(57)【要約】      （修正有）【課題】新規ジベンズオキサホスホリン化合物およびそれを含有することで安定化された有機高分子材料を提供すること。【解決手段】６−ヒドロキシクロマン誘導体もしくはスピロクロマン誘導体と６−クロロ−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリン誘導体とを縮合させて得られる式（１）で示されるジベンズオキサホスホリン化合物を有機高分子に添加することにより、被加工樹脂は着色し難く、加工時の安定性を顕著に改良できた。2004155749.tif 0000112004155749.tif 0000122004155749.tif 000013（式中、Ｒ１〜Ｒ１１はアルキル基などを示し、ｘおよびｙは０，１，２，３の数を示し、ｎは１又は２を示し、Ｒは式（２）または式（３）の基を示す。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
2004155749.tif 000008
一般式（２）：
【化２】
2004155749.tif 000009
一般式（３）：
【化３】
2004155749.tif 000010
［式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して置換もしくは未置換の炭化水素基またはハロゲン原子を表し、ｘおよびｙは０，１，２または３の数を表し、ｎは１または２の整数を示す。Ｒは一般式（２）または（３）で表される基を示し、Ｒ３は炭素数１〜１８のアルキル基または炭素数２〜１８のアルケニル基を示し、Ｒ４は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ５は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。］で表されるジベンズオキサホスホリン化合物。
【請求項２】
Ｒが一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１記載のジベンズオキサホスホリン化合物。
【請求項３】
Ｒが一般式（３）で表されることを特徴とする請求項１記載のジベンズオキサホスホリン化合物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項記載のジベンズオキサホスホリン化合物を少なくとも１種含有する安定化有機高分子材料。
【請求項５】
有機材料がポリオレフィンである請求項４記載の安定化有機高分子材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規ジベンズオキサホスホリン化合物およびそれを含有することで安定化された有機高分子材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、高分子有機材料には安定剤としてヒンダードフェノール系化合物とともに、ホスファイト化合物やホスホナイト化合物が用いられることが知られている。しかしながら、近年、更なる有機材料の安定性向上のため、高機能な安定剤への要求が高まっている。
【０００３】
このような要求を満たすために、６−アリール−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリン誘導体を合成樹脂の安定剤として用いることが提案されている（例えば、特許文献１、２参照。）。これらの化合物は、全て一般に同様に合成樹脂の安定剤として用いられているヒンダードフェノール系の化合物やアリール基を６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリンに付加したもので、これらの化合物では充分な有機材料の安定化効果は得られず、市場では、一般にトリス（２，４−ジ−第３級ブチルフェニル）ホスファイトやテトラキス（２，４−ジ−第３級ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’ジイルビスホスホナイトが広く用いられている。近年、更に安定化効果の向上を目的としてテトラキス（２，４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイルビスホスホナイトが開示されているが、更なる安定化効果の向上が求められていた（例えば、特許文献３参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開昭５５−１１５９７号公報
【特許文献２】
特公平８−３２７１２号公報
【特許文献３】
特許第２５２２１３６号明細書
【特許文献４】
ドイツ特許出願公開第２０３４８８７号明細書
【特許文献５】
特公昭４９−２０９７７号公報
【特許文献６】
特公昭６２−４４１８号公報
【特許文献７】
特公平３−５６２４５号公報
【特許文献８】
米国特許４１１５６３９号明細書
【非特許文献１】
ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス．ポリマー・ケミストリー・エディション（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｅｄｉｔｉｏｎ）、
第２３巻，２１５１頁（１９８５年）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記事情に鑑み、本発明は、新規ジベンズオキサホスホリン化合物および当該化合物を用いて高度に安定化された有機高分子材料を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、６−ヒドロキシクロマン誘導体もしくはスピロクロマン誘導体と６−クロロ−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリン誘導体とを縮合させた一般式（１）で表される化合物が高分子の加工安定性や耐熱性に優れた効果を発揮することを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
すなわち、本発明は、一般式（１）：
【化４】
2004155749.tif 000002
一般式（２）：
【化５】
2004155749.tif 000003
一般式（３）：
【化６】
2004155749.tif 000004
［式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して置換もしくは未置換の炭化水素基またはハロゲン原子を表し、ｘおよびｙは０，１，２または３の数を表し、ｎは１または２の整数を示す。Ｒは一般式（２）または（３）で表される基を示し、Ｒ３は炭素数１〜１８のアルキル基または炭素数２〜１８のアルケニル基を示し、Ｒ４は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ５は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を３示す。Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。］で表される新規ジベンズオキサホスホリン化合物に関するものである。
また、本発明は、かかる化合物を含むことにより安定化された有機高分子材料にも関するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明化合物は、６−クロロ−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリン誘導体と６−ヒドロキシクロマン誘導体もしくはスピロクロマン誘導体との反応によって合成され、前駆体として必要な６−クロロ−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリン誘導体は、ドイツ特許出願公開第２０３４８８７号明細書の方法に準じて合成することができる（特許文献４参照。）。
【０００９】
原料として用いられる６−ヒドロキシクロマン誘導体は、一般式（４）：
【化７】
2004155749.tif 000005
［式中、Ｒ３は炭素数１〜１８のアルキル基または炭素数２〜１８のアルケニル基を示し、Ｒ４は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ５は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。］として表される。
【００１０】
一般式（４）により表される化合物のＲ３は、炭素数１〜１８のアルキル基または炭素数２〜１８のアルケニル基であり、当該アルキル基またはアルケニル基は直鎖もしくは分枝鎖のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メチルブタン−２−イル基、２−メチルブタン−３−イル基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、４−メチルペント−３−エニル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ３基）、４，８，１２−トリメチルトリデシル基（−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）｝３−ＣＨ３基）、４，８，１２−トリメチル−３，７，１１−トリデカトリエニル基（−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）｝３−ＣＨ３基）などが挙げられる。
一般式（４）により表される化合物のＲ３の好ましい例としては、メチル基、４，８，１２−トリメチルトリデシル基（−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）｝３−ＣＨ３基）、４，８，１２−トリメチル−３，７，１１−トリデカトリエニル基（−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）｝３−ＣＨ３基）などが挙げられ、メチル基、４，８，１２−トリメチルトリデシル基（−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）｝３−ＣＨ３基）が特に好ましく、この中でもメチル基が最も好ましい。
【００１１】
一般式（４）により表される化合物のＲ４は、炭素数１〜５のアルキル基であり、当該アルキル基は直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メチルブタン−２−イル基、２−メチルブタン−３−イル基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
一般式（４）により表される化合物のＲ４として好ましい基は、メチル基である。
【００１２】
一般式（４）により表される化合物のＲ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、当該アルキル基は直鎖もしくは分枝鎖のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル基などが挙げられる。
一般式（４）により表される化合物のＲ６、Ｒ７、およびＲ８の好ましい例としては、水素原子、メチル基、イソプロピル基、第３級ブチル基が挙げられ、特に好ましい基としては、水素原子、メチル基が挙げられ、中でもメチル基が最も好ましい。
【００１３】
一般式（４）により表される化合物のＲ５は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり、当該アルキル基は直鎖もしくは分枝鎖のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メチルブタン−２−イル基、２−メチルブタン−３−イル基、２−メチルブタン−４−イル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
一般式（４）により表される化合物のＲ５として好ましいものは、水素原子である。
【００１４】
一般式（４）により表される化合物としては、具体的には、以下の化合物が挙げられるがこれに限られるものではない。
２，２−ジメチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，５−トリメチル−８−第３級ブチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，７，８−テトラメチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，５，７−テトラメチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，５，８−テトラメチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２−ジメチル−７−第３級ブチル−６−ヒドロキシクロマン、
４−イソプロピル−２，２，５−トリメチル−７−第３級ブチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマン、
４−イソプロピル−２，２−ジメチル−７−第３級ブチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２−ジメチル−５−第３級ブチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，５，７，８−テトラメチル−２−（４−メチルペント−３−エニル）−６−ヒドロキシクロマン、
２，５−ジメチル−８−第３級ブチル−２−（４−メチルペント−３−エニル）−６−ヒドロキシクロマン、
２−メチル−２−（４−メチルペント−３−エニル）−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，５−トリメチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，７−トリメチル−６−ヒドロキシクロマン、
２，２，８−トリメチル−６−ヒドロキシクロマン、
α−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチルトリデシル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ７とＲ８はともにメチル基、Ｒ５は水素原子）、
β−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチルトリデシル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ８はともにメチル基、Ｒ７は水素原子、Ｒ５は水素原子）、
γ−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチルトリデシル基、Ｒ２はメチル基、Ｒ７とＲ８はともにメチル基、Ｒ６は水素原子、Ｒ５は水素原子）、
δ−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチルトリデシル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ７はともに水素原子、Ｒ８はメチル基、Ｒ５は水素原子）、
トコール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチルトリデシル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ７とＲ８はともに水素原子、Ｒ５は水素原子）、
ε−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチル−３，７，１１−トリデカトリエニル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ８はともにメチル基、Ｒ７は水素原子、Ｒ５は水素原子）、
ξ１−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチル−３，７，１１−トリデカトリエニル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ７とＲ８はともにメチル基、Ｒ５は水素原子）、
ξ２−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチルトリデシル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ７はともにメチル基、Ｒ８は水素原子、Ｒ５は水素原子）、
η−トコフェロール（Ｒ３は４，８，１２−トリメチルトリデシル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ６とＲ８はともに水素原子、Ｒ７はメチル基、Ｒ５は水素原子）、
一般式（４）により表される化合物としては、
２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマンや各種トコフェロールが好ましく、この中でも、
２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマンが特に好ましい。
【００１５】
一方、もう一つの原料となるスピロクロマン誘導体は、一般式（５）：
【化７】
2004155749.tif 000006
［式中、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。］として表される。
【００１６】
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１で表される炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル基が挙げられる。
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１で表される炭素数１〜４のアルコキシ基は、直鎖もしくは分岐のアルコキシ基であってよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、第２級ブトキシ基、第３級ブトキシ基が挙げられる。
好ましくは、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、水酸基または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。
より好ましくは、Ｒ９は水酸基または炭素数１〜４の直鎖もしくは分岐のアルキル基であり、Ｒ１０およびＲ１１は水素原子である。更に好ましくは、Ｒ９は水酸基またはメチル基であり、Ｒ１０およびＲ１１は水素原子である。
【００１７】
一般式（５）により表される化合物としては、
６，６’−ジヒドロキシ−４，４，４’，４’，７，７’−ヘキサメチル−２，２’−スピロ−ビス−クロマン、
６，６’−ジヒドロキシ−４，４，４’，４’−テトラメチル−７，７’−ジエチル−２，２’−スピロ−ビス−クロマン、
６，６’−ジヒドロキシ−４，４，４’，４’−テトラメチル−７，７’−ジプロピル−２，２’−スピロ−ビス−クロマン、
６，６’−ジヒドロキシ−４，４，４’，４’−テトラメチル−７，７’−ジブチル−２，２’−スピロ−ビス−クロマン、
４，４，４’，４’−テトラメチル−２，２’−スピロ−ビス−クロマン−６，６’，７，７’−テトラオールなどが挙げられるがこれに限定されるものではない。
一般式（５）により表される化合物としては、好ましくは、
６，６’−ジヒドロキシ−４，４，４’，４’，７，７’−ヘキサメチル−２，２’−スピロ−ビス−クロマン、
４，４，４’，４’−テトラメチル−２，２’−スピロ−ビス−クロマン−６，６’，７，７’−テトラオールであり、より好ましくは、
６，６’−ジヒドロキシ−４，４，４’，４’，７，７’−ヘキサメチル−２，２’−スピロ−ビス−クロマンである。
【００１８】
本発明に用いられる一般式（５）により表される化合物は、特公昭４９−２０９７７号公報に記載のある方法に準じて合成できる（特許文献５参照。）。また、市販品を用いることもできる。
【００１９】
安定化を目的とする有機高分子材料には、一般式（１）の化合物とともにフェノール系酸化防止剤を同時に使用することにより相乗効果が期待される。
フェノール系酸化防止剤として、具体的には、例えば、
ｎ−オクタデシル・３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
１，１，３−トリス［２−メチル−４−［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−５−第３級ブチルフェニル］ブタン、
ビス（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸、
３，９−ビス［２−［３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、
２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、
２，４−ジメチル−６−第３級ブチルフェノール、
２，６−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、
２，６−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、
２，４，６−トリ第３級ブチルフェノール、
ブチル化ヒドロキシアニソール、
イソオクチル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネート、
ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３級ブチル）ベンジルマロネート、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第３級ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、
４，４’−メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノール）、
２，２’−ブチリデンビス（４−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３級ブチルフェノール）、
２，２’−チオビス（４−メチル−６−第３級ブチルフェノール）、
４，４’−チオビス（３−メチル−６−第３級ブチルフェノール）、
スチレン化フェノール、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、
ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウム、
１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、
１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２’−メチレンビス［６−（１−メチルシクロヘキシル）−４−メチルフェノール］、
トリエチレングリコール−ビス［３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］、
エチレングリコール−ビス（３，３−ビス（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチラート）、
２−第３級ブチル−６−（３−第３級ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリラート、
２，２’−オキサミド−ビス［エチル・３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルアニリノ）−２，４−ジオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、
ビス［２−第３級ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルベンジル）フェニル］テレフタレート、
３，９−ビス［２−［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、
１，３，５−トリス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアネート、
２，２−チオジエチレン−ビス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ第３級ペンチルフェニルアクリレートなどが挙げられ、また、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、没食子酸プロピル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシルのそれぞれの化合物も挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２０】
好ましいフェノール系酸化防止剤としては、
ｎ−オクタデシル・３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
１，１，３−トリス［２−メチル−４−［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−５−第３級ブチルフェニル］ブタン、
２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、
ビス（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸、
３，９−ビス［２−［３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどが挙げられる。
特に好ましいフェノール系酸化防止剤としては、
ｎ−オクタデシル・３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンが挙げられる。
中でも特に好ましいフェノール系酸化防止剤としては、
ｎ−オクタデシル・３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタンが挙げられる。
【００２１】
本発明において、これらのフェノール系酸化防止剤の１種または２種以上を併せて用いることができる。
本発明の有機高分子材料組成物に、本発明化合物とともにリン系酸化防止剤を併用することもできる。リン系酸化防止剤としては、特に限定されないが、好ましくは、
トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト、
テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、
ビス−［２−メチル−４，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）フェニル］エチルホスファイト、
２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第３級ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］、および
６−［３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ第３級ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピンなどが挙げられる。
【００２２】
本発明の有機高分子材料組成物に、更に硫黄系酸化防止剤を配合することにより、より安定性に優れた有機高分子材料を得ることができる。
硫黄系酸化防止剤としては、特に限定されないが、好ましくは、
ジラウリルチオジプロピオネート、
ラウリルステアリルチオジプロピオネート、
ジミリスチルチオジプロピオネート、
ジステアリルチオジプロピオネート、
ジトリデシルチオジプロピオネート、
テトラキス［（３−ラウリルチオプロピオニルオキシ）メチル］メタン、
テトラキス［（３−ステアリルチオプロピオニルオキシ）メチル］メタン、
ビス［２−メチル−４−（３−ｎ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１４）チオプロピオニルオキシ）−５−第３級ブチルフェニル］スルフィドなどが挙げられる。
【００２３】
本発明の有機高分子材料組成物には、１種または２種以上の硫黄系酸化防止剤を添加することができる。硫黄系酸化防止剤は、有機高分子材料組成物１００重量部に対し、好ましくは０．００５〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の割合で配合することができる。２種以上の硫黄系酸化防止剤を使用する場合は、その総量が上記範囲となるよう添加することが好ましい。
【００２４】
本発明の有機高分子材料組成物に、更に紫外線吸収剤または光安定剤を配合することにより、より安定性に優れた有機高分子材料を得ることができる。
紫外線吸収剤または光安定剤としては、サリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル系化合物またはピペリジン系化合物などが挙げられる。
【００２５】
紫外線吸収剤として用いることができるサリチル酸系化合物としては、
フェニルサリチレート、
ｐ−第３級ブチルフェニルサリチレート、
ｐ−オクチルフェニルサリチレートなどが挙げられる。
【００２６】
紫外線吸収剤として用いることができるベンゾフェノン系化合物として、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−オクタデシルオキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、
ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトシキフェニル）メタン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン・トリハイドレート、
２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−ベンゾイルオキシベンゾフェノンなどの化合物が挙げられる。
【００２７】
紫外線吸収剤として用いることができるベンゾトリアゾール系化合物としては、
２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、
２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
メチル・３−［３−第３級ブチル−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートと、ポリエチレングリコールとの縮合物、
２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、
２−（２−ヒドロキシ−５−第３級オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾールなどの化合物が挙げられる。
【００２８】
紫外線吸収剤として用いることができるベンゾエート系化合物としては、
ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
２，４−ジ第３級ブチルフェニル・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどの化合物が挙げられる。
【００２９】
紫外線吸収剤として用いることができるシアノアクリレート系化合物としては、
エチル・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、
オクチル・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどが挙げられる。
【００３０】
消光剤として用いることができるニッケル系化合物としては、
２−エチルヘキシルアミン・ニッケル、
ジメチルジチオカルバミン酸ニッケル、
［２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノラート］］−ｎ−ブチルアミン・ニッケル、
［２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノラート］］ニッケルなどの化合物が挙げられる。
【００３１】
光安定剤として用いることができるピペリジン系化合物としては、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
ポリ［［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、
ポリ［（６−モルホリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］（塩化シアヌル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン縮合物）、
１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチルジアミン／２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などの化合物が挙げられる。
【００３２】
紫外線吸収剤または光安定剤として用いることができる好ましい化合物としては、
２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、
２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ポリ［［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］（塩化シアヌル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン縮合物）などが挙げられる。
【００３３】
本発明の有機高分子材料組成物には、１種または２種以上の紫外線吸収剤または光安定剤を添加することができる。
紫外線吸収剤または光安定剤は、有機高分子材料組成物１００重量部に対し、好ましくは０．００５〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の割合で配合することができる。２種以上の紫外線吸収剤または光安定剤を使用する場合は、その総量が上記範囲となるよう添加することが好ましい。
【００３４】
一般式（１）により表される化合物、フェノール系酸化防止剤に加えて、更に必要に応じてリン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤を、有機高分子材料に配合することにより、更に安定化された有機高分子材料組成物を得ることができる。
【００３５】
更に必要に応じて、本発明の有機高分子材料組成物の性能を著しく損なわない程度の他の添加物、例えば、ハイドロタルサイト類、ステアリン酸カルシウムなどの金属石鹸、ヒドラジン系化合物などの重金属不活性化剤、モノアルキル錫トリス（チオグリコール酸オクチルエステル）、ジアルキル錫トリス（チオグリコール酸オクチルエステル）、モノアルキル錫トリス（マレイン酸モノアルキルエステル）またはジアルキル錫トリス（マレイン酸モノアルキルエステル）などの有機錫安定剤、エポキシ化大豆油またはエポキシオクチルステアレートなどのエポキシ化合物、各種の有機顔料、リン酸エステルなどの難燃剤、カチオン系またはアニオン系界面活性剤などの帯電防止剤、脂肪族アミドまたは脂肪酸の低級アルコールエステル類などの滑剤、アクリル系高分子加工助剤、ジ−２−エチルヘキシルフタレートまたはジ−２−エチルヘキシルアジペートなどの可塑剤、酸化アルミニウムなどの充填剤、重炭酸ナトリウムまたはアゾジカルボンアミドなどの発泡剤などの１種以上と併用することもできる。
【００３６】
また、本発明の有機高分子材料組成物に、必要に応じて、結晶核剤、透明化剤などを配合することもできる。
結晶核剤、透明化剤として、
ビス（ｐ−第３級ブチル安息香酸）ヒドロキシアルミニウム、
ビス（４−第３級ブチルフェニル）ホスフェートナトリウム、
２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）ホスフェートナトリウム塩、
ジベンジリデンソルビトール、
ビス（ｐ−メチルベンジリデン）ソルビトール、
ビス（ｐ−エチルベンジリデン）ソルビトール、
ビス（ｐ−クロルベンジリデン）ソルビトール、
ビス（３，４−ジメチルベンジリデン）ソルビトールなどが挙げられる。
【００３７】
上記安定剤を有機高分子に配合する方法は、特に限定されず、従来公知の方法などが挙げられ、例えば、有機高分子と安定剤を混合した後、混練り、押し出しなどの工程を経て処理する方法などが挙げられる。
【００３８】
本発明に係る有機高分子材料組成物は、従来から知られている有機高分子材料の各種成形法、例えば、射出成形法、押出成形法、カレンダー成形法、吹込み成形法、圧縮成形法などによって、目的の製品に成形することができる。製品は特に制限がなく、屋内で使用されるもの、屋外で使用されるもののいずれでもよく、具体的には、電気製品の部品、電子製品の部品、農業機械の部品、農業用製品、水産機械の部品、水産用製品、自動車の部品、日用品、雑貨品などが挙げられる。
【００３９】
本発明の安定剤組成物により安定化される有機高分子としては、合成有機高分子、天然有機高分子が挙げられる。
合成有機高分子としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などの合成樹脂が挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、含ハロゲン系重合体、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、芳香族ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、石油樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ビニルアセタール樹脂、繊維素（セルロース）系樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリオキシベンゾイル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリマレイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、フッ素樹脂、アイオノマー、熱可塑性エラストマーなどが挙げられ、これらの混合物を使用することもできる。
【００４０】
前記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリペンテン、ポリ−３−メチルブチレンなどの炭素数２〜８のα−オレフィン単独重合体；エチレン・プロピレンランダム共重合体、エチレン・プロピレンブロック共重合体、エチレン・ブテン−１ランダム共重合体、プロピレン・エチレン・ブテン−１ランダム共重合体などのα−オレフィン共重合体；無水マレイン酸変性ポリプロピレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体などのα−オレフィンと他の単量体との共重合体などが挙げられ、これらの２種類以上、またはこれらと他の相溶性重合体との混合物を使用することもできる。
これらのポリオレフィン系樹脂は重合後、触媒残渣を除去する工程を入れた僅かに精製処理を行ったものや、比較的高度に精製したもののほかに、高活性触媒を用い、触媒除去工程を経ていないか、または簡略化して得られる触媒残渣を含有するポリオレフィン系樹脂、特にハロゲン含有マグネシウム化合物を触媒担体とするチーグラー型触媒やクロム系触媒を用いて得られ、未だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶性ポリオレフィン系樹脂であってもよい（例えば、特許文献６、７、８参照。）。更にメタロセン系シングルサイト触媒によって得られる分子量分布の非常に狭いポリオレフィン系樹脂であってもよい（例えば、非特許文献１参照。）。
【００４１】
前記含ハロゲン系重合体としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル・アクリル酸アルキルエステル共重合体、塩素化ポリエチレンなどが挙げられる。
前記スチレン系樹脂としては、例えば、ポリスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共重合体、スチレン・ＭＭＡ共重合体、ＡＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、ＡＡＳ樹脂、ＥＥＳ樹脂など、およびこれらの混合物などが挙げられる。
前記アクリル系樹脂としては、例えば、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどが挙げられる。
前記熱可塑性ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどが挙げられる。
前記ポリアミド樹脂としては、例えば、ナイロン４、ナイロン６、ナイロン４・６、ナイロン６・６、ナイロン６・１０、ナイロン７、ナイロン８、ナイロン１２、ナイロン６・１２、ナイロン１１・１２、アラミドなど、およびこれらの混合物などが挙げられる。
また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリウレタン樹脂、フラン樹脂などが挙げられる。
【００４２】
本発明の有機高分子材料組成物に用いられる有機高分子（特に合成樹脂）としては、特にポリオレフィン系樹脂、中でもα−オレフィン単独重合体またはα−オレフィン共重合体が好適である。このような有機高分子に本発明の安定剤組成物を配合した場合、優れた酸化防止効果を示す。かかるα−オレフィンとして最も好適であるのはプロピレンまたはエチレンである。本発明で用いられるポリオレフィン系樹脂として最も好適であるのはポリプロピレンまたはポリエチレンである。
【００４３】
【実施例】
以下、実施例を示して、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、説明中、部は重量部を表す。
【００４４】
流動性の尺度として、有機高分子材料の成形加工性を予想したり、規格表示や品質管理を行なう目的で、メルトマスフローレイト（以下、ＭＦＲともいう。）が、工業的に広く用いられている。このメルトマスフローレイト（ＭＦＲ）は、一定温度で溶融した有機高分子材料を規定の長さと径の円形ダイから一定荷重で押し出すとき、１０分間の流量を重量（ｇ単位）で表した数値であり、溶融粘度の指標として使われている。高分子重合体のうちポリプロピレンの場合には、その数値が小さいほど加工安定性がよく、大きいほど加工安定性が悪いと考えられ、また、ＭＦＲを繰り返し測定することにより、その数値の変動の少ないものがＭＦＲ保持効果が大きく、加工安定性に優れているとされている。
また、添加剤を有機高分子材料に練り込んだ場合、変色度の尺度として黄色度（ＹＩともいう。）も一般的に広く用いられている。黄色度（ＹＩ）はカラーメーターにより測定し、数値の大きいほど変色度または着色度が大きいことを示し、小さいほど加工時の着色が少なく優れているとされている。
【００４５】
［合成例１］
６−α−トコフェリル−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリンの合成
５００ｍＬの４頚コルベンにα−トコフェロール３６．８ｇとトリブチルアミン８０ｍＬを投入し、６−クロロ−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリン２０ｇの１２０ｍＬキシレン溶液を同コルベンに滴下した。滴下後１００℃で４時間反応させた後、溶媒を留去後、充填剤にシリカゲルを用いカラムにより精製し目的物である油状物１５．８ｇを得た。（化合物１）
【００４６】
［合成例２］
２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマンの合成例
５００ｍＬの４頚コルベンに、２，３，５−トリメチルハイドロキノン５０ｇ、塩化亜鉛８ｇ、酢酸３．５ｍＬ、メチルエチルケトン４０ｍＬ、トルエン１５０ｍＬを仕込み加熱した。１００℃のとき、イソプレン２５ｇをトルエン５０ｍＬに加えた溶液を、還流下に、２時間で滴下した。滴下後、更に４時間還流を続け後、室温まで冷却した。反応物を分液ロートに移し５００ｍＬの水で３回洗浄後、溶媒を留去し、６５ｇのオイル状物質を得た。
これを石油エーテル５００ｍＬで再結晶し、融点９４〜９５℃の２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマンの針状結晶を２５ｇ得た。
【００４７】
［合成例３］
６−（２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−クロマノキシ）−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリンの合成
５００ｍＬの４頚コルベンに２，２，５，７，８−ペンタメチル−６−ヒドロキシクロマン３６．８ｇとトリブチルアミン８０ｍＬを投入し、６−クロロ−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリン２０ｇの１２０ｍＬキシレン溶液同コルベンに滴下した。滴下後１００℃で４時間反応させた後、溶媒を留去後、充填剤にシリカゲルを用いカラムにより精製し目的物である白色結晶１５．８ｇを得た。（化合物２）
【００４８】
［実施例］
タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表１記載の配合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダイス設定温度２８０℃）でストランドを押し出し、水冷した後に、切断しペレットを得た。これを４回繰り返した。加工安定性を見るために各回毎に押し出したペレットをＪＩＳ−Ｋ７２１０に準じてメルトマスフローレイト（ＭＦＲ）を測定した。測定温度は２３０℃、測定荷重は２．１６ｋｇｆとした。また、各回毎に押し出したペレットについてＪＩＳ−Ｋ７１０３に準じて黄色度（ＹＩ）を測定した。
配合処方および表１に記載した記号について説明する。
ＰＰ：ポリプロピレン（ホモポリマー）
Ｃａ−Ｓｔ：ステアリン酸カルシウム
Ｔ−ＴＴ：テトラキス［３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタン（株式会社エーピーアイ  コーポレーション製、商品名：「トミノックスＴＴ」）
【００４９】
各実施例で添加したリン系酸化防止剤は、以下のとおりである。
実施例１
合成例１記載の化合物１
実施例２
合成例２記載の化合物２
比較例１
Ｐ１０１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（株式会社エーピーアイ  コーポレーション製、商品名：「ＧＳＹ−Ｐ１０１」）
比較例２
Ｐ２０２：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト（株式会社エーピーアイ  コーポレーション製、商品名「トミホス２０２」）
【００５０】
ＭＦＲ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＭＦＲ値を示した。
ＭＦＲ４欄：４回目に得たペレットにより測定したＭＦＲ値を示した。
ＹＩ１欄：１回目に得たペレットにより測定したＹＩ値を示した。
ＹＩ４欄：４回目に得たペレットにより測定したＹＩ値を示した。
【００５１】
配合処方は、表１に示すように、ポリプロピレン（ＰＰ）を９９．７重量部、ステアリン酸カルシウムを０．１重量部、リン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤（Ｔ−ＴＴ）との総量を０．２重量部としたものである。
【００５２】
【発明の効果】
表１に示した結果から、実施例１および２に記載されているように本発明化合物であるリン系酸化防止剤を添加すると被加工樹脂は着色し難く、加工時の安定性を顕著に改良することが認められた。
2004155749.tif 000007