(57)【要約】【課題】  植物病害に対して優れた効力を有する化合物を提供すること【解決手段】  式（１）2004155772.tif 0000562004155772.tif 000057〔式中、Ｒ１はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｑは以下のＱ１〜Ｑ４で示されるいずれかの基を表し、Ｒ２は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基等を表し、Ｘは各々が酸素原子又は硫黄原子を表す。〕で示されるナフタレン化合物は植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】  なし  【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2004155772.tif 000054
〔式中、
Ｒ１はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｑは以下のＱ１〜Ｑ４で示されるいずれかの基
2004155772.tif 000055
を表し、
Ｒ２は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルキル基が1位に置換していてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基、ジ（Ｃ１−Ｃ３アルキル）アミノ基又はフェニル基（該フェニル基はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキルチオ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい）を表し、
Ｘは各々が酸素原子又は硫黄原子を表す。］
で示されるナフタレン化合物。
【請求項２】
Ｒ１がメチル基である請求項１記載のナフタレン化合物。
【請求項３】
Ｘが硫黄原子である請求項１又は２記載のナフタレン化合物。
【請求項４】
ＱがＱ１である請求項１〜３いずれか一項記載のナフタレン化合物。
【請求項５】
Ｒ2がＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルキル基が１位に置換していてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基またはジ（Ｃ１−Ｃ３アルキル）アミノ基である請求項１〜４いずれか一項記載のナフタレン化合物。
【請求項６】
請求項１〜５いずれか一項記載のナフタレン化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
【請求項７】
請求項１〜５いずれか一項記載のナフタレン化合物の有効量を植物又は植物を栽培する土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はナフタレン化合物とその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、植物病害を防除するための薬剤の開発が広く進められ、多数の植物病害防除剤が実用に供されている。
【０００３】
【特許文献１】国際公開第９９／１８１０２号パンフレット。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者等は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）で示されるナフタレン化合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
即ち、本発明は式（１）
2004155772.tif 000002
〔式中、
Ｒ１はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｑは以下のＱ１〜Ｑ４で示されるいずれかの基
2004155772.tif 000003
を表し、
Ｒ２は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルキル基が1位に置換していてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基、ジ（Ｃ１−Ｃ３アルキル）アミノ基又はフェニル基（該フェニル基はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキルチオ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい）を表し、
Ｘは各々が酸素原子又は硫黄原子を表す。］
で示されるナフタレン化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物又は植物を栽培する土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明においてＲ１で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基及びプロピル基が挙げられる。
Ｒ２で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ジクロロブロモメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−フルオロエチル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシル基があげられ、
Ｃ２−Ｃ６アルケニル基としては、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−へキセニル基、２−へキセニル基及び５−へキセニル基があげられ、
Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基としては、例えば１−クロロビニル基、２−クロロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、１，２−ジクロロビニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基及び３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基等があげられ、
Ｃ２−Ｃ６アルキニル基としては、例えばエチニル基、３−ブチニル基、３−ヘキシニル基及び５−ヘキシニル基があげられ、
Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基としては、例えば２−クロロエチニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基及び６−クロロ−５−ヘキシニル基があげられ、
【０００８】
Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基としては、例えば２，２，２−トリフルオロエトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロピルオキシ基、５−クロロペンチルオキシ基、４−フルオロイソペンチルオキシ基及び２，２−ジクロロヘキシルオキシ基があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基としては、例えば２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、３−メチル−２−ブテニルオキシ基、２−へキセニルオキシ基及び５−ヘキセニルオキシ基があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基としては、例えば３，３−ジクロロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジブロモ−２−プロペニルオキシ基、２，３−ジクロロプロペニルオキシ基、６−フルオロ−２−へキセニルオキシ基及び２，２−ジクロロ−５−ヘキセニルオキシ基があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基としては、例えば２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、２−ヘキシニルオキシ基及び５−ヘキシニルオキシ基があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基としては、例えば３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基及び６−クロロ−５−ヘキシニルオキシ基があげられ、
（Ｃ１−Ｃ３アルキル基が1位に置換されていてもよい）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−プロピルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基及び１−プロピルシクロヘキシル基があげられ、
Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基としては、例えばシクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基があげられ、
ジ（Ｃ１−Ｃ３アルキル）アミノ基としては、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びジプロピルアミノ基があげられ、
【０００９】
（ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキルチオ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい）フェニル基としては、例えばフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメトキシフェニル基、３−トリフルオロメトキシフェニル基、４−トリフルオロメトキシフェニル基、２−メチルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基及び４−ニトロフェニル基が挙げられる。
【００１０】
本発明化合物の態様としては、例えば以下のナフタレン化合物が挙げられる。
式（１）において、Ｒ１がメチル基であるナフタレン化合物；
式（１）において、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルキル基であるナフタレン化合物；
式（１）において、Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ３アルキル基が１位に置換していてもよい）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基であるナフタレン化合物；
式（１）において、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルコキシ基であるナフタレン化合物；
式（１）において、Ｒ２が（ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキルチオ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい）フェニル基であるナフタレン化合物；
【００１１】
式（１）において、ＱがＱ１であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ２であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ３であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
【００１２】
式（１）において、ＱがＱ１であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ２であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ３であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ４であるナフタレン化合物；
【００１３】
式（１）において、Ｒ１がメチル基であり、ＱがＱ１であるナフタレン化合物；
式（１）において、Ｒ１がメチル基であり、ＱがＱ２であるナフタレン化合物；
式（１）において、Ｒ１がメチル基であり、ＱがＱ３であるナフタレン化合物；
式（１）において、Ｒ１がメチル基であり、ＱがＱ４であるナフタレン化合物；
【００１４】
式（１）において、ＱがＱ１であり、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６はロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基又はＣ１−Ｃ６ハロアルコキシ基であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ１であり、Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ３アルキル基が１位に置換していてもよい）Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ１であり、Ｒ２がＣ３−Ｃ６シクロアルキル基であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
【００１５】
式（１）において、ＱがＱ２であり、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６はロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基又はＣ１−Ｃ６ハロアルコキシ基であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ３であり、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６はロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基又はＣ１−Ｃ６ハロアルコキシ基であり、Ｘが硫黄原子であるナフタレン化合物；
式（１）において、ＱがＱ４であり、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６はロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基又はＣ１−Ｃ６ハロアルコキシ基であるナフタレン化合物；
【００１６】
本発明化合物の製造方法について説明する。
本発明化合物は例えば下記の（製造法１）〜（製造法３）に記載の方法により製造することができる。
【００１７】
（製造法１）
式（１）で示される本発明化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
2004155772.tif 000004
〔式中、Ｌ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｑ及びＲ１は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常塩基の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物及び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、式（３）で示される化合物が通常１〜２モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作に付すことにより、式（１）で示される化合物を単離することができる。
単離した式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
【００１８】
（製造法２）
式（１）で示される本発明化合物は、式（４）で示される化合物と式（５）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
2004155772.tif 000005
〔式中、Ｌ2は塩素原子、臭素原子、ピラゾール−１−イル基またはイミダゾール−１−イル基を表し、
Ｇは下記Ｇ１〜Ｇ４
2004155772.tif 000006
のいずれかの基を表し、
Ｑ、Ｒ１、Ｒ２及びＸは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常塩基の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、Ｌ2が塩素原子または臭素原子である場合には、トリエチルアミン等の第３級アミン類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられ、Ｌ2がピラゾール−１−イル基またはイミダゾール−１−イル基である場合には、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドがあげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（５）で示される化合物が通常１〜２モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜１０時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作に付すことにより、式（１）で示される化合物を単離することができる。
単離した式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
【００１９】
（製造例３）
式（８）で示される本発明化合物は、式（６）で示される化合物を、式（７）で示される化合物及びジフェニルホスホリルアジドの存在下で反応させることにより製造することができる。
2004155772.tif 000007
〔式中、ＤＰＰＡはジフェニルホスホリルアジドを表し、Ｒ3はＣ１−Ｃ６アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基）、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキル基、（例えば２，２，２−トリフルオロエチル基、５−クロロペンチル基、４−フルオロイソペンチル基及び２，２−ジクロロヘキシル基）、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基（例えば２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−へキセニル基及び５−ヘキセニル基）、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基（例えば３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、３，３−ジブロモ−２−プロペニル基、２，３−ジクロロプロペニル基、６−フルオロ−２−へキセニル基及び２，２−ジクロロ−５−ヘキセニル基）、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基（例えば２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−ヘキシニル基及び５−ヘキシニル基）、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基（例えば２−クロロエチニル基及び６−クロロ−５−ヘキシニル基）またはＣ３−Ｃ６シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基）を表し、
Ｇ及びＲ１は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常塩基の存在下、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン等の第３級アミン類またはピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、ジフェニルホスホリルアジドが通常１〜３モルの割合、式（７）で示される化合物が通常１〜１００モルの割合、塩基が通常１〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル等の有機溶媒で希釈し、弱酸性水（例えばクエン酸水溶液）等で洗浄し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作に付すことにより、式（８）で示される本発明化合物を単離することができる。
単離した式（８）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
【００２０】
次に本発明化合物の製造中間体化合物の製造法について説明する。
【００２１】
本発明化合物の製造中間体化合物である式（２）で示される化合物は、例えば下記の（中間体製造法１）記載の方法に従って製造することができる。
【００２２】
（中間体製造法１）
2004155772.tif 000008
〔式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。〕
【００２３】
（工程Ｉ−１）
式（１０）で示される化合物は、式（９）で示される化合物とルイス酸とを混合して反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応にはニトロベンゼンを添加することができる。添加するニトロベンゼンの量は、式（９）で示される化合物１モルに対して０．０１〜２０モルの割合である。
反応に用いられるルイス酸としては、例えば塩化アルミニウム及び臭化アルミニウムが挙げられる。
反応に用いられるルイス酸の量は、式（９）で示される化合物1モルに対して、通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は通常５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を氷水に加え、濾過して得られる濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１０）で示される化合物を単離することができる。
単離した式（１０）で示される化合物はクロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
【００２４】
（工程Ｉ−２）
式（１１）で示される化合物は式（１０）で示される化合物とセミカルバジドの塩とを反応させることにより製造することが出来る。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられるセミカルバジドの塩としては例えばセミカルバジド塩酸塩が挙げられる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、２−プロパノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０）で示される化合物１モルに対してセミカルバジドの塩が通常１〜５モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１００℃の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を濃縮して得られる残渣を水洗し、さらに必要に応じて有機溶媒で洗浄することにより式（１１）で示される化合物を単離することができる。
【００２５】
（工程Ｉ−３）
式（２）で示される化合物は式（１１）で示される化合物と塩化チオニルとを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩化チオニルの量は、式（１１）で示される化合物１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常７０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２）で示される化合物を単離することができる。単離した式（２）で示される化合物はクロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
【００２６】
本発明化合物の製造中間体化合物である式（４）で示される化合物は、例えば下記の（中間体製造法２）記載の方法に従って製造することができる。
（中間体製造法２）
2004155772.tif 000009
〔式中、Ｇ、Ｌ1及びＲ１は前記と同じ意味を表す。〕
（工程II−１）
式（１３）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（１２）で示される化合物とを、前記（製造法１）に記載の方法に準じて反応させることにより製造することが出来る。
【００２７】
（工程II−２）
式（４）で示される化合物は、式（１３）で示される化合物を酸の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸及び硝酸等のプロトン酸があげられる。
反応に用いられる酸の量は、式（１３）で示される化合物１モルに対して、通常２〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜３０時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物に水酸化ナトリウム等の塩基を加え、アルカリ性にした後、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理を行うことにより、式（４）で示される化合物を単離することができる。単離した式（４）で示される化合物はクロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
【００２８】
式（３）で示される化合物は、例えばＪ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，３８，１７３（２００１）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２８，１８１６（１９６３）または特開昭６２−１０３０９２に記載された方法に従って製造することが出来る。
【００２９】
本発明化合物の中間体化合物である式（６）で示される化合物は、例えば下記（中間体製造法３）に従って製造することができる。
【００３０】
（中間体製造法３）
2004155772.tif 000010
〔式中、Ｒ5はＣ１−Ｃ６アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基等）を表し、Ｇ、Ｌ1及びＲ１は前記と同じ意味を表す。〕
【００３１】
（工程III−１）
式（１５）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（１４）で示される化合物とを、前記（製造法１）に記載の方法に従って反応させることにより製造することが出来る。
式（１４）で示される化合物は、例えばＯｒｇａｎｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｒｅｓｅａｃｈ  ＆  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ，５，３７（２００１）．に記載の方法準じて製造することが出来る。
【００３２】
（工程III−２）
式（６）で示される化合物は、式（１５）で示される化合物を塩基の存在下で水と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水の存在下、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩及び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１５）で示される化合物１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１０分間〜１０時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にして、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理を行うことにより、式（６）で示される化合物を単離することができる。
【００３３】
（中間体製造法４）
式（３）で示される化合物はまた、式（４）で示される化合物の代わりに式（１６）で示される化合物を用いて、前記（製造例２）に記載された方法に従って製造することもできる。
2004155772.tif 000011
〔式中、Ｌ１、Ｌ２、Ｇ、Ｑ及びＲ２は前記と同じ意味を表す。〕
【００３４】
本発明化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【００３５】
式（i）〜（vii）で示される化合物；
2004155772.tif 000012
なお、式（i）〜（vii）において、Ｒ2は以下のいずれかの基を表す。
水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ジクロロブロモメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、６，６，６−トリフルオロヘキシル基、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−へキセニル基、２−へキセニル基、５−へキセニル基、１−クロロビニル基、２−クロロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、１，２−ジクロロビニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、エチニル基、３−ブチニル基、３−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、２−クロロエチニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、６−クロロ−５−ヘキシニル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロピルオキシ基、５−クロロペンチルオキシ基、４−フルオロイソペンチルオキシ基、２，２−ジクロロヘキシルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、３−メチル−２−ブテニルオキシ基、２−へキセニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基、３，３−ジクロロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジブロモ−２−プロペニルオキシ基、２，３−ジクロロプロペニルオキシ基、６−フルオロ−２−へキセニルオキシ基、２，２−ジクロロ−５−ヘキセニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、２−ヘキシニルオキシ基、５−ヘキシニルオキシ基、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基、６−クロロ−５−ヘキシニルオキシ基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−プロピルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、１−プロピルシクロヘキシル基、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、フェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメトキシフェニル基、３−トリフルオロメトキシフェニル基、４−トリフルオロメトキシフェニル基、２−メチルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基及び４−ニトロフェニル基。
【００３６】
式（viii）〜（Xiv）で示される化合物；
2004155772.tif 000013
なお、式（viii）〜（Xiv）において、Ｒ2は以下のいずれかの基を表す。
水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ジクロロブロモメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、６，６，６−トリフルオロヘキシル基、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−へキセニル基、２−へキセニル基、５−へキセニル基、１−クロロビニル基、２−クロロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、１，２−ジクロロビニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、エチニル基、３−ブチニル基、３−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、２−クロロエチニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、６−クロロ−５−ヘキシニル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロピルオキシ基、５−クロロペンチルオキシ基、４−フルオロイソペンチルオキシ基、２，２−ジクロロヘキシルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、３−メチル−２−ブテニルオキシ基、２−へキセニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基、３，３−ジクロロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジブロモ−２−プロペニルオキシ基、２，３−ジクロロプロペニルオキシ基、６−フルオロ−２−へキセニルオキシ基、２，２−ジクロロ−５−ヘキセニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、２−ヘキシニルオキシ基、５−ヘキシニルオキシ基、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基、６−クロロ−５−ヘキシニルオキシ基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−プロピルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、１−プロピルシクロヘキシル基、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、フェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメトキシフェニル基、３−トリフルオロメトキシフェニル基、４−トリフルオロメトキシフェニル基、２−メチルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基及び４−ニトロフェニル基。
【００３７】
式（Xv）〜（XXi）で示される化合物；
2004155772.tif 000014
なお、式（Xv）〜（XXi）において、Ｒ2は以下のいずれかの基を表す。
水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ジクロロブロモメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、６，６，６−トリフルオロヘキシル基、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−へキセニル基、２−へキセニル基、５−へキセニル基、１−クロロビニル基、２−クロロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、１，２−ジクロロビニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、エチニル基、３−ブチニル基、３−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、２−クロロエチニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、６−クロロ−５−ヘキシニル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロピルオキシ基、５−クロロペンチルオキシ基、４−フルオロイソペンチルオキシ基、２，２−ジクロロヘキシルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、３−メチル−２−ブテニルオキシ基、２−へキセニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基、３，３−ジクロロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジブロモ−２−プロペニルオキシ基、２，３−ジクロロプロペニルオキシ基、６−フルオロ−２−へキセニルオキシ基、２，２−ジクロロ−５−ヘキセニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、２−ヘキシニルオキシ基、５−ヘキシニルオキシ基、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基、６−クロロ−５−ヘキシニルオキシ基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−プロピルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、１−プロピルシクロヘキシル基、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、フェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメトキシフェニル基、３−トリフルオロメトキシフェニル基、４−トリフルオロメトキシフェニル基、２−メチルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基及び４−ニトロフェニル基。
【００３８】
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による病害があげられ、具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。
【００３９】
本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は本発明化合物と固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤とを混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
【００４０】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げられ、液体担体としては、例えば、キシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及び水が挙げられる。
【００４１】
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられる。
【００４２】
その他の製剤用補助剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸およびその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等が挙げられる。
【００４３】
本発明の植物病害防除剤は、例えば、植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、植物を栽培する土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
【００４４】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ2あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇの割合である。
【００４５】
本発明の植物病害防除剤が乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤等に製剤化されている場合は通常該製剤を水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。本発明の植物病害防除剤が粉剤、粒剤等に製剤化されている場合は通常希釈することなくそのまま処理する。
【００４６】
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば、本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に粉剤に製剤化された本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
【００４７】
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
【００４８】
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
【００４９】
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いることもできる。
【００５０】
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ニコビフェン、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ及びアシベンゾラールＳメチルが挙げられる。
【実施例】
【００５１】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
【００５２】
製造例１
2004155772.tif 000015
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに参考製造例１−３で製造された４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール４８５ｍｇ（２．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）８０ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。ここに参考製造例４で製造された４−クロロメチル−２−アセチルアミノチアゾール４３９ｍｇ（２．３０ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−{２−（２−アセチルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１）と記す）を７１ｍｇ得た。
本発明化合物（１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８４（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９８（１Ｈ，ｄ）  ７．８６（１Ｈ，ｍ）  ７．４２（１Ｈ，ｄ）  ７．４１（２Ｈ，ｍ）  ７．２９（１Ｈ，ｍ）  ６．６２（１Ｈ，ｓ）  ５．１２（１Ｈ，ｄ）  ５．０９（１Ｈ，ｄ）  ２．４１（３Ｈ，ｓ）  ２．２５（３Ｈ，ｓ）
【００５３】
製造例２
2004155772.tif 000016
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール４８５ｍｇ（２．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）１８０ｍｇ（４．５０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。ここに参考製造例５で製造された４−クロロメチル−２−プロピオニルアミノチアゾール４９５ｍｇ（２．４２ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、５−メチル−４−{２−（２−プロピオニルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（２）と記す）を１０３ｍｇ得た。
本発明化合物（２）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８１（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９８（１Ｈ，ｄ）  ７．８７（１Ｈ，ｍ）  ７．４３（１Ｈ，ｄ）  ７．４１（２Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ６．６２（１Ｈ，ｓ）  ５．１２（１Ｈ，ｄ）  ５．１０（１Ｈ，ｄ）  ２．４９（２Ｈ，ｑ）  ２．４２（３Ｈ，ｓ）  １．２７（３Ｈ，ｔ）
【００５４】
製造例３
2004155772.tif 000017
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール１．７８ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）を酢酸エチル５０ｍｌに溶解した溶液を０℃に冷却し、トリエチルアミン２．４４ｇ（２４．１ｍｍｏｌ）及びｎ−ブチリルクロライド２．５６ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）を加え、５時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−クロロメチル−２−（ｎ−ブチリルアミノ）チアゾール２４６ｍｇを得た。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）８５ｍｇ（２．１ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム７６ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。ここに上記の操作で得た４−クロロメチル−２−（ｎ−ブチリルアミノ）チアゾール２４６ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−{２−（２−（ｎ−ブチリルアミノ）チアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（３）と記す）を１６２ｍｇ得た。
本発明化合物（３）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．６４（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９８（１Ｈ，ｄ）  ７．８６（１Ｈ，ｍ）  ７．３９−７．４４（３Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ６．６１（１Ｈ，ｓ）  ５．１２（１Ｈ，ｄ）  ５．０９（１Ｈ，ｄ）  ２．４３（２Ｈ，ｔ）  ２．４２（３Ｈ，ｓ）  １．７７（２Ｈ，ｍ）  １．０２（３Ｈ，ｔ）
【００５５】
製造例４
2004155772.tif 000018
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール１５０ｍｇ（０．６２ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）５０ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）を加え、１０分間撹拌した。ここに参考製造例２で製造された２−イソブチリルアミノ−４−クロロメチルチアゾール１３５ｍｇ（０．６２ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−{２−（２−イソブチリルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２，３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（４）と記す。）９６ｍｇを得た。
本発明化合物（４）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．０７（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９７（１Ｈ，ｄ）  ７．８６（１Ｈ，ｍ）  ７．３７−７．４８（３Ｈ，ｍ）  ７．２３−７．３４（１Ｈ，ｍ）  ６．６２（１Ｈ，ｓ）  ５．１１（１Ｈ，ｄ）  ５．１０（１Ｈ，ｄ）  ２．６２（１Ｈ，ｍ）  ２．４１（３Ｈ，ｓ）  １．２７（６Ｈ，ｄ）
【００５６】
製造例５
2004155772.tif 000019
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）１２６ｍｇ（３．１５ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム１０５ｍｇ（０．７０ｍｍｏｌ）を加え、４０分間撹拌した。ここに参考製造例６で製造された４−クロロメチル−２−（ｎ−バレリルアミノ）チアゾール６４４ｍｇ（２．７７ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、５−メチル−４−{２−（（２−ｎ−バレリルアミノ）チアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（５）と記す）を２１６ｍｇ得た。
本発明化合物（５）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．１０（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９６（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｍ）  ７．３８−７．４４（３Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ６．６１（１Ｈ，ｓ）  ５．１１（１Ｈ，ｄ）  ５．０８（１Ｈ，ｄ）  ２．４３（２Ｈ，ｔ）  ２．４０（３Ｈ，ｓ）  １．６９（２Ｈ，ｍ）  １．３７（２Ｈ，ｍ）  ０．９２（３Ｈ，ｔ）
【００５７】
製造例６
2004155772.tif 000020
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム(６０％油性)８２ｍｇ（２．１ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム１５１ｍｇ（１．０１ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。ここに参考製造例７で製造された４−クロロメチル−２−（２−メチルブチリルアミノ）チアゾール４０８ｍｇ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して２日間撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、５−メチル−４−[２−{（２−メチルブチリル）アミノチアゾール−４−イル}メトキシナフタレン−１−イル]−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（６）と記す）を２７７ｍｇ得た。
本発明化合物（６）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．６８（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９８（１Ｈ，ｄ）  ７．８６（１Ｈ，ｍ）  ７．４１−７．４４（３Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ６．６２（１Ｈ，ｓ）  ５．１３（１Ｈ，ｄ）  ５．１０（１Ｈ，ｄ）  ２．４２（３Ｈ，ｓ）  ２．３８（１Ｈ，ｍ） １．７８（１Ｈ，ｍ）  １．５６（１Ｈ，ｍ）  １．２６（３Ｈ，ｄ）  ０．９６（３Ｈ，ｔ）
【００５８】
製造例７
2004155772.tif 000021
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）８２ｍｇ（２．１ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム１６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。ここに参考製造例８で製造された４−クロロメチル−２−イソバレリルアミノチアゾール４６８ｍｇ（２．０１ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、５−メチル−４−{２−（２−イソバレリルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（７）と記す）を２００ｍｇ得た。
本発明化合物（７）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．３４（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９６（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｍ）  ７．３８−７．４３（３Ｈ，ｍ）  ７．２９（１Ｈ，ｍ）  ６．６１（１Ｈ，ｓ）  ５．１１（１Ｈ，ｄ）  ５．０８（１Ｈ，ｄ）  ２．４０（３Ｈ，ｓ）  ２．３０（２Ｈ，ｄ） ２．１９（１Ｈ，ｍ）  ０．９８（６Ｈ，ｄ）
【００５９】
製造例８
2004155772.tif 000022
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で炭酸カリウム２４３ｍｇ（１．７６ｍｍｏｌ）及びヨウ化カリウム２９１ｍｇ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。ここに参考製造例９で製造された４−クロロメチル−２−（ピバロイルアミノ）チアゾール５０２ｍｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して３日間撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、４−{２−（２−（ピバロイルアミノ）チアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（８）と記す）を１８７ｍｇ得た。
本発明化合物（８）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．９０（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９７（１Ｈ，ｄ）  ７．８４−７．８８（１Ｈ，ｍ）  ７．３９−７．４３（３Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｄ）  ６．６１（１Ｈ，ｓ）  ５．１２（１Ｈ，ｄ）  ５．０９（１Ｈ，ｄ）  ２．４１（３Ｈ，ｓ）  １．３３（９Ｈ，ｓ）
【００６０】
製造例９
2004155772.tif 000023
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム(６０％油性)４１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。ここにヨウ化ナトリウム１５１ｍｇ（１．０１ｍｍｏｌ）及び参考製造例１０で製造された４−クロロメチル−２−（シクロプロパンカルボニルアミノ）チアゾール３５９ｍｇ（１．６６ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して７日間撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−{２−（２−シクロプロパンカルボニルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（９）と記す）を１３０ｍｇ得た。
本発明化合物（９）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１０．０３（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９６（１Ｈ，ｄ）  ７．８６（１Ｈ，ｍ）  ７．３９−７．４２（３Ｈ，ｍ）  ７．２８（１Ｈ，ｍ）  ６．６１（１Ｈ，ｓ）  ５．１３（１Ｈ，ｄ）  ５．０９（１Ｈ，ｄ）  ２．３９（３Ｈ，ｓ）  １．５７（１Ｈ，ｍ）  １．１４（２Ｈ，ｍ）  ０．９１（２Ｈ，ｍ）
【００６１】
製造例１０
2004155772.tif 000024
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール２．３１ｇ（１５．６ｍｍｏｌ）の溶解したｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル溶液６０ｍｌを０℃に冷却し、トリエチルアミン２．４３ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）及びシクロヘキサンカルボニルクロライド３．５２ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）を加え、１．５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−クロロメチル−２−シクロヘキサンカルボニルアミノチアゾール６１６ｍｇを得た。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール３６４ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）１３６ｍｇ（３．４０ｍｍｏｌ）を加え、４０分間撹拌した。ここに上記の操作で得られた４−クロロメチル−２−シクロヘキサンカルボニルアミノチアゾール５０６ｍｇ（１．９６ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−{２−（２−シクロヘキサンカルボニルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１０）と記す）を４１９ｍｇ得た。
本発明化合物（１０）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．１７（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９７（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｍ）  ７．４２（１Ｈ，ｄ）  ７．３９（２Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ６．６１（１Ｈ，ｓ）  ５．１２（１Ｈ，ｄ）  ５．０８（１Ｈ，ｄ）  ２．４０（３Ｈ，ｓ）  ２．２９−２．３８（１Ｈ，ｍ）  １．２０−２．１０（１０Ｈ，ｍ）
【００６２】
製造例１１
2004155772.tif 000025
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）８１ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、５０分間撹拌した。ここに参考製造例１１で製造された４−クロロメチル−２−（メトキシカルボニルアミノ）チアゾール３１１ｍｇ（１．５１ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−{２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１１）と記す）を３５ｍｇ得た。
本発明化合物（１１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１０．５９（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９７（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｍ）  ７．３８−７．４２（３Ｈ，ｍ）  ７．２８（１Ｈ，ｍ）  ６．６０（１Ｈ，ｓ）  ５．２０（１Ｈ，ｄ）  ５．１５（１Ｈ，ｄ）  ３．８１（３Ｈ，ｓ）  ２．３９（３Ｈ，ｓ）
【００６３】
製造例１２
2004155772.tif 000026
テトラヒドロフラン４ｍｌに参考製造例１３−２で製造された４−{２−（２−アミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール１２６ｍｇ（０．３６ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃でトリエチルアミン６５ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）及びクロロ炭酸エチル７０ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）を加え、４時間撹拌した。反応溶液を室温まで昇温した後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、粗４−{２−（２−エトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１２）と記す）を７０ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１０．０９（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９６（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｍ）  ７．３５−７．４２（３Ｈ，ｍ）  ７．２９（１Ｈ，ｍ）  ６．５９（１Ｈ，ｓ）  ５．２０（１Ｈ，ｄ）  ５．１６（１Ｈ，ｄ）  ４．２８（２Ｈ，ｑ）  ２．３９（３Ｈ，ｓ）  １．３０（３Ｈ，ｔ）
【００６４】
製造例１３
2004155772.tif 000027
テトラヒドロフラン８ｍｌに４−{２−（２−アミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２５４ｍｇ（０．７２ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃でトリエチルアミン１１７ｍｇ（１．１５ｍｍｏｌ）及びクロロ炭酸フェニル１８１ｍｇ（１．１５ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌した。反応溶液を室温まで昇温した後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、粗５−メチル−４−{２−（２−フェノキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１３）と記す）を７５ｍｇ得た。
本発明化合物（１３）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１１．７６（１Ｈ，ｂｒ）  ７．８２（１Ｈ，ｍ）  ７．７３（１Ｈ，ｄ）  ７．３６−７．４２（４Ｈ，ｍ）  ７．２５−７．３１（２Ｈ，ｍ）  ７．１５−７．１８（２Ｈ，ｍ）  ７．１０（１Ｈ，ｄ）  ６．６２（１Ｈ，ｓ）  ５．２５（１Ｈ，ｄ）  ５．２１（１Ｈ，ｄ）  ２．３４（３Ｈ，ｓ）
【００６５】
製造例１４
2004155772.tif 000028
ｔｅｒｔ−ブチルアルコール７ｍｌに参考製造例１４−２で製造された４−{２−（４−カルボキシルチアゾール−２−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール３８４ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、ジフェニルホスホリルアジド２７６ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン１０２ｍｇ（１．０１ｍｍoｌ）を加え、加熱還流下１２時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷した後、減圧下で濃縮した。残渣にトルエンを加え、５％クエン酸水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１〜１：１）に付し、４−{２−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−２−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１４）と記す）を９３ｍｇ得た。
本発明化合物（１４）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０２（１Ｈ，ｍ）  ７．８９（１Ｈ，ｍ）  ７．３７−７．４６（３Ｈ，ｍ）  ７．３２（１Ｈ，ｍ）  ７．１７（１Ｈ，ｍ）  ５．３６（１Ｈ，ｄ）  ５．２２（１Ｈ，ｄ）  ２．３５（３Ｈ，ｓ）  １．５２（９Ｈ，ｓ）
【００６６】
製造例１５
2004155772.tif 000029
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２４３ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム(６０％油性)７５ｍｇ（１．９ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム７６ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を加え、３５分間撹拌した。ここに参考製造例１２で製造された５−イソブチリルアミノ−３−クロロメチル−１,２,４−チアジアゾール３５３ｍｇ（１．６１ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、４−{２−（５−イソブチリルアミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１５）と記す）を１１０ｍｇ得た。
本発明化合物（１５）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．６１（１Ｈ，ｂｒ）  ７．９４（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｍ）  ７．４３（１Ｈ，ｄ）  ７．３９（２Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ５．２１（２Ｈ，ｓ）  ２．７２（１Ｈ，ｍ）  ２．４５（３Ｈ，ｓ）  １．２８（６Ｈ，ｄ）
【００６７】
製造例１６
2004155772.tif 000030
テトラヒドロフラン３ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール１３１ｍｇ（０．５４ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム(６０％油性)２２ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。ここに参考製造例１５−４で製造された６−ブロモメチル−２−イソブチリルアミノピリジン１３０ｍｇ（０．５１ｍｍｏｌ）を加え、室温に戻して５日間撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）に付し、４−{２−（２−イソブチリルアミノピリジン−６−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１６）と記す）を１３５ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０９（１Ｈ，ｄ）  ７．９７（１Ｈ，ｄ）  ７．８７（１Ｈ，ｍ）  ７．８３（１Ｈ，ｂｒ）  ７．６１（１Ｈ，ｔ）  ７．４０−７．４３（２Ｈ，ｍ）  ７．３７（１Ｈ，ｄ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ６．８３（１Ｈ，ｄ）  ５．１４（２Ｈ，ｓ）  ２．５６（１Ｈ，ｍ）  ２．４３（３Ｈ，ｓ）  １．２７（３Ｈ，ｄ）
【００６８】
次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
【００６９】
参考製造例１
参考製造例１−１
2004155772.tif 000031
クロロベンゼン１７０ｍｌにプロピオン酸２−ナフチル２０．０ｇ（９９．９ｍｍｏｌ）を溶解し、ニトロベンゼン２．３０ｇ（１８．７ｍｍｏｌ）を加え、１００℃に加熱し、ここに塩化アルミニウム１５．５ｇ（１１６ｍｍｏｌ）を１５分かけて加えた。これを加熱還流下２時間撹拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却した後、氷水に注ぎ、セライトを通して濾過した。得られた濾液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：８）に付し、１−プロピオニル−２−ナフトール１５．０ｇを得た。
１−プロピオニル−２−ナフトール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１３．１５（１Ｈ，ｓ）、８．０６（１Ｈ，ｄ）、７．８７（１Ｈ，ｄ）、７．７８（１Ｈ，ｄｄ）、７．５５（１Ｈ，ｄｄｄ）、７．３８（１Ｈ，ｄｄｄ）、７．１４（１Ｈ，ｄ）、３．２０（２Ｈ，ｑ）、１．３２（３Ｈ，ｔ）
【００７０】
参考製造例１−２
2004155772.tif 000032
エタノール１５０ｍｌに１−プロピオニル−２−ナフトール３０．０ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を溶解し、ここにセミカルバジド塩酸塩３３．５ｇ（３００ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン４２．０ｍｌ（３００ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下３時間撹拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、濃縮した。残渣をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、水で順次洗浄し、減圧乾燥し、１−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−１−プロパノンセミカルバゾン３２ｇを得た。
１−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−１−プロパノンセミカルバゾン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１０．０７，９．７４（合わせて１Ｈ）、７．１５−７．９０（６Ｈ，ｍ）、６．３１，６．１１（合わせて２Ｈ）、２．６９，２．５５（合わせて２Ｈ）、１．０７，０．８２（合わせて３Ｈ）
【００７１】
参考製造例１−３
2004155772.tif 000033
トルエン３００ｍｌに１−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−１−プロパノンセミカルバゾン２７．７ｇ（１０８ｍｍｏｌ）を加え、ここに１００℃で塩化チオニル６４．１ｇ（５３９ｍｍｏｌ）を２０分かけて加え、さらに加熱還流下７時間撹拌した。その後、反応混合物を室温に戻してから濃縮し、残渣にテトラヒドロフランを加え、セライトを通して濾過した。濾液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール６．０７ｇを得た。
４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．８８（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｄ）  ７．３５−７．４７（２Ｈ，ｍ）  ７．２０−７．３２（２Ｈ，ｍ）  ６．５２（１Ｈ，ｂｒ）  ２．４３（３Ｈ，ｓ）
【００７２】
参考製造例２
2004155772.tif 000034
１，３−ジクロロアセトン３０．０ｇ（２２４ｍｍｏｌ）をアセトン１００ｍｌに溶解した溶液に、チオ尿素１７．１ｇ（２２４ｍｍｏｌ）をアセトン５００ｍｌに溶解した溶液を６時間かけて加え、室温で一晩撹拌した。その後、反応混合物をそのまま濃縮した。残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル３００ｍｌと炭酸水素ナトリウム水溶液とを加えて分液した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過した。得られた濾液に無水イソ酪酸４０ｍｌを加え、加熱還流下１４時間撹拌した。室温付近まで放冷した反応混合物をそのまま濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、２−イソブチリルアミノ−４−クロロメチルチアゾール３０．５ｇを得た。
２−イソブチリルアミノ−４−クロロメチルチアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．８４（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９２（１Ｈ，ｓ）  ４．５６（２Ｈ，ｓ）  ２．６６（１Ｈ，ｍ）  １．２８（６Ｈ，ｄ）．
【００７３】
参考製造例３
参考製造例３−１
2004155772.tif 000035
１，３−ジクロロアセトン３０．０ｇ（２２４ｍｍｏｌ）をアセトン１００ｍｌに溶解した溶液に、チオ尿素１７．１ｇ（２２４ｍｍｏｌ）をアセトン５００ｍｌに溶解した溶液を加え、室温で一晩撹拌した。その後、反応混合物をそのまま濃縮した。残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル３００ｍｌと炭酸水素ナトリウム水溶液とを加えて分液して、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られた濾液を濃縮し、２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール２．００ｇを得た。
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．５０（１Ｈ，ｓ）  ５．１５（２Ｈ，ｂｒ）  ４．４５（２Ｈ，ｓ）
【００７４】
参考製造例３−２
2004155772.tif 000036
ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル５００ｍｌに２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール２９．０ｇ（２１９ｍｍｏｌ）を混合し、この混合液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール３０．０ｍｌ（２２６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、４−クロロメチル−２−（ジメチルアミノメチレン）アミノチアゾール１２．６ｇを得た。
４−クロロメチル−２−（ジメチルアミノメチレン）アミノチアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．２２（１Ｈ，ｓ）  ６．７６（１Ｈ，ｓ）  ４．５４（２Ｈ，ｓ）  ３．１０（３Ｈ，ｓ）  ３．０７（３Ｈ，ｓ）
【００７５】
参考製造例４
2004155772.tif 000037
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール２．３２ｇ（１５．６ｍｍｏｌ）をトルエン６０ｍｌに溶解した溶液を０℃に冷却し、ここにトリエチルアミン１．７０ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）及びアセチルクロライド１．３２ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１．５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を濾過し、２−アセチルアミノ−４−クロロメチルチアゾール６０８ｍｇを得た。
２−アセチルアミノ−４−クロロメチルチアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．００（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９３（１Ｈ，ｓ）  ４．５７（２Ｈ，ｓ）  ２．２６（３Ｈ，ｓ）
【００７６】
参考製造例５
2004155772.tif 000038
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール２．３２ｇ（１５．６ｍｍｏｌ）をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル６０ｍｌに溶解した溶液に、室温でトリエチルアミン３．６６ｇ（３６．２ｍｍｏｌ）及びプロピオニルクロライド３．３３ｇ（３６．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−クロロメチル−２−プロピオニルアミノチアゾール６０８ｍｇを得た。
４−クロロメチル−２−プロピオニルアミノチアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．７９（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９２（１Ｈ，ｓ）  ４．５７（２Ｈ，ｓ）  ２．４９（２Ｈ，ｑ）  １．２８（３Ｈ，ｔ）
【００７７】
参考製造例６
2004155772.tif 000039
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール１．４３ｇ（９．６０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解した溶液に、バレリル酸無水物３．５８ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下９時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷した後、減圧下で濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、４−クロロメチル−２−（ｎ−バレリルアミノ）チアゾール１．３０ｇを得た。
４−クロロメチル−２−（ｎ−バレリルアミノ）チアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８６（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９１（１Ｈ，ｓ）  ４．５７（２Ｈ，ｓ）  ２．４５（２Ｈ，ｔ）  １．７２（２Ｈ，ｍ）  １．４０（２Ｈ，ｍ）  ０．９５（３Ｈ，ｔ）
【００７８】
参考製造例７
2004155772.tif 000040
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール１．７８ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）を酢酸エチル５０ｍｌに溶解した溶液を０℃に冷却し、トリエチルアミン３．０４ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）及び２−メチルブチリルクロライド３．６２ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）を加え、７．５時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−クロロメチル−２−（２−メチルブチリルアミノ）チアゾール４０３ｍｇを得た。
４−クロロメチル−２−（２−メチルブチリルアミノ）チアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．３８（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９１（１Ｈ，ｓ）  ４．５７（２Ｈ，ｓ）  ２．４２（１Ｈ，ｍ）  １．７８（１Ｈ，ｍ）  １．５７（１Ｈ，ｍ）  １．２６（３Ｈ，ｄ）  ０．９５（３Ｈ，ｔ）
【００７９】
参考製造例８
2004155772.tif 000041
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール１．４３ｇ（９．６０ｍｍｏｌ）をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル４０ｍｌに溶解した溶液を０℃に冷却し、トリエチルアミン９７２ｍｇ（９．６１ｍｍｏｌ）及びイソバレリルクロライド１．１６ｇ（９．６１ｍｍｏｌ）を加え、４．５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−クロロメチル−２−イソバレリルアミノチアゾール３２５ｍｇを得た。
４−クロロメチル−２−イソバレリルアミノチアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．７６（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９１（１Ｈ，ｓ）  ４．５７（２Ｈ，ｓ）  ２．３１（２Ｈ，ｄ）  ２．２２（１Ｈ，ｍ）  １．０２（６Ｈ，ｄ）
【００８０】
参考製造例９
2004155772.tif 000042
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール２．９７ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）の溶解したトルエン溶液２００ｍｌに、トリエチルアミン８．１０ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）及びピバロイルクロライド９．６４ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を濾過し、４−クロロメチル−２−（ピバロイルアミノ）チアゾール２．４３ｇを得た。
４−クロロメチル−２−（ピバロイルアミノ）チアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．９１（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９２（１Ｈ，ｓ）  ４．５８（２Ｈ，ｓ）  １．３３（９Ｈ，ｓ）
【００８１】
参考製造例１０
2004155772.tif 000043
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール１．７８ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）の溶解した酢酸エチル溶液５０ｍｌを０℃に冷却し、トリエチルアミン３．６６ｇ（３６．２ｍｍｏｌ）及びシクロプロパンカルボニルクロライド３．７８ｇ（３６．２ｍｍｏｌ）を加え、２日間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−クロロメチル−２−（シクロプロパンカルボニルアミノ）チアゾール６９６ｍｇを得た。
４−クロロメチル−２−（シクロプロパンカルボニルアミノ）チアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．１２（１Ｈ，ｂｒ）  ６．９０（１Ｈ，ｓ）  ４．５７（２Ｈ，ｓ）  １．５８（１Ｈ，ｍ）  １．１９（２Ｈ，ｍ）  ０．９９（２Ｈ，ｍ）
【００８２】
参考製造例１１
2004155772.tif 000044
２−アミノ−４−クロロメチルチアゾール３．５７ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）をトルエン３０ｍｌに溶解した溶液に、トリエチルアミン２．４３ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）及びクロロ炭酸メチル２．２７ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）を加え、４．５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−クロロメチル−２−（メトキシカルボニルアミノ）チアゾール３２５ｍｇを得た。
４−クロロメチル−２−（メトキシカルボニルアミノ）チアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１１．８７（１Ｈ，ｂｒ）  ７．２３（１Ｈ，ｓ）  ４．６８（２Ｈ，ｓ）  ３．７４（３Ｈ，ｓ）
【００８３】
参考製造例１２
2004155772.tif 000045
テトラヒドロフラン２０ｍｌに５−アミノ−３−クロロメチル−１，２，４−チアジアゾール１．５０ｇ（０．０１ｍｏｌ）を溶解し、０℃に冷却した。ここにトリエチルアミン２．０３ｇ（０．０２ｍｏｌ）及びイソブチリルクロライド２．１４ｇ（０．０２ｍｏｌ）を加え、一晩撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、５−イソブチリルアミノ−３−クロロメチル−１,２,４−チアジアゾール３６８ｍｇを得た。
５−イソブチリルアミノ−３−クロロメチル−１,２,４−チアジアゾール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．４９（１Ｈ，ｂｒ）  ４．６５（２Ｈ，ｓ）  ２．７５（１Ｈ，ｍ）  １．３２（６Ｈ，ｄ）
【００８４】
参考製造例１３
参考製造例１３−１
2004155772.tif 000046
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール１．０４７ｇ（４．３２１ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム(６０％油性)１７３ｍｇ（４．３３ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム６５．０ｍｇ（０．４３ｍｍｏｌ）を加え、２０分間撹拌した。ここに４−クロロメチル−２−（ジメチルアミノメチレン）アミノチアゾール８８０ｍｇ（４．３２ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、４−{２−（２−（ジメチルアミノメチレン）アミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾールを１．００ｇ得た。
４−{２−（２−（ジメチルアミノメチレン）アミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１２（１Ｈ，ｓ）  ７．９７（１Ｈ，ｄ）  ７．８６（１Ｈ，ｍ）  ７．４４（１Ｈ，ｄ）  ７．３８−７．４１（２Ｈ，ｍ）  ７．３１（１Ｈ，ｍ）  ６．４０（１Ｈ，ｓ）  ５．１３（２Ｈ，ｓ）  ３．１０（３Ｈ，ｓ）  ３．０７（３Ｈ，ｓ）  ２．４４（３Ｈ，ｓ）
【００８５】
参考製造例１３−２
2004155772.tif 000047
エタノール２５ｍｌとテトラヒドロフラン５ｍｌの混合溶液に４−{２−（２−（ジメチルアミノメチレン）アミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール５７０ｍｇ（１．３９ｍｍｏｌ）を溶解し、１モル／Ｌ塩酸７ｍｌを加え、６０℃で３時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し、濃縮した。ここに炭酸水素ナトリウムを加えて、水層を塩基性とし、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を水で乾燥し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、４−{２−（２−アミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾールを４６９ｍｇ得た。
４−{２−（２−アミノチアゾール−４−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９８（１Ｈ，ｄ）  ７．８６（１Ｈ，ｍ）  ７．４３（１Ｈ，ｄ）  ７．３８−７．４１（２Ｈ，ｍ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ６．１６（１Ｈ，ｓ）  ５．０３（１Ｈ，ｓ）  ５．０２（１Ｈ，ｓ）  ４．８５（２Ｈ，ｂｒ）  ２．４３（３Ｈ，ｓ）
【００８６】
参考製造例１４
参考製造例１４−１
2004155772.tif 000048
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに４−（２−ヒドロキシナフタレン−１−イル）−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２．５３ｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、０℃で水素化ナトリウム(６０％油性)４１８ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。ここに２−クロロメチル−４−メトキシカルボニルチアゾール２．００ｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻して一晩撹拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１〜２：１）に付し、４−{２−（４−メトキシカルボニルチアゾール−２−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾールを３．０３ｇ得た。
４−{２−（４−メトキシカルボニルチアゾール−２−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１２（１Ｈ，ｓ）  ８．０３（１Ｈ，ｄ）  ７．８９（１Ｈ，ｍ）  ７．４３−７．４５（２Ｈ，ｍ）  ７．４１（１Ｈ，ｄ）  ７．３０（１Ｈ，ｍ）  ５．５２（１Ｈ，ｄ）  ５．４２（１Ｈ，ｄ）  ３．９５（３Ｈ，ｓ）  ２．４４（３Ｈ，ｓ）
【００８７】
参考製造例１４−２
2004155772.tif 000049
メタノール３０ｍｌに４−{２−（４−メトキシカルボニルチアゾール−２−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール２．３７ｇ（５．９６ｍｍｏｌ）を溶解し、１０％水酸化ナトリウム水溶液４．７８ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、水を加えた。これに濃塩酸を加えて溶液を酸性とし、生じた固体を濾過した。濾物を水で洗浄し、減圧下で乾燥させ、４−{２−（４−カルボキシルチアゾール−２−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾールを１．８１ｇ得た。
４−{２−（４−カルボキシルチアゾール−２−イル）メトキシナフタレン−１−イル}−５−メチル−１,２,３−チアジアゾール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３９（１Ｈ，ｓ）  ８．２０（１Ｈ，ｄ）  ８．０２（１Ｈ，ｍ）  ７．７４（１Ｈ，ｄ）  ７．４７（２Ｈ，ｍ）  ７．１６（１Ｈ，ｍ）  ５．６３（１Ｈ，ｄ）  ５．５７（１Ｈ，ｄ）  ２．４０（３Ｈ，ｓ）
【００８８】
参考製造例１５
参考製造例１５−１
2004155772.tif 000050
クロロホルム３５ｍｌに２−ブロモ−６−メチルピリジン５．１８ｇ（３０．１ｍｍｏｌ）を溶解し、この溶液にクロロホルム６３ｍｌにｍ−クロロ濾過安息香酸５．５０ｇ（３１．９ｍｍｏｌ）を溶解した溶液を室温で加え、６時間撹拌した。この反応混合物に硫酸ナトリウム２．０８ｇ（１６．５ｍｍoｌ）を加え、さらに１時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、粗２−ブロモ−６−メチルピリジン−Ｎ−オキシド５．５０ｇを得た。得られた粗２−ブロモ−６−メチルピリジン−Ｎ−オキシド３．８１３ｇを無水酢酸１５ｍｌに溶解し、加熱還流下５時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷した後、減圧下で濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、６−アセトキシメチル−２−ブロモピリジンを９８２ｍｇ得た。
６−アセトキシメチル−２−ブロモピリジン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．５６（１Ｈ，ｔ）  ７．４３（１Ｈ，ｄ）  ７．３１（１Ｈ，ｄ）  ５．１９（２Ｈ，ｓ）  ２．１７（３Ｈ，ｓ）
【００８９】
参考製造例１５−２
2004155772.tif 000051
窒素置換された反応容器にイソブチリルアミド２６２ｍｇ（３．０１ｍｍoｌ）、炭酸セシウム１．１４ｇ（３．５１ｍｍoｌ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９,９−ジメチルキサンテン１０９ｍｇ（０．１９ｍｍoｌ）及びトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム−クロロホルムアダクト６５ｍｇ（６３μｍoｌ）を加えた。ここに無水ジオキサン２．５ｍｌに６−アセトキシメチル−２−ブロモピリジン５７６ｍｇ（２．５０ｍｍoｌ）を溶解した溶液を滴下し、７０℃で２.５時間、さらに室温で１５時間攪拌した。反応混合物にクロロホルムを加え、濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、６−アセトキシメチル−２−イソブチリルアミノピリジンを５２９ｍｇ得た。
６−アセトキシメチル−２−イソブチリルアミノピリジン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１８（１Ｈ，ｄ）  ７．８３（１Ｈ，ｂｒ）  ７．７１（１Ｈ，ｔ）  ７．０８（１Ｈ，ｄ）  ５．０９（２Ｈ，ｓ）  ２．５４（１Ｈ，ｍ）  ２．１６（３Ｈ，ｓ）  １．２７（６Ｈ，ｄ）
【００９０】
参考製造例１５−３
2004155772.tif 000052
メタノール８ｍｌに６−アセトキシメチル−２−イソブチリルアミノピリジン４７５ｍｇ（２．０１ｍｍoｌ）を溶解し、炭酸カリウム２９２ｍｇ（２．１１ｍｍoｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、６−ヒドロキシメチル−２−イソブチリルアミノピリジンを３８０ｍｇ得た。
６−ヒドロキシメチル−２−イソブチリルアミノピリジン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１４（１Ｈ，ｄ）  ７．８３（１Ｈ，ｂｒ）  ７．７０（１Ｈ，ｔ）  ６．９８（１Ｈ，ｄ）  ４．６９（２Ｈ，ｄ）  ３．１９（１Ｈ，ｔ）  ２．５７（１Ｈ，ｍ）  １．２９（６Ｈ，ｄ）
【００９１】
参考製造例１５−４
2004155772.tif 000053
ジエチルエーテル２．２mlに６−ヒドロキシメチル−２−イソブチリルアミノピリジン１０５ｍｇ（０．５４ｍｍoｌ）を溶解し、反応容器を水浴に漬けた。ここに三臭化リン１４７ｍｇ（０．５４ｍｍoｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、６−ブロモメチル−２−イソブチリルアミノピリジンを３８０ｍｇ得た。
６−ブロモメチル−２−イソブチリルアミノピリジン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１７（１Ｈ，ｄ）  ７．８５（１Ｈ，ｂｒ）  ７．６９（１Ｈ，ｔ）  ７．１３（１Ｈ，ｄ）  ４．４２（２Ｈ，ｓ）  ２．５４（１Ｈ，ｍ）  １．２７（６Ｈ，ｄ）
【００９２】
次に製剤例を示す。部は重量部を表す。
【００９３】
製剤例１
本発明化合物の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
【００９４】
製剤例２
本発明化合物の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
【００９５】
製剤例３
本発明化合物の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
【００９６】
製剤例４
本発明化合物の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
【００９７】
製剤例５
本発明化合物の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒し乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
【００９８】
製剤例６
本発明化合物の各々１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。
【００９９】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物（３）、（４）、（５）、（６）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、及び（１６）の各々をそれぞれ製剤例６に準じて製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が５００ｐｐｍとなるように希釈して試験用薬液を調製した。この試験用薬液を上記のトマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、植物葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧した。その後、このトマト苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、さらに昼間２２℃、夜間２０℃の温室に移して４日間栽培した後、植物上の病斑面積を調査した。本発明化合物（３）、（４）、（５）、（６）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）及び（１６）の各々を処理した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。