(57)【要約】【課題】ステージの加速中にも基板を走査露光する方式において、基板の露光精度を向上させる。【解決手段】走査露光装置において、ウエハ上の各露光領域の走査露光におけるステージの移動区間は、加速区間（Ａ，Ｂ，Ｃ）、等速区間（Ｄ）及び減速区間（Ｅ，Ｆ，Ｇ）で構成される。ウエハの走査露光は、加速区間の途中である区間Ｂの先頭から、すなわち移動標準偏差ＭＳＤが許容値になってから開始される。【選択図】図６
2004247487.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が置かれるステージを移動させながら該基板を走査露光する走査露光装置であって、
前記ステージの移動区間は、前記ステージを加速させる加速区間、および、その後に前記ステージをほぼ一定の速度で移動させる等速区間を含み、
前記走査露光装置は、前記加速区間において前記ステージが前記等速区間における前記ステージの速度の３０％以上である所定速度まで加速した時点で基板の走査露光が開始されるように露光動作を制御する制御部を備えることを特徴とする走査露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、デバイスの製造に好適な走査露光に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体デバイスの高集積化が進んでおり、これに伴う半導体ウエハの微細加工技術の進展も著しい。この微細加工技術の中心をなす投影露光装置として、円弧状の露光域を持つ等倍のミラー光学系に対してマスクと感光基板を走査しながら露光するミラープロジェクションアライナーと呼ばれる等倍の走査露光装置や、マスクのパターン像を屈折光学系により感光基板上に形成し、感光基板をステップアンドリピート方式で露光するステッパーと呼ばれる縮小投影露光装置等がある。
【０００３】
更に、最近では高解像力が得られ、且つ画面サイズを拡大できるステップアンドスキャン方式の走査露光装置が実用化されている。走査露光において使用される光源として、短波長の光をパルス発光するパルス光源、例えばエキシマレーザが有用である。パルス光源を用いた走査露光装置において、被照射面上の露光量を一定に維持しつつ露光むらがないように被照射面上にパルス光を均一に照射するためには、パルス光源のパルス発光時刻やパルス発光間隔、そして、それらと被照射面の移動速度等との関係を適切に設定することが重要になってくる。
【０００４】
従来の走査露光装置においては、基板を走査露光する際にステージが静止状態から一定速度に達するまでの加速区間と一定速度から静止状態に達するまでの減速区間では基板を露光しない。したがって、従来は、加速区間及び減速区間は、基板の露光に寄与せず、スループットを低下させる要因となっていた。また、レチクルステージ及びウエハステージが照明領域を通過するために要する距離に加えて、加減速に要する距離も走査範囲として確保する必要がある為、レチクルステージとウエハステージの移動範囲すなわち移動ストロークが長くなるという問題があった。このような問題点に着目した先行技術文献として特開平９−２２３６６２号公報がある。同公報に記載された走査露光装置では、光源手段からのパルス光で被照射面上を照射する際、発光制御手段により該被照射面の移動速度に比例した頻度で該光源手段をパルス発光させ、ステージの加減速中にも露光を行うことによりスループットを向上させている。
【０００５】
【特許文献１】
特開平９−２２３６６２号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、加速中にも露光を行なう場合において、加速の開始直後はステージの偏差が大きい。この為、加速の開始直後に露光を開始した場合、露光精度の指針としてのウエハステージとレチクルステージの同期誤差に依存する移動平均（ＭＡ）及び移動標準偏差（ＭＳＤ）が大きく、高い精度で基板を露光することができない。
【０００７】
本発明は、以上の検討に基づいてなされたものであり、例えば、ステージの加速中にも基板を走査露光する方式において、基板の露光精度を向上させることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の走査露光装置は、基板が置かれるステージを移動させながら該基板を走査露光する走査露光装置に関する。ここで、前記ステージの移動区間は、前記ステージを加速させる加速区間、および、その後に前記ステージをほぼ一定の速度で移動させる等速区間を含む。本発明の走査露光装置は、前記加速区間において前記ステージが前記等速区間における前記ステージの速度の３０％以上である所定速度まで加速した時点で基板の走査露光が開始されるように露光動作を制御する制御部を備える。
【０００９】
ここで、本発明の好適な実施の形態によれば、前記ステージの移動区間は、前記等速区間の後に前記ステージを減速させる減速区間をさらに含み、前記制御部は、更に、前記減速区間において前記ステージが前記等速区間における前記ステージの速度の３０％以上である所定速度まで減速した時点で前記基板の走査露光が完了するように前記露光動作を制御することが好ましい。
【００１０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記制御部は、更に、前記ステージの移動速度に応じた頻度で、パルス光源に基板を露光するためのパルス光を発生させることが好ましい。或いは、本発明の他の好適な実施の形態によれば、前記制御部は、更に、前記ステージが所定の距離だけ移動する都度、パルス光源に基板を露光するためのパルス光を発生させることが好ましい。
【００１１】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記制御部は、前記等速区間における前記ステージの速度の３０％に達するまで前記ステージの加速度が増し、その後、該加速度がほぼ一定値を維持し、その後、該加速度が零まで低下して前記加速区間が終了するように、前記加速区間における前記ステージの加速を制御することが好ましい。
【００１２】
本発明の第２の側面は、基板が置かれるステージを移動させながら該基板を走査露光する走査露光装置に関し、ここで、前記ステージの移動区間は、前記ステージを加速させる加速区間、その後に前記ステージをほぼ一定の速度で移動させる等速区間、その後に前記ステージを減速させる減速区間を含み、前記走査露光装置は、前記等速区間において基板が走査露光される他、前記加速区間及び前記減速区間内で前記ステージが所定速度以上で移動している区間においても該基板が走査露光されるように露光動作を制御する制御部を備える。ここで、前記所定速度は、前記等速区間における前記ステージの速度の３０％以上の速度である。
【００１３】
本発明の第３の側面は、基板が置かれるステージを移動させながら該基板を走査露光する走査露光装置に係り、ここで、前記ステージの移動区間は、前記ステージを加速させる加速区間、その後に前記ステージをほぼ一定の速度で移動させる等速区間、その後に前記ステージを減速させる減速区間を含み、前記走査露光装置は、前記加速区間の途中から開始し前記等速区間を経て前記減速区間の途中で終了する区間において基板が走査露光されるように、露光動作を制御する制御部を備える。
【００１４】
本発明の第４の側面は、基板が置かれるステージを移動させながら該基板を走査露光する走査露光方法に係り、ここで、前記ステージの移動区間は、前記ステージを加速させる加速区間、および、その後に前記ステージをほぼ一定の速度で移動させる等速区間を含み、前記走査露光方法は、前記加速区間において前記ステージが前記等速区間における前記ステージの速度の３０％以上である所定速度まで加速した時点で光源からの光による基板の走査露光を開始する工程を含む。
【００１５】
ここで、本発明の好適な実施の形態によれば、前記ステージの移動区間は、前記等速区間の後に前記ステージを減速させる減速区間をさらに含み、前記走査露光方法は、基板の走査露光が開始された後、前記等速区間を経て前記減速区間に至り、前記前記減速区間において前記ステージが前記等速区間における前記ステージの速度の３０％以上である所定速度まで減速した時点で前記走査露光を終了する工程を更に含むことが好ましい。
【００１６】
本発明の第５の側面は、基板が置かれるステージを移動させながら該基板を走査露光する走査露光方法に係り、ここで、前記ステージの移動区間は、前記ステージを加速させる加速区間、その後に前記ステージをほぼ一定の速度で移動させる等速区間、その後に前記ステージを減速させる減速区間を含み、前記走査露光方法は、前記等速区間において基板が走査露光される他、前記加速区間及び前記減速区間内で前記ステージが所定速度以上で移動している区間においても該基板が走査露光されるように露光動作を制御する工程を含む。ここで、前記所定速度は、前記等速区間における前記ステージの速度の３０％以上の速度である。
【００１７】
本発明の第６の側面は、基板が置かれるステージを移動させながら該基板を走査露光する走査露光方法に係り、ここで、前記ステージの移動区間は、前記ステージを加速させる加速区間、その後に前記ステージをほぼ一定の速度で移動させる等速区間、その後に前記ステージを減速させる減速区間を含み、前記走査露光方法は、前記加速区間の途中から開始し前記等速区間を経て前記減速区間の途中で終了する区間において基板が走査露光されるように露光動作を制御する工程を含む。
【００１８】
本発明の走査露光装置及び走査露光方法によれば、高い露光精度を維持しながらスループットを向上させることができ、したがって、該装置及び方法を適用したデバイス製造もまた新規かつ有用な効果をもたらす。
【００１９】
本発明のデバイス製造方法は、上記の走査露光装置及び方法を適用して、感光剤が塗布された基板を走査露光して該基板にパターンを転写する工程と、前記基板の感光剤を現像する工程とを含む。現像された感光剤をマスクパターンとして、例えば、下地の層を加工（例えば、エッチング）して所望のパターンを形成することができる。このようなプロセスは、フォトリソグラフィプロセスと呼ばれ、これを繰り返すことにより、所望のデバイスを得ることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
この明細書において、区間（例えば、移動区間、加速区間、等速区間、減速区間等の用語における区間）というときは、時間的な期間又は三次元空間内における２つの位置の間を意味する。
【００２１】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態を説明する。
【００２２】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施形態としての走査露光装置の要部概略図である。走査露光装置の範疇には、例えばステップアンドスキャン方式の走査露光装置（いわゆるスキャナー）やミラープロジェクションアライナー等、基板及び原版を移動させながら該基板を走査露光して該基板に該原版のパターンを転写するあらゆる方式の露光装置が含まれうる。
【００２３】
本発明の好適な実施の形態の走査露光装置５０は、例えば、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体デバイス、液晶デバイス、ＣＣＤ等の撮像デバイス、磁気ヘッド等、種々のデバイスの製造に好適である。
【００２４】
図１に示す走査露光装置５０では、光源１として、例えば、パルス光を発生するエキシマレーザ等が利用されうる。以下では、光源１がパルス光源である場合について本発明を例示的に説明する。光源１が発生した光束は、ビーム整形光学系２により所望のビーム形状に整形され、フライアイレンズ等から成るオプティカルインテグレータ３の光入射面３ａに指向される。オプティカルインテグレータ３は、複数の微小レンズを２次元的に所定のピッチで配列して構成されており、その光射出面３ｂ近傍に複数の２次光源が形成される。
【００２５】
オプティカルインテグレータ３の光射出面３ｂ近傍に形成される各２次光源は、コンデンサーレンズ４を通して複数の可動ブレード（遮光部材）を有するマスキングブレード５をケーラー照明する。マスキングブレード５は、例えば４枚の可動ブレードの相対するエッジでスリット状の開口を形成する。
【００２６】
マスキングブレード５を通過した光束は、結像レンズ６によってレチクルステージ１１に載置されたレチクル（原版）９上に集光される。これにより、レチクル９の全域のうちスリット状の照明領域が照明される。集光レンズ６とレチクル９との間にはミラー７が配置され、集光レンズ６を通った光束は、ミラー７によって光路がレチクル９の方向に折り曲げられている。レチクル９に形成されたパターンは、投影光学系８を通してウエハステージ１２に載置された半導体ウエハ等のウエハ（基板）１０に縮小投影される。
【００２７】
この実施の形態では、マスキングブレード５とレチクル９は、結像レンズ６及びミラー７より成る光学系により略共役関係にある。また、オプティカルインテグレータ３の射出面３ｂ近傍（２次光源面）と投影光学系８の瞳面とは、コンデンサーレンズ４及び結像レンズ６より成る光学系により略共役関係にある。
【００２８】
この走査露光装置５０における露光動作及びそれに関連する動作は、制御部１００によって制御される。制御部は、ステージ位置計測部１０１、ステージ同期移動制御部１０２、時間間隔演算部１０３、記憶部１０４、パルス発光時刻制御部１０５を含んで構成されうる。
【００２９】
ステージ同期移動制御部１０２は、走査露光時に、レチクルステージ（原版ステージ）１１とウエハステージ（基板ステージ）１２（以下、両者を単にステージともいう）を投影光学系８の倍率に応じた比率で移動するように制御する。例えば、投影光学系８の倍率が−１／４である場合、ステージ同期移動制御部１０２は、レチクルステージ１１とウエハステージ１２とが４：１の速度比で反対方向に移動するように制御する。ここで、ステージ同期移動制御部１０２は、ステージ１１、１２の位置を計測するステージ位置計測部１０１からステージ１１、１２の現在位置を示す位置データ或いは位置信号を得て、これに基づいてステージ１１、１２の位置を制御する。また、ステージ同期移動制御部１０２は、ウエハ１０上の複数の露光領域が順に走査露光されるようにステージ１１、１２の移動を制御する。ここで、各露光領域の走査露光におけるステージ１１、１２の移動区間は、加速区間、等速区間及び減速区間で構成される。
【００３０】
ステージ位置計測部１０２は、ステージ１１、１２の位置データ或いは位置信号を時間微分してステージ１１、１２の速度を求める速度検出部１０１ａを有する。なお、速度検出部１０１ａは、ステージ位置計測部１０２の構成要素としてではなく、別体の構成要素として構成されてもよい。
【００３１】
時間間隔演算部１０３は、速度検出部１０１ａから提供される速度を示すデータに基づいてパルス発光の時間間隔を演算する。パルス発光の時間間隔は、ステージ１１又は１２の速度と該時間間隔との積が所定値になるように決定されうる。これは、ステージ１１又は１２の速度とパルス発光の頻度が比例するようにパルス発光の時間間隔が決定されることを意味する。
【００３２】
記憶部１０４は、直前のパルス発光時刻を記憶する。パルス発光時刻制御部１０５は、時間間隔演算部１０３から提供されるパルス発光時間間隔と記憶部１０４に記憶されている直前のパルス発光時刻に基づいて次のパルス発光時刻を決定する時刻演算部１０５ａと、パルス光源１のパルス発光時刻を制御する（即ち、次のパルス発光時刻にパルス発光させる）発光駆動部１０５ｂとを有している。時刻演算部１０５ａによって決定された次のパルス発光時刻は、記憶部１０５に記憶（典型的には、上書き）される。
【００３３】
以上のように、露光装置５０は、制御部１００による制御の下で、ステージ１１、１２の移動速度に比例した頻度でパルス光源１をパルス発光させる。ここで、露光装置５０は、制御部１００による制御の下で、レチクルステージ１１（レチクル９）とウエハステージ１２（ウエハ１０）との相対移動におけるステージ１１、１２の加減速中においても、ステージ１１、１２の移動速度（走査速度）に比例した頻度（移動速度に反比例した時間間隔）でパルス光源１をパルス発光させてウエハ１０をレチクル９のパターンで走査露光する。すなわち、この実施の形態によれば、ステージ１１、１２の加減速中においてもウエハ１０が露光されるので、スループットを向上させるとともにステージ１１、１２の移動ストロークを短くすることができる。更に、ステージ１１、１２の移動速度（走査速度）に比例した頻度（移動速度に反比例した時間間隔）でパルス光源１をパルス発光させること、すなわちステージ１１、１２の移動速度に応じてパルス光源１のパルス発振周期を変更することにより、ステージ１１、１２の移動速度の変動による露光むらを補正することができる。
【００３４】
この実施の形態では、更に、制御部１００は、加速区間、それに続く等速区間、それに続く減速区間で構成されるステージ１１、１２の移動区間（走査区間）におけるパルス光によるウエハ１０の露光を、加速区間、等速区間、減速区間の全てではなく、加速区間の途中（より具体的には、加速区間においてステージ１１、１２の露光精度（例えば、ＭＡ、ＭＳＤ）が許容値内に収まった後）から始まるように露光動作を制御する。これにより、スループットの向上及びステージの移動ストロークの短縮と露光精度の維持とを両立させることができる。ここで、ウエハ１０の走査露光の終了のタイミングについては、露光精度の維持の観点では等速区間の終了点であることが好ましいが、スループットの向上の観点では減速区間の途中であることが好ましい。
【００３５】
なお、加速区間とは、ステージ１１、１２を正の加速度で加速させる区間、等速区間とは、ステージ１１、１２をほぼ一定の速度で移動させる区間、減速区間とは、ステージ１１、１２を負の加速度で減速させる区間である。
【００３６】
以下では、上記のようなステージの加速途中でウエハの露光を開始する方式について、更に具体的に説明する。
【００３７】
パルス光源１からウエハ１０に提供されるパルス光の個々のエネルギー量がほぼ一定量であるとき、ウエハ上の蓄積露光量（目標露光量）Ｐは、（１）式で表わされる。なお、＊は乗算記号である。
【００３８】
Ｐ＝ｑ＊ｎ＊Ｂｘ／Ｖｘ  ・・・（１）
ここで、ｑは１回のパルス発光によるウエハの露光量、ｎはパルス光源１が単位時間当たりに発光するパルス数を意味するパルス発光頻度、Ｂｘはマスキングブレード５によって規定されたウエハ上の照明領域の幅、Ｖｘはウエハ（ウエハステージ１２）の移動速度である。
【００３９】
ウエハ上の蓄積露光量Ｐを一定に保つ為のパルス発光頻度ｎは（２）式で表される。
【００４０】
ｎ＝Ｐ＊Ｖｘ／（ｑ＊Ｂｘ）  ・・・（２）
ここで、ｑ、Ｂｘ、Ｐは一定値であるから、パルス発光頻度ｎはウエハの移動速度Ｖｘに比例する。
【００４１】
時間軸上で隣り合う２つのパルス発光の時間間隔を意味するパルス発光時間間隔Δｔとパルス発光頻度ｎの関係は、（３）式で表わされる。
【００４２】
Δｔ＝１／ｎ  ・・・（３）
パルス発光時間間隔Δｔの時間内にウエハ（ウエハステージ）が移動する距離Δｘは（４）式で表わされ、これに（２）式を代入すれば、Δｘは一定値であることが分かる。
【００４３】
2004247487.tif 000003
また、レチクルステージ１１とウエハステージ１２は投影光学系の倍率ａと等しい一定の速度比であるから、レチクルが移動する距離Δｙは（５）式で表わされる。
【００４４】
Δｙ＝Δｘ／ａ  ・・・（５）
つまり、ステージ１１、１２の速度が変化してもウエハ上の蓄積露光量Ｐを一定に保つには、パルス発光頻度ｎ、パルス発光時間間隔Δｔ、ウエハ移動距離Δｘ、レチクル移動距離Δｙのいずれかが、各々の条件を示す（２）〜（５）式を満足するようにパルス発光を制御すればよい。
【００４５】
図３は、本発明の好適な実施の形態においてレチクルステージ１１とウエハステージ１２を同期移動させるときのステージ速度とパルス光源１のパルス発光時刻との関係を示す概略図である。
【００４６】
図３（Ａ）はレチクルステージ１１の速度、図３（Ｂ）はウエハステージ１２の速度、図３（Ｃ）はパルス発光頻度が走査中に変化する様子を示している。ステージ１１、１２は同期しており、パルス発光頻度はステージ１１、１２の速度に従って決定されるので、ステージ１１、１２が一定速度にある状態（等速区間）のみならず、加減速時（加速区間、減速区間）にパルス発光しても均一な蓄積露光量でウエハを露光することができる。
【００４７】
図６は、レチクルステージ１１とウエハステージ１２を同期移動させるときのステージ加速度Ａｃｃとステージ速度Ｖｅｌ、ウエハステージ１１とレチクルステージ１２の同期精度Ｓｙｎｃ、露光スリット幅移動平均ＭＡ、移動標準偏差ＭＳＤを示す図である。ステージ１１、１２の加速区間は、加速度アップ区間Ａ、等加速度区間Ｂ、加速度ダウン区間Ｂの３区間で構成されている。ステージ１１、１２の等速区間は、区間Ｄであり、減速区間は、区間Ｅ、Ｆ、Ｇで構成されている。図６において、同期精度Ｓｙｎｃ、移動平均ＭＡ、移動標準偏差ＭＳＤは、区間Ａにおいては各値とも値が大きいが、区間Ｂにおいては力の変化が無い為に値が小さくなっていることがわかる。従って、図６のＥｘｐｏ区間（区間Ｂの先頭から区間Ｆの最後）に示されるように、区間Ｂから露光を開始することができる。
【００４８】
図５は、パルス光源１がＡｒＦレーザーである場合とＫｒＦレーザーである場合におけるステージ同期精度に依存する移動標準偏差ＭＳＤと露光パターンのＣｒｉｔｉｃａｌ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ（ＣＤ）との関係を示す図である。ＭＳＤが大きくなるにつれてＣＤが減少するがＭＳＤ値が１０ｎｍ以下であればＣＤ値の減少は２ｎｍと小さいので、実用上は問題が無いことがわかる。図６において、区間Ｂ以降のＭＳＤは６ｎｍ以下であり、このときのＣＤの劣化は図５によれば１ｎｍ程度である。したがって、区間Ｂの先頭又は途中から露光を開始しても露光精度に与える影響はほとんど無い事が分かる。
【００４９】
なお、図６においては、ジャーク区間Ａ、Ｃ、Ｅ、Ｇの加速度変化はリニアであるが、力の変極点が不連続となっているためにこの不連続点におけるステージの揺動が大きくなっている。この力の不連続な変化を無くし、ステージ１１、１２の揺動を小さくするために、多次関数や三角関数に基づくジャークのプロファイルを用いた方がより好ましい。この場合、区間Ｂ以降のＭＳＤは更に小さくなり、ＣＤも更に小さくなる。
【００５０】
図４は、加速区間の詳細を示す図であり、横軸は時間ｔ、縦軸は加速度Ａｃｃであり、最大加速度はＧに設定されている。加速度アップ時間Ｊ後のステージ速度は、底辺Ｊ、高さＧの３角形の面積に等しく、Ｊ＊Ｇ＝Ｓ１とするとＳ１／２である。等加速度時間Ｋ中のステージ速度の変化量は、一辺がＫ、他辺がＧの長方形の面積に等しく、Ｋ＊Ｇ＝Ｓ２である。加速度ダウン時間Ｊ中のステージ速度の変化量は、Ｓ１／２である。よって、最終的なステージ速度ｖは、（６）式のように表される。
【００５１】
ｖ＝Ｓ１＋Ｓ２＝Ｇ（Ｊ＋Ｋ）  ・・・（６）
つまり、加速度の変化時間Ｊと等加速時間Ｋの和は、（７）式のように、最高加速度Ｇとステージ速度ｖで一意的に決まる。
【００５２】
ｖ／Ｇ  ＝  Ｊ＋Ｋ  ・・・（７）
一方、ステージ１１、１２の加速開始からステージ１１、１２が目標速度（等速区間における速度）に達する迄に要する時間は（２Ｊ＋Ｋ）であるので、Ｋを短くする（つまりＪを長くする）と加速時間が延びる事になりスループットの低下を招く。また、Ｊを短くするとステージ１１、１２に加わるパワースペクトルが高周波成分を持つようになるために同期精度が劣化する。この為、図７におけるＳ１とＳ２の最適な比Ｒが存在し、Ｒ＝２／３とすることが好ましいことが判明している。例えば、１）レチクルステージ１１の最高加速度を２Ｇ、速度を１ｍ／ｓｅｃ、Ｊを３０ｍｓｅｃとすると、Ｋ＝２１ｍｓｅｃとなり、２）レチクルステージの最高加速度を２．８Ｇ、速度を１．４ｍ／ｓｅｃ、Ｊを３０ｍｓｅｃとすると、Ｋ＝２１ｍｓｅｃとなる。
【００５３】
Ｒ＝２／３とした場合に図４における加速度アップ区間の終了点Ｐにおけるステージ速度Ｖｐは、ステージ加速終了時点のステージ速度（等速区間におけるステージ速度）をＶとすると、（８）式で表される。
【００５４】
Ｖｐ＝０．３Ｖ  ・・・（８）
前述の様に、本発明の好適な実施の形態によれば、図６における区間Ｂの先頭又は途中からウエハの露光を開始することが好ましいので、（７）式を考慮すると、加速区間において、等速区間におけるステージ速度の３０％以上の所定速度に加速された時点で露光を開始することが好ましい。また、減速区間におけるウエハの露光についても、等度区間におけるステージ速度の３０％以上の所定速度に減速される時点までウエハを露光することが好ましい。
【００５５】
すなわち、本発明の好適な実施の形態では、制御部１００は、加速区間におけるステージ１１、１２の速度が等速区間におけるステージ１１、１２の速度の３０％以上の所定速度に加速された後にウエハの露光が開始されるように露光動作を制御し、また、減速区間におけるステージ１１、１２の速度が等速区間におけるステージ１１、１２の速度の３０％以上の所定速度に減速される前にウエハの露光を完了するように露光動作を制御する。
【００５６】
このように加速区間の途中以降をウエハの露光のために利用することにより、更に好ましくは、加速区間の途中以降から等速区間を経て減速区間の途中までをウエハの露光に利用することにより、露光精度を高く維持しながら、露光に寄与しない時間を削減しスループットを向上させることができる。また、従来は、ステージの加速区間の全て及び減速区間の全てに相当する距離についてステージを余分に移動させる必要があったが、本発明の好適な実施の形態によれば、ステージの加速区間の一部（加速度アップ区間）及び減速区間の一部に相当する距離についてのみステージを余分に移動させればよいので、ステージ１１、１２の移動ストロークを短くすることができる。
【００５７】
（第２の実施の形態）
図２は、本発明の第２の実施の形態としての走査露光装置の要部概略図である。第１の実施の形態ではステージの移動速度に比例した頻度で光源１をパルス発光させるのに対して、第２の実施の形態では、ステージが予め設定した距離だけ移動する毎に光源１をパルス発光させる。他の構成及び制御については、第２の実施の形態は第１の実施の形態と同様である。
【００５８】
図２に示す本発明の第２の実施の形態の走査露光装置５０’は、図１に示す制御部１００の代わりに制御部１００’を備えている。制御部１００’は、ステージ位置計測部１０１、ステージ同期移動制御部１０２、記憶部１０６、パルス発光位置制御部１０７を含んで構成されうる。
【００５９】
記憶部１０６には、直前に光源１がパルス発光した時点でのレチクルステージ１１又はウエハステージ１２の位置（又は両者の位置であってもよい）を示す情報を記憶する。パルス発光位置制御部１０７は、記憶部１０６に記憶された位置情報に基づいて、直前のパルス発光の時点からレチクルステージ１１又はウエハステージ１２が移動した距離を演算する移動距離演算部１０７ａと、レチクルステージ１１又はウエハステージ１２の移動量が所定移動量に達したときにパルス光源１をパルス発光させる発光駆動部１０７ｂとを有している。制御部１００’の他の構成については、第１の実施の形態と同様であるので、説明を省略する。
【００６０】
（応用例）
以上のような走査露光装置及び走査露光方法によれば、高い露光精度を維持しながらスループットを向上させることができる。したがって、該装置及び方法を適用したデバイス製造もまた新規かつ有用な効果をもたらす。
【００６１】
本発明のデバイス製造方法は、上記の走査露光装置及び方法を適用して、感光剤が塗布された基板（例えば、半導体ウエハ等のウエハ、ガラス板等）を走査露光して該基板にパターンを転写する工程と、前記基板の感光剤を現像する工程とを含む。現像された感光剤をマスクパターンとして、例えば、下地の層を加工（例えば、エッチング）して所望のパターンを形成することができる。このようなプロセスは、フォトリソグラフィプロセスと呼ばれ、これを繰り返すことにより、所望のデバイスを得ることができる。
【００６２】
【発明の効果】
ステージの加速中にも基板を走査露光する方式において、基板の露光精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の走査露光装置の要部概略図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態の走査露光装置の要部概略図である。
【図３】レチクルステージの移動速度及びウエハステージの移動速度とパルス発光との関係を示す図である。
【図４】加速区間における加速度変化を示す図である。
【図５】ＭＳＤ値とレンズのＣＤ変化の関係を示す図である。
【図６】ステージの加速度（Ａｃｃ）及び速度（Ｖｅｌ）、同期精度（Ｓｙｎｃ）、移動平均（ＭＡ）、分散（ＭＳＤ）を示す図である。
【符号の説明】
１  パルス光源
２  ビーム整形光学系
３  オプティカルインテグレータ
４  コンデンサーレンズ
５  マスキングブレード
６  結像レンズ
７  ミラー
８  投影レンズ
９  レチクル
１０  ウエハ
１１  レチクルステージ
１２  ウエハステージ
５０、５０’  走査露光装置
１００、１００’  制御部
１０１  ステージ位置計測部
１０１ａ  速度検出部
１０２  ステージ同期移動制御部
１０３  パルス発光時間間隔演算部
１０４  パルス発光時刻記憶部
１０５  パルス発光制御部
１０５ａ  時刻演算部
１０５ｂ  発光駆動部
１０６  パルス発光位置記憶部
１０７  パルス発光制御部
１０７ａ  移動距離演算部
１０７ｂ  発光駆動部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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