(57)【要約】【課題】有機化合物を主成分として含む記録層を備え、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光を用いて、データを記録し、再生することができる光記録ディスクを提供する。【解決手段】有機化合物を主成分として含む記録層５を備え、有機化合物が、ポルフィリン系色素を主成分として含んだ光記録ディスク。【選択図】      図１
2004160742.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機化合物を主成分として含む記録層を備え、前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含むことを特徴とする光記録ディスク。
【化１】
2004160742.tif 000035
【請求項２】
支持基板上に、少なくとも、前記ポルフィリン系色素を含んだ前記有機化合物を主成分として含む記録層と、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を透過する光透過層とを、この順で有し、前記ポルフィリン系色素が、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じることによりデータの記録を行うように構成されたことを特徴とする請求項１に記載の光記録ディスク。
【請求項３】
前記ポルフィリン系色素が、レーザー光によって、溶融または分解されることにより、再生時のレーザー光の波長において、その屈折率ｎが高くなることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録ディスク。
【請求項４】
前記ポルフィリン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）が、再生時のレーザー光および記録時のレーザー光の波長において、０．１５以上であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【請求項５】
前記一般式（１）中のＲが、
【化２】
2004160742.tif 000036
【化３】
2004160742.tif 000037
【化４】
2004160742.tif 000038
または、
【化５】
2004160742.tif 000039
から選ばれることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【請求項６】
前記記録層が、さらに、炭素数５ないし７のケトン系溶剤を含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【請求項７】
前記記録層が、炭素数６のケトン系溶剤を含むことを特徴とする請求項６に記載の光記録ディスク。
【請求項８】
前記支持基板が、ポリオレフィン樹脂によって形成されたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【請求項９】
前記支持基板上に、金属および／または誘電体からなる薄膜を有していることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【請求項１０】
前記支持基板上に、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が１．８以上の誘電体膜を有していることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【請求項１１】
前記記録層に、クエンチャーが含まれていることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【請求項１２】
一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を、炭素数５ないし７のケトン系溶剤に溶解して、塗布液を調製し、スピンコーティングによって、支持基板上に塗布して、記録層を形成することを特徴とする光記録ディスクの製造方法。
【化６】
2004160742.tif 000040
【請求項１３】
３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下である前記ポルフィリン系色素を、炭素数５ないし７のケトン系溶剤に溶解して、塗布液を調製し、スピンコーティングによって、支持基板上に塗布して、記録層を形成することを特徴とする請求項１３に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１４】
前記一般式（１）中のＲが、
【化７】
2004160742.tif 000041
【化８】
2004160742.tif 000042
【化９】
2004160742.tif 000043
または、
【化１０】
2004160742.tif 000044
から選ばれることを特徴とする請求項１２または１３に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１５】
前記ポルフィリン系色素を、炭素数６のケトン系溶剤に溶解して、塗布液を調製することを特徴とする請求項１２ないし１４のいずれか１項に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１６】
ポリオレフィン樹脂によって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、前記塗布液を塗布することを特徴とする請求項１２ないし１５のいずれか１項に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１７】
支持基板上に、少なくとも、有機化合物を主成分として含む記録層と、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を透過する光透過層を、この順で有し、前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含む光記録ディスクの光記録再生方法であって、前記記録層に、前記光透過層側から、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を照射して、前記記録層にデータを記録するとともに、３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光の波長における前記ポルフィリン系色素の屈折率ｎを高くし、前記光透過層側から、３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光を照射して、前記記録層に記録されたデータを再生することを特徴とする光記録再生方法。
【化１１】
2004160742.tif 000045
【請求項１８】
前記ポルフィリン系色素が、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じる性質を有していることを特徴とする請求項１９に記載の光記録再生方法。
【請求項１９】
前記一般式（１）中のＲが、
【化１２】
2004160742.tif 000046
【化１３】
2004160742.tif 000047
【化１４】
2004160742.tif 000048
または、
【化１５】
2004160742.tif 000049
から選ばれることを特徴とする請求項１７または１８に記載の光記録再生方法。
【請求項２０】
前記記録層が、炭素数５ないし７のケトン系溶剤を含んでいることを特徴とする請求項１７ないし１９のいすれか１項に記載の光記録再生方法。
【請求項２１】
前記記録層が、炭素数６のケトン系溶剤を含んでいることを特徴とする請求項２０に記載の光記録再生方法。
【請求項２２】
前記支持基板が、ポリオレフィン樹脂によって形成されたことを特徴とする請求項１７ないし２１のいすれか１項に記載の光記録再生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録ディスクおよびその製造方法ならびに光記録ディスクの光記録再生方法に関するものであり、さらに詳細には、有機化合物を主成分として含む記録層を備え、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光を用いて、データを記録し、再生することができる光記録ディスクおよびその製造方法ならびに有機化合物を主成分として含む記録層を備えた光記録ディスクに、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光を用いて、データを記録し、再生することができる光記録再生方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録ディスクが広く用いられている。
【０００３】
これらの光記録ディスクは、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのように、データの追記や書き換えができないタイプのいわゆるＲＯＭ型光記録ディスクと、ＣＤ−Ｒ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ−Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）やＤＶＤ−Ｒ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ−Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）のように、データの追記は可能であるが、データの書き換えができないタイプのいわゆる追記型光記録ディスクと、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能なタイプのいわゆる書き換え型光記録ディスクに大別することができる。
【０００４】
これらのうち、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに代表される記録層に有機色素を用いた追記型光記録ディスクが広く用いられるようになっている。
【０００５】
近赤外波長のレーザー光により、データを記録再生可能なＣＤ−Ｒは、記録された情報を改ざんすることができないという特性を有し、また、価格も安価のため、広く市場に受け入れられている。
【０００６】
一方で、また、映像の長時間記録が可能なように、高記録密度化が求められた結果、赤外波長のレーザー光によって、データを記録再生可能なＤＶＤ−Ｒが、現在普及しつつある。すなわち、ＤＶＤ−Ｒにおいては、記録再生時のレーザー光の波長を、ＣＤの７８０ｎｍよりも短波長の６５０ｎｍにし、光学系の開口数ＮＡをＣＤの０．４５から０．６に増大させることにより、ＣＤの６ないし８倍の記録容量（４．７ＧＢ／面）が実現され、通常のテレビジョン信号であれば２時間程度の記録が可能となっている。
【０００７】
昨今、更なる高記録密度化のために、さらに記録再生時のレーザー光の短波長化と、光学系の高開口数化が進み、記録再生時のレーザー光として、青紫半導体レーザー光（波長３９０ないし４２０ｎｍ）を用い、開口数ＮＡが０．７６以上の対物レンズ系を用いるシステムに適合した次世代の光記録ディスクが提案されており、短波長レーザー光の使用によって、光記録ディスクの飛躍的な高記録密度化が期待されている。
【０００８】
ところで、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの記録層に用いられる有機色素材料として、これまで、種々の有機色素材料が提案されているが、実用に至っている材料は、その吸収スペクトルの長波長側が、記録再生時のレーザー光の波長領域が合致し、長波長側において、高い屈折率（ｎ＞２．０）と適切な消衰係数（０．０１＜ｋ＜０．１０）とを有しているものである。
【０００９】
記録層に記録再生時のレーザー光が照射されると、記録層に含まれた有機色素材料はレーザー光を吸収し、溶融または分解し、高屈折率から低屈折率への大きな屈折率変化を生じ、記録ピットが形成されて、データが記録される。記録されたデータを再生するには、記録層に記録再生時のレーザー光を照射し、記録ピットとその周囲の未記録部との間のレーザー光に対する反射率の差を利用して、データが読み取られる。
【００１０】
ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒにおいては、高い反射率を有するＣＤ−ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＤＶＤ−ＲＯＭとの互換性のために高い反射率が必要とされるが、２＜ｎ＜３の屈折率と、０．０１＜ｋ＜０．１０の消衰係数を有する有機色素材料のみでは、高い反射率が得ることができないため、記録層のレーザー光照射側とは反対側に、反射率の高い金属反射層が設けられている。このように、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒにおいては、ＲＯＭとの互換性を保つべく、高反射率および高変調のために、記録再生時のレーザー光の波長領域において、溶融または分解によって、高屈折率から低屈折率へ変化する有機色素材料が実用されている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
記録再生レーザー光として青紫半導体レーザー光（波長３９０ないし４２０ｎｍ）を用いる次世代の光記録ディスクにおいては、記録層に相変化材料を用いた書換え可能型媒体ＲＷ（Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）の反射率を、ＲＯＭと同程度にまで高くすることが困難であるという事情から、低反射率が基本的な規格として盛り込まれるようになっている。ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのように高い反射率が必要とされないのであれば、追記型光記録ディスクの記録層において、レーザー光照射による溶融または分解によって、低屈折率から高屈折率へと変化する有機色素材料を採用することも可能となる。特開２００１−２７３６７２号公報には、その可能性が示唆されている。
【００１２】
しかしながら、レーザー光照射による溶融または分解によって、３９０ないし４２０ｎｍの再生時のレーザー光の波長領域において、低屈折率から高屈折率へと変化する有機色素材料は具体的に知られていない。
【００１３】
ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒにおける場合のように、３９０ないし４２０ｎｍという領域に吸収スペクトルの長波長側を合致させるという手法も一般的に困難であると考えられる。
【００１４】
また、紫外線吸収剤では、３９０ないし４２０ｎｍという領域に吸収スペクトルの長波長側を有するものもあるが、紫外線吸収剤は共役系が短く、すなわち、分子全体が小さく、有機溶剤への溶解性が一般的に低いため、スピンコーティングに適さず、また、薄膜時に結晶化しやすいこと等の弊害が考えられる。
【００１５】
したがって、本発明は、有機化合物を主成分として含む記録層を備え、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光を用いて、データを記録し、再生することができる光記録ディスクおよびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１６】
本発明の別の目的は、有機化合物を主成分として含む記録層を備えた光記録ディスクを使用して、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光を用いて、データを記録し、再生することができる光記録再生方法を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素が、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光の照射によって、溶融または分解して、低屈折率から高屈折率へと変化し、所望のキャリア／ノイズ比および反射率を得ることができ、青紫色レーザー光に対しても、モル吸光係数が大きく、かつ、耐光性に優れており、次世代の光記録ディスクの記録層を形成するための有機色素として、優れた特性を有していることを見出した。
【００１８】
【化１６】
2004160742.tif 000003
したがって、本発明の前記目的は、有機化合物を主成分として含む記録層を備え、前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含むことを特徴とする光記録ディスクによって達成される。
【００１９】
【化１７】
2004160742.tif 000004
本発明の好ましい実施態様においては、光記録ディスクが、支持基板上に、少なくとも、前記ポルフィリン系色素を含んだ前記有機化合物を主成分として含む記録層と、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を透過する光透過層とを、この順で有し、前記ポルフィリン系色素が、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じることによりデータの記録を行うように構成されている。
【００２０】
本発明において、前記ポルフィリン系色素が、レーザー光によって、溶融または分解されることにより、再生時のレーザー光の波長において、その屈折率ｎが高くなることが好ましい。
【００２１】
本発明において、前記ポルフィリン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）が、再生時のレーザー光および記録時のレーザー光の波長において、０．１５以上であることが好ましい。
【００２２】
本発明の好ましい実施態様においては、前記一般式（１）中のＲが、
【００２３】
【化１８】
2004160742.tif 000005
【００２４】
【化１９】
2004160742.tif 000006
【００２５】
【化２０】
2004160742.tif 000007
または、
【００２６】
【化２１】
2004160742.tif 000008
から選ばれる。
【００２７】
本発明の好ましい実施態様においては、前記記録層が、さらに、炭素数５ないし７のケトン系溶剤を含んでいる。
【００２８】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記記録層が、炭素数６のケトン系溶剤を含んでいる。
【００２９】
本発明において、ケトン系溶剤は、鎖状構造を有していても、環状構造を有していてもよいが、直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が好ましく使用される。
【００３０】
本発明の好ましい実施態様においては、前記支持基板が、ポリオレフィン樹脂によって形成されている。
【００３１】
本発明の好ましい実施態様によれば、支持基板が、ポリオレフィン樹脂によって形成されているから、炭素数が５ないし７のケトン系溶剤によって、支持基板が侵されることを確実に防止することが可能になる。
【００３２】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記支持基板が、アモルファスポリオレフィン樹脂によって形成されている。
【００３３】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、光記録ディスクは、前記支持基板上に、金属および／または誘電体からなる薄膜を有している。
【００３４】
本発明において、金属および／または誘電体からなる薄膜は、５ないし７０ｎｍの膜厚を有し、好ましくは、１０ないし４０ｎｍの膜厚を有している。薄膜を形成する金属の一例としては、銀または銀を主成分とする合金が挙げられ、薄膜を形成する誘電体の一例としては、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ＋ＳｉＯ２（８０：２０）が挙げられる。かかる薄膜を設けることによって、隣接マーク間の熱干渉を抑制することができ、反射率の調整も可能になる。
【００３５】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、光記録ディスクは、前記支持基板上に、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が１．８以上の誘電体膜を有している。
【００３６】
本発明において、誘電体膜は、５ないし１００ｎｍの膜厚を有し、好ましくは２０ないし７０ｎｍの膜厚を有している。誘電体膜の膜厚が１００ｎｍを越えると、感度が低下するため、好ましくない。誘電体膜を形成する誘電体としては、ＣｅＯ２＋Ａｌ２Ｏ３（８０：２０）、ＺｎＳ＋ＳｉＯ２（８０：２０）などが挙げられる。かかる誘電体膜は、記録層上に光透過層を形成する際に、記録層を保護するとともに、反射率の調整を目的とするものであり、他の手段によって、これらの目的が実現することができる場合には、誘電体膜を設けることは必ずしも必要でない。
【００３７】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記記録層に、クエンチャーが含まれている。
【００３８】
本発明の前記目的はまた、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を、炭素数５ないし７のケトン系溶剤に溶解して、塗布液を調製し、スピンコーティングによって、支持基板上に塗布して、記録層を形成することを特徴とする光記録ディスクの製造方法によって達成される。
【００３９】
【化２２】
2004160742.tif 000009
本発明者は、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素が、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光の照射によって、溶融または分解して、低屈折率から高屈折率へと変化し、所望のキャリア／ノイズ比および反射率を得ることができ、青紫色レーザー光に対しても、モル吸光係数が大きく、かつ、耐光性に優れており、次世代の光記録ディスクの記録層を形成するために、好ましいことを見出したが、ポルフィリン系色素は、有機溶媒への溶解性が低く、スピンコーティングのための塗布液を調製することが困難な場合があった。しかしながら、本発明者が、鋭意研究を重ねた結果、ポルフィリン系色素は、炭素数５ないし７のケトン系溶剤に対し、高い溶解性を有していることが見出された。したがって、本発明によれば、炭素数５ないし７のケトン系溶剤に、ポルフィリン系色素を溶解しているから、スピンコーティングのための塗布液を調製することが可能になり、したがって、こうして調製した塗布液を、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布することによって、モル吸光係数が大きく、かつ、耐光性に優れた記録層を備えた光記録ディスクを製造することが可能になる。
【００４０】
本発明の好ましい実施態様においては、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であるポルフィリン系色素を、炭素数５ないし７のケトン系溶剤に溶解して、塗布液を調製し、スピンコーティングによって、支持基板上に塗布して、記録層を形成するように構成されている。
【００４１】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記一般式（１）中のＲが、
【００４２】
【化２３】
2004160742.tif 000010
【００４３】
【化２４】
2004160742.tif 000011
【００４４】
【化２５】
2004160742.tif 000012
または、
【００４５】
【化２６】
2004160742.tif 000013
から選ばれる。
【００４６】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記ポルフィリン系色素を、炭素数６のケトン系溶剤に溶解して、塗布液が調製される。
【００４７】
本発明において、ケトン系溶剤は、鎖状構造を有していても、環状構造を有していてもよいが、直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が好ましく使用される。
【００４８】
本発明の好ましい実施態様においては、ポリオレフィン樹脂によって形成された支持基板上に、塗布液を塗布して、記録層が形成される。
【００４９】
本発明の好ましい実施態様によれば、支持基板が、ポリオレフィン樹脂によって形成されているから、炭素数が５ないし７のケトン系溶剤によって、支持基板が侵されることを効果的に防止することが可能になる。
【００５０】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、アモルファスポリオレフィン樹脂によって形成された支持基板上に、塗布液を塗布して、記録層が形成される。
【００５１】
本発明の前記目的はまた、支持基板上に、少なくとも、有機化合物を主成分として含む記録層と、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を透過する光透過層を、この順で有し、前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含む光記録ディスクの光記録再生方法であって、前記記録層に、前記光透過層側から、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を照射して、前記記録層にデータを記録するとともに、３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光の波長における前記ポルフィリン系色素の屈折率ｎを高くし、前記光透過層側から、３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光を照射して、前記記録層に記録されたデータを再生することを特徴とする光記録再生方法によって達成される。
【００５２】
【化２７】
2004160742.tif 000014
本発明の好ましい実施態様においては、前記ポルフィリン系色素が、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じる性質を有している。
【００５３】
本発明の好ましい実施態様においては、前記一般式（１）中のＲが、
【００５４】
【化２８】
2004160742.tif 000015
【００５５】
【化２９】
2004160742.tif 000016
【００５６】
【化３０】
2004160742.tif 000017
または、
【００５７】
【化３１】
2004160742.tif 000018
から選ばれる。
【００５８】
本発明の好ましい実施態様においては、前記記録層が、さらに、炭素数５ないし７のケトン系溶剤を含んでいる。
【００５９】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記記録層が、炭素数６のケトン系溶剤を含んでいる。
【００６０】
本発明において、ケトン系溶剤は、鎖状構造を有していても、環状構造を有していてもよいが、直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が好ましく使用される。
【００６１】
本発明の好ましい実施態様においては、前記支持基板が、ポリオレフィン樹脂によって形成されている。
【００６２】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記支持基板が、アモルファスポリオレフィン樹脂によって形成されている。
【００６３】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、光記録ディスクは、前記支持基板上に、金属および／または誘電体からなる薄膜を有している。
【００６４】
本発明において、金属および／または誘電体からなる薄膜は、５ないし７０ｎｍの膜厚を有し、好ましくは、１０ないし４０ｎｍの膜厚を有している。薄膜を形成する金属の一例としては、銀または銀を主成分とする合金が挙げられ、薄膜を形成する誘電体の一例としては、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ＋ＳｉＯ２（８０：２０）が挙げられる。
【００６５】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、光記録ディスクは、前記支持基板上に、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が１．８以上の誘電体膜を有している。
【００６６】
本発明において、誘電体膜は、５ないし１００ｎｍの膜厚を有し、好ましくは２０ないし７０ｎｍの膜厚を有している。誘電体膜の膜厚が１００ｎｍを越えると、感度が低下するため、好ましくない。誘電体膜を形成する誘電体としては、ＣｅＯ２＋Ａｌ２Ｏ３（８０：２０）、ＺｎＳ＋ＳｉＯ２（８０：２０）などが挙げられる。
【００６７】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記記録層に、クエンチャーが含まれている。
【００６８】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００６９】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【００７０】
図１に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク１  は、支持基板２を備え、支持基板２の情報ピットやプリグルーブなどの微細凹凸が形成されている側の面上に、金属層３、誘電体層４、記録層５、誘電体層６および光透過層７が、この順で、形成されている。
【００７１】
光記録ディスク１は、図１において、矢印で示される向きに、記録または再生のためのレーザー光が照射され、光透過層７を通して、記録層５に、レーザー光が照射されるように構成されている。
【００７２】
支持基体２は、０．３ｍｍないし１．６ｍｍ、好ましくは、０．５ｍｍないし１．３ｍｍの厚さを有し、記録層５が形成される側の面に、情報ピットや、プリグルーブ、ランドなどの微細な凹凸が形成されている。本明細書において、グルーブＧは、レーザー光が入射すべき側に位置する案内溝を指し、ランドＬは隣り合ったグルーブＧの間に形成される。グルーブＧは、通常、スパイラル状に形成される。
【００７３】
グルーブＧの深さＧｄは、ランドＬの最も高い所とグルーブＧの最も低い所の差によって定義され、好ましくは４０ないし１５０ｎｍであり、より好ましくは６０ないし１２０ｎｍである。グルーブＧの深さＧｄをこのような範囲とすることによって、十分なトラッキング制御が可能となり、クロストークを抑制することが可能になる。グルーブＧの深さＧｄが４０ｎｍ未満であると、トラック追従のために必要なトラッキングエラー信号が小さくなるとともに、クロストークが大きくなり、さらに、ウオブル信号のようなプリフォーマット信号か小さくなる傾向があり、好ましくない。一方、グルーブＧの深さＧｄが１５０ｎｍを越えると、ランドＬおよびグルーブＧを精度良く形成することが困難になり、反射信号の低下や感度の低下が生じるおそれがある。
【００７４】
グルーブＧの幅Ｇｗは、グルーブＧの深さＧｄの１／２の深さ位置におけるグルーブの幅によって定義され、好ましくは１１０ないし２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０ないし１９０ｎｍである。グルーブＧのピッチＧｐは、隣り合うグルーブの間隔によって定義され、たとえば、隣り合うグルーブの幅Ｇｗ方向中心の間隔として定義される。グルーブＧのピッチＧｐは、たとえば、２９０ないし３５０ｎｍであり、好ましくは３１０ないし３３０ｎｍである。このような構成とすることによって、クロストークを抑制することが可能になる。
【００７５】
本実施態様にかかる光記録ディスク１のランドＬの部分およびグルーブＧの部分またはランドＬの部分もしくはグルーブＧの部分に、データを記録することもできる。
【００７６】
支持基体２は、光学的には透明である必要はないが、とくに、記録層を形成するために用いる溶剤に溶解しないものを用いることが好ましい。この観点から、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂、ポリオレフィン樹脂などの各種プラスチック材料などが、支持基板２を形成するために使用することできる。これらのうち、成形の容易性などから、とくに、ポリオレフィン樹脂が好ましい。プラスチック材料のように撓み易い材料を用いた場合には、光記録ディスク１の反りの発生を抑制することができ、とくに有効である。ただし、ガラス、セラミックス、金属などを用いて、支持基板２を形成してもよい。支持基板２の表面上の凹凸パターンは、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形によって、支持基板２を形成する際に、形成されることが多いが、プラスチック材料以外の材料を用いて、支持基板２を形成する場合には、フォトポリマー法（２Ｐ法）によって成形することができる。
【００７７】
本実施態様においては、支持基板２上に、金属層３および誘電体層４が形成される。これらの金属層３および誘電体層４は、レーザー光によって、データを記録する際に生じる熱を効果的に放熱することができるものであればよく、金属層３は、たとえば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｐｄ、あるいは、これらの合金によって形成することができる。誘電体層４は、たとえば、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇから選ばれる金属のうちの少なくとも１種を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成され、とくに、ＺｎＳ−ＳｉＯ２  、Ａｌ２Ｏ３などによって、誘電体層４を形成することが好ましい。ＺｎＳ−ＳｉＯ２  によって、誘電体層４を形成する場合には、ＳｉＯ２  の含有量を１０ｍｏｌ％以上、４０ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。金属層３および誘電体層４を形成する方法としては、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法などの手法が挙げられる。
【００７８】
金属層３および誘電体層４の厚さは、とくに限定されるものではなく、たとえば、５ないし５０ｎｍ程度であり、好ましくは５なしし３０ｎｍ程度である。厚さが５ｎｍ未満となると、充分な放熱効果が得ることができない。その一方で、５０ｎｍを越えると、熱伝導性が良くなり過ぎ、感度が低下するおそれがある。
【００７９】
次いで、有機化合物を主成分とする記録層５が形成される。有機化合物は、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を含んでいる。
【００８０】
【化３２】
2004160742.tif 000019
ここに、有機化合物を主成分とするとは、不可避成分を除いて、記録層が有機化合物で構成されている場合だけでなく、記録層が、ポルフィリン系色素以外の有機化合物を含んでいる場合や、記録層の諸特性向上の目的で、記録層中に１０重量％以下の無機化合物を含有している場合も含まれる。
【００８１】
ポルフィリン系色素は、３７０ないし４２５ｎｍの範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、３９０ないし４２０ｎｍの波長のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、かつ、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じる性質を有していることが好ましい。
【００８２】
記録時のレーザー光の波長領域３９０ないし４２０ｎｍにおける屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が１．２以下のポルフィリン系色素を用いることにより、データの記録時において、ポルフィリン系色素が３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、３９０ないし４２０ｎｍの波長領域において、低屈折率から高屈折率（たとえば、１．４５ないし１．６５）への屈折率変化が生じる。このようにして、記録ピットが形成され、データが記録される。データの再生時においては、記録ピットとその周囲の未記録部との間の３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光に対する反射率の差を利用して、データが読み取られる。この原理に基づいて、３９０ないし４２０ｎｍの記録時のレーザー光による記録および３９０ないし４２０ｎｍの再生時のレーザー光による再生が行われる。より大きな屈折率変化を生じさせるために、３７０ないし４２５ｎｍの範囲における屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎは、１．１以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎの下限値は、とくに限定されないが、通常は、０．７程度である。
【００８３】
また、ポルフィリン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．１５以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。記録時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、記録ピット形成部において、記録時のレーザー光を適度に吸収することができ、局所的に、温度が上昇し、溶融または分解による屈折率変化が生じやすい。記録時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素の消衰係数ｋが０．１５未満である場合には、記録時のレーザー光の吸収率が低下し、通常の記録パワーでのデータの記録が困難となる。また、再生時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、データの未記録部において、所望の反射率が得られ、記録ピットと未記録部との間の反射率差を読み取りやすい。しかしながら、再生時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素の消衰係数ｋが大きくなりすぎると、反射率が低下してしまうので、再生時のレーザー光の波長における消衰係数ｋは２．０以下であることが好ましい。このような観点から、ポルフィリン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．３以上、２．０以下が好ましく、０．４以上、１．５以下がより好ましい。
【００８４】
ポルフィリン系色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）および消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、薄膜状態のポルフィリン系色素の吸収スペクトルを測定することによって、測定される。薄膜状態の有機化合物の吸収スペクトルは、一般的には、以下のようにして、測定される。吸収スペクトルを測定すべき有機化合物を適切な有機溶媒に溶解させ、得られた溶液を、スピンコーティング法により、グルーブやピットなどが形成されていないポリカーボネート平板上に、有機化合物が特定の配向性を持たないように、塗布して、４０ないし１００ｎｍ程度の膜厚を有する薄膜を形成する。スピンコーティング時の溶媒揮発の際に、有機化合物が著しく結晶化し、あるいは、会合するような場合には、別種の溶媒を選択する。こうして作成した有機化合物薄膜付きポリカーボネート基板の透過吸収スペクトルを、分光光度計にて測定する。
【００８５】
本発明において、好ましくは、ポルフィリン系色素の一般式（１）中のＲが、
【００８６】
【化３３】
2004160742.tif 000020
【００８７】
【化３４】
2004160742.tif 000021
【００８８】
【化３５】
2004160742.tif 000022
または、
【００８９】
【化３６】
2004160742.tif 000023
から選ばれる。
【００９０】
記録層５は、好ましくは、スピンコーティング法によって、形成される。すなわち、ポルフィリン系色素を、ケトン系の溶剤に溶解して、塗布液を調製し、調製された塗布液を、スピンコーティング法によって、支持基体２上に塗布し、必要に応じて、塗膜を乾燥させる。スピンコーティング法に代えて、スクリーン印刷法、ディップ塗布法などによって、記録層を形成するようにしてもよい。
【００９１】
ポルフィリン系色素を溶解するための溶剤としては、炭素数が５ないし７のケトン系溶剤を用いることが好ましく、より好ましくは、直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が用いられる。炭素数が５ないし７の直鎖状および分岐状の構造を有するケトン形溶剤の具体例としては、３−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、３−ヘキサノン、２−ヘキサノン（ブチルメチルケトン）、４−ヘプタノン、２−ヘプタノンが挙げられる。
【００９２】
さらに好ましくは、炭素数が６のケトン系溶剤、とくに、炭素数が６の直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が、ポルフィリン系色素を溶解するために用いられ、より好ましく用いられる炭素数が６の直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤の具体例としては、メチルイソブチルケトン、３−ヘキサノン、２−ヘキサノン（ブチルメチルケトン）が挙げられる。
【００９３】
記録層５は、ランドＬの部分で、３０ないし１２０ｎｍの膜厚を有するように形成され、好ましくは、４０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成され、記録層５は、グルーブＧの部分では、５ないし９５ｎｍ、好ましくは、１０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成される。記録層５の膜厚は、所望の反射率や変調度、隣接トラック、マークの熱干渉を考慮して、設計することが好ましい。これらに影響を与えるパラメータとしては、支持基板２の形状、色素の熱分解挙動や光学特性、隣接する層の光学特性や熱伝導性などが挙げられる。
【００９４】
記録層５上には、好ましくは、誘電体層６が形成される。誘電体層６は、記録層５を機械的、化学的に保護する機能を有するとともに、記録層５の光学特性を調整する干渉層としての機能を有している。誘電体層６は、単層によって構成されていても、複数層によって構成されていてもよい。
誘電体層６は、記録層５上に位置しているため、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光および再生時のレーザー光を透過させる性質を有していることが必要であり、記録時のレーザー光および再生時のレーザー光の波長である３９０ないし４２０ｎｍにおける誘電体層６の屈折率ｎ４（複素屈折率の実部）が２以上であることが好ましい。屈折率ｎ４が２以上であると、光記録ディスク１の反射率を目的とする範囲（たとえば、１５ないし２０％）に容易に調整することができ、好ましい。ｎ４の上限は、とくに限定されないが、３９０ないし４２０ｎｍの波長の光を透過させる材料として、現実に知られている材料にあっては、３程度である。また、誘電体層６の記録時のレーザー光および再生時のレーザー光の波長である３９０ないし４２０ｎｍにおける消衰係数ｋ４（複素屈折率の虚部）が０．２以下であることが好ましい。消衰係数ｋ４が０．２以下であると、誘電体層６でのエネルギー吸収分が減って、光記録ディスク１の反射率調整のマージンが広がり、または、感度が良好になるため、好ましい。一方、消衰係数ｋ４の下限はとくに限定されないが、０程度である。
【００９５】
誘電体層６は、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇから選ばれる金属のうちの少なくとも１種を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成することができるが、上述した屈折率ｎ４および消衰係数ｋ４の好ましい範囲から、具体的には、ＺｎＳ−ＳｉＯ２  、ＡｌＮ、Ｔａ２  Ｏ３  、ＣｅＯ２−Ａｌ２Ｏ３などが、誘電体層６を形成するために好ましく用いられる。ＺｎＳ−ＳｉＯ２  、ＣｅＯ２−Ａｌ２Ｏ３については、光学的な特性や物理的な特性を満足させるために、ＳｉＯ２  、Ａｌ２Ｏ３の含有率を１０ｍｏｌ％以上、４０ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。誘電体層６を形成する方法としては、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法などの手法が挙げられるが、記録層５が損傷を受けないような方法を適宜選択することができる。
【００９６】
誘電体層６の厚さは、とくに限定されるものではなく、たとえば、２０ないし１５０ｎｍ程度であり、３０ないし７０ｎｍが好ましい。誘電体層６の厚さが、２０ｎｍ未満となると、光透過層７の成分が誘電体層６内に浸透し、記録層５を侵すおそれがあり、その一方で、誘電体層６の厚さが、１５０ｎｍを超えると、熱伝導性が良くなり過ぎて、感度が低下するおそれがある。
【００９７】
誘電体層６上には、光透過層７が形成される。
【００９８】
光透過層７を形成する材料としては、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂などから選択することができ、とくに、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などの活性エネルギー線硬化型樹脂が好ましい。また、光透過層７を形成する材料としては、無溶剤型の材料であることが好ましい。
【００９９】
好ましくは、光透過層７は、紫外線硬化性化合物もしくは電子線硬化性化合物またはそれらの重合用組成物によって形成される。紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートなどのアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合などの紫外線照射または電子線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマーなどを挙げることができる。これらは、多官能化合物、とくに３官能以上の化合物であることが好ましく、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよい。単官能化合物を含んでいてもよい。
【０１００】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては、分子量２０００ないし１００００のものが好適である。これらの例としては、スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレートなども挙げられるが、とくに好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）  アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）  アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）  アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）  アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ）  アクリレートなどが挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体などが挙げられる。
【０１０１】
紫外線硬化性材料としては、さらに、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も、好ましく使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、とくに、分子内に、２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量にとくに限定されるものではないが、良好な硬化性が得られることから、６０ないし３００、とくに１００ないし２００であることが好ましい。
【０１０２】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、とくに限定されるものではない。たとえば、光カチオン重合触媒として、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族ないし５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６  アニオン（ただし、Ｍは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩などを用いることができ、とくに、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【０１０３】
光透過層７を形成するために用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂としては、２５℃において、１，０００ないし１０，０００センチポイズの粘度を有するものが好ましい。
【０１０４】
誘電体層６上に、活性エネルギー線硬化型樹脂をスピンコーティング法によって塗布し、その後、紫外線などの活性エネルギー線を照射して、硬化させ、光透過層７を形成することが好ましい。
【０１０５】
また、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さい樹脂によって形成された所望の厚さのシートを、シート状の樹脂と同様の条件を満足する接着剤を使用して、誘電体層６上に貼付し、光透過層７を形成することもできる。
【０１０６】
光透過層７を形成するためのシートに用いられる樹脂としては、たとえば、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン、ポリエステルなどを挙げることができる。樹脂のシートの貼付前に、樹脂の熱変形温度に対して、−２０ないし＋８０℃の範囲で、シートの成膜時の残留応力を取り除く目的で、シート状の樹脂に、アニール処理（熱緩和処理）を施すこともできる。シート状の樹脂に、アニール処理を施さなかった場合には、光記録ディスクの保存時に、シートの残留応力の影響で、光記録ディスクが変形するおそれがある。アニール処理を施すための加熱手段は、ヒーター、ホットプレート、ホットローラ、ベーク炉、電磁誘導加熱などの公知の加熱手段の中から、工程条件などを元に、適宜選択することができる。
【０１０７】
樹脂のシートを貼付するために使用される接着剤は、感圧性粘着剤や紫外線硬化型樹脂などから選択することができる。たとえば、光透過層７の材料として上述した活性エネルギー線硬化型樹脂は、樹脂のシートを貼付するための接着剤として好適である。
【０１０８】
樹脂のシートを誘電体層６に貼付して、光透過層７を形成する場合には、誘電体層６上に、接着剤として、活性エネルギー線硬化型樹脂をスピンコーティング法によって塗布し、未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂層上に、樹脂のシートを載置し、その後、紫外線などの活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化することによって、樹脂のシートを接着して、光透過層７を形成するとよい。より具体的には、真空中（０．１気圧以下）において、樹脂のシートを未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂層上に載置し、次いで、大気圧雰囲気に戻して、紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化させるとよい。
【０１０９】
光透過層７の膜厚ｔは、一般に、ディスクスキューマージンθ（以下、スキューマージンθと略記する。）と、記録再生時のレーザー光の波長λと、対物レンズの開口数ＮＡとの間で相関関係があり、特開平３−２２５６５０号公報に、これらのパラメータとスキューマージンとの関係θ∝λ／｛ｔ×（ＮＡ）３ ｝が示されている。
【０１１０】
ここで、光記録ディスク１を実際に量産する場合、スキューマージンθを、歩留まりとコストから、０．４°として、レーザー光の短波長化、対物レンズの開口数の高ＮＡ化を考慮して、λ＝３８０ｎｍで、ＮＡ≧０．７６の場合には、光透過層７の膜厚ｔが１７０μｍ以下であれば、ＤＶＤと同等のスキューマージンθが確保できる。
【０１１１】
一方、光透過層７の膜厚の下限は、誘電体層６や記録層５を保護する保護機能の確保という観点から、１μｍ以上であることが好ましい。シート状の樹脂を用いて、光透過層７を形成した場合には、樹脂の性質から、シートの厚さを均一に薄くすることが困難であるため、光透過層７の膜厚の下限を接着剤層の厚みを含めて、５０μｍ以上とすることが好ましい。したがって、より好ましい光透過層７の膜厚ｔは、スピンコーティング法により、光透過層７を形成する場合には、１ないし１５０μｍが好ましく、シート状の樹脂を貼付して、光透過層７を形成する場合には５０ないし１５０μｍが好ましい。
【０１１２】
【実施例】
以下、本発明の効果を、より一層明らかにするため、実施例を掲げる。
【０１１３】
実施例１
支持基板２として、ノルボルネン系モノマーを開環重合した後に、水素添加して得られた下記構造式で示される繰返し単位を有するポリオレフィン樹脂である日本ゼオン株式会社製「Ｚｅｏｎｅｘ」（商品名）によって形成され、グルーブが形成された直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのポリオレフィン樹脂基板を用いた。
【０１１４】
【化３７】
2004160742.tif 000024
図１におけるグルーブＧの深さＧｄは８５ｎｍ、グルーブＧの幅Ｇｗは１６０ｎｍ、グルーブＧのピッチ（トラックピッチ）Ｇｐは３２０ｎｍであった。
【０１１５】
下記の構造式（１）で示される０．１４ｇのポルフィリン系色素を、９．８６ｇのメチルイソブチルケトンに溶解して、ポルフィリン系色素濃度が１．４重量％の塗布液を調製し、支持基板２の表面に、塗布液を、スピンコーティング法により塗布し、ランドＬの部分とグルーブＧの部分の平均膜厚が約４０ｎｍの記録層５を形成した。
【０１１６】
【化３８】
2004160742.tif 000025
【０１１７】
【化３９】
2004160742.tif 000026
このポルフィリン系色素は、その薄膜の吸収スペクトルにおいて、３９９ｎｍに、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、ｎｍｉｎは０．７９、４０５ｎｍでの屈折率ｎは０．８、消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は０．８７であった。
【０１１８】
こうして形成した平均膜厚が約４０ｎｍの記録層５上に、ＲＦスパッタリング法により、ＺｎＳ（８０ｍｏｌ％）−ＳｉＯ２  （２０ｍｏｌ％）からなる層を、約５０ｎｍの膜厚で形成し、誘電体層６を形成した。屈折率ｎ４（複素屈折率の実部）は２．３、消衰係数ｋ４（複素屈折率の虚部）は０であった。
【０１１９】
誘電体層６上に、２５℃における粘度が５０００ｃｐの紫外線硬化型樹脂を、スピンコーティング法により塗布し、形成された塗布膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂を硬化させ、膜厚が約１００μｍの光透過層７を形成した。
【０１２０】
このようにして、光記録ディスクサンプル＃１を作製した。
【０１２１】
実施例２
実施例１で用いたポルフィリン系色素０．１３ｇを、９．８７ｇの３−ペンタノンに溶解して、ポルフィリン系色素濃度が１．３重量％の塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃２を作製した。
【０１２２】
実施例３
実施例１で用いたポルフィリン系色素０．１５ｇを、９．８５ｇの２−ヘキサノンに溶解して、ポルフィリン系色素濃度が１．５重量％の塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃３を作製した。
【０１２３】
実施例４
実施例１で用いたポルフィリン系色素０．１５ｇを、９．８５ｇの３−ヘキサノンに溶解して、ポルフィリン系色素濃度が１．５重量％の塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃４を作製した。
【０１２４】
実施例５
約３０ｎｍの膜厚を有する誘電体層６を形成した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃５を作製した。
【０１２５】
実施例６
ＣｅＯ２（８０ｍｏｌ％）−Ａｌ２Ｏ３（２０ｍｏｌ％）からなる層を、ＲＦスパッタリング法により、記録層５上に、約４０ｎｍの膜厚で形成し、誘電体層６を形成した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃６を作製した。
【０１２６】
実施例７
支持基板２上に、ＺｎＳ（８０ｍｏｌ％）−ＳｉＯ２  （２０ｍｏｌ％）からなる層を、ＲＦスパッタリング法によって、約１０ｎｍの膜厚で形成して、誘電体層４を形成し、誘電体層４上に、記録層５を形成した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃７を作製した。
【０１２７】
実施例８
支持基板２上に、ＡｇＮｄＣｕ合金からなる層を、ＲＦスパッタリング法によって、約１０ｎｍの膜厚で形成して、金属層３を形成し、金属層３上に、記録層５を形成した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃８を作製した。
【０１２８】
実施例９
支持基板２上に、ＡｇＮｄＣｕ合金からなる層を、ＲＦスパッタリング法によって、約２０ｎｍの膜厚で形成して、金属層３を形成し、金属層３上に、記録層５を形成した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃９を作製した。
【０１２９】
実施例１０
支持基板２上に、Ａｌ２Ｏ３からなる層を、ＲＦスパッタリング法によって、約１０ｎｍの膜厚で形成して、誘電体層４を形成し、誘電体層４上に、記録層５を形成した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃１０を作製した。
【０１３０】
実施例１１
下記の構造式（１）で示される０．１４ｇのポルフィリン系色素を、９．８６ｇのメチルイソブチルケトンに溶解して、ポルフィリン系色素濃度が１．４重量％の塗布液を調製し、支持基板２の表面に、塗布液を、スピンコーティング法により塗布し、ランドＬの部分とグルーブＧの部分の平均膜厚が約４０ｎｍの記録層５を形成した。
【０１３１】
【化４０】
2004160742.tif 000027
【０１３２】
【化４１】
2004160742.tif 000028
このポルフィリン系色素は、その薄膜の吸収スペクトルにおいて、４０６ｎｍに、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、ｎｍｉｎは１．００、４０５ｎｍでの屈折率ｎは１．０、消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は０．８６であった。
【０１３３】
こうして形成された記録層５上に、実施例１と同様にして、誘電体層６および光透過層７を、この順で、形成し、光記録ディスクサンプル＃１１を作製した。
【０１３４】
実施例１２
下記の構造式（１）で示される０．１３ｇのポルフィリン系色素を、９．８６ｇのメチルイソブチルケトンに溶解して、ポルフィリン系色素濃度が１．３重量％の塗布液を調製し、支持基板２の表面に、塗布液を、スピンコーティング法により塗布し、ランドＬの部分とグルーブＧの部分の平均膜厚が約３０ｎｍの記録層５を形成した。
【０１３５】
【化４２】
2004160742.tif 000029
【０１３６】
【化４３】
2004160742.tif 000030
このポルフィリン系色素は、その薄膜の吸収スペクトルにおいて、４１６ｎｍに、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、ｎｍｉｎは１．０６、４０５ｎｍでの屈折率ｎは１．１０、消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は０．３４であった。
【０１３７】
こうして形成された記録層５上に、実施例１と同様にして、誘電体層６および光透過層７を、この順で、形成し、光記録ディスクサンプル＃１２を作製した。
【０１３８】
比較例１
下記の構造式で示される０．８ｇの有機色素を、９．９２ｇのテトラフルオロプロパノールに溶解して、色素濃度が０．８重量％の塗布液を調製し、支持基板２の表面に、塗布液を、スピンコーティング法により塗布し、ランドＬの部分とグルーブＧの部分の平均膜厚が約４０ｎｍの記録層５を形成した。
【０１３９】
【化４４】
2004160742.tif 000031
この有機色素は、その薄膜の吸収スペクトルにおいて、４３２ｎｍに、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、ｎｍｉｎは０．９４、４０５ｎｍにおける屈折率ｎは１．２９、消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は０．２５であった。
【０１４０】
こうして形成された記録層５上に、実施例１と同様にして、誘電体層６および光透過層７を、この順に形成し、光記録ディスク比較サンプル＃１を作製した。
【０１４１】
比較例２
下記の構造式で示される０．８ｇの有機色素を、９．９２ｇのテトラフルオロプロパノールに溶解して、色素濃度が０．８重量％の塗布液を調製し、支持基板２の表面に、塗布液を、スピンコーティング法により塗布し、ランドＬの部分とグルーブＧの部分の平均膜厚が約４０ｎｍの記録層５を形成した。
【０１４２】
【化４５】
2004160742.tif 000032
この有機色素は、その薄膜の吸収スペクトルにおいて、４７２ｎｍに、屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、ｎｍｉｎは１．０１、４０５ｎｍにおける屈折率ｎは１．３６、消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は０．０３であった。
【０１４３】
こうして形成された記録層５上に、実施例１と同様にして、誘電体層６および光透過層７を、この順に形成し、光記録ディスク比較サンプル＃２を作製した。
【０１４４】
実施例１により作製された光記録ディスクサンプル＃１につき、次のようにして、記録再生試験を行った。
【０１４５】
光記録ディスクサンプル＃１を、パルステック株式会社製の光記録ディスク評価装置である「ＤＤＵ１０００」にセットし、開口数ＮＡが０．８５の対物レンズを用いて、４０５ｎｍの波長の青色レーザービームを、光透過層７側から、光記録ディスク１のランドＬの部分に集光して、データの記録再生を行った。
【０１４６】
記録信号としては１，７ＲＬＬ変調方式による信号（８Ｔ）を用い、１トラックのみに、データを記録した。データの記録には、マルチパルス列を用い、パルス列の先頭パルス長を１Ｔとしたとき、最終パルスが１Ｔ、それらの間のマルチパルスが０．４Ｔの長さとなるように設定し（Ｔはクロック周期である。）、記録パワー１０ｍＷで、最短ピット長０．１６μｍ、記録線密度が、チャンネルビット長０．１２μｍ／ｂｉｔとなるようにデータの記録を行った。
【０１４７】
記録したデータの再生にあたっては、０．４ｍＷの再生パワーを用いて、再生を行ったところ、５３ｄＢのＣ／Ｎ比が得られ、良好な信号特性を得ることができた。
【０１４８】
光記録ディスクサンプル＃２ないし＃１２についても、同様にして、記録再生試験を行ったところ、Ｃ／Ｎ比は、それぞれ、５２ｄＢ、５１ｄＢ、５１ｄＢ、５２ｄＢ、５０ｄＢ、５４ｄＢ、５６ｄＢ、５５ｄＢ、５５ｄＢ、５３ｄＢ、４８ｄＢで、良好な信号特性を得ることができた。
【０１４９】
一方、光記録ディスク比較サンプル＃１および＃２についても、同様にして、記録再生試験を行ったが、Ｃ／Ｎ比は、それぞれ、３５ｄＢ、２５ｄＢで、記録後の変調度が小さく、充分なＣ／Ｎ比を得ることができなかった。
【０１５０】
本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１５１】
たとえば、前記実施態様においては、光記録ディスク１は、支持基板２上に形成された金属層３および誘電体層４を有しているが、支持基板２上に、金属層３および誘電体層４を形成することは必ずしも必要でなく、支持基板２上に、金属層３あるいは誘電体層４の一方を形成しても、あるいは、支持基板２上に、金属層３および誘電体層４を形成することなく、記録層５を形成してもよい。
【０１５２】
さらに、前記実施態様においては、光記録ディスク１は、記録層５上に、誘電体層６を有しているが、記録層５上に、誘電体層６を有していることは必ずしも必要でなく、誘電体層６を形成しなくてもよい。
【０１５３】
また、前記実施例においては、ノルボルネン系モノマーを開環重合した後に、水素添加して得られた下記構造式で示される繰返し単位を有するポリオレフィン樹脂である日本ゼオン株式会社製「Ｚｅｏｎｅｘ」（商品名）によって形成された支持基板２を用いているが、
【０１５４】
【化４６】
2004160742.tif 000033
支持基板２を形成するためのポリオレフィン樹脂は、格別限定されるものではなく、その他のポリオレフィン樹脂によって形成された支持基板を用いることもでき、たとえば、下記構造式で示される繰返し単位を有するポリオレフィン樹脂であるＪＳＲ株式会社製「Ａｒｔｏｎ」（商品名）によって形成された支持基板２を用いることもできる。
【０１５５】
【化４７】
2004160742.tif 000034
【発明の効果】
本発明によれば、有機化合物を主成分として含む記録層を備え、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光を用いて、データを記録し、再生することができる光記録ディスクおよびその製造方法を提供することが可能になる。
【０１５６】
また、本発明によれば、有機化合物を主成分として含む記録層を備えた光記録ディスクを使用して、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光を用いて、データを記録し、再生することができる光記録再生方法を提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【符号の説明】
１  光記録ディスク
２  支持基板
３  金属層
４  誘電体層
５  記録層
６  誘電体層
７  光透過層
Ｇ  グルーブ
Ｌ  ランド
【図１】
2004160742.tif 000050