(57)【要約】【課題】基板の大型化に対応し，かつ基板の入れ換え時間を短縮できる，塗布液吐出用ダイヘッドを用いた塗布装置を提供する。【解決手段】基板搬送用コンベヤＡの搬送経路Ｂ上に載置台３を配置し，当該載置台３の上方に基板Ｇの搬送方向に対して直交する方向に向けてレール２０を形成する。レール２０には，ダイヘッド２３が長手方向を搬送方向に向けた状態で移動自在に支持される。レール２０の支持部材２１は，搬送経路Ｂの幅方向の外方に配置される。塗布装置１には，塗布装置１の外部から塗布装置１内に向かう搬送通路が確保され，基板搬送用コンベヤＡを用いて塗布装置１内に基板Ｇを搬送できる。【選択図】  図２
2004298775.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細長形状の本体を有し，当該本体の下面にスリット状の吐出口を備えた塗布液吐出用ダイヘッドを用いて，基板に塗布液を塗布する塗布装置であって，
基板搬送用コンベヤの搬送経路上に配置され，当該搬送経路上の基板を載置する載置台と，
前記塗布液吐出用ダイヘッドを移動させるためのレールと，を備え，
前記塗布液吐出用ダイヘッドは，前記本体の長手方向を搬送経路の搬送方向に向けた状態で，前記レールに沿って前記載置台上を前記搬送方向に直交する直交方向に移動可能であり，
前記レールは，前記搬送経路上で搬送される基板と干渉しない位置に設けられていることを特徴とする，塗布装置。
【請求項２】
前記レールは，前記載置台よりも高い位置であって，前記搬送経路の直交方向に向けて少なくとも当該搬送経路の直交方向の一端部から他端部に渡って形成されており，
前記レールは，支持部材により支持されており，
前記支持部材は，前記搬送経路の直交方向の端部の外方に設けられていることを特徴とする，請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記レールは，前記載置台の載置面より低い位置であって，前記搬送経路の直交方向に向けて当該搬送経路の直交方向の一端部の外方から他端部の外方に渡って形成されており，
前記レールには，前記前記塗布液吐出用ダイヘッドを支持し当該レール上を移動可能な支持部材が設けられていることを特徴とする，請求項１に記載の塗布装置
【請求項４】
前記レールは，前記載置台の前記搬送方向の前後にそれぞれ設けられ，
前記支持部材は，前記双方のレール間に架け渡されて形成されていることを特徴とする，請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記支持部材は，前記各々のレールから上方に向けて形成された垂直部と，当該垂直部同士を水平に連結する水平部からなることを特徴とする，請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記支持部材の前記搬送方向の側面には，前記搬送経路と同じ高さの位置に凹み部が形成されていることを特徴とする，請求項３，４又は５のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
前記基板搬送用コンベアは，基板を支持し当該基板を搬送経路に沿って搬送する基板搬送用部材を備えており，
前記基板搬送用部材は，前記載置台に対して前記搬送方向に沿って進退可能に構成されていることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５又は６のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記載置台の載置面には，前記搬送経路の搬送方向に沿って基板を搬送する基板搬送部材が設けられていることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６又は７のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項９】
前記載置台の載置面には，前記基板搬送部材を収容する凹部が形成されており，
前記基板搬送部材は，前記凹部内から前記載置面上に上下動自在に構成されていることを特徴とする，請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記載置台の前記直交方向の両側には，前記塗布液吐出用ダイヘッドの待機部が設けられていることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７，８又は９のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記各待機部には，前記塗布液吐出用ダイヘッドから塗布液を吐出させ，塗布液の吐出状態を調整する吐出調整部材が設けられていることを特徴とする，請求項１０に記載の塗布装置。
【請求項１２】
細長形状の本体を有し，当該本体の下面にスリット状の吐出口を備えた塗布液吐出用ダイヘッドを用いて，基板に塗布液を塗布する塗布方法であって，
基板搬送用コンベヤの搬送経路上に置かれた載置台に対し，前記搬送経路の搬送方向に沿って基板を搬入出し，
前記基板の載置された載置台上において，前記塗布液吐出用ダイヘッドを，本体の長手方向が前記搬送経路の搬送方向に向けられた状態で，前記搬送経路の搬送方向に直交する方向の一端部の外方から他端部の外方まで移動させる際に，基板に対して塗布液を塗布することを特徴とする，塗布方法。
【請求項１３】
前記載置台に対する基板の搬入と搬出を同時に行うことを特徴とする，請求項１２に記載の塗布方法。
【請求項１４】
塗布液吐出用ダイヘッドが，前記搬送経路の一端部の外方から他端部の外方及び前記他端部の外方から前記一端部の外方のいずれの方向に移動する際にも前記基板に対する塗布液の塗布が行われることを特徴とする，請求項１２又は１３のいずれかに記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，基板の塗布装置及び塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造工程において，矩形のガラス基板（以下，「基板」という。）の表面上にブラックマトリクスやＲ，Ｇ，Ｂの着色パターンなどを形成する際に，基板上に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布処理が行われている。
【０００３】
上述の塗布処理は，通常塗布装置において行われ，塗布装置は，基板を載置する載置台と，基板の一辺程度に長く，下面にスリット状の吐出口を備えた塗布液吐出用ダイヘッドを有している。塗布液吐出用ダイヘッドは，載置台に沿って移動するアームに支持されており，上記塗布処理は，塗布液吐出用ダイヘッドが塗布液を吐出しながら，基板上を基板の一端部から他端部まで移動することによって行われていた。
【０００４】
また，上記塗布装置に対する基板の搬入出は，当該塗布装置に近接配置されたロボットアームによって基板を一枚ずつアームの上に載せて搬送することによって行われていた（例えば，特許文献１参照。）。そのため，塗布装置には，載置台の上面に突出可能なピンが設けられており，当該ピンとロボットアームとの間で基板の受け渡しができるようになっていた（例えば，特許文献２参照。）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−１４５２４６号公報
【特許文献２】
特開２００１−３１０１５２号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，近年，基板が例えば一辺が１ｍ以上に大型化しており，上述したようにロボットアームに基板を載せて基板を一枚一枚搬送することが困難になってきている。また，従来のように塗布装置において一枚の基板の塗布処理が終了する度にロボットアームが載置台にアクセスすると，基板の入れ替えに時間がかかり，スループットの観点から好ましくなかった。
【０００７】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，塗布液吐出用ダイヘッドを用いた塗布装置であって，基板の大型化に対応し，かつ基板の入れ換え時間を短縮できる塗布装置を提供することをその目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために，本発明は，細長形状の本体を有し，当該本体の下面にスリット状の吐出口を備えた塗布液吐出用ダイヘッドを用いて，基板に塗布液を塗布する塗布装置であって，基板搬送用コンベヤの搬送経路上に配置され，当該搬送経路上の基板を載置する載置台と，前記塗布液吐出用ダイヘッドを移動させるためのレールと，を備え，前記塗布液吐出用ダイヘッドは，前記本体の長手方向を搬送経路の搬送方向に向けた状態で，前記レールに沿って前記載置台上を前記搬送方向に直交する直交方向に移動可能であり，前記レールは，前記搬送経路上で搬送される基板と干渉しない位置に設けられていることを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば，基板搬送用コンベヤによって塗布装置内に基板を搬入出できるので，仮に一辺が１ｍを超えるような大型の基板であっても好適に搬送できる。また，従来のようにロボットアームがアクセスする必要がないので，基板の搬送を円滑に連続的に行うことができ，その分搬入出時間の短縮化が図られる。その一方で，レールに沿って搬送方向の直交方向に塗布液吐出用ダイヘッドが移動できるので，塗布液吐出用ダイヘッドが塗布液を吐出しながら搬送経路の直交方向に沿って走査することによって基板に塗布液を塗布できる。ところで，基板搬送用コンベヤを用いた場合，例えば塗布液吐出用ダイヘッドのレールが搬送経路上にあると，基板の搬送ができない。本発明によれば，塗布液吐出用ダイヘッドのレールが搬送基板と干渉しない位置に設けられているので，基板の搬送を適正に行うことができる。
【００１０】
前記レールは，前記載置台よりも高い位置であって，前記搬送経路の直交方向に向けて少なくとも当該搬送経路の直交方向の一端部から他端部に渡って形成されており，前記レールは，支持部材により支持されており，前記支持部材は，前記搬送経路の直交方向の端部の外方に設けられていてもよい。
【００１１】
この発明によれば，塗布液吐出用ダイヘッドが移動するレールを載置台の上方に形成し，レールの支持部材を搬送経路の外側に設けたので，塗布装置の外部から塗布装置内に対する基板の搬送経路が確保される。したがって，本発明のように基板搬送用コンベヤを用いて基板を搬入出する場合であっても，基板とレールや支持部材とが干渉することなく，基板の搬入出を好適に行うことができる。
【００１２】
前記レールは，前記載置台の載置面より低い位置であって，前記搬送経路の直交方向に向けて当該搬送経路の直交方向の一端部の外方から他端部の外方に渡って形成されており，前記レールには，前記前記塗布液吐出用ダイヘッドを支持し当該レール上を移動可能な支持部材が設けられていてもよい。
【００１３】
この発明によれば，塗布液吐出用ダイヘッドを支持する支持部材がレールに沿って，搬送経路の前記直交方向の外方まで移動できるので，例えば基板の搬入時に，支持部材を搬送経路の外方まで退避させることができる。したがって，基板の搬入出時に搬送経路が確保され，基板搬送用コンベヤを用いた基板搬送が実現される。
【００１４】
前記レールは，前記載置台の前記搬送方向の前後にそれぞれ設けられ，前記支持部材は，前記双方のレール間に架け渡されて形成されていてもよい。かかる場合，支持部材が２本のレール上を移動するので，支持部材に支持された塗布液吐出用ダイヘッドの挙動が安定し，塗布液の塗布も安定する。この結果，基板には，常に一定量の塗布液が塗布され，基板上に均一な塗布膜が形成される。また，前記支持部材は，前記各々のレールから上方に向けて形成された垂直部と，当該垂直部同士を水平に連結する水平部からなっていてもよい。
【００１５】
前記支持部材の前記搬送方向の側面には，前記搬送経路と同じ高さの位置に凹み部が形成されていてもよい。かかる場合，例えば基板搬送用コンベヤがコロ搬送の場合，例えばレールを挟むように配置された載置台と搬送ローラをその凹み分だけ互いに近づけて配置することができる。こうすることによって，支持部材を挟んだ搬送ローラと載置台との距離を短くすることができ，搬送の際に基板が反ることが抑制され，基板が適正に搬送される。また，載置台と搬送ローラを近づけた分だけ，外部から搬送経路に沿って搬送されてきた基板を，塗布装置の直前で載置台に近づけた状態で待機させることができる。この結果，基板が載置台に載置されるまでの搬送時間を短縮できる。
【００１６】
前記基板搬送用コンベアは，基板を支持し当該基板を搬送経路に沿って搬送する基板搬送用部材を備えており，前記基板搬送用部材は，前記載置台に対して前記搬送方向に沿って進退可能に構成されていてもよい。かかる場合，例えば基板搬送用部材から載置台に基板が搬送される時に，基板搬送用部材を載置台に近づけて，その際の基板のそり，撓みを抑制できる。
【００１７】
前記載置台の載置面には，前記搬送経路の搬送方向に沿って基板を搬送する基板搬送部材が設けられていてもよい。この基板搬送部材によって，例えば上流側の基板搬送用コンベヤからの基板を受け取り，基板を載置台上の所定位置に搬送し，また載置台上の基板を下流の基板搬送用コンベヤに渡すことができる。したがって，この基板搬送部材によって，例えば外部の基板搬送用コンベヤとの間の基板の受け渡しや載置台上における基板の位置調整を行うことができる。
【００１８】
前記載置台の載置面には，前記基板搬送部材を収容する凹部が形成されており，前記基板搬送部材は，前記凹部内から前記載置面上に上下動自在に構成されていてもよい。かかる場合，例えば基板搬送部材を凹部内に収容して，基板搬送部材で支持していた基板を載置台上に載置することができる。また，基板搬送部材を載置面上に上昇させることによって，載置台上の基板を持ち上げて例えば下流の基板搬送用コンベヤに渡すことができる。
【００１９】
前記載置台の前記直交方向の両側には，前記塗布液吐出用ダイヘッドの待機部が設けられていてもよい。かかる場合，載置台の両側に待機部が設けられているので，塗布液吐出用ダイヘッドが一枚の基板に対し基板の一端部側から他端部側まで移動して，塗布液を塗布した際に，その移動先で塗布液吐出用ダイヘッドを待機させることができる。したがって，塗布液吐出用ダイヘッドがその都度元の位置に戻る必要がなく，その分基板処理が効率的に行われる。また，前記各待機部には，前記塗布液吐出用ダイヘッドから塗布液を吐出させ，塗布液の吐出状態を調整する吐出調整部材が設けられていてもよい。
【００２０】
本発明は，細長形状の本体を有し，当該本体の下面にスリット状の吐出口を備えた塗布液吐出用ダイヘッドを用いて，基板に塗布液を塗布する塗布方法であって，基板搬送用コンベヤの搬送経路上に置かれた載置台に対し，前記搬送経路の搬送方向に沿って基板を搬入出し，前記基板の載置された載置台上において，前記塗布液吐出用ダイヘッドを，本体の長手方向が前記搬送経路の搬送方向に向けられた状態で，前記搬送経路の搬送方向に直交する方向の一端部の外方から他端部の外方まで移動させる際に，基板に対して塗布液を塗布することを特徴とする。
【００２１】
本発明によれば，塗布液吐出用ダイヘッドを用いた塗布方法において，基板搬送用コンベヤによって基板を搬入出できるので，仮に一辺が１ｍを超えるような大型の基板であっても好適に搬送できる。また，従来のようにロボットアームがアクセスする必要がないので，基板の搬送を円滑に連続的に行うことができ，その分搬入出時間の短縮化が図られる。さらに，塗布液吐出用ダイヘッドが，基板上を塗布液を吐出しながら搬送方向に対して直交する方向に移動することによって，基板に塗布液を塗布できる。
【００２２】
前記載置台に対する基板の搬入と搬出を同時に行うようにしてもよく，かかる場合，基板の入れ替えを効率的に行うことができる。また，塗布液吐出用ダイヘッドが，前記搬送経路の一端部の外方から他端部の外方及び前記他端部の外方から前記一端部の外方のいずれの方向に移動する際にも前記基板に対する塗布液の塗布が行われてもよい。かかる場合，塗布液吐出用ダイヘッドがいずれかの方向の外方に移動し終えた後に一々元の位置に戻る必要がなく，往路と復路において基板に塗布液を吐出できる。したがって，基板の塗布処理を効率的に行うことができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる塗布装置１の構成の概略を示す縦断面の説明図であり，図２は，塗布装置１の構成の概略を示す平面図であり，図３は，基板の搬入側から見た塗布装置１の側面図である。
【００２４】
塗布装置１の所定方向（図１のＸ方向）の両側には，基板搬送用コンベヤＡが接続されており，塗布装置１は，基板搬送用コンベヤＡの搬送路Ｂ上に配置されている。基板搬送用コンベヤＡは，例えば搬送経路Ｂに沿って並列された多数の基板搬送用部材としての搬送ローラＣを備え，当該搬送ローラＣの回転させることによって，基板Ｇを所定の搬送方向（図１のＸ方向）に搬送できる。
【００２５】
塗布装置１は，基台２を有し，その基台２上の中央部には，基板Ｇを載置する載置台３が置かれている。載置台３は，例えば上面の載置面３ａが水平で，基板Ｇより僅かに大きい矩形の盤状に形成されている。載置台３は，搬送経路Ｂ上に配置され，載置面３ａが搬送ローラＣの上端部よりも僅かに低くなるように設定されている。
【００２６】
載置台３の載置面３ａには，図２に示すように薄い円柱状の基板搬送部材としての小型ローラ１０が複数配置されている。小型ローラ１０は，Ｘ方向の搬送方向に直交する幅方向（図２のＹ方向）に沿った回転軸１１に複数取り付けられて小型ローラ群１２を構成し，この小型ローラ群１２がＸ方向に沿って複数配置されている。このように小型ローラ１０は，載置面３ａの全面に渡って配置されている。小型ローラ１０には，例えば小型ローラ群１２毎に回転駆動部（図示せず）が取り付けられており，小型ローラ１０を所定のタイミングでＸ方向に回転できる。したがって，小型ローラ１０の回転により，上流側の搬送ローラＣから基板Ｇを受け取って，載置台３上に搬入し，また載置台３上の基板Ｇを下流側の搬送ローラＣ側に搬出することができる。
【００２７】
また，載置台３の載置面３ａには，例えば図４に示すように収容部となる凹部３ｂに形成されており，小型ローラ１０は，この凹部３ｂ内に収容されている。小型ローラ１０は，例えば載置台３内を貫通するシャフト１３を介して昇降駆動部１４に接続されており，小型ローラ１０は，収容部３ｂ内から載置面３ａ上に昇降できる。つまり，小型ローラ１０は，載置面３ａ上に突出自在に構成されている。かかる構成によって，小型ローラ１０は，例えば搬送ローラＣと同程度の高さまで上昇して上流側の搬送ローラＣから基板Ｇを受け取り，その後下降して当該基板Ｇを載置面３ａ上に載置できる。また，載置台３上の基板Ｇを下流側の搬送ローラＣと同程度の高さまで持ち上げて当該基板Ｇを下流側の搬送ローラＣに受け渡すことができる。なお，載置台３には，基板Ｇを吸着させる吸着手段（図示せず）が設けられており，基板Ｇを載置面３ａに吸着できる。
【００２８】
図２及び図３に示すように載置台３よりも高い位置であって，平面から見て載置台３の搬送方向であるＸ方向の両側には，幅方向であるＹ方向に沿ったレール２０がそれぞれ設けられている。この２本のレール２０は，例えば載置台３のＹ方向の一端部側の外方から他端部側の外方に渡って形成されている。レール２０の両端部は，それぞれ搬送経路ＢのＹ方向の外方に立設された支持部材２１により水平に支持されている。
【００２９】
レール２０には，レール２０に沿って駆動する駆動部２２を介して塗布液吐出用ダイヘッド（以下，「ダイヘッド」とする。）２３が取り付けられている。つまり，ダイヘッド２３は，駆動部２２によりレール２０上を移動できる。例えばダイヘッド２３は，基板Ｇの一辺程度の長さの略直方体形状の本体２３ａを有し，当該本体２３ａの長手方向がＸ方向に向けられている。ダイヘッド２３の下面には，本体２３ａの長手方向に沿ったスリット状の吐出口２４が形成されている。ダイヘッド２３は，図示しない塗布液供給源に連通されており，当該塗布液供給源からダイヘッド２３内に導入された塗布液は，ダイヘッド２３の下面の吐出口２４からカーテン状に吐出される。ダイヘッド２３が塗布液を吐出しながら，レール２０に沿ってＹ方向に移動することによって，載置台３に載置された基板Ｇの全面に塗布液を塗布できる。
【００３０】
載置台３のＹ方向の両側には，ダイヘッド２３の待機部３０，３１がそれぞれ設けられている。待機部３０，３１には，例えばダイヘッド２３からの塗布液の吐出状態を安定，調整するための吐出調整部材としてのディスペンスロール３２，３３が配置されている。ディスペンスロール３２，３３は，例えば基板Ｇの短辺程度の円柱状に形成されており，図示しない回転駆動部により回転できる。ディスペンスロール３２，３３を回転させた状態で，ダイヘッド２３からディスペンスロール３２，３３の最上部に塗布液を所定時間吐出することによって，塗布液の吐出状態を調整できる。
【００３１】
ディスペンスロール３２，３３の下方には，例えば図３に示すように回収容器３４，３５がそれぞれ設けられており，ディスペンスロール３２，３３から流れ落ちる塗布液を受け止めて回収することができる。各ディスペンスロール３２，３３には，ディスペンスロール３２，３３の表面に接触するブレード３６，３７がそれぞれ設けられている。回転するディスペンスロール３２，３３に吐出され，当該回転方向にディスペンスロール３２，３３の表面を伝って流れる塗布液は，ブレード３６，３７により掻き取られ，ディスペンスロール３６，３７から離れて回収容器３４，３５に回収される。なお，本実施の形態においては，待機部３０，ディスペンスロール３２，回収容器３４及びブレード３６がＹ方向負方向側（図２の右側）に配置され，待機部３１，ディスペンスロール３３，回収容器３５，ブレード３７がＹ方向正方向側（図２の左側）に配置されている。
【００３２】
本実施の形態にかかる塗布装置１は，以上のように構成されており，次に塗布装置１で実施される塗布処理プロセスについて説明する。
【００３３】
先ず，基板Ｇが搬送経路Ｂの上流側から塗布装置１内に搬入されると，例えば予め載置台３上に突出して待機していた小型ローラ１０に基板Ｇが受け渡され，小型ローラ１０の回転により，基板Ｇが載置台３上の中央部まで搬送される。基板Ｇが載置台３の中央部に位置すると，小型ローラ１０の回転が停止され，小型ローラ１０が下降し，基板Ｇは，載置台３上に載置される（例えば図３に示す）。基板Ｇが載置台３上に載置されると，図示しない吸着手段により基板Ｇが載置台３上に吸着される。
【００３４】
このとき，例えばＹ方向の負方向側の待機部３０で待機していたダイヘッド２３はディスペンスロール３２の最上部の上方に位置されている。そして，回転されたディスペンスロール３２上に，ダイヘッド２３の吐出口２４から塗布液が所定時間吐出される。ダイヘッド２３からの塗布液の吐出が安定すると，塗布液の吐出が一旦停止され，その後ダイヘッド２３は，レール２０に沿って基板ＧのＹ方向負方向側の端部上まで移動する。
【００３５】
ダイヘッド２３から再び塗布液がカーテン状に吐出され，当該ダイヘッド２３がレール２０に沿ってＹ方向正方向側に移動する。こうしてダイヘッド２３が載置台３上の基板Ｇ上をＹ方向正方向側の端部上まで移動すると，基板Ｇの全面に塗布液が塗布される。
【００３６】
ダイヘッド２３が基板ＧのＹ方向正方向側の端部上まで移動し停止すると，塗布液の吐出が停止され，その後ダイヘッド２３は，待機部３１のディスペンスロール３３上まで移動して待機する。
【００３７】
一方，基板Ｇの全面に塗布液が塗布されると，小型ローラ１０が上昇し，基板Ｇが搬送ローラＣと同じ程度の高さまで上昇する。小型ローラ１０が回転し，載置台３上の基板Ｇが下流側の搬送ローラＣに送られ，塗布装置１から基板Ｇが搬出される。
【００３８】
塗布装置１では，引き続きディスペンスロール３３上においてダイヘッド２３から塗布液が吐出され，ダイヘッド２３の吐出状態が調整される。そして，例えば，前の基板が搬出されると同時に次の基板Ｇが塗布装置１内に搬入される。つまり基板の給排が同時に行われる。次の基板Ｇが前の基板Ｇと同様にして載置台３に載置されると，ダイヘッド２３が次の基板ＧのＹ方向正方向側の端部上まで移動し，塗布液の吐出が開始された後，レール２０に沿ってＹ方向負方向側に向けて移動する。こうして次の基板Ｇに塗布液が塗布される。次の基板Ｇの塗布処理が終了し塗布装置１から搬出されると，さらに次の基板Ｇが搬入され，今度はダイヘッド２３は，Ｙ方向正方向側に移動しながら塗布液を塗布する。このように，ダイヘッド２３は，Ｙ方向の往路と復路の両方で基板Ｇに塗布液を塗布する。
【００３９】
以上の実施の形態によれば，レール２０が載置台３の上方に配置され，そのレール２０の支持部材２１が搬送経路ＢのＹ方向の外方に設けられたので，外部から塗布装置１に対する基板Ｇの搬送経路Ｂが確保される。したがって，ダイヘッド２３を用いた塗布装置１であっても，基板搬送用コンベヤＡを用いて基板Ｇを搬入出できる。それ故，大型の基板Ｇであっても容易に基板Ｇを搬入出できる。また，基板Ｇの搬入出の際に，従来のようにロボットアームが塗布装置１に逐次アクセスする必要がないので，その分基板Ｇの搬送時間が短縮される。
【００４０】
載置台３には，載置面３ａ上に突出自在な小型ローラ１０を設けたので，塗布装置１の外部の搬送ローラＣと載置台３との基板Ｇの受け渡しを円滑に行うことができる。また，載置台３上の所望位置に基板Ｇを載置できる。なお，本実施の形態において載置台３に設けられた基板搬送部材は，小型ローラ１０であったが，他の基板搬送部材，例えばベルトであってもよい。また，搬送方式としてフローティング方式を用いてもよい。
【００４１】
載置台３のＹ方向の両側に待機部３０，３１をそれぞれ設け，当該待機部３０，３１にディスペンスロール３２，３３をそれぞれ設けたので，塗布時にダイヘッド２３が基板Ｇ上を一方向に向かって移動した後に，その都度元の位置に戻る必要がない。したがって，ダイヘッド２３の元に戻るための時間が必要なくなり，基板処理が効率的に行われる。
【００４２】
次に，本発明にかかる塗布装置の第２の実施の形態について説明する。図５は，かかる実施の形態にかかる塗布装置５０の構成の概略を示す縦断面の説明図であり，図６は，塗布装置５０の構成の概略を示す平面図である。なお，塗布装置５０に接続された基板搬送用コンベヤＡ，塗布装置５０の基台５１，載置台５２，及び小型ローラ５３の構成は，前記実施の形態と同じ構成であるので，説明を省略する。
【００４３】
塗布装置５０の基台５１上には，図５及び図６に示すように載置台５２の搬送方向（図５のＸ方向）の両側に２本のレール５４，５５が設けられている。このレール５４，５５は，載置台５２の載置面５２ａよりも低い位置であって，図６に示すように載置台５２の幅方向（図６のＹ方向）の一端部側の外方から他端部側の外方に渡って形成されている。
【００４４】
レール５４，５５上には，駆動部５６を介して支持部材５７が移動自在に取り付けられている。支持部材５７は，例えば図７に示すようにレール５４からレール５５に渡って形成された門型形状を有し，例えばレール５４の上方に向けて形成された板状の垂直部５７ａと，レール５５の上方に向けて形成された板状の垂直部５７ｂと，垂直部５７ａ，５７ｂの上部を水平に連結する水平部としての水平支持部５７ｃによって構成されている。支持部材５７の水平支持部５７ｃには，例えば固定部材５８を介してダイヘッド５９が吊り下げられている。ダイヘッド５９は，本体５９ａの長手方向をＸ方向に向けた状態で吊り下げられている。したがって，支持部材５７がレール５４，５５上を移動することによって，ダイヘッド５９は，載置台５２上をＹ方向に向けて移動できる。
【００４５】
支持部材５７の垂直部５７ａ，５７ｂのＸ方向の外側面，つまり垂直部５７ａ，５７ｂの搬送ロールＣ側の面には，搬送ロールＣと同程度の高さの位置に凹み部６０が形成されている。この凹み部６０によって，載置台５２に近い搬送ロールＣを載置台５２により近づけて配置することができる。また，塗布装置１の直前において，Ｙ方向の側面から見て基板Ｇの先端部を凹み部６０内に挿入した状態で，基板Ｇを待機させることができるので，その分基板Ｇは載置台５２に近い位置で待機できる。なお，載置台５２のＹ方向の両側には，前記実施の形態と同様に，例えば待機部６１，６２，ディスペンスロール６３，６４，回収容器６５，６６及びブレード６７，６８がそれぞれ配置されている。
【００４６】
次に，第２の実施の形態の塗布装置１における塗布処理プロセスについて説明する。基板Ｇは，塗布装置１に搬入される前，図５に示すようにＹ方向の側面から見て支持部材５７の凹み部６０に基板Ｇの先端部が挿入する位置まで進んで待機している。そして，前の基板の処理が終了すると，支持部材５７が搬送経路Ｂ上から幅方向のＹ方向負方向側に退避した状態で，基板Ｇが載置台５２上に搬送される。このとき，基板Ｇは，前記実施の形態と同様に予め上昇していた小型ローラ５３に受け取られ，載置台５２の中央部まで搬送され，その後小型ローラ５３の下降によって載置台５２上に載置される。基板Ｇが塗布装置１内に搬入されると，次に処理される基板は，上記基板Ｇと同様に塗布装置１の直前において側面から見て先端部が凹み部６０に挿入された位置で待機する。
【００４７】
Ｙ方向負方向側の待機部６１に待機しているダイヘッド５９は，ディスペンスロール６３上において塗布液を吐出し，塗布液の吐出状態が調整される。基板Ｇが載置台５２上に載置されると，門型の支持部材５７がレール５４，５５上を移動し，ダイヘッド５９は，基板ＧのＹ方向負方向側の端部上まで移動する。このとき，支持部材５７に凹み部６０が設けられているので，次に処理される待機中の基板と支持部材５７が接触することはない。
【００４８】
その後，ダイヘッド５９から塗布液が吐出され，支持部材５７がレール５４，５５上をＹ方向正方向側に移動して，ダイヘッド５９が基板ＧのＹ方向負方向側の端部上からＹ方向正方向側の端部上まで移動する。こうして，基板Ｇの全面に塗布液が塗布される。ダイヘッド５９は，塗布液の吐出を停止した後，Ｙ方向正方向側の待機部６２上まで移動し，再びディスペンスロール６４において吐出状態が調整される。このダイヘッド５９の移動に伴って，支持部材５７は搬送経路Ｂ上から退避しており，その後基板Ｇは小型ローラ５３を介して載置台５２から搬送ローラＣに渡される。
【００４９】
基板Ｇが搬送ローラＣに渡されて，塗布装置１から搬出された後は，次の基板が搬入され，前記実施の形態と同様にダイヘッド５９がＹ方向正方向側から負方向側に向けて移動する際に，次の基板の塗布処理が行われる。
【００５０】
この実施の形態によれば，支持部材５７がレール５４，５５上に沿って搬送経路ＢのＹ方向の外方まで退避できるので，基板Ｇの搬入出時に，塗布装置１の外部から塗布装置１内に通じる搬送経路Ｂが確保される。したがって，基板搬出用コンベヤＡを用いて，塗布装置１に基板Ｇを搬入出できるので，基板Ｇの大型化に対応できる。また，基板Ｇの搬入出が連続的に行われるので，搬送時間を短縮できる。
【００５１】
また，支持部材５７の搬送方向の外側面に凹み部６０が形成されているので，その分搬送ローラＣを載置台５２に近づけて配置することができる。こうすることにより，搬送ローラＣと載置台５２と間で基板Ｇが搬送される時に，基板Ｇが自重により反って基板Ｇが変形することが抑制される。また，次に処理される基板の先端部が凹み部６０内に挿入され，当該基板が載置台５２に近い位置で待機できるので，基板Ｇの載置台５２への搬送時間を短縮できる。なお，本実施の形態において，例えば図示しない駆動機構によって，支持部材５７に最も近い搬送ローラＣを載置台５２側に進退させるようにしてもよい。かかる場合，基板Ｇの搬送時に搬送ローラＣと載置台５２との間隔を狭くすることができるので，搬送時の基板Ｇのそりや撓みを抑制できる。
【００５２】
以上，本発明の実施の形態の一例について説明したが，本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば本実施の形態における基板搬送用コンベヤＡは，コロ搬送によるものであったが，ベルト搬送のものであってもよい。また，小型ローラは，円柱状のものであったが，基板Ｇとの接触面積を減らすため，例えば点接触になる円盤状或いは球状のものを用いてもよい。
【００５３】
【発明の効果】
本発明によれば，基板搬送用コンベヤによる基板の搬入出が可能になるので，基板の大型化に対応できる。また，基板の搬入出が連続的に円滑に行われるので，搬送時間が短縮され，スループットの向上が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態にかかる塗布装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図２】図１の塗布装置の構成の概略を示す平面図である。
【図３】基板の搬入方向から見た図１の塗布装置の構成の概略を示す側面図である。
【図４】小型ローラの昇降機構を示す載置台の縦断面の説明図である。
【図５】第２の実施の形態にかかる塗布装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図６】図５の塗布装置の構成の概略を示す平面図である。
【図７】支持部材の斜視図である。
【符号の説明】
１  塗布装置
３  載置台
１０  小型ローラ
２０  レール
２１  支持部材
２３  ダイヘッド
Ａ  基板搬送用コンベヤ
Ｂ  搬送経路
Ｃ  搬送ローラ
Ｇ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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