(57)【要約】【課題】基板の搬送に伴う振動を低減することができる基板搬送技術を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置１は、薬液処理部ＣＢ１，ＣＢ２と、水洗処理部ＷＢ１，ＷＢ２とを一列に配設する。薬液処理部と水洗処理部との間で基板Ｗを搬送するリフタ１０，２０は、それぞれ接続部を中心として回動可能な複数のアーム１２ａ〜１２ｃ，２２ａ〜２２ｃからなる多関節アーム１２，２２を備えている。リフタ１０，２０はそれぞれ複数の各アーム１２ａ〜１２ｃ，２２ａ〜２ｃを接続部を中心としてそれぞれ好適に回動させることにより、基板Ｗを搬送することができる。これにより、ボールネジの回転駆動を伴わず基板Ｗを搬送することができるため、振動を低減することができる。【選択図】        図１
2004296660.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を搬送する基板搬送装置であって、
基台部と、
回動可能な複数の接続部を有し、前記基台部から伸びる多関節アームと、
前記多関節アームの先端部において複数の基板を縦姿勢で保持する基板保持手段と、
を備え、
前記基板保持手段の移動を、前記複数の接続部の回動によって行うことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板搬送装置であって、
前記多関節アームの前記複数の接続部のそれぞれは、鉛直方向と水平方向とによって規定される鉛直面内において回動し、鉛直方向と水平方向とについて複数の基板を搬送可能であることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置であって、
前記基板保持手段は、縦姿勢で水平方向に整列した複数の基板を載置する載置部材を備え、
前記載置部材に水平方向の加速を与えるときに、前記多関節アームを制御することにより、前記載置部材の基板側の面が加速方向に向いて傾斜するように前記載置部材を傾ける傾斜制御手段、
をさらに備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の基板搬送装置であって、
前記基板保持手段の水平方向の位置を微調整可能であることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項５】
基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
複数の処理部と、
請求項１から請求項４までのいずれかに記載の基板搬送装置と、
を備え、
前記基板搬送装置は、前記複数の処理部の間で基板を搬送することを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置であって、
前記複数の処理部は、複数の基板を受け入れ可能な槽構造を有するとともに、
前記複数の処理部が水平方向に配列されており、
前記基板搬送装置は、隣り合う２つの処理部の間で複数の基板を搬送することを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置であって、
前記基板搬送装置は、前記隣り合う２つの処理部の間に対応した位置に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板処理装置であって、
前記基板搬送装置が複数設けられており、
前記基板搬送装置のそれぞれが、互いに隣り合う２つの処理部の対ごとに、かつ当該対を構成する２つの処理部の間に対応した位置に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板を搬送する基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、基板の製造工程においては、基板を保持し、保持した基板を所定の位置に搬送する基板搬送装置を備えた基板処理装置が使用される。図７は、従来の基板搬送装置を備えた基板処理装置の一例を示す斜視図である。
【０００３】
基板処理装置１００は、基板Ｗに薬液処理を施す薬液処理部１０１と、薬液処理後の基板Ｗに水洗処理を施す水洗処理部１０２と、水洗処理後の基板Ｗに乾燥処理を施す乾燥処理部１０３とを一列に配設し、さらに各処理部へ基板を搬送するための基板搬送システム１０４を備える。
【０００４】
基板搬送システム１０４は、外部との間で基板Ｗを授受するトランスファ１２０と、トランスファ１２０との間で基板Ｗを授受し、薬液処理部１０１と水洗処理部１０２との間で基板Ｗを搬送するリフタ（基板搬送装置）１１０とを有する。リフタ１１０とトランスファ１２０とは、共に基板Ｗを保持した状態で基板Ｗを上下方向および水平方向（薬液処理部，水洗処理部，乾燥処理部の配設方向）に搬送可能であり、その上下方向および水平方向の運動は、モータ等から得られる回転駆動をポスト部１１１，１２１の下方に存在するボールネジを含む機構を介して直線運動に変換して伝達することにより実現している。すなわち、モータ等を好適に駆動することによりポスト部１１１，１２１ごと昇降運動および横行運動を行い、基板Ｗを上下方向および水平方向に搬送することができる構成となっている。
【０００５】
このような従来の基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置の構成は、例えば、特許文献１，２に開示されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開２０００−２５２３４５号公報
【特許文献２】
特開２００１−３５８９５号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の構成では、以下のような問題が存在する。
【０００８】
まず第１の問題は、従来の構成においては、基板Ｗを上下方向および水平方向に搬送する際に、ボールネジ全体の回転運動を伴うため、振動が生じ易いという問題である。この問題は、基板Ｗを高速で搬送するほど生じやすく、装置内発塵や、基板Ｗ損傷の要因となる。
【０００９】
第２の問題は、従来の構成においては、ポスト部１１１，１２１の横行運動を案内するためのレールを敷設する必要があるとともに、ポスト部１１１，１２１が横行運動する空間を確保する必要があるという問題である。このため、装置床面積（フットプリント）が増加してしまうばかりでなく、レールの敷設面やポスト部１１１，１２１が移動する空間には基板処理装置１００の骨組みを渡すことができないため、基板処理装置１００の強度を保つことも困難となる。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであって、基板の搬送に伴う振動を低減することができる基板搬送技術を提供することを目的とする。また特に、装置床面積の低減および基板処理装置の強度の向上を可能とする基板搬送技術を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、複数の基板を搬送する基板搬送装置であって、基台部と、回動可能な複数の接続部を有し、前記基台部から伸びる多関節アームと、前記多関節アームの先端部において複数の基板を縦姿勢で保持する基板保持手段と、を備え、前記基板保持手段の移動を、前記複数の接続部の回動によって行うことを特徴とする。
【００１２】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の基板搬送装置であって、前記多関節アームの前記複数の接続部のそれぞれは、鉛直方向と水平方向とによって規定される鉛直面内において回動し、鉛直方向と水平方向とについて複数の基板を搬送可能であることを特徴とする。
【００１３】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置であって、前記基板保持手段は、縦姿勢で水平方向に整列した複数の基板を載置する載置部材を備え、前記載置部材に水平方向の加速を与えるときに、前記多関節アームを制御することにより、前記載置部材の基板側の面が加速方向に向いて傾斜するように前記載置部材を傾ける傾斜制御手段、をさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
請求項４に係る発明は、請求項１から請求項３までのいずれかに記載の基板搬送装置であって、前記基板保持手段の水平方向の位置を微調整可能であることを特徴とする。
【００１５】
請求項５に係る発明は、基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、複数の処理部と、請求項１から請求項４までのいずれかに記載の基板搬送装置と、を備え、前記基板搬送装置は、前記複数の処理部の間で基板を搬送することを特徴とする。
【００１６】
請求項６に係る発明は、請求項５に記載の基板処理装置であって、前記複数の処理部は、複数の基板を受け入れ可能な槽構造を有するとともに、前記複数の処理部が水平方向に配列されており、前記基板搬送装置は、隣り合う２つの処理部の間で複数の基板を搬送することを特徴とする。
【００１７】
請求項７に係る発明は、請求項６に記載の基板処理装置であって、前記基板搬送装置は、前記隣り合う２つの処理部の間に対応した位置に設けられていることを特徴とする。
【００１８】
請求項８に係る発明は、請求項７に記載の基板処理装置であって、前記基板搬送装置が複数設けられており、前記基板搬送装置のそれぞれが、互いに隣り合う２つの処理部の対ごとに、かつ当該対を構成する２つの処理部の間に対応した位置に設けられていることを特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２０】
本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の外観斜視図を図１に、正面図を図２に、それぞれ示している。図１および図２には、方向関係を明確にするためにＸＹＺ直交座標系を付している。処理部ＣＢ１，ＷＢ１，ＣＢ２，ＷＢ２，ＤＰの配設方向をＸ方向（水平第１方向）、水平面内でＸ方向と直交する方向をＹ方向（水平第２方向）、鉛直方向をＺ方向とする。
【００２１】
基板処理装置１は、基板Ｗに薬液処理を施す薬液処理部ＣＢ１，ＣＢ２と、薬液処理後の基板Ｗに水洗処理を施す水洗処理部ＷＢ１，ＷＢ２と、水洗処理後の基板Ｗに乾燥処理を施す乾燥処理部ＤＰとをＸ方向に一列に配設した構成となっている。複数の処理部ＣＢ１，ＷＢ１，ＣＢ２，ＷＢ２，ＤＰのそれぞれは、複数枚の基板（以下、「複数枚の基板」を単に「基板」と称する。）Ｗを受け入れ可能な槽構造を有している。薬液処理部ＣＢ１，ＣＢ２は、内部にそれぞれ異なる薬液を貯留し、貯留した薬液中に基板Ｗを浸漬することにより基板Ｗに対して薬液処理を施す。また、水洗処理部ＷＢ１，ＷＢ２は、それぞれ内部に純水を貯留し、貯留した純水中に基板Ｗを浸漬することにより基板Ｗに対して水洗処理を施す。薬液処理部ＣＢ１で薬液処理を施した後の基板Ｗは水洗処理部ＷＢ１で水洗され、薬液処理部ＣＢ２で薬液処理を施した後の基板Ｗは水洗処理部ＷＢ２で水洗される。
【００２２】
基板処理装置１はまた、各処理部ＣＢ１，ＣＢ２，ＷＢ１，ＷＢ２，ＤＰの間および外部との間で基板Ｗの搬送を行う基板搬送システム２を備える。基板搬送システム２は、リフタ１０，２０とトランスファ３０とを有する。リフタ１０は、薬液処理部ＣＢ１中に基板Ｗを浸漬した状態（図２の仮想線の状態）と、水洗処理部ＷＢ１中に基板Ｗを浸漬した状態（図２の実線の状態）との間で基板Ｗの搬送を行う。リフタ２０は、薬液処理部ＣＢ２中に基板Ｗを浸漬した状態と、水洗処理部ＷＢ２中に基板Ｗを浸漬した状態との間で基板Ｗの搬送を行う。トランスファ３０は、外部とリフタ１０とリフタ２０との間で基板Ｗの搬送を行う。基板処理装置１はさらに制御装置４０を備えており、制御装置４０には本発明の基板搬送装置の制御部に相当する電子装置が含まれる。
【００２３】
トランスファ３０はＺ方向に昇降可能なポスト３１と、ポスト３１の頂部に設けられたヘッド３２と、ヘッド３２から処理部方向に突出し、基板Ｗの被処理面と直交する軸を中心として回動する一対のシャフト３３と、各シャフト３３先端に設けられ、シャフト３３の回動により基板Ｗを保持するチャック３４とを備える。また、トランスファ３０はＸ方向に沿った搬送路ＴＲ上を横行移動可能である。したがって、トランスファ３０は、チャック３４により基板Ｗを保持した状態で横行および昇降することにより、基板ＷをＹ方向およびＺ方向の２方向に搬送することが可能となる。この２方向の運動は、モータの回転駆動を、ボールネジを含む駆動機構を介して直線運動として伝達することにより実現している。
【００２４】
一方、リフタ１０，２０は、それぞれ基台部１１，２１と、基台部１１，２１から伸びる多関節アーム１２，２２と、基板保持手段であるボート１４，２４とを備える。基台部１１は、薬液処理部ＣＢ１と水洗処理部ＷＢ１との間に対応した不動位置に固定的に立設されており、基台部２１は、薬液処理部ＣＢ２と水洗処理部ＷＢ２との間に対応した不動位置に固定的に立設されている。すなわち、リフタ１０，２０のそれぞれは、互いに隣り合う２つの処理部の対ごとに、かつ当該対を構成する２つの処理部の間に対応した位置に設けられている。多関節アーム１２，２２は、それぞれ第１アーム１２ａ，２２ａと第２アーム１２ｂ，２２ｂと第３アーム１２ｃ，２２ｃとを備える。第１アーム１２ａ，２２ａは、それぞれその一端が基台部１１，２１の上端に接続され、その接続部（関節）１３ａ，２３ａを中心としてＸ方向とＺ方向とによって規定される鉛直面内を回動可能となる。また、第１アーム１２ａ，２２ａの他端は第２アーム１２ｂ，２２ｂの一端に接続され、第２アーム１２ｂ，２２ｂはその接続部（関節）１３ｂ，２３ｂを中心としてＸ方向とＺ方向とによって規定される鉛直面内を回動可能となる。さらに、第２アーム１２ｂ，２２ｂの他端は第３アーム１２ｃ，２２ｃの一端に接続され、第３アーム１２ｃ，２２ｃはその接続部（関節）１３ｃ，２３ｃを中心としてＸ方向とＺ方向とによって規定される鉛直面内を回動可能となる。そして、第３アーム１２ｃ，２２ｃの他端、すなわち多関節アーム１２，２２の先端部には、それぞれボート１４，２４が固設されている。各接続部における回動は、モータからの駆動力をギヤ等を介して伝達することにより実現することができ、基板Ｗの搬送のために好適な回動量となるよう図外の制御装置４０により制御される。ボート１４，２４は、Ｙ方向にのびた載置部材であり、Ｘ方向に整列した基板Ｗを縦姿勢に載置する。したがって、リフタ１０は、第１アーム１２ａ，第２アーム１２ｂ，第３アーム１２ｃをそれぞれ好適に回動することにより、基板Ｗをボート１４に載置した状態でそのＸ方向とＺ方向とについて２次元的に（２自由度で）移動させることが可能となり、薬液処理部ＣＢ１と水洗処理部ＷＢ１との間の基板Ｗの搬送を実現できる。同じくリフタ２０も、第１アーム２２ａ，第２アーム２２ｂ，第３アーム２２ｃをそれぞれ好適に回動することにより、基板Ｗをボート２４に載置した状態でＸ方向とＺ方向とについて２次元的に移動させることが可能となり、薬液処理部ＣＢ２と水洗処理部ＷＢ２との間の基板Ｗの搬送を実現できる。
【００２５】
図２において、リフタ１０は水洗処理部ＷＢ１内に基板Ｗを浸漬している状態を実線で、薬液処理部ＣＢ１内に基板Ｗを浸漬している状態を仮想線で示しており、リフタ２０は、薬液処理部ＣＢ２と水洗処理部ＷＢ２との間において基板Ｗを搬送する途中の状態を示している。本実施形態におけるリフタ２０は、基台部２１と第１アーム２２ａと第２アーム２２ｂとの長さの合計が第３アーム２２ｃの長さより長くなるようにしているため、図２に示すように、ボート２４を傾けることなく基板Ｗを処理部から引き揚げて搬送することが可能となっている。このような構造はリフタ１０についても同様である。
【００２６】
また、リフタ１０，２０は、ボート１４，２４のＹ方向の位置を水平方向に微調整し、トランスファ３０との間の基板Ｗの受渡位置を微調整することができる。これは、例えば、基台部１１，２１の取り付け位置を水平方向に微調整することにより実現できる。具体的には、基台部１１，２１の取り付け位置を、Ｘ方向に僅かに変位可能とすると共に、Ｚ方向の軸心周りに僅かに回動可能とし、これらを微調整することによりボート１４，２４の位置を微調整する。従来のリフタでは、レールを敷設し、レールに沿って横行運動をするため、薬液処理部の上方における基板Ｗの受渡位置と水洗処理部の上方における基板Ｗの受渡位置とを共に調整しようとすると、レールの平行度を含めた大掛かりな調整が必要であったが、本実施例におけるリフタ１０，２０ではこのような取り付け位置の微調整等で容易にトランスファ３０との基板ＷのＹ方向の受渡位置を調整することが可能となる。基台部１１，２１の取り付け位置を調整する以外に、基台部１１，２１は固設し、基台部１１，２１に対する第１アーム１２ａ，２２ａの接続位置と接続角度を微調整可能な構成としてもよい。
【００２７】
また、本実施形態においては、隣り合う薬液処理部ＣＢ１と水洗処理部ＷＢ１との間の基板Ｗの搬送を１つのリフタ１０で行い、隣り合う薬液処理部ＣＢ２と水洗処理部ＷＢ２との間の基板Ｗの搬送を１つのリフタ２０で行うため、各リフタ１０，２０は異なる薬液中に浸漬されることがなく、異なる薬液の混合等による基板Ｗの処理不良の発生を抑制できる。また、リフタ１０は薬液処理部ＣＢ１と水洗処理部ＷＢ１との間に設けられ、リフタ２０は薬液処理部ＣＢ２と水洗処理部ＷＢ２との間に設けられているため、リフタ１０の多関節アーム１２とリフタ２０の多関節アーム２２とは互いに干渉しない。
【００２８】
以上のような構造を備えた基板処理装置１における動作の一例について、次に説明する。
【００２９】
まず、トランスファ３０は、外部から基板Ｗを受け取り、基板Ｗを保持した状態でリフタ１０のボート１４の上方まで横行移動を行う。この際、トランスファ３０のシャフト３３やチャック３４が、リフタ１０，２０の多関節アーム１２，２２やボート１４，２４と接触しない程度に多関節アーム１２，２２は屈曲した状態としておく。
【００３０】
基板Ｗがボート１４の上方に到達すると、トランスファ３０のポスト３１を下降させることにより、あるいは多関節アーム１２の各アーム１２ａ，１２ｂを各接続部１３ａ，１３ｂを中心として回動させてボート１４を基板Ｗの真下へ近接させることにより、基板Ｗをボート１４上に載置する。そして、トランスファ３０は基板Ｗを手放し、上昇あるいは横行することによりリフタ１０と接触しない位置まで退避する。
【００３１】
基板Ｗを受け取ったリフタ１０は、多関節アーム１２の各アーム１２ａ，１２ｂを各接続部１３ａ，１３ｂを中心として回動させることにより、薬液処理部ＣＢ１内へ基板Ｗを浸漬する（図２における仮想線の状態）。そして、所定の時間薬液処理部ＣＢ１内で基板Ｗを静止させ、基板Ｗに対して薬液処理を施す。
【００３２】
所定時間の薬液処理終了後、リフタ１０は、多関節アーム１２の各アーム１２ａ，１２ｂを各接続部１３ａ，１３ｂを中心として回動させることにより、薬液処理部ＣＢ１内から基板Ｗを引き揚げ、水洗処理部ＷＢ１内へ基板Ｗを浸漬する（図２における実線の状態）。そして、所定の時間水洗処理部ＷＢ１内で基板Ｗを静止させ、基板Ｗに対して水洗処理を施す。
【００３３】
所定時間の水洗処理終了後、リフタ１０は、多関節アーム１２の各アーム１２ａ，１２ｂを各接続部１３ａ，１３ｂを中心として回動させることにより、水洗処理部ＷＢ１内から基板Ｗを引き揚げ、水洗処理部ＷＢ１の上方付近で待機するトランスファ３０へ基板Ｗを渡す。
【００３４】
続いて、トランスファ３０が基板Ｗをリフタ２０のボート２４の上方まで移動させ、あるいは多関節アーム２２の各アーム２２ａ，２２ｂを各接続部２３ａ，２３ｂを中心として回動させることによりボート２４をトランスファ３０に保持された基板Ｗの下方へ移動させ、トランスファ３０からリフタ２０への基板Ｗの受渡を行う。その後、トランスファ３０は上昇あるいは横行することによりリフタ２０と接触しない位置まで退避する。
【００３５】
基板Ｗを受け取ったリフタ２０は、前述のリフタ１０と同様に多関節アーム２２の各アーム２２ａ，２２ｂを各接続部２３ａ，２３ｂを中心として回動させることにより、基板Ｗを薬液処理部ＣＢ２と水洗処理部ＷＢ２とに搬送して、それぞれ薬液処理と水洗処理とを施す。
【００３６】
水洗処理部ＷＢ２における所定時間の水洗処理終了後、リフタ２０は、多関節アーム２２の各アーム２２ａ，２２ｂを各接続部２３ａ，２３ｂを中心として回動させることにより、水洗処理部ＷＢ２内から基板Ｗを引き揚げ、水洗処理部ＷＢ２の上方付近で待機するトランスファ３０へ基板Ｗを渡す。
【００３７】
基板Ｗを受け取ったトランスファ３０は、基板Ｗを乾燥処理部ＤＰ内へ搬入する。乾燥処理部ＤＰ内では基板Ｗに乾燥処理を施す。そして、乾燥処理が終了した基板Ｗはトランスファ３０によって乾燥処理部ＤＰから搬出されて外部に渡される。
【００３８】
このように、本実施形態の基板処理装置１においては、基板Ｗの薬液処理部と水洗処理部との間の搬送を多関節アームの複数の接続部の一部または全部を回動させることにより行い、ボールネジの回転駆動を伴わないため、搬送中の基板Ｗの振動を抑制することができる。したがって、基板Ｗの搬送をより高速で行うことが可能となり、また、装置内発塵や、基板損傷を抑制することができる。
【００３９】
また、リフタ１０，２０の基台部１１，２１は不動位置に固定されており、従来のようにポスト部の横行運動を案内するためのレールを敷設する必要がなく、従来ではポスト部が横行運動するために使用していた空間も必要としない。したがって、装置床面積を抑えることができる。また、従来ポスト部が横行移動するために使用していた空間に基板処理装置１の骨組みを渡すことも可能となるため、基板処理装置の強度を高めることができる。
【００４０】
＜変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の例に限定されるものではない。
【００４１】
例えば、上述の実施の形態においては、各リフタ１０，２０は、それぞれ２つの処理部の間で基板Ｗの搬送を行うことができる構成について説明したが、図３の正面図に示すように、３つの処理部の間で基板Ｗの搬送を行うことができるリフタ５０のような構成であってもよい。このような構成にすれば、制御装置４０からリフタ５０に与える指令によって、２つの処理部による処理と、３つの処理部による処理とを自由に選択して基板Ｗに施すことができる。また、多関節アームの接続部の数を増加させることにより、４つ以上の処理部の間で基板Ｗの搬送を行う構成とすることもできる。２つの処理部の間で基板Ｗの搬送を行う場合は最低２つの接続部が、３つの処理部の間で基板Ｗの搬送を行う場合は最低３つの接続部があれば、基板Ｗを傾けることなく複数の処理部の間で基板Ｗを搬送することができる。また、多関節アームの全長が同じであれば、接続部を多く設けるほど多関節アームの移動範囲を狭くして基板Ｗを搬送することが可能となり、隣り合うリフタ同士の干渉を防止することができる。
【００４２】
１つの処理部に対して１つのリフタを備え、基板Ｗの昇降動作を多関節アームにより実現する構成や、制御装置４０からリフタに与える指令によって、１つの処理部による処理と２つの処理部による処理とを自由に選択して基板Ｗに施すことができる構成なども、もちろん可能である。
【００４３】
また、上述の実施の形態においては、トランスファ３０については、横行および昇降の動作をボールネジを含む駆動機構を介して実現する構成について説明したが、トランスファ３０にも多関節アームを採用し、トランスファ３０による基板Ｗの搬送も多関節アームにより行う構成であってもよい。これにより、トランスファ３０についても振動の低減や、装置床面積の低減や、基板処理装置の強度の向上など、上述のリフタ１０，２０に多関節アームを採用した場合と同様の効果を得ることができる。
【００４４】
また、上述の実施の形態においては、多関節アーム１２，２２は、それぞれ各アームを回動させることにより、基板Ｗの被処理面と平行な平面内において２次元的に運動する場合について説明したが、多関節アームは３次元的な（３自由度の）運動であってもよい。３次元的な運動は、基台部１１，２１を接地面に対して垂直な軸心周りに回動可能に構成することなどにより、実現することができる。３次元的な運動を行うことにより、例えば各処理部が一列に並んで配設されていない場合でも各処理部間で基板Ｗの搬送を行うことが可能となる。
【００４５】
また、上述の実施の形態においては、薬液処理部ＣＢ１，ＣＢ２や水洗処理部ＷＢ１，ＷＢ２に基板Ｗを浸漬した状態で所定時間基板Ｗを静止させて処理する場合について説明したが、浸漬中に基板Ｗを揺動させてもよい。基板Ｗの揺動は、上下方向の揺動でもよく、図４に示すように、第３アーム１２ｃ（または２２ｃ）のみを接続部１３ｃ（または２３ｃ）を中心として回動させることによる振り子式の揺動であってもよい。
【００４６】
また、上述の実施の形態においては、ボート１４，２４を傾けることなく基板Ｗの搬送を行う場合について説明したが、図５（ａ）に示すように、ボート１４，２４にＸ方向の加速を与えるときに、ボート１４，２４の基板Ｗ側の面が加速方向に向いて傾斜するようにボート１４，２４を傾ける構成であってもよい。これは例えば、ボート１４，２４の傾斜制御手段となる制御装置４０が、内部のメモリに、加速パターンに合わせて予め傾斜パターンを記憶しておき、それを読み出して多関節アーム１２，２２各関節のモータに出力することにより実現することができる。具体的には、ボート１４，２４に図５（ｂ）（ｃ）に示すような、速度および加速度を与える場合、図５（ｄ）に示すような傾斜パターンを与えることにより実現することができる。こうすることにより、基板Ｗに対してＸ方向の高い加速や減速を与えても基板Ｗが振れることがなくなり、より迅速な基板Ｗの搬送を行うことができる。特に、従来から使用されているボートは３本の保持棒により基板Ｗを載置する構成であることが多く、中でも基板Ｗの膨張等に備えるため、図６（ａ）に示すように３本の保持棒５１，５２，５３のうち中央の保持棒５２を両側の保持棒５１，５３のうちの一方の保持棒側へ僅かにずらし、２本の保持棒（図６では保持棒５２および保持棒５３）により基板Ｗを載置している場合がある。このような状態で、基板Ｗに対して横行方向に加速または減速を行うと、基板Ｗが接していない保持棒５１側へ振れ易く、加減速によりこの振れを繰り返すと基板Ｗの損傷の原因となる。そこで、図６（ｂ）に示すように、基板Ｗの横行搬送を行う場合、その加速方向と反対方向に第３アーム１２ｃ（または２２ｃ）を傾けることにより、基板Ｗの振れを生じることなく加減速を行うことができる。
【００４７】
また、上述の実施の形態においては、開放空間で基板Ｗを搬送する場合について説明したが、外部の雰囲気と遮断されたチャンバ内で基板Ｗを搬送する場合に、本発明は特に優れた効果を奏する。すなわち、密閉チャンバ内においては、内部空間の密閉性やクリーン度を維持するために、駆動部をベローズ等の密閉手段で覆う必要があるが、ボールネジを含む駆動部を長いベローズで密閉することは困難であり、また、長いベローズは伸縮を繰り返すことにより劣化が早く、発塵の原因ともなり得る。このような場合に多関節アームを使用すれば、密閉手段を多関節アームの接続部等の回転部分に限定して設けることができるため、密閉手段を容易に取り付けることができるとともに、ボールネジを覆うような長いベローズが不要となるため、ベローズの劣化による損傷や発塵等を抑制することができる。また、両側の雰囲気を遮断することができる密閉扉を経由して基板Ｗを搬送したい場合に、多関節アームを使用すれば、密閉扉から多関節アームを進入させて基板Ｗを搬送することが可能となるため、密閉扉の両側に渡るレールやそのレールに対する密閉手段を設けることなく、容易に基板Ｗの搬送を行うことができる。
【００４８】
【発明の効果】
以上のように、請求項１から請求項８に記載の発明によれば、基板の搬送を多関節アームの各接続部を回動させることにより行い、ボールネジの回転駆動を伴わずに行うことができるため、搬送中の基板の振動を抑制することができる。したがって、基板の搬送をより高速で行うことが可能となり、装置内発塵や、基板損傷を抑制することができる。また、基板搬送装置の横行運動を案内するためのレールを敷設する必要がなく、従来では横行運動に使用していた空間を必要としない。したがって、装置床面積を抑えることができる。また、従来横行移動に使用していた空間に基板処理装置の骨組みを渡すことも可能となるため、基板処理装置の強度を高めることができる。
【００４９】
特に、請求項３に記載の発明によれば、搬送の加速に合わせて載置部材を傾けることにより、基板に対して横行方向の高い加速や減速を与えても基板が振れることがなくなり、より迅速な基板の搬送を行うことができる。
【００５０】
特に、請求項４に記載の発明によれば、基板保持手段の水平方向の位置を微調整することにより、基板の受渡位置を容易に調整することができる。
【００５１】
特に、請求項８に記載の発明によれば、複数の基板搬送装置を互いに隣り合う２つの処理部の対ごとに、かつ当該対を構成する２つの処理部の間に対応した位置に設けることにより、各基板搬送装置の多関節アーム同士が互いに干渉することを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の外観斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の正面図である。
【図３】３つの処理部の間で基板Ｗの搬送を行うことができるリフタ５０を示す正面図である。
【図４】第３アーム１２ｃ（または２２ｃ）のみを回動させることによる振り子式の揺動を説明するための図である。
【図５】ボート１４，２４の基板Ｗ側の面が加速方向に向いて傾斜するようにボート１４，２４を傾ける様子およびボート１４，２４の速度と加速度と傾斜パターンとの関係を示す図である。
【図６】２本の保持棒により基板Ｗを載置している場合に、加速方向と反対方向に第３アーム１２ｃ（または２２ｃ）を傾ける様子を説明するための図である。
【図７】従来の基板搬送装置を備えた基板処理装置の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１  基板処理装置
２  基板搬送システム
１０，２０  リフタ
１１，２１  基台部
１２，２２  多関節アーム
１２ａ，２２ａ  第１アーム
１２ｂ，２２ｂ  第２アーム
１２ｃ，２２ｃ  第３アーム
１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，２３ａ，２３ｂ，２３ｃ  接続部（関節）
１４，２４  ボート（基板保持手段）
３０  トランスファ
４０  制御装置
ＣＢ１，ＣＢ２  薬液処理部
ＷＢ１，ＷＢ２  水洗処理部
ＤＰ  乾燥処理部
Ｗ  基板（複数の基板）
【図１】
2004296660.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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