(57)【要約】【課題】中間波長が途切れることを防止すること、【解決手段】波長可変式光フィルタは、反射膜１０とスペーサ層１２とを有する帯域通過フィルタ本体１４と、基板１６とを備えている。反射膜１０は、屈折率の異なる誘電体層を交互に複数枚ずつ積層したものである。スペーサ層１２は、一対の反射膜１０にその前後を挟まれていて、厚みが、一方向に沿って連続的に変化するように、上下面にテーパ状の傾斜面が設けられている。フィルタ本体１４では、スペーサ層１２の厚みが変わると、透過波長λの値が変化する。透過波長を変更する場合に、入射光Ｌｉｎの帯域通過光フィルタ本体１４の入射位置が、▲１▼→▲２▼→▲３▼→▲４▼の順になるように、帯域通過光フィルタ本体１４が移動される。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率の異なる誘電体層を交互に積層した反射膜と、一対の前記反射膜で挟まれたスペーサ層を有し、前記スペーサ層の屈折率と厚みに対応した特定の透過波長のみを透過させる帯域通過フィルタ本体を備え、
前記スペーサ層の厚みが、一方向に沿って連続的に変化するように形成して、前記帯域通過フィルタ本体への入射位置の変更により、透過波長が変化するようにした波長可変式光フィルタにおいて、
前記帯域通過フィルタ本体の側方に入射光の全部を反射する全反射領域を設け、前記透過波長を変更する際に、前記入射位置を、前記全反射領域を経由させた後に、前記帯域通過フィルタ本体の別の位置に変更することを特徴とする波長可変式光フィルタ。
【請求項２】
前記全反射領域は、前記帯域通過フィルタ本体の前記スペーサの厚みが変化しない方向に隣接配置することを特徴とする請求項１記載の波長可変式光フィルタ。
【請求項３】
前記全反射領域は、前記反射膜の一部を除去することにより、前記スペーサ層の一部に一体に形成することを特徴とする請求項２記載の波長可変式光フィルタ。
【請求項４】
前記全反射領域は、前記透過波長を取り出す前記帯域通過フィルタ本体の背面側に設けることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の波長可変式光フィルタ。
【請求項５】
平面内での二次元移動が可能なステージと、前記ステージを二次元方向に個別に移動させる移動機構を備え、
全反射領域を側方に設けた帯域通過フィルタ本体を前記ステージ上に搭載し、前記帯域通過フィルタ本体の一端側に入射ポートと反射ポートとを設け、かつ、前記帯域通過フィルタ本体の他端側に透過ポートを設け、
前記帯域通過フィルタ本体の透過波長を変更する際に、前記移動機構の作動により、前記入射ポートを介する前記帯域通過フィルタ本体への入射位置を、前記全反射領域を経由させて、前記帯域通過フィルタ本体の別の位置に変更することを特徴とする波長可変式光フィルタ用波長変更装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、波長可変式光フィルタおよび同フィルタ用波長変更装置に関し、特に、透過波長を変更する際に、変更前と変更後の中間に存在する波長を途切れさせることなく、変更することができる波長可変式光フィルタおよび同フィルタ用波長変更装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
多数の波長成分が含まれた光、例えば、波長多重光から、特定の波長（透過波長）と他の波長とを分離する光フィルタのうち、透過波長を変更することができる波長可変式光フィルタが知られている。
【０００３】
この種の光フィルタは、例えば、波長多重通信システムにおいて、メンテナンスのために特定の波長の光だけを抽出する際や、波長多重光通信ネットワークにおいて、特定の波長だけを別の線路に切り替えるアド／ドロップフィルタなどへの応用が考えられている。
【０００４】
ところで、このような用途に用いられる波長可変式の光フィルタは、従来、図９に示すような構成のものが知られている。同図に示した光フィルタは、屈折率の異なる誘電体層を交互に積層した反射膜１と、一対の反射膜１で挟まれたスペーサ層２とからなる帯域通過フィルタ本体３を備えている。
【０００５】
帯域通過フィルタ本体３は、光透過性の基板４に搭載されていて、スペーサ層２の屈折率をｎｓとし、厚みをｄｓとしたときに、２・ｎｓ・ｄｓの波長（λ）のみを透過させる。
【０００６】
スペーサ層２は、一方向に沿って厚みが連続して異なるようにテーパ状に形成されている。このように構成された光フィルタでは、帯域通過フィルタ本体３への入射光Ｌｉｎの入射位置が異なると、スペーサ層２の厚みが変化して、その結果、透過光Ｌｏｕｔの波長（λ）が変化する。
【０００７】
以上のような構成の光フィルタは、例えば、波長多重通信システムに適用する場合には、図９に示すように、帯域通過フィルタ本体３の一端側に入射ポートと反射ポートが配置され、帯域通過フィルタ本体３の他端側には、透過ポートが設けられる。
【０００８】
このような波長多重通信システムにおいて、例えば、メンテナンスのために特定の波長を透過ポートから取り出したい場合には、帯域フィルタ本体３を透過波長が変化する方向、すなわち、スペーサ層２の厚みが変わる方向にスライド移動させて、透過ポートからの透過光の波長が所定値になるように調整していた。
【０００９】
しかしながら、このような従来の光フィルタには、以下に説明する技術的な課題があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
すなわち、前述した従来の光フィルタにおける波長の変更方法では、波長を変更する過程で、反射ポートに出力されている波長の光が途切れてしまうという欠点があった。
【００１１】
これをより具体的に説明すると、今例えば、図９において、入射ポートから、多数の波長が含まれた波長多重光（入射光Ｌｉｎ）が入射され、この入射光Ｌｉｎのうち、特定波長、例えば、λ３の反射光Ｌｒを反射ポートから弁別受光し、透過ポートから、特定波長、例えば、λ２の透過光Ｌｏｕｔを弁別受光していた場合に、波長にλ２＞λ３＞λ４の関係があるとすると、透過波長を変更する前には、帯域通過フィルタ本体３の反射スペクトルは、図１０（Ａ）に示すように、透過波長λ２の部分が欠けた状態になっている。
【００１２】
このような反射スペクトルが得られている状態から、スライド移動させて、透過光Ｌｏｕｔの波長をλ２からλ４に変更して、反射スペクトルが図１０（Ｃ）に示すようになるように変更する際には、波長λ３が透過する位置を経て、波長λ４が透過する位置に移動させることになる。
【００１３】
ところが、この移動過程においては、図１０（Ｂ）に示すように、波長λ３の光がフィルタ本体３を透過するので、この波長成分が反射スペクトルから途切れてしまう。
【００１４】
従って、波長λ３の光を弁別受光している反射ポートが、通信サービス状態にある場合には、サービスを一時停止しなければ、透過波長を変更することができないという問題があった。
【００１５】
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、中間波長が途切れることなく、透過波長の変更が可能になる波長可変式光フィルタおよび同フィルタ用波長変更装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、屈折率の異なる誘電体層を交互に積層した反射膜と、一対の前記反射膜で挟まれたスペーサ層を有し、前記スペーサ層の屈折率と厚みに対応した特定の透過波長のみを透過させる帯域通過フィルタ本体を備え、前記スペーサ層の厚みが、一方向に沿って連続的に変化するように形成して、前記帯域通過フィルタ本体への入射位置の変更により、透過波長が変化するようにした波長可変式光フィルタにおいて、前記帯域通過フィルタ本体の側方に入射光の全部を反射する全反射領域を設け、前記透過波長を変更する際に、前記入射位置を、前記全反射領域を経由させた後に、前記帯域通過フィルタ本体の別の位置に変更するようにした。
【００１７】
このように構成した波長可変式光フィルタによれば、帯域通過フィルタ本体の側方に入射光の全部を反射する全反射領域を設け、透過波長を変更する際に、入射位置は、全反射領域を経由させた後に、帯域通過フィルタ本体の別の位置に変更するので、全反射領域に入射位置が存在する間は、入射光が全く透過せず、全ての波長領域が反射光に含まれおり、波長変更の前後に挟まれる中間波長が、反射スペクトルから途切れることがない。
【００１８】
前記全反射領域は、前記帯域通過フィルタ本体の前記スペーサの厚みが変化しない方向に隣接配置することができる。
【００１９】
前記全反射領域は、前記反射膜の一部を除去することにより、前記スペーサ層の一部に一体に形成することができる。
前記全反射領域は、前記透過波長（λ）を取り出す前記帯域通過フィルタ本体の背面側に設けることができる。
【００２０】
また、本発明は、平面内での二次元移動が可能なステージと、前記ステージを二次元方向に個別に移動させる移動機構を備え、全反射領域を側方に設けた帯域通過フィルタ本体を前記ステージ上に搭載し、前記帯域通過フィルタ本体の一端側に入射ポートと反射ポートとを設け、かつ、前記帯域通過フィルタ本体の他端側に透過ポートを設け、前記帯域通過フィルタ本体の透過波長を変更する際に、前記移動機構の作動により、前記入射ポートを介する前記帯域通過フィルタ本体への入射位置を、前記全反射領域を経由させて、前記帯域通過フィルタ本体の別の位置に変更するようにした。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付図面に基づいて詳細に説明する。図１〜図４は、本発明にかかる波長可変式光フィルタの一実施例を示している。
【００２２】
同図に示した波長可変式光フィルタは、反射膜１０とスペーサ層１２とを有する帯域通過フィルタ本体１４と、基板１６とを備えている。反射膜１０は、その詳細を図２に示すように、屈折率の異なる誘電体層を交互に複数枚ずつ積層したものであって、高屈折率誘電体層１０ａと低屈折率誘電体層１０ｂとを有している。
【００２３】
高屈折率誘電体層１０ａは、例えば、Ｔａ２Ｏ５やＴｉＯ２などから構成され、低屈折率誘電体層１０ｂは、ＳｉＯ２などから構成されている。反射膜１０の高屈折率誘電体層１０ａと低屈折率誘電体層１０ｂは、動作波長λに対して、以下の条件を満たすように設定される。
【００２４】
高屈折率誘電体層１０ａは、その屈折率をｎＨとすると、膜厚ｄＨが、（λ／４）／ｎＨを満足するように、また、低屈折率層１０ｂは、その屈折率をｎＬとすると、膜厚ｄＬが、（λ／４）／ｎＬを満足するように設定する。
一方、スペーサ層１２は、一対の反射膜１０にその前後を挟まれていて、厚みｄｓが、一方向に沿って連続的に変化するように、上下面にテーパ状の傾斜面が設けられている。
【００２５】
このように構成した帯域通過フィルタ本体１４では、スペーサ層１２屈折率をｎＳ（＝ｎＬ）と、その厚みをｄｓとすると、透過波長λは、以下の式により表される。
λ＝２・ｎＳ（＝ｎＬ）・ｄｓ
従って、スペーサ層１２の厚みｄｓが変わると、透過波長λの値が変化することになる。また、基板１６は、例えば、光透過性のガラス基板などから選択され、その一面には、反射防止膜２０が形成されている。
【００２６】
以上のような帯域通過光フィルタ本体１４としての基本的な構成は、従来のこの種のフィルタと同じであるが、本実施例の光フィルタは、以下の点に顕著な特徴がある。
【００２７】
すなわち、帯域通過光フィルタ本体１４の側方には、入射光Ｌｉｎの全部を反射する全反射領域１８が設けられている。本実施例の場合、この全反射領域１８は、帯域通過フィルタ本体１４のスペーサ層１２の厚みが変化しない方向、すなわち、スペーサ層１２の傾斜方向に対して、直交する方向に隣接配置されている。
【００２８】
また、本実施例の場合には、全反射領域１８は、反射膜１０の一部、すなわち、一方側の反射膜１０を除去することにより、スペーサ層１２の一部に一体に形成されている。
【００２９】
図３には、全反射領域１８を一体的に設けた帯域通過光フィルタ本体１４を製造する方法の一例が示されている。同図に示した製造方法では、リフトオフ法（代表的なエッチング技術の一つ）によりフィルタ膜を作成する方法であって、まず、（１）に示すように、ガラス基板１６の裏面に、蒸着，スパッタリングにより反射防止膜２０が形成される。
【００３０】
この反射防止膜２０は、例えば、日本学術振興会薄膜第１３１委員会編、「薄膜ハンドブック」オーム社発行、ｐ８１８〜８２１に記載されているような、広く用いられている技術で作製する。
【００３１】
次に、（２）に示すように、ガラス基板１６の表面側に反射膜１０を成膜する。反射膜１０は、所定膜厚の高屈折率誘電体層１０ａと低屈折率誘電体層１０ｂとを交互に積層して形成する。
【００３２】
引き続いて、（３）に示すように、反射膜１０上に誘電体スペーサ層１２を成膜形成する。この際には、例えば、ガラス基板１６を傾けるなどの方法により、蒸着源と基板１６との間の距離が、基板１６内の位置に依存して変わるようにして蒸着し、または、同じような状態でスパッタリングを行い、スペーサ層１２の厚みが、一方向に沿って連続的に変化するように、テーパ状に傾斜形成する。このような成膜方法は、例えば、特開平６−２６５７２２号公報や、特開平８−２２７０１４号公報に開示されている。
【００３３】
次に、（４）に示すように、スペーサ層１２上にマスク層２２を成膜形成し、その概略半分の面積の部分を露光した後に、その部分を現像液で除去する。次いで、（５）に示すように、スペーサ層１２とマスク層２２との上に再び、高屈折率誘電体層１０ａと低屈折率誘電体層１０ｂとを交互に積層して反射膜１０を成膜形成する。
【００３４】
最後に、（６）に示すように、マスク層２２と、その上に積層された反射膜１０とを、エッチング液で一緒に除去すると、スペーサ１２の上部に全反射領域１８が形成された帯域通過光フィルタ本体１４が得られる。なお、図３に示した例では、基板１６の形状は、長方形状のものを例示したが、この形状は、丸形などの任意形状であっても良い。
【００３５】
以上のように構成された帯域通過光フィルタ１４は、例えば、波長多重通信システムに適用する場合には、図１に示すように、帯域通過フィルタ本体３の一端側（基板１６側）に入射ポートと反射ポートが配置され、帯域通過フィルタ本体３の他端側（反射膜１０の背面側）に透過ポートが設けられる。
【００３６】
そして、入射ポートから、多数の波長が含まれた波長多重光（入射光Ｌｉｎ）が入射され、この入射光Ｌｉｎのうち、特定波長、例えば、λ３の反射光Ｌｒを反射ポートから弁別受光し、透過ポートから、特定波長、例えば、λ２の透過光Ｌｏｕｔを弁別受光していて、透過波長をλ２からλ４に変更する場合に、本実施例では、以下の手順でこれが実行される。
【００３７】
この場合、波長の関係がλ２＜λ３＜λ４の関係にあるものとする。本実施例の場合には、入射光Ｌｉｎの帯域通過光フィルタ本体１４の入射位置が、図１に示すように、▲１▼→▲２▼→▲３▼→▲４▼の順になるように、帯域通過光フィルタ本体１４が移動される。なお、以下の説明では、フィルタ本体１４を移動する場合を例示しているが、フィルタ本体１４側を固定して、入射位置を移動させても同じ結果が得られる。
【００３８】
入射位置▲１▼は、透過波長λ２が得られている位置であって、反射スペクトルは、図４（Ａ）に示すように、透過波長λ２が存在していない。入射位置▲２▼および▲３▼は、全反射領域１８であり、これらの入射位置では、入射光Ｌｉｎの全波長成分が反射され、反射スペクトルは、図４（Ｂ）に示すようになる。
【００３９】
入射位置▲４▼は、スペーサ層１２の厚みが、入射位置▲１▼よりも厚くなっているｘ方向に移動させた位置にあって、この位置では、透過波長λ４が得られる位置であり、反射スペクトルは、図４（Ｃ）に示すように、透過波長λ４が存在していない。
【００４０】
本実施例では、透過波長を変更する際に、入射位置は、全反射領域１８を経由させた後に、帯域通過フィルタ本体１４の別の位置に変更するようにしている。より具体的には、入射位置▲１▼から透過波長λ４が得られる入射位置▲４▼に移動させる前に、まず、フィルタ本体１４をｙ軸方向に移動させる。
この場合、ｙ軸方向は、スペーサ層１２の厚みの変化がない方向なので、その方向に移動させても、透過波長λ２は、変化しない。
【００４１】
従って、入射位置が全反射領域１８に到達するまでは、反射スペクトルは、図４（Ａ）の状態に維持され、入射位置が全反射領域１８に入ると、反射スペクトルは、図４（Ｂ）に示すようになる。
【００４２】
入射位置が全反射領域１８の▲２▼に到達すると、次に、入射位置は、ｘ方向に移動させて全反射領域１８内の▲３▼位置に移動される。このような移動過程においては、入射位置は、全反射領域１８内にあるので、反射スペクトルは、図４（Ｂ）に示す状態が維持されて入射光Ｌｉｎの全波長成分が反射される。
【００４３】
次に、入射位置は、▲３▼から▲４▼４位置にｙ軸方向に平行移動される。この場合、入射位置が全反射領域１８から脱出して、帯域通過フィルタ本体１４の▲４▼位置に到達すると、反射スペクトルは、図４（Ｃ）に示すように、透過波長λ４が存在していない状態となり、透過波長の変更が完了する。
【００４４】
このようにして、入射位置を全反射領域１８を経由させた後に、帯域通過フィルタ本体１４の▲１▼〜▲４▼に変更して、透過波長をλ２からλ４に切り替えると、入射位置▲１▼→▲２▼に至る過程では、スペーサ層１２の厚みの変化がない方向と、全反射領域１８となるので、反射スペクトルには、波長λ３が常時含まれている。
【００４５】
また、入射位置▲２▼→▲３▼の過程および▲３▼→▲４▼にいたる過程で全反射領域１８を脱出するまでは、全て全反射領域１８なので、反射スペクトルには、波長λ３が常時含まれている。
【００４６】
従って、透過波長がλ２からλ４に変更されるまでの過程中において、反射スペクトルには、常時波長λ３が含まれているので、反射ポート側でこの波長成分が途切れることなく、透過ポート側で透過波長λ２からλ４への変更が可能になる。
【００４７】
なお、上記実施例では、帯域通過フィルタ本体１４の側方に一体的に全反射領域１８を形成したものを例示したが、本発明の実施は、これに限定されることはなく、例えば、別に形成した全反射領域をフィルタ本体１４に付設しても良い。また、全反射領域１８の形成手段もエッチングにより形成することだけでなく、他の手段であってもよい。さらに、上記実施例では、光の入射を基板１６側に設定したが、これは、反射膜１０側であっても良いが、基板１６側にするとフィルタ領域と全反射領域１８との境界での段差がなくなり、この部分での光の散乱を防ぐことができる。
【００４８】
図５から図７は、図４に示した製造方法により、本発明の波長可変式光フィルタを試作し、その特性を測定した測定結果を示している。この試作では、基板１６は、ＢＫ−７光学ガラスを用い、スペーサ層１２は、ＳｉＯ２を用い、反射膜１０の高屈折率誘電体層１０ａは、Ｔａ２Ｏ５とし、低屈折率誘電体層１０ｂには、ＳｉＯ２を用いこれらを交互に形成した。また、マスク層２２には、Ｃｕを用いた。
【００４９】
この試作では、図５に示すように、長辺の長が１０ｍｍの長方形状の略半分に全反射領域１８を形成し、光ビームの入射位置は、同図に示すように、合計３９箇所設定した。
【００５０】
図６は、入射ビームの波長を変化させた場合の入射位置１，７，２０，３３，３９における反射ポートで測定した光スペクトルである。この場合、入射位置１と同７とが、スペーサ層１２の厚みが変わらない方向の直線上にあり、位置２０が全反射領域１８に配置されている。
また、入射位置３３と同３９は、スペーサ層１２の厚みが変わらない方向の直線上にあり、この直線と位置１，７が配置されている直線とが約７ｍｍ間隔を隔てて平行になっている。
【００５１】
図６のグラフから判るように、位置１と同７とにおける光スペクトルでは、１５３７ｎｍ（透過波長λ４に相当）に損失のピークが認められ、位置３３と同３９には、１５３２ｎｍ（透過波長λ２に相当）に損失のピークが認められ、位置２０では、１５２５〜１５４５ｎｍの範囲に損失のピークが存在していない。
【００５２】
このことは光ビームの入射位置を１（透過波長１５３７ｎｍ）→７→２０→３３→３９（透過波長１５３２ｎｍ）に移動させた場合には、これらの中間波長（例えば、１５３５ｎｍ）では、損失が増加していないことがわかる。
【００５３】
図７は、１５３７ｎｍ（位置１での透過波長）、１５３２ｎｍ（位置３９での透過波長）およびこれらの中間となる１５３５ｎｍの３波長の光に対する反射ポートで測定した光強度の測定結果である。
【００５４】
同図に示したことから判るように、１５３５ｎｍの光は、光ビームの入射位置を変えても、殆ど影響を受けていないことがわかり、これらの特性測定の結果から本発明の有効性を確認することができた。
【００５５】
図８は、上述した波長可変式光フィルタ用の波長変更装置の一実施例を示している。同図に示した波長変更装置は、二次元方向に移動自在なステージ３０と、ステージ３０を二次元方向に移動させる移動機構３２と、これらを収納する筐体３４を有している。
【００５６】
ステージ３０は、平板状に形成され、二次元ｘ，ｙ方向に移動自在に筐体３４に支持されており、ステージ３０上には、波長可変式光フィルタの帯域通過フィルタ本体１４が載置されている。
【００５７】
フィルタ本体１４は、図１に示した構成と同じものであって、反射膜１０とスペーサ層１２と基板１６とを備え、側方に全反射領域１８が設けられている。なお、図８に示した状態では、全反射領域１８は、本体１４の背面に隠れている。
【００５８】
フィルタ本体１４は、基板１６と反射膜１０とが両端に位置するようにステージ３０に搭載されていて、基板１６側の前方に、入射および反射ポート３６，３８が設定され、反射膜１０の後方に透過ポート４０が配置されている。
【００５９】
各ポート３６，３８，４０は、コリメータレンズ３６ａ，３８ａ，４０ａと、これに結合された光ファイバ３６ｂ，３８ｂ，４０ｂとを有し、コリメータレンズ３６ａ，３８ａ，４０ａがステージ３０に近接するようにして、筐体３４に固定されている。
【００６０】
移動機構３２は、ｘ軸およびｙ軸移動機構３２ａ，３２ｂから構成され、本実施例の場合には、手動式のマイクロメータが用いられており、マイクロメータを回転することにより、回転量に応じてステージ３０がｘ軸ないしはｙ軸方向に移動する。なお、この移動機構３２は、マイクロメータによる手動方式に限る必要はなく、例えば、ステッピングモータなどを用いた電動式の移動機構であっても良い。
【００６１】
帯域通過フィルタ本体１４の透過波長を変更する際には、移動機構３２の作動により、入射ポート３６を介する帯域通過フィルタ本体１４への入射位置を、全反射領域１８を経由させて、帯域通過フィルタ本体１４の別の位置に変更する。
【００６２】
この変更過程をより具体的に説明すると、透過波長を変更する際には、まず、ｙ軸移動機構３２ｂを作動させて、通過フィルタ１４を図６の紙面と直交する方向に移動させて、フィルタ１４の背面側配置されている全反射領域１８が、入射ポート３６のコリメータレンズ３６ａに対面するようにする。
【００６３】
その後、この状態を維持しつつ、ｘ軸移動機構３２ａを作動させて、ｘ方向に移動させ、その後に、再びｙ軸移動機構３２ｂを作動させて、フィルタ１４の別の箇所が、入射ポート３６のコリメータレンズ３６ａに対面するようにする。
【００６４】
このような移動過程は、実質的には、図１に示した▲１▼〜▲４▼の移動過程と同じ状態であって、このようにして移動させることにより、中間波長を途切れさすことなく、透過波長を変更することが可能になる。
【００６５】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明にかかる波長可変式光フィルタおよび同フィルタ用波長変更装置によれば、中間波長が途切れることなく、透過波長の変更が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる波長可変式光フィルタの一実施例を示す全体構成説明図である。
【図２】図１の要部拡大図である。
【図３】本発明にかかる波長可変式光フィルタを製造する際の製造工程の説明図である。
【図４】図１に示した波長可変式光フィルタにおいて、透過波長を変更する際の反射スペクトルの説明図である。
【図５】本発明にかかる波長可変式光フィルタの特性を測定した位置の説明図である。
【図６】本発明にかかる波長可変式光フィルタの代表的な光ビーム位置での反射スペクトルの説明図である。
【図７】本発明にかかる波長可変式光フィルタにおいて、光ビーム位置を移動した時の反射ポートにおける損失変化の説明図である。
【図８】本発明にかかる波長可変式光フィルタ用波長変更装置の一実施例を示す全体構成説明図である。
【図９】従来の波長可変式光フィルタの一例を示す全体構成説明図である。
【図１０】図７に示した波長可変式光フィルタにおいて、透過波長を変更する際の反射スペクトルの説明図である。
【符号の説明】
１０　　　　　反射膜
１２　　　　　スペーサ層
１４　　　　　帯域通過フィルタ本体
１６　　　　　基板
１８　　　　　全反射領域
３０　　　　　ステージ
３２　　　　　移動機構
３６　　　　　入射ポート
３８　　　　　反射ポート
４０　　　　　透過ポート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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