(57)【要約】【課題】効率良く、むらなく局所加熱を行うことができ、局所加熱を行っても高周波発生装置にダメージを生じることのない高周波加熱調理器を提供する。また、被加熱物を高周波集中領域に正しく置いてもらえるようにする。【解決手段】高周波加熱調理器１は前面が扉１２となった加熱室１１を有する。高周波発生装置１３からの高周波は導波管１４から加熱室１１に供給される。導波管１４に設けられたアンテナ１８が高周波の分布をコントロールする。アンテナ１８は所定角度の揺動を行うことにより高周波集中領域を形成する。スポット照明装置４６が高周波集中領域を照明する。制御部３０に入力した加熱条件に基づき、高周波集中領域とスポット照明領域とが変更せしめられる。【選択図】      図２
2004247082.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱室と、高周波発生装置と、この高周波発生装置で発生した高周波を前記加熱室に導く導波管と、加熱室内の高周波分布をコントロールするアンテナと、このアンテナを所定の方向かつ所定角度で揺動させる制御手段と、加熱室内の被加熱物載置面上の高周波集中領域をスポット照明するスポット照明手段と、を備えた高周波加熱調理器において、
前記制御手段が前記アンテナに所定角度の揺動を行わせることにより形成される高周波集中領域の変更に対応してスポット照明領域を変更させるスポット照明領域変更手段を設けたことを特徴とする高周波加熱調理器。
【請求項２】
前記制御手段に入力した加熱条件に基づき、前記高周波集中領域とスポット照明領域とを変更させることを特徴とする請求項２に記載の高周波加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は高周波加熱調理器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
高周波加熱調理器（電子レンジ）では、高周波発生装置で生成した高周波を導波管で加熱室に導き、加熱室内の被加熱物に含まれる水分子を振動させて被加熱物の温度を上昇させる。被加熱物を均一に加熱するためには、高周波がまんべんなく照射されねばならない。そのため、加熱室内部に回転載置台（ターンテーブル）を設け、この回転載置台に被加熱物を載置し、被加熱物の各部を導波管の給波口に向かい合わせつつ加熱を行うようにしたものが多い。
【０００３】
上記のような回転載置台を有する高周波加熱調理器では、被加熱物が回転載置台からはみ出すのは好ましくない。というのは、回転載置台から被加熱物がはみ出していると、回転する際にそのはみ出した部分が加熱室の内壁に当たり、回転が阻害されるからである。このため、被加熱物を置けるのは回転載置台の直径の範囲内という制限が生じ、加熱室の隅を被加熱物の配置空間として利用できず、空間利用効率が悪い。また回転載置台が邪魔をするので加熱室の内部を掃除しにくい。
【０００４】
最近では、回転載置台を持たない高周波加熱調理器も多くなっている。被加熱物を固定載置台の上に置き、アンテナ手段を用いて高周波を加熱室内部に均一に分布させるのである。このような高周波加熱調理器の一例を特許文献１に見ることができる。
【０００５】
特許文献１には、加熱庫の底部に設けた導波管の開口にモーターの駆動により回転するアンテナを設け、このアンテナにより加熱庫に電波を供給するようにした高周波加熱装置が記載されている。
【０００６】
特許文献１の高周波加熱装置では、被加熱物の位置に配慮した高周波の放射は行われない。これを改善し、場所によって高周波の強さを変え、加熱室全体として最適な加熱が行われるようにした高周波加熱装置も提案されている。特許文献２〜４にその例を見ることができる。
【０００７】
特許文献２には、加熱室の底壁面に設けた略円形の絞り部の中に指向性を有する電波放射手段を配置し、この電波放射手段をモータで回転駆動して電波放射方向を制御し、加熱室内全体の高周波分布の強弱を変化させるようにした高周波加熱装置が記載されている。
【０００８】
特許文献３には、３枚の導体長片と３枚の導体短片を放射状に配列してなる回転アンテナを高周波供給室内に設け、この回転アンテナを一時的に停止あるいは減速することにより、２種類の食材をそれぞれ異なる適温に均一加熱することができるようにした高周波加熱装置が記載されている。
【０００９】
特許文献４には、加熱室の上部に上導波管を配置し、加熱室の下部には下導波管を配置し、上導波管と下導波管には各々給電口に上回転アンテナと下回転アンテナを配置するとともに、回転アンテナを加熱中停止させ、その停止位置により、加熱による被加熱物の温度分布を任意に変えることができるようにした電子レンジが記載されている。
【００１０】
加熱室の中に、特に高周波の集中する領域を設け、局所加熱を行う場合には、被加熱物が局所加熱領域に正しく置かれる必要がある。特許文献５には、高周波の集中領域をスポットライトで照明するようにした高周波加熱装置が記載されている。
【００１１】
【特許文献１】
特開平１１−８０５７号公報
【特許文献２】
特開２００２−２１６９４４号公報
【特許文献３】
特開２００２−１１０３３９号公報
【特許文献４】
特開平９−１０２３９０号公報
【特許文献５】
特開平１０−３０００９７号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
アンテナにより高周波分布をコントロールする高周波加熱調理器では、高周波の集中領域を設ける場合、アンテナを減速回転させるか、あるいは停止させている。この方式には次のような問題がある。
【００１３】
［減速回転させる場合］
局所に高周波を集中させることをねらいとして、アンテナを減速回転させたときは、局所以外における移動時間がロスとなり、加熱効率の低下を招く。また目指す局所以外の箇所も加熱され、局所とそれ以外の部分との加熱量の差が小さくなる。
【００１４】
［停止させる場合］
高周波を集中させたい場所にアンテナを近づけて停止させるのは、局所加熱という観点からは非常に有効である。しかしながらこの場所に存在する被加熱物に金属が含まれていた場合（例えば被加熱物をアルミホイルでくるんであった場合）、本来加熱室や被加熱物に放射されるべき高周波がその金属で反射され、高周波発生装置の方に戻る。これは高周波発生装置の損傷に結びつく。また、金属と高周波放射部との間に高電界が集中するおかげで載置台が集中的に加熱されてしまい、載置台が変色したり割れたりする。
【００１５】
被加熱物のサイズによっても問題が生じる。アンテナを停止させて局所加熱を行う場合、被加熱物が小さければ効率よく均一に加熱されるが、被加熱物が大きければ、被加熱物に加熱むらが生じる。
【００１６】
本発明は上記の点に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、効率良く、むらなく局所加熱を行うことができ、局所加熱を行っても高周波発生装置にダメージを生じることのない高周波加熱調理器を提供することにある。加えて、被加熱物を高周波集中領域に正しく置いてもらえるように仕掛けを施した高周波加熱調理器を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明高周波加熱調理器は次の構成を備える。
【００１８】
（１）加熱室と、高周波発生装置と、この高周波発生装置で発生した高周波を前記加熱室に導く導波管と、加熱室内の高周波分布をコントロールするアンテナと、このアンテナを所定の方向かつ所定角度で揺動させる制御手段と、加熱室内の被加熱物載置面上の高周波集中領域をスポット照明するスポット照明手段と、を備えた高周波加熱調理器において、前記制御手段が前記アンテナに所定角度の揺動を行わせることにより形成される高周波集中領域の変更に対応してスポット照明領域を変更させるスポット照明領域変更手段を設けた。
【００１９】
この構成によれば、被加熱物が存在する近辺に高周波を集中させることができ、局所加熱が可能である。しかも高周波の放射部が揺れ動いているので被加熱部の一部だけを焦がすということがない。また被加熱物が金属を含んでいて、高周波が反射されたとしても、アンテナが動いているため、反射された高周波の全量が高周波発生装置の方に帰還するということがなく、高周波発生装置に大きなダメージは生じない。
【００２０】
高周波集中領域にはスポット照明を当てるので、集中加熱をしたい被加熱物を間違いなく高周波集中領域に置くことができる。そして、高周波集中領域は変更可能であるから被加熱物の大きさに合わせて高周波集中領域を広げたり狭くしたりすることができる。高周波集中領域の変更に対応してスポット照明領域も変更されるから、高周波集中領域が広がればスポット照明領域も広がり、高周波集中領域が狭まればスポット照明領域も狭まり、被加熱物の置き場所を適切に示すことができる。
【００２１】
（２）上記のような高周波加熱調理器において、前記制御手段に入力した加熱条件に基づき、前記高周波集中領域とスポット照明領域とを変更させるものとした。
【００２２】
この構成によれば、高周波集中領域とスポット照明領域とがそれぞれ加熱条件に応じた適切なものになる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明高周波加熱調理器の一実施形態を図１〜図６に基づき説明する。図１は外観斜視図、図２は垂直断面図、図３はアンテナの上面図、図４は遮光板の上面図、図５は回路構成図、図６は制御のフローチャートである。
【００２４】
高周波加熱調理器１は箱形のキャビネット１０を備える。キャビネット１０の正面には操作パネル１７が設けられる。キャビネット１０の中には前面が扉１２となった加熱室１１が形成される。加熱室１１の外側には高周波発生装置１３と導波管１４（図２参照）が配置される。高周波発生装置１３の生成した高周波は導波管１４より加熱室１１に供給される。導波管１４は加熱室１１の底面に設けられている。導波管１４の端には受信アンテナ部と放射アンテナ部を備えたアンテナ１８が配置される。アンテナ１８はモータ１９により加熱室１１の底面の上で連続回転又は揺動（周期的反転回動）せしめられ、加熱室１１内における高周波分布をコントロールする。
【００２５】
アンテナ１８の上にはガラスやセラミックなどの誘電体からなる平面形状四角形の載置台２０が配置されている。載置台２０は加熱室１１内で回転しないように支持されており、その上に被加熱物を置く。すなわち載置台２０の上面は被加熱物載置面を構成する。
【００２６】
高周波発生装置１３にはその動作状態を判定するための、具体的には動作温度を調べるための温度検知素子４３が配置されている。アンテナ１８を連続回転又は揺動させるシャフトには、アンテナ１８が特定の角度位置に至ったことを検知する検知スイッチ４４が設けられている。
【００２７】
アンテナ１８は平面形状が円形であり、図３に示すように、開口１８ａと、それとは形状の異なる２個の開口１８ｂが設けられている。開口１８ａは高周波の主たる放射部である。開口１８ｂはアンテナ１８の外周部からの高周波放射を抑制する。これにより、局所集中の高周波放射が可能となっている。なおアンテナ１８の形状は図３のものに限定されない。局所集中の高周波放射が可能でありさえすれば、どのような形状でもよい。
【００２８】
加熱室１１の天井部にはスポット照明装置４６が配置される。スポット照明装置４６はランプ４２、ランプ４２の下に置かれた平面形状円形の遮光板４７、及び遮光板４７を水平面内で回転させるモータ４８により構成される。遮光板４７は大小３個の透孔４７ａ、４７ｂ、４７ｃを備える（図４参照）。透孔４７ａ、４７ｂ、４７ｃのいずれがランプ４２の下に来るかにより、照明領域が変わる。最も面積の大きい透孔４７ａは局所集中加熱でない通常加熱の場合に用いる。それよりも面積の小さい透孔４７ｂと４７ｃは局所集中加熱の場合に用いる。最も面積の小さい透孔４７ｂは狭い領域に対し局所集中加熱が行われる場合に用いる。透光４７ｂよりも面積の大きい透孔４７ｃは局所集中加熱がやや広めの領域に対して行われる場合に用いる。加熱室１１の天井には透孔４７ａ、４７ｂ、４７ｃのいずれかを通り抜けた光を載置台２０に届かせる透光部４９を設ける。透光部４９は天井板にパンチングで多数の小孔を明けて形成する。
【００２９】
加熱調理器１の動作制御を行う制御手段として機能するのは制御部３０（図５参照）である。制御部３０の中核をなすのは中央制御部４０である。中央制御部４０はマイクロプロセッサを含み、加熱調理器１の全体制御を司る。制御状況は操作パネル１７の表示部１７ａに表示される。また操作パネル１７のキー操作部１７ｂより中央制御部４０に対する指令を入力する。
【００３０】
中央制御部４０はリレースイッチ３１を開閉制御する。リレースイッチ３１は熱源である高周波発生装置１３への給電をＯＮ／ＯＦＦする。リレースイッチ３１と直列に安全スイッチ３２が接続されている。安全スイッチ３２は手動スイッチであって、トラブル発生時に中央制御部４０によらず加熱調理器１の動作を停止させるのに用いる。
【００３１】
高周波発生装置１３は、トランス・コンデンサ・ダイオードで構成される高周波駆動電源１３ａと、これによって駆動されるマグネトロン１３ｂを有する。
【００３２】
高周波発生装置１３などの電気部品を冷却するファンモータ４１、スポット照明装置４６のランプ４２、及び高周波発生装置１３には個々にリレースイッチ（リレースイッチ３４、３５、３６）が接続され、個別に給電がＯＮ／ＯＦＦされる。アンテナ１８を駆動するモータ１９と遮光板４７を駆動するモータ４８はそれぞれモータドライバー１９ａ、４８ａを備え、このモータドライバー１９ａ、４８ａに中央制御部４０より指令を伝えて回転制御を行うようになっている。
【００３３】
中央制御部４０には次の構成要素が接続される。すなわち扉１２の開閉を検知する扉スイッチ３７、加熱室１１内の湿度を検知する湿度検知素子３８、警告などの意味を持つ報知音を発生する音発生装置３９、及び前述の温度検知素子４３と検知スイッチ４４である。
【００３４】
次に、図６のフローチャートに基づき高周波加熱調理器１の制御フローを説明する。
【００３５】
まず加熱条件を入力する。最初は加熱品目の設定である（ステップＳ３３１）。加熱品目を設定するとアンテナ１８の制御方法（Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｍｏｄｅ：以下「ＣＭ」の略称を用いる）が決定される。３種類のＣＭの中から一つが、加熱品目に応じて自動的に選択される（ステップＳ３３２）。通常のあたため加熱の場合はアンテナ１８は３６０゜連続回転するように制御される。この制御方法がＣＭ１である。牛乳１杯、コーヒー１杯、ご飯１膳などといった、比較的小さな被加熱物に集中加熱を適用する場合は、アンテナ１８を狭い角度領域で揺動させ、面積の小さい高周波集中領域を形成する。この制御方法がＣＭ２である。牛乳２杯、コーヒー２杯、ご飯２膳とか、トンカツなど、非加熱物が大きめのときは広い角度領域で揺動させ、面積の広い高周波集中領域を形成する。この制御方法がＣＭ３である。
【００３６】
ＣＭ２又はＣＭ３の場合、アンテナ１８は被加熱物に高周波が集中する方向を向いて、具体的に言えば開口部１８ａが非加熱物の真下に位置するような角度位置で揺動しなければならない。方向決定にあたっては次の二通りの方式がある。
【００３７】
▲１▼ＣＭ２又はＣＭ３が選択された場合、アンテナ１８は常に一定の方向を向くものとする。この場合、高周波の集中する場所が限定されるので、その場所に被加熱物が入るように、被加熱物の位置を調整する。
【００３８】
▲２▼被加熱物は載置台２０の上の任意の位置に置いて良いものとする。被加熱物がどこに置かれたかを検知手段（例えば非接触の温度センサや光センサ）で検知し、その検知結果に基づき、高周波の集中する場所が被加熱物の置かれた場所に一致するようにアンテナ１８の向きを調整する。
【００３９】
本実施形態では▲１▼の方式をもってアンテナ１８の方向を決定する。従って、非加熱物を載置台２０の中でも高周波の集中する特定の場所に置いてもらわねばならない。スポット照明装置４６によるスポット照明領域がその場所となる。
【００４０】
ステップＳ３３２でＣＭ２が選択されたときはステップＳ３３３に進み、ＣＭ３が選択されたときはステップＳ３３４に進む。ステップＳ３３３及びＳ３３４からはステップＳ３３５に進む。ステップＳ３３２でＣＭ１が選択されたときは直接ステップＳ３３５に進む。
【００４１】
ＣＭ２が選択されたときは、揺動の反転周期ＴＷが短周期とされる（ステップＳ３３３）。アンテナ１８が１回転するのに要する時間が６，０００ミリ秒である場合（１０ｒｐｍに相当）、揺動が一度反転した後再度反転するまでの時間、すなわち反転周期ＴＷを６００ミリ秒とすれば、アンテナ１８は３６０゜の６００／６，０００の角度、すなわち３６゜の角度範囲で揺動することになる。なお本明細書に登場する時間や角度の具体的数値は一つの例示であり、発明の範囲がこれによって限定されるものではない。
【００４２】
ＣＭ３が選択されたときは、揺動の反転周期ＴＷが長周期とされる（ステップＳ３３４）。アンテナ１８の揺動の反転周期ＴＷを、例えば１，２００ミリ秒とすれば、アンテナ１８は３６０゜の１，２００／６，０００の角度、すなわち７２゜の角度範囲で揺動することになる。
【００４３】
アンテナ１８が連続回転するか１箇所に留まって揺動するか、その揺動の角度領域は狭いか広いかが上記のようにして決定された後、それに連動してスポット照明装置４６の照明領域の面積が決定される（ステップＳ３３５）。ＣＭ１の場合は遮光板４７の透孔４７ａを通じた広い範囲の照明となり、ＣＭ２の場合は透孔４７ｂを通じた狭い領域のスポット照明となる。ＣＭ３の場合は透孔４７ｃを通じたやや広い領域のスポット照明となる。言うまでもなく、ＣＭ２の場合はその時の高周波集中領域に対してスポット照明が行われ、ＣＭ３の場合はその時の高周波集中領域に対してスポット照明が行われる。
【００４４】
決定された照明領域に応じ、中央制御部４０が遮光板４７の角度は現状のままでよいか、それとも変更の必要があるかを判断する。変更の必要がある場合には中央制御部４０からモータドライバー４８ａに指令が伝わり、モータドライバー４８ａはモータ４８を駆動する。これにより遮光板４７は回転し、透孔４７ａ、４７ｂ、４７ｃのうち、その時に必要とされるものをランプ４２に合わせる。すなわちここでは、制御部３０がスポット照明領域変更手段として機能する。
【００４５】
次に加熱時間Ｔ０を設定する（ステップＳ３３６）。加熱時間Ｔ０は、使用者が入力してもよく、加熱品目の設定に伴い設定されるものとしてもよい。キー操作部１７ｂの中のスタートキーを押し、加熱をスタートさせる（ステップＳ３３７）。
【００４６】
ステップＳ３３８では加熱品目に対応して種々の定数が設定又はリセットされる。前述の通り、ＣＭ２又はＣＭ３を選択した場合にはアンテナ１８は特定の方向を向いて揺動しなければならない。その方向を定めるのに検知スイッチ４４を用いる。すなわちアンテナ１８が回転する間にある方向を向くと、その時点で検知スイッチ４４が開閉状態を反転する。この時のアンテナ１８の位置を「基準位置」とする。アンテナ１８は引き続き回転する。検知スイッチ４４が開閉状態を反転してからの時間が計測され、所定時間に達したところが「揺動位置」となる。以後、モータ１９はその位置でアンテナ１８を揺動させる。
【００４７】
検知スイッチ４４が開閉状態を反転してからアンテナ１８が揺動位置に達するまでの時間を移動時間Ｔ１とする。移動時間Ｔ１が例えば４，５００ミリ秒であるものとすると、上記基準位置と揺動位置との角度差は３６０゜の４，５００／６，０００、すなわち２７０゜となる。
【００４８】
温度検知素子４３は高周波発生装置１３の温度を検知する。温度検知素子４３が例えば３２０゜Ｃ以上の温度を検知したら、それは高周波発生装置１３にとり異常温度ＴＭであるものとする。
【００４９】
高周波発生装置１３が異常温度ＴＭになったときは、アンテナ１８をより広い角度領域で揺動させる。すなわちアンテナ１８が揺動方向を反転した後、再度反転するまでに要する時間を延長する。延長時間ＴＥは、例えば２０ミリ秒（角度にすれば１．２゜に相当）とする。
【００５０】
このようにステップＳ３３８で「移動時間Ｔ１」「異常温度ＴＭ」「反転周期の延長時間ＴＥ」が設定された後、ステップＳ３３９に進む。ステップＳ３３９では「加熱タイマーＴＣ」「移動タイマーＴＳ」「反転フラッグＦＨ」「移動フラッグＦＥ」がリセットされる。それからステップＳ３４０に進む。
【００５１】
ステップＳ３４０ではリレースイッチ群（リレースイッチ３１、３４、３５、３６）がＯＮとなり、またモータドライバー１９ａに中央制御部４０より指令が伝えられてモータ１９が正方向に回転を開始し、高周波による加熱が始まる。それからステップＳ３４１に進む。
【００５２】
ステップＳ３４１では制御方法がＣＭ１であるか、そうでないかをチェックする。通常加熱であるＣＭ１の場合はステップＳ３４１からステップＳ３５１に進む。ステップＳ３５１では加熱タイマーＴＣが加熱時間のカウントアップを行う。そしてステップＳ３５２に進む。
【００５３】
ステップＳ３５２では、ステップＳ３３６で設定した加熱時間Ｔ０が経過したかどうかをチェックする。経過していればステップＳ３５８に進む。経過していなければステップＳ３５３に進む。
【００５４】
ＣＭ１の場合、移動フラッグＦＥはゼロ、すなわち立っていない。そのためステップＳ３５３からステップＳ３５４に進む。
【００５５】
ステップＳ３５４では制御方法がＣＭ１であるかどうかをチェックする。この場合はＣＭ１なのでステップＳ３５１に戻る。加熱時間Ｔ０が経過するまで、ステップＳ３５１→Ｓ３５２→Ｓ３５３→Ｓ３５４→Ｓ３５１のサイクルを繰り返す。この間、アンテナ１８は正方向に連続回転している。
【００５６】
加熱時間Ｔ０が経過するとステップＳ３５２からステップＳ３５８に進む。ステップＳ３５８ではリレースイッチ群をＯＦＦにして加熱を終了する。モータ１９も停止し、スポット照明装置４６も消灯する。
【００５７】
局所集中加熱であるＣＭ２又はＣＭ３の場合はステップＳ３４１からステップＳ３４２に進む。連続回転の場合と異なり、ここでは検知スイッチ４４の開閉状態（反転状態）が意味を持ってくるので、ステップＳ３４２で検知スイッチ４４の開閉状態をチェックする。
【００５８】
アンテナ１８が所定の角度位置に来るまでは、検知スイッチ４４の開閉状態は反転しない。そのため、ステップＳ３４３→Ｓ３４５→Ｓ３５１→Ｓ３５２→Ｓ３５３→Ｓ３５４→Ｓ３４２のサイクルを繰り返す。この間に加熱時間Ｔ０が経過すればステップＳ３５２からステップＳ３５８に進み、加熱は終了する。
【００５９】
アンテナ１８が所定の角度位置に来ると、検知スイッチＳ４４が開閉状態を反転する。これによりステップＳ３４３からステップＳ３４４に進み、反転フラッグＦＨが立つ。反転フラッグＦＨが立った状態でステップＳ３４５に進むと、今度はステップＳ３５１にではなく、ステップＳ３４６に進むことになる。
【００６０】
ステップＳ３４６では、移動タイマーＴＳが所定時間の経過をカウントしたかどうかをチェックする。この場合の所定時間は、ステップＳ３０７で設定した移動時間Ｔ１から反転周期ＴＷの１／２を減じたものである。すなわち所定時間＝Ｔ１−ＴＷ／２である。
【００６１】
ステップＳ３４５からステップＳ３４６に進み、最初は移動タイマーＴＳのカウントがゼロなのでステップＳ３５０に進む。ステップＳ３５０では移動タイマーＴＳのカウントアップを行い、ステップＳ３５１に進む。ステップＳ３５１では加熱タイマーＴＣのカウントアップを行い、ステップＳ３５２に進む。ステップＳ３５２では、ステップＳ３０２で設定した加熱時間Ｔ０が経過したかどうかをチェックする。経過していればステップＳ３５８に進む。経過していなければステップＳ３５３に進む。
【００６２】
ステップＳ３５３では移動フラッグＦＥが立っているかどうかをチェックする。この場合、アンテナ１８はまだ揺動位置に到達していないので移動フラッグＦＥはゼロ、すなわち立っていない。そのためステップＳ３５３からステップＳ３５４に進む。
【００６３】
ステップＳ３５４では制御方法がＣＭ１であるかどうかをチェックする。この場合はＣＭ１ではなくＣＭ２又はＣＭ３なので、ステップＳ３４２に戻る。それからステップＳ３４３に進む。反転フラッグＦＨが既に立った状態なので、ステップＳ３４３からステップＳ３４４に進むことなくステップＳ３４５に進む。こうしてステップＳ３４２→Ｓ３４３→Ｓ３４５→Ｓ３４６→Ｓ３５０→Ｓ３５１→Ｓ３５２→Ｓ３５３→Ｓ３５４→Ｓ３４２のサイクルを繰り返す。この間に加熱時間Ｔ０が経過すればステップＳ３５２からステップＳ３５８に進み、加熱は終了する。
【００６４】
ステップＳ３４６で移動タイマーＴＳが所定時間の経過をカウントしたときはステップＳ３４７に進む。ステップＳ３４７ではアンテナ１８は揺動位置への移動を完了している。すなわち開口１８ａが被加熱物の置き場所であるスポット照明領域の真下に来ている。ここで移動タイマーＴＳをリセットする。また移動完了を表すため移動フラッグＦＥを立てる。そしてステップＳ３４８に進む。
【００６５】
ステップＳ３４８では、最初は移動タイマーＴＳのカウントがゼロのため、アンテナ１８は正方向に回転を続ける。ステップＳ３５０→Ｓ３５１→Ｓ３５２→Ｓ３５３と進む。ステップＳ３５３では、移動フラッグＦＥが立っているためステップＳ３５５に進む。
【００６６】
ステップＳ３５５では温度検知素子４３が検知した高周波発生装置１３の温度をチェックする。異常温度ＴＭになっていれば、ステップＳ３５６からステップＳ３５７に進む。ステップＳ３５７では反転周期を延長する。すなわちステップＳ３０５又はＳ３０６で設定されていた反転周期ＴＷに延長時間ＴＥを加えたものを新たな反転周期とする。これにより、揺動の設定角度が広がり、高周波発生装置１３の受けるダメージが緩和される。
【００６７】
ステップＳ３５７の後、ステップＳ３４８に戻る。異常温度ＴＭでなければステップＳ３５６から直接ステップＳ３４８に戻る。
【００６８】
このようにして、揺動回転の時期に入った後、揺動反転時期を迎えるまで、ステップＳ３４８→Ｓ３５０→Ｓ３５１→Ｓ３５２→Ｓ３５３→Ｓ３５５→Ｓ３５６→（Ｓ３５７）→Ｓ３４８のサイクルを繰り返す。この間に加熱時間Ｔ０が経過すればステップＳ３５２からステップＳ３５８に進み、加熱は終了する。
【００６９】
揺動回転の時期に入ってから、反転周期ＴＷの１／２だけ回転したところで、揺動方向を反転すべき時期を迎える。ここでステップＳ３４９に進む。
【００７０】
ステップＳ３４９では中央制御部４０からの指令を受けてモータ１９が回転方向を反転する。すなわちアンテナ１８の揺動が反転する。移動タイマーＴＳもリセットされる。
【００７１】
以下、ステップＳ３４８→Ｓ３５０→Ｓ３５１→Ｓ３５２→Ｓ３５３→Ｓ３５５→Ｓ３５６→（Ｓ３５７）→Ｓ３４８のサイクルを繰り返す。この間に加熱時間Ｔ０が経過すればステップＳ３５２からステップＳ３５８に進み、加熱は終了する。
【００７２】
図６のフローでは、アンテナ１８の制御方法の決定がスポット照明装置４６による照明領域の決定に先行する。すなわち高周波を加熱室内に均一に分布させるかある領域に集中させるかを先に決めた後、それに合わせてスポット照明領域が決まっている。これを逆にし、制御部３０に入力した加熱条件に基づきスポット照明領域に変動が生じ、これに合わせる形で前記高周波集中領域が変動するフローとしてもよい。このようにすれば、スポット照明の範囲を目で確認しつつスポット照明領域の決定を行い、被加熱物の大きさに合ったスポット照明領域を選びさえすれば、後はそれに合わせて高周波集中領域のエリアが変動するから、適切な高周波集中領域を容易に、しかも間違いなく設定できる。
【００７３】
以上本発明の一実施形態につき説明したが、発明の主旨を逸脱しない範囲でさらに種々の変更を加えて実施することが可能である。
【００７４】
【発明の効果】
本発明によれば、加熱室内の高周波分布をコントロールするアンテナに所定角度の揺動を行わせることにより高周波の集中領域を形成するから、被加熱物が存在する近辺に高周波を集中させることができ、局所加熱が可能である。しかも高周波の放射部が揺れ動いているので被加熱部の一部だけを焦がすということがない。また被加熱物が金属を含んでいて、高周波が反射されたとしても、アンテナが動いているため、反射された高周波の全量が高周波発生装置の方に帰還するということがなく、高周波発生装置に大きなダメージは生じない。高周波集中領域にはスポット照明を当てるので、集中加熱をしたい被加熱物を間違いなく高周波集中領域に置くことができる。
【００７５】
高周波集中領域は変更可能であるから、被加熱物の大きさに合わせて高周波集中領域を広げたり狭くしたりすることができる。高周波集中領域の変更に対応してスポット照明領域も変更せしめられるので、高周波集中領域が広がればスポット照明領域も広がり、高周波集中領域が狭まればスポット照明領域も狭まり、被加熱物の置き場所を適切に示すことができる。また制御部に入力した加熱条件に基づき高周波集中領域と照明領域とを変更させるので、両領域がそれぞれ加熱条件に応じた適切なものになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る高周波加熱調理器の外観斜視図
【図２】上記高周波加熱調理器の垂直断面図
【図３】アンテナの上面図
【図４】遮光板の上面図
【図５】回路構成図
【図６】制御のフローチャート
【符号の説明】
１    高周波加熱調理器
１１  加熱室
１２  扉
１３  高周波発生装置
１４  導波管
１７  操作パネル
１８  アンテナ
１８ａ、１８ｂ  開口
１９  モータ
２０  載置台
３０  制御部
４０  中央制御部
４３  温度検知素子
４４  検知スイッチ
４６  スポット照明装置
４２  ランプ
４７  遮光板
４７ａ、４７ｂ、４７ｃ  透孔
４８  モータ
４９  透光部
【図１】
2004247082.tif 000003
【図２】
2004247082.tif 000004
【図３】
2004247082.tif 000005
【図４】
2004247082.tif 000006
【図５】
2004247082.tif 000007
【図６】
2004247082.tif 000008