(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶ディスプレイを製造するプロセスにおいて、加工条件の調整により感光性樹脂材料の利用率を高めると同時に、生産速度を加速し製造コストを低減させ、且つ塗布均一性が良好である液晶ディスプレイの製造方法。【解決手段】少なくとも何れか一辺の長さが８００ｍｍ以上の基板に、当該基板との相対移動速度が５０〜１２０ ｍｍ／ｓｅｃの流延塗布機のスリットダイから、動的表面張力が２５〜３５ ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲にあって且つ上記基板との接触角が８〜２５度である感光性樹脂組成物を塗布して、前記基板表面に膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成する工程、及びウェット塗膜を形成した後、プリベークを行い溶媒を除去して膜厚Ｌ２のプレベーク塗膜を形成する工程を含んでおり、前記膜厚Ｌ１は８〜２５μｍで、且つ膜厚Ｌ１／膜厚Ｌ２が３．２〜１５．０である液晶ディスプレイの製造方法。【選択図】図２
2004233993.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも何れか一辺の長さが８００ｍｍ以上の基板に、当該基板との相対移動速度が５０〜１２０ ｍｍ／ｓｅｃの流延塗布機のスリットダイから、動的表面張力が２５〜３５ ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲にあって且つ前記基板との接触角が８〜２５度である感光性樹脂組成物を塗布して、前記基板表面に膜厚Ｌ１のウェット塗膜を形成する工程、及び
ウェット塗膜を形成した後、プリベークを行い溶媒を除去して膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成する工程を含んでおり、
前記膜厚Ｌ１は８〜２５μｍで、且つ膜厚Ｌ１／膜厚Ｌ２が３．２〜１５．０であることを特徴とする液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記スリットダイの吐出口と基板表面とのギャップが５０〜２００μｍである請求項１に記載の液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記膜厚Ｌ１が８〜２０μｍである請求項１に記載の液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記膜厚Ｌ１が１０〜２０μｍである請求項１に記載の液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項５】
前記Ｌ１／Ｌ２が３．５〜１０．０である請求項１に記載の液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記Ｌ１／Ｌ２が４．０〜８．０である請求項１に記載の液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項７】
前記基板とスリットダイとは、６０〜１１０ｍｍ／ｓｅｃの相対速度で直線移動しつつ感光性樹脂組成物を塗布する請求項１に記載の液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項８】
前記スリットダイの吐出口と基板表面とのギャップが６０〜１８０μｍである請求項２に記載の液晶ディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶ディスプレイを製造するプロセスにおいて、流延塗布法にて感光性樹脂材料を塗布して感光性樹脂材料の利用率を高め、同時に加工条件の調整により生産速度を加速し製造コストを低減させる液晶ディプレーの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイの製造において、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）基板及びカラーフィルター基板を含めて、基板サイズの大型化は必然の傾向であって、最初の３２０ｍｍ×４００ｍｍの第一世代基板から、３７０ｍｍ×４７０ｍｍの第二世代基板、５５０ｍｍ×６５０ｍｍの第三世代基板を経て、近年では、６８０ｍｍ×８８０ｍｍ〜７３０ｍｍ×９２０ｍｍの第四世代基板が開発されるに至っている。基板サイズの大型化の目的としては、大型ディスプレイのニーズへの対応、製造コストの低減化などが挙げられる。今後基板サイズの大型化に関する動向は、少なくとも一辺の長さが１０００ｍｍ以上となる第五世代以上の基板に向かっており、かかる基板としては、例えば９６０ｍｍ×１１００ｍｍ、１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ、１１００ｍｍ×１３００ｍｍ、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ、１８００ｍｍ×２０００ｍｍなどの基板が挙げられる。一方において、基板サイズの大型化の傾向に伴って基板に感光性樹脂材料を塗布する方式も変化してきている。
【０００３】
即ち、基板のサイズが５５０ｍｍ×６５０ｍｍ以下の場合では、感光性樹脂材料の塗布方式は回転塗布（Spin  coating）が主流である。この回転塗布では、図１に示したように、基板１１をステージ１２に設置してレジストを基板１１の表面１１１に滴下した後、ステージ１２をゆっくりと回してレジストを均等に分散するようにし、最後に回転速度を上げて、レジストを遠心力の作用により基板１１の表面１１１に均一に塗布することにより、レジスト材料層１３を形成することができる。
【０００４】
上記回転塗布の利点は膜厚の制御がし易いことであるが、一方欠点としては、ステージ１２を回転させる時にレジスト材料の利用効率が極めて低く、約９０％以上のレジスト材料が基板外に放出されること、且つ、レジスト材料の利用効率が低減されるだけでなく基板上の膜厚精度も悪くなることが挙げられる。また基板１１上に回転塗布によりレジストを塗布する方法においては、遠心力によりレジストが拡散し基板中心部は均一な膜厚が得られるが、基板の周辺部においては中心部に比べて厚膜になる傾向がある。更に、基板の周辺部の不要のレジスト分を除去するために洗浄装置を通して洗浄除去液などを用いる必要がある。その結果、回転塗布による塗布方式では、洗浄設備及び洗浄液などのコストが増えると同時に製造プロセスが繁雑で、稼働率が悪くなるという欠点がある。
【０００５】
基板サイズが７３０ｍｍ×９２０ｍｍ以上の場合には、レジスト材料の使用量を節約するために、レジストの塗布方式は、回転塗布法から流延―回転塗布法（slit‐spin  coating）に変更される。この方法ではレジストを流延塗布法で基板に塗布し、次いで基板を回転してレジストを基板上に均一に分布させることができる。この流延―回転塗布方式の利点はレジスト材料の使用量が大幅に低減されることで、材料の利用効率が約２０％になる点であるが（回転塗布法における材料の利用効率は約１０％である）、一方で、基板の周辺部の不要のレジスト分を除去することができないため、洗浄設備及び洗浄液などのコストも増えるという欠点もある。従って基板のサイズが５５０ｍｍ×６５０ｍｍ以下の初期段階で実施されていた回転塗布法にしても、近年の流延―回転塗布法にしても、それぞれの製造プロセスに回転工程が存在する以上、レジストの利用効率が悪いだけでなく製造乃至加工プロセスが煩雑であるなどの欠点が依然として残っている。
【０００６】
今後、基板サイズが大型化し、少なくとも一辺の長さが１０００ｍｍ以上となった時には、感光性樹脂材料の使用効率を改良するために、フォトレジストの塗布方式は“非回転塗布”の方式が使用されることが確実視されており、例えば、回転塗布を使わない流延塗布という方法（以下流延塗布法と称す）の使用が検討されている。例えば非特許文献１には、流延塗布法を用いて基板の大型化に対応した第五世代のカラーフィルター製造についての技術が述べられている。また非特許文献２には、流延塗布装置を液晶ディスプレイ製造技術に応用したことが述べられている。
上述の流延塗布は回転塗布と異なり感光性樹脂材料の利用効率が、事実上、１００％で、塗布材料の費用が大幅に低減されると共に、基板の周辺部の不要のレジスト分がなくなり、洗浄設備及び洗浄液などのコストが増えるという欠点が改良される。その結果製造コストを有効に削減することができる。
【０００７】
しかし流延塗布法を使用した場合には、線状残痕、雲状残痕が生じ易く、また基板内部の塗布均一性が悪くなって、基板周辺部の膜厚偏差が高いという問題がある。この為、特に最近のテレビ、パソコンなどの大型画面化に伴い、画面全体の均一性を確保するということが困難になってきた。
【非特許文献１】株式会社テクノタイムズ社発行、２００２年１１月号の「月刊ディスプレイ」第３６頁
【非特許文献２】工業調査会発行、２００２年６月号別冊「電子材料」（日本語版）第１０７頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、その課題は、液晶ディスプレイ用大型基板に塗布する際に、線状残痕、雲状残痕を生じることなく、基板内部の塗布均一性に優れており、基板周辺の膜厚偏差が低くて、且つ加工条件（又は製造条件）を調整することにより、塗布するフォトレジストの利用効率を高めると同時に、生産速度が高められて、製造コストが低減された液晶ディプレイの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、本発明の液晶ディプレーの製造方法により解決される。
即ち、本発明の液晶ディスプレイの製造方法は、少なくとも何れか一辺の長さが８００ｍｍ以上の基板に、当該基板との相対移動速度が５０〜１２０ ｍｍ／ｓｅｃの流延塗布機のスリットダイから、動的表面張力が２５〜３５ ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲にあって且つ上記基板との接触角が８〜２５度である感光性樹脂組成物を塗布して、前記基板表面に膜厚Ｌ１のウェット塗膜を形成する工程、及びウェット塗膜を形成した後、プリベークを行い溶媒を除去して膜厚Ｌ２のプレベーク塗膜を形成する工程を含んでおり、前記膜厚Ｌ１は８〜２５μｍで、且つＬ１／Ｌ２が３．２〜１５．０であることを特徴とする。
【００１０】
上記本発明において、前記スリットダイの吐出口と基板表面とのギャップは５０〜２００μｍであることが望ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の製造方法を採用することにより、後述の実施例及び比較例において一層明らかに立証しているように、前記従来の課題、即ち「回転塗布」加工法にて感光性樹脂組成物を基板上に塗布する際に生じていた、基板内部塗布均一性が悪い、基板周辺の膜厚偏差が高い、及び塗布線状残痕を生じるなどの不良現象を改善することができ、ディスプレイ製品の合格率を高めることができる。即ち、本発明により、プリベーク後に塗布線状残痕が生じることなく、基板周辺の膜厚偏差が小さく、更に基板内部の塗布均一性に優れた液晶ディプレイを製造することができ、且つ流延塗布法の採用により、塗布される感光性樹脂組成物の利用効率を高めることもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における大型基板としては、少なくとも何れか一辺の長さ（例えば基板において交差する両辺のうちの何れか一辺の長さ）が８００ｍｍ以上のものであって、例えば液晶ディスプレイなどに用いられる無アルカリ性ガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス及びこれらのガラスに透明導電膜、クロム膜或はモリブデン膜などのメッキ膜を付着させたものや、固体撮像素子などに用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等などが挙げられる。これらの基板には一般に各画素を隔離するブラックマトリックス（遮光幕）が形成されている。
【００１３】
本発明において、感光性樹脂組成物は塗布、プリベーク、露光、現像、ポストベーク等の後の加工工程を経て基板上にフォトレジスト材料層を形成する。本発明で述べられている感光性樹脂組成物の種類としては、その機能乃至用途によって異なるが、一般にブラックマトリックス用感光性樹脂組成物、カラーフィルター用感光性樹脂組成物、フォトスペーサー用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜用感光性樹脂組成物及びポジ型レジスト等が挙げられる。
【００１４】
ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物及びその他のカラーフィルター用感光性樹脂組成物は、一般には有機又は無機顔料をエポキシ類、アクリル酸類、ポリイミド類、ウレタン類、ポリエステル類或いはポリビニル類などのバインダー樹脂に分散させた感光性樹脂組成物として得られるが、好ましいのはアクリル酸類のラジカル重合型感光性樹脂組成物を採用して得られたネガ型レジストである。かかるネガ型レジストの具体的な成分としては、アクリル酸類樹脂（例えばメタクリル酸／スチレン／メチルメタクリレートの共重合体）、エチレン性不飽和基含有の化合物（例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メチル）アクリレート）、顔料、光重合開始剤、溶剤及びその他の添加剤等が含有される。
フォトスペーサー用感光性樹脂組成物の具体的な成分としては、エポキシ基含有のアクリル酸類樹脂（例えばメタクリル酸グリシジル／メタクリル酸／スチレンの共重合体）、エチレン性不飽和基含有の化合物、光重合開始剤、溶剤及びその他の添加剤等が含有される。
【００１５】
薄膜トランジスタを製造する場合に使用される層間絶縁膜用感光性樹脂組成物の成分としては、バインダー樹脂、感光剤、溶剤及び添加剤などが含有される。この内、バインダー樹脂としては、例えばノボラック樹脂、ポリイミド樹脂及びアクリル酸類樹脂等を使用できる。また感光剤としてはナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化物（NQDと略称する）を使用でできる。ポジ型レジストは一般にアルカリ可溶性樹脂及び感光剤NQDを含有して構成され、そのアルカリ可溶性樹脂は主としてノボラック樹脂である。
【００１６】
次に図２に基づき、本発明における液晶ディスプレイの製造方法の一例をより具体的に示す。この図２に示す流延塗布法の製造工程では、流延塗布装置上のステージ２１に基板２２を配置し、更にステージの上方に、基板２２に対して移動できるスリットダイ２３を配置する。そしてポンプで感光性樹脂組成物をスリットダイ２３のタンクへ送り込み、スリットダイ２３を基板２２の開始端から終止端に向けて相対的に直線移動させながら、スリットダイ２３のタンクに入った感光性樹脂組成物を、スリットダイ２３の底部に存在する吐出口２３１から流出させて、基板２２の表面２２１に塗布し、その表面に溶媒を含んだ膜厚Ｌ１となるウエット塗膜２４を形成する。図２に於いては、上記の吐出口２３１と表面２２１との間のギャップを符号Ｇで示している。
【００１７】
その後、ウエット塗膜２４をプリベークして感光性樹脂組成物中の溶媒を蒸発させ、膜厚Ｌ２となるプリベーク塗膜を形成する。上記プリベーク塗膜の形成に際しては、先ずは真空乾燥方式で感光性樹脂組成物中の大部分の溶媒を蒸発させ、引き続きプリベーク処理を行って溶媒を除去することができる。プリベークを行う時の温度範囲は、感光性樹脂組成物が急速な熱分解を引き起さない程度の温度範囲であり、通常は８０℃前後乃至１３０℃の範囲である。プリベーク処理を通して感光性樹脂組成物中の溶媒を除くことにより、本発明におけるプリベーク塗膜が形成される。
【００１８】
成型後にプリベーク塗膜が塗布（形成）された基板２２は、所定のマスクを介して露光してから、現像、ポストベーク等の後段工程が行われる。露光の操作は一般にｇ線、ｈ線、ｉ線などの紫外線が好ましく、紫外線ランプとしては高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが望ましい。現像の操作では、露光後の塗膜を現像液に浸漬して不要のレジストを取り除くことにより所要の図案パターンが形成される。ポストベーク処理の操作では、所定の温度下で感光性樹脂パターンに残存する揮発分を取り除き、同時に感光性樹脂組成物に架橋反応を引き起させて完全に硬化させる。上記の露光、現像などは公知技術を採用することができ、これらは本発明における改良の特徴乃至重点ではないので更なる説明は省略する。
【００１９】
少なくとも一辺の長さが８００ｍｍ以上の基板に感光性樹脂組成物を「流延塗布」加工するに当たり、これ迄述べたような本発明の効果を得るためには、以下の条件を満たすように調整するのが良い。
【００２０】
（１）ウエット塗膜２４の膜厚Ｌ１を８〜２５μｍの範囲に制御する必要があり、好ましくは８〜２０μｍ、更に好ましくは１０〜２０μｍに制御する。後述の実施例などの実験でも立証されたように、本発明のウエット塗膜２４の膜厚Ｌ１が８μｍ未満であると、塗布された感光性樹脂材料は基板２２（特に一辺の長さが８００ｍｍ以上のものを指す）の周辺部の膜厚偏差が大きくなり、また塗布した後に線状残痕などの不良現象が生じる。一方ウエット塗膜２４の膜厚Ｌ１が２５μｍを越えると基板内部の塗布均一性が悪くなる。
【００２１】
（２）本発明において、ウエット塗膜２４の膜厚Ｌ１とプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２との比（Ｌ１／Ｌ２）は３．２〜１５．０の間、好ましくは３．５〜１０．０、更に好ましくは４．０〜８．０の範囲内となるように調整する。本発明で形成されるプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は、使用されるそれぞれの感光性樹脂組成物の違いによって異なり、一般にはカラーフィルター用感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物及びポジ型レジストについては０．８〜３．０μｍ、好ましくは１．０〜２．０μｍであり、一方フォトスペーサー用感光性樹脂組成物については、通常２．０〜１０．０μｍ、好ましくは３．０〜６．０μｍである。後述の実施例などの実験でも立証されたように、カラーフィルター用感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物、ポジ型レジスト、及びフォトスペーサー用感光性樹脂組成物の何れにしても、ウエット塗膜２４の膜厚Ｌ１が８．０〜２５．０μｍの範囲にあって、且つＬ１／Ｌ２が３．２〜１５．０であると基板内部の塗布均一性に優れ、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして線状残痕が生じない。
【００２２】
（３）本発明において、スリットダイ２３と基板２２との移動（直線移動）に際しての両者間の相対速度Ｓ（相対移動速度Ｓ）は、５０〜１２０ｍｍ／ｓｅｃ、更に好ましくは６０〜１１０ｍｍ／ｓｅｃの範囲である。上記の相対移動速度Ｓは、基板２２が動かずにスリットダイ２３が移動する態様（モデル）、或はスリットダイ２３が動かずに基板２２が移動する態様（モデル）、或は大型基板２２とスリットダイ２３とが双方共に移動する態様（モデル）の何れでも良い。即ち、ウエット塗膜２４を塗布する工程において、基板２２とスリットダイ２３とを、両者間の相対速度を一定にして移動させれば本発明の予期する目的が達せられる。後述の実施例などの実験でも立証されたように、該相対移動速度が１２０ｍｍ／ｓｅｃを越えると基板２２の先端に未塗布の現象が生じ、その結果、塗布均一性が悪くなる。一方、相対移動速度が５０ｍｍ／ｓｅｃ未満であると生産速度が大幅に低下し、生産効率の低減を引き起こす。
【００２３】
（４）本発明において、スリットダイ２３の吐出口２３１と基板２２の表面２２１との間のギャップＧは、５０〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、更に６０〜１８０μｍの範囲内であることが好ましい。上記のギャップＧが２００μｍを越えるとウエット塗膜２４は、基板２２の周辺部において膜厚偏差が大きくなる。一方当該ギャップＧが５０μｍ未満であると塗布後に線状残痕などの不良現象が生じる。
【００２４】
（５）本発明において、感光性樹脂組成物の動的表面張力は２５〜３５ｄｙｎｅ／ｃｍ、更に好ましくは２８〜３３ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内である。上記の動的表面張力が３５ｄｙｎｅ／ｃｍを越えると、基板の先端で未塗布の現象が生じて塗布均一性が悪くなる。一方、動的表面張力が２５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、基板周辺の膜厚偏差が大きくなる。
【００２５】
（６）本発明において、感光性樹脂組成物と基板との接触角は８〜２５度、好ましくは１０〜２３度、更に好ましくは１２〜２２度の範囲内である。上記の接触角が２５度を越えると基板の先端で未塗布の現象が生じて塗布均一性が悪くなる。一方接触角が８度未満であると基板周辺の膜厚偏差が大きくなる。
【実施例】
【００２６】
以下に示す実施例及び比較例では、次に示す項目について検査乃至評価を行った。
〔検査方法〕
（１）「塗布線状残痕」  流延塗布法により、感光性樹脂組成物を１１００ｍｍ×９６０ｍｍの大型ガラス基板に塗布し、且つ８５℃で５分間プリベーキングした後、感光性樹脂組成物の塗膜を得た。そしてナトリウムランプを用いて、“線状残痕”の現象を目視で検査した。線状残痕は水平線状残痕及び垂直線状残痕を含んでおり、その形状は図３に示したように現れる。
【００２７】
（２）「膜厚の検査」  流延塗布法により、感光性樹脂組成物を１１００ｍｍ×９６０ｍｍの大型ガラス基板に塗布し、且つ８５℃で５分間プリベーキングした後、感光性樹脂組成物の塗膜を得た。Tencor社製のα−step型の針接触式測定器を用いて塗膜の膜厚を測定した。この膜厚の測定点を図４に示す。
【００２８】
膜厚ＦＴ（ａｖｇ）として、９つの測定点、即ち（ｘ［ｍｍ］，ｙ［ｍｍ］）が、（２４０，２７５），（４８０，２７５），（７２０，２７５），（２４０，５５０），（４８０，５５０），（７２０，５５０），（２４０，８２５），（４８０，８２５），（７２０，８２５）の位置に於ける膜厚の平均値を得、また基板周辺膜厚ＦＴ（ｅｄｇｅ） として、（ｘ［ｍｍ］，ｙ［ｍｍ］）が、（１０，５５０）の位置における膜厚を得た。
【００２９】
そして、これらの値に基づき、｜（ＦＴ（ｅｄｇｅ）− ＦＴ（ａｖｇ））／ＦＴ（ａｖｇ）｜×１００％≦３％の時は膜厚偏差が小さいと評価し、｜（ＦＴ（ｅｄｇｅ）− ＦＴ（ａｖｇ））／ＦＴ（ａｖｇ）｜×１００％＞３％の時は膜厚偏差が大きいと評価した。
【００３０】
（３）「基板内部の塗布均一性」  上記の９点での膜厚ＦＴ（ｘ，ｙ）と９点の膜厚の平均値ＦＴ（ａｖｇ）との差値について、９点の全てにおいて、｜ＦＴ（ｘ，ｙ）−ＦＴ（ａｖｇ）｜／ＦＴ（ａｖｇ） ×１００％≦３％の時に、基板内部塗布均一性に優れていると評価し、一方、前記９点の内、少なくとも何れかの点において、｜ＦＴ（ｘ，ｙ）−ＦＴ（ａｖｇ）｜／ＦＴ（ａｖｇ） ×１００％＞３％となる時には、基板内部塗布均一性が悪いと評価した。
【００３１】
（４）「動的表面張力」  協和界面科学株式会社製のＢＰ−Ｄ３型表面張力計を用いて、温度４０℃及び２００ｍｓ／泡の条件下で感光性樹脂組成物の動的表面張力を測定した。以下に示す実施例及び比較例における単位はｄｙｎｅ／ｃｍである。
【００３２】
（５）「接触角」  液滴法（Sessile  Drop法）により感光性樹脂組成物を大型ガラス基板に滴下して、滴下３０秒後の角度を接触角計（協和界面科学株式会社製のＣＡ−ＶＰ１５０型接触角計）を用いて測定した。以下に示す実施例及び比較例における単位は度である
【００３３】
〔実施例及び比較例〕
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。以下に示す本発明の各実施例は、主に透過式ＴＦＴ−ＬＣＤの製造方法を例にして実施したものであるが、本発明は、何らこれらの実施例に制約されるものではない。本発明の製造方法を使用して得られた液晶ディスプレイでは、全て本発明に記載した効果又は同等の効果を得ることができる。
【００３４】
「ポジ型レジストの合成例」
下記の表１に示す配合でポジ型レジストＩ−１，Ｉ−２，Ｉ−３を合成した。
【００３５】
【表１】
2004233993.tif 000003
ａ  クレゾールノボラック樹脂，メタ：パラ=50：50，Mw(重量平均分子量)=5230
ｂ  クレゾールノボラック樹脂，メタ：パラ=70：30，Mw(重量平均分子量)=2180
（Ｂ−１）  2,3,4-トリヒドロキシジベンゾフェノンと1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸のエステル化物、エステル化率=83%
（Ｂ−２）  2,3,4,4’-テトラヒドロキシジベンゾフェノンと1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸のエステル化物、エステル化率=87.5%
ＰＧＭＡ  プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
γ−ｂｕｔｙｒｏｌａｃｔｏｎｅ  γ-ブチロラクトン
界面活性剤−１      商品名フロラードFC-430(住友3M社製)
界面活性剤−２      商品名SF-8427(Toray Dow Corning Silicon社製)
【００３６】
「ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物の合成例」
下記の表２に示す配合でブラックレジストＩＩ−１，ＩＩ−２，ＩＩ−３を合成した。
【００３７】
【表２】
2004233993.tif 000004
ＭＡＡ      メタクリル酸モノマー
ＢｚＭＡ    ベンジルメタクリレートモノマー
ＭＡ        メチルアクリレートモノマー
ＤＰＨＡ    ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Ｃ−１      2-ベンジル-2-N,N-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン
Ｃ−２      4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
Ｃ−３      2-(2-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体
【００３８】
「赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の合成例」
下記の表３に示す配合で赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物ＩＩＩ−１，ＩＩＩ−２，ＩＩＩ−３，ＩＩＩ−４，ＩＩＩ−５，ＩＩＩ−６，ＩＩＩ−７を合成した。
【００３９】
【表３】
2004233993.tif 000005
ＤＰＭ      ジプロピレングリコールメチルエーテル
【００４０】
「スペーサー用感光性樹脂組成物の合成例」
下記の表４に示す配合でスペーサー用感光性樹脂組成物ＩＶ−１、ＩＶ−２、ＩＶ−３を合成した。
【００４１】
【表４】
2004233993.tif 000006
ＧＭＡ          グリシジルメタクリレートモノマー
ＴＢＭＡ        ｔ−ブチルメタクリレート
ＳＭ            スチレンモノマー
Ｄｉｇｌｙｍｅ  ジエチレングリコールジメチルエーテル
【００４２】
〔実施例１〕
主成分がノボラック樹脂及びＮＱＤ感光剤であるポジ型レジストＩ−１（動的表面張力が２９．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角が１９．３度、固形分が１０．０重量％）を、塗布幅が１１００ｍｍのスリットダイにポンプで連続的に送り込み、そしてそのポジ型レジストＩ−１の溶液をダイの吐出口からステージに配置してあるガラス基板に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ガラス基板は、その厚さが０．７ｍｍで、寸法が９６０ｍｍ×１１００ｍｍであり、またポジ型レジストの吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、固定されたダイに対する基板の移動速度（相対移動速度）は１００ｍｍ／ｓｅｃで、ダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。なおポジ型レジストＩ−１の固形分の含量は加熱法で測定した（以下の実施例、比較例でも同じ）。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（１１０℃で１６０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は１．５μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝１０であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００４３】
〔実施例２〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。カーボンブラックをアクリル酸類樹脂に分散させたものを主成分とするブラックマトリックス用感光性樹脂組成物ＩＩ−１（動的表面張力は３０．３ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１６．１度、固形分は１３．３重量％）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００４４】
〔実施例３〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸類樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩＩ−１（動的表面張力は２９．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．５度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００４５】
〔実施例４〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ３６系緑色顔料をアクリル酸類樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（他の成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３１．１ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．３度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。緑色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００４６】
〔実施例５〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ１５：６系青色顔料をアクリル酸類樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（他の成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．６ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．６度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。青色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００４７】
〔実施例６〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であったが、基板の表面には厚さ０．１５μｍの透明導電膜（ＩＴＯ膜）を付着させた。アクリル酸類樹脂を主成分とするスペーサー用感光性樹脂組成物ＩＶ−１（動的表面張力は２８．２ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．６度、固形分は２６．７重量％）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。スペーサー用感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１５０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は４．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝３．７５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００４８】
〔実施例７〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であったが、基板の表面には厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜を付着させた。ノボラック樹脂及びＮＱＤ感光剤を主成分とするポジ型レジスト（溶剤をＰＧＭＥＡ１４１２重量部、γ−ブチロラクトン１４１重量部に変えた以外、その他の成分はＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．２ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１７．１度、固形分は８．０重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ポジ型レジストの吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（１１０℃で１６０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は１．２μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝１２．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００４９】
〔実施例８〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であったが、基板の表面には厚さ０．１５μｍのモリブデン膜を付着させた。ノボラック樹脂及びＮＱＤ感光剤を主成分とするポジ型レジスト（成分はＩ−１と同様であって、動的表面張力は２９．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１９．４度、固形分は１０．０重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ポジ型レジストの吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（１１０℃で１６０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例においてウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は１．５μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝１０．０であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５０】
〔実施例９〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４赤色顔料をアクリル酸類樹脂（アルカリ可溶性樹脂）に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（溶剤をＰＧＭＥＡ１１８４重量部、γ−ブチロラクトン１８４重量部に変えた以外、他の成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３１．２ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は２２．８度、固形分は２０．０重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１１６２μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１０μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝５．０であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５１】
〔実施例１０〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（溶剤をＰＧＭＥＡ２６６４重量部、γ−ブチロラクトン４１４重量部に変えた以外、他の成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．７ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１４．２度、固形分は１０．０重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は２３５０μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は２０μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝１０．０であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５２】
〔実施例１１〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は２９．２ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．４度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は５５ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５３】
〔実施例１２〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は２９．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．５度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１１５ｍｍ／ｓｅｃで、ダイの出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５４】
〔実施例１３〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．４ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．３度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは６０μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５５】
〔実施例１４〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は２９．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．６度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１８０μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５６】
〔実施例１５〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩＩ−２（動的表面張力は３１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．８度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５７】
〔実施例１６〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩＩ−３（動的表面張力は２９．２ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．５度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃ、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性も優れていた。
【００５８】
〔実施例１７〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩＩ−４（動的表面張力は３１．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．７度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本実施例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕は生じず、基板周辺の膜厚偏差が小さく、そして基板内部の塗布均一性に優れていた。
【００５９】
〔比較例１〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（溶剤をＰＧＭＥＡ６００重量部、γ−ブチロラクトン９４重量部に変えた以外、他の成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．２ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は３３．８度、固形分は３３．０重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は７００μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は６μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝３．０であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性は悪く、塗布線状残痕を生じ、基板周辺の膜厚偏差も大きかった。
【００６０】
〔比較例２〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（溶剤をＰＧＭＥＡ４９８９重量部、γ−ブチロラクトン７７６重量部に変えた以外、他の成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．７ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１４．２度、固形分は５．６重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は３５０２μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は３６μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝１８であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００６１】
〔比較例３〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は２９．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．３度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１４０ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プレベーク後のプレベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００６２】
〔比較例４〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．５度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは４０μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕が生じた。
【００６３】
〔比較例５〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（成分はＩＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は２９．６ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．３度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは２５０μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板周辺の膜厚偏差が大きかった。
【００６４】
〔比較例６〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ノボラック樹脂及びＮＱＤ感光剤を主成分とするポジ型レジスト（溶剤をＰＧＭＥＡ３６４重量部、γ−ブチロラクトン４１重量部に変えた以外、他の成分はＩ−１と同様であって、動的表面張力は３０．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は２０．１度、固形分は２５．０重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ポジ型レジストの吐出速度は７００μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（１１０℃で１６０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は６μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は１．５μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝４．０であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕が生じ、基板周辺の膜厚偏差も大きかった。
【００６５】
〔比較例７〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。カーボンブラックをアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物（溶剤をＰＧＭＥＡ５９３重量部、γ−ブチロラクトン９２重量部に変えた以外、他の成分はＩＩ−１と同様であって、動的表面張力は３１．１ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は３３．５度、固形分は３３．３重量％で、樹脂製のブラックマトリックス用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物の吐出速度は７００μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は６μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝３．０であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性は悪くて、塗布線状残痕が生じ、基板周辺の膜厚偏差も大きかった。
【００６６】
〔比較例８〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。アクリル酸系樹脂を主成分とするスペーサー感光性樹脂組成物（溶剤をｄｉｇｌｙｍｅ２９０重量部、γ−ブチロラクトン３３重量部に変えた以外、他の成分はＩＶ−１と同様であって、動的表面張力は３１．２ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１８．９度、固形分は４０．０重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。スペーサー用感光性樹脂組成物の吐出速度は１１８０μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１５０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１０μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は３．５μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝２．８であった。
プリベーク後に観察した結果、塗布線状残痕が生じ、基板周辺の膜厚偏差も大きかった。
【００６７】
〔比較例９〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩＩ−５（動的表面張力は３０．６ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は２８．３度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００６８】
〔比較例１０〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩＩ−６（動的表面張力は３７．７ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．４度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００６９】
〔比較例１１〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。ＣＩ２５４系赤色顔料をアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩＩ−７（動的表面張力は１９．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．３度、固形分は１３．３重量％で、カラーフィルター用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（８０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板周辺の膜厚偏差が大きかった。
【００７０】
〔比較例１２〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。カーボンブラックをアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩ−２（動的表面張力は２９．７ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は２８．１度、固形分は１３．３重量％で、樹脂製のブラックマトリックス用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００７１】
〔比較例１３〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であった。カーボンブラックをアクリル酸系樹脂に分散させたものを主成分とする感光性樹脂組成物ＩＩ−３（動的表面張力は３７．５ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．８度、固形分は１３．３重量％で、樹脂製のブラックマトリックス用のもの）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃ、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１２０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は２．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝７．５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００７２】
〔比較例１４〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であったが、基板の表面には厚さ０．１５μｍの透明導電膜（ＩＴＯ膜）を付着させた。アクリル酸系樹脂を主成分とするスペーサー用感光性樹脂組成物ＩＶ−２（動的表面張力は３２．３ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は２７．２度、固形分は２６．７重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。スペーサー用感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃ、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１５０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は４．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝３．７５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００７３】
〔比較例１５〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であったが、基板の表面には厚さ０．１５μｍの透明導電膜（ＩＴＯ膜）を付着させた。アクリル酸系樹脂を主成分とするスペーサー用感光性樹脂組成物ＩＶ−３（動的表面張力は３８．１ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１５．４度、固形分は２６．７重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。スペーサー用感光性樹脂組成物の吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃ、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃ、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（９０℃で１５０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は４．０μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝３．７５であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００７４】
〔比較例１６〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であったが、基板の表面には厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜を付着させた。ノボラック樹脂及びＮＱＤ感光剤を主成分とするポジ型レジストＩ−２（動的表面張力は３１．９ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は２８．５度、固形分は１０．０重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ポジ型レジストの吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃで、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（１１０℃で１６０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は１．５μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝１０．０であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
【００７５】
〔比較例１７〕
ガラス基板の寸法及び操作は実施例１と同様であったが、基板の表面には厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜を付着させた。ノボラック樹脂及びＮＱＤ感光剤を主成分とするポジ型レジストＩ−３（動的表面張力は３７．７ｄｙｎｅ／ｃｍ、接触角は１９．６度、固形分は１０．０重量％であった）を基板上に塗布して膜厚Ｌ１のウエット塗膜を形成した。ポジ型レジストの吐出速度は１７６８μＬ／ｓｅｃ、スリットダイと基板との相対移動速度は１００ｍｍ／ｓｅｃで、スリットダイの吐出口と基板の表面との間のギャップは１００μｍであった。そしてウエット塗膜を形成した後、プリベーク（１１０℃で１６０秒）を行い、膜厚Ｌ２のプリベーク塗膜を形成した。本比較例において、ウエット塗膜の膜厚Ｌ１は１５μｍで、プリベーク後のプリベーク塗膜の膜厚Ｌ２は１．５μｍであり、Ｌ１／Ｌ２＝１０．０であった。
プリベーク後に観察した結果、基板内部の塗布均一性が悪かった。
以上に述べた内容は、本発明の比較的良い実施例であり、それをもって本発明の実施範囲を限定するものではない。本発明の請求特許の範囲及び発明説明書内容に基づいて行った容易又は均等な変更及び修飾は、すべて本発明の特許請求の範囲に記載した技術の範疇に含まれるものと主張する。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】回転塗布法により光レジスト材料を基板上に塗布する状態を示す略図
【図２】流延塗布法により光レジスト材料を基板上に塗布する状態を示す略図
【図３】線状残痕及び雲状残痕を示す略図
【図４】膜厚の測定点を示す略図
【符号の説明】
【００７７】
１１，２２    基板
１２，２１    ステージ
１３         レジスト材料層
２３         スリットダイ
２４         ウエット塗膜
１１１         基板１１の表面
２２１         基板２２の表面
２３１        吐出口
Ｇ            ギャップ
Ｌ１          ウエット塗膜の膜厚
【図１】
2004233993.tif 000007
【図２】
2004233993.tif 000008
【図３】
2004233993.tif 000009
【図４】
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