(57)【要約】【課題】  反りやうねりがなく、表面平滑性に優れ、充分な強度、耐熱性を兼ね備えた、液晶表示素子用基板等の光学用高分子シートとして優れた特性を持つ高分子シートを効率よく連続生産するための製造方法を提供する。【解決手段】  転写用基材に硬化性樹脂組成物を塗布し、これをベースシート上にラミネートして硬化反応を進め、ＦＴ−ＩＲスペクトルにおける吸光ピークから求められる反応率が、１〜５０％の時に転写用基材を硬化性樹脂組成物から剥離して、さらに硬化させる表示素子用プラスチックシートの製造方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用基材に硬化性樹脂組成物を塗布し、これをベースシート上にラミネートして硬化反応を進め、ＦＴ−ＩＲスペクトルにおける吸光ピークから求められる反応率が、１〜５０％の時に転写用基材を硬化性樹脂組成物から剥離して、さらに硬化させる表示素子用プラスチックシートの製造方法。
【請求項２】
前記転写用基材が、ポリエステルフィルムであることを特徴とする請求項１記載の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
【請求項３】
前記転写用基材が、離型処理されている請求項１または２記載の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
【請求項４】
前記ベースシートが、樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
【請求項５】
前記ベースシートが、ポリエーテルサルホンであることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
【請求項６】
前記硬化性樹脂組成物が、アクリレート化合物、エポキシ樹脂、オキセタン化合物から選ばれた１種以上を主成分とした紫外線硬化性樹脂組成物であることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
【請求項７】
前記硬化性樹脂組成物が、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂から選ばれた１種以上を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面平滑性に優れた表示素子用プラスチックシートの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子等の表示素子用透明電極基板にはガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しにくいという欠点があり、更に耐衝撃性の点で問題があった。
このガラス基板表示素子のもつ欠点を改善する方法として、高分子シートを用いて表示素子を作製することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討されている。
従来、ガラス基板の代わりに導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエステルフィルムを用いて液晶表示素子を連続して製造することが示されている。（例えば、特許文献１及び特許文献２を参照）。ところが、研磨により極めて良好な平滑性が得られるガラス基板と異なり、高分子シートの場合には表面の平滑性に優れているとは言い難いものであった。特に、高精細な表示を得るためにＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型液晶表示素子
とした場合には、間隔を0.1μm単位で制御された基板間の液晶の複屈折性を利用して表示を行なうために前記の高分子シートの表面平滑性が極めて重大になっている。
【０００３】
表面平滑性を解決する方法として、液状の紫外線硬化性樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物を研磨ガラス面上等に流し込み、これを硬化してシートを得る方法が提案されている。しかし、本方法では、得られるシートが脆く取り扱い時に割れたり欠けるという問題が起こっており、ガラス基板に対して高分子シートを用いる優位性が十分発揮されていない。さらに、該方法は生産性が低く、結果として基板が高価になってしまう。また、表面を研磨した金属ロールやエンドレスベルトの表面を連続的に転写する方法が提案されているが、金属と硬化性樹脂層の離型性が充分でなかったり、金属との離型性が良好な硬化性樹脂では、硬化後の耐熱性が不足しており、液晶表示素子として使用すると、異方導電フィルムによる接続信頼性が低下したり、表示品位が低下する問題があった。
【０００４】
また、耐熱性のあるベース基板に、硬化性の樹脂を平滑にコートして硬化することで、表面平滑性を得る方法が提案されている。ところが、ベース基板の片面にワイヤーバーなどを用いて硬化性樹脂を塗布して硬化すると、硬化性樹脂の硬化収縮により基板に反りが発生するため、つづいて塗布面の裏面に同様に硬化性樹脂を塗布する際に、反りが発生した基板に塗布するため、基板面内で膜厚が均一にすることが困難であり、両面塗布後でもなおベース基板に反りが解消しない問題があった。また、ディップ法などの方法で、低粘度の液を直接基板の両面に同時にコートすると、塗布後、乾燥および硬化するための加熱時に、液の粘度が更に低下して液が流れ、垂直方向に膜厚分布が発生するために、基板にうねりが発生する問題があった。また、両面同時に塗工、乾燥ができる製造装置は、装置自体が高価になる問題があった。
【０００５】
【特許文献１】特開昭５３−６８０９９号公報
【特許文献２】特開昭５４−１２６５５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的とするところは、反りやうねりがなく、表面平滑性に優れ、充分な強度、耐熱性を兼ね備えた、液晶表示素子用基板等の光学用高分子シートとして優れた特性を持
つ高分子シートを効率よく連続生産するための製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明は、
（１）  転写用基材に硬化性樹脂組成物を塗布し、これをベースシート上にラミネートして硬化反応を進め、ＦＴ−ＩＲスペクトルにおける吸光ピークから求められる反応率が、１〜５０％の時に転写用基材を硬化性樹脂組成物から剥離して、さらに硬化させる表示素子用プラスチックシートの製造方法。
（２）  前記転写用基材が、ポリエステルフィルムであることを特徴とする（１）の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
（３）  前記転写用基材が、離型処理されている（１）、（２）の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
（４）  前記ベースシートが、樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であることを特徴とする（１）〜（３）の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
（５）  前記ベースシートが、ポリエーテルサルホンであることを特徴とする（１）〜（３）の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
（６）  前記硬化性樹脂組成物が、アクリレート化合物、エポキシ樹脂、オキセタン化合物から選ばれた１種以上を主成分とした紫外線硬化性樹脂組成物であることを特徴とする（１）〜（５）の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
（７）  前記硬化性樹脂組成物が、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂から選ばれた１種以上を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であることを特徴とする（１）〜（５）の表示素子用プラスチックシートの製造方法。
である。
【発明の効果】
【０００８】
転写用基材に硬化性樹脂組成物を塗布し、これをベースシート上にラミネートして硬化反応を進め、ＦＴ−ＩＲスペクトルにおける吸光ピークから求められる反応率が、１〜５０％の時に転写用基材を硬化性樹脂組成物から剥離して、さらに硬化させる表示素子用プラスチックシートの製造方法により、表面平滑性に優れ、液晶表示素子用基板等の光学用高分子シートとして優れた特性を持つ高分子シートを効率よく連続生産することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明中のベースシートの例を挙げると、ポリエステル、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドした樹脂等の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性の樹脂成型物や、これらの樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板などをあげることができるがこれらに限定されるものではない。中でも液晶表示素子製造上、耐熱性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルサルホンや、耐熱性のあるエポキシ樹脂などをガラスクロスに含浸させた積層板が特に好ましい。ベースシートの厚みは、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、更に好ましくは５０μｍ以上４００μｍ以下である。ベースシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやすく取り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔の保持が難しく、５００μｍを越えると、基板を屈曲したときに割れやすくなる。ベースシートの表面には、その上に積層する硬化性樹脂組成物との密着性を向上させるために、コロナ処理、ＵＶ−オゾン処理、カップリング剤によるプライマー処理を施したり、銅箔の表面など微細な凹凸のある面を転写させたり、サンドブラスト処理したりして、表面に微細な凹凸を施しても良い。
【００１０】
つづいて、ベースシートに硬化性樹脂組成物を積層する際、一旦転写用基材に硬化性樹
脂組成物を塗布し、溶剤があれば乾燥させた後、この転写基材上の樹脂を、ベースシート上にラミネートにより転写する。こうする事によって、両面同時にベースシート上に硬化性樹脂組成物を積層することが可能であり、片面に積層された硬化性樹脂組成物の硬化収縮による反りが発生しない。さらに、ベースシート上へラミネートされた時点では、すでに硬化性樹脂組成物中の溶剤が乾燥され、樹脂の硬化も進めることができるので、粘度低下による液流れがなく、コート厚みムラが発生しないので、反り、うねりがないシートを作成できる。また転写基材への硬化性樹脂組成物の塗布やベースシート上へのラミネート等は、汎用の装置によりロール−to−ロールで加工できるため生産性が良く、コストメリットも高い。
【００１１】
本発明で用いられる転写用基材の例を挙げると、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドした樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂が挙げられる。中でも、耐熱性、厚み精度、コストの面から二軸延伸したポリエステルフィルムが好ましい。転写用基材の厚みは、２５μｍ以上３００μｍ以下が好ましく、２５μｍ以上２００μｍ以下がより好ましい。転写用基材の厚みが２５μｍ未満であると、塗工時やラミネート時にシワが発生して取り扱いが困難であり、３００μｍを超えるとコストが高くなる問題がある。転写用基材の表面には、離型処理、帯電防止処理、易滑処理などを施しても良い。離型処理で用いられる離型剤の例を挙げると、ワックス、シリコーンオイル、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂を挙げることができる。
【００１２】
本発明で転写用基材に塗工する硬化性樹脂組成物としては、紫外線もしくは熱で硬化できる各種樹脂が適用できる。好ましい硬化性樹脂組成物としては、アクリレート化合物、エポキシ樹脂、オキセタン化合物から選ばれる1種以上を主成分とした液状の紫外線硬化
性樹脂組成物や、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂から選ばれる１種以上を主成分とした熱硬化性樹脂組成物、またはこれらを混合したもの等が挙げられる。これらの樹脂は、塗布装置により転写用基材上に塗布し、溶剤を含む場合には乾燥装置により溶剤を揮発させる。樹脂成分には、必要に応じてフィラー成分、界面活性剤、消泡剤、帯電防止剤などを添加しても良い。
【００１３】
つづいて、表面に硬化性樹脂組成物を塗工した転写用基材を、ベースシートにラミネートして密着させる。この際には、加熱等により、硬化性樹脂組成物は軟化または液化している方が好ましい。これは、硬化性樹脂組成物とベースシートの密着性を向上させる効果があり、特にベースシートに微細な凹凸がある場合には、ラミネートによる気泡の噛み込みを防止するためにも重要である。硬化性樹脂組成物には、溶剤を含まなくても室温で軟化しているものや液状のものも有るが、そうでない場合は密着する前にヒーター等により加熱を行なうか、貼り合わせ時の温度を上げて密着と同時に軟化させると良い。密着させる方法としては、ニップロールや帯電固定等の方法が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００１４】
硬化性樹脂組成物を塗工した転写用基材を、ベースシートにラミネートして密着させた後、このシートから、転写用基材のみを剥離して、硬化性樹脂組成物を転写したベースシートを作成する。この転写基材を剥離する時の硬化性樹脂組成物の硬化度が非常に重要である。転写用基材と硬化性樹脂組成物が接触した状態で、硬化性樹脂組成物の硬化反応を進め過ぎると、硬化性樹脂組成物は接着材として機能して、転写用基材と硬化性樹脂組成物が離型できなくなる。そこで本発明者らは、ＦＴ−ＩＲスペクトルにおける吸光ピークから求められる反応率が、１〜５０％、より好ましくは５〜２０％の時に転写用基材を硬化性樹脂組成物から剥離することで、上記離型が可能となることを見出した。
【００１５】
なお、硬化性樹脂組成物を乾燥する時の熱等により、硬化性樹脂組成物の硬化が進行するため、反応率を１％未満で制御するのは困難である。また、反応率が５０％以上であると転写用基材が硬化性樹脂組成物から離型しなくなる問題がある。転写用基材に離型処理をすることで硬化性樹脂組成物との離型性を上げることもできるが、離型効果が高い転写用基材面に硬化性樹脂組成物を塗工，乾燥すると、塗工時に樹脂成分がはじいて外観不良が発生したり、より離型効果が高い場合には塗工ができなくなる場合もある。よって硬化性樹脂組成物を転写用基材に外観不良なく塗工し、かつベースシートへ転写した後に離型性を確保するという、相反する特性を両立させるためには、硬化性樹脂組成物の反応率を規定することが必要である。
【００１６】
また、転写用基材を離型する際の硬化性樹脂組成物の反応率が５０％以上の場合は、転写後の硬化性樹脂組成物の表面は、転写用基材の表面形状とほぼ同じになるになるため、平滑な表面を得ようとすると、転写用基材には表面が平滑なものしか適用できない。非常に表面が平滑な転写用基材としては二軸延伸したポリエステルフィルムや、ポリイミドフィルム等が上げられるが、前者では表面平滑性が不充分であったり、後者は工程紙として用いるには非常にコストが高い問題がある。一方、反応率５０％以下で転写用基材を剥離した場合には、その後の加熱処理で樹脂を再度軟化させることでレベリングさせ、表面張力により形成される自由表面により表面を形成するので、低コストの転写用基材であっても、非常に表面平滑性が高い硬化性樹脂組成物を得ることができる。転写用基材の反応率は、例えばエポキシ樹脂とシアネート樹脂からなる熱硬化性樹脂組成物の場合、硬化性樹脂組成物のＦＴ−ＩＲスペクトルにおける２２６２ｃｍ−１でのシアネート基の吸光ピーク（Ａ）と、９０７ｃｍ−１でのメチレン基の吸光ピーク（Ｂ）の高さの比（Ａ／Ｂ）から求められる。
【００１７】
転写用基材を剥離した後の焼成方法も、シートの表面平滑性に影響を及ぼす。シートの両面に転写法により硬化性樹脂組成物を塗工する場合、基板に求められる平滑性がシートの表裏で異なる場合は、シートの表裏で焼成条件を変更しても良い。例えば、液晶表示素子用の基板など、セルギャップが均一であることが要求される用途では、基板の片面のみ平滑であれば良いが、透過光の位相差が重要である場合には両面が平滑である必要がある。平滑性が片面のみ必要な場合は、硬化性樹脂組成物が塗工された転写基材を、両面同時にベースシートにラミネートした後、転写基材を両面剥離してシートを横置きにして硬化させる。この場合、平滑面とさせる面を、上面を横置きにして硬化させる。横置きにして硬化させる方法は、硬化する過程で樹脂の粘度が低く、縦置きにした時に樹脂が流れて表面に外観不良が発生する場合には、必須となる。具体的には、シートの端部を治具で保持した後、弛まない様に張力をかけて固定したり、面内に均等に配置した針状の保持時具の上にシートを置いたり、フッ素やシリコーン加工した離型性の高い面に接触させてシートをおいて硬化することができる。また、両面の平滑性が必要な場合は、これらの方法に加えて、転写基材をラミネート後、片面のみ剥離して、片面の硬化性樹脂組成物を紫外線などで硬化させ、つづいて裏面の転写基材を剥離して同様に硬化させると良い。
【００１８】
ベースシート上に、ＦＴ−ＩＲスペクトルにおける吸光ピークから求められる反応率５０％以下の硬化性樹脂組成物を転写により形成した後、硬化性樹脂組成物をレベリングさせて表面平滑性を上げるために、樹脂が軟化するまで加熱し、つづいて硬化性樹脂組成物の反応率を上げるために、さらに加熱もしくは紫外線を照射する。加熱方法は、特に限定しないが、熱風乾燥のほかに赤外線ヒーターやマイクロウエーブ加熱などの方法を用いても良い。硬化性樹脂組成物によっては、高圧水銀ランプなどによる紫外線硬化や、電子線硬化等を用いることもできる。以上のようにして製造される高分子シートは、液晶表示素子用基板用や光学ミラー用の基板等に好適に用いることができる。
【実施例】
【００１９】
（実施例１）
ＰＥＴフィルム（東洋紡製、Ａ４１００、５００ｍｍ幅、１２５μ厚）の平滑面に、エポキシ樹脂（新日鐵化学製ＥＳＮ−３７５）３０重量部、シアネート樹脂（ロンザジャパン製ＰＴ−３０）１０重量部、酸触媒（ダイセル化学工業製Ｅｘ−１）０．６重量部、シリコーン系界面活性剤０．０４重量部（樹脂成分に対して１０００ｐｐｍ）、シクロヘキサノン３５重量部、Ｎ−メチルピロリドン３５重量部を調合してなる熱硬化性樹脂組成物ワニスを、連続コーターで、乾燥膜厚１０μｍになるように塗工し、乾燥条件として１２０℃で３分間乾燥し、仮硬化させた。乾燥後の熱硬化性樹脂組成物はタックフリーで、３７０ｍｍ×４７０ｍｍサイズ内での厚みばらつきは１０．０μｍ±１．０μｍであった。この第１段階の硬化時に、乾燥後の有機コート層のＦＴ−ＩＲスペクトルにおける２２６２ｃｍ−１でのシアネート基の吸光ピーク（Ａ）と、９０７ｃｍ−１でのメチレン基の吸光ピーク（Ｂ）の高さの比（Ａ／Ｂ）から求められる反応率は約５％であった。つづいて上記熱硬化性樹脂組成物ワニスに、粒径５００ｎｍ球状シリカフィラーを６０重量部加えた後、日東紡製ガラスクロス（厚み０．１７ｍｍ）に、乾燥後の厚みが０．２ｍｍになるように樹脂を含浸させ、２５０℃で２時間焼成、硬化させてベースシートを作成した。得られたベースシートを０．２ｍｍ厚×３７０ｍｍ×４７０ｍｍサイズに切り出し、熱硬化性樹脂組成物付きＰＥＴフィルムを、熱硬化性樹脂組成物がベースシートに接するように、温度８０℃、速度０．１ｍ／ｍｉｎ、線圧０．５ｋｇ／ｃｍで、ベースシートの両面にラミネートした。ラミネート時に、熱硬化性樹脂組成物は充分に軟化してベースシートに気泡の噛み込みなどの外観不良も無くラミネートされた。また、ラミネート後の熱硬化性樹脂組成物を、ＦＴ−ＩＲで測定したところ、吸光ピークの高さ比（Ａ／Ｂ）より求められる反応率は約１０％と、ラミネート前と同じであった。ラミネートされたシートを室温まで充分に冷却した後、ＰＥＴと熱硬化性樹脂組成物の界面でＰＥＴフィルムだけを剥離して、熱硬化性樹脂組成物付きのベースシートを作成した。続いて、１８０℃２０分、シートの端部を治具で保持した後、弛まない様に張力をかけて固定してシートを水平に保持して焼成し、第２段階の硬化処理を行なった。焼成後の熱硬化性樹脂組成物をＦＴ−ＩＲで測定すると、吸光ピークの高さ比（Ａ／Ｂ）より求められる反応率は、９１％であった。さらにシートを２５０℃２時間焼成して、熱硬化性樹脂組成物の反応率が９３％のシートを得た。焼成後も熱硬化性樹脂組成物の膜厚の面内ばらつきは、１０．０μｍ±０．５μｍと良好であった。得られたシートは、平板上に置いた時にも反りやうねりがなく、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、強度、耐熱性などの条件も表示素子用の基板として十分使用可能であった。
【００２０】
（実施例２）
熱硬化性樹脂組成物ワニスとして、イソシアヌール酸トリアクリレート（東亜合成化学Ｍ−３１５）６０重量部、分子量１５４０融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子製、ＶＲ−６０）４０重量部、酢酸ブチル３００重量部，セロソルブアセテート１００重量部，ベンゾインエチルエーテル２重量部からなる紫外線硬化性樹脂組成物を５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたものを調整した。これを平滑面側に０．１μｍ厚でシリコーン系の離型処理したＰＥＴフィルム（東洋紡製、Ａ４１００、５００ｍｍ幅、１２５μ厚）に、離型処理面にグラビヤロールコーターで乾燥後の膜厚が１０μｍになるように塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状の軟化状態であった。また、紫外線硬化性樹脂組成物を、ＦＴ−ＩＲで測定したところ、１４０９ｃｍ−１でのアクリレート基の吸光ピーク（Ａ）と、１５１１ｃｍ−１での芳香環の吸光ピーク（Ｂ）の高さの比（Ａ／Ｂ）より求められる反応率は約１０％であった。つづいて、ベースシートである厚さ２００μｍ、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのポリエーテルサルホンに、この紫外線硬化性樹脂組成物付きＰＥＴフィルムを、紫外線硬化性樹脂組成物がベースシートに接するように、温度８０℃，速度０．１ｍ／ｍｉｎ、線圧０．５ｋｇ／ｃｍで、シートの両
面にラミネートした。ラミネート時に、有機コート層は充分に軟化してベースシートに気泡の噛み込みなどの外観不良も無くラミネートされた。また、ラミネート後の紫外線硬化性樹脂組成物を、ＦＴ−ＩＲで測定したところ、吸光ピークの高さ比（Ａ／Ｂ）より求められる反応率は約１０％と、ラミネート前と同じであった。つづいて、ＰＥＴフィルムを紫外線硬化性樹脂組成物との界面で剥離して、８０ｗ／ｃｍの紫外線を高圧水銀ランプで照射、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させた。硬化後の紫外線硬化性樹脂組成物をＦＴ−ＩＲで測定すると、吸光ピークの高さ比（Ａ／Ｂ）より求められる反応率は、６５％であった。得られたシートは、平板上に置いた時にも反りやうねりがなく、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、強度、耐熱性などの条件も表示素子用の基板として十分使用可能であった。
【００２１】
（実施例３）
ＰＥＴフィルム（東洋紡製、Ａ４１００、５００ｍｍ幅、１２５μ厚）の平滑面に、離型剤（信越化学製：ＫＳ−８８２，１％トルエン溶液）を、乾燥膜厚０．１μになるように塗工し、１００℃３０分乾燥させ、離型処理加工を施した。つづいて実施例１に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物ワニスを、上記で得られた離型ＰＥＴフィルムの処理面に、連続コーターで、乾燥膜厚１０μｍになるように塗工し、乾燥条件として１２０℃で、３分間乾燥し、仮硬化させた。乾燥後の有機コート層はタックフリーで、３７０ｍｍ×４７０ｍｍサイズ内での厚みばらつきは１０．０μｍ±１．０μｍであった。この第１段階の硬化時に、乾燥後の有機コート層のＦＴ−ＩＲスペクトルにおける２２６２ｃｍ−１でのシアネート基の吸光ピーク（Ａ）と、９０７ｃｍ−１でのメチレン基の吸光ピーク（Ｂ）の高さの比（Ａ／Ｂ）から求められる反応率は１０％であった。つづいて実施例１に用いたのと同じベースシートに、熱硬化性樹脂組成物付きＰＥＴフィルムを、熱硬化性樹脂組成物がベースシートに接するように、温度８０℃，速度０．１ｍ／ｍｉｎ，線圧０．５ｋｇ／ｃｍで、ベースシートの両面にラミネートした。ラミネート時に、熱硬化性樹脂組成物は充分に軟化してベースシートに気泡の噛み込みなどの外観不良も無くラミネートされた。また、ラミネート後の熱硬化性樹脂組成物を、ＦＴ−ＩＲで測定したところ、吸光ピークの高さ比（Ａ／Ｂ）より求められる反応率は１０％と、ラミネート前と同じであった。ラミネートされたシートを室温まで充分に冷却した後、片方の面のみＰＥＴと熱硬化性樹脂組成物の界面でＰＥＴフィルムだけを剥離して、熱硬化性樹脂組成物付きベースシートを作成した。続いて、シートをＰＥＴ面が下になるよう、水平方向に保持して熱硬化性樹脂組成物付きベースシートを１８０℃２０分焼成し、第２段階の硬化処理を行なった。焼成後の熱硬化性樹脂組成物をＦＴ−ＩＲで測定すると、吸光ピークの高さ比（Ａ／Ｂ）より求められる反応率は、９１％であった。さらに残りの面のＰＥＴフィルムを剥離した後、シートを２５０℃２時間焼成して、熱硬化性樹脂組成物の反応率が９３％のシートを得た。焼成後も熱硬化性樹脂組成物の膜厚の面内ばらつきは、１０．０μｍ±０．５μｍと良好であった。得られた基板は、平板上に置いた時にも反りやうねりがなく、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無い基板であった。
【００２２】
（比較例１）
実施例１に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物ワニスを、乾燥後の膜厚が１０μになるように、ディップ法によりベースシートに直接コートした。乾燥１２０℃３ｍｉｎで乾燥、第１段階の硬化させた後、１８０℃２０分焼成して第２段階の硬化処理、２５０℃２時間焼成して第３段階の硬化処理を行なった。乾燥中シートを垂直方向に保持していたが、乾燥過程で溶剤を含んだワニスの粘度が急激に低下して、シートの上端での熱硬化性樹脂組成物の厚みが９．０μｍ、下端で厚みが１１．５μｍと面内で厚みムラが大きくなった。また、この厚みムラの発生に伴い、第３段階の硬化処理後に、シートにうねりが発生して、表示素子用の基板として使用できなかった。さらに、ベースシートの端面からの発塵により、ディップ槽内のワニスが汚染され、硬化後のシート表面には異物や気泡による外観不良が多発した。
（比較例２）
実施例１に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物ワニスを、連続コーターで、乾燥膜厚１０μｍになるように塗工し、乾燥１５０℃１０ｍｉｎで乾燥、仮硬化させた。この第１段階の硬化時に、乾燥後の熱硬化性樹脂組成物のＦＴ−ＩＲスペクトルから求められる反応率は６０％であった。つづいて、実施例１と同様にベースシートへラミネートしたが、樹脂の硬化が進みすぎたために樹脂が充分に軟化せず、貼り合わせ後にラミネート不良による気泡が多数発生、外観不良となった。
（比較例３）
実施例１に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物ワニスを、連続コーターで、乾燥膜厚１０μｍになるように塗工し、乾燥１２０℃３ｍｉｎで乾燥、仮硬化させた。この第１段階の硬化時に、乾燥後の熱硬化性樹脂組成物のＦＴ−ＩＲスペクトルから求められる反応率は１０％であった。つづいて、ＰＥＴを剥離する前に、１２０℃６０ｍｉｎ熱処理した。この時の熱硬化性樹脂組成物の反応率は６０％であった。以後実施例１と同様にしてＰＥＴフィルムを剥離しようとしたが、樹脂の硬化が進みすぎたためにＰＥＴと熱硬化性樹脂組成物が接着して離型できず、外観不良となった。
【産業上の利用可能性】
【００２３】
本発明の製造方法にて作製した表示素子用プラスチックシートは、液晶表示素子用基板のみならず、有機ＥＬ表示素子用基板、電子ペーパー用基材、太陽電池用基板、光導波路用基板等、あらゆる表示素子用途に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の製造方法による実施例２で得られる層構成の断面概略図
【符号の説明】
【００２５】
１．転写用基材
２．硬化性樹脂組成物層
３．ベースシート
【図１】
2004211067.tif 000002