(57)【要約】【課題】十分な反射防止性能と防汚性を有しながら耐傷性の向上した反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明支持体上に、少なくともハードコート層とバインダーポリマーを含む低屈折率層とを有する光学フィルムであって、該ハードコート層および／または低屈折率層が、(a)水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接結合しているオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物、ならびに(b)一般式R3OH（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式R4COCH2COR5(式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物を含んでなる反射防止フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、少なくともハードコート層とバインダーポリマーを含む低屈折率層とを有する光学フィルムであって、該ハードコート層および／または低屈折率層が、(a)水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接結合しているオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物、ならびに(b)一般式R3OH（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式R4COCH2COR5(式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物を含んでいることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
該ハードコート層にジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、およびケイ素のうちより選ばれる少なくとも１つの酸化物からなる無機フィラーを含有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
該低屈折率層にシリカ、およびフッ化マグネシウムより選ばれる無機フィラーを含有することを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
該低屈折率層側の表面の動摩擦係数が０．０３〜０．１５であり、かつ、水に対する接触角が９０〜１２０°であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
該ハードコート層の表面エネルギーが２５ｍＮ・ｍ-1〜７０ｍＮ・ｍ-1であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
低屈折率層のバインダーポリマーが含フッ素ポリマーであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記（ａ）の水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接結合しているオルガノシランが、下記一般式（Ａ）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式（Ａ）
（Ｒ１０）ｍ１−ＳｉＸｎ１
（式中、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｍ１は０〜３の整数を表す。ｎ１は１〜４の整数を表す。ｍ１とｎ１の合計は４である。）
【請求項８】
一般式（Ａ）におけるオルガノシランの置換基Ｒ１０が（メタ）アクリロイル基、またはエポキシ基を含有する基であることを特徴とする請求項７に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
低屈折率層のバインダーポリマーが含フッ素ポリマーであり、該含フッ素ポリマーがパーフルオロオレフィン共重合体であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
低屈折率層のバインダーポリマーが含フッ素ポリマーであり、該含フッ素ポリマーが側鎖にラジカル重合性基またはカチオン開環重合性基を有する繰り返し単位を有するポリマーであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
透明支持体上に、少なくともハードコート層とバインダーポリマーを含む低屈折率層とを塗設する請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムを製造するに当り、前記ハードコート層用塗布液および／または前記低屈折率層用塗布液が、前記(a)で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物、前記(b)で表される金属キレート化合物、ならびに(c)一般式R4COCH2COR5(式中、Ｒ4およびＲ5は前記(b)に同じ意味をもつ)で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を含有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムまたは請求項１１に記載の製造方法で製造された反射防止フィルムを、偏光板における偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム、請求項１１に記載の製造方法で製造された反射防止フィルムまたは請求項１２に記載の偏光板を有するディスプレイ装置で、前記低屈折率層が視認側になるように配置したことを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項１４】
酸触媒の存在下で製造されてなる、下記一般式（１）
一般式（１）
（Ｒ１０）ｍ−Ｓｉ（Ｘ）４−ｍ
（式中、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｍは１〜３の整数を表す。）
で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有してなり、該オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量３００以上の成分のうち、分子量１０００〜２００００の成分が８０質量％以上であることを特徴とする硬化性組成物。
【請求項１５】
請求項１４の硬化性組成物を硬化して得られる硬化被膜であって、オルガノシランの加水分解物および／または部分縮合物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析による縮合度が０．５〜３．５であることを特徴とする硬化被膜。
【請求項１６】
透明支持体上に少なくともハードコート層と低屈折率層とを有してなり、該ハードコート層および／または低屈折率層が請求項１５の硬化被膜からなり、該酸触媒が水中での酸解離定数(ｐＫa値(25℃))が４．５以下の有機酸であり、該オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物が溶媒にアルコールを用い実質的に水を添加せずに製造されたことを特徴とする反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、偏光板およびそれを用いたディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機材料・無機材料を配合して、接着剤、外装塗料、ハードコート、反射防止膜などの用途において、耐擦傷性、硬化物の強度、接触した他の素材との密着などを向上させることが検討されている。中でも、重合硬化系の有機材料との組み合わせにおいては、重合基を含有するアルコキシシラン、及びまたはその加水分解縮合物が注目されている。例えば、特許文献１には、特定のポリアルコキシポリシロキサンと重合性シランカップリング剤との併用が提案されているが、ポリアルコキシポリシロキサンと重合性シランカップリング剤との反応が十分に行いにくく、重合性基の導入率が低いために、硬化物の耐擦過性や強度は十分ではない。特許文献２には、有機官能基を含むアルコキシシランとテトラアルコキシシランとの部分共加水分解縮合物が報告されているが、液の保存性は十分なものではなかった。
【０００３】
一方、反射防止フィルムは一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する様ディスプレイの最表面に配置される。
【０００４】
このような反射防止フィルムは、支持体上に高屈折率層、さらにその上に適切な膜厚の低屈折率層を形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムはディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性が要求される。厚さ100nm前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、および下層への密着性が必要である。
【０００５】
材料の屈折率を下げるには、（１）フッ素原子を導入する、（２）密度を下げる（空隙を導入する）という手段があるがいずれも皮膜強度および密着性が損なわれ耐擦傷性が低下する方向であり、低い屈折率と高い耐傷性の両立は困難な課題であった。
【０００６】
例えば、特許文献３〜５には、含フッ素ポリマー中にポリシロキサン構造を導入することにより皮膜表面の摩擦係数を下げ耐傷性を改良する手段が記載されている。該手段は耐傷性改良に対してある程度有効であるが、本質的な皮膜強度および界面密着性が不足している皮膜に対して該手法のみでは十分な耐傷性が得られない。
【０００７】
皮膜強度を上げる手段の一つに、低屈折率層に無機フィラーを導入する方法がある。低屈折率の無機微粒子をフィラーとすることにより、層自体の屈折率の増加なしに皮膜強度を上げることが可能となる。しかし、無機フィラーの導入では下層への密着性まで得ることは難しく、耐傷性はまだ充分ではない。
【０００８】
【特許文献１】特開平９−１６９８４７号公報
【特許文献２】特開平９−４０９０９号公報
【特許文献３】特開平１１−１８９６２１号公報
【特許文献４】特開平１１−２２８６３１号公報
【特許文献５】特開２０００−３１３７０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、透明性と密着性に優れた硬化被膜及びこれを形成することのできる硬化性組成物を提供することにある。
また、十分な反射防止性能と防汚性を有しながら耐傷性の向上した反射防止フィルムを提供することにある。
さらにはそのような反射防止フィルムを高い生産性で得ることのできる製造方法を提供することにある。
さらにはそのような反射防止フィルムを用いた偏光板やディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らはシランカップリング剤をあらかじめ加水分解/脱水縮合してから添加することにより添加量を減らしても安定した性能が得られ、しかもシランカップリング剤をそのまま添加する場合に比べて大きな効果が得られることを見出した。ただし加水分解/脱水縮合物（ゾル）の安定性は使用する触媒種等によって決まり、条件によっては塗布液のポットライフが悪く、持続して満足する性能が得られないという問題があったが、鋭意検討した結果ポットライフも良好な材料を見出し、本発明をなすに至った。
【００１１】
すなわち本発明は
（１）透明支持体上に、少なくともハードコート層とバインダーポリマーを含む低屈折率層とを有する光学フィルムであって、該ハードコート層および／または低屈折率層が、(a)水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接結合しているオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物、ならびに(b)一般式R3OH（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式R4COCH2COR5(式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物を含んでいることを特徴とする反射防止フィルム、
（２）該ハードコート層の少なくとも１層が防眩性ハードコート層であることを特徴とする（１）に記載の反射防止フィルム、
（３）該防眩性ハードコート層の下層に、さらに防眩性を有しないハードコート層を有することを特徴とする（２）に記載の反射防止フィルム、
（４）該防眩性ハードコート層がバインダーと平均粒径１．０〜１０．０μｍのマット粒子から形成され、該バインダーの屈折率が１．４８〜２．００であることを特徴とする（２）または（３）に記載の反射防止フィルム、
【００１２】
（５）該ハードコート層にジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、およびケイ素のうちより選ばれる少なくとも１つの酸化物からなる無機フィラーを含有することを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６）該低屈折率層にシリカ、およびフッ化マグネシウムより選ばれる無機フィラーを含有することを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（７）該防眩性ハードコート層より下層の防眩性を有しないハードコート層にシリカ、およびアルミナより選ばれる無機フィラーを含有することを特徴とする（３）〜（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（８）全てのハードコート層および低屈折率層に無機フィラー粒子を含有することを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
【００１３】
（９）該無機フィラーの平均粒径が０．００１〜０．２μｍであることを特徴とする（５）〜（８）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（１０）該低屈折率層側の表面の動摩擦係数が０．０３〜０．１５であり、かつ、水に対する接触角が９０〜１２０°であることを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（１１）該ハードコート層の表面エネルギーが２５ｍＮ・ｍ-1〜７０ｍＮ・ｍ-1であることを特徴とする（１）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（１２）該防眩性ハードコート層がフッ素系および／またはシリコーン系の界面活性剤を含有することを特徴とする（２）〜（１１）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
【００１４】
（１３）該防眩性ハードコート層が、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークとの比であるＦ／Ｃが０．４０以下、および／またはシリコン原子由来のピークと炭素原子由来のピークとの比であるＳｉ／Ｃが０．３０以下であることを特徴とする（２）〜（１２）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（１４）低屈折率層のバインダーポリマーが含フッ素ポリマーであることを特徴とする（１）〜（１３）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（１５）前記（ａ）の水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接結合しているオルガノシランが、下記一般式（Ａ）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物であることを特徴とする（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
一般式（Ａ）
（Ｒ１０）ｍ１−ＳｉＸｎ１
（式中、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｍ１は０〜３の整数を表す。ｎ１は１〜４の整数を表す。ｍ１とｎ１の合計は４である。）
（１６）ヘイズが３．０〜５０．０％であり、４５０〜６５０ｎｍの波長の光に対する平均反射率が２．２％以下であることを特徴とする（１）〜（１５）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（１７）該透明支持体がトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、またはポリエチレンナフタレートであることを特徴とする（１）〜（１６）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（１８）低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下であることを特徴とする（１）〜（１７）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
【００１５】
（１９）一般式（Ａ）におけるオルガノシランの置換基Ｒ10が（メタ）アクリロイル基、またはエポキシ基を含有する基であることを特徴とする（１）〜（１８）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（２０）低屈折率層のバインダーポリマーが含フッ素ポリマーであり、該含フッ素ポリマーがパーフルオロオレフィン共重合体であることを特徴とする（１）〜（１９）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（２１）低屈折率層のバインダーポリマーが含フッ素ポリマーであり、該含フッ素ポリマーが側鎖にラジカル重合性基またはカチオン開環重合性基を有する繰り返し単位を有するポリマーであることを特徴とする（１）〜（２０）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
【００１６】
（２２）透明支持体上に、少なくともハードコート層とバインダーポリマーを含む低屈折率層とを塗設する（１）〜（２１）のいずれかに記載の反射防止フィルムを製造するに当り、前記ハードコート層用塗布液および／または前記低屈折率層用塗布液が、前記(a)で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物、前記(b)で表される金属キレート化合物、ならびに(c)一般式R4COCH2COR5(式中、Ｒ4およびＲ5は前記(b)に同じ意味をもつ)で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を含有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法、
（２３）（ｂ）で表される金属キレート化合物が（a）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の０．０１〜５０質量％含まれ、かつ、（c）β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物が（ｂ）金属キレート化合物１モルに対し２モル以上含まれていることを特徴とする（２２）に記載の反射防止フィルムの製造方法、
（２４）透明支持体上に低屈折率層を形成した後、鹸化処理することを特徴とする（２２）または（２３）に記載の反射防止フィルムの製造方法、
【００１７】
（２５）低屈折率層が塗布工程により形成され、該低屈折率層用塗布液の溶媒が少なくとも１種の溶媒からなり、該溶媒の５０〜１００質量％が沸点１００℃以下の溶媒からなることを特徴とする（２２）〜（２４）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法、
（２６）低屈折率層用塗布液の溶媒がケトン化合物および／またはエステル化合物であることを特徴とする（２２）〜（２５）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法、
（２７）ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくとも前記ハードコート層および／または前記低屈折率層を、マイクログラビアコート法によって塗工することを特徴とする（２２）〜（２６）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法、
（２８）（１）〜（２１）のいずれかに記載の反射防止フィルムまたは（２２）〜（２７）のいずれかに記載の製造方法で製造された反射防止フィルムを、偏光板における偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板、
（２９）（１）〜（２１）のいずれかに記載の反射防止フィルム、（２２）〜（２７）のいずれかに記載の製造方法で製造された反射防止フィルムまたは（２８）に記載の偏光板を有するディスプレイ装置で、前記低屈折率層が視認側になるように配置したことを特徴とするディスプレイ装置、
（３０）オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物（好ましくは、前記(a)のもの）、少なくとも１種の金属キレート化合物（好ましくは、前記(b)のもの）、およびバインダー樹脂（バインダーポリマー）からなる光学フィルム用樹脂組成物、
【００１８】
（３１）酸触媒の存在下で製造されてなる、下記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有することを特徴とする硬化性組成物、
一般式（１）
（Ｒ１０）ｍ−Ｓｉ（Ｘ）４−ｍ
（式中、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｍは１〜３の整数を表す。）
（３２）Ｒ１０が重合性置換基を含むことを特徴とする（３１）記載の硬化性組成物、
（３３）前記重合性置換基がラジカル重合性基であることを特徴とする（３２）記載の硬化性組成物、
（３４）前記重合性置換基を含有するオルガノシランが下記一般式（２）で表されることを特徴とする（３３）記載の硬化性組成物、
一般式（２）
【００１９】
【化１】
2004170901.tif 000002
【００２０】
（式中、Ｒ１は水素原子もしくはメチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子を表す。Ｙは単結合もしくはエステル基、アミド基、エーテル基又はウレア基を表す。Ｌは２価の連結鎖を表す。ｎは０または１を表す。Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。）
（３５）該オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量３００以上の成分のうち、分子量１０００〜２００００の成分が８０質量％以上であることを特徴とする（３１）〜（３４）のいずれかに記載の硬化性組成物、
（３６）用いる酸触媒が有機酸であることを特徴とする（３１）〜（３５）のいずれかに記載の硬化性組成物、
（３７）（ａ）好ましくは上記一般式（１）で表される水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接結合しているオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物、並びに（ｂ）一般式Ｒ３ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）で表されるアルコールと一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物を含んでいることを特徴とする硬化性組成物、
（３８）（３１）〜（３７）のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化して得られる硬化被膜、
（３９）（３１）〜（３７）のいずれかに記載のオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物とバインダーポリマーとを含んでなる硬化性組成物を硬化させて得られる硬化被膜、
（４０）バインダーポリマーが含フッ素ポリマーを含むことを特徴とする（３９）記載の硬化被膜、
（４１）オルガノシランの加水分解物および／または部分縮合物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析による縮合度が０．５〜３．５であることを特徴とする（３８）〜（４０）のいずれかに記載の硬化被膜、
（４２）透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、該ハードコート層および／または低屈折率層が、（３８）〜（４１）のいずれかに記載の硬化被膜からなることを特徴とする反射防止フィルム、
（４３）低屈折率層のバインダーポリマーが含フッ素ポリマーを含むことを特徴とする（４２）記載の反射防止フィルム、
（４４）オルガノシランの一部あるいは全てが、置換基Ｒ１０として（メタ）アクリロイル基またはエポキシ基を含有する基であることを特徴とする（４２）又は（４３）に記載の反射防止フィルム、
（４５）該酸触媒が、水中での酸解離定数(ｐＫa値(25℃))が４．５以下の有機酸であることを特徴とする（４２）〜（４４）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（４６）該オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物が溶媒にアルコールを用いて製造されたことを特徴とする（４５）に記載の反射防止フィルム、
（４７）該オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物が溶媒にアルコールを用い、実質的に水を添加せずに製造されたことを特徴とする（４５）に記載の反射防止フィルム、
（４８）該低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の使用量が５〜１００質量％であることを特徴とする（４２）〜（４７）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
【００２１】
（４９）該ハードコート層の少なくとも１層が防眩性ハードコート層であることを特徴とする（４２）〜（４８）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（５０）該防眩性ハードコート層の下層に、さらに防眩性を有しないハードコート層を有することを特徴とする（４９）に記載の反射防止フィルム、
（５１）該防眩性ハードコート層がバインダーと平均粒径１．０〜１０．０μｍのマット粒子から形成され、該バインダーの屈折率が１．４８〜２．００であることを特徴とする（４９）または（５０）に記載の反射防止フィルム、
（５２）該マット粒子が粒径の異なる２種類以上の粒子によって構成されていることを特徴とする（５１）に記載の反射防止フィルム、
（５３）該マット粒子として、平均粒子径より２０％以上大きな粒子径を持つ粒子数が全粒子数の１％以下であることを特徴とする（５１）または（５２）に記載の反射防止フィルム、
（５４）該ハードコート層にジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、およびケイ素のうちより選ばれる少なくとも１つの酸化物からなる無機フィラーを含有することを特徴とする（４２）〜（５３）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（５５）該低屈折率層にシリカ、およびフッ化マグネシウムより選ばれる無機フィラーを含有することを特徴とする（４２）〜（５４）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（５６）該低屈折率層において、粒子径の異なる無機フィラー粒子を含むことを特徴とする（５５）に記載の反射防止フィルム、
（５７）該防眩性ハードコート層より下層の防眩性を有しないハードコート層にシリカ、およびアルミナより選ばれる無機フィラーを含有することを特徴とする（５０）〜（５４）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（５８）全てのハードコート層および低屈折率層に無機フィラー粒子を含有することを特徴とする（４２）〜（５７）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（５９）該無機フィラーの平均粒径が０．００１〜０．２μｍであることを特徴とする（５４）〜（５８）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６０）該低屈折率層側の表面の動摩擦係数が０．０３〜０．１５であり、かつ、水に対する接触角が９０〜１２０°であることを特徴とする（４２）〜（５９）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６１）該ハードコート層の表面エネルギーが２５ｍＮ・ｍ-1〜７０ｍＮ・ｍ-1であることを特徴とする（４２）〜（６０）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
【００２２】
（６２）該防眩性ハードコート層がフッ素系および／またはシリコーン系の界面活性剤を含有することを特徴とする（４９）〜（６１）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６３）該防眩性ハードコート層が、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークとの比であるＦ／Ｃが０．４０以下、および／またはシリコン原子由来のピークと炭素原子由来のピークとの比であるＳｉ／Ｃが０．３０以下であることを特徴とする（４９）〜（６２）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６４）ヘイズが３．０〜６０．０％（好ましくは、３．０〜５０．０％）であり、４５０〜６５０ｎｍの波長の光に対する平均反射率が３．０％以下（好ましくは、２．２％以下）であることを特徴とする（４２）〜（６３）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６５）該透明支持体がトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、またはポリエチレンナフタレートであることを特徴とする（４２）〜（６４）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６６）低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下であることを特徴とする（４２）〜（６５）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６７）含フッ素ポリマーがパーフルオロオレフィン共重合体であることを特徴とする（４２）〜（６６）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６８）含フッ素ポリマーが側鎖にラジカル重合性基またはカチオン開環重合性基を有する繰り返し単位を有するポリマーであることを特徴とする（４２）〜（６７）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（６９）オルガノシランの一部あるいは全てが、置換基Ｒ１０として（メタ）アクリロイル基またはエポキシ基を含有する基であり、該オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物が有機酸の存在下に製造されたことを特徴とする（４２）〜（６８）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（７０）前記反射防止層と前記透明支持体との間に少なくとも１層の前方散乱層を有することを特徴とする（４２）〜（６９）のいずれかに記載の反射防止フィルム、
【００２３】
（７１）透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを塗設する反射防止フィルムを製造するに当り、前記ハードコート層用塗布液および／または前記低屈折率層用塗布液が、（３１）〜（３７）のいずれかに記載の硬化性組成物を含有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法、
（７２）透明支持体上に、少なくともハードコート層とバインダーポリマーを含む低屈折率層とを塗設する（４２）〜（７０）のいずれかに記載の反射防止フィルムを製造するに当り、前記ハードコート層用塗布液および／または前記低屈折率層用塗布液が、前記（ａ）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物、（ｂ）で表される金属キレート化合物、並びに（ｃ）一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。）で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を含有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法、
（７３）（ｂ）で表される金属キレート化合物が（ａ）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の０．０１〜５０質量％含まれ、かつ、（ｃ）で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物が（ｂ）で表される金属キレート化合物１モルに対し２モル以上含まれていることを特徴とする（７２）に記載の反射防止フィルムの製造方法、
（７４）透明支持体上に低屈折率層を形成した後、鹸化処理することを特徴とする（７１）〜（７３）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法、
（７５）低屈折率層が塗布工程により形成され、該低屈折率層用塗布液の溶媒が少なくとも１種の溶媒からなり、該溶媒の５０〜１００質量％が沸点１００℃以下の溶媒からなることを特徴とする（７１）〜（７４）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法、
（７６）低屈折率層用塗布液の溶媒がケトン化合物および／またはエステル化合物であることを特徴とする（７１）〜（７５）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法、
【００２４】
（７７）ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくとも前記ハードコート層および／または前記低屈折率層を、マイクログラビアコート法によって塗工することを特徴とする（７１）〜（７６）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法、
（７８）（４２）〜（７０）のいずれかに記載の反射防止フィルムまたは（７１）〜（７７）のいずれかに記載の製造方法で製造された反射防止フィルムを、偏光板における偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板、
（７９）（４２）〜（７０）のいずれかに記載の反射防止フィルム、（７１）〜（７７）のいずれかに記載の製造方法で製造された反射防止フィルムまたは（７８）に記載の偏光板を有するディスプレイ装置で、前記低屈折率層が視認側になるように配置したことを特徴とするディスプレイ装置、
（８０）２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に張り合わせた偏光板であり、（４２）〜（７０）のいずれかに記載の反射防止フィルム、（７４）に記載の反射防止フィルム（その反射防止層）を形成後に、アルカリ液中に少なくとも一回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板、
（８１）２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に張り合わせた偏光板であり、（４２）〜（７０）のいずれかに記載の反射防止フィルムの反射防止層の形成前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止層を形成する面の反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板、
（８２）前記表面保護フィルムのうちの反射防止フィルム以外のフィルムが、該表面保護フィルムの偏光子と反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする（８０）または（８１）に記載の偏光板、
（８３）（８０）〜（８２）のいずれかに記載の偏光板を少なくとも１枚有するＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置、
（８４）（８０）〜（８２）のいずれかに記載の偏光板を少なくとも１枚有する透過型または半透過型の液晶表示装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバックライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィルムを配置することを特徴とする液晶表示装置、及び
（８５）（８０）または（８１）に記載の偏光板の反射防止フィルムとは反対側の透明保護フィルムに、λ／４板を配置したことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用表面保護版
を提供するものである。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の硬化性組成物は透明性と密着性に優れた硬化被膜を形成することができる。
例えば前記組成物より作製される本発明の反射防止フィルムは、十分な反射防止性能と防汚性を有しながら耐傷性に優れる。また、本発明の反射防止フィルムの製造方法によれば、上記反射防止フィルムを高い生産性で安定して得ることができる。
さらに、このような反射防止フィルムを用いた本発明の偏光板およびディスプレイ装置は十分な反射防止性能を有し視認性に優れる。
また、本発明の硬化被膜は、透明性と密着性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の実施の一形態として好適な反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照しながら説明する。
【００２７】
図１に模式的に示される態様は本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面図であり、この場合、反射防止フィルム１は、透明支持体２、ハードコート層３、防眩性ハードコート層４、そして屈折率が最も低い低屈折率層５の順序の層構成を有する。防眩性ハードコート層４には、微粒子（マット粒子）６が分散しており、防眩性ハードコート層４の微粒子６以外の部分の素材の屈折率が１．４８〜２．００の範囲（より好ましくは、１．５７〜２．００の範囲）にあることが好ましく、低屈折率層５の屈折率は１．３８〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においてはハードコート層はこのように防眩性を有するハードコート層でもよいし、防眩性を有しないハードコート層でもよく、１層でもよいし、複数層、例えば２層乃至４層で構成されていてもよい。従って図１に示したハードコート層３は必須ではないがフィルム強度付与のために塗設されることが好ましい。同様に低屈折率層においても１層で構成されていてもよいし、複数層で構成されていてもよい。
【００２８】
本発明のハードコート層と低屈折率層のうちの少なくとも１層には、オルガノシラン化合物の加水分解物／またはその部分縮合物、いわゆるゾル成分（以降このようにもあるいはオルガノシランゾルとも称する）を含有する。
本発明においては、ハードコート層と低屈折率層のうちの少なくとも１層に、前記(a)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物、および前記(b)で表される金属キレート化合物を含むことが好ましい。さらに、ハードコート層乃至低屈折率層を形成する塗布液にはポットライフを高めるために上記(a)、(b)に加えて前記(c)で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を含むことが好ましい。
（ａ）オルガノシラン化合物
オルガノシラン化合物は、下記一般式（Ａ）で表される。
一般式(Ａ)
（Ｒ１０）ｍ１−Ｓｉ（Ｘ）ｎ１
一般式（Ａ）においてＲ１０は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、ｔ−ブチル、sec−ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【００２９】
Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表し加水分解可能な基として、例えばアルコキシ基（炭素数1〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、又はＲ２ＣＯＯ（Ｒ２は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等が挙げられる）が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｍ１は０〜３の整数を表す。ｎ１は１〜４の整数を表す。ｍ１とｎ１の合計は４である。Ｒ１０もしくはＸが複数存在するとき、複数のＲ１０もしくはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｍ１として好ましくは０、１、２であり、より好ましくは１，２であり、特に好ましくは１である。
【００３０】
Ｒ１０に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
これらのうちで好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、さらに好ましくはエポキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミノ基である。
本発明において、一般式(Ａ)で表されるオルガノシラン化合物のうち、少なくとも一つはＲ１０を有する、一般式(１)で表されるオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式(１)
（Ｒ１０）ｍ−Ｓｉ（Ｘ）４−ｍ
一般式(１)において、Ｒ１０およびＸは一般式(Ａ)におけるＲ１０およびＸと同義であり、その具体例や好ましい基の例も一般式(Ａ)におけるＲ１０およびＸと同様である。
ｍは１〜３の整数を表す。Ｒ１０もしくはＸが複数存在するとき、複数のＲ１０もしくはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｍとして好ましくは１、２であり、特に好ましくは１である。
Ｒ１０が複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましく、中でも、一般式（２）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【００３１】
一般式（２）
【化２】
2004170901.tif 000003
【００３２】
一般式（２）においてＲ１は水素原子もしくはメチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子又は塩素原子が更に好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくはエステル基、アミド基、エーテル基又はウレア基を表す。単結合もしくはエステル基又はアミド基が好ましく、単結合もしくはエステル基が更に好ましく、エステル基が特に好ましい。
【００３３】
Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミド。以下、同義である。）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアルキレン基、置換もしくは無置換の炭素数６〜２０のアリーレン基、内部に連結基を有する炭素数３〜１０のアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル、あるいは、エステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル、あるいは、エステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【００３４】
ｎは０または１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ１０は一般式（Ａ）と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｘは一般式（Ａ）と同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【００３５】
一般式（Ａ）、一般式（１）および一般式（２）の化合物は2種類以上を併用しても良い。以下に一般式（Ａ）、一般式（１）または一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３６】
【化３】
2004170901.tif 000004
【００３７】
【化４】
2004170901.tif 000005
【００３８】
【化５】
2004170901.tif 000006
【００３９】
【化６】
2004170901.tif 000007
【００４０】
【化７】
2004170901.tif 000008
【００４１】
【化８】
2004170901.tif 000009
【００４２】
【化９】
2004170901.tif 000010
【００４３】
（Ｍ−４８）  ３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）
（Ｍ−４９）  ３−アセトキシプロピルトリメトキシシラン
（Ｍ−５０）  テトラエトキシシラン
（Ｍ−５１）  テトラプロポキシシラン
（Ｍ−５２）  テトライソプロポキシシラン
（Ｍ−５３）  テトラアセトキシシラン
（Ｍ−５４）  ジアセトキシジエトキシシラン
（Ｍ−５５）  (CH3O)3-Si-(CH2)4-Si-(OCH3)3
（Ｍ−５６）  (CH3O)3-Si-(CH2)6-Si-(OCH3)3
（Ｍ−５７）  (CH3O)2-Si(CH3)-(CH2)4-Si(CH3)-(OCH3)2
（Ｍ−５８）  H2C=CH-CONH(CH2)3-Si-(OCH3)3
（Ｍ−５９）  H2C=CH-CONH(CH2)4-Si-(OCH3)3
【００４４】
【化１０】
2004170901.tif 000011
【００４５】
（Ｍ−６１）  HOOC-(CH2)3-Si(CH3)-(OCH3)2
（Ｍ−６２）メチルトリメトキシシラン
これらの具体例の中で、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、（Ｍ−２５）、（Ｍ−４８）、（Ｍ−４９）、（Ｍ−５０）等が特に好ましい。
【００４６】
本発明の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量は、３０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、７０質量％〜１００質量％が更に好ましく、９０質量％〜１００質量％が特に好ましい。前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量が少なすぎると、固形分が生じたり、液が濁ったり、ポットライフが悪化したり、分子量の制御が困難（分子量の増大）であったり、重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能（例えば反射防止膜の耐傷性）の向上が得られにくいために好ましくない。
【００４７】
本発明に用いられる前記（ａ）成分は上記オルガノシランを加水分解および／または部分縮合することにより調製される。
加水分解および／または縮合反応は、例えば加水分解性基（Ｘ）１モルに対して０．３〜２．０モル、好ましくは０．５〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる前記（ｂ）金属キレート化合物の存在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
【００４８】
オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物において、ビニル重合性基を含有するオルガノシランを含有するオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の質量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、１０００〜２００００が好ましく、１０００〜１００００がより好ましく、１１００〜５０００が更に好ましく、１２００〜３０００が更に好ましく、１２００〜２０００が更に好ましい。
オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量が３００以上の成分のうち、分子量が２００００より大きい成分は２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましく、６質量％以下であることが更に好ましく、４質量％以下であることが特に好ましい。
また、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量３００以上の成分のうち、分子量１０００〜２００００の成分は８０質量％以上であることが好ましい。分子量１０００〜２００００の成分が少なすぎると、そのようなオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性組成物を硬化させて得られる硬化皮膜は、透明性や基板との密着性が劣る場合がある。
【００４９】
ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は３．０〜１．１が好ましく、２．５〜１．１がより好ましく、２．０〜１．１が更に好ましく、１．５〜１．１が特に好ましい。
【００５０】
オルガノシランの加水分解物および／または部分縮合物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析により一般式（Ａ）、（１）のＸが−ＯＳｉの形で縮合している状態を確認できる。
この時、Ｓｉの３つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ３）、Ｓｉの２つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ２）の比率（Ｔ３／Ｔ２）を縮合度とした場合に、縮合度は０．５〜３．５が好ましく、０．５〜３．０がより好ましく、０．７〜２．５がとくに好ましい。
前記縮合度が小さすぎると加水分解や縮合が十分でなく、モノマー成分が増えるため硬化が十分でない。一方、大きすぎると加水分解や縮合が進みすぎ、加水分解可能な基が消費されてしまうため、バインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用が低下してしまい、これらを用いても効果が得られにくくなる。
【００５１】
オルガノシランの加水分解および／または縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。この反応により、本発明の硬化性組成物を製造することができる。溶媒を用いる場合はオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の濃度を適宜に定めることができる。溶媒としては成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
【００５２】
このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec −ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
【００５３】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における溶媒に対する固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１質量％〜90質量％の範囲であり、好ましくは20質量％〜70質量％の範囲である。
【００５４】
オルガノシランの加水分解および／または縮合反応は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、ゾル液の製造安定性やゾル液の保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒（無機酸類、有機酸類）が用いられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値(25℃))が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【００５５】
加水分解および／または縮合反応は、通常、オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．３〜２モル、好ましくは０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして酸触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
加水分解性基がアルコキシ基で酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、オルガノシランのアルコキシ基等の加水分解性基１モルに対する水の添加量は、０〜２モル、好ましくは０〜１．５モル、より好ましくは、０〜１モル、特に好ましくは、０〜０．５モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。
【００５６】
酸触媒の使用量は、酸触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、酸触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して１〜５００モル％、好ましくは１０〜２００モル％であり、より好ましくは２０〜２００モル％であり、更に好ましくは５０〜１５０モル％であり、特に好ましくは５０〜１２０モル％である。
反応は２５〜１００℃で撹拌することにより行われるがオルガノシランの反応性により調節されることが好ましい。
【００５７】
オルガノシランのゾルの含有量は、添加する層によっても異なるが、低屈折率層の添加量は含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。低屈折率層以外の層への添加量は、含有層（添加層）の全固形分の０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましく、０．０５〜１０質量％が更に好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。
【００５８】
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾルの使用量（比）は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少なすぎると本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。
【００５９】
（ｂ）金属キレート化合物
金属キレート化合物は、一般式Ｒ３ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）で表されるアルコールと一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ(ＯＲ３)p1(Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５)p2、Ｔｉ(ＯＲ３)q1(Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５)q2およびＡｌ(ＯＲ３)r1(Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５)r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記（ａ）成分の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ３およびＲ４は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ５は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1およびr2は、４あるいは６座配位となるように決定される整数を表す。
【００６０】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、（ｂ）成分としては、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【００６１】
（ｂ）成分の金属キレート化合物は、（ａ）成分の原料であるオルガノシランに対し、好ましくは、０．０１〜５０質量％、より好ましくは、０．１〜５０質量％、さらに好ましくは、０．５〜１０質量％の割合で用いられる。（ｂ）成分が少なすぎると、（ａ）成分の縮合反応が遅く、塗膜の耐久性が悪化するおそれがあり、一方多すぎると、（ａ）成分と（ｂ）成分を含有してなる組成物の保存安定性が悪化するおそれがあり好ましくない。
【００６２】
本発明に用いられるハードコート層乃至低屈折率層の塗布液には上記（ａ）成分および（ｂ）成分（例えばこれらを含む組成物として）に加えて、前記（ｃ）成分が添加されることが好ましい。以下に、（ｃ）成分をさらに説明する。
【００６３】
（ｃ）成分
本発明で使用される（ｃ）成分は、一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記（ｂ）成分の金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよび／またはアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物による（ａ）〜（ｂ）成分の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。（ｃ）成分を構成するＲ４およびＲ５は、前記（ｂ）金属キレート化合物を構成するＲ４およびＲ５と同様である。
【００６４】
この（ｃ）成分のβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明において（ｃ）成分のβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、（ｂ）成分の金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。少なすぎると得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。
【００６５】
上記（ａ）成分の含有量は、比較的薄膜である表面層の場合は少なく、厚膜である下層の場合は多いことが好ましいが、含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。
本発明においてはまず前記（ａ）、（ｂ）成分を含有する組成物を調製し、これに（ｃ）成分を添加した液をハードコート層乃至低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
【００６６】
本発明の反射防止フィルムは透明支持体上にハードコート層を有し、さらにその上に低屈折率層を有するが、要求される性能に応じ、該ハードコートの一層を防眩性ハードコート層とした反射防止フィルムとすることができる。
本発明の反射防止フィルムでは膜強度を向上させる目的で防眩性ハードコート層の下層にさらに防眩性ではないハードコート層を設けることもできる。
【００６７】
さらに支持体上の各層に無機フィラーを添加することが好ましい。各層に添加する無機フィラーはそれぞれ同じでも異なっていても良く、各層の屈折率、膜強度、膜厚、塗布性などの必要性能に応じて、種類、添加量は調節されることが好ましい。
本発明に使用する無機フィラー形状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく用いられるが、球状が分散性がよくより好ましい。また、無機フィラーの種類についても特に制限されるものではないが、非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉ等が挙げられる。無機フィラーの平均粒子径は、透明な硬化膜を得るためには、０.００１〜０．２μｍの範囲内の値とするのが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．１μｍ、さらに好ましくは０．００１〜０．０６μｍである。ここで、粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
本発明における無機フィラーの使用方法は特に制限されるものではないが、例えば、乾燥状態で使用することができるし、あるいは水もしくは有機溶媒に分散した状態で使用することもできる。
【００６８】
本発明において、無機フィラーの凝集、沈降を抑制する目的で、分散安定化剤を併用することも好ましい。分散安定化剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース誘導体、ポリアミド、リン酸エステル、ポリエーテル、界面活性剤および、本発明に係る前記一般式(Ａ)、(１)で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物も含め、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等を使用することができる。特にシランカップリング剤が硬化後の皮膜が強いため好ましい。分散安定化剤としてのシランカップリング剤の添加量は特に制限されるものではないが、例えば、無機フィラー１００質量部に対して、１質量部以上の値とするのが好ましい。また、分散安定化剤の添加方法も特に制限されるものではないが、予め加水分解したものを添加することもできるし、あるいは、分散安定化剤であるシランカップリング剤と無機フィラーとを混合後、さらに加水分解および縮合する方法を採ることができるが、後者の方がより好ましい。
【００６９】
また本発明の前記一般式(Ａ)、(１)で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物は、無機フィラーの分散安定化剤として用いられる以外に、さらに各層のバインダー構成成分の一部として、塗布液調製時の添加剤としても用いることが好ましい。
各層に適する無機フィラーについてはそれぞれ後述する。
【００７０】
本発明の防眩性ハードコート層について以下に説明する。
防眩性ハードコート層はハードコート性を付与するためのバインダー、防眩性を付与するためのマット粒子、および高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラー、から形成される。
バインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。
また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。
【００７１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエステルポリ（メタ）アクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【００７２】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００７３】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムの防眩性ハードコート層を形成することができる。
【００７４】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．159，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製の商品名イルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
【００７５】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス（イソブチロニトリル）、２−アゾ−ビス（プロピオニトリル）、２−アゾ−ビス（シクロヘキサンジニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【００７６】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成することができる。
【００７７】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００７８】
防眩性ハードコート層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きな平均粒径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できる。
また、異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。
上記マット粒子は、形成された防眩性ハードコート層中のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは３０〜１００ｍｇ／ｍ2となるように防眩性ハードコート層に含有される。
また、特に好ましい態様は、マット粒子として架橋スチレン粒子を用い、防眩性ハードコート層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径の架橋スチレン粒子が、該架橋スチレン粒子全体の４０〜１００％を占める態様である。ここで、マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【００７９】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｄｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合にギラツキと呼ばれる光学性能が要求される。これはフィルム表面に微妙に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、表示性能の均一性を失うことに由来するが、これは防眩性を付与するマット粒子よりも５〜５０％粒子径の小さなマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【００８０】
さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが好ましく、全粒子の粒子径は同一に近ければ近いほどよい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径の異なる粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
【００８１】
防眩性ハードコート層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた防眩性ハードコート層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
防眩性ハードコート層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）とＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2およびＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、防眩性ハードコート層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
【００８２】
本発明の防眩性ハードコート層のバインダーおよび無機フィラーの混合物の合計の屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量の割合を選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に知ることができる。
【００８３】
本発明の防眩性ハードコート層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を抑制して面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、大日本インキ社製のメガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７６（いずれも商品名）等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系の界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
【００８４】
しかしながら、上記のような界面活性剤を使用することにより、防眩層表面にＦ原子を含有する官能基および／またはＳｉ原子を有する官能基が偏析することにより防眩層の表面エネルギーが低下し、上記防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が生じる。これは低屈折率層を形成するために用いられる塗布組成物の濡れ性が悪化するために低屈折率層の膜厚の目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系および／またはシリコーン系の界面活性剤の構造と添加量を調整することにより、防眩層の表面エネルギーを好ましくは２５ｍＮ・ｍ-1〜７０ｍＮ・ｍ-1に、より好ましくは３５ｍＮ・ｍ-1〜７０ｍＮ・ｍ-1に制御することが効果的であり、さらに後述するように低屈折率層の塗布溶剤を５０〜１００質量パーセントが１００℃以下の沸点を有するものとすることが効果的であることを見出した。また、上記のような表面エネルギーを実現するためには、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるＦ／Ｃが０．４０以下、および／またはシリコン原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるＳｉ／Ｃが０．３０以下であることが必要である。
【００８５】
防眩性ハードコート層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。
【００８６】
本発明の反射防止フィルムでは、フィルム強度向上の目的で防眩性ではないいわゆる平滑なハードコート層も好ましく用いられ、透明支持体と防眩性ハードコート層の間に塗設される。
平滑なハードコート層に用いる素材は防眩性付与のためのマット粒子を用いないこと以外は防眩性ハードコート層において挙げたものと同様であり、バインダーと無機フィラーから形成される。
本発明の平滑なハードコート層では無機フィラーとしては強度および汎用性の点でシリカ、アルミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また該無機フィラーは表面をシランカップリング処理されることが好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、ハードコート層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。平滑なハードコート層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。
【００８７】
本発明の低屈折率層について以下に説明する。
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．３８〜１．４９であり、より好ましくは１．３８〜１．４４の範囲にある。
さらに、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００８８】
ｍλ/４×０．７＜ｎ1ｄ1＜ｍλ/４×１．３    数式（Ｉ）
【００８９】
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００９０】
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが望ましい。含フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．１５、水に対する接触角９０〜１２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の低屈折率層には膜強度向上のための無機フィラーを用いることもできる。
【００９１】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００９２】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００９３】
架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【００９４】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。
【００９５】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【００９６】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０mol%の場合である。
【００９７】
また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号に記載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０.５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。
【００９８】
防汚性付与に対しては上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン（例えばKF-100T,X-22-169AS,KF-102,X-22-3701IE,X-22-164B,X-22-5002,X-22-173B,X-22-174D,X-22-167B,X-22-161AS(以上商品名、信越化学工業社製)、AK-5,AK-30,AK-32（以上商品名、東亜合成社製）、サイラプレーンFM0725,サイラプレーンFM0721(以上商品名、チッソ社製)等）を添加する手段も好ましい。この際これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０.５〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００９９】
低屈折率層に用いられる無機フィラーとしては低屈折率のものが好ましく用いられ、好ましい無機フィラーは、シリカ、フッ化マグネシウムであり、特にシリカが好ましい。
該無機フィラーの平均粒径は０．００１〜０．２μｍであることが好ましく、０．００１〜０．０５μｍであることがより好ましい。フィラーの粒径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。
【０１００】
該無機フィラーは粒子径の異なる２種類のフィラーを併用してもよい。特に粒子径が０．０２〜０．０５μｍの無機フィラーと粒子径が０．０１μｍ以下の無機フィラーを併用することにより、反射率と耐擦傷性を両立させることができる。粒子径の異なる２種類の無機フィラーそれぞれの添加量の割合は、欲しい反射率と耐擦傷性のバランスにより０〜１の間を自由に変化させることが可能である。反射率を低減させたい場合には粒子径の小さな無機フィラーが大部分を占めることが好ましく、耐擦傷性を強化したい場合には粒子径の大きな無機フィラーの割合を上げていくことが好ましい。
該無機フィラーの添加量は、低屈折率層の全質量の５〜９０質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であると更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。
該無機フィラーは表面処理を施して用いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、本発明に係る前記一般式（Ａ）、（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含むアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。該無機フィラーがシリカの場合はシランカップリング処理が特に有効である。
本発明に係る前記一般式（Ａ）、（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いてもよいが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
【０１０１】
本発明に係るハードコート層、低屈折率層を形成するために用いる塗布液の溶媒組成としては、単独および混合のいずれでもよく、混合のときは、全溶媒中、沸点が１００℃以下の溶媒が５０〜１００質量％であることが好ましく、より好ましくは８０〜１００質量％、より好ましくは９０〜１００質量％、さらに好ましくは１００質量％である。沸点が１００℃以下の溶媒が少なすぎると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も悪化するおそれがあり好ましいものではない。本発明では、沸点が１００℃以下の溶媒を多く含む塗布液を用いる事により、この問題を解決することができる。
【０１０２】
沸点が１００℃以下の溶媒としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
【０１０３】
沸点が１００℃以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−４−ペンタノン（＝ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３）、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６）、ジメチルスルホキシド（１８９）、などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、である。
【０１０４】
本発明に係るハードコート層、低屈折率層成分を前述の組成の溶媒で希釈することにより、それらの層用塗布液が調製される。塗布液濃度は、塗布液の粘度、層素材の比重などを考慮して調節される事が好ましいが、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％である。
【０１０５】
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製  商品名ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、ＴＤ８０Ｕ、ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平７−１１０５５号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開昭６１−９４７２５号、特公昭６２−４３８４６号等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【０１０６】
上記のような、トリアセチルセルロースを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調製する場合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。
【０１０７】
第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
【０１０８】
第二の方法は、高温溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロースを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布できないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアセテートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
【０１０９】
本発明の反射防止フィルムは、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合には、十分に接着させるためには透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜（偏向膜）との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏光膜と接着させる際に偏光膜と反射防止フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２０゜以下である。
【０１１０】
アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で下記（１）が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、下記（２）が優れる。
（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止層を形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
【０１１１】
本発明の反射防止フィルムは、以下の方法で各層を透明支持体上に塗設し製造することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、ハードコート層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法が特に好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、防眩性ハードコート層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これによりハードコート層が形成される。
ここで、必要であればハードコート層を複数層とし、防眩性ハードコート層塗布の前に同様な方法で平滑なハードコート層塗布および硬化を行うことができる。
次に、同様にして低屈折率層を形成するための塗布液をハードコート層上に塗布し、光照射あるいは加熱し低屈折率層が形成される。このようにして、本発明の反射防止フィルムが得られる。
【０１１２】
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至含フッ素ポリマーを含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。
【０１１３】
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本/インチが好ましく、１００〜３００本/インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ/分であることが好ましく、１〜５０ｍ/分がより好ましい。
このようにして形成された本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が好ましくは３〜６０％、さらに好ましくは３〜５０％、より好ましくは４〜４５％の範囲にあり、そして４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長の光に対する平均反射率が好ましくは３．０％以下、さらに好ましくは２．２％以下、より好ましくは１．９％以下である。
本発明の反射防止フィルムが上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性および反射防止性が得られる。
【０１１４】
偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の反射防止フィルムは、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
【０１１５】
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。
【０１１６】
図２を用いて偏光膜の延伸方法について説明する。
【０１１７】
このような偏光膜の延伸方法は、原反フィルム、例えば、ポリビニルアルコールポリマーフィルム、を矢印（イ）方向に導入する（ａ）で示される工程、（ｂ）で示される幅方向延伸工程、及び延伸フィルムを次工程、即ち（ロ）方向に送る（ｃ）で示される工程を含む。以下「延伸工程」と称するときは、これらの（ａ）〜（ｃ）工程を含んで、延伸方法を行うための工程全体を指す。
フィルムは（イ）の方向から連続的に導入され、上流側から見て左側の保持手段２９にＢ１点で初めて保持される。この時点ではいま一方のフィルム端は保持されておらず、幅方向に張力は発生しない。つまり、Ｂ１点は実質的な保持開始点（以下、「実質保持開始点」という）には相当しない。
【０１１８】
実質保持開始点は、フィルム両端が初めて保持される点で定義される。実質保持開始点は、保持手段３０における保持開始点Ａ１と、Ａ１から導入側フィルム２５の中心線２１に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の軌跡２３と交わる点Ｃ１の２点で示される。
この点を起点とし、両端の保持手段を実質的に等速度で搬送すると、単位時間ごとにＡ１はＡ２，Ａ３...Ａｎと移動し、Ｃ１は同様にＣ２，Ｃ３...Ｃｎに移動する。つまり同時点に基準となる保持手段が通過する点ＡｎとＣｎを結ぶ直線が、その時点での延伸方向となる。
【０１１９】
この方法では、図２のようにＡｎはＣｎに対し次第に遅れてゆくため、延伸方向は、搬送方向垂直から徐々に傾斜していく。実質的な保持解除点（以下、「実質保持解除点」という）は、より上流で保持手段から離脱するＣｘ点と、Ｃｘから次工程へ送られるフィルム２６の中心線２２に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の軌跡２４と交わる点Ａｙの２点で定義される。
最終的なフィルムの延伸方向の角度は、実質的な延伸工程の終点（実質保持解除点）での左右保持手段の行程差であるＡｙとＡｘの距離と、実質保持解除点の距離Ｗ（ＣｘとＡｙの距離）との比率で決まる。従って、延伸方向が次工程への搬送方向（フィルム進行方向）に対しなす傾斜角δは
ｔａｎδ＝Ｗ／（ＡｙとＡｘの距離）、即ち、
ｔａｎδ＝Ｗ／｜Ｌ１−Ｌ２｜
を満たす角度である。ただし、ここでフィルムの一方端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡をＬ１とし、もう一端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡をＬ２とする。
図２の上側のフィルム端は、Ａｙ点の後も２８ａまで保持されるが、もう一端が保持されていないため新たな幅方向延伸は発生せず、２８ａは実質保持解除点ではない。
【０１２０】
以上のように、フィルムの両端にある実質保持開始点は、左右各々の保持手段への単純な噛み込み点ではない。二つの実質保持開始点は、上記で定義したことをより厳密に記述すれば、左右いずれかの保持点と他の保持点とを結ぶ直線がフィルムを保持する工程に導入されるフィルムの中心線と略直交している点であり、かつこれらの二つの保持点が最も上流に位置するものとして定義される。
同様に、二つの実質保持解除点は、左右いずれかの保持点と他の保持点とを結ぶ直線が、次工程に送りだされるフィルムの中心線と略直交している点であり、しかもこれら二つの保持点が最も下流に位置するものとして定義される。
ここで、略直交とは、フィルムの中心線と左右の実質保持開始点、あるいは実質保持解除点を結ぶ直線が、９０±０．５゜であることを意味する。
【０１２１】
テンター方式の延伸機を用いて左右の行程差を付けようとする場合、レール長などの機械的制約により、しばしば保持手段への噛み込み点と実質保持開始点に大きなずれが生じたり、保持手段からの離脱点と実質保持解除点に大きなずれが生ずることがあるが、上記定義する実質保持開始点と実質保持解除点間の工程が下記式（１）の関係を満たしていればよい。
式（１）  ｜Ｌ２−Ｌ１｜＞０．４Ｗ
【０１２２】
上記において、得られる延伸フィルムにおける配向軸の傾斜角度は、（ｃ）工程の出口幅Ｗと、左右の二つの実質的フィルム保持手段の行程差｜Ｌ１−Ｌ２｜の比率で制御、調整することができる。
長手方向に対し、４５゜に近い配向角を得るためには、下記式（２）を満たすことが好ましく、
式（２）  ０．９Ｗ＜｜Ｌ１−Ｌ２｜＜１．１Ｗ
さらに好ましくは、下記式（３）を満たすことが好ましい。
式（３）  ０．９７Ｗ＜｜Ｌ１−Ｌ２｜＜１．０３Ｗ
【０１２３】
延伸工程へのフィルム導入方向（イ）と、次工程へのフィルム搬送方向（ロ）のなす角度は、任意の数値が可能であるが、延伸前後の工程を含めた設備の総設置面積を最小にする観点からは、この角度は小さい方がよく、３゜以内が好ましく、０．５゜以内がさらに好ましい。延伸率は１．１〜１０．０倍が望ましく、より望ましくは２〜１０倍であり、その後の収縮率は１０％以上が望ましい。
【０１２４】
また、延伸工程の設備コストを最小に抑える観点から、保持手段の軌跡の屈曲回数、屈曲角度は小さい程良い。この観点からは、図２に例示する如くフィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向をフィルム両端を保持させた状態で屈曲させることが好ましい。特に４５°傾斜する（±０°）ような延伸方法が好ましい。
【０１２５】
テンター型の延伸機の場合、クリップが固定されたチェーンがレールに沿って進む構造が多いが、本発明のように左右不均等な延伸方法をとると、結果的に図２に例示される如く、工程入口、出口でレールの終端がずれ、左右同時に噛み込み、離脱をしなくなることがある。この場合、実質工程長Ｌ１，Ｌ２は、上に述べたように単純な噛み込み−離脱間の距離ではなく、既に述べたように、あくまでフィルムの両端を保持手段が保持している部分の行程長である。
【０１２６】
延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生するため、左右のフィルム把持手段の搬送速度差は、実質的に同速度であることが求められる。速度差は好ましくは１％以下であり、さらに好ましくは０．５％未満であり、最も好ましくは０．０５％未満である。ここで述べる速度とは、毎分当たりに左右各々の保持手段が進む軌跡の長さのことである。一般的なテンター延伸機等では、チェーンを駆動するスプロケット歯の周期、駆動モータの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数％のムラを生ずるが、これらは本発明で述べる速度差には該当しない。
【０１２７】
また、左右の行程差が生じるに従って、フィルムにシワ、寄り、延伸軸のばらつきが発生する。この問題を解決するためには、ポリマーフィルムの支持性を保ち、揮発分率が１０％以上の状態を存在させて延伸し、その後収縮させ揮発分率を低下させる。揮発分率とは、フィルムの単位体積あたりに含まれる揮発成分の体積を表し、揮発成分体積をフィルム体積で割った値である。揮発分を含有させる方法としては、フィルムをキャストし溶剤・水を含有させる、延伸前に溶剤・水などに浸漬・塗布・噴霧する、延伸中に溶剤・水を塗布することなどが上げられる。ポリビニルアルコールポリマーフィルムは、高温高湿雰囲気下で水を含有するので、高湿雰囲気下で調湿後延伸、もしくは高湿条件下で延伸することにより揮発分を含有させることができる。これらの方法以外でも、ポリマーフィルムの揮発分を１０％以上にさせることができれば、いかなる手段を用いても良い。
好ましい揮発分率は、ポリビニルアルコールでは揮発分率として１０％〜１００％が好ましい。
【０１２８】
また、延伸ポリマーフィルムの収縮は、延伸時、延伸後のいずれの工程でも行って良い。収縮により、斜め方向に配向する際の発生するポリマーフィルムのシワおよび延伸軸のばらつきが解消すればよく、フィルムを収縮させる手段としては、加熱することにより揮発分を除去する方法などが挙げられるが、フィルムを収縮させればいかなる手段を用いても良い。好ましいフィルムの収縮率としては、長手方向に対する配向角δを用いて、１／ｓｉｎδ倍以上収縮することで、値としては１０％以上収縮することが好ましい。
【０１２９】
斜め方向に配向する際に発生するポリマーフィルムのシワは、実質保持解除点までに消失していればよい。しかし、シワの発生から消失までに時間がかかると、延伸方向のばらつきが生じることがあり、好ましくは、シワが発生した地点からできるだけ短い移行距離でシワが消失することが良い。このためには、揮発分量の揮発速度を高くするなどの方法がある。
【０１３０】
長尺、特にロール形態の偏光膜を一貫工程にて作製する場合には、染色のムラや抜けがないことが必要である。延伸前のフィルム中の揮発成分に分布のムラ（フィルム面内の場所による揮発成分量の差異）があると染色ムラ、抜けの原因となる。従って、延伸前のフィルム中の揮発分成分の含有分布（揮発分率分布）は小さいほうが好ましく、少なくとも５％以下であることが好ましい。揮発分率とは、フィルムの単位体積あたりに含まれる揮発成分の体積をあらわし、揮発成分体積をフィルム体積で割った値であり、その分布すなわち揮発分率分布とは、揮発分率の１ｍ2あたりの変動幅（平均揮発分率に対する、最大値または最小値と該平均揮発分率との差の大きい方の比）を表す。揮発分成分の含有分布を小さくする方法として、フィルムの表裏表面を均一なエアーでブローする、ニップローラーにて均一に絞る、ワイパーなどで拭き取るなどが上げられるが、分布が均一になればいかなる方法を用いても良い。
【０１３１】
本発明の反射防止フィルムおよびこの反射防止フィルムを低屈折率層が最表面になるように配置して用いた前記本発明の偏光板は、ディスプレイ装置、例えば液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。本発明の偏光板の場合は、低屈折率層がディスプレイ装置の最表面になるようにディスプレイ装置の表示面に接着して用いられる。
【０１３２】
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、 ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）、電界制御複屈折（Electrically Controlled Birefigence（ＥＣＢ））等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【０１３３】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１３４】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１３５】
ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。
【０１３６】
特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開2001-100043等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表２枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。
【実施例】
【０１３７】
以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１３８】
【化１１】
2004170901.tif 000012
【０１３９】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ２であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ２に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ-ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０１４０】
（パーフルオロオレフィン共重合体（２）の合成）
【０１４１】
【化１２】
2004170901.tif 000013
【０１４２】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル３０ｍｌ、グリシジルビニルエーテル１１．５ｇおよび過酸化ジラウロイル０．４２ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２１ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は６．２ｋｇ／ｃｍ２であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．６ｋｇ／ｃｍ２に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後パーフルオロオレフィン共重合体（２）を２１ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１.４２４であった。
【０１４３】
（ゾル液a-1の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３（商品名）；信越化学工業社製）１６１質量部、シュウ酸  １２３質量部、エタノール４１５質量部を加え混合したのち、７０℃で４時間反応させた後、室温まで冷却し、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-1を得た。重量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１４４】
（ゾル液a-2の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２９．５質量部、エタノール  ６２．５質量部、イオン交換水  ３．４質量部、２モル／ｌ塩酸  ３質量部を加え混合したのち、４０℃で３時間反応させた後室温まで冷却し、エタノールを３０質量部加え、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-2を得た。重量平均分子量は１３００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１４５】
（ゾル液a-3の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２９．５質量部、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）６２．５質量部、イオン交換水  ６．３質量部、２モル／ｌ塩酸  ６質量部を加え混合したのち、４０℃で３時間反応させた後室温まで冷却し、ＭＥＫ  ２４質量部を加え、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-3を得た。重量平均分子量は１１００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１４６】
（ゾル液a-4の調製）
オルガノシランのゾル組成物a-2の調製において、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２９．５質量部を３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１９．５質量部と３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１０．０質量部の混合物に変更する以外はオルガノシランのゾル組成物a-2の調製と同様の操作で、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-4を得た。重量平均分子量は１４００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のオルガノシランは全く残存していなかった。
【０１４７】
（ゾル液a-5の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１６１質量部、シュウ酸  ８０質量部、エタノール４１５質量部を加え混合したのち、７０℃で４時間反応させた後室温まで冷却し、エタノール４３質量部加え、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-5を得た。重量平均分子量は１４００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１４８】
（ゾル液a-6の調製）
ゾル液a-5の調製において、シュウ酸をマロン酸に換えた他は、ゾル液a-5の調製と同様にして、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-6を得た。重量平均分子量は１３００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１４９】
（ゾル液a-7の調製）
ゾル液a-1の調製において、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１６１質量部を３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン４６質量部、３−アセトキシプロピルトリメトキシシラン１１５質量部に換えた他は、ゾル液a-1の調製と同様にして、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-7を得た。重量平均分子量は１３００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アセトキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１５０】
（ゾル液a-8の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２９．５質量部、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）６２．５質量部、イオン交換水  ６．３質量部、２モル／ｌ塩酸  ６質量部を加え混合したのち、４０℃で３時間反応させた後室温まで冷却し、ＭＥＫ  ２４質量部を加え、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液a-8を得た。重量平均分子量は１１００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１５１】
（ゾル液b-1の調製）
ゾル液a-1の調製において、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランをメチルトリメトキシシランに換えた他は、ゾル液a-1の調製と同様にして、ゲル分を含む白濁のゾル液b-1を得た。ゲル分を含むために、ＧＰＣ分析は出来なかった。
【０１５２】
（ゾル液b-2の調製）
ゾル液a-1の調製において、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを３−アセトキシプロピルトリメトキシシランに換えた他は、ゾル液a-1の調製と同様にして透明なゾル液b-2を得た。重量平均分子量は１４００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−アセトキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１５３】
（ゾル液c-1の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート６質量部、ｉ−プロパノール１２質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、アセチルアセトン６質量部を添加し、ゾル液c-1を得た。
【０１５４】
（ゾル液c-2の調製）
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランに変更する以外はゾル液c-1の調製と同様の操作でゾル液c-2を得た。
【０１５５】
（ゾル液c-3の調製）
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランに変更する以外はゾル液c-1の調製と同様の操作でゾル液c-3を得た。
【０１５６】
（ハードコート層用塗布液Ａの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、商品名、日本化薬（株）製）１５０ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２０６ｇに溶解した。得られた溶液に、シリカゾル３０％メチルエチルケトン分散物（ＭＥＫ−ＳＴ、商品名、日産化学社製、平均粒径約１５ｎｍ）３３３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、商品名、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。
【０１５７】
（ハードコート層用塗布液Ｂの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６、商品名、ＪＳＲ社製、固形分濃度７２％、シリカ含率３８％、平均粒径約２０ｎｍ）３４７ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４０３ｇで希釈した。
【０１５８】
（ハードコート層用塗布液Ｃの調製）
市販アルミナ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６（商品名、ＪＳＲ社製）の含有無機微粒子変更品、固形分濃度５０％、アルミナ含率５０％、平均粒径約２０ｎｍ）５００ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２５０ｇで希釈した。
【０１５９】
（ハードコート層用塗布液Ｄの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４３９ｇに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。
【０１６０】
（ハードコート層用塗布液Ｅの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６、ＪＳＲ社製、固形分濃度７２％、シリカ含率３８％、平均粒径約２０ｎｍ）４５０ｇにa-1を３６ｇ加え、この液をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２６４ｇで希釈した。
【０１６１】
（ハードコート層用塗布液Ｆの調製）
市販アルミナ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６（商品名、ＪＳＲ社製）の含有無機微粒子変更品、固形分濃度５０％、アルミナ含率５０％、平均粒径約２０ｎｍ）３７５ｇにa-1を４７ｇ加え、この液をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒３２８ｇで希釈した。
【０１６２】
（ハードコート層用塗布液Ｇの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１３５ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒１９６ｇに溶解した。得られた溶液に、シリカゾル３０％メチルエチルケトン分散物（ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学社製、平均粒径約１５ｎｍ）３００ｇ、a-1を２５ｇ加え、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを８２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。
【０１６３】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ａの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、商品名、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）２７８ｇにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１１７ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒３５５ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液Ａを調製した。
【０１６４】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）５２１ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２２９ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．７３であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍのベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子（商品名：エポスターＭＳ、日本触媒（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液Ｂを調製した。
【０１６５】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｃの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、商品名、住友精化（株）製）７５ｇ、平均粒径３３ｎｍのアルミナ粒子（シーアイ化成社製）１００ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを６１ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗布液Ｃを調製した。
【０１６６】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｄの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）７５ｇ、平均粒径３３ｎｍのアルミナ粒子（シーアイ化成社製）１００ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、a-1の２８．７ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを３３ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗布液Ｄを調製した。
【０１６７】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｅの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗布液Ｅを調製した。
【０１６８】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｆの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）１９５ｇにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８２ｇ、a-1 ２５．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒３６８ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５９であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液Ｆを調製した。
【０１６９】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｇの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）２５０ｇにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１０５ｇ、a-1  ２５．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒３８４ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液Ｇを調製した。
【０１７０】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｈの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液Ｇのa-1を、a-2に変更した以外は、添加量も含め上記塗布液Ｇと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液Ｈを調製した。
【０１７１】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｉの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液Ｇのa-1を、a-3に変更した以外は、添加量も含め上記塗布液Ｇと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液Ｉを調製した。
【０１７２】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｊの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液Ｇのa-1を、a-4に変更した以外は、添加量も含め上記塗布液Ｇと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液Ｊを調製した。
【０１７３】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｋの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）９１ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２１８ｇを、５２ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０質量パーセントの含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７６、商品名、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０１７４】
さらにこの溶液に個数平均粒径１．９９μｍ、粒径の標準偏差０．３２μｍ（個数平均粒径の１６％）の架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを８０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルター（それぞれ商品名、ＰＰＥ-１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にてろ過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層塗布液Ｋを調製した。
【０１７５】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｌの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８２ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）１９６ｇ、a-1  ２０．７ｇ、を、６４．５ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０質量パーセントの含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７６、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に個数平均粒径１．９９μｍ、粒径の標準偏差０．３２μｍ（個数平均粒径の１６％）の架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを８０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルター（それぞれＰＰＥ-１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にてろ過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層塗布液Ｌを調製した。
【０１７６】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｍの調製）
フッ素系界面活性剤をシリコーン系界面活性剤（シリコーンＸ−２２−９４５、商品名、信越化学工業（株）製）に置き換えた以外は防眩性ハードコート層塗布液Ｋと同様にして、防眩層用塗布液Ｍを調製した。
【０１７７】
（防眩性ハードコート層用塗布液Ｎの調製）
フッ素系界面活性剤をシリコーン系界面活性剤（シリコーンＸ−２２−９４５、信越化学工業（株）製）に置き換えた以外は防眩性ハードコート層塗布液Ｌと同様にして、防眩層用塗布液Ｎを調製した。
【０１７８】
（防眩性ハードコート層用塗布液１イの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６（商品名、ＪＳＲ社製）の溶剤組成変更品、固形分濃度約７２％、固形分中ＳｉＯ2含率約３８％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２７２ｇをメチルイソブチルケトン２６．２ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液に平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−３５０Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を４４ｇ加え、次いで、平均粒径５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−５００Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を５７．８ｇ加えた。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液１イを調製した。
【０１７９】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ロの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６（商品名、ＪＳＲ社製）の溶剤組成変更品、固形分濃度７２％、固形分中ＳｉＯ2含率約３８％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２４５ｇにa-1  １９．６ｇを加え、さらにメチルイソブチルケトン３３．６ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液に平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−３５０Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を４４ｇ加え、次いで、平均粒径５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−５００Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を５７．８ｇ加えた。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液１ロを調製した。
【０１８０】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ハの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１ロのa-1を、a-2に変更した以外は、添加量も含め塗布液１ロと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１ハを調製した。
【０１８１】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ニの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１ロのa-1を、a-4に変更した以外は、添加量も含め塗布液１ロと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１ニを調製した。
【０１８２】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ホの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１ロのa-1を、a-3に変更した以外は、添加量も含め塗布液１ロと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１ホを調製した。
【０１８３】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ヘの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６（商品名、ＪＳＲ社製）の溶剤組成変更品、固形分濃度約７２％、固形分中ＳｉＯ2含率約３８％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２７２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）９１ｇ、オルガノシランのゾル組成物a-1を１９．６ｇ加え、さらにメチルイソブチルケトン２６．２ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２であった。
さらにこの溶液に平均粒径３．５μｍの分級強化架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸＳ−３５０Ｈ、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した分散液を４４ｇ加え、次いで、平均粒径５μｍの分級強化架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸＳ−５００Ｈ、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を５７．８ｇ加えた。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液１ヘを調製した。
【０１８４】
（防眩性ハードコート層用塗布液１トの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０４（商品名）、ＪＳＲ社製、固形分濃度約６１．２％、固形分中ＺｒＯ2含率約６９．６％、重合性モノマー、重合開始剤含有）９５．２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２８．８ｇ、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３（商品名）；信越化学工業社製）９．６ｇを加え、さらにメチルイソブチルケトン２０．１ｇ、メチルエチルケトン５．４ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６２であった。
さらにこの溶液に平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（商品名：シーホスターＫＥ−Ｐ１５０、日本触媒（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した分散液を２９．５ｇ加え、次いで、平均粒径３μｍの分級強化架橋ポリメタクリル酸メチル粒子（商品名：ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散し、１週間経時させた分散液を１１．３ｇ加えた。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液１トを調製した。
【０１８５】
（防眩性ハードコート層用塗布液１チの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１トの３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン９．６ｇをa-1  ５．０ｇに変更した以外は、添加量も含め塗布液１トと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１チを調製した。
【０１８６】
（防眩性ハードコート層用塗布液１リの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１チのa-1を、a-8に変更した以外は、添加量も含め塗布液１トと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１リを調製した。
【０１８７】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ヌの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１チのa-1を、c-1に変更した以外は、添加量も含め塗布液１トと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１ヌを調製した。
【０１８８】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ルの調製）
ＥＯ付きトリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ビスコート＃３６０、大阪有機化学工業製）８０ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（商品名：ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２１ｇと市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ社製、固形分濃度６１％、固形分中ジルコニア含率６８％、平均粒径２０ｎｍ、重合性モノマー、重合開始剤含有）３２７ｇにメチルイソブチルケトン１６．０ｇ、メチルエチルケトン１９．８ｇを加え、混合撹拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．７０であった。
さらにこの溶液に平均粒径３μｍの分級強化架橋ポリメタクリル酸メチル粒子（商品名：ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を３０．４ｇ加え、次いで、平均粒径５μｍの分級強化架橋ポリメタクリル酸メチル粒子（商品名：ＭＸＳ−５００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した分散液を４８．５ｇ加えた。最後にオルガノシランのゾル組成物a-1を９．８ｇ添加した後、ディスパーにて２０分撹拌し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液１ルを調製した。
【０１８９】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ヲの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１ルのa-1を、a-8に変更した以外は、添加量も含め塗布液１ルと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１ヲを調製した。
【０１９０】
（防眩性ハードコート層用塗布液１ワの調製）
ＥＯ付きトリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ビスコート＃３６０、大阪有機化学工業製）１２７ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（商品名：ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７６．４ｇを加え、さらに重合開始剤イルガキュア１８４（商品名、チバファインケミカルズ（株））１０．８ｇを添加し、混合撹拌した。これにメチルイソブチルケトン６０．０ｇ、メチルエチルケトン３３．０ｇを加え、撹拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５３であった。
さらにこの溶液に平均粒径５μｍの分級強化架橋ポリメタクリル酸メチル粒子（商品名：ＭＸＳ−５００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した分散液を１０２ｇ加え、次いで、平均粒径２．５μｍのシリカ粒子（商品名：シーホスターＫＥ−Ｐ２５０、日本触媒（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を９５ｇ加えた。最後にオルガノシランのゾル組成物a-1を６．１ｇ添加した後、ディスパーにて２０分撹拌し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液１ワを調製した。
【０１９１】
（防眩性ハードコート層用塗布液１カの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液１ワのa-1を、a-8に変更した以外は、添加量も含め塗布液１ワと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液１カを調製した。
【０１９２】
（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、商品名、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）１５．２ｇおよびメチルエチルケトン１１６ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０１９３】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．２ｇに反応性シリコーンＸ-22-164B（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバガイギー社製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン２９３ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０１９４】
（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（2）の１５．２ｇに反応性シリコーンX-22-169AS（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、光重合開始剤（ＵＶＩ６９９０、商品名、ユニオンカーバイド社製）１．５２ｇ、メチルエチルケトン２９３ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｃを調製した。
【０１９５】
（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）１５．２ｇ、a-1  ７．３ｇおよびメチルエチルケトン９０ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｄを調製した。
【０１９６】
（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｄのa-1を、a-2に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｄと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｅを調製した。
【０１９７】
（低屈折率層用塗布液Ｆの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｄのa-1を、a-3に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｄと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｆを調製した。
【０１９８】
（低屈折率層用塗布液Ｇの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｄのa-1を、a-4に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｄと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｇを調製した。
【０１９９】
（低屈折率層用塗布液Ｈの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．２ｇに反応性シリコーンＸ-22-164B（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、a-1 ７．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバガイギー社製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｈを調製した。
【０２００】
（低屈折率層用塗布液Ｉの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（2）の１５．２ｇに反応性シリコーンX-22-169AS（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、a-２ ７．３ｇ、光重合開始剤（ＵＶＩ６９９０、ユニオンカーバイド社製）１．５２ｇ、メチルエチルケトン２８８ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｉを調製した。
【０２０１】
（低屈折率層用塗布液Ｊの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｈのa-1を、a-8に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｈと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｊを調製した。
【０２０２】
（低屈折率層用塗布液Ｋの調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、商品名、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）６．９ｇ、粒径違いのシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径約５０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）８．３ｇ、a-1  ７．３ｇおよびメチルエチルケトン９０ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｋを調製した。
【０２０３】
（低屈折率層用塗布液Ｌの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｋのa-1を、a-8に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｋと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｌを調製した。
【０２０４】
（低屈折率層用塗布液Ｍの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｋのa-1を、c-1に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｋと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｍを調製した。
【０２０５】
（低屈折率層用塗布液Ｎの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｋのa-1を、c-2に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｋと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｎを調製した。
【０２０６】
（低屈折率層用塗布液Ｏの調製）
上記、低屈折率層用塗布液Ｋのa-1を、c-3に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液Ｋと全く同様にして、低屈折率層用塗布液Ｏを調製した。
上記低屈折率層用塗布液Ａ〜Ｏにより形成された低屈折率層は、いずれも屈折率は１．３８〜１．４９の範囲であった。
【０２０７】
実施例１
ハードコート層Ａ〜Ｇ、防眩性ハードコート層Ａ〜Ｎ、低屈折率層Ａ〜Ｉそれぞれを以下のようにして塗布し、反射防止フィルム試料を得た。積層の組み合わせは表１、表２に記載のとおりに行った。
（１）ハードコート層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記のハードコート層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃、２分で乾燥の後、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍのハードコート層を形成し、巻き取った。
【０２０８】
（２）防眩性ハードコート層の塗設
該ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記の防眩性ハードコート層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度５ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で４分乾燥の後、窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．５〜４．５μｍの防眩性ハードコート層を形成し、巻き取った。
【０２０９】
（３）低屈折率層の塗設
該ハードコート層と防眩性ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、８０℃で２分乾燥の後、さらに窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、１２０℃で２．５分乾燥の後、さらに１４０℃で１０〜２０分乾燥させて、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。
【０２１０】
【表１】
2004170901.tif 000014
【０２１１】
【表２】
2004170901.tif 000015
【０２１２】
上記試料の中から抜粋した試料について防眩性ハードコート層まで塗布した試料について、表面エネルギーと、Ｘ線光電子部分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピーク比Ｆ／Ｃと、シリコン原子由来のピークと炭素原子由来のピーク比Ｓｉ／Ｃを以下に示す。なお、防眩性ハードコート層の表面エネルギーは、純水およびジヨードメタンの接触角を測定してＯｗｅｎｓの表面エネルギーの式に代入して算出した。
試料１１６：表面エネルギー  ２２ｍＮ・ｍ-1、 Ｆ／Ｃ  ０．５３
試料１４３：表面エネルギー  ３１ｍＮ・ｍ-1、 Ｆ／Ｃ  ０．２８
試料１４４：表面エネルギー  ３３ｍＮ・ｍ-1、 Ｆ／Ｃ  ０．２７
試料１４５：表面エネルギー  ２９ｍＮ・ｍ-1、 Ｓｉ／Ｃ  ０．１２
試料１４６：表面エネルギー  ３０ｍＮ・ｍ-1、 Ｓｉ／Ｃ  ０．１１
【０２１３】
（反射防止フィルムの評価）
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。
（１）平均反射率
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を用いた。
（２）ヘイズ
得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ  １００１ＤＰ（商品名、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
（３）鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて試験し、以下の基準で評価した。
ｎ＝５の評価において傷が全く認められない    ：○
ｎ＝５の評価において傷が１または２つ        ：△
ｎ＝５の評価において傷が３つ以上            ：×
（４）接触角、指紋付着性評価
表面の耐汚染性の指標として、反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させてから、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状態を目視にて観察して、以下のように指紋付着性を評価した。
指紋が完全に拭き取れる                      ：○
指紋がやや見える                            ：△
指紋がほとんど拭き取れない                  ：×
【０２１４】
（５）動摩擦係数測定
表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ−１４（商品名）動摩擦測定機により５ｍｍステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用いた。
（６）防眩性評価
作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない                ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる                ：○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる      ：△
蛍光灯がほとんどぼけない                    ：×
（７）ギラツキ評価
作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。
ほとんどギラツキが見られない                ：○
わずかにギラツキがある                      ：△
目で識別できるサイズのギラツキがある        ：×
【０２１５】
（８）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
試料調湿条件：  ２５℃、６０％RH、２時間以上。
こすり材：  試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール製、ゲレードNo.００００）を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、    こすり速度：１３ｃｍ／秒、    荷重：２００ｇ／ｃｍ2、  先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、    こすり回数：２０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。    ：  ◎
非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。  ：  ○
弱い傷が見える。                            ：  ○△
中程度の傷が見える。                        ：  △
一目見ただけで強い傷が見える。              ：  ×
【０２１６】
（９）水綿棒こすり耐性評価
ラビングテスターのこすり先端部に綿棒を固定し、平滑皿中で試料の上下をクリップで固定し、室温２５℃で、試料と綿棒を２５℃の水に浸し、綿棒に５００ｇの荷重をかけて、こすり回数を変えてこすりテストを行った。こすり条件は以下のとおり。
こすり距離（片道）：１ｃｍ、    こすり速度：約２往復／秒
こすり終えた試料を観察して、膜剥がれが起こった回数で、こすり耐性を以下のように評価した。
０〜１０往復で膜剥がれ                      ×
１０往復を超え、３０往復までで膜剥がれ      ×△
３０往復を超え、５０往復までで膜剥がれ      △
５０往復を超え、１００往復までで膜剥がれ    ○△
１００往復を超え、１５０往復までで膜剥がれ  ○
１５０往復を超えても膜剥がれなし            ◎
【０２１７】
（１０）塗布面状ムラ
塗布面側を上にして、裏面側から上記蛍光灯を照射して、透過目視面検にてハジキ、ブツ等の点欠陥、塗布ムラ、乾燥ムラ等の面状ムラの発生頻度について、１０ｍ2だけ検査し、その値を１０で割って１ｍ2当たりの面状ムラの数を算出した。
【０２１８】
上記試料中の本発明の全試料において、指紋付着性は○で、防眩性は◎で、ギラツキは○であり、反射防止性能と鉛筆硬度も防眩性反射防止フィルムに必要とされる性能レベルを越えていた。
また試料１１６、１４３〜１４６について面状ムラの数を数えた。
試料１１６          ９個／ｍ2
試料１４３          ３個／ｍ2
試料１４４          ０個／ｍ2
試料１４５          ３個／ｍ2
試料１４６          １個／ｍ2
その結果、防眩性ハードコート層にフッ素系界面活性剤を含有することにより塗布面状ムラ低減効果が確認された。
その他の評価結果について表３，４に示す。
本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２は、比較例試料１０１〜１０３、１０５、１１１、１１３、１１５〜１１８、１２２、１２３、１４３、１４５、１５０に比べて、スチールウール耐傷性と綿棒こすり性能が優れていることが分かる。特に、防眩性ハードコート層と低屈折率層の両層に本発明の化合物を含有した系が耐傷性能に優れることが分かる。これらの効果は本発明のシラン系化合物の含有によることが明らかである。
【０２１９】
【表３】
2004170901.tif 000016
【０２２０】
【表４】
2004170901.tif 000017
【０２２１】
次に、本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２のフィルムを偏光板における偏光層の保護フィルムとして用いて防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
さらに同様にして、上記本発明の試料を偏光子、透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィルム、並びに光散乱層からなる偏光板と組み合わせて液晶表示装置を作製して視認性を評価したところ、外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた性能を有していた。
【０２２２】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
前記試料１０１〜１５２について、以下の処理を行った。
１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５０℃に保温した。０．００５モル／Ｌの希硫酸水溶液を調製した。
作製した反射防止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。さらに反射防止フィルムを１００℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。
【０２２３】
（１１）鹸化処理による膜の剥がれの評価
鹸化処理過程での膜の剥がれ評価した。１００枚の反射防止フィルムを鹸化処理した。鹸化処理前と鹸化処理後における膜の剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：１００枚全てにおいて剥がれが全く認められなかったもの
△：剥がれが認められたものが５枚以内のもの
×：剥がれが認められたものが５枚をこえたもの
（１２）碁盤目密着の評価
偏光板用保護フィルム（反射防止フィルム）を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面において、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れ、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）における密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。膜の剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：１００枡において剥がれが全く認められなかったもの
△：剥がれが認められたものが２枡以内のもの
×：剥がれが認められたものが２枡をこえたもの
【０２２４】
鹸化処理を行った、剥がれ、密着評価結果について記す。
本発明のいずれの試料においても、鹸化処理による膜の剥がれの評価は○であり、および碁盤目密着の評価も○でありいずれの評価試験も膜の剥がれは、観察されなかった。
また、本発明の試料について、防眩性ハードコート層および低屈折率層とは支持体を挟んだ反対側面の水に対する接触角を測定したところ、いずれの試料においても４０°〜３０°の範囲に入っていた。
【０２２５】
実施例２
防眩性ハードコート層用塗布液１イ〜１カ、低屈折率層用塗布液Ａ〜Ｏを実施例１と同様にして塗布した。積層の組み合わせは表５に記載のとおりにおこなった。
【０２２６】
【表５】
2004170901.tif 000018
【０２２７】
（反射防止膜の評価）
得られた試料２０１〜２５１について、実施例１と同様の評価を行った。
本発明の試料２０２〜２５１について、いずれの試料においても、指紋付着性は○で、防眩性は○で、ギラツキは◎であり、反射防止性能と鉛筆硬度も防眩性反射防止フィルムに必要とされる性能レベルを越えていた。
その他の評価結果について表６に示す。
本発明の試料２０２〜２５１は、比較例試料２０１に比べて、実施例１と同様に、スチールウール耐傷性と綿棒こすり耐性が優れていることが分かる。特に、防眩性ハードコート層と低屈折率層の両層に本発明の化合物を含有した系が耐傷性能に優れることが分かる。これらの効果は本発明のシラン系化合物の含有によることが明らかである。
【０２２８】
【表６】
2004170901.tif 000019
【０２２９】
次に、実施例１と同様にして、本発明の試料２０２〜２５１のフィルムを用いて防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作成したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
さらに同様にして、上記本発明の試料を偏光子の片側に貼合し、反対側に透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィルムを貼合した楕円偏光板を用いて液晶表示装置を作製して視認性を評価したところ、外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた性能を有していた。
【０２３０】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
前記試料２０２〜２５１について、実施例１と同様の鹸化処理を行った。
鹸化処理を行った試料２０２〜２５１について、実施例１と同様の鹸化処理による膜の剥がれ、碁盤目密着の評価を行った。
その結果、いずれの試料においても、鹸化処理による膜の剥がれ、および碁盤目密着の剥がれは、観察されなかった。
また、本発明の試料２０２〜２５１について、防眩性ハードコート層および低屈折率層とは支持体を挟んだ反対側面の水に対する接触角を測定したところ、いずれの試料においても４０°〜３０°の範囲に入っていた。
【０２３１】
実施例３
ＰＶＡフィルムをヨウ素２．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム４．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて２４０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて６０秒浸漬後、図２の形態のテンター延伸機に（イ）から導入し、５．３倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し図２の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。８０℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、０．０５％未満であり、導入されるフィルムの中心線２１と次工程に送られるフィルムの中心線２２のなす角は、４６゜であった。ここで｜Ｌ１−Ｌ２｜は０．７ｍ、Ｗは０．７ｍであり、｜Ｌ１−Ｌ２｜＝Ｗの関係にあった。テンター出口における実質延伸方向Ａｘ−Ｃｘは、次工程へ送られるフィルムの中心線２２に対し４５゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
さらに、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ（商品名））３％水溶液を接着剤としてケン化処理したトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）と貼り合わせ、さらに８０℃で乾燥して有効幅６５０ｍｍの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し４５゜傾斜していた。この偏光板の５５０ｎｍにおける透過率は４３．７％、偏光度は９９．９７％であった。さらに図３の如く３１０×２３３ｍｍサイズに裁断したところ、９１．５％の面積効率で辺に対し４５゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。図３中、８１は吸収軸（延伸軸）を８２は長手方向を示す。
次に、実施例１の本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２および実施例２の本発明の試料２０２〜２５１の鹸化処理したフィルムを上記偏光板と貼り合わせて防眩性反射防止フィルム付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
【０２３２】
実施例４
上記実施例３の４５°吸収軸が傾斜した偏光板作製の中の、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）の代わりに実施例１の本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２および実施例２の本発明の試料２０２〜２５１の鹸化処理したフィルムを張り合わせて防眩性反射防止フィルム付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、実施例３同様に、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
【０２３３】
実施例５
実施例１で作製した本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２および実施例２の本発明の試料２０２〜２５１を、１．５モル／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムにポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止フィルムの低屈折率層側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３M（株）製のＤ−ＢＥＦ（商品名）をバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０２３４】
実施例６
実施例１で作製した本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２および実施例２の本発明の試料２０２〜２５１を、低屈折率層が最表層になるように貼りつけた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルム Ａ １２Ｂ、商品名、富士写真フイルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【０２３５】
実施例７
実施例１で作製した本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２および実施例２の本発明の試料２０２〜２５１を、低屈折率層が最表層になるように有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【０２３６】
実施例８
実施例１で作製した本発明の試料１０４、１０６〜１１０、１１２、１１４、１１９〜１２１、１２４〜１４２、１４４、１４６〜１４９、１５１、１５２および実施例２の本発明の試料２０２〜２５１を用いて、低屈折率層が最表層になるように片面反射防止フィルム付き偏光板を作製した。この偏光板の反射防止フィルムを有している側の反対面にλ／４板（ピュアエースＷＲ、商品名、帝人製）を張り合わせて、得られた偏光板を低屈折率層が最表層になるように有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。
【０２３７】
実施例９
ゾル液a-1〜a-7及びb-１について、それぞれ１０ｇを２０ｍＬ容量のサンプルビンに入れ、４０℃で２ヶ月保管した。本発明に好ましく使用されるオルガノシランのゾル組成物a-1〜a-7は粘度の変化が殆どなく沈殿のない透明液のままであったのに対し、ゾル組成物b-１は全体がゲル化し、液の保存安定性が悪いことが判った。
【０２３８】
実施例１０
シリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）４０質量部、モノマー（KAYARAD DPCA-60（商品名）、日本化薬（株）製）２０質量部、ゾル液（ゾル液a-1〜a-8、b-1〜b-2、及びc-1〜c-3のいずれか）２０質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）２質量部、および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．２質量部とを混合し、ワイヤーバー塗布にてガラス板上に乾燥膜厚２０μｍとなるように塗布した。
５０℃、５分乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度８００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。
得られた試料について、以下の項目の評価を行った。
【０２３９】
（１）透明性
膜が透明なものを○、濁りがあるものを×とした。
（２）密着
クロスカット法により、剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：剥がれが殆ど認められなかったもの
△：１０％以上剥がれが認められたもの
×：５０％剥がれが認められたもの
評価結果について表７に示す。
【０２４０】
【表７】
2004170901.tif 000020
【０２４１】
本発明の試料３０１〜３０８、３１１〜３１３は、試料３０９〜３１０に比べて、透明性、密着性ともに優れていることが分かる。
【０２４２】
次に、以下の実施例で用いた材料について述べる。
（（a）、（ｂ）及び（ｃ）成分含有組成物の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３（商品名）；信越化学工業社製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート６質量部、ｉ−プロパノール１２質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、アセチルアセトン６質量部を添加し、d-1を得た。
【０２４３】
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランに変更する以外は上記と同様の操作でd-2を得た。
【０２４４】
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランに変更する以外は上記と同様の操作でd-3を得た。
【０２４５】
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランをテトラエトキシシランに変更する以外は上記と同様の操作でd-4を得た。
【０２４６】
（ハードコート層用塗布液２Ａの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、商品名、日本化薬（株）製）１５０ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２０６ｇに溶解した。得られた溶液に、シリカゾル３０％メチルエチルケトン分散物（ＭＥＫ−ＳＴ、商品名、日産化学社製、平均粒径約１５ｎｍ）３３３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、商品名、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。
【０２４７】
（ハードコート層用塗布液２Ｂの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６、商品名、ＪＳＲ社製、固形分濃度７２％、シリカ含率３８％、平均粒径約２０ｎｍ）３４７ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４０３ｇで希釈した。
【０２４８】
（ハードコート層用塗布液２Ｃの調製）
市販アルミナ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６（商品名）の含有無機微粒子変更品、ＪＳＲ社製、固形分濃度５０％、アルミナ含率５０％、平均粒径約２０ｎｍ）５００ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２５０ｇで希釈した。
【０２４９】
（ハードコート層用塗布液２Ｄの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４３９ｇに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。
【０２５０】
（ハードコート層用塗布液２Ｅの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６、ＪＳＲ社製、固形分濃度７２％、シリカ含率３８％、平均粒径約２０ｎｍ）３３０ｇにd-1を２４ｇ加え、この液をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒３９６ｇで希釈した。
【０２５１】
（ハードコート層用塗布液２Ｆの調製）
市販アルミナ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６の含有無機微粒子変更品、ＪＳＲ社製、固形分濃度５０％、アルミナ含率５０％、平均粒径約２０ｎｍ）４７６ｇにd-1を２４ｇ加え、この液をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２５０ｇで希釈した。
【０２５２】
（ハードコート層用塗布液２Ｇの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１６６ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒１９６ｇに溶解した。得られた溶液に、シリカゾル３０％メチルエチルケトン分散物（ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学社製、平均粒径約１５ｎｍ）２３８ｇ、d-1を２４ｇ加え、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを１１３ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。
【０２５３】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ａの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、商品名、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）２７８ｇにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１１７ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒３５５ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液２Ａを調製した。
【０２５４】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｂの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）５２１ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２２９ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．７３であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍのベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子（商品名：エポスターＭＳ、日本触媒（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液２Ｂを調製した。
【０２５５】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｃの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、商品名、住友精化（株）製）７５ｇ、平均粒径３３ｎｍのアルミナ粒子（シーアイ化成社製）１００ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを６１ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液２Ｃを調製した。
【０２５６】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｄの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）７５ｇ、平均粒径３３ｎｍのアルミナ粒子（シーアイ化成社製）１００ｇを、５１６ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、d-1の２５ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを３３ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液２Ｄを調製した。
【０２５７】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｅの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液２Ｅを調製した。
【０２５８】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｆの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）１９５ｇにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８２ｇ、d-1 １７．５６ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）９．２２ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２９７ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５９であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液２Ｆを調製した。
【０２５９】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｇの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）１９５ｇにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８２ｇ、d-1  ８．７８ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）９ｇ、をメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒２９２ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液２Ｇを調製した。
【０２６０】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｈの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液２Ｇのd-1を、d-2に変更した以外は、添加量も含め上記塗布液２Ｇと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液２Ｈを調製した。
【０２６１】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｉの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液２Ｇのd-1を、d-3に変更した以外は、添加量も含め上記塗布液２Ｇと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液２Ｉを調製した。
【０２６２】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｊの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液２Ｇのd-1を、d-4に変更した以外は、添加量も含め上記塗布液２Ｇと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液２Ｊを調製した。
【０２６３】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｋの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）９１ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２１８ｇを、５２ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０質量パーセントの含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７６、商品名、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０２６４】
さらにこの溶液に個数平均粒径１．９９μｍ、粒径の標準偏差０．３２μｍ（個数平均粒径の１６％）の架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを８０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルター（それぞれ商品名ＰＰＥ-１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にてろ過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層塗布液２Ｋを調製した。
【０２６５】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｌの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８２ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）１９６ｇ、d-1  １７．６ｇを、２６２ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０質量パーセントの含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７６、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に個数平均粒径１．９９μｍ、粒径の標準偏差０．３２μｍ（個数平均粒径の１６％）の架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを８０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶剤に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルター（それぞれＰＰＥ-１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にてろ過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層塗布液２Ｌを調製した。
【０２６６】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｍの調製）
フッ素系界面活性剤をシリコーン系界面活性剤（シリコーンＸ−２２−９４５、商品名、信越化学工業（株）製）に置き換えた以外は防眩性ハードコート層塗布液２Ｋと同様にして、防眩層用塗布液２Ｍを調製した。
【０２６７】
（防眩性ハードコート層用塗布液２Ｎの調製）
フッ素系界面活性剤をシリコーン系界面活性剤（シリコーンＸ−２２−９４５、信越化学工業（株）製）に置き換えた以外は防眩性ハードコート層塗布液２Ｌと同様にして、防眩層用塗布液２Ｎを調製した。
【０２６８】
（防眩性ハードコート層用塗布液３イの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６（商品名）の溶剤組成変更品、ＪＳＲ社製、固形分濃度約７２％、固形分中ＳｉＯ2含率約３８％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２７２ｇをメチルイソブチルケトン２６．２ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液に平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−３５０Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を４４ｇ加え、次いで、平均粒径５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−５００Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を５７．８ｇ加えた。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液３イを調製した。
【０２６９】
（防眩性ハードコート層用塗布液３ロの調製）
市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７５２６の溶剤組成変更品、ＪＳＲ社製、固形分濃度７２％、固形分中ＳｉＯ2含率約３８％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２４５ｇにd-1  １７．６４ｇを加え、さらにメチルイソブチルケトン２３５ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液に平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−３５０Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を４４ｇ加え、次いで、平均粒径５μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−５００Ｈ、綜研化学（株）製）の２５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を５７．８ｇ加えた。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液３ロを調製した。
【０２７０】
（防眩性ハードコート層用塗布液３ハの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液３ロのd-1を、d-2に変更した以外は、添加量も含め塗布液３ロと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液３ハを調製した。
【０２７１】
（防眩性ハードコート層用塗布液３ニの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液３ロのd-1を、d-4に変更した以外は、添加量も含め塗布液３ロと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液３ニを調製した。
【０２７２】
（防眩性ハードコート層用塗布液３ホの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液３ロのd-1を、d-3に変更した以外は、添加量も含め塗布液３ロと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液３ホを調製した。
【０２７３】
（低屈折率層用塗布液２Ａの調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、商品名、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）１５．２ｇおよびメチルエチルケトン１１６ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液２Ａを調製した。
【０２７４】
（低屈折率層用塗布液２Ｂの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．２ｇに反応性シリコーンＸ-22-164B（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバガイギー社製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン２９３ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液２Ｂを調製した。
【０２７５】
（低屈折率層用塗布液２Ｃの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（2）の１５．２ｇに反応性シリコーンX-22-169AS（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、光重合開始剤（ＵＶＩ６９９０、商品名、ユニオンカーバイド社製）１．５２ｇ、メチルエチルケトン２９３ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液２Ｃを調製した。
【０２７６】
（低屈折率層用塗布液２Ｄの調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）１５．２ｇ、a-1  １．４５ｇおよびメチルエチルケトン９５ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液２Ｄを調製した。
【０２７７】
（低屈折率層用塗布液２Ｅの調製）
上記、低屈折率層用塗布液２Ｄのd-1を、d-2に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液２Ｄと全く同様にして、低屈折率層用塗布液２Ｅを調製した。
【０２７８】
（低屈折率層用塗布液２Ｆの調製）
上記、低屈折率層用塗布液２Ｄのd-1を、d-3に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液２Ｄと全く同様にして、低屈折率層用塗布液２Ｆを調製した。
【０２７９】
（低屈折率層用塗布液２Ｇの調製）
上記、低屈折率層用塗布液２Ｄのd-1を、d-4に変更した以外は添加量も含めて低屈折率層用塗布液２Ｄと全く同様にして、低屈折率層用塗布液２Ｇを調製した。
【０２８０】
（低屈折率層用塗布液２Ｈの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．２ｇに反応性シリコーンＸ-22-164B（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、d-1  1.45g、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバガイギー社製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０６ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液２Ｈを調製した。
【０２８１】
（低屈折率層用塗布液２Ｉの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（2）の１５．２ｇに反応性シリコーンX-22-169AS（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、d-２  1.45g、光重合開始剤（ＵＶＩ６９９０、ユニオンカーバイド社製）１．５２ｇ、メチルエチルケトン２９３ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液２Ｉを調製した。
上記低屈折率層用塗布液２Ａ〜２Ｉにより形成された低屈折率層は、いずれも屈折率は１．３８〜１．４９の範囲であった。
【０２８２】
実施例１１
ハードコート層２Ａ〜２Ｇ、防眩性ハードコート層２Ａ〜２Ｎ、低屈折率層２Ａ〜２Ｉそれぞれを以下のようにして塗布し、反射防止フィルム試料を得た。積層の組み合わせは表８、表９に記載のとおりに行った。
（１）ハードコート層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記のハードコート層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃、２分で乾燥の後、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍのハードコート層を形成し、巻き取った。
【０２８３】
（２）防眩性ハードコート層の塗設
該ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記の防眩性ハードコート層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度５ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で４分乾燥の後、窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍの防眩性ハードコート層を形成し、巻き取った。
【０２８４】
（３）低屈折率層の塗設
該ハードコート層と防眩性ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、８０℃で２分乾燥の後、さらに窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、１４０℃で１０分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。
【０２８５】
【表８】
2004170901.tif 000021
【０２８６】
【表９】
2004170901.tif 000022
【０２８７】
上記試料の中から抜粋した試料について防眩性ハードコート層まで塗布した試料について、表面エネルギーと、Ｘ線光電子部分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピーク比Ｆ／Ｃと、シリコン原子由来のピークと炭素原子由来のピーク比Ｓｉ／Ｃを以下に示す。なお、防眩性ハードコート層の表面エネルギーは、純水およびジヨードメタンの接触角を測定してＯｗｅｎｓの表面エネルギーの式に代入して算出した。
試料１１１６：表面エネルギー  ２２ｍＮ・ｍ-1、 Ｆ／Ｃ  ０．５３
試料１１４３：表面エネルギー  ３１ｍＮ・ｍ-1、 Ｆ／Ｃ  ０．２８
試料１１４４：表面エネルギー  ３３ｍＮ・ｍ-1、 Ｆ／Ｃ  ０．２７
試料１１４５：表面エネルギー  ２９ｍＮ・ｍ-1、 Ｓｉ／Ｃ  ０．１２
試料１１４６：表面エネルギー  ３０ｍＮ・ｍ-1、 Ｓｉ／Ｃ  ０．１１
【０２８８】
（反射防止フィルムの評価）
得られたフィルムについて、実施例１と同様に、以下の項目：（１）平均反射率、（２）ヘイズ、（３）鉛筆硬度、（４）接触角および指紋付着性、（５）動摩擦係数、（６）防眩率、（７）ギラツキ、（８）スチールウール耐傷性、（９）水綿棒こすり耐性、（１０）塗布面状ムラ、の評価を行った。
【０２８９】
上記試料中の本発明の全試料において、指紋付着性は○で、防眩性は◎で、ギラツキは○であり、反射防止性能と鉛筆硬度も防眩性反射防止フィルムに必要とされる性能レベルを越えていた。
また試料１１１６、１１４３〜１１４６について面状ムラの数を数えた。
試料１１１６          ９個／ｍ2
試料１１４３          ３個／ｍ2
試料１１４４          ０個／ｍ2
試料１１４５          ３個／ｍ2
試料１１４６          １個／ｍ2
その結果、防眩性ハードコート層にフッ素系界面活性剤を含有することにより塗布面状ムラ低減効果が確認された。
その他の評価結果について表１０、１１に示す。
本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２は、比較例試料１１０１〜１１０３、１１０５、１１１１、１１１３、１１１５〜１１１８、１１２２、１１２３、１１４３、１１４５、１１５０に比べて、スチールウール耐傷性と綿棒こすり性能が優れていることが分かる。特に、防眩性ハードコート層と低屈折率層の両層に本発明の化合物を含有した系が耐傷性能に優れることが分かる。これらの効果は本発明のシラン系化合物の含有によることが明らかである。
【０２９０】
【表１０】
2004170901.tif 000023
【０２９１】
【表１１】
2004170901.tif 000024
【０２９２】
次に、本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２のフィルムを偏光板における偏光層の保護フィルムとして用いて防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
さらに同様にして、上記本発明の試料を偏光子、透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィルム、並びに光散乱層からなる偏光板と組み合わせて液晶表示装置を作製して視認性を評価したところ、外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた性能を有していた。
【０２９３】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
前記試料１１０１〜１１５２について、実施例１と同様の鹸化処理を行い、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。このようにして得られた鹸化処理を行った試料について、実施例１と同様にして、以下の項目：（１１）鹸化処理による膜の剥がれ、および（１２）碁盤目密着、を試験、評価した。
【０２９４】
剥がれ、密着評価結果について記す。
本発明のいずれの試料においても、鹸化処理による膜の剥がれの評価は○であり、および碁盤目密着の評価も○でありいずれの評価試験も膜の剥がれは、観察されなかった。
また、本発明の試料について、防眩性ハードコート層および低屈折率層とは支持体を挟んだ反対側面の水に対する接触角を測定したところ、いずれの試料においても４０°から３０°の範囲に入っていた。
【０２９５】
実施例１２
防眩性ハードコート層用塗布液３イ〜３ホ、低屈折率層用塗布液２Ａ〜２Ｉを実施例１１と同様にして塗布した。積層の組み合わせは表１２に記載のとおりにおこなった。
【０２９６】
【表１２】
2004170901.tif 000025
【０２９７】
（反射防止膜の評価）
得られた試料１２０１〜１２２８について、実施例１１と同様の評価を行った。
本発明の試料１２０２〜１２２８について、いずれの試料においても、指紋付着性は○で、防眩性は◎で、ギラツキは○であり、反射防止性能と鉛筆硬度も防眩性反射防止フィルムに必要とされる性能レベルを越えていた。
その他の評価結果について表１３に示す。
本発明の試料１２０２〜１２２８は、比較例試料１２０１に比べて、実施例１１と同様に、スチールウール耐傷性と綿棒こすり性能が優れていることが分かる。特に、防眩性ハードコート層と低屈折率層の両層に本発明の化合物を含有した系が耐傷性能に優れることが分かる。これらの効果は本発明のシラン系化合物の含有によることが明らかである。
【０２９８】
【表１３】
2004170901.tif 000026
【０２９９】
次に、実施例１１と同様にして、本発明の試料１２０２〜１２２８のフィルムを用いて防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作成したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
さらに同様にして、上記本発明の試料を偏光子の片側に貼合し、反対側に透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィルムを貼合した楕円偏光板を用いて液晶表示装置を作製して視認性を評価したところ、外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた性能を有していた。
【０３００】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
前記試料１２０２〜１２２８について、実施例１１と同様の鹸化処理を行った。
鹸化処理を行った試料１２０２〜１２２８について、実施例１１と同様の鹸化処理による膜の剥がれ、碁盤目密着の評価を行った。
その結果、いずれの試料においても、鹸化処理による膜の剥がれ、および碁盤目密着の剥がれは、観察されなかった。
また、本発明の試料１２０２〜１２２８について、防眩性ハードコート層および低屈折率層とは支持体を挟んだ反対側面の水に対する接触角を測定したところ、いずれの試料においても４０°から３０°の範囲に入っていた。
【０３０１】
実施例１３
実施例３と同様にして偏光板を得た。
次に、実施例１１の本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２の鹸化処理したフィルムを上記偏光板と貼り合わせて防眩性反射防止フィルム付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
【０３０２】
実施例１４
上記実施例１３の４５°吸収軸が傾斜した偏光板作製の中の、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）の代わりに実施例１１の本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２の鹸化処理したフィルムを張り合わせて防眩性反射防止フィルム付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止フィルムの低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、実施例１３同様に、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
【０３０３】
実施例１５
実施例１１で作製した本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２を、１．５モル／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理したフィルムと、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止フィルムの低屈折率層側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３M（株）製のＤ−ＢＥＦ（商品名）をバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０３０４】
実施例１６
実施例１１で作製した本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２を、低屈折率層が最表層になるように貼りつけた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルム Ａ １２Ｂ、商品名、富士写真フイルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【０３０５】
実施例１７
実施例１１で作製した本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２を、低屈折率層が最表層になるように有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【０３０６】
実施例１８
実施例１１で作製した本発明の試料１１０４、１１０６〜１１１０、１１１２、１１１４、１１１９〜１１２１、１１２４〜１１４２、１１４４、１１４６〜１１４９、１１５１、１１５２を用いて、低屈折率層が最表層になるように片面反射防止フィルム付き偏光板を作製した。この偏光板の反射防止フィルムを有している側の反対面にλ／４板（ピュアエースＷＲ、商品名、帝人製）を張り合わせて、得られた偏光板を低屈折率層が最表層になるように有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０３０７】
【図１】防眩性反射防止フィルムの層構成を示す断面模式図である。
【図２】実施例３、１３で使用のテンター延伸機を示す概略図である。
【図３】実施例３、１３の偏光板の裁断方法を示す説明図である。
【符号の説明】
【０３０８】
１  防眩性反射防止フィルム
２  透明支持体
３  ハードコート層
４  防眩性ハードコート層
５  低屈折率層
６  マット粒子
（イ）  フィルム導入方向
（ロ）  次工程へのフィルム搬送方向
（ａ）  フィルムを導入する工程
（ｂ）  フィルムを延伸する工程
（ｃ）  延伸フィルムを次工程へ送る工程
Ａ１  フィルムの保持手段への噛み込み位置とフィルム延伸の起点位置（実質保持開始点：右）
Ｂ１  フィルムの保持手段への噛み込み位置（左）
Ｃ１  フィルム延伸の起点位置（実質保持開始点：左）
Ｃｘ  フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置（実質保持解除点：左）
Ａｙ  フィルム延伸の終点基準位置（実質保持解除点：右）
｜Ｌ１−Ｌ２｜  左右のフィルム保持手段の行程差
Ｗ  フィルムの延伸工程終端における実質幅
δ  延伸方向とフィルム進行方向のなす角
２１  導入側フィルムの中心線
２２  次工程に送られるフィルムの中心線
２３  フィルム保持手段の軌跡（左）
２４  フィルム保持手段の軌跡（右）
２５  導入側フィルム
２６  次工程に送られるフィルム
２７ａ、２７ｂ  右左のフィルム保持開始（噛み込み）点
２８ａ、２８ｂ  右左のフィルム保持手段からの離脱点
【図１】
2004170901.tif 000027
【図２】
2004170901.tif 000028
【図３】
2004170901.tif 000029