(57)【要約】【課題】大型ガラス基板等の基板を搬送する際、基板を破損することなく所定位置に対して良好に位置合わせした状態で搬送できる搬送装置を提供する。【解決手段】基板Ｐを搬送トレイＴに載置して搬送する搬送装置は、搬送トレイＴに対する基板Ｐの位置を検出する検出装置１３と、搬送トレイＴと基板Ｐとの位置関係を調整するステージ装置６と、搬送トレイＴに基板Ｐを載置して基板Ｐを搬送する搬送部とを備えている。【選択図】    図３
2004273702.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送トレイに載置して前記基板を搬送する搬送装置において、
前記搬送トレイに対する前記基板の位置を検出する検出手段と、
前記搬送トレイと前記基板との位置関係を調整する位置調整手段と、
前記搬送トレイに前記基板を載置して該基板を搬送する搬送手段とを備えることを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記検出手段は、矩形形状である前記基板の少なくとも２辺の位置を検出することを特徴とする請求項１記載の搬送装置。
【請求項３】
前記検出手段は、矩形形状である前記基板の少なくとも１辺において、検出点を２点以上設けることを特徴とする請求項１又は２記載の搬送装置。
【請求項４】
前記搬送手段は、前記基板の姿勢を検出する基板姿勢検出手段を備え、前記基板姿勢検出手段の検出結果に基づいて、前記搬送トレイの姿勢を調整して搬送することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の搬送装置。
【請求項５】
前記基板姿勢検出手段は、前記搬送トレイの姿勢も合わせて検出することを特徴とする請求項４記載の搬送装置。
【請求項６】
前記搬送手段は、前記搬送トレイを保持、搬送する２つの駆動手段を含み、前記２つの駆動手段の駆動差により前記搬送トレイの姿勢を制御することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項記載の搬送装置。
【請求項７】
前記搬送手段は、前記基板及び前記搬送トレイを保持する保持部を備え、前記基板を前記搬送トレイに載置した状態で前記保持部に載置する移動可能な載置手段を備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項記載の搬送装置。
【請求項８】
基板を搬送トレイに載置して前記基板を搬送する搬送方法において、
前記搬送トレイに対する前記基板の位置を検出し、
前記検出した前記基板の位置情報に基づいて前記搬送トレイと前記基板との位置関係を調整し、前記搬送トレイに前記基板を載置した状態で該基板を搬送するとともに、該基板の位置情報に基づいて前記搬送トレイの姿勢を制御することを特徴とする搬送方法。
【請求項９】
前記基板の搬送の際には前記基板の姿勢を検出し、該検出結果に基づいて前記搬送トレイの姿勢を調整することを特徴とする請求項８記載の搬送方法。
【請求項１０】
前記基板の搬送の際には前記搬送トレイの姿勢を検出し、該検出結果に基づいて前記搬送トレイの姿勢を調整することを特徴とする請求項８記載の搬送方法。
【請求項１１】
パターンが露光される基板を支持する基板ステージを備えた露光装置において、
前記基板ステージに対して前記基板を搬送する搬送装置を備え、
該搬送装置は、請求項１〜請求項７のいずれか一項記載の搬送装置により構成されていることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を搬送トレイに載置して搬送する搬送装置及び搬送方法、露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示素子や半導体素子等のマイクロデバイスを製造するためのフォトリソグラフィ工程では、マスクのパターンを基板に露光する露光装置、基板にフォトレジスト等の感光剤を塗布する塗布装置（コータ）、及び露光処理された基板を現像する現像装置（デベロッパ）等の種々の基板処理装置が用いられ、基板はこれら基板処理装置間を搬送装置により搬送される。例えば、感光剤塗布機能と現像機能とを備えたコータ・デベロッパ装置から露光装置に基板を搬送する際には、コータ・デベロッパ装置に設けられている搬送装置が露光装置に設けられている受け渡しポート部に基板を搬送する。ポート部では、基板の搬送先である露光装置の基板ステージに対する大まかな位置合わせ（プリアライメント）が行われ、その後、露光装置側の搬送装置がポート部から基板ステージに基板を搬送する。下記特許文献１には、ポート部において基板を搬送先である基板ステージに対する回転誤差補正を行い、基板ステージにおいて基板のＸＹ方向の位置誤差補正を行う技術が開示されている。
【０００３】
一方、液晶表示装置等のフラットディスプレイパネルを製造するためのガラス基板は近年においてますます大型化を要求されているが、大型のガラス基板を搬送装置で搬送しようとする場合、撓んだり破損したりする等の不都合を生じる。これに対処するために、下記特許文献２、３には基板を搬送トレイに載置した状態で搬送する技術が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−３３５７２３号公報
【特許文献２】
特開２００１−１００１６９号公報
【特許文献３】
特開２００１−１７６９４７号公報
【０００５】
大型のガラス基板を搬送トレイに載置した状態で基板を搬送するためには、例えばポート部等において基板を搬送トレイに良好に位置合わせした状態で載置してから基板ステージに対して搬送する必要がある。従来において、ガラス基板を搬送トレイに対して位置合わせする際には、基板をポート部に設けられた支持ピンの先端部に載置し、支持ピンの先端部より圧搾空気を噴射して基板を浮上させ、浮上させた状態でポート部に設けられた複数の押さえ部材で基板の端部を挟み込むようにして押さえ付けることにより、ポート部に予め載置されている搬送トレイに対して大まかな位置合わせを行っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述したような基板と搬送トレイとの位置合わせ方法は押さえ部材によりガラス基板の端部を押さえ付ける構成であるため、基板を破損したりあるいは破損しないまでも基板が撓むことにより精度良い位置合わせができなくなる可能性があった。近年のガラス基板のより一層の大型化により、ガラス基板は更に撓み易くあるいは破損し易くなっている。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、大型ガラス基板等の基板を搬送する際、基板を破損することなく所定位置に対して良好に位置合わせした状態で円滑に搬送できる搬送装置及び搬送方法、並びに露光装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため本発明は、実施の形態に示す図１〜図１２に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の搬送装置（Ｈ）は、基板（Ｐ）を搬送トレイ（Ｔ）に載置して基板（Ｐ）を搬送する搬送装置において、搬送トレイ（Ｔ）に対する基板（Ｐ）の位置を検出する検出手段（１３）と、搬送トレイ（Ｔ）と基板（Ｐ）との位置関係を調整する位置調整手段（６）と、搬送トレイ（Ｔ）に基板（Ｐ）を載置して基板（Ｐ）を搬送する搬送手段（２０）とを備えることを特徴とする。
本発明の搬送方法は、基板（Ｐ）を搬送トレイ（Ｔ）に載置して基板（Ｐ）を搬送する搬送方法において、搬送トレイ（Ｔ）に対する基板（Ｐ）の位置を検出し、検出した基板（Ｐ）の位置情報に基づいて搬送トレイ（Ｔ）と基板（Ｐ）との位置関係を調整し、搬送トレイ（Ｔ）に基板（Ｐ）を載置した状態で基板（Ｐ）を搬送するとともに、基板（Ｐ）の位置情報に基づいて搬送トレイ（Ｔ）の姿勢を制御することを特徴とする。
本発明の露光装置（ＥＸ、ＥＸＳ）は、パターンが露光される基板（Ｐ）を支持する基板ステージ（ＰＳＴ）を備えた露光装置において、基板ステージ（Ｐ）に対して基板（Ｐ）を搬送する搬送装置を備え、この搬送装置は、上記記載の搬送装置（Ｈ）により構成されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、搬送トレイに対する基板の位置を例えば光学的に非接触で検出した後、搬送トレイと基板との位置関係を調整してから搬送トレイに基板を載置するようにしたので、例えばコータ・デベロッパ装置側の搬送装置が受け渡しポート部に基板をずれた状態で搬送しても、基板を破損することなく搬送トレイに対して基板を位置合わせして載置することができる。そして、ポート部等において位置合わせをすることにより、搬送途中において搬送手段は基板及びこの基板を載置した搬送トレイの基板ステージに対する回転誤差補正をするために大きく回転したり、基板ステージが搬送された基板及び搬送トレイに対して位置合わせするための大掛かりな移動機構を備える必要が無くなり、基板及び搬送トレイを円滑に搬送できる。また、基板と搬送トレイとを位置合わせしてから搬送するので、搬送途中において基板の姿勢を検出しようとする場合、基板の姿勢とともに搬送トレイの姿勢も合わせて良好に検出することができ、これにより搬送トレイの姿勢を制御して基板ステージに円滑に搬送することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の搬送装置及び露光装置について図面を参照しながら説明する。図１は本発明の露光装置を備えたデバイス製造システムの一実施形態を示す図であって上方から見た概略構成図、図２は概略斜視図である。
図１において、デバイス製造システムＳＹＳは、露光装置ＥＸＳと、コータ・デベロッパ装置ＣＤＳとを備えている。コータ・デベロッパ装置ＣＤＳは、露光処理される前の基板Ｐに対してフォトレジスト等の感光剤を塗布する塗布装置（コータ）Ｃと、露光装置ＥＸＳ（露光装置本体ＥＸ）において露光処理された後の基板Ｐを現像する現像装置（デベロッパ）Ｄと、基板Ｐを搬送するフォーク型ハンドを有する搬送装置１００とを備えている。ここで、以下の説明において、塗布装置Ｃ及び現像装置Ｄを合わせて「コータ・デベロッパ本体Ｃ／Ｄ」と適宜称する。露光装置ＥＸＳは、コータ・デベロッパ装置ＣＤＳとのインターフェース部の一部を構成しコータ・デベロッパ装置ＣＤＳの搬送装置１００から搬送された基板Ｐを受けるポート部１０と、マスクＭのパターンを基板Ｐに露光する露光処理部である露光装置本体ＥＸと、露光装置本体ＥＸの基板ステージＰＳＴとポート部１０との間で基板Ｐを搬送する搬送手段の一部を構成する搬送部２０と、露光装置ＥＸＳ全体の動作を統括制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。また、ポート部１０は露光処理された基板Ｐを搬送部２０から受ける機能も有する。そして、ポート部１０及び搬送部２０により、コータ・デベロッパ装置ＣＤＳと露光装置本体ＥＸの基板ステージＰＳＴとの間で基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈが構成されている。露光装置本体ＥＸ、ポート部１０、及び搬送部２０はクリーン度が管理された第１チャンバ装置ＣＨ１内部に配置されている。一方、コータ・デベロッパ本体Ｃ／Ｄ及び搬送装置１００は第１チャンバ装置ＣＨ１とは別の第２チャンバ装置ＣＨ２内部に配置されている。また、ポート部１０に隣接する位置には後述する載置装置（載置手段）Ｓが設けられている。本実施形態において、基板Ｐは矩形形状のガラス基板にフォトレジスト等の感光剤を塗布したものである。マスクＭは原板であるガラス板上にクロムなどの遮蔽材料により所定のパターンを形成したものである。
【００１２】
図２において、露光装置本体ＥＸは、マスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、マスクステージＭＳＴに支持されているマスクＭを露光光ＥＬで照明する照明光学系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板ステージＰＳＴに支持されている基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬとを備えている。本実施形態の露光装置ＥＸは複数（ここでは５本）並んだ投影光学系モジュールからなる投影光学系ＰＬを有しており、この投影光学系ＰＬに対してマスクＭと基板Ｐとを所定方向に同期移動しつつマスクＭのパターンを基板Ｐに投影露光する、所謂マルチレンズスキャン型露光装置である。以下の説明において、水平面内においてマスクＭと基板Ｐとの同期移動方向（走査方向）をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向（非走査方向）、Ｘ軸及びＹ軸方向に垂直な方向をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわり方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１３】
図３は搬送手段の一部を構成するポート部１０を示す概略側面図である。図３において、ポート部１０は、基板Ｐを支持する基板支持部１と、トレイ（搬送トレイ）Ｔを支持するトレイ支持部２とを備えている。基板支持部１は、板状の第１支持部材３と、この第１支持部材３上に設けられ、基板Ｐの下面を支持する複数の基板支持ピン４とを備えている。本実施形態において基板支持ピン４は全部で８本設けられている。基板支持ピン４のそれぞれは第１支持部材３上で起立しており、それぞれの下端部を第１支持部材３に固定し、上端部（上端面）で基板Ｐの複数の所定位置を支持する。基板支持ピン４の上端面にはバキューム装置に接続した真空吸着穴がそれぞれ設けられており、基板支持ピン４は真空吸着穴を介して基板Ｐを吸着保持する。なお、基板支持ピン４の上端部には、基板支持ピン４に基板Ｐが載置されているかどうかを検出する有無センサが設けられている。この有無センサは８つの基板支持ピン４のうち、平面視対角線上の少なくとも２つの基板支持ピン４に設けられている。少なくとも２つの有無センサを設けておくことにより、一方が故障しても他方で基板Ｐの有無を検出可能である。
【００１４】
基板支持部１（第１支持部材３及び基板支持ピン４）は連結部材５を介してステージ装置６に接続されている。ステージ装置６はトレイＴと基板Ｐとの位置関係を調整する位置調整手段の一部を構成しており、ベース７上においてＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向のそれぞれに移動可能である。ステージ装置６には例えばモータとボールねじとを組み合わせたステージ駆動装置８が設けられており、制御装置ＣＯＮＴはステージ駆動装置８を介してステージ装置６をＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動する。そして、ステージ装置６の移動に伴って、基板支持部１及びこれに保持された基板ＰもＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動する。
【００１５】
トレイ支持部２は、枠状の第２支持部材９と、この第２支持部材９上に設けられ、トレイＴの下面を支持する複数のトレイ支持ピン１１とを備えている。本実施形態においてトレイ支持ピン１１は全部で８本設けられている。トレイ支持ピン１１のそれぞれは第２支持部材９上で起立しており、それぞれの下端部を第２支持部材９に固定し、上端部（上端面）でトレイＴの複数の所定位置を支持する。ここで、トレイ支持ピン１１のそれぞれは基板支持部１の第１支持部材３より外側に配置されている。なお、トレイ支持ピン１１の上端部には、トレイ支持ピン１１にトレイＴが載置されているかどうかを検出する有無センサが設けられている。この有無センサは８つの基板支持ピン１１のうち、平面視対角線上の少なくとも２つのトレイ支持ピン１１に設けられている。少なくとも２つの有無センサを設けておくことにより、一方が故障しても他方でトレイＴの有無を検出可能である。
【００１６】
トレイ支持部２（第２支持部材９及びトレイ支持ピン１１）はガイド部１２に沿って不図示のトレイ支持部用駆動装置によりＺ軸方向に移動可能に設けられている。制御装置ＣＯＮＴはトレイ支持部用駆動装置を介してトレイ支持部２をＺ軸方向に移動する。そして、トレイ支持部２の移動に伴ってこれに支持されるトレイＴもＺ軸方向に移動する。トレイ支持部２の上昇により、トレイＴは上昇し、基板Ｐに接近してこの基板Ｐの下面を支持する。ここで、トレイ支持ピン１１は基板支持部１の外側に配置されているため、トレイ支持部２の上下方向への移動は妨げられない。また、ガイド部１２はステージ装置６の外側に設けられており、またステージ装置６と基板支持部１とを連結する連結部材５は第２支持部材９の枠内部に配置されているため、ステージ装置６及び基板支持部１の水平方向への移動は妨げられない。
【００１７】
ポート部１０はトレイＴに対する基板Ｐの位置を検出する検出手段の一部を構成する検出装置１３を備えている。検出装置１３は、基板支持ピン４に支持されている基板Ｐに対して下方の離れた位置に設けられており、基板Ｐのエッジ部の複数の所定の検出点の位置を非接触で検出する。検出装置１３は、基板Ｐに対して検出光を投射する投射部と、基板Ｐからの反射光を受光する受光部とを有しており、基板Ｐからの反射光に基づいて基板Ｐの複数のエッジ部の検出点の位置を光学的に検出する。
【００１８】
図４は図３を上方から見た平面図である。図４に示すように、トレイＴは格子状に設けられた複数の線状部材４１を有している。これら複数の線状部材４１は例えば溶接により格子状に組み合わされている。また、複数の線状部材４１により構成される各格子の内部には基板Ｐより小さい矩形状の開口部４２が複数形成されている。トレイＴはその上面である支持面４０で基板Ｐを支持する。また、トレイＴは支持面４０で支持した基板Ｐの側面を保持して基板Ｐの落下を防止する凸部４３を備えている。トレイＴがトレイ支持部２に支持されているとき、トレイＴの開口部４２に基板支持部１の基板支持ピン４が配置されるようになっており、基板支持ピン４はこの開口部４２を介して基板Ｐの下面を支持する。ここで、基板支持ピン４とトレイＴ（線状部材４１）とは十分に離れており、基板支持ピン４（基板支持部１）の水平方向への移動は妨げられない。また、トレイ支持部２のトレイ支持ピン１１はトレイＴの周縁部の複数の所定位置を支持する。また、トレイＴの４つの隅部は平面方向内側に凹むＬ字型となっており、矩形形状である基板Ｐの４隅に対する非支持部となっている。
【００１９】
なお、本実施形態ではトレイ支持部２のトレイ支持ピン１１はトレイＴの周縁部の複数の所定位置を支持しているが、例えば枠状の第２支持部材９の枠内部に連結部材５と干渉しない支持部材を渡し、この支持部材にトレイ支持ピンを取り付け、この枠内部に設けられたトレイ支持ピンによりトレイＴの平面方向中央部を支持してもよい。このとき、基板支持部１の第１支持部材３にはトレイ支持ピン１１を配置可能で第１支持部材３の水平方向への移動を妨げない大きな開口部が設けられる。
【００２０】
図５は基板Ｐの位置を検出する検出装置１３（１３Ａ〜１３Ｃ）の配置を示す図である。図５に示すように、本実施形態では３つの検出装置１３Ａ〜１３Ｃが所定の位置に配置されており、矩形形状である基板Ｐの少なくとも２辺の位置を検出するように配置されている。このうち、検出装置１３Ａは基板Ｐの＋Ｙ側の１辺を検出可能な位置に配置されており、検出装置１３Ｂ、１３Ｃは基板Ｐの＋Ｘ側の１辺を検出可能な位置に配置されている。つまり、検出装置１３Ｂ、１３Ｃにより、基板Ｐの＋Ｘ側の１辺において検出点が２点設定されている。検出装置１３Ａ〜１３Ｃのそれぞれは基板Ｐに対して検出光を投射し、基板Ｐからの反射光を受光したかどうかで基板Ｐのエッジ部の３つの検出点をそれぞれ非接触で光学的に検出する。各検出装置１３Ａ〜１３Ｃそれぞれの検出信号は制御装置ＣＯＮＴに出力される。制御装置ＣＯＮＴは、基板Ｐの＋Ｙ側の１辺を検出可能な検出装置１３Ａの検出結果に基づいて、基板ＰのＹ軸方向における位置を検出する。また、制御装置ＣＯＮＴは、基板Ｐの＋Ｘ側の１辺の２つの検出点を検出可能な検出装置１３Ｂ及び１３Ｃの検出結果に基づいて、基板ＰのＸ軸方向における位置、及びθＺ方向における位置（回転方向の位置）を検出する。
【００２１】
基板Ｐの位置情報を検出装置１３Ａ〜１３Ｃを用いて検出する際、制御装置ＣＯＮＴは、ステージ装置６を移動しながら検出装置１３Ａ〜１３Ｃを用いて基板Ｐのエッジ部の位置を検出し、この検出結果に基づいて基準位置に対する基板Ｐの位置情報を求める。本実施形態において、前記基準位置はトレイＴを支持するトレイ支持部２、ひいてはトレイＴの位置であり、制御装置ＣＯＮＴは、検出装置１３Ａ〜１３Ｃの検出結果に基づいて、トレイＴ（トレイ支持部２）に対する基板Ｐの位置情報、すなわち、トレイＴに対するＸＹ方向への位置誤差量、及びθＺ方向への回転誤差量を検出する。
【００２２】
ここで、図５の基板Ｐは平面視正方形状であるが、長方形状である場合、検出装置１３Ｂ、１３Ｃで長方形状の基板Ｐの長辺側の２つの検出点を検出する構成が好ましい。短辺側に２つの検出点を設けるより長辺側に２つの検出点を設けることにより基板Ｐの回転誤差量をより高精度に検出できる。なお、短辺側に２つの検出点を設けた場合であっても基板Ｐの位置情報はもちろん検出可能である。
【００２３】
基板Ｐの位置情報を検出する際には、ステージ装置６を移動し、例えばまず基板Ｐの＋Ｘ側の１辺（基板Ｐが長方形状である場合には長辺側）の２つの検出点を検出装置１３Ｂ、１３Ｃの検出領域に配置して検出し、＋Ｙ側の１辺（基板Ｐが長方形状である場合には短辺側）の１つの検出点を検出装置１３Ａの検出領域に配置して検出する。
【００２４】
図２及び図３に戻って、搬送装置Ｈの一部を構成する搬送部２０はトレイＴに基板Ｐを載置してこの基板Ｐを搬送するものであり、基板ステージＰＳＴに対して基板Ｐをロード及びアンロードする。搬送部２０は、基板Ｐを載置したトレイＴの一端部（＋Ｙ側端部）を保持して搬送可能な駆動手段の一部を構成する第１保持部２１と、第１保持部２１に対向し、トレイＴの他端部（−Ｙ側端部）を保持する駆動手段の一部を構成する第２保持部２２と、第１保持部２１をＺ軸及びＹ軸方向に移動可能に支持する第１機構部２３と、第２保持部２２をＺ軸及びＹ軸に移動可能に支持する第２機構部２４と、第１、第２機構部２３、２４のそれぞれに接続する第１、第２被ガイド部２５、２６と、第１、第２被ガイド部２５、２６をＸ軸方向に移動する駆動手段の一部を構成するリニアモータにより構成される第１、第２駆動部３１、３２と、Ｘ軸方向に延び、第１、第２被ガイド部２５、２６それぞれのＸ軸方向への移動を案内する第１、第２ガイド部２７、２８とを備えている。なお、図２では第１、第２駆動部３１、３２の図示が省略されている。本実施形態において、第１、第２駆動部３１、３２のそれぞれは、第１、第２被ガイド部２５、２６に取り付けられた電機子ユニットからなる可動子３１Ａ、３２Ａと、この可動子３１Ａ、３２Ａに対応する磁石ユニットを有する固定子３１Ｂ、３２Ｂとを備えたムービングコイル型リニアモータにより構成されている。固定子３１Ｂ、３２ＢはＸ軸方向に延在している。なお、第１、第２駆動部３１、３２としては、固定子が電機子ユニットから構成され、可動子が磁石ユニットから構成されるムービングマグネット型リニアモータでもよい。第１、第２駆動部３１、３２の駆動により、第１、第２保持部２１、２２は、第１、第２機構部２３、２４及び第１、第２被ガイド部２５、２６とともにＸ軸方向に移動する。
【００２５】
第１、第２機構部２３、２４の駆動は制御装置ＣＯＮＴにより制御される。制御装置ＣＯＮＴは第１、第２機構部２３、２４を駆動することにより、第１、第２保持部２１、２２のそれぞれを昇降可能、且つ第１、第２保持部２１、２２間の距離を調整可能である。したがって、第１、第２保持部２１、２２は第１、第２機構部２３、２４の駆動によりトレイＴに対してアクセスし、このトレイＴを保持及び保持解除可能である。
【００２６】
第１、第２駆動部３１、３２の固定子３１Ｂ、３２Ｂ及び第１、第２ガイド部２７、２８は、ポート部１０及び基板ステージＰＳＴのそれぞれまで延びており、第１、第２保持部２１、２２はポート部１０と基板ステージＰＳＴとの間で移動可能である。第１、第２駆動部３１、３２は制御装置ＣＯＮＴの制御により互いに独立して駆動するようになっており、したがって、第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれは互いに独立してＸ軸方向に移動可能となっている。第１、第２保持部２１、２２のそれぞれが互いに独立してＸ軸方向に移動することにより、第１、第２保持部２１、２２に保持される基板Ｐを載置したトレイＴはθＺ方向に回転可能である。すなわち制御装置ＣＯＮＴは、第１保持部２１に対する第２保持部２２のＸ軸方向における位置を調整することにより、第１、第２保持部２１、２２で保持したトレイＴ（基板Ｐ）を所定量回転可能である。
【００２７】
また、搬送部２０は、第１保持部２１に対する第２保持部２２のＸ軸方向における位置を検出する位置検出部３０を備えている。位置検出部３０は、第１保持部２１に設けられた発光部３０Ａと、第２保持部２２に設けられ、発光部３０Ａからの光を受光可能な受光部３０Ｂとを有している。発光部３０Ａは、断面視Ｌ字状の第１保持部２１のうち垂直面部２１Ａに設けられ、一方、受光部３０Ｂは、断面視Ｌ字状の第２保持部２２のうち、第１保持部２１の垂直面部２１Ａと対向する垂直面部２２Ａに設けられている。発光部３０Ａは例えば基板Ｐに対して感光性の低いレーザ光を射出可能なレーザ光源により構成され、受光部３０Ｂは例えば１次元ＣＣＤにより構成されている。ここで、第１、第２保持部２１、２２はそれぞれほぼ同じ大きさであり、発光部３０Ａ及び受光部３０Ｂは、垂直面部２１Ａ、２２ＡのＸ軸方向中央部にそれぞれ設けられている。受光部３０Ｂは発光部３０Ａからのレーザ光を検出し、検出結果を制御装置ＣＯＮＴに出力する。制御装置ＣＯＮＴは、受光部３０Ｂの検出結果に基づいて第１保持部２１に対する第２保持部２２の位置を検出する。具体的には、制御装置ＣＯＮＴは、受光部３０Ｂが発光部３０Ａからのレーザ光を照射される位置に基づいて、第１保持部２１に対する第２保持部２２の位置を検出する。例えば、受光部３０Ｂが発光部３０Ａからの光を受光部３０Ｂの所定位置（例えばＸ軸方向中心位置）で受光すれば、制御装置ＣＯＮＴは、第１、第２保持部２１、２２のＸ軸方向における位置は同じであると判断し、受光部３０Ｂが発光部３０Ａからの光を所定位置に対してずれた位置で受光すれば、第１、第２保持部３１、３２はＸ軸方向においてずれた位置にあると判断する。そして、制御装置ＣＯＮＴは受光部３０Ｂの検出結果、すなわち、第１、第２保持部２１、２２の相対位置情報に基づいて第１、第２駆動部３１、３２を制御する。また、不図示ではあるが、また、第１、第２保持部２１、２２には、これら第１、第２保持部２１、２２のＸ軸方向における位置（移動量）を検出するリニアエンコーダ等からなる移動量検出部がそれぞれ設けられている。
【００２８】
断面視Ｌ字状の第１、第２保持部２１、２２のうち水平面部２１Ｂ、２２ＢのそれぞれにはトレイＴの下面を支持する突起部３４が設けられている。図６は第１保持部２１の水平面部２１Ｂに設けられた突起部３４でトレイＴの下面を支持している状態を示す模式図である。図６に示すように、第１保持部２１の水平面部２１Ｂには３つの突起部３４（３４Ａ〜３４Ｃ）がＸ軸方向に関して所定間隔で設けられており、それぞれの先端部は略球状に形成されている。一方、トレイＴの一端部（＋Ｙ側端部）のうち、Ｘ軸方向に関してほぼ中央部には円錐状の凹部４４が形成されている。そして、３つの突起部３３Ａ〜３４Ｃのうち中央の突起部３４Ｂが凹部４４に配置されるようになっている。ここで、トレイＴの下面には摩擦係数の低い合成樹脂（例えばポリ４フッ化エチレン）等からなる低摩擦部４５が島状（図６では３箇所）に設けられており、凹部４４は図６中、中央の低摩擦部４５に形成されている。また、突起部３４Ａ、３４Ｃの先端部も低摩擦部４５に当接している。突起部３４Ａ〜３４Ｃの先端部のそれぞれは、低摩擦部４５に対して摺動可能となっている。そして、トレイＴの他端部（−Ｙ側端部）にも、図６を参照して説明した凹部４４及び低摩擦部４５が設けられているとともに、第２保持部２２の水平面部２２Ｂにも同様の突起部３４Ａ〜３４Ｃが設けられている。
【００２９】
図２及び図７に示すように、搬送部２０は、搬送部２０の搬送経路途中に設けられ、基板Ｐの姿勢を検出する基板姿勢検出手段の一部を構成する基板姿勢検出装置３５を有している。基板姿勢検出装置３５は、搬送部２０の第１、第２保持部２１、２２で支持されているトレイＴ上の基板Ｐのエッジ部の複数の所定の検出点の位置を非接触で検出するものであって、ランプ又は発光ダイオード等の光源を有し、検出光を基板Ｐに投射する投射部と、基板Ｐからの反射光を受光する撮像素子を有する受光部とを備えている。本実施形態では、基板姿勢検出装置３５は２つの姿勢検出装置３５Ａ、３５Ｂを有しており、図７に示すように、トレイＴに支持されていない部分である基板Ｐの２箇所のエッジ部（角部）の位置情報をそれぞれ非接触で光学的に検出する。撮像素子を有する受光部の受光信号（撮像信号）は制御装置ＣＯＮＴに出力される。制御装置ＣＯＮＴは出力された撮像信号に基づいて、基板Ｐの２箇所のエッジ部（検出点）の位置情報を検出し、この検出した位置情報に基づいて、基板ＰのθＺ方向（回転方向）の姿勢を検出し、ステージＰＳＴに対する基板ＰのθＺ方向の回転誤差を求める。本実施形態では、基板姿勢検出装置３５は基板Ｐに検出光を照射し、この反射光（散乱光）を検出することで基板Ｐの姿勢を検出する。また、基板姿勢検出装置３５はトレイＴの姿勢も合わせて検出可能である。トレイＴの姿勢を検出する際には、トレイＴのエッジ部に検出光を照射し、この反射光（散乱光）を受光部で検出することでトレイＴの姿勢を検出可能である。
【００３０】
次に、上述した搬送装置Ｈを用いて基板ＰをトレイＴに載置して基板Ｐを搬送する方法について図８のフローチャート図及び図９の動作模式図を参照しながら説明する。
まず、図９（ａ）に示すように、露光処理されるべき基板Ｐがコータ・デベロッパ装置ＣＤＳの搬送装置１００により露光装置ＥＸのポート部１０に渡される。このとき、ポート部１０のトレイ支持部２にはトレイＴが予め支持されている。そして、搬送装置１００は、ポート部１０のうち基板支持部１の基板支持ピン４に基板Ｐを載置する（ステップＳ１）。基板Ｐが基板支持ピン４に載置されたら、制御装置ＣＯＮＴはバキューム装置を駆動し、基板支持ピン４の上端部に設けられている真空吸着穴を介して基板Ｐを吸着保持する。ここで、搬送装置１００は基準位置（トレイ位置）に対してずれた状態で基板Ｐを基板支持ピン４に載置してしまう場合がある。
【００３１】
図９（ｂ）に示すように、基板支持部１の基板支持ピン４で基板Ｐを保持したら、制御装置ＣＯＮＴはステージ駆動装置８を駆動し、検出装置１３Ａ〜１３Ｃで基板Ｐのエッジ部の３箇所の検出点が検出されるように、換言すれば３つの検出装置１３Ａ〜１３Ｃの検出領域に基板Ｐのエッジ部が配置されるようにステージ装置６をＸＹ方向に移動する。制御装置ＣＯＮＴは、検出装置１３Ａ〜１３Ｃで基板Ｐのエッジ部の３箇所の検出点を検出したときの基板Ｐの位置情報と、基板Ｐの移動量（これはステージ駆動装置の駆動量より分かる）とに基づいて、搬送装置１００で基板支持部１に基板Ｐを載置したときの基板Ｐの初期位置情報を求める。制御装置ＣＯＮＴは、求めた基板Ｐの初期位置情報に基づいて、トレイ支持部２に支持されているトレイＴに対する基板Ｐの位置、具体的にはトレイＴに対する基板ＰのＸＹ方向の位置誤差量、及びθＺ方向の回転誤差量を求める（ステップＳ２）。制御装置ＣＯＮＴは、この求めた位置誤差量（トレイＴに対する基板Ｐの位置情報）に基づいて、基板ＰをトレイＴに対して位置合わせするための補正量を求める。そして、制御装置ＣＯＮＴは求めた補正量に基づいてステージ装置６を移動することで、トレイＴと基板Ｐとの位置関係を調整し、位置合わせする（ステップＳ３）。
【００３２】
トレイＴと基板Ｐとの位置合わせが行われたら、図９（ｃ）に示すように、制御装置ＣＯＮＴはトレイ支持部２を上昇する。トレイ支持部２のトレイ支持ピン１１の上端部が基板支持部１の基板支持ピン４の上端部より上昇することで、トレイＴが基板Ｐの下面を支持し、トレイＴに基板Ｐが載置される。そして、搬送部２０の第１、第２保持部２１、２２が第１、第２機構部２３、２４の駆動により基板Ｐを載置したトレイＴにアクセスし、このトレイＴを保持する。次いで、図９（ｄ）に示すように、制御装置ＣＯＮＴはトレイ支持部２を下降するとともに、搬送部２０によりトレイＴに基板Ｐを載置した状態で基板Ｐの搬送を開始する（ステップＳ４）。
【００３３】
搬送部２０は、第１保持部２１及び第２保持部２２を同期移動しつつ基板Ｐを載置したトレイＴを露光装置本体ＥＸの基板ステージＰＳＴに対して搬送する。ここで、第１、第２保持部２１、２２の移動量（基準位置に対する位置）は、リニアエンコーダ等により構成される移動量検出部により検出される。移動量検出部の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴは移動量検出部の検出結果に基づいて、第１、第２保持部２１、２２のそれぞれが常時対向するように、すなわちＸ軸方向において常時同じ位置になるようにこれら第１、第２保持部２１、２２のそれぞれを第１、第２駆動部３１、３２を用いて同期移動する。更に制御装置ＣＯＮＴは、位置検出部３０による第１保持部２１に対する第２保持部２２の相対位置情報に基づいて第１、第２保持部２１、２２を移動する。これにより、第１、第２保持部２１、２２が移動する際の互いの相対位置関係が高精度で維持される。
【００３４】
搬送部２０の搬送経路途中には基板姿勢検出装置３５が設けられている。基板姿勢検出装置３５は２つの姿勢検出装置３５Ａ、３５Ｂにより基板Ｐの２箇所のエッジ部の位置情報を検出する。姿勢検出装置３５Ａ、３５Ｂの検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴは姿勢検出装置３５Ａ、３５Ｂの検出結果に基づいて、基板Ｐの姿勢（位置情報）、ひいては基板ステージＰＳＴに対する基板ＰのθＺ方向の回転誤差量を求める（ステップＳ５）。そして、この回転誤差量を補正するための補正量を求め、求めた補正量に基づいて基板Ｐを回転するためにこの基板Ｐを載置するトレイＴの姿勢を調整する（ステップＳ６）。具体的には、基板ステージＰＳＴに対して基板ＰのθＺ方向の位置合わせをするために、制御装置ＣＯＮＴは、トレイＴを保持して搬送する第１、第２保持部２１、２２のそれぞれに接続する２つの駆動部３１、３２の駆動差によりトレイＴをθＺ方向に回転してトレイＴの姿勢を制御することにより、基板ＰのθＺ方向における位置調整を行う。つまり、制御装置ＣＯＮＴは、第１保持部２１及び第２保持部２２それぞれのＸ軸方向における位置を駆動部３１、３２を用いて調整し、この回転誤差量を相殺するようにトレイＴを介して基板Ｐを回転する。このとき制御装置ＣＯＮＴは、位置検出部３０の検出結果による第１、第２保持部２１、２２の相対位置情報を参照しつつ駆動部３１、３２のそれぞれを独立して駆動することにより、基板Ｐを載置したトレイＴを所望量回転可能である。ここで、図６を参照して説明したように、第１、第２保持部２１、２２は先端部を略球状に形成された突起部３４を有しているとともに、トレイＴの下面には円錐状の凹部４４が形成されている。そのため、トレイＴは凹部４４を介して突起部３４Ｂに回転可能に支持されている。また、突起部３４Ａ、３４Ｃは低摩擦部４５に対して摺動可能であるので、第１、第２保持部２１、２２のＸ軸方向における相対位置がかわっても、第１、第２保持部２１、２２はトレイＴをθＺ方向に回転可能に支持できる。
【００３５】
搬送部２０の搬送経路の途中に基板姿勢検出装置３５を設け、この基板姿勢検出装置３５を用いて搬送経路途中において基板Ｐの姿勢を検出することにより、基板Ｐの基板ステージＰＳＴに対する回転誤差をより高精度に補正した状態で搬送できる。つまり、ポート部１０におけるプリアライメントでも基板Ｐの回転誤差をある程度補正できているが、搬送中において基板ＰがトレイＴ上で動く可能性がある。そのため、基板Ｐの姿勢（位置情報）を基板姿勢検出装置３５で再度検出し、回転誤差が生じていたら、２つの駆動部３１、３２の駆動差によりこの回転誤差を補正できる。
【００３６】
ここで、姿勢検出装置３５Ａ、３５Ｂの検出領域は比較的広く、図７に示すように、トレイＴのエッジ部の位置情報も同時に検出可能となっている。そのため、制御装置ＣＯＮＴは姿勢検出装置３５Ａ、３５Ｂの検出結果に基づいて、トレイＴの姿勢（位置情報）も合わせて検出できる。これにより、基板ステージＰＳＴに対するトレイＴのθＺ方向の回転誤差量も求めることができる。そして、この回転誤差量を補正するための補正量を求め、求めた補正量に基づいてトレイＴの姿勢を調整するようにしてもよい。トレイＴの姿勢調整は、上記同様、トレイＴを保持して搬送する第１、第２保持部２１、２２のそれぞれに接続する２つの駆動部３１、３２の駆動差により行うことができる。こうすることにより、後述する基板ステージＰＳＴの溝部５０にトレイＴの線状部材４１を円滑に配置可能となる。
【００３７】
また、搬送中にトレイＴに対して基板Ｐがほどんど動かない場合、透明なガラス基板Ｐを検出対象とせずに、合成樹脂あるいは金属製のトレイＴを検出対象とすることにより検出精度を向上することができる。基板Ｐのエッジ形状は均一でない場合があり、またフォトレジストの違いにより光反射状態も異なる場合があるため、基板Ｐを検出対象とすると精度良く姿勢検出をできない場合が考えられるが、トレイＴを検出対象とすることで検出精度を向上できる。
【００３８】
トレイＴの姿勢調整を行ったら、制御装置ＣＯＮＴは、第１、第２保持部２１、２２を同期移動し、基板Ｐを載置したトレイＴを投影光学系ＰＬと基板ステージＰＳＴとの間に搬送する。このとき、第１、第２保持部２１、２２はトレイＴのＹ軸方向両端部を保持している構成であって第１、第２保持部２１、２２は撓み難く、しかもトレイＴで基板Ｐを支持しているため基板Ｐは撓まず、狭いワーキングディスタンスであってもトレイＴ及び基板Ｐは基板ステージＰＳＴに対して容易に搬送される。そして、第１、第２機構部２３、２４の駆動により第１、第２保持部２１、２２のそれぞれを下降することにより基板Ｐが基板ステージＰＳＴにロードされる（ステップＳ７）。
【００３９】
本実施形態に係る基板ステージＰＳＴには、図２に示すように、トレイＴの線状部材４１に応じた溝部５０が形成されており、溝部５０と線状部材４１（トレイＴ）とは嵌合可能である。溝部５０の深さはトレイＴが嵌合して沈み込んだときに、凸部４３が基板ステージＰＳＴの上面から突出するように設定されている。また、基板ステージＰＳＴの上面は基板Ｐの撓みを除去するように平面度よく仕上げられている。さらに、基板ステージＰＳＴの上面には基板Ｐをこの面に倣わせて密着させるための吸気孔（不図示）がトレイＴの複数の開口部４２に対応して設けられている。各吸気孔は不図示の真空ポンプに接続されている。
【００４０】
トレイＴに支持されている基板Ｐを基板ステージＰＳＴにロードするに際し、搬送部２０は基板姿勢検出装置３５の検出結果に基づいてトレイＴの回転誤差を補正しているので、基板ステージＰＳＴに対するトレイＴ（基板Ｐ）のＸＹ方向の位置誤差は、基板ステージＰＳＴのＸＹ方向への移動あるいは第１、第２保持部２１、２２のＸ軸方向への移動により補正可能である。
【００４１】
そして、トレイＴを保持している第１、第２保持部２１、２２が下降することにより、トレイＴの格子を構成する各線状部材４１が基板ステージＰＳＴの溝部５０に嵌まり、トレイＴの支持面４０が基板ステージＰＳＴの上面より下がり、基板Ｐが基板ステージＰＳＴの上面に載置される。そして、制御装置ＣＯＮＴにより真空ポンプの吸引が開始され、基板ステージＰＳＴにトレイＴの複数の開口部４２に対応して形成された各吸気孔を介して基板Ｐの下面が基板ステージＰＳＴに吸着され固定される。また、搬送部２０の第１、第２保持部２１、２２は互いに離れるように（すなわち開くように）Ｙ軸方向に移動し、基板ステージＰＳＴから退避する。次いで、制御装置ＣＯＮＴは不図示のアライメント光学系及び基板Ｐに予め形成されているアライメントマークを用いて基板Ｐのファインアライメント処理を行う。そして、ファインアライメント処理が終了したら、制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭを露光光ＥＬで照明し、基板ステージＰＳＴに支持されている基板Ｐに対して投影光学系ＰＬを介してマスクＭのパターンを転写する（ステップＳ８）。
【００４２】
露光処理が終了したら、退避していた搬送部２０の第１、第２保持部２１、２２が基板ステージＰＳＴのトレイＴにアクセスし、トレイＴのＹ軸方向両端部をそれぞれ保持する。このとき、制御装置ＣＯＮＴは、前記真空ポンプによる基板Ｐに対する吸着保持を解除する。そして、第１、第２機構部２３、２４の駆動により第１、第２保持部２１、２２が所定量上昇されると、基板Ｐを支持するトレイＴが基板ステージＰＳＴの上方に持ち上げられ、トレイＴと溝部５０との嵌合が解除される。そして、このトレイＴと溝部５０との嵌合解除が完了する位置までトレイＴが持ち上げられた時点で、第１、第２保持部２１、２２が駆動部３１、３２により駆動され、基板Ｐを保持したトレイＴが基板ステージＰＳＴ上からアンロードされる。搬送部２０は露光処理済みの基板Ｐをポート部１０を介してデベロッパ装置Ｄに渡す。
【００４３】
ところで、本実施形態の露光装置Ｓには、図１に示すように、ポート部１０に隣接する位置に、基板ＰをトレイＴに載置した状態でポート部１０の各支持部（保持部）１、２に載置する移動可能な載置装置Ｓが設けられている。
図１０は載置装置Ｓを示す概略構成図であって、図１０（ａ）は側面図、図１０（ｂ）は正面図である。図１０に示すように載置装置Ｓは、基板Ｐを載置したトレイＴを支持する載置部６０と、載置部６０を基部６１に対して昇降可能に支持するジャッキアップ機構６２と、ポート部１０の両側に配置されたガイド部６３、６３と、このガイド部６３、６３に案内されながら移動する被ガイド部６４、６４とを備えている。そして、被ガイド部６４と基部６１とが固定されており、被ガイド部６４がガイド部６３に案内されながら図中、Ｙ軸方向に移動することにより、基部６１、及びこの基部６１にジャッキアップ機構６２を介して連結されている載置部６０もＹ軸方向に移動する。なお、本実施形態において、被ガイド部６４の移動は例えばオペレータにより手動で行われ、被ガイド部６４の一部には移動時に把持可能な取手部６５が設けられている。
【００４４】
基板ＰをトレイＴに載置した状態でこの基板Ｐ及びトレイＴのそれぞれを基板支持部１及びトレイ支持部２に載置するには、まず、載置装置Ｓを−Ｙ側に移動し、載置部６０に基板Ｐを載せたトレイＴを載置し、ジャッキアップ機構６２でトレイＴを上昇する（すなわち図１０（ａ）の状態にする）。このとき、ポート部１０のトレイ支持部２（トレイ支持ピン１１）は下降している。また、ジャッキアップ機構６２によりトレイＴ及び基板Ｐは少なくとも基板支持部１の基板支持ピン４の上端部より上方まで上昇されている。この状態で、例えばオペレータが取手部６５を把持しつつ載置装置Ｓを＋Ｙ方向に移動する。そして、基板Ｐを載置したトレイＴがポート部１０の上方に配置されたら、ジャッキアップ機構６２を作動して載置部６０を下降する。これにより、まず基板ＰがトレイＴの開口部４２を介して基板支持ピン４に支持される。そして、更にジャッキアップ機構６２により載置部６０を下降することにより、トレイＴがトレイ支持ピン１１に支持される。そして、載置部６０がトレイＴから離間するまで下降された後、載置装置Ｓは−Ｙ方向に移動されポート部１０から退避される。そしてこの後、上述した本発明に係るプリアライメント及び搬送動作が行われる。
【００４５】
このように、載置装置Ｓを設けたことにより、コータ・デベロッパ装置ＣＤＳの搬送装置１００を用いずに、露光装置ＥＸのポート部１０にトレイＴ及び基板Ｐを搬送することができる。そして、例えばポート部１０において基板ＰやトレイＴになんらかの不都合が生じてもオペレータにより基板Ｐ及びトレイＴを直ちに取り出せる。
【００４６】
更に本実施形態では、図１１に示すように、ポート部１０の下端部にスライド機構７０が設けられており、ポート部１０全体をチャンバ装置ＣＨ１に対して出し入れできる構成となっており、メンテナンスを行う場合などにおいてポート部１０を容易に取り出せる。
【００４７】
以上説明したように、トレイＴに対する基板Ｐの位置を非接触で検出した後、トレイＴと基板Ｐとの位置関係を調整してからトレイＴに基板Ｐを載置するようにしたので、例えばコータ・デベロッパ装置ＣＤＳの搬送装置１００がポート部１０の基板支持部１に基板Ｐをずれた状態で搬送した場合において、基板Ｐを破損することなくトレイＴに対して基板を位置合わせして載置することができる。そして、ポート部１０で位置合わせすることにより、搬送途中において搬送部２０の第１、第２保持部２１、２２は基板Ｐを載置したトレイＴの基板ステージＰＳＴに対する回転誤差補正をするためにトレイＴを大きく回転させる必要がなくなり、基板Ｐ及びトレイＴを基板ステージＰＳＴに円滑に搬送できる。すなわち、図６を参照して説明したように、搬送部２０の第１、第２保持部２１、２２はトレイＴを保持して回転可能であるが、その回転量には限界があり、過剰に回転すると第１、第２保持部２１、２２からトレイＴが浮き上がる不都合が生じる。しかしながら、第１のプリアライメントとしてポート部１０において基板ＰとトレイＴとの大まかな位置合わせをしておくことにより第２のプリアライメントである基板姿勢検出装置３５において回転誤差を補正するためのトレイＴの回転量を最小限に抑えることができ、上記不都合の発生を抑制できる。
【００４８】
また、ポート部１０において基板ＰとトレイＴとのプリアライメントを行っておくことにより、搬送部２０の搬送途中に設けられた基板姿勢検出装置３５の検出領域に基板Ｐ及びトレイＴ双方のエッジ部を良好に配置することができる。すなわち、基板ＰはトレイＴに対して大まかに位置合わせされてから搬送部２０により搬送されるので、搬送途中において基板姿勢検出装置３５で基板Ｐの姿勢を検出しようとする場合、基板Ｐの姿勢とともにトレイＴの姿勢も合わせて良好に検出することができる。したがって、第２のプリアライメントとしての基板姿勢検出装置３５でのプリアライメント動作を効率良く高精度に行うことができ、これによりトレイＴの姿勢を制御して基板ステージＰＳＴに円滑に搬送することができる。
【００４９】
また、ポート部１０でステージ装置６及び検出装置１３を用いて第１のプリアライメントを行い、搬送部２０で第１、第２保持部２１、２２の駆動差により第２のプリアライメントを行う構成であるので、基板ステージＰＳＴに大掛かりな位置補正機構を設けなくても、基板Ｐ及びトレイＴの回転誤差を容易に補正できる。そして、ＸＹ方向への位置誤差の補正は第１、第２保持部２１、２２のＸ軸方向における位置調整や基板ステージＰＳＴのＸＹ方向の位置調整により容易に補正できる。そして、第１保持部２１に対する第２保持部２２の位置を検出する位置検出部３０を設けたことにより、位置検出部３０の検出結果に基づいてトレイＴを所望量回転でき、第１、第２保持部２１、２２の相対位置関係をモニタしつつ基板Ｐを載置したトレイＴを搬送できる。
【００５０】
なお本実施形態では、第１、第２保持部２１、２２の水平面部２１Ｂ、２２Ｂのそれぞれに球状の突起部３４を設けるとともにトレイＴの下面に突起部３４を配置する円錐状の凹部４４を設けたことにより、第１、第２保持部２１、２２のそれぞれはトレイＴを保持した状態で回転誤差を補正できるが、トレイＴの±Ｙ側両端部の２つ凹部のうちいずれか一方の凹部を、Ｙ軸方向に平行な稜線を有するＶ溝とすることにより、トレイＴの回転の自由度を更に増すことができる。
【００５１】
なお本実施形態では、第１、第２保持部２１、２２が下降することによりトレイＴにアクセスする構成であるが、ポート部１０や基板ステージＰＳＴが上昇することにより、トレイＴを第１、第２保持部２１、２２に対してアクセスする構成であってもよい。
【００５２】
なお本実施形態では、第１、第２保持部２１、２２のそれぞれは１つずつ設けられている構成であるが、第１、第２保持部２１、２２のそれぞれを例えば２つずつ間隔をあけて設けて計４つとし、これら複数の保持部２１、２２でトレイＴを保持するようにしてもよい。更に、第１、第２保持部２１、２２それぞれの設置数は２つずつに限らず、例えば３つずつや４つずつなど、任意の数に設定可能である。
【００５３】
なお本実施形態の露光装置は複数並んだ投影光学系を有するマルチレンズスキャン型露光装置であるが、投影光学系を１つ備えた走査型露光装置であってもよい。あるいは、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート型の露光装置にも適用することができる。
【００５４】
なお本実施形態における露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば、半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
【００５５】
本実施形態の露光装置の光源は、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）のみならず、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）を用いることができる。
【００５６】
投影光学系ＰＬの倍率は等倍系のみならず、縮小系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザを用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にする。
【００５７】
基板ステージＰＳＴやマスクステージＭＳＴにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。
【００５８】
ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニットと電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。
【００５９】
基板ステージＰＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００６０】
マスクステージＭＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００６１】
以上のように、本願実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６２】
半導体デバイスは、図１２に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材となる基板（ウエハ、ガラスプレート）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００６３】
【発明の効果】
本発明によれば、大型ガラス基板等の基板を搬送する際、基板を破損することなく搬送トレイに対して良好に位置合わせした状態で円滑に搬送でき、高精度な露光処理を効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の搬送装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】本発明の搬送装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略斜視図である。
【図３】検出手段及び位置調整手段を備えたポート部の概略構成図である。
【図４】搬送トレイ及び基板を支持したポート部を上方から見た図である。
【図５】検出手段の配置を説明するための図である。
【図６】搬送手段に支持されている搬送トレイを説明するための図である。
【図７】基板姿勢検出手段を説明するための模式図である。
【図８】本発明の搬送方法の一実施形態を示すフローチャート図である。
【図９】本発明の搬送方法の一実施形態を示す動作図である。
【図１０】載置手段の一例を示す図である。
【図１１】スライド機構により移動するポート部を示す図である。
【図１２】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
１…基板支持部（保持部）、２…トレイ支持部（保持部）、
６…ステージ装置（位置調整手段）、１０…ポート部（搬送手段）、
１３…検出装置（検出手段）、２０…搬送部（搬送手段）、
２１…第１保持部（駆動手段）、２２…第２保持部（駆動手段）、
３１、３２…駆動部（駆動手段）、
３５…基板姿勢検出装置（基板姿勢検出手段）、ＥＸ…露光装置
Ｈ…搬送装置、Ｐ…基板、ＰＳＴ…基板ステージ、Ｔ…トレイ（搬送トレイ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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