(57)【要約】【課題】基材の選択自由度が高く薄型化も可能である他、製造コストも比較的安価となる反射板、及び、反射層が偏光板上に直接形成された反射型偏光板を提供する。【解決手段】本発明に係る反射板１は、基材１１と、基材１１上に形成された反射層１２とを備え、反射層１２は、基材１１上に金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を加熱焼結した加熱焼結層とされている。本発明に係る反射型偏光板１０は、前記反射板１と、反射板１に積層された偏光板２とを備え、偏光板２を構成する部材が、反射板１の基材とされている。【選択図】　　図１
2004085874.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、当該基材上に形成された反射層とを備えた反射板であって、
前記反射層は、前記基材上に金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を加熱焼結した加熱焼結層とされていることを特徴とする反射板。
【請求項２】
前記基材は、前記反射層側の表面が粗面化されていることを特徴とする請求項１に記載の反射板。
【請求項３】
前記基材は、前記反射層側の表面が平滑化されており、
前記反射層の前記基材側と反対側の表面に、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散部材が積層されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射板。
【請求項４】
前記基材は、厚みが１００μｍ以下とされていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の反射板。
【請求項５】
前記金属ナノ粒子は、銀、金、銅、ニッケル、クロム、白金、パラジウム及びこれらの合金の内のいずれか１つ又はいずれかの混合体であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の反射板。
【請求項６】
前記反射層の少なくとも一方の表面に、酸化防止用の保護層が形成されていることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の反射板。
【請求項７】
前記保護層の表面は、Ｈ以上の鉛筆硬度を有することを特徴とする請求項６に記載の反射板。
【請求項８】
前記保護層の表面には、抵抗値１０１０Ω以下の帯電防止処理が施されていることを特徴とする請求項６に記載の反射板。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の反射板と、当該反射板に積層された偏光板とを備え、
前記偏光板を構成する部材が、前記反射板の基材とされていることを特徴とする反射型偏光板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型液晶表示装置等に好適に用いられる反射板及び反射型偏光板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、液晶セルと、当該液晶セルに対して視認側に配置された偏光板と、前記液晶セルに対して視認側と反対側に配置された偏光板とを備えた液晶表示装置であって、前記反対側に配置された偏光板に対して視認側と反対側に反射板を配置した反射型液晶表示装置が知られている。斯かる液晶表示装置は、太陽光等の外光によって表示画面（液晶セルの内容）を視認することができ、バックライトを必要とせず、消費電力が小さいという利点を有することから、携帯電話等の表示装置として種々適用されている。
【０００３】
ここで、反射板としては、基材と、当該基材上に形成された金属膜からなる反射層とを備えるものが一般的である。金属膜は、通常、蒸着やスパッタ等の手法によって基材上に形成されるが、この際、基材には温度負荷がかかると共に、金属膜の付着力を高めるには、ある程度基材を昇温する必要があるため、ガラスなどの耐熱性基材が用いられることが多い。従って、良好な金属膜質が得られるプラスチック製の基材は、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルムなど、耐熱性を有するプラスチックから形成されたものに制限されてしまうという問題がある。
【０００４】
また、反射板を形成する基材は、熱応力や金属薄膜内部の残留応力の影響を回避するべく、ある程度厚みを大きくする必要があった。その結果、反射板の総厚みが大きくなってしまい、近年の液晶表示装置の薄型化要求に適合しないという問題があった。さらに、蒸着による成膜は、真空環境が必要であるため、製造コストの上昇を招く要因ともなっていた。
【０００５】
一方、液晶表示装置に用いられる反射型偏光板は、前記基材付き反射板と偏光板とをそれぞれ独立別個に作成し、両者を貼着して形成されるのが一般的である。しかし、反射型偏光板として使用する形態では、反射板を構成する基材は、反射層の支持体として必ずしも必要ではなく、前述のように薄型化を図る観点からは、むしろ省略することが望まれている。しかし、基材を省略するべく、偏光板に直接金属膜を蒸着するのでは、前述した温度条件や真空条件に起因して、良質の金属膜を形成できなかったり、偏光板の劣化を招くなどの問題があり、実用化できていないのが現状である。
【０００６】
より具体的に説明すれば、プラスチック製の偏光板の耐熱上限は、負荷する時間にも依存するが、上限は２００℃程度（実用的には１５０℃程度）である。これ以上昇温すれば、偏光板の光学機能が変化する他、カールやシワ等が発生し、使用は困難である。従って、偏光板に直接金属膜を形成する場合には、２００℃以下で、可能な限り低温（好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１００℃以下）で成膜できることが必要である。また、偏光板を構成するフィルム類は、水分や可塑剤を含み、真空蒸着の被着体としては適当でない場合が多いため、大気圧中で成膜することが望ましい。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、斯かる従来技術の問題を解決するべくなされたものであり、基材の選択自由度が高く薄型化も可能である他、製造コストも比較的安価となる反射板、及び、反射層が偏光板上に直接形成された反射型偏光板を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
金属ナノ粒子、つまり、ナノメータオーダーの寸法を有する超微粒子金属は、通常の金属とは挙動が異なることが知られている。これは、金属の単位重量に対する表面積の割合が大きくなり、表面近傍の活性層の影響が大きくなるためである。例えば、銀のナノ粒子は特異的な挙動を示し、通常の銀の融点が９６１℃であるにも関わらず、銀ナノ粒子は２００℃以下、特に粒子寸法を調整すれば１００℃以下で溶融固着し、ナノ粒子界面が完全に金属結合する。
【０００９】
本発明の発明者は、斯かる金属ナノ粒子の特異的な挙動に着目し、鋭意研究した結果、金属結合したナノ粒子界面を反射板の反射層として利用可能であることを見出し、本発明を完成させたものである。すなわち、本発明は、請求項１に記載の如く、基材と、当該基材上に形成された反射層とを備えた反射板であって、前記反射層は、前記基材上に金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を加熱焼結した加熱焼結層とされていることを特徴とする反射板を提供するものである。
【００１０】
請求項１に係る発明によれば、金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層、つまり金属ナノ粒子を分散した分散液を塗布した塗布層を加熱焼結するため、低温で、且つ、蒸着と異なり大気圧下で反射層を形成可能である。従って、反射板を形成する基材の化学的制約や物理的制約が緩和され、基材の選択肢が広がるため、反射板としての用途が格段に拡大する（後述するように、反射層を偏光板上に直接形成することも可能である）と共に、比較的安価な製造コストで反射板を形成することも可能である。また、低温で反射層を形成するため、熱応力や残留応力の影響も少なく、基材の厚みを低減でき、反射板の薄型化を図ることも可能である。以上のように、請求項１に係る発明によれば、基材の選択自由度が高く薄型化も可能である他、製造コストも比較的安価となるという優れた利点を有する反射板が提供される。なお、前記塗布層は、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１５０℃以下、さらに好ましくは１００℃以下で加熱焼結される。
【００１１】
好ましくは、請求項２に記載の如く、前記基材は、前記反射層側の表面が粗面化される。
【００１２】
請求項２に係る発明によれば、基材の表面が粗面化されるため、反射板に拡散反射機能を付与することができ、当該反射板を液晶表示装置に適用した場合、良好な視野角特性を得ることができる。
【００１３】
また、反射板に拡散反射機能を付与するには、請求項３に記載の如く、前記基材は、前記反射層側の表面が平滑化されており、前記反射層の前記基材側と反対側の表面に、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散部材を積層してもよい。
【００１４】
本発明に係る反射板を液晶表示装置に適用する場合、前述のように、薄型化される方が好ましい。従って、好ましくは、請求項４に記載の如く、前記基材は、厚みが１００μｍ以下とされる。なお、前記基材の厚みは、より好ましくは８０μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以下とされる。
【００１５】
前記金属ナノ粒子としては、ナノ粒子化することができる限りにおいて、種々の金属を適用することができるが、反射率が高く、耐腐食性も良いという観点より、請求項５に記載の如く、銀、金、銅、ニッケル、クロム、白金、パラジウム及びこれらの合金の内のいずれか１つ又はいずれかの混合体とするのが好ましい。
【００１６】
ただし、前記金属は、一部を除いて、腐食（酸化）を完全に防ぐことはできないため、耐腐食性をより一層高めるべく、請求項６に記載の如く、前記反射層の少なくとも一方の表面に、酸化防止用の保護層を形成し、反射層が酸素や水分に接触するのを防止することが好ましい。
【００１７】
好ましくは、請求項７に記載の如く、前記保護層の表面は、Ｈ以上の鉛筆硬度を有するものとされる。ここで、鉛筆硬度とは、ＪＩＳ−Ｋ−５４００で規格化されており、鉛筆の芯で一定荷重により表面を引っ掻くことにより測定される値である。
【００１８】
請求項７に係る発明によれば、保護層の表面が硬質化されているため、反射板をハンドリングする際、反射層に擦り傷や打痕などの損傷が生じるのを防止し、当該反射板を液晶表示装置に適用した場合の表示品位への影響を抑止することができる。後述するように、偏光板に直接反射層を形成する場合、つまり、偏光板を構成する部材が反射板の基材とされている場合に、本発明は特に有効である。換言すれば、偏光板に直接反射層を形成する場合、反射層が保護層を介して外界に直接触れる（偏光板と基材とで挟持される構成ではない）ため、前述したような機械的化学的な損傷を受け易く、損傷を防止するために保護層表面を硬質化することは極めて有効である。なお、より好ましくは、前記鉛筆硬度は２Ｈ以上とされる。
【００１９】
好ましくは、請求項８に記載の如く、前記保護層の表面には、抵抗値１０１０Ω以下の帯電防止処理が施される。
【００２０】
前記保護層として用いられる材料の多くは絶縁体であるので、反射層は絶縁体に挟持されたコンデンサー構造となる。従って、反射板のハンドリングの際に静電気を帯び易く、静電吸着や放電による不快感が生じたり、周囲の電子材料に悪影響を及ぼすおそれがある。請求項８に係る発明によれば、保護層表面に帯電防止処理が施されるため、前述した不快感や悪影響を低減することができる。
【００２１】
また、本発明は、請求項９に記載の如く、前記反射板と、当該反射板に積層された偏光板とを備え、前記偏光板を構成する部材が、前記反射板の基材とされていることを特徴とする反射型偏光板としても提供される。
【００２２】
請求項９に係る発明によれば、反射層が偏光板上に直接形成されている、つまり、偏光板を構成する部材（例えば、偏光子保護フィルム）が反射板の基材とされているため、当該部材と別個に反射板の基材（支持体）を設ける必要が無く、当該省略した支持体の厚み分だけ、反射型偏光板の薄型化を図ることができるという優れた利点を有する。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
【００２４】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係る反射板の概略構成を示す縦断面図である。図１に示すように、本実施形態に係る反射板１は、基材１１と、基材１１上に形成された反射層１２とを備えている。反射層１２は、基材１１上に金属ナノ粒子を分散した分散液を塗布した塗布層を、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１５０℃以下、さらに好ましくは１００℃以下で加熱焼結することにより形成されている。
【００２５】
基材１１の材質は、２００℃程度の耐熱性を有する限りにおいて、特に限定されるものではなく、例えば、カーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリイミド系樹脂等を使用することが可能である。基材１１の厚みは、特に反射板１を液晶表示装置に適用する場合など薄型化が要求される用途では、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以下とされる。
【００２６】
本実施形態に係る反射層１２は、前記金属ナノ粒子として、銀、金、銅、ニッケル、クロム、白金、パラジウム及びこれらの合金の内のいずれか１つ又はいずれかの混合体を用いて形成される。金属ナノ粒子の粒径は、一般に、１〜１００ｎｍ程度であるが、特に限定されるものではない。一次粒子の粒径は、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下とされる。斯かる金属ナノ粒子を０．０１μｍ以上、好ましくは０．０２μｍ以上の厚みで分散塗布した塗布層は、２００℃以下の加熱で焼結が生じ、粒子界面が金属結合して一体化し、反射層１２として機能する。特に、銀又はその合金からなるナノ粒子や、銀ナノ粒子と他の金属ナノ粒子との混合体は、１００℃程度で焼結が開始するため好適に使用することができる。
【００２７】
以上に説明した反射板１を反射型液晶表示装置に適用する場合には、液晶セルに対して視認側と反対側に配置された偏光板に、反射層１２側を対向させて貼着すればよい。本実施形態に係る反射板１は、金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を加熱焼結するため、低温で、且つ、蒸着と異なり大気圧下で反射層１２を形成可能である。従って、基材１１の化学的制約や物理的制約が緩和され、基材１１の選択肢が広がるため、反射板１としての用途が格段に拡大すると共に、比較的安価な製造コストで反射板１を形成することも可能である。また、低温で反射層１２を形成するため、熱応力や残留応力の影響も少なく、基材１１の厚みを低減でき、反射板１の薄型化を図ることも可能である。
【００２８】
なお、反射板１を液晶表示装置に適用して良好な視野角特性を得るには、反射板１に拡散反射機能を付与することが好ましい。斯かる拡散反射機能は、基材１１の反射層１２側の表面を粗面化することにより容易に付与することができる。より具体的に説明すれば、基材１１の表面にサンドブラスト処理や溶媒処理等を施すことによって微細な表面凹凸を直接形成する手法や、樹脂中にフィラーを分散した溶液を基材１１の表面に塗工することによって表面凹凸を有する薄層を形成する手法の他、エンボス加工したり、ＵＶ重合樹脂を塗工した後に金型形状を転写する等、基材１１の表面に設計された形状を転写する手法など、種々の手法によって基材１１の表面を粗面化することが可能である。
【００２９】
また、基材１１の反射層１２側の表面が平滑化され鏡面状であったとしても、反射層１２の基材１１側と反対側の表面に光拡散部材を積層することによって拡散反射機能を付与することが可能である。より具体的に説明すれば、光拡散部材として光拡散機能を有するフィルムを用い、当該フィルムを反射層１２に貼着する手法や、光拡散部材としての光拡散樹脂塗工物を反射層１２上に成膜する手法の他、光拡散部材としての光拡散粘着剤を貼着する手法などを適用し、拡散反射機能を付与することが可能である。なお、光拡散部材としては、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しないものを使用するのが好ましい。これは、後方散乱を有し、偏光状態を解消する光拡散部材を使用すれば、偏光板と組み合わせたとき当該偏光板による吸収損失が増大するためである。実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散部材としては、例えば、等方性樹脂中に、複屈折性を有さず、前記等方性樹脂（包埋樹脂）と異なる屈折率を有するガラスや等方性樹脂微粒子などの微粒子を包埋することによって形成可能である。例えば、前記微粒子として屈折率が１．４４程度で、粒径が４μｍ程度のシリカ粒子を使用し、これを屈折率が１．４７のアクリル系粘着剤中に分散包埋することにより、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散粘着剤を形成することが可能である。また、前記微粒子として屈折率が１．５９程度で、粒径が６μｍ程度のスチレン粒子を使用し、これを屈折率が１．５１のアクリル系樹脂中に分散包埋することにより、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散板を形成することが可能である。さらに、ホログラムなどの屈折率の異なる微小領域において、位相差を有さない構造を作成することによっても形成することができる。
【００３０】
ここで、反射層１２は、金属ナノ粒子を加熱焼結することにより形成された金属薄膜であるため、反射層１２単体では、酸素や水分に接触することによって酸化反応が進行し、反射機能を失っていく場合が多い。従って、長期の信頼性を必要とする場合には、反射層１２の表面に、水分や酸素を透過しにくい材質からなる酸化防止用の保護層を形成するのが好ましい。斯かる保護層としては、架橋密度の高い樹脂層や、ゾルゲル法によって形成した無機質薄膜などを適用することが可能である。また、別途保護層を形成しなくても、金属ナノ粒子として、酸化し難い合金化金属材料を選択することも可能である。この場合には、銀、金、バラジウム等の合金や、クロム、ニッケルからなるステンレス合金などが好適に使用される。
【００３１】
また、反射板１をハンドリングする際、反射層１２に擦り傷や打墾などの損傷が生じるのを防止し、ひいては、反射板１を液晶表示装置に適用した場合の表示品位への影響を抑止するには、前記保護層の表面を、鉛筆硬度表記でＨ以上（より好ましくは２Ｈ以上）とするのが好ましい。なお、このように、保護層の表面を硬質化するには、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等によるハードコート処理層を保護層の表面に塗布形成すればよい他、保護層全体を斯かるハードコート処理層で形成することも可能である。
【００３２】
さらに、前記保護層の表面には、抵抗値１０１０Ω以下の帯電防止処理を施すのが好ましい。斯かる処理を施すことにより、静電吸着による塵の付着に起因した欠陥、他の部材との間に生じる強い吸着による擦り傷の他、反射層１２に蓄積された電荷の放電による反射層１２の破壊等の問題を解決することが可能である。
【００３３】
（第２の実施形態）
図２は、本発明の第２の実施形態に係る反射型偏光板の概略構成を示す縦断面図である。図２に示すように、本実施形態に係る反射型偏光板１０は、反射板１ａと、反射板１ａに積層された偏光板２とを備えている。偏光板２は、１対の偏光子保護フィルム１１ａに偏光子２１が挟持された構成を有する。
【００３４】
反射板１ａは、基材（偏光子保護フィルム）１１ａと、反射層１２とを備えている。本実施形態に係る反射板１ａは、偏光板２を構成する部材である偏光子保護フィルム１１ａがその基材とされている点に特徴を有する。換言すれば、本実施形態に係る反射板１ａは、反射層１２が偏光板２上に直接形成された構成を有する。これは、反射板１ａの反射層１２が、前述した第１の実施形態と同様の構成を有し、金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を２００℃以下の低温で加熱焼結するため、基材の化学的制約や物理的制約が緩和され、偏光子保護フィルム１１ａも基材として利用可能となるからである。なお、偏光子保護フィルム１１ａとしては、一般的に用いられているＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムの他、アクリル系樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルムなどが適用可能である。
【００３５】
なお、本実施形態に係る反射板１ａは、偏光子保護フィルム１１ａを基材とする点のみが第１の実施形態と異なり、反射層１２の表面に保護層を形成したり、反射板１ａに拡散反射機能を付与することが可能である点は、第１の実施形態と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
【００３６】
以上に説明した反射型偏光板１０を反射型液晶表示装置に適用する場合には、液晶セルの視認側と反対側に偏光板２側を対向させて貼着すればよい。本実施形態に係る反射型偏光板１０は、反射層１２が偏光板２上に直接形成された構成を有するため、偏光板２が具備する偏光子保護フィルム１１ａとは別個に反射板１ａの基材（支持体）を設ける必要が無く、当該省略した支持体の厚み分だけ、反射型偏光板１０の薄型化を図ることができるという利点を有する。
【００３７】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示すことにより、本発明の特徴をより一層明らかにする。
【００３８】
（実施例１）
銀ナノ粒子の１次粒子（粒径φ５ｎｍ）を水に１重量％分散した分散液を、ケン化処理を施した東レ製ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１２μｍ）上にワイヤーバーコーターによって塗布し、乾燥させた。これにより形成された塗布層（ナノ粒子皮膜）は、厚みが約０．０３μｍであった。
【００３９】
次に、前記塗布層を８０℃で１０分間加熱処理したところ、焼結が進行し、反射板として機能することが分かった。このようにして形成された反射板を偏光板に貼着したところ、熱皺などの影響もなく、良好な外観特性を有することが分かった。
【００４０】
（実施例２）
銀ナノ粒子の１次粒子（粒径φ５ｎｍ）を水に１重量％分散した分散液を、ケン化処理を施した日東電工製偏光板ＴＥＧ１４６５ＡＧＳ１フィルム（厚み約１４０μｍ）上にワイヤーバーコーターによって塗布し、乾燥させた。これにより形成された塗布層（ナノ粒子皮膜）は、厚みが約０．０５μｍであった。なお、ＴＥＧ１４６５ＡＧＳ１フィルムの表面は、ヘイズ値２５程度の拡散機能を有すると共に、当該表面が、塗布層への水分や酸素の到達を阻止する保護層としても機能した。
【００４１】
次に、前記塗布層を８０℃で１０分間加熱処理したところ、焼結が進行し、反射型偏光板として機能することが分かった。このようにして形成された反射型偏光板の拡散反射率は６０％であった。また、熱皺や劣化なども生じず、良好な外観特性を有することが分かった。
【００４２】
次に、形成された反射型偏光板の反射層側に、表面硬度２Ｈ、厚み５μｍのアクリル樹脂系ハードコート処理層を塗布形成し、反射層を機械的化学的に保護することにより、良好なハンドリング性を有する反射型偏光板を得ることができた。斯かる反射型偏光板は、全体厚みが約１５０μｍに過ぎず、一般的な反射型偏光板である日東電工製ＥＧＷ３２０６ＧＴの約２３５μｍよりも薄い厚みとなった。
【００４３】
次に、前記反射型偏光板のハードコート処理層表面に、帯電防止剤（ファインケミカルジャパン株式会社ＥＰ−８）で帯電防止処理を施した。これにより、表面の抵抗値は５×１０８Ω以下となり、ハンドリングする際の反射層への静電気の帯電が抑制され、急激な放電によるハンドリング性の悪化などの問題を抑制可能であった。
【００４４】
（実施例３）
実施例１の反射板の反射層側（塗布層側）に、８０重量％のアクリル系粘着剤（日東電工製ＮＯ．７、屈折率１．４７）と、２０重量％の等方性真球中実粒子（位相差が無く真球状の中実粒子）として直径が約４μｍのシリカ粒子（屈折率１．４４）とからなる、厚み２５μｍの光拡散粘着剤を貼着した。なお、前記光拡散粘着剤の偏光解消度は０．５％以下であり、後方散乱率は５％以下であった。
【００４５】
以上のようにして形成した光拡散粘着剤付き反射板は、拡散反射率が約５０％であった。
【００４６】
さらに、前記光拡散粘着剤付き反射板に、日東電工製偏光板ＥＧＷ１２０６ＤＵを積層することにより、反射型偏光板を形成することができた。形成された反射型偏光板は、良好な外観特性を有することが分かった。
【００４７】
（比較例１）
日東電工製偏光板ＳＥＧ１４２５ＤＵに、銀を厚み０．１μｍで真空蒸着し、反射型偏光板を形成した。
【００４８】
本比較例の反射型偏光板における反射層（蒸着膜）は、黄色度ｂ値が７．０と極めて劣悪であり、液晶表示装置には使用できなかった。また、蒸着の熱衝撃によって偏光板に強いカールが生じると共に、偏光板を構成するＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム中の可塑剤が表面析出し、これにより反射層の剥離脱落が発生することが分かった。
【００４９】
（比較例２）
東レ製ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１２μｍ）に、銀を厚み０．１μｍで真空蒸着し、反射板を形成した。次に、反射板上に保護層を形成することにより得られた高耐久銀反射板は、厚みが１３μｍ程度であった。この高耐久銀反射板を、拡散粘着剤（厚み２５μｍ）を介して日東電工製偏光板ＥＧＷ１２０５に貼着し、反射型偏光板を形成した。
【００５０】
以上のようにして形成された本比較例の反射型偏光板は、全体の厚みが約１９０μｍであり、外感上、熱皺に起因すると考えられるムラが観察された。
【００５１】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明に係る反射板によれば、基材の選択自由度が高く薄型化も可能である他、製造コストも比較的安価となるという優れた利点を有する。また、本発明に係る反射型偏光板によれば、偏光板を構成する部材（例えば、偏光子保護フィルム）が反射板の基材とされているため、当該部材と別個に反射板の基材（支持体）を設ける必要が無く、当該省略した支持体の厚みの他、支持体と偏光板との間の粘着剤・接着剤の厚み分だけ、反射型偏光板の薄型化を図ることができるという優れた利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態に係る反射板の概略構成を示す縦断面図である。
【図２】図２は、本発明の第２の実施形態に係る反射型偏光板の概略構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
１…反射板　２…偏光板　１０…反射型偏光板　１１…基材　１２…反射層
【図１】
2004085874.tif 000003
【図２】
2004085874.tif 000004