(57)【要約】【課題】２つの透明基板の間隔を狭くし、あるいは高輝度のバックライト装置を使用した場合に、非表示領域における輝度ムラの発生を防止する。【解決手段】透明基板１上の非表示領域に、遮光用の樹脂膜１５と金属膜の遮光用ダミーパターン１８及び１９ａ，１９ｂ，…を重なるように併設する。遮光用ダミーパターン１８は、金属膜による複数の配線により配線密度が信号線Ｓの配線密度と同程度となるように形成し、１つに束ねた状態で近傍の電源線１７に接続する。遮光用ダミーパターン１９ａ，１９ｂ，…は、金属膜による配線を信号線Ｓ１，Ｓ２，…の疎領域における各信号線間に設け、各遮光用ダミーパターン１９と各信号線Ｓによる配線密度が、各信号線Ｓの密領域における配線密度と同程度となるように形成し、各遮光用ダミーパターン１９を近傍の信号線Ｓにそれぞれ個別に接続する。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上の画素が配置された表示領域以外の領域である非表示領域に形成された遮光用の樹脂膜と、
前記非表示領域に前記樹脂膜と重ねて形成され、表示動作用の本来の配線に接続された金属膜の遮光用ダミーパターンと、
を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による複数の配線からなり、その配線密度が前記表示動作用の本来の配線の密度と同程度であることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による配線が前記表示動作用の本来の配線の疎領域における当該配線間に設けられたものであり、当該遮光用ダミーパターンと当該表示動作用の本来の配線による配線密度が、前記表示動作用の本来の配線の密領域における配線密度と同程度であることを特徴とする請求項１又は２記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された電源線であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された信号線若しくは走査線であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明基板上に表示領域とその周辺の非表示領域を備えた透過型の表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置に代表される表示装置の普及に伴い、その表示品位に対する要求が高まっている。特に液晶テレビでは高輝度、高コントラスト、高速応答の要求が強くなっており、これらの要求を満たすために、液晶層を保持する２つの透明基板の間隔を狭くし、高輝度のバックライト装置を用いるように設計することが必要となる場合がある。このため、バックライト装置からの光を透過すべきではない部分での遮光がこれまで以上に重要となってきている。
【０００３】
従来の液晶表示装置では、透明基板上の画素が配置された表示領域以外の領域である非表示領域に遮光膜を形成していた（特許文献１参照）。例えば、透明基板上の表示領域においては走査線あるいは信号線といった表示動作に本来必要な金属膜の配線で遮光膜を兼用し、周辺の非表示領域ではこのように兼用された金属膜の配線と黒色の樹脂膜で遮光層を形成していた。
【０００４】
【特許文献１】
特許第２７７６３５６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の非表示領域の遮光手法では、２つの透明基板の間隔を狭くすると、遮光用の樹脂膜の膜厚も薄くせざるを得ず、光の透過率が高まってしまうことになる。また、高輝度のバックライト装置を使用した場合には、黒色の樹脂膜だけでは遮光が不十分となり、光漏れが発生することとなる。このため、金属膜の配線密度が低い部分では光漏れが顕著に発生し、非表示領域での輝度ムラの原因となっていた。
【０００６】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、２つの透明基板の間隔を狭くし、あるいは高輝度のバックライト装置を使用した場合でも、非表示領域における輝度ムラの発生を防止し得る液晶表示装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
第１の本発明の表示装置は、透明基板上の画素が配置された表示領域以外の領域である非表示領域に形成された遮光用の樹脂膜と、前記非表示領域に前記樹脂膜と重ねて形成され、表示動作用の本来の配線に接続された金属膜の遮光用ダミーパターンと、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明にあっては、非表示領域に遮光用の樹脂膜と金属膜の遮光用ダミーパターンを重なるように併設することで、光の透過面積を低減して光漏れを防ぐようにしている。また、遮光用ダミーパターンを形成する金属膜を表示動作用の本来の配線に接続することで、遮光用ダミーパターンが浮遊容量となって表示動作に悪影響を与えてしまうことを防ぐようにしている。
【０００９】
第２の本発明は、上記表示装置において、前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による複数の配線からなり、その配線密度が前記表示動作用の本来の配線の密度と同程度であることを特徴とする。
【００１０】
第３の本発明は、上記各表示装置において、前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による配線が前記表示動作用の本来の配線の疎領域における当該配線間に設けられたものであり、当該遮光用ダミーパターンと当該表示動作用の本来の配線による配線密度が、前記表示動作用の本来の配線の密領域における配線密度と同程度であることを特徴とする。
【００１１】
第２及び第３の本発明にあっては、金属膜の複数の配線からなる遮光用ダミーパターンの配線密度を表示動作用の本来の配線の密度と同程度にし、あるいは表示動作用の本来の配線間に金属膜の配線である遮光用ダミーパターンを形成した領域における配線密度を、表示動作用の本来の配線の密領域における配線密度と同程度にすることで、仮に光漏れが生じた場合であっても、輝度ムラになることを防ぐようにしている。
【００１２】
第４の本発明は、上記各表示装置において、前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された電源線であることを特徴とする。
【００１３】
第５の本発明は、上記各表示装置において、前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された信号線若しくは走査線であることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本実施の形態では、本発明の表示装置を一例として液晶表示装置に適用した場合について説明する。
【００１５】
図１の平面図に示すように、本液晶表示装置は、ガラス製の透明基板１上に画像表示を行うための表示領域１３と表示領域以外の領域である非表示領域を備える。非表示領域には、遮光用の黒色の樹脂膜１５が配置される他、走査線駆動回路１１、信号線駆動回路１２が形成される。
【００１６】
走査線駆動回路１１からの走査線Ｙ１，Ｙ２，…（以下、適宜「Ｙ」と総称する）と信号線駆動回路１２からの信号線Ｓ１，Ｓ２，…（以下、適宜「Ｓ」と総称する）は、表示領域１３上で交差するように配線される。走査線Ｙと信号線Ｓの各交差部には画素１４が配置される。このように、表示領域には複数の画素１４がマトリクス状に配置される。
【００１７】
本液晶表示装置は、各画素１４毎にスイッチング素子が配置されたアクティブマトリクス型である。各画素１４毎のスイッチング素子と、走査線駆動回路１１および信号線駆動回路１２を形成するスイッチング素子は、同一の製造プロセスによって形成される。ここでは、一例として各スイッチング素子は、電界効果型の薄膜トランジスタとする。
【００１８】
図２の断面図に示すように、透明基板１とこれに対向して配置されたガラス製の透明基板２の間隙に液晶層３が保持され、液晶層３はシール材４により周囲が封止される。透明基板１の液晶層３に接する側の表面には各画素１４に対応する複数の画素電極１６が形成され、透明基板２の液晶層３に接する側の表面には対向電極２１が形成される。バックライト装置は、透明基板１の液晶層３に接する側とは反対の背面側に配置される。
【００１９】
図３の拡大平面図に示すように、非表示領域に形成された樹脂膜１５上には表示動作用の本来の配線として電源線１７、信号線Ｓが配線され、金属膜の遮光用ダミーパターン１８、遮光用ダミーパターン１９ａ，１９ｂ，…（以下、適宜「１９」と総称する）が、樹脂膜１５に重ねて形成されるとともに、表示動作用の本来の配線に接続される。
【００２０】
より具体的には、遮光用ダミーパターン１８は、金属膜による複数の配線で形成されたものであり、その配線密度が信号線Ｓの配線密度と同程度となるように形成される。なお、この配線密度は、信号線Ｓの密領域における配線密度と同程度とすることが望ましい。この金属膜による複数の配線は、束ねた状態で近傍の電源線１７に接続される。
【００２１】
また、遮光用ダミーパターン１９ａ，１９ｂ，…は、金属膜による配線が信号線Ｓ１，Ｓ２，…の疎領域における各信号線間に設けられたものであり、各遮光用ダミーパターン１９と各信号線Ｓによる配線密度が、各信号線Ｓの密領域における配線密度と同程度となるように形成される。各遮光用ダミーパターン１９ａ，１９ｂ，…は、近傍の信号線Ｓ１，Ｓ２，…にそれぞれ個別に接続される。
【００２２】
したがって、本実施の形態によれば、透明基板１上の非表示領域に遮光用の樹脂膜１５と金属膜の遮光用ダミーパターン１８及び１９を重なるように併設することで、光の透過面積が低減されるので、光漏れを防ぐことができる。これによって、透明基板１と透明基板２の間隔を狭くし、あるいは高輝度のバックライト装置を用いた場合でも、非表示領域における輝度ムラの発生を防止した液晶表示装置を提供することができる。
【００２３】
本実施の形態によれば、遮光用ダミーパターン１８及び１９を形成する金属膜を表示動作用の本来の配線である電源線１７、信号線Ｓにそれぞれ接続することで、遮光用ダミーパターン１８及び１９が浮遊容量となって表示動作に悪影響を与えることを防止することができる。
【００２４】
本実施の形態によれば、遮光用ダミーパターン１８の配線密度を信号線Ｓの密度と同程度にし、あるいは遮光用ダミーパターン１９と信号線Ｓによる配線密度を、信号線Ｓの密領域における配線密度と同程度にすることで、仮に光漏れが生じた場合であっても、輝度ムラになることを防止することができる。
【００２５】
また、樹脂膜１５の黒色をより濃くすることで、光漏れ防止のさらなる効果を得ることができる。
【００２６】
なお、本実施の形態では、信号線駆動回路１２の周囲に着目して遮光用ダミーパターン１９ａ，１９ｂ，…を信号線Ｓ１，Ｓ２，…にそれぞれ接続することとしたが、走査線駆動回路１１の周囲では、遮光用ダミーパターンを走査線Ｙ１，Ｙ２，…にそれぞれ接続するようにする。
【００２７】
また、遮光用の樹脂膜１５は、透明基板１上の非表示領域だけではなく、透明基板２上の非表示領域に形成するようにしてもよい。
【００２８】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明の表示装置によれば、２つの透明基板の間隔を狭くし、あるいは高輝度のバックライト装置を使用した場合でも、非表示領域における輝度ムラの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施の形態における表示装置の構成を示す平面図である。
【図２】上記表示装置の構成を示す断面図である。
【図３】図１のＡ部における遮光用ダミーパターンの形成状態を示す拡大平面図である。
【符号の説明】
１…透明基板
２…透明基板
３…液晶層
４…シール材
１１…走査線駆動回路
１２…信号線駆動回路
１３…表示領域
１４…画素
１５…樹脂膜
１６…画素電極
１７…電源線
１８，１９…遮光用ダミーパターン
２１…対向電極
Ｓ…信号線
Ｙ…走査線
【図１】
2004233434.tif 000003
【図２】
2004233434.tif 000004
【図３】
2004233434.tif 000005