(57)【要約】【課題】アドレス特性を安定化させることができるプラズマディスプレイパネルとその低コストな製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】前面基板１と背面基板２を対向配置し、放電空間３を形成するとともに、放電空間３を隔壁１１で区画し、プライミング放電セル１６と主放電セル１２を形成し、プライミング放電セル１６には誘電体層１７の上にプライミング電極１５を形成しているため、データ電極１０とプライミング電極１５の絶縁性を確保し、さらに主放電の前に確実にプライミング放電を発生させることができる。【選択図】  図１
2004296314.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に互いに平行となるように配置した第１電極および第２電極と、
前記第１の基板に放電空間を挟んで対向配置される第２の基板上に前記第１電極および第２電極と直交する方向に配置した第３電極と、
前記第２の基板上に前記第１電極および前記第２電極と平行に配置した第４電極と、
前記第２の基板上に隔壁により区画し形成された第１放電空間と第２放電空間とを有し、
前記第１放電空間に前記第１電極、前記第２電極および前記第３電極とで放電を行う主放電セルを形成するとともに、前記第２放電空間に前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と前記第４電極とで放電を行うプライミング放電セルを形成し、
前記第２放電空間において、前記第４電極は誘電体層上に形成されるとともに前記第３電極よりも前記第１電極および前記第２電極に近づいて配置されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
第３電極が誘電体層に覆われていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
隔壁は、第１電極および第２電極と直交する方向に延びる縦壁部と、前記第１電極および前記第２電極と平行して連続的な隙間部を形成する横壁部とで構成し、前記隙間部によって第２放電空間が形成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
第１の基板上に互いに平行となるように配置した第１電極および第２電極と、前記第１の基板に放電空間を挟んで対向配置される第２の基板上に前記第１電極および前記第２電極と直交する方向に配置した第３電極と、前記第２の基板上に前記第１電極および前記第２電極と平行に配置した第４電極と、前記第２の基板上に隔壁により区画し形成された第１放電空間と第２放電空間とを有し、前記第１放電空間に前記第１電極、前記第２電極および前記第３電極とで放電を行う主放電セルを形成するとともに、前記第２放電空間に前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と前記第４電極とで放電を行うプライミング放電セルを形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２放電空間を形成する工程が、
少なくとも前記第３電極と直交する長手方向に連続的に誘電体層を形成する工程と、
前記誘電体層上に連続的に前記第４電極を形成する工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
誘電体層を形成する工程は少なくともノズルから誘電体ペーストを吐出させながら第２放電空間に充填する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
第４電極を形成する工程は少なくともノズルから電極材料ペーストを吐出させながら第２放電空間に充填する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
第２の基板上に隔壁をパターンニングして形成した後、連続的に誘電体層を充填する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
隔壁と誘電体層とを同時に焼成固化することを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、壁掛けテレビや大型モニターに用いられるプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＡＣ型として代表的な交流面放電型プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）は、面放電を行う走査電極および維持電極を配列して形成したガラス基板からなる前面板と、データ電極を配列して形成したガラス基板からなる背面板とを、両電極がマトリックスを組むように、しかも間隙に放電空間を形成するように平行に対向配置し、その外周部をガラスフリットなどの封着材によって封着することにより構成されている。そして、基板間には、隔壁によって区画された放電セルが設けられ、この隔壁間のセル空間に蛍光体層が形成された構成である。このような構成のＰＤＰにおいては、ガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線でＲ、Ｇ、Ｂの各色の蛍光体を励起して発光させることによりカラー表示を行っている（特許文献１参照）。
【０００３】
このＰＤＰは、１フィールド期間を複数のサブフィールドに分割し、発光させるサブフィールドの組み合わせによって駆動し階調表示を行う。各サブフィールドは初期化期間、アドレス期間および維持期間からなる。画像データを表示するためには、初期化期間、アドレス期間および維持期間でそれぞれ異なる信号波形を各電極に印加している。
【０００４】
初期化期間には、例えば、正極性のパルス電圧をすべての走査電極に印加し、走査電極および維持電極を覆う誘電体層上の保護膜および蛍光体層上に必要な壁電荷を蓄積する。
【０００５】
アドレス期間では、すべての走査電極に、順次負極性の走査パルスを印加することにより走査し、表示データがある場合、走査電極を走査している間に、データ電極に正極性のデータパルスを印加すると、走査電極とデータ電極との間で放電が起こり、走査電極上の保護膜の表面に壁電荷が形成される。
【０００６】
続く維持期間では、一定の期間、走査電極と維持電極との間に放電を維持するのに十分な電圧を印加する。これにより、走査電極と維持電極との間に放電プラズマが生成され、一定の期間、蛍光体層を励起発光させる。アドレス期間においてデータパルスが印加されなかった放電空間では、放電は発生せず蛍光体層の励起発光は起こらない。
【０００７】
このようなＰＤＰでは、アドレス期間の放電に大きな放電遅れが発生し、アドレス動作が不安定になる、あるいはアドレス動作を完全に行うためにアドレス時間を長く設定しアドレス期間に費やす時間が大きくなりすぎるといった問題があった。これら問題を解決するために、前面板に補助放電電極を設け前面板側の面内補助放電によって生じたプライミング放電によって放電遅れを小さくするＰＤＰとその駆動方法が提案されている（特許文献２参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００１−１９５９９０号公報
【特許文献２】
特開２００２−２９７０９１号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらＰＤＰにおいて、高精細化してライン数が増えたときには、さらにアドレス時間に費やす時間が長くなり、維持期間に費やす時間を減らさなければならず、高精細化したときに輝度の確保が難しいという問題が生じる。さらに、高輝度・高効率化を達成するために、キセノン（Ｘｅ）分圧を上げた場合においても放電開始電圧が上昇し、放電遅れが大きくなりアドレス特性が悪化してしまうという問題があった。また、アドレス特性はプロセスの影響も大きいため、アドレス時の放電遅れを小さくしてアドレス時間を短くすることが求められている。
【００１０】
このような要求に対し、従来の前面板面内でプライミング放電を行うＰＤＰは、アドレス時の放電遅れを十分に短縮できない、あるいは補助放電の動作マージンが小さい、誤放電を誘発して動作が不安定であるなどの課題があった。また、補助放電が前面板の面内で行われるために隣接する放電セルへプライミングに必要な粒子以上のプライミング粒子が供給されてクロストークを生じるなどの課題があった。
【００１１】
本発明は、上述した課題に鑑みなされたものであり、前面板と背面板との間でプライミング放電を行い、プライミング放電を安定して発生させることで、高精細化した場合でもアドレス特性が安定したＰＤＰおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明のＰＤＰは、第１の基板上に互いに平行となるように配置した第１電極および第２電極と、第１の基板に放電空間を挟んで対向配置される第２の基板上に前記第１電極および第２電極と直交する方向に配置した第３電極と、第２の基板上に第１電極および第２電極と平行に配置した第４電極と、第２の基板上に隔壁により区画し形成された第１放電空間と第２放電空間とを有し、第１放電空間に第１電極、第２電極および第３電極とで放電を行う主放電セルを形成するとともに、第２放電空間に第１電極および第２電極の少なくとも一方と第４電極とで放電を行うプライミング放電セルを形成し、第２放電空間において、第４電極は誘電体層上に形成されるとともに第３電極よりも第１電極および第２電極に近づいて配置されている。
【００１３】
この構成によれば、第２放電空間では第４電極が誘電体層上に形成されている、すなわち第３電極と第４電極とが誘電体層を介して絶縁されているために両電極間の絶縁耐圧が確保できる。さらにその誘電体層によってプライミング放電を行う第２放電空間での放電距離が主放電を第１放電空間における放電距離よりも小さくなるため、第２放電空間でのプライミング放電を第１放電空間での主放電のアドレス放電の前に確実に行うことができる。その結果、アドレス特性に優れたＰＤＰを実現することが可能となる。
【００１４】
また、第３電極が誘電体層に覆われているため、さらに第３電極と第４電極との絶縁耐圧を確保し、より第４電極を第１電極あるいは第２電極側に近づけることができる。
【００１５】
また、隔壁は、第１電極および第２電極と直交する方向に延びる縦壁部と、第１電極および第２電極と平行して連続的な隙間部を形成する横壁部とで構成し、隙間部によって第２放電空間が形成されている。そのため、第２放電空間への誘電体層を第１放電空間と別個に設け、絶縁耐圧を確保して確実にプライミング放電を行うことができる。
【００１６】
さらに、本発明のＰＤＰの製造方法は、第１の基板上に互いに平行となるように配置した第１電極および第２電極と、第１の基板に放電空間を挟んで対向配置される第２の基板上に第１電極および第２電極と直交する方向に配置した第３電極と、第２の基板上に第１電極および第２電極と平行に配置した第４電極と、第２の基板上に隔壁により区画し形成された第１放電空間と第２放電空間とを有し、第１放電空間に第１電極、第２電極および第３電極とで放電を行う主放電セルを形成するとともに、第２放電空間に第１電極および第２電極の少なくとも一方と第４電極とで放電を行うプライミング放電セルを形成するＰＤＰの製造方法であって、第２放電空間を形成する工程が、少なくとも第３電極と直交する長手方向に連続的に誘電体層を形成する工程と、誘電体層上に連続的に第４電極を形成する工程とを含んでいる。
【００１７】
この製造方法によれば、隔壁により区画された第２放電空間に連続的に誘電体層を形成し、さらにその上に連続的に第４電極を形成するため製造プロセスを簡便にできる。
【００１８】
また、誘電体層を形成する工程が少なくともノズルから誘電体ペーストを吐出させながら第２放電空間に充填する工程を含み、第４電極を形成する工程が少なくともノズルから電極材料ペーストを吐出させながら第２放電空間に充填する工程を含むため、第２放電空間に確実に簡便、低コストで誘電体層と第４電極を形成することが可能となる。
【００１９】
また、第２の基板上に隔壁をパターンニングして形成した後、連続的に誘電体層を充填し、また隔壁と誘電体層とを同時に焼成固化しているため、隔壁の焼成工程と誘電体層の焼成工程とを同一にでき、プロセスの簡略化が図られる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態によるＰＤＰについて、図面を用いて説明する。
【００２１】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１におけるＰＤＰを示す断面図、図２は第１の基板である前面基板側の電極配列を模式的に示す平面図、図３は第２の基板である背面基板側を模式的に示す斜視図である。
【００２２】
図１に示すように、第１の基板であるガラス製の前面基板１と、第２の基板であるガラス製の背面基板２とが放電空間３を挟んで対向して配置され、その放電空間３には放電によって紫外線を放射するガスとして、ネオンおよびキセノン（Ｘｅ）などが封入されている。前面基板１上には、前面板誘電体層４および保護膜５で覆われ、かつ、第１電極である走査電極６と第２電極である維持電極７とで対をなす帯状の電極群が互いに平行となるように配置されている。この走査電極６および維持電極７は、それぞれ透明電極６ａ、７ａと、この透明電極６ａ、７ａ上に重なるように形成されかつ導電性を高めるための銀などからなる金属母線６ｂ、７ｂとから構成されている。また、図１、図２に示すように、走査電極６と維持電極７とは、走査電極６−走査電極６−維持電極７−維持電極７・・・となるように２本ずつ交互に配列され、隣り合う２つの維持電極７の間と走査電極６の間には発光時のコントラストを高めるための光吸収層８が設けられている。走査電極６同士が隣り合う光吸収層８上には補助電極９が設けられており、その補助電極９はＰＤＰの非表示部（端部）で隣り合う走査電極６のうちの１つと接続されている。
【００２３】
また、図１、図３に示すように、背面基板２上には、走査電極６および維持電極７と直交する方向に、第３電極である複数の帯状のデータ電極１０が互いに平行となるように配置されている。また、背面基板２上には、走査電極６および維持電極７とデータ電極１０とで形成される複数の放電セルを区画するための隔壁１１が形成されている。隔壁１１は、前面基板１に設けられた走査電極６および維持電極７と直交する方向、すなわちデータ電極１０と平行な方向に延びる縦壁部１１ａと、この縦壁部１１ａに交差するように設けて第１の放電空間である主放電セル１２を形成し、かつ主放電セル１２の間に隙間部１３を形成する横壁部１１ｂとで構成されている。主放電セル１２には蛍光体層１４が設けられ放電セルが形成されている。
【００２４】
また、図３に示すように、背面基板２の隙間部１３はデータ電極１０と直交する方向に連続的に形成され、走査電極６同士が隣り合う部分に対応する隙間部１３にのみ、前面基板１と背面基板２間で放電を生じさせるための第４電極であるプライミング電極１５がデータ電極１０と直交する方向に形成され、第２の放電空間であるプライミング放電セル１６を形成している。プライミング放電セル１６では、データ電極１０が誘電体層１７に覆われ、プライミング電極１５がその誘電体層１７上に形成されている。したがって、プライミング電極１５はデータ電極１０よりも前面基板１の保護膜５に近い位置に設けられており、主放電セル１２の前面基板１とデータ電極１０間の放電距離よりも、誘電体層１７の厚み分だけ放電距離が短くなるように構成されている。
【００２５】
次に、ＰＤＰに画像データを表示させる方法について説明する。ＰＤＰを駆動する方法として、１フィールド期間を２進法に基づいた発光期間の重みを持った複数のサブフィールドに分割し、発光させるサブフィールドの組み合わせによって階調表示を行っている。各サブフィールドは初期化期間、アドレス期間および維持期間からなる。図４は、本発明におけるＰＤＰを駆動するための駆動波形の一例を示す波形図である。まず、初期化期間において、プライミング電極Ｐｒ（図１のプライミング電極１５）が形成されたプライミング放電セル（図１のプライミング放電セル１６）では、正のパルス電圧をすべての走査電極Ｙ（図１の走査電極６）に印加し、補助電極（図１の補助電極９）とプライミング電極Ｐｒとの間で初期化が行われる。次のアドレス期間においては、プライミング電極Ｐｒには正の電位が常に印加される。このため、プライミング放電セルにおいては、走査電極Ｙｎに走査パルスＳＰｎが印加されたときに、プライミング電極Ｐｒと補助電極との間でプライミング放電が発生し、主放電セル（図１の主放電セル１２）にプライミング粒子が供給される。次に、ｎ＋１番目の主放電セルの走査電極Ｙｎ＋１に走査パルスＳＰｎ＋１が印加されるが、このときには直前にプライミング放電が起こっているために、プライミング粒子が既に供給されているため次のアドレス時の放電遅れを小さくできる。なお、ここでは、ある１フィールドの駆動シーケンスのみの説明を行ったが、他のサブフィールドにおける動作原理も同様である。図４に示す駆動波形において、アドレス期間にプライミング電極Ｐｒに正の電圧を印加することによって、上述した動作をより確実に起こすことができる。なお、アドレス期間のプライミング電極Ｐｒの印加電圧は、データ電極Ｄに印加するデータ電圧値よりも大きな値に設定するのが望ましい。
【００２６】
このように、本実施の形態では、プライミング放電セル１６においてプライミング電極１５が誘電体層１７上に形成されているため、データ電極１０とプライミング電極１５間の絶縁耐圧を誘電体層１７で確保することができ、プライミング放電とアドレス放電が安定してできる。また、このプライミング放電セル１６に設けた誘電体層１７によって、主放電セル１２の放電空間の高さよりも、プライミング放電セル１６の放電空間の高さを小さくしている。そのため、補助電極９と接続された走査電極６に対応する主放電セル１２におけるプライミング放電が、当該主放電セル１２でのアドレス放電の前に確実に安定して発生させることができ、当該主放電セル１２での放電遅れを小さくすることができるものである。
【００２７】
また、本実施の形態では、プライミング放電セル１６に単独に誘電体層１７を設けているため、誘電体層１７の材料物性値や寸法値が自由に設定できる。そのため、主放電動作とプライミング放電動作との安定化と絶縁耐圧特性の両方を満たす設計および製造が容易に実現できるものである。
【００２８】
（実施の形態２）
図５は本発明の実施の形態２におけるＰＤＰを示す断面図、図６は第２の基板である背面基板側を模式的に示す斜視図である。
【００２９】
図５、図６に示すように実施の形態２の基本構成は図１に示す実施の形態１と同様であり、同一構成要素について同一符号を付している。実施の形態２は背面基板２の構成が異なっている。すなわち、実施の形態２では、背面基板２にデータ電極１０を設け、当該データ電極１０が下地誘電体層１８によって覆われている。隔壁１１はその下地誘電体層１８上に形成され、さらに隔壁１１によって仕切られたプライミング放電セル１６と主放電セル１２が形成されている。したがって、プライミング放電セル１６においては、下地誘電体層１８上にさらに誘電体層１７が形成され、その誘電体層１７上にプライミング電極１５が形成されている。
【００３０】
このように下地誘電体層１８を設けることによって、下地誘電体層１８から反射効果を増大させて輝度を上げることや、蛍光体層１４とデータ電極１０との反応を抑制して耐久性を向上させることができるなどの効果がある。実施の形態２では、実施の形態１で述べた効果に加え、さらに、データ電極１０とプライミング電極１５との絶縁耐圧を確実に確保することができるとともに、プライミング放電セル１６の放電空間の高さをより小さくすることが可能となる。したがって、プライミング放電を確実で安定的に発生させることができ、高精細なＰＤＰに好適な放電遅れの小さい構成を実現できるものである。
【００３１】
なお、図３および図６に示すように、実施の形態１と実施の形態２においては、プライミング放電セル１６および隙間部１３が隔壁１１の２つの横壁部１１ｂによってのみ形成された長方形空間となっているが、主放電セル１２と同様に縦壁部１１ａが設けられていても良い。
【００３２】
（実施の形態３）
図７は本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの背面基板の製造プロセスフロー図である。また、図８は誘電体層とプライミング電極を形成する充填塗布装置の概要図である。
【００３３】
図７に示すように、ステップ１で背面基板２である背面ガラス基板を準備し、ステップ２でデータ電極１０を形成する。データ電極１０は焼成固化工程も含んでいる。次にステップ３で隔壁１１を構成する、例えば感光性の隔壁材料を塗布し乾燥する。その後、ステップ４で、フォトプロセスなどを用いて、主放電セル１２の空間やプライミング放電セル１６の空間および隙間部１３の空間を構成する縦壁部１１ａや横壁部１１ｂのパターンを形成する。ここで、隔壁１１はまだ焼成固化されていない状態である。
【００３４】
次に、パターニングされた隔壁１１によって仕切られた空間のうち、プライミング放電セル１６に誘電体層１７を形成する誘電体層材料を所定量充填する。次に、ステップ６ではステップ４でパターニングされた隔壁１１とステップ５でプライミング放電セル１６に充填された誘電体層１７とを同時に焼成固化させ、隔壁１１と誘電体層１７とを形成する。さらに、ステップ７では、プライミング放電セル１６の誘電体層１７にプライミング電極材料となる導電性材料を充填する。次に、ステップ８で主放電セル１２内に、Ｒ、Ｇ、Ｂの蛍光体層１４を塗布充填し、その後、これら蛍光体とステップ７でプライミング放電セル１６内に充填したプライミング電極材料とを同時焼成し固化させる。以上のプロセスによって背面基板２が完成する。
【００３５】
なお、隔壁１１と誘電体層１７、あるいはプライミング電極１５と蛍光体層１４を同時焼成としているがこれらは別々でも構わない。また、蛍光体層１４は主放電セル１２に塗布しているが、プライミング放電セル１６や、隙間部１３に塗布されても構わない。
【００３６】
次に、プライミング放電セル１６内に誘電体層１７とプライミング電極１５を形成する方法について図８を用いて説明する。
【００３７】
図８に示す充填塗布装置は誘電体充填用とプライミング電極充填用とは基本構成要素が同一であり、それぞれの材料に応じた仕様としており、本説明ではプライミング放電セル１６に誘電体材料を充填して誘電体層１７を形成する方法について述べる。充填装置本体３０は、サーバ３１、加圧ポンプ３２、ヘッダ３３などを備え、誘電体材料ペーストを蓄えるサーバ３１から供給される誘電体ペースト３６は、加圧ポンプ３２によりヘッダ３３に加圧されて供給される。
【００３８】
ヘッダ３３にはペースト室３４およびノズル３５が設けられており、加圧されてペースト室３４に供給された誘電体ペースト３６は、ノズル３５から連続的に吐出されるように構成されている。このノズル３５の口径は、ノズルの目詰まり防止のため３０μｍ以上とし、かつ塗布の際の隔壁からのはみ出し防止のため隔壁１１間の間隔Ｗ（約１２０μｍ〜２００μｍ）以下にすることが望ましく、通常３０μｍ〜１３０μｍに設定している。
【００３９】
ヘッダ３３は、図示しないヘッダ走査機構によって直線的に駆動されるように構成されており、ヘッダ３３を走査させるとともにノズル３５から誘電体ペースト３６を連続的に吐出することにより、データ電極１０が形成され、隔壁１１の横壁部１１ｂによって形成されたプライミング放電セル１６が形成された背面基板２上の横壁部１１ｂ間の溝に、データ電極１０と直交する長手方向に誘電体ペースト３６が均一に充填される。ここで、使用される誘電体ペースト３６の粘度は２５℃において、１５００センチポアズ（ＣＰ）〜３００００センチポアズ（ＣＰ）の範囲に保たれている。
【００４０】
なお、サーバ３１には図示しない攪拌装置が備えられており、その攪拌により誘電体ペースト３６中の粒子の沈殿が防止される。またヘッダ３３は、ペースト室３４やノズル３５の部分も含めて一体成形されたものであり、金属材料を機器加工ならびに放電加工することによって作成されたものである。
【００４１】
このように、プライミング放電セル１６を形成する空間に、ノズル３５から連続的に誘電体ペースト３６を吐出させながら充填することにより、スクリーン印刷法などの他の製造プロセスを用いた場合に比べて、低コストで歩留まり良くプライミング放電セル１６に誘電体層１７を形成することができる。また、誘電体層１７の厚みはペーストの粘度やノズル３５の走査速度によって自由に変えることが可能であり、ＰＤＰの仕様変更に自由に対応することができる。なお、本説明ではノズル３５が１本で説明しているが、実際のＰＤＰ製造工程においてはマルチノズルを用いて、タクト短縮を図ることができる。
【００４２】
また、上記説明ではプライミング放電セル１６に誘電体層１７を充填する方法について述べたが、このようにして形成した誘電体層１７の上に、同様の装置でプライミング電極１５の材料となるペーストを塗布し、プライミング電極１５を形成できることも当然であり、上述と同様の効果がある。
【００４３】
図９は、上述の方法により形成したプライミング放電セル１６を拡大して示した断面図である。図９に示すように、プライミング放電セル１６内に形成される誘電体層１７とプライミング電極１５は、ペースト材料を充填することから横壁部１１ｂの壁面でメニスカスを有する形状となる。また、プライミング電極１５は誘電体層１７の上面すべてを覆った形状で形成されるが、この形状に関してはノズル３５の口径やペーストの粘度を調整することによって可変とすることが可能である。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、前面基板と背面基板間でプライミング放電をさせるプライミング放電セルを有したＰＤＰであって、プライミング電極をプライミング放電セルにおいて誘電体層上に設けているので、データ電極とプライミング電極との絶縁耐圧を確保するとともに、プライミング放電を確実に行うことができる。さらに、誘電体層とプライミング電極の形成をノズルからペーストを吐出させながら連続的に形成することにより、簡便なプロセスによってパネルが高精細化した場合でもアドレス時の放電遅れが小さくアドレス特性が良好なＰＤＰを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１におけるＰＤＰを示す断面図
【図２】同ＰＤＰの前面基板側の電極配列を模式的に示す平面図
【図３】同ＰＤＰの背面基板側を模式的に示す斜視図
【図４】同ＰＤＰを駆動するための駆動波形の一例を示す波形図
【図５】本発明の実施の形態２におけるＰＤＰを示す断面図
【図６】同ＰＤＰの背面基板側を模式的に示す斜視図
【図７】本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの背面基板の製造プロセスフロー図
【図８】本発明の実施の形態３における誘電体とプライミング電極の充填塗布装置の概要図
【図９】本発明の実施の形態３における製造方法により製造されたＰＤＰの要部拡大断面図
【符号の説明】
１  前面基板
２  背面基板
３  放電空間
４  前面板誘電体層
５  保護膜
６  走査電極
６ａ，７ａ  透明電極
６ｂ，７ｂ  金属母線
７  維持電極
８  光吸収層
９  補助電極
１０  データ電極
１１  隔壁
１１ａ  縦壁部
１１ｂ  横壁部
１２  主放電セル
１３  隙間部
１４  蛍光体層
１５  プライミング電極
１６  プライミング放電セル
１７  誘電体層
１８  下地誘電体層
３０  充填装置本体
３１  サーバ
３２  加圧ポンプ
３３  ヘッダ
３４  ペースト室
３５  ノズル
３６  誘電体ペースト
【図１】
2004296314.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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