(57)【要約】 【課題】    半透過モードの液晶表示装置において均一な光の経路を有する色フィルター表示板及びこれを含む半透過モードの液晶表示装置を提供する。【解決手段】   下部基板には互いに交差し行列配列の単位画素領域を定義するゲート線及びデータ線が形成されており、それぞれの画素領域には配線と連結されている薄膜トランジスタと薄膜トランジスタと電気的に連結され透明な導電膜からなる透明電極と反射率を有する導電膜から構成され透過領域に透過窓を有する反射電極からなる画素電極が形成されている。下部基板と対向する上部基板には、画素領域に開口部を有するブラックマトリックスが形成されており、それぞれの画素領域には赤、緑、青の色フィルターが各々形成され、その上部には保護膜が形成されている。この時、保護膜はそれぞれの画素領域に厚さが異なる二つの部分から構成され、透過領域に対応する第１の部分は他の第２の部分より薄い厚さを有する。【選択図】      図２
2004310048.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成されている色フィルターと、
前記色フィルターを覆い位置によって異なる厚さを有する保護膜を含む液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項２】
内装光源を主に利用して画像を表示する前記第１表示領域と、液晶表示装置が主に外部光を利用して画像を表示する第２表示領域を含む請求項１に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項３】
前記第１表示領域の保護膜が前記第２表示領域の保護膜より薄い請求項２に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項４】
前記保護膜は前記第１表示領域を除く位置に設けられる請求項３に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項５】
前記第１表示領域の色フィルターが前記第２表示領域の色フィルターより厚い請求項２に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項６】
前記色フィルターは第１の部分と第２の部分を含み、前記第１の部分は前記第２の部分より厚い請求項１に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項７】
前記色フィルターの周縁付近に位置したブラックマトリックスをさらに含む請求項６に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項８】
前記色フィルターは前記第１の部分より厚く、前記色フィルターの周縁付近に位置した第３部分をさらに含む請求項７に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項９】
前記色フィルターの第３部分は前記ブラックマトリックスと少なくとも一部重なっている請求項８に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項１０】
前記基板上に設けられた共通電極をさらに含む請求項１に記載の液晶表示装置用色フィルター表示板。
【請求項１１】
位置によって異なる厚さを有する保護膜を備える第１表示板と、
透明電極及び前記透明電極上に開口部を有する反射電極を有する電界生成電極を含み前記色フィルター表示板と対向する第２表示板を含む半透過型液晶表示装置。
【請求項１２】
前記保護膜は第１の部分と前記第１の部分より厚い第２の部分を含み、前記第１の部分は前記開口部と対向する請求項１１に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１の部分の前記保護膜は厚さを有しない請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記透明電極が前記反射電極下に位置する請求項１１に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１５】
前記反射電極は屈曲形態を有する請求項１１に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第２表示板はゲート線及びデータ線と前記ゲート線、前記データ線及び前記透明電極に連結されている薄膜トランジスタをさらに含む請求項１１に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１７】
前記第１表示板は位置によって異なる厚さを有する色フィルターをさらに含む請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記色フィルターの周縁付近に位置したブラックマトリックスをさらに含む請求項１７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は色フィルター表示板及びこれを含む液晶表示装置に関し、さらに詳しくは、色フィルター表示板及びこれを含む半透過型（ｔｒａｎｓｆｌｅｃｔｉｖｅ）液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、現在最も広く使われている平板表示装置の一つで、電極を備える二枚の基板とその間に挿入されている液晶層から構成され、電極に印加される電圧を調節して液晶層の液晶分子を再配列することによって液晶層を通過する光の透過率（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）を調節する表示装置である。ここで、光の透過率は液晶層を通過する時の液晶物質の光学的特性によって発生する位相遅延（ｐｈａｓｅ  ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）によって決定され、このような位相遅延は液晶物質の屈折率異方性と二つの基板の間の間隔により決定する。液晶表示装置の中でも現在主流となっているものは、二つの基板に電極を各々備え、電極に印加される電圧をスイッチングする薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有している液晶表示装置であり、薄膜トランジスタは二つの基板のうち一つに形成されていることが一般的である。
【０００３】
このような液晶表示装置は、特定光源であるバックライトによって発光した光を液晶層に透過させて画像を表示する透過型と、自然光などの外部光を液晶表示装置の反射電極に液晶層で反射させて画像を表示する反射型に分けられる。最近は、反射モードと透過モードの両モードにおいて動作する半透過モードのものが開発されている。
【０００４】
一方、一般的な液晶表示装置はカラー画像を表示するために赤、緑、青の色フィルターを備えている。カラー画像は赤、緑、青の色フィルターをそれぞれ通過する光の透過率を調節することによって得られる。しかし、半透過型液晶表示装置ではそれぞれのモードで液晶層を通過する光に対する位相遅延（ｐｈａｓｅ  ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）が異なるために表示特性が低下する問題がある。つまり、透過モードでは光が液晶層を１度だけ通過して使用者の目に到達するが、反射モードでは光が液晶層を２度通過する。従って、二つのモードにおける光の経路が互いに異なる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の技術的課題は、半透過モードの液晶表示装置において均一な光の経路を有する色フィルター表示板及びこれを含む半透過モードの液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明による色フィルター表示板では、色フィルターを覆う保護膜の厚さを位置によって異なるようにする。本発明の一つの実施例による液晶表示装置用色フィルター表示板は、基板、そして前記基板上に形成されている色フィルター、色フィルターを覆い位置によって異なる厚さを有する保護膜を含む。
【０００７】
主に内装光源を利用して画像を表示する第１表示領域と、液晶表示装置は主に外部光を利用して画像を表示する第２表示領域を含み、第１表示領域の保護膜は第２表示領域より薄いのが好ましく、保護膜は第１表示領域を除いた位置に形成することができる。色フィルターは、第２表示領域より第１表示領域の方が厚いことが好ましい。
【０００８】
また、色フィルターは第１の部分及び第２の部分を含み、第１の部分は第２の部分より厚いことが好ましく、色フィルター表示板は色フィルターの周縁付近に位置したブラックマトリックスをさらに含んでおり、色フィルターは第１の部分より厚く、色フィルターの周縁付近に位置した第３部分をさらに含むことが好ましい。この時、色フィルターの第３部分はブラックマトリックスと少なくとも一部重なっている。このような色フィルター表示板は、基板上に設けられる共通電極をさらに含むことが好ましい。
【０００９】
さらに、本発明による液晶表示装置は、位置によって異なる厚さを有する保護膜を有する第１表示板と、そして透明電極と透明電極上に開口部を有する反射電極を含む電界生成電極を含み色フィルター表示板と対向する第２表示板を含む。この時、保護膜は第１の部分及び第１の部分より厚い第２の部分を含み、第１の部分は開口部と対向するのが好ましく、第１の部分の保護膜は省略することもできる。透明電極は反射電極下に位置し、反射電極は屈曲した形態であることが好ましい。
【００１０】
第２表示板はゲート線及びデータ線、そしてゲート線、データ線及び透明電極に連結されている薄膜トランジスタをさらに含むのが好ましい。第１表示板は位置によって異なる厚さを有する色フィルターをさらに含むことが好ましく、色フィルターの周縁付近に位置したブラックマトリックスをさらに含む構成とすることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、透過領域の保護膜の厚さを反射領域の保護膜の厚さより薄く形成することによって、それぞれの領域で画像を表示する光に対して生じる位相遅延の程度を均一にすることができる。特に、透過領域と反射領域の輝度改善のために多重セル間隔を有する電気的制御複屈折モードの液晶表示装置において、カラーフィルター基板の透明有機膜を利用して透過領域と反射領域の有機膜段差を確保する。これは液晶のΔｎｄ=λ/２に最適するように透過領域と反射領域の有機膜段差の差別化を図って液晶層に対する透過領域と反射領域の光効率を改善することができる。これによって、二つの領域における光の透過率を均一にでき、液晶表示装置の表示特性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
添付した図面を参照して本発明の実施例について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な形態で実現することができ、ここで説明する実施例に限定されるものではない。 図面は、いろんな層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示している。明細書全体を通じて類似した部分については同一な図面符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上に”あるとする時、これは他の部分の“すぐ上に”ある場合に限らず、その中間に更に他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の“すぐ上に”あるとする時は、中間に他の部分がないことを意味する。
【００１３】
以下、本発明の実施例による色フィルター表示板及びこれを含む液晶表示装置について図面を参照して詳細に説明する。まず、図１及び図２を参照して本発明の実施例による液晶表示装置の構造について詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本発明の実施例による半透過型液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の配置図で、図２は図１に示した薄膜トランジスタ表示板と本発明の第１実施例による色フィルター表示板を含む液晶表示装置のII-II'線による断面図である。
【００１５】
図１及び図２のように、本発明の実施例による液晶表示装置は互いに対向する二つの表示板１００、２００と、両表示板１００、２００の間隔を均一に支持する基板間隔材３１０、及び両表示板１００、２００の間に注入されている液晶層３００を含む。基板間隔材３１０は有機絶縁物質から構成され、写真エッチング工程によって形成される。
【００１６】
下部表示板１００には、互いに交差して行列配列の単位画素領域Ｐを定義するゲート線１２１及びデータ線１７１が形成されている。それぞれの画素領域Ｐにはゲート線１２１及びデータ線１７１と連結されている薄膜トランジスタＴＦＴと、薄膜トランジスタＴＦＴと電気的に連結されている画素電極が設けられている。画素電極は、透明な導電膜からなる透明電極９０１と、反射率を有する導電膜からなり、透過窓１９６を有する反射電極９０２を含む。以下、透過窓１９６が占める領域を“透過領域”Ｔと称し、画素領域Ｐのうちその他の領域を“反射領域”Ｒと称する。また、透過領域Ｔと反射領域Ｒに対応する下部表示板１００の領域にも同一な名称と同一な図面符号を付ける。
【００１７】
下部表示板１００と対向する本発明の第１実施例による上部表示板２００には、画素領域Ｐに対応する開口部を有するブラックマトリックス２２０が形成され、それぞれの画素領域Ｐには赤、緑、青の色フィルター２３１が各々形成されている。色フィルター２３１は有機絶縁物質からなる上部保護膜２４０で覆われ、上部保護膜２４０の上部には共通電極２５０が形成されている。この時、赤、緑、青の色フィルター２３１それぞれは表示領域Ｒ、Ｔによって厚さが異なる二つの部分２３２、２３４から構成され、透過領域Ｔに対応する部分２３４は他の部分２３２より厚い。また、上部保護膜２４０は表示領域Ｒ、Ｔによって厚さが異なるが、透過領域Ｔに対応する有機絶縁物質が除去されている。ここで、反射領域Ｒは反射電極９０２で反射された光を利用して画像を表示する時に主に使用され、透過領域Ｔはバックライト、つまり自体光源からの光を利用して画像を表示する時に主に使用される。
【００１８】
このような本発明の実施例による液晶表示装置において、透過領域Ｔではバックライトから発光した光が下部表示板１００を通過した後、液晶層３００を１度通過して画像で表示されるが、反射領域Ｒで画像を表示する光は外部から反射電極に到達する時に液晶層３００を経て反射電極９０２によって反射された後、再び液晶層３００をもう一度経ることになるが、このような点を考慮して反射領域Ｒの上部保護膜２４０の厚さを透過領域Ｔの上部保護膜２４０の厚さより厚く形成する。こうすれば、画像を表示する光がそれぞれの表示モード領域Ｔ、Ｒで液晶層３００を経る経路を均一にすることができ、これによって二つの表示モード領域Ｔ、Ｒにおける光に対する位相遅延を均一することができるため液晶表示装置の表示特性を向上できる。特に、様々なセルギャップを有する電気的制御複屈折モード（ＥＣＢ）の液晶表示装置において、Δｎｄ=λ/２の条件を満足するように透過領域Ｔと反射領域Ｒで液晶層３００を通過する光の経路ｄを調節することによって画像で表示される光の経路を均一にすることができる。
【００１９】
また、このような本発明の実施例による液晶表示装置で、透過領域Ｔではバックライトから発光した光が液晶層を通過した後、色フィルター２３４を１度通過して画像で表示されるが、反射領域Ｒで画像を表示する光は外部から反射電極に到達する時に色フィルター２３２を経て反射電極９０２によって反射される時に再び色フィルター２３２をもう一度経るようになる。このような点を考慮して、反射領域Ｒの色フィルター２３２厚さを透過領域Ｔの色フィルター２３４厚さより薄く形成する。このようにすれば、画像を表示する光がそれぞれの表示モード領域Ｔ、Ｒで色フィルター２３１を経る程度が均一になり、これによって二つの表示モード領域Ｔ、Ｒで色再現性を均一することができるため液晶表示装置の表示特性を向上できる。
【００２０】
次に、本発明の実施例による液晶表示装置における下部表示板の構造についてさらに具体的に説明する。
【００２１】
下部表示板１００は絶縁基板１１０を含む。絶縁基板１１０上には主に横方向に延びている複数のゲート線１２１が形成されている。ゲート線１２１は、低比抵抗の物質、例えば銀や銀合金などの銀系金属、アルミニウムやアルミニウム合金などのアルミニウム系列金属などからなる単一膜構造であることができる。また、ゲート線１２１は前述した物質を含む少なくとも一つの膜と他の物質と接触特性の良いパッド用の少なくとも一つの膜を含む多層膜構造であることができる。ゲート線１２１の一端部に位置した部分１２５は外部からのゲート信号をゲート線に伝達し、各ゲート線１２１の複数の枝１２３は薄膜トランジスタのゲート電極１２３を構成する。窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などからなるゲート絶縁膜１４０がゲート線１２１を覆っている。
【００２２】
ゲート電極１２５のゲート絶縁膜１４０上部には水素化非晶質シリコンなどからなる島形半導体１５０が形成され、半導体１５０の上部にはシリサイドまたはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ+水素化非晶質シリコンなどで作られた抵抗性接触体１６３、１６５が対となって形成されている。抵抗性接触体１６３、１６５の各対は当該ゲート線１２１を中心に互いに分離されている。
【００２３】
抵抗性接触体１６３、１６５及びゲート絶縁膜１４０上には複数のデータ線１７１及び複数のドレーン電極１７５が形成されている。データ線１７１とドレーン電極１７５は、アルミニウムや銀のような低抵抗の導電物質からなる導電膜を含む。データ線１７１は主に縦方向に延びてゲート線１２１と交差する。データ線１７１の複数の枝１７３は、抵抗性接触体１６３、１６５各対のいずれか一つ１６３の上部まで延びて薄膜トランジスタのソース電極１７３を構成する。データ線１７１の一端付近に位置した部分１７９は外部からの画像信号をデータ線１７１に伝達する。薄膜トランジスタのドレーン電極１７５は、データ線１７１と分離されゲート電極１２３に対してソース電極１７３の反対側抵抗性接触体１６５上部に位置する。
【００２４】
データ線１７１及びドレーン電極１７５と、これらに覆われない半導体１５０上部には窒化ケイ素または平坦化特性の良い有機物質からなる下部保護膜１８０が形成されている。
【００２５】
下部保護膜１８０にはドレーン電極１７５及びデータ線１７１の端部１７９をそれぞれ露出する接触孔１８５、１８９が形成され、ゲート絶縁膜１４０と共にゲート線１２１の端部１２５を露出する接触孔１８２が形成されている。
【００２６】
保護膜１８０上部には接触孔１８５を通じてドレーン電極１７５と電気的に連結され、画素領域Ｐに位置する透明電極９０１が形成されている。また、保護膜１８０上には接触孔１８２、１８９を通じて各々ゲート線１２１の端部１２５及びデータ線１７１の端部１７９と連結されているゲート接触補助部材１９２及びデータ接触補助部材１９９が形成されている。ここで、透明電極９０１と接触補助部材１９２、１９９は透明な導電物質であるＩＴＯまたはＩＺＯなどから構成されている。
【００２７】
透明電極９０１それぞれの上部には透過窓１９６を有する複数の反射電極９０２が形成されている。反射電極９０２はアルミニウムやアルミニウム合金、銀や銀合金、モリブデンやモリブデン合金などのように高い反射率を有する導電膜から構成される。ここで、下部保護膜１８０の表面を粗くし反射電極９０２に凹凸をつくって反射効率を高めることができる。反射電極９０２と透明電極９０１は対となって画素電極になる。反射電極９０２の透過窓１９６は様々な模様に形成することができ、一つの画素領域に多数形成されることもできる。
【００２８】
さらに、画素電極９０１、９０２は隣接する画素行の薄膜トランジスタにゲート信号を伝達する前段のゲート線１２１と重なって維持蓄電器を構成する。保持容量が不足した場合には、ゲート線１２１と同一層で作られた導体を追加して画素電極９０１、９０２またはこれに連結された他の導体と重畳させることによって形成される別の維持蓄電器を追加することもできる。
【００２９】
以下、このような本発明の実施例による液晶表示装置における色フィルター表示板及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法について説明する。
【００３０】
図３ａ乃至図３ｄは本発明の第１実施例による色フィルター表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図であり、図４及び図５は本発明の第２及び第３実施例による色フィルター表示板の構造をそれぞれ示す断面図である。
【００３１】
まず、図３ａ乃至図３ｄを参照して本発明の第１実施例による色フィルター表示板の製造方法で対し具体的に説明する。図３ａのように上部絶縁基板２１０の上部に遮光特性の良い物質を積層し、マスクを利用した写真エッチング工程でパターニングしてブラックマトリックス２２０を形成する。
【００３２】
次に、図３ｂのように上部絶縁基板２１０の上部に光重合開始剤、単量体（ｍｏｎｏｍｅｒ）、結着剤（ｂｉｎｄｅｒ）などを含む光重合型感光性組成物と赤色、緑色、青色の顔料のうち一つを含む非水系分散液であるネガティブ型色フィルター用感光膜２３０を塗布した後、感光膜２３０が吸収する露光エネルギーをＡ、Ｂ、Ｃの部分が異なるように調節できるマスク４００を利用して感光膜２３０を露光する。
【００３３】
ネガティブ感光膜２３０の露光された部分の光重合反応は、ネガティブ色フィルター用感光膜２３０内に分散された光重合開始剤、単量体及び結着剤が参与するアルカリ現像液に対する不溶化を意味する。この時、光重合開始剤は光によってラジカルを発生させ、このようなラジカルによって遊離された単量体ラジカルが発生し、このような単量体ラジカルは重合連鎖反応を通じてポリマーとなり、このようなポリマーは結着剤に結合して感光膜２３０の不溶化が行われる。
【００３４】
本発明の実施例では、露光エネルギーを部分的に異なるように調節できるマスクを利用して現像液に対する感光膜２３０の不溶化の程度を部分的に異なるようにし、残留させる感光膜の厚さを部分的に異るように形成して色フィルターを形成する。
【００３５】
ここで、Ａ領域は露光エネルギーのほとんどが感光膜２３０に伝達される領域で、Ｂ領域は露光エネルギーのほとんどが遮光膜によって遮断される領域で、Ｃ領域は１０〜１４０ｍＪ/ｃｍ2の範囲で露光エネルギーの一部のみが透過する領域である。この時、Ｃ領域の露光エネルギーの透過量を調節するために、主にＣ領域に対応するマスク４００にはスリットや格子形態のパターンを有する半透明領域を形成する。スリットパターンの場合、スリットの幅やスリット間の間隔は露光時使用する露光器の分解能より小さいことが好ましく、透過率の異なる薄膜を利用したり厚さの異なる薄膜を利用して半透明領域を有するマスクを製作することもできる。
【００３６】
マスク４００を通じて露光すればＣ領域では感光膜２３０が２０〜６０％の範囲で高分子化される。前記感光膜２３０をアルカリ溶液を使用して現像することによって、図３ｃに示すように厚さが互いに異なる二つの部分２３２、２３４からなる色フィルター２３１が得られる。
【００３７】
次に、他の２種類の色顔料を含む色フィルター用感光膜を上部基板２１０の上部に順次に塗布し、前記図３ｃのように露光エネルギーを調節することのできるマスクを利用した写真工程によって、第１の部分２３４と第１の部分２３４より厚さの薄い第２の部分２３２からなる色フィルター２３１を順次に形成し、赤、緑、青の色フィルター２３１を順次に完成する。ここで、本発明の実施例では部分的に異なる露光エネルギーが透過する一つのマスク４００を利用して異なる厚さを有する色フィルター２３１を形成したが、異なる露光エネルギーを透過する２つ以上のマスクを利用して反射領域Ｒと透過領域Ｔを順次に露光後現像し、第２の部分２３２と第１の部分２３４を形成することもできる。
【００３８】
次に、図３ｄのように色フィルター２３１及びブラックマトリックス２２０が形成されている基板２１０の上部に有機絶縁物質をスピンコーティング方法で塗布し、上部保護膜２４０をマスクを利用した写真エッチング工程によって透過領域Ｔに対応する部分、つまり色フィルター２３１の第１の部分２３４上部を除去する。この時、透過領域Ｔと反射領域Ｒの光経路を均一に調節するために部分的に光の透過率を調節することのできるマスクを利用して、透過領域Ｔから上部保護膜２４０を完全に除去せず一部残すこともできる。      
【００３９】
最後にＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明導電物質などを積層し、図１及び図２のように色フィルター２３１と上部保護膜２４０上部に共通電極２５０を形成して色フィルター表示板２００（図２参照）を完成する。
【００４０】
一方、図４のように本発明の第２実施例による液晶表示装置用色フィルター表示板及びその製造方法では、ブラックマトリックス２２０と重なる色フィルター２３１の周縁２３５は第１の部分２３４と同一層で充分な厚さを有するように構成でき、そうするためにマスク４００のＣ領域とＢ領域の間に露光エネルギーを充分に透過させるＡ領域を形成する。このようにすれば、Ｃ領域に形成される第２の部分の色フィルター２３２の厚さを均一に形成でき、現像時に第２の部分の色フィルター２３２の周縁が剥離することを防止できる。
【００４１】
一方、図５のように本発明の第３実施例による液晶表示装置用色フィルター表示板及びその製造方法では、透過領域Ｔと反射領域Ｒの色フィルター２３６を均一な厚さにすることもできる。
【００４２】
図６ａ乃至図１０ｂ及び図１及び図２を参照して本発明の実施例による薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法について具体的に説明する。まず、図６ａ及び図６ｂに示すように下部絶縁基板１１０上部に低い比抵抗の導電物質を積層しパターニングしてゲート電極１２３を含む横方向のゲート線１２１を形成する。
【００４３】
次に、図７ａ及び図７ｂに示すように窒化ケイ素からなるゲート絶縁膜１４０、非晶質シリコンからなる半導体層、ドーピングされた非晶質シリコン層の３層膜を連続して積層し、マスクを利用したパターニング工程によって半導体層とドーピングされた非晶質シリコン層をパターニングしてゲート電極１２５と対向するゲート絶縁膜１４０上部に島型半導体１５０と島型のドーピングされた非晶質シリコン層１６０を形成する。
【００４４】
次に、図８ａ乃至図８ｂに示すように導電膜を積層した後、マスクを利用した写真工程によってパターニングしてゲート線１２１と交差する複数のデータ線１７１と複数のドレーン電極１７５を形成する。各データ線１７１は、ドーピングされた非晶質シリコン層１６０上部まで延びているソース電極１７３を含む。ドレーン電極１７５は、データ線１７１と分離されゲート電極１２３を中心にソース電極１７３と対向する。次に、ドーピングされた非晶質シリコン層１６０のうちデータ線１７１及びドレーン電極１７５で覆われない部分を除去し、島型のドーピングされた非晶質シリコン層１６０それぞれをゲート電極１２３を中心に二つの抵抗性接触体１６３、１６５に分離させる。そして、その下の島型半導体１５０部分を露出させる。次に、半導体１５０の露出された部分の表面を安定化させるために酸素プラズマ処理を実施することが好ましい。
【００４５】
図９ａ及び９ｂのように、低い誘電率を有し平坦化特性の優れた有機物質または窒化ケイ素などの絶縁物質を積層して下部保護膜１８０を形成する。次に、感光膜パターンを利用した写真エッチング工程によってゲート絶縁膜１４０と共に乾式エッチングでパターニングしてゲート線１２１の端部１２５、ドレーン電極１７５及びデータ線１７１の端部１７９を露出する複数の接触孔１８２、１８５、１８９を形成する。
【００４６】
図１０ａ及び図１０ｂのようにＩＴＯまたはＩＺＯ膜を積層し、マスクを利用したパターニングを実施して接触孔１８５を通じてドレーン電極１７５と連結される透明電極９０１と、接触孔１８２、１８９を通じてゲート線１２１の端部１２５及びデータ線１７１の端部１７９とそれぞれ連結されるゲート接触補助部材１９２及びデータ接触補助部材１９９を各々形成する。最後に、図１及び図２のように高い反射率を有するアルミニウムまたは銀またはモリブデンを含む導電膜を積層しパターニングして開口部の透過窓１９６を有する反射電極９０２を形成する。
【００４７】
以上、本発明の好ましい実施例について詳細に説明しましたが、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の多様な変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。  
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の一つの実施例による半透過型液晶表示装置における薄膜トランジスタ基板の構造を示す配置図である。
【図２】図１に示した薄膜トランジスタ基板を含むII-II'線による半透過型液晶表示装置の断面図である。
【図３ａ】本発明の第１実施例による半透過型液晶表示装置用色フィルター表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【図３ｂ】本発明の第１実施例による半透過型液晶表示装置用色フィルター表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【図３ｃ】本発明の第１実施例による半透過型液晶表示装置用色フィルター表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【図３ｄ】本発明の第１実施例による半透過型液晶表示装置用色フィルター表示板の製造方法をその工程順によって示す断面図である。
【図４】本発明の第２実施例による半透過型液晶表時装置用色フィルター表示板の構造を示す断面図である。
【図５】本発明の第３実施例による半透過型液晶表時装置用色フィルター表示板の構造を示す断面図である。
【図６ａ】本発明の実施例による半透過型液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板を製造する中間過程における薄膜トランジスタ基板の配置図である。
【図６ｂ】図６ａのVIb-VIb'線による断面図である。
【図７ａ】本発明の実施例による半透過型液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板を製造する中間過程における薄膜トランジスタ基板の配置図である。
【図７ｂ】図７ａのVIIb-VIIb'線による断面図で、図６ｂの次の段階を示すものである。
【図８ａ】本発明の実施例による半透過型液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板を製造する中間過程における薄膜トランジスタ基板の配置図である。
【図８ｂ】図８ａのVIIIb-VIIIb'線による断面図で、図７ｂの次の段階を示すものである。
【図９ａ】本発明の実施例による半透過型液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板を製造する中間過程における薄膜トランジスタ基板の配置図である。
【図９ｂ】図９のIXb-IXb'線による断面図で、図８ｂの次の段階を示すものである。
【図１０ａ】本発明の実施例による半透過型液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板を製造する中間過程における薄膜トランジスタ基板の配置図である。
【図１０ｂ】図１０ａのXb-Xb'線による断面図で、図９ｂの次の段階を示すものである。
【符号の説明】
【００４９】
１００、２００    表示板
１２１    ゲート線
１２３    ゲート電極
１４０    絶縁膜
１５０    半導体
１６０    非晶質シリコン層
１６３、１６５    抵抗性接触体
１７１    データ線
１７３    ソース電極
１７５    ドレーン電極
１８２、１８５、１８９    接触孔
１９２、１９９    接触補助部材
１９６    透過窓
２２０    ブラックマトリックス
２３０    感光膜
２３１    色フィルター
２４０    保護膜
２５０    共通電極
３００    液晶層
３１０    基板間隔材
４００    マスク
９０１、９０２    画素電極
【図１】
2004310048.tif 000003
【図２】
2004310048.tif 000004
【図３ａ】
2004310048.tif 000005
【図３ｂ】
2004310048.tif 000006
【図３ｃ】
2004310048.tif 000007
【図３ｄ】
2004310048.tif 000008
【図４】
2004310048.tif 000009
【図５】
2004310048.tif 000010
【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図９ａ】
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【図９ｂ】
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【図１０ａ】
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【図１０ｂ】
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