(57)【要約】      （修正有）【課題】立体マスクの被膜材の除去を効率的に行い、被覆工程において射出成形手段による立体マスクの成形により再現性がよく、量産性も向上すること。【解決手段】立体的な一次成形品１を成形し図１Ａ、この一次成形品の表面を射出成形法により加工面が露出する状態で被膜材２にて被覆する図１Ｂ。この被膜材２は、ポリ乳酸、またはポリ乳酸を主成分とする脂肪族系ポリエステルの混合体または共重合体である。この被膜材で被覆した成形品の全面にサンドブラスト加工によりメデア３を噴射して粗面化し図１Ｃ、最後に被膜材２をアルカリ水溶液により溶解させ溶解して除去する図１Ｄものである。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
立体的な一次成形品を成形する工程と、この一次成形品の表面を射出成形法により加工面が露出する状態で被膜材にて被覆する工程と、この被膜材で被覆した成形品の全面にサンドブラスト加工によりメデアを噴射して粗面化する工程と、上記被膜材を除去する工程とを含むことを特徴とする回路基板等の加工方法。
【請求項２】
請求項１において、被膜材はポリ乳酸、またはポリ乳酸を主成分とする脂肪族系ポリエステルの混合体または共重合体であることを特徴とする回路基板等の加工方法。
【請求項３】
請求項１において、被膜材は有機酸可溶性共重合ナイロンであることを特徴とする回路基板等の加工方法。
【請求項４】
請求項１において、被膜材はオキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂であることを特徴とする回路基板等の加工方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は回路基板を製造する時のめっきの下地処理、または、塗装の下地処理、置物などのめっきによる加飾の下地処理、さらには、加飾された面の艶消し加工処理など多方面に適用可能な加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、人形などの置物の表面に加飾してあるめっきを、例えば艶消ししたり、梨地模様にする加工方法では、この加工する個所以外の面を予め立体的に被覆（マスク）しておくことが必要で、そのため、従来からこの立体マスクはテープを手作業で貼着したり、マスクインクを手作業で刷毛塗りしている。また、めっきの前処理として、めっき加工面を粗面化するエッチング方法には湿式と乾式とがあり、この乾式法はプラズマを照射したり、気体を使用するものであり、湿式法はＮａＯＨ，ＫＯＨ等のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルコール性ナトリウム等のアルカリ金属アルコラートの水溶液、ジメチルホルムアミド等の有機溶剤を用い、これらのエッチング液を基体表面に塗布したり、これらの液中に浸漬させて接触させて行うものである。湿式法においては、前記のエッチング液と基体とを接触させた後、塩酸やフッ酸等の酸溶液を用いて処理する。（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−８０４８０号公報（段落番号「００１８」、「００１９」）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前記した立体マスクの加工法は、手作業であるため多くの工数と時間がかかり、生産効率が悪く、加工精度にバラつきがあり完成品の再現性に劣るものであった。さらに、前記したエッチング法では、基体の材質にもよるが、ＰＰＳ樹脂ではフッ酸、ＡＢＳ樹脂では六価クロム硫酸など化学剤を使用するため、これは使用が規制され始めているが、環境問題においても望ましくない。そこで、後でも説明しているように本発明では、エッチング手段、つまり粗面化手段としてサンドブラスト法を採用している。しかしながら、そのためには成形品の全周の選択された面をマスクする、つまり立体マスクをすることが必要であるが、仮に、被膜材で立体マスクをしても、従来はこの被膜材には溶解して除去することのできるものがなかった。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、立体マスクの被膜材として、その除去が効率的に行うことのできるものを見出し、この被膜材の除去を効率的に行うことができるこが確認できたことにより、被覆工程において射出成形手段が採用できるようになり、この射出成形手段による立体マスクの成形により再現性、つまり完成品の品質にバラつきがなく、同一品質が確保でき、量産性も向上した加工方法を提供することにある。
【０００６】
さらに他の目的は、粗面化するのに従来の化学方式に代えて機械的、物理的方法であるサンドブラスト法（ウォーターブラスト法を含む、以下同じ）を採用することにより環境問題においても望ましい加工方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る回路基板等の加工方法の特徴は、立体的な一次成形品を成形する工程と、この一次成形品の表面を射出成形法により加工面が露出する状態で被膜材にて被覆する工程と、この被膜材で被覆した成形品の全面にサンドブラスト加工によりメデアを噴射して粗面化する工程と、上記被膜材を除去する工程とを含むところにある。
【０００８】
そして、本発明では、被膜材として、ポリ乳酸、またはポリ乳酸を主成分とする脂肪族系ポリエステルの混合体または共重合体、有機酸可溶性共重合ナイロン、オキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂から選択されることに特徴を有する。
【０００９】
このサンドブラスト加工法に代えて、ウォーターブラスト加工法でもよい。なお、このサンドブラスト加工法やウォーターブラスト加工法は、機械的、物理的な方法であって、前記した従来の湿式、乾式のエッチング法の範疇のものではない。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明に係る回路基板等の製造方法の実施の形態について説明すると、図１（Ａ）に示すように、先ず立体的な一次成形品１を作る。この一次成形品の素材は特に限定されないが、回路基板、置物などによって合成樹脂、ガラス、セラミックなどから適宜選択される。そして、この一次成形品１は、回路基板ばかりでなく、人形などの置物などがある。
【００１１】
次に、図１（Ｂ）に示すように、一次成形品１を射出成形機のキャビティに挿入し、その表面を射出成形法により加工面１ａが露出する状態に被膜材２にて立体的に被覆する。この被膜材２としては、特に生分解性のものが環境問題を回避する上で好ましい。被膜材２の素材としては、後の被膜材除去工程での除去が効率的に行うことができるものから選択されるもので、例えば、加水分解性高分子材料のポリ乳酸、またはポリ乳酸を主成分とする脂肪族系ポリエステル（ポリヒドロキシカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸又は脂肪族多価アルコールと脂肪族多価塩基酸とからなる脂肪族ポリエステル、ヒドロキシカルボン酸や脂肪族多価アルコールから選ばれる２種以上のモノマー成分と、脂肪族多価塩基酸から選ばれる２種以上のモノマー成分とからなるランダム共重合体やブロツク共重合体）の混合体または共重合体（ランダム共重合体、ブロック共重合体）がある。このポリ乳酸は加水分解性で、生分解性であり、高精度のめっきを行うことができ、めっき用触媒の付与を確実に行うことができる。
【００１２】
さらに、この被膜材２として有機酸可溶性高分子材料として有機酸可溶性共重合ナイロンがある。また、被膜材２としてオキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂がある。
【００１３】
その後、図１（Ｃ）に示すように、被膜材２で被覆された成形品１の全面にサンドブラスト加工法によりメデア（砂粒子）３を噴射して粗面化する。このメデア３は、多種類のものがあり、加工目的によって選択する。このサンドブラスト加工法は、一次成形品１の全ての方向からメデア３を噴射されるもので、立体的に行われるものである。そのため、成形品１の表面のいずれの加工面１ａ，１ａでも、図２に示すように粗面化させることができる。
【００１４】
この成形品１が置物で、既にめっきされている加飾面を有する実施の態様では、このめっき面をサンドブラスト加工法により艶消しし、または、梨地模様に加工するときは、この加飾面を加工面１ａとする。勿論、成形品１が未だめっきされていない置物である実施の態様では、加飾する個所を加工面１ａとしてサンドブラスト法により粗面化して、その後めっき加工する。また、成形品１から回路基板を形成する実施の態様では、回路パターンに形成する面を加工面１ａとしてサンドブラスト法により粗面化し、その後は従来とおり、そこにめっき用の触媒を付与しパターンを形成する。
【００１５】
そして、図１（Ｄ）に示すように被膜材２を除去するものである。この除去工程では、被膜材２が加水分解性高分子材料のポリ乳酸、またはポリ乳酸を主成分とする脂肪族系ポリエステルの混合体または共重合体の場合は、アルカリ水溶液により溶解させ除去することができる。
【００１６】
被膜材２が有機酸可溶性共重合ナイロンの場合は、蟻酸、酢酸のような有機酸水溶液で溶解させ除去することができる。また、オキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂である場合は、これが水溶性であるので温水で溶解させ除去できる。
【００１７】
そして、図２に示すように、被膜材２が除去された成形品１の加工面１ａ，１ａは、正確に選択された範囲において精度よく粗面化している。
【００１８】
その後めっき処理が必要な成形品１の実施の態様では、粗面化した加工面１ａにめっき用の触媒を付与し、めっき処理すればよい。このように、加工面１ａを選択することができ、その選択された面のみにめっき処理することができる。
【００１９】
また、成形品１がガラスなど透明な材質を使用している場合には、被膜材２で被膜された面、つまり加工面１ａ以外の面は粗面化されないので、透明な完成品がえられる。そのため、めっき処理を施すと、そのめっき面が完成品の裏面からは反射面になっており、この反射面は、例えば液晶表示装置のバックライトの効率向上に使用することもできる。
【００２０】
【発明の効果】
本発明に係る加工方法は、立体マスクの被膜材として、その除去が効率的に行うことの出来る素材を見出し、それらよりこの被膜材の除去を効率的に行うことができるようになり、そのため、被覆工程において射出成形手段が採用でき、この射出成形手段よる立体マスク法により再現性がよく、同一品質が確保でき、量産性も向上し、また、粗面化するのに機械的、物理的方法であるサンドブラスト法、ウォーターブラスト法を採用することにより環境問題においても望ましいものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれ加工工程を示すもので、
（Ａ）は一次成形品の断面図である。
（Ｂ）は被覆工程を示す断面図である。
（Ｃ）は粗面化工程を示す断面図である。
（Ｄ）は被膜材の除去工程を示す断面図である。
【図２】図１（Ｄ）のＡ部の拡大断面図である。
【符号の説明】
１      一次成形品
１ａ    加工面
２      被膜材
３      メデア
【図１】
2004247354.tif 000003
【図２】
2004247354.tif 000004