(57)【要約】【課題】複数の有機ＥＬ素子がマトリクス状に配置された有機ＥＬ表示装置について、有機ＥＬ素子の劣化のばらつきを抑え、その寿命を延長することができる有機ＥＬ表示装置、及びその表示制御方法を提供する。【解決手段】複数の有機ＥＬ素子を複数列と複数行とに配したマトリクス状のディスプレイを有する有機ＥＬ表示装置において、ディスプレイ１には、その表示範囲内で、表示情報を損なうことなく、一定期間の経過毎にデータ表示する表示領域を移動させる手段が備えられている。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を複数列と複数行とに配したマトリクス状のディスプレイを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
上記ディスプレイには、その表示範囲内で、表示情報を損なうことなく、一定期間の経過毎にデータ表示する表示領域を移動させる手段が備えられていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記表示領域を移動させる手段が、表示開始画素位置を変更して表示領域を移動する手段であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
ディスプレイの表示範囲内に、所定列と所定行とからなる通常表示領域が形成されると共に、該通常表示領域に隣接して、少なくとも１列以上の拡張列または／および１行以上の拡張行からなる予備表示領域が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を複数列と複数行とに配したマトリクス状のディスプレイを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示制御方法において、
データ表示の制御を行う表示制御部が、ディスプレイの表示範囲内で、表示情報を損なうことなく、一定期間の経過毎にデータ表示する表示領域を移動させるように制御することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示制御方法。
【請求項５】
前記表示制御部が表示開始画素位置の変更により、データ表示する表示領域を移動することを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示制御方法。
【請求項６】
前記表示制御部が表示開始画素位置の変更を一定のパターンで順に行うことを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示制御方法。
【請求項７】
前記表示制御部が表示開始画素位置の変更をランダムに行うことを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示制御方法。
【請求項８】
ディスプレイの表示範囲内に、所定列と所定行とからなる通常表示領域が形成されると共に、該通常表示領域に隣接して少なくとも１列以上の拡張列または／および１行以上の拡張行からなる予備表示領域が形成され、
予備表示領域へと表示領域をずらして表示領域を移動することを特徴とする請求項４から８のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示制御方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と称する。）を用いて動画、静止画等を表示させる有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、「有機ＥＬ表示装置」と称する。）に係り、詳しくはそのディスプレイ部の長寿命化をはかるように改良した有機ＥＬ表示装置、及びその表示制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ表示装置は、複数のストライプ状の陽極と、この陽極と交差する方向に複数のストライプ状の陰極とを有し、これら対の電極間に少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を挟み込んで構成されるマトリクスタイプの表示装置である。データ電極、走査電極は陽極、陰極を電圧制御する外部電極であり、データ電極と走査電極とで与えられるＸ、Ｙ座標の任意の電極間に所定の電圧を印加して電流を流すことにより、特定の陽極と陰極とに挟まれた有機層が発光し、１つの画素を構成することとなる。このようにして、任意の位置の画素を選択的に発光させることにより、画面上に任意の画像を形成する構造となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来の有機ＥＬ表示装置では、そのディスプレイ部における表示情報の表示位置は固定されており、特に静止画などにおいては、特定の場所のみが発光することになり、その場所のみ劣化が進行してしまうという不具合が発生していた。
【０００４】
有機ＥＬ素子の寿命は通電された電流の積分量により影響され、電流量が多くなるにつれて劣化が進行する。特に特定の画素が点灯し続けた場合、他の画素に比べて、その画素だけ劣化が進行してしまうため、有機ＥＬ素子の輝度にばらつきが生じ、表示装置としての性能上の不具合となる。
【０００５】
本発明は、上記の課題に鑑みて創案されたものであり、その目的は、複数の有機ＥＬ素子がマトリクス状に配置された有機ＥＬ表示装置について、有機ＥＬ素子の劣化のばらつきを抑え、その寿命を延長することができる有機ＥＬ表示装置、及びその表示制御方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決すべく、本発明の有機ＥＬ表示装置は、複数の有機ＥＬ素子を複数列と複数行とに配したマトリクス状のディスプレイを有する有機ＥＬ表示装置において、
上記ディスプレイには、その表示範囲内で、表示情報を損なうことなく、一定期間の経過毎にデータ表示する表示領域を移動させる手段が備えられていることを特徴とする。
【０００７】
この有機ＥＬ表示装置において、前記表示領域を移動させる手段が、表示開始画素位置を変更して表示領域を移動する手段であることが好ましい。
【０００８】
また、ディスプレイの表示範囲内に、所定列と所定行とからなる通常表示領域が形成されると共に、該通常表示領域に隣接して、少なくとも１列以上の拡張列または／および１行以上の拡張行からなる予備表示領域が形成されていることが好ましい。
【０００９】
一方、本発明に係る有機ＥＬ表示装置の表示制御方法は、複数の有機ＥＬ素子を複数列と複数行とに配したマトリクス状のディスプレイを有する有機ＥＬ表示装置の表示制御方法において、
データ表示の制御を行う表示制御部が、ディスプレイの表示範囲内で、表示情報を損なうことなく、一定期間の経過毎にデータ表示する表示領域を移動させるように制御することを特徴とする。
【００１０】
この有機ＥＬ表示装置の表示制御方法において、前記表示制御部が表示開始画素位置の変更により、データ表示する表示領域を移動することが好ましい。
【００１１】
また、前記表示制御部が表示開始画素位置の変更を一定のパターンで順に行うことが好ましい。
【００１２】
或いは、前記表示制御部が表示開始画素位置の変更をランダムに行ってもよい。
【００１３】
さらに、ディスプレイの表示範囲内に、所定列と所定行とからなる通常表示領域が形成されると共に、該通常表示領域に隣接して少なくとも１列以上の拡張列または／および１行以上の拡張行からなる予備表示領域が形成され、
予備表示領域へと表示領域をずらして表示領域を移動することが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明するが、本発明は本実施形態に限られない。
【００１５】
図１は、（ｍ列×ｎ行）の有機ＥＬ素子で構成される有機ＥＬ表示装置について、予備表示領域を１列１行ずつ設けた状態を示す説明図である。
【００１６】
図１において、１は有機ＥＬディスプレイであり、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１０では、ディスプレイ１に表示できる最大表示情報は（ｍ×ｎ）画素である。２は行方向の外部電極制御を行う走査電極であり、３は列方向の外部電極制御を行うデータ電極である。４はディスプレイ１の通常表示領域であり、５は通常表示領域４に対して拡張列または／及び拡張行となる予備表示領域である。６は表示制御部であり、外部電極としての走査電極２およびデータ電極３を座標制御する。
【００１７】
有機ＥＬディスプレイ１は、複数のストライプ状の陽極と、この陽極と交差する方向に複数のストライプ状の陰極とを有し、これら対の電極間に少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を挟み込んで構成されるマトリクスタイプの表示装置である。
【００１８】
有機ＥＬディスプレイ１は基板上に配されており、基板には透光性を有するガラス基板や合成樹脂からなる平滑な基板を用いることができる。ガラス基板としては、例えば、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、無アルカリガラスなどが挙げられる。合成樹脂基板としては、例えば、耐溶剤性樹脂であるポリサルフォン樹脂などが挙げられる。
【００１９】
基板上には、陽極として透明電極が形成される。透明電極は、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を採用することが好ましく、具体的にはＡｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、ＣｕＩ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２、ＺｎＯなどが挙げられる。この透明電極は、後述する有機層からの発光を取り出すために、可視光透過率が１０％以上であることが望ましい。シート抵抗は５００Ω／□以下であるのが望ましく、さらに膜厚は材料にもよるが、通常５ｎｍ〜１μｍの範囲で選択される。透明電極の成膜は、真空蒸着法やスパッタリング法、めっき法等の方法で行われ、さらにこれを公知のリソグラフィー技術及びエッチング技術を用いてパターン形成する。
【００２０】
有機層としては、材料の種類、構成、膜厚、色素のドーピング形態などについて特に限定されるものではなく、１種類または多種類の有機発光材料のみからなる薄膜や、１種類または多種類の有機発光材料と正孔輸送材料、電子注入材料との混合物からなる薄膜などの有機ＥＬ素子の発光層として機能する単層構造でもよく、発光層以外に正孔輸送材料、電子注入材料を個別に有する２層以上の積層構造であってもよい。
【００２１】
これら有機層の構成材料は、高分子系、低分子系に関わらず、従来から有機ＥＬ素子で用いられている正孔注入・輸送材料、有機発光材料、電子注入・輸送材料をそのまま使用することができる。正孔注入及び輸送材料としては、例えば、可溶性のフタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Ｅｕ錯体等が挙げられる。有機発光材料としては、例えば、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン、芳香族縮合多環化合物、芳香族複素環化合物、芳香族複素縮合環化合物、金属錯体化合物等、及びこれらの単独オリゴ体あるいは複合オリゴ体等が挙げられる。電子注入及び輸送材料としては、例えば、８−キノリノール・アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等が挙げられる。高分子系材料としては、例えば、ポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシルオキシ）］−パラ−フェニレンビニレン、ポリ（３−アルキルチオフェン）、ポリ（９，９−ジアルキルフルオレン）等が挙げられる。
【００２２】
上記有機層は、真空蒸着法、スパッタ法、分子積層法、スピンコートなどにより形成することができる。
【００２３】
陰極には、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属、合金、電気伝導性化合物、及びこれらの混合物を電極物質として用いることができ、蒸着法やスパッタリング法等により形成する。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム−銀合金、アルミニウム／酸化アルミニウム、アルミニウム−リチウム合金、インジウム、希土類金属などが挙げられる。陰極の成膜は、真空蒸着法やスパッタリング法、めっき法等の方法で行われ、さらにこれを公知のリソグラフィー技術等を用いてパターン形成する。
【００２４】
また基板上には、表示制御部６に接続するための外部電極として走査電極２及びデータ電極３が形成される。走査電極２及びデータ電極３としては、導電性材料であれば制限はなく、可視光透過性も不要である。導電性材料には透明電極と同じ材料を使用しても良く、異なる材料、抵抗値、膜厚のものでも良い。また、異種材料の積層構造であっても良く、例えば、透明電極上にＣｒ、Ｍｏ、Ａｌなどの積層体を形成しても良い。
【００２５】
即ち、走査電極２とデータ電極３は、マトリクス状に交差するように配された陽極と陰極とに制御電圧を負荷する外部電極であり、データ電極３と走査電極２とで与えられるＸ、Ｙ座標の任意の電極間に所定の電圧を印加して電流を流すことにより、特定の陽極と陰極とに挟まれた有機層が発光し、１つの画素を構成することとなり、任意の位置の画素を選択的に発光させてディスプレイ１上に任意の画像を形成する。
【００２６】
通常表示領域４は、ディスプレイ１において、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（１，１）とした場合に、（ｍ列×ｎ行）の領域に表示情報を通常表示する領域である。
【００２７】
予備表示領域５は、通常表示領域４の拡張列や拡張行として配された領域であり、本実施形態では、例えば、１列１行の予備表示領域５が設定されている。
【００２８】
表示制御部６は、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（１，１）として（ｍ×ｎ）の表示情報をディスプレイ１に表示させ、一定時間毎に表示開始画素位置をＰｔ（２，１）、Ｐｔ（２，２）、Ｐｔ（１，２）のいずれかに変更して表示させる制御部である。本実施形態の場合、初期の表示開始画素位置は、Ｐｔ（１，１）以外に、Ｐｔ（２，１）、Ｐｔ（２，２）、Ｐｔ（１，２）のいずれでもよい。
【００２９】
また、本実施形態では、表示開始画素位置を変更する方法として、Ｐｔ（１，１）→Ｐｔ（２，１）→Ｐｔ（２，２）→Ｐｔ（１，２）→Ｐｔ（１，１）の順に一定時間毎に繰り返していく方法を採用しているが、この表示開始画素位置を変更する順番は任意であり、どの組み合わせとしてもよい。
【００３０】
図２は、表示開始画素位置をＰｔ（１，１）→Ｐｔ（２，１）→Ｐｔ（２，２）→Ｐｔ（１，２）→Ｐｔ（１，１）の順に移動させていく様子を示す説明図である。図２において、（ａ）では、ディスプレイ１の通常表示領域４が表示領域となっており、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（１，１）として、（ｍ列×ｎ行）の領域に表示情報を表示する。（ｂ）では、表示領域がディスプレイ１の列方向右側にずれており、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（２，１）として、（ｍ＋１列×ｎ行）の領域に表示情報を表示する。（ｃ）では、表示領域がディスプレイ１の行方向下側にずれており、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（２，２）として、（ｍ＋１列×ｎ＋１行）の領域に表示情報を表示する。（ｄ）では、表示領域がディスプレイ１の列方向左側にずれており、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（１，２）として、（ｍ列×ｎ＋１行）の領域に表示情報を表示する。そして、再び（ａ）の初期状態となり、表示領域がディスプレイ１の行方向上側にずれて、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（１，１）として、（ｍ列×ｎ行）の領域に表示情報を表示することになる。
【００３１】
図２では、表示開始画素位置を変更する方法として、Ｐｔ（１，１）→Ｐｔ（２，１）→Ｐｔ（２，２）→Ｐｔ（１，２）→Ｐｔ（１，１）の順に一定時間毎に繰り返していく方法を採用しているが、これに限るものではなく、Ｐｔ（１，１）、Ｐｔ（２，１）、Ｐｔ（２，２）、Ｐｔ（１，２）のうち、現在の表示開始画素位置以外の場所をランダムに選択して変更し、表示をさせる方法も考えられる。
【００３２】
図１において予備表示領域５の数を多くした場合でも、実現は可能であるが、有機ＥＬ表示装置のディスプレイ１がその分大きくなり、表示開始画素位置の移動量も大きくなるので、人の目に違和感を与えることが懸念される。したがって、本実施形態では予備表示領域５を１列１行に設定している。
【００３３】
図３は、本実施形態の有機ＥＬ表示装置の表示制御方法をフローチャートで示す説明図である。
【００３４】
図３において、本実施形態の有機ＥＬ表示装置の電源が投入されると（ＳＴＥＰ１）、表示制御部６が外部電極としての走査電極２とデータ電極３とを座標制御して、通常表示領域４にデータ表示を開始し（ＳＴＥＰ２）、図２（ａ）に示すように、例えば、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（１，１）として、（ｍ列×ｎ行）の領域に表示情報が表示される。
【００３５】
そして、表示制御部６がクロック信号により一定時間の経過を判断し（ＳＴＥＰ３）、一定時間が経過するまでは通常表示領域４での表示を継続する。
【００３６】
表示制御部６が一定時間を経過したと判断すると、表示開始画素位置の変更を行い（ＳＴＥＰ４）、図２（ｂ）に示すように、例えば、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（２，１）として、（ｍ＋１列×ｎ行）の領域でデータ表示が開始される（ＳＴＥＰ２）。
【００３７】
以下同様にして、一定時間が経過する毎に表示開始画素位置の変更が行われ（ＳＴＥＰ４）、図２（ｃ）に示すように、例えば、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（２，２）として、（ｍ＋１列×ｎ＋１行）の領域でデータ表示され、図２（ｄ）に示すように、例えば、表示情報の表示開始画素位置をＰｔ（１，２）として、（ｍ列×ｎ＋１行）の領域でデータ表示され、再び（ａ）の初期状態の通常表示領域４にデータが表示されるというように、順に一定のパターン制御が行われることになる。
【００３８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、有機ＥＬ表示装置において、ディスプレイの特定の画素を点灯し続けるような表示情報が表示される場合であっても、特定の画素のみの劣化を避けることができ、ディスプレイの劣化のばらつきを抑制し、表示装置全体の寿命を延長することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態において、（ｍ列×ｎ行）の有機ＥＬ素子で構成される有機ＥＬ表示装置について、予備表示領域を１列１行ずつ設けた状態を示す説明図である。
【図２】本実施形態において、表示開始画素位置をＰｔ（１，１）→Ｐｔ（２，１）→Ｐｔ（２，２）→Ｐｔ（１，２）→Ｐｔ（１，１）の順に移動させていく様子を示す説明図である。
【図３】本実施形態の有機ＥＬ表示装置の表示制御方法をフローチャートで示す説明図である。
【符号の説明】
１　有機ＥＬディスプレイ
２　走査電極
３　データ電極
４　通常表示領域
５　予備表示領域
６　表示制御部
１０　有機ＥＬ表示装置
【図１】
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【図２】
2004118162.tif 000004
【図３】
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