(57)【要約】【課題】基板の大型化によって広い載置面が必要となっても，基板を実際に載置する上面の平坦加工面積が狭小で済む，基板ステージを提供する。【解決手段】分割された単位ブックＵを連結することによって基板ステージが構成される。単位ブロックＵの本体１の上面２には，複数の穴３が形成され，穴３に通ずる吸気流路４と，外部接続口６に通ずるマニホールド５が本体１に形成されている。本体１の下面には，足部７が設けられ，単位ブロックＵは定盤４０の上に設置される。単位ブロックＵは外部接続口６を介して他の単位ブロックＵと気密に連結接続される。端に位置する外部接続口６には，吸気管２１を介してポンプ２５に通じている。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形の基板を載置するステージであって，
平坦な定盤の上に設置される複数の単位ブロックを有し，
前記各単位ブロックが，水平方向に連結されて全体して平面が矩形の載置面が構成されたことを特徴とする，基板用ステージ。
【請求項２】
前記単位ブロックが水平方向に連結されて全体して平面が矩形の載置面が構成された際，当該載置面に載置される基板を吸着保持するように構成されたことを特徴とする，請求項１に記載の基板用ステージ。
【請求項３】
前記単位ブロックの本体の上面には，複数の穴が形成され，前記穴に通ずる吸気流路が前記本体内に形成され，
前記吸気流路に連通し，ブロック本体の外部に開口した１又は２以上の外部接続口がブロック本体に形成され，
前記各単位ブロックは前記外部接続口が気密に接続され，少なくとも１の単位ブロックの外部接続口が吸引手段に接続されて，前記載置面に載置される基板を，各単位ブロックの前記穴を通じて吸着保持可能であることを特徴とする，請求項２に記載の基板用ステージ。
【請求項４】
前記ブロック本体には，前記吸気流路に通ずるマニホールドが形成され，前記外部接続口は，このマニホールドに通じていることを特徴とする，請求項３に記載の基板用ステージ。
【請求項５】
前記ブロック本体の下面には，少なくとも３本の足部を有することを特徴とする，請求項１，２，３又は４のいずれかに記載の基板用ステージ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は，例えば液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造工程において，矩形のガラス基板（以下，「基板」という。）を載置してこれを保持するためのステージに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造工程においては，矩形のガラス基板（以下，「基板」という。）の表面上にブラックマトリクスやＲ，Ｇ，Ｂの着色パターンなどを形成する際に，基板上に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布処理が行われている。
【０００３】
上述の塗布処理が行われる際，基板は，矩形の載置面を有する基板用ステージの上に吸着保持されているが，従来の基板用ステージは，１つの単体の略直方体の本体で構成されている（特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平８−２４３４７６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで塗布処理を行う場合には，基板表面に均一に塗布液を形成する必要があり，そのため基板を載置する基板用ステージの載置面，すなわち上面はきわめて高い平坦度が要求される。
そして，この種の基板は近年益々大型化されつつあり，１辺が２ｍを超えるものもある。
【０００６】
このように基板が大型化すると，それに伴なって基板用ステージも大型化する必要があるが，従来のように１つの単体で基板用ステージを構成すると，広い面積の平坦加工が必要となり，載置面の平坦加工に非常な高精度が要求され，きわめて困難な作業を強いられる。それに伴ってコストも増加する。またステージの載置面に基板の搬送機能を持たせるため，例えば搬送用の部材，例えばコロやベルトなどを取り付ける場合も，全体として１つの大きな複雑な構造体を製作することになり，同様な問題が生ずる。しかも載置面の一部にでも疵があると，ステージ全てを交換，修理する必要があった。
【０００７】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，基板の大型化により広い載置面が必要となっても，上面の平坦加工面積が狭小で済み，また前記した搬送機能を持たせる場合にも製作が容易でコストを抑えることができ，しかも載置面の一部に疵が発生しても一部分の交換で済む，新しい基板用ステージを提供して，前記問題の解決を図ることを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために，本発明の基板用ステージは，矩形の基板を載置するステージであって，平坦な定盤の上に設置される複数の単位ブロックを有し，前記各単位ブロックは，水平方向に連結されて全体して平面が矩形の載置面が構成されたことを特徴としている。
【０００９】
本発明によれば，基板を載置するステージが単位ブロックによって分割されているので，載置して処理しようとする基板が大型化しても，各単位ブロックの上面の載置面を平坦加工すればよいので，平坦加工する面積がこの単位ブロック分で済むので平坦加工が容易であり，それに伴って製造コストも低廉となる。もちろん搬送機能を持たせる場合にも，全部又は一部の単位ブロックにかかる機能を持たせればよい。前記単位ブロックが水平方向に連結されて全体して平面が矩形の載置面が構成された際，当該載置面に載置される基板を吸着保持するように構成すれば，載置した基板を安定して保持できる。これを実現するには，例えば各単位ブロックに吸着機能を持たせたり，単位ブロックが連結された矩形のステージを構成した際に，複数の単位ブロック毎，あるいは全体として吸着機能を持たせれるようにすればよい。後者の一例としては，例えば各単位ブロックの上面に基板を点で支持するような部材，例えば細い支持柱を多数配置すると共に，ステージ全体としての外周に配置される単位ブロックや，単位ブロックを複数連結させて１つのユニット列を構成した場合の，該ユニット列の外周に配置される単位ブロックの各外周側の辺に，壁を形成した構成を提案できる。これによって，基板を載置した際に，当該壁と基板と各単位ブロックの上面とで，いわば密閉空間が形成される。したがって，全体のうちの少なくとも１つの単位ブロックや，ユニット列における少なくとも１つの単位ブロックにおける前記壁を通じて吸引すれば，載置した基板をステージ全体として吸着保持できる。
【００１０】
他方，各単位ブロックに吸着機能を持たせるには，例えば前記単位ブロックの本体の上面に複数の穴や凹部を形成し，前記穴等に通ずる吸気流路を前記本体内に形成し，さらに前記吸気流路に連通し，ブロック本体の外部に開口した１又は２以上の外部接続口をブロック本体に形成する。そして前記各単位ブロックを，前記外部接続口を気密に接続するようにして，少なくとも１の単位ブロックの外部接続口に吸引手段を接続すればよい。
かかる場合，単位ブロックの連結については，全体として矩形に配列した場合，行毎，列毎に外部接続口を連結し，行毎，列毎に吸引手段を配置してもよいし，全ての単位ブロックを連結して全体として１つの「流路」を構成し，１つの吸引手段によっ全ての単位ブロックの吸引を担うようにしてもよい。
単位ブロック同志の連結については，各外部接続口同士を接続するが，かかる場合，Ｏリングを用いれば気密接続が容易である。外部接続口の数については，１つの外部接続口を有するものについては，端部に位置する単位ブロックに使用され，２以上の外部接続口を有するものについては吸引手段と接続される側の端部や，中間部分に位置する単位ブロックに使用される。また外部接続口の形成位置については，外部に向けて開口していればよく，単位ブロックの側面や下面にこれを形成してよい。
【００１１】
上面の穴に通ずる吸気流路と外部接続口との連通構造については，ブロック本体には，前記吸気流路に通ずるマニホールドが形成すれば，容易にこれを実現でき，また単位ブロック自体の製造も容易である。マニホールドの形成位置については，例えばブロック本体内における吸気流路の下部が好ましい。これによって各穴から均一に吸気することが可能である。
【００１２】
各単位ブロック相互の連結にあたっては，ブロック本体の側面が他の単位ブロックのブロック本体の側面との間に，隙間を生ずるように連結してもよい。そのように隙間を設けて連結するには，ブロック本体の側面間にスペーサを介して連結したり，外部接続口の部分を側面から突出させて構成したり，あるいは前記したＯリングでスペーサを兼ねるようにすれば，容易にこれを実現できる。
【００１３】
各単位ブロックを連結して全体として１個の基板をステージを構成する場合，もちろん各単位ブロックの上面が全て同一水平面で平坦になっていなければならない。したがって，定盤に各単位ブロックを設置した後，各単位ブロックの上面が全て同一水平面にあるように高さ調整する必要があるが，この場合でも，個々の単位ブロック自体を調整すればよいので，１台の大きな基板用ステージを調整するよりは作業が容易である。かかる場合，ブロック本体の下面に，少なくとも３本の足部を有していれば，高さ調整をする場合，該足部を例えば削ったりするだけでよく，そのような高さ調整が極めて簡単に行える。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる基板用ステージを構成するための単位ブロックＵを示しており，本実施の形態においては，全体として直方体の本体１を有し，図２に示すように，上面２は正方形である。
【００１５】
単位ブロックＵの上面２には，多数の穴３が形成されており，さらに図３に示すように，本体１内には，穴３に通ずる吸気流路４が，各穴３毎に垂直方向に形成されている。そしてこれら吸気流路４は，本体１内の下方に形成されたマニホールド５に通じている。本体１の対向する１組の側面には，各々前記マニホールド５に通じ，外部に開口している外部接続口６，６が形成されている。したがって，各外部接続口６，６は，マニホールド５を介して吸気流路４に連通していることになる。本体１の下面には，四辺近傍の３カ所に，足部７が各々設けられている。
【００１６】
単位ブロックＵは以上のように構成されており，次に本実施の形態にかかる基板用ステージ１０を構成するための連結について説明する。図２，図３に示したように，本実施の形態では，例えば各行４つの単位ブロックＵを連結し，これを３列に配置してなる，全体の平面が長方形の基板用ステージ１０を構成している。
【００１７】
すなわち第１行に配置される単位ブロックＵは，単位ブロックＵ１１〜Ｕ１４，第２行に配置される単位ブロックＵは，単位ブロックＵ２１〜Ｕ２４，第３行に配置される単位ブロックＵは，単位ブロックＵ３１〜Ｕ３４である。これら各単位ブロックは，全て同形，同一構造である。
【００１８】
そして例えば第１行に配列される単位ブロックＵ１１〜Ｕ１４の連結について説明すれば，図２，図３に示したように各単位ブロックＵ１１と単位ブロックＵ１２と間で対向して位置することになる外部接続口６，６を，Ｏリング等のシール材を有する連結部材１２で気密に連結接続する。このとき連結部材１２は，単位ブロックＵ１１と単位ブロックＵ１２との間の隙間ｄを創出してこれを維持するためのスペーサとしても機能する。他の単位ブロックＵ１２と単位ブロックＵ１３，単位ブロックＵ１３と単位ブロックＵ１４との間も，全く同様にして連結部材１２によって，対向する各外部接続口６同士が気密に連結接続される。そして端に位置することになる単位ブロックＵ１４の外側に位置する外部接続口６には，これを気密に閉鎖する蓋体１３が設けられる。
【００１９】
第２行に配列される単位ブロックＵ２１〜単位ブロックＵ２４，第３行に配列される単位ブロックＵ３１〜単位ブロックＵ３４についても全く同様にして，連結される。
【００２０】
そして第１行に配列される単位ブロックＵ１１〜単位ブロックＵ１４，第２行に配列される単位ブロックＵ２１〜単位ブロックＵ２４，第３行に配列される単位ブロックＵ３１〜単位ブロックＵ３４の各行間にも隙間ｄを生ずるように，各行同士の各単位ブロックＵの対向側面には，各々スペーサ１４が配置されている。
【００２１】
以上のように単位ブロックＵを連結配置することによって，全体としての平面形態が長方形の基板用ステージ１０が構成される。またこの基板用ステージ１０においては，各単位ブロックＵは，いわば行毎に吸気系統が連通するように連結されている。
【００２２】
そして一端に位置する各単位ブロックＵ１１，Ｕ２１，Ｕ３１の外側に位置する各外部接続口６には，図３に示したように，各々対応する吸気管２１，２２，２３が気密に接続され，さらにこれら吸気管２１，２２，２３は，吸気本管２４に並列接続されている。吸気本管２４には，エアポンプ２５が設けられている。したがって，エアポンプ２５を作動させると，これら吸気本管２４，吸気管２１，２２，２３を通じて，基板用ステージ１０を構成する全ての単位ブロックＵの上面２に形成されている穴から吸引されることになる。
【００２３】
本実施の形態にかかる基板用ステージ１０は，以上のような構成を有しており，図２，図３に示したように，定盤４０の上に載置して使用される。この定盤４０は例えばグラナイトからなり，その上面４１，すなわち載置面は平坦に加工されている。
【００２４】
そして，例えばダイヘッドからの塗布による塗布処理用の基板用ステージとして用いる場合，図４に示したように，従来と全く同様，基板用ステージ１０上に処理対象である基板Ｇを載置し，ポンプ２５を作動させることで，各単位ブロックＵの上面２に形成されている穴３からの吸引によって，該基板Ｇを吸着保持することができる。その後は，ダイヘッド４２を基板Ｇ上を移動させながらその下面に形成されたスリット状のダイリップ４３から塗布液を吐出させることで，基板Ｇ上に所定の膜厚の塗布液を塗布すればよい。
【００２５】
本発明によれば，基板Ｇが大型のものであっても，これを保持して載置する基板用ステージ１０は，より小型の単位ブロックＵによって分割されているので，基板を載置する面の平坦化については，これら単位ブロックＵの上面２を平坦化して，定盤４０上に配列すればよい。したがって，基板Ｇが大型化しても，平坦加工する面積は，狭小なもので済む。
【００２６】
また基板Ｇがさらに大型化し，より広い面積の基板用ステージが必要となっても，適宜単位ブロックを気密に連結接続して継ぎ足すことによって，容易にそれに対応した基板用ステージを提供することができる。
【００２７】
ところでそのようにいわば分割された基板用ステージであっても，基板Ｇを載置する上面は，もちろん全体としては同一水平面に位置している必要があるが，本実施の形態においては，単位ブロックＵの本体１の下面に足部７が設けられているので，個々の単位ブロックＵの足部７の高さを調整することで，全体としての平坦性を容易に確保することできる。微細な調整であっても，例えば足部７を削ることによってこれを達成することができる。単位ブロックＵを設置するための定盤４０についても，その上面４１が完全に同一水平面に位置して平坦である必要はなく，仮にそりや，うねり等の高低差，凹凸があっても，前記単位ブロックＵの足部７の高さを調整することで，これらの高低差を吸収して調整することが可能である。
【００２８】
さらにまた一部の単位ブロックＵの上面に傷がついても，該単位ブロックＵのみを交換すればよい。従来のように，全てを交換する必要はない。
【００２９】
なお吸気管２１，２２，２３には接続されない側の端に位置する単位ブロックＵ１４，Ｕ２４，Ｕ３４については，外部接続口６は１カ所，すなわち隣に位置する単位ブロックＵの外部接続口６と接続する側に形成されていればよい。したがって，かかる場合には蓋体１３は不要である。
【００３０】
また前記実施の形態では，各行毎に配列された単位ブロックＵの外部接続口６を気密に連結接続していたが，外部接続口６を本体の残りの２つの側面にも形成し，行間の単位ブロックＵについても同様に気密に連結接続すれば，吸気管の数を減ずることが可能である。前記実施の形態に即していえば，単位ブロックＵ１１，Ｕ２１，Ｕ３１間，単位ブロックＵ１２，Ｕ２２，Ｕ３２間，単位ブロックＵ１３，Ｕ２３，Ｕ３３間，単位ブロックＵ１４，Ｕ２４，Ｕ３４間についても外部接続口６を気密に接続した連結構成とすれば，吸気管２１，２２，２３の数を１本に減ずることができる。なおその場合，外部に開口した外部接続口６があれば，既述したように，適宜蓋体１３でこれを気密に閉鎖すればよい。
【００３１】
さらにまた上記実施の形態においては，各単位ブロックＵの本体１内にはマニホールド５が形成され，各吸気流路４は，このマニホールド５に通じているので，各穴３からは均一に吸引することができる。
【００３２】
以上の実施の形態は，基板Ｇ上に着色パターン，ブラックマトリックス，スペーサなどを形成するために所定の塗布液を塗布する基板用ステージに適用したものであったが，本発明は，基板を処理する際に，これを載置して保持する各種のステージとして使用でき，例えば露光処理の際に基板を保持するステージにも適している。
【００３３】
【発明の効果】
本発明によれば，基板の大型化によって広い載置面が必要となっても，上面の平坦加工面積は狭小なもので済む。また例えば搬送機能を持たせるなど，全体として複雑な構造を持った大型のステージを構成する際にも，少なくとも一部の単位ブロックにかかる機能を持たせればよい。したがって製造コストを低廉なものとすることができる。しかも載置面の一部に疵が発生しても一部分の交換で済み，さらに部分的な高さ調整も簡単に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態に使用される単位ブロックの斜視図である。
【図２】本実施の形態にかかる基板用ステージの平面図である。
【図３】本実施の形態にかかる基板用ステージの一部断面側面図である。
【図４】本実施の形態にかかる基板用ステージを基板の塗布処理用に用いた際の一部断面側面図である。
【符号の説明】
１  本体
２  上面
３  穴
４  吸気流路
５  マニホールド
６  外部接続口
７  足部
１０  基板用ステージ
１２  連結材
２１，２２，２３    吸気管
２５  ポンプ
Ｇ  基板
Ｕ  単位ブロック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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