(57)【要約】【課題】  高い記録線速度でカッティングを行う場合において生じる露光状態の急激な変動を抑制する。【解決手段】  フォトレジスト原盤２００を回転させる駆動部１１０と、対物レンズ１２３を含み、フォトレジスト原盤２００にレーザビームを照射するヘッド部１２０と、フォトレジスト原盤２００の回転によって生じる横風Ｗ及び乱流Ｗ’を遮断することによりヘッド部１２０の振動を防止する防風壁１０３とを備える。本発明によれば、フォトレジスト原盤２００が高速回転する場合であっても、これにより生じる横風Ｗ及び乱流Ｗ’によってヘッド部１２０自体が振動することがほとんどない。このため、このような風によるヘッド部１２０の振動によって露光状態が急変することがほとんどなくなる。【選択図】          図１
2004247029.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジスト原盤を回転させる駆動部と、少なくとも対物レンズを含み、前記フォトレジスト原盤にレーザビームを照射するヘッド部と、前記フォトレジスト原盤の回転によって生じる風を遮断することにより前記ヘッド部の振動を防止する防風壁とを備えることを特徴とするカッティング装置。
【請求項２】
前記ヘッド部は、前記レーザビームを受けるミラーと、前記ミラーを固定するミラー固定治具とをさらに含み、前記ミラー及び前記ミラー固定治具は、前記防風壁によってフォトレジスト原盤から隔離されていることを特徴とする請求項１に記載のカッティング装置。
【請求項３】
前記ミラー固定治具は、支持部材に直接接することなく、連結部材によって前記支持部材に固定されていることを特徴とする請求項２に記載のカッティング装置。
【請求項４】
前記防風壁は、前記ヘッド部からみて、前記対物レンズが設けられている部分において開口していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のカッティング装置。
【請求項５】
前記防風壁は、前記フォトレジスト原盤のほぼ全面を覆うように設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカッティング装置。
【請求項６】
前記防風壁は、前記支持部材に対しほぼ平行な部分によって少なくとも前記ミラー固定治具を覆うように設けられていることを特徴とする請求項３に記載のカッティング装置。
【請求項７】
前記防風壁は、前記フォトレジスト原盤の外周を取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカッティング装置。
【請求項８】
フォトレジスト原盤を回転させ、かつ前記フォトレジスト原盤の回転によって生じる風を遮断することにより少なくとも対物レンズを含むヘッド部の振動を防止しながら、前記ヘッド部から出射したレーザビームを前記フォトレジスト原盤に照射する工程を含むことを特徴とするフォトレジスト原盤のカッティング方法。
【請求項９】
請求項８に記載のフォトレジスト原盤のカッティング方法でカッティングされた前記フォトレジスト原盤を用いてスタンパを作製する工程を含むことを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項１０】
請求項８に記載のフォトレジスト原盤のレーザカッティング方法でカッティングされた前記フォトレジスト原盤を用いてスタンパを作製する工程と、
前記スタンパを用いて光記録媒体を作製する工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフォトレジスト原盤のカッティング装置およびカッティング方法に関し、特に、トラックピッチの狭いスタンパを作製するのに好適なカッティング装置およびカッティング方法に関する。また、本発明はスタンパ及び光ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのようにデータの追記や書き換えができないタイプの光記録媒体（ＲＯＭ型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのようにデータの追記はできるがデータの書き換えができないタイプの光記録媒体（追記型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのようにデータの書き換えが可能なタイプの光記録媒体（書き換え型光記録媒体）とに大別することができる。
【０００３】
これら光記録媒体は、一般に、スタンパ（金型）を用いて樹脂基板を射出成形し、その表面に反射層等を成膜することによって作製される。例えば、ＲＯＭ型光記録媒体においては、スタンパ表面の凹凸パターンによって樹脂基板の表面に螺旋状のピット列が形成され、このピット列によって情報が保持されることになる。また、追記型光記録媒体や書き換え型光記録媒体においては、スタンパ表面の凹凸パターンによって樹脂基板の表面に螺旋状のプリグルーブが形成され、このプリグルーブがデータ記録時におけるレーザビームの案内溝として用いられる。
【０００４】
このようなスタンパは、通常、ガラス基板及びこの上に形成された感光性材料層からなるフォトレジスト原盤を露光・現像することによってその表面に凹凸パターンを形成した後、メッキ等によりこの凹凸パターンを転写することにより作製される。ここで、フォトレジスト原盤の露光は一般に「カッティング」と呼ばれており、カッティングを行う装置は一般に「カッティング装置」と呼ばれている。フォトレジスト原盤のカッティングは、フォトレジスト原盤を回転させながらレーザビームを照射し、これによって感光性材料層の所望の部分を感光させることにより行われる。
【０００５】
一方、近年では光記録媒体に対しさらなる大容量化が求められており、これを達成すべく光記録媒体のトラックピッチはますます狭くなっている。このことは、フォトレジスト原盤のカッティングに必要な時間が従来に比べて大幅に長くなることを意味するため、これを短縮するためにはフォトレジスト原盤を高速回転させることによって記録線速度を高める必要がある。
【特許文献１】特開２０００−１２３３９７号公報
【特許文献２】特開平１０−２９４２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、本発明者らの研究によれば、高い記録線速度でカッティングを行うと露光状態に急激な変動を生じることがあり、このような変動は、線速度を一定に保つＣＬＶ方式による回転制御を行う場合において、フォトレジスト原盤の露光位置が内周に近いほど顕著であることが判明した。
【０００７】
したがって、本発明の目的は、高い記録線速度でカッティングを行う場合であっても露光状態に急激な変動を生じ難いカッティング装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の前記目的は、フォトレジスト原盤を回転させる駆動部と、少なくとも対物レンズを含み、前記フォトレジスト原盤にレーザビームを照射するヘッド部と、前記フォトレジスト原盤の回転によって生じる風を遮断することにより前記ヘッド部の振動を防止する防風壁とを備えることを特徴とするカッティング装置によって達成される。
【０００９】
本発明によれば、前記フォトレジスト原盤が高速回転する場合であっても、これにより生じる風によってヘッド部自体が振動することがほとんどなくなる。このため、このような風によるヘッド部の振動によって露光状態が急変することがほとんどなくなる。これにより、高い記録線速度で安定的なカッティングを行うことが可能となるばかりでなく、フォトレジスト原盤の内周部分における露光状態と外周部分における露光状態とをほぼ一致させることが可能となる。
【００１０】
また、本発明の好ましい実施態様においては、前記ヘッド部は、前記レーザビームを受けるミラーと、前記ミラーを固定するミラー固定治具とをさらに含み、前記ミラー及び前記ミラー固定治具は、前記防風壁によってフォトレジスト原盤から隔離されている。ヘッド部に含まれるミラーは極めて高い精度で位置決めする必要があり、僅かな振動によってもレーザビームの光軸が大きくぶれてしまうが、上記構成によれば、ミラー及びミラー固定治具が防風壁によってフォトレジスト原盤から隔離されていることから、フォトレジスト原盤の回転により生じる風がミラー及びミラー固定治具を振動させることがない。尚、本明細書において「隔離」とは、防風壁の介在によってフォトレジスト原盤の回転により生じる風が実質的に遮断される状態にあることを意味する。
【００１１】
また、本発明の好ましい実施態様においては、前記ミラー固定治具は、支持部材に直接接することなく、連結部材によって前記支持部材に固定されている。このような構成においては、ミラー固定治具はやや不安定であり僅かな風によって振動することがあるが、本発明によればこのような場合であってもミラー及びミラー固定治具の振動を防止することが可能となる。
【００１２】
また、本発明の好ましい実施態様においては、前記防風壁は、前記ヘッド部からみて、前記対物レンズが設けられている部分において開口している。これにより、対物レンズを用いたレーザビームの照射や対物レンズの上下動を妨げることなく、簡単な構成によってヘッド部の振動を防止することが可能となる。
【００１３】
また、本発明の好ましい実施態様においては、前記防風壁は、前記フォトレジスト原盤のほぼ全面を覆うように設けられている。これにより、フォトレジスト原盤の回転により生じる風をより確実に遮断することができる。特に、防風壁がフォトレジスト原盤の主面とほぼ平行となるように配置すれば、このような風により生じる気流が安定することから、露光状態の変動を効果的に防止することが可能となる。
【００１４】
また、本発明の好ましい他の実施態様においては、前記防風壁は、前記支持部材に対しほぼ平行な部分によって少なくとも前記ミラー固定治具を覆うように設けられている。このような構成においても、フォトレジスト原盤の回転に伴う風により生じる乱流がミラー固定治具を振動させることがないので、露光状態の変動を防止することが可能となる。
【００１５】
また、本発明の好ましいさらに他の実施態様においては、前記防風壁は、前記フォトレジスト原盤の外周を取り囲むように設けられている。このような構成においても、フォトレジスト原盤の回転に伴う風により生じる乱流がヘッド部に達するのを防止することができる。
【００１６】
また、本発明の前記目的は、フォトレジスト原盤を回転させ、かつ前記フォトレジスト原盤の回転によって生じる風を遮断することにより少なくとも対物レンズを含むヘッド部の振動を防止しながら、前記ヘッド部から出射したレーザビームを前記フォトレジスト原盤に照射する工程を含むことを特徴とするフォトレジスト原盤のカッティング方法によっても達成される。
【００１７】
さらにまた、本発明の前記目的は、前記フォトレジスト原盤のカッティング方法でカッティングされた前記フォトレジスト原盤を用いてスタンパを作製する工程を含むことを特徴とするスタンパの製造方法によっても達成される。
【００１８】
さらにまた、本発明の前記目的は、前記フォトレジスト原盤のレーザカッティング方法でカッティングされた前記フォトレジスト原盤を用いてスタンパを作製する工程と、前記スタンパを用いて光記録媒体を作製する工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法によっても達成される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、フォトレジスト原盤の回転により生じる風がヘッド部、特にこれに含まれるミラー固定治具を振動させることがほとんどないことから、露光状態に急激な変動が生じ難くなる。これにより、高い記録線速度で安定的なカッティングを行うことが可能となるばかりでなく、フォトレジスト原盤の内周部分における露光状態と外周部分における露光状態とをほぼ一致させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施態様について詳細に説明する。
【００２１】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかるカッティング装置１００の構造を示す概略構成図である。
【００２２】
本実施態様にかかるカッティング装置１００はフォトレジスト原盤２００をカッティングするための装置であり、図１に示すように、ケース１０１と、防振台１０５と、脚部１０６を介して防振台１０５に固定された光学ベース１０２と、ケース１０１に固定された防風壁１０３と、光学ベース１０２に載置された光学系１０４と、防振台１０５に固定され、フォトレジスト原盤２００を回転及び移動させるための駆動部１１０と、光学ベース１０２の壁面部１０２ａに固定されたヘッド部１２０とを備えている。
【００２３】
本発明では特に限定されるものではないが、露光対象であるフォトレジスト原盤２００は、ガラス基板２０１及びその表面に設けられた感光性材料層２０２によって構成され、一般に感光性材料層２０２の厚さは約２０〜２００ｎｍに設定される。また、ガラス基板２０１と感光性材料層２０２との間には、両者の接着性を高めるための接着層（プライマー）を介在させることもある。
【００２４】
以下、カッティング装置１００を構成する各構成要素について具体的に説明する。
【００２５】
ケース１０１は、光学系１０４や駆動部１１０等、カッティング装置１００を構成する他の要素を収容する部材であり、必ずしも単一部材である必要はなく複数の部材によって構成されていても構わないが、防風壁１０３を支持するものであることからある程度の機械的強度を備えている必要がある。また、ケース１０１は各要素を外部から密閉した状態で収容する必要はないが、光学系１０４及びヘッド部１２０が外部に露出しないような構成を有していることが好ましい。
【００２６】
防振台１０５は、外部の振動が光学ベース１０２や駆動部１１０等に伝わるのを防止するための要素であり、特に限定されるものではないが、エアサスペンションを用いることが好ましい。
【００２７】
光学ベース１０２は、光学系１０４を載置するための支持部材であり、上述の通り、脚部１０６を介して防振台１０５に固定されている。また、光学ベース１０２は、フォトレジスト原盤２００に対して実質的に垂直である壁面部１０２ａを備えており、この壁面部１０２ａには上述の通りヘッド部１２０が固定される。カッティング時においては、光学系１０４やヘッド部１２０には僅かな揺れも許容されないことから、光学ベース１０２は高い機械的強度を有していることが望ましい。
【００２８】
防風壁１０３は、フォトレジスト原盤２００の回転により生じる風によってヘッド部１２０が振動するのを防止するための部材であり、本実施態様においては、フォトレジスト原盤２００のほぼ全面を覆って設けられている。また、フォトレジスト原盤２００の回転により生じる風がヘッド部１２０に達するのを防止すべく、本実施態様においては、防風壁１０３の端面１０３ａはケース１０１の側面に固定されている。防風壁１０３とフォトレジスト原盤２００との距離は、特に限定されるものではないが、１０〜２０ｍｍ程度に設定すればよい。
【００２９】
駆動部１１０は、フォトレジスト原盤２００を載置するためのターンテーブル１１１と、ターンテーブル１１１を回転させるスピンドルモータ１１２と、ターンテーブル１１１及びスピンドルモータ１１２からなる部分を水平方向に移動させるスライド機構１１３とを備えている。スライド機構１１３は、防振台１０５に固定されたスライドレール１１３ａと、ターンテーブル１１１及びスピンドルモータ１１２からなる部分を支持するスライドベース１１３ｂによって構成されており、スライドレール１１３ａに沿ってスライドベース１１３ｂを移動させることにより、ターンテーブル１１１及びスピンドルモータ１１２からなる部分を水平方向に移動させることができる。
【００３０】
図２は、ヘッド部１２０の構造をより具体的に示す部分斜視図である。
【００３１】
図２に示すように、ヘッド部１２０は、フォーカス用レーザビームを反射するミラー（後述）を固定するミラー固定治具１２１と、フォーカス用レーザビームを透過し露光用レーザビームを反射するダイクロイックミラー（後述）を固定するミラー固定治具１２２と、露光用レーザビーム及びフォーカス用レーザビームを集束し、フォトレジスト原盤２００に照射する対物レンズ１２３と、ミラー固定治具１２１，１２２を光学ベース１０２の壁面部１０２ａに固定する連結部材１２４と、対物レンズ１２３を保持する対物レンズホルダ１２５と、光学ベース１０２の壁面部１０２ａに固定され、対物レンズホルダ１２５を上下方向に移動させるパルスモータ１２６とを備えており、カッティング時においては対物レンズ１２３とフォトレジスト原盤２００との距離は１００μｍ程度まで近づけられる。また、連結部材１２４は固定面１２４ａにおいて光学ベース１０２の壁面部１０２ａに固定されており、パルスモータ１２６は固定面１２６ａにおいて光学ベース１０２の壁面部１０２ａに固定されている。このように、ミラー固定治具１２１，１２２はそれ自身が壁面部１０２ａと接することなく、連結部材１２４を介して側面部１０２ａに固定されており、対物レンズ１２３もそれ自身が壁面部１０２ａと接することなく、対物レンズホルダ１２５及びパルスモータ１２６を介して側面部１０２ａに固定されている。
【００３２】
また図２に示すように、防風壁１０３の端面１０３ｂは、対物レンズ１２３が設けられる部分を避けるようにして光学ベース１０２の壁面部１０２ａに固定されている。これにより、対物レンズ１２３の一部（フォトレジスト原盤２００に近い部分）を除き、ヘッド部１２０と駆動部１１０とは防風壁１０３によって隔離された状態となっており、少なくともミラー固定治具１２１，１２２については駆動部１１０から完全に隔離された状態となっている。
【００３３】
図３は、光学系１０４の具体的な構成及びヘッド部１２０に含まれる光学部品を模式的に示すブロック図である。
【００３４】
図３に示すように、光学系１０４は露光用レーザビームＬａを取り扱う露光用光学系１３０と、フォーカス用レーザビームＬｂ１及びその戻り光Ｌｂ２を取り扱うフォーカス用光学系１４０とを含んでいる。
【００３５】
露光用光学系１３０は、露光用レーザビームＬａを発生する露光用レーザ光源１３１と、露光用レーザビームＬａを露光に適したパワーに設定するＥＯＭ（Electro Optic Modulator：電気光学効果を用いた変調器）１３２と、露光用レーザビームＬａをパルス変調又はウォブリングさせる光変調ユニット１３３と、露光用レーザビームＬａのビーム径を整形・拡大し、ヘッド部１２０に供給するビームエキスパンダ１３４と、シャッタ１３５とを備えている。露光用レーザ光源１３１が発生する露光用レーザビームＬａの波長としては、感光性材料層２０２を感光可能である限り特に限定されないが、トラックピッチをより狭く設定するためにはできる限り短波長であることが好ましい。具体的には、トラックピッチを０．３２μｍ程度に設定する場合には波長を２６６ｎｍ程度に設定することが好ましい。また、光変調ユニット１３３は、フォトレジスト原盤２００によって最終的に作製されるスタンパ（金型）がＲＯＭ型光記録媒体の基板作製用のスタンパである場合には、感光性材料層２０２に螺旋状のピット列の潜像が形成されるように、露光用レーザビームＬａをパルス変調し、最終的に作製されるスタンパが追記型光記録媒体又は書き換え型光記録媒体の基板作製用のスタンパである場合には、露光用レーザビームＬａをウォブリングさせる。
【００３６】
フォーカス用光学系１４０は、フォーカス用レーザビームＬｂ１を発生するフォーカス用レーザ光源１４１と、フォーカス用レーザビームＬｂ１とその戻り光Ｌｂ２とを分離するビームスプリッタ１４２と、フォーカス用レーザビームの戻り光Ｌｂ２を光電変換するポジションセンサ１４３とを備えている。フォーカス用レーザ光源１４１が発生するフォーカス用レーザビームＬｂ１の波長としては、感光性材料層２０２が実質的に感光しない波長を選択する必要があり、露光用レーザビームＬａよりも長波長とすることが好ましい。具体的な波長としては感光性材料層２０２の特性にもよるが、一例として、露光用レーザビームＬａの波長が２６６ｎｍ程度である場合には、フォーカス用レーザビームＬｂ１の波長としては６８０ｎｍ程度に設定すればよい。また、ポジションセンサ１４３は、フォーカス用レーザビームの戻り光Ｌｂ２を光電変換可能である限り特に限定されないが、小型化が容易である点を考慮すれば、フォトダイオードを用いることが好ましい。
【００３７】
また、ヘッド部１２０に含まれる光学部品としては、フォーカス用レーザビームＬｂ１及びその戻り光Ｌｂ２を反射するためのミラー１２１ａと、露光用レーザビームＬａとフォーカス用レーザビームＬｂ１を合成するとともに、フォーカス用レーザビームの戻り光Ｌｂ２を透過させるダイクロイックミラー１２２ａと、露光用レーザビームＬａ及びフォーカス用レーザビームＬｂ１を集束し、フォトレジスト原盤２００に照射する対物レンズ１２３とがあり、このうち、ミラー１２１ａは上述したミラー固定治具１２１に収容・位置決めされており、ダイクロイックミラー１２２ａは上述したミラー固定治具１２２に収容・位置決めされている。
【００３８】
以上が本実施態様にかかるカッティング装置１００の構成であり、次に、カッティング装置１００を用いたフォトレジスト原盤２００のカッティング方法について説明する。
【００３９】
まず、カッティングの対象となるフォトレジスト原盤２００をターンテーブル１１１上に正しく載置するとともに、露光用レーザ光源１３１に露光用レーザビームＬａを発生させ、フォーカス用レーザ光源１４１にフォーカス用レーザビームＬｂ１を発生させる。これにより、フォーカス用レーザビームＬｂ１は、ビームスプリッタ１４２を通過した後、ミラー１２１ａにより反射し、さらにダイクロイックミラー１２２ａを通過した後、対物レンズ１２３により感光性材料層２０２上に照射される。但し、フォーカス用レーザビームＬｂ１は感光性材料層２０２が実質的に感光しない波長を有していることから、この時点で感光性材料層２０２が感光することはない。また、感光性材料層２０２上に照射されたフォーカス用レーザビームの戻り光Ｌｂ２は、対物レンズ１２３、ダイクロイックミラー１２２ａ及びミラー１２１ａを経由した後、ビームスプリッタ１４２により反射してポジションセンサ１４３に照射される。一方、この時点においてはシャッタ１３５が閉じており、このため露光用レーザビームＬａはシャッタ１３５によって遮られる。
【００４０】
そして、図示しないコントローラは、ポジションセンサ１４３からの出力を参照し、これに基づいてパルスモータ１２６を駆動することにより、フォーカス用レーザビームＬｂ１を感光性材料層２０２にフォーカスロックさせる。これにより、フォーカス用レーザビームＬｂ１のフォーカスは、感光性材料層２０２に自動追従状態となる。
【００４１】
次に、スピンドルモータ１１２を回転させる。この場合、フォトレジスト原盤２００上における線速度が一定となるように回転制御することが好ましい。このような回転制御を行った場合、露光位置がフォトレジスト原盤２００の内周であるほど回転速度を速くする必要がある。
【００４２】
次に、シャッタ１３５を開放する。これにより、露光用レーザビームＬａは、ＥＯＭ１３２により露光に最適な強度に調整された後、光変調ユニット１３３及びビームエキスパンダ１３４を通過し、さらにダイクロイックミラー１２２ａにより反射した後、対物レンズ１２３により感光性材料層２０２上に照射される。この場合、既にフォーカス用レーザビームＬｂ１が感光性材料層２０２にフォーカスロックしていることから、露光用レーザビームＬａについても、感光性材料層２０２にフォーカスすることになる。但し、収差によって露光用レーザビームＬａの焦点とフォーカス用レーザビームＬｂ１の焦点とが大きくずれている場合には、ポジションセンサ１４３を移動させる等によって収差補正を行うことが好ましい。
【００４３】
次に、スライド機構１１３を駆動することによって露光用レーザビームＬａの照射位置を感光性材料層２０２の露光開始位置に合わせた後、形成すべき潜像が感光性材料層２０２上において螺旋状となるよう徐々にスライド機構１１３を移動させながら、光変調ユニット１３３を用いて露光用レーザビームＬａをパルス変調又はウォブリングさせる。すなわち、実際の露光を開始する。これにより、感光性材料層２０２には、最終的に光記録媒体の基板に形成すべき凹凸に対応した潜像が螺旋状に形成されることになる。つまり、作製すべきスタンパがＲＯＭ型光記録媒体用のスタンパである場合には、ピット列に対応する潜像が感光性材料層２０２に螺旋状に形成され、また、作製すべきスタンパが追記型光記録媒体又は書き換え型光記録媒体用のスタンパである場合には、ウォブリングしたプリグルーブに対応する潜像が感光性材料層２０２に螺旋状に形成されることになる。露光の進行方向については特に限定されず、感光性材料層２０２の内周から外周に向かって露光を進めても構わないし、外周から内周に向かって露光を進めても構わない。
【００４４】
そして、露光用レーザビームＬａの照射位置が感光性材料層２０２の露光終了位置に達するとフォトレジスト原盤２００に対する一連のカッティングを終了する。
【００４５】
このようなカッティングを行っている間、フォトレジスト原盤２００はスピンドルモータ１１２により高速回転しているため、フォトレジスト原盤２００の面方向に横風Ｗ（図１参照）が発生する。このような横風Ｗは、フォトレジスト原盤２００の回転速度が速いほど強く、このため、フォトレジスト原盤２００の露光位置が内周に近いほど横風Ｗは強くなる。また、横風Ｗはケース１０１に当たって乱流Ｗ’となる。
【００４６】
しかしながら、本実施態様においては、このような乱流Ｗ’が防風壁１０３によって遮断され、ヘッド部１２０が固定されている部分にほとんど達しないことから、乱流Ｗ’の影響によってヘッド部１２０が振動し、これによって露光状態に急激な変動を生じることがほとんどない。このような乱流Ｗ’を受けた場合の影響は、ミラー１２１ａ及びダイクロイックミラー１２２ａにおいて特に顕著であり、このためこれらを位置決めするミラー固定治具１２１，１２２が乱流Ｗ’によって振動すると露光状態に顕著な変動が生じるが、本実施態様においては、ヘッド部１２０を構成する各要素のうち、少なくとも、ミラー１２１ａ及びダイクロイックミラー１２２ａ並びにこれらを収容・位置決めするミラー固定治具１２１，１２２については、防風壁１０３によって回転するフォトレジスト原盤２００から隔離されているため、上述した影響を回避することが可能となる。
【００４７】
ここで、乱流Ｗ’を受けた場合の影響がミラー１２１ａ及びダイクロイックミラー１２２ａにおいて特に顕著である理由は次の通りである。すなわち、ミラー１２１ａ、ダイクロイックミラー１２２ａ及び対物レンズ１２３については、これらの集合によりヘッド部１２０を構成するためこれらの間の距離は短く、また、対物レンズ１２３と感光性材料層２０２との距離も必然的に短く設定されるが、ミラー１２１ａ及びダイクロイックミラー１２２ａと光学系１０４との距離（具体的には、ミラー１２１ａとビームスプリッタ１４２との距離及びダイクロイックミラー１２２ａとビームエキスパンダ１３４との距離）については、光学ベース１０２の壁面部１０２ａが介在することから、ある程度長くならざるを得ない。このため、ミラー１２１ａ及びダイクロイックミラー１２２ａについては、極めて高い精度で位置決めする必要があり、僅かな振動によっても光軸が大きくぶれてしまう。これが上記の理由である。
【００４８】
また、乱流Ｗ’による影響は当然ながら対物レンズ１２３にも及ぶが、対物レンズ１２３の振動はサーボ補正等の補正手段によってある程度補正されるため、多くの場合、ミラー１２１ａやダイクロイックミラー１２２ａほどの影響はない。
【００４９】
以上説明したように、本実施態様にかかるカッティング装置１００においては、対物レンズ１２３の一部（フォトレジスト原盤２００に近い部分）を除くヘッド部１２０と駆動部１１０とを隔離する防風壁１０３が設けられていることから、フォトレジスト原盤２００の回転により生じる風によるヘッド部１２０の振動、特に、ミラー固定治具１２１，１２２の振動を防止することができる。これにより、フォトレジスト原盤２００の内周部分を露光する場合や、高い記録線速度でカッティングを行う場合であっても露光状態に急激な変動が生じ難くなる。
【００５０】
尚、上記乱流Ｗ’による空気のゆらぎは、防風壁１０３と対物レンズ１２３との隙間を通じてミラー固定治具１２１，１２２にも僅かに伝えられるが、このようなゆらぎによってミラー固定治具１２１，１２２が振動することはほとんどなく、また、上記隙間自体をできる限り狭く設定することによってその影響を実質的になくすことが可能である。
【００５１】
図４は、本実施態様の効果を説明するためのグラフであり、サンプル１〜１１は防風壁１０３がない状態でカッティングしたフォトレジスト原盤２００より作製した光記録媒体のプッシュプル信号変動であり、サンプル１２〜４４は防風壁１０３がある状態でカッティングしたフォトレジスト原盤２００より作製した光記録媒体のプッシュプル信号変動である。ここで、プッシュプル信号変動とは、プッシュプル信号の最大値をＰＰｍａｘ、プッシュプル信号の最小値をＰＰｍｉｎとした場合、
（ＰＰｍａｘ−ＰＰｍｉｎ）／（ＰＰｍａｘ＋ＰＰｍｉｎ）
で与えられる値であり、グルーブの深さのばらつきやトラックピッチに連動するパラメータである。
【００５２】
図４に示すように、サンプル１〜１１においてはプッシュプル信号変動が大きく（１３％以上）その値も大きくばらついているが、サンプル１２〜４４においてはプッシュプル信号変動が小さく（１３％以下）値のばらつきも比較的小さいことが分かる。
【００５３】
次に、上記カッティング装置を用いたカッティング方法を含むフォトレジスト原盤の製造方法、当該フォトレジスト原盤を用いたスタンパの製造方法、及び当該スタンパを用いた光記録媒体の製造方法について、図５乃至図７を参照しながら順に説明する。光記録媒体の製造では、マスタリング工程によりフォトレジスト原盤が作製され、このフォトレジスト原盤からスタンパが作製され、さらにこのスタンパから光記録媒体が作製される。
【００５４】
図５（ａ）乃至（ｃ）は、フォトレジスト原盤の製造方法を概略的に示す模式図である。
【００５５】
図５（ａ）に示すように、まず精密に研磨されたディスク状のガラス基板２０１が用意され、その上にノボラック系樹脂やポリスチレン樹脂などを骨格樹脂とするフォトレジストがスピンコート法によって均一に塗布されて、ガラス基板２０１上に所定の層厚を有する感光性材料層２０２が形成される。なお、ガラス基板２０１と感光性材料層２０２との間には、両者の接着性を向上させるための接着助剤などの各種添加物を含む中間層を介在させてもよい。感光性材料層２０２の層厚は特に限定されないが、最終的に形成されるべきグルーブの高さを考慮して適切な厚みに設定される。以上の工程を経て、ガラス基板２０１及び感光性材料層２０２からなるフォトレジスト原盤２００が作製される。
【００５６】
次いで、図５（ｂ）に示すように、フォトレジスト原盤２００のカッティングが行われる。カッティングでは、上述したカッティング装置１００が用いられる。フォトレジスト原盤２００はカッティング装置１００内にセットされ、フォトレジスト原盤２００を回転させ、かつフォトレジスト原盤２００の回転によって生じる風を防風壁１０３で遮断して少なくとも対物レンズ１２３を含むヘッド部１２０の振動を防止しながら、レーザビーム５０１の照射位置をフォトレジスト原盤２００の径方向にシフトさせることにより、対物レンズ１２３によって集光されたレーザビーム５０１はフォトレジスト原盤２００に対して螺旋状に照射される。このように感光性材料層２０２をカッティングすることにより、フォトレジスト原盤２００上にはピットやグルーブの潜像が形成される。
【００５７】
その後、図５（ｃ）に示すように、カッティングされたフォトレジスト原盤２００を現像して潜像部分を除去する。このとき、感光性材料層２０２の露光されていない部分は現像液によって溶解されず、フォトレジスト原盤２００上に残されて凹凸パターンの一部となる。これにより、ガラス基板２０１の表面に凹凸パターンが形成されたフォトレジスト原盤２００が完成する。
【００５８】
図６（ａ）乃至（ｄ）は、スタンパの製造方法を概略的に示す模式図である。
【００５９】
図６（ａ）に示すように、フォトレジスト原盤２００に無電解メッキ処理を施すことにより、フォトレジスト原盤２００の凹凸パターン上に無電解ニッケル層６０１が形成される。なお、ニッケル層６０１はスパッタリングにより形成されても構わない。次いで、図６（ｂ）に示すように、無電解ニッケル層６０１を電極として使用して電解ニッケルメッキ処理を施すことにより、無電解ニッケル層６０１上に電解ニッケル層６０２が形成される。そして、図６（ｃ）に示すように、感光性材料層２０２及び２つのニッケル層６０１、６０２からなる積層体からガラス基板２０１が剥離される。さらに、図６（ｄ）に示すように、この積層体が強アルカリ液に浸され、感光性材料層２０２が除去されることにより、無電解ニッケル層６０１及び電解ニッケル層６０２の積層体からなり、フォトレジスト原盤２００の凹凸パターンが転写されたスタンパ６０３が完成する。
【００６０】
図７（ａ）及び（ｂ）は、光記録媒体の製造方法を概略的に示す模式図である。
【００６１】
図７（ａ）に示すように、スタンパ６０３は射出成形用の金型７０１内にセットされる。金型７０１内にはポリカーボネートなどの樹脂が流し込まれ、樹脂は金型２０１内で硬化する。その結果、スタンパ６０３上の凹凸パターンが転写された光記録媒体用基板７０２が作製される。次いで、図７（ｂ）に示すように、この光記録媒体用基板７０２上に、誘電体層、記録層、反射層、保護層など、用途に応じて選択された複数の層からなる多層膜７０３が形成されて、ＲＯＭ型、追記型又は書き換え型の光記録媒体７０４が完成する。
【００６２】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【００６３】
例えば、上記実施態様においては、防風壁１０３がフォトレジスト原盤２００のほぼ全面を覆っているが、フォトレジスト原盤２００の回転により生じる横風Ｗがヘッド部１２０、特にミラー固定治具１２１，１２２に達することによりこれらが振動するのを防止可能である限り、フォトレジスト原盤２００のほぼ全面を覆う必要はない。したがって、図８に示すように、防風壁１０３の端面１０３ａをケース１０１の上面に固定し、側面部１０２ａに対してほぼ平行な部分によって少なくともミラー固定治具１２１，１２２を覆い、これによってヘッド部１２０を駆動部１１０から隔離しても構わない。また、図９及びその略上面図である図１０に示すように、フォトレジスト原盤２００の外周を取り囲むように防風壁１０３を設けることによって、横風Ｗに起因する乱流Ｗ’がヘッド部１２０に達するのを防止しても構わない。この場合、図９に示すように、防風壁１０３をフォトレジスト原盤２００の表面に対して角度を付けることにより、乱流Ｗ’がヘッド部１２０に達するのを効果的に防止することができる。さらに、図１１に示すように、防風壁１０３の先端部分１０３ａを鉤型とすれば、乱流Ｗ’がヘッド部１２０に達するのをより効果的に防止することができる。
【００６４】
但し、上記実施態様（図１参照）のように、防風壁１０３をフォトレジスト原盤２００の主面のほぼ全面を覆って略平行に配置すれば、横風Ｗにより生じるケース１０１内の乱流Ｗ’の影響が最も緩和されることから、露光状態の変動を最も効果的に防止することが可能となる。
【００６５】
また、防風壁１０３をケース１０１によって支持することは必須でなく、防振台１０５等他の部材によってこれを支持しても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の好ましい実施態様にかかるカッティング装置１００の構造を示す概略構成図である。
【図２】ヘッド部１２０の構造をより具体的に示す部分斜視図である。
【図３】光学系１０４の具体的な構成及びヘッド部１２０に含まれる光学部品を模式的に示すブロック図である。
【図４】本発明の好ましい実施態様の効果を説明するためのグラフである。
【図５】図５（ａ）乃至（ｃ）は、フォトレジスト原盤の製造方法を概略的に示す模式図である。
【図６】図６（ａ）乃至（ｄ）は、スタンパの製造方法を概略的に示す模式図である。
【図７】図７（ａ）及び（ｂ）は、光記録媒体の製造方法を概略的に示す模式図である。
【図８】変形例によるカッティング装置８００の構造を示す概略構成図である。
【図９】他の変形例によるカッティング装置９００の構造を示す概略構成図である。
【図１０】図９に示したカッティング装置９００の構造を示す略上面図である。
【図１１】防風壁１０３の先端部分１０３ａを鉤型とした例を示す図である。
【符号の説明】
【００６７】
１００  カッティング装置
１０１  ケース
１０２  光学ベース
１０２ａ  側面部
１０３  防風壁
１０３ａ，１０３ｂ  防風壁の端面
１０４  光学系
１０５  防振台
１０６  脚部
１１０  駆動部
１１１  ターンテーブル
１１２  スピンドルモータ
１１３  スライド機構
１１３ａ  スライドレール
１１３ｂ  スライドベース
１２０  ヘッド部
１２１，１２２  ミラー固定治具
１２１ａ  ミラー
１２２ａ  ダイクロイックミラー
１２３  対物レンズ
１２４  連結部材
１２４ａ，１２６ａ  固定面
１２５  対物レンズホルダ
１２６  パルスモータ
１３０  露光用光学系
１３１  露光用レーザ光源
１３２  ＥＯＭ
１３３  光変調ユニット
１３４  ビームエキスパンダ
１３５  シャッタ
１４０  フォーカス用光学系
１４１  フォーカス用レーザ光源
１４２  ビームスプリッタ
１４３  ポジションセンサ
５０１  レーザビーム
６０１  無電解ニッケル層
６０２  電解ニッケル層
７０１  射出成形用金型
７０２  光記録媒体用基板
７０３  多層膜
７０４  光記録媒体
８００  カッティング装置
９００  カッティング装置
Ｗ  横風
Ｗ’  乱流
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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