(57)【要約】      （修正有）【課題】１本の検査光を用いることによりＸ軸方向、Ｚ軸方向、θ軸方向及びＲ軸方向の全ての方向の基準位置補正を行うことが可能な搬送機構の基準位置補正装置を提供する。【解決手段】水平方向へ移動する移動体に対して回転基台４８を設け、回転基台に２つのアーム機構５０Ａ，５２Ａを設け、各アーム機構の先端にピックをそれぞれ取り付けて被処理体を搬送する搬送機構の基準位置補正装置において、移動体の移動する水平方向に対して交差させて水平方向へ検査光を射出する発光部６６と、検査光を受光する受光部６８と、回転基台の旋回角度の範囲内での旋回に対して検査光の通光と遮光との切り替えを生ぜしめる光切り替え部７０と、検査光に対する受光部の検出結果に基づいて水平方向、旋回方向、上下方向及び屈伸方向に対する各基準位置を補正する補正手段とを備える。【選択図】  図３
2004160613.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平方向へ移動可能になされた移動体に対して旋回可能及び上下方向へ昇降可能になされた回転基台を設け、該回転基台に互いに離間させて異軸の状態で２つの屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックをそれぞれ取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正装置において、
前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する発光部と、
前記検査光を受光する受光部と、
前記回転基台に設けられて、該回転基台の旋回に対して前記検査光の通光と遮光との切り替えを生ぜしめる光切り替え部と、
前記検査光に対する前記受光部の検出結果に基づいて、水平方向、旋回方向、上下方向及び屈伸方向に対する各基準位置を補正する補正手段と、
を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項２】
前記補正手段は、
水平方向に対しては前記回転基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
上下方向に対しては前記光切り替え部または前記回転基台の上端が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
旋回方向に対しては前記光切り替え部が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
屈伸方向に対しては前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行うことを特徴とする請求項１記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項３】
前記光切り替え部は、前記回転基台の上面より上方へ突出させて設けられた遮光板よりなることを特徴とする請求項１または２記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項４】
前記遮光板は、２個設けられると共に、その中央に光通過孔が形成されており、一方の遮光板は前記回転基台の回転軸の回転中心上に配置され、他方の遮光板は前記回転基台の周辺部に配置されることを特徴とする請求項３記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項５】
前記ピックの前記アーム機構との取付部は前記ピックの他の部分よりも厚くなされており、屈伸方向への基準位置の補正時には前記取付部により前記検査光を遮光するようにしたことを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項６】
水平方向へ移動可能になされた移動体に対して上下方向へ昇降可能になされた基台を設け、該基台に旋回及び屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックを取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正装置において、
前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する発光部と、
前記検査光を受光する受光部と、
前記検査光に対する前記受光部の検出結果に基づいて、水平方向、旋回方向、上下方向及び屈伸方向に対する各基準位置を補正する補正手段と、
を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項７】
前記補正手段は、
水平方向に対しては前記基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行い、
上下方向に対しては前記基台または前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
旋回方向に対しては前記アーム機構が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
屈伸方向に対しては前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行うことを特徴とする請求項６記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項８】
前記基台には、旋回軸と屈伸軸が同軸になされた２つのアーム機構が設けられることを特徴とする請求項６または７記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項９】
前記ピックの前記アーム機構との取付部は前記ピックの他の部分よりも厚くなされており、屈伸方向への基準位置の補正時には前記取付部により前記検査光を遮光するようにしたことを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項１０】
前記アーム機構は、前記基台に連結される第１アームと、この第１アームに屈曲可能に連結される第２アームとよりなり、旋回方向に対しては前記第２アームの前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正が行われることを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載の搬送機構の基準位置補正装置。
【請求項１１】
水平方向へ移動可能になされた移動体に対して旋回可能及び上下方向へ昇降可能になされた回転基台を設け、該回転基台に互いに離間させて異軸の状態で２つの屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックをそれぞれ取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正方法において、
前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する工程と、
水平方向に対して前記回転基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
上下方向に対して前記回転基台に設けた光切り替え部または前記回転基台の上端が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
旋回方向に対して前記光切り替え部が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
屈伸方向に対して前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正方法。
【請求項１２】
水平方向へ移動可能になされた移動体に対して上下方向へ昇降可能になされた基台を設け、該基台に旋回及び屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックを取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正方法において、
前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する工程と、
水平方向に対して前記基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
上下方向に対して前記基台または前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
旋回方向に対して前記アーム機構が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
屈伸方向に対して前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、
を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ等の被処理体に所定の処理を施すための処理システムに用いられる搬送機構の基準位置補正装置及び基準位置補正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体集積回路を製造するためにはウエハに対して成膜、エッチング、酸化、拡散等の各種の処理が行なわれる。そして、半導体集積回路の微細化及び高集積化によって、スループット及び歩留りを向上させるために、同一処理を行なう複数の処理装置、或いは異なる処理を行なう複数の処理装置を、共通の搬送室を介して相互に結合して、ウエハを大気に晒すことなく各種工程の連続処理を可能とした、いわゆるクラスタ化された処理システムが、すでに知られている。
【０００３】
この種の処理システムにあっては、例えば処理システムの前段に設けてある被処理体の導入ポートに設置したカセット容器より搬送機構を用いて半導体ウエハを取り出してこれを処理システムの導入側搬送室内へ取り込み、そして、このウエハを、位置合わせを行うオリエンタにて位置合わせを行った後に、真空引き可能になされたロードロック室内へ搬入し、更にこのウエハを複数の真空になされた処理室が周囲に連結された真空雰囲気の共通搬送室に他の搬送機構を用いて搬入し、この共通搬送室を中心として上記ウエハを各処理室に対して順次導入して処理を連続的に行うようになっている。そして、処理済みのウエハは、例えば元の経路を通って元のカセット容器へ収容される。
ところで、上記したように、この種の処理システムにあっては、内部に単数、或いは複数の搬送機構を有しており、ウエハの受け渡し、及び搬送はこれらの搬送機構により自動的に行われる。
【０００４】
この搬送機構は、例えば水平移動、屈伸、旋回及び昇降自在になされた多関節アームよりなり、このアーム先端に設けたピックでウエハを直接的に保持して搬送位置まで移動してウエハを所定の位置まで搬送するようになっている。例えばこのような搬送機構としては、１つの回転基台の上に、並列させて異軸で屈伸可能になされた２本の搬送腕を有する搬送機構（例えば特許文献１）や、１つの基台上に旋回可能に第１のアームを設け、この第１のアームの先端に別個独立に回転する同軸になされた２本のアームを連結した搬送機構（例えば特許文献２）などが知られている。
この場合、搬送機構の動作中にこのアームやピックや保持しているウエハが他の部材と干渉乃至衝突することを避けなければならないばかりか、ある一定の場所に置かれているウエハを適正に保持し、且つこのウエハを目的とする位置まで搬送し、適正な場所に精度良く、例えば±０．２０ｍｍ以内の高い位置精度で受け渡す必要がある。
【０００５】
このため、装置の組立の際や大きな装置改造を行った際などには、搬送機構のピックの移動経路においてウエハの受け渡しを行なう場所などの重要な位置を、この搬送機構の動作を制御するコンピュータ等の制御部に位置座標として覚えこませる、いわゆるティーチングという操作が行なわれている。
そして、上述のように装置の組立の際や大きな装置改造を行った際には各部材の加工誤差、組立誤差、エンコーダの分解能に起因する誤差等が生ずることは避けられないので、上記ティーチング操作を行うに先立って、搬送機構がこの処理システムの設計上の寸法から定まる設計座標に対して、実際に搬送機構が動作する動作座標がどの程度ずれているかそのずれ量を求めて基準位置を補正（較正）しなければならない。そして、この補正は搬送機構が動作する全ての方向、すなわち搬送機構の全体が水平方向へ移動する場合には、水平方向（Ｘ軸方向とも称す）への基準位置の補正、上下方向へ昇降移動する場合には上下方向（Ｚ軸方向とも称す）への基準位置の補正、多関節アーム全体の旋回方向（θ軸方向とも称す）への基準位置の補正、多関節アームの屈伸方向（Ｒ軸方向とも称す）の基準位置の補正がそれぞれ行われる。
【０００６】
このような基準位置補正の手法としては、例えばクラスターシステムの共通搬送室内の搬送アームのウエハ保持部を共通搬送室内で移動させ、垂直方向の光軸を有する光センサで搬送アームのウエハ保持部の位置を検出することにより、搬送アームのＲ軸方向、θ軸方向の座標を自動補正する方法が知られている（例えば特許文献３）。
また、基準位置補正の他の手法として、クラスターシステムの共通搬送室内の搬送アームのウエハ保持部を共通搬送室に接続されたプロセスチャンバー等内で移動させ、垂直方向の光軸を有する第１光センサ及び水平方向の光軸を有する第２光センサで搬送アームの保持部のＲ軸方向、θ軸方向及びＺ軸方向の各座標を自動検出し、ここで求めた座標で基準位置を補正することが行われている（例えば特許文献４）。
【０００７】
【特許文献１】
特開平６−３３８５５４号公報（第２−３頁、図１−図３）。
【特許文献２】
特開平１１−２８４０４９号公報（第３−４頁、図１−図４）。
【特許文献３】
米国特許第５，５３５，３０６号明細書（第３−４頁（コラム６−７）、Ｆｉｇ．３−Ｆｉｇ．４）。
【特許文献４】
特開平１１−２５４３５９号公報（第４−５頁、図１−図４）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来の基準位置補正の方法にあっては、特許文献３の場合には１本のセンサ検査光でＲ軸方向とθ軸方向の２方向の基準位置補正しかできず、それ以外の方向、すなわちＸ軸方向とＺ軸方向については基準位置補正することができない。
また、特許文献４の場合には２本のセンサ検査光でＲ軸方向、θ軸方向及びＺ軸方向の３方向の基準位置補正しかできず、他のＸ軸方向については基準位置補正することができない。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、構造が簡単で、しかも１本の検査光を用いることによりＸ軸方向、Ｚ軸方向、θ軸方向及びＲ軸方向の全ての方向の基準位置補正を行うことが可能な搬送機構の基準位置補正装置及び基準位置補正方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、水平方向へ移動可能になされた移動体に対して旋回可能及び上下方向へ昇降可能になされた回転基台を設け、該回転基台に互いに離間させて異軸の状態で２つの屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックをそれぞれ取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正装置において、前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する発光部と、前記検査光を受光する受光部と、前記回転基台に設けられて、該回転基台の旋回に対して前記検査光の通光と遮光との切り替えを生ぜしめる光切り替え部と、前記検査光に対する前記受光部の検出結果に基づいて、水平方向、旋回方向、上下方向及び屈伸方向に対する各基準位置を補正する補正手段と、を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正装置である。
【００１０】
このように、異軸状態で２つのアーム機構を備えた回転基台に光切り替え部を設けて、この搬送機構の移動方向に交差するように検査光を通すようにしているので、水平方向（Ｘ軸方向）に対しては回転基台が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、上下方向（Ｚ軸方向）に対しては光切り替え部が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、旋回方向（θ軸方向）に対しては光切り替え部が検査光を通光と遮光とを切り替える位置に基づき、屈伸方向（Ｒ軸方向）に対してはピックやアーム機構が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて、それぞれ各方向の基準位置補正を行うことができる。
【００１１】
この場合、例えば請求項２に規定するように、前記補正手段は、水平方向に対しては前記回転基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、上下方向に対しては前記光切り替え部または前記回転基台の上端が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、旋回方向に対しては前記光切り替え部が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、屈伸方向に対しては前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行う。
また、例えば請求項３に規定するように、前記光切り替え部は、前記回転基台の上面より上方へ突出させて設けられた遮光板よりなる。
【００１２】
また、例えば請求項４に規定するように、前記遮光板は、２個設けられると共に、その中央に光通過孔が形成されており、一方の遮光板は前記回転基台の回転軸の回転中心上に配置され、他方の遮光板は前記回転基台の周辺部に配置される。
これによれば、遮光板の光通過孔に検査光が通っていることを確認することにより、より適正に基準位置補正操作が行われていることを確認することが可能となる。
また、例えば請求項５に規定するように、前記ピックの前記アーム機構との取付部は前記ピックの他の部分よりも厚くなされており、屈伸方向への基準位置の補正時には前記取付部により前記検査光を遮光する。
【００１３】
請求項６に係る発明は、水平方向へ移動可能になされた移動体に対して上下方向へ昇降可能になされた基台を設け、該基台に旋回及び屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックを取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正装置において、前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する発光部と、前記検査光を受光する受光部と、前記検査光に対する前記受光部の検出結果に基づいて、水平方向、旋回方向、上下方向及び屈伸方向に対する各基準位置を補正する補正手段と、を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正装置である。
このように、アーム機構を備えた基台を有する搬送機構の移動方向に交差するように検査光を通すようにしているので、水平方向（Ｘ軸方向）に対しては基台が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、上下方向（Ｚ軸方向）に対しては基台が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、旋回方向（θ軸方向）に対してはアーム機構が検査光を通光と遮光とを切り替える位置に基づき、屈伸方向（Ｒ軸方向）に対してはピックやアーム機構が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて、それぞれ各方向の基準位置補正を行うことができる。
【００１４】
この場合、例えば請求項７に規定するように、前記補正手段は、水平方向に対しては前記基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行い、上下方向に対しては前記基台または前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、旋回方向に対しては前記アーム機構が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行い、屈伸方向に対しては前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正を行う。
【００１５】
また、例えば請求項８に規定するように、前記基台には、旋回軸と屈伸軸が同軸になされた２つのアーム機構が設けられる。
また、例えば請求項９に規定するように、前記ピックの前記アーム機構との取付部は前記ピックの他の部分よりも厚くなされており、屈伸方向への基準位置の補正時には前記取付部により前記検査光を遮光する。
また、例えば請求項１０に規定するように、前記アーム機構は、前記基台に連結される第１アームと、この第１アームに屈曲可能に連結される第２アームとよりなり、旋回方向に対しては前記第２アームの前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置の補正が行われる。
【００１６】
請求項１１に係る発明は、水平方向へ移動可能になされた移動体に対して旋回可能及び上下方向へ昇降可能になされた回転基台を設け、該回転基台に互いに離間させて異軸の状態で２つの屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックをそれぞれ取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正方法において、前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する工程と、水平方向に対して前記回転基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、上下方向に対して前記回転基台に設けた光切り替え部または前記回転基台の上端が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、旋回方向に対して前記光切り替え部が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、屈伸方向に対して前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正方法である。
【００１７】
請求項１２に係る発明は、水平方向へ移動可能になされた移動体に対して上下方向へ昇降可能になされた基台を設け、該基台に旋回及び屈伸可能になされたアーム機構を設け、該各アーム機構の先端に被処理体を保持するピックを取り付けて前記被処理体を搬送するようにした搬送機構の基準位置補正方法において、
前記移動体の移動する水平方向に対して交差するように水平方向へ検査光を射出する工程と、水平方向に対して前記基台が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、上下方向に対して前記基台または前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、旋回方向に対して前記アーム機構が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、屈伸方向に対して前記ピック及びアーム機構を含む部分が前記検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて基準位置補正を行う工程と、を備えたことを特徴とする搬送機構の基準位置補正方法である。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明に係る搬送機構の基準位置補正装置及び基準位置補正方法の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
図１は本発明の搬送機構の基準位置補正装置を有する処理システムの一例を示す構成図、図２は搬送機構を示す側面図、図３は搬送機構と基準位置補正装置の取り付け状態を示す斜視図、図４は搬送機構と基準位置補正装置の取り付け状態を示す平面図である。
【００１９】
まず、上記処理システムについて説明する。
図１に示すように、この処理システム２は、複数、例えば４つの処理室４と、略六角形状の共通搬送室６と、ロードロック機能を有する第１及び第２ロードロック室８Ａ、８Ｂと、細長い導入側搬送室１０とを主に有している。
具体的には、略六角形状の上記共通搬送室６の４辺に上記各処理室４が接合され、他側の２つの辺に、上記第１及び第２ロードロック室８Ａ、８Ｂがそれぞれ接合される。そして、この第１及び第２ロードロック室８Ａ、８Ｂに、上記導入側搬送室１０が共通に接続される。
【００２０】
上記共通搬送室６と上記４つの各処理室４との間及び上記共通搬送室６と上記第１及び第２ロードロック室８Ａ、８Ｂとの間は、それぞれ気密に開閉可能になされたゲートバルブＧが介在して接合されて、クラスタツール化されており、必要に応じて共通搬送室６内と連通可能になされている。また、上記第１及び第２各ロードロック室８Ａ、８Ｂと上記導入側搬送室１０との間にも、それぞれ気密に開閉可能になされたゲートバルブＧが介在されている。
【００２１】
上記４つの処理室４内には、それぞれ被処理体としての半導体ウエハを載置するサセプタ１２が設けられており、被処理体である半導体ウエハＷに対して同種の、或いは異種の処理を施すようになっている。そして、この共通搬送室６内においては、上記２つの各ロードロック室８Ａ、８Ｂ及び４つの各処理室４にアクセスできる位置に、屈伸、昇降及び旋回可能になされた多関節アームよりなる第２搬送機構１４が設けられており、これは、互いに反対方向へ独立して屈伸できる２つのピックＢ１、Ｂ２を有しており、一度に２枚のウエハを取り扱うことができるようになっている。尚、上記第２搬送機構１４として１つのみのピックを有しているものも用いることができる。
【００２２】
上記導入側搬送室１０は、横長の箱体により形成されており、この横長の一側には、被処理体である半導体ウエハを導入するための１つ乃至複数の、図示例では３つの搬入口が設けられ、各搬入口には、開閉可能になされた開閉ドア１６が設けられる。そして、この各搬入口に対応させて、導入ポート１８がそれぞれ設けられ、ここにそれぞれ１つずつカセット容器２０を載置できるようになっている。各カセット容器２０には、複数枚、例えば２５枚のウエハＷを等ピッチで多段に載置して収容できるようになっている。
【００２３】
この導入側搬送室１０内には、ウエハＷをその長手方向に沿って搬送するための導入側搬送機構である第１搬送機構２２が設けられる。この第１搬送機構２２は、導入側搬送室１０内の導入ポート側に長さ方向に沿って延びるように設けた案内レール２４上にスライド移動可能に支持されている。この案内レール２４には、移動機構として例えばエンコーダを有するリニアモータが内蔵されており、このリニアモータを駆動することにより上記第１搬送機構２２は案内レール２４に沿って移動することになる。
【００２４】
また、導入側搬送室１０の一方の端部には、ウエハの位置合わせを行なうオリエンタ２６が設けられる。上記オリエンタ２６は、駆動モータによって回転される回転台２８を有しており、この上にウエハＷを載置した状態で回転するようになっている。この回転台２８の外周には、ウエハＷの周縁部を検出するための光学センサ３０が設けられ、これによりウエハＷの位置決め切り欠き、例えばノッチやオリエンテーションフラットの位置方向やウエハＷの中心の位置ずれ量を検出できるようになっている。
【００２５】
更に、導入側搬送室１０の長手方向の途中には、前記２つのロードロック室８Ａ、８Ｂがそれぞれ開閉可能になされた前記ゲートバルブＧを介して設けられる。この第１及び第２ロードロック室８Ａ、８Ｂ内には、ウエハＷを一時的に載置するためにウエハ径よりも小さい直径の載置台３２がそれぞれ設置されている。そして、上記第１搬送機構２２は、図２にも示すように、案内レール２４の側部に並行に形成された２本の案内溝３４内にその脚部３６を嵌装した移動体３８を有しており、そしてこの移動体３８と案内レール２８の対向面には、前述したようにエンコーダを有するリニアモータ４０が設けられ、この移動体３８を案内レール２８に沿って水平方向へ、すなわちＸ軸方向へ移動できるようになっている。
【００２６】
また、この移動体３８には、上下方向に沿って設けたボールネジ４２を介してベース４４が上下方向、すなわちＺ軸方向へ昇降可能に取り付けられている。そして、このベース４４には、正逆回転の旋回方向（θ軸方向）へ制御可能になされた回転軸４６を介して円筒形の回転基台４８が取り付けられている。従って、この回転基台４８は、上記移動体３８に対して旋回及び昇降可能になされている。
そして、この回転基台４８上に、屈伸可能になされた多関節アームよりなる２つのアーム機構５０、５２が設けられている。両アーム機構５０、５２は、この回転基台４８の回転中心Ｏ１を中心として点対称の位置に互いに離間させて配置した回転軸５４、５６にそれぞれ取り付けられており、それぞれ図示しない駆動モータにより屈伸可能になされている。各アーム機構５０、５２は、それぞれ第１アーム５０Ａ、５２Ａ及び第２アーム５０Ｂ、５２Ｂをそれぞれ屈曲可能に連結して構成されており、各第２アーム５０Ｂ、５２Ｂの先端には、ウエハＷを保持するためのピック５８、６０が屈曲可能に接続して取り付けられている。そして、各ピック５８、６０の基部である取付部５８Ａ、６０Ａは、構造上の及び強度上の理由により、このピック５８、６０の他の部分よりも厚くなっている（図８参照）。これにより、各回転軸５４、５６を回転することにより、各アーム機構５０、５２を屈伸させてその半径方向（Ｒ軸方向）へ進退できるようになっている。
【００２７】
次に、図１に戻って、この処理システム２は、この処理システム全体の動作を制御するために、例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御部６２を有している。そして、この処理システム２には、本発明に係る基準位置補正装置６４が設けられる。具体的には、この基準位置補正装置６４は、上記移動体３８の移動方向に対して交差するように水平方向へ検査光Ｌを射出する発光部６６と、上記検査光Ｌを受ける受光部６８と、上記回転基台４８に設けられてこの回転基台４８の僅かな旋回角度の範囲内での旋回に対して上記検査光Ｌの通光と遮光との切り替えを生ぜしめる光切り替え部７０（図３参照）と、上記受光部６８の検出結果に基づいて各移動方向の基準位置を補正する補正手段６２とにより主に構成されている。尚、ここでは、マイクロコンピュータよりなる上記制御部６２が補正手段を兼用している。また、上記基準位置補正装置６４、第１搬送機構２２及び導入側搬送室１０からなる搬送空間とで搬送システム（搬送機構）が構成される。
【００２８】
具体的には、上記発光部６６と受光部６８は、上記導入側搬送室１０の側壁１０Ａの所定の位置に取り付けられており、上記Ｘ軸方向に対して直交するように水平方向に向けて検査光Ｌを射出するようになっている。この発光部６６としては、ＬＥＤ素子やレーザ素子を用いることができる。
これらの発光部６６や受光部６８の取り付け位置は、他の部材、例えば導入ポート１８やロードロック室８Ａ、８Ｂの動作に対して障害とならないような位置に設けられる。そして、上記第１搬送機構２２の各部がこの検査光Ｌの通光と遮光との切り替えを行う位置に基づいて各方向の基準位置が補正される。
【００２９】
また、上記光切り替え部７０は、本実施例では、平坦に形成された回転基台４８の上面よりその上方へ突出させて設けた２枚の遮光板７２、７４よりなる。そして、両遮光板７２、７４の略中央には光通過孔７２Ａ、７４Ａがそれぞれ形成されている。この遮光板７２、７４の縦横の大きさは例えば１２ｍｍ×１８ｍｍ程度であり、その光通過孔７２Ａ、７４Ａの直径は２ｍｍ程度である。
ここで、一方の遮光板７２は、上記回転基台４８の回転中心Ｏ１上に位置されており、また、他方の遮光板７４は回転基台４８の周辺部に位置されている。そして、回転基台４８の所定の旋回角度の時に、図３及び図４に示すように検査光Ｌが各光通過孔７２Ａ、７４Ａを通過して受光部６８まで届くように設定されている。
【００３０】
次に、以上のように構成された基準位置補正装置６４を用いて行われる第１搬送機構２２の基準位置補正方法について説明する。
図５はＸ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図、図６はＺ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図、図７はθ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図、図８及び図９はＲ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図である。尚、上記各図において説明に不要な構成部分の記載は省略している。
【００３１】
まず、処理システム２や基準位置補正装置６４の各設計図面に基づいて、第１搬送機構２２の各部が検査光を、例えば通光から遮光へと切り替える位置を基準位置、すなわち座標の原点として各方向の設計上の座標が予め求められる。
そして、Ｘ軸方向、Ｚ軸方向、θ軸方向、Ｒ軸方向の各方向の実際の動作上の基準位置が、上記設計座標上の基準位置と一致するように基準位置の補正を行うことになる。この時の動作データや基準位置補正データは全て、補正手段を兼用している制御部６２に記憶されることになる。
尚、基準位置の機械的な寸法誤差に関しては、通常、Ｘ軸方向は±１０ｍｍ程度、Ｚ軸方向は±４ｍｍ程度、θ軸方向は±２度程度、Ｒ軸方向は±５ｍｍ程度生ずる。
【００３２】
＜Ｘ軸方向の基準位置補正＞
まず、Ｘ軸方向の基準位置補正について説明する。尚、Ｘ軸方向の基準位置補正の場合には、遮光板７２、７４は用いない。また、ここでは回転基台４８の回転中心Ｏ１が検査光Ｌの位置する場所に重なる位置をＸ軸の基準位置（原点）としている。
最初は、まず、図５に示すように第１搬送機構２２を検査光ＬからＸ軸方向へ僅かに、例えば３０ｍｍ程度外した位置まで移動し、そして、Ｚ軸方向を調整移動して、ベース４４上の回転基台４８が検査光Ｌと略同一水平レベルになるように設定する。図示例では検査光Ｌの左側に第１搬送機構２２を外している。この状態では、発光部６６より射出された検査光Ｌは受光部６８にて受光されている状態となっている。
【００３３】
次に、図５（Ｂ）に示すように、この第１搬送機構２２を検査光Ｌに向けて僅かずつ移動して行き、上記回転基台４８が検査光Ｌを遮光して受光部６８に検査光Ｌが入射しなくなった時の位置座標ΔＸ１を求めて記憶する。
次に、図５（Ｃ）に示すように、この第１搬送機構２２を図５（Ａ）の場合とは反対側へ、すなわち図中右側方向へ僅かに、例えば３０ｍｍ程度外した位置まで移動する。
次に、図５（Ｄ）に示すように、この第１搬送機構２２を検査光Ｌに向けて僅かずつ移動して行き、上記回転基台４８が検査光Ｌを遮光して受光部６８に検査光Ｌが入射しなくなった時の位置座標ΔＸ２を求めて記憶する。
【００３４】
このようにして、２つの位置座標ΔＸ１、ΔＸ２が得られたならば、（ΔＸ１＋ΔＸ２）／２＝ΔＸを演算することにより位置ずれ量ΔＸを求め、この位置ずれ量ΔＸだけ初期の設計座標上におけるＸ軸方向の基準位置（原点）に対して基準位置の補正を行う。
これにより、Ｘ軸方向における基準位置の補正が完了することになる。
また、ここでは検査光Ｌに対して１８０度方向が異なる２方向から第１搬送機構２２を接近させて２つの位置座標ΔＸ１、ΔＸ２を求めて基準位置補正の精度を高めるようにしたが、いずれか一方の位置座標のみを求めて回転基台の半径との差を位置ずれ量ΔＸとして基準位置の補正を行うようにしてもよい。
【００３５】
＜Ｚ軸方向の基準位置補正＞
次に、Ｚ軸方向の基準位置補正について説明する。
まず、図６（Ａ）に示すように、第１搬送機構２２を検査光ＬからＺ軸方向、具体的には下方向へ僅かに、例えば１５ｍｍ程度外した位置まで移動し、そして、基準位置補正が完了したＸ軸方向へ移動調整して検査光Ｌの直下に回転基台４８に設けた遮光板７２、７４が位置するように設定する。この場合、Ｘ軸方向の基準位置補正がすでに完了しているので、検査光Ｌの直下に回転基台４８を正確に位置付けすることができる。
【００３６】
次に、図６（Ｂ）に示すように、この第１搬送機構２２のベース４４と回転基台４８とを検査光Ｌに向けて僅かずつ上昇移動して行き、上記遮光板７２、７４が検査光Ｌを遮光して受光部６８に検査光Ｌが入射しなくなった時の位置座標のずれ量ΔＺを求めて記憶する。そして、この求めたずれ量ΔＺだけ初期の設計座標上におけるＺ軸方向の基準位置（原点）に対して基準位置補正を行う。また、遮光板７２、７４の代わりに、回転基台４８の上端が検査光Ｌの通光と遮光とを切り替える位置を求めることによりＺ軸方向の基準位置の補正をしてもよい。尚、ここでは遮光板７２、７４の上端が検査光Ｌの位置する場所に重なる位置をＺ軸の基準位置（原点）としている。
これにより、Ｚ軸方向における基準位置の補正が完了することになる。
【００３７】
＜θ軸方向の基準位置補正＞
次に、θ軸方向の基準位置補正について説明する。尚、ここでは検査光Ｌが遮光板７２、７４の光通過孔７２Ａ、７４Ａの中央を通過する位置をθ軸の基準位置（原点）としている。
まず、図３及び図４に示すように、第１搬送機構２２の基準位置補正が完了したＸ軸方向及びＺ軸方向へ移動調整して、検査光Ｌの射出方向が回転基台４８の上面に取り付けた両遮光板７２、７４の略中央部の水平レベルに一致して位置するように設定を行う。
この状態で、図７（Ａ）に示すように、回転基台４８をθ軸方向に、具体的には反時計回りに僅かに、例えば７度程度旋回させて、検査光Ｌが周辺部に位置する遮光板７４の光通過孔７４Ａから外れる位置までもって行く。この場合、回転基台４８の回転中心上に位置する一方の遮光板７２の移動量は微少なので、の光通過孔７２Ａには検査光Ｌが通過した状態が維持される。尚、図示例では、周辺部の遮光板７４の旋回移動量は僅かなので、これが平行移動したように記載している。
【００３８】
次に、この回転基台４８を低速度で僅かずつ時計回りに旋回させて行く。すると、回転基台４８が僅かずつ旋回するに従って、まず、図７（Ｂ）に示すように、検査光Ｌは周辺部に位置する遮光板７４の一方のエッジで遮光されるので通光から遮光に切り替わり、更に旋回が進むと検査光Ｌは図７（Ｃ）に示すように周辺部に位置する遮光板７４の光通過孔７４Ａ内の一方のエッジ近傍を通過して遮光から通光に切り替わる。
そして、更に旋回が進むと検査光Ｌは図７（Ｄ）に示すように遮光板７４の光通過孔７４Ａの他方のエッジ近傍で遮断されることになるので通光から遮光に切り替わり、更に、旋回が進むと検査光Ｌは図７（Ｅ）に示すように遮光板７４の他方のエッジ近傍を通過するようになるので遮光から通光に切り替わる。
【００３９】
そして、更に旋回が進むと検査光Ｌは図７（Ｆ）に示すように遮光板７４は検査光Ｌから僅かに離れた状態となる。ここで、例えば２回目に検査光Ｌの通光から遮光への切り替えが行われた時（図７（Ｄ））の位置座標Δθ１を求めて記憶する。
次に、上記した方向とは反対方向に図７（Ｆ）〜図７（Ａ）に示すように回転基台４８を旋回させて往復し、２回目に検査光Ｌの通光から遮光への切り替えが行われた時（図７（Ｃ））の位置座標Δθ２を求めて記憶する。
そして、２つの位置座標Δθ１、Δθ２が得られたならば、（Δθ１＋Δθ２）／２＝Δθを演算することにより、位置ずれ量Δθを求め、この求めた位置ずれ量Δθだけ初期の設計座標上におけるθ軸方向の基準位置（原点）に対して補正を行う。
これにより、θ軸方向における基準位置の補正が完了することになる。
【００４０】
＜Ｒ軸方向の基準位置補正＞
次に、Ｒ軸方向（半径方向）の基準位置補正について説明する。
このＲ軸方向の基準位置補正は、両アーム機構５０、５２について同様に行うので、ここでは一方のアーム機構５０について基準位置補正する場合について説明する。
まず、図８に示すように、第１搬送機構２２の基準位置補正が完了したＸ軸方向、Ｚ軸方向及びθ軸方向をそれぞれ移動調整すると共に、このアーム機構５０を所定の予め定められた基準となる角度に屈曲させて固定しておく。例えばアーム機構５０の全体の到達距離（リーチ）が５８０ｍｍ程度の場合にはピック中心までが５５０ｍｍ程度になるように屈曲させておく。
【００４１】
ここで、ピック５８の肉厚部分である取付部５８Ａと検査光Ｌとの水平レベルが共に略同一となるように設定し、且つ図９（Ａ）にも示すように、取付部５８Ａが検査光Ｌから水平方向（Ｘ軸方向）に２０ｍｍ程度離れるように設定する。
このような状態で、この第１搬送機構２２の全体を低速で僅かずつＸ軸方向へ移動させ、図９（Ｂ）に示すように検査光Ｌが肉厚になされた取付部５８Ａで遮光されて通光から遮光に切り替わった時の移動量ΔＸ３を求めて記憶する。そして、この移動量ΔＸ３と設計上の移動量ΔＸ４からΔＸ３−ΔＸ４＝ΔＲを演算することにより位置ずれ量ΔＲを求め、この位置ずれ量ΔＲだけ初期の設計座標上におけるＲ軸方向の基準位置（原点）に対して位置補正を行う。
【００４２】
これにより、Ｒ軸方向における基準位置の補正が完了することになる。また、前述したように、このＲ軸方向における基準位置の補正は他方のアーム機構５２についても同様に行う。尚、このＲ軸方向の基準位置の補正を行う場合、アーム機構５０の屈伸方向の位置ずれ量ΔＲをＸ軸方向における位置ずれ量として計測することになる。
また、このＲ軸方向の基準位置の補正を行う場合、このピック５８やアーム機構５０において検査光Ｌを遮断できるような部位が存在すれば、或いは別途このような部位を形成すれば、上記取付部５８Ａに代えてそのような部位によって検査光Ｌを遮断するようにしてもよい。
【００４３】
このようにして、１つの発光部６６と受光部６８とを設けて１本の検査光Ｌを用いるだけで、Ｘ軸方向、Ｚ軸方向、θ軸方向及びＲ軸方向の４軸の基準位置補正を行うことができる。
この結果、実際に搬送機構が動作する動作座標を処理システムの製造誤差等の誤差がないとした場合の設計座標にほぼ一致させることができる。
上記実施例では、検査光Ｌの光束を絞り込んで光の検出精度を増加させるために、回転基台４８の回転中心に光通過孔７２Ａの付いた遮光板７２を設けたが、これを設けないで光通過孔７４Ａの付いた遮光板７４のみを設けてもよい。
また、遮光板７４に光通過孔７４Ａを設けることによって、通光と遮光との切り替えが回転基台４８の僅かな旋回角度の範囲内で頻繁に生じて、これを受光部６８側で認識することにより基準位置の補正操作が適正に行われていることが判るが、上記のように遮光板７４のみを設けた場合には、これに光通過孔７４Ａを設けないようにしてもよい。この場合には、遮光板７４の左右のエッジ部で検査孔Ｌを通光から遮光へ、或いはその逆に遮光から通光へ切り替わった位置を基準とすればよい。
【００４４】
また、上記実施例にあっては、回転基台４８の僅かな所定の旋回角度の範囲内にて検査光の通光と遮光とを切り替える光切り替え部７０として、１個或いは２個の遮光板７２、７４を設けた場合を例にとって説明したが、これに限定されず、図１０に示すように形成してもよい。
図１０は光切り替え部の変形例を示す斜視図である。尚、図１０ではアーム機構等の記載は省略されている。図１０に示す場合には、光切り替え部７０として、回転基台４８の上面に、その回転中心を通る直径方向に沿って断面凹部状の溝部７６を形成するようにしてもよい。この場合には、溝部７６内に沿って検査光Ｌを通しつつ、この回転基台４８を旋回させることによって溝部７６のエッジ部で検査光Ｌの通光と遮光との切り替えを行うことができる。
【００４５】
また、上記実施例にあっては、回転基台４８上に旋回軸とは異軸状態で屈伸軸を持つ２つのアーム機構５０、５２を設けた場合を例にとって説明したが、これに限定されず、例えば特開平１１−２８４０４９号公報等に示されるように、回転しない基台上に旋回軸と屈伸軸が同軸になされた２個の多関節アームを設けた場合にも、本発明を適用できる。
図１１は本発明の基準位置補正方法の第２実施例を適用する上述したような搬送機構を示す斜視図、図１２は図１１に示す搬送機構を示す模式図、図１３はθ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す工程図である。
図示するように、この搬送機構８０は円柱状の基台８２を有しており、この基台８２は、例えば図２に示すＺ軸方向へ昇降可能になされたベース４４に固定されている。そして、この基台８２には旋回軸と屈伸軸が同軸になされた２つのアーム機構８４、８６が設けられ、各アーム機構８４、８６の先端にはウエハを保持するピック８８、９０がそれぞれ取り付けられている。
【００４６】
上記各アーム機構８４、８６は、基端が上記基台８２の中心に旋回可能に取付られて共通になされた第１アーム９２と、この第１アーム９２の先端に上下２段にそれぞれ個別に屈曲可能に連結される第２アーム９４、９６とを有している。そして、上段の第２アーム９６の先端に一方のピック８８を回転可能に取り付け、下段の第２アーム９４の先端に、上記ピック８８との干渉を避けるためにコ字状に屈曲成形された補助アーム９８を介して他方のピック９０が回転可能に取り付けられている。尚、図１２及び図１３には補助アーム９８の記載を省略している。また、第１アーム９２と第２アーム９４、９６との連結部には、第２アーム９４、９６側を回転させる駆動モータ１００が設けられている。
【００４７】
次に、このように構成された搬送機構８０において、基準位置の補正を行う場合について説明する。
＜Ｘ軸方向の基準位置補正＞
まず、Ｘ軸方向の基準位置補正を行う場合は、先の実施例の場合と同様であり、Ｘ軸方向に基台８２を低速で移動しつつ検査光Ｌの通光と遮光とが切り替わった位置（Ｘ座標）を求めることによってずれ量を求め、これによってＸ軸方向の基準位置の補正を行う。
＜Ｚ軸方向の基準位置補正＞
Ｚ軸方向の基準位置補正を行う場合も、先の実施例の場合と同様である。ただし、ここでは遮光板等の光切り替え部を設けていないので、基台８２の上面（上端）を光切り替え部として用いる。
すなわち、基台８２をＺ軸方向に低速で上昇させつつ、この基台８２の上端が検査光Ｌを遮断して通光から遮光に切り替わった位置（Ｚ座標）を求めることによってずれ量を求め、これによってＺ軸方向の基準位置の補正を行う。
また、光切り替え部として、２つのアーム機構８４、８６及び２つのピック８８、９０を含む部分を用いることもできる。
【００４８】
＜θ軸方向の基準位置補正＞
θ軸方向の基準位置補正を行う場合は、本実施例では遮光板を設けていないので、第２アーム９４、９６により検査光Ｌを遮光するθ軸座標を求めて基準位置の補正を行うようにする。この場合、両アーム機構８４、８６は全く同様にして基準位置の補正を行うので、ここでは一方のアーム機構８４の基準位置の補正を行う場合について説明する。
まず、図１２及び図１３（Ａ）に示すように、補正済みのＸ軸方向、Ｚ軸方向へ基台８２を移動調整して一方のアーム機構８４の第２アーム９４を、検査光Ｌから外れてこれと略同一水平レベルとなる位置に設定する。これと同時に、このアーム機構８４を予め定められた屈曲角度に設定することにより、このアーム機構８４を屈曲させておく。図示例ではアーム機構８４は屈曲されて折り畳んだ状態となっている。この時、このアーム機構８４の旋回中心と検査光Ｌとの間の距離Ｘ５が、第２アーム９４の先端の曲率の半径ｒ１と一致するように（Ｘ５＝ｒ１）、Ｘ軸方向の移動調整を行う。
【００４９】
次に、このような姿勢を維持した状態でアーム機構８４の全体をθ軸方向に低速で僅かずつ旋回させ、第２アーム９４の先端が検査光Ｌを遮断して、通光から遮光へ切り替わった時の位置（θ座標）を求め、これに基づいてθ軸方向のずれ量を求めることによってθ軸方向の基準位置の補正を行う。
この場合、図１４に示すようにアーム機構８４の屈曲状態（折畳み状態）が、図１３に示す場合と異なっていても、基準位置の補正に影響を与えることはない。
【００５０】
＜Ｒ軸方向の基準位置補正＞
Ｒ軸方向の基準位置補正を行う場合も、先の実施例の場合と同様である。すなわち、一方の搬送アーム機構、例えばアーム機構８４を予め定められた所定の角度で屈曲させて途中まで延ばした状態で、基台８２を低速でＸ軸方向へ移動させつつ、このアーム機構８４のピック９０に対する肉厚な取付部９０Ａが検査光Ｌを遮断して通光から遮光に切り替わった位置（Ｘ座標）を求め、これよりＲ軸方向のずれ量を求めることによってＲ軸方向の基準位置の補正を行う。
上記各実施例では２つのアーム機構を設けた搬送機構を例にとって説明したが、これに限定されず、１つのアーム機構を有する搬送機構にも本発明を適用できるのは勿論である。
【００５１】
また、前述のような各軸の基準位置補正は、装置の組み立て時や改造時のみでなく、経年変化等を考慮して、定期的、或いは不定期的に行うようにしてもよい。また、上記した実施例では導入側搬送室に設けられた搬送機構を例にとって説明したが、Ｘ、Ｚ、θ、Ｒ軸方向の４軸の移動がある搬送機構ならば、どこに設けてもよいのは勿論である。
また、搬送される被処理体としては半導体ウエハに限定されず、ＬＣＤ基板、ガラス基板等の場合にも本発明を適用することができる。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の搬送機構の基準位置補正装置及び基準位置補正方法によれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。
請求項１〜３、５、１１に係る発明によれば、異軸状態で２つのアーム機構を備えた回転基台に光切り替え部を設けて、この搬送機構の移動方向に交差するように検査光を通すようにしているので、水平方向（Ｘ軸方向）に対しては回転基台が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、上下方向（Ｚ軸方向）に対しては光切り替え部が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、旋回方向（θ軸方向）に対しては光切り替え部が検査光を通光と遮光とを切り替える位置に基づき、屈伸方向（Ｒ軸方向）に対してはピックやアーム機構が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて、それぞれ各方向の基準位置補正を行うことができる。
請求項４に係る発明によれば、遮光板の光通過孔に検査孔が通っていることを確認することにより、より適正に基準位置補正操作が行われていることを確認することができる。
請求項６〜１０、１２に係る発明によれば、アーム機構を備えた基台を有する搬送機構の移動方向に交差するように検査光を通すようにしているので、水平方向（Ｘ軸方向）に対しては基台が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、上下方向（Ｚ軸方向）に対しては基台またはアーム機構が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づき、旋回方向（θ軸方向）に対してはアーム機構が検査光を通光と遮光とを切り替える位置に基づき、屈伸方向（Ｒ軸方向）に対してはピックやアーム機構が検査光の通光と遮光とを切り替える位置に基づいて、それぞれ各方向の基準位置補正を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の搬送機構の基準位置補正装置を有する処理システムの一例を示す構成図である。
【図２】搬送機構を示す側面図である。
【図３】搬送機構と基準位置補正装置の取り付け状態を示す斜視図である。
【図４】搬送機構と基準位置補正装置の取り付け状態を示す平面図である。
【図５】Ｘ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図である。
【図６】Ｚ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図である。
【図７】θ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図である。
【図８】Ｒ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図である。
【図９】Ｒ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す模式図である。
【図１０】光切り替え部の変形例を示す斜視図である。
【図１１】本発明の基準位置補正方法の第２実施例を適用する搬送機構を示す斜視図である。
【図１２】図１１に示す搬送機構を示す模式図である。
【図１３】θ軸方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す工程図である。
【図１４】アーム機構の折り畳み状態が変わった時の状態を示す概略平面図である。
【符号の説明】
２  処理システム
４  処理室
６  共通搬送室
１０  導入側搬送室
２２  第１搬送機構（搬送機構）
２４  案内レール
３８  移動体
４４  ベース
４８  回転基台
５０，５２  アーム機構
５８，６０  ピック
５８Ａ，６０Ａ  取付部
６２  制御部（補正手段）
６４  基準位置補正装置
６６  発光部
６８  受光部
７０  光切り替え部
７２，７４  遮光板
７２Ａ，７４Ａ  光通過孔
７６  溝部
Ｌ  検査光
Ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
【図１】
2004160613.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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