(57)【要約】【課題】新規な多官能ヨード化合物を提供する。【解決手段】５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸に、重合可能な不飽和基を導入することにより、一般式（１）で表される新規な５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸誘導体を合成する。【化１】2004143076.tif 000008（式中、Ｒ４およびＲ５は同一でも異なってもよく、直鎖または分岐状のアルキルアミノ基、直鎖または分岐状のアルコキシ基で、これらの基は少なくとも１つ以上のビニル基、アクロイル基、又はメタクリロイル基等の重合反応を行うことができる置換基を有し、Ｒ６は水素原子、直鎖または分岐状のアルキル基またはアシル基を表す。）【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される芳香族多官能ヨード化合物。
【化１】
2004143076.tif 000005
（式中φは単環式芳香族環であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は飽和または不飽和炭化水素基を有する基であり、各々の基はφに結合しており、それらの基はヘテロ原子を含んでもかまわない。ｏ、ｐ、ｑは各々０〜５の整数を表し、ｚは１〜５の整数を表す。ただし、φは複数の不飽和炭化水素基を有するように置換される。）
【請求項２】
一般式（２）で示されることを特徴とする請求項１記載の芳香族多官能ヨード化合物。
【化２】
2004143076.tif 000006
（式中、Ｒ４およびＲ５は同一でも異なってもよく、不飽和炭化水素基を有するアルキルアミノ基またはアルコキシ基を表し、Ｒ６は水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアシル基を表す。）
【請求項３】
一般式（２）中、Ｒ４およびＲ５が、下記一般式（３）で表される基であることを特徴とする請求項１記載の芳香族多官能ヨード化合物。
【化３】
2004143076.tif 000007
（一般式（３）中、Ｒ７は水素原子またはメチル基を表し、ｍは１から６の整数を表し、Ｘは酸素原子またはＮＨで表される基であり結合部位を表す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、短波長電磁波の遮蔽効果を有する高分子材料に好適なモノマーであるトリヨードイソフタル酸骨格を有する化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、血管Ｘ線造影剤の分野において、第３世代と呼ばれる非イオン性ヨード化合物が一般的に使用されている。血管造影剤の分野では薬剤の毒性、安定性、血管注入時ショックの改善などが長年にわたって研究され、現在では上述の第３世代の薬剤に至っている。これらの非イオン性ヨード化合物は、殆どが２つの基本構造、即ちトリヨードアミノイソフタル酸または、トリヨードジアミノ安息香酸誘導体の骨格である。これらの化合物は高いヨード含量であるにも関わらず、殆ど毒性が無く、また化学的に安定である特徴を持つ。しかしながら、これらの骨格を持つ剤は血管Ｘ線造影剤にのみ展開されているだけで、他分野、特に高分子の分野には殆ど例を見ることができない。
【０００３】
一方、Ｘ線の遮蔽性を利用した材料としては、歯科材料用ポリマーとしてヨード含有化合物を利用したものが提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。また、同様の用途において、安息香酸誘導体のモノマーとしては一つの重合性基を有するものがある（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【非特許文献１】
Ｊ．Ｍａｒｅｒ．ｓｃｉ．Ｌｅｔｔ．，１５（８），６８６（１９９６）
【０００５】
【特許文献１】
特開平８−３２５２０３
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年、Ｘ線の他、短波長の電磁波が使用される場面が電子材料他の分野で増加している。そして、それらの中には生体に対して有害なものも多く、これらを遮蔽、または吸収する材料が望まれ開発されている。しかし、これらの遮蔽剤には鉛などの金属を使用することが多く、一般的にはあまり実用的とは言えない。また他にＸ線遮蔽性を利用した材料では、例えば歯科用修復材料等がある。これは、歯の治療痕跡をレントゲン撮影で追跡するのに必要なもので、従来はバリウム化合物などのＸ線不透過性無機材料をポリマーと混ぜて使用するのが一般的である。しかしながら、無機材料は、口腔内で溶け出す、機械的強度が弱い、周囲との色の違いが目立つ等の不具合があった。また、ポリマーの場合も有害性や機械的強度が弱いなどの点で実用化には大きな隔たりがあった。
【０００７】
本発明は、無毒性に優れ、短波長の電磁波を遮蔽することを可能とする新規材料を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討した結果、トリヨードイソフタル酸骨格をもち、重合可能な不飽和基を２つ以上持った新規なモノマーを合成し本発明に至った。すなわち、５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸骨格に不飽和基を導入したモノマーを重合して得られるポリマーは、Ｘ線をはじめとする短波長電磁波を遮蔽する材料として使用できる。
【０００９】
更に、本発明の化合物およびそのポリマーは、ヨードの含有率が高い化合物であるが、化学的に安定であり、無毒性に優れ、一般生活材料に使用可能である。
【００１０】
すなわち本発明は、
［１］　　一般式（１）で表される芳香族多官能ヨード化合物、
【００１１】
【化４】
2004143076.tif 000002
【００１２】
（式中φは単環式芳香族環であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は飽和または不飽和炭化水素基を有する基であり、各々の基はφに結合しており、それらの基はヘテロ原子を含んでもかまわない。ｏ、ｐ、ｑは各々０〜５の整数を表し、ｚは１〜５の整数を表す。ただし、φは複数の不飽和炭化水素基を有するように置換される。）
［２］　　一般式（２）で示されることを特徴とする［１］記載の芳香族多官能ヨード化合物、
【００１３】
【化５】
2004143076.tif 000003
【００１４】
（式中、Ｒ４およびＲ５は同一でも異なってもよく、不飽和炭化水素基を有するアルキルアミノ基またはアルコキシ基を表し、Ｒ６は水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアシル基を表す。）
［３］　　一般式（２）中、Ｒ４およびＲ５が、下記一般式（３）で表される基であることを特徴とする［１］記載の芳香族多官能ヨード化合物、
【００１５】
【化６】
2004143076.tif 000004
【００１６】
（一般式（３）中、Ｒ７は水素原子またはメチル基を表し、ｍは１から６の整数を表し、Ｘは酸素原子またはＮＨで表される基であり結合部位を表す。）
である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体的に説明する。
【００１８】
一般式（１）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３は、飽和または不飽和炭化水素基を有する基であり、それらの基はヘテロ原子を含んでもかまわない。飽和または不飽和炭化水素基としては、重合反応を行うことができる基が好ましく、例えばビニル基、アクリロイル基、又はメタクリロイル基等が挙げられる。
【００１９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の具体例としては、、メタクリル酸メチルオキシカルボニル基、メタクリル酸エチルオキシカルボニル基、メタクリル酸プロピルオキシカルボニル基、メタクリル酸ブチルオキシカルボニル基、メタクリル酸ペンチルオキシカルボニル基、メタクリル酸ヘキシルオキシカルボニル基、メタクリル酸−２−メチルプロピルオキシカルボニル基、メタクリル酸−２−エチルプロピルオキシカルボニル基、メタクリル酸−２−プロピルプロピルオキシカルボニル基、メタクリル酸−２−メチルブチルオキシカルボニル基、メタクリル酸−３−メチルブチルオキシカルボニル基、２，２−ジメタクリル酸プロピルオキシカルボニル基、２，２−ジメタクリル酸ブチルオキシカルボニル基、２，３−ジメタクリル酸ブチルオキシカルボニル基、アクリル酸メチルオキシカルボニル基、アクリル酸エチルオキシカルボニル基、アクリル酸プロピルオキシカルボニル基、
【００２０】
アクリル酸ブチルオキシカルボニル基、アクリル酸ペンチルオキシカルボニル基、アクリル酸ヘキシルオキシカルボニル基、アクリル酸−２−メチルプロピルオキシカルボニル基、アクリル酸−２−エチルプロピルオキシカルボニル基、アクリル酸−２−プロピルプロピルオキシカルボニル基、アクリル酸−２−メチルブチルオキシカルボニル基、アクリル酸−３−メチルブチルオキシカルボニル基、２，２−ジアクリル酸プロピルオキシカルボニル基、２，２−ジアクリル酸ブチルオキシカルボニル基、２，３−ジアクリル酸ブチルオキシカルボニル基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸プロピルオキシカルボニル基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸ブチルオキシカルボニル基等のアクリル酸アルコキルオキシカルボニル基、メタクリル酸メチルアミノカルボニル基、メタクリル酸エチルアミノカルボニル基、メタクリル酸プロピルアミノカルボニル基、メタクリル酸ブチルアミノカルボニル基、メタクリル酸ペンチルアミノカルボニル基、
【００２１】
メタクリル酸ヘキシルアミノカルボニル基、メタクリル酸−２−メチルプロピルアミノカルボニル基、メタクリル酸−２−エチルプロピルアミノカルボニル基、メタクリル酸−２−プロピルプロピルアミノカルボニル基、メタクリル酸−２−メチルブチルアミノカルボニル基、メタクリル酸−３−メチルブチルアミノカルボニル基、２，２−ジメタクリル酸プロピルアミノカルボニル基、２，２−ジメタクリル酸ブチルアミノカルボニル基、２，３−ジメタクリル酸ブチルアミノカルボニル基、アクリル酸メチルアミノカルボニル基、アクリル酸エチルアミノカルボニル基、アクリル酸プロピルアミノカルボニル基、アクリル酸ブチルアミノカルボニル基、アクリル酸ペンチルアミノカルボニル基、アクリル酸ヘキシルアミノカルボニル基、アクリル酸−２−メチルプロピルアミノカルボニル基、
【００２２】
アクリル酸−２−エチルプロピルアミノカルボニル基、アクリル酸−２−プロピルプロピルアミノカルボニル基、アクリル酸−２−メチルブチルアミノカルボニル基、アクリル酸−３−メチルブチルアミノカルボニル基、２，２−ジアクリル酸プロピルアミノカルボニル基、２，２−ジアクリル酸ブチルアミノカルボニル基、２，３−ジアクリル酸ブチルアミノカルボニル基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸プロピルアミノカルボニル基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸ブチルアミノカルボニル基等のアクリル酸アルコキルアミノカルボニル基、メタクリル酸メチルオキシ基、メタクリル酸エチルオキシ基、メタクリル酸プロピルオキシ基、メタクリル酸ブチルオキシ基、メタクリル酸ペンチルオキシ基、メタクリル酸ヘキシルオキシ基、メタクリル酸−２−メチルプロピルオキシ基、
【００２３】
メタクリル酸−２−エチルプロピルオキシ基、メタクリル酸−２−プロピルプロピルオキシ基、メタクリル酸−２−メチルブチルオキシ基、メタクリル酸−３−メチルブチルオキシ基、２，２−ジメタクリル酸プロピルオキシ基、２，２−ジメタクリル酸ブチルオキシ基、２，３−ジメタクリル酸ブチルオキシ基、アクリル酸メチルオキシ基、アクリル酸エチルオキシ基、アクリル酸プロピルオキシ基、アクリル酸ブチルオキシ基、アクリル酸ペンチルオキシ基、アクリル酸ヘキシルオキシ基、アクリル酸−２−メチルプロピルオキシ基、アクリル酸−２−エチルプロピルオキシ基、アクリル酸−２−プロピルプロピルオキシ基、アクリル酸−２−メチルブチルオキシ基、アクリル酸−３−メチルブチルオキシ基、２，２−ジアクリル酸プロピルオキシ基、２，２−ジアクリル酸ブチルオキシ基、
【００２４】
２，３−ジアクリル酸ブチルオキシ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸プロピルオキシ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸ブチルオキシ基等のアクリル酸アルコキルオキシ基、メタクリル酸メチルアミノ基、メタクリル酸エチルアミノ基、メタクリル酸プロピルアミノ基、メタクリル酸ブチルアミノ基、メタクリル酸ペンチルアミノ基、メタクリル酸ヘキシルアミノ基、メタクリル酸−２−メチルプロピルアミノ基、メタクリル酸−２−エチルプロピルアミノ基、メタクリル酸−２−プロピルプロピルアミノ基、メタクリル酸−２−メチルブチルアミノ基、メタクリル酸−３−メチルブチルアミノ基、２，２−ジメタクリル酸プロピルアミノ基、２，２−ジメタクリル酸ブチルアミノ基、２，３−ジメタクリル酸ブチルアミノ基、アクリル酸メチルアミノ基、アクリル酸エチルアミノ基、
【００２５】
アクリル酸プロピルアミノ基、アクリル酸ブチルアミノ基、アクリル酸ペンチルアミノ基、アクリル酸ヘキシルアミノ基、アクリル酸−２−メチルプロピルアミノ基、アクリル酸−２−エチルプロピルアミノ基、アクリル酸−２−プロピルプロピルアミノ基、アクリル酸−２−メチルブチルアミノ基、アクリル酸−３−メチルブチルアミノ基、２，２−ジアクリル酸プロピルアミノ基、２，２−ジアクリル酸ブチルアミノ基、２，３−ジアクリル酸ブチルアミノ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸プロピルアミノ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸ブチルアミノ基等のアクリル酸アルコキルアミノ基、またはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基等のアルキル基、アセチル基、プロピオニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、イソブテニル基、３−メチルブテニル基、２−メチルブテニル基、アクリル基、シクロヘキサンカルボニル基、
【００２６】
シクロペンタンカルボニル基等の飽和、不飽和アルキルカルボニル基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、イソヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブテニルアミノ基、ペンテニルアミノ基、ヘキセニルアミノ基、イソブテニルアミノ基、３−メチルブテニルアミノ基、２−メチルブテニルアミノ基、アクリルアミノ基、シクロヘキサンカルボニルアミノ基、シクロペンタンカルボニルアミノ基等の飽和、不飽和アルキルカルボニルアミノ基等の基が挙げられる。
【００２７】
一般式（２）中、Ｒ４およびＲ５は、不飽和炭化水素基を有するアルキルアミノ基またはアルコキシ基を表す。
この場合における不飽和炭化水素基としては、重合反応を行うことができる基が好ましく、例えばビニル基、アクリロイル基、又はメタクリロイル基等が挙げられる。
【００２８】
Ｒ４およびＲ５の具体例としては、メタクリル酸メチルオキシ基、メタクリル酸エチルオキシ基、メタクリル酸プロピルオキシ基、メタクリル酸ブチルオキシ基、メタクリル酸ペンチルオキシ基、メタクリル酸ヘキシルオキシ基、メタクリル酸−２−メチルプロピルオキシ基、メタクリル酸−２−エチルプロピルオキシ基、メタクリル酸−２−プロピルプロピルオキシ基、メタクリル酸−２−メチルブチルオキシ基、メタクリル酸−３−メチルブチルオキシ基、２，２−ジメタクリル酸プロピルオキシ基、２，２−ジメタクリル酸ブチルオキシ基、２，３−ジメタクリル酸ブチルオキシ基、アクリル酸メチルオキシ基、アクリル酸エチルオキシ基、アクリル酸プロピルオキシ基、アクリル酸ブチルオキシ基、アクリル酸ペンチルオキシ基、アクリル酸ヘキシルオキシ基、アクリル酸−２−メチルプロピルオキシ基、アクリル酸−２−エチルプロピルオキシ基、アクリル酸−２−プロピルプロピルオキシ基、アクリル酸−２−メチルブチルオキシ基、
【００２９】
アクリル酸−３−メチルブチルオキシ基、２，２−ジアクリル酸プロピルオキシ基、２，２−ジアクリル酸ブチルオキシ基、２，３−ジアクリル酸ブチルオキシ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸プロピルオキシ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸ブチルオキシ基等のアクリル酸アルコキルオキシ基、メタクリル酸メチルアミノ基、メタクリル酸エチルアミノ基、メタクリル酸プロピルアミノ基、メタクリル酸ブチルアミノ基、メタクリル酸ペンチルアミノ基、メタクリル酸ヘキシルアミノ基、メタクリル酸−２−メチルプロピルアミノ基、メタクリル酸−２−エチルプロピルアミノ基、メタクリル酸−２−プロピルプロピルアミノ基、メタクリル酸−２−メチルブチルアミノ基、メタクリル酸−３−メチルブチルアミノ基、２，２−ジメタクリル酸プロピルアミノ基、
【００３０】
２，２−ジメタクリル酸ブチルアミノ基、２，３−ジメタクリル酸ブチルアミノ基、アクリル酸メチルアミノ基、アクリル酸エチルアミノ基、アクリル酸プロピルアミノ基、アクリル酸ブチルアミノ基、アクリル酸ペンチルアミノ基、アクリル酸ヘキシルアミノ基、アクリル酸−２−メチルプロピルアミノ基、アクリル酸−２−エチルプロピルアミノ基、アクリル酸−２−プロピルプロピルアミノ基、アクリル酸−２−メチルブチルアミノ基、アクリル酸−３−メチルブチルアミノ基、２，２−ジアクリル酸プロピルアミノ基、２，２−ジアクリル酸ブチルアミノ基、２，３−ジアクリル酸ブチルアミノ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸プロピルアミノ基、２−アクリル酸−２−メタクリル酸ブチルアミノ基等のアクリル酸アルコキルアミノ基等が挙げられる。
【００３１】
Ｒ６は、水素、アルキル基、アルケニル基またはアシル基を表す。更にそれらの基はヘテロ原子を有しても良い。
Ｒ６の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、アセチル基、プロピオニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、イソブテニル基、３−メチルブテニル基、２−メチルブテニル基、アクリル基、シクロヘキサンカルボニル基、シクロペンタンカルボニル基等が挙げられる。
【００３２】
本発明の５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸誘導体の原料である、５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸は、５−アミノイソフタル酸を一塩化ヨウ素でヨウ素化することにより製造することができ、ＪＰ２７６５６９６に開示されている。
【００３３】
以下に合成例を示す。内容積５００ｍｌ四つ口フラスコに水（４８０ｇ）、原料の５−アミノイソフタル酸（０．１モル）及び硫酸（０．００５モル）を入れ、７０℃に昇温する。これに５０％一塩化ヨウ素塩酸水溶液（一塩化ヨウ素として０．３１５モル）を一時間かけて滴下し、更に同温で４時間反応させる。次いで反応液を１０℃まで冷却し、析出してくる結晶を濾別し乾燥し目的の５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸を得ることができる。
【００３４】
本発明の重合性基を有する５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸誘導体は以下の様に合成することができる。例えば、セパラブルフラスコ中、５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸とアミノ基を修飾する基を含む酸無水物、例えばアセチル基であれば無水酢酸、プロピオニル基であれば無水プロピオン酸を仕込み、触媒量の濃硫酸を添加する。酸無水物は５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸に対して等モル量以上であれば良い。次いで室温で攪拌し、経時的に反応液をサンプリングし、高速液体クロマトグラフィーで分析して反応の進行をモニターする。原料５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸のピークが無くなったところを終点とする。反応液を濾過し、濾物を酢酸エチルで再懸濁し、室温で攪拌した後再び濾過する。結晶は酢酸エチルで洗浄した後減圧乾燥し、中間体として修飾されたアミノ基をもつ５−アシルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸誘導体（Ａ）を得ることができる。
【００３５】
次に得られた化合物Ａを４ツ口フラスコ中でジオキサン中に懸濁する。別に三角フラスコ中で、アゾジカルボン酸ジエチルをＡに対し２当量以上、例えばヒドロキシエチルメタクリレートのような重合性基を有する化号物をＡに対し２当量以上およびトリフェニルホスフィンをＡに対し２当量以上をジオキサン中に溶解し、フラスコ中に室温下徐々に添加し室温下攪拌する。経時的に反応液をサンプリングし、高速液体クロマトグラフィーで分析して反応の進行をモニターする。反応終了後で反応液を減圧濃縮し、得られたオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離し、目的の重合性基を有する５−アシルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸誘導体（Ｂ）を得ることができる。
【００３６】
得られた化合物Ｂは液状であればそのままで、また固体状であれば少量の例えばヒドロキシエチルメタクリレートと混和溶解した状態で紫外線照射すると、短時間で重合硬化し透明な樹脂を得ることができる。得られた樹脂は良好な短波長電磁波遮蔽性を示す。更に、複数の官能基をもって重合しているため、ポリマーは三次元網目構造をとり、充分な強度と硬さを有する。
【００３７】
即ち、本発明は、無毒性に優れ、短波長の電磁波を遮蔽することを可能とする種々の置換基で修飾された芳香族ポリヨード化合物を提供する。
【００３８】
【実施例】
（実施例１）５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス−（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））エステルの合成
【００３９】
［５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸の合成］
１Ｌセパラブルフラスコ中、５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（以下ＡＴＩＰＡと略す；１５０ｇ）と無水酢酸（２７３ｇ）を仕込み、濃硫酸（１ｍｌ）を添加した。反応液は終始懸濁状であった。室温で６時間攪拌し、反応液をサンプリングし、高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、原料ＡＴＩＰＡのピークは無くなっていた。反応液を濾過し、得られた白色の濾物を酢酸エチル（７００ｍｌ）中に再懸濁し、室温で１時間攪拌した後、再び濾過した。得られた白色結晶は酢酸エチル（１００ｍｌ）で洗浄した後、４０℃で４時間減圧乾燥し、中間体として５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（１５７．０ｇ、収率９５％）を白色結晶で得た。
【００４０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ），δ（ｐｐｍ）　２．０２（３Ｈ，ｓ，ＣＯＭｅ），３．３２（１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ）
ＩＲ（ＫＢｒ），ｃｍ−１　３３１４，　　２８６６，　１７１４，　　１６６５，　１３５９，　　１１９６，　９８８，　９０４
【００４１】
［５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス−（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））エステルの合成］
得られた５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（１５．０ｇ，２５ｍｍｏｌ）を４ツ口フラスコ中でジオキサン（１５０ｍｌ）に懸濁した。別に三角フラスコ中で、アゾジカルボン酸ジエチル（以下ＤＥＡＤ；８．７０ｇ，５０ｍｍｏｌ），　ヒドロキシエチルメタクリレート（以下ＨＥＭＡ；９．７５ｇ，７５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１３．１ｇ，５０ｍｍｏｌ）をジオキサン（１００ｍｌ）中に溶解し、２０分間かけてフラスコ中に室温下添加した。この時反応液内温は１８〜２２℃に上昇した。その後３０分間室温下攪拌した。次いで再度ＤＥＡＤ（２．１８ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）、ＨＥＭＡ（１．６３ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）　を系内に添加し、次いでトリフェニルホスフィン（３．２８ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）をジオキサン（２０ｍｌ）に溶解したものを滴下した。次いで反応液を減圧濃縮した。得られたオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン／酢酸エチル＝１／１の留分で目的物の５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス−（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））エステル（７．６７ｇ，　　収率３７％）を白色結晶で得た。
【００４２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３），δ（ｐｐｍ）：　１．９５（６Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈａｃｒｙｌ−Ｍｅ），２．２２（３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ），４．５０（４Ｈ，ｓ，ＣＨ２），４．６１（４Ｈ，ｓ，ＣＨ２），５．６０（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２），６．１６（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２），　７．５２（１Ｈ，ｓ，ＮＨ）．
ＦＤ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；６９７（Ｍ），６９９，８２５．
【００４３】
（実施例２）５−プロピオニルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス−（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））エステルの合成
【００４４】
［５−プロピオニルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸の合成］
１Ｌセパラブルフラスコ中、ＡＴＩＰＡ（１５０ｇ）と無水プロピオン酸（３４８ｇ）を仕込み、濃硫酸（１ｍｌ）を添加した。反応液は終始懸濁状であった。室温で６時間攪拌し、反応液をサンプリングし、高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、原料ＡＴＩＰＡのピークは無くなっていた。反応液を濾過し、得られた白色の濾物を酢酸エチル（７００ｍｌ）中に再懸濁し、室温で１時間攪拌した後、再び濾過した。得られた白色結晶は酢酸エチル（１００ｍｌ）で洗浄した後、４０℃で４時間減圧乾燥し、中間体として５−プロピオニルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（１５１．８ｇ、収率９２％）を白色結晶で得た。
【００４５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ），δ（ｐｐｍ）　１．３３（３Ｈ，ｔ，ｐｒｏｐｉｏｎｙｌ−Ｍｅ），　２．４５〜２．６０（２Ｈ，ｍ，ｐｒｏｐｉｏｎｙｌ−ＣＨ２），　３．３２（１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ）
ＩＲ（ＫＢｒ），ｃｍ−１　３３２２，　　２８８０，　１７１６，　　１６７７，　１３３８，　　１２１２，９７７，　９１４
【００４６】
［５−プロピオニルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス−（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））エステルの合成］
ＤＥＡＤ（５５．７ｇ，０．３２ｍｏｌ）を４ツ口フラスコ（１００ｍｌ）中でジオキサン（８１０ｍｌ）に溶解した。別に三角フラスコ中で、前記５−プロピオニルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（１００ｇ，０．１６ｍｏｌ），　ＨＥＭＡ（６３．４ｇ，０．４９ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（８３．９ｇ，０．３２ｍｏｌ）をジオキサン（１００ｍｌ）中に懸濁し、２時間かけてフラスコ中に室温下添加した。この時反応液内温は２４〜２９℃に上昇した。その後３０分間室温下攪拌した。再度ＤＥＡＤ（１３．９ｇ，０．０８ｍｏｌ）、ＨＥＭＡ（１０．４ｇ，０．０８ｍｏｌ）　を系内に添加し、次いでトリフェニルホスフィン（２１．０ｇ，０．０８ｍｏｌ）をジオキサン（５０ｍｌ）に溶解したものを滴下した。その後室温下に３０分間攪拌し、減圧濃縮した。得られたオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン／酢酸エチル＝２／３の留分で目的物の５−プロピオニルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス−（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））エステル（１７．９ｇ，　　収率１３％）を白色結晶で得た。
【００４７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３），δ（ｐｐｍ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，ｐｒｏｐｉｏｎｙｌ−Ｍｅ），１．９５（６Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈａｃｒｙｌ−Ｍｅ），２．４０〜２．５５，（２Ｈ，ｍ，ｐｒｏｐｉｏｎｙｌ−ＣＨ２），４．４７（４Ｈ，ｓ，ＣＨ２），４．６２（４Ｈ，ｓ，ＣＨ２），５．６０（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２），６．１８（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２），　７．１０〜７．２３（１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ）．
ＦＤ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；７１１（Ｍ），７１３，８３９．
【００４８】
（実施例３）５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））アミドの合成
【００４９】
［５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−ヒドロキシエチル））アミドの合成］
４ツ口フラスコ中、モノエタノールアミン（１５．３ｇ，０．２５ｍｏｌ）とトリエチルアミン（３０．３ｇ，０．３０ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦ；５０ｍｌ）中に溶解した。その系中に５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸クロライド（１５．３ｇ，０．１０ｍｏｌ）のＤＭＦ（５０ｍｌ）溶液を２０℃で３０分間かけて滴下した。その後同温で３０分間攪拌し、系内に水（１２００ｍｌ）を添加して晶析した。次いで濾過を行い得られた結晶は水（２００ｍｌ）で洗浄した。更に得られたＷｅｔ結晶を酢酸エチル（６００ｍｌ）中に懸濁し、室温下３０分間攪拌した。再度これを濾過し、得られた結晶を減圧乾燥することにより、一次中間体として５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−ヒドロキシエチル））アミドの白色結晶（４７．５ｇ，収率７３．６％）を得た。
【００５０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ），δ（ｐｐｍ）：３．１５〜３．４０（６Ｈ，ｍ，ＣＨ２，ＯＨ），３．５０〜３．６５（４Ｈ，ｍ，ＣＨ２），４．６５（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ），５．４６（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ）．
【００５１】
［５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））アミドの合成］
４ツ口フラスコ中、前記５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−ヒドロキシエチル））アミド（３．９ｇ，６ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．８ｇ，１８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（以後ＴＨＦ；３０ｍｌ）中に懸濁し、６０℃に昇温した。その系中にメタクリル酸クロライド（１．９ｇ，１８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液を２０分間かけて滴下し、８時間同温で攪拌した。冷却後析出した結晶を濾去した後、濾液を減圧濃縮した。得られたオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／３溶媒）で精製することにより、二次中間体として５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））アミド（２．４ｇ，　収率５１％）を白色結晶で得た。
【００５２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３），δ（ｐｐｍ）：１．９２（６Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈａｃｒｙｌ−Ｍｅ），　３．６０〜３．８０（４Ｈ，ｍ，ＣＨ２），　　４．２５〜４．３５（４Ｈ，ｓ，ＣＨ２），５．０２（２Ｈ，ｓ，ＮＨ），　　５．５８（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２），６．１４（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２），　６．９０〜７．０２（１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ）．
【００５３】
［５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））アミドの合成］
４ツ口フラスコ中、前記５−アミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））アミド（５．７ｇ，７ｍｍｏｌ）を無水酢酸（４２．７ｇ）中に懸濁させた。その系中に硫酸（０．０３４ｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。その後同温で１．５時間攪拌した。その後、酢酸エチル（４３ｍｌ）を系中に添加し濾過した。得られた結晶は酢酸エチル（２０ｍｌ）で洗浄した。得られた結晶を水（２００ｍｌ）中に懸濁し、室温下攪拌した。これを再び濾過し得られた結晶は再度酢酸エチル（５０ｍｌ）中に懸濁し、６０℃で２時間攪拌した。室温に冷却した後濾過し、得られた結晶は酢酸エチル（２０ｍｌ）で洗浄した。次いで減圧乾燥を行い、目的物の５−アセチルアミノ−２，４，６−トリヨードイソフタル酸（ビス（２−（２−メタクリロイルオキシ）エチル））アミド（５．０ｇ，　収率８２％）を白色結晶で得た。
【００５４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３），δ（ｐｐｍ）：１．９４（６Ｈ，ｓ，ｍｅｔｈａｃｒｙｌ−Ｍｅ），　２．１０（３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ−Ｍｅ），３．４５〜３．６０（４Ｈ，ｍ，ＣＨ２），　　４．２７〜４．３５（４Ｈ，ｓ，ＣＨ２），　　５．７２（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２），６．１８（２Ｈ，ｓ，＝ＣＨ２）．
【００５５】
本発明の化合物により、無毒性に優れ、短波長の電磁波を遮蔽することが可能であり、特に、歯科用修復材料として好適なモノマーを提供することができる。