(57)【要約】【課題】金属酸化物膜に発生するクラックや、そのクラックによる金属酸化物膜の基板からの剥離を抑制することを課題とする。【解決手段】塗布熱分解により金属酸化物膜を形成する方法に使用される金属酸化物膜形成用材料であって、金属酸化物膜形成用材料が、金属酸化物膜を構成する金属の飽和直鎖脂肪酸塩と、分岐状脂肪酸、置換基を有する直鎖状又は分岐状脂肪酸及びそれらの塩から選択される結晶化阻害剤と、有機溶媒とを含むことを特徴とする金属酸化物膜形成用材料により上記の課題を解決する。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布熱分解により金属酸化物膜を形成する方法に使用される金属酸化物膜形成用材料であって、金属酸化物膜形成用材料が、金属酸化物膜を構成する金属の飽和直鎖脂肪酸塩と、分岐状脂肪酸、置換基を有する直鎖状又は分岐状脂肪酸及びそれらの塩から選択される結晶化阻害剤と、有機溶媒とを含むことを特徴とする金属酸化物膜形成用材料。
【請求項２】
結晶化阻害剤が、飽和直鎖脂肪酸塩との合計量に対して、２〜５０重量％の範囲で含まれている請求項１に記載の金属酸化物膜形成用材料。
【請求項３】
結晶化阻害剤が、メチル基又はエチル基を分岐鎖として有する分岐状脂肪酸、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシ基、アミド基又はニトロ基を置換基として有する脂肪酸及びそれらの塩から選択される請求項１に記載の金属酸化物膜形成用材料。
【請求項４】
結晶化阻害剤が、分岐状脂肪酸の金属塩か、置換基を有する直鎖状又は分岐状脂肪酸の金属塩である請求項１に記載の金属酸化物膜形成用材料。
【請求項５】
飽和直鎖脂肪酸塩が、３〜１０の炭素数の脂肪酸塩である請求項１に記載の金属酸化物膜形成用材料。
【請求項６】
請求項１に記載の金属酸化物膜形成用材料を、金属酸化物膜の形成を所望する基板上に塗布し、次いで熱分解することで金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜形成方法。
【請求項７】
金属酸化物膜が、プラズマディスプレイパネルを構成する誘電体膜、保護膜又は透明電極膜である請求項６に記載の金属酸化物膜形成方法。
【請求項８】
金属酸化物膜が、二次電子放出膜と蛍光体膜とを備え、放電ガスが充填されたガラス管と、放電を制御するための外部電極とを備えたガス放電管表示装置の二次電子放出膜である請求項６に記載の金属酸化物膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属酸化物膜形成用材料及び金属酸化物膜形成方法に関する。更に詳しくは、本発明は、塗布熱分解法用の金属酸化物膜形成用材料及び金属酸化物膜形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、表示装置として、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示パネル（ＬＣＤ）、プラズマアドレス液晶表示パネル（ＰＡＬＣ）、ガス放電管表示装置、ＣＲＴ等が知られている。これら表示装置には、保護膜、透明電極膜、誘電体膜又は二次電子放出膜等の各種の金属酸化物膜が構成部材として含まれている。
【０００３】
従来表示装置に用いられる金属酸化物膜は、保護膜と透明電極膜については、物理蒸着法、化学蒸着法等により形成され、誘電体膜及び二次電子放出膜については、塗布焼成法により形成されている。塗布焼成法とは、次のような方法である。例えば、誘電体膜の場合、その原料である低融点ガラス粉末を、バインダ及び溶媒によりペースト状とし、得られたペーストを用いて印刷法で所望の形状に成膜する。次いで、焼成（熱分解）することにより、有機分を分解又は燃焼させて、低融点ガラス粉末を溶融することで、誘電体膜を得る方法である。
【０００４】
上記金属酸化物膜の形成方法の内、物理及び化学蒸着法では、金属酸化物膜を形成するための基板が、大型であったり、複雑な表面形状を有する場合、その形成が困難であったりするという問題があった。また、蒸着法は、真空環境を必要とするため、低コスト化が困難であるという問題があった。
塗布焼成法では、使用できる低融点ガラス粉末の種類が限定され、所望の特性の金属酸化物膜を得ることが困難であるという問題があった。
上記課題に対して、本発明の発明者は、特開２００１−１７２００６号公報（特許文献１）において、金属の脂肪酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物からなる塗布膜に酸化性雰囲気下で紫外線を照射することで金属酸化物膜を簡便に形成する方法を提案している。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−１７２００６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記公報記載の方法において、金属酸化物膜に発生するクラックや、そのクラックによる金属酸化物膜の基板からの剥離を更に抑制することが望まれている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かくして本発明によれば、塗布熱分解により金属酸化物膜を形成する方法に使用される金属酸化物膜形成用材料であって、金属酸化物膜形成用材料が、金属酸化物膜を構成する金属の飽和直鎖脂肪酸塩と、分岐状脂肪酸、置換基を有する直鎖状又は分岐状脂肪酸及びそれらの塩から選択される結晶化阻害剤と、有機溶媒とを含むことを特徴とする金属酸化物膜形成用材料が提供される。
更に本発明によれば、上記金属酸化物膜形成用材料を、金属酸化物膜の形成を所望する基板上に塗布し、次いで熱分解することで金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜形成方法が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の発明者は、クラックの発生理由が、飽和直鎖脂肪酸塩が結晶化しやすく、熱分解前の塗布膜中に結晶化部分と未結晶化部分があり、両部分の収縮度が異なるためであることに気付いた。そこで、本発明者は、塗布膜の結晶化を抑制するために、金属酸化物膜形成用材料として、飽和直鎖脂肪酸塩に、置換基を有する脂肪酸誘導体を加えたものが有効であることを見い出した。この金属酸化物膜形成用材料を使用すれば、飽和直鎖脂肪酸塩の結晶化を防止し、塗布膜全域にわたって密度の変化のない状態にできる。よって、この塗布膜を熱分解すれば、クラックの発生が抑制された金属酸化物膜を得ることができる。
【０００９】
本発明は、保護膜、透明電極膜、誘電体膜又は二次電子放出膜を少なくとも１つ有する表示装置、例えば、ＰＤＰ、ＬＣＤ、ＰＡＬＣ、ガス放電管表示装置等に適用できる。この内、ＰＤＰ及びガス放電管表示装置への適用が好ましい。
保護膜、透明電極膜、誘電体膜又は二次電子放出膜は主に金属酸化物膜から構成されるが、その金属酸化物としては、保護膜用として酸化マグネシウム等、透明電極膜用としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化錫（ＮＥＳＡ）等、誘電体膜用としては、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等、二次電子放出膜用としては、酸化マグネシウム等が挙げられる。
【００１０】
上記保護膜、透明電極膜、誘電体膜又は二次電子放出膜は、基板上の所望の位置にそれらを構成する金属の飽和直鎖脂肪酸塩と、置換基を有する結晶化阻害剤とを含む金属酸化物膜形成用材料を塗布し、次いで熱分解することで形成することができる。
上記金属の飽和直鎖脂肪酸塩と結晶化阻害剤は、熱分解することで金属酸化物膜に変化しうるものであれば特に限定されない。
飽和直鎖脂肪酸としては、例えば、脂肪族モノカルボン酸や、脂肪族ジカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸、脂肪族テトラカルボン酸等の脂肪族ポリカルボン酸が挙げられる。
【００１１】
より具体的には、飽和脂肪族モノカルボン酸として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ｎ−ウンデシレン酸、ラウリン酸、ｎ−トリデシレン酸、ミリスチン酸、ｎ−ペンタデシレン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸等が挙げられる。飽和脂肪族ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸等が挙げられる。
上記飽和直鎖脂肪酸の内、炭素数が３〜１０の範囲のものが好ましく、５〜１０のものがより好ましい。特に好ましい飽和直鎖脂肪酸は、エナント酸である。
上記飽和直鎖脂肪酸塩を構成する金属は、形成を所望する金属酸化物膜の種類に応じて適宜選択される。例えば、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、インジウム、錫、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、チタン等が挙げられる。これら金属は単独でも複数種組み合わせて使用してもよい。
結晶化阻害剤は、分岐状脂肪酸、置換基を有する直鎖状又は分岐状脂肪酸及びそれらの塩から選択される。また、脂肪酸部分は、飽和でも、不飽和でもよい。結晶化阻害剤としては、例えば、脂肪族モノカルボン酸や、脂肪族ジカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸、脂肪族テトラカルボン酸等の脂肪族ポリカルボン酸に分岐鎖又は置換基を付与したものが挙げられる。
【００１２】
より具体的な脂肪族ポリカルボン酸としては、
・酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ｎ−ウンデシレン酸、ラウリン酸、ｎ−トリデシレン酸、ミリスチン酸、ｎ−ペンタデシレン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸等の飽和脂肪族モノカルボン酸、
・シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸、
・アクリル酸、ブテン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、メタクリル酸、ペンテン酸、ヘキセン酸、ヘプテン酸、オクテン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデセン酸、テトラデセン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセン酸等のオレフィンモノカルボン酸、プロピオール酸、テトロール酸、エチルプロピオール酸、プロピルプロピオール酸、ブチルプロピオール酸、アミルプロピオール酸、ウンデシン酸、ステアロール酸等のアセチレンモノカルボン酸、ペンタジエン酸、ジアリル酢酸、ゲラニウム酸、デカジエン酸等のジオレフィンモノカルボン酸、オクタトリエン酸、リノレン酸、オレイン酸等の高度不飽和モノカルボン酸等の不飽和脂肪族モノカルボン酸、
・ブテン二酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、グルタコン酸、ジヒドロムコン酸等のオレフィンジカルボン酸、ムコン酸のようなジオレフィンジカルボン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸
が挙げられる。
【００１３】
上記脂肪族ポリカルボン酸の内、炭素数が５〜１０の範囲のものが好ましい。
更に、置換基の種類は、脂肪酸の分解又は燃焼時に残存しやすいものは好ましくない。例えば、置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、ニトロ基等が挙げられる。分岐鎖としてはメチル基又はエチル基が挙げられる。
特に好ましい結晶化阻害剤は、２−メチルエナント酸である。
また、結晶化阻害剤は、脂肪酸の金属塩であることが好ましい。脂肪酸の金属塩であることにより、金属酸化物膜を形成した際に、膜の収縮を抑制でき、その結果、クラックの発生や基板からの剥離を抑制することができる。脂肪酸の金属塩を構成する金属は、形成を所望する金属酸化物膜の種類に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、インジウム、錫、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、チタン等が挙げられる。これら金属は単独でも複数種組み合わせて使用してもよい。
【００１４】
上記結晶化阻害剤は、飽和直鎖脂肪酸塩との合計量に対して、２〜５０重量％の範囲で金属酸化物膜形成用材料中に含まれていることが好ましい。２重量％未満の場合及び５０重量％を超える場合、クラックの発生や基板からの剥離を充分抑制することができない場合があるので好ましくない。より好ましい範囲は、１０〜３０重量％である。
金属酸化物形成用材料は、有機溶媒を含む。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール等の１級アルコールが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも複数組み合わせて用いてもよい。有機溶媒の添加量は、飽和直鎖脂肪酸塩と結晶化阻害剤とを少なくとも溶解しうる量であれば特に限定されない。例えば、金属酸化物形成用材料全体に対して、２０〜５０重量％の添加量が好ましい。
【００１５】
上記金属酸化物膜形成用材料を、金属酸化物膜の形成を所望する基板上に塗布し、次いで熱分解することで金属酸化物膜を形成することができる。ここで、金属酸化物膜形成用材料は、ペースト又は溶液の形態であることが好ましい。また、作業性が良好な程度に金属酸化物膜形成用材料の粘度、基板に対するぬれ性、蒸発速度を調整するために、補助溶媒を加えてもよい。
補助溶媒としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ジヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の１級アルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、α−テルピネオール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルアセテートが挙げられる。これら補助溶媒は、単独でも複数組み合わせて用いてもよい。
【００１６】
更に、塗布方法は、特に限定されず、公知の方法をいずれも使用することができる。例えば、はけ塗布、ローラー塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、浸漬塗布等の方法が挙げられる。なお、この塗布は、塗布膜が所望の厚さになるまで繰り返し行うことができる。また、原料を節約する観点から、金属酸化物膜を塗布の時点からパターンニングしておくことが好ましく、その方法として、所定のパターンを介して塗布する方法、印刷法により所望の位置のみへ塗布する方法、一旦全面に塗布した後、所望の位置のみが残存するようにエッチングする方法等が挙げられる。
【００１７】
上記塗布膜の厚さは、最終的に形成される保護膜、透明電極膜又は誘電体膜の厚さが、熱分解により、当初の厚さの４０〜２０％程度に減少するため、この減少を考慮して決定することが好ましい。具体的には、０．３〜５μｍであることが好ましい。より具体的には、保護膜の場合、形成される金属酸化物膜の保護性能によっても異なるが、２〜３μｍであることが好ましい。透明電極膜としては、形成される金属酸化物膜の導電性によっても異なるが、０．３〜１μｍであることが好ましい。誘電体膜としては、形成される金属酸化物膜の誘電特性によっても異なるが、２〜５μｍであることが好ましい。
更に、熱分解は、４００〜６００℃で５〜６０分間（キープ時間）行うことが好ましい。更に、熱分解は、酸素、空気、水蒸気等の酸化性雰囲気下で行うことが好ましい。なお、熱分解の前に、有機溶媒を除去して塗布膜を乾燥させることが好ましい。
【００１８】
また、熱分解前に塗布膜に紫外線等のエネルギー線を照射してもよい。エネルギー線が紫外線の場合、その照射の条件は、例えば、１０〜２００ｍＷ／ｃｍ２のエネルギー、２０〜６０分間の照射時間が挙げられる。紫外線源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水素放電管、キセノン放電管等が挙げられる。紫外線は、これら紫外線源から発生する波長のものをいずれも使用できる。より具体的には、低圧水銀ランプの場合、主波長２５４ｎｍの光とそれの１／４の強度で波長１８５ｎｍの光とが混合した紫外線が挙げられる。
保護膜、透明電極膜、誘電体膜又は二次電子放出膜は、任意に構成要素が形成された基板の所望の部位に形成される。
【００１９】
本発明の方法で形成される保護膜は、ＰＤＰやＰＡＬＣ等の表示に放電を利用する表示装置において、放電から装置を構成する構成要素を保護する膜を意味する。そのため、保護膜は、電極、誘電体膜等の構成要素が形成された基板を覆うように形成される。なお、保護膜は、二次電子放出機能も兼ねている。
本発明の方法で形成される透明電極膜は、ＰＤＰにおいて、放電を発生させるための電極として表示面側の基板上に設けられる電極膜を意味し、表示を妨げないように透明の導電材からなる。透明電極膜は、基板上に、直接又は絶縁膜のような構成要素を介して形成される。
【００２０】
本発明の方法で形成される誘電体膜は、ＰＤＰやＰＡＬＣ等の表示に放電を利用する表示装置において、放電によって生じた電荷を蓄積させて保持し、電極との間で壁電圧を形成させる、つまりメモリ機能を持たせるための膜を意味する。誘電体膜は、電極を被覆するように基板上に形成される。
本発明の方法で形成される二次電子放出膜は、ガス放電管の放電開始を低電圧で可能にするための膜を意味する。二次電子放出膜は、管の内壁を被覆するように形成される。
なお、基板としては、ガラス基板、シリコン基板、ガラス管等が挙げられる。更に、保護膜、透明電極膜、誘電体膜、二次電子放出膜、基板は、表示装置の種類に応じてその形状が適宜決定される。
以下では、表示装置として、図１に示す３電極ＡＣ型面放電ＰＤＰを用いて、保護膜、透明電極膜及び誘電体膜の具体的な配置例を示す。なお、以下の配置例は説明のために使用することを目的としており、本発明がこれに限定されるものではない。
【００２１】
図１のＰＤＰ１００は、前面側基板と背面側基板とから構成される。
まず、前面側基板は、一般的にガラス基板１１上に形成された複数本のストライプ状の表示電極、表示電極を覆うように形成された誘電体膜１７、誘電体膜１７上に形成され放電空間に露出する保護膜１８とからなる。
表示電極は、ストライプ状又は放電セル単位のドット形状の透明電極膜４１と、透明電極膜の抵抗を下げるための透明電極膜４１上に積層される透明電極膜よりも幅狭のストライプ状のバス電極４２とからなる。
上記透明電極膜４１、誘電体膜１７及び保護膜１８の内、少なくとも１つの形成に本発明の材料及び方法を使用することができる。
【００２２】
なお、透明電極膜４１の公知の形成方法としては、透明電極膜を構成する金属の有機化合物を含むペーストを塗布及び焼成することで形成する方法が挙げられる。誘電体膜１７の公知の形成方法としては、低融点ガラスとバインダとからなるペーストを基板上に塗布し、焼成することにより形成する方法が挙げられる。保護膜１８の公知の形成方法としては、透明電極膜４１と同様の方法の他、蒸着等の方法が挙げられる。
次に、背面側基板は、一般的に、ガラス基板２１上に形成された複数本のストライプ状のアドレス電極Ａ、アドレス電極Ａを覆う誘電体膜２７、隣接するアドレス電極間で誘電体膜２７上に形成された複数本のストライプ状の隔壁２９、隔壁２９間に壁面を含めて形成された隔壁の蛍光体層２８とからなる。
【００２３】
誘電体膜２７の形成に本発明の材料及び方法を使用することができる。
隔壁２９は、低融点ガラスとバインダとからなるペーストを誘電体膜２７上に塗布し、乾燥させた後、その膜状ペースト層をサンドブラスト法で隔壁パターン形状のマスクを介して切削することにより形成することができる。また、バインダに感光性の樹脂を使用した場合、隔壁パターン形状のマスクを使用して露光及び現像した後、焼成することにより形成することも可能である。
蛍光体層２８は、バインダが溶解された溶液に粒子状の蛍光体を分散させたペーストを、隔壁２９間に塗布し、焼成することにより形成することができる。
上記前面側基板と背面側基板とを、表示電極とアドレス電極が直交するように、両電極を内側にして対向させ、隔壁２９により囲まれた空間に放電ガスを充填することによりＰＤＰ１００を形成することができる。なお、図１中、Ｒ、Ｇ及びＢは、赤色表示部、緑色表示部及び青色表示部をそれぞれ示している。
なお、本発明の方法が使用できるＰＤＰは、図１のＰＤＰの構成に限らず、ＤＣ型でもよく、対向放電型でもよく、蛍光体層を前面側基板に配置した透過型でもよく、更に２電極構造のいずれのＰＤＰにも使用することができる。更に、隔壁にはメッシュ状のものを使用することができる。
【００２４】
図２は本発明の方法が適用可能な二次電子放出膜を内面に形成したガス放電管表示装置の一例を示す説明図である。
図において、５４は前面側の支持基板、５５は背面側の支持基板、５１はガス放電管、５２は表示電極対（主電極対）、５３は信号電極（データ電極ともいう）である。
細管状のガス放電管５１の内部（放電空間）には、二次電子放出膜と蛍光体層が形成され、放電ガスが導入されて、両端が封止されている。信号電極５３は背面側の支持基板５５に形成され、ガス放電管５１の長手方向に沿って設けられている。表示電極対５２は前面側の支持基板５４に形成され、信号電極５３と交差する方向に設けられている。
信号電極５３と表示電極対５２は、組み立て時にガス放電管５１の下側の外周面と上側の外周面にそれぞれ密着するように接触させるが、その密着性を良くするために、表示電極とガス放電管面との間に導電性接着剤を介在させて接着してもよい。
【００２５】
この表示装置を平面的にみた場合、信号電極５３と表示電極対５２との交差部が単位発光領域となる。表示は、表示電極対５２のいずれか一本を走査電極として用い、その走査電極と信号電極５３との交差部で選択放電を発生させて発光領域を選択し、その発光に伴って当該領域の管内面に形成された壁電荷を利用して、表示電極対５２で表示放電を発生させることで行う。選択放電は、上下方向に対向する走査電極と信号電極５３との間のガス放電管５１内で発生される対向放電であり、表示放電は、平面上に平行に配置される２本の表示電極間のガス放電管５１内で発生される面放電である。
図の電極構造では、一つの発光部位に３つの電極が配置された構成であり、表示電極対によって表示放電が発生される構造であるが、この限りではなく、表示電極対５２と信号電極５３との間で表示放電が発生される構造であってもよい。
すなわち、表示電極対５２とを一本とし、この表示電極を走査電極として用いて信号電極５３との間に選択放電と表示放電（対向放電）を発生させる形式の電極構造であってもよい。また、図２中の細管は断面が円形であるが、扁平楕円形の細管であってもよい。
【００２６】
【実施例】
以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
公知の方法により表示電極（透明電極膜４１、バス電極４２）と誘電体膜１７がこの順で形成されたガラス基板１１の誘電体膜上の所望の位置に、エナント酸マグネシウム、２−メチルエナント酸マグネシウム、エチルアルコール及びポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを８：２：１０：１０の重量比で含む金属酸化物膜形成用材料をロールコータで塗布して塗布膜を形成した。塗布膜の厚さは、乾燥後の厚さが３μｍになるように調製した。塗布膜を８０℃で３０分間乾燥させ、乾燥膜を得た。更に、４２０℃で３０分間大気中で熱分解することで、厚さ１μｍの酸化マグネシウムからなるＰＤＰの保護膜１８を得た。これにより、ＰＤＰの前面側基板が得られた。
【００２７】
得られた保護膜には、大きさ２〜１０μｍ、個数７５個／ｍｍ２の微小なクラックが発生していた。しかし、このクラックに由来すると思われる保護膜の剥離は生じなかった。
次に、前面側基板とは別に、公知の方法により、ガラス基板２１上に、アドレス電極Ａ、誘電体膜２７、蛍光体層２８及び隔壁２９を形成することによりＰＤＰの背面側基板を得た。
背面側基板と前面側基板とを貼り合わせ、放電空間に放電ガスを封入することにより、図１に示すＰＤＰ１００を得た。得られたＰＤＰは適切な表示特性を示した。
【００２８】
比較例１
エナント酸マグネシウム、エチルアルコール及びポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを１０：１０：１０の重量比で含む金属酸化物膜形成用材料を使用すること以外は、実施例１と同様にして保護膜を作製した。
得られた保護膜には、大きさ５〜５０μｍ、個数３７５個／ｍｍ２のクラックが発生していた。また、このクラックに由来すると思われる保護膜の剥離が生じていた。この保護膜を使用して、実施例１と同様にしてＰＤＰを形成したところ表示特性が劣っていた。
【００２９】
実施例２
図３はガス放電管表示装置に使用する内壁に二次電子放出膜が形成された断面四角形の細長いガラス管（以下、ガラス細管と記す）の概略断面図を意味している。縦横の外径１ｍｍ、肉厚０．１ｍｍ、長さ４００ｍｍのガラス細管の内壁に二次電子放出膜を形成した例を下記する。
まず、実施例１と同じ金属酸化物膜形成用材料を、公知の方法でガラス管６１の内壁に塗布する。次いで、実施例１と同じ条件で乾燥及び熱分解することで、二次電子放出膜６２として酸化マグネシウム膜が内壁に形成されたガラス管６１を形成することができた。なお、二次電子放出膜６２は、平坦部で厚さが０．５μｍであり、コーナー部で厚さが１．５μｍであった。
得られた二次電子放出膜６２に剥離は観察されなかった。このガラス管６１を表示装置に使用したところ、安定な放電が得られた。
【００３０】
比較例２
比較例１と同じ金属酸化物膜形成用材料を使用すること以外は、実施例２と同様にして二次電子放出膜を形成した。得られた二次電子放出膜は、コーナー部で剥離が見られた。このガラス管を表示装置に使用したところ、放電開始電圧が高くなり、放電も不安定であった。
【００３１】
【発明の効果】
塗布熱分解により金属酸化物膜を形成する方法に使用される金属酸化物膜形成用材料であって、金属酸化物膜形成用材料が、金属酸化物膜を構成する金属の飽和直鎖脂肪酸塩と、分岐状脂肪酸、置換基を有する直鎖状又は分岐状脂肪酸及びそれらの塩から選択される結晶化阻害剤と、有機溶媒とからなることにより、飽和直鎖脂肪酸塩の塗布膜形成時の結晶化を防ぐことができる。その結果、熱分解時に、塗布膜全体が均一に収縮するため、金属酸化物膜のクラック発生と基板からの剥離を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法が適用可能なＰＤＰの概略斜視図である。
【図２】本発明の方法が適用可能な二次電子放出膜を内面に形成したガス放電管表示装置の一例を示す説明図である。
【図３】実施例２の内壁に二次電子放出膜が形成されたガラス管の概略断面図である。
【符号の説明】
１１、２１　ガラス基板
１７、２７　誘電体膜
１８　保護膜
２８　蛍光体層
２９　隔壁
４１　透明電極膜
４２　バス電極
１００　ＰＤＰ
Ａ　アドレス電極
Ｂ　青色表示部
Ｇ　緑色表示部
Ｒ　赤色表示部
５１　ガス放電管
５２　表示電極対（主電極対）
５３　信号電極（データ電極）
５４　前面側の支持基板
５５　背面側の支持基板
６１　ガラス管
６２　二次電子放出膜
【図１】
2004146202.tif 000002
【図２】
2004146202.tif 000003
【図３】
2004146202.tif 000004