(57)【要約】【課題】光散乱用の凹凸を付与するための凹凸形成層を形成しても品位の高いカラー画像を表示することのできる半透過反射型電気光学装置、およびそれを用いた電子機器を提供すること。【解決手段】半透過反射型の電気光学装置１では、光反射膜３３と、カラーフィルタ層３４と、オーバーコート層３５と、対向電極３６とが形成され、光反射膜３３には、透過モードでの表示を可能とする光透過窓３３０が形成されている。下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを構成する感光性樹脂層は、短波長域の光を吸収するという分光特性を有しているので、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、光透過窓３３０と平面的に重なる領域に下層側凹凸形成層５１ａ、および上層側凹凸形成層５２ａのいずれもが形成されていない。【選択図】      図３
2004264513.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質を保持するための透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成膜、反射モードでの表示を可能とする光反射膜、およびカラーフィルタ層がこの順に形成され、前記光反射膜には透過モードでの表示を可能とする光透過窓が各画素毎に形成された電気光学装置において、
前記凹凸形成層は、該凹凸形成層の分光特性に応じて、前記各画素のうち、所定色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、他の色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されていないことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１において、前記各画素には、赤色、緑色、青色に対応する前記カラーフィルタ層が形成されているとともに、前記凹凸形成層は、感光性樹脂から構成され、
前記凹凸形成層は、前記各画素のうち、赤色および緑色カラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、青色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されていないことを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２において、前記各画素では、前記カラーフィルタ層として、前記光反射膜と平面的に重なる領域に反射表示用のカラーフィルタ層が形成されている一方、前記光透過窓と平面的に重なる領域には、前記反射表示用のカラーフィルタ層よりも着色性の強い透過表示用のカラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層が形成されていない前記画素で当該光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層は、他の画素で前記光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層よりも厚いことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記電気光学物質は、前記基板と、該基板に対向配置された別の基板との間に保持された液晶であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに規定する電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透過モードおよび反射モードでの表示が可能な電気光学装置、およびそれを用いた電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
代表的な電気光学装置の一つである液晶装置は、薄型、軽量、低消費電力という特長を有していることから、携帯電話機、モバイルコンピュータなどの表示装置として広く用いられている。
【０００３】
この種の電気光学装置では、図９に示すように、バックライト装置から出射された光によって透過モードでの表示を行え、かつ、外光を利用した反射モードでの表示も行えるように、液晶を保持する一対の基板のうちの一方に、反射モードでの表示を可能とする光反射膜３３、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４と、オーバーコート層３５、透光性を備えた画素電極３６、および配向膜３７がこの順に形成されている一方、光反射膜３３には透過モードでの表示を可能とする光透過窓３３０が各画素１１毎に形成されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、光反射膜３３で反射された光の方向性が強いと、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野角依存性が顕著に出てしまう。そこで、基板の表面にアクリル樹脂などといった感光性樹脂を厚さに塗布した後、フォトリソグラフィ技術を用いて、感光性樹脂層を下層側凹凸形成層５１ａとして所定のパターンに残すことにより、光反射膜３３の表面に凹凸を付与している。また、このままでは、凹凸に下層側凹凸形成層５１ａのエッジがそのまま出てしまうので、下層側凹凸形成層５１ａの上層にもう１層、流動性の高い感光性樹脂層からなる上層側凹凸形成層５２ａを塗布、形成することにより、光反射膜３３の表面にエッジのない、なだらかな形状の凹凸パターンを付与している。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−２５８２７０号（第６頁、図１）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上層側凹凸形成層５２ａおよび下層側凹凸形成層５１ａを構成する感光性樹脂は、図６に実線Ｌ０で分光特性を示すように、短波長域の光を強く吸収する傾向にあるため、透過モードでカラー画像を表示したとき、バックライト装置（図示せず）から出射された光は、低波長域の光が上層側凹凸形成層５２ａおよび下層側凹凸形成層５１ａを構成する感光性樹脂で一部が吸収された後、カラーフィルタ層５４に入射する。このため、従来の電気光学装置では、黄変したカラー画像が表示されてしまうという問題点がある。
【０００７】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、光散乱用の凹凸を付与するための凹凸形成層を形成しても品位の高いカラー画像を表示することのできる電気光学装置、およびそれを用いた電子機器を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、電気光学物質を保持するための透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成膜、反射モードでの表示を可能とする光反射膜、およびカラーフィルタ層がこの順に形成され、前記光反射膜には透過モードでの表示を可能とする光透過窓が各画素毎に形成された半透過反射型電気光学装置において、前記凹凸形成層は、該凹凸形成層の分光特性に応じて、前記各画素のうち、所定色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、他の色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域には形成されていないことを特徴とする。
【０００９】
例えば、前記各画素には、赤色、緑色、青色に対応する前記カラーフィルタ層が形成され、前記凹凸形成層が感光性樹脂から構成されている場合には、前記各画素のうち、赤色および緑色カラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、青色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されていないことを特徴とする。
【００１０】
本発明では、凹凸形成層を感光性樹脂で構成した場合、感光性樹脂が短波長域の光を吸収してしまうという分光特性に対応させて、青色のカラーフィルタ層が形成された画素では光透過窓と平面的に重なる領域に凹凸形成層を形成しない。このため、透過モードでカラー画像を表示した場合でも、バックライト装置から出射された光は、低波長域の光が凹凸形成層で吸収されることなく青色のカラーフィルタ層に入射する。従って、カラー画像が黄変することがないので、品位の高いカラー画像を表示することができる。
【００１１】
本発明において、前記各画素では、前記カラーフィルタ層として、前記光反射膜と平面的に重なる領域に反射表示用のカラーフィルタ層が形成されている一方、前記光透過窓と平面的に重なる領域には、前記反射表示用のカラーフィルタ層よりも着色性の強い透過表示用のカラーフィルタ層が形成されていることが好ましい。このように構成すると、透過モードと反射モードで表示したカラー画像の色の濃さを合わせることができる。
【００１２】
本発明において、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層が形成されていない前記画素で当該光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層は、他の画素で前記光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層よりも厚いことが好ましい。このように構成すると、カラーフィルタ層の表面に不要な凹凸が形成されるのを防止することができる。
【００１３】
本発明において、前記電気光学物質は、前記基板と、該基板に対向配置された別の基板との間に保持された液晶である。
【００１４】
本発明に係る半透過反射型電気光学装置は、携帯電話機、モバイルコンピュータなどといった電子機器用いることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
【００１６】
（全体構成）
図１は、本発明が適用される電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図２および図３はそれぞれ、図１に示す電気光学装置の構成を示す分解斜視図、およびその一部を拡大して示す拡大断面図である。図４は、電気光学装置において、ＴＦＤ素子を含む数画素分のレイアウトを示す平面図であり、図５は、そのＡ−Ａ’線に沿って示す断面図である。
【００１７】
本発明を適用した電気光学装置は、ネマチック液晶を用いたアクティブマトリクス型の半透過反射型液晶装置であり、図１に示すように、複数本の走査線３１が行（Ｘ）方向に形成され、複数本のデータ線２１が列（Ｙ）方向に形成されている。また、走査線３１とデータ線２１との各交差部分には、画素１１が形成されている。各画素１１では、ネマチック液晶からなる液晶層１２と、二端子型アクティブ素子たるＴＦＤ素子４０とが直列接続している。ここに示す例では、液晶層１２が走査線３１の側に接続され、ＴＦＤ素子４０がデータ線２１の側に接続されている。各走査線３１は、走査線駆動回路３５０によって駆動される一方、各データ線２１は、データ線駆動回路２５０によって駆動される構成となっている。
【００１８】
図２に示すように、電気光学装置１では、一対の透光性基板を所定の間隙を介して貼り合わされた駆動用液晶セル１０が用いられているとともに、上側偏光板２、第１の上側位相差板３、第２の上側位相差板４、駆動用液晶セル１０、第１の下側位相差板５、第２の下側位相差板６、およびバックライト装置９が上方から下方にこの順に重ねて配置されている。
【００１９】
駆動用液晶セル１０において、一方の透光性基板は、アクティブ素子が形成される素子側基板２０であり、他方の透光性基板は、素子側基板２０に対向する対向基板３０である。素子側基板２０と対向基板３０とは、スペーサ（図示省略）を含むシール材１４によって一定の間隙を保って接合されるとともに、この間隙に、液晶層１２が封入、保持された構成となっている。
【００２０】
電気光学装置１では、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）技術により、素子側基板２０の表面に直接、データ線駆動回路２５０を構成する液晶駆動用ＩＣ（ドライバ）が実装され、対向基板３０の表面にも直接、走査線駆動回路３５０を構成する液晶駆動用ＩＣ（ドライバ）が実装されている。なお、ＣＯＧ技術に限られず、それ以外の技術を用いて、ＩＣチップと電気光学装置とが接続された構成としても良い。例えば、ＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）技術を用いて、ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）の上にＩＣチップがボンディングされたＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）を電気光学装置に電気的に接続する構成としても良い。また、ＩＣチップをハード基板にボンディングするＣＯＢ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｂｏａｒｄ）技術を用いても良い。
【００２１】
図３および図４に示すように、素子側基板２０の内側表面には下地膜２５が形成されているとともに、この下地膜２５の表面には、複数本のデータ線２１と、それらのデータ線２１に接続された複数のＴＦＤ素子４０と、それらのＴＦＤ素子４０と１対１に接続される画素電極２３とが形成されている。画素電極２３は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの透光性導電膜から形成されている。各データ線２１は、直線的に延びている一方、ＴＦＤ素子４０および画素電極２３は、ドットマトリクス状に配列されている。画素電極２３などの表面には、ラビング処理が施された配向膜２４が形成されている。この配向膜２４は、一般にポリイミド樹脂等から形成される。
【００２２】
一方、対向基板３０の内側表面には、後述する下層側凹凸形成膜５１ａおよび上層側凹凸形成膜５２ａの上層側に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金などの単層膜、あるいは複層膜からなる光反射膜３３と、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４と、オーバーコート層３５と、ＩＴＯなどの透光性導電膜からなる帯状の対向電極３６と、ポリイミド樹脂等から配向膜３７とが形成されている。光反射膜３３は、反射モードでの表示用であり、この光反射膜３３には、透過モードでの表示を可能とする光透過窓３３０が形成されている。
【００２３】
カラーフィルタ層３４の隙間には、ブラックマトリクス３８が形成されており、カラーフィルタ層３４の隙間からの入射光を遮蔽する構成となっている。オーバーコート層３５は、カラーフィルタ層３４およびブラックマトリクス３８の表面において、カラーフィルタ層３４およびブラックマトリクス３８の平滑性を高めて、対向電極３６の断線を防止する目的などで形成されている。ここで、対向電極３６は、走査線３１として機能し、データ線２１と直交する方向に形成されている。
【００２４】
図４および図５に示すように、ＴＦＤ素子４０は、第１のＴＦＤ素子４０ａおよび第２のＴＦＤ素子４０ｂからなり、素子基板２０の表面に形成された絶縁膜２５上において、第１金属膜４２と、この第１金属膜４２の表面に陽極酸化によって形成された絶縁体たる酸化膜４４と、この表面に形成されて相互に離間した第２金属膜４６ａ、４６ｂとから構成されている。また、第２金属膜４６ａは、そのままデータ線２１となる一方、第２金属膜４６ｂは、画素電極２３に接続されている。
【００２５】
第１のＴＦＤ素子４０ａは、データ線２１の側からみると順番に、第２金属膜４６ａ／酸化膜４４／第１金属膜４２となって、金属（導電体）／絶縁体／金属（導電体）のサンドイッチ構造を採るため、正負双方向のダイオードスイッチング特性を有することになる。一方、第２のＴＦＤ素子４０ｂは、データ線２１の側からみると順番に、第１金属膜４２／酸化膜４４／第２金属膜４６ｂとなって、第１のＴＦＤ素子４０ａとは、反対のダイオードスイッチング特性を有することになる。従って、ＴＦＤ素子４０は、２つのダイオードを互いに逆向きに直列接続した形となっているため、１つのダイオードを用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負の双方向にわたって対称化されることになる。なお、このように非線形特性を厳密に対称化する必要がないのであれば、１つのＴＦＤ素子４０のみを用いても良い。
【００２６】
なお、ＴＦＤ素子４０は、ダイオード素子としての一例であり、他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）バリスタや、ＭＳＩ（Ｍｅｔａｌ  Ｓｅｍｉ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）などを用いた素子や、これらの素子を、単体、または、逆向きに直列接続もしくは並列接続したものなどが適用可能である。
【００２７】
［各画素の詳細な構成］
図６は、本発明を適用した電気光学装置で用いたカラーフィルタ層および感光性樹脂の分光特性を示すグラフである。
【００２８】
本形態の電気光学装置１では、バックライト装置９から出射された光は、駆動用液晶セル１０に入射した後、光反射膜３３の光透過窓３３０からカラーフィルタ層３４を通って液晶層１２に入射し、素子基板２０の側から出射される。その際に、表示光は、各画素１１において液晶層１２によって光変調されて、透過モードでのカラー画像を表示する。
【００２９】
一方、素子基板２０の側から入射した外光は、液晶層１２およびカラーフィルタ層３４を通って光反射膜３３で反射し、再び、カラーフィルタ層３４および液晶層１２を通って素子基板２０の側から出射される。その際に、表示光は、各画素１１において液晶層１２によって光変調されて、反射モードでのカラー画像を表示する。
【００３０】
このように、反射モードではカラーフィルタ層３４を２度、通過するが、透過モードでは光がカラーフィルタ層３４を１度しか通過しない。このため、透過モードでカラー画像を表示すると、反射モードでカラー画像を表示した場合と比較して、色が薄くなるおそれがあるので、本形態では、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４のいずれについても、光反射膜３３と平面的に重なる領域には、反射表示用のカラーフィルタ層３４１が形成されている一方、光透過窓３３０と平面的に重なる領域には、反射表示用のカラーフィルタ層３４１よりも着色性の強い透過表示用のカラーフィルタ層３４２が形成されている。
【００３１】
また、本形態の電気光学装置１において、光反射膜３３で反射された光の方向性が強いと、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野角依存性が顕著に出てしまう。そこで、本形態では、対向基板３０の表面側において、光反射膜３３の下層側に、感光性樹脂層からなる下層側凹凸形成層５１ａを所定のパターンで選択的に形成することにより、光反射膜３３の表面に凹凸を付与している。また、このままでは、凹凸に下層側凹凸形成層５１ａのエッジがそのまま出てしまうので、下層側凹凸形成層５１ａの上層にもう１層、流動性の高い感光性樹脂層からなる上層側凹凸形成層５２ａを塗布、形成することにより、光反射膜３３の表面にエッジのない、なだらかな形状の凹凸を付与している。
【００３２】
ここで、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）のカラーフィルタ層３４の分光特性は、図６に点線Ｌ１、一点鎖線Ｌ２、二点鎖線Ｌ３で表わされる一方、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを構成する感光性樹脂層の分光特性は、図６に実線Ｌ０で表わされ、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを構成する感光性樹脂層は、短波長域の光を吸収するという分光特性を有している。
【００３３】
このような分光特性に対応して、本形態では、赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、光反射膜３３と平面的に重なる領域、および光透過窓３３０と平面的に重なる領域の双方に下層側凹凸形成層５１ａ、および上層側凹凸形成層５２ａが形成されている。
【００３４】
これに対して、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、光反射膜３３と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａが形成されているが、光透過窓３３０と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層５１ａ、および上層側凹凸形成層５２ａのいずれもが形成されていない。
【００３５】
このため、透過モードでカラー画像を表示する際、赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、バックライト装置９から出射された光は、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを通った後、光反射膜３３の光透過窓３３０からカラーフィルタ層３４を経て液晶層１２に入射する。これに対して、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、バックライト装置９から出射された光は、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを通らず、そのまま、光反射膜３３の光透過窓３３０からカラーフィルタ層３４を経て液晶層１２に入射する。
【００３６】
このため、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを構成する感光性樹脂層が短波長域の光を吸収するという分光特性を有している場合でも、青色用の画素１１でも好適に着色された光が出射される。それ故、反射モードおよび透過モードのいずれにおいても、黄変のない、品位の高いカラー画像を表示することができる。
【００３７】
また、赤色（Ｒ）や緑色（Ｇ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１において、光透過窓３３０と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを残してあるので、カラーフィルタ層３４の表面側には不用な凹凸が形成されないという利点がある。
【００３８】
さらに、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、光透過窓３３０と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層５１ａ、および上層側凹凸形成層５２ａのいずれもが形成されていないので、その分、青色（Ｂ）の透過表示用のカラーフィルタ層３４２については、赤色（Ｒ）や緑色（Ｇ）の透過表示用のカラーフィルタ層３４２よりも厚く形成してある。このため、カラーフィルタ層３４の表面側には不用な凹凸が形成されないという利点がある。
【００３９】
［電気光学装置の製造方法］
図７を参照して、本形態の電気光学装置１の製造工程のうち、対向基板３０に対して、下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを形成する工程を中心に説明する。
【００４０】
図７（Ａ）〜（Ｄ）は、本形態の電気光学装置１に用いた対向基板３０に下層側凹凸形成層５１ａおよび上層側凹凸形成層５２ａを形成する工程を示す工程断面図である。
【００４１】
まず、図７（Ａ）に示すように、ガラス製等の透光性の対向基板３０の表面に感光性樹脂５１を厚めに塗布した後、感光性樹脂５１を露光マスク５１０を介して露光する。ここで、感光性樹脂５１としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、図７（Ａ）には、感光性樹脂５１としてポジタイプの場合を例示してあり、感光性樹脂５１を除去したい部分に対して、露光マスク５１０の透光部分５１１を介して紫外線が照射される。
【００４２】
次に、露光した感光性樹脂５１を現像して、図７（Ｂ）に示すように、柱状の下層側凹凸形成膜５１ａを形成する。その際、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４が形成される画素１１では、光反射膜３３と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層５１ａを形成するが、光透過窓３３０と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層５１ａを形成しない。
【００４３】
次に、図７（Ｃ）に示すように、下層側凹凸形成層５１ａの上層側に感光性樹脂５２を塗布した後、感光性樹脂５２を露光マスク５２０を介して露光する。ここでも、感光性樹脂５２としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、図７（Ｃ）には、感光性樹脂５２としてポジタイプの場合を例示してあり、感光性樹脂５２を除去したい部分に対して、露光マスク５２０の透光部分５２１を介して紫外線が照射される。
【００４４】
次に、露光した感光性樹脂５２を現像して、図７（Ｄ）に示すように、上層側凹凸形成膜５２ａを形成する。この際、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４が形成される画素１１では、光反射膜３３と平面的に重なる領域には、上層側凹凸形成層５２ａを形成するが、光透過窓３３０と平面的に重なる領域には、上層側凹凸形成層５２ａを形成しない。
【００４５】
しかる後には、図３に示すように、成膜工程およびパターニング工程を行って、光透過窓３３０を備えた光反射膜３３を形成した後、フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷あるいはインクジェット法を用いて、ブラックマトリクス３８、および赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４（反射表示用のカラーフィルタ層３４１、透過表示用のカラーフィルタ層３４２）を形成する。次に、スピンコート法などによりオーバーコート層３５を形成した後、成膜工程およびパターニング工程を行って、対向電極３６を形成し、しかる後に、フレキソ印刷あるいはスピンコート法を利用して、配向膜３７を形成する。
【００４６】
その結果、対向基板３０が完成する。
【００４７】
［その他の実施の形態］
なお、上記形態では、アクティブ素子としてＴＦＤ素子４０を用いた例であったが、アクティブ素子としてＴＦＴを用いた電気光学装置、さらにはパッシブマトリクス型の電気光学装置に本発明を適用してよい。
【００４８】
また、上記形態では、凹凸形成層として下層側凹凸形成層５１ａと上層側凹凸形成層５２ａを形成したが、感光性樹脂を塗布した後、この感光性樹脂に対して、露光マスクを介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って、凹凸形成層を１層のみ形成してもよい。この方法では、感光性樹脂が厚さ方向の途中位置まで露光するので、現像後、感光性樹脂には厚い部分と薄い部分が形成される。従って、加熱処理を施せば、表面に角張った部分がなく、エッジのない、なだらかな凹凸形状を表面に備えた凹凸形成層を形成できる。このような方法で凹凸形成層を形成する場合でも、赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、光反射膜３３と平面的に重なる領域、および光透過窓３３０と平面的に重なる領域の双方に凹凸形成層を残す一方、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層３４が形成されている画素１１では、光反射膜３３と平面的に重なる領域には凹凸形成層を残すが、光透過窓３３０と平面的に重なる領域には凹凸形成層を残さない。
【００４９】
［電子機器への搭載例］
図８は、本形態の電気光学装置１を搭載した電子機器の一例としての携帯電話の構成を示す斜視図である。
【００５０】
図８において、携帯電話１４００は、複数の操作ボタン１４０２のほか、受話口１４０４、送話口１４０６とともに、電気光学装置１を備えるものである。この電気光学装置１にも、必要に応じてその背面にバックライト装置が設けられる。
【００５１】
なお、本形態の電気光学装置１を搭載可能な電子機器としては、携帯電話機の他、モバイルコンピュータ、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図２】図１に示す電気光学装置の構成を示す分解斜視図である。
【図３】図１に示す電気光学装置の一部を拡大して示す拡大断面図である。
【図４】図１に示す電気光学装置において、ＴＦＤ素子を含む数画素分のレイアウトを示す平面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ’線に沿って示す断面図である。
【図６】図１に示す電気光学装置で用いたカラーフィルタ層および感光性樹脂の分光特性を示すグラフである。
【図７】（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明に係る電気光学装置に用いた対向基板に下層側凹凸形成層および上層側凹凸形成層を形成する工程を示す工程断面図である。
【図８】本発明を適用した電気光学装置を搭載した電子機器の一例としての携帯電話の構成を示す斜視図である。
【図９】従来の電気光学装置の一部を拡大して示す拡大断面図である。
【符号の説明】
１  電気光学装置、９  バックライト装置、１０  駆動用液晶セル、１１  画素、１２  液晶層、２０  素子側基板、２１  データ線、２３  画素電極、３０  対向基板、３１  走査線、３３  光反射膜、３４  カラーフィルタ層、３６  対向電極、４０  ＴＦＤ素子（アクティブ素子）、５１ａ  下層側凹凸形成層、５２ｂ  上層側凹凸形成層、３３０  光透過窓、３４１  反射表示用のカラーフィルタ層、３４２  透過表示用のカラーフィルタ層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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