(57)【要約】【課題】放射線像変換パネルを防湿性、耐久性に優れ、長期間良好な状態で使用することのできる高感度で良好な画質を与えるものとする。【解決手段】基板１上に輝尽性蛍光体層２を設け、この輝尽性蛍光体層２上に透明保護膜６を設ける場合に、透明保護膜６を基材フィルム３ａ上に透明無機層４ａを有する防湿フィルム５ａと、基材フィルム３ｂ上に透明無機層４ｂを有する防湿フィルム５ｂとからなるものとし、防湿フィルム５ｂの透明無機層４ｂ側を輝尽性蛍光体層２側に向けて配すると共に、透明保護膜６と接着剤７によって輝尽性蛍光体層２を封止する。【選択図】　　　　　図１
2004085367.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜と輝尽性蛍光体層とを有する放射線像変換パネルであって、前記透明保護膜が、前記防湿フィルムの透明無機層側を前記輝尽性蛍光体層側に向けて配され、前記輝尽性蛍光体層を封止していることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項２】
前記透明保護膜が前記防湿フィルムを２層以上積層したものであって、互いに隣りあう前記防湿フィルムが、一方の防湿フィルムの前記基材フィルム面上に他方の防湿フィルムの前記透明無機層を積層したものであることを特徴とする請求項１記載の放射線像変換パネル。
【請求項３】
前記輝尽性蛍光体層が基板上に設けられており、前記透明保護膜が前記基板の前記輝尽性蛍光体層が設けられていない面側で接着されていることを特徴とする請求項１または２記載の放射線像変換パネル。
【請求項４】
前記透明無機層が金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなるものであることを特徴とする請求項１、２または３記載の放射線像変換パネル。
【請求項５】
前記透明保護膜の膜厚が５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載の放射線像変換パネル。
【請求項６】
前記封止が１００℃未満で硬化する樹脂により前記透明保護層を接着するものであることを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の放射線像変換パネル。
【請求項７】
前記樹脂の水蒸気透過係数が５０ｇ・ｍｍ／（ｍ２・ｄ）以下であることを特徴とする請求項６記載の放射線像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の放射線写真法に代わる方法として、たとえば特開昭５５−１２１４５号に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線をパネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生するものである。読取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわれた後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線像変換パネルは繰り返し使用される。
【０００３】
この放射線像変換方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰返し使用するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
【０００４】
このように、放射線像変換方法は非常に有利な画像形成方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パネルも従来の放射線写真法に用いられる増感紙と同様に、高感度で良好な画質を与えるものであって、放射線画像の画質を劣化させることなく長期間の使用に耐える性能を有するものであることが望ましい。
【０００５】
しかし、放射線像変換パネルの製造に用いられる輝尽性蛍光体は一般に吸湿性が大きく、通常の気候条件の室内に放置すると空気中の水分を吸収し、吸収した水分の増大にともなって蛍光体の放射線感度が低下し、時間の経過とともに著しく劣化するという問題があった。
【０００６】
また、一般に、輝尽性蛍光体に記録された放射線画像の潜像は、放射線照射後の時間の経過にともなって退行するため、再生される放射線画像信号の強度は放射線照射から励起光による走査までの時間が長いほど小さくなるという性質を有するが、輝尽性蛍光体が吸湿するとこの潜像退行の速さが速くなるため、吸湿した輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネルを用いると、放射線画像の読み取り時における再生信号の再現性が低下する傾向にあった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような輝尽性蛍光体の吸湿による劣化現象を防止するために、フィルム保護膜によって蛍光体層を封止する方法が知られている（例えば、特許第２８４３９９８号、特許第２８８６１６５号、特許第２８２９６０７号など）。フィルム保護膜による封止は、ガラス保護膜による封止に比較して軽量であり、Ｘ線吸収が低い等の利点があるが、ガラス保護膜による封止に比較して透湿度が高く、蛍光体の劣化が早く起こりやすいという問題を有している。また、キャスティングポリプロピレン（ＣＰＰ）等を熱融着してフィルム保護膜を設ける場合は、ＣＰＰが厚いために保護膜全体が厚膜になる傾向があり、輝尽性発光光が広がってしまい画像がぼけるという問題が生じる。
【０００８】
また、上述のように放射線像変換パネルは繰り返し使用されるため、画像劣化を防止の観点からは、搬送ローラ等の機械部分との接触によって保護層表面に傷がつくことを防止する必要もある。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、防湿性、耐久性に優れ、長期間良好な状態で使用することのできる高感度で良好な画質を得ることが可能な放射線像変換パネルを提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の放射線像変換パネルは、基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜と輝尽性蛍光体層とを有する放射線像変換パネルであって、前記透明保護膜が、前記防湿フィルムの透明無機層側を前記輝尽性蛍光体層側に向けて配され、前記輝尽性蛍光体層を封止していることを特徴とするものである。
【００１１】
前記透明保護膜が前記防湿フィルムを２層以上積層したものである場合は、互いに隣りあう前記防湿フィルムが、一方の防湿フィルムの前記基材フィルム面上に他方の防湿フィルムの前記透明無機層を積層したものであることが好ましい。
【００１２】
また、前記輝尽性蛍光体層が基板上に設けられている場合、前記透明保護膜によって前記基板の前記輝尽性蛍光体層が設けられていない面側で接着するように設けてもよい。
【００１３】
前記透明無機層は、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなるものであることが好ましい。
前記透明保護膜の膜厚は、５０μｍ以下であることが好ましい。
【００１４】
前記封止は、１００℃未満で硬化する樹脂により前記透明保護層を接着するものであることが好ましく、前記樹脂の水蒸気透過係数は５０ｇ・ｍｍ／（ｍ２・ｄ）以下であることがより好ましい。
【００１５】
【発明の効果】
本発明の放射線像変換パネルは、基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜が、防湿フィルムの透明無機層側を輝尽性蛍光体層側に向けて配されるため、基材フィルムがパネル表面を覆うことになり、防傷性を高めることが可能になる。また、輝尽性蛍光体層を封止しているため、高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができる。さらに、従来のＣＰＰを熱融着することによって配する保護膜の場合には保護膜が厚膜となって、輝尽性発光光が広がってしまい画像がぼけるという問題があったが、本発明の放射線像変換パネルは、輝尽性蛍光体層を封止するものであるためＣＰＰを使用する必要がなく、保護膜を薄膜とすることができるため、高感度で良好な画質を得ることが可能なパネルとすることができる。
【００１６】
なお、輝尽性蛍光体層が基板上に設けられている場合に、基板の輝尽性蛍光体層が設けられていない面側で透明保護膜を接着することによって、輝尽性蛍光体層の側面からの吸湿をより効果的に防止することが可能となるためより高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができる。また、透明無機層を、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなるものとすることにより、より高い防湿性を期待することができる。
【００１７】
また、透明保護膜全体の膜厚を５０μｍ以下とすることによって、輝尽性発光光が保護膜の内部で広がることが抑制されるので、より高感度で良好な画質を得ることが可能なパネルとすることができる。
【００１８】
また、封止を１００℃未満で硬化する樹脂により前記透明保護層を接着するものとすることにより、さらに高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができるとともに、保護膜を配するときに生じる防湿性の劣化を抑制することが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明の第一の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図、図２は本発明の第二の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図である。
【００２０】
図１に示す放射線像変換パネル１０は、基板１上に輝尽性蛍光体層２を有し、基材フィルム３ａ上に透明無機層４ａを有する防湿フィルム５ａと、基材フィルム３ｂ上に透明無機層４ｂを有する防湿フィルム５ｂとからなる透明保護膜６を、防湿フィルム５ｂの透明無機層４ｂ側を輝尽性蛍光体層２側に向けて配されると共に、基板１上であって、輝尽性蛍光体層２の周りに封止枠８を有し、この封止枠８に接着剤７を用いて輝尽性蛍光体層２を封止してなるものである。図１では透明保護膜６が２枚の防湿フィルム５ａ、５ｂからなる構成を示しているが、１枚であってもよく、また２枚より多く積層してもかまわない。
【００２１】
保護膜の最も外側の層は、図１に示すように基材フィルムであることが好ましい。透明無機層は防傷性が低いため、これを保護膜の最外層とすると搬送ローラ等の機械部分との接触によって傷がつきやすいが、基材フィルムを最外層とすることによってより高い防傷性を発揮させることが可能となる。
【００２２】
防湿フィルムを２枚以上積層する場合は、図１に示すように互いに隣りあう防湿フィルム５ａ、５ｂは、透明無機層４ａと基材フィルム３ｂを向かい合わせに積層したものとすることが好ましい。透明無機層４ａと透明無機層４ｂとを向かい合わせに積層すると、保護膜中で光による干渉が発生しやすくなり、画像に悪影響を及ぼすため好ましくない。
【００２３】
図１に示す放射線像変換パネルは、基板１上の輝尽性蛍光体層２が設けられていない部分に、保護膜６を接着剤７によって接着し、輝尽性蛍光体層２を封止してなる構成を示しているが、図２に示す放射線像変換パネル２０のように、透明保護膜２６が基板２１の輝尽性蛍光体層２２が設けられていない面側で接着剤２７によって接着されていてもよい。
【００２４】
また、図１に示す放射線像変換パネルは輝尽性蛍光体層の周りに封止枠を設けたものを示しているが、図３に示す放射線像変換パネル３０ように、封止枠を設けることなく、接着剤３７によって直接、輝尽性蛍光体層３２を封止する構成としてもよい。
【００２５】
なお、図１、図２および図３の放射線像変換パネルは、いずれも輝尽性蛍光体層と保護膜との間に何ら別の層を有していないものを示しているが、保護膜全体が厚膜とならず、内部で輝尽性発光光が広がらない程度の厚みの層（２〜３μｍ程度）、例えば蒸着層、樹脂塗布層（糊層等）などを設けることは何ら差し支えない。透明保護膜の膜厚は、５０μｍ以下であることが好ましく、さらには３０μｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
以下、さらに各層について詳細に説明する。
透明無機層は、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなることが好ましい。より具体的には、無機層は波長３００ｎｍから１０００ｎｍで光吸収がなくかつガスバリア性を有する無機物質を蒸着した透明な蒸着層であることが好ましい。波長３００ｎｍから１０００ｎｍで光吸収がない無機物質としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化窒化ケイ素、酸化窒化アルミニウム等を好ましくあげることができる。これらのうち特に酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素は光透過率が高くかつガスバリア性が高い、すなわちクラックやマイクロポアが少なく緻密な膜を形成することができるのでより好ましく用いることができる。防湿フィルムを２枚以上積層する場合、それぞれの防湿フィルムの透明無機層は異なる材質からなるものであっても、同じ材質からなるものであってもよい。
【００２７】
透明無機層は、スパッタリング、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法等の真空堆積法によって、基材フィルム上に直接敷設される。いずれの方法によっても、無機層の透明性、バリヤー性は大きく変わらないので、適宜選択することが可能であるが、形成上の容易性、簡便性の観点からはＣＶＤ法、中でもＰＥ−ＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ　ｅｎｈａｎｃｅｄ　ＣＶＤ　）、ＥＣＲ−ＰＥ−ＣＶＤ法等の方法が好ましい。
【００２８】
基材フィルムは、たとえば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体；あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、アクリル、ポリパラキシリレン、ＰＥＴ、塩酸ゴム、塩化ビニリデン共重合体等の合成高分子物質のような透明な高分子物質のフィルムを用いることができる。
【００２９】
保護膜は、乾燥雰囲気下で、接着剤を用いて輝尽性蛍光体層を封止することによって設ける。封止は減圧下で行うことが好ましい。このようにすることにより、特に気圧の低い状態における、蛍光体層と保護膜との間の剥離を抑制することができる。
【００３０】
輝尽性蛍光体層の封止に用いられる接着剤は、特に限定されるものではないが１００℃未満で硬化する樹脂であることが好ましく、樹脂の水蒸気透過係数が５０ｇ・ｍｍ／（ｍ２・ｄ）以下であることが好ましい。より具体的には、ビニル系、アクリル系、ポリアミド系、エポキシ系、ゴム系、ウレタン系等の各種の接着剤を使用することができる。なお、この接着剤は、防湿フィルムを２枚以上積層する場合の防湿フィルムの貼り合わせにも用いることができる。
【００３１】
また、蛍光体層の側面からの吸湿を充分に防止するため、特に図１に示すように基板上の輝尽性蛍光体層が設けられていない部分に保護膜を接着剤で接着する場合には、放射線像変換パネルの端面をガラス、エポキシ樹脂、ＵＶ硬化樹脂あるいは金属（ソルダー）等で封止することが好ましい。なお、蛍光体層の吸湿による性能劣化を防ぐため、蒸着槽（蒸着機）からの取り出しから端面の封止までは、真空あるいは乾燥した空気または不活性ガスや疎水性の不活性ガス中で行うことが好ましい。
【００３２】
本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては、
特公平７−８４５８８号等に記載されている一般式　（Ｍ１−ｆ・ＭｆＩ）Ｘ・ｂＭＩＩＩＸ３″：ｃＡ（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点から一般式（Ｉ）における　ＭＩとしては、Ｒｂ，Ｃｓおよび／またはＣｓを含有したＮａ、同Ｋが好ましく、特にＲｂおよびＣｓから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好ましい。ＭＩＩＩ　としてはＹ，Ｌａ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎから選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。Ｘ″としては、Ｆ，ＣｌおよびＢｒから選ばれる少なくとも一種のハロゲンが好ましい。ＭＩＩＩＸ３″の含有率を表すｂ値は０≦ｂ≦１０−２の範囲から選ばれるのが好ましい。
【００３３】
一般式（Ｉ）において、賦活剤ＡとしてはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｇｄ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましく、特にＥｕ，Ｃｅ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましい。また、賦活剤の量を表すＣ値は１０−６＜Ｃ＜０．１の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好ましい。
【００３４】
また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いることができる。
米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されているＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、ＴｈＯ２：Ｅｒ、およびＬａ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ、
【００３５】
特開昭５５−１２１４２号に記載されている　ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ、ＢａＯ・ｘＡｌ２Ｏ３：Ｅｕ（ただし、０．８≦ｘ≦１０）、および、ＭＩＩＯ・ｘＳｉＯ２　：Ａ（ただし、ＭＩＩはＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，Ｃｄ、またはＢａであり、ＡはＣｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉまたはＭｎであり、ｘは０．５≦ｘ≦２．５である）、
【００３６】
特開昭５５−１２１４３号に記載されている　（Ｂａ１−Ｘ−ｙ　，ＭｇＸ　，Ｃａｙ　）ＦＸ：ａＥｕ２＋（ただし、Ｘ　はＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙは、０＜ｘ＋ｙ≦０．６、かつｘｙ≠０であり、ａは、１０−６≦ａ≦５×１０−２である）、
【００３７】
特開昭５５−１２１４４号に記載されている　ＬｎＯＸ：ｘＡ（ただし、ＬｎはＬａ，Ｙ，Ｇｄ、およびＬｕのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種、ＡはＣｅおよびＴｂのうちの少なくとも一種、そして、ｘは、０＜ｘ＜０．１である）、
【００３８】
特開昭５５−１２１４５号に記載されている（Ｂａ１−Ｘ，Ｍ２＋Ｘ）ＦＸ：ｙＡ（ただし、Ｍ２＋はＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ、およびＣｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種、ＡはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒのうちの少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ≦０．６、ｙは０≦ｙ≦０．２である）、
【００３９】
特開昭５５−１６００７８号に記載されているＭＩＩＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ（ただし、ＭＩＩはＢａ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｍｇ，ＺｎおよびＣｄのうちの少なくとも一種、ＡはＢｅＯ，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３，Ｌａ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｉＯ２，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＧｅＯ２，ＳｎＯ２，Ｎｂ２Ｏ５，Ｔａ２Ｏ５　およびＴｈＯ２　のうちの少なくとも一種、ＬｎはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，ＳｍおよびＧｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙはそれぞれ　５×１０−５≦ｘ≦０．５、および０＜ｙ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４０】
特開昭５６−１１６７７７号に記載されている（Ｂａ１−Ｘ，ＭＩＩＸ）Ｆ２・ａＢａＸ２：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、ＭＩＩはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ　０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０−６≦ｙ≦２×１０−１、および０＜ｚ≦１０−２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４１】
特開昭５７−２３６７３号に記載されている（Ｂａ１−Ｘ，ＭＩＩＸ）Ｆ２・ａＢａＸ２：ｙＥｕ，ｚＢ（ただし、ＭＩＩ　はベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０−６≦ｙ≦２×１０−１、および０＜ｚ≦１０−２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４２】
特開昭５７−２３６７５号に記載されている（Ｂａ１−Ｘ，ＭＩＩＸ）Ｆ２・ａＢａＸ２：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、ＭＩＩはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０−６≦ｙ≦２×１０−１、および０＜ｚ≦５×１０−１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４３】
特開昭５８−６９２８１号に記載されている　ＭＩＩＩＯＸ：ｘＣｅ（ただし、ＭＩＩＩはＰｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、ＸはＣｌおよびＢｒのうちのいずれか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４４】
特開昭５８−２０６６７８号に記載されているＢａ１−ＸＭＸ／２ＬＸ／２ＦＸ：ｙＥｕ２＋（ただし、ＭはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし；Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし；Ｘ　は、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし；そして、ｘは１０−２≦ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４５】
特開昭５９−２７９８０号に記載のＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ２＋（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０−６　≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１　である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４６】
特開昭５９−４７２８９号に記載されているＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ２＋（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、ヘキサフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０−６≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１　である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４７】
特開昭５９−５６４７９号に記載されているＢａＦＸ・ｘＮａＸ′：ａＥｕ２＋（ただし、ＸおよびＸ′は、それぞれＣｌ、Ｂｒ、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４８】
特開昭５９−５６４８０号に記載されているＭＩＩＦＸ・ｘＮａＸ′：ｙＥｕ２＋：ｚＡ（ただし、ＭＩＩは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘ　およびＸ′は、それぞれＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉより選ばれる少なくとも一種の遷移金属であり；そして、ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦０．２、およびｚは０＜ｚ≦１０−２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４９】
特開昭５９−７５２００号に記載されている　ＭＩＩＦＸ・ａＭＩＸ′・ｂＭ′ＩＩＸ″２・ｃＭＩＩＩＸ３・ｘＡ：ｙＥｕ２＋（ただし、ＭＩＩはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＭＩ　はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｍ′ＩＩはＢｅおよびＭｇからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり；ＭＩＩＩ　はＡｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ａは金属酸化物であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ′，Ｘ″および　Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦１０−２、ｃは０≦ｃ≦１０−２、かつａ＋ｂ＋ｃ≧１０−６　であり；ｘ　は０＜ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．２　である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５０】
特開昭６０−８４３８１号に記載されている　ＭＩＩ　Ｘ２・ａＭＩＩＸ′２：ｘＥｕ２＋（ただし、ＭＩＩ　はＢａ，Ｓｒおよび　Ｃａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸおよびＸ′はＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつ　Ｘ≠Ｘ′であり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０、ｘは０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００５１】
特開昭６０−１０１１７３号に記載されているＭＩＩＦＸ・ａＭＩ　Ｘ′：ｘＥｕ２＋（ただし、ＭＩＩ　はＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＭＩ　はＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ′はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａおよびｘはそれぞれ０≦ａ≦４．０および０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００５２】
特開昭６２−２５１８９号に記載されているＭＩ　Ｘ：ｘＢｉ（　ただし、ＭＩ　はＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ　はＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００５３】
特開平２−２２９８８２号に記載のＬｎＯＸ：ｘＣｅ（但し、ＬｎはＬａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕのうちの少なくとも一つ、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは０＜ｘ≦０．２　であり、ＬｎとＸとの比率が原子比で０．５００＜Ｘ／Ｌｎ≦０．９９８であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λが５５０ｎｍ＜λ＜７００ｎｍ）で表わされるセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体、
などをあげることができる。
【００５４】
また、上記特開昭６０−８４３８１号に記載されているＭＩＩＸ２・ａＭＩＩＸ′２：ｘＥｕ２＋輝尽性蛍光体には、以下に示すような添加物がＭＩＩＸ２・ａＭＩＩＸ′２　１モル当り以下の割合で含まれていてもよい。
【００５５】
特開昭６０−１６６３７９号に記載されているｂＭＩＸ″（ただし、ＭＩはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０．０である）；特開昭６０−２２１４８３号に記載されているｂＫＸ″・ｃＭｇＸ２　・ｄＭＩＩＩ　Ｘ′３（ただし、ＭＩＩＩ　はＳｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｇｄおよび　Ｌｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ｘ″、Ｘ　およびＸ′はいずれもＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦２．０、０≦ｃ≦２．０、０≦ｄ≦２．０であって、かつ２×１０−５≦ｂ＋ｃ＋ｄである）；特開昭６０−２２８５９２号に記載されている　ｙＢ（ただし、ｙは２×１０−４≦ｙ≦２×１０−１である）；特開昭６０−２２８５９３号に記載されている　ｂＡ（ただし、ＡはＳｉＯ２　およびＰ２Ｏ５からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてｂは１０−４　≦ｂ≦２×１０−１　である）；特開昭６１−１２０８８３号に記載されているｂＳｉＯ（ただし、ｂは０＜ｂ≦３×１０−２　である）；特開昭６１−１２０８８５号に記載されているｂＳｎＸ″２　（ただし、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０−３である）；特開昭６１−２３５４８６号に記載されているｂＣｓＸ″・ｃＳｎＸ２　（ただし、Ｘ″およびＸ　はそれぞれＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０　および１０−６≦ｃ≦２×１０−２である）；および特開昭６１−２３５４８７号に記載されているｂＣｓＸ″・ｙＬｎ３＋（ただし、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、ＬｎはＳｃ，Ｙ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０および１０−６≦ｙ≦１．８×１０−１である）。
【００５６】
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体（例えばＢａＦＩ：Ｅｕ）ユーロピウム賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体（例えばＣｓＢｒ：Ｅｕ）、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、およびヨウ素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すことから好ましく用いることができ、またこれらの蛍光体は針状結晶とすることができるので、特に吸湿性が問題となりやすいため、本発明の保護層を用いることによって効果的な防湿を図ることができる。
【００５７】
蛍光体層は、蒸着法、スパッタ法、塗布法など公知の方法により支持体上に形成することができる。蒸着法においては、まず支持体を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して１０−４　Ｐａ程度の真空度とする。次いで、輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。蒸着工程を複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することもできる。蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。
【００５８】
スパッタ法においては、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した後装置内を一旦排気して１０−４　Ｐａ程度の真空度とし、次いでスパッタ用のガスとしてＡｒ，Ｎｅ等の不活性ガスをスパッタ装置内に導入して１０−１　Ｐａ程度のガス圧とする。次に、輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、保護層表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。スパッタ工程においても蒸着法と同様に、複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能であるし、また、それぞれ異なった輝尽性蛍光体からなる複数のターゲットを用いて、同時あるいは順次、ターゲットをスパッタリングして輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、スパッタ法においては、必要に応じてＯ２　、Ｈ２　やハロゲン等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。スパッタ終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。
【００５９】
塗布法においては、蛍光体を溶剤とともに充分に混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製し、この塗布液を支持体の表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーターなどを用いることにより行なうことができる。
【００６０】
蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによって異なり、２０μｍ〜１ｍｍ程度とするのが一般的であるが、５０μｍ〜５００μｍとすることがより好ましい。
【００６１】
基板としては、従来の放射線像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができる。また、支持体と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質（鮮鋭度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを設けることが知られているが、本発明において用いられる支持体についても、これらの各種の層を設けることができる。それらの構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に選択することができる。
【００６２】
なお、特開昭５８−２００２００号に記載されているように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍光体層側の表面に接着性付与層、光反射層または光吸収層などが設けられている場合には、その表面を意味する）に微小凹凸が形成されていてもよい。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
【００６３】
【実施例】
（実施例１）
＜透明保護膜の作製＞
基材フィルムとして厚さ１２μｍのＰＥＴ表面に有機プライマー層を１．５μｍ厚で塗布し、その上に有機ケイ素化合物（ヘキサメチルジシロキサン）を用いたプラズマＣＶＤ法により酸素を供給しながら製膜することで酸化ケイ素層を５０ｎｍ厚で設け防湿フィルムを作製した。その後、この防湿フィルム２枚を同方向に（一方の表面側が酸化ケイ素層面となるように）、２．５μｍ厚のポリエステル樹脂層を介してドライラミネートにより貼り合わせ、５３０ｍｍ角２７μ厚の透明保護膜を得た。透湿度は、０．１ｇ／ｍ２　であった。
【００６４】
＜透明保護膜とガラス封止枠との接着＞
ソーダガラス製封止枠（縦、横４５０ｍｍ角、厚さ０．５ｍｍ、幅６ｍｍ、内角部Ｒ＝２ｍｍφ）と上記で作製した透明保護膜の酸化ケイ素層面とを２液硬化性エポキシ樹脂（ＸＢ５０４７、ＸＢ５０６７：バンティコ（株）製、水蒸気透過係数はいずれも０．５ｇ・ｍｍ／（ｍ２・ｄ））を用いて接着した。この際、封止枠中心と保護層中心が合うように重ね合わせ、枠面と接触する保護層表面で接着し、４０℃で１日硬化させ、保護層とガラス封止枠との接合体とした。樹脂の水蒸気透過係数は、樹脂を約１ｍｍ厚で均一に所定の面積に成型後、充分に硬化させて測定サンプルを作製し、このサンプルの厚さをノギスで有効数字三桁まで正確に測定し、続いて、ＪＩＳ　Ｚ０２０８（カップ法）を用いてそのサンプルの透湿度を求め、測定サンプル厚さ（ミリ単位）を乗じることによって求めた。
【００６５】
＜輝尽性蛍光体層の作製＞
基板として縦、横４５０ｍｍ角、５ｍｍφの減圧孔を隣りあう２辺から孔中心まで１１ｍｍの距離の角部に有する、片面に縁部（縁幅８ｍｍ）を除いてＡｌ蒸着反射層が敷設された８ｍｍ厚のソーダガラス板を準備した。反射層面上の周縁から８ｍｍまでの部分と減圧孔部にマスクを配置し、マスクが配置されていない反射層面上に蒸着されるように蒸着機中に設置した。次に所定の位置にＥｕＢｒｍ　タブレットおよびＣｓＢｒタブレットを配置し、蒸着機を排気して１．０Ｐａの真空度とした。続いて、基板をヒーターで１００℃に加熱した。その後、白金ボート中のＥｕＢｒｍ　タブレットおよびＣｓＢｒタブレットを加温して、マスク部分を除いた基板上一面に輝尽性蛍光体を（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）を５００μｍ堆積させた。乾燥雰囲気下、蒸着機中を大気圧に戻して基板を取り出した。基板上には太さ約８μｍの針状輝尽性蛍光体が基板垂直方向に互いにやや隙間を空けて林立していた。
【００６６】
＜輝尽性蛍光体の封止＞
上記のように作製された、接着部（周縁から８ｍｍ）と減圧孔を除いてＣｓＢｒ：Ｅｕ輝尽性蛍光体が蒸着形成された、Ａｌ蒸着反射層敷設ソーダガラス支持体と、封止枠が接合された透明保護膜を接着剤（ＳＵ２１５３−９：サンコレック社製、水蒸気透過係数は上記と同様の方法で測定して２０ｇ・ｍｍ／（ｍ２・ｄ））を用いて圧力をかけながら接着し、常温（２５℃）で１２時間硬化させた。さらに減圧孔にＥＤＰＭゴムを埋め込み、接着剤（ＳＵ２１５３−９）で接着することで減圧孔を密閉した。これによって、蒸着輝尽性蛍光体層が支持体、封止枠、保護膜によって密閉された構造が形成された。続いて、この密閉構造体の封止孔ＥＤＰＭゴムに注射針を刺し通し、真空ポンプにより内部の気体を抜き取り減圧状態とした。その後、減圧孔のＥＤＰＭゴム上に接着剤（ＳＵ２１５３−９）を付着されたガラス栓で栓をた。その後、透明保護膜の端（４ｃｍ長）を基板の裏に折り込み、紫外線硬化樹脂（ＸＮＲ５５１６：ナガセケムテックス（株））を用いて接着し、放射線像変換パネルを完成させた。
【００６７】
（実施例２）
ソーダガラス製封止枠と透明保護膜の酸化ケイ素層面とを２液硬化性ウレタン樹脂（ＳＵ２１５３−９：サンユレック製）を用いて接着した以外は実施例１と同様にして、放射線像変換パネルを作製した。
【００６８】
（実施例３）
ＢａＩ水溶液（３．５Ｎ）２０００ｍｌとＥｕＢｒ３　水溶液（０．２Ｎ）１００ｍｌを反応容器に入れ、この母液を攪拌しながら８２℃で保温した。フッ化アンモニウム溶液（８Ｎ）２００ｍｌを反応母液中にポンプを用いて注入し、沈殿物を生成した。その後２時間熟成を行った後、沈殿物を濾過してメタノールで洗浄し乾燥させることでＢａＦＩ結晶を得た。これをアルミナの超微粒子粉体と均一に混合した後、石英ボードに充填してチューブ炉を用いて水素ガス雰囲気下８２５℃で１．５時間焼成してユーロピウム付活されたＢＦＩ蛍光体粒子を得た。続いてＢＦＩ蛍光体粒子を分級して平均粒径３μｍの粒子を得た。
【００６９】
蛍光体層を上記で得たユーロピウム付活されたＢＦＩ蛍光体粒子３００ｇ、ポリウレタン樹脂１１ｇ、ビスフェノール型エポキシ樹脂１／４ｇのメチルエチルケトン−トルエン混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散することで粘度２５〜３０ｐｓの塗布液を調整した。この塗布液をドクターブレード法で下塗り層付きＰＥＴフィルム上に塗布した後、１００℃で１５分乾燥させて２５０μ厚の蛍光体層を形成した。この蛍光体層を使用した以外は、実施例２と同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００７０】
（比較例１）
ソーダガラス製封止枠と透明保護膜の基材側とを２液硬化性エポキシ樹脂を用いて接着した以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００７１】
（比較例２）
実施例１で作製した透明保護膜の酸化ケイ素層ともう一枚の透明保護膜の酸化ケイ素層とを２．５μｍ厚の透明ポリウレタン樹脂層を介してドライラミネートして透明保護膜を得た。この保護膜の基材側とソーダガラス製封止枠とを２液硬化性エポキシ樹脂を用いて接着した以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００７２】
（評価方法）
上記実施例１〜３、比較例１および２で作製した放射線像変換パネルの厚さ、鮮鋭度、耐久性の指標として輝尽発光光低下率、保護膜の剥離性において評価した結果を表１に示す。なお、鮮鋭度および輝尽発光光低下率は以下の方法により測定したものである。
【００７３】
＜鮮鋭度＞
放射線像変換パネルに、管電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射したのち、波長６５０ｎｍで走査して蛍光体を励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光して電気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像として再生して表示装置上に画像を得た。これをコンピュータで解析することにより、得られた画像の変調伝達関数（ＭＴＦ）（空間周波数：２サイクル／ｍｍ）を得た。ＭＴＦ値が高いほど鮮鋭度がよいことを示す。
【００７４】
＜輝尽発光光低下率＞
放射線像変換パネルにＸ線を照射し、ラインセンサーにて保護層側から線状の励起光を照射し、その際に検出された輝尽発光光検出量を初期値とし、この放射線像変換パネルを５５℃９５％恒温槽中で３０日間経時し、再び輝尽発光光（サーモ後値）を測定し、以下の式により輝尽発光光低下率を算出した。
輝尽発光光低下率（％）＝｛（初期値−サーモ後値）／初期値｝×１００
結果を表１に示す。
【００７５】
【表１】
2004085367.tif 000003
【００７６】
表１から明らかなように、本発明の放射線像変換パネルは、基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜が、防湿フィルムの透明無機層側を輝尽性蛍光体層側に向けて配されるため、防傷性を高めることが可能になるとともに、接着剤を用いて輝尽性蛍光体層を封止しているため、高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができた。また、保護膜の厚さを薄く構成することができたので、高感度で良好な画質を得ることが可能となった。
【００７７】
一方、防湿フィルムの基材フィルム側を輝尽性蛍光体層側に向けて配された比較例１では、耐久性が悪く、また、保護膜が剥離しやすかった。また、比較例２の放射線像変換パネルは、透明無機層を互いに向かい合わせに積層しているために、保護膜中で光による干渉が発生して画像にアーティファクトが生じ、また、保護膜が剥離しやすかった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図
【図２】本発明の第二の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図
【図３】本発明の第三の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図
【符号の説明】
１　　基板
２　　輝尽性蛍光体層
３ａ　基材フィルム
３ｂ　基材フィルム
４ａ　透明無機層
４ｂ　透明無機層
５ａ　防湿フィルム
５ｂ　防湿フィルム
６　　透明保護膜
７　　接着剤
１０　放射線像変換パネル
【図１】
2004085367.tif 000004
【図２】
2004085367.tif 000005
【図３】
2004085367.tif 000006