(57)【要約】【課題】効率的な着磁操作が可能で、記録特性の変動のあるディスク基板や大記録容量用のディスク基板にも対応可能な着磁条件最適化方法、着磁制御方法、着磁装置およびその着磁条件最適化方法によって着磁された磁気ディスクを提供する。【解決手段】プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際に、前記ファインパターン部の再生信号の再生出力実効値が定められた閾値より大きくなる第１着磁電流範囲と、該ファインパターン部の再生信号のＳ／Ｎ比が定められた閾値より大きくなる第２着磁電流範囲とを求め、この両方の条件を満足する電流値を最適着磁電流値として求める。【選択図】　　　　図４
2004146017.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際の着磁条件最適化方法であって、
前記ファインパターン部の再生信号の再生出力実効値が定められた閾値より大きくなる第１着磁電流範囲と、該ファインパターン部の再生信号のＳ／Ｎ比が定められた閾値より大きくなる第２着磁電流範囲とを求め、この両方の条件を満足する電流値を最適着磁電流値として求めることを特徴とする着磁条件最適化方法。
【請求項２】
プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際の着磁条件最適化方法であって、
前記プリエンボスディスク基板の同一円周上のファインパターン部の再生信号から求められるリサージュ開口率が定められた閾値より大きくなる条件を満足する電流値を最適着磁電流値として求めることを特徴とする着磁条件最適化方法。
【請求項３】
プリエンボスディスク基板の複数のサーボゾーンのデータトラッキング位置に対応したファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際の着磁制御方法であって、
前記プリエンボスディスク基板の同一円周上のそれぞれのファインパターン部に所定の着磁条件で着磁を行い、
その後直ちに当該ファインパターン部を再生用磁気ヘッドで再生し、
そのファインパターン部の再生信号特性からサーボ信号の適否を判定して、その判定が不適の場合には前記着磁条件を修正して再度同一円周上のすべてのファインパターン部の着磁を行うことを特徴とする着磁制御方法。
【請求項４】
２つの着磁用磁気ヘッドと１つの再生用磁気ヘッドとの組み合せを少なくとも１つ有し、
プリエンボス基板の半径位置と第１着磁電流値と第２着磁電流値とプリエンボスディスク基板の回転速度との組み合せの着磁条件がメモリに保存され、
前記メモリの着磁条件に基いて、組み合せごとの着磁用第１磁気ヘッド、着磁用第２磁気ヘッド、再生用磁気ヘッドの順番で所定の回転速度で回転するプリエンボスディスク基板の所定の半径位置に配置し、前記着磁用第１磁気ヘッドに第１着磁電流値を供給し、前記着磁用第２磁気ヘッドに第２着磁電流値を供給することによってサーボゾーンを着磁し、その後直ちにそのサーボゾーンを前記再生用磁気ヘッドによって再生して、その再生信号から前記半径位置のサーボ信号の適否を判定し、その判定結果が不適である場合には前記着磁条件を修正して再度前記半径位置のサーボゾーンの着磁を行う制御部を備えたことを特徴とする着磁装置。
【請求項５】
前記判定が、前記サーボゾーンのファインパターン部ごとの再生信号の再生出力実効値およびＳ／Ｎ比がそれぞれ所定の閾値を超えるものであるか否かの判定であることを特徴とする請求項４に記載の着磁装置。
【請求項６】
前記判定が、前記サーボゾーンのファインパターン部ファインパターン部の再生信号より得られるリサージュ開口率が所定の閾値を超えるものであるか否かの判定であることを特徴とする請求項４に記載の着磁装置。
【請求項７】
前記メモリに保存されている着磁条件が、前記修正された着磁条件に上書き更新されることを特徴とする請求項３に記載の着磁装置。
【請求項８】
プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際に、前記ファインパターン部の再生信号の再生出力実効値が定められた閾値より大きくなる第１着磁電流範囲と、該ファインパターン部の再生信号のＳ／Ｎ比が定められた閾値より大きくなる第２着磁電流範囲とが求められ、この両方の条件を満足する電流値で着磁されたことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項９】
プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際に、前記プリエンボスディスク基板の同一円周上のファインパターン部の再生信号から求められるリサージュ開口率が定められた閾値より大きくなる条件を満足する電流値で着磁されたことを特徴とする磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、サーボ信号を示す凹凸パターンが形成されたディスクの着磁制御方法、着磁装置及びその方法によって作製される磁気ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
コンピュータシステムにおいては、磁気ディスクが内蔵されたハードディスク装置が広く用いられている。この磁気ディスクは、それぞれの面の表面に形成された磁性膜に磁性パターンによってデータ等がトラック状に記録されており、磁気ディスクの表面上を浮上するヘッドスライダに搭載されている磁気ヘッドにより磁性膜に記録されたデータ等が再生されるようになっている。
【０００３】
近年、ハードディスク装置の小型化及び大記録容量化が望まれており、これを実現するためには、再生用磁気ヘッドの位置決め精度、すなわちトラッキング精度を向上させる必要がある。これを実現するために種々のトラッキングサーボ方式が開発されている。
【０００４】
通常のトラッキングサーボは、磁気ディスク上に書き込まれているトラッキング信号を磁気ヘッドによって読出し、このトラッキング信号に基づいてヘッドスライダの移動を制御して磁気ヘッドをトラック中央位置決めする方式が採られている。
上記磁気ディスクの素となるディスク基板にヘッドのトラッキング信号を書き込む方法は、サーボライターと呼ばれる装置を用いて行われており、着磁用磁気ヘッドによってサーボ信号を書き込む方法が用いられている。
【０００５】
このトラッキングサーボ方式によるトラッキング精度は、サーボライターの磁気ヘッドによるディスク基板へのトラッキング信号の書き込み精度によって左右されるため、トラッキング精度を向上させるには高精度のトラッキング信号書き込み専用のヘッド送り機構が必要となる。ところが、このヘッド送り機構は機械式であり、その高精度化には限界があるため、昨今要求されているレベルのハードディスク装置の小型化及び大記録容量化を達成することができない問題があった。
【０００６】
そこで、この問題を解決するためにディスク基板の両表面に凹凸部でなるデータ記録領域（以下、データゾーンという）と制御信号記録領域（以下、サーボゾーンという）とを予め形成した、いわゆるプリエンボス型の磁気ディスクが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００７】
図１はプリエンボス型の磁気ディスクの構成の概略を示す平面図であり、図２はサーボゾーンの詳細を示す平面図であり、図３はその断面側面図である。
このディスク基板１の表裏主面には、トラッキング制御信号等の制御信号記録領域であり、凹凸部からなるサーボゾーン１４が形成されている。このサーボゾーン１４には、サーボクロックを生成する際の基準となるバースト部１６、データトラック部１３ａを特定するためのアドレス部１７及び磁気ヘッドをトラッキング制御するためのファインパターン部１８のサーボパターンＳＰが凸部１９もしくは凹部２０となるように予め形成されており、凹凸部１９、２０の上に磁性層２１が形成されている。この部分に所定の磁化方法でサーボ信号を書き込むことによって磁気ディスク１００となる。
【０００８】
プリエンボス型の磁気ディスクは、サーボパターンＳＰが予めディスク基板１上に凹凸部で形成されているので、この凹凸部のパターンニング精度によりトラッキング精度は左右される。凹凸部はフォトリソグラフィ等を利用してパターンニングされるので、凹凸部のパターンニング精度を従来のヘッド送り機構の送り精度よりも高くすることができ、所望のハードディスク装置の小型化及び大記録容量化を達成することができる。
また、プリエンボス型のディスク基板を、例えば、プラスチック等を成形することにより凹凸形状のサーボピットを形成する場合、媒体を大量かつ安価に供給することが可能であると提案されている。
【０００９】
磁気ヘッドを用いてディスク基板１の凹凸形状のサーボゾーン１４にサーボ信号を書き込む方法は、サーボゾーン１４の凹部２０磁性層２１と凸部１９の磁性層２１とが磁気ヘッドによって、お互いに逆位相となるように磁化されることで行われる。このサーボ信号を得るためのディスク基板１の磁化手順を着磁という。以下に、図１３を参照しながら従来行われている着磁操作手順を説明する。
【００１０】
（準備工程）
磁化前のディスク基板１を着磁装置の回転体にセットする（ｓ９１）。ついで、着磁装置の制御部がメモリから磁気ヘッドに供給する着磁電流や磁気ヘッド走査に関する操作ステージ情報などを読み込む（ｓ９２）。同時に、磁気ヘッドをディスク基板１の着磁走査範囲の最外周部１２Ｏに移動する（ｓ９３）。
【００１１】
（第一工程）
ｓ９２で読み込まれた情報から記録用の電流値Ｉ９１が設定され（ｓ９４）、磁気ヘッドに電流値Ｉ９１が着磁電流として供給される（ｓ９５）。これにより、磁気ヘッドには強磁界の第一の磁場が発生する。ついで、ディスク基板１が回転体の回転とともに回転している状態で、磁気ヘッドはディスク基板１上を外周部から内周部への方向に移動することによって、ディスク基板１のサーボゾーン１４すべてに第一の磁場が印加され、サーボゾーン１４に形成されているすべての凹部２０、凸部１９それぞれの磁性層が同一方向に磁化する（ｓ９６）。この第一工程は磁気ヘッドが最内周部１２Ｉに移動することによって終了する（ｓ９７）。
【００１２】
（第二工程）
ｓ９２で読み込まれた情報から記録用の電流値Ｉ９２が設定され（ｓ９８）、磁気ヘッドに電流値Ｉ９２が着磁電流として供給される（ｓ９９）。これにより、磁気ヘッドには第一の磁場とは逆方向で、第一の磁場よりも微小な第二の磁場が発生する。ついで、ディスク基板１が回転体の回転とともに回転している状態で、磁気ヘッドはディスク基板１上を内周部から外周部への方向に移動することによって、ディスク基板１のサーボゾーン１４すべてに第二の磁場が印加され、サーボゾーン１４に形成されているすべての凸部１９の磁性層２１のみが磁化される（ｓ９ａ）。この工程により凹部２０の磁性層２１には磁場ｍ１、凸部１９の磁性層２１には磁場ｍ１とは逆位相となった磁場ｍ２が形成され、凹凸形状の境界端面に磁化反転が発生する。この状態の磁気ディスクを再生すると、この磁化反転の部分から再生波形を得ることができることから、凹凸部１９、２０を所定の形状としておくことで当該再生波形から必要なサーボ信号を取り出せるようなる。この第二工程は磁気ヘッドが最外周部１２Ｏに移動することによって終了する（ｓ９ｂ）。
次に、磁気ヘッドが磁気ディスク１００の領域から退避し（ｓ９ｃ）、一連の着磁操作は終了する（ｓ９ｄ）。
【００１３】
（検査工程）
着磁操作の終了した磁気ディスク１００を検査用ドライブ装置にセットし、実際にドライブさせることによってサーボ信号特性を確認する（ｓ９ｅ）。
このとき、検査結果がＮＧの場合には、ステップｓ９１に戻り、着磁操作をやり直す。検査結果がＯＫの場合には、着磁終了となる。
【００１４】
なお、従来の方法では、ディスク基板１の凹凸パターンにおいて凹部２０と凸部１９とをそれぞれ逆方向に着磁する最適条件を決定する場合、着磁後のサーボ再生信号出力が最も高くなる条件を選択していた（例えば、特許文献２参照。）。
【００１５】
【特許文献１】
特許第２８３１０７８号明細書
【特許文献１】
特開平７−１３８９２６号公報（［００３２］〜［００４７］）
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の着磁方法においては、磁気ディスク用の磁気ヘッドでは、着磁用の磁気ヘッド（Ｇａｐ）は１つしか持たないため、着磁操作時に必要な第１の磁場と第二の磁場を同時に発生させることはできない。そのため、第一工程時にディスク基板の外周から内周まで磁気ヘッドを移動させて第一の磁場を印加し、第二工程ではディスク基板の内周から外周に磁気ヘッドを移動させて第二の磁場を印加するといった最低２回の磁気ヘッドの移動操作が必要であった。
磁気ヘッドのＧａｐ幅とディスクの回転速度との調整によってある程度の着磁用磁気ヘッドの移動速度の増加は可能であるが、それにも限度があり、この工程に要する時間がそのままディスク製造全体のタクトタイムとして生産性に影響を与えていた。
【００１７】
また、着磁用磁気ヘッドのディスク基板から浮上する高さ（浮上特性）は、単位時間当たりのディスク基板の回転速度、あるいはディスク基板の内周部と外周部との線速度の違いなどによって変化する。磁気ヘッドの浮上する高さが変化すれば磁気ヘッドの記録特性も変化してしまうため、着磁に最適な着磁電流値も修正する必要がある。このことから、ディスク基板の半径方向の複数の位置で測定した結果からディスク基板基板の半径方向の位置と着磁のための着磁電流の最適値とを算出し、その算出結果に基いてディスク基板の半径方向の位置によって着磁電流を変化させて着磁を行うことが行われている。
しかしながら、このような方法によっても、ディスク基板側の状態などが変動した場合には適切に着磁できない場合があった。例えば、ディスク基板上の凹凸パターン形状が誤差範囲内で変動したり、着磁用磁気ヘッドの形状などが変わったり、磁性層の記録特性が変わったりした場合である。さらに、この変動には、ディスク基板内の変動とディスク基板ロット間の変動とがあった。
【００１８】
この変動の影響はとくに第二工程の着磁の際に影響が大きく、着磁用磁気ヘッドに印加される電流値が相対的に大きくなりすぎると、第一工程の着磁によって磁化された領域のうち、本来残しておかなければならない凹部の磁化をも消してしまうか、あるいは弱めてしまう結果となってしまう。また、反対に印加される電流値が相対的に小さくなりすぎると第一工程の着磁によって磁化された領域のうち磁化反転されなければならない凸部において、まったく磁化されないかまたは磁化反転がごく僅かしか得られない結果となってしまう。
上記いずれの場合でも、得られるサーボ信号は出力自体が低いか、サーボ信号とノイズとの出力比（以下、Ｓ／Ｎ比という）が低いという結果となり、トラッキングサーボをかけるのに十分な情報を得られなくなるため、この磁気ディスクは実際のドライブ装置に使用できない不良品となっていた。
【００１９】
また、ディスク基板の凹凸パターンにおいて凹部と凸部とをそれぞれ逆方向に着磁する最適条件を決定する場合、従来の方法では着磁後のサーボ再生信号出力が最も高くなる条件を選択していたが、同時にノイズも高くなる傾向があった。トラック幅が広く再生用磁気ヘッドの幅が広い場合にはノイズが多少高くても、再生出力信号自体が大きいのでサーボ信号は検出され、トラッキングを行う動作に支障はなかった。しかし、高密度微細パターンが形成されたディスク基板では再生用磁気ヘッドのトラック幅が狭くなり、検出される再生出力は小さくなる。一方、再生出力に含まれるノイズもある程度小さくなるが、磁気ヘッド自体から発生するノイズ量や回路起因のノイズはあまり変化しない。そのため、再生出力そのものを見た場合、信号出力の減少分よりもノイズの減少分の方が小さいためにＳ／Ｎ比としては悪くなり、ひどい場合にはサーボ信号自体の検出が困難になる。この状態では、ノイズを低減させようとしても再生出力自体が小さくなるため、サーボ信号の検出が困難になる。着磁装置と検査装置とは通常別々の装置であるから、着磁した磁気ディスクを検査用のドライブ装置に載せ換え、サーボ信号が検出できるか否かの検査を行いながらの条件出しは大きな労力と時間の損失となっていた。
【００２０】
本発明は、以上の従来技術における問題に鑑みてなされたものであり、効率的な着磁操作が可能で、記録特性の変動のあるディスク基板や大記録容量用のディスク基板にも対応可能な着磁条件最適化方法、着磁制御方法、着磁装置およびその着磁条件最適化方法によって着磁された磁気ディスクを提供することを目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために提供する請求項１の発明に係る着磁条件最適化方法は、プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際の着磁条件最適化方法であって、前記ファインパターン部の再生信号の再生出力実効値が定められた閾値より大きくなる第１着磁電流範囲と、該ファインパターン部の再生信号のＳ／Ｎ比が定められた閾値より大きくなる第２着磁電流範囲とを求め、この両方の条件を満足する電流値を最適着磁電流値として求めることを特徴とする。
【００２２】
この方法により、高密度微細パターンが形成されたディスク基板においても適正なサーボ信号を得ることができる最適な着磁条件を見出せるようになる。なお、通常、第１磁気ヘッドの着磁電流はディスク基板全体を磁化するための過飽和な電流値として固定値とし、第２磁気ヘッドの着磁電流値を最適化する。
【００２３】
前記課題を解決するために提供する請求項２の発明に係る着磁条件最適化方法は、プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際の着磁条件最適化方法であって、前記プリエンボスディスク基板の同一円周上のファインパターン部の再生信号から求められるリサージュ開口率が定められた閾値より大きくなる条件を満足する電流値を最適着磁電流値として求めることを特徴とする。
【００２４】
この方法により、超高密度微細パターンが形成されたディスク基板においても適正なサーボ信号を得ることができる最適な着磁条件を見出せるようになる。
【００２５】
前記課題を解決するために提供する請求項３の発明に係る着磁制御方法は、プリエンボスディスク基板の複数のサーボゾーンのデータトラッキング位置に対応したファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際の着磁制御方法であって、前記プリエンボスディスク基板の同一円周上のそれぞれのファインパターン部に所定の着磁条件で着磁を行い、その後直ちに当該ファインパターン部を再生用磁気ヘッドで再生し、そのファインパターン部の再生信号特性からサーボ信号の適否を判定して、その判定が不適の場合には前記着磁条件を修正して再度同一円周上のすべてのファインパターン部の着磁を行うことを特徴とする。
【００２６】
この方法によって、着磁した後に、直ちにその部分の再生信号を読み取ることにより着磁操作の中でサーボ信号の適否の判定を行うことができる。さらに、再生出力から最適な着磁条件を決定できるようなることから、着磁条件出しの時間を大幅に短縮でき、磁性膜の変化等による着磁再生信号の変動に迅速に対応することもできる。
ここで、再生信号特性とは、ファインパターン部ごとの再生信号の再生出力実効値およびＳ／Ｎ比、またはプリエンボスディスク基板の同一円周上のファインパターン部の再生信号より得られるリサージュ開口率のことである。
また、着磁条件とはプリエンボス基板の半径位置と２つの着磁電流値とプリエンボスディスク基板の回転速度との組み合せ条件のことであり、条件の修正に当たっては着磁電流値またはプリエンボスディスク基板の回転速度が対象となる。
【００２７】
前記課題を解決するために提供する請求項４の発明に係る着磁装置は、２つの着磁用磁気ヘッドと１つの再生用磁気ヘッドとの組み合せを少なくとも１つ有し、プリエンボス基板の半径位置と第１着磁電流値と第２着磁電流値とプリエンボスディスク基板の回転速度との組み合せの着磁条件がメモリに保存され、前記メモリの着磁条件に基いて、組み合せごとの着磁用第１磁気ヘッド、着磁用第２磁気ヘッド、再生用磁気ヘッドの順番で所定の回転速度で回転するプリエンボスディスク基板の所定の半径位置に配置し、前記着磁用第１磁気ヘッドに第１着磁電流値を供給し、前記着磁用第２磁気ヘッドに第２着磁電流値を供給することによってサーボゾーンを着磁し、その後直ちにそのサーボゾーンを前記再生用磁気ヘッドによって再生して、その再生信号から前記半径位置のサーボ信号の適否を判定し、その判定結果が不適である場合には前記着磁条件を修正して再度前記半径位置のサーボゾーンの着磁を行う制御部を備えたことを特徴とする。
【００２８】
これによって、所定の着磁電流条件で２つの着磁用磁気ヘッドにより着磁した後に、直ちに再生用磁気ヘッドによりその部分の再生信号を読み取ることができ、着磁操作の中でサーボ信号の適否の判定を行うことができる。さらに、再生出力から最適な着磁条件を決定できるようなることから、着磁条件出しの時間を大幅に短縮でき、磁性膜の変化等による着磁再生信号の変動に迅速に対応することもできる。
なお、基板の半径方向に複数のゾーンを設定し、上記３つの磁気ヘッドを１つのセットとしておのおののゾーンに配し、同時に動作させることによってさらに高速に着磁を実施することができる。
【００２９】
前記課題を解決するために提供する請求項５の発明に係る着磁装置は、請求項４の発明において、前記判定が、前記サーボゾーンのファインパターン部ごとの再生信号の再生出力実効値およびＳ／Ｎ比がそれぞれ所定の閾値を超えるものであるか否かの判定であることを特徴とする。
【００３０】
この装置により、高密度微細パターンが形成されたディスク基板においても適正なサーボ信号を得ることができるようになる。
【００３１】
前記課題を解決するために提供する請求項６の発明に係る着磁装置は、請求項４の発明において、前記判定が、前記サーボゾーンのファインパターン部ファインパターン部の再生信号より得られるリサージュ開口率が所定の閾値を超えるものであるか否かの判定であることを特徴とする。
【００３２】
この装置により、超高密度微細パターンが形成されたディスク基板においても適正なサーボ信号を得ることができるようになる。
【００３３】
前記課題を解決するために提供する請求項７の発明に係る着磁装置は、請求項４の発明において、前記メモリに保存されている着磁条件が、前記修正された着磁条件に上書き更新されることを特徴とする。
【００３４】
この装置により、同一ロットのそれ以降のディスク基板については、着磁操作ごとに着磁条件が修正されて最適条件に収束するため、１回の磁気ヘッドの走査で適正なサーボ信号が得られるようになり効率的な着磁操作が可能となる。
【００３５】
前記課題を解決するために提供する請求項８の発明に係る磁気ディスクは、プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際に、前記ファインパターン部の再生信号の再生出力実効値が定められた閾値より大きくなる第１着磁電流範囲と、該ファインパターン部の再生信号のＳ／Ｎ比が定められた閾値より大きくなる第２着磁電流範囲とが求められ、この両方の条件を満足する電流値で着磁されたことを特徴とする。
【００３６】
これにより、適正なサーボ信号が記録された高記録容量の磁気ディスクを提供することができる。
【００３７】
前記課題を解決するために提供する請求項９の発明に係る磁気ディスクは、プリエンボスディスク基板のサーボゾーンのファインパターン部に２つの磁気ヘッドそれぞれから順次磁界を印加して着磁する際に、前記プリエンボスディスク基板の同一円周上のファインパターン部の再生信号から求められるリサージュ開口率が定められた閾値より大きくなる条件を満足する電流値で着磁されたことを特徴とする。
【００３８】
これにより、適正なサーボ信号が記録された超高記録容量の磁気ディスクを提供することができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明に係る磁気ディスクの一実施の形態における構成について図面を参照して説明する。
図１は本発明に係る磁気ディスクの構成を示す概略図であり、図２はそのサーボゾーンの詳細を示す平面図であり、図３はその断面側面図である。
磁気ディスク１００は、その表裏主面上にそれぞれ凹凸部からなるデータ信号等の記録領域（データゾーン）１３と、トラッキング制御信号等の制御信号記録領域（サーボゾーン）１４とが予め形成された、プリエンボス型の磁気ディスク（以下、単に磁気ディスクと称する）である。また、磁気ディスク１００は、合成樹脂、ガラス、アルミニウム等の非磁性材料によって成形され、フォトリソグラフィ技術等を利用して表裏主面に凹凸部１９、２０が形成され、さらにその凹凸部１９、２０の上に磁性膜２３が成膜されてなるディスク基板１に、前記データゾーン１３にデータ信号等が記録され、サーボゾーン１４に制御信号等が記録されたものである。
【００４０】
データゾーン１３は、データ信号等が記録されるデータトラック部が凸部となり、隣接するデータトラック間を区分するガードバンドが凹部となり、各データトラック部が磁気ディスクの中心を基準として同心円状に配置された従来公知の構成である。
【００４１】
サーボゾーン１４は、本発明にかかる磁気ディスクにおいて最も重要な領域であり、ディスク基板１の表裏主面上にそのディスク中心から放射状に形成され、ディスク基板１の同一円周上のデータトラックを等間隔に区分するように、例えば６４個の領域として形成されている。このサーボゾーン１４には、サーボクロックを生成する際の基準となるバースト信号等を記録するバースト部１６と、データトラック部１３を特定するための半径方向の位置を示すトラック位置信号を記録するアドレス部１７と、磁気ヘッドをトラッキング制御するためのトラッキング制御信号を記録するファインパターン部１８とからなる。また、バースト部１６とアドレス部１７とは予め形成された凸部１９からなり、ファインパターン部１８は予め形成された凸部１９もしくは凹部２０からなる。さらに、これらの凸部１９、凹部２０の上に磁性膜２３が形成されている。
【００４２】
なお、本発明の磁気ディスク１００は、本発明に係る着磁制御方法によって上記構成のディスク基板１の表裏主面の凹凸部１９、２０上の磁性膜２３に着磁処理が施されたものである。詳しくは、ファインパターン部１８において、凸部１９上の磁性膜２３の位相ｍ１と凹部２０上の磁性膜２３の位相ｍ２とが相互に逆位相となるように適切に磁化されたものである。
【００４３】
つぎに、本発明に係る着磁装置の第一の実施の形態における構成について図面を参照して説明する。
図４は本発明に係る着磁装置であり、プリエンボス型ディスク基板１を最適な着磁操作を行うのに好適な着磁装置の構成を示す概略図である。
この装置は、ディスク基板１が装着され、回転する回転体５と、それを制御する回転体コントローラ６とからなる回転制御部Ｃ１と、
ディスク基板１に信号を記録再生する３つの磁気ヘッド２、２ａ、２ｂと、それらの磁気ヘッド２、２ａ、２ｂそれぞれが固定されディスク基板１のサーボパターン方向に一致した方向に各磁気ヘッド２、２ａ、２ｂを操作させる機構をもつヘッド操作ステージ３、３ａ、３ｂと、それらの動作を制御するステージコントローラ４とからなるヘッド操作部Ｃ２と、
信号増幅回路７、７ｂと信号処理回路８、８ｂと電流発信源９とメモリ１１、１１ｂとを有し、磁気ヘッド２ｂから再生された信号を処理する信号処理部Ｐ１と、
装置全体の動作を制御する制御部（図示せず）とから構成されている。
【００４４】
３つの磁気ヘッド２、２ａ、２ｂは、着磁用第１磁気ヘッド２（強磁界発生用）、着磁用第２磁気ヘッド２ａ（第一の磁場よりも小さい磁界発生用）、再生用磁気ヘッド２ｂの順番で、ディスク上方で、かつディスクの中心を基準とした同一円周上に配置されている。また、着磁用第１磁気ヘッド２、着磁用第２磁気ヘッド２ａ、再生用磁気ヘッド２ｂはそれぞれヘッド送り機構であるヘッド操作ステージ３、３ａ、３ｂ上に配置され、それぞれ独立して同時にディスク上方で、かつディスクの中心を基準とした同一円周上を走査されるようにステージコントローラ４により制御される。同時に、ステージコントローラ４は、各磁気ヘッド２、２ａ、２ｂのＧａｐ部２４、２５の基板Ａ上の半径方向の位置をディスク基板１上の位置情報（ヘッド位置情報１０）として信号処理回路８に送信する。
【００４５】
着磁用第１磁気ヘッド２は、電流発信源９から着磁電流Ｉ１が信号増幅回路７を経て、図５（ａ）に示す上コアと下コアとに供給されることによって、ヘッドＧａｐ２４において強磁界である第一の磁場２１を発生させる。
また、着磁用第２磁気ヘッド２ａは、電流発信源９から着磁電流Ｉ２が信号増幅回路７を経て、図５（ｂ）に示す上コアと下コアとに供給されることによって、ヘッドＧａｐ２５において第一の磁場２１よりも小さい磁界で逆位相の第二の磁場２２を発生させる。
さらに、再生用磁気ヘッド２ｂは、着磁されたサーボゾーンを再生するものであり、再生されたサーボ信号は信号増幅回路７ｂを経由して信号処理回路８ｂへ送信される。
【００４６】
信号処理部Ｐ１において、信号増幅回路７は磁気ヘッド２、２ａにより記録される信号を増幅するものである。また、信号増幅回路７ｂは磁気ヘッド２ｂにより再生される信号を増幅し、信号処理回路８ｂはその再生信号を検出し、処理するものである。また、メモリ１１にはサーボゾーン１４の半径位置情報とその位置におけるディスク回転速度と磁気ヘッド２、２ａの最適着磁電流値Ｉ１、Ｉ２との組み合せデータが保存され、メモリ１１ｂにはサーボ信号を判定するための閾値となる再生出力、Ｓ／Ｎ比のデータが保存されている。これらの閾値は実際に磁気ディスクを搭載するドライブ装置の磁気ヘッドの特性から必要とされるサーボ信号の再生出力とＳ／Ｎ比との値であり、これらの閾値を同時に超える磁気ディスクとなる着磁電流とディスク回転速度とが最適着磁条件となる。
【００４７】
つぎに、上記装置を用いた、本発明に係る着磁制御方法の第一の実施の形態について以下に説明する。
なお、磁気ヘッドの数は多くても構わないが、以下では上記３つの磁気ヘッド２、２ａ、２ｂが１セットある場合について図６を参照しながら詳細に述べる。なお、上記磁気ヘッド３つの組み合せを１単位として拡張することが可能である。
【００４８】
（準備工程）
磁化前のディスク基板１を着磁装置の回転体５に装着・固定し（ｓ１１）、一定周期でディスク基板１を回転させる。ディスク基板１は表面に非磁性基板上に形成された凹凸部の上にさらに磁性層が形成されたもので、外観は図　に示す磁気ディスクと同様である。ついで、着磁装置の信号処理部Ｐ１のメモリ１１からサーボゾーン１４の半径位置情報、着磁電流値、ディスク回転速度の組み合せデータと、磁気ヘッド２、２ａ、２ｂの移動走査パターンと、磁気ヘッドの移動走査パターンに関する操作ステージ情報とが制御部に読み込まれる（ｓ１２）。同時に、ヘッド操作ステージ３、３ａ、３ｂを操作して磁気ヘッド２、２ａ、２ｂをディスク基板１の着磁走査範囲１２の外周方向に移動させ、最外周部１２Ｏのデータトラックの位置で固定させてヘッドロードを行う（ｓ１３）。このとき、磁気ヘッド２、２ａ、２ｂはディスク基板１の中心を基準とした最外周部１２Ｏの同一円周上に配置されている。
【００４９】
（着磁条件設定）
１つ内側のデータトラックの位置に磁気ヘッド２、２ａ、２ｂを移動させ、磁気ヘッド２、２ａ、２ｂを固定した位置（半径位置）情報が信号処理回路８へ送信される（ｓ１４）。このとき、磁気ヘッド２、２ａ、２ｂはディスク基板１の中心を基準とした所定の半径位置の同一円周上に配置されている。なお、ステップｓ１３の直後の場合にはこのステップの磁気ヘッドの移動はスキップする。
つぎに、ｓ１２で読み込まれた情報のうち、ステップｓ１４の位置情報に該当するサーボゾーン１４の半径位置情報に対応した記録用の最適電流値Ｉ１、Ｉ２が設定され（ｓ１５）、電流発信源９から信号増幅器７を経由して第１磁気ヘッド２に電流値Ｉ１が、第２磁気ヘッド２ａに電流値Ｉ２が着磁電流として供給される（ｓ１６）。これにより、第１磁気ヘッド２には強磁界の第一の磁場２１が発生し、第２磁気ヘッド２ａには第一の磁場２１よりも小さい磁界で逆位相の第二の磁場２２が発生する。なお、電流値Ｉ１はそのデータトラック位置におけるサーボゾーン１４のすべての凹部２０、凸部１９それぞれの磁性層２１が磁化される、いわゆる過飽和条件となっており、データトラック位置ごとにその電流値は固定されている。
【００５０】
（ｓ１７；着磁処理）
ディスク基板１が回転体５の回転とともに回転するため、第１磁気ヘッド２はディスク基板１との距離が一定に保たれたまま、そのディスク１上の所定のデータトラックのある半径位置でディスク基板１上を１回分周回し、第２磁気ヘッド２ａは第１磁気ヘッド２の軌跡の後を追従して１回分周回する。これによって、ディスク基板１の所定のデータトラック位置に対応したサーボゾーンにまず第１磁気ヘッド２によって第一の磁場２１が印加され、サーボゾーン１４に形成されているすべての凹部２０、凸部１９それぞれの磁性層２１が同一方向に磁化され、つづいて第２磁気ヘッド２ａによって第二の磁場２２が印加され、前記磁化されたサーボゾーンの中の凸部１９の磁性層だけが反転されて磁化される。すなわち、サーボゾーンにおいて凹部２１には磁場ｍ１、凸部２２には磁場ｍ１とは逆位相となった磁場ｍ２が形成され、凹凸形状の境界端面に磁化反転が発生する状態となる。
【００５１】
（ｓ１８；再生検査処理）
再生用磁気ヘッド２ｂは、前記ステップｓ１７における着磁用磁気ヘッド２、２ａの走査に引き続いて、ディスク基板１との距離が一定に保たれたまま、着磁用第２磁気ヘッド２ａの軌跡の後を追従してディスク基板１上を周回する。すなわち、サーボゾーンの着磁完了後、直ちに磁気ヘッド２ｂによって所定のデータトラック位置に対応したサーボゾーン１４の再生信号が検出され、その再生出力が信号処理回路８ｂに送られる。例えば、サーボゾーン１４が６４個形成されていれば、６４個の再生信号が検出される。
信号処理回路８ｂは、それらの再生信号からそれぞれサーボ信号の再生出力実効値とノイズ実効値とを取り出し、さらにそれらの実効値からＳ／Ｎ比を計算する処理を行う。
ついで、信号処理回路８ｂは求めたサーボ信号の再生出力実効値、Ｓ／Ｎ比それぞれとメモリ１１ｂに保存されている再生出力の閾値、Ｓ／Ｎ比の閾値とを比較する。
【００５２】
再生出力実効値とＳ／Ｎ比とが、いずれもあるいはいずれか一方が閾値を超えない場合、サーボ信号が不適であると判断して、ステップｓ１５に戻り、設定される電流値Ｉ２が変更されて、現在のデータトラック位置に対応するサーボゾーン１４について再度、着磁処理（ステップｓ１７）、再生検査処理（ステップｓ１８）を行う。ディスク基板１の１周分に該当する６４個の再生信号特性のうち、１個でも閾値を超えない場合でもこのケースに該当する。
このルーチン処理は再生出力実効値とＳ／Ｎ比とが同時に閾値を超えるまで繰り返される。なお、電流値Ｉ２の変更方法としては、例えば、まず所定の電流値の大きさだけ増加するようにして、目標を達していない再生信号特性（再生出力実効値、Ｓ／Ｎ比）が閾値に対して乖離する方向に変化すれば、電流値を逆に減少させて閾値に漸近させる電流値の変更方向を決定した後に、段階的に電流値を変更するようにすればよい。
【００５３】
再生出力実効値とＳ／Ｎ比とが同時に閾値を超えた場合、サーボ信号が適正であると判断して、その着磁されたサーボゾーン１４の半径位置情報、着磁電流値、ディスク回転速度の組み合せデータがメモリ１１に送信され、次のステップへ進む。メモリ１１では、受信したそのサーボゾーン１４の半径位置情報、着磁電流値、ディスク回転速度の組み合せデータが最適着磁条件として、保存されている組み合せデータ群の該当する半径位置の組み合せデータ部分に上書き更新される。
【００５４】
現在の磁気ヘッド２、２ａ、２ｂがディスク基板１の着磁走査範囲１２の最内周部１２Ｉのデータトラックの位置にあるかを確認する（ｓ１９）。
磁気ヘッド２、２ａ、２ｂが最内周部１２Ｉにない場合、ステップｓ１４に戻り、１つ内側のデータトラックの位置に磁気ヘッド２、２ａ、２ｂが移動して、以降の処理が行われる。
磁気ヘッド２、２ａ、２ｂが最内周部１２Ｉにある場合、サーボゾーン１４すべてに適正な着磁処理が施されたこととなり、ヘッドアンロードが認識され（ｓ１ａ）、磁気ヘッドがディスク基板１上から退避することによって一連の着磁操作が終了する（ｓ１ｂ）。
【００５５】
以上のように、本発明の着磁制御方法によれば、データトラック位置に対応するサーボゾーンごとに適正なサーボ信号が得られるように着磁されるため、一連の着磁操作が終了すると、すべてのサーボゾーンが適正に着磁された磁気ディスクを得ることができる。
【００５６】
なお、メモリ１１に保存されている最適着磁条件（サーボゾーンの半径位置情報、着磁電流値、ディスク回転速度の組み合せデータ群）は、同一ロットの最初のディスク基板に対する着磁の際には、別ロットの最終の着磁条件やテスト的に求められた着磁条件が適用されているため、電流値Ｉ２を変更して繰り返し着磁処理する可能性が高い。しかし、同一ロットのそれ以降のディスク基板については、着磁操作ごとに着磁条件が修正されて最適条件に収束するため、１回の磁気ヘッドの走査で適正なサーボ信号が得られるようになり効率的な着磁操作が可能となる。すなわち、着磁操作とともに着磁条件の最適化を行うことが可能である。
【００５７】
つぎに、本発明に係る着磁制御方法の第二の実施の形態について説明する。
第一の実施の形態では電流値Ｉ２を変更することにより着磁状態を修正し、再生信号特性の修正を図るものであったが、第二の実施の形態においては、ディスク基板の所定の位置で再生信号特性が適正となる電流値Ｉ１、Ｉ２を固定の着磁電流値とし、かつ着磁用磁気ヘッドに対するディスク基板の相対的線速度が常に一定となるように磁気ヘッドの半径位置ごとにディスク回転速度を変更していくことにより着磁状態を一定として再生信号特性の適正化を図るものである。
【００５８】
具体的には着磁制御方法の第二の実施の形態は、第一の実施の形態の中で着磁条件設定から着磁処理までのステップｓ１５、ｓ１７、ｓ１８の内容がつぎのように変わったものである。それ以外の内容は第一の実施の形態と同じである。
すなわち、着磁条件設定の段階のうち、ステップｓ１５において、ｓ１２で読み込まれた情報から記録用の最適電流値Ｉ１、Ｉ２が設定され、ステップｓ１４の位置情報からディスク回転速度が設定されるものである。このディスク回転速度の設定は、例えば最適電流値が最外周部１２Ｏのディスク回転速度を基準としたものであれば、ディスク基板１の最外周部１２Ｏの半径位置と磁気ヘッド２、２ａの半径位置との比例計算から求められる。これによって、磁気ヘッド２、２ａが最外周部１２Ｏから最内周部１２Ｉへ移動するにつれて、着磁用磁気ヘッドに対するディスク基板１の相対的線速度が常に一定となるようディスク回転速度は徐々に増加する。
また、ステップｓ１７において、設定されたディスク回転速度で回転体５が回転し、所定の着磁処理が行われる。
さらに、ステップｓ１８において再生出力実効値とＳ／Ｎ比とが、いずれもあるいはいずれか一方が閾値を超えないと判定された場合、ステップｓ１５に戻り、設定されるディスク回転速度が変更されて、現在のデータトラック位置に対応するサーボゾーン１４について再度、着磁処理（ステップｓ１７）、再生検査処理（ステップｓ１８）を行う。このルーチンは再生出力実効値とＳ／Ｎ比とが同時に閾値を超えるまで繰り返される。
以上の着磁制御方法によれば、データトラック位置に対応するサーボゾーンごとに適正なサーボ信号が得られるように着磁されるため、一連の着磁操作が終了すると、すべてのサーボゾーンが適正に着磁された磁気ディスクを得ることができる。
【００５９】
（実施例１）
以下に、本発明の着磁制御方法の第二の実施の形態に従って、磁気ディスクを実際に作製した例を示す。
作製はつぎの手順で行った。なお、ディスク基板として、ポリカーボネート樹脂の基板について従来公知のフォトリソグラフィ技術を利用して表裏主面にサーボゾーンに相当する凹凸部を形成し、さらにその凹凸部の上に磁性膜を成膜したものを使用した。
（１）プリエンボス型ディスク基板の最外周部において、所定のディスク回転速度にて、着磁用第２磁気ヘッド２ａへ供給する着磁電流Ｉ２を５．５ｍＡから８．０ｍＡまで段階的に変化させて、着磁電流値ごとの再生出力実効値とＳ／Ｎ比とを測定し、最適着磁電流値を求めた。なお、着磁用第１磁気ヘッドへ供給する着磁電流は５０ｍＡ固定とした。
（２）上記（１）で求められた最適着磁電流値を用いて、着磁制御方法の第二の実施の形態に示した手順に従って着磁操作を行い、すべてのサーボゾーンが着磁された磁気ディスクを作製した。
【００６０】
図７に上記（１）で得られた着磁電流値Ｉ２と再生出力実効値、Ｓ／Ｎ比との関係を示す。ここでは、再生出力実効値の閾値は０．４Ｖ、Ｓ／Ｎ比の閾値は１４ｄＢとした。
その結果、再生出力、Ｓ／Ｎ比それぞれのピークは一致せず、着磁電流値Ｉ２が６．５ｍＡの場合のみが、再生出力、Ｓ／Ｎ比ともに閾値を超える最適着磁電流値であることが分かった。
【００６１】
上記（２）において、着磁用第１磁気ヘッドの着磁電流値Ｉ１を５０ｍＡ、着磁用第２磁気ヘッドの着磁電流値Ｉ２を６．５ｍＡとし、着磁制御方法の第二の実施の形態に示した手順に従って磁気ヘッドの半径位置ごとにディスク回転速度を変更していくことにより着磁操作を行い、磁気ディスクを作製した。
その磁気ディスクを検査用ドライブ装置に搭載し、ドライブしたところ、トラッキングサーボをかけることに成功し、サーボゾーンが適正に着磁されていることが確認された。
【００６２】
つぎに、本発明に係る着磁装置の第二の実施の形態における構成について図面を参照して説明する。
図８は本発明に係る着磁装置であり、プリエンボス型ディスク基板１を最適な着磁操作を行うのに好適な着磁装置の構成を示す概略図である。
この装置は、ディスク基板１が装着され、回転する回転体３５と、それを制御する回転体コントローラ３６とからなる回転制御部Ｃ３１と、
ディスク基板１に信号を記録再生する３つの磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂと、それらの磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂそれぞれが固定されディスク基板１のサーボパターン方向に一致した方向に各磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂを操作させる機構をもつヘッド操作ステージ３３、３３ａ、３３ｂと、それらの動作を制御するステージコントローラ３４とからなるヘッド操作部Ｃ３２と、
信号増幅回路３７、３７ｂと信号処理回路３８、３８ｂと電流発信源３９とメモリ４１、４１ｂとを有し、磁気ヘッド３２ｂから再生された信号を処理する信号処理部Ｐ３１と、
装置全体の動作を制御する制御部（図示せず）とから構成されている。
【００６３】
上記着磁装置の構成および各部位の機能は、信号処理回路３８ｂとメモリ４１ｂとを除いて、本発明に係る着磁装置の第一の実施の形態の構成（図４、５）および機能と同じであるため、以下に信号処理回路３８ｂとメモリ４１ｂについてのみ説明する。
信号処理回路３８ｂは、再生用磁気ヘッド２ｂからの再生信号を信号増幅回路７ｂを介して受信し、その再生信号に関して所定の演算処理を行い、その演算結果とメモリ４１ｂに保存された閾値とを比較してサーボ信号を判定するものである。
メモリ４１ｂにはサーボ信号を判定するためのリサージュ開口率の閾値が保存されている。これらの閾値は実際に磁気ディスクを搭載するドライブ装置の磁気ヘッドの特性に基いて設計された磁気ディスクの記録密度から設定されるものであり、サーボ信号の再生出力、Ｓ／Ｎ比との相関性をもつ値である。この閾値を超える特性を示すサーボゾーンのみが良好と判断され、そのときの着磁電流とディスク回転速度とが次回の最適着磁条件となる。
【００６４】
つぎに、上記装置を用いた、本発明に係る着磁制御方法の第三の実施の形態について図９を参照しながら以下に説明する。なお、各ステップの内容は、ステップｓ２８の再生検査処理を除いて、第一の実施の形態と同じであるため、ここではステップｓ２８以降について説明する。
また、磁気ヘッドの数は多くても構わないが、以下では上記３つの磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂが１セットある場合について述べる。この磁気ヘッド３つの組み合せを１セットとして、基板ディスク主面を区分した複数の領域に複数セットの磁気ヘッドを適用して着磁操作の効率化を図ることも可能である。
【００６５】
（ｓ２８；再生検査処理）
再生用磁気ヘッド２ｂは、ステップｓ２７における着磁用磁気ヘッド３２、３２ａの走査に引き続いて、ディスク基板１との距離が一定に保たれたまま、着磁用第２磁気ヘッド３２ａの軌跡の後を追従して移動する。すなわち、サーボゾーンの着磁完了後、直ちに磁気ヘッド３２ｂによって所定のデータトラック位置に対応したサーボゾーン１４の再生信号が検出され、その再生出力が信号処理回路３８ｂに送られる。
【００６６】
信号処理回路３８ｂにおいて、つぎの演算処理が行われる。
（１）磁気ヘッド３２ｂから受信したディスク基板１の１つのサーボゾーンの再生信号からリサージュ図形の素となるＸ、Ｙ二軸座標成分を取り出す。
（２）所定の半径位置におけるディスク基板１上１周分の磁気ヘッド３２ｂの走査に対応して検出される再生信号について、上記（１）の処理を繰り返し、Ｘ、Ｙ二軸座標成分群を得る。例えば、データゾーンを区分する６４個のサーボゾーンが設けられていれば、６４個のＸ、Ｙ二軸座標成分が１つの群となる。
（３）Ｘ、Ｙ二軸座標成分群からリサージュ図形に関する特性データ（リサージュ半径、リサージュ線幅）を算出し、さらにそれらからリサージュ開口率を得る。
（４）得られたリサージュ開口率とメモリ４１ｂに保存されているリサージュ開口率の閾値とを比較し、サーボ信号の判定を行う。
【００６７】
リサージュ開口率が閾値を超えない場合、サーボ信号が不適であると判断して、ステップｓ２５に戻り、設定される電流値Ｉ２が変更されて、現在のデータトラック位置に対応するサーボゾーン１４について再度、着磁処理（ステップｓ２７）、再生検査処理（ステップｓ２８）が行われる。このルーチンはリサージュ開口率が閾値を超えるまで繰り返される。なお、電流値Ｉ２の変更方法としては、例えば、まず所定の電流値の大きさだけ増加するようにして、リサージュ開口率が閾値に対して乖離する方向に変化すれば、電流値を逆に減少させて閾値に漸近させる電流値の変更方向を決定した後に、段階的に電流値を変更するようにすればよい。
【００６８】
リサージュ開口率が閾値を超えた場合、サーボ信号が適正であると判断して、その着磁されたサーボゾーン１４の半径位置情報、着磁電流値、ディスク回転速度の組み合せデータがメモリ４１に送信され、次のステップへ進む。メモリ４１では、受信したそのサーボゾーン１４の半径位置情報、着磁電流値、ディスク回転速度の組み合せデータが最適着磁条件として、保存されている組み合せデータ群の該当する半径位置の組み合せデータ部分に上書き更新される。
【００６９】
ここで、再生信号から取り出されるＸ、Ｙ二軸座標成分およびリサージュ図形に関する特性データ（リサージュ半径、リサージュ線幅、リサージュ開口率）について図１０を参照しながら説明する。
図１０（ａ）のように、所定のトラック幅をもった再生用磁気ヘッド３２ｂが所定のデータトラックに対応した位置で、適切に磁化されたファインパターン部１８の上をトラック方向へ移動する（図１０（ａ）の左から右方向へ）と、そのとき得られる再生出力は図１０（ｂ）のようになる。再生出力の各ピークは、ファインパターン部１８のセグメントＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄそれぞれの凹凸形状の境界端面の磁化反転が検出されたものである。
【００７０】
信号処理回路３８ｂは、ファインパターン部１８のセグメントＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄごとの再生信号に関して、つぎのように演算処理し、Ｘ、Ｙ二軸座標成分を求めている。
Ｘ＝（セグメントＡのピーク強度）−（セグメントＢのピーク強度）…（１）
Ｙ＝（セグメントＣのピーク強度）−（セグメントＤのピーク強度）…（２）
【００７１】
磁気ディスク１００には、同一円周上にファインパターン部１８を含むサーボソーン１４が等間隔で所定個数設けられており、それぞれのファインパターン部１８の再生信号から式（１）、（２）によって算出されるＸ、Ｙ二軸座標成分の１群をＸ、Ｙ二軸座標成分群と称する。また、このＸ、Ｙ二軸座標成分群を同一平面上に重ねて描画することで形成される図形をリサージュ図形と称する。実際の検査ではオシロスコープによって確認することができる。
【００７２】
ディスク基板１においては、適正に着磁されれば図１１（ａ）に示すように描線がシャープな真円となるように、ファインパターン部の凹凸が形成されている。
本発明でいうリサージュ半径ｒとは再生出力の大きさであり、リサージュ図形（円）上はその半径に相当する（図１１（ａ））。また、リサージュ線幅ｗとは再生出力のばらつきを表し、リサージュ図形（円）の描線の太さに相当する（図１１（ａ））。
したがって、適正な着磁であればリサージュ半径（再生出力）が大きくなり、かつリサージュ線幅が小さな結果となる。
逆に着磁が適正に行われず、再生出力が低下するとリサージュ半径は小さくなる傾向があり、それが低すぎると図１１（ｂ）に示すように点の状態となる。また、再生出力は十分にあっても、Ｓ／Ｎ比が悪くなるとリサージュ線幅が大きくなる傾向があり、最悪の場合、図１１（ｃ）に示すように円の開口部分がなくなった円盤状の図形となる。
【００７３】
本発明においてサーボ信号の判定項目となるリサージュ開口率は、上記リサージュ半径とリサージュ線幅とを用いて次の式で求められる。
（リサージュ開口率）＝（リサージュ半径＊２）／（リサージュ線幅）／３　…（３）
【００７４】
なお、ステップｓ２８以降は、第一の実施の形態と同じであり、現在の磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂがディスク基板１の着磁走査範囲１２の最内周部１２Ｉのデータトラックの位置にあるかを確認する（ｓ２９）。
磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂが最内周部１２Ｉにない場合、ステップｓ２４に戻り、１つ内側のデータトラックの位置に磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂが移動して、以降の処理が行われる。
磁気ヘッド３２、３２ａ、３２ｂが最内周部１２Ｉにある場合、サーボゾーン１４すべてに適正な着磁処理が施されたこととなり、ヘッドアンロードが認識され（ｓ２ａ）、磁気ヘッドがディスク基板１上から退避することによって一連の着磁操作が終了する（ｓ２ｂ）。
【００７５】
以上のように、本発明の着磁制御方法によれば、データトラック位置に対応するサーボゾーンごとに適正なサーボ信号が得られるように着磁されるため、一連の着磁操作が終了すると、すべてのサーボゾーンが適正に着磁された磁気ディスクを得ることができる。とくに、本方法によれば同一円周上の再生出力のばらつきも加味してサーボ信号を判定することから、超高密度の微細なサーボパターンとなる高容量の磁気ディスクについても適正なサーボ信号を得ることができる。
【００７６】
また、本発明に係る着磁制御方法における第一の実施の形態と第二の実施の形態との関係と同様に、第三の実施の形態における着磁電流の変更によって着磁状態の修正する方法の部分を、ディスク基板の所定の位置で再生信号特性が適正となる電流値Ｉ１、Ｉ２を固定の着磁電流値とし、かつ着磁用磁気ヘッドに対するディスク基板の相対的線速度が常に一定となるように磁気ヘッドの半径位置ごとにディスク回転速度を変更していくことにより着磁状態を修正する方法に変更してもよい。具体的な方法は第２の実施の形態と同様である。
【００７７】
（実施例２）
以下に、本発明の着磁制御方法の第三の実施の形態に従って、磁気ディスクを実際に作製した例を示す。作製はつぎの手順で行った。なお、ディスク基板として、ポリカーボネート樹脂の基板について従来公知のフォトリソグラフィ技術を利用して表裏主面にサーボゾーンに相当する凹凸部を形成し、さらにその凹凸部の上に磁性膜を成膜したものを使用した。
（１）プリエンボス型ディスク基板の最外周部において、所定のディスク回転速度にて、着磁用第２磁気ヘッド３２ａへ供給する着磁電流Ｉ２を３段階に変化させて、着磁電流値ごとのＳ／Ｎ比とリサージュ半径、リサージュ線幅とを測定し、それぞれのリサージュ開口率を求めた。なお、着磁用第１磁気ヘッド３２へ供給する着磁電流は５０ｍＡ固定とした。
（２）上記（１）で求められたそれぞれのリサージュ開口率を基に閾値を設定し、着磁制御方法の第三の実施の形態に示した手順に従って着磁操作を行い、すべてのサーボゾーンが着磁された磁気ディスクを作製し、適正な着磁が可能な磁気ディスクの記録密度を調査した。詳しくは、それぞれの着磁操作において着磁用第１磁気ヘッドの着磁電流値Ｉ１を５０ｍＡ、着磁用第２磁気ヘッドの着磁電流値Ｉ２をそれぞれのリサージュ開口率調査時の電流値とし、着磁制御方法の第三の実施の形態に示した手順に従って磁気ヘッドの半径位置ごとにディスク回転速度を変更していくことにより着磁操作を行い、磁気ディスクを作製した。
【００７８】
上記（１）の結果を図１２に示す。
図１２の欄Ｎｏ．１の場合は、リサージュ半径（再生出力）が大きい（１３７１．０ｍＶ）が、Ｓ／Ｎ比が悪い（１７．８ｄＢ）ためにリサージュ線幅が大きくなり（２９１．７ｍＶ）、リサージュ開口率が小さい結果（３．１３）となった。
これに対して、図１２の欄Ｎｏ．２の場合では、リサージュ半径は１２３０．５ｍＶと比較的小さいが、Ｓ／Ｎ比が十分大きいため（この場合、２０ｄＢ以上）、リサージュ線幅が小さくなり（１５０．４ｍＶ）、リサージュ開口率５．４６と大きくなった。
さらに、図１２の欄Ｎｏ．３の場合では、リサージュ半径が大きく（１４１９．０ｍＶ）、Ｓ／Ｎ比も大きい（２３．７ｄＢ）ため、リサージュ線幅は非常に狭くなり（１１３．６ｍＶ）、リサージュ開口率８．３３と非常に大きくなった。
【００７９】
つぎに、図１２の欄Ｎｏ．２の条件を着磁操作のスタート条件とし、リサージュ開口率の閾値を５．００として、着磁制御方法の第三の実施の形態に示した手順に従って着磁操作を行い、すべてのサーボゾーンが着磁された磁気ディスクを作製した。その結果、記録密度５０〜７５ｋＴＰＩ（１インチ当たりのトラック密度）の記録容量をもつ磁気ディスクが実現できることが確認された。
また、図１２の欄Ｎｏ．３の条件を着磁操作のスタート条件とし、リサージュ開口率の閾値を８．００として、着磁制御方法の第三の実施の形態に示した手順に従って着磁操作を行い、すべてのサーボゾーンが着磁された磁気ディスクを作製したところ、記録密度７５ｋＴＰＩ以上の超高密度の記録容量をもつ磁気ディスクを達成できることが確認された。
これに対して、図１２の欄Ｎｏ．１の条件では目標の記録密度（５０ｋＴＰＩ以上）の磁気ディスクに適切に着磁することができなかった。
【００８０】
【発明の効果】
本発明に係る着磁条件最適化方法により、高密度微細パターンや超高密度微細パターンが形成されたディスク基板においても適正なサーボ信号を得ることができる最適な着磁条件を見出せるようになる。
【００８１】
本発明に係る着磁制御方法により、着磁した後に、直ちにその部分の再生信号を読み取ることにより着磁操作の中でサーボ信号の適否の判定を行うことができる。さらに、再生出力から最適な着磁条件を決定できるようなることから、着磁条件出しの時間を大幅に短縮でき、磁性膜の変化等による着磁再生信号の変動に迅速に対応することもできる。
【００８２】
本発明に係る着磁装置により、所定の着磁電流条件で２つの着磁用磁気ヘッドにより着磁した後に、直ちに再生用磁気ヘッドによりその部分の再生信号を読み取ることができ、着磁操作の中でサーボ信号の適否の判定を行うことができる。さらに、再生出力から最適な着磁条件を決定できるようなることから、着磁条件出しの時間を大幅に短縮でき、磁性膜の変化等による着磁再生信号の変動に迅速に対応することもできる。また、同一ロットのそれ以降のディスク基板については、着磁操作ごとに着磁条件が修正されて最適条件に収束するため、１回の磁気ヘッドの走査で適正なサーボ信号が得られるようになり効率的な着磁操作が可能となる。
【００８３】
本発明に係る磁気ディスクにより、適正なサーボ信号が記録された高記録容量あるいは超高記録容量の磁気ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るプリエンボス型の磁気ディスクの構成の概略を示す平面図である。
【図２】本発明に係る磁気ディスクのサーボゾーンの詳細を示す平面図である。
【図３】本発明に係る磁気ディスクのサーボゾーンの詳細を示す断面側面図である。
【図４】本発明に係る着磁装置の構成を示す概略図である。
【図５】本発明に係る着磁装置における着磁用磁気ヘッドの構成を示す概略図である。
【図６】本発明に係る着磁制御方法の第一の実施の形態の構成を示すフローチャートである。
【図７】本発明の実施例１における着磁電流値Ｉ２と再生出力実効値、Ｓ／Ｎ比との関係図である。
【図８】本発明に係る着磁装置の第二の実施の形態における構成を示す概略図である。
【図９】本発明に係る着磁制御方法の第三の実施の形態の構成を示すフローチャートである。
【図１０】本発明に係る着磁制御方法における再生信号からのＸ、Ｙ二軸座標成分の取り出し方法を示す概略図である。
【図１１】リサージュ図形の概略図である。
【図１２】本発明の実施例２における、Ｓ／Ｎ比、リサージュ半径、リサージュ線幅、リサージュ開口率の結果を示す図である。
【図１３】従来の着磁操作方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１…ディスク基板、１００…磁気ディスク、２，２ａ，２ｂ，３２，３２ａ，３２ｂ…磁気ヘッド、３，３ａ，３ｂ，３３，３３ａ，３３ｂ…ヘッド操作ステージ、４，３４…ステージコントローラ、５，３５…回転体、６，３６…回転体コントローラ、７，７ｂ，３７，３７ｂ…信号増幅回路、８，８ｂ，３８，３８ｂ…信号処理回路、９，３９…電流発信源、１０，４０…ヘッド位置情報、１１，１１ｂ，４１，４１ｂ…メモリ、１２…ヘッド移動範囲、１２Ｏ…最外周部、１２Ｉ…最内周部、１６…バースト部、１７…アドレス部、１８…ファインパターン部、１９…凸部、２０…凹部、２１…磁性層、ｍ１，ｍ２…磁界、２４，２５…Ｇａｐ、Ｃ１，Ｃ３１…回転制御部、Ｃ２，Ｃ３２…ヘッド操作部、Ｐ１，Ｐ３１…信号処理部、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ…セグメント
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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