(57)【要約】【課題】カドミウム等の重金属の如き有害物質の固型化及び不溶化処理を必ずしも行なわなくても、短時間の簡易な作業のみで、これら有害物質を周囲の環境中に拡散させずに所定の領域内に確実に封じ込めることのできる汚染土壌の封じ込め方法を提供する。【解決手段】地盤１中に存在する汚染土壌１３を囲繞するように、中空状の閉じた遮断壁１７を構築する。遮断壁１７を構築するには、高圧噴射機械撹拌装置５を用いて、非汚染土壌中の遮断壁１７を構築すべき領域に、スラリー状の固化材を噴射して、非汚染土壌と固化材との混合物からなる固結体を形成させる。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
地中の汚染土壌を囲繞するように、深層混合処理工法によって中空状の閉じた遮断壁を構築することを特徴とする汚染土壌の封じ込め方法。
【請求項２】
上記深層混合処理工法が、高圧噴射撹拌工法または高圧噴射機械撹拌併用工法である請求項１に記載の汚染土壌の封じ込め方法。
【請求項３】
地中の汚染土壌と、該汚染土壌を囲繞するように深層混合処理工法によって構築された中空状の閉じた遮断壁とからなることを特徴とする汚染土壌を含む構造体。
【請求項４】
上記汚染土壌が、無害化処理を施さずに封じ込められている請求項３に記載の汚染土壌を含む構造体。
【請求項５】
上記遮断壁が、天井壁部、底壁部及び側壁部からなり、かつ、これら壁部を構成する壁体が、５０ｃｍ以上の壁厚寸法を有するとともに、当該壁体の透水係数を上記壁厚寸法で割った値が、２．０×１０−８／秒以下である請求項３又は４に記載の汚染土壌を含む構造体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、重金属等の有害物質で汚染された土壌を、その存在する場所で封じ込めるための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
土壌汚染対策法施行規則によれば、所定の場合において、重金属等で汚染された土壌を除去せずに、その存在する場所（原位置）にて封じ込めることが認められている。
そのため、従来より、重金属等で汚染された土壌を、原位置で封じ込めて無害化する技術が提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、汚染地盤の周辺地盤中に、該周辺地盤の土壌とセメント系固化材とを用いて深層混合処理工法によって遮水壁を造成するとともに、該遮水壁で囲まれた汚染地盤中の汚染物質である重金属の固型化及び不溶化処理を行なうこと等を特徴とする、重金属で汚染された土壌を原位置で封じ込める地盤改良工法が、記載されている。
この地盤改良工法において、汚染地盤の下方の地層中に不透水層がない場合には、汚染地盤の周辺地盤（汚染地盤が存在する領域の側方）に遮水壁を造成するのみならず、汚染地盤の下方にも遮水盤を造成し、これら遮水壁及び遮水盤によって囲まれた汚染地盤中の重金属に対して、固型化及び不溶化処理が行なわれている。
【０００４】
また、特許文献２には、粉末状ベントナイト等からなる特定の地下遮水壁用添加剤と、セメントと、水とを含有するセメントスラリーを調製した後、このセメントスラリーを、混練掘削機により掘削した地中の土と混合して、地下の不透水層まで先端が達する鉛直壁を連続一体的に構築し、これを養生し硬化させて、管理型廃棄物最終処理場等の造成目的地の周囲に、透水係数５×１０−７ｃｍ／秒以下の地下遮水壁を造成する技術が、記載されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−１８４１３号公報（第２頁第１欄の請求項１及び請求項２、第３頁の段落００１９、第４頁の図１、第５頁の図２）
【特許文献２】
特開２００１−１２９５０７号公報（第２頁第１欄の請求項１及び請求項３、第９頁の図２）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述の特許文献１に記載された技術では、汚染地盤の存在する領域の上方に、遮断手段が設けられていないため、汚染物質の拡散を防止するべく、汚染地盤中の重金属に対して固型化及び不溶化処理を施している。しかし、このような重金属の固型化及び不溶化処理には、労力及び費用を要する。
また、上述の特許文献２に記載された技術は、地下に不透水層が存在することを前提としているため、不透水層が存在しない地盤には適用することができない。また、特許文献２の技術では、多軸式混練掘削機等を用いているため、１エレメントの両端の撹拌部分を、後行して造成するエレメント造成時に再撹拌することになるので、施工作業の効率が良いとは言えない。
そこで、本発明は、カドミウム等の重金属の如き有害物質の固型化及び不溶化処理を必ずしも行なわなくても、短時間の簡易な作業のみで、これら有害物質を周囲の環境中に拡散させずに所定の領域内に確実に封じ込めることのできる汚染土壌の封じ込め方法、及び汚染土壌を含む構造体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、地中の汚染土壌に対して、その存在する位置（原位置）から掘削等によって移動させたり、あるいは不溶化処理等の特別な処理を施すことなく、該汚染土壌を囲繞するように、深層混合処理工法によって中空状の閉じた遮断壁を構築すれば、汚染土壌を確実に封じ込めることができ、汚染土壌に含まれる有害物質の周辺環境中への拡散を防止することができることに想到し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明（請求項１）の汚染土壌の封じ込め方法は、地中の汚染土壌を囲繞するように、深層混合処理工法によって中空状の閉じた遮断壁（すなわち、外部との連通路を有しない内部空間を有する箱状の遮断壁）を構築することを特徴とする。
このようにすれば、汚染土壌の周囲全体が遮断壁で取り囲まれ、かつ、汚染土壌と遮断壁の外部との間に有害物質が移動可能な連通路が存在しないので、汚染土壌に不溶化処理等を施さなくても、有害物質の周辺環境中への拡散を確実に防止することができる。また、所定の手順で深層混合処理工法を行なうだけでよく、汚染土壌の不溶化処理等を要しないので、容易かつ迅速に汚染土壌を封じ込めることができる。
【０００９】
本発明の汚染土壌の封じ込め方法において、上記深層混合処理工法の具体例としては、例えば、高圧噴射撹拌工法、高圧噴射機械撹拌併用工法等が挙げられる（請求項２）。
【００１０】
本発明（請求項３）の汚染土壌を含む構造体は、地中の汚染土壌と、該汚染土壌を囲繞するように深層混合処理工法によって構築された中空状の閉じた遮断壁とからなることを特徴とする。
ここで、上記汚染土壌は、無害化処理を施さずに上記遮断壁中に封じ込めることができる（請求項４）。
本発明の汚染土壌を含む構造体の好ましい実施形態としては、例えば、上記遮断壁が、天井壁部、底壁部及び側壁部からなり、かつ、これら壁部を構成する壁体が、５０ｃｍ以上の壁厚寸法を有するとともに、当該壁体の透水係数を上記壁厚寸法で割った値が、２．０×１０−８／秒以下であるものが挙げられる（請求項５）。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の汚染土壌の封じ込め方法は、地中の汚染土壌を囲繞するように、深層混合処理工法によって中空状の閉じた遮断壁を構築するものである。
ここで、汚染土壌とは、有害物質で汚染された土壌をいい、例えば、カドミウム、六価クロム、水銀、鉛等の有害な重金属や、セレン、砒素、フッ素等の有害な元素を含む土壌をいう。
本発明において、遮断壁による囲繞の対象となる汚染土壌は、不溶化処理等を施す必要がないので、掘削等によって他の場所に移動させずに、地中にそのまま存在させておけばよい。
【００１２】
本発明において、中空状の閉じた遮断壁は、汚染土壌を囲繞するように、深層混合処理工法によって構築される。
ここで、「中空状」とは、汚染土壌が存在する領域全体を包囲するように、遮断壁によって所定の三次元領域の境界を形成することをいう。遮断壁によって形成される所定の三次元領域の形状は、特に限定されないが、例えば、直方体の形状等に形成される。
また、「閉じた遮断壁」とは、遮断壁の内部に存在する三次元領域（汚染土壌が存在する領域を包含する領域）と、遮断壁の外部の領域（非汚染土壌が存在する領域）とが連通路を有さないように、遮断壁が形成されていることを意味する。
本発明では、遮断壁が中空状の閉じた形態に形成されているため、遮断壁の内部の三次元領域内に存在する汚染土壌に含まれている有害物質は、遮断壁の外部に漏出することがない。
【００１３】
本発明において、遮断壁は、深層混合処理工法によって構築される。
ここで、深層混合処理工法とは、地表面付近の表層部分よりも深い領域内において、セメント系固化材の如きスラリー状の固化材を高圧で噴射し、該スラリー状の固化材と土壌との混合物からなる固結体を形成させて、地盤の改良を行なう工法をいう。
本発明では、深層混合処理工法を採用しているため、有害物質の拡散を防止することのできる不透水性及び強度に優れた遮断壁を、容易かつ迅速に構築することができる。
【００１４】
深層混合処理工法の例としては、例えば、高圧噴射撹拌工法や、高圧噴射機械撹拌併用工法等が挙げられる。
高圧噴射撹拌工法とは、管状体（ロッド）を地中に回転させつつ進入させながら、当該管状体（ロッド）の先端付近に設けられている噴射口から高圧（例えば、２０〜４０ＭＰａ程度）でスラリー状の固化材を噴射させて、当該管状体（ロッド）の通過箇所を含む周辺領域に、固化材を含む略円柱状（例えば、直径０．５〜１．０ｍ程度）の固結体を形成させる工法をいう。
高圧噴射機械撹拌併用工法とは、機械撹拌翼及び噴射口を先端付近に有する管状体（ロッド）を、地中に回転させつつ進入させながら、上記噴射口から高圧（例えば、２０〜４０ＭＰａ程度）でスラリー状の固化材を噴射させて、当該管状体（ロッド）の通過箇所を含む周辺領域に、固化材を含む略円柱状（例えば、直径１．０〜２．０ｍ程度）の固結体を形成させる工法をいう。なお、噴射口は、例えば、水平方向に延びる機械撹拌翼の端部に設けることができる。
【００１５】
深層混合処理工法によって構築される中空状の遮断壁を構成する壁体の壁厚寸法は、好ましくは５０ｃｍ以上、より好ましくは１００ｃｍ以上、特に好ましくは２００ｃｍ以上である。
また、該壁体の透水係数は、好ましくは１．０×１０−５ｃｍ／秒以下、より好ましくは１．０×１０−６ｃｍ／秒以下である。なお、本明細書中において、透水係数とは、施工後２８日経過時のものをいう。
該壁体の透水係数を壁厚寸法で割った値は、好ましくは２．０×１０−８／秒以下である。該値は、有害物質の遮断性能を評価するために、本発明において用いられる。すなわち、例えば、壁厚が５ｍ以上で透水係数が１０−５ｃｍ／秒以下の場合と、壁厚が０．５ｍ以上で透水係数が１０−６ｃｍ／秒以下の場合とで、有害物質の遮断性能がほぼ同等であると考えられることから、有害物質の遮断性能の評価基準として用いるものである。
これらの数値（すなわち、壁厚寸法、透水係数、および透水係数を壁厚寸法で割った値の中から選ばれる一つ以上）を上記数値範囲内に調整すれば、汚染土壌に含まれる有害物質を、より効果的に遮断壁内に封じ込めることができる。
【００１６】
なお、実験によると、土壌の種類によっても異なるが、セメント系固化材による固結体（土壌の改良体）で、１．０×１０−５ｃｍ／秒以下の透水係数を得るには、固化材を概ね１００ｋｇ／ｍ３以上添加することが必要であり、また、１．０×１０−６ｃｍ／秒以下の透水係数を得るには、固化材を概ね１５０ｋｇ／ｍ３以上添加することが必要である。したがって、優れた不透水性を確実に得るためには、セメント系固化材を１５０ｋｇ／ｍ３以上の添加量となるように添加することが望ましい。
【００１７】
次に、本発明の汚染土壌の封じ込め方法の一例を図面に基づいて説明する。
図１〜図４は、本発明の汚染土壌の封じ込め方法の一例を、地盤の鉛直方向の断面の経時的変化として示すフロー図、図５は、図４中の（ｈ）に示す汚染土壌を含む構造体を、Ａ−Ａ線で水平方向に切断した状態を示す断面図、図６は、深層混合処理工法によって天井壁部及び底壁部を形成させる際の複数の略円柱状の固結体の位置関係を説明するための平面図、図７は、図１〜図４に示す方法で用いられる二軸型高圧噴射機械撹拌装置が地中で固化材を噴射している状態を模式的に示す正面図、図８は、一軸型高圧噴射撹拌装置が地中で固化材を噴射している状態を模式的に示す正面図、図９は、一軸型高圧噴射機械撹拌装置が地中で固化材を噴射している状態を模式的に示す正面図である。
【００１８】
本発明の封じ込め方法の対象となる地盤１は、例えば、図１中の（ａ）に示すように、地表面４付近の比較的浅い場所から深い場所まで広範囲に存在する汚染土壌２と、その周囲の非汚染土壌３とを含んでいる。
本発明の方法においては、まず、図１中の（ａ）に示すように、２軸型高圧噴射機械撹拌装置５のロッド６（図中、上部を省略している。）の下端を地表面４に近づけ、次いで、図１中の（ｂ）に示すように、ロッド６の下端付近に設けた機械撹拌翼を回転させながら、ロッド６を降下させて非汚染土壌３を掘削していき、ロッド６の下端を汚染土壌２の最深地点よりも下方の所定の地点に位置させる。この過程で、機械撹拌翼が通過した非汚染土壌は、撹拌された非汚染土壌７となる。
【００１９】
次に、図２中の（ｃ）に示すように、機械撹拌翼を回転させ、かつ機械撹拌翼の端部に設けれている噴射口からスラリー状の固化材を噴射させながら、ロッド６を上昇させていくと、ロッド６の下端よりも下方の領域に、固結体８（掘削された土壌と固化材との混合物）が形成されていく。そして、ロッド６の下端が地表面４から所定の深さの地点に達したときに、ロッド６の上昇を停止させる。これによって、所定の長さ（鉛直方向の寸法）を有する円柱状の固結体８が形成される。
この際、例えば、深層混合処理工法によって形成される略円柱状の固結体（杭体）８の直径が１６０ｃｍ程度である場合には、この略円柱状の固結体を２０ｃｍ程度のラップ部（重複部分；隣接する２つの円の半径を足し合わせた寸法から、これら２つの円の中心間の距離を差し引いた寸法）を有するように直線状に一列に多数形成させていけば、最終的に、７０〜８０ｃｍ程度の厚みを有する壁体（側壁部１０）を形成させることができる。
なお、側壁部１０の壁厚を大きくするには、ラップ部を有するようにして略円柱状の固結体（杭体）を２列以上形成させればよい。
【００２０】
その後、図１〜図２中の（ａ）〜（ｃ）に示す円柱状の固結体８の形成作業を、図２の紙面に対して垂直方向に順次、掘削位置をずらしながら繰り返していくと、汚染土壌２の存在する領域の側方に位置する側壁部１０（図中、紙面と垂直方向に壁が延びている。）が完成する。
次いで、側壁部１０の周縁から汚染土壌２の存在する方向に向かって、天井壁部１１、底壁部１２、側壁部１５，１６（図５参照）を形成させる。
ここで、側壁部１５，１６（図５）を形成させる方法は、側壁部１０を形成させる方法と同様である。すなわち、２軸型高圧噴射機械撹拌装置５のロッド６の下端を汚染土壌２の最深地点よりも下方の所定の地点に位置させた後、機械撹拌翼を回転させ、かつスラリー状の固化材を噴射させながら、ロッド６を上昇させていき、ロッド６の下端が地表面４から所定の深さの地点に達したときに、ロッド６の上昇を停止させれば、鉛直方向に連続的に形成された円柱状の固化体（杭体）を得ることができる。
【００２１】
一方、天井壁部１１及び底壁部１２を形成させるには、図２の（ｄ）、図３の（ｅ）及び（ｆ）に示すように、一旦、２軸型高圧噴射機械撹拌装置５のロッドの下端を、側壁部１０の下端と同じ深さの地点まで下降させた後、スラリー状の固化材を噴射させながら徐々にロッド６を上昇させて底壁部１２の一部（短い略円柱状の固結体）を形成させ、次いで、汚染土壌２の領域を含む所定の鉛直方向の距離に亘って、スラリー状の固化材の噴射を中断し、かつ、ロッド６を上昇させた後、形成させるべき天井壁部１１の最深地点で再びスラリー状の固化材の噴射を開始し、かつ徐々にロッド６を上昇させて、天井壁部１１の一部（短い略円柱状の固結体）を形成させるという一連の手順を、水平方向（すなわち、図２の（ｄ）における紙面に対して垂直な方向と右方に向かう方向との二次元の方向）に掘削位置をずらしながら順次繰り返せばよい。
なお、汚染土壌２は、２軸型高圧噴射機械撹拌装置５の撹拌翼が通過することによって、撹拌された汚染土壌１３（図中、撹拌前の汚染土壌２と区別して示す。）になる。
【００２２】
図６に、底壁部１２の部分的構造（掘削位置を表す水平方向の断面）として示すように、深層混合処理手段によって形成される多数の短い略円柱状の固結体１８（撹拌された土壌と、スラリー状の固化材とからなるもの）は、相互間に適当なラップ部（重複部分）１９を有するものとして連続的に配置される。このように多数の略円柱状の固結体１８を、水平方向の断面に隙間が生じないように、連続的に配置することによって、ほぼ均一な厚みを有しかつ隙間（連通路）を有しない天井壁部１１及び底壁部１２を形成することができる。
側壁部１０の形成に続いて、天井壁部１１、底壁部１２、側壁部１５，１６を形成した後、最後に、側壁部１０と同様にして側壁部１４を形成すれば、遮断壁１７が完成する（図４、図５）。
【００２３】
遮断壁１７の完成後、撹拌された汚染土壌１３は、スラリー状の固化材が噴射されていないので、存在領域が広がることはなく、撹拌前の汚染土壌２と同じ領域内に存在する。そして、撹拌された汚染土壌１３は、側壁部１０，１４，１５，１６によって側方が囲まれているとともに、上方には天井壁部１１が存在し、下方には底壁部１２が存在している（図４の（ｈ））ので、これら壁部からなる遮断壁１７によって完全に外部と遮断された状態となる。このように、中空状の閉じた遮断壁１７を構築することによって、汚染土壌中の有害物質が周辺環境に漏出するのを防止することができる。
【００２４】
深層混合処理工法で用いる装置（深層混合処理手段）としては、例えば、図７〜図９に示すものが挙げられる。
図７中、二軸型高圧噴射機械撹拌装置５は、高圧噴射機械撹拌併用工法で用いられる装置であり、下端付近に機械撹拌翼２２を有する２本のロッド６（図中、上部を省略して示す。）を備えている。これら２本のロッド６は、装置５の本体（図示せず。）に固着されている支持部２１によって支持されている。機械撹拌翼２２は、水平方向に延びて形成されており、その端部には噴射口２３を有している。ロッド６は、機械撹拌翼２２によって地盤を削孔して、地中深くまで下降した後、噴射口２３からスラリー状の固化材２４を高圧で噴射しながら、徐々に上昇していく。これによって、噴射口２３付近から下方の領域（ただし、撹拌対象外の非汚染土壌３の存在領域を除く。）には、固結体１０（掘削された土壌と固化材２４との混合物）が形成される。この固結体１０の存在する領域は、噴射口２３の上昇に伴って、上方の非汚染土壌３及び撹拌された非汚染土壌７へと広がっていき、最終的に、所定の長さを有する略円柱状の固結体（杭体）を形成することになる。この固結体（杭体）が多数連続的に連なることによって、小さな透水性と所定の強度を有する壁体が、地盤１中に形成されるのである。
【００２５】
図８中、一軸型高圧噴射撹拌装置３０は、高圧噴射撹拌工法で用いられる装置であり、下端に削孔ビット３２及び噴射口３３を有するロッド３１を備えている。ロッド３１は、削孔ビット３２によって地盤を削孔して、地中深くまで下降した後、噴射口３３からスラリー状の固化材３４を高圧で噴射しながら、徐々に上昇していく。これによって、噴射口３３付近から下方の領域（ただし、撹拌対象外の非汚染土壌３の存在領域を除く。）には、固結体１０（掘削された土壌と固化材３４との混合物）が形成される。この固結体１０の存在する領域は、噴射口３３の上昇に伴って、上方の非汚染土壌３及び撹拌された非汚染土壌７へと広がっていき、最終的に、所定の長さを有する略円柱状の固結体（杭体）を形成することになる。この固結体（杭体）が多数連続的に連なることによって、小さな透水性と所定の強度を有する壁体が、地盤中に形成されるのである。
【００２６】
図９中、一軸型高圧噴射機械撹拌装置４０は、高圧噴射機械撹拌併用工法で用いられる装置であり、下端付近に機械撹拌翼４２を有するロッド４１を備えている。機械撹拌翼４２は、水平方向に延びて形成されており、下部に削孔ビットを有するとともに、水平方向の端部に噴射口４３を有している。ロッド４１は、機械撹拌翼４２によって地盤を削孔して、地中深くまで下降した後、噴射口４３からスラリー状の固化材４４を高圧で噴射しながら、徐々に上昇していく。これによって、噴射口４３付近から下方の領域（ただし、撹拌対象外の非汚染土壌３の存在領域を除く。）には、固結体１０（掘削された土壌と固化材４４との混合物）が形成される。この固結体１０の存在する領域は、噴射口４３の上昇に伴って、上方の非汚染土壌３及び撹拌された非汚染土壌７へと広がっていき、最終的に、所定の長さを有する略円柱状の固結体（杭体）を形成することになる。この固結体（杭体）が多数連続的に連なることによって、小さな透水性と所定の強度を有する壁体が、地盤中に形成されるのである。
【００２７】
【実施例】
以下、実験例に基づいて本発明を説明する。
地表面から深さ５．０ｍの地点から下方に、壁の厚みが２００ｃｍで、かつ内部空間（長さ：約７５ｍ、幅：約１２ｍ、高さ：約６ｍ）を有する直方体の遮断壁を構築した。
この際、施工方法としては、高圧噴射機械撹拌併用工法を採用し、スラリー状の固化材としては、セメント系固化材（水／固化材比＝１．０）を使用した。
また、二軸型高圧噴射機械撹拌装置のロッドの下端を、地盤中の所定の深さまで下降させた後、ロッドの下端付近の機械撹拌翼からスラリー状の固化材を噴射させながら、ロッドを回転させつつ上昇させて、略円柱状の固結体（杭体）を形成させた。この固結体（杭体）の直径は、１．６ｍであった。
【００２８】
施工前において、遮断壁の施工場所付近の土壌の透水係数が、３．９×１０−２〜５．６×１０−３ｃｍ／秒であったのに対し、施工後２８日経過時の遮断壁を構成する壁体の透水係数は、非ラップ部（非重複部分）で１．５×１０−８〜２．５×１０−８ｃｍ／秒、ラップ部（重複部分）で３．２×１０−７〜１．２×１０−８ｃｍ／秒であった。
これらの結果から、本発明の方法で構築される遮断壁は、土壌汚染対策法施行規則に定められている汚染土壌を原位置で封じ込めるときの不透水層の基準（すなわち、厚さが５ｍ以上であり、かつ、透水係数が毎秒百ナノメートル以下であるか、または、これと同等の遮水の効力を有すること）に匹敵する遮水性能（有害物質の遮断性能）を有していることがわかる。
【００２９】
【発明の効果】
本発明の汚染土壌の封じ込め方法によれば、汚染土壌が存在する領域の周囲を、土壌とセメント系固化材との撹拌混合物からなる固結した壁体で囲い込むという簡易な施工作業のみで、短時間でかつ効果的に有害物質の拡散防止のための処置を施すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の汚染土壌の封じ込め方法の一例を、地盤の鉛直方向の断面の経時的変化として示すフロー図（その１）である。
【図２】本発明の汚染土壌の封じ込め方法の一例を、地盤の鉛直方向の断面の経時的変化として示すフロー図（その２）である。
【図３】本発明の汚染土壌の封じ込め方法の一例を、地盤の鉛直方向の断面の経時的変化として示すフロー図（その３）である。
【図４】本発明の汚染土壌の封じ込め方法の一例を、地盤の鉛直方向の断面の経時的変化として示すフロー図（その４）である。
【図５】図４中の（ｈ）に示す汚染土壌を含む構造体を、Ａ−Ａ線で水平方向に切断した状態を示す断面図である。
【図６】深層混合処理工法によって天井壁部及び底壁部を形成させる際の複数の略円柱状の固結体の位置関係を説明するための平面図である。
【図７】図１〜図４に示す方法で用いられる二軸型高圧噴射機械撹拌装置が地中で固化材を噴射している状態を模式的に示す正面図である。
【図８】一軸型高圧噴射撹拌装置が地中で固化材を噴射している状態を模式的に示す正面図である。
【図９】一軸型高圧噴射機械撹拌装置が地中で固化材を噴射している状態を模式的に示す正面図である。
【符号の説明】
１  地盤
２  汚染土壌
３  非汚染土壌
４  地表面
５  ２軸型高圧噴射機械撹拌装置
６  ロッド
７  撹拌された非汚染土壌
８  固結体
１０，１４，１５，１６  側壁部
１１  天井壁部
１２  底壁部
１３  撹拌された汚染土壌
１７  遮断壁
１８  杭体（短い円柱状の固結体）
１９  ラップ部（重複部分）
２１  支持部
２２  機械撹拌翼
２３  スラリー状の固化材
２４  噴射口
３０  一軸型高圧噴射撹拌装置
３１  ロッド
３２  削孔ビット
３３  噴射口
３４  スラリー状の固化材
４０  一軸型高圧噴射機械撹拌装置
４１  ロッド
４２  機械撹拌翼
４３  噴射口
４４  スラリー状の固化材
【図１】
2004298831.tif 000003
【図２】
2004298831.tif 000004
【図３】
2004298831.tif 000005
【図４】
2004298831.tif 000006
【図５】
2004298831.tif 000007
【図６】
2004298831.tif 000008
【図７】
2004298831.tif 000009
【図８】
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【図９】
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