(57)【要約】【課題】簡単な構成で、表面及び裏面の周期的パターンの周囲方向の相対的な位置ずれ測定を正確に行うことができる位置ずれ測定方法及び装置を提供すること。【解決手段】透明シート２の表面側パターン２３と裏面側パターン２４の位置ずれを計測する計測方法であって、透明シートに表面側特徴点２７を含む表面計測用周期的パターン２５と、裏面側特徴点３１を含む裏面計測用周期的パターン２９を設け、透明シートに光を照射し、透過光から表面側特徴点および裏面側特徴点の位置を検出し、両特徴点の位置を比較することにより、表面側パターンと裏面側パターンの間の位置ずれΔＸを算出することを特徴とする位置ずれ計測方法および装置である。【選択図】　図２
2004061449.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明シートの表面側と裏面側のそれぞれに同一方向に連続するように形成された表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの相対的な位置ずれを計測する計測方法であって、
前記透明シートの第１部分に、透過光により位置特定が可能な表面側特徴点を含み前記表面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された表面計測用周期的パターンを、前記表面側周期的パターンに代えて、備えている表面観察領域を設けるステップと、
前記透明シートの第２部分に、透過光により位置特定が可能な裏面側特徴点を含み前記裏面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された裏面計測用周期的パターンを、前記裏面側周期的パターンに代えて、備えている裏面観察領域を設けるステップと、
前記表面観察領域に光を照射して透過光を検出するステップと、
前記裏面観察領域に光を照射して透過光を検出するステップと、
前記表面観察領域を透過した光から表面側特徴点の位置を検出するステップと、
前記裏面観察領域を透過した光から裏面側特徴点の位置を検出するステップと、
前記表面側特徴点の位置と前記裏面側特徴点の位置とを比較することにより、前記表面計測用周期的パターンと前記裏面計測用周期的パターンの間の位置ずれを算出するステップと、
前記位置ずれから、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの間の周期方向の位置ずれを算出するステップと、
を備えていることを特徴とする位置ずれ計測方法。
【請求項２】
前記表面側特徴点及び裏面側特徴点が、透過光の明暗度により位置特定が可能となる点である、請求項１に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項３】
前記特徴点が、透明シートの厚さを変化させることによって形成されている、請求項１または２に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項４】
前記透明シートが、前記第１部分には前記裏面側周期的パターンが形成されておらず、前記第２部分には前記表面側周期的パターンが形成されていない透明シートである、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項５】
前記表面計測用周期的パターンと前記裏面計測用周期的パターンとが、前記透明シートを挟んで隣接するように配置されている、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項６】
前記表面計測用周期的パターンが前記表面側周期的パターンに隣接して配置されている、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項７】
前記表面計測用周期的パターンが前記表面側周期的パターンに隣接して配置されている、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項８】
前記表面計測用周期的パターンは前記表面側周期的パターンと、前記裏面計測用周期的パターンは前記裏面側周期的パターンと、それぞれ、同一の周期を有している、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の位置ずれ計測方法。
【請求項９】
表面側と裏面側のそれぞれに同一方向に連続するように形成された表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとを含む透明シートであって、第１部分に、透過光により位置特定が可能な表面側特徴点を含み前記表面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された表面計測用周期的パターンを含む表面観察領域が前記表面側周期的パターンに代えて設けられ、第２部分に、透過光により位置特定が可能な裏面側特徴点を含み前記裏面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された裏面計測用周期的パターンを含む裏面観察領域が前記裏面側周期的パターンに代えて設けられている透明シートにおける前記表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの相対的な位置ずれを計測する位置ずれ計測装置であって、
前記表面観察領域および前記裏面観察領域に光を照射する光源装置と、
前記表面観察領域および前記裏面観察領域からの透過光を検出する透過光検出手段と、
前記表面観察領域を透過した光から表面側特徴点の位置を、前記裏面観察領域を透過した光から裏面側特徴点の位置を、それぞれ、検出する特徴点検出手段と、
前記表面側特徴点の位置と前記裏面側特徴点の位置とを比較することにより、前記表面計測用周期的パターンと前記裏面計測用周期的パターンの間の位置ずれを算出し、前記位置ずれから、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの間の位置ずれを算出する位置ずれ算出手段と、
を備えていることを特徴とする位置ずれ計測装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、位置ずれ計測方法および装置に関し、詳細には、透明シートの表面側と裏面側にそれぞれ形成された表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンの周期方向の位置ずれを計測する位置ずれ計測方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プロジェクションテレビ等に用いられるレンチキュラーシートのように表面と裏面に、周期的パターンが連続的に形成された透明シート（透明板）が知られている。この周期的パターンは、断面が半円、半楕円、台形等の畝状微小突起をシート本体に連続的に配置することによって形成された連続パターンであり、一方向に特定の周期で繰返され、この一方向（周期方向すなわち繰返し方向）と直交する方向には変化がないパターンである。従って、この周期的パターンには、周期方向に沿って、厚さ、透過度などの一次元的な変化が周期的に生じている。
【０００３】
このような周期的パターンが両面に設けられた透明シートが初期の機能を発揮するためには、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとが所定の位置関係で配置されていることが必要である。例えば、レンチキュラーシートでは、表面側周期的パターンによって構成される表側レンチキュラーレンズと、歌面側周期的パターンによって構成される裏面側のレンチキュラーレンズとが、互いに所定の相対位置関係で透明シート上に配置されていないと、レンチキュラーシートとしての性能が十分に発揮されない。
【０００４】
しかし、レンチキュラーレンズ等の周期的パターンを形成する工程等において、種々の原因で、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとが所定の相対位置関係にならずに形成されてしまうことがある。このため表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの間の周期方向の相対位置のずれを計測する必要がある。
【０００５】
このような計測を行う計測方法として、透明シートの透過光から、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンのそれぞれの特徴点を検出し、特徴点間の距離から、両パターンの周期方向の位置ずれを計測する方法がある。この方法では、透明シートに、表面側だけに周期的パターンが形成された表面観察領域と、裏面側だけに周期的パターンが形成された裏面観察領域とを設け、この表面観察領域と裏面観察領域のそれぞれに光を照射し、透過光を検出する。そして、透過光の強度プロファイルに基づいて、表面観察領域内の表面側周期的パターンの特徴点の位置と、裏面観察領域内の裏面側周期的パターンの特徴点の位置を検出し、これらの特徴点間の距離から表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの周期方向の相対位置ずれを算出している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、表面側周期的パターンおよび裏面側周期的パターンは、透明シートに所定の機能を発揮させることができる形状とされている。即ち、レンチキュラーシートでは、表面側周期的パターンおよび裏面側周期的パターンはそれぞれ表側及び裏側レンチキュラーレンズを構成しており、シート画像を拡大するというレンチキュラーレンズに求められる機能を発揮することのみを考慮して設計されている。したがって、このような周期的パターンを透過した光の強度プロファイル中に、強度が特徴的に変化しており検出することが容易である特徴点が常に存在するとは限らない。このため、透過光中に明確な特徴点が存在しない周期的パターンがあり、このようなパターンでは、位置ずれの計測が、不正確または不能となってしまう場合もある。
【０００７】
また、周期的パターンによって、透過光の強度プロファイル、特徴点の位置が異なるため、透過光の強度プロファイルから特徴点を検出するためのソフトウエア等を、周期的パターンの種類と同じ数だけ準備する必要があり、計測システムが高価になってしまうという問題があった。
【０００８】
本発明は上記問題に鑑みなされたものであり、どのような周期的パターンが形成された透明シートに対しても、簡単な構成で、周期的パターンの周囲方向の位置ずれ測定を正確に行うことができる位置ずれ測定方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、透明シートの表面側と裏面側のそれぞれに同一方向に連続するように形成された表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの相対的な位置ずれを計測する計測方法に関連する。この計測方法は、前記透明シートの第１部分に、透過光により位置特定が可能な表面側特徴点を含み前記表面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された表面計測用周期的パターンを、前記表面側周期的パターンに代えて、備えている表面観察領域を設けるステップと、前記透明シートの第２部分に、透過光により位置特定が可能な裏面側特徴点を含み前記裏面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された裏面計測用周期的パターンを、前記裏面側周期的パターンに代えて、備えている裏面観察領域を設けるステップと、前記表面観察領域に光を照射して透過光を検出するステップと、前記裏面観察領域に光を照射して透過光を検出するステップと、前記表面観察領域を透過した光から表面側特徴点の位置を検出するステップと、前記裏面観察領域を透過した光から裏面側特徴点の位置を検出するステップと、前記表面側特徴点の位置と前記裏面側特徴点の位置とを比較することにより、前記表面計測用周期的パターンと前記裏面計測用周期的パターンの間の位置ずれを算出するステップと、前記位置ずれから、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの間の周期方向の位置ずれを算出するステップと、を備えている。
【００１０】
なお、本願において「透明」には、半透明などの照射された光の一部を透過させる性質も含まれる。
【００１１】
このような構成によれば、表面と裏面とのそれぞれに、特徴点を含む位置ずれ計測専用の周期的パターン（表面計測用周期的パターン、裏面計測用周期的パターン）が設けられているので、例えばレンチキュラーレンズを構成する表面側周的パターンおよび裏面側周的パターンの形状、周期とは無関係に、特徴点が確実に検出され、常に、正確な位置ずれ測定が可能となる。
【００１２】
本発明の好ましい態様によれば、前記表面側特徴点及び裏面側特徴点が、透過光の明暗度により位置特定が可能となる点である。このような特徴点としては、例えば、透過光の強度が極大となる点、極小となる点がある。特徴点は、その近傍での透過光の強度変化が急激であるのが好ましい。
【００１３】
本発明の好ましい態様によれば、前記特徴点が、透明シートの厚さを変化させることによって形成されている。シートの厚さ変化が急激である方が、検出が容易な特徴点となる。
【００１４】
本発明のもう一つの好ましい態様によれば、前記透明シートが、前記第１部分には前記裏面側周期的パターンが形成されておらず、前記第２部分には前記表面側周期的パターンが形成されていない透明シートである。
【００１５】
本発明のもう一つの好ましい態様によれば、前記表面計測用周期的パターンと、前記裏面計測用周期的パターンとが前記透明シートを挟んで隣接するように配置されている。
【００１６】
本発明のもう一つの好ましい態様によれば、前記表面計測用周期的パターンが前記表面側周期的パターンに隣接して配置されているか、または、前記表面計測用周期的パターンが前記表面側周期的パターンに隣接して配置されている。
【００１７】
本発明のもう一つの好ましい態様によれば、前記表面計測用周期的パターンは前記表面側周期的パターンと、前記裏面計測用周期的パターンは前記裏面側周期的パターンと、それぞれ、同一の周期を有している。
【００１８】
本願発明の他の態様によれば、表面側と裏面側のそれぞれに同一方向に連続するように形成された表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとを含む透明シートであって、第１部分に、透過光により位置特定が可能な表面側特徴点を含み前記表面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された表面計測用周期的パターンを含む表面観察領域が前記表面側周期的パターンに代えて設けられ、第２部分に、透過光により位置特定が可能な裏面側特徴点を含み前記裏面側周期的パターンと所定の位置関係で形成された裏面計測用周期的パターンを含む裏面観察領域が前記裏面側周期的パターンに代えて設けられた透明シートの前記表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの相対的な位置ずれを計測する計測装置であって、前記表面観察領域および前記裏面観察領域に光を照射する光源装置と、前記表面観察領域および前記裏面観察領域からの透過光を検出する透過光検出手段と、前記表面観察領域を透過した光から表面側特徴点の位置を、前記裏面観察領域を透過した光から裏面側特徴点の位置を検出する特徴点検出手段と、前記表面側特徴点の位置と前記裏面側特徴点の位置とを比較することにより、前記表面計測用周期的パターンと前記裏面計測用周期的パターンの間の位置ずれを算出し、前記位置ずれから、表面側周期的パターンと裏面側周期的パターンとの間の位置ずれを算出する位置ずれ算出手段と、を備えていることを特徴とする位置ずれ計測装置が提供される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態の位置ずれ計測方法を詳細に説明する。まず、図１を参照して、本実施形態を実施するために使用される装置の一例を説明する。図１は、本実施形態の位置ずれ計測方法を実施するために使用される位置ずれ計測装置１の構成を示す概略図である。尚、本実施形態では、計測対象の透明シートは、ほぼ透明な材料で形成されたレンチキュラーシート２である。
【００２０】
図１に示されているように、位置ずれ計測装置１は、レンチキュラーシート２の一方の側（下側）に配置されレンチキュラーシート２に向けて光を照射する光源４と、レンチキュラーシート２を挟んで光源４と対向するように配置された画像生成装置６と、画像生成装置６で生成された画像信号を処理してレンチキュラーシート２の表面側周期パターン（表側レンチキュラーレンズ）と裏面側周期パターン（裏側レンチキュラーレンズ）との周期方向のずれを計測する画像信号処理装置８とを備えている。
【００２１】
光源４は、レンチキュラーシート２を透過する光を照射する装置であり、例えば、ハロゲンランプ、高周波蛍光灯、又は、ＬＥＤ等を備えている。また、画像生成装置６は、光源４から発せられ、レンチキュラーシート２を透過した光を受光し、この光の強度に応じた画像信号を生成する装置であり、ラインカメラ、エリアカメラ等である。尚、レンチキュラーシート２は、図示しない駆動機構によって、光源４と画像生成装置６の間の所定経路に沿って搬送される。また、この駆動機構は、連続的な搬送が可能である。
【００２２】
画像信号処理装置８は、画像生成装置６によって生成された信号（透過光の強度プロファイル）に基づいて、レンチキュラーシート２上のパターンの特徴点の位置を検出し、表側面の特徴点と裏側面の特徴点との周期方向の距離を算出し、表側面の周期的パターンと裏側面の周期的パターンの周期方向のずれを計測するように構成されている。
【００２３】
ここで、特徴点は、透過光の強度プロファイル中で強度が急激に変化する点などの強度変化に特徴がある点を指し、例えば、透過光の強度プロファイルが描く曲線が微分不可能になる点、その微分値が０になる点、所定のしきい値以上或いは以下になる点、または、最大或いは最小になる点などであり、周期的パターン中のどの点を特徴点とするかは、予め定められている。
【００２４】
画像信号処理装置８は、画像生成装置６からの信号に基づく透過光の強度プロファイル（明暗度）を解析して、表側及び裏側の特徴点の位置を検出することができるように構成されている。画像信号処理装置８としては、例えば、パーソナルコンピューター、エンジニアリングワークステーション、又は、プログラムロジックコントローラが用いられる。
【００２５】
次に、本実施形態の位置ずれ計測方法を具体的に説明する。図２（ａ）は、本実施形態を用いて位置ずれが計測されるレンチキュラーシート２の表面および裏面観察領域の近傍の平面図である。図２（ｂ）は、レンチキュラーシート２の表面および裏面観察領域の近傍の部分、および、レンチキュラーレンズが形成されている部分の断面図である。図２（ｃ）は、レンチキュラーシート２の図２（ａ）に示されている部分を透過した光の明暗度（強度プロファイル）を示すグラフである。
【００２６】
レンチキュラーシート２は、シート本体２０の表面２１と裏面２２に、それぞれ、表面側周期的パターン２３と裏面側周期的パターン２４とを備えている。表面側周期的パターン２３と裏面側周期的パターン２４とは、周期方向に沿って並列的に配列された略半円状の畝状凸レンズ部によって構成されレンチキュラーレンズとして機能する。また、表面側周期的パターン２３と裏面側の周期的パターン２４は、同一の周期（ピッチＰ）を有し、且つ、シート本体２０を挟んで対称的に形成されている。
【００２７】
また、レンチキュラーシート２の表面２１の一部分には、表面側周期的パターン２３に隣接して、表面計測用周期的パターン２５が表面側周期的パターン２３に代えて並列的に形成された表面観察領域２６が設けられている。表面計測用周期的パターン２５は、表面側周期的パターン２３と同様に、周期方向に沿って並列的に配列された略半円状の畝状凸レンズ部によって構成され、その透過光が特徴点を有する形状とされている。本実施形態の表面計測用周期的パターン２５では、隣接する凸レンズ部（表面計測用周期的パターン２５）間の谷部２７が表面側の特徴点（ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４）となる（図２（ｃ））。また、表面観察領域２６に対応するレンチキュラーシート２の裏面側部分には、一定の厚さを有する平坦部２８が形成されている。
【００２８】
さらに、レンチキュラーシート２の裏面２３の一部分には、平坦部２８に隣接して、裏面計測用周期的パターン２９が裏面側周期的パターン２４に代えて並列的に形成された裏面観察領域３０が設けられている。裏面計測用周期的パターン２９は、裏面側周期的パターン２３と同様に、周期方向に沿って並列的に配列されている。裏面計測用周期的パターン２９は、台形状の断面を有する畝状凸レンズ部によって構成され、その透過光が特徴点を有する形状とされている。本実施形態では、隣接する台形部（裏面計測用周期的パターン２９）間の谷部３１が裏面側の特徴点（ｒ１、ｒ２、ｒ３、ｒ４）となる（図２（ｃ））。また、裏面観察領域３０に対応するレンチキュラーシート２の表面側部分には、一定の厚さを有する平坦部３２が形成されている。表面観察領域２６、裏面観察領域３０、平坦部２８、３２も、レンチキュラーシート２の製造段階で形成される。
【００２９】
表面観察領域２６の表面観察用周期的パターン２５と、裏面観察領域３０の裏面観察用周期的パターン２９の具体的形状について説明する。
図３（ａ）は表面観察領域２６の表面観察用周期的パターン２５の断面形状を示す図であり、図３（ｂ）は表面観察用周期的パターン２５の透過光の強度プロファイルを示すグラフである。尚、シートの屈折率は１．５〜１．６で、透過照明光は拡散光とする（図４ないし図６も同様）。又、図４（ａ）は表面観察領域２６の表面観察用周期的パターン２５より傾斜が緩い（曲率が大きい）略半円形の断面形状を有する周期的パターン２５’の断面図であり、図４（ｂ）は周期的パターン２５’の透過光の強度プロファイルを示すグラフである。
【００３０】
図３および図４から明らかなように、断面が半円形の周期的パターンでは、周期的パターン２５、２５’間に形成される谷部２７、２７’の近傍での透過光の強度プロファイルは、半円部が急な角度でシート本体２０に接続されているほど、即ち、谷部が急であるほど急激な変化を見せ、特徴点である谷部２７を検出し易くなる。従って、断面が略半円形の計測用周期的パターンを採用するときには、図３（ａ）に示されているような、半円部が急な角度でシート本体２０に接続されている、即ち、谷部が急であるパターン形状とするのが好ましい。
【００３１】
図５（ａ）は裏面観察領域３０の裏面観察用周期的パターン２９の断面形状を示す図であり、図５（ｂ）は裏面観察用周期的パターン２９の透過光の強度プロファイルを示すグラフである。又、図６（ａ）は裏面観察領域３０の裏面観察用周期的パターン２９より傾斜が緩い台形の断面形状を有する周期的パターン２９’の断面図であり、図６（ｂ）は周期的パターン２９’の透過光の強度プロファイルを示すグラフである。
【００３２】
図５および図６から明らかなように、断面が台形の周期的パターンでは、周期的パターン２９、２９’間に形成される谷部３１、３１’の近傍での透過光の強度プロファイルは、図５（ａ）のように谷部２９の角度θ１が７０°〜８０°と小さい方が、図６（ａ）のように谷部２９’の角度θ２が９０°〜１１０°と大きい場合より急激な変化を見せ、特徴点である谷部２９を検出し易くなる。従って、断面が台形の計測用周期的パターンを採用するときには、図５（ａ）に示されているような、台形の斜面が急な角度でシート本体２０に接続されている、即ち、谷部が急であるパターン形状とするのが好ましい。
【００３３】
表面計測用周期的パターン２５と裏面計測用周期的パターン２９とは、同一の周期（ピッチＰ）を有する。また、平坦部２８、３１は、Ｐの整数倍の長さを有している。したがって、レンチキュラーシート２では、表面側周期的パターン２３と裏面側周期的パターン２４とが正しい相対位置関係で形成されていれば、表面計測用周期的パターン２５と裏面計測用周期的パターン２９とが、シート本体２０を挟んで対称的に形成されていることになる。なお、図２は、表面側周期的パターン２３と裏面側周期的パターン２４と周期方向にΔＸずれて配置されている状態が示されている。
【００３４】
次に、周期的パターンのずれ計測について説明する。
ずれの計測にあたっては、レンチキュラーシート２を、光源４と画像形成装置６の間の所定の位置に配置する。この所定位置は、表面観察領域２６を透過した光、及び、裏面観察領域３０を透過した光の両方が画像生成装置６に入射するように定められている。
【００３５】
次いで、光源４からの光をレンチキュラーシート２に照射し、透過光を画像生成装置６で電気信号（画像信号）に変換し、画像信号処理装置８に送る。この電気信号は、表面観察領域２４及び裏面観察領域２５の光透過度等を反映した強弱（強度プロファイル）を有する。なお、計測は、レンチキュラーシート２を搬送させながら行っても、或いは、停止させて行っても良い。
【００３６】
画像信号処理装置６は、送信されてきた電気信号を、例えば、図２（ｃ）に示されるような、横軸に周期方向の位置（座標）をとり、縦軸に透過光の明暗度をとった透過光の強度プロファイルを示すグラフに変換する。次いで、このグラフから、表面観察領域２６内の特徴点（ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４）の位置（座標）（Ｘ１、Ｘ３、Ｘ５、Ｘ７）と、裏面観察領域３０内の特徴点（ｒ１、ｒ２、ｒ３、ｒ４）の位置（座標）（Ｘ２、Ｘ４、Ｘ６、Ｘ８）を検出する。
【００３７】
表面観察領域２６および裏面観察領域３０における透過光の明暗度のプロファイルおよび特徴点は、計算（シュミレーション）または実験等で予め明らかにされ、画像信号処理装置６のメモリ等に記憶されている。
【００３８】
次いで、画像信号処理装置６のメモリ等に記憶されている表面観察領域２６および裏面観察領域３２の透過光の強度プロファイルに基づいて、生成された透過光の強度プロファイルから、表面観察領域２６内の特徴点（ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４）の中で最も裏面観察領域３０に近い特徴点（ｆ１）の位置（座標）Ｘ１と、裏面観察領域３０内の特徴点（ｒ１、ｒ２、ｒ３、ｒ４）の中で最も表面観察領域２６近い特徴点（ｒ１）の位置（座標）Ｘ２とを決定し、Ｘ１、Ｘ２との差ΔＸを求める。
【００３９】
しかしながら、特徴点ｆ１、ｒ１は、表面観察領域２６と裏面観察領域３０の境界領域に位置しているので、本実施形態では、特徴点ｆ１、ｒ１を明暗度のグラフ（図２（ｃ））からは検出することはできない。このため、特徴点として、最も境界側の特徴点ｆ１、ｒ１からそれぞれ１周期（ピッチＰ）内側にある特徴点ｆ２、ｒ２を採用し、以下の式（１）によって、これらの座標Ｘ３、Ｘ４から、表面観察領域２６の表面計測用周期的パターン２５と裏面観察領域３０の裏面計測用周期的パターン２９のずれΔＸを算出する。
【００４０】
【数１】
2004061449.tif 000003
ここで、Ｐは、表面計測用周期的パターン２５、裏面計測用周期的パターン２９の１周期（１ピッチ）の長さである。周期（ピッチＰ）が不明である場合には、（Ｘ７−Ｘ５）、（Ｘ６−Ｘ８）などの計算を行って、隣接する特徴点間の距離である周期（ピッチＰ）を算出する。
【００４１】
本実施形態では、表面側周期的パターン２３と、裏面側周期的パターン２４と、表面計測用周期的パターン２５と、裏面計測用周期的パターン２９とは、同一周期（ピッチＰ）であり、ズレがなければ、シート本体２３を挟んで対称的に配置されるように形成されている。従って、上述のようにして算出されたΔＸが、表面側周期的パターン２３と裏面側周的パターン２４との周期方向の位置ずれとなる。
【００４２】
尚、表面観察領域２６の表面計測用周期的パターン２５は、表面側周期的パターン２３とは異なる形状で形成されるために、これら周期的パターン２３、２５は異なる金型によって切削形成される。このため、本来は隣接して形成されているはずの、表面観察領域２６の計測用周期的パターン２５と、表面側周期的パターン２３とがずれる場合がある。同様に、裏面観察領域３０の裏面計測用周期的パターン２９の位置と、裏面側周期的パターン２４との相対位置にずれが生じる場合もある。これらのずれは、レンチキュラーシートの形成装置の仕様により決まる定数であるので、予めこの「ずれ」の値を計測し、補正値αとして記憶しておき、上記のようにして算出されたΔＸをαで補正するように構成してもよい。
【００４３】
また、表面側周期的パターン２３および裏面側周期的パターン２４、表面計測用周期的パターン２５および裏面計測用周期的パターン２９が、同一周期（ピッチ）ではない場合、ズレがないときにシート本体２３に対して非対称な位置関係で形成される場合には、表面側周期的パターン２３と裏面側周期的パターン２４とが正しい位置に形成されたときの表側特徴点と裏側特徴点との間の距離を補正値βとして記憶させておき、上記のようにして算出されたΔＸをβで補正する。
【００４４】
図７（ａ）および（ｂ）に示されているように、表面観察領域２６と裏面観察領域３０とが隣接しておらず、上下方向に重なっている場合（ａ）、あるいは、周期方向に離れている場合（ｂ）は、適当な特徴点（ｆａ、ｒａ）、（ｆｂ、ｒｂ）の位置を検出し、これら２つの特徴点間の距離を計測し、距離を周期的パターンの周期Ｐで割った余りが、表面観察領域２６の表面計測用周期的パターン２５と裏面観察領域３０の裏面測用周期的パターン２９のずれΔＸになる。
【００４５】
更に、レンチキュラーシート２の厚さが画像生成装置（カメラ）６からレンチキュラーシート２までの距離と画像生成装置（カメラ）６の視野の大きさに比べ無視出来ない厚さである場合（画像生成装置（カメラ）６の視野の大きさが画像生成装置（カメラ）６からレンチキュラーシートの２までの距離の１／２０以上で、レンチキュラーシート２の厚さが画像生成装置（カメラ）６からレンチキュラーシート２までの距離の１／２０００以上）には、画像生成装置（カメラ）６からレンチキュラーシート２の表側面までの距離と、画像生成装置（カメラ）６からレンチキュラーシート２の裏側面とが異なるため、この厚さ分の補正を行うことが好ましい。この補正を図８に沿って説明する。
【００４６】
裏側面のある点ａの画像内での座標をＡとし、このＡをシート上での距離に換算する係数をＫとすると、原点からＡまでの実距離即ちＡの座標はＫＡとなる。
【００４７】
表側面のある点ｂの画像内での座標をＢとする。表側面は裏面側より画像生成装置（カメラ）６の近くに位置するので、画像生成装置（カメラ）６に入射する表面の領域は、裏側面の領域より狭くなる。表側面の座標Ｂを実距離に換算する係数をＫ´とすると、交点ＣからＢまでの実距離は、Ｋ´Ｂとなる。ここで、交点とは、カメラの受光素子の端からカメラに取り付けられたレンズの中心を通って延びる直線と、シートの表側面とが交わっている点である。
【００４８】
さらに、裏側面では画像生成装置（カメラ）６の視野に入ったが、表側面では、画像生成装置（カメラ）　の視野に入らなかった部分の長さをＮとすると、点Ｂの座標はＫ´Ｂ＋Ｎとなる。従って、点Ａと点Ｂとの距離は、ＫＡ−（Ｋ´Ｂ＋Ｎ）となる。
【００４９】
この補正は、計測対象のシートの厚さに起因する画像生成装置（カメラ）６の視野の端で捉えられる表側面の位置と裏側面の位置との周期方向のずれを補正するものである。従って、このような補正を、上記ずれの算出に適用することにより、より正確なずれの計測が可能となる。
【００５０】
本発明は、上記実施形態に限定されず特許請求の範囲に記載した範囲内で種々の変更、変形が可能である。
例えば、上記実施形態では、表面観察領域２６と裏面観察領域３０とを周期的パターンの周期方向の端部分に形成しているが、図９に示されているように、表面観察領域２６と裏面観察領域２９とを周期方向とは直交する方向（幅方向）の端部分に形成することによって、表側面計測用周期的パターン２５と裏側面計測用周期的パターン２９を形成してもよい。この場合、表面観察領域２４と裏面観察領域２５から透過光に基づく信号を同一座標系上に重ねあわせることにより、ずれが算出される。
【００５１】
上記実施形態では、計測対象がレンチキュラーシート２であったが、本発明の計測対象はレンチキュラーシートに限られず、透過光に変化を生じさせるような周期的パターンが両面に形成された透明シート（板）であれば、どのようなものでもよい。
【００５２】
尚、周期的パターン２３、２４、計測用周的パターン２５、２９の断面形状は、楕円、高次式で表される曲線の一部、矩形、三角形等の他の形状であってもよい。
【００５３】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、どのような周期的パターンが形成された透明シートに対しても、簡単な構成で、周期的パターンの周囲方向の位置ずれ測定を正確に行うことができる位置ずれ測定方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態の位置ずれ計測方法を実施するために使用される位置ずれ計測装置１の構成を示す概略図である。
【図２】（ａ）は、本実施形態を用いて位置ずれが計測されるレンチキュラーシートの表面および裏面観察領域の近傍の平面図であり、（ｂ）は、レンチキュラーシートの観察領域の近傍部分等の断面図であり、（ｃ）は、（ａ）に示されている部分を透過した光の明暗度（強度プロファイル）を示すグラフである。
【図３】（ａ）は、表面観察用周期的パターンの断面形状を示す図であり、（ｂ）は、表面観察用周期的パターンの透過光の強度プロファイルを示すグラフである。
【図４】（ａ）は傾斜が緩い（曲率が大きい）略半円形の断面形状を有する周期的パターンの断面図であり、（ｂ）はその周期的パターンの透過光の強度プロファイルを示すグラフである。
【図５】（ａ）は裏面観察用周期的パターンの断面形状を示す図であり、（ｂ）は裏面観察用周期的パターンの透過光の強度プロファイルを示すグラフである。
【図６】（ａ）は裏面観察用周期的パターンより傾斜が緩い台形の断面形状を有する周期的パターンの断面図であり、（ｂ）はその周期的パターンの透過光の強度プロファイルを示すグラフである。
【図７】（ａ）および（ｂ）は、表面観察領域と裏面観察領域と配置の他のパターンを示す断面図である。
【図８】レンチキュラーシートの厚さに応じた座標の補正を説明する断面図である。
【図９】表面観察領域と裏面観察領域と配置のもう一つのパターンを示す断面図である。
【符号の説明】
２：レンチキュラーシート
２０：シート本体
２３：表面側周期的パターン
２４：裏面側周期的パターン
２５：表面計測用周期的パターン
２６：表面観察領域
２９：裏面計測用周期的パターン
３０：裏面観察領域
ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４：表面側の特徴点
ｒ１、ｒ２、ｒ３、ｒ４：裏面側の特徴点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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