(57)【要約】　　【課題】　　２つの表示板の間隔を均一に維持するとともに液晶物質層を容易に形成できる液晶表示装置用表示板及びその製造方法とその表示板を含む液晶表示装置を提供する。【解決手段】　　液晶表示装置用表示板上には少なくとも２種類以上の互いに異なる高さまたは接触面積を有する基板間隔材が形成されており、この基板間隔材の接触面は円形または四角形とすることができ、第１基板間隔材の高さは第２基板間隔材より０．３〜０．６μｍ範囲程と低く、直径または辺の長さは１０〜２０μｍ範囲程と大きいのが好ましい。【選択図】　　　図３
2004118200.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
　基板と前記基板上に配置されていて前記基板を支持している基板間隔材を含む液晶表示装置用基板において、
　前記基板間隔材は少なくとも二種類以上の異なる高さまたは接触面積を有する表示装置用表示板。
【請求項２】
　前記基板間隔材が前記基板に接する接触面は円形または四角形である請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項３】
　前記基板間隔材が第１基板間隔材と前記第１基板間隔材より高さが低く前記第１基板間隔材より広い接触面積で前記基板と接している第２基板間隔材とを含む請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項４】
　前記第２基板間隔材の高さは前記第１基板間隔材の高さより０．３〜０．６μｍの範囲で低いことを特徴とする請求項３に記載の表示装置用表示板。
【請求項５】
　前記第２基板間隔材は前記第１基板間隔材より１０〜２０μｍの範囲で大きい直径または辺を有する請求項３に記載の表示装置用表示板。
【請求項６】
　前記第２基板間隔材の直径または辺は３０〜３５μｍの範囲であり、第１基板間隔材の直径または辺は１５〜２０μｍの範囲である請求項３に記載の表示装置用表示板。
【請求項７】
　前記第２基板間隔材は１cm2当り２００〜６００個の範囲で配置されており、第１基板間隔材は１cm2当り２５０〜４５０個の範囲で配置されている請求項３に記載の表示装置用表示板。
【請求項８】
　前記基板間隔材は第１基板間隔材と前記第１基板間隔材より高さが低い第２基板間隔材及び高さが第２基板間隔材の高さ以下である第３基板間隔材を含む請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項９】
　前記第３基板間隔材は前記第２基板間隔材と同じ高さである請求項８に記載の表示装置用表示板。
【請求項１０】
　前記基板は走査信号または映像信号のような電気的な信号を伝達するための複数のゲート配線及びデータ配線、前記ゲート配線及びデータ配線と電気的に連結されて映像信号の伝達を制御するためのスイッチング素子と、液晶分子を駆動するために画素電圧が伝達される画素電極とを有する請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項１１】
　前記基板は順次に形成されている赤、緑、青の色フィルターを有する請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項１２】
　請求項１に記載の表示装置用表示板と、
　互いに交差して画素領域を定義するゲート線及びデータ線、請求項１に記載の表示装置用表示板の上に形成された共通電極に対向して前記画素領域に配置されている画素電極を含む薄膜トランジスタ表示板と、
　前記表示装置用表示板と前記薄膜トランジスタ表示板との間に配置されている液晶物質層と、
を含む液晶表示装置。
【請求項１３】
　基板の上に感光膜を塗布する段階と、
　開口部を有するマスクを前記基板の上に第１露光距離で位置合わせし前記感光膜を１次露光する段階と、
　前記マスクを第２露光距離に移動して位置合わせし前記感光膜を２次露光する段階と、
　前記感光膜を現像し前記基板に接する接触面積または高さが少なくとも２種類以上である基板間隔材を形成する段階と、
を含む表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１４】
　基板の上に感光膜を塗布する段階と、
　第１開口部を有する第１マスクを前記基板の上に位置合わせし前記感光膜を１次露光する段階と、
　第２開口部を有する第２マスクを前記基板の上に位置合わせし前記感光膜を２次露光する段階と、
　前記感光膜を現像して前記基板に接する接触面積または高さが少なくとも２種類以上である基板間隔材を形成する段階と、
を含む表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１５】
　基板の上に感光膜を塗布する段階と、
　透過領域と光の透過量を調節することができる半透過領域が形成されているマスクを前記基板の上に位置合わせし前記感光膜を露光する段階と、
　前記感光膜を現像して前記基板に接する接触面積または高さが少なくとも２種類以上である基板間隔材を形成する段階と、
を含む表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１６】
　基板の上に感光膜を塗布する段階と、
　光の照射量を調節できるスリットパターンが形成されているマスクを前記基板の上に位置合わせして前記感光膜を露光する段階と、
　前記感光膜を現像して前記基板に接する接触面積または高さが少なくとも２種類以上である基板間隔材を形成する段階と、
を含む表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１７】
　前記感光膜はネガティブ型の請求項１３乃至請求項１６のいずれかに記載の表示装置用表示板の製造方法。
　
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は液晶表示装置用表示板及びその製造方法とその表示板を含む液晶表示装置に関し、さらに詳しくは基板間隔材を有する液晶表示装置用表示板及びその製造方法とその表示板を含む液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
　一般に液晶表示装置は２つの表示板間に注入されている異方性誘電率を有する液晶物質に電極を用いて電界を印加し、この電界の強さを調節して表示板を透過する光の量を調節することによって画像を表示する装置である。
【０００３】
　このような液晶表示装置は、電極が形成されている２つの表示板及びその間に注入されている液晶物質を含み、両表示板は周縁に印刷されて液晶物質を封じ込める密封材で結合されており、両表示板の間に散布されている間隔材により均一な間隔が維持されている。
【０００４】
　液晶表示装置の製造方法においては、まず両表示板に液晶物質に含まれる液晶分子を配向するための配向膜を塗布して配向処理を実施したのち、一方の表示板に球形の基板間隔材を散布し、液晶注入口を除いた周縁に密封材を印刷する。次いで、両表示板を位置合わせしホットプレス工程などにより両表示板を結合して、液晶注入口を通じて両表示板の間に液晶物質を注入した後、液晶注入口を封止して液晶セルを作製する。この際、画面として表示される表示領域内には間隔維持用スペーサを散布したり写真エッチング工程によって基板間隔材を形成し、密封材には他のスペーサを混合して両表示板の間隔を維持する。
【０００５】
　このような液晶表示装置が大型化するにつれて両表示板の間の間隔を均一に維持するとともに液晶物質層を容易に形成できる工程の開発が一層重要視されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　本発明が目的とする技術的課題は、２つの表示板の間隔を均一に維持するとともに液晶物質層を容易に形成できる液晶表示装置用表示板及びその製造方法とその表示板を含む液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
　本発明による液晶表示装置用表示板及びその製造方法においては、少なくとも２種類以上の互いに異なる高さや接触面積を有する基板間隔材を形成して両表示板の間隔を均一に維持するようにする。
【０００８】
　この時、前記基板間隔材と基板が接する接触面は円形または四角形とすることができ、基板間隔材は第１基板間隔材と第２基板間隔材（第１基板間隔材に比して、高さが低いか、または、表示板支持用接触面積が広い）を含むことが好ましい。
【０００９】
　第２基板間隔材の高さは第１基板間隔材より低く、その高低差は０．３〜０．６μｍの範囲にあり、各間隔材の直径または１辺の長さは第１基板間隔材より大きいことが好ましく、その寸法差は１０〜２０μｍ範囲にあることが好ましい。また、第２基板間隔材の直径または１辺の長さは３０〜３５μｍ範囲にあり、第１基板間隔材の直径または１辺の長さは１５〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。第２基板間隔材は１cm2当り２００〜６００個の範囲で配置され、第１基板間隔材は１cm2当２５０〜４５０個の範囲で配置されることが好ましい。
【００１０】
　第１基板間隔材と第２基板間隔材は互いに異なる色フィルター上に形成されることが好ましい。そして第１基板間隔材も第２基板間隔材も形成されていない色フィルター上には、第２基板間隔材に比して高さが同じ又は低い第３基板間隔材をさらに含むことができる。
【００１１】
　表示板は走査信号または映像信号のような電気的な信号を伝達するための複数のゲート線とデータ線と、ゲート線及びデータ線に電気的に連結されていて映像信号を制御するためのスイッチング素子である薄膜トランジスタと、液晶分子を駆動するために画素電圧が伝達される画素電極を有することができ、順次に形成されている赤、緑、青の色フィルターを有することができる。
【００１２】
　このような実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法においては、１枚または２枚のマスクを用いる写真エッチング工程により表示板に接する接触面積と高さが少なくとも２種類以上ある基板間隔材を形成する。
【００１３】
　１枚のマスクを用いる第１の方法は、表示板の上に感光膜を塗布し、開口部を有するマスクを表示板の上に第１露光距離に位置合わせして前記感光膜を１次露光する。次いで、マスクを第２露光距離に移動し位置合わせして感光膜を２次露光し、感光膜を現像して、表示板に接する接触面積または高さが少なくとも２種類以上ある基板間隔材を形成する。
【００１４】
　２枚のマスクを利用する第２の方法は、表示板の上に感光膜を塗布し、第１開口部を有する第１マスクを表示板の上に位置合わせして感光膜を１次露光する。次いで、第２開口部を有する第２マスクを表示板の上に位置合わせして感光膜を２次露光し現像して、表示板に接する接触面積または高さが少なくとも２種類以上ある基板間隔材を形成する。
【００１５】
　また別の１枚のマスクを利用する製造方法は、基板の上に感光膜を塗布し透過領域と光の透過量を調節できる半透過領域として定義されるマスクを前記表示板の上に位置合わせし感光膜を露光し現像して、表示板に接する接触面積または高さが少なくとも２種類以上ある基板間隔材を形成する。
【００１６】
　この際、感光膜はネガティブ型であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
　本発明によれば、表示板を支持する基板間隔材の断面積及び高さを多様に形成することによって液晶セルのギャップを均一に維持できると同時に２つの表示板間に注入する液晶物質層を容易に形成することができる。また、低密度の基板間隔材を有するようになり、押さえや光漏れ現象の発生を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
　添付した図面を参照しながら本発明の実施例について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な形態に実現できここで説明する実施例に限定されない。
【００１９】
　図面において、多様な層及び領域を明確に表すために厚さを拡大して示した。明細書全体においては類似する部分について同じ図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の上にあるというとき、これは他の部分の直ぐ上にある場合だけでなく、その中間にさらに別の部分がある場合も含む。また、ある部分が他の部分の直ぐ上にあるというときは、中間に別の部分がないことを意味する。
【００２０】
　次に、本発明の実施例による液晶表示装置及びその製造方法について図面を参照して詳細に説明する。
【００２１】
　対向する２つの表示板を組立てる表示装置製造方法には、２つの表示板を押圧プレートで挟み押圧プレートに圧力を加えて２つの表示板を結合するホットプレス工程と、２つの表示板と密封材によって囲まれた空間を真空状態に維持し、大気状態に露出させた時に外部大気圧の圧力で２つの表示板を結合する真空圧着工程がある。この際、２つの表示板の間隔を維持するために、２つの表示板の間に基板間隔材を配置して両表示板の間隔を均一に維持するようになるが、この基板間隔材は２つの表示板の間隔を均一に維持するために優れた弾性を有する物質で形成されている。基板間隔材は球形または柱形で構成することができ、球形基板間隔材は一つの表示板上に散布されて配置され、柱形基板間隔材は感光性物質を表示板の上に塗布し、マスクを利用した写真エッチング工程によりパターニングして形成される。柱形基板間隔材は所望の位置に配置することができ、セル間隔を全体的に均一に維持することができる。さらに、狭いセル間隔を実現することができ、画素領域に基板間隔材が配置されることを防止して表示特性を向上できる長所を持っている。柱形基板間隔材は一部が圧縮されながら両基板を支持するが、柱の断面積を狭く形成して基板間隔材の圧縮変形量を大きくすると、基板間隔材が曲がるなど変形しやすくなる問題があり、基板間隔材が崩れて両基板の間隔が均一でなくなる問題を生じる。反対に、柱の断面積を広く形成して基板間隔材の圧縮変形量を小さくすると、両表示板の間に充填される液晶物質の量を調節することが非常に難しく気泡が発生したり液晶物質が偏る現象が発生する。このような問題点を解決するために本発明は、少なくとも２種類以上の断面積及び高さを有する基板間隔材を形成して２つの表示板を支持するように構成する。このようにすれば、任意の基板間隔範囲でだけ間隔を調節容易に出来るので、液晶充填が容易になる。
【００２２】
　本発明の実施例による完成した液晶表示装置用液晶パネルの構造について概略的に説明する。
【００２３】
　図１は、４枚取り製造過程における、本発明の第１実施例により完成した液晶表示装置用液晶パネルの構造を示す平面図であり、図２は図１のII-II’線に沿って切断した断面図である。
【００２４】
　図１及び図２に示すように、本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造工程において、液晶注入工程及び基板結合工程を終え、４枚取り原板として構成された液晶パネル４０は同時にいくつかの液晶表示装置用液晶セルを有する。例えば図１のように、互いに対向する２つの表示板１００，２００の間に注入されている液晶物質層３を含む液晶パネル４０にはＡ及びＢの点線で切断可能な４個の液晶セル領域が作られ、それぞれの液晶セル領域は画像が表示される画面表示部５１，５２，５３，５４を有する。また、それぞれの液晶セルには２つの表示板１００，２００を平行に支持する基板間隔材３２１，３２２が形成されており、注入された液晶物質層３は２つの表示板１００，２００の周縁に液晶セル単位で形成されている密封材３１０によって密封されている。
【００２５】
　２つの表示板１００，２００を平行に支持するために、密封材３１０もスペーサを含むことが出来る。
【００２６】
　本発明第１実施例による液晶表示装置製造方法の説明において、液晶パネル４０は、液晶セル単位に分離されない状態で液晶物質層３が注入されていてもいなくてもよく、図面符号Ａ及びＢは、液晶注入及び基板結合工程を終えたのち液晶パネルをセル領域単位に分離するための切断線を示すものである。
【００２７】
　図２のように、基板間隔材３２１，３２２は少なくとも２種類以上の互いに異なる断面積及び大きさで２つの表示板１００，２００を支持するように接触配置されている。図２では基板間隔材３２１，３２２が圧縮変形されていないが、実際両表示板１００，２００では、どちらかの基板上に２種類の基板間隔材３２１，３２２を形成する際の両基板間隔材３２１，３２２は異なる高さを有する。これについて図面を参照して具体的に説明する。
【００２８】
　図３は本発明の第１実施例による表示装置用の一基板の構造を示した断面図である。
　図３のように、本発明の第１実施例による液晶表示装置用表示板１００の上には少なくとも２種類以上の接触面積と高さを有する基板間隔材３２１，３２２が形成されている。基板間隔材３２１，３２２の接触底面は円形または四角形とすることができ、第１基板間隔材３２１の高さは第２基板間隔材３２２より低く、その高低差ａは０．３〜０．６μｍの範囲であり、第１基板間隔材３２１の底面の直径または辺の長さは第２基板間隔材３２２より大きいことが好ましく、その差（ｂ-ｃ）は１０〜２０μｍ範囲である。なお、第１基板間隔材３２１の直径または辺の長さｂは３０〜３５μｍ範囲が好ましく、第２基板間隔材３２２の直径または辺の長さｃは１５〜２０μｍ範囲、第１及び第２基板間隔材３２１，３２２が表示板１００に接する接触底面積はそれぞれ６００〜１１００μｍ2及び１５０〜３５０μｍ2範囲であることが好ましい。
【００２９】
　本発明の第１実施例による液晶表示装置用表示板を利用して液晶表示装置を製造する際、第１基板間隔材３２１は圧縮による変形が少なく応力の分散に有利であり、２つの表示板１００，２００間の間隔（セルギャップ）を均一に維持することができ、第２基板間隔材３２２は圧縮による変形量が大きく液晶物質層３を形成するための液晶注入量を容易に調節できる。
【００３０】
　前記第１及び第２基板間隔材３２１，３２２はマスクを用いる写真エッチング工程で形成するが、１枚または２枚のマスクを用いて形成できる。これについて図面を参照して具体的に説明する。
【００３１】
　図４ａおよび図４ｂは本発明の第１実施例による表示装置用基板の製造状況を工程別に示す断面図であり、図５ａおよび図５ｂは本発明の第２実施例による表示装置用表示板の製造状況を工程別に示す断面図であり、図６は本発明の第３実施例による表示装置用表示板の製造状況を同種工程について示す断面図である。第１及び第３実施例は１枚のマスクを用いる方法であり、第２実施例は２枚のマスクを用いる方法である。
【００３２】
　第１の方法は図４ａのように、液晶表示装置用表示板１００の基板上にアクリル系のネガティブ型感光膜５９を塗布したのち、不透明膜６１に直径または辺の長さがｅである開口部６２を有するマスク６０を露光距離ｄで表示板１００上に位置合わせして１次露光し、第２基板間隔材３２２として残る部分を硬化させる。なお、使用する露光装置の形式としては、平行光線を用いる形式、例えばプロキシミティ露光装置を想定しているが、後述のように回折を利用するので、露光光線の波長は長い方が使いやすい。
【００３３】
　続いて、図４ｂのように、同じマスク６０を露光距離ｄ+αで表示板１００の上に水平及び垂直方向に位置合わせして２次露光し、第１基板間隔材３２１として残す部分を硬化させる。ここで、１次露光時よりもマスク６０を表示板１００からαだけ遠く離れた距離に位置合わせして２次露光を実施するため、開口部６２を通過する光の投影は１次露光時より広く回折・散乱して、感光膜５９の広い部分を弱く硬化し、第２基板間隔材３２２より低い高さと広い面積の第１基板間隔材３２１を形成できる。ここで、硬化部分の高さの高低は、露光エネルギー面密度の多少と、現像条件によって決定される。つまり、露光エネルギーの多少によって硬化の進み具合が変化し、硬化の進み具合と現像条件によって現像時のエッチング速度が変化するので、露光条件の変化が硬化部分の高さの変化に繋がると考えられる。
【００３４】
　本発明の実施例に関して具体的に記すと、１０〜１５μｍ直径の開口部６２を有するマスク６０を表示板１００から１００〜２００μｍの露光距離ｄをあけて１００〜３００ｍＪ/cm2範囲の露光量を有する光源を利用して１次露光を施し、マスク６０を利用して露光距離（ｄ+α）が３００〜４００μｍになるように２次露光を行う。
【００３５】
　第２の方法は第１実施例と同様に、図５ａのように、液晶表示装置用表示板１００の上にアクリル系のネガティブ型感光膜５９を塗布し、不透明膜６１に直径または辺の長さがｅである開口部６２を有する第１のマスク６０を露光距離ｄで表示板１００上に位置合わせし１次露光して、第２基板間隔材３２２として残る部分を硬化する。
【００３６】
　続いて、図５ｂのように、不透明膜６６に直径または辺長がｅ+βである開口部６７を有する第２マスク６５を露光距離ｄで表示板１００上に位置合わせし、２次露光を実施して、第１基板間隔材３２１として残る部分を硬化する。２次露光の際には１次露光時より低い露光量を有する光源を使用する。この第２の方法では、１次露光と２次露光の露光距離が等しいので、露光装置の形式は何であっても差し支えない。
【００３７】
　第３の方法としては図６のように、液晶表示装置用表示板１００の上にアクリル系のネガティブ型感光膜５９を塗布し、不透明膜７１に開口部７２からなる透過領域と光の透過量を調節できる半透過膜７３からなる半透過領域を有するマスク７０を用い露光して、第１及び第２基板間隔材３２１，３２２として残る部分を硬化する。この場合も、露光装置の形式は自由に選べる。
【００３８】
　本発明の第１乃至第３実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法においては、ネガティブ型感光膜を用いて第１及び第２基板間隔材３２１，３２２を形成しているが、ポジティブ型感光膜を用いることもできる。その際は、マスクの開口部と遮断部が図４ａ〜図６に示されるマスクと逆像になる。
【００３９】
　前記表示板１００としては薄膜トランジスタ表示板または色フィルター表示板を使用できる。つまり、互いに交差して画素領域を定義する複数のゲート線とデータ線、ゲート線及びデータ線と電気的に連結されて映像信号を制御するためのスイッチング素子である薄膜トランジスタ、液晶分子を駆動するために画素電圧が伝達される画素電極が形成されている薄膜トランジスタ表示板を使用できるが、画素電極と対向して液晶分子を駆動するための電場を形成する共通電極及び画像表示に要求される色相を表示するための赤、緑、青の色フィルターが画素領域に順次に形成されている色フィルター表示板を使用してもよい。ここで、色フィルターまたは共通電極は薄膜トランジスタ表示板に一緒に形成出来る。
【００４０】
　次に、本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造をさらに詳しく説明する。
　図７は本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造を示す配置図であり、図８は図７に示す液晶表示装置のVIII-VIII’線による断面図であり、図９は本発明の第２実施例による液晶表示装置の構造を示す断面図であり、図１０は本発明の第１実施例による表示装置の基板間隔材の位置を示す配置図である。
【００４１】
　薄膜トランジスタ表示板１００は次のような構造で構成されている。
　絶縁基板１１０上に低抵抗の導電物質から構成される導電膜を含むゲート配線と維持電極線１３１がテーパ構造の断面を有して形成されている。ゲート線１２１は横方向にのびており、ゲート線１２１の端に連結され外部からのゲート信号の印加を受けてゲート線１２１に伝達するゲート線の端部１２９及びゲート線１２１に連結されている薄膜トランジスタのゲート電極１２４を含む。ここでは維持電極線１３１が別に形成されているが、ゲート線１２１の一部を延長して後に形成される画素電極１９０と重ねさせて画素の電荷保存能力を向上させる維持蓄電器の一電極としても利用できる。電荷保存能力が不足するときはゲート線１２１から分離された維持配線を追加してもよい。
【００４２】
　基板１１０上には窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などから構成されるゲート絶縁膜１４０がゲート線１２１を覆っている。
【００４３】
　ゲート電極１２４のゲート絶縁膜１４０上には水素化非晶質シリコンなどの半導体からなる半導体層１５０が形成されており、半導体層１５０の上にはシリサイドまたはｎ+水素化非晶質シリコンのようにキャリア形成用不純物が高濃度でドーピングされているシリコンなどの物質から作られた抵抗性接触部材１６３，１６５がそれぞれ形成されている。
【００４４】
　抵抗性接触部材１６３，１６５またはゲート絶縁膜１４０上には低抵抗性の導電物質から構成される導電膜を含むデータ線１７１が形成されている。データ線１７１は縦方向に形成されゲート線１２１と交差して画素領域を定義し、データ線１７１に連結され抵抗接触層１６３の上までのびているソース電極１７３と、データ線１７１の一端に連結されて外部からの画像信号の印加を受けるデータ線端部１７９及びソース電極１７３と分離されており、ゲート電極１２４に対してソース電極１７３の反対側抵抗性接触部材１６５上に形成されているドレーン電極１７５を含む。なお、データ線１７１は保持容量を向上させるため維持電極線１３１と重なっており、後に形成される画素電極１９０と電気的に連結されている維持蓄電器用導電体パターンを含む構成とすることができる。
【００４５】
　データ線１７１上には平坦化特性が優れた感光性を有する有機物質またはａ-Ｓｉ:Ｃ:Ｏ:Ｈなどを含む低誘電率絶縁物質の保護膜１８０が形成されている。
【００４６】
　前記保護膜１８０はポリイミド樹脂などの有機絶縁物質から形成することもできるが、その際窒化ケイ素などから構成される無機絶縁膜を有機絶縁膜の下部にさらに形成して、半導体層１５０が有機絶縁膜と直接接触するのを防ぐのが好ましい。
【００４７】
　ゲート線端部１２９及びデータ線端部１７９が位置する部分の保護膜１８０を完全に取り除くのが好ましいが、このような構造はゲート線端部１２９及びデータ線端部１７９上に走査信号及び映像信号をそれぞれ伝達するため、薄膜トランジスタ基板の上にゲート駆動集積回路及びデータ駆動集積回路を直接実装するＣＯＧ（ｃｈｉｐ　ｏｎ　ｇｌａｓｓ）方式の液晶表示装置に適用するとき特に有効である。
【００４８】
　保護膜１８０にはドレーン電極１７５及びデータ線端部１７９をそれぞれ露出する接触孔１８２，１８５が形成されており、ゲート絶縁膜１４０までも貫通させてゲート線端部１２９を露出する接触孔１８１が形成されている。
【００４９】
　保護膜１８０上には、接触孔１８５を通じてドレーン電極１７５と電気的に連結されて画素領域に位置する透明な導電物質であるＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ　ｔｉｎ　ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（商品名：ｉｎｄｉｕｍ　ｚｉｎｃ　ｏｘｉｄｅ）から構成される画素電極１９０が形成されている。そして、保護膜１８０上には接触孔１８１，１８２を通じてそれぞれゲート線端部１２９及びデータ線端部１７９と連結されているゲート接触補助部材８１及びデータ接触補助部材８２が形成されている。前記ゲート接触補助部材８１及びデータ接触補助部材８２はゲート及びデータの端部パッド１２９，１７９を保護するためのもので必須ではない。
【００５０】
　薄膜トランジスタ表示板１００と対向する色フィルター表示板２００には、透明な絶縁基板２１０上に画素領域に開口部を有するブラックマトリックス２２０が形成されており、それぞれの画素領域には赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の色フィルター２３０が順次に形成されており、その上には画素電極１９０と対向して液晶物質層３の液晶分子を駆動するための共通電極２７０が全面に形成されている。
【００５１】
　２つの表示板１００，２００の間には液晶物質層３が挿入されており、２つの表示板１００，２００の間の間隔を均一に支持する基板間隔材３２２が配置されている。ここには、第２基板間隔材３２２のみが示されているが、実際には第１基板間隔材（図２参照）も形成されている。
【００５２】
　液晶物質層３の液晶分子は、正の誘電率異方性を有し、分子の配列状況は基板と平行な面内で回転しながら、１つの基板から他の基板に至るまで螺旋型に捩じれて配列される捩じれネマチック方式（ＴＮ：ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ　ｍｏｄｅ）とすることができ、負の誘電率異方性を有して２つの基板に対し垂直に配列されている垂直配向方式（ＶＡ：ｖｅｒｔｉｃａｌ　ａｌｉｇｎｅｄ　ｍｏｄｅ）、及び２つの基板の中心面に対し対称的に曲がる配列を有するＯＣＢ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　ｂｅｎｄ）モードとすることもできる。
【００５３】
　このように本発明の第１実施例による液晶表示装置においては、薄膜トランジスタ表示板１００上に基板間隔材３２２が配置されているが、図９のように色フィルター表示板２００に配置することもできる。
【００５４】
　図８、図９の場合、前記基板間隔材３２２はデータ線１７１上に位置するが、ゲート線１２１または薄膜トランジスタ上に位置することができ、ブラックマトリックス２２０によって隠れる部分に位置するのが好ましい。基板間隔材３２２は同じ画素の間に一定の間隔で位置するのが好ましい。つまり図１０のように、第１及び第２基板間隔材３２１，３２２は青色及び赤色の色フィルター２３０Ｂ，２３０Ｒの間に一定の間隔で配置されている。前記第１基板間隔材３２１は１cm2当り２００〜６００個の範囲で配置されるのが好ましく、第２基板間隔材３２２は１cm2当り２５０〜４５０個の範囲で配置されるのが好ましい。
【００５５】
　次に、このような本発明の第１実施例による液晶表示装置用液晶パネルを製造する方法について具体的に説明する。
【００５６】
　まず、原板に形成された液晶パネルの一方の表示板１００の上に、低抵抗のゲート線及びデータ線と、薄膜トランジスタと、可視光に対して透明な導電物質または反射性を有する導電物質で作られた画素電極などとを形成し、弾力性のある絶縁物質（例えばゴム系樹脂、シリコン樹脂、ウレタン、弾性率が小さく弾性ひずみ限界の高いプラスチック、可塑剤を添加した硬質プラスチックなど）を積層して、写真エッチング工程によりパターニングして画素領域の間に基板間隔材３２１，３２２を形成する。この間隔材に要求される温度安定性は用途により異なるが、なるべく、摂氏マイナス40度からプラス120度の範囲で安定であり、分解や変形のないことが好ましく、通常用途ならばマイナス30度からプラス80度の範囲を保証できることが望ましい。
【００５７】
　もう一つの表示板２００には共通電極及び赤、緑、青の色フィルターを形成する。前述のように色フィルターまたは共通電極は薄膜トランジスタと同じ表示板に形成することもできる。この際、基板間隔材３２１，３２２は作製する液晶パネル４０の二つの表示板１００，２００の間隔より１０％〜３０％程大きく形成するのが好ましい。基板間隔材３２１，３２２は二つの表示板１００，２００のいずれに形成しても構わない。このように基板間隔材３２１，３２２を写真エッチング工程により形成すれば、基板間隔材３２１，３２２を均一な位置に配置させセル間隔を全体的に均一に維持することができ、狭いセル間隔の設計ができ、画素領域に基板間隔材３２１，３２２が配置されることを防止して表示特性を向上させることができる。
【００５８】
　次に、基板間隔材３２１，３２２が形成された表示板１００，２００の周縁上に密封材３１０を塗布する。紫外線硬化型の密封材３１０を、液晶注入口を作らずに閉曲線状に塗布するが、熱硬化型の密封材で形成することもでき、２つの表示板１００，２００の間隔を支持するためのスペーサを含む構成とすることができる。本発明の実施例において、密封材３１０には液晶注入口が形成されないので正確に量を調節することが重要であり、液晶物質の量が過多又は過少の時に発生する問題点を解決するために、密封材３１０は基板結合工程を終えても液晶物質に接触しないバッファー領域を有することが好ましい。なお、密封材３１０は液晶物質層３と反応する表面に反応防止膜を有することが好ましい。例えば、密封材塗布領域の内側に間隔材を堤防状に形成し、これに反応防止膜を塗布してもよい。
【００５９】
　次に、２つの表示板１００，２００のいずれか１つの上に液晶塗布機を使用して液晶物質を塗布または滴下する。液晶塗布機は液晶セル領域５１，５２，５３，５４（図１参照）に液晶物質を落せるような注射器状とすることができ、液晶セル領域５１，５２，５３，５４全面に液晶物質を散布できるような噴霧器状とすることもできる。
【００６０】
　次に、真空チャンバーから構成される基板結合装置において、２つの表示板１００，２００をチャンバーに移送した後、チャンバー内部を真空吸引するなどし、２つの表示板１００，２００と密封材３１０に囲まれた空間を真空状態にしてから基板を圧着結合し、チャンバーを常圧に戻して、大気圧によって２つの表示板１００，２００を密着させ所望のセルギャップに２つの表示板１００，２００の間隔を合せる。次いで、露光装置により紫外線を照射して密封材３１０を完全に硬化し、２つの表示板１００，２００を結合して原板の液晶パネル４０を完成する。２つの表示板１００，２００を密着させたり密封材３１０に紫外線を照射する工程においても２つの表示板１００，２００は微細に位置合わせさせるのが好ましい。
【００６１】
　次に、切断装置を使用して完成した液晶パネル４０を液晶セル領域５１，５２，５３，５４に分離して液晶表示装置用液晶セルに分離する。
【００６２】
　本発明の第４実施例による完成した液晶表示装置用液晶パネルの構造について概略的に説明する。
【００６３】
　図１１は、本発明の第４実施例による表示装置用表示板の構造を概略的に示す平面図であり、図１２は図１１のXII-XII’線による断面図である。
【００６４】
　図１１及び図１２に示すように、本発明の第４実施例による液晶表示装置の製造工程において、液晶注入工程及び基板結合工程を終えた一つの原板から構成される液晶パネル４０は、同時にいくつかの液晶表示装置用液晶セルを有する。例えば図１１のように、互いに対向する表示板１００，２００及び二つの表示板１００，２００の間に注入される液晶物質層３を含む液晶パネル４０には、点線Ａ及びＢで定義される４個の液晶セル領域が作られ、それぞれの液晶セル領域は画像が表示される画面表示部５１，５２，５３，５４を有する。さらに、それぞれの液晶パネル４０には２つの表示板１００，２００を平行に支持する基板間隔材３２１，３２２が形成されており、注入された液晶物質層３は２つの表示板１００，２００の周縁に液晶セルの単位で形成されている密封材３１０によって封止されている。
【００６５】
　なお、２つの表示板１００，２００を平行に支持するために密封材３１０もスペーサを含む構成とすることもできる。
【００６６】
　本発明の第４実施例による液晶表示装置の製造方法における液晶パネル４０は、液晶セルの単位で分離されない状態で液晶物質層３を注入する構成とすることもでき、また液晶セルの単位で分離した状態で液晶物質層３を注入する構成とすることもできる。図面符号Ａ及びＢは液晶注入及び基板結合工程を終えた後液晶パネルをセル単位で分離するための切断線を示すものである。
【００６７】
　前記基板間隔材３２０は図１２のように、少なくとも２つ以上の互いに異なる大きさで２つの表示板１００，２００と接して２つの表示板１００，２００を支持するように配置されている。図１２では、基板間隔材３２０が圧縮変形されて一部のみが示されているが、実際の基板間隔材３２０は２つの表示板１００，２００のうち赤、緑、青の色フィルター２３０が形成されている表示板２００の赤、緑、青の色フィルター２３０上にそれぞれ形成されている。この際、赤、緑、青の色フィルター２３０は互いに異なる高さで形成されるためその上に配置される基板間隔材３２０は同じ高さでパターニングしても下部の赤、グリーン、青の色フィルター２３０の高さによって互いに異なる高さになるように形成される。これについて図面を参照して具体的に説明する。
【００６８】
　図１３は本発明の第４実施例による表示装置用表示板の構造を示す断面図であり、図１４は本発明の第４実施例による表示装置の基板間隔材の位置を示す配置図である。
【００６９】
　図１３のように、本発明の第４実施例による液晶表示装置用表示板の上には少なくとも２つ以上の高さを有する基板間隔材３２０が形成されている。
【００７０】
　液晶表示装置用表示板の上には青、緑、赤の順で色フィルター２３０が繰り返し形成されており、色フィルター２３０の高さも青、緑、赤の色フィルター２３０順に次第に高さが低くなるように形成されている。基板間隔材３２０は一定の高さで形成されそれぞれの色フィルター２３０上に形成されている。第１基板間隔材３２１は青色フィルター２３０Ｂ上に形成されており、第２基板間隔材３２２は緑色フィルター２３０Ｇ上に形成されており、第３基板間隔材３２３は赤色フィルター２３０Ｒ上に形成されている。従って、第１〜第３基板間隔材３２１，３２２，３２３自身の長さは同じであっても、それぞれの色フィルター２３０の高さにより第１〜第３基板間隔材３２１，３２２，３２３上端の高さは異なる。ここで、緑色と赤色の色フィルター２３０Ｇ，２３０Ｒの高さを同じにし、第２基板間隔材３２２と第３基板間隔材３２３上端の高さを同じにすることもできる。
【００７１】
　このような本発明の第４実施例による液晶表示板を利用して液晶表示装置を製造する際、第１基板間隔材３２１は主間隔材として通常２つの表示板１００，２００間の間隔（セルギャップ）を均一に維持し、第２基板間隔材３２２と第３基板間隔材３２３は、外部から液晶表示装置に圧力が加わりそれによってセルギャップが収縮する際に間隔材として働きセルギャップが過度に収縮することを防止する。そして図１４のように、本発明の第４実施例による液晶表示装置においては色フィルター表示板１００上のそれぞれの色フィルター上に基板間隔材３２０が形成されている。
【００７２】
　前記基板間隔材３２０はデータ線１７１の上に位置するが、ゲート線１２１または薄膜トランジスタの上に位置することもでき、ブラックマトリックス２２０と赤、緑、青色の色フィルター２３０で覆われる部分に位置するのが好ましい。なお、基板間隔材３２０は同じ画素間に一定間隔で位置するのが好ましい。本発明の第４実施例においては図１０のように、第１、第２及び第３基板間隔材３２１，３２２，３２３はそれぞれ互いに異なる色の画素の間に一定間隔で繰り返し配置されている。
【００７３】
　次は、本発明の第４実施例による液晶表示装置の構造をさらに具体的に説明する。
　図１５は本発明の第４実施例による液晶表示装置の構造を具体的に示す配置図であり、図１６は図１５のXVI-XVI’線による断面図であり、図１７は図１５のXVII- XVII’線による断面図である。
【００７４】
　薄膜トランジスタ表示板１００には、絶縁基板１１０上に低抵抗の導電物質から構成される導電膜を含むゲート線と維持電極線１３１がテーパ構造（底面が幅広く、上面は狭い）で形成されている。ゲート線１２１は横方向にのびており、ゲート線１２１に連結されている薄膜トランジスタのゲート電極１２４を含む。前記ゲート線の一端部分１２９は外部回路との連結のために幅が拡張されている。また、本実施例においては維持電極線１３１が別に形成されているが、ゲート線１２１の一部を延長して後に形成される画素電極１９０と重畳させて画素の電荷保存能力を向上させる維持蓄電器の一電極として利用してもよい。電荷保存能力が不足するときはゲート配線と分離された維持配線を追加することもできる。
【００７５】
　基板１１０上には窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などから構成されるゲート絶縁膜１４０がゲート線１２１を覆っている。
【００７６】
　ゲート電極１２４のゲート絶縁膜１４０上には非晶質シリコンなどの半導体から構成される半導体層１５０が形成されており、半導体層１５０の上にはシリサイドまたはｎ型不純物が高濃度でドーピングされているｎ+水素化非晶質シリコンなどの物質で作られた抵抗性接触部材１６３，１６５がそれぞれ形成されている。
【００７７】
　抵抗性接触部材１６３，１６５またはゲート絶縁膜１４０上には低抵抗の導電物質から構成される導電膜を含むデータ線１７１が形成されている。データ線１７１は縦方向に形成されゲート線１２１と交差して画素領域を定義し、データ線１７１に連結されて抵抗接触層１６３の上までのびているソース電極１７３と、ソース電極１７３と分離されていてゲート電極１２４に対してソース電極１７３の反対側抵抗性接触部材１６５上に形成されているドレーン電極１７５を含む。前記データ線１７１の一端部分１７９は外部回路との連結のために幅が拡張されている。なお、データ線１７１は保持容量を向上させるために維持電極線１３１と重なっており、後に形成される画素電極１９０と電気的に連結されている維持蓄電器用導電体パターンを含む構成とすることができる。
【００７８】
　データ線１７１上には平坦化特性が優れて、感光性を有する有機物質またはａ-Ｓｉ:Ｃ:Ｏ:Ｈなどを含む低誘電率絶縁物質の保護膜１８０が形成されている。
【００７９】
　前記保護膜１８０は樹脂などの有機絶縁物質で形成することもできるが、ここでは窒化ケイ素などから構成される無機絶縁膜を有機絶縁膜の下部にさらに形成して半導体層１５０が有機絶縁膜と直接接触することを防止するのが好ましい。
【００８０】
　ゲート線端部１２９及びデータ線端部１７９が位置する部分の保護膜１８０は完全に取り除くことが好ましいが、このような構造はゲート線端部１２９及びデータ線端部１７９の上に走査信号及び映像信号をそれぞれ伝達するために薄膜トランジスタ基板の上にゲート駆動集積回路及びデータ駆動集積回路を直接実装するＣＯＧ（ｃｈｉｐ　ｏｎ　ｇｌａｓｓ）方式の液晶表示装置に適用すれば特に有効である。
【００８１】
　保護膜１８０にはドレーン電極１７５及びデータ線端部１７９をそれぞれ露出する接触孔１８２，１８５が形成されており、ゲート絶縁膜１４０と共にゲート線端部１２９を露出する接触孔１８１が形成されている。
【００８２】
　保護膜１８０上には、接触孔１８５を通じてドレーン電極１７５と電気的に連結されて画素領域に位置する透明な導電物質であるＩＴＯまたはＩＺＯから構成される画素電極１９０が形成されている。また、保護膜１８０上には接触孔１８１，１８２を通じて各々ゲート線端部１２９及びデータ線端部１７９と連結されているゲート接触補助部材８１及びデータ接触補助部材８２が形成されている。前記ゲート接触補助部材８１及びデータ接触補助部材８２はゲート及びデータの端部１２９，１７９を保護するためのもので必須ではない。
【００８３】
　一方、薄膜トランジスタ表示板１００と対向する色フィルター表示板２００には、透明な絶縁基板２１０上に画素領域に開口部を有するブラックマトリックス２２０が形成されており、それぞれの画素領域には赤、緑、青の色フィルター２３０が順次に形成されており、その上には画素電極１９０と対向して液晶物質層３の液晶分子を駆動するための共通電極２７０が全面に形成されている。
【００８４】
　２つの表示板１００，２００の間には液晶物質層３が形成されており、両表示板１００，２００間の間隔を均一に支持するための基板間隔材３２０が形成されている。
【００８５】
　液晶物質層３の液晶分子は正の誘電率異方性を有し、基板に平行な状態で１つの基板から他の基板に至るまで螺旋形に捩じれて配列されているツイステッドネマチック方式とすることができ、負の誘電率異方性を有し２つの基板に対して垂直に配列されている垂直配向方式とすることもでき、２つの基板の中心面に対し対称的に曲がる配列を有するＯＣＢモードとすることもできる。
【００８６】
　前記基板間隔材３２１，３２２，３２３の長さは同じであるが、その下部の色フィルター２３０の高さに差を与えることにより基板間隔材上端の高さに差を形成する。この他に、基板間隔材そのものの高さを異ならせる調節もでき、これを以下に説明する。
【００８７】
　図１８は本発明の第５実施例による表示装置用表示板の製造方法をその工程順により示す断面図であり、図１９は本発明の第６実施例による表示装置用表示板の製造方法をその工程順により示す断面図である。第５実施例はスリットパターンが形成されているマスクを用いる方法であり、第６実施例は半透明膜が形成されているマスクを用いる方法である。
【００８８】
　まず、第５実施例について説明する。
　図１８のように、液晶表示装置用表示板のうち青、緑、赤の色フィルター２３０が形成されている基板２００上にアクリル系のネガティブ型感光膜５９を塗布してから、不透明膜６１にそれぞれの色フィルター２３０と対応する複数の開口部６２を有するマスク６０を表示板２００上に位置合わせする。前記マスク６０の開口部６２には間隔と幅が互いに異なるスリット６４が形成されており、これによって赤、緑、青の色フィルター２３０にそれぞれ対応する順で露光量が小さくなる。次に、マスク６０を通じてネガティブ型感光膜５９を露光することによって基板間隔材３２０として残る部分を硬化すれば、赤、緑、青の色フィルター２３０上に第１、第２、第３基板間隔材３２１，３２２，３２３をそれぞれ形成することができる。基板間隔材３２０などは露光量の差によって第１基板間隔材３２１の高さが最も高くなり（上端が感光膜５９の表面に近い）、第２基板間隔材３２２は第１基板間隔材３２１より低く、第３基板間隔材３２３は第２基板間隔材３２２と同じかより低くなり、第１、第２及び第３基板間隔材３２１，３２２，３２３の上端の高さが異なるようになる。
【００８９】
　次は第６実施例について説明する。
　図１９のように、液晶表示装置用表示板のうち青、緑、赤の色フィルター２３０が形成されている表示板２００の上にアクリル系のネガティブ型感光膜５９を塗布する。次いで、不透明膜７１に開口部７２からなる透過領域と光の透過量を調節できる半透過膜７３から構成される半透過領域を有するマスク７０を用いて露光することによって第１、第２、第３基板間隔材３２１，３２２，３２３として残る部分を硬化する。この際、第１、第２、第３基板間隔材３２１，３２２，３２３は青、緑、赤の色フィルター２３０上に形成され、基板間隔材３２０などは露光量の差によって第１基板間隔材３２１の高さが最も高くなり、第２基板間隔材３２２は第１基板間隔材３２１の高さより低く、第３基板間隔材３２３は第２基板間隔材３２２と同じ高さかあるいはより低くなり、第１、第２及び第３基板間隔材３２１，３２２，３２３の上端の高さが異なるようになる。
【００９０】
　前記表示板２００は互いに交差して画素領域を定義する走査信号または映像信号のような電気的な信号を伝達するための複数のゲート線とデータ線、ゲート線及びデータ線と電気的に連結されて映像信号を制御するためのスイッチング素子である薄膜トランジスタ、液晶分子を駆動するために画素電圧が伝達される画素電極が形成されている薄膜トランジスタ表示板であることができ、画素電極と対向して液晶分子を駆動するための電場を形成する共通電極及び画像表示に要求される色相を表示するための赤、緑、青の色フィルターが画素領域に順次に形成されている色フィルター表示板であることもできる。色フィルターまたは共通電極は薄膜トランジスタ表示板と同じ表示板に形成されてもよい。
【００９１】
　次に、このような本発明の実施例による液晶表示装置用液晶パネルを製造する方法について具体的に説明する。
【００９２】
　まず、液晶パネルの一方の表示板２００に共通電極と赤、緑、青の色フィルター及びブラックマトリックスなどを形成し、有機絶縁物質を積層し写真エッチング工程でパターニングして画素領域間に位置して赤、緑、青の色フィルターとブラックマトリックスに重畳するように基板間隔材３２０を形成する。もう一つの表示板にゲート線及びデータ線と、薄膜トランジスタ及び透明な導電物質または反射度を有する導電物質の画素電極などを形成する。前述のように色フィルターまたは共通電極は薄膜トランジスタと同じ表示板に形成することもできる。この際、基板間隔材３２０の高さは作ろうとする液晶パネル４０の２つの表示板１００，２００間隔より１０％〜３０％程大きく、断面積は開口率に影響しないように小さく形成するのが好ましい。勿論基板間隔材３２０は２つの表示板１００，２００のうちいずれの基板に形成してもよい。このように基板間隔材３２０を写真エッチング工程で形成する際には基板間隔材３２０を均一に配置させてセル間隔を全体的に均一に維持することができ、狭いセル間隔を設計でき、画素領域に基板間隔材３２０が配置されることを防止して表示特性を向上することができる。
【００９３】
　次に、基板間隔材３２０が形成された表示板１００，２００上に密封材３１０を塗布する。前記密封材３１０は開口を生じないように閉曲線状に形成し、熱硬化材または紫外線硬化材で硬化することができ、２つの表示板１００，２００の間隔を支持するためのスペーサを含む構成とすることもできる。本発明の実施例では密封材３１０に液晶注入口を形成しないため正確な量に調節することが重要であり、液晶物質の量が多かったり少ないとき発生する問題点を解決するために密封材３１０は基板結合工程を終えても液晶物質に接触しないバッファー領域を有するのが好ましい。一方、密封材３１０は液晶物質層３と反応しないように表面に反応防止膜を有するのが良い。
【００９４】
　次に、２つの表示板１００，２００のうち一方の上に液晶塗布機を使用して液晶物質を塗布したり滴下する。前記液晶塗布機は液晶セル領域５１，５２，５３，５４（図１１参照）に液晶物質を滴下するような注射器形であることができ、液晶セル領域５１，５２，５３，５４（図１１参照）に全面的に液晶物質を散布できるような噴霧器形であることもできる。
【００９５】
　次に、真空チャンバーを有する基板結合装置に２つの表示板１００，２００を移送して２つの表示板１００，２００を結合・排気し、その後に真空チャンバーを開放して大気圧状態にし、大気圧によって２つの表示板１００，２００を密着させる。ここで、所望のセルギャップを形成するために２つの表示板１００，２００に圧力を加える手段を設けてもよい。
【００９６】
　次に、露光装置を使用して紫外線を照射して密封材３１０を完全に硬化し、２つの表示板１００，２００を結合して円板の液晶パネル４０を完成する。前記２つの表示板１００，２００を密着させたり密封材３１０に紫外線を照射する工程中にも２つの表示板１００，２００は微細に位置合わせするのが好ましい。
【００９７】
　完成した液晶パネル４０を切断装置を利用して液晶セル５１，５２，５３，５４単位で分離する。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】４枚取り製造過程における、本発明の第１実施例による表示装置用表示板の構造を概略的に示す平面図である。
【図２】図１のII-II’線による断面図である。
【図３】本発明の第１実施例による表示装置用表示板の構造を示す断面図である。
【図４】図４ａ、図４ｂは本発明の第１実施例による表示装置用表示板の製造方法をその工程順に従って示す断面図である。
【図５】図５ａ、図５ｂは本発明の第２実施例による表示装置用表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【図６】本発明の第３実施例による表示装置用表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【図７】本発明の第１実施例による液晶表示装置用表示板の構造を具体的に示した拡大配置図である。
【図８】図７のVIII-VIII’線による断面図である。
【図９】本発明の第２実施例による液晶表示装置用表示板の構造を示す断面図である。
【図１０】本発明の第１実施例による表示装置の基板間隔材の配置状況を示す平面図である。
【図１１】４枚取り製造過程における、本発明の第４実施例による表示装置用表示板の構造を概略的に示す平面図である。
【図１２】図１１のXII-XII’線による断面図である。
【図１３】本発明の第４実施例による表示装置用表示板の構造を示す断面図である。
【図１４】本発明の第４実施例による表示装置の基板間隔材の配置を示す平面図である。
【図１５】本発明の第４実施例による液晶表示装置用表示板の構造を具体的に示す拡大配置図である。
【図１６】図１５のXVI- XVI’線による断面図である。
【図１７】図１５の XVII-VII’線による断面図である。
【図１８】本発明の第４実施例による表示装置用表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【図１９】本発明の第５実施例による表示装置用表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【符号の説明】
【００９９】
　　３ 　　液晶物質層
　４０　　製造過程における、４枚取り液晶パネル
　５１，５２，５３，５４　　各液晶パネルの画面表示部
　５９　　感光膜 
　６０，６５，７０　　マスク
　６１，６６，７１　　不透明膜 
　６２，６７，７２　　開口部 
　７３　　半透過膜
　８１　　ゲート接触補助部材
　８２　　データ接触補助部材
１００，２００　　上側、下側の表示板
１１０　　絶縁基板 
１２１　　ゲート線
１２４　　ゲート電極
１２９　　ゲート線の端部
１３１　　維持電極線 
１４０　　ゲート絶縁膜
１５０　　半導体層
１６３，１６５　　抵抗性接触部材
１７１　　データ線
１７３　　ソース電極
１７５　　トレーン電極
１７９　　データ線端部 
１８０　　保護膜
１８１，１８２，１８５　　接触孔
１９０　　画素電極
２１０　　絶縁基板
２２０　　ブラックマトリックス
２３０　　色フィルター
３１０　　密封材
３２０    基板間隔材の総称
３２１，３２２，３２３　　第１乃至第３基板間隔材 　　　
【図１】
2004118200.tif 000003
【図２】
2004118200.tif 000004
【図３】
2004118200.tif 000005
【図４】
2004118200.tif 000006
【図５】
2004118200.tif 000007
【図６】
2004118200.tif 000008
【図７】
2004118200.tif 000009
【図８】
2004118200.tif 000010
【図９】
2004118200.tif 000011
【図１０】
2004118200.tif 000012
【図１１】
2004118200.tif 000013
【図１２】
2004118200.tif 000014
【図１３】
2004118200.tif 000015
【図１４】
2004118200.tif 000016
【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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