(57)【要約】【課題】  高収率で容易に、しかも安価に合成できる、医薬、農薬、あるいは液晶化合物などの機能性材料を製造するための中間体として有用な、光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体、および、その製造方法を提供することにある。【解決手段】  次式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物と四フッ化ケイ素とを、アミンの存在下、またはアミンとアンモニウム塩もしくは水との存在下で反応させることにより得られる、次式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体。【化１】2004331649.tif 000012  （式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、これらのアルキル基およびシクロアルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ2 は水酸基の保護基を示す。Ｃ* は光学活性が誘起された不斉炭素を表す。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体。
【化１】
2004331649.tif 000010
（式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、これらのアルキル基およびシクロアルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ2 は水酸基の保護基を示す。Ｃ* は光学活性が誘起された不斉炭素を表す。）
【請求項２】
次式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物と四フッ化ケイ素とを、アミンの存在下、またはアミンとアンモニウム塩もしくは水との存在下で反応させることを特徴とする請求項１記載の光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体の製造方法。
【化２】
2004331649.tif 000011
（式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、これらのアルキル基およびシクロアルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ2 は水酸基の保護基を示す。Ｃ* は光学活性が誘起された不斉炭素を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬、農薬、あるいは液晶化合物などの機能性材料を製造するための中間体として有用な光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２−フルオロアルカノール類（即ちフルオロヒドリン化合物）の合成方法としては、エポキシ化合物に、アミンとアンモニウム塩もしくは水との存在下に四フッ化ケイ素を反応させる方法が知られている（非特許文献１参照）。
しかし、この合成方法では、得られる化合物はラセミ体であり、光学活性な２−フルオロアルカノール類は得られていない。
【０００３】
また、ＨＦ、ＢＦ3 ・Ｅｔ2 Ｏ、ＨＦ−ＫＦ系試薬またはＨＦ−アミン系試薬などを用い、エポキシドを開環させ、フルオロヒドリン化合物を合成する方法が古くから知られているが、これらの方法は、一般に、反応温度が高く、転位副反応が起こりやすい、特別な反応容器を必要とするなどの問題があった。
【０００４】
光学活性な２−フルオロアルカノール類としては、次式(1) で表される光学活性な２−フルオロ−２−メチル−１−アルカノール類が知られている（特許文献１参照）。
【０００５】
【化３】
2004331649.tif 000002
（式中、Ｒは炭素数２乃至１６個のアルキル基を、Ｃ* は光学活性が誘起された不斉炭素を表す。）
【０００６】
また、上式(1) で表される光学活性な２−フルオロ−２−メチル−１−アルカノール類の製造方法として、光学活性な２−メチル−１，２−エポキシアルカンにアミン−フッ化水素錯体または四フッ化ケイ素を反応させる方法が、特許文献１に記載されている。
しかし、特許文献１に記載されている上記の光学活性な２−フルオロアルカノール類は、モノアルコール類であり、また上記の製造方法では、収率が低いなどの問題があった。
【０００７】
その他の光学活性な２−フルオロアルカノール類の合成方法としては、Ｎ−Ｆ系求電子フッ素化剤を用い、マロン酸誘導体にフッ素基を導入した後、あるいはフルオロマロン酸誘導体をアルキル化した後、化学変換およびＨＰＬＣによる分離により光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体を合成する方法が知られている（非特許文献２参照）。しかし、この方法は、高価なフッ素化剤と高価な有機試薬を使用しなければならない、反応工程が多く、収率が低い、特にＨＰＬＣを用いて光学活性体を分離するという煩雑な操作を行わなければならないなどの問題があった。
【０００８】
また、ラセミ体から光学分割などで光学活性体を得る方法が知られている（非特許文献３参照）。しかし、この方法は、２−アリール−２−フルオロ−１−プロパンジオール類の合成に限定されており、しかも収率が低いなどの問題があり、光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体を効率よく得る手段は未だ確立されていない。
【非特許文献１】清水真、吉岡宏輔、テトラヘドロンレターズ (Tetrahedron Lett.), 29, 4101(1988)
【非特許文献２】Masataka Ihara, Tatsuo Kawabuchi, Yuuji Tokunaga, Keiichiro Fukumoto, Tetrahedron: Asymmetry,  5, 1041(1994)
【非特許文献３】Giuseppe Guanti, Enrica Narisano, Renara Riva, Tetrahedron: Asymmetry, 9, 1859(1998)
【特許文献１】特開平２−２３５８２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、高収率で容易に、しかも安価に合成できる、医薬、農薬、あるいは液晶化合物などの機能性材料を製造するための中間体として有用な、光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体、および、その製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究した結果、大量にかつ容易に合成できる特定の光学活性なエポキシアルコール誘導体を用いることにより、新規な光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体を安価で収率良く製造し得ることを知見した。
【００１１】
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、次式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体を提供するものである。
【００１２】
【化４】
2004331649.tif 000003
（式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、これらのアルキル基およびシクロアルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ2 は水酸基の保護基を示す。Ｃ* は光学活性が誘起された不斉炭素を表す。）
【００１３】
また、本発明は、上式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体の製造方法として、次式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物と四フッ化ケイ素とを、アミンの存在下、またはアミンとアンモニウム塩もしくは水との存在下で反応させることを特徴とする光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体の製造方法を提供するものである。
【００１４】
【化５】
2004331649.tif 000004
（式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、これらのアルキル基およびシクロアルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ2 は水酸基の保護基を示す。Ｃ* は光学活性が誘起された不斉炭素を表す。）
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、高収率で容易に、しかも安価に合成できる、医薬、農薬、あるいは液晶化合物などの機能性材料を製造するための中間体として有用な、光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体、および、その製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体およびその製造方法について詳述する。
【００１７】
前記式（Ｉ）において、Ｒ1 で示されるアルキル基としては、炭素数４〜２０の直鎖あるいは分岐アルキル基が挙げられ、シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などが挙げられる。
これらのアルキル基およびシクロアルキル基は置換基を有していてもよく、斯かる置換基としては、オレフィン（例えばビニル、プロペニル、ブテニルなど）、アセチレニル基、水酸基、ハロゲン、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、複素環化合物残基（例えばピラゾリジニル基、ピペリジル基など）、アミド基などを挙げることができる。
【００１８】
また、前記式（Ｉ）において、水酸基の保護基Ｒ2 としては、メチル基やアリル基などのようなアルキル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基およびトリフェニルメチル基などのようなベンジル系保護基、アリールメチル系保護基、メトキシエトキシメチル基や−ＣＨ2 ＯＣＨ2 Ａｒ基（Ａｒ：アリール）などのようなアルキルエーテル系保護基などの、従来より水酸基の保護基として慣用的に用いられている保護基を挙げることができる。
アセチル基やベンゾイル基のようなエステル系保護基を用いた場合、本発明の２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体は得られるものの、その収率は低く、分子内転位により１，２，３−トリオール誘導体を主生成物として与えるため、あまり好ましくない。
【００１９】
従って、本発明の前記式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体の代表的化合物としては、（＋）−２−ベンジロキシメチル−２−フルオロ−１−ウンデカノール、（＋）−３−ベンジロキシ−２−フルオロ−２−シクロヘキシルプロパノールなど、並びに（−）の上記２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体類を挙げることができる。
【００２０】
次に、本発明の前記式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体の製造方法について説明する。
本発明の製造方法で出発原料として使用される前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物において、Ｒ1 で示される炭素数４〜２０のアルキル基、シクロアルキル基、並びにこれらの基が有していてもよい置換基としては、前述した前記式（Ｉ）におけるＲ1 で示されるものと同様のものを例示でき、またＲ2 で示される水酸基の保護基も、前述した前記式（Ｉ）におけるＲ2 で示されるものと同様のものが例示される。
【００２１】
従って、本発明で使用される前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物の代表的化合物としては、（＋）−２−ベンジロキシメチル−１，２−エポキシウンデカン、（＋）−１−ベンジロキシ−２−シクロヘキシル−２，３−エポキシプロパンなど、並びに（−）の上記エポキシド類を挙げることができる。
これらの前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物は、シャープレス不斉エポキシ化反応（J.A.C.S., 109, 5765 (1987)) 、キラルなケトン触媒による不斉エポキシ化反応（Synthesis, 1979 (2000)) 、キラルサレン触媒による不斉エポキシ化反応（J.A.C.S., 116, 9333 (1994)) などにより、大量にかつ容易に合成することができる。
【００２２】
前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物を、四フッ化ケイ素と反応させることにより、本発明の前記式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体が得られる。
この前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物と四フッ化ケイ素との反応は、アミンの存在下、またはアミンとアンモニウム塩もしくは水との存在下で行う。
【００２３】
上記アミンの例としては、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのアミン類が挙げられる。
また、上記アンモニウム塩の例としては、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド、ベンジルトリメチルアンモニウムフルオリドなどのフッ化第四アンモニウムなどが挙げられる。
【００２４】
前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物と四フッ化ケイ素との反応は、四フッ化ケイ素の使用量を過剰量で行うのが好ましく、一般的には四フッ化ケイ素の常圧または加圧雰囲気下で行うのが好ましい。四フッ化ケイ素の反応圧力は、０．０１〜２０ＭＰａの範囲が好ましく、０．０１〜１０ＭＰａの範囲がより好ましい。該反応圧力が０．０１ＭＰａより低い場合、反応速度が遅く、また２０ＭＰａより高い場合、反応操作が難しくなる。
【００２５】
上記アミンの添加量は、出発原料の前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物に対して、好ましくは０．２〜１０当量、より好ましくは０．５〜５当量である。該アミンの添加量が０．２当量より少ない場合、反応速度が遅く、副生成物の量が増加し、また１０当量より多い場合、反応後の生成物の単離が煩雑である。
【００２６】
上記のアンモニウム塩もしくは水の添加量は、出発原料の前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物に対して、好ましくは０．２〜６当量、より好ましくは０．５〜４当量である。アンモニウム塩と水を併用する必要はない。水を使用する場合、その添加量が重要である。前述の特許文献１には、光学活性な２−フルオロ−２−メチル−１−アルカノール類の製造において、水を使用する場合、反応混合物がゲル状となり、生成物の分離が煩雑となる旨が記載されているが、本発明においては、正確に水の添加量を上記範囲内に制御することにより、反応混合物がゲル状にならず、生成物の分離が容易である。
【００２７】
前記式（II）で表される光学活性なエポキシ化合物と四フッ化ケイ素との反応に使用される溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタンなどの含ハロゲン非プロトン性溶媒、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルなどのジアルキルエーテルなどが好ましい。
反応温度は、−２０℃〜１２０℃の範囲で行うことが好ましい。反応温度が−２０℃より低い場合、反応速度が非常に遅く、また反応温度が１２０℃より高い場合、副反応の顕著な増加が見られる。反応時間は、反応温度などにもよるが、通常、凡そ０．２〜５時間である。
【００２８】
上記の反応終了後、当該生成物について、加水分解、有機層−水層分離、抽出、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の後処理を行うことにより、本発明の前記式（Ｉ）で表される光学活性な２−フルオロ−１，３−ジオール誘導体を得ることができる。
【実施例】
【００２９】
以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。
【００３０】
実施例１
滴下ロートおよびコンデンサーを付した１００ｍｌ三口フラスコに、ジエチルエーテル２０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン０．６ｍｌおよび水０．２５ｍｌを順次仕込んだ。反応器内を四フッ化ケイ素の常圧雰囲気にした後、ジエチルエーテル１５ｍｌで希釈した１．０ｇ（３．４５ｍｍｏｌ）の（Ｓ）−（＋）−２−ベンジロキシメチル−１，２−エポキシウンデカン（９４％ e.e.)を氷冷下で滴下した後、室温で１時間攪拌した。３０ｍｌの飽和ＫＦ水溶液を添加し、反応を停止した後、有機層を分液した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的生成物である下記の化学式を有する（Ｓ）−（＋）−２−ベンジロキシメチル−２−フルオロ−１−ウンデカノール０．８９ｇを得た。収率は８３％、比旋光度 [α]20 D は＋６．２２（ｃ＝１．３９  ＣＨＣｌ3 ）であった。上記目的生成物の光学純度をMosher法で測定した結果、光学純度が９４％ e.e. であることが分かった。
【００３１】
【化６】
2004331649.tif 000005
（前記式（Ｉ）において、Ｒ1 ＝ｎ−Ｃ9 Ｈ19、Ｒ2 ＝ＣＨ2 Ｐｈである化合物。Ｐｈはフェニル基を示す。）
【００３２】
上記目的生成物の構造は、核磁気共鳴分析などで確認した。核磁気共鳴分析（VARIAN社製、AS500)の結果は、以下の通りである。
【００３３】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン）
δ  7.37〜7.28ppm(m, 5H)、4.60ppm(d,J=12Hz, 1H) 、4.55ppm(d,J=12Hz, 1H) 、3.75ppm(d,J=6.5Hz, 1H)、3.71ppm(d,J=6.5Hz, 1H)、3.65ppm(dd,J1=15Hz, J2=10.2Hz, 1H)、3.59ppm(dd,J1=20Hz, J2=10.2Hz, 1H)、2.04ppm(t,J=6.5Hz, 1H)、1.71〜1.61ppm(m, 2H)、1.35〜1.23ppm(m, 14H) 、0.83ppm(t,J=7Hz, 3H)
【００３４】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン、ppm ）
δ  14.36, 22.87, 22.93, 29.55, 29.71, 29.75, 30.24, 32.12, 32.97(d,J=21.1Hz) 、65.14(d,J=25.5Hz) 、71.13(d,J=28.4Hz) 、73.68, 97.46(d,J=172.5Hz) 、127.67, 127.83, 128.45, 137.72
【００３５】
19Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：ＣＦＣｌ3 ）
δ   -169.76〜-169.99ppm(m, 1F)
【００３６】
実施例２
滴下ロートおよびコンデンサーを付した１００ｍｌ三口フラスコに、ｔ−ブチルメチルエーテル２０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン０．７ｍｌおよび水０．２９ｍｌを順次仕込んだ。反応器内を四フッ化ケイ素の常圧雰囲気にした後、ｔ−ブチルメチルエーテル１５ｍｌで希釈した１．０ｇ（４．１ｍｍｏｌ）の（Ｓ）−（＋）−１−ベンジロキシ−２−シクロヘキシル−２，３−エポキシプロパン（９４％ e.e.)を氷冷下で滴下した後、室温で１時間攪拌した。３０ｍｌの飽和ＫＦ水溶液を添加し、反応を停止した後、有機層を分液した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的生成物である下記の化学式を有する（Ｓ）−（＋）−３−ベンジロキシ−２−シクロヘキシル−２−フルオロ−１−プロパノール０．７７ｇを得た。収率は７２％、比旋光度 [α]20 D は＋６．９７（ｃ＝０．９３  ＣＨＣｌ3 ）であった。上記目的生成物の光学純度をMosher法で測定した結果、光学純度が９４％ e.e. であることが分かった。
【００３７】
【化７】
2004331649.tif 000006
（前記式（Ｉ）において、Ｒ1 ＝ｃ−Ｃ6 Ｈ11、Ｒ2 ＝ＣＨ2 Ｐｈである化合物。Ｐｈはフェニル基を示す。）
【００３８】
上記目的生成物の構造は、核磁気共鳴分析などで確認した。核磁気共鳴分析（BRUKER社製、AV300M) の結果は、以下の通りである。
【００３９】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン）
δ  7.39〜7.27ppm(m, 5H)、4.59ppm(d,J=12Hz, 1H) 、4.54ppm(d,J=12Hz, 1H) 、3.86〜3.67ppm(m, 2H)、3.72〜3.66ppm(m, 2H)、2.13ppm(t,J=6.0Hz, 1H)、1.88〜1.65ppm(m, 6H)、1.31〜1.00ppm(m, 5H)
【００４０】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン、ppm ）
δ  26.26, 26.40, 26.61(d,J=5.5Hz)、41.02(d,J=20.7Hz) 、63.76(d,J=25.3Hz) 、70.49(d,J=27.7Hz) 、73.70, 98.82(d,J=173.9Hz) 、127.64, 127.81, 128.44, 137.68
【００４１】
19Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：ＣＦＣｌ3 ）
δ   -172.82〜-173.14ppm(m, 1F)
【００４２】
実施例３
滴下ロートおよびコンデンサーを付した１００ｍｌ三口フラスコに、ジエチルエーテル２０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン０．８ｍｌおよび水０．３５ｍｌを順次仕込んだ。反応器内を四フッ化ケイ素の常圧雰囲気にした後、ジエチルエーテル１５ｍｌで希釈した１．０ｇ（４．９ｍｍｏｌ）の（Ｓ）−（＋）−１−ベンジロキシ−２−アリル−２，３−エポキシプロパン（９２％ e.e.)を氷冷下で滴下した後、室温で２時間攪拌した。３０ｍｌの飽和ＫＦ水溶液を添加し、反応を停止した後、有機層を分液した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的生成物である下記の化学式を有する（Ｓ）−（−）−２−ベンジロキシメチル−２−フルオロ−４−ペンテン−１−オール０．６２ｇを得た。収率は７０％、比旋光度 [α]20 D は−２．０１（ｃ＝１．０６  ＣＨＣｌ3 ）であった。上記目的生成物の光学純度をMosher法で測定した結果、光学純度が９２％ e.e. であることが分かった。
【００４３】
【化８】
2004331649.tif 000007
（前記式（Ｉ）において、Ｒ1 ＝ＣＨ2 ＣＨＣＨ2 、Ｒ2 ＝ＣＨ2 Ｐｈである化合物。Ｐｈはフェニル基を示す。）
【００４４】
上記目的生成物の構造は、核磁気共鳴分析などで確認した。核磁気共鳴分析（BRUKER社製、AV300M) の結果は、以下の通りである。
【００４５】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン）
δ  7.39〜7.27ppm(m, 5H)、5.73〜5.87ppm(m, 1H)、5.12〜5.17ppm(m, 2H)、4.59ppm(d,J=12Hz, 1H) 、4.54ppm(d,J=12Hz, 1H) 、3.77ppm(d,J=6.6Hz, 1H)、3.71ppm(d,J=6.5Hz, 1H)、3.65ppm(dd,J1=13Hz,J2=10.4Hz, 1H) 、3.59ppm(dd,J1=15Hz,J2=10.4Hz, 1H) 、2.44〜2.55ppm(m, 2H)、1.97ppm(t,J=6.6Hz, 1H)
【００４６】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン、ppm ）
δ  37.23(d,J=21.8Hz) 、64.8(d,J=24.5Hz)、70.93(d,J=27.3Hz) 、73.68, 96.82(d,J=174.4Hz) 、119.28, 127.66, 127.83, 128.53, 131.46(d,J=6.6Hz) 、137.63
【００４７】
19Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：ＣＦＣｌ3 ）
δ   -169.21〜-169.60ppm(m, 1F)
【００４８】
実施例４
滴下ロートおよびコンデンサーを付した１００ｍｌ三口フラスコに、ジエチルエーテル２０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン０．６ｍｌおよび水０．２５ｍｌを順次仕込んだ。反応器内を四フッ化ケイ素の常圧雰囲気にした後、ジエチルエーテル１５ｍｌで希釈した１．０ｇ（３．４７ｍｍｏｌ）の（Ｒ）−（＋）−２−（２−メトキシエトキシ）メトキシメチル−１，２−エポキシウンデカン（９６％ e.e.)を氷冷下で滴下した後、室温で１時間攪拌した。３０ｍｌの飽和ＫＦ水溶液を添加し、反応を停止した後、有機層を分液した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的生成物である下記の化学式を有する（Ｓ）−（＋）−２−（２−メトキシエトキシ）メトキシメチル−２−フルオロ−１−ウンデカノール０．７３ｇを得た。収率は６８％、比旋光度 [α]20 D は＋１１．４９（ｃ＝０．９２  ＣＨＣｌ3 ）であった。上記目的生成物の光学純度をMosher法で測定した結果、光学純度が９６％ e.e. であることが分かった。
【００４９】
【化９】
2004331649.tif 000008
（前記式（Ｉ）において、Ｒ1 ＝ｎ−Ｃ9 Ｈ19、Ｒ2 ＝ＣＨ2 ＯＣＨ3 である化合物。）
【００５０】
上記目的生成物の構造は、核磁気共鳴分析などで確認した。核磁気共鳴分析（BRUKER社製、AV300M) の結果は、以下の通りである。
【００５１】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン）
δ  4.74ppm(s, 2H)、3.82〜3.60ppm(m, 6H)、3.58ppm(t,J=4.4Hz, 2H)、3.40ppm(s, 3H)、2.52ppm(t,J=6.9Hz, 1H)、1.71〜1.58ppm(m, 2H)、1.40〜1.26ppm(m, 14H) 、0.88ppm(t,J=6.8Hz, 3H)
【００５２】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン、ppm ）
δ  14.08, 22.51(d,J=4.8Hz) 、22.64, 29.27, 29.46, 29.48, 29.97, 31.84, 32.65(d,J=19.1Hz) 、58.98, 63.88(d,J=27.2Hz)、67.02, 68.08(d,J=27.5Hz)、71.71, 95.41, 97.27(d,J=172.2Hz)
【００５３】
19Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：ＣＦＣｌ3 ）
δ   -170.91〜-171.30ppm(m, 1F)
【００５４】
実施例５
滴下ロートおよびコンデンサーを付した１００ｍｌ三口フラスコに、ｔ−ブチルメチルエーテル２５ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン０．７ｍｌおよび水０．３ｍｌを順次仕込んだ。反応器内を四フッ化ケイ素の常圧雰囲気にした後、ｔ−ブチルメチルエーテル１５ｍｌで希釈した１．０ｇ（４．１ｍｍｏｌ）の（Ｒ）−（＋）−２−メトキシエトキシメチル−１，２−エポキシウンデカン（９６％ e.e.)を氷冷下で滴下した後、室温で１時間攪拌した。３０ｍｌの飽和ＫＦ水溶液を添加し、反応を停止した後、有機層を分液した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的生成物である下記の化学式を有する（Ｓ）−（＋）−２−メトキシエトキシメチル−２−フルオロ−１−ウンデカノール０．９１ｇを得た。収率は８４％、比旋光度 [α]20 D は＋６．３３（ｃ＝０．９２  ＣＨＣｌ3 ）であった。上記目的生成物の光学純度をMosher法で測定した結果、光学純度が９６％ e.e. であることが分かった。
【００５５】
【化１０】
2004331649.tif 000009
（前記式（Ｉ）において、Ｒ1 ＝ｎ−Ｃ9 Ｈ19、Ｒ2 ＝ＣＨ2 Ｏ（ＣＨ2 ）2 ＯＣＨ3 である化合物。）
【００５６】
上記目的生成物の構造は、核磁気共鳴分析などで確認した。核磁気共鳴分析（BRUKER社製、AV300M) の結果は、以下の通りである。
【００５７】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン）
δ  4.66ppm(s, 2H)、3.77ppm(d, 6.7Hz, 1H) 、3.73ppm(d, 6.7Hz, 1H) 、3.73〜3.62ppm(m, 2H)、3.39ppm(s, 3H)、2.03ppm(t,J=6.6Hz, 1H)、1.75〜1.63ppm(m, 2H)、1.40〜1.26ppm(m, 14H) 、0.88ppm(t,J=6.6Hz, 3H)
【００５８】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：テトラメチルシラン、ppm ）
δ  14.09, 22.65, 22.69, 29.27, 29.45, 29.47, 29.98, 31.84, 32.59(d,J=21.4Hz) 、55.43, 64.71(d,J=24.9Hz)、68.37(d,J=27.9Hz) 、96.77, 97.36(d,172.1Hz)
【００５９】
19Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3 、標準物質：ＣＦＣｌ3 ）
δ   -170.05〜-170.44ppm(m, 1F)
【００６０】
比較例１
滴下ロートおよびコンデンサーを付した１００ｍｌ三口フラスコに、ジエチルエーテル２０ｍｌおよび水０．２５ｍｌを仕込んだ。反応器内を四フッ化ケイ素の常圧雰囲気にした後、ジエチルエーテル１５ｍｌで希釈した１．０ｇ（３．４５ｍｍｏｌ）の（Ｒ）−２−ベンゾイロキシメチル−１，２−エポキシウンデカン（９６％ e.e.)を氷冷下で滴下した後、室温で１時間攪拌した。ＫＦ水溶液を添加し、反応を停止した後、有機層を分液した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的生成物の（Ｓ）−２−ベンゾイロキシメチル−２−フルオロ−１−ウンデカノール０．６２ｇを得た。収率は５８％であった。上記目的生成物の光学純度をMosher法で測定した結果、光学純度が６０％ e.e. であることが分かった。
【００６１】
比較例２
滴下ロートおよびコンデンサーを付した１００ｍｌ三口フラスコに、ジエチルエーテル７０ｍｌおよび４４０ｍｇ（１．５２ｍｍｏｌ）の（Ｓ）−（＋）−２−ベンジロキシメチル−１，２−エポキシウンデカン（９６％ e.e.)を仕込んだ。氷冷下で４８０ｍｇ（３．３４ｍｍｏｌ）のＢＦ3 ・Ｅｔ2 Ｏを滴下した後、室温で２４時間攪拌した。５％重曹水を添加した後、有機層を分液した。有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、目的生成物の（Ｓ）−（＋）−２−ベンジロキシメチル−２−フルオロ−１−ウンデカノール１５０ｍｇを得た。収率は３１％であった。上記目的生成物の光学純度をMosher法で測定した結果、光学純度が５６％ e.e. であることが分かった。