(57)【要約】【課題】光学濃度が連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを複数有する光学ウエッジにおいて、フレアーの発生が少なく、それを使用して露光された感光材料から得られる画像のにじみを少なくした光学ウエッジを提供すること。【解決手段】光学濃度が変化する光学パターンを、光学濃度の変化の方向が同一方向になるような状態で複数並べた層の上に、接触させ、且つこの複数並べた光学パターンの隙間を覆うように高光学濃度域を持つ光学パターンを有する層を設けた光学ウエッジ。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを前記一次元方向と同じ方向に複数並べて配置されている光学ウエッジであって、互いに隣接し合う光学パターンの隣接し合う側の光学濃度差が小さくなるように前記複数の光学パターンが配列されていることを特徴とする光学ウエッジ。
【請求項２】
光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを前記一次元方向とほぼ直角の方向に複数並べて配置されている光学ウエッジであって、光学濃度の低い部分から高い部分への変化の方向が互いに隣接し合う光学パターンで同じになるように前記複数の光学パターンが配列されていることを特徴とする光学ウエッジ。
【請求項３】
基板上に光学濃度が変化する光学パターンを複数含む下層と光学パターンを少なくとも一つ含む上層とを、この順に重ねて有する光学ウエッジであって、前記上下２層は互いに接して存在し、且つ上層の光学パターンは下層の複数の光学パターン間の繋ぎの部分を覆うようになっていることを特徴とする光学ウエッジ。
【請求項４】
請求項３に記載の光学濃度が変化する光学パターンを複数含む下層が、光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを前記一次元方向と同じ方向に複数並べた状態で有していて、且つ互いに隣接する光学パターンの隣接し合う側の光学濃度差が小さくなるように前記複数の光学パターンが配列されていることを特徴とする請求項３に記載の光学ウエッジ。
【請求項５】
請求項３に記載の光学濃度が変化する光学パターンを複数含む下層が、光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを前記一次元方向とほぼ直角の方向に複数並べた状態で有していて、且つ光学濃度の低い部分から高い部分への変化の方向が互いに隣接し合う光学パターンで同じであるように前記複数の光学パターンが配列されていることを特徴とする請求項３に記載の光学ウエッジ。
【請求項６】
請求項４に記載の光学濃度が変化する光学パターンを複数含む下層が、さらに光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを前記一次元方向とほぼ直角の方向に複数並べた状態で有していて、且つ光学濃度の低い部分から高い部分への変化の方向が互いに隣接し合う光学パターンで同じであるように前記複数の光学パターンが配列されていることを特徴とする請求項４に記載の光学ウエッジ。
【請求項７】
光学パターンが蒸着により形成されたものであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学ウエッジ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学濃度が連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを複数有する部材（光学ウエッジ）に関するものであり、さらにはセンシトメトリー用の光学濃度が連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを複数有する光学ウエッジに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光学濃度が連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを複数有する光学ウエッジでは、ある光学パターンの濃度の高い部分と他の光学パターンの低い部分が近接している場合、光学濃度の低い部分を通過する光が、光学濃度の高い部分に漏れ出すという、いわゆるフレアーが発生し、このような光学ウエッジを使用して露光された感光材料から得られる画像ににじみを起こすという欠点があった。
【０００３】
また、光学濃度が連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを複数有する光学ウエッジでは、光学パターンの間の隙間を光が通り、それがフレアーを発生させて画像ににじみを起こすという欠点もあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、光学濃度が連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを複数有する光学ウエッジにおいてフレアーの発生が少なく、それを使用して露光された感光材料から得られる画像のにじみを少なくした光学ウエッジを提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は、
▲１▼  光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを前記一次元方向と同じ方向に複数並べて配置されている光学ウエッジであって、互いに隣接し合う光学パターンの隣接し合う側の光学濃度差が小さくなるように前記複数の光学パターンが配列されていることを特徴とする光学ウエッジ、
【０００６】
▲２▼  光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンを前記一次元方向とほぼ直角の方向に複数並べて配置されている光学ウエッジであって、光学濃度の低い部分から高い部分への変化の方向が互いに隣接し合う光学パターンで同じになるように前記複数の光学パターンが配列されていることを特徴とする光学ウエッジ、
【０００７】
▲３▼  光学濃度が変化する光学パターンを複数含む下層と光学パターンを少なくとも一つ含む上層とを、この順に重ねて有する光学ウエッジであって、前記上下２層は互いに接して存在し、且つ上層の光学パターンは下層の複数の光学パターン間の繋ぎの部分を覆うようになっていることを特徴とする光学ウエッジ、
【０００８】
▲４▼  前記▲１▼に記載の特徴をさらに有する前記▲３▼に記載の光学ウエッジ、
【０００９】
▲５▼  前記▲２▼に記載の特徴をさらに有する前記▲３▼に記載の光学ウエッジ、
【００１０】
▲６▼  前記▲５▼に記載の特徴をさらに有する前記▲４▼に記載の光学ウエッジ、
【００１１】
及び
▲７▼  光学パターンが蒸着により形成されたものである▲１▼〜▲６▼のいずれかに記載の光学ウエッジ、
の手段により解決された。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面に基づいて、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
まず、前記▲１▼に記載の発明について述べる。
本発明の例は、第１図に記載されている。第１図に示す光学ウエッジは、光学濃度が一次元方向に連続的に増加する光学パターン１，２及び３の３つを該一次元方と同じ方向に並べて、ガラス基板５上に配置した光学ウエッジである（第１図（ａ）（ｂ））。第１図（ｃ）には、光学パターン１，２及び３の光学濃度の変化の様子を示す。１と２の光学パターンは光学濃度の高い方を向かい合わせて接触させ、２と３の光学パターンは光学濃度の低い方を向かい合わせて接触させて配列することで、互いに隣接し合う光学パターンの隣接し合う側の光学濃度差が小さくなるような配列としている。
【００１３】
次に、前記▲２▼に記載の発明について述べる。
本発明の例は、第２図に記載されている。第２図に示す光学ウエッジは、光学濃度が一次元方向に連続的に増加する光学パターン６と７の２つを、該一次元方向と直角の方向に並べ、且つ２つの光学パターン６，７で光学濃度が増加する方向が同じ方向になるように配列した層４をガラス基板上に設けた光学ウエッジである。
【００１４】
複数の光学パターンの間は、製造上の必要性により、本発明の効果は小さくなるが隙間があってもよい。この場合は、後述の▲３▼の発明を併用すると本発明の効果が十分に得られる。
上記で説明した第１図、第２図に示されるような配列により、光学濃度が大きく変動する個所が減少し、フレアーの程度が減少する。
【００１５】
本発明の▲１▼と▲２▼で示される光学ウエッジを富士写真フイルム製の「ＳＵＰＥＲＦＡＧ９  カラーペーパー」に露光し、現像したところ、いずれのものについてもパターンの接触部分のにじみの程度が減少した。
【００１６】
次に、前記▲３▼及び▲４▼〜▲６▼に記載の発明について述べる。
本発明の例は、第３図に記載されている。
第３図に示すのは、ガラス基板５の上に、光学濃度が一次元方向に連続的に増加または減少する光学パターン１、２及び３の３つを該一次元方と同じ方向に並べた下層４を、ガラス基板５上に配置した光学ウエッジである。下層４において、光学パターン１と２が光学濃度の高い方が向かい合うようにして３ミリの隙間１０を介して配列され、光学パターン２と３が光学濃度の低い方が向かい合うようにして同じく３ミリの隙間１０を介して配列されている（図３（ｃ））。
下層４の上に下層４と接触して、高光学濃度領域８が隙間１０を覆うように、該高光学濃度領域８を含む光学パターンを有する上層９が設けられている（図３（ａ）（ｂ））。ここで、高光学濃度領域８は、その上記一次元方向の長さ幅が、下層４の光学パターンの繋ぎの部分である上記隙間１０より２ミリ程度大きく、かつその光学濃度が４以上の領域である。上層９の高光学濃度領域８以外の領域の光学濃度は光を透過できる程度に低い方が好ましく、ほぼ０であることが望ましい。
【００１７】
上記▲３▼と▲４▼〜▲６▼の発明のウエッジでは、複数の光学パターンの間に隙間１０があるときでも、その光学ウエッジを有する層に接触して、隙間１０の上部に光を通さない部分（高光学濃度領域８）が設けられているので、隙間１０からもれるフレアーを完全に遮断できる。
上記▲４▼〜▲６▼の発明は、▲１▼、▲２▼と▲３▼との２つの発明を具体化した構成をもつ光学ウエッジであり、フレアーの改良の程度がもっとも大きい。
【００１８】
上記第３図に記載の光学ウエッジを上記のカラーペーパーに露光して得られた画像では、にじみの程度は格段に改良されていた。
【００１９】
上記の光学パターンは、例えば金属クロムを真空蒸着して形成することができる。
光学濃度が一次元方向に連続的または段階的に増加または減少する光学パターンの光学濃度は０〜最高濃度（およそ６程度）まで変化するように蒸着されている。この蒸着は、スパッタリング法によってもよい。光学濃度は蒸着量によって調整できる。蒸着は、光学濃度を所定の値にするように蒸着量を制御すれば、一般的な蒸着方法、例えば鏡を作成する際の蒸着方法などが利用できる。
蒸着される物質としては、金属クロム以外にも、金属アルミ、金属ニッケル、インコーネル合金、クロメルなどを使用することができる。
上記の上層９の高光学濃度領域８には、蒸着層の強化のためＳｉＯ２などを併用して用いることができる。
【００２０】
【発明の効果】
濃度が段階的または連続的に変化する光学パターンを複数有する光学ウエッジにおいて発生するフレアーを低減することができ、またこの光学ウエッジを使用して露光して得られる画像のにじみを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】請求項１に記載の発明の一例を示す図で、（ａ）平面図と（ｂ）断面図及び（ｃ）使用された光学パターンの濃度分布である。
【図２】請求項２に記載の発明の一例を示す図で、（ａ）平面図、（ｂ）断面図、（ｃ）使用された光学パターンの濃度分布、及び（ｄ）Ａの方向からの断面図である。
【図３】請求項４に記載の発明の一例を示す図で、（ａ）平面図と（ｂ）断面の分解図及び（ｄ）使用された光学パターンの濃度分布である。
【符号の説明】
１、２、３    濃度が連続的に変化している光学パターン
４            光学パターンを有する層（下層）
５            ガラス基板
６            濃度が連続的に変化している光学パターン
８            隙間１０を覆う高光学濃度領域
９            光学パターンを有する層（上層）
１０          濃度が連続的に変化している複数の光学パターンの間の隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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