(57)【要約】【課題】切欠き部上にＭＲ素子を形成する工程において、切欠き部のエッジが判別しにくく、その結果精度良くＭＲ素子の形成ができず、所望の特性が得られない場合がある。【解決手段】ヨークの切欠き部にＭＲ素子を具備したヨーク型ＭＲヘッドにおいて、切欠き部上に金属膜と非磁性絶縁膜とＭＲ素子が順次形成された基板を用いる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヨークの切欠き部にＭＲ素子を具備したヨーク型ＭＲヘッドであって、切欠き部上に金属膜と非磁性絶縁膜とＭＲ素子が順次形成された基板を用いることを特徴とするヨーク型ＭＲヘッド。
【請求項２】
切欠き部上に形成される金属膜が、非磁性であることを特徴とする請求項１記載のヨーク型ＭＲヘッド。
【請求項３】
切欠き部上に形成される金属膜が、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのいずれからなることを特徴とする請求項２に記載のヨーク型ＭＲヘッド。
【請求項４】
切欠き部上に形成される金属膜の厚さが０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッド。
【請求項５】
切欠き部断面と基板表面がなす角度が１２０°から１５０°であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッド。
【請求項６】
ＭＲ素子がスピンバルブ型ＧＭＲ素子とスピンバルブ型ＴＭＲ素子のいずれかよりなることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッド。
【請求項７】
切欠き部を形成した後に金属膜、非磁性絶縁膜を形成した基板表面の鏡面仕上げを行い、基板表面に薄膜形成技術によりＭＲ素子部を形成する第一の工程と、
ＭＲ素子上に非磁性材料を形成する第二の工程と、
第二の工程で得たＭＲ素子と非磁性材料が形成された基板と記録媒体摺動補強材を突き合わせ、接合層を介して接合一体化する第三の工程を有することを特徴とするヨーク型ＭＲヘッドの製造方法。
【請求項８】
切欠き部を形成した後に金属膜、非磁性絶縁膜を形成した基板表面の鏡面仕上げを行い、基板表面に薄膜形成技術によりＭＲ素子部を形成する第一の工程において、切欠き部上に形成された金属膜と、基板表面の画像コントラストの違いにより、切欠き部のエッジを認識することを特徴とする請求項７に記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法。
【請求項９】
切欠き部上に形成される金属膜が、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのいずれからなることを特徴とする請求項７もしくは８に記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法。
【請求項１０】
切欠き部上に形成される金属膜の厚さが０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法。
【請求項１１】
切欠き部断面と基板表面がなす角度が１２０°から１５０°であることを特徴とする請求項７から１０のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法。
【請求項１２】
ＭＲ素子がスピンバルブ型ＧＭＲ素子とスピンバルブ型ＴＭＲ素子のいずれかよりなることを特徴とする請求項７から１１のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法。
【請求項１３】
請求項１から６のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドを用いた磁気記録再生装置。
【請求項１４】
請求項７から１２のいずれかに記載の製造方法で作製したヨーク型ＭＲヘッドを用いた磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）を具備したヨーク型ＭＲヘッドに関し、特に磁気記録媒体と接触摺動することにより、高密度に記録された磁気記録媒体からの情報を再生できるＭＲヘッドの構造とその製造方法およびそれらを用いた磁気記録再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録が高密度化されるとともに、薄膜技術を用いて製造される磁気ヘッドが注目されている。周知のように、ＶＴＲやテープストリーマといった回転シリンダ方式の磁気記録再生装置の磁気ヘッドにも、ＭＲヘッドを用いるという試みがなされつつある。
【０００３】
ヨーク型ＭＲヘッドのＭＲ素子部の典型的な構造について断面図を図５、斜視図を図６に示す。またヨーク型ＭＲヘッド全体の斜視図を図７に示す。図７の記録媒体摺動面１において、磁気テープや磁気ディスク等の磁気記録媒体とＭＲヘッドが接触する。同様に図７のＡ−Ｂにおける断面図である図５の向かって左側の側面において、磁気テープや磁気ディスク等の磁気記録媒体４０とＭＲヘッドが接触する。記録媒体からの磁束はヨーク１０の一部である上部前方磁性ヨーク１０ａ、ＭＲ素子１１、ヨーク１０の一部である上部後方磁性ヨーク１０ｂ、ヨーク１０の一部である下部磁性ヨーク１０ｃで構成される磁路へと導かれ、ＭＲ素子１１の磁化回転による抵抗変化を、図６に示したセンス電流を通電した出力端子１２により取り出す構成となっている。ここで下部磁性ヨーク１０ｃは基板１３の役割も兼ねており、磁路を形成するために切欠き部１４が設けられている。このような磁気ヘッドの検出素子には異方性磁気抵抗効果材料を用いたＡＭＲ素子あるいは巨大磁気抵抗効果を用いたＧＭＲ素子やトンネル磁気抵抗効果を用いたＴＭＲ素子を用いることができる。なお、図５において１５は記録媒体摺動補強材、１６は非磁性材料、１７は非磁性絶縁層、１８は上下ヨークの磁気的分離層、１９は接合層である。また、図６には簡略化のために記録媒体摺動補強材１５を図示していない。
【０００４】
従来のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を図８〜図１３に基づいて説明する。まず図８のように切欠き部１４が設けられたフェライト等の基板１３上に図９に示すように非磁性絶縁層１７を形成した後、ラッピング等の平坦化処理により、表面を鏡面に仕上げる。
【０００５】
次にその表面に薄膜形成技術により、順次、ＭＲ素子１１、出力端子１２等を形成する（図１０）。ここでいう薄膜形成技術とは、スパッタ、ＣＶＤなどの成膜技術、フォトリソグラフィー、イオンエッチングなどの薄膜加工技術、化学的エッチング技術等を指す。
【０００６】
次に、図１１に示すように、非磁性絶縁層、上部ヨーク１０ａ及び１０ｂを形成し、基板上に複数個のＭＲ素子部が形成される。
【０００７】
次に、アルミナ等の非磁性材料１６を薄膜形成技術により形成した後、ラッピング等で平坦化処理を行う（図１２）。この後、図１３に示すように非磁性材料１６が平坦化された基板と、記録媒体摺動補強材１５を、接合層１９を介して接合一体化する。接合層１９の一例としては熱硬化型の樹脂を用いることができ、１キロＰａ程度の圧力で加圧しながら温度を上げる。なお図８〜図１３においては、図７に示されている出力端子３０は簡略化のために省略されている。
【０００８】
この後、所定のヘッドチップコア厚、アジマス角度で切断し、ヘッドチップが完成する。ヘッドチップを完成させた後にベース接着や結線等の処理、および磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触状態を最適にして良好な再生を実現する為に、研磨テープ等を用いてテープ摺動面の仕上げ曲面加工を行い、磁気ギャップ部の深さを一定の範囲内に納め、ヨーク型ＭＲヘッドが完成する。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００１−１５５３１１号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
このようなヨーク型ＭＲヘッドでは、切欠き部１４上にＭＲ素子１１を形成する工程において、基板１３表面の画像を自動認識してＭＲ素子１１の位置を決定するステッパのような自動化された高量産性製造装置においては、切欠き部１４のエッジ部の画像コントラストが小さい（つまり、基板１３と非磁性絶縁膜１７との境目がわかりにくい）ため、高量産性製造装置に装備された顕微鏡で観察した際切欠き部１４のエッジ１４ａが判別しにくく、その結果精度良くＭＲ素子１１の形成ができず、所望の特性が得られない場合があるという課題がある。
【００１１】
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、ＭＲ素子を精度良く形成することができ、再生出力の高いヨーク型ＭＲヘッドの構造および製造方法を提供することを目的とする。また、このようなヘッドを搭載し、情報を高密度に記録再生することができる磁気記録再生装置を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために、本発明のヨーク型ＭＲヘッドは、ヨークの切欠き部にＭＲ素子を具備したヨーク型ＭＲヘッドであって、切欠き部に金属膜と非磁性絶縁膜とＭＲ素子が順次形成された基板を用いることを特徴としたものである。
【００１３】
また、本発明のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法は、切欠き部を形成した後に金属膜、非磁性絶縁膜を形成した基板表面の鏡面仕上げを行い、基板表面に薄膜形成技術によりＭＲ素子部を形成する第一の工程と、ＭＲ素子上に非磁性材料を形成する第二の工程と、第二の工程で得たＭＲ素子と非磁性材料が形成された基板と記録媒体摺動補強材を突き合わせ、接合層を介して接合一体化する第三の工程を有することを特徴とするものである。
また、本発明は上記ヨーク型ＭＲヘッドを用いたことを特徴とする磁気記録再生装置に関するものである。
【００１４】
本発明のヨーク型ＭＲヘッドおよびその製造方法およびそれらを用いた磁気記録再生装置により、大容量デジタルＶＴＲやデータストリーマ等のシステムで用いられる高密度に記録された磁気記録媒体から、多量の磁気情報を高出力で再生できる磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置を供給することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、ヨークの切欠き部にＭＲ素子を具備したヨーク型ＭＲヘッドであって、切欠き部上に金属膜と非磁性絶縁膜とＭＲ素子が順次形成された基板を用いることを特徴とするヨーク型ＭＲヘッドである。
【００１６】
本発明の請求項２に記載の発明は、切欠き部上に形成される金属膜が、非磁性であることを特徴とする請求項１記載のヨーク型ＭＲヘッドである。
【００１７】
本発明の請求項３に記載の発明は、切欠き部上に形成される金属膜が、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのいずれからなることを特徴とする請求項２に記載のヨーク型ＭＲヘッドである。
【００１８】
本発明の請求項４に記載の発明は、切欠き部上に形成される金属膜の厚さが０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドである。
【００１９】
本発明の請求項５に記載の発明は、切欠き部断面と基板表面がなす角度が１２０°から１５０°であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドである。
【００２０】
本発明の請求項６に記載の発明は、ＭＲ素子がスピンバルブ型ＧＭＲ素子とスピンバルブ型ＴＭＲ素子のいずれかよりなることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドである。
【００２１】
本発明の請求項７に記載の発明は、切欠き部を形成した後に金属膜、非磁性絶縁膜を形成した基板表面の鏡面仕上げを行い、基板表面に薄膜形成技術によりＭＲ素子部を形成する第一の工程と、ＭＲ素子上に非磁性材料を形成する第二の工程と、第二の工程で得たＭＲ素子と非磁性材料が形成された基板と記録媒体摺動補強材を突き合わせ、接合層を介して接合一体化する第三の工程を有することを特徴とするヨーク型ＭＲヘッドの製造方法である。
【００２２】
本発明の請求項８に記載の発明は、切欠き部を形成した後に金属膜、非磁性絶縁膜を形成した基板表面の鏡面仕上げを行ない、基板表面に薄膜形成技術によりＭＲ素子部を形成する第一の工程において、切欠き部上に形成された金属膜と、基板表面の画像コントラストの違いにより、切欠き部のエッジを認識することを特徴とする請求項７に記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法の製造方法である。
【００２３】
本発明の請求項９に記載の発明は、切欠き部上に形成される金属膜が、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのいずれからなることを特徴とする請求項７もしくは８に記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法である。
【００２４】
本発明の請求項１０に記載の発明は、切欠き部上に形成される金属膜の厚さが０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法である。
【００２５】
本発明の請求項１１に記載の発明は、切欠き部断面と基板表面がなす角度が１２０°から１５０°であることを特徴とする請求項７から１０のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法である。
【００２６】
本発明の請求項１２に記載の発明は、ＭＲ素子がスピンバルブ型ＧＭＲ素子とスピンバルブ型ＴＭＲ素子のいずれかよりなることを特徴とする請求項７から１１のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法である。
【００２７】
本発明の請求項１３に記載の発明は、請求項１から６のいずれかに記載のヨーク型ＭＲヘッドを用いた磁気記録再生装置である。
【００２８】
本発明の請求項１４に記載の発明は、請求項７から１２のいずれかに記載の製造方法で作製したヨーク型ＭＲヘッドを用いた磁気記録再生装置である。
【００２９】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３０】
（実施の形態１）
図１は本発明におけるヨーク型ＭＲヘッドのＭＲ素子部の一形態を示す断面図である。本実施の形態では、ＭＲ素子材料としてＮｉＦｅを用いた。また、切欠き部１４上に形成する金属膜１として非磁性材料であるＣｒ膜を形成した。切欠き部１４上に金属膜１を形成することにより顕微鏡で観察する際の基板表面コントラストが良くなり、切欠き部１４のエッジ部が明確に判別できる。その結果、ＭＲ素子１１を切欠き部１４のエッジに対して精度良く形成することができる。
【００３１】
また、金属膜１が磁性材料の場合は、金属膜１の磁気的影響を考慮してＭＲ素子を形成する位置を決定しなければならないが、金属膜１を非磁性材料とすることにより、単純に切欠き部１４のエッジ部を基準にしてＭＲ素子を形成できる。
【００３２】
図１で向かって左側の側面において磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体４０と接触し、媒体上からの磁束が流入する。記録媒体からの磁束は上部前方磁性ヨーク１０ａ、ＭＲ素子１１、上部後方磁性ヨーク１０ｂ、下部磁性ヨーク１０ｃで構成される磁路へと導かれ、ＭＲ素子１１において、流入した信号磁束に応じた磁化回転がおこり、これによる抵抗値変化をセンス電流を通電した出力端子により再生電圧として取り出す構成となっている。
【００３３】
１７は二酸化珪素からなる非磁性絶縁層である。非磁性絶縁層１７に用いる材料は非磁性体であればよく、アルミナや窒化珪素などを用いることができる。また、上部前方磁性ヨーク１０ａ、上部後方磁性ヨーク１０ｂ、下部磁性ヨーク１０ｃには透磁率の高い軟磁性体を用いることができる。ここでは厚み０．５ミクロンのニッケル鉄合金を用いている。
【００３４】
切欠き部１４上に形成する金属膜１には、平坦化処理を行っても剥離しないような下部磁性ヨーク１０ｃとの良好な密着力が要求されるので、基板材料に応じてＣｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのいずれかを用いれば良い。また、金属膜内部応力による金属膜１と切欠き部１４との密着力低下を避けるために、金属膜１の厚さは５μｍ以下でなければならず、３μｍ以下がより望ましい。また、顕微鏡観察の際に充分なコントラストを得るために、金属膜１の厚さは０．１μｍ以上でなければならない。
【００３５】
切欠き部断面と基板表面がなす角度θは、その角度が小さいと磁性材料である基板１３とＭＲ素子１１との距離が短くなるため、磁気漏洩が発生しやすくなり、ヘッド特性が劣化する。一方、その角度θが大きいと金属膜１と切欠き部１４との密着力が小さくなってしまう。従って、切欠き部断面と基板表面がなす角度θは１２０°から１５０°であることが望ましい。
【００３６】
なお、ＭＲヘッドと記録媒体の接触摺動によるヘッドの摩耗を考慮すると、基板１３と記録媒体摺動補強材１５は同一材料であることが好ましい。同一材料にすることにより、材料間の摩耗速度の違いに起因する偏摩耗や記録媒体摺動面性状の変化によるＭＲヘッドと記録媒体の間のスペーシング増加を抑制することができ、安定した再生特性を実現できる。特に本発明のように基板１３を強磁性体とし、下部磁性ヨーク１０ｃと基板１３を兼用することにより製造プロセスを簡略化する場合は、耐摩耗性を必要とする磁気テープ用ヘッドの材料として従来から用いられる強磁性酸化物を基板１３として用いるのが好ましい。特に、フェライト材料は強磁性酸化物の中でも耐摩耗性に優れた材料であり、ＮｉＺｎフェライトやＭｎＺｎフェライト等を用いると、耐摩耗性に優れたＭＲヘッドが得られる。
【００３７】
本実施の形態ではＭＲ素子材料としてＮｉＦｅを用いたが、スピンバルブ型ＧＭＲ素子やスピンバルブ型ＴＭＲ素子を用いることができる。ＭＲ比を高くとり、再生出力を大きくするためには、スピンバルブ型ＧＭＲ素子やスピンバルブ型ＴＭＲ素子を用いることが好適である。
【００３８】
（実施の形態２）
本発明の実施の形態２であるヨーク型ＭＲヘッドの製造方法は、図８〜１０に示した従来のヨーク型ヘッドの製造方法において、基板表面の画像コントラストを得るために切欠き部１４上に金属膜１を形成する点が異なる（図２）。
【００３９】
つまり、図８に示すように基板１３に切り欠き部１４を形成した後、図２に示すように切り欠き部１４上に金属膜１を形成する。次に図９に示すように金属膜１が形成された切り欠き部１４内に非磁性絶縁層１７を形成した後、ラッピング等の平坦化処理により、表面を鏡面に仕上げる。金属膜１は図２の状態では切り欠き部１４以外の基板表面にも形成されているが、前記平坦化処理の際に基板表面の金属膜１は除去され、切り欠き部１４内のみに残る。なお、図９〜図１３においては描画を簡略化するために金属膜１を描画していないが、実際は図９〜図１３においても切り欠き部１４内に金属膜１が形成されている。
【００４０】
次にその表面に薄膜形成技術により、順次、ＭＲ素子１１、出力端子１２等を形成する（図１０）。ここでいう薄膜形成技術とは、スパッタ、ＣＶＤなどの成膜技術、フォトリソグラフィー、イオンエッチングなどの薄膜加工技術、化学的エッチング技術等を指す。
【００４１】
次に、図１１に示すように、非磁性絶縁層、上部ヨーク１０ａ及び１０ｂを形成し、基板上に複数個のＭＲ素子部が形成される。
【００４２】
次に、アルミナ等の非磁性材料１６を薄膜形成技術により形成した後、ラッピング等で平坦化処理を行う（図１２）。この後、図１３に示すように非磁性材料１６が平坦化された基板と、記録媒体摺動補強材１５を、接合層１９を介して接合一体化する。接合層１９の一例としては熱硬化型の樹脂を用いることができ、１キロＰａ程度の圧力で加圧しながら温度を上げる。なお図８〜図１３においては、図７に示されている出力端子３０は簡略化のために省略されている。
【００４３】
この後、所定のヘッドチップコア厚、アジマス角度で切断し、ヘッドチップが完成する。ヘッドチップを完成させた後にベース接着や結線等の処理、および磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触状態を最適にして良好な再生を実現する為に、研磨テープ等を用いてテープ摺動面の仕上げ曲面加工を行い、磁気ギャップ部の深さを一定の範囲内に納め、ヨーク型ＭＲヘッドが完成する。
【００４４】
以上のように本実施の形態によれば、切欠き部１４上に金属膜１を形成することにより、ＭＲ素子１１を形成する際に、基板表面の画像を自動認識してＭＲ素子１１の位置を決定するステッパのような自動化された高量産性製造装置においては、切欠き部１４のエッジ部の誤認識がなくなり、精度良くＭＲ素子１１を形成することができる。
【００４５】
なお、図１１では基板上に２個のＭＲ素子部が形成されているが、基板を大きくして一度に形成されるＭＲ素子部の数を増やせば、生産性の大幅な向上が達成できる。
【００４６】
（実施の形態３）
次に、本発明のヨーク型ＭＲヘッド及びその製造方向を用いた磁気記録再生装置の一形態について説明する。図３は磁気記録再生装置の回転ドラム装置の斜視図であり、図４は磁気記録再生装置の走行系概略図である。
【００４７】
図３に示した磁気記録再生装置の回転ドラム装置５０は、下ドラム５１および上回転ドラム５２を有し、その外周面に磁気ヘッド５３が備えられている。図示しない磁気テープは、リード５４に沿って上回転ドラム５２の回転軸に対して傾斜して走行している。磁気ヘッド５３は、磁気テープの走行方向に対して傾斜して摺動する。また、上回転ドラム５２と磁気テープとが密着しながら安定して摺動走行するように、上回転ドラム５２の外周面には複数の溝５５が設けられている。磁気テープと上回転ドラムとの間に巻き込まれた空気はこの溝５５から排出される。
【００４８】
磁気記録再生装置の走行系は図４に示すように、回転ドラム装置５０、供給リール６０、巻き取りリール６１、回転ポスト６２、６３、６４、６５、６６、６７、傾斜ポスト６８、６９、キャプスタン７０、ピンチローラ７１、テンションアーム７２を備えている。回転ドラム装置５０の外周面には、上記で説明した本発明の再生用ヘッド７３および記録用ヘッド７４が配置されている。
【００４９】
供給リール６０に巻かれた磁気テープ７５はピンチローラ７１とキャプスタン７０との間を通って巻き取りリール６１に巻き取られていく。この回転ドラム装置は、上回転ドラム方式であって再生用ヘッド７３は回転ドラム外周面から２０μｍ程度突き出すように２個取り付けられている。
【００５０】
以上のように本実施の形態の磁気記録再生装置においては従来用いられているインダクティブ再生ヘッドより出力が高く、かつ信頼性の高いヨーク型ＭＲヘッドを用いているために高密度に記録された媒体からの信号を良好なＳＮ比で長期間にわたり信頼性良く検出することができる。
【００５１】
特に本実施の形態の磁気記録再生装置ではシールド型ＭＲヘッドと比較すると、ヨーク型ＭＲヘッドの記録媒体摺動面が摩耗しても特性を左右するＭＲ素子形状への影響が少ないので、研磨速度の大きい塗布型テープ（ＭＰテープ）と研磨速度の小さい金属蒸着テープ（ＭＥテープ）を混合させて使用するような場合に大きな信頼性を発揮することができる。なお、上記実施の形態では、上回転ドラム方式を例に挙げたが、上ドラム、中ドラム、下ドラムの３個のドラム構成の中回転ドラム方式でも良い。また、磁気テープを例としたが、ディスク状の媒体への応用も可能である。
【００５２】
なお、以上の実施の形態ではＭＲ素子を例として挙げたが、ＭＲ素子の代わりにスピンバルブ型ＧＭＲ素子やスピンバルブ型ＴＭＲ素子を用いれば、さらに性能の高い磁気記録再生装置を得ることができる。
【００５３】
【発明の効果】
以上のように本発明のヨーク型ＭＲヘッドおよびその製造方法によって、再生出力の高いヨーク型ＭＲヘッドが得られる。また、それらを用いた磁気記録再生装置により、大容量デジタルＶＴＲやデータストリーマ等のシステムで用いられる高密度に記録された磁気記録媒体から、多量の磁気情報を高出力で信頼性良く再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態におけるヨーク型ＭＲヘッドのＭＲ素子部断面図
【図２】本発明のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を示す斜視図
【図３】本発明の磁気記録再生装置の回転ドラム装置の斜視図
【図４】本発明の磁気記録再生装置の走行系の概略図
【図５】従来のヨーク型ＭＲヘッドのＭＲ素子部断面図
【図６】従来のヨーク型ＭＲヘッドのＭＲ素子部斜視図
【図７】従来のヨーク型ＭＲヘッド全体の斜視図
【図８】従来のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を示す斜視図
【図９】従来のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を示す斜視図
【図１０】従来のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を示す斜視図
【図１１】従来のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を示す斜視図
【図１２】従来のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を示す斜視図
【図１３】従来のヨーク型ＭＲヘッドの製造方法を示す斜視図
【符号の説明】
１  金属膜
１０  ヨーク
１０ａ  上部前方磁性ヨーク
１０ｂ  上部後方磁性ヨーク
１０ｃ  下部磁性ヨーク
１１  ＭＲ素子
１３  基板
１４  切欠き部
１７  非磁性絶縁膜
【図１】
2004273059.tif 000003
【図２】
2004273059.tif 000004
【図３】
2004273059.tif 000005
【図４】
2004273059.tif 000006
【図５】
2004273059.tif 000007
【図６】
2004273059.tif 000008
【図７】
2004273059.tif 000009
【図８】
2004273059.tif 000010
【図９】
2004273059.tif 000011
【図１０】
2004273059.tif 000012
【図１１】
2004273059.tif 000013
【図１２】
2004273059.tif 000014
【図１３】
2004273059.tif 000015