(57)【要約】【課題】２つのレーザーの光量差を定期的に監視しながら、常に一定の濃度を得る光走査装置を提供する【解決手段】電子写真プロセスでレーザービームを２つ以上有するマルチビーム方式の光走査装置において、レーザーの光の強さを均一にするよう、光が走査する感光体６へ向けて２つの以上の電位センサー１９，２０を設け、且つそれぞれのセンサー位置に別々のレーザーを走査させて発光強度を確認するよう構成した。【選択図】　　　　図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザービームを２つ以上有するマルチビーム方式の光走査装置において、レーザーの光の強さを均一にするよう、光が走査する感光体へ向けて２つの以上の電位センサーを設け、且つそれぞれのセンサー位置に別々のレーザーを走査させて発光強度を確認するよう構成したことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
電位センサー位置にレーザーを走査させるときに、対応する電位センサーにより検知パターンで２つのレーザーを交互に検知するよう構成したことを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コピア、プリンター、ファクシミリなどの電子写真システムに用いる光走査装置であって、マルチビームで発光を行う装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
本発明の従来技術として一般的なマルチビームの光走査装置があり、一般に用いられるマルチビームの光走査装置は、図１のごとくレーザーユニット１、シリンダレンズ２、ポリゴンミラー３、複数のレンズ４，５、感光体６等を備えており、レーザー光の光路を示すと、レーザーユニット１から出されたレーザー光は、シリンダレンズ２を通過してポリゴンミラー３に反射された後に、光の走査速度を定めるレンズ４を通過し、さらに副走査方向の結像位置を定めるレンズ５を通過し、感光体６へ到達する。ここで、図１中、７は光路内でレーザを折り返すミラーあり、８，９は射出基準を得るの同期検知用のミラーと検知板であり、１０はモータである。
【０００３】
マルチビームの走査装置においては、図２のごとく、２つのレーザー光の高さに違いを持たせて回転方向へ移動することにより、適正な２つのビームの距離差を保つようにしている。また、１つの装置で、Ｐ１、Ｐ２というピッチの差を発生させるためにモータ１０の回転を利用するケースもある。
【０００４】
一方、レーザービームは感光体に対して適性な初期強度を保つ為に図３のごとく可変抵抗器やレーザー光への電源を制御している。ここで、ＡＰＣ回路１１はレーザー光および駆動回路が持つ強度の温度変化補正回路である。また、図３中、１２はレーザー駆動電源制御部、１３はレーザ駆動電源、１４はレーザー駆動回路、１５は可変抵抗器、１６はレーザーダイオード、１７はフォトダイオード、１８はレーザチップを、それぞれ示している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来技術には、初期強度を合わせたレーザー光の強度とピッチを変化させた後のレーザー光の通過位置が異なる場合があるため、レーザー光間のピッチを切り替える時に、レーザー光が通過するレンズの位置が変化して２つのレーザーの光量差が発生するという問題がある。
【０００６】
また、レーザー光は長い期間使用すると特性が劣化したり、温度変動などでも特性の変化を起したりしてＡＰＣ回路では制御しきれない場合があるため、マルチビーム光走査装置において２つのレーザーの光の強度（発行量）に差が発生し、画像の特性に変化をきたすという問題がある。
【０００７】
そこで本発明は上記の問題点を解決するためになされたもので、２つのレーザーの光量差を定期的に監視しながら、常に一定の濃度を得る光走査装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するために、請求項１記載の発明では、レーザービームを２つ以上有するマルチビーム方式の光走査装置において、レーザーの光の強さを均一にするよう、光が走査する感光体へ向けて２つの以上の電位センサーを設け、且つそれぞれのセンサー位置に別々のレーザーを走査させて発光強度を確認するよう構成した光走査装置を最も主要な特徴とする。
【０００９】
請求項２記載の発明では、電位センサー位置にレーザーを走査させるときに、対応する電位センサーにより検知パターンで２つのレーザーを交互に検知するよう構成した請求項１記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面により本発明の実施の形態を詳細に説明する。図４は、本発明を実施する形態において感光体に電位センサーを設けた状態を示す概念図である。
【００１１】
図４に示すごとく、光走査装置は、感光体６に電位センサー１９，２０を取り付けて感光体６のレーザー光が露光を実施した後に作動するよう構成されており、
電位センサー１９，２０ではレーザー発光時の電位センサーの読みが行われる。
【００１２】
ここで、電位センサーの読みが行われる時、通常の動作と同様に２つのレーザー光を同時に点灯させると、電位計の応答性能もあるので、２つのレーザーが独立した出力波形ではなく、電位計の出力には２つのレーザー強度が合わさった平坦な出力波形で示されることになる。
【００１３】
この場合、２つのレーザーの強度差を認識することができない場合があるが、一方の電位センサー１９の部分には一方のレーザー光の発光を行い、且つ他方の電位センサー２０には他方のレーザーの発光を行い、それぞれのセンサー出力を監視している。また、この電位センサーの結果を比較すると、常に均一にすることによって光の強度の差を小さくし、均一な画像濃度を提供することが可能になる。
【００１４】
一方、電位センサーの出力は、制御装置に取込み、各出力を平均化して各レーザー光の出力強度として比較のデータとする。ここで、出力強度の差が生じている場合、レーザー発光の電源制御部の出力を変化させてこの差を低減させることにより、発光強度を変化させる。
【００１５】
このため、２つのレーザーの発光を同じタイミングで実施するので温度上昇等の影響も少なくなり且つ、感光体の位置による感度変化に対しても常に同時に光強度を監視するのでより安定した制御を行うことができる。
【００１６】
また、光走査装置の構成等によっては、図５に示すごとく、走査像高のレンズの透過率等による、像高の光強度差つまりシェーディングの影響を受ける場合がある。すなわち、光走査装置の構成等によっても異なるが光路やレンズの通過位置の違いで全ての像高の光量が同じにはなっていない。
【００１７】
そこで、シェーディングの影響をより少なくするために、濃度を補正するパターンを図６のように交互に発光させ、それぞれの電位センサーで読取る。
【００１８】
これにより、像高の位置の差による光強度の差がなくすことが可能になり、像高差による光量差の影響をなくし、一層高精度なレーザーの出力強度を均一化した制御を行うことができる。
【００１９】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１によれば、電位センサーを２つ設けて電位センサー取付位置にマルチビーム装置のレーザーを走査することにより、２つのレーザー発光強度の差を少なくし、濃度の補正を行うすることができる。
【００２０】
請求項２によれば、マルチビーム光走査装置のレーザーを交互に電位センサー位置に走査させ、その時の感光体の電位状態を計測することによって、レーザーの像高差による発光強度差を少なくし、均一な画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】光走査装置の構成を示す概略図である。
【図２】２つのレーザー光に高さの違いを持たせる状態を示す概略図ある。
【図３】ＡＰＣ回路を含むレーザ光の制御システムを示す概略図である。
【図４】感光体に２つの電位センサーを取り付けた状態を示す概略図である。
【図５】光走査装置の構成等によるシュレーディングの影響を示すグラフである。
【図６】発光によって濃度を補正し得るパターンを示す概略図である。
【符号の説明】
６　感光体
１９　電位センサー
２０　電位センサー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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