(57)【要約】【課題】高精度の機器を用いることなく、コストの増加を抑制しつつ、容易に光源からの光量の減衰制御を高精度に行うことのできる可変型光減衰装置を提供する。【解決手段】可変型光減衰装置に含まれるガルバノメータ１２は、電流値に応じて回転角度を固定できる遮蔽板１０を有している。この遮蔽板１０の表面には、光源２４からの光束が通過可能な複数の異なる種類のスリット２２が形成され、前記光源２４の光軸と初期状態の前記遮蔽板１０の任意の１つのスリット２２の幾何学上の中心を一致させた上で、遮蔽板１０の回転角を選択し、遮蔽板１０通過後の光束の光量の減衰制御を行う。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
平面上に前記光源からの光束が通過可能な複数の異なる種類のスリットを有し、その周縁部に平面コイルを有すると共に任意の対向位置がトーションバーを介して軸支された平面板であって、前記平面コイルに電流が流れた場合に、所定磁界中で回転自在な遮蔽板と、
前記遮蔽板を磁界中で所定角度に回転させるために平面コイルに供給する電流値を制御する回転制御部と、
前記光源または遮蔽板の少なくとも一方を前記光源からの光束の光軸と直交する方向に移動し、前記光源の光軸と初期状態の前記遮蔽板の任意の１つのスリットの幾何学上の中心を一致させる軸合わせ機構部と、
前記光源の光束を通過させるスリットの選択及び遮蔽板の回転角を選択し、遮蔽板通過後の光束の光量の減衰制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする可変型光減衰装置。
【請求項２】
光源と、
平面上に前記光源からの光束が通過可能なスリットを有し、その周縁部に平面コイルを有すると共に任意の対向位置がトーションバーを介して軸支された平面板であって、前記平面コイルに電流が流れた場合に、所定磁界中で回転自在な前記光源の光軸に沿って任意の間隔で配列される個々に異なる種類のスリットを有する複数の遮蔽板と、
前記各遮蔽板を磁界中で所定角度に回転させるために平面コイルに供給する電流値を制御する回転制御部と、
前記光源の光束を通過させる各遮蔽板の回転角を選択し、遮蔽板通過後の光束の光量の減衰制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする可変型光減衰装置。
【請求項３】
請求項２記載の装置において、
前記各遮蔽板は同一面上に、複数の異なる種類のスリットを有し、
当該各遮蔽板を前記光軸に対して直交する平面に沿って移動させ、各遮蔽板上の任意の１つのスリットの幾何学上の中心を前記光軸に一致させる軸合わせ機構部を含むことを特徴とする可変型光減衰装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１に記載の装置において、前記制御部は、スリットの面積、形状、遮蔽板上における位置のうち少なくとも１つと、遮蔽板の回転角度と、光束の減衰量と、を関連付けた関連テーブルを有することを特徴とする可変型光減衰装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、可変型光減衰装置、特に、光源からの光量を高精度に減衰制御することのできる可変型光減衰装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来からパルスレーザ発振器等の光源からの光束（例えばパルスレーザ光）の光量を遮蔽板を用いて部分的に遮蔽することにより光量を減衰変化させる減衰装置がある。
【０００３】
例えば、光源から照射される光束の光軸上に、光束の断面と略同じ大きさのスリットを有する遮蔽板を前記光軸と直交する直交面と平行に配置する。この遮蔽板には、前記直交面に対し所定の角度で遮蔽板を回転（揺動）させる駆動装置が接続されている。この駆動装置は、例えば遮蔽板の回転軸にガルバノメータを接続したり、パルスモータ等を接続することにより構成することができる。
【０００４】
光源からの光量の減衰制御を行わない場合には、遮蔽板を光軸に対し直交するように駆動装置を制御する。すなわち駆動装置による回転角度を「ゼロ」になるように遮蔽板を位置決めする。この場合、遮蔽板には、光束の断面積と略同一のスリットが形成されているので、光束は光量を減衰することなく通過する。すなわち、出力側（通過後）は、減衰の無い状態の光量で光束を出力することができる。
【０００５】
一方、光量の減衰制御を行いたい場合、遮蔽板を前記直交面に対し回転させる。その結果、光源側から見た場合のスリットの見かけの面積が回転角度に応じて減少する。すなわち、スリットを通過する光束の一部が傾いた遮蔽板によって遮らる。その結果、出力側（通過後）は、回転角度に応じて減衰した光量の光束を出力することができる（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１０−１３７９６６号公報（図１、図２）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の減衰装置は、遮蔽板の回転角度のみにより光の減衰量が決定されるため、減衰制御量には限界があるという問題があった。
【０００８】
光の減衰量をより高精度に制御しようとする場合、異なるスリットを有する専用の遮蔽板を新たに作成し光軸上にセットする必要がある。この場合、専用の遮蔽板の光軸へのセッティング、調整、複数存在する遮蔽板の管理等に必要な工数の増加等が生じ、新たな問題を誘発する。また、遮蔽板の回転角度は、それを駆動する駆動装置の性能に支配されるため、回転角度を高精度に制御できる高精度の駆動装置を採用すれば、専用のスリットを有する遮蔽板を用いること無く高精度の減衰量制御を行うことができるが、やはり高精度の機器（駆動装置）の採用は装置コストの増加を招くという問題を生じる。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、高精度の機器を用いることなく、コストの増加を抑制しつつ、容易に光源からの光量の減衰制御を高精度に行うことのできる可変型光減衰装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記のような目的を達成するために、本発明の可変型光減衰装置は、光源と、平面上に前記光源からの光束が通過可能な複数の異なる種類のスリットを有し、その周縁部に平面コイルを有すると共に任意の対向位置がトーションバーを介して軸支された平面板であって、前記平面コイルに電流が流れた場合に、所定磁界中で回転自在な遮蔽板と、前記遮蔽板を磁界中で所定角度に回転させるために平面コイルに供給する電流値を制御する回転制御部と、前記光源または遮蔽板の少なくとも一方を前記光源からの光束の光軸と直交する方向に移動し、前記光源の光軸と初期状態の前記遮蔽板の任意の１つのスリットの幾何学上の中心を一致させる軸合わせ機構部と、前記光源の光束を通過させるスリットの選択及び遮蔽板の回転角を選択し、遮蔽板通過後の光束の光量の減衰制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする。
【００１１】
ここで、異なる種類のスリットとは、スリットの面積や形状、遮蔽板上における位置等が異なるスリットを意味する。また、軸合わせ機構部が軸合わせを行う遮蔽板の初期状態とは、光源からの光束の光軸と直交する面と平行な状態、すなわち回転角度「ゼロ」の状態を意味する。
【００１２】
この構成によれば、１枚の遮蔽板上に異なる種類の複数のスリットが形成されているので、遮蔽板上で選択するスリットの面積や形状に応じた光量の減衰制御を行うことができる。また、スリットの位置が異なれば、すなわち、遮蔽板の回転軸からの距離によりスリットの変位量が異なるため、遮蔽板の回転角度が同じでも異なる減衰結果を得ることができる。その結果、減衰量の制御バリエーション（減衰分解能）を高精度の機器を用いることなく容易に増加することができる。
【００１３】
上記のような目的を達成するために、本発明の可変型光減衰装置は、光源と、平面上に前記光源からの光束が通過可能なスリットを有し、その周縁部に平面コイルを有すると共に任意の対向位置がトーションバーを介して軸支された平面板であって、前記平面コイルに電流が流れた場合に、所定磁界中で回転自在な前記光源の光軸に沿って任意の間隔で配列される個々に異なる種類のスリットを有する複数の遮蔽板と、前記各遮蔽板を磁界中で所定角度に回転させるために平面コイルに供給する電流値を制御する回転制御部と、前記光源の光束を通過させる各遮蔽板の回転角を選択し、遮蔽板通過後の光束の光量の減衰制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする。
【００１４】
ここで、光束の光軸に沿って配列される各遮蔽板は、相互の回転が干渉されなければ、個々の間隔は異なっても同一でもよい。また、個々に異なる種類のスリットとは、各遮蔽板のスリットの面積や形状、遮蔽板上における位置等が異なるスリットを意味する。なお、この場合、配列する遮蔽板の枚数は任意であるが、各スリットの幾何学的な中心は光束の光軸に一致しているものとする。
【００１５】
この構成によれば、複数配列された遮蔽板を選択的に制御することにより、各遮蔽板における光束の光量の減衰率を変化させることが可能である。個々の遮蔽板の変化を組み合わせることにより、減衰率のバリエーションを容易に高精度の機器を用いることなく、光束の減衰量の変化を詳細に行うことができる。
【００１６】
上記のような目的を達成するために、本発明の可変型光減衰装置は、上記構成において、前記各遮蔽板は同一面上に、複数の異なる種類のスリットを有し、当該各遮蔽板を前記光軸に対して直交する平面に沿って移動させ、各遮蔽板上の任意の１つのスリットの幾何学上の中心を前記光軸に一致させる軸合わせ機構部を含むことを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、スリットの選択及び遮蔽板の回転角度の選択のバリエーションの数だけ減衰分解能を得ることが可能となり、さらに詳細な光束の減衰制御を高精度の機器を用いることなく行うことができる。
【００１８】
上記のような目的を達成するために、本発明の可変型光減衰装置は、上記構成において、前記制御部は、スリットの面積、形状、遮蔽板上における位置のうち少なくとも１つと、遮蔽板の回転角度と、光束の減衰量と、を関連付けた関連テーブルを有することを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、所望の減衰量を得るためのスリットと回転角度の組み合わせを容易かつ迅速に得ることが可能であり、スムーズな光束の光量の減衰制御を行うことができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態（以下、実施形態という）を図面に基づき説明する。
【００２１】
図１には、本実施形態の可変型光減衰装置に用いる遮蔽板１０を含むガルバノメータ１２の機構部の概念図が示されている。また、図２には、遮蔽板１０のみの拡大図が示されている。ガルバノメータ１２の基本構造は周知のものと同様である。すなわち、遮蔽板１０は、基板１４上で一対のトーションバー１６で軸支され、基板１４に形成された空間Ｓ内で回転（揺動）自在になっている。そして、トーションバー１６の軸方向と平行な基板１４の両側には、永久磁石１８ａ，１８ｂがＳ極とＮ極が対向し、所定の磁界を発生するように配置されている。
【００２２】
一方、トーションバー１６により軸支される遮蔽板１０の表面には、図２（ａ）に示すように、その周縁部に平面コイル２０が形成されている。また、平面コイル２０の内周側には、スリット２２（遮蔽板１０を貫通する）が形成されている。図１，２の例では面積や形状の異なるスリット２２が複数形成された例が示されている。具体的には、図２（ｂ）に示すように、例えば、スリット２２ａ１，２２ａ２，２２ａ３・・・は円形であり、スリット２２ｂ１，２２ｂ２，２２ｂ３・・・は正方形である。また、スリット２２ｃ１，２２ｃ２，２２ｃ３・・・は長方形である。この他、例えば、楕円、三角形や星形等任意の形状を採用してもよい。このスリット２２の面積や形状は、後述するように遮蔽板１０を通過させる光束の減衰量に応じて計算され決定されることが好ましい。
【００２３】
このように構成されるガルバノメータ１２は、周知の動作と同様に、平面コイル２０に電流を流すと、遮蔽板１０の両端にフレミングの左手の法則に従って電磁力が働き（図２（ａ）において紙面垂直方向）、遮蔽板１０はトーションバー１６を中心に回転する。この時、トーションバー１６には、遮蔽板１０を初期状態（図２（ａ）において紙面と平行状態）に復元しようとする復元力が作用するため、発生する電磁力とトーションバー１６の復元力とが釣り合う位置まで、遮蔽板１０が回転し、電流（直流電流）を流し続けている間、遮蔽板１０は、電流値に応じた回転角度で静止する。
【００２４】
上述したように、遮蔽板１０が所望の角度で静止する場合、図３（ａ）〜（ｃ）で示すように、スリット２２の見かけの幅Ｘが変化する。つまり、スリット２２の見かけの面積が変化する。図３（ａ）に示すように、遮蔽板１０が初期状態（電磁力が作用せず、基板１４の面と平行）の時、スリットの見かけの幅Ｘは、スリット２２の現実の幅ｄ１と同じである。次に、平面コイル２０に所定値の電流を流すと、上述したように永久磁石１８ａ，１８ｂで形成される磁界中で電磁力が働き、遮蔽板１０は角度θだけ傾く。この時、図３（ｂ）から明らかなようにスリット２２の見かけの幅Ｘは、角度θの増加に伴って減少する。図３（ｃ）に示すように、スリット２２の幅ｄ１、スリットの厚み（遮蔽板１０の厚み）ｄ２とした場合、スリット２２の見かけの幅Ｘは以下の関係式に基づいて変化する。
【００２５】
Ｘ＝（ｄ１−ｄ２・ｔａｎθ）・ｃｏｓθ
このように、遮蔽板１０を回転させることにより、スリット２２の見かけの幅Ｘを変化させることが可能であり、図１に示すように、基板１４の面に直交するような光束を照射する光源（例えば、パルスレーザ発振器）２４を配置した場合、光源２４からの光束（例えば、パルスレーザ光）は遮蔽板１０のスリット２２の見かけの幅Ｘに基づいて、一部遮蔽され、全体として光量の減衰が行われる。
すなわち、遮蔽板１０の角度を制御することにより遮蔽板１０を通過する光束の光量を減衰制御することができる。上述したように、この減衰量は遮蔽板１０を回転させるために平面コイル２０に流す電流量に比例する。
【００２６】
また、光源２４からの光束の光量は、スリット２２の面積によっても変化する。従って、図２（ｂ）に示すように、遮蔽板１０に面積や形状の異なるスリット２２を複数設けて、１枚の遮蔽板１０上で光束を当てる位置を変化させることにより、遮蔽板１０通過後の光束の光量の減衰量を大きく変化させることができる。従って、選択したスリット２２に対し、上述したような角度制御を実施することにより、光束の減衰バリエーションを容易に増加することができる。
【００２７】
ところで、回転軸であるトーションバー１６を中心に遮蔽板１０を回転させると、所定位置に固定された光源２４に対するスリット２２の相対的な位置も変化する。つまり、スリット２２の位置の異なる遮蔽板１０を同じ角度回転させた場合、回転軸Ｏに近い側に位置するスリット２２の移動量が回転軸Ｏに遠い側に位置するスリット２２の移動量より少なくなる。遮蔽板１０を所定角度θだけ回転させたときのスリット２２の位置の変化量ｙは、図４に示すように、回転軸Ｏ（トーションバー１６による軸支位置）とし、スリット２２の中心までの距離をＬとすると、以下のようになる。
【００２８】
ｙ＝Ｌ（１−ｃｏｓθ）
つまり、図５（ａ）に示すように、スリット２２が回転軸Ｏから離れた位置に形成されている場合（離れた位置のスリット２２を選択した場合）、遮蔽板１０が回転していない初期状態の時は、光束Ｐが完全にスリット２２を通過するが、回転角θ＝２０°になると、光束Ｐの大部分が遮蔽され、光束Ｐの減衰量は「大」となる。一方、図５（ｂ）に示すように、スリット２２が回転軸Ｏに近い位置に形成されている場合（近い位置のスリット２２を選択した場合）、図５（ａ）と同様に、遮蔽板１０が回転角θ＝２０°になっても、光束Ｐの半分以上がスリット２２を通過し光束Ｐの減衰量は「小」となる。つまり、スリット２２の位置を回転軸Ｏに近づけることにより、同じ面積及び形状のスリット２２でも、遮蔽板１０の回転角度θに対する光量の減衰率を小さくすることができる。
【００２９】
すなわち、同じ面積及び形状のスリット２２を回転軸Ｏと直交する方向に複数配列した遮蔽板１０を形成しておき、適宜、利用するスリット２２の位置を選択することにより、遮蔽板１０の回転制御を高精度化（例えば、電流を供給する回路の高精度化等）をしなくても、遮蔽板１０の回転に基づく光量の減衰分解能を変化させることが可能となる。つまり、減衰調整を高精度に行いたい場合には、回転軸Ｏに近い側のスリット２２を用いればよく、逆に、高精度をしない場合には、回転軸Ｏに遠い側のスリット２２を用いればよい。
【００３０】
なお、図５（ｃ）に示すように、スリット２２の面積を変化しても（図の例ではスリット２２を小さくしている）、光束の通過量は調整可能なので、遮蔽板１０上に形成するスリット２２の面積を種々変化させることにより、光量の減衰調整のバリエーションを容易にさらに増加させることができる。
【００３１】
上述したように、１枚の遮蔽板１０上に複数のスリット２２が形成されている場合、実際に光束の光量の減衰を行う時に使用するスリット２２は、１つであり、その選択されたスリット２２の幾何学的中心を遮蔽板１０の非回転時に光源２４が照射する光束の光軸に一致させる必要がある。本実施形態では、図６、図７に示すような軸合わせ機構を用いて、軸合わせを行うことができる。
【００３２】
図６には、遮蔽板１０を含むガルバノメータ１２を光源２４の光束の光軸に対し直交する平面内で移動させる遮蔽板側の軸合わせ機構部２６の一例を示す構成概念図が示されている。図１に示すような遮蔽板１０を含むガルバノメータ１２は、ガルバノメータ１２の基板１４と平行な基準壁２８に沿って上下方向にスライド可能なスライダー３０に支持されている。このスライダー３０は、パルスモータ３２によって精密に回転するボールネジ３４の動作により、基準壁２８に沿って上下移動する。なお、必要に応じてボールネジ３４と平行にガイドバー３６を設け、ガルバノメータ１２がスムーズかつ高精度に移動できるようにすることが好ましい。
【００３３】
前述した基準壁２８、パルスモータ３２、ガイドバー３６等はベース板３８に固定されている。このベース板３８は、可変型光減衰装置の図示しないフレームに固定されたガイドレール４０に沿って、スライダー３０を搭載した状態で、スライダー３０の移動方向と直交する方向、すなわち左右方向に移動する。このベース板３８も例えば、フレーム上に固定されたパルスモータ４２により精密に回転するボールネジ４４を駆動することにより正確に移動させることができる。
【００３４】
つまり、パルスモータ３２，４２を適宜制御することにより、ガルバノメータ１２が支持する遮蔽板１０上の任意のスリット２２を光源２４から照射される光束と直交する面内で所望の位置に正確に移動させることができる。その結果、スリット２２と光束の軸合わせを行うことができる。
【００３５】
図７は、光源２４をガルバノメータ１２と同様に、照射される光束と直交する面内で移動させる光源側の軸合わせ機構部４６の一例を示す構成概念図である。
【００３６】
光源２４もガルバノメータ１２と同様に、パルスモータ４８，５０によって精密に回転するボールネジ５２，５４の動作により、光束と直交する面内で任意の方向に正確に移動させることができる。なお、選択されたスリット２２の幾何学的中心を光源２４が照射する光束の光軸に一致させる場合、軸合わせ機構部２６，４６の両方を用いてもよいが、いずれか一方のみでもよい。すなわち、ガルバノメータ１２または、光源２４のいずれか一方は、可変型光減衰装置の図示しないフレームに固定してもよい。一方を固定してしまう方が光軸合わせ作業自体は容易となる。一方、両方で行う場合、ボールネジ３４，４４，５２，５４等を短くしても、移動動作の組み合わせにより、広い範囲の移動を行うことが可能となり、大きな動作をコンパクトな装置構成で実現することが可能となる。
【００３７】
図８には、可変型光減衰装置５６の全体の構成ブロック図が示されている。上述したように、可変型光減衰装置５６は、光源２４と光源２４から照射される光束の光量を減衰させるガルバノメータ１２で構成されている。この時、光源２４とガルバノメータ１２の相対的な位置関係は、制御部５８で制御される。また、ガルバノメータ１２の遮蔽板１０の回転角度は、回転制御部６０によって制御される。ここで、制御部５８は、どのスリット２２をどれだけ回転させることにより光源２４からの光束をどれだけ減衰させるかを示すテーブルを有しており、例えば、操作者が「○○％の減衰」等を指示すると、制御部５８により、最適なスリット２２の選択が行われ、光源２４と選択されたスリット２２との光軸合わせが実施されると共に、遮蔽板１０をどれだけ回転させたらよいかを示す指示信号が、回転制御部６０に提供される。そして、回転制御部６０は指示に従って平面コイル２０に所定の電流を流す制御を行う。なお、図８において、制御部５８は、光源２４とガルバノメータ１２の両方を移動制御する構成になっているが、上述したように、いずれか一方でもよい。
【００３８】
このように、１枚の遮蔽板１０上に面積の異なる複数のスリット２２を形成しておき、遮蔽板１０上で所望のスリット２２を選択すると共に、光源２４とスリット２２との光軸を一致させた状態で、遮蔽板１０を所定角度回転させることにより、スリット２２の形状（面積）、位置、回転角度、に基づく、スリット２２の見かけの幅に応じた光量の減衰制御を行うことが可能になり、減衰量の制御バリエーション（減衰分解能）を容易に増加することができる。また、スリット２２の面積が異なれば、また、スリットの面積が同じでも位置が異なれば、遮蔽板１０の回転角度が同じでも異なる減衰結果を得ることができるので、減衰量の制御バリエーション（減衰分解能）を高精度の機器を用いることなく容易に増加することができる。
【００３９】
ところで、異なる種類のスリット２２を有する遮蔽板１０を複数枚、光軸に沿って配列して、個々の遮蔽板１０のスリット２２の幾何学的な中心を一致させた上で、各遮蔽板１０を回転させると、容易な回転制御により様々な減衰量制御を行うことができる。前述したように、スリット２２の大きさや形状が異なれば同一の回転角度制御を行ってもスリットの見かけの幅が変化する。また、当初合わせた光軸の位置からもずれる。スリットの見かけの幅の変化と光軸の位置ずれを組み合わせることにより単一の回転制御信号（電流値）の入力や少ない回転角度制御でも減衰分解能の高い制御を容易に行うことが可能となる。例えば、図９（ａ）に示すように、２０°回転した第１遮蔽板１０ａのスリット２２ａで光束Ｐを例えば７０％に減衰し、次に、同様に２０°回転した第２遮蔽板１０ｂのスリット２２ｂで５５％に減衰し、最後に、２０°回転した第３遮蔽板１０ｃのスリット２２ｃで２０％に減衰することができる。このように、遮蔽板１０に対し、同じ回転角度制御を行っても、スリット２２の選択により減衰率を個々に変化さえることができる。
【００４０】
同様に、図９（ｂ）に示すように、さらに遮蔽板１０ａ，１０ｂ，１０ｃに対し、個別に回転角度を選択することにより、異なる減衰状態を形成するすることが可能となる。もちろん、同じ各遮蔽板１０ａ，１０ｂ，１０ｃで同じスリット２２ａを用いても１枚の遮蔽板１０ａを用いた時の減衰状態とは異なる減衰状態を形成することができる。
【００４１】
このように、複数の遮蔽板１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，・・・を組み合わせ、それぞれスリット２２の選択や回転角度の選択を行うことにより、種々の減衰状態の形成が可能であり、容易に減衰分解能の増加を行うことができる。
【００４２】
【発明の効果】
本発明によれば、１枚の遮蔽板上に異なる種類の複数のスリットが形成されているので、遮蔽板上で選択するスリットの面積や形状に応じた光量の減衰制御を行うことができる。また、遮蔽板の回転軸に対し、スリットの位置が異なれば、遮蔽板の回転角度が同じでも異なる見かけのスリットの面積を得ることができるので、減衰結果を変化させることができる。その結果、減衰量の制御バリエーション（減衰分解能）を高精度の機器を用いることなく容易に増加することができる。また、複数配列された遮蔽板を選択的に制御することにより、各遮蔽板における光束の光量の減衰率を変化させることが可能であり、個々の変化を複数組み合わせることにより、高精度の機器を用いることなく、光束の減衰量の変化を詳細に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置に用いる遮蔽板を含むガルバノメータの機構部の概念図である。
【図２】図１の可変型光減衰装置に用いる遮蔽板の拡大図である。
【図３】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置に用いる遮蔽板において、回転することによりスリットの見かけの幅が変化することを説明する説明図である。
【図４】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置に用いる遮蔽板において、回転することによりスリットの位置が変化することを説明する説明図である。
【図５】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置に用いる遮蔽板において、回転することによりスリットの位置が変化することを説明する説明図である。
【図６】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置の軸合わせ機構であり、遮蔽板側の軸合わせ機構部の概略斜視図である。
【図７】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置の軸合わせ機構であり、光源側の軸合わせ機構部の概略斜視図である。
【図８】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置の全体の構成ブロック図である。
【図９】本発明の実施形態に係る可変型光減衰装置において遮蔽板を複数枚組み合わせて使用する場合を説明する説明図である。
【符号の説明】
１０  遮蔽板、１２  ガルバノメータ、１４  基板、１６  トーションバー、１８ａ，１８ｂ  永久磁石、２０  平面コイル、２２  スリット、２４  光源、２６  遮蔽板側の軸合わせ機構部、２８  基準壁、３０  スライダー、３２，４２，４８，５０  パルスモータ、３４，４４，５２，５４  ボールネジ、３６  ガイドバー、３８  ベース板、４０  ガイドレール、４６  光源側の軸合わせ機構部、５６  可変型光減衰装置、５８  制御部、６０  回転制御部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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