(57)【要約】【課題】液晶化合物製複屈折層と、別の複屈折層を含む複屈折性フィルムであって、より薄いフィルムを、より少ない工程で製造できる製造方法を提供する。【解決手段】配向処理された非液晶性ポリマー製複屈折層を、液晶化合物のための配向層として用いる製造方法である。この製造方法によれば、別途配向層を準備する工程が省略され、かつ別の配向層が不要なので、全体の複屈折性フィルムの厚みを薄くすることができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非液晶性ポリマー製複屈折層の上に、配向した液晶化合物製複屈折層が形成される複屈折性フィルムの製造方法であって、
前記非液晶性ポリマー製複屈折層が、配向処理された層であり、
この配向により、前記液晶化合物製複屈折層が、その形成の際に配向処理される複屈折性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記非液晶性ポリマー製複屈折層が、非液晶性ポリマーフィルムの、延伸処理、収縮処理およびラビング処理からなる群から選択される１以上の処理により配向処理された層である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記非液晶性ポリマーが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドからなる群から選択される１以上のポリマーである請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記非液晶性ポリマー製複屈折層の厚みが、１μｍ以上２０μｍ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記非液晶性ポリマー製複屈折層が、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を示す請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
前記ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記非液晶性ポリマー製複屈折層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記非液晶性ポリマー製複屈折層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。
【請求項６】
前記非液晶性ポリマー製複屈折層が、下記の式（Ｉ）および（ＩＩ）に示す条件を満たす請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
０（ｎｍ）≦Ｒｅ≦２００（ｎｍ）        （Ｉ）
４０（ｎｍ）≦Ｒｚ≦８００（ｎｍ）        （ＩＩ）
前記式（Ｉ）および（ＩＩ）において、
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ
Ｒｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）・ｄであり、
前記ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記非液晶性ポリマー製複屈折層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記非液晶性ポリマー製複屈折層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄは前記非液晶性ポリマー製複屈折層の厚みを示す。
【請求項７】
前記液晶化合物製複屈折層の形成が、
前記配向処理をした非液晶性ポリマー製複屈折層の上に、液晶化合物溶液を塗工することにより行われる請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】
前記液晶化合物製複屈折層の形成が、配向した液晶化合物の固定化により行われる請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項９】
前記液晶化合物が、液晶ポリマー、光重合性液晶モノマーおよび熱重合性液晶モノマーからなる群から選択される１以上の液晶化合物を含む請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１０】
前記液晶ポリマーが、ネマチック液晶、ディスコチック液晶、またはコレステリック液晶である請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記液晶化合物の配向が、水平配向、垂直配向、ツイスト配向、ハイブリッド配向、ホメオトロピック配向、ホモジニアス配向、ティルト配向またはフォーカルコニック配向である請求項１〜１０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１２】
前記液晶化合物製複屈折層が、
平面に平行な方向にあるか、平面に垂直な方向にあるか、または平面に垂直な方向から傾いている光学軸を有する請求項１〜１１のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の製造方法により製造された複屈折性フィルム。
【請求項１４】
非液晶性ポリマー製複屈折層の上に、配向した液晶化合物製複屈折層が直接形成された、
非液晶性ポリマー製複屈折層と、液晶化合物製複屈折層とを含む複屈折性フィルムであって、
非液晶性ポリマー製複屈折層が、下記の式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）に示す条件を満たす複屈折性フィルム。
０（ｎｍ）≦Ｒｅ≦２００（ｎｍ）        （ＩＩＩ）
４０（ｎｍ）≦Ｒｚ≦８００（ｎｍ）        （ＩＶ）
前記式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）において、
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ
Ｒｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）・ｄであり、
ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記非液晶性ポリマー製複屈折層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記非液晶性ポリマー製複屈折層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄは前記非液晶性ポリマー製複屈折層の厚みを示す。
【請求項１５】
複屈折性フィルムを含む光学補償層付き偏光板であって、前記複屈折性フィルムが請求項１３または１４に記載の複屈折性フィルムである光学補償層付き偏光板。
【請求項１６】
液晶セルおよび光学部材を含み、前記液晶セルの少なくとも一方の表面に前記光学部材が配置された液晶パネルであって、前記光学部材が、請求項１３もしくは１４に記載の複屈折性フィルムまたは請求項１５に記載の光学補償層付き偏光板である液晶パネル。
【請求項１７】
液晶パネルを含む液晶表示装置であって、前記液晶パネルが請求項１６に記載の液晶パネルである液晶表示装置。
【請求項１８】
請求項１３もしくは１４に記載の複屈折性フィルムまたは請求項１５に記載の光学補償層付き偏光板を含むことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複屈折性フィルムの製造方法に関する。詳細には、非液晶性ポリマー製複屈折層と、液晶化合物製複屈折層とを含む複屈折性フィルムの製造方法である。
【０００２】
【従来の技術】
液晶化合物を含む複屈折性フィルムを製造するためには、液晶化合物を配向させ、その配向状態を固定化する必要がある。液晶化合物を配向させるためには、従来、配向膜を準備し、配向膜上に液晶化合物を塗工する必要があった。そのような配向膜としては、通常、ポリイミドやポリビニルアルコールの薄膜をラビング布で擦ったラビング膜、光二量化ポリマーの膜に偏光を照射して形成した光配向膜（例えば、特許文献１参照）、ポリエステルフィルムなどを延伸した延伸ポリマーフィルム（例えば、特許文献２参照）などが知られている。また、そのような配向膜上に形成した液晶化合物の複屈折性フィルムに、光学補償を向上させるために、さらに別の複屈折性フィルムを積層させることもあった。そのような別の複屈折性フィルムとしては、非液晶性ポリマーから形成されるものなどが知られている（例えば、特許文献３参照）。
【０００３】
しかし、配向膜上に形成した液晶化合物の複屈折性フィルム上に、さらに別の複屈折性フィルムを積層させると、全体の厚みが厚くなるという問題があった。また、配向膜（または配向基板）を準備する必要があるため、全体の製造工程数も増加するという問題があった。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−９５０６６号公報
【特許文献２】
特開平３−９３２５号公報
【特許文献３】
特開２０００−１９０３８５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、複屈折性フィルム全体の厚みが薄く、全体の製造工程数も少ない、複屈折性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、非液晶性ポリマー製複屈折層の上に、配向した液晶化合物製複屈折層が形成される複屈折性フィルムの製造方法であって、
前記非液晶性ポリマー製複屈折層が、配向処理された層であり、
この配向により、前記液晶化合物製複屈折層が、その形成の際に配向処理される複屈折性フィルムの製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法によれば、非液晶性ポリマー製複屈折層が、配向処理されているため、この非液晶性ポリマー製複屈折層上に塗工される液晶化合物を配向できるのはもちろんのこと、前記非液晶性ポリマー製複屈折層は複屈折性を有するため、実用に際して、更なる光学補償を実現することもできる。つまり、従来技術によれば、前述のように、液晶化合物を配向させるためには配向膜が必要であり、一方では、光学補償能を向上させるために別途複屈折性フィルムを必要としていたため、得られるフィルムの全体の厚みが厚くなっていた。しかし、本発明の製造方法により得られたフィルムは、非液晶性ポリマー製複屈折層が配向膜の役割と光学補償の両方を兼ねるため、必然的に得られるフィルムの全体の厚みを薄くできるのである。
また、非液晶性ポリマー製複屈折層のみで、配向膜の役割と光学補償の役割を果たすため、従来の製造方法よりも製造工程を減らすことができる。
【０００８】
本発明の製造方法で用いる非液晶性ポリマー製複屈折層は、例えば、非液晶性ポリマーフィルムを、配向処理して形成することができる。非液晶性ポリマーフィルムは、例えば、以下のようにして準備することができる。非液晶性ポリマーフィルムは、市販で入手可能なものを購入してもよいし、基材の表面に非液晶性ポリマーの溶液または溶融液を塗工し、固化させることにより形成してもよい。例えば、基材の表面に非液晶性ポリマーを塗工して、固化させることによる、非液晶性ポリマーフィルムの準備方法を説明する。
まず、基材の表面に、非液晶性ポリマーを塗工することにより塗工層を形成する。
【０００９】
前記非液晶性ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、負の配向複屈折性（ポリマーフィルムを延伸した際に、延伸方向の屈折率が小さくなる性質）を示すポリマー、特にポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。前記非液晶性ポリマーとしては、光透過率が優れるのもが好ましく、光透過率としては、例えば７５％以上、好ましくは８５％以上である。
このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
【００１０】
前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。なお、重量平均分子量は、ポリエチレンオキサイドを標準試料とし、ジメチルホルムアミド溶媒を使用してゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した値である。
【００１１】
前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００１２】
【化１】
2004226945.tif 000002
【００１３】
前記式（１）中、Ｒ３〜Ｒ６は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ３〜Ｒ６は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００１４】
前記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。
【００１５】
【化２】
2004226945.tif 000003
【００１６】
前記式（２）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ７）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、または、ＮＲ８基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ７は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ９）３である。Ｒ８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ６〜２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ９は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。
【００１７】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。
【００１８】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００１９】
【化３】
2004226945.tif 000004
【００２０】
前記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＦ３）２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基、および、Ｎ（ＣＨ３）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００２１】
前記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。
【００２２】
前記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００２３】
前記式（４）中、Ｒ１０およびＲ１１は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００２４】
前記式（５）中、Ｍ１およびＭ２は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。
【００２５】
前記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等があげられる。
【００２６】
【化４】
2004226945.tif 000005
【００２７】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。
【００２８】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００２９】
前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００３０】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等があげられる。
【００３１】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００３２】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。
【００３３】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等があげられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等があげられる。
【００３４】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。
【００３５】
前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。
【００３６】
【化５】
2004226945.tif 000006
【００３７】
前記式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
【００３８】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。
【００３９】
前記式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
また、前記式（７）中、Ｒ１は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
【００４０】
【化６】
2004226945.tif 000007
【００４１】
前記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記式（７）におけるＸと同様である。前記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
【００４２】
前記式（８）中、Ｒ２は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ２としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００４３】
【化７】
2004226945.tif 000008
【００４４】
前記式（７）中、前記Ｒ１としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ２およびｐは前記式（８）と同義である。
【００４５】
【化８】
2004226945.tif 000009
【００４６】
さらに、前記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００４７】
さらに、前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００４８】
【化９】
2004226945.tif 000010
【００４９】
前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００５０】
【化１０】
2004226945.tif 000011
【００５１】
また、これらの他に、前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。
【００５２】
【化１１】
2004226945.tif 000012
【００５３】
前記式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ２アルキレン基、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｒ）２基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。
【００５４】
また、前記（２２）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。
【００５５】
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記ｔは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。
【００５６】
前記式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。
【化１２】
2004226945.tif 000013
【００５７】
前記式（２３）中、Ａ、Ａ’およびＹは、前記式（２２）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。
【００５８】
また、他に、前記ポリアミドイミドとしては、例えば、特開昭６１−１６２５１２号公報に記載されるポリアミドイミドが挙げられる。
【００５９】
前記基材としては、特に限定されず、無機化合物の基材（ＳＵＳベルト、銅薄板、ガラス、Ｓｉウエハ等）、ポリマーフィルムまたは金属板等を用いることができる。
ポリマーフィルムの形成材料として、具体的には、例えば、ポリオレフイン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、アモルファスポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリノルボルネン、セルロース系ポリマー（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等）、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアクリル樹脂や、これらの混合物等が挙げられる。
【００６０】
また、これらの他に、液晶ポリマー等も使用できる。さらに、例えば、特開平２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ  ０１／３７００７号）に記載されているような、側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とニトリル基とを有する熱可塑性樹脂との混合物等も使用できる。具体例としては、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドの交互共重合体と、アクリロニトリルとスチレンの共重合体との混合物等である。
【００６１】
これらの形成材料の中でも、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロース系ポリマー、ポリエーテルスルホン、ノルボルネン系樹脂、イソブテンとＮ−メチルマレイミドの交互共重合体と、アクリロニトリルとスチレンの共重合体の混合物、側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とニトリル基とを有する熱可塑性樹脂との混合物が好ましい。この混合物を用いたポリマーフィルムとしては、例えば、鐘淵化学社製の商品名「ＨＴフィルム」等が挙げられる。
【００６２】
前記ポリマーフィルムとしては、前記樹脂を、押出成形、カレンダー法、溶媒キャスティング法等で製造することができる。さらに、ポリマーフィルムは、延伸（一軸、二軸等）されてもよく、延伸されたポリマーフィルムが好ましい。
前記ポリマーフィルムとしては、親水化処理や疎水化処理、基材の溶解性を低減する処理等の表面処理を施したものを用いることもできる。また、後記する偏光子を用いてもよい。
【００６３】
前記ポリマーフィルムの厚みは、通常１０μｍ以上２００μｍ以下であり、好ましくは２０μｍ以上１５０μｍ以上、特に好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下である。
【００６４】
前記基材の表面に前記非液晶性ポリマーを塗工する方法としては、特に限定されないが、例えば、前述のような非液晶性ポリマーを加熱溶融して塗工する方法や、前記非液晶性ポリマーを溶媒に溶解させた非液晶性ポリマー溶液を塗工する方法等があげられる。その中でも、作業性に優れ、光学異方性制御の点から、前記非液晶性ポリマー溶液を塗工する方法が好ましい。
【００６５】
前記非液晶性ポリマー溶液における前記非液晶性ポリマーの濃度は、特に制限されないが、例えば、塗工が容易な粘度となることから、溶媒１００重量部に対して、前記非液晶性ポリマーが、例えば０．５〜５０重量部、好ましくは１〜４０重量部、より好ましくは２〜３０重量部である。溶媒１００重量部に対して前記非液晶性ポリマーが０．５重量部以上であると、塗工に適した粘度が得られるので好ましい。また、５０重量部以下であると、滑らかな塗工面を形成できる粘度が得られるので好ましい。
【００６６】
前記非液晶性ポリマー溶液の溶媒としては、特に制限されず、例えば、前記非液晶性ポリマー等の形成材料を溶解できればよく、前記形成材料の種類に応じて適宜決定できる。具体例としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等があげられる。これらの溶媒は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。また、前記基材を侵食しないものが好ましい。
【００６７】
前記非液晶性ポリマー溶液は、例えば、必要に応じて、さらに安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤を配合してもよい。
【００６８】
また、前記非液晶性ポリマー溶液は、例えば、前記形成材料の配向性等が著しく低下しない範囲で、異なる他の樹脂を含有してもよい。前記他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等があげられる。
【００６９】
前記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等があげられる。前記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等があげられる。前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等があげられる。前記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂等があげられる。
【００７０】
このように、前記他の樹脂等を前記非液晶性ポリマー溶液に配合する場合、その配合量は、例えば、前記非液晶性ポリマーに対して、例えば、０〜５０重量％であり、好ましくは、０〜３０重量％である。
【００７１】
前記非液晶性ポリマー溶液の塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、ダイコート法、ブレードコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法、押出法等があげられる。また、塗工に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用できる。
【００７２】
前記非液晶性ポリマーの溶融液は、特に限定されないが、例えば前述のような非液晶性ポリマーを加熱溶融した液が挙げられる。前記非液晶性ポリマーの溶融液の塗工方法としては、前記基材の表面上に塗工可能な方法であれば限定されないが、例えば、キャスティング法、溶融押し出し法等が挙げられる。前記非液晶性ポリマーの溶融液は、例えば、必要に応じて、上述の安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤および異なる他の樹脂をさらに含有してもよい。
【００７３】
次いで、前記基材上の非液晶性ポリマーの塗工層を固化させて、非液晶性ポリマーフィルムを形成する。
前記固化の方法としては、前記非液晶性ポリマーを固化させ、前記非液晶性ポリマーフィルムを形成する方法であれば、特に制限されず、例えば、自然乾燥や加熱乾燥等の乾燥があげられる。その条件も、例えば、前記非液晶性ポリマーの種類や、溶液の場合には前記溶媒の種類等に応じて適宜決定できるが、例えば、温度は、通常、２５℃〜４００℃であり、好ましくは６０℃〜３００℃であり、さらに好ましくは６５℃〜２５０℃である。なお、固化は、一定温度で行っても良いし、段階的に温度を上昇または下降させながら行っても良い。固化時間も特に制限されないが、非液晶性ポリマーの溶液を用いた場合、固化により溶媒を除去する条件を用いる必要がある。通常、固化時間は、１０秒〜６０分、好ましくは３０秒〜３０分である。
【００７４】
このようにして、基材上に非液晶性ポリマーフィルムを形成することができる。なお、前記非液晶性ポリマーフィルムから前記基材を剥離して除去し、前記非液晶性ポリマーフィルムを単独で得ることもできる。
【００７５】
なお、複屈折率  △ｎ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］・ｄ／ｄ、面内位相差  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）・ｄである。
前記ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記非液晶性ポリマーフィルムにおけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記非液晶性ポリマーフィルムの面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記非液晶性ポリマーフィルム面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。
【００７６】
次いで、非液晶性ポリマーフィルムに、配向処理を行う。配向処理としては、延伸処理、収縮処理およびラビング処理が挙げられる。この延伸処理、収縮処理のような配向処理により、非液晶性ポリマーフィルム中の非液晶性ポリマーが配向され、その結果、前記非液晶性ポリマーフィルムが光学的に二軸性、例えばｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を示す非液晶性ポリマー製複屈折層になる。ラビング処理によっては、非液晶性ポリマーフィルムは、光学的に一軸性、すなわちｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの特性を示す複屈折層のままである。
【００７７】
前記非液晶性ポリマーフィルムの延伸方法としては特に制限されないが、通常の方法を用いることができる。例えば、テンター横延伸、二軸延伸、ロール法縦延伸等が挙げられる。二軸延伸は、長軸方向の延伸倍率が短軸方向の延伸倍率よりも小さいのが好ましい。また、二軸延伸は全テンター方式による同時二軸延伸、ロール・テンター法による逐次二軸延伸のいずれの方法でも用いることができる。ロール縦延伸における加熱は、加熱ロールを用いる方法、周りの雰囲気を加熱する方法、前者両方を行う方法のいずれの方法によっても行うことができる。また、斜め延伸法を用いて、配向角を制御することもできる。
【００７８】
前記非液晶性ポリマーフィルムの延伸倍率は、延伸方法によって異なるが、１〜１００％、好ましくは３〜５０％である。
【００７９】
前記非液晶性ポリマーフィルムを延伸する温度は、前記フィルムのガラス転移点（Ｔｇ）や前記非液晶性ポリマーフィルム中の添加物の種類などに応じて適宜選択される。前記非液晶性ポリマーフィルムを延伸する温度は、例えば８０〜２５０℃、好ましくは１００〜２００℃である。特に、前記非液晶性ポリマーフィルムを延伸する温度は、前記非液晶性ポリマーフィルムのＴｇ付近またはＴｇ以上であるのが好ましい。
【００８０】
前記非液晶性ポリマーフィルムの収縮方法としては、特に制限されないが、通常の方法を用いることができる。例えば、非液晶性ポリマーフィルムを形成する際に基材を用い、非液晶性ポリマーフィルムが形成された基材を加熱または冷却することにより、基材を収縮させて行うことができる。そのような基材としては、熱収縮性フィルムなどの収縮能を有する基材を用いることができる。収縮能を有する基材を用いる場合、延伸機を利用して、基材の収縮率を制御することが好ましい。具体的には、テンター延伸機で延伸倍率を１未満に設定する方法や、縦一軸延伸機にて等倍に設定し、幅収縮を行う方法が挙げられる。
【００８１】
非液晶性ポリマーフィルムのラビング処理としては特に制限されないが、通常の方法を用いることができる。例えば、非液晶性ポリマーフィルムの表面を、織布、フェルト、ラバー、刷毛などで、一定方向に擦ることにより行われる。ラビング圧力、ラビング回数などのラビング条件は、特に制限されない。
【００８２】
このように、非液晶性ポリマーフィルムは、延伸、収縮等の配向処理により、非液晶性ポリマー製複屈折層になる。なお、この非液晶性ポリマー製複屈折層は、面内における配向軸の精度が優れている。例えば、配向軸のばらつきは、通常±０．５度以下であり、好ましくは±０．３度以下である。また、面内位相差Ｒｅは、通常Ｒｅ≦２５０ｎｍ、好ましくは１ｎｍ≦Ｒｅ≦２００ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍである。また、厚み方向位相差Ｒｚは、通常Ｒｚ≦５００ｎｍ、好ましくは２ｎｍ≦Ｒｚ≦４００ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ≦Ｒｚ≦３００ｎｍである。
なお、Ｒｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）・ｄであり、
ｎｘ、ｎｚ、ｄおよびＲｅは前記で定義したとおりである。
【００８３】
また、非液晶性ポリマー製複屈折層の厚さは、対象となる画像表示装置の画面の大きさに応じて適宜に決定することができる。非液晶性ポリマー製複屈折層は、例えば、１μｍ〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍの厚さのものが用いられる。
【００８４】
本発明の製造方法においては、例えば、前記基材上に前記非液晶性ポリマーの塗工層を固化させた後に、前記基材を剥離して除去せず、前記非液晶性ポリマーフィルムと前記基材の積層物に、前述のような配向処理を行って、基材上に非液晶性ポリマー製複屈折層を形成することができる。
【００８５】
また、本発明の製造方法において、前記基材（以下、「第１の基材」という）と前記第１の基材上に直接形成された前記非液晶性ポリマーフィルムとの積層体を、さらに他の基材（以下、「第２の基材」）上に、前記非液晶性ポリマーフィルムが対向するように接着し、前記第１の基材のみを剥離する工程を含んでもよい。このように第２の基材に前記非液晶性ポリマーフィルムを転写して、前記第１の基材を剥離することによって形成された前記非液晶性ポリマーフィルムと前記第２の基材との積層体に、配向処理を行って、基材上に非液晶性ポリマー製複屈折層を形成することができる。
【００８６】
次いで、このようにして得られた非液晶性ポリマー製複屈折層上に、配向した液晶化合物性複屈折層を形成する。配向した液晶化合物複屈折層を形成するには、例えば、前記配向処理をした非液晶性ポリマー製複屈折層の上に、液晶化合物溶液を塗工する。
液晶化合物溶液は、液晶化合物を含有する限り特に限定されない。
【００８７】
液晶化合物は特に限定されないが、例えば、液晶ポリマー、光または熱重合性液晶モノマーおよびそれらの混合物等を使用することができる。また、単独で使用しても二種類以上を混合して使用しても良い。前記液晶ポリマーとしては、ネマチック液晶（例えば、カイラル性液晶を含むネマチック液晶）、ディスコチック液晶、コレステリック液晶（例えば、可視光において円偏光の選択反射性を示すコレステリック液晶）などが挙げられる。
【００８８】
ネマチック液晶としては、特開平６−７５１１４号公報、特開平６−３００９２０号公報、特開平６−３３１８２６号公報等に記載されたネマチック液晶が挙げられる。
ディスコチック液晶としては、特開平７−９８４１１号公報、特開平７−１４６４０９号公報、特開平７−１９１２１７号公報等に記載されたディスコチック液晶が挙げられる。
コレステリック液晶またはカイラル性液晶を含むネマチック液晶としては、特開平３−６７２１９号公報、米国特許第５７９８８０８号公報、国際公開ＷＯ００／３９６３１号公報等に記載されたものが挙げられる。
可視光において円偏光の選択反射性を示すコレステリック液晶としては、特開平１−１３３００３号公報、特開平３−４５９０６号公報、特開平６−３２４３３３号公報、特開平９−１３３８１０等に記載されたコレステリック液晶が挙げられる。
【００８９】
中でも、ネマチック性液晶モノマーが好ましく、具体的には、下記式（２４）で表されるモノマーがあげられる。これらの液晶モノマーは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００９０】
【化１３】
2004226945.tif 000014
【００９１】
前記式（２４）において、
Ａ１およびＡ２は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。
また、Ａ１およびＡ２はいずれか一方が水素原子であってもよい。
Ｘは、それぞれ単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、前記ＸにおいてＲは、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し、
Ｍはメソーゲン基を表す。
【００９２】
前記式（２４）において、Ｘは同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
前記式（２４）のモノマーの中でも、Ａ２は、それぞれＡ１に対してオルト位に配置されていることが好ましい。
【００９３】
また、前記Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して下記式
Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）ｎ                  ・・・（２５）
で表されることが好ましく、Ａ１およびＡ２は同じ基であることが好ましい。
【００９４】
前記式（２５）において、
Ｚは架橋性基を表し、
Ｘは前記式（２４）と同様であり、
Ｓｐは、１〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖のアルキル基からなるスペーサーを表し、前記アルキル基は、例えば、エーテル官能基中の酸素原子、チオエーテル官能基中の硫黄原子、非隣接イミノ基またはＣ１〜Ｃ４のアルキルイミノ基等により割り込まれてもよい。
ｎは、０または１を表す。
【００９５】
前記式（２５）において、Ｚは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記式において、Ｒとしては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル基等があげられる。
【００９６】
【化１４】
2004226945.tif 000015
【００９７】
また、前記式（２５）において、Ｓｐは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記式において、ｍは１〜３、ｐは１〜１２であることが好ましい。
【００９８】
【化１５】
2004226945.tif 000016
【００９９】
前記式（２４）において、
Ｍは、下記式（２６）で表されることが好ましく、下記（２６）において、Ｘは、前記式（２４）におけるＸと同様である。
Ｑは、例えば、置換または未置換のアルキレン基しくは芳香族炭化水素原子団を表し、また、例えば、置換または未置換の直鎖または分枝鎖のＣ１〜Ｃ１２アルキレン基等であってもよい。
【０１００】
【化１６】
2004226945.tif 000017
【０１０１】
前記Ｑが、前記芳香族炭化水素原子団の場合、例えば、下記式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。
【化１７】
2004226945.tif 000018
【０１０２】
前記式に表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体は、例えば、芳香族環１個につき１〜４個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基１個につき、１または２個の置換基を有してもよい。前記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換基としては、例えば、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、フェニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基等があげられる。
【０１０３】
前記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式（２７）〜（４２）で表されるモノマーがあげられる。
【化１８】
2004226945.tif 000019
2004226945.tif 000020
【０１０４】
前記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なるが、例えば、４０〜１２０℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは５０〜１００℃の範囲であり、特に好ましくは６０〜９０℃の範囲である。
【０１０５】
前記液晶モノマーは、前記化学式（２４）で表されるモノマーが好ましい。このような液晶モノマーは、一般に、ネマチック性液晶モノマーであるが、本発明においては、例えば、後記カイラル剤によってねじりが付与され、最終的には、コレステリック構造をとるようになる。
【０１０６】
前記液晶化合物溶液は、さらに、カイラル剤を含むことが好ましい。本発明における前記カイラル剤とは、例えば、液晶モノマーや液晶ポリマーの液晶化合物をコレステリック構造となるように配向する機能を有する化合物である。
【０１０７】
前記カイラル剤としては、コレステリック層の構成分子をコレステリック構造に配向できるものであれば、その種類は特に制限されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。
【０１０８】
前記重合性カイラル化剤としては、例えば、下記一般式（４３）〜（４６）で表されるカイラル化合物が使用できる。
（Ｚ−Ｘ５）ｎＣｈ                              （４３）
（Ｚ−Ｘ２−Ｓｐ−Ｘ５）ｎＣｈ                    （４４）
（Ｐ１−Ｘ５）ｎＣｈ                              （４５）
（Ｚ−Ｘ２−Ｓｐ−Ｘ３−Ｍ−Ｘ４）ｎＣｈ            （４６）
【０１０９】
前記各式においては、
Ｚは前記式（２５）と同様であり、
Ｓｐは、前記式（２５）と同様であり、
Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は、互いに独立して、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−を表し、前記Ｒは、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す。
【０１１０】
また、Ｘ５は、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ、−ＣＨ２Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ≡Ｎ−を表す。前記Ｒは、前述と同様に水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す。
Ｍは、前述と同様にメソーゲン基を表し、
Ｐ１は、水素原子、１〜３個のＣ１〜Ｃ６アルキルによって置換されたＣ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ１〜３０アシル基またはＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基を表し、
ｎは、１〜６の整数である。
Ｃｈはｎ価のカイラル基を表す。
【０１１１】
前記式（４６）において、Ｘ３およびＸ４は、少なくともその一方が、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−であることが好ましい。
また、前記式（４５）において、Ｐ１がアルキル基、アシル基またはシクロアルキル基の場合、例えば、その炭素鎖が、エーテル官能基内の酸素原子、チオエーテル官能基内の硫黄原子、非隣接イミノ基またはＣ１〜Ｃ４アルキルイミノ基によって割り込まれてもよい。
【０１１２】
前記Ｃｈのカイラル基としては、例えば、下記式に表される原子団があげられる。
【化１９】
2004226945.tif 000021
【化２０】
2004226945.tif 000022
【０１１３】
前記原子団において、Ｌは、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、ＣＯＯＲ、ＯＣＯＲ、ＣＯＮＨＲまたはＮＨＣＯＲであって、前記ＲはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す。なお、前記式に表した原子団における末端は、隣接する基との結合手を示す。
【０１１４】
前記原子団の中でも、特に好ましくは下記式で表される原子団である。
【化２１】
2004226945.tif 000023
【０１１５】
また、前記（４４）または（４６）で表されるカイラル化合物は、例えば、ｎが２、ＺがＨ２Ｃ＝ＣＨ−を表し、Ｃｈが下記式で表される原子団であることが好ましい。
【化２２】
2004226945.tif 000024
【０１１６】
前記カイラル化合物の具体例としては、例えば、下記式（４７）〜（６７）で表される化合物があげられる。なお、これらのカイラル化合物は、ねじり力が  １×１０−６  ｎｍ−１・（ｗｔ％）−１  以上である。
【化２３】
2004226945.tif 000025
2004226945.tif 000026
【０１１７】
前述のようなカイラル化合物の他にも、例えば、ＲＥ−Ａ４３４２２８０号およびドイツ国特許出願１９５２０６６０．６号および１９５２０７０４．１号にあげられるカイラル化合物が好ましく使用できる。
【０１１８】
前記カイラル化剤としては、重合性カイラル化剤であることが好ましい。これらのカイラル剤は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【０１１９】
また、コレステリック層を形成する際の前記液晶モノマーと前記カイラル剤との組み合わせとしては、特に制限されないが、具体的には、前記式（３３）のモノマー剤と、前記式（６１）のカイラル剤との組み合わせ、前記式（３４）のモノマー剤と、前記式（６２）のカイラル剤との組み合わせ等があげられる。
【０１２０】
これらのカイラル剤の中でも、そのねじり力が、１×１０−６  ｎｍ−１・（ｗｔ％）−１  以上であることが好ましく、より好ましくは  １×１０−５  ｎｍ−１・（ｗｔ％）−１  以上であり、さらに好ましくは  １×１０−５  〜  １×１０−２  ｎｍ−１・（ｗｔ％）−１の範囲であり、特に好ましくは  １×１０−４  〜  １×１０−３  ｎｍ−１・（ｗｔ％）−１  の範囲である。このようなねじり力のカイラル剤を使用すれば、例えば、形成されたコレステリック層のらせんピッチを、後述する範囲に制御でき、これによって選択反射波長帯域を、特定な範囲に制御することが十分に可能となる。
【０１２１】
なお、前記ねじり力とは、一般に、液晶モノマーや液晶ポリマー等の液晶化合物にねじれを与え、らせん状に配向させる能力のことを示し、下記式で表すことができる。
ねじり力＝１／［コレステリックピッチ（ｎｍ）×カイラル剤重量比（ｗｔ％）］
【０１２２】
前記式においてカイラル剤重量比とは、例えば、液晶化合物とカイラル剤とを含む混合物における前記カイラル剤の割合（重量比）をいい、下記式で表される。
カイラル剤重量比（ｗｔ％）＝  ［Ｘ／（Ｘ＋Ｙ）］×１００
Ｘ：カイラル剤重量
Ｙ：液晶化合物重量
【０１２３】
また、前記コレステリック層におけるらせんピッチは、例えば、０．０１〜０．２５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．０３〜０．２０μｍの範囲、特に好ましくは０．０５〜０．１５μｍの範囲である。前記らせんピッチが０．０１μｍ以上であれば、例えば、十分な配向性が得られ、０．２５μｍ以下であれば、例えば、可視光の短波長側における旋光性を十分に抑制できるため、偏光下で補償用の位相差フィルム等として使用する場合に、光漏れ等を十分に回避できる。そして、前述のようなねじり力のカイラル剤を使用すれば、形成されたコレステリック層のらせんピッチを前記範囲に制御できる。
【０１２４】
例えば、本発明の液晶化合物製複屈折層製造時において、選択反射波長帯域の設定は、例えば、液晶モノマーとカイラル剤との添加割合を制御することによって行うことができる。そして、選択反射波長帯域を低波長側にシフトする手段として、例えば、カイラル剤添加量を増加する方法があるが、カイラル剤の添加量が増えると、液晶モノマー等がコレステリック配向をとる温度範囲、すなわち液晶相となる温度範囲が非常に狭くなる。そのため、選択反射波長帯域が１００ｎｍより小さい液晶化合物製複屈折層を製造する時には、前記構成材料をコレステリック配向させるための温度制御を厳密に行うことが必要となり、製造が困難になるという問題がある。
【０１２５】
また、例えば、同じねじり力のカイラル剤を使用した場合、液晶モノマーに対するカイラル剤の添加割合が多い方が、形成される選択反射波長帯域は低波長側となる。また、例えば、液晶モノマーに対するカイラル剤の添加割合が同じ場合には、例えば、カイラル剤のねじり力が大きい方が、形成される液晶化合物製複屈折層の選択反射波長帯域は、低波長側となる。具体例として、形成される液晶化合物製複屈折層の前記選択反射波長帯域を２００〜２２０ｎｍの範囲に設定する場合には、例えば、ねじり力が  ５×１０−４  ｎｍ−１・（ｗｔ％）−１  のカイラル剤を、液晶モノマーに対して１１〜１３重量％となるように配合すればよく、前記選択反射波長帯域を２９０〜３２０ｎｍの範囲に設定する場合には、例えば、ねじれ力が  ５×１０−４  ｎｍ−１・（ｗｔ％）−１  のカイラル剤を、液晶モノマーに対して７〜９重量％となるように配合すればよい。
【０１２６】
前記カイラル剤の添加割合は、例えば、所望のらせんピッチ、所望の選択反射波長帯域に応じて適宜決定されるが、前記液晶モノマーに対する添加割合は、例えば５〜２３重量％の範囲であり、好ましくは１０〜２０重量％の範囲である。前述のように、液晶モノマー等の液晶化合物とカイラル剤との添加割合をこのように制御することによって、形成される液晶化合物製複屈折層の選択波長帯域を設定できるのである。液晶モノマー等の液晶化合物に対するカイラル剤の割合が５重量％よりも大きい場合、形成される液晶化合物製複屈折層の選択反射波長帯域を低波長側に制御することが容易となる。また、前記割合が２３重量％よりも小さい場合は、液晶モノマー等の液晶化合物がコレステリック配向する温度範囲、すなわち前記液晶モノマー等の液晶化合物が液晶相となる温度範囲が広くなるため、配向工程における温度制御を厳密に行うことが不要となり、製造が容易になる。
【０１２７】
前記液晶化合物溶液は、さらに、重合剤および架橋剤の少なくとも一方を含むことが好ましく、例えば、紫外線硬化剤、光硬化剤、熱硬化剤等が使用できる。
前記重合剤および架橋剤としては、特に制限されないが、例えば、以下のようなものが使用できる。前記重合剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が使用でき、前記架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が使用できる。これらはいずれか一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【０１２８】
また、前記液晶モノマー等の液晶化合物に対する架橋剤または重合剤の添加割合は、例えば、０．１〜１０重量％の範囲であり、好ましくは０．５〜８重量％の範囲、より好ましくは１〜５重量％の範囲でである。前記液晶モノマー等の液晶化合物に対する架橋剤または重合剤の割合が、０．１重量％以上であれば、例えば、コレステリック層の硬化が十分容易となり、また、１０重量％以下であれば、例えば、前記液晶モノマー等の液晶化合物がコレステリック配向する温度範囲、すなわち前記液晶モノマー等の液晶化合物が液晶相となる温度が十分な範囲となるため、後述する配向工程における温度制御がより一層容易となる。
【０１２９】
前記液晶化合物溶液は、例えば、前記液晶化合物等を、適当な溶媒に溶解または分散することによって調製できる。前記溶媒としては、特に制限されないが、例えば、前記非液晶性ポリマー溶液の溶媒として挙げられているものを使用することができる。これらの中でも好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶剤は、例えば、一種類でもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。
【０１３０】
また、前記液晶化合物溶液には、例えば、必要に応じて各種添加物を適宜配合してもよい。前記添加物としては、例えば、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等があげられる。これらの添加剤は、例えば、いずれか一種を添加してもよいし、二種類以上を併用してもよい。具体的に、前記老化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等、前記変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類等、従来公知のものがそれぞれ使用できる。また、前記界面活性剤は、例えば、液晶化合物製複屈折層の表面を平滑にするために添加され、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の界面活性剤が使用でき、特にシリコーン系が好ましい。
【０１３１】
前記液晶化合物溶液は、例えば、塗工等の作業性に優れた粘性を示すのが好ましい。前記塗工液の粘度は、通常、前記液晶化合物の濃度や温度等に応じて異なるが、前記塗工液における液晶化合物の濃度が前記範囲５〜７０重量％の場合、その粘度は、例えば、０．２〜２０ｍＰａ・ｓの範囲であり、好ましくは０．５〜１５ｍＰａ・ｓであり、特に好ましくは１〜１０ｍＰａ・ｓである。具体的には、前記塗工液における液晶化合物の濃度が、３０重量％の場合、例えば、２〜５ｍＰａ・ｓの範囲であり、好ましくは３〜４ｍＰａ・ｓである。前記塗工液の粘度が０．２ｍＰａ・ｓ以上であれば、例えば、塗工液を走行することによる液流れの発生がより一層防止でき、また、２０ｍＰａ・ｓ以下であれば、例えば、表面平滑性がより一層優れ、厚みムラを一層防止でき、塗工性にも優れる。なお、前記粘度としては、温度２０〜３０℃における範囲を示したが、この温度には限定されない。
【０１３２】
前記配向処理をした非液晶性ポリマー製複屈折層の上に、液晶化合物溶液を塗工する方法としては、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等の従来公知の方法を用いることができ、この中でも、塗布効率の点からスピンコート、エクストルージョンコートが好ましい。
【０１３３】
非液晶性ポリマー製複屈折層上に塗工された液晶化合物溶液は、任意に固化させてもよい。前記固化の方法としては、前記液晶化合物溶液を固化させる方法であれば、特に制限されず、例えば、自然乾燥や加熱乾燥等の乾燥があげられる。その条件も、例えば、前記液晶化合物の種類や、前記溶媒の種類等に応じて適宜決定できるが、例えば、温度は、通常、４０℃〜１２０℃であり、好ましくは６０℃〜１００℃であり、さらに好ましくは６５℃〜９０℃である。なお、固化は、一定温度で行っても良いし、段階的に温度を上昇または下降させながら行っても良い。固化時間も特に制限されない。通常、固化時間は、１０秒〜６０分、好ましくは３０秒〜３０分である。
【０１３４】
次いで、このようにして形成された液晶化合物層に、配向処理を行うことによって、前記液晶化合物を配向させる。前記配向処理としては、加熱処理等が挙げられる。
【０１３５】
前記液晶化合物の配向は特に限定されず、最適な光学補償が得られるように適宜設定すれば良い。例えば、水平配向、垂直配向、ツイスト配向、ハイブリッド配向、ホメオトロピック配向、ホモジニアス配向、ティルト配向、フォーカルコニック配向などが挙げられる。
【０１３６】
前記液晶化合物溶液に、前記液晶化合物とカイラル剤が含まれている場合、液晶相（液晶状態）となった液晶化合物が、前記カイラル剤によってねじりを付与された状態で配向する。つまり、液晶化合物がコレステリック構造（らせん構造）を示す。
【０１３７】
また、良好な視野角補償を得るためには、前記液晶化合物製複屈折層が、平面に平行な方向にあるか、平面に垂直な方向にあるか、または平面に垂直な方向から傾いている光学軸を有するのが好ましい。光学軸が平面に平行な方向にあるものは、いわゆるＣプレートと呼ばれ、中でも光学軸方向の屈折率がその直交する方向の屈折率より大きいものは、いわゆる正のＣプレート、光学軸方向の屈折率がその直行する方向の屈折率より小さいものは、いわゆる負のＣプレートと呼ばれる。また、光学軸が平面に垂直な方向にあるものは、いわゆるＡプレートと呼ばれ、光学軸が平面に垂直な方向から傾いているものは、いわゆるＯプレートと呼ばれる。
【０１３８】
なお、上記の内容を屈折率の関係で示すと、以下のようになる。正のＣプレートは、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚ、負のＣプレートは、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、正のＡプレートは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、負のＡプレートは、ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚを意味する。前記ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記液晶化合物製複屈折層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記液晶化合物製複屈折層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。
【０１３９】
この光学軸の方向は、例えば、ＴＮ型液晶表示装置やＯＣＢ型液晶表示装置の液晶セルにおいては、平面に垂直な方向から傾いているのが、良好な視野角補償を得るためには好ましい。また、ＶＡ型液晶表示装置の液晶セルにおいては、光学軸の方向は、平面に対して水平の方向にあるのが、良好な視野角補償を得るためには好ましい。
【０１４０】
具体的には、ディスコチック液晶の水平配向は、負のＣプレートとなり、垂直配向は負のＡプレートとなり、ハイブリッド配向は負のＯプレートとなる。さらに、ネマチック液晶の水平配向は、正のＡプレートとなり、垂直配向は正のＣプレートとなり、ハイブリッド配向は正のＯプレートとなる（表１参照）。カイラル性液晶を含むネマチック液晶の水平配向は、負のＣプレートとなり、ハイブリッド配向は正または負のＯプレートとなる。
【０１４１】
【表１】
2004226945.tif 000027
【０１４２】
前記加熱処理の温度条件は、例えば、前記液晶化合物の種類、具体的には前記液晶化合物が液晶性を示す温度に応じて適宜決定できるが、通常、４０〜１２０℃の範囲であり、好ましくは５０〜１００℃の範囲であり、より好ましくは６０〜９０℃の範囲である。前記温度が４０℃以上であれば、通常、十分に液晶化合物を配向することがでる。例えば、液晶化合物として液晶ポリマーを用いた前記液晶化合物層には、前記液晶ポリマーのガラス転移点から等方相を呈する溶融状態までの温度範囲で加熱することにより、配向処理することができる。
【０１４３】
加熱時間は、加熱処理の温度、前記液晶化合物の種類等に応じて適宜決定できるが、通常０．５〜２０分であり、好ましくは１〜１５分であり、より好ましくは２〜１０分である。
【０１４４】
次いで、前記配向した液晶化合物を固定化して、液晶化合物製複屈折層を形成するのが好ましい。
固定化の方法としては、液晶化合物の種類に応じて異なるが、前記配向状態を固定化することができる限り限定されず、例えば、光照射処理、熱処理、冷却処理等が挙げられる。なお液晶化合物として液晶ポリマーを用いた前記液晶化合物層の配向状態を固定化するためには、例えば冷却処理を用いることができる。その冷却処理は、通常、自然冷却による処理が用いられる。
【０１４５】
また、液晶化合物として液晶モノマーを用いた前記液晶化合物層の配向状態を固定化するためには、例えば光照射処理、熱処理等を用いることができる。
【０１４６】
前記光照射処理や熱処理は、例えば、使用する重合剤や架橋剤の種類によって適宜決定できる。例えば、光重合剤や光架橋剤を使用した場合には、光照射を施し、紫外線重合剤や紫外線架橋剤を使用した場合には、紫外線照射を施せばよい。これらの処理により、液晶モノマーは重合や架橋し、固定化することができる。
【０１４７】
このようにして、配向状態を固定化させて液晶化合物製複屈折層を形成するのが好ましい。得られた液晶化合物製複屈折層の厚みは、特に制限されないが、例えば、光学補償用等の位相差フィルムとして使用する場合、配向の乱れや透過率低下の防止、選択反射性、着色防止、生産性等の点から、０．１〜５０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５〜３０μｍの範囲、特に好ましくは１〜２０μｍの範囲である。
なお、この液晶化合物製複屈折層の配向軸のばらつきは、通常±０．５度以下であり、好ましくは±０．３度以下である。また、面内位相差Ｒｅは、通常０ｎｍ≦Ｒｅ≦３００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍである。また、厚み方向位相差Ｒｚは、通常４０ｎｍ≦Ｒｚ≦８００ｎｍ、好ましくは４０ｎｍ≦Ｒｚ≦６００ｎｍ、より好ましくは４０ｎｍ≦Ｒｚ≦４００ｎｍである。
なお、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ、
Ｒｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）・ｄであり、
ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記液晶化合物製複屈折層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記液晶化合物製複屈折層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄは前記液晶化合物製複屈折層の厚みを示す。
【０１４８】
つぎに、本発明の偏光板は、複屈折性フィルムを含む光学補償層付き偏光板であって、前記複屈折性フィルムが本発明の複屈折性フィルムであることを特徴とする。
【０１４９】
このような光学補償層付き偏光板は、前記本発明の製造方法により得られる複屈折性フィルムや前記複屈折性フィルムと前記基材との積層体等の本発明の複屈折性フィルムと、偏光子とを有していれば、その構成は特に制限されないが、例えば、以下のような偏光板が例示できる。
【０１５０】
まず第１の光学補償層付き偏光板としては、例えば、前記本発明の複屈折性フィルム、偏光子および二つの透明保護層を有し、前記偏光子の両面に透明保護層がそれぞれ積層されており、一方の透明保護層の表面にさらに前記複屈折性フィルムが積層された形態である。
【０１５１】
また、前記透明保護層は、前記偏光子の両側に積層してもよいし、いずれか一方の面のみに積層してもよい。また、両面に積層する場合には、例えば、同じ種類の透明保護層を使用しても、異なる種類の透明保護層を使用してもよい。
【０１５２】
一方、第２の光学補償層付き偏光板は、前記本発明の複屈折性フィルムと基材の積層体、偏光子および透明保護層を有し、前記偏光子の一方の表面に前記複屈折性フィルムが、前記偏光子の他方の表面に前記透明保護層が、それぞれ積層されている形態である。この際、基材は透明な基材が好ましい。
【０１５３】
前記複屈折性フィルムと基材との積層体は、いずれの表面が前記偏光子に面してもよいが、例えば、以下のような理由から、前記複屈折性フィルムの前記基材側が偏光子に面するように配置することが好ましい。このような構成であれば、前記複屈折性フィルムの前記基材を、前記偏光板における透明保護層として兼用できるからである。すなわち、前記偏光子の両面に透明保護層を積層する代わりに、前記偏光子の一方の面には透明保護層を積層し、他方の面には、前記基材が面するように複屈折性フィルムを積層することによって、前記基材が透明保護層の役割も果たすのである。このため、より一層薄型化された偏光板を得ることができる。
【０１５４】
一方、第３の光学補償層付き偏光板は、前記本発明の複屈折性フィルムと基材としての偏光子の積層体、および透明保護層を有し、前記積層体の偏光子の表面に前記透明保護層が、それぞれ積層されている形態である。
【０１５５】
前記複屈折性フィルムと基材としての偏光子の積層体は、前記複屈折性フィルムが、偏光子の保護層として兼用できるから好ましい。すなわち、前記偏光子の両面に透明保護層を積層する代わりに、前記偏光子の一方の面には透明保護層を積層し、他方の面には、複屈折性フィルムを積層することによって、前記複屈折性フィルムが保護層の役割も果たすのである。このため、より一層薄型化された偏光板を得ることができる。
【０１５６】
前記偏光子（偏光フィルム）としては、特に制限されず、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光フィルムの厚みは、通常、１〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。
【０１５７】
前記保護層としては、特に制限されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護層の材質の具体例としては、トリアセチルセルロール等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等があげられる。また、前記アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等もあげられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。
【０１５８】
また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムがあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。なお、前記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であってもよい。
【０１５９】
また、前記保護層は、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、下記式で表されるフィルム厚み方向の位相差値（Ｒｅ）が、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。前記位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）を解消できる。なお、下記式において、ｎｘ，ｎｙ，ｎｚは、前述と同様であり、ｄは、その膜厚を示す。
Ｒｅ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］・ｄ
【０１６０】
また、前記透明保護層は、さらに光学補償機能を有するものでもよい。このように光学補償機能を有する透明保護層としては、例えば、液晶セルにおける位相差に基づく視認角の変化が原因である、着色等の防止や、良視認の視野角の拡大等を目的とした公知のものが使用できる。具体的には、例えば、前述した透明樹脂を一軸延伸または二軸延伸した各種延伸フィルムや、液晶ポリマー等の配向フィルム、透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を配置した積層体等があげられる。これらの中でも、良視認の広い視野角を達成できることから、前記液晶ポリマーの配向フィルムが好ましく、特に、ディスコティック系やネマチック系の液晶ポリマーの傾斜配向層から構成される光学補償層を、前述のトリアセチルセルロースフィルム等で支持した光学補償位相差板が好ましい。このような光学補償位相差板としては、例えば、富士写真フィルム株式会社製「ＷＶフィルム」等の市販品があげられる。なお、前記光学補償位相差板は、前記位相差フィルムやトリアセチルセルロースフィルム等のフィルム支持体を２層以上積層させることによって、位相差等の光学特性を制御したもの等でもよい。
【０１６１】
前記透明保護層の厚みは、特に制限されず、例えば、位相差や保護強度等に応じて適宜決定できるが、通常、５００μｍ以下であり、好ましくは５〜３００μｍ、より好ましくは５〜１５０μｍの範囲である
【０１６２】
前記透明保護層は、例えば、偏光フィルムに前記各種透明樹脂を塗布する方法、前記偏光フィルムに前記透明樹脂製フィルムや前記光学補償位相差板等を積層する方法等の従来公知の方法によって適宜形成でき、また市販品を使用することもできる。
【０１６３】
また、前記透明保護層は、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護層の表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。
【０１６４】
前記アンチグレア処理とは、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護層の表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して前記透明保護層を形成する方式等があげられる。
【０１６５】
前記透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。前記透明微粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．５〜２０μｍの範囲である。また、前記透明微粒子の配合割合は、特に制限されないが、一般に、前述のような透明樹脂１００重量部あたり２〜７０重量部の範囲が好ましく、より好ましくは５〜５０重量部の範囲である。
【０１６６】
前記透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、透明保護層そのものとして使用することもでき、また、透明保護層表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、前記アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。
【０１６７】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、前記透明保護層とは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として、偏光板に積層してもよい。
【０１６８】
各構成物同士（複屈折性フィルム、偏光子、透明保護層等）の積層方法は、特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、前述と同様の粘着剤や接着剤等が使用でき、その種類は、前記各構成物の材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等があげられる。また、ホウ酸、ホウ砂、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤等も使用できる。前述のような粘着剤、接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。具体的には、前記偏光子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光子や透明保護層の表面に塗布してもよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。なお、前記接着剤を塗布する場合は、例えば、前記接着剤水溶液に、さらに、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。このような接着層の厚みは、特に制限されないが、例えば、１ｎｍ〜５００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー等の接着剤等を使用した従来公知の方法が採用できる。これらの接着剤は、例えば、その水溶液を前記各構成物表面に塗工し、乾燥すること等によって使用できる。前記水溶液には、例えば、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合できる。これらの中でも、前記接着剤としては、ＰＶＡフィルムとの接着性に優れる点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。
【０１６９】
なお、ＶＡ型の液晶表示装置においては、偏光板の透過軸と、複屈折性フィルムの遅相軸方向が平行または直交するような位置関係で積層すると、コントラストの正面方向の特性に影響を与えることなく、斜視方向の特性を生後することができ、従って視野角の拡大を得ることができるので、好ましい。
【０１７０】
本発明の光学補償層付き偏光板は、実用に際して、前記本発明の複屈折性フィルムの他に、さらに他の光学層を含んでもよい。前記光学層としては、例えば、以下に示すような偏光板、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム、他の位相差板、拡散制御フィルム、偏光散乱フィルム等、液晶表示装置等の形成に使用される、従来公知の各種光学層があげられる。これらの光学層は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよく、また、一層でもよいし、二層以上を積層してもよい。このような光学層をさらに含む光学補償層付き偏光板は、例えば、光学補償機能を有する一体型偏光板として使用することが好ましく、例えば、液晶セル表面に配置する等、各種画像表示装置への使用に適している。
【０１７１】
以下に、このような一体型偏光板について説明する。
【０１７２】
まず、反射型偏光板または半透過反射型偏光板の一例について説明する。前記反射型偏光板は、本発明の光学補償層付き偏光板にさらに反射板が、前記半透過反射型偏光板は、本発明の光学補償層付き偏光板にさらに半透過反射板が、それぞれ積層されている。
【０１７３】
前記反射型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等に使用できる。このような反射型偏光板は、例えば、バックライト等の光源の内蔵を省略できるため、液晶表示装置の薄型化を可能にする等の利点を有する。
【０１７４】
前記反射型偏光板は、例えば、前記弾性率を示す偏光板の片面に、金属等から構成される反射板を形成する方法等、従来公知の方法によって作製できる。具体的には、例えば、前記偏光板における透明保護層の片面（露出面）を、必要に応じてマット処理し、前記面に、アルミニウム等の反射性金属からなる金属箔や蒸着膜を反射板として形成した反射型偏光板等があげられる。
【０１７５】
また、前述のように各種透明樹脂に微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射板を形成した、反射型偏光板等もあげられる。その表面が微細凹凸構造である反射板は、例えば、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制できるという利点を有する。このような反射板は、例えば、前記透明保護層の凹凸表面に、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、従来公知の方法により、直接、前記金属箔や金属蒸着膜として形成することができる。
【０１７６】
また、前述のように偏光板の透明保護層に前記反射板を直接形成する方式に代えて、反射板として、前記透明保護フィルムのような適当なフィルムに反射層を設けた反射シート等を使用してもよい。前記反射板における前記反射層は、通常、金属から構成されるため、例えば、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続や、透明保護層の別途形成を回避する点等から、その使用形態は、前記反射層の反射面が前記フィルムや偏光板等で被覆された状態であることが好ましい。
【０１７７】
一方、前記半透過型偏光板は、前記反射型偏光板において、反射板に代えて、半透過型の反射板を有するものである。前記半透過型反射板としては、例えば、反射層で光を反射し、かつ、光を透過するハーフミラー等があげられる。
【０１７８】
前記半透過型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射して画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等に使用できる。すなわち、前記半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、一方、比較的暗い雰囲気下においても、前記内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。
【０１７９】
つぎに、本発明の光学補償層付き偏光板に、さらに輝度向上フィルムが積層された偏光板の一例を説明する。
【０１８０】
前記輝度向上フィルムとしては、特に限定されず、例えば、誘電体の多層薄膜や、屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体のような、所定偏光軸の直線偏光を透過して、他の光は反射する特性を示すもの等が使用できる。このような輝度向上フィルムとしては、例えば、３Ｍ社製の商品名「Ｄ−ＢＥＦ」等があげられる。また、コレステリック液晶層、特にコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムや、その配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの等が使用できる。これらは、左右一方の円偏光を反射して、他の光は透過する特性を示すものであり、例えば、日東電工社製の商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」等があげられる。
【０１８１】
また、複屈折性フィルム以外の位相差板としては、１／４波長板のほか一軸や二軸等の延伸ポリマーフィルム、Ｚ軸配向処理したポリマーフィルム、液晶性ポリマー層などの適当な位相差を有するものを用いることができる。拡散制御フィルムは、視野角や解像度に関連するギラツキ、散乱光等の制御をするためのものであり、拡散、散乱および／または屈折を利用した光学機能フィルムであってもよい。偏光散乱フィルムは、フィルム中に散乱性物質を含有させて、偏光がその振動方向により散乱異方性を生じるようにしたフィルムであり、偏光の制御に用いられることができる。
【０１８２】
本発明の各種偏光板は、例えば、前述のような複屈折層を含む積層偏光板と、さらに光学層とを積層して、２層以上の光学層を含む光学部材であってもよい。
【０１８３】
このように２層以上の光学層を積層した光学部材は、例えば、液晶表示装置等の製造過程において、順次別個に積層する方式によっても形成できるが、予め積層した光学部材として使用すれば、例えば、品質の安定性や組立作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上できるという利点がある。なお、積層には、前述と同様に、粘着層等の各種接着手段を用いることができる。
【０１８４】
前述のような各種偏光板は、例えば、液晶セル等の他の部材への積層が容易になることから、さらに粘着剤層や接着剤層を有していることが好ましく、これらは、前記偏光板の片面または両面に配置することができる。前記粘着層の材料としては、特に制限されず、アクリル系ポリマー等の従来公知の材料が使用でき、特に、吸湿による発泡や剥離の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性等の点より、例えば、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層となることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等でもよい。前記偏光板表面への前記粘着剤層の形成は、例えば、各種粘着材料の溶液または溶融液を、流延や塗工等により、前記偏光板の所定の面に直接添加して層を形成する方式や、同様にして後述するセパレータ上に粘着剤層を形成させて、それを前記偏光板の所定面に移着する方式等によって行うことができる。なお、このような層は、偏光板のいずれの表面に形成してもよく、例えば、偏光板における前記位相差板の露出面に形成してもよい。
【０１８５】
このように偏光板に設けた粘着剤層等の表面が露出する場合は、前記粘着層を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的として、セパレータによって前記表面をカバーすることが好ましい。このセパレータは、前記透明保護フィルム等のような適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成できる。
【０１８６】
前記粘着剤層等は、例えば、単層体でもよいし、積層体でもよい。前記積層体としては、例えば、異なる組成や異なる種類の単層を組合せた積層体を使用することもできる。また、前記偏光板の両面に配置する場合は、例えば、それぞれ同じ粘着剤層でもよいし、異なる組成や異なる種類の粘着剤層であってもよい。
【０１８７】
前記粘着剤層の厚みは、例えば、偏光板の構成等に応じて適宜に決定でき、一般には、１〜５００μｍである。
前記粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等があげられる。
【０１８８】
前記粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、前記粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
【０１８９】
以上のような本発明の複屈折性フィルムや偏光板、各種光学部材（光学層をさらに積層した各種偏光板）を形成する偏光フィルム、透明保護層、光学層、粘着剤層等の各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で適宜処理することによって、紫外線吸収能を持たせたものでもよい。
【０１９０】
本発明の複屈折性フィルムや偏光板は、前述のように、液晶表示装置等の各種装置の形成に使用することが好ましく、例えば、偏光板を液晶セルの片側または両側に配置して液晶パネルとし、反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。
【０１９１】
液晶表示装置を形成する前記液晶セルの種類は、任意で選択でき、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等、種々のタイプの液晶セルが使用できる。これらの中でも、本発明の複屈折性フィルムや偏光板は、特にＶＡ（垂直配向；Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｅｄ）セルの光学補償に非常に優れているので、ＶＡモードの液晶表示装置用の視角補償フィルムとして非常に有用である。
【０１９２】
また、前記液晶セルは、通常、対向する液晶セル基板の間隙に液晶が注入された構造であって、前記液晶セル基板としては、特に制限されず、例えば、ガラス基板やプラスチック基板が使用できる。なお、前記プラスチック基板の材質としては、特に制限されず、従来公知の材料があげられる。
【０１９３】
また、液晶セルの両面に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じ種類のものでもよいし、異なっていてもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適当な部品を、適当な位置に１層または２層以上配置することができる。
【０１９４】
さらに、本発明の液晶表示装置は、液晶パネルを含み、前記液晶パネルとして、本発明の液晶パネルを使用する以外は、特に制限されない。また、さらに光源を有する場合には、特に制限されないが、例えば、光のエネルギーが有効に使用できることから、例えば、偏光を出射する平面光源であることが好ましい。
【０１９５】
本発明の液晶パネルの一例としては、以下のような構成があげられる。例えば、液晶セル、本発明の複屈折性フィルム、偏光子および透明保護層を有しており、前記液晶セルの一方の面に前記複屈折性フィルムが積層されており、前記複屈折性フィルムの他方の面に、前記偏光子および前記透明保護層が、この順序で積層されている構造である。前記液晶セルは、二枚の液晶セル基板の間に、液晶が保持された構成となっている。また、前記複屈折性フィルムが、前述のように複屈折層と基材との積層体である場合、その配置は特に制限されないが、例えば、前記複屈折層側が前記液晶セルに面しており、前記基材側が前記偏光子に面している形態があげられる。
【０１９６】
本発明の液晶表示装置は、視認側の複屈折性フィルム（偏光板）の上に、例えば、さらに拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム、拡散制御フィルム、偏光散乱フィルムなどのほかの光学層の１以上を配置したり、または液晶パネルにおける液晶セルと偏光板との間に補償用位相差板等を適宜配置することもできる。
【０１９７】
なお、本発明の複屈折性フィルムや偏光板は、前述のような液晶表示装置には限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等の自発光型表示装置にも使用できる。自発光型フラットディスプレイに使用する場合は、例えば、本発明の複屈折性フィルムの面内位相差値Ｒｅをλ／４にすることで、円偏光を得ることができるため、反射防止フィルターとして利用できる。
【０１９８】
以下に、本発明の偏光板を備えるエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置について説明する。本発明のＥＬ表示装置は、本発明の複屈折性フィルムまたは偏光板を有する表示装置であり、このＥＬ装置は、有機ＥＬおよび無機ＥＬのいずれでもよい。
【０１９９】
近年、ＥＬ表示装置においても、黒状態における電極からの反射防止として、例えば、偏光子や偏光板等の複屈折性フィルムをλ／４板とともに使用することが提案されている。本発明の偏光子や複屈折性フィルムは、特に、ＥＬ層から、直線偏光、円偏光もしくは楕円偏光のいずれかの偏光が発光されている場合、あるいは、正面方向に自然光を発光していても、斜め方向の出射光が部分偏光している場合等に、非常に有用である。
【０２００】
まずここで、一般的な有機ＥＬ表示装置について説明する。前記有機ＥＬ表示装置は、一般に、透明基板上に、透明電極、有機発光層および金属電極がこの順序で積層された発光体（有機ＥＬ発光体）を有している。前記有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層とアントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層との積層体や、また、前記正孔注入層と発光層と電子注入層との積層体等、種々の組み合わせがあげられる。
【０２０１】
そして、このような有機ＥＬ表示装置は、前記陽極と陰極とに電圧を印加することによって、前記有機発光層に正孔と電子とが注入され、前記正孔と電子とが再結合することによって生じるエネルギーが、蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。前記正孔と電子との再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、電流と発光強度とは、印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０２０２】
前記有機ＥＬ表示装置においては、前記有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要なため、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の透明導電体で形成された透明電極が陽極として使用される。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に、仕事関数の小さな物質を用いることが重要であり、通常、Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉ等の金属電極が使用される。
【０２０３】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、前記有機発光層は、例えば、厚み１０ｎｍ程度の極めて薄い膜で形成されることが好ましい。これは、前記有機発光層においても、透明電極と同様に、光をほぼ完全に透過させるためである。その結果、非発光時に、前記透明基板の表面から入射して、前記透明電極と有機発光層とを透過して前記金属電極で反射した光が、再び前記透明基板の表面側へ出る。このため、外部から視認した際に、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見えるのである。
【０２０４】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば、前記有機発光層の表面側に透明電極を備え、前記有機発光層の裏面側に金属電極を備えた前記有機ＥＬ発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、前記透明電極の表面に、本発明の複屈折性フィルム（偏光板等）が配置されることが好ましく、さらにλ／４板を偏光板とＥＬ素子との間に配置することが好ましい。このように、本発明の複屈折性フィルムを配置することによって、外界の反射を抑え、視認性向上が可能であるという効果を示す有機ＥＬ表示装置となる。また、前記透明電極と複屈折性フィルムとの間に、さらに位相差板が配置されることが好ましい。
【０２０５】
前記位相差板および複屈折性フィルム（偏光板等）は、例えば、外部から入射して前記金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって前記金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板として１／４波長板を使用し、かつ、前記偏光板と前記位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、前記金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、前記偏光板によって直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は、前記位相差板によって、一般に楕円偏光となるが、特に前記位相差板が１／４波長板であり、しかも前記角がπ／４の場合には、円偏光となる。
【０２０６】
この円偏光は、例えば、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び、有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、前記位相差板で再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、前記偏光板の偏光方向と直交しているため、前記偏光板を透過できず、その結果、前述のように、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができるのである。
【０２０７】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
また、複屈折性フィルムの特性は以下の方法で評価した。
（位相差測定）
商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（王子計測機器製）を用いて測定した。
（軸精度測定）
商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（王子計測機器製）を用いて測定した。
【０２０８】
なお、各層におけるＲｅとＲｚは、下記の式を用いて得た。
Ｒｅ（面内方向の位相差値）＝（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ
Ｒｚ（厚み方向の位相差値）＝（ｎｘ−ｎｚ）・ｄ
前記式中、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示す。前記Ｘ軸とは、前記層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄは前記層の厚みを示す。
【０２０９】
（実施例１）
２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルとから合成された重量平均分子量（Ｍｗ）１２０，０００のポリイミドを、シクロヘキサノンに溶解して１５重量％のポリイミド溶液を調製した。そして、厚み５０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に前記ポリイミド溶液を塗工した。そして、この塗工膜を１００℃で１０分乾燥処理した結果、厚み６μｍのポリイミドフィルムが形成された。前記ポリイミドフィルムは、Ｒｅが０．０４ｎｍ、Ｒｚが２４０ｎｍのフィルムであった。
【０２１０】
前記ポリイミドフィルムとＴＡＣフィルムの積層体を、延伸前の積層体の長さに対して１０％の縦一軸延伸を１６０℃で行った。延伸された積層体の前記ポリイミドフィルムは、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を示し、Ｒｅが１４０ｎｍ、Ｒｚが２５０ｎｍの複屈折性層であった。
【０２１１】
下記化学式（６８）に示す棒状ネマチック液晶モノマー（９０重量部）、光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７：チバスペシャリティーケミカルズ社製）（５重量部）およびメチルエチルケトン（３００重量部）を混合し、この混合物を前記複屈折性層上に約１．１μｍの厚さで塗工した。そして、これを９０℃で１分間加熱処理することによって、液晶モノマーを配向させた後、紫外線照射によって前記モノマーを重合させて固定化した。この液晶化合物の層は、厚み約０．８μｍ、Ｒｅが１００ｎｍ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの特性（正のＡプレート）を示す複屈折層であった。ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を有する非液晶性ポリマー製複屈折層と、液晶化合物製複屈折層とを含む複屈折性フィルムを得た。得られた複屈折性フィルムの光学特性を下記の表２に示す。
【０２１２】
【化２４】
2004226945.tif 000028
【０２１３】
（実施例２）
残存溶媒量が１重量％、厚み０．５μｍのポリイミドフィルムを形成した以外は、実施例１と同様に行った。ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を示す非液晶性ポリマー製複屈折層と、液晶化合物製複屈折層とを含む複屈折性フィルムを得た。得られた複屈折性フィルムの光学特性を下記の表２に示す。
【０２１４】
（実施例３）
４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物と、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニルとから合成された重量平均分子量（Ｍｗ）３万のポリイミドを、シクロペンタノンに溶解して２０重量％のポリイミド溶液を調製した。そして、厚み８０μｍのＴＡＣフィルム上に前記ポリイミド溶液を塗工した。そして、この塗工膜を１３０℃で５分熱処理した結果、厚み７μｍの透明で平滑なポリイミドフィルムが形成された。前記ポリイミドフィルムは、Ｒｅが０．０５ｎｍ、Ｒｚが１７５ｎｍのフィルムであった。
【０２１５】
前記ポリイミドフィルムとＴＡＣフィルムの積層体を、延伸前の積層体の長さに対して１５％の横一軸延伸（テンター）を１６０℃で行った。延伸された積層体のポリイミドフィルムは、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を示し、Ｒｅが１３０ｎｍ、Ｒｚが２６０ｎｍの複屈折性層であった。
【０２１６】
実施例１と同様にして、前記複屈折性層上に、厚み約０．８μｍ、Ｒｅが１００ｎｍ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの複屈折層を形成し、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を示す非液晶性ポリマー製複屈折層と、液晶化合物製複屈折層とを含む複屈折性フィルムを得た。得られた複屈折性フィルムの光学特性を下記の表２に示す。
【０２１７】
（実施例４）
実施例１で調製したポリイミド溶液を、厚み５０μｍのＴＡＣフィルム上に塗工した。そして、この塗工膜を１００℃で１０分乾燥処理した結果、厚み６μｍのポリイミドフィルムが形成された。前記ポリイミドフィルムは、Ｒｅが０．０４ｎｍ、Ｒｚが２４０ｎｍのフィルムであった。
【０２１８】
前記ポリイミドフィルムに、ラビング布を用いてラビング処理をした。
実施例１と同様にして、前記複屈折性層上に、厚み約０．８μｍ、Ｒｅが１００ｎｍ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの複屈折層を形成した。ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を示す非液晶性ポリマー製複屈折層と、液晶化合物製複屈折層とを含む複屈折性フィルムが得られた。得られた複屈折性フィルムの光学特性を下記の表２に示す。
【０２１９】
（比較例１）
側鎖にシアノベンゼンを有するポリマーを、シクロヘキサノンに溶解して１重量％のポリマー溶液を調製した。そして、厚み５０μｍのＴＡＣフィルム上に前記ポリマー溶液を塗工した。そして、この塗工膜に、可視偏光を８００ｍＪ／ｃｍ２の強度で照射して、配向膜を形成した。
前記配向膜上に、実施例１と同様にして、厚み約０．８μｍ、Ｒｅが１００ｎｍ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの複屈折層を形成した。従来の配向膜層と、液晶化合物製複屈折層とを含む複屈折性フィルムを得た。得られた複屈折性フィルムの光学特性を下記の表２に示す。
【表２】
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【０２２０】
（評価試験）
実施例１〜４で得た複屈折性フィルムおよび比較例１で得た複屈折性フィルムのそれぞれを、その遅相軸が偏光板の吸収軸と直交するように、偏光板（日東電工社製、商品名：ＳＥＧ１４２５ＤＵ）とアクリル系粘着層を介して積層した。それを、垂直配向モードの液晶セルの両側に、両側の偏光板の偏光軸が直行するようにアクリル系粘着層を介して接着して液晶パネルを形成した。
【０２２１】
次に得られた液晶パネルの上下、左右、対角（４５°〜２２５°）、対角（１３５°〜３１５°）の各方向でのコントラスト比（Ｃｏ）≧１０の視野角を測定した。コントラスト比は、前記液晶パネルに、白画像および黒画像を表示させ、Ｅｚ  ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ（ＥＬＤＩＭ社製）により、表示画面の正面、上下左右について、視野角０〜７０°におけるＸＹＺ表示系のＹ値、ｘ値、ｙ値をそれぞれ測定した。そして、白画像におけるＹ値（ＹＷ）と、黒画像におけるＹ値（ＹＢ）とから、各視野角におけるコントラスト比（ＹＷ／ＹＢ）を算出した。
【０２２２】
実施例１および２ならびに比較例１で得た複屈折性フィルムを含む液晶パネルのコントラスト図を図１〜３にそれぞれ示す。実施例３および４で得た複屈折性フィルムを含む液晶パネルのコントラスト図は、実施例１で得た複屈折性フィルムを含む液晶パネルのコントラスト図１とほぼ同一であった。なお、図中、黒部分が１０以下のコントラスト比であることを意味する。
【０２２３】
図より、実施例１、３および４で得た複屈折性フィルムを含む液晶パネルは、表示コントラストが良好であることが示された。実施例２で得た複屈折性フィルムを含む液晶パネルは、実施例１、３および４に比べて表示コントラストは低下したが、実用レベルでは問題のないレベルであった。
【０２２４】
【発明の効果】
従って、本発明の製造方法は、製造工程数がより少ない、複屈折性フィルムの厚みがより薄い、複屈折性フィルムの製造方法である。その製造方法を用いると、液晶層を配向させる機能と光学補償機能を非液晶ポリマー製複屈折層に集約することができる。その結果、良好なコントラストを得るために、位相差板を更に積層させる必要がなくなる。また、非液晶ポリマー製複屈折層を二軸性フィルムとすることで、非常に良好なコントラストを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の液晶パネルのコントラスト曲線である。
【図２】実施例２の液晶パネルのコントラスト曲線である。
【図３】比較例１の液晶パネルのコントラスト曲線である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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