(57)【要約】【課題】高周波放電における放電を均一化することにより、ガスレーザ発振装置の効率、出力およびビーム品質の向上を図る。【解決の手段】高周波電源４，５から金属電極２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂに高周波電圧が印加されると、放電管１における合成電界は高周波電源４，５の発振周波数の差周波数に対応して、合成電界の方向は放電管１の径断面方向の全ての方向を向くため、放電領域は全体として２次元的に広がり、実質的に断面が円形状の均一な放電領域が実現する。放電領域を均一化することで、高効率で、対称性の良いモードを持った、ガスレーザ発振装置を提供することができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波電源から発振される高周波により被励起ガス媒質を高エネルギー状態に励起させてレーザ発振を行うレーザ発振手段と、前記被励起ガス媒質を、電界振動方向が互いに異なる複数の高周波により励起する励起手段とを備えたガスレーザ発振装置。
【請求項２】
レーザ発振手段と励起手段とは、出力されるレーザ光の強度変動が±５％以内の連続光出力となるような複数のパルス高周波で励起される請求項１記載のガスレーザ発振装置。
【請求項３】
パルス高周波の周波数は２０ｋＨｚ以上である請求項２記載のガスレーザ発振装置。
【請求項４】
パルス高周波はパルス群であり、レーザ出力光がパルス光である請求項２記載のガスレーザ発振装置。
【請求項５】
複数のパルス高周波が、時間的に重なるように被励起ガス媒質を励起する請求項２から４のいずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項６】
複数のパルス高周波の、デューティ比が０．１〜０．３以内に制御されていることを特徴とする請求項２から５のいずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項７】
複数のパルス高周波のデューティ比が各々異なる場合には発振開始のタイミングを合わせることを特徴とする請求項２から６いずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項８】
複数の高周波の電界振動方向が互いに直交する請求項１から７のいずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項９】
被励起ガス媒質が、誘電体よりなる放電管内に封じられ、複数の高周波の電界振動方向の内少なくとも１つの電界振動方向が前記放電管の光軸と交差する請求項８記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１０】
複数の高周波が、単一の高周波電源が発振した高周波を分岐することにより得られる請求項１から９のいずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１１】
複数の高周波の周波数が、互いに異なる請求項１から９記載いずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１２】
複数の高周波の周波数の差が、０．１ＭＨｚ以内である請求項１１記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１３】
複数の高周波は、２つの高周波であり、各周波数が等しく、かつ互いに高周波の時間位相差が９０度±４．５度以内で異なっている請求項１０記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１４】
時間位相差は、２つの高周波の伝幡経路中の少なくともいずれか一方に位相シフターを挿入して得られる請求項１３記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１５】
高周波の周波数が、２〜１００ＭＨｚである請求項１から１４いずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１６】
被励起ガス媒質が、誘電体よりなる放電管内に封じられ、複数の高周波が前記放電管の外周面に配設された複数の金属電極に印加される請求項１から１５いずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１７】
放電管内部を通過する被励起ガス媒質の下流側に向かうに従って、前記被励起ガス媒質に対し、少なくとも１つの金属電極を遠ざける構成とする請求項１６記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１８】
放電管の外周面に配設された複数の金属電極を絶縁層で覆う構成とする請求項１６〜１７いずれか記載のガスレーザ発振装置。
【請求項１９】
放電管の外周面に配設された複数の金属電極を覆う絶縁層を絶縁性液体で構成した請求項１８記載のガスレーザ発振装置。
【請求項２０】
放電管と金属電極を覆う絶縁層を一体構成とする請求項１８記載のガスレーザ発振装置。
【請求項２１】
放電管長手方向の複数の金属電極に対する給電位置をそれぞれずらした構成とする請求項１６から１７いずれか記載のガスレーザ発振装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はガスレーザ発振装置に関するものであり、特に放電励起方式に高周波励起を使用したガスレーザ発振装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のガスレーザ発振装置は、図９に示すものであった。この図において、１０１はガラスなどの誘電体よりなる放電管、１０２ａ，１０２ｂは放電管１０１の外部に設けられた金属電極、１０３は金属電極１０２に高周波を印加する高周波電源、１０４は放電管１０１内の放電空間、１０５は全反射鏡、１０６は部分反射鏡、この全反射鏡１０５と部分反射鏡１０６は放電空間１０４の両端に固定配置され、光共振器を形成している。１０７は部分反射鏡１０６より出力されるレーザビームである。
【０００３】
矢印１０８はレーザ媒質ガスの流れる方向を示しており、軸流形レーザ装置の中を循環している。１０９は送気管、１１０はレーザ媒質ガスを循環する送風機、１１１は放電空間１０４で温度上昇したレーザ媒質の温度を下げるためのレーザ媒質ガスを冷却する第１の熱交換器、１１２は送風機１１０の圧縮熱にて温度上昇したレーザ媒質ガスの温度を下げるためのレーザ媒質ガスを冷却する第２の熱交換器である。
【０００４】
以上が従来の軸流形レーザ装置の構成であり、次にその動作について説明する。
【０００５】
まず電極１０２に高周波電源１０３より高周波電圧を印加することにより、放電空間１０４にグロー状の放電を発生させる。放電空間１０４を通過するレーザ媒質ガスは、この放電エネルギーを得て励起され、その励起されたレーザ媒質は全反射鏡１０５および部分反射鏡１０６により形成された光共振器で共振状態となり、部分反射鏡１０６からレーザビーム１０７が出力される。このレーザビーム１０７がレーザ加工等の用途に用いられる（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、従来の放電管部の断面構造を図１０に示す。電極１０２ａ，１０２ｂは図のように放電管１０１に配置されており、放電は図１０の斜線に示すように電極間に発生する。
【０００７】
【特許文献１】
特開平６−１６４０４２号公報（第２−３頁、第７図）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような従来の高周波励起ガスレーザ発振装置では、放電管１０１の断面方向に対して均一な放電が得られず、図１０のように放電が放電管１０１全体に拡がらず空間的に不均一となり、結果的にレーザ発振効率の低下や、最大出力の低下およびビーム品質の低下の原因となる。
【０００９】
本発明は上記課題を解決するもので、高周波放電を空間的に均一化し、レーザ発振効率やビーム品質のの向上を図ることを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、高周波電源から発振される高周波により被励起ガス媒質を高エネルギー状態に励起させてレーザ発振を行うレーザ発振手段と、前記被励起ガス媒質を、電界振動方向が互いに異なる複数の高周波により励起する励起手段とを備え、前記の高周波が複数のパルス高周波で、これらのパルス高周波が時間的に重なるように被励起ガス媒質を励起したため、放電励起用の高周波の強度分布を均一化できる構成を有する高周波励起ガスレーザ発振装置を実現できる。
【００１１】
また、本発明は、放電管内部を通過する被励起ガス媒質の下流側に向かうに従って、前記被励起ガス媒質に対し、少なくとも１つの金属電極を遠ざける構成としたため、被励起ガス媒質を、ガス流れ方向に対して、空間的に均一な放電を行い、発振効率および電力注入を向上することができる。
【００１２】
また、本発明は、放電管の外周面に配設された複数の金属電極を絶縁層で覆う構成としたため、電極表面が直接大気に中に露出しないために絶縁破壊を防止しすることができる。
【００１３】
また、本発明は、放電管長手方向の複数の金属電極に対する給電位置をそれぞれずらした構成としたため、それぞれの給電部の間隔が長くなり、給電部での絶縁破壊を防止することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明実施の形態について、図１〜図８を用いて説明する。
【００１５】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１を示す構成図である。図２は、図１におけるｘ軸とｙ軸を含む平面で切った断面図である。
【００１６】
図１，図２において、１は放電管、２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂは高周波を印加するための金属電極、４，５は高周波電源、６は全反射鏡、７は部分射鏡であり、８はレーザビーム、９はレーザ媒質ガスを示している。
【００１７】
次に図３（ａ）から図３（ｃ）は図２の放電管１の内部の放電状態を示す断面図である。なお、断面形状におけるハッチングは、後述の放電領域１３，１４における斜線部との対比で見難いので描いていない。
【００１８】
図３（ａ）は、ｙ方向電界のみを印加した場合場合の放電状態、図３（ｂ）および（ｃ）は、ｙ方向電界およびｘ方向電界の同時印加の放電状態であり、図３（ｂ）は、ｙ方向に電界が向いた瞬間を示し、図３（ｃ）は、ｘ方向に電界が向いた瞬間を示す。
【００１９】
図３において、１０，１１はｙ方向電束線、１２はｘ方向電束線、１３，１４の斜線部は放電状態にある放電領域である。
【００２０】
以上のように構成された高周波励起ガスレーザ発振装置において、特に、大出力が要求されるＣＯ２レーザ発振装置を想定して以下の動作の説明を行うが、レーザ媒質ガスを変えれば他の種類のガスレーザとしても機能することはいうまでもない。
【００２１】
例えば、ＣＯガスレーザ、Ｎ２ガスレーザ、金属蒸気レーザ、希ガスレーザ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ、イオンレーザ等にも適用可能である。
【００２２】
まず、図１および図２に示すように、高周波電源４，５から発生した高周波は、金属電極２ａ，２ｂならびに金属電極３ａ，３ｂにより放電管１に印加される。
【００２３】
そして、本実施の形態１の場合には、放電管１の位置において高周波電源４，５から発振された高周波の電界の振動方向（電界ベクトル方向）は互いに直交している。
【００２４】
このように直交する２つの高周波電界により、放電管１の中のレーザ媒質９を放電励起させ、全反射鏡７と部分反射鏡６より構成される光共振器から、レーザビーム８がｚ軸方向に出力される。
【００２５】
また、図１では明示されていないが、必要により、レーザ媒質ガス９は、放電管１から配管で引き出され、冷却後に再度ポンプで注入されるガス循環機構を設備することができる。
【００２６】
以下、更に、本実施の形態１における高周波の放電状態について、詳細に説明する。
【００２７】
図３（ａ）は、ｙ方向電界のみを印加した場合の放電状態で、一方向の電界の印加状態を示す。すなわち、図２において、高周波電源４のみを作動させ、放電管１にはｙ方向の電界のみが印加されている状態である。
【００２８】
このｙ方向の電界分布は、放電管中央部が強く、その左右の端は弱い。このため、放電１３は、図３（ａ）に示すように、中央部に縦長に細く放電し、レーザ媒質ガスの均一励起が達成できない。
【００２９】
しかし、この場合も、縦長の図中上下方向（ｙ方向）については、放電状態は均一である。この理由は、電束線１０がｙ方向に連続であるため、ｙ方向の電界強度の変化が少なくなっていると考えられるためである。
【００３０】
これに対して、図中左右方向（ｘ方向）においては、電束線の密度がｘ方向では大きく変化しているため、電界強度の変化が激しくなっている。
【００３１】
次に、図３（ｂ）および（ｃ）は、ｙ方向電界およびｘ方向電界同時印加時の合成電界が、それぞれｙ方向、ｘ方向を向いた瞬間の放電状態である。すなわち、図２において、高周波電源４，５が同時に作動し、放電管１にはｘ方向の電界およびｙ方向の電界が同時に印加されている状態を示している。
【００３２】
高周波電源４と５は、別個の高周波電源であるため、正確には同一の周波数では発振せず、数ｋＨｚ以上の発振周波数の差がある。このように、２つの電界の振動周波数が異なる場合、位相差は経時的に変化する。
【００３３】
この時、合成ベクトルの描く軌跡は位相差の変化に伴い、円−楕円−直線−楕円−円を繰り返す。この繰り返しの周波数が、２つの異なる発振周波数の差周波数に相当する。具体的には、合成電界は、該当する高周波の周波数で回転振動し、そして、この回転が、異なる２つの周波数の差周波数で状態変化していくのである。
【００３４】
よって、合成電界がｙ方向を向いた瞬間は図３（ｂ）の状態となり、合成電界がｘ方向を向いた瞬間は図３（ｃ）の状態となる。
【００３５】
そして、合成電界がｙ方向を向いた瞬間は、前述の説明のようにｙ方向に放電が均一化され、合成電界がｘ方向を向いた瞬間はｘ方向に放電が均一化される。さらに、実際は、発振周波数の差周波数に対応して、合成電界の方向は、２次元空間の全ての方向を向くため、放電領域は全体として２次元的に広がり、図３（ｂ）および（ｃ）のように実質的に断面が円形状の均一な放電領域が実現することになる。
【００３６】
また、本実施の形態１においては、高周波電源４，５から発振される高周波は、各々他の形態を有するものももちろん使用可能であるが、パルス高周波を用いた場合を説明する。これら２つのパルス高周波は、放電管１の位置において実質的に同時に印加される。図４に、放電管位置で観測した場合の２つのパルス高周波の模式図を示す。
【００３７】
ここで重要な点は、２つのパルスのＯＮ・ＯＦＦのタイミングが、一致していることである。
【００３８】
つまり、上述の均一な放電を実現するためには、レーザ出力光が連続光、パルス光であるにかかわらず、２つのパルスマイクロ波は、時間的に重なり合う必要がある。というのは、互いにタイミングがずれた場合、例えば高周波電源５が先にＯＦＦした場合、瞬間的に放電状態は図３（ａ）の状態になってしまい、本実施の形態の２つの異なる電界交差による効果が達成できないからである。
【００３９】
また、レーザ発振に寄与するＣＯ２分子の励起状態は約２００μｓでほぼ完全に失われるとされているから、レーザ光出力を連続した状態で取り出すには、最低でも、（１／２００μｓ）Ｈｚ、すなわち５ｋＨｚ程度の繰り返し周波数が必要となる。
【００４０】
しかし、５ｋＨｚそのままでは出力は強度変動率が１００％となってしまうので、レーザ光が連続していると見なせる±５％以内の強度変動を実現するには、２０ｋＨｚ程度の繰り返し周波数が最低でも必要だと考えることになる。
【００４１】
複数のパルス高周波のデューティ比については０．１〜０．３以内に制御されることが望ましく、複数のパルス高周波のデューティ比が各々異なる場合には発振開始のタイミングを合わせる。
【００４２】
以上まとめると、本実施の形態１においては、上述のようなｘ方向電界およびｙ方向電界の同時印加状態を創出することにより励起が極めて均一化になされる。すなわち、空間的に均一な放電を行い、発振効率、電力注入およびビーム品質を向上することができる。
【００４３】
なお、本実施の形態１では、高周波電源および電極の数を２つの場合に代表させて説明したが、必要に応じ、３つ以上設けることも可能である。
【００４４】
また、高周波の電界振動方向については、放電管の光軸と最低限交差していれば必ずしも完全に直交していなくてもよく、互いに振動の相対方向も、最低限交差していれば必ずしも完全に直交していなくてもよい。
【００４５】
また、高周波の周波数が、２〜１００ＭＨｚであることが好適である。
【００４６】
（実施の形態２）
以下、本実施の形態２について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００４７】
本実施の形態２は、実施の形態１と同じく高周波励起ガスレーザに関するものであるが、高周波励電源を２台使用せず１台の高周波電源を用い、結果的に、電界が直交する高周波の２方向からの印加を達成している構成例を示す。
【００４８】
図５は本実施の形態２を示す図であり、実施の形態１の図２に対応する。
【００４９】
図５において、図２と対応する部分は同一の番号を付したが、２１は１つの高周波電源、２２は位相シフターである。
【００５０】
以上のように構成された本実施の形態２の装置は、実施の形態１と異なり２方向の高周波の周波数は全く同一であるため差周波数が生ぜず、一般的には、放電管１部分での電界方向は、ｘ軸方向、ｙ軸方向を含む３６０度の空間全ての方向に対して、均一には向かない。
【００５１】
具体的には、２方向の高周波の時間的位相が９０度異なるときは、円偏波状態となり、ｘ軸方向、ｙ軸方向を含む３６０度の空間全ての方向を、瞬間的に向く。
【００５２】
また、位相差が上記以外の中途半端な角度である場合には、楕円偏波状態となり、全ての方向を均等に向かず、特定の方向が強くなって放電状態が均一化されない。
【００５３】
そこで、本実施の形態２では、実際に２方向の高周波の時間的位相が９０度異なる状態を実現するために、図５に示すように高周波の伝幡経路のうち少なくともどちらか一方に放電管１での時間的位相差が９０度となるような位相シフター２２を挿入している。
【００５４】
以上の構成により、放電管１での高周波電界の方向は、空間全ての方向を瞬間的に向くことになる。
【００５５】
また、実施の形態１では完全な円偏波状態のみを実現するのは不可能であり、楕円偏波や直線偏波状態を含まざるを得なかったが、本実施の形態２では、ほぼ完全な円偏波状態のみの実現が可能である。
【００５６】
２つの高周波電界の時間的位相差はちょうど９０度（完全な円偏波状態）であることが理想的には望ましいが、９０度±４．５度であれば、同様の効果が得られる。
【００５７】
なお、本実施の形態２では、高周波の分岐の数を２つの場合に代表させて説明したが、必要に応じ、３つ以上に分岐することも可能である。
【００５８】
また、高周波の電界振動方向については、放電管の光軸と最低限交差していれば必ずしも完全に直交していなくてもよく、互いに振動の相対方向も、最低限交差していれば必ずしも完全に直交していなくてもよい。
【００５９】
また、高周波の周波数が、２〜１００ＭＨｚであることが好適である。
【００６０】
また、前述した複数の高周波の周波数の差が、０．１ＭＨｚ以内であれば好適である。
【００６１】
（実施の形態３）
以下、本実施の形態３について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００６２】
本実施の形態３は、実施の形態１と同じく高周波励起ガスレーザに関するが、特に、レーザ媒質ガス９は、放電管１から配管で引き出され、冷却後に再度ポンプで注入されるガス循環機構を設備するレーザ発振装置に関するものである。
【００６３】
図６は本発明の実施の形態を示す図であり、実施の形態１の図１に対応する。
【００６４】
図７は、図６におけるｙ軸とｚ軸を含む平面で切った断面図である。
【００６５】
図６、７において、図１と対応する部分は同一の番号を付し、詳細な説明を省略し、本実施の形態３の要旨となる部分について説明する。
【００６６】
放電管１内にはレーザ媒質ガス９が満たされていて、ガス循環機構により熱交換器を介して循環されるようになっている。矢印３１はレーザ媒質ガス９が流れる方向を示している。３２ａ、３２ｂは放電管１を挟んで対向するように配置された金属電極で、図７に示すように図示左端が最も放電管１の外周の表面に近接し、図示右端が最も放電管１の外周の表面から離れた形態となるように配置されている。
【００６７】
さらに詳しく説明する。
【００６８】
高周波電源４，５によって金属電極３２ａ，３２ｂならびに金属電極３３ａ，３３ｂに高周波電圧が印加されると、通常ガス流れの圧力損失によりガス圧が低下したガス流れの下流側に高周波エネルギーが注入され易くなる。このため図ｚ軸方向の放電が不均一になる。そこで、本実施の形態３においては、金属電極３３ａ，３３ｂと放電管１の距離を、上述した金属電極３２ａ，３２ｂと同様に配して、金属電極３２ａ，３２ｂ，３３ａ，３３ｂを調整することにより、放電管１にかかる電界強度分布を制御し、ｚ軸方向の放電の均一化を図っている。電極間の電界強度分布は図示右側にとなるに従って弱くなる。したがって、レーザ媒質ガス９の流れの下流に向かうに従ってガス圧が低下し高周波エネルギーが注入されやすくなっても、それを補うように、下流側の電界強度を弱くしてやれば、ｚ軸方向は均一に放電することができる。
【００６９】
なお、本実施の形態３においては、全ての金属電極のガス流れの下流側が放電管１の外周の表面から離れている構造となっているが、１つ以上の金属電極、例えば金属電極３２ａのみのガス流れの下流部が外周の表面から離れている構造であってもかまわない。
【００７０】
以上のように、本実施の形態では、被励起ガス媒質を、ガス流れ方向に対して、空間的に均一な放電を行い、発振効率および電力注入を向上することができる。
【００７１】
（実施の形態４）
以下、本実施の形態４について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００７２】
本実施の形態は、第１の実施の形態と同じく高周波励起ガスレーザに関するものである。
【００７３】
図８は本発明の実施の形態を示す図であり、第１の実施の形態の図１に対応する。
【００７４】
図８において、図１と対応する部分は同一の番号を付し、詳細な説明を省略し、本実施の形態４の要旨となる部分についてのみ説明する。
【００７５】
斜線部４１は放電管１の外周に配置される金属電極２ａ，２ｂならびに金属電極３ａ，３ｂの更に外周全域を覆う例えばセラミックス等の絶縁層で、金属電極金属電極２ａ，２ｂならびに金属電極３ａ，３ｂと高周波電源４，５とのコンタクト部分以外は金属電極が露出しないように被覆されている。
【００７６】
次に、上記構成の作用について説明する。
【００７７】
高周波電源４，５によって金属電極２ａ，２ｂならびに金属電極３ａ，３ｂに高周波電圧が印加されると、電極間に印加される電圧は数ｋＶに達する。そのため大気中における絶縁破壊を起こすという問題がある。本実施の形態４においては、それぞれの金属電極間には絶縁層が形成されているため、金属電極に高周波電圧が印加されても大気中における絶縁破壊は生ぜず、安定した放電が行われる。すなわち、電極表面が直接大気に中に露出しないために絶縁破壊を防止しすることができる。
【００７８】
なお、絶縁層４１としては金属電極２ａ，２ｂならびに金属電極３ａ，３ｂを含む放電管１を容器で覆いその中を絶縁性液体で満たす構造でも良く、この場合放電管１の絶縁層４１の隙間が完全になくなるために放電管外周部での沿面放電も防止できる。
【００７９】
また、放電管１と絶縁層４１を一体の構造物としても良く、この場合は絶縁性液体を満たすような複雑な構造にすることなく沿面放電を防止することができる。
【００８０】
さらに、高周波電源４，５と金属電極２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂとのコンタクト部分は大気に露出しているが、金属電極２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂそれぞれのコンタクト部分を放電管１のｚ軸方向にずらしてやれば、コンタクト部分の距離が離れてコンタクト部分での絶縁破壊を防ぐことができる。すなわち、それぞれの給電部の間隔が長くなり、給電部での絶縁破壊を防止することができる。
【００８１】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、高周波放電を空間的に均一化できるとともに、電極間の絶縁破壊を防止することができ、効率およびビーム品質が良く、安定性の高い高周波励起ガスレーザ発振装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１におけるガスレーザ発振装置の構成図
【図２】同実施の形態１における放電管部の断面図
【図３】同実施の形態１における放電管の内部の放電状態を示す断面図
【図４】同実施の形態１における２つのパルス高周波の模式図
【図５】同実施の形態２における放電管部の断面図
【図６】同実施の形態３におけるガスレーザ発振装置の構成図
【図７】同実施の形態３における放電管部の断面図
【図８】同実施の形態４におけるガスレーザ発振装置の構成図
【図９】従来のガスレーザ発振装置の概略構成図
【図１０】従来のガスレーザ発振装置の放電管内部の放電状態を示す図
【符号の説明】
１  放電管
２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂ，３２ａ，３２ｂ，３３ａ，３３ｂ  金属電極
４，５，２１  高周波電源
９  レーザ媒質ガス
２２  位相シフター
４１  絶縁層
【図１】
2004273505.tif 000003
【図２】
2004273505.tif 000004
【図３】
2004273505.tif 000005
【図４】
2004273505.tif 000006
【図５】
2004273505.tif 000007
【図６】
2004273505.tif 000008
【図７】
2004273505.tif 000009
【図８】
2004273505.tif 000010
【図９】
2004273505.tif 000011
【図１０】
2004273505.tif 000012