(57)【要約】【解決手段】本発明にかかる有機ＥＬ素子の製造方法は、基板上に、対向する陽極と陰極と、これらの電極間に狭持された１層以上の有機化合物層とを備えてなる有機ＥＬ素子を、大気圧または大気圧近傍の圧力下で、酸素ガスの存在下、対向する電極間に放電することによりプラズマ状態とした酸素ガスに晒し、該有機ＥＬ素子の陰極表面を酸化して、該陰極表面に酸化皮膜を形成することを特徴としている。【効果】本発明によれば、長寿命の有機ＥＬ素子、すなわち経時による輝度の低下の少ない有機ＥＬ素子の製造方法を提供することができる。【選択図】　図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、対向する陽極と陰極と、これらの電極間に狭持された１層以上の有機化合物層とを備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子を、
大気圧または大気圧近傍の圧力下で、酸素ガスの存在下、対向する電極間に放電することによりプラズマ状態とした酸素ガスに晒し、
該有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極表面を酸化して、該陰極表面に酸化皮膜を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極が、第１３族金属元素を含んでなることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項３】
前記第１３族金属元素が、アルミニウムであることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項４】
前記対向する電極間に、１００ｋＨｚを越えた高周波電圧で、かつ、１Ｗ／ｃｍ２以上の電力を供給して放電させ、酸素ガスをプラズマ状態とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】
前記高周波電圧が連続したサイン波であることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、すなわち経時による輝度の低下の少ない有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関する。
【０００２】
【発明の技術的背景】
基板上に、対向する陽極と陰極と、これらの電極間に狭持された１層以上の有機化合物層とを備えた構造を有する有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子ともいう。）は、自己発光型デバイスであり、広視野角、高コントラスト、高速応答性などの利点を有することから、近年、実用化を含めた開発が盛んになっている。この有機ＥＬ素子においては、その発光原理が、陽極から注入された正孔と、陰極から注入された電子との再結合によるため、陽極には仕事関数の大きな（４ｅＶ以上）金属や合金などが用いられ、陰極には仕事関数の小さな（４ｅＶ未満）金属や合金などが用いられるのが一般的である。
【０００３】
しかしながら、前記陰極は仕事関数が小さいため、外気に含まれる酸素や水によって、酸化され易い。また電極間に狭持される発光層などの有機化合物層も、外気に含まれる酸素や水によって酸化され易く、有機ＥＬ素子全体として、経時による輝度の低下やダークスポットの発生などの劣化が生じるという耐久性の問題があった。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子の劣化を防止すべく、有機ＥＬ素子を外気から保護し、封止する保護膜を、有機ＥＬ素子の外表面、特に陰極上に設けることが行われている。従来、このような保護膜として、窒化シリコン、窒化アルミニウムなどの窒化物や二酸化ケイ素、酸化アルミニウムなどの酸化物からなる薄膜を真空蒸着、スパッタ、減圧プラズマＣＶＤなどにより設けたり、紫外線硬化型アクリル系樹脂や紫外線硬化型エポキシ樹脂などを塗布した後、紫外線硬化して重合膜を設けたりしていた。
【０００５】
しかしながら、有機ＥＬ素子を構成する前記有機化合物層は、機械的強度および熱的強度が低い上、溶剤によってもダメージを受けることから、基板を加熱する必要がある方法や溶剤を用いる塗布法などによる保護膜の形成は不適当である。
また、特開平４−２０６３８６号公報には、クロロトリフルオロエチレン重合体を蒸着法により成膜した保護膜を有する有機ＥＬ素子が開示されている。該保護膜を設けたことにより、有機ＥＬ素子の寿命をある程度延ばすことができるが、その効果はいまだ充分ではない。
【０００６】
本発明者らは、このような状況に鑑みて、鋭意検討した結果、基板上に、対向する陽極と陰極と、これらの電極間に狭持された１層以上の有機化合物層とを備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子を、
大気圧または大気圧近傍の圧力下で、酸素ガスの存在下、対向する電極間に放電することによりプラズマ状態とした酸素ガスに晒し、
該有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極表面を酸化して、該陰極表面に酸化皮膜を形成することにより、長期にわたって輝度の低下が生じない長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
【発明の目的】
本発明は、長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子、すなわち経時による輝度の低下の少ない有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的としている。
【０００８】
【発明の概要】
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、
基板上に、対向する陽極と陰極と、これらの電極間に狭持された１層以上の有機化合物層とを備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子を、
大気圧または大気圧近傍の圧力下で、酸素ガスの存在下、対向する電極間に放電することによりプラズマ状態とした酸素ガスに晒し、
該有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極表面を酸化して、該陰極表面に酸化皮膜を形成することを特徴としている。
【０００９】
本発明では、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極は、第１３族金属元素を含んでなることが好ましい。
前記第１３族金属元素はアルミニウムであることが好ましい。
本発明では、前記対向する電極間に、１００ｋＨｚを越えた高周波電圧で、かつ、１Ｗ／ｃｍ２以上の電力を供給して放電させ、酸素ガスをプラズマ状態とすることが好ましい。
【００１０】
さらに、前記高周波電圧は、連続したサイン波であることが好ましい。
【００１１】
【発明の具体的説明】
以下、本発明について具体的に説明する。
まず、本発明では、基板上に、対向する陽極と陰極と、これらの電極間に狭持された１層以上の有機化合物層（以下、有機ＥＬ層ともいう。）とを備えた有機ＥＬ素子を作製する。以下、該有機ＥＬ素子の作製方法について、各段階に分けて説明する。
＜基板＞
本発明に用いることができる基板としては、特に限定されないが、ガラス基板とプラスチック基板とが挙げられ、本発明においてはいずれを用いてもよい。なお、該基板としては、基板側からの酸素や水の侵入を阻止するため、ＪＩＳ　Ｚ−０２０８に準拠した試験において、その厚さが１μｍ以上で水蒸気透過率が１ｇ／ｍ２・１ａｔｍ・２４ｈｒ（２５℃）以下であるものが望ましい。
【００１２】
前記ガラス基板としては、具体的にはたとえば、無アルカリガラス、低アルカリガラス、ソーダライムガラスなどが挙げられる。これらのうち、水分の吸着が少ない点からは無アルカリガラスが好ましいが、充分に乾燥を行えばこれらのいずれを用いてもよい。
前記プラスチック基板は、可撓性が高く、軽量で割れにくいこと、有機ＥＬ素子のさらなる薄型化を可能にできることなどの理由で、近年注目されているところであるが、通常生産されているプラスチック基板は水分の透過性が比較的高く、内部に水分を含有している。したがって、このようなプラスチック基板を用いる際には、樹脂基材上に水蒸気を封止する膜（以下、水蒸気封止膜という。）を設けたものが好ましく挙げられる。
【００１３】
水蒸気封止膜を構成する材料としては、金属酸化物または窒化物が挙げられる。金属酸化物または窒化物としては酸化珪素、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、酸化アルミニウムなどの金属酸化物、窒化珪素などの金属窒化物、酸窒化珪素、酸窒化チタンなどの金属酸窒化物などが挙げられる。
【００１４】
前記樹脂基材としては、特に限定はなく、具体的には、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン類、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルまたはポリアリレート類などを挙げることができる。これらのうちでは、特にアートン（ＪＳＲ（株）製）あるいはアペル（三井化学（株）製）といったノルボルネン（またはシクロオレフィン系）樹脂が好ましい。
【００１５】
前記樹脂基材に、水蒸気封止膜を設ける方法は、特に限定されず、いかなる方法でもよいが、具体的にはたとえば、ゾルゲル法、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ法（化学的気相堆積）などが挙げられる。
これらのうち、緻密な膜を形成できる点から、大気圧あるいは大気圧近傍でのプラズマＣＶＤ処理による方法が好ましい。すなわち、有機金属化合物などを含有した反応性ガスを用い、対向する電極間でプラズマ状態とした反応性ガスに基材フィルムを晒すことで基材上に前記封止膜を形成する方法によれば、反応性ガスの選択およびプラズマ発生条件によって、膜の物性などを制御することができる。
【００１６】
なお、このような大気圧あるいは大気圧近傍でのプラズマＣＶＤ処理による水蒸気封止膜の作製には、後述する陰極の酸化の際に用いられる大気圧プラズマ処理装置を好ましく用いることができる。
＜陽極、有機化合物層（有機ＥＬ層）、陰極＞
前述したように本発明に用いられる有機ＥＬ素子は、前記基板上に、対向する陽極と陰極、これらの電極間に１層以上の有機化合物層（有機ＥＬ層）を挾持した構造を有している。
＜陽極の形成＞
前記有機ＥＬ素子の陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、金属の電気伝導性化合物あるいはこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。ここで、「金属の電気伝導性化合物」とは、金属と他の物質との化合物のうち電気伝導性を有するものをいい、具体的にはたとえば、金属の酸化物、ハロゲン化物などであって電気伝導性を有するものをいう。
【００１７】
このような電極物質の具体例としては、Ａｕなどの金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯなどの導電性透明材料が挙げられる。
上記陽極は、これらの電極物質からなる薄膜を、蒸着やスパッタリングなどの公知の方法により、前記基板上に形成させることで作製することができる。
【００１８】
また、この薄膜に、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、また、パターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。
陽極から発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましい。また、陽極としてのシート抵抗は、数百Ω／□以下が好ましい。
【００１９】
さらに陽極の膜厚は、構成する材料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
＜有機ＥＬ層の形成＞
前記有機化合物層（有機ＥＬ層）は、基板上に陽極を設けた後、該陽極上に設けることができる。前記有機化合物層には、少なくとも発光層が含まれるが、発光層とは、広義の意味では、陰極と陽極とからなる電極に電流を流した際に発光する層のことを指し、具体的には、陰極と陽極とからなる電極に電流を流した際に発光する有機化合物を含有する層のことを指す。
【００２０】
本発明に用いられる有機ＥＬ素子は、必要に応じ、発光層の他に、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層および電子輸送層を有していてもよく、これらの層が陰極と陽極とで狭持された構造をとる。
具体的には、
（ｉ）陽極／発光層／陰極
（ｉｉ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
（ｉｉｉ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
（ｉｖ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
（ｖ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｖｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
などの構造が挙げられる。
【００２１】
さらに、電子注入層と陰極との間に、陰極バッファー層（たとえば、フッ化リチウムなど）を挿入してもよく、陽極と正孔注入層との間に、陽極バッファー層（たとえば、銅フタロシアニンなど）を挿入してもよい。
（発光層）
上記発光層は、正孔や電子を輸送し、それらが再結合する場所を与える役割を果たす。
【００２２】
この発光層自体に、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層および電子輸送層などの機能を付与してもよい。
すなわち、発光層に（１）電界印加時に、陽極または正孔注入層により正孔を注入することができ、かつ陰極または電子注入層より電子を注入することができる注入機能、（２）注入した電荷（電子と正孔）を電界の力で移動させる輸送機能、（３）電子と正孔の再結合の場を発光層内部に提供し、これを発光につなげる発光機能のうちの少なくとも１つの機能を付与してもよい。
【００２３】
この場合は、発光層とは別に正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層および電子輸送層のうち、少なくとも１つは設ける必要がなくなる。
また、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層および電子輸送層などに発光する化合物を含有させることで、それらに発光層としての機能を付与してもよい。
なお、発光層は、正孔の注入されやすさと電子の注入されやすさに違いがあってもよく、また、正孔と電子の移動度で表される輸送機能に大小があってもよいが、少なくともどちらか一方の電荷を移動させる機能を有するものが好ましい。
【００２４】
この発光層に用いられる発光材料の種類については、特に制限はなく、従来、有機ＥＬ素子における発光材料として公知のものを用いることができる。
このような発光材料は、主に有機化合物であり、所望の色調により、たとえば、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．１２５巻１７頁から２６頁に記載の化合物が挙げられる。
【００２５】
また、発光材料は、ｐ−ポリフェニレンビニレンやポリフルオレンのような高分子材料でもよく、さらに前記発光材料を側鎖に導入した高分子材料や、または前記発光材料を高分子の主鎖とした高分子材料を使用してもよい。
なお、上述したように、発光材料は、発光性能の他に、正孔注入機能や電子注入機能を併せ持っていてもよいため、後述する正孔注入材料や電子注入材料のほとんどが発光材料としても使用できる。
【００２６】
さらに、発光層にドーパント（ゲスト物質）を併用してもよく、有機ＥＬ素子のドーパントとして使用される公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。
ドーパントの具体例としては、たとえばキナクリドン、ＤＣＭ、クマリン誘導体、ローダミン、ルブレン、デカシクレン、ピラゾリン誘導体、スクアリリウム誘導体、ユーロピウム錯体などがその代表例として挙げられる。また、イリジウム錯体、たとえば特開２００１−２４７８５９号公報に挙げられるもの、あるいはＷＯ００／７０６５５号公報１６〜１８ページに挙げられるような式で表されるたとえばトリス（２−フェニルピリジン）イリジウム［以下、Ｉｒ（ｐｐｙ）３と略す。］などやオスミウム錯体、あるいは２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン白金錯体のような白金錯体もドーパントとして挙げられる。
【００２７】
上記の材料を用いて、たとえば蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法などの公知の方法により薄膜化することにより、発光層を形成することができるが、形成された発光層は、特に分子堆積膜であることが好ましい。ここで、分子堆積膜とは、上記化合物の気相状態から沈着され形成された薄膜や、該化合物の溶融状態または液相状態から固体化され形成された膜のことである。通常、この分子堆積膜と、ＬＢ法により形成された薄膜（分子累積膜）とは、凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区別することができる。
【００２８】
この分子堆積膜からなる発光層は、具体的には、たとえば、特開昭５７−５１７８１号公報に記載されているように、樹脂などの結着材とともに上記発光材料を溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピンコート法などにより薄膜化して形成することができる。
このようにして形成された発光層の膜厚については、特に制限はなく、状況に応じて適宜選択することができるが、通常は５ｎｍ〜５μｍの範囲である。
【００２９】
＜正孔注入層および正孔輸送層＞
正孔注入層に用いられる正孔注入材料は、正孔の注入、電子の障壁性のいずれかを有するものである。また、正孔輸送層に用いられる正孔輸送材料は、電子の障壁性を有するとともに正孔を発光層まで輸送する働きを有するものである。
したがって、本明細書においては、正孔輸送層は正孔注入層に含まれる。
【００３０】
これら正孔注入材料および正孔輸送材料は、有機物、無機物のいずれであってもよい。具体的には、たとえばトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、ポルフィリン化合物、チオフェンオリゴマーなどの導電性高分子オリゴマーが挙げられる。
【００３１】
これらのうちでは、アリールアミン誘導体およびポルフィリン化合物が好ましい。アリールアミン誘導体の中では、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物が好ましく、芳香族第三級アミン化合物がより好ましい。
上記芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；　Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；　２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；　１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；　Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；　１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；　ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；　ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；　Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；　Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；　４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）ビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；　４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；　４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；　３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；　Ｎ−フェニルカルバゾール、さらには、米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、たとえば４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（以下、α−ＮＰＤと略す。）、特開平４−３０８６８８号に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）などが挙げられる。
【００３２】
また、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣなどの無機化合物も正孔注入材料として使用することができる。
正孔注入層および正孔輸送層は、上記正孔注入材料および正孔輸送材料を、たとえば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法などの公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。
【００３３】
正孔注入層および正孔輸送層の膜厚については、特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度である。
なお、上記正孔注入層および正孔輸送層は、それぞれ上記材料の１種または２種以上からなる１層構造であってもよく、同一組成または異種組成の複数層からなる積層構造であってもよい。また、正孔注入層と正孔輸送層を双方も受ける場合には、上記の材料のうち、通常、異なる材料を用いるが、同一の材料を用いてもよい。
【００３４】
＜電子注入層および電子輸送層＞
電子注入層は、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
この電子注入層に用いられる材料（以下、電子注入材料という）の例としては、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレンなどの複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体などが挙げられる。
【００３５】
また、特開昭５９−１９４３９３号公報に記載されている一連の電子伝達性化合物は、該公報では発光層を形成する材料として開示されているが、本発明者らが検討の結果、電子注入材料として用いうることが分かった。
さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子注入材料として用いることができる。
【００３６】
また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、たとえばトリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑと略す。）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）など、およびこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、ＧａまたはＰｂに置き替わった金属錯体も電子注入材料として用いることができる。
【００３７】
その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基などで置換されているものも電子注入材料として好ましく用いることができる。
また、正孔注入層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣなどの無機半導体も電子注入材料として用いることができる。
【００３８】
この電子注入層は、上記化合物を、たとえば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法などの公知の薄膜化法により成膜して形成することができる。電子注入層としての膜厚は特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍの範囲で選ばれる。この電子注入層は、これらの電子注入材料の１種または２種以上からなる１層構造であってもよいし、あるいは同一組成または異種組成の複数層からなる積層構造であってもよい。
【００３９】
なお、本明細書においては、前記電子注入層のうち、発光層と比較してイオン化エネルギーが大きい場合には、特に電子輸送層と呼ぶこととする。したがって、本明細書においては、電子輸送層は電子注入層に含まれる。
上記電子輸送層は、正孔阻止層（ホールブロック層）とも呼ばれ、その例としては、たとえば、ＷＯ００／７０６５５号公報、特開２００１−３１３１７８号公報、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、および「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日　エヌ・ティー・エス社発行）」の第２３７頁などに記載されているものが挙げられる。特に発光層にオルトメタル錯体系ドーパントを用いるいわゆる「リン光発光素子」においては、（ｖ）および（ｖｉ）のように電子輸送層（正孔阻止層）を有する構成を採ることが好ましい。
【００４０】
＜バッファー層＞
さらに、陽極と発光層または正孔注入層の間、および、陰極と発光層または電子注入層との間にはバッファー層（電極界面層）を存在させてもよい。
バッファー層とは、駆動電圧低下や発光効率向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日　エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（第１２３頁〜第１６６頁）に詳細に記載されており、陽極バッファー層と陰極バッファー層とがある。
【００４１】
陽極バッファー層は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報などにもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェンなどの導電性高分子を用いた高分子バッファー層などが挙げられる。
【００４２】
陰極バッファー層は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報などにもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウムなどに代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層などが挙げられる。
【００４３】
上記バッファー層はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるが、その膜厚は０．１〜１００ｎｍの範囲が好ましい。
さらに、上記基本構成層の他に、必要に応じてその他の機能を有する層を適宜積層してもよい。
＜陰極の形成＞
上述したように有機ＥＬ素子の陰極としては、一般に仕事関数の小さい（４ｅＶ未満）金属（電子注入性金属と称する）、合金、金属の電気伝導性化合物あるいはこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。
【００４４】
このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、マグネシウム、リチウム、アルミニウム、インジウム、希土類金属、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物などが挙げられる。
【００４５】
本発明においても、上記に列挙したものを陰極の電極物質として用いてもよいが、本発明の効果をより有効に発揮させる点からは、陰極は、第１３族金属元素を含有してなることが好ましい。
すなわち本発明では、後述するように、該陰極の表面をプラズマ状態の酸素ガスで酸化して、陰極表面に酸化皮膜を形成することにより、それ以上の陰極の酸化を防止し、陰極の耐久性を向上させることができる。
【００４６】
したがって、陰極の電極物質としては、陰極に要求される好ましい電子注入性を有する金属であって、緻密な酸化皮膜を形成しうる金属であることが好ましい。
前記第１３族金属元素を含有してなる陰極の電極物質としては、具体的には、たとえば、アルミニウム、インジウム、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物などが挙げられる。なお、上記混合物の各成分の混合比率は、有機ＥＬ素子の陰極として従来公知の比率を採用することができるが、特にこれに限定されない。
【００４７】
さらに、本発明では、前記第１３族金属元素としては、アルミニウムが好ましく挙げられる。したがって、上記に列挙した陰極の電極物質のうちでも、アルミニウムを含むものがより好ましく挙げられる。
上記陰極は、上記の電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法により、前記有機化合物層（有機ＥＬ層）上に薄膜形成することにより、作製することができる。
【００４８】
また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は、通常１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
なお、発光を透過させるために、有機ＥＬ素子の陽極または陰極のいずれか一方を透明または半透明にすると、発光効率が向上して好ましい。
＜陰極の酸化処理＞
さらに、本発明にかかる有機ＥＬ素子の製造方法においては、上記のようにして、作製した有機ＥＬ素子、すなわち、基板上に、対向する陽極と陰極と、これらの電極間に狭持された１層以上の有機化合物層とを備えてなる有機ＥＬ素子を、
大気圧または大気圧近傍の圧力下で、酸素ガスの存在下、対向する電極間に放電することによりプラズマ状態とした酸素ガスに晒し、
該有機ＥＬ素子の陰極表面を酸化して、該陰極表面に酸化皮膜を形成することを特徴としている。
【００４９】
以下に、前記陰極表面の酸化手段について説明する。
本発明では、前記陰極表面を酸化するにあたっては、大気圧または大気圧近傍の圧力下で、酸素ガスの存在下、対向する電極間に放電することによりプラズマ状態とした酸素ガスに前記陰極表面を晒すことが好ましい（以下、大気圧プラズマ処理ともいう。）。なお、ここで大気圧近傍とは、２０ｋＰａ〜１１０ｋＰａの圧力をいい、さらに好ましくは９３ｋＰａ〜１０４ｋＰａの圧力をいう。前記大気圧プラズマ処理によれば、基板温度を制御できることから、有機ＥＬ素子を損傷させることなく、陰極表面を酸化することができる。また、減圧にする必要もないことから、処理効率に優れるという利点を有する。
【００５０】
まず、前記大気圧プラズマ処理に用いることができる装置について、図を参照しながら説明する。
図１は、プラズマ処理装置に備えられるプラズマ放電処理室の１例である。このプラズマ放電処理室は、柔軟性のある長尺状の基材、たとえば基板としてプラスチック基板を用いて、これに陽極、有機化合物層、陰極を形成した長尺状の有機ＥＬ素子の陰極表面を酸化処理するのに適している。
【００５１】
図１のプラズマ放電処理室１０において、基材（上記構成の有機ＥＬ素子を示す、以下同じ。）Ｆは、搬送方向（図中、時計回り）に回転するロール電極２５に巻き回されながら搬送される。ロール電極２５の周囲に固定されている複数の固定電極２６はそれぞれ円筒から構成され、ロール電極２５に対向させて設置される。
【００５２】
プラズマ放電処理室１０を構成する放電容器１１はパイレックス（Ｒ）ガラス製の処理容器が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。たとえば、アルミニウムまたはステンレスのフレームの内面にポリイミド樹脂などを貼り付けてもよく、該金属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよい。
【００５３】
ロール電極２５に巻き回された基材Ｆは、ニップローラ１５、１６で押圧され、ガイドローラ２４で規制されて放電容器１１内部に確保された放電処理空間に搬送され、プラズマ放電処理され、次いで、ガイドローラ２７を介して次工程に搬送される。本発明では、真空系ではなくほぼ大気圧に近い圧力下で放電処理できることから、このような連続工程が可能となり、高い生産性をあげることができる。
【００５４】
なお、仕切板１４は前記ニップローラ１５、１６に近接して配置され基材Ｆに同伴する空気が放電容器１１内に進入するのを抑制する。この同伴される空気は、放電容器１１内の気体の全体積に対し、１体積％以下に抑えることが好ましく、０．１体積％以下に抑えることがより好ましい。前記ニップローラ１５および１６により、それを達成することが可能である。
【００５５】
なお、放電プラズマ処理に用いられる混合ガスは、給気口１２から放電容器１１に導入され、処理後のガスは排気口１３から排気される。
前記混合ガスは、反応性ガスである酸素ガスと、キャリアガスとなる不活性ガスとを混合したものであり、本発明では、前記反応性ガスとして酸素ガスを用い、混合ガス全量に対し、好ましくは０．０１〜１０体積％、より好ましくは０．１〜５体積％の量で含有させることが望ましい。
【００５６】
前記不活性ガスとしては、窒素および／または周期表の第１８属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドンなどが挙げられるが、本発明に記載の効果を得るためには、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられる。前記不活性ガスは、混合ガス全量に対し、好ましくは９９．９９〜９０体積％、より好ましくは９９．９〜９５体積％の量で含有させることが望ましい。
【００５７】
ロール電極２５はアース電極であり、印加電極である複数の固定電極２６との間で放電させ、当該電極間に前述したような反応性ガス（酸素ガス）を不活性ガスとともに混合ガスの形態で導入して、酸素ガスをプラズマ状態とし、前記ロール電極２５に巻き回しされた長尺フィルム状の基材（基板上に、陽極、有機化合物層、陰極を積層した積層体）上の陰極表面を前記プラズマ状態の酸素ガスに晒すことによって、該陰極表面を酸化して、酸化被膜を形成させる。
【００５８】
前記電極間には、高いプラズマ密度を得て処理速度を大きくし、また緻密な酸化皮膜を形成するため、１００ｋＨｚを越えた高周波電圧で、かつ、１Ｗ／ｃｍ２以上の電力を供給して放電させることが好ましい。具体的には、対向する電極間に印加する高周波電圧の周波数は、好ましくは２００ｋＨｚ以上、さらに好ましくは８００ｋＨｚ以上であり、１５０ＭＨｚ以下であることが望ましい。電圧は、０．５〜１０ｋＶ程度であることが望ましい。また、対向する電極間に供給する電力は、好ましくは１．２Ｗ／ｃｍ２以上であり、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２以下、さらに好ましくは２０Ｗ／ｃｍ２以下であることが望ましい。なお、ここで対向する電極における電圧の印加面積（／ｃｍ２）は、放電が起こる範囲の面積のことを指す。対向する電極間に印加する高周波電圧は、断続的なパルス波であっても、連続したサイン波であってもよいが、処理速度が大きくなる点からは、連続したサイン波であることが好ましい。
【００５９】
このような電極としては、金属母材上に誘電体を被覆したものが好ましく挙げられる。少なくとも固定電極２６とロール電極２５のいずれか一方に誘電体を被覆したもの、好ましくは、両方に誘電体を被覆したものが望ましい。誘電体としては、非誘電率が６〜４５の無機物が好ましく挙げられる。
電極２５、２６の一方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電を行う観点から，０．５ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、より好ましくは１ｍｍ±０．５ｍｍの範囲である。この電極間の距離は、電極周囲の誘電体の厚さ、印加電圧の大きさを考慮して決定される。
【００６０】
また、基材を電極間に載置あるいは電極間を搬送してプラズマに晒す場合には、基材を片方の電極に接して搬送できるロール電極仕様にするだけでなく、さらに誘電体表面を研磨仕上げし、電極の表面粗さＲｍａｘ（ＪＩＳ　Ｂ　０６０１）を１０μｍ以下にすることで誘電体の厚みおよび電極間のギャップを一定に保つことができ放電状態を安定化できる。さらに、誘電体の熱収縮差や残留応力による歪みやひび割れをなくし、かつ、ノンポーラスな高精度の無機誘電体を被覆することで大きく耐久性を向上させることができる。
【００６１】
また、金属母材に対する誘電体被覆による電極製作において、前記のように、誘電体を研磨仕上げすることや、電極の金属母材と誘電体間の熱膨張の差をなるべく小さくすることが必要であるので、母材表面に、応力を吸収できる層として泡混入量をコントロールして無機質の材料をライニングすることが好ましい。特に材質としては琺瑯などで知られる溶融法により得られるガラスであることがよく、さらに導電性金属母材に接する最下層の泡混入量を２０〜３０体積％とし、次層以降を５体積％以下とすることで、緻密かつひび割れなどの発生しない良好な電極を得ることができる。
【００６２】
また、電極の母材に誘電体を被覆する別の方法として、セラミックスの溶射を空隙率１０体積％以下まで緻密に行い、さらにゾルゲル反応により硬化する無機質の材料を用いて封孔処理を行うことがあげられる。ここでゾルゲル反応の促進には、熱硬化やＵＶ硬化が好ましく、さらに封孔液を希釈し、コーティングと硬化を逐次で数回繰り返すと、より一層無機質化が向上し、劣化のない緻密な電極を得ることができる。
【００６３】
図２（ａ）および図２（ｂ）はロール電極２５の一例としてロール電極２５ｃ、２５Ｃを示したものである。
アース電極であるロール電極２５ｃは、図２（ａ）に示すように、金属などの導電性母材２５ａに対し、セラミックスを溶射後、無機材料を用いて封孔処理したセラミック被覆処理誘電体２５ｂを被覆した組み合わせで構成されているものである。セラミック被覆処理誘電体を１ｍｍ被覆し、ロール径を被覆後２００φとなるように製作し、アースに接地する。溶射に用いるセラミックス材としては、アルミナ・窒化珪素などが好ましく用いられるが、この中でもアルミナが加工しやすいので、さらに好ましく用いられる。
【００６４】
あるいは、図２（ｂ）に示すロール電極２５Ｃのように、金属などの導電性母材２５Ａへライニングにより無機材料を設けたライニング処理誘電体２５Ｂを被覆した組み合わせから構成してもよい。ライニング材としては、珪酸塩系ガラス、硼酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩系ガラス、バナジン酸塩ガラスが好ましく用いられるが、この中でもホウ酸塩系ガラスが加工しやすいので、さらに好ましく用いられる。
【００６５】
金属などの導電性母材２５ａ、２５Ａとしては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄などの金属などが挙げられるが、加工の観点からステンレスが好ましい。
また、なお、図示しないが、実施の形態によっては、ロール電極の母材は冷却水による冷却手段を有するステンレス製ジャケットロール母材を使用することができる。
【００６６】
さらに、ロール電極２５ｃ、２５Ｃ（ロール電極２５も同様）は、図示しないドライブ機構により軸部２５ｄ、２５Ｄを中心として回転駆動されるように構成されている。
図３（ａ）は固定電極２６の概略斜視図である。なお、固定電極は、円筒形状に限らず、図３（ｂ）の固定電極３６のような角柱型でもよい。円柱型の電極２６に比べて、角柱型の電極は放電範囲を広げる効果があるので、好ましく用いられる。
【００６７】
また、固定電極２および３６のいずれであっても上記記載のロール電極２５ｃ、ロール電極２５Ｃと同様な構造を有する。すなわち、中空のステンレスパイプ２６ａ、３６ａの周囲を、ロール電極２５（２５ｃ、２５Ｃ）と同様に、誘電体２６ｂ、３６ｂで被覆し、放電中は冷却水による冷却が行えるようになっている。誘電体２６ｂ、３６ｂは、セラミック被覆処理誘電体およびライニング処理誘電体のいずれでもよい。
【００６８】
なお、固定電極は誘電体の被覆後１２φまたは１５φとなるように製作され、当該電極の数は、たとえば上記ロール電極の円周上に沿って１４本である。
図４は、プラズマ処理装置に備えられるプラズマ放電処理室の別の１例である。図４中、プラズマ放電処理室３０は、図３（ｂ）の角型の固定電極３６をロール電極２５の周りに配設した構造を有する。なお、図４において、図１と同じ部材については同符号を付して説明を省略する。
【００６９】
図５に、図４のプラズマ放電処理室３０が備えられたプラズマ処理装置の例を示す。図５のプラズマ処理装置５０においては、プラズマ放電処理室３０の他に、ガス発生装置５１、電源４１、電極冷却ユニット５５などが配置されている。電極冷却ユニット５５は、冷却剤の入ったタンク５７とポンプ５６とからなる。冷却剤としては、蒸留水、油などの絶縁性材料が用いられる。
【００７０】
図５のプラズマ放電処理室３０内の電極間のギャップは、たとえば１ｍｍ程度に設定される。このようなプラズマ放電処理室３０内にロール電極２５、固定電極３６を所定位置に配置し、ガス発生装置５１で発生させた混合ガスを流量制御して、給気口１２より供給し、放電容器１１内をプラズマ処理に用いる前述した混合ガスで充填し、不要分については排気口より排気する。
【００７１】
次に電源４１により固定電極３６に電圧を印加し、ロール電極２５はアースに接地し、放電プラズマを発生させる。ここでロール状の元巻き基材ＦＦからロール５４を介して基材が供給され、ガイドロール２４を介して、プラズマ放電処理室３０内の電極間をロール電極２５に片面接触した状態で搬送される。このとき放電プラズマにより基材Ｆの表面（陰極表面）が酸化処理され、その後にガイドロール２７を介して次工程に搬送される。ここで、基材Ｆはロール電極２５に接触していない面のみ放電処理（酸化処理）がなされる。
【００７２】
また、放電時の高温による悪影響、たとえば基材である有機ＥＬ素子の損傷を防止するため、基材の温度を常温（１５℃〜２５℃）〜２００℃未満、さらに好ましくは常温〜１００℃内で抑えられるように必要に応じて電極冷却ユニット５５で冷却する。
図６は、本発明に用いることができるプラズマ処理装置の別の一例を示す。このプラズマ処理装置６０は、図１および図４などの電極間には載置できないような性状を有する基材６１、たとえば柔軟性および屈曲性に乏しい基材や厚みのある基材、具体的には基板としてガラスを用いて、該基板上に陽極、有機化合物層、陰極を形成した有機ＥＬ素子を基材として使用して、その陰極表面を酸化し、酸化被膜を形成する場合に特に適している。すなわち、予めプラズマ状態にした反応性ガス（酸素ガス）を基材（上記構成の有機ＥＬ素子を示す。以下同じ。）上に噴射して、基材上の陰極表面を酸化して、酸化皮膜を形成するためのものである。
【００７３】
図６のプラズマ成膜装置において、３５ａは誘電体、３５ｂは金属などの導電性母材、６５は電源である。金属などの導電性母材３５ｂに誘電体３５ａを被覆したスリット状の放電空間に、上部から不活性ガスおよび反応性ガスからなる混合ガスを導入し、電源６５により高周波電圧を印加することにより反応性ガス（酸素ガス）をプラズマ状態とし、該プラズマ状態の酸素ガスを基材６１上に噴射することにより基材６１の陰極表面を酸化して酸化皮膜を形成する。なお、金属などの導電性母材および誘電体としては、上述したものを用いることができる。
【００７４】
図５の電源４１、図６の電源６５などのプラズマ処理装置の電源としては、特に限定されないが、ハイデン研究所製インパルス高周波電源（連続モードで使用１００ｋＨｚ）、パール工業製高周波電源（２００ｋＨｚ）、パール工業製高周波電源（８００ｋＨｚ）、日本電子製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ）、パール工業製高周波電源（１５０ＭＨｚ）などを使用することができる。
【００７５】
このようなプラズマ処理装置を用いて、前述した酸素ガスの存在下で、大気圧プラズマ処理することにより、有機ＥＬ素子の陰極表面を酸化して、該陰極表面に酸化皮膜を有する本発明にかかる有機ＥＬ素子を作製することができる。
前記酸化皮膜の膜厚は、プラズマ放電処理の時間を増やしたり、処理回数を重ねたりすることによって調整することができるが、酸化の進行を阻止する点からは、酸化皮膜の膜厚は、好ましくは２０ｎｍ〜１０００ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜７００ｎｍであることが望ましい。
【００７６】
（保護膜の形成）
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子には、さらに重合体膜からなる保護膜を設けてもよい。該保護膜を設けることにより、外気由来の酸素や水をより有効に封止できるため、素子の劣化を防止して、素子の長寿命化を図ることができる。
前記保護膜は、陰極表面に酸化被膜を設けた有機ＥＬ素子の該陰極表面に設けることが好ましく、前記保護膜としては、特に限定されず、保護膜を形成する材料として公知のものが挙げられるが、具体的にはたとえば、特開平４−２０６３８６号公報に記載のクロロトリフルオロエチレン重合体を蒸着法により成膜した保護膜などであってもよい。このように保護膜が重合膜からなる場合には、無機物からなる従来の保護膜に比べて柔軟であり、素子全体について可撓性が要求される場合、たとえば基板としてプラスチック基板を用いた素子などに好適に用いることができる。
【００７７】
上記のようにして作製した本発明にかかる有機ＥＬ素子の好ましい一形態を図７および図８に示す。図７中、７１は基板であり、７２は陽極、７３は有機化合物層（有機ＥＬ層）、７４は陰極、７５は陰極を酸化して形成させた酸化皮膜であり、７８は保護膜である。なお、図８は、図７に示した構造の有機ＥＬ素子の上面図である。
【００７８】
【実施例】
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００７９】
【実施例１】有機ＥＬ素子Ａの作製
以下、本発明にかかる有機ＥＬ素子の作製方法について、図６〜１０を参照して説明する。
まず、図７の基板７１としてガラスを用い、該ガラス上に陽極７２としてＩＴＯを１５０ｎｍの厚みで成膜したもの（ＮＨテクノグラス社製：ＮＡ−４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をｉ−プロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。次に、この透明支持基板に穴あきマスクを固定し、真空蒸着法により、有機化合物層（有機ＥＬ層）７３としてα−ＮＰＤ層（正孔輸送層、膜厚２５ｎｍ）、ＣＢＰ（４，４′−Ｎ，Ｎ′−ジカルバゾール−ビフェニル）とＩｒ（ｐｐｙ）３の蒸着速度の比が１００：６の共蒸着層（発光層、膜厚３５ｎｍ）、ＢＣ（バトクプロイン）層（電子輸送層、膜厚１０ｎｍ）、Ａｌｑ３層（電子輸送層、膜厚４０ｎｍ）、フッ化リチウム層（陰極バッファー層、膜厚０．５ｎｍ）を順次積層した。さらにマスクを長方形穴あきマスクに替えアルミニウムを蒸着し、膜厚１５０ｎｍの陰極７４を形成した。
【００８０】
次に上記構成の積層体を設けた基板（有機ＥＬ素子）上に、図６のプラズマ発生装置を用い、電源として日本電子（株）製高周波電源ＪＲＦ−１００００にて周波数１３．５６ＭＨｚ、かつ５Ｗ／ｃｍ２の電力を供給し、下記の組成の混合ガスを対向する電極間に導入してプラズマを発生させ、上記陽極７２、有機ＥＬ層７３および陰極７４を積層したガラス基板６１上に図９のマスク７６を固定し、この積層体を有するガラス基板６１を図６に示すように移動させて、陰極７４の表面をプラズマ状にした酸素ガスに晒し、該陰極７４の表面に酸化皮膜７５を形成した。
【００８１】
＜混合ガス組成＞
不活性ガス：アルゴン　９９体積％
反応性ガス：酸素　　　　１．０体積％
次に、真空蒸着器（ＶＰＣ−１１００、アルバック機工（株）製）内のタングステン製のバスケット抵抗加熱体に、蒸着源として市販のクロロトリフルオロエチレン単独重合体（商品名：Ｋｅｌ−Ｆ、３Ｍ社製、分子量１０００００）を入れたアルミナ製坩堝を入れ、このアルミナ製坩堝の上に１２μｍφのステンレス製メッシュをかぶせた。また、陽極７２、有機ＥＬ層７３および酸化処理を行った陰極７４を有するガラス基板７１上に図１０のマスク７７を固定し、タングステン製のバスケット抵抗加熱体の上方にシャッターを介して配置した。
【００８２】
その後、この真空蒸着器の真空槽内を１×１０−４Ｐａまで減圧し、タングステン製のバスケット抵抗加熱体に通電して蒸着源を４７８℃に加熱して、上記積層構造を有する有機ＥＬ素子の外表面に０．５ｎｍ／秒の蒸着速度で、膜厚１．２μｍのクロロトリフルオロエチレン単独重合体を成膜して、保護膜７８を設け、本発明の有機ＥＬ素子Ａを得た。
【００８３】
【比較例１】有機ＥＬ素子Ｂの作製
プラズマに晒す工程を行わない他は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子Ｂを得た。
【００８４】
【試験例１】評価
上記のようにして得られた有機ＥＬ素子ＡおよびＢの封入直後と、８０℃、５００時間保存後の９Ｖ印加時の輝度を測定し、有機ＥＬ素子Ａの封入直後の輝度を１００として、その変化を相対評価した。輝度の測定には、ミノルタ製ＣＳ−１０００を使用した。結果を表１に示す。
【００８５】
【表１】
2004087321.tif 000003
【００８６】
表１から本発明の有機ＥＬ素子Ａは、比較例の有機ＥＬ素子Ｂに比べ、輝度の変化が少なく、寿命が長いことが明らかである。これは、本発明の有機ＥＬ素子Ａは陰極の表面に酸化皮膜を有しているため、経時後も陰極の変質が少ないためと考えられる。
【００８７】
【発明の効果】
本発明によれば、長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子、すなわち経時による輝度の低下の少ない有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】プラズマ放電処理室の一例を示す概略図である。
【図２】ロール電極の一例を示す概略図である。
【図３】固定電極の概略斜視図である。
【図４】角型の固定電極をロール電極２５の周りに配設したプラズマ放電処理室の一例を示す概略図である。
【図５】プラズマ放電処理室が設けられたプラズマ処理装置の一例を示す概略図である。
【図６】プラズマ処理装置の一例を示す概略図である。
【図７】本発明にかかる有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
【図８】本発明にかかる有機ＥＬ素子の一例を示す上面図である。
【図９】本発明にかかる有機ＥＬ素子の陰極のプラズマ処理に用いられるマスクの上面図である。
【図１０】保護膜成膜用マスクの上面図である。
【符号の説明】
ＦＦ　元巻き基材
Ｆ、６１、１０７　陽極、有機ＥＬ層、陰極を備えた基材
１０、３０　プラズマ放電処理室
１２　給気口
１３　排気口
１５、１６　ニップローラ
２４、２７　ガイドローラ
２５、２５ｃ、２５Ｃ　ロール電極
２６、２６ｃ、２６Ｃ、３６、３６ｃ、３６Ｃ　電極
２５ａ、２５Ａ、２６ａ、３６ａ　金属などの導電性母材
２５ｂ、２６ｂ、３６ｂ　セラミック被覆処理誘電体
２５Ｂ　ライニング処理誘電体
４１、６５　電源
５１　ガス発生装置
５５　電極冷却ユニット
７１　基板
７２　陽極
７３　有機化合物層（有機ＥＬ層）
７４　陰極
７５　酸化皮膜
７６　プラズマ処理用マスク
７７　保護膜成膜用マスク
７８　保護膜
【図１】
2004087321.tif 000004
【図２】
2004087321.tif 000005
【図３】
2004087321.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004087321.tif 000010
【図８】
2004087321.tif 000011
【図９】
2004087321.tif 000012
【図１０】
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