(57)【要約】【課題】キャリアを不要として立った姿勢で搬送する。【解決手段】ガラス基板Ｇを真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラ６７と、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送されるガラス基板Ｇの上部を支持すべく搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側従動ローラ３７と、ガラス基板Ｇの下部を支持すべく搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側従動ローラ５２と、上記複数個の搬送ローラ６７を同期して回転駆動するモータ５５と具備し、前記搬送ローラ６７の周側面に下縁を載せ、前記上側従動ローラ３７及び前記下側従動ローラ５２の周側面にガラス基板Ｇの一方の面を支持させながら搬送させるようにした。【選択図】        図３
2004331349.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側従動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源と具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側従動ローラ及び前記下側従動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。
【請求項２】
板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側駆動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第１駆動源と前記複数個の上側駆動ローラを同期して回転駆動する第２駆動源と、前記複数個の下側駆動ローラを同期して回転駆動する第３駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側駆動ローラ及び前記下側駆動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。
【請求項３】
板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも２列の複数個の従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記従動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。
【請求項４】
板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも２列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第１駆動源と、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する第２駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。
【請求項５】
板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも２列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら前記搬送ローラを従動させて搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。
【請求項６】
入口及び出口にそれぞれゲートバルブを備えて一真空室を画成し、前記出口側に前記板状物品の先端部を検知するセンサ装置を設けたことを特徴とする請求項１〜５のいづれかに記載のインライン式真空処理装置。
【請求項７】
前記板状物品の搬送途上において、該板状物品の他方の面に表面処理を行う表面処理手段を前記板状物品の他方の面に対向して配設したことを特徴とする請求項１〜６のいづれかに記載のインライン式真空処理装置。
【請求項８】
前記表面手段はスパッタ装置であることを特徴とする請求項７に記載のインライン式真空処理装置。
【請求項９】
前記一真空室の前記入口及び前記出口に各々連接して他真空室を画成し、それぞれ仕込室、取出室としたことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載のインライン式真空処理装置。
【請求項１０】
前記板状物品はガラス基板であることを特徴とする請求項１〜９のいづれかに記載のインライン式真空処理装置。
【請求項１１】
前記板状物品はガラス基板であり、前記センサ装置は発光体と受光体とにより成り、前記ガラス基板に対し、前記発光体からの光線は斜め方向に前記受光体に対し投射されるようにしたことを特徴とする請求項６に記載のインライン式真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はインライン式真空処理装置に関し、特別には板状物品、例えばプラズマディスプレイ用のガラス基板を搬送し、処理するインライン式真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
下記［特許文献１］には、液晶パネルを構成するガラス基板等の基板に対して所定の処理を行うために、この基板を水平搬送する基板の搬送装置が開示されている。しかしながら、このようなディスプレイ用のガラス基板は厚さが２ｍｍ以下で、面積が１ｍ×１ｍ以上になるものが用いられるようになってきたため、撓みやすく、損傷を受けやすい。また相当な面積を有するガラス基板であるから、工場で大量に処理する場合、大きな敷地や床面積を必要とする。
【０００３】
他方、下記［特許文献２］では、縦型のキャリアに複数枚のガラス基板を立てた姿勢で取り付けてインライン式真空処理をしている。上記公報とは異なり水平搬送ではないので、撓みの問題はない。しかしながらガラス基板に所定の処理、すなわちこの公報ではスパッタリング処理をした後は、次のガラス基板をとりつけるべくキャリアを回収しなければならない。装置が大型化する。
【０００４】
次に下記［特許文献３］では、『図８に示すように、基台２０’に取付けられた搬送台３０’にモータ３１’、このモータ３１’により駆動される原動ローラ３２’及び従動ローラ３３’、支持ローラ３４’及び浮上ユニット３５’を取付けてなる。前記浮上ユニット３５’は、前記ガラス基板１’を非接触で支持するもので、図９に示すように、圧力ケース３５０に気体３５１を送り込み、その気体３５１が搬送面３６’に臨む多孔質体３５２を通過することにより、この多孔質体３５２と縦姿のガラス基板１’間に気体膜３５３を形成させ、この気体膜３５３でガラス基板１’を支持し浮上させるようになっている。この浮上ユニット３５’は、搬送するガラス基板１’の寸法により、その配置位置、配置個数等を決定することができる。即ち、この搬送装置２’は、ガラス基板１’のサイズの変動にも対処することができる。前記従動ローラ３３’及び支持ローラ３４’は、ガラス基板１’の下端に接触するように、搬送台３０’の搬送面３６’に等間隔に配置されているが、これら複数の支持ローラ３４’に変えて、１つの支持ローラ３４’と従動ローラ３３’間にベルト等を掛け渡して、ガラス基板１’を移動させるようにしてもよい。前記搬送面３６’、即ち、ガラス基板１’の搬送角度は、若干、傾斜させることが好ましい。ガラス基板１’を垂直に立てると、搬送が不安定になるからである。前記基台２０’に対し搬送台３０’を着脱自在に構成することにより、搬送台３０’のみを差換えたり、搬送できるようにしてもよい。』技術が開示されている。
【０００５】
このような装置では、確かにキャリアを不要とするので上記公報で述べたようにガラス基板に所定の処理を施した後に、キャリアを回収するという操作がなくなり、またキャリアを回収するためのスペースも必要としない。しかしながら、ガラス基板を気体膜で支持しながら搬送するのであるが、図９に示すような装置が多数必要となりこのような装置は相当なコストを必要とすると考えられる。多孔板から空気を噴出するのであるが搬送方向に沿って並んだこれらの装置と基板間の気体膜が均一な厚さで形成されることは特に真空中では難しいと考えられる。この場合にはガラス基板の前端部、後端部の間に存在する気体の膜の不均一によりガラス基板を均一に円滑に搬送することは難しいと考えられる。
【０００６】
また、以上の装置は大気中で用いられるのであるが、大気中で多孔質から気体を噴出させる場合は安定してガラス基板を搬送するであろうが、真空室においては常時真空室内を何らかの排気手段により排気しているので、安定に気体の膜を形成できるかどうか疑問である。
【０００７】
【特許文献１】
特開平１０−２６５０１８号公報
【特許文献２】
特開平５−１７１４４１号公報
【特許文献３】
特開２００２−３０８４２２公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、上記公報と同様にガラス基板を表面処理するのに立てた姿勢で撓みを少なくして、これによる損傷を無くし更に低コストでガラス基板を安定に搬送することができるインライン式真空処理装置を提供する事を課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
以上の課題は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側従動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源と具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側従動ローラ及び前記下側従動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【００１０】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側駆動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第１駆動源と前記複数個の上側駆動ローラを同期して回転駆動する第２駆動源と、前記複数個の下側駆動ローラを同期して回転駆動する第３駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側駆動ローラ及び前記下側駆動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【００１１】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも２列の複数個の従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記従動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【００１２】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも２列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第１駆動源と、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する第２駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【００１３】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも２列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら前記搬送ローラを従動させて搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【００１４】
以上いずれの構成のインライン式真空処理装置によっても板状物品、特にガラス基板を立てた姿勢で低コストで損傷無く搬送することができる。装置占有面積を極力小さくすることができる。
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置について、図面を参照して説明する。
【００１５】
図１はインライン式真空処理装置１０の全体を示すものであるが、左方から順に、仕込室１２、処理室１４及び取出室１６から成っている。各室内には本発明にかかわる搬送機１８が設けられている。これら搬送機１８は同一の構成を有する。その詳細は後述するが、これらによりガラス基板Ｇが矢印Ａ方向に搬送される。入り口、各室間及び出口にはそれぞれゲートバルブ２０、２２、２４、２６が開閉自在に公知のようにして設けられている。処理されるガラス基板Ｇはゲートバルブ２０を開けて矢印Ｂ方向から導入される。所定の処理、本発明の実施の形態によればスパッタリング処理が処理室１４で行われた後、取出室１６からゲートバルブ２６を開けて矢印Ｃ方向に大気中へと取り出される。
【００１６】
まず仕込室１２の詳細について説明する。
その真空室を形成する仕込室本体３０は図３に示すように断面形状は長方形であり左壁部３１、右壁部３２、これらを一体化する上壁部３３及び下壁部３４から成っている。
【００１７】
上壁部３３には図２、図４に明示されるように等間隔で７個の真空シールベアリング３５が固定されており、上回転軸３６はこれに回転自在に支持されている。また、上回転軸３６の下端部は左側壁部３１にに固定された軸受部材１００に軸受けされている真空シールベアリング３５からの突出端部にはプーリ３８が固定されている。
【００１８】
一方、仕込室本体３０の外方には第１モータ４０が配設され、その回転軸の先端部にはプーリ３９が固定されており、これと各プーリ３８との間には図４に明示されるようにガイドローラ４４を介してベルト４１が巻かれている。また、図４に明示されるようにプーリ３８、３８間のベルト４１’部分を押圧するようにテンション装置４３のローラ４２が配設されている。上回転軸３６には図示するような間隔をおいてこの回転軸３６に同心的に環状体３７（以下、上ローラとも呼ぶ）が固定される。これは回転軸３６の増径部として構成してもよい。
【００１９】
図３に示すように、下壁部３４には上方の真空シールベアリング３５と対向して、すなわち同じ間隔で真空シールベアリング５０が取り付けられている。その下回転軸５１の該真空シールベアリング５０からの突出部にプーリ５３が固定されている。仕込室本体１２の下壁部３４の下方の外方に第２モータ５５が配設されており、この回転軸５６はギアボックス５７に結合されていて、このギアボックス５７の第１の出力軸５８にはプーリ５９が固定されており、このプーリ５９と上述プーリ５３との間にベルト５４が巻装されている。
【００２０】
また下回転軸５１には上述の上ローラ３７と同型の下ローラ５２が一体的に固定されている。これは回転軸５１の増径部として形成されていてもよい。またギアボックス５７の第２の出力軸６０の先端部にはプーリ６１が取り付けられており、これと図２に示すようにガイドローラ６３との間に図２に明示するように波型でベルト６２が巻装されている。さらに、左側壁部３１の下方には等間隔で搬送ローラ用真空シールベアリング６５が取り付けられており、この仕込室１２に突出する回転軸の先端部には上ローラ３７、下ローラ５２の径より大きな搬送ローラ６７が固定されている。
【００２１】
他方、大気側に突出している部分にはプーリ６８が取り付けられており、これはガイドローラ６３と隣接する真空シールベアリング６５の回転軸に固定されたプーリ６８との間に、ベルト６２が巻装されている。
【００２２】
図２に明示されるように、上壁部３５の上部には特に図４で明示されるように一対のシリンダ７０ａ、７０ｂが取り付けられており、これらの駆動ロッドにはラック７１ａ、７１ｂが固定されている。これらラック７１ａ、７１ｂはピニオン７２ａ、７２ｂに係合している。これらピニオン７２ａ、７２ｂの中心には回動軸７３ａ、７３ｂが固定されており、これらは図２に明示されるように、ゲート７４ａ、７４ｂが取り付けられている。
【００２３】
図３に明示されるように、仕込室本体３０内には一対のヒータ７５ａ、７５ｂがそれぞれ、取り付けブロックａ、ｂを介して左側壁部３１、右側壁部３２に固定されている。
【００２４】
特に図３に明示されるように、左側壁部３１には発光側センサ装置７６が固定されており、これから投射される光線Ｌを受ける受光側センサ装置７７は右側壁部３２に固定されている。光線Ｌはやはり図３に明示されるように垂直に対して約３０°傾斜している。これにより、搬送されるガラス基板Ｇに対して図示するような角度で入光するのであるが、ガラス基板面はある程度の反射率を有する反射面でありこの角度で投射されることにより、反射光が直角である場合よりも大きくなりこれによって光線Ｌを受けない場合とガラス基板Ｇによってその光路をと交叉する場合とで、勿論、透過光が大部分であるが光の受光側センサ装置７７の受光レベルに大きな差をつけることができる。
【００２５】
発光側センサ装置７６も受光側センサ装置７７も３つのセンサ７６ａ、７６ｂ、７６ｃおよび７７ａ、７７ｂ、７７ｃから成るのであるが、７６ａ、７７ａはガラス基板Ｇの先端部の到来を検知する働きをし、第２の発光側センサ７６ｂ、７７ｂもやはり先端部の到来を検知する働きをするのであるが、前者の検知によりガラス基板Ｇの搬送速度を低に切替える。また、後者のセンサ７６ｂ、７７ｂによってストップ指令を駆動源に与える。
【００２６】
この後、慣性により僅かに搬送されるのであるが、その停止位置が第３の発光側センサ７６ｃと受光側センサ７７ｃとにより確かにガラス基板Ｇの先端部がこの位置ににあることを確認する。ここで停止する。
【００２７】
次に、仕込室１２に連接するスパッタ室１４について説明する。
このスパッタ室１４でガラス基板Ｇの他方の面上に所定の材質の膜が形成されるのであるが、図１に明示されるような位置にスパッタ装置Ｓが配設されている。このターゲット部に対向してヒータ８０が部材ｃにより左側壁部に固定されている。ガラス基板Ｇを搬送する機構は、仕込室１２と同一である。したがって、対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００２８】
本発明の実施の形態では、いわゆる連続成膜が行われ、ガラス基板Ｇは連続的に搬送され、この途上において全面にスパッタ膜が形成される。なお、図示せずともこの取出室１６側には仕込室１２と同様な発光側センサ装置及び受光側センサ装置が同様な配置で設けられている。
【００２９】
また、スパッタ室１４内には図７に明示されるように、搬送ローラ６７の周面に向かってガス流を噴出させるように取り付け部材８４の上壁部にガス噴出体８６が設けられており、さらにこの外方にはカバー部材８２が設けられている。
【００３０】
スパッタ室１４の下流側には取出室１６が連接しているが、この内部にも上流側の仕込室１２、スパッタ室１４と同様な搬送機構１８が設けられている。なお、この取出室１６内には仕込室１２、スパッタ室１４に設けられたヒータは設けられていない。しかし、その先端部分には上流側の仕込室１２、スパッタ室１４と同様に発光側センサ装置及び受光側センサ装置が同様な配置で設けられている。なお、仕込室本体３０は垂直線に対し、５度、図３において右方へと傾いている。他室も同様である。
【００３１】
以上、本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置の構成について説明したが、次にこの作用について説明する。
【００３２】
本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置の使用にあたっては、まず図４に明示される一対のテンション装置４３を操作して図４に明示されるように巻装されているベルト４１の張力を円滑に各ローラを駆動し、スリップを生じさせないように調整される。また、ヒータ７５ａ、７５ｂ、８０に電源が投入され、仕込室１２、スパッタ室１４の室内は加熱される。仕込室１２の入口側ゲートバルブ２０を開けるべく、図４において左方のシリンダ７０ａが駆動され、ラック７１ａを往動させてピニオン７２ａを回転させ、これに固定された回動軸７３ａを図４において反時計方向に回動させ、ゲート板７４ａを開ける。
大気中から液晶ディスプレイ用のガラス基板Ｇが搬入される。仕込室１２に設けられている各モータが駆動されている。したがって、ガラス基板Ｇの先端部が搬送ローラ６７の周面上に載置され、かつガラス基板Ｇの背面側が上ローラ３７及び下ローラ５２に支持されることにより、これらローラ３７、５２、６７の回転により直ちにガラス基板Ｇは仕込室１２内へと送りこまれる。ガラス基板Ｇの先端部が発光側センサ装置７６及び受光側センサ装置７７のそれぞれのセンサ部７６ａ、７７ａへ至ると、それまでの受光レベルが光路Ｌが図示するように斜めになっていることにより大きなレベル差を生じて到来を検知する。この検知信号により、モータの回転数を低下させる、すなわちスロー搬送に切り替えられる。
【００３３】
次に第２の発光側センサ部７６ｂ、受光側センサ部７７ｂに先端部が至ると、モータにストップ指令が出される。これにより、ガラス基板Ｇは停止に向かうのであるがその慣性により発光側センサ部７６ｃ、受光側センサ部７７ｃをやや通過したところで完全に停止する。よって、ガラス基板Ｇの先端部が発光側センサ部７６ｃ、受光側センサ部７７ｃ上、又は僅か通過して停止していることを確認する。
【００３４】
仕込室１２の出口側ゲートバルブ２２は、今閉じているが入口側ゲートバルブ２０も以上の位置確認をした後、シリンダ７０ａを複動させ、ラック７１ａも複動させピニオン７２ａを反時計方向に回動させて入口側ゲートバルブ２０を閉じる。よって、仕込室１２内はシールされた閉空間となり、所定の温度に加熱される。
【００３５】
今、次のスパッタ室１４内にはガラス基板Ｇは存在していないとする。仕込室１２の出口側ゲートバルブ２６はシリンダ７０ｂの駆動によりラック７１ｂが右方へと移動し、これに係合するピニオン７２ｂは時計方向に回動し、これに固定された回動軸７３ｂが時計方向に回動することにより出口側ゲートバルブ２２が開かれる。なお、図では真空排気系は図示しなかったが、閉空間となった仕込室１２は所定の減圧度まで排気されているものとする。
【００３６】
次のスパッタ室１４も同様に閉空間で排気されており、ゲートバルブ２２（仕込室２２とスパッタ室１４とで兼用）を開けることにより仕込室１２の真空室とスパッタ室１４の真空室とは連通する。スパッタ室１４の搬送機構１８の搬送ローラ６７、上ローラ３７及び下ローラ５２も駆動されており、ゲートバルブ２２の開放と同時にガラス基板Ｇはスパッタ室１４へと送り込まれる。
【００３７】
スパッタ室１４内のスパッタ装置Ｓは公知のように構成されているが、ターゲット板Ｔからプラズマによってたたき出された原子又は分子、すなわち成膜されるべき材質の原子、あるいは分子が矢印で示されるように飛び出しており、ガラス基板Ｇの片面に当り、ここで成膜されていく。
【００３８】
本発明の実施の形態では、連続成膜が採用されるので、そのまま所定の速度で搬送され、この搬送途上、先端部から後端部にわたって全面に成膜される。センサ装置部に至ると仕込室１２と同様にセンサ部７６ａ、７７ａでスロー搬送とされ、センサ部７６ｂ、７７ｂでモータに停止指令が与えられセンサ部７６ｃ、７７ｃ間の光路Ｌ上、もしくはこれを僅かに通過したところで先端部が停止する。
【００３９】
なお、図２及び図３で明示するように発光側センサ装置７６の各センサ部７６ａ、７６ｂ、７６ｃ及びこれらに対向する受光側センサ装置７７の各センサ部７７ａ、７７ｂ、７７ｃは図３に示すように、斜め方向に対向して配設される。この斜め方向は本発明の実施の形態では３０゜としたが、以下の理由により真空とガラス基板Ｇと真空との境界面において全反射角となるようにすることが望ましい。一般に、透明体から空気中へと光を通過させるときには、その境界面である反射角においては全て透明体側に反射する。これは光伝送の原理であるが、このような全反射角に設定するとガラス基板Ｇが相対向する発光側センサ装置７６と受光側センサ装置７７との間の光路Ｌを遮ったときに、遮る前の受光側センサ装置７７の受光レベルより大幅に低下させることができ、そのガラス基板の先端部の到来を確実に検知することができる。なお、本発明の実施の形態では、上方を発光側センサ装置７６、下方を発光側センサ装置７７としたが、逆にしてもよい。
【００４０】
次に、スパッタ室１４の出口側ゲートバルブ２４が上述と同様にして開放され、既にその閉空間が排気されている取出室１６へと同様な搬送機構１８により導入される。取出室１６に於いても、仕込室１２、スパッタ室１４と同様な発光側センサ装置及び受光側センサ装置が設けられ、その所定の位置で既に成膜されたガラス基板Ｇは停止される。これとともに、又はこの直前にスパッタ室１４の出口側ゲートバルブ２４は閉じられている。次いで、出口側ゲートバルブ２６が開放され成膜されたガラス基板Ｇは大気中へと搬出される。
【００４１】
次に、ガラス基板Ｇがスパッタ室１４内に導入されるが、仕込室１２内では上述したように閉空間となった真空室で所定の温度に加熱されたガラス基板Ｇが待機しており、上述と同様に仕込室１２の出口側ゲートバルブ２２が開放されスパッタ室１４と連接する。ガラス基板Ｇはスパッタ室１４内に導入されて、先のガラス基板Ｇと同様な成膜作用を受ける。所定の成膜後はゲートバルブ２４を開けて取出室１６内へ導出され、ついで取出室１６のゲートバルブ２６は開放されて大気中へと搬出される。以下上述と同様である。
【００４２】
本発明の実施の形態によれば、上ローラ３７及び下ローラ５２はそれぞれ独立したモータ４５、５５で同回転数で回転すべく図示しない制御回路で制御されている。また、搬送ローラ６７もギアボックス５７を介してモータ５５で駆動されており、搬送ローラ６７の径と上ローラ３７及び下ローラ５２の径に反比例した速度で駆動される。よって、これら上ローラ３７及び下ローラ５２及び搬送ローラ６７は同じ周速度で同期して回転している。したがって、ガラス基板Ｇは背面においても下縁部においても積極的にローラ駆動されるので、これらローラ３７、５２、６７とガラス基板Ｇとの間の摩擦力が大きい場合でも確実に所望の速度で下流側へと搬送することができる。
【００４３】
なお、図７においてスパッタ室１４内の搬送ローラ６７の周面の近傍上方にはガス噴出体８６が設けられており、ここから矢印で示すようにガスｈが噴出している。ガラス基板Ｇの下縁と搬送ローラ６７の周面との間には常に摩擦力が働いているので、粉塵ｇが周面に取り付く。これをガス流により取り除くようにしている。図示しない排気系の吸込により、粉塵ｇは舞い上がることなく、下方へと流れていく。
【００４４】
また、以上本発明の実施の形態では、従来技術で述べたようなキャリアを用いていないので、ガラス基板に成膜を施したのち、キャリアを初期位置に戻すという操作は不要であり、装置全体を小型化することができる。
【００４５】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００４６】
例えば、以上の本発明の実施の形態では通常のインライン式真空処理装置の仕込室、処理室としてのスパッタ室、及び取出室全てに本発明に関わる搬送機構を用いたが、これらどれか一つに用いるようにしても本発明の効果を得ることができる。
【００４７】
また以上の本発明の実施の形態では、上ローラ３７、下ローラ５２及び搬送ローラ６７、全てを独立したモータ（下ローラ５２と搬送ローラ６７とはギアボックス５７を介して同一のモータ５５で駆動されるが）により同期して同周速度で駆動したが、ガラス基板Ｇと、上ローラ３７、下ローラ５２の周面との摩擦力が小さい場合には搬送ローラ６７のみを駆動ローラとし、上ローラ３７、下ローラ５２は従動ローラとしてもよい。この場合には、図２〜図５で明示されるベルト巻装
部分は無しとすることができる。勿論、これらを駆動するモータも省略することができ、装置全体はより簡略化することができる。
【００４８】
また、上ローラ３７及び下ローラ５２を本発明の実施の形態で述べたように駆動ローラとし、搬送ローラ６７を従動ローラとしてもよい。もちろん、この場合には搬送ローラ駆動用の駆動源は省略される。
【００４９】
また、以上の本発明の実施の形態では下ローラ５２は搬送ローラ６４の近辺に、即ち仕込室の下方部分に一個設けたが（他室でも同じ）、これはガラス基板を垂直に対し５度傾けた傾斜の立てた姿勢で搬送するのであるが、この下縁部を安定に支持させる働きをしている。そして、上ローラ３７は図２に示すようなピッチで４個設けられているが、これは処理すべきガラス基板の高さが変わった場合にそれぞれを安定に支持しうるためである。また、上述の発明の実施の形態では上回転軸５６、下回転軸５１とをそれぞれ上方及び下方から突出させて別体としているが、これらは上下貫通させて一本の回転軸としてこれらに所望のピッチでローラを取付けるようにしてもよい。この場合にもこれらを従動ローラとし、搬送ローラを駆動ローラとし、あるいは、逆に搬送ローラを従動ローラとし、上下ローラを駆動ローラとしてもよい。あるいは、すべてローラを駆動ローラとしてもよい。
【００５０】
また、本発明の実施の形態では、板状物品としてガラス基板を説明したが、勿論、板状物品はこれに限ることなく、ガラス基板にしても典型的にはフラットパネルディスプレイとしてのＬＣＤ（液晶ディスプレイ）に用いられるガラス基板などがあるが、その他ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＥＬ（電界発光ディスプレイ）、ＦＥＤ（電界放射ディスプレイ）用のガラス基板、フラットＣＲＴ等のガラス基板にも適用可能であり、要するに如何なる材質であれ、平板状のものであればよい。また、フラットパネルの材質はガラス以外の材料、例えばプラスチック等の合成樹脂、シリコン等などの半導体でもよい。
また以上の表面処理装置としては、スパッタ装置が説明されたが、勿論、表面処理装置はこれに限られることなく、その他一般の成膜装置、また表面処理装置としても考えられる露光装置、現像装置、検査装置、あるいは洗浄装置などに適用してもよい。
【発明の効果】
以上述べたように、本発明のインライン式真空処理装置によれば、従来必要としていたキャリアを不要とするので、装置全体を小型化することができ、またガラス基板は立てた状態で搬送するので特に面積が大きい場合は、水平搬送では撓みの問題があったが、このような問題はいっさい無く何らガラス基板を損傷させることなく処理前、処理中、処理後の薄いガラス基板を搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置の一部破断正面図である。
【図２】本発明の実施の形態における仕込室の部分破断正面図である。
【図３】図２における［３］―［３］線方向断面図である。
【図４】仕込室の平面図である。
【図５】図２における［５］―［５］線方向断面図である。
【図６】仕込室とスパッター室との関連を示す部分断面斜視図である。
【図７】スパッター室における要部の拡大断面図である。
【図８】従来例によるガラス基板の搬送装置の側面図である。
【図９】同装置の部分拡大断面図である。
【符号の説明】
３０  仕込室室本体
３５  真空シールベアリング
３７  上ローラ
４０  モータ
５０  真空シールベアリング
５２  下ローラ
５５  モータ
５７  ギアボックス
５８  第１出力軸
６０  第２出力軸
６１  プーリ
６２  ベルト
６３  ガイドローラ
６５  真空シールベアリング
６６  回転軸
６７  搬送ローラ
６８  プーリ
６９  ベルト
７３ａ、７３ｂ  回動軸
７６ａ、７６ｂ、７６ｃ  発光側センサ部
７７ａ、７７ｂ、７７ｃ  受光側センサ部
Ｓ    スパッタ装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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