(57)【要約】【課題】小型で軽量の３次元ディスプレイ装置を実現できるエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイパネルを提供する。【解決手段】光透過性を有する基板５１の両面に、それぞれ、透明電極６１、７１、有機ＥＬ層６４、７４、アルミ電極６５、ＩＴＯ電極７５等からなるＥＬ素子ユニット６０、７０を設ける。これにより、ＥＬ素子ユニット６０により表示された画像とＥＬ素子ユニット７０により表示された画像とを重ね合わせて表示することができ、各画像の輝度を画素ごとに調整することによって、３次元立体画像の形成・表示が可能となる。【選択図】      図５
2004226736.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する基板と、
前記基板の一方の面上に設けられた第１エレクトロルミネッセンス素子と、
前記基板の他方の面上に設けられた第２エレクトロルミネッセンス素子とを備え、
前記第２エレクトロルミネッセンス素子は、光透過性を有するように形成され、かつ、前記第１エレクトロルミネッセンス素子と基板を挟んで対向する位置に配置されていることを特徴とするエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項２】
前記第１エレクトロルミネッセンス素子は、
前記基板上の一方の面に設けられた光透過性を有する第１電極と、
前記第１電極上に設けられたエレクトロルミネッセンス層と、
前記エレクトロルミネッセンス層上に設けられた第２電極と
を備えていることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項３】
前記第２エレクトロルミネッセンス素子は、
前記基板上の他方の面に設けられた光透過性を有する第１電極と、
前記第１電極上に設けられたエレクトロルミネッセンス層と、
前記エレクトロルミネッセンス層上に設けられた光透過性を有する第２電極とを備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項４】
前記第２エレクトロルミネッセンス素子の第２電極は、インジウム・亜鉛酸化物により形成されていることを特徴とする請求項３に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項５】
前記第１エレクトロルミネッセンス素子から発せられた光は、前記基板及び前記第２エレクトロルミネッセンス素子をそれぞれ通過して伝搬することを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項６】
前記第１エレクトロルミネッセンス素子から発せられ、前記基板及び前記第２エレクトロルミネッセンス素子をそれぞれ通過して伝搬する光の伝搬経路は、前記第２エレクトロルミネッセンス素子から発せられる光の伝搬経路と一致することを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項７】
前記基板の一方及び他方のそれぞれの面にはディスプレイ領域が形成され、
前記基板の一方の面に形成されたディスプレイ領域には、複数の前記第１エレクトロルミネッセンス素子が所定配列に従って配置されており、
前記基板の他方の面に形成されたディスプレイ領域には、複数の前記第２エレクトロルミネッセンス素子が、前記所定配列と同一の配列に従って配置されており、
前記基板の一方の面に配置された個々の第１エレクトロルミネッセンス素子と前記基板の他方の面に配置された個々の第２エレクトロルミネッセンス素子とは、前記基板を挟んでそれぞれ対向する位置関係にあることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項８】
前記基板は、ガラスにより形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項９】
前記基板は、透明プラスチックにより形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記基板の厚さをｄとし、前記基板の屈折率をｎとすると、ｎ×ｄが５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１ないし請求項９のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記基板は、レンズアレイであることを特徴とする請求項１ないし請求項９のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１１のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルと、
前記エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルに設けられた前記第１エレクトロルミネッセンス素子及び前記第２エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれに画像信号を供給する画像信号供給手段と、
前記第１エレクトロルミネッセンス素子又は前記第２エレクトロルミネッセンス素子の輝度を調整する輝度調整手段と
を備えた３次元ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、文字、画像又は映像等の表示に用いることができるエレクトロルミネッセンス（以下、これを「ＥＬ」という。）ディスプレイパネル、及び、当該ＥＬディスプレイパネルを用いた３次元ディスプレイ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、画像、映像等を表示するディスプレイ装置として、ＣＲＴディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置、プラズマディスプレイ装置などが広く普及している。最近では、有機ＥＬ素子を用いたディスプレイパネルないしそれを用いた有機ＥＬディスプレイ装置が開発されている。有機ＥＬ素子は、２つの電極間に挿入された有機化合物の薄膜に電流を流すことにより、有機化合物を発光させる構造を有する。有機ＥＬディスプレイは、カラー表示が可能であることはもちろんのこと、有機ＥＬ素子が自ら発光するため、明るくかつ明瞭な画像表示を実現でき、消費電力が少なく、視野角が広いなど、様々な利点がある。現在では、有機ＥＬ素子を用いた表示パネル、小型の有機ＥＬディスプレイパネルを用いた携帯電話機の開発が商品化の段階まで進んでいる。また、有機ＥＬディスプレイパネルを採用したテレビや、パソコン用モニターの開発も進んでおり、近い将来、これらの製品が市場に登場することが予測される。
【０００３】
一方、従来のディスプレイ装置は、画像ないし映像を２次元の平面画像として表示する。ところが、最近では、３次元の立体画像を形成し、表示する技術が研究されており、これを適用したディスプレイ装置が開発されている。３次元の立体画像を形成・表示する技術として、以下のものが知られている。すなわち、例えば２つのディスプレイパネルを設け、これらのディスプレイパネルに同一の物体が映し出された画像をそれぞれ表示し、これら２つの画像を、ハーフミラーを用いて重なり合って見えるようにする。そして、各画像の輝度を、映し出された物体の奥行き等に基づいて画素ごとに変化させる。これにより、観察者の目には、ハーフミラーを通して映し出された物体が、現実に奥行きを有する３次元の立体物に見える。かかる技術によれば、例えばディスプレイ装置によって電気的・光学的に再現された画像であるにもかかわらず、観察者には、あたかも実物が目の前に存在するような感覚を与えることができる。すなわち、物体のリアルな存在感、質感を観察者に体感させることができ、動画であれば、物体が目の前に迫ってくるような感覚や、物体が遠ざかっていくような感覚を観察者に体感することができる。かかる技術の詳細は、例えば、下記の特許文献１に記載されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−１１５８１２号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、３次元の立体画像を形成・表示する技術を適用したディスプレイ装置（以下、これを「３次元ディスプレイ装置」という。）を実現するためには、少なくとも２つのディスプレイパネル（２次元の平面画像を表示するディスプレイパネル）が必要である。したがって、有機ＥＬディスプレイパネルを用いて３次元ディスプレイ装置を実現しようとすれば、２つの有機ＥＬディスプレイパネルが必要となる。このため、ディスプレイ装置が全体的に大型化してしまう。
【０００６】
また、３次元立体画像の形成・表示を実現するためには、２つの画像表示手段に表示されたそれぞれの画像が画素レベルで正確に重なり合うように設定しなければならない。例えば、２つの有機ＥＬディスプレイパネルとハーフミラーを用いて３次元立体画像の形成・表示を実現する場合には、有機ＥＬディスプレイパネルの配置やハーフミラーの配置を厳密に設定する必要がある。このため、ディスプレイ装置の製造過程において、わずかな組付誤差が生じただけで、装置の性能が低下し、又は不良品の発生により歩留まりが悪くなる。
【０００７】
本発明は上記に例示したような問題点に鑑みなされたものであり、本発明の課題は、小型又は軽量の３次元ディスプレイ装置を実現できると共に、組付誤差等による性能低下又は不良品の発生を防止することができるＥＬディスプレイパネル、及び、当該ＥＬディスプレイパネルを用いた３次元ディスプレイ装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために請求項１に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、光透過性を有する基板と、前記基板の一方の面上に設けられた第１エレクトロルミネッセンス素子と、前記基板の他方の面上に設けられた第２エレクトロルミネッセンス素子とを備え、前記第２エレクトロルミネッセンス素子は、光透過性を有するように形成され、かつ、前記第１エレクトロルミネッセンス素子と基板を挟んで対向する位置に配置されている。
【０００９】
上記課題を解決するために請求項１２に記載の３次元ディスプレイ装置は、請求項１ないし請求項１１のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルと、前記エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルに設けられた前記第１エレクトロルミネッセンス素子及び前記第２エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれに画像信号を供給する画像信号供給手段と、前記第１エレクトロルミネッセンス素子又は前記第２エレクトロルミネッセンス素子の輝度を調整する輝度調整手段とを備えている。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の実施形態に係るＥＬディスプレイパネルを示す断面図である。図２は、図１中のＥＬディスプレイパネルの一部を拡大して示す断面図である。図３は、ＥＬ素子の構成の一例を示す断面図である。なお、図１ないし図３は、本発明の実施形態に係る構成要素等を、その技術思想を説明する限りにおいて具体化したものであり、各構成要素等の形状、大きさ、位置、接続関係などは、これに限定されるものではない。このことは、以下、本発明の実施形態の説明に用いる図４についても同様である。また、本発明の技術思想のみを簡潔に説明する観点から、ＥＬディスプレイパネルが通常備えている隔壁（電極のパターンニング等のために用いられるもの）や封止手段等は図１ないし図４において省略している。
【００１１】
図１に示すように、本発明の実施形態に係るエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイパネル１０は、光透過性を有する基板１１と、基板１１の一方の面１１ａ上に設けられた第１エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子１２と、基板１１の他方の面１１ｂ上に設けられた第２エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子１３とを備え、第２ＥＬ素子１３は、光透過性を有するように形成され、かつ、第１ＥＬ素子１２と基板１１を挟んで対向する位置に配置されている。
【００１２】
基板１１の一方の面１１ａ上には、ＥＬディスプレイパネル１０に設定された画素数に対応する数の第１ＥＬ素子１２を設けることが望ましい（なお、図１では説明の便宜のため第１ＥＬ素子１２を３個のみ図示している。）。例えば、基板１１の一方の面１１ａ上にディスプレイ領域を形成し、そのディスプレイ領域内に、ＥＬディスプレイパネル１０に設定された画素数に対応する数の複数の第１ＥＬ素子１２を、所定配列に従って配置することが望ましい。これにより、基板１１及び第１ＥＬ素子１２によって、２次元平面画像を形成・表示する機能を実現することができる。
【００１３】
また、基板１１の他方の面１１ｂ上にも、ＥＬディスプレイパネル１０に設定された画素数に対応する数の第２ＥＬ素子１３を設けることが望ましい（なお、図１では説明の便宜のため第２ＥＬ素子１３を３個のみ図示している。）。例えば、基板１１の一方の面１１ｂ上にディスプレイ領域を形成し、そのディスプレイ領域内に、ＥＬディスプレイパネル１０に設定された画素数に対応する数の複数の第１ＥＬ素子１３を、所定配列に従って配置することが望ましい。これにより、基板１１及び第２ＥＬ素子１３によって、２次元平面画像を形成・表示する機能を実現することができる。
【００１４】
さらに、各第２ＥＬ素子１３は、全体として光透過性を有するように形成されている。さらに、基板１１も光透過性を有するように形成されている。これにより、観察者は、図１中の視点Ｐから矢示方向にＥＬディスプレイパネル１０を見ることによって、第２ＥＬ素子１３により表示された画像だけでなく、第１ＥＬ素子１２により表示された画像も見ることができる。すなわち、第１ＥＬ素子１２から発せられた光は、基板１１及び第２ＥＬ素子１３をそれぞれ通過（透過）して伝搬し、観察者の視点Ｐに至る。さらに、第２ＥＬ素子１３から発せられた光は、直接的に観察者の視点Ｐに至る。
【００１５】
さらに、第１ＥＬ素子１２と第２ＥＬ素子１３とは、それぞれ、基板１１を挟んで対向する位置に配置されている。例えば、基板１１の両面１１ａ、１１ｂのそれぞれに、同一形状・同一位置のディスプレイ領域を形成し、それぞれのディスプレイ領域内に、第１ＥＬ素子１２と第２ＥＬ素子１３とを、同一の所定配列に従って配置することが望ましい。これにより、視点ＰからＥＬディスプレイパネル１０を見たとき、基板１１の一方の面１１ａ上に形成された画素と、基板１１の他方の面１１ｂ上に形成された画素とが、それぞれ重なり合う。したがって、第１ＥＬ素子１２による画像表示と、第２ＥＬ素子１３による画像表示を同時に実行すると、視点ＰからＥＬディスプレイパネル１０を見た観察者の目には、第１ＥＬ素子１２により表示された画像と、第２ＥＬ素子１３により表示された画像とが、重なり合って見える。すなわち、図２に示すように、第１ＥＬ素子１２から発せられ、基板１１及び第２ＥＬ素子１３をそれぞれ通過（透過）して伝搬する光の伝搬経路は、第２ＥＬ素子１３から発せられる光の伝搬経路と一致するので、両素子から発せられた光は、重なり合って観察者の視点Ｐに至る。
【００１６】
このような構成を有するＥＬディスプレイパネル１０によれば、第１ＥＬ素子１２と、第２ＥＬ素子１３により、同一の物体が映し出された画像をそれぞれ同時に表示し、一方又は双方の画像の輝度を、例えば映し出された物体の奥行きに応じて画素ごとに変化させれば、３次元立体画像の形成・表示を実現することができる。
【００１７】
すなわち、上述した特許文献１に記載された従来の３次元ディスプレイ装置は、２つ以上の別個の画像表示手段（例えばディスプレイパネル）と、これら別個の画像表示手段にそれぞれ表示された画像を重なり合わせるための光学的手段（例えばハーフミラー）を備えており、各手段はそれぞれ分離している。これに対し、本実施形態によるＥＬディスプレイパネル１０は、基板１１と、その両面に一体的に形成された第１ＥＬ素子１２及び第２ＥＬ素子１３とを備え、これら一体的な構成により、第１の画像を表示するための画像表示手段と、第２の画像を表示するための画像表示手段と、両画像を重なり合わせるための光学的手段を実現している。特に、基板１１の両面に第１ＥＬ素子１２と第２ＥＬ素子１３とをそれぞれ対向するように配置したことによって、両画像を重なり合わせるための光学的手段を実現するための機器（例えばハーフミラー）を、格別に設ける必要がない。
【００１８】
本実施形態によるＥＬディスプレイパネル１０によれば、基板１１のそれぞれの面に第１ＥＬ素子１２及び第２ＥＬ素子１３をそれぞれ形成するといった一体的な構成を有するので、３次元立体画像の形成・表示を実現するための構成を小型化・軽量化することができ、さらには製造コストの削減を実現することができる。
【００１９】
さらに、本実施形態によるＥＬディスプレイパネル１０によれば、基板１１のそれぞれの面に第１ＥＬ素子１２及び第２ＥＬ素子１３をそれぞれ形成するといった一体的な構成を有するので、第１ＥＬ素子１２及び第２ＥＬ素子１３を基板１１上に形成する段階で、第１ＥＬ素子１２及び第２ＥＬ素子１３間の位置決めを行えば、それ以降、基板１１を挟んで対向する各素子（画素）の位置がずれることがない。したがって、従来の３次元ディスプレイ装置のように、２つ以上のディスプレイパネルのディスプレイ装置への組付段階の誤差等を心配する必要がなくなる。よって、ディスプレイパネルをディスプレイ装置に組み付ける際の組付精度を緩和することができ、製造を容易ならしめることができ、さらに、歩留まりが良くなる。また、３次元立体画像の再生精度を向上させることができる。
【００２０】
なお、第１ＥＬ素子１２及び第２ＥＬ素子１３は、有機ＥＬ素子であっても、無機ＥＬ素子であってもよく、その構成も特に限定されない。例えば、第１ＥＬ素子１２は、図３に示すように、基板１１上の一方の面１１ａに設けられた光透過性を有する第１電極１２ａと、第１電極１２ａ上に設けられたＥＬ層１２ｂと、ＥＬ層１２ｂ上に設けられた第２電極１２ｃとを備える構成としてもよい。
【００２１】
また、第２ＥＬ素子１３は、図３に示すように、基板１１上の他方の面１１ｂに設けられた光透過性を有する第１電極１３ａと、第１電極１３ａ上に設けられたＥＬ層１３ｂと、ＥＬ層１３ｂ上に設けられた光透過性を有する第２電極１３ｃとを備える構成としてもよい。
【００２２】
この場合、光透過性を有する電極は、インジウム・亜鉛酸化物（ＩＺＯ）又はインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）等により形成することができる。一般に、有機ＥＬの材料は、熱に対する耐久性が強くないので、有機ＥＬ層上に光透過性を有する電極を形成する場合には、形成するのに高熱を加える必要があるインジウム・亜鉛酸化物よりも、比較的低温で形成可能であるインジウム・スズ酸化物を用いる方がよい。したがって、第２ＥＬ素子１３の第２電極は、インジウム・スズ酸化物によって形成することが望ましい。
【００２３】
基板１１は、ガラス又は透明プラスチックにより形成することができ、これにより、光透過性を実現することができる。
【００２４】
また、同一の物体が映し出された２つの画像を重なり合わせて表示し、一方又は双方の輝度を、例えば映し出されている物体の奥行きに応じて画素ごとに変化させることによって、３次元立体画像を形成・表示する場合には、一方の画像と他方の画像とを重なり合わせるだけでなく、一方の画像の表示位置と他方の画像の表示位置との間の距離を適切に設定する必要がある。そこで、基板１１をガラス又は透明プラスチックにより形成した場合には、基板１１の厚さをｄとし、基板１１の屈折率をｎとすると、ｎ×ｄが５ｍｍ以上であることが望ましく、具体的にはｎ×ｄが７ｍｍ程度であることが望ましい。このように、基板１１の厚さｄを基板１１の屈折率との関係で所定の厚さに設定することにより、２つの画像の表示位置の間の距離を適切に設定した上で、それを固定することができる。したがって、従来の３次元ディスプレイ装置のように、２つ以上のディスプレイパネルのディスプレイ装置への組付段階の誤差等を心配する必要がなくなる。よって、ディスプレイパネルのディスプレイ装置への組付精度を緩和することができ、製造を容易ならしめることができ、さらに、歩留まりが良くなる。また、３次元立体画像の再生精度を向上させることができる。
【００２５】
また、基板１１を、レンズアレイにより形成する構成としてもよい。このような構成とすれば、基板１１の厚さをより一層薄くすることができ、３次元ディスプレイ装置のより一層の小型化・軽量化を図ることができる。なお、基板１１をレンズアレイにより形成する場合には、第１ＥＬ素子１２と第２ＥＬ素子１３との間の位置関係を、必ずしも、それぞれの素子が対向するような位置関係とする必要はない。この場合には、観察者が視点ＰからＥＬディスプレイパネル１０を見たときに、第１ＥＬ素子１２によって形成された画像と、第２ＥＬ素子１３によって形成された画像とが重なり合って見えるように、レンズアレイによる光の屈折等を考慮して、第１ＥＬ素子１２と第２ＥＬ素子１３との間の位置関係を決定すればよい。また、基板１１を色変換機能をもった基板により形成してもよい。
【００２６】
一方、図４は、本発明の実施形態に係る３次元ディスプレイ装置を示している。図４に示すように、本発明の実施形態に係る３次元ディスプレイ装置１００は、上述したＥＬディスプレイパネル１０と、ＥＬディスプレイパネル１０に設けられた第１ＥＬ素子１２及び第２ＥＬ素子１３のそれぞれに画像信号を供給する画像信号供給手段２０と、第１ＥＬ素子１２又は第２ＥＬ素子１３の輝度を調整する輝度調整手段３０とを備えている。
【００２７】
かかる構成を有する３次元ディスプレイ装置１００によれば、画像信号供給手段２０により、同一の物体が映し出された画像を形成・表示するための画像信号を、第１ＥＬ素子１２と第２ＥＬ素子１３とにそれぞれ同時に供給する。そして、輝度調整手段３０により、第１ＥＬ素子１２により形成される画像及び第２ＥＬ素子１３により形成される画像のうちの一方又は双方の輝度を、例えば、画素ごとに、画像に映し出される物体の奥行き等に基づいて調整する。これにより、観察者が視点Ｐから３次元ディスプレイ装置１００を見たときに、３次元立体画像の形成・表示を実現することができる。
【００２８】
特に、本実施形態による３次元ディスプレイ装置１００に設けられているディスプレイパネルは、単一のＥＬディスプレイパネル１０のみである。したがって、２つ以上の別個のディスプレイパネルが設けられている従来の３次元ディスプレイ装置と比較して、装置の小型化・軽量化を図ることができる。
【００２９】
また、本実施形態による３次元ディスプレイ装置１００は、一体的に構成された単一のＥＬディスプレイパネル１０により、３次元立体画像の形成・表示を実現している。したがって、２つの画像を高精度に重ね合わせることができると共に、画像間に設定すべき距離も基板１１の厚さによって固定でき、３次元立体画像の形成・表示を高精度にかつ確実に実現することができる。
【００３０】
さらに、本実施形態による３次元ディスプレイ装置１００によれば、一体的に構成された単一のＥＬディスプレイパネル１０のみで３次元立体画像の形成・表示を実現する。したがって、従来の３次元ディスプレイ装置のように、２つ以上の別個のディスプレイパネルを高い寸法精度で組み付けるといった困難な製造工程を廃することができ、製造の容易化、歩留まりの改善を図ることができる。
【００３１】
なお、本発明の実施形態にかかるＥＬディスプレイパネル１０は、３次元ディスプレイ装置以外にも適用することができる。例えば、基板１１の一方の面１１ａには、黄色の光を発する第１ＥＬ素子を設け、他方の面１１ｂには、青色の光を発する第２ＥＬ素子を設け、両素子に異なる画像信号を供給する。かかる構成によれば、観察者の目には、第１ＥＬ素子と第２ＥＬ素子との双方が発光している部分が白色に見え、第１ＥＬ素子及び第２ＥＬ素子のいずれか一方が発光している部分が黄色又は青色に見える。これにより、例えば、電光掲示板を実現することができる。
【００３２】
【実施例】
以下、本発明の実施例に係るエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイパネルを図面に基づいて説明する。
【００３３】
まず、本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの構成について図５を参照して説明する。図５は、本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの構成を示す断面図である。
【００３４】
図５に示すように、本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネル５０は、基板５１と、基板５１のパネル裏側面５１ａに形成された裏側ＥＬ素子ユニット６０と、基板５１のパネル表側面５１ｂに形成された表側ＥＬ素子ユニット７０とを備えている。
【００３５】
基板５１は、ガラス基板であり、光透過性を有する。基板５１の厚さをｄとし、基板５１の屈折率をｎとすると、ｎ×ｄが５ｍｍ以上、より具体的には７ｍｍ程度であることが好ましい。
【００３６】
裏側ＥＬ素子ユニット６０は、透明電極６１、絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、アルミ電極６５、及び、封止缶６６を備えている。
【００３７】
透明電極６１は、インジウム・亜鉛酸化物（ＩＺＯ）により形成されており、光透過性を有する。透明電極６１は、基板５１のパネル裏側面５１ａ上に形成されている。透明電極６１の厚さは、およそ１００ｎｍである。
【００３８】
絶縁膜６２は、ポリイミドにより形成されている。絶縁膜６２は、電流リークを抑えるために設けられており、画素（有機ＥＬ層６４）を形成すべき部分以外の部分に形成されている。絶縁膜６２の厚さは、およそ３００ｎｍである。絶縁膜６２上には、アルミ電極６５をパターンニングするための隔壁６３が形成されている。
【００３９】
有機ＥＬ層６４は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層から構成されている。正孔注入層はＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）により、正孔輸送層はＮＰＢ（Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニル−ベンジジン）により、発光層はＡｌｑ３（トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム）により、電子輸送層はＢＣＰ（バソキュプロイン又はバトクプロイン：ｂａｔｈｏｃｕｐｒｏｉｎｅ）により、電子注入層はＬｉＦ（フッ化リチウム）により、それぞれ形成されている。有機ＥＬ層６４は、透明電極６１上に形成されており、画素を形成すべき位置に配置されている。
【００４０】
アルミ電極６５は、アルミニウムにより形成され、有機ＥＬ層６４上に形成されている。アルミ電極６５の厚さは、およそ１００ｎｍである。
【００４１】
封止缶６６は、ガラスにより形成されている。封止缶６６は、透明電極６１、絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、及びアルミ電極６５を、基板５１上で覆うように形成されており、これらの部材を保護する機能を有する。
【００４２】
一方、表側ＥＬ素子ユニット７０は、透明電極７１、絶縁膜７２、隔壁７３、有機ＥＬ層７４、ＩＴＯ電極７５、及び、封止缶７６を備えている。
【００４３】
透明電極７１、絶縁膜７２、隔壁７３、有機ＥＬ層７４、封止缶７６のそれぞれの構成は、それらが基板５１のパネル表側面５１ｂ上に形成されている点を除き、透明電極６１、絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、及び、封止缶６６と同じである。
【００４４】
有機ＥＬ層７４上に形成されたＩＴＯ電極７５は、インジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）から形成されており、光透過性を有する。
【００４５】
基板５１のパネル裏側面５１ａ及びパネル表側面５１ｂのそれぞれには、画像を表示すべき領域であるディスプレイ領域が形成されている。これらディスプレイ領域は、パネル裏側面５１ａとパネル表側面５１ｂとの間で相互に同一の外形でかつ同一の位置に配置されている。また、各ディスプレイ領域内には、表示すべき画像を形成するための画素が配列されるが、これら画素を形成すべき位置も、パネル裏側面５１ａとパネル表側面５１との間で相互に同一である。少なくとも有機ＥＬ層６４及び７４は、パネル裏側面５１ａ及びパネル表側面５１ｂのそれぞれにおいて画素を形成すべき場所に配置されているので、有機ＥＬ層６４及び７４の配列・配置は相互に一致している。
【００４６】
次に、ＥＬディスプレイパネル５０の製造方法について図６ないし図９を参照して説明する。
【００４７】
ＥＬディスプレイパネル５０を製造するにあたり、まず、図６に示すように、所定の厚さの基板５１を用意する。
【００４８】
次に、図７に示すように、基板５１の両面に透明電極６１及び７１をそれぞれ形成する。具体的には、まず、基板５１のパネル裏側面５１ａにスパッタリング等によりパターンニングを行い、透明電極６１を形成し、次に、基板５１を裏返して、基板５１のパネル表側面５１ｂにスパッタリング等によりパターンニングを行い、透明電極７１を形成する。このように、有機ＥＬ層６４を形成する前の段階で、透明電極６１だけでなく透明電極７１をも形成してしまうことにより、透明電極６１、７１を形成する際に生じる熱で、有機ＥＬ層６４が壊されるのを防止することができる。
【００４９】
次に、基板５１のパネル裏側面５１ａ上において、絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、アルミ電極６５を形成する。これらの部材の形成方法は、周知の方法を用いればよい。例えば、まず、絶縁膜６２を、画素を形成すべき部分以外の部分にパターンニングし、その絶縁膜６２上に隔壁６３を形成する。次に、有機ＥＬ層６４を、パターンマスクを用いて真空蒸着法により成膜し、有機ＥＬ層６４上に、アルミ電極６５を真空蒸着法により成膜する。アルミ電極６５のパターンニングは、マスクを用いるのではなく、隔壁６３により行う。
【００５０】
次に、図８に示すように、基板５１のパネル裏側面５１ａ上において、透明電極６１、絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、アルミ電極６５を覆うように、封止缶６６を形成する。基板５１のパネル表側面５１ｂ上に絶縁膜７２、隔壁７３、有機ＥＬ層７４、ＩＴＯ電極７５を形成する前の段階で、パネル裏側面５１ａ上に封止缶６６を形成することにより、絶縁膜７２、隔壁７３、有機ＥＬ層７４、ＩＴＯ電極７５の形成の際に生じる熱等から、透明電極６１、絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、アルミ電極６５を保護することができる。
【００５１】
次に、透明電極６１、絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、アルミ電極６５、封止缶６６が形成された基板５１を裏返して、基板５１のパネル表側面５１ｂ上に、絶縁膜７２、隔壁７３、有機ＥＬ層７４、ＩＴＯ電極７５を形成する。形成方法は、上述した絶縁膜６２、隔壁６３、有機ＥＬ層６４、封止缶６６の形成方法とほぼ同じである。また、ＩＴＯ電極７５は、有機ＥＬ層７４上に、スパッタリング法により形成する。このとき、隔壁７３によりパターンニングを行う。
【００５２】
以上の製造工程を経て、図５に示すＥＬディスプレイパネル５０が完成する。本実施例に係るＥＬディスプレイパネル５０では、少なくとも有機ＥＬ層６４の配置と有機ＥＬ層７４の配置とが一致している。これを実現するために、有機ＥＬ層６４と有機ＥＬ層７４の配置の一致を考慮して、有機ＥＬ層６４の成膜に用いるパターンマスクと、有機ＥＬ層７４の成膜に用いるパターンマスクを形成する。なお、有機ＥＬ層６４の配列及び有機ＥＬ層７４の配列が、それぞれ、上下対称又は左右対称であれば、有機ＥＬ層６４及び有機ＥＬ層７４を成膜するに際し、共通のパターンマスクを用いることができる。
【００５３】
以上より、基板５１のそれぞれの面に裏側ＥＬ素子ユニット６０と表側ＥＬ素子ユニット７０とをそれぞれ設け、基板５１及び電極６１、７１、７５を光透過材料により形成し、少なくとも有機ＥＬ層６４と有機ＥＬ層７４の配置・配列を相互に一致させる構成としたから、３次元立体画像を実現するための光学的構成を、一体的に構成された単一のディスプレイパネルとして実現することができる。
【００５４】
なお、上述した実施例では、有機ＥＬ層６４、７４や電極６１、６５、７１、７５を保護するために封止缶６６、７６を設ける構成としたが、本発明はこれに限らない。例えば、図１０に示すＥＬディスプレイパネル８０のように、窒化酸化シリコンなどから形成された保護膜８１、８２を、基板５１のそれぞれの面に、有機ＥＬ層６４、７４、電極６１、６５、７１、７５等の部材を覆うように形成する構成としてもよい。
【００５５】
また、本発明は、請求の範囲および明細書全体から読み取ることのできる発明の要旨または思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴うＥＬディスプレイパネル及びかかるＥＬディスプレイパネルを用いた３次元ディスプレイ装置もまた本発明の技術思想に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るＥＬディスプレイパネルの構成を示す断面図である。
【図２】図１中のＥＬディスプレイパネルの一部を拡大して示す断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係るＥＬディスプレイパネルの一部を拡大して示す断面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る３次元ディスプレイ装置の構成を示すブロック図である。
【図５】本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの構成を示す断面図である。
【図６】本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの製造工程で用いられる基板を示す断面図である。
【図７】本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの製造工程において、基板上の両面に透明電極を形成した状態を示す断面図である。
【図８】本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの製造工程において、基板上の一方の面に絶縁膜、有機ＥＬ層等を形成した状態を示す断面図である。
【図９】本発明の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの製造工程において、基板上の一方の面上に封止缶を形成した状態を示す断面図である。
【図１０】本発明の他の実施例に係るＥＬディスプレイパネルの構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１０、５０…ＥＬディスプレイパネル
１１、５１…基板
１２…第１ＥＬ素子
１３…第２ＥＬ素子
１２ａ、１３ａ…第１電極
１２ｂ、１３ｂ…ＥＬ層
１２ｃ、１３ｃ…第２電極
２０…画像信号供給手段
３０…輝度調整手段
６１、７１…透明電極（第１電極）
６４、７４…有機ＥＬ層
６５…アルミ電極（第２電極）
７５…ＩＴＯ電極（第２電極）
１００…３次元ディスプレイ装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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