(57)【要約】【課題】人体及び環境に対して安全、かつ、簡便な操作で工場の装置周辺の清掃作業を可能とし、さらに経済性も高いウェットワイパーを提供する。【解決手段】人体及び環境に対して安全で、工場内の清掃を簡便、効率良く行うことができ、芳香族炭化水素化合物による汚れ、特にはレジストによる汚れを落とす場合に、簡便に効率良く汚れを払拭することができる炭酸エチレンを主体する洗浄液を払拭用基材に保持させてなるウェットワイパー。さらに、ウェットワイパーに保持された洗浄液の気化を抑制する収容容器と、このウェットワイパーとからなる容器入りウェットワイパーとすれば、長期にわたって使用状態を維持することができ、使用したい場合にすぐに汚れの払拭を行うことができる。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
払拭用基材に炭酸エチレンを主体とする洗浄液を保持させてなることを特徴とするウェットワイパー。
【請求項２】
前記洗浄液が、炭酸エチレンと、これと溶液を形成する液体とからなることを特徴とする請求項１記載のウェットワイパー。
【請求項３】
前記液体が、水又は炭酸プロピレンであることを特徴とする請求項２記載のウェットワイパー。
【請求項４】
前記液体が水であって、炭酸エチレンが洗浄液に対して６０〜９５重量％含有してなることを特徴とする請求項３記載のウェットワイパー。
【請求項５】
前記液体が炭酸プロピレンであって、炭酸エチレンが洗浄液に対して５０〜９０重量％含有してなることを特徴とする請求項３記載のウェットワイパー。
【請求項６】
前記払拭用基材が織布、不織布又は多孔質体からなることを特徴とする請求項１乃至５記載のウェットワイパー。
【請求項７】
前記ウェットワイパーに保持された洗浄液の気化を抑制する収容容器と、その収容容器に収容された請求項１乃至６記載のウェットワイパーとからなることを特徴とする容器入りウェットワイパー。
【請求項８】
前記収容容器が、密閉した袋からなることを特徴とする請求項７記載の容器入りウェットワイパー。
【請求項９】
前記収容容器が、上部に開閉自在の蓋を備えた開口部を有するものであって、使用の際に収容されたウェットワイパーを前記開口部から引き出すことができることを特徴とする請求項７記載の容器入りウェットワイパー。
【請求項１０】
前記ウェットワイパーが複数枚重ねられており、使用の際には最上部のウェットワイパーを引き出すことができることを特徴とする請求項９記載の容器入りウェットワイパー。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、払拭用基材に炭酸エチレンを主体とする洗浄液を保持させてなり、工場等における汚れの清掃を効率良く行うことができるウェットワイパーに関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、我々の周りに存在する多くの機器には半導体や液晶が使用されており、この半導体や液晶は基板上に各種の材料薄膜を形状加工することにより製造されている。
【０００３】
この形状加工は、今や精密な機器等を製造する上では欠かせない技術となっており、微細なパターニングを利用したリソグラフィー工程とエッチング工程とからなるものである。
【０００４】
製品を製造するためには、このリソグラフィー工程とエッチング工程を繰り返し行い、加工された薄膜を何層も重ね合わせる必要があるが、リソグラフィー工程は、さらに、基板上に接着剤やレジスト等を塗布して薄膜を形成する工程、薄膜を加熱して硬化させる工程、薄膜を露光するステッパー工程、露光した薄膜を現像してパターンを形成する工程等の多くの工程からなるため、一つの製品を製造するのに非常に多くの工程を行う必要があった。
【０００５】
このリソグラフィー工程において、例えば、薄膜形成の際には、スピンコータを用いてレジスト、接着剤等が塗布されるが、このとき過剰なレジスト等は周囲に飛散して除去されるため製造装置及びその周辺は汚染され、また、加熱硬化及び現像工程の際にはレジスト等の有機成分がガス化してレンズが汚染されていた。
【０００６】
この一つ一つの汚染は微小なものであるが、その工程数の多さから、装置の稼動に伴い工場内はひどく汚染され、このような工場内の汚れは、キムワイプ（登録商標）等のドライなワイパーにアセトン、イソプロピルアルコール、トルエン等の有機系溶剤を染み込ませ払拭したり、製造工場での製造工程に用いる洗浄剤や剥離剤等の専用の薬剤で洗い流すことによって行っていた（例えば、非特許文献１参照）。
【０００７】
【非特許文献１】
“花王の電子精密部品・高機能洗浄剤「クリンスルー」目次メニュー”、［ｏｎｌｉｎｅ］、花王株式会社、［平成１５年２月４日検索］、インターネット＜ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｃｈｅｍｉｃａｌ．ｋａｏ．ｃｏ．ｊｐ／ＰｒｏｄｕｃｔＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ／ｃａｔａｌｏｇ／Ｃｌｅａｎｔｈｒｏｕｇｈ／Ｄｅｆａｕｌｔ．ｈｔｍ＞
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらの半導体製造工程、液晶製造工程等の各種製造工場内での清浄作業には、前者のように有機系溶剤を用いた場合には、その使用量の多さから、悪臭や廃棄物等の問題が極めて重要となり、人体への影響や環境対策も考慮しなければならなかった。
【０００９】
また、後者のように製造工程に用いている薬剤でも、界面活性剤を使用している場合には、界面活性剤が生態系に影響を与える可能性があることからやはり環境対策を考慮しなければならならず、それ以外の薬剤は、オゾンを含ませたりする等、使用者が気軽に汚れを拭くような人体に直接触れる場合には不向きであった。
【００１０】
さらに、従来使用していた溶剤等に対する環境汚染対策として、化学薬品による処理、活性炭吸着による処理等が提案され、具体的には、界面活性剤を用いた乳化による包摂処理、オゾンガス、オゾン水等を用いた高エネルギー消費型の酸化分解処理、スチーム噴射による膨潤処理等が挙げられていた。
【００１１】
しかし、これらの処理を可能とするためには大型の廃棄物処理装置が必要となる等、設備投資によるイニシャルコストアップ及び大型装置の稼動によるランニングコストアップが問題となり簡単に導入することはできなかった。
【００１２】
また、払拭による清掃を簡便に行うことができるものとしてウェットワイパーが知られているが、これは、調理台、食器、手指等を対象とする衛生面を重視したもの、部屋の床や壁等を対象とする一般家庭の汚れに用いられるもの、ＯＡ機器のディスプレイやガラス面、コピー機、ファクシミリなど光学系の機器を対象としたもの等しかなく、半導体、液晶等の製造工場内の汚れを十分に落とすことができなかった。
【００１３】
したがって、これら揮発性の有機系溶剤や専用の薬剤を用いることなく、経済的で、人体及び環境に対して安全で、かつ、簡便な操作によって清掃作業を行うことができるウェットワイパーが求められていた。
【００１４】
そこで、本発明は、上記の問題点に鑑み、人体及び環境に対して安全で、かつ、簡便な操作により工場の装置周辺の清掃作業を可能とし、さらに経済性も高いウェットワイパーを提供することを目的とするものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討した結果、炭酸エチレンを主体する洗浄液を払拭用基材に保持させてなるウェットワイパーが、人体及び環境に対して安全で、工場内の清掃を簡便、効率良く行うことができることを見出し本発明を完成したものである。
【００１６】
本発明の第１の形態であるウェットワイパーは、炭酸エチレンを主体とする洗浄液を払拭用基材に保持させてなることを特徴とするものである。
【００１７】
このウェットワイパーは、工場内における芳香族炭化水素化合物による汚れ、特にはレジストによる汚れを落とす場合に、使用者が物体表面の汚れの上から払拭動作を行うことで、簡便に効率良く汚れを払拭することができる。
【００１８】
また、本発明の第２の形態である容器入りウェットワイパーは、ウェットワイパーに保持された洗浄液の気化を抑制する収容容器と、その収容容器に収容されたウェットワイパーとからなることを特徴とするものである。
【００１９】
この容器入りウェットワイパーによれば、ウェットワイパーに保持された洗浄液成分の気化を抑制することができるため長期にわたって使用状態を維持することができ、使用したい場合にすぐに汚れの払拭を行うことができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
次に、本発明について詳細に説明する。
【００２１】
本発明の洗浄液の主体となる炭酸エチレン（融点  ３６．４℃、沸点  ２３８℃、引火点  １６０℃）は、易水溶性な、エチレングリコールの環状炭酸エステルである。
【００２２】
炭酸エチレンは、室温では固体状結晶として存在するが、その融点は３６．４℃であるため、加温することにより容易に粘度の低い無色無臭の液体となる。液状の炭酸エチレンは、芳香族炭化水素化合物、特にレジストをよく溶解する。
【００２３】
また、本発明に用いる洗浄液は、炭酸エチレンと、炭酸エチレンと溶液を形成する液体とからなるものであって、この液体としては、炭酸エチレンをよく溶解又は混合して溶液となり、洗浄効果を発揮することができるものであればよい。
【００２４】
このような液体としては、水、炭酸プロピレン等が挙げられる。
【００２５】
ここで、溶媒として用いる水は、水道水でもよいし、純水等の精製した水でもよいが、純度が高いほど溶解能力が高くなるため、比抵抗値が１ＭΩ・ｍ以上の純水であることが好ましい。
【００２６】
しかし、純度の高いもの程その製造にコストがかかるため、実用上の観点から精製水程度の純水でよく、比抵抗値が１〜３ＭΩ・ｍのものであることが特に好ましい。
【００２７】
炭酸プロピレン（融点  −４８．８℃、沸点  ２４２℃、引火点  １３０℃以上）は、炭酸エチレンと同様に環状の炭酸エステルであるが、炭酸エチレンとは異なり室温で液体として存在する。その他の性質は、炭酸エチレンと同様であり、また、炭酸エチレンとよく混合して均一な溶液を形成することができる。
【００２８】
この洗浄液には、この他にエタノール、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等のアルコール等の添加剤を含めることもできる。
【００２９】
ここで、炭酸エチレンと水、炭酸エチレンと炭酸プロピレンとのそれぞれの好ましい混合割合は、室温で洗浄液として安定に存在することができ、かつ、洗浄効果を十分に発揮することができる範囲であればよく、水の場合は、炭酸エチレンが洗浄液に対して６０〜９５重量％、炭酸プロピレンの場合は、炭酸エチレンが洗浄液に対して５０〜９０重量％含まれていることが好ましい。
【００３０】
この洗浄液の主体となる炭酸エチレンは、沸点、引火点が高く、毒性も小さく、消防法において危険物に指定されていないため、洗浄液の主成分として用いるのに十分安全である。
【００３１】
また、炭酸エチレンと溶液を形成する液体についても、水の安全性については十分であり、炭酸プロピレンは、引火性の液体であるため第４類危険物となっているが、その扱いに注意すれば毒性も小さく安全である。
【００３２】
また、以上の構成成分からなる本発明の洗浄液は、その構成成分である炭酸エチレン、炭酸プロピレンが共に蒸気圧が低いため揮発性が低く、大気汚染の影響はほとんどなく、さらに、洗浄液は生物化学的処理が可能であるため、環境に極めてやさしいものである。
【００３３】
この洗浄液を製造するには、室温で、炭酸エチレンと溶液を形成する液体に固体の炭酸エチレンを加え溶解することにより行うこともできるし、固体の炭酸エチレンを融点以上の温度に加温することにより液状としておいて、液状の炭酸エチレンに炭酸エチレンと溶液を形成する液体とを混合することにより行うこともできる。
【００３４】
炭酸エチレンは、融点が低く加温により液状とするのが容易であり、また、液−液混合した方が短時間で均一に混合することができることから、加温して液状にした後、液体同士を混合することで洗浄液を製造することが好ましい。
【００３５】
また、本発明に用いる払拭用基材は、吸水性を有する材料からなるものであって、物体表面に付着した汚れを拭き取りにより洗浄することができるものであれば、特に限定されるものではない。
【００３６】
このような払拭用基材としては、例えば、織布、不織布、多孔質体等が挙げられ、目の粗いもの、細かいもの等によらず、拭き取り洗浄に使用することができるものであればよく、従来から用いられている拭き取り洗浄用のシート、脱脂綿、布、紙、スポンジ等の様々なものを用いることができ、その中でもレーヨン、コットン等の不織布であることが好ましい。
【００３７】
さらに、この払拭用基材は洗浄に使用するものであり、製造工程から考えても、工場内の空気をクリーンに保つことができる発塵しにくい材質からなるものであることが好ましく、無発塵処理を施したものが特に好ましい。
【００３８】
本発明のウェットワイパーは、本発明に用いる洗浄液を口の大きな容器に用意しておき、払拭用基材を洗浄液に浸漬又は洗浄液を払拭用基材に射出、噴霧等によって、払拭用基材に洗浄液を保持させることにより製造することができる。
【００３９】
このとき、容器は、ポリエチレンやポリ塩化ビニル等のビニール製のものを用いることができるが、アクリル、ポリエステル、ポリカーボネート等は、洗浄液によって溶解・変質してしまう可能性があるため使用することができない点に注意しなければならない。
【００４０】
また、この洗浄液中に浸漬したり、洗浄液をスプレーしたりすることにより払拭用基材が余剰な洗浄液を保持することになる場合には、ローラー等により余剰な洗浄液を搾り取ることが好ましい。
【００４１】
このウェットワイパーを使用して物体表面に付着した汚れを洗浄するには、汚れの付着した物体表面を、本発明のウェットワイパーで拭き取ることによって行えばよい。
【００４２】
この際、洗浄面を２、３回往復させることで効果的に汚れの除去を行うことができ、ほとんどの汚れの洗浄を行うことができるが、強固に付着した汚れの場合でも数回擦ることできれいに洗浄することができる。
【００４３】
このように製造したウェットワイパーは、そのまま放置すると洗浄液の構成成分が徐々に蒸発して空気中へ拡散し、炭酸エチレンの結晶が析出してくることも考えられ、このような気化が起こった場合には洗浄効果を十分に発揮することができなくなる。
【００４４】
そこで、このような不具合を防ぐために、本発明のウェットワイパーをその保持された洗浄液の気化を抑制する収容容器に収容することとすれば保湿状態を保つことができ、長期間にわたっていつでも使用可能とすることができる。
【００４５】
このような収容容器としては、まず密閉容器を挙げることができ、ウェットワイパー一枚又は複数枚を一つの密閉容器に入れ、使用時にはこの密閉容器を破壊してウェットワイパーを取り出して使用すればよい。
【００４６】
このような密閉容器としては、ポリエチレンやポリ塩化ビニル等のビニール製の袋は用いることができるが、アクリル、ポリエステル、ポリカーボネート等はウェットワイパーに含まれる洗浄液によって溶解・変質してしまう可能性があるため密閉状態を保持できないため使用することができない。
【００４７】
この包装は、自動包装機等を用いることにより自動に密閉することができることとすれば、容器入りウェットワイパーの製造を簡便に行うことができる。
【００４８】
また、別の収容容器として、完全な密閉ができなくてもウェットワイパーに保持された洗浄液の気化を抑制することができるものを挙げることができる。
【００４９】
例えば、収容容器の上部に開閉自在の蓋を備えた開口部を有し、通常の保存状態の場合には、その開口部が蓋で閉じられており収容容器の内部と外部との空気の出入りを妨げる構成を有する収容容器を挙げることができる。
【００５０】
このような収容容器においてウェットワイパーを使用する際には、使用者が蓋を開け、収容容器内部に収容されたウェットワイパーを開口部から引き出せばよく、引き出したウェットワイパーで汚れを払拭する。払拭による清掃作業が終わったら、使用者が蓋を閉じ、再度収容容器の内部は空気の出入りが自由に行えないように妨げられることとなる。
【００５１】
このような容器は複数枚のウェットワイパーを使用したいときにすぐ使用できる状態に保持する点から、一枚一枚保持するのに比べコスト面でも有利であり、使用者にとっても蓋の開閉、引き出しという簡便な動作で汚れの払拭を行うことができるため、便利である。
【００５２】
さらに、容器内に複数枚のウェットワイパーを収容し、使用の際には最上部のウェットワイパーを開口部から順に引き出すこととすれば、使用するたびに容器を破く等の手間もなく、汚れが多い場合には連続してウェットワイパーを引き出すことにより効率良く汚れの払拭を行うことができる。
【００５３】
また、汚れが少なく一枚使用した後、次の使用までに時間がかかる場合でも容器内部のウェットワイパーはすぐに使用することができる状態であるため、非常に使い勝手がよい。
【００５４】
【実施例】
以下、本発明について実施例を参照しながらさらに詳細に説明する。
【００５５】
（参考例１）
炭酸エチレン（東亞合成株式会社製、試薬１級）６００ｇを１Ｌのガラス製ビーカーに入れ４０℃に加熱した。炭酸エチレンが融解して全て液状となったら、そのままの温度を保ち、比抵抗が２ＭΩ・ｃｍである純水４００ｇをビーカーに加え、１分間撹拌した。加熱を止め、混合液が室温になるまで放置し、洗浄液１ｋｇを製造した。
【００５６】
（参考例２）
参考例１の炭酸エチレンを５００ｇ、水を炭酸プロピレン（関東化学株式会社製、試薬１級）５００ｇに代え、同様の操作により、炭酸エチレンと炭酸プロピレンからなる洗浄液１ｋｇを製造した。
【００５７】
参考例１及び２で製造された洗浄液は、それぞれ室温においても結晶や沈殿物が生じず均一の混合液となっており、炭酸エチレンが溶液として十分安定していることが確認できた。
【００５８】
【表１】
2004254906.tif 000002
【００５９】
（実施例１）
次に、参考例１で製造した洗浄液を１Ｌのガラス製ビーカーに入れ、２５ｃｍ角、４つ折の不織布低発塵性脱脂綿（旭化成株式会社製、商品名：ベンコット）を１０枚ずつそれぞれのビーカーに２５分間浸漬した。
【００６０】
洗浄液を十分に含有した不織布低発塵性脱脂綿から、２本ロールにより余剰の洗浄液を搾り取り、洗浄液がたれない程度のウェットワイパーを製造した。
【００６１】
洗浄液に浸漬する前と、浸漬した後の不織布低発塵性脱脂綿の重量を量り、含有する洗浄液量を算出した。この洗浄液量を表２に示した。
【００６２】
（実施例２）
実施例１と同様に、参考例２で製造した洗浄液を用いてウェットワイパーを製造し、含有する洗浄液量を算出した。この洗浄液量を表２に示した。
【００６３】
【表２】
2004254906.tif 000003
【００６４】
（試験例１）
飛散したレジストと同じ状況を作るため、研磨した３０ｃｍ角ＳＵＳ製板上にレジスト液を軽く噴霧して、キセノンランプ照射後、１日放置してレジストを硬化させた。実施例１で製造したレジスト洗浄液を含有した不織布低発塵性脱脂綿で３回擦って拭き取ったところ、レジストはきれいに剥離した。
【００６５】
また、低発塵性脱脂綿以外のさまざまな低発塵製の布、紙、スポンジを用いた試験結果も同様の結果が得られた。したがって、払拭用基材の形態には依存しないことが確認できた。
【００６６】
本発明のウェットワイパーの収容容器としては、ガラス、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル等のビニール類は使用可能であるが、アクリル、ポリエステル、ポリカーボネートは使用出来ないことも確認できた。
【００６７】
（試験例２）
炭酸エチレン／水、炭酸エチレン／炭酸プロピレンのそれぞれについて炭酸エチレンの濃度と洗浄効果の関係について検討した。参考例１及び２の方法に準じてさまざまな炭酸エチレン濃度の洗浄液を製造し、実施例１及び２の方法に準じてそれぞれウェットワイパーを製造した。
【００６８】
次に、製造したウェットワイパーについて試験例１の方法に準じてレジストの洗浄を行い、その結果を表３に示した。
【００６９】
炭酸エチレン／水の場合は、炭酸エチレンが５０重量％を切ると著しい洗浄力の低下が見られ、さらに重量％比が低くなるにつれ洗浄力は低下した。炭酸エチレン／炭酸プロピレンの場合は、炭酸エチレンが４０重量％を切ると水の場合ほど著しくはないが、洗浄力の低下が見られ、さらに重量％比が低くなるほど洗浄力は低下した。
【００７０】
なお、炭酸エチレン濃度が高いほど洗浄力は高かったが、炭酸エチレン／水では、９５重量％、炭酸エチレン／炭酸プロピレンでは９０重量％を超えると炭酸エチレンの結晶成分が見られ、洗浄液として好ましくなかった。
【００７１】
【表３】
2004254906.tif 000004
【００７２】
【発明の効果】
本発明のウェットワイパーによれば、芳香族炭化水素化合物による汚れ、特にはレジストによる汚れを落とす場合に、使用者が物体表面の汚れの上から払拭動作を行うことで、簡便に効率良く汚れを払拭することができる。
したがって、工場内における半導体等の製造過程で周囲に飛散したレジストの清掃・除去を、簡便に効率良く行うことができる。
【００７３】
また、本発明のウェットワイパーは、その保持している洗浄液が、無臭で、人体への影響が極めて少ないため使用者は安全に使用することができる。
【００７４】
さらに、本発明のウェットワイパーは、その保持している洗浄液が、環境への影響も少ないため、洗浄後の処理に際しても特別な環境汚染対策を必要とすることなく処理が容易である。
【００７５】
本発明の容器入りウェットワイパーによれば、洗浄液成分の気化を抑制することができるため長期にわたって使用状態を維持することができ、使用したい場合にすぐに汚れの払拭を行うことができる。
【００７６】
さらに、容器内に複数枚のウェットワイパーを収容し、使用の際には最上部のウェットワイパーを開口部から順に引き出すこととすれば、使用するたびに容器を破壊する等の手間もなく、汚れが多い場合には連続してウェットワイパーを引き出すことにより効率良く汚れの払拭を行うことができる。この場合には、汚れが少なく一枚使用した後、次の使用までに時間がかかる場合でも容器内部のウェットワイパーはすぐに使用することができる状態であるため、非常に使い勝手がよい。