(57)【要約】【課題】  本発明が解決しようとする課題は、赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収し、しかも熱履歴の負荷がかかっても長期に亘って初期のフィルター性能を十分に維持できる光学フィルターを提供する。また、前記特性を有する反射防止膜を提供する。【解決手段】  透明支持体上に顔料及びポリマーバインダーを含むフィルター層が積層された光学フィルターにおいて、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有する光学フィルター。顔料及びポリマーバインダーを含むフィルター層、透明支持体及び透明支持体の屈折率より低い屈折率を有する低屈折率層がこの順に積層された反射防止膜において、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有する反射防止膜。【選択図】  なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層が積層された光学フィルターにおいて、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有することを特徴とする光学フィルター。
【請求項２】
顔料スルホン酸誘導体が、顔料スルホン酸または顔料スルホン酸金属塩である請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項３】
縮合多環系顔料が、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９のβ型無置換キナクリドン顔料である請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項４】
顔料スルホン酸誘導体で処理されたβ型無置換キナクリドン顔料の平均一次粒子径が１０〜１００ｎｍである請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項５】
顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層がこの順に積層された反射防止膜において、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有することを特徴とする反射防止膜。
【請求項６】
透明支持体、顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層がこの順に積層された反射防止膜において、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有することを特徴とする反射防止膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明支持体及びフィルター層が積層された光学フィルターに関する。また、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの様な画像表示装置の表面に、反射防止あるいは色再現性改良のため取り付けられる反射防止膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
少なくとも２層の薄膜を積層した多層構造を有し、最上層の膜とそのすぐ下の膜に各々光吸収ピークの異なる色素を含むことにより、広い可視波長領域にわたって反射の少ない高性能反射防止膜、及びその膜を用いた表示装置が得られることが知られている。
【０００３】
具体的には、特許文献１の表示装置には、最上層のすぐ下の膜に含まれる色素として５００〜６００ｎｍの波長領域に吸収ピークを有するキナクリドン系顔料を用いることが出来ることが示唆されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
しかしながら、この様な反射防止膜を表示装置の表面に形成しても、赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収することが出来ず、コントラストと色純度が低いという欠点があった。
【０００５】
また、透明支持体上に、顔料及びポリマーバインダーを含むフィルター層が積層された光学フィルターにおいて、５００〜５５０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する非レーキ顔料と、５６０〜６２０ｎｍの波長領域に極大吸収を有するレーキ顔料の二種類の顔料を極大吸収の波長に応じて使い分けることにより、耐光性、耐熱性が良好で、画像表示装置の種類に応じた適切な色補正機能を有する光学フィルター及び反射防止膜が得られることが記載されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
しかしながら特許文献２の光学フィルターは、５６０〜６２０ｎｍの波長領域に極大吸収を有するレーキ顔料が用いられているが、このレーキ顔料は耐光性と耐熱性が不十分であり、さらに赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収することが出来ない。その結果、二種類の顔料を併用しても十分な耐光性や耐熱性を発揮することが出来ず、その光学フィルターや反射防止膜は、画像表示装置に対応する適切な色補正を行うことは到底困難であった。
【０００７】
【特許文献１】特開平８−２５８２０８号公報（第３頁段落番号０００６、第４頁段落番号００１１、段落番号００１７、第４頁〜第５頁段落番号００１８）。
【特許文献２】特開２００１−６６４１９号公報（第２頁段落番号０００２、第２頁〜第３頁段落番号０００５、第３頁段落番号０００９、第４頁段落番号００１５〜第５頁段落番号００１８）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収し、しかも、熱履歴の負荷がかかっても長期に亘って初期のフィルター性能が十分に維持出来る光学フィルターを提供することにある。また本発明は、前記優れた特性を有する反射防止膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで本発明者らは、前記実状に鑑みて鋭意検討した結果、前記観点において、より高性能である光学フィルターを得る手段として、フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有することにより、前記課題を解決出来ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち本発明は、透明支持体上に顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層が積層された光学フィルターにおいて、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有することを特徴とする光学フィルターに関する。
【００１１】
さらに本発明は、顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層がこの順に積層された反射防止膜において、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有することを特徴とする反射防止膜に関する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、透明支持体上に顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層が積層された光学フィルターにおいて、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピークを有することにより、従来の縮合多環系顔料を含む場合には得られなかった、より高性能な光学フィルターが得られるという格別顕著な効果を奏する。
したがって、本発明の光学フィルターは、より高性能な画像表示装置の形成に最適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１４】
本発明の光学フィルターは、透明支持体上に顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層が積層された光学フィルターにおいて、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に唯一の吸収ピーク（極大吸収を兼ね、以下、極大吸収と称する。）を有するものが用いられる。
【００１５】
本発明の反射防止膜は、顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層された反射防止膜において、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収を有するものが用いられる。
【００１６】
さらに本発明の反射防止膜は、透明支持体、顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層された反射防止膜において、前記フィルター層に顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含み、５５１〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収を有するものが用いられる。
【００１７】
反射防止膜（反射防止層を設けた光学フィルター）の代表的な層構成としては、以下の２通りがある。具体的には、（１）透明支持体に対し、フィルター層と反射防止層とを上側と下側に設けたもの、（２）透明支持体に対し、フィルター層と反射防止層とを同じ側に設けたものがある。また、（１）と（２）の光学フィルターの層構成には各々以下に述べる４つの態様がある。尚、反射防止層を設ける場合は、低屈折率層が必須である。
【００１８】
（１）；（ａ）フィルター層、透明支持体、低屈折率層の順序の層構成を有する。尚、透明支持体と低屈折率層の屈折率の関係は、低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率を有する。（ｂ）フィルター層、透明支持体、ハードコート層、低屈折率層の順序の層構成を有する。（ｃ）フィルター層、透明支持体、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の順序の層構成を有する。尚、透明支持体、低屈折率層、及び高屈折率層の屈折率の関係は、低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜高屈折率層の屈折率を有する。（ｄ）フィルター層、透明支持体、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順序の層構成を有する。尚、透明支持体、低屈折率層、高屈折率層、及び中屈折率層の屈折率の関係は、低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜中屈折率層の屈折率＜高屈折率層の屈折率を有する。
【００１９】
（２）；（ａ）透明支持体、フィルター層、低屈折率層の順序の層構成を有する。尚、透明支持体と低屈折率層の屈折率の関係は、（１）の（ａ）と同様である。（ｂ）透明支持体、フィルター層、ハードコート層、低屈折率層の順序の層構成を有する。（ｃ）透明支持体、フィルター層、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の順序の層構成を有する。尚、透明支持体、低屈折率層、及び高屈折率層の屈折率の関係は、（１）の（ｃ）と同様である。（ｄ）透明支持体、フィルター層、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順序の層構成を有する。尚、透明支持体、低屈折率層、高屈折率層、及び中屈折率層の屈折率の関係は、（１）の（ｄ）と同様である。
【００２０】
（透明支持体）
透明支持体を形成する材料としては、公知慣用の熱可塑性樹脂が使用出来る。熱可塑性樹脂の中でもセルロースエステル類のトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエステル類のポリエチレンテレフタレートを使用することが好ましい。
【００２１】
透明支持体の透過率としては、８０〜９９％の範囲にあることが好ましい。また前記透明支持体のヘイズとしては、２％以下であることが好ましい。さらに前記透明支持体の屈折率としては、１．４５〜１．７０の範囲にあることが好ましい。
【００２２】
透明支持体には、赤外線吸収剤又は紫外線吸収剤を添加してもよい。前記吸収剤の添加量としては、透明支持体に対して０．０１〜２０％の範囲にあることが好ましい。
【００２３】
さらに透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を添加してもよい。無機化合物としては、例えば、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＢａＳＯ4 、ＣａＣＯ3 、タルク及びカオリン等が挙げられる。
【００２４】
透明支持体には、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、火焔処理等の公知慣用の方法が用いられる。さらに透明支持体には、上層との接着強化のための下塗り層を設置してもよい。
【００２５】
（フィルター層）
フィルター層の厚さは１００ｎｍ〜５ｃｍの範囲にあることが好ましい。フィルター層は、透明支持体上に顔料およびポリマーバインダーを含むものであって、前記顔料が顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料であり、且つ５５１〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収を有するものが好ましい。また、前記波長領域の極大吸収における吸収ピークの半値幅はより狭い方が好ましい。さらに、前記波長領域の極大吸収におけるフィルター層の透過率もより高い方が好ましい。前記波長領域の極大吸収は、視感度の高い赤色蛍光体の発色強度を調節する機能を有するものである。尚、赤色蛍光体の発光域は、なだらかにカットすることが好ましい。
【００２６】
５５１〜６００ｎｍの波長領域における極大吸収は、赤色蛍光体の色純度を低下させているサイドバンドを選択的に吸収する機能を有するものである。例えば、プラズマディスプレイパネル等のフラットパネルディスプレイでは、ネオンガスの励起によって放出される５９５ｎｍの波長領域付近の不要な発光も吸収できる。上記した様な波長領域に極大吸収を設定することで、赤色蛍光体の色調に何ら悪影響を与えることなく、選択的に光を吸収することが出来る。また、赤色蛍光体の色調への影響をさらに少なくするために、５５１〜６００ｎｍの波長領域における極大吸収は、その吸収ピークの半値幅がより狭く、よりシャープとなることが好ましい。
【００２７】
本発明では、赤色蛍光体固有の吸収ピークに合致する顔料を含むため、所望する光学フィルターの光特性に対応することが出来る。５５１〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収を有するフィルター層は、顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を含むことにより得ることが出来る。尚、縮合多環系顔料としては、後記する公知慣用の縦型又は横型の（媒体）分散機、混練機、混合器等で微細化された顔料を使用する方が、より高性能な光学特性を有する光学フィルターが得られる点で好ましい。
【００２８】
本発明は、透明支持体上に顔料およびポリマーバインダーを含むフィルター層が積層された光学フィルターとして、前記フィルター層に含まれる顔料として顔料スルホン酸誘導体で表面処理された縮合多環系顔料を使用することにより、５５１〜６００ｎｍの波長領域にその吸収ピークの半値幅がより狭く、よりシャープな極大吸収を有するフィルター層となり、赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収し、しかも、熱履歴の負荷がかかっても長期に亘って初期の性能（コントラストと色純度）を十分に維持できる光学フィルターが得られる。
【００２９】
上記光学フィルターの性能は、前記フィルター層に含まれる顔料に起因するところが大きい。即ち、透明支持体およびポリマーバインダー自体は、その吸収ピークの現われる波長領域が顔料と重複せず、さらにその吸収ピークも小さい。それ故に、透明支持体上で顔料をポリマーバインダーと混合し、フィルター層として積層された光学フィルターは、前記透明支持体およびポリマーバインダーに影響されることは少なく、顔料固有の吸収ピークが５５１〜６００ｎｍの波長領域により顕著に現われるために、前記した様に赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収し、しかも、熱履歴の負荷がかかっても長期に亘ってコントラストと色純度が初期の性能を十分に維持した光学フィルターが得られる。
【００３０】
本発明で用いられる縮合多環系顔料としては、一般に染め付けレーキ顔料、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料以外で、ベンゼン環や複素環から成る縮合多環芳香環状構造をもち、レーキ有機顔料をもはるかにしのぐ耐候（光）性、耐熱性、耐溶剤性等の諸堅牢性が良好な種々の化学構造を有する一連の有機顔料が挙げられる。
【００３１】
本発明の光学フィルターにおいて、５５１〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収を有するフィルター層を形成するために用いる縮合多環系顔料としては、例えば、スレン系、インジゴ系、キナクリドン系、ジケトピロロピロール系、ペリレン系、ペリノン系、イソインドリノン系、金属錯体系顔料等が挙げられる。縮合多環系顔料のカラーインデックス番号（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｎｏ．）としては、例えば、Ｒｅｄ  ８３、同８８、同９０：１、同１２２、同１２３、同１４９、同１７７、同１７８、同１８１、同１９０、同１９４、同２０２、同２０６、同２０７、同２０８、同２０９、同２２４、同２４９、同２５０、同２５４、同２５５、同２５７、同２６０、同２６３、同２６４、同２７０、同２７２、及びＶｉｏｌｅｔ  ５：１、同１９、同３２等が挙げられる。
【００３２】
前記縮合多環系顔料の中でも、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９のβ型無置換キナクリドン顔料を使用することが好ましい。該顔料を使用すると、（１）不要な波長領域の光を選択的に吸収して反射防止する、（２）赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収することにより、コントラストと色純度の光学特性により優れた光学フィルターが得られる。さらに、該顔料に後記する顔料スルホン酸誘導体で表面処理を施すことにより、その効果はより顕著に現れるものである。
【００３３】
本発明の後記する無置換キナクリドン顔料のスルホン酸、同スルホン酸ストロンチウム塩で表面処理されたβ型無置換キナクリドン顔料を含む光学フィルター（図１、２の実施例１および図２の実施例２参照。）は、無処理の前記顔料（図２の比較例２参照。）に比べて５５１〜６００ｎｍの波長領域にその吸収ピークの半値幅がより狭く、よりシャープである極大吸収を有するフィルター層であり、前記した光学フィルターの光特性を十分に満足することが出来る。ちなみに、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９のβ型無置換キナクリドン顔料に代えて、γ型の該顔料を使用すると、５００〜５５０ｎｍと５５１〜６００ｎｍの波長領域にそれぞれ極大吸収を有するフィルター層となる。一方、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２、同２０９（図１の比較例１参照。）の様な２置換キナクリドン顔料を使用すると、５００〜５５０ｎｍの波長領域にのみに極大吸収を有するフィルター層となり、上記顔料スルホン酸誘導体で表面処理されたβ型無置換キナクリドン顔料の様に光学フィルターの光特性に合致することは難しい。
【００３４】
また必要ならば、その吸収ピークをスムージング加工（吸収ピークのノイズを極力カットする処理をいう。）することにより、本発明の前記した無置換キナクリドン顔料のスルホン酸誘導体で表面処理されたβ型無置換キナクリドン顔料を含む光学フィルターと、前記したＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９のγ型無置換キナクリドン顔料やＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２、同２０９の様な２置換キナクリドン顔料を含む光学フィルターとの光学特性の効果の差をより明確とすることが出来る。
【００３５】
キナクリドン系顔料は、橙色から赤色、赤色から紫色までの幅広い色域を有し、いずれも有機顔料の中では最高級の諸堅牢性を有し、例えば、自動車等の高級塗料、プラスチック、金属インキ等、屋外の厳しい条件下での用途に幅広く使用される。
【００３６】
キナクリドン系顔料は、前記した様に、カラーインデックス番号（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｎｏ．）Ｒｅｄ  １２２のキナクリドンマゼンタ顔料、同２０２のジクロロキナクリドンマゼンタ顔料、同２０６のキナクリドンマルーン顔料、同２０７のキナクリドンスカーレット顔料、同２０９のジクロロキナクリドンレッド顔料、Ｖｉｏｌｅｔ  １９の無置換キナクリドン顔料が挙げられる。
【００３７】
キナクリドン系顔料の工業化された製法としては、コハク酸ジアルキルエステルを出発原料として、（１）ポリリン酸、硫酸等を用いる酸環化法、（２）熱環化法が挙げられる。上記製法から得られるキナクリドンは、クルードと呼ばれる粗製顔料であり、このキナクリドンクルードを精製、結晶形、粒子径の制御等の顔料化工程、あるいは顔料誘導体、界面活性剤、合成樹脂等の各種分散剤で顔料の表面を被覆する表面処理工程を経てキナクリドン系顔料が得られる。
【００３８】
前記した無置換キナクリドン顔料には、主にα、β、γ型の３種類の結晶構造があり、β型とγ型が安定形の結晶（相互間の結晶変換は困難）に対して、α型は準安定形の結晶である。色相はβ型が赤味の紫色、γ型が黄味の赤色（粒子径の大きい；Ｙｅｌｌｏｗｉｓｈタイプ）から青味の赤色（粒子径の小さい；Ｂｌｕｉｓｈタイプ）、α型がγ型より強い青味の赤色を呈す。該無置換キナクリドン顔料の平均一次粒子径は、一般的に、０．０５〜０．５μｍの範囲にあるものが好ましい。
【００３９】
本発明の光学フィルターに用いられるβ型無置換キナクリドン顔料は、例えば、公知慣用の方法であるα型無置換キナクリドンクルードをキシレン存在下でソルベントソルトミリングする方法や、アルコール中に再析出させるアシッドペースト法や、大過剰の有機溶剤中で加熱処理するソルベント法により得ることが出来る。尚、α型無置換キナクリドン顔料は、無置換キナクリドンクルードを硫酸中に溶解後、水に再析出させるアシッドペースト法や、無置換キナクリドンクルードを食塩等の助剤と共に磨砕するソルトミリング法により得ることが出来る。γ型無置換キナクリドン顔料は、α型無置換キナクリドンクルードを大過剰のジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、あるいはＮ−メチルピロリドン等の高誘電率有機溶剤中で加熱処理するソルベント法により得ることが出来る。
【００４０】
さらに、本発明の光学フィルターに用いられるβ型無置換キナクリドン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長０．１５４１ｎｍ）による粉末Ｘ線回折図のブラッグ角（２θ±０．２°）＝５．８°、１１．７、１６．２°、２１．９°、２３．４°、及び２６．９°に主要ピークを有するものである。尚、α型無置換キナクリドン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長０．１５４１ｎｍ）による粉末Ｘ線回折図のブラッグ角（２θ±０．２°）＝６．２°、１２．４゜、１４．０゜、１６．７°、２０．８°、２５．７°、及び２７．９°に、γ型無置換キナクリドン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長０．１５４１ｎｍ）による粉末Ｘ線回折図のブラッグ角（２θ±０．２°）＝６．５°、１３．２゜、１３．８゜、１６．９°、２０．５°、２３．８°、及び２６．４°に主要ピークを有するものである。この際、粉末Ｘ線回折の測定条件は、粉末Ｘ線回折装置（株）リガク製  ＬＩＮＴ  １１００により、ターゲット：Ｃｕ、フィルター：Ｎｉ、電圧：４０ＫＶ、電流：３０ｍＡである。
【００４１】
縮合多環系顔料（以下、顔料と称す。）は、被分散媒体への分散状態におけるその粒子径が小さく、さらに粒度分布の幅が狭いものを顔料の微細粒子（以下、微細化顔料と称す。）の分散物として使用することが好ましい。顔料を微細化顔料の状態とするためには、公知慣用の縦型又は横型の（媒体）分散機、混練機、混合器等を使用することが好ましい。
【００４２】
分散の条件としては、適当な媒体（例えば、水、アルコール等の有機溶剤）の存在下で実施してもよい。顔料分散時、あるいは分散前・後において、界面活性剤、合成樹脂、顔料誘導体等の各種分散剤を併用することもできるが、本発明においては、前記顔料誘導体の中でも顔料スルホン酸誘導体を用いて顔料の表面に被覆処理する（表面処理工程とも称する。）方法が好ましい。
【００４３】
表面処理の具体的な方法としては、（１）顔料と顔料スルホン酸誘導体とを粉体同士で混合（粉体混合と称する。）する方法、（２）顔料分散時に顔料と顔料スルホン酸誘導体とを添加（共磨砕と称する。）する方法、（３）分散後の微細化された顔料に顔料スルホン酸誘導体を添加（染め付け処理と称する。）する方法等が挙げられる。
【００４４】
なかでも、（３）の方法で表面処理することにより、顔料自体の分散性をより向上させると共に、光学フィルター用途で使用する場合に、顔料分散物の分散性が向上して低粘度化する、前記顔料分散物の粘度・色度の経時安定性が向上する、および光学フィルターとした場合の透明性が向上する、さらに無処理の前記顔料に比べてその吸収ピークの半値幅がより狭く、よりシャープ（図２の実施例１、２、および比較例１参照。）となり、光学特性が向上する点で好ましい。
【００４５】
上記（３）の表面処理方法は、より具体的には下記の通りである。（Ａ）分散後の濾過、洗浄を行った微細化顔料の含水ウェットケーキを温水に解こう・分散させて顔料スラリーを作製する。（Ｂ）顔料スルホン酸誘導体水溶液にアルカリ金属水溶液を添加、アルカリ性にして溶解させる（顔料スルホン酸誘導体塩水溶液と称する。）。前記（Ａ）に（Ｂ）を添加、攪拌して混合スラリーとした後、一〜三価の金属塩を含む水溶液を添加して攪拌した後、酸を加えて酸析する。その後、濾過、十分に洗浄（比電導度が温水との差において５００ｍｓ／ｃｍ２以下になるまで）した後、乾燥、粉砕して顔料スルホン酸金属塩で表面処理された微細化顔料が得られる。尚、顔料スルホン酸処理の場合は上記金属塩水溶液を添加せず、酸を加えて酸析すればよい。
【００４６】
また上記（３）の表面処理方法は、（１）、（２）の方法に比べて顔料の粒子表面近傍に顔料スルホン酸誘導体を十分に吸着させることが出来、前記顔料スルホン酸誘導体の添加量が少量でも顔料自体の分散性がより向上し、顔料分散物の粘度・色度の経時変化が小さく、光学フィルターとした場合の透明性が高くなる点で好ましい。尚、表面処理方法の効果に関しては、（３）の染め付け処理が一番高く、次いで（２）の共磨砕、最後に（１）の粉体混合の順にその効果が低くなる。
【００４７】
さらに上記（３）の表面処理方法は、特に限定されたものではないが、例えば、微細化顔料スラリー中に顔料スルホン酸誘導体塩水溶液と、一〜三価の金属塩水溶液とを順次添加してもよいし、微細化顔料スラリー中にあらかじめ顔料スルホン酸誘導体塩水溶液を加え、次いで一〜三価の金属塩水溶液を添加してもよい。
【００４８】
顔料スルホン酸誘導体としては、顔料スルホン酸、顔料スルホン酸金属塩、顔料スルホン酸アンモニウム塩、顔料スルホン酸有機アミン塩、ジメチルアミノプロピル顔料モノスルホンアミド、ジメチルアミノプロピル顔料ジスルホンアミド、フタルイミドメチル顔料等が挙げられる。
【００４９】
顔料スルホン酸誘導体の顔料としては、特に制限されるものではないが、キナクリドン系顔料を用いた場合、前記した様に顔料自体の分散性が改良され、さらに光学フィルターとした場合の光学特性が向上する点で、キナクリドン顔料スルホン酸、キナクリドン顔料スルホン酸の金属塩が好ましい。ここでキナクリドン顔料とは、無置換、２，９−ジメチル体、２，９−ジクロル体、３，１０−ジクロル体、４，１１−ジクロル体の総称を意味する。
【００５０】
前記キナクリドン顔料スルホン酸、同顔料スルホン酸の金属塩は、例えば、以下の様な公知慣用の方法により合成される。まず、キナクリドン顔料を濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸、またはこれらの混合液等に投入してスルホン化反応を行う。次いでこの反応液を大量の水で希釈、あるいはアルカリ金属水溶液または金属塩水溶液で中和し、得られた懸濁液を濾過した後に水系の洗浄液で十分に洗浄後、乾燥する。中和を行わない場合、得られるキナクリドン顔料誘導体は酸となり、中和を行うと塩となる。
【００５１】
前記キナクリドン顔料スルホン酸の金属塩中のスルホン酸基としては、その金属が一価、二価あるいは三価の金属化合物と反応させて、対応するスルホン酸の金属塩とすることが出来る。
【００５２】
また前記キナクリドン顔料スルホン酸の金属塩は、該金属塩の粒子径が比較的大きい場合や、粒子径を小さくしたい場合には、粉砕してから使用することも出来る。
【００５３】
前記キナクリドン顔料スルホン酸の金属塩としては、例えば、その金属が一〜三価のキナクリドン顔料スルホン酸カリウム塩、同顔料スルホン酸ナトリウム塩、同顔料スルホン酸リチウム塩、同顔料スルホン酸カルシウム塩、同顔料スルホン酸マグネシウム塩、同顔料スルホン酸ストロンチウム塩、同顔料スルホン酸アルミニウム塩等が挙げられ、なかでも二価金属の同顔料スルホン酸カルシウム塩、同顔料スルホン酸ストロンチウム塩が好ましい。
【００５４】
キナクリドン顔料スルホン酸の金属塩は、金属塩との混合で、例えば、金属の価数が一価の場合は水溶液中で解離しやすいため、スラリーで処理すると吸着していないスルホン酸イオンと金属イオンが濾過の際に溶け出し、処理効果が小さくなる可能性がある。そこで溶解度積が小さくなる無機金属、具体的には、前記した二価の金属と結合したキナクリドン顔料スルホン酸の二価金属塩が好ましい。
【００５５】
キナクリドン顔料スルホン酸の二価金属塩の生成方法としては、例えば、以下の様な方法が挙げられる。まず、キナクリドン顔料のスルホン酸水溶液にアルカリ金属水溶液を加え、アルカリ性にして溶解させる。次いで、そこに二価金属塩水溶液を加えて攪拌した後、酸を加えて酸析する。その後、濾過、十分に洗浄した後、乾燥してキナクリドン顔料スルホン酸の二価金属塩が得られる。
【００５６】
キナクリドン顔料スルホン酸誘導体の添加量は、特に制限されるものではないが、質量換算で、キナクリドン顔料１００部当たり、１〜５０部の範囲から選択することが好ましい。
【００５７】
前記微細化顔料は、顔料と、水溶性無機塩（以下、無機塩と称する。）と、水溶性有機溶剤（以下、有機溶剤と称する。）とを加えて混練する操作（以下、ソルベントソルトミリング処理と称する。）により得ることが出来る。具体的には、顔料と、無機塩との混合物に、少量の無機塩を溶解しない有機溶剤を加えて混練する。この混練には、前記したニーダー、ミックスマーラー等の混練機が使用される。
【００５８】
無機塩としては、例えば、公知慣用の塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等やそれら水和物等の無機塩水和物が挙げられる。また無機塩としては、平均粒子径が０．３〜５０μｍの無機塩を用いることがより好ましい。この様な無機塩は、通常の無機塩を微粉砕することにより容易に得られる。尚、顔料に対する無機塩の使用量が多いほど顔料はより微細化する傾向にあるが、最終製品の品質、処理効率および生産効率の点で後記する使用量の範囲が好ましい。
【００５９】
有機溶剤としては、公知慣用のものが挙げられるが、なかでも水溶性のものが好ましい。また、混練操作時に蒸発し難く、安全性の点から沸点が高い有機溶剤が好ましい。この様な有機溶剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、液体ポリエチレングリコール、アルコキシアルカノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル、低分子量ポリプロピレングリコール等が挙げられる。
【００６０】
この混練操作を行うに当っては、顔料と、無機塩と、有機溶剤との割合は、特に制限されるものではないが、一般的には、質量換算で、顔料１００部あたり、無機塩３００〜２０００部、有機溶剤１〜５００部の範囲にあることが好ましい。
【００６１】
この混練操作は、顔料の平均一次粒子径が後記する範囲となる様に行う。具体的には、３０〜１５０℃で３〜２０時間混練操作を行う。また、窒素ガスや希ガスの様な不活性ガスの存在下で混練操作を行うことも出来る。
【００６２】
こうして得られた混練物は、水と混合攪拌して懸濁液となし、水と、有機溶剤とを濾過等により分離、洗浄（比電導度が温水との差において５００ｍｓ／ｃｍ２以下になるまで洗浄する）、乾燥、粉砕することにより、粉体で後記する範囲の平均一次粒子径（微細粒子）を有する本発明における微細化顔料とすることが出来る。
【００６３】
該微細化顔料は、平均一次粒子径が１０〜１００ｎｍの範囲にあるものが好ましく、中でも３０〜５０ｎｍの範囲にあるものが光学特性により優れた光学フィルターを得るうえで好ましい。前記した平均一次粒子径が１０ｎｍ未満では、顔料自体の凝集性が高まって分散しずらくなり、平均一次粒子径が８０ｎｍを超えると光学フィルターとした場合の透明性が低下する傾向にあり好ましくない。
【００６４】
本発明のキナクリドン顔料スルホン酸誘導体で表面処理されたβ型無置換キナクリドン顔料も、前記した無処理の顔料と同様に平均一次粒子径が上記範囲内にあることが好ましい。
【００６５】
該微細化顔料としては、例えば、硫酸、アルコール等による前記アシッドペースト法、大過剰の有機溶媒中で加熱処理を行うソルベント法、ソルトミリング法等の機械的剪断力による方法等、公知慣用の方法により製造されたものがいずれも適用することが出来る。尚、本発明においては、顔料粒子をより均一（粒径分布の揃った）でより微細化しやすい点で、ソルベントソルトミリング処理された微細化顔料を後記するフィルター層の顔料分散物の原料として用いることが好ましい。平均一次粒子径が前記範囲にある微細化顔料は、微細化処理を行う前の顔料に比べて、これを使用して得られる光学フィルター及び反射防止膜の色純度、コントラスト及び適切な色補正機能が高くなる点で好ましい。
【００６６】
本発明における顔料の平均一次粒子径は、例えば、日本電子（株）製の透過型電子顕微鏡（型式：ＪＥＭ−２０１０）にて、倍率を６０，０００倍で撮影した写真より算出することが出来る。
【００６７】
本発明における顔料の平均一次粒子径は、抽出した顔料粒子５０個について、各粒子の最長径を計測し、それらの平均を算出したものである。この際、試料である顔料は、これを溶媒に超音波分散させてから前記顕微鏡で撮影する。また、透過型電子顕微鏡の代わりに走査型電子顕微鏡を使用してもよい。尚、本発明において、顔料の平均一次粒子径の測定方法として、この方法を微細化処理の前後を問わずにいずれの顔料にも適用することが出来る。
【００６８】
本発明の光学フィルターに用いられる顔料スルホン酸誘導体で表面処理された顔料を含む顔料分散物は、経時安定性を付与する水素イオン濃度の領域に特に制限はないが、強酸性下（ｐＨが２〜３）では無処理の前記顔料を含む顔料分散物に比べて分散性が良好である。
【００６９】
フィルター層のポリマーバインダーとしては、例えば、天然ポリマー（ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸）、合成ポリマー（ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド）が挙げられる。なかでも、天然ポリマーと、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、水溶性ポリアミドの合成ポリマーが好ましく、ゼラチンがより好ましい。尚、フイルター層には、顔料の安定化剤である褪色防止剤や紫外線吸収剤を添加してもよい。
【００７０】
（下塗り層）
透明支持体とフィルター層との間には、下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層は、ガラス転移温度が−６０℃〜６０℃の範囲にあるポリマーを含む層、フィルター層側の表面が粗面である層、又はフィルター層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成する。また下塗り層は、反射防止膜と画像形成装置とを接着するための接着剤と反射防止膜との親和性を改善するために設けてもよい。下塗り層の厚みは、２〜２０，０００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００７１】
ガラス転移温度が−６０℃〜６０℃の範囲にあるポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着することが出来る。ガラス転移温度が２５℃以下のポリマーは、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル、又はメチルビニルエーテルの重合又は共重合により得ることが出来る。上記ガラス転移温度は、２０℃以下であることが好ましい。
【００７２】
表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成することで、透明支持体とフィルター層とを接着することが出来る。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形成することが出来る。ラテックスの平均粒子径は、２０〜３，０００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００７３】
フィルター層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーとしては、例えば、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイロン及び高分子ラテックス等が挙げられる。下塗り層は二以上を設けてもよい。また下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤及び硬膜剤を添加してもよい。
【００７４】
（反射防止層）
反射防止層の反射防止機能としては、正反射率が３％以下であることが好ましい。反射防止層を設ける場合は、低屈折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５の範囲にあることが好ましい。また低屈折率層の厚さは、５０〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。低屈折率層は、公知慣用の屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層、ゾルゲル法により得られる層、あるいは微粒子を含む層として形成することが出来る。該微粒子を含む層では、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙（好ましくは空隙率が３〜５０体積％）を形成することが出来る。
【００７５】
広い波長領域の反射を防止するためには、低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０の範囲にあることが好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間値となる様に調整する。また中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．９０の範囲にあることが好ましい。中・高屈折率層の厚さは、５〜１００，０００ｎｍの範囲にあることが好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成することが出来る。屈折率が高いポリマーとしては、例えば、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状（脂環式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタン等が挙げられる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーやフッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応により屈折率が高いポリマーを形成してもよい。
【００７６】
さらに高い屈折率を得るためには、ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子の屈折率は、１．８０〜２．８０の範囲にあることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物又は硫化物（酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウム等）から形成することが好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は硫化物を主成分とし、さらに他の元素も含むことが出来る。ここで主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（％）が多い成分を意味する。他の元素としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳが挙げられる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（キレート化合物等）、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することも出来る。
【００７７】
反射防止層は、表面をアンチグレア機能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能を有する）を付与することが出来る。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、その表面に反射防止層を形成するか、或いは反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を得ることが出来る。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３〜３０％のヘイズを有する。
【００７８】
（電磁波遮蔽層）
電磁波遮蔽効果を有する層の表面抵抗としては、０．１〜５００Ω／ｍ2 の範囲にあることが好ましい。光学フィルター又は反射防止膜に設ける層であるため、電磁波遮蔽層は透明であることが好ましい。一般に透明導電性層として知られている層を、電磁波遮蔽層として用いることが出来る。透明導電性層としては、金属薄膜又は金属酸化物薄膜が好適に用いられる。金属薄膜の金属としては、貴金属（金、銀、パラジウム又はこれらの合金）が好ましい。
【００７９】
合金中の銀の含有率は、６０〜９９％の範囲にあることが好ましい。金属酸化物薄膜の金属酸化物としては、例えば、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ、ＩＴＯ及びＩｎ2 Ｏ3 が挙げられる。金属薄膜と金属酸化物薄膜とを積層してもよい。両者を積層すると、金属酸化物薄膜により金属薄膜を保護（酸化防止）し、可視光の透過率をより高めることが出来る。金属薄膜と積層するための金属酸化物としては、例えば、２〜４価の金属酸化物（酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等）が挙げられる。又、金属アルコキサイド化合物の薄膜も、金属薄膜と積層することが出来る。金属酸化物又は金属アルコキサイド化合物の薄膜は、金属薄膜の両側に積層することが出来る。金属薄膜の両側に積層する場合、異なる種類の薄膜を用いてもよい。金属薄膜の厚さは、４〜４０ｎｍの範囲にあることが好ましい。金属酸化物又は金属アルコキサイド化合物の薄膜の厚さは、２０〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましい。電磁波遮蔽層は、公知慣用のスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマＰＶＤ法、或いは金属又は金属酸化物の掉尾粒子塗布により形成することが出来る。
【００８０】
（赤外線遮蔽層）
赤外線遮蔽層は、８００〜１，２００ｎｍの波長領域の近赤外線に対して遮蔽効果を有することが好ましい。赤外線遮蔽層は、樹脂混合物により形成することが出来る。樹脂混合物中の赤外線遮蔽性成分としては、例えば、銅、銅化合物又はリン化合物、銅化合物又はチオ尿素化合物、或いはタングステン化合物が挙げられる。また赤外線遮蔽層を設ける代わりに、樹脂混合物を透明支持体に添加してもよい。尚、電磁波遮蔽層として説明した銀薄膜は、赤外線遮蔽効果も有する。
【００８１】
（その他の層）
光学フィルターには、ハードコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層、紫外線吸収層、或いは中間層を設けることも出来る。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー又はモノマー（紫外線硬化型樹脂等）を用いて形成することが出来る。また、シリカ系材料からハードコート層を形成することも出来る。さらに、光学フィルターの最表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（シリコンオイル等）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤又はその誘導体を用いて形成することが出来る。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００８２】
防汚層は、含フッ素ポリマーを用いて形成することが出来る。防汚層の厚さは、２〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００８３】
反射防止層（中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層）、フィルター層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、その他の層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法等の公知慣用の塗布方法により形成することが出来る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。
【００８４】
（光学フィルターの用途）
光学フィルターは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等のフラットパネルディスプレイや陰極管表示装置（ＣＲＴ）の様な画像表示装置に適用することが出来る。反射防止層を設ける場合は、低屈折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像表示面と対向するように配置することが出来る。
【００８５】
本発明の光学フィルターは、例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の反射防止フィルターとして使用すると、格別顕著な効果を得ることが出来る。プラズマディスプレイパネルは、既に市販されており、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料及び蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層とを形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。この二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入することで該プラズマディスプレイパネルを得ることが出来る。
【００８６】
以下、実施例、比較例により本発明を詳細に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、（％）および（部）は質量基準である。
【００８７】
（製造例１）
β型無置換キナクリドン顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９、大日本インキ化学工業（株）製のＦａｓｔｏｇｅｎ  Ｓｕｐｅｒ  Ｒｅｄ  Ｖｉｏｌｅｔ  ＳＲ）２０部、ジエチレングリコール２０部、粉砕した塩化ナトリウム２００部を内容積０．６リットルの双腕式ニーダーに入れ、内部温度が９０℃となる様に温度調節をして、より微細な粒子径となる様に８時間混練操作を行った。混練操作終了後、その内容物を８０℃の温水２０００部に解こうし、１時間攪拌後、濾過、比電導度が温水との差において５００ｍｓ／ｃｍ２以下になるまで温水洗浄を行い、塩化ナトリウム、ジエチレングリコールを洗浄除去した。その後、９０℃で一昼夜乾燥、粉砕し、β型無置換キナクリドンの微細化顔料１９部が得られた。該微細化顔料の平均一次粒子径は５０ｎｍであった。
【００８８】
（製造例２）
製造例１と同様の操作を行い、β型無置換キナクリドン顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９、大日本インキ化学工業（株）製のＦａｓｔｏｇｅｎ  Ｓｕｐｅｒ  Ｒｅｄ  Ｖｉｏｌｅｔ  ＳＲ）の微細化顔料ウェットケーキ２９７部（顔料分３２％）を得た。一方、無置換キナクリドン顔料スルホン酸２７．８部（顔料分１８％）のウェットケーキを４８％水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、ｐＨを１０に調整して無置換キナクリドン顔料スルホン酸塩溶液を得た。上記微細化顔料のウェットケーキを８０℃の温水１０Ｌに解こう・分散させて微細化顔料スラリーとし、そこに予め調製された無置換キナクリドン顔料スルホン酸塩溶液を添加した。約３０分間攪拌保持して混合スラリーとした後、３５％塩酸水溶液で混合スラリーのｐＨを５に調整、濾過、温水洗浄（比電導度が温水との差において５００ｍｓ／ｃｍ２以下になるまで）、乾燥、粉砕を行い、無置換キナクリドン顔料スルホン酸で表面処理されたβ型無置換キナクリドン微細化顔料１００部が得られた。該微細化顔料の平均一次粒子径は５５ｎｍであった。
【００８９】
（製造例３）
製造例２の混合スラリーに、塩化ストロンチウム５部を２５部の温水で完全に溶解した塩化ストロンチウム水溶液を添加した以外は、製造例２と同様の操作を行い、無置換キナクリドン顔料スルホン酸ストロンチウム塩で表面処理されたβ型無置換キナクリドン微細化顔料１００部が得られた。該微細化顔料の平均一次粒子径は５５ｎｍであった。
【実施例１】
【００９０】
（下塗り層の形成）
厚さ１００μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフイルムの両面をコロナ放電処理した後、片面にスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックスを厚さ１３０ｎｍとなるよう塗布し、下塗り層を形成した。
【００９１】
（第２下塗り層の形成）
下塗り層の上に、酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚さ５０ｎｍとなるよう塗布し、第２下塗り層を形成した。
【００９２】
（低屈折率層の形成）
反応性フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１９、日本合成ゴム（株）製）２．５０ｇにｔ−ブタノール１．３ｇを加え、室温で１０分間撹拌し、孔径１μｍのポリプロピレンフィルターで濾過した。得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗り面とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が１１０ｎｍとなるように塗布し、１２０℃で３０分間乾燥して硬化させ低屈折率層を形成した。
【００９３】
（顔料分散物の調製）
製造例２で得られた無置換キナクリドン顔料スルホン酸で表面処理されたβ型無置換キナクリドン微細化顔料５部に、５％のカルボキシメチルセルロース水溶液３０部を加えた。全量を１２６．６部として、よく混合し、スラリーを得た。直径０．８〜１．２ｍｍのガラスビーズ１００ｍｌとスラリーを分散機（１／１６Ｇサンドグラインダー、アイメックス社製）に入れて、１２時間分散した後、顔料の濃度が２％となるように水を加えて、顔料分散物を得た。
【００９４】
（フイルター層の形成）
ゼラチンの１４．３％水溶液１００部に、前記顔料分散物２８．６部を分散した。分散物を４０℃で３０分間攪拌した後、孔径２μｍのポリプロピレンフィルターで濾過し、フィルター層塗布液を調製した。フィルター層用塗布液を、第２下塗り層の上に、乾燥膜厚が３．５μｍとなるように塗布し、１２０℃で１０分間乾燥してフィルター層を形成し、光学フィルターを作製した。
【００９５】
（吸光度の測定）
前記光学フィルターについて、分光光度計（Ｕ−３５００、日立製作所（株）製）を用いてその吸収スペクトルを測定した。リファレンスは、空気で行った。５５１〜６００ｎｍの波長領域において、５７６ｎｍに極大吸収を有していた。前記極大吸収におけるフィルター層の透過率は８５％であった。
【実施例２】
【００９６】
製造例３で得られた無置換キナクリドン顔料スルホン酸ストロンチウム塩で表面処理されたβ型無置換キナクリドン微細化顔料を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、光学フィルターを作製した。５５１〜６００ｎｍの波長領域において、５７６ｎｍに極大吸収を有していた。前記極大吸収におけるフィルター層の透過率は８７％であった。
【００９７】
（比較例１）
【００９８】
製造例１のβ型無置換キナクリドン微細化顔料に代えて３，１０−ジクロロキナクリドン顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２０９、大日本インキ化学工業（株）製のＦａｓｔｏｇｅｎ  Ｓｕｐｅｒ  Ｒｅｄ  ２Ｙ、該顔料の平均一次粒子径は１００ｎｍ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、光学フィルターを作製した。５００〜５５０ｎｍの波長領域において、５１２ｎｍと５４４ｎｍに２つの吸収ピークを有していた。前記各吸収ピークにおけるフィルター層の透過率はそれぞれ７６％、６１％であった。
【００９９】
（比較例２）
【０１００】
製造例１のβ型無置換キナクリドン微細化顔料を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、光学フィルターを作製した。５５１〜６００ｎｍの波長領域において、５７６ｎｍに極大吸収を有していた。前記極大吸収におけるフィルター層の透過率は８２％であった。
【０１０１】
（耐光性試験）
上記実施例１から作製した光学フィルターに、キセノンランプで照度が１５万ルクスとなるように、フィルター層とは反対側の面から光を照射し、２００時間照射後の顔料の残存量を測定し、耐光性の評価を行った。結果は、実施例１の無置換キナクリドン顔料スルホン酸、実施例２の無置換キナクリドン顔料スルホン酸ストロンチウム塩でそれぞれ表面処理されたβ型無置換キナクリドン微細化顔料を含む光学フィルターは、特許文献２に記載されている様な同じ波長領域に極大吸収を有するレーキ顔料、比較例１の３，１０−ジクロロキナクリドン顔料、および比較例２のβ型無置換キナクリドン微細化顔料を含む光学フィルターに比べて耐光性がより優れていた。
【０１０２】
さらに、実施例１、２の光学フィルターをプラズマディスプレイパネルの表面に取り付けたところ、比較例１、２の光学フィルターを前記パネルの表面に取り付けたものに比べて、赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを十分に吸収し、しかも、熱履歴の負荷がかかっても長期に亘って初期のコントラストと色純度を十分に維持出来る、耐光性により優れ、より高画質な画像が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】実施例１および比較例１の４００〜７００ｎｍの波長領域における吸光度の関係を示した図である。
【図２】実施例１、２および比較例２の４００〜７００ｎｍの波長領域における吸光度の関係を示した図である。
【図１】
2004310072.tif 000002
【図２】
2004310072.tif 000003