(57)【要約】【課題】外部からの入射光をより効率的に散乱させるための反射基板を提供すること。【解決手段】本発明に係る反射基板１００は、視野域側からドットに入射した入射光を凹凸表面で反射する反射部にあって、ドットの端部１０４ａから透過部１１０の枠線１１２までの幅が、領域Ａ１，Ａ２における開口径ｄ１を有する凹部１２０に基づき、（２×ｄ１）未満の領域Ｂ１，Ｂ２に、開口径ｄ１より小さい開口径ｄ２を有する凹部１２０と相似形状の凹部１２２が形成されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
視野域側からドットに入射した入射光を凹凸表面で反射する反射部と、
前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部とを有し、
前記反射部にあって、前記ドットの端部から前記透過部の端部までの幅が所定値以上の反射部には第１開口面積を有する凹部が形成され、前記所定値未満の反射部には前記第１開口面積より小さい第２開口面積を有する凹部が形成されていることを特徴とする反射基板。
【請求項２】
請求項１に記載の反射基板において、
前記所定値未満の反射部には、凹凸表面がより密状に形成されていることを特徴とする反射基板。
【請求項３】
開口径ｄ１を有する第１凹部が形成され、かつ視野域側からドットに入射した入射光を反射する反射部と、
前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部とを有し、
前記反射部において、前記ドットを形成する端部から前記透過部までの幅が（２×ｄ１）未満の領域Ｂには、前記開口径ｄ１より小さい開口径ｄ２を有する第２凹部が形成されていることを特徴とする反射基板。
【請求項４】
請求項３に記載の反射基板において、
前記反射部にあって、前記領域Ｂを除いた領域Ａの面積の総計を第１面積Ｓ１、前記領域Ｂの面積の総計を第２面積Ｓ２、前記領域Ａにおける前記第１凹部の開口面積の総計を第１開口面積Ｔ１、前記領域Ｂにおける前記第２凹部の開口面積の総計を第２開口面積Ｔ２とそれぞれした場合、（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）が１．２以上１．７以下を満たしていることを特徴とする反射基板。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の反射基板を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項５に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項７】
視野域側からドットに入射した入射光を凹凸表面で反射する反射部を有する反射基板の製造方法において、
前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部の近傍の前記反射部にあって、前記ドットの端部から前記透過部の端部までの幅が所定値以上の反射部には第１開口面積を有する凹部を形成し、前記所定値未満の反射部には前記第１開口面積より小さい第２開口面積を有する凹部を形成する工程を有することを特徴とする反射基板の製造方法。
【請求項８】
開口径ｄ１を有する第１凹部が形成され、かつ視野域側からドットに入射した入射光を反射する反射部を有する反射基板の製造方法において、
前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部の近傍の前記反射部にあって、前記ドットを形成する端部から前記透過部までの幅が（２×ｄ１）未満の領域には、前記開口径ｄ１より小さい開口径ｄ２を有する第２凹部を形成する工程を有することを特徴とする反射基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射基板およびそれを備えた電気光学装置並びに電子機器、反射基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、電気光学装置の一種である半透過反射型の液晶表示装置では、内蔵したバックライトの電力消費を低減させるために、樹脂表面をアルミニウムなどで覆った反射基板を設けて、視野域側から入射した外光（以下、入射光）を反射させることで生じた反射光を利用している（例えば、特許文献１など）。この種の液晶表示装置では、反射基板の一部に設けられた透過部を介して、内蔵したバックライトの照射光を視野域側に導く。また実際、このような液晶表示装置では、反射基板の反射面に凹凸を設けることで、視角を向上させ、また、入射光を適度に散乱させ、この入射光による幻惑や背景の写り込み等の問題発生を低減している。
【０００３】
この従来の液晶表示装置においては、例えば、図１２に示したようなパターンを有する反射基板５００が設けられている。この図１２は、或る一つのドット（カラー表示における赤、緑、青色の各ドット）における反射基板５００の反射面の平面パターン図を示している。ここで、符号１０２ａ，１０２ｂ，１０４ａ，１０４ｂは、この一つのドットにおいて、隣接する他のドットと遮光膜（特に図示せず）で区切られ区別される端部（境界線）を明示したものである。
この反射基板５００には、バックライトから照射される照射光を透過させる透過部１１０と、入射光を散乱させるための複数の凹部１２０が形成された反射部とが設けられている。凹部１２０は、緩やかに連続する凹凸状の樹脂が反射膜として作用する。この緩やかな凹凸状の反射膜は、例えばポジ系の感光性樹脂材料に対して、対角間の直径１０μｍからなる六角形形状の開口部（凸部に対して窪んだ部分の穴径）を有するフォトマスクを用いて、露光・現像されることで形成される。この時、隣接する凹部間における中心（または重心）間隔は、例えば、平均値を１４μｍとして１３〜１８μｍの値に設定される。この反射基板５００では、例えば、境界線１０２ａから透過部１１０の枠線（端部）１１２までの幅Ｄ１に比して、境界線１０４ａから透過部１１０の枠線１１２までの幅Ｄ２が十分に短い構成となっている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−９８９５５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、このような反射基板５００において、幅Ｄ２を有してなる領域Ｂは、その最小の一辺の長さが凹部１２０の直径１０μｍを僅かに超えた程度しかない場合があり得る。反射基板５００において、凹部１２０を形成する過程では、通常、ランダムに凹部１２０の形成箇所が決定されると共に、ドットを成す領域に対するその凹部１２０の開口部の開口総面積（つまり凹部開口の密度）が所定密度を満たすように決定される。
【０００６】
しかしながら、領域Ｂのように一辺の長さが極端に短い領域では、直径１０μｍの凹部１２０が一つ形成される程の余地しかなく、場合によっては領域Ｂにおいては上記所定密度を満たさないことが生じ得た。この場合、この領域Ｂでは平坦な反射面が多くなる。また仮に、領域Ｂにおいて上記所定密度を満たすように凹部１２０が形成されたとしても、この領域Ｂでは、凹部１２０が疎状に形成されるのみで、このように不均一に凹部１２０が形成された反射基板５００では、この領域Ｂへの入射光を十分に散乱させることはできず、この入射光による幻惑や背景の写り込み等の問題を十分に抑制することはできなかった。
また一方で、仮に領域Ｂにおいて予め指定した箇所に凹部１２０を形成するように決定してその不均一に形成されたパターンを修正しようとしても、極端には、直径１０μｍを有する凹部１２０が縦一列に形成されることとなり、この領域Ｂにおける凹部１２０の開口面積密度は、同反射面におけるこの領域Ｂ以外の領域Ａの凹部１２０開口面積密度に比して極端に高くなってしまうことが起こり得る。
【０００７】
本発明は上述した課題に鑑みてなされ、その目的は、入射した外光をより効率的に散乱させるための反射基板およびそれを備えた電気光学装置並びに電子機器、反射基板の製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
（１）上述課題を解決するため、本発明の反射基板は、視野域側からドットに入射した入射光を凹凸表面で反射する反射部と、前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部とを有し、前記反射部にあって、前記ドットの端部から前記透過部の端部までの幅が所定値以上の反射部には第１開口面積を有する凹部が形成され、前記所定値未満の反射部には前記第１開口面積より小さい第２開口面積を有する凹部が形成されていることを特徴とする。
これにより、凹部を形成するに当たってその一反射部が狭いためにその反射部分における開口部の開口面積密度を十分に得られないといった問題を抑制することができる。
【０００９】
（２）また、本発明は、上記（１）に記載の反射基板において、前記所定値未満の反射部には、凹凸表面がより密状に形成されていることを特徴とする。
これにより、このドット内において、所定値未満の反射部分における入射光の反射率を、他の反射部分における反射率とほぼ等しくする方向に導くことができるようになる。
【００１０】
（３）また、本発明の反射基板は、開口径ｄ１を有する第１凹部が形成され、かつ視野域側からドットに入射した入射光を反射する反射部と、前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部とを有し、前記反射部において、前記ドットを形成する端部から前記透過部までの幅が（２×ｄ１）未満の領域Ｂには、前記開口径ｄ１より小さい開口径ｄ２を有する第２凹部が形成されていることを特徴とする。
このように、第１凹部の開口径ｄ１に基づいて第２凹部を形成すべき領域を決定し、この領域における開口部の開口面積密度を十分に得るようにしてもよい。
【００１１】
（４）また、本発明は、上記（３）に記載の反射基板において、前記反射部にあって、前記領域Ｂを除いた領域Ａの面積の総計を第１面積Ｓ１、前記領域Ｂの面積の総計を第２面積Ｓ２、前記領域Ａにおける前記第１凹部の開口面積の総計を第１開口面積Ｔ１、前記領域Ｂにおける前記第２凹部の開口面積の総計を第２開口面積Ｔ２とそれぞれした場合、（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）が１．２以上１．７以下を満たしていることを特徴とする。
このように領域Ａ，Ｂ間における開口面積密度の比率に着目し、この両者の開口面積比率が剥離し過ぎることで、十分な反射率を得られ難くなるという問題を抑制することができる。
【００１２】
（５）また、上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の反射基板を備えた電気光学装置として用いることができる。
【００１３】
（６）また、上記（５）に記載の電気光学装置を備えた電子機器として用いることができる。
【００１４】
（７）また、本発明は、視野域側からドットに入射した入射光を凹凸表面で反射する反射部を有する反射基板の製造方法において、前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部の近傍の前記反射部にあって、前記ドットの端部から前記透過部の端部までの幅が所定値以上の反射部には第１開口面積を有する凹部を形成し、前記所定値未満の反射部には前記第１開口面積より小さい第２開口面積を有する凹部を形成する工程を有することを特徴とする。
【００１５】
（８）また、本発明は、開口径ｄ１を有する第１凹部が形成され、かつ視野域側からドットに入射した入射光を反射する反射部を有する反射基板の製造方法において、前記反射部から見て視野域側とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部の近傍の前記反射部にあって、前記ドットを形成する端部から前記透過部までの幅が（２×ｄ１）未満の領域には、前記開口径ｄ１より小さい開口径ｄ２を有する第２凹部を形成する工程を有することを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１７】
＜反射基板について＞
図１を用いて、本発明にかかる反射基板１００の構成を説明する。
図１は、本第１の実施形態の反射基板１００表面におけるパターンを示す図である。なお、上述した図１２の反射基板５００と同符号のものについてはその説明を省略することとする。
この反射基板１００では、長方形形状の透過部１１０の枠線１１２から、ドットの境界線１０２ａ，１０２ｂ，１０４ａ，１０４ｂのいずれかに至るまでの幅が（２×凹部開口径１０μｍ）未満の領域、つまりここでは領域Ｂ１，Ｂ２において、この凹部開口径１０μｍより小さい凹部開口径９μｍを有し、凹部１２０とは相似形状の凹部１２２が形成されている。この場合、例えば、六角形形状の凹部１２０の開口面積は６４μｍ２、凹部１２２の開口面積は５６μｍ２であった。
【００１８】
このように、本形態の反射基板１００は、凹部を形成するに当たってその領域が狭いためにその領域における開口部の開口面積密度が十分に確保できないといった問題を抑制することができる。
また、本形態の反射基板１００では、ドットの境界線から透過部に至るまでの幅は、極端にはＸ方向に凹部１２０を最大２つ並列に形成することができなくなるということに鑑みて、領域Ｂ１，Ｂ２を決定するに至った。このようにすれば、狭い領域Ｂ１，Ｂ２において所定の開口面積密度を満たしつつ、凹部１２２の形成位置を適当に散らすことができ、この領域Ｂ１，Ｂ２への入射光を十分に散乱させ、この入射光による幻惑や背景の写り込み等の問題を十分に抑制することができるようになる。
【００１９】
なお、本形態における反射基板１００では、領域Ａ１，Ａ２の凹部１２０の開口径（以下、開口径ｄ１と称す）に対して領域Ｂ１，Ｂ２の凹部１２２の開口径（以下、開口径ｄ２と称す）を単に小さくするよりは、例えば領域Ａ１，Ａ２の凹部１２０の開口径１０μｍに対して領域Ｂ１，Ｂ２の凹部１２２の開口径を９μｍにするなど、僅かな径の変更が望ましい。これを以下、図２〜図４を用いて説明する。
【００２０】
ここで、図２は、図３および図４に示した各線分Ａ０１〜Ａ０４，Ｂ０１〜Ｂ０４のそれぞれを測定した時の、凹部の開口径（μｍ）、２０７μｍ×６９μｍの角内に散在する凹部数（個）、凹部の開口面積（μｍ２／個）、凹部の開口面積密度（％）を表している。なお、この凹部におけるこれら各設定値は、実際には、反射面上に凹凸を露光して形成するときのマスクパターンの孔と対応していることから、このマスクにおいて形成した孔パターンから推測した値として示している。
例えば、線分Ｂ０４であれば、開口径１０μｍで開口面積６４（μｍ２／個）を有する凹部が２０７μｍ×６９μｍ角内に１１８個形成され、単位面積（１μｍ２）当りの開口面積の割合、つまり開口面積密度が５３％であることを表している。また例えば、線分Ｂ０３であれば、同サイズのドット内において、開口径９μｍで凹部開口面積５６（μｍ２／個）を有する凹部が２０７μｍ×６９μｍ角内に１３５個形成され、開口面積の割合、つまり開口面積密度が５３％であることを表している。
【００２１】
図３は、従来の反射基板において、実際、凹部の開口面積密度が略３１％を満たしつつ凹部の開口径を変化させていった場合における、凹凸樹脂単体の反射面における鏡面反射率（４０°の出射光量／４０°の入射光量）を測定した結果である。なお、ここでは、反射基板の樹脂層の塗布膜厚を１．８μｍ、２．１μｍとそれぞれ変化させて樹脂の鏡面反射率を測定しこれを線分で結び、その間の鏡面反射率値を推定している。
同様に、図４は、従来の反射基板において、実際、凹部の開口面積密度が略５３％を満たしつつ凹部の開口径を変化させていった場合における、凹凸樹脂単体の反射面における鏡面反射率を測定した結果である。なお、ここでは、反射基板の樹脂層の塗布膜厚を１．８μｍ、２．１μｍとそれぞれ変化させて樹脂の鏡面反射率を測定しこれを線分で結び、その間の鏡面反射率値を推定している。
【００２２】
この図３および図４を互いに照らし合わせてみると、例えば樹脂層の塗布膜厚１．８μｍの場合において、図３の開口径１０μｍの凹部における樹脂の鏡面反射率１．４％（線分Ａ０４）とほぼ同等の鏡面反射率を実現する開口径を有する凹部は、図４の開口径９μｍの凹部（樹脂の鏡面反射率１．４％を示す線分Ｂ０３）であることが分かる。また、別の例では、樹脂層の塗布膜厚１．８μｍの場合において、図３の開口径９μｍの凹部における樹脂の鏡面反射率２．４％（線分Ａ０３）と近い鏡面反射率を実現する開口径を有する凹部は、図４の開口径７．５μｍの凹部（樹脂の鏡面反射率１．９％を示す線分Ｂ０２）と、開口径６μｍの凹部（樹脂の鏡面反射率３．０％を示す線分Ｂ０１）との中間であることが推測できる。
逆に、このような図３および図４のような場合において、例えば、樹脂層の塗布膜厚１．８μｍの場合において、図３の開口径１０μｍの凹部における樹脂の鏡面反射率１．４％に対して、図４の開口径６μｍの凹部（樹脂の鏡面反射率３．０％）に設定すると、鏡面反射率の相違が大きくなる方向に作用してしまう。これにより同一ドット内で反射する光の量が異なる領域が生じてしまう。
【００２３】
このように、領域Ａ１，Ａ２の凹部１２０の開口径ｄ１に対して、領域Ｂ１，Ｂ２の凹部１２２の開口径ｄ２を僅かに変更するのが望ましい。
なお、このとき、上記測定時においては、領域Ａ１，Ａ２の面積の総計を第１面積Ｓ１、領域Ｂ１，Ｂ２の面積の総計を第２面積Ｓ２、領域Ａ１，Ａ２における凹部１２０の開口面積の総計を第１開口面積Ｔ１、領域Ｂ１，Ｂ２における凹部１２２の開口面積の総計を第２開口面積Ｔ２とそれぞれした場合、反射基板１００では、開口面積密度の比率（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）は、（（０．５３）／（０．３１））＝１．７と設定している。これは、上限として望ましい値の一例であり、下限としては開口面積密度の比率（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）＝１．２が望ましい。これは、開口面積密度の比率が高過ぎると、特に領域Ｂ１，Ｂ２において極小な凹部１２２を露光処理で形成する場合、露光過多で樹脂が剥がれ易くなるからである。また逆に開口面積密度の比率が低過ぎる（つまり１に近づき過ぎる）と、領域Ｂ１，Ｂ２における凹部の開口面積密度が小さくなるように作用し、領域Ａ１，Ａ２に比して、十分な反射率を得られ難いという問題が生じることになる。
【００２４】
（反射基板の他の形態１）
上述の反射基板１００では、凹部の開口形状が六角形で形成されていたが、これは一例であり、他に円形形状、楕円形状または台形形状であってもよい。この場合、楕円形状であったときは、上記領域Ｂ１，Ｂ２に相当する領域を指定するに当たり長軸の長さにしたがって、ドットを形成する端部から透過部１１０の端部に至るまでの幅が、その長軸の２倍未満の領域に、この長軸の長さより小さい長軸の長さを有し、かつ元の楕円形状における開口面積より小さい開口面積の凹部を形成するのが望ましい。これは、上記領域Ｂ１，Ｂ２において、最低でも、凹部をそのＸ方向に並列に２つ配列することができるようにするためである。
なお、この場合も、領域Ａ１，Ａ２の面積の総計を第１面積Ｓ１、領域Ｂ１，Ｂ２の面積の総計を第２面積Ｓ２、領域Ａ１，Ａ２における凹部１２０の開口面積の総計を第１開口面積Ｔ１、領域Ｂ１，Ｂ２における凹部１２２の開口面積の総計を第２開口面積Ｔ２とそれぞれした場合、反射基板１００では、開口面積密度の比率（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）は１．７を上限値として設定し、また、下限としては開口面積密度の比率（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）＝１．２と設定することが望ましい。
【００２５】
（反射基板の他の形態２）
上述の図１に示した反射基板１００においては、特に樹脂部材により入射光を反射させる構成として説明したが、反射層の表面にアルミニウム等の高光反射性材料を被覆する構成とすることが望ましい。この場合、反射面における鏡面反射率は、樹脂単体の鏡面反射率の略８倍となり、さらに効率的に入射光を利用することができる。
【００２６】
（反射基板の他の形態３）
上述の図１に示した反射基板１００においては、特に透過部１１０に相当する部分における樹脂が除去されたものを示したが、この他、この透過部１１０に樹脂が設けられているものであってもよい。
【００２７】
＜反射基板の製造方法について＞
次に、図５、図６および図９を用いて、上述の図１に示した反射基板１００において、その製造方法について説明する。
【００２８】
初めに、図５（ａ）に示すように、ガラス等の透明材料で構成された基板２００の表面上に、アクリル樹脂を基材とするポジ型の感光性樹脂２０２を塗布する（工程Ａ１）。
【００２９】
次に、図５（ｂ）に示すように、一括露光機により、マスク２１０を用いて、例えば露光ギャップＧを約１８０μｍ、露光量を８０ｍＪ／ｃｍ２で、感光性樹脂２０２の表面に沿った露光強度の分布が滑らかに増減変化するように露光する（工程Ａ２）。
ここで、マスク２１０には、ガラス等の透明基板２１２の表面にＣｒ等の遮光性の薄膜部材２１４が設けられている。このマスク２１０には、図９に示すように、一つのドットに相当する領域の範囲内において、孔径ｄ０１を有する六角形形状の複数の透過孔２１０Ａと、孔径ｄ０２を有する六角形形状の複数の透過孔２１０Ｂとがそれぞれ形成されている（孔径ｄ０１＞孔径ｄ０２）。なお、孔径ｄ０１は反射基板１００の凹部１２０の開口径ｄ１に対応する径であり、孔径ｄ０２は反射基板１００の凹部１２２の開口径ｄ２に対応する径である。また、透過孔２１０Ａは、基板２００において、基板２００から見て視野域とは反対側から照射される照射光を透過させる透過部を形成すべき領域Ｒの端部ｒ１から、一つのドットに相当する領域を構成する境界線に至るまでの幅が（２×ｄ１）以上に対応する領域ａに形成されている。透過孔２１０Ｂは、基板２００の領域において領域ａを除く領域ｂ、つまり、一つのドットに相当する領域を構成する境界線に至るまでの幅が（２×ｄ１）未満に対応する領域ｂに形成されている。
【００３０】
次に、基板２００上の感光性樹脂２０２を現像し、焼成する（工程Ａ３）。これにより、露光された部分がその露光強弱にしたがった量で除去され、基板２００上に、図５（ｃ）に示すような凹凸パターンが形成される。
【００３１】
次に、図６（ａ）に示すように、上記図５（ｃ）の工程Ａ３によって形成された焼成後の樹脂２０２に対して、さらに感光性樹脂２２０を塗布し、露光により、透過部を形成すべき領域に相当する部分Ｒの感光性樹脂を除去する（工程Ａ４）。
【００３２】
次に、図６（ｂ）に示すように、エッチングによって、感光性樹脂２０２からこの部分Ｒにおける樹脂を除去する（工程Ａ５）。
【００３３】
次に、図６（ｃ）に示すように、上記工程Ａ４で形成した感光性樹脂２２０を除去する（工程Ａ６）。
これにより、透過部における樹脂が除去された、図１に示す反射基板１００を得ることができる。
【００３４】
（反射基板の他の製造方法１）
入射光に対する反射効率を高めるため、樹脂２０２表面をアルミニウム等の高光反射性部材で被覆する場合、図７（ａ）に示すように、図６（ｃ）の工程Ａ６で製造された反射基板１００に対して、アルミニウム２０６をスパッタリングにより成膜する（工程Ａ７）。
【００３５】
次に、図７（ｂ）に示すように、エッチングによって、透過部に相当する部分Ｒにおけるアルミニウム２０６を除去する（工程Ａ８）。
これにより、高反射性の凹部を有する反射基板を得ることができる。
【００３６】
（反射基板の他の製造方法２）
なお、上述した図５〜図７では、透過部に相当する部分Ｒの樹脂を除去する工程を有する反射基板の製造方法について説明したが、これとは異なり、例えば、上記図５（ｂ）の工程Ａ２において用いた図９のマスク２１０にあらかじめ透過部領域Ｒの窓パターン孔を設けておけば、この工程Ａ２において透過部に相当する部分Ｒの樹脂を、凹凸面の形成と同時に除去することができる。この場合、樹脂２０２膜厚分を抜くための最低の露光量を設定する。
これにより、少ない工程で、透過部における樹脂が除去された反射基板を得ることができる。
【００３７】
（反射基板の他の製造方法３）
また、上述した図５〜図７、および上述の他の製造方法２においては、透過部における樹脂が除去された反射基板の製造方法を説明したが、この他、この透過部における樹脂を残した反射基板としても用いることができる。
この場合、図８（ａ）に示すように、図５（ｃ）の工程Ａ３で製造された反射基板において、焼成後の樹脂２０２上に、スパッタによりアルミニウム等の高光反射性を有する反射膜２０４を成膜する（工程Ｂ１）。
【００３８】
次に、図８（ｂ）に示すように、反射膜２０４上に、感光性樹脂２０５を塗布し、露光・現像処理することで、この感光性樹脂２０５の透過部に相当する部分Ｒを除去する（工程Ｂ２）。
【００３９】
次に、図８（ｃ）に示すように、エッチングによりその部分Ｒにおける反射膜２０４を除去すると共に、さらに感光性樹脂２０５を除去する（工程Ｂ３）。
これにより、透過部において樹脂が形成された反射基板を得ることができる。
【００４０】
（反射基板の他の製造方法４）
上述の反射基板１００では、凹部の開口形状が六角形で形成されていたが、これは一例であり、他に円形形状、楕円形状または台形形状であってもよい。この場合、楕円形状であったときは、図９のマスク２１０に、上記領域Ｂ１，Ｂ２に相当する領域を指定するに当たり長軸の長さにしたがって、ドットを形成する端部から透過部１１０の端部に至るまでの幅が、その長軸の幅の２倍未満の領域に、この長軸の長さより小さい長軸の長さを有し、かつ元の楕円形状における孔開口面積より小さい孔開口面積の孔を形成する。なお、この場合、製造する反射基板の領域Ａ１，Ａ２の面積の総計を第１面積Ｓ１、領域Ｂ１，Ｂ２の面積の総計を第２面積Ｓ２、領域Ａ１，Ａ２における凹部１２０の開口面積の総計を第１開口面積Ｔ１、領域Ｂ１，Ｂ２における凹部１２２の開口面積の総計を第２開口面積Ｔ２とそれぞれした場合、開口面積密度比率（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）＝１．７を上限値として設定し、また、下限としては開口面積密度比率（Ｔ２／Ｓ２）／（Ｔ１／Ｓ１）＝１．２と設定することが望ましい。
【００４１】
＜本発明が適用される様々な形態＞
上述の実施形態で説明した反射基板は一例であり、本発明は、その趣旨から逸脱しない範囲で様々な形態を採ることが可能である。
例えば、図１の反射基板１００では、領域Ａ１，Ａ２，Ｂ１，Ｂ２としそれぞれ区切って、大小の開口面積を有する凹部１２０，１２２のいずれかをそれぞれ形成していたが、本発明では特に凹部が形成しにくいほどの狭い反射部分における凹部の開口面積を増やすために小さい開口面積を有する凹部を形成するものであるため、（２×ｄ１）未満の一反射部にかかる部分において、相対的に小さい開口面積の凹部が形成されていれば、この凹部と大きい開口面積の凹部とを混合させて形成してもよい。
【００４２】
＜電気光学装置および電子機器＞
次に、上述の実施形態およびその様々な適用形態における反射基板を備えた電気光学装置と、この電気光学装置を表示部として適用した電子機器について説明する。
【００４３】
図１０は、例えば、上記図８で製造された、表面にアルミニウム膜２０４が設けられた反射基板１００Ａを備えた電気光学装置の断面図である。この図に示すように、電気光学装置３００は、反射基板１００Ａ、カラーフィルター層３４２、オーバーコート層３４４、対向電極３４６、配向膜３４８、液晶層３３０、配向膜３２４、画素電極３２２、およびガラス基板３２０が積層されている。視野域側に向けて光を放出するバックライト機構３１０から放出された照射光は、反射基板１００の透過部１１０を介して、視野域側に供給される。また、画素電極３２２および対向電極３４６の間に電圧が印加されると、遮光膜３４０で区切られたドットにおける液晶層３３０の液晶分子の配列が変化する。これにより、カラーフィルター３４２を介したバックライト機構３１０からの照射光、および反射膜２０２で反射した入射光（外光）が所望の色に変化し、視野域側へと放出される。
また、この電気光学装置３００のようなアクティブ型の電気光学装置の他に、パッシブ型の電気光学装置の反射基板として用いることもできる。
【００４４】
次に、図１１は、電気光学装置３００を搭載した携帯電話機４００の外観図である。この図において、携帯電話機４００は、複数の操作ボタン４１０の他、受話口４２０、送話口４３０とともに、電話番号などの各種情報を表示する表示部として電気光学装置３００を備えている。
また、携帯電話機４００以外にも、本発明の反射基板を備えた電気光学装置３００は、コンピュータや、プロジェクタ、デジタルカメラ、ムービーカメラ、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）、車載機器、複写機、オーディオ機器などの各種電子機器の表示部として用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射基板の平面図である。
【図２】反射基板の樹脂の鏡面反射率を測定した時の各設定値である。
【図３】反射基板の樹脂の鏡面反射率を示す図である（その１）。
【図４】反射基板の樹脂の鏡面反射率を示す図である（その２）。
【図５】同反射基板の製造方法を示す図である（その１）。
【図６】同反射基板の製造方法を示す図である（その２）。
【図７】他の反射基板の製造方法を示す図である（その１）。
【図８】他の反射基板の製造方法を示す図である（その２）。
【図９】図５の反射基板の製造に用いるマスクのパターンの平面図である。
【図１０】図８で製造された反射基板を備えた電気光学装置の断面図である。
【図１１】同電気光学装置を備えた電子機器の斜視図である。
【図１２】従来の反射基板の平面図である。
【符号の説明】
１００，５００…反射基板、１１０…透過部、１２０，１２２…凹部、２００…基板、２０２，２０５，２２０…感光性樹脂、２０４，２０６…反射性部材、２１０…マスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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