(57)【要約】【課題】ディスク基板上に積層された記録膜上に、ディスク基板の厚さに対して極めて薄い光透過性膜を全面に亘って均一にしかも平坦に形成した光ディスクを製造する製造方法を提供する。【解決手段】ディスク基板上に記録膜、光透過性膜を積層し、光透過性膜の厚さは、基板の厚さを１とすると、９０×１０−３〜１１０×１０−３の範囲の厚さである構成の光ディスクを製造する方法であって、基板を載置したときに、センターホールと内周領域に位置する範囲のみが、直接当接しないような深さを有する凹部が形成されているステージを用い、ステージ上に載置した基板上に記録膜を形成し、記録膜上に光硬化性樹脂を全面塗布し、１００００Ｐａ〜４００００Ｐａの減圧下で、平坦な石英ガラス板を未硬化の光硬化性樹脂に押し当て、ガラス板を介して光を照射して光硬化性樹脂を硬化する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク基板の一方の面上に記録膜、光透過性膜を順次積層してなり、かつ前記光透過性膜の厚さは、前記ディスク基板の厚さを１とすると、９０×１０−３〜１１０×１０−３の範囲の厚さであり、かつ前記ディスク基板の前記一方の面には、センターホールに接して所定幅を有する内周領域と、前記内周領域の外側に位置して情報記録領域として用いられる外周領域とが形成されてなる構成の光ディスクを製造するための光ディスク製造方法であって、
前記ディスク基板を所定位置に載置したときに、前記ディスク基板の前記一方の面とは反対側の他方の面における前記センターホール及び前記内周領域に位置する範囲のみが、直接当接しないような深さを有する凹部が形成されているステージを用い、
前記ステージ上に載置した前記ディスク基板の前記一方の面上に、前記記録膜を形成する第１工程と、
前記第１工程に続いて、前記記録膜上に光硬化性樹脂を全面塗布する第２工程と、
前記第２工程に続いて、１００００Ｐａ〜４００００Ｐａの減圧下において、平坦な石英ガラス板を未硬化の前記光硬化性樹脂に押し当てる第３工程と、
前記第３工程に続いて、石英ガラス板を介して光を照射して、未硬化の前記光硬化性樹脂を硬化する第４工程とを備えたことを特徴とする光ディスク製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の光ディスク製造方法によって製造された光ディスクであって、
ディスク基板の一方の面上に記録膜、光透過性膜を順次積層してなり、
前記光透過性膜の厚さは、前記ディスク基板の厚さを１とすると、９０〜１１０×１０−３の範囲の厚さであり、かつ前記光透過性膜は全面が平坦であることを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、ディスク基板の厚さに対して極めて薄い光透過性膜を前記ディスク基板上に塗布硬化しても均一に平坦に形成できる光ディスク製造方法及びこの製造方法によって製造された光ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、オーディオ、画像用途、コンピュータメモリとして、レーザ光を用いて情報の再生、記録、消去を行うＤＶＤ等の光ディスクにおいて、光ピックアップの対物レンズの高開口度、レーザ光の短波長化等により、光ディスクの高密度化が行われている。高密度化のためには、光ピックアップの対物レンズと光ディスクの反射膜の距離を短くしてレンズ収差を抑制する．すなわち、コマ収差を抑制するために、レーザ光が通過する厚さを薄くする必要がある。
【０００３】
高密度光ディスクとしては例えば、厚さ１．１ｍｍの基板表面にビット列又は記録溝からなる情報が形成されていて、それらはトラックピッチ０．３２μｍ、最短記録ピット長０．１６μｍであって、直径１２０ｍｍのディスク上に信号方式が２Ｔ（Ｔ：チャンネル周期）系で２２ＧＢ〜２７ＧＢの記録容量を有しているものである。基板表面のピット又は記録溝上の情報面には情報面を保護し、レーザ光を透過させるための厚さ９０μｍから１１０μｍの光透過層が形成されている。
【０００４】
このようなディスク構造としては、厚さ１００μｍ程度の樹脂シートを数μｍの接着剤で貼り付ける方法（特許文献１〜特許文献３参照）や、紫外線硬化樹脂を滴下して厚さ１００μｍ程度の光透過層を造る方法（特許文献４参照）が知られている。
【０００５】
【特許文献１】
特開平６−１３７０４号公報
【０００６】
【特許文献２】
特開２０００−２１５５２４
【０００７】
【特許文献３】
特開２０００−３１１３９２
【０００８】
【特許文献４】
特開２００１−３０７３８０
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、紫外線硬化樹脂や粘着剤でポリマーシートを貼る方法（特許文献４参照）や、回転しながら減圧と加圧を何回も繰り返して貼り合わせる方法（特許文献１参照）、０．１ＭＰａ〜２０ＭＰａの弾性率を有するステージを用いて５〜２００ｋＰａ減圧下で貼り合わせる装置（特許文献２参照）、プラズマ処理した面に紫外線樹脂を塗布展開して光透過層を形成する方法（特許文献４参照）に於いては、フィルムが圧延ロールで作られるためと接着剤の硬化収縮や紫外線硬化樹脂そのものを硬化させるとその表面張力により表面にうねり等ができて最表面が平らでなくなるためにレーザ光の垂直入射が不十分になって記録、感度が悪くなるという問題点があった。
【００１０】
そこで、本発明は上述した課題を鑑みて創案されたものであり、特に、ディスク基板の厚さが９０×１０−３〜１１０×１０−３の範囲の厚さである光透過性膜を、記録膜を介してディスク基板全面に形成する光ディスク製造方法であって、ディスク基板を所定位置に載置したときに、ディスク基板の一方の面とは反対側の他方の面におけるセンターホール及び内周領域に位置する範囲のみが、直接当接しないような深さを有する凹部が形成されているステージを用い、ステージ上に載置したディスク基板の一方の面上に記録膜を形成し、記録膜上に光硬化性樹脂を全面塗布し、１００００Ｐａ〜４００００Ｐａの減圧下において、平坦な石英ガラス板を未硬化の光硬化性樹脂に押し当て、石英ガラス板を介して光を照射して未硬化の光硬化性樹脂を硬化することによって、平坦な石英ガラス板に密着した光硬化性樹脂の表面はこの平坦な石英ガラス板の当接面と同一の平坦面を得ることができ、しかも、石英ガラス板と未硬化の光硬化性樹脂とが当接した後に光の照射によって生じる硬化の際の樹脂収縮歪を逃がす手段、即ち前記ステージの凹部、をデイスク基板のセンターホール付近に対応した位置に設けたことによって、光硬化性樹脂が硬化する際に生じる樹脂収縮歪をこの部分で開放することができるので、記録膜に密着した光硬化性樹脂の表面（入射面）全体はこの平坦な石英ガラス板の当接面と同一の平坦面を得ることができるから、ディスク基板の厚さに対して極めて薄い光透過性膜を全面に亘って均一にしかも平坦に形成した光ディスクを製造する光ディスク製造方法を提供することができ、また、この製造方法によって、記録再生時に入射面からのレーザ光の散乱を良好に抑圧したことにより記録再生特性が向上した光ディスクを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記した課題を解決するために、本発明は下記の構成を有する光ディスク製造方法及び光ディスクを提供する。
（１）    ディスク基板の一方の面上に記録膜、光透過性膜を順次積層してなり、かつ前記光透過性膜の厚さは、前記ディスク基板の厚さを１とすると、９０×１０−３〜１１０×１０−３の範囲の厚さであり、かつ前記ディスク基板の前記一方の面には、センターホールに接して所定幅を有する内周領域と、前記内周領域の外側に位置して情報記録領域として用いられる外周領域とが形成されてなる構成の光ディスクを製造するための光ディスク製造方法であって、
前記ディスク基板を所定位置に載置したときに、前記ディスク基板の前記一方の面とは反対側の他方の面における前記センターホール及び前記内周領域に位置する範囲のみが、直接当接しないような深さを有する凹部が形成されているステージを用い、
前記ステージ上に載置した前記ディスク基板の前記一方の面上に、前記記録膜を形成する第１工程と、
前記第１工程に続いて、前記記録膜上に光硬化性樹脂を全面塗布する第２工程と、
前記第２工程に続いて、１００００Ｐａ〜４００００Ｐａの減圧下において、平坦な石英ガラス板を未硬化の前記光硬化性樹脂に押し当てる第３工程と、
前記第３工程に続いて、石英ガラス板を介して光を照射して、未硬化の前記光硬化性樹脂を硬化する第４工程とを備えたことを特徴とする光ディスク製造方法。
（２）    請求項１記載の光ディスク製造方法によって製造された光ディスクであって、
ディスク基板の一方の面上に記録膜、光透過性膜を順次積層してなり、
前記光透過性膜の厚さは、前記ディスク基板の厚さを１とすると、９０〜１１０×１０−３の範囲の厚さであり、かつ前記光透過性膜は全面が平坦であることを特徴とする光ディスク。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施の形態について、図１〜図７を用いて説明する。
図１は本発明の光ディスク製造方法を説明するための縦断面図、図２はコック付ディスペンスを説明するための図、図３はステージの使用状態を説明するための縦断面図、図４は加圧紫外線照射釜の使用状態を説明するための図、図５はウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂の接着強度を示す特性図、図６は接着付与材ジメチルアクリルアミドをヤング率２０００ｋｇ／ｃｍ２のウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂へ添加したときの引張り強度を示す特性図、図７は紫外線硬化樹脂ＺｎＳへの引張り接着強度から、Ａｕ，石英への引張り接着強度を引いた強度に対する接着剤のＡｕ，石英への残存率を示す特性図である。図中、１はポリカーボネート樹脂基板（ディスク基板）、１ａは一方の面、１ｂは他方の面、２は記録膜、３は光硬化樹脂（光透過性膜）、３ａは全面、４は石英ガラス板、５はステージ、５はコック付ディスペンス、５ａはチューブ、５ｂはコック、６はステージ、６ａは凹部、７はステンレス釜、７ａ，７ｂは弁付コック、７ｃは窓、８はランプ（高圧水銀ランプあるいはメタハラランプ）、１０は光ディスク、ａ〜ｅは吐出口、ｄ１は深さ、Ｄは照射物、ｌは照射光（紫外線あるいは可視光線）、Ｅは光ディスク、ｉは所定幅、Ｉは内周領域、Ｏは外周領域、ｔ１，ｔ２は厚さ。
【００１３】
本発明の光ディスク製造方法は、図１に示すように、ディスク基板１の一方の面１ａ上に記録膜２、光透過性膜３を順次積層してなり、かつ前記光透過性膜３の厚さｔ１は、前記ディスク基板の厚さｔ２を１とすると、９０×１０−３〜１１０×１０−３の範囲の厚さであり、かつ前記ディスク基板１の前記一方の面１ａには、センターホールｈ（図３）に接して所定幅ｉを有する内周領域Ｉと、前記内周領域Ｉの外側に位置して情報記録領域として用いられる外周領域Ｏとが形成されてなる構成の光ディスクＥを製造するための光ディスク製造方法である。
【００１４】
また、本発明の光ディスク製造方法にて用いられるステージ６は、図３に示すように、前記ディスク基板１を所定位置に載置したときに、前記ディスク基板１の前記一方の面１ａとは反対側の他方の面１ｂにおける前記センターホールｈ及び前記内周領域Ｉに位置する範囲のみが、直接当接しないような深さｄを有する凹部６ａが形成されている。
【００１５】
さらに、本発明の光ディスク製造方法は、第１工程〜第４工程を備えている。即ち、
第１工程は、前記ステージ６上に載置した前記ディスク基板１の前記一方の面１ａ上に、前記記録膜２を形成する工程である（図１（Ａ））。
第２工程は、第１工程に続いて、前記記録膜２上に光硬化性樹脂３を全面塗布する工程である（図１（Ｂ））。
第３工程は、第２工程に続いて、１００００Ｐａ〜４００００Ｐａの減圧下において、平坦な石英ガラス板４を未硬化の前記光硬化性樹脂３に押し当てる工程である（図１（Ｃ））。
第４工程は、第３工程に続いて、石英ガラス板４を介して光を照射して、未硬化の前記光硬化性樹脂３を硬化する工程である。
【００１６】
一方、本発明の光ディスク１０は、前述した本発明の光ディスク製造方法によって製造された光ディスクである。
本発明の光ディスク１０の構成は、図１（Ｄ）に示すように、ディスク基板１の一方の面１ａ上に記録膜２、光透過性膜３を順次積層してなり、前記光透過性膜３の厚さｔ１は、前記ディスク基板１の厚さｔ２を１とすると、９０〜１１０×１０−３の範囲の厚さであり、かつ前記光透過性膜３は全面３ａが平坦であるものである。
【００１７】
次に、本発明の具体的な実施例について説明する。
光ディスク製造方法は、図１（Ｂ）に示すように、未硬化の光硬化樹脂３の塗布量を半径６０ｍｍの光ディスクの中心から塗布位置の半径比に応じて＜小から大となるように塗布して、塗布した光硬化樹脂３の厚さが光ディスクの半径位置のいずれの位置でも均一となるように、半径１８ｍｍ以内を凹部６ａにしたステージ６上で、１０００Ｐａ〜４０００Ｐａ減圧中に石英ガラス板４を塗布した光硬化樹脂３と接触させる。この状態において光硬化樹脂３を石英ガラス板４外へはみ出さないようにこれを石英ガラス板４上に塗布する。
次に、０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａ加圧中に紫外線ｌを照射して光硬化樹脂３を硬化する。これにより、一般的にディスク基板１に使用されているガラス板表面（Ｒｚ０．０２μｍ、平行度１０μｍ、平坦度３０μｍ）より精度良く表面研磨した石英ガラス板４の平滑面を転写して、レーザ光が通過する光透過層を光硬化樹脂で形成することにより、光透過層の入射面を平らにしてレーザ光の垂直入射を十分にして記録再生特性を向上させることが可能な光ディスクを製造する。
【００１８】
次に、光ディスクの製造順序について具体的に説明する。
光ディスク基板１は射出成形機に光ディスク用金型を装着し、ポリカーボネート樹脂などの熱可塑性樹脂を材料として射出成形によって製造される。光ディスク用金型内には、スタンバーと呼ばれる円盤状のニッケル盤が装着されている。ニッケル盤の表面には、高密度情報として、ピット列又は記録溝からなる情報面が螺旋状に形成されていて、例えばそれらはトラックピッチ０．３２μｍ、最短記録ピット長０．１６μｍであって、直径１２０ｍｍディスク上に信号方式が２Ｔ系で２２ＧＢ〜２７ＧＢの記録容量を有しているものである。このような射出成形工程によって表面の外周領域Ｏに上記情報面の形成されたディスク基板１が製造される。
【００１９】
このディスク基板１の情報面をアルミニウムなどの光に対して高反射率を示す反射膜で覆えば、再生型ディスクとなり、ゲルマニウム、アンチモン、テルルなどの合金からなる加熱冷却速度により、結晶と非結晶のような相の変化において光に対する反射率が変化するよう記録膜で覆えば、記録型光ディスクとなる。
以下、記録型光ディスクの製造手順について説明する。
【００２０】
まず、溝やピットが螺旋状に形成されているポリカーボネート樹脂などのディスク基板１上に、スバッタや蒸着により、アルミニウム合金反射層（厚さ１０ｎｍ〜１００ｎｍ）を形成する。このアルミニウム合金反射層上に、硫化亜鉛−二酸化珪素などの無機化合物からなる誘電体層（厚さ１５ｎｍ〜３０ｎｍ）、ゲルマニウム、アンチモン、テルルなどの合金からなる記録層（厚さ２０ｎｍ〜４０ｎｍ）、硫化亜鉛−二酸化珪素などの無機化合物からなる誘電体層（厚さ１００ｎｍ〜１３０ｎｍ）を順次成膜して記録膜２を形成する。
【００２１】
次に、記録膜付ディスク基板を２０ｒｐｍ〜１００ｒｐｍで回転して、記録膜２上に、塗布量を光ディスク基板の中心から塗布する位置の半径比に制御して光硬化樹脂を線引き塗布する。例えば図２に示すように、コック付ディスペンスを用いて、半径１０ｍｍ、２０ｍｍ、３０ｍｍの位置に同時に線引き塗布をする塗布量の比を１：２：３にするためには、下記の方法を採用すると良好な結果が得られる。
各半径毎に設置された吐出口ａ〜ｅ（例えば半径１０ｍｍに対応する吐出口ａ、半径２０ｍｍに対応する吐出口ｂ、…）より、各半径とも１周分だけ光硬化樹脂を塗布すれば、各半径に対する円周の長さは各半径に比例するために、記録膜２を介してディスク基板１に塗布される光硬化樹脂は円周の長さに比例して増加することになる。こうした塗布には図２に示すような光硬化樹脂が流れる多数のチューブ５ａをそれぞれ開閉するコック５ｂを閉状態とすることによって光硬化樹脂の吐出を止めるコック付ディスペンスを用いると効率が良い。
【００２２】
記録膜付ディスク基板に対する光硬化樹脂の塗布は、一つのディスペンスを用いて各半径ごとに行っても良いが、ディスペンスから塗布された光硬化樹脂は、記録膜２に到達すると、記録膜２の表面で水平方向に拡散をする。従って一つのディスペンスを移動させて各半径を塗布すると、塗布された半径ごとにディスク基板上に充填した光硬化性樹脂の形状が異なるので好ましくない。
【００２３】
記録膜付ディスク基板の記録膜２に対する光硬化樹脂の塗布方法としては、この塗布後、石英ガラス板４を塗布した光硬化樹脂上に載置するために、光硬化樹脂は塗布された半径から外周に向って拡散する。この拡散によってディスク基板１の外へ光硬化樹脂がはみださないようにするために、光硬化樹脂を記録膜付ディスク基板の最外周まで塗布しない。具体的には、図２に示すように、コック付ディスペンスを用いて、半径１０ｍｍ、２０ｍｍ、３０ｍｍの位置に同時に線引き塗布をする塗布量の比を１：２：３にするためには、下記の方法を採用すると良好な結果が得られる。各半径毎に設置された吐出口ａ〜ｅ（例えば半径１０ｍｍに対応する吐出口ａ、半径２０ｍｍに対応する吐出口ｂ、…）より、各半径とも１周分だけ光硬化樹脂を塗布すれば、各半径に対する円周の長さは各半径に比例するために、記録膜２を介してディスク基板１に塗布される光硬化樹脂は円周の長さに比例して増加することになる。」記載において、減圧（真空度）を小さくすると樹脂が外周にはみ出すために、減圧が小さいほど内周に塗布する必要があるためである。
【００２４】
また、一度の塗布で所望する厚さ（均一な厚さ）を得るために、石英ガラス板４と記録膜付ディスク基板の両方に塗布しても良い。ここで使用する光硬化樹脂は波長が４００ｎｍ以上（可視光線）で硬化する可視光硬化型樹脂、例えばアクリル系アクリレート樹脂、波長が４００ｎｍ以下（紫外線）で硬化する紫外線硬化型樹脂、例えばウレタン系アクリレート樹脂である。こうした塗布の際には、ディスク基板１の内周領域Ｉを包含する半径１８ｍｍ以内を凹部６ａにしたステージ６上の所定の位置に、光硬化樹脂３を塗布した記録膜付樹脂基板を載置する。
【００２５】
ステージ６上にはディスク基板１が平坦に載直されるように、ステージ６上に吸引用の穴（図示せず）を空けておき、真空吸引をするとディスク基板１をより平坦とすることができ、品質の良い光ディスク１０を製造するのに効果的である。次に、表面をラッピング研磨された石英ガラス板を走査型白色光干渉顕微鏡で測定すると、表面はＲｚ２０ｎｍ、平坦度１０μｍ、平行度１０μｍが得られた。
【００２６】
こうして、石英ガラス板４を、図３に示すように、ステージ６上で、１０００Ｐａ〜４０００Ｐａ減圧中で光硬化樹脂と接触させる。石英ガラス板６の大きさはディスク基板１と半径が同じか２ｍｍほど石英ガラス板４の方が大きいものを使用すると効果がある。ステージ６の半径１８ｍｍ以下に凹部６ａを作ることにより、ディスク基板１の出っ張りを吸収してステージ６に平衡に置くことにより減圧、加圧の時に石英ガラス板４の自重の影響を均一にして平らに貼り合わせることができる。
【００２７】
使用する石英ガラス４の厚さについては特に制限はないが、厚さが０．６ｍｍ以下であると機械的に弱く、光ディスク１０を製造中に割れやすくなり、効率が悪い。一方厚さが１０ｍｍを超えると、石英ガラス４の自重のため、ディスク基板１との間に挟まれている光硬化樹脂の拡散が速くなり、光硬化樹脂の厚さを制御するのが困難となる。
【００２８】
また、貼り合わせ時の減圧は、１０００Ｐａ以下の減圧であると光硬化樹脂３が伸びず巻き込んだ空気が抜けなくなる。また、４０００Ｐａ以上の減圧であると光硬化樹脂がはみ出し過ぎるのと、光硬化樹脂の揮発性成分がより多く発生し、光硬化樹脂の表面にクレーターができやすくなる。
【００２９】
張り合わせた石英ガラス板４と記録膜付ディスク基板を、図４に示すように、０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａで抑圧しながら紫外線または可視光線を照射して光硬化樹脂３を硬化させ、石英ガラス４を硬化した光硬化樹脂から剥離し、石英ガラス板４の表面を転写した光硬化樹脂３からなる光透過膜を作る。ここで、０．０５ＭＰａよりも低い加圧であると発生した揮発性成分を光硬化樹脂内に戻すことができなくなる。また、０．０２ＭＰａよりも高い加圧であると光硬化樹脂３が基板１からはみ出してしまい、光硬化樹脂３の膜厚が安定しない。また、加圧後常圧で硬化させると光硬化樹脂の表面張力により平坦が保持できなくなる。ここで、使用した減圧、加圧、光照射装置は図４に示すような一体型である。因みに、溝やピットが形成されている石英ガラス板を用いることによっても、記録膜の上に溝やピットを転写することができる。
【００３０】
前述した光硬化樹脂の一例である紫外線硬化型樹脂として、ウレタン系アクリレート樹脂が挙げられているが、イソボロニルアクリレート（アクリルモノマー）の添加量を増加してヤング率を調整したウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂を用いても良く（図５）、また、接着付与剤ジメチルアクリルアミドを添加してヤング率を調整したウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂を用いても良い（図６）。
【００３１】
さらに、前述した光硬化樹脂の一例である紫外線硬化型樹脂として、ウレタン系アクリレート樹脂として、
光硬化樹脂と密着する石英ガラス板４の剥離性が良好であるが、記録膜２との密着性が良いウレタン系アクリレート樹脂であっても良い（図７）。図７に示すのは、紫外線硬化樹脂のＺｎＳへの引張接着強度からＡｕ，石英への引張接着強度を引いた強度にたいする接着剤のＡｕ，石英への残存率である。接着強度の差が１５ｋｇ／ｃｍ２以上あれば剥離ができる。フィルムを接着剤で貼るディスクの平坦度は１５μｍ（白色光走査干渉顕微鏡測定）以上になる。粘着剤だと５０μｍになる。スピンコートのみだと１００μｍ以上になり外周にいくほど盛り上がる。石英転写だと１０〜１μｍになる。最近では、射出成形ポリカーボネート基板に金の薄い膜スッパタしたものを転写すると１０〜７μｍになることがわかった。
【００３２】
【発明の効果】
以上詳述したことから明らかなように本発明によれは、ディスク基板上に積層された記録膜上に、ディスク基板の厚さに対して極めて薄い光透過性膜を全面に亘って均一にしかも平坦に形成した光ディスクを製造する光ディスク製造方法を提供することができ、また、この製造方法によって、記録再生時に入射面からのレーザ光の散乱を良好に抑圧したことにより記録再生特性が向上した光ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ディスク製造方法を説明するための縦断面図
【図２】コック付ディスペンスを説明するための図
【図３】ステージの使用状態を説明するための縦断面図
【図４】加圧紫外線照射釜の使用状態を説明するための図
【図５】ウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂の接着強度を示す特性図
【図６】接着付与材ジメチルアクリルアミドをヤング率２０００ｋｇ／ｃｍ２のウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂へ添加したときの引張り強度を示す特性図
【図７】紫外線硬化樹脂ＺｎＳへの引張り接着強度から、Ａｕ，石英への引張り接着強度を引いた強度に対する接着剤のＡｕ，石英への残存率を示す特性図
【符号の説明】
１  ポリカーボネート樹脂基板（ディスク基板）
１ａ  一方の面
１ｂ  他方の面
２  記録膜
３  光硬化樹脂（光透過性膜）
３ａ  全面
４  石英ガラス板
５  ステージ
５  コック付ディスペンス
５ａ  チューブ
５ｂ  コック
６  ステージ
６ａ  凹部
７  ステンレス釜
７ａ，７ｂ  弁付コック
７ｃ  窓
８  ランプ（高圧水銀ランプあるいはメタハラランプ）
１０  光ディスク
ａ〜ｅ  吐出口
ｄ１  深さ
Ｄ  照射物
ｌ  照射光（紫外線あるいは可視光線）
Ｅ  光ディスク
ｉ  所定幅
Ｉ  内周領域
Ｏ  外周領域
ｔ１，ｔ２  厚さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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