(57)【要約】【課題】蛍光体シートの真空蒸着において、余分な蛍光体原材料を除去して真空チャンバ内を清浄に保つとともに、余分な蛍光体原材料の再利用を可能とし、コストダウンを図る。【解決手段】シート状の基板に蓄積性蛍光体層を成膜する蛍光体シート製造装置であって、真空チャンバと、前記真空チャンバ内を排気する真空排気手段と、前記真空チャンバ内に少なくとも１つ設置される、前記蓄積性蛍光体層の成膜材料を蒸発する蒸発手段と、前記蒸発手段を囲むように前記真空チャンバ内に配置された包囲手段とを有することを特徴とする蛍光体シート製造装置を提供することにより前記課題を解決する。【選択図】図１
2004077209.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状の基板に蓄積性蛍光体層を成膜する蛍光体シート製造装置であって、
真空チャンバと、前記真空チャンバ内を排気する真空排気手段と、
前記真空チャンバ内に少なくとも１つ設置される、前記蓄積性蛍光体層の成膜材料を蒸発する蒸発手段と、
前記蒸発手段を囲むように前記真空チャンバ内に配置された包囲手段とを有することを特徴とする蛍光体シート製造装置。
【請求項２】
前記包囲手段を冷却する冷却手段を有することを特徴とする請求項１に記載の蛍光体シート製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、蓄積性蛍光体シート製造の技術分野に属し、詳しくは、真空蒸着によって基板上に蓄積性蛍光体層を形成する蛍光体シートの製造において、真空チャンバ内の余分な蛍光体原材料を効率的に除去するようにした蛍光体シート製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積された放射線エネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この蓄積性蛍光体を含有する層（以下、蛍光体層とする。）を有するシートを利用する放射線画像情報記録再生システムが知られている。この蛍光体層を有するシートは、放射線像変換パネルとも呼ばれているが、以下、蛍光体シートとする。なお、このようなシステムとして、既に実用化されているものにＦＣＲ（Ｆｕｊｉ　Ｃｏｍｐｕｔｅｄ　Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）がある。
【０００４】
このシステムにおいては、まず蛍光体シート（の蛍光体層）に人体等の被写体の放射線画像情報を記録する。記録後に蛍光体シートをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して、輝尽発光光を放出させる。そして、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を写真感光材料等の記録材料あるいはＣＲＴ等の表示装置に被写体の放射線画像を可視像として出力する。読取りを終えた蛍光体シートは、残存する画像を消去して、繰り返し使用される。
【０００５】
このような蛍光体シートは、通常、蓄積性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、ガラスや樹脂製のシート状の支持体に塗布し、乾燥して、蛍光体層を形成することによって作製される。
これに対して、真空蒸着やスパッタリング等の物理蒸着法（気相成膜法）によって、支持体に蛍光体層を形成してなる蛍光体シートも知られている。蒸着によって作製される蛍光体層は、真空中で形成されるので不純物が少なく、バインダ等の蓄積正蛍光体以外の成分が殆ど含まれないので、性能のバラツキが少なく、発光効率が良好である。この真空蒸着法は、真空容器内において、成膜材料を蒸発源で蒸発させ、蒸発源の上方に配置された基板に成膜材料を蒸着させて、基板表面に成膜するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の真空蒸着法における、基板への蛍光体原材料の付着効率は、蒸着方式や蛍光体原材料の特性によって変化し、その時々の成り行きで決まるため、常に最良の付着効率で蒸着を行うことは困難であった。
ところで、蛍光体原材料は非常に高価であるため、付着率が低い真空蒸着法では、残留した余分な蛍光体原材料が真空チャンバ内を汚し、また、高価な蛍光体原材料を多く無駄にしてしまうことになるため、コストが高くなるという問題がある。
【０００７】
本発明は、前記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、付着効率の低い真空蒸着法においても、真空チャンバ内の余分な蛍光体原材料を除去し、真空チャンバ内を清浄に保つとともに、余分な蛍光体原材料の再利用を可能とし、コストダウンを図ることのできる蛍光体シート製造装置を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明は、シート状の基板に蓄積性蛍光体層を成膜する蛍光体シート製造装置であって、真空チャンバと、前記真空チャンバ内を排気する真空排気手段と、前記真空チャンバ内に少なくとも１つ設置される、前記蓄積性蛍光体層の成膜材料を蒸発する蒸発手段と、前記蒸発手段を囲むように前記真空チャンバ内に配置された包囲手段とを有することを特徴とする蛍光体シート製造装置を提供する。
【０００９】
また、前記包囲手段を冷却する冷却手段を有することが好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の蛍光体シート製造装置について、添付の図面に示される好適実施形態を基に詳細に説明する。
【００１１】
図１に、本発明に係る、蛍光体シート製造装置の一実施形態の概念図を示す。
図示例の蛍光体シート製造装置（以下、単に製造装置ともいう。）１０は、シート状のガラス基板Ｓの表面に、蓄積性蛍光体層を二元の真空蒸着によって形成して、蛍光体シートを作成するものである。製造装置１０は、基本的に、真空チャンバ１２と、基板保持・回転機構１４と、加熱蒸発部１６とを有して構成される、いわゆる基板回転型の真空蒸着装置を利用するものである。本実施形態の製造装置１０は、さらに、前記真空チャンバ１２内に、後述するような加熱蒸発部１６を囲む包囲手段を有することを特徴とする。
なお、真空チャンバ１２には、系内を排気して所定の真空度にするための、図示しない真空ポンプ（真空排気手段）が接続される。
【００１２】
図示例の製造装置１０では、一例として、臭化セシウム（ＣｓＢｒ）および臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒｘ　（ｘは、通常、２〜３））を成膜材料とした二元の真空蒸着を行って、ガラス基板Ｓ上にＣｓＢｒ：Ｅｕを蓄積性蛍光体とする蛍光体層を成膜して、蛍光体シートを作成する。
【００１３】
なお、本発明に係る製造装置で作成する蛍光体シートにおいて、蓄積性蛍光体は、上記ＣｓＢｒ：Ｅｕに限定はされず、各種のものが利用可能である。
好ましくは、波長が４００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が利用される。このような輝尽性蛍光体は、特公平７−８４５８８号、特開平２−１９３１００号、同４−３１０９００号の各公報に詳述されている。
【００１４】
中でも、下記の基本組成式
ＭＩ　Ｘ・ａＭＩＩＸ’２　・ｂＭＩＩＩ　Ｘ’’３　：ｚＡ
で代表されるアルカリ金属ハロゲン化物質系輝尽性蛍光体は、特に、好ましい。なお、上記式において、ＭＩ　は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種のアルカリ金属を表し、ＭＩＩは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｎｉ，Ｃｕ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種のアルカリ土類金属もしくは二価の金属を表し、ＭＩＩＩ　は、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の希土類元素もしくは三価の金属を表し、Ａは、Ｙ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｎａ，Ｍｇ，Ｃｕ，Ａｇ，ＴｌおよびＢｉからなる群より選択される少なくとも一種の希土類元素もしくは金属を示し、さらに、Ｘ、Ｘ’およびＸ’’は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種のハロゲンを示す。また、ａは、０≦ａ＜０．５の範囲内の数値を、ｂは、０≦ｂ＜０．５の範囲内の数値を、さらに、ｚは、０≦ｚ＜１．０の範囲内の数値を、それぞれ示す。
【００１５】
上記基本組成式において、ＭＩ　は、少なくともＣｓを含んでいるのが好ましく、また、Ｘは、少なくともＢｒを含んでいるのが好ましく、さらに、Ａは、ＥｕまたはＢｉであるのが好ましい。
また、上記基本組成式で示される金属ハロゲン化物系輝尽性蛍光体には、必要に応じて、酸化アルミニウム、二酸化珪素、および酸化ジルコニウム等の金属酸化物を、ＭＩ　１ｍｏｌに対して０．５ｍｏｌ以下の量で、添加物として加えてもよい。
【００１６】
さらに、成膜材料にも、特に限定はなく、蛍光体層の組成に応じて、蛍光体を含有する材料、および、付活剤を含有する材料（付活剤単体を含む）を、適宜、選択すればよい。
【００１７】
真空チャンバ１２は、鉄、ステンレス、アルミニウム等で形成される、真空蒸着装置で利用される公知の真空チャンバ（ベルジャー、真空槽）である。
図示例において、真空チャンバ１２内には、上方に基板保持・回転機構１４が、また、下方に加熱蒸発部１６が配設される。なお、ここでは、加熱蒸発部１６が１組だけの場合を例示したが、加熱蒸発部１６は複数組設けてもよいことはいうまでもない。
【００１８】
前述のように、真空チャンバ１２には、図示しない真空ポンプが接続されている。真空ポンプにも特に限定はなく、必要な到達真空度を達成できるものであれば、真空蒸着装置で利用されている各種のものが利用可能である。一例として、油拡散ポンプ、クライオポンプ、ターボモレキュラーポンプ等を利用すればよく、また、補助として、クライオコイル等を併用してもよい。
なお、本実施形態に係る製造装置１０においては、真空チャンバ１２内の到達真空度は、６．７×１０−３Ｐａ以下、特に４．０×１０−４Ｐａ以下であることが好ましい。
【００１９】
上述の基板保持・回転機構１４は、基板Ｓを保持して回転するものであり、回転駆動源（モータ）１８ａと係合する回転軸１８と、ターンテーブル２０とから構成される。
ターンテーブル２０は、上側の本体２２と下側（加熱蒸発部１６側）のシースヒータ２４とからなる円板で、その中心に、モータ１８ａと係合する回転軸１８が固定される。ターンテーブル２０は、後述する加熱蒸発部１６（成膜材料の蒸発位置）に対応する所定位置において、下面（シースヒータ２４の下面）に基板Ｓを保持して、回転軸１８によって所定速度で回転される。シースヒータ２４は、成膜される基板Ｓを裏面（成膜面と逆側の面）から加熱する。
【００２０】
なお、ここで用い得る基板Ｓには、特に限定はなく、ガラス、セラミックス、カーボン、アルミニウム、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ポリイミド等、蛍光体シートにおいて利用されている各種のシート状の基板がすべて利用可能である。
【００２１】
真空チャンバ１２内の下方には、加熱蒸発部１６が配置される。
前述のように、図示例の製造装置１０は、臭化セシウム及び臭化ユーロピウムを成膜材料として用い、これらを個々に加熱蒸発させる二元の真空蒸着を行うものである。このため、加熱蒸発部１６は、ユーロピウム蒸発部（以下、Ｅｕ蒸発部とする。）３０と、セシウム蒸発部（以下、Ｃｓ蒸発部とする。）３２とを有する。
【００２２】
Ｅｕ蒸発部３０は、抵抗加熱装置３４によって、蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容した臭化ユーロピウム（付活剤材料）を、抵抗加熱して蒸発させる部位である。本発明において、付活剤材料を抵抗加熱して蒸発させるための抵抗加熱装置３４には、特に限定はなく、用いる付活剤材料に応じて、これを好適に蒸発できるものであれば、真空蒸着装置に利用されている各種のものが利用可能である。
【００２３】
具体的には、加熱装置（蒸発源）としては、ボートタイプ、フィラメントタイプ、クルーシブルタイプ、チムニータイプ、Ｋセル（クヌーセンセル）等の、抵抗加熱装置で用いられる各種の装置が利用可能である。また、電源（加熱制御手段）も、サイリスタ方式、ＤＣ方式、熱電対フィードバック方式等、抵抗加熱装置で用いられる各種の方式が利用可能である。
また、抵抗加熱を行う際の出力にも特に限定はなく、付活剤材料等に応じて適宜設定すればよいが、図示例においては、ヒータの抵抗値によっても異なるが、５０Ａ〜１０００Ａ程度とすればよい。
【００２４】
なお、前述のように、蛍光体シートの蛍光体層においては、層中の付活剤と蛍光体の濃度は、モル濃度比で０．０００５／１〜０．０１／１程度であり、蛍光体層の大部分は蛍光体である。
従って、図示例の製造装置１０においては、Ｅｕ蒸発部３０（付活剤材料の蒸発部）は材料供給手段を有していないが、本発明はこれに限定はされず、必要に応じて、Ｃｓ蒸発部３２（蛍光体材料の蒸発部）と同様に、材料供給手段を有していてもよい。
【００２５】
また、付活剤材料の加熱蒸発手段も、図示例のような抵抗加熱手段に限定はされず、電子線（エレクトロンビーム＝ＥＢ）加熱や誘導加熱等、真空蒸着で用いられている加熱蒸発手段が、各種利用可能である。
【００２６】
一方、Ｃｓ蒸発部３２は、（蛍光体材料の蒸発手段）は、ＥＢ加熱によって蛍光体材料である臭化セシウムを蒸発するものであり、電子銃３６と、材料供給手段３８とを有して構成される。
【００２７】
電子銃３６は、後述する材料供給手段３８の所定位置（ルツボ４０）にＥＢを照射することにより、臭化セシウムを加熱蒸発するものである。
本発明において、電子銃３６には、特に限定はなく、電子線を１８０°偏向して蒸発位置に入射する１８０°偏向銃、同２７０°偏向銃、９０°偏向直進銃等、真空蒸着において利用されている各種の電子銃が利用可能である。図示例においては、電子銃３６は、一例として、２７０°偏向銃を利用している。
また、電子銃３６のエミッション電流やＥＢの加速電圧にも限定はなく、成膜材料や成膜する膜厚に応じた十分なものであればよい。図示例においては、一例として、ＥＢの加速電圧は−１ｋＶ〜−３０ｋＶ、エミッション電流は５０ｍＡ〜２Ａとするのが好ましい。
【００２８】
なお、本発明において、臭化セシウム（蛍光体材料）の蒸発手段には、特に限定はなく、蛍光体が大部分を占めると共に、２００μｍを超える蛍光体層の成膜に対して、十分な成膜速度を得られるものであれば、電子線加熱以外にも、誘導加熱等、真空蒸着で利用されている各種の加熱蒸発手段が利用可能である。
【００２９】
一方、材料供給手段３８は、ルツボ４０と、ケーシング４２と、昇降手段４４と、ピストン４６とを有して構成される。
前述のように、蛍光体シートに成膜される蛍光体層は非常に厚く、薄くても２００μｍ、通常５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍを超える場合も有り、また、大部分が蛍光体である。これに対応して、図示例の蛍光体シート製造装置１０は、真空チャンバ１２を開放することなく成膜を終了できる好ましい態様として、臭化セシウムの供給手段を有する。
【００３０】
図示例において、ルツボ４０は、Ｃｓ蒸発部３２において所定の蒸発位置に蛍光体材料を収容するルツボ（ハース）であり、円筒状を有し、ケーシング４２によって真空チャンバ１２に気密状態で固定される。
ルツボ４０の形成材料には、特に限定は無く、十分な耐熱性を有し、かつ、加熱された成膜材料と反応しないものであれば、各種の材料が利用可能であり、図示例においては、一例として、モリブデン、タングステン、タンタル、プラチナ、アルミナ等が例示される。また、形状も円筒に限定はされない。
【００３１】
ピストン４６は、ルツボ４０の軸線方向に延在するロッド４６ａと、ロッド４６ａの先端（基板Ｓ側端）に固定される円盤状のヘッド４６ｂとから構成され、ロッド４６ｂは、ルツボ４０（真空チャンバ１２）内部の気密を保った状態で、軸線方向に移動可能にケーシング４２に軸支される。
また、昇降手段４４は、公知の方法で、ロッド４６ａすなわちヘッド４６ｂを昇降（ルツボ４０の軸線方向に移動）させるものである。
【００３２】
図示例において、臭化セシウムは、ルツボ４０の内径よりも若干小さい直径を有する円柱状に成形されたものが用いられる。なお、成形は、成膜材料に応じた公知の方法で行えばよい。
臭化セシウムは、ヘッド４６ｂに載置されるようにして、ルツボ４０に収容される。真空蒸着によって臭化セシウムが消費されると、昇降手段４４が駆動してピストン４６を上昇（基板Ｓ側に移動）し、臭化セシウムの上面を所定の蒸発位置に供給する。
【００３３】
なお、本発明においては、材料供給手段は図示例に限定はされず、真空蒸着装置等で用いられている材料供給手段が、各種、利用可能である。
また、利用される成膜材料は、図示例のように成形されたものに限定はされず、粉末状でも顆粒状でもよく、用いる加熱蒸発手段や材料供給手段に応じて、各種の形態が利用可能である。
【００３４】
前述のように、蛍光体シートでは、付活剤は蛍光体に対して極めて微量であり、蛍光体層の成分コントロールは重要である。ここで、本発明者らの検討によれば、付活剤を蛍光体中に均一に分散して添加（ドープ）した、厚さが２００μｍを超える高品質な蛍光体層を形成するためには、蛍光体の成膜材料と付活剤の成膜材料とで別々に蒸気を発生させて、両者を十分に混合した混合蒸気を生成し、この混合蒸気で基板に成膜を行うのが好ましい。
【００３５】
このためには、蛍光体材料と付活剤材料の蒸発位置を近接して配置するのが好ましく、両者の蒸発位置が近いほど、付活剤を均一に分散した、良質な蛍光体層を形成できる。しかも、両蒸発位置が近いほど、２つの蒸気の混合領域を多くできるので、材料の利用効率も向上できる。
【００３６】
さらに、本実施形態の製造装置１０においては、基板Ｓに付着せずに残った成膜材料を、付着し除去するために加熱蒸発部１６を囲む包囲手段が設置されている。
加熱蒸発部１６の包囲手段は、本実施形態においては、加熱蒸発部１６を囲むように、真空チャンバ１２の下方に配置された円筒状のチムニ５０と、その内側にはめ込まれた、チムニ５０よりわずかに小さい径を有する円筒状の包囲円筒５２によって構成される。
【００３７】
図２に、包囲手段の概略斜視図を示す。
チムニ５０は、その内部にＥｕ蒸発部３０とＣｓ蒸発部３２からなる加熱蒸発部１６を含み、真空チャンバ１２の底面に固定された円筒である。チムニ５０の高さは、図１に示すように、基板保持・回転機構１４に保持された基板Ｓの近くまで達している。これにより、蒸発した成膜材料（蒸発粒子）を基板Ｓに導くとともに、基板Ｓに付着されずに残った成膜材料が散逸せず確実に除去される。
チムニ５０の内部には、薄板の包囲円筒５２が、取り外し可能に嵌め込まれ、二重管となっている。包囲円筒５２は、その内表面に基板Ｓに付着せずに残った成膜材料を付着させるものであり、その材質は特に限定されるものではなく、例えばステンレス製の板等でよい。
【００３８】
また、チムニ５０の外側には、包囲円筒５２を冷却するためのクライオコイル５４が配設されている。クライオコイル５４は、公知の冷却手段であり、ＳＵＳあるいはＣｕ製のパイプ内を−５０℃から−１３０℃の冷却媒体を循環させ、包囲円筒５２を冷却するものである。
このように包囲円筒５２を極低温に冷却するのは、除去しようとしている蒸発粒子は低温の方へ付着する性質があるためである。また、このように極低温に冷却することにより、チムニ５０の外表面に、真空チャンバ１２内の水蒸気を付着させることができる。基板Ｓは水を嫌うため、蒸発粒子が飛散している空間（蒸発空間）内は、水をシャットアウトすることが好ましい。
なお、冷却手段は、クライオコイルに限定されるものではなく、各種冷却手段が適用可能である。
【００３９】
成膜材料を付着させた包囲円筒５２は、蛍光体シート作成後、チムニ５０から取り外し、真空チャンバ１２から取り出す。そして、溶媒（通常は、水）につけて付着した成膜材料を溶かして取り出すことができる。このようにして取り出された成膜材料は、そのまま廃棄してもよいし、再利用することもできる。
以下、本実施形態に係る製造装置における、蛍光体層の成膜手順を説明する。
【００４０】
前述のように、製造装置１０は、回転型の真空蒸着装置を利用するもので、蛍光体シートを製造する際には、まず、ガラス基板Ｓをターンテーブル２０下面の所定位置に成膜面を下方に向けて装着した後、真空チャンバ１２を閉塞して減圧すると共に、シースヒータ２４を駆動して、ガラス基板Ｓを裏面から加熱する。
【００４１】
真空チャンバ１２の内部が所定の真空度になったら、回転駆動源１８によってターンテーブル２０を所定速度で回転する。ガラス基板Ｓを所定速度で回転しつつ、加熱蒸発部１６において、Ｅｕ蒸発部３０の抵抗加熱装置３４を駆動して蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容された臭化ユーロピウムを蒸発させ、かつ、Ｃｓ蒸発部３２の電子銃４６を駆動して蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムを蒸発させて、ガラス基板ＳへのＣｓＢｒ：Ｅｕの蒸着すなわち蛍光体層の成膜を開始する。
【００４２】
なお、前述のように、両蒸発位置は近接して配置され、かつ、臭化ユーロピウムの蒸発は抵抗加熱で行われるので、加熱蒸発部１６では、極微量な臭化ユーロピウムの蒸気が均一に分散された、両成膜材料の混合蒸気が構成され、この混合蒸気によって、付活剤が均一に分散されたＣｓＢｒ：Ｅｕが蒸着される。
所定厚さの成膜を終了したら、ターンテーブル２０の回転を停止し、真空チャンバ１２を開放して、蛍光体層の成膜を終了したガラス基板Ｓを取り出す。連続的に成膜を行う際には、以下、上と同様にして、新たなガラス基板Ｓを装填して成膜を行えばよい。
【００４３】
ガラス基板Ｓを取り出した後、チムニ５０から包囲円筒５２を取り出す。前述したように、取り出した包囲円筒５２を溶媒（例えば水）につけて、成膜材料を溶かして取り出す。包囲円筒５２の取り外しは、ガラス基板Ｓを取り出す毎に毎回行ってもよいし、蛍光体シートを数枚作成する毎に行ってもよい。
【００４４】
また、上に述べた例では、二元の蒸着装置において、Ｅｕ蒸発部３０およびＣｓ蒸発部３２の両方を１つの包囲手段（チムニ５０）で囲んだが、本発明は、これに限定されるものではなく、図３に示すように、Ｅｕ蒸発部３０、Ｃｓ蒸発部３２を、それぞれを別々の包囲手段５０ａ、５０ｂで囲むようにしてもよい。
この場合、あまりチムニ５０ａ、５０ｂの高さを高くすると、蛍光体蒸気と付活剤蒸気の均一な混合を阻害する虞があるため、高さは混合を阻害しない程度にする必要がある。しかし、実際には、基板Ｓは、ターンテーブル２０によって所定速度で一定に回転されているため、それほどむらができる心配はない。
【００４５】
また、上に説明した例では、チムニの形状はいずれも円筒形であったが、これに限定されるものではなく、四角柱でもよいし、固定された外枠と取り外し可能な、成膜材料を付着する内枠とを有する構造であれば、他の形状でもよい。
なお、上記実施形態では、二元の蒸着装置であったが、本発明は二元に限定されるものではなく、一元でもよいし、さらに一般に多元の蒸着装置に対しても好適に適用可能である。
【００４６】
以上説明したように、本実施形態によれば、成膜材料の蒸発源を包囲手段（チムニ）で覆い、チムニの内側に成膜材料付着用の取り外し可能な薄い円筒を入れ、かつ、チムニの周囲をクライオコイルで巻いて冷却するようにしたため、効率良く余分な成膜材料を除去することができ、従来余分な成膜材料によって汚れていた真空チャンバ内を清浄に保つことができ、さらに無駄になっていた成膜材料を取り出して再利用するようにすれば、コストダウンを図ることが可能となる。
【００４７】
以上、本発明の蛍光体シート製造装置について詳細に説明したが、本発明は、以上の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのはもちろんである。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明した通り、本発明によれば、従来余分な成膜材料によって汚れていた真空チャンバ内を清浄に保つことができ、さらに無駄になっていた成膜材料を取り出して再利用することもできるようになり、コストダウンを図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る、蛍光体シート製造装置の一実施形態の概念図である。
【図２】本実施形態の蒸発手段の包囲手段を示す概略斜視図である。
【図３】本実施形態の蒸発手段の包囲手段の他の例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
１０　蛍光体シート製造装置（製造装置）
１２　真空チャンバ
１４　基板保持・回転機構
１６　加熱蒸発部（蒸発手段）
１８　回転軸
１８ａ　回転駆動源（モータ）
２０　ターンテーブル
２２　本体
２４　シースヒータ
３０　ユーロピウム蒸発部（Ｅｕ蒸発部）
３２　セシウム蒸発部（Ｃｓ蒸発部）
３４　抵抗加熱装置
３６　電子銃
３８　材料供給手段
４０　ルツボ
４２　ケーシング
４４　昇降手段
４６　ピストン
４６ａ　ロッド
４６ｂ　ヘッド
５０　チムニ
５２　包囲円筒
５４　クライオコイル
５０ａ、５０ｂ　包囲手段
Ｓ　ガラス基板（基板）
【図１】
2004077209.tif 000003
【図２】
2004077209.tif 000004
【図３】
2004077209.tif 000005