(57)【要約】【課題】光記録媒体用のディスク状基板に樹脂層を形成する際に、特にディスク最外周での厚み分布を良好にすることができると共に、複数の紫外線硬化性樹脂をディスク状基板に塗布して樹脂層を形成する際に、樹脂層同士の塗れ性や接着性を増して特に良好に形成することができる光記録媒体の製造方法。【解決手段】この光記録媒体の製造方法は、ディスク状基板１０上に形成された記録層を被うように光透過性の第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａを塗布する工程と、該塗布により形成された第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａの塗膜に、１０〜１００ｍＪの紫外線を照射する第１の前照射工程と、更に５０〜５００ｍＪの紫外線を照射する第２の前照射工程と、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗膜の上に第２の紫外線硬化性樹脂１８Ａを塗布する工程と、該塗布により形成された第２の紫外線硬化性樹脂の塗膜に、実質的に完全に硬化する量の紫外線を照射する後照射工程と、からなる。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク状の基板上に形成された情報層を被うように光透過性の第１の紫外線硬化性樹脂を、スピンコート法により塗布する工程と、該塗布により形成された第１の紫外線硬化性樹脂の塗膜に、１０〜１００ｍＪの紫外線を照射する前照射工程と、１０００〜４０００ｍＪの紫外線を照射する後照射工程と、を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記前紫外線照射工程を、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗布中に実施することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
ディスク状の基板上に形成された情報層を被うように光透過性の第１の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、該塗布により形成された第１の紫外線硬化性樹脂の塗膜に、１０〜１００ｍＪの紫外線を照射する第１の前照射工程と、更に５０〜５００ｍＪの紫外線を照射する第２の前照射工程と、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗膜の上に第２の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、該塗布により形成された第２の紫外線硬化性樹脂の塗膜に、１０００〜４０００ｍＪの紫外線を照射する後照射工程と、を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の前紫外線照射工程を、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗布中に実施することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
請求項３又は４において、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗布膜がスピンコート法により形成されると共に、前記第１の前照射工程を前記スピンコート法による塗布回転中に実施することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体の製造時に際して、ディスク状の基板上に紫外線硬化性樹脂を塗布して硬化させることにより樹脂層を形成する光記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＣＤ（コンパクト・ディスク）やＣＤ−Ｒ（追記型コンパクト・ディスク）等の光記録媒体は、グルーブやピットが形成されたディスク状の光透過性基板の表面に記録層や光反射層などの薄膜が形成されて情報層が構成され、この薄膜を覆うようにして保護層としての樹脂層が形成されて構成され、更に、記録・再生のためのレーザ光は光透過性基板を通って情報層に入射されるようになっている。
【０００３】
この場合、一般的に、樹脂層を形成する際には、ディスク状基板の中央部に、液状の紫外線硬化性樹脂を吐出してスピンコート法によって延伸させた後に、紫外線を照射して硬化させる方法が採用されている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
近年、ＤＶＤ（デジタル・バーサタイル・ディスク）よりも、更に長時間に亘って、記録・再生が可能な光記録媒体の開発が要望されており、記録密度の向上が図られている。
【０００５】
光記録媒体において、記録密度を高くするためには、光記録媒体に照射されるレーザ光のビームスポット径を小さくすることが必要であり、レーザ光のビームスポット径は、レーザ光の波長λとレンズの開口数ＮＡとの比に比例するため、波長λの短いレーザ光と、開口数ＮＡの大きいレンズを使用して、光記録媒体にデータを記録することが要求される。
【０００６】
そのため、記録密度が高い次世代の光記録媒体においては、波長λの短い青色レーザ光と、開口数ＮＡの大きいレンズを使用して、光記録媒体にデータを記録することが提案されている。
【０００７】
しかしながら、開口数ＮＡの大きいレンズを用いる場合には、焦点距離が短くなり、ＣＤやＤＶＤのように、光透過性基板を介して、レーザ光を情報層に照射することができないため、光を透過する必要のない基体上に記録及び又は再生の可能な情報層を形成し、その上に光透過層を形成し、この光透過層を介してレーザ光を照射することによって情報の記録及び又は再生が可能にされた光記録媒体が提案されている。
【０００８】
このような光記録媒体は、一方で、レンズの開口数ＮＡを大きくすると、光透過層の厚みムラに対する許容度が小さくなるため、光透過層の膜厚を均一に形成することが要求される。
【０００９】
更には、形成される光透過層表面の状態に対する要求も高くなり、焦点距離が短くなることに起因して光ピックアップと光記録媒体との距離が極めて短くなり、場合によっては両者の予期せぬ衝突も予想される。又、記録再生においては、従来よりレーザー光のビームスポット径が絞られ、焦点位置における傷や汚れ等の欠陥が記録再生に対して大きく影響を与えるため、許容されるマージンも狭くなることから、光透過層の表面にはその保護機能を高めるための目的としてハードコート層を設けることも必要となる。
【００１０】
前記光透過層の膜厚の面内変動の問題を解決する方法の１つとして、光透過層を形成するため、スピンコーティング装置を用いて、液状の紫外線硬化性樹脂を塗布して、形成された塗布膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させる方法が提案されている。
【００１１】
【特許文献１】
特開２００２−１９７７３５号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
光透過層の他の形成方法としては、光透過性のシートを接着する方法があり、この方法によって形成される光透過層と比較して、スピンコート法では、光透過層の円周方向の厚みムラに対する許容度が大きい点で優れている。しかし、只単に樹脂の塗布と紫外線照射を行なうだけでは、（面内や半径方向の）厚みムラを許容範囲内に抑えることは困難である。
【００１３】
又、この光透過層上にハードコート層を形成する場合、ハードコート層を構成する樹脂の、先に形成されている光透過層の樹脂との接着性や硬化収縮性等の問題を解決するためには、両者の形成の状態や形成のタイミング、紫外線の照射の方法等のコントロールにより、光透過層の硬化度を調整して接着性を高めたり、塗れ性を調整すること等が重要となる。
【００１４】
更に、昨今の環境問題を考慮すれば、これらの樹脂層に用いられる樹脂を、リサイクル可能な材料とすることは当然である。
【００１５】
ここで、上記光透過層の厚みは１００μｍ程度となり、この厚みの状態を良好に形成するには、形成される樹脂層の量の数倍もの充分な樹脂を塗布する必要があり、塗布された樹脂の多くはスピンコート法によるディスク状基板の回転により、ディスク状基板上から振り切られる。
【００１６】
リサイクルのためには、この状態で回収すればよいが、前記光透過層の面内厚みムラを許容範囲にしようとすれば、後述するような理由により、塗布回転の最中に紫外線を照射して硬化させることが有効な方法となる。この場合、紫外線が照射された紫外線硬化性樹脂は硬化してしまい、回収が困難となってしまうと共に、回収したものを再利用することができないという問題が発生してしまう。
【００１７】
本発明は、このような種々の問題点に鑑みてなされたものであって、基板上に種々情報層を形成した後に、紫外線硬化性樹脂からなる光透過層を形成し、更にその表面に第２の紫外線硬化性樹脂からなるハードコート層を形成する際に、樹脂層の形成性の良好な、更には形成された樹脂層の接着性が良好となる光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１８】
又、この発明は、スピンコート工程で基板から振り切られた紫外線硬化性樹脂をリサイクルできるようにした光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明者の研究の結果、第１の紫外線硬化性樹脂を、第１及び第２の前照射工程の２回に分けて紫外線を照射するようにし、第２の前照射工程での照射量により、第１の紫外線硬化性樹脂の硬化度をコントロールし、これにより第１の紫外線硬化性樹脂とその上に塗布される第２の紫外線硬化性樹脂との塗れ性をコントロールすることができると共に、第１の紫外線硬化性樹脂とその上に塗布形成される第２の紫外線硬化性樹脂との接着性をコントロールすることも可能となり、最も良い条件を採用することにより接着性を向上させることができることを見出した。
【００２０】
又、主として第２の紫外線硬化性樹脂がスピンコート法によって塗布されるため、前記密着性を考慮した塗れ性を更に調整することで、スピンコート時に、完全に硬化されていない第１の紫外線硬化性樹脂が流出又は溶出してしまうという問題を改善することができることも見出した。
【００２１】
更に、ディスク状の基板に塗布された紫外線硬化性樹脂に対して、複数回に分けて紫外線を照射して硬化すると、前段階の紫外線照射による硬化の際に、紫外線が前記振り切られた樹脂に照射されてもリサイクル可能な程度にしか硬化されず、後段階の照射の際に、紫外線が前記振り切られた樹脂に照射されないようにして、振り切られた樹脂のリサイクルができることを見出した。
【００２２】
即ち、以下の本発明により上記目的を達成することができる。
【００２３】
（１）ディスク状の基板上に形成された情報層を被うように光透過性の第１の紫外線硬化性樹脂を、スピンコート法により塗布する工程と、該塗布により形成された第１の紫外線硬化性樹脂の塗膜に、１０〜１００ｍＪの紫外線を照射する前照射工程と、１０００〜４０００ｍＪの紫外線を照射する後照射工程と、を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【００２４】
ここで言う光透過性とは、記録や再生に用いるレーザー光が必要な量だけ透過すればよく透明である必要はない。
【００２５】
（２）前記前紫外線照射工程を、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗布中に実施することを特徴とする（１）の光記録媒体の製造方法。
【００２６】
（３）ディスク状の基板上に形成された情報層を被うように光透過性の第１の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、該塗布により形成された第１の紫外線硬化性樹脂の塗膜に、１０〜１００ｍＪの紫外線を照射する第１の前照射工程と、更に５０〜５００ｍＪの紫外線を照射する第２の前照射工程と、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗膜の上に第２の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、該塗布により形成された第２の紫外線硬化性樹脂の塗膜に、１０００〜４０００ｍＪの紫外線を照射する後照射工程と、からなることを特徴とする光ディスクの製造方法。
【００２７】
（４）前記第１の前紫外線照射工程を、前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗布中に実施することを特徴とする（３）の光ディスクの製造方法。
【００２８】
（５）前記第１の紫外線硬化性樹脂の塗布膜がスピンコート法により形成されると共に、前記第１の前照射工程を前記スピンコート法による塗布回転中に実施することを特徴とする（３）又は（４）の光記録媒体の製造方法。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態の例を図面を参照して詳細に説明する。
【００３０】
この実施の形態の例の光記録媒体の製造方法は、射出成形装置（図示省略）により、溶融樹脂を射出し、冷却することにより形成された円盤状（ディスク状）の基板１０（図１（Ａ）参照）の信号層側の面に、記録層等の情報層を形成後、スピンコーター（全体図示省略）のノズル１２から第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａをスピンコート法によって塗布し（スピンコート工程）、その塗布中及び／又は塗布終了後に、図１（Ｂ）及び図１（Ｃ）に示されるように、第１の前照射工程と、その後の第２の前照射工程との２回にわたって紫外線を照射すると共に、図１（Ｄ）に示されるように、ノズル１６から第２の紫外線硬化性樹脂１８Ａをスピンコート法によって塗布した後、図１（Ｅ）に示されるように、紫外線の後照射工程により前記第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａ及び塗布された第２の紫外線硬化性樹脂１８Ａを実質的に硬化させて、それぞれ光透過層１４、ハードコート層１８とするものである。
【００３１】
光透過層１４に用いる第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａとしては、光学的に透明で、使用されるレーザー波長領域での光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として選択する。
【００３２】
具体的には、紫外線硬化性化合物やその重合用組成物から構成されることが好ましい。このようなものとしては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートのようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合、等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有又は導入したモノマー、オリゴマー及びポリマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に３官能以上であることが好ましく、１種のみ用いても２種以上併用してもよい。又、単官能のものを必要に応じて用いてもよい。
【００３３】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０００〜１００００のものが好適である。これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジメタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート等が挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体等が挙げられる。
【００３４】
紫外線硬化性樹脂組成物は、公知の光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。光重合開始剤のうち、光ラジカル開始剤としては、例えば、ダロキュア１１７３、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７（いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製）が挙げられる。光重合開始剤の含有量は、例えば、前記紫外線硬化性成分に対して、０．５〜５重量％程度である。
【００３５】
又、紫外線硬化性材料としては、エポキシ樹脂及び光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロへキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロへキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロへキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロへキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロへキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ等量に特に制限はないが、良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に１００〜２００であることが好ましい。
【００３６】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上の金属フルオロホウ酸塩及び三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ぺルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６アニオン（但しＭは、Ｐ、Ａｓ又はＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩又はイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素及び６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。光カチオン重合触媒の含有量は、例えば、前記紫外線硬化性成分に対して、０．５〜５重量％程度である。
【００３７】
この光透過層１４に用いる第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａとしては、１０００〜１００００ｃｐの粘度（２５℃）を有するものが好ましい。
【００３８】
光透過層１４の形成において、紫外線硬化性樹脂の塗布はスピンコーティング法により行なう。光透過層１４の厚さは、例えば、硬化後において、１０〜３００μｍ程度、好ましくは２０μｍ以上２００μｍ以下、とりわけ７０μｍ以上１５０μｍ以下、より特別に７５μｍ以上１５０μｍ以下とするとよい。
【００３９】
本発明において、第１の紫外線硬化性樹脂を塗布した後、この樹脂層に２回に分けて紫外線を照射して、好ましくは３０〜６０％程度の硬化状態の光透過層として、その後の工程において、この光透過層上にハードコート剤組成物を塗布して未硬化のハードコート層を形成することが好ましい。
【００４０】
１回目の照射は、塗布時に基板１０から飛散した不要な樹脂がリサイクル可能な程度で、且つ、基板１０上の樹脂が容易に流動しない程度であればよく、５〜２０％程度の硬化が得られればよい。このような状態にするための照射量は、例えば、１０〜１００ｍＪ／ｃｍ２とするとよい。
【００４１】
更に２回目の照射を行ない、この光透過層上１４にハードコート層１８が形成できる程度の、目的に応じた硬化状態の樹脂層を得る。この際の紫外線照射量は、光透過層１４の厚さや樹脂の種類にもよるが、３０〜６０％程度の硬化状態の光透過層が好ましく、例えば５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２の照射を行なうとよい。なお、３０〜６０％程度の硬化とは、塗布された樹脂の一部が未反応であることを意味する。従って、光透過層１４の物理的な硬化度は特に問わず、表面の粘着性（タック）が消失していても差し支えない。特に光透過層を３０〜６０％程度の硬化状態としておくことによって、流動性をなくし、次工程におけるハードコート剤組成物の塗布によっても界面が乱されることなく、且つ光透過層１４との密着性に非常に優れるハードコート層１８が形成されるので好ましい。
【００４２】
又、前記のように、紫外線照射を２回などの複数回に分けて行なう場合には、紫外線の積算照射量が上記の範囲となるようにするとよい。又、紫外線硬化性樹脂の塗布操作を複数回に分けて行なってもよく、各塗布操作の後に紫外線照射を行なってもよい。紫外線照射を複数回に分けて行ない樹脂を段階的に硬化させることで、一度にディスクにたまる硬化収縮による応力を小さくすることが可能となり、最終的にディスクにたまる応力が小さくなる。その結果、光透過層１４の厚さが上記のように厚い場合であっても、機械特性に優れたディスクを作製することができるので好ましい。
【００４３】
光透過層１４に紫外線を照射した後、アニール処理（熱緩和処理）を行なうことも好ましい。硬化収縮による応力は、樹脂が硬化した瞬間に最大となり、時間の経過と共に緩和される。従って、アニール処理によって、ディスクにたまった硬化収縮による応力を一旦開放させることが好ましい。又、紫外線照射を複数回に分けて行なう場合には、紫外線照射とこの照射の次の紫外線照射との間に、アニール処理工程を行なうことにより更に好ましい結果が得られる。
【００４４】
ここでのアニール処理温度としては、６０℃以上が好ましく、８０℃以上が更に好ましい。アニール処理温度を８０℃以上とすることで、応力の開放をより早く完全に行なうことができる。アニール処理温度の上限は、用いる支持基体の材質にもよるが、一般的に用いる材質のガラス転移温度Ｔｇより、少なくとも１０℃低い温度で行なうことが好ましい。又、アニール処理時間は、アニール処理温度にもよるが、１〜５分間が生産効率上からも好ましい。
【００４５】
光透過層１４上に、ハードコート層１８を形成する。まず、ハードコート層１８に用いる紫外線硬化性成分を含むハードコート剤組成物について説明する。
【００４６】
ハードコート剤組成物に含まれる紫外線硬化性成分としては、光学的に透明で、使用されるレーザー波長領域での光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として、紫外線硬化型樹脂から選択することが好ましい。ハードコート剤組成物に含まれる紫外線硬化型樹脂は、前述した光透過層１４用の紫外線硬化型樹脂と同様のものから選択される。即ち、ハードコート剤組成物として、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートのようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有又は導入したモノマー、オリゴマー及びポリマー等と、光重合開始剤とを含むラジカル重合性組成物を用いることができる。又、ハードコート剤組成物として、エポキシ樹脂及び光カチオン重合触媒を含有するカチオン重合性組成物も好適に使用される。
【００４７】
ハードコート剤組成物に含まれる紫外線硬化性化合物としては、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
ハードコート剤組成物は、必要に応じて耐摩耗性向上のために、無機フィラーを含んでもよい。無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等が挙げられる。無機フィラーの平均粒径は、特に透明性が必要になる場合は１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００４９】
更に、硬化被膜の強度や耐摩耗性をより高めるためには、無機フィラーの表面が、紫外線重合性基を有する化合物で修飾されていることが好ましい。平均粒径が５０ｎｍ以下であり、且つ紫外線重合性基を有する化合物で表面修飾されている無機フィラーとして、例えば特開平１１−６０２３５号公報、特開平９−１００１１１号公報及び特開２００１−１８７８１２号公報に記載されている反応性シリカ粒子があり、本発明において好ましく用いることができる。なお、特開平１１−６０２３５号公報に記載のシリカ粒子は、反応性基としてカチオン反応性のオキセタニル基を含むものであり、特開平９−１００１１１号公報に記載のシリカ粒子は、反応性基としてラジカル反応性の（メタ）アクリロイル基を含んでいる。特開２００１−１８７８１２号公報に記載のシリカ粒子は、（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性不飽和二重結合と、エポキシ基等のカチオン反応性基とを同時に含むものである。このような無機フィラーをハードコート剤組成物に添加しておくことにより、ハードコート層の耐摩耗性をより高めることができる。無機フィラーの含有量は、例えば、ハードコート剤組成物（固形分として）中に５〜８０重量％程度である。無機フィラーを８０重量％よりも多く含有させると、ハードコート層の膜強度が弱くなり易い。
【００５０】
又、ハードコート剤組成物は更に、必要に応じて、非重合性の希釈溶剤、有機フィラー、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料、ケイ素化合物等を含んでいても差し支えない。
【００５１】
ハードコート層１８の硬化後の厚さは、１μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは１μｍ以上５μｍ以下となるように形成するとよい。１μｍ未満では、ディスクに充分な表面硬度を与えることができず、１０μｍを超えると、クラックが発生したり、ディスクの反りが大きくなる傾向にある。
【００５２】
以上のように、光透過層１４とハードコート層１８を併せて硬化することにより、実質的に完全に硬化した樹脂層を形成すれば、強固に密着された状態を得ることができる。
【００５３】
更に詳細に説明すると、図１（Ｂ）に示される紫外線の第１の前照射工程は照射量を１０〜１００ｍＪとし、第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａを５〜２０％程度だけ硬化させ、図１（Ｃ）に示される次の第２の前照射工程として照射量が５０〜５００ｍＪの紫外線照射を行ない、３０〜６０％程度まで硬化させ、更に、図１（Ｅ）に示される後照射工程は、照射量が１０００〜４０００ｍＪの紫外線照射をして第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａ及び第２の紫外線硬化性樹脂１８Ａを実質的に硬化させるものである。
【００５４】
これによって、第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａ及び第２の紫外線硬化性樹脂１８Ａは実質的に硬化して光透過層１４及びハードコート層１８が完成する。
【００５５】
ここで、前記第１の前照射工程工程における５〜２０％、及び、第２の前照射工程における３０〜６０％とは、照射する紫外線の強度及び照射時間の積の、紫外線硬化性樹脂を実質的に完全に硬化するために必要な紫外線の強度及びその照射時間の積に対する割合を言い、具体的には、前述のように、照射量が１０〜１００ｍＪ及び５０〜５００ｍＪとなるようにする。
【００５６】
なお、第２の前照射工程で第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａを３０〜６０％硬化するだけ紫外線を照射するようにしているが、これは、この段階での照射量により、第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａの硬化度をコントロールし、これにより第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａとその上に塗布される第２の紫外線硬化性樹脂１６Ａとの塗れ性及び／又は接着性をコントロールすることも可能となり、最も良い条件を採用することにより接着性を向上させることができるからである。
【００５７】
又、主として第２の紫外線硬化性樹脂１６Ａがスピンコート法によって塗布されるため、前記密着性を考慮した塗れ性を更に調整することで、スピンコート時に、完全に硬化されていない第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａが流出又は溶出してしまうという問題を改善することができるからでもある。
【００５８】
更に、上記実施の形態の例において、第２の紫外線硬化性樹脂を紫外線照射によって実質的に硬化させる際に、光透過層１４となる第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａも１００％硬化させるが、このとき、第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａは第２の紫外線硬化性樹脂１６Ａによって被われて、空気と遮断されているので、酸素による硬化抑制がない。従って、第２の紫外線硬化性樹脂１６Ａを介して光透過層１４に紫外線を照射して硬化させる場合、第２の紫外線硬化性樹脂１６Ａによって被わないで照射した場合と比較して、短時間で第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａをより完全に近い状態に硬化させることができる。
【００５９】
又、第１の前照射工程の段階では、紫外線照射量が、第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａを５〜２０％程度硬化するだけの照射量であるので、ディスク基板１０の外周から振り切られた紫外線硬化性樹脂に、第１の前照射工程で紫外線が照射されても、ほとんど硬化することなく、これを回収してリサイクルすることが可能である。
【００６０】
一方で、このような第１の前照射工程により、塗布された第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａの流動性が若干低下する。
【００６１】
従来のスピンコートでは、第１の紫外線硬化性樹脂層１４Ａを形成するのに充分な量（形成される樹脂層に用いられる樹脂の５から１０倍程度の量）の樹脂が基板上に塗布され、スピンコート法による基板の回転により、余分な樹脂は基板外周部分より振り切られ、目的とする厚みの樹脂層を形成していた。しかし、目的とする樹脂層を塗布し、スピンコートの回転を停止することにより、振り切られようとしている樹脂が基板最外周部分に留まり、表面張力によって盛り上がることによる最外周部の膜厚変動が発生していた。これに対して、前記第１の照射工程により第１の紫外線硬化性樹脂１４Ａの流動性を低下させることで、スピンコートの回転を停止しても、最外周部分の樹脂の盛り上がりを効果的に抑制することができる。
【００６２】
前記光透過層１４及びハードコート層１８が実質的に硬化した後の工程の一例として、図２に示されるように、中心部を打ち抜いて中心孔２０を形成する。
【００６３】
詳細には、まず、図２（Ａ）に示されるように、ハードコート層１８が形成されていない中心部に、円形バイト２２を図において上方から光透過層１４を切断するように、光透過層１４及び基板１０の上面にまで食い込ませる。
【００６４】
次に、図２（Ｂ）に示されるように、ポンチ２４により下方から前記円形バイト２０によって形成された円周溝２１の内側部分を突き上げることにより、これを打ち抜いて、図２（Ｃ）に示されるように中心孔１８を形成し、光記録媒体（光ディスク）２６として完成させる。図２（Ｃ）の符号２８はポンチ２２によって打ち抜かれた中心部を示す。
【００６５】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成したので、ディスク状基板に樹脂層を形成する際に、特にディスク最外周での厚み分布を良好にすることができると共に、複数の紫外線硬化性樹脂をディスク状基板に塗布して樹脂層を形成する際に、樹脂層同士の塗れ性や接着性を増して特に良好に形成することができるという優れた効果を有する。更に、本発明によれば、樹脂層を形成する際の塗布時に余分な樹脂として周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂が硬化しないことから、回収再利用することが容易となり、リサイクルすることができる、という優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る光記録媒体の製造方法による光記録媒体製造過程を示す略示断面図
【図２】同製造過程の中心孔形成工程を示す略示断面図
【符号の説明】
１０…基板
１２…ノズル
１４…光透過層
１４Ａ…第１の紫外線硬化性樹脂
１８…ハードコート層
１８Ａ…第２の紫外線硬化性樹脂
２６…光記録媒体（光ディスク）
【図１】
2004247015.tif 000003
【図２】
2004247015.tif 000004