(57)【要約】【課題】ポリゴンミラーの大型化を回避しつつ、書き込み領域内のある部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避する。【解決手段】光ビームを反射するポリゴンミラー２２０の反射面２２２に、静電潜像の書き込みに用いられる光ビームを反射する書き込み領域２２３と、静電潜像の書き込みに用いられない光ビームを反射するための非書き込み領域２２４とを設け、書き込み領域２２３に、第１反射率を有する第１部分２２５と、第１反射率より低い第２反射率を有する第２部分２２６とを設ける。好ましくは、曇りが発生する部分２２７に第１部分２２５を配置する。【選択図】        図５
2004233554.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを反射するための反射面を具備し、静電潜像の書き込みに用いられる光ビームを反射するための書き込み領域と、静電潜像の書き込みに用いられない光ビームを反射するための非書き込み領域とを前記反射面に設けたポリゴンミラーにおいて、第１反射率を有する第１部分と、第１反射率より低い第２反射率を有する第２部分とを前記書き込み領域に設けたことを特徴とするポリゴンミラー。
【請求項２】
前記第１部分と前記第２部分とは、前記反射面にコーティングされたコーティング層の厚さが異なることを特徴とする請求項１に記載のポリゴンミラー。
【請求項３】
前記第１部分と前記第２部分とは、前記反射面にコーティングされたコーティング層の屈折率が異なることを特徴とする請求項１に記載のポリゴンミラー。
【請求項４】
前記第１部分を前記第２部分よりもポリゴンミラーの回転方向上流側に配置したことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリゴンミラー。
【請求項５】
曇りが発生する部分に前記第１部分を配置したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のポリゴンミラー。
【請求項６】
前記書き込み領域で反射された光ビームのパワー許容範囲を設け、前記第１部分で反射された光ビームのパワーが前記パワー許容範囲の上限付近の値になり、前記第２部分で反射された光ビームのパワーが前記パワー許容範囲の中心付近の値になるように、前記第１部分及び前記第２部分を形成したことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のポリゴンミラー。
【請求項７】
前記反射面で反射される光ビームのスポット形状における主走査方向長さがその副走査方向長さよりも長いことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のポリゴンミラー。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のポリゴンミラーと、前記ポリゴンミラーを回転駆動する駆動手段と、光ビームを発光する発光手段とを備えたことを特徴とする光走査装置。
【請求項９】
請求項８に記載の光走査装置と、前記光走査装置により走査された光ビームによって形成される静電潜像を現像して被記録媒体に画像を形成する画像形成手段とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ビームを反射するための反射面を有するポリゴンミラー、そのポリゴンミラーを有する光走査装置、およびその光走査装置を有する画像形成装置に関する。本発明のポリゴンミラー、光走査装置、および画像形成装置は、例えばプリンタ、ファクシミリ、複写機等に適用可能である。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光ビームを反射するための反射面を具備し、静電潜像の書き込みに用いられる光ビームを反射するための書き込み領域と、静電潜像の書き込みに用いられない光ビームを反射するための非書き込み領域とを反射面に設けたポリゴンミラーが知られている。この種のポリゴンミラーの例としては、例えば特開平７−１９９１０６号公報に記載されたものがある。特開平７−１９９１０６号公報に記載されたポリゴンミラーでは、曇りが発生する部分で反射された光ビームのパワーが所望値よりも低くなるのに伴って、その光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が悪化してしまうのを回避するために、その曇りが発生する部分が非書き込み領域として設定され、その曇りが発生する部分で反射された光ビームは、静電潜像の書き込みに用いられないようになっている。
【０００３】
ところが、特開平７−１９９１０６号公報に記載されたポリゴンミラーのように曇りが発生する部分が非書き込み領域として設定される場合には、必要十分な書き込み領域を確保するために、反射面全体を大きくすることが必要になってしまう。つまり、ポリゴンミラーが大型化してしまう。このようにポリゴンミラーが大型化してしまうと、そのポリゴンミラーを有する光走査装置、画像形成装置等も大型化してしまう。
【０００４】
また従来、光ビームを反射するための反射面を具備し、静電潜像の書き込みに用いられる光ビームを反射するための書き込み領域と、静電潜像の書き込みに用いられない光ビームを反射するための非書き込み領域とを反射面に設けたポリゴンミラーが知られている。この種のポリゴンミラーの例としては、例えば特開平１１−２９５６３３号公報に記載されたものがある。特開平１１−２９５６３３号公報に記載されたポリゴンミラーでは、非書き込み領域の反射率が高くされ、書き込み領域の反射率が低くされている。
【０００５】
ところが、特開平１１−２９５６３３号公報に記載されたポリゴンミラーでは、書き込み領域の反射率と非書き込み領域の反射率とが異なる値に設定されているものの、特開平１１−２９５６３３号公報には、書き込み領域内で反射率を異ならせる点について開示されていない。そのため、特開平１１−２９５６３３号公報に記載されたポリゴンミラーでは、例えば曇りが発生する部分が書き込み領域として設定された場合に、その部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまい、これにより、用紙上の画質が低下してしまうおそれがある。
【０００６】
【特許文献１】
特開平７−１９９１０６号公報
【０００７】
【特許文献２】
特開平１１−２９５６３３号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
前記問題点に鑑み、本発明は、反射面の曇りが発生する部分が非書き込み領域として設定されるのに伴ってポリゴンミラーが大型化してしまうのを回避しつつ、例えば曇りが発生する部分が書き込み領域として設定された場合に、その部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が悪化してしまうのを回避することができるポリゴンミラー、光走査装置、および画像形成装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明によれば、光ビームを反射するための反射面を具備し、静電潜像の書き込みに用いられる光ビームを反射するための書き込み領域と、静電潜像の書き込みに用いられない光ビームを反射するための非書き込み領域とを前記反射面に設けたポリゴンミラーにおいて、第１反射率を有する第１部分と、第１反射率より低い第２反射率を有する第２部分とを前記書き込み領域に設けたことを特徴とするポリゴンミラーが提供される。
【００１０】
請求項１に記載のポリゴンミラーでは、第１反射率を有する第１部分と、第１反射率より低い第２反射率を有する第２部分とが書き込み領域に設けられている。そのため、例えば曇りが発生する部分を書き込み領域として設定することにより、ポリゴンミラーが大型化してしまうのを回避しつつ、更に、例えば曇りが発生する部分で反射された光ビームのパワーが所望値よりも低くならないように反射率が高い第１部分と反射率が低い第２部分とを書き込み領域に設けることにより、書き込み領域内のある部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００１１】
請求項２に記載の発明によれば、前記第１部分と前記第２部分とは、前記反射面にコーティングされたコーティング層の厚さが異なることを特徴とする請求項１に記載のポリゴンミラーが提供される。
【００１２】
請求項２に記載のポリゴンミラーでは、反射率が異なる第１部分および第２部分を形成するために、第１部分と第２部分とで、反射面にコーティングされたコーティング層の厚さが異ならされている。詳細には、例えばある場合には、反射率が高い第１部分を形成するためにコーティング層の厚さが薄くされ、反射率が低い第２部分を形成するためにコーティング層の厚さが厚くされる。また、他の場合には、反射率が高い第１部分を形成するためにコーティング層の厚さが厚くされ、反射率が低い第２部分を形成するためにコーティング層の厚さが薄くされる。例えば反射率を高くするために、コーティング層の厚さを厚くすべきか、あるいは、薄くすべきかは、例えば光ビームの波長、種類、入射角などに基づいて決定される。
【００１３】
請求項３に記載の発明によれば、前記第１部分と前記第２部分とは、前記反射面にコーティングされたコーティング層の屈折率が異なることを特徴とする請求項１に記載のポリゴンミラーが提供される。
【００１４】
請求項３に記載のポリゴンミラーでは、反射率が異なる第１部分および第２部分を形成するために、第１部分と第２部分とで、反射面にコーティングされたコーティング層の屈折率が異ならされている。詳細には、例えばある場合には、反射率が高い第１部分を形成するためにコーティング層の屈折率が低くされ、反射率が低い第２部分を形成するためにコーティング層の屈折率が高くされる。また、他の場合には、反射率が高い第１部分を形成するためにコーティング層の屈折率が高くされ、反射率が低い第２部分を形成するためにコーティング層の屈折率が低くされる。例えば反射率を高くするために、コーティング層の屈折率を低くすべきか、あるいは、高くすべきかは、例えば光ビームの波長、種類、入射角などに基づいて決定される。
【００１５】
請求項４に記載の発明によれば、前記第１部分を前記第２部分よりもポリゴンミラーの回転方向上流側に配置したことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリゴンミラーが提供される。
【００１６】
請求項５に記載の発明によれば、曇りが発生する部分に前記第１部分を配置したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のポリゴンミラーが提供される。
【００１７】
ポリゴンミラーの反射面のうち、ポリゴンミラーの回転方向上流側の部分に曇りが発生する部分が形成される点に鑑み、請求項４及び５に記載のポリゴンミラーでは、第１部分が第２部分よりもポリゴンミラーの回転方向上流側に配置されている。好ましくは、曇りが発生する部分に第１部分が配置される。そのため、例えば曇りが発生する部分で反射された光ビームのパワーが所望値よりも低くならないように、曇りが発生する部分に第１部分を配置することにより、曇りが発生する部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００１８】
請求項６に記載の発明によれば、前記書き込み領域で反射された光ビームのパワー許容範囲を設け、前記第１部分で反射された光ビームのパワーが前記パワー許容範囲の上限付近の値になり、前記第２部分で反射された光ビームのパワーが前記パワー許容範囲の中心付近の値になるように、前記第１部分及び前記第２部分を形成したことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のポリゴンミラーが提供される。
【００１９】
請求項６に記載のポリゴンミラーでは、第１部分で反射された光ビームのパワーが許容範囲の上限付近の値になり、第２部分で反射された光ビームのパワーが許容範囲の中心付近の値になるように、第１部分及び第２部分が形成されている。そのため、ポリゴンミラーの長期使用により、第１部分に曇りが発生したとしても、第１部分で反射された光ビームのパワーを許容範囲の下限よりも高い値に維持することができる。
【００２０】
請求項７に記載の発明によれば、前記反射面で反射される光ビームのスポット形状における主走査方向長さがその副走査方向長さよりも長いことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のポリゴンミラーが提供される。
【００２１】
請求項７に記載のポリゴンミラーでは、反射面で反射される光ビームのスポット形状における主走査方向長さがその副走査方向長さよりも長くされている。そのため、反射面に入射する光ビームが第１部分と第２部分との境界線を通過する時に反射面で反射された光ビームのパワーがステップ状に変化してしまうのを回避することができる。
【００２２】
請求項８に記載の発明によれば、請求項１〜７のいずれか一項に記載のポリゴンミラーと、前記ポリゴンミラーを回転駆動する駆動手段と、光ビームを発光する発光手段とを備えたことを特徴とする光走査装置が提供される。
【００２３】
請求項８に記載の光走査装置では、長期にわたり、良好な静電潜像を形成することができる。
【００２４】
請求項９に記載の発明によれば、請求項８に記載の光走査装置と、前記光走査装置により走査された光ビームによって形成される静電潜像を現像して被記録媒体に画像を形成する画像形成手段とを備えたことを特徴とする画像形成装置が提供される。
【００２５】
請求項９に記載の画像形成装置では、長期にわたり、良好な画像を形成することができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を用いて本発明の実施形態について説明する。
【００２７】
図１は本発明の画像形成装置の第１の実施形態を適用したレーザプリンタの側断面図である。図１に示すように、レーザプリンタ１は、本体ケース２内に、ポリゴンミラー２２０を有する光走査装置２００、被記録媒体としての用紙３を給紙するためのフィーダ部４、光走査装置２００により走査された光ビームによって形成される静電潜像を現像して用紙３に画像を形成するための画像形成手段を構成するプロセスカートリッジ１７、定着器１８等を備えている。なお、図１の右側がレーザプリンタ１の前面となる。
【００２８】
本体ケース２の上部に配置されている排紙トレイ４６は、印刷された用紙３を積層保持できるように、本体ケース２の外縁よりも窪んだ凹状に形成されている。排紙トレイ４６には傾斜が付けられており、その傾斜は、レーザプリンタ１の後側（図１の左側）よりもレーザプリンタ１の前側（図１の右側）の方で小さくなっている。また、本体ケース２の前面には、プロセスカートリッジ１７を着脱する時に開放されるカバー５４が配置されている。
【００２９】
本体ケース２内の後側（図１の左側）に設けられた定着器１８から排出された用紙３が図１中の一点鎖線に沿って排紙トレイ４６に導かれるように、本体ケース２内の後側（図１の左側）には、排紙パス４４が設けられている。この排紙パス４４には、用紙３の搬送するための排紙ローラ４５が設けられている。
【００３０】
フィーダ部４には、本体ケース２内の底部に配置された給紙ローラ８と、レーザプリンタ１の前面から着脱可能な給紙カセット６と、用紙３を積層保持して用紙３を給紙ローラ８に圧接するために給紙カセット６内に配置された用紙押圧板７とが設けられている。更に、フィーダ部４には、給紙時に給紙ローラ８と協働して用紙３を一枚毎に分離するために給紙ローラ８に向かって押圧されている分離パッド９と、用紙３を搬送するために給紙ローラ８に対して用紙３の搬送方向下流側に配置された搬送ローラ１１とが設けられている。更に、フィーダ部４には、搬送ローラ１１と協働して用紙３を搬送する時にその用紙３の紙粉を除去する紙粉取りローラ１０と、画像形成時の用紙３の送り出しタイミングを調整するために搬送ローラ１１に対して用紙３の搬送方向下流側に配置されたレジストローラ１２とが設けられている。
【００３１】
用紙押圧板７は、給紙カセット６の底面に配置された支軸７ａを中心として回動可能であり、バネ７ｂによって給紙ローラ８側に付勢されている。給紙ローラ８と分離パッド９とは互いに対向して配置されており、分離パッド９はバネ１３によって給紙ローラ８側に押圧されている。
【００３２】
給紙時に用紙３と分離パッド９との摩擦によって発生する紙粉は、給紙ローラ８と協働するように分離パッド９の下流側に配置された紙粉取りローラ１４に静電吸着せしめられ、次いで、スポンジ１４ａによって絡め取られて除去される。紙粉取りローラ１４で除去しきれなかった紙粉は、紙粉取りローラ１０によって除去される。
【００３３】
給紙カセット６の上方には、両面印刷ユニット２６が配設されている。両面印刷ユニット２６には、反転搬送ローラ５０ａ，５０ｂ，５０ｃが略水平に配置されており、両面印刷ユニット２６の両端には、反転搬送パス４７ａ，４７ｂが配置されている。両面印刷時には、まず、表面が印刷されて定着器１８から排出された用紙３が、排紙ローラ４５によってスイッチバックせしめられる。次いで、スイッチバックせしめられた用紙３は、図１中の一点鎖線の経路から分岐し、反転搬送パス４７ａを介して両面印刷ユニット２６に搬送される。次いで、両面印刷ユニット２６に搬送された用紙３は、反転搬送パス４７ｂを介してレジストローラ１２に搬送され、次いで、画像形成手段によって裏面が印刷される。
【００３４】
両面印刷ユニット２６の上方には、低圧電源基板９０と、高圧電源基板９５と、エンジン基板８５とが配置されている。これらの基板を定着器１８、プロセスカートリッジ１７などから隔離するために、これらの基板の上方には、シュート８０が設けられている。シュート８０の上部に形成されたガイド板８１が、用紙３の搬送路の一部を構成している。なお、シュート８０は、レーザプリンタ１の左右（図１の手前側および奥側）の本体フレーム（図示せず）間を橋絡し、レーザプリンタ１の剛性を高めている。
【００３５】
低圧電源基板９０は、例えば２４Ｖの電圧をレーザプリンタ１の内部の各部に供給するために、レーザプリンタ１の外部から供給された例えば単相１００Ｖの電圧を例えば２４Ｖの電圧に降下させる。また、高圧電源基板９５は、プロセスカートリッジ１７の各部に印加される高電圧のバイアスを発生させる。エンジン基板８５は、例えばレーザプリンタ１の各ローラのような部品を回転させるためのＤＣモータ（図示せず）を駆動すると共に、例えばレジストローラ１２のような部品の回転／停止を切り換えるためのソレノイド（図示せず）等を駆動する。
【００３６】
画像形成手段の一部を構成するプロセスカートリッジ１７は、ドラムカートリッジ２３と、ドラムカートリッジ２３に着脱可能な現像カートリッジ２４とを有する。ドラムカートリッジ２３は、感光体ドラム２７、スコロトロン型帯電器２９、転写ローラ３０等を備えている。現像カートリッジ２４は、現像ローラ３１、供給ローラ３３、トナーホッパー３４等を備えている。
【００３７】
ドラムカートリッジ２３の感光体ドラム２７は、現像ローラ３１と接触した状態で図１中に矢印で示す向きに回転可能である。この感光体ドラム２７は、導電性基材の上に、正帯電の有機感光体を塗布したものであり、電荷発生材料が電荷輸送層に分散された正帯電有機感光体である。感光体ドラム２７上では、光ビーム等の照射を受けると、光吸収により電荷発生材料において電荷が発生し、電荷輸送層により感光体ドラム２７の表面と導電性基材とにその電荷が輸送される。スコロトロン型帯電器２９によって帯電せしめられた感光体ドラム２７表面上の電位がうち消されることにより、照射を受けた部分の電位と、受けていない部分の電位との間に電位差が形成される。つまり、書き込むべき画像データに基づいて光ビームを露光走査することにより、感光体ドラム２７上に静電潜像が形成される。
【００３８】
スコロトロン型帯電器２９は、感光体ドラム２７に接触しないように感光体ドラム２７の上方に所定の間隔を隔てて配設されている。スコロトロン型帯電器２９は、タングステンなどの放電用のワイヤからコロナ放電を発生させるスコロトロン型の帯電器であり、高圧電源基板９５の帯電バイアス回路部（図示せず）により駆動され、感光体ドラム２７の表面を一様に正極性に帯電させるように構成されている。
【００３９】
現像カートリッジ２４がドラムカートリッジ２３に装着された状態では、現像ローラ３１は、スコロトロン型帯電器２９に対して感光体ドラム２７の回転方向下流側に配設されており、図１中に矢印で示す向きに回転可能である。現像ローラ３１は、金属製の軸に導電性のゴム材料を被覆することにより構成されている。現像ローラ３１には、高圧電源基板９５の現像バイアス回路部（図示せず）により現像バイアスが印加される。
【００４０】
供給ローラ３３は、現像ローラ３１を挟んで感光体ドラム２７の反対側に配置されており、図１中の矢印で示す向きに回転可能である。供給ローラ３３は現像ローラ３１に対して当接せしめられている。供給ローラ３３は、金属製の軸に導電性の発泡材料を被覆することにより構成されており、現像ローラ３１に供給されるトナーを摩擦帯電させるようになっている。つまり、供給ローラ３３は、現像ローラ３１と同じ向き（図１における反時計まわり）に回転せしめられる。
【００４１】
トナーホッパー３４は供給ローラ３３の側方に配置されており、トナーホッパー３４の内部に充填されている現像剤は、供給ローラ３３を介して現像ローラ３１に供給される。第１の実施形態では、現像剤として正帯電性の非磁性１成分のトナーが使用されており、このトナーは、重合性単量体、例えばスチレンなどのスチレン系単量体やアクリル酸、アルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アクリレート、アルキル（Ｃ１〜Ｃ４）メタアクリレートなどのアクリル系単量体を、懸濁重合などの公知の重合方法によって共重合させることにより得られる重合トナーである。このような重合トナーには、カーボンブラックなどの着色剤やワックスなどが配合されるとともに、流動性を向上させるために、シリカなど外添剤が添加されている。その粒子径は、約６〜１０μｍ程度である。
【００４２】
アジテータ３６は、軸方向（図１の表裏方向）に延びている粗い網目状の板体であり、図１に示すように略「くの字」の断面形状を有している。アジテータ３６は、回転軸３５を中心に図１中の矢印で示す向きに回転可能である。アジテータ３６の径方向外側端と、「くの字」の中腹部分とには、トナーホッパー３４の内壁を摺擦するためのフィルム部材３６ａがそれぞれ設けられている。アジテータ３６が回転せしめられることにより、トナーホッパー３４内に収容されたトナーが攪拌される。
【００４３】
現像ローラ３１に対して感光体ドラム２７の回転方向下流側には、図１中の矢印で示す向きに回転可能な転写ローラ３０が配設されている。転写ローラ３０は、金属製の軸にイオン導電性のゴム材料を被覆させることにより構成されている。感光体ドラム２７上のトナー像を用紙３上に転写させる時には、高圧電源基板９５の転写バイアス回路部（図示せず）により転写バイアスが転写ローラ３０に印加される。転写バイアスとは、感光体ドラム２７の表面上に静電付着したトナーが転写ローラ３０の表面に向かって電気的に吸引されるように、感光体ドラム２７の表面と転写ローラ３０の表面との間に電位差を生じさせるために転写ローラ３０に印加されるバイアスである。
【００４４】
このレーザプリンタ１では、転写ローラ３０によって感光体ドラム２７から用紙３にトナーが転写された後に、感光体ドラム２７の表面上に残存する残存トナーを現像ローラ３１で回収する、いわゆるクリーナーレス現像方式が採用されている。
【００４５】
画像形成手段の一部を構成する定着器１８は、プロセスカートリッジ１７に対して用紙３の搬送方向下流側に配設されている。定着器１８は、定着ローラ４１と、この定着ローラ４１を押圧する加圧ローラ４２と、定着ローラ４１及び加圧ローラ４２に対して用紙３の搬送方向下流側に配置された一対の搬送ローラ４３とを備えている。定着ローラ４１は、中空のアルミ製の軸にフッ素樹脂がコーティングされ焼成されている。定着ローラ４１の内部には、加熱用ハロゲンランプ４１ａが配置されている。加圧ローラ４２は、低硬度シリコンゴムからなる軸にフッ素樹脂のチューブが被膜されたローラであり、スプリング（図示せず）によって定着ローラ４１に対して押圧されている。プロセスカートリッジ１７において用紙３上に転写されたトナー像は、用紙３が定着ローラ４１と加圧ローラ４２との間を通過する時に、加圧加熱され、用紙３上に定着せしめられる。次いで、その用紙３は搬送ローラ４３によって排紙パス４４に搬送される。
【００４６】
次に、図１〜図３を参照して、スキャナユニット２００について説明する。図２は上蓋部材２０１を外した状態で図１の右上から見たスキャナユニット２００の斜視図である。図３は上蓋部材２０１およびトレイ２０３を外した状態で図２とは別角度から見たスキャナユニット２００の斜視図である。
【００４７】
図１に示すように、スキャナユニット２００の筐体は、ガラス繊維等の強化剤が混合された樹脂製のスキャナフレーム２０２と、その上方を覆い塞ぐ鉄製の上蓋部材２０１と、スキャナフレーム２０２を支持するためにレーザプリンタ１の左右（図１の手前側および奥側）の本体フレーム（図示せず）間にネジ止めにより固定される鋼板製のトレイ２０３とから構成されている。
【００４８】
図２に示すように、トレイ２０３は略長方形の浅い箱状に形成されている。トレイ２０３の略中央の位置には、光ビームＬを感光体ドラム２７上に照射するための開口部２０３ａ（図１参照）が設けられている。スキャナフレーム２０２には、トレイ２０３の底面に対して略垂直に延びている外壁２０２ａと、スキャナフレーム２０２を上下の２層に分割するために外壁２０２ａの中腹付近から延びている隔壁２０２ｂとが設けられている。
【００４９】
隔壁２０２ｂの上側に位置するスキャナフレーム２０２の上層には、光ビームＬを発光するためのレーザユニット３００と、レーザユニット３００からの光ビームＬを上下方向に屈折させてポリゴンミラー２２０上で結像させるシリンドリカルレンズ２１０とが配置されている。更に、スキャナフレーム２０２の上層には、光ビームＬを反射するための６つの反射面を有するポリゴンミラー２２０と、ポリゴンミラー２２０において反射されて等角速度に走査された光ビームＬを等速度走査に変換するためのｆθレンズ２３０と、ｆθレンズ２３０を通過した光ビームＬをスキャナフレーム２０２の下層側に向かって反射するためのミラー２４０とが配設されている。
【００５０】
図１に示すように、スキャナフレーム２０２の下層側には、ミラー２４０により反射された光ビームＬを更に反射するためのミラー２５０と、シリンドリカルレンズ２６０と、シリンドリカルレンズ２６０を通過した光ビームＬを感光体ドラム２７の表面上に向かって反射するためのミラー２７０とが配設されている。
【００５１】
また、図２、図３に示すように、レーザユニット３００が配置されたスキャナフレーム２０２内には、ポリゴンミラー２２０を回転駆動するためのモータ２２１と、レーザユニット３００から発光せしめられる光ビームの出力などを調整するための回路基板２０４とが設けられている。この回路基板２０４には調整孔２０５が穿設されており、またその調整孔２０５に対応するスキャナフレーム２０２の外壁にも貫通孔２０２ｄが穿設されており、レーザユニット３００の光軸調整時にドライバ等を挿入できるようになっている。また、レーザユニット３００からポリゴンミラー２２０に対して発光される光ビームの光軸（図２における２点鎖線）の延長線上にあたるスキャナフレーム２０２の壁面には、光軸検査用の検査孔２０２ｃが設けられている。
【００５２】
図４はレーザユニットから発光された光ビームの展開図、図５は図１から図４に示したポリゴンミラーの拡大斜視図である。
【００５３】
第１の実施形態では、図５に示すように、ポリゴンミラー２２０の周面には、６つの反射面２２２が形成されている。詳細には、各反射面２２２には、感光体ドラム２７（図１）の表面上に静電潜像を書き込むために用いられる光ビームを反射する書き込み領域２２３が設けられており、更に、感光体ドラム２７（図１）の表面上に画像静電潜像を書き込むために用いられない光ビームを反射する非書き込み領域２２４が書き込み領域２２３の両側に設けられている。更に詳細には、書き込み領域２２３には、第１反射率を有する第１部分２２５と、第１反射率より低い第２反射率を有する第２部分２２６とが設けられている。
【００５４】
また、第１の実施形態では、反射面２２２の第１部分２２５にコーティングされたコーティング層の厚さを第２部分２２６にコーティングされたコーティング層の厚さよりも薄くすることにより、第２反射率が第１反射率よりも低くなるように、レーザユニット３００から発光される光ビームの偏光方向（Ｐ偏光、Ｓ偏光）、波長、レーザユニット３００に対するポリゴンミラーの配置が選択されている。つまり、第１の実施形態では、第１部分２２５のコーティング層の厚さが比較的薄くなり、第２部分２２６のコーティング層の厚さが第１部分２２５のコーティング層の厚さよりも厚くなるように、第１部分２２５と第２部分２２６とで反射面２２２のコーティング層の厚さが異ならされている。具体的には、コーティング材料はＳｉＯ２、光ビームの偏光方向をＰ偏光、モータの回転方向を反時計回り、波長を７８０ｎｍとした場合、第１部分２２５の膜厚は４８．２ｎｍ、第２部分２２６の膜厚は９３．５ｎｍである。尚、第１部分２２５側の非書き込み領域２２４は、第１部分２２５と同一の第１反射率とされており、つまり、第１部分２２５と同一のコーティング層の厚さである。また、第２部分２２６側の非書き込み領域２２４は、第２部分２２６と同一の第２反射率とされており、つまり、第２部分２２６と同一のコーティング層の厚さである。
【００５５】
更に、第１の実施形態では、図５に示すように、第１部分２２５が第２部分２２６よりもポリゴンミラー２２０の回転方向上流側に配置されている。また、ポリゴンミラー２２０は、その構成上、反射面２２２の上流側の部分に曇りが発生しやすいという特性を有するが、第１の実施形態では、曇りが発生する部分２２７（図５中の網掛け部分）に比較的高い第１反射率を有する第１部分２２５が配置されている。
【００５６】
図４及び図５に示すように、反射面２２２の書き込み領域２２３で反射された光ビームＬは、感光体ドラムの表面２７’上の領域４２３に照射され、感光体ドラムの表面２７’に静電潜像が形成される。また、反射面２２２の非書き込み領域２２４で反射された光ビームＬは、感光体ドラムの表面２７’上の領域４２４に照射される。詳細には、書き込み領域２２３の第１部分２２５で反射された光ビームＬは、感光体ドラムの表面２７’上の領域４２５に照射される。また、書き込み領域２２３の第２部分２２６で反射された光ビームＬは、感光体ドラムの表面２７’上の領域４２６に照射される。
【００５７】
図４に示すように、感光体ドラムの表面２７’上において、用紙３（図１）の両端は位置４３１に対応している。つまり、用紙３の両端には、画像が書き込まれない余白部分が形成されるようになっている。
【００５８】
図４及び図５に示すように、ポリゴンミラー２２０の反射面２２２で反射された光ビームＬは、ポリゴンミラー２２０の回転を感光体ドラム２７（図１）及びレジストローラ１２（図１）の回転と同期させるために用いられる。具体的には、反射面２２２の第１部分２２５側の非書き込み領域２２４で反射された光ビームＬが、同期信号検出センサＢＤによって検出され、それにより、ポリゴンミラー２２０の回転と感光体ドラム２７（図１）及びレジストローラ１２（図１）の回転とが同期せしめられる。
【００５９】
図６は感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。図６において、横軸は感光体ドラム表面上の走査位置を示している。図６の右側が反射面２２２におけるポリゴンミラー２２０の回転方向下流側（ＥＯＳ側、つまり、エンド・オブ・スキャン側）の第２部分２２６に対応した領域４２６であり、図６の左側が反射面２２２におけるポリゴンミラー２２０の回転方向上流側の第１部分２２５に対応した領域４２５である。図６において、縦軸は感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーを示している。
【００６０】
第１の実施形態では、図６に示すように、感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーの許容範囲５０１が設定されている。つまり、書き込み領域２２３の第１部分２２５で反射された光ビームＬが照射される領域４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれ、かつ、第２部分２２６で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれるように、ポリゴンミラー２２０の反射面である第１部分２２５及び第２部分２２６が形成されている。詳細には、ポリゴンミラー２２０が使用される初期時において、第１部分２２５に対応する領域４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第２部分２２６に対応する領域４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第１部分２２５及び第２部分２２６が形成されている。更に、第１の実施形態では、ポリゴンミラー２２０の寿命時間が経過した後においても、第１部分２２５に対応する領域４２５上の光ビームＬのパワー及び第２部分２２６に対応する領域４２６上の光ビームＬのパワーが共に許容範囲５０１内に含まれるように、第１部分２２５及び第２部分２２６が形成されている。尚、許容範囲５０１とは、光ビームによって、感光体ドラム２７上に良好に静電潜像を形成することが可能な範囲である。
【００６１】
更に第１の実施形態では、ポリゴンミラー２２０の反射面２２２で反射される光ビームＬのスポット形状における主走査方向（図４の左右方向）の長さがその副走査方向（図４の表裏方向）の長さよりも長くされている。
【００６２】
第１の実施形態によれば、図５及び図６に示したように、第１反射率を有する第１部分２２５と、第１反射率より低い第２反射率を有する第２部分２２６とが書き込み領域２２３に設けられている。そのため、曇りが発生する部分２２７を書き込み領域２２３として設定することにより、ポリゴンミラー２２０が大型化してしまうのを回避しつつ、更に、曇りが発生する部分２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように反射率が高い第１部分２２５と反射率が低い第２部分２２６とを書き込み領域２２３に設けることにより、書き込み領域２２３内のある部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。よって、長期にわたり、良好な静電潜像を形成することができ、用紙３に良好な画像を形成することができる。
【００６３】
また、第１の実施形態によれば、上述したように、反射率が異なる第１部分２２５および第２部分２２６を形成するために、第１部分２２５と第２部分２２６とで、反射面２２２にコーティングされたコーティング層の厚さが異ならされている。詳細には、所定の光ビームが発光される第１の実施形態では、反射率が高い第１部分２２５を形成するためにコーティング層の厚さが薄くされ、反射率が低い第２部分２２６を形成するためにコーティング層の厚さが厚くされる。
【００６４】
また、第１の実施形態によれば、図５及び図６に示したように、第１部分２２５が第２部分２２６よりもポリゴンミラー２２０の回転方向上流側に配置されている。詳細には、曇りが発生する部分２２７に第１部分２２５が配置されている。そのため、曇りが発生する部分２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように、曇りが発生する部分２２７に第１部分２２５を配置することにより、曇りが発生する部分２２７で反射された光ビームＬによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００６５】
また、第１の実施形態によれば、図５及び図６に示したように、ポリゴンミラー２２０の初期使用時に、第１部分２２５で反射された光ビームＬが照射される領域４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第２部分２２６で反射された光ビームＬが照射される領域４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第１部分２２５及び第２部分２２６が形成されている。そのため、ポリゴンミラー２２０の長期使用により第１部分２２５に曇りが発生したとしても、第１部分２２５で反射された光ビームＬが照射される領域４２５上の光ビームＬのパワーを許容範囲５０１の下限よりも高い値に維持することができる。
【００６６】
第１の実施形態によれば、図４及び図５に示したように、反射面２２０で反射される光ビームＬのスポット形状における主走査方向（図４の左右方向）長さがその副走査方向（図４の表裏方向）長さよりも長くされている。そのため、反射面２２２に入射する光ビームＬが第１部分２２５と第２部分２２６との境界線を通過する時に反射面２２２で反射された光ビームＬのパワーがステップ状に変化してしまうのを回避することができる。
【００６７】
以下、本発明の画像形成装置の他の実施形態について説明する。他の実施形態の画像形成装置は、後述する点を除き、上述した第１の実施形態の画像形成装置と同様に構成されているため、第１の実施形態とほぼ同様の効果を奏することができる。
【００６８】
図７は第２の実施形態のポリゴンミラーの拡大斜視図である。第２の実施形態では、図７に示すように、ポリゴンミラー１２２０の周面には、６つの反射面１２２２が形成されている。詳細には、各反射面１２２２には、感光体ドラム２７（図１）の表面上に静電潜像を書き込むために用いられる光ビームを反射する書き込み領域１２２３が設けられており、更に、感光体ドラム２７（図１）の表面上に画像静電潜像を書き込むために用いられない光ビームを反射する非書き込み領域１２２４が書き込み領域１２２３の両側に設けられている。更に詳細には、書き込み領域１２２３には、第１１反射率を有する第１１部分１２２５と、第１１反射率より低い第１２反射率を有する第１２部分１２２６とが設けられている。
【００６９】
また、第２の実施形態では、反射面１２２２の第１１部分１２２５にコーティングされたコーティング層の厚さを第１２部分１２２６にコーティングされたコーティング層の厚さよりも厚くすることにより、第１２反射率が第１１反射率よりも低くなるように、レーザユニット３００から発光される光ビームの偏光方向（Ｐ偏光、Ｓ偏光）、波長、レーザユニット３００に対するポリゴンミラーの配置が選択されている。つまり、第２の実施形態では、第１１部分１２２５のコーティング層の厚さが比較的厚くなり、第１２部分１２２６のコーティング層の厚さが第１１部分１２２５のコーティング層の厚さよりも薄くなるように、第１１部分１２２５と第１２部分１２２６とで反射面１２２２のコーティング層の厚さが異ならされている。尚、第１１部分１２２５側の非書き込み領域１２２４は、第１１部分１２２５と同一の第１１反射率とされており、つまり、第１１部分１２２５と同一のコーティング層の厚さである。また、第１２部分１２２６側の非書き込み領域１２２４は、第１２部分１２２６と同一の第１２反射率とされており、つまり、第１２部分１２２６と同一のコーティング層の厚さである。
【００７０】
更に、第２の実施形態では、図７に示すように、第１１部分１２２５が第１２部分１２２６よりもポリゴンミラー１２２０の回転方向上流側に配置されている。また、ポリゴンミラー１２２０は、その構成上、反射面１２２２の上流側の部分に曇りが発生しやすいという特性を有するが、第２の実施形態では、曇りが発生する部分１２２７（図７中の網掛け部分）に比較的高い第１１反射率を有する第１１部分１２２５が配置されている。
【００７１】
図８は第２の実施形態の感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。図８において、横軸は感光体ドラム表面上の走査位置を示している。図８の右側が反射面１２２２におけるポリゴンミラー１２２０の回転方向下流側（ＥＯＳ側、つまり、エンド・オブ・スキャン側）の第１２部分１２２６に対応した領域１４２６であり、図８の左側が反射面１２２２におけるポリゴンミラー１２２０の回転方向上流側の第１１部分１２２５に対応した領域１４２５である。図８において、縦軸は感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーを示している。
【００７２】
第２の実施形態では、図８に示すように、感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーの許容範囲５０１が設定されている。つまり、書き込み領域１２２３の第１１部分１２２５で反射された光ビームＬが照射される領域１４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれ、かつ、第１２部分１２２６で反射された光ビームが照射される領域１４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれるように、ポリゴンミラー１２２０の反射面である第１１部分１２２５及び第１２部分１２２６が形成されている。詳細には、ポリゴンミラー１２２０が使用される初期時において、第１１部分１２２５に対応する領域１４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第１２部分１２２６に対応する領域１４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第１１部分１２２５及び第１２部分１２２６が形成されている。更に、第２の実施形態では、ポリゴンミラー１２２０の寿命時間が経過した後においても、第１１部分１２２５に対応する領域１４２５上の光ビームＬのパワー及び第１２部分１２２６に対応する領域１４２６上の光ビームＬのパワーが共に許容範囲５０１内に含まれるように、第１１部分１２２５及び第１２部分１２２６が形成されている。
【００７３】
第２の実施形態によれば、図７及び図８に示したように、第１１反射率を有する第１１部分１２２５と、第１１反射率より低い第１２反射率を有する第１２部分１２２６とが書き込み領域１２２３に設けられている。そのため、曇りが発生する部分１２２７を書き込み領域１２２３として設定することにより、ポリゴンミラー１２２０が大型化してしまうのを回避しつつ、更に、曇りが発生する部分１２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように反射率が高い第１１部分１２２５と反射率が低い第１２部分１２２６とを書き込み領域１２２３に設けることにより、書き込み領域１２２３内のある部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。よって、長期にわたり、良好な静電潜像を形成することができ、用紙３に良好な画像を形成することができる。
【００７４】
また、第２の実施形態によれば、上述したように、反射率が異なる第１１部分１２２５および第１２部分１２２６を形成するために、第１１部分１２２５と第１２部分１２２６とで、反射面１２２２にコーティングされたコーティング層の厚さが異ならされている。詳細には、第１の実施形態とは異なる光ビームが発光される第２の実施形態では、反射率が高い第１１部分１２２５を形成するためにコーティング層の厚さが厚くされ、反射率が低い第１２部分１２２６を形成するためにコーティング層の厚さが薄くされる。
【００７５】
また、第２の実施形態によれば、図７及び図８に示したように、第１１部分１２２５が第１２部分１２２６よりもポリゴンミラー１２２０の回転方向上流側に配置されている。詳細には、曇りが発生する部分１２２７に第１１部分１２２５が配置されている。そのため、曇りが発生する部分１２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように、曇りが発生する部分１２２７に第１１部分１２２５を配置することにより、曇りが発生する部分１２２７で反射された光ビームＬによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００７６】
また、第２の実施形態によれば、図７及び図８に示したように、ポリゴンミラー１２２０の初期使用時に、第１１部分１２２５で反射された光ビームＬが照射される領域１４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第１２部分１２２６で反射された光ビームＬが照射される領域１４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第１１部分１２２５及び第１２部分１２２６が形成されている。そのため、ポリゴンミラー１２２０の長期使用により第１１部分１２２５に曇りが発生したとしても、第１１部分１２２５で反射された光ビームＬが照射される領域１４２５上の光ビームＬのパワーを許容範囲５０１の下限よりも高い値に維持することができる。
【００７７】
図９は第３の実施形態のポリゴンミラーの拡大斜視図である。第３の実施形態では、図９に示すように、ポリゴンミラー２２２０の周面には、６つの反射面２２２２が形成されている。詳細には、各反射面２２２２には、感光体ドラム２７（図１）の表面上に静電潜像を書き込むために用いられる光ビームを反射する書き込み領域２２２３が設けられており、更に、感光体ドラム２７（図１）の表面上に静電潜像を書き込むために用いられない光ビームを反射する非書き込み領域２２２４が書き込み領域２２２３の両側に設けられている。更に詳細には、書き込み領域２２２３には、第２１反射率を有する第２１部分２２２５と、第２１反射率より低い第２２反射率を有する第２２部分２２２６とが設けられている。
【００７８】
また、第３の実施形態では、反射面２２２２の第２１部分２２２５にコーティングされたコーティング層の屈折率を第２２部分２２２６にコーティングされたコーティング層の屈折率よりも低くすることにより、第２２反射率が第２１反射率よりも低くなるように、レーザユニット３００から発光される光ビームの偏光方向（Ｐ偏光、Ｓ偏光）、波長、レーザユニット３００に対するポリゴンミラーの配置が選択されている。つまり、第３の実施形態では、第２１部分２２２５のコーティング層の屈折率が比較的低くなり、第２２部分２２２６のコーティング層の屈折率が第２１部分２２２５のコーティング層の屈折率よりも高くなるように、第２１部分２２２５と第２２部分２２２６とで反射面２２２２のコーティング層の屈折率が異ならされている。尚、第２１部分２２２５側の非書き込み領域２２２４は、第２１部分２２２５と同一の第２１反射率とされており、つまり、第２１部分２２２５と同一のコーティング層の屈折率である。また、第２２部分２２２６側の非書き込み領域２２２４は、第２２部分２２２６と同一の第２２反射率とされており、つまり、第２２部分２２２６と同一のコーティング層の屈折率である。
【００７９】
更に、第３の実施形態では、図９に示すように、第２１部分２２２５が第２２部分２２２６よりもポリゴンミラー２２２０の回転方向上流側に配置されている。また、ポリゴンミラー２２２０は、その構成上、反射面２２２２の上流側の部分に曇りが発生しやすいという特性を有するが、第３の実施形態では、曇りが発生する部分２２２７（図９中の網掛け部分）に比較的高い第２１反射率を有する第２１部分２２２５が配置されている。
【００８０】
図１０は第３の実施形態の感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。図１０において、横軸は感光体ドラム表面上の走査位置を示している。図１０の右側が反射面２２２２におけるポリゴンミラー２２２０の回転方向下流側（ＥＯＳ側、つまり、エンド・オブ・スキャン側）の第２２部分２２２６に対応した領域２４２６であり、図１０の左側が反射面２２２２におけるポリゴンミラー２２２０の回転方向上流側の第２１部分２２２５に対応した領域２４２５である。図１０において、縦軸は感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーを示している。
【００８１】
第３の実施形態では、図１０に示すように、感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーの許容範囲５０１が設定されている。つまり、書き込み領域２２２３の第２１部分２２２５で反射された光ビームＬが照射される領域１４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれ、かつ、第２２部分２２２６で反射された光ビームＬが照射される領域１４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれるように、ポリゴンミラー２２２０の反射面である第２１部分２２２５及び第２２部分２２２６が形成されている。詳細には、ポリゴンミラー２２２０が使用される初期時において、第２１部分２２２５に対応する領域２４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第２２部分２２２６に対応する領域２４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第２１部分２２２５及び第２２部分２２２６が形成されている。更に、第３の実施形態では、ポリゴンミラー２２２０の寿命時間が経過した後においても、第２１部分２２２５に対応する領域２４２５上の光ビームＬのパワー及び第２２部分２２２６に対応する領域２４２６上の光ビームＬのパワーが共に許容範囲５０１内に含まれるように、第２１部分２２２５及び第２２部分２２２６が形成されている。
【００８２】
第３の実施形態によれば、図９及び図１０に示したように、第２１反射率を有する第２１部分２２２５と、第２１反射率より低い第２２反射率を有する第２２部分２２２６とが書き込み領域２２２３に設けられている。そのため、曇りが発生する部分２２２７を書き込み領域２２２３として設定することにより、ポリゴンミラー２２２０が大型化してしまうのを回避しつつ、更に、曇りが発生する部分２２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように反射率が高い第２１部分２２２５と反射率が低い第２２部分２２２６とを書き込み領域２２２３に設けることにより、書き込み領域２２２３内のある部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。よって、長期にわたり、良好な静電潜像を形成することができ、用紙３に良好な画像を形成することができる。
【００８３】
また、第３の実施形態によれば、上述したように、反射率が異なる第２１部分２２２５および第２２部分２２２６を形成するために、第２１部分２２２５と第２２部分２２２６とで、反射面２２２２にコーティングされたコーティング層の屈折率が異ならされている。詳細には、所定の光ビームが発光される第３の実施形態では、反射率が高い第２１部分２２２５を形成するためにコーティング層の屈折率が低くされ、反射率が低い第２２部分２２２６を形成するためにコーティング層の屈折率が高くされる。
【００８４】
また、第３の実施形態によれば、図９及び図１０に示したように、第２１部分２２２５が第２２部分２２２６よりもポリゴンミラー２２２０の回転方向上流側に配置されている。詳細には、曇りが発生する部分２２２７に第２１部分２２２５が配置されている。そのため、曇りが発生する部分２２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように、曇りが発生する部分２２２７に第２１部分２２２５を配置することにより、曇りが発生する部分２２２７で反射された光ビームＬによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００８５】
また、第３の実施形態によれば、図９及び図１０に示したように、ポリゴンミラー２２２０の初期使用時に、第２１部分２２２５で反射された光ビームＬが照射される領域２４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第２２部分２２２６で反射された光ビームＬが照射される領域２４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第２１部分２２２５及び第２２部分２２２６が形成されている。そのため、ポリゴンミラー２２２０の長期使用により第２１部分２２２５に曇りが発生したとしても、第２１部分２２２５で反射された光ビームＬが照射される領域２４２５上の光ビームＬのパワーを許容範囲５０１の下限よりも高い値に維持することができる。
【００８６】
図１１は第４の実施形態のポリゴンミラーの拡大斜視図である。第４の実施形態では、図１１に示すように、ポリゴンミラー３２２０の周面には、６つの反射面３２２２が形成されている。詳細には、各反射面３２２２には、感光体ドラム２７（図１）の表面上に静電潜像を書き込むために用いられる光ビームを反射する書き込み領域３２２３が設けられており、更に、感光体ドラム２７（図１）の表面上に静電潜像を書き込むために用いられない光ビームを反射する非書き込み領域３２２４が書き込み領域３２２３の両側に設けられている。更に詳細には、書き込み領域３２２３には、第３１反射率を有する第３１部分３２２５と、第３１反射率より低い第３２反射率を有する第３２部分３２２６とが設けられている。
【００８７】
また、第４の実施形態では、反射面３２２２の第３１部分３２２５にコーティングされたコーティング層の屈折率を第３２部分３２２６にコーティングされたコーティング層の屈折率よりも高くすることにより、第３２反射率が第３１反射率よりも低くなるように、レーザユニット３００から発光される光ビームの偏光方向（Ｐ偏光、Ｓ偏光）、波長、入射角レーザユニット３００に対するポリゴンミラーの配置が選択されている。つまり、第４の実施形態では、第３１部分３２２５のコーティング層の屈折率が比較的高くなり、第３２部分３２２６のコーティング層の屈折率が第３１部分３２２５のコーティング層の屈折率よりも低くなるように、第３１部分３２２５と第３２部分３２２６とで反射面３２２２のコーティング層の屈折率が異ならされている。尚、第３１部分３２２５側の非書き込み領域３２２４は、第３１部分３２２５と同一の第３１反射率とされており、つまり、第３１部分３２２５と同一のコーティング層の屈折率である。また、第３２部分３２２６側の非書き込み領域３２２４は、第３２部分３２２６と同一の第３２反射率とされており、つまり、第３２部分３２２６と同一のコーティング層の屈折率である。
【００８８】
更に、第４の実施形態では、図１１に示すように、第３１部分３２２５が第３２部分３２２６よりもポリゴンミラー３２２０の回転方向上流側に配置されている。また、ポリゴンミラー３２２０は、その構成上、反射面３２２２の上流側の部分に曇りが発生しやすいという特性を有するが、第４の実施形態では、曇りが発生する部分３２２７（図１１中の網掛け部分）に比較的高い第３１反射率を有する第３１部分３２２５が配置されている。
【００８９】
図１２は第４の実施形態の感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。図１２において、横軸は感光体ドラム表面上の走査位置を示している。図１２の右側が反射面３２２２におけるポリゴンミラー３２２０の回転方向下流側（ＥＯＳ側、つまり、エンド・オブ・スキャン側）の第３２部分３２２６に対応した領域３４２６であり、図１２の左側が反射面３２２２におけるポリゴンミラー３２２０の回転方向上流側の第３１部分３２２５に対応した領域３４２５である。図１２において、縦軸は感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーを示している。
【００９０】
第４の実施形態では、図１２に示すように、感光体ドラム表面上の光ビームＬのパワーの許容範囲５０１が設定されている。つまり、書き込み領域３２２３の第３１部分３２２５で反射された光ビームＬが照射される領域３４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれ、かつ、第３２部分３２２６で反射された光ビームＬが照射される領域３４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１内に含まれるように、ポリゴンミラー３２２０の反射面である第３１部分３２２５及び第３２部分３２２６が形成されている。詳細には、ポリゴンミラー３２２０が使用される初期時において、第３１部分３２２５に対応する領域３４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第３２部分３２２６に対応する領域３４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第３１部分３２２５及び第３２部分３２２６が形成されている。更に、第４の実施形態では、ポリゴンミラー３２２０の寿命時間が経過した後においても、第３１部分３２２５に対応する領域３４２５上の光ビームＬのパワー及び第３２部分３２２６に対応する領域３４２６上の光ビームＬのパワーが共に許容範囲５０１内に含まれるように、第３１部分３２２５及び第３２部分３２２６が形成されている。
【００９１】
第４の実施形態によれば、図１１及び図１２に示したように、第３１反射率を有する第３１部分３２２５と、第３１反射率より低い第３２反射率を有する第３２部分３２２６とが書き込み領域３２２３に設けられている。そのため、曇りが発生する部分３２２７を書き込み領域３２２３として設定することにより、ポリゴンミラー３２２０が大型化してしまうのを回避しつつ、更に、曇りが発生する部分３２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように反射率が高い第３１部分３２２５と反射率が低い第３２部分３２２６とを書き込み領域３２２３に設けることにより、書き込み領域３２２３内のある部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。よって、長期にわたり、良好な静電潜像を形成することができ、用紙３に良好な画像を形成することができる。
【００９２】
また、第４の実施形態によれば、上述したように、反射率が異なる第３１部分３２２５および第３２部分３２２６を形成するために、第３１部分３２２５と第３２部分３２２６とで、反射面３２２２にコーティングされたコーティング層の屈折率が異ならされている。詳細には、第３の実施形態とは異なる光ビームが発光される第４の実施形態では、反射率が高い第３１部分３２２５を形成するためにコーティング層の屈折率が高くされ、反射率が低い第３２部分３２２６を形成するためにコーティング層の屈折率が低くされる。
【００９３】
また、第４の実施形態によれば、図１１及び図１２に示したように、第３１部分３２２５が第３２部分３２２６よりもポリゴンミラー３２２０の回転方向上流側に配置されている。詳細には、曇りが発生する部分３２２７に第３１部分３２２５が配置されている。そのため、曇りが発生する部分３２２７で反射された光ビームＬのパワーが許容範囲５０１よりも低くならないように、曇りが発生する部分３２２７に第３１部分３２２５を配置することにより、曇りが発生する部分３２２７で反射された光ビームＬによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００９４】
また、第４の実施形態によれば、図１１及び図１２に示したように、ポリゴンミラー３２２０の初期使用時に、第３１部分３２２５で反射された光ビームＬが照射される領域３４２５上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の上限付近の値になり、第３２部分３２２６で反射された光ビームＬが照射される領域３４２６上の光ビームＬのパワーが許容範囲５０１の中心付近の値になるように、第３１部分３２２５及び第３２部分３２２６が形成されている。そのため、ポリゴンミラー３２２０の長期使用により第３１部分３２２５に曇りが発生したとしても、第３１部分３２２５で反射された光ビームＬが照射される領域３４２５上の光ビームＬのパワーを許容範囲５０１の下限よりも高い値に維持することができる。
【００９５】
本発明の画像形成装置の第１から第４の実施形態について説明したが、本発明は、ポリゴンミラーがより高速で回転される画像形成装置に適用されるほど、顕著な効果を奏する。
【００９６】
【発明の効果】
請求項１〜３、８、９に記載の発明によれば、ポリゴンミラーが大型化してしまうのを回避しつつ、書き込み領域内のある部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００９７】
請求項４及び５に記載の発明によれば、曇りが発生する部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質が、他の部分で反射された光ビームによって書き込まれた静電潜像の質よりも悪化してしまうのを回避することができる。
【００９８】
請求項６に記載の発明によれば、ポリゴンミラーの長期使用により曇りが発生したとしても、第１部分で反射された光ビームのパワーを許容範囲の下限よりも高い値に維持することができる。
【００９９】
請求項７に記載の発明によれば、反射面に入射する光ビームが第１部分と第２部分との境界線を通過する時に反射面で反射された光ビームのパワーがステップ状に変化してしまうのを回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の画像形成装置の第１の実施形態を適用したレーザプリンタの側断面図である。
【図２】上蓋部材を外した状態で図１の右上から見たスキャナユニットの斜視図である。
【図３】上蓋部材およびトレイを外した状態で図２とは別角度から見たスキャナユニットの斜視図である。
【図４】レーザユニットから発光された光ビームの展開図である。
【図５】図１から図４に示したポリゴンミラーの拡大斜視図である。
【図６】感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。
【図７】第２の実施形態のポリゴンミラーの拡大斜視図である。
【図８】第２の実施形態の感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。
【図９】第３の実施形態のポリゴンミラーの拡大斜視図である。
【図１０】第３の実施形態の感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。
【図１１】第４の実施形態のポリゴンミラーの拡大斜視図である。
【図１２】第４の実施形態の感光体ドラム表面上の走査位置と感光体ドラム表面上の光ビームパワーとの関係を示した図である。
【符号の説明】
２２０…ポリゴンミラー、２２２…反射面、２２３…書き込み領域、２２４…非書き込み領域、２２５…第１部分、２２６…第２部分、２２７…曇りが発生する部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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