(57)【要約】【課題】装置構成の簡略化、露光動作中の振動発生の低減を図る。【解決手段】マスクＭと基板とを所定の方向に同期移動しつつ露光光によりマスクのパターンを基板に転写する露光装置である。基板上に照射されるパターンの像の外形形状の少なくとも一部を規定する遮光板５０ａ，５０ｂは、マスクを保持して移動するマスクステージ５上に設けられている。マスクステージ５のスキャン動作に伴い、遮光板５０ａ，５０ｂもマスクＭとの相対関係を保ったまま移動することになる。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクと感光性の基板とを所定の方向に同期移動しつつ露光光により前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板に転写する露光装置において、
前記マスクを保持し、前記マスクを前記所定の方向に沿って移動するマスクステージと、
前記マスクステージに設けられ、前記基板上に照射される前記パターンの像の外形形状の少なくとも一部を規定するとともに、前記所定の方向とは交差する方向に細長くのびた領域を遮光する遮光装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記遮光装置は、前記基板への前記パターンの投影開始位置における前記パターンの像の外形形状を規定する第１遮光板と、前記基板への前記パターンの投影終了位置における前記パターンの像の外形形状を規定する第２遮光板とを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記遮光装置は、前記第１遮光板及び前記第２遮光板の少なくとも一方の前記所定の方向に沿う方向の位置を調整する調整装置を備えたことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記調整装置は、前記第１遮光板及び前記第２遮光板を前記マスクステージ上の前記マスクが保持される領域より外側の退避位置に移動させることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記調整装置は、前記第１遮光板及び前記第２遮光板の移動を案内するガイド部と、前記第１遮光板及び前記第２遮光板を駆動するモータ部と、前記第１遮光板及び前記第２遮光板の位置を計測する位置計測部とを備えたことを特徴とする請求項２、３又は４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記調整装置は、前記マスクのパターンを前記基板に転写中は、前記モータ部の位置サーボをオフすることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記遮光装置の所定の方向の幅は、前記マスクのパターンが逐次露光される幅と前記同期移動の速度により規定されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示素子、半導体集積回路等のマイクロデバイスをリソグラフィ技術を用いて製造する際に使用される走査型（スキャン型）の露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、テレビ等の表示素子として、液晶表示パネルが多用されるようになっている。特に、携帯性が重視されるノート型のワードプロセッサやノート型のパーソナルコンピュータでは表示素子として液晶表示パネルが必須となっている。また、近年においては、２０インチを越える液晶表示パネルが実用化されているが、液晶表示パネルは設置場所をさほど必要としないため、一般家庭用のテレビとして用いる機会も多くなっている。
【０００３】
液晶表示パネルは、ガラス基板（プレート）等の基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターンニングして作られる。このリソグラフィのための装置として、マスク上に形成された原画パターンを投影光学系を介してガラス基板上のフォトレジスト層に転写するスキャン方式（走査型）の露光装置が従来から使われている。このスキャン方式の露光装置は、照明光学系から出射されたスリット状の照明光（露光光）を用いてマスクを照明し、マスク上に形成された原画パターンの像をガラス基板上に投影する。そして、走査露光、即ち基板とプレートとを同期的に移動させつつ露光することによってマスク上に形成された原画パターン全体を基板上に転写する。
【０００４】
また、近時においては、液晶表示パネルの大型化が進み、基板の面積は年々大面積化するが、基板の大面積化にマスクの大型化が伴わないのが現状である。このため、基板の一部に対してスキャン露光を行い、順次プレートをステップ移動させつつ、基板の異なる位置にスキャン露光を繰り返し行うようにしたステップ・スキャン方式の露光装置も開発されている。
【０００５】
ところで、上述したようなスキャン方式の露光装置においては、マスクと基板とを同期的に移動させつつ露光するため、照明光源からのスリット状の照明光がマスクのパターン領域（転写すべきパターンが形成された領域）に至る前、及び該パターン領域を通過した後においては、該照明光でプレートを露光しないように遮光する必要があり、このため、通常、マスクのパターン領域の外側には、クロム等を蒸着・形成してなる遮光帯域（遮光領域）が設けられている。
【０００６】
このような遮光帯域を設けないと、基板上において、マスクのパターンの像が転写されるべき部分以外の部分が露光されてしまい、パターニング効率が低下するからである。なお、この部分をスクライブライン、つまり回路等を形成した後に各回路を切断するための部分に利用することも考えられるが、走査速度の高速化等に伴い、スクライブラインの幅も広がってしまい、その分パターニング効率がやはり低下する。
【０００７】
この遮光帯域は、少なくとも照明光の走査方向の幅（走査方向に離間された複数の部分照明光により走査するものにあっては、先行する部分照明光の先端縁と後続する部分照明光の後端縁との間の寸法）よりも広くする必要があり、一般には走査時の最高速度との関係で加速及び減速区間も考慮するので、当該照明光の幅よりも十分大きい幅を確保する必要がある。
【０００８】
しかしながら、マスクは一般的に透明ガラス基板上にクロムを蒸着して作成するが、蒸着面積を広くするとピンホール等の点欠陥が生じることが多く、遮光帯域に点欠陥があると、本来的に露光すべきでない部分が点状に露光されてしまう。上記のように、マスクの遮光帯域を広くした場合には、点欠陥の生じる確率が高くなってしまい、基板の露光を行う上で好ましくない。また、遮光帯域の幅を広くすると、マスクのコストが上昇してしまう。
【０００９】
このような問題を改善するため、スキャン型の露光装置においては、露光開始時点においてマスクの移動に追従してマスクの走査方向に移動する露光開始遮光板と、露光終了時点においてマスクの移動に追従してマスクの走査方向に移動する露光終了遮光板とを、マスクを保持するマスクステージと投影光学系との間に設け、露光開始時点及び露光終了時点において各々を駆動するようにしている。
【００１０】
上記の露光開始遮光板及び露光終了遮光板は、対向する端部が互いに平行となるように、且つ走査方向に対して直交するように設定されており、露光時においては上述のようにマスクに追従するように駆動されるが、その駆動機構はマスクステージの駆動機構とは独立して設けられている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来技術では、露光開始遮光板及び露光終了遮光板をマスクの移動に対して追従移動させるための独立した駆動機構が必要であるため、マスクステージ周辺の構造が複雑となり、コスト上昇の原因の一つとなっている。
【００１２】
また、露光動作中に露光開始遮光板及び露光終了遮光板が駆動されるため、その駆動に伴い生じる振動が光学系やマスクステージ等に伝達され、露光精度やステージの位置決め精度に悪影響を与える場合があるという問題があった。この場合において、遮光板の駆動に伴う反力を相殺するためのアクティブ型又はパッシィブ型の反力相殺機構を採用し、このような振動による悪影響を緩和する方法もあるが、振動を完全に抑制することはできず、また当該機構採用に伴いコストが上昇するという問題がある。
【００１３】
さらに、遮光板をマスクステージの移動に高精度に同期させるためには、正確な位置制御が必要であり、制御系の負担も大きく、やはりコストの上昇を招くという問題もあった。
【００１４】
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、装置構成を簡略にするとともに、露光動作中の振動の発生を少なくし、コストの低減及び露光精度の向上を図ることを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
以下、この項に示す説明では、本発明を、実施の形態を表す図面に示す部材符号に対応付けて説明するが、本発明の各構成要件は、これら部材符号を付した図面に示す部材に限定されるものではない。
【００１６】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点によると、マスク（Ｍ）と感光性の基板（Ｐ）とを所定の方向に同期移動しつつ露光光により前記マスクのパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して前記基板に転写する露光装置において、前記マスクを保持し、前記マスクを前記所定の方向に沿って移動するマスクステージ（５）と、前記マスクステージに設けられ、前記基板上に照射される前記パターンの像の外形形状の少なくとも一部を規定するとともに、前記所定の方向とは交差する方向に細長くのびた領域を遮光する遮光装置（５０ａ，５０ｂ）とを備えた露光装置が提供される。
【００１７】
本発明の第１の観点に係る露光装置では、遮光装置をマスクステージ上に設けたので、遮光装置をマスクの移動に追従して同期移動方向に沿って移動するための駆動部を備える必要がなくなる。従って、装置構成が簡略化されるとともに、遮光装置の駆動に伴い生じていた振動が発生しなくなるので、露光精度を向上することができ、さらに、遮光装置の駆動のための制御も不要となり、コストを大幅に低減することができる。
【００１８】
本発明の第１の観点に係る露光装置において、前記遮光装置は、前記基板への前記パターンの投影開始位置における前記パターンの像の外形形状を規定する第１遮光板（５０ａ）と、前記基板への前記パターンの投影終了位置における前記パターンの像の外形形状を規定する第２遮光板（５０ｂ）とを含むことができる。
【００１９】
また、前記遮光装置は、前記第１遮光板及び前記第２遮光板の少なくとも一方の前記所定の方向に沿う方向の位置を調整する調整装置（４９，６０ａ，６０ｂ，６１ａ，６１ｂ，６２ａ，６２ｂ，６３ａ，６３ｂ，６４ａ，６４ｂ）を備えることができる。このような調整装置を備えることにより、マスクステージ上に保持されるマスクの構成（パターンの形成領域や遮光領域の位置や形状等）が変更された場合であっても、柔軟に対応することができるようになる。
【００２０】
この場合において、前記調整装置（４９，６０ａ，６０ｂ，６１ａ，６１ｂ，６２ａ，６２ｂ，６３ａ，６３ｂ，６４ａ，６４ｂ）は、前記第１遮光板及び前記第２遮光板（５０ａ，５０ｂ）を前記マスクステージ（５）上の前記マスク（Ｍ）が保持される領域より外側の退避位置に移動させるようにできる。第１遮光板及び第２遮光板を退避位置に設定することにより、マスクの交換に伴う作業性を向上することができる。
【００２１】
また、前記調整装置は、前記第１遮光板及び前記第２遮光板（５０ａ，５０ｂ）の移動を案内するガイド部（４９，６１ａ，６１ｂ，６４ａ，６４ｂ）と、前記第１遮光板及び前記第２遮光板を駆動するモータ部（４９，６０ａ，６０ｂ）と、前記第１遮光板及び前記第２遮光板の位置を計測する位置計測部（６３ａ，６３ｂ）とを備えることができる。第１遮光板及び第２遮光板をマスクステージ上に保持されるマスクに対して正確に位置決めすることができるようになる。
【００２２】
この場合において、前記調整装置は、前記マスクのパターンを前記基板に転写中は、前記モータ部（６０ａ，６０ｂ）の位置サーボをオフする、即ち、モータ部による第１遮光板及び第２遮光板の駆動を停止するようにできる。調整装置によって第１遮光板及び第２遮光板とマスクとの相対位置の調整を行った後、位置サーボをオフすることにより、これらの相対位置関係が確定し、パターンの転写時にマスクステージが移動された場合においてもこれらの相対位置関係が変化することを防止できる。
【００２３】
また、前記遮光装置の所定の方向の幅は、前記マスクのパターンが逐次露光される幅と前記同期移動の速度により規定される。これにより、遮光装置を小型化でき、重量の増加を少なくすることが可能であるので、マスクステージの制御を円滑に行うことが可能となる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２５】
図１は本発明の実施の形態に係る露光装置の概略構成を示す図であり、図２は図１の露光装置が備える照明光学系の概略構成を示す図である。この露光装置は、液晶表示素子を製造するため、投影光学系ＰＬに対してマスクＭと感光剤がその表面に塗布されたプレート（感光性の基板）Ｐとを同期的に移動させつつマスクＭに形成されたパターンの像を逐次的にプレートＰ上に転写するスキャン型の露光装置である。
【００２６】
なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図１に示すＸＹＺ直交座標系は、Ｙ軸及びＺ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Ｘ軸が紙面に対して垂直となる方向に設定されている。ＸＹＺ直交座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。また、本実施の形態において、走査方向（スキャン方向）はＸ方向に設定されている。
【００２７】
図１及び図２において、１は光源としての超高圧水銀ランプであり、不図示の電源から電力の供給を受けて発光する。超高圧水銀ランプ１から射出された光は楕円鏡２で集束されて楕円鏡２の第２焦点に集光する。各楕円鏡２の第２焦点の位置にはライトガイド３の光入射部３ａが配置されており、第２焦点に集光した光は光入射部３ａからライトガイド３内に入射する。このライトガイド３は、複数の光入射部３ａから入射された光を一旦集合した後に均等に分配して複数の光射出部３ｂから射出させる機能を有し、例えば、複数の光ファイバを束ねる等により構成されている。
【００２８】
ライトガイド３の光射出部３ｂ各々から射出された光は不図示のフライアイインテグレータによって均一な照度分布をもつ光束に変換され、スリット形状の開口を有するブラインド（図示省略）によってスリット状に整形される。このブラインドを通過したスリット状の光束はコンデンサレンズ４に入射する。各コンデンサレンズ４は入射した光束をマスクＭ上に結像することで、長手方向がＹ方向に設定されたスリット状の照明領域でマスクＭを照明する。
【００２９】
なお、ライトガイド３の光射出部３ｂと上述した不図示のフライアイインテグレータとの間の光路上に、それぞれ透過光の照度を調節するための照度調節フィルタ及びモニタ光を分岐させるためのハーフミラー（何れも図示省略）を設け、モニタ光の光量に応じて照度調節フィルタを調整することで、マスクＭに照射される照明光の照度が均一になるよう制御することが好ましい。
【００３０】
上述したライトガイド３の光射出部３ｂ、不図示のフライアイインテグレータ、不図示のブラインド、不図示の照度調節フィルタ、不図示のハーフミラー、及びコンデンサレンズ４は、それぞれｎ（ｎは２以上の整数）個設けられており、これらによりＹ方向に配列的に設けられた複数の部分照明光学系Ｉ１〜Ｉｎが構成されている。また、上述した超高圧水銀ランプ１、楕円鏡２、ライトガイド３、及び部分照明光学系Ｉ１〜Ｉｎから照明光学系ＩＳが構成されている。なお、以下においてはｎ＝５として説明を進める。
【００３１】
マスクＭは不図示のモータによって投影光学系ＰＬの光軸ＡＸの方向に微動可能で、且つその光軸ＡＸに垂直な面内で２次元移動及び微小回転可能なマスクステージ５上に保持される。このマスクステージ５は露光時においてＸ方向に一定速度で移動可能に構成されている。マスクステージ５の端部には不図示のレーザ干渉計からのレーザビームを反射する移動鏡（図示省略）が固定されており、マスクステージ５の２次元的な位置及び回転角はレーザ干渉計によって、所定の分解能で常時検出されている。レーザ干渉計の検出結果はステージ制御部１２に出力され、ステージ制御部１２はレーザ干渉計の検出結果を参照しつつメインコントローラ１０からの制御信号に従ってマスクステージ駆動部１３を駆動してマスクステージ５を制御する。
【００３２】
ここで、マスクステージ５及びその近傍の構成について詳細に説明する。図３は、マスクステージ及びその近傍の構成を示す斜視図である。これらの図に示すように、装置架台４１の略中央部にはスキャン方向としてのＸ方向に長手方向を有する長方形状の窓４２が形成されている。装置架台４１上には、この窓４２を挟んで互いに対向するように、一対のステージガイド４３がＸ方向に沿って延設されているとともに、ステージガイド４３のさらに外側にステージ駆動用アクチュエータとしてのリニアモータの固定子４４がそれぞれＸ方向に沿って延設されている。
【００３３】
一対のステージガイド４３上には、エアベアリング（空気軸受け）を構成する複数のエアパッド４５を介してマスクステージ５が載置されている。ここでは、エアパッド４５はマスクステージ５の４隅部近傍にそれぞれ１個ずつ設置されている。なお、図３では＋Ｘ方向側の２個のみが表示されている。各エアパッド４５は、図示は省略しているが、それぞれ単一又は複数のエア吹出孔及び単一又は複数のエア吸引孔を有している。エアパッド５の浮上量は、エア吹出孔からのエアの吹出圧及びエア吸引孔からのエアの吸引圧を適宜に調整することにより一定に保たれるようになっている。一方側（＋Ｙ方向側）のエアパッド４５は、マスクステージ５のＹ方向への移動を制限するため、対応するステージガイド４３を挟み込むように略コの字状に形成されており、該ステージガイド４３の側面に対応する内面にも複数のエア吹出孔が設けられている。
【００３４】
マスクステージ５のＹ方向の両端部には、それぞれリニアモータの可動子４６が一体的に設けられており、可動子４６は断面が略コの字状の固定子４４の内側に入り込むように配置されている。マスクステージ５の略中央部には、照明光を透過させるための矩形状の窓４７が形成されており、窓４７の近傍には、マスクＭを支持するための複数（図３では３個）の保持部４８が設けられている。
【００３５】
マスクステージ５上には、マスクＭに照射される照明光を遮光するための遮光板５０ａ，５０ｂ（第１遮光板、第２遮光板）がＹ方向の延設されている。遮光板５０ａ，５０ｂは露光開始時点又は露光終了時点においてマスクＭに照射されるスリット状の照明領域のうちの一部を遮光することで、投影光学系ＰＬを介してプレートＰに投影されるパターン像の外形形状の一部を遮光して、ショット領域の端部の精度を確保するためのものである。上述したようにマスクＭに対する照明領域は長手方向がＹ方向に設定されたスリット状であるため、遮光板５０ａ，５０ｂのＸ方向の幅は遮光領域を遮光し得る程度の幅に設定される。
【００３６】
各遮光板５０ａ，５０ｂの両端部は、それぞれ一対の位置調整装置（調整装置）４９により支持されている。位置調整装置４９は、遮光板５０ａ，５０ｂをＸ方向にスライド自在に保持するスライド機構、及びＸ方向移動用のアクチュエータを有する駆動機構を備えて構成されている。本実施の形態では、スライド機構として直動案内装置（いわゆるＬＭガイド）を、駆動機構としてサーボモータ（モータ部）をアクチュエータとするボールねじ機構を用いている。このような位置調整装置４９により、遮光板５０ａ，５０ｂがＸ方向の任意の位置で位置決め可能に平行移動できるようになっている。
【００３７】
遮光板５０ａ，５０ｂは、スキャン動作に先立ち、ボールねじ機構のサーボモータが適宜に制御されることにより、マスクステージ５上に保持されたマスクＭの遮光部との相対位置関係が調整された上で、サーボモータの位置サーボ（制御）が停止されることにより、スキャン動作時には、遮光板５０ａ，５０ｂのマスクＭとの位置関係が変化しないように、サーボモータに設けられたブレーキをかけることによってロックされるようになっている。なお、位置調整装置４９に、遮光板５０ａ，５０ｂを選択的にロックするためのブレーキ機構を設けて積極的にその位置を固定するようにしてもよい。
【００３８】
マスクＭの交換時には、遮光板５０ａを＋Ｘ方向へ移動させるとともに、遮光板５０ｂを−Ｘ方向へ移動させて、それぞれを所定の退避位置に退避させることにより、マスクＭの交換の支障とならないようになっている。
【００３９】
なお、上記の例では、マスクステージ５を支持するエアパッド４５は、マスクステージ５の４隅近傍にそれぞれ１個ずつ合計４個を設けていたが、図４及び図５に示されているように、エアパッド４５を３個とすることが、マスクステージ５の安定的保持の観点から望ましい。この場合において、エアパッド４５のエア吸引孔は、各エアパッド４５についてそれぞれ１個としても勿論よいが、図４及び図５では一方側（＋Ｙ方向側）の単一のエアパッド４５にＸ方向に離間して２個のエア吸引孔５１ａ，５１ｂを、他方側（−Ｙ方向側）の２個のエアパッド４５にそれぞれ１個ずつのエア吸引孔５１ｃ，５１ｄを設けて、合計４個のエア吸引孔を設けている。このように、マスクステージ５を３個のエアパッド４５で支持するとともに、４個のエア吸引孔５１ａ，５１ｂ，５１ｃ，５１ｄにより４箇所で吸引することで、エア吹出孔からのエアの吹出圧及びエア吸引孔５１ａ，５１ｂ，５１ｃ，５１ｄからのエアの吸引圧を適宜に調整することにより、マスクステージ５のねじれを矯正することができるとともに、その浮上量をより均一化することができる。
【００４０】
また、上記の例では、マスクステージ５上に保持するマスクＭの大きさは一定あるいはそれ程大きさが変化しないことを前提として、３個の保持部４８により、マスクステージ５上にマスクＭを保持するようにしたが、マスクＭの大きさの変化に柔軟に対応するためには、図６に示されているような構成とすることが望ましい。
【００４１】
即ち、マスクＭを保持するための複数（同図では互いに対向するように４個ずつの合計８個）の保持部５２ａ，５２ｂ，５２ｃ，５２ｄ，５２ｅ，５２ｆ５２ｇ，５２ｈを設け、小さいマスクＭ１を保持する場合には、中央部の４個の保持部５２ｂ，５２ｃ，５２ｆ，５２ｇで保持するようにし、大きいマスクＭ２を保持する場合には全て（８個）の保持部５２ａ，５２ｂ，５２ｃ，５２ｄ，５２ｅ，５２ｆ，５２ｇ，５２ｈで保持するようにすると良い。中間の大きさのマスクの場合には、図示はしないが、６個の保持部５２ａ，５２ｂ，５２ｃ，５２ｅ，５２ｆ，５２ｇ又は５２ｂ，５２ｃ，５２ｄ，５２ｆ，５２ｇ，５２ｈで保持することができる。同図では、保持部５２ａ，５２ｂ，５２ｃ，５２ｄと保持部５２ｅ，５２ｆ，５２ｇ，５２ｈはそれぞれ互いに対応する位置に設けられているが、互いに補完するように、即ち段違いに配列してもよい。保持部の個数も８個に限られず、さらに多くても少なくてもよく、また偶数個に限らず、奇数個であってもよい。
【００４２】
なお、各保持部５２ａ，５２ｂ，５２ｃ，５２ｄ，５２ｅ，５２ｆ，５２ｇ，５２ｈにはそれぞれ単一又は複数のエアの吸引孔５３が設けられており、マスクＭ１，Ｍ２を負圧吸着することにより、マスクステージ５の移動等に伴うマスクＭ１，Ｍ２のずれが防止されるようになっている。また、５４はＺ方向に突出するように、バネで付勢された複数（同図では１２個）の流れ止めピンであり、何らかの理由によりマスクＭ１，Ｍ２にずれが発生した場合に、マスクＭ１，Ｍ２の側面が流れ止めピン５４に当接することにより、それ以上のマスクＭ１，Ｍ２のずれの発生を防止するためのものである。なお、流れ止めピン５４は、大きいマスクＭ２の保持に伴いマスクＭ２の下面が当接した場合には、−Ｚ方向に埋没するようになっている。流れ止めピン５４の配置や個数は同図に示したものに限られず、対象とするマスクの大きさのバリエーションに応じて決定される。なお、マスクＭ１，Ｍ２の保持はエア吸引孔５３による負圧吸着以外に静電吸着等によって行うようにしても良い。
【００４３】
また、図３に示した構成では、マスクＭを保持するための保持部４８は、＋Ｚ方向に突出するとともに、遮光板５０ａ，５０ｂは位置調整装置４９に直接的に支持されているように表示されているが、マスクステージ５は、その剛性を保つ等の観点からマスクの厚さに対してかなりの厚さを有しているため、実際には図７に示されているように、マスクＭをマスクステージ５の肉厚内に保持するような構造が採用されることが多い。この場合には、遮光板５０ａ，５０ｂをマスクＭ１，Ｍ２のパターン形成面（通常は下面）のなるべく近くに配置するため、同図に示されているように、遮光板５０ａ，５０ｂを可動部材５５を介して位置調整装置４９に支持するようにするとよい。
【００４４】
ところで、マスクステージ５には、アクチュエータ、センサ等に対する給電及び信号の送受信のための配線、エアの供給やバキューム等のための配管、その他のケーブルが取り付けられる。これらのケーブルは、スキャン方向が常に一定の方向（例えば、＋Ｘ方向のみ）であることを前提として、単一の柔軟性を有するフラットケーブルとされて、マスクステージ５の片側（＋Ｘ方向側又は−Ｘ方向側）に略横Ｕ字状に設けられるのが一般的である。
【００４５】
しかし、スループットの向上を図る観点から、例えば、＋Ｘ方向にスキャンした後に−Ｘ方向にスキャンし、これを交互に繰り返す両方向スキャンを考慮した場合には、片側に当該ケーブルが集中して設けられていると、＋Ｘ方向にスキャンしたときのケーブルによりマスクステージ５に作用する負荷と、−Ｘ方向にスキャンしたときのケーブルによりマスクステージ５に作用する負荷とが異なり、スキャン方向に依存して露光特性に相違を生じたり、プレートＰとの同期移動の制御をスキャン方向に応じて変更する必要が生じる等の問題が生じる。
【００４６】
そこで、本例では、図８（Ａ）〜図８（Ｃ）に示されているように、スキャン方向（＋Ｘ方向、−Ｘ方向）に対して、何れの方向に移動した場合にもケーブル５６によりマスクステージ５に作用する力（ケーブルテンション）が等しくなるように、ケーブルを２分割してこれらを互いに対称となるようにマスクステージ５の両側（＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側）に配置している。これにより、ケーブルテンションがスキャン方向によらず一定となり、露光特性のスキャン方向依存性やステージ制御の複雑化を防止することができる。
【００４７】
なお、本例では、Ｙ方向のバランスを考慮して、ケーブル５６はマスクステージのＹ方向の中央部近傍に取り付けることを前提としているが、Ｙ方向の両端部の一方の側（＋Ｙ方向側又は−Ｙ方向側）に互いに対称となるように配置しても良い。あるいは、１本をマスクステージ５の一方の側（＋Ｙ方向側）に、これと対称に配置される他の１本をマスクステージ５の他方の側（−Ｙ方向側）に配置してもよい。但し、これらの場合には、ケーブルテンションによりマスクステージ５に回転モーメントが生じることになるため、これを防止する必要がある場合には、ケーブル５６を４分割して、互いに対称に配置された一対のケーブル５６を、それぞれマスクステージ５の一方の側（＋Ｙ方向側）と他方の側（−Ｙ方向側）に配置すれば、そのような回転モーメントによる悪影響を防止することができる。
【００４８】
上記の例では、遮光板５０ａ，５０ｂとして、その幅（Ｘ方向の寸法）が比較的に小さいものを例示したが、迷光等の影響を排除したい場合には図９に示す幅広の遮光板５７ａ，５７ｂを用いても良い。図９は、遮光板の変形例を示す図である。図９においては、マスクＭの照明領域以外の部分を全て覆うように遮光板５７ａ，５７ｂのＸ方向の幅が設定された例が示されている。
【００４９】
次に、遮光板５０ａ，５０ｂを駆動する駆動装置の変形例について、図１０を参照して説明する。図１０はマスクステージ５の構成を示す上面図である。図１０に示すように、マスクステージ５の上面であってＹ方向における両端部には回転軸の軸方向がＸ方向に設定されたサーボモータ等の駆動装置（モータ部）６０ａ，６０ｂと、駆動装置６０ａ，６０ｂの回転軸に結合されて駆動装置６０ａ，６０ｂの駆動によって軸周りに回転する駆動軸６１ａ，６１ｂとが設けられている。この駆動軸６１ａ，６１ｂにはボールネジの原理により駆動軸６１ａ，６１ｂが回転すると軸方向（Ｘ方向）に沿って移動する可動部材６２ａ，６２ｂがそれぞれ取り付けられており、可動部材６２ａ，６２ｂにはマスクＭに照射される照明光を遮光するための遮光板５０ａ，５０ｂがそれぞれ取り付けられている。駆動軸６１ａ，６１ｂの駆動装置６０ａ，６０ｂと反対側の端部には、それぞれ遮光板５０ａ，５０ｂの移動量を計測するためのロータリエンコーダ等の位置計測装置（位置計測部）６３ａ，６３ｂが設けられている。
【００５０】
これにより、サーボモータの位置サーボをオフした場合においても、ロータリーエンコーダ等でモータ軸位置を監視しているので、初期化動作をともなうことなく、位置サーボをオンにした際にも、円滑に制御を行うことが可能となる。
【００５１】
また、駆動軸６１ａ，６１ｂに近接する位置であって、それぞれに対してほぼ平行にガイド（ガイド部）６４ｂ，６４ａが取り付けられている。ガイド６４ａ，６４ｂは遮光板６３ａ，６３ｂの一端を下方向からそれぞれ支持しており、Ｘ方向への可動部材６２ａ，６２ｂの移動に伴って遮光板５０ａ，５０ｂがガイド６４ａ，６４ｂ上を摺動することで、遮光板５０ａ，５０ｂがＸ方向に平行移動することができるように構成されている。なお、遮光板５０ａを＋Ｘ方向へ移動させるとともに遮光板５０ｂを−Ｘ方向へ移動させて退避させるとマスクＭの交換が可能となるのは、図３に示したものと同じである。
【００５２】
これにより、本体制御部１１は、位置計測装置６３ａ，６３ｂからの計測結果に基づいて、駆動装置６０ａ，６０ｂをフィードバック制御することにより、遮光板５０ａ，５０ｂはＹ方向に長手方向が設定された状態で、マスクＭの全領域に渡ってＸ方向に平行移動できるようになっている。なお、位置計測装置６３ａ，６３ｂは、ロータリーエンコーダに限られず、レーザ干渉計や光学読み取り式のリニアスケール等を用いることができる。
【００５３】
図１に戻り、マスクＭのパターン像は、照明光学系Ｉ１〜Ｉ５各々に対応してＹ方向に配列的に設けられた部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５からなる投影光学系ＰＬを介してプレートＰ上に投影される。本実施の形態では部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５としては、正立実像系の光学系を用いている。プレートＰ上に投影される露光光は部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５中に配置された視野絞りの開口によって整形され、外形形状が略台形状となる。
【００５４】
ここで、部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５の構成について説明する。なお、部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５は同様の構成であるため、以下の説明においては部分投影光学系ＰＬ１のみについて説明し、部分投影光学系ＰＬ２〜ＰＬ４については説明を省略する。図１１は、部分投影光学系ＰＬ１の構成を示す側面図である。
【００５５】
部分投影光学系ＰＬ１は、２組のダイソン型光学系を組み合わせた構成を有し、第１の部分光学系３０ａ、視野絞りＡＳ、及び第２の部分光学系３０ｂから構成されている。第１の部分光学系３０ａは、マスクＭに面して４５°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プリズム３１と、マスクＭの面内方向に沿った光軸を有し、凸面を直角プリズム３１に対して反対側に向けた平凸レンズ成分３２と、全体としてメニスカス形状であって凹面を平凸レンズ成分３２側に向けた反射面を有するレンズ成分３３と、直角プリズム３１の反射面と直交しかつマスクＭ面に対して４５°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プリズム３４とを有する。
【００５６】
マスクＭを介した照明光学系からの露光光は、直角プリズム３１によって光路が９０°偏向され、直角プリズム３１に接合された平凸レンズ成分３２に入射する。このレンズ成分３２には、平凸レンズ成分３２とは異なる硝材にて構成されたレンズ成分３３が接合されており、直角プリズム３１からの光はレンズ成分３２，３３の接合面３２ａにて屈折し、反射膜が蒸着された反射面３３ａに達する。反射面３３ａで反射された光は、接合面３２ａで屈折され、レンズ成分３２に接合された直角プリズム３４に達する。レンズ成分３２からの光は、直角プリズム３４により光路が９０°偏向されて、この直角プリズム３４の射出面側にマスクＭの１次像を形成する。ここで、第１の部分光学系３０ａが形成するマスクＭの１次像は、Ｘ方向の横倍率が負であり、かつＹ方向の横倍率が正である等倍像である。
【００５７】
１次像からの光は、第２の部分光学系３０ｂを介して、マスクＭの２次像をプレートＰの表面上に形成する。この第２の部分光学系３０ｂの構成は第１の部分光学系３０ａと同一であるため詳細な説明を省略する。第２の部分光学系３０ｂは、第１の部分光学系３０ａと同じく、Ｘ方向が負かつＹ方向が正となる等倍像を形成する。したがって、プレートＰの表面に形成される２次像は、マスクＭの等倍の正立像（上下左右方向の横倍率が正の像）となる。部分投影光学系ＰＬ１（第１の部分光学系３０ａ及び第２の部分光学系３０ｂ）は、両側テレセントリック光学系である。第１の部分光学系３０ａが形成する１次像の位置には、視野絞りＡＳが配置されている。
【００５８】
視野絞りＡＳは台形状の開口部を有し、この視野絞りＡＳによりプレートＰ上の露光領域が台形状に規定される。すなわち、図１１に示されるように、部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５は、内部に設けられた視野絞りＡＳによって規定される視野領域ＥＡ１〜ＥＡ５を有している。これらの視野領域ＥＡ１〜ＥＡ５の像は、プレートＰ上の露光領域上に等倍の正立像として形成される。ここで、部分投影光学系ＰＬ１，ＰＬ３，ＰＬ５は、視野領域ＥＡ１，ＥＡ３，ＥＡ５が図中Ｙ方向に沿って配列されるように設けられている。また、部分投影光学系ＰＬ２，ＰＬ４は、図中Ｘ方向で視野領域ＥＡ１，ＥＡ３，ＥＡ５とは異なる位置に、視野領域ＥＡ２，ＥＡ４がＹ方向に沿って配列されるように設けられている。部分投影光学系ＰＬ１，ＰＬ３，ＰＬ５と、部分投影光学系ＰＬ２，ＰＬ４とは、それぞれの直角プリズム同士が極近傍に位置するように配置される。
【００５９】
プレートＰ上には、部分投影光学系ＰＬ１，ＰＬ３，ＰＬ５によって、Ｙ方向に沿って配列された第１の露光領域が形成され、部分投影光学系ＰＬ２，ＰＬ４によって、第１の露光領域とは異なる位置にＹ方向に沿って配列された第２の露光領域が形成される。これらの第１及び第２の露光領域は、視野領域ＥＡ１〜ＥＡ５の等倍の正立像である。
【００６０】
図１２は、部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５による視野領域ＥＡ１〜ＥＡ５とマスクＭとの平面的な位置関係を示す図である。マスクＭ上には、パターンＰＡが形成されており、このパターンＰＡの領域を囲むようにして遮光部ＬＳＡが設けられている。照明光学系Ｉ１〜Ｉ５は、図中破線で囲まれる照明領域ＩＡ１〜ＩＡ５をそれぞれ均一に照明する。照明領域ＩＡ１〜ＩＡ５内には、部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５内の視野絞りＡＳによる前述の台形状の視野領域ＥＡ１〜ＥＡ５が配列されることになる。視野領域ＥＡ１，ＥＡ３，ＥＡ５の上辺（一対の平行な辺のうちの短辺）と視野領域ＥＡ２，ＥＡ４の上辺とが対向するように配置される。このときＸ方向、すなわち走査方向に沿った視野領域ＥＡ１〜ＥＡ５の幅の総和が、どのＹ方向の位置においても常に一定となるように台形状の視野領域ＥＡ１〜ＥＡ５が配置されている。これは、プレートＰを移動させつつ露光を行う際に、プレートＰ上の露光領域の全面にわたって均一な露光量分布を得るためである。
【００６１】
プレートＰ上の第１の露光領域と第２の露光領域とはＸ方向に離れて設定されているため、Ｙ方向に伸びるパターンは、まず空間的に分離した飛び飛びの第１の露光領域によって露光された後、ある時間をおいてその間を埋める第２の露光領域で露光されるというように時間的及び空間的に分割されて露光されることになる。
【００６２】
再度、図１を参照する。プレートＰは基板ステージとしてのプレートステージ６上に保持されている。プレートステージ６は、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直な面内でプレートＰを２次元的に位置決めするとともに露光時においてＸ方向に一定速度で移動するＸＹステージ、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行な方向（Ｚ方向）にプレートＰを位置決めするＺステージ、プレートＰを微小回転させるステージ、及びＺ軸に対する角度を変化させてＸＹ平面に対するプレートＰの傾きを調整するステージ等より構成されている。
【００６３】
プレートステージ６の上面の一端にはＬ字型の移動鏡（図示省略）が取り付けられており、移動鏡の鏡面に対向した位置にレーザ干渉計（図示省略）が配置されている。不図示の移動鏡はＸ軸に垂直な反射面を有する平面鏡及びＹ軸に垂直な反射面を有する平面鏡より構成されている。また、不図示のレーザ干渉計は、Ｘ軸に沿って移動鏡にレーザビームを照射する２個のＸ軸用のレーザ干渉計及びＹ軸に沿って移動鏡にレーザビームを照射するＹ軸用のレーザ干渉計より構成され、Ｘ軸用の１個のレーザ干渉計及びＹ軸用の１個のレーザ干渉計により、プレートステージ６のＸ座標及びＹ座標が計測される。また、Ｘ軸用の２個のレーザ干渉計の計測値の差により、プレートステージ６のＸＹ平面内における回転角が計測される。
【００６４】
プレートステージ６の２次元的な座標は、レーザ干渉計によって所定の分解能で常時検出されており、レーザ干渉計により計測されたＸ座標、Ｙ座標、及び回転角を示す位置計測信号はステージ制御部１２に出力され、ステージ制御部１２はレーザ干渉計の検出結果を参照しつつメインコントローラ１０からの制御信号に従ってプレートステージ駆動部１４を駆動してプレートステージ６を制御する。
【００６５】
また、プレートステージ６にはプレートＰに照射される光の照度を測定するための照度測定部としての照度センサ７が設けられている。なお、図１においては図示を簡略化しているが、照度センサ７はプレートステージ６を移動させて照度センサ７を投影光学系ＰＬの直下に配置したときに、部分投影光学系ＰＬ１の視野領域ＥＡ１内と部分投影光学系ＰＬ５の視野領域ＥＡ５内に配置される２つの照度センサからなる。
【００６６】
さらに、プレートステージ６の上面の一端には複数種類の指標が形成された指標板８が取り付けられており、指標板８の下方には空間像計測部としての空間像センサ９が設けられている。空間像センサ９は例えばＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）を備えており、指標板８に指標の１つとして形成された開口部を介した空間像を撮像して、その画像信号を画像処理部１５へ出力する。
【００６７】
画像処理部１５は、空間像センサ９から出力された空間像に対してコントラスト調整、エッジ抽出、パターン認識等の画像処理を行って、マスクＭに形成された位置計測用マークの位置を算出するとともに、投影光学系ＰＬの生じている収差を補正するためのキャリブレーション値を算出し、算出値を本体制御部１１に出力する。本体制御部１１は、画像処理部１５から出力される算出値に基づいて、マスクステージ５上に配置されたマスクＭの位置及びマスクＭの回転ずれを求めて、マスクＭの回転ずれを補正するための制御信号及びマスクステージ５とプレートステージ６との相対的な位置合わせ等を行うための制御信号をステージ制御部１２へ出力する。
【００６８】
次に、本発明の実施の形態に係る露光装置の露光動作について詳細に説明する。
【００６９】
露光動作が開始すると、まずメインコントローラ１０が露光動作に必要な各種の情報（レシピ）を読み込み、読み込んだレシピに従って所定のマスクＭをライブラリ（図示省略）からロードさせてマスクステージ５上に保持させるとともに、最初に露光処理が行われるプレートＰをロードさせてプレートステージ６上に保持させる。このとき、遮光板５０ａ，５０ｂは、マスクＭのマスクステージ５上へのローディングに支障とならないように、上述した所定の退避位置に設定されている。
【００７０】
次いで、本体制御部１１は位置調整装置４９に指令信号を送り、遮光板５０ａ，５０ｂを載置されたマスクＭの遮光領域との位置関係において適宜な位置に設定し、即ち、当該遮光領域に対応する位置に遮光板５０ａ，５０ｂが位置するように設定し、その後、位置調整装置４９の駆動装置としてのサーボモータの位置サーボ（制御）を停止させ、サーボモータのブレーキをかけることによって、遮光板５０ａ，５０ｂを固定する。
【００７１】
次いで、マスクステージ５を移動させてマスクＭを露光開始前の位置に配置するとともに、プレートステージ６を移動させて露光すべきショット領域を露光領域の近傍に配置する。マスクＭ及びプレートＰの配置が完了すると、マスクステージ５及びプレートステージ６の加速を開始させ、これらが所定の速度に達した後に照明光でマスクＭを照明する。このとき、遮光板５０ａ，５０ｂはマスクステージ５の移動により、マスクＭとの相対位置関係を保ったまま一体的に移動されることになる。従って、露光開始位置において、遮光板５０ａによりマスクＭ上に照射される照明光の一部が遮光されることで投影光学系ＰＬを介して露光すべきショット領域上に照射されるマスクパターンの外形形状の一部が規定される。
【００７２】
その後、マスクＭとプレートＰとを一定速度で走査し、ショット領域にマスクパターンを逐次露光していき露光終了位置が近づくと、遮光板５０ｂによりマスクＭ上に照射される照明光の一部が遮光されることで投影光学系ＰＬを介して露光すべきショット領域上に照射されるマスクパターンの外形形状の一部が規定される。
【００７３】
なお、以上説明した実施の形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施の形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【００７４】
例えば、上述した実施の形態では、図１３（Ａ）にも示されているように、マスクステージに設けられた遮光板５０ａ，５０ｂの互いに対向する内側のエッジで挟まれた領域を露光領域とした例を説明したが、図１３（Ｂ）に示されているように、遮光板５０ａ，５０ｂの一方の外側エッジとマスクＭの端部に設けられた遮光帯７１との間で形成される領域を露光領域と設定することも可能である。この場合、各遮光板５０ａ，５０ｂのストロークがマスクＭの中心を越えてオーバーラップするように駆動できなくとも、自由に露光領域を設定することが可能となる。
【００７５】
また、上述した実施の形態では、遮光板５０ａ，５０ｂを２枚一組として示したが、遮光板５０ａ，５０ｂの一方又は双方を２枚又はそれ以上に分割して、収納する際には互いを重ねるように位置させて狭く収納し、遮光する際には互いに少し重複させるようにして幅広く遮光することも可能である。また、重複部を無くし少し間隔を空けるようにすることで微小領域を露光領域と設定することも可能となる。
【００７６】
このようにマスクＭの走査方向（Ｘ方向）と交差する方向（Ｙ方向）に細長く伸びた領域を遮光するように細長い遮光板の構造とすることにより、遮光板を軽量化できる。また、マスクＭのパターンが逐次露光されるパターン領域の幅と不図示のメインシャッタが遮光する間に進む距離が定められる走査速度に応じて、遮光板の走査方向の幅が設定されているので、遮光板の前後どちらにも露光領域を設定することが可能である。
【００７７】
加えて、上述した実施の形態では、図３、図４に示されるような構造のマスクステージについて説明したが、図１４及び図１５に示されているようなマスクステージについても本発明を適用することができる。なお、図１４及び図１５では、図３に示したものと実質的に同一の構成部分については、同一の番号を付し、その説明は省略する。
【００７８】
図１４及び図１５では、マスクステージ５とは別にマスクステージ５の移動に追従するサブステージ７２が設けられている。装置架台４１上には、サブステージ７２を駆動するアクチュエータとしてのリニアモータ（固定子７３、可動子７４）と、サブステージ７２のＸ方向への移動を案内するサブステージ用のステージガイド７５が設けられている。サブステージ７２は、サブステージ用のステージガイド７５を挟み込むように略コの字状に形成されたエアバッドを介して支持されている。マスクステージ５とサブステージ７２間の距離を計測するセンサが設けられており、そのセンサの計測値に基づいてマスクステージ５に追従するようにサブステージ７２の移動が制御される。なお、図１４において、７６はレーザ干渉計であり、７７はステージ５に取り付けられた移動鏡である。レーザ干渉計７６は照射したレーザ光の移動鏡７７からの反射光を受光することにより、ステージ５のＸ方向及びＹ方向の位置並びにＺ軸回りの回転量を計測する。
【００７９】
マスクステージ５に取り付けられた連結アーム７８とサブステージ７２との接続部には、非接触式のアクチュエータ７９が設けられており、マスクステージ用のステージガイド４３が伸びた方向（スキャン方向、Ｘ方向）とは交差する方向（非スキャン方向、Ｙ方向）にマスクステージ５を駆動させる駆動力を発生させる。このアクチュエータ７９によりスキャン方向とは交差する方向にマスクステージ５を移動させることが可能となる。なお、図３では、一方側（＋Ｙ方向側）のエアパッド４５はマスクステージ５のＹ方向への移動を制限するため、ステージガイド４３を挟み込むように略コの字状であると説明したが、図１４及び図１５では、マスクステージ５をＹ方向に微動できるようにするため、当該一方側（＋Ｙ方向側）のエアパッド４５は、他方側（−Ｙ方向側）のエアパッド４５と同様に構成されている。
【００８０】
マスクステージ５とサブステージ７２との間には、サブステージ７２からマスクステージ５に、空圧、信号、電源、冷却用などの配線・配管８０（図１５参照）が接続されており、この配線・配管８０による引張りなどのテンションがマスクステージ５の移動制御に影響しないように、配線・配管８０は柔らかいスパイラル状に形成したものを用いている。さらに、サブステージ７２に接続される配線・配管は、図８（Ａ）〜図８（Ｃ）に示したような構造としても良く、このようにすることにより、マスクステージ５に配線・配管を通して伝わる外乱の影響を非常に小さくすることが可能となる。
【００８１】
なお、サブステージ用のステージガイド７５とマスクステージ用のステージガイド４３を兼用するような配置・構成とするようにしても良く、また、サブステージ７２のスキャン方向用のアクチュエータとしてのリニアモータの固定子７３と、マスクステージ５のスキャン方向用のリニアモータの固定子４４とを兼用させる構成としても良い。
【００８２】
また、マスクステージ５を駆動する２個のアクチュエータとしてのリニアモータ４４，４６の駆動量に差を持たせるように差動駆動することにより、マスクステージ５をＺ軸を中心に微小回転駆動することも可能である。
【００８３】
さらに、マスクステージ５の構造については、一体構造のものとして説明したが、複数の部品をボルト又は接着などにより組み立てることにより作成しても良い。具体的には、上述した実施の形態のようにマスクステージ５が矩形である場合、矩形の１辺１辺をそれぞれ個別の部品とし、それらを互いに締結もしくは接着することにより矩形のマスクステージ５を構成するようにしても良い。
【００８４】
加えて、上記実施の形態においては、マスクステージ５上に遮光板５０ａ，５０ｂを配置した構成を例に挙げて説明したが、マスクステージ５の下側に遮光板５０ａ，５０ｂを配置した構成であってもよい。
【００８５】
上述した実施の形態では光源として超高圧水銀ランプを用いていたが、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）、又はＡｒ２レーザ光（波長１２６ｎｍ）などを用いることができる。エキシマレーザの代わりに、例えば波長２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍのいずれかに発振スペクトルを持つＹＡＧレーザなどの固体レーザの高調波を用いるようにしてもよい。
【００８６】
また、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム（又はエルビウムとイットリビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。さらに、レーザプラズマ光源、又はＳＯＲから発生する軟Ｘ線領域、例えば波長１３．４ｎｍ、又は１１．５ｎｍのＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ）光を用いるようにしてもよい。さらに、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いてもよい。
【００８７】
また、液晶表示素子などを含むディスプレイの製造に用いられる露光装置だけでなく、半導体素子の製造又はマスクやレチクルの製造に用いられる露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられる露光装置、デバイスパターンをセラミックウエハ上に転写する露光装置、撮像素子（ＣＣＤなど）、マイクロマシン、及びＤＮＡチップなどの製造に用いられる露光装置等にも本発明を適用することができる。
【００８８】
複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整をするとともに、遮光板やその駆動機構等を含む多数の部品からなるマスクステージや基板ステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、さらに総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより本実施の形態の露光装置を製造することができる。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルーム内で行うことが望ましい。
【００８９】
半導体集積回路は、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいて、レチクルを製造するステップ、シリコン材料からウエハを製造するステップ、上述した実施の形態の露光装置等によりレチクルのパターンをウエハに露光転写するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。
【００９０】
【発明の効果】
本発明によると、基板上に照射されるパターンの像の外形形状の少なくとも一部を規定する遮光装置（遮光板）をマスクステージに設けたので、スキャン動作に伴い該遮光装置を移動させる機構を別途設ける必要がなくなり、装置構成を簡略にすることができるとともに、露光動作中の振動の発生も少なくなり、コストの低減及び露光精度の向上を図ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態による露光装置が備える照明光学系の概略構成を示す図である。
【図３】マスクステージの構成を示す斜視図である。
【図４】マスクステージの他の構成を示す平面図である。
【図５】マスクステージの他の構成を示す側面図である。
【図６】マスクステージのマスク保持部を改良した構成を示す平面図である。
【図７】マスクステージのさらに他の構成を示す断面図である。
【図８】マスクステージに接続されるケーブルの配置及び動作を示す側面図である。
【図９】遮光板の他の構成を示す平面図である。
【図１０】遮光板の駆動装置の他の構成を示す平面図である。
【図１１】部分投影光学系の構成を示す断面図である。
【図１２】部分投影光学系による視野領域とマスクとの平面的な位置関係を示す図である。
【図１３】遮光板による露光領域の設定例を示す図であり、（Ａ）は一対の遮光板の内側を用いる場合を、（Ｂ）は一方の遮光板の外側とマスクの遮光帯を用いる場合を示している。
【図１４】サブステージを有するマスクステージの構成を示す斜視図である。
【図１５】サブステージを有するマスクステージの構成を示す側面図である。
【符号の説明】
５…マスクステージ
６…プレートステージ（基板ステージ）
１１…本体制御部
４９…位置調整装置（調整装置）
５０ａ，５０ｂ…遮光板（遮光装置）
６０ａ，６０ｂ…駆動装置（モータ部）
６３ａ，６３ｂ…位置計測装置（位置計測部）
６４ａ，６４ｂ…ガイド（ガイド部）
Ｍ…マスク
Ｐ…プレート（基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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