(57)【要約】【課題】赤外線レーザ露光により画像形成が可能で、良好な耐キズ性及び広い現像ラチチュードを有し、且つ、製造、搬送時のローラー及び保護紙（合紙）や支持体裏面への転写問題を起こさない画像記録材料及びそれを用いた平版印刷版原版を提供する。【解決手段】（ａ）赤外線吸収剤及び（ｂ）炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体であり、ベースポリマーに対する摩擦係数比が０．５〜０．９７の長鎖アルキル基含有ポリマーを含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする画像記録材料、及びこの画像記録材料を用いた記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）赤外線吸収剤及び（ｂ）炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体であり、ベースポリマーに対する摩擦係数低下率が０．５〜０．９７の長鎖アルキル基含有ポリマーを含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする画像記録要素。
【請求項２】
支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤及び（ｂ）炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体であり、ベースポリマーに対する摩擦係数低下率が０．５〜０．９７の長鎖アルキル基含有ポリマーを含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能な記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は平版印刷版原版に使用できる画像記録要素に関するものであり、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版に使用できる画像記録要素に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年におけるレーザの発展は目覚ましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになっている。コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。
【０００３】
赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生する赤外線吸収染料等（光熱変換物質）とを必須成分とし、赤外線吸収染料等が、未露光部（画像部）では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部（非画像部）では、発生した熱により赤外線吸収染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。
【０００４】
しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版では、取り扱い時に表面に触れる等によりわずかに表面状態が変動した場合にも、現像時に未露光部（画像部）が溶解してキズ跡状となり、耐刷性の劣化や着肉性不良を引き起こすという問題があった。
【０００５】
また、赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版の場合も、未露光の硬化前の状態では記録層の耐キズ性が不充分であるという問題もあった。
【０００６】
上記問題を解決する手段として、例えば、特許文献１（米国特許第６１２４４２５号明細書）に、膜強度（画像強度）を簡便に達成することを目的とした赤外線吸収性の官能基を側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂の例が記載されている。即ち、アルカリ可溶性樹脂中に光熱変換機能を有する部分構造を導入して材料中の成分を減らすことにより、膜強度を向上しようとするものである。しかしながら、このアルカリ可溶性樹脂は、分子量が５０００以上の高分子化合物であるために、支持体への密着性が多大になると共に、現像時の処理剤への溶解性が充分でなくなり、特にポジ型平版印刷版材料として用いた場合に、非画像部の溶解性が低く、除去されるべき記録層が現像処理で充分に除去されず、残膜となって非画像部に汚れが発生し易いという問題を有していた。
【０００７】
また、例えば、特許文献２（特開２０００−３５６６６号公報）に低分子量のワックスの添加により、表面の滑り性が向上し、優れた耐キズ性を発現することが知られているが、低分子であるため、平版印刷版原版を積層する際に保護紙（合紙）、支持体裏面への転写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題点を有しており、製造や搬送時の不安定要因となっていた。
【０００８】
更に、例えば、特許文献３（欧州特許第９５０５１４号明細書）及び特許文献４（欧州特許第９５０５１７号明細書）にはポリシロキサン系界面活性剤により滑り性を発現させる例が提案されているが、現像時におけるカスの懸念や滑りすぎてしまうという滑り性の制御の難しさから、これも製造や搬送時の不安定要因となっていた。
また、特願２００２−３２９０４には長鎖アルキルエステルを加えて動摩擦係数を下げたサーマルポジが開示されている。
【０００９】
その他に、記録層上に保護層、例えば、水溶性樹脂を用いる一般的な保護層を設ける対策もある。しかし、特に、平版印刷版原版を積層し、高湿度下で保存された場合に、保護層と保護紙（合紙）又は支持体裏面とが接着し、保護層が剥がれ難くなって作業性が低下するという問題を有していた。
【００１０】
【特許文献１】
米国特許第６１２４４２５号明細書
【特許文献２】
特開２０００−３５６６６号公報
【特許文献３】
欧州特許第９５０５１４号明細書
【特許文献４】
欧州特許第９５０５１７号明細書
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のキズつき防止対策は、いずれの手段も、生産性が悪いという問題を有していた。このため、作業性を低下させず、また、画像形成性に影響を与えず、記録層のキズつきを抑制し得る画像記録要素及び平版印刷版原版が所望されていた。従って、本発明の目的は、上記の問題を解決することである。即ち、良好な耐キズ性及び広い現像の寛容度（ラチチュード）を有し、且つ、製造、搬送時のローラー及び保護紙（合紙）や支持体裏面への転写問題を起こさない画像記録要素及びそれを用いた平版印刷版原版を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体であり、ベースポリマーに対する摩擦係数低下率が０．５〜０．９７の長鎖アルキル基含有ポリマーを含有するヒートモード画像記録要素を記録層として用いることにより、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに到った。即ち、本発明は、以下の通りである。
【００１３】
１．（ａ）赤外線吸収剤及び（ｂ）炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体であり、ベースポリマーに対する摩擦係数低下率が０．５〜０．９７の長鎖アルキル基含有ポリマーを含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする画像記録要素。
【００１４】
２．支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤及び（ｂ）炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体であり、ベースポリマーに対する摩擦係数低下率が０．５〜０．９７の長鎖アルキル基含有ポリマーを含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能な記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の画像記録要素は、赤外線吸収剤及び炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体であり、ベースポリマーに対する摩擦係数低下率が０．５〜０．９７の長鎖アルキル基含有ポリマーを含有することを特徴とする。上記比率は、より好ましくは０．６０〜０．９５であり、更に好ましくは０．６５〜０．９２である。この範囲内で広い現像の寛容度（ラチチュード）及び耐キズ性を有し、且つ、製造、搬送時のローラー、保護紙（合紙）、又は支持体裏面への転写の無い良好な平版印刷版原版作製のための画像記録要素が得られる。この特定範囲の上限を超えると滑りによる耐キズ改良効果が得られず擦りキズがつき易く、下限を下回ると滑り過ぎて、製造及び搬送時の取り扱いが悪くなる。
【００１６】
本発明において、長鎖アルキル基含有ポリマーのペースポリマーに対する摩擦係数低下率とは、ベースポリマー（摩擦係数の測定において基準となるポリマー）に長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合体を１０質量％添加した混合物の摩擦係数をベースポリマーの摩擦係数で割った値である。すなわち、該共重合体添加によるベースポリマーの摩擦係数の低下率を意味する。
【００１７】
摩擦係数の測定に使用されるベースポリマーとしては、画像記録要素中で主として使われるポリマーが好ましく、具体的にはフェノール樹脂、アクリル系樹脂、アミド系樹脂、スルホンアミド樹脂等が挙げられ、なかでも特にフェノール樹脂が好ましい。
【００１８】
本発明における上記摩擦係数は、本発明の画像記録要素の特徴を表す動摩擦係数（μｋ）であり、標準ＡＳＴＭ　Ｄ１８９４に従って測定される。本発明では単に摩擦係数と表記する。なお、具体的測定法は実施例に記載する。
【００１９】
本発明の画像記録要素が赤外線レーザの露光により画像形成可能であるための画像記録要素としては、後に詳述する赤外線レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大するポジ型画像記録要素、及び赤外線レーザの露光により露光部が重合や架橋を起こして現像液に不溶化するネガ型画像記録要素が挙げられる。
【００２０】
［画像記録要素］
本発明の画像記録要素は、赤外線吸収染料及び炭素数６以上の長鎖アルキル基含有ポリマーを画像記録要素と組み合わせて含有させて構成される。また、本発明の平版印刷版原版は、この画像記録要素を用いた記録層を支持体上に設けることによって得られる。以下、本発明を構成する各成分について順次説明する。
【００２１】
（長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーの共重合体）
本発明におけるベースポリマーの摩擦係数を０．５〜０．９７の比率に低下させるために好適に用いられる長鎖アルキル基含有ポリマーとしては、少なくとも１種の炭素数６以上、好ましくは炭素数１２以上の長鎖アルキル基含有モノマーと少なくとも１種の親水性モノマーを組み合わせて共重合したポリマーが好ましい。
【００２２】
上記の炭素数６以上の長鎖アルキル基含有モノマーとしては、分子内に付加重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましく、溶剤溶解性や平版印刷版原版を作製した場合の耐キズ性改良効果、表面被覆性及び画像形成性への影響等の観点から、長鎖アルキル基を有するアクリレート系、メタクリレート系、アクリルアミド系、メタクリルアミド系、スチレン系、ビニル系、ビニルエーテル系、マレイン酸系、フマル酸系などの化合物であることが好ましい。
【００２３】
このような長鎖アルキル基含有モノマーとして、具体的に以下の一般式（Ｉ）ものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２４】
【化１】
2004118017.tif 000002
【００２５】
ｎは６〜４０の整数を表す。Ｘは２価の連結基を表す。Ｙ、Ｙ’及びＹ”は１価の有機基を表す。一般式（Ｉ）中、ｎは１０〜３０の整数が好ましく、１２〜２０の整数がより好ましい。
【００２６】
Ｘが表す２価の連結基の具体例としては、炭素数１〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキレン基、炭素数２〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ａｒ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−ＳＯ２ＮＲ−、−ＳＯ２ＮＡｒ−、−Ｏ−、（アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ）、−ＯＡｒ−アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２Ｏ−、−ＳＯ２ＯＡｒ−、−ＯＳＯ２−、−ＯＳＯ２Ａｒ−、−ＮＲＳＯ２−、−ＮＡｒＳＯ２−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）−、−ＮＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−ＮＡｒ−、−ＮＲ−、−Ｎ＋ＲＲ’−、−Ｎ＋ＲＡｒ−、−Ｎ＋ＡｒＡｒ’−、−Ｓ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、ヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環）、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−ＯＣ（＝Ｓ）Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｓ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＡｒ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＡｒＣ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮＲ−等が挙げられる。ここで、Ｒ及びＲ’はＨ、直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒ及びＡｒ’はアリール基を表す。
上記の連結基は、ここで挙げた連結基を２種類以上組み合わせて連結基を形成していても良い。このような連結基としては、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−Ｏ−（アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ）、−ＯＡｒ−アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ａｒ−、−Ｓ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮＲ−等が好ましく、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−Ｏ−（アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ）、−ＯＡｒ−アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮＲ−等がより好ましい。
【００２７】
また、上記連結基は置換基を有していてもよく、その置換基の例としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数６〜２０のアリーレン、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基、炭素数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数１〜２０のカルバモイル基、炭素数０〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数３〜２０のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のウレイド基、炭素数２〜２０のヘテロ環基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数０〜２０のスルファモイルアミノ基、炭素数２〜２０のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【００２８】
また、Ｙ、Ｙ’及びＹ”の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。水素原子、炭素数１〜５０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル等）、炭素数２〜５０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基（例えばビニル、１−メチルビニル、シクロヘキセン−１−イル等）、炭素数２〜５０のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニル等）、炭素数６〜５０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、アントリル等）、炭素数１〜５０のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、２−メトキシエトキシカルボニルオキシ基など）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基など）、炭素数１〜５０のカルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ等）、炭素数１〜５０のカルボンアミド基（例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１〜５０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜５０のカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイル等）、炭素数０〜５０のスルファモイル基（例えば、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）スルファモイル等）、炭素数１〜５０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ、ポリアルキレンオキシ等）、炭素数６〜５０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル等）
【００２９】
炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル等）、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜５０のＮ−スルファモイルカルバモイル基（例えばＮ−メタンスルホニルカルバモイル基など）、炭素数１〜５０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘキシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルスルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等）、炭素数０〜５０のアミノ基（例えばアミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、アニリノ、モルホリノ等）、炭素数３〜５０のアンモニオ基（例えば、トリメチルアンモニオ基、ジメチルベンジルアンモニオ基など）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、炭素数１〜５０のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ等）、炭素数６〜５０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜５０のウレイド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−ジメチルウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、炭素数２〜５０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素及びイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−フリル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、２−イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベンツイミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル等）、炭素数１〜５０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等）、炭素数０〜５０のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ−ブチルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基（例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリフェニルシリル等）、アゾ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられる。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられる。
【００３０】
また、Ｙ、Ｙ’及びＹ”のうち少なくとも２つが互いに環を形成していても良く、このような例としては脂肪族環、芳香族環、複素環基が挙げられる。
【００３１】
上記一般式（Ｉ）の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
【化２】
2004118017.tif 000003
【００３３】
ｎ＝６〜４０　　　　　ｎ＝６〜４０
【００３４】
【化３】
2004118017.tif 000004
【００３５】
【化４】
2004118017.tif 000005
【００３６】
【化５】
2004118017.tif 000006
【００３７】
上記長鎖アルキル基含有モノマーの組成モル比は、滑り性向上の観点から１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましく、３０モル％以上であることが最も好ましい。
【００３８】
親水性モノマーとしては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点から下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００３９】
【化６】
2004118017.tif 000007
【００４０】
式中、Ｚは１価の親水性基を表し、Ｗ、Ｗ’及びＷ”は１価の有機基を表す。
【００４１】
一般式（ＩＩ）において、Ｚの具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
炭素数１〜５０のアシルオキシ基、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜５０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜５０のカルボンアミド基、炭素数１〜５０のカルバモイル基、炭素数０〜５０のスルファモイル基、炭素数１〜２０００のアルコキシ基、炭素数６〜２０００のアリールオキシ基、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜５０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜５０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘキシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルスルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜５０のアミノ基、炭素数３〜５０のオニウム基（アンモニウム、スルホニウム、ジアゾニウム、ヨードニウム、イミニウム等）、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜５０のアルキルチオ基、炭素数６〜５０のアリールチオ基、炭素数１〜５０のウレイド基、炭素数１〜２０００のアルキルシロキシ基、炭素数１〜２０００のアリールシロキシ基等、フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）、スルホンアミド基（−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ）、置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）〔−ＳＯ２ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ２Ｒ〕、カルボン酸基（−ＣＯ２Ｈ）、スルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）、リン酸基（−ＯＰＯ３Ｈ２）等が挙げられる。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられる。
【００４３】
上記一般式（ＩＩ）中の１価の有機基Ｗ、Ｗ’及びＷ”は、一般式（Ｉ）中の１価の有機基Ｙ、Ｙ’及びＹ”と同義のものが挙げられる。
【００４４】
上記一般式（ＩＩ）の親水性モノマーとしては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点からｐＫａ１２以下の酸基を有するモノマーであることが好ましい。
【００４５】
このようなｐＫａ１２以下の酸基を有するモノマーとしては、下記（１）〜（６）に挙げる酸性基を有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性、感度の点で好ましい。
【００４６】
（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ）
（３）活性イミド基（−ＳＯ２ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ２Ｒ）
（４）カルボン酸基（−ＣＯ２Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ３Ｈ２）
上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【００４７】
上記（１）のフェノール基を有するモノマーとしては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【００４８】
上記（２）スルホンアミド基を有するモノマーとしては、上記構造のスルホンアミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、スルホンアミド基とを分子内に有する低分子化合物が好ましい。例えば、下記一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物が挙げられる。
【００４９】
【化７】
2004118017.tif 000008
【００５０】
上記一般式（ｉ）〜（ｖ）中、Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、−Ｏ−又は−ＮＲ７−を表す。Ｒ１及びＲ４は、各々独立に、水素原子又は−ＣＨ３を表す。Ｒ２、Ｒ５、Ｒ９、Ｒ１２、及び、Ｒ１６は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ３、Ｒ７、及び、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、Ｒ６及びＲ１７は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ８、Ｒ１０及びＲ１４は、各々独立に、水素原子又は−ＣＨ３を表す。Ｒ１１及びＲ１５は、各々独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立に単結合、又は−ＣＯ−を表す。
【００５１】
一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物のうち、本発明の画像記録要素では、特に、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００５２】
上記（３）活性イミド基を有するモノマーとしては、前記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。中でも、下記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が好ましい。
【００５３】
【化８】
2004118017.tif 000009
【００５４】
具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００５５】
上記（４）カルボン酸基を有するモノマーとしては、例えば、カルボン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。上記（５）スルホン酸基を有するモノマーとしては、例えば、スルホン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。上記（６）リン酸基を有するモノマーとしては、例えば、リン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。
【００５６】
上記のｐＫａ１２以下の酸基を有するモノマーの中でも、（１）フェノール基、（２）スルホンアミド基、（３）活性イミド基又は（４）カルボン酸を有するモノマーが好ましく、特に、（１）フェノール基又は（２）スルホンアミド基又は（４）カルボン酸を有するモノマーが、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
上記親水性モノマーの組成モル比は長鎖アルキル基含有モノマーとの共重合体成分中４０〜６０モル％が好ましい。
【００５７】
また、長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合成分として、他のモノマーを用いることもできる。このような長鎖アルキル基含有モノマー及び親水性モノマー以外のモノマーは共重合体成分中に５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることが耐キズ性効果の観点から、より好ましい。
【００５８】
長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマー以外のモノマーとしては、下記（７）〜（１７）に挙げる化合物を例示することができる。
【００５９】
（７）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（８）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアルキレート等のアクリレート。
（９）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等のメタクリレート。
【００６０】
（１０）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド又はメタクリルアミド。
（１１）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（１２）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
【００６１】
（１３）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（１４）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（１５）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
【００６２】
（１６）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１７）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
【００６３】
上記長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーの共重合方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることができる。また、この共重合において、長鎖アルキル基含有モノマーの共重合成分は、２種類以上混合して用いることもできる。
【００６４】
本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーとしては、上記のようにして得られる共重合体が用いられるが、一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位を有するポリマーであることがより好ましい。
【００６５】
【化９】
2004118017.tif 000010
【００６６】
ここで、ｎは６〜４０の整数を表す。Ｙ、Ｙ’及びＹ”は１価の有機基を表す。Ｘは２価の連結基を表す。Ｚ’は２価の親水性基を表す。ｍは０．１≦ｍ＜１の実数を表す。耐キズ性改良効果、溶解性への影響等の観点からより好ましくは、０．２≦ｍ≦０．９であり、更に好ましくは０．２５≦ｍ≦０．８５である。
【００６７】
これらＹ、Ｙ’、Ｙ”　及びＸの具体例としては、一般式（Ｉ）のものと同義のものが挙げられる。Ｚ’の具体例としては、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーからなる構造単位にしたものと同義のものが挙げられる。
【００６８】
更に、本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーとしては、一般式（ＩＶ）であることがより好ましい。
【００６９】
【化１０】
2004118017.tif 000011
【００７０】
上記一般式（ＩＶ）において、点線のメチル基はあってもなくても良く、Ｘ及びＺ’としては、一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）のＸ、Ｚと同義のものが好ましく、ｍは、耐キズ性改良効果、溶解性への影響等の観点から０．２≦ｍ≦０．９が好ましく、０．２５≦ｍ≦０．８５がより好ましく、０．３０≦ｍ≦０．６０が最も好ましい。ｎは６〜４０整数であり、好ましくは１０〜３０の整数、より好ましくは１２〜２０の整数である。
【００７１】
上記（ＩＶ）の親水性基Ｚ’としては、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０００の（ポリ）アルキレンオキシド基、炭素数６〜２０００の（ポリ）アリーレンオキシド基、フェノール基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボン酸基、スルホン酸基を有する骨格が、アルカリ性現像液に対する溶解性を十分に確保する点から好ましく、フェノール基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボン酸基、スルホン酸基を有する骨格が感度の点からより好ましく、カルボン酸を有する骨格がもっとも好ましい。上記（ＩＶ）のＸとしては、−Ｃ（＝Ｏ）−が最も好ましい。
【００７２】
また、一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位を有するポリマーの共重合成分として、前述の（７）〜（８）に挙げた化合物を共重合体成分中５０モル％以下の組成比で用いることもできるが、３０モル％以下であることが効果の観点からより好ましい。
【００７３】
上記長鎖アルキル基含有ポリマー中の残留モノマー量は、本発明の画像記録要素を平版印刷版原版に適用した場合、該平版印刷版原版を積層する際に保護紙（合紙）、支持体裏面への転写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題から、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。
【００７４】
以下に本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーの具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００７５】
【化１１】
2004118017.tif 000012
【００７６】
【化１２】
2004118017.tif 000013
【００７７】
【化１３】
2004118017.tif 000014
【００７８】
【化１４】
2004118017.tif 000015
【００７９】
【化１５】
2004118017.tif 000016
【００８０】
【化１６】
2004118017.tif 000017
【００８１】
【化１７】
2004118017.tif 000018
【００８２】
また、一般式（ＩＩＩ）で表されるポリマーの具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８３】
【化１８】
2004118017.tif 000019
【００８４】
【化１９】
2004118017.tif 000020
【００８５】
【化２０】
2004118017.tif 000021
【００８６】
【化２１】
2004118017.tif 000022
【００８７】
【化２２】
2004118017.tif 000023
【００８８】
【化２３】
2004118017.tif 000024
【００８９】
本発明に用いる上記長鎖アルキル基含有ポリマーとしては、重量平均分子量が２，０００以上、数平均分子量が１，０００以上のものが好ましく用いられる。さらに好ましくは、ポリスチレン換算で重量平均分子量が５，０００　〜５，０００，０００で、特に好ましくは５，０００〜２，０００，０００、更に好ましくは１０，０００〜１，０００，０００である。このようなポリマーは、１種類を用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００９０】
上記長鎖アルキル基含有ポリマーの使用量は画像記録要素の全成分の質量に対して、通常０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜２０質量％、更に好ましくは１〜１０質量％の量が使用され、この範囲内において、良好な結果を得ることができる。使用量が３０質量％を超えると、ポジ型画像記録要素としての画像形成性や、感度が添加量の増大につれて徐々に悪化する傾向にある。一方、使用量が０．１質量％に満たない場合は、条件によっては本発明の効果である耐キズ性の改良効果が充分に得られないことがある。
【００９１】
（赤外線吸収剤）
本発明に用いられる赤外線吸収剤としては、赤外線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザへの適合性の観点から、波長７００ｎｍ〜１２００ｎｍに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましいものとして挙げられる。
【００９２】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、ナフタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、（チオ）ピリリウム塩、金属チオレート錯体、インドアニリン金属錯体系染料、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料、分子間ＣＴ色素等の染料が挙げられる。
【００９３】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００９４】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【００９５】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【００９６】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
【００９７】
さらに、下記一般式（ａ）〜（ｆ−２）で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式（ａ）で示されるシアニン色素は、本発明の感光性組成物で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【００９８】
【化２４】
2004118017.tif 000025
【００９９】
一般式（ａ）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。置換基としては、アルコキシ基、アリール基、アミド基、アルコキシカルボニル基、水酸基、スルホ基、カルボキシル基等が挙げられる。Ｙ１及びＹ２は各々独立に、酸素、硫黄、セレン、ジアルキルメチレン基又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。Ａｒ１及びＡｒ２は各々独立に芳香族炭化水素基を表し、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基より選択される置換基を有しても良く、Ｙ１又はＹ２と隣接した連続２炭素原子で芳香環を縮環しても良い。
【０１００】
Ｘは電荷の中和に必要なカウンターイオンを表し、色素カチオン部がアニオン性の置換基を有する場合は必ずしも必要ではない。Ｑはトリメチン基、ペンタメチン基、ヘプタメチン基、ノナメチン基又はウンデカメチン基より選択されるポリメチン基を表し、露光に用いる赤外線に対する波長適性と安定性の点からペンタメチン基、ヘプタメチン基又はノナメチン基が好ましく、いずれかの炭素上に連続した３つのメチン鎖を含むシクロヘキセン環又はシクロペンテン環を有することが安定性の点で好ましい。
【０１０１】
Ｑは、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、オキシ基、イミニウム塩基、下記一般式（Ｑ１）で表される置換基より選択される基で置換されていても良く、好ましい置換基としては塩素原子等のハロゲン原子、ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基、フェニルチオ基等のアリールチオ基が挙げられる。
【０１０２】
【化２５】
2004118017.tif 000026
【０１０３】
式中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を表し、Ｙ３は酸素原子又は硫黄原子を表す。
【０１０４】
一般式（ａ）で示されるシアニン色素のうち、波長８００〜８４０　ｎｍの赤外線で露光する場合は、特に好ましいものとしては下記一般式（ａ−１）〜（ａ−４）で示されるヘプタメチンシアニン色素を挙げることができる。
【０１０５】
【化２６】
2004118017.tif 000027
【０１０６】
一般式（ａ−１）中、Ｘ１は、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、Ｒ１及びＲ２は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、Ｒ１とＲ２とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。
【０１０７】
Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ１及びＹ２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ−は、電荷の中和に必要な対アニオンを示し、Ｒ１〜Ｒ８のいずれかがアニオン性置換基で置換されている場合は、Ｚａ−は必要ない。好ましいＺａ−は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンである。上記一般式（ａ−１）で示されるヘプタメチン色素は、ポジ型の画像記録要素に好適に用いることができ、特にフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と組み合わせたいわゆる相互作用解除型のポジ感材に好ましく用いられる。
【０１０８】
【化２７】
2004118017.tif 000028
【０１０９】
一般式（ａ−２）中、Ｒｌ及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示し、ＲｌとＲ２とは互いに結合し環構造を形成していても良く、形成する環としては５員環又は６員環が好ましく、５員環が特に好ましい。Ａｒｌ及びＡｒ２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、該芳香族炭化水素基上の好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられ、電子吸引性の置換基が特に好ましい。Ｙｌ及びＹ２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数６〜１０の芳香族炭化水素基、炭素原子数１〜８のアルキル基、水素原子又はＲ９とＲ１０とが互いに結合し下記構造の環を形成しても良い。
【０１１０】
【化２８】
2004118017.tif 000029
【０１１１】
Ｒ９及びＲ１０は上記のうち、フェニル基等の芳香族炭化水素基が最も好ましい。
また、Ｘ−は、電荷の中和に必要な対アニオンを表し、上記一般式（ａ−１）のＺａ−と同様の定義である。上記一般式（ａ−２）で示されるヘプタメチン色素は、オニウム塩等の酸及び／又はラジカル発生剤を併用した画像記録要素に好適に用いることができ、特にスルホニウム塩やヨードニウム塩等のラジカル発生剤を併用したネガ型感材に好ましく用いられる。
【０１１２】
【化２９】
2004118017.tif 000030
【０１１３】
式中、Ｒｌ〜Ｒ８、Ａｒｌ、Ａｒ２、Ｙｌ、Ｙ２及びＸ−は、それぞれ前記一般式（ａ−２）におけるのと同義である。Ａｒ３はフェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基、又は窒素、酸素及び硫黄原子のうち少なくとも１つを含有する単環又は多環の複素球基を示し、チアゾール系、ベンゾチアゾール系、ナフトチアゾール系、チアナフテノ−７′，６′，４，５−チアゾール系、オキサゾール系、ベンゾオキサゾール系、ナフトオキサゾール系、セレナゾール系、ベンゾセレナゾール系、ナフトセレナゾール系、チアゾリン系、２−キノリン系、４−キノリン系、１−イソキノリン系、３−イソキノリン系、ベンゾイミダゾール系、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン系、２−ピリジン系、４−ピリジン系、３，３−ジアルキルベンゾ［ｅ］インドール系、テトラゾール系、トリアゾール系、ピリミジン系、及びチアジアゾール系よりなる群から選択される複素環基が好ましく、特に好ましい複素環基としては下記構造のものが挙げられる。
【０１１４】
【化３０】
2004118017.tif 000031
【０１１５】
【化３１】
2004118017.tif 000032
【０１１６】
式中、Ｒｌ〜Ｒ８、Ａｒｌ、Ａｒ２、Ｙｌ及びＹ２は、それぞれ前記一般式（ａ−２）におけるのと同義である。Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子、アリル基、シクロへキシル基又は炭素原子数１〜８のアルキル基を示す。Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。
【０１１７】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開２００１−１３３９６９明細書の段落番号［００１７］〜［００１９］、特開２００２−４０６３８明細書の段落番号［００１２］〜［００３８］、特開２００２−２３３６０明細書の段落番号［００１２］〜［００２３］、に記載されたものを挙げることができる。
【０１１８】
【化３２】
2004118017.tif 000033
【０１１９】
【化３３】
2004118017.tif 000034
【０１２０】
【化３４】
2004118017.tif 000035
【０１２１】
【化３５】
2004118017.tif 000036
【０１２２】
【化３６】
2004118017.tif 000037
【０１２３】
【化３７】
2004118017.tif 000038
【０１２４】
【化３８】
2004118017.tif 000039
【０１２５】
一般式（ｂ）中、Ｌは共役炭素原子数７以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｚｂ＋は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン（Ｎｉ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋）などが挙げられる。Ｒ９〜Ｒ１４及びＲ１５〜Ｒ２０は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを２つ若しくは３つ組み合わせた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、前記一般式（ｂ）中、Ｌが共役炭素原子数７のメチン鎖を表すもの、及び、Ｒ９〜Ｒ１４及びＲ１５〜Ｒ２０がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。
【０１２６】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｂ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１２７】
【化３９】
2004118017.tif 000040
【０１２８】
【化４０】
2004118017.tif 000041
【０１２９】
一般式（ｃ）中、Ｙ３及びＹ４は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Ｍは、共役炭素数５以上のメチン鎖を表す。Ｒ２１〜Ｒ２４及びＲ２５〜Ｒ２８は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Ｚａ−は対アニオンを表し、前記一般式（ａ−１）におけるＺａ−と同義である。
【０１３０】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｃ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１３１】
【化４１】
2004118017.tif 000042
【０１３２】
【化４２】
2004118017.tif 000043
【０１３３】
一般式（ｄ）中、Ｒ２９〜Ｒ３２は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Ｒ３３及びＲ３４は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ２９とＲ３０、又はＲ３１とＲ３２はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またＲ２９及び／又はＲ３０はＲ３３と、またＲ３１及び／又はＲ３２はＲ３４と結合して環を形成しても良く、さらに、Ｒ３３　又はＲ３４が複数存在する場合に、Ｒ３３同士又はＲ３４同士は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ２及びＸ３は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Ｑは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚｃ−は対アニオンを示し、前記一般式（ａ−１）におけるＺａ−と同義である。
【０１３４】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１３５】
【化４３】
2004118017.tif 000044
【０１３６】
【化４４】
2004118017.tif 000045
【０１３７】
一般式（ｅ）中、Ｒ３５〜Ｒ５０はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよい、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Ｒ３６とＲ３７、Ｒ４０とＲ４１、Ｒ４４とＲ４５及びＲ４８とＲ４９は、連結して脂肪族環、芳香族環又は複素環を形成してもよく、その環は縮合環を有してもよい。Ｍは２つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、ＩＩＡ、ＩＩＩＢ、ＩＶＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、ニッケル、マグネシウム、鉄、亜鉛、スズ、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましく、バナジウム、ニッケル、亜鉛、スズが特に好ましい。これら金属原子は原子価を適切にするために酸素原子、ハロゲン原子等と結合していても良い。
【０１３８】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１３９】
【化４５】
2004118017.tif 000046
【０１４０】
【化４６】
2004118017.tif 000047
【０１４１】
一般式（ｆ−１）及び（ｆ−２）中、Ｒ５１〜Ｒ５８はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を示す。Ｘ−は、前記一般式（ａ−２）におけるＸ−と同義である。
【０１４２】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｆ−１）及び（ｆ−２）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１４３】
【化４７】
2004118017.tif 000048
【０１４４】
上記以外の赤外線吸収剤としては、特開２００１−２４２６１３号公報に記載の複数の発色団を有する染料、特開２００２−９７３８４号公報、米国特許第６，１２４，４２５号に記載の高分子化合物に共有結合で発色団が連結された色素、米国特許６，２４８，８９３号に記載のアニオン染料、特開２００１−３４７７６５号公報に記載の表面配向性基を有する染料等を好適に用いることができる。
【０１４５】
本発明において赤外線吸収剤として使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が挙げられる。
【０１４６】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０１４７】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１４８】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。この範囲内で、分散物の画像記録層塗布液中での良好な安定性及び画像記録層の良好な均一性が得られる。
【０１４９】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１５０】
これらの顔料又は染料は、記録層を構成する全固形分に対し０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜１０質量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０質量％、顔料の場合特に好ましくは０．１〜１０質量％の割合で添加することができる。この範囲内で、記録層の均一性や、記録層の耐久性に好ましくない影響を与えるおそれがなく、良好な感度が得られる。また、用いられる染料又は顔料は単一の化合物であっても、２種以上の化合物を混合したものでもよく、複数の波長の露光機へ対応するために、吸収波長の異なる染料又は顔料を併用することも好ましくおこなわれる。
【０１５１】
［平版印刷版原版］
本発明の画像記録要素が適用される平版印刷版原版としては、赤外線レーザ露光により画像形成可能なポジ型平版印刷版原版及びネガ型型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１５２】
（ポジ型平版印刷版原版）
本発明の画像記録要素を適用されるポジ型平版印刷版原版としては、（１）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂（以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する）と該アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ溶解性を抑制する物質（溶解阻止剤）とを含有し、加熱によって相互作用が解かれアルカリ可溶性が増大することを利用して画像形成を行うタイプのポジ型平版印刷版原版、及び（２）酸の作用で現像液（例えばアルカリ水溶液）可溶性に変換する化合物と熱によって酸を発生する酸発生剤とを含有し、加熱によって発生する酸の作用で現像液可溶性が増大することを利用して画像形成を行うタイプのポジ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１５３】
上記（１）のアルカリ可溶性樹脂と溶解阻止剤とを用いるポジ型平版印刷版原版としては、例えば、米国特許３，６２８，９５３号、米国特許４，７０８，９２５号、特開平７−２８５２７５号、ＷＯ９７／３９，８９４号、特開平１１−４４９５６号、特開平１１−２６８５１２号、特開２００１−３２４８０８号などに記載のポジ型平版印刷版原版が挙げられる。しかし、上記の原理によって画像形成されるポジ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１５４】
本発明の画像記録要素を適用した上記（１）のポジ型平版印刷版原版としては、具体的には、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、及び（ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する記録層を有するポジ型平版印刷版原版である。より好ましくは、該記録層が、更に（ｄ）溶解阻止剤及び（ｅ）その他必要に応じて加えられる公知の添加物類を含有するポジ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１５５】
上記アルカリ可溶性樹脂は、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂であり、高分子中の主鎖及び／又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体又はこれらの混合物を包含する。なかでも、下記（１）〜（６）に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び／又は側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
【０１５６】
（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ２　ＮＨ−Ｒ）
（３）活性イミド基
〔−ＳＯ２　ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ２　ＮＨＳＯ２　Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ２　Ｒ〕
（４）カルボン酸基（−ＣＯ２　Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ３　Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ３　Ｈ２　）
【０１５７】
上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、（１）フェノール基、（２）スルホンアミド基（３）活性イミド基、及び（４）カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、（１）フェノール基又は（２）スルホンアミド基、及び（４）カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
【０１５８】
上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、米国特許３，６２８，９５３号、米国特許４，７０８，９２５号、特開平７−２８５２７５号、ＷＯ９７／３９，８９４号、特開平１１−４４９５６号、特開平１１−２６８５１２号、特開２００１−３２４８０８号、特開平７−２８２４４号、特開平７−３６１８４号、特開昭５１−３４７１１号、特開平２−８６６号、等に記載のフェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共重合体、スルホニルイミド系ポリマー、カルボキシル基含有ポリマー、フェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、スルホンアミド基を有するアクリル系樹脂、ウレタン系の樹脂等が挙げられる。
【０１５９】
上記ポジ型平版印刷版原版の記録層に必要に応じて用いられる溶解阻止剤としては、特開平７−２８５２７５号、特開２００２−５５４４６号などに記載のオニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物などの熱分解性であり、分解しない状態では、画像部の現像液への溶解を抑制できる化合物が好ましい。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
【０１６０】
ポジ型平版印刷版原版のうち（２）の酸の作用で現像液可溶性に変換する化合物と酸発生剤とを含有するポジ型平版印刷版原版としては、特開平９−１７１２５４号、特開平１０−５５０６７号、特開平１０−８７７３３号、特開平１０−２６８５０７号などに記載のポジ型平版印刷版原版が挙げられる。しかし、上記の原理によって画像形成されるポジ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１６１】
本発明の画像記録要素を適用した上記（２）のポジ型平版印刷版原版としては、具体的には、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、（ｃ）活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（酸発生剤）、及び（ｄ）酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有する化合物（酸分解性化合物）を含有する記録層を有するポジ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１６２】
上記酸分解性化合物としては、特開昭４８−８９６０３号、同５１−１２０７１４号、同５３−１３３４２９号、同５５−１２９９５号、同５５−１２６２３６号、同５６−１７３４５号に記載のＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３７５４９号、同６０−１２１４４６号に記載のＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３６２５号、同６０−１０２４７号に記載されているその他の酸分解化合物を挙げることができ、更に特開昭６２−２２２２４６号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化合物、特開昭６２−２５１７４３号に記載されている炭酸エステル、特開昭６２−２０９４５１号に記載されているオルト炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６２−２８０８４２号に記載されているオルトケイ酸エステル、特開昭６３−０１０１５３号、特開平９−１７１２５４号、同１０−５５０６７号、同１０−１１１５６４号、同１０−８７７３３号、同１０−１５３８５３号、同１０−２２８１０２号、同１０−２６８５０７号、同２８２６４８号、同１０−２８２６７０号、ＥＰ−０８８４５４７Ａｌに記載されているアセタール、ケタール及びオルトカルボン酸エステル、特開昭６２−２４４０３８号に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物を用いることができる。
【０１６３】
中でも、Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。また、主鎖中に繰り返しアセタール又はケタール部分を有し、アルカリ現像液中でその溶解度が発生した酸により上昇する高分子化合物が好ましく用いられる。
【０１６４】
上記酸分解性化合物とともに用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、ＵＳ４，７０８，９２５号や特開平７−２０６２９号に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第３，８６７，１４７号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，６３２，７０３号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平１−１０２４５６号及び特開平１−１０２４５７号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、ＵＳ５，１３５，８３８号やＵＳ５，２００，５４４号に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更に、特開平２−１０００５４号、特開平２−１０００５５号及び特開平９−１９７６７１号に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平７−２７１０２９号に記載されている、ハロアルキル置換されたＳ−トリアジン類も好ましい。
【０１６５】
（ネガ型平版印刷版原版）
本発明の画像記録要素を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、熱によってラジカル重合反応を起こし、生成物が現像液に対して不溶性となることを利用した平版印刷版原版、及び、熱によって架橋反応（カチオン重合も含む）を起こし、生成物が現像液に対して不溶性となることを利用した平版印刷版原版が挙げられる。
【０１６６】
熱による重合反応を利用した平版印刷版原版としては、例えば、特開２００１−１８３８２５号、特開２００１−３３７４４７号、特開２００２−０２３３６０号、特開２００２−０４０６３８号、特開２００２−６２６４２号、特開２００２−６２６４８号、特開２００２−６９１０９号などに記載の赤外線レーザ露光による発熱で重合するタイプのネガ型平版印刷版原版が挙げられる。これらのネガ型平版印刷版原版においては、露光による発熱によって、ラジカル発生剤（重合開始剤）がラジカルを発生して重合性化合物を重合させ、生成物が現像液に不溶化することを用いている。しかし、本発明の画像記録要素を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、上記の原理によって画像形成されるネガ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１６７】
上記画像記録要素を適用したこのようなネガ型平版印刷版原版としては、例えば、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、（ｃ）ラジカル発生剤、（ｄ）ラジカル重合性化合物、及び（ｅ）その他必要に応じて加えられるバインダーポリマーや公知の添加物類を含有する記録層を有するネガ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１６８】
本発明に用いられるラジカル発生剤としては、光、熱或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できるラジカル発生剤としては、ラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物としては、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を挙げることができる。また、ラジカル発生剤は、単独又は２種以上を併用して用いることができる。
【０１６９】
このようなラジカル発生剤として、例えば、特開平８−２２０７５８号、特開平１０−２６０５３６号、特開２００１−３３７４４７号、特開２００２−０２３３６０号などに記載の有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。オニウム塩は、前記ポジ型平版印刷版原版において説明したものと同じものが用いられるが、かかる重合系においては、オニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合の開始剤として機能する。
【０１７０】
本発明に用いられるラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合反応を行う末端エチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物を好適なものとして挙げられる。このような化合物群は、当該産業分野において光重合性又は熱重合性組成物用のモノマー又は架橋剤として広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定しないで用いることができる。化学的形態としては、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体、オリゴマー、重合体又は共重合体、又はこれらの混合物である。
【０１７１】
ラジカル重合性化合物の具体例としては、特開平８−２２０７５８号、特開２００１−１８３８２５号、特開２００２−６２６４８号などに記載の重合性化合物と同じものが挙げられる。
【０１７２】
熱による架橋反応を利用した平版印刷版原版としては、例えば、米国特許５，３４０，６９９号、特開平７−２０６２９号、特開平７−２７１０２９号、特開平１０−１１１５６４号、特開平１１−８４６４９号、特開平１１−９５４１９号、特開平１１−１０２０７１号、特開平１１−１１９４２８号、特開平１１−２１６９６５号、特開平１１−２１８９０３号、特開平１１−２３１５０９号、特開平１１−２５４８５０号、ＷＯ９８／５１５４４号及びＷＯ９８／３１５４５号などに記載のネガ型平版印刷版原版が挙げられる。これらのネガ型平版印刷版原版においては、露光による発熱によって、酸発生剤が酸を発生しその酸が触媒となって架橋剤の架橋反応を起こし、生成物が現像液に不溶化する酸触媒架橋反応を用いている。酸触媒架橋反応を開始又は促進するために、露光の後で原版を加熱してから現像することも好適に行われる。しかし、本発明の画像記録要素を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、上記の原理によって画像形成されるネガ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１７３】
上記画像記録要素を適用したこのようなネガ型平版印刷版原版としては、例えば、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、（ｃ）活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（酸発生剤）、（ｄ）酸触媒によって反応する架橋剤、及び（ｅ）その他必要に応じて加えられるバインダーポリマーや公知の添加物類を含有する記録層を有するネガ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１７４】
上記架橋剤の具体例としては、特開平７−２０６２９号、特開平１１−１０２０７１号、特開平１１−２５４８５０号等に記載されている（ｉ）アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置換された芳香族化合物、（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基又はＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物、（ｉｉｉ）エポキシ化合物などの同じ化合物が挙げられる。
【０１７５】
架橋剤と共に用いられる酸発生剤としては、前記のポジ型平版印刷版原版に用いられる酸発生剤と同じ化合物を好適なものとして挙げることができる。
【０１７６】
（平版印刷版原版用支持体）
本発明に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、印刷版の支持体として公知の支持体が好適に使用できる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネート又は蒸着された紙又はプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【０１７７】
支持体は、必要に応じて表面処理される。感光性平版印刷版の支持体の表面は、親水化処理が施されることが好ましい。また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理、又は陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【０１７８】
また、米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記載されているように、砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理した後にアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。また、米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に施されるものである。
【０１７９】
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われている。
【０１８０】
砂目立て方法としては、機械的、化学的及び電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれらの組み合わせのような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面化を組み合わせた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｒａ）が０．３〜１．０μｍとなるような範囲で施されることが好ましい。
【０１８１】
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗及び化学的にエッチングされる。エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基又は酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミニウム又は合金の溶解速度が浸漬時間１分あたり０．３グラムから４０ｇ／ｍ２になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回る又は下回るものであっても差支えない。エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬する方法や、該アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ／ｍ２の範囲となるように処理されることが好ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。
【０１８２】
エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来から行なわれている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等又はそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流又は交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成させることができる。
【０１８３】
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化するので一般には決定され得ないが一般的には電解液の濃度が１〜８０質量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ２、電圧１〜１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度にて陽極酸化する方法及び米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
【０１８４】
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えばケイ酸ナトリウム水溶液又は特公昭３６−２２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム及び米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
【０１８５】
上記支持体には、記録層の現像残膜減少などの目的で、記録層を塗設する前に有機下塗層を設けることができる。かかる有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【０１８６】
また、有機下塗層にオニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は特開２０００−１０２９２号、特開２０００−１０８５３８等に詳述されている。
【０１８７】
その他ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることができる。より具体的にはｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などがあげられる。
【０１８８】
この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤又はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤又はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の濃度０．００５〜１０質量％溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。
【０１８９】
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。
【０１９０】
さらにこの溶液には、下記一般式（Ｖ）で示される化合物を添加することもできる。
一般式（Ｖ）　（ＨＯ）ｘ−Ｒ５−（ＣＯＯＨ）ｙ
但し、Ｒ５は置換基を有してもよい炭素数１４以下のアリーレン基を表し、ｘ，ｙは独立して１から３の整数を表す。
【０１９１】
上記一般式（Ｖ）で示される化合物の具体的な例として、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、１０−ヒドロキシ−９−アントラセンカルボン酸などが挙げられる。
【０１９２】
有機下塗層の乾燥後の被覆量は、１〜１００ｍｇ／ｍ２が適当であり、好ましくは２〜７０ｍｇ／ｍ２である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ２より少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、１００ｍｇ／ｍ２より大きくても同様である。
【０１９３】
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
【０１９４】
［製版及び印刷］
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
【０１９５】
露光された本発明の平版印刷版原版は、現像処理及びフィニッシャーや保護ガムなどによる後処理を施されて印刷版となる。上記酸触媒架橋反応を利用したネガ型平版印刷版原版の場合のように、必要に応じて現像処理の前に版を加熱することもできる。
【０１９６】
本発明の平版印刷版原版の現像処理及び後処理に用いられる処理剤としては、公知の処理剤の中から適宜選択して用いることができる。好適な現像液としては、ｐＨが９．０〜１４．０の範囲、好ましくは１２．０〜１３．５の範囲にある現像液である。現像液には、従来から知られているアルカリ水溶液が使用できる。上記のアルカリ水溶液のうち、特に好適な現像液として、塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、従来から良く知られている所謂「シリケート現像液」と呼ばれるｐＨ１２以上の水溶液、及び、特開平８−３０５０３９号に記載の、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖（緩衝作用を有する有機化合物）と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」が挙げられる。
【０１９７】
本発明の平版印刷版をバーニング処理する場合は、バーニング整面液を用い、バーニングプロセサなどを用いて行う従来から知られている方法で行うことが好ましい。
【０１９８】
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１９９】
【実施例】
以下本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定されるものではない。
【０２００】
（合成例１：長鎖アルキル基含有ポリマーＡの合成）
コンデンサー、攪拌機を取り付けた１０００ｍｌ三口フラスコに、１−メトキシ−２−プロパノール５４ｇを入れ、８０℃に加熱した。窒素気流下、ｎ−メタクリル酸ステアリル４２．３ｇ、メタクリル酸１０．８ｇ、重合開始剤Ｖ−６０１（和光純薬製）０．５７６ｇ及び１−メトキシ−２−プロパノール５４ｇからなる溶液を２時間半かけて滴下した。更に、８０℃で２時間反応させた。反応混液を室温に冷却して、１０００ｍｌの水に反応液を注ぎ込んだ。デカンテーション後、メタノールで洗浄し、得られた液状生成物を減圧乾燥することで長鎖アルキル基含有ポリマーＡ５０．５ｇを得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、４０，０００であった。
【０２０１】
（合成例２：長鎖アルキル基含有ポリマーＢの合成）
コンデンサー、攪拌機を取り付けた１０００ｍｌ三口フラスコに、１−メトキシー２−プロパノール　２９．０ｇを入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、ｎ−メタクリル酸ドデシル２５．４ｇ、メタクリル酸　１１．４８ｇ、重合開始剤Ｖ−６０１（和光純薬製）０．４６１ｇ及び１−メトキシ−２−プロパノール２９．０ｇからなる溶液を２時間半かけて滴下した。更に、８０℃で２時間反応させた。反応混液を室温に冷却して、１０００ｍｌの水中に反応液を注ぎ込んだ。デカンテーション後、メタノールで洗浄し、得られた液状生成物を減圧乾燥することで長鎖アルキル基含有ポリマーＢ３４．２ｇを得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、８０，０００であった。
【０２０２】
（合成例３〜９：長鎖アルキル基含有ポリマーＣ〜Ｉの合成）
合成例１又は合成例２と同様にして、下記表１に示した長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーを用い、本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーＣ〜Ｉを合成した。更にＧＰＣにより分子量を測定した。測定した結果を表１に示す。
【０２０３】
【表１】
2004118017.tif 000049
【０２０４】
（支持体（１）の作製例）
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質ＪＩＳＡ１０５０）をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに２０％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ２であった。次にこの板を７％硫酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ２で直流陽極酸化して３ｇ／ｍ２の陽極酸化皮膜を設けた後、水洗し、乾燥した。次いで、珪酸ナトリウム２．５質量％水溶液で３０℃１０秒間処理し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を８０℃で１５秒間乾燥し、乾燥後の被覆量１５ｍｇ／ｍ２の下塗り層を有する支持体（１）を得た。
【０２０５】
（下塗り液）
・下記化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
【０２０６】
【化４８】
2004118017.tif 000050
【０２０７】
（支持体（２）の作製例）
９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆｅ　０．３０％、Ｓｉ　０．１０％、Ｔｉ０．０２％、Ｃｕ　０．０１３％を含むＪＩＳ　Ａ　１０５０合金の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５００ｍｍの鋳塊を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように５５０℃で１０時間均質化処理を行った。次いで、４００℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で５００℃、６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さＲａを０．２μｍに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。次にこの板を下記のように表面処理して平版印刷版支持体を作製した。
【０２０８】
次に、上記で得た支持体について、先ずアルミニウム板表面の圧延油を除去するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。次いで、支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５℃に保ち、アルミニウムウェブを水溶液中に通搬しながら、間接給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ２、デューティー比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ２を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。
【０２０９】
更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用い、アルミニウムウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより１４Ａ／ｄｍ２の直流で電解処理を行うことで２．５ｇ／ｍ２の陽極酸化皮膜を作製した。その後、印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は３号珪酸ソーダ１．５％水溶液を７０℃に保ちアルミウェブの接触時間が１５秒となるよう通搬し、更に水洗した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ２であった。以上により完成した支持体（２）のＲａ（中心線表面粗さ）は０．２５μｍであった。
【０２１０】
実施例１
得られ支持体（１）に、以下の記録層塗布液１を乾燥塗布量が１．０ｇ／ｍ２になるよう塗布した後、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１４０℃で５０秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版１を得た。
【０２１１】
（記録層塗布液１）
・長鎖アルキル基含有ポリマーＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０２ｇ
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐモル比＝６／４、重量平均分子量３５００、未反応クレゾール０．５質量％含有）　　　　　０．４７４ｇ
・特定の共重合体１（下記）　　　　　　　　　　　　　　　２．３７ｇ
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−１）　　　　　　　　０．１５５ｇ
・２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）ベンゼン
ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート　　　　　　　０．０３ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸　　　　　　　　　　　　　　　０．１９ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ
−β−ナフタレンスルホン酸イオンに換えたもの　　　　　０．０５ｇ
・フッ素系界面活性剤（大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ１７６ＰＦ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０３５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００８ｇ
・ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０６３ｇ
・γ−ブチロラクトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１３ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２４ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１ｇ
【０２１２】
特定の共重合体１：Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／メタクリル酸エチル／アクリロニトリル（モル％３２／４３／２５）、重量平均分子量５３，０００。合成法：特開平１１−２８８０９３号に記載。
【０２１３】
実施例２
支持体（１）に、以下の記録層塗布液２を乾燥塗布量が１．６ｇ／ｍ２になるよう塗布したのち、実施例１と同様の条件で乾燥し記録層を形成し、平版印刷版原版２を得た。
【０２１４】
（記録層塗布液２）
・長鎖アルキル基含有ポリマーＡ　　　　　　　　　　　　　０．０９ｇ
・ノボラック樹脂（（Ｂ）樹脂）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．９０ｇ
（ｍ／ｐ−クレゾール（６／４）、重量平均分子量７０００、未反応クレゾール０．５質量％）
・メタクリル酸エチル／メタクリル酸イソブチル／メタクリル酸（３５／３５／３０モル％）共重合体　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１０ｇ
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−１）　　　　　　　　０．１ｇ
・無水フタル酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００２ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ
−β−ナフタレンスルホン酸イオンに換えたもの　　　　　　　０．０２ｇ
・フッ素系ポリマー（ディフェンサＦ−１７６（固形分２０％）
大日本インキ化学工業（株）製）　　　　　　　　　　　　　０．０１５ｇ
・フッ素系ポリマー（ディフェンサＭＣＦ−３１２（固形分３０％）
大日本インキ化学工業（株）製）　　　　　　　　　　　　　０．０３５ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２ｇ
【０２１５】
実施例３〜９
実施例１の記録層塗布液１において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡの代わりに、以下の表１に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーの組み合わせを用いた以外は実施例１と同様にして平版印刷版原版３〜９を得た。
【０２１６】
【表２】
2004118017.tif 000051
【０２１７】
比較例１
実施例１の記録層塗布液１において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版１０を得た。
【０２１８】
比較例２
実施例１の記録層塗布液１において、長鎖アルキル基含有ポリマーの代わりに、ステアリン酸ｎ−ドデシル０．０２ｇを用いた以外は実施例１と同様にして平版印刷版原版１１を得た。
【０２１９】
比較例３
実施例２の記録層塗布液２において、長鎖アルキル基含有ポリマーを添加しなかった以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版原版１２を得た。
【０２２０】
実施例１０
実施例１と同じ支持体に以下の記録層塗布液３を塗布量が２．０ｇ／ｍ２になるよう塗布したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１３０℃で５０秒間乾燥し、その後、記録層塗布液４を塗布量が０．４０ｇ／ｍ２になるよう塗布したのち、１４０℃で１分間乾燥し、平版印刷版原版１３を得た。
【０２２１】
（記録層塗布液３）
2004118017.tif 000052
【０２２２】
（記録層塗布液４）
2004118017.tif 000053
【０２２３】
実施例１１
実施例１０で用いたのと同じ支持体に、実施例１０の記録層塗布液３と同様の条件で記録層塗布液５を塗布、乾燥し、更にその上に実施例１０の記録層塗布液４と同様の条件で記録層塗布液６を塗布、乾燥し、２層構成の記録層を有する平版印刷版原版１４を得た。
【０２２４】
（記録層塗布液５）
2004118017.tif 000054
【０２２５】
（記録層塗布液６）
2004118017.tif 000055
【０２２６】
実施例１２〜１９
実施例１０の記録層塗布液４において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡの代わりに下記表３に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーを用いた以外は実施例１０と同様にして平版印刷版原版１５〜２２を得た。
【０２２７】
【表３】
2004118017.tif 000056
【０２２８】
実施例２０〜２７
実施例１１の記録層塗布液６において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡの代わりに下記表４に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーを用いた以外は実施例１２と同様にして平版印刷版原版２３〜３０を得た。
【０２２９】
【表４】
2004118017.tif 000057
【０２３０】
比較例４
実施例１０の記録層塗布液４において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡを添加しなかった以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版原版３１を得た。
【０２３１】
［実施例１〜２７及び比較例１〜４で作製した平版印刷版原版の評価］
前記のようにして合成した長鎖アルキル基含有ポリマーＡ〜Ｉ及びそれを用いて作製した平版印刷版原版に関して、摩擦係数低下率、耐キズ性、現像ラチチュード及び転写性を下記の方法によって評価した。
【０２３２】
＜摩擦係数低下率の評価＞
ベースポリマーとしては、ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量４５００）を用い、実施例１で用いたのと同様の支持体に下記の塗布液を乾燥塗布量が１．６ｇ／ｍ２になるよう塗布したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１２０℃で６０秒間乾燥し、長鎖アルキル基含有ポリマーＡ〜Ｉ添加系の摩擦係数測定用サンプルを作製した。ベースポリマーの摩擦係数測定用サンプルは、下記の塗布液のｍ，ｐ−クレゾールノボラックの量を１．２００ｇとし、長鎖アルキル基含有ポリマー無添加の処方で同様に作製した。
【０２３３】
（摩擦係数測定サンプル用塗布液）
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量
４５００、未反応クレゾール０．８質量％含有）　　　　　　　　１．０８０ｇ
・長鎖アルキル基含有ポリマー　　　　　　　　　　　　　　　０．１２０ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．９５４ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　３．０３３ｇ
【０２３４】
得られたサンプルをポリマー塗膜面がステンレススチールと接触するように置き、ＡＳＴＭ　Ｄ１８９４に従ってステレンススチールに対する動摩擦係数を測定し、長鎖アルキル基含有ポリマー添加サンプルの摩擦係数をベースポリマーのみのサンプルの摩擦係数で割った値を摩擦係数低下率として求めた。評価結果は表６に示した。
【０２３５】
＜耐キズ性評価＞
得られた実施例及び比較例の平版印刷版原版１〜３１をロータリー・アブレーション・テスター（ＴＯＹＯＳＥＩＫＩ社製）を用い、２５０ｇの加重下、アブレーザーフェルトＣＳ５で１５回摩擦した。その後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−１（１：８で希釈したもの）及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＰ２Ｗ（１：１で希釈したもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９００Ｈを用い、液温３０℃、現像時間１２秒にて現像した。この時の現像液の電導度は、４５ｍＳ／ｃｍであった。耐キズ性の評価は、現像後、アブレーザーフェルトで摩擦した部分及び摩擦しなかった部分の光学濃度の目視観察及びＧＲＥＴＡＧ反射濃度計Ｄ１９６（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）による測定によって、下記基準に従って行った。評価結果は表６に示した。
【０２３６】
（耐キズ性の評価基準）
Ａ：摩擦した部分の感光膜の光学濃度が全く変化しなかったもの
Ｂ：摩擦した部分の感光膜の光学濃度が目視で僅かに観測されたもの
Ｃ：摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部の２／３以下になったもの
【０２３７】
＜現像ラチチュードの評価＞
作製した実施例及び比較例の平版印刷版原版１〜３１に、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて赤外線レーザービーム強度９Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍの条件でテストパターンを画像状に描き込んだ。その後、富士写真フイルム（株）製ノンシリケート現像液ＤＴ−１を水道水で希釈し、種々の電導度を有する現像液を調製した。この液を用いて富士写真フイルム製ＰＳプロセッサー９００Ｈに仕込み、液温３０度、現像時間１２秒にて現像した。なお、フィニッシャー液としてＦＰ−２Ｗ（１：１で水道水希釈したもの）を使用した。
【０２３８】
上記の現像条件において、平版印刷版原版の記録層の非露光部（画像部）の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を（Ｘ）ｍＳ／ｃｍとする。また、同現像条件において、平版印刷版原版の記録層の露光部（非画像部）の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を（Ｙ）ｍＳ／ｃｍとする。本実施例においては、現像ラチチュードを（Ｘ）−（Ｙ）と定義した。現像ラチチュードの値が大きいほど、露光部（非画像部）における残膜の発生がしにくく、かつ、未露光部（画像部）の濃度低下も起きにくいことから、現像液の活性に対するラチチュードが広いといえる。評価結果は表６に示した。
【０２３９】
＜転写性の評価＞
転写性の評価方法は、実施例及び比較例の平版印刷版原版１〜３１の上にクロロプレンゴム（９０ｍｍ×９０ｍｍ）を置き、６ｋｇの加重をかけ、１００℃１０分加熱後、剥がしたクロロプレンゴムの表面を目視評価する方法で行った。評価尺度としては、下記の判定基準が用いた。評価結果は表６に示した。
○：色変化なし
×：色変化あり
【０２４０】
【表５】
2004118017.tif 000058
【０２４１】
【表６】
2004118017.tif 000059
【０２４２】
表５と６から、本発明の画像記録要素を記録層に用いた実施例１〜２７の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例１、３及び４の平版印刷版原版と比較して、耐キズ性が優れており、現像ラチチュードの点でも概ね良好であることが分かる。また、摩擦係数低下率が良好で耐キズ性良好なステアリン酸ｎ−ドデシル含有の平版印刷版原版３１（比較例４）が転写性の点で問題がるのに対して、本発明の平版印刷版原版は、転写性の点でも優れていることが分かる。従って、本発明の平版印刷版原版は、耐キズ性、現像ラチチュード、転写性ともに良好な平版印刷版原版であることが分かる。
【０２４３】
実施例２８〜３０、比較例５〜７
作製例で得た支持体（２）上に、下記記録層塗布液７を調製し、ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ２の範囲内であった。
【０２４４】
（記録層塗布液７）
・アルカリ可溶性高分子（表７に記載の化合物、表７に記載の量）
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−５）　　　　　　　　　　０．１０ｇ
・ラジカル発生剤（下記Ｓ−１）　　　　　　　　　　　　　　　０．４５ｇ
・ラジカル重合性化合物（表７に記載の化合物、表７に記載の量）
・長鎖アルキル基含有ポリマー（表７に記載）　　　　　　　　　０．０２３ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０ｌｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・ｐ−メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００１ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０２４５】
【表７】
2004118017.tif 000060
【０２４６】
なお、上記実施例及び比較例に使用したアルカリ可溶性高分子の構造を下記に示す。
【０２４７】
【化４９】
2004118017.tif 000061
【０２４８】
同様に、実施例及び比較例に使用したラジカル発生剤の構造を以下に示す。
【０２４９】
【化５０】
2004118017.tif 000062
【０２５０】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用したラジカル重合性化合物の構造を以下に示す。
【０２５１】
【化５１】
2004118017.tif 000063
【０２５２】
得られた前期各平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力６．５Ｗ、外面ドラム回転数８１ｒｐｍ、版面エネルギー１８８ｍＪ／ｃｍ２、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０２５３】
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処理した。現像液は、下記（Ｄ−１）を仕込み液、下記（Ｄ−２）を補充液に用いた。現像欲浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自動現像機現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０２５４】
（現像液（Ｄ−１））
・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３ｇ
・炭酸水素カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ｇ
・亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル　　　　　　１５０ｇ
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩　　　　　　　　５０ｇ
・エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩　　　　　　　　　　　８ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８５ｇ
【０２５５】
（現像液（Ｄ−２））
・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６ｇ
・炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ｇ
・亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル　　　　　　１５０ｇ
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩　　　　　　　　５０ｇ
・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩　　　　　　　　　　４ｇ
・シリコンＴＳＡ−７３１　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１ｇ
（東芝シリコーン社（株）製）
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８６．９ｇ
【０２５６】
＜耐刷性の評価＞
次に、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前記表７に併記する。
【０２５７】
＜耐キズ性の評価＞
上記記録層を塗布した平版印刷版原版の耐キズ性についての評価を行った。機器としては、ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ　ＴＥＳＴＥＲ　ＨＥＩＤＯＮ−１４を用い、引っ掻き針として０．４ｍｍＲダイヤ針を用い、針上の荷重を変化させながら、４００ｍｍ／ｍｉｎの速さで記録層表面を引っ掻いた。引っ掻いた後の原版を上述の現像処理を行い、残膜が目視で観測された荷重の大きさを評価した。荷重が大きいほど、キズ残膜が生じにくく、耐キズ性に優れることになる。結果を前記表７に併記する。
【０２５８】
以上、表７に明らかなように、本発明の画像記録要素を記録層として用いた実施例２８〜３０の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例５〜７に比べ、優れた耐キズ性を達成していることがわかる。また、いずれの試料にも、露光時のアブレーションは見られなかった。
【０２５９】
実施例３１〜３２、比較例８〜９
実施例２８〜３０及び比較例５〜７で用いたのと同様のアルミニウム支持体（２）上に、下記に示す下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃雰囲気下で３０秒間乾燥した。乾燥塗布量は、１０ｍｇ／ｍ２であった。
【０２６０】
（下塗り層用塗布液）
・２−アミノエチルホスホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０ｇ
【０２６１】
その後、下記に示す記録層塗布液８を前記下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、１．２〜１．３ｇ／ｍ２の範囲内であった。
【０２６２】
（記録層塗布液８）
・アルカリ可溶性高分子（表８に記載の化合物、表８に記載の量）
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−８）　　　　　　　　　　０．０８ｇ
・ラジカル発生剤（前記Ｓ−２）　　　　　　　　　　　　　　　０．３０ｇ
・ラジカル重合性化合物（表８に記載の化合物、表８に記載の量）
・長鎖アルキル基含有ポリマー（表８に記載）　　　　　　　　　０．０２３ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸　　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム　０．００１ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０２６３】
【表８】
2004118017.tif 000064
【０２６４】
得られた平版印刷版原版を、それぞれ６０℃で３日間保存、及び、４５℃、湿度７５％ＲＨで３日間保存して強制経時させた。その後、強制経時したものと強制経時しないものとを、実施例２８〜３０及び比較例５〜７と同じ条件で露光し、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現像浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自動現像機現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０２６５】
得られた平版印刷版を、前記実施例２８〜３０及び前記比較例５〜７と同様の印刷を行い、耐刷性及び汚れ性を評価した。結果を前記表８に併記した。
【０２６６】
表８から、本発明の画像記録要素を記録層として用いた実施例３１〜３２の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例８〜９に比べ、高温、高湿環境下で保存した後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安定性に優れていることが分かる。
【０２６７】
実施例３３〜３４、比較例１０〜１１
実施例２８〜３０及び比較例５〜７で用いたのと同様のアルミニウム支持体（２）上に、下記記録層塗布液９を調製し、上記アルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ２の範囲内であった。
【０２６８】
（記録層塗布液９）
・アルカリ可溶性高分子（表９に記載の化合物、表９に記載の量）
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−９）　　　　　　　　　０．１０ｇ
・ラジカル発生剤（前記Ｓ−１）　　　　　　　　　　　　　　０．５０ｇ
・長鎖アルキル基含有ポリマー（表９に記載）　　　　　　　　０．０２３ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０２６９】
【表９】
2004118017.tif 000065
【０２７０】
得られた平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ２、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０２７１】
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム（株）製ＤＮ−３Ｃの１：１水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０２７２】
〔耐刷性及び耐キズ性の評価〕
次に、ハイデルベルク社ＳＯＲ−ＫＺ印刷機を用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを計測し、耐刷性を評価した。また、実施例２８〜３０及び比較例５〜７と同様に耐キズ性について評価を行った。
【０２７３】
表９から、本発明の画像記録要素を記録層として用いた実施例３３〜３４の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例１０〜１１に比べ、優れた耐キズ性を達成し、優れた耐刷性も維持していることが分かる。
【０２７４】
更に、実施例２８の平版印刷版原版を３０枚積層し、版材供給装置に装填し、全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカーへ排出した。装置の運転中、平版印刷版原版同士の接着や、それに起因する搬送不良などが見られなかったことから、良好な滑り性を有し、支持体裏面に対する滑り剤の転写性も抑制されていることが分かった。また、実施例２９〜３４の平版印刷版原版においても同様の結果が得られた。
【０２７５】
以上の実施例で明らかなように、本発明の画像記録要素を記録層として用いた平版印刷版原版（本発明の平版印刷版原版）は、耐キズ性、耐刷性及び滑り性に優れ、更に、滑り性素材（摩擦係数低下素材）の転写性が抑制されているという優れた効果を示した。
【０２７６】
【発明の効果】
本発明によれば、良好な耐キズ性及び広い現像ラチチュードを有し、かつ、製造、搬送時のローラー及び保護紙（合紙）や支持体裏面への転写問題を起こさない画像記録要素、及び該画像記録要素を記録層に用いることによって、同様の特性を有するダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版を提供することができる。