(57)【要約】【課題】ワークの冷却機能とバッファ機能とを持つコンパクトなワーク搬送装置を提供する。【解決手段】ワークの搬送経路に、冷媒で強制冷却される冷却プレート９１を配置する。冷却プレート９１の両側方に位置して上下方向にのびる側枠１１３を有し、側枠１１３にワークの側縁部下面に係合するワーク受け１１４を上下複数段に取り付けて成るマガジンラック１０１を昇降機構１０２で昇降自在とする。冷却プレート９１に着座して冷却されたワークを、マガジンラック１０１の上昇により、ワーク受け１１４に支持させて冷却プレート９１の上方空間にストックする。【選択図】  図１６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前工程で加熱された板状のワークを次工程に搬送するワーク搬送装置であって、ワークを冷却する冷却手段と、ワークを一時的にストックするバッファ手段とを備えるものにおいて、
前記冷却手段は、ワークを着座させる、冷媒によって強制冷却される冷却プレートで構成され、
前記バッファ手段は、前記冷却プレートに着座して冷却されたワークを前記冷却プレートの上方空間に持ち上げてストックするように構成されていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項２】
前記バッファ手段は、ワークの搬送方向をｘ軸方向、ｘ軸方向に直交する水平方向をｙ軸方向として、前記冷却プレートのｙ軸方向両側方に配置される上下方向に延びる側枠を有し、この側枠に、ワークの下面側縁部に係合してワークを支持するワーク受けを上下複数段に取り付けて成るマガジンラックと、
このマガジンラックを昇降させる昇降機構とで構成されることを特徴とする請求項１に記載のワーク搬送装置。
【請求項３】
前記マガジンラックの両側枠間のラック内空間において、前記冷却プレートより上方の所定の搬送高さ位置でｘ軸方向にワークを搬送する搬送部材を備え、
前記複数段のワーク受けの内の次にワークを支持させるべきワーク受けとその上段のワーク受けとの間の間隔内に前記搬送高さ位置に存するワークが収まるような高さに前記マガジンラックを保持した状態で前記ラック内空間に前記搬送部材によってワークを搬入することを特徴とする請求項２に記載のワーク搬送装置。
【請求項４】
前記搬送高さ位置は、前記複数段のワーク受けの内の次にワークを支持させるべきワーク受けを前記冷却プレートの上面より若干下方に位置させた状態で、このワーク受けとその上段のワーク受けとの間の間隔内に前記搬送高さ位置に存するワークが収まるような高さに設定され、
前記搬送部材を前記搬送高さ位置から下降自在として、前記ラック内空間にワークを搬入した後、前記搬送部材を下降させて、前記冷却プレートにワークを着座させ、ワークの冷却後に前記マガジンラックを上昇させて、次にワークを支持させるべき前記ワーク受けにワークを支持させた状態で前記冷却プレートからワークを持ち上げることを特徴とする請求項３に記載のワーク搬送装置。
【請求項５】
前記搬送部材を前記ラック内空間の外方に退避自在とし、
前記ラック内空間にワークを搬入した後、次にワークを支持させるべきワーク受けが前記搬送高さ位置に存するワークを支持するように前記マガジンラックを上昇させ、その後前記搬送部材を前記ラック内空間の外方に退避させた状態で前記マガジンラックを下降させて、前記冷却プレートにワークを着座させ、ワークの冷却後に前記マガジンラックを再度上昇させて、次にワークを支持させるべき前記ワーク受けにワークを支持させた状態で前記冷却プレートからワークを持ち上げることを特徴とする請求項３に記載のワーク搬送装置。
【請求項６】
前記冷却プレートは、上面に、ワークをエアー吸引で吸着する複数の吸着孔を有することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のワーク搬送装置。
【請求項７】
前記冷却プレートは、冷媒を流す冷媒通路を具備するプレート本体と、このプレート本体の上面に取り付けた上板とで構成され、
前記吸着孔を前記上板に開設すると共に、前記プレート本体の上面に、前記吸着孔に連通するエアーの吸引通路となる溝を形成したことを特徴とする請求項６に記載のワーク搬送装置。
【請求項８】
液滴吐出ヘッドを用いて板状のワークに液滴を塗布する描画装置と、ワークに塗布された液滴を乾燥する乾燥装置とを備える処理ユニットの複数台をこれら各処理ユニット間にワーク搬送装置を介在させて連設し、各処理ユニットで処理されたワークを各ワーク搬送装置を介して後段の処理ユニットに順送りするようにしたワーク処理装置において、
前記各ワーク搬送装置として請求項１ないし７のいずれかに記載のワーク搬送装置を用いることを特徴とするワーク処理装置。
【請求項９】
前記ワークはカラーフィルタの基板であり、前記描画装置は、前記液滴吐出ヘッドにフィルタ材料を含有する機能液を導入して、前記基板上の多数の画素領域にフィルタエレメントと成る機能液滴を塗布することを特徴とする請求項８に記載のワーク処理装置。
【請求項１０】
前記ワークは有機ＥＬ装置の基板であり、前記描画装置は、前記液滴吐出ヘッドに発光機能材料を含有する機能液を導入して、前記基板上の多数の画素領域に有機ＥＬ機能層と成る機能液滴を塗布することを特徴とする請求項８に記載のワーク処理装置。
【請求項１１】
前記乾燥装置におけるワークの乾燥時間が所定の一定時間に達したところで、前記乾燥装置からワークを払い出すことを特徴とする請求項８ないし１０のいずれかに記載のワーク処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、前工程で加熱された板状のワークを次工程に搬送する、ワークの冷却機能とバッファ機能とを持つワーク搬送装置及びこれを備えるワーク処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、インクジェットヘッドに代表される液滴吐出ヘッドを具備する描画装置を用い、カラーフィルタや有機ＥＬ装置を製造する試みが為されている。この場合、液滴吐出ヘッドにフィルタ材料や発光機能材料を含有する機能液を導入し、板状ワークたるカラーフィルタの基板や有機ＥＬ装置の基板に対し液滴吐出ヘッドを相対的に走査し、基板上の多数の画素領域にフィルタエレメントや有機ＥＬ機能層と成る機能液滴を塗布し、その後機能液滴を乾燥固化させて、フィルタエレメントや有機ＥＬ機能層を形成する。
また、生産性を向上させるため、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の３色に合わせて３台の描画装置を用い、基板をこれら描画装置に順送りして、Ｒ・Ｇ・Ｂの各色に対応する機能液滴を順に塗布することも考えられている。この場合、機能液滴を固化させる最終的な乾燥は後工程で行うとしても、各描画装置で基板に塗布された機能液滴が後段の描画装置への搬送途中で流動しないように、各描画装置に乾燥装置を併設して、基板に塗布された機能液滴を乾燥装置により流動性を失う程度に乾燥させてから基板を後段の描画装置に搬送することが必要になる。このように描画装置と乾燥装置とで処理ユニットを構成し、処理ユニットの複数台をこれら各処理ユニット間にワーク搬送装置を介在させて連設し、各処理ユニットで処理されたワーク（基板）を各ワーク搬送装置を介して後段の処理ユニットに順送りする場合、ワークが前段の処理ユニットの乾燥装置での加熱により温度上昇したまま後段の処理ユニットの描画装置に投入されると、熱膨張によるワーク寸法の狂いで機能液滴の塗布位置精度を確保できなくなる。
そのため、ワーク搬送装置に、ワークを冷却する冷却手段を配置することが必要になる。また、後段の処理ユニットの描画装置へのワークの投入が液滴吐出ヘッドのクリーニング作業等でストップする場合に備えて、ワーク搬送装置に、ワークを一時的にストックするバッファ手段を設けることも必要になる。
尚、従来、冷却手段として冷媒で強制冷却される冷却プレートを用い、ワークを冷却プレートに着座させて冷却することが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平９−１２７３３０号公報（段落０１３５，図１４）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記の如くワーク搬送装置に冷却手段とバッファ手段とを配置する場合、冷却手段とバッファ手段とをワーク搬送方向に単純に並設すると、装置が大型化するため、冷却手段とバッファ手段とをスペース効率良く配置することが望まれる。
【０００５】
本発明は、以上の要望に適合したワーク搬送装置及びこれを備えるワーク処理装置を提供することをその課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、前工程で加熱された板状のワークを次工程に搬送するワーク搬送装置であって、ワークを冷却する冷却手段と、ワークを一時的にストックするバッファ手段とを備えるものにおいて、本発明では、前記冷却手段を、ワークを着座させる、冷媒によって強制冷却される冷却プレートで構成すると共に、前記バッファ手段を、前記冷却プレートに着座して冷却されたワークを前記冷却プレートの上方空間に持ち上げてストックするように構成している。
【０００７】
上記の構成によれば、冷却プレートの上方空間がワークのストック空間として活用され、冷却手段とバッファ手段とが同一の場所にオーバーラップしてスペース効率良く配置されることになり、装置の小型化を図れる。
【０００８】
そして、液滴吐出ヘッドを用いて板状のワークに液滴を塗布する描画装置と、ワークに塗布された液滴を乾燥する乾燥装置とを備える処理ユニットの複数台をこれら各処理ユニット間にワーク搬送装置を介在させて連設し、各処理ユニットで処理されたワークを各ワーク搬送装置を介して後段の処理ユニットに順送りするようにしたワーク処理装置において、前記各ワーク搬送装置として上記本発明のワーク搬送装置を用いることにより、ワーク処理装置の全体のライン長さを短縮することができる。
【０００９】
この場合、描画装置の液滴吐出ヘッドにフィルタ材料を含有する機能液を導入して、ワークたるカラーフィルタの基板上の多数の画素領域にフィルタエレメントと成る機能液滴を塗布し、或いは、描画装置の液滴吐出ヘッドに発光機能材料を含有する機能液を導入して、ワークたる有機ＥＬ装置の基板上の多数の画素領域に有機ＥＬ層と成る機能液滴を塗布することにより、カラーフィルタや有機ＥＬ装置を効率良く製造することができる。
【００１０】
更に、前段の処理ユニットの乾燥装置でワーク（基板）が加熱されても、ワーク搬送装置に配置した冷却手段たる冷却プレートによりワークが冷却されるため、後段の処理ユニットの描画装置における、ワークの熱膨張に起因する液滴の塗布位置精度の悪化が防止される。
【００１１】
また、後段の処理ユニットの描画装置へのワークの投入が液滴吐出ヘッドのクリーニング作業等でストップしても、前段の処理ユニットの乾燥装置からワークを払い出して、ワーク搬送装置に配置したバッファ手段によりストックしておくことができる。ここで、カラーフィルタや有機ＥＬ装置の基板には、混色、色抜けを防止するために、画素領域に親液性、画素領域の周辺領域に撥液性を付与する前処理が施されているが、乾燥装置の加熱温度が低いと、画素領域の周辺領域に溶剤が残り、後段の処理ユニットの描画装置において混色、色抜けを発生させる要因になり、また、乾燥時間のバラツキにより、機能液滴が乾燥して収縮する過程において膜厚が不均一になる。
【００１２】
然し、本発明では、後段の処理ユニットの描画装置へのワークの投入がストップしている間も、上記の如く前段の処理ユニットの乾燥装置からワークを払い出すことができるため、乾燥装置におけるワークの乾燥時間が所定の一定時間に達したところで、乾燥装置からワークを払い出し、ワークの乾燥時間を一定に管理して、膜厚が不均一になることを防止できる。
【００１３】
ところで、後段の処理ユニットの描画装置へのワークの投入が長時間ストップされた場合にも対処できるように、バッファ手段のストック容量（ストック可能なワークの枚数）を大きくすることが望まれる。この場合、ワークの搬送方向をｘ軸方向、ｘ軸方向に直交する水平方向をｙ軸方向として、冷却プレートのｙ軸方向両側方に配置される上下方向に延びる側枠を有し、この側枠に、ワークの下面側縁部に係合してワークを支持するワーク受けを上下複数段に取り付けて成るマガジンラックと、このマガジンラックを昇降する昇降機構とでバッファ手段を構成すれば、簡単な構造でストック容量を大きくすることができ、有利である。
【００１４】
このようなマガジンラックを用いる場合、マガジンラックの両側枠間のラック内空間において、冷却プレートより上方の所定の搬送高さ位置でｘ軸方向にワークを搬送する搬送部材を設け、マガジンラックの複数段のワーク受けの内の次にワークを支持させるべきワーク受けとその上段のワーク受けとの間の間隔内に前記搬送高さ位置に存するワークが収まるような高さにマガジンラックを保持した状態でラック内空間に搬送部材によってワークを搬入すれば、ワークを冷却プレートやワーク受けとの干渉を生ずることなくスムーズに搬送することができる。
【００１５】
そして、前記搬送高さ位置を、マガジンラックの複数段のワーク受けの内の次にワークを支持させるべきワーク受けを冷却プレートの上面より若干下方に位置させた状態で、このワーク受けとその上段のワーク受けとの間の間隔内に前記搬送高さ位置に存するワークが収まるような高さに設定すると共に、搬送部材を前記搬送高さ位置から下降自在とすれば、ラック内空間にワークを搬入した後、搬送部材を下降させて、冷却プレートにワークを着座させ、ワークの冷却後にマガジンラックを上昇させて、次にワークを支持させるべきワーク受けにワークを支持させた状態で冷却プレートからワークを持ち上げることができる。
【００１６】
また、搬送部材をラック内空間の外方に退避自在とし、ラック内空間にワークを搬入した後、次にワークを支持させるべきワーク受けが前記搬送高さ位置に存するワークを支持するようにマガジンラックを上昇させ、その後搬送部材をラック内空間の外方に退避させた状態でマガジンラックを下降させて、冷却プレートにワークを着座させ、ワークの冷却後にマガジンラックを再度上昇させて、次にワークを支持させるべきワーク受けにワークを支持させた状態で冷却プレートからワークを持ち上げるようにしても良い。
【００１７】
ところで、冷却プレートでワークを効率良く冷却するには、冷却プレートの上面にワークを密着させることが必要になる。そのため、冷却プレートの上面に、ワークをエアー吸引で吸着する複数の吸着孔を設けることが望ましい。
【００１８】
この場合、冷却プレートを、冷媒を流す冷媒通路を具備するプレート本体と、このプレート本体の上面に取り付けた上板とで構成し、前記吸着孔を上板に開設すると共に、プレート本体の上面に、吸着孔に連通するエアーの吸引通路となる溝を形成しておけば、冷媒通路と吸引通路とが平面視で交差するように配置されていても、両通路を互いに隔絶させた状態で容易に形成でき、有利である。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図１は、有機ＥＬ装置の製造ラインの一部を構成する発光機能層製造ライン（ワーク処理装置）である。この発光機能層製造ラインは、前工程で回路素子、バンクおよび画素電極が形成された基板（ガラス基板）を導入し、この基板に有機ＥＬにおけるＲ・Ｇ・Ｂ色の発光層および正孔注入層（有機ＥＬ機能層）を、いわゆるインクジェット方式で作り込むものである。また、有機ＥＬでは、酸素および水分を嫌うため、この発光機能層製造ラインにおける基板の処理は、全て不活性ガス（窒素ガス）の雰囲気中で行われる。
【００２０】
同図に示すように、この発光機能層製造ライン１では、図示の左側が搬入側、右側が搬出側となっていて、基板（ワーク）Ａは、ライン内の各処理装置を経由して搬入側から搬出側に一方向に送られる。発光機能層製造ライン１の主な処理装置は、搬入側に位置しＢ色の発光層を形成するＢ色描画装置２ａと、中間に位置しＲ色の発光層を形成するＲ色描画装置２ｂと、搬出側に位置しＧ色の発光層を形成するＧ色描画装置２ｃとで構成されている。なお、図示では、正孔注入層を形成する描画装置は、省略されている。
【００２１】
また、Ｂ色描画装置２ａに対応し、Ｂ色移載装置３ａを挟んでＢ色乾燥装置４ａを設けて、これら装置２ａ，３ａ，４ａによりＢ色の処理ユニット１ａを構成し、またＲ色描画装置２ｂに対応し、Ｒ色移載装置３ｂを挟んでＲ色乾燥装置４ｂを設けて、これら装置２ｂ，３ｂ，４ｂによりＲ色の処理ユニット１ｂを構成し、更にＧ色描画装置２ｃに対応し、Ｇ色移載装置３ｃを挟んでＧ色乾燥装置４ｃを設けて、これら装置２ｃ，３ｃ，４ｃによりＧ色の処理ユニット１ｃを構成している。一方、Ｂ色処理ユニット１ａとＲ色処理ユニット１ｂとの間には、Ｂ色処理ユニット１ａで処理した基板ＡをＲ色処理ユニット１ｂに搬送する第１搬送装置５ａが配設され、同様にＲ色処理ユニット１ｂとＧ色処理ユニット１ｃとの間には、Ｒ色処理ユニット１ｂで処理した基板ＡをＧ色処理ユニット１ｃに搬送する第２搬送装置５ｂが配設されている。
【００２２】
また、搬入側には、ストックした処理前の基板Ａを送り出す搬入側マガジンローダ６と、搬入側マガジンローダ６から基板Ａを受け取り、これをＢ色移載装置３ａに臨ませる搬入側移載装置７とが、配設されている。同様に、搬出側には、処理後の基板Ａをストックする搬出側マガジンローダ８と、基板ＡをＧ色移載装置３ｃから受け取ってこれを、搬出側マガジンローダ８に送り込む搬出側移載装置９とが、配設されている。
【００２３】
ところで、本実施形態では、描画装置２に対し縦向きに導入される基板Ａと横向きに導入される基板Ａとがある（図６参照）。そこで、搬入側移載装置７には、基板を水平姿勢のまま９０°回転させてＢ色移載装置３ａに臨ませる回転機構が組み込まれている（図示省略）。同様に、搬出側移載装置９にも、搬出側マガジンローダ８に送り込む前に、基板Ａを水平姿勢のまま９０°回転させる回転機構が組み込まれている（図示省略）。
【００２４】
一方、基板Ａの処理を不活性ガスの雰囲気中で行うため、Ｒ・Ｇ・Ｂ各色の描画装置２ａ，２ｂ，２ｃは、それぞれクリーンルーム形式のメインチャンバ１１，１１，１１に収容されている。同様に、基板Ａの搬送を不活性ガスの雰囲気中で行うため、各移載装置３ａ，３ｂ，３ｃ，７，９や第１・第２搬送装置５ａ，５ｂ等には、それぞれカバーケース形式のサブチャンバ１２が設けられている。なお、各乾燥装置４ａ，４ｂ，４ｃは、各移載装置３ａ，３ｂ，３ｃに対向する前面部分をサブチャンバ１２に挿入して内部が不活性ガスの雰囲気中に置かれるようにしている。そして、これら複数のメインチャンバ１１と複数のサブチャンバ１２とは、境界部分にシャッタ（図示省略）を有してトンネル状に連結されている。
【００２５】
図２および図３に示すように、各色の描画装置２は、発光機能液をインクジェット方式で吐出するものであり、機台２１上に設置したＸ軸テーブル２２と、Ｘ軸テーブル２２に直交するＹ軸テーブル２３と、Ｙ軸テーブル２３に吊設したメインキャリッジ２４とを、備えている。メインキャリッジ２４の下部には、サブキャリッジ２５を介して複数の液滴吐出ヘッド２６が下向きに配設されている（図３参照）。また、基板Ａは、Ｘ軸テーブル２２上にセットされている。
【００２６】
図３に示すように、この描画装置２は、液滴吐出ヘッド２６の駆動（発光機能液の選択的吐出）に同期して基板Ａが移動する構成であり、液滴吐出ヘッド２６のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２２のＸ軸方向への往復の両動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２３により、液滴吐出ヘッド２６のＹ軸方向への往動動作により行われる。すなわち、発光機能液を導入した液滴吐出ヘッド２６を、基板Ａに対しＸ軸およびＹ軸方向に相対的に走査し、発光機能材料を含有する機能液を選択的に吐出して基板Ａ上の多数の画素領域に、発光機能層をそれぞれ形成するようになっている。
【００２７】
この場合、発光機能層のうち正孔注入層を形成する機能液としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
【００２８】
一方、発光層を形成する機能液としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン係色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープすることにより用いることができる。
【００２９】
そして、図４に示すように、発光層を形成するＲ・Ｇ・Ｂ各色の画素領域の配置は、ストライブ配置、モザイク配置およびデルタ配置が用いられる。また、基板Ａには、各画素領域が発光機能液に対する親液性を持ち、各画素領域の周辺領域が撥液性を持つように前処理が施されている。
【００３０】
なお、上記の構成のワーク処理装置は、カラーフィルタの製造にも適用可能である。カラーフィルタの製造では、Ｒ・Ｇ・Ｂ各色のフィルタ材料を含有する機能液として、例えばポリウレタン樹脂オリゴマ−に無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたものを用いる。
【００３１】
図５に示すように、Ｒ・Ｇ・Ｂの各移載装置３は、旋回および屈伸自在な一対のロボットアーム３１，３１を有する移載ロボットで構成されており、各ロボットアーム３１の先端に設けた薄板フォーク状のロボットハンド３２により、基板Ａを載置するようにして支持し、移載作業を行う。また、一対のロボットアーム３１，３１を支持するスタンド部３３には、昇降装置（図示省略）が内蔵されており、基板Ａの受け取り（上昇）および受け渡し（下降）等のために、一対のロボットアーム３１，３１を適宜、昇降できるようになっている。
【００３２】
例えば、中間のＲ色移載装置３ｂでは、一方のロボットアーム３１を駆動させ、第１搬送装置５ａから受け取った基板Ａを、水平姿勢を維持したまま旋回させ、これを水平面内で９０°回転させてＲ色描画装置２ｂのＸ軸テーブル２２上に送り込む。また、Ｒ色描画装置２ｂで処理を完了した基板Ａは、他方のロボットアーム３１を駆動させ、Ｘ軸テーブル２２から基板Ａを受け取って、これを大きく旋回するようにして水平面内で１８０°回転させ、Ｒ色乾燥装置４ｂに送り込む。但し、基板Ａが横向きの基板Ａである場合には、一旦第２搬送装置５ｂの後記する９０°回転装置４２に移載した後、ここで９０°回転させ、これを再度受け取ってＲ色乾燥装置４ｂに送り込む。そして、Ｒ色乾燥装置４ｂで処理を完了した基板Ａは、他方のロボットアーム３１を駆動させ、Ｒ色乾燥装置４ｂから基板Ａを受け取って、これを旋回するようにして水平面内で９０°回転させて、第２搬送装置５ｂに送り込む（図６参照）。
【００３３】
Ｒ・Ｇ・Ｂの各乾燥装置４は、図７乃至図９に示す如く、単一の乾燥炉５１にホットプレート５２を上下複数段（図示例では６段）に収納して成るもので、これら各ホットプレート５２に基板Ａを着座させて、複数枚の基板乾燥を同時に行い得られるようにしている。なお、これら各乾燥装置４は、各描画装置２により基板Ａに塗布された機能液滴が基板Ａの搬送中に流動して混色を生じたり、急激な溶剤の蒸発で膜厚が不均一になることがないように、機能液滴を流動性を失う程度に仮乾燥させる目的で設けられており、機能液滴を固化させて発光層を形成する最終的な乾燥は図示の製造ラインの後工程で行う。乾燥装置４における基板Ａの加熱温度は、４０±２℃〜２００±２℃であることが、好ましい。
【００３４】
乾燥炉５１の前面には、前記複数段のホットプレート５２に臨む出入口５１ａが開設されている。出入口５１ａは常時開放されており、移載装置３により出入口５１ａを通して各ホットプレート５２に対する基板Ａの送り込みと取り出しとを行う。
【００３５】
また、乾燥炉５１の背面には、チャンバーケース５３が蝶番５３ａを介して開閉自在に取り付けられている。チャンバーケース５３の奥行き方向中間には、複数段のホットプレート５２の各段間の間隙に臨む複数の通気孔５４ａを形成した分流板５４が設けられており、分流板５４とチャンバーケース５３の背面との間に、乾燥炉５１の炉内空間に分流板５４を介して連通する排気室５５が画成されている。そして、チャンバーケース５３の背面に、排気室５５に連通する上下複数（図示例では３個）の排気口５５ａを設け、これら排気口５５ａを乾燥炉５１上に設けた排気手段たる排気ブロワー５６に複数の流入側接続口５７ａを有する合流チャンバー５７を介して接続している。なお、排気口５５ａと合流チャンバー５７と排気ブロワー５６はそれぞれ排気パイプを介して接続されるが、図では排気パイプを省略している。
【００３６】
この構成によれば、分流板５４の各通気孔５４ａに排気室５５を介して排気ブロワー５６の吸引力が作用し、乾燥炉５１の前面の出入口５１ａからサブチャンバ１２内の不活性ガスが炉内に流入して、複数段のホットプレート５２の各段間の間隙を通って通気孔５４ａに向かう不活性ガスによる換気流が生成される。そのため、乾燥中に蒸発した機能液滴中の溶剤等は換気流に乗って乾燥炉５１内から速やかに排出され、乾燥が効率良く行われる。更に、上下複数の排気口５５ａを設けているため、上下何れの通気孔５４ａにも均等に吸引力が作用して、全てのホットプレート５２間の間隙に均等に換気流が流れ、何れのホットプレート５２においても効率良く乾燥が行われる。
【００３７】
また、本実施形態では、ホットプレート５２の各段間の間隙毎に比較的大きな通気孔５４ａを横１列で４個形成すると共に、分流板５４に各列の通気孔５４ａの開口面積を調整するスライド式の調整板５４ｂを付設し、換気量を調整できるようにしている。なお、分流板５４に小口径の多数の通気孔を分散して形成しても良い。
【００３８】
各ホットプレート５２は、図１０に示す如く、上面のワーク着座面５２ａに対し基板Ａを位置決めする複数の位置決めピン５２ｂと、プレート内のヒータに電力を供給する後縁のコネクタ５２ｃとを備え、更に、側縁部には、ワーク着座面５２ａに対し下方への段差を存して側方に張り出す耳辺部５２ｄが形成されている。そして、耳辺部５２ｄに対し前後方向に摺動自在に係合する溝型のレール部材５８を設けて、レール部材５８を断熱材５８ａと固定部材５８ｂとを介して乾燥炉５１の側壁内面に上下複数段に固設し、各ホットプレート５２を、耳辺部５２ｄの後端に設けた止めねじ５２ｅを外すことで、各レール部材５８、即ち、乾燥炉５１に対し抜き差し自在としている。ここで、チャンバーケース５３は、上記の如く開閉自在に取り付けられており、チャンバーケース５３を開くことで乾燥炉５１の背面が開放される。そのため、基板Ａの機種変更に際し、ホットプレート５２を基板Ａの大きさに合わせたものに乾燥炉５１の背面側から容易に交換できる。
【００３９】
また、乾燥炉５１には、各ホットプレート５２と移載装置３との間で基板Ａを受け渡す際に、各ホットプレート５２と基板Ａとの間にロボットハンド３２を挿入可能な間隙を確保するため、複数段のホットプレート５２から基板Ａを選択的に押し上げて支持可能な押し上げ機構５９が組み込まれている。押し上げ機構５９は、乾燥炉５１の側壁外面に配置した、昇降動する上下方向に長手の昇降部材６０と、乾燥炉５１の側壁の内側に上下複数段に配置した、各ホットプレート５２のワーク着座面５２ａから張り出す基板Ａの側縁部の下面に係合可能な係合部材６１と、これら係合部材６１を、基板Ａの前記側縁部の上下方向の投影面内に入る作動位置とこの投影面の外方の退避位置とに個別に進退されるように昇降部材６０に連結する進退機構６２とで構成されている。
【００４０】
なお、本実施形態では、図１０に示す如く、ホットプレート５２の各側部に前後３箇所の切り欠き部５２ｆが形成されており、ワーク着座面５２ａからこれら切り欠き部５２ｆ上に張り出す基板Ａの側縁部分に係合するように、係合部材６１に前後３箇所の爪部６１ａを突設している。
【００４１】
進退機構６２は、昇降部材６０に上下複数段に取り付けたガイド６３ａ付きシリンダ６３と、各シリンダ６３のピストンロッド６３ｂに連結されて横方向に進退する前後方向に長手の可動アーム６４とで構成され、可動アーム６４の両端に、各係合部材６１の前後両端に固定される連結片６１ｂを乾燥炉５１の側壁に形成した透孔５１ｂを通して連結している。かくて、複数のシリンダ６３を選択的に作動させることにより対応する係合部材６１が選択的に作動位置に進出する。
【００４２】
昇降部材６０の下端には、乾燥炉５１の下方に配置した偏心カム６５に当接するカムフォロア６６が枢着されており、偏心カム６５を乾燥炉５１の下方に配置したシリンダ６７によりクランク６８と図外の歯車とを介して回転させることにより、昇降部材６０が乾燥炉５１の側壁外面に固定したレール６９に沿って昇降される。なお、乾燥炉５１の側壁には、押し上げ機構５９を覆うようにしてカバー５１ｃが取り付けられる。
【００４３】
以上の構成によれば、何れかのホットプレート５２に対して基板Ａを脱着する際、対応する係合部材６１のみを作動位置に進出させた状態で昇降部材６０を上昇させることにより、該当するホットプレート５２上の基板Ａを係合部材６１で選択的に押し上げることができる。そして、このものでは、各ホットプレート５２の下側に押し上げ機構用の昇降スペースを確保する必要がなく、乾燥炉５１の高さ寸法を大きくせずに済む。
【００４４】
図１１及び図１２に明示するように、第１・第２の各搬送装置５ａ，５ｂとして用いるワーク搬送装置５は、キャビネット形式の共通機台４１上に、基板Ａを水平面内において９０°回転させる上流側の９０°回転装置４２と、基板Ａを水平面内において１８０°回転させる下流側の１８０°回転装置４３とを配置すると共に、両回転装置４２，４３間に、基板Ａを冷却する冷却手段４４と、基板Ａを処理待ちのためにストックしておくバッファ手段４５とを配置して、構成されている。
【００４５】
上述したように、９０°回転装置４２は、基板Ａを各乾燥装置４に適切に送り込むため、Ｒ・Ｇ・Ｂの各移載装置３と協働して、横向きの基板を９０°回転させて縦向きとする。また、移載装置３を介して乾燥装置４から受け取った基板Ａを冷却手段４４に送り込む。バッファ装置４５は、冷却手段４４で冷却された基板Ａをストックし、次の描画装置２への基板の投入が液滴吐出ヘッド２６のクリーニング等でストップされたときに、基板Ａを搬送装置５上で待機させる。１８０°回転装置４３は、各移載装置３の移載形態に基づく基板Ａの姿勢変更を元に戻すべく、これを１８０°回転させ、Ｒ・Ｇ・Ｂの各描画装置２に対し、基板Ａを全く同一の姿勢で送り込めるようにしている。
【００４６】
ここで、図１および図６を参照して、実施形態の発光機能層製造ライン１における基板Ａの搬送および処理手順について、簡単に説明する。
【００４７】
搬入側移載装置７が、搬入側マガジンローダ６から受け取った基板ＡをＢ色移載装置３ａに臨ませると、Ｂ色移載装置３ａの一方のロボットアーム３１がこれを受け取り、Ｂ色描画装置２ａに送り込む。Ｂ色描画装置２ａでは、受け取った基板ＡをＸ軸およびＹ軸方向に相対的に移動させ、これにＢ色の発光機能液滴を選択的に吐出する。吐出動作が終了してホーム位置に戻った基板Ａに、Ｂ色移載装置３ａの他方のロボットアーム３１が臨んでこれを受け取り、Ｂ色乾燥装置４ａに送り込む。
【００４８】
基板乾燥が完了すると、他方のロボットアーム３１がこれを受け取って、第１搬送装置５ａの９０°回転装置４２に移載し、基板Ａを９０°回転装置４２から冷却手段４４に送る。そして、冷却手段４４で冷却された基板Ａをバッファ手段４５に送り込む。次に、Ｒ色描画装置２ｂにおける基板Ａの処理状況を待って、バッファ手段４５から１８０°回転装置４３に基板Ａを送り、これを１８０°回転させて、Ｒ色移載装置３ｂに臨ませる。
【００４９】
以降、上記と全く同様に、Ｒ色移載装置３ｂによる基板Ａの移載と、Ｒ色描画装置２ｂおよびＲ色乾燥装置４ｂによる基板Ａの処理が行われる。さらに、Ｒ色乾燥装置４ｂから第２搬送装置５ｂに移載された基板Ａは、第２搬送装置５ｂからＧ色移載装置３ｃを介して、Ｇ色描画装置２ｃおよびＧ色乾燥装置４ｃに適宜送り込まれ処理される。このようにして、Ｒ・Ｇ・Ｂの発光機能層が形成されて基板Ａは、最後にＧ色乾燥装置４ｃからＧ色移載装置３ｃを介して搬出側移載装置９に移載され、これから搬出側マガジンローダ８に送り込まれる。
【００５０】
９０°回転装置４２と１８０°回転装置４３とは同様の構成になっており、それぞれ基板Ａを水平面内で回転させる回転部７１，８１と、基板Ａの搬出や搬入を行う搬送部７２，８２とを備えている。回転部７１，８１には、基板Ａをセンタリングするセンタリング機構を組み込んだワークテーブル７３，８３が回転及び昇降自在に設けられている。移載装置３から９０°回転装置４２に基板Ａを移載する場合には、ワークテーブル７３を搬送部７２の上側に上昇させた状態で基板Ａをワークテーブル７３に載置する。
【００５１】
そして、基板Ａを９０°回転させる場合には、センタリング機構により基板Ａを回転中心にセンタリングしてからワークテーブル７３を回転させる。一方、基板Ａを９０°回転装置４２から搬出する場合には、ワークテーブル７３を下降させて、基板Ａを搬送部７２設けた複数の送りローラ７４に受け渡し、続いて送りローラ７４の回転送りにより、基板Ａを冷却手段４４に向けて送り出す。
【００５２】
バッファ手段４５から１８０°回転装置４３に基板Ａを送り出す場合は、ワークテーブル８３を下降させた状態で搬送部８２の複数の送りローラ８４によりワークテーブル８３の直上部まで基板Ａを搬入し、次に、ワークテーブル８３を上昇させて、ワークテーブル８３に基板Ａを受け取らせる。そして、センタリング機構により基板Ａを回転中心にセンタリングしてからワークテーブル８３を１８０°回転させ、この状態で基板Ａを移載装置３に受け取らせる。
【００５３】
冷却手段４４は、前段の処理ユニットの乾燥装置４で加熱された基板Ａを描画装置２の設定管理温度（例えば、２０°Ｃ）に冷却し、後段の処理ユニットの描画装置２において、基板Ａの熱膨張に起因する位置決め精度や液滴の塗布位置精度の悪化を生ずることを防止するために設けられている。本実施形態の冷却手段４４は、冷媒で強制冷却される冷却プレート９１で構成されており、冷却プレート９１を共通機台４１の中間部に共通機台４１内に立設する支柱（図示せず）で浮き支持させ、９０°回転装置４２から送られてきた基板Ａを冷却プレート９１に着座させて冷却するようにしている。
【００５４】
冷却プレート９１の詳細は図１３乃至図１５に示す通りであり、厚肉のプレート本体９２と、プレート本体９２の上面に固着した薄肉の上板９３と、プレート本体９２の下面に固着した台座９４とで構成されている。プレート本体９２には、冷媒を流す冷媒通路９５が平行に複数形成されており、これら冷媒通路９５を流入側と流出側のヘッダパイプ９６ａ、９６ｂを介して冷媒循環回路９６に接続している。
【００５５】
冷媒としては冷却水を用いることもできるが、本実施形態では、エアーを冷媒とし、冷媒循環回路９６に循環ファン９６ｃとクーラ９６ｄとを開設している。また、プレート本体９２の両端部には、各冷媒通路９５をヘッダパイプ９６ａ、９６ｂに接続するワンタッチジョイント９５ａが取り付けられている。なお、本実施形態では、プレート本体９２に冷媒通路９５を穴明け加工で形成しているが、冷媒通路となるパイプをプレート本体９２に鋳込むことも可能である。
【００５６】
上板９３には、多数の吸着孔９７が開設されている。そして、プレート本体９２の上面に、これら吸着孔９７に連通する網の目状の溝９８を形成し、溝９８に、台座９４に取り付けたジョイント９８ａを介して図外の負圧源を接続している。かくして、溝９８をエアーの吸引通路として、吸着孔９７からのエアー吸引が行われ、上板９３に基板Ａが吸着されて、基板Ａが効率良く冷却される。
【００５７】
なお、冷却プレート９１は、基板Ａより若干幅狭に形成され、また、後記する搬送部材１４４に対する逃げ穴９９が形成されている。
【００５８】
バッファ手段４５は、図１６及び図１７に示すように、基板Ａを上下複数段に支持可能なマガジンラック１０１と、マガジンラック１０１を昇降する昇降機構１０２とで構成されている。マガジンラック１０１は、上枠１１１と、下枠１１２と、上枠１１１と下枠１１２とを連結する上下方向にのびる各３本の枠材１１３ａから成る両側の側枠１１３，１１３とで中空の箱状に形成されており、各側枠１１３の枠材１１３ａに、基板Ａの側縁部下面に係合して基板Ａを支持する爪状のワーク受け１１４を上下複数段に取り付けている。また、マガジンラック１０１は、基板Ａの大きさに合わせた専用品になっており、マガジンラック１０１の交換時に持ち運びできるように、上枠１１１の両側部に取手１１５が取り付けられている。なお、冷却プレート９１も、基板Ａの大きさに合わせた専用品になっており、マガジンラック１０１と一緒に交換する。
【００５９】
マガジンラック１０１は、基板Ａの搬送方向をｘ軸方向、これに直交する水平方向をｙ軸方向として、冷却プレート９１のｙ軸方向両側方に両側枠１１３，１１３が位置し、冷却プレート９１の下方に下枠１１２が位置する状態で昇降機構１０２に支持されている。換言すれば、マガジンラック１０１の両側枠１１３，１１３間のラック内空間に収まるように冷却プレート９１を配置している。そして、マガジンラック１０１の上昇により、冷却プレート９１に着座している基板Ａの冷却プレート９１から張り出す側縁部下面にワーク受け１１４を係合させて、基板Ａを冷却プレート９１の上方に持ち上げ、この状態で基板Ａをストックするようにしている。
【００６０】
かくして、冷却プレート９１の上方空間がバッファ手段４５による基板Ａのストックスペースとして有効活用されることになる。従って、冷却手段４４とバッファ手段４５とを同一の場所にオーバーラップさせてスペース効率良く配置できるようになり、ワーク搬送装置５の小型化を図れる。なお、マガジンラック１０１には、上方のワーク受け１１４から下方のワーク受け１１４に向けて基板Ａを順にストックする。
【００６１】
昇降機構１０２は、共通機台４１内にｙ軸方向に離間して固定される一対の支持フレーム１２１，１２１と、各支持フレーム１２１に一対のガイドバー１２２，１２２を介して昇降自在に支持される昇降枠１２３とを備えており、昇降枠１２３上の受け座１２４にマガジンラック１０１の下枠１１２を着座させている。なお、支持フレーム１２１の外側面には、共通機台４１内に固定するための取り付けブラッケト１２１ａが固設されている。
【００６２】
昇降枠１２３には、支持フレーム１２１に軸支されるボールねじ１２５に螺合するナット１２６が固定されており、ボールねじ１２５の回転で昇降枠１２３が昇降される。一方の支持フレーム１２１に軸支されるボールねじ１２５は、この支持フレーム１２１の下端に取り付けたギヤードモータ１２７に直結され、他方の支持フレーム１２１に軸支されるボールねじ１２５は、ベルト１２８を介してギヤードモータ１２７に連結されており、両支持フレーム１２１，１２１に支持されるｙ軸方向両側の昇降枠１２３，１２３がギヤードモータ１２７により同期して昇降されて、マガジンラック１０１が水平姿勢を保って昇降される。
【００６３】
各昇降枠１２３には、それぞれシリンダ１２９ａによりｙ軸方向に進退される一対の押え爪１２９，１２９と、それぞれシリンダ１３０ａによりアーム１３０ｂを介してｘ軸方向に進退される一対の位置決めピン１３０，１３０とが設けられている。そして、両位置決めピン１３０，１３０によりマガジンラック１０１の下枠１１２をｘ軸方向両側から挟むことで、マガジンラック１０１をｘ軸方向に位置決めすると共に、両昇降枠１２３，１２３の押え爪１２９，１２９によりマガジンラック１０１の下枠１１２をｙ軸方向両側から挟みつつ下方に押しつけることで、マガジンラック１０１をｙ軸方向にも位置決めした状態で昇降枠１２３に固定し得るようにしている。
【００６４】
各支持フレーム１２１のｘ軸方向一端部には、上下方向に長手のスリット１３１が固定されており、各昇降枠１２３にスリット１３１の切欠きを読み取る光学センサ１３２を取り付け、この光学センサ１３２からの信号でマガジンラック１０１の上下方向位置を認識できるようにしている。
【００６５】
更に、各支持フレーム１２１の上端部には、シリンダ１３３によりｙ軸方向に進退される可動枠１３４が設けられている。可動枠１３４には、マガジンラック１０１の側枠１１３の枠組み空隙に臨む複数のガイドローラ１３５が取り付けられており、後記する搬送機構１０３でラック内空間における基板Ａの搬送を行う際、可動枠１３４のｙ軸方向内方への移動でガイドローラ１３５を側枠１１３の枠組み空隙を通してラック内空間に進入させ、基板Ａの側縁をガイドローラ１３５でガイドして、搬送時の基板Ａの斜行を防止できるようにしている。なお、図１６，１７の左側の支持フレーム１２１に示されているように、シリンダ１３３は支持フレーム１２１上のカバー１３６で覆われる。
【００６６】
また、図１６，１７では省略しているが、両支持フレーム１２１，１２１間のスペースには、ラック内空間における基板Ａの搬送を行う、図１８および図１９に示す搬送機構１０３が設けられている。搬送部材１０３は、図外のシリンダで昇降される昇降台１４１に搭載したコンベアフレーム１４２を備えている。コンベアフレーム１４２のｙ軸方向両側には、ｘ軸方向に離間させて一対の起立フレーム１４３，１４３が立設されており、これら各起立フレーム１４３の上端部内側面に、それぞれ搬送部材たる複数（図示例では３個）の送りローラ１４４が軸着されている。これら送りローラ１４４は、コンベアフレーム１４２の下部に搭載したモータ１４５によりベルト式の動力伝達機構１４６を介して回転される。なお、動力伝達機構１４６は起立フレーム１４３，１４３の外側のカバー１４７で覆われている。
【００６７】
起立フレーム１４３および送りローラ１４４は、冷却プレート９１に形成した逃げ穴９９に臨んでおり、昇降台１４１の上昇で送りローラ１４４が逃げ穴９９を通して冷却プレート９１の上面上に突出し、冷却プレート９１の上面より上方の所定の搬送高さ位置でラック内空間における基板Ａの搬送を行う。なお、この搬送高さ位置は、９０°回転装置４２や１８０°回転装置４３の搬送部７２，８２による搬送高さと同レベルに設定される。
【００６８】
本実施形態では、上記搬送高さ位置を、図２０（ａ）に示すように、マガジンラック１０１の複数段のワーク受け１１４の内の次に基板Ａを支持させるべきワーク受け１１４ａを冷却プレート９１の上面より若干下方に位置させた状態で、このワーク受け１１４ａとその上段のワーク受け１１４ｂとの間の間隔内に当該搬送高さ位置に存する基板Ａが収まるような高さに設定している。
【００６９】
そして、９０°回転装置４２の搬送部７２から送り出される基板Ａを送りローラ１４４によりラック内空間に搬入した後、図２０（ｂ）に示す如く、送りローラ１４４を冷却プレート９１の上面より下方に下降させて、冷却プレート９１の上面に基板Ａを着座させ、基板Ａを冷却する。次に、時間管理や基板Ａの直接的な温度検出等で基板Ａが所定温度に冷却されたと判定されたとき、マガジンラック１０１を上昇させる。これによれば、図２０（ｃ）に示す如く、ワーク受け１１４ａに基板Ａが支持され、この状態で冷却プレート９１から基板Ａが持ち上げられる。
【００７０】
このようにしてマガジンラック１０１にストックされた基板Ａを１８０°回転装置４３に送り出す際は、送りローラ１４４を冷却プレート９１の上方に突出させた状態でマガジンラック１０１を図２０（ａ）に示す位置に下降させ、基板Ａを送りローラ１４４に乗せて、送りローラ１４４から１８０°回転装置４３の搬送部８２に基板Ａを搬出する。
【００７１】
以上の如くバッファ手段４５を設けることにより、後段の処理ユニットの描画装置２への基板Ａの投入が液滴吐出ヘッド２６のクリーニング作業等でストップしても、前段の処理ユニットの乾燥装置４からワークを払い出して、バッファ手段４５にストックしておくことができる。ここで、乾燥装置４で基板Ａの加熱温度が低いと、画素領域の周辺領域に溶剤が残り、後段の処理ユニットの描画装置２において混色、色抜けを発生させる要因になり、また、乾燥時間のバラツキにより機能液滴が乾燥して収縮する過程において膜厚が不均一になる。そこで、本実施形態では、後段の処理ユニットの描画装置２への基板Ａの投入がストップしている間も、前段の処理ユニットの乾燥装置４における基板Ａの乾燥時間が所定の一定時間に達したところで、乾燥装置４から基板Ａを払い出して、バッファ手段４５に基板Ａをストックしている。
【００７２】
具体的には、図外の制御手段に、乾燥装置４の複数段のホットプレート５２のそれぞれに対応するタイマーを内蔵させ、図２２に示されているように、何れかのホットプレート５２に基板Ａが投入されたときに（Ｓ１）、このホットプレート５２に対応するタイマーの計時動作を開始し（Ｓ２）、基板投入時点から設定時間が経過してタイムアップしたとき（Ｓ３）、上記ホットプレート５２からの基板Ａの払い出しを移載装置３に指令する（Ｓ４）。このようにすることで、基板Ａの乾燥時間を一定に管理して、膜厚が不均一になることを防止できる。
【００７３】
ところで、上記実施形態では、冷却プレート９１に送りローラ１４４に対する干渉防止のための逃げ穴９９を形成しているため、基板Ａの冷却効率が多少とも低下する。この場合、昇降枠１２３上に設ける可動枠１３４に、ガイドローラ１３５に代えて、図２１に示すように送りローラ１４４′を軸着し、これによりラック内空間における基板Ａの搬送を行うようにしても良い。
【００７４】
この送りローラ１４４′は、可動枠１３４の動きでラック内空間の外方に退避自在となり、ラック内空間における基板Ａの搬送高さ位置を、図２１（ａ）に示すように、次に基板Ａを支持させるべきワーク受け１１４ａが冷却プレート９１の上面より上方に位置する状態で、このワーク受け１１４ａとその上段のワーク受け１１４ｂとの間の間隙に当該搬送高さ位置に存する基板Ａが収まるような位置に設定しても、以下の作動で基板Ａを冷却プレート９１に着座させることができる。
【００７５】
先ず、ラック内空間に上記搬送高さ位置で基板Ａを搬入した後、図２１（ｂ）に示す如く、次にワークを支持させるべきワーク受け１１４ａが上記搬送高さ位置に存する基板Ａを支持するようにマガジンラック１０１を上昇させる。その後、送りローラ１４４′をラック内空間の外方に退避させた状態で、図２１（ｃ）に示す如く、マガジンラック１０１を下降させて、冷却プレート９１に基板Ａを着座させる。基板Ａの冷却後は、マガジンラック１０１を再度上昇させて、上記実施形態のものと同様にワーク受け１１４ａに基板Ａを支持させた状態で冷却プレート９１から基板Ａを持ち上げる。
【００７６】
このように、ラック空間内における基板Ａの搬送を行う搬送部材としてラック内空間の外方に退避自在な送りローラ１４４′を用いれば、冷却プレート９１に逃げ穴９９を形成せずに済み、基板Ａの冷却効率を向上できる。
【００７７】
なお、昇降自在な送りローラ１４４を用いる上記実施形態のものでも、搬送高さ位置を図２１のように設定し、基板搬入後に先ずマガジンラック１０１を上昇させて、ワーク受け１１４ａに基板Ａを支持させ、その後、送りローラ１４４を下降させると共にマガジンラック１０１を下降させて、基板Ａを冷却プレート９１に着座させることができる。然し、上記実施形態のように、基板搬入後の送りローラ１４４の下降だけで基板Ａを冷却プレート９１に着座させる方式の方が能率的には有利である。
【００７８】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、冷却手段とバッファ手段とが同一の場所にオーバーラップしてスペース効率良く配置されることになり、装置の小型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る発光機能層製造ラインの全体構成を表した平面図である。
【図２】実施形態に係る描画装置の全体斜視図である。
【図３】実施形態に係る描画装置の動作を説明する動作説明図である。
【図４】実施形態に係る描画装置による発光機能液の吐出パターンを示す基板の拡大平面図である。
【図５】実施形態に係る移載装置（移載ロボット）の構造図である。
【図６】実施形態に係る発光機能層製造ラインにおける基板の搬送形態を示す模式図である。
【図７】実施形態に係る乾燥装置の全体斜視図である。
【図８】実施形態に係る乾燥装置の側面図である。
【図９】実施形態に係る乾燥装置の天上部を取り外した状態の斜視図である。
【図１０】実施形態に係る乾燥装置で用いるホットプレートの斜視図である。
【図１１】実施形態に係るワーク搬送装置の全体斜視図である。
【図１２】実施形態に係るワーク搬送装置の全体正面図である。
【図１３】実施形態に係る冷却プレートの平面図である。
【図１４】実施形態に係る冷却プレートの側面図である。
【図１５】実施形態に係る冷却プレートの部分拡大断面図である。
【図１６】実施形態に係るバッファ手段の全体斜視図である。
【図１７】図１６のＸＶＩＩ―ＸＶＩＩ線切断面図である。
【図１８】実施形態に係るバッファ手段用搬送機構の全体斜視図である。
【図１９】実施形態に係るバッファ手段用搬送機構のカバーを取り外した状態の側面図である。
【図２０】実施形態における冷却プレートに対する基板の着座動作の説明図である。
【図２１】他の実施形態における冷却プレートに対する基板の着座動作の説明図である。
【図２２】実施形態における乾燥装置での乾燥時間の管理処理を示すフロー図である。
【符号の説明】
Ａ…基板（ワーク）、１ａ，１ｂ，１ｃ…処理ユニット、２，２ａ，２ｂ，２ｃ…描画装置、４，４ａ，４ｂ，４ｃ…乾燥装置、５，５ａ，５ｂ…ワーク搬送装置、２６…液滴吐出ヘッド、４４…冷却手段、４５…バッファ手段、９１…冷却プレート、９２…プレート本体、９３…上板、９５…冷媒通路、９７…吸着穴、  ９８…溝、１０１…マガジンラック、１０２…昇降機構、１１３…マガジンラックの側枠、１１４…ワーク受け、１４４，１４４′…送りローラ（搬送部材）
【図１】
2004171845.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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