(57)【要約】【課題】オゾン層破壊能が全くなく、地球温暖化係数も低く、不燃性および取扱いが容易である上、チキソ剤含有量の少ない易洗浄タイプのソルダーペーストのみならず、チキソ剤含有量の多い難洗浄タイプのソルダーペーストにも十分な洗浄性能を有する洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】洗浄剤組成物として、テルペン類／１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンの重量比が１０／９０〜８０／２０である混合物を３０重量％以上含有する洗浄剤組成物を用いる。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
テルペン類／１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンの重量比が１０／９０〜８０／２０であり、かつテルペン類と１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンの合計量が３０重量％以上である洗浄剤組成物。
【請求項２】
汚染物質が付着した物品を請求項１記載の洗浄剤組成物で洗浄する工程と、洗浄後の物品を１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンを９０重量％以上含有するリンス溶剤でリンスする工程を有する物品の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、機械金属工業、精密機械工業、光学機械工業、電気電子工業、プラスチック工業などの各種部品製造工程において、オイル類、油脂類、グリース、フラックス、ワックス、手垢や指紋などが表面に付着した金属、ガラス、プラスチックスなどの被洗浄物を洗浄するための洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、トリフルオロトリクロロエタンのような塩素を含むフロン系炭化水素や１，１，１−トリクロロエタンのような塩素系炭化水素等を主成分とする溶剤組成物が、プラスチックス、ゴム製品、電子部品などの洗浄用溶剤として広く用いられている。しかし、かかる塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素は塩素を有するため、オゾン層を破壊するという重大な欠点が指摘され、世界的規模でその生産が中止され、その使用が規制されている。そして、このような状況の下、従来の塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素に代わり、オゾン層を破壊しない代替品の研究開発が活発に行われている。
【０００３】
これまでにも、かかる代替品として、塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素の洗浄性や低毒性等の優れた性質を損なうことなく、オゾン層を破壊しない洗浄用溶剤組成物として、例えば、（１）１，１，１，２，３，４，４，５，５，５，−デカフルオロペンタンを含む組成物（特許文献１）、（２）１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンとメタノール、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンとエタノール、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンとイソプロパノール等の１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンと他のアルコール類等との共沸混合物組成物又は共沸混合物様組成物（特許文献２、特許文献３、特許文献４及び特許文献５）等が提案されている。
【０００４】
しかしながら、（１）で用いられる１，１，１，２，３，４，４，５，５，５−デカフルオロペンタンは、地球温暖化への影響が大きく、国内においても規制対象化合物となっている。また、（２）で用いられる１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンは、化学的安定性に乏しく、リサイクル使用が求められる洗浄用溶剤としての使用上問題がある。
【０００５】
また、特許文献６〜８には、オゾン層破壊の心配が無く、地球温暖化係数が小さく、化学的安定性に優れた１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンを含有する洗浄剤の発明が開示されており、その中で、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンと炭化水素類、アルコール類、エステル類、塩素化炭化水素類等の有機溶剤からなる洗浄剤組成物が開示されているが、これらの洗浄剤組成物は、フラックス洗浄において、チキソ剤含有量の少ない易洗浄タイプのソルダーペーストには十分な洗浄性能を発揮するが、チキソ剤含有量の多い難洗浄タイプのソルダーペーストに適用した場合に十分な洗浄性能が得られないという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】
特表平９−５０２１８１号公報
【特許文献２】
特開平６−２７１４８８号公報
【特許文献３】
特開平６−２７１４８９号公報
【特許文献４】
特開平６−２７１４９０号公報
【特許文献５】
特開平６−２７１４９１号公報
【特許文献６】
特開２００２−２０７９５号公報
【特許文献７】
特開平１０−３１６５９７号公報
【特許文献８】
特開平１０−３１６５９８号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、オゾン層破壊の心配がなく、安定であって、かつフラックス洗浄において、チキソ剤含有量の多い難洗浄タイプのソルダーペーストに対しても十分な洗浄性能を有し、しかも引火による火災の心配のない洗浄剤組成物を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討したところ、テルペン類と１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンを特定の割合で配合することにより、上記目的を達成出来ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の洗浄剤組成物は、テルペン類／１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンの重量比が１０／９０〜８０／２０であり、かつテルペン類と１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンの合計量が３０重量％以上であることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の物品の洗浄方法は、汚染物質が付着した物品を前記洗浄剤組成物で洗浄する工程と、洗浄後の物品を１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンを９０重量％以上含有するリンス溶剤でリンスする工程を有することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の洗浄剤組成物は、テルペン類／１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（以下、「ＨＦＣＰ」と略す。）の重量比が１０／９０〜８０／２０であり、かつテルペン類と１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンの合計量が３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、さらに好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上である。
【００１２】
テルペン類としては、テルペン系炭化水素、テルペン系アルコール、テルペン系アルデヒド、テルペン系エステルが好適に用いられる。また、テルペン類は１種単独で、又は２種以上を混合して用いれば良い。
【００１３】
テルペン類の具体例としては、ピネン、カンフェン、リモネン、テルピノレン、ミルセン、アロオシメン、オシメン、ｐ−サイメン、β−カリオフィレンなどのテルペン系炭化水素；シス−３−ヘキセノール、３−オクテノール、９−デセノール、リナノール、ゲラニオール、ネロール、シストネロール、ロジノール、ジメチルオクタノール、ヒドロキシシトロネロール、テトラヒドロ・リナロール、ラバンジュロール、ムゴール、ミルセノール、テルピネオール、ジヒドロテルピネオールなどのテルペン系アルコール；シトラール、シトロネラールなどのテルペン系アルデヒド；テルピニルアセテート、ジヒドロテルピニルアセテートなどのテルペン系エステル；が挙げられるが、これらの中でもリモネン、リナノール、ゲラニオール、ネロール、テルピネオール、ジヒドロテルピネオール、ジヒドロテルピニルアセテートが好ましく、ゲラニオール、ネロールが洗浄性能の面から特に好ましい。
【００１４】
ＨＦＣＰは公知の物質であり、特許文献６等に開示される物質である。また、ＨＦＣＰは、例えば特開平１０−３１６７６０号公報に記載された方法によって製造し、入手することができる。
【００１５】
本発明の洗浄剤組成物において、テルペン類／ＨＦＣＰの重量比は１０／９０〜８０／２０、好ましくは２０／８０〜５０／５０、特に好ましくは２５／７５〜４０／６０である。テルペン類の量が少な過ぎると洗浄性能に劣り、逆にテルペン類の量が多すぎると浸透性が悪くなるため被洗浄物の隙間部分などの細部の洗浄性に劣ることに加えて、洗浄剤組成物が引火点を有する恐れがある。洗浄剤組成物の引火点及び洗浄性能に関しては、後述する引火点測定試験及び洗浄性能評価試験により確認することが可能である。
【００１６】
本発明の洗浄剤組成物には、本発明の特徴的構成を逸脱せず、またその効果を損なわない範囲内であれば、必要に応じて種々の有機溶剤や添加剤を加えることができる。例えば、洗浄剤組成物の均一性向上、融点降下、洗浄力調整、界面活性化、安定化、酸化防止、紫外線吸収、消泡等を目的とした有機溶剤や添加剤などがある。
【００１７】
有機溶剤としては、特にその種類については限定されないが、例えば、炭化水素類、アルコール類、エーテル類、グリコール類、スルホキシド類、グリコールエーテル類、エステル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、フェノール類、ニトリル類、複素環化合物類、揮発性有機シリコーン類、塩素化炭化水素類および他のフッ化炭化水素類などが挙げられ、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、有機溶剤の洗浄剤組成物に占める量は、好ましくは２０重量％以下、特に好ましくは１０重量％以下である。
【００１８】
炭化水素類の具体例としては、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、イソヘキサン、イソヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、ｎ−デカン、イソデカン、ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン、ｎ−トリデカンなどの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；などが挙げられる。
【００１９】
アルコール類の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、イソヘキシルアルコール、２−エチルヘキシルアルコール、ｎ−オクチルアルコールなどが挙げられる。
【００２０】
エーテル類の具体例としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサンなどが挙げられる
【００２１】
グリコール類の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどが挙げられる。
【００２２】
スルホキシド類の具体例としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどが挙げられる。
【００２３】
グリコールエーテル類の具体例としては、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）などが挙げられる。
【００２４】
エステル類の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソプロピル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸イソプロピル、吉草酸メチル、吉草酸エチルなどが挙げられる。
【００２５】
ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
【００２６】
アミド類の具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミドなどが挙げられる。
【００２７】
ウレア類の具体例としては、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレンウレア、１，１，３，３−テトラメチルウレアなどが挙げられる。
【００２８】
フェノール類の具体例としては、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどが挙げられる。
【００２９】
ニトリル類の具体例としては、アセトニトリル、ベンゾニトリルなどが挙げられる。
【００３０】
複素環化合物類の具体例としては、ピリジン、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
【００３１】
揮発性有機シリコーン類の具体例としてはヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンなどが挙げられる。
【００３２】
塩素化炭化水素類の具体例としては、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、パークロロエチレンなどが挙げられる。
【００３３】
その他のフッ化炭化水素類としては、炭素、水素、フッ素で主に構成され、酸素原子や不飽和結合を含んでいてもよい。なかでも沸点２５℃以上のものが好ましく、このようなその他のフッ化炭化水素類の具体例としては、ペンタフルオロプロパン、ヘキサフルオロブタン、デカフルオロペンタン、ヘキサフルオロシクロペンタン、オクタフルオロシクロペンタン、パーフルオロプロピルメチルエーテル、パーフルオロブチルメチルエーテル、パーフルオロブチルエチルエーテル、ヘキサフルオロシクロペンテン、ヘプタフルオロシクロペンテン、オクタフルオロシクロペンテンなどが挙げられる。これらの中でも、環状の構造かつ適度な沸点であるヘキサフルオロシクロペンタン、オクタフルオロシクロペンタン、ヘキサフルオロシクロペンテンなどが好ましい。
【００３４】
添加剤としては、特にその種類については限定されないが、例えば、界面活性剤、安定化剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤などが挙げられ、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
界面活性剤としては、公知の陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤が使用できる。陰イオン性界面活性剤としては、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩などが挙げられる。陽イオン性界面活性剤としては、例えば、アミンと各種の酸との塩、第４級アンモニウム塩が挙げられる。非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンのエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキルエーテル、多価アルコールの脂肪酸部分エステルなどが挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、ベタイン類、アミノ有機酸類、脂肪酸のアミン塩などが挙げられる。また、これらの化合物の分子中にフッ素原子を含んだ活性剤も好適に用いられる。なお、添加剤の洗浄剤組成物に占める量は、好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは５重量％以下である。
【００３６】
安定化剤としては、ニトロメタン、ニトロエタンなどの脂肪族ニトロ化合物；３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ペンチン−３−オールなどのアセチレンアルコール類；グリシドール、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテルなどのエポキシド類；ジメトキシメタン、１，３−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類；ヘキセン、ヘプテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどの不飽和炭化水素類；アリルアルコール、１−ブテン−３−オールなどの不飽和アルコール類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル類；などが挙げられる。なお、安定化剤の洗浄剤組成物に占める量は、好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは５重量％以下である。
【００３７】
酸化防止剤としては、１−オキシ−３−メチル−４−イソプロピルベンゼン、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなどのフェノール系酸化防止剤；ジフェニル−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミンなどのアミン系酸化防止剤；フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジイソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤；ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステルなどのイオウ系酸化防止剤；などが挙げられる。また、酸化防止剤の洗浄剤組成物に占める量は、好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは５重量％以下である。
【００３８】
紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレートなどのフェニルサリシレート類；２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾ−ル類；などが挙げられる。また、紫外線吸収剤の洗浄剤組成物に占める量は、好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは５重量％以下である。
【００３９】
消泡剤としては、自己乳化シリコーン、シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレングリコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活性剤などが挙げられる。また、消泡剤の洗浄剤組成物に占める量は、好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは５重量％以下である。
【００４０】
コ・ソルベントシステム
本発明の物品の洗浄方法は、汚染物質が付着した物品を前記洗浄剤組成物で洗浄する工程（以下、「洗浄工程」と略す。）と、洗浄後の物品をＨＦＣＰを９０重量％以上含有するリンス溶剤でリンスする工程（以下、「リンス工程」と略す。）を有する。
【００４１】
（１）洗浄工程
洗浄工程では、洗浄槽内で被洗浄物を本発明の洗浄剤組成物により洗浄する。洗浄方法は特に限定されないが、例えば浸漬洗浄、攪拌洗浄、揺動洗浄、超音波洗浄、噴流洗浄、バレル回転洗浄、ブラシ洗浄、エアーバブリング洗浄などの従来公知のあらゆる洗浄手段を適用することができる。また、これらの洗浄手段に併用して洗浄槽中の洗浄剤組成物を加温することが、洗浄性能の向上の面から好ましい。なお、洗浄槽の内温は、好ましくは２０〜８０℃、特に好ましくは３０〜６０℃である。
【００４２】
（２）リンス工程
上記洗浄工程の後に、被洗浄物をリンス溶剤によりリンスする。リンス方法は、上記洗浄工程における各種洗浄方法と同様の方法を用いることが出来る。また、リンス槽中のリンス溶剤を加温することが、リンス性能の向上の面から好ましい。なお、リンス槽の内温は、好ましくは１０〜８０℃、特に好ましくは２０〜６０℃である。
【００４３】
本発明に使用するリンス溶剤は、ＨＦＣＰを９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上含有する。また、本発明の特徴的構成を逸脱せず、またその効果を損なわない範囲内であれば、必要に応じて種々の有機溶剤や添加剤を加えることができる。有機溶剤および添加剤の種類としては前記洗浄剤組成物の場合と同様のものが使用出来るが、有機溶剤および添加剤の合計使用量は、リンス溶剤中に１０重量％以下、好ましくは５重量％以下の範囲である。
【００４４】
なお、リンス溶剤は、共沸組成物または共沸様組成物を形成することが好ましい。好ましい共沸様組成物としてはＨＦＣＰ／メチルエチルケトンの重量比が９７．５／２．５である共沸様組成物、ＨＦＣＰ／ｔ−アミルアルコールの重量比が９５．８／４．２である共沸組成物が挙げられる。
【００４５】
リンス工程にＨＦＣＰを高濃度で含有するリンス溶剤を用いることにより、鎖状ハイドロフルオロカーボンやパーフルオロカーボンを用いた場合に比べて、リンス効果が格段に改善される。特にその効果の差は、被洗浄物を連続的洗浄した時により顕著に現れる。
【００４６】
また、本発明の洗浄方法においては、リンス工程の前後に、ＨＦＣＰを主成分とする蒸気で被洗浄物の表面を洗浄する工程（以下、「蒸気洗浄工程」と略す。）を設けることが出来るが、リンス工程の後に蒸気洗浄工程を設けることが好ましい。前記ＨＦＣＰを主成分とする蒸気は、ＨＦＣＰ濃度が好ましくは９０重量％、特に好ましくは９５重量％以上である。蒸気洗浄工程を設けることにより、被洗浄物の表面をより清浄に仕上げることが出来る。
【００４７】
さらに、本発明の洗浄方法においては、蒸気洗浄工程終了後の被洗浄物を大気中に移動させることにより乾燥させる乾燥工程を設けることが好ましい。
【００４８】
以下に本発明の洗浄方法について、図１に示す洗浄装置に基づき詳細に説明するが、本発明の洗浄方法はこの態様に限定されるものではない。図１に示す洗浄装置は、本発明の洗浄剤組成物を入れる洗浄槽１、ＨＦＣＰを９０重量％以上含有するリンス溶剤を入れるリンス槽２、蒸気発生槽３、主としてＨＦＣＰの蒸気で満たされる蒸気ゾーン１１、この蒸気を凝縮して液化する冷却管４、および凝縮した液と冷却管に付着する水分とを比重により静置分離するための水分分離器５からなる。また、蒸留再生部１２は必ずしも設置する必要はないが、洗浄作業の頻度が多く被洗浄物を多量に処理する場合には、洗浄液のランニングコスト削減、廃棄物の減量化と、それによる環境負荷軽減を図る点から設置することが好ましい。蒸留再生部１２は、図１に記載のインライン型に限らず、オフライン型でも良く、また、蒸留再生部１２の蒸留塔１３は減圧状態であることが好ましい。さらに、洗浄槽１及びリンス槽２は、必要に応じ各々２槽以上の構成を取ることができる。
【００４９】
次に、洗浄から乾燥までの一連の作業について図１に基づき以下に説明するが、本態様においては（ａ）被洗浄物を専用のバスケットなどに入れ洗浄槽１で洗浄する洗浄工程、（ｂ）洗浄工程終了後、被洗浄物を専用のバスケットごとリンス槽２へ移動させリンスするリンス工程、（ｃ）リンス工程終了後、被洗浄物を専用のバスケットごと蒸気ゾーン１１へ移動させ蒸気洗浄する蒸気洗浄工程、（ｄ）蒸気洗浄工程終了後、被洗浄物を専用のバスケットごと蒸気ゾーン１１から引き上げて乾燥する乾燥工程からなっている。上記（ａ）洗浄工程においては、汚れ成分が付着した被洗浄物を洗浄槽１中に浸漬し、被洗浄物の表面に付着する汚れ成分を除去する。洗浄槽１においては必要に応じ洗浄液を加温したり、超音波発生装置６により超音波洗浄を行うことができる。次に上記（ｂ）リンス工程においては、洗浄工程終了後の被洗浄物をリンス槽２に移動し、液中に浸漬して被洗浄物の表面に残存する汚れ成分および洗浄槽１で付着した洗浄剤組成物を除去する。リンス槽２においても、必要に応じリンス液を加温したり、超音波発生装置６により超音波洗浄を行うことができる。さらに上記（ｃ）蒸気洗浄工程においては、被洗浄物を蒸気ゾーン１１に移動し、ＨＦＣＰを主成分とする蒸気が充満している中に、被洗浄物を曝すことによる蒸気の凝縮作用で蒸気洗浄を行う。最後に、上記（ｄ）乾燥工程においては、被洗浄物を蒸気ゾーン１１から引き上げると、被洗浄物表面に僅かに残留していたリンス液は、蒸気洗浄で加熱された被洗浄物から熱を奪うことで瞬時に気化乾燥する。以上により、洗浄から乾燥までの一連の作業が完結する。
【００５０】
また、洗浄槽１の汚染された洗浄液は、蒸留塔１３により蒸留再生され、液管理槽１４を経由して洗浄槽１に環流する。ここで、汚染された洗浄液中の汚れ成分のうち、油脂分など洗浄液に溶解する汚れ成分は蒸留塔１３により濃縮され、廃液排出ライン１６から系外へ排出される。一方、汚染された洗浄液中の汚れ成分のうち、洗浄液に溶解しない金属紛、樹脂紛などの固形分は、循環ポンプ７とフィルター８により濾過されて除去される。これにより、洗浄槽１の洗浄液は常に清浄度が保たれる。なお、蒸留塔１３および循環ポンプ７は常時運転している連続式でも、必要な時のみ運転する間欠式であっても良い。蒸留塔１３の塔頂からの留出物は液管理槽１４に一時的に貯蔵され、濃度検知手段１５により屈折率などのデータに基づいて監視され、必要に応じて原料供給ライン１７から各種原料を新たに供給することにより、洗浄剤組成物の配合重量比が調整され、洗浄槽１内の洗浄液を常に一定の品質に保つことが可能となる。また、液管理槽１４に、攪拌装置を設置することによって、洗浄剤組成物を均一に混合して洗浄槽１に供給出来る。
【００５１】
さらに、蒸気発生槽３の洗浄液はヒーター９により加温されて沸騰し、蒸気の流れ１０のように蒸気として立ち上がり、蒸気ゾーン１１を形成し、被洗浄物の蒸気洗浄に供される。この蒸気は、冷却管４により凝縮されて液化し、冷却管に付着する水分と共にオーバーフローにより水分分離器５へ流入し、比重による静置分離で上層側の水分が分離され排出される。下層側のＨＦＣＰを主成分とする凝縮液がリンス槽２に戻されることにより、リンス槽２からリンス液がオーバーフローして蒸気発生槽３に環流する。このようにして、リンス槽２のリンス液は、常に蒸気発生槽３からの蒸留回収液で満たされるため、常に清浄な状態に保たれる。そして、被洗浄物に付着してリンス槽２に混入する洗浄剤組成物（特にテルペン類）および汚れ成分は蒸気発生槽３にて濃縮されることになる。濃縮された蒸気発生槽３のリンス液は、通常は液相の沸騰温度にて、その濃縮度が管理され、濃縮限界に達したら廃液として排出するか、または蒸留塔１３に移送し蒸留再生して洗浄槽１で再利用することも出来る。
【００５２】
本発明の洗浄剤組成物および洗浄方法が適用される対象物品は、格別な限定はなく、例えば、精密機械工業、金属加工工業、光学機械工業、電子工業、プラスチック工業などにおける金属、セラミック、ガラス、プラスチック、エラストマーなどの加工部品などが洗浄の対象となる。具体的には、バンパー、ギアー、ミッション部品、ラジエーター部品などの自動車部品、プリント基板、ＩＣ部品、リードフレーム、モーター部品、コンデンサーなどの電子電気部品、ベアリング、ギア、エンプラ製歯車、時計部品、カメラ部品、光学レンズなどの精密機械部品、印刷機械、印刷機ブレード、印刷ロール、圧延製品、建設機械、ガラス基板、大型重機部品等の大型機械部品、食器類などの生活製品や繊維製品など、多種多彩な例をあげることができる。
【００５３】
汚染物質の種類としては、例えば、切削油、焼き入れ油、圧延油、潤滑油、機械油、プレス加工油、打ち抜き油、引き抜き油、組立油、線引き油などのオイル類、グリース類、ワックス類、接着剤、油脂類、成型時の離型剤、手垢、ハンダ付け後のフラック、レジスト、ソルダーペーストなどの様々なものがあげられるが、フラックス洗浄におけるチキソ剤含有量の多い難洗浄タイプのソルダーペーストに対して特に十分な洗浄性能を有する。
【００５４】
【実施例】
以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によってその範囲を限定されるものではない。
【００５５】
（１）洗浄性能評価方法
洗浄性能評価はロジン残渣および白色残渣の有無を目視にて観察し、以下の基準により評価した。
◎：全く残渣なし良好
○：ほとんど残渣なし
×：全面に残渣あり
【００５６】
［製造例１］洗浄評価用試験体の製造
両面銅箔張付けのガラスエポキシ基板（サンハヤト株式会社製  製品番号：ＦＲ−４−３５Ｒ）を５０ｍｍ×６０ｍｍ×１．６ｍｍの大きさに切断し、イソプロピルアルコールで４０℃で１０分間超音波洗浄を行い室温で風乾して清浄な状態にした。次いで、この基板にソルダーペーストを１１ｍｍ×４４ｍｍ×０．３ｍｍの大きさの４列のパターンで塗布し、鉛フリーのハンダ付け時の溶融処理条件に合わせて、ホットプレートでプリヒート１８０℃で２分間と更に２４０℃で１分間加熱溶融処理を行い、更に室温冷却で一昼夜放置して洗浄評価用試験体とした。なお、ソルダーペースト（千住金属工業株式会社製）は、チキソ剤含有量が少ない易洗浄性タイプとして製品番号：６３−３３０Ｆ−４０−１０（以下、「ペーストＡ」と略す。）と、チキソ剤含有量が多い難洗浄性タイプとして製品番号：６３−２２１ＣＭ５−４０−１０（以下、「ペーストＢ」と略す。）の２種類を用いた。
【００５７】
［製造例２］洗浄剤組成物の製造
ＨＦＣＰに、テルペン類または他の有機溶剤を加えて表１および表２記載の洗浄剤組成物を製造した。なお、表２中のＡＫ２２５ＡＥＳ（旭硝子株式会社製）は、ジクロロペンタフルオロプロパン（以下、「ＨＣＦＣ２２５」と略す。）とエタノールの共沸混合組成物である。また、表１に記載した実施例３〜５の洗浄剤組成物の引火点をＪＩＳ  Ｋ２２６５に準拠してクリーブランド開放式およびタグ密閉式で測定した結果、いずれも引火点は認められなかった。
【表１】
2004331684.tif 000002
【表２】
2004331684.tif 000003
【００５８】
［実施例１〜５および比較例１〜４］
図１に示す洗浄装置を用い、洗浄槽１には製造例２で製造した洗浄剤組成物を仕込み、リンス槽２には、ＨＦＣＰとメチルエチルケトンの共沸様混合物（ＨＦＣＰ／メチルエチルケトン＝９７．５重量％／２．５重量％）を仕込んだ。次に、製造例１で製造した洗浄評価用試験体を洗浄槽１に浸漬し、超音波を当てながら、５０℃で２分間洗浄を行った。洗浄工程終了後、洗浄評価用試験体を洗浄槽１からリンス槽２へ手動で移動させ、リンス槽２に浸漬し、超音波を当てながら２５℃で１分間リンス洗浄を行った。リンス工程終了後、手動で蒸気ゾーン（８２℃）へ移動させ、１分間蒸気洗浄を行った後に、大気中へ移動させて乾燥した。乾燥後の洗浄評価用試験体を上記（１）記載の洗浄性能評価方法により評価した結果を、表３に示す。
【表３】
2004331684.tif 000004
【００５９】
表３より、本発明の洗浄剤組成物は、易洗浄性タイプのペーストＡのみならず、難洗浄性タイプのペーストＢに対しても優れた洗浄性能を有することが判明した。
【００６０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の洗浄剤組成物は、オゾン層破壊能が全くなく、地球温暖化係数も低く、不燃性および取扱いが容易である上、フラックス洗浄において、チキソ剤含有量の少ない易洗浄タイプのソルダーペーストのみならず、チキソ剤含有量の多い難洗浄タイプのソルダーペーストにも十分な洗浄性能を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の洗浄方法を実施するための洗浄装置の模式図である。
【符号の説明】
１    洗浄槽
２    リンス槽
３    蒸気発生槽
４    冷却管
５    水分分離器
６    超音波発生装置
７    循環ポンプ
８    フィルター
９    ヒーター
１０  蒸気の流れ
１１  蒸気ゾーン
１２  蒸留再生部
１３  蒸留塔
１４  液管理槽
１５  濃度検知手段
１６  廃液排出ライン
１７  原料供給ライン
【図１】
2004331684.tif 000005