(57)【要約】【課題】本発明は、ガラス基板を細分化するために切断した時に多層膜部に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を提供することにある。【解決手段】ガラス基板１５に対して、誘電体を積層して多層膜部１７を形成し、形成された多層膜部１７とガラス基板１５に対して、表面から少なくとも多層膜部１７の厚さ以上の深さまで研磨して溝２１を形成し、形成された溝２１に沿ってガラス基板１５を切断することで、ガラス基板１５の切断時にかかる力が多層膜部１７に及ぶのを防ぐことができる。この結果、ガラス基板１５を切断した時に多層膜部１７に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法において、
ガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成する積層工程と、
前記積層工程により形成された前記多層膜部とガラス基板に対して、表面から少なくとも多層膜部の厚さ以上の深さまで研磨して溝を形成する研磨工程と、
前記研磨工程により形成された溝に沿って前記ガラス基板を切断する切断工程とを有することを特徴とする誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法。
【請求項２】
入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法において、
ガラス基板に対して、表面から所定の深さまで研磨して溝を形成する研磨工程と、
前記研磨工程により形成された溝を有するガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成する積層工程と、
前記積層工程により形成された多層膜部の下面の前記溝に沿って前記ガラス基板を切断する切断工程とを有することを特徴とする誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法。
【請求項３】
入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品において、
前記誘電体多層膜フィルタ素子は、
ガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、
前記形成された前記多層膜部とガラス基板に対して、表面から少なくとも多層膜部の厚さ以上の深さまで研磨して溝を形成し、
前記研磨された溝に沿って前記ガラス基板を切断するようにしてなることを特徴とする誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品。
【請求項４】
入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品において、
前記誘電体多層膜フィルタ素子は、
ガラス基板に対して、表面から所定の深さまで研磨して溝を形成し、
前記形成された溝を有するガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、
前記積層された多層膜部の下面の前記溝に沿って前記ガラス基板を切断するようにしてなることを特徴とする誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品。
【請求項５】
前記誘電体多層膜フィルタ素子は、
帯域透過フィルタ素子、エッジフィルタ素子、ゲインフラッティングフィルタ素子のうち何れか１つであることを特徴とする請求項３又は４記載の光部品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、誘電体多層膜フィルタ素子を素子として光部品に組み込む際に、切断部分における誘電体多層膜の欠けや剥がれ等を防止することができる誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法及び誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
誘電体多層膜フィルタ素子は、光合分波器等の波長多重光通信システムにおける素子として組み込まれており、その製造方法としては、以下のような方法が知られている。
【０００３】
図５（ａ）に示すように、ウエハ１０１は、誘電体を蒸着積層した多層膜部１０７がガラス基板１０５上に形成してなり、まず、ガラス基板１０５の厚さが１〜２ｍｍ程度になるまでガラス基板１０５の下面を研磨しておく。次いで、図５（ｂ），（ｃ）に示すように、研磨したガラス基板１０５をダイヤモンドブレード１０９を用いて約１．０〜１．５ｍｍ幅の帯状に切断し、さらに、約１．０〜１．５ｍｍ幅の賽の目状に切断し、図６に示すように、誘電体多層膜フィルタ素子１０３を作製するようにしていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来の誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法にあっては、ガラス基板１０５を賽の目状に切断する際に、ガラス基板１０５に蒸着した多層膜部１０７も一緒に切断していた。
【０００５】
この誘電体多層膜フィルタ素子１０３は、ガラス基板１０５上に２種類以上の屈折率の異なる膜を多層に積み重ねた多層構造をしている。このため、図６（ａ），（ｂ）に示すように、多層膜部１０７の層と層の間、または、層とガラス基板１０５の間に剥がれや欠け１１１ａ，１１１ｂなどの損傷を受けることがあった。
【０００６】
このように、誘電体多層膜フィルタ素子１０３の有効面積が確保できなくなり、製品として使用不可能となり、歩留まりを低下させる要因となっていた。また、このような事態を避けるために切断速度を落とすようにしてもよいが、この方法では工数が増えるので、コストアップの要因となっていた。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的としては、ガラス基板を細分化するために切断した時に多層膜部に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、上記課題を解決するため、入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法において、ガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成する積層工程と、前記積層工程により形成された前記多層膜部とガラス基板に対して、表面から少なくとも多層膜部の厚さ以上の深さまで研磨して溝を形成する研磨工程と、前記研磨工程により形成された溝に沿って前記ガラス基板を切断する切断工程とを有することを要旨とする。
【０００９】
請求項２記載の発明は、上記課題を解決するため、入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法において、ガラス基板に対して、表面から所定の深さまで研磨して溝を形成する研磨工程と、前記研磨工程により形成された溝を有するガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成する積層工程と、前記積層工程により形成された多層膜部の下面の前記溝に沿って前記ガラス基板を切断する切断工程とを有することを要旨とする。
【００１０】
請求項３記載の発明は、上記課題を解決するため、入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品において、前記誘電体多層膜フィルタ素子は、ガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、前記形成された前記多層膜部とガラス基板に対して、表面から少なくとも多層膜部の厚さ以上の深さまで研磨して溝を形成し、前記研磨された溝に沿って前記ガラス基板を切断するようにしてなることを要旨とする。
【００１１】
請求項４記載の発明は、上記課題を解決するため、入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品において、前記誘電体多層膜フィルタ素子は、ガラス基板に対して、表面から所定の深さまで研磨して溝を形成し、前記形成された溝を有するガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、前記積層された多層膜部の下面の前記溝に沿って前記ガラス基板を切断するようにしてなることを要旨とする。
【００１２】
請求項５記載の発明は、上記課題を解決するため、前記誘電体多層膜フィルタ素子は、帯域透過フィルタ素子、エッジフィルタ素子、ゲインフラッティングフィルタ素子のうち何れか１つであることを要旨とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
（第１の実施の形態）
図１（ａ），（ｂ），（ｃ）は、本発明の第１の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための図である。なお、図１（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ断面図である。
【００１４】
図１（ａ）に示すように、誘電体を蒸着積層した多層膜部１７がガラス基板１５上に形成されてウエハ（図示しない）を成している。ダイヤモンドブレード１９は、２００番〜４０００番の研磨仕様を満足するダイヤモンド粉が付着した円盤状の回転体であり、その先端部１９ａが多層膜部１７の表面に接触して幅ｘ１だけ研磨する。
【００１５】
図１（ｂ）に示すように、ダイヤモンドブレード２３は、２００番〜４０００番の研磨仕様を満足するダイヤモンド粉が付着した円盤状の回転体であり、その先端部２３ａがガラス基板１５の表面から裏面に抜けるように移動して幅ｘ２だけ切断する。なお、図１（ｂ）示すｘ１とｘ２は、溝の幅ｘ１にダイヤモンドブレード２３の幅ｘ２が通るため、
ｘ１　＞　ｘ２
の関係にある。
【００１６】
次に、図１及び図２を参照して、本発明の第１の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明する。なお、図２（ａ）は上面図であり、図２（ｂ）は断面図である。
【００１７】
まず、積層工程では、図１（ａ）に示すように、ウエハ（図示しない）の基板となるガラス基板１５に対して、屈折率の異なる誘電体の薄い膜を交互に蒸着して積層する。この結果、ガラス基板１５上に厚さｄ１の多層膜部１７が形成される。
【００１８】
次いで、研磨工程では、上述した積層工程により形成された多層膜部１７とガラス基板１５に対して、図１（ａ）に示すように、ダイヤモンドブレード１９が回転しながら↓矢印方向に下降して、多層膜部１７の表面から少なくとも多層膜部１７の厚さｄ１以上の深さｄ３まで研磨して凹形状の溝２１を形成する。この結果、図１（ｂ）に示すように、ガラス基板１５上と多層膜部１７上には、深さｄ３、幅ｘ１の凹形状の溝２１が形成される。なお、溝２１の深さｄ３は、多層膜部１７の厚さｄ１、多層膜部１７とガラス基板との厚さｄ４に対して、
ｄ１　＜　ｄ３　＜　ｄ４
の関係にある。
【００１９】
次いで、切断工程では、上述した研磨工程により形成された凹形状の溝２１に沿って、図１（ｂ）に示すように、ダイヤモンドブレード２３が回転しながら↓矢印方向に下降して、ガラス基板１５の残りの厚さｄ２以上の深さまで切断する。この結果、図１（ｃ）に示すように、細分化された誘電体多層膜フィルタ素子２５が形成される。
【００２０】
誘電体多層膜フィルタ素子２５は、図２（ａ）に示すように、縦横各辺がＹｃの正方形で有効面積Ｓｃが、
Ｓｃ＝Ｙｃ×Ｙｃ
となり、有効面積Ｓｃに対して外周のガラス基板１５の側面に欠け２７が形成される。
【００２１】
また、従来の誘電体多層膜フィルタ素子１０３にあっては、図６に示すように、多層膜部１０７の層と層の間、または、層とガラス基板１０５の間に剥がれや欠け１１１ａ，１１１ｂなどの損傷を受けることがあった。これに対して、本実施の形態によれば、多層膜部１７の層と層の間、または、層とガラス基板１５の間に剥がれや欠けなどの損傷を受けることがない。
この結果、誘電体多層膜フィルタ素子２５の有効面積が確保でき、製品として使用不可能とならず、歩留まりの低下を防止することができる。
【００２２】
このように、従来の製造方法では、多層膜部は切断が難しく、層と層の間又は層とガラス基板の間が剥がれたり欠けたりしていたが、本実施の形態によれば、予め切断を行う箇所の多層膜部１７とガラス基板１５を多層膜部１７の厚さより深く研磨して取り除いておくので、ガラス基板１５の切断時にかかる力が多層膜部１７に及ぶのを防ぐことができる。この結果、ガラス基板１５を切断した時に多層膜部１５に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる。
【００２３】
（第２の実施の形態）
図３（ａ），（ｂ），（ｃ）は、本発明の第２の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための図である。なお、図３（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ断面図である。また、本発明の第２の実施の形態には、上述した第１の実施の形態に記載された構成要件と共通のものが記載されているので、その説明を省略する。
【００２４】
ここで、図３及び図４を参照して、本発明の第２の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明する。なお、図４（ａ）は上面図であり、図４（ｂ）は断面図である。
【００２５】
まず、図３（ａ）に示すように、多層膜部が形成されていないガラス基板３１を準備しておく。
次いで、研磨工程では、このガラス基板３１に対して、図３（ａ）に示すように、ダイヤモンドブレード１９が回転しながら↓矢印方向に下降して、ガラス基板３１の表面から少なくとも後述する多層膜部３５の厚さｄ２１よりも深い深さｄ２３まで研磨して凹形状の溝３３を形成する。この結果、図３（ｂ）に示すように、ガラス基板３１上には、深さｄ２３、幅ｘ１の凹形状の溝３３が形成される。なお、溝３３の深さｄ２３は、後述する多層膜部３５の厚さｄ２１、ガラス基板の厚さｄ２５に対して、
ｄ２１　＜　ｄ２３　＜　ｄ２５
の関係にある。
【００２６】
次いで、積層工程では、図３（ｃ）に示すように、ウエハ（図示しない）の基板となるガラス基板３１に対して、屈折率の異なる誘電体の薄い膜を交互に蒸着して積層する。この結果、ガラス基板３１上に厚さｄ２１の多層膜部３５が形成される。特に、ガラス基板３１上に形成された凹形状の溝３３に対しても、多層膜部３７が形成される。
【００２７】
次いで、切断工程では、上述した積層工程により多層膜部３７が形成された凹形状の溝３９に沿って、図３（ｃ）に示すように、ダイヤモンドブレード２３が回転しながら↓矢印方向に下降して、多層膜部３７とガラス基板３１とを厚さｄ２５以上の深さまで切断する。この結果、図３（ｄ）に示すように、細分化された誘電体多層膜フィルタ素子４１が形成される。
【００２８】
誘電体多層膜フィルタ素子４１は、図４（ａ）に示すように、縦横各辺がＹｃの正方形で有効面積Ｓｃが、
Ｓｃ＝Ｙｃ×Ｙｃ
となり、有効面積Ｓｃに対して外周のガラス基板３１の側面に欠け４３が形成される。
【００２９】
また、従来の誘電体多層膜フィルタ素子１０３にあっては、図６に示すように、多層膜部１０７の層と層の間、または、層とガラス基板１０５の間に剥がれや欠け１１１ａ，１１１ｂなどの損傷を受けることがあった。これに対して、本実施の形態によれば、多層膜部３５の層と層の間、または、層とガラス基板３１の間に剥がれや欠けなどの損傷を受けることがない。
この結果、誘電体多層膜フィルタ素子４１の有効面積が確保でき、製品として使用不可能とならず、歩留まりの低下を防止することができる。
【００３０】
このように、従来の製造方法では、多層膜部は切断が難しく、層と層の間又は層とガラス基板の間が剥がれたり欠けたりしていたが、本実施の形態によれば、予め切断を行う箇所のガラス基板３１を多層膜部３５の厚さより深く研磨して取り除いておいた後、ガラス基板３１上に多層膜部３５が形成されるので、細分化のため切断する時にガラス基板３５にかかる力が多層膜部３５に及ぶのを防ぐことができる。この結果、ガラス基板３１を切断した時に多層膜部３５に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる。
【００３１】
（適応例）
本発明の第１及び第２の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の適応例を説明する。
第１及び第２の実施の形態において説明した誘電体多層膜フィルタ素子２５，４１は、ある波長帯域のみの信号光を透過させる帯域透過フィルタ素子、ある波長以上または以下の帯域の信号光を透過させるエッジフィルタ素子、利得波長特性を平坦化するゲインフラッティングフィルタ素子等に適応可能である。
【００３２】
【発明の効果】
請求項１記載の本発明によれば、ガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、形成された多層膜部とガラス基板に対して、表面から少なくとも多層膜部の厚さ以上の深さまで研磨して溝を形成し、形成された溝に沿ってガラス基板を切断することで、ガラス基板の切断時にかかる力が多層膜部に及ぶのを防ぐことができる。この結果、ガラス基板を切断した時に多層膜部に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる。
【００３３】
請求項２記載の本発明によれば、ガラス基板に対して、表面から所定の深さまで研磨して溝を形成し、形成された溝を有するガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、形成された多層膜部の下面の溝に沿ってガラス基板を切断することで、ガラス基板の切断時にかかる力が多層膜部に及ぶのを防ぐことができる。この結果、ガラス基板を切断した時に多層膜部に欠けや剥がれが生じなくなり、不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる。
【００３４】
請求項３記載の本発明によれば、光部品に用いられ、入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子は、ガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、形成された多層膜部とガラス基板に対して、表面から少なくとも多層膜部の厚さ以上の深さまで研磨して溝を形成し、研磨された溝に沿ってガラス基板を切断するようにしてなることで、ガラス基板の切断時にかかる力が多層膜部に及ぶのを防ぐことができる。この結果、ガラス基板を切断した時に多層膜部に欠けや剥がれが生じなくなり、光部品の不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる。
【００３５】
請求項４記載の本発明によれば、光部品に用いられ、入射光の波長に応じて透過率が変化する誘電体多層膜フィルタ素子は、ガラス基板に対して、表面から所定の深さまで研磨して溝を形成し、形成された溝を有するガラス基板に対して、誘電体を積層して多層膜部を形成し、積層された多層膜部の下面の溝に沿ってガラス基板を切断するようにしてなることで、ガラス基板の切断時にかかる力が多層膜部に及ぶのを防ぐことができる。この結果、ガラス基板を切断した時に多層膜部に欠けや剥がれが生じなくなり、光部品の不良品の製造がなくなり、歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための断面図（ａ），（ｂ），（ｃ）である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための上面図（ａ）と断面図（ｂ）である。
【図３】本発明の第２の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための断面図（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）である。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係る誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための上面図（ａ）と断面図（ｂ）である。
【図５】従来の誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための上面図（ａ），断面図（ｂ），（ｃ）である。
【図６】従来の誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法を説明するための上面図（ａ）と断面図（ｂ）である。
【符号の説明】
１５，３１　ガラス基板
１７，３５，３７　多層膜部
１９，２３　ダイヤモンドブレード
２５，４１　誘電体多層膜フィルタ素子
２７，４３　欠け
２１，３３，３９　溝
【図１】
2004077717.tif 000003
【図２】
2004077717.tif 000004
【図３】
2004077717.tif 000005
【図４】
2004077717.tif 000006
【図５】
2004077717.tif 000007
【図６】
2004077717.tif 000008