(57)【要約】【課題】粉体がろ布へ再付着する割合を少なくして払い落し効果を高めることができ、差圧の増加や目詰りを確実に防止できてろ布の長寿命化を達成できると共に、装置を小型化することのできるバグフイルタ装置およびその運転方法を提供する。【解決手段】少なくとも１列のろ布群を一区画として全体を複数の区画Ａ，Ｂ，Ｃとする際に、清浄室４側の区画を仕切板１３により区画分けするとともに、少なくとも１つの区画に対応する清浄ガス流出部のガス流れを遮断するための可動式遮断板１５を、パルスジェット噴射管１０よりも上部の位置にある仕切板１３の上端部とほぼ接するように清浄室４内に設置するとともに、駆動手段１８を用いて可動式遮断板１５を水平方向に移動可能とし、各区画の少なくとも１つの区画のガス流れを順次遮断できるように構成した。【選択図】        図１
2004160392.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数列のろ布群を内設するパルスジェット式のバグフィルタ装置であって、少なくとも１列のろ布群を一区画として全体を複数の区画とする際に、清浄室側の前記区画を仕切板により区画分けするとともに、少なくとも１つの区画に対応する清浄ガス流出部のガス流れを遮断するための可動式遮断板を、パルスジェット噴射管よりも上部の位置にある前記仕切板の上端部とほぼ接するように清浄室内に設置するとともに、駆動手段を用いて前記可動式遮断板を水平方向に移動可能とし、前記各区画の少なくとも１つの区画のガス流れを順次遮断できるように構成したことを特徴とするバグフィルタ装置。
【請求項２】
前記の集塵室側を、ろ布の長手方向と同等の長さの仕切板により区画したことを特徴とする請求項１に記載のバグフィルタ装置。
【請求項３】
前記可動式遮断板は走行用車輪を具備し、該可動式遮断板の走行用のガイドレールをバグフィルタ装置の清浄室に設置したことを特徴とする請求項１または２に記載のバグフィルタ装置。
【請求項４】
前記バグフィルタ装置は、廃棄物または有害物の処理過程から排出される酸性成分を含む排ガスを処理するための装置であって、ろ布を通過する排ガスのろ過速度が１．５〜３．０ｍ／ｍｉｎとなるように、ろ布群全体の総ろ過面積を設定して高速ろ過対応としたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のバグフィルタ装置。
【請求項５】
複数列のろ布群を内設するパルスジェット式のバグフィルタ装置において、少なくとも１列のろ布群を一区画として全体を複数の区画とし、少なくとも一つの区画に対応する清浄ガス流出部のガス流れを遮断するための可動式遮断板を、清浄ガス室内に水平方向に移動可能に設置し、パルスジェットによる逆洗を実施する区画の清浄ガス流出部のガス流れを該可動式遮断板にて遮断し、前記区画内の逆洗が完了した後に、前記可動式遮断板を別の区画に移動させるとともに、逆洗完了の前記区画の通ガスを再開することを特徴とするバグフィルタ装置の運転方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種製造工程、各種燃焼工程などから排出される含塵排ガスまたは有害成分含有ガスを処理するための、パルスジェット式のバグフィルタ装置およびその運転方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
都市ごみ、産業廃棄物等の可燃性廃棄物の焼却、ガス化、溶融の各種工程から排出される排ガス、スクラップ熔解やアルミ精錬等の各種金属精錬過程で排出される排ガス、さらには各種製造工場、化学工場、発電設備等で排出される排ガスには、ばいじん、ＨＣｌやＳＯｘ等の酸性成分、窒素酸化物、水銀等の重金属、ダイオキシン類およびその前駆物質等の有機ハロゲン化合物など、さまざまな有害物質が含まれている。
これらの各種有害物質は、さまざまな方法・手段によって処理されているが、とりわけ、バグフィルタ装置を用いて反応集塵を実施することにより処理されることが多い。
【０００３】
バグフィルタ装置は、例えば、８００本のろ布が収納され、１０本×４０列×２系列といったろ布配置がなされる。パルスジェット式のバグフィルタ装置は、圧縮空気を噴射管を介してろ布に噴射し、ろ布に堆積した集塵灰を払い落とすものであり、上記の例では、一度に１０本で構成される一列のろ布群に噴射し、これを所定時間ごとに、４０列のろ布に対して順次繰り返すことにより、通ガスを停止せずに連続して払い落とすようにしたものである。
【０００４】
バグフィルタ装置を用いて反応集塵を実施する場合は、バグフィルタ装置の上流側で、酸性成分除去用の消石灰粉や、ダイオキシン類、水銀除去用の活性炭粉などを噴霧して、排ガス中の煤塵とともにこれら薬剤を集塵し、ろ布の粉体層により中和反応や吸着反応を発生させて、有害成分を除去する。あるいは、ろ布に触媒機能を担持させれば、同時に窒素酸化物の除去やダイオキシン類の分解除去を達成することができる。また、二段集塵として、排ガス中のばいじんの除去を行わずに、単に上記の消石灰や活性炭を噴霧する反応集塵のみを実施する場合もある。
【０００５】
また、バグフィルタ装置は、有害成分除去を実施せずに、単にばいじんの集塵あるいは、工業製品や副産物としての粉体の回収などにも広く用いられている。バグフィルタ装置は、その用途・目的により、設定する排ガスのろ過速度は異なり、一般に付着性、凝集性などの性質を有する粉体の集塵や、中和剤を噴霧して反応集塵を行う場合は、ろ過速度を小さく設定するか、連続式でなく間欠式とすることがなされる。ろ過速度を小さく設定すると大きなろ過面積を必要とし、バグフィルタ装置全体の容量は甚大となることが多かった。
【０００６】
しかしながら、上述したように、微細粉塵や凝集性・付着性を有する粉塵の集塵、消石灰を噴霧する反応集塵、さらにはガス化溶融設備、灰溶融設備等から排出される塩類や低沸点重金属を多く含むばいじんの集塵においては、パルスジェット噴射時における集塵物のろ布からの剥離（払い落とし）が容易でないことが多いため、以下の対策課題が残されていた。
（１）払い落とし効率を上昇させ、ろ布の目詰まりを回避するために、ろ過速度（ろ布を通過する排ガスの線速度）を小さく設定して、払い落とし効率を上昇させることが多かった。このため、大きなろ過面積を必要とし、バグフィルタ装置全体が大きな装置となってしまう問題点を生じていた。
【０００７】
（２）ろ過速度を小さく設定しない場合は、経時的な差圧上昇が顕著であり、連続通ガス運転が困難となることが多く、連続運転を断念して差圧上昇時または定期的に通ガスを一時停止して逆洗する間欠運転とすることがあった。このため、炉や各種プロセス全体を頻繁に停止せざるを得ず、全体の処理効率が著しく低下する問題点を生じていた。
（３）差圧上昇およびろ布の目詰まり回避のため、バグフィルタ装置の上流側で珪藻土粉などの剥離剤を噴霧することがあった。このため、剥離剤貯槽、噴霧手段などの余剰の設備を必要とし、ランニングコストも増加してしまう問題点を生じていた。
【０００８】
（４）差圧上昇およびろ布の目詰まり回避のために、ろ布の表面をテフロン（登録商標）加工した剥離性向上ろ布を採用することがあった。しかし、上記剥離性向上ろ布は、一般品と比べて数倍〜１０倍と高価であることや、反応集塵の際はろ布の消石灰粉体層が保持されにくいので、中和反応効率が低下してしまう問題点を生じていた。また、長期の運転では、固着・目詰まりに関与する一次層（ろ布表面に形成され、反応に関与せず、通常払い落とされず保持される粉体層）の成長は、その速度は遅いが通常のろ布と同等に成長し、目詰まりに至るおそれがあった。
（５）ろ過速度を小さくしない場合は、差圧の上昇が顕著でない通常の運転時から、逆洗を強化する必要があった。このため、パルスジェットの噴射頻度を上昇させれば圧縮空気の使用量が増大し、高価なコンプレッサを追設する必要があることや、パルスジェット噴射圧を上昇させれば、圧縮空気量がやや増加するとともに、ろ布の物理強度を早期に低下させてしまうおそれがあった。
【０００９】
一方、上記と異なり、剥離性の劣るばいじんを集塵しない場合は、これら問題点は深刻なものとなることは少ないが、以下の問題点を指摘できる。
（６）剥離性が比較的良好なばいじんの集塵であっても、粉塵負荷（単位ろ布面積で集塵するばいじん量）が高い場合や、総ろ過面積を小さくとってろ過速度を大きくする場合は、パルスジェットの噴射直後に、払い落としたはずの集塵物（粉体）がろ布に瞬時に再付着してしまう割合が大きくなり、結果として高い差圧の運転、あるいは逆洗条件を著しく強化せざるを得ないという問題点を生じていた。つまり、集塵する粉体の性状により自ずとろ過速度の上限値が限られてしまい、装置をコンパクト化することが難しい状況にあった。
【００１０】
そこで、これらの問題点を解決する１つの手段として、本発明者らは、複数開閉弁によるガス流れ遮断式の高速ろ過バグフィルタ装置を提案した。この装置によれば、上述の、微細粉塵や凝集性・付着性を有する粉塵の集塵、消石灰を噴霧する反応集塵等に好適に採用できて上記問題点を克服でき、あるいは、従来よりもろ過速度を高く設定できるので、従来の装置を小型化できる優れた利点を得ることができた（例えば、特許文献１参照）。
【００１１】
【特許文献１】
特開２００１−３１４７２０号公報（第３頁〜第６頁、図１、図２）
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１の装置は、ろ布群を複数区画に分割して各々の区画に対応させてガス流れの開閉弁（切替弁、遮断弁）を装置上部に設置するため、垂直方向に余分なスペースを必要としてしまうことや、多数の開閉弁を必要としたため、イニシャル費が高いことと、切替操作がやや面倒であるといった一部の課題を残していた。
【００１３】
本発明は、上記（１）〜（６）の課題を解決すると共に、特許文献１を改良し、粉体がろ布へ付着する割合を少なくして払い落とし効果を高めることができ、差圧の増加や目詰りを確実に防止できてろ布の長寿命化を達成できると共に、装置を小型化することのできるバグフィルタ装置およびその運転方法を提供することを目的としたものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明に係るバグフィルタ装置は、複数列のろ布群を内設するパルスジェット式のバグフィルタ装置であって、少なくとも１列のろ布群を一区画として全体を複数の区画とする際に、清浄室側の前記区画を仕切板により区画分けするとともに、少なくとも１つの区画に対応する清浄ガス流出部のガス流れを遮断するための可動式遮断板を、パルスジェット噴射管よりも上部の位置にある前記仕切板の上端部とほぼ接するように清浄室内に設置するとともに、駆動手段を用いて前記可動式遮断板を水平方向に移動可能とし、前記各区画の少なくとも１つの区画のガス流れを順次遮断できるように構成したものである。
【００１５】
（２）上記（１）の集塵室側を、ろ布の長手方向と同等の長さの仕切板により区画した。
（３）上記（１）又は（２）の可動式遮断板は走行用車輪を具備し、該可動式遮断板の走行用のガイドレールをバグフィルタ装置の清浄室に設置した。
【００１６】
（４）上記（１）〜（３）の何れかのバグフィルタ装置は、廃棄物または有害物の処理過程から排出される酸性成分を含む排ガスを処理するための装置であって、ろ布を通過する排ガスのろ過速度が１．５〜３．０ｍ／ｍｉｎとなるように、ろ布群全体の総ろ過面積を設定して、高速ろ過対応とした。
【００１７】
（５）また、本発明に係るバグフィルタ装置の運転方法は、複数列のろ布群を内設するパルスジェット式のバグフィルタ装置において、少なくとも１列のろ布群を一区画として全体を複数の区画とし、少なくとも一つの区画に対応する清浄ガス流出部のガス流れを遮断するための可動式遮断板を、清浄ガス室内に水平方向に移動可能に設置し、パルスジェットによる逆洗を実施する区画の清浄ガス流出部のガス流れを該可動式遮断板にて遮断し、前記区画内の逆洗が完了した後に、前記可動式遮断板を別の区画に移動させるとともに、逆洗完了の前記区画の通ガスを再開するようにしたものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】
［実施の形態１］
図１は本発明の実施の形態１に係るバグフィルタ装置の模式図、図２は図１の上部平断面図である。
両図において、１はバグフィルタ装置（本体）、２はろ布、３は集塵室、４は清浄室、５は排ガス導入ダクト、６は排ガス排出ダクト、７はダスト排出部、９は消石灰供給装置、１０はパルスジェット噴射管、１１ａ，１１ｂはヘッダ管、１２は電磁弁、１３は清浄室の仕切板、１５は可動式遮断板、１６は車輪、１７はガイドレール、１８は駆動装置である。なお、これらの図は説明のための模式図であり、詳細機器や付属機器は省略してある。
【００１９】
図示しない廃棄物焼却炉等の排ガス発生源から排出される有害成分や煤塵を含有する排ガス（未処理ガス）は、排ガス導入ダクト５を介して、バグフィルタ装置１に導入される。この排ガスには、有害成分として例えば酸性成分としてＨＣｌが含まれているので、別途、消石灰供給装置９から空気搬送により、排ガス導入ダクト５内の排ガス中に消石灰粉が噴霧される。バグフィルタ装置１内の集塵室３に導入された排ガスは、ろ布２を通過する際に、排ガス中のばいじんおよび消石灰がろ布２の表面でろ過集塵され、ろ布２の表面にばいじんと消石灰および反応生成物からなる粉体層が形成される。このろ過集塵の過程で排ガス中のＨＣｌは消石灰との中和反応により除去される。続いて、ろ布２を通過した排ガスは、清浄ガスとなって、清浄室４を経て排ガス排出ダクト６を介して系外に排出される。
【００２０】
ここで、バグフィルタ装置１は、図１の例では、清浄室４に仕切板１３を８枚設置し、区画を６つ（区画Ａ〜Ｆ）とした。各区画Ａ〜Ｆには、１列以上である３列のろ布列が格納され、１列４本のろ布２としたので、１区画内のろ布本数は１２本となった。なお、図１は説明のため、このようにろ布本数を実際よりも少なめに設定した。また、２つのヘッダ管１１ａ，１１ｂからなる２系列としたので、区画ＡＢＣと区画ＤＥＦは、図示しない仕切板で予め区画または分割されている。予め分割されていない場合は、別途仕切板１３が必要であることは当然である。
【００２１】
さて、ガス流れを一時的に遮断するための可動式遮断板１５は、現在、区画Ｂの全面を覆うように、仕切板１３の上端部と接するように移動可能に設置され、移動を一時停止している。つまり、区画Ｂの１２本のろ布２は、現在、ガス流れが遮断されて、ろ布２に排ガスが通過できない状態にある。この状態のときに、区画Ｂにてパルスジェット空気による逆洗を実施する。すなわち、パルスジェット空気のヘッダ管１１ａに貯留された圧縮空気が、電磁弁１２の開閉操作によりパルスジェット噴射管１０を介して、パルスジェット噴射管１０に付属の図示しない噴射口から１列のろ布２の内部に向けて噴射されることにより、ろ布２の表面に堆積した粉体を払い落とす。
【００２２】
区画Ｂ内の３列のろ布列の逆洗を順次実施し、これが完了したのち可動式遮断板１５を隣接する区画ＡまたはＣに移動させ、ガス流れを遮断している最中にパルスジェットによる逆洗を実施するように構成する。ガス流れの遮断および逆洗の順序は、Ａ→Ｂ→Ｃ→Ａ→Ｂ→Ｃ→・・などとすればよい。また、当然の配置として、逆洗用のパルスジェット噴射管１０は、可動式遮断板１５の設置位置よりも下部に設置することが必要で、ガス流れ遮断時にパルスジェット噴射が可能となる。
【００２３】
一方、区画ＤＥＦ側の系列にも、同様に可動式遮断板１５が設置されており、図２に示したのは、現在、区画ＤからＥに向けて、可動式遮断板１５が移動中であることを示している。ガス流れの遮断および逆洗の方法、順序は区画ＡＢＣの場合と同様である。
【００２４】
可動式遮断板１５は、台車のごとく、車輪１６が両側に計４つ設置されており、駆動手段として、例えばリミット検出器付きモータからなる駆動装置１８が可動式遮断板１５に固定されて、車輪１６と連通する図示しない回転軸に接続されている。このリミット検出機能を用いて、各区画のガス流れを遮断する際に、区画の全面を覆うよう正確な位置に可動式遮断板１５を移動、停止する操作を行う。可動式遮断板１５の車輪１６は、移動方向に設置した両側２組のガイドレール１７の上を走行させる。ガイドレール１７はアングル等を用いて構成すればよいが、ガス流れにより可動式遮断板１５が浮き上がることがあるので、サポートを用いて浮上防止させるか、上下２つのアングルで車輪１６を挟み込むようにしてもよい。
【００２５】
また、ガス流れを遮断するための可動式遮断板１５は少なくとも１つの区画を覆えばよく、都合により２つ以上の区画をひとつの可動式遮断板１５にて覆ってもよい。ただし、複数区画を同時に遮断する場合は、遮断する区画面積率、すなわち全体のガス流れの遮断率が高くなり、見かけのろ過速度、すなわち、差圧が高くなってしまうので注意を要する。また、仕切板１３の上端部と可動式遮断板１５はほぼ接するように、ガイドレール１７を配置すればよく、必ずしも隙間のない機密構造とする必要はない。つまり、可動式遮断板１５に覆われてガス流れが遮断された区画におけるガス流れの遮断率は、１００％でなくてもよく、あるいは１００％とすることは製作上難しいので逆洗効果を高める程度の遮断率であればよく、最低５０％、望ましくは８０％以上の遮断率を有すればよい。
【００２６】
また、可動式遮断板１５を駆動する駆動装置１８は、可動式遮断板１５と一体型としたが、排ガスが高温の場合は、モータの耐熱を越えてしまうおそれがあるため、駆動装置１８をバグフィルタ装置１の外壁側に隣接して設置してもよい。あるいは少なくとも一方のガイドレール１７をバグフィルタ装置１の外壁に設置してもよく、さまざまな態様が採用できる。
また、駆動装置１８は、リミット検出器による方式に代え、ロータリーエンコーダ式やタコジェネレート式としてもよく、移動位置の制御には各種の公知手段が用いられる。
図１の例では、排ガスに酸性成分としてＨＣｌを含有し消石灰噴霧による反応集塵の場合を示したが、反応集塵を実施しない場合も適用できることはあきらかであり、各種の排ガスの集塵処理に適用できる。
【００２７】
以上のように、本実施の形態においては、バグフィルタ装置１を構成する、すなわち、少なくとも１つの区画に対応する清浄ガス流出部のガス流れを遮断するための可動式遮断板１５を、パルスジェット噴射管１０よりも上部の位置にある仕切板１３の上端部とほぼ接するように、清浄室４内に設置するとともに、駆動装置１８を用いて可動式遮断板１５を水平方向に移動可能とし、少なくとも１つの各区画のガス流れを順次遮断できるように構成したので、微細粉塵や凝集性・付着性を有する粉塵の集塵、消石灰を噴霧する反応集塵、さらにはガス化溶融設備、灰溶融設備等から排出される塩類や低沸点重金属を多く含むばいじんを集塵する際に特に好適に採用でき、以下の効果を得ることができる。
【００２８】
すなわち、ガス流れを遮断した上でパルスジェット噴射による逆洗を実施するので、払い落とし直後の粉体がろ布２へ再付着する割合を少なくでき、払い落とし効果を高めることが可能であるため、剥離性の低いばいじんの処理に好適であるとともに、差圧の増加やろ布２の目詰まりを確実に回避することができる。また、従来装置に対してろ過速度を大きく取ることができ、装置を著しく小型化できる利点が得られる。また、従来装置に対して、パルスジェットの噴射頻度や噴射圧力を小さくすることができるので、圧縮空気の消費量を削減できるとともに、低噴射圧とする際はろ布２の強度劣化を少なくでき、ろ布２の長寿命化が達成できる。
【００２９】
また、廃棄物または有害物の処理過程から排出される酸性成分を含む排ガスを消石灰噴霧等により処理する際には、従来装置のろ過速度はおよそ１．０ｍ／ｍｉｎと低ろ過速度で運転していたが、上述の作用により、ろ布２を通過する排ガスのろ過速度を従来に対して１．５〜３倍、すなわち、１．５〜３．０ｍ／ｍｉｎと設定することができ、装置を著しく小型化することができる。
【００３０】
さらに、特許文献１のバグフィルタ装置と比較すると、同装置は複数の区画に分割する際に、区画数にあわせて装置上部に開閉弁を設置するので、垂直方向に余分なスペースを必要としてしまうことや、多数の開閉弁を必要としたため、イニシャル費が高くなることと、ガス流れの切替操作がやや面倒であるといった課題を残していたが、本実施の形態によれば、これらの課題を克服できる。すなわち、可動式遮断板１５を清浄室４内に設置したので、ガス流れの遮断操作が容易であるとともに、装置上部を小さくできるため、垂直方向にコンパクトな装置とすることができる。
【００３１】
［実施の形態２］
図３は本発明の実施の形態２に係るバグフィルタ装置の模式図、図４は図３の上部平断面図である。なお、実施の形態１と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、説明を省略する。
本実施の形態は、実施の形態１に対して、清浄室４の仕切板１３にほぼ対応させて集塵室３に仕切板１４を設置し、また、可動式遮断板１５を移動させる際に、可動式遮断板１５にワイヤー１９を接続して、バグフィルタ装置１の外壁にロータリーエンコーダ式モータを駆動装置１８として４か所に設置したものである。
【００３２】
このように、構成することにより実施の形態１で述べた作用効果が得られると同時に、さらに以下の効果が得られる。
すなわち、ガス流れを遮断した区画においてパルスジェット空気により払い落とした粉体が、ガス流れを遮断していない区画の近隣のろ布２に、払い落とし直後に再付着することを確実に防止することができ、実施の形態１の効果をより確実とすることができる。なお、集塵室３を仕切板１４により区画した区画数は、清浄室４で仕切板１３により区画した区画数と同数とすれば上述の作用がより確実に得られるが、集塵室３の区画数を清浄室４の区画数の半分程度に少なくしても相応の効果が得られる。
【００３３】
［実施の形態３］
図５は本発明の実施の形態３に係るバグフィルタ装置の模式図である。なお、実施の形態２と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、説明を省略する。
本実施の形態は、実施の形態２に対して、ろ布列を１／３と少なくして、ろ過速度を３倍としたものである。すなわち、実施の形態１および２の作用効果にもとづき、従来例に対して、バグフィルタ装置１をほぼ１／３の敷地面積とすることが可能であることを示したものである。
【００３４】
このような本実施の形態によれば、払い落とし効率が優れているため、従来のバグフィルタ装置を著しく小型化することができる。なお、図１〜図５は説明を簡単にするため、ろ布列およびろ布数を少なめに記載しているが、実際の装置のろ布数は、例えば１０本×４０列×２系列の構成となっている。
【００３５】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、可動式遮断板および区画数の設定について、図６にもとづいて補足する。図６は、本発明の可動式遮断板および区画数の設定の例を示す簡略図で、図６（ａ）はバグフィルタ装置１の清浄室４を多数の仕切板１３により分割し区画数を２４区画（１２区画×２系列）としたものであり、図６（ｂ）は同装置の集塵室３における区画数を仕切板１４により清浄室４の区画より少なく設定して６区画（３区画×２系列）としたものである。
【００３６】
清浄室４における可動式遮断板１５は、一区画を遮蔽できる大きさに設定し、２系列のため、２つ設定した。この２つの可動式遮断板１５は各々１２区画を移動するように制御する。２４個の区画、２つの可動式遮断板１５の構成としたので、全体のガス流れの遮断率は１／１２となり、遮断率を十分小さくすることができ、ガス流れ遮断による見かけ上の差圧の増加を抑えることができる。図示しないろ布列は、例えば清浄室４の各区画に３列が入るように、仕切板１３により区画分けする。一列には例えば１０本のろ布２を設定できる。つまり、このときのろ布２の本数は全体で７２０本となる。ろ布２の全本数の設定は、排ガス処理量や集塵する煤塵（または薬剤）の性状に応じて適宜決定される。従来の装置と比較すると、ろ過速度を例えば１．５〜３倍と大きくとることができ、ろ布本数をこれに応じて少なく設定することができる。
【００３７】
図６の例では、集塵室３の区画数を清浄室４の区画数の１／４としたが、同数の２４区画とすることもできるし、集塵室３の区画分けを実施しないことも可能である。また、図６では２系列の場合を示したが、１系列としてもよい。あるいは、図示しないヘッダ管を４つ設置し、これに対応させて可動式遮断板１５の数を４つとしてもよい。また、可動式遮断板１５の大きさを複数区画を覆う大きさとしてもよい。これらは任意に設定することができる。
【００３８】
上述の発明に係るバグフィルタ装置は、図７に例示したシステムに採用することができる。図７は、本発明のバグフィルタ装置の採用可能な処理プロセスを示すフロー図である。
図７（ａ）によると、廃棄物焼却炉等の排ガス発生源３１から排出された有害成分を含む排ガスを減温塔３２に導入して、バグフィルタ装置３３に適した温度、例えば１６０℃に冷却する。バグフィルタ装置３３の入口煙道では、排ガス中の酸性成分を除去するための消石灰供給装置３７と、排ガス中の不所望に含まれるダイオキシン類を除去するための活性炭供給装置３８から、各々または混合形態で消石灰および活性炭が噴霧され、バグフィルタ装置３３のろ過集塵（反応集塵）過程で、酸性成分またはダイオキシン類が除去される。もちろん、ダイオキシン類以外に水銀やその他各種有害成分も除去される。バグフィルタ装置３３を経た排ガスは、蒸気式加熱器３４に導入され、例えば２２０℃に昇温されたあと、ＮＨ３添加とともに触媒脱硝塔３５に導入され、排ガス中の窒素酸化物が除去される。その後、煙突３６から大気放散される。このように配置させたバグフィルタ装置３３に本発明のバグフィルタ装置を組み込むことができる。
【００３９】
図７（ｂ）によると、排ガス発生源３１から排出された有害成分を含む排ガスは、図示しない熱回収過程を経て、例えば２５０℃となって第１のバグフィルタ装置３３ａに導入される。ここで、排ガス中のばいじんが除去される。続いて、反応集塵に適した温度とするため、減温塔３２にて排ガスを水噴霧冷却し、例えば１８０℃に冷却する。続いて、消石灰供給装置３７からの消石灰粉とともに第二のバグフィルタ装置３３ｂに導入され、この反応集塵過程で主に酸性成分が除去される。続いて、排ガスは活性炭吸着塔３９に導入され、排ガス中の水銀やダイオキシン類その他の微量有害物質が確実に除去され、その後、煙突３６を介して大気放散される。このように配置されたバグフィルタ装置３３ａまたは３３ｂに本発明のバグフィルタ装置を組み込むことができる。
【００４０】
上記の排ガス発生源３１は、各種製造工場、各種焼却炉の排ガスまたは空調排ガスを指す。また、ダイオキシン等の有害物質を排出し、図７に好適に採用できる排ガス発生源３１として、都市ごみ、産業廃棄物等の可燃性廃棄物の焼却、ガス化、溶融の各種工程から排出される排ガス、スクラップ熔解やアルミ精錬等の各種金属精錬過程で排出される排ガス、さらには各種製造工場、化学工場、発電設備等で排出される排ガスを例示できる。
ここで、図７に示したのは、有害成分を含有し、バグフィルタ装置で反応集塵を実施する際の排ガス処理フローの一例を示すものであり、その他の公知のあらゆる処理プロセスを採用できる。
【００４１】
次に、本発明に係るバグフィルタ装置について補足する。
本発明のバグフィルタ装置は、パルスジェット噴射方式のバグフィルタ装置に採用するものである。噴射する気体は通常、コンプレッサにより昇圧した圧縮空気を用いるが、被処理ガス性状により窒素その他を用いてもよい。あるいは、ろ布の耐熱以下に昇温した気体を用いてもよい。昇温した気体を用いれば、ろ布が過度に急激に冷却されることがないので、消石灰噴霧等の反応集塵の際は、反応生成物の固着や凝集による目詰まりのおそれをより効果的に回避できる。
【００４２】
パルスジェット空気の噴射圧は、例えば１〜６ｋｇ／ｃｍ２Ｇを採用でき、噴射間隔（あるろ布列から次のろ布列までのインターバル時間）は、例えば１０〜６００秒を採用できる。噴射時間（パルスジェットを噴射する正味の時間）は、例えば０．０５〜０．３秒を採用できるが、これに限定されるものではない。すでに述べたように、本発明によれば、払い落とし効率が優れているため、従来よりも噴射圧を低くでき、噴射間隔を長くできる。また、パルスジェット噴射による逆洗はろ布列に対して順次行うが、必ずしも１列づつ噴射する必要はなく、隣接する複数列を同時に噴射してよい。例えば、２列づつ噴射する操作を順次移動させて実施すれば、払い落とし直後の集塵粉体が再付着する割合を小さくできる効果が得られる。
【００４３】
また、ろ布を通過させる際のろ過速度は、反応集塵の場合で１．５〜３．０ｍ／ｍｉｎの範囲で実施することを示したが、この範囲外で実施することも可能である。しかし、反応集塵において、ろ過速度が１．５ｍ／ｍｉｎ以下であると、従来の１．０ｍ／ｍｉｎの場合に対して装置の小型化が顕在化しないこと、３．０ｍ／ｍｉｎを越えると中和反応効率が低下するおそれがあることとにより、上記範囲とした。但し、反応集塵でなく、剥離性の良好なばいじんの集塵や、単に副産物の回収、空気の浄化などでは、ろ過速度は反応集塵よりも高く設定することが可能である。
【００４４】
また、本発明のバグフィルタ装置を用いれば、上述のようにろ過速度を従来よりも大きく設定でき、装置を小型化できるが、これは総ろ過面積を小さくすることを主に指す。ろ過速度を大きく設定する手段として、ろ布本数を少なくする、ろ布本数は同じままでろ布の長手方向の長さを小さくする、ろ布径を小さくする、などが挙げられる。ろ過面積を小さくしない場合は、ろ布列の配置間隔を短くすることにより、装置を小型化できる。すなわち、従来、配置間隔を短くすると、払い落とし時の粉体の再付着が頻繁に発生する不具合があったが、本発明では、再付着の問題を回避できるので、ろ布の配置間隔を短くすることが可能であり、以て、装置を小型化できる。さらに、ろ過面積を小さく設定すれば、装置の小型化は顕著となる。
【００４５】
本発明のバグフィルタ装置１内に装着されるろ布２は、例えばガラス繊維、ポリイミド繊維、あるいはテフロン（登録商標）加工繊維など公知のろ過材質が用いられ、耐熱、耐酸性等を考慮して適宜採択されるが特に限定しない。
【００４６】
本発明のパルスジェット式のバグフィルタ装置は、その入口で消石灰粉を供給する構成を示したが、排ガスに酸性成分が含まれない場合は消石灰供給は不要であることはいうまでもない。また、排ガスに含まれるばいじんを除去したあとに、消石沢や活性炭を噴霧する反応集塵を行う場合にも当然採用できる。
【００４７】
【発明の効果】
本発明によれば、少なくとも１つの区画に対応する清浄ガス流出部のガス流れを遮断するための可動式遮断板を、パルスジェット噴射管よりも上部の位置にある前記仕切板の上端部とほぼ接するように清浄室内に設置するとともに、駆動手段を用いて前記可動式遮断板を水平方向に移動可能とし、各区画の少なくとも１つの区画のガス流れを順次遮断できるように構成したので、微細粉塵や凝集性・付着性を有する粉塵の集塵、消石灰を噴霧する反応集塵、さらにはガス化溶融設備、灰溶融設備等から排出される塩類や低沸点重金属を多く含むばいじんの集塵する際に特に好適に採用でき、以下の効果を得ることができる。
【００４８】
すなわち、ガス流れを遮断した上でパルスジェット噴射による逆洗を実施するので、払い落とし直後の粉体がろ布へ再付着する割合を少なくでき、払い落とし効果を高めることが可能であるため、剥離性の低いばいじんの処理に好適であるとともに、差圧の増加やろ布の目詰まりを確実に回避することができる。また、従来装置に比べてろ過速度を大きく取ることができ、装置を著しく小型化できる利点が得られる。さらに、従来装置に比べて、パルスジェットの噴射頻度や噴射圧力を小さくすることができるので、圧縮空気の消費量を削減できるとともに、低噴射圧とする際はろ布の強度劣化を少なくでき、ろ布の長寿命化が達成できる。
【００４９】
また、廃棄物または有害物の処理過程から排出される酸性成分を含む排ガスを消石灰噴霧等により処理する際には、従来ろ過速度はおよそ１．０ｍ／ｍｉｎと低ろ過速度にて運転していたが、上述の作用により、ろ布を通過する排ガスのろ過速度を従来に比べて１．５〜３倍、すなわち、１．５〜３．０ｍ／ｍｉｎに設定することが可能であり、装置を著しく小型化することができる。
さらに、可動式遮断板を清浄ガス室内に設置したので、ガス流れの遮断操作が容易であるとともに、装置上部を小さく設定できるため、垂直方向にコンパクトな装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１に係るバグフィルタ装置の模式図である。
【図２】図１の上部平断面図である。
【図３】本発明の実施の形態２に係るバグフィルタ装置の模式図である。
【図４】図３の上部平断面図である。
【図５】本発明の実施の形態３に係るバグフィルタ装置の模式図である。
【図６】本発明のバグフィルタ装置の区画数の設定例を示す模式図である。
【図７】本発明のバグフィルタ装置の採用例を示すフロー図である。
【符号の説明】
１  バグフィルタ装置（本体）
２  ろ布
３  集塵室
４  清浄室
５  排ガス導入ダクト
６  排ガス排出ダクト
７  ダスト排出部
９  消石灰供給装置
１０  パルスジェット噴射管
１１ａ，１１ｂ  ヘッダ管
１２  電磁弁
１３  仕切板（清浄室）
１４  仕切枚（集塵室）
１５  可動式遮断板
１６  車輪
１７  ガイドレール
１８  駆動装置
１９  ワイヤー
２０  開閉弁
３１  排ガス発生源
３２  減温塔
３３ａ  第一のバグフィルタ装置
３３ｂ  第二のバグフィルタ装置
３４  蒸気式再加熱器
３５  触媒脱硝塔
３６  煙突
３７  消石灰供給装置
３８  活性炭供給装置
３９  活性炭吸着塔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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