(57)【要約】【課題】耐腐食性能が高く、気密性の高いダイヤフラム付き弁体を提供する。【解決手段】弁体４の嵌合部４３に複数枚重ねられたニッケルクロム合金のダイヤフラムを嵌合し、嵌合部４３とダイヤフラム孔内周端６１１との突合せ点Ｐを、純ニッケルの溶加材６０を重ねて溶接する。溶接は、ビーム電流を１．５〜２．０ｍＡの範囲、溶接速度を０．２〜０．７ｍ／ｍｉｎの範囲とするビーム溶接とする。【選択図】図４
2004255460.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の重ねられた薄板状ニッケルコバルト合金と、ステンレス鋼との突合せ部分を溶接する方法であって、純ニッケルを溶材として用い、電子ビームの照射位置を溶接金属の突合せ部分とし、電子ビームのビーム電流を１．５〜２．０ｍＡの範囲と、溶接速度を０．２〜０．７ｍ／ｍｉｎの範囲としたニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【請求項２】
ニッケルコバルト合金は、中心に孔を有する円盤状のダイヤフラムであって、ステンレス鋼は、該孔に嵌合された弁体の構成金属であり、照射位置は、ダイヤフラムの孔内周端辺とステムとの突合せ部分である請求項１に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【請求項３】
薄板状ニッケルコバルト合金が重ねられた状態での積層厚は、０．０５〜２．５ミリの範囲である請求項１又は２に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【請求項４】
ステンレスは、オーステナイト系低炭素鋼種である請求項１〜３のいずれか１に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【請求項５】
ニッケルコバルト合金の組成は、コバルトが２５〜４５重量％、クロムが１２〜２５重量％、モリブデンが８〜１５重量％、ニオブ０．１〜３重量％、残部がニッケルである請求項１〜４のいずれか１に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【請求項６】
ステンレス鋼製から成り、請求項１〜５のいずれかの方法で溶接された複数枚のニッケルコバルト合金製ダイヤフラムを有する弁体。
【請求項７】
複数枚重ね合わされ、中心に孔を有するニッケルコバルト合金製ダイヤフラムと、各ダイヤフラムの孔に同時に挿通する挿通部と、前記各ダイヤフラムの孔内周端と挿通部との突合せ部分を溶接した溶接部とを備えたステンレス鋼製弁体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法及びダイヤフラムを備えた弁体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、腐食性ガスの流通回路に使用される開閉弁に対しては、耐腐食性と、気密性が特に求められる。特に、本体に対して移動する弁体のように、可動部分と本体との間の気密性は、十分に確保されることが望まれる。
本体と弁体との間は、弾性材料で構成される薄板状のダイヤフラムで連結され、弁体の移動に応じて、ダイヤフラムが撓み、気密性を確保する構成が従来より知られている。ここで、従来より課題となっているのが、ダイヤフラムと弁体との接合部分の気密性であり、ダイヤフラムと弁体との接合を確実にする構成として、従来では、以下に挙げるようなものがある。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００１−２６３５０８号。段落番号００１７。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１に記載の弁体は、１枚のダイヤフラムが溶着されているが、より気密性と耐久性を向上させるには、ダイヤフラムを複数枚重ねる必要があり、そのような要求に応えられるものではない。
この特許文献１に示されているように、従来では、１枚のダイヤフラムを弁体に溶接する技術は確立されているが、複数枚のダイヤフラムを溶接する技術が確立されていなかった。複数枚の重ねられたダイヤフラムを一度に溶接すると、各ダイヤフラムをすべて確実に溶接することが困難となる。また、各ダイヤフラムを確実に溶接すると、溶接による歪の発生で、ダイヤフラムに皺が生じ、弾性変形可能な材料として機能が損なわれる。また、本体側との接合部分も皺の発生によって十分な気密性を確保できなくなるといった問題がある。
【０００５】
この発明は、複数枚のダイヤフラムと弁体との溶接による接合を可能となる溶接方法および複数枚のダイヤフラムが溶着された弁体を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
以上のような目的は、以下の本発明によって達成される。
（１）  複数枚の重ねられた薄板状ニッケルコバルト合金と、ステンレス鋼との突合せ部分を溶接する方法であって、純ニッケルを溶材として用い、電子ビームの照射位置を溶接金属の突合せ部分とし、電子ビームのビーム電流を１．５〜２．０ｍＡの範囲と、溶接速度を０．２〜０．７ｍ／ｍｉｎの範囲としたニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【０００７】
（２）  ニッケルコバルト合金は、中心に孔を有する円盤状のダイヤフラムであって、ステンレス鋼は、該孔に嵌合された弁体であり、照射位置は、ダイヤフラムの孔内周端辺とステムとの突合せ部分である上記（１）に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【０００８】
（３）  薄板状ニッケルコバルト合金が重ねられた状態での積層厚は、０．０５〜２．５ミリの範囲である上記（１）又は（２）に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【０００９】
（４）  ステンレスは、オーステナイト系低炭素鋼種である上記（１）〜（３）のいずれか１に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【００１０】
（５）  ニッケルコバルト合金の組成は、コバルトが２５〜４５重量％、クロムが１２〜２５重量％、モリブデンが８〜１５重量％、ニオブ０．１〜３重量％、残部がニッケルである上記（１）〜（４）のいずれか１に記載のニッケルコバルト合金とステンレスの溶接方法。
【００１１】
（６）  ステンレス鋼製であり、上記（１）〜（５）のいずれかの方法で溶接された複数枚のニッケルコバルト合金製ダイヤフラムを有する弁体。
【００１２】
（７）  複数枚重ね合わされ、中心に孔を有するニッケルコバルト合金製ダイヤフラムと、各ダイヤフラムの孔に同時に挿通する挿通部と、前記各ダイヤフラムの孔内周端と挿通部との突合せ部分を溶接した溶接部とを備えたステンレス鋼製弁体。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適実施形態について、添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の弁体を用いた腐食性ガス用開閉弁の側面全体断面図、図２は、同じく弁体の部分を拡大した側面断面図である。
開閉弁１は、腐食性ガスの流通経路中に配置される開閉弁である。図１に示されているように、開閉弁１は、本体２と、支持部材３と、弁体４と、操作手段５と、ダイヤフラム６１、６２と、押圧固定部材７と、復帰手段８と、固定部材９とを備えている。
【００１４】
本体２は、耐腐食性を有する金属で構成され、例えば、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌなどのステンレス鋼で構成される。本体２は、内部に形成された弁室２１と、基端接続部２２と、外部接続部２３と、取付部２４と、受け部２５とを備えている。弁室２１は、取付部２４の底部に形成されており、弁室２１には、弁体４が収納される。基端接続部２２は、例えばガス容器など、ガス供給側の接続端に接続される部分であり、外周面には、接続のための雄ネジ部２２１が形成されている。基端接続部２２の先端部には、ガスが流入する導入口２２３が形成されており、導入口２２３と、弁室２１に開口した流入口２１１との間には、導入路２２２が形成されている。
【００１５】
また、外部接続部２３は、下流側のガス経路が接続される接続口２３２を先端部に有し、接続口２３２には、導出路２３１が連通している。外部接続部２３の外周面には、接続用の雄ネジ部２３３が形成されている。
弁室２１内には、流入したガスか流出する流出口２１２が形成され、流出口２１２は、導出路２３１に連通している。従って、導入口２２３から流入したガスは、導入路２２２、弁室２１、導出路２３１、接続口２３２の順に流通する。
【００１６】
取付部２４には、操作手段５を支持する支持部材３が取り付けられる。取付部２４は、底部が弁室２１につながっている横断面が円形の内空を有し、内壁に形成された雌ネジ部２４２と、雌ネジ部２４２よりも拡径された開口２４１とを備えており、底部には、内側に縮径する段状の受け部２５を有している。
【００１７】
弁室２１は、取付部２４の軸線に対して同一軸線上に位置した、断面形状が円形の空間である。弁室２１の底部中心部（取付部２４の軸線上）には、流入口２１１を有し、内周側面には、流出口２１２を有している。そして、上部開口の周端には、上記受け部２５が形成されている。
【００１８】
弁室２１内には、弁体４が収納されている。弁体４は、円柱状に形成された弁本体４１と、連結部４２と、ダイヤフラム６１、６２が溶接される嵌合部４３とを備えており、これらは同一の金属材料により一体形成されている。弁体４を構成する材料としては、耐腐食性を有する材料であって、例えば、ＪＩＳ  Ｇ４３０４：ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ３１６等のステンレス鋼が用いられている。弁本体４１の外周面は、周方向に突出し、弁室２１の内周に近接し、底部近傍は、弁室２１の内周面との間に隙間を形成し、ガス流通路を形成している。弁本体４１の底面４１１には、対向する流入口２１１を囲む様に、リング状のシール材４１３が埋設されている。
このシール材４１３は、弁閉状態では、弁室２１の底面に押接され、流入口２１１を閉じ状態とし、弁開状態では、弁室２１の底面から離れて、流入口２１１を開状態とする。
【００１９】
弁本体４１の軸線上において、底面の反対側には連結部４２が立設されている。連結部４２は、棒状に形成され、外周面には雄ネジ部４２１が、先端には、穴４２２がそれぞれ形成されている。穴４２２の開口付近には、肉厚が開口へ向けて漸減するように傾斜面４２３が形成されている。
【００２０】
連結部４２の基端部周囲には、弁本体４１の上面より突出した、円柱状の嵌合部４３が形成されており、この嵌合部４３には、図３に示されているように、ビードＢを介して、複数枚のダイヤフラム６１、６２が溶着されている。ダイヤフラム６１、６２は、同一形状であり、薄板の円盤状に形成されている。中心には、嵌合部４３が嵌合する孔を有し、周端には、平面状に形成された周端平面部６１３、６２３か形成され、孔の周囲には、平面状の中央平面部６１４、６２４が形成されている。そして、周端平面部６１３、６２３と中央平面部６１４、６２４の間には、直径方向の横断面視において、弁室の反対側に凸となる様に、緩やかに湾曲している湾曲部６１２、６２２が形成されている。湾曲部６１２、６２２は、周方向に連続して形成された溝を形成し、ダイヤフラム６１、６２の中央部が、周端部に対して軸方向に変位した場合に、湾曲部６１２、６２２が変形し、弾性限度内で十分な変位量が得られるように構成されている。
【００２１】
このようなダイヤフラム６１、６２は、複数枚重ねられており、この実施形態では、５枚重ねられている。最も弁室２１側に位置する一枚のダイヤフラム６１と、その外側に重ねられた４枚のダイヤフラム６２とによって、弁室２１を画成する、変形可能な隔壁が構成される。ダイヤフラムは、例えば、ニッケル・コバルト合金で構成することができる。複数枚重ねられたダイヤフラム６１、６２は、図４に示されているように、溶接処理をする前では、嵌合部４３の周端面４３１に、中央の孔の孔内周端６１１、６２１が付き合わされた状態となるように、突出した嵌合部４３に、ダイヤフラム６１、６２の中央部の孔が嵌合され、さらに、付設リング６０が、最も外側に位置するダイヤフラム６２の上から付設される。付設リング６０も、嵌合部４３に嵌合される大きさの内径を有する輪状に形成された部材であり、溶接時には、溶加材として作用する。この付設リング６０には、例えば、常炭素ニッケル板（ＪＩＳ  Ｈ４５６１  ＮＮＣＰ）が用いられる。
嵌合部４３と付設リング６０の接触点Ｐを電子ビーム溶接することによって、図５に示されているように、ビード（溶着金属）Ｂが構成され、弁体４の嵌合部４３とダイヤフラム６１、６２が溶接される。
【００２２】
連結部４２には、押圧固定部材７が接合される。押圧固定部材７は、円柱状に形成され、軸方向に接合孔７１を有している。接合孔７１内には、雌ネジ部７１１が内壁に形成され、この雌ネジ部７１１が、連結部４２の雄ネジ部４２１に螺合する。この、雌ネジ部７１１と雄ネジ部４２１とを締め付けることによって、押圧固定部材７の弁本体４１側の端部に形成された押圧面７４が、ダイヤフラム６２の中央平面部６２４に押圧される。ダイヤフラム６１、６２は、押圧面７４と弁本体４１との間で両側から押圧された状態で挟持され、弁体４とダイヤフラム６１、６２とを一層強固に一体化する。
【００２３】
接合孔７１の押圧面７４側の端には、傾斜部７１３が設けられ、接合状態で、ビードＢを収納する構成となっている。また、傾斜部７１３の開口端部には、周方向に溝が形成され、付設リング６０を収容する収容部７１４が設けられている。押圧固定部材７の弁本体４１側の端部には、外周側面に突出段部７３が周方向に形成されている。また、他方の端部には、外周側面に雄ネジ部７２が形成されている。接合孔７１の雌ネジ部７１１には、さらに、固定部材９が螺合している。固定部材９を重ねて螺合させることによって、固定部材９は、ダブルナットとして作用し、連結部４２と押圧固定部材７との螺合部分の緩みを抑制する。
【００２４】
即ち、連結部４２の雄ネジ部４２１と、固定部材９の雄ネジ部９１は、共に接合孔７１の雌ネジ部７１１に螺合しているが、非連続である。このため、雌ネジ部７１１に対して、雄ネジ部４２１と雄ネジ部９１が同時に回転することはなく、連結部４２と押圧固定部材９との螺着が緩む方向の回転を、固定部材９が規制する構成となっている。
【００２５】
さらに、固定部材９は、先端部に鋭角状に形成されたテーパー面９３を、外周側面に、雌ネジ部７１１と螺合する雄ネジ部９１を有し、基端部に六角形の嵌合穴９２を有している。嵌合穴９２に工具を差し込んで、固定部材９を締め付けることによって、先端のテーパー面９３が、穴４２２内に進行し、同時に、テーパー面９３が、開口縁部４２４を外側に押し開いて変形させる構成となっている。このテーパー面９３の作用によって、連結部４２先端部のネジ山が、接合孔７１内の雌ネジ部７１１に押し付けられつつ潰され、相互に回転不能な状態となる。このように、雌ネジ部７１１と雄ネジ部４２１が相対的に回転不能となり一体となることで、ネジ接合部分の緩の発生が一層抑制され、押圧固定部材７が、ダイヤフラム６１、６２を固定した状態を確実に維持させることができる。
【００２６】
接合孔７１の他方の端部には、接合孔７１より内径の大きな収納部７１２が形成されており、この収納部７１２には、回動部材５４が回動自在な状態で収納されている。
押圧固定部材７の外周には、復帰手段８が配置されている。復帰手段８は、圧縮スプリング８１、受け部材８２とを備えている。受け部材８２は、筒状に形成され、外側周面に突出したフランジ部には、スプリング８１の一端が当接する受け面８２１を備え、内側周面には、回動部材５４を収納する収納孔８２２と、雌ネジ部８２３を備えている。雌ネジ部８２３は、押圧固定部材７の雄ネジ部７２に螺合され、押圧固定部材７の端面と内側突出段部８２４の間に、回動部材５４の突出部５４３を収納する隙間を形成する。
【００２７】
一方、本体２に形成されている受け部２５には、ダイヤフラム６１、６２を介して、押接部材８３が載置されている。押接部材８３において、ダイヤフラム６１、６２に対して反対側の面には、後述する支持部材３の基端面３３と、スプリング８１の他端が当接する。スプリング８１は、押接部材８３と受け部材８２の間に圧縮された状態で介挿され、弁体４を、開状態となる方向へ常時付勢している。
【００２８】
押接部材８３の中央に形成された挿通穴８３３には、押圧固定部材７が収納され、挿通穴８３３の内側に形成された段部８３４には、突出段部７３が対向して配置される構成となっている。弁開状態で、突出段部７３は、段部８３４に当接する。
本体２の取付部２４には、支持部材３がねじ込まれる。支持部材３は、中心軸方向に、操作手段５を収納する孔、収納部３１を備え、外周面には雄ネジ部３２を有し、収納部３１には、雌ネジからなるガイドネジ３１１を有している。
【００２９】
雄ネジ部３２は、本体２の取付部２４の雌ネジ部２４２に螺合し、支持部材３を取付部２４にねじ込むことによって、基端面３３により、押接部材８３を介して、ダイヤフラム６１、６２を押圧し、受け部２５との間でダイヤフラム６１、６２の周端平面部６１３、６２３を締め付けることで、弁室２１の気密性を保持している。特に、受け部２５には、断面形状が山型となっている密着部２５１が形成されており、特に密着部２５１において、ダイヤフラム６１、６２に集中して圧力が加わるので、密閉性が一層向上する。
【００３０】
支持部材３の収納部３１には、駆動部材５１が収納されている。駆動部材５１は、外周面に雄ネジで構成されたリードネジ５１１が形成され、このリードネジ５１１は、収納部３１のガイドネジ３１１に螺合している。駆動部材５１の先端当接部５１２は、球面状の凸面となっている。また、支持部材３の外側に突出した基端部には、横断面が多角形状である接合部５１３が形成され、この接合部５１３には、ハンドル５２の接合穴５２１が接合されている。接合穴５２１の断面形状は、接合部５１３の断面形状と同一形状の多角形状に形成されている。ハンドル５２の中心には、固定ボルト５２２が挿通し、接合部５１３の先端に形成されたネジ穴５１４に螺合しており、ハンドル５２は、駆動部材５１に締着固定される。
【００３１】
先端当接部５１２と、回動部材５４の間には、介挿部材５３が介挿されている。介挿部材５３の下面は球面状の凸面となっており、回動部材５４の受け面５４１と点接触するように構成されている。また、介挿部材５３の上面５３１には、先端当接部５１２が点接触する。介挿部材５３は、周囲の部材に対して、相対的に回動自在に配置される。
【００３２】
ハンドル５２を回転させると、駆動部材５１が一体として回転し、ガイドネジ３１１と、リードネジ５１１の噛みあいによって、駆動部材５１が軸方向に移動する。このガイドネジ３１１と、リードネジ５１１とによって、進退ガイド手段が構成される。
駆動部材５１の進退によって、弁体４は、軸方向に進退し、弁閉状態と、弁開状態とに切り替わる。駆動部材５１は、進退移動するとき回転する。ここで、駆動部材５１と介挿部材５３の間は、点接触であり、また、介挿部材５３と回動部材５４との間も点接触であるので、これらの各部材が、駆動部材５１の回転とともに連れ回りしにくい構成となっている。また、例え、連れ回りしたとしても、回動部材５４がフリー回転し、回転を押圧固定部材７に伝えにくい構成となっているので、押圧固定部材７が回転して、雄ネジ部４２１と雌ネジ部７１１との螺合によるダイヤフラム６１、６２の締着が緩むことがない。さらに、これらの締着固定状態は、固定部材９によって、確保されているので、さらに一層ダイヤフラム６１、６２の締着が確実に維持される。
【００３３】
又、複数枚の重ねられたダイヤフラム６１、６２が用いられているので、腐食ガスに対する耐腐食性や耐久性が向上している。特に、複数枚の重ねられたダイヤフラム６１、６２を溶接により弁体４に固定した構成とすることで、単に押圧固定部材７によって押圧固定する構成よりも、密閉性が格段に向上している。なお、溶加材となる付設リング６０は、図６に示されているように、弁本体４１側に溝４１５を形成し、この位置に収納されていてもよい。
【００３４】
複数枚のダイヤフラムを弁体に溶接する条件は、ダイヤフラムの厚さが０．０１〜２ｍｍの範囲で、積層時の厚さが０．０５〜２．５ｍｍの範囲で溶接が可能である。例えば、４枚〜５枚（積層時における厚さ０．２〜０．５ｍｍ）の積層されたダイヤフラムを弁体に溶接する場合、純ニッケルを溶材（付設リング６０）として用い、電子ビームの照射位置を溶接金属の突合せ部分とし、電子ビームのビーム電流を１．５〜２．０ｍＡの範囲と、好ましくは、１．６５〜１．８５ｍＡとするとよい。ビーム電流をこの範囲より小さくすると溶接による十分な接合強度か得られず、大きくするとダイヤフラムに内部応力が生じてシワが発生し易くなる。また、溶接速度は、０．２〜０．７ｍ／ｍｉｎの範囲、好ましくは、０．３５〜０．６ｍ／ｍｉｎの範囲とするとよい。この範囲より小さい場合には、ダイヤフラムにシワが生じやすく、大きい場合には、溶接部分の十分な強度が得られない。
【００３５】
さらに、ダイヤフラムの積層枚数が２〜３枚（積層時における厚さ０．１〜０．３ｍｍ）の積層されたダイヤフラムを弁体に溶接する場合には、純ニッケルを溶材（付設リング６０）として用い、電子ビームの照射位置を溶接金属の突合せ部分とし、電子ビームのビーム電流を１．５〜２．０ｍＡの範囲と、好ましくは、１．６５〜１．８５ｍＡとするとよい。ビーム電流をこの範囲より小さくすると溶接による十分な接合強度か得られず、大きくするとダイヤフラムに内部応力が生じてシワが発生し易くなる。また、溶接速度は、０．２〜０．７ｍ／ｍｉｎの範囲、好ましくは、０．３５〜０．６ｍ／ｍｉｎの範囲とするとよい。この範囲より小さい場合には、ダイヤフラムに内部応力が生じてシワが生じやすく、大きい場合には、溶接部分の十分な強度が得られない。
【００３６】
また、上記において、電子ビームではなく、波長１．０６４〜１０．６μｍのレーザを用いて、同様の溶接速度で溶接をすることも可能である。
【００３７】
又、ダイヤフラムを構成するニッケルコバルト合金の組成は、コバルトが２５〜４５重量％、クロムが１２〜２５重量％、モリブデンが８〜１５重量％、ニオブ０．１〜３重量％の範囲の組成であり、残部はニッケルで構成される。また、母材である弁体は、例えば、オーステナイト系低炭素鋼種を用いることができる。
【００３８】
【実施例】
以下、複数枚のダイヤフラムを弁体に対して溶接する実施例について説明する。
母材（弁体）：ＪＩＳ  Ｇ４３０４：ＳＵＳ３１６Ｌ
ダイヤフラム：Ｎｉ−Ｃｏ超高弾性合金
化学組成（単位：重量％）Ｎｉ：５４、Ｃｏ：２５、Ｃｒ：１２、Ｍｏ：８、Ｎｂ：１
ダイヤフラム形状
厚さ：０．０５ｍｍ
外径：２５．５ｍｍ
孔径：５．０ｍｍ
積層枚数：５枚
孔内周端部の積層時の厚さ：０．２５ｍｍ
溶加材：常炭素ニッケル板  ＪＩＳ  Ｈ４５６１  ＮＮＣＰ（付設リング）。
【００３９】
電子ビーム溶接による溶接条件は以下のとおりである。
加速電圧：１５０［ｋＶ］
ビーム電流：１．７５［ｍＡ］
溶接速度：０．５［ｍ／ｍｉｎ］
溶接位置：ダイヤフラムの孔内周端（図４におけるＰ点）
以上の条件で溶接を行った。
【００４０】
溶接後のダイヤフラムの状態は、溶接以前と変わらず、皺等の発生はなく、ビードの外観には、スパッタリングも見当たらなかった。溶接部分の断面を確認したところ、溶け込みは十分であった。
さらに、ダイヤフラムの溶接を完了した弁体について、Ｈｅリーク真空法により気密性の試験を行った結果、測定値は、１×１０−９ａｔｍ・ｃｃ／ｓｅｃ以下の値となり、良好な結果が得られた。
【００４１】
このような結果は、ビーム電流を１．５〜２．０ｍＡの範囲、溶接速度を０．２〜０．７ｍ／ｍｉｎの範囲で変更し、溶接試験を行った結果、同様に良好な結果が得られた。ビーム電圧を上記範囲より小さくすると、十分な溶け込みが得られず、複数枚のダイヤフラムを同時に溶接することが困難となる。また、上記範囲より大きくすると、溶け込みが大きくなるため、ダイヤフラムの歪が大きくなり、弾性材としての十分な性能が得られなくなる。また、溶接速度を上記範囲より速くすると、十分な溶け込みが得られず、複数枚のダイヤフラムを同時に溶接することが困難となり、上記範囲より遅くすると、溶け込みが大きくなるため、ダイヤフラムの歪が大きくなり、弾性材としての十分な性能が得られなくなる。
【００４２】
また、上記実施例と同じ材料で、ダイヤフラムの枚数を３枚以下（孔内周端部の積層時の厚さ：０．３ｍｍ以下）とした場合には、
加速電圧：１５０［ｋＶ］
ビーム電流：１．５［ｍＡ］
溶接速度：０．５［ｍ／ｍｉｎ］
とすることによって、上記実施例と同様の効果が得られた。
【００４３】
【発明の効果】
請求項１に記載の本発明によれば、複数枚の薄板状のニッケルコバルト合金と、ステンレス鋼とを、ニッケルコバルト合金に溶接による歪の発生を抑制しつつ、溶接可能となる。
【００４４】
請求項２に記載の発明によれば、薄板状のダイヤフラムに歪を生じさせずに、弁体に固定することが可能となり、気密性が良好で、かつ耐腐食性能の良好な弁の提供が可能となる。
【００４５】
請求項３に記載の発明によれば、積層厚が０．０５〜２．５ミリである、複数枚重ねたダイヤフラムを、歪の発生を抑制しつつ、一回の溶接で同時に溶着させることができる。
【００４６】
請求項４に記載の発明によれば、オーステナイト系低炭素鋼種のステンレス鋼を用いることによって、一層耐腐食性能が向上した弁体を提供することができる。
【００４７】
請求項５に記載の発明によれば、超高弾性合金のダイヤフラムの溶接によって、一層耐腐食性を有するダイヤフラム付きの弁体を提供することができる。
【００４８】
請求項６に記載の発明によれば、耐腐食性があり、かつ気密性と耐久性を有する弁体を得ることができる。
【００４９】
請求項７に記載の発明によれば、ダイヤフラムと弁体側の嵌合部との突合せ部分を溶接することによって、溶接によるダイヤフラムに対する歪の発生を抑制することができ、溶接によるダイヤフラムの性能低下を抑えた弁体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の弁体を用いた開閉弁の全体断面側面図である。
【図２】弁体及び復帰手段の全体断面側面図である。
【図３】ダイヤフラムが溶着された弁体の全体平面図である。
【図４】溶接される前の、弁体嵌合部にダイヤフラムを装着した状態を示す部分拡大断面側面図である。
【図５】弁体嵌合部にダイヤフラムが溶接されている状態を示す部分拡大断面側面図である。
【図６】他の構成例を示すもので、溶接される前の、弁体嵌合部にダイヤフラムを装着した状態を示す部分拡大断面側面図である。
【符号の説明】
１  腐食ガス用開閉弁
２  本体
２１  弁室
２１１  流入口
２１２  流出口
２２  基端接続部
２２１  雄ネジ部
２２２  導入路
２２３  導入口
２３  外部接続部
２３１  導出路
２３２  接続口
２３３  雄ネジ部
２４  取付部
２４１  取付口
２４２  雌ネジ部
２５  受け部
２５１  密着部
３  支持部材
３１  収納部
３１１  ガイドネジ（進退ガイド手段）
３２  雄ネジ部
３３  基端面
４  弁体
４１  弁本体
４１１  底面
４１３  シール材
４１４  受け面
４２  連結部
４２１  雄ネジ部
４２２  穴
４２３  傾斜面
４２４  開口縁部
４３  嵌合部
４３１  周端面（突合せ面）
５  操作手段
５１  駆動部材
５１１  リードネジ（進退ガイド手段）
５１２  先端当接部
５１３  接合部
５１４  ネジ穴
５２  ハンドル
５２１  接合穴
５２２  固定ボルト
５３  介挿部材
５３１  上面
５３２  下面
５４  回動部材
５４１  受け面
５４２  摺接面
５４３  突出部
６０  付設リング
６１  ダイアフラム
６１１  孔内周端
６１２  湾曲部
６１３  周端平面部
６１４  中央平面部
６２  ダイアフラム
６２１  孔内周端
６２２  湾曲部
６２３  周端平面部
６２４  中央平面部
７  押圧固定部材
７１  接合孔
７１１  雌ネジ部
７１２  収納部
７１３  傾斜部
７１４  収容部
７２  雄ネジ部
７３  突出段部
７４  押圧面
８  復帰手段
８１  スプリング
８２  受け部材
８２１  受け面
８２２  収納孔
８２３  雌ネジ部
８２４  内側突出段部
８３  押接部材
８３１  受け面
８３２  押接面
８３３  挿通穴
８３４  段部
９  固定部材
９１  雄ネジ部
９２  嵌合穴
９３  テーパー面
Ｐ  溶接点
Ｂ  ビード
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2004255460.tif 000008