(57)【要約】【課題】基板と半透明反射層との間に記録層等の他の層が設けられた光記録媒体において、透過法により前記半透明反射層の膜厚を容易に測定できるようにする。【解決手段】光透過性の基板１と半透明反射層３との間に他の層（例えば記録層２）をそなえた光記録媒体において、半透明反射層３の領域を、前記他の層の領域よりも所定領域Ｗ１′，Ｗ２′だけ広く形成し、この所定領域Ｗ１′，Ｗ２′において、透過法により半透明反射層３の膜厚を測定する。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性の基板と半透明反射層との間に他の層をそなえ、
該半透明反射層の領域が、該他の層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴とする、光記録媒体。
【請求項２】
該他の層は、光学的に情報が記録され得る色素含有記録層を含んでいることを特徴とする、請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
該所定領域において、該基板と該半透明反射層とが直接又は光透過性の層を介して接していることを特徴とする、請求項１又は２記載の光記録媒体。
【請求項４】
該基板はディスク状であり、該所定領域は、該基板の内周側及び／又は外周側に設けられていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定方法であって、
透過法により該所定領域における該半透明反射層の膜厚を測定することを特徴とする、光記録媒体の膜厚測定方法。
【請求項６】
光透過性の基板と半透明反射層との間に他の層をそなえた光記録媒体の膜厚測定方法であって、
予め半透明反射層の膜厚と透過光量との関係を求めておき、
該他の層を形成した後、透過法により該基板及び該他の層の第１の透過光量を測定し、
該半透明反射層を形成した後、透過法により該基板及び該他の層及び該半透明反射層の第２の透過光量を測定し、
該第１の透過光量と該第２の透過光量との差から該半透明反射層の膜厚を求めることを特徴とする、光記録媒体の膜厚測定方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御方法であって、
透過法により該所定領域における該半透明反射層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される半透明反射層の膜厚を制御することを特徴とする、光記録媒体の膜厚制御方法。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法であって、
該基板上に、該他の層を形成し、
該他の層上に、該他の層の領域よりも所定領域だけ広い領域に該半透明反射層を形成することを特徴とする、光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、複数の記録層を有し、片面側からのレーザ光により再生・記録可能な光記録媒体、そして、その膜厚測定方法、膜厚制御方法及び製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、ＣＤ−Ｒ，ＣＤ−ＲＷ，ＭＯ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータのような情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及しつつある。さらに取り扱う情報量の増大により、記憶密度を高めることが望まれている。
【０００３】
種々の光記録媒体の中でもＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ＋Ｒなど、有機色素を含む記録層（色素含有記録層ともいう）を有する光ディスクは比較的安価で、且つ、再生専用の光ディスクとの互換性を有するため、特に広く用いられている。
一例として、有機色素を含む記録層を有する光ディスクとして代表的なＣＤ−Ｒなどの媒体は、透明ディスク基板上に色素含有記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。
【０００４】
同じく代表的な片面型ＤＶＤ−Ｒ（又は片面型ＤＶＤ＋Ｒ）は、第１の透明ディスク基板上に色素含有記録層、反射層、これらを覆う保護層をこの順に有し、さらに保護層の上に接着層を介して或いは介さずに、第２の透明ディスク基板上に反射層を形成したいわゆるダミーディスクを設けた積層構造であり、第１の透明ディスク基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。ダミーディスクは透明ディスク基板のみであっても良いし、反射層以外の層を設けていても良い。
【０００５】
これら光記録媒体の記録容量を更に大容量化するための１つの手段として、１枚の媒体に記録層を複数、例えば２層（デュアルレイヤ）設けることが挙げられる。また、この場合、２つの記録層を片面から記録・再生ができるようにすることが利便性の上で望まれており、例えば図７に示すような光記録媒体が開発されている（例えば特許文献１参照）。
【０００６】
すなわち、従来の光記録媒体は図７に示すように、第一の透光性基板５０上に、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第一の情報記録層５２と、再生用レーザ光の一部を透過し得る半透光性反射膜で構成された第一の反射層５３と、前記記録用レーザ光及び再生用レーザ光に対して透光性を有する中間層５１と、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第二の情報記録層５２′と、再生用レーザ光を反射する第二の反射層５３′と、第二の透光性基板５０′とがこの順に積層されて構成されている。
【０００７】
このような構成により、光記録媒体の片面側から第一の情報記録層５２及び第二の情報記録層５２′に情報を記録することが可能になり、再生時にも、いわゆるデュアルレイヤタイプの光記録媒体として片面側から信号を読み取ることが可能となっている。
【０００８】
また、このような積層構造を有する光記録媒体の製造方法としては、例えば、第一の透光性基板５０上に第一の情報記録層５２，第一の反射層５３，中間層５１，第二の情報記録層５２′，第二の反射層５３′をこの順に形成し、最後に第二の透光性基板５０′を接着することで製造する方法（タイプ１）と、第一の透光性基板５０上に第一の情報記録層５２，第一の反射層５３をこの順に形成して第一の構成物を作製する一方、第二の透光性基板５０′上に第二の反射層５３′，第二の情報記録層５２′をこの順に形成して第二の構成物を作製し、中間層５１を介して第一の構成物の第一の反射層５３と第２の構成物の第二の情報記録層５２′とが対向するように貼り合わせることで製造する方法（タイプ２）とが考えられる。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１１−６６６２２号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、光記録媒体において良好な特性を得るためには、膜厚を精密にコントロールすることが重要となる。特に、上述したように、片面側からのレーザ光により二つの記録層の記録・再生を行なう片面二層媒体において必須とされる第一の反射層５３（上述の半透光性反射膜で構成された反射層。半透明反射層）は、透過率を制御することが重要であり、厳密な膜厚管理が必要とされる。
【００１１】
例えば、半透明反射層５３の膜厚がぶれると、第一の情報記録層５２及び第二の情報記録層５２′の両方の記録・再生に影響が生じ、ジッタを悪化させることになる。
具体的には、半透明反射層５３の膜厚がぶれると、第一の情報記録層５２に対する反射率が変わるので、記録時の記録パワーが変動し、ジッタが悪化する。同様に、再生時も再生パワーが変わり、さらにジッタが悪化する。
【００１２】
また、第二の情報記録層５２′に対する透過率も変わるので、上記と同様に記録パワーや再生パワーが変動し、ジッタが悪化する。さらに、この場合、レーザ光は、往き及び戻りの２回、半透明反射層５３を通過することになるので、半透明反射層５３の膜厚のぶれは、第二の情報記録層５２′に対しては２倍の影響がある。
【００１３】
なお、いわゆる反射層（半透明でない反射層。全反射層）は、入射光を反射さえすればよく、透過率や吸収率は考慮しなくても良いので、従来から半透明反射層５３ほど厳密な膜厚管理は必要とされていない。
【００１４】
また、膜厚を測定する方法は種々知られているが、反射法に比べて簡便且つ安価であるという点から、透過法を用いる場合が多い。
透過法は、一般的に、測定対象となる膜に光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射して透過光量を測定し、入射光量と透過光量の比から透過率を導き出し、膜厚を算出する方法である。
ただし、透過法であっても、光を入射すると一部は反射するので、媒体の光吸収率が小さい場合には、反射光量を測定することによって、透過光量を間接的に測定することも可能である。
【００１５】
しかしながら、上述したデュアルレイヤの光記録媒体（片面二層媒体）において、例えばタイプ１の製造方法により光記録媒体を製造する場合、第一の透光性基板５０と半透明反射層５３との間に第一の情報記録層５２が介在しているので、透過法で半透明反射層５３の膜厚を測定しようとしても第一の情報記録層５２の影響があり、半透明反射層５３の膜厚を正確に測定することが困難である。
また、タイプ２の製造方法により光記録媒体を製造する場合にも、上記と同様の理由で、半透明反射層５３の膜厚を正確に測定することが困難である。
【００１６】
さらに、このように、透明基板と半透明反射層との間に記録層等の他の層が設けられた光記録媒体では、半透明反射層の膜厚の測定が正確に行なえないので、この測定情報を塗布工程にフィードバックして次に製造される光記録媒体の半透明反射層の膜厚を制御することができない。
【００１７】
本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、透明基板と半透明反射層との間に記録層等が設けられた光記録媒体において、透過法により前記半透明反射層の膜厚を容易に測定できるようにした、光記録媒体、光記録媒体の膜厚測定方法、膜厚制御方法及び製造方法を提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明の光記録媒体（請求項１）は、光透過性の基板と半透明反射層との間に他の層をそなえ、該半透明反射層の領域が、該他の層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴としている。
これにより、記録層等の他の層に邪魔されることなく半透明反射層の膜厚を透過法で測定できる。
【００１９】
該他の層は、光学的に情報が記録され得る色素含有記録層を含んでいることが好ましい（請求項２）。
該所定領域において、該基板と該半透明反射層とが直接又は光透過性の層を介して接していることが好ましい（請求項３）。
該基板はディスク状であり、該所定領域は、該基板の内周側及び／又は外周側に設けられていることが好ましい（請求項４）。
【００２０】
本発明の光記録媒体の膜厚測定方法（請求項５）は、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定方法であって、透過法により該所定領域における該半透明反射層の膜厚を測定することを特徴としている。
本発明の光記録媒体の膜厚測定方法（請求項６）は、光透過性の基板と半透明反射層との間に他の層をそなえた光記録媒体の膜厚測定方法であって、予め半透明反射層の膜厚と透過光量との関係を求めておき、該他の層を形成した後、透過法により該基板及び該他の層の第１の透過光量を測定し、該半透明反射層を形成した後、透過法により該基板及び該他の層及び該半透明反射層の第２の透過光量を測定し、該第１の透過光量と該第２の透過光量との差から該半透明反射層の膜厚を求めることを特徴としている。
【００２１】
本発明の光記録媒体の膜厚制御方法（請求項７）は、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御方法であって、透過法により該所定領域における該半透明反射層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される半透明反射層の膜厚を制御することを特徴としている。
本発明の光記録媒体の製造方法（請求項８）は、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法であって、該基板上に、該他の層を形成し、該他の層上に、該他の層の領域よりも所定領域だけ広い領域に該半透明反射層を形成することを特徴としている。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下では、積層構造の異なる２つのタイプの光記録媒体について説明する。
〔１〕第１実施形態
（Ａ−１）タイプ１の光記録媒体の構成
図１は本実施形態に係る光記録媒体（タイプ１）を示す模式的な断面図である。
【００２３】
本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体は、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１の基板）１上に、色素を含む第１記録層（第１の色素含有記録層）２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という）３、中間樹脂層（中間層）４、色素を含む第２記録層（第２の色素含有記録層）５、反射層６、接着層７、第２基板（第２の基板）８をこの順に有してなる。光ビームは第１基板１側から照射され、記録・再生が行われる。
【００２４】
なお、本発明において「光透過性（又は透明）」とは、透過法による膜厚測定（これについては後述する）において用いられる光の波長に対する光透過性（λ１光透過性という）と、光記録媒体の記録・再生を行なう際に用いられる光の波長に対する光透過性（λ２光透過性という）との２つの光透過性を意味する。また、上記の膜厚測定光の波長及び記録再生光の波長について５０％以上（好ましくは６０％以上）の透過性があれば実質的に光透過性であるといえる。
【００２５】
第１基板１、中間樹脂層４上にはそれぞれ凹凸が形成され、それぞれ記録トラックを構成する。記録トラックは凸部及び凹部のどちらでも良いが、一般には、第１基板１上の記録トラック１１は、光の入射方向に対して凸部で構成され、中間樹脂層４上の記録トラック１２も、光の入射方向に対して凸部で構成される場合が多い。この他に必要に応じ凹凸ピットを有することもある。特に断らない限り、本発明において凹凸は記録・再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【００２６】
次に、各層について説明する。
（１）第１基板１について
第１基板１は、λ１光透過性及びλ２光透過性の両方の光透過性を有している必要があるほか複屈折率が小さいなど光学特性に優れることが望ましい。また射出成形が容易であるなど成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいと反り等を低減することができ、望ましい。
【００２７】
更に、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。但し第２基板８が十分な形状安定性を備えていれば、第１基板１は形状安定性が大きくなくても良い。
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。或いは、ガラス等の基体上に、光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。
【００２８】
なお、光学特性、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
第１基板１は薄い方が好ましく、通常厚さは２ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下である。対物レンズと記録層の距離が小さく、また、基板が薄いほどコマ収差が小さい傾向があり、記録密度を上げやすい。但し光学特性、吸湿性、成形性、形状安定性を十分得るためにはある程度の厚みが必要であり、通常１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは３０μｍ以上である。
【００２９】
本光記録媒体においては、第１記録層２及び第２記録層５の両方に良好に記録再生を行なうために、対物レンズと両記録層との距離を適宜調節することが望ましい。例えば、対物レンズの焦点が両記録層のほぼ中間地点となるようにすると、両記録層にアクセスしやすいので好ましい。
具体的に説明する。片面型ＤＶＤ−Ｒシステムにおいては、基板厚さ０．６ｍｍのときに対物レンズと記録層との距離が最適になるよう調節されている。
【００３０】
従って本層構成において片面型ＤＶＤ−Ｒ互換の場合は、第１基板１の厚さは、０．６ｍｍから、中間樹脂層４の膜厚の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。このとき、両記録層のほぼ中間地点が約０．６ｍｍとなり、両記録層にフォーカスサーボがかけやすい。
なお、第２記録層５と半透明反射層３の間にバッファー層や保護層など他の層がある場合は、０．６ｍｍから、それらの層と中間樹脂層４の膜厚の和の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。
【００３１】
第１基板１には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第１記録層２に情報が記録・再生される。波長６５０ｎｍのレーザを開口数０．６から０．６５の対物レンズで集光して記録再生が行われるいわゆるＤＶＤ−Ｒディスクの場合、通常、第１記録層２は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。
【００３２】
本光記録媒体においては第１基板１の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１１とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は２００〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００３３】
このような凹凸を有する基板は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
【００３４】
（２）第１記録層２について
第１記録層２は、通常、片面型記録媒体（例えばＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ，ＤＶＤ＋Ｒ）等に用いる記録層と同程度の感度である。
【００３５】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素を用いることが望ましい。
更に、第１記録層２と半透明反射層３との組合せにおいて、光の反射、透過及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００３６】
このような有機色素材料としては、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素など）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素などが挙げられる。
【００３７】
上述の各種有機色素の中でも含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性，耐光性に優れるため好ましい。特に下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【００３８】
【化１】
2004288259.tif 000003
【００３９】
（環Ａ１及びＡ２は、各々独立に置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環であり、環Ｂ１及びＢ２は、各々独立に置換基を有していてもよい芳香族環である。
Ｘは、少なくとも２個のフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基である。）で表される化合物が好ましい。
本光記録媒体の記録層に使用される有機色素は、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザや、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザ、あるいは波長４１０ｎｍや５１５ｎｍなどのいわゆるブルーレーザなどでの記録に適する色素がより好ましい。
【００４０】
色素は一種でもよいし、同じ種類のものや異なる種類のものを二種以上混合して用いても良い。さらに、上記複数の波長の記録光に対し、各々での記録に適する色素を併用して、複数の波長域でのレーザ光による記録に対応する光記録媒体とすることもできる。
【００４１】
また記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００４２】
さらに本光記録媒体の記録層には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００４３】
記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常５ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。但し、本光記録媒体においては適度に光を透過させるためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。記録層の膜厚は通常、溝部とランド部で異なるが、本光記録媒体において記録層の膜厚は基板の溝部における膜厚を言う。
【００４４】
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましい。また厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法より真空蒸着法の方が好ましい。
スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０〜１５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。
【００４５】
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００４６】
真空蒸着法の場合は、例えば有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０−２〜１０−５Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより、記録層を形成する。
【００４７】
（３）半透明反射層３について
半透明反射層３は、ある程度の光透過率を持つ反射層である。つまり、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が少なくとも４０％以上あり、かつ適度な光反射率（通常、３０％以上）がある。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、半透明反射層３の上層（ここでは中間樹脂層４）の浸み出しにより第１記録層２が影響されないよう遮断性を持つことが望ましい。
【００４８】
高透過率を確保するために、半透明反射層３の厚さは通常、５０ｎｍ以下が好適である。より好適には３０ｎｍ以下である。更に好ましくは２５ｎｍ以下である。但し、第１記録層２が半透明反射層３の上層により影響されないために、ある程度の厚さが必要であり、通常３ｎｍ以上とする。より好ましくは５ｎｍ以上とする。
【００４９】
半透明反射層３の材料としては、再生光の波長で反射率が適度に高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く半透明反射層３の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分を含んでいても良い。
【００５０】
なかでもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、反射率が高い点から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
半透明反射層３は膜厚が薄く、膜の結晶粒が大きいと再生ノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。純銀は結晶粒が大きい傾向があるためＡｇは合金として用いるのが好ましい。
【００５１】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００５２】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００５３】
半透明反射層３としてはＡｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
また、半透明反射層３としてＳｉからなる層を用いることも可能である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００５４】
半透明反射層３を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、第１基板１と第１記録層２との間、及び又は、第１記録層２と半透明反射層３との間、に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００５５】
（４）中間樹脂層４について
中間樹脂層４は、λ１光透過性及びλ２光透過性の両方の光透過性を有している必要があるほか、凹凸により溝やピットが形成可能である必要がある。また接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。そして、中間樹脂層４は、第２記録層５にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、中間樹脂層４は通常、樹脂からなるため第２記録層５と相溶しやすく、これを防ぎダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることが望ましい。
【００５６】
さらに、中間樹脂層４は、半透明反射層３にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることもできる。
【００５７】
本光記録媒体において、中間樹脂層４の膜厚は正確に制御することが好ましい。中間樹脂層４の膜厚は、通常５μｍ以上が好ましい。２層の記録層に別々にフォーカスサーボをかけるためには両記録層の間にある程度の距離がある必要がある。フォーカスサーボ機構にもよるが、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が必要である。一般に、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。但しあまり厚いと２層の記録層にフォーカスサーボを合わせるのに時間を要し、また対物レンズの移動距離も長くなるため好ましくない。また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
【００５８】
中間樹脂層４には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層５に情報が記録・再生される。通常、第２記録層５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。本光記録媒体においては中間樹脂層４の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は２００〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００５９】
このような凹凸は、コストの観点から、凹凸を持つ樹脂スタンパ等から光硬化性樹脂などの硬化性樹脂に転写、硬化させて製造するのが好ましい。以下、このような方法を２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ法）と称することがある。
中間樹脂層４の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）等を挙げることができる。
【００６０】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、λ１光透過性及びλ２光透過性を有していればいずれも用いうる。またそれらの材料を単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００６１】
塗布方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。或いは、粘度の高い樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、生産性を２０〜４０℃において液状であるものを用いると、溶媒を用いることなく塗布でき好ましい。また、粘度は２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。
【００６２】
さて、紫外線硬化性接着剤としては、ラジカル系紫外線硬化性接着剤とカチオン系紫外線硬化性接着剤があるが、いずれも使用可能である。
ラジカル系紫外線硬化性接着剤としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。ここで、本発明では、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
【００６３】
本光記録媒体に使用できる重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル，カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル，ジシクロペンタニル，ジシクロペンテニル，ジシクロペンテニロキシエチル等の如き基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６４】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６５】
また、重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとしてポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。
更に、本光記録媒体に使用する光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーおよび／または重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できる公知のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本光記録媒体に好適である。
【００６６】
このような例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００６７】
また光重合開始剤に対する増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００６８】
また、カチオン系紫外線硬化性接着剤としては公知のすべての組成物を用いることができ、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂がこれに該当する。カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩等がある。
ヨードニウム塩の１例を示すと以下の通りである。ジフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェード、ジフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム  テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム  テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム  テトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００６９】
エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等種々のものがいずれであってもかまわない。
エポキシ樹脂としては、反射層にダメージを与えないよう、遊離したフリーの塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００７０】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は通常、０．１〜２０重量部であり、好ましくは０．２〜５重量部である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００７１】
また、紫外線硬化性接着剤には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
【００７２】
（５）第２記録層５について
第２記録層５は、通常、片面型記録媒体（ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ）等に用いる記録層より高感度である。本光記録媒体においては、入射した光ビームのパワーが第１記録層２や半透明反射層３の存在等で減少するため、約半分程度のパワーで記録するために、特に感度が高い必要があるのである。
【００７３】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。
更に、第２記録層５と反射層６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００７４】
第２記録層５の材料、成膜方法等についてはほぼ第１記録層２と同様に説明されるため、異なる点のみ説明する。
第２記録層５の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常１０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。
但し、適度な反射率を得るためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
第１記録層２と第２記録層５とに用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
【００７５】
（６）反射層６について
反射層６は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。
高反射率を確保するために、反射層６の厚さは通常、２０ｎｍ以上が好適である。より好適には３０ｎｍ以上である。更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、生産のタクトタイムを短くしコストを下げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常４００ｎｍ以下とする。より好ましくは３００ｎｍ以下とする。
【００７６】
反射層６の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層６の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分として下記のものを含んでいても良い。他成分の例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を挙げることができる。
【００７７】
中でもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、高反射率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点等から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
反射層６は高耐久性（高耐食性）を確保するため、Ａｇは純銀よりも合金として用いるのが好ましい。
【００７８】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００７９】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００８０】
反射層６としてはＡｕのみからなる層は高耐久性（高耐食性）が高く好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層６として用いることも可能である。
反射層６を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、反射層６の上下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００８１】
（７）接着層７について
接着層７は、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要はないが、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
また、接着層７は反射層６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
【００８２】
本光記録媒体において、接着層７の膜厚は、通常２μｍ以上が好ましい。所定の接着力を得るためにはある程度の膜厚が必要である。より好ましくは５μｍ以上である。但し光記録媒体をできるだけ薄くするために、また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
接着層７の材料は、中間樹脂層４の材料と同様のものが用いうるほか、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを反射層６と第２基板８との間に挟んで押圧することにより、接着層７を形成できる。
【００８３】
（８）第２基板８について
第２基板８は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層７との接着性が高いことが望ましい。
上述のように第１基板１が十分な形状安定性を備えていない場合は、第２基板８は特に形状安定性が高い必要がある。この点で吸湿性が小さいことが望ましい。但し第２基板８は透明である必要はない（即ち、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要はない）。また第２基板８は鏡面基板で良く、凹凸を形成する必要はないので射出成形による転写性は必ずしも良い必要はない。
【００８４】
このような材料としては、第１基板１に用いうる材料と同じものが用い得るほか、例えば、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分とした例えばＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板などを用いることができる。
【００８５】
なお、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
光記録媒体に十分な剛性を持たせるために、第２基板８はある程度厚いことが好ましく、厚さは０．３ｍｍ以上が好ましい。但し薄いほうが記録再生装置の薄型化に有利であり、好ましくは３ｍｍ以下である。より好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００８６】
第２基板８は凹凸を持たない鏡面基板で良いが、生産しやすさの観点から、射出成型により製造するのが望ましい。
第１基板１と第２基板８の好ましい組合せの一例は、第１基板１と第２基板８とが同一材料からなり、厚さも同一である。剛性が同等でバランスが取れているので、環境変化に対しても媒体として変形しにくく好ましい。この場合、環境が変化したときの変形の程度や方向も両基板で同様であると好ましい。
【００８７】
他の好ましい組合せの一例は、第１基板１が０．１ｍｍ程度と薄く、第２基板８が１．１ｍｍ程度と厚いものである。対物レンズが記録層に近づきやすく記録密度を上げやすいため好ましい。このとき第１基板１はシート状であってもよい。
【００８８】
（９）その他の層について
上記積層構造において、必要に応じて任意の他の層を挟んでも良い。或いは媒体の最外面に任意の他の層を設けても良い。具体的には、半透明反射層３と中間樹脂層４との間、中間樹脂層４と第２記録層５との間、反射層６と接着層７との間、などに中間層としてのバッファー層を設けてもよい。
【００８９】
バッファー層は２つの層の混和を防止し、相溶を防ぐものである。バッファー層が混和現象を防止する以外の他の機能を兼ねていても良い。また必要に応じてさらに他の中間層を挟んでも良い。
バッファー層の材料は、第２記録層５や中間樹脂層４と相溶せず、かつ、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があり、公知の無機物及び有機物が用いうる。特性面からは、好ましくは無機物が用いられる。例えば、（１）金属又は半導体、（２）金属又は半導体の酸化物、窒化物、硫化物、酸硫化物、フッ化物又は炭化物、もしくは（３）非晶質カーボン、などが用いられる。中でも、λ１光透過性及びλ２光透過性を有する誘電体からなる層や、ごく薄い金属層（合金を含む）が好ましい。
【００９０】
具体的には、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化珪素などの窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物（酸硫化物）；および後述の合金などが好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウと二酸化イットリウムと酸化亜鉛との混合物（Ｙ２Ｏ２Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
【００９１】
金属や合金としては、銀、又は銀を主成分とし更にチタン、亜鉛、銅、パラジウム、及び金よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有するものが好適である。また、銀を主成分とし、少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものも好適である。この希土類としては、ネオジウム、プラセオジウム、セリウム等が好適である。
その他、バッファー層作製時に記録層の色素を溶解しないようなものであれば樹脂層でも構わない。特に、真空蒸着やＣＶＤ法で作製可能な高分子膜が有用である。
【００９２】
バッファー層の厚さは２ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上である。バッファー層の厚さが過度に薄いと、上記の混和現象の防止が不十分となる虞がある。但し２０００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下である。バッファー層が過度に厚いと、混和防止には不必要であるばかりでなく、光の透過率を低下させる恐れもある。また無機物からなる層の場合には成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が高くなったりする虞があり２００ｎｍ以下が好ましい。特に、金属の場合は光の透過率を過度に低下させるため、２０ｎｍ以下程度が好ましい。
【００９３】
また、記録層や反射層を保護するために保護層を設けても良い。保護層の材料としては、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があるが、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等が挙げられる。
【００９４】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００９５】
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本光記録媒体においては、３〜５０μｍが好ましい。
【００９６】
更に、上記光記録媒体には、必要に応じて、記録・再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。
また、本層構成の応用例として、記録層を３層以上有する媒体も可能である。或いは、本層構成の光記録媒体を２枚、第１基板１を外側にして貼合わせて、記録層を４層有する、より大容量媒体とすることもできる。
【００９７】
（Ａ−２）タイプ１の光記録媒体の製造方法
次に、本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の製造方法について図２を用いて説明する。なお、図２は本製造方法を説明するための工程図である。
まず、図２（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成された第１基板１を、スタンパをもとに射出成形または２Ｐ法等により作製する。
【００９８】
次に、図２（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液を第１基板１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布し、第１記録層２を成膜する。なお、このとき、図２（ｂ）に示すようにディスク（第１基板１）の内周側に第１記録層２を形成しない所定領域Ｗ１を設けるようにする。また、この所定領域Ｗ１を、第１基板１の内周端部から例えば０．１ｍｍ以上、好ましくは５ｍｍ以上、より好ましくは１０ｍｍ以上である。但し、２０ｍｍ以下、好ましくは１８ｍｍ以下程度で形成するのが良い。
【００９９】
この後、図２（ｃ）に示すように、第１基板１の外周側を洗浄して第１記録層２を除去し、第１基板１が露出する所定領域Ｗ２を形成する。また、このときの所定領域Ｗ２を、第１基板１の外周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。この所定領域Ｗ１，Ｗ２は、後述する膜厚測定時において半透明反射層３の膜厚を容易に測定できるようにする目的で形成されている。
【０１００】
第１記録層２を成膜した後、図２（ｄ）に示すように、Ａｇ合金などをスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層２上、そして、第１基板１の所定領域Ｗ１，Ｗ２上にも半透明反射層３を成膜する。
その後、図２（ｅ）に示すように、第１記録層２及び第１基板１の所定領域Ｗ１，Ｗ２に紫外線硬化性樹脂等をスピンコート等により塗布する。
【０１０１】
次に、型を用いて紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を形成する。型としては、生産性、コストなどの観点から、図２（ｆ）に示すように、樹脂からなるスタンパ１５を用いるのが好ましい。
樹脂スタンパ１５は中間樹脂層４となるべき樹脂に対して十分な剥離性を有していれば良い。透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。生産性及びコストの観点から、望ましくは、樹脂スタンパ１５は複数回の転写に使用可能であるのが望ましい。また、使用後のリサイクルが可能であることが望ましい。
【０１０２】
樹脂スタンパ１５は、図２（ｆ）に示すように樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有しても良いし、樹脂基板１６のみから構成してもよいが、後者のほうが生産性やコストの観点から好ましい。
まず、上述の樹脂スタンパ１５とは凹凸が逆（ネガ）の金属製スタンパを用い、射出成形や２Ｐ法等により樹脂基板１６を作製する。
【０１０３】
樹脂基板１６は透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるものが挙げられる。
【０１０４】
また、樹脂基板１６の厚さは、形状安定性及びハンドリングの容易さの点で、０．５ｍｍ以上とするのが望ましい。厚さの上限は特にないが、通常、３ｍｍ以下で十分である。
樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有する構成であれば、樹脂基板１６はセパレート層１７との密着性が高い樹脂である必要があり、その他成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からポリカーボネートが好ましい。
【０１０５】
セパレート層１７は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く剥離性が高いことが望ましい。また、成膜されたときに樹脂基板１６の凹凸を忠実に反映した凹凸が形成されることが望ましい。
セパレート層１７の材料としては、中間樹脂層４の樹脂との剥離性の点から金属または合金が好ましく、通常、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｐｔ及びＰｄから選ばれる金属またはそれらの合金が用いられる。
【０１０６】
セパレート層１７の厚さは、中間樹脂層４からの剥離性を確保するためにはある程度の膜厚が必要で、２ｎｍ以上とするのが好ましい。一方、基板の凹凸を忠実に反映するためには厚すぎないことが望ましく、通常、２００ｎｍ以下が好ましい。
樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６のみからなる構成であれば、樹脂基板１６は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く剥離性が高いことが望ましい。その他成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点から非晶質ポリオレフィンが好ましい。
【０１０７】
したがって、第１基板１上に紫外線硬化性樹脂等をスピンコート等により塗布した後、上述したような樹脂スタンパ１５を載置し、紫外線硬化性樹脂に凹凸を転写する。このとき、紫外線硬化性樹脂の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なう。
そして、この状態で第１基板１側から紫外線を照射するなどして紫外線硬化性樹脂を硬化させ、十分硬化したところで樹脂スタンパ１５を剥離し、図２（ｇ）に示すように、表面に凹凸を有する中間樹脂層４を形成する。或いは紫外線を媒体の側面から照射することもできる。いずれにせよ、この紫外線により第１記録層１がダメージを受けないようにする必要がある。
【０１０８】
続いて、図２（ｈ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液をスピンコート等により中間樹脂層４表面に塗布し、第２記録層５を成膜する。
そして、図２（ｉ）に示すように、Ａｇ合金などをスパッタ、蒸着することにより第２記録層５上に反射層６を成膜する。
【０１０９】
その後、図２（ｊ）に示すように、ポリカーボネートを射出成形して得られた第２基板８としての鏡面基板を、接着層７を介して反射層６に貼り合わせる。これにより、光記録媒体の製造が完了する。
なお、接着層７は、不透明でも、表面が多少粗くてもよく、遅延硬化型の接着剤を問題なく使用できる。反射層６上に接着剤をスクリーン印刷等で塗布し、紫外線を照射してから第２基板８を載置し押圧して接着層７を形成できる。或いは、反射層６と第２基板８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層７を形成することもできる。
【０１１０】
（Ａ−３）タイプ１の光記録媒体の膜厚測定方法及び膜厚制御方法
本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体では、公知の透過法を用いて半透明反射層３の膜厚を測定することができる。良質な特性を有する光記録媒体を製造するにあたって、特に半透明反射層３の膜厚制御をより正確に行なうことが重要である。
【０１１１】
上述したように、本実施形態に係る光記録媒体の製造方法では、半透明反射層３を、第１記録層２が成膜された領域よりも所定領域だけ広い領域に成膜している。
つまり、例えば図３（ａ）に示すように、半透明反射層３は、第１基板１の内周側において、第１記録層２上だけでなく、第１記録層２が成膜されていない第１基板１上にも形成されている。また、図３（ｂ）に示すように、第１基板１の外周側においても、第１記録層２上だけでなく、第１記録層２が成膜されていない第１基板１上にも形成されている。
【０１１２】
なお、内周側及び外周側のそれぞれにおいて、第１基板１と半透明反射層３とが接触している所定領域をＷ１′及びＷ２′としたとき、Ｗ１′≦Ｗ１、Ｗ２′≦Ｗ２である。また、ここでは、半透明反射層３と第１基板１とが接触する所定領域Ｗ１′及びＷ２′を、所定領域Ｗ１及びＷ２よりも小さく形成しているが、半透明反射層３を内周端部及び外周端部まで（即ち、Ｗ１＝Ｗ１′、Ｗ２＝Ｗ２′となるように）形成してもよい。
【０１１３】
そして、半透明反射層３の膜厚を測定する場合、上記の所定領域Ｗ１′及びＷ２′において行なう。つまり、所定領域Ｗ１′及びＷ２′において、半透明反射層３上面側から或いは第１基板１下面側から光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射してその透過率の測定を行なえば、半透明反射層３と第１基板１との間には、λ１光透過性を有する第１基板１しか存在しておらず、第１記録層１等はなんら存在していないので、半透明反射層３のみの膜厚を容易且つ正確に測定することが可能である。
【０１１４】
このように、半透明反射層３の領域が、第１記録層２の領域よりも所定領域Ｗ１′，Ｗ２′だけ広く形成されることで、第１記録層２に邪魔されることがないので、半透明反射層３の膜厚を透過法で正確に測定できる。
これにより、半透明反射層２３の膜厚を適正な厚さに厳密に管理することができるので、良好なジッタ特性を得ることができ、光記録媒体の記録や再生時のエラーをより低減することができる。つまり、良質な光記録媒体を製造することができる。
【０１１５】
なお、所定領域Ｗ１′，Ｗ２′において、半透明反射層３と第１基板１との間にバッファー層や保護層が存在していても、これらバッファー層や保護層はλ１光透過性を有しているので、上記と同様に半透明反射層３の膜厚を容易に測定することが可能である。
また、このような膜厚測定を、例えば第１基板１の直径方向の複数点において行ない、これらの測定値の平均を得ることで、より正確な膜厚を求めることもできる。
【０１１６】
さらに、第１記録層２の膜厚は、半透明反射層３の膜厚よりも厚いので、この第１記録層２の膜厚が影響しない位置、即ち、第１記録層２からできるだけ離れた位置（所定領域Ｗ１′内の内周側、所定領域Ｗ２′内の外周側）で膜厚測定を行なうことが好ましい。
なお、ここでは、第１基板１の内周側及び外周側の両方に所定領域Ｗ１′，Ｗ２′を設けるように構成したが、内周側のみ或いは外周側のみに設けるように構成しても良い。
【０１１７】
また、上記の膜厚測定は、本光記録媒体を製造する製造装置内（即ち製造過程）において図示省略の膜厚測定装置により自動的に行なわれ、このとき測定された膜厚情報は、半透明反射層３の膜厚を制御する膜厚制御装置（図示省略）にフィードバックされるようになっている。
例えば膜厚測定装置により半透明反射層３の膜厚が測定されると、この膜厚情報が膜厚制御装置に送信され、膜厚制御装置では、この膜厚情報に基づいて、半透明反射層３のスパッタや蒸着等の条件（例えばスパッタを用いた場合であれば、スパッタ時間、スパッタ電圧、第１基板１とＡｇターゲットとの距離など）が調節されて、次のディスクの半透明反射層３の膜厚が適切な膜厚になるように制御される。
【０１１８】
（Ｂ−１）タイプ２の光記録媒体の構成
図４は本実施形態に係る光記録媒体（タイプ２）を示す模式的な断面図である。
本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体は、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１の基板）２１上に、色素を含む第１記録層（第１の色素含有記録層）２２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という）２３、透明接着層２４、バッファー層２８、色素を含む第２記録層（第２の色素含有記録層）２５、反射層２６、ディスク状の透明な第２基板（第２の基板）２７をこの順に有してなる。光ビームは第１基板２１側から照射され、記録・再生が行われる。
【０１１９】
なお、本発明において「光透過性（又は透明）」とは、透過法による膜厚測定（これについては後述する）において用いられる光の波長に対する光透過性（λ１光透過性という）と、光記録媒体の記録・再生を行なう際に用いられる光の波長に対する光透過性（λ２光透過性という）との２つの光透過性を意味する。また、上記の膜厚測定光の波長及び記録再生光の波長について５０％以上の透過性があれば実質的に光透過性であるといえる。
【０１２０】
第１基板２１、第２基板２７上にはそれぞれ凹凸が形成され、それぞれ記録トラックを構成する。記録トラックは凸部及び凹部のどちらでも良いが、第１基板２１上の記録トラック３１は、光の入射方向に対して凸部で構成されるのが好ましく、第２基板２７上の記録トラック３２は、光の入射方向に対して凹部で構成されるのが好ましい。この他に必要に応じ凹凸ピットを有することもある。特に断らない限り、本実施形態において凹凸は記録・再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【０１２１】
次に、各層について説明する。
本実施形態に係る第１基板２１，第１記録層２２，半透明反射層２３，第２記録層２５，反射層２６はそれぞれ、第１実施形態に係る第１基板１，第１記録層２，半透明反射層３，第２記録層５，反射層６と略同様の構成である。
また、中間層としての透明接着層２４は、少なくともλ２光透過性を有している必要がある。そして、凹凸により溝やピットを形成する必要がないという以外は、第１実施形態における中間樹脂層４の構成と略同様の構成である。なお、本光記録媒体では、上記の溝やピットは後述する第２基板２７に形成されている。
【０１２２】
さらに、中間層としてのバッファー層２８は、第１実施形態において説明したバッファー層と略同様の構成である。なお、このバッファー層は必要に応じて形成するようにしても良い。
第２基板２７は、少なくともλ１光透過性を有している必要があるほか、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。
【０１２３】
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。
【０１２４】
第２基板２７には、凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層２５に情報が記録・再生される。通常、第２記録層２５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。本光記録媒体においては第２基板２７の溝部、即ち光の入射方向に対して凹部を記録トラック３２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は２００〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【０１２５】
このような凹凸を有する第２基板２７は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから樹脂を用いて射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
また、記録層や反射層を保護するために、第１実施形態で説明した保護層を設けても良い。保護層の材料としては、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があるが、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。
【０１２６】
（Ｂ−２）タイプ２の光記録媒体の製造方法
次に、本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体の製造方法について図５を用いて説明する。なお、図５は本製造方法を説明するための工程図である。
本光記録媒体は、第１基板２１上に、色素を含む第１記録層２２，半透明反射層２３をこの順に有する積層構造（第１の構成物）Ａを作製し、また、第２基板２７上に反射層２６，色素を含む第２記録層２５，バッファー層２８をこの順に有する積層構造（第２の構成物）Ｂを作製した後、両積層構造Ａ，Ｂを、互いに記録層２２，２５が内側にくるように（対向するように）して透明接着層２４を介して貼り合わせることで製造される。
【０１２７】
まず、図５（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成された第１基板２１を、射出成形または２Ｐ法等により作製する。
次に、図５（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液を第１基板２１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布し、第１記録層２２を成膜する。なお、このとき、図５（ｂ）に示すようにディスク（第１基板１）の内周側に第１記録層２２を形成しない所定領域Ｗ１０を設けるようにする。また、この所定領域Ｗ１０を、第１基板２１の内周端部から例えば０．１ｍｍ以上、好ましくは５ｍｍ以上、より好ましくは１０ｍｍ以上である。但し、２０ｍｍ以下、好ましくは１８ｍｍ以下程度で形成するのが良い。
【０１２８】
さらに、第１基板２１の外周側を洗浄して第１記録層２２を除去し、第１基板２１が露出する所定領域Ｗ２０を形成する。また、このときの所定領域Ｗ２０を、第１基板２１の外周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。この所定領域Ｗ１０，Ｗ２０は、後述する膜厚測定時において半透明反射層２３の膜厚を容易に測定できるようにする目的で形成されている。
【０１２９】
第１記録層２２を成膜した後、図５（ｄ）に示すように、Ａｇ合金などをスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層２２上、そして、第１基板２１の所定領域Ｗ１０，Ｗ２０上にも半透明反射層２３を成膜し、積層構造Ａとする。
一方、図５（ｄ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、ピットが形成された第２基板２７を、射出成形または２Ｐ法等により作製する。
【０１３０】
そして、図５（ｅ）に示すように、第２基板２７の凹凸を有する側の表面に、Ａｇ合金などをスパッタ又は蒸着することにより反射層２６を成膜する。
その後、図５（ｆ）に示すように、反射層２６上に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液をスピンコート等により塗布し、第２記録層２５を成膜する。
【０１３１】
次いで、図５（ｇ）に示すように、誘電体などをスパッタすることによりバッファー層２８を成膜し、積層構造Ｂとする。
そして、図５（ｈ）に示すように、積層構造Ａ上に透明接着層２４となる紫外線硬化性樹脂等の接着剤を塗布したのち積層構造Ｂを載置し、高速回転、押圧等により接着剤を全面に広げる。このとき、透明接着層２４の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なう。その後、第１基板２１下面側から半透明反射層２３を介して紫外線を照射し、硬化接着させることでタイプ２の光記録媒体を製造できる。或いは紫外線を媒体の側面から照射することもできる。いずれにせよ、この紫外線により第１記録層２２がダメージを受けないように注意が必要である。
【０１３２】
また、積層構造Ａ，Ｂ間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層を形成することもできる。或いは、遅延硬化型の接着剤を使用し、積層構造Ａ上に接着剤をスクリーン印刷等で塗布し紫外線を照射してから積層構造Ｂを載置し押圧しても接着層を形成できる。但し、遅延硬化型接着剤は通常、不透明である場合が多い。
【０１３３】
（Ｂ−３）タイプ２の光記録媒体の膜厚測定方法及び膜厚制御方法
本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体では、上述したタイプ１の光記録媒体と同様に、公知の透過法を用いて半透明反射層２３の膜厚を測定することができる。
つまり、図３（ａ），（ｂ）に示すように、半透明反射層２３は、第１基板２１の内周側及び外周側において、第１記録層２２上だけでなく、第１記録層２２が成膜されていない第１基板２１上にも形成されている。
【０１３４】
なお、内周側及び外周側のそれぞれにおいて、第１基板２１と半透明反射層２３とが接触している所定領域をＷ１０′及びＷ２０′としたとき、Ｗ１０′≦Ｗ１０、Ｗ２０′≦Ｗ２０である。また、ここでは、半透明反射層２３と第１基板２１とが接触する所定領域Ｗ１０′及びＷ２０′を、所定領域Ｗ１０及びＷ２０よりも小さく形成しているが、半透明反射層２３を内周端部及び外周端部まで（即ち、Ｗ１０＝Ｗ１０′、Ｗ２０＝Ｗ２０′となるように）形成してもよい。
【０１３５】
そして、半透明反射層２３の膜厚を測定する場合、上記の所定領域Ｗ１０′及びＷ２０′において行なう。つまり、所定領域Ｗ１０′及びＷ２０′において、半透明反射層２３上面側から或いは第１基板２１下面側から光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射してその透過率の測定を行なえば、半透明反射層２３と第１基板１との間には、λ１光透過性を有する第１基板２１しか存在しておらず、第１記録層２１等はなんら存在していないので、半透明反射層２３のみの膜厚を容易且つ正確に測定することが可能である。
【０１３６】
このように、本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体においても、半透明反射層２３の領域が、第１記録層２２の領域よりも所定領域Ｗ１０′，Ｗ２０′だけ広く形成されることで、第１記録層２２に邪魔されることがないので、半透明反射層２３の膜厚を透過法で正確に測定できる。
これにより、半透明反射層２３の膜厚を適正な厚さに厳密に管理することができるので、良好なジッタ特性を得ることができ、光記録媒体の記録や再生時のエラーをより低減することができる。つまり、良質な光記録媒体を製造することができる。
【０１３７】
なお、所定領域Ｗ１０′，Ｗ２０′において、半透明反射層２３と第１基板２１との間にバッファー層や保護層が存在していても、これらバッファー層や保護層はλ１光透過性を有しているので、上記と同様に半透明反射層２３の膜厚を容易に測定することが可能である。
また、このような膜厚測定を、例えば第１基板２１の直径方向の複数点において行ない、これらの測定値の平均を得ることで、より正確な膜厚を求めることもできる。
【０１３８】
さらに、第１記録層２２の膜厚は、半透明反射層２３の膜厚よりも厚いので、この第１記録層２２の膜厚が影響しない位置、即ち、第１記録層２２からできるだけ離れた位置（所定領域Ｗ１０′内の内周側、所定領域Ｗ２０′内の外周側）で膜厚測定を行なうことが好ましい。
なお、ここでは、第１基板２１の内周側及び外周側の両方に所定領域Ｗ１０′，Ｗ２０′を設けるように構成したが、内周側のみ或いは外周側のみに設けるように構成しても良い。
【０１３９】
また、この膜厚測定は、上述した膜厚測定装置により自動的に行なわれ、このとき測定された膜厚情報は、半透明反射層２３の膜厚を制御する膜厚制御装置（図示省略）にフィードバックされるようになっている。
【０１４０】
〔２〕第２実施形態
次に、本発明の第２実施形態に係る膜厚測定方法について説明する。なお、本膜厚測定方法は、タイプ１及びタイプ２の両方の光記録媒体で用いることができる。以下では、一例としてタイプ１の光記録媒体の場合について説明する。
【０１４１】
本実施形態では、まず、図６（ａ）に示すように、第１基板１上に第１記録層２を形成した後、透過法により第１基板１及び第１記録層２の透過光量（第１の透過光量）Ｐ１を測定する。なお、第１基板１はλ１光透過性を有するので、このとき測定される透過光量Ｐ１はほぼ第１記録層２の透過光量として扱うことができる。
【０１４２】
そして、第１記録層２上に半透明反射層３を形成した後、透過法により第１基板１，第１記録層２，半透明反射層３の透過光量（第２の透過光量）Ｐ２を測定する。なお、上記と同様に、第１基板１はλ１光透過性を有するので、このとき測定される透過光量Ｐ２をほぼ第１記録層２及び半透明反射層３の透過光量として扱うことができる。
【０１４３】
次に、このようにして得られた透過光量Ｐ１及び透過光量Ｐ２の差Ｐ３を求め、予め経験により求められた透過光量と膜厚との関係（マップ）から、半透明反射層３の膜厚を得る。
このように、本実施形態に係る膜厚測定方法では、第１実施形態のような所定領域Ｗ１，Ｗ２，Ｗ１′，Ｗ２′（タイプ１の光記録媒体）、あるいは、所定領域Ｗ１０，Ｗ２０，Ｗ１０′，Ｗ２０′（タイプ２の光記録媒体）を設ける構造にする必要はなく、第１記録層２の透過光量Ｐ１と、第１記録層２及び半透明反射層３の透過光量Ｐ２とから、半透明反射層３の膜厚を容易に求めることができる。
【０１４４】
また、このような測定を、ディスクの直径方向や円周方向の複数点において測定し、例えばこれらの測定値の平均をとることで、半透明反射層３のより正確な膜厚を求めることが可能である。
また、第１実施形態と同様に、上記の膜厚測定及び計算は、本光記録媒体を製造する製造装置内（即ち製造過程）において膜厚測定装置により自動的に行なわれ、この膜厚測定装置で測定された膜厚情報は、半透明反射層３の膜厚を制御する膜厚制御装置にフィードバックされる。
【０１４５】
さらに、本実施形態では、ディスク面内での半透明反射層３の膜厚分布もわかるため、この膜厚分布情報を膜厚制御装置にフィードバックし、半透明反射層３形成のためのスパッタ条件または蒸着条件を調節することで、より細かな膜厚制御を行なうことも可能となる。
例えば、スパッタを用いて半透明反射層３を形成する場合であって、ディスク面内での膜厚分布のムラが大きい場合には、スパッタ電圧を小さくしてスパッタ時間（スパッタしている時間）を長くするように制御する。或いは、ディスク面内での膜厚分布のムラが大きい場合に、スパッタリングガス（通常、Ａｒ等）の流量を低減するように制御する。
【０１４６】
なお、本実施形態では、測定が容易であるという理由から、透過光量を測定することで膜厚を求める方法としたが、第１記録層２や半透明反射層の光吸収率がほぼ一定であると考えれば、これらの反射光量を測定することにより間接的に透過光量を求めることも可能である。
【０１４７】
〔３〕その他
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
例えば、半透明反射層３（２３）の膜厚を測定する際、第１実施形態に係る膜厚測定方法と、第２実施形態に係る膜厚測定方法との両方を行なうようにしても良い。
【０１４８】
つまり、第１実施形態に係る製造方法を用い、ディスクの内周側及び外周側に所定領域を設け、この製造過程において、第１記録層２（２２）を形成した後、透過法によりこの第１記録層２（２２）の透過光量Ｐ１を測定しておき、第１記録層２（２２）上に半透明反射層３（２３）を形成した後、第１記録層２（２２）及び半透明反射層３（２３）の透過光量Ｐ２を測定し、半透明反射層３（２３）だけの透過光量Ｐ３を計算することにより、半透明反射層３（２３）の膜厚を求める。一方、ディスクの内周側及び外周側の所定領域Ｗ１′，Ｗ２′（Ｗ１０′，Ｗ２０′）において、透過法により半透明反射層３（２３）の透過光量を測定することにより半透明反射層３（２３）の膜厚を求める。
【０１４９】
このように、第１実施形態に係る膜厚測定方法により求められた膜厚情報と、第２実施形態に係る膜厚測定方法により求められた膜厚情報及び膜厚分布情報とから、より正確な半透明反射層３（２３）の膜厚及び膜厚分布を得ることも可能となり、これらの情報を膜厚制御装置にフィードバックすることにより、より厳密な膜厚制御を行なうことが可能である。
【０１５０】
また、本発明の趣旨の範囲内で、光記録媒体の基板や各層の積層順序や製造法を変えても良い。また、上記の実施形態では、いわゆる基板面入射媒体を例に説明したが、膜面入射媒体であっても良い。
また、本発明は、記録層を３層以上有し半透明反射層を２層以上有し、片面から光を入射して記録再生するような媒体に適用し、この２層の半透明反射層の膜厚測定と膜厚制御に用いても良い。
【０１５１】
例えば、光透過性基板／第１記録層／第１半透明反射層／第１中間層／第２記録層／第２半透明反射層／第２中間層／第３記録層／反射層、といった層構成の光記録媒体においては、第１半透明反射層を第１記録層よりも広く形成するとともに、第２半透明反射層を第１記録層、第１半透明反射層、第２記録層よりも広く形成することで、両方の半透明反射層の膜厚を正確に測定することができる。
【０１５２】
あるいは、基板上に第１の記録層を形成したのち第１の透過光量を測定し、第１半透明反射層を形成したのち第２の透過光量を測定し、両者（第１の透過光量及び第２の透過光量）の差から第１半透明反射層の膜厚を求めるとともに、さらに第２記録層を形成したのち第３の透過光量を測定し、第２半透明反射層を形成したのち第４の透過光量を測定し、両者（第３の透過光量及び第４の透過光量）の差から第２半透明反射層の膜厚を求めることができる。
【０１５３】
また、上記の実施形態では、半透明反射層３（２３）を１つだけそなえる光記録媒体の場合において、この半透明反射層３（２３）の膜厚情報を、次に製造されるディスクの半透明反射層の膜厚制御に用いるようにしたが、同材質の半透明反射層を複数そなえる光記録媒体である場合には、最初に形成された半透明反射層の膜厚情報を、その後に形成される半透明反射層の膜厚制御に用いるようにしても良い。
【０１５４】
また、本発明の光記録媒体の膜厚測定方法は、相変化型媒体にも適用できるが、上記の実施形態でも説明したように、特に色素記録層を有する色素媒体に適用するとより効果が高い。
相変化型媒体では、色素媒体と同様に、半透明反射層の膜厚を厳密に管理したいという要望があるが、相変化型媒体は、通常、全ての層をスパッタリング等の真空プロセスで成膜するので、他の層の膜厚変動が小さく、本発明のような工夫が無くても、半透明反射層の膜厚を求めることが可能である。例えば、記録層，保護層，半透明反射層等の全ての層を形成した後に、全体の透過／反射光量を測定し、各層の屈折率等をもとに計算することで、間接的に半透明反射層の膜厚を求めることができる。
【０１５５】
一方、色素媒体では、色素記録層は、通常、塗布法、特にスピンコート法によって成膜される。このような塗布プロセスは真空プロセスに比べて簡便ではあるが、膜厚変動が生じやすい。従って、色素媒体では、上述したような相変化型媒体の膜厚測定方法で半透明反射層の膜厚を求めることは困難であり、本発明の膜厚測定方法がより必要とされる。
【０１５６】
また、本発明は、プロセス上、色素媒体の方が相変化型媒体よりも適用しやすい面もある。
例えば、本発明では、半透明反射層の領域を他の層の領域よりも広く形成するが、相変化型媒体では媒体の内周／外周をマスクして全ての層を一連の真空プロセスで成膜するので、半透明反射層だけを他の層よりも広く形成することや、成膜プロセスの途中で一旦取り出して透過光量を測定することは、通常行ないにくい。
【０１５７】
一方、色素媒体では、通常、色素記録層は塗布プロセスで、半透明反射層は真空プロセスで独立して成膜するので、半透明反射層だけを他の層よりも広く形成することが容易であるし、また、色素記録層形成と半透明反射層形成との間で透過光量を測定することも容易である。
【０１５８】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１記載の本発明の光記録媒体によれば、光透過性の基板と半透明反射層との間に他の層が設けられた積層構造であっても、半透明反射層の領域が他の層の領域よりも所定領域だけ広い領域に形成されており、この所定領域では基板と半透明反射層との間には何も介在しないので、この所定領域において透過法により半透明反射層の膜厚を容易に且つ正確に測定することができる。
【０１５９】
請求項２記載の本発明の光記録媒体によれば、光透過性の基板と半透明反射層との間に色素含有記録層が設けられた積層構造であっても、半透明反射層の領域が色素含有記録層の領域よりも所定領域だけ広い領域に形成されており、この所定領域では基板と半透明反射層との間には何も介在しないので、この所定領域において透過法により半透明反射層の膜厚を容易に且つ正確に測定することができる。
【０１６０】
請求項３記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域において、基板と半透明反射層とが直接又は光透過性の層を介して接しているので、この所定領域において、透過法により半透明反射層の膜厚を容易に且つ正確に測定することができる。
請求項４記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域が、基板の内周側及び／又は外周側に設けられているので、直径方向において複数点の膜厚測定を行なうことで、より正確な膜厚を求めることが可能である。
【０１６１】
請求項５記載の本発明の光記録媒体の膜厚測定方法によれば、所定領域において、透過法により半透明反射層の膜厚を容易に測定できる。
請求項６記載の本発明の光記録媒体の膜厚測定方法によれば、任意の位置の膜厚を測定することができるとともに、膜厚分布も求めることが可能である。
請求項７記載の本発明の光記録媒体の膜厚制御方法によれば、所定領域において透過法により半透明反射層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される半透明反射層の膜厚を制御するので、より正確な膜厚制御が可能である。
【０１６２】
請求項８記載の本発明の光記録媒体の製造方法によれば、基板上に、他の層を形成し、他の層上に、他の層の領域よりも所定領域だけ広い領域に半透明反射層を形成するので、この所定領域において透過法により半透明反射層の膜厚を容易に且つ正確に測定することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係るタイプ１の光記録媒体を示す模式図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の製造方法を説明するための工程図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の膜厚測定方法を説明するための図で、（ａ）はディスク内周側の膜厚測定、（ｂ）はディスク外周側の膜厚測定を示す模式図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係るタイプ２の光記録媒体を示す模式図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係るタイプ２の光記録媒体の製造方法を説明するための工程図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の膜厚測定方法を説明するための図で、（ａ）は第１基板及び第１記録層の透過光量測定、（ｂ）は第１基板及び第１記録層及び半透明反射層の透過光量測定を示す模式図である。
【図７】従来の光記録媒体の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１，２１  第１基板（第１の基板）
２，２２  第１記録層（第１の色素含有記録層）
３，２３  半透明反射層
４  中間樹脂層（中間層）
５，２５  第２記録層（第２の色素含有記録層）
６，２６  反射層
７  接着層
８，２７  第２基板（第２の基板）
２８  バッファー層（中間層）
１１，１２，３１  凸部からなる記録トラック
２４  透明接着層（中間層）
３２  凹部からなる記録トラック
Ｗ１′，Ｗ２′，Ｗ１０′，Ｗ２０′  所定領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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