(57)【要約】【課題】短時間で効率的に、様々な機能性材料として有用な、多様な含複素環配位子を有するレニウム錯体を製造する方法を提供する。【解決手段】レニウム化合物と含窒素複素環配位子化合物を反応させて、様々な機能性材料として有用な複数の含窒素複素環配位子を有するレニウム錯体を製造する方法において、マイクロ波照射下好ましくは極性溶媒の存在下で反応を行う。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
レニウム化合物と含窒素複素環配位子化合物とを反応させて、含窒素複素環配位子を複数有するレニウム錯体を製造する方法において、該反応をマイクロ波照射下で行うことを特徴とするレニウム錯体の製造方法。
【請求項２】
該レニウム錯体が、下記一般式（１）で表される構造を有することを特徴とする請求項１に記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１】
2004099548.tif 000019
（式中、Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ環Ｙ１〜Ｙ４を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環Ｙ１〜Ｙ４は置換基を有していてもよく、また他の環と結合していてもよく、さらに同一又は異なっていてもよい）
【請求項３】
該レニウム錯体が、下記一般式（２）で表される構造を有することを特徴とする請求項１に記載のレニウム錯体の製造方法。
【化２】
2004099548.tif 000020
（式中、Ｚ５〜Ｚ８はそれぞれ環Ｙ５〜Ｙ８を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環Ｙ５〜Ｙ８は置換基を有していてもよく、また他の環と結合していてもよく、さらに環Ｙ５とＹ７及び環Ｙ６とＹ８とは同一又は異なっていてもよい）
【請求項４】
該レニウム錯体が、下記一般式（３）で表される構造を有することを特徴とする請求項１に記載のレニウム錯体の製造方法。
【化３】
2004099548.tif 000021
（式中、Ｚ９〜Ｚ１２はそれぞれ環Ｙ９〜Ｙ１２を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環Ｙ９〜Ｙ１２は置換基を有していてもよく、また他の環と結合していてもよく、さらに各環Ｙ９、Ｙ１１及びＹ１２は同一又は異なっていてもよい）
【請求項５】
該反応を極性溶媒の存在下で行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【請求項６】
該レニウム化合物が、下記一般式（４）で表されるイオン性又は中性のレニウム化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化４】
Ｒｅ（ＣＯ）５（Ｘ１）　　　　　　　　　　　　　　　　　（４）
（式中、Ｘ１はアニオン性の単座配位子もしくは中性の単座配位子を示す）
【請求項７】
該レニウム化合物が、下記一般式（５）で表される構造を有するレニウム化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化５】
2004099548.tif 000022
（式中、Ｚ１３、Ｚ１４はそれぞれ環Ｙ１３、Ｙ１４を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合していても良く、Ｘ２は、アニオン性の単座配位子もしくは中性の単座配位子を示し、環Ｙ１３とＹ１４とは同一でも異なっていても良い）
【請求項８】
該レニウム化合物が、下記一般式（６）で表される構造を有するレニウム化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化６】
2004099548.tif 000023
（式中、Ｚ１５、Ｚ１６はそれぞれ環Ｙ１５、Ｙ１６を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合していても良く、Ｘ３はアニオン性の単座配位子もしくは中性の単座配位子を示し、Ｙ１５とＹ１６は同一でも異なっていても良い）
【請求項９】
該含窒素複素環配位子化合物が、下記一般式（７）で表される２座配位子化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化７】
2004099548.tif 000024
（式中、Ｚ１７、Ｚ１８はそれぞれ環Ｙ１７、Ｙ１８を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合していても良く、環Ｙ１７とＹ１８は同一でも異なっていても良い）
【請求項１０】
該含窒素複素環配位子化合物が、下記一般式（８）で表される２座配位子化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化８】
2004099548.tif 000025
（式中、Ｚ１９、Ｚ２０はそれぞれ環Ｙ１９、Ｙ２０を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合していても良く、環Ｙ１９、Ｙ２０は同一でも異なっていても良い）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機電界発光素子、太陽エネルギー変換素子、太陽電池用色素、光触媒などに使われる機能性材料として有用な含窒素複素環配位子を複数有するレニウム錯体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ピリジン系化合物を配位子とするレニウム錯体（以下、単にレニウム錯体とも言う）は、様々な機能性材料として大きな注目を集めている。
例えば、このレニウム錯体を有機電界発光材料として用いることが知られている（特許文献１）。
また、このレニウム錯体を太陽電池用の増感色素に用いることが知られている（非特許文献１）。
レニウム錯体については、今後、有機発光素子、太陽電池用増感色素、光触媒等としての実用化に向けた研究が進むことが期待されている。
レニウム錯体についての開発は、２座配位子であるピリジン系化合物を１つ有するレニウム錯体を中心に行われており、複数のピリジン系化合物を配位子とするレニウム錯体については、その合成が非常に困難であることから、その合成例の報告は非常に少ない。
例えば、その合成例としては、レニウム（ＩＩＩ）化合物を用いて２，２’−ビピリジンが複数配位したレニウム（Ｉ）錯体を合成する方法が知られている（非特許文献２）。
また、オイルバス等を用いて、レニウム（Ｉ）化合物とピリジン化合物を加熱還流する方法が知られている（非特許文献３）。
しかしながら、これらの従来の合成方法では、▲１▼合成ルートが複雑であり、多段階反応を必要とする、▲２▼目的物であるレニウム錯体の収率が低い等の問題点があった。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１７３６７４号公報
【非特許文献１】
「Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、
１９９７年、第３６巻、Ｐ２
【非特許文献２】
「Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、
１９９６年、第３５巻、Ｐ５５８４
【非特許文献３】
「Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、
１９９４年、第３３巻、Ｐ５４５
【非特許文献４】
「Ｔｈｅ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、
１９８３年、第８７巻、Ｐ９５２
【非特許文献５】
「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、
１９９７年、第５３０巻、Ｐ１６９
【非特許文献６】
「Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｒｅｖｉｅｗｓ」、
１９８８年、第８４巻、Ｐ８５
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、短時間で効率的に多様な複数の含窒素複素環化合物を配位子として有するレニウム錯体を製造する方法を提供することをその課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明によれば、以下に示すレニウム錯体の製造方法が提供される。
（１）レニウム化合物と含窒素複素環配位子化合物とを反応させて、含窒素複素環配位子を複数有するレニウム錯体を製造する方法において、該反応をマイクロ波照射下で行うことを特徴とするレニウム錯体の製造方法。
（２）該レニウム錯体が、下記一般式（１）で表される構造を有することを特徴とする前記（１）に記載のレニウム錯体の製造方法。
【化９】
2004099548.tif 000002
（式中、Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ環Ｙ１〜Ｙ４を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環Ｙ１〜Ｙ４は置換基を有していてもよく、また他の環と結合していてもよく、さらに同一又は異なっていてもよい）
（３）該含窒素複素環レニウム錯体が、下記一般式（２）で表される構造を有することを特徴とする前記（１）に記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１０】
2004099548.tif 000003
（式中、Ｚ５〜Ｚ８はそれぞれ環Ｙ５〜Ｙ８を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環Ｙ５〜Ｙ８は置換基を有していてもよく、また他の環と結合していてもよく、さらに環Ｙ５とＹ７及び環Ｙ６とＹ８とは同一又は異なっていてもよい）
（４）該レニウム錯体が、下記一般式（３）で表される構造を有することを特徴とする前記（１）に記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１１】
2004099548.tif 000004
（式中、Ｚ９〜Ｚ１２はそれぞれ環Ｙ９〜Ｙ１２を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環Ｙ９〜Ｙ１２は置換基を有していてもよく、また他の環と結合していてもよく、さらに各環Ｙ９、Ｙ１１及びＹ１２は同一又は異なっていてもよい）
（５）該反応を極性溶媒の存在下で行うことを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
（６）該レニウム化合物が、下記一般式（４）で表されるイオン性又は中性のレニウム化合物であることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１２】
Ｒｅ（ＣＯ）５（Ｘ１）　　　　　　　　　　　　　　　　　（４）
（式中、Ｘ１はアニオン性の単座配位子もしくは中性の単座配位子を示す）
（７）該レニウム化合物が、下記一般式（５）で表される部分構造を有するレニウム化合物であることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１３】
2004099548.tif 000005
（式中、Ｚ１３、Ｚ１４はそれぞれ環Ｙ１３、Ｙ１４を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合していても良く、Ｘ２は、アニオン性の単座配位子もしくは中性の単座配位子を示し、環Ｙ１３とＹ１４とは同一でも異なっていても良い）
（８）該レニウム化合物が、下記一般式（６）で表される構造を有するレニウム化合物であることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１４】
2004099548.tif 000006
（式中、Ｚ１５、Ｚ１６はそれぞれ環Ｙ１５、Ｙ１６を形成するのに必要な原子群を表し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合しても良く、Ｘ３はアニオン性の単座配位子もしくは中性の単座配位子を示し、Ｙ１５とＹ１６は同一でも異なっていても良い）
（９）該含窒素環配位子化合物が、下記一般式（７）で表される２座配位子であることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１５】
2004099548.tif 000007
（式中、Ｚ１７、Ｚ１８はそれぞれ環Ｙ１７、Ｙ１８を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合していても良く、環Ｙ１７とＹ１８は同一でも異なっていても良い）
（１０）該含窒素複素配位子化合物が、下記一般式（８）で表される２座配位子化合物であることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載のレニウム錯体の製造方法。
【化１６】
2004099548.tif 000008
（式中、Ｚ１９、Ｚ２０はそれぞれ環Ｙ１９、Ｙ２０を形成するのに必要な原子群を示し、これらの環は置換基を有していても良く、また他の環と結合していても良く、環Ｙ１９、Ｙ２０は同一でも異なっていても良い）
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明のレニウム錯体の製造方法は、レニウム化合物と含窒素複素環配位子化合物とを反応させるに際し、該反応をマイクロ波（ｍｉｃｒｏｗａｖｅ）照射下で行うことを特徴とする。この反応の典型的例を以下の反応式（Ｉ）及び（ＩＩ）に示す。
【０００７】
【化１７】
2004099548.tif 000009
【０００８】
【化１８】
2004099548.tif 000010
【０００９】
前記反応式（Ｉ）及び（ＩＩ）に関して、反応原料として用いるレニウム化合物（ａ１）及び（ａ３）において、Ｘ１、Ｘ４は、アニオン性の単座配位子又は中性の単座配位子を示す。このような単座配位子には、従来公知の各種のもの、例えば、ハロゲン原子（塩素、臭素、ヨウ素、フッ素）、アセトニトリル、トリフレート、テトラヒドロフラン、一酸化炭素、リン配位子等が包含される。
【００１０】
また、反応式（Ｉ）及び（ＩＩ）に関し、反応原料として用いる含窒素複素環配位子化合物（ａ２）、レニウム化合物（ａ３）及び含窒素複素環配位子化合物（ａ４）において、Ｚ２１〜Ｚ２６は、それぞれ、環Ｙ２１〜Ｙ２６を形成するのに必要な原子群を示し、これらのＺ２１〜Ｚ２６及びＹ２１〜Ｙ２６は同一又は異なっていてもよい。また、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は窒素原子又は炭素原子を示す。
Ｚ２１〜Ｚ２６は、炭素原子やヘテロ原子（窒素原子、酸素原子、イオウ原子、セレン原子等）であることができる。
ｎは０〜５の数を示す。
【００１１】
環Ｙ２１、Ｙ２３、Ｙ２６は少なくとも窒素を環構成元素として含む複素環である。一方、環Ｙ２２、Ｙ２４、Ｙ２５は、炭素環である他、環構成元素として少なくとも窒素原子を含む複素環又は窒素原子以外のヘテロ原子を含む複素環であることができる。
環Ｙ２１〜Ｙ２６は、環構成原子が５〜１００、好ましくは５〜５０の環であることができ、また、これらの環には、他の炭素環や複素環が結合していてもよい。この場合の他の環の結合には、鎖状結合及び縮合結合が包含されるが、好ましくは縮合結合である。他の環は、環構成原子が５〜１００、好ましくは５〜５０の炭素環や複素環であることができる。
【００１２】
前記複素環には、脂肪族複素環及び芳香族複素環が包含される。複素環を構成する環構成元素には、１つ又は複数のヘテロ元素（酸素、窒素、イオウ、セレン等）が包含される。
複素環は、単環又は多環構造のものであることができ、その分子中に含まれる全複素環を構成する元素数は５〜２０、好ましくは５〜１３である。
芳香族複素環としては、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ピリジン環、キノキサリン環、プリン環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、キノキサリン環、プリン環、アクリジン環、フェナントロリン環等を挙げることができる。
【００１３】
脂肪族複素環としては、ピラゾリン環、ピラリジン環、ピペリジン環、インドリン環、モルホリン環、ピラン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環、イミダゾリン環、オキサゾリン環等を挙げることができる。
【００１４】
前記複素環や炭素環には、炭素原子や窒素原子に結合し得る通常の置換基が結合していてもよく、このような置換基には、炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素オキシカルボニル基、炭化水素カルボニル基、炭化水素カルボニルオキシ基、ハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基等が包含される。
【００１５】
炭化水素基には、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が包含される。
脂肪族炭化水素基には、鎖状及び環状のものが包含され、さらに、飽和及び不飽和のものが包含される。鎖状脂肪族炭化水素基には、アルキル基及びアルケニル基が包含される。環状脂肪族炭化水素基には、シクロアルキル基及びシクロアルケニル基が包含される。
【００１６】
アルキル基において、その主鎖を構成する炭素数は、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜６である。
【００１７】
アルケニル基において、その主鎖を構成する炭素数は、好ましくは２〜１０、より好ましくは２〜６である。シクロアルキル基及びシクロアルケニル基において、その環数は１つ又は複数（２〜４、好ましくは２〜３）であることができる。その分子中に含まれる全炭素環を構成する炭素数は３〜２０、好ましくは５〜１３である。
【００１８】
前記芳香族炭化水素基には、単環のもの及び多環のものが包含され、多環のものには、縮合多環のもの及び鎖状多環のものが包含される。より具体的には、芳香族基には、アリール基及びアラルキル基が包含される。
【００１９】
アリール基は、単環または多環構造のものであることができ、その分子中に含まれる全炭素環を構成する炭素数は６〜２０、好ましくは６〜１６である。
アラルキル基は、単環または多環構造のものであることができ、その分子中に含まれる全炭素環を構成する炭素数は７〜２０、好ましくは７〜１７である。
【００２０】
前記炭化水素基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、ビニル、プロペニル、ブチニル、ヘキセニル、オクテニル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロオクチル、シクロヘキセニル、シクロオクチニル、フェニル、トリル、ナフチル、ビフェニリル、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチルが挙げられる。
【００２１】
前記炭化水素オキシ基において、その炭化水素基の種類及びその具体例としては、前記したものを示すことができる。好ましい炭化水素オキシ基としては、アルコキシ基及びアリーロキシ基を挙げることができる。
前記アルコキシ基において、そのアルキル基には、鎖状及び環状のアルキル基が包含される。鎖状構造のアルキル基の場合、その鎖状アルキル基の主鎖を構成する炭素数は、１〜１０、好ましくは１〜６である。また環状アルキル基の場合、その環状アルキル基は単環または多環であることができ、炭素環を構成する炭素数は３〜２０、好ましくは３〜１３である。
前記アリーロキシ基において、そのアリール基は単環または多環であることができ、その炭素環を構成する炭素数は６〜１９、好ましくは６〜１６である。
【００２２】
前記炭化水素オキシカルボニル基において、その炭化水素基の種類及びその具体例としては、前記したものを示すことができる。好ましい炭化水素オキシカルボニル基としては、アルコキシカルボニル基及びアリーロキシカルボニル基を挙げることができる。この場合、アルコキシカルボニル基におけるアルキル基及びアリーロキシカルボニル基におけるアリール基としては、前記アルコキシ基及びアリーロキシ基に関して示したものを挙げることができる。
【００２３】
前記炭化水素カルボニル基において、その炭化水素基の種類及びその具体例としては、前記したものを示すことができる。好ましい炭化水素カルボニル基としては、アルキルカルボニル基及びアリールカルボニル基を挙げることができる。この場合、アルキルカルボニル基におけるアルキル基及びアリールカルボニル基におけるアリール基としては、前記アルコキシ基及びアリーロキシ基に関して示したものを挙げることができる。
【００２４】
前記炭化水素カルボニルオキシ基において、その炭化水素基の種類及びその具体例としては、前記したものを示すことができる。好ましい炭化水素カルボニルオキシ基としては、アルキルカルボニルオキシ基及びアリールカルボニルオキシ基を挙げることができる。この場合、アルキルカルボニルオキシ基におけるアルキル基及びアリールカルボニルオキシ基におけるアリール基としては、前記アルコキシ基及びアリーロキシ基に関して示したものを挙げることができる。
【００２５】
ハロゲン化炭化水素基において、その炭化水素基としては、前記したものを挙げることができる。ハロゲンには、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素が包含される。好ましいハロゲン化炭化水素は、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、特にパーフルオロアルキル基である。
【００２６】
置換アミノ基は、アミノ基の水素原子の少なくとも１つを置換基で置換したものである。このような置換基には、炭化水素基や、炭化水素オキシ基等の窒素原子に結合可能な各種のものが包含される。好ましい置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
【００２７】
置換シリル基は、シリル基の水素原子の少なくとも１つを置換基で置換したものである。このような置換基には、炭化水素基や、炭化水素オキシ基等の窒素原子に結合可能な各種のものが包含される。好ましい置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
【００２８】
本発明で用いる原料レニウム化合物としては、前記一般式（４）〜（６）で表されるものが全て使用でき、また、原料レニウム化合物の価数は問わないが、１価のものが好ましい。前記一般式（４）〜（６）の化合物については、市販のものを使用しても良いし、既報（［非特許文献４］、［非特許文献５］、［特許文献１］等）に従って合成することもできる。
【００２９】
本発明に用いられる原料として含窒素複素環配位子化合物としては、金属−窒素結合または金属−炭素結合からなる結合を２つ形成することが可能な配位子化合物が用いられる。例えば、２，２’−ビピリジン誘導体、２，２’−ビピラジン誘導体、２，２’−ビピリミジン誘導体、２，２’−ビピリダジン誘導体、２，２’−ビキノリン誘導体、１，１０−フェナントロリン誘導体、２，２’−６’，２”−テルピリジン誘導体、２−フェニルピリジン誘導体、２−フェニルキノリン誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体、２−（２−チエニル）ピリジン誘導体、２−ベンジルピリジン誘導体及び２−（１−ナフチル）ピリジン誘導体、［非特許文献６］に記載の配位子、［特許文献１］に記載の配位子等が使用できる。
【００３０】
本発明では、目的物である複数の含窒素環配位子を有するレニウム錯体を効率よく得るために、カウンターイオンとなる塩を反応後の溶液に加えても良い。このような塩としては、例えば、ＮＨ４ＰＦ６、ＫＰＦ６、ＮａＰＦ６、ＮａＢＦ４、ＫＢＦ４、ＮａＢ（Ｐｈ）４、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、ＮａＩ、ＮＨ４ＳｂＦ６、ＬｉＣｌＯ４等がある。
【００３１】
本発明は、これらのレニウム化合物と含窒素複素環配位子化合物を反応させて、複数の含窒素複素環配位子を有するレニウム錯体を製造する際に、該反応をマイクロ波照射下で行うものである。マイクロ波の波長に特に制限はないが、２０００〜３０００ＭＨｚ、好ましくは２４００〜２５００ＭＨｚである。マイクロ波発振装置としては、市販されている従来公知の発振装置が全て適用できる。
【００３２】
本発明においては、上記反応を更に円滑に進めるために、反応溶媒として、極性溶媒を用いることが望ましい。このような溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水、もしくはそれらの混合溶媒などが挙げられるが、高沸点のエチレングリコール、グリセリン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはそれらを含む混合溶媒を用いることが望ましい。
【００３３】
前記の反応温度、反応圧力、反応時間は、使用する原料、マイクロ波の波長、溶媒などによって異なるが、通常、反応温度は２０〜３００℃、好ましくは１００〜３００℃、反応圧力は１〜３０ａｔｍ、好ましくは１〜５ａｔｍ、反応時間は１０〜１２０分、好ましくは３０〜８０分である。
【００３４】
本発明によって得られた複数の含窒素複素環配位子を有するレニウム錯体については、通常の合成反応の後処理に従って処理した後、精製してあるいは精製せずに各種用途に供することができる。後処理の方法としては、例えば、抽出、冷却、水または有機溶媒を添加することによる晶析、反応混合物からの溶媒を留去する操作等を単独あるいは組み合わせて行うことができる。精製の方法としては再結晶、蒸留、昇華あるいはカラムクロマトグラフィー等を単独あるいは組み合わせて行うことができる。
【００３５】
以下に、本発明によって製造されるレニウム錯体の例示例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００３６】
【化１９】
2004099548.tif 000011
【００３７】
【化２０】
2004099548.tif 000012
【００３８】
【化２１】
2004099548.tif 000013
【００３９】
【化２２】
2004099548.tif 000014
【００４０】
【実施例】
以下に本発明を実施例により詳述するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４１】
合成例１（反応式ＩＩＩ）
［Ｒｅ（２，２’−ｂｉｐｙｒｉｄｉｎｅ）（ＣＯ）３（ＭｅＣＮ）］＋のＰＦ６塩を１００ｍｇ、２，２’−ビピリジンを７７ｍｇ、グリセリン２０ｍｌをナスフラスコに入れた。このナスフラスコをマイクロ波発振装置（ＨＩＴＡＣＨＩ製、ＭＲ−２５０）に入れ、反応装置の上部には還流冷却管を取り付けた。還流冷却管の上部からはテフロン（登録商標）管を通じて、この溶液にアルゴンガスを２０分間通気した。その後、マイクロ波（２４５０ＭＨｚ）を５０分間照射し、反応溶液を室温まで冷却した後、アルゴンガスを止めた。反応後の赤色溶液をエレクトロスプレーイオン化質量分析法で分析したところ、原料錯体は完全に消失し、錯体生成物として例示化合物（Ａ−１）が定量的に生成していることがわかった。この反応溶液にＮＨ４ＰＦ６飽和水溶液（１０ｍｌ）を加えることで、生成物（Ａ−１）をＰＦ６塩として得た。さらに、この生成物をプロトンＮＭＲで分析し、生成物が例示化合物（Ａ−１）であること、さらに副生成物がないことを確認した。単離収率は４５％であった。
【００４２】
【化２３】
2004099548.tif 000015
【００４３】
合成例２（反応式ＩＶ）
［Ｒｅ（ＣＯ）５Ｃｌ］を１００ｍｇ、２，２’−ビピリジンを１３４ｍｇ、グリセリン２０ｍｌをナスフラスコに入れた。このナスフラスコをマイクロ波発振装置（ＨＩＴＡＣＨＩ製、ＭＲ−２５０）に入れ、反応装置の上部には還流冷却管を取り付けた。還流冷却管の上部からはテフロン（登録商標）管を通じて、この溶液にアルゴンガスを２０分間通気した。その後、マイクロ波（２４５０ＭＨｚ）を５０分間照射し、反応溶液を室温まで冷却した後、アルゴンガスを止めた。反応後の赤色溶液をエレクトロスプレーイオン化質量分析法で分析したところ、原料錯体は完全に消失し、錯体生成物として例示化合物（Ａ−１）が定量的に生成していることがわかった。この反応溶液にＮＨ４ＰＦ６飽和水溶液（１０ｍｌ）を加えることで、生成物（Ａ−１）をＰＦ６塩として得た。さらに、この生成物をプロトンＮＭＲで分析し、生成物が例示化合物（Ａ−１）であること、さらに副生成物がないことを確認した。単離収率は４８％であった。
【００４４】
【化２４】
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【００４５】
合成例３（反応式Ｖ）
［Ｒｅ（４，４’−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−２，２’−ｂｉｐｙｒｉｄｉｎｅ）（ＣＯ）３Ｃｌ］を１００ｍｇ、２，２’−ビピリジンを６４ｍｇ、グリセリン３０ｍｌをナスフラスコに入れた。このナスフラスコをマイクロ波発振装置（ＨＩＴＡＣＨＩ製、ＭＲ−２５０）に入れ、反応装置の上部には還流冷却管を取り付けた。還流冷却管の上部からはテフロン（登録商標）管を通じて、この溶液にアルゴンガスを２０分間通気した。その後、マイクロ波（２４５０ＭＨｚ）を７０分間照射した。反応溶液を室温まで冷却した後、アルゴンガスを止めた。反応後の赤色溶液にＮＨ４ＰＦ６飽和水溶液（１０ｍｌ）を加えることで、生成物をＰＦ６塩として得た。さらに、この生成物をプロトンＮＭＲとエレクトロスプレーイオン化質量分析法で分析したところ、例示化合物（Ａ−１９）、例示化合物（Ａ−１）、例示化合物（Ａ−２）の生成比率は、３８：５３：９であった。
【００４６】
【化２５】
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【００４７】
合成例４（反応式ＶＩ）
［Ｒｅ（１，１０−Ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ）（ＣＯ）３Ｃｌ］を５０ｍｇ、２，２’−ビピリジンを３２ｍｇ、グリセリン３０ｍｌをナスフラスコに入れた。このナスフラスコをマイクロ波発振装置（ＨＩＴＡＣＨＩ製、ＭＲ−２５０）に入れ、反応装置の上部には還流冷却管を取り付けた。還流冷却管の上部からはテフロン（登録商標）管を通じて、この溶液にアルゴンガスを２０分間通気した。その後、マイクロ波（２４５０ＭＨｚ）を５０分間照射した。反応溶液を室温まで冷却した後、アルゴンガスを止めた。反応後の赤色溶液にＮＨ４ＰＦ６飽和水溶液（１０ｍｌ）を加えることで、生成物をＰＦ６塩として得た。さらに、この生成物をプロトンＮＭＲとエレクトロスプレーイオン化質量分析法で分析したところ、例示化合物（Ａ−２１）、例示化合物（Ａ−１）、例示化合物（Ａ−８）の生成比率は、５３：３６：１１であった。
【００４８】
【化２６】
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【００４９】
【発明の効果】
本発明方法によれば、短時間で効率的に、様々な機能性材料として有用な、多様な複数の含窒素複素環配位子を有するレニウム錯体を製造することができる。