(57)【要約】【課題】基板の表面と裏面とへ異なる液体を供給し、かつ両方の液体を分離して回収する。【解決手段】処理される基板１が回転テーブル１２に搭載され、基板１の周囲には円形の分離板１６が装着される。モータ１８を用いて回転軸１１を回転することにより、基板１が分離板１６と共に回転する。ノズル２１から基板１の表面へ供給された処理液は、基板１の表面に沿って外周方向へ拡散し、基板１の表面全体にほぼ均一に塗布される。そして、余った処理液は、分離板１６の上面へと移動し、分離板１６の上面の外周端から分離板１６の外へ飛散して、外カップ２２内に回収される。一方、ノズル１７から基板１の裏面へ供給された純水は、分離板１６の下面へと移動し、分離板１６の下面の外周端から分離板１６の外へ飛散して、内カップ２３内に回収される。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平に支持して回転する回転手段と、
基板が収納される開口を有し、前記回転手段に支持された基板の周囲に取り付けられて基板と共に回転する円形板と、
前記回転手段に支持された基板の表面へ第１の液体を供給する手段と、
前記回転手段に支持された基板の裏面へ第２の液体を供給する手段と、
前記円形板の上面を囲んで設けられ、前記円形板の上面から飛散する第１の液体を回収する第１の回収容器と、
前記円形板の下面を囲んで設けられ、前記円形板の下面から飛散する第２の液体を回収する第２の回収容器とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記円形板の下面の外周部に、斜め下方向に広がった傾斜面を設けたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記円形板の上面を、前記回転手段に支持された基板の表面と同じ高さにしたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
基板が収納される開口を有する円形板を基板の周囲に取り付け、
基板を円形板と共に回転させながら、基板の表面へ第１の液体、基板の裏面へ第２の液体を供給し、
円形板の上面を囲んで設けられた第１の回収容器内に円形板の上面から飛散する第１の液体を回収し、
円形板の下面を囲んで設けられた第２の回収容器内に円形板の下面から飛散する第２の液体を回収することを特徴とする基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板の表面へ現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の処理液を供給する基板処理装置及び基板処理方法に係り、特に基板を回転させてその遠心力により処理液を拡散させる基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ表示パネル用基板等の製造工程において、現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の処理液を供給するウエットプロセスでは、基板を回転させながら基板の表面へ処理液を供給し、基板の回転による遠心力の作用で処理液を基板の表面全体に拡散させる基板処理装置が使用されている。
【０００３】
このような基板処理装置において、処理液が基板の裏面へ回り込むのを防止するため、あるいは基板の裏面を洗浄するために、基板の表面へ処理液を供給すると共に基板の裏面へ洗浄液（純水）を供給するものが知られている（特許文献１）。
【０００４】
一方、余った処理液は、基板の回転による遠心力の作用で基板の外へ飛散し、基板の周辺に設けられた回収チャンバ内に回収される。その際、処理液を他の処理液と混ざらない状態で効率的に回収するため、回収チャンバの開口と直径がほぼ同じ回転円板を設け、回転円板の上方に所定の間隔を置いて基板を搭載したものがある（特許文献２）。
【特許文献１】
特開平１０−５７８７７号公報
【特許文献２】
特開平１１−１６０６６６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１に記載の技術は、基板の表面へ供給された処理液の一部が、基板の裏面へ供給された洗浄液を回収する回収チャンバ内に混じり込んでしまうという問題があった。
【０００６】
また、特許文献２に記載の技術は、基板の裏面へ洗浄液（純水）を供給することについては考慮されておらず、基板の表面へ処理液を供給すると共に基板の裏面へ洗浄液を供給した場合、処理液と洗浄液とを分離して回収することはできなかった。
【０００７】
本発明は、基板の表面と裏面とへ異なる液体を供給し、かつ両方の液体を分離して回収することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板処理装置は、基板を水平に支持して回転する回転手段と、基板が収納される開口を有し、回転手段に支持された基板の周囲に取り付けられて基板と共に回転する円形板と、回転手段に支持された基板の表面へ第１の液体を供給する手段と、回転手段に支持された基板の裏面へ第２の液体を供給する手段と、円形板の上面を囲んで設けられ、円形板の上面から飛散する第１の液体を回収する第１の回収容器と、円形板の下面を囲んで設けられ、円形板の下面から飛散する第２の液体を回収する第２の回収容器とを備えたものである。
【０００９】
また、本発明の基板処理方法は、基板が収納される開口を有する円形板を基板の周囲に取り付け、基板を円形板と共に回転させながら、基板の表面へ第１の液体、基板の裏面へ第２の液体を供給し、円形板の上面を囲んで設けられた第１の回収容器内に円形板の上面から飛散する第１の液体を回収し、円形板の下面を囲んで設けられた第２の回収容器内に円形板の下面から飛散する第２の液体を回収するものである。
【００１０】
基板の表面へ供給された現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の第１の液体は、基板の回転による遠心力の作用で基板の表面に沿って外周方向へ拡散し、基板の表面全体にほぼ均一に塗布される。そして、余った液体は、基板の表面から円形板の上面へと移動し、さらに円形板の回転による遠心力の作用で円形板の上面を外周方向へ移動して、円形板の上面の外周端から円形板の外へ飛散し、第１の回収容器内に回収される。一方、基板の裏面へ供給された洗浄液等の第２の液体は、基板の回転による遠心力の作用で基板の裏面を外周方向へ移動し、基板の裏面から円形板の下面へと移動する。そして、円形板の回転による遠心力の作用で円形板の下面を外周方向へ移動して、円形板の下面の外周端から円形板の外へ飛散し、第２の回収容器内に回収される。このように、基板の周囲に円形板を取り付けて基板と共に回転させることにより、基板の表面へ供給された第１の液体と基板の裏面へ供給された第２の液体とを分離して回収することができる。また、円形板は外周が円であるため、第１の液体又は第２の液体が円形板の上面又は下面の外周端から飛散する際、発生するミストが少ない。
【００１１】
さらに、本発明の基板処理装置において、円形板の下面の外周部に、斜め下方向に広がった傾斜面を設けると、基板の裏面へ供給された第２の液体は、円形板の下面の傾斜面に沿って斜め下方向へ飛散する。従って、円形板の外へ飛散した第２の液体が第２の回収容器を飛び越えて第１の回収容器内に混じる心配がなく、第１の液体と第２の液体とをより確実に分離して回収することができる。
【００１２】
さらに、本発明の基板処理装置において、円形板の上面を、回転手段に支持された基板の表面と同じ高さにすると、第１の液体が基板の表面から円形板の上面へと移動する際、液体の流れがより円滑になる。従って、基板の表面の外周部に第１の液体による現像、エッチング、剥離、洗浄等の処理不足が発生するのを抑制することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に従って説明する。図１は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。本実施の形態の基板処理装置は、回転軸１１、回転テーブル１２、案内ピン１３、支持ピン１４、支柱１５、分離板１６、ノズル１７、モータ１８、ノズル２１、外カップ２２、及び内カップ２３を含んで構成されている。処理される基板１は回転テーブル１２に搭載され、回転テーブル１２に搭載された基板１の周囲に円形の分離板１６が装着される。
【００１４】
図２は、基板を搭載した回転テーブルと装着前の分離板の斜視図である。また、図３（ａ）は分離板を装着した回転テーブルの上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ部の断面図である。回転テーブル１２の上面には、複数の案内ピン１３と複数の支持ピン１４とが取り付けられている。案内ピン１３は、その側面が基板１の側面と接触することにより、基板１の位置決めを行う。支持ピン１４は、その先端部が基板１の裏面と接触し、基板１を複数の点によって水平に支持する。
【００１５】
図２に示すように、分離板１６は、開口部１６ａと複数のピン孔１６ｂとを備え、回転テーブル１２の上方から、回転テーブル１２に搭載された基板１の周囲に装着される。このとき、基板１は開口部１６ａ内に収納され、案内ピン１３はピン孔１６ｂを貫通する。回転テーブル１２の上面には複数の支柱１５が設けられており、支柱１５は基板１の周囲に装着された分離板１６の下面を支持する。
【００１６】
図１に示すように、回転テーブル１２の下面には、回転軸１１が取り付けられている。モータ１８を用いて回転軸１１を回転することにより、回転テーブル１２に搭載された基板１が分離板１６と共に回転する。
【００１７】
図１において、回転テーブル１２に搭載された基板１の上方には、処理液供給用のノズル２１が設けられている。基板１を分離板１６と共に回転させながら、ノズル２１から基板１の表面へ現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の処理液を供給する。基板１の表面へ供給された処理液は、基板１の回転による遠心力の作用で基板１の表面に沿って外周方向へ拡散し、基板１の表面全体にほぼ均一に塗布される。そして、余った処理液は、基板１の表面から分離板１６の上面へと移動し、さらに分離板１６の回転による遠心力の作用で分離板１６の上面を外周方向へ移動して、分離板１６の上面の外周端から分離板１６の外へ飛散する。
【００１８】
回転テーブル１２の周辺には、分離板１６の上面を取り囲んで外カップ２２が設けられており、さらに外カップ２２の内側には、分離板１６の下面を取り囲んで内カップ２３が設けられている。分離板１６の外へ飛散した処理液は、外カップ２２の内壁に衝突し、外カップ２２の内壁を伝って外カップ２２の底に溜まる。外カップ２２の底に溜まった使用後の処理液２は、外カップ２２の底から処理液循環タンクへ回収される。
【００１９】
一方、回転テーブル１２の上面の中央部には、純水供給用のノズル１７が取り付けられている。ノズル１７は、回転テーブル１２及び回転軸１１を貫通する配管を介して供給された純水を、回転テーブル１２に搭載された基板１の裏面へ供給する。
【００２０】
基板１の裏面へ供給された純水は、基板１の回転による遠心力の作用で基板１の裏面を外周方向へ移動し、基板１の裏面から分離板１６の下面へと移動する。そして、分離板１６の回転による遠心力の作用で分離板１６の下面を外周方向へ移動して、分離板１６の下面の外周端から分離板１６の外へ飛散する。
【００２１】
ここで、図３（ｂ）に示すように、分離板１６の下面の外周部には、斜め下方向に広がった傾斜面１６ｃが設けられている。分離板１６の下面を外周方向へ移動して来た純水は、分離板１６の外周端から離れる際、傾斜面１６ｃに沿って斜め下方向へ飛散する。分離板１６の外へ飛散した純水は、内カップ２３の内壁に衝突し、内カップ２３の内壁を伝って内カップ２３の底に溜まる。内カップ２３の底に溜まった使用後の純水３は、内カップ２３の底から排水される。
【００２２】
以上説明した本実施の形態によれば、基板１の周囲に分離板１６を取り付けて基板１と共に回転させることにより、基板１の表面へ供給された処理液と基板１の裏面へ供給された純水とを分離して回収することができる。また、分離板１６は外周が円であるため、処理液又は純水が分離板１６の上面又は下面の外周端から飛散する際、発生するミストが少ない。
【００２３】
さらに、以上説明した本実施の形態によれば、分離板１６の下面の外周部に傾斜面１６ｃを設けることにより、基板１の裏面へ供給された純水は、傾斜面１６ｃに沿って斜め下向き方向へ飛散する。従って、分離板１６の外へ飛散した純水が内カップ２３の壁を飛び越えて外カップ２２内に混じる心配がなく、処理液と純水とをより確実に分離して回収することができる。
【００２４】
図４は、本発明の他の実施の形態による分離板を装着した回転テーブルの断面図である。本実施の形態は、分離板１６の上面を、回転テーブル１２に搭載された基板１の表面と同じ高さとし、両者の境界の段差をなくしたものである。
【００２５】
通常、四角形の基板を回転させながら現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の処理液を塗布して処理を行う場合、基板が四角形であるため、どうしても基板の表面の四隅の部分には現像、エッチング、剥離、洗浄等の処理不足が発生する。本実施の形態では、分離板１６の上面を基板１の表面と同じ高さとすることにより、処理液が基板１の表面から分離板１６の上面へと移動する際、処理液の流れがより円滑になる。従って、本実施の形態によれば、基板１の表面の外周部に現像、エッチング、剥離、洗浄等の処理不足が発生するのを抑制することができる。
【００２６】
なお、以上説明した実施の形態では、基板の表面へ処理液を供給し、基板の裏面へ純水を供給する例について説明したが、本発明はこれに限らず、基板の表面と裏面とへ異なる液体を供給するものであればよい。
【００２７】
【発明の効果】
本発明によれば、基板の表面と裏面とへ異なる液体を供給し、かつ両方の液体を分離して回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】基板を搭載した回転テーブルと装着前の分離板の斜視図である。
【図３】図３（ａ）は分離板を装着した回転テーブルの上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ部の断面図である。
【図４】本発明の他の実施の形態による分離板を装着した回転テーブルの断面図である。
【符号の説明】
１…基板
２…使用後の処理液
３…使用後の純水
１１…回転軸
１２…回転テーブル
１３…案内ピン
１４…支持ピン
１５…支柱
１６…分離板
１６ａ…開口部
１６ｂ…ピン孔
１６ｃ…傾斜面
１７…ノズル
１８…モータ
２１…ノズル
２２…外カップ
２３…内カップ
【図１】
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【図２】
2004281780.tif 000004
【図３】
2004281780.tif 000005
【図４】
2004281780.tif 000006