(57)【要約】【課題】冷却システムの小型化に寄与する冷媒供給装置を提供する。【解決手段】冷媒として純水を使用する。露光装置のリニアモータ等に純水を供給する純水供給経路４と、露光装置から純水を回収する純水戻り経路３と、不純物除去経路５とを備える。不純物除去経路５には、温度コントローラ７、ろ過膜１１、イオン交換樹脂１２、脱気膜１３、活性炭フィルタ１４等の不純物除去ユニットが配置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷却対象に冷媒を供給する冷媒供給装置であって、
前記冷却対象に冷媒としての純水を供給する冷媒供給経路と、
前記冷媒供給経路と別の経路である不純物除去経路に配置された不純物除去ユニットと、
を備えることを特徴とする冷媒供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、冷媒供給装置及び該装置を含むデバイス製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
露光装置の１つとして、ウエハ及びレチクルを高速で移動させて位置決めするウエハステージ及びレチクルステージを有し、それらの駆動用としてリニアモータを備えたものがある。また、レチクルを固定し、ウエハをステップ移動させながら複数のショット領域に順にパターンを転写する露光装置がある。このような露光装置では、リニアモータのコイルの発熱に対する冷却対策としてフッ化溶液を冷媒とし、リニアモータのコイル近傍に冷媒を流することによりコイルを冷却する。フッ化溶液は、１）優れた電気絶縁性を有し、２）完全に不活性で金属、プラスチック、ゴムなどの構造材料を侵さない、３）不燃性である、などの特徴を有することから冷却冷媒として広く利用されている。
【０００３】
昨今、処理速度（スループット）の向上に伴うステージ加速度は増加の一途であり、さらにレチクルや基板の大型化に伴ってステージ質量も増大している。このため、＜移動体の質量＞×＜加速度＞で定義される駆動力は非常に大きなものとなり、ステージ駆動用のリニアモータの発熱量も増大し、発熱が周囲に与える影響が問題として顕在化しつつある。
【０００４】
一方、従来、ＬＳＩあるいは超ＬＳＩなどの極微細パターンで形成される半導体素子の製造工程において、マスクに描かれた回路パターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して焼き付け形成する縮小型投影露光装置が使用されている。半導体素子の実装密度の向上に伴いパターンのより一層の微細化により、高精度な位置決めを行う必要が有る。そのため、リニアモータからの発熱は、位置決めのための計測に使われる干渉計の光軸やミラーが配置されているリニアモータ近傍やステージ空間の温度上昇やゆらぎを引き起こし、干渉計による計測精度を低下させる。
【発明が解決しようとする課題】
リニアモータからの発熱に起因する問題を抑えるために、冷却液量は増加の一途である。冷却媒体として広く使用されているフッ化溶液は、水に比べて熱容量が小さく比重が大きいため、冷却液量が増大し、ポンプなどの機器類にかかる負荷が増大する。また、使用する熱交換器、搬送用ポンプ等の機器類が大型化し、冷却システム全体が巨大化してしまう。
【０００５】
本発明は、上記の背景に鑑みてなされたものであり、例えば、冷却システムの小型化に寄与する冷媒供給装置を提供すること、及び、そのような冷媒供給装置を含むデバイス製造装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の側面は、冷却対象に冷媒を供給する冷媒供給装置に係り、前記冷却対象に冷媒としての純水（例えば、純水の比抵抗で１ＭΩ・ｃｍ以上であること、及び／又は、溶存酸素量が１リットル当たり１ｍｇ以下とすることが好ましい）を供給する冷媒供給経路と、前記冷媒供給経路と別の経路である不純物除去経路に配置された不純物除去ユニットとを備えることを特徴とする。
【０００７】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水を貯留する純水タンクを更に備え、前記冷媒供給経路の上流側は、前記純水タンクに接続されており、前記不純物除去経路は、前記純水タンクを通して純水を循環させることが好ましい。
【０００８】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記純水タンクの下部は、テーパ形状を有することが好ましい。
【０００９】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、前記純水タンク内に不活性ガスを供給することにより純水中の溶存酸素を除去する酸素除去機構を更に備えることが好ましい。ここで、前記酸素除去機構は、例えば、前記純水タンク内の純水中に不活性ガスを供給するように構成される。
【００１０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記不純物除去ユニットは、イオン交換樹脂、活性炭、ろ過膜、逆浸透膜、蒸留装置、脱気膜の少なくとも１つを含むことが好ましい。
【００１１】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水を殺菌する殺菌灯を更に備えることが好ましい。
【００１２】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水の純度を測定するセンサと、純水の純度が所定基準を満たさない場合に前記冷却対象に対する純水の供給を停止するためのバルブとを更に備えることが好ましい。
【００１３】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、前記冷媒供給経路に設けられた第１ポンプと、前記不純物除去経路に設けられた第２ポンプとを更に備え、前記第１ポンプ及び前記第２ポンプは、独立して制御され、前記第１ポンプは、純水の純度が所定基準を満たさない場合に停止されること、前記第２ポンプは純水の純度が所定の基準を満たした場合に停止されること、が好ましい。
【００１４】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記センサは、比抵抗センサ及び／又は溶存酸素センサを含むことが好ましい。
【００１５】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水の温度を調整する温調ユニットを更に備えることが好ましい。
【００１６】
本発明の第２の側面は、デバイス製造装置に係り、該装置は、上記の冷媒供給装置を冷却装置の一部として備えることを特徴とする。
【００１７】
本発明の第３の側面は、露光装置に係り、該装置は、上記の冷媒供給装置を冷却装置の一部として備えることを特徴とする。
【００１８】
本発明の第４の側面は、デバイス製造装置に係り、該装置は、発熱する駆動部と、前記駆動部を冷却する冷却部に冷媒としての純水を供給するための冷媒供給経路と、前記冷媒供給経路に配置された純水の純度を測定するセンサと、前記センサで測定された純水の純度に基づいて前記冷却部に対する純水の供給を制御するコントローラとを備えることを特徴とする。
【００１９】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記コントローラは、純水の純度が所定の基準を満たさない場合に前記冷却部に対する純水の供給を停止するように構成されていることが好ましい。
【００２０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記センサは、比抵抗センサ及び／又は容存酸素センサを含むことが好ましい。
【００２１】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水中の不純物を除去する不純物除去ユニットを更に備えることが好ましい。
【００２２】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記不純物除去ユニットは、前記冷媒供給経路と別の経路である不純物除去経路に配置されうる。
【００２３】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、前記冷媒供給経路に設けられた第１ポンプと、前記不純物除去経路に設けられた第２ポンプとを更に備え、前記第１ポンプ及び前記第２ポンプは、独立して制御され、前記第１ポンプは、純水の純度が所定基準を満たさない場合に停止されること、前記第２ポンプは純水の純度が所定の基準を満たした場合に停止されること、が好ましい。
【００２４】
本発明の好適的な実施の形態によれば、前記不純物除去ユニットは、前記冷媒除去経路の分路中に配置されうる。
【００２５】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記不純物除去ユニットは、イオン交換樹脂、活性炭、ろ過膜、逆浸透膜、蒸留装置、脱気膜の少なくとも１つを含むことが好ましい。
【００２６】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水を殺菌する殺菌灯を更に備えることが好ましい。
【００２７】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水を貯留する純水タンクを更に備え、前記冷媒供給経路の上流側は、前記純水タンクに接続されていることが好ましい。ここで、前記純水タンクの下部は、テーパ形状を有することが好ましい。
【００２８】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、前記純水タンク内に不活性ガスを供給することにより純水中の容存酸素を除去する酸素除去機構を更に備えることが好ましい。
【００２９】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記酸素除去機構は、前記純水タンク内の純水中に不活性ガスを供給するように構成されていることが好ましい。
【００３０】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、純水の温度を調整する温調ユニットを更に備えることが好ましい。
【００３１】
本発明の好適な実施の形態のよれば、該装置は、例えば露光装置として構成されうる。
【００３２】
本発明の第５の側面は、デバイス製造方法に係り、該方法は、上記のデバイス製造装置を用いて基板を処理する工程を含むことを特徴とする。
【００３３】
本発明の第６の側面は、デバイス製造方法に係り、上記の露光装置として構成されたデバイス製造装置により基板にパターンを転写する工程と、該基板を現像する工程とを含むことを特徴とする。
【００３４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を説明する。
【００３５】
本発明の好適な実施の形態では、半導体露光装置等のデバイス製造装置の冷却システム用の冷却媒体として純水を使用することにより、冷却システムを構成する機器類（例えば、ポンプ、冷媒の温調装置、流路等）を小型化するとともに冷却システム全体を小型化する。水は、フッ化溶液に対して約２倍の熱回収能力を有するので、冷却媒体の流量を増やすことなく、熱の回収量を増やすことができる。
【００３６】
水は、長時間放置することにより腐敗し、金属などを腐食してしまう。また、電気絶縁性がない為、電子機器等の短絡（ショート）の原因となる。そこで、本発明の好適な実施の形態では、一般的な水道水や工業用水ではなく、純水を冷却媒体として使用する。純水の純度（水質）は、不純物除去ユニットにより除去されうる。冷却対象（例えば、リニアモータ等の駆動部）に対する純水の供給は、純水が所定の純度を有しない場合にはコントローラ（例えば、バルブ及びその制御装置）により停止されうる。純水の純度は、例えば、比抵抗及び／又は溶存酸素量としてセンサにより測定されうる。ここで、所定の純度は、例えば、比抵抗で１ＭΩ・ｃｍ以上であること、及び／又は、溶存酸素量が１リットル当たり１ｍｇ以下とすることが好ましい。純水の純度（水質）を管理することにより、金属などに対する腐食性を防ぎ、また、電気絶縁性を確保することができる。
【００３７】
本発明の冷媒供給装置をデバイス製造装置に適用した場合、例えば、リニアモータ等の駆動部を高効率で冷却することができ、装置全体を小型化することができる。
【００３８】
本発明の冷媒供給装置を露光装置に適用した場合、例えば、コイルの発熱によるステージ空間のゆらぎを抑え、露光処理におけるステージの位置決め精度を上げ、オーバーレイ精度、線幅精度を向上させることができる。さらに、ステージ加速度の増加に伴って増大するコイルの発熱による影響を抑えることでスループットを向上することができ、従来よりも高精度で生産性の高い露光処理を行うことができる。
【００３９】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明の第１の実施の形態の純水供給システム（冷媒供給システム）の概略図である。この実施の形態の純水供給システム１００は、純水を供給する経路（純水供給経路）４、戻りの経路（純水戻り経路）３、純水中の不純物除去を行う経路（不純物除去経路）５、貯蔵用タンク１０を有する。
【００４０】
純水は、貯蔵用タンク１０からポンプ１６により純水供給経路４を通り、該経路４に配置された加温器９により所定の温度に加熱されてから露光装置内の冷却対象に供給され該冷却対象を冷却する。冷却対象としては、例えば、リニアモータ、ウエハチャック等を挙げることができる。
【００４１】
純水供給経路４には、溶存酸素計１ａ及び比抵抗計２ａが配置されている。溶存酸素計１ａ、比抵抗計２ａによってそれぞれ純水の溶存酸素値、比抵抗値が計測される。計測結果は、コントローラ３０に送られる。コントローラ３０は、溶存酸素値、比抵抗値がそれぞれ規定値（例えば、容存酸素値が１リットル当たり１ｍｇ以下、比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上）を満たす場合には、流路切り替えバルブ２０を露光装置側に開いて、純水が露光装置に供給されるようにする。一方、コントローラ３０は、溶存酸素値、比抵抗値のいずれかがそれぞれの規定値を満たさない場合には、バルブ２０を制御して、露光装置への純水の供給を停止し、内部循環用経路２２を通して純水をタンク１０に戻す（この状態を以下では内部循環という）。すなわち、露光装置に供給される純水の水質がコントローラ３０によって管理される。
【００４２】
純水戻り経路３には、逆止弁２１が設けられており、バルブ２０を内部循環に切り替えた場合に露光装置内に純水が逆流ことが防止されている。
【００４３】
このように、この純水供給装置１００では、溶存酸素値、比抵抗値のいずれかがそれぞれの規定値（例えば、容存酸素値が１リットル当たり１ｍｇ以下、比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上）を満たさない場合には、純水供給装置１００内で純水を循環させ、溶存酸素値、比抵抗値が規定以下なってから、露光装置に純水を供給する。ここで、純水供給装置１００内で純水を循環させることにより、純水の水温も管理することができる。
【００４４】
加温器９の出口には温度センサ６ａが設けられていて、コントローラ７ａは、温度センサ６ａによる測定結果に基づいて、純水が所定の温度まで加熱されるように加温器９を制御する。
【００４５】
露光装置内で冷却対象を冷却することにより温度が上昇した純水は、純水戻り経路３に配置された冷却器８で所定温度まで冷却される。冷却器８の出口には温度センサ６ｂが設けられていて、コントローラ７ｂは、温度センサ６ｂによる測定結果に基づいて、純水が所定温度まで冷却されるように冷却器８を制御する。冷却器８を通った純水は、純水戻り経路３を通って貯蔵用タンク１０に戻る。貯蔵用タンク１０の底部は、純水を完全に排水する時などに液溜りができないようにうにする為、テーパ形状となっている。
【００４６】
貯蔵用タンク１０に貯められた純水の一部は、ポンプ１７により、水質維持のため不純物除去経路５に送られる。不純物除去経路５には、粒子などのごみを除去するろ過膜１１、純水中のイオンを除去するイオン交換樹脂１２、真空ポンプ１５を用いて純水中の溶解ガスを除去する脱気膜１３、純水中の有機物を除去する活性炭フィルタ１４が設けられていて、これらの不純物除去ユニットによって純水中の不純物が除去される。貯蔵用タンク１０には殺菌灯１８が設けられていて、微生物の滅菌・殺菌を行うことができる。ここで、不純物除去ユニットは、上記のろ過膜１１、イオン交換樹脂１２、脱気膜１３、活性炭フィルタ１４の一部のみを備えてもよいし、これらに加えて又はこれらに代えて、例えば、逆浸透膜及び蒸留装置の少なくとも１つを備えてもよい。
【００４７】
なお、脱気膜１３のかわりに、貯蔵用タンク１０内の空間又は貯蔵用タンク１０内の純水中に窒素を充填することにより、純水中の溶存酸素を除去しても良い。
【００４８】
不純物除去経路５に設けられた溶存酸素計１ｂと比抵抗計２ｂにより、イオン交換樹脂１２、脱気膜１３の性能、寿命を管理することができる。
【００４９】
貯蔵用タンク１０には、殺菌灯１８が設けられていて、微生物の滅菌・殺菌を行うことができる。
【００５０】
ポンプ１７は、露光装置へ純水を供給するポンプ１６とは独立して運転ができる為、純水の水質に合わせて不純物除去経路５を通過する水量を調整することができる。例えば、露光装置に供給する水質が規定値以上の場合には、ポンプ１７の運転を止めることにより、省電力化が可能である。
【００５１】
ポンプ１７を設置せずに、ポンプ１６の出口で経路を純水供給経路４と不純物除去経路５とに分岐させることにより、１つのポンプとすることも可能である。この場合、不純物除去経路５の出口をタンク１０と接続せずに、図３に示すように、純水供給経路４と接続して、不純物除去経路５を通った純水を直接露光装置に供給することも可能である。
【００５２】
不純物除去経路５内に設置された各装置は、典型的には、露光装置に供給する純水の流量に比べて少ない流量の純水を処理することができれば十分であるので、不純物除去経路５を設けることによる装置の大型化は許容範囲であると考えられる。すなわち、純水供給経路４と別に不純物除去経路５を設け、そこに不純物除去ユニットを配置することにより、純水供給装置を小型化することができる。
【００５３】
［第２の実施の形態］
図２は、本発明の第２の実施の形態の純水供給システムの概略図である。この実施の形態の純水供給システム２００は、純水供給経路４、純水戻り経路３、貯蔵用タンク１０とを有する。
【００５４】
純水は、貯蔵用タンク１０からポンプ１６により純水供給経路４を通り、該経路４に配置された加温器９により所定の温度に加熱されてから露光装置内の冷却対象に供給され該冷却対象を冷却する。冷却対象としては、例えば、リニアモータ、ウエハチャック等を挙げることができる。
【００５５】
純水供給経路４には、溶存酸素計１ａ及び比抵抗計２ａが配置されている。溶存酸素計１ａ、比抵抗計２ａによってそれぞれ純水の溶存酸素値、比抵抗値が計測される。計測結果は、コントローラ３０に送られる。コントローラ３０は、溶存酸素値、比抵抗値がそれぞれ規定値（例えば、容存酸素値が１リットル当たり１ｍｇ以下、比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上）を満たす場合には、流路切り替えバルブ２０を露光装置側に開いて、純水が露光装置に供給されるようにする。一方、コントローラ３０は、溶存酸素値、比抵抗値のいずれかがそれぞれの規定値を満たさない場合には、バルブ２０を制御して、露光装置への純水の供給を停止し、内部循環用経路２２を通して純水をタンク１０に戻す（内部循環）。すなわち、露光装置に供給される純水の水質がコントローラ３０によって管理される。
【００５６】
純水戻り経路３には、逆止弁２１が設けられており、バルブ２０を内部循環に切り替えた場合に露光装置内に純水が逆流ことが防止されている。
【００５７】
このように、この純水供給装置２００では、溶存酸素値、比抵抗値のいずれかがそれぞれの規定値（例えば、容存酸素値が１リットル当たり１ｍｇ以下、比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上）を満たさない場合には、純水供給装置２００内で純水を循環させ、溶存酸素値、比抵抗値が規定値になってから、露光装置に純水を供給する。ここで、純水供給装置２００内で純水を循環させることにより、純水の水温も管理することができる。
【００５８】
加温器９の出口には温度センサ６ａが設けられていて、コントローラ７ａは、温度センサ６ａによる測定結果に基づいて、純水が所定の温度まで加熱されるように加温器９を制御する。
【００５９】
露光装置内で冷却対象を冷却することにより温度が上昇した純水は、純水戻り経路３に配置された冷却器８で所定温度まで冷却される。冷却器８の出口には温度センサ６ｂが設けられていて、コントローラ７ｂは、温度センサ６ｂによる測定結果に基づいて、純水が所定温度まで冷却されるように冷却器８を制御する。冷却器８を通った純水は、純水戻り経路３を通って貯蔵用タンク１０に戻る。貯蔵用タンク１０の底部は、純水を完全に排水する時などに液溜りができないようにうにする為、テーパ形状となっている。
【００６０】
純水供給経路４には、粒子などのごみを除去するろ過膜１１、純水中のイオンを除去するイオン交換樹脂１２、真空ポンプ１５を用いて純水中の溶解ガスを除去する脱気膜１３、純水中の有機物を除去する活性炭フィルタ１４が設けられていて、これらの不純物除去ユニットによって純水中の不純物が除去される。貯蔵用タンク１０には殺菌灯１８が設けられていて、微生物の滅菌・殺菌を行うことができる。ここで、不純物除去ユニットは、上記のろ過膜１１、イオン交換樹脂１２、脱気膜１３、活性炭フィルタ１４の一部のみを備えてもよいし、これらに加えて又はこれらに代えて、例えば、逆浸透膜及び蒸留装置の少なくとも１つを備えてもよい。
【００６１】
なお、脱気膜１３のかわりに、貯蔵用タンク１０内の空間又は貯蔵用タンク１０内の純水中に窒素を充填することにより、純水中の溶存酸素を除去しても良い。
【００６２】
ろ過膜１１、イオン交換樹脂１２、脱気膜１３、活性炭フィルタ１４は、純水供給経路４に設置せずに、図３に示すように、不純物除去経路５として、純水供給経路４と並列に設置することも可能である。この場合、不純物除去経路５内に設置された各装置は、典型的には、露光装置に供給する純水の流量に比べて少ない流量の純水を処理することができれば十分であるので、該各装置を設置することによる純水供給装置の大型化は許容範囲であると考えられる。
【００６３】
［応用例］
次に、上記の純水供給装置を組み込んだデバイス製造装置の一例としての露光装置について説明する。図４は、露光装置を模式的に示す図である。この露光装置は、レチクルステージ（不図示）、レチクルステージの駆動部としてのリニアモータ４００、ウエハステージ（不図示）、ウエハステージの駆動部としてのリニアモータ５００、投影光学系（不図示）、レチクル照明系等を備えている。この露光装置では、レチクルステージに保持されたレチクルと、ウエハステージに保持されたウエハとを相対的に移動させながら、スリット光によりレチクルパターンをウエハに転写する。このような露光装置は、走査型露光装置と呼ばれる。なお、上記の純水供給装置は、走査型のみならずステッパと呼ばれるタイプの露光装置や、他のタイプの露光装置にも適用可能である。ステッパにおいては、一般的には、レチクルが固定された状態で、ウエハがステップ移動されながら複数のショット領域にレチクルパターンが順次転写される。
【００６４】
図４に示す応用例においては、レチクルステージ駆動用のリニアモータ４００に冷却媒体（純水）を供給する純水供給装置１００（２００）と、ウエハステージ駆動用のリニアモータ５００に冷却媒体（純水）を供給する純水供給装置１００（２００）とが設けられている。
【００６５】
リニアモータ４００、５００は、例えば、鉄心４２０、５２０と、それらに巻かれたコイル４１０、５１０を有し、純水供給装置１００（２００）から供給される純水は、鉄心４２０、５２０中に形成された冷媒流路を含む循環流路４３０、５３０を通して循環しながら、コイル４１０、５１０の熱を吸収する。
【００６６】
上記の純水供給装置１００（２００）は、露光装置以外のデバイス製造装置、例えば、ＣＶＤ装置、エッチング装置等にも適用することができる。この場合の冷却対象は、例えば、装置内のウエハチャック等である。
【００６７】
［デバイス製造方法］
次に、上記の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図５は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。
【００６８】
図６は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記の露光装置によって回路パターンをウエハに転写する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【００６９】
【発明の効果】
本発明によれば、例えば、冷却システムの小型化に寄与する冷媒供給装置を提供すること、及び、そのような冷媒供給装置を含むデバイス製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の純水供給装置（冷媒供給装置）の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態の純水供給装置（冷媒供給装置）の概略構成を示す図である。
【図３】冷媒供給装置の変形例を概略的に示す図である。
【図４】デバイス製造装置の一例のとしての露光装置を模式的に示す図である。
【図５】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図６】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。
【符号の説明】
１：溶存酸素計、２：比抵抗計、３：純水戻り経路、４：純水供給経路、５：不純物除去経路、６：温度センサ、７：温度コントローラ、８：冷却器、９：加温器、１０：貯蔵用タンク、１１：ろ過膜、１２：イオン交換樹脂、１３：脱気膜、１４：活性炭フィルタ、１５：真空ポンプ、１６：ポンプ、１７：ポンプ、１８：紫外線殺菌灯、２０：流路切り替えバルブ、２１：逆止弁、２２：内部循環用経路、３０：コントローラ、１００、２００：純水供給システム、４００、５００：リニアモータ、４１０、５１０：コイル、４２０、５２０：鉄心、４３０、５３０：循環流路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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