(57)【要約】【課題】比較的簡単な工程で横モードの乱れを低減し、ＮＦＰのトップハット形状を改善することのできる半導体発光素子およびその駆動方法を提供する。【解決手段】基板１１にｎ型半導体層，活性層１５およびｐ型半導体層が積層され、ｐ型半導体層の上にはｐ側主電極２１が設けられている。ｐ側主電極２１の幅方向両側には、ｐ側主電極２１とは独立してｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂが設けられている。ｐ側主電極２１により活性層１５に向けて駆動電流を供給すると共に、ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂにより発光領域１５Ａの端部近傍に制御電流を供給する。これにより、発光領域１５Ａの端部における光出力分布の乱れが低減され、ＮＦＰのトップハット形状が改善され、横モード特性が向上する。【選択図】        図１
2004221385.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に活性層を含む積層構造を有する半導体発光素子であって、
前記活性層に向けて駆動電流を供給する主電極と、
前記主電極に隣接して設けられると共に前記主電極とは独立駆動され、制御電流により、前記活性層の主電極直下の発光領域の端部における駆動電流の広がりを抑制する制御電極とを備えたことを特徴とする半導体発光素子。
【請求項２】
前記主電極は、帯状に形成され、
前記制御電極は、前記主電極の幅方向の両側のうち少なくとも一方の側に設けられていることを特徴とする請求項１記載の半導体発光素子。
【請求項３】
前記制御電極は、前記主電極の長さ方向に沿って帯状に形成されていることを特徴とする請求項２記載の半導体発光素子。
【請求項４】
前記積層構造の積層方向に対して垂直な方向に対向する一対の共振器端面を有し、
前記制御電極は、前記一対の共振器端面のうち前記活性層で発生した光が取り出される側の端面から、前記主電極の長さ方向における少なくとも一部に沿って形成されていることを特徴とする請求項２記載の半導体発光素子。
【請求項５】
屈折率導波型のレーザであることを特徴とする請求項１記載の半導体発光素子。
【請求項６】
前記制御電極には、パルス状の制御電流が印加されることを特徴とする請求項１記載の半導体発光素子。
【請求項７】
前記制御電極には、前記主電極に対して逆バイアスの制御電流が印加されることを特徴とする請求項１記載の半導体発光素子。
【請求項８】
基板上に活性層を含む積層構造を有する半導体発光素子の駆動方法であって、
前記積層構造の上に主電極を設けると共に、前記主電極に隣接して前記主電極とは独立した制御電極を設け、
前記主電極により駆動電流を前記活性層に向けて供給すると共に、前記制御電極により制御電流を供給して、前記活性層の前記主電極直下の発光領域の端部における駆動電流の広がりを抑制することを特徴とする半導体発光素子の駆動方法。
【請求項９】
前記制御電極に、パルス状に制御電流を印加することを特徴とする請求項８記載の半導体発光素子の駆動方法。
【請求項１０】
前記制御電極に、前記主電極に対して逆バイアスの制御電流を印加することを特徴とする請求項８記載の半導体発光素子の駆動方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特にブロードエリア型半導体レーザ等に好適な半導体発光素子およびその駆動方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体レーザ（ｌａｓｅｒ  ｄｉｏｄｅ  ；ＬＤ）の応用の拡大を目指す上で、素子の高出力化は主要な課題の一つである。光ディスク装置、レーザビームプリンタあるいは複写機などの情報端末器用途のほか、医療用，宇宙通信用，または加工用など様々な分野において高出力半導体レーザが要望されている。
【０００３】
一般に、高出力化を図る最も容易な方法は、ブロードエリア化つまり発光領域の幅を広げることである。このような発光領域の幅を広げたいわゆるブロードエリア型半導体レーザは、通常のナローストライプ型のストライプ幅が数μｍであるのに対し、数１０μｍないし数１００μｍのストライプ幅を有している。
【０００４】
しかしながら、このようなブロードエリア化によって、（１）横モードの不安定化、（２）素子寿命の低下、（３）光学損傷（Ｃａｔａｓｔｒｏｐｈｉｃ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄａｍａｇｅ  ；ＣＯＤ）の発生、（４）熱的飽和の発生など、好ましくない問題も多々生じる。
【０００５】
これらの問題は、いずれもブロードエリア化によって生ずる光子密度の増加および注入キャリアの増加が原因となっている。このことを、例えば（１）横モードの不安定化について説明すると、まず、光子密度の増加は、空間的ホールバーニング現象、すなわち誘導放出によってキャリアが消費され、光強度の最大箇所のキャリア密度が周囲よりも小さくなる現象を引き起こすため、横モードの不安定が生じる。また、注入キャリアの増加は、プラズマ効果により屈折率の低下をもたらすので、横モードが不安定化する。
【０００６】
上記の問題に対処するため、従来では、例えば、導波路幅をキャリア拡散長の２μｍ〜３μｍ以下にして利得を均一化する、あるいは、光スポット径を大きくして光子密度を減らすなどの対策が講じられている。光スポット径の拡大の具体的な方法としては、活性層を薄くしてクラッド層への光しみ出しを増やしたり、活性層の上下に光導波層を設けることなどが可能である。また、注入キャリアの増加に起因するプラズマ効果に対しては、プラズマ効果を十分に克服可能な屈折率導波構造が取り入れられるようになっている。
【０００７】
なお、従来では、ブロードエリア型半導体レーザにおいて熱的飽和を緩和するため、電流通路の中央部に電流通路と平行にストライプ状の絶縁層を設けた例（例えば、特許文献１参照。）、あるいは、電極とキャップ層との間の、電流通路の中央部分における接触抵抗を他の部分よりも大きくした例（例えば、特許文献２参照。）などが報告されている。
【０００８】
また、ブロードエリア型に限定していない例としては、共振器の共振方向に並設された複数の電極から注入される電流の密度を各々独立に制御し、複数の電極から等しい電流密度で注入を行ったときに大きな量子化エネルギーに対応する光を発振させ、電極に応じて異なる電流密度で注入を行ったときに小さな量子化エネルギーに対応する光を発振させるようにした提案がある（例えば、特許文献３参照。）。この提案は、複数の電極を共振器の共振方向に並設し、電流密度を制御することによって波長可変機能または多波長化を実現するものであり、高出力化をめざすものではない。
【０００９】
【特許文献１】
特開平４−８８６８９号公報
【特許文献２】
特開平４−１３７７８４号公報
【特許文献３】
特開平２−２６０６８３号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように色々な対策が試みられているものの、根本的に、ブロードエリア型半導体レーザは一般的なナローストライプ型のものよりも自由度があるだけに、ブロードエリア内の光出力分布の均一性すなわちＮＦＰ（Ｎｅａｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｐａｔｔｅｒｎ；近視野像）のトップハット形状つまりきれいな矩形強度分布が得られにくく使用しづらいという問題を有している。このような問題は、通常の光ディスク装置などに用いられているストライプ幅２μｍないし３μｍのナローストライプ型では生じないが、ストライプ幅を広げていくと５μｍでＮＦＰの乱れの兆候が現れ始め、１０μｍ以上ではＮＦＰの乱れはもはや明らかとなる。なお、ナローストライプ型とブロードエリア型とのストライプ幅の境界は、約１０μｍである。
【００１１】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、比較的簡単な方法で横モードの乱れを低減し、ＮＦＰのトップハット形状を改善することのできる半導体発光素子およびその駆動方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明による半導体発光素子は、基板上に活性層を含む積層構造を有するものであって、活性層に向けて駆動電流を供給する主電極と、主電極に隣接して設けられると共に主電極とは独立駆動され、制御電流により、活性層の主電極直下の発光領域の端部における駆動電流の広がりを抑制する制御電極とを備えたものである。
【００１３】
本発明による半導体発光素子の駆動方法は、積層構造の上に主電極を設けると共に、主電極に隣接して主電極とは独立した制御電極を設け、主電極により駆動電流を前記活性層に向けて供給すると共に、制御電極により制御電流を供給して、活性層の主電極直下の発光領域の端部における駆動電流の広がりを抑制するものである。
【００１４】
本発明による半導体発光素子およびその駆動方法では、主電極により活性層に向けて駆動電流が供給される一方、制御電極により、主電極とは独立に制御電流が供給される。これにより主電極直下の発光領域から逸れようとする駆動電流の一部が発光領域側へと導かれ，駆動電流の広がりに起因する光出力分布の乱れが抑制される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
〔第１の実施の形態〕
図１は本発明の第１の実施の形態に係る屈折率導波型の半導体レーザの構成を表すものである。この半導体レーザは、基板１１の表面に、半導体層であるバッファ層１２，ｎ型クラッド層１３，ｎ型光ガイド層１４，活性層１５，ｐ型光ガイド層１６，ｐ型クラッド層１７およびｐ側キャップ層１８がこの順に積層された積層構造１０を有している。このうち、バッファ層１２，ｎ型クラッド層１３およびｎ型光ガイド層１４はｎ型半導体層であり、ｐ型光ガイド層１６，ｐ型クラッド層１７およびキャップ層１８はｐ型半導体層である。
【００１７】
基板１１は、例えば、積層方向における厚さ（以下、単に厚さという）が１０ｎｍまで薄膜化され、シリコン（Ｓｉ）などのｎ型不純物を添加したｎ型ＧａＡｓにより構成されている。バッファ層１２は、例えば、厚さが０．５μｍであり、シリコンなどのｎ型不純物を添加したｎ型ＧａＡｓにより構成されている。ｎ型クラッド層１３は、例えば、厚さが１．５μｍであり、シリコンなどのｎ型不純物を添加したｎ型Ａｌｘ  Ｇａ１−ｘ  Ａｓ混晶（０＜ｘ＜１）により構成されている。ｎ型光ガイド層１４は、例えば、厚さが４０ｎｍであり、シリコンなどのｎ型不純物を添加したｎ型Ａｌｙ  Ｇａ１−ｙ  Ａｓ混晶（０＜ｙ＜１）により構成されている。
【００１８】
活性層１５は、例えば、厚さが１２ｎｍであり、不純物を添加しないｕｎｄｏｐｅｄ−Ａｌｚ  Ｇａ１−ｚ  Ａｓ混晶（０＜ｚ＜１）により構成されている。この活性層１５は、後述する主電極から駆動電流が供給されると主電極直下の発光領域１５Ａにおいて発光が生じ、発光領域として機能する。
【００１９】
ｐ型光ガイド層１６は、例えば、厚さが４０ｎｍであり、亜鉛（Ｚｎ）などのｐ型不純物を添加したｐ型Ａｌｙ  Ｇａ１−ｙ  Ａｓ混晶（０＜ｙ＜１）により構成されている。ｐ型クラッド層１７は、例えば、厚さが１μｍであり、亜鉛（Ｚｎ）などのｐ型不純物を添加したｐ型Ａｌｘ  Ｇａ１−ｘ  Ａｓ混晶（０＜ｘ＜１）により構成されている。キャップ層１８は、例えば、厚さが０．５μｍであり、亜鉛などのｐ型不純物を添加したｐ型ＧａＡｓにより構成されている。
【００２０】
このうちｐ型クラッド層１７の少なくとも一部およびキャップ層１８は、細い帯状（図１においては紙面に対して垂直な方向に延長された帯状）となっており電流狭窄部１９を構成している。この電流狭窄部１９は、活性層１５の発光領域１５Ａを制限するためのものである。電流狭窄部１９の両側には、例えば二酸化ケイ素（ＳｉＯ２  ）などよりなる保護層２０が形成されている。
【００２１】
キャップ層１８の上には、帯（ストライプ）状のｐ側主電極２１が設けられている。ｐ側主電極２１は、例えば、チタン（Ｔｉ）層，白金（Ｐｔ）層および金（Ａｕ）層をキャップ層１８の側から順に積層し、熱処理により合金化した構造を有しており、ｐ型半導体層と電気的に接続されている。一方、基板１１の裏面側にはｎ側電極２２が形成されている。ｎ側電極２２は、例えば、金とゲルマニウム（Ｇｅ）との合金層，ニッケル（Ｎｉ）層および金（Ａｕ）層とを基板１１の側から順に積層し、熱処理により合金化した構造を有しており、基板１１を介してｎ型半導体層と電気的に接続されている。
【００２２】
ｐ側主電極２１は、ｎ側電極２２と共に駆動電流を活性層１５に向けて供給するものである。このとき、ｐ側主電極２１から供給された駆動電流の一部は、活性層１５のｐ側主電極２１直下の領域（発光領域１５Ａ）から逸れて外側に拡散しようとする。ここで、発光領域１５Ａの両端部近傍の領域、すなわち拡散した駆動電流が流入する領域を以下、電流広がり領域１５Ｂという。このようなことから、本実施の形態では、ｐ側主電極２１の幅方向の両側にｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂが設けられている。このｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂはｐ側主電極２１とは独立して駆動され、電流広がり領域１５Ｂに向けて制御電流を供給するものである。ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂは、例えば、ｐ側主電極２１の長さ方向に沿って帯状に形成されている。また、ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂは、ｐ側主電極２１と同様に、例えば、チタン（Ｔｉ）層，白金（Ｐｔ）層および金（Ａｕ）層をキャップ層１８の側から順に積層し、熱処理により合金化した構造を有しており、ｐ型半導体層と電気的に接続されている。
【００２３】
この半導体レーザは、ｐ型クラッド層１７の延長方向において対向する一対の側面が共振器端面２３Ａ，２３Ｂとなっており、この一対の共振器端面２３Ａ，２３Ｂには一対の反射鏡膜（図示せず）がそれぞれ形成されている。一方の反射鏡膜は、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２  Ｏ３  ）により構成され、低反射率となるように調整されている。これに対して他方の反射鏡膜は、例えば酸化アルミニウム層と非晶質ケイ素（アモルファスシリコン）層とを交互に積層して構成されており、高反射率となるように調整されている。これにより、活性層１５において発生した光は一対の反射鏡膜の間を往復して増幅され、低反射率側の反射鏡膜からレーザビームとして射出されるようになっている。
【００２４】
このような構成を有する半導体レーザは、次のようにして製造することができる。
【００２５】
図２は本実施の形態に係る半導体レーザの製造方法を工程順に表すものである。まず、図２（Ａ）に示したように、例えば、ｎ型ＧａＡｓよりなる基板１１の一面に、ＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；有機金属化学気相成長）法により、例えば８００℃程度の成長温度で、ｎ型ＧａＡｓよりなるバッファ層１２，ｎ型Ａｌｘ  Ｇａ１−ｘ  Ａｓ混晶（０＜ｘ＜１）よりなるｎ型クラッド層１３，ｎ型Ａｌｙ  Ｇａ１−ｙ  Ａｓ混晶（０＜ｙ＜１）よりなるｎ型光ガイド層１４，ｕｎｄｏｐｅｄ−Ａｌｚ  Ｇａ１−ｚ  Ａｓ混晶（０＜ｚ＜１）よりなる活性層１５，ｐ型Ａｌｙ  Ｇａ１−ｙ  Ａｓ混晶（０＜ｙ＜１）よりなるｐ型光ガイド層１６，ｐ型Ａｌｘ  Ｇａ１−ｘ  Ａｓ混晶（０＜ｘ＜１）よりなるｐ型クラッド層１７，ｐ型ＧａＡｓ混晶よりなるキャップ層１８を順次エピタキシャル成長により成長させる。これにより、積層構造１０が形成される。
【００２６】
次いで、図２（Ｂ）に示したように、例えば、キャップ層１８の上に、通常のレジスト塗布工程により図示しないレジスト膜を形成し、通常のリソグラフィ技術により露光工程，現像工程およびベーキング工程を行い、図示しないマスク層を形成する。次いで、例えばウェットエッチングによりキャップ層１８およびｐ型クラッド層１７を選択的に除去する。これにより、活性層１５の発光領域１５Ａに対応して、キャップ層１８およびｐ型クラッド層１７の少なくとも一部を細い帯状とし、電流狭窄部１９を形成する。そののち、図示しないマスク層を除去する。
【００２７】
続いて、例えば、図１に示したように、蒸着またはＣＶＤ法により、電流狭窄部１９の側面およびｐ型クラッド層１７の上面に二酸化ケイ素よりなる保護層２０を形成する。そののち、基板１１の他面側をラッピングして基板１１の厚さを１０ｎｍまで薄膜化し、その他面側に金とゲルマニウムとの合金層，ニッケル層および金層を順次蒸着し、熱処理を行ってｎ側電極２２を形成する。また、キャップ層１８の上の拡散マスク層２３を除去し、例えばチタン層，白金層および金層を順次蒸着し、熱処理を行って、ｐ側主電極２１およびｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂを形成する。
【００２８】
ｎ側電極２２，ｐ側主電極２１およびｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂを形成したのち、基板１１を所定の大きさに整え、電流狭窄部１９の延長方向において対向する一対の共振器端面２３Ａ，２３Ｂに図示しない反射鏡膜を形成する。これにより、図１に示した半導体レーザが形成される。
【００２９】
次に、この半導体レーザの駆動方法を説明する。
【００３０】
図３（Ａ）に示したように、ｐ側主電極２１により、駆動電流３０を活性層１５に向けて連続的に供給すると共に、ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂにより電流広がり領域１５Ｂ、すなわち、ｐ側主電極２１直下の発光領域１５Ａから逸れた駆動電流（漏れ電流３１）が流入しようとする領域（電流広がり領域１５Ｂ）に向けて、ｐ側主電極２１とは独立に制御電流３０Ａ，３０Ｂを供給する。制御電極２１Ａ，２１Ｂには、例えば、パルス状に制御電流３０Ａ，３０Ｂを印加してもよく、あるいは、ｐ側主電極２１に対して逆バイアスの制御電流３０Ａ，３０Ｂを印加してもよい。更に、制御電極２１Ａと２１Ｂとに、互いに独立に制御電流３０Ａ，３０Ｂを印加するようにしてもよい。すなわち、例えば、制御電極２１Ａ，２１Ｂのうち片方のみに制御電流３０Ａ，３０Ｂを印加してもよく、あるいは、制御電極２１Ａ，２１Ｂの片方のみにｐ側主電極２１に対して逆バイアスの制御電流３０Ａ，３０Ｂを印加してもよい。
【００３１】
駆動電流３０の大きさは、例えば、所望の光出力を得るために必要な値になるように制御する。制御電流３０Ａ，３０Ｂの大きさは、例えば、駆動電流３０の約１割程度で、且つＮＦＰがきれいな矩形強度分布となる最適な値となるように制御する。例えば、所望の光出力を得るために必要な駆動電流３０が例えば５００ｍＡであれば、制御電流３０Ａを例えば５０ｍＡ，制御電流３０Ｂを例えば６０ｍＡとすることができる。このように制御電流３０Ａと制御電流３０Ｂとの値を異ならせるのは、ＮＦＰのトップハット形状における端部の乱れ方が非対称である場合が多いからである。また、制御電流３０Ａ，３０Ｂの制御は、素子の使用前にＮＦＰ測定を行って決定してもよく、素子の使用中において光出力分布を測定し、ＮＦＰが最適となるようにフィードバック制御により決定してもよい。
更に、このフィードバック制御を自動的に行うようにしてもよい。
【００３２】
この半導体レーザでは、ｎ側電極２２とｐ側主電極２１との間に所定の電圧が印加されると、電流狭窄部１９により電流狭窄され、活性層１５の発光領域１５Ａに駆動電流が注入されて、電子−正孔再結合により発光が起こる。この光は、図示しない一対の反射鏡膜により反射され、その間を往復してレーザ発振を生じ、レーザビームとして外部に射出される。ここでは、ｐ側主電極２１の幅方向両側にｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂが設けられているので、図３（Ａ）に示したように、ｐ側主電極２１から供給された駆動電流３０が発光領域１５Ａの端部で広がろうとしても、ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂから供給される制御電流３０Ａ，３０Ｂによってその広がりが抑制され、その結果、発光領域１５Ａの端部における出力の乱れが低減される。よって、ブロードエリア内の出力分布の均一性すなわちＮＦＰのトップハット形状が改善され、横モード特性が向上すると共に、活性層１５のうち発光領域１５Ａとして機能する領域が拡大される。
【００３３】
これに対して、図３（Ｂ）に示したようにｐ側制御電極を設けない従来の構造では、ｐ側電極１２１から供給された駆動電流１３０は、ｐ型クラッド層１１７内で外側へ広がってしまい、ｐ側電極１２１直下の発光領域１１５Ａから逸れて、漏れ電流１３１が生じる。この漏れ電流１３１により、発光領域１１５Ａの端部の電流広がり領域１１５Ｂにおいて発光が不均一となる。なお、図３（Ｂ）では、図３（Ａ）の対応する構成要素の符号に１００を加えた符号を付している。
【００３４】
このように本実施の形態によれば、ｐ側主電極２１の幅方向両側にｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂを設けるようにしたので、発光領域１５Ａ端部における光出力分布の乱れを低減し、ブロードエリア内の光出力分布の均一性すなわちＮＦＰのトップハット形状を改善し、横モード特性を向上させることができる。
【００３５】
〔第２の実施の形態〕
図４は本発明の第２の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表すものである。この半導体レーザは、制御電極２１Ａ，２１Ｂの構成が異なることを除き、他は第１の実施の形態と同一の構成、作用および効果を有している。よって、ここでは第１の実施の形態と同一の構成要素には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００３６】
この半導体レーザは、ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂが、一対の共振器端面２３Ａ，２３Ｂのうち活性層１５で発生した光ｈが取り出される側の端面２３Ａから、ｐ側主電極２１の長さ方向における一部に沿って形成されている。このようにｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂを局所的に設けることによって、第１の実施の形態の効果に加えて、制御電流３０Ａ，３０Ｂが小さくて済むという効果も得ることができる。
【００３７】
このような構成を有する半導体レーザは、第１の実施の形態と同様にして製造することができ、同様に作用する。
【００３８】
このように、本実施の形態では、ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂが、一対の共振器端面２３Ａ，２３Ｂのうち活性層１５で発生した光ｈが取り出される側の端面２３Ａから、ｐ側主電極２１の長さ方向における一部に沿って形成されているので、第１の実施の形態の効果に加えて、制御電流３０Ａ，３０Ｂが小さくて済むという効果も得ることができる。
【００３９】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。例えば、上記実施の形態では、ｐ側主電極２１の幅方向両側にｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂを設ける場合について説明したが、必ずしも両側に設ける必要はなく、ｐ側制御電極２１Ａ，２１Ｂのうちどちらか一方のみをＮＦＰの乱れる側だけに設けるようにしても、上記実施の形態と同一の効果を得ることができる。
【００４０】
また、例えばｎ側電極２２についても、ｎ側主電極とｎ側制御電極とを設けるようにしてもよい。
【００４１】
更に、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態においては、ｎ型不純物としてシリコンを用いたが、セレン（Ｓｅ）など他のｎ型不純物を用いてもよい。
【００４２】
加えて、上記実施の形態では、電流狭窄部１９が形成されている場合について説明したが、必ずしも電流狭窄部１９を有している必要はない。
【００４３】
加えてまた、上記実施の形態では、半導体レーザの構成について具体的に例を挙げて説明したが、本発明は、他の構造を有する半導体レーザについても同様に適用することができる。例えば、ｐ側電極とｎ側電極とが基板の同一の側に形成されているものについても、本発明は適用可能である。
【００４４】
更にまた、上記実施の形態では、半導体レーザを構成する材料について具体的に例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態で説明したＧａＡｓ系素子以外にも、ＡｌＧａＩｎＰ系あるいはＩｎＰ系などの他のＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体，窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体あるいはＩＩ−ＶＩ族化合物半導体などの他の半導体材料を用いる場合についても広く適用することができる。
【００４５】
加えてまた、上記実施の形態では、ＭＯＣＶＤ法により半導体層を成長させる場合について説明したが、分子線エピタキシー（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｅａｍ  Ｅｐｉｔａｘｙ；ＭＢＥ）法などの他の方法により成長させるようにしてもよい。
【００４６】
更にまた、上記実施の形態では、半導体レーザについて具体的に説明したが、本発明は、発光ダイオード（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ；ＬＥＤ）などの他の半導体発光素子についても適用することができる。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の半導体発光素子およびその駆動方法によれば、主電極に隣接して主電極とは独立駆動される制御電極を設けるようにしたので、発光領域の端部における駆動電流の広がりに起因する光出力分布の乱れを抑制し、ブロードエリア内の光出力分布の均一性すなわちＮＦＰのトップハット形状を改善し、横モード特性を向上させることができる。
【００４８】
特に、この制御電極を、一対の共振器端面のうち活性層で発生した光が取り出される側の端面から、主電極の長さ方向における少なくとも一部に沿って形成するようにすれば、制御電極に印加する電流が小さくて済む。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表す斜視図である。
【図２】図１に示した半導体レーザの製造工程を表す断面図である。
【図３】図３（Ａ）は図１に示した半導体レーザの作用を説明するため一部を模式的に表す断面図であり、図３（Ｂ）は従来の半導体レーザの作用を説明するため一部を模式的に表す断面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表す斜視図である。
【符号の説明】
１１…基板、１２…バッファ層、１３…ｎ型クラッド層、１４，１１４…ｎ型光ガイド層、１５，１１５…活性層、１５Ａ，１１５Ａ…発光領域、１５Ｂ，１１５Ｂ…電流広がり領域、１６，１１６…ｐ型光ガイド層、１７，１１７…ｐ型クラッド層、１８，１１８…キャップ層、１９，１１９…電流狭窄部、２０…保護層、２１…ｐ側主電極、２１Ａ，２１Ｂ…ｐ側制御電極、２２…ｎ側電極、３０，１３０…駆動電流、３１，１３１…漏れ電流、１２１…ｐ側電極
【図１】
2004221385.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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