(57)【要約】【課題】ウェーハを確実に回転させる。【解決手段】ウェーハＷが収納されたカセットの開口部から露出されているウェーハＷの下端を外周で受けるローラ２３と、ローラ２３を軸周りに回転駆動する駆動装置とを設ける。ローラ２３の外周に、ウェーハＷの外周部を受ける溝３１を周方向に沿って設ける。溝３１を、断面視Ｙ字形状とする。すなわち、溝３１の上部では、内壁面が、上端から底部側に向かうにつれて対向する内壁面に近接する傾斜面３１ａとし、下部の内壁面は、傾斜面３１ａに連なる略垂直面３１ｂとする。ローラ２３の外周の一部に、軸線に平行な切り欠き平面を設ける。【選択図】      図６
2004247480.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カセット内に垂直にしてかつ下端が露出された状態にして収納されるウェーハを回転させるウェーハ回転装置であって、
前記ウェーハの露出されている下端を外周で受けるローラと、
該ローラを軸周りに回転駆動する駆動装置とを有し、
前記ローラの外周には、前記ウェーハの外周部を受ける断面視Ｙ字形状の溝が周方向に沿って設けられていることを特徴とするウェーハ回転装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面に半導体デバイスが形成される半導体ウェーハ等のウェーハを回転駆動するウェーハ回転装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、表面に半導体デバイスが形成される半導体ウェーハには、フォトリソグラフィを用いたエッチング処理やその後の洗浄処理等、デバイス形成のための各種の処理が施される。これらの処理のうちのいくつかは、ウェーハ回転装置によってウェーハを回転させながら行われる。
【０００３】
例えば、ウェーハのエッチングや洗浄の際には、エッチング液や洗浄液中に気泡が発生するが、この気泡がウェーハの表面に付着すると、この部分でのエッチングや洗浄が不十分となり、エッチングむらや洗浄むらが生じてしまう。
このため、エッチングや洗浄の際には、ウェーハ回転装置によってウェーハを回転させることで、ウェーハ表面に付着した気泡を振り払っている。
【０００４】
このようなウェーハ回転装置としては、例えば後述する特許文献１に示されるものがある。
特許文献１に記載のウェーハ回転装置は、カセット内に垂直状態で装填された半導体ウェーハの外周部が当接されて、半導体ウェーハをウェーハ中心軸回りに回転させる回転ローラを有している。この回転ローラとしては、単なる円筒状のローラ、または外周の一部に平面切欠部が設けられたローラが用いられている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−１４１３２１号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ウェーハの外周部には、オリエンテーションフラットやノッチ等、ウェーハの位置決めのための切り欠き部が設けられているので、ウェーハがカセット内で回転する際に切り欠き部がカセットと干渉してしまう。また、切り欠き部がローラに対向する位置に達した場合にはウェーハとローラとの接触が不十分となってウェーハに駆動力が十分に伝達されなくなってしまう。
このため、従来のウェーハ回転装置では、ウェーハをスムーズに回転させることが困難で、場合によってはウェーハの回転が停止してしまうことがあった。
【０００７】
さらに、従来のウェーハ回転装置では、ウェーハの径に応じてローラを適切な径のローラに交換する必要があるので、手間がかかっていた。
そして、同一のローラを用いて径の異なるウェーハに対応するためには、ウェーハ回転装置に複雑な機構を設ける必要があり、またウェーハ回転装置に対するウェーハの装着に技術が必要となって作業者の熟練度によって性能に差が生じやすかった。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ウェーハを確実に回転させることが可能なウェーハ回転装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明では、以下の構成を採用した。
すなわち、本発明にかかるウェーハ回転装置は、カセット内に垂直にしてかつ下端が露出された状態にして収納されるウェーハを回転させるウェーハ回転装置であって、前記ウェーハの露出されている下端を外周で受けるローラと、該ローラを軸周りに回転駆動する駆動装置とを有し、前記ローラの外周には、前記ウェーハの外周部を受ける断面視Ｙ字形状の溝が周方向に沿って設けられていることを特徴としている。
【００１０】
このように構成されるウェーハ回転装置においては、ローラの外周には、ウェーハの外周部を受ける溝が周方向に沿って設けられているので、この溝によってウェーハの外周部が保持される。そして、駆動装置によってローラを軸回りに回転駆動することで、ローラに外周部を保持されたウェーハがローラとともに回転する。
【００１１】
ローラに設けられている溝は、断面視Ｙ字形状をなしている。すなわち、この溝は、その上部においては上端から底部側に向かうにつれて次第に幅が狭められている。これにより、溝に受けられたウェーハの外周端は、溝の上部内壁面によって案内されて溝の下部に落としこまれる。
ここで、一般に、ウェーハの外周部には面取りが施されていて、表面（半導体デバイスが形成される面）側と裏面側とのそれぞれに、径方向外側に向かうにつれて次第に他方の面側に向かう傾斜面が形成されている。すなわち、ウェーハの外周部は断面視くさび形状をなしている。
このため、ウェーハの外周端が前記溝の下部に落としこまれた状態では、ウェーハは、前記傾斜面を、溝の内壁面の上部と下部との境界をなす稜線部によって受けられて、他の部分ではローラと接触しない。これによってウェーハの自重が稜線部との接触部位に集中することとなり、ウェーハとローラとの間に大きな摩擦力が生じるので、ウェーハの保持が確実に行われる。
【００１２】
さらに、ローラは、ウェーハの外周部の傾斜面を受けているので、ウェーハの外周部がくさびとして作用して、ウェーハは自重によって溝に食い込もうとすることとなり、溝によるウェーハの保持がより確実に行われることとなる。
この溝によるウェーハの保持は、ウェーハの径によらずに確実に行われるので、径の異なるウェーハを同一のローラで回転させることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明にかかるウェーハ回転装置の一実施の形態について説明する。
本実施の形態では、ウェーハ洗浄装置内でウェーハＷを回転させるウェーハ回転装置について示す。
【００１４】
まず、ウェーハ洗浄装置１の構成について説明する。
ウェーハ洗浄装置１は、カセット２に収納されたウェーハＷを洗浄するものであって、内部に洗浄液等の薬液が貯留されてカセット２が浸漬される薬液槽３を有している。
本実施形態にかかるウェーハ回転装置４は、カセット２に収納されたウェーハＷをこの薬液槽３内で回転駆動するものである。
【００１５】
薬液槽３は、薬液槽本体３ａに第一槽１１と第二槽１２とが設けられたものであって、第一槽１１には、薬液槽本体３ａの上面に開口する開口部を通じて上方からウェーハＷを収納したカセット２が出し入れされるようになっている。第一槽１１には、配管を通じて図示せぬ薬液供給源が接続されており、薬液供給源から第一槽１１内に薬液を連続的に供給しつつ、開口部から薬液をオーバーフローさせることで、第一槽１１内の薬液が常に新鮮な薬液と入れ替えられられるようになっている。
また、薬液槽本体３ａの上面には、第一槽１１の開口部の周囲を囲むようにして排液溝１３がめぐらされており、第一槽１１の開口部から溢れた薬液が排液溝１３に流れ込むようになっている。排液溝１３は、第二槽１２に接続されていて、排液溝１３に流れ込んだ薬液が第二槽１２内に流れ込んで貯留されるようになっている。第二槽１２内に貯留された薬液は、図示せぬ薬液回収装置によって回収されて中和処理や再生処理等が施されたのちに、廃棄または再利用される。
【００１６】
このウェーハ洗浄装置１で用いるカセット２は、一般的なウェーハ洗浄装置においてウェーハＷの保持に用いられるものと同じものである。以下、その具体的な形状について図２及び図３を用いて説明する。ここで、図１から図４に示すカセット２は、６インチ径ウェーハを収納するカセットである。
カセット２は、同一径のウェーハＷを複数枚収納することが可能なものであって、上部が開口された平面視略四角形の箱形状をなしている。
図２に示すように、カセット２の対向する二対の壁部のうち、一方の対の内面２ａには、略垂直方向に延びる溝２ｂが、略水平方向に略等間隔をあけて複数本設けられている。また、この一方の対の壁部の下部は、下方に向かうにつれて次第に間隔が狭められている。
ウェーハＷは、対向する一対の溝２ｂのそれぞれに外周部を挿入されることで、外周部を溝２ｂに受けられ、下端近傍を両側方から内面２ａの下部によって受けられて、カセット２内に略垂直にして保持される。そして、各溝２ｂの対にそれぞれウェーハＷを挿入することで、これらウェーハＷは、カセット２内に、互いに間隔をあけて軸線方向に整列した状態にして保持される。
【００１７】
一方、図３に示すように、カセット２の壁部のうち、他方の対（ウェーハＷの整列方向に配置される壁部の対）の外面２ｃは、少なくともその下部に略垂直な平面が設けられている。ウェーハ回転装置４では、この平面を、カセット２の位置決めの基準となる第一位置決め基準面Ｓ１として用いる。
【００１８】
カセット２の下面には、図２に示すように、ウェーハＷの整列方向に沿って開口部２ｄが設けられており、これによってカセット２内のウェーハＷの下端がカセット２外に露出されている。
また、カセット２の下面において、開口部２ｄに対してウェーハＷの整列方向に直交する向きの両側には、脚部２ｅがそれぞれ設けられている。
これら脚部２ｅは、その互いに対向する一対の側面と、互いに反対側を向く一対の側面とが、それぞれ略垂直な平面とされている。ウェーハ回転装置４では、これらの対のうちのいずれかを、カセット２の位置決めの基準となる第二位置決め基準面Ｓ２として用いる。
【００１９】
カセット２の寸法は、収納するウェーハＷの径に応じて異なるものであって、脚部２ｅがなす第二位置決め基準面Ｓ２間の寸法も、収納するウェーハＷの径に応じて異なる（ただし、第一位置決め基準面Ｓ１間の寸法は、収納するウェーハＷの径によらず一定である）。
例えば４インチ径ウェーハを収納するカセット２では、５インチ径ウェーハ、６インチ径ウェーハを収納するカセット２よりも脚部２ｅ間の間隔が狭い。ウェーハ回転装置４は、４インチ径ウェーハを収納するカセット２については、第二位置決め基準面Ｓ２として、脚部２ｅの互いに対向する一対の側面を用いる。
また、５インチ径ウェーハ、６インチ径ウェーハを収納するカセット２では、脚部２ｅ間の間隔は同一とされている。ウェーハ回転装置４では、５インチ径ウェーハ、６インチ径ウェーハを収納するカセット２については、第二位置決め基準面Ｓ２としては、脚部２ｅの互いに反対側を向く側面を用いる。
【００２０】
ウェーハ回転装置４は、図１及び図２に示すように、薬液槽３の第一槽１１内に設けられるフレーム２１を有しており、フレーム２１には、カセット２を位置決めして保持するカセット保持部２２と、カセット保持部２２に保持されるカセット２の開口部２ｄから露出されているウェーハＷの下端を外周で受けるローラ２３とが設けられている。
また、ローラ２３には、ローラ２３を軸周りに回転駆動する駆動装置２４が接続されている。
【００２１】
カセット保持部２２は、複数のカセット２を、カセット２に収納されたウェーハＷの整列方向に沿って整列状態にして保持する構成とされており、カセット２の整列方向における位置決めを行う第一のカセット装着ガイド２６（図１、図３参照）と、カセット２の整列方向に直交する方向における位置決めを行う第二のカセット装着ガイド２７（図２参照）とを有している。
【００２２】
第一のカセット装着ガイド２６は、カセット２に収納されたウェーハＷの整列方向に沿って、互いの間にカセット２を装着するスペースをあけて複数設けられている。
図３に示すように、各第一のカセット装着ガイド２６において隣接する第一のカセット装着ガイド２６に対向する側面の上部は、上端から下部側に向かうにつれて、次第に対向する第一のカセット装着ガイド２６側に近接する傾斜面２６ａとされている。
また、この側面の下部は、傾斜面２６ａの下端に連なる垂直面とされていて、カセット２の第一の位置決め基準面Ｓ１を受ける第一受け面Ｒ１を構成している。ここで、隣接する第一のカセット装着ガイド２６の第一受け面Ｒ１間の間隔は、カセット２の第一の位置決め基準面Ｓ１間の間隔（外面２ｃ間の間隔）と略同一とされている。
【００２３】
第二のカセット装着ガイド２７は、各第一のカセット装着ガイド２６間に対をなして設けられるものであって、その対のうちの一方と他方とは、図２及び図４に示すように、第一のカセット装着ガイド２６の配列方向に略直交する方向に離間させて設けられている。
第二のカセット装着ガイド２７の上部には、カセット２の脚部２ｅが載置される略水平な着座面２７ａが設けられている。また、着座面２７ａに対して、対をなす第二のカセット装着ガイド２７側に隣接させて、第一の突出部２７ｂが設けられ、着座面２７ａの他方の側に隣接させて、第二の突出部２７ｃが設けられている。
【００２４】
第一の突出部２７ｂにおいて、着座面２７ａ側を向く側面は、上端から下端に向かうにつれて着座面２７ａに近接する傾斜面２７ｄとされており、その下端は着座面２７ａと接続されている。
第二の突出部２７ｃにおいて、着座面２７ａ側を向く側面は、その上部においては上端から下部に向かうにつれて着座面２７ａに近接する傾斜面２７ｅとされており、下部は、上部の下端と着座面２７ａとに連なる垂直面とされている。
第二の突出部２７ｃの垂直面は、カセット２の第二の位置決め基準面Ｓ２を受ける第二の受け面Ｒ２を構成している。
【００２５】
対をなす第二のカセット装着ガイド２７において、第一の突出部２７ｂの傾斜面２７ｄの下端間の距離、及び第二の突出部２７ｃの第二の受け面Ｒ２間の距離は、それぞれ異なるサイズのカセット２の、第二の位置決め基準面Ｓ２間の距離とほぼ同一とされている。
本実施の形態では、対をなす第二のカセット装着ガイド２７において、第一の突出部２７ｂの傾斜面２７ｄの下端間の距離は、４インチ径ウェーハを収納するカセット２の第二の位置決め基準面Ｓ２間の距離とほぼ同一とされている。また、第二の突出部２７ｃの第二の受け面Ｒ２間の距離は、５インチ径ウェーハを収納するケース２及び６インチ径ウェーハを収納するケース２の、第二の位置決め基準面Ｓ２間の距離とほぼ同一とされている。
【００２６】
図１に示すように、フレーム２１において第一のカセット装着ガイド２６の下方には、第一のカセット装着ガイド２６の整列方向に略平行にして、ローラ２３を支持する軸受２８が設けられている。ローラ２３は、この軸受２８に端部を受けられることによって、軸回りに回転可能にしてフレーム２１に支持されている。
【００２７】
ローラ２３は、各第一のカセット装着ガイド２６と第二のカセット装着ガイド２７とによって囲まれる領域に、その軸線を、第一のカセット装着ガイド２６の配列方向に略平行にして設けられており、各ローラ２３は、互いに同軸にして固定的に接続されている。また、ローラ２３の列の端部に設けられるローラ２３の一端には、駆動装置２４が接続されている。
ローラ２３は、カセット保持部２２にカセット２を装着した状態では、カセット２の開口部２ｄに対向させられて、開口部２ｄから露出されるカセット２内のウェーハＷの下端を外周で受けるようになっている。
【００２８】
ローラ２３の外周には、ウェーハＷの外周部を受ける溝３１が周方向に沿って設けられている。溝３１は、図５に示すように、ローラ２３の軸線方向に沿って複数設けられており、そのピッチは、カセット２における溝２ｂのピッチと同一とされている。
この溝３１は、図６に示すように、断面視Ｙ字形状をなしている。すなわち、溝３１は、その上部においては、上端から底部側に向かうにつれて次第に幅が狭められている。
溝３１の上部では、内壁面が、上端から底部側に向かうにつれて対向する内壁面に近接する傾斜面３１ａとされており、下部の内壁面は、傾斜面３１ａに連なる略垂直面３１ｂとされている。溝３１の内壁面において、傾斜面３１ａと略垂直面３１ｂとの境界には稜線部３１ｃが設けられている。
また、ローラ２３はその外周の一部に、軸線に平行な切り欠き平面３２が設けられている。溝３１は、ローラ２３において切り欠き平面３２を除く外周面全周にわたって形成されている。
【００２９】
駆動装置２４は、ローラ２３を軸周りに回転させるものであって、図１に示すように、薬液槽３外に設けられる駆動モータ３６と、駆動モータ３６の駆動軸とローラ２３の一端とを接続して駆動軸の回転をローラ２３に伝達するギアボックス３７と、駆動モータ３６の動作を制御する制御装置３８とを有している。
ギアボックス３７内には、駆動モータ３６の駆動軸によって回転駆動される従動ギアが複数段設けられており、駆動軸の回転が適切に減速されてローラ２３に伝達されるようになっている。また、ギアボックス３７は、気密、液密が確保されており、ギアボックス３７内への洗浄液の侵入や、ギアボックス３７内から薬液槽３内へのパーティクルの流出が防止されている。
そして、駆動モータ３６の駆動軸の周囲も、カバーによって覆われており、周囲へのパーティクルの流失が防止されている。
【００３０】
このように構成されるウェーハ洗浄装置１では、ウェーハＷが収納されたカセット２を、第一槽１１内のカセット保持部２２に装着して、ウェーハ回転装置４によってカセット２内のウェーハＷを回転駆動しながら、洗浄液によるウェーハＷの洗浄を行う。
【００３１】
ここで、洗浄液が不透明である場合などには、カセット保持部２２に対して目視によってカセット２を位置決めすることは困難であるが、カセット保持部２２にはカセット２を装着位置に案内する第一、第二のカセット装着ガイド２６、２７が設けられているので、カセット２を、第一、第二のカセット装着ガイド２６、２７間に挿入することで、カセット保持部２２に対してカセット２を容易に装着することができる。
【００３２】
以下、第一、第二のカセット装着ガイド２６、２７によるカセット２の位置決めについて具体的に説明する。
第一のカセット装着ガイド２６の上部には、傾斜面２６ａが設けられているので、カセット２の整列方向の位置がずれていた場合には、カセット２の第一の位置決め基準面Ｓ１が傾斜面２６ａによって受けられるので、カセット２を降下させることで、カセット２が第一のカセット装着ガイド２６の第一受け面Ｒ１間に案内される。これにより、カセット２の第一の位置決め基準面Ｓ１が第一受け面Ｒ１によって受けられて、カセット２の整列方向における位置決めがなされる。
【００３３】
また、第二のカセット装着ガイド２７には、第一、第二の突出部２７ｂ、２７ｃの傾斜面２７ｄ、２７ｅが設けられているので、カセット２の整列方向に直交する方向の位置がずれていた場合には、カセット２の脚部２ｅの下端が、第一の突出部２７ｂの傾斜面２７ｄ、または第二の突出部２７ｃの傾斜面２７ｅによって受けられて、カセット２を降下させることで、カセット２の脚部２ｅが着座面２７ａ上に案内される。
【００３４】
カセット２が４インチ径ウェーハを収納するカセットである場合には、カセット２を降下させることで、図７に示すように、カセット２の脚部２ｅ間に第一の突出部２７ｂの対が進入する。これにより、カセット２の脚部２ｅは、第一の突出部２７ｂの傾斜面２７ｄによって案内されて、傾斜面２７ｄの下端によって第二の位置決め基準面Ｓ２が受けられて、カセット２の整列方向に直交する方向の位置決めがなされる。
一方、カセット２が５インチ径ウェーハを収納するカセット、または６インチ径ウェーハを収納するカセットである場合には、カセット２を降下させることで、図４に示すように、カセット２の脚部２ｅの下端が第二の突出部２７ｃの傾斜面２７ｅによって受けられて、第二の突出部２７ｃの第二受け面Ｒ２間に案内される。これにより、カセット２の第二の位置決め基準面Ｓ２が第二の突出部２７ｃの第二受け面Ｓ２によって受けられて、カセット２の整列方向に直交する方向の位置決めがなされる。
【００３５】
このようにカセット２がカセット保持部２１に位置決めされた状態で装着されることで、カセット２に収納されたウェーハＷの開口部２ｄから露出されている下端が、ローラ２３の外周によって受けられる。
ローラ２３の外周には、ウェーハＷの外周部を受ける溝３１が周方向に沿って設けられているので、この溝３１によってウェーハＷの外周部が保持される。そして、駆動装置２４によってローラ２３を軸回りに回転駆動することで、ローラ２３に外周部を保持されたウェーハＷがローラ２３とともに回転する。
【００３６】
ローラ２３に設けられている溝３１は、図６に示すように、断面視Ｙ字形状をなしている。これにより、ウェーハＷと溝３１との位置がずれていた場合には、ウェーハＷの外周端は、溝３１の上部に形成された傾斜面３１ａに受けられて、略垂直面３１ｂ間に案内されて、略垂直面３１ｂ間に落としこまれる。
【００３７】
ここで、一般に、ウェーハＷの外周部には面取りが施されていて、表面側と裏面側とのそれぞれに、径方向外側に向かうにつれて次第に他方の面側に向かう傾斜面Ｗａが形成されている。すなわち、ウェーハＷの外周部は断面視くさび形状をなしている。
このため、ウェーハＷの外周端が略垂直面３１ｂ間に落としこまれた状態では、ウェーハＷは、前記傾斜面Ｗａを、溝３１の内壁面の上部と下部との境界をなす稜線部３１ｃによって受けられて、他の部分ではローラ２３と接触しない。
すると、ウェーハＷの自重が稜線部３１ｃとの接触部位に集中することとなってウェーハＷとローラ２３との間に大きな摩擦力が得られるので、ローラ２３によるウェーハＷの保持が良好に行われることとなり、ウェーハＷを確実に回転させて洗浄を効果的に行うことができる。
そして、このようにウェーハＷの保持が確実に行われるので、洗浄液として、粘度、比重の大きいものなど、ウェーハＷを回転させる際に生じる抵抗の大きい洗浄液を用いた場合にも、ウェーハＷを確実に回転させて、洗浄を効果的に行うことができる。
【００３８】
さらに、ローラ２３は、このようにウェーハＷの外周部の傾斜面Ｗａを溝３１によって受けているので、ウェーハＷの外周部がくさびとして作用して、ウェーハＷは自重によって溝３１の下部に食い込もうとすることとなり、溝３１によるウェーハＷの保持がより確実に行われることとなる。
そして、このような溝３１によるウェーハＷの保持は、ウェーハＷの径によらずに行われるので、径の異なるウェーハＷを同一のローラ２３で回転させることができる。
【００３９】
また、このウェーハ洗浄装置１では、ウェーハ回転装置４によるウェーハＷの回転速度に変化をつけることによって、ウェーハＷに付着した気泡をより効果的に振り払うとともに、ウェーハＷとカセット２の内面との干渉を適宜解消して、ウェーハＷを確実に回転させることができる。
【００４０】
具体的には、制御装置３８によって駆動装置２４の動作を制御して、ローラ２３を、比較的高速で回転駆動したのちに比較的低速で回転駆動したり、ローラ２３の駆動を間欠的に行ったり、また低速、高速の駆動と間欠駆動とを組み合わせてローラ２３を回転駆動する。
このようにローラ２３の回転に変化をつけて、ウェーハＷに急激な動きを付与することで、ウェーハＷとカセット２とが干渉するなどしてウェーハＷがうまく回転されなくなった場合にも、ウェーハＷとカセット２との干渉を解消させて、再びローラ２３によるウェーハＷの保持力を回復させて、ウェーハＷを再度回転駆動させることができる。
【００４１】
さらに、ローラ２３の外周の一部には、切り欠き平面３２が設けられているので、ローラ２３の回転に伴ってウェーハＷが上下することとなって、ウェーハＷに付着した気泡がより効果的に振り払われるとともに、ウェーハＷがカセット２内面に干渉して回転がうまく行われなくなった場合にも、ウェーハＷとカセット２の内面との干渉が解消されて、再びウェーハＷを回転させることが可能となる。
【００４２】
ここで、上記実施の形態では、第二のカセット装着ガイド２７を、４インチ径ウェーハを収納するカセット、５インチ径ウェーハを収納するカセット、６インチ径ウェーハを収納するカセットの位置決めに対応させた構成としたが、これに限られることなく、第一の突出部２７ｂの対の、傾斜面２７ｄの下端間の間隔や、第二の突出部２７ｃの対の、第二の受け面Ｒ２間の間隔を適宜設定することで、任意のサイズのカセットに対応させることができる。
また、上記実施の形態では、第一の突出部２７ｂの傾斜面２７ｄの下端を着座面２７ａに接続した例を示したが、例えば第二の突出部２７ｃのように、傾斜面２７ｄの下端と着座面２７ａとの間に、略垂直面を設けて、この略垂直面を第二の受け面Ｒ２としてもよい。
【００４３】
【発明の効果】
本発明にかかるウェーハ回転装置によれば、ローラの外周に断面視Ｙ字形状の溝が設けられており、この溝によってウェーハの外周部が保持されるので、ウェーハとローラとの間に大きな摩擦力が得られ、またウェーハは自重によって溝に食い込もうとするので、溝によるウェーハの保持がより確実に行われることとなり、ローラの駆動力をウェーハに効率的に伝達して、ウェーハを確実に回転させることができる。
【００４４】
そして、この溝によるウェーハの保持は、ウェーハの径によらずに確実に行われるので、複雑な機構を用いることなく、径の異なるウェーハを同一のローラで回転させることができる。また、ウェーハ回転装置に対しては、単にウェーハが収納されたカセットを装着するだけでよいので、ウェーハの装着に特別な技術が不要で、作業者の熟練度によらず安定した性能を発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態にかかるウェーハ回転装置を用いたウェーハ洗浄装置の構成を示す縦断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態にかかるウェーハ回転装置を用いたウェーハ洗浄装置の構成を示す側断面図である。
【図３】図１の一部拡大図である。
【図４】図２の一部拡大図である。
【図５】本発明の一実施の形態にかかるウェーハ回転装置のローラの構成を示す正面図である。
【図６】本発明の一実施の形態にかかるウェーハ回転装置によるウェーハの保持の様子を概略的に示す図である。
【図７】本発明の一実施の形態にかかるウェーハ回転装置によるカセットの保持の様子を示す図である。
【符号の説明】
２  カセット                      ４  ウェーハ回転装置
２３  ローラ                      ２４  駆動装置
３１  溝                          Ｗ  ウェーハ
【図１】
2004247480.tif 000003
【図２】
2004247480.tif 000004
【図３】
2004247480.tif 000005
【図４】
2004247480.tif 000006
【図５】
2004247480.tif 000007
【図６】
2004247480.tif 000008
【図７】
2004247480.tif 000009