(57)【要約】      （修正有）【課題】出射光のノイズ光成分を抑えることの可能な光偏向素子及び画像表示装置を提供する。【解決手段】一対の透明基板間にキラルスメクチックＣ液晶を設けた光偏向素子において、基板間距離（ギャップ）を規制するための複数のリブ１０が傾斜領域を有する側の透明基板（傾斜部形成基板）２の表面に形成され、それぞれのリブ先端が基準基板（透明基板）３に接触している。【選択図】      図２
2004170749.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面に傾斜領域を有する一対の透明基板と、一対の透明基板間に設けられるキラルスメクチックＣ液晶と、該キラルスメクチックＣ液晶に電界を付与するための電極とを少なくとも有する光偏向素子において、少なくとも一方の透明基板上に、基板間距離を確保するための複数のリブが形成されていることを特徴とする光偏向素子。
【請求項２】
請求項１記載の光偏向素子において、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の透明基板である傾斜部形成基板の表面に形成されていることを特徴とする光偏向素子。
【請求項３】
請求項２記載の光偏向素子において、リブが形成されている傾斜部形成基板は、表面がプラスチックからなっていることを特徴とする光偏向素子。
【請求項４】
請求項１記載の光偏向素子において、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の透明基板である傾斜部形成基板と対向する側の透明基板である基準基板に形成され、複数のリブのそれぞれのリブ先端が、対向する傾斜部形成基板の各傾斜領域における、基準基板最近接部上に位置していることを特徴とする光偏向素子。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光偏向素子において、前記傾斜部形成基板は、等しい傾斜角を有する領域が、等ピッチに鋸歯状に配置されて構成されていることを特徴とする光偏向素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の光偏向素子において、リブを構成する材料の屈折率ｎｒは、波長が４５０ｎｍから７００ｎｍの範囲で、液晶の常光屈折率ｎｏ，異常光屈折率ｎｅを用いて、
ｎｏ−△ｎ＜ｎｒ＜ｎｅ＋△ｎ（ただし△ｎ＝ｎｅ−ｎｏ）
で表される範囲内にあることを特徴とする光偏向素子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の光偏向素子において、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎが、１ｍｍ２あたり平均０．０１個乃至１００個であることを特徴とする光偏向素子。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の光偏向素子において、リブ長Ｌの半値位置におけるリブ断面が、この断面に内接する円の直径Ｄを用いて、
０．１Ｌ＜Ｄ＜１０Ｌ
で表わされることを特徴とする光偏向素子。
【請求項９】
対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面に傾斜領域を有する一対の透明基板と、一対の透明基板間に設けられるキラルスメクチックＣ液晶と、該キラルスメクチックＣ液晶に電界を付与するための電極とを少なくとも有し、傾斜領域を有する側の基板である傾斜部形成基板の表面に、基板間距離を確保するための複数のリブが形成され、リブが形成されている傾斜部形成基板は、表面がプラスチックからなっている光偏向素子の製造方法であって、リブを、複数の傾斜領域とともに、プラスチック一体成型加工することにより作製することを特徴とする光偏向素子の製造方法。
【請求項１０】
画像情報に従って光を制御可能な複数の画素が二次元的に配列されている画像表示素子と、画像表示素子を照明する光源と、画像表示素子に表示された画像パターンを観察するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示素子と光学部材との間の光路を偏向する光偏向素子からなる光偏向手段とを有し、前記光偏向素子には、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の光偏向素子が用いられ、サブフィールド毎の光路の偏向に応じて表示位置がずれている状態の画像パターンを表示することで、画像表示素子の見かけ上の画素数を増倍して表示することを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光偏向素子およびその製造方法および画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光の方向を変える素子には、光路を変える光学素子と、ピクセルシフト素子とが知られている。
【０００３】
ここで、光路を変える光学素子とは、外部信号により光の光路を偏向、すなわち入射光に対して出射光が平行にシフトするか、ある角度を持って回転するか、あるいはその両者を組合せて光路を切りかえることが可能な素子のことである。この説明において、平行シフトによる光偏向に対してそのシフトの大きさを「シフト量」と呼び、回転による光偏向に対してその回転量を「回転角」と呼ぶ。
【０００４】
光学素子として、従来より、ＫＨ２ＰＯ４（ＫＤＰ），ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４（ＡＤＰ），ＬｉＮｂＯ３，ＬｉＴａＯ３，ＧａＡｓ，ＣｄＴｅなどの第１次電気光学効果（ポッケルス効果）の大きな材料や、ＫＴＮ，ＳｒＴｉＯ３，ＣＳ２，ニトロベンゼン等の第２次電気光学効果の大きな材料を用いた電気光学デバイスや、ガラス，シリカ，ＴｅＯ２などの材料を用いた音響光学デバイスが知られている（例えば、非特許文献１参照。）。これらは一般的に、十分大きな光偏向量を得るためには光路長を長く取る必要があったり、また材料が高価であるため用途が制限されていた。
【０００５】
一方で、以下に示すような液晶材料を用いた光学素子も提案されている。
【０００６】
例えば、特許文献１には、光空間スイッチの光の損失を低減することを目的に、人工複屈折板からなる光ビームシフタが示されている。
【０００７】
より詳細に、この特許文献１には、２枚のくさび形の透明基板を互いに逆向きに配置し、これら２枚の透明基板間に液晶層を挟んだ光ビームシフタが示され、また、マトリクス形偏向制御素子の後面にこの光ビームシフタを接続したものが示されている。また、２枚のくさび形の透明基板を互いに逆向きに配置し、これら２枚の透明基板間にマトリクス駆動が可能で、入射光ビームを半セルシフトする液晶層を挟んだ光ビームシフタを半セルずらして多段接続した光ビームシフタも示されている。
【０００８】
また、例えば、特許文献２には、大きな偏向を得ることが可能で、偏向効率が高く、しかも偏向角と偏向距離を任意に設定することができる光偏向スイッチが示されている。より詳細に、この光偏向スイッチは、２枚の透明基板を所定の間隔で対向配置し、対向させた面に垂直配向処理を施し、一対の透明基板間に、スメクティックＡ相の強誘電性液晶を封入し、前記一対の透明基板に対して垂直配向させ、スメクティック層と平行に交流電界を印加できるように電極を配置し、電極に交流電界を印加する駆動装置を備えた液晶素子となっており、スメクティックＡ相の強誘電性液晶による電傾効果を用い、液晶分子の傾斜による複屈折によって、液晶層に入射する偏光の屈折角と変位する方向を変化できるようにしている。
【０００９】
しかし、上述の特許文献１においては、液晶材料にネマチック液晶を用いているため、応答速度をサブミリ秒にまで速めることは困難であり、高速なスイッチングが必要な用途には用いることはできない。
【００１０】
また、上述の特許文献２においては、スメクチックＡ相の強誘電液晶を用いているが、スメクチックＡ相は自発分極を持たないため、キラルスメクチックＣ相に見られるような高速動作はやはり望めない。
【００１１】
また、ピクセルシフト素子とは、少なくとも画像情報に従って光を制御可能な複数の画素が二次元的に配列した画像表示素子と、画像表示素子を照明する光源と、画像表示素子に表示した画像パターンを観察するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示素子と光学部材の間の光路を偏向する光偏向手段とを有し、サブフィールド毎の光路の偏向に応じて表示位置がずれている状態の画像パターンを表示することで、画像表示素子の見かけ上の画素数を増倍して表示する画像表示装置における光偏向手段あるいは光偏向素子のことである。従って基本的には上述した光学素子を光偏向手段として応用することが可能である。ここではピクセルシフト素子として従来提案されている技術を挙げる。
【００１２】
例えば、特許文献３には、表示素子に表示された画像を投写光学系によりスクリーン上に拡大投影する投影表示装置において、前記表示素子から前記スクリーンに至る光路の途中に、透過光の偏光方向を旋回できる複数の光学素子と複屈折効果を有する複数の透明素子とを有する投影画像シフト手段と、前記表示素子の開口率を実効的に低減させ、表示素子の各画素の投影領域が前記スクリーン上で離散的に投影される手段とを備えている投影表示装置が示されている。
【００１３】
この特許文献３においては、偏光方向を旋回できる複数の光学素子（旋光素子と呼ぶ）と複屈折効果を有する複数の透明素子（複屈折素子と呼ぶ）を有する投影画像シフト手段（ピクセルシフト手段）によりピクセルシフトを行っているが、問題点として、旋光素子と複屈折素子とを組合せて使用するため、光量損失が大きいこと、光の波長によりピクセルシフト量が変動し解像度が低下しやすいこと、旋光素子と複屈折素子との光学特性のミスマッチから本来画像が形成されないピクセルシフト外の位置に漏れ光によるゴースト等の光学ノイズが発生しやすいこと、素子化のためのコストが大きいことが挙げられる。特に複屈折素子に、前記したＫＨ２ＰＯ４（ＫＤＰ），ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４（ＡＤＰ），ＬｉＮｂＯ３，ＬｉＴａＯ３，ＧａＡｓ，ＣｄＴｅなどの第１次電気光学効果（ポッケルス効果）の大きな材料を使用する場合には、上記問題点は顕著になる。
【００１４】
また、特許文献４には、制御回路により、画像蓄積回路に蓄積した本来表示すべき画像を市松状に画素選択回路へサンプリングして順次空間光変調器に表示し、投影する投影機が示されている。また、この特許文献４には、さらに、制御回路により、この表示に対応させてパネル揺動機構を制御して空間光変調器の隣接画素ピッチ距離を整数分の一ずつ移動させ、本来表示すべき画像を時間的な合成により再現する技術が示されている。これにより、空間光変調器の画素の整数倍の分解能で画像を表示可能にするとともに、画素の粗い空間光変調器と簡単な光学系を用いて安価に投影機を提供可能にしている。
【００１５】
この特許文献４においては、画像表示用素子自体を画素ピッチよりも小さい距離だけ高速に揺動させるピクセルシフト方式が記載されている。しかし、この方式では、光学系は固定されているで諸収差の発生は少ないが、画像表示素子自体を正確かつ高速に平行移動させる必要があるため、可動部の精度や耐久性が要求され、振動や音が問題となる。
【００１６】
また、特許文献５には、ＬＣＤ等の画像表示装置の画素数を増加させることなく、表示画像の解像度を、見掛け上、向上させる技術が示されている。より詳細に、特許文献５には、縦方向及び横方向に配列された複数個の画素の各々が表示画素パターンに応じて発光することによって画像が表示される画像表示装置と観測者またはスクリーンとの間に、光路をフィールドごとに変更する光学部材が配置されており、フィールド毎に、前記光路の変更に応じて表示位置がずれている状態の表示画素パターンを画像表示装置に表示する技術が示されている。
【００１７】
この特許文献５では、屈折率が異なる部位が、画像情報のフィールドごとに、交互に、画像表示装置と観測者またはスクリーンとの間の光路中に現れるようにすることで、前記光路の変更が行われる。
【００１８】
この特許文献５においては、光路を変更する手段として、電気光学素子と複屈折材料の組合わせ機構，レンズシフト機構，バリアングルプリズム，回転ミラー，回転ガラス等が示されており、前述した旋光素子と複屈折素子を組合せてなる方式の他に、ボイスコイル，圧電素子等によりレンズ，反射板，複屈折板等の光学素子を変位（平行移動，傾斜）させ光路を切り替える方式が提案されている。しかし、この方式においては、光学素子を駆動するために構成が複雑となりコストが高くなる。
【００１９】
また、特許文献６には、回転機械要素を不要化でき、全体の小型化，高精度・高分解能化を実現でき、しかも外部からの振動の影響を受け難い光ビーム偏向装置が示されている。
【００２０】
この光ビーム偏向装置は、光ビームの進行路上に配置される透光性の圧電素子と、この圧電素子の表面に設けられた透明の電極と、圧電素子の光ビーム入射面Ａと光ビーム出射面Ｂとの間の光路長を変化させて光ビームの光軸を偏向させるために電極を介して圧電素子に電圧を印加する電圧印加手段とを備えている。
【００２１】
この特許文献６では、透光性の圧電素子を透明の電極で挟み、電圧を印加することで厚みを変化させて光路をシフトさせる方式が提案されているが、比較的大きな透明圧電素子を必要とし、装置コストがアップするなど、特許文献５と同様の問題点がある。
【００２２】
【非特許文献１】
青木昌治  編；「オプトエレクトロニックデバイス」、昭晃堂
【００２３】
【特許文献１】
特開平６−１８９４０号公報
【００２４】
【特許文献２】
特開平９−１３３９０４号公報
【００２５】
【特許文献３】
特許第２９３９８２６号
【００２６】
【特許文献４】
特開平５−３１３１１６号公報
【００２７】
【特許文献５】
特開平６−３２４３２０号公報
【００２８】
【特許文献６】
特開平１０−１３３１３５号公報
【００２９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、出射光のノイズ光成分を抑えることの可能な光偏向素子およびその製造方法および画像表示装置を提供することを目的としている。
【００３０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明は、対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面に傾斜領域を有する一対の透明基板と、一対の透明基板間に設けられるキラルスメクチックＣ液晶と、該キラルスメクチックＣ液晶に電界を付与するための電極とを少なくとも有する光偏向素子において、少なくとも一方の透明基板上に、基板間距離を確保するための複数のリブが形成されていることを特徴としている。
【００３１】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の光偏向素子において、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の透明基板である傾斜部形成基板の表面に形成されていることを特徴としている。
【００３２】
また、請求項３記載の発明は、請求項２記載の光偏向素子において、リブが形成されている傾斜部形成基板は、表面がプラスチックからなっていることを特徴としている。
【００３３】
また、請求項４記載の発明は、請求項１記載の光偏向素子において、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の透明基板である傾斜部形成基板と対向する側の透明基板である基準基板に形成され、複数のリブのそれぞれのリブ先端が、対向する傾斜部形成基板の各傾斜領域における、基準基板最近接部上に位置していることを特徴としている。
【００３４】
また、請求項５記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光偏向素子において、前記傾斜部形成基板は、等しい傾斜角を有する領域が、等ピッチに鋸歯状に配置されて構成されていることを特徴としている。
【００３５】
また、請求項６記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の光偏向素子において、リブを構成する材料の屈折率ｎｒは、波長が４５０ｎｍから７００ｎｍの範囲で、液晶の常光屈折率ｎｏ，異常光屈折率ｎｅを用いて、
ｎｏ−△ｎ＜ｎｒ＜ｎｅ＋△ｎ（ただし△ｎ＝ｎｅ−ｎｏ）
で表される範囲内にあることを特徴としている。
【００３６】
また、請求項７記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の光偏向素子において、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎが、１ｍｍ２あたり平均０．０１個乃至１００個であることを特徴としている。
【００３７】
また、請求項８記載の発明は、請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の光偏向素子において、リブ長Ｌの半値位置におけるリブ断面が、この断面に内接する円の直径Ｄを用いて、
０．１Ｌ＜Ｄ＜１０Ｌ
で表わされることを特徴としている。
【００３８】
また、請求項９記載の発明は、対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面に傾斜領域を有する一対の透明基板と、一対の透明基板間に設けられるキラルスメクチックＣ液晶と、該キラルスメクチックＣ液晶に電界を付与するための電極とを少なくとも有し、傾斜領域を有する側の基板である傾斜部形成基板の表面に、基板間距離を確保するための複数のリブが形成され、リブが形成されている傾斜部形成基板は、表面がプラスチックからなっている光偏向素子の製造方法であって、リブを、複数の傾斜領域とともに、プラスチック一体成型加工することにより作製することを特徴としている。
【００３９】
また、請求項１０記載の発明は、画像情報に従って光を制御可能な複数の画素が二次元的に配列されている画像表示素子と、画像表示素子を照明する光源と、画像表示素子に表示された画像パターンを観察するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示素子と光学部材との間の光路を偏向する光偏向素子からなる光偏向手段とを有し、前記光偏向素子には、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の光偏向素子が用いられ、サブフィールド毎の光路の偏向に応じて表示位置がずれている状態の画像パターンを表示することで、画像表示素子の見かけ上の画素数を増倍して表示することを特徴とする画像表示装置である。
【００４０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００４１】
なお、以下の説明において、傾斜部形成基板とは、傾斜領域を、基板表面にエッチング，切削，研削等の加工処理を施すことにより形成した基板、または、基板自体を対向基板から傾斜させている基板を指す。また、基準基板とは、傾斜部形成基板と対向する基板を指す。また、基準面とは、基準基板の液晶層側表面と平行な面を指す。
【００４２】
図１１は従来の光偏向素子を示す図である。図１１を参照すると、従来の光偏向素子３４は、一対の透明基板２，３と、一対の透明基板２，３間に設けられるキラルスメクチックＣ液晶よりなる液晶層３２と、該キラルスメクチックＣ液晶に電界を付与するために液晶層３２側の一対の透明基板２，３の表面に設けられた一対の透明電極２１，３１とを有している。
【００４３】
ここで、光が入射する側の透明基板２の液晶層３２側の基板表面は、他方の基板表面に対して所定角度ψ１だけ傾斜した構造３５をとるように鋸歯状に表面加工されている（傾斜領域を有する側の基板（傾斜部形成基板）として形成されている）。また、液晶層３２は、ホモジニアス配向された状態で存在し、鋸歯状構造の稜線と略平行に液晶分子長軸が配向する状態３２１（第１の配向状態と呼ぶ）と、鋸歯状構造の稜線に対して略垂直に配向する状態３２２（第２の配向状態と呼ぶ）とをとる。この配向を制御するため、一対の透明基板２，３の少なくとも片側には内面に配向膜が形成されている。
【００４４】
鋸歯状構造を形成する方法としては、ガラス基板をエッチングしたり透明プラスチック材料を射出あるいは転写成形等したりする方法が従来からなされており、これらの手法を利用することが可能である。
【００４５】
図１１の光偏向素子３４では、入射光は、一対の電極２１，３１により形成される電界の方向によって偏向を受け、第１の出射光（ａ）、もしくは第２の出射光（ｂ）のいずれかの光路をとる。
【００４６】
なお、傾斜部形成基板は、表面加工によって傾斜部を形成するのみでなく、図１２に示すように基板を傾斜させて配置することでもよい。
【００４７】
スメクチック液晶は液晶分子の長軸方向が層状に配列してなる液晶分子であり、層の法線方向（層法線方向）と液晶分子長軸方向が一致している液晶をスメクチックＡ相、法線方向と液晶分子長軸方向が一致していない液晶をキラルスメクチックＣ相と呼んでいる。キラルスメクチックＣ相強誘電液晶は、一般的に外部電界が働かない状態において各層毎に液晶ダイレクタ方向が螺旋的に回転しているいわゆる螺旋構造をとり，キラルスメクチックＣ相反強誘電性液晶は各層毎に液晶ダイレクタが対向する方向を向く。これらキラルスメクチックＣ相よりなる液晶は、不斉炭素を分子構造に有し、これによって自発分極しているため、この自発分極Ｐｓと外部電界Ｅにより定まる方向に液晶分子が再配列することで光学特性が制御される。
【００４８】
キラルスメクチックＣ相強誘電液晶の構造は、主鎖，スペーサ，骨格，結合部，キラル部などよりなる。主鎖構造としては、ポリアクリレート，ポリメタクリレート，ポリシロキサン，ポリオキシエチレンなどが利用可能である。スペーサは分子回転を担う骨格，結合部，キラル部を主鎖と結合させるためのものであり、適当な長さのメチレン鎖等が選ばれる。また、カイラル部とビフェニル構造など剛直な骨格とを結合する結合部には−ＣＯＯ−結合等が選ばれる。
【００４９】
次に、この従来の光偏向素子３４に直線偏光を透過させる場合の動作について説明する。
【００５０】
透明基板２，３は、光学的に等方性であってそれぞれ同等の屈折率を持ち、この屈折率と液晶の常光屈折率が略等しいとする。また、直線偏光は偏光面が図１１において紙面に平行であるとする。
【００５１】
光偏向素子３４の液晶分子が第１の配向状態をとる場合、光は常光として振舞い、ａに示すように直進する。一方、液晶分子が第２の配向状態をとる場合，光は基板傾斜角が小さい時には略異常光として振舞い、ｂに示すように基板と液晶層の屈折率差に起因する屈折あるいは回折を受け所定の角度回転した方向に進む。
【００５２】
図１３は、図１１に示す光偏向素子を光進行方向に２枚直列に設けた構成の光偏向装置を示す図である。図１１において第２の配向状態を液晶がとる際、入射光は所定の角度回転した方向に進むが、図１３の構成では、それをさらに平行に戻すことができる。
【００５３】
この際、２つの光偏向素子間の距離Ｌ１を適当に調整することで、所望のシフト量が得られ容易に調整できるため、調整の必要な用途に便利である。
【００５４】
また、図１４は図１３における基板を一体化した構成を示す図である。図１４の構成では、図１３における２つの光偏向素子の設置時の平行度調整を、あらかじめ一体化することで解消できる。シフト量は中間基板の厚みＬ２を調整することで、あらかじめ製造時に決められる。
【００５５】
以下、通常用いられている液晶層厚（ギャップ）を確保する方法について述べる。図１５は傾斜領域を有しない液晶素子を示す図である。図１５の液晶素子では、一対の平滑基板２，３間に液晶層３２が充填され、そのギャップは、球状のギャップ材３３によって確保されている。ギャップ材３３には、シリカ等の無機材料が多く用いられるが、有機材料によるギャップ材も広く用いられている。このギャップ材は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などの溶媒に分散させた状態で、スピンコート，スプレー等の方法で、片側基板上の液晶充填部に適度な密度で分散される。ギャップ材を塗布する基板にはあらかじめ液晶配向剤を塗布しておいても良い。その後、対向基板と所定の圧力で圧接した状態で、周囲をシール剤により封止し液晶を充填する。このとき、ギャップ材が球状であるため、適当な密度で基板上に分散させれば、球径で決められるギャップをきわめて精度良く得ることができる。
【００５６】
液晶の周囲を封止するためのシール剤にギャップ材を混合しシール部でギャップを設ける方法もある。この方法では、液晶中にギャップ材を設けないため、液晶配向不良が発生しにくく、またギャップ材自体による光散乱などの光学特性劣化も生じないという利点があるものの、液晶充填部で基板がたわみ易く、ギャップ均一性が図りづらいという欠点を有する。
【００５７】
しかし、図１１の光偏向素子３４のように、対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面に傾斜した領域を有する場合には、位置によってギャップが異なるため、単純なギャップ材の散布では精度良くギャップを確保するのが難しいという問題があった。
【００５８】
本発明は、このような問題を解決することを意図している。
【００５９】
図１，図２，図３は本発明に係る光偏向素子の第１の構成例を示す図である。なお、図１において、図１１と同様の箇所には同じ符号を付している。図２は図１に示す液晶部の拡大図である。また、図２と図３との関係は、図２が断面図であり、図３が正面図である。図２を参照すると、この第１の構成例の光偏向素子５１では、基板間距離（ギャップ）を規制するための複数のリブ１０が傾斜領域を有する側の透明基板（傾斜部形成基板）２の表面に形成され、それぞれのリブ先端が基準基板（透明基板）３に接触している。
【００６０】
傾斜部を有する場合のギャップは、位置によって適正ギャップが変化し、図２に示すように、ＧａｐｍｉｎからＧａｐｍａｘの範囲で変化する。リブ１０は、後述の基準基板３側に設ける場合と異なり、基板２，３の位置合わせによってギャップが変動してしまう不具合がないため、最低限ギャップを確保するのに必要な強度が確保できれば良く、図３に示すような円柱状、あるいは、直方体状等の任意形状でよい。
【００６１】
リブ１０を形成する仕方には、いくつかの仕方があるが、いまの場合は、傾斜部とともにプラスチックで一体成型するのが望ましい。以下、成型工程の一例を説明する。
【００６２】
この例では、転写成型を行うための転写材（金型）に対し、切削あるいはエッチング等によって傾斜部を形成する。
【００６３】
転写材を切削で形成する場合は、比較的、傾斜領域のピッチが広く、また傾斜角が緩やかな場合に多く用いられる。具体的には、概略１ｍｍ以上のピッチおよび３０度以下の傾斜角の形状にする場合に優れている。その場合の切削加工機は、平面のうねり，平面粗さ，傾斜角を厳密に規定する必要があり、一般的に五軸制御の精密加工機が用いられる。
【００６４】
工程としては、まず切削により転写材材料に対してそれぞれの傾斜部を形成し、その後リブに相当する部分を、ドリル，レーザ等により穴あけ加工する。穴の部分のみエッチングにより加工しても良い。
【００６５】
転写材をエッチングで加工する場合は、前述の切削加工とは逆に傾斜領域のピッチが狭い場合に多く用いられる。加工は半導体製造プロセスで広く用いられているもので、レジスト塗布，パタン形状（ここでは傾斜部形状）に対応したマスクパタンの転写露光，現像，エッチングの各プロセスにより得られる。
【００６６】
エッチングプロセスは、ドライプロセスとウェットプロセスに大きく分けられ、必要形状によって使い分けられる。一般的には、ウェットプロセスではエッチングが等方的に進行するのでサイドエッチングが発生し、微細パタンの加工には適さない。
【００６７】
本発明においても、傾斜部と傾斜部の境界の段差をなまらせないためにドライエッチングが好ましい。ただし、後述する基準基板に対するリブ加工は比較的大面積を簡易的にエッチングできるウェットプロセスを用いることも可能である。
【００６８】
ここではドライエッチングを用いた加工について述べる。ドライエッチングでは、真空チャンバー内にエッチングすべき被エッチング材料（転写材材料）を固定し、被エッチング材料に合わせたエッチングガスを導入する。そして、被エッチング材料と上部電極との間に高周波電圧を印加することでプラズマを発生させ、エッチングガスを被エッチング材料表面に吸着させる。
【００６９】
この吸着によって表面化学反応が生じ、エッチング生成物が発生する。このエッチング生成物は排気除去されるためエッチングが進行し、レジスト厚によって被エッチング材料のエッチング深さが異なるため、あらかじめレジストに所定の傾斜部形状が生成されるように露光しておけば傾斜部が得られることになる。
【００７０】
ここでのエッチングは反応性イオンエッチングと呼ばれるものであるが、反応を伴わないスパッタによるエッチングも用いることができる。このようにして得られた傾斜部に、再度、リブ形状を生成するためのエッチング工程を繰り返すことで転写材を加工することができる。
【００７１】
得られた転写材に対してプラスチック成型を行う方法もいくつかある。例えばガラス基板上に熱硬化樹脂，紫外線硬化樹脂等を溶融状態あるいは軟化状態にして設け、転写材でこれを押圧することで転写材表面形状を転写する方法や、射出成型する方法がある。
【００７２】
いずれにしても転写材を用意することで、リブを設けた傾斜基板が大量に生産できることから、きわめて生産性が向上する。
【００７３】
プラスチック材料としては、ポリカーボネート，アクリル，ポリオレフィン等の、光学材料として用いられているものであれば利用可能であるが、透明度が高く、比較的複屈折性が小さく、かつ耐薬品性，耐熱性の高いポリカーボネートが特に優れている。
【００７４】
また、得られる傾斜基板表面がプラスチックであるため、配向膜塗布時や液晶を充填する際にプラスチック材料を変質させないための酸化シリコン，窒化シリコン，酸化チタンなど透明無機材料よりなるパッシベ−ション層を形成するのが好ましい。
【００７５】
傾斜部をガラス基板表面にエッチング等で形成し、その後にリブを形成することも可能であるが、工程数が大幅に増え、歩留まりが低下するため、望ましくない。
【００７６】
図４，図５は本発明に係る光偏向素子の第２の構成例を示す図である。なお、この第２の構成例も、光偏向素子の基本構成は、前述の第１の構成例の図１と同様のものとなっている。また、図４，図５は、前述した第１の構成例の図２，図３に対応している。すなわち、図４は図１に示す液晶部の拡大図である。また、図２と図３との関係は、図２が断面図であり、図３が正面図である。図４を参照すると、この第２の構成例では、基板間距離（ギャップ）を規制するための複数のリブ１０が基準基板３の表面に形成され、それぞれのリブ先端が傾斜部形成基板２に接触している。
【００７７】
傾斜部を有する場合のギャップは、位置によって適正ギャップが変化し、図２に示したようにＧａｐｍｉｎからＧａｐｍａｘの範囲で変化する。したがって、基板２，３間の位置ズレ（アライメント誤差）によって、リブが狙いの傾斜部に一致しない場合、ギャップ自体が狙いの値から変化してしまうことになり、注意を要する。
【００７８】
これを回避するために、図４，図５に示すように、リブ先端を平滑化し稜線部上に位置するようにすれば、少なくともリブ径分のアライメント誤差についてはギャップ変動が発生しなくなり望ましい。また、隣り合うリブの位置を稜線の両側に少しずつずらして配置したり（図６を参照）、リブ自体を稜線と平行でない方向に短冊状に設けても良い（図７を参照）。
【００７９】
この第２の構成例のように、リブ１０を基準基板３側に設けることで、傾斜部形成基板２には、リブ１０を形成する上で使用が困難であったガラス，セラミック，光学結晶などの材料を用いることが可能となる。この場合、前述のパッシベ−ション層を設ける必要がなくなり、利便性が増す。
【００８０】
一方、基準基板３側のリブについては、平坦平滑基板上に設けるだけで良いので、製造工程が簡略化でき、エッチングを採用する場合でも生産性の高いウェットエッチングを好適に用いることができる。
【００８１】
上述した第１，第２の構成例においては、傾斜部形成基板は、等しい傾斜角を有する領域が鋸歯状に配置されて構成されており、これにより、リブ高さを、製造上あるいは強度上無理のない高さ以下に設定できる。
【００８２】
これに対して、図８に示すように平滑基板自体を傾斜させ楔状セルとした構造においても、光偏向の機能を得ることをできるものの、この場合には、リブの高が高くなりすぎるため、製造上困難性を増す。
【００８３】
このように、本発明は、対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面に傾斜領域を有する一対の透明基板と、透明基板間に設けられるキラルスメクチックＣ液晶と、該キラルスメクチックＣ液晶に電界を付与するための電極とを少なくとも有する光偏向素子において、少なくとも一方の透明基板上に、基板間距離（ギャップ）を規制（確保）するための複数のリブが形成されていることを特徴としている。
【００８４】
そして、本発明の第１の構成例（第１の態様）では、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の透明基板である傾斜部形成基板の表面に形成されている。ここで、リブが形成されている傾斜部形成基板は、表面がプラスチックからなっている。
【００８５】
このような第１の構成例の光偏向素子は、リブを、複数の傾斜領域とともに、プラスチック一体成型加工することにより作製される。
【００８６】
また、本発明の第２の構成例（第２の態様）では、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の透明基板である傾斜部形成基板と対向する側の透明基板である基準基板に形成され、複数のリブのそれぞれのリブ先端が、対向する傾斜部形成基板の各傾斜領域における、基準基板最近接部上に位置している。
【００８７】
上記第１，第２の構成例において、傾斜部形成基板としては、等しい傾斜角を有する領域が、等ピッチに鋸歯状に配置されて構成されているものを用いることができる。
【００８８】
また、上記第１，第２の構成例において、リブを構成する材料の屈折率ｎｒは、波長が４５０ｎｍから７００ｎｍの範囲で、液晶の常光屈折率ｎｏ，異常光屈折率ｎｅを用いて、
ｎｏ−△ｎ＜ｎｒ＜ｎｅ＋△ｎ（ただし△ｎ＝ｎｅ−ｎｏ）
で表される範囲内にある。
【００８９】
また、上記第１，第２の構成例において、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎは、１ｍｍ２あたり平均０．０１個乃至１００個である。
【００９０】
また、上記第１，第２の構成例において、リブ長Ｌの半値位置におけるリブ断面は、この断面に内接する円の直径Ｄを用いて、
０．１Ｌ＜Ｄ＜１０Ｌ
で表わされる。
【００９１】
また、本発明の画像表示装置は、画像情報に従って光を制御可能な複数の画素が二次元的に配列されている画像表示素子と、画像表示素子を照明する光源と、画像表示素子に表示された画像パターンを観察するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示素子と光学部材との間の光路を偏向する光偏向素子からなる光偏向手段とを有し、前記光偏向素子には、上述した本発明の光偏向素子が用いられ、サブフィールド毎の光路の偏向に応じて表示位置がずれている状態の画像パターンを表示することで、画像表示素子の見かけ上の画素数を増倍して表示するようになっている。
【００９２】
なお、ここで、画像情報に従って光を制御可能な複数の画素が二次元的に配列されている画像表示素子と、画像表示素子を照明する光源と、画像表示素子に表示された画像パターンを観察するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示素子と光学部材との間の光路を偏向する光偏向素子からなる光偏向手段とを有し、サブフィールド毎の光路の偏向に応じて表示位置がずれている状態の画像パターンを表示することで、画像表示素子の見かけ上の画素数を増倍して表示する画像表示装置における光偏向手段あるいは光偏向素子は、ピクセルシフト素子と称される。
【００９３】
図９は、本発明の画像表示装置の構成例を示す図である。図９において、８１はＬＥＤランプを２次元アレイ状に配列した照明光源であり、８２は拡散板であり、８３はコンデンサレンズであり、８４は画像表示素子としての透過型液晶パネルであり、８５は投射レンズであり、８６はスクリーンであり、８７は光源ドライブ部であり、８８は透過型液晶パネルのドライブ部であり、８９は光偏向素子よりなる光偏向手段であり、９０は光偏向手段の液晶への電圧印加手段である。電圧印加手段９０は、液晶パネルと同期をとるために液晶パネルのドライブ部と接続されている。
【００９４】
図９の構成例では、光源ドライブ部８７で制御されて照明光源８１から放出された照明光は、拡散板８２により均一化された照明光となり、コンデンサレンズ８３により液晶ドライブ部８８で照明光源８１と同期して制御されて液晶パネル８４をクリティカル照明する。この液晶パネル８４で空間光変調された照明光は、画像光として光偏向手段８９に入射し、光偏向手段８９によって画像光が画素の配列方向に任意の距離だけシフトされる。この光は投射レンズ８５で拡大されスクリーン８６に投射される。シフト量は画素の配列方向に対して２倍の画像増倍を行うことから画素ピッチの１／２に設定される。シフト量に応じて液晶パネルを駆動する画像信号をシフト量分だけ補正することで、見かけ上高精細な画像を表示することが出来る。
【００９５】
ここで、光偏向手段８９としては、前述のタイプのものを選んで使用する事が出来る。すなわち、図９の画像表示装置において、光偏向素子としては前述した第１，第２の構成例の光偏向素子を好適に用いることができるが、リブを構成する材料の屈折率ｎｒによっては光偏向する際にノイズ光が発生するためコントラストを悪化させる。図１１において、光路ａは、傾斜部形成基板２の屈折率と液晶の常光屈折率が略等しいため、位相差が発生せず直進する。したがって、直進性を維持するためには、リブの屈折率も、これらの屈折率と等しく設定すべきである。リブの屈折率が液晶常光屈折率と異なるとき、この部分で位相差が発生するため、回折もしくは散乱が発生し、これがノイズ光となる。一方、図１１において光路ｂは液晶の異常光屈折率を感じることで、液晶厚に応じた位相差が発生し、光偏向を生じる。そのため、リブとしては、この位相差を乱さないように液晶異常光と等しい屈折率を設定すべきである。
【００９６】
リブの屈折率が液晶常光屈折率と異なるとき、この部分で位相差が発生するため、偏向効率が低下し、これが散乱してノイズ光となる。
【００９７】
このようにリブの屈折率は、光路ａもしくは光路ｂのいずれかにおいてノイズ光の発生原因となるが、これを低減するためにリブの屈折率の最適範囲を考察した。具体的には、図４，図５に示す構造において、基準基板３として屈折率の異なる数種類のガラス基板を用意し、エッチングで形成したリブ１０の屈折率ｎｒと液晶の常光屈折率ｎｏ、異常光屈折率ｎｅに対する表示画像のコントラストの関係によって最適範囲を得た。リブの密度は１ｍｍ２あたり１個である。
【００９８】
結果として、液晶の常光屈折率ｎｏ、異常光屈折率ｎｅを用いて、
ｎｏ−△ｎ＜ｎｒ＜ｎｅ＋△ｎ（ただし△ｎ＝ｎｅ−ｎｏ）
で表される範囲内にあることが好ましく、この範囲外の場合、光路ａにおける散乱に伴うノイズ光が多くなり、画像品質劣化が発生する。
【００９９】
上述の説明ではリブ屈折率に着目した画像品質を考察したが、ここではｎｒとしてｎｏとｎｅのほぼ中央の値に設定し、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎを変化させた時の画像品質について考察する。
【０１００】
前記光偏向素子において、リブ数Ｎは、光利用効率やノイズ光に寄与し、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎが、１ｍｍ２あたり平均０．０１個乃至２５００個であるのが好ましい、さらに好ましくは、１ｍｍ２あたり平均１個乃至１００個である。１ｍｍ２あたり平均０．０１個以下である場合、タワミが発生し易くなるため、ギャップ維持効果が薄れ、ギャップ不均一に基づくノイズ光成分が増加する。２５００個以上であると、リブ自体またはリブ周辺の液晶配向不良のため、光利用効率やノイズ光成分の増加を招く。
【０１０１】
上述の説明ではリブ屈折率に着目した画像品質を考察したが、ここではリブ長とリブ径について考察する。リプ強度を適性に保ち、光利用効率低下を抑制するためには、リブ形状として、リブ長Ｌの半値位置におけるリブ断面が、この断面に内接する円の直径Ｄを用いて、
０．１Ｌ＜Ｄ＜１０Ｌ
で表わされることが必要である。ここで、ＬおよびＤの関係は、図１０に示す通りである。
【０１０２】
本発明による光偏向素子においては、光利用効率に優れ、かつ外部応力に対する強度に優れるため、製造時あるいは組み付け時の破損発生率が低減する。
【０１０３】
Ｄ＜０．１Ｌである場合、リブ長さに対して径が細すぎ、光利用効率上は有利であるが、強度を保てなくなり、破損発生率が大幅に高まる。一方、１０Ｌ＜Ｄである場合、リブ長さに対して径が太すぎ、強度的には問題ないが、光利用効率を低下させる。
【０１０４】
【発明の効果】
以上に説明したように、請求項１乃至請求項８記載の発明によれば、対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面に傾斜領域を有する一対の透明基板と、透明基板間に設けられるキラルスメクチックＣ液晶と、該キラルスメクチックＣ液晶に電界を付与するための電極とを少なくとも有する光偏向素子において、少なくとも一方の透明基板上に、基板間距離（ギャップ）を規制（確保）するための複数のリブが形成されているので（対向する一方の基板表面に対し他方の基板表面が傾斜してなる一対の基板間のギャップ確保手段として、基板表面にリブを形成することで）、リブ長さおよび形成位置を正確に制御でき、ギャップ精度を向上させることができる。これにより、ギャップ均一性が確保でき、位相の乱れを低減できるようになるため、出射光のノイズ成分を低減することができる。また、従来の粒状ギャップ材を散布するのに比較して、基板表面加工の工程にリブ形成工程を取り入れることができ、工程を簡略化できる。また、粒状ギャップ材を散布する場合は、面内のギャップ材の粗密ばらつきを換算し、粗の部分でもギャップムラが発生しないように量を多めに散布する必要があったが、リブを形成する場合、ギャップ確保のための最低限のリブ数を形成すればよいため、液晶配向性劣化を低減でき、光利用効率改善に寄与する。この結果、本発明の光偏向素子を表示装置に用いる場合は、従来に比べてコントラストを改善できる。また、光スイッチに利用する場合はＳ／Ｎ比を改善することができる。
【０１０５】
特に、請求項２記載の発明によれば、請求項１記載の光偏向素子において、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の基板である傾斜部形成基板の表面に形成されており、傾斜部形成基板のみに傾斜部とリブをそれぞれ設けることで、対向する側の基板（基準基板）との位置調整誤差によるギャップ変動を解消することができる。また、この場合、片側基板のみの加工でよいので、コストを削減できる。
【０１０６】
また、請求項３記載の発明によれば、請求項２記載の光偏向素子において、リブが形成されている傾斜部形成基板は、表面がプラスチックからなっているので、ガラスをエッチング加工するのに比べ、転写材からの転写によって表面形状を成型加工できるので、生産タクトを短縮でき歩留まりを高めることができる。すなわち、傾斜部形成基板にリブを形成する際に、作製工程を低減しコストを抑え、量産性に優れた基板を提供することができる。
【０１０７】
また、請求項４記載の発明によれば、請求項１記載の光偏向素子において、前記複数のリブは、傾斜領域を有する側の基板である傾斜部形成基板と対向する側の基板である基準基板に形成され、複数のリブのそれぞれのリブ先端が、対向する傾斜部形成基板の各傾斜領域における、基準基板最近接部上に位置するようになっており、傾斜部形成基板の表面加工とは独立に基準基板側に設けることで、傾斜部形成基板の材質選択に幅を持たせることができる。すなわち、リブを傾斜部形成基板に設ける場合、プラスチック成型であれば加工性に優れるが、ガラスや光学結晶等に傾斜部とリブを同時に直接表面加工するのは困難である。そこで、リブを、対向する基準基板に設けることで、傾斜部形成基板として材質の選択幅を広げることが可能となる。
【０１０８】
また、請求項５記載の発明によれば、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光偏向素子において、前記傾斜部形成基板は、等しい傾斜角を有する領域が、等ピッチに鋸歯状に配置されて構成されており、鋸歯状に傾斜部を設けることで、クサビ状の光偏光素子に比べ、リブ高さを製造上あるいは強度上無理のない高さ以下に設定できる。すなわち、鋸歯状に傾斜部を設けることで、リブ高さを、製造上あるいは強度上無理のない高さ以下に設定でき、生産性を向上させることができる。
【０１０９】
また、請求項６記載の発明によれば、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の光偏向素子において、リブを構成する材料の屈折率ｎｒは、波長が４５０ｎｍから７００ｎｍの範囲で、液晶の常光屈折率ｎｏ，異常光屈折率ｎｅを用いて、
ｎｏ−△ｎ＜ｎｒ＜ｎｅ＋△ｎ（ただし△ｎ＝ｎｅ−ｎｏ）
で表される範囲内にあるようにしており、液晶の屈折率と上記式の関係を有するリブ材料を用いることで、光偏向の際のノイズ光成分を抑えることができる。上記範囲外にある場合は散乱が発生しやすく、画像表示装置においてはコントラスト低下を招く。
【０１１０】
また、請求項７記載の発明によれば、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の光偏向素子において、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎが、１ｍｍ２あたり平均０．０１個乃至１００個であることにより、光偏向の際のノイズ成分を抑え、かつ光利用効率を向上させることができる。すなわち、前記光偏向素子において、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎが、１ｍｍ２あたり平均０．０１個以下である場合には、１つのリブで支える基板面積が広すぎタワミが発生し易くなる。このため、ギャップ維持効果が薄れ、ギャップ不均一に基づくノイズ光成分が増加する。また、リブ数Ｎが、１ｍｍ２あたり平均１００個以上であると、リブの占める面積が広くなり、リブ自体またはリブ周辺の液晶配向不良のため、光利用効率やノイズ光成分の増加を招く。従って、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の光偏向素子において、光が通過する有効領域に形成するリブ数Ｎが、１ｍｍ２あたり平均０．０１個乃至１００個であるのが良い。
【０１１１】
また、請求項８記載の発明によれば、請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の光偏向素子において、リブ長Ｌの半値位置におけるリブ断面が、この断面に内接する円の直径Ｄを用いて、
０．１Ｌ＜Ｄ＜１０Ｌ
で表わされるので、リプ強度を適性に保ち、光利用効率低下を抑制することができる。すなわち、光利用効率に優れ、かつ外部応力に対する強度に優れるため、製造時あるいは組み付け時の破損発生率を低減することができる。Ｄ＜０．１Ｌである場合、リブ長さに対して径が細すぎ、光利用効率上は有利であるが、強度を保てなくなり破損発生率が大幅にたかまる。一方１０Ｌ＜Ｄである場合、リブ長さに対して径が太すぎ、強度的には問題ないが光利用効率を低下させる。従って、請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の光偏向素子において、リブ長Ｌの半値位置におけるリブ断面が、この断面に内接する円の直径Ｄを用いて、
０．１Ｌ＜Ｄ＜１０Ｌ
で表わされるものであるのが良い。
【０１１２】
また、請求項９記載の発明によれば、ガラスをエッチング加工するのに比べ、転写材からの転写によって表面形状を成型加工できるので、生産タクトを短縮でき歩留まりを高めることができる。すなわち、傾斜部形成基板にリブを形成する際に、作製工程を低減しコストを抑え、量産性に優れた基板を提供することができる。
【０１１３】
また、請求項１０記載の発明によれば、画像情報に従って光を制御可能な複数の画素が二次元的に配列されている画像表示素子と、画像表示素子を照明する光源と、画像表示素子に表示された画像パターンを観察するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示素子と光学部材との間の光路を偏向する光偏向素子からなる光偏向手段とを有し、前記光偏向素子には、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の光偏向素子が用いられ、サブフィールド毎の光路の偏向に応じて表示位置がずれている状態の画像パターンを表示することで、画像表示素子の見かけ上の画素数を増倍して表示するので（すなわち、従来と比較してノイズ光が低減した光偏向素子を用いることで）、ピクセルシフトのシフト量を正確に半ピッチに制御し、コントラストを改善することができる。コントラストに優れた高精細画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光偏向素子の第１の構成例を示す図である。
【図２】本発明に係る光偏向素子の第１の構成例を示す図である。
【図３】本発明に係る光偏向素子の第１の構成例を示す図である。
【図４】本発明に係る光偏向素子の第２の構成例を示す図である。
【図５】本発明に係る光偏向素子の第２の構成例を示す図である。
【図６】図４，図５の光偏向素子において、リブの構成例を示す図である。
【図７】図４，図５の光偏向素子において、リブの構成例を示す図である。
【図８】本発明に係る光偏向素子の第１の構成例を示す図である。
【図９】本発明の画像表示装置の構成例を示す図である。
【図１０】好適なリブ形状を説明するための図である。
【図１１】従来の光偏向素子を示す図である。
【図１２】傾斜部形成基板の他の構成例を示す図である。
【図１３】図１１に示す光偏向素子を光進行方向に２枚直列に設けた構成の光偏向装置を示す図である。
【図１４】図１３における基板を一体化した構成を示す図である。
【図１５】傾斜領域を有しない液晶素子を示す図である。
【符号の説明】
２，３        透明基板
１０          リブ
２１，３１    透明電極
３２          液晶層
３５          傾斜構造
５１          光偏向素子
８１          照明光源
８２          拡散板
８３          コンデンサレンズ
８４          液晶パネル
８５          投射レンズ
８６          スクリーン
８７          光源ドライブ部
８８          液晶ドライブ部
８９          光偏向手段
９０          電圧印加手段
【図１】
2004170749.tif 000003
【図２】
2004170749.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2004170749.tif 000013
【図１２】
2004170749.tif 000014
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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