(57)【要約】【課題】ヘッド接着剤の流入を防ぐための溝と窪み部間とのヘッドベース壁厚が薄くなり、薄肉部が窪み部側に変形し、レーザ光線が変形した薄肉部に照射され所定の変位を確保することができず、高精度な磁気ヘッドの高さ調整ができないという問題点を有していた。【解決手段】磁気ヘッド近傍の磁気ヘッドベースの一部に第１の窪み部分２を設け、光線や熱を第１の窪み部分に照射して磁気ヘッドの高さ方向の変位を得ることで磁気ヘッドの高さ調整を行う磁気ヘッドベースであって、第１の窪み２と磁気ヘッド間に第１の窪みと一体的に、かつ第１の窪みより深い第２の窪み３ａを磁気ヘッド側に設けた構成を有している【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ヘッド近傍の磁気ヘッドベースの一部に第１の窪み部分を設け、光線や熱を前記第１の窪み部分に照射して磁気ヘッドの高さ方向の変位を得ることで磁気ヘッドの高さ調整を行う磁気ヘッドベースであって、前記第１の窪みと磁気ヘッド間に前記第１の窪みと一体的に前記第１の窪みより深い第２の窪みを前記磁気ヘッド側に設けたことを特徴とする磁気ヘッドベース。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、テープ状記録媒体に信号の記録再生を行うビデオテープレコーダまたはテープストレージにおいて、回転ドラムに搭載される磁気ヘッドベースに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ヘッドベースは、装置の小型化及び磁気テープへの高密度記録・低コスト化により、磁気ヘッド高さ調整の高精度な安定した調整が要求されている。
【０００３】
以下に従来の磁気ヘッドベースについて説明する。
【０００４】
従来、磁気ヘッドベースは特公平７−１０５０１４号公報に記載されたものが知られている。その磁気ヘッドベースを図９に示す。図９において、５１は磁気ヘッド、５２は磁気ヘッド５１を搭載する磁気ヘッドベースである。５３は、ヘッドベース５２の厚みの半分以上に窪んだ部分で、５５はヘッドの巻線穴、５４はヘッドビス穴である。窪み部５３にレーザ光線を照射する事で磁気ヘッド５１をドラムに載置する面と反対方向に変位させる。また、レーザ光線を上面照射領域５６に照射することで磁気ヘッド５１をドラム載置面方向に変位させるものである。
【０００５】
【特許文献１】
特公平７−１０５０１４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上記従来の発明では、装置の小型化を図るためにヘッドベースの寸法を小さくしていくと磁気ヘッドとレーザ照射用の窪み部との間隔が少なくなり、磁気ヘッドをヘッドベースに固定する接着材が窪み部に流入し、レーザ光線が流れ込んだ接着剤によりヘッドベースに十分吸収されず、所定の変形が得られず、このヘッド接着剤の流入を防ぐために、巻線穴を設けず別途接着剤用の溝を設けたヘッドベースがあるが、この溝とは独立して窪み部を構成すると溝と窪み部とが近接し、溝と窪み部間とのヘッドベース壁厚が薄くなり、薄肉部が窪み部側に変形し、レーザ光線が変形した薄肉部に照射され所定の変位を確保することができず、高精度な磁気ヘッドの高さ調整ができないという問題点を有していた。
【０００７】
本発明は、ヘッドベース小型化によるレーザ照射用の窪み部への接着剤の流入、及びヘッドベースの薄肉部化を防ぎ、磁気ヘッドの高さ調整を安定化させ、高精度に行うことができる磁気ヘッドベースを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本発明の磁気ヘッドベースは、磁気ヘッド近傍の磁気ヘッドベースの一部に第１の窪み部分を設け、光線や熱を第１の窪み部分に照射して磁気ヘッドの高さ方向の変位を得ることで磁気ヘッドの高さ調整を行う磁気ヘッドベースであって、第１の窪みと磁気ヘッド間に第１の窪みと一体的に、かつ第１の窪みより深い第２の窪みを磁気ヘッド側に設けた構成を有している。
【０００９】
この構成によって、レーザ照射用窪み部と接着材溜まり部とを一体的に形成し、かつ接着剤の溜まり部の一部をレーザ照射用窪み部よりも深い面から構成することで、接着剤のレーザ照射用窪み部への流入を抑え、ヘッドベース壁の薄肉化をなくした寸法精度の高いヘッドベースが得られる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、磁気ヘッド近傍の磁気ヘッドベースの一部に第１の窪み部分を設け、光線や熱を前記第１の窪み部分に照射して磁気ヘッドの高さ方向の変位を得ることで磁気ヘッドの高さ調整を行う磁気ヘッドベースであって、前記第１の窪みと磁気ヘッド間に前記第１の窪みと一体的に前記第１の窪みより深い第２の窪みを設けたものであり、レーザ照射用窪み部と接着材溜まり部とを一体的に形成し、かつ接着剤の溜まり部の一部をレーザ照射用窪み部よりも深い面から構成することで、接着剤のレーザ照射用窪み部への流入を抑え、壁の薄肉化を防止した寸法精度の高いヘッドベースにより、確実にレーザ照射用の窪みにレーザ光線を照射し、磁気ヘッドの高さ調整を高精度に行えるという作用を有する。
【００１１】
以下、本発明に係る磁気ヘッドベースの実施の形態を、図１から図８に基づいて説明する。
【００１２】
（実施の形態１）
図１は本発明の磁気ヘッドベース１５の斜視図、図２は平面図、図３は磁気ヘッドベースの側断面図、図４はレーザの照射位置を説明する磁気ヘッドベースの斜視図、図５は側断面図の窪み部の拡大図、図６は磁気ヘッドベース１５をドラム１４に搭載した斜視図であり、図１、図２、図６において、１は磁気ヘッド４を載置する真鍮からなるヘッドベース、１０は磁気ヘッド４をヘッドベース１に固定する紫外線により硬化する接着剤、３ａ、３ｂからなる３は、接着剤１０の拡散を防ぐための接着剤溜まり溝であり、接着剤溜まり溝３の幅Ｗ２は磁気ヘッド幅Ｈｗの２倍以上の幅とし接着剤の流出を確実に防いでいる。５はヘッドベース１をドラム１２にビス１１で装着するためのビス穴である。１４はドラム１０に貫通したレーザ光線７が通過するためのレーザ用穴である。１３は磁気ヘッド４をドラム１２から微小量（約５〜３０μｍ）突出させるためのヘッド用窓である。６はヘッドベース１をドラム１４に搭載する基準となる基準面で、その表面はラッピング処理により最大表面粗さは約１μｍで構成されている。２は接着剤溜まり部３とビス穴５との間に設けられたレーザ照射用の窪み部であり、接着剤溜まり部２とレーザ照射用窪み部３は金型プレスにより形成されている。金型によるプレス面ではレーザ照射用窪み面２の表面が鏡面に近くなり、レーザ光線吸収率が低下するため、サンドブラスト処理により最大表面粗さを約１μｍに仕上げている。
【００１３】
次に、このような、磁気ヘッドベース１５へのレーザ照射による磁気ヘッド４の高さ調整について説明する。図２、図３、図５において、厚みｔに対するヘッドベース１の中立線８はｔ／２であり、レーザ照射用溜まり部２の深さＤ１は中立線より深い面で構成され、接着材溜まり部３のレーザ照射用窪み部２に対向する３ａの深さＤ２はレーザ照射用窪み部２の深さＤ１より約０．１ｍｍ深くし、３ａ部に流入した接着剤１０がレーザ照射用窪み部２に入り込まない構成とされている。レーザ光線７は、ＹＡＧレーザで出力は１〜１５Ｊ（照射時間１ｍｓｅｃ〜１５ｍｓｅｃ）で、照射部のレーザ光線径は約φ０．６ｍｍに絞り込まれている。レーザ照射用窪み部２の平面寸法は、レーザ光線７が窪み部２面以外に照射されないよう、レーザ光線直径φｄ（約０．６ｍｍ）に対し広い、約１ｍｍ×１ｍｍの略正方形状で構成されている。レーザ光線７をレーザ照射用くぼみ面２に短時間照射することで、レーザ照射用窪み面２の表面の塑性変形による収縮力９によりヘッドベース１は凸形状に変形し、磁気ヘッド４は矢印Ｌ方向に変位する。また、レーザ光線７を基準面照射部１６または１７に照射することで、基準面照射部１６または１７表面の塑性変形による収縮力により、ヘッドベース１は凹形状に変形し、磁気ヘッド４は矢印Ｕ方向に変位する。このようにレーザ光線の照射面を基準面照射部１６，または１７と、レーザ照射用窪み部２とに分けることで磁気ヘッド４の上下両方向の調整が可能となっている。
【００１４】
次に、図７は、レーザ照射用窪み部２へのレーザ光線の照射エネルギと磁気ヘッド４の高さ変位の関係説明図である。
【００１５】
図７において、レーザ照射用窪み部２のサンドブラスト処理による効果を説明する。サンドブラスト処理を行ったヘッドベース１を使用したレーザ照射エネルギと磁気ヘッド４の高さ変位の関係を実線で、サンドブラスト未処理のヘッドベース１を使ったものを破線で示すように、サンドブラスト処理によりレーザ照射用窪み部２の表面を荒らすことで、レーザ光線の反射率を抑え、小さな照射エネルギで磁気ヘッド４を変位させることが可能である。このサンドブラスト処理により、小さな照射エネルギによる磁気ヘッド４の高さ調整が可能となり、大きな照射エネルギによる熱・光線エネルギの伝播による磁気ヘッド４及びドラム１２への損傷を抑えている。
【００１６】
図８は、レーザ光線７の照射位置による磁気ヘッド４の高さ変位とレーザ光線照射エネルギとの関係説明図である。
【００１７】
図８、図５において、基準面照射部１６，１７とレーザ照射用窪み部２へのレーザ照射による磁気ヘッド４の高さ変位の関係を説明する。レーザ照射による磁気ヘッド４の高さ変位は、レーザ光線照射によるヘッドベース１の塑性変形部と中立線８との距離に比例するため、レーザ照射用窪み部２へのレーザ光線照射による磁気ヘッド４の高さ変位には、大きな照射エネルギが必要となる。本発明の構成では、レーザ照射用窪み部２への照射による磁気ヘッド４の変位には、基準面照射部へのレーザ光線７の照射に比べ５倍程度のエネルギが必要である。ヘッドベース１の小型化により、レーザの照射位置が限定されるため、近接したレーザ照射位置において、多数回のレーザ光線照射による磁気ヘッド４の高さ調整が必要となる。この時、単純にレーザ照射電圧のみを増加させ磁気ヘッド４の高さ調整を行うとレーザ光線照射表面の温度が急上昇しヘッドベース１の一部が溶融し一部が飛散し始める。このレーザ照射部のヘッドベース１の一部の飛散開始により、照射エネルギと磁気ヘッド４の変位との関係は大きく変化するため、安定した磁気ヘッド４の高さ調整に大きな支障を来たす。更に、飛散した部材の磁気ヘッド４等への付着による磁気ヘッド４の損傷等が発生する。これらの問題を防止するために、多数回の調整をＹＡＧレーザの照射電圧と照射時間の両方を徐々に増加させることで、レーザ光線照射によるヘッドベース１面の溶融、飛散を抑え近接したレーザ照射位置で多数回の調整を可能としている。
【００１８】
また、本実施形態では、レーザ照射用窪み部は深さＤ２の構成としたが、ヘッドベース１に対し貫通した構造でも良い。
【００１９】
以上のように本実施の形態によれば、レーザ照射用窪み部と接着剤溜まり部とを一体的に設け、かつレーザ照射用窪み部と隣接する接着剤溜まり部をレーザ照射用窪み部より深い位置に構成することにより、ヘッドベースをドラムに搭載するビス穴と磁気へッドとが近接した小型の磁気ヘッドベースにおいても、レーザ照射面への接着剤の流入を防止することができる。
【００２０】
【発明の効果】
以上のように本発明は、ヘッドベースの小型により、ヘッドベースをドラムに搭載するビス穴と磁気へッドとが近接した小型の磁気ヘッドベースであっても、レーザ照射面への接着剤の流入を防止することができ、レーザ光線が安定してヘッドベースに吸収され、精度の高い磁気ヘッドの高さ調整を行えるという顕著な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１による磁気ヘッドベースの斜視図
【図２】本発明の実施の形態１による磁気ヘッドベースの平面図
【図３】本発明の実施の形態１による磁気ヘッドベースの側断面図
【図４】本発明の実施の形態１による側断面図の窪み部の拡大図
【図５】本発明の実施の形態１のレーザ照射位置を説明する磁気ヘッドベース斜視図
【図６】本発明の実施の形態１の磁気ヘッドベースをドラムに搭載した斜視図
【図７】本発明の実施の形態１のレーザ照射エネルギと磁気ヘッドの高さ変位関係図
【図８】本発明の実施形態１のレーザ照射位置と磁気ヘッドの高さ変位関係図
【図９】従来の磁気ヘッドベース説明図
【符号の説明】
１  ヘッドベース
２  レーザ照射用窪み部
３（３ａ，３ｂ）  接着剤溜まり部
４  磁気ヘッド
５  ビス穴
６  ヘッドベース基準面
７  レーザ光線
８  中立線
１０  接着剤
１２  ドラム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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