(57)【要約】【課題】ディスクの周速変化に伴うスライダの浮上量変化を低減し、ロード時のスライダとディスク記録媒体の接触を回避すること。【解決手段】フロントステップ軸受け５、サイドレール面６，７、サイドステップ軸受け８，９、からなるフロントパッド１３と、磁気トランスデューサ１９を有するセンタレール面１１、センタレール面を囲むリアステップ軸受け１０、からなるセンタパッド１４と、ステップ軸受けで囲まれた負圧溝１２と、を備えた磁気ヘッドスライダであって、磁気ヘッドスライダの長手方向中央部分でサイドステップ軸受け８，９につながるサブサイドステップ軸受け１５，１６を空気流出端４近傍まで設け、サブサイドステップ軸受け１５，１６は、サイドステップ軸受け８，９よりも深く且つ負圧溝１２よりも浅く形成し、サブサイドステップ軸受け１５，１６の周辺に負圧溝より深いサブ負圧溝１７，１８を形成すること。【選択図】        図１
2004295984.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気流入端から続いて形成されたフロントステップ軸受け、前記フロントステップ軸受けから続いて形成されたレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して側面に形成されたサイドステップ軸受け、からなるフロントパッドと、
空気流出端の近傍に配置された磁気トランスデューサを有するセンタレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して前記センタレール面を囲むリアステップ軸受け、からなるセンタパッドと、
前記フロントステップ軸受けと前記サイドステップ軸受けとリアステップ軸受けとで囲まれた負圧溝と、を備えた磁気ヘッドスライダであって、
前記磁気ヘッドスライダの長手方向中央部分で前記サイドステップ軸受けにつながるサブサイドステップ軸受けを前記空気流出端近傍まで設け、
前記サブサイドステップ軸受けは、前記サイドステップ軸受けよりも深く且つ前記負圧溝よりも浅く形成し、
前記サブサイドステップ軸受けの周辺に前記負圧溝より深いサブ負圧溝を形成する
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
空気流入端から続いて形成されたフロントステップ軸受け、前記フロントステップ軸受けから続いて形成されたレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して側面に形成されたサイドステップ軸受け、からなるフロントパッドと、
空気流出端の近傍に配置された磁気トランスデューサを有するセンタレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して前記センタレール面を囲むリアステップ軸受け、からなるセンタパッドと、
前記フロントステップ軸受けと前記サイドステップ軸受けとリアステップ軸受けとで囲まれた負圧溝と、を備えた磁気ヘッドスライダであって、
前記サイドステップ軸受けは前記磁気ヘッドスライダの長手方向中央部分で終端を形成し
前記空気流出端のコーナ部に流出端パッドを形成し、
前記流出端パッドは、前記サイドステップ軸受けよりも深く且つ前記負圧溝よりも浅く形成し、
前記流出端パッドの周辺に前記負圧溝より深いサブ負圧溝を形成する
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
空気流入端から続いて形成されたフロントステップ軸受け、前記フロントステップ軸受けから続いて形成されたレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して側面に形成されたサイドステップ軸受け、からなるフロントパッドと、
空気流出端の近傍に配置された磁気トランスデューサを有するセンタレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して前記センタレール面を囲むリアステップ軸受け、からなるセンタパッドと、
前記フロントステップ軸受けと前記サイドステップ軸受けとリアステップ軸受けとで囲まれた負圧溝と、を備えた磁気ヘッドスライダであって、
前記サイドステップ軸受けは前記磁気ヘッドスライダの長手方向中央部分で終端を形成し
前記空気流出端のコーナ部に前記負圧溝より深いサブ負圧溝を形成する
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
請求項１、２又は３に記載された磁気ヘッドスライダを用いた磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気ヘッドスライダに関し、特に、ディスクの周速変化に伴う浮上量変化を低減し、ロード時におけるディスクとの接触を回避でき得る磁気ヘッドスライダに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来技術における磁気ディスク装置では、回転するディスク記録媒体上で微少な間隔（浮上量）を保ちながら浮上する磁気ヘッドスライダが使用されている。通常、磁気ヘッドスライダはスライダの空気流出端にデイスク記録媒体に対して情報を記録・再生する磁気トランスデュ−サを備えており、記憶容量を高めるためにビット（円周方向の記録）密度とトラック（半径方向の記録）密度をさらに高めることが求められる。とくに、ビット密度を高める技術のひとつとして、可能な限りディスク記録媒体に近接した低浮上状態でスライダを浮上させることが要求される。現在、磁気ヘッドスライダの磁気トランスデューサ付近での浮上量は１５ｎｍ程度に達している。また、トラック密度を高める技術のひとつとして、高精度な位置決め技術によるディスク記録媒体へのサーボ情報（ディスク記録媒体上の位置を表す情報）の高精度な記録が必要とされる。
【０００３】
ディスク記録媒体へのサーボ情報の記録はＳＴＷ（サーボ・トラック・ライト）と呼ばれる工程で行われる。通常、ＳＴＷは磁気ディスク装置のスピンドル振動が小さく、ディスク記録媒体のフラッタが比較的小さい低周速で行われる。たとえば、スピンドルが回転数１００００ｒｐｍで回転する直径８４ｍｍのディスク記録媒体を搭載した磁気ディスク装置では、ＳＴＷを実施する回転数が４０００〜６０００ｒｐｍに設定される。したがって、ＳＴＷでは通常状態（回転数が１００００ｒｐｍ）の半分程度の周速しか得られないため、スライダとディスク記録媒体間で発生する浮上力が減少し、スライダの浮上量が減少する。
【０００４】
また、近年、低浮上化を進めた従来技術のひとつにロード・アンロード方式がある。同方式はスライダを装置停止時にはディスク記録媒体上から退避（アンロード）し、装置起動時に再びディスク記録媒体上に移動（ロード）させる方式である。ロード・アンロード方式では、スライダがディスク記録媒体上にロードされるとき、スライダとディスク記録媒体が接触する危険性がある。従来の技術では、この接触によるディスク記録媒体の損傷を回避するために、スライダの空気流出端側からディスク記録媒体に近づけ、接触したとしても空気流出端のコーナ部でディスク記録媒体と接触するように設計している。
【０００５】
スライダの空気流出端側からディスク記録媒体へ近づける有効な手段としては、スライダを支持するサスペンションに予めスライダの空気流出端側がディスク記録媒体に近づくように、初期的な姿勢角を付けておく方法が用いられる。また、スライダの空気流出端のコーナ部がディスク記録媒体と接触するにしてもその接触程度を緩和させるために、空気流出端のコーナ部にレールを形成した形状（Ｒの付いた形状）が用いられる。
【０００６】
また、スライダの浮上量についての従来技術として、スライダのサイドステップ軸受けが空気流出端まで延ばすことによって、ロード時の接触によるディスク損傷を低減しようとすることが提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００７】
さらに、スライダの浮上量についての他の従来技術として、スライダの空気流出端の負圧溝を傾斜面又は曲面とすることによって、ロード時の接触によるディスク損傷を低減しようとすることが提案されている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００１−３５１１３
【０００９】
【特許文献２】
特開２００２−１７５６７６
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上述したＳＴＷに際して、仮に、スライダとディスク記録媒体が接触した場合、正常な信号記録ができなくなりサーボ情報の品質を低下させるばかりでなく、最悪の場合、ディスク記録媒体の損傷あるいは磁気トランスデューサの破壊を引き起こす。こうした浮上量の減少によるスライダとディスク記録媒体の接触を回避するためには、ＳＴＷ時の浮上量の減少を考慮して通常状態での浮上量を高く設定する必要がある。しかし、浮上量を高く設定することはビット密度向上を阻害することになり、磁気ディスク装置の記憶容量の増加を妨げてしまう。したがって、高速の磁気ディスク装置ではスライダの周速変化に伴う浮上量変化を低減することが低浮上化の重要な課題のひとつとなっている。
【００１１】
また、従来技術で空気流出端のコーナ部までレールを延在するスライダにおいては、このようなレール形状の変更は周速変化に伴う浮上量変化の感度の変化を伴うという不都合が生じる。。
【００１２】
そこで、更なる磁気ヘッドスライダの低浮上化には、ロード・アンロード方式を用いた磁気ディスク装置のロード時のスライダとディスク記録媒体の接触を回避しつつ、ＳＴＷ時の周速変化に伴う浮上量変化を低減できるスライダが必要とされている。
【００１３】
また、上述した特許文献１又は２に記載された磁気ヘッドスライダは、周速変化に伴う浮上量変化低減についての配慮がなされていない。
【００１４】
本発明の目的は、ロード・アンロード方式を用いた磁気ディスク装置のロード時のスライダとディスク記録媒体の接触を回避しつつ、ＳＴＷ時を一例とする周速変化に伴うスライダの浮上量変化を低減できる磁気ヘッドスライダを提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明は次のような構成を採用する。
空気流入端から続いて形成されたフロントステップ軸受け、前記フロントステップ軸受けから続いて形成されたレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して側面に形成されたサイドステップ軸受け、からなるフロントパッドと、
空気流出端の近傍に配置された磁気トランスデューサを有するセンタレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して前記センタレール面を囲むリアステップ軸受け、からなるセンタパッドと、
前記フロントステップ軸受けと前記サイドステップ軸受けとリアステップ軸受けとで囲まれた負圧溝と、を備えた磁気ヘッドスライダであって、
前記磁気ヘッドスライダの長手方向中央部分で前記サイドステップ軸受けにつながるサブサイドステップ軸受けを前記空気流出端近傍まで設け、
前記サブサイドステップ軸受けは、前記サイドステップ軸受けよりも深く且つ前記負圧溝よりも浅く形成し、
前記サブサイドステップ軸受けの周辺に前記負圧溝より深いサブ負圧溝を形成する構成とする。
【００１６】
また、空気流入端から続いて形成されたフロントステップ軸受け、前記フロントステップ軸受けから続いて形成されたレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して側面に形成されたサイドステップ軸受け、からなるフロントパッドと、
空気流出端の近傍に配置された磁気トランスデューサを有するセンタレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して前記センタレール面を囲むリアステップ軸受け、からなるセンタパッドと、
前記フロントステップ軸受けと前記サイドステップ軸受けとリアステップ軸受けとで囲まれた負圧溝と、を備えた磁気ヘッドスライダであって、
前記サイドステップ軸受けは前記磁気ヘッドスライダの長手方向中央部分で終端を形成し
前記空気流出端のコーナ部に流出端パッドを形成し、
前記流出端パッドは、前記サイドステップ軸受けよりも深く且つ前記負圧溝よりも浅く形成し、
前記流出端パッドの周辺に前記負圧溝より深いサブ負圧溝を形成する構成とする。
【００１７】
また、空気流入端から続いて形成されたフロントステップ軸受け、前記フロントステップ軸受けから続いて形成されたレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して側面に形成されたサイドステップ軸受け、からなるフロントパッドと、
空気流出端の近傍に配置された磁気トランスデューサを有するセンタレール面、前記フロントステップ軸受けと同一深さを有して前記センタレール面を囲むリアステップ軸受け、からなるセンタパッドと、
前記フロントステップ軸受けと前記サイドステップ軸受けとリアステップ軸受けとで囲まれた負圧溝と、を備えた磁気ヘッドスライダであって、
前記サイドステップ軸受けは前記磁気ヘッドスライダの長手方向中央部分で終端を形成し
前記空気流出端のコーナ部に前記負圧溝より深いサブ負圧溝を形成する構成とする。
【００１８】
このような構成を採用することにより、本発明は、ＳＴＷなどの周速変化に伴う浮上量変化を低減するとともに、ロード時のスライダとディスク記録媒体の接触を回避し得ることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態に係る磁気ヘッドスライダについて、図面を参照しながら以下詳細に説明する。図１は本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダの斜視図であり、図２は本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダの平面図であり、図３は図２中のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。
【００２０】
図１と図２を参照して、第１実施形態に係るライダ１は、大きく分けると、空気流入端２、浮上面３（ディスク記録媒体と対向している面）及び空気流出端４から構成されている。ここで、浮上面３は、フロントパッド１３と、センタパッド１４と、負圧溝１２と、サブ負圧溝１７，１８と、を備えている。
【００２１】
このフロントパッド１３は、空気流入端２から続いて形成されたフロントステップ軸受け５と、フロントステップ軸受け５から続いて形成されたサイドレール面６，７と、フロントステップ軸受け５と同一深さを有するサイドステップ軸受け８，９と、サイドステップ軸受け８，９に続いて形成されるサイドステップ軸受け８，９より深く且つ負圧溝１２より浅いサブサイドステップ軸受け１５，１６と、から構成される。さらに、負圧溝１２は、サイドレール面６，７乃至フロントステップ軸受け５とサイドステップ軸受け８，９で囲まれており、また、サブ負圧溝１７，１８は、サブサイドステップ軸受け１５，１６の周辺に形成され且つ負圧溝１２より深いサブ負圧溝を形成している。
【００２２】
さらに、センタパッドは１４は、スライダ１の空気流出端４側のセンタレール面１１と、フロントステップ軸受け５と同一深さでセンタレール面１１を囲むように形成されたリアステップ軸受け１０と、から構成される。センタパッド１４のセンタレール面１１にディスク記録媒体２５に対して情報を記録・再生する磁気トランスデューサ１９を有している。なお、本実施形態ではセンタパッド１４と称しているが、空気流出端側でスライダ短手方向の中央部にパッドが配されているものには限らず、この中央部を外れたものをも含み、リアパッド（フロントパッドに対応して）とも称し得るものである。
【００２３】
スライダの寸法を具体的に例示すると、スライダ１の長さは１．２５ｍｍ、幅は１．０ｍｍ、厚さは０．３ｍｍである。サイドレール面６，７及びセンタレール面１１を基準としたフロントステップ軸受け５の深さδｓは２００ｎｍである。
【００２４】
図３は、図２中のＡ−Ａ’線に沿った断面のセンタレール面１１と、サブサイドステップ軸受け１５，１６と、リアステップ軸受け１０と、負圧溝１２との相対関係を説明するための断面図である。なお、サイドステップ軸受け８，９及びリアステップ軸受け１０の深さは、前述したフロントステップ軸受け５の深さδｓと同じく２００ｎｍである（以下、これらを総称してステップ軸受けと称する）。また、サイドレール面６、７及びセンタレール面１１（以下、総称してレール面と称する）を基準とした負圧溝１２の深さＲは１．５μｍである。
【００２５】
サイドステップ軸受け８，９に続いて形成したサブサイドステップ軸受け１５，１６の深さδｓ１は、サイドレール面６，７及びセンタレール面１１を基準として８００ｎｍであり、負圧溝１２に形成したサブ負圧溝１７，１８の深さＲ１は２．３μｍである。これらの溝加工にはステップ軸受け５，８〜１０あるいは負圧溝１２の形成に用いられるイオンミリングあるはＲＩＥ（反応性イオンミリング）等を用いて別々に形成される。なお、第１実施形態のスライダ１ではサイドステップ軸受け８，９と負圧溝１２を基準とした加工量が異なるが、加工量を同じに設計することで同時に形成することができる。
【００２６】
サイドステップ軸受け８，９から続いて形成するサブサイドステップ軸受け１５，１６は、浮上面３を長手方向にみて中央より空気流出端４側に位置する。また、サブサイドステップ軸受け１５，１６の開始位置８ｂ，９ｂは左右対称である必要はなく、スライダ１の様々な浮上特性を考慮して非対称であっても良い。さらに、サブサイドステップ軸受け１５，１６及びサブ負圧溝１７，１８は左右いずれかのみに形成しても良い。なお、本発明における浮上特性についての定性的な特徴は後述する。
【００２７】
ここで、本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダの特徴を明確にするために、比較対比例として図４に従来の典型的な磁気ヘッドスライダを示す。従来の典型的なスライダ１は、第１実施形態のスライダ１の特徴であるサブサイドステップ軸受け１５，１６及びサブ負圧溝１７，１８がなく、サイドステップ軸受け８，９がスライダ１の空気流出端４付近まで延びている。従来の典型的なスライダ１の図４中のＡ−Ａ’線に沿った断面図を図５に示す。この従来の典型的なスライダ１のステップ軸受け８，９の深さδｓと負圧溝１２の深さＲは、それぞれ本発明の第１実施形態のスライダと同様に、２００ｎｍと１．５μｍである。
【００２８】
図６に本実施形態に係る磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置２８の平面図を示す。この磁気ディスク装置２８は、略＋９°〜−１５°のヨー角変化を伴う直径８４ｍｍのディスク記録媒体２５を搭載している。ここで、ヨー角は、スライダ１がディスク記録媒体２５に対向して位置し、回転アクチュエ−タ２７による揺動運動によってスライダ１にディスク記録媒体２５の円周に沿って空気が流入する方向とスライダ１の長手方向のなす角である。ヨー角の符号はスライダ１の長手方向に対しディスク記録媒体２５の内周側から空気が流入する方向を正と表している。また、スライダ１をディスク上にロード又はディスク上からアンロードするためのランプ２９が取り付けられている。
【００２９】
磁気ディスク装置２８は、回転数１００００ｒｐｍで回転するスピンドル２６に取り付けられたディスク記録媒体２５と、回転アクチュエ−タ２７からキャリッジ２４とサスペンション２０を介して、サスペンション２０の先端に取り付けられたスライダ１と、から構成される。スライダ１はサスペンション２０によってディスク記録媒体２５上に２．０ｇｆの力で押しつけられ、ディスク記録媒体２５の回転によって生じる空気の流れがスライダ１とディスク記録媒体２５間に入り込むことによって、スライダ１はディスク記録媒体２５から浮上する。スライダ１は回転アクチュエ−タ２７によってディスク記録媒体２５上において略１９〜３９ｍｍの任意の半径位置で精度よく位置決めされ、スライダ１のセンタパッド１４に搭載された磁気トランスデュ−サ１９によりディスク記録媒体２５に対して任意の位置で情報の記録・再生を行う。
【００３０】
本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置２８の内周位置と外周位置での周速変化に伴う浮上量変化をそれぞれ図７と図８に示す。なお、比較対比のため図７と図８には図４の従来技術の典型的な磁気ヘッドスライダのデータも示してある。
【００３１】
図７と図８において、縦軸の浮上量変化はスライダ１のセンタレール面１１の空気流出端位置での値に対する変化（差）である。即ち、縦軸は、図７で云えば、周速が１９．８ｍ／ｓの通常時の空気流出端浮上量を基準にして、他の周速での浮上量の差を表した相対値である。また、本発明と従来品とでは浮上の絶対値は異なり得るが、相対比較をするために１９．８ｍ／ｓでの浮上量をともに０としている。ここで、通常の１００００ｒｐｍでスピンドル２６が回転する磁気ディスク装置２８の内周位置（半径が略１９ｍｍ）と外周位置（半径が略３９ｍｍ）での周速は、それぞれ１９．８ｍ／ｓ及び４０．９ｍ／ｓに相当する。また、ＳＴＷ時の回転数６０００ｒｐｍでは内周位置で１１．９ｍ／ｓ、外周位置で２４．５ｍ／ｓに相当する。
【００３２】
図７が示すように内周位置では、従来の典型的なスライダ１はＳＴＷ時の周速減少に伴う浮上量減少が約１ｎｍであるのに対して、第１実施形態のスライダ１は浮上量減少がなく、逆に浮上量が約０．１ｎｍ増加する。一方、図８が示すように外周位置では、従来の典型的なスライダ１の浮上量減少は約４ｎｍであるのに対して、第１実施形態のスライダ１のそれは約２ｎｍである。すなわち、本発明の第１実施形態のスライダ１は従来の典型的なスライダ１に較べ、外周位置での周速減少に伴う浮上量減少を約１／２に改善する効果を有している。したがって、本発明の第１実施形態のスライダ１を用いれば、ＳＴＷ時の周速減少に伴う浮上量減少が生じてもスライダ１がディスク記録媒体２５に接触する危険性を増加させることなく、外周位置での通常状態の浮上量を約２ｎｍ下げて設計することが可能となる。
【００３３】
つぎに、ロード・アンロード方式を用いたい磁気ディスク装置２８におけるロード時のスライダ１とディスク記録媒体２５の接触の観点から、第１実施形態のスライダ１の効果を説明する。従来の技術で述べたように、ロード時、スライダ１は空気流出端４側からディスク記録媒体２５に接近する。
【００３４】
本発明の第１実施形態のスライダ１でも予めサスペンション２０に与えられた姿勢角によって、スライダ１の空気流出端４側から安全に浮上状態に入るメカニズムが適用される。スライダ１の空気流出端４側からディスク記録媒体２５に接近する際、スライダ１の空気流出端コーナ部４ａ又は４ｂが、空気流出端の中央部に比べて、最もディスク記録媒体２５と接触する可能性が高い位置となる。なぜなら、ランプ２８から回転アクチュエータ２７によりスライダ１がディスク記録媒体２５上にヨー角を伴ってロードされるとき、スライダ１の浮上面３には、ヨー角分だけ空気流入端２からずれた角度で空気が流入する。これによりスライダ１の短手方向（ロール方向と呼ぶ）の傾きを生じてスライダ１はディスク記録媒体２５に接近するためである。
【００３５】
次に、図９は、本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダについてロード時のスライダ１がロール方向の傾きを伴ってディスク記録媒体２５に接触する空気流出端４の状況を示す図であり、また、図１０に同じ状態を従来の典型的な磁気ヘッドスライダについて示す。なお、図９は図１に示す空気流出端４側からから見たスライダ短手方向の半分の部分を図示している。
【００３６】
図示するスライダ１の接触傾き角θ１及びθ２は、スライダ１の磁気トランスデューサ１９の磁気ディスク記録媒体２５からの距離を１μｍと仮定し、また、スライダ１を短手方向にみて磁気トランスデューサ１９からサブサイドステップ軸受け１５あるいはサイドステップ軸受け８のエッジまでの距離を０．４７ｍｍとしたときのディスク記録媒体２５に接触する角度である。
【００３７】
図９及び図１０に示した第１実施形態のスライダ１の接触傾き角θ１は約０．２２°であり、従来の典型的なスライダ１の接触傾き角θ２は約０．１５°である。したがって、第１実施形態のスライダ１は、従来の典型的なスライダ１より約５０％大きく傾いてディスク記録媒体２５に接近して初めて接触することになる。すなわち、サブサイドステップ軸受け８と１５の深さの差異によって接触傾き角が決まるのである。さらに、サブサイドステップ軸受け１５，１６のみを深くした場合、スライダ１の空気流出端コーナ部４ａあるいは４ｂで接触する危険性が増加するが（サブサイドステップ軸受け１５，１６を深くし過ぎると負圧溝１２と同レベル程度になるので、サブサイドステップ軸受け１６，１６が接触せずに空気流出端コーナー部が接触し得る）、サブサイドステップ軸受け１５，１６の周辺にサブ負圧溝１７，１８を形成しておくことで、スライダ１の空気流出端のコーナ部４ａあるいは４ｂでの接触危険性の増加を回避できる。
【００３８】
図１１は本発明の第２実施形態に係る磁気ヘッドスライダを示す平面図である。第２実施形態のスライダ１は、第１実施形態のスライダ１とサイドステップ軸受け８，９の構成が異なっている。異なるのはサイドステップ軸受け８，９が浮上面３を長手方向にみてほぼ中央付近で終わり、負圧溝１２を隔ててスライダ１の空気流出端４近傍に、ステップ軸受け８，９より深く且つ負圧溝１２より浅いサブ流出端パッド１５ａ，１６ａを有し、サブ流出端パッド１５ａ，１６ａの周辺に負圧溝１２より深いサブ負圧溝１７，１８を有している点である。
【００３９】
サブ流出端パッド１５ａ，１６ａの深さは、サイドレール面６，７及びセンタレール面１１を基準として８００ｎｍで形成されている。一方、流出端パッドを有する従来の典型的なスライダを図１２に示す。流出端パッドを有する従来の典型的なスライダの流出端パッド８ａ，８ｂは、ステップ軸受け８，９の深さδｓと同じく２００ｎｍであり、流出端パッド８ａ，８ｂの周辺は深さ１．５μｍの負圧溝１２である。
【００４０】
図１３及び図１４に、本実施形態に係る磁気ヘッドスライダと流出端パッドを有する従来の典型的な磁気ヘッドスライダ（図１２に示すスライダ）における内周位置と外周位置での周速変化に伴う浮上量変化をそれぞれ示す（図７と図８と同様に、通常の使用時を基準として相対的な浮上量変化を表す）。図１３からわかるように、本第２実施形態のスライダ１も図１２に示す従来の典型的なスライダ１も、周速変化に伴う浮上量変化は小さい。通常状態からＳＴＷ時の周速減少に対して、内周位置で浮上量はほとんど変化せず、外周位置でも約１．８ｎｍの浮上量減少しか生じなく、ＳＴＷ時の周速変化に伴う浮上量減少は少なくそれ程問題とはならない。この浮上量減少の低減の現象は、サイドステップ軸受け８，９が中央付近で終わるスライダ１の特徴であり、サイドステップ軸受け８，９が空気流出端４付近まで及んでいるスライダ１より優れた特性である。換言すると、サイドステップ軸受け８，９が短いと周速減少に伴う浮上量変化は少ないと云える。
【００４１】
これに対して、ロード時のスライダ１とディスク記録媒体２５との接触の観点からは、第２実施形態のスライダ１は先述したようにサブ流出端パッド８ａ，９ａをステップ軸受け８，９より深く形成することで、ディスク記録媒体２５とのロール方向の接触傾き角を増加させることができる（図９と図１０の説明と同様に）。したがって、第２実施形態のスライダ１が図１２に示す従来の典型的なスライダ１より、ディスク記録媒体２５との接触を回避できる点で優れている。
【００４２】
図１５は本発明の第３実施形態に係る磁気ヘッドスライダを示す平面図である。第３実施形態のスライダ１には、第２実施形態のスライダ１のサブ流出端パッド１５ａ，１６ａは存在せず、スライダ１の空気流出端４に負圧溝１２より深いサブ負圧溝１７，１８を有している。第３実施形態のスライダ１も第２実施形態のスライダ１と同様にサイドステップ軸受け８，９が短いため、周速変化に伴う浮上量変化が小さい。一方、ロード時のスライダ１とディスク記録媒体２５との接触の観点からは、サブ負圧溝１７，１８が周辺の負圧溝１２より深く形成することにより、ディスク記録媒体２５とのロール方向の接触傾き角を増加させる効果がある。
【００４３】
以上説明したように、本発明によれば、周速変化に伴う浮上量変化を低減するとともにロード時のスライダとディスク記録媒体の接触を回避するという双方の作用効果を達成させるために、第１実施形態ではサブサイドステップ軸受け１５，１６とサブ負圧溝１７，１８を設けたものであり、その作用効果を図７と図８に示すように数値計算により確認したものである。
【００４４】
そこで、本発明の第１実施形態の特徴について、図１（第１実施形態）と図４（従来技術）を参照しながら定性的に説明すると、サイドステップ軸受け８，９のスライダ長手方向（空気流れ方向）の終端位置が図４のように流出端４近傍であると、負圧溝１２はこのサイドステップ軸受けで取り囲まれた形状となって、ディスク周速変化に伴う負圧溝による負圧（スライダをディスク側に引きつける力）の変動が発生する。一方、図１（第１実施形態）又は図１１（第２実施形態）に示すように、サイドステップ軸受けが長手方向の中央付近で終端位置となると、負圧溝１２はサイドステップ軸受けで取り囲まれる形状ではなくなり、負圧溝で発生する負圧が周速変化に対して飽和現象を呈する。
【００４５】
このように、サイドステップ軸受けをスライダ長手方向の中央付近で終端とさせると、周速変化に対して通常使用時とＳＴＷ時とで浮上量変化がほとんど発生しないこととなるのである。ここで、図１１ではサイドステップ軸受けを中央付近で完全に終端とさせているが、図１では中央部分で終端となっているサイドステップ軸受け８，９に続いてサブサイドステップ軸受け１５，１６を設けているが、このサブサイドステップ軸受けは、サブサイドステップ軸受けよりも一段と深く形成されているので、浮上量変化の観点では図１１と同様の効果を奏させるものである。
【００４６】
一方、スライダとディスクの接触回避を考察すると、サブ負圧溝１７，１８を設けることは、θ１＞θ２を確保することであるが（図９と図１０参照）、これ以外にも次のような機能を果たすものである。即ち、図４に示す流出端４のコーナ部４ａ、４ｂは元来角張った形状を保有しており、このコーナ部がディスクに接触するとディスクの損傷を引き起こす。図１に示すサブサイドステップ軸受け１５，１６を設けることによって、前述した角張ったコーナ部が接触する以前にサブサイドステップ軸受けが接触することとなる。そこで、サブサイドステップ軸受けの全体形状はミリング法で加工する。ミリング法で形成した面は比較的滑らかであり、仮にスライダがディスクと接触しても、ディスクの損傷は軽微となる。このように、サブサイドステップ軸受け１５，１６は、浮上量変化の低減とともに接触回避乃至接触による損傷防止に効果を発揮するものである。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、サイドステップ軸受けの流出端側にステップ軸受けよりも深く負圧溝より浅いサブサイドステップ軸受けを有し、且つサブサイドステップ軸受けの周辺に負圧溝より深いサブ負圧溝を有する構成とすることによって、ＳＴＷなどの周速変化に伴う浮上量変化を低減するとともに、ロード時のスライダとディスク記録媒体の接触を回避する効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダの斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図３】図２中のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。
【図４】従来技術に関する典型的な磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図５】図４中のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。
【図６】本実施形態に係る磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置の平面図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置の内周位置での磁気ヘッドスライダの周速変化に伴う浮上量変化を示すグラフである。
【図８】本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置の外周位置での磁気ヘッドスライダの周速変化に伴う浮上量変化を示すグラフである。
【図９】第１実施形態に係る磁気ヘッドスライダにおけるロード時のロール方向の接触傾き角を説明する図である。
【図１０】従来技術の典型的な磁気ヘッドスライダにおけるロード時のロール方向の接触傾き角を説明する図である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図１２】従来技術に関する流出端パッドを有する典型的な磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図１３】本発明の第２実施形態に係る流出端パッドを有する磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置の内周位置での磁気ヘッドスライダの周速変化に伴う浮上量変化を示すグラフである。
【図１４】本発明の第２実施形態に係る流出端パッドを有する磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置の外周位置での磁気ヘッドスライダの周速変化に伴う浮上量変化を示すグラフである。
【図１５】本発明の第３実施形態に係る磁気ヘッドスライダの平面図である。
【符号の説明】
１  スライダ
２  空気流入端
３  浮上面
４  空気流出端
４ａ，４ｂ  空気流出端コーナ部
５  フロントステップ軸受け
６，７  サイドレール面
８，９  サイドステップ軸受け
８ａ，９ａ  流出端パッド
８ｂ，９ｂ  サブサイドステップ軸受け開始位置
１０  リアステップ軸受け
１１  センタレール面
１２  負圧溝
１３  フロントパッド
１４  センタパッド
１５，１６  サブサイドステップ軸受け
１５ａ，１６ａ  サブ流出端パッド
１７，１８  サブ負圧溝
１９  磁気トランスデュ−サ
２０  サスペンション
２４  キャリッジ
２５  ディスク記録媒体
２６  スピンドル
２７  回転アクチュエータ
２８  磁気ディスク装置
２９  ランプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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