(57)【要約】【課題】ガラス基板のガラス面に付着した異物を、ガラスに傷を付けずに除去することができ、かつ異物の再付着を引き起こすことがないとともに、場所も取らない、ガラス面に付着した異物を除去する技術を提供する。【解決手段】ガラス基板又は少なくとも片面がガラスで構成された基板のガラス面に付着した異物を除去する装置であって、少なくとも前記基板を平行移動させる基板移動手段と、基板のガラス面を研磨する研磨手段と、基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを具備し、前記研磨手段２ａ，２ｂの研磨面が対向配置されており、前記洗浄液供給手段４から洗浄液を供給しつつ、前記研磨手段の研磨面を回転させながら、該対向する研磨面に前記基板の両面が接触するように前記基板移動手段３により基板１０をガラス面方向に平行移動させて前記ガラス面上の異物を両面同時に除去するものであることを特徴とするガラス面に付着した異物の除去装置１。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板又は少なくとも片面がガラスで構成された基板のガラス面に付着した異物を除去する方法であって、洗浄液を供給しつつ、前記基板の両面に研磨手段の研磨面を回転させながら接触させるとともに、前記基板をガラス面方向に平行移動させて前記ガラス面上の異物を両面同時に除去することを特徴とするガラス面に付着した異物の除去方法。
【請求項２】
前記研磨手段の研磨面を、４０〜５００ｒｐｍで回転させることを特徴とする請求項１に記載のガラス面に付着した異物の除去方法。
【請求項３】
前記洗浄液として、水又は界面活性剤含有液を用いることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のガラス面に付着した異物の除去方法。
【請求項４】
前記洗浄液を、１研磨面あたり１０〜３００ｃｃ供給することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去方法。
【請求項５】
前記基板に対し、水で洗浄する工程、洗浄液を気体微粒子化して噴射する工程、紫外線を照射する工程、純水で超音波洗浄を行う工程、空気を吹き付けて乾燥する工程、及び赤外線で乾燥する工程のうち少なくとも１つ以上の工程をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去方法。
【請求項６】
ガラス基板又は少なくとも片面がガラスで構成された基板のガラス面に付着した異物を除去する装置であって、少なくとも前記基板を平行移動させる基板移動手段と、基板のガラス面を研磨する研磨手段と、基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを具備し、前記研磨手段の研磨面が対向配置されており、前記洗浄液供給手段から洗浄液を供給しつつ、前記研磨手段の研磨面を回転させながら、該対向する研磨面に前記基板の両面が接触するように前記基板移動手段により基板をガラス面方向に平行移動させて前記ガラス面上の異物を両面同時に除去するものであることを特徴とするガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項７】
前記研磨手段が、円形のディスクに、ラッピングフィルム、サンドペーパー、あるいは研磨フィルムを取り付けて研磨面を構成したものであることを特徴とする請求項６に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項８】
前記ラッピングフィルム、サンドペーパー、あるいは研磨フィルムが、面ファスナーを介して前記ディスクに取り付けられていることを特徴とする請求項７に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項９】
前記ディスクの直径が、３０〜７０ｍｍであることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項１０】
前記研磨面の表面粗さが、０．１〜１０μｍであることを特徴とする請求項６ないし請求項９のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項１１】
前記研磨手段が、前記基板を平行移動させる方向に、基板の両面に対して交互に少なくとも２列ずつ対向配置され、かつ基板の各面側で千鳥状に配置されていることを特徴とする請求項６ないし請求項１０のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項１２】
前記基板移動手段が、対向配置されたローラを含み、前記基板をローラで挟んで回転することにより基板を平行移動させるものであることを特徴とする請求項６ないし請求項１１のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項１３】
前記洗浄液供給手段が、シャワーノズル又は前記研磨手段の研磨面に設けた孔から洗浄液を供給するものであることを特徴とする請求項６ないし請求項１２のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項１４】
前記洗浄液供給手段が、１研磨面あたり１０〜３００ｃｃの洗浄液を供給するものであることを特徴とする請求項６ないし請求項１３のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【請求項１５】
前記ガラス面に付着した異物の除去装置が、噴水装置、洗浄液を気体微粒子化して噴射する装置、紫外線照射装置、超音波洗浄装置、エアナイフ、及び赤外線乾燥装置のうち少なくとも１つ以上の装置をさらに具備することを特徴とする請求項６ないし請求項１４のいずれか１項に記載のガラス面に付着した異物の除去装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示基板、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子等のデバイスに使用されるガラス基板に付着した異物を除去する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶表示基板等に使用されるガラス基板を製造する際、ガラスの表面が高温であるときに雰囲気中に浮遊しているガラス粒子などの異物（ガラスカレット）が表面に付着し、長時間、例えば３、４日そのまま放置しておくと固着してしまうことがある。
また、液晶表示基板の作製では、２枚のガラス基板の間に液晶材料を入れてシールする際に使用する封止剤樹脂がガラス基板の表面に付着する場合がある。
このようなガラスカレットや樹脂などの異物はガラス面に固着してしまうと、流水、ブラシ洗浄、あるいは超音波洗浄などで除去することは非常に困難である。
【０００３】
近年では２〜３μｍの異物も除去することが要求されており、上記のようなガラスカレットや樹脂などの異物を除去するための様々な方法が提案されている。
例えば、ガラス面の片面ずつ、カッターの刃を当ててガラス面上を移動させることにより付着している異物を除去する方法がある。しかし、この方法ではカッターの刃をガラス面に当てる際やガラス面上を移動させる際、ガラス表面に傷を付けて不良品にしてしまうことがある。
また、この方法では片面ずつ異物の除去を行うため、一方の面の異物を除去した後、反対側の面の異物を除去するときに異物が再付着してしまうという問題がある。
【０００４】
他の方法として、いわゆる研磨フィルムを使用してガラス面上の異物を除去する方法がある。図８は、研磨フィルムベルトを使用した従来の装置の一例を示したものである。この装置は、研磨フィルムベルト２３を内蔵するヘッド２０下面に研磨面２４が構成され、押え部２１により研磨面２４を若干の圧力を掛けながらガラス基板１０の表面に当て、例えば図９に示されるようにガラス表面上でヘッド２０を移動させながらガラス面の異物を除去するものである。巻き取り部２２でベルト２３が巻き取られるので、研磨面２４は常に新しい面がでるようになっている。
【０００５】
しかしながら、この装置では、研磨ベルトの交換が複雑であるほか、研磨ヘッド２０の重量が約４０ｋｇにもなるので、ガラス面への荷重が大き過ぎ、厚さが０．７ｍｍ以下となるようなガラス基板や、液晶表示基板にこのような高重量のヘッドの荷重が掛かると、ガラス基板が割れたり、液晶表示基板の液晶の配列が崩れて不良品となってしまうという問題がある。
【０００６】
さらに、このように研磨フィルムを用いてガラス面の異物を除去する装置も片面ずつ異物を除去するものであり、設備面積を多くとるという問題のほか、一方のガラス面を研磨し、その後もう片面を反転させて同じような研磨を行うため、洗浄除去されたガラス面に、反対側の面の洗浄中に異物が再付着してしまうという大きな問題点があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
以上のような問題に鑑み、本発明では、ガラス基板のガラス面に付着した異物を、ガラスに傷を付けずに除去することができ、かつ異物の再付着を引き起こすことがないとともに、場所も取らない、ガラス面に付着した異物を除去する技術を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく、本発明によれば、ガラス基板又は少なくとも片面がガラスで構成された基板のガラス面に付着した異物を除去する方法であって、洗浄液を供給しつつ、前記基板の両面に研磨手段の研磨面を回転させながら接触させるとともに、前記基板をガラス面方向に平行移動させて前記ガラス面上の異物を両面同時に除去することを特徴とするガラス面に付着した異物の除去方法が提供される（請求項１）。
【０００９】
このような方法によれば、ガラス面に固着してしまった異物であっても、研磨によりガラス面に傷をつけずに確実に除去することができ、しかも両面同時に異物を除去することができるので、異物が再付着するのを確実に防ぐことができ、高品質のガラス基板や液晶表示基板とすることができる。また、ガラス基板を平行移動させつつ両面同時に処理するので、生産性が非常に高いとともに、場所も取らない。
【００１０】
この場合、研磨手段の研磨面を４０〜５００ｒｐｍで回転させることが好ましく（請求項２）、特に１００〜５００ｒｐｍとすることが好ましい。
このような回転速度で研磨面を回転させれば、ガラス面に傷を付けることなく、両面の異物をより確実に除去することができる。
【００１１】
また、前記洗浄液として、水又は界面活性剤含有液を用いることが好ましい（請求項３）。
本発明では、研磨手段の研磨面により異物の除去を行うので、研磨剤は必ずしも必要でなく、水あるいは界面活性剤含有液を用いることで異物を確実に除去することができる。
【００１２】
前記洗浄液を、１研磨面あたり１０〜３００ｃｃ供給することが好ましい（請求項４）。
このような供給量とすれば、ガラスに傷を付けずに両面の異物をより確実に除去することができる。
【００１３】
また、前記基板に対し、水で洗浄する工程、洗浄液を気体微粒子化して噴射する工程、紫外線を照射する工程、純水で超音波洗浄を行う工程、空気を吹き付けて乾燥する工程、及び赤外線で乾燥する工程のうち少なくとも１つ以上の工程をさらに含むことが好ましい（請求項５）。
研磨によりガラスの両面の異物を同時に除去する工程に、上記のような工程を組み合わせることで、異物の除去、洗浄、リンス、乾燥等を連続して効率的に行うことができる。この場合、工程順については、目的に応じ適宜、変更、省略、追加することができる。
【００１４】
また、本発明によれば、ガラス基板又は少なくとも片面がガラスで構成された基板のガラス面に付着した異物を除去する装置であって、少なくとも前記基板を平行移動させる基板移動手段と、基板のガラス面を研磨する研磨手段と、基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを具備し、前記研磨手段の研磨面が対向配置されており、前記洗浄液供給手段から洗浄液を供給しつつ、前記研磨手段の研磨面を回転させながら、該対向する研磨面に前記基板の両面が接触するように前記基板移動手段により基板をガラス面方向に平行移動させて前記ガラス面上の異物を両面同時に除去するものであることを特徴とするガラス面に付着した異物の除去装置が提供される（請求項６）。
【００１５】
このような装置であれば、ガラス面に固着した異物であっても、ガラス面に傷をつけずに確実に除去することができ、しかも異物を両面同時に除去することができるので、異物が再付着するのを確実に防ぐことができ、高品質のガラス基板や液晶パネルとすることができる。また、ガラスを反転させずに、平行移動させつつ両面同時にガラス面の異物を除去することができるので、生産性が高いとともに設置面積が小さくて済むという利点もある。
【００１６】
研磨手段としては、円形のディスクに、ラッピングフィルム、サンドペーパー、あるいは研磨フィルムを取り付けて研磨面を構成したものとすることができる（請求項７）。
このようにディスクに研磨フィルム等を取り付けたものであれば、簡単に構成できるし、研磨面の表面粗さ（研磨材の粒度）も目的に応じ簡単に交換することができ、異物を確実に除去することができるとともにガラス面に傷を付けるのを防ぐことができる。
【００１７】
この場合、前記ラッピングフィルム、サンドペーパー、あるいは研磨フィルムが、面ファスナーを介して前記ディスクに取り付けられていることが好ましい（請求項８）。
研磨フィルム等が面ファスナーを介してディスクに取り付けられていれば、弾力性が付与され、ガラスに傷を付けるのをより確実に防ぐことができる。また、交換が容易であるという利点もある。
【００１８】
前記ディスクの直径は３０〜７０ｍｍであることが好ましい（請求項９）。
このような大きさのディスクであれば、通常使用される３０〜１５００ｍｍのガラス基板に対応し、ディスクを交換することなくガラス面上の異物を確実に除去することができる。
【００１９】
また、前記研磨面の表面粗さは０．１〜１０μｍであることが好ましく（請求項１０）、特に１〜１０μｍとすることが好ましい。
研磨面の表面粗さを上記の範囲とすれば、ガラス面上の異物を確実に除去することができるとともに、ガラス面に傷がつくのを確実に防止することができる。なお、研磨面の表面粗さとは、研磨面における研磨材により調整されるものであり、研磨材として上記範囲の粒度のものを用いれば良い。
【００２０】
前記研磨手段が、前記基板を平行移動させる方向に、基板の両面に対して交互に少なくとも２列ずつ対向配置され、かつ基板の各面側で千鳥状に配置されていることが好ましい（請求項１１）。
このように研磨手段を配置すれば、研磨手段同士の干渉を避けることができ、装置をコンパクトに構成できるとともに、基板が全ての研磨手段を通過したときには基板の両面が満遍なく研磨手段の研磨面と接触することになり、基板の両面の異物を均一に除去することができる。
【００２１】
前記基板移動手段が、対向配置されたローラを含み、前記基板をローラで挟んで回転することにより基板を平行移動させるものであることが好ましい（請求項１２）。
このように対向配置されたローラを用いれば、研磨中に基板が斜めにずれることなく、所定の速度で確実に平行移動させることができる。
【００２２】
前記洗浄液供給手段は、シャワーノズル又は前記研磨手段の研磨面に設けた孔から洗浄液を供給するものとすることができ（請求項１３）、また、１研磨面あたり１０〜３００ｃｃの洗浄液を供給するものであることが好ましい（請求項１４）。
このように洗浄液を供給するようにすれば、各研磨面に対して所定量の洗浄液を確実に供給することができ、ガラス面の異物の除去と傷の防止を確実に行うことができる。
【００２３】
前記ガラス面に付着した異物の除去装置が、噴水装置、洗浄液を気体微粒子化して噴射する装置、紫外線照射装置、超音波洗浄装置、エアナイフ、及び赤外線乾燥装置のうち少なくとも１つ以上の装置をさらに具備することができる（請求項１５）。
上記のような各装置を組み込むことで、異物の除去、洗浄、リンス、乾燥等を連続して効率的に行うことができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明者らは、ガラス基板に対する従来の洗浄技術について実験、検証を行うとともに、異物の再付着を防ぐ方法について多くの実験を繰り返した結果、従来のような片面ずつの除去方法では異物の再付着を防止するのは非常に困難であることが分かった。
【００２５】
そこで本発明者らは、ガラス面に付着しているガラスカレットや樹脂異物を両面同時に除去することが有効であると考え、鋭意検討を行うとともに実験を重ねた結果、洗浄液を供給しつつ、基板の両面に研磨手段の研磨面を回転させながら接触させるとともに、基板をガラス面方向に平行移動させてガラス面上の異物を両面同時に除去することで、ガラスに傷を付けずに異物を確実に除去することができる上、異物が再付着するのを防止することができることを見出し、本発明の完成に至った。
【００２６】
図１は本発明に係るガラス面に付着した異物の除去装置の一例の概略を示したものであり（Ａ：平面図、Ｂ：正面図）、図２はこの装置の一部を拡大して示したものである。
この装置１は、ガラス基板を平行移動させる基板移動手段３と、基板のガラス面を研磨する研磨手段２ａ，２ｂと、基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段４とを具備している。
【００２７】
基板移動手段は主にローラ３で構成されており、一部のローラはモータ（不図示）により回転駆動することができ、基板を平行移動させることができる。例えば、図４に示されるように一部に対向配置されたローラ３ａ，３ａ′を含んでおり、ガラス基板１０をこのローラ３ａ，３ａ′で挟んで回転駆動することにより、基板１０が研磨中に斜めにずれるのを防いで確実に平行移動させることができる。このように基板を挟持するようにすれば、様々なサイズの基板の処理に対応できる利点がある。
【００２８】
研磨手段としては、図５に示されるように円形のディスク６に研磨フィルム７を取り付けて研磨面８を構成したものが使用されている。研磨フィルム７としては、例えば樹脂及び布に研磨材（酸化アルミニウム、酸化セリウム等）を充填し、フィルムに塗布して硬化させたものを使用することができる。
研磨フィルム７は両面粘着テープでディスク６に取り付けてもよいが、面ファスナーを介してディスクに取り付けることで若干の弾力性を持たせることができる。なお、この面ファスナーとは、一般的にマジックテープ（登録商標）として知られているものである。このように弾力性を持たせることで、ガラス面に傷をつけることなく異物を確実に除去することができる。また、面ファスナーを用いれば研磨フィルムの交換が容易であるという利点もある。
【００２９】
また、研磨フィルムの代わりに例えば研磨面が四角錘状の微小な突起を有するように加工されたラッピングフィルムや、非常に目の細かいサンドペーパーを使用することもできる。ただし、研磨面の表面粗さ（研磨材の粒度）が大きくなるとガラスに傷を付けてしまうおそれがあるので、異物の除去を行うことができるとともに、ガラスの表面の品質に影響するような傷を付けないものを選ぶ必要がある。
【００３０】
図１の装置１では、研磨フィルム７を取り付けたディスク６（以下、「研磨ディスク」という場合がある）が、ガラス基板を平行移動させる方向に基板の両面に対して、上側の研磨ディスク２ａと下側の研磨ディスク２ｂが交互に２列ずつ対向配置され、かつ基板の各面側（上側同士、下側同士）の２列の研磨ディスク２ａ，２ｂはそれぞれ千鳥状に配置されている。
【００３１】
このように研磨ディスク２ａ，２ｂを配置しておくことで、ディスク２ａ，２ｂ同士の接触が防がれるとともに、ローラ３によって平行移動されたガラス基板１０の両面に研磨フィルム７（研磨面８）を順次接触させることができ、ガラス基板１０が４列の研磨ディスク２ａ，２ｂを全て通過したときには、基板１０の両面全体が研磨フィルム７（研磨面８）と接触することになる。
なお、ディスク２ａ，２ｂは個々に制御することができるものとすることが好ましく、例えば、各ディスク毎、あるいは各列毎にディスクの回転方向や回転数を変えても良い。また、１列におけるディスクの数は任意であるし、列の数を片面でそれぞれ３以上としてもよく、例えば表面粗さの異なる研磨フィルムを用いて、粗研磨後に精研磨を行うようにしてもよい。
【００３２】
さらに図１の装置１では、洗浄液供給手段として、図２に示されるように各研磨ディスク２ａ，２ｂの近くにシャワーノズル４が配置されている。このシャワーノズル４は、図３に示されるように複数の孔５が設けられており、ノズル４内部に洗浄液をポンプ圧送することで各研磨ディスク２ａ，２ｂとガラス基板１０との間に所定量の洗浄液を供給することができる。なお、洗浄液供給手段としては、研磨ディスク２ａ，２ｂの中央に孔を設け、その孔から洗浄液を供給できるようにしても良い。この場合、研磨フィルムも中央に孔を設けたものとなるが、このようなドーナツ形状であっても、十分な研磨効果が得られ、ガラス基板の表面を良好に仕上げることができる。
【００３３】
この装置１を用いてガラス面に付着した異物を除去するには、シャワーノズル４から洗浄液を供給しつつ、研磨ディスク２ａ，２ｂを所定の回転速度で回転させながら、対向する研磨面８に基板１０の両面が接触するようにローラ３により基板１０をガラス面方向に平行移動させる。このようにしてガラス基板１０はローラ３の回転によりガラス面方向に所定の速度で平行移動され、基板１０の上表面の一部、下表面の一部、上表面の残りの部分、下表面の残りの部分という順序で両面全体が研磨面８と接触し、ガラス面上の異物を両面同時に確実に除去することができる。このように両面同時に処理することで、異物の再付着が防止され、生産性が向上し、処理スペースも小さくすることができる。
【００３４】
なお、上記のように研磨フィルムを用いてガラス面上の異物の除去を行った場合、ガラス面に極めて細かい傷が生じることになるが、このような傷は品質に影響を及ぼすようなものではない。また、ガラス基板に強い荷重が掛かることもないので、ガラス基板が割れるおそれもほとんど無い。従って、両面とも異物の付着がない、極めて高品質のガラス基板に仕上げることができる。
【００３５】
本発明における研磨手段の研磨面の表面粗さ、洗浄液の供給量等は適宜設定すれば良いが、本発明者らは最適な研磨条件を求めるべく、研磨フィルムの表面粗さ、ディスクの回転数、洗浄液の供給量、ディスクの大きさ等に関して以下のような実験を行い、最適な条件を見出した。
【００３６】
（１）表面粗さに関する実験
表面粗さが０．５〜２０μｍの研磨フィルム（研磨材：酸化アルミニウム）を直径６０ｍｍのディスクに面ファスナーを用いて取り付けたものを用い、回転数３００ｒｐｍで研磨後の異物の除去効果及びガラス表面の傷の発生状況を調べた。表１にその結果を示す。なお、評価は以下のようにして行った。
異物除去効果
○：初期の目的を達成し、良好。
△：初期の目的は未達であるが、効果はみられた。
×：除去効果が不十分。
ガラス表面の傷の発生
○：傷の発生がなく、良好。
△：傷の発生が見られたが、量、大きさはそれぞれ小さい。
×：傷の発生が見られ、品質に影響するおそれがある。
【００３７】
【表１】
2004122097.tif 000003
【００３８】
表１に示す実験結果から、研磨面の表面粗さは、１〜１０μｍであれば異物の除去効果を十分発揮することができるとともにガラス表面の傷の発生を確実に防止することができることが分かった。
一方、研磨面の表面粗さが１μｍより小さい場合、ガラス面に付着したガラスカレットや樹脂異物を十分除去することができないおそれがあり、また、１０μｍより大きくなると、ガラス面の品質に影響する傷をつけてしまうおそれがあることが分かった。
さらに、研磨材を酸化セリウムとした別の研磨フィルムを用いて同様の調査を行ったところ、表面粗さが０．１〜１０μｍの場合で十分な異物除去効果が得られ、また、ガラス面の傷の発生は無かった。
【００３９】
（２）ディスクの回転数に関する試験
表面粗さが５μｍの研磨フィルム（研磨材：酸化アルミニウム）を取り付けた直径６０ｍｍのディスクの回転数を３０〜９００ｒｐｍに設定し、異物除去効果とガラス表面の傷の発生に関して上記と同様の評価を行った。結果を表２に示した。
【００４０】
【表２】
2004122097.tif 000004
【００４１】
表２に示す実験結果から、異物の除去効果と傷の発生状況の有無を総合的に評価して、１００〜５００ｒｐｍであれば、異物を確実に除去することができるとともに、傷を発生させず好ましいことが分かった。
また、別の研磨フィルム（研磨材：酸化セリウム）を用いて同様の実験を行ったところ、４０〜５００ｒｐｍで異物除去と傷発生防止の両方に関して高い効果が得られた。
【００４２】
（３）洗浄液の供給量に関する試験
表面粗さが５μｍの研磨フィルムを取り付けた直径６０ｍｍのディスクを用い、回転数３００ｒｐｍで研磨する時の１研磨面あたりの洗浄液（水）の供給量を２〜５００ｃｃに設定して、同様の評価を行った。その結果を表３に示した。
【００４３】
【表３】
2004122097.tif 000005
【００４４】
表３に示す実験結果から、異物の除去効果と傷の発生状況の有無を総合的に評価して、洗浄液は１研磨面あたり１０〜３００ｃｃ供給することが好ましいことが分かった。
なお、流量が１ディスク（研磨面）あたり１０ｃｃ未満となる場合、ガラス面に傷が生じたり、異物が十分に除去されないおそれがある。一方、流量が３００ｃｃより多い場合、研磨効果が少なくなり、ガラス面上の異物の除去が不十分になるおそれがあるほか、洗浄液によるコストが上昇して経済効果への影響があり適正でない。
【００４５】
（４）研磨ディスクの大きさに関する試験
直径１０〜２００ｍｍのディスクを用意し、各ディスクに表面粗さが５μｍの研磨フィルムを取り付け、回転数を３００ｒｐｍ、洗浄液の供給量を１００ｃｃとして同様の評価を行った。その結果を表４に示した。
【００４６】
【表４】
2004122097.tif 000006
【００４７】
表４に示す実験結果から、異物の除去効果と傷の発生状況の有無を総合的に評価して、ディスクの直径は３０〜７０ｍｍが好ましいことが分かった。これは、回転するディスクの中心部と外周部の周速の差が研磨量とガラスへのダメージ（傷の発生程度）に大きく影響するためと思われる。
【００４８】
なお、通常、液晶パネル等に使用されるガラス基板は一辺の長さが３０〜１５００ｍｍの四角形状であり、処理する基板の大きさ毎にディスクサイズを変えることはコストの上昇を招いてしまうが、直径３０〜７０ｍｍのディスクを図１の装置のように配置することで、３０〜１５００ｍｍ角のいずれの大きさのガラス面に付着している異物でもガラス面に傷を付けることなく両面同時に確実に除去処理をすることができる。
【００４９】
本発明に係るガラス面に付着した異物を除去する装置としては、図１に示す装置を中軸として、噴水装置、洗浄液を気体微粒子化して噴射する装置、紫外線照射装置、超音波洗浄装置、エアナイフ、及び赤外線乾燥装置のうち少なくとも１つ以上の装置をさらに具備して構成することもできる。
【００５０】
図７は、ＬＤ（ローダ）４１、純水シャワー装置（噴水装置）４２、図１に示される異物除去装置４３、純水を気体微粒子化して噴射する装置４４、純水超音波装置４５、純水シャワー装置４６、乾燥空気を噴出して乾燥を行うエアナイフ４７、ＵＬＤ（アンローダ）４８を順次組み合わせた装置５０を示している。このように構成したガラス面の異物を除去する装置５０とすれば、ガラス基板をローラによって順次平行移動し、基板の両面の異物を除去した後、洗浄、乾燥仕上げまでを連続的に行うことができる。
【００５１】
なお、洗浄液を気体微粒子化して噴射する装置４４としては、例えば図６に示されるような洗浄ノズルを備えた装置を使用することができる。
この洗浄ノズル３０には、洗浄液を攪拌して気体微粒子化する攪拌室３１が設けられており、洗浄液供給口３３から例えば２００Ｌ／ｍｉｎ程度の流量で供給された洗浄液は、攪拌室３１内で攪拌され、その内壁に衝突し散乱する。散乱した洗浄液は洗浄液中に溶存した気体および攪拌室３１中に当初から存在した空気等と一緒に攪拌室３１内で攪拌、混合され、気体微粒子が発生する。この気体微粒子を含む液は、スリット形状の液体放出口３４から連通する混合室３２に送られる。
【００５２】
混合室３２では、この気体微粒子を含む液を、気体供給口３５から供給される気体と混合し、スリット形状である洗浄液噴射口３６から気体と混合して洗浄液として噴射する。このように、すでに気体微粒子を含んだ洗浄液を気体と混合してガラス基板に噴射するため、洗浄液は均一に気体混合液体になり、その微粒子のサイズも極めて微細なものとすることができる。そのため、高い洗浄効率で洗浄できるし、ガラス基板に損傷を与えることを防ぐことができる。また、供給する気体の圧力を小さくできるので、使用する洗浄液の流量も小さくすることが可能であり、洗浄コストの低減がはかれる。
【００５３】
本発明の装置に組み込まれる装置の組み合わせは図７に示したものに限定されず、例えば以下の１）〜４）のような組み合わせとすることもできる。
１）噴水（市水）装置＋図１に示す装置＋噴水（純水）装置＋エアナイフ
２）噴水（市水）装置＋洗浄液を気体微粒子化して噴射する装置
＋図１に示す装置＋純水超音波洗浄装置＋エアナイフ
３）図１に示す装置＋噴水（純水）装置＋紫外線照射装置
＋純水超音波洗浄装置＋エアナイフ
４）噴水（市水）装置＋洗浄液を気体微粒子化して噴射する装置
＋図１に示す装置＋噴水（純水）装置＋紫外線照射装置
＋純水超音波洗浄装置＋赤外線乾燥装置
【００５４】
このように図１の装置と、上記のような装置を組み合わせたものとすれば、図１の装置による異物の除去工程と、基板に対し、水で洗浄する工程、洗浄液を気体微粒子化して噴射する工程、紫外線を照射する工程、純水で超音波洗浄を行う工程、空気を吹き付けて乾燥する工程、及び赤外線で乾燥する工程のうち少なくとも１つ以上の工程を連続的に行うことができ、ガラス面上の異物除去、洗浄、リンス、乾燥等を連続的に行うことができる装置とすることができる。もちろん、これら以外の装置を単に具備するものとしてもよいし、一部省略、置き換え等するのは任意である。
【００５５】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は単なる例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００５６】
上記の実施形態では１枚のガラス基板を処理する場合について説明したが、本発明が適用できるガラス基板は上記のものに限定されず、特に、液晶パネルやＥＬ素子、さらに成膜前の素ガラスや成膜後のガラス基板など、少なくとも片面がガラスで構成された基板（デバイス）の異物除去に好適に適用することができる。
また、上記実施形態で説明した装置は、基板を水平にして移動させるものであるが、基板を垂直に移動させるものとしても良いし、研磨手段の数や配置もガラス基板の両面を満遍なく研磨できるものであれば、特に限定されるものではない。
【００５７】
【発明の効果】
本発明によれば、ガラス基板の両面に研磨手段の研磨面を接触させることでガラス面上に付着しているガラスカレット、樹脂異物を両面同時に除去することができるので、ガラス面に傷を付けずに異物の除去を効率的に行うことができ、異物の再付着を防ぐこともできる。特に、フラットパネルディスプレイ業界を中心にエレクトロニクス産業の洗浄で課題とされているサブミクロン洗浄を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るガラス面に付着した異物の除去装置の一例を示す概略図である。
（Ａ）平面図
（Ｂ）正面図
【図２】シャワーノズルの位置を示す部分拡大図である。
【図３】シャワーノズルの概略図である。
【図４】基板移動手段の一例（ローラ）を示す概略図である。
【図５】研磨手段の一例を示す部分概略図である。
【図６】洗浄液を気体微粒子化して噴射する装置の洗浄ノズルの一例を示す概略図である。
【図７】装置の組み合わせの一例を示す概略図である。
【図８】ガラス面上の異物を除去する従来の装置（研磨ヘッド）の概略図である。
【図９】研磨ヘッドの移動方向を示す説明図である。
【符号の説明】
１…ガラス面に付着した異物の除去装置、
２ａ，２ｂ…研磨手段（研磨ディスク）、　３…基板移動手段（ローラ）、
４…洗浄液供給手段（シャワーノズル）、　６…円形のディスク、
７…研磨フィルム、　８…研磨面、　１０…ガラス基板、
２０…研磨ヘッド、　２１…押え部、　２２…巻き取り部、
２３…研磨フィルムベルト、　２４…研磨面、　３０…洗浄ノズル、
３１…攪拌室、　３２…混合室、　３３…洗浄液供給口、
３４…液体放出口、　３５…気体供給口、　３６…洗浄液噴射口、
４１…ローダ、　４２…純水シャワー装置、　４３…異物除去装置、
４４…純水を気体微粒子化して噴射する装置、　４５…純水超音波洗浄装置、
４６…純水シャワー装置、　４７…エアナイフ、　４８…アンローダ、
５０…ガラス面に付着した異物の除去装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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