(57)【要約】【課題】基板に蒸着しなかった蒸着カスが、製造装置の動作上重要な部位に付着することがないよう、付着個所の調整を行って、成膜装置の動作上、重大な支障を招く個所への前記蒸着カスの付着を防止する機能を含む蛍光体シートの製造装置を提供すること。【解決手段】真空チャンバと、この真空チャンバ内の排気手段と、基板の保持手段並びに蛍光体層の成膜手段を有する蛍光体シートの製造装置であって、前記真空チャンバ内にさらに、蛍光体層成膜材料の付着部材と、この蛍光体層成膜材料の付着部材を所定の方向に移動させる前記付着部材の駆動手段とを有することを特徴とする蛍光体シートの製造装置。【選択図】図１
2004077282.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバと、この真空チャンバ内の排気手段と、基板の保持手段並びに蛍光体層の成膜手段を有する蛍光体シートの製造装置であって、
前記真空チャンバ内にさらに、前記基板に蒸着しなかった蛍光体層成膜材料成分の付着部材と、この付着部材を所定の方向に移動させる付着部材駆動手段とを有することを特徴とする蛍光体シートの製造装置。
【請求項２】
前記付着部材を、前記蛍光体層成膜材料の蒸発位置の近傍に設けることを特徴とする請求項１に記載の蛍光体シートの製造装置。
【請求項３】
前記付着部材駆動手段は、前記付着部材を、前記所定の方向に往復動させるとともに、上下方向にも移動させるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の蛍光体シートの製造装置。
【請求項４】
前記移動可能な付着部材に当接させて、当該成膜材料付着部材に付着した成膜材料の除去手段を配置したことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の蛍光体シートの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は蛍光体シートの製造技術の分野に属し、より具体的には、真空蒸着等によって成膜基板（以下、単に基板という）上に蛍光体膜を形成する際に特に有効な、成膜材料が前記基板に蒸着せずに、他の場所に局所的に蒸着する（以下、これを蒸着カスの発生という）のを防止して、厚膜の蛍光体層を安定形成可能とした蛍光体シートの製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
放射線（Ｘ線，α線，β線，γ線，電子線，紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、上述の蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この蓄積性蛍光体を含有する層（以下、蛍光体層という）を有するシート（蛍光体シート、または、放射線像変換シートと呼ばれる）を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、ＦＣＲ（Ｆｕｊｉ　Ｃｏｍｐｕｔｅｄ　Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ富士写真フィルム（株）商品名）等として実用化されている。
このシステムでは、蛍光体シートに人体などの被写体の放射線画像情報を記録し、記録後に、蛍光体シートをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、写真感光材料等の記録材料、あるいはＣＲＴ等の表示装置に、被写体の放射線画像の可視像として出力する。
【０００４】
このような蛍光体シートは、通常、蓄積性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のシート状の支持体に塗布し、乾燥して、蛍光体層を形成することによって、作製される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の物理蒸着法（気相製膜法）によって、支持体に蛍光体層を形成してなる蛍光体シートも知られている（特許第２７８９１９４号，特開平５‐２４９２９９号等の各公報参照）。蒸着によって作製される蛍光体層は、真空中で形成されるため不純物が少なく、また、バインダなどの蓄積性蛍光体以外の成分が殆ど含まれないので、性能のばらつきが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特徴を有している。
【０００５】
一般に、真空蒸着は、光学部品のコーティング，磁気記録媒体や電子ディスプレイの製造等の各種の分野における薄膜の成膜方法として利用されている。これらにおける蒸着による成膜では、殆どの場合、形成する膜の厚さは１μｍ以下であり、厚くても３μｍ程度である。
これに対して、真空蒸着で形成される蛍光体シートの蛍光体層は、薄くても２００μｍ以上、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さが必要になる。これは、成膜材料の蒸発量が膨大であることを意味している。
【０００６】
本出願人は先に、このような蛍光体層の形成（蛍光体膜の製造）に好適に用い得る蛍光体シートの製造方法または装置を提案している（例えば、特願２００２−４２９１号，同２００２−１９６３１号参照）。
これらの技術は、いわゆる二元蒸着による蛍光体シートの製造技術に係るものであり、真空チャンバ内に、蛍光体の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、付活剤の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、基板の保持・回転手段とを設けてなる装置を提案しているものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、蒸着時に蒸発した成膜材料のうち、実際に基板に蒸着するのはその約２０％程度であり、残りの約８０％は、いわゆる蒸着カスとして真空チャンバ内の部材各所に蒸着（付着）してしまう。このように、蒸着カスが真空チャンバ内の部材の特定の個所に集中的に付着すると、その付着個所によっては、それ以後の製造装置、ないしはこれに付属的に用いられる材料供給装置の正常な動作に支障を来す場合がある。
【０００８】
例えば、上述のような蒸着カスが、真空チャンバ内の成膜材料蒸発位置の近傍に集中的に付着した場合には、成膜材料の円滑な蒸発が阻害されることになって、その分、成膜材料の供給速度が低下してしまい、製造装置が正常に動作できなくなったり、成膜時間が大巾に伸びたりするという重大な問題が発生する。
また、製造装置に付属的に用いられる材料供給装置の正常な動作が阻害されると、基板への成膜材料の供給が円滑に行えなくなり、成膜を途中で一時停止しなければならなくなるという、これも重大な問題が発生する。
【０００９】
具体的には、図７に示すような、電子ビームを用いて成膜材料を蒸発させる蛍光体シート製造装置において、大量蒸発成分（例えば、ＣｓＢｒ）が、その蒸発手段である例えば電子銃３６の成膜材料蒸発位置側、すなわち電子銃３６のコイル近傍に付着するケース（図７中に、３６Ｐで示されている）等があり、このような状態になった場合には、以後の正常な蒸着が阻害されて、前述のような厚膜の蛍光体層の形成に支障が出る。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、実際に基板に蒸着しなかった蒸着カスが、成膜材料の蒸着（蒸発）を阻害する部位に局所的に付着することがないよう、付着個所間での蒸着カスの付着量の分散化を図って、装置の動作上、重大な支障を招く個所への前記蒸着カスの付着を防止して、前述のような厚膜の蛍光体層の安定形成を可能とする蛍光体シートの製造装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、上述の蒸着カスの付着防止機能を、できるだけ長期間にわたって持続するような構成とした、蛍光体シートの製造装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る蛍光体シートの製造装置は、真空チャンバと、この真空チャンバ内の排気手段と、基板の保持手段並びに蛍光体層の成膜手段を有する蛍光体シートの製造装置であって、前記真空チャンバ内にさらに、前記基板に蒸着しなかった蛍光体層成膜材料成分（前述の蒸着カス）の付着部材と、この付着部材を所定の方向に移動させる付着部材駆動手段とを有することを特徴とする。
【００１２】
ここで、本発明に係る蛍光体シートの製造装置においては、前記付着部材を、前記蛍光体層成膜材料の蒸発位置の近傍に設けることが好ましく、また、前記付着部材駆動手段は、前記付着部材を、前記所定の方向に往復動させるとともに、上下方向にも移動させるものであることが好ましい。さらに、前記付着部材は、所定の移動範囲内で一方の端部位置で暫時停止した後、他方の端部位置への移動を再開するというような、一種の間欠的な動作であるのが好ましい。またさらに、前記移動可能な付着部材に当接させて、当該成膜材料付着部材に付着した成膜材料の除去手段を配置することが好ましい。
【００１３】
本発明によれば、このような成膜材料の付着（制御・回収）部材を適切な位置に設けて移動するように構成したことにより、基板に蒸着せず、他の場所に蒸着した成膜材料（前記、蒸着カス）が蒸着作用に支障を与える個所に付着することを長期間にわたって防止することが可能になり、結果として、本来の蒸着速度での蒸着作用を円滑に行わせることが可能になって、厚膜の蛍光体シートを安定して製造することが可能になるという効果が得られる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面に基づいて、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１５】
図２に、本発明の一実施形態に係る蛍光体シート製造装置の概念図を示す。なお、この蛍光体シート製造装置は、本出願人が先に特願２００１−３８２７５２号「材料供給装置」により提案した高性能の成膜材料供給装置を簡略化した成膜材料供給装置を用いるものである。これは、前述のように、ここで成膜しようとする蛍光体層が、薄くても２００μｍ以上、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さを有するものであるため、円滑な成膜材料の供給が好ましいことによる。
【００１６】
図示例の蛍光体シート製造装置（以下、単に製造装置ともいう）１０は、シート状の基板Ｓの表面に、蓄積性蛍光体層を二元の真空蒸着によって形成して、蛍光体シートを作製するものであり、基本的に、真空チャンバ１２と、基板保持・回転機構１４と、加熱蒸発部１６とを有して構成される、いわゆる基板回転型の真空蒸着装置を利用するものであり、さらに、この真空チャンバ１２内に、後述するような蒸着カスの付着防止手段４０を有することを特徴とする。
なお、真空チャンバ１２には、系内を排気して所定の真空度にするための、図示しない真空ポンプ（真空排気手段）が接続される。
【００１７】
図示例の製造装置１０では、一例として、臭化セシウム（ＣｓＢｒ）および臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒｘ（ｘは、通常、２〜３））を成膜材料とした二元の真空蒸着を行って、基板Ｓ上にＣｓＢｒ：Ｅｕを蓄積性蛍光体とする蛍光体層を成膜して、蛍光体シートを作製する。ここでは、蛍光体の成膜材料が臭化セシウムで、付活剤の成膜材料が臭化ユーロピウムである。
【００１８】
なお、本発明に係る製造装置で作製する蛍光体シートにおいて、蓄積性蛍光体は、上記ＣｓＢｒ：Ｅｕに限定はされず、各種のものが利用可能である。
好ましくは、波長が４００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が利用される。このような輝尽性蛍光体は、特公平７−８４５８８号，特開平２−１９３１００号，同４−３１０９００号の各公報に詳述されている。
【００１９】
図２に戻って、説明を続ける。真空チャンバ１２は、鉄，ステンレス，アルミニウム等で形成される、真空蒸着装置で利用される公知の真空チャンバ（ベルジャー，真空槽）である。
前述のように、真空チャンバ１２には、図示しない真空ポンプが接続される。真空ポンプにも、特に限定はなく、必要な到達真空度を達成できるものであれば、真空蒸着装置で利用されている各種のものが利用可能である。一例として、油拡散ポンプ，クライオポンプ，ターボモレキュラーポンプ等を利用すればよく、また、補助として、クライオコイル等を併用してもよい。
なお、本実施形態に係る製造装置１０においては、真空チャンバ１２内の到達真空度は、６．７×１０−３Ｐａ以下、特に４．０×１０−４Ｐａ以下であることが好ましい。
【００２０】
図示例の装置において、真空チャンバ１２内には、上方に基板保持・回転機構１４が、また、下方に加熱蒸発部１６が配設される。なお、ここでは、加熱蒸発部１６が１組だけの場合を例示したが、加熱蒸発部１６は複数組設けてもよいことはいうまでもない。
【００２１】
上述の基板保持・回転機構１４は基板Ｓを保持して回転するものであり、回転駆動源（モータ）２０と係合する回転軸２８と、ターンテーブル２２とから構成される。
ターンテーブル２２は、上側の本体２４と下側（加熱蒸発部１６側）のシースヒータ２６とからなる円板で、その中心に、モータ２０と係合する回転軸２８が固定される。ターンテーブル２２は、後述する加熱蒸発部１６（成膜材料の蒸発位置）に対応する所定位置において、下面（シースヒータ２６の下面）に基板Ｓを保持して、回転軸２８によって所定速度で回転される。シースヒータ２６は、成膜される基板Ｓを裏面（成膜面と逆側の面）から加熱する。
【００２２】
基板Ｓは、係止治具等を用いる公知の方法で、成膜面を下方に向けて、基板保持・回転機構１４のターンテーブル２２に保持すればよい。
ここで用い得る基板Ｓには特に限定はなく、ガラス，セラミックス，カーボン，アルミニウム，ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート），ポリイミド等、蛍光体シートにおいて利用されている各種のシート状の基板が全て利用可能である。
【００２３】
真空チャンバ１２内の、基板保持・回転機構１４の下方には、加熱蒸発部１６が配置される。前述のように、本実施形態に係る製造装置１０は、臭化セシウムおよび臭化ユーロピウムを成膜材料として用い、これらを個々に加熱蒸発させる二元の真空蒸着を行うものであり、このため、加熱蒸発部１６は、ユーロピウム蒸発部（以下、Ｅｕ蒸発部という）３２と、セシウム蒸発部（以下、Ｃｓ蒸発部という）３０とを有する。
【００２４】
Ｅｕ蒸発部３２は、抵抗加熱装置３４によって、蒸発位置（ルツボ）に収容した臭化ユーロピウム（付活剤材料）を、抵抗加熱して蒸発させる部位である。本発明において、付活剤材料を抵抗加熱して蒸発させるための抵抗加熱装置３４には、特に限定はなく、用いる付活剤材料に応じて、これを好適に蒸発できるものであれば、真空蒸着装置に利用されている各種のものが利用可能である。
【００２５】
具体的には、加熱装置（蒸発源）としては、ボートタイプ、フィラメントタイプ、クルーシブルタイプ、チムニータイプ、Ｋセル（クヌーセンセル）等の、抵抗加熱装置で用いられる各種の装置が利用可能である。また、電源（加熱制御手段）も、サイリスタ方式、ＤＣ方式、熱電対フィードバック方式等、抵抗加熱装置で用いられる各種の方式が利用可能である。
また、抵抗加熱を行う際の出力にも特に限定はなく、付活剤材料等に応じて適宜設定すればよいが、図示例においては、ヒータの抵抗値によっても異なるが、５０Ａ〜１０００Ａ程度とすればよい。
【００２６】
一方、Ｃｓ蒸発部３０は、電子銃３６から出射した電子線（エレクトロンビーム＝ＥＢ）を所定の蒸発位置（ハース）に照射することにより、材料供給装置１８によって蒸発位置に供給された、蛍光体材料である臭化セシウムを加熱蒸発させる、公知の電子線加熱装置である。
【００２７】
本実施形態に係る製造装置１０は、蛍光体層を真空蒸着で形成する蛍光体シートの製造において、蛍光体材料と付活剤材料とを別々に加熱蒸発させる二元蒸着とし、かつ、付活剤材料の加熱蒸発を抵抗加熱で行い、蛍光体材料の加熱蒸発を電子線加熱で行うことにより、蛍光体層（すなわち蛍光体中）に付活剤が均一に分散された、極めて高品質な蛍光体シートを効率良く製造可能としているものである。
【００２８】
本実施形態に係る製造装置１０において、Ｃｓ蒸発部３０（蛍光体材料の蒸発手段）は、電子線による加熱を行うものであれば、基本的に、公知の各種の蒸発手段が利用可能である。
従って、電子銃３６にも、特に限定はなく、電子線を１８０°偏向して蒸発位置に入射する１８０°偏向銃，同２７０°偏向銃，９０°偏向直進銃等、真空蒸着において利用されている各種の電子銃が利用可能である。図示例においては、電子銃３６は、一例として、２７０°偏向銃を利用している。
【００２９】
電子銃３６のエミッション電流やＥＢの加速電圧にも限定はなく、成膜材料や成膜する膜厚に応じた十分なものであればよい。図示例においては、一例として、ＥＢの加速電圧は−１ｋＶ〜−３０ｋＶ、エミッション電流は、Ｃｓ蒸発部３０が５０ｍＡ〜２Ａとするのが好ましい。
また、成膜速度にも特に限定はないが、図示例においては、１０ｎｍ／ｓｅｃ〜５０００ｎｍ／ｓｅｃが好ましい。
【００３０】
ここで、前述のように、蛍光体シートに成膜される蛍光体層は、通常の真空蒸着膜に比して非常に厚く、薄くても２００μｍ程度、通常５００μｍ程度、厚い場合には、１０００μｍを超える場合もある。また、付活剤と蛍光体とは、例えば、モル濃度比で０．０００１／１〜０．０１／１程度と、蛍光体層の大部分が蛍光体である。
そのため、図示例の製造装置１０においては、好ましい態様として、Ｃｓ蒸発部３０には材料供給装置１８が装着されており、蛍光体材料である臭化セシウムは、この材料供給装置１８によって、Ｃｓ蒸発部３０の所定の蒸発位置に供給される。
【００３１】
図３に、材料供給装置１８の概略図を示す。なお、図３において、（ａ）は材料供給装置１８を基板Ｓ側から見た図（上面図）、（ｂ）は図２と同じ側から見た図（正面図）である。
材料供給装置１８は、図４に示されるような、タブレット（錠剤状）に成形された成膜材料（図示例では臭化セシウム、以下、タブレットＴｂという）を、所定の蒸発位置、すなわち電子銃３６からのＥＢの照射位置に供給するものである。この材料供給装置１８は、基本的に、ターレット５０と、昇降手段５２と、ターレット５０を回転する回転手段（図示省略）とを有して構成される。
【００３２】
なお、上述のタブレットＴｂの成形方法には、特に限定はなく、用いる成膜材料に応じた方法が、各種、利用可能である。例えば、粉末状の成膜材料を成形用のダイスに投入して、粉末金型プレス成形機で成形した後、真空乾燥処理を行う方法等が例示される。
また、図示例においては、成膜材料は、円柱状に成形されているが、この成形形状は、円柱状に限らず、角柱状であってもよい。
【００３３】
ターレット５０は、下面の中心に回転軸５４を有する円盤で、タブレットＴｂを収容した容器５６（図４参照）を装着する装填孔５８（移動用貫通孔）が形成される。図示例においては、ターレット５０には、７つの装填孔５８が、ターレット５０の回転と中心を一致する円周上に、同じ回転角間隔で形成されている。ターレット５０の下面には、回転軸５４が固定されている。また、回転軸５４は、公知の方法で、真空チャンバ１２に固定されるハウジング６２に軸支されており（図２参照）、図示されていない回転手段によって、回転される。
【００３４】
前述のように、タブレットＴｂは、共に容器５６に収容される。この容器５６は、図４に示したように、下端が閉塞する円筒部５６ａと、この円筒部５６ａの上端外周に固定される平板リング状の鍔部５６ｂとを有するもので、円筒部５６ａの外径は、前述の装填孔５８の内径よりも若干小さい。また、上記鍔部５６ｂの外径は、装填孔５８の内径よりも大きい。
図示例の材料供給装置１８においては、タブレットＴｂを容器５６に収容して、この容器５６の円筒部５６ａをターレット５０の装填孔５８に挿入して、その鍔部５６ｂをターレット５０の装填孔５８に載置することにより、タブレットＴｂ（成膜材料）が装填される。
【００３５】
図５に、材料供給装置１８にタブレットＴｂを装填した状態を示す。
前述のように、ターレット５０には７つの装填孔５８が形成されており、この７つの装填孔５８に装填される最大７つまでのタブレットＴｂを装填することができる。
なお、図示例において、昇降手段５２は、真空チャンバ１２に固定される本体６４と、ピストン（ピストンロッド）６６と、このピストン６６の先端に配置される、装填孔５８の内径よりも若干小さい外径を有する円盤状の載置部材６８とを有して構成される。また、昇降手段５２は、上述の載置部材６８の中心が、前記Ｃｓ蒸発部３０の所定のＣｓ蒸発位置に一致するように配置されている。上述のような昇降手段５２は、例えば、空気圧シリンダや油圧シリンダ等のアクチュエータを利用して構成すればよい。
【００３６】
以下、供給装置１８の作用について説明する。
真空チャンバ１２を開放した状態で、図５に示すようにタブレットＴｂを収容した容器５６を、ターレット５０の各装填孔５８に挿入し、載置する。必要数のタブレットＴｂの装填（容器５６の載置）が終了したら、ターレット５０を、その１つの装填孔５８が、昇降手段５２（載置部材６８）に対応する位置（以下、これを昇降位置という）となるように回転する。
【００３７】
供給装置１８は、成膜開始に先立ち、この状態から、ピストン６６を上昇（本体６４から突出）させることにより載置部材６８を上昇させる。この載置部材６８の上昇は、図５に示されるように、タブレットＴｂの上面が所定の蒸発位置に達した時点（すなわち、容器５６が蒸発位置に上昇した時点）で停止し、タブレットＴｂの上面を所定の蒸発位置に供給する。また、昇降手段５２は、必要に応じて、蒸着によるタブレットＴｂの消費による、成膜材料上面の降下に応じて載置部材６８を上昇させ、材料上面を蒸着位置に保つ。
【００３８】
さらに、容器５６に収容されるタブレットＴｂが空になったら、ピストン６６を動作させて載置部材６８を降下（本体６４内に収納）させ、空になった容器５６をターレット５０に戻す。そして、ターレット５０を反時計方向に所定角度回転させて、隣の装填孔５８を昇降位置に移動させる。ここで、昇降手段５２が載置部材６８を上昇させて、この位置の新たな容器５６を蒸発位置まで持ち上げて蒸着の再開に備える。
このような動作を繰り返すことにより、大量の成膜材料の安定供給が可能となり、厚膜の安定形成が可能になる。
【００３９】
ところで、前述のように、成膜過程の間に、特に大量蒸発成分である臭化セシウムが、製造装置の動作上重要な部位（例えば、電子銃３６の成膜材料蒸発位置側等）に付着する（この状況は、先に図７を用いて説明した）。
このような部位に多量の臭化セシウム（すなわち、蒸着カス）が付着すると、特に以後の臭化セシウムの蒸発を阻害することになって蒸発速度が低下してしまい、製造装置が正常に動作できなくなったり、成膜時間が大巾に伸びたりするという事態になるという重大な問題が発生することは前述の通りである。
そこで、本実施形態に係る製造装置においては、上述のような臭化セシウムの好ましくない部位への付着を防止するために、以下に示すような付着防止機構を設けるものである。
【００４０】
図１に、上述の付着防止機構の詳細な構成例を示す。
図１（ａ）は付着防止機構の要部を示す上面図、同（ｂ）はそのＡ−Ａ線断面図である。図１中、３６は電子銃、５６はＣｓ蒸発部３０に設けられている材料供給装置１８のＣｓ蒸発位置（タブレットＴｂ容器）、３４はＥｕ蒸発部３２のＥｕ蒸発位置を示しており、４０は付着防止機構を示している。
【００４１】
ここで、付着防止機構４０は、少なくとも１枚の付着防止部材４２とその往復移動手段４４とから構成される。図１に示した例では、付着防止部材４２は、略均一な厚みを有する平板から構成されており、ここでは、電子銃３６のイオンビーム照射側（Ｃｓ蒸発部）に近接させて、設けられている。また、この付着防止部材４２を往復駆動する往復移動手段４４は、図示されていない正逆回転可能なモータにより減速機を介して、水平面上で（より詳細には、ここでは、Ｃｓ蒸発部３０とＥｕ蒸発部３２とを通る直線に直交する方向に）往復駆動されるように構成されている。
【００４２】
具体的には、上記往復移動手段４４は、例えば、上記モータにより駆動される複数の搬送ローラ対で構成され、前記付着防止部材４２が、常にこれらの搬送ローラ対の少なくとも一対により挟持・移送されるように配置されている。
上記往復移動手段４４は基板Ｓへの成膜材料蒸着中に移動するので、蒸着カスは図７のように電子銃３６の成膜材料蒸発位置側には付着せずに、前記付着防止部材４２の略全面に分散した形で付着する。これにより、電子銃３６の近傍等、蒸発に支障となる部位への蒸着カスの付着が防止され、蒸発が阻害されることなく、厚膜の安定形成が可能になる。
【００４３】
なお、上述のモータの駆動は、単なる往復動を行うものでもよいが、より好ましくは、往復動範囲内のそれぞれ両端の位置において、暫時停止時間をとるようにプログラムしておくと、前記付着防止部材４２への蒸着カスの付着量が付着防止部材４２の長さ方向で、より分散化できる。これは、前記付着防止部材４２に付着する蒸着カスの量が、中央部が比較的多く、両端に近い部分は少なめになる傾向にあることから、この付着量の少ない部分を長時間、蒸着カスの付着し易い条件におくためである。
【００４４】
前記付着防止部材４２の駆動手段（往復移動手段４４）は、上述のような複数の搬送ローラ対で構成するものに限られず、例えば、アームで移動させる方式、シリンダで移動させる方式など、各種のものが用い得る。いずれの方式を採用する場合にも、蒸着カスの付着を考慮して、動作不良を起こさないように、十分な弾力性を持たせる等の余裕を持った構成とすることが好ましい。
【００４５】
例えば、上述のような搬送ローラ対を用いる場合であれば、ローラの支持具にばねを組み込んで、前記付着防止部材４２に蒸着カスが付着しても十分な回転力が得られるようにするとか、ローラ表面を粗して前記付着防止部材４２に付着した蒸着カスを掻き落としながら回転するようにする構成が好適に用い得る。いわゆる千鳥配置ローラを採用することも好ましい。
【００４６】
また、付着防止部材４２の移動方向も、Ｃｓ蒸発部３０とＥｕ蒸発部３２とを通る直線に直交する方向に限られず、これから若干ずれた方向、さらに、装置構成によっては、水平面内ではなく、傾斜した状態で移動するようにしてもよい。さらに、上述の水平方向への往復動に加えて、さらにその上下方向への移動を行わせるようにすると、前記付着防止部材４２への蒸着カスの付着量が付着防止部材４２の高さ方向にも分散化できる。
【００４７】
このような配慮をすることにより、前記付着防止部材４２に付着する蒸着カスの量が、全体として平均化され、付着防止部材４２の使用寿命を延長させることが可能になる。ここで、上述の上下方向への移動方法としては、例えば、付着防止部材４２の１往復毎に、その移動経路の高さを変える等の方法が採用し得るが、これに限られるものではない。
そして、上述のように構成することにより、蒸着カスが付着しては不都合な個所への蒸着カスの付着を効果的に防止することが可能となり、厚膜の蛍光体シートの製造が安定して行えるようになる。
【００４８】
上記付着防止機構４０においては、付着防止部材４２の移動経路に沿った位置に、この付着防止部材４２に付着した成膜材料（すなわち蒸着カス）の除去（掻き落とし）手段のような除去機能を付加することが好ましい。この除去手段としては、金属板を付着防止部材４２に摺接させるようにする等、各種の方式を利用することが可能である。また、この場合、除去手段の下方に、掻き落とされた蒸着カスを受けるための受け皿を設けることが好ましい。このように構成することにより、付着防止部材４２の使用寿命を延長させることが可能になる。
【００４９】
以下、本実施形態に係る製造装置における蛍光体層の成膜手順を説明する。
前述のように、製造装置１０は、回転型の真空蒸着装置を利用するもので、蛍光体シートを製造する際には、まず、ガラス基板Ｓの四隅のコーナー部を保持する係止治具１４ａと、電極１４ｂを有する静電保持機構とを用いて、ターンテーブル２２下面の所定位置に成膜面を下方に向けてガラス基板Ｓを装着した後、真空チャンバ１２を閉塞して減圧すると共に、シースヒータ２６を駆動して、ガラス基板Ｓを裏面から加熱する。
【００５０】
真空チャンバ１２の内部が所定の真空度になったら、モータ２８によってターンテーブル２２を所定速度で回転しつつ、加熱蒸発部１６において、Ｅｕ蒸発部３２の抵抗加熱装置３４を駆動して蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容された臭化ユーロピウムを蒸発させ、かつ、Ｃｓ蒸発部３０の電子銃３６を駆動して蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムを蒸発させて、ガラス基板ＳへのＣｓＢｒ：Ｅｕの蒸着すなわち蛍光体層の成膜を開始する。
【００５１】
なお、前述のように、両蒸発位置は近接して配置され、かつ、臭化ユーロピウムの蒸発は抵抗加熱で行われるので、加熱蒸発部１６では、極微量な臭化ユーロピウムの蒸気が均一に分散された、両成膜材料の混合蒸気が構成され、この混合蒸気によって、付活剤が均一に分散されたＣｓＢｒ：Ｅｕが蒸着される。
【００５２】
ここで、基板への成膜によって蒸発位置ＰｃのタブレットＴｂが消費され、その上面が降下するが、好ましくは、昇降手段５２は、それに応じて載置部材６８を上昇させて、タブレットＴｂの上面を所定の蒸発位置に保つ。
蒸着に供されている容器５６に収容されるタブレットＴｂがなくなる（実際には、残量が所定量になる）と、蒸着を一時停止し、昇降手段５２が載置部材６８を降下させ、空になった容器５６をターレット５０に戻す。
次いで、ターレット５０を反時計方向に所定角度回転させて、隣の装填孔５８を昇降位置に移動させる。ここで、昇降手段５２が載置部材６８を上昇させて、この位置の新たな容器５６を蒸発位置まで持ち上げて蒸着を再開し、先と同様に、タブレットＴｂがなくなるまで蒸着を行う。
【００５３】
その後も、同様に、空になった容器５６をターレット５０に戻し、ターレット５０を回転させて新たな容器５６に切り換え、この新たな容器５６を蒸発位置に上昇させて蒸着を行う過程を繰り返す。
これにより、成膜材料を連続的に供給することができるので、厚さが２００μｍを超えるような厚膜も容易に成膜することが可能になる。
所定厚さの成膜が終了したら、ターンテーブル２２の回転を停止し、真空チャンバ１２を開放して、蛍光体層の成膜を終了したガラス基板Ｓを取り出す。連続的に成膜を行う際には、以下、上と同様にして、新たなガラス基板Ｓを装填して成膜を行えばよい。
【００５４】
本実施形態に係る製造装置においては、蛍光体層の成膜期間中に、上述の付着防止機構４０、すなわち、前記付着防止部材４２を搬送ローラ対４４で図１中の矢印Ｆ方向に沿って、例えば連続的に往復移動させる。これによって、前記付着防止部材４２への蒸着カスの付着量を平均化させて、局所的な付着を防止し、付着量を全体として均一化することで、付着防止部材４２の使用寿命を延長させつつ良好な蒸着を行わせ、前述の５００μｍというような厚膜の蛍光体層も容易に成膜することが可能になる。
【００５５】
図６に、他の実施形態に係る付着防止機構４０ａの構成を示す。この実施形態に係る付着防止機構４０ａでは、付着防止部材４２ａとして、適宜の半径を以って湾曲している、略均一な厚みを有する板を用いている。設置位置は、先に示した実施形態に係る付着防止機構４０の場合と同様に、電子銃３６のイオンビーム照射側（Ｃｓ蒸発部）に近接した位置となっている。
このような、湾曲している付着防止部材４２ａを用いることにより、同じスペース内での、付着防止部材４２ａの走行距離を長くすることが可能になり、付着防止部材４２ａの使用寿命を延長させつつ良好な成膜が可能になる。
【００５６】
なお、上記実施形態は本発明の一例を示したものであり、本発明はこれに限定されるべきものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜の変更または改良を行ってもよいことはいうまでもない。
【００５７】
例えば、本発明に係る蛍光体シートの製造装置は、図示例のような回転型の真空蒸着装置を利用するものにも限定されず、例えば、真空チャンバに連結するロード室とアンロード室とを有し、基板をロード室に装填し、ロード室→真空チャンバ→アンロード室と基板を搬送しつつ成膜を行い、アンロード室から取り出す形式の、いわゆるロードロックタイプの真空蒸着装置を利用するものであってもよく、あるいは、基板を所定位置に固定して蒸着を行うタイプの真空蒸着装置を利用するものであってもよい。
【００５８】
また、本発明に係る蛍光体シートの製造装置における付着防止機構の付着防止部材に使用する材料は、蛍光体の付着するものであれば特に限定はなく、金属，樹脂等、各種のものが利用できる。
さらに、本発明は、蛍光体シート以外にも、例えば蛍光体を用いる放射線検出器（いわゆる、シンチレータ）の製造にも、好適に利用可能であり、本発明の権利範囲は、そのような利用にも及ぶものである。
【００５９】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、実際に基板に蒸着しなかった成膜材料（蒸着カス）が、製造装置の動作上重要な部位に集中的に付着することがないようにして、成膜装置の動作上、重大な支障を招く個所への前記蒸着カスの付着を防止する機能を有する蛍光体シートの製造装置を実現できる。
【００６０】
また、本発明によれば、上述の蒸着カスの付着防止機能を、できるだけ長期間にわたって持続するような構成とした、蛍光体シートの製造装置を実現することができるので、結果として、本来の蒸着速度での蒸着作用を円滑に行わせることが可能になって、２００μｍを超えるような厚膜の蛍光体シートの製造が安定して可能になるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る製造装置の蒸着カス付着防止機構を示す図であり、（ａ）はその要部を示す側面図、（ｂ）は同上面図である。
【図２】実施形態に係る製造装置の概念を示す図である。
【図３】実施形態に係る製造装置に付加した材料供給装置の概略図であり、（ａ）は上面図、（ｂ）は正面図である。
【図４】材料供給装置への成膜材料（タブレットＴｂ）の供給状況を示す斜視図である。
【図５】材料供給装置の動作を説明する側面図である。
【図６】他の実施形態に係る製造装置の蒸着カス付着防止機構の上面図である。
【図７】従来技術における、蒸着カス付着状況を示す説明図である。
【符号の説明】
１０　製造装置
１２　真空チャンバ
１４　基板保持・回転機構
１６　加熱蒸発部
１８　材料供給手段
２０　モータ
２２　ターンテーブル
２６　シースヒータ
３０　Ｃｓ蒸発部
３２　Ｅｕ蒸発部
３４　抵抗加熱装置
３６　電子銃
４０，４０ａ　付着防止機構
４２，４２ａ　付着防止部材
４４　搬送ローラ対
５０　ターレット
５２　昇降手段
５６　タブレットＴｂ容器
５８　装填孔
Ｔｂ　成形された成膜材料（タブレットＴｂ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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