(57)【要約】【解決手段】ワーク吸着手段（ベルヌーイ皿部１及びベルヌーイアーム２）は、搬送されてくるウエハ１４を吸着し、移動手段（移動ユニット３及び速度可変アクチュエータ１０）は、上記ワーク吸着手段を上記ウエハ１４の搬送方向へ移動させ、ワーク検出部４は上記搬送中のウエハ１４を所定の位置で検知して検知信号を出力し、制御部５は、上記検知信号を受けると上記移動手段を制御して上記ワーク吸着手段を上記搬送中のウエハ１４と共に移動させ、かつ、該ワーク吸着手段を作動させる。【効果】ワーク吸着手段に吸着受け入れ動作の難しいベルヌーイチャック等を採用しても、完全な吸着受け入れ動作が保証されるという効果を得る。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送されてくるワークを吸着するためのワーク吸着手段と、
前記ワーク吸着手段を前記ワークの搬送方向へ移動させる移動手段と、
前記搬送中のワークを所定の位置で検知して検知信号を出力するワーク検出部と、
前記検知信号を受けると前記移動手段を制御して前記ワーク吸着手段を前記搬送中のワークと共に移動させ、かつ、該ワーク吸着手段を作動させる制御部とを含むことを特徴とするワーク吸着装置。
【請求項２】
搬送されてくるワークを吸着するためのワーク吸着手段と、
前記搬送中のワークを所定の位置で検知して検知信号を出力するワーク検出部と、
前記ワークの所定の部分を加圧して前記吸着方向へ該ワークを所定量変位させるワーク押し上げ部と、
前記検知信号を受けると前記ワーク押し上げ部作動させて前記吸着方向へ該ワークを所定量変位させる制御部とを含むことを特徴とするワーク吸着装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のワーク吸着装置に於いて、
前記ワーク吸着手段は、ベルヌーイチャックであることを特徴とするワーク吸着装置。
【請求項４】
搬送されてくるワークを吸着するワーク吸着手段を所定の位置に待機させ、
前記搬送されてくるワークが前記所定の位置に到着したことを検出すると、
前記ワークの搬送方向へ該ワークの搬送速度と同一の速度で前記ワーク吸着手段を所定の時間移動させ、この間に前記ワーク吸着手段に前記ワークを吸着させることを特徴とするワーク吸着方法。
【請求項５】
搬送されてくるワークを吸着するワーク吸着手段を所定の位置に待機させ、
前記搬送されてくるワークが前記所定の位置に到着したことを検出すると、
ワークの所定の位置を加圧して前記ワークを前記ワークの吸着方向へ所定量変位させ、前記ワークの吸着を加速させることを特徴とするワーク吸着方法。
【請求項６】
請求項４又は請求項５に記載のワーク吸着方法に於いて、
前記ワーク吸着手段は、ベルヌーイの原理に基づく負圧を用いて前記ワークを吸着することを特徴とするワーク吸着方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置等の製造工程に於いて用いられるワーク吸着装置及びワーク吸着方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置等の製造工程では、ベルトコンベア状に形成されたトレーが連続的に流れてくる。このトレーにウエハが載置されている。各工程では、連続的に流れてくるトレーからウエハを受け入れる。受け入れたウエハに各工程毎に割り当てられた処理を実行し、再度トレーに戻して他の工程へ送出する。各工程毎のウエハの受け入れ及び送出をワーク吸着装置が実行する。特に、半導体装置等の製造工程では、非接触状態でウエハの受け入れ及び送出を実行することが求められている。従って、かかる動作を正確、且つ、短時間に実行することはもっとも難しい製造技術の一つに挙げられている。
【０００３】
例えば半導体製造工程の常圧ＣＶＤ装置等に用いられる従来のワーク吸着装置では、前工程で処理を終えたウエハが連続的に流れてくる。ウエハが所定の位置に到着するとベルヌーイの原理を用いたベルヌーイチャックがウエハ上に下りてきてウエハを吸着し、自工程へ受け入れる。ウエハが所定の位置に到着してからベルヌーイチャックがウエハ上に下りてきてウエハを吸着するために許される時間は約４秒前後であった。
【０００４】
ここでベルヌーイの原理を用いたベルヌーイチャックとは、吸着板の中央のノズルから気体（主に窒素ガス）を噴出させ、ウエハ表面に沿って高速の気体を流して負圧を発生させ、この負圧によってウエハを吸着板に非接触状態で保持させるようにしたアーム状のチャックを言う。このベルヌーイチャックを半導体製造工程に用いる場合の技術の一例が公開されている（例えば、特許文献１参照）。
又、ウエハ搬送装置（本発明のワーク吸着装置に該当する）の動作を正確に実行させるために搬送機構によるワークの搬送速度を高速にしたまま、ワークに与える衝撃を最小限に抑えて受取部に載置させるウエハ搬送装置の技術も公開されている（例えば特許文献２）。
【０００５】
【特許文献１】
特開昭５１−３７５７３号公報（第１−３ページ、図１）
【特許文献２】
特開平９−２３７８１８号公報（要約）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の技術では、ウエハが吸着位置に到着してからベルヌーイチャックがウエハ上に下りてきてウエハを吸着するために許される時間は約４秒前後と短く、ベルヌーイチャックでは正確な吸着動作を実行することが困難であった。
一方、吸着するために許される時間を長くすることは半導体製品の製造効率を下げることに繋がるため採用しにくい。又、非接触状態でウエハの受け入れ及び送出を実行することが求められている半導体装置等の製造工程ではベルヌーイチャック以外のチャックを採用して吸着動作を確実にすることも許容しにくい。
本発明の目的は、以上の解決すべき課題を解決し、ベルヌーイチャックを用いた構成で、ウエハの吸着を短時間で確実に実行できるワーク吸着装置及びワーク吸着方法の実現にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は以上の点を解決するため次の構成を採用する。
〈構成１〉
搬送されてくるワークを吸着するためのワーク吸着手段と、上記ワーク吸着手段を上記ワークの搬送方向へ移動させる移動手段と、上記搬送中のワークを所定の位置で検知して検知信号を出力するワーク検出部と、上記検知信号を受けると上記移動手段を制御して上記ワーク吸着手段を上記搬送中のワークと共に移動させ、かつ、該ワーク吸着手段を作動させる制御部とを含むことを特徴とするワーク吸着装置。
【０００８】
〈構成２〉
搬送されてくるワークを吸着するためのワーク吸着手段と、上記搬送中のワークを所定の位置で検知して検知信号を出力するワーク検出部と、上記ワークの所定の部分を加圧して上記吸着方向へ該ワークを所定量変位させるワーク押し上げ部と、上記検知信号を受けると上記ワーク押し上げ部を作動させて上記吸着方向へ該ワークを所定量変位させる制御部とを含むことを特徴とするワーク吸着装置。
【０００９】
〈構成３〉
構成１又は構成２に記載のワーク吸着装置に於いて、上記ワーク吸着手段は、ベルヌーイチャックであることを特徴とするワーク吸着装置。
【００１０】
〈構成４〉
搬送されてくるワークを吸着するワーク吸着手段を所定の位置に待機させ、上記搬送されてくるワークが上記所定の位置に到着したことを検出すると、上記ワークの搬送方向へ該ワークの搬送速度と同一の速度で上記ワーク吸着手段を所定の時間移動させ、この間に上記ワーク吸着手段に上記ワークを吸着させることを特徴とするワーク吸着方法。
【００１１】
〈構成５〉
搬送されてくるワークを吸着するワーク吸着手段を所定の位置に待機させ、上記搬送されてくるワークが上記所定の位置に到着したことを検出すると、ワークの所定の位置を加圧して上記ワークを上記ワークの吸着方向へ所定量変位させ、上記ワークの吸着を加速させることを特徴とするワーク吸着方法。
【００１２】
〈構成６〉
構成４又は構成５に記載のワーク吸着方法に於いて、上記ワーク吸着手段は、ベルヌーイの原理に基づく負圧を用いて上記ワークを吸着することを特徴とするワーク吸着方法。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を具体例を用いて説明する。
〈具体例１の構成〉
本具体例では、ワーク吸着手段がワークを吸着するための時間を長く設定するために、上記ワーク吸着手段を上記ワークの搬送方向へ該ワークの搬送速度と同一の速度で所定の時間移動させる。かかる動作を達成するために本具体例は以下のように構成される。ここでワーク吸着手段とは、ワーク吸着装置の構成部分であってワークと共に移動する部分を指している。
【００１４】
図１は、具体例１の構造図である。
（ａ）は、平面図を表し、（ｂ）は、正面図を表し、（ｃ）は、右側面図を表し、（ｄ）は、Ｃ部拡大図を表している。
【００１５】
図より、具体例１のワーク吸着装置は、ベルヌーイ皿部１と、ベルヌーイアーム２と、移動ユニット３と、ワーク検出部４と、制御部５と、支持プレート６と、ガイドシャフト７と、ガイドシャフト支持部（１）８と、ガイドシャフト支持部（２）９と、速度可変アクチュエータ１０とを備える。以下の説明では、ワーク吸着装置が取り扱うワークを一例として（半導体）ウエハに限定して説明する。
【００１６】
ベルヌーイ皿部１は、ウエハ表面に沿って高速の気体を噴射して負圧を発生させ、この負圧によってウエハを非接触状態で保持する吸着板である。
ベルヌーイアーム２は、ベルヌーイ皿部１を所望の位置に移動させるアームであり、且つ、付設されているガス導入部１１を介して装置の外部から所定の気体（例えば窒素ガス）を受け入れてベルヌーイ皿部１へ高速噴射用の気体を供給する部分でもある。
【００１７】
上記、ベルヌーイ皿部１及びベルヌーイアーム２とでベルヌーイチャックを構成している。
ここでベルヌーイチャックの概要について説明する（詳細は上記特許文献１に記載されている）。ベルヌーイチャックとは、ウエハの上面（ベルヌーイ皿部１と対向する面）とベルヌーイ皿部１の下面（ウエハと対向する面）の間にベルヌーイ皿部１の中央から例えば窒素ガスを供給し、噴出孔（図示していない）からベルヌーイ皿部１の外周に向けて高速で気体を噴出させると、ウエハの上面とベルヌーイ皿部１の下面とで囲む空間に負圧が発生するベルヌーイの原理を用いて、ウエハを非接触で支持するチャックを言う。
【００１８】
移動ユニット３は、ベルヌーイアーム２の基部を支持すると共に速度可変アクチュエータ１０から図中Ｙ軸方向への駆動力を受け入れて、ベルヌーイチャックと一体になって図中のＹ軸方向へ移動する部分である。又、ベルヌーイチャックを図中のＺ軸方向へ移動させる部分でもある。この機構部分について他の図を用いて詳細に説明する。
【００１９】
図２は、Ａ−Ａ断面拡大矢視図である。
図は、図１のＡ−Ａ断面を拡大した矢視図であり、図１と同一の構成部分には同一の符号が付されている。
図に示すように、移動ユニット３は、ケーシング３−５が速度可変アクチュエータ１０（図１）の一部をなすボールスクリューブロック１０−２上に固着され、速度可変アクチュエータ１０（図１）の一部をなすボールスクリュー１０−１を介してＹ軸方向（図１）への駆動力を受ける。
【００２０】
Ｙ軸方向（図１）への駆動力を受け入れた移動ユニット３は、ケーシング３−５の外壁に固定されているスライダ３−４を有し、該スライダを介してガイドシャフト７にガイドされながらＹ軸方向（図１）へ移動する。ここでガイドシャフト７は、ガイドシャフト支持部（１）８（図１）及びガイドシャフト支持部（２）９を介して支持プレート６に固着されている。尚、支持プレート６は、半導体製造装置の非可動部分に固着されている。
【００２１】
次にベルヌーイチャックのＺ軸方向への可動構造について説明する。
図に示すように、移動ユニット３は、ケーシング３−５内にエアシリンダ３−１を内蔵している。このエアシリンダ３−１は、制御部５（図１）の制御によってＺ軸方向へのピストン３−３を伸縮させる。Ｚ軸方向へピストン３−３の伸縮動作によってピストン３−３に固着されているベルヌーイアーム２がＺ軸方向へ可動することになる。
【００２２】
再度図１に戻って、ワーク検出部４は、ウエハの位置を監視するセンサである。即ち、前工程から搬送されてくるウエハが所定の位置に到着すると、そのウエハの到着を検出して制御部へ通知する部分である。通常フォトセンサ等が用いられる。このワーク検出部４は、半導体製造装置の非可動部分に固着されるのが一般的である。
【００２３】
制御部５は、ベルヌーイチャックの動作を制御するＣＰＵ（中央演算処理装置）から成る。この制御部５は、前工程から搬送されてくるウエハの到着を待ってベルヌーイ皿部１とベルヌーイアーム２からなるベルヌーイチャックを所定の位置に待機させ、ワーク検出部４が、上記ウエハが所定の位置へ到着したことを検出すると、上記ベルヌーイチャックが上記ウエハの吸着受け入れ時間を十分に確保すべく、速度可変アクチュエータ１０を制御し、ウエハの搬送方向へ該ウエハの搬送速度と同一の速度でベルヌーイチャックを所定の時間移動させる制御を実行する部分である。
【００２４】
この所定の時間内に上記ベルヌーイチャックが上記ウエハを吸着することになる。その結果、上記従来の技術ではベルヌーイチャックがウエハ上に下りてきてウエハを吸着するために許される時間は約４秒前後であったが本具体例では容易に１０秒以上に延長することが可能になる。
【００２５】
支持プレート６は、半導体製造装置の非可動部分に固着され、本具体例のウエハ搬送装置を支持する部分である。
ガイドシャフト７は、ベルヌーイチャックのＹ軸方向への移動をガイドする部分である。
ガイドシャフト支持部（１）８及びガイドシャフト支持部（２）９は、ガイドシャフト７を支持プレート６に固着する部分である。
【００２６】
速度可変アクチュエータ１０は、ボールスクリューブロック１０−２が螺合されているボールスクリュー１０−１（図２）及び該ボールスクリュー１０−１を回転駆動する精密駆動制御モータ（図示せず）からなり、ボールスクリュー１０−１（図２）を駆動することで上記のように移動ユニット３（ベルヌーイチャック）をＹ軸方向へ可変速度で移動させる部分である。上記、ボールスクリュー１０−１（図２）は、支持プレート６に回転可能に支持されている。
【００２７】
ベルヌーイアーム２に設けられているガス導入部１１は、外部のガス供給部（図示しない）に連結され、この供給部から所定の気体（例えば窒素ガス）を受け入れてベルヌーイ皿部１へ高速噴射用の気体として供給する部分でもある。
尚、トレー１２は、半導体製造工程に於いて各工程間でウエハを載置して移動するウエハ搬送手段である。このトレー１２には移動中におけるウエハ１４の位置ズレを防止するためにウエハ１４の形状に合わせた円盤状の凹部１３（ｄ図）が設けられている。
【００２８】
〈具体例１の動作〉
図３は、具体例１の動作説明図である。
（ａ）は、平面図を表し、（ｂ）は、正面図を表し、（ｃ）は、右側面図を表し、（ｄ）は、ベルヌーイ皿部のみの位置変化を表す右側面想像図である。
【００２９】
以下に、具体例１の動作を４つのステップに分割して説明する。
ステップＳ１
制御部５は、前工程からトレー１２により搬送されてくるウエハ１４の到着を待ってベルヌーイ皿部１とベルヌーイアーム２からなるベルヌーイチャックを所定の位置に待機させる。
ここで所定の位置とはＹ軸上のＰ０、Ｚ軸上のＨ０の位置である。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のＳ１に該当する。
【００３０】
ステップＳ２
ワーク検出部４がトレー１２に載置されたウエハ１４が所定の位置（Ｙ軸上のＰ０）に接近したことを検出して制御部５へ通知する。制御部５は、移動ユニット３に備えるエアシリンダ３−１（図２）を制御してベルヌーイアーム２と共にベルヌーイ皿部１を下降させる。制御部５はウエハ１４が所定の位置（Ｙ軸上のＰ０）に到着した時点でベルヌーイ皿部１をＺ軸上のＨ１の位置に到着させる。このとき制御部５は、ガス導入部１１から窒素ガスを導入し、ウエハ１４の吸着動作に入る。同時に制御部５は、速度可変アクチュエータ１０を制御してベルヌーイアーム２と共にベルヌーイ皿部１を、トレー１２の搬送方向と同一方向、且つ、搬送速度と同一速度で、移動を開始させる。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のＳ２に該当する。
【００３１】
ステップＳ３
制御部５は、ベルヌーイアーム２と共にベルヌーイ皿部１をトレー１２の搬送方向と同一方向、且つ、搬送速度と同一速度で、所定の時間（一例として１０秒前後）移動をさせて吸着動作が完了した後移動ユニット３に備えるエアシリンダ３−１（図２）を制御してベルヌーイアーム２と共にウエハ１４を吸着したままのベルヌーイ皿部１の上昇を開始させる。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のＳ３に該当する。
【００３２】
ステップＳ４
制御部５は、ウエハ１４を吸着した状態のベルヌーイ皿部１がＺ軸上のＨ０に戻った時点で前工程からのウエハの吸着受け入れ動作を終了し、自工程の動作に入る。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のＳ４に該当する。
【００３３】
以上の説明では、ワーク吸着装置が取り扱うワークを（半導体）ウエハに限定して説明したが、本発明は、この例に限定されるものではない。例えば、液晶製造工程に於けるガラス板等であっても良い。
又、以上の説明では、ベルヌーイアーム２はＹ軸方向及びＺ軸方向のみに可動する場合について説明したが本発明は、この例に限定されるものではない。例えば、ベルヌーイアーム２が所定の回転運動を伴うものであっても良い。
尚、請求項中のワーク吸着手段は、本具体例では、ベルヌーイ皿部１、ベルヌーイアーム２及び移動ユニット３とを含む機構を指している。又請求項中の移動手段は、本具体例では、移動ユニット３と、速度可変アクチュエータ１０とを含む機構を指している。
【００３４】
〈具体例１の効果〉
以上説明したように本具体例では、前工程から搬送されてくるウエハの到着を待ってワーク吸着手段を所定の位置に待機させ、ワーク検出部が、上記ウエハが所定の位置へ到着したことを検出すると、上記ワーク吸着手段が上記ウエハの吸着受け入れ可能な時間を延長すべく、上記ウエハの搬送方向へ該ウエハの搬送速度と同一の速度で上記ワーク吸着手段を所定の時間移動させる。こうすることによって、ワーク吸着手段に吸着受け入れ動作の難しいベルヌーイチャック等を採用しても、完全な吸着受け入れ動作が保証されることになる。
【００３５】
〈具体例２の構成〉
本具体例では、上記具体例１に示す、ワーク吸着手段をワークの搬送方向へ該ワークの搬送速度と同一の速度で所定の時間移動させることができない機種、又は困難な機種での完全な吸着動作を実行するために、上記ワークの所定の位置を加圧してワークをトレーから切り離し、吸着受け入れ動作を加速する。かかる目的を達成するために本具体例は以下のように構成される。
【００３６】
図４は、具体例２の構造図である。
（ａ）は、平面図を表し、（ｂ）は、正面図を表し、（ｃ）は、左側面図を表している。
【００３７】
図より、具体例２のワーク吸着装置は、ベルヌーイ皿部１と、ベルヌーイアーム２と、移動ユニット３と、ワーク検出部４と、ワーク押し上げ部２１と、移動ユニット駆動部２２と、制御部２５と、支持プレート２６と、ガイドシャフト（１）２７−１と、ガイドシャフト（２）２７−２と、ガイドシャフト支持部（１）２８−１と、ガイドシャフト支持部（２）２８−２と、ガイドシャフト支持部（３）２８−３と、ガイドシャフト支持部（４）２８−４とを備える。以下の説明では、ワーク吸着装置が取り扱うワークを一例として（半導体）ウエハに限定して説明する。
【００３８】
ワーク押し上げ部２１は、制御部２５の制御に基づいて図示していない駆動機構によって、ウエハ１４の所定の部分を加圧し、吸着方向へ該ワークを所定量変位させてウエハをトレーから切り離し、ベルヌーイチャックの実行する吸着受け入れ動作を加速する部分である。所定の部分は、一例としてウエハ１４の中心部に設定される。この目的を達成するためにワーク押し上げ部２１には、ピン２１−１が付着されている。又、このピン２１−１がウエハ１４の中心部を加圧するためにトレー３０にはピン２１−１の突入を可能にするピン突入孔３０−１が設けられている。
【００３９】
移動ユニット駆動部２２は、ベルヌーイチャックをＹ軸方向へ移動させるための駆動力を生成する部分である。他の図を用いてその構造の詳細について説明する。
図５は、Ｂ−Ｂ断面拡大矢視図である。
図は、図４のＢ−Ｂ断面を拡大した矢視図であり、図４と同一の構成部分には同一の符号が付されている。
図６は、移動ユニット駆動部の説明図である。
【００４０】
図に示すように移動ユニット駆動部２２は、ベルト駆動モータ２２−１と、ベルト２２−２と、回転子（１）２２−３と、回転子（２）２２−４と、ベルト固着部２２−５とを備える。
【００４１】
ベルト駆動モータ２２−１は、支持プレート２６に回転可能に軸支されている回転子（１）２２−３を正逆回転させるモータである。
ベルト２２−２は、上記回転子（１）２２−３と、支持プレート２６に回転可能に軸支されている回転子（２）２２−４を両回転軸として回転可能に装着されている。このベルトの所定の位置に移動ユニット３がベルト固着部２２−５を介して固着されている。
【００４２】
従って、制御部２５（図４）の制御に基づいて、ベルト駆動モータ２２−１が正逆回転することによって、移動ユニット３がＹ軸方向へ任意に移動可能となる。この移動ユニット３のＹ軸方向への移動は、ガイドシャフト支持部（１）２８−１（図４）とガイドシャフト支持部（２）２８−２によって支持プレート２６に支持されるスライダ（１）２９−１、及びガイドシャフト支持部（３）２８−３とガイドシャフト支持部（４）２８−４によって支持プレート２６に支持されるスライダ（２）２９−２によってガイドされる。
移動ユニット３のＺ軸方向への移動は、具体例１と全く同様なので説明を省略する。
【００４３】
〈具体例２の動作〉
図７は、具体例２の動作説明図である。
（ａ）は、平面図を表し、（ｂ）は、正面図を表し、（ｃ）は、左側面図を表し、（ｄ）は、ベルヌーイ皿部のみの位置変化を表す左側面想像図である。
【００４４】
以下に具体例２の動作を４つのステップに分割して説明する。
ステップｓ１
制御部２５は、前工程から搬送されてくるウエハ１４の到着を待ってベルヌーイ皿部１とベルヌーイアーム２からなるベルヌーイチャックを所定の位置に待機させる。
ここで所定の位置とはＹ軸上のＰ０、Ｚ軸上のＨ０の位置である。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のｓ１に該当する。
【００４５】
ステップｓ２
ワーク検出部４がトレー３０に載置されたウエハ１４が所定の位置（Ｙ軸上のＰ０）に接近しつつあることを検出して制御部２５へ通知する。制御部２５は、移動ユニット３に備えるエアシリンダ３−１（図５）を制御してベルヌーイアーム２と共にベルヌーイ皿部１を下降させる。制御部２５はウエハ１４が所定の位置（Ｙ軸上のＰ０）に到着した時点でベルヌーイ皿部１がＺ軸上のＨ１の位置に到着させる。このとき制御部２５は、ガス導入部１１から窒素ガスを導入し、ウエハ１４の吸着受け入れ動作に入る。同時に制御部２５は、ワーク押し上げ部２１を駆動してウエハ１４の中心部を吸引方向（Ｚ軸方向）へ突き上げてウエハ１４をトレー３０から切り離す。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のｓ２に該当する。
【００４６】
ステップｓ３
制御部２５は、ワーク押し上げ部２１を突き上げるとすぐにトレー３０の移動妨害を避けるためにベルヌーイ皿部１を元の位置に戻す。制御部２５は、吸着受け入れ動作が完了した後移動ユニット３に備えるエアシリンダ３−１（図５）を制御してベルヌーイアーム２と共にベルヌーイ皿部１を上昇させてＺ軸上のＨ０に戻す。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のｓ３に該当する。
【００４７】
ステップｓ４
制御部２５は、ウエハ１４を吸着した状態のベルヌーイ皿部１がＺ軸上のＨ０に戻った時点で前工程からのウエハの吸着受け入れ動作を終了し、自工程の動作に入る。ベルヌーイ皿部１は、（ｄ図）のｓ４に該当する。
【００４８】
以上の説明では、ワーク吸着装置が取り扱うワークを（半導体）ウエハに限定して説明したが、本発明は、この例に限定されるものではない。例えば、液晶製造工程に於けるガラス板等であっても良い。
又、以上の説明では、ベルヌーイアーム２はＹ軸方向及びＺ軸方向のみに可動する場合について説明したが本発明は、この例に限定されるものではない。例えば、ベルヌーイアーム２が所定の回転運動を伴うものであっても良い。
尚、請求項中のワーク吸着手段は、本具体例では、ベルヌーイ皿部１、ベルヌーイアーム２及び移動ユニット３とを含む機構を指している。又請求項中の移動手段は、本具体例では、移動ユニット３と、速度可変アクチュエータ１０とを含む機構を指している。
【００４９】
〈具体例２の効果〉
以上説明したように本具体例では、ワークの所定の部分を加圧して吸着方向へ該ワークを所定の値変位させるワーク押し上げ部を備えることによって、ワークの吸着動作時にワークをトレーから切り離すことができるようになるため、完全な吸着受け入れ動作が保証される。
【００５０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、前工程から搬送されてくるワークの到着を待ってワーク吸着手段を所定の位置に待機させる。ワーク検出部が、上記ワークが所定の位置へ到着したことを検出すると、上記ワーク吸着手段を上記ワークの搬送方向へ該ワークの搬送速度と同一の速度で所定の時間移動させる。こうすることによって、上記ワーク吸着手段が上記ワークを吸着するための時間を長く設定することができる。その結果、ワーク吸着手段として吸着動作の難しいベルヌーイチャック等を採用しても、完全な吸着動作が保証されるという効果を得る。
又、上記技術を採用できない機種、又は、採用しにくい機種に於いて、ワークの所定の部分を加圧して吸着方向へ該ワークを所定量変位させるワーク押し上げ部を備えることによって、ワークの吸着動作時にワークをトレーから切り離すことができるようになるため、完全な吸着動作が保証されるという効果を得る。
【図面の簡単な説明】
【図１】具体例１の構造図である。
【図２】Ａ−Ａ断面拡大矢視図である。
【図３】具体例１の動作説明図である。
【図４】具体例２の構造図である。
【図５】Ｂ−Ｂ断面拡大矢視図である。
【図６】移動ユニット駆動部の説明図である。
【図７】具体例２の動作説明図である。
【符号の説明】
１  ベルヌーイ皿部
２  ベルヌーイアーム
３  移動ユニット
４  ワーク検出部
５  制御部
６  支持プレート
７  ガイドシャフト
８  ガイドシャフト支持部（１）
９  ガイドシャフト支持部（２）
１０  速度可変アクチュエータ
１１  ガス導入部
１２  トレー
１３  凹部
１４  ウエハ
【図１】
2004296777.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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