(57)【要約】【課題】有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法の提供。【解決手段】絶縁層を、絶縁材料と色階調を深める添加剤を混合しして絶縁層材料を形成して導電基板に塗布し、並びにリソグラフィー工程とエッチング工程を行ない絶縁層を形成する時、該絶縁層エッチング後の各エッチング領域の区画部分に深色を現出させ、各エッチング領域にそれに対応する単一の画素を表現させ、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高め、有機発光ダイオードディスプレイの表示品質を高める。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光ダイオードの絶縁層（２１）の色階調を深くして有機発光ダイオードが光源照射を受けて発生するカソード反射干渉状況を減らし、有機発光ダイオードの表示画像品質を改善する有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、
ａ）絶縁層（２１）を形成した絶縁材料を所定の比率で色階調を深める添加剤に加える工程、
ｂ）工程ａの材料を均一に混合して絶縁層塗布材料を形成する工程、
ｃ）パターン化したアノード導電層（１２）が配置された導電基板（１０）を提供し、並びに該導電基板（１０）に絶縁層塗布材料を塗布して固定厚さの薄膜（２０）を形成する工程、
ｄ）工程ｃの薄膜塗布工程を完成した導電基板（１０）にリソグラフィー工程及びエッチング工程で、該薄膜（２０）に絶縁層（２１）を形成し、並びに該絶縁層（２１）にあって各被エッチング領域を画定する区画部（２１１）に深色を現出させる工程、
を具えたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、絶縁材料が現像特性と低誘電性質を具えたホトレジスト材料とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、添加剤が黒色顔料或いは色階調を深める深色物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、添加剤が不導電物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、添加剤と絶縁材料の所定の比率が、必要な色階調により決定されると共に、絶縁材料性質に影響を与えないように調整されることを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、絶縁層（２１）の上に絶縁層材料を塗布して薄膜（２０’）を形成し、並びにリソグラフィー、エッチング工程によりその上にウォールスペーサを具えたカソードスペーサ（４０）を形成することを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法。
【請求項７】
絶縁層塗布材料を導電基板（１０）に塗布し並びにリソグラフィー工程とエッチング工程を行って形成される有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、
該絶縁層塗布材料が絶縁材料と色階調を深める添加剤が混合されてなり、該絶縁層（２１）のエッチング後のすでにエッチングされた各領域の区画部（２１１）が深色を現出し、各エッチング領域がそれに対応する単一の画素を表現し、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高めることを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層。
【請求項８】
請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、絶縁材料が現像特性と低誘電性質を具えたホトレジスト材料とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層。
【請求項９】
請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、添加剤が黒色顔料或いは色階調を深める深色物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層。
【請求項１０】
請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、添加剤が不導電物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層。
【請求項１１】
請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、添加剤と絶縁材料の混合比率が、必要な色階調により決定されると共に、絶縁材料性質に影響を与えないように調整されることを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一種の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、特に有機発光ダイオードの絶縁層の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機発光ダイオードはセルフ発光し、厚さが薄く、反応速度が速く、視角が広く、解析度が良好で、高輝度で、フレキシブルパネルに使用でき使用温度範囲が広い等の多くの長所を有するため、ＴＦＴディスプレイに続く新時代のフラットディスプレイ技術であると認められる。この有機発光ダイオードの発光原理は材料の特性を利用し、電子と正孔を発光層で結合させ、発生するエネルギーにより発光分子を非励起状態から励起状態に高め、電子が励起状態から非励起状態に回復する時に、そのエネルギーを波の形式で釈放させる、というものであり、これにより異なる波長の発光装置が提供されている。そのうちアノードはＩＴＯ導電ガラス膜とされ、スパッタ或いは蒸着方式で、ガラス或いは透明プラスチック基板に付着させられ、カソードはマグネシウム、アルミニウム、リチウム等の金属とされ、二つの電極間に複数の有機薄膜で形成された発光領域とされ、この有機薄膜は、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔伝送層（ＨＴＬ）、有機発光層、及び電子輸送層（ＥＴＬ）とされ、実際に応用され量産される時は、必要に応じてさらに別の異なる薄膜が加えられる。
【０００３】
有機発光ダイオードには多くの長所があるが、現在一般に市販されている反射式液晶ディスプレイの携帯電話スクリーンと比べると、有機発光ダイオードはセルフ発光しなけれが表示できず、これに対して反射式液晶ディスプレイは外界の光を反射すれば表示でき、特に屋外或いは強光下で使用する時、有機発光ダイオードパネルは更に強い光を発して一定のコントラストを維持しなければならないが、反射式液晶ディスプレイにはこのような問題はない。ゆえに高コントラストは有機発光ダイオードディスプレイにおける重要な課題の一つである。
【０００４】
有機発光ダイオード装置のカソードは金属材質であるため、屋外の明るい環境ではカソードの反射が表示品質に干渉する。これに対する一般の解決方法としては、光線を吸収するカソード（ｂｌａｃｋ  ｃａｔｈｏｄｅ）を利用する方法、光線を吸収する塗布層（ｂｌａｃｋ  ｌａｙｅｒ）を利用する方法、有機発光ダイオード装置中に４分の１波長検光板を加える方法がある。しかし、光線を吸収するカソードを利用する方法は、その光線を吸収するカソード材料の研究開発が容易でなく、かつ製造過程の難度が高い欠点がある。光線を吸収する塗布層（ｂｌａｃｋ  ｌａｙｅｒ）を利用する方法も、一般に材料研究開発が容易でなく、かつ製造製造過程の難度が高い欠点がある。有機発光ダイオード装置中に４分の１波長検光板を加える方法は、４分の１の波長検光板を加えることにより装置の厚さが増し、且つ検光板がもとの有機発光ダイオード装置の発光輝度を損ない、さらに４分の１検光板が製造コスト増加と装置輝度低下をもたらす問題がある。総合すると、以上のカソード反射干渉を解決する方法は、いずれも大幅に製造コストを増加し、且つ生産時の製品の歩留りに影響を与える。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の主要な目的は、上述の従来の技術の欠点を解決し、欠点の存在を無くすことにある。本発明は、製造工程の歩留りに影響を与えずに、且つ低い製造コストで、有機発光ダイオードの絶縁層の色階調を深くすることにより、有機発光ダイオードが光源からの照射を受けて発生するカソード反射干渉を減らす方法を提供する。本発明は、該絶縁層を、絶縁材料と色階調を深める添加剤を混合しして絶縁層材料を形成して導電基板に塗布し、並びにリソグラフィー工程とエッチング工程を行ない絶縁層を形成する時、該絶縁層エッチング後の各エッチング領域の区画部分に深色を現出させ、各エッチング領域にそれに対応する単一の画素を表現させ、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高め、有機発光ダイオードディスプレイの表示品質を高める。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、有機発光ダイオードの絶縁層（２１）の色階調を深くして有機発光ダイオードが光源照射を受けて発生するカソード反射干渉状況を減らし、有機発光ダイオードの表示画像品質を改善する有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、
ａ）絶縁層（２１）を形成した絶縁材料を所定の比率で色階調を深める添加剤に加える工程、
ｂ）工程ａの材料を均一に混合して絶縁層塗布材料を形成する工程、
ｃ）パターン化したアノード導電層（１２）が配置された導電基板（１０）を提供し、並びに該導電基板（１０）に絶縁層塗布材料を塗布して固定厚さの薄膜（２０）を形成する工程、
ｄ）工程ｃの薄膜塗布工程を完成した導電基板（１０）にリソグラフィー工程及びエッチング工程で、該薄膜（２０）に絶縁層（２１）を形成し、並びに該絶縁層（２１）にあって各被エッチング領域を画定する区画部（２１１）に深色を現出させる工程、
を具えたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法としている。
請求項２の発明は、請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、絶縁材料が現像特性と低誘電性質を具えたホトレジスト材料とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法としている。
請求項３の発明は、請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、添加剤が黒色顔料或いは色階調を深める深色物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法としている。
請求項４の発明は、請求項３に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、添加剤が不導電物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法としているとしている。
請求項５の発明は、請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、添加剤と絶縁材料の所定の比率が、必要な色階調により決定されると共に、絶縁材料性質に影響を与えないように調整されることを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法としている。
請求項６の発明は、請求項１に記載の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法において、絶縁層（２１）の上に絶縁層材料を塗布して薄膜（２０’）を形成し、並びにリソグラフィー、エッチング工程によりその上にウォールスペーサを具えたカソードスペーサ（４０）を形成することを特徴とする、有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法としているとしている。
請求項７の発明は、絶縁層塗布材料を導電基板（１０）に塗布し並びにリソグラフィー工程とエッチング工程を行って形成される有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、
該絶縁層塗布材料が絶縁材料と色階調を深める添加剤が混合されてなり、該絶縁層（２１）のエッチング後のすでにエッチングされた各領域の区画部（２１１）が深色を現出し、各エッチング領域がそれに対応する単一の画素を表現し、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高めることを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層としている。
請求項８の発明は、請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、絶縁材料が現像特性と低誘電性質を具えたホトレジスト材料とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層としている。
請求項９の発明は、請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、添加剤が黒色顔料或いは色階調を深める深色物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層としている。
請求項１０の発明は、請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、添加剤が不導電物質とされたことを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層としている。
請求項１１の発明は、請求項７に記載の有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層において、添加剤と絶縁材料の混合比率が、必要な色階調により決定されると共に、絶縁材料性質に影響を与えないように調整されることを特徴とする、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高める絶縁層としている。
【０００７】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の絶縁層製造フローチャート、図２、３、４は本発明の絶縁層製造方法表示図である。これらの図に示されるように、本発明は有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法を提供し、それは有機発光ダイオードの絶縁層（２１）の色階調を深めることにより有機発光ダイオードが光源の照射を受けて発生するカソード反射干渉を減らし、有機発光ダイオードの画像表示品質を高めるものである。該絶縁層（２１）は絶縁層材料を導電基板（１０）に塗布し、並びにリソグラフィー工程とエッチング工程を行ない形成され、その詳細な製造工程は以下のとおりであり、即ち、
ａ）絶縁層（２１）を形成した絶縁材料を所定の比率で色階調を深める添加剤に加える工程、
ｂ）工程ａの材料を均一に混合して絶縁層塗布材料を形成する工程、
ｃ）パターン化されたアノード導電層（１２）が配置された導電基板（１０）を提供し（図２参照）、並びに該導電基板（１０）に絶縁層塗布材料を塗布して固定厚さの薄膜（２０）を形成する工程（図３参照）、
ｄ）工程ｃの薄膜塗布工程を完成した導電基板（１０）にリソグラフィー工程及びエッチング工程で、該薄膜（２０）に絶縁層（２１）を形成し（図４参照）、並びに該絶縁層（２１）にあって各被エッチング領域を画定する区画部（２１１）に深色を現出させ、該絶縁層（２１）の区画部（２１１）がその対応する画素区間（３０）に対して、同一の深色の壁で、各一つの画素を囲むようにする工程、
以上の工程を具えている。
【０００８】
図５は本発明の絶縁層表示図であり、図示されるように、本発明の製造方法により形成された絶縁層（２１）は、該絶縁層（２１）における各エッチング領域の区画部（２１１）が深色を呈し、且つ絶縁層（２１）の区画部（２１１）がその属する画素を同一の深色の壁で包囲し、有機発光ダイオード装置パッケージがディスプレイに形成される時、この深色の絶縁層（２１）がパネルのカソード反射の干渉を抑制し、パネルのカソードが反射する時、その反射光がこの深色の絶縁層（２１）の区画部（２１１）に阻止され、ゆえに各画素区間（３０）のカソード反射が相互干渉の現象を発生せず、屋外或いは強光下での使用時に、有機発光ダイオードディスプレイの強光下でのコントラストを高め、ディスプレイの表示品質を高める。
【０００９】
図６は本発明の絶縁層製造方法のカソード隔離層製造への応用表示図である。図示されるように、本発明の方法で絶縁層（２１）を形成した導電基板（１０）（図４参照）に、絶縁層（２１）材料と同じ材料で、導電基板（１０）の絶縁層（２１）の上に、薄膜（２０’）を形成し、すでに薄膜（２０’）塗布工程を終えた、絶縁層（２１）を具えた導電基板（１０）に対してリソグラフィー工程とエッチング工程で、薄膜（２０’）にカソードスペーサ（４０）を形成し（図７参照）、該カソードスペーサ（４０）の形成するパターンがカソード導電層（６０）のウォールスペーサ（４１）に使用される。
【００１０】
図８は本発明の絶縁層製造方法のカソードスペーサへの応用表示図である。図示されるように、カソードスペーサ（４０）は絶縁層（２１）の上に位置し、このカソードスペーサ（４０）が形成するウォールスペーサ（４１）パターンは直条状とされ且つ絶縁層（２１）の区画部（２１１）の上に置かれ、有機発光ダイオード装置の後続の工程において、画素区間（３０）に有機発光層（５０）が形成され、この有機発光層（５０）の上のカソードスペーサ（４０）の各ウォールスペーサ（４１）の間にカソード導電層（６０）が形成され、カソード導電層（６０）と導電基板（１０）上のアノード導電層（１２）の間に画素区間（３０）内の有機発光層（５０）が挟まれる。
【００１１】
有機発光ダイオード装置の製造工程中に、本発明の製造方法で製造されたカソードスペーサ（４０）を利用でき、有機発光ダイオード装置パッケージ後に、全部の絶縁層（２１）がいずれもカソード反射干渉を抑制する効果を有し、全ての絶縁層（２１）が本発明の製造方法に応用され、単一層の絶縁層（２１）を応用した本発明の製造方法に比べ、パネルのカソード反射干渉の抑制効果が良好で、且つ製造過程も一貫性があり、材料制御上も比較的便利である。
【００１２】
【発明の効果】
本発明の有機発光ダイオードのコントラストを高める製造方法は、絶縁層を、絶縁材料と色階調を深める添加剤を混合して絶縁層材料を形成して導電基板に塗布し、並びにリソグラフィー工程とエッチング工程を行ない絶縁層を形成する時、該絶縁層エッチング後の各エッチング領域の区画部分に深色を現出させ、各エッチング領域にそれに対応する単一の画素を表現させ、有機発光ダイオードの強光下でのコントラストを高め、有機発光ダイオードディスプレイの表示品質を高める。なお、以上の実施例は本発明の実施範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の絶縁層製造フローチャートである。
【図２】本発明の絶縁層製造方法表示図である。
【図３】本発明の絶縁層製造方法表示図である。
【図４】本発明の絶縁層製造方法表示図である。
【図５】本発明の絶縁層表示図である。
【図６】本発明の絶縁層の製造方法のカソード隔離層製造方法への応用表示図である。
【図７】本発明の絶縁層の製造方法を応用したカソード隔離層製造表示図である。
【図８】本発明の絶縁層の製造方法を応用したカソード隔離層製造表示図である。
【符号の説明】
１０  導電基板
１２  アノード導電層
２０、２０’  薄膜
２１  絶縁層
２１１  区画部
３０  画素区間
４０  カソードスペーサ
４１  ウォールスペーサ
５０  有機発光層
６０  カソード導電層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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