(57)【要約】【課題】不要となったシリカ含有分散液、塗布液よりシリカの再生方法の提供と、該再生したシリカ粉体を用いたインク吸収性、印字濃度、光沢性に優れた、インクジェット記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】少なくともシリカを含む不要となったインクジェット用塗布液もしくはシリカ分散液を５００℃以上１２００℃以下で焼成後、平均粒径を０．１μｍ〜１０μｍに粉砕することを特徴とするシリカの再生方法及びそれを用いたインクジェット記録媒体の製造方法。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともシリカを含む不要となったインクジェット用塗布液もしくはシリカ分散液を５００℃以上１２００℃以下で焼成後、平均粒径を０．１μｍ〜１０μｍに粉砕することを特徴とするシリカの再生方法。
【請求項２】
少なくともシリカを含む不要となったインクジェット用塗布液もしくはシリカ分散液を５００℃以上１２００℃以下で焼成後、シリカの孤立シラノール基比率を調整することを特徴とするシリカの再生方法。
【請求項３】
請求項１もしくは請求項２記載の方法で再生されたことを特徴とするシリカ。
【請求項４】
支持体上にシリカを含むインク受容層を形成してなるインクジェット記録媒体において、該シリカが請求項３記載のシリカを含むことを特徴とするインクジェット記録媒体。
【請求項５】
支持体上にシリカを含むインク受容層を形成してなるインクジェット記録媒体において、該シリカが請求項３記載のシリカを水性媒体中に平均粒径０．０２μｍ〜０．３μｍに粉砕分散されてなるシリカ微粒子を含むことを特徴とするインクジェット記録媒体。
【請求項６】
少なくともシリカを粉砕分散しシリカ分散液を得る工程、シリカ分散液に必要な添加剤を添加し塗布液を得る工程及び前記塗布液を塗布・乾燥する工程を有するインクジェット記録媒体の製造方法において、前記シリカ分散液を得る工程及び前記塗布液を得る工程、塗布・乾燥する工程から出る不要となったシリカ分散液、塗布液を回収する工程を有することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェット記録媒体（以下、単に記録媒体ともいう）及び製造方法に関し、特に、不要となったシリカ含有分散液、塗布液より再生したシリカ粉体を用いてもインク吸収性、印字濃度、光沢性に優れた、インクジェット記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
インクジェット記録は、インクの微小液滴を種々の作動原理により飛翔させて紙などの記録用媒体に付着させ、画像・文字などの記録を行うものであるが、比較的高速、低騒音、多色化が容易である等の利点を有しており、近年急速に普及してきている。一方、写真等の高画質印刷、いわゆるフォトライクの記録用媒体にも用いられており、記録用媒体としてインク吸収量が多く、吸収速度が速く、高い印字濃度、光沢がある記録媒体も急速に普及している。
【０００３】
記録媒体としては、特にインク受容層にシリカを用いた空隙型記録媒体が主流となっている。
【０００４】
一般にシリカを用いた空隙形記録媒体は、シリカを水性媒体中に粉砕分散し、分散液とし、これにバインダー等の添加剤を加え塗布液とし、これを支持体上に塗布・乾燥して得られが、一度に大量の液を作るため、不要となる量も多くなる。もちろん不要な量を少なくする方策は、実行されるが、ゼロにすることは難しい。
【０００５】
さらにシリカは、炭酸カルシウムのような顔料に比べて高価であるため、環境上、コストの点で、再利用する必要が生じている。
【０００６】
シリカは、気相法と湿式法に分けられるが、特に気相法シリカは高価である。
シリカの再生方法は開示されて（例えば、特許文献１、２参照。）いるが、これらは古紙のリサイクル工程で発生する残渣いわゆる製紙スラッジからの再生方法に関するものである。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−３４８５１０号公報  （特許請求の範囲、段落番号０００９）
【０００８】
【特許文献２】
特開平１１−３１０７３２号公報  （特許請求の範囲）
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の実態に鑑みてなされたものであって、その目的は、特に、不要となったシリカ含有分散液、塗布液よりシリカの再生方法の提供と、該再生したシリカ粉体を用いたインク吸収性、印字濃度、光沢性に優れた、インクジェット記録媒体の製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、以下の構成によって達成された。
【００１１】
１．少なくともシリカを含む不要となったインクジェット用塗布液もしくはシリカ分散液を５００℃以上１２００℃以下で焼成後、平均粒径を０．１μｍ〜１０μｍに粉砕することを特徴とするシリカの再生方法。
【００１２】
２．少なくともシリカを含む不要となったインクジェット用塗布液もしくはシリカ分散液を５００℃以上１２００℃以下で焼成後、シリカの孤立シラノール基比率を調整することを特徴とするシリカの再生方法。
【００１３】
３．前記１もしくは前記２記載の方法で再生されたことを特徴とするシリカ。
４．支持体上にシリカを含むインク受容層を形成してなるインクジェット記録媒体において、該シリカが前記３記載のシリカを含むことを特徴とするインクジェット記録媒体。
【００１４】
５．支持体上にシリカを含むインク受容層を形成してなるインクジェット記録媒体において、該シリカが前記３記載のシリカを水性媒体中に平均粒径０．０２μｍ〜０．３μｍに粉砕分散されてなるシリカ微粒子を含むことを特徴とするインクジェット記録媒体。
【００１５】
６．少なくともシリカを粉砕分散しシリカ分散液を得る工程、シリカ分散液に必要な添加剤を添加し塗布液を得る工程及び前記塗布液を塗布・乾燥する工程を有するインクジェット記録媒体の製造方法において、前記シリカ分散液を得る工程及び前記塗布液を得る工程、塗布・乾燥する工程から出る不要となったシリカ分散液、塗布液を回収する工程を有することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１６】
本発明を更に詳しく説明する。空隙型インクジェット記録媒体は、一般にシリカを水性媒体中に分散した分散液を作る工程（以下分散工程と称す）、前記分散液に水溶性バインダー等の添加剤を加え塗布液（以下調液工程と称す）を作る工程及びこれを支持体上に塗布・乾燥する工程（以下塗布工程と称す）を経て作られる。
【００１７】
分散工程では、予備分散工程と本分散工程を有するのが一般的で、予備分散工程では、容器に水性媒体を入れ、攪拌しながらシリカを投入する方法や、シリカと水性媒体を連続的に分散機に投入する方法が取られる。予備分散では、高速攪拌分散機やローラミルタイプ、ニーダータイプ、ピンミキサータイプ等の分散機を用いることができる。予備分散工程で得られた分散液は、本分散工程に移送される。本分散工程では、高圧ホモジナイザーやサンドミル等の分散機を用いて、所望の粒径まで、粉砕分散される。
【００１８】
特にフォトライクの光沢を得るためには平均粒径が重要で０．０２μｍ〜０．３μｍにすることが必要である。０．０２μｍより小さいと光沢は出るがインク吸収性が劣化し、０．３μｍより大きいとフォトライクの光沢が得られない。フォトライクの光沢とは７５°の測定で４５％以上の光沢度が必要である。光沢度は日本電色工業株式会社製変角高度計（ＶＧＳ−１００１ＤＰ）で測定できる。また平均粒径は、ｍａｌｖｅｒｎ社製、光子相関法ゼータサイザー１０００ＨＳで測定できる。
【００１９】
光沢が必要ない場合は、粒径が１０μｍ以下であれば限定されない。この場合は、前記分散工程を適宜調整すればよい。例えば、予備分散のみを行う等である。１０μｍ以上になるとインク受容層が割れる（いわゆるひび割れ）現象が起こり、シリカが剥れ落ちるといった状態になる。
【００２０】
シリカ粉体自身の粒径を１０μｍ以下にしておくことで、分散工程の負荷を無くすこともできる。光沢が必要の場合もシリカ粉体自身の粒径を小さくしておくことは有利である。
【００２１】
シリカ粉体自身の粒径は乾式法の粉砕分散、例えばケージミル、ジェットミル、振動ミル等で制御できる。シリカ粉体自身の粒径は０．１μｍ〜１０μｍが好ましい。
【００２２】
上記工程を経て得られた分散液は、調液工程に移送され、水溶性バインダー等の各種添加剤が添加され、塗布工程に移送される。塗布工程では、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布法あるいは米国特許第２，６８１，２９４号公報記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法等の塗布機で支持体上に塗布される。
【００２３】
前記分散工程において、予備分散工程から本分散工程へ移送する際や、連続的に予備分散する際に、シリカと水性媒体が所定の供給量になるまで、不要となる分散液を生じる。また、本分散工程では、サンドミルを用いる場合、スタート前はベッセルの中には水が入っていることが多い。そのため分散開始直後は分散液が完全に置換するまでは、不要となる分散液を生じる。分散機のスケールが大きくなればなるほど不要な分散液の量は多くなる。高圧ホモジナイザーを用いる場合、予備分散液を容器に受け、そこから高圧ホモジナイザーに供給するため、完全に予備分散液は供給できず不要な分散液を生じる。
【００２４】
分散工程で得られた分散液は、調液工程に移送されるがその際にも不要な分散液を生じる。
【００２５】
調液工程から塗布機に移送する際、配管を用いるのが一般的で、泡の巻き込み防止のため配管は水等で満たされているため、液置換するまで捨てる必要があり、不要な塗布液を生じる。また塗布が終わる際も、作製した塗布液すべてを塗布することは不可能でここでも不要な塗布液を生ずる。
【００２６】
前記のように、インクジェット記録媒体を製造する際、不要なシリカを含む分散液、もしくは塗布液は必ず生じている。
【００２７】
一般にシリカは、炭酸カルシウムより高価で特に気相法シリカは高価である環境上、コスト上、シリカを再利用することが求められている。
【００２８】
本発明では、前記分散工程、調液工程、塗布工程からでるシリカ含有分散液もしくは塗布液を回収する装置を具備していることが好ましい。前記回収装置としては、コンテナ等の液を保管できるものであればよい。シリカ含有液はチキソ性があるため、静置されたりすると固まる性質がある。そのため攪拌機等を前記コンテナ等の容器に具備してもよい。
【００２９】
前記水性媒体としては、少なくとも、カチオン性ポリマーもしくは水溶性多価金属化合物が含有されていることが好ましい。更に好ましくは、硬膜剤も含有していることである。
【００３０】
前記カチオン性ポリマーとして好ましくは第４級アンモニウム塩基を有するポリマーであり、特に好ましくは第４級アンモニウム塩基を有するモノマーの単独重合体または他の共重合し得る１または２以上のモノマーとの共重合体である。
【００３１】
前記水溶性多価金属化合物としては、カルシウム、バリウム、マンガン、銅、コバルト、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛、ジルコニウム、クロム、マグネシウム、タングステン、モリブデンから選ばれる金属の水溶性塩が挙げられる。
【００３２】
硬膜剤は、一般的には前記水溶性ポリマーと反応し得る基を有する化合物あるいは水溶性ポリマーが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、水溶性ポリマーの種類に応じて適宜選択して用いられる。
【００３３】
硬膜剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬膜剤（ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬膜剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬膜剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、ほう酸、その塩、ほう砂、アルミ明礬等が挙げられる。
【００３４】
前記水溶性ポリマーは、例えばゼラチン（酸処理ゼラチンが好ましい）、ポリビニルピロリドン（平均分子量が約２０万以上が好ましい）、プルラン、ポリビニルアルコールまたはその誘導体、カチオン変性ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール（平均分子量が１０万以上が好ましい）、ヒドロキシエチルセルロース、デキストラン、デキストリン、水溶性ポリビニルブチラールを挙げることができ、これらの水溶性ポリマーはインク受容層の親水性バインダーとして機能し、単独で使用しても良く、２種以上を併用しても良い。そのほか、必要に応じて各種添加剤を添加できる。
【００３５】
空隙型インクジェット記録媒体に用いられるシリカとしては、気相法シリカ、湿式法シリカを用いることができ、気相法シリカとしては、日本アエロジル社製のアエロジル等が市販されている。湿式法シリカとしては、トクヤマ社製のファインシール等が市販されている。中でも、比表面積が２００ｍ２／ｇ以上４００ｍ２／ｇ以下が好ましい。
【００３６】
これらシリカは、２次凝集体が３次元的に凝集しマクロな空隙を形成する。一般に気相法シリカの方が軟凝集を作りやすくマクロ空隙を形成しやすい。一方湿式シリカは、１次粒子自身にミクロ細孔を持つため、これを利用することで、空隙量は確保でき、気相法、湿式シリカとも空隙型インクジェット記録媒体に利用できる。
【００３７】
本発明において、回収されたシリカ含有の分散液、塗布液を５００℃以上１２００℃以下で焼成することが好ましい。５００℃以下では、含有している有機物の分解が不十分となり、シリカ表面に吸着したままになるこの場合、空隙形成能が落ちる、１２００℃以上では、シリカの１次粒子自身の凝集が強くなり、マクロな空隙ができなくなる。また、シリカ自身が固くなり粉砕・分散が困難になる。焼成後、前述したように、０．１〜１０μｍに粉砕分散することが好ましい。
【００３８】
我々は検討の結果、孤立シラノール基比率が空隙、塗布液粘度に大きく影響することがわかった。孤立シラノール基比率は、ＦＴ−ＩＲを用いて求める。
【００３９】
水性媒体に分散する前のシリカを１２０℃、２４ｈｒ乾燥し、乾燥させたシリカのＦＴ−ＩＲ測定を行う。測定は、ＫＲＳ−５を２枚用いて、シリカを間に挟み測定を行う。測定装置は赤外吸光度計（日本分光製ＦＴ−ＩＲ−４１００）で透過法により１５００ｃｍ−１〜４０００ｃｍ−１の測定を行う。
【００４０】
Ｓｉ−ＯＨに起因する３７５０ｃｍ−１の吸光度、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉに起因する１８７０ｃｍ−１の吸光度を求め、以下の式で求められる値を孤立シラノール基比率とした。
【００４１】
孤立シラノール基比率（以下、ＩＲ比ともいう）＝（３７５０ｃｍ−１の吸光度／１８７０ｃｍ−１の吸光度）とする。
【００４２】
詳細に吸光度測定方法を述べる。３７５０ｃｍ−１ピークを谷渡りでベースライン処理したときの吸光度を３７５０ｃｍ−１の吸光度とし、３７６０ｃｍ−１付近の谷、２１２０ｃｍ−１付近の谷、及び１７５０ｃｍ−１付近の谷の吸光度の点を結んだ線をベースラインとし、そのときの１８７０ｃｍ−１の吸光度を１８７０ｃｍ−１の吸光度とした。
【００４３】
再生する前と再生後のシリカ粉体の孤立シラノール基比率が異なると、凝集状態が変わり、結果、空隙率が変化し、更に塗布液粘度が大きく異なる。再生後の孤立シラノール基比率が再生前より大きいと、凝集力が大きくなりすぎ空隙が減り、塗布液粘度が上昇する。逆に小さいと凝集力が弱くなり、粘度は下がるが塗布・乾燥中に最密充填状態に近くなり空隙は下がる。よって、再生前後でシリカの孤立シラノール基比率は合わせることが、必要である。
【００４４】
再生後の孤立シラノール基比率は、再生前の孤立シラノール基比率の±３０％、好ましくは±２０％にすることが好ましい。
【００４５】
孤立シラノール基比率の制御は、焼成温度や含水率で行うことができる。焼成温度を高くすると、孤立シラノール基比率は高くなる。含水率が多いと孤立シラノール基比率は低くなる。例えば、焼成温度を高めにして、焼成し、孤立シラノール基比率を高めにし、その後、水蒸気を噴き掛け、もしくは調湿し孤立シラノール基比率を調整することができる。
【００４６】
再生シリカの含水率は、０．１〜１０％が好ましい。これより小さいと静電気の発生が多くなり扱いにくくなる。逆にこれより大きいと、水分が多いためべとついたシリカになり扱いが難しくなる。
【００４７】
再生シリカには、無機物や有機物が残存する場合があるために、残存物質の定性、定量分析を行い、水性媒体、もしくは塗布液に添加する添加剤の量を調整することが好ましい。添加剤の量は、再生前のシリカを用いた場合と同じになるようにするのが記録媒体の品質を維持するために好ましい。もちろん微調整は可能である。
【００４８】
焼成の方法としては、例えばロータリーキルン、流動床、回転炉等を用いることができる。本発明の不要となったインクジェット用塗布液もしくはシリカ分散液は、液状であるため乾燥後、焼成するのが好ましい。焼成時間は、通常１０分〜２４時間程度である。
【００４９】
再生されたシリカは、前述した同様な工程を経て、インクジェット記録媒体を作ることができる。
【００５０】
本発明のインクジェット記録用媒体の支持体としては、従来公知の紙支持体、プラスチック支持体（透明支持体）、複合支持体など適宜使用できるが、より高い濃度で鮮明な画像を得るためには支持体中にインク液が浸透しない疎水性支持体を用いるのが好ましい。
【００５１】
透明支持体としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ジアセテート系樹脂、トリアセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂、セロハン、セルロイド等の材料からなるフィルム等が挙げられ、中でもＯＨＰとして使用されたときの輻射熱に耐える性質のものが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。このような透明な支持体の厚さとしては、１０〜２００μｍが好ましい。透明支持体のインク受容層側およびバッキング層側には公知の下引き層を設けることが、インク受容層やバック層と支持体の接着性の観点から好ましい。
【００５２】
また、透明である必要のない場合に用いる支持体としては、例えば、基紙の少なくとも一方に白色顔料等を添加したポリオレフィン樹脂被覆層を有する樹脂被覆紙（いわゆるＲＣペーパー）、ポリエチレンテレフタレートに白色顔料を添加してなるいわゆるホワイトペットが好ましい。
【００５３】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で「％」は特に断りのない限り絶乾（水分無しの状態）質量％を示す。
【００５４】
参考例１（記録媒体１）
市販シリカ（Ｔ−３２：トクヤマ社製、比表面積２０５ｍ２／ｇ、粒径１．５μｍ）をホウ酸とＰ−９を含有する水性媒体中にホモミキサーを用いて分散し、シリカ濃度で３０質量％の分散液を作製した。尚、ホウ酸とＰ−９の量はシリカ質量に対して、２．７％（ホウ酸）、４％（Ｐ−９）とした。この分散液にポリビニールアルコール溶液（１０％、クラレ製ＰＶＡ２３５）をシリカ質量に対して１５％になるように添加し塗布液を作製した。尚、塗布液中のシリカ濃度は１７質量％とした。
【００５５】
【化１】
2004292207.tif 000002
【００５６】
この塗布液を市販の上質紙にシリカとして１５ｇ／ｍ２になるように塗布・乾燥し記録媒体１を得た。
【００５７】
実施例１（記録媒体２）
不要になった参考例１に用いた塗布液を、６００℃で４ｈｒ焼成し、回収後粉砕し、粒径２μｍのシリカにした。このシリカを用いて参考例１と同様に記録媒体２を作製した。尚、シリカ粉体中に含有、もしくは混在しているホウ酸、Ｐ−９、ポリビニールアルコールの量を定量し、参考例１の比率になるように分散液及び塗布液を作製時に調整した。
【００５８】
（記録媒体３）
粉砕粒径を１２μｍにした以外は、記録媒体２と同様に記録媒体３を作製した。
【００５９】
（記録媒体４）
焼成温度を４００℃にした以外は、記録媒体２と同様に記録媒体４を作製した。
【００６０】
（記録媒体５）
粉砕粒径を０．５μｍにした以外は、記録媒体２と同様に記録媒体５を作製した。
【００６１】
参考例２（記録媒体６）
市販シリカ（Ａ−３００：日本アエロジル社製、比表面積：３００ｍ２／ｇ）とホウ酸、Ｐ−９を含有する水性媒体を連続的にフロージェットミキサー（粉研パウテック社製、フロージェットミキサー３００型）に供給し、予備分散をし、これを、サンドミル分散機（アシザワ社製、ＲＬ−１２５）で分散し、シリカ濃度２０質量％のシリカ分散液を作製した。尚、ホウ酸とＰ−９の量はシリカ質量に対して、２．７％（ホウ酸）、１１％（Ｐ−９）とした。この分散液にポリビニールアルコール溶液（１０％、クラレ製ＰＶＡ２３５）をシリカ質量に対して２２％になるように添加し塗布液を作製した。尚、塗布液中のシリカ濃度は１２質量％とした。
【００６２】
この塗布液を両面をポリエチレンで被覆した紙支持体（厚みが２２０μｍでインク受容層面のポリエチレン中にはポリエチレンに対して１３質量％のアナターゼ型酸化チタンを含有）に、シリカ付量が１８ｇ／ｍ２になるように塗布し記録媒体６を作製した。
【００６３】
用いたシリカ（Ａ−３００）の孤立シラノール基比率を測定したところ、５．２であった。
【００６４】
実施例２
（記録媒体７）
不要になった参考例２に用いた塗布液を、７００℃で５ｈｒ焼成し、回収後粉砕し、粒径２μｍのシリカにした。このシリカの孤立シラノール基比率を測定したところ７．１であった。このシリカをもちいて参考例２と同様にシリカ分散液を作製したところ、フロージェットミキサー内で増粘、凝固し、分散液が出てこなくなり、シリカ濃度を２０％から１３％に変更し、塗布液中のシリカ濃度も１２％から８％に変更し記録媒体７を作製した。
【００６５】
（記録媒体８）
不要になった参考例２に用いた塗布液を、７００℃で５ｈｒ焼成し、回収後粉砕し、粒径２μｍのシリカにした。このシリカの孤立シラノール基比率を測定したところ７．１であった。次にこのシリカを湿度８０％、温度３０℃の中に１０ｈｒ保管した。その後、孤立シラノール基比率を測定したところ４．８であった。このシリカをもちいて参考例２と同様に記録媒体８を作製した。
【００６６】
（記録媒体９）
不要となった参考例２に用いたシリカ分散液を用いた以外は、記録媒体８と同様に記録媒体９を作製した。尚、再生後のシリカの孤立シラノール基比率は４．９であった。
【００６７】
参考例３（記録媒体１０）
市販シリカ（Ｘ−３７：トクヤマ社製、比表面積：２７０ｍ２／ｇ、２．８μｍ）とホウ酸、ポリ水酸化アルミニウム化合物（理研グリーン社製：ピュラケムＷＴ）を含有する水性媒体を連続的にフロージェットミキサー（粉研パウテック社製、フロージェットミキサー３００型）に供給し、予備分散をし、これを、サンドミル分散機（アシザワ社製、ＲＬ−１２５）で分散し、平均粒径０．５μｍとし、シリカ濃度３０質量％のシリカ分散液を作製した。尚、ホウ酸とポリ水酸化アルミニウム化合物の量はシリカ質量に対して、２．７％（ホウ酸）、４％（ポリ水酸化アルミニウム化合物）とした。この分散液にポリビニールアルコール溶液（１０％、クラレ製ＰＶＡ２３５）をシリカ質量に対して１５％になるように添加し塗布液を作製した。尚、塗布液中のシリカ濃度は１７質量％とした。
【００６８】
この塗布液を両面をポリエチレンで被覆した紙支持体（厚みが２２０μｍでインク受容層面のポリエチレン中にはポリエチレンに対して１３質量％のアナターゼ型酸化チタンを含有）に、シリカ付量が１８ｇ／ｍ２になるように塗布し記録媒体１０を作製した。
【００６９】
実施例３
（記録媒体１１）
不要になった参考例３に用いた塗布液を、７００℃で５ｈｒ焼成し、回収後粉砕し、粒径２μｍのシリカにした。このシリカを参考例３と同様な方法で粉砕分散し、平均粒径０．１８μｍのシリカ分散液を得た。これをもちいて記録媒体１０と同様に記録媒体１１を作製した。
【００７０】
（記録媒体１２）
粉砕分散後の平均粒径を０．３５μｍにした以外は、記録媒体１０と同様に記録媒体１２を作製した。
【００７１】
（記録媒体１３）
粉砕分散後の平均粒径を０．０３μｍにした以外は、記録媒体１０と同様に記録媒体１３を作製した。
【００７２】
（記録媒体１４）
不要になった参考例３に用いた塗布液を、４００℃で５ｈｒ焼成し、粉砕分散後の平均粒径を０．２μｍにした以外は、記録媒体１０と同様に記録媒体１４を作製した。
【００７３】
得られた記録媒体１〜１４について、以下の項目を評価した。その結果を表１〜３に示す。
【００７４】
インク吸収性
セイコーエプソン社製のインクジェットプリンター、ＰＭ７５０Ｃを使用して、マゼンタのベタ印字を行い、画像部分のマダラ発生を目視評価した。インク吸収速度が遅い場合、マダラ発生が多くなる。評価ランクは以下のように行った。
○  マダラが全く無し
△  若干認められるが実用上問題なし
×  実用上問題有り、で評価した。
【００７５】
光沢度
日本電色工業株式会社製変角光度計（ＶＧＳ−１００１ＤＰ）を用いて、７５°光沢度を測定した。
【００７６】
最大濃度
セイコーエプソン社製のインクジェットプリンター、ＰＭ７５０Ｃを使用して、マゼンタのベタ印字を行い、その最大反射濃度を測定した。
【００７７】
ひび割れ
塗布面の０．３ｍ２当たりのひび割れ点数を目視でカウントした。ひび割れ点数は、通常１０点以下であれば実用上問題ない。
【００７８】
尚、表１の記録媒体は、光沢を必要としない記録媒体であるため光沢評価は行わなかった。
【００７９】
【表１】
2004292207.tif 000003
【００８０】
【表２】
2004292207.tif 000004
【００８１】
【表３】
2004292207.tif 000005
【００８２】
表１〜３より、本発明の試料は、再生シリカを用いても、再生前のシリカを用いた場合と同等以上のインク吸収性、高印字濃度、高光沢性に優れた、インクジェット記録媒体であることが分かる。
【００８３】
【発明の効果】
本発明により、不要となったシリカ含有分散液、塗布液より再生したシリカ粉体を用いてもインク吸収性、印字濃度、光沢性に優れた、インクジェット記録媒体を提供することができた。