(57)【要約】【課題】時間をかけずに複数の分光分布に対する撮像素子の応答特性の検査を行う。【解決手段】半導体ウエハ上に形成された撮像素子９に照明光を照射する照明光学系１、２、３、４、５、６、７、８と、前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行う検査手段１１とを有し、前記照明光学系は、前記撮像素子の撮像面上の複数の異なる領域に対して、光源からの光を分光分布が互いに異なる光として照射する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウエハ上に形成された撮像素子に照明光を照射する照明光学系と、
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行う検査手段とを有し、
前記照明光学系は、前記撮像素子の撮像面上の複数の異なる領域に対して、光源からの光を分光分布が互いに異なる光として照射することを特徴とする検査装置。
【請求項２】
照明光を照射する照明光学系と、
前記照明光を入射し、入射された前記照明光の分光分布を変えるための複数のパターンが形成されたフィルタ手段と、
前記フィルタ手段の前記複数のパターンを前記撮像素子に投影する投影手段と
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行う検査手段と
を備えたことを特徴とする検査装置。
【請求項３】
請求項１に記載の検査装置において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査装置。
【請求項４】
請求項２に記載の検査装置において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査装置。
【請求項５】
請求項１に記載の検査装置において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査装置。
【請求項６】
請求項２に記載の検査装置において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査装置。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の検査装置において、
前記検査手段は、半導体ウエハ上に複数並べて形成された前記撮像素子に対して、１つおきに並べられている前記撮像素子ごとに検査を行うことを特徴とする検査装置。
【請求項８】
撮像素子の撮像面上の複数の異なる領域に対して、光源からの光を分光分布が互いに異なる光として照射し、
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行うことを特徴とする検査方法。
【請求項９】
入射された前記照明光の分光分布を変えるための複数のパターンが形成されたフィルタに光源からの光を入射させ、
前記フィルタの前記複数のパターンを撮像素子に投影し、
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行うことを特徴とする検査方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の検査方法において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の検査方法において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査方法。
【請求項１２】
請求項８に記載の検査方法において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査方法。
【請求項１３】
請求項９に記載の検査方法において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査方法。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の検査方法において、
半導体ウエハ上に複数並べて形成された前記撮像素子に対して、１つおきに並べられている前記撮像素子ごとに検査を行うことを特徴とする検査方法。
【請求項１５】
請求項８に記載の検査方法において、
撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数の異なる領域のそれぞれの長さの略２倍である第１の検査対象撮像素子と、撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数の異なる領域のそれぞれの長さと略同一である第２の検査対象撮像素子とを、同一の照射条件で検査することを特徴とする検査方法。
【請求項１６】
請求項９に記載の検査方法において、
撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数のパターンのそれぞれの長さの略２倍である第１の検査対象撮像素子と、撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数のパターンのそれぞれの長さと略同一である第２の検査対象撮像素子とを、同一の前記フィルタを用いて検査することを特徴とする検査方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ上に形成された撮像素子を検査するための検査方法および検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子は、半導体ウエハ表面に半導体集積回路を積層形成して作られ、一般的に一枚のウエハ表面に多数の固体撮像素子がマトリクス状に整列した状態で形成される。このように各撮像素子がウエハ上に整列形成された状態で、各撮像素子の光応答特性の検査をする装置が知られている。なお、このような検査に用いられる光照射装置が例えば下記特許文献１に記載されている。
【０００３】
従来この種の検査は、検査する撮像素子全面に光を照射して撮像面上の所定の画素での応答特性を検査していた。そして、照射光学系にフィルタを出し入れして照射する光の分光分布を変化させ、それぞれの分光分布の光における撮像素子の所定の画素の応答信号を計測していた。
【０００４】
【特許文献１】実用新案登録第２５８２７３３号公報
【０００５】
【発明の解決しようとする課題】
ところが、上記従来の技術においては、１つの撮像素子の検査でフィルタを切り換えて応答信号を計測するため、たとえば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３種のフィルタを切り換えて検査をすることになる。場合によっては、補色系のＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（黄色）の３種に対しての検査もすることがある。このため、切り換えるフィルタの数が多くなることにより切換時間が無視できなくなり、１つの撮像素子を検査するのに時間がかかってしまい、量産する際に障害となってしまうという問題点があった。
【０００６】
本発明は、時間をかけずに複数の分光分布に対する撮像素子の応答特性の検査が行える検査方法および検査装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題の解決のため、請求項１に係る発明は、
半導体ウエハ上に形成された撮像素子に照明光を照射する照明光学系と、
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行う検査手段とを有し、
前記照明光学系は、前記撮像素子の撮像面上の複数の異なる領域に対して、光源からの光を分光分布が互いに異なる光として照射することを特徴とする検査装置である。
【０００８】
請求項２に係る発明は、
照明光を照射する照明光学系と、
前記照明光を入射し、入射された前記照明光の分光分布を変えるための複数のパターンが形成されたフィルタ手段と、
前記フィルタ手段の前記複数のパターンを前記撮像素子に投影する投影手段と
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行う検査手段と
を備えたことを特徴とする検査装置である。
【０００９】
請求項３に係る発明は、
請求項１に記載の検査装置において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査装置である。
【００１０】
請求項４に係る発明は、
請求項２に記載の検査装置において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査装置である。
【００１１】
請求項５に係る発明は、
請求項１に記載の検査装置において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査装置である。
【００１２】
請求項６に係る発明は、
請求項２に記載の検査装置において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査装置である。
【００１３】
請求項７に係る発明は、
請求項５又は６に記載の検査装置において、
前記検査手段は、半導体ウエハ上に複数並べて形成された前記撮像素子に対して、１つおきに並べられている前記撮像素子ごとに検査を行うことを特徴とする検査装置である。
【００１４】
請求項８に係る発明は、
撮像素子の撮像面上の複数の異なる領域に対して、光源からの光を分光分布が互いに異なる光として照射し、
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行うことを特徴とする検査方法である。
【００１５】
請求項９に係る発明は、
入射された前記照明光の分光分布を変えるための複数のパターンが形成されたフィルタに光源からの光を入射させ、
前記フィルタの前記複数のパターンを撮像素子に投影し、
前記撮像素子からの応答信号により前記撮像素子の検査を行うことを特徴とする検査方法である。
【００１６】
請求項１０に係る発明は、
請求項８に記載の検査方法において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査方法である。
【００１７】
請求項１１に係る発明は、
請求項９に記載の検査方法において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期の略１／２であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期と略同一であることを特徴とする検査方法である。
【００１８】
請求項１２に係る発明は、
請求項８に記載の検査方法において、
前記複数の異なる領域のそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、前記複数の異なる領域からなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査方法である。
【００１９】
請求項１３に係る発明は、
請求項９に記載の検査方法において、
投影された前記複数のパターンのそれぞれの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期と略同一であり、投影された前記複数のパターンからなる１組のパターンの長さは、前記撮像素子が前記半導体ウエハ上に形成されている繰り返し周期の略２倍であることを特徴とする検査方法である。
【００２０】
請求項１４に係る発明は、
請求項１２又は１３に記載の検査方法において、
半導体ウエハ上に複数並べて形成された前記撮像素子に対して、１つおきに並べられている前記撮像素子ごとに検査を行うことを特徴とする検査方法である。
【００２１】
請求項１５に係る発明は、
請求項８に記載の検査方法において、
撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数の異なる領域のそれぞれの長さの略２倍である第１の検査対象撮像素子と、撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数の異なる領域のそれぞれの長さと略同一である第２の検査対象撮像素子とを、同一の照射条件で検査することを特徴とする検査方法である。
【００２２】
請求項１６に係る発明は、
請求項９に記載の検査方法において、
撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数のパターンのそれぞれの長さの略２倍である第１の検査対象撮像素子と、撮像素子が半導体ウエハ上に複数並べて形成されている繰り返し周期が、前記複数のパターンのそれぞれの長さと略同一である第２の検査対象撮像素子とを、同一の前記フィルタを用いて検査することを特徴とする検査方法である。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の実施形態による検査装置の構成図である。図１において、光源であるハロゲンランプ１から放射された光は、コレクタレンズ２で集光され、フィルタ３を透過し、レンズ４により照明均一化のためのインテグレータロッド５の入射端面に入射される。フィルタ３としては、本実施形態においては、光源にハロゲンランプ１を使用している関係上、熱線を吸収するフィルタを用いることが好ましい。
【００２４】
インテグレータロッド５に入射した光は内部で反射を繰り返し重ね合わされ出射端面でほぼ均一な照度分布を持つようになる。このとき照射面での照度むらは±１．５％以下である。インテグレータロッド５から出射された光は、コンデンサレンズ６を介してカラーバーチャート７に照射される。カラーバーチャート７を透過した光は投影レンズ８を介して、被検物体である撮像素子９に照射される。被検物体である撮像素子９は半導体ウエハ上にマトリクス状に多数個が形成されている。そして、半導体ウエハは、撮像素子ごとに切り離されていない状態で、水平面内で移動可能なステージ１０に積置される。
【００２５】
プローバ１１は、ステージ１０上に載置された半導体ウエハ上の撮像素子９の出力端子にプローブピンを接触させ電気的に接続する。そして、撮像素子９に対して電力を供給し、撮像素子９からの出力信号を取り込み、それに基づいて検査を行う。
【００２６】
図２は、カラーバーチャート７の構成を示す図である。図２において、カラーバーチャート７には、４種類のパターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄが形成されている。これらのパターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄはそれぞれ、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）と白色（ガラス素通し）の４色の色フィルタの機能を果たすものである。Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のパターンは、透明なガラス面に異なる誘電体膜を形成することによりから作られている。
【００２７】
図２においては、パターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄは、それぞれが同じ大きさの四角形状に形成されており、４つのパターンは２×２に配置され１組のパターンとして構成されている。その１組のパターンがさらに２×２に配置され、カラーバーチャート全体のパターンを構成している。
【００２８】
図３は、投影レンズ８により、カラーバーチャート７のパターンが撮像素子９上に投影された状態を示す図である。図３において、撮像素子９Ａ−１〜９Ａ−４のそれぞれの受光面９Ａ−１ａ〜９Ａ−４ａは、カラーバーチャート７のパターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄの４つを合わせた１組のパターンがウェハ上に投影された領域とほぼ同じ大きさをもつ。このため、撮像素子９Ａ−１〜９Ａ−４の受光面９Ａ−１ａ〜９Ａ−４ａには、カラーバーチャート７に形成された４組のパターン（それぞれがパターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄを有する）がそれぞれ投影されることになる。したがって、それぞれの受光面９Ａ−１ａ〜９Ａ−４ａに、４種類のパターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄが投影されていることになる。
【００２９】
そして、受光面９Ａ−１ａ〜９Ａ−４ａ上の４種類のパターンがそれぞれ投影されている範囲内の画素からの出力信号をそれぞれ取り出して検査を行う。
【００３０】
以上のような構成の検査装置における動作手順の説明をする。
【００３１】
検査開始前に、ハロゲンランプ１から光が射出された状態でかつ、ステージ１０方向に光が照射されないように遮光した状態にしておく。具体的には、フィルタ３を遮光フィルタに切り替えることにより実現可能である。
【００３２】
次に、不図示の搬送機構により、ウエハをステージ１０上に載置する。そして、ステージ１０を駆動することにより、投影レンズ８によりウエハ上の所望の撮像素子（ここでは撮像素子９Ａ−１〜９Ａ−４）にパターンが投影可能となるようにウエハを移動させる制御を行う。次に、プローバ１１のプローブピンを各撮像素子９Ａ−１〜９Ａ−４の出力端子に接触させる。そして、前述の遮光フィルタを取り除き、ハロゲンランプ１からの光がウエハ上に照射される状態にする。この結果、カラーバーチャート７のパターンが撮像素子９Ａ−１〜９Ａ−４に投影される。プローバ１１は、このときの各撮像素子９Ａ−１〜９Ａ−４からの出力信号を取り込み、不図示のテスタと呼ばれる検査機に信号を送る。テスタでは、撮像素子９Ａ−１〜９Ａ−４からの出力信号を、パターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄが投影されたそれぞれの領域ごとにチェックし、正常な信号が出力されているか否かを撮像素子ごとに検査を行う。
【００３３】
以上が終了すると、ステージ１０を駆動してウエハを移動させ、ウエハ上の次に検査する撮像素子の検査を同様にして行う。
【００３４】
以上のようにして、４種類のパターンが形成されたカラーバーチャート７を用いることにより、従来のようにフィルタを切り替えることなく、４種類の色の光が照射されたときの撮像素子の応答を検査することができる。
【００３５】
以上説明した実施形態では、一度に４種類の色の光に対する検査を、４つの撮像素子について行うことができる。これは、図２のカラーバーチャート７に、パターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄという４種類の色フィルタからなる１組のパターンが４組形成されているからである。そして、ウエハ上に投影されるパターンの大きさは、パターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄからなる１組のパターンの大きさが、ウエハ上の１つの撮像素子の撮像面とほぼ同じ大きさであり、かつ、１組のパターンが並べられる周期が、撮像素子がウエハ上に並べられた周期とほぼ等しくなっているからである。
【００３６】
さらに、図２のカラーバーチャート７を使って、カラーバーチャート７のパターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄの各パターンのウエハ上への投影像とほぼ同じサイズの受光面をもつ撮像素子についても検査を行うことができる。この場合は図４に示すように、カラーバーチャート７のパターンの境界点が撮像素子の受光面９Ｂ−１ａ〜９Ｂ−３ａのほぼ中心になるように配置する。このような配置をとることによって、撮像素子の受光面９Ｂ−１ａ、９Ｂ−３ａには、同じパターンが投影されることになる。すなわち、この場合、１つおきの撮像素子に同じパターンが投影されることになる。これは、撮像素子がウエハ上に並べて形成された周期が、カラーバーチャート７の１組のパターン（パターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄからなるパターン）が並べられた周期のほぼ１／２となっているからである。
【００３７】
図４の場合、プローバ１１のプローブピンを受光面９Ｂ−１ａ、９Ｂ−３ａの撮像素子の出力端子に接続することにより、２つの撮像素子の検査を行えばよい。その後、ウエハを横方向に撮像素子１つ分だけずらせば、受光面９Ｂ−１ａ、９Ｂ−３ａと隣接する受光面（図４では受光面９Ｂ−２ａの撮像素子）の検査を行うことができる。
【００３８】
同様にして、カラーバーチャート７の１組のパターンの投影像の繰り返し周期のほぼ整数分の１の繰り返し周期で形成された撮像素子についても、パターンの境界点を撮像素子の受光面の中心となるように配置すれば、同様に検査を行うことができる。この場合には撮像素子には、前記整数おきに同じパターンが投影されている。このように、同じパターンが投影されている撮像素子の検査を一度に行えば、それらの撮像素子の検査条件を一定にできるので、それぞれの撮像素子から出力される画像信号を、同じ座標どうしの信号を比較すれば検査が行えることになる。
【００３９】
以上のように本実施形態によれば、ひとつのカラーバーチャートで、大きさがほぼ整数倍の差のある撮像素子を検査することができる。
【００４０】
撮像素子の画面サイズは、２／３インチサイズや１／３インチサイズなど種々のものがあるが、本実施形態によれば、カラーバーチャート７の１組の投影パターン（例えば図２におけるパターン７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄからなる１組のパターン）の周期の整数分の１の繰り返し周期でウエハ上に形成された撮像素子であれば、同じ装置で、かつ同じカラーバーチャートで検査を行うことができることになる。
【００４１】
また、受光面サイズが小さい撮像素子では１枚のウエハに形成される撮像素子数が非常に多くなり、従来の装置では、１枚のウエハを処理する時間が素子数に比例して長くなってしまう。本実施形態によれば、同時に複数の撮像素子の検査を行うことができるので、検査時間が長くなるのを防ぐことができる。実際には、投影されるカラーバーチャートに対する撮像素子の位置決めが完全でないこと、カラーバーチャート７で作成したパターンの境界部は製造公差などにより所定の幅で所望の特性を得られない領域ができてしまっていることから、検査できる微小な撮像素子には限界がある。撮像素子の受光面からカラーバーチャートの無効領域の幅を引いた部分が、撮像素子の位置決め精度より大きいことが検査可能となる条件である。
【００４２】
また、本実施形態においては、投影するパターンは長方形であったが、図５に示すような六角形のパターンや図６示すような三角形のパターンであってもよい。
【００４３】
図５は、六角形のパターンを形成したカラーバーチャートでの検査を説明するための図である。図５（ａ）において、撮像面９Ｃ−１ａ、９Ｃ−２ａに対して、六角形のパターン７ｅ、７ｆ、７ｇからなる１組のパターンが複数組投影される。撮像面９Ｃ−１ａ、９Ｃ−２ａが配置されている周期は、１組のパターンが並んで投影される周期Ｌ１と等しい。この場合、撮像面９Ｃ−１ａ、９Ｃ−２ａには同じ状態でパターンが投影されるため、２つの撮像面９Ｃ−１ａ、９Ｃ−２ａを同時に検査することができる。
【００４４】
図５（ｂ）においては、図５（ａ）と同様のパターンが、撮像面９Ｄ−１ａ、９Ｄ−２ａ、９Ｄ−３ａに投影されている。撮像面９Ｄ−１ａ、９Ｄ−２ａ、９Ｄ−３ａが配置されている周期は、１組のパターンが並んで投影される周期Ｌ１の１／２に等しい。この場合、撮像面９Ｄ−１ａ、９Ｄ−３ａには同じ状態でパターンが投影されるため、２つの撮像面９Ｄ−１ａ、９Ｄ−３ａを同時に検査することができる。したがって、並べられた撮像素子に対して、１つおきごとに同時に検査を行うことができる。
【００４５】
図６は、三角形のパターンを形成したカラーバーチャートでの検査を説明するための図である。図６（ａ）において、撮像面９Ｅ−１ａ、９Ｅ−２ａに対して、三角形のパターン７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌ、７ｍからなる１組のパターンが複数組投影される。撮像面９Ｅ−１ａ、９Ｅ−２ａが配置されている周期は、１組のパターンが並んで投影される周期Ｌ２と等しい。この場合、撮像面９Ｅ−１ａ、９Ｅ−２ａには同じ状態でパターンが投影されるため、２つの撮像面９Ｅ−１ａ、９Ｅ−２ａを同時に検査することができる。
【００４６】
図６（ｂ）においては、図６（ａ）と同様のパターンが、撮像面９Ｆ−１ａ、９Ｆ−２ａ、９Ｆ−３ａに投影されている。撮像面９Ｆ−１ａ、９Ｆ−２ａ、９Ｆ−３ａが配置されている周期は、１組のパターンが並んで投影される周期Ｌ２の１／２に等しい。この場合、撮像面９Ｆ−１ａ、９Ｆ−３ａには同じ状態でパターンが投影されるため、２つの撮像面９Ｆ−１ａ、９Ｆ−３ａを同時に検査することができる。したがって、並べられた撮像素子に対して、１つおきごとに同時に検査を行うことができる。
【００４７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、時間をかけずに複数の分光分布に対する撮像素子の応答特性の検査を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態による検査装置の構成図。
【図２】本発明の実施形態による検査装置で用いるカラーバーチャートの構成図。
【図３】本発明の実施形態による検査装置で用いるカラーバーチャートのパターンが、そのパターンの繰返し周期にほぼ等しい周期で形成された撮像素子上に投影されている状態を示す図。
【図４】本発明の実施形態による検査装置で用いるカラーバーチャートのパターンが、そのパターンの繰返し周期のほぼ１／２の周期で形成された撮像素子上に投影されている状態を示す図。
【図５】本発明の実施形態による検査装置で用いるカラーバーチャートに形成する各パターンの形状を六角形にした場合を説明する図。
【図６】本発明の実施形態による検査装置で用いるカラーバーチャートに形成する各パターンの形状を三角形にした場合を説明する図。
【符号の説明】
１：光源、２：コレクタレンズ、３：フィルタ、４：レンズ、５：インテグレータロッド、６：コンデンサレンズ、７：カラーバーチャート、８：投影レンズ、９：撮像素子、１０：ステージ、１１：プローバ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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