(57)【要約】【課題】所定の領域に粉体を均一に散布できる粉体散布装置とする。【解決手段】下部に粉体散布口３１を有する粉体室３０と、この粉体室３０内に粉体を供給する粉体供給部４０と、前記粉体室３０内に空気を供給して粉体を飛散・浮遊状態とする空気供給部５０を備え、粉体室３０内で飛散・浮遊している粉体の一部が自重で沈下して粉体散布口３１から落下散布するようにする。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉体散布装置において、
粉体散布口（３１）を有する粉体室（３０）と、
この粉体室（３０）に粉体を供給する粉体供給部（４０）と、
前記粉体室（３０）内で粉体が飛散・浮遊状態となるように粉体室（３０）内に空気を供給する空気供給部（５０）を備え、
粉体室（３０）内で飛散・浮遊している粉体が粉体散布口（３１）から散布されるように構成したことを特徴とする粉体散布装置。
【請求項２】
粉体散布口（３１）を幅狭で長尺とし、粉体室（３０）内において、粉体散布口（３１）の長手方向に沿った空気流が発生するようにした請求項１記載の粉体散布装置。
【請求項３】
粉体室（３０）の下部に粉体散布口（３１）が形成され、飛散・浮遊している粉体が自重で沈下して粉体散布口（３１）から落下散布されるようにした請求項１又は２記載の粉体散布装置。
【請求項４】
粉体供給部（４０）はスクリュー方式の粉体供給装置（４２）を備えている請求項１又は２又は３記載の粉体散布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ヘドロ処理剤、農薬、土質改良剤などの粉体を対象物に散布する粉体散布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図８（ａ）、（ｂ）に示すように、ポッパ１０の出口側にロータリ方式の粉体供給装置１１を設け、この粉体供給装置１１でホッパ１０内の粉体を定量的に落下することで粉体を対象物に散布することが行なわれている。
具体的には、前述の粉体供給装置１１は、ケーシング１２内に回転体１３を間欠的に１８０度ずつ回転自在に設け、この回転体１３の空孔１４を図９（ａ）に示すようにケーシング１２の上方の入口１５と対向させて粉体１６を空孔１４内に充填し、この状態から回転体１３を図９（ｂ）に示すように１８０度回転することで空孔１４がケーシング１２の下方の出口１７と対向し、その空孔１４内の粉体１６が出口１７から落下する。
【０００３】
別の例として、図９に示すように、ホッパの出口側（図示せず）にロータリ方式の粉体供給装置１を設け、この粉体供給装置１でホッパ内の粉体を定量的に落下させることで粉体を対象物に散布することが行なわれている。
具体的には、前述の粉体供給装置１は、数枚の羽根２を持った回転子３を円筒形のケーシング４内に回転自在に設けたもので、その回転子３が回転する際、ケーシング４の上の入口５から落下した粉体を羽根２の間に詰めて回転し、下の出口６から定量的に落下する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前述した図８、図９に示すようにロータリ方式の粉体供給装置１１，１を用いて粉体を対象物に散布する場合には、所定の領域に粉体を均一に散布することができない。特に、少量の粉体を均一に散布すること、及び広い領域に粉体を均一に散布することができない。
【０００５】
すなわち、図８に示す粉体供給装置１１の場合には、回転体１３が１回転することで、空孔１４に充填された粉体が出口１７から一度に落下するものであり、回転体１３が１回転する間に粉体の充填と散布が１度ずつ行われるものである。
また、図９に示す粉体供給装置１の場合には、６枚の羽根２を有するので、回転子３が１回転する間に粉体の充填と散布が６回ずつ行われるから、図８に示す粉体供給装置１１よりも粉体の均一散布性が向上するが、それでも羽根２間に詰った粉体が出口６から一度に落下するので、図８に示す粉体供給装置１１と同様に、一度に多量の粉体が対象物に供給され、その対象物の狭い領域に多量の粉体が散布されることになる。
しかも、図８、図９に示す場合には粉体が塊り又はだまになり易く、その塊り又はだまになったままの状態で対象物に散布されることもある。
また、少量の粉体を散布したい時など、粉体量の調整は回転体１３又は回転子３の回転速度を調整することになる。しかし、空孔１４、羽根２間に充填されている粉体は一度に落下するので、均一に散布することは困難である。
これらのことが相俟って所定の領域に粉体を均一に散布すること、特に少量の粉体を均一に散布することができない。
【０００６】
また、広い領域に粉体を散布するには図８、図９に示す粉体供給装置１１，１の回転体１３、出口１７、回転子３、出口６を軸方向に長くする必要があるが、このようにすると粉体供給装置１１，１全体が大型化するから、事実上散布できる領域には限度があり、広い領域に粉体を均一に散布することができない。
【０００７】
本発明、前述の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、所定の領域に粉体を均一に散布でき、特に、少量の粉体を均一に散布すること、及び広い領域に粉体を均一に散布することができる粉体散布装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段及び作用・効果】
第１の発明は、粉体散布装置において、粉体散布口３１を有する粉体室３０と、この粉体室３０に粉体を供給する粉体供給部４０と、前記粉体室３０内で粉体が飛散・浮遊状態となるように粉体室３０内に空気を供給する空気供給部５０を備え、
粉体室３０内で飛散・浮遊している粉体が粉体散布口３１から散布されるように構成したことを特徴とする粉体散布装置である。
【０００９】
第１の発明によれば、粉体室３０内で粉体が飛散・浮遊状態となるので、塊り又はだまの状態、もしくは、図８、図９に示す粉体供給装置により一度に粉体が供給された状態で粉体室３０内に供給された粉体は粉体室３０内でほぐされて粉体となる。
そして、浮遊している粉体が粉体散布口３１から散布される。
よって、粉体散布口３１を対象物の領域の大きさに応じた大きさとすることで、所定の領域に粉体を均一に散布できる。
【００１０】
また、粉体供給部４０の大きさを変えずに粉体散布口３１を大きくすることで、広い領域に粉体を均一に散布でき、粉体散布装置を大型とせずに広い領域に粉体を均一に散布できる。
【００１１】
第２の発明は、第１の発明において粉体散布口３１を幅狭で長尺とし、粉体室３０内において、粉体散布口３１の長手方向に沿った空気流が発生するようにした粉体散布装置である。
【００１２】
第２の発明によれば、粉体散布口３１が幅狭で長尺であるから、対象物の幅広い領域に粉体を散布できる。しかも粉体室３０内で浮遊している粉体の一部は粉体散布口３１に沿って移動するから、その粉体散布口３１の全長からほぼ均一の量の粉体が落下する。
よって、対象物の幅広い領域の全長に亘って粉体を均一に散布することができる。
【００１３】
第３の発明は、第１又は第２の発明において粉体室３０の下部に粉体散布口３１が形成され、飛散・浮遊している粉体が自重で沈下して粉体散布口３１から落下散布されるようにした粉体散布装置である。
【００１４】
第３の発明によれば、粉体室３０内で飛散・浮遊している粉体の一部が自重で沈下し粉体散布口３１から落下することで散布される。
よって、粉体散布口３１から単位時間に落下する粉体量を少なくすることができ、粉体散布装置と対象物を相対的に移動することで、所定の領域に少量の粉体を均一に散布することが可能である。
【００１５】
第４の発明は、第１又は第２又は第３の発明において、粉体供給部４０はスクリュー方式の粉体供給装置４２を備えている粉体散布装置である。
【００１６】
第４の発明によれば、スクリュー方式の粉体供給装置４２は粉体供給量を、スクリューの回転数を変えることにより連続的に高精度で微量に制御できるから、粉体室３０に供給する粉体量を連続的に高精度で微量に変化させることにより、粉体の散布量を連続的に高精度で微量に変えることができる。
よって、第１又は第２又は第３の発明とあいまって、少量の粉体量であっても均一に散布することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１は、ヘドロ処理設備の概略説明図で、ヘドロ（汚泥）２０をポンプ２１で吸い込んでホース２２を経て上面が開口した搬送路２３まで送る。この搬送路２３の上方に、本発明に係る粉体散布装置２４を設け、そのヘドロ２０にヘドロ処理剤を散布する。
このヘドロ処理剤を散布したヘドロ２０を処理槽２５で処理して土砂と浄化清水に分離して排出する。
【００１８】
前述の粉体散布装置２４は図２、図３、図４に示すように、粉体室３０と、この粉体室３０に粉体を供給する粉体供給部４０と、前記粉体室３０内で粉体が飛散・浮遊状態となるように粉体室３０内に空気を供給する空気供給部５０を備え、前記粉体室３０に粉体散布口３１が形成してある。
そして、粉体室３０内で飛散・浮遊している粉体の一部が粉体散布口３１から散布される。
【００１９】
よって、粉体散布口３１の全域から粉体が均一に散布されるから、粉体散布口３１を対象物の領域の大きさに応じた大きさとすることで、所定の領域に粉体を均一に散布できる。
この実施の形態では、粉体散布装置２４が固定で、対象物であるヘドロ２０が移動し、そのヘドロ２０の搬送路２３の上方に粉体散布口３１が位置し、その粉体散布口３１の幅を搬送路２５の幅と同一とすることで、搬送路２３に沿って流れるヘドロ２０の幅方向全域に粉体を均一に散布することができる。
これに限ることはなく、対象物に対して粉体散布装置２４を移動するようにしても良い。
例えば、粉体散布装置２４を自走式又はけん引走行式等として対象物に対して粉体散布装置２４を移動するようにする。
【００２０】
また、粉体供給部４０の大きさを変えずに粉体散布口３１を大きくすることで、広い領域に粉体を均一に散布できる。
よって、粉体散布装置を大型とせずに広い領域に粉体を均一に散布できる。
【００２１】
前記粉体散布口３１は粉体室３０の任意の位置に設けることができるが、粉体室３０の下部に設けることが好ましい。このようにすることで、粉体室３０内で飛散・浮遊している粉体の一部が自重で沈下し粉体散布口３１から落下することで散布される。
これにより、粉体散布口３１から単位時間に落下する粉体量を少なくすることができ、粉体散布装置と対象物を相対的に移動することで、所定の領域に少量の粉体を均一に散布することが可能である。
【００２２】
次に、各部の具体形状の一例を説明する。
前記粉体室３０は、相対的移動方向に対向した一対の第１側面板３２と相対的移動方向と直角方向に対向した一対の第２側面板３３と底面板３４で上面が開口した短形断面箱形状で、その底面板３４と第１側面板３２との間にスリット状の粉体散布口３１を形成している。
前記第１側面板３２は幅広く、第２側面板３３は幅狭で、粉体室３０は相対的移動方向には幅狭で、相対的移動方向と直角方向には幅広く、かつその幅方向全長に亘って幅狭で長尺な粉体散布口３１が形成してある。
前述の相対的移動方向とは、対象物と相対的に移動する方向である。例えば、対象物が移動する場合にはその対象物の移動方向で、粉体散布装置が移動する場合にはその粉体散布装置の移動方向である。
【００２３】
前記粉体散布口３１は、その大きさが調整可能で、散布する粉体量を調整できるようにしてある。
例えば、図５に示すように底面板３４を一側板３４ａと他側板３４ｂでほぼハ字形状とし、その底面板３４を上下動自在で、かつ第１・第２側面板３２，３３の下端面３２ａ，３３ａよりも下方に突出して設け、この底面板３４の一側板３４ａ、他側板３４ｂと各第１側面板３２の内面との間に隙間を形成し、その各隙間をそれぞれ粉体散布口３１とする。
第２側面板３３の上下長孔３３ｂからボルト３５を底面板３４の一側板３４ａと他側板３４ｂを連結するプレート３４ｃに固定し、そのボルト３５にナット３６を螺合する。このナット３６を弛めて上下長孔３３ｂに沿って上下に移動することで底面板３４が上下に移動し、前述の隙間の大きさが変化して粉体散布口３１の大きさが変わるようにする。
【００２４】
前記第１・第２側面板３２，３３の下部外面にガイド、例えばスリットを入れたゴムプレート３７が図６に示すように取付けてある。このゴムプレート３７は底面板３４よりも下方に突出している。
なお、図２、図３にはゴムプレート３７を図示していない。
このようにすることで、粉体散布口３１から散布された粉体が周囲に飛散することをゴムプレート３７で防止できる。
【００２５】
前記粉体供給部４０は、ホッパ４１内の粉体を粉体供給装置４２で粉体室３０内に定量的に供給するものである。
前記ホッパ４１の底面４３は相対的移動方向にほぼＶ字形状で、かつ相対的移動方向と直角方向に斜めで、その斜めの底面部分４３ａに沿ってスクリュー方式の粉体供給装置４２が取付けてある。
この粉体供給装置４２で粉体室３０の上部に粉体を落下供給する。
【００２６】
具体的には、前記ホッパ４１の斜めの底面部分４３ａは図２と図５に示すように断面円形の筒体４４で、その筒体４４にスクリュー４５を回転自在に設けると共に、その筒体４４に取付けたモータ４６の出力側をスクリュー４５に連結する。
前記筒体４４の下部上面側を切欠きして入口４７とし、上部下面側を切欠きして排出口４８とする。
これによって、スクリュー式の粉体供給装置４２とする。
【００２７】
モータ４６でスクリュー４５を回転することで、ホッパ４１の最も下部の粉体を上部まで搬送して粉体室３０の上部に落下供給することができる。
よって、ホッパ４１内の粉体を残すことなく全量を粉体室３０内に供給できる。
前記スクリュー式の粉体供給装置４２は、スクリュー４５の回転速度を変えることで供給量を連続的に高精度で微量に制御できるので、粉体室３０内に落下供給する粉体の量を連続的に高精度で微量に制御することによって、粉体散布口３１から散布する粉体の量を連続的に高精度で微量に変化させることができる。
また、スクリュー４５の回転速度を下げることで、少量の粉体であっても連続的に供給することができる。
【００２８】
すなわち、粉体散布口３１の大きさを一定とすれば、粉体室３０内に供給される粉体量で散布する粉体量が決まるので、前述のように散布する粉体の量を連続的に高精度に変化させることができる。
なお、スクリュー式の粉体供給装置４２の供給量を一定とし、粉体散布口３１の大きさを変えることでも粉体散布口３１から散布する粉体を変化させることができる。すなわち、図５に示すように底面板３４の上下動により第１側面板３２との隙間を変化（調節）させることになり、散布する粉体量に変化を与えることになる。
【００２９】
この実施の形態ではホッパ４１に加振機４９が取付けてあり、その加振機４９でホッパ４１を振動させるようにしてあるから、ホッパ４１内で粉体がブリッジ状となることがなく、ホッパ４１内の粉体は最も下部まで確実に移動する。
前記ホッパ４１は開閉自在な蓋４１ａを有する。
【００３０】
前記粉体室３０を形成する第１・第２側面板３２，３３は前述の筒体４４に固着され、その粉体室３０はスクリュー式の粉体供給装置４２の真下に位置する。
この粉体室３０とホッパ４１の相対的移動方向と直角方向の幅はほぼ同一、好ましくは同一で、粉体室３０の相対的移動方向の幅はホッパ４１の相対的移動方向の幅よりも狭い。
【００３１】
前記ホッパ４１が装置本体６０に取付けられる。
例えば、装置本体６０に防振ゴム６１を介してブラケット６２を取付け、このブラケット６２にホッパ４１に取付ける。
前記装置本体６０は、この実施の形態では前述の搬送路２３の搬送方向と直角方向両端部に固着した一対のフレーム材６３で、その各フレーム材６３に一対のブラケット６２が防振ゴム６１を介してそれぞれ取付けてあり、この各ブラケット６２がホッパ４１に固着して取付けられる。
【００３２】
前記空気供給部５０は、エアーノズル５１とブロアー５２を備え、このブロアー５２でエアーノズル５１から空気を粉体室３０に噴出する。
前記エアーノズル５１は粉体室３０を形成する一方の第２側面板３３に取付けられ、そのエアーノズル５１は水平で相対的移動方向と直角方向に向うと共に、ホッパ４１の底面部分の下方寄りに向けて空気を噴出し、粉体室３０内に矢印で示す渦流を発生させ、粉体散布口３１の長手方向に沿った空気の流れが発生するようにしてある。
このエアーノズル５１は、その吹き出し方向がほぼ水平方向になるように取付けられることが望ましい。この配置により粉体はエアーノズル５１の上方より供給されると共に、エアーの流れがスクリュー方式の粉体供給装置４２にぶるかるように吹き出し、効率良く粉体室３０内の渦流を作り出すことができる。
【００３３】
前記エアーノズル５１は出入り自在に取付けてある。
例えば、図７に示すように、第２側面板３３の穴５３に筒体５４が固着され、その筒体５４にナット５５が螺合していると共に、エアーノズル５１が挿通し、そのナット５５を締付けるとエアーノズル５１が筒体５４に固定され、ナット５５を弛めるとエアーノズル５１が筒体５４に沿ってスライド自在となる。
このようであるから、エアーノズル５１の粉体室３０内への突出量を調整して渦流の状態を変更できる。
【００３４】
前述した粉体供給装置４２は図８、図９に示すロータリ方式の粉体供給装置でも良い。
前記空気供給部５０は複数のノズルを、横向き、上向きとして取付けたもの等でも良い。
この粉体散布装置はヘドロ処理に限ることはなく、農薬の散布、土質改良剤の散布などにも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ヘドロ処理設備の概略説明図である。
【図２】粉体散布装置の一部破断正面図である。
【図３】粉体散布装置の側面図である。
【図４】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図５】図２のＢ−Ｂ拡大断面図である。
【図６】粉体室下部の斜視図である。
【図７】図２のＣ部拡大図である。
【図８】従来の粉体散布装置の断面図である。
【図９】異なる従来の粉体散布装置の断面図である。
【符号の説明】
３０…粉体室、３１…粉体散布口、４０…粉体供給部、４１…ホッパ、４２…粉体供給装置、５０…空気供給部、５１…エアーノズル、５２…ブロアー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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