(57)【要約】【課題】低反射率で低いＨｚ率を有し、耐摩耗性や耐薬品性などに優れた低反射率膜付きガラスを生産性よく製造する方法を提供すること。【解決手段】樹脂Ｂ１および有機溶剤を含む処理液（１）を、透明ガラス基板の表面に塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで、その表面に、樹脂Ｂ１より高温で熱分解する樹脂Ｂ２、有機珪素化合物、および有機溶剤を含む処理液（２）を、樹脂Ｂ１と樹脂Ｂ２との質量比がＢ２／Ｂ１＝０．６〜３．０となるように塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで４００〜８００℃で焼成することを特徴とする低反射ガラスの製造方法。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂Ｂ１および有機溶剤を含む処理液（１）を、透明ガラス基板の表面に塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで、その表面に、樹脂Ｂ１より高温で熱分解する樹脂Ｂ２、有機珪素化合物、および有機溶剤を含む処理液（２）を、樹脂Ｂ１と樹脂Ｂ２との質量比がＢ２／Ｂ１＝０．６〜３．０となるように塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで４００〜８００℃で焼成することを特徴とする低反射ガラスの製造方法。
【請求項２】
樹脂Ｂ１が、ニトロセルロースであり、樹脂Ｂ２が、エチルセルロースである請求項１に記載の低反射ガラスの製造方法。
【請求項３】
処理液（１）が、さらに有機珪素化合物を含むものである請求項１又は２に記載の低反射ガラスの製造方法。
【請求項４】
処理液（１）からなる焼成後膜厚が５〜１００ｎｍであり、処理液（２）からなる焼成後膜厚が３０〜１５０ｎｍである請求項３に記載の低反射ガラスの製造方法。
【請求項５】
前記透明ガラス基板が、熱線吸収ガラスまたは高熱線吸収ガラスである請求項１〜４の何れか１項に記載の低反射ガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、低反射ガラス（低反射率膜付きガラス）の製造方法に係り、さらに詳しくは低反射率で、耐摩耗性や耐薬品性などに優れた低反射ガラスの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、低反射ガラスの作製方法としては、次の如き方法が一般に行なわれている（例えば、特許文献１参照。）。すなわち、
（１）真空製膜法やスパッタリングなどの気相法により、酸化チタンなどの高屈折率材料と酸化珪素などの低屈折率材料とを、屈折率や膜厚を制御してガラス基板に膜同士の界面を明確になるよう積層し、光学干渉を利用した多層膜を積層して低反射ガラスを作製する方法、
（２）スパッタリングなどの気相法により、チタンの窒化物などの光吸収性材料と酸化珪素などの低屈折率材料とを、屈折率や膜厚を制御してガラス基板に２層以上を膜同士の界面を明確になるよう積層することにより、光学干渉を利用した低反射ガラスを作製する方法、
（３）金属アルコキシドなどを用いてゾル−ゲル法などにより、酸化チタンなどの高屈折率材料と酸化珪素などの低屈折率材料とを、屈折率や膜厚を制御してガラス基板に２層以上を膜同士の界面を明確になるよう積層することにより、光学干渉を利用した低反射ガラスを作製する方法、および
（４）金属イオン含有水溶液や金属アルコキシドなどを用いてゾル−ゲル法により、酸化チタンなどの高屈折率材料と酸化珪素などの低屈折率材料とを、屈折率や膜厚を制御してガラス基板に２層以上を膜同士の界面を明確になるように積層することにより、光学干渉を利用した低反射ガラスを作製する方法が挙げられる。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１９４２９５号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の真空製膜法やスパッタリング法を使用する方法は、大掛かりな設備が必要となるため、コストが嵩むという問題がある。また、金属アルコキシドなどを使用したゾル−ゲル法などにより膜同士の界面を明確にし、光学干渉を利用した低反射ガラスは、膜同士の界面を明確にするため、各層への処理液塗布後に高温で乾燥する必要があり、生産性が悪くなる問題点がある。
従って本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、低反射率で耐摩耗性や耐薬品性などに優れた低反射ガラスを生産性よく製造する方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、樹脂Ｂ１および有機溶剤を含む処理液（１）を、透明ガラス基板の表面に塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで、その表面に、樹脂Ｂ１より高温で熱分解する樹脂Ｂ２、有機珪素化合物、および有機溶剤を含む処理液（２）を、樹脂Ｂ１と樹脂Ｂ２との質量比がＢ２／Ｂ１＝０．６〜３．０となるように塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで４００〜８００℃で焼成することを特徴とする低反射ガラスの製造方法を提供する。
【０００６】
上記本発明においては、前記樹脂Ｂ１がニトロセルロースであり、樹脂Ｂ２がエチルセルロースであること；前記処理液（１）が、さらに有機珪素化合物を含むものであること；前記処理液（１）が有機珪素化合物を含む場合は、前記処理液（１）からなる焼成後膜厚が５〜１００ｎｍであり、前記処理液（２）からなる焼成後膜厚が３０〜１５０ｎｍであること；前記透明ガラス基板が、熱線吸収ガラスまたは高熱線吸収ガラスであることが好ましい。
【０００７】
上記本発明によれば、耐摩耗性や耐薬品性などの耐久性に優れた低反射ガラスを製造することができる。また、上記処理液（１）および処理液（２）によって作製した膜は、処理液塗布後に高温での乾燥を行わず、焼成を実施するため、膜の構成成分が膜の深さ方向に連続的に変化し、明確な界面がない低反射率膜となる。従って本発明により形成される膜は、膜厚方向に成分が変化する、すなわち、膜厚方向に屈折率が変化することを特徴とし、比較的フラットな反射特性を有する低反射ガラスを提供できる。
【０００８】
また、前記処理液（１）が有機珪素化合物を含む場合は、前記処理液（１）からなる焼成後膜厚を５〜１００ｎｍとし、前記処理液（２）からなる焼成後膜厚を３０〜１５０ｎｍとすることにより、耐摩耗性や耐薬品性などの耐久性に優れ、かつ低反射率性能に優れた低反射ガラスが得られる。また、透明ガラス基板として、熱線カット効果を有する熱線吸収ガラスまたは高熱線吸収ガラス、例えば、グリーン色のガラス（グリーンガラス）を用いることにより、熱線カット効果を有する低反射ガラスが得られる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
処理液（１）に使用する、比較的低温で熱分解する樹脂Ｂ１は、有機溶剤に可溶で、処理液（１）の粘度を適度に維持して、ガラス基板への塗布、および塗布物の乾燥後の取扱を良好にし、かつ焼成時に比較的低温で熱分解することが必要である。樹脂Ｂ１の熱分解温度としては、１５０〜４００℃の範囲が好ましい。熱分解温度が１５０℃未満では、塗布膜の乾燥工程で、樹脂Ｂ１が熱分解してしまう場合があるためである。一方、熱分解温度が４００℃を超えると、処理液（１）に有機珪素化合物を含む場合に、焼成後の酸化珪素膜の強度が充分でなくなる場合があるためである。
【００１０】
具体的な樹脂Ｂ１としては、例えば、ニトロセルロースなどの熱分解性のセルロース類、ポリ塩化ビニル類、ポリメチルメタクリレートなどのポリアクリル類などの樹脂が挙げられる。好ましい樹脂Ｂ１は、重量平均分子量２，０００〜２００，０００、より好ましくは重量平均分子量が３，０００〜１５０，０００のニトロセルロースである。樹脂Ｂ１の添加量は、処理液（１）の粘度と、所望する膜厚によって決定され、特に限定されないが、一般的には処理液（１）において３〜３０質量％を占める量である。この処理液（１）では、屈折率が１．４〜１．６である膜を形成できるよう、組成を調整することが好ましい。
【００１１】
処理液（２）に使用する、樹脂Ｂ１よりも高温で熱分解する樹脂Ｂ２は、後述の有機溶剤に可溶で、処理液（２）の粘度を適度に維持して処理液のガラス基板への塗布、および処理液の乾燥後の取扱を良好にし、かつ焼成時に比較的高温で熱分解することが必要である。樹脂Ｂ２の熱分解温度としては、２５０〜５００℃の範囲が好ましい。熱分解温度が２５０℃未満では、膜の低反射化が不充分となる場合があるためである。一方、熱分解温度が５００℃を超えると、焼成後の酸化珪素膜強度が充分でなくなる場合があるためである。
【００１２】
具体的な樹脂Ｂ２としては、例えば、エチルセルロースなどの熱分解性のセルロース類、ポリ塩化ビニル類、ポリメチルメタクリレートなどのポリアクリル類などの樹脂が挙げられる。好ましい樹脂Ｂ２は重量平均分子量が１０，０００〜１２０，０００のエチルセルロースである。樹脂Ｂ２の添加量は、処理液（２）の粘度と、所望する膜厚によって決定され、特に限定されないが、一般的には処理液（２）において３〜２０質量％を占める量である。この処理液（２）では、屈折率が１．３〜１．４である膜を形成できるよう、組成を調整することが好ましい。
【００１３】
以上の樹脂Ｂ１と樹脂Ｂ２とは、樹脂Ｂ１の熱分解温度（Ｔ１）と樹脂Ｂ２の熱分解温度（Ｔ２）とが、Ｔ２−Ｔ１≧１００℃であるように組み合わせて使用することが好ましい。上記熱分解温度の関係がＴ２−Ｔ１＜１００℃であると、低反射ガラス板の可視光反射率が高くなり過ぎる場合があるためである。尚、ここで樹脂の熱分解温度とは、樹脂の９０質量％以上が焼失する温度（℃）をいう。
【００１４】
本発明で使用する、処理液（２）に含まれる有機珪素化合物は、エトキシド、プロポキシド、ブトキシドなどの珪素のアルコキシド類、ポリシロキサン骨格を持つ各種シリコンオイル、シリコンワニスなどを挙げることができる。これらの有機珪素化合物は、処理液（１）に含まれていてもよい。但し、処理液（１）に有機珪素化合物が含まれていると、樹脂Ｂ１の種類によっては相分離を起こしやすく、膜面平滑性が悪化してしまう場合もある。したがって、処理液（１）には、必ずしも有機珪素化合物を添加しなくてもよい。また、処理液（１）および処理液（２）において同一の化合物を用いてもよいし、異なる化合物を用いてもよい。また、それぞれ単独でも混合物としても使用できる。
【００１５】
処理液（１）および処理液（２）に使用する有機溶剤は、有機珪素化合物（処理液（１）も含有する場合）、樹脂Ｂ１および樹脂Ｂ２を溶解できるものであれば特に制限はなく、処理液（１）または処理液（２）の塗布方法などにより適宜選択される。具体的には、メタクレゾール、ジメチルホルムアミド、カルビトール、α−テルピネオール、ジアセトンアルコール、トリエチレングリコール、パラキシレン、トルエンなどの高沸点溶剤が、前記処理液（１）および処理液（２）をガラス基板表面に塗布するうえで好ましい。これらの有機溶剤は、処理液（１）および処理液（２）において同一の溶剤を用いてもよいし、異なる溶剤を用いてもよい。また、それぞれ単独でも混合物としても使用できる。
【００１６】
処理液（１）および処理液（２）の製造方法は特に限定されないが、例えば、溶剤と樹脂Ｂ１または樹脂Ｂ２を所定量はかりとり、６０〜１００℃（好ましくは７０〜８０℃）の温度のもとで、２０〜４０分間攪拌し、この溶液に有機珪素化合物を配合して（処理液（１）も含有する場合）６０〜１００℃（好ましくは７０〜８０℃）の温度のもとで、２０〜４０分間攪拌混合し、得られた処理液（１）または処理液（２）を保管容器に移して、自然冷却することで、本発明で用いる処理液（１）および処理液（２）を得ることができる。
【００１７】
本発明に使用する透明ガラス基板としては、特に限定されないが、熱線吸収ガラスまたは、さらに熱線カット効果を高めた高熱線吸収ガラスを使用することが好ましい。例えば、自動車用窓ガラスなどの如く、熱線カット効果が要求される用途には、グリーンガラスが好ましい。グリーンガラスは、グリーン色を呈しているものであればいずれでもよく、例えば、ソーダ石灰シリカ系ガラス成分を基礎成分とし、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＴｉＯ２などを適宜配合したグリーン色を呈するガラス、ガラス成分中にＦｅ２Ｏ３、ＣｏＯ、Ｓｅなどを配合してグリーン色を呈するガラスなどが挙げられ、フロートガラスやアルカリガラスなどがある。また、熱線カット効果を有するグリーンガラスを使用することにより、本発明の方法により低反射ガラスを形成しても、熱線カット効果を維持する。
【００１８】
本発明では、上記ガラス基板表面に処理液（１）を塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで、その表面に処理液（２）を塗布した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで４００〜８００℃で焼成することにより、目的とする低反射ガラスが得られる。処理液（１）および処理液（２）の塗布方法としては、例えば、スプレー、ディップ、ロールコート、スピンコート、フレキソ印刷、スクリーン印刷などの方法が何れも使用できる。
【００１９】
さらに、処理液（１）および処理液（２）の塗布に際しては、処理液（１）中の樹脂Ｂ１と、処理液（２）中の樹脂Ｂ２との比率によって、得られる低反射率膜の透過率および反射率が異なる。本発明では、両処理液に含まれる樹脂Ｂ１と樹脂Ｂ２の濃度を調整し、処理液（１）および処理液（２）を塗布することにより形成されるウエット膜中の両者の質量比Ｂ２／Ｂ１が、０．６〜３．０の範囲になるように処理液（１）および処理液（２）を塗布する。Ｂ２／Ｂ１が３．０を超えると樹脂Ｂ２が多すぎて、膜の強度が弱くなり、耐薬品性や耐磨耗性などが悪くなる。逆にＢ２／Ｂ１が０．６未満になると、処理液（２）中の樹脂Ｂ１が多くなりすぎ、膜全体の屈折率が高くなりすぎて、低反射率膜としての機能を果たさなくなる。
【００２０】
処理液（１）が有機珪素化合物を含有する場合、処理液（１）の塗布量は、該処理液（１）から構成される焼成後膜厚が、好ましくは５〜１００ｎｍ、より好ましくは２０〜５０ｎｍの範囲になる塗布量である。また、有機珪素化合物の配合量は、処理液１００質量部中において０．５〜２０質量部であることが好ましい。処理液（１）が有機珪素化合物を含有する場合は、焼成後膜厚が５ｎｍ未満になる塗布量または有機珪素化合物の濃度では、低反射率膜の製膜性が向上せず、有機珪素化合物を配合する実質的意味がなくなる場合があり、膜強度の高い膜が得られにくくなる。一方で、１００ｎｍを超える処理液（１）の塗布量または有機珪素化合物の濃度では、得られる膜の反射率が充分に低くならない場合がある。
【００２１】
処理液（２）の塗布量は、該処理液（２）から構成される焼成後膜厚が、好ましくは３０〜１５０ｎｍ、より好ましくは４０〜１００ｎｍの範囲になる塗布量である。また、有機珪素化合物の配合量は、処理液１００質量部中において０．５〜２０質量部であることが好ましい。焼成後膜厚が３０ｎｍ未満になる塗布量または有機珪素化合物の濃度では、低反射性能の悪い膜しか得られなくなる場合がある。一方で、１５０ｎｍを超える塗布量または有機珪素化合物の濃度では、低反射率膜中に配合されている有機珪素化合物の配合量が多くなりすぎ、強度の低い膜しか得られなくなる場合がある。
【００２２】
以上の本発明の方法によって得られる低反射ガラス板は、次の如き用途において有用である。すなわち、近年、車輌の窓や建築物、ドア、ショーウインドウなどの透明部材の大型化が一段と進み、太陽光、照明などの反射や写り込みなどが問題になるケースが増えている。また、太陽光を利用する太陽電池などの需要も増加しているが、受光部の反射損失を低減することが必要である。さらに車輌のインパネ部の各種表示装置、例えば、メーターカバーガラスなどをより見やすくするために反射を低減することも求められている。本発明の方法によって得られる低反射ガラス板は、上記の輸送機器用、特に車輌用の窓や建築用窓、ショーウインドウ、太陽電池のカバーガラス、車輌用のインパネ部のメーターカバーガラスなどの用途に有用である。
【００２３】
本発明の低反射ガラス板は、ＪＩＳ−Ｒ３１０６（１９９９年）に規定される可視光透過率が３０〜８５％であることが好ましい。自動車用窓ガラス（特に、自動車用ウインドシールドまたは自動車用フロントドアガラス）に使用する場合には、７０〜８５％であることが好ましい。また、自動車用窓ガラスとして使用する場合、ガラス面の反射率が高いとぎらぎらした印象を与え、高級感が損われることから、ＪＩＳ−Ｒ３１０６（１９９９年）に規定されるガラス面の可視光反射率は５．５％以下であることが好ましく、特に５．０％以下であることが好ましい。
【００２４】
さらに本発明により形成される低反射ガラス板は、積層体を構成する基板として使用することもできる。積層体は第一および第二の基板の間に中間膜または断熱層を挟み込んだ構造であり、本発明の低反射ガラス板を第一および／または第二の基板として用いることができる。また、ガラス板の積層に際しては、ガラス板の低反射率膜が形成された面を内側に配することが、低反射率膜の耐久性の面から好ましい。前記中間膜としては、例えば、透明または着色されたポリビニルブチラール、エチレンビニルアセテート共重合体などが挙げられる。前記断熱層としては、例えば、不活性ガス、空気あるいは窒素などを充填してなる層または真空層などが挙げられる。
【００２５】
前記積層体としては、例えば、第一および第二の基板として低反射熱線吸収ガラス、高熱線吸収ガラスおよび紫外線吸収ガラスのいずれかを用い、中間膜としてポリビニルブチラールを用いた合わせガラスが挙げられる。第一および第二の基板として低反射高熱線吸収ガラスを用い、中間膜としてポリビニルブチラールを用いた合わせガラスにおいては、前記高熱線吸収ガラスの透過率が低いため、膜面から入射する光の非膜面側における反射率を低下させることができ、特に好ましい。前記合わせガラスは、輸送機器用窓（例えば、車輌用窓）やメータ機器のカバーガラスに好適に用いられる。
【００２６】
【実施例】
次に、本発明を具体的な例によりさらに詳細に説明する。なお、文中「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。後述の例で得られた低反射ガラスの評価方法は以下の通りである。
【００２７】
１．光学特性
色差計ＮＤＨ−３００Ａ（日本電色（株）製）および濁度計ＺＥ２０００（日本電色（株）製）を使用して、各試料のＨｚ率（ＪＩＳ　Ｋ６７１４（１９９４年））、透過率および透過色調（ＪＩＳ　Ｚ８７２９（１９９９年））の測定を行い、分光光度計ＵＶ３１００Ｐｓ（ＳＩＭＡＤＺＵ製）により各試料の透過率および反射率を測定し、各試料の可視光透過率および可視光反射率（ＪＩＳ−Ｒ３１０６（１９９９年））を算出した。
【００２８】
２．耐アルカリ性
各試料を３％の水酸化ナトリウム水溶液に２時間浸漬し、浸漬する前後の各試料の透過率および反射率を分光光度計で測定し、各試料の可視光透過率変化および可視光反射率変化を算出した。実用上１．０％以下であることが好ましい。
３．耐酸性
各試料を３％の硫酸水溶液に２時間浸漬し、浸漬する前後の各試料の透過率および反射率を分光光度計で測定し、各試料の可視光透過率変化および可視光反射率変化を算出した。実用上１．０％以下であることが好ましい。
【００２９】
４．製膜性
ラビング試験機（ラビングテスター、大平理化工業社製）の支持棒接点部にウエスを取付け、適宜水を滴下しながら、荷重１．０ｋｇで移動台を支持棒に対して３，０００回前後に動かし摩耗試験を実施した。その試験後における膜面の状態を目視観察した。なお、表１および表２における「○」は摩耗試験後においても膜面の変化がない場合であり、「×」は摩耗試験後において膜が剥離した場合を示す。
【００３０】
実施例１〜９、比較例１〜９
表１および表２に示す配合の処理液（１）および処理液（２）を前記の方法で調製した。なお、表中の各成分の使用量は固形分基準である。上記処理液（１）を、厚み３．５ｍｍグリーン熱線吸収ガラス基板上に、表中の焼成後膜厚になる塗布量でスクリーン印刷方式により塗布し、１５０℃の熱風循環式オーブンで５分間乾燥して有機溶剤を除去し、その後、処理液（１）と同じ質量の上記処理液（２）を、上記乾燥塗膜上に表中の焼成後膜厚になる塗布量で塗布し、１５０℃の熱風循環式オーブンで大気雰囲気中で５分間乾燥して有機溶剤を除去した。その後、６００℃のマッフル炉中で５分間焼成し、実施例１〜９および比較例２〜９の低反射ガラスを得、これらを試験用試料とした。なお、用いたニトロセルロース、エチルセルロースの熱分解温度はそれぞれ１９０℃、３３０℃であった。
【００３１】
なお、比較例１は、グリーンガラス基板それ自体であり、表面に何れの処理液も塗布していない。比較例２は、ニトロセルロースの量を多くした処理液（１）を用いて作製した低反射ガラスであり、比較例３は、エチルセルロースの量を多くした処理液（２）を用いて作製した低反射ガラスであり、比較例４、５、および７〜９は、処理液（１）および処理液（２）が、同一のセルロース系樹脂を含む処理液を用いて作製した低反射ガラスを示す。また比較例６は、処理液（１）を用いずに作製した低反射ガラスを示す。
【００３２】
表１および表２に、実施例１〜９および比較例２〜９で使用した処理液（１）および処理液（２）を示し、かつ、前記試験方法で試験して得られた各試料のＨｚ率、可視光透過率、可視光反射率、透過色調、耐アルカリ性試験、耐酸性試験および製膜性の評価結果を示す。
【００３３】
なお、上記実施例および比較例の低反射膜の１層目および２層目は、その界面が明確ではなく、焼成して膜形成した後には、各層の膜厚の測定が困難である。表中の膜厚は、図１に示すようにガラス基板の上に処理液（１）と処理液（２）との一部が重複するように塗布し、前記と同一の条件で乾燥および焼成し、処理液が重複していない部分の膜厚を測定して１層目および２層目の膜厚とした。
【００３４】
2004143027.tif 000002
【００３５】
2004143027.tif 000003
【００３６】
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【００３７】
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【００３８】
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【００３９】
2004143027.tif 000007
【００４０】
表２より、比較例２で得られた低反射ガラスは、可視光反射率が、ガラス基板であるグリーンガラスよりも低いが、その低下の程度は充分とは言えないことがわかる。比較例３で得られた低反射ガラスは、処理液（２）中に配合するエチルセルロースの量が多くなりすぎており、焼成後の膜面の強度が充分とはいえず、ガラス基板との密着性が悪くなり、低反射率性能はあるが実用的に使用できない。また、比較例４、８及び９は、処理液（１）および処理液（２）のいずれもがニトロセルロースを使用しており、可視光反射率の低下が不充分であり、また、比較例５及び７は、処理液（１）および処理液（２）のいずれもがエチルセルロースを使用しており、可視光反射率の低下が充分であるが、製膜性が劣る。また、比較例６は処理液を２種類用いていないためにＨｚ率が高過ぎ、製膜性も劣る。これに対して実施例１〜９で得られた低反射ガラスは、膜強度が強い状態で低反射率機能を有し、耐アルカリ性および耐酸性も良好な低反射ガラスであることが分かる。
【００４１】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、処理液（１）と処理液（２）とを使用し、透明ガラス基板に低反射率膜を形成することにより、優れた低反射性と優れた耐アルカリ性や耐酸性、さらに低いＨｚ率を有する低反射ガラスを製造することができる。また、膜厚を所定の膜厚に設定することにより、製膜性に優れ、耐アルカリ性や耐酸性が良好で、所望の低い反射率を有する低反射ガラスが得られる。
【００４２】
また、熱線吸収ガラスまたは高熱線吸収ガラス、例えば、本来の熱線カット効果を有するグリーンガラスを基板として使用することにより、熱線カット効果をも有する低反射ガラスを提供できる。また、本発明により形成される膜は、膜厚方向に成分が変化する、即ち、膜厚方向に屈折率が変化することを特徴とし、比較的フラットな反射特性を有する低反射ガラスを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明において形成される１層目および２層目の膜厚を説明する図。
【図１】
2004143027.tif 000008