(57)【要約】【課題】母体結晶が酸化物から構成されている蛍光体では、還元雰囲気の焼成により、母体結晶から酸素原子が奪われ、蛍光体中の酸素欠陥が増大する。【解決手段】  蛍光体の粉体を秤量、混合、充填する工程の後に、少なくとも１回以上還元雰囲気で処理する還元雰囲気中処理工程と、還元雰囲気中処理工程の後に粉砕・分散・水洗・乾燥させ、酸素イオン注入とアニール処理を行う酸素イオン注入処理工程を有し、母体結晶の酸素欠陥を修復する。【選択図】図１
2004269870.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１色または複数色の放電セルが複数配列されるとともに、前記放電セルに対応する色の蛍光体層が配設され、前記蛍光体層が紫外線により励起されて発光するプラズマディスプレイ装置であって、
前記蛍光体層のうちの少なくとも１つの蛍光体層は、組成式が、Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxで、かつ酸素イオンを注入する酸素イオン注入処理を行った蛍光体により構成したプラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記組成式Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxにおいて、０．０１≦ｘ≦０．２０、０≦ｙ≦０．３０である請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
ＥｕとＭｎとのうちの少なくとも１つ以上を付活材として添加して発光中心とし、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｍｇの元素のうち少なくとも１つ以上を含有する複合酸化物を母体結晶とする蛍光体の製造方法であって、
前記蛍光体の混合原料を少なくとも１回以上還元雰囲気で焼成する還元雰囲気中処理工程と、
前記還元雰囲気中処理工程の後に酸素イオンを注入する酸素イオン注入処理工程とを少なくとも有することを特徴とする蛍光体の製造方法。
【請求項４】
前記蛍光体の組成式が、Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕx（ただし、０．０１≦ｘ≦０．２０、０≦ｙ≦０．３０）である請求項４に記載の蛍光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ装置および蛍光体の製造方法に関し、特にその蛍光体は、プラズマディスプレイ装置を代表とする画像表示装置や、希ガス放電ランプ、高負荷蛍光ランプを代表とする照明装置に好適に利用できるものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビ等の画像表示に用いられているカラー表示デバイスにおいて、プラズマディスプレイ装置は、大型で薄型軽量を実現することができるカラー表示デバイスとして注目されている。
【０００３】
プラズマディスプレイ装置は、３原色（赤、緑、青）を加法混色することにより、フルカラー表示を行っている。このフルカラー表示を行うために、プラズマディスプレイ装置には３原色である赤、緑、青の各色を発光する蛍光体層が備えられている。そして、プラズマディスプレイ装置の放電セル内では、希ガスの放電により波長が２００ｎｍ以下の紫外線が発生し、その紫外線によって各色蛍光体が励起されて、各色の可視光が生成されている。
【０００４】
上記各色の蛍光体としては、例えば赤色を発光する（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+、Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ3+、緑色を発光する（Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ）Ｏ・ａＡｌ2Ｏ3：Ｍｎ2+、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ2+、青色を発光するＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+等が知られている。
【０００５】
この中で、青色蛍光体であるＢＡＭ系と呼ばれる母体がＢａＭｇＡｌ10Ｏ17の蛍光体は、発光輝度を高めるには、発光中心であるＥｕを２価で付活する必要があり、還元雰囲気で焼成し、作製している（例えば、非特許文献１参照）。その理由は、この蛍光体を酸化雰囲気で焼成するとＥｕは３価となり、Ｅｕは母体結晶中の２価のＢａ位置に正しく置換できないため、活性な発光中心となり得ず発光輝度が低下するからである。さらに青色蛍光体本来の目的を果たさず、Ｅｕ3+特有の赤色発光を生じる。
【０００６】
また、赤色蛍光体であるユーロピウム付活酸硫化イットリウム（Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ3+）は、Ｅｕを３価で付活する必要があるため酸化雰囲気で焼成し、作製している。一方、母体結晶が酸化物から構成されている蛍光体では、焼成中に母体結晶から酸素原子が奪われ、蛍光体中に酸素欠陥が発生すると考えられている。このような酸素欠陥を修復する方法として、Ｅｕを３価で付活するＹ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ3+は、酸素を含有する不活性ガスで焼成する方法が示されている（特許文献１参照）。
【非特許文献１】蛍光体同学会編，「蛍光体ハンドブック」，オーム社，ｐ．１７０
【特許文献１】特開２０００−２９０６４９号公報（第２−３頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、酸化雰囲気で焼成し作製する酸化物蛍光体に比べ、還元雰囲気で焼成し作製する酸化物蛍光体は、還元雰囲気が母体結晶から酸素を奪いやすくするため、母体結晶の酸素欠陥が増大する。さらに、還元雰囲気で焼成する必要がある酸化物蛍光体を酸化雰囲気で焼成すると、付活材の本来の価数を保つことが難しいという課題がある。
【０００８】
すなわち、母体結晶に酸素欠陥の多い蛍光体に、プラズマディスプレイ装置によって発生するエネルギーの高い紫外線（波長１４７ｎｍ）の照射や放電に伴うイオン衝撃が加わると、蛍光体が経時的に劣化しやすくなる。これは、酸素欠陥がある部位では、原子同士の結合が弱く、ここに高エネルギーの紫外線やイオン衝撃が加えられると、結晶構造を乱し非晶質化しやすいためと考えられる。非晶質化した部位は母体結晶の劣化を意味し、プラズマディスプレイ装置では、経時的な輝度劣化、色度変化による色ずれや、画面の焼き付け等を起こすことになる。
【０００９】
また酸素欠陥修復のため、還元雰囲気で焼成する必要がある酸化物蛍光体を酸化雰囲気で焼成すると、例えばＢＡＭ系蛍光体では、Ｅｕは３価のＥｕ3+となり、著しい輝度劣化を引き起こす。
【００１０】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり発光中心であるＥｕ、Ｍｎを２価で付活する必要がある母体結晶が酸化物の蛍光体においても、発光輝度を低下させることなく、酸素欠陥を修復することができる蛍光体の製造方法と、発光輝度が高く、なおかつ輝度劣化の小さい蛍光体と、それを用いたプラズマディスプレイ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の蛍光体の製造方法は、ＥｕとＭｎとのうち少なくとも１つ以上を付活材として添加され発光中心とし、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｍｇの元素のうち少なくとも１つ以上を含有する複合酸化物を母体結晶とする蛍光体の製造方法であって、蛍光体の混合原料を少なくとも１回以上還元雰囲気で焼成する還元雰囲気中処理工程と、還元雰囲気中処理工程の後に酸素イオンを注入する酸素イオン注入処理工程とを少なくとも有する。このような製造方法とすることにより、還元雰囲気中処理工程で生じた母体結晶の酸素欠陥が、酸素イオンを注入する酸素イオン注入処理工程により修復されるため、発光輝度が高く、なおかつ輝度劣化の小さい蛍光体の製造方法となる。
【００１２】
また、本発明の蛍光体は、蛍光体の組成式が、Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕx（ただし、０．０１≦ｘ≦０．２、０≦ｙ≦０．３）で構成される。
このようなアルミン酸塩蛍光体では、上述の製造方法とすることにより、母体結晶の酸素欠陥修復の効果が大きい。
【００１３】
そして、その蛍光体を用いた本発明のプラズマディスプレイ装置は、１色または複数色の放電セルが複数配列されるとともに、放電セルに対応する色の蛍光体層が配設され、その蛍光体層が紫外線により励起されて発光するプラズマディスプレイ装置であって、蛍光体層のうち少なくとも１つの蛍光体層は、組成式が、Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxで、かつ酸素イオンを注入する酸素イオン注入処理を行った蛍光体を含む。このようなプラズマディスプレイ装置とすることによって、発光輝度が高く、蛍光体の母体結晶中に酸素欠陥が少ないため、実使用時に輝度劣化の発生が抑制される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、発光中心であるＥｕ、Ｍｎを２価で付活する必要がある母体結晶が酸化物の蛍光体においても、発光輝度を低下させることなく、酸素欠陥を修復することができ、これにより発光輝度が高く、なおかつ輝度劣化の小さいプラズマディスプレイ装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１６】
図１は本発明の実施の形態の蛍光体の製造方法を示す工程図であり、アルミン酸塩蛍光体の１つであるＢａＳｒＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕの合成を例に説明する。
【００１７】
ステップ１の粉体秤量工程では、各金属の原料として一般的に炭酸塩、酸化物や水酸化物である以下のものを使用し、秤量する。すなわち、バリウム原材料として炭酸バリウム、水酸化バリウム、酸化バリウム、硝酸バリウム等のバリウム化合物、ストロンチウム原材料としては炭酸ストロンチウム、水酸化ストロンチウム、硝酸ストロンチウム等のストロンチウム化合物、マグネシウム原材料として炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、硝酸マグネシウム等のマグネシウム化合物、アルミニウム原材料として酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム化合物、また、ユーロピウム原材料として酸化ユーロピウム、炭酸ユーロピウム、水酸化ユーロピウム、硝酸ユーロピウム等のユーロピウム化合物を用いる。そして、これらの原料を所定の構成イオンのモル比となるように秤量する。なお、各原料は炭酸塩や酸化物、水酸化物に限らず、いずれの化合物でもよい。
【００１８】
ステップ２の混合工程では、上述の秤量された原料に、必要に応じてフッ化アルミニウム、フッ化バリウム、フッ化マグネシウム等の結晶成長促進剤であるフラックスを同時に混合する。ここで混合手段としては、例えばボールミルを用いて１時間〜５時間程度混合する。また、原料の混合はボールミルにて湿式で混合したり、ボールミルにより混合する他に共沈法や各金属をアルコキシドとしたものを原料に用い液相で混合する等、いずれの方法でも可能である。
【００１９】
ステップ３の充填工程では、これらの混合物を高純度アルミナ坩堝等の耐熱坩堝に充填する。
【００２０】
ステップ４の大気雰囲気中処理工程では、充填された混合粉末を大気雰囲気で、母体結晶の結晶成長を促進することを目的として、８００℃以上、１５００℃以下の温度範囲で１時間から１０時間焼成する。なお、ステップ４は結晶成長の促進であるので必須のステップではない。
【００２１】
ステップ５の還元雰囲気中処理工程では、充填された混合粉末を還元雰囲気、例えば窒素雰囲気で所望の結晶構造を形成しうる温度で焼成する。本発明の実施の形態のアルミン酸塩蛍光体では、１１００℃以上、１５００℃以下の温度範囲で１時間から５０時間焼成する。
【００２２】
ステップ６の酸素イオン注入処理工程では、所定の大きさにした蛍光体粉末に酸素イオン注入を行った後、５００℃〜６００℃で約５時間アニール処理を行う。このような酸素イオン注入により、還元雰囲気中処理工程で生じた母体結晶の酸素欠陥部に酸素原子が入り込み、酸素欠陥が修復される。
【００２３】
ステップ７の粉砕・分散・水洗・乾燥工程では、酸素イオン注入処理工程で処理した混合粉末を、十分に冷却した後に、例えば分散手段としてビーズミルを用いて１時間程度湿式で粉砕および分散し、水洗する。ここで、混合粉末の粉砕・分散は、ビーズミルに限らず、ボールミルやジェットミル等他のいずれの分散装置を用いてもよい。この後、粉砕・分散され水洗された蛍光体の粉末を脱水して十分に乾燥した後、所定の篩にかけ、蛍光体の粉末を得る。
【００２４】
なお本実施の形態では、還元雰囲気中処理工程とその後の酸素イオン注入処理工程を１回としたが、Ｅｕを２価にして輝度を高めるための還元雰囲気中処理工程と、母体結晶の酸素欠陥を修復する酸素イオン注入処理工程とを複数回繰り返してもよい。また、母体結晶の結晶成長を促進する大気雰囲気中処理工程が還元雰囲気中処理工程の前に１回以上あってもよい。そして、各処理工程後には粉末を粉砕、分散、水洗してもよい。
【００２５】
図２は、本発明の実施の形態の酸素イオン注入を行う処理装置の断面図である。真空チャンバー４１は加熱ヒーター４２で温度制御が可能で、４００℃〜７００℃に設定可能である。酸素欠陥のある蛍光体４０は、真空チャンバー４１の上方から投入バルブ４５を開けて供給され、少量づつ落下される。真空チャンバー４１の中程には、酸素イオン源であるイオン銃４４が設けられている。イオン銃４４は高周波電源を用いる構造のものがよく、ボンベ４９から管５０により酸素ガスが供給される。酸素ガスは高周波電源（図示せず）によるプラズマによりイオン化し、これを所定の加速電圧で加速し、酸素イオンビームが得られる。そして落下してきた酸素欠陥のある蛍光体４０に、酸素イオンビームが照射され、酸素欠陥の修復された蛍光体４３となる。
【００２６】
なお、１ヶの酸素イオンビームでは酸素欠陥のある蛍光体４０の限られた面にしか照射されないので、酸素欠陥修復を完全なものとするために、移送管バルブ４６を開放し、移送管４８によって酸素欠陥のある蛍光体４０を上方へ移送して真空チャンバー４１内に再び落下させ、完全に酸素欠陥が修復されるまで繰り返す。酸素欠陥のある蛍光体４０は所定の酸素欠陥修復を施した後、真空を解除して排出バルブ４７を開放し、取り出される。
【００２７】
次に、各種アルミン酸塩蛍光体Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxを少なくとも還元雰囲気中処理工程の後、酸素イオン注入を行い作製したときの特性を実施例に基づいて説明する。
【００２８】
（実施例１）
原料として、十分に乾燥して恒量となった炭酸バリウム（ＢａＣＯ3）、炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ3）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の各粉末を用意した。そして、これらの原料を構成イオンのモル比で、Ｂａ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．９９：１．００：０．０１：１０．００となるように秤量した。次に、上述の秤量された原料に、結晶成長促進剤としてフッ化アルミニウムを、ボールミルを用いて３時間混合した。
【００２９】
次に、これらの混合物を高純度アルミナ坩堝に充填し、大気雰囲気で１２００℃、１時間焼成した。その後、焼成された混合粉末を、窒素ガスが２０％、水素ガス８０％の還元雰囲気で１２００℃、１０時間、２度目の焼成をした。その後、焼成粉を粉砕、分散、洗浄、乾燥し、篩い分け処理を行った後、図２の酸素イオン注入を行う処理装置で、イオン銃より導入する酸素の量を１０ｃｃ／ｍｉｎとし、数回繰り返して酸素イオンビームを照射した。その後、真空チャンバー内温度を５００℃とし、５時間アニール処理をした。
【００３０】
そして、このような処理を行った粉末を、水洗した。水洗された混合粉末蛍光体を脱水し、十分に乾燥した後、所定の篩にかけ、一般式がＢａ0.99ＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ0.01の蛍光体粉末を作製した。
【００３１】
次に、作製した蛍光体粉末に真空紫外エキシマ光照射装置（ウシオ電機（株）：１４６ｎｍ光照射器）により得られたピーク波長が１４６ｎｍの真空紫外線を照射して、輝度計（ミノルタカメラ（株）：ＬＳ−１１０）で照射時間に対する輝度を測定した。ここでは、輝度の特性値として、以下に定義する相対輝度値を評価指標とした。相対輝度値とは、各蛍光体の相対初期発光強度に輝度維持率を乗じたものである。ここで相対初期発光強度とは、従来品の初期発光強度を１００としたとき、各実施例材料の初期発光強度の割合を示したものである。また、輝度維持率とは、５０００時間での各実施例材料の輝度を、各実施例材料の初期発光強度で除した百分率値である。すなわち、この相対輝度値とは、一定の時間経過後の蛍光体の輝度を、従来の蛍光体と本発明の実施例の蛍光体とで比較するものである。材料構成比、処理条件と相対輝度値とを表１に示す。
【００３２】
（実施例２、３）
実施例１と同じ原料で、構成イオンのモル比をＢａ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．９：１．０：０．１：１０．０としたものを実施例２、Ｂａ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．８：１．０：０．２：１０．０としたものを実施例３とする。実施例２、３と実施例１が異なる点は次の通りとする。実施例２では、大気雰囲気で１４００℃、１時間、分圧比で窒素が９５％、水素が５％の還元雰囲気で１１００℃、１０時間焼成した。実施例３では、大気雰囲気で８００℃、１時間、分圧比で窒素が１００％の還元雰囲気で１２００℃、１０時間焼成した。そして、これらの条件で作製した蛍光体粉末を実施例１と同様に、相対輝度値で評価した。表１に、処理条件等と相対輝度値を示す。
【００３３】
（実施例４〜９）
実施例１の原料に加えて、炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ3）の粉末を用意し構成イオンのモル比をＢａ：Ｓｒ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．８９：０．１０：１．００：０．０１：１０．００としたものを実施例４、Ｂａ：Ｓｒ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．８：０．１：１．０：０．１：１０．０としたものを実施例５、Ｂａ：Ｓｒ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．７：０．１：１．０：０．２：１０．０としたものを実施例６、Ｂａ：Ｓｒ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．６９：０．３０：１．００：０．０１：１０．００としたものを実施例７、Ｂａ：Ｓｒ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．６：０．３：１．０：０．１：１０．０としたものを実施例８、Ｂａ：Ｓｒ：Ｍｇ：Ｅｕ：Ａｌ＝０．５：０．３：１．０：０．２：１０．０としたものを実施例９とする。実施例４〜９と実施例１が異なる点は次の通りとする。実施例４では、大気雰囲気での焼成がなく、分圧比で水素が１００％の還元雰囲気で１１００℃、１０時間焼成した。実施例５では、大気雰囲気で１３００℃、１時間、分圧比で窒素が９９％、水素が１％の還元雰囲気で１２００℃、１０時間焼成した。実施例６では、大気雰囲気で１４００℃、１時間、分圧比で窒素が９０％、水素が１０％の還元雰囲気で１４００℃、１０時間焼成した。実施例７では、大気雰囲気で１３００℃、１時間、分圧比で窒素が９８％、水素が２％の還元雰囲気で１３００℃、１０時間焼成した。実施例８では、大気雰囲気で１０００℃、１時間、分圧比で窒素が９０％、水素が１０％の還元雰囲気で１３００℃、１０時間焼成した。実施例９では、大気雰囲気で１２００℃、１時間、分圧比で窒素が５０％、水素が５０％の還元雰囲気で１３００℃、１０時間焼成した。そして、これらの条件で作製した蛍光体粉末を実施例１と同様に、相対輝度値で評価した。表１に、処理条件等と相対輝度値を示す。
【００３４】
（比較例）
比較例は、実施例５と同じ構成イオンのモル比の蛍光体を、従来の製造方法で作製したもの（従来品）で、実施例５と異なるのは酸素欠陥修復のための酸素イオン注入による処理工程がない点である。この試料の輝度維持率は６９％であり、従って相対輝度値は６９である。
【００３５】
【表１】
2004269870.tif 000003
【００３６】
表１からわかるように、アルミン酸塩蛍光体Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxでは０．０１≦ｘ≦０．２、０≦ｙ≦０．３の範囲で、相対輝度値が従来品である比較例に比べ、平均１６向上し、発光輝度が高くなっているのがわかる。なお、上記アルミン酸塩蛍光体Ｂａ(1-x-y)ＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：ＥｕxにおけるＢａ、Ｓｒ、Ｅｕの量ｘ、ｙは、上記の範囲内で顕著な効果が得られるが、Ｍｇ、Ａｌの量に関しては、上記のモル量（Ｍｇが１、Ａｌが１０）の±５％程度の組成範囲であれば、発光効率改善効果は変わらなかった。
【００３７】
実施例１〜９では、試料作成にかかわる還元雰囲気焼成条件、およびそれに先立つ大気雰囲気焼成条件を種々変えているが、これによる相対輝度値への影響よりも、酸素イオン注入による処理の有無が、相対輝度値への差異をもたらしたと考えられる。特に構成イオンのモル比が同一で、酸素欠陥修復のための酸素イオン注入処理工程の有無だけが異なる、実施例５と比較例では相対輝度値で２０の差が見られるからである。さらに、酸素イオン注入処理の効果は、以下のことから推認される。
【００３８】
第１に、Ｅｕは通常２価にも３価にもなりうる付活材としてよく用いられるが、青色蛍光体であるＢＡＭ系の例では、その原材料からＢａ(1-x)ＭｇＡｌ10Ｏ17の母体結晶を生成させつつ、２価のＥｕを２価のＢａで置換させ安定な発光中心Ｅｕ2+を作る必要がある。これには、従来からの基本的焼成方法として、１０００℃〜１５００℃の高温で、４時間以上、適当な還元雰囲気で焼成すればよい。
【００３９】
第２に、上述の還元雰囲気で生じた母体結晶の酸素欠陥修復については、蛍光体に酸素イオンを注入し、５００℃〜６００℃のアニール処理を施したとき、酸素欠陥修復効果が確認された。
【００４０】
また、Ｓｒは蛍光体の組成に含まれていなくてもよいが、Ｓｒが含まれているとＢａ2+の一部がよりイオン半径の小さなＳｒ2+で置換され、結晶構造の格子定数を少し縮めて、青色蛍光体の発光色をより望ましい色に近づけることができる。
【００４１】
次に、図３は本発明の実施の形態のプラズマディスプレイ装置の要部斜視図である。前面板ＰＡ１は、透明で絶縁性の前面基板１１上に、走査電極１２ａと維持電極１２ｂよりなる表示電極１５と、これらを覆うように誘電体層１３とが形成され、さらにこの誘電体層１３上に保護層１４が形成されて構成される。
【００４２】
ここで表示電極１５は前面基板１１上に一定のピッチを有し、所定の本数形成されている。また誘電体層１３は表示電極１５の形成後で、しかも、この表示電極１５を確実に覆うことが必要とされるために、一般的には低融点ガラスを印刷・焼成方式で形成している。ガラスペースト材料としては、例えば酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化ホウ素（Ｂ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）および酸化バリウム（ＢａＯ）等を含む、いわゆる（ＰｂＯ−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｎＯ−ＢａＯ）系ガラス組成を有する低融点ガラスペーストを用いることができる。このガラスペーストを用いて、例えばスクリーン印刷と焼成とを繰り返すことで、所定の膜厚の誘電体層１３を容易に得ることができる。なお、この膜厚は表示電極１５の厚さや、目標とする静電容量値等に応じて設定すればよい。本発明の実施の形態では、誘電体層１３の膜厚は約４０μｍである。さらに酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）および酸化リン（ＰＯ4）の少なくとも１つを主成分とするガラスペーストを用いることもできる。
【００４３】
また、保護層１４は、プラズマ放電により誘電体層１３がスパッタリングされないようにするために設けるもので、耐スパッタリング性に優れた材料であることが要求される。このために、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が多く用いられている。
【００４４】
一方、同様に透明で絶縁性を有する背面基板１６上に、画像データを書き込むためのデータ電極１７が前面板ＰＡ１の表示電極１５に対して直交する方向に形成される。このデータ電極１７を覆うように背面基板１６面上に絶縁体層１８を形成した後、このデータ電極１７と平行で、かつデータ電極１７間のほぼ中央部に隔壁１９を形成する。また隔壁１９間で挟まれた領域に、蛍光体層２０が形成されて、背面板ＰＡ２が構成される。なお、この蛍光体層２０はＲ光、Ｇ光およびＢ光に発光する蛍光体が隣接して形成され、これらで画素を構成している。
【００４５】
なお、データ電極１７は抵抗の低い銀やアルミニウムや銅等の単層構造膜、あるいはクロムと銅の２層構造、クロムと銅とクロムの３層構造等の積層構造膜を、印刷・焼成方式やスパッタリング等の薄膜形成技術で形成する。また、絶縁体層１８は誘電体層１３と同一の材料と成膜方式で形成することもできる。さらに酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）および酸化リン（ＰＯ4）の少なくとも１つを主成分とするガラスペーストを用いてもよい。前述の製造方法で製造し、それぞれＲ光、Ｇ光およびＢ光に発光する蛍光体を、例えばインクジェット法で隔壁１９で囲まれた領域に塗布し、蛍光体層２０を形成する。
【００４６】
前面板ＰＡ１と背面板ＰＡ２とを対向させると、隔壁１９、前面基板１１上の保護層１４、および背面基板１６上の蛍光体層２０で囲まれた放電空間３０が形成される。この放電空間３０にＮｅとＸｅの混合ガスを約６６．５ｋＰａの圧力で充填し、走査電極１２ａと維持電極１２ｂ間に数１０ｋＨｚ〜数１００ｋＨｚの交流電圧を印加して放電させると、励起されたＸｅ原子が基底状態に戻る際に発生する紫外線により蛍光体層２０を励起することができる。この励起により蛍光体層２０は、塗布された材料に応じてＲ光、Ｇ光、またはＢ光の発光をするので、データ電極１７により発光させる画素および色の選択を行えば、所定の画素部で必要な色を発光させることができ、カラー画像を表示することが可能となる。
【００４７】
図４は、前述のプラズマディスプレイ装置に使用した蛍光体の輝度変化率を示すグラフである。表示電極１５間に振幅１８０Ｖ、周波数１５ｋＨｚのパルス電圧を印加、本発明の実施の形態で製造された実施例５の蛍光体と従来の方法で製造された比較例の蛍光体とを調べた発光輝度の経時変化である。点灯初期の発光輝度を１００％とし、各点灯時間での発光輝度を点灯初期の発光輝度で除した値を輝度変化率とする。５０００時間点灯時の輝度変化率は、従来の方法で製造された蛍光体は７２％に低下するのに対して、本発明の実施の形態で製造された蛍光体は８６％の発光輝度を維持しており、輝度変化率のみの点からでも１４％の改善が得られ、輝度劣化が抑制された。これは本発明の実施の形態の製造方法で得られた蛍光体は、還元雰囲気で焼成された後に、酸素イオン注入されているため、蛍光体の結晶構造中に酸素欠陥が少なく、非晶質構造を取る部分も少なくなる。その結果、紫外線照射やイオン衝撃があっても結晶構造の劣化が少なく、輝度劣化も小さくなる。
【００４８】
なお、本実施の形態ではＢＡＭ系で付活材としてＥｕ2+を用いた場合で説明したが、その他のＥｕ2+を付活材とするＣａＭｇＳｉ2Ｏ6：Ｅｕや、付活材としてＭｎ2+を用いた酸化物を母体結晶とする緑色蛍光体（Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ）Ｏ・ａＡｌ2Ｏ3：Ｍｎでも、酸素イオン注入により発光輝度が高く、輝度劣化の抑制効果があった。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
以上説明したように本発明によれば、発光中心であるＥｕ、Ｍｎを２価で付活する必要がある母体結晶が酸化物の蛍光体においても、発光輝度を低下させることなく、酸素欠陥を修復することができ、プラズマディスプレイ装置を代表とする画像表示装置や、希ガス放電ランプ、高負荷蛍光ランプを代表とする照明装置の性能改善に有用な発明である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施の形態の蛍光体の製造方法を示す工程図
【図２】本発明の実施の形態の酸素イオン注入を行う処理装置の断面図
【図３】本発明の実施の形態のプラズマディスプレイ装置の要部斜視図
【図４】本発明の実施の形態のプラズマディスプレイ装置に使用した蛍光体の輝度変化率を示すグラフ
【符号の説明】
【００５１】
１１  前面基板
１２ａ  走査電極
１２ｂ  維持電極
１３  誘電体層
１４  保護層
１５  表示電極
１６  背面基板
１７  データ電極
１８  絶縁体層
１９  隔壁
２０  蛍光体層
３０  放電空間
４０  酸素欠陥のある蛍光体
４１  真空チャンバー
４２  加熱ヒーター
４３  酸素欠陥の修復された蛍光体
４４  イオン銃
４５  投入バルブ
４６  移送管バルブ
４７  排出バルブ
４８  移送管
４９  ボンベ
５０  管
ＰＡ１  前面板
ＰＡ２  背面板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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