(57)【要約】【課題】紫外線硬化樹脂の成形層に、光学可変パターンの微細エンボスを複製して転写シートとして使用する場合に、基材フィルムと紫外線硬化樹脂による成形層との間の剥離力を調整する。【解決手段】紫外線照射装置５０Ａは、ボックス５１と、ボックス５１に収容された高圧水銀灯５２と、高圧水銀灯５２の後方に照射される光を前方に反射させる反射鏡５３と、ボックス５１の開口部に設けられたカットフィルタ５４等とを備え、このカットフィルタ５４は、３００ｎｍ以下の波長をカットする。【選択図】　　　　図１
2004061933.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂からなる成形層が形成された光学可変パターン形成用フィルムを用いて光学可変パターンを複製して、転写シートを作製する光学可変パターンの複製装置であって、
前記光学可変パターン形成用フィルムの樹脂層に光学可変パターン複製原版によって光学可変パターンの微細エンボスを転写する転写手段と、
前記光学可変パターンの微細エンボスが転写された成形層に、紫外線を照射して硬化させる紫外線照射手段を備え、
前記紫外線照射手段は、照射される紫外線の内で、３００ｎｍ以下の波長をカットすること
を特徴とする光学可変パターンの複製装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学可変パターンの複製装置において、
前記紫外線照射手段は、前記３００ｎｍ以下の波長をカットするカットフィルタを備えること
を特徴とする光学可変パターンの複製装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光学可変パターンの複製装置において、
前記カットフィルタは、誘電体積層膜であること
を特徴とする光学可変パターンの複製装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ホログラムや回折格子等の光学可変パターンを複製する光学可変パターンの複製装置に関し、特に、成形層に紫外線硬化樹脂を用いて転写箔を作製する場合に、紫外線照射手段を改良した光学可変パターンの複製装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は、ホログラム複製装置の一例を示す図、図５は、図４の装置の転写装置付近を示す拡大図である。
ホログラム複製装置１０には、ベッド１３に固定された一対の本体フレーム１２に給紙装置２０、転写装置３０、照射装置５０、巻取装置６０が順次配設されている。
【０００３】
給紙装置２０は、本体フレーム１２に固定されたコロ２３に回転自在に支持されたシャフト２２を備え、このシャフト２２には、ホログラム形成フイルム１の巻取ロール２１が装着され、その先端は、パウダーブレーキ（不図示）に連結されている。
【０００４】
転写装置３０は、本体フレーム１２の中央部に固定された軸受に軸３２が回転自在に支持されたエンボスローラー３１と、一対のアーム４２に回転自在に支持された押付けローラー４０と、加圧機構３８とを備えている。
加圧機構３８は、一対のアーム４２とエアシリンダ４５からなり、エアシリンダ４５のピストンロッド４６の先端には、アタッチメント４７が装着され、アタッチメント４７は、アーム４２の中央下部にピン４８を介して回転自在に支持され、エアシリンダ４５は、本体フレーム１２に固定されたピン４９に回転自在に支持されている。
一対のアーム４２は、ロッド４４によって固定連結され、本体フレーム１２に固定されたピン４３に回転自在に支持されている。
【０００５】
従って、エアシリンダ４５のピストンロッド４６の作動によりアーム４２がピン４３を支点として回転し、押付けローラー４０がエンボスローラー３１に押付けられる。
押付けローラー４０には、加熱装置（不図示）が装備され、押付けローラー４０の表面を加熱するようになっている。
【０００６】
エンボスローラー３１は、図５に示すように、その周表面にホログラム原版４が設けられたものであり、樹脂版をホログラム原版としてシリンダの周表面に貼りつけたものが使用される。エンボスローラー３１の軸３２の駆動側先端には、不図示の駆動手段に連結されている。エンボスローラー３１は、冷却装置（不図示）装備され、ローラー表面を冷却するようになっている。
【０００７】
照射装置５０は、距離を隔てて本体フレーム１２に回転自在に支持された巻付けローラー５１と対向する位置に、支持部材（不図示）を介して、本体フレーム１２に固定され、巻付けローラー５１に巻付けられたホログラム形成フイルム１に紫外線または電子線を照射するようになっている。
【０００８】
巻取装置６０は、本体フレーム１２に固定されたコロ６３に回転自在に支持されたシャフト６２と、不図示のパウダークラッチからなり、このシャフト６２には、ホログラム形成フイルム１が巻取けられるようになっている。
【０００９】
また、エンボスローラー３１と給紙装置２０との間には、本体フレーム１２に回転自在に支持されたガイドローラ７１、７２が設けられ、エンボスローラー３１と巻付けローラー５１との間であって、エンボスローラー３１の近傍には、ガイドローラー７３が設けられている。
【００１０】
次に、上述したホログラム複製装置１０の動作を説明する。まず、給紙装置２０より繰り出されたホログラム形成用フイルム１は、ガイドローラー７１、７２を介してエンボスローラー３１に案内される。このとき、バウダーブレーキによりホログラム形成用フイルム１は、適正なテンションに調整されている。
【００１１】
次いで、エアシリンダ４５の作動により、押付けローラー４０によって、フイルム１がエンボスローラー３１に一定圧で押付けられる。押付けローラー４０の表面は、加熱されているため、樹脂層３が軟化し、図５に示すように、ホログラム原版４の凹凸が樹脂層３に転写され、樹脂層３がホログラム原版４に密着した状態でエンボスローラー３１が駆動モータにより回転し、ガイドローラー７３の近傍でホログラム原版４より凹凸の形成された樹脂層３が剥離される。
【００１２】
このとき、エンボスローラー３１の表面は、冷却されているため軟化状態にある樹脂層３はある程度固まり、ホログラム原版４より剥離されても転写時の凹凸形状をくずずことなく、次の巻付けローラー５１に案内される。巻付けローラー５１に巻付けられたフイルム１に、照射装置５０より紫外線または電子線が照射され、凹凸の形成された樹脂層３が硬化する。ここで、巻付けローラー５１は、冷却されているため、紫外線または電子線の照射によりフイルム１が発熱して熱収縮するのを防止することができる。
【００１３】
この後、フイルム１は、駆動モータ１４に連結されたシャフト６２に巻取られる。このとき、バウダークラッチによりフイルム１は、適正なテンションに調整されているため、しわ等が発生せずに巻取られる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
上述したホログラム形成用フィルム１は、基材フィルム２上に紫外線硬化樹脂層３が形成されたものであるが、図６に示すように、転写シート１Ａとして使用する場合には、ＰＥＴ等の基材フィルム２に、紫外線硬化樹脂層３を形成すると共に、樹脂層３の下側に粘着層６を形成する。
なお、紫外線硬化樹脂による形成層は、１層でもよいが、剥離性をより精度よく調整するためには、基材フィルム側の層に、接着性又は離型性成分を添加し、複数の層構成とすることができる。
ところが、上述したホログラム複製装置１０によって作製した転写シート１Ａは、基材フィルム２と紫外線硬化樹脂層３の間（矢印Ａ）で剥離しずらいものがあった。
【００１５】
本発明の課題は、紫外線硬化樹脂の成形層に、光学可変パターンの微細エンボスを複製して転写シートとして使用する場合に、基材フィルムと紫外線硬化樹脂による成形層との間の剥離力を調整する光学可変パターンの複製装置を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、請求項１の発明は、基材フィルム上に、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂からなる成形層が形成された光学可変パターン形成用フィルムを用いて光学可変パターンを複製して、転写シートを作製する光学可変パターンの複製装置であって、前記光学可変パターン形成用フィルムの樹脂層に光学可変パターン複製原版によって光学可変パターンの微細エンボスを転写する転写手段と、前記光学可変パターンの微細エンボスが転写された成形層に、紫外線を照射して硬化させる紫外線照射手段を備え、　前記紫外線照射手段は、照射される紫外線の内で、３００ｎｍ以下の波長をカットすることを特徴とする光学可変パターンの複製装置である。
【００１７】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学可変パターンの複製装置において、前記紫外線照射手段は、前記３００ｎｍ以下の波長をカットするカットフィルタを備えることを特徴とする光学可変パターンの複製装置である。
【００１８】
請求項３の発明は、請求項２に記載の光学可変パターンの複製装置において、前記カットフィルタは、誘電体積層膜であることを特徴とする光学可変パターンの複製装置である。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面等を参照して、本発明の実施の形態について、さらに詳しくに説明する。
図１は、本発明の実施形態による光学可変パターンの複製装置の紫外線照射装置を示す図、図２は、本実施形態に係る紫外線照射装置の光源とカットフィルタの関係を説明する図である。なお、以下に示す実施形態では、前述した図４，図５の基本構成と同様な機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する図面や説明を適宜省略する。
【００２０】
この実施形態の紫外線照射装置５０Ａは、ボックス５１と、ボックス５１に収容された高圧水銀灯５２と、高圧水銀灯５２の後方に照射される光を前方に反射させる反射鏡５３と、ボックス５１の開口部に設けられたカットフィルタ５４等とを備えている。
なお、光学可変パターンの複製装置がクリーンルーム内で使用される場合には、紫外線照射装置５０Ａは、冷却用のエアーが粉塵源となるので、ボックス５１内で循環させて、外部に出さないことが好ましい。
【００２１】
図２に示すように、高圧水銀灯５２は、４００ｎｍ以下であると、２５４ｎｍ、３１０ｎｍ付近、３６０ｎｍ付近の３箇所にピークがあり、かつ、その３つのエネルギーが大きいという波長特性がある。
【００２２】
紫外線硬化手段として、高圧水銀灯を用いると２５４ｎｍ付近の波長も出てしまうが、この波長は、エネルギー量が大きく、紫外線樹脂層の硬化以外に、基材フィルム２と剥離層５との接着強度を増加させる作用をしていることを突き止め、本発明をするに至った。
【００２３】
すなわち、カットフィルタ５４は、３００ｎｍ以下の波長をカットする誘電体多層膜を用いた。
なお、従来用いられていた熱線カットガラス（フィルタ）に、３００ｎｍ以下の波長をカットする誘電体多層膜を形成するようにしてもよい。
【００２４】
以上のように、本実施形態では、照射装置５０Ａに、３００ｎｍ以下の波長をカットするフィルタ５４を設けたので、基材フィルム２と剥離層５との接着強度を増加させることを防止でき、転写シートとして使用した場合にも、基材フィルム２を容易に剥離することができる。
【００２５】
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
（１）カットフィルタ５４を用いる例で説明したが、図３に示すように、３００ｎｍ以下の波長の光を選択的に反射するミラー５５を用いてもよい。この場合には、ボックス５１の開口部に、従来と同様に、熱線カットガラス５６を設けることが好ましい。
【００２６】
（２）ホログラムの微細エンボスパターンの例で説明したが、光回折パターンや２〜１０μｍの微細凹凸のある砂目などＯＶＤ（ｏｐｔｉｃａｌ　　ｖａｒｉａｂｌｅ　　ｄｅｖｉｃｅ）と呼ばれる光学可変パターンを全て含むものである。
【００２７】
（３）フィルタやミラーで波長を選択する例で説明したが、金属を選択することによって、３００ｎｍ以下の波長を発光しないメタルハライドランプを、用いるようにしてもよい。
【００２８】
（４）図１の実施形態で説明したカットフィルタ５４は、交換可能な構造として、接着性を増加させたい場合には、交換して使用するようにしてもよい。
【００２９】
【発明の効果】
以上詳しく説明したように、本発明によれば、紫外線照射装置を３００ｎｍ以下の波長をカットするようにしたので、基材フィルムと紫外線硬化樹脂層との接着強度を増加させることを防止でき、転写シートとして使用した場合にも、基材フィルムを容易に剥離することができる、という効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態による光学可変パターンの複製装置の紫外線照射装置を示す図である。
【図２】本実施形態に係る紫外線照射装置の光源とカットフィルタの関係を説明する図である。
【図３】本発明の他の実施形態による光学可変パターンの複製装置の紫外線照射装置を示す図である。
【図４】ホログラム複製装置の一例を示す図である。
【図５】図４の装置の転写装置付近を示す拡大図である。
【図６】ホログラムシートを転写シートとした場合の問題点を説明する図である。
【符号の説明】
５０Ａ，５０Ｂ　紫外線照射装置
５１　ボックス
５２　高圧水銀灯
５３　反射鏡
５４　カットフィルタ
５５　ミラー
５６　熱線カットガラス
【図１】
2004061933.tif 000003
【図２】
2004061933.tif 000004
【図３】
2004061933.tif 000005
【図４】
2004061933.tif 000006
【図５】
2004061933.tif 000007
【図６】
2004061933.tif 000008