(57)【要約】【課題】流量変化に拘わらず、安定した高精度な差圧制御を行う圧力制御弁を提供すること。【解決手段】第１受圧室４１の圧力と第２受圧室４２の圧力の差圧によって弁体２０を弁軸方向に駆動するダイヤフラム装置３５を有する圧力制御弁で、一次側圧力Ｐａ１と二次側圧力Ｐａ２の差圧によって弁体２０を弁閉方向に駆動する大径部４５を弁軸２１の途中に設ける。【選択図】　　　図１
2004013622.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次側ポートと二次側ポートとの間に弁ポートと有し、弁軸方向に移動する弁体によって前記弁ポートの開閉および開度調整を行う圧力制御弁において、
一方の側に第１受圧室を画定し、他方の側に第２受圧室を画定し、前記第１受圧室の圧力と前記第２受圧室の圧力の差圧によって前記弁体を弁軸方向に駆動する第１の差圧駆動手段と、
一方の側に前記一次側ポートの一次側圧力を及ぼされ、他方の側に前記二次側ポートの二次側圧力あるいは二次側圧力に相関した圧力を及ぼされ、一次側圧力と二次側圧力あるいは二次側圧力に相関した圧力との差圧によって前記弁体を弁閉方向に駆動する第２の差圧駆動手段と、
を有していることを特徴とする圧力制御弁。
【請求項２】
前記第１の差圧駆動手段は、前記第１受圧室と前記第２受圧室とを区画する可撓性を有する第１のダイヤフラムを含んでいることを特徴とする請求項１記載の圧力制御弁。
【請求項３】
前記第２の差圧駆動手段は、前記弁体の弁軸の中間部に形成された大径部を含み、当該大径部は、前記弁軸を支持する弁ハウジングに形成された弁軸支持孔を係合し、一方の端面が前記一次側ポートと直接連通している一次室に露呈し、他方の端面が前記二次側ポートと実質的に等圧あるいは前記二次側圧力に相関した圧力を及ぼされる受圧室に露呈していることを特徴とする請求項１または２記載の圧力制御弁。
【請求項４】
前記第２の差圧駆動手段は、前記弁体の弁軸に連結された第２のダイヤフラムを含み、当該第２のダイヤフラムは、一方の面が前記一次側ポートと直接連通している一次室に露呈し、他方の面が前記二次側ポートと実質的に等圧あるいは前記二次側圧力に相関した圧力を及ぼされる受圧室に露呈していることを特徴とする請求項１または２記載の圧力制御弁。
【請求項５】
前記第１の差圧駆動手段の前記第２受圧室と前記第２の差圧駆動手段の前記受圧室とが同一の受圧室であることをことを特徴とする請求項３または４記載の圧力制御弁。
【請求項６】
前記弁体の弁軸に連結され、電磁力によって前記弁体を開閉駆動する電磁コイル装置を有していることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項記載の圧力制御弁。
【請求項７】
前記二次側ポートと直接連通している二次室の側、あるいは前記一次側ポートと直接連通している一次室の側に均圧室を設けられており、
前記均圧室が二次室の側の場合には、該均圧室は均圧通路によって一次室に連通して、当該均圧室の圧力（一次側圧力）が二次室の圧力に対向して前記弁体に作用し、
前記均圧室が一次室の側の場合には、該均圧室は均圧通路によって二次室に連通して、当該均圧室の圧力（二次側圧力）が一次室の圧力に対向して前記弁体に作用する、
ことを特徴とする請求項１〜６の何れか１項記載の圧力制御弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、圧力制御弁に関し、特に、２種の異なる流体回路の差圧制御を行う圧力制御弁に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
化学プラント、エネルギ機器等において、２種の異なる流体回路の差圧を所定値に保つプロセス制御を行う場合、差圧に応動する圧力制御弁を一方の流体回路に組み込み、圧力制御弁によって他方の流体回路の圧力に応じて一方の流体回路の流量（圧力）制御を行い、２つの流体回路の差圧を所定値に保つことができる。
【０００３】
上述のプロセス制御に行う圧力制御弁としては、一方の側に第１受圧室を、他方の側に第２受圧室を各々画定するダイヤフラムのような感圧要素を含み、この感圧要素の一方の側に作用する第１受圧室の圧力と感圧要素の他方の側に作用する第２受圧室の圧力との差圧によって弁体を弁軸方向に開閉駆動する差圧動作式の圧力制御弁がある。
【０００４】
上述の圧力制御弁では、第１受圧室には他方の流体回路の圧力を導入し、第２受圧室には一方の流体回路の圧力を導入し、第１受圧室の圧力が弁開方向に作用し、第２受圧室の圧力が弁閉方向に作用することにより、他方の流体回路の圧力が増大すると、開弁量が増加し、この開弁量の増加に伴って一方の流体回路の圧力が増加すると、開弁量が低減し、或る開弁量にてバランスして２つの流体回路の差圧が所定値に保たれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述の圧力制御弁では、流量が多く、これに伴って流体回路の圧力が高いときも、逆に、流量が少なく、これに伴って流体回路の圧力が低いときも、感圧要素の一方の側に作用する第１受圧室の圧力と感圧要素の他方の側に作用する第２受圧室の圧力との差圧により生じる力は、等しく、弁開度としては、同開度でバランスする。
【０００６】
このため、圧力の制御基準となる他方の流体回路の流量があまり大きく変化しない場合には、問題を生じないが、流量変化量が大きいと、大流量側で、バランス過程での開閉弁の繰り返しが頻繁になり、所謂、ハンチング現象が発生し、安定した制御を行うことが難しくなる。
【０００７】
たとえば、他方の流体回路の流量が増加し、これに伴い第１受圧室の圧力が増大すると、開弁量が増加する。開弁量が増加すると、一方の流体回路の流量が増加し、これに伴い第２受圧室の圧力が増大するので、開弁量が低減する。開弁量が低減すると、一方の流体回路の流量が低減する。この結果、弁体は開閉を繰り返し、制御が安定しない。
【０００８】
この発明は、上述の如き問題点を解消するためになされたもので、流量変化に拘わらず、安定した高精度な差圧制御を行う圧力制御弁を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、この発明による圧力制御弁は、一次側ポートと二次側ポートとの間に弁ポートと有し、弁軸方向に移動する弁体によって前記弁ポートの開閉および開度調整を行う圧力制御弁において、一方の側に第１受圧室を画定し、他方の側に第２受圧室を画定し、前記第１受圧室の圧力と前記第２受圧室の圧力の差圧によって前記弁体を弁軸方向に駆動する第１の差圧駆動手段と、一方の側に前記一次側ポートの一次側圧力を及ぼされ、他方の側に前記二次側ポートの二次側圧力あるいは二次側圧力に相関した圧力を及ぼされ、一次側圧力と二次側圧力あるいは二次側圧力に相関した圧力との差圧によって前記弁体を弁閉方向に駆動する第２の差圧駆動手段とを有している。
【００１０】
この発明による圧力制御弁によれば、基本的には、第１の差圧駆動手段の第１受圧室の圧力と第２受圧室の圧力の差圧が所定値になるように動作し、大流量時には小流量時に比して二次側圧力が高くなることにより、一次側圧力と二次側圧力あるいは二次側圧力に相関した圧力との差圧が小さくなり、第２の差圧駆動手段による弁閉方向駆動力が低減する。これにより、弁体のバランス位置が流量増加に応じて弁開側に変位する。
【００１１】
この発明による圧力制御弁では、前記第１の差圧駆動手段は、前記第１受圧室と前記第２受圧室とを区画する可撓性を有する第１のダイヤフラムを含んでいる構造とすることができる。
【００１２】
また、この発明による圧力制御弁では、前記第２の差圧駆動手段は、前記弁体の弁軸の中間部に形成された大径部を含み、当該大径部は、前記弁軸を支持する弁ハウジングに形成された弁軸支持孔を係合し、一方の端面が前記一次側ポートと直接連通している一次室に露呈し、他方の端面が前記二次側ポートと実質的に等圧あるいは前記二次側圧力に相関した圧力を及ぼされる受圧室に露呈している構造とすることができる。
【００１３】
また、この発明による圧力制御弁では、前記第２の差圧駆動手段は、前記第２の差圧駆動手段は、前記弁体の弁軸に連結された第２のダイヤフラムを含み、当該第２のダイヤフラムは、一方の面が前記一次側ポートと直接連通している一次室に露呈し、他方の面が前記二次側ポートと実質的に等圧あるいは前記二次側圧力に相関した圧力を及ぼされる受圧室に露呈している構造とすることもできる。
【００１４】
前記第２の差圧駆動手段の前記受圧室は前記第１の差圧駆動手段の前記第２受圧室と同じ受圧室であってよく、構造を簡素化できる。
【００１５】
また、この発明による圧力制御弁は、応答遅れを補償するために、第１の差圧駆動手段に加えて、前記弁体の弁軸に連結され、電磁力によって前記弁体を開閉駆動する電磁コイル装置を有していてよい。
【００１６】
また、この発明による圧力制御弁は、好ましくは、差圧の影響を弁体が受けないよう、前記二次側ポートと直接連通している二次室の側、あるいは前記一次側ポートと直接連通している一次室の側に均圧室を設けられており、前記均圧室が二次室の側の場合には、該均圧室は均圧通路によって一次室に連通して、当該均圧室の圧力（一次側圧力）が二次室の圧力に対向して前記弁体に作用し、前記均圧室が一次室の側の場合には、該均圧室は均圧通路によって二次室に連通して、当該均圧室の圧力（二次側圧力）が一次室の圧力に対向して前記弁体に作用する構成にすることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に添付の図を参照してこの発明の実施の形態を詳細に説明する。
（実施形態１）
図１はこの発明による圧力制御弁の実施形態１を示している。
【００１８】
圧力制御弁は、弁ハウジング１１を有している。弁ハウジング１１には、入口ポートである一次側ポート１２と、出口ポートである二次側ポート１３と、一次室１４と、弁ポート１５と、二次室１６と、ばね収容室（均圧室）１７とが形成されている。
【００１９】
一次室１４は弁ポート１５より上側にあって一次側ポート１２に直接連通している。二次室１６は、弁ポート１５の下側にあって弁ポート１５を介して一次室１４に連通し、連通路１８によって二次側ポート１３に直接連通している。
【００２０】
弁ポート１５の二次室１６側の開口縁部にはリング状のゴム弁座部材１９が弁ハウジング１１に固定されている。二次室１６には弁体２０が設けられている。
【００２１】
弁体２０は、弁軸方向（上下方向）に移動可能であり、ゴム弁座部材１９に対する軸線方向の位置関係により、弁ポート１５の開度を設定する。弁体２０は、図１で見て下方への移動により弁ポート１５の開度（弁開量）を増大し、これとは逆の上方への移動により、弁ポート１５の開度（弁開量）を減少する。
【００２２】
弁体２０には、一次側ポート１２の一次側圧力Ｐａ１に等しい一次室１４の内圧と二次側ポート１３の二次側圧力Ｐａ２に等しい二次室１６の内圧との差圧ΔＰａ＝Ｐａ１−Ｐａ２が作用する。差圧ΔＰａが弁体２０に作用する面積は、弁ポート１５の内径（弁体２０の有効受圧径）φＤにより決まる。
【００２３】
弁体２０の一方の側（上側）には弁軸２１が一体に設けられている。弁軸２１は、弁ポート１５、一次室１４を上下方向に横切って延在し、一次室１４の天井面１４Ａに開口している弁軸支持孔２２に貫通係合し、上端部２１Ａにて後述するダイヤフラム装置３５に連結されている。
【００２４】
ばね収容室１７は、二次室１６の更に下側にあり、下側を弁ハウジング１１のねじ部１１Ａにねじ止めされた固定側ばねリテーナ２３によって閉じられ、上側を可撓性のダイヤフラム２４によって二次室１６と区画され、密閉室構造をなしている。弁ハウジング１１には一次室１４とばね収容室１７とを連通接続する内部均圧通路２５が形成されている。これにより、ばね収容室１７の内圧は一次室１４の内圧に等しくなり、ばね収容室１７が一次側圧力Ｐａ１を及ぼされる均圧室になる。
【００２５】
ダイヤフラム２４は、外縁側を、弁体２０の全開位置を設定するストッパリング部材２６と共にリング形状の固定ねじ部材２７によって弁ハウジング１１に気密に固定されている。ダイヤフラム２４は、中心部を、弁体２０の先端部の小径軸部２０Ａに固定されたボール受け部材２８によって弁体２０に気密に接続されている。
【００２６】
ダイヤフラム２４には二次室１６の内圧（二次側圧力）Ｐａ２とばね収容室１７の内圧、すなわち一次室１４の内圧（一次側圧力）Ｐａ１との差圧ΔＰａが作用する。差圧ΔＰａがダイヤフラム２４に作用する面積は、ダイヤフラム２４の有効受圧径φＤｆ３により決まり、図示されている実施形態では、ダイヤフラム２４の有効受圧径φＤｆ３は弁ポート１５の内径（弁体２０の有効受圧径）φＤと等しい寸法（φＤ＝φＤｆ３）に設定されている。
【００２７】
ばね収容室１７には可動ばねリテーナ２９が軸線方向（弁軸方向）に可動配置されている。可動ばねリテーナ２９と固定側ばねリテーナ２３との間には圧縮コイルばね（調整ばね）３０が設けられている。
【００２８】
可動ばねリテーナ２９の上面部は球面受座部２９Ａになっており、球面受座部２９Ａと弁体２０の側のボール受け部材２８との間にはボール部材（鋼球）３１が挟まれている。ボール部材３１は、固定ねじ部材２７の内径部２７Ａに所定の空隙をもって係合することにより、固定ねじ部材２７により軸線方向に可動支持されている。
【００２９】
ボール部材３１は、一方において可動ばねリテーナ２９の球面受座部２９Ａに球面関節式に当接し、他方においてボール受け部材２８に球面関節式に当接し、弁体２０と可動ばねリテーナ２９との間で自動求心接続構造をなし、圧縮コイルばね３０のばね力を上向きの弁閉力として弁体２０に伝達している。
【００３０】
ダイヤフラム装置３５は、第１の差圧駆動手段であり、固定ボルト３６によって弁ハウジング１１の上部に固定された上蓋３７と、外周縁を弁ハウジング１１と上蓋３７とに挟まれて弁ハウジング１１に固定された可撓性のダイヤフラム（第１のダイヤフラム）３８と、ダイヤフラム３８の中心部に取り付けられた当金部材３９と、上蓋３７と当金部材３９との間に設けられた圧縮コイルばね（補助ばね）４０とを有している。当金部材３９に弁棒２１の上端部２１Ａが係合している。
【００３１】
ダイヤフラム装置３５は、ダイヤフラム３８の上側に第１受圧室４１を画定し、ダイヤフラム３８の下側に第２受圧室４２を画定しており、第１受圧室の圧力Ｐ１と第２受圧室の圧力Ｐ２の差圧によって弁体２０を弁軸方向に開閉駆動する。第１受圧室４１には上蓋２７に形成された圧力ポート４３より別流体回路Ｂの流体圧力Ｐｂが導入され、第２受圧室４２には弁ハウジング１１に形成された圧力ポート４４より二次側圧力Ｐａ２が導入される。
【００３２】
なお、図示されている実施形態では、第２受圧室４２には外部配管によって圧力ポート４４より二次側圧力Ｐａ２が導入されるが、弁ハウジング１１に二次室１６と第２受圧室４２とを連通する内部通路を設け、内部通路によって第２受圧室４２に二次側圧力Ｐａ２を導く構造にすることもできる。
【００３３】
ダイヤフラム３８の有効受圧径がφＤｆ１で、ダイヤフラム３８の感圧有効面積をＡｆ１、圧縮コイルばね４０のばね荷重をＷ１とすると、ダイヤフラム装置３５が弁体２０に及ぼす開閉力は下式（１）で表される。式（１）において、左辺が下向き力（弁開力）、右辺が上向き力（弁閉力）である。
Ａｆ１・Ｐｂ＋Ｗ１＝Ａｆ１・Ｐａ２　　…（１）
【００３４】
弁軸２１が弁ハウジング１１に形成された弁軸支持孔２２に係合する部分は、他に部分の外径φＤｓより大きい外径φＤｆ２による大径部４５になっている。大径部４５は、下端面４５Ａが一次室１４に露呈し、上端面４５Ｂがダイヤフラム装置３５の第２受圧室４２に露呈している。これにより、ダイヤフラム装置３５の第２受圧室４２は第２の差圧駆動手段の受圧室を兼ねることになる。
【００３５】
これにより、大径部４５は、下端面４５Ａに一次側圧力Ｐａ１を及ぼされ、上端面４５Ｂに二次側圧力Ｐａ２を及ぼされ、一次側圧力Ｐａ１と二次側圧力Ｐａ２の差圧（Ｐａ１−Ｐａ２）によって弁体２０を上向き（弁閉方向）に駆動し、第２の差圧駆動手段として作用する。
【００３６】
上述の構成による圧力制御弁の平衡式は下式（２）で表される。式（２）においても、左辺が下向き力（弁開力）、右辺が上向き力（弁閉力）である。
Ａｆ１・Ｐｂ＋Ｗ１＋Ａ・ΔＰａ＝Ａｆ１・Ｐａ２＋Ｗ２＋Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２）＋Ａｆ３・ΔＰａ　　…（２）
但し、Ａは弁口径有効面積、Ｗ２は圧縮コイルばね３０のばね荷重、Ａｆ２は大径部４５の感圧有効面積、Ａｆ３はダイヤフラム２８の感圧有効面積である。
【００３７】
φＤ＝φＤｆで、Ａ＝Ａｆ３であるから、Ａ・ΔＰａとＡｆ３・ΔＰａは相殺キャンセルされ、弁体２０が、一次側圧力Ｐａ１と二次側圧力Ｐａ２との差圧ΔＰａの影響を受けることがない。これにより、圧力制御弁の実効平衡式は下式（３）で表される。
Ａｆ１・Ｐｂ＋Ｗ１＝Ａｆ１・Ｐａ２＋Ｗ２＋Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２）
…（３）
【００３８】
この圧力制御弁の基本制御特性は、一次側ポート１２と二次側ポート１３に接続される配管による流体回路Ａの圧力（二次側圧力Ｐａ２）と、流体回路Ａとは別の流体回路Ｂの流体圧力Ｐｂとの差圧を所定値に制御する差圧制御である。
【００３９】
この差圧制御は、ダイヤフラム装置３５による第１の差圧駆動手段により行われ、Ｗ１＝Ｗ２であれば、Ｐｂ＝Ｐａ２（差圧：Ｐｂ−Ｐａ２＝０）となるように行われ、弁ハウジング１１のねじ部１１Ａにねじ止めされた固定側ばねリテーナ２３のねじ止め位置の調整により、圧縮コイルばね３０のばね荷重Ｗ２を調整することで、任意の差圧設定値とすることができる。
【００４０】
大径部４５による第２の差圧駆動手段は、Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２）により表される上向きの力（弁閉力）を弁体２０に及ぼす。流体回路Ａの一次側圧力Ｐａ１が略一定であると、流体回路Ａの流量が増え、これに伴い、二次側圧力Ｐａ２が、Ｐａ２１よりＰａ２２に増加すると、第２の差圧駆動手段による弁閉力は、Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２１）＞Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２２）であるから、Ａｆ２（Ｐａ２２−Ｐａ２１）だけ、減少する。
【００４１】
この変化分Ａｆ２（Ｐａ２２−Ｐａ２１）が、弁体２０に流量補正力として作用し、弁体２０の弁開度バランス位置が流体回路Ａの流量増加に伴い弁開方向に変位する。
【００４２】
これにより、大流量でもバランス過程で、弁体２０が頻繁に開閉移動するハンチング現象が生じることがなく、流量変化に拘わらず、安定した高精度な差圧制御が行われる。
【００４３】
（実施形態２）
図２はこの発明による圧力制御弁の実施形態２を示している。なお、図２において、図１に対応する部分は、図１に付した符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
【００４４】
この実施形態では、第２の差圧駆動手段として、可撓性のダイヤフラム（第２のダイヤフラム）５１が用いられている。ダイヤフラム５１は、外周縁を固定ねじ部材５２によって弁ハウジング１１に固定され、中心部を連結金具５３によって弁軸２１と当金部材３９の延長軸体３９Ａとを同一軸線上に連結されている。
【００４５】
ダイヤフラム５１は、下側面が一次室１４に露呈し、上側面がダイヤフラム装置３５の第２受圧室４２に露呈している。これにより、この場合も、ダイヤフラム装置３５の第２受圧室４２は第２の差圧駆動手段の受圧室を兼ねることになる。
【００４６】
これにより、ダイヤフラム５１は、下側面に一次側圧力Ｐａ１を及ぼされ、上側面に二次側圧力Ｐａ２を及ぼされ、一次側圧力Ｐａ１と二次側圧力Ｐａ２の差圧（Ｐａ１−Ｐａ２）によって弁体２０を上向き（弁閉方向）に駆動する。
【００４７】
ダイヤフラム５１の感圧有効面積をＡｆ２とすると、ダイヤフラム５１による第２の差圧駆動手段は、実施形態１と同様に、Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２）により表される上向きの力（弁閉力）を弁体２０に及ぼす。流体回路Ａの一次側圧力Ｐａ１が略一定であると、流体回路Ａの流量が増え、これに伴い、二次側圧力Ｐａ２が、Ｐａ２１よりＰａ２２に増加すると、第２の差圧駆動手段による弁閉力は、Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２１）＞Ａｆ２（Ｐａ１−Ｐａ２２）であるから、Ａｆ２（Ｐａ２２−Ｐａ２１）だけ、減少する。
【００４８】
これにより、実施形態２でも、大流量でもバランス過程で、弁体２０が頻繁に開閉移動するハンチング現象が生じることがなく、流量変化に拘わらず、安定した高精度な差圧制御が行われる。また、一次室１４とダイヤフラム装置３５の第２受圧室４２とがダイヤフラム５１によって気密に区画されるから、この間の漏れ流量をなくすことができる。
【００４９】
（実施形態３）
図３はこの発明による圧力制御弁の実施形態３を示している。なお、図３においても、図１に対応する部分は、図１に付した符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
【００５０】
この実施形態では、応答遅れを補償するために、弁軸２１に連結され、電磁力によって弁体２０を開閉駆動する電磁コイル装置６１が設けられている。
【００５１】
電磁コイル装置６１は、弁ハウジング１１に固定された吸引子６２と、吸引子６２の下端外側に固定された底板６３および底板６３に取り付けられた外凾６４と、吸引子６２の上部に固定されたプランジャケース６５と、外凾６４の上端部に装着された磁気ガイド部材６６とを有しており、プランジャケース６５内にプランジャ室６７を画定している。
【００５２】
プランジャ室６７はプランジャ６８を収容している。プランジャ６８にはプランジャロッド６９の上端が固定されている。プランジャロッド６９の下端はダイヤフラム装置３５の当金部材３９に係合している。プランジャケース６５とプランジャ６８との間にはプランジャばね７０が設けられている。
【００５３】
外凾６４の内側には吸引子６２及びプランジャケース６５の外周部に嵌合した電磁コイル部７１が設けられており、電磁コイル部７１の励磁により、吸引子６２の上端面がプランジャ６８の磁気吸引面７２となる。
【００５４】
電磁コイル装置６１は、弁開度が大きく変化する過渡状態時に、ダイヤフラム装置３５の応答遅れを補償するために、弁体２０を開閉駆動し、ダイヤフラム装置３５の応答遅れによる障害を回避する。
【００５５】
上述の実施形態では、第２受圧室４２には圧力ポート４４より二次側圧力Ｐａ２が導入されるが、この発明は、これに限られることはなく、第２受圧室４２に導入する圧力は、二次側圧力Ｐａ２に比例関係の圧力等、二次側圧力Ｐａ２に相関する圧力であればよく、第２の差圧駆動手段である大径部４５あるいはダイヤフラム５１は、一次室１４の一次側圧力Ｐａ１と二次側圧力Ｐａ２に相関する圧力との差圧に応動してもよい。なお、ここで云う二次側圧力Ｐａ２に相関する圧力としては、二次側ポート１３よりの流体が圧力損失を生じるような流体機器、たとえば、図１にて符号１００で示されているような流体機器を通過した後の圧力が考えられる。
【００５６】
一次側圧力Ｐａ１と二次側圧力Ｐａ２あるいは二次側圧力Ｐａ２に相関する圧力との差圧は、弁開度を代表する圧力であり、一次側圧力Ｐａ１が一定の場合には、大径部４５やダイヤフラム５１は、大気圧と二次側圧力Ｐａ２との差圧に応動するよう構成されていればよい。
【００５７】
また、上述の何れの実施形態でも、均圧室（ばね収容室１７）が二次室１６の側に設けられている場合について述べたが、均圧室は一次室１４の側に設けることもでき、この場合には、均圧室は均圧通路によって二次室１４に連通し、二次側圧力Ｐａ２が一次室の圧力（一次側圧力Ｐａ１）に対向して弁体２０に作用する構成とする。
【００５８】
【発明の効果】
以上の説明から理解される如く、この発明による圧力制御弁によれば、流量増加に応じて第２の差圧駆動手段による弁閉方向駆動力が低減し、弁体のバランス位置が流量増加に応じて弁開側に変位するから、流量変化に拘わらず、安定した高精度な差圧制御が行われるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による圧力制御弁の実施形態１を示す断面図である。
【図２】この発明による圧力制御弁の実施形態２を示す断面図である。
【図３】この発明による圧力制御弁の実施形態３を示す断面図である。
【符号の説明】
１１　弁ハウジング
１２　一次側ポート
１３　二次側ポート
１４　一次室
１５　弁ポート
１６　二次室
１７　ばね収容室（均圧室）
２０　弁体
２１　弁軸
２３　固定側ばねリテーナ
２４　ダイヤフラム
２９　可動ばねリテーナ
３０　圧縮コイルばね
３１　ボール部材
３５　ダイヤフラム装置
３８　ダイヤフラム（第１のダイヤフラム）
４０　圧縮コイルばね
４１　第１受圧室
４２　第２受圧室
４５　大径部
５１　ダイヤフラム（第２のダイヤフラム）
６１　電磁コイル装置
【図１】
2004013622.tif 000003
【図２】
2004013622.tif 000004
【図３】
2004013622.tif 000005