(57)【要約】 【課題】  本発明は、反射透過型の液晶表示装置において、反射部と透過部の境界に形成される段差により発生する転傾欠陥発生領域を縮小して、高開口率、高輝度の液晶表示装置を提供する。【解決手段】  本発明による反射透過型の液晶表示装置は、透過部と反射部で同一な光学的効果を得るために、透過部に対応してアレイ基板または、カラーフィルター基板に段差を形成する構造において、光漏れが発生する透過部と反射部の境界領域を実質的に小さくするために、ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形状を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含むことを特徴とする。【選択図】  図１０
2004310057.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；
前記第１基板の内部面に形成されるゲート配線と；
前記ゲート配線と交差して画素領域を定義するデータ配線と；
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；
前記第２基板の内部面に構成されたカラーフィルター層と；
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と；を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含むことを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。
【請求項２】
前記透過部の面積は、前記四角形の面積の１/２より大きく、前記四角形の面積より小さいことを特徴とする請求項１に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項３】
前記透過部は直角三角形または、台形のうちの一つの形であることを特徴とする請求項１に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項４】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項１に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項５】
向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；
前記第１基板の内部面に形成されるゲート配線と；
前記ゲート配線と交差して画素領域を定義するデータ配線と；
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；
前記第２基板の内部面に形成されて、前記反射部に対応するバッファ層と；
前記バッファ層の下部に構成されたカラーフィルター層と；
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と；を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形状を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含むことを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。
【請求項６】
前記透過部の面積は、前記四角形の面積の１/２より大きく、前記四角形の面積より小さいことを特徴とする請求項５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項７】
前記透過部は直角三角形または、台形のうちの一つの形であることを特徴とする請求項５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項８】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項９】
前記反射部に対応するカラーフィルター層の厚さと、前記透過部に対応するカラーフィルター層の厚さの比は約１：２であることを特徴とする請求項５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１０】
向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；
前記第１基板の内部面に形成される多数のゲート配線と；
前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線と；
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；
前記第２基板の内部面に構成されたカラーフィルター層と；
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と；を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域に含まれる透過部と反射部の境界領域は、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なることを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項１０に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はデータ配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記ゲート配線と重なることを特徴とする請求項１０に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項１０に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項１０に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１５】
向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；
前記第１基板の内部面に形成される多数のゲート配線と；
前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線と；
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；
前記第２基板の内部面に形成されて、前記反射部に対応するバッファ層と；
前記バッファ層の下部に構成されたカラーフィルター層と；
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と；を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域に含まれる透過部と反射部の境界領域は、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なることを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項１５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はデータ配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記ゲート配線と重なることを特徴とする請求項１５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項１５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項１５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記反射部に対応するカラーフィルター層の厚さと、前記透過部に対応するカラーフィルター層の厚さの比は約１：２であることを特徴とする請求項１５に記載の反射透過型の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に、反射モードと透過モードを選択的に使用できて、反射部と透過モードに対応して同一な光学的効果を得ると同時に、高開口率による高輝度が具現できる反射透過型の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、反射透過型の液晶表示装置は、透過型の液晶表示装置と反射型の液晶表示装置の機能を同時に有するものであって、バックライトの光と、外部の自然光源または、人造光源を全部利用できるので、周辺環境に制約を受けず、電力消費を減らせる長所がある。
【０００３】
以下、図１は、一般的な反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した図である。
図示したように、反射透過型の液晶表示パネル１０は、液晶層９５を間にして、多数の画素Ｐが定義された上部基板８０と下部基板６０が離隔して構成される。
前記上部基板８０の一面には、ブラックマトリックス８４が形成されていて、ブラックマトリックス８４の上部にはサブカラーフィルターを含むカラーフィルター層８２が形成されていて、カラーフィルター層８２の上部には共通電極８６が形成されている。
前記下部基板６０の画素領域Ｐには、反射電極(または、反射板)６４と透明電極６６とで構成された半透過電極と、スイッチング素子Ｔが構成されて、さらに、画素領域Ｐの一側と、これに平行ではない他側を通るゲート配線６１とデータ配線６２が形成される。
前記画素領域Ｐは、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義されて、前記反射電極６４は反射部Ｃに対応して構成されて、前記透明電極６６は透過部Ｄに対応して構成される。この時、前記反射電極６４は反射率の優れたアルミニウム(Ａｌ)または、アルミニウム合金で構成されて、前記透明電極６６はインジウム−スズ−オキサイド(ＩＴＯ)のように光の透過率が比較的に優れた透明導電性金属で構成される。
【０００４】
以下、図２を参照しながら、従来例１による反射透過型の液晶表示装置の構成を説明する。
図２は、図１のII−II線に沿って切断して、従来例１による反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。
図示したように、液晶層９５を間にして、第１基板６０と第２基板８０が離隔して合着されて、第２基板８０及び向かい合う第１基板６０には、多数の画素領域Ｐが定義されている。
前記第１基板６０に定義された画素領域Ｐの一側と、これと平行ではない他側を通り、相互に垂直に交差するゲート配線(図１の６１)とデータ配線６２が形成される。
前記第１基板６０と向かい合う第２基板８０の一面には、赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター(図示せず、８２ａ、８２ｂ)を含むカラーフィルター層８２と、各サブカラーフィルター(図示せず、８２ａ、８２ｂ)の間にブラックマトリックス８４が構成されて、前記サブカラーフィルター(図示せず、８２ａ、８２ｂ)とブラックマトリックス８４の下部には、透明な共通電極８６が構成される。
【０００５】
前述した構成において、前記画素領域Ｐは、また、反射部Ｃと透過部Ｄとに区分される。
反射部Ｃに対応して反射電極６４を形成して、透過部Ｄに対応して透明電極６６を形成するが、一般的には、透過ホールＨを含む反射電極６４を透明電極６６の上部または、下部に構成して、透過部Ｄと反射部Ｃが定義される。
この時、反射透過型の液晶表示装置で考慮すべきことは、透過部Ｄと反射部Ｃでの、色差を減らすと同時に、透過部Ｄと反射部Ｃでの光学的効果を同一にすることである。
【０００６】
このような観点からすると、前記反射部Ｃに対応する光は、外部から入射され、前記反射板６４で反射され、また外部へと出射される。
従って、前記カラーフィルターを２回通過するので、液晶セルギャップの厚さをｄとすると光は２ｄの距離を通過することになる。
すなわち、反射部Ｃの液晶層９５を通過する時、光の位相遅延値は２d・Δn(ｎは液晶の屈折率)であって、透過部Ｄの液晶層９５を通過する時、光の位相遅延値はd・Δnである。
結果的に、前記反射部Ｃと透過部Ｄに対応して光の位相遅延値が異なるので、反射部Ｃと透過部Ｄで同一な光学的効果を得れない。
これを解決するための方法として、従来は、前記透過部Ｄに対応して段差を形成して、透過部Ｄと反射部Ｃに対応する液晶セルの厚さの比が２ｄ：ｄになる構成が提案された。
【０００７】
以下、図３を参照しながら、説明する。
図３は、図１のII−II線に沿って切断して、従来例２による反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。
図示したように、液晶層９５を間にして、第１基板６０と第２基板８０が離隔して合着されて、第２基板８０及び向かい合う第１基板６０には、多数の画素領域Ｐが定義される。
前記画素領域Ｐの一側と、これと平行ではない他側を通り、相互に垂直に交差するゲート配線(図示せず)とデータ配線６２が形成される。
【０００８】
前記第１基板６０と向かい合う第２基板８０の一面には、赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター(図示せず、８２ａ、８２ｂ)を含むカラーフィルター層８２と、各サブカラーフィルター(図示せず、８２ａ、８２ｂ)の間にブラックマトリックス８４が構成されて、前記サブカラーフィルター(図示せず、８２ａ、８２ｂ)とブラックマトリックス８４の下部には、透明な共通電極８６が構成される。
【０００９】
前述した構成において、前記画素領域Ｐは、また、反射部Ｃと透過部Ｄとに区分される。
反射部Ｃに対応して反射電極６４を形成して、透過部Ｄに対応して透明電極６６を形成するが、一般的には、透過ホールＨを含む反射電極６４を透明電極６６の上部または、下部に構成して、透過部Ｄと反射部Ｃが定義される。
【００１０】
前述した構成において、従来例２は、前記透過部Ｄに対応する下部の絶縁膜６３をエッチングしてエッチングホール６１を形成することを特徴とする。
前記透過部Ｄと反射部Ｃに対応する液晶層(液晶セル)の厚さを２ｄ：ｄの比で構成すると、透過部Ｄと反射部Ｃでの位相遅延値は何れも２d・Δnになる。
ところが、前記従来例２の構成は、透過部Ｄと反射部Ｃの境界に対応して光漏れ現象が発生する短所がある。
【００１１】
以下、図４と図５を参照しながら、説明する。
図４は、従来による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板を構成する一画素を拡大して平面図であって、図５は、図４のＶ−Ｖ線に沿って切断した断面図である。
図示したように、基板６０上に一方向へとゲート配線６１が延長形成されて、これと垂直に交差する方向へデータ配線６２が形成される。
前記ゲート配線６１とデータ配線６２の交差で定義される領域を画素領域Ｐと称して、ゲート配線６１とデータ配線６２の交差地点には、ゲート電極７０、アクティブ層７２、ソース電極７４、ドレイン電極７６を含む薄膜トランジスタＴが構成される。
前記画素領域Ｐは、反射部Ｃと透過部Ｄで定義されて、前記反射部Ｃに対応して反射電極６４を構成し、透過部Ｄに対応して透明電極６６が構成される。
【００１２】
前述した構成は、前記透過部Ｄと反射部Ｃに対応して、同一な光学的効果を得るために、透過部Ｄに対応して反射電極６４の下部の絶縁膜にエッチングホール(図示せず)を形成するが、前記エッチングホールにより前記透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域に対応して段差が存在して、このような段差により転傾欠陥(disclination)が発生する。
この時、図５に示したように、転傾欠陥領域が発生した境界領域Ｆは、段差の傾いている部分Ｆ１と、これから所定の角に曲げて延長された一部Ｆ２に該当する。
【００１３】
前記段差の高さをｔとして、段差の高さと段差の傾いた面との角 θ=50°だと仮定すると、段差の傾いた面との長さＦ１は、F1=t/tanθ≒1.7μmの値で計算されて、Ｆ２は、一般的に1.5μmくらいになる。
結果的に、3.2μmの幅で境界領域Ｆが示される。
従って、境界領域Ｆの面積Ａは、A≒2X( L+W)X3.2μm2で計算される。（この場合、Ｌは透過部Ｄの長さ、Ｗは透過部Ｄの幅を示す。図４を参照）前記境界領域Ｆは、透過率が大きくなればなるほど大きくなり、１０％に近い開口率の損失を誘発する。
従って、開口率及び転傾欠陥の減小を誘発する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、前述した問題を解決するために提案されたものであって、第１構成は、反射部と透過部との境界が存在する段差により発生する転傾欠陥発生領域を縮小するために、前記透過部の周りの長さを短くして段差領域を縮小することを特徴とする。
本発明の第２構成は、前記透過部の一部境界が、前記ゲート配線または、データ配線の上部に位置するようにして、透過部の周りの段差により発生する転傾欠陥発生領域を遮蔽することを特徴とする。
前述した第１構成及び第２構成は、段差を含む透過部と反射部の境界領域を縮小できて、それによる転傾欠陥発生領域を縮小し、開口率を改善すると同時に、高輝度及び転傾欠陥が具現できる長所がある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前述したような目的を達成するための本発明による反射透過型の液晶表示装置は、向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；前記第１基板の内部面に形成されるゲート配線と；前記ゲート配線と交差して画素領域を定義するデータ配線と；前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；前記第２基板の内部面に構成されたカラーフィルター層と；前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層；とを含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形状を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含む。
【００１６】
前記透過部の面積は、前記四角形の面積の１/２より大きく、前記四角形の面積より小さい。前記透過部は直角三角形または、台形のうちの一つの形である。
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含む。前記反射部に対応する液晶層の厚さと、前記透過部に対応する液晶層の厚さの比は約１：２である。
【００１７】
一方、本発明による反射透過型の液晶表示装置は、向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；前記第１基板の内部面に形成されるゲート配線と；前記ゲート配線と交差して画素領域を定義するデータ配線と；前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；前記第２基板の内部面に形成されて、前記反射部に対応するバッファ層と；前記バッファ層の下部に構成されたカラーフィルター層と；前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と；を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形状を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含む。
【００１８】
前記透過部の面積は、前記四角形の面積の１/２より大きく、前記四角形の面積より小さい。前記透過部は直角三角形または、台形のうちの一つの形である。
【００１９】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含む。前記反射部に対応する液晶層の厚さと、前記透過部に対応する液晶層の厚さの比は約１：２であって、前記反射部に対応するカラーフィルター層の厚さと、前記透過部に対応するカラーフィルター層の厚さの比は約１：２である。
【００２０】
また、本発明による反射透過型の液晶表示装置は、向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；前記第１基板の内部面に形成される多数のゲート配線と；前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線と；前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；前記第２基板の内部面に構成されたカラーフィルター層と；前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と；を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域に含まれる透過部と反射部の境界領域は、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なることを特徴とする。
【００２１】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記データ配線と重なる。
【００２２】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はデータ配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記ゲート配線と重なる。
【００２３】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺は前記データ配線と重なる。
【００２４】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含み、前記反射部に対応する液晶層の厚さと、前記透過部に対応する液晶層の厚さの比は約１：２である。
【００２５】
また、本発明による反射透過型の液晶表示装置は、向かい合って離隔された第１基板及び第２基板と；前記第１基板の内部面に形成される多数のゲート配線と；前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線と；前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と；前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と；前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と；前記第２基板の内部面に形成されて、前記反射部に対応するバッファ層と；前記バッファ層の下部に構成されたカラーフィルター層と；前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と；前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と；を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域に含まれる透過部と反射部の境界領域は、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なる。
【００２６】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記データ配線と重なる。
【００２７】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はデータ配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記ゲート配線と重なる。
【００２８】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺は前記データ配線と重なる。
【００２９】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極と連結されたドレイン電極を含む。
【００３０】
前記反射部に対応する液晶層の厚さと、前記透過部に対応する液晶層の厚さの比は約１：２であって、前記反射部に対応するカラーフィルター層の厚さと、前記透過部に対応するカラーフィルター層の厚さの比は約１：２である。
【００３１】
また、本発明による反射透過型の液晶表示装置の製造方法は、第１基板の上部にゲート配線を形成する段階と；前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線を形成する段階において、前記透過部及び反射部の境界領域が、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なるように前記多数のデータ配線を形成する段階 と；前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタを形成する段階と；前記薄膜トランジスタの上部に無機絶縁物質で構成された第１保護膜を形成する段階と；前記第１保護膜の上部に有機絶縁物質で構成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する第２保護膜を形成する段階と；前記第２保護膜の上部に前記反射部に対応する反射層を形成する段階と；前記反射層の上部に第３保護膜を形成する段階と；前記第３保護膜の上部に前記画素領域に対応する透明電極を形成する段階と；前記第２基板の上部にカラーフィルター層を形成する段階と；前記カラーフィルター層の上部に共通電極を形成する段階と；前記透明電極と共通電極が向かい合うように、前記第１基板及び第２基板を合着する段階と；前記透明電極と共通電極の間に液晶層を形成する段階とを含む。
【００３２】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記データ配線と重なるように形成する。
【００３３】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はデータ配線と重なり、前記第２辺及び第４辺は前記ゲート配線と重なるように形成する。
【００３４】
前記透過部は、第１辺ないし第４辺を含む四角形の形であって、前記第１辺及び第３辺は相互に平行であり、第２辺及び第４辺も相互に平行であり、前記第１辺はゲート配線と重なり、前記第２辺は前記データ配線と重なるように形成する。
【００３５】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されるドレイン電極を含むように形成され、前記反射部に対応する液晶層の厚さと、前記透過部に対応する液晶層の厚さの比は約１：２であるように形成される。
【００３６】
また、本発明による反射透過型の液晶表示装置の製造方法は、第１基板の上部にゲート配線を形成する段階と；前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線を形成する段階において、前記透過部及び反射部の境界領域が、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なるように前記多数のデータ配線を形成する段階と；前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタを形成する段階と；前記薄膜トランジスタの上部に無機絶縁物質で構成された第１保護膜を形成する段階と；前記第１保護膜の上部に有機絶縁物質で構成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する第２保護膜を形成する段階と；前記第２保護膜の上部に前記反射部に対応する反射層を形成する段階と；前記反射層の上部に第３保護膜を形成する段階と；前記第３保護膜の上部に前記画素領域に対応する透明電極を形成する段階と；前記第２基板の上部に前記反射部に対応するバッファ層を形成する段階と；前記バッファ層の上部にカラーフィルター層を形成する段階と；前記カラーフィルター層の上部に共通電極を形成する段階と；前記透明電極と共通電極が向かい合うように、前記第１基板及び第２基板を合着する段階と；前記透明電極と共通電極の間に液晶層を形成する段階を含む。
【００３７】
前記反射部に対応する液晶層の厚さと、前記透過部に対応する液晶層の厚さの比は約１：２であるように形成され、前記反射部に対応するカラーフィルター層の厚さと、前記透過部に対応するカラーフィルター層の厚さの比は約１：２であるように形成される。
【００３８】
以下、添附した図面を参照しながら、望ましい実施の形態等を説明する。
【発明の効果】
【００３９】
前述したような本発明による反射透過型の液晶表示装置は、透過部と反射部に対応する液晶セルギャップまたは、カラーフィルターの厚さの比を２：１の比で構成するにおいて、透過部と反射部の境界の段差により、必然に発生する転傾欠陥を減らせるために、開口面積をさらに確保して、高輝度及び高対照比が具現できる効果がある。
【実施例１】
【００４０】
図６は、本発明の実施例１の例１による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
図示したように、基板１００上に一方向へ延長されたゲート配線１０２と、これと垂直に交差して画素領域Ｐを定義するデータ配線１０４を形成する。
【００４１】
前記ゲート配線１０２とデータ配線１０４の交差地点には、前記ゲート配線１０２に連結されたゲート電極１０６と、前記データ配線１０４に連結されたソース電極１１０と、これとは離隔して構成されたドレイン電極１１２と、前記ゲート電極１０６とソース電極１１０及びドレイン電極１１２の間に構成されたアクティブ層１０８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
【００４２】
前記画素領域Ｐは、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、透過部Ｄに対応して透明電極１１４を構成し、反射部Ｃに対応して反射電極１１６を構成する。
この時、前記透過部Ｄは、従来の四角形の形ではない三角形の形で構成し、前記透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆが構成する長さがＫ＋Ｌ＋Ｗになるようにする。
これは、従来の２(Ｗ＋Ｌ)より短い長さなので、従来と比べて反射部Ｃと透過部Ｄとの境界領域Ｆの段差により発生する転傾欠陥(disclination)が小さくなるため、それだけ表示領域の拡大ができるようになる。
【００４３】
これと似た構成として以下、図７のように構成できる。
図７は、実施例１の例２による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
図示したように、基板１００上に一方向へ延長されたゲート配線１０２と、これとは垂直に交差して画素領域Ｐを定義するデータ配線１０４を形成する。
前記ゲート配線１０２とデータ配線１０４の交差地点には、前記ゲート配線１０２に連結されたゲート電極１０６と、前記データ配線１０４に連結されたソース電極１１０と、これとは離隔して構成されたドレイン電極１１２と、前記ゲート電極１０６とソース電極１１０及びドレイン電極１１２の間に構成されたアクティブ層１０８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
【００４４】
前記画素領域Ｐを、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、透過部Ｄに対応して透明電極１１４を構成し、反射部Ｃに対応して反射電極１１６を構成する。
この時、前記透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆは、前述した例１とは異なって、透過部Ｄの面積を広げるため、透過部Ｄの三角形の形のうち、一辺Ｋに当たる部分を丸く構成する。
【００４５】
実施例１のさらに他の形態を以下、図８を通じて説明する。
図８は、本発明の実施例１の例３による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
図示したように、基板１００上に一方向へ延長されたゲート配線１０２と、これとは垂直に交差して画素領域Ｐを定義するデータ配線１０４を形成する。
前記ゲート配線１０２とデータ配線１０４の交差地点には、前記ゲート配線１０２に連結されたゲート電極１０６と、前記データ配線１０４に連結されたソース電極１１０と、これとは離隔して構成されたドレイン電極１１２と、前記ゲート電極１０６とソース電極１１０及びドレイン電極１１２の間に構成されたアクティブ層１０８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
【００４６】
前記画素領域Ｐを、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、透過部Ｄに対応して透明電極１１４を構成し、反射部Ｃに対応して反射電極１１６を構成する。
この時、前記透過部Ｄの形を台形で構成する。
すなわち、透過部Ｄの縦の第１辺Ｕ１の長さは、従来と同一に構成するが、これとは平行な第２辺Ｕ２は、これよりは短く形成する。
このような構成または、従来の長方形の形と比べて、透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域(Ｆ；正確には境界の長さ)を縮められる構成であるので、転傾欠陥の発生領域を縮小する効果がある。
【００４７】
前述したような構成は、段差領域を大変小さくできるが、これは、透過部の領域を小さくするからこそ得られる効果であるために、一方、透過モードの輝度を犠牲にすることとなり、明るさが非常に明るいバックライトを使用しなければならない。
【００４８】
以下、説明する実施例２は、前記透過部の輝度を低下させなくても、転傾欠陥の発生領域を縮小して、開口部の面積を広げる構成を提案する。
【実施例２】
【００４９】
本発明の実施例２は、前記実施例１とは異なり、透過部の一部境界がゲート配線及びデータ配線の上部を通るように構成することを特徴とする。
図９は、本発明の実施例２による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
【００５０】
図示したように、基板２００上に一方向へとゲート配線２０２を形成して、ゲート配線２０２と垂直にデータ配線２１４を形成する。
この時、前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４が垂直に交差して定義される領域を画素Ｐと称する。
前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４の交差地点には、ゲート配線２０２に連結されるゲート電極２０４と、ゲート電極２０４の上部のアクティブ層２０８と、アクティブ層２０８の上部に位置して、前記データ配線２１４に連結されたソース電極２１６と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
前記画素Ｐは、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、透過部Ｄに対応して透明電極２２６を構成し、反射部Ｃに対応して反射板(反射電極)２２２を構成する。
【００５１】
前述した構成の特徴は、前記透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆに段差が形成されるが、境界領域Ｆを構成する四角形の形の辺のうち、一部が前記ゲート配線２０２と重なるように構成して、境界領域Ｆの一辺Ｚが前記ゲート配線２０２により遮蔽されるようにする。
【００５２】
このような構成は、従来より透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆを実質的に縮小させる効果があるので、転傾欠陥の発生領域を小さくして、それだけ開口領域を拡大できる長所がある。
前述した構成は、前記透過部Ｄの片側境界が画素領域Ｐの上側を通るゲート配線２０２の上部に位置した構成を示したが、前記透過部Ｄは画素領域Ｐの下側を通るゲート配線２０２の上部に位置して構成してもよい。
【００５３】
図９の構成は、単純に平面的な構成を説明したものであって、以下、図１０と図１１を参照しながら、図９の平面構成を有する液晶表示装置の断面構成を説明する。
図１０は、図９のＸ−Ｘ線に沿って切断して、実施例２の第１構成によるアレイ基板を示した断面図である(図１０の構成は、透過部に対応して下部基板に段差を構成した構造を示した)。
図示したように、液晶層２３０を間にして、画素Ｐが定義された第１基板(下部基板)２００と第２基板(上部基板)３００を離隔して構成する。
【００５４】
前記第２基板３００の下部には、多数の画素領域Ｐにそれぞれ対応する赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター３０４ａ、３０４ｂ、３０４ｃを含むカラーフィルター層３０４を形成する。
前記カラーフィルター層３０４の下部には、透明な共通電極３０６を形成する。
【００５５】
前記第１基板２００の向かい合う一面には、ゲート配線２０２とデータ配線２１４がゲート絶縁膜２０６を間にして垂直に(平面的な観点)交差するように形成する。
前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４の交差地点には、ゲート電極２０４、アクティブ層２０８、オーミックコンタクト層２１０、ソース電極２１６及びドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
前記薄膜トランジスタＴが形成された基板２００全面には、ベンゾシクロブテン(ＢＣＢ)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む透明な有機絶縁物質を塗布して第１保護膜２２０を形成する。
【００５６】
前記画素Ｐは、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、前記反射部Ｃに対応する第１保護膜２２０の上部に反射板２２２を構成して、前記反射板２２２の上部の透過部Ｄに対応して第２保護膜２２４を間にして透明電極２２６を構成する。
この時、前記ドレイン電極２１８に対して、前記透明電極２２６または、反射板(反射電極)２２２が接触するように構成したり、透明電極２２６及び反射板(反射電極)２２２が両方とも接触するように構成する。
【００５７】
前述した構成において、透過部Ｄに対応する下部の保護膜２２０をエッチングしてエッチングホール２３２を形成する。
この時、エッチングホール２３２の一辺が前記ゲート配線２０２の上部を通るようにして、エッチングホール２３２の段差Ｆにより発生する光漏れが 前記ゲート配線２０２により遮断されるようにする。
従って、遮断された段差程度の開口率が改善される長所がある。
この時、前記エッチングホール２３２を形成する工程で、前記ゲート絶縁膜２０６は、前記ゲート配線２０２をカバーして、前記反射板２２２を形成する工程の際、反射板２２２とゲート配線２０２が接触不良を防ぐ役割をする。
【００５８】
前述した図１０の構成は、透過部Ｄと反射部Ｃに対応して、同一な光学的効果を得るため、前記透過部Ｄに対応する下部基板２００に段差を形成する形状であって、このため、前記保護膜２２０を厚くコーティングして、これをエッチングする工程が追加的に含まれる。
一般的に、前記保護膜２２０は、前記段差形成のため、多数のコーティング工程を通じて、望む高さに形成される。
このような複雑さを減らすため、前記下部基板２００ではなく、上部基板３００に段差を形成する構造を提案する。
【００５９】
図１１を参照して説明する。
図１１は、図９のＸ−Ｘ線に沿って切断して、実施例２の第２構成によるアレイ基板を示した断面図である(図１１の構成は、透過部に対応する上部基板に段差を構成した構造を示した)。
【００６０】
図示したように、前記第１基板２００の向かい合う一面には、ゲート配線２０２とデータ配線２１４がゲート絶縁膜２０６を間にして垂直に(平面的な観点)交差するように形成する。
前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４の交差地点には、ゲート電極２０４、アクティブ層２０８、オーミックコンタクト層２１０、ソース電極２１６及びドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
前記薄膜トランジスタＴが形成された基板２００全面には、ベンゾシクロブテン(ＢＣＢ)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む透明な有機絶縁物質を塗布して第１保護膜２２０を形成する。
【００６１】
前記画素Ｐは、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、前記反射部Ｃに対応する第１保護膜２２０の上部に反射板２２２を構成して、前記反射板２２２の上部の透過部Ｄに対応して第２保護膜２２４を間にして透明電極２２６を構成する。
この時、前記ドレイン電極２１８に対して、前記透明電極２２６または、反射板(反射電極)２２２が接触するように構成したり、透明電極２２６及び反射板(反射電極)２２２が両方とも接触するように構成する。
【００６２】
前記第１基板２００と向かい合う第２基板３００の一面には、前記反射部Ｃに対応して透明なバッファ層３０２を形成して、前記バッファ層３０２を含む基板３００全面にサブカラーフィルター３０４ａ、３０４ｂ、３０４ｃを含むカラーフィルター層３０４を形成する。
前記バッファ層３０２により透過部Ｄと反射部Ｃに対応するカラーフィルター層３０４の厚さの比が２ｔ：ｔの比で構成されて、これにより、透過部Ｄと反射部Ｃに対応する液晶セル２３０の厚さの比も２ｄ：ｄの比で構成される。
このような構成は、前記透過部Ｄと反射部Ｃに対応する液晶セル２３０の厚さを異なるように構成して、透過部Ｄと反射部Ｃに対応して光学的効果を同一にすると同時に、カラーフィルターの色差を同一にする。
【００６３】
前記カラーフィルター層３０４の下部には、透明な共通電極３０６を構成する。
前述した構成のうち、特徴的なことは、前記透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆの一辺(すなわち、バッファ層の一辺)が前記ゲート配線２０２の上部を通るように構成する。
このような構成は、前記透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆの一部の段差が前記ゲート配線２０２により遮蔽されるので、段差により発生する転傾欠陥を減らすことができる。
【００６４】
以下、実施例３を通じて、本発明のさらなる変形例を説明する。
【実施例３】
【００６５】
本発明の実施例３の特徴は、前記実施例２の平面構成とは異なり、透過部の片側がデータ配線の上部に位置する構造である。
【００６６】
以下、図１２を参照して詳しく説明する。
図１２は、本発明の実施例３による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の構成を概略的に示した平面図である。
図示したように、基板２００上に一方向へとゲート配線２０２を形成して、ゲート配線２０２と垂直にデータ配線２１４を形成する。
【００６７】
この時、前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４の交差により定義される領域を画素Ｐと称する。
前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４の交差地点には、ゲート配線２０２に連結されるゲート電極２０４と、ゲート電極２０４の上部のアクティブ層２０８と、アクティブ層２０８の上部に位置して、前記データ配線２１４と連結されたソース電極２１６と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
前記画素Ｐは、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、透過部Ｄに対応して透明電極２２６を構成し、反射部Ｃに対応して反射板(反射電極)２２２を構成する。
【００６８】
前述した構成の特徴は、前記透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆを構成する四角形の形の辺のうち、一部が前記データ配線２１４の上部へと通るように構成して、反射部Ｃと透過部Ｄの境界領域Ｆの一辺が前記データ配線２１４により遮蔽されるようにする。
このような構成は、従来より透過部Ｄと反射部Ｃとの境界領域Ｆの段差による転傾欠陥の発生領域を実質的に小さくして、開口領域を拡大できる長所がある。
【００６９】
ところが、図１２の平面的な構成は、前述した図１１の構成のように、上部基板に段差が形成された場合、問題はないが、下部基板に段差が形成された構造であると、前記データ配線が露出される場合を考えなければならない。
【００７０】
これを考えた断面構成を以下、図１３と図１４を参照して説明する。
図１３は、図１２のＸＩ−ＸＩ線に沿って切断して、本発明の実施例３の第１構成によるアレイ基板を示した断面図である(図１３は、エッチングホールを形成した後、保護層をさらに追加することを特徴とする)。
【００７１】
液晶層２３０を間にして、透過部Ｄと反射部Ｃとで構成された画素Ｐが定義された第１基板(下部基板)２００と第２基板(上部基板)３００を離隔して構成する。
前記第１基板２００の向かい合う一面には、ゲート配線(図示せず)とデータ配線２１４がゲート絶縁膜２０６を間にして垂直に(平面的な観点)交差するように形成する。
【００７２】
前記ゲート配線(図示せず)とデータ配線２１４の交差地点には、前記ゲート配線(図示せず)と連結されたオーミックコンタクト層２１０と、前記データ配線２１４に連結されたソース電極２１６と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
前記薄膜トランジスタＴが形成された基板２００全面には、ベンゾシクロブテン(ＢＣＢ)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む有機絶縁物質グループのうちから選択された一つをコーティングして第１保護膜２２０を形成する。
前記第１保護膜２２０をエッチングしたエッチングホール２３２を前記透過部Ｄに対応して構成する。
この時、エッチングホール２３２の片側段差Ｆは、前記データ配線２１４の上部に位置させる。
【００７３】
従って、このような構成は、前記エッチングホール２３２により下部のデータ配線２１４の一部が露出された状態になる。
これをカバーするために、前記エッチングホール２３２が形成された第１保護膜２２０の上部に追加的に第２保護膜２２１をさらに構成する。
前記第２保護膜２２１は、前述した構成のように、第１保護膜と同一物質で形成するか、窒化シリコン(ＳｉＮＸ)と酸化シリコン(ＳｉＯ２)を含む無機絶縁物質グループのうちから選択された一つで形成する。
【００７４】
前記反射部Ｃに対応して反射板(反射電極)２２２を形成して、前記反射板(反射電極)２２２の上部の透過分Ｄに対応して第３保護膜２２４を間にして透明電極２２６を構成する。
前述した構成は、前記エッチングホール２３２が形成された第１保護膜２２０の上部に追加的に第２保護膜２２１をさらに形成して、前記エッチングホール２３２により露出されたデータ配線２１４が前記反射板２２２と接触する不良を防ぐ長所がある。
【００７５】
他の方法として、前記エッチングホール２３２を形成する保護膜２２０と前記データ配線２１４の間に追加的に絶縁膜がさらに形成できる。このような構成は以下、図１４を参照して説明する。
図１４は、図１２のＸＩ−ＸＩ線に沿って切断して、本発明の実施例２の第２構成によるアレイ基板を示した断面図である(図１４は、エッチングホールを形成する前、保護層をさらに追加することを特徴とする)。
【００７６】
液晶層２３０を間にして、透過部Ｄと反射部Ｃとで構成された画素Ｐが定義された第１基板(下部基板)２００と第２基板(上部基板)３００が離隔して位置する。
前記第１基板２００の向かい合う一面には、ゲート配線(図示せず)とデータ配線２１４がゲート絶縁膜２０６を間にして垂直に(平面的な観点)交差するように形成する。
前記ゲート配線(図１２の２０２)とデータ配線(図１２の２１４)の交差地点には、前記ゲート配線(図示せず)と連結されたゲート電極２０４、アクティブ層２０８、オーミックコンタクト層２１０と、前記データ配線２１４に連結されたソース電極２１６と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを形成する。
【００７７】
前記薄膜トランジスタＴが形成された基板２００全面には、窒化シリコン(ＳｉＮＸ)と酸化シリコン(ＳｉＯ２)を含む無機絶縁物質グループのうちから選択された一つを蒸着して第１保護膜２１９を形成する。
前記第１保護膜２１９の上部に、ベンゾシクロブテン(ＢＣＢ)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む透明な有機絶縁物質を塗布して第２保護膜２２０を形成する。
前記第２保護膜２２０をエッチングして、透過部Ｄに対応するエッチングホール２３２を形成する。
【００７８】
前述した構成は、前記エッチングホール２３２を形成するために前記第２保護膜２２０をエッチングする工程の際、下部の第１保護膜２１９により前記データ配線２１４がカバーされる構造なので、前記データ配線２１４が露出される不良を防げる。
前記第２保護膜２２０の上部の反射部Ｃに対応して反射板２２２を形成して、同反射板２２２の上部の透過分Ｄに対応して前記第３保護膜２２４を間にして透明電極２２６を構成する。
前述した構成は、前記エッチングホール２３２の一辺が前記データ配線２１４の上部を通るようにして、エッチングホール２３２の段差Ｆにより発生する光漏れが前記データ配線２１４により遮断されるようにする。
【００７９】
以下、実施例４及び実施例５を通じて透過部の位置の多様な変形例を説明する。
【実施例４】
【００８０】
図１５と図１６は、本発明の実施例４による反射透過型の液晶表示装置(アレイ基板)の一画素を示した拡大平面図である(便宜上、下部基板の構成を中心に説明する)。
図１５と図１６に示したように、基板２００の一方向へとゲート配線２０２を構成して、ゲート配線２０２と垂直に交差して画素Ｐを定義するデータ配線２１４を形成する。
前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４の交差地点には、ゲート電極２０４、アクティブ層２０８、ソース電極２１６及びドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを構成する。
【００８１】
前記画素Ｐを、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、透過部Ｄに対応して透明電極２２６を構成し、反射部Ｃに対応して反射板(反射電極)２２２を構成する。
このような構成は、前述したように、前記透過部Ｄに対応してエッチングホール(図示せず)を形成したり、反射部Ｃに対応した上部基板(図示せず)にバッファ層(図示せず)を形成して、透過部Ｄと反射部Ｃに対応する液晶(図示せず)セルギャップ比が異なるように構成できる。
【００８２】
このような構成において、図１５は反射部Ｃが画素Ｐの下部に位置しており、図１６は反射部Ｃの位置が画素Ｐの上部に位置することを示している。
このような構成は、従来とは異なり前記四角形の形の透過部Ｄの枠領域Ｆのうち、一辺だけが前記反射部と境界を構成していて、枠領域Ｆの残りの三辺はゲート配線２０２及びデータ配線２１４の上部を通るように構成したために、透過部Ｄの枠領域Ｆの段差(下部基板の場合には、エッチングホールによる段差、上部基板の場合には、バッファ層の段差)により発生する転傾欠陥を著しく減らせる構成である。
【００８３】
以下、実施例５を通じて前述した実施例４の変形例を説明する。
【実施例５】
【００８４】
図１７と図１８は、本発明の実施例５による反射透過型の液晶表示装置(アレイ基板)の一画素を示した拡大平面図である。
図１７と図１８に示したように、基板２００の一方向へとゲート配線２０２を構成して、ゲート配線２０２と垂直に交差して画素Ｐを定義するデータ配線２１４を構成する。
前記ゲート配線２０２とデータ配線２１４の交差地点には、ゲート電極２０４、アクティブ層２０８、ソース電極２１６及びドレイン電極２１８を含む薄膜トランジスタＴを構成する。
【００８５】
前記画素Ｐを、透過部Ｄと反射部Ｃとで定義して、透過部Ｄに対応して透明電極２２６を構成し、反射部Ｃに対応して反射板(反射電極)２２２を構成する。
このような構成は、前述したように、前記透過部Ｄに対応してエッチングホール(図示せず)を形成したり、反射部Ｃに対応した上部基板(図示せず)にバッファ層(図示せず)を形成して、透過部Ｄと反射部Ｃに対応する液晶(図示せず)セルギャップ比が異なるように構成できる。
このような構成において、図１７は反射部Ｃが画素Ｐの左側に垂直に位置しており、図１８は反射部Ｃの位置が画素Ｐの右側に垂直に位置することを示している。
【００８６】
前述した構成も、すでに説明した実施例１とは異なり、前記四角形の形の透過部Ｄの枠領域Ｆのうち一辺だけが前記反射部と境界を構成していて、枠領域Ｆの残りの三辺は、ゲート配線２０２及びデータ配線２１４の上部を通るように構成したために、透過部Ｄの枠領域Ｆの段差(下部基板の場合には、エッチングホールによる段差、上部基板の場合には、バッファ層の段差)により発生する転傾欠陥を著しく減らせる構成である。
【００８７】
前述したように説明した本発明による反射透過型の液晶表示装置の平面構成だけではなく、前記透過部の位置は多様に変形できる。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】一般的な反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した分解斜視図である。
【図２】図１のII−II線に沿って切断して、従来例１による反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。
【図３】図１のII−II線に沿って切断して、従来の例２による反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。
【図４】従来による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線に沿って切断した断面図である。
【図６】本発明の実施例１の例１による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
【図７】本発明の実施例１の例２による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
【図８】本発明の実施例１の例３による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
【図９】本発明の実施例２による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線に沿って切断して、本発明の実施例２の第１構成による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板を示した拡大断面図である。
【図１１】図９のＸ−Ｘ線に沿って切断して、本発明の実施例２の第２構成による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板を示した拡大断面図である。
【図１２】本発明の実施例３による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
【図１３】図１２のＸＩ−ＸＩ線に沿って切断して、本発明の実施例３の第１構成による反射透過型の液晶表示装置の構成を示した断面図である。
【図１４】図１２のＸＩ−ＸＩ線に沿って切断して、本発明の実施例３の第２構成による反射透過型の液晶表示装置の構成を示した断面図である。
【図１５】本発明の実施例４の例１による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の構成を概略的に示した拡大平面図である。
【図１６】本発明の実施例４の例２による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の構成を概略的に示した拡大平面図である。
【図１７】本発明の実施例５の例１による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の構成を概略的に示した拡大平面図である。
【図１８】本発明の実施例５の例２による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の構成を概略的に示した拡大平面図である。
【符号の説明】
【００８９】
２００：第１基板
２０２：ゲート配線
２０４：ゲート電極
２０８：アクティブ層
２１０：オーミックコンタクト層
２１４：データ配線
２１６：ソース電極
２１８：ドレイン電極
２２０：第１保護膜
２２２：反射板
２２４：第２保護膜
２２６：透明画素電極
２３２：エッチングホール
３００：第２基板
３０４：カラーフィルター層
３０６：透明共通電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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