(57)【要約】【課題】複数の処理具を用いて基板を均一に処理できる基板処理装置を提供する。【解決手段】ＵＶランプ２１ａ，２１ｂは、第１の方向Ｘに延びるように並列かつ水平に設けられている。ＵＶランプ２１ａの一部とＵＶランプ２１ｂの一部とが第１の方向Ｘにおいて重なり合っている。ＵＶランプ２１ａの照射有効範囲外の端部の下方を通過した後にＵＶランプ２１ｂの照射有効範囲外の端部の下方を通過することにより、不足する照射強度が補われ、照射有効範囲内の紫外線と等しい光強度の紫外線が照射される。【選択図】        図２
2004247447.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理を行うための処理装置であって、
ほぼ第１の方向に沿って隣接するように配置され、基板に処理を行う複数の処理具と、
前記基板と前記複数の処理具とを相対的に前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させる移動手段とを備え、
前記各処理具は、端部領域を除く主領域で前記第１の方向において実質的に一定の処理能力を有し、
隣接する各２つの処理具の前記主領域間で前記端部領域により前記主領域と実質的に等しい処理能力で前記基板に処理が行われるように、隣接する各２つの処理具の前記端部領域の処理能力が設定されたことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記複数の処理具は、基板に対して紫外線を照射するための複数の紫外線ランプを含み、
前記各紫外線ランプは、前記主領域で前記第１の方向において実質的に一定の光強度を有し、前記端部領域で前記主領域側から端面側にかけて漸次減少する光強度を有し、
隣接する各２つの紫外線ランプの端部領域から発生される光の強度の合計が前記主領域の光強度と実質的に等しくなるように、隣接する各２つの紫外線ランプの前記端部領域が前記第１の方向において重複するように配置されたことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
前記複数の処理具は、基板に対して紫外線を照射するための複数の紫外線ランプを含み、
前記紫外線ランプは、前記主領域で前記第１の方向において実質的に一定の光強度を有し、
前記端部領域に遮光部材が設けられるとともに前記端部領域に隣接する前記主領域の所定幅の領域に光強度を減衰させる減衰部材が設けられ、隣接する各２つの紫外線ランプの前記所定幅の領域から前記減衰部材を通過した光の光強度の合計が、前記主領域の光強度と実質的に等しくなるように、隣接する各２つの紫外線ランプの前記端部領域および前記所定幅の領域が前記第１の方向において重複するように配置されたことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項４】
前記複数の処理具は、基板に対して洗浄を行うための複数のブラシを含み、
前記各ブラシは、前記主領域で前記第１の方向において実質的に一定の植毛密度を有し、
隣接する各２つのブラシの前記端部領域が前記第１の方向において重複するように配置されるとともに、隣接する各２つのブラシの前記端部領域の植毛密度の合計が前記主領域の植毛密度に実質的に等しくなるように各ブラシの前記端部領域の植毛密度が設定されたことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項５】
前記複数の処理具は、基板に流体を供給するための複数のノズルを含み、
前記各ノズルは、前記主領域に前記第１の方向に沿って延びる吐出口を有し、
前記ノズルの吐出口は、前記第１の方向において一定の吐出量を有し、
隣接する各２つのノズルは、端面同士が接触するように配置され、
隣接する各２つのノズルの前記主領域間で前記主領域と実質的に同一の吐出量が得られるように前記端部領域に吐出口が設けられたことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項６】
前記複数の処理具は、基板に流体を供給するための複数のノズルを含み、
前記各ノズルは、前記主領域に前記第１の方向に沿って延びる吐出口を有し、
前記各ノズルの吐出口は、前記第１の方向において一定の吐出量を有し、
隣接する各２つのノズルは、端面同士が接触するように配置され、
隣接する各２つのノズルに一方のノズルの吐出口の下部から前記端部領域を介して他方のノズルの吐出口の下部まで延びる部材が設けられたことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項７】
隣接する各２つのノズルの前記端部領域に吐出口が設けられたことを特徴とする請求項６記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に所定の処理を行う処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウェハ等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられる（例えば、特許文献１参照）。基板に対して行う処理としては、例えば、オゾン洗浄処理、ブラシ洗浄処理、現像処理等がある。これらの処理においては、基板を均一に処理するために基板幅以上の有効幅を一体で有する処理具が使用される。処理具としては、例えば、ＵＶ（紫外線）ランプ、ロールブラシ、スリットノズル、エアナイフ等がある。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−３４０８３６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、基板幅が拡大すると、基板幅に合わせた上記処理具を新たに製作する必要があり、コストが高くなる。また、基板幅よりも小さい有効幅を持つ処理具を複数用いて基板処理を行うと、基板を均一に処理できない等の問題もある。
【０００５】
本発明の目的は、複数の処理具を用いて基板を均一に処理できる基板処理装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明に係る処理装置は、基板に処理を行うための処理装置であって、ほぼ第１の方向に沿って隣接するように配置され、基板に処理を行う複数の処理具と、基板と複数の処理具とを相対的に第１の方向と交差する第２の方向に移動させる移動手段とを備え、各処理具は、端部領域を除く主領域で第１の方向において実質的に一定の処理能力を有し、隣接する各２つの処理具の主領域間で端部領域により主領域と実質的に等しい処理能力で基板に処理が行われるように、隣接する各２つの処理具の端部領域の処理能力が設定されたものである。
【０００７】
本発明に係る処理装置においては、第１の方向に沿って隣接する複数の処理具と基板とが移動手段によって第２の方向に相対的に移動する。このとき、各処理具は、実質的に同一の処理を行うものであって、その主領域においては一定の処理能力で基板に処理が行われる。隣接する各２つの処理具の主領域間では、各２つの処理具の端部領域により主領域と実質的に等しい処理能力で基板に処理が行われる。したがって、複数の処理具を用いることによって、大きな処理具を作製することなく、有効処理幅の大きい処理装置を構成できる。その結果、各処理具の長さよりも大きな幅を有する基板を均一に処理することが可能となる。
【０００８】
複数の処理具は、基板に対して紫外線を照射するための複数の紫外線ランプを含み、各紫外線ランプは、主領域で第１の方向において実質的に一定の光強度を有し、端部領域で主領域側から端面側にかけて漸次減少する光強度を有し、隣接する各２つの紫外線ランプの端部領域から発生される光の光強度の合計が主領域の光強度と実質的に等しくなるように、隣接する各２つの紫外線ランプの端部領域が第１の方向において重複するように配置されてもよい。
【０００９】
この場合、紫外線ランプの主領域では一定の光強度で基板に紫外線が照射される。隣接する各２つの紫外線ランプの主領域間では、各２つの紫外線ランプの重複する端部領域により主領域と実質的に等しい光強度で基板に紫外線が照射される。したがって、複数の紫外線ランプを用いることによって、大きな紫外線ランプを作製することなく、有効照射幅の大きい処理装置を構成できる。
【００１０】
複数の処理具は、基板に対して紫外線を照射するための複数の紫外線ランプを含み、紫外線ランプは、主領域で第１の方向において実質的に一定の光強度を有し、端部領域に遮光部材が設けられるとともに端部領域に隣接する主領域の所定幅の領域に光強度を減衰させる減衰部材が設けられ、隣接する各２つの紫外線ランプの所定幅の領域から減衰部材を通過した光の光強度の合計が主領域の光強度と実質的に等しくなるように、隣接する各２つの紫外線ランプの端部領域および所定幅の領域が第１の方向において重複するように配置されてもよい。
【００１１】
この場合、紫外線ランプの主領域では一定の光強度で基板に紫外線が照射される。隣接する各２つの紫外線ランプにおいて、減衰部材が設けられた重複する所定幅の領域により、主領域と実質的に等しい光強度で基板に紫外線が照射される。したがって、複数の紫外線ランプを用いることによって、大きな紫外線ランプを作製することなく、有効照射幅の大きい処理装置を構成できる。
【００１２】
複数の処理具は、基板に対して洗浄を行うための複数のブラシを含み、各ブラシは、主領域で第１の方向において実質的に一定の植毛密度を有し、隣接する各２つのブラシの端部領域が第１の方向において重複するように配置されるとともに、隣接する各２つのブラシの端部領域の植毛密度の合計が主領域の植毛密度に実質的に等しくなるように各ブラシの端部領域の植毛密度が設定されてもよい。
【００１３】
この場合、ブラシの主領域では一定の植毛密度で基板がブラシ洗浄される。隣接する各２つのブラシの主領域間では、各２つのブラシの重複する端部領域により主領域と実質的に等しい植毛密度で基板がブラシ洗浄される。したがって、複数のブラシを用いることによって、大きなブラシを作製することなく、有効洗浄幅の大きい処理装置を構成できる。
【００１４】
複数の処理具は、基板に流体を供給するための複数のノズルを含み、各ノズルは、主領域に第１の方向に沿って延びる吐出口を有し、ノズルの吐出口は、第１の方向において一定の吐出量を有し、隣接する各２つのノズルは、端面同士が接触するように配置され、隣接する各２つのノズルの主領域間で主領域と実質的に同一の吐出量が得られるように端部領域に吐出口が設けられてもよい。
【００１５】
この場合、主領域の吐出口から一定の吐出量で基板に流体が吐出される。隣接する各２つのノズルの主領域間では、端部領域の吐出口から主領域と実質的に等しい吐出量で基板に流体が吐出される。したがって、複数のノズルを用いることによって、大きなノズルを作製することなく、有効吐出幅の大きい処理装置を構成できる。
【００１６】
複数の処理具は、基板に流体を供給するための複数のノズルを含み、各ノズルは、主領域に第１の方向に沿って延びる吐出口を有し、各ノズルの吐出口は、第１の方向において一定の吐出量を有し、隣接する各２つのノズルは、端面同士が接触するように配置され、隣接する各２つのノズルに一方のノズルの吐出口の下部から端部領域を介して他方のノズルの吐出口の下部まで延びる部材が設けられてもよい。
【００１７】
この場合、主領域の吐出口から一定の吐出量で基板に流体が吐出される。隣接する各２つのノズルの主領域間では、吐出口から吐出された流体が部材に沿って合流することにより主領域と実質的に等しい吐出量で基板に流体が吐出される。したがって、複数のノズルを用いることによって、大きなノズルを作製することなく、有効吐出幅の大きいノズルを構成できる。
【００１８】
隣接する各２つのノズルの端部領域に吐出口が設けられてもよい。この場合、隣接する各２つのノズルの主領域間では、端部領域の吐出口から主領域と実質的に等しい吐出量で流体が吐出される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る基板処理装置の説明を行う。ここで、基板とは、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウェハ等をいう。
【００２０】
（第１の実施の形態）
以下、第１の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。
【００２１】
図１は、洗浄ユニット１０の構造を示す模式的平面図である。ここで、水平面内で互いに直交する２方向を第１の方向Ｘおよび第２の方向Ｙとする。
【００２２】
洗浄ユニット１０は、搬入部１、ＵＶオゾン洗浄部２、ブラシ洗浄部３、水洗部４、液滴除去部５および搬出部６を含む。搬入部１、ＵＶオゾン洗浄部２、ブラシ洗浄部３、水洗部４、液滴除去部５および搬出部６は、第１の方向に沿って順に直列に配置されている。
【００２３】
搬入部１に搬入された基板は、ＵＶオゾン洗浄部２に搬送される。ＵＶオゾン洗浄部２においては、基板の表面にＵＶランプにより紫外線が照射される。これにより、基板表面の有機汚染物が酸化分解される。その後、基板は、ブラシ洗浄部３に搬送される。ブラシ洗浄部３においては、ロールブラシによるブラシ洗浄が行われる。次に、基板は水洗部４に搬送される。水洗部４においては、基板に超音波スプレー洗浄または高圧ジェットスプレーによる洗浄等が行われる。さらに、基板は液滴除去部５へ搬送され、基板表面に残留する洗浄水等の液滴が除去される。その後、基板は搬出部６より搬出される。
【００２４】
図２（ａ）は、ＵＶオゾン洗浄部２の模式的平面図であり、図２（ｂ）は、ＵＶオゾン洗浄部２の模式的断面図である。
【００２５】
図２（ａ）に示すように、ＵＶオゾン洗浄部２は、ＵＶランプ２１ａ，２１ｂ、複数の搬送ローラ２２および支持枠２３を含む。
【００２６】
支持枠２３は、上方に開いた断面コ字状に形成され、第２の方向Ｙに延びるように配置されている。複数の搬送ローラ２２は、第１の方向Ｘに延びるように水平に設けられており、両端部が回転自在に支持枠２３に取り付けられている。図２（ｂ）に示すように、基板１００は、搬送ローラ２２の回転に伴い第２の方向Ｙに移動する。
【００２７】
ＵＶランプ２１ａ，２１ｂは、第１の方向Ｘに延びるように並列かつ水平に設けられている。ＵＶランプ２１ａは、一端部が支持枠２３の一側部内側の上部に取り付けられている。一方、ＵＶランプ２１ｂは、一端部が支持枠２３の他側部内側の上部に取り付けられている。それにより、基板１００が搬送ローラ２２の回転に伴って移動すると、ＵＶランプ２１ａ，２１ｂの下方を通過する。このとき、ＵＶランプ２１ａ，２１ｂから基板１００の上面に紫外線が照射される。
【００２８】
ＵＶランプ２１ａ，２１ｂの長さは、支持枠２３の幅の長さよりも短く、支持枠２３の幅の半分の長さよりも長い。したがって、ＵＶランプ２１ａの一部とＵＶランプ２１ｂの一部とが第１の方向Ｘにおいて重なり合っている。その結果、基板１００が第２の方向Ｙに移動しつつＵＶランプ２１ａ，２１ｂの下方を通過すると、基板１００の上面全体にわたって紫外線が照射され、基板１００の上面の一部はＵＶランプ２１ａ，２１ｂにより重複して紫外線が照射される。
【００２９】
図３（ａ）は、図２（ａ）のＵＶランプ２１ａ，２１ｂの配置を示す模式的平面図である。図３（ｂ）〜（ｄ）はＵＶランプ２１ａ，２１ｂが発する紫外線の照射強度を示すグラフである。図３（ｂ）の縦軸は、ＵＶランプ２１ａの照射強度Ｓａを示す。図３（ｃ）の縦軸は、ＵＶランプ２１ｂの照射強度Ｓｂを示す。図３（ｄ）の縦軸は、ＵＶランプ２１ａの照射強度ＳａおよびＵＶランプ２１ｂの照射強度Ｓｂの合成照射強度を示す。図３（ｂ）〜（ｄ）の横軸は、支持枠２３の一側部を始点とする第１の方向Ｘの位置を示す。
【００３０】
図３（ｂ）に示すように、ＵＶランプ２１ａの照射有効範囲となる主領域２１ａｃにおいては照射強度の値がＳで一定であり、ＵＶランプ２１ａの照射有効範囲外の端部２１ａａにおいては主領域２１ａｃ側から端面側へ照射強度が直線的に減少し、ＵＶランプ２１ａの照射有効範囲外の端部２１ａｂにおいては主領域２１ａｃ側から端面側へ照射強度が直線的に減少する。
【００３１】
図３（ｃ）に示すように、ＵＶランプ２１ｂの照射強度もＵＶランプ２１ａの照射強度と同様に、ＵＶランプ２１ｂの照射有効範囲にある主領域２１ｂｃにおいては照射強度の値がＳで一定であり、ＵＶランプ２１ｂの照射有効範囲外の端部２１ｂａにおいては照射強度が主領域２１ｂｃ側から端面側へ直線的に減少し、ＵＶランプ２１ｂの照射有効範囲外の端部２１ｂｂにおいては照射強度が主領域２１ｂｃ側から端面側へ直線的に減少する。
【００３２】
したがって、搬送ローラ２２の回転によりＵＶランプ２１ａ，２１ｂの下方を基板１００が通過してオゾン洗浄がなされる場合、ＵＶランプ２１ａの端部２１ａａ，２１ａｂおよびＵＶランプ２１ｂの端部２１ｂａ，２１ｂｂの照射強度が不足する。
【００３３】
しかしながら、図３（ａ）に示すように、ＵＶランプ２１ａの端部２１ａｂおよびＵＶランプ２１ｂの端部２１ｂａは、第１の方向Ｘの位置が重なり合うように配置されている。それにより、図３（ｄ）に示すように、ＵＶランプ２１ａの端部２１ａｂの下方を通過した後にＵＶランプ２１ｂの端部２１ｂａの下方を通過することにより、不足する照射強度が補われ、照射強度Ｓの紫外線が照射されることと同様の効果が得られる。
【００３４】
したがって、複数のＵＶランプ２１ａ，２１ｂを用いることにより、照射有効範囲が大きいＵＶオゾン洗浄部２を構成することができる。その結果、大きいサイズの基板の処理を均一に行うことができる。
【００３５】
（ＵＶオゾン洗浄部２の他の例）
図４は、ＵＶオゾン洗浄部２の他の例を説明する図である。
【００３６】
図４（ａ）は、図２（ａ）のＵＶランプ２１ａ，２１ｂの配置を示す模式的平面図である。図４（ｂ）〜（ｄ）はＵＶランプ２１ａ，２１ｂが発する紫外線の照射強度を示すグラフである。図４（ｂ）の縦軸は、ＵＶランプ２１ａの照射強度Ｓａを示す。図４（ｃ）の縦軸は、ＵＶランプ２１ｂの照射強度Ｓｂを示す。図４（ｄ）の縦軸は、ＵＶランプ２１ａの照射強度ＳａおよびＵＶランプ２１ｂの照射強度Ｓｂの合成照射強度を示す。図４（ｂ）〜（ｄ）の横軸は、支持枠２３の一側部を始点とする第２の方向Ｙの位置を示す。
【００３７】
図４（ａ）に示すように、ＵＶランプ２１ａの端部２１ａｂおよびＵＶランプ２１ｂの端部２１ｂａは、紫外線が完全に遮光されるカットフィルターで覆われている。また、ＵＶランプ２１ａの端部２１ａｂに隣接する主領域２１ａｃの一定幅の領域２１ａｄとＵＶランプ２１ｂの端部２１ｂａに隣接する主領域２１ｂｃ側の一定幅の領域２１ｂａとは、紫外線が５０％の透過率を有する透過フィルターで覆われている。ＵＶランプ２１ａ，２１ｂにおいて透過フィルターで覆われた領域２１ａｄ，２１ｂｄの長さは等しい。
【００３８】
図４（ｂ）に示すように、ＵＶランプ２１ａの端部２１ａａにおいては主領域２１ａｃ側から端面側へ照射強度が直線的に減少する。ＵＶランプ２１ａの照射有効範囲となる主領域２１ａｃにおいては照射強度の値がＳで一定であり、主領域２１ａｃのうち透過フィルターで覆われた領域２１ａｄは照射強度がＳ／２になる。ＵＶランプ２１ａの端部２１ａｂはカットフィルターで覆われているため、照射強度は０になる。
【００３９】
図４（ｃ）に示すように、ＵＶランプ２１ｂの端部２１ｂｂは照射強度は直線的に主領域２１ｂｃ側から端面側へ減少する。ＵＶランプ２１ｂの端部２１ｂａはカットフィルターで覆われているため、照射強度は０になる。ＵＶランプ２１ｂの照射有効範囲となる主領域２１ｂｃにおいては照射強度の値がＳで一定であり、主領域２１ｂｃのうち透過フィルターで覆われた領域２１ｂｄは照射強度がＳ／２になる。
【００４０】
図４（ａ）に示すように、ＵＶランプ２１ａにおいて透過フィルターで覆われた領域２１ａｄとＵＶランプ２１ｂにおいて透過フィルターで覆われた領域２１ｂｄとは、第１の方Ｘの位置に重なり合うように配置されている。それにより、図４（ｄ）に示すように、ＵＶランプ２１ａ，２１ｂにおいて透過フィルターに覆われた領域２１ａｄ，２１ｂｄの両方の下方を通過することにより不足する照射強度が補われ、照射強度Ｓの紫外線が照射されることと同様の効果が得られる。
【００４１】
したがって、複数のＵＶランプ２１ａ，２１ｂを用いることにより、照射有効範囲が大きいＵＶオゾン洗浄部２を構成できる。その結果、大きいサイズの基板の処理を均一に行うことができる。
【００４２】
図５（ａ）は、ブラシ洗浄部３の模式的平面図であり、図５（ｂ）は、ブラシ洗浄部３の模式的断面図である。
【００４３】
図５（ａ）に示すように、ブラシ洗浄部３は、複数のロールブラシ３１、複数の搬送ローラ３２および支持枠３３を含む。
【００４４】
支持枠３３は、上方に開いた断面コ字状に形成され、第２の方向Ｙに延びるように配置されている。複数の搬送ローラ３２は、第１の方向Ｘに延びるように配置されており、両端部が回転自在に支持枠３３に取り付けられている。図５（ｂ）に示すように、基板１００は、搬送ローラ３２の回転に伴い第２の方向Ｙに移動する。
【００４５】
ロールブラシ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄは、第１の方向Ｘに延びるように並列かつ水平に配置されている。ロールブラシ３１ａは、一端部が支持枠３３の一側部内側の上部に取り付けられている。ロールブラシ３１ｂは、一端部が支持枠３３の他側部内側の上部に取り付けられている。ロールブラシ３１ｃは、一端部が支持枠３３の一側部内側の下部に取り付けられている。ロールブラシ３１ｄは、一端部が支持枠３３の他側部内側の下部に取り付けられている。
【００４６】
それにより、基板１００が搬送ローラ３２の回転により移動すると、基板１００の上面はロールブラシ３１ａ，３１ｂによりブラシ洗浄され、基板１００の下面はロールブラシ３１ｃ，３１ｄによりブラシ洗浄される。
【００４７】
ロールブラシ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの長さは、支持枠３３の幅の長さよりも短く、支持枠３３の幅の半分の長さよりも長い。したがって、ロールブラシ３１ａの一部とロールブラシ３１ｂの一部とが第１の方向Ｘにおいて重なり合っている。また、ロールブラシ３１ｃの一部とロールブラシ３１ｄの一部とが第１の方向において重なり合っている。その結果、基板１００が第２の方向Ｙに移動すると、基板１００の上面および下面の全体にブラシ洗浄されるが、基板１００の上面の一部はロールブラシ３１ａ，３１ｂにより重複してブラシ洗浄され、基板１００の下面の一部はロールブラシ３１ｃ，３１ｄにより重複してブラシ洗浄される。
【００４８】
図６（ａ）は、図５（ａ）のロールブラシ３１ａ，３１ｂの配置を示す模式的平面図である。図６（ｂ）〜（ｄ）はロールブラシ３１ａ，３１ｂの植毛密度を示すグラフである。図６（ｂ）の縦軸は、ロールブラシ３１ａ植毛密度Ｔａを示す。図６（ｃ）の縦軸は、ロールブラシ３１ｂの植毛密度Ｔｂを示す。図６（ｄ）の縦軸は、ロールブラシ３１ａの植毛密度Ｔａおよびロールブラシ３１ｂの植毛密度Ｔｂの合計値（Ｔａ＋Ｔｂ）を示す。図６（ｂ）〜（ｄ）の横軸は、支持枠３３の一側部を始点とする第２の方向Ｙの位置を示す。
【００４９】
図６（ｂ）に示すように、ロールブラシ３１ａの植毛密度有効範囲となる主領域３１ａｃにおいては植毛密度の値がＴで一定であり、ロールブラシ３１ａの植毛密度有効範囲外の端部３１ａａにおいては主領域３１ａｃ側から端面側へ植毛密度が直線的に減少し、ロールブラシ３１ａの端部３１ａｂにおいては植毛密度はＴ／２である。
【００５０】
図６（ｃ）に示すように、ロールブラシ３１ｂの植毛密度有効範囲にある主領域３１ｂｃにおいては植毛密度の値がＴで一定であり、ロールブラシ３１ｂの植毛密度有効範囲外の端部３１ｂｂおいては主領域３１ｂｃ側から端面側へ植毛密度が直線的に減少する。ロールブラシ３１ｂの端部３１ｂａにおいては植毛密度がＴ／２である。
【００５１】
図６（ａ）に示すように、ロールブラシ３１ａの端部３１ａｂとロールブラシ３１ｂの端部３１ｂａとは同じ長さであり、第１の方向Ｘの位置に重なり合うように配置されている。それにより、図６（ｄ）に示すように、ロールブラシ３１ａの端部３１ａｄおよびロールブラシ３１ｂの端部３１ｂａの下方を通過することにより不足する植毛密度が補われ、植毛密度Ｔのブラシでブラシ洗浄されることと同様の効果が得られる。
【００５２】
ロールブラシ３１ｃ，３１ｄの構成および配置はロールブラシ３１ａ，３１ｂの構成と同様である。
【００５３】
したがって、複数のロールブラシ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを用いることにより、植毛密度有効範囲が大きいブラシ洗浄部３を構成できる。その結果、大きいサイズの基板の処理を均一に行うことができる。
【００５４】
図７（ａ）は、液滴除去部５の模式的平面図であり、図７（ｂ）は、液滴除去部５の模式的断面図である。
【００５５】
図７（ａ）に示すように、液滴除去部５は、エアナイフ５１、複数の搬送ローラ５２および支持枠５３を含む。
【００５６】
支持枠５３は、上方に開いた断面コ字状に形成され、第２の方向Ｙに延びるように配置されている。複数の搬送ローラ５２は、第１の方向Ｘに延びるように配置されており、両端部が回転自在に支持枠５３に取り付けられている。図７（ｂ）に示すように、基板１００は、搬送ローラ５２の回転に伴い第２の方向Ｙに移動する。
【００５７】
エアナイフ５１は、エアナイフ５１ａ，５１ｂからなる。エアナイフ５１は、第１の方向Ｘからやや傾斜した方向に延びるように水平に配置されている。エアナイフ５１は、両端部が支持枠５３の上部に取り付けられている。それにより、エアナイフ５１から供給される空気により基板１００の上面の洗浄水が除去される。
【００５８】
図８は、本実施の形態に係るエアナイフ５１の側面図であり、図９はエアナイフ５１の分解斜視図である。
【００５９】
図９に示すように、エアナイフ５１は、エアナイフ５１ａの端面とエアナイフ５１ｂの端面とが結合されて形成されている。エアナイフ５１ａは、ノズル本体５１１ａ，５１２ａおよびスペーサ５１３ａを有している。
【００６０】
ノズル本体５１１ａ，５１２ａは、図９に示すように第１の方向Ｘに延びるように配置されており、ノズル本体５１２ａの接合面５１５ａには第１の方向Ｘに延びる凹部５１７ａが形成されている。
【００６１】
ノズル本体５１１ａは、ノズル本体５１２ａの接合面５１５ａに対応した形状の接合面５１６ａを有する厚みのある板体であって、開口５１９ａが形成されている。
【００６２】
スペーサ５１３ａは所定の厚みを有し、ノズル本体５１２ａの凹部５１７ａの周囲の３辺を閉塞するとともに凹部５１７ａの長手方向の一辺に開口部を有するようにコ字状に形成されている。また、スペーサ５１３ａのエアナイフ５１ｂ側の一辺において吐出口５１４ａ側の端部が円弧状に切り取られている。
【００６３】
ノズル本体５１１ａの接合面５１６ａとノズル本体５１２ａの接合面５１５ａとがスペーサ５１３ａとを挟んで接合される。
【００６４】
これらノズル本体５１１ａ，５１２ａとスペーサ５１３ａとは図示しないボルト等によって固定されてエアナイフ５１ａを構成する。
【００６５】
エアナイフ５１ｂの構成はエアナイフ５１ａの構成とほぼ同様である。エアナイフ５１ｂの構成がエアナイフ５１ａの構成と異なる点は、スペーサ５１３ｂのエアナイフ５１ａ側の一辺において吐出口５１４ｂ側の端部が円弧状に切り取られている点である。
【００６６】
エアナイフ５１ａには、ノズル本体５１１ａの接合面５１６ａとノズル本体５１２ａの接合面５１５ａとの間のスペーサ５１３ａの開口部によって、スリット状の第１の方向Ｘに延びる吐出口５１４ａが形成される。
【００６７】
エアナイフ５１ｂには、ノズル本体５１１ｂの接合面５１６ｂとノズル本体５１２ｂの接合面５１５ｂとの間のスペーサ５１３ｂの開口部によって、第１の方向Ｘに延びるスリット状の吐出口５１４ｂが形成される。
【００６８】
開口５１９ａ，５１９ｂから供給された空気は、スペーサ５１３ａのエアナイフ５１ｂ側の一辺の切り取られた部分の隙間とスペーサ５１３ｂのエアナイフ５１ａ側の一辺の切り取られた部分の隙間とで合流し、吐出口５１４ａ，５１４ｂから吐出される。
【００６９】
凹部５１７ａ，５１７ｂは、開口５１９ａ，５１９ｂから供給される空気の流れをエアナイフ５１ａ，５１ｂのスリット状の吐出口５１４ａ，５１４ｂの長手方向に均一化する作用を果たす。それにより、エアナイフ５１ａの一端から他端にわたって空気の吐出量が均一になる。
【００７０】
以上のように、エアナイフ５１ａ，５１ｂを結合することにより、吐出領域の大きいエアナイフを構成できる。
【００７１】
（エアナイフの他の例）
図１０は、エアナイフ５１の他の例を示す模式的側面図であり、図１１は、エアナイフ５１の他の例を示す分解斜視図である。
【００７２】
図９および図１０のエアナイフ５１が図８および図９で説明したエアナイフ５１と異なる点は、スペーサ５１３ａ，５１３ｂの形状および本体部５１２ａ，５１２ｂの構成である。
【００７３】
スペーサ５１３ａ，５１３ｂは、それぞれノズル本体５１２ａ，５１２ｂの凹部５１７ａ，５１７ｂの周囲の３辺を閉塞するようにコ字状に形成されている。本体部５１２ａ，５１２ｂの吐出口５１４ａ，５１４ｂの下部に一端から他端へ第１の方向Ｘに延びる継板５２０ａ，５２０ｂが設けられている。継板５２０ａ，５２０ｂは、接合面５１５ａ，５１５ｂと同一平面を形成する。
【００７４】
したがって、開口５１９ａ，５１９ｂから供給された空気は、吐出口５１４ａ，５１４ｂから継板５２０ａ，５２０ｂに沿って吐出される。このとき、エアナイフ５１ａ，５１ｂの隣接するスペーサ５１３ａ，５１３ｂの一辺の領域では吐出口５１４ａ，５１４ｂから吐出された空気が、継板５２０ａ，５２０ｂに沿って進みながら合流する。
【００７５】
以上のように、エアナイフ５１ａ，５１ｂを結合することにより、吐出領域の大きいエアナイフを構成できる。
【００７６】
（エアナイフのさらに他の例）
図１２は、エアナイフ５１のさらに他の例を示す分解斜視図である。
【００７７】
図１２のエアナイフ５１が図８および図９のエアナイフ５１と異なる点は、本体部５１２ａ，５１２ｂの構成である。本体部５１２ａ，５１２ｂには、図１１で説明したように、継板５２０ａ，５２０ｂが設けられている。
【００７８】
開口５１９ａ，５１９ｂから供給された空気は、スペーサ５１３ａのエアナイフ５１ｂ側の一辺の切り取られた部分の隙間とスペーサ５１３ｂのエアナイフ５１ａ側の一辺の切り取られた部分の隙間とで合流し、継板５２０ａ，５２０ｂに沿って整流されつつ吐出される。それにより、エアナイフ５１ａの一端から他端にわたって空気の吐出量が均一になる。
【００７９】
したがって、開口５１９ａ，５１９ｂから供給された空気は、図８〜図１１で説明したエアナイフ５１よりも均一に整流された空気として基板１００に吐出される。
【００８０】
なお、図１０〜図１２で説明した本体部５１２ａ，５１２ｂには継板５２０ａ，５２０ｂが設けられていたが、本体部５１２ａ，５１２ｂと継板５２０ａ，５２０ｂとが一体的に形成されてもよい。
【００８１】
本実施の形態においては、搬送ローラ２２，３２，５２が移動手段に相当する。
【００８２】
（第２の実施の形態）
以下、第２の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。
【００８３】
図１３は、現像ユニット２０の構造を示す模式的平面図である。
現像ユニット２０は、搬入部１１、現像部１２、水洗部１３、乾燥部１４および搬出部１５を含む。搬入部１２、現像部１２、水洗部１３、乾燥部１４および搬出部１５は、順に直列に配置されている。
【００８４】
搬入部１１に搬入された基板１００は、現像部１２に搬送される。現像部１２へ搬送された基板は、スプレー現像またはパドル現像を行うために基板表面に現像液が塗布される。その後、基板１００は水洗部１３および乾燥部１４へ搬送される。これにより、現像部１２において塗布された現像液の洗浄処理および乾燥処理が行われる。各種現像処理が行われた基板は搬出部１５より搬出される。
【００８５】
図１４（ａ）は、現像部１２の模式的平面図であり、図１４（ｂ）は、現像部１２の模式的断面図である。
【００８６】
図１４（ａ）に示すように、現像部１２は、スリットノズル１２１、複数の搬送ローラ１２２および支持枠１２３を含む。スリットノズル１２１は、スリットノズル１２１ａ，１２１ｂを含む。
【００８７】
支持枠１２３は、上方に開いた断面コ字状に形成され、第２の方向に延びるように配置されている。複数の搬送ローラ１２２は、第１の方向Ｘに延びるように配置されており、両端部が回転自在に支持枠１２３に取り付けられている。図１４（ｂ）に示すように、基板１００は、搬送ローラ１２２の回転に伴い第２の方向Ｙに移動する。
【００８８】
スリットノズル１２１は、第１の方向Ｘに延びるように配置されており、両端部を支持枠１２３の両側部上方に取り付けられている。それにより、基板１００が搬送ローラ１２２の駆動により移動すると、スリットノズル１２１の下方を通り、スリットノズル１２１から基板１００に現像液が供給される。
【００８９】
スリットノズル１２１の構造は、図８〜図１２で説明したエアナイフ５１と同じ構造である。それにより、スリットノズル１２１の一端から他端にわたって現像液の吐出量が均一となる。したがって、複数のスリットノズル１２１ａ，１２１ｂを用いることにより、液盛面積の大きい現像部１２を構成できる。
【００９０】
本実施の形態においては、搬送ローラ１２２が移動手段に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄ユニットの構造を示す模式的平面図である。
【図２】ＵＶオゾン洗浄部の模式的平面図および模式的断面図である。
【図３】図２（ａ）のＵＶランプの配置を示す模式的平面図およびＵＶランプが発する紫外線の照射強度を示すグラフである。
【図４】ＵＶオゾン洗浄部の他の例を説明する図である。
【図５】ブラシ洗浄部の模式的平面図および模式的断面図である。
【図６】図５（ａ）のロールブラシの配置を示す模式的平面図およびロールブラシの植毛密度を示すグラフである。
【図７】液滴除去部の模式的平面図および液滴除去部の模式的断面図である。
【図８】本実施の形態に係るエアナイフの模式側面図である。
【図９】エアナイフの分解斜視図である。
【図１０】エアナイフの他の例を示す模式的側面図である。
【図１１】エアナイフの他の例を示す分解斜視図である。
【図１２】エアナイフのさらに他の例を示す分解斜視図である。
【図１３】現像ユニットの構造を示す模式的平面図である。
【図１４】現像部の模式的平面図および模式的断面図である。
【符号の説明】
１  搬入部
２  ＵＶオゾン洗浄部
３  ブラシ洗浄部
５  液滴除去部
１０  洗浄ユニット
１２  現像部
２０  現像ユニット
２１  ＵＶランプ
２２，３２，５２，１２２  搬送ローラ
３１  ロールブラシ
５１  エアナイフ
１２１  スリットノズル
１００  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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