(57)【要約】【課題】払拭部材の消費量を低減しながら、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能なノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】ノズル清掃装置１８は、長尺の払拭部材５２が巻回された送りロール５３と、払拭部材５２を巻き取る巻き取りロール５４と、払拭部材５２を処理液供給ノズル１４に当接させるための第１清掃機構５７と、第１清掃機構５７の作用により処理液供給ノズル１４の清掃に使用された後の払拭部材５２を処理液供給ノズル１４に当接させるための第２清掃機構５８とを備えた払拭部４５と、この払拭部４５を処理液供給ノズル１４における吐出口の長手方向に往復移動させる移動機構とを備える。【選択図】　　　　図６
2004122067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、
長尺の払拭部材が巻回された送りロールと、
送りロールから前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を巻き取る巻き取りロールと、
前記巻き取りロールを回転させる回転機構と、
前記送りロールから送り出された払拭部材を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを清掃する第１清掃機構と、
前記第１清掃機構により前記処理液供給ノズルを清掃する前に、前記送りロールから送り出された払拭部材における前記第１清掃機構の作用により前記処理液供給ノズルに当接した後の領域を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを予備清掃する第２清掃機構と、
を備えたことを特徴とするノズル清掃装置。
【請求項２】
スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、
長尺の払拭部材が巻回された送りロールと、前記送りロールから前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を巻き取る巻き取りロールと、前記巻き取りロールを回転させる回転機構と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記送りロールと前記巻き取りロールとの間の位置に配設された第１清掃機構と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記第１清掃機構と前記巻き取りロールとの間の位置に配設された第２清掃機構とを備えた払拭部と、
前記払拭部を前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に往復移動させる移動機構と、
を備えたことを特徴とするノズル清掃装置。
【請求項３】
請求項２に記載のノズル清掃装置において、
前記第２清掃機構は、前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と同一方向に前記払拭部が移動するときには前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させ、前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と逆方向に前記払拭部が移動するときには前記払拭部材を前記処理液供給ノズルから離隔させるノズル清掃装置。
【請求項４】
請求項３に記載のノズル清掃装置において、
前記回転機構は、前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と同一方向に前記払拭部が移動するときに、前記巻き取りロールを回転させるノズル清掃装置。
【請求項５】
請求項３に記載のノズル清掃装置において、
前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と逆方向に前記払拭部が移動するときに、前記巻き出しロールの回転を規制する回転規制機構を備えたノズル清掃装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のノズル清掃装置において、
前記第１清掃機構は、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルのリップ面に当接させる第１押圧部材と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルの側面に当接させる第２押圧部材とを備えるノズル清掃装置。
【請求項７】
請求項６に記載のノズル清掃装置において、
前記第１清掃機構が前記第１押圧部材または前記第２押圧部材を複数個備えたノズル清掃装置。
【請求項８】
請求項６に記載のノズル清掃装置において、
前記第２押圧部材には、前記処理液供給ノズルの側面の形状に対応した凹部が形成されるとともに、
該第２押圧部材を移動可能に支持する支持機構をさらに備えたノズル清掃装置。
【請求項９】
請求項８に記載のノズル清掃装置において、
前記支持機構は、払拭部の移動方向をＸ方向とした場合に、前記第２押圧部材をＹ方向とＺ方向に移動可能に支持する複数のばねより構成されるノズル清掃装置。
【請求項１０】
請求項８または請求項９に記載のノズル清掃装置において、
前記第２押圧部材は、前記巻き出しロールより巻き出される払拭部材の両端を案内する案内部を有するノズル清掃装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載のノズル清掃装置において、
前記払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えるノズル清掃装置。
【請求項１２】
スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、
長尺の払拭部材を供給する供給手段と、
供給手段から前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を回収する回収手段と、
前記供給手段から供給された払拭部材を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを清掃する第１清掃機構と、
前記第１清掃機構により前記処理液供給ノズルを清掃する前に、前記供給手段から供給された払拭部材における前記第１清掃機構の作用により前記処理液供給ノズルに当接した後の領域を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを予備清掃する第２清掃機構と、
を備えたことを特徴とするノズル清掃装置。
【請求項１３】
スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、
長尺の払拭部材を供給する供給手段と、前記供給手段から前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を回収する回収手段と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記供給手段と前記回収手段との間の位置に配設された第１清掃機構と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記第１清掃機構と前記回収手段との間の位置に配設された第２清掃機構とを備えた払拭部と、
前記払拭部を前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に往復移動させる移動機構と、
を備えたことを特徴とするノズル清掃装置。
【請求項１４】
基板を保持する基板保持機構と、
スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら前記保持機構により保持された基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルと、
請求項１乃至請求項１３のいずれかに記載のノズル清掃装置と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板に処理液を供給して処理する基板処理装置として、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを使用した場合においては、基板の処理に伴って処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に処理液が残存し、これが汚染物質となって処理液供給ノズルの汚染が発生する。処理液としてレジスト、特に、カラーレジスト等と呼称される顔料を含むレジストを使用した場合には、このような汚染が特に生じやすい。このため、処理液供給ノズルをノズル清掃装置により定期的に清掃する必要がある。
【０００３】
このようなノズル清掃装置は、従来、処理液供給ノズルにクリーニング用の払拭部材を当接させ、この払拭部材により処理液供給ノズルを清掃する構成となっている。そして、このようなノズル清掃装置においては、送りロールと巻き取りロールとの間に巻回される長尺の払拭部材が使用される（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−１１３２１３号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
近年、基板のサイズが大きくなっていることから、処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の全長も長くなる傾向にある。このため、従来のノズル清掃装置においては、払拭部材の消費量が多くなり、ランニングコストがかさむという問題が生ずる。
【０００６】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、払拭部材の消費量を低減しながら、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能なノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、長尺の払拭部材が巻回された送りロールと、前記送りロールから前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を巻き取る巻き取りロールと、前記巻き取りロールを回転させる回転機構と、前記送りロールから送り出された払拭部材を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを清掃する第１清掃機構と、前記第１清掃機構により前記処理液供給ノズルを清掃する前に、前記送りロールから送り出された払拭部材における前記第１清掃機構の作用により前記処理液供給ノズルに当接した後の領域を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを予備清掃する第２清掃機構とを備えたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、長尺の払拭部材が巻回された送りロールと、送りロールから前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を巻き取る巻き取りロールと、前記巻き取りロールを回転させる回転機構と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記送りロールと前記巻き取りロールとの間の位置に配設された第１清掃機構と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記第１清掃機構と前記巻き取りロールとの間の位置に配設された第２清掃機構とを備えた払拭部と、前記払拭部を前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に往復移動させる移動機構とを備えたことを特徴とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記第２清掃機構は、前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と同一方向に前記払拭部が移動するときには前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させ、前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と逆方向に前記払拭部が移動するときには前記払拭部材を前記処理液供給ノズルから離隔させる。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記回転機構は、前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と同一方向に前記払拭部が移動するときに、前記巻き取りロールを回転させる。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と逆方向に前記払拭部が移動するときに、前記巻き出しロールの回転を規制する回転規制機構を備えている。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の発明において、前記第１清掃機構は、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルのリップ面に当接させる第１押圧部材と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルの側面に当接させる第２押圧部材とを備えている。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記第１清掃機構が前記第１押圧部材または第２押圧部材を複数個備えている。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記第２押圧部材には、前記処理液供給ノズルの側面の形状に対応した凹部が形成されるとともに、該第２押圧部材を移動可能に支持する支持機構をさらに備えている。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の発明において、前記支持機構は、払拭部の移動方向をＸ方向とした場合に、前記第２押圧部材をＹ方向とＺ方向に移動可能に支持する複数のばねより構成される。
【００１６】
請求項１０に記載の発明は、請求項８または請求項９に記載の発明において、前記第２押圧部材は、前記巻き出しロールより巻き出される払拭部材の両端を案内する案内部を有する。
【００１７】
請求項１１に記載の発明は、請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の発明において、前記払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えている。
【００１８】
請求項１２に記載の発明は、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、長尺の払拭部材を供給する供給手段と、供給手段から前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を回収する回収手段と、前記供給手段から供給された払拭部材を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを清掃する第１清掃機構と、前記第１清掃機構により前記処理液供給ノズルを清掃する前に、前記供給手段から供給された払拭部材における前記第１清掃機構の作用により前記処理液供給ノズルに当接した後の領域を、前記処理液供給ノズルに当接させることにより、前記処理液供給ノズルを予備清掃する第２清掃機構とを備えたことを特徴とする。
【００１９】
請求項１３に記載の発明は、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、長尺の払拭部材を供給する供給手段と、前記供給手段から前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に送り出された払拭部材を回収する回収手段と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記供給手段と前記回収手段との間の位置に配設された第１清掃機構と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルに当接させるための前記払拭部材の移動経路における前記第１清掃機構と前記回収手段との間の位置に配設された第２清掃機構とを備えた払拭部と、前記払拭部を前記処理液供給ノズルにおける吐出口の長手方向に往復移動させる移動機構とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
請求項１４に記載の発明は、基板を保持する基板保持機構と、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら前記保持機構により保持された基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルと、請求項１乃至請求項１３のいずれかに記載のノズル清掃装置とを備えたことを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２２】
先ず、この発明に係るノズル清掃装置１８を適用する基板処理装置の構成について説明する。図１はこの発明に係るノズル清掃装置を適用した基板処理装置の概要図である。
【００２３】
この基板処理装置は、矩形状をなす液晶パネル用のガラス基板（以下「基板」という）Ｗにカラーレジストと呼称される顔料を含むレジストを塗布するためのものであり、基板Ｗを吸着保持した状態でモータ１１の駆動により軸１２を中心に回転するスピンチャック１３と、スピンチャック１３に保持された基板Ｗにレジストを塗布するための処理液供給ノズル１４と、この処理液供給ノズル１４を移動させるノズル移動機構１５と、処理液供給ノズル１４に対してレジストを供給するレジスト供給機構１６と、スピンチャック１３によりレジスト塗布後の基板Ｗを回転させたときに基板Ｗの端縁より飛散するレジストを捕獲するためのレジスト捕獲用カップ１７と、この発明に係るノズル清掃装置１８とを備える。
【００２４】
上記スピンチャック１３および軸１２は、図示しないチャック昇降機構により、図１において実線で示す回転位置と二点鎖線で示す塗布位置との間で昇降可能となっている。ここで、回転位置はレジスト塗布後の基板Ｗがカップ１７に収容されて回転する位置であり、塗布位置は処理液供給ノズル１４により基板Ｗにレジストが塗布される位置である。
【００２５】
上記ノズル移動機構１５は、水平に延びる移動ガイド２１に沿って往復移動する移動フレーム２２を備える。処理液供給ノズル１４は、この移動フレーム２２にノズル支持アーム２３を介して水平方向に移動自在に支持されている。なお、上記ノズル移動機構１５は上下方向には移動する機構を備えていない。このため、処理液供給ノズル１４が移動ガイド２１に沿って移動するときに、処理液供給ノズル１４と基板Ｗとの距離が変動することが防止される。従って、処理液供給ノズル１４を水平移動させて基板Ｗにレジストを塗布する際、均一な厚さの塗布膜を形成することが可能となる。
【００２６】
上記レジスト供給機構１６は、密閉された構成を有する加圧タンク２４と、この加圧タンク２４内に収納されたレジストタンク２５とを有する。加圧タンク２４は、加圧配管２７により図示しない窒素ガスあるいはエアーの供給源と接続されている。そして、この加圧配管２７内には、窒素ガスの給排切り替え用の三方弁２８と、レギュレータ２９とが配設されている。また、レジストタンク２５内には、このレジストタンク２５と処理液供給ノズル１４とを接続するレジスト供給配管３１の一端が挿入されている。このレジスト供給配管３１中には、開閉弁３３が配設されている。
【００２７】
このような構成を有するレジスト供給機構１５において、開閉弁３３が開放された状態においては、レジストタンク２５内のレジストが加圧タンク２４内の窒素ガスの圧力によりレジスト供給配管３１を介して処理液供給ノズル１４に圧送され、また、開閉弁３３が閉鎖されることによりレジストの圧送が停止される。
【００２８】
図２は、処理液供給ノズル１４によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。この処理液供給ノズル１４は、その長手方向（図２において紙面に垂直な方向）に延びるスリット状の吐出口３４を有する。この吐出口３４の長手方向の長さは、基板Ｗにおける矩形状の素子形成部分の短辺の長さ以上の長さであるが、ここでは、前記矩形状の素子形成部分の短辺の長さとほぼ等しくしてある。レジスト供給配管３１により供給されたレジスト３５は、図２に示すように、このスリット状の吐出口３４を介して基板Ｗの表面に供給される。
【００２９】
図３は、処理液供給ノズル１４の下端部の拡大図である。この図に示すように、この処理液供給ノズル１４は、そこに付着するレジスト３５の量を最小とするために、傾斜した側面３９を備える。この図において、符号３８は吐出口３４を形成するリップ面である。このリップ面３８は、側面３９の下端部を構成する。
【００３０】
次に、上述した基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作について説明する。図４は、基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作を示す説明図である。なお、以下の説明において、処理液供給ノズル１４の移動は上述したノズル移動機構１５により実行される。
【００３１】
レジストの塗布動作を実行する前の状態においては、処理液供給ノズル１４は、この発明に係るノズル清掃装置１８と対向する位置に配置されている。このときの処理液供給ノズル１４等の状態については、後程詳細に説明する。
【００３２】
この状態において、レジストの塗布動作を開始するときには、ノズル清掃装置１８上方に処理液供給ノズル１４を待機させた状態から、矢印▲１▼に示すように処理液供給ノズル１４をノズル清掃装置１８に関して遠方側の基板Ｗの一端上方まで水平移動させる。次に、チャック昇降機構によって基板Ｗを塗布位置に配置する。このとき基板Ｗ表面と処理液供給ノズル１４の吐出口３４との間隔は、レジストの塗布に適した所定の値となっている。
【００３３】
この状態において、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４からレジストを吐出させるとともに、処理液供給ノズル１４を矢印▲２▼に示すように基板Ｗの表面に沿って水平移動させる。この状態においては、図２に示すように、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４から吐出されたレジスト３５が基板Ｗの表面に薄膜状に塗布される。
【００３４】
処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４が基板Ｗの他端部と対向する位置まで移動すれば、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４からのレジストの吐出を停止させ、ノズル清掃装置１８の上方にまで移動させる。
【００３５】
次に、この発明に係るノズル清掃装置１８の構成について説明する。図５は、この発明に係るノズル清掃装置１８を待機ポット３６とともに示す側面図である。
【００３６】
このノズル清掃装置１８は、上述した処理液供給ノズル１４と平行に配設されたレール４１に沿って移動可能なブラケット４２と、このブラケット４２と連結された同期ベルト４３を往復回転させることによりブラケット４２を処理液供給ノズル１４と平行に往復移動させるモータ４４と、ブラケット４２の上方に配設された払拭部４５とを備える。この払拭部４５は、後述するように、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４を払拭するためのものである。この払拭部４５は、モータ４４の駆動により、図５において実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間を往復移動する。
【００３７】
一方、待機ポット３６は、レジストを塗布しない状態において、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４付近のレジストが乾燥して変質することを防止するためのものである。この待機ポット３６の内部には、例えば、レジストを溶解する溶剤等が貯留されている。この待機ポット３６は、エアシリンダ３７の駆動により、図５において二点鎖線で示すその上端の開口部が処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と対向する上昇位置と、実線で示す下降位置との間を昇降可能な構成となっている。このため、処理液供給ノズル１４をノズル清掃装置１８の上方に待機させた状態で待機ポット３６が上昇位置をとると、処理液供給ノズル１４の吐出口３４は待機ポット３６によって閉じられた空間に露出することになる。このとき、該空間は溶剤の蒸気が含まれる雰囲気で満たされているので、吐出口３４付近のレジストが乾燥することが防止される。
【００３８】
次に、上述した払拭部４５の構成について説明する。図６は払拭部４５の正面図であり、図７は払拭部４５の側断面図、また、図８は払拭部４５の平面図である。なお、図７および図８においては、説明の便宜上、払拭部材５２の図示を一部省略している。
【００３９】
この払拭部４５は、ケーシング５１と、長尺の払拭部材５２が巻回された送りロール５３と、送りロール５３から送り出された払拭部材５２を巻き取る巻き取りロール５４と、払拭部材５２に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル５５、５６と、第１、第２の清掃機構５７、５８とを備える。なお、払拭部材５２にはシート状の多孔性物質が使用される。このような多孔性物質としては濾紙等の紙や不織布等の布、あるいは、樹脂を使用することができる。
【００４０】
送りロール５３の軸６１には、ギヤ６２が付設されている。このギヤ６２は、ギヤ６３を介してロータリダンパ等のテンション発生部材６４と連結されている。このため、送りロール５３は、一定の抵抗力を持った状態で回転する。
【００４１】
また、図９に示すように、送りロール５３の軸６１に付設されたギヤ６２の下方には、送りロール５３の回転を規制するための回転規制機構６７が配設されている。この回転規制機構６７は、エアシリンダ６６のシリンダロッドに連結されたラック部材６５を備える。このラック部材６５は、エアシリンダ６６の駆動により、図９において実線で示す待機位置と、図９において仮想線で示す規制位置との間を昇降する。ラック部材６５が規制位置に配置された状態においては、ラック部材６５がギヤ６２と噛合し、送りロール５３の回転が規制される。
【００４２】
再度、図６乃至図８を参照して、巻き取りロール５４の軸７１は、カップリング７２を介してモータ７３の軸７４と連結されている。このため、巻き取りロール５４は、モータ７３の駆動により回転する。
【００４３】
送りロール５３から巻き取りロール５４に至る払拭部材５２の下方の位置、すなわち、払拭部材５２の移動経路における送りロール５３と巻き取りロール５４との間の位置には、払拭部材５２を処理液供給ノズル１４に向けて押圧することにより、払拭部材５２を処理液供給ノズル１４に当接されるための第１清掃機構５７が配設されている。
【００４４】
以下、第１清掃機構５７の構成について説明する。図１０は第１清掃機構５７の構成を示す説明図であり、図１１はその要部を示す斜視図である。なお、図１０（ａ）は第１清掃機構５７のケーシング７５を取り外して見た平面図であり、図１０（ｂ）は第１清掃機構５７の縦断面図、図１０（ｃ）は第１清掃機構５７の側面図である。また、図１１においては、第１清掃機構５７のケーシング７５を仮想線で表現している。
【００４５】
この第１清掃機構５７は、送りロール５３から送り出された払拭部材５２を処理液供給ノズル１４に当接させて処理液供給ノズル１４を清掃するためのものであり、ケーシング７５と、このケーシング７５内にその下端部が収納された一対の第１押圧部材７６と、ケーシング７５内にその下端部が収納された第２押圧部材７７と、支持板８０とを備える。上述した払拭部材５２に洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル５５（図８参照）は、この第１清掃機構５７の上方に配設されている。
【００４６】
前記第１押圧部材７６は、払拭部材５２を処理液供給ノズル１４のリップ面３８に当接させるために使用されるものである。この第１押圧部材７６は、後述する処理液供給ノズル１４の清掃工程において、処理液供給ノズル１４との接触時の衝撃を緩和するため、その頭部が円弧状に面取りされたアール形状となっている。なお、アール形状の代わりに、テーパー形状としてもよい。
【００４７】
この第１押圧部材７６の下面と支持板８０の間には、第１押圧部材７６を払拭部材５２方向に付勢する一対のばね８２が配設されている。また、第１押圧部材７６の下端部には、第１押圧部材７６がケーシング７５から飛び出すことを防止するための凸部８１が形成されている。
【００４８】
前記第２押圧部材７７は、払拭部材５２を処理液供給ノズル１４の側面３９に当接させるための使用されるものである。この第２押圧部材７７には、処理液供給ノズル１４の側面３９の形状に対応した凹部７８が形成されている。また、この第２押圧部材７７も、後述する処理液供給ノズル１４の清掃工程において、処理液供給ノズル１４との接触時の衝撃を緩和するため、その頭部が円弧状に面取りされたアール形状となっている。
【００４９】
この第２押圧部材７７の下面と支持板８０との間には、第２押圧部材７７を払拭部材５２方向に付勢する一対のばね８３が配設されている。また、第２押圧部材７７の下端部には、第２押圧部材７７がケーシング７５から飛び出すことを防止するための凸部８４が形成されている。さらに、ケーシング７５の内部にはケーシング７５に対して摺動可能な一対の移動部材８５が配設されており、この移動部材８５と第２押圧部材７７との間には、一対のばね８６が配設されている。
【００５０】
第２押圧部材７７は、これらのばね８３、８６および移動部材８５の作用により、移動可能に支持されている。すなわち、この第２押圧部材７７は、ばね８３、８６および移動部材８５の作用により、後述する清掃工程における払拭部４５の移動方向を図１０および図１１に示すＸ方向とした場合に、Ｙ方向およびＺ方向に移動可能に支持されている。これにより、第１清掃機構５７と処理液供給ノズル１４との位置精度に誤差があった場合にも、第２押圧部材７７に形成された凹部７８と処理液供給ノズル１４の側面３９とを確実に当接させることが可能となる。
【００５１】
第２押圧部材７７の上端部には、一対の案内部７９が形成されている。この一対の案内部７７は、巻き出しロール５３より巻き出される払拭部材５２の両端を案内するためのものである。すなわち、図１２（ａ）に示すように、これら一対の案内部７７は、払拭部材５２の幅とほぼ同一の距離だけ互いに離隔して配置されており、払拭部材５２の両端と当接する構成を有する。このため、これらの案内部の作用により、払拭部材５２が第２押圧部材７７の上部の位置から離脱することを有効に防止することが可能となる。
【００５２】
なお、後述する清掃工程において、処理液供給ノズル１４と第２押圧部材７７とが払拭部材５２を介して当接した状態においては、図１２（ｂ）に示すように、払拭部材５２は処理液供給ノズル１４の側面３９により押圧され、第２押圧部材７７における凹部７８内に進入する。
【００５３】
再度、図６乃至図８を参照して、払拭部材５２の移動経路における第１清掃機構５７と巻き取りロール５４との間の位置には、一旦処理液供給ノズル１４と当接した後の払拭部材５２を、再度処理液供給ノズル１４に向けて押圧することにより、この払拭部材５２を処理液供給ノズル１４に当接されるための第２清掃機構５８が配設されている。
【００５４】
この第２清掃機構５８は、払拭部材５２を案内するための固定案内ローラ８７および昇降案内ローラ８８を備える。固定案内ローラ８７は、ケーシング５１に対して回転可能に支持されている。一方、昇降案内ローラ８８は、エアシリンダ９０の駆動により昇降する略Ｌ字状のブラケット８９の先端に回転可能に支持されている。このため、昇降案内ローラ８８は、エアシリンダ９０の駆動により図６において実線で示す清掃位置と、仮想線で示す退避位置との間を昇降する。ここで、この清掃位置は、昇降案内ローラ８８が払拭部材５２を処理液供給ノズル１４のリップ面３８に当接させ、そこを払拭部材５２により清掃する位置である。なお、上述した払拭部材５２に洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル５６は、この昇降案内ローラ８８の側方に配設されている。
【００５５】
なお、上述した払拭部４５においては、第１、第２清掃機構５７、５８等を送りロール５３や巻き取りロール５４等とともに脱着可能なカセット機構が採用されている。
【００５６】
次に、この発明に係るノズル清掃装置１８による処理液供給ノズル１４の清掃動作について説明する。
【００５７】
このノズル清掃装置を使用して処理液供給ノズル１４の清掃動作を実行する際には、処理液供給ノズル１４が清掃機構１８の上方に位置した状態にて、待機ポット３６が図５において二点鎖線で示す上昇位置から実線で示す下降位置まで下降する。また、払拭部４５は、図５において仮想線で示す走行ストローク右端の位置に停止している。この位置は、払拭部材４５が送りロール５３側の端部に配置される位置である。
【００５８】
しかる後、モータ４４の駆動により、払拭部４５がブラケット４２とともに、図５に示す左方向に移動を開始する。この方向は、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と平行な方向であり、また、巻き取りロール５４による払拭部材５２の巻き取り方向と同一方向である。また、払拭部材５２の左方向への移動時には、第２清掃機構５８の昇降案内ローラ８８は、図６において実線で示す清掃位置に配置されている。
【００５９】
この状態において払拭部４５が移動を継続すると、最初に、第２清掃機構５８における昇降案内ローラ８８の作用により、処理液供給ノズル１４のリップ面３８と払拭部材５２とが当接し、処理液供給ノズル１４のリップ面３８が払拭部材５２により予備清掃される。この予備清掃工程においては、必要に応じ、洗浄液供給ノズル５６から払拭部材５２に洗浄液が供給される。
【００６０】
このとき、この予備清掃に使用される払拭部材５２は、後述するように、これ以前の清掃工程において、第１清掃機構５７により処理液供給ノズル１４のリップ面３８および側面３９の清掃に既に使用されている部分である。従って、この予備清掃に使用される払拭部材５２はある程度レジストにより汚染されているが、後程第１清掃機構５７による清掃が実行されることから、予備清掃工程においてはこの程度の汚染は問題とはならない。
【００６１】
しかる後、払拭部４５がさらに移動を継続すると、第１清掃機構５７の作用により、処理液供給ノズル１４と払拭部材５２とが当接し、処理液供給ノズル１４が払拭部材５２により本清掃される。
【００６２】
この第１清掃機構５７による清掃動作について、図１３を参照して詳細に説明する。図１３は、第１清掃機構５７による処理液供給ノズル１４の清掃動作を示す模式図である。
【００６３】
払拭部４５の移動に伴い、処理液供給ノズル１４と第１清掃機構５７との配置関係が図１３（ａ）に示す状態から図１３（ｂ）に示す状態となれば、最初に巻き取りロール５４側の第１押圧部材７６の作用により、処理液供給ノズル１４のリップ面３８と払拭部材５２とが当接し、処理液供給ノズル１４のリップ面３８が払拭部材５２により清掃される。この状態においては、巻き取りロール５４側の第１押圧部材７６は、処理液供給ノズル１４に押圧されて下降する。なお、上述したように、第１押圧部材７６の頭部は円弧状に面取りされたアール形状となっていることから、第１押圧部材７６と処理液供給ノズル１４との接触時の衝撃を緩和することが可能となる。
【００６４】
この状態から払拭部４５がさらに移動し、処理液供給ノズル１４と第１清掃機構５７との配置関係が図１３（ｃ）に示す状態となれば、第２押圧部材７７の作用により、処理液供給ノズル１４の側面３９と払拭部材５２とが当接し、処理液供給ノズル１４の側面３９が払拭部材５２により清掃される。この状態においては、第２押圧部材７７は、処理液供給ノズル１４に押圧されて下降する。なお、上述したように、第２押圧部材７７の頭部も円弧状に面取りされたアール形状となっていることから、第２押圧部材７７と処理液供給ノズル１４との接触時の衝撃を緩和することが可能となる。
【００６５】
このとき、上述したように、第２押圧部材７７は、Ｙ方向およびＺ方向に移動可能に支持されていることから、第１清掃機構５７と処理液供給ノズル１４との位置精度に誤差があった場合にも、第２押圧部材７７に形成された凹部７８と処理液供給ノズル１４の側面３９とを確実に当接させることが可能となる。このため、処理液供給ノズル１４の側面３９と払拭部材５２とを確実に当接させることができ、処理液供給ノズル１４の側面３９を払拭部材５２により確実に清掃することが可能となる。
【００６６】
払拭部４５がさらに移動し、処理液供給ノズル１４と第１清掃機構５７との配置関係が図１３（ｄ）に示す状態となれば、送りロール５３側の第１押圧部材７６の作用により、処理液供給ノズル１４のリップ面３８と払拭部材５２とが再度当接し、処理液供給ノズル１４のリップ面３８が払拭部材５２により再び清掃される。この状態においては、巻き取りロール５４側の第１押圧部材７６は、処理液供給ノズル１４に押圧されて下降する。なお、この第１押圧部材７６の頭部も円弧状に面取りされたアール形状となっていることから、第１押圧部材７６と処理液供給ノズル１４との接触時の衝撃を緩和することが可能となる。
【００６７】
上述した第１清掃機構５７による処理液供給ノズル１４の清掃時においては、必要に応じ、洗浄液供給ノズル５５から払拭部材５２に洗浄液が供給される。また、第１清掃機構５７による処理液供給ノズル１４の清掃時においては、モータ７３の駆動により、巻き取りロール５４が低速で回転する。このため、処理液供給ノズル１４のリップ面３８および側面３９を新しい払拭部材５２により清浄に清掃することが可能となる。そして、第１清掃機構５７により清掃に使用された後の払拭部材５２は、上述したように、第２清掃機構５８による予備清掃に再利用される。
【００６８】
なお、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の長手方向の長さが比較的短い場合においては、巻き取りロール５４を回転させることなく、処理液供給ノズル１４のリップ面３８および側面３９を清掃するようにしてもよい。
【００６９】
以上の動作により、払拭部４５が図５において仮想線で示す走行ストローク右端の位置から図５において実線で示す走行ストローク左端の位置まで移動すれば、モータ４４の駆動により、払拭部４５がブラケット４２とともに、図５に示す右方向に移動する。この方向は、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と平行な方向であり、また、巻き取りロール５４による払拭部材５２の巻き取り方向と逆方向である。
【００７０】
この払拭部材５２の左方向への移動時には、第１清掃機構５７の作用により、処理液供給ノズル１４のリップ面３８および側面３９が払拭部材５２により再度清掃される。但し、この払拭部材５２の左方向への移動時においては、第２清掃機構５８の昇降案内ローラ８８は、図６において仮想線で示す退避位置に配置されている。このため、清掃後の処理液供給ノズル１４のリップ面３８および側面３９が予備清掃に使用された払拭部材５２と当接して汚染することはない。
【００７１】
また、この払拭部材５２の左方向への移動時においては、図９に示す回転規制機構６７のラック部材６５が規制位置に配置され、送りロール５３の回転が規制される。このため、払拭部材５２の左方向への移動時に、払拭部材５２と処理液供給ノズル１４との間の摩擦力により払拭部材５２が引っ張られた場合においても、送りロール５３が逆転することはない。
【００７２】
しかる後、払拭部４５が図５において仮想線で示す走行ストローク右端の位置まで移動すれば、処理液供給ノズル１４の清掃動作が完了する。但し、払拭部４５を複数回往復させて処理液供給ノズル１４を清掃するようにしてもよい。
【００７３】
なお、上述した実施形態においては、この発明に係るノズル清掃装置１８を、処理液供給ノズル１４により基板Ｗにレジストを塗布した後、この基板Ｗをスピンチャック１３により回転させる構成の基板処理装置に適用した場合について説明したが、この発明に係るノズル清掃装置を、処理液供給ノズル１４により基板Ｗに処理液を供給した後、基板Ｗを回転させないタイプの基板処理装置に適用してもよい。
【００７４】
また、上述した実施形態においては、第１清掃機構５７に第１押圧部材７６を複数個配設した場合について説明したが、第１清掃機構５７に第２押圧部材７７を複数個配設するようにしてもよい。
を複数配設してもよい
【００７５】
【発明の効果】
請求項１、請求項２、請求項１２、請求項１３および請求項１４に記載の発明によれば、払拭部材における第１清掃機構により処理液供給ノズルの清掃に使用した領域を、第２清掃機構により処理液供給ノズルの予備清掃に使用できることから、払拭部材の消費量を低減しながら、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能となる。
【００７６】
請求項３に記載の発明によれば、第２清掃機構が巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と同一方向に払拭部が移動するときにのみ払拭部材を処理液供給ノズルに当接させることから、予備清掃に使用された払拭部材が処理液供給ノズルに再度当接して処理液供給ノズルが汚染することを防止することができる。
【００７７】
請求項４に記載の発明によれば、回転機構が、巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と同一方向に払拭部が移動するときに巻き取りロールを回転させることから、処理液供給ノズルを新しい払拭部材により清浄に清掃することが可能となる。
【００７８】
請求項５に記載の発明によれば、巻き取りロールによる払拭部材の巻き取り方向と逆方向に払拭部が移動するときに巻き出しロールの回転を規制する回転規制機構を備えることから、払拭部材の移動時に、払拭部材と処理液供給ノズルとの間の摩擦力により送りロールが逆転することを確実に防止することが可能となる。
【００７９】
請求項６に記載の発明によれば、第１清掃機構が払拭部材を処理液供給ノズルのリップ面に当接させる第１押圧部材と払拭部材を処理液供給ノズルの側面に当接させる第２押圧部材とを備えることから、処理液供給ノズルのリップ面と側面とを確実に清掃することが可能となる。
【００８０】
請求項７に記載の発明によれば、第１清掃機構が第１押圧部材または第２押圧部材を複数個備えることから、処理液供給ノズルのリップ面または側面をより確実に清掃することが可能となる。
【００８１】
請求項８に記載の発明によれば、第２押圧部材には処理液供給ノズルの側面の形状に対応した凹部が形成されるとともに、該第２押圧部材を移動可能に支持する支持機構をさらに備えることから、第１清掃機構と処理液供給ノズルとの位置精度に誤差があった場合にも、第２押圧部材に形成された凹部と処理液供給ノズルの側面とを確実に当接させることが可能となる。
【００８２】
請求項９に記載の発明によれば、支持機構は、払拭部の移動方向をＸ方向とした場合に、第２押圧部材をＹ方向とＺ方向に移動可能に支持する複数のばねより構成されることから、第１清掃機構と処理液供給ノズルとの位置精度に誤差があった場合にも、第２押圧部材に形成された凹部と処理液供給ノズルの側面とをより確実に当接させることが可能となる。
【００８３】
請求項１０に記載の発明によれば、第２押圧部材が巻き出しロールより巻き出される払拭部材の両端を案内する案内部を有することから、払拭部材が第２押圧部の上部の位置から離脱することを有効に防止することが可能となる。
【００８４】
請求項１１に記載の発明によれば、払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えることから、洗浄液を利用して処理液供給ノズルをより確実に清掃することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係るノズル清掃装置を適用した基板処理装置の概要図である。
【図２】処理液供給ノズル１４によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。
【図３】処理液供給ノズル１４の下端部の拡大図である。
【図４】基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作を示す説明図である。
【図５】この発明に係るノズル清掃装置１８を待機ポット３６とともに示す側面図である。
【図６】払拭部４５の正面図である。
【図７】払拭部４５の側面図である。
【図８】払拭部４５の平面図である。
【図９】回転規制機構６７をギヤ６２とともに示す正面図である。
【図１０】第１清掃機構５７の構成を示す説明図である。
【図１１】第１清掃機構５７の要部を示す斜視図である。
【図１２】第２押圧部材７７と払拭部材５２との関係を示す説明図である。
【図１３】第１清掃機構５７による処理液供給ノズル１４の清掃動作を示す模式図である。
【符号の説明】
１３　　　スピンチャック
１４　　　処理液供給ノズル
１８　　　ノズル清掃装置
３４　　　吐出口
３６　　　待機ポット
３８　　　リップ面
３９　　　側面
４１　　　レール
４２　　　ブラケット
４３　　　同期ベルト
４４　　　モータ
４５　　　払拭部
５２　　　払拭部材
５３　　　送りロール
５４　　　巻き取りロール
５５　　　洗浄液供給ノズル
５６　　　洗浄液供給ノズル
５７　　　第１清掃機構
５８　　　第２清掃機構
６１　　　軸
６２　　　ギヤ
６３　　　ギヤ
６４　　　テンション発生部
６５　　　ラック部材
６６　　　エアシリンダ
６７　　　回転規制機構
７１　　　軸
７２　　　カップリング
７３　　　モータ
７４　　　軸
７５　　　ケーシング
７６　　　第１押圧部材
７７　　　第２押圧部材
７８　　　凹部
７９　　　案内部
８０　　　支持板
８１　　　凸部
８２　　　ばね
８３　　　ばね
８４　　　凸部
８５　　　移動部材
８６　　　ばね
８７　　　固定案内ローラ
８８　　　昇降案内ローラ
８９　　　ブラケット
９０　　　エアシリンダ
Ｗ　　　　基板
【図１】
2004122067.tif 000003
【図２】
2004122067.tif 000004
【図３】
2004122067.tif 000005
【図４】
2004122067.tif 000006
【図５】
2004122067.tif 000007
【図６】
2004122067.tif 000008
【図７】
2004122067.tif 000009
【図８】
2004122067.tif 000010
【図９】
2004122067.tif 000011
【図１０】
2004122067.tif 000012
【図１１】
2004122067.tif 000013
【図１２】
2004122067.tif 000014
【図１３】
2004122067.tif 000015