り扱い性の点で特に好ましい。無機超微粒子フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの超微粒子フィラーの添加量は、防眩性層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜７０％であり、特に好ましくは３０〜５０％である。尚、このような超微粒子フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダー樹脂に該超微粒子フィラーが分散した複合体は、光学的に均一な物質として振舞い、超微粒子フィラーは後述する透光性微粒子とはその機能が異なる。
【００４９】
［透光性バインダーマトリックスの他の添加剤］
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶解、塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応により硬化することができる。
本発明の防眩性層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性をより確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩性層形成用の塗布組成物中に含有することができる。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の防眩性反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ−４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７６ＰＦ等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系の界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
【００５０】
しかしながら、上記のような界面活性剤を使用することにより、防眩性層表面にＦ原子を含有する官能基、および／またはＳｉ原子を有する官能基が偏析することにより、防眩性層の表面エネルギーが低下し、上記防眩性層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が起こり得る。これは低屈折率層を形成するために用いられる塗布組成物の濡れ性が悪化するために低屈折率層の膜厚の目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系および／またはシリコーン系の界面活性剤の構造と添加量を調整することにより、防眩性層の表面エネルギーを、好ましくは２５ｍＮ・ｍ−１〜７０ｍＮ・ｍ−１に、より好ましくは３５ｍＮ・ｍ−１〜７０ｍＮ・ｍ−１に制御することが効果的である。さらに後述するように低屈折率層の塗布溶剤を５０〜１００質量％が１００℃以下の沸点を有するものとすることが効果的である。
【００５１】
［防眩性層塗布液溶剤］
防眩性層を形成するための塗布液の溶剤は、防眩性の発現およびＲｚ／Ｒａを希望の範囲とするためや下層（透明支持体）と防眩性層との間の密着性の両立を図るために、下層（透明支持体）を溶解する少なくとも一種類以上の溶剤と、下層（透明支持体）を溶解しない少なくとも一種類以上の溶剤から構成することが好ましい。例えば透明支持体として、トリアセチルセルロース支持体を用いる場合、トリアセチルセルロースを溶解しない溶剤のうちの少なくとも一種類が、トリアセチルセルロースを溶解する溶剤うちの少なくとも一種類よりも高沸点であることが好ましい。さらに好ましくは、トリアセチルセルロース支持体を溶解しない溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、トリアセチルセルロース支持体を溶解する溶剤のうち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が３０度以上であることであり、最も好ましくは５０度以上であることである。
【００５２】
トリアセチルセルロースを溶解する溶剤として、炭素子数が３〜１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等、炭素数が３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等、炭素数が３〜１２のエステル類：具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−ブチロラクトン等、２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、およびアセト酢酸エチル等が挙げられる。
これらは１種単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５３】
トリアセチルセルロースを溶解しない溶剤として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノンが挙げられる。
これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５４】
トリアセチルセルロースを溶解する溶剤の総量（Ａ）とトリアセチルセルロースを溶解しない溶剤の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０であり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。
【００５５】
［防眩性層の作成方法］
本発明の防眩性反射防止フィルムは以下の方法で形成することができ、防眩性層もその一つであるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、防眩性層を形成するための塗布液を、リバースグラビア法（グラビアコート法、マイクログラビアコート法などに分類される）、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、エクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法が特に好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、防眩性層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより防眩性層が形成される。
【００５６】
本発明の防眩性反射防止フィルムの各層を塗設する際に用いるマイクログラビアコート法とは、直径が約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。
【００５７】
［低屈折率層］
本発明の低屈折率層について以下に説明する。
本発明の防眩性反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は１．３８〜１．４９の範囲が好ましく、１．３８〜１．４４がより好ましい。
さらに、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化達成のために好ましい。
【００５８】
ｍ・λ／４×０．７＜ｎ１ｄ１＜ｍ・λ／４×１．３　・数式（Ｉ）
【００５９】
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００６０】
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、動摩擦係数０．０３〜０．１５、水に対する接触角９０〜１２０度の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマー、および膜強度向上のための無機超微粒子フィラー、が好ましく用いられる。
【００６１】
低屈折率層に用いられる架橋性の含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素ポリマーが挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号に知られている。
【００６２】
また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００６３】
低屈折率層に用いられる超微粒子フィラー（Ｌ）の平均粒径は０．００１〜０．２μｍであることが好ましく、０．００１〜０．０５μｍであることがより好ましい。フィラーの粒径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。
また、超微粒子フィラー（Ｌ）は低屈折率のものが好ましく用いられ、有機超微粒子フィラー（Ｌ）であっても無機超微粒子フィラー（Ｌ）であってもかまわないが、膜強度向上の点から無機超微粒子フィラー（Ｌ）が好ましい。
超微粒子フィラー（Ｌ）の添加量は、低屈折率層の全質量の５〜７０質量％であることが好ましく、１０〜５０質量％であると更に好ましく、１５〜３０質量％が特に好ましい。
【００６４】
無機超微粒子フィラー（Ｌ）は、非晶質であることが好ましい。無機超微粒子フィラー（Ｌ）は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ましい。金属原子としては、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特に好ましい無機化合物として、二酸化ケイ素、フッ化マグネシウムが挙げられる。
【００６５】
該無機超微粒子フィラー（Ｌ）は表面処理を施して用いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、後述する一般式（１）の化合物も含めたオルガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。該無機超微粒子フィラーがシリカの場合はシランカップリング処理が特に有効である。
一般式（１）の化合物は、低屈折率層の無機超微粒子フィラー（Ｌ）の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いても良いし、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させても良い。
【００６６】
低屈折率層を形成するために用いる塗布液の溶媒としては、有機溶媒が好ましく、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル類（例えば、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等）、炭化水素類（例えば、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、石油エーテル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、エーテル類（例えば、ジイソプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルクロロホルム、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエチレン等）、シアノ化合物類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、γ−ブチロラクトン等を挙げることができる。これらの溶媒は、単独で用いても、又は２種類以上の溶媒を併用することもできる。これらのうちケトン類、エステル類が好ましい。
【００６７】
溶媒を混合して用いる場合は、沸点が１００℃以下の溶媒が５０〜１００％であることが好ましく、より好ましくは８０〜１００％、更に好ましくは９０〜１００％である。沸点が１００℃以下の溶媒が５０％以下であると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も悪化し、好ましくない。本発明では、沸点が１００℃以下の溶媒を多く含む塗布液を用いることにより、低屈折率層の薄層均一塗布をより有効に達成することができる。
【００６８】
本発明に係る低屈折率層成分を前述の組成の溶媒で希釈することにより本発明の低屈折率層用塗布液が調製される。塗布液濃度は、塗布液の粘度、低屈折率層素材の比重などを考慮して適宜調節される事が好ましいが、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％である。
【００６９】
低屈折率層の形成は低屈折率層塗布液を防眩性層上に塗布し、光照射あるいは加熱し低屈折率層が形成される。このようにして、表面凹凸を有する防眩性層上に表面凹凸に沿って均一な厚みの低屈折率層を有する本発明の防眩性反射防止フィルムが得ることができる。
【００７０】
［耐擦傷性付与］
本発明の防眩性反射防止フィルムの防眩性層、低屈折率層のうちの少なくとも１層の塗布液に、下記一般式（１）の化合物を含有させて、塗布、乾燥・硬化させることが、耐擦傷性付与の点から好ましい。
【００７１】
一般式（１）
（Ｒ１）ｍ−Ｓｉ（ＯＲ２）ｎ
【００７２】
一般式（１）中、Ｒ１は置換又は無置換の、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ２は置換又は無置換の、アルキル基又はアシル基を表す。ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ただし、ｍとｎの合計は４である。
【００７３】
一般式（１）で表される化合物について説明する。
一般式（１）においてＲ１は置換又は無置換の、アルキル基又はアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【００７４】
置換基としては特に制限はないが、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が好ましい。
これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていても良い。
【００７５】
Ｒ２は置換または無置換の、アルキル基またはアシル基を表す。アルキル基、アシル基及び置換基の詳細については、上記Ｒ１で述べたと同様である。Ｒ２は好ましくは無置換のアルキル基または無置換のアシル基であり、特に好ましくは無置換のアルキル基である。
ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。Ｒ１もしくはＲ２が複数存在するとき、複数のＲ１またはＲ２はそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｍとして好ましくは０、１、２であり、特に好ましくは１である。
【００７６】
また、一般式（１）の化合物の他、カップリング反応性シリル基含有のポリマー含有させることも好ましい。これらの化合物の具体例として、例えば、特開平１１−５２１０３号明細書中の段落番号［００１０］〜［００４７］、同１１−１０６７０４号明細書中の段落番号［００１３］〜［００４３］、特開２０００−２７５４０３号明細書中の段落番号［００１５］〜［００２６］等に記載の化合物が挙げられる。
【００７７】
一般式（１）の化合物の適宜な添加量は、該化合物を含有する層の全固形分の１〜３００質量％が好ましく、３〜２００質量％がより好ましく、５〜１００質量％が最も好ましい。
【００７８】
［中屈折率層及び高屈折率層］
反射防止性能をより高くするために、低反射率層の下層に特開２０００−４７００４号やに記載の中屈折率層及び高屈折率層を設けることもできる。これらの中屈折率層や高屈折率層も、低屈折率層と同様に、薄層均一塗布を行うことができ、これにより、防眩性層のＲａ値及びＲｚ／Ｒａ値を実質的に変えることなく、ブツ状の欠陥が少ない良好な防眩性反射防止フィルムを提供することができる。
【００７９】
上記低屈折率層より高い屈折率を有する層を形成するための有機材料としては、熱可塑性皮膜（例、ポリスチレン、ポリスチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素環、脂環式環状基を有するポリマー、またはフッ素以外のハロゲン基を有するポリマー）；熱低屈折率層形成組成物（例、メラミン皮膜、フェノール皮膜、またはエポキシ皮膜などを硬化剤とする皮膜組成物）；ウレタン形成性組成物（例、脂環式または芳香族イソシアネートおよびポリオールの組み合わせ）；およびラジカル重合性組成物（上記の化合物（ポリマー等）に二重結合を導入することにより、ラジカル硬化を可能にした変性皮膜またはプレポリマーを含む組成物）などを挙げることができる。高い皮膜形成性を有する材料が好ましい。上記より高い屈折率を有する層は、有機材料中に分散した無機系微粒子も使用することができる。上記に使用される有機材料としては、一般に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機材料単独で用いられる場合よりも低屈折率のものも用いることができる。そのような材料として、上記に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系共重合体、ポリエステル、アルキド皮膜、繊維素系重合体、ウレタン皮膜およびこれらを硬化せしめる各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組成物など、透明性があり無機系微粒子を安定に分散せしめる各種の有機材料を挙げることができる。
【００８０】
さらに有機置換されたケイ素系化合物をこれに含めることができる。これらのケイ素系化合物は下記一般式で表される化合物、あるいはその加水分解生成物である。
：ＲａｍＲｂｎ　ＳｉＺ（４−ｍ−ｎ）（ここでＲａ及びＲｂは、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミノ、メルカプト、メタクリロイルまたはシアノで置換された炭化水素基を表し、Ｚは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン原子〜アシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な基を表し、ｍ＋ｎが１または２である条件下で、ｍ及びｎはそれぞれ０、１または２である。）
【００８１】
これらに分散される無機系微粒子の好ましい無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなどの金属元素の酸化物を挙げることができる。これらの化合物は、微粒子状で、即ち粉末または水および／またはその他の溶媒中へのコロイド状分散体として、市販されている。これらをさらに上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散して使用する。
【００８２】
上記より高い屈折率を有する層を形成する材料として、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機系材料を挙げることができる。例えば、有機酸の塩、各種元素のアルコキシド（例えば、チタンテトラエトキシド、チタンテトラプロポキシド、チタンテトラブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリプロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、ジルコニウムテトラブトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシド等）、β−ジケトン類又はβ−ケトエステル類の金属キレート化合物（例えば、特開２０００−２７５４０３号公報の段落番号［００７１］〜［００８３］記載の化合物等）、炭素ジルコニルアンモニウム又はジルコニウムを主成分とする無機ポリマー等を挙げることができる。上記の述べた他に、屈折率が比較的低いが上記の化合物と併用できるものとして、特に各種のアルキルシリケート類又はその加水分解物、微粒子状シリカ、特にコロイド状に分散したシリカゲル等を使用することができる。
【００８３】
高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。屈折率は、アッベ屈折率計を用いる測定や、層表面からの光の反射率からの見積もりにより求めることができる。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．５μｍであることが最も好ましい。高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な高屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００８４】
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
高屈折率層に無機微粒子とポリマーを用い、中屈折率層は、高屈折率層よりも屈折率を低めに調節して形成することが特に好ましい。中屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましい。
【００８５】
［その他の機能性層］
反射防止膜には、さらに、ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護層を設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設ける。ハードコート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してよい。アクリル系ポリマーは、多官能アクリレートモノマー（例、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート）の重合反応により合成することが好ましい。ウレタン系ポリマーの例には、メラミンポリウレタンが含まれる。シリコン系ポリマーとしては、シラン化合物（例、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン）と反応性基（例、エポキシ、メタクリル）を有するシランカップリング剤との共加水分解物が好ましく用いられる。二種類以上のポリマーを組み合わせて用いてもよい。シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。ハードコート層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上である好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。透明支持体の上には、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【００８６】
［平滑なハードコート層］
本発明の防眩性反射防止フィルムでは、フィルム強度向上の目的で防眩性を持たない、いわゆる平滑なハードコート層も好ましく用いられ、透明支持体と防眩性層の間に塗設される。防眩性層塗布の前に同様な方法で平滑なハードコート層塗布および硬化を行えばよい。
平滑なハードコート層に用いる素材は、防眩性を付与するための透光性微粒子を用いないこと以外は、防眩性層において挙げたものと同様であり、樹脂バインダー、あるいは、樹脂バインダーと無機超微粒子フィラーの混合体から形成される。
本発明の平滑なハードコート層では、無機超微粒子フィラーとして、強度および汎用性の点でシリカ、アルミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また該無機超微粒子フィラーは表面をシランカップリング処理されることが好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
【００８７】
これらの無機超微粒子フィラーの添加量は、ハードコート層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜７０％であり、特に好ましくは３０〜５０％である。平滑なハードコート層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、更に好ましくは３〜５μｍである。
【００８８】
本発明の防眩性反射防止フイルムは、各種液晶表示装置（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような各種画像表示装置用の表示素子として用いることができる。
その具体例として、例えば液晶表示装置に用いられる偏光板に適用することができる。すなわち、偏光板の偏光子（偏光膜）の保護フイルムとして用いることが、コストを下げること、偏光板を薄く軽くすること、資源を有効に使うことなどの点で好ましい。
また、本発明の偏光板の好ましい態様として偏光子の一方の保護フイルム上に液晶性化合物からなる光学異方性層を有し、他方の保護フイルムとして本発明の防眩性反射防止フイルムを用いたものを挙げることができ、これにより、液晶表示装置の液晶セルを光学的に補償することができる。
【００８９】
さらに詳述すると、本発明の防眩性反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　　Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ　　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ　Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ　　Ｌｉｑｕｉｄ　　Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ　　Ｂｅｎｄ）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ　Ａｌｉｇｎｅｄ　　Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ　　Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　Ａｌｉｇｎｅｄ　　Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを、偏光膜の裏表２枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、１枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。
【００９０】
また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することもできる。
【００９１】
また、別の具体例として、ＰＤＰやＣＲＴなどの画像表示装置には、本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に貼り付けて用いることができる。
【００９２】
［偏光板］
本発明の防眩性反射防止フィルム付きの偏光板は、偏光層の２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に上記防眩性反射防止フィルムを用いてなる。本発明の防眩性反射防止フィルムを最表面に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、高精細適性のある、防汚性、耐擦傷性等も優れた偏光板とすることができる。また、本発明の偏光板において防眩性反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、製造コストを低減できる他、軽量化、省資源化することができる。
【００９３】
本発明の防眩性反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設けるなどしてディスプレイの最表面に配置することが好ましい。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の防眩性反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることができる。
保護膜であるフイルム（例えば、セルロースアセテートフィルム）の遅相軸と偏光子の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【００９４】
本発明の防眩性反射防止フィルム付きの偏光板は、透明支持体上に防眩性反射防止層を形成した後、表面処理を実施し、偏光膜と貼りあわせることにより得られる。表面処理は、公知の手法を用いることができる。一例としてアルカリ鹸化処理を挙げることができる。アルカリ鹸化処理は、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する方法やアルカリ液を該防眩性反射防止フィルムの防眩性反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する方法により行うことができる。
【００９５】
［偏光膜］
偏光膜は、いかなる偏光膜をも適用することができ、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が挙げられる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。また、偏光膜は従来の製法で作製したものでも、斜め延伸して作成したものでも用いることができる。
【００９６】
［偏光板を構成するその他のフイルム］
本発明の偏光板には、偏光膜の両側に配置することができる保護膜の一つとして防眩性反射防止フイルムを用いることができることを述べてきたが、他方の保護膜として透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィルムを用いることができる。
【００９７】
［液晶性化合物］
本発明に用いられる液晶化合物は、棒状液晶でも、ディスコティック液晶でも良く、またそれらが高分子液晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものでも用いることができる。
棒状液晶としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶として用いることができる。言い換えると、棒状液晶は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章および特開２０００−３０４９３２号公報に記載がある。
【００９８】
本発明の液晶性化合物として最も好ましいのは、ディスコティック液晶である。
本発明のディスコティック液晶の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻，１４１頁（１９８５年）、ｈｙｓｉｃｓ　ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻，８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻，７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻，２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック液晶は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティツク液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。上記ディスコティック液晶の好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に記載されている。
【００９９】
［光学異方性層］
本発明の光学異方性層は、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であって、ディスコティック構造単位の面の透明支持体面に対する角度が、光学異方層の深さ方向に変化していることが好ましい。
【０１００】
上記ディスコティック構造単位の面の傾斜角度は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の底面からの距離の増加と共に増加または減少している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。更に、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【０１０１】
上記光学異方層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００度が好ましく、特に７０〜１７０度が好ましい。
【０１０２】
例えば、支持体側のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択することにより調整することができる。更に、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整することができる。
【０１０３】
上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に１〜５０質量％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて使用される。更に、好ましい重合性モノマーの例としては、多官能アクリレートが挙げられる。官能基の数は３官能以上が好ましく、４官能以上が更に好ましい。最も好ましいのは６官能モノマーである。６官能モノマーの好ましい例としては、ジペンタエリストリトールヘキサアクリレートが挙げられる。また、これら官能基数の異なる多官能モノマーを混合して使用することも可能である。
【０１０４】
上記ポリマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマー例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％（好ましくは０．１〜８質量％、特に０．１〜５質量％）の量にて使用される。
本発明の光学補償シートは、セルロースアセテートフイルム、その上に設けられた配向膜及び配向膜上に形成されたディスコティック液晶からなる光学補償シートであって、配向膜が架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜である。
【０１０５】
【実施例】
以下に、本発明を実施例により例証するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０６】
実施例１
＜防眩性層用塗布液の調製＞
防眩性層塗布液（ＢＧ−１）を下記処方で仕込み、攪拌し調製した。
【０１０７】
｛防眩性層塗布液（ＢＧ−１）の処方｝
デソライトＺ７５２６（ＪＳＲ（株）製、屈折率１．５１、シリカ超微粒子分散物含有ハードコート液（透光性樹脂））　　　　　　　　　　１００質量部
ＳＸ１３０Ｈ　（綜研化学製、粒径１．３μｍ、屈折率１．６１、架橋ポリスチレンビーズ（透光性微粒子））　　　　　　　　　　　　　　　２５質量部
ＳＸ３５０Ｈ　（綜研化学製、粒径３．５μｍ、屈折率１．６１、架橋ポリスチレンビーズ（透光性微粒子））　　　　　　　　　　　　　　　　６質量部
ＫＢＭ−５１０３（信越化学（株）製、屈折率１．４２、γ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３２質量部
メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２８質量部
【０１０８】
＜防眩性層の塗設、光拡散フイルムの作製＞
トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記防眩性層塗布液（ＢＧ−１）を１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズの塗布量が１．１ｇ／ｍ２になるように塗工、溶剤乾燥後、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フイルム（Ａ−０１）を作製した。このフイルムの防眩性層乾燥膜厚は３．２μｍであった。透光性バインダーマトリックスの屈折率は１．５１であった。
【０１０９】
＜低屈折率層用塗布液の調製＞
下記処方で原料を仕込み、攪拌後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液（ＴＫ−１）を調製した。
【０１１０】
｛低屈折率層用塗布液（ＴＫ−１）の処方｝
ＪＮ−７２２８（ＪＳＲ製、屈折率１．４２、熱架橋性含フッ素ポリマー）　　１００質量部
ＭＥＫ−ＳＴ（日産化学（株）製、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０ｗｔ％、ＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物）　　　　　　　９質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５６質量部
ＫＢＭ−５１０３（信越化学（株）製、屈折率１．４２、γ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）　　　　　　　　　　　　　　　　　１７質量部
【０１１１】
光拡散フイルム（Ａ−０１）の防眩性層上に、上記低屈折率層用塗布液（ＴＫ−１）をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９８μｍの低屈折率層を形成し、防眩性反射防止フイルム（Ａ−０１）を作製した。
【０１１２】
架橋ポリスチレンビーズの粒径、塗布量を変更し、防眩性層の乾燥膜厚を４．２μｍとなるよう変更し、表２に示す表面凹凸となるように、光拡散フイルム（Ａ−０２）〜（Ａ−０４）を作製し、さらに防眩性反射防止フイルム（Ａ−０２）〜（Ａ−０４）を作製した。塗布量も表１に示した。
【０１１３】
１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズを３μｍシリカビーズ（屈折率１．４４）に変更し、３．５μｍ架橋ポリスチレンビーズをの粒径を変更し、防眩性層乾燥膜厚を４．２μｍとなるよう変更し、表１に示す表面凹凸となるように光拡散フイルムＡ−０５〜Ａ−０６を作製し、さらに防眩性反射防止フイルムＡ−０５〜Ａ−０６を作製した。塗布量は表１に示した。
【０１１４】
１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズを添加せず、３．５μｍ架橋ポリスチレンビーズをＰＭＭＡ粒子に変更し、防眩性層乾燥膜厚を４．２μｍとなるよう変更し、表１に示す表面凹凸となるように光拡散フイルムＡ−０７〜Ａ−０８を作製し、さらに防眩性反射防止フイルムＡ−０７〜Ａ−０８を作製した。塗布量は表１に示した。
【０１１５】
【表１】
2004125958.tif 000003
【０１１６】
＜防眩性反射防止フイルムの評価＞
得られた防眩性反射防止フイルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表２に示した。
【０１１７】
（１）表面粗さ　（Ｒａ、Ｒｚ）
表面粗さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメント（株）製）にてＲａ、Ｒｚを測定し、Ｒｚ／Ｒａを計算した。
【０１１８】
（２）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
（３）積分反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＩＬＶ−４７１を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出した。
【０１１９】
（４）ヘイズ値
得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ　１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。内部ヘイズは、防眩性層までを形成したフィルムに、該防眩性層に含まれるバインダ成分のみをオーバーコートして、表面粗さＲａが０．０１未満になったものについて測定されたヘイズ値である。表面ヘイズは、低屈折率層までを形成したフィルムのヘイズ値から、前記内部ヘイズ値を引いて算出した。
【０１２０】
（５）ブツ状故障
各フイルムの塗布層を設けた面の反対面（支持体面）を黒色インキで黒塗りし、塗布面側を上にして目視、光学顕微鏡（倍率：５０倍）による面状検査を行い、１平方メートルあたりの目視可能なぶつ状故障の内の樹脂粒子起因のもの（光学顕微鏡により確認）の数をカウントした。
【０１２１】
【表２】
2004125958.tif 000004
【０１２２】
＜視認側偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
作製した防眩性反射防止フイルム（Ａ−０１）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、防眩性反射防止フイルム（Ａ−０１）の透明支持体（トリアセチルセルロース）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、下記の光学補償フイルム（ＫＨ−０１）をセルロースアセテートフイルムが偏光膜側になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と光学補償フイルム（ＫＨ−０１）の遅相軸とは平行になるように配置した。このようにして防眩性反射防止性偏光板（ＢＨＨＡ−０１）を作製した。
【０１２３】
＜光学補償フィルム（ＫＨ−０１）の作製＞
（セルロースアセテートドープ液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテートドープ溶液（ＣＡ）を調製した。
【０１２４】
｛セルロースアセテート溶液（ＣＡ）の組成｝
酢化度６０．９％のセルロースアセテート　　　　　　　　１００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）　　　　　　　　　　　　８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）　　　　　　　　４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　３００質量部
メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　　５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
【０１２５】
（レターデーション上昇剤溶液の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液（ＲＪ）を調製した。
【０１２６】
｛レターデーション上昇剤溶液（ＲＪ）の処方｝
下記のレターデーション上昇剤（スミソルブＴＭ１６５−Ｆ、住友化学製）　２５質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　　８０質量部
メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
【０１２７】
【化１】
2004125958.tif 000005
【０１２８】
（セルロースアセテートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入、攪拌して、ドープ（ＣＡＤ）を調製した。
【０１２９】
｛セルロースアセテートドープ（ＣＡＤ）処方｝
セルロースアセテート溶液（ＣＡ）　　　　　　　　　　　４８７質量部
レターデーション上昇剤溶液（ＲＪ）　　　　　　　　　　　１５質量部
【０１３０】
レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、３．０質量部であった。
【０１３１】
（セルロースアセテートフイルムの作製）
得られたドープ（ＣＡＤ）を、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（厚さ：６０μｍ）を作製した。
作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＡＦ−０１）について、光学特性を測定した結果、Ｒｅレターデーション値は５ｎｍ、Ｒｔｈレターデーション値は８０ｎｍであった。
尚、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を測定した。
【０１３２】
作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＡＦ−０１）を１．５Ｎの水酸化カリウム／（水／ＩＰＡ／ＰＧ＝１４／８６／１５ｖｏｌ％）を５ｃｃ／ｍ２塗布し、約１０秒間６０℃に保持した後、フイルム表面に残った水酸化カリウムを水洗し、乾燥した。このセルロースアセテートフイルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
このセルロースアセテートフイルム上に、下記の組成の配向膜塗布液（ＨＭ）を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、セルロースアセテートフイルムの長手方向と平行な方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０１３３】
（配向膜塗布液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、配向膜塗布液（ＨＭ）を調製した。
【０１３４】
｛配向膜塗布液（ＨＭ）の処方｝
下記の変性ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　　　　１０質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３７１質量部
メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）　　　　　　　　　　　　　　０．５質量部
【０１３５】
【化２】
2004125958.tif 000006
【０１３６】
（光学異方性層の形成）
ＳＵＳ製のタンク中に下記処方の化合物を投入溶解して光学異方性層塗布液を得た。
【０１３７】
｛光学異方性層塗布液処方｝
下記ディスコティック液晶性分子　　　　　　　　　　　　４２００質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製））　　　　　　　　４００質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）　　　９２質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）　　　　　２３質量部
光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）１４０質量部
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）　　　　４５質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１０１００質量部
【０１３８】
【化３】
2004125958.tif 000007
【０１３９】
上記で形成された配向膜上に、上記光学異方性層塗布液を＃３．６のワイヤーバーで塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、円盤状化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償フイルム（ＫＨ−０１）を作製した。
波長５５０ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４３ｎｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で４２゜であった。
【０１４０】
防眩性反射防止性偏光板（ＢＨＨＡ−０１）を作製したのと同様に、防眩性反射防止フイルム（Ａ−０２）〜（Ａ−０８）を用いて防眩性反射防止性偏光板（ＢＨＨＡ−０２）〜（ＢＨＨＡ−０８）を作製した。
【０１４１】
＜バックライト側偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。市販のトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム製、フジタックＴＤ８０）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、光学補償フイルム（ＫＨ−０１）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテートフイルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにしてバックライト側偏光板を作製した。
【０１４２】
＜液晶表示装置の作製＞
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＢＨＨＡ−０１）〜（ＢＨＨＡ−０８）を、それぞれ光学補償フイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバックライト側には、光学補償フイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介してバックライト側偏光板を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
【０１４３】
＜液晶表示装置の評価＞
作製した液晶表示装置について、以下の項目の評価を行った。結果を表３に示した。
【０１４４】
（６）視野角
測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
視野角はコントラスト比が１０以上で階調反転のない範囲を求めた。黒側の階調反転はＬ１とＬ２との間の反転で判定した。
【０１４５】
（７）防眩性評価
ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない　　　　　　　　：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる　　　　　　　　：○
蛍光灯がほとんどぼけない　　　　　　　　　　：×
【０１４６】
【表３】
2004125958.tif 000008
【０１４７】
表１〜表３に示された結果から以下のことが分かった。
本発明の防眩性反射防止フイルムは、ブツ状故障が極めて少なく、その防眩性反射防止フイルムを用いた偏光板を使用した表示装置の視野特性、外光の写りこみにくさ（防眩性）に非常に優れていることが確認できた。一方、比較例１０１の防眩性反射防止フイルムはブツ状故障はないものの白粉汚れが発生しており、防眩性反射防止フイルムとして使用することは不適であることが分かった。また、比較例１１１に示したその防眩性反射防止フイルムを用いた偏光板を使用した表示装置の視野特性、外光の写りこみにくさ（防眩性）が本発明よりも劣っていることが確認された。
【０１４８】
実施例２
＜防眩性層用塗布液の調製＞
防眩性層塗布液（ＢＧ−２）を、下記処方で仕込み、攪拌し調製した。
【０１４９】
｛防眩性層塗布液（ＢＧ−２）処方｝
デソライトＫＺ−７１１４Ａ、（ＪＳＲ（株）製、酸化ジルコニウム分散物含　有ハードコート塗布液（透光性樹脂））　　　　　　　　１００質量部
ＤＰＨＡ、（日本化薬（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　（透光性樹脂））　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５７質量部
ＭＸ１５０（綜研化学製、粒径１．５μｍ、屈折率１．４９、ポリメチルメタクリレート系ビーズ（透光性微粒子））　　　　　　　　　　１７質量部
ＭＸ３００（綜研化学製、粒径３．０μｍ、屈折率１．４９、ポリメチルメタクリレート系ビーズ（透光性微粒子））　　　　　　　　　　　７質量部
ＫＢＭ−５１０３（信越化学（株）製、屈折率１．４２、γ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６質量部
メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１４６質量部
【０１５０】
＜防眩性層の塗設、光拡散フイルムの作製＞
トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ２になるように上記防眩性塗布液（ＢＧ−２）を塗工、溶剤乾燥後、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フイルム（Ｂ−０１）を作製した。このフイルムの防眩性層の乾燥膜厚は３．０μｍであった。透光性微粒子を含まない液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０１５１】
光拡散フイルム（Ｂ−０１）の防眩性層上に、上記低屈折率層用塗布液（ＴＫ−１）をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９８μｍの低屈折率層を形成し、防眩性反射防止フイルム（Ｂ−０１）を作製した。
【０１５２】
ポリメチルメタクリレート系ビーズの粒径、塗布量を変更し、防眩性層の乾燥膜厚を４．２μｍとなるよう変更し、表５に示す表面凹凸となるように、光拡散フイルム（Ｂ−０２）、（Ｂ−０６）〜（Ｂ−０８）を作製し、さらに防眩性反射防止フイルム（Ｂ−０２）、（Ｂ−０６）〜（Ｂ−０８）を作製した。塗布量は表４に示した。
【０１５３】
１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズを３μｍシリカビーズ（日本触媒製、屈折率１．４４）に変更し、３．０μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの粒径、塗布量を変更し、表５に示す表面凹凸となるように光拡散フイルム（Ｂ−０３）〜（Ｂ−０５）を作製し、さらに防眩性反射防止フイルム（Ｂ−０３）〜（Ｂ−０５）を作製した。塗布量は表４に示した。
【０１５４】
１．５μｍポリメチルメタクリレートビーズを添加せず、３．５μｍポリメチルメタクリレートビーズを架橋ポリスチレンビーズに変更し、防眩性層乾燥膜厚を３．０μｍとし、表５に示す表面凹凸となるように光拡散フイルム（Ｂ−０９）〜（Ｂ−１０）を作製し、さらに防眩性反射防止フイルム（Ｂ−０９）〜（Ｂ−１０）を作製した。塗布量は表４に示した。
【０１５５】
【表４】
2004125958.tif 000009
【０１５６】
防眩性反射防止性偏光板（ＢＨＨＡ−０１）を作製したのと同様に、防眩性反射防止フイルム（Ｂ−０１）〜（Ｂ−１０）と光学補償フイルム（ＫＨ−０１）を用いて防眩性反射防止性偏光板（ＢＨＨＢ−０１）〜（ＢＨＨＢ−１０）を作製した。
得られた防眩性反射防止フイルム、作製した液晶表示装置について、実施例１と同じ項目について評価を行った。結果を表５、表６に示した。
【０１５７】
【表５】
2004125958.tif 000010
【０１５８】
【表６】
2004125958.tif 000011
【０１５９】
表４〜表６に示された結果から以下のことが分かった。
本発明の防眩性反射防止フイルムは、ブツ状故障が極めて少なく、その防眩性反射防止フイルムを用いた偏光板を使用した表示装置の視野特性、外光の写りこみにくさ（防眩性）に非常に優れていることが確認できた。一方、比較例２０１の防眩性反射防止フイルムはＲａ値、Ｒｚ／Ｒａ値が本発明の範囲を外れており、ブツ状故障が多数発生し、防眩性反射防止フイルムとして使用することは不適であった。また、比較例２０２の防眩性反射防止フイルムはブツ状故障はないものの白粉汚れが発生しており、防眩性反射防止フイルムとして使用することは不適であることが分かった。比較例２１１、２１２に示したその防眩性反射防止フイルムを用いた偏光板を使用した表示装置の視野特性、外光の写りこみにくさ（防眩性）が本発明よりも劣っていることが確認された。
【０１６０】
実施例３
＜防眩性層用塗布液の調製＞
防眩性層塗布液（ＢＧ−３）を下記処方で仕込み、攪拌し調製した。
【０１６１】
｛防眩性層塗布液（ＢＧ−３）処方｝
トリメチロールプロパントリアクリレート（透光性樹脂））　　１００質量部
ＳＸ３５０Ｈ（綜研化学製、粒径３．０μｍ、屈折率１．６１、架橋ポリスチレンビーズ（透光性微粒子））　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
ＳＸ５００Ｈ（綜研化学製、粒径５．０μｍ、屈折率１．６１、架橋ポリスチレンビーズ（透光性微粒子））　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
ＫＢＭ−５１０３（信越化学（株）製、屈折率１．４２、γ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２４質量部
メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　９６質量部
【０１６２】
＜防眩性層の塗設、光拡散フイルムの作製＞
トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、３．５μｍ架橋ポリスチレンビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ２になるように上記防眩性層塗布液（ＢＧ−３）を塗工、溶剤乾燥後、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フイルム（Ｃ−０１）を作製した。このフイルムの防眩性層の乾燥膜厚は４．２μｍであった。透光性バインダーマトリックスの屈折率は１．５２であった。
【０１６３】
光拡散フイルム（Ｃ−０１）の防眩性層上に、上記低屈折率層用塗布液（ＴＫ−１）をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９８μｍの低屈折率層を形成し、防眩性反射防止フイルム（Ｃ−０１）を作製した。
【０１６４】
架橋ポリスチレンビーズの塗布量を変更し、表８に示す表面凹凸となるように、光拡散フイルム（Ｃ−０２）〜（Ｃ−０３）を作製し、さらに防眩性反射防止フイルム（Ｃ−０２）〜（Ｃ−０３）を作製した。塗布量は表７に示した。
【０１６５】
３．５μｍ架橋ポリスチレンビーズを３μｍシリカビーズ（屈折率１．４４）に変更し、塗布量を変更し、表８に示す表面凹凸となるように、光拡散フイルム（Ｃ−０４）を作製し、さらに防眩性反射防止フイルム（Ｃ−０４）を作製した。塗布量は表７に示した。
【０１６６】
３．５μｍ架橋ポリスチレンビーズを添加せず、５μｍ架橋ポリスチレンビーズをＰＭＭＡビーズ（屈折率１．４９）に変更し、表８に示す表面凹凸となるように光拡散フイルム（Ｃ−０５）を作製し、さらに防眩性反射防止フイルム（Ｃ−０５）を作製した。塗布量は表７に示した。
【０１６７】
【表７】
2004125958.tif 000012
【０１６８】
防眩性反射防止性偏光板（ＢＨＨＡ−０１）を作製したのと同様に、防眩性反射防止フイルム（Ｃ−０１）〜（Ｃ−０５）と光学補償フイルム（ＫＨ−０１）を用いて防眩性反射防止性偏光板（ＢＨＨＣ−０１）〜（ＢＨＨＣ−０５）を作製した。
得られた防眩性反射防止フイルム、作製した液晶表示装置について、実施例１と同じ項目について評価を行った。結果を表８、表９に示した。
【０１６９】
【表８】
2004125958.tif 000013
【０１７０】
【表９】
2004125958.tif 000014
【０１７１】
表７〜表９に示された結果から以下のことが分かった。
本発明の防眩性反射防止フイルムは、ブツ状故障が極めて少なく、その防眩性反射防止フイルムを用いた偏光板を使用した表示装置の視野特性、外光の写りこみにくさ（防眩性）に非常に優れていることが確認できた。
【０１７２】
以上示した実施例から、Ｒａが０．０２〜１．０μｍの間にあり、Ｒｚ／Ｒａが３０以下の防眩性反射防止フイルムを設置した液晶表示装置は優れた視野角特性、防眩性を有することが確認された。
【０１７３】
【発明の効果】
本発明によれば、本発明の防眩性反射防止フィルムに、更に偏光子、および液晶性化合物からなる光学異方性層を設けることにより、視野角（特に下方向視野角）を拡大し、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することがなく、しかも安価で、ブツ状の面状欠陥のない液晶表示装置を提供することができる。すなわち、液晶表示装置の品位、更には面状均一性にも優れた性能を付与できる防眩性反射防止フィルム、更には偏光板を得ることができる。
更に、上記性能に優れた偏光板を備えた液晶表示装置、画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】防眩性反射防止フイルムの基本構成を示す断面模式図である。
【符号の説明】
１　防眩性反射防止フイルム
２　透明支持体
３　防眩性層
４　低屈折率層
５　透光性微粒子（防眩性粒子）
６　透光性微粒子（散乱粒子）
【図１】
2004125958.tif 000015