(57)【要約】　　　（修正有）【課題】写真用カプラー、写真用添加剤、医薬および農薬等として、あるいはこれらの中間体として有用なアミノエーテル化合物または含窒素複素環エーテル化合物の簡便かつ高収率な製造法の提供。【解決手段】一般式（３）で表される化合物の少なくとも一種、及び一般式（４）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で、一般式（２）で表される化合物またはその互変異性体とエーテル化剤を反応させることを特徴とする一般式（１）で表される化合物またはその互変異性体の製造方法。一般式（１）の具体例としては下記化学式（Ａ−１）で示される。2004123574.tif 0000382004123574.tif 0000392004123574.tif 000040〔一般式（３）中、Ａ３１は水素原子、ヒドロキシ基、有機基または無機の酸根を表し、ｎ３１は０または１以上の整数を表し、ｎ３２は１以上の整数を表す。一般式（４）中、Ａ４１は水素原子、有機基または無機の酸根を表し、Ｍ４２はナトリウム以外の金属を表し、ｎ４１およびｎ４２は各々独立に１以上の整数を表す。〕【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（３）で表される化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（４）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で、下記一般式（２）で表される化合物またはその互変異性体とエーテル化剤を反応させることを特徴とする下記一般式（１）で表される化合物またはその互変異性体の製造方法。
【化１】
2004123574.tif 000032
一般式（１）および（２）中、Ｚ１は芳香族環またはヘテロ芳香族環を表し、Ｒ１は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｒ２は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。
【化２】
2004123574.tif 000033
一般式（３）中、Ａ３１は水素原子、ヒドロキシ基、有機基または無機の酸根を表し、ｎ３１は０または１以上の整数を表し、ｎ３２は１以上の整数を表す。ｎ３１が２以上の場合、複数のＡ３１は同一でも異なっていてもよい。一般式（４）中、Ａ４１は水素原子、有機基または無機の酸根を表し、Ｍ４２はナトリウム以外の金属を表し、ｎ４１およびｎ４２は各々独立に１以上の整数を表す。ｎ４１が２以上の場合、複数のＡ４１は同一でも異なっていてもよい。ｎ４２が２以上の場合、複数のＭ４２は同一でも異なってもよい。
【請求項２】
下記一般式（７）で表される化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（８）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で、下記一般式（６）で表される化合物またはその互変異性体とエーテル化剤を反応させることを特徴とする下記一般式（５）で表される化合物またはその互変異性体の製造方法。
【化３】
2004123574.tif 000034
一般式（５）および（６）中、Ｚ２は含窒素芳香族環を表し、Ｒ３は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。
【化４】
2004123574.tif 000035
一般式（７）中、Ａ７１は水素原子、ヒドロキシ基、有機基または無機の酸根を表し、ｎ７１は０または１以上の整数を表し、ｎ７２は１以上の整数を表す。ｎ７１が２以上の場合、Ａ７１は同一でも異なっていてもよい。一般式（８）中、Ａ８１は水素原子、有機基または無機の酸根を表し、Ｍ８２はナトリウム以外の金属を表し、ｎ８１およびｎ８２は各々独立に１以上の整数を表す。ｎ８１が２以上の場合、Ａ８１は同一でも異なっていてもよい。ｎ８１が２以上の場合、Ａ８１は同一でも異なっていてもよい。
【請求項３】
請求項１において前記一般式（４）におけるＭ４２が第４周期から第７周期の金属であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
請求項２において前記一般式（８）におけるＭ８２が第４周期から第７周期の金属であることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
【請求項５】
下記一般式（１１）で表される化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（１２）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で、下記一般式（１０）で表される化合物とエーテル化剤を反応させることを特徴とする下記一般式（９）で表される化合物の製造方法。
【化５】
2004123574.tif 000036
一般式（９）および（１０）中、Ｒ９１は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｒ９２は水素原子、アルキル基、芳香族基または複素環基を表し、Ｒ９３は置換基を表し、ｎ９３は０〜４の整数を表す。
【化６】
2004123574.tif 000037
一般式（１１）中、Ａ１１１は水素原子、ヒドロキシ基、有機基または無機の酸根を表し、ｎ１１１は０または１以上の整数を表し、ｎ１１２は１以上の整数を表す。ｎ１１１が２以上の場合、Ａ１１１は同一でも異なっていてもよい。一般式（１２）中、Ａ１２１は水素原子、有機基または無機の酸根を表し、Ｍ１２２はナトリウム以外の金属を表し、ｎ１２１およびｎ１２２は各々独立に１以上の整数を表す。ｎ１２１が２以上の場合、Ａ１２１は同一でも異なっていてもよい。ｎ１２２が２以上の場合、Ａ１２２は同一でも異なっていてもよい。
【請求項６】
請求項５において、前記一般式（１２）におけるＭ１２２がカリウムであることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
請求項５または６において、前記一般式（１１）で表される化合物が水素化ナトリウム、水酸化ナトリウムまたはナトリウムアルコキシドであり、前記一般式（１２）におけるＡ１２１が有機基であることを特徴とする請求項５または６に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項５〜７において、前記−ＮＨＲ９２で表される置換基が前記−ＯＲ９１で表される置換基のオルト位であることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、写真用カプラー、写真用添加剤、医薬および農薬等として、あるいはこれらの中間体として有用なアミノエーテル化合物または含窒素複素環エーテル化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アミノエーテル化合物または含窒素複素環エーテル化合物は写真用カプラー、写真用添加剤、医薬および農薬等として、あるいはこれらの中間体として有用であり、その製造法は盛んに研究されてきた。しかしその多くは、より活性なアミノ基をアシル基、イミド基等で保護し、次いで該保護された化合物のヒドロキシ基をエーテル基とした後、アミノ基の脱保護を行う方法か、または前記の保護基を用いず、直接アルキル化を行い、反応混合物から目的のエーテル化合物を精製分離する方法であった。前者では保護−脱保護を行うため工程が長く、また後者では精製工程が煩雑であり、低収率であった。
【０００３】
また、ニトロフェノールのヒドロキシ基をアルキル化した後、ニトロ基をアミノ基に変換する方法が知られている（例えば、非特許文献１参照。）。しかしながら、この方法はニトロ基の還元工程における操作性等で必ずしも満足できる方法ではなかった。
【０００４】
【非特許文献１】
ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ，ｐ．３８８０（１９５９年）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、写真用カプラー、写真用添加剤、医薬および農薬等として、あるいはこれらの中間体として有用なアミノエーテル化合物または含窒素複素環エーテル化合物の安価、簡便で高収率な製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は鋭意検討の結果、下記の製造方法により、本発明の前記目的が達成されることを見出した。
１）　下記一般式（３）で表される化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（４）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で、下記一般式（２）で表される化合物またはその互変異性体とエーテル化剤を反応させることを特徴とする下記一般式（１）で表される化合物またはその互変異性体の製造方法。
【０００７】
【化７】
2004123574.tif 000002
【０００８】
一般式（１）および（２）中、Ｚ１は芳香族環またはヘテロ芳香族環を表し、Ｒ１は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｒ２は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。
【０００９】
【化８】
2004123574.tif 000003
【００１０】
一般式（３）中、Ａ３１は水素原子、ヒドロキシ基、有機基または無機の酸根を表し、ｎ３１は０または１以上の整数を表し、ｎ３２は１以上の整数を表す。ｎ３１が２以上の場合、複数のＡ３１は同一でも異なっていてもよい。一般式（４）中、Ａ４１は水素原子、有機基または無機の酸根を表し、Ｍ４２はナトリウム以外の金属を表し、ｎ４１およびｎ４２は各々独立に１以上の整数を表す。ｎ４１が２以上の場合、複数のＡ４１は同一でも異なっていてもよい。ｎ４２が２以上の場合、複数のＭ４２は同一でも異なってもよい。
２）　下記一般式（７）で表される化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（８）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で、下記一般式（６）で表される化合物またはその互変異性体とエーテル化剤を反応させることを特徴とする下記一般式（５）で表される化合物またはその互変異性体の製造方法。
【００１１】
【化９】
2004123574.tif 000004
【００１２】
一般式（５）および（６）中、Ｚ２は含窒素芳香族環を表し、Ｒ３は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。
【００１３】
【化１０】
2004123574.tif 000005
【００１４】
一般式（７）中、Ａ７１は水素原子、ヒドロキシ基、有機基または無機の酸根を表し、ｎ７１は０または１以上の整数を表し、ｎ７２は１以上の整数を表す。ｎ７１が２以上の場合、Ａ７１は同一でも異なっていてもよい。一般式（８）中、Ａ８１は水素原子、有機基または無機の酸根を表し、Ｍ８２はナトリウム以外の金属を表し、ｎ８１およびｎ８２は各々独立に１以上の整数を表す。ｎ８１が２以上の場合、Ａ８１は同一でも異なっていてもよい。ｎ８１が２以上の場合、Ａ８１は同一でも異なっていてもよい。
３）　前記一般式（４）におけるＭ４２が第４周期から第７周期の金属であることを特徴とする１）に記載の製造方法。
４）　前記一般式（８）におけるＭ８２が第４周期から第７周期の金属であることを特徴とする２）に記載の製造方法。
５）　下記一般式（１１）で表される化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（１２）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で、下記一般式（１０）で表される化合物とエーテル化剤を反応させることを特徴とする下記一般式（９）で表される化合物の製造方法。
【００１５】
【化１１】
2004123574.tif 000006
【００１６】
一般式（９）および（１０）中、Ｒ９１は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｒ９２は水素原子、アルキル基、芳香族基または複素環基を表し、Ｒ９３は置換基を表し、ｎ９３は０〜４の整数を表す。
【００１７】
【化１２】
2004123574.tif 000007
【００１８】
一般式（１１）中、Ａ１１１は水素原子、ヒドロキシ基、有機基または無機の酸根を表し、ｎ１１１は０または１以上の整数を表し、ｎ１１２は１以上の整数を表す。ｎ１１１が２以上の場合、Ａ１１１は同一でも異なっていてもよい。一般式（１２）中、Ａ１２１は水素原子、有機基または無機の酸根を表し、Ｍ１２２はナトリウム以外の金属を表し、ｎ１２１およびｎ１２２は各々独立に１以上の整数を表す。ｎ１２１が２以上の場合、Ａ１２１は同一でも異なっていてもよい。ｎ１２２が２以上の場合、Ａ１２２は同一でも異なっていてもよい。
６）　前記一般式（１２）におけるＭ１２２がカリウムであることを特徴とする５）に記載の製造方法。
７）　前記一般式（１１）で表される化合物が水素化ナトリウム、水酸化ナトリウムまたはナトリウムアルコキシドであり、前記一般式（１２）におけるＡ１２１が有機基であることを特徴とする５）または６）に記載の製造方法。
８）　前記−ＮＨＲ９２で表される置換基が前記−ＯＲ９１で表される置換基のオルト位であることを特徴とする５）〜７）のいずれか１項に記載の製造方法。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳しく説明する。
１．本発明における基の説明
【００２０】
１）脂肪族基
本発明の脂肪族基は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基および置換アラルキル基を意味する。
（アルキル基、置換アルキル基）
アルキル基は分岐を有していてもよく、また環を形成（即ち、シクロアルキル基である）していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜２０であることが好ましく、１〜１８であることが更に好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。
（アルケニル基、置換アルケニル基）
アルケニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成（即ち、シクロアルケニル基である）していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２〜２０であることが好ましく、２〜１８であることが更に好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、上記アルケニル基と同様である。
【００２１】
（アルキニル基、置換アルキニル基）
アルキニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成（即ち、シクロアルキニル基である）していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２〜２０であることが好ましく、２〜１８であることが更に好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、上記アルキニル基と同様である。
（アラルキル基および置換アラルキル基）
アラルキル基および置換アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基および置換アラルキル基のアリール部分は下記アリール基と同様である。
【００２２】
（置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基における置換基）
置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例を以下に挙げる。
ハロゲン原子：例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子。
アルキル基：直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。
アルケニル基：直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。
【００２３】
アルキニル基：好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基。
アリール基：好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル。
ヘテロ環基：好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル。
シアノ基
ヒドロキシル基
ニトロ基
カルボキシル基
アルコキシ基：好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ。
アリールオキシ基：好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ。
シリルオキシ基：好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ。
ヘテロ環オキシ基：好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ。
アシルオキシ基：好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ。
カルバモイルオキシ基：好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ。
【００２４】
アルコキシカルボニルオキシ基：好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ。
アリールオキシカルボニルオキシ基：好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ。
アミノ基：好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ。
アシルアミノ基：好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ。
アミノカルボニルアミノ基：好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ。
アルコキシカルボニルアミノ基：好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ。
アリールオキシカルボニルアミノ基：好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ。
スルファモイルアミノ基：好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ。
【００２５】
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基：好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ。
メルカプト基
アルキルチオ基：好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ。
アリールチオ基：好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ。
ヘテロ環チオ基：好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ。
スルファモイル基：好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル。
スルホ基
【００２６】
アルキル又はアリールスルフィニル基：好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル。
アルキル又はアリールスルホニル基：好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル。
アシル基：好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル。
アリールオキシカルボニル基：好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル。
アルコキシカルボニル基：好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル。
カルバモイル基：好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル。
【００２７】
アリール又はヘテロ環アゾ基：好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ。
イミド基：好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド。
ホスフィノ基：好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ。
ホスフィニル基：好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル。
ホスフィニルオキシ基：好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ。
ホスフィニルアミノ基：好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ。
シリル基：好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル。
【００２８】
（さらに置換されても良い基）
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニルが挙げられる。
【００２９】
置換アラルキル基のアリール部分の置換基の例は、下記置換アリール基の置換基の例と同様である。
【００３０】
２）芳香族基
本明細書における芳香族基は、アリール基および置換アリール基を意味する。またこれらの芳香族基は脂肪族環、他の芳香族環または複素環が縮合していてもよい。芳香族基の炭素原子数は６〜４０が好ましく、６〜３０が更に好ましく、６〜２０が更に好ましい。またその中でもアリール基としてはフェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルが特に好ましい。
【００３１】
置換アリール基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。置換アリール基の置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例として挙げたものと同様である。
【００３２】
３）複素環基
本明細書における複素環基は、５員または６員の飽和または不飽和複素環を含むことが好ましい。複素環に脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。複素環のヘテロ原子の例にはＢ，Ｎ，Ｏ，Ｓ，ＳｅおよびＴｅが含まれる。ヘテロ原子としてはＮ，ＯおよびＳが好ましい。複素環は炭素原子が遊離の原子価（一価）を有する（複素環基は炭素原子において結合する）ことが好ましい。好ましい複素環基の炭素原子数は１〜４０であり、より好ましくは１〜３０であり、更に好ましくは１〜２０である。飽和複素環の例には、ピロリジン環、モルホリン環、２−ボラ−１，３−ジオキソラン環および１，３−チアゾリジン環が含まれる。不飽和複素環の例には、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびキノリン環が含まれる。複素環基は置換基を有していても良い。置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例として挙げたものと同様である。
【００３３】
２．一般式（１）〜（１２）の化合物の説明
次に本発明で使用される前記一般式（１）〜（１２）で表される化合物について説明する。
１）一般式（１）および（２）
（Ｚ１）
Ｚ１は芳香族環またはヘテロ芳香族環を表し、これらは脂肪族環、他の芳香族環またはヘテロ芳香族環が縮合していてもよい。好ましい芳香族環としては炭素数６から４０の、更に好ましくは炭素数６から２０の、更に好ましくは炭素数６から１２の置換もしくは無置換の芳香族環であり、ベンゼン環およびナフタレン環が特に好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。芳香族環の置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルケニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例として挙げたものと同様である。好ましい芳香族環の例としてはベンゼン−１．３−ジイル、４−ｔ−ブチルベンゼン−１，２−ジイル、２−メチルベンゼン−１．２−ジイル、６−メトキシナフタレン−２，３−ジイルなどが挙げられる。また、好ましいヘテロ芳香族環としては５または６員の炭素数３から４０の、更に好ましくは炭素数３から２０の、更に好ましくは炭素数３から１２の置換もしくは無置換のヘテロ芳香族環であり、フラン、ピロール、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジンの各環が好ましく、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ピリジンの各環が更に好ましい。ヘテロ芳香族環の置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルケニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例として挙げたものと同様である。好ましいヘテロ芳香族環の例としてはフラン−２，３−ジイル、２−メチルチオフェン−３，４−ジイル、２−エチルチアゾール−４，５−ジイル、６−クロロベンゾフラン−２，３−ジイル、５−メトキシベンゾチオフェン−２，３−ジイル、ピリジン−２，３−ジイルなどの各環が挙げられる。
【００３４】
Ｚ１は芳香族環であることが好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましく、無置換または脂肪族基、ハロゲン原子、アルコキシ基またはアリールオキシ基が置換したベンゼン環であることが更に好ましく、無置換またはアルキル基またはアルコキシ基が置換したベンゼン環であることが最も好ましい。
【００３５】
（Ｒ１）
Ｒ１は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、これらは前に述べた通りであり、Ｒ１として好ましくは脂肪族基および複素環基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２の脂肪族基および炭素数３〜１２の複素環基である。更に好ましいＲ１は無置換またはヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基または複素環基が置換したアルキル基およびアラルキル基、またはヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基またはアリールオキシ基が置換した複素環基であり、最も好ましいＲ１は無置換またはヒドロキシ基またはアルコキシ基が置換したアルキル基である。
【００３６】
（Ｒ２）
Ｒ２は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、脂肪族基、芳香族基および複素環基についてはＲ１と同様であり、好ましいＲ２は水素原子または脂肪族基であり、更に好ましくは水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族基である。更に好ましいＲ２は水素原子または無置換またはヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基または複素環基が置換したアルキル基およびアラルキル基であり、最も好ましいＲ２は水素原子または無置換またはヒドロキシ基、またはアルコキシ基が置換したアルキル基である。
【００３７】
２）一般式（３）
（Ａ３１）
Ａ３１で表される有機基の酸根とは、有機酸のアニオン（又本明細書では、アニオン性基または基とも称す）である。有機の酸根としては、炭素原子を１つ以上（好ましくは炭素原子が１〜３０）有する１価または２価以上のアニオン性基を表し、例えば、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１５、更に好ましくは炭素数１〜６であり、例えばメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、シクロヘキシルオキシ、ドデカオキシ等）、炭酸アニオン、アルキルカルボン酸アニオン（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜１５、更に好ましくは炭素数２〜７であり、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ピバロイルオキシ、デカノイルオキシ、フェニルアセチルオキシ等）、アリールカルボン酸アニオン（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜１５、更に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばベンゾイルオキシ、４−メトキシベンゾイルオキシ、３―ニトロベンゾイルオキシ等）、アルキルスルホン酸アニオン（好ましくは炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜１５、更に好ましくは炭素数１〜６であり、例えばメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、デカンスルホニルオキシ等）、アリールスルホン酸アニオン（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜１５、更に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばベンゼンスルホニルオキシ、４−メチルベンゼンスルホニルオキシ、３―ニトロベンゼンスルホニルオキシ、ナフタレン−１，５−ジスルホニルオキシ、４−メトキシベンゼンスルホニルオキシ等）である。
【００３８】
無機の酸根とは、炭素原子を有しない１価または２価以上の酸が解離して生成するアニオン（又本明細書では、アニオン性基または基とも称す）である。例えば、リン酸基、およびハロゲン（ハロゲンアニオン）である。さらに水素原子（水素アニオン）も含まれる。
【００３９】
好ましいＡ３１は水素原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基および炭酸アニオンであり、更に好ましくは水素原子、ヒドロキシ基、炭素数４以下（炭素数１〜４）のアルコキシ基および炭酸アニオンであり、更に好ましくは水素原子、ヒドロキシ基およびアルコキシ基である。
【００４０】
（ｎ３１、ｎ３２）
ｎ３１は０、または１以上の整数（好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜３）を表し、ｎ３２は１以上の整数（好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜３）を表し、ｎ３１が０の場合、ｎ３２は１を表す。ｎ３１が２以上の場合、複数のＡ３１は同一でも異なってもよい。
【００４１】
３）一般式（４）
（Ａ４１）
Ａ４１で表される有機基および無機の酸根とはＡ３１で述べたものと同義であり、好ましいＡ４１は水素原子、アルコキシ基、炭酸アニオン、ハロゲン、アルキルカルボン酸アニオンおよびアリールカルボン酸アニオンであり、更に好ましくは炭素数４以下（炭素数１〜４）のアルコキシ基および炭素数４以下（炭素数１〜４）のアルキルカルボン酸アニオンであり、更に好ましくは炭素数４以下のアルキルカルボン酸アニオンであり、最も好ましくはアセトキシである。
【００４２】
（Ｍ４２）
Ｍ４２はナトリウム以外の金属を表し、好ましいＭ４２は第４周期から第７周期の金属であり、更に好ましくは第４周期から第７周期の１価または２価の金属であり、更に好ましくは第４周期から第７周期の１価の金属であり、最も好ましいＭ４２はＫである。
（ｎ４１、ｎ４２）
ｎ４１及びｎ４２は各々独立に１以上の整数（好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜３）を表す。ｎ４１、ｎ４２が２以上の場合、各々の複数のＡ４１、Ｍ４２は夫々同一でも異なってもよい。
【００４３】
４）一般式（５）、（６）
（Ｚ２）
Ｚ２で表される含窒素芳香族環とは、好ましくは５員の、炭素数３から４０の、更に好ましくは炭素数３から２０の、更に好ましくは３から１２の置換もしくは無置換の窒素原子を含むヘテロ芳香族環を表し、脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。置換基のヒドロキシ基およびＯＲ３とは含窒素芳香族環上の炭素原子上で結合することが好ましい。ヘテロ芳香族環の置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様である。好ましいＺ２で表される含窒素芳香族環の例としては、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、インドールおよびトリアジンの各環が挙げられる。
【００４４】
（Ｒ３）
Ｒ３は一般式（１）におけるＲ１と同義であり、好ましい範囲も同一である。
５）一般式（７）、（８）
一般式（７）においてＡ７１、ｎ７１およびｎ７２はそれぞれ一般式（３）におけるＡ３１、ｎ３１およびｎ３２と同義であり、好ましい範囲も同一である。
一般式（８）においてＡ８１、Ｍ８２、ｎ８１およびｎ８２はそれぞれ一般式（４）におけるＡ４１、Ｍ４２、ｎ４１およびｎ４２と同義であり、好ましい範囲も同一である。
【００４５】
６）一般式（９）、（１０）
（Ｒ９１）
Ｒ９１は一般式（１）におけるＲ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ９１として更に好ましくは無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜８の無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数２〜４の無置換のアルキル基であり、最も好ましくはｎ−プロピル基である。
【００４６】
（Ｒ９２）
Ｒ９２は水素原子、アルキル基、芳香族基または複素環基を表し、アルキル基は分岐を有していてもよく、また環を形成（即ち、シクロアルキル基である）していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜２０であることが好ましく、１〜１８であることが更に好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。置換アルキル基の置換基の例には前述の置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例として挙げたものと同様のものが挙げられる。芳香族基および複素環基はＲ１にて述べたものと同義である。
【００４７】
好ましいＲ９２は水素原子またはアルキル基であり、更に好ましくは水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基である。更に好ましいＲ９２は水素原子または無置換またはヒドロキシ基、アルコキシ基またはアリールオキシ基が置換したアルキル基であり、更に好ましくは水素原子または無置換またはアルコキシ基が置換したアルキル基であり、最も好ましくは水素原子である。また、−ＮＨ−Ｒ９２で表される置換基の置換位置は好ましくは−ＯＲ９１基又は−ＯＨ基のオルト位およびパラ位であり、最も好ましくはオルト位である。
【００４８】
（Ｒ９３）
Ｒ９３で表される置換基は先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例として挙げたものと同様である。好ましいＲ９３はアルキル基、ハロゲン原子またはアルコキシ基であり、更に好ましくはアルキル基またはアルコキシ基であり、更に好ましくは無置換のアルキル基であり、更に好ましくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基であり、最も好ましくはｔ−ブチル基である。
【００４９】
（ｎ９３、ｎ９３）
ｎ９３は０〜４の整数を表し、ｎ９３が２以上の場合、Ｒ９３は同一でも異なっていても良い。ｎ９３は好ましくは０〜３であり、更に好ましくは０〜２であり、更に好ましくは０または１である。また、最も好ましいｎ９３は１であり、そのときの置換位置は−ＯＲ９１基又は−ＯＨ基のパラ位が最も好ましい。
【００５０】
７）一般式（１１）、（１２）
Ａ１１１、Ａ１２１、Ｍ１２２、ｎ１１１、ｎ１１２、ｎ１２１およびｎ１２２は一般式（３）および（４）におけるＡ３１、Ａ４１、Ｍ４２、ｎ３１、ｎ３２、ｎ４１およびｎ４２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００５１】
８）化合物の具体例
次に本発明の一般式（１）、一般式（５）または一般式（９）で表される化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
【化１３】
2004123574.tif 000008
【００５３】
【化１４】
2004123574.tif 000009
【００５４】
【化１５】
2004123574.tif 000010
【００５５】
【化１６】
2004123574.tif 000011
【００５６】
【化１７】
2004123574.tif 000012
【００５７】
【化１８】
2004123574.tif 000013
【００５８】
【化１９】
2004123574.tif 000014
【００５９】
【化２０】
2004123574.tif 000015
【００６０】
【化２１】
2004123574.tif 000016
【００６１】
なお、本発明においては、一般式（１）、（２）、（５）、（６）において各一般式で表した化学構造そのもの以外にその互変異性体をも含むものであり、特に一般式（１）、（２）におけるＺ１がヘテロ芳香環の場合、および、一般式（５）、（６）の場合に互変異性体が存在し得るが、これらを包含するものである。
例えば、例示化合物（Ａ‐２５）およびその原料（一般式（２）の化合物）では、下記のものがそれぞれ含まれる。
【００６２】
【化２２】
2004123574.tif 000017
【００６３】
次に本発明の一般式（３）、一般式（７）または一般式（１１）で表される化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００６４】
【化２３】
2004123574.tif 000018
【００６５】
【化２４】
2004123574.tif 000019
【００６６】
次に本発明の一般式（４）、一般式（８）または一般式（１２）で表される化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００６７】
【化２５】
2004123574.tif 000020
【００６８】
【化２６】
2004123574.tif 000021
【００６９】
【化２７】
2004123574.tif 000022
【００７０】
【化２８】
2004123574.tif 000023
【００７１】
３．製造方法
次に、本発明の製造方法について説明する。
一般式（１）、（５）または（９）で表される化合物は、前述の通り、態様１）〜８）に記載した組合せにおける一般式（２）、（６）および（１０）で表される化合物と、エーテル化剤とをそれぞれ反応させる。
該エーテル化剤とは、好ましくは、Ｒ１Ｘ〔Ｘは離脱基を表し、例えばハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル又はアリールスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ）、アルキル又はアリールカルボキシ基（例えばアセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ）である〕で表される化合物である。
本発明の製造方法では、一般式（３）、（７）または（１１）で表される化合物の少なくとも一種、及び一般式（４）、（８）または（１２）で表される化合物の少なくとも一種の存在化に反応させる。
【００７２】
反応は、無溶媒あるいは溶媒として例えば水、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）を単独、あるいは混合して用い、無触媒あるいは触媒（ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等）の存在下、−３０〜２００℃、好ましくはー１０〜１２０℃、更に好ましくは０〜９０℃の反応温度の範囲にて、５分〜１０時間、好ましくは５分〜３時間の反応時間の範囲にて行う。
【００７３】
反応に使用する化合物の好ましいモル比は、一般式（２）、（６）または（１０）で表される化合物１モルに対して、エーテル化剤（好ましくはＲ１Ｘで表される化合物）は０．８〜１．２モル、一般式（３）、（７）または（１１）で表される化合物１．０〜１．５モル、一般式（４）、（８）または（１２）で表される化合物１．０〜１０．０モルの範囲が好ましく、また加える順序は特に限定はないが、一般式（２）、（６）または（１０）で表される化合物に、一般式（３）、（７）または（１１）で表される化合物をまず加え、一定時間攪拌した後、一般式（４）、（８）または（１２）で表される化合物を加え、更に一定時間攪拌した後、エーテル化剤（好ましくはＲ１Ｘで表される化合物）を添加する方法が好ましい。また、一般式（２）、（６）または（１０）で表される化合物に一般式（３）、（７）または（１１）で表される化合物と一般式（４）、（８）または（１２）で表される化合物を同時に加え、一定時間攪拌した後、エーテル化剤（好ましくはＲ１Ｘで表される化合物）を添加する方法も好ましく用いられる。
【００７４】
一般式（１）、（５）または（９）で表される化合物が、遊離アミンとして不安定である場合は、該化合物を無機酸、有機酸の塩として製造、保存することも好ましい。
一般式（１）、（５）または（９）で表される化合物を造塩する無機、有機の酸としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸、シュウ酸の塩とすることが好ましく、硫酸、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸の塩として造塩することが最も好ましい。
【００７５】
【実施例】
以下に、本発明を実施例により、更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７６】
実施例１
下記式に基づき、本発明の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を合成した。
【００７７】
【化２９】
2004123574.tif 000024
【００７８】
３ツ口フラスコに化合物（１）４９．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５００ｍｌを入れ、窒素気流下にて氷冷し、内温を５〜７℃に保ちながら、ｔ−ブトキシナトリウム３１．７ｇを５分かけて添加した。そのまま１０分攪拌した後、酢酸カリウム１６２ｇを加え、内温５０℃に昇温し、そのまま２０分攪拌した。窒素気流を止め、ここへブロモプロパン３０．０ｍｌを１５分かけて滴下し、そのまま１時間３０分攪拌した後、内温３０℃に冷却し、水７００ｍｌと酢酸エチル８００ｍｌを添加して抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水５０ｍｌと水５００ｍｌの混合溶液で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸５４．０ｇとメタノール２００ｍｌからなる溶液を添加して溶解し、更にここへアセトニトリル５００ｍｌを添加し、攪拌したところ、結晶が析出した。このものを加熱して溶媒２００ｍｌを留去した後、氷冷下にて３０分攪拌し、得られた結晶を吸引濾過して乾燥し、目的の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を１０２．１ｇ得た（収率９７％）。このものの純度を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて測定したところ、９９．９％以上との結果を得た。
2004123574.tif 000025
【００７９】
ＮＭＲスペクトル
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：δ＝９．００（ｄｄ、Ｊ＝０．９、６．９Ｈｚ、１Ｈ）、８．１８２（ｄｄ、Ｊ＝１．２、５．７Ｈｚ、１Ｈ）、７．５２８（ｄｄ、Ｊ＝７．２、８．７Ｈｚ、１Ｈ）、７．４３４（ｄｄ、Ｊ＝２．４、８．４Ｈｚ、１Ｈ）、７．３７５（ｄ、Ｊ＝２．４Ｈｚ、１Ｈ）、７．０５９（ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、１Ｈ）、４．０２０（ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ、２Ｈ）、１．８３１（ｔｑ、Ｊ＝６．６、７．５Ｈｚ、２Ｈ）、１．２９３（ｓ、９Ｈ）、１．０４７（ｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ、３Ｈ）
【００８０】
実施例２
下記式に基づき、本発明の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を合成した。
【００８１】
【化３０】
2004123574.tif 000026
【００８２】
３ツ口フラスコに化合物（１）４９．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５００ｍｌを入れ、窒素気流下にて氷冷し、内温を５〜７℃に保ちながら、酢酸カリウム１６２ｇとナトリウムメトキシド１７．８ｇの混合物を５分かけて添加した。そのまま１０分攪拌した後、内温５０℃に昇温し、そのまま２０分攪拌した。窒素気流を止め、ここへｐ−トルエンスルホン酸−ｎ−プロピル７０．７ｇを１５分かけて滴下し、そのまま１時間３０分攪拌した後、内温３０℃に冷却し、水７００ｍｌと酢酸エチル８００ｍｌを添加して抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水５０ｍｌと水５００ｍｌの混合溶液で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸５４．０ｇとメタノール２００ｍｌからなる溶液を添加して溶解し、更にここへアセトニトリル５００ｍｌを添加し、攪拌したところ、結晶が析出した。このものを加熱して溶媒２００ｍｌを留去した後、氷冷下にて３０分攪拌し、得られた結晶を吸引濾過して乾燥し、目的の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を９９．１ｇ得た（収率９４％）。
このものの純度を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて測定したところ、９９．３％との結果を得た。
【００８３】
実施例３
下記式に基づき、本発明の例示化合物（Ａ−３）の１／２硫酸塩を合成した。
【００８４】
【化３１】
2004123574.tif 000027
【００８５】
３ツ口フラスコに化合物（２）５４．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５００ｍｌを入れ、窒素気流下にて氷冷し、内温を５〜９℃に保ちながら、水素化ナトリウム（油状、含率６０％）２２．０ｇを１５分かけて添加した。そのまま１時間攪拌した後、室温下にて２時間攪拌した。再び氷冷下、内温７℃にて酢酸カリウム２７０ｇを加え、内温５０℃に昇温し、そのまま２０分攪拌した。窒素気流を止め、ここへ１−クロロペンタン５８．６ｇを１５分かけて滴下し、そのまま１時間攪拌した後、内温９０℃にて２時間加熱攪拌した。その後、内温３０℃に冷却し、水７００ｍｌと酢酸エチル８００ｍｌを添加して抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水５０ｍｌと水５００ｍｌの混合溶液で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物に硫酸１４．０５ｍｌとメタノール２００ｍｌからなる溶液を添加して溶解し、更にここへイソプロピルアルコール５００ｍｌを添加し、攪拌したのち、溶媒３００ｍｌを留去した後、氷冷下にて３０分攪拌し、得られた結晶を吸引濾過して乾燥し、目的の例示化合物（Ａ−３）の１／２硫酸塩を９８．２ｇ得た（収率８６％）。
このものの純度を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて測定したところ、９８．７％との結果を得た。
【００８６】
実施例４
下記式に基づき、本発明の例示化合物（Ａ−４）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を合成した。
【００８７】
【化３２】
2004123574.tif 000028
【００８８】
３ツ口フラスコに化合物（３）５４．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５００ｍｌを入れ、窒素気流下にて氷冷し、内温を５〜９℃に保ちながら、ナトリウム１１．５０ｇを１５分かけて添加した。そのまま１時間攪拌した後、室温下にて２時間攪拌し、更に７０℃にて２時間攪拌した。再び氷冷下、内温７℃にて酢酸カリウム２７０ｇを加え、内温５０℃に昇温し、そのまま２０分攪拌した。窒素気流を止め、ここへ２−ブロモプロパン６７．７ｇを１５分かけて滴下し、そのまま１時間攪拌した後、内温３０℃に冷却し、水７００ｍｌと酢酸エチル８００ｍｌを添加して抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水５０ｍｌと水５００ｍｌの混合溶液で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸１８０ｇとメタノール４００ｍｌからなる溶液を添加して溶解し、更にここへイソプロピルアルコール５００ｍｌを添加し、攪拌したのち、溶媒４００ｍｌを留去した後、氷冷下にて３０分攪拌し、得られた結晶を吸引濾過して乾燥し、目的の例示化合物（Ａ−４）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を１１２．２ｇ得た（収率７６％）。このものの純度を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて測定したところ、９８．５％との結果を得た。
【００８９】
実施例５
下記式に基づき、本発明の例示化合物（Ａ−２８）を合成した。
【００９０】
【化３３】
2004123574.tif 000029
【００９１】
３ツ口フラスコに化合物（４）９．８１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５０ｍｌを入れ、窒素気流下にて氷冷し、内温を５〜９℃に保ちながら、ナトリウムメトキシド５．９４ｇを５分かけて添加した。そのまま１時間攪拌した後、内温７℃にて酢酸カリウム５４．０ｇを加え、そのまま２時間攪拌した後、内温５０℃に昇温し、そのまま２０分攪拌した。窒素気流を止め、氷冷し、内温を７〜８℃に保ちながらここへ１−ブロモプロパン１３．５ｇを１５分かけて滴下し、そのまま１時間攪拌した後、内温２２―２５℃にて１時間攪拌し、更に内温８０〜８５℃にて１時間加熱攪拌した。その後、内温３０℃に冷却し、水７０ｍｌと酢酸エチル８０ｍｌを添加して抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水５ｍｌと水５０ｍｌの混合溶液で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、目的の例示化合物（Ａ−２８）１２．８ｇを得た（収率９２％）。このものの純度を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて測定したところ、９９．６％との結果を得た。
【００９２】
比較例１
下記式に基づき、本発明の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を合成した。
【００９３】
【化３４】
2004123574.tif 000030
【００９４】
３ツ口フラスコに化合物（１）４９．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５００ｍｌを入れ、窒素気流下にて氷冷し、内温を５〜７℃に保ちながら、ｔ−ブトキシナトリウム３１．７ｇを５分かけて添加した。そのまま１０分攪拌した後、窒素気流を止め、ここへブロモプロパン３０．０ｍｌを１５分かけて滴下し、そのまま１時間３０分攪拌した後、内温３０℃に冷却し、水７００ｍｌと酢酸エチル８００ｍｌを添加して抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水５０ｍｌと水５００ｍｌの混合溶液で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸５４．０ｇとメタノール２００ｍｌからなる溶液を添加して溶解し、更にここへアセトニトリル５００ｍｌを添加し、攪拌したところ、結晶が析出した。このものを加熱して溶媒２００ｍｌを留去した後、氷冷下にて３０分攪拌し、得られた結晶を吸引濾過して乾燥し、目的の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩を９２．８ｇ得た（収率８８％）。このものの純度を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて測定したところ、７７．１％との結果を得た。
【００９５】
比較例２
下記式に基づき、本発明の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩の合成を試みた。
【００９６】
【化３５】
2004123574.tif 000031
【００９７】
３ツ口フラスコに化合物（１）４９．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５００ｍｌを入れ、窒素気流下にて氷冷し、内温を５−７℃に保ちながら、酢酸カリウム１６２ｇを加え、内温５０℃に昇温し、そのまま２０分攪拌した。窒素気流を止め、ここへブロモプロパン３０．０ｍｌを１５分かけて滴下し、そのまま１時間３０分攪拌した後、内温３０℃に冷却し、水７００ｍｌと酢酸エチル８００ｍｌを添加して抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水５０ｍｌと水５００ｍｌの混合溶液で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸５４．０ｇとメタノール２００ｍｌからなる溶液を添加して溶解し、更にここへアセトニトリル５００ｍｌを添加し、攪拌したところ、結晶が析出した。このものを加熱して溶媒２００ｍｌを留去した後、氷冷下にて３０分攪拌し、得られた結晶を吸引濾過して乾燥したところ、目的とする例示化合物（Ａ−１）ではなく、原料である化合物（１）が１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩として８９．１ｇ回収された（回収率９６％）。このものの純度を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて測定したところ、９９．９％との結果を得た。また、高速液体クロマトグラフィーからは、この反応で目的の例示化合物（Ａ−１）の１／２ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩は検出できなかった。
【００９８】
【発明の効果】
本発明により、写真用カプラー、写真用添加剤、医薬および農薬等として、あるいはこれらの中間体として有用なアミノエーテル化合物または含窒素複素環エーテル化合物を簡便かつ高収率で製造することができる。