(57)【要約】【課題】新規高マンノース型糖化合物、その合成法、及びその合成に用いる中間体となる糖ブロック化合物などを提供すること。【解決手段】本発明の課題は、下記式（Ａ）：【化１】2004244583.tif 000080（式中、Ｒは、Ｃ１−２６アルキルオキシ又は蛍光性置換基；Ｒ１は、水素原子又は下記式Ｒ１−１もしくはＲ１−２：【化２】2004244583.tif 000081で示される基；そしてＡｃはアセチル基である）で表わされる高マンノース型糖化合物、その合成法などによって解決される。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ａ）：
【化１】
2004244583.tif 000059
（式中、Ｒは、Ｃ１−２６アルキルオキシ又は蛍光性置換基；Ｒ１は、水素原子又は下記式Ｒ１−１もしくはＲ１−２：
【化２】
2004244583.tif 000060
で示される基；そしてＡｃはアセチル基である）
で表わされる高マンノース型糖化合物。
【請求項２】
複数の糖ブロック化合物を組み合わせて、下記式（Ａ’）：
【化３】
2004244583.tif 000061
（式中、Ｒ’は、水酸基、Ｃ１−２６アルキルオキシ、アスパラギン又は蛍光性置換基；Ｒ１は、水素原子、又は下記式Ｒ１−１もしくはＲ１−２：
【化４】
2004244583.tif 000062
で示される基；そしてＡｃはアセチル基である）で表される高マンノース型糖化合物を製造する方法であって、上記複数の糖ブロック化合物のうち少なくとも１種の化合物が下記式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）：
式（Ｉ）の化合物
【化５】
2004244583.tif 000063
（式中、Ｒ２は水素原子又はアシル含有保護基；Ｒ３はハロゲン原子又は下記式Ｒ３−１で示される基；Ｑは水素原子、シリル含有保護基又は下記式Ｑ’で示される基；Ｒ４は水素原子又はアシル含有保護基；Ｒ６は水素原子又は下記式Ｒ６−１で示される基；あるいはＲ４とＲ６は一緒になって環状アセタール系保護基又は環状ケタール系保護基；Ｂｎ’はアリールアルキル含有保護基；そしてＰｈｔｈ’はアミノ保護基である）
【化６】
2004244583.tif 000064
（式中、Ｂｎ’及びＰｈｔｈ’は上記と同義；Ｑａはシリル含有保護基、水素原子、又は上記式：Ｑａ−１もしくはＱａ−２示される基；Ｐｈはフェニル基；Ｐｉｖ’はアシル含有保護基；ＰＭＢ’は置換ベンジル含有保護基；Ａｃ’はアシル含有保護基；そしてＡｌｌ’はアリル基又はＣ６−２０アリールＣ１−２６アルキルオキシ基である）
式（ＩＩ）の化合物
【化７】
2004244583.tif 000065
（式中、Ｙ１はアシル含有保護基、水素原子又は下記式：Ｙ１−１で示される基；
Ｙ２は反応性置換基；そしてＢｎ’は上記と同義である）
【化８】
2004244583.tif 000066
（式中、Ｂｎ’は上記と同義；Ｙ’は水素原子又はシリル含有保護基である）
式（ＩＩＩ）の化合物
【化９】
2004244583.tif 000067
（式中、Ｚ１は反応性置換基；Ｚ２はシリル含有保護基又は下記式：Ｚ’で示される基；Ｚ３はアリールアルキル含有保護基又は下記式Ｚ’で示される基；そしてＢｎ’は上記と同義である）
【化１０】
2004244583.tif 000068
（式中、Ａｃ’は上記と同義である）
で表される化合物群から選択される高マンノース型糖化合物を製造する方法。
【請求項３】
式（Ａ）の化合物であって、Ｒがプロピルオキシ；そしてＲ１が水素原子である化合物（化合物１ｂ）を製造する方法であって、下記式６’：
【化１１】
2004244583.tif 000069
（式中、Ｂｎ’、Ｐｈｔｈ’は上記と同義；そしてＡｌｌはアリル基である）
で表される化合物と下記式７’：
【化１２】
2004244583.tif 000070
（式中、Ｂｎ’及びＹ２は上記と同意義である）
で表される化合物とを反応させて、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２が水素原子；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である化合物（化合物２２ａ’）を得る工程を含む前記請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記化合物２２ａ’をアセチル化処理及びシクロヘキシリデン基の脱離処理に供し、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４とＲ６が水素原子である化合物（化合物２２ｃ’）を調製し、化合物２２ｃ’と下記式８’：
【化１３】
2004244583.tif 000071
（式中、Ａｃ’、Ｂｎ’及びＺ１は上記と同義である）
で表されるペンタサッカライド（化合物８’）とを反応させて、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４が水素原子；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ａ’）を調製する工程を含む前記請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
前記化合物２３ａ’をアセチル化して、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｂ’）を調製し、その後、得られた化合物２３ｂ’中のシリル含有保護基を脱離する工程を含む上記請求項２〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
式（Ａ）の化合物であって、Ｒがプロピルオキシ；そしてＲ１がＲ１−１で示される基である化合物（化合物２ｂ）を製造する方法であって、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａが水素原子；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｃ）と、下記式４’：
【化１４】
2004244583.tif 000072
（式中、Ｐｈ、Ｐｉｖ’、ＰＭＢ’は上記と同義；そしてＹ３は反応性置換基）で表される化合物とを反応させる工程を含む上記請求項２に記載の方法。
【請求項７】
式（Ａ）の化合物であって、Ｒがプロピルオキシ；そしてＲ１がＲ１−２で示される基である化合物（化合物３）を製造する方法であって、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａが水素原子；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｃ’）と、下記式５’：
【化１５】
2004244583.tif 000073
（式中、Ｐｈ，及びＰｉｖ’は上記と同義；そしてＹ３は反応性置換基）
で表される化合物とを反応させる工程を含む上記請求項２に記載の方法。
【請求項８】
次式（Ｉ）
【化１６】
2004244583.tif 000074
（式中、Ｒ２は水素原子又はアシル含有保護基；Ｒ３はハロゲン原子又は下記式Ｒ３−１で示される基；Ｑは水素原子、シリル含有保護基又は下記式Ｑ’で示される基；Ｒ４は水素原子又はアシル含有保護基；Ｒ６は水素原子又は下記式Ｒ６−１で示される基；あるいはＲ４とＲ６は一緒になって環状アセタール系保護基又は環状ケタール系保護基；Ｂｎ’はアリールアルキル含有保護基；そしてＰｈｔｈ’はアミノ保護基である）
【化１７】
2004244583.tif 000075
（式中、Ｂｎ’及びＰｈｔｈ’は上記と同義；Ｑａはシリル含有保護基、水素原子、又は上記式：Ｑａ−１もしくはＱａ−２示される基；Ｐｈはフェニル基；Ｐｉｖ’はアシル含有保護基；ＰＭＢ’は置換ベンジル含有保護基；Ａｃ’はアシル含有保護基；そしてＡｌｌ’はアリル基又はＣ６−２０アリールＣ１−２６アルキルオキシ基である）
で示される化合物。
【請求項９】
Ｒ２が水素原子；Ｒ３がフッ素原子；ＱがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記請求項８に記載の化合物（化合物１２ａ）。
【請求項１０】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３がフッ素原子；ＱがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；ＱがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ２が水素原子；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが水素原子；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ２が水素原子；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が水素原子である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１６】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４が水素原子；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１７】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１８】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａが水素原子；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項１９】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基で、式Ｑ’中のＱａがＱａ−１；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項２０】
Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基で、式Ｑ’中のＱａがＱａ−２；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記請求項８に記載の化合物。
【請求項２１】
次式（ＩＩ）
【化１８】
2004244583.tif 000076
（式中、Ｙ１はアシル含有保護基、水素原子又は下記式：Ｙ１−１で示される基；
Ｙ２は反応性置換基；そしてＢｎ’は上記と同義である）
【化１９】
2004244583.tif 000077
（式中、Ｂｎ’は上記と同義；Ｙ’は水素原子又はシリル含有保護基である）
で表される化合物。
【請求項２２】
Ｙ１はアセチル基；そしてＹ２はメチルチオ基である前記請求項２１に記載の化合物。
【請求項２３】
Ｙ１は水素原子；そしてＹ２はメチルチオ基である前記請求項２１に記載の化合物。
【請求項２４】
Ｙ１は式Ｙ１−１で示される基；式Ｙ１−１中のＹ’はＴＢＤＰＳ；そしてＹ２はメチルチオ基である前記請求項２１に記載の化合物。
【請求項２５】
次式（ＩＩＩ）
【化２０】
2004244583.tif 000078
（式中、Ｚ１は反応性置換基；Ｚ２はシリル含有保護基又は下記式：Ｚ’で示される基；Ｚ３はアリールアルキル含有保護基又は下記式Ｚ’で示される基；そしてＢｎ’はアリールアルキル含有保護基である）
【化２１】
2004244583.tif 000079
（式中、Ａｃ’はアシル含有保護基である）
で表される化合物。
【請求項２６】
Ｚ１がフッ素原子；Ｚ２がＴＢＤＰＳ；そしてＺ３がベンジルである前記請求項２５に記載の化合物。
【請求項２７】
Ｚ１がフェニルチオ基；Ｚ２及びＺ３がＺ’で示される基である前記請求項２５に記載の化合物。
【請求項２８】
Ｚ１がフッ素原子；Ｚ２及びＺ３がＺ’で示される基である前記請求項２５に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規高マンノース型糖化合物、その製造方法及びそれに用いる中間体に関する。より詳しくは、本発明は、Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物１ｂ）、α−Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物２ｂ）、β−Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物３）などの新規高マンノース型糖化合物、それを合成する方法、及びその合成に用いる中間体となる糖ブロック化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アスパラギンがリンクされたグリカン鎖の付加は、重要なタンパク質の翻訳後修飾の一つである。タンパク質の品質管理の種々の面において高マンノース型オリゴ糖の重要な役割の探索のため、その生物学的重要性が再度注目されている。この点について特に重要なのは、カルネキシン／カルレティキュリン−グルコシルトランスフェラーゼ・サイクルである。  カルネキシン（ＣＮＸ）とカルレティキュリン（ＣＲＴ）は小胞体（ＥＲ）のルーメン中に存在する分子シャペロンの同族体である。最近の研究によると、グリコタンパク質とＣＮＸ／ＣＲＴとの相互作用が末端モノグルコシル化高マンノース型グリカン鎖、特にＧｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（２ａ）によって媒介されることが明らかになってきた。
【０００３】
一方、ＵＤＰ−グルコース：グリコタンパク・グリコシルトランスフェラーゼ（ＵＧＧＴ）はフォールディング・センサーとして機能し、それが不完全にフォールドされた、Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（１ａ）を有するグリコタンパク質をを検知し、それを前記Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（２ａ）に戻す。
しかしながら、シャペロンの認識におけるグリカン鎖の正確な役割についてはまだ議論がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、ＣＮＸ／ＣＲＴの仮想的リガンドである高マンノース型糖化合物、その合成方法などを提供することができれば、上記研究の大きな助けとなる。しかしながら、従来、そのような合成方法などについては知られていない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は上述のような状況を考慮してなされたもので、本発明によれば、下記式（Ａ）：
【化２２】
2004244583.tif 000002
（式中、Ｒは、Ｃ１−２６アルキルオキシ又は蛍光性置換基；Ｒ１は、水素原子又は下記式Ｒ１−１もしくはＲ１−２：
【化２３】
2004244583.tif 000003
で示される基；そしてＡｃはアセチル基である）
で表わされる高マンノース型糖化合物が提供される。この化合物は、天然型の高マンノース型糖化合物の類似体であり、本発明者らによって始めて合成された新規化合物である。本明細書中では、式（Ａ）の化合物であって、Ｒがプロピルオキシ；そしてＲ１が水素である化合物を「化合物１ｂ」、Ｒ１がＲ１−１である化合物を「化合物２ｂ」、Ｒ１がＲ１−２である化合物を「化合物３」という。
【０００６】
上記高マンノース型糖化合物は、下記の如き製造方法によって合成することができる。
【０００７】
（１）複数の糖ブロック化合物を組み合わせて、下記式（Ａ’）：
【化２４】
2004244583.tif 000004
（式中、Ｒ’は、水酸基、Ｃ１−２６アルキルオキシ、アスパラギン又は蛍光性置換基；Ｒ１は、水素原子、又は下記式Ｒ１−１もしくはＲ１−２：
【化２５】
2004244583.tif 000005
で示される基；そしてＡｃはアセチル基である）で表される高マンノース型糖化合物を製造する方法であって、上記複数の糖ブロック化合物のうち少なくとも１種の化合物が下記式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）：
式（Ｉ）の化合物
【化２６】
2004244583.tif 000006
（式中、Ｒ２は水素原子又はアシル含有保護基（好ましくはアセチル基）；Ｒ３はハロゲン原子又は下記式Ｒ３−１で示される基；Ｑは水素原子、シリル含有保護基（好ましくはＴＢＤＰＳ基）又は下記式Ｑ’で示される基；Ｒ４は水素原子又はアシル含有保護基；Ｒ６は水素原子又は下記式Ｒ６−１で示される基；あるいはＲ４とＲ６は一緒になって環状アセタール系保護基又は環状ケタール系保護基（好ましくはシクロヘキシリデン基）；Ｂｎ’はアリールアルキル含有保護基（好ましくはベンジル基）；そしてＰｈｔｈ’はアミノ保護基（好ましくはフタロイル基）である）
【化２７】
2004244583.tif 000007
（式中、Ｂｎ’及びＰｈｔｈ’は上記と同義；Ｑａはシリル含有保護基（好ましくはＴＢＤＰＳ）、水素原子、又は上記式：Ｑａ−１もしくはＱａ−２示される基；Ｐｈはフェニル基；Ｐｉｖ’はアシル含有保護基（好ましくはピバロイル基）；ＰＭＢ’は置換ベンジル含有保護基（好ましくはｐ−メトキシベンジル基）；Ａｃ’はアシル含有保護基（好ましくはアセチル基）；そしてＡｌｌ’はアリル基又はＣ６−２０アリールＣ１−２６アルキルオキシ基である）
式（ＩＩ）の化合物
【化２８】
2004244583.tif 000008
（式中、Ｙ１はアシル含有保護基（好ましくはアセチル基）、水素原子又は下記式：Ｙ１−１で示される基；
Ｙ２は反応性置換基；そしてＢｎ’は上記と同義である）
【化２９】
2004244583.tif 000009
（式中、Ｂｎ’は上記と同義；Ｙ’は水素原子又はシリル含有保護基（好ましくはＴＢＤＰＳ）である）
式（ＩＩＩ）の化合物
【化３０】
2004244583.tif 000010
（式中、Ｚ１は反応性置換基；Ｚ２はシリル含有保護基（好ましくはＴＢＤＰＳ）又は下記式：Ｚ’で示される基；Ｚ３はアリールアルキル含有保護基（好ましくはベンジル基）又は下記式Ｚ’で示される基；そしてＢｎ’は上記と同義である）
【化３１】
2004244583.tif 000011
（式中、Ａｃ’は上記と同義である）
で表される化合物群から選択される高マンノース型糖化合物を製造する方法；
【０００８】
（２）式（Ａ）の化合物であって、Ｒがプロピルオキシ；そしてＲ１が水素原子である化合物（化合物１ｂ）を製造する方法であって、下記式６’：
【化３２】
2004244583.tif 000012
（式中、Ｂｎ’、Ｐｈｔｈ’は上記と同義；そしてＡｌｌはアリル基である）
で表される化合物と下記式７’：
【化３３】
2004244583.tif 000013
（式中、Ｂｎ’及びＹ２は上記と同意義である）
で表される化合物とを反応させて、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２が水素原子；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である化合物（化合物２２ａ’）を得る工程を含む前記請求項２に記載の方法；
（３）前記化合物２２ａ’をアセチル化処理及びシクロヘキシリデン基の脱離処理に供し、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４とＲ６が水素原子である化合物（化合物２２ｃ’）を調製し、化合物２２ｃ’と下記式８’：
【化３４】
2004244583.tif 000014
（式中、Ａｃ’、Ｂｎ’及びＺ１は上記と同義である）
で表されるペンタサッカライド（化合物８’）とを反応させて、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４が水素原子；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ａ’）を調製する工程を含む前記請求項２又は３に記載の方法；
（４）前記化合物２３ａ’をアセチル化して、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがシリル含有保護基；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｂ’）を調製し、その後、得られた化合物２３ｂ’中のシリル含有保護基を脱離する工程を含む上記請求項２〜４のいずれかに記載の方法（化合物２３ｃの製法）；
（５）式（Ａ）の化合物であって、Ｒがプロピルオキシ；そしてＲ１がＲ１−１で示される基である化合物（化合物２ｂ）を製造する方法であって、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａが水素原子；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｃ）と、下記式４’：
【化３５】
2004244583.tif 000015
（式中、Ｐｈ、Ｐｉｖ’、ＰＭＢ’は上記と同義；そしてＹ３は反応性置換基）で表される化合物とを反応させる工程を含む上記請求項２に記載の方法（化合物２４’の製法）；及び
（６）式（Ａ）の化合物であって、Ｒがプロピルオキシ；そしてＲ１がＲ１−２で示される基である化合物（化合物３）を製造する方法であって、式（Ｉ）の化合物であって、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａが水素原子；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｃ’）と、下記式５’：
【化３６】
2004244583.tif 000016
（式中、Ｐｈ，Ｐｉｖ’、ＰＭＢ’は上記と同義；そしてＹ３は反応性置換基）で表される化合物とを反応させる工程を含む上記請求項２に記載の方法（化合物２５’の製法）。
【０００９】
次に、本発明によれば、上記高マンノース型糖化合物の製造に用いる糖ブロック化合物が提供され、例えば、下記の如き糖ブロック化合物が提供される。
【００１０】
（１）次式（Ｉ）
【化３７】
2004244583.tif 000017
（式中、Ｒ２は水素原子又はアシル含有保護基；Ｒ３はハロゲン原子又は下記式Ｒ３−１で示される基；Ｑは水素原子、シリル含有保護基又は下記式Ｑ’で示される基；Ｒ４は水素原子又はアシル含有保護基；Ｒ６は水素原子又は下記式Ｒ６−１で示される基；あるいはＲ４とＲ６は一緒になって環状アセタール系保護基又は環状ケタール系保護基；Ｂｎ’はアリールアルキル含有保護基；そしてＰｈｔｈ’はアミノ保護基である）
【化３８】
2004244583.tif 000018
（式中、Ｂｎ’及びＰｈｔｈ’は上記と同義；Ｑａはシリル含有保護基、水素原子、又は上記式：Ｑａ−１もしくはＱａ−２示される基；Ｐｈはフェニル基；Ｐｉｖ’はアシル含有保護基；ＰＭＢ’は置換ベンジル含有保護基；Ａｃ’はアシル含有保護基；そしてＡｌｌ’はアリル基又はＣ６−２０アリールＣ１−２６アルキルオキシ基である）
で示される化合物；
【００１１】
（２）Ｒ２が水素原子；Ｒ３がフッ素原子；ＱがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記（１）に記載の化合物（化合物１２ａ）；
（３）Ｒ２がアセチル基；Ｒ３がフッ素原子；ＱがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記（１）に記載の化合物（化合物１２ｂ）；
（４）Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基ＱがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記（１）に記載の化合物（化合物１４）；
（５）Ｒ２が水素原子；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが水素原子；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記（１）に記載の化合物（化合物６）；
（６）Ｒ２が水素原子；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記（１）に記載の化合物（化合物２２ａ）；
【００１２】
（７）Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である、前記（１）に記載の化合物（化合物２２ｂ）；
（８）Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が水素原子である、前記（１）に記載の化合物（化合物２２ｃ）；
（９）  Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４が水素原子；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記（１）に記載の化合物（化合物２３ａ）；
（１０）  Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記（１）に記載の化合物（化合物２３ｂ）；
【００１３】
（１１）  Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａが水素原子；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記（１）に記載の化合物（化合物２３ｃ）；
（１２）  Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが式Ｑ’で示される基で、式Ｑ’中のＱａがＱａ−１；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記（１）に記載の化合物（化合物２４）；
（１３）  Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基Ｑが式Ｑ’で示される基で、式Ｑ’中のＱａがＱａ−２；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である、前記（１）に記載の化合物（化合物２５）；
【００１４】
（１４）次式（ＩＩ）
【化３９】
2004244583.tif 000019
（式中、Ｙ１はアシル含有保護基、水素原子又は下記式：Ｙ１−１で示される基；
Ｙ２は反応性置換基；そしてＢｎ’は上記と同義である）
【化４０】
2004244583.tif 000020
（式中、Ｂｎ’は上記と同義；Ｙ’は水素原子又はシリル含有保護基である）
で表される化合物；
【００１５】
（１５）  Ｙ１はアセチル基；そしてＹ２はメチルチオ基である前記（１４）に記載の化合物（化合物１７ａ）；
（１６）  Ｙ１は水素原子；そしてＹ２はメチルチオ基である前記（１４）に記載の化合物（化合物１７ｂ）；
（１７）  Ｙ１は式Ｙ１−１で示される基；式Ｙ１−１中のＹ’はＴＢＤＰＳ；そしてＹ２はメチルチオ基である前記（１４）に記載の化合物（化合物７）；
【００１６】
（１８）  次式（ＩＩＩ）
【化４１】
2004244583.tif 000021
（式中、Ｚ１は反応性置換基；Ｚ２はシリル含有保護基又は下記式：Ｚ’で示される基；Ｚ３はアリールアルキル含有保護基又は下記式Ｚ’で示される基；そしてＢｎ’はアリールアルキル含有保護基である）
【化４２】
2004244583.tif 000022
（式中、Ａｃ’はアシル含有保護基である）
で表される化合物；
【００１７】
（１９）  Ｚ１がフッ素原子；Ｚ２がＴＢＤＰＳ；そしてＺ３がベンジルである前記（１８）に記載の化合物（化合物１８）；
【００１８】
（２０）  Ｚ１がフェニルチオ基；Ｚ２及びＺ３がＺ’で示される基である前記（１８）に記載の化合物（化合物２１）；及び
（２１）  Ｚ１がフッ素原子；Ｚ２及びＺ３がＺ’で示される基である前記（１８）に記載の化合物（化合物８）。
【００１９】
なお、本明細書中で使用される置換基、保護基および試薬の略語は次の通りである。
Ｂｎ：        ベンジル
Ａｃ：        アセチル
Ａｌｌ：      アリル（ａｌｌｙｌ）
Ｐｈｔｈ：    フタロイル
Ｐｈ：        フェニル
Ｐｉｖ：      ピバロイル
ＰＭＢ：      ｐ−メトキシベンジル
ＤＴＢＭＰ：  ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルピリジン
ＴＢＤＰＳ：  ｔ−ブチルジフェニルシリル
Ｍｅ：        メチル
Ｅｔ          エチル
Ｂｕ          ブチル
ＤＤＱ：      ２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン
ＭｅＯＴｆ：  メチルトリフラート（メタンスルホン酸メチル）
ＤＭＡＰ：    ４−ジメチルアミノピリジン
ＡｇＯＴｆ：  銀トリフラート
Ｃｐ：        シクロペンタジエニル
ＤＭＦ：      Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＴＨＦ：      テトラヒドロフラン
ＴＥＡ：      トリエチルアミン
ＤＡＳＴ：    ジエチルアミノサルファトリフロリド
ＮＩＳ：      Ｎ−ヨウドスクシンイミド
ｐＴｏｓ：      ｐ−トルエンスルホニル
ＭＳ４Ａ：    モレキュラーシーブ（４Å）
ＣＳＡ：    （１Ｓ）−（＋）１０−カンファ−スルホン酸
ＣＯＤ：      １，５−シクロオクタジエン
ＮＢＳ：      Ｎ−ブロモスクシンイミド
Ｃｐ２ＨｆＣｌ２：  シクロペンタジエニルハフノセンジクロリド
ＴＢＡＦ：        テトラブチルアンモニウムフルオリド
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
本発明の高マンノース型糖化合物は、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で示した特定の糖ブロック化合物群から、目的とする最終生成物の糖鎖構造及びその糖鎖構造を構築するための反応ルートを考慮して、使用する糖ブロック化合物を少なくとも１種選択し、それらを適宜反応させることを含む方法である。本発明において使用する糖ブロック化合物は、最終生成物の糖鎖構造を構築するために、所定の位置に反応性置換基を有し、反応を避ける必要がある水酸基及びアミノ基については所定の保護基で保護してなる化合物である。
【００２２】
水酸基の保護基としては、例えば、それぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなど）、フェニル、Ｃ７−１１アリールアルキル（例えば、ベンジルなど）、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル（例えば、アセチル、プロピオニルなど）、フェニルオキシカルボニル、Ｃ７−１１アラルキルオキシ−カルボニル（例えば、ベンジルオキシカルボニルなど）、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、シリルなどが用いられる。これらの置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ１−６アルキル（例えば、メチル、エチル、ｔｅｒｔ−ブチルなど）、Ｃ７−１１アラルキル（例えば、ベンジルなど）、Ｃ６−１０アリール（例えば、フェニル、ナフチルなど）、ニトロなどが用いられる。
【００２３】
本明細書中、「アシル含有保護基」とは、アシル基を有する水酸基の保護基をいい、例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイルなどが挙げられる。「アリールアルキル含有保護基」とは、アリールアルキルを有する水酸基の保護基をいい、例えば、ベンジルなどが挙げられる。「置換アリールアルキル含有保護基」とは、アリールアルキル含有保護基が１〜３個の置換基（例えば、Ｃ１−３アルコキシ）によって置換されたものをいい、例えば、ｐ−メトキシベンジルが挙げられる。「シリル含有保護基」とは、シリル基を有する水酸基の保護基をいい、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリルなどが挙げられる。「環状アセタール系保護基」とは環状アセタール残基を有する水酸基の保護基をいい、例えば、イソプロピリデンアセタール、ベンジリデンアセタールなどが挙げられる。「環状ケタール系保護基」とは、環状ケタール残基を有する水酸基の保護基をいい、例えば、シクロヘキシリデンが挙げられる。本発明の方法において好ましく用いられる水酸基の保護基としては、ベンジル基、ｔ−ブチル基、ｐ−メトキシベンジル基、トリチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、メタンスルホニル基、アセチル基、ピバロイル基などが挙げられる。
【００２４】
本明細書中、「アミノ保護基」とは、反応中にアミノ基を保護する置換基をいい、例えば、アセトアミド、トリクロロアセトアミド等のアミド含有保護基、フタロイル等のイミド含有保護基、Ｃ１−６アルキル−カルボニル（例えばアセチル、プロピオニルなど）、アリルカーバメート、Ｃ７−２０アラルキルカーバメート（例えば、ベンジルカーバメート）等のカーバメート含有保護基、トリチルなどが用いられる。これらの置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ１−６アルキル−カルボニル（例えば、アセチル、プロピオニル、バレリルなど）、ニトロなどが用いられる。本発明で特に好ましく用いられるアミノ基の保護基はフタロイル基である。
【００２５】
本明細書中、「反応性置換基」とは、２種の化合物を結合する反応をし得る置換基をいい、例えば、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素、沃素）、Ｃ１−１０アルキルチオ（好ましくはＣ１−５アルキルチオ）、Ｃ６−２０アリールチオ、トリクロロアセトイミデート、ペンテニル基等が挙げられる。
本明細書中、「蛍光性置換基」とは、各種実験において標識となる蛍光を発し得る置換基をいい、例えば、フルオレシン、フルオレシンイソチオシアネート、ローダミンなどの蛍光物質の残基、あるいはこれらの蛍光物質の残基にリンカー（例えば、−ＮＨ−、−Ｏ−，Ｃ１−１０アルキル及びこれらの組合せ）などを結合させた基が挙げられ、例えば、ＤＡＮＳＹＬ基、ＢＯＤＩＰＹ基、Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｉｎ基（フナコシ社製）などが挙げられる。これらの蛍光性置換基、およびその導入方法については、フナコシ社カタログに詳細に記載されている。
【００２６】
また、保護基の除去方法としては、例えば酸、塩基、紫外光、ヒドラジン、フェニルヒドラジン、Ｎ−メチルジチオカルバミン酸ナトリウム、テトラブチルアンモニウムフルオリド、酢酸パラジウムなどで処理する方法または還元反応等の公知の手法が用いられる。
【００２７】
いずれの場合にも、さらに所望により、公知の脱保護反応、アシル化反応、アルキル化反応、水素添加反応、酸化反応、還元反応、炭素鎖延長反応、置換基交換反応を各々、単独あるいはその二つ以上を組み合わせて行うことにより、本発明の中間体及び最終生成物を製造することができる。これらの反応は、例えば、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  Ｊｈｏｎ  ｗｉｅｌｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．  新実験化学講座  １４［Ｖ］    （丸善）などに記載されている。
【００２８】
上記の通り、本発明の方法においては、適当な複数のオリゴ糖ブロック化合物を選択し、それらのオリゴ糖ブロック化合物を所望の位置において結合することによって、所望の糖鎖を構築していく。本発明において、特に好ましく用いられる糖ブロック化合物は、例えば、次のような化合物である。
【００２９】
【化４３】
2004244583.tif 000023
【００３０】
また、本発明において好ましく用いられる糖ブロック化合物としては、次の化合物も挙げられる。
（１）式（Ｉ）中、Ｒ２が水素原子；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である化合物（化合物２２ａ）；
（２）式（Ｉ）中、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が一緒になってシクロヘキシリデン基である（化合物２２ｂ）；
（３）式（Ｉ）中、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４とＲ６が水素原子である化合物（化合物２２ｃ）；
（４）式（Ｉ）中、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４が水素原子；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ａ）；
【００３１】
（５）式（Ｉ）中、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式Ｑ’中のＱａがＴＢＤＰＳ；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｂ）；
（６）式（Ｉ）中、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基；式：Ｑ’中のＱａが水素原子；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２３ｃ）；
（７）式（Ｉ）中、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基で、式Ｑ’中のＱａがＱａ−１；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２４）；及び
（８）式（Ｉ）中、Ｒ２がアセチル基；Ｒ３が式Ｒ３−１で示される基；Ｒ３−１中のＡｌｌ’がアリル基；Ｑが式Ｑ’で示される基で、式Ｑ’中のＱａがＱａ−２；そしてＲ４がアセチル基；そしてＲ６が式Ｒ６−１で示される基である化合物（化合物２５）。
【００３２】
本発明の製造方法においては、上記のような糖ブロック化合物から適当な化合物を選択し、適宜、保護基付加反応、保護基の脱離反応、複数の糖ブロック化合物のカップリング反応を含む糖鎖の延長反応などを組み合わせることによって目的とするＭａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物１ｂ）、Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物２ｂ）又はβ−Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物３）から選ばれる高マンノース型糖化合物を製造する。このような保護基付加反応、保護基の脱離反応、複数の糖ブロック化合物のカップリング反応を含む糖鎖の延長反応などは、例えば、Ｓｅｉｆｅｒｔ，  Ｊ．  Ｌｅｒｇｅｎｍｕｌｌｅｒ，  Ｍ．  Ｉｔｏ，  Ｙ．，  Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｔ．  Ｅｄ．  Ｅｎｇｌ．  ２０００，  ３９，５３１−４、第４版  実験化学講座  ２６  有機合成ＶＩＩＩ（丸善）に記載されている。
以下、本発明の中間体、最終生成物である高マンノース型糖化合物、及びその製造方法について、具体的に説明する。
【００３３】
本発明の中間体である糖ブロック化合物は、一般的には、次のようなグリコシルドナーとグリコシルアクセプターのカップリング反応によって合成することができる。
【００３４】
スキーム１（化合物（Ｉ）の合成）
【化４４】
2004244583.tif 000024
（式中、Ｒ２、Ｑ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｂｎ’、Ｐｈｔｈ’は上記と同義；そして
Ｙ４はハロゲン、チオアルキル、チオアリールなどの反応性置換基を示す；但し、所望の化合物を得るために所定の水酸基は適当な保護基で保護される）
【００３５】
スキーム１において、グリコシルドナーである化合物（Ｉａ）とグリコシルアクセプターである化合物（Ｉｂ）を、溶媒の存在下あるいは不存在下反応させて化合物（Ｉ）を得る。この反応は、好ましくは、メチルトリフラート、銀トリフラート、Ｎ−ヨウ化コハク酸イミドートリフルオロメタンスルホン酸、ジメチルメチルチオスルホニウムトリフラート等の反応活性化剤の存在下行われる。さらに好ましくは、この反応は、モレキュラーシーブ、硫酸カルシウム等の脱水剤の存在下行われる。また、この反応で使用される溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、例えば、ピリジン、ルチジン、キノリン等の芳香族アミン類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類またはこれら二種以上の混合物等が挙げられる。上記反応で特に好ましい溶媒は、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類である。このカップリング反応は、通常、−８０〜１００℃、より好ましくは、−２０〜４５℃で、０．１〜７４時間、より好ましくは１〜１２時間行われる。以下、このグリコシルドナー（ＧＤ）とグリコシルアクセプター（ＧＡ）との反応を「ＧＤ／ＧＡカップリング反応」という。
【００３６】
次に、上記に示した好ましい糖ブロック化合物を例にして、その具体的な反応スキーム、反応条件などについて説明する。
【００３７】
スキーム２（化合物６の合成）
【化４５】
2004244583.tif 000025
【００３８】
スキーム１において、まず、公知の化合物である化合物９と化合物１０を、適当な溶媒の存在下あるいは不存在反応させて化合物１２ａを合成する。この反応においては、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）のような適当な酸化剤を用いてを用いて混合アセタール化を行う。ここで溶媒としては、上述の溶媒から選択されるが、特に好ましい溶媒は、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類である。この処理は、通常、−７８〜１００℃、より好ましくは、０〜２５℃で、０．１〜１２時間、より好ましくは１〜２時間行われる。さらに、このように処理して得られた化合物に、適当な溶媒及び２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンなどの塩基の存在下、メチルトリフラート（ＭｅＯＴｆ）などのアルキルトリフラートを反応させて、化合物１２ａを得る。ここで用いられる適当な溶媒は、上記溶媒から選択されるが、特に好ましいのは、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類である。
【００３９】
次に、化合物１２ａを、アセチル化反応に供して化合物１２ｂを得る。アセチル化は、適当な溶媒の存在下あるいは不存在下、通常、塩基の存在下で、アセチル化剤を用いて行う。好ましいアセチル化剤は、塩化アセチル又は無水酢酸である。本発明で「塩基」が用いられる場合は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、などの塩基性塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基類、ピリジン、ルチジンなどの芳香族アミン類、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリンなどの第３級アミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物類、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジドなどの金属アミド類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドなどの金属アルコキシド類などから選択される。上記アセチル化反応では、好ましくは、ピリジンが用いられる。このアセチル化反応は、０〜１２０℃、好ましくは、１０〜６０℃で、０．１〜２４時間、好ましくは１〜６時間行われる。
【００４０】
次に、グリコシルドナーである化合物１２ｂとグリコシルアクセプターである化合物１３を反応させて、化合物１４を得る。この反応は、上記ＧＤ／ＧＡカップリング反応であり、上記と同様の条件で行うことができる。なお、この反応は、好ましくは、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、ジシクロペンタジエニル−ハフノセンジクロリド（Ｃｐ２ＨｆＣｌ２）−銀トリフラートなどの触媒、及びモレキュラーシーブ等の脱水剤の存在下行われる。
【００４１】
スキーム３（化合物７の合成）
【化４６】
2004244583.tif 000026
【００４２】
まず、グリコシルアクセプターである化合物１５とグリコシルドナーである化合物１６を反応させて化合物１７ａを得、ついでグリコシルアクセプターである化合物１７ｂとグリコシルドナーである化合物１８を反応させて、化合物７を得る。これらの一連の反応も「ＧＤ／ＧＡカップリング反応」であり、上記と同様の条件で行うことができる。
【００４３】
スキーム４（化合物８の合成）
【化４７】
2004244583.tif 000027
【００４４】
まず、グリコシルアクセプターである化合物１９とグリコシルドナーである化合物２０を反応させて、化合物２１を得る。この反応は、「ＧＤ／ＧＡカップリング反応」であり、上記と同様の条件で行うことができる。次いで、得られた化合物２１を、Ｎ−ブロモスクシンイミドとジエチルアミノサルファトリフロリド（ＤＡＳＴ）の存在下、処理して化合物８を得る。この処理は、例えば、−６０℃〜５０℃、より好ましくは−４０〜３０℃で、０．１〜２４時間、より好ましくは０．５〜１２時間行われる。以下、この処理を「アリールチオ／ハロ変換反応」という。
【００４５】
スキーム５（化合物１８の合成）
【化４８】
2004244583.tif 000028
【００４６】
化合物３２を上記した「アリールチオ／ハロ変換反応」に供することによって化合物１８を得る。
【００４７】
スキーム６（化合物２２ａ〜２２ｃの合成）
【化４９】
2004244583.tif 000029
【００４８】
化合物２２ａは、化合物６と化合物７をＤＧ／ＤＡカップリング反応に供することによって合成することができる。化合物２２ｂは、化合物２２ａをアセチル化処理することによって得ることができる。化合物２２ｃは、化合物２２ｂからシクロヘキシリデン基を除去することによって得ることができる。そのようなシクロヘキシリデン基の除去は、化合物２２ｂを、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐＴｏｓＯＨ）一水和物などの酸で処理することによって行うことができる。この処理は、通常、０〜１００℃、好ましくは１０〜３０℃で、０．１〜１２時間、好ましくは０．５〜６時間行われる。
【００４９】
スキーム７（化合物２３の合成）
【化５０】
2004244583.tif 000030
【００５０】
化合物２３ａはグリコシルドナーである化合物８とグリコシルアクセプターである化合物２２ｃを、ＧＤ／ＧＡカップリング反応に供することによって得ることができる。化合物２３ｂは化合物２３ａをアセチル化処理に供することによって得ることができる。化合物２３ｃは、化合物２３ｂ中のＴＢＤＰＳ基を除去することによって得ることができる。ＴＢＤＰＳ基の除去は、例えば、テフロン（登録商標）反応容器などの耐圧容器に、化合物２３ｂを仕込み、これを１０％ＨＦ／ピリジンを含むＤＭＦなどの溶媒に溶解し、その容器内の圧力を、例えば、０．１〜１．５ＧＰａ、好ましくは０．５〜１．２ＧＰａにして、２５〜１００℃で、１〜２時間処理することによって行うことができる。
【００５１】
（化合物２４及び２５の合成）
なお、化合物２４は、化合物２３ｃと化合物４を、ＤＡ／ＤＧカップリング反応に供することによって得ることができる。化合物２５は、化合物２３ｃと化合物５を、ＤＡ／ＤＧカップリング反応に供することによって得ることができる。
【００５２】
化合物１ｂ、２ｂ及び３の合成
目的化合物である、Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物１ｂ）、Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物２ｂ）又はβ−Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物３）は、化合物２３ｃ、化合物２４及び化合物２５の保護基全て除去することによって、それぞれ得ることができる。この保護基の除去は、公知の方法を利用することができる（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  Ｊｈｏｎ  ｗｉｅｌｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．  新実験化学講座  １４［Ｖ］    （丸善）参照）。具体的には、化合物２３ｃ、２４又は２５について、次のような処理を行う。
（１）エチレンジアミンを含むｎ−ブタノールでの処理（例えば、０〜１２０℃、好ましくは５０〜９０℃で、１〜１００時間、好ましくは１０〜７０時間）、
（２）ピリジン中で無水酢酸で処理（例えば、−２０℃〜８０℃、好ましくは−１０℃〜５０℃で、０．１〜４８時間、好ましくは１〜３０時間）、
（３）でＰｄ（ＯＨ）２等の還元剤の存在下水素添加処理（例えば、０〜１００℃、好ましくは１０〜４０℃で、１〜４８時間、好ましくは２〜３０時間）、
（４）ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ等による処理（例えば、−１０℃〜１２０℃、好ましくは−５℃〜８０℃で、１〜２４時間、２〜１０時間）
上記方法によると、式（Ａ’）で、Ｒ’がプロピルオキシである化合物が得られる。式（Ａ’）で、Ｒ’がその他の置換基である化合物を合成する場合は、Ｒ’を公知の手段を用いて水酸基に変換した後に、公知の手段を用いてＣ１−２６アルキルオキシ、アスパラギン又は蛍光性置換基に変換する（Ｎ．Ｋ．Ｋｏｃｈｅｔｋｏｖ  ｅｔ，  ａｌ．  Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ，  １４６  （１９８６）  Ｃ１−Ｃ５，  Ｉ．  Ｄ．  Ｍａｎｇｅｒ  ｅｔ，  ａｌ．，  Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ３１  （１９９２）  １０７３３−１０７４０          文献参照）。
【００５３】
なお、その他の式（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）に示される化合物は、当業者であれば上記反応の説明及び実施例の記載などを参照して合成することができる。また、上記の反応によって得られる中間体及び最終生成物は、濃縮、溶媒抽出、分溜、結晶化、再結晶、クロマトグラフィーなどの公知の手段によって反応混合物から単離、精製することができる。
【００５４】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいてより具体的に説明する。
【００５５】
基本手順
１Ｈおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルは、ＪＥＯＬ  ＥＸ−４００のスペクトロメータを用いて、特に明記しない場合は、ＣＤＣＬ３、Ｍｅ４Ｓｉを基準にして測定した。シリカゲルカラムクロマトラフィーは、シリカゲル−６０（Ｅ  Ｍｅｒｃｋ）を用いて行った。分析ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）は、シリカゲル６０Ｆ２５４（Ｅ  Ｍｅｒｃｋ）を塗布したガラスプレート上で行った。ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ  ＭＳスペクトルは、発光波長３３７  ｎｍの窒素レーザーを備えたＫＯＭＰＡＣＴ  ＭＡＬＤＩ  ＩＶ  ｔＤＥ（島津社製ＫＡＲＡＴＯＳ）により陽イオンモードにおいて測定した。
【００５６】
実施例１（化合物１２ａの合成）
【化５１】
2004244583.tif 000031
【００５７】
２，３−ジクロロー５，６−ジシアノー１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ：６７．８ｍｇ、０．２２９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（ＣＨ２Ｃｌ２：１．２ｍＬ）溶液中とモレキュラシーブ４Ａ（０．３ｇ）の混合物をアルゴンガス下、氷水中で冷やしながら攪拌した。この混合溶液に化合物１０（１００．０  ｍｇ，  ０．２０３  ｍｍｏｌ）と化合物９（１８１．８  ｍｇ，  ０．２８０  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液を添加した。この混合物を室温で２時間撹拌し、アスコルビン酸（０．７％）−クエン酸（１．３％）−ＮａＯＨ（０．９％）水溶液により反応を停止させ、５分間撹拌し、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）で希釈し、そして、セライトを通して濾過した。その濾過液を炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）と塩水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウム（Ｎａ２ＳＯ４）で乾燥させ、減圧下揮発成分を蒸発させた。その残留物（１２）を、１，２−ジクロロエタン（ＣＨ２ＣｌＣＨ２Ｃｌ：３．５  ｍＬ）中で２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン（１６０  ｍｇ，  ０．８１  ｍｍｏｌ）及びモレキュラシーブ４Ａ（０．６ｇ）と混合し、室温で撹拌した。次にメチルトリフラート（ＭｅＯＴｆ）ＣＨ２ＣｌＣＨ２Ｃｌ溶液（１  Ｍ，  ２０  ｍＬ，  ２０  ｍｏｌ）を０℃で添加した。
【００５８】
その混合物を４５℃で１２時間撹拌した後、トリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）により反応を停止させ、ＥｔＯＡｃ、ＮａＨＣＯ３水溶液で希釈し、セルライトを通して濾過した。その濾過液を水と塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ４）で乾燥させ，揮発成分を減圧下蒸発させた。その残留物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ，１３：１）で精製し、化合物１２ａ  （１６４．０  ｍｇ，  ８３％）を得た。以下、得られた化合物の物理化学的性状を示す。
【００５９】
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．８３−６．８３（ｍ，  ２４Ｈ，  Ａｒ），  ５．７８（ｄｄ，  Ｊ＝８．０，  ５３．６  Ｈｚ，  Ｈ−１１），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．５８（ｄ，  Ｊ＝１２．０  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．４２（ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３４−４．２９（ｍ，  ２Ｈ，  Ｈ−１２，  Ｈ−３１），  ４．２２（ｍ，  Ｈ−２１），  ４．２２（ｄ，  Ｊ＝１２．０，  ＰｈＣＨ２−），  ４．０４（ｔ，  Ｊ＝９．６  Ｈｚ，  Ｈ−４１），  ３．９５（ｔ，  Ｊ＝９．２  Ｈｚ，  Ｈ−４２），  ３．７２（ｄｄ，  Ｊ＝５．２，  １０．８  Ｈｚ，  Ｈ−６２），  ３．６４（ｍ，  ３Ｈ，  Ｈ−３２，  Ｈ−５１，  Ｈ−６１），  ３．５３（ｔ，  Ｊ＝１０．４，  Ｈ−６２），  ３．４１（ｍ，  ２Ｈ，  Ｈ−２２，Ｈ−６１），  ２．８３（ｍ，  Ｈ−５２），  ２．５７（ｓ，  −ＯＨ），  ２．０４−１．２５（ｍ，  １０Ｈ，  ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｉｄｅｎｅ），  １．１０（ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ）；  ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ５６Ｈ６２ＦＮＯ１１ＳｉＮａ：  ｃａｌｃｄ  ９９４．３９７４，  ｆｏｕｎｄ  ｍ／ｚ  ９９４．４００１（Ｍ＋Ｎａ）＋．
実施例２（化合物１２ｂの合成）
【化５２】
2004244583.tif 000032
【００６０】
化合物１２ａ（１．２９３  ｇ，  ．３２７  ｍｍｏｌ）と４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ：１６．５  ｍｇ）を含むピリジン（４．３  ｍＬ）溶液に、撹拌下、無水酢酸（２．５  ｍＬ）を加えた。この混合物を４０℃で２時間撹拌した。この反応混合物をメタノールに加えた。溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物をＥｔＯＡｃで希釈し、硫酸銅（ＣｕＳＯ４）、水、塩水、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、そして揮発成分を減圧下蒸発させた。この残留物を、シリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ、２０：１）で精製し、化合物１２ｂ（１．２９９ｇ、９６％）を得た。
【００６１】
［α］Ｄ＝＋２５．４  （ｃ＝１．１  ｉｎ  ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ）；  １Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．７５−６．８６（ｍ，  ２８Ｈ，  Ａｒ），  ５．７６（ｄｄ，  Ｊ＝７．２，  ５４．０  Ｈｚ，  Ｈ−１１），  ４．９４（ｄ，  Ｊ＝２．８  Ｈｚ，  Ｈ−２２），  ４．７６（ｄ，  Ｊ＝１２．０  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．５９（ｄ，  Ｊ＝１２．０  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３７（ｓ，  Ｈ−１２），  ４．３２（ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．２４（ｄ，  Ｊ＝１２．０  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．２１−４．１６（ｍ，  ２Ｈ，  Ｈ−２１，  Ｈ−３１），  ３．９１（ｔ，  Ｊ＝９．６  Ｈｚ，  Ｈ−４２），  ３．７１−３．６４（ｍ，  ３Ｈ，  Ｈ−３２，  Ｈ−６１，  Ｈ−６２），  ３．５４−３．４６（ｍ，  ３Ｈ，  Ｈ−５１，  Ｈ−６１，  Ｈ−６２），  ２．８０（ｍ，Ｈ−５２），  ２．１４（ｓ，３Ｈ，  Ａｃ），  １．５８−１．２４（ｍ，  １０Ｈ，  ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｉｄｅｎｅ），  １．０５（ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ）；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝１０４．６１（ｄ，  Ｊ＝２１２  Ｈｚ，  Ｃ−１１），  ９９．７６（ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｉｄｅｎｅ），  ９８．９６（Ｃ−１２），  ７７．９３（Ｃ−４１），  ７７．３２，  ７７．２０，  ７７．００，  ７６．６８，  ７５．７８（ＣＨ２），  ７５．６８（ＣＨ２），  ７４．４８（ＰｈＣＨ２−），  ７４．３７（ＣＨ２），  ７４．３２（ＣＨ２），  ７３．５０（ＰｈＣＨ２），  ７１．９９（Ｃ−２２），  ７１．５７（Ｃ−３２），  ７０．１４（Ｃ−４２），  ６７．８６（Ｃ−５２），  ６７．６３（Ｃ−６１），  ６１．０７（Ｃ−６１），  ３７．８３（ＣＨ２），  ２７．７５（ＣＨ２），  ２５．７０（ＣＨ２），  ２２．６７（ＣＨ２），  ２２．４６（ＣＨ２），  ２６．８４（Ｍｅ），  ２１．２６（Ｍｅ），  １９．３５（ＳｉＣＭｅ３）；  ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ５８Ｈ６４ＦＮＯ１２ＳｉＮａ：  ｃａｌｃｄ  １０３６．４０８０，  ｆｏｕｎｄ  ｍ／ｚ  １０３６．４１３１  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【００６２】
実施例３（化合物１４の合成）
【化５３】
2004244583.tif 000033
【００６３】
Ｃｐ２ＨｆＣｌ２（２６．３  ｍｇ，  ０．０６９  ｍｍｏｌ）、銀トリフラート（３５．９  ｍｇ，  ０．１３９  ｍｍｏｌ）及びモレキュラシーブ（１ｇ，  タイプ４Ａ）を無水ＣＨ２Ｃｌ２（３  ｍＬ）中、撹拌した。この混合物に、グリコシルドナー１２ｂ（１３５．２  ｍｇ，  ０．１３３  ｍｍｏｌ）とグリコシルアクセプター１３（８４．５  ｍｇ，  ０．１６０  ｍｍｏｌ）の無水ＣＨ２Ｃｌ２（６ｍＬ）溶液を−４５℃で添加した。この混合物を、徐々に−１０℃まで暖め、そして４時間撹拌した。不溶性物質はセライトを通すことによって除去し、濾過液をＥｔＯＡｃで希釈し、塩水、ＮａＨＣＯ３水溶液、塩水で順次洗浄した。
その溶液はＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ，  １２：１）で精製し、化合物１４（１７３．３  ｍｇ，  ８５％）を得た。
【００６４】
Ｒｆ  ０．１３（３：１  ｈｅｘａｎｅ−ＥｔＯＡｃ）  ［α］Ｄ＝＋２．３（ｃ  ０．５５  ｉｎ  ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ）；  １Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．７６−６．７１（ｍ，  ３８Ｈ，  Ａｒ），  ５．５８（ｍ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ５．１６（ｄ，  Ｊ＝７．８  Ｈｚ，  Ｈ−１１ｏｒ２），  ４．９７（ｍ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ４．９５（ｄ，  Ｊ＝７．３  Ｈｚ，  Ｈ−１１ｏｒ２），  ４．９４（ｍ，  Ｈ−２３），  ４．９１（ｄｄｄ，  Ｊ＝１．４，  １．４，  １０．５  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１２．９  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），４．７８（ｄ，  Ｊ＝１２．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．４７（ｓ，  ２Ｈ，  ＰｈＣＨ２），  ４．４１（ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．４１（ｓ，  Ｈ−１３），  ４．４０（ｄ，  Ｊ＝１１．９  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．３２（ｄ，  Ｊ＝１２．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．１９（ｄ，  Ｊ＝１１．９  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．１４−４．０７（ｍ，  ６Ｈ，  Ｈ−２１，２，  Ｈ−３１，２，  Ｈ−４１ｏｒ２，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ３．９９（ｔ，  Ｊ＝９．７  Ｈｚ，  Ｈ−４１ｏｒ２），  ３．８９（ｔ，  Ｊ＝９．５  Ｈｚ，  Ｈ−４３），  ３．８６（ｄｄｄ，  Ｊ＝６．３，  １．４，  １４．６  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ３．７０−３．６３（ｍ，  ２Ｈ，  Ｈ−３３，  Ｈ−６３），  ３．５３−３．４２（ｍ，  ３Ｈ，  Ｈ−６１，２，  Ｈ−６３），  ３．３６（ｄｄ，  Ｊ＝３．９，  １０．９  Ｈｚ，  Ｈ−６１ｏｒ２），  ３．２７−３．２４（ｍ，  ２Ｈ，  Ｈ−５１ｏｒ２，  Ｈ−６１ｏｒ２），  ３．０５（ｄｄ，  Ｊ＝１０．０  Ｈｚ，  Ｈ−５１ｏｒ２），  ２．７８（ｍ，  Ｈ−５３），  ２．１５（ｓ，  ３Ｈ，  Ａｃ），  １．５６（ｍ，  １０Ｈ，  ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｉｄｅｎｅ），  １．０５（ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ）  ；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝９９．６３（ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｉｄｅｎｅ），  ９８．７９（Ｃ−１３），  ９６．９６（Ｃ−１１ｏｒ２），  ９６．７６（Ｃ−１１ｏｒ２），  ７８．３６（Ｃ−４１ｏｒ２），  ７７．２０，  ７６．５１，  ７５．６７，  ７４．４３，  ７４．３２，  ７４．２０，  ７２．８７（ＰｈＣＨ２），  ７２．７２（ＰｈＣＨ２），  ７２．０３（−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２），  ７１．６５（Ｃ−３３），  ７０．１５（Ｃ−４３），  ６９．４２（−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２），  ６８．１０（Ｃ−６１ｏｒ２），  ６７．８０（Ｃ−５３），  ６７．３４（Ｃ−６１ｏｒ２），  ６１．０６（Ｃ−６３），  ５６．４６（ＣＨ２），  ５５．６３（ＣＨ２），  ３７．７７（ＣＨ２），  ２７．７３（ＣＨ２），  ２６．８１（ＣＨ２），  ２５．６５（ＣＨ２），  ２２．６１（ＣＨ２），  ２２．４０（ＣＨ２），  ２１．２３（Ｍｅ），  １９．３０（ＳｉＣＭｅ３）  ；  Ｃ８９Ｈ９４Ｎ２Ｏ１９Ｓｉ：  ｃａｌｃｄ  Ｃ  ７０．１５  Ｈ  ６．２２，  ｆｏｕｎｄ  Ｃ７０．３０  Ｈ  ６．２３．
【００６５】
実施例４（化合物６の合成）
【化５４】
2004244583.tif 000034
【００６６】
化合物１４（２０１．９  ｍｇ，  ０．１３２  ｍｍｏｌ）と酢酸（１６  μＬ）を含むＤＭＦ（１．６  ｍＬ）溶液に、撹拌下、ＴＨＦ中の１Ｍ  ＴＢＡＦ（２６４μＬ）を添加した。
この混合物を室温で１２時間撹拌した。反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、塩水で洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、そして揮発成分を減圧下蒸発させた。残留物をＴＬＣ（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ，  １：１）で分離精製し、３位がアセチル化した化合物（５４．３ｍｇ，  ３２％）及び２位がアセチル化した化合物（８５．７  ｍｇ，  ５０％）を得た。ＴＨＦ／ＭｅＯＨ（１／１，  １０ｍＬ）中の３位がアセチル化した化合物（４０６．０  ｍｇ，  ０．３１５  ｍｍｏｌ）溶液に０℃で１Ｎ  ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ  （０．１ｍＬ）を添加した。この混合物を１２時間室温で撹拌し、アンバーライト１５（Ｈ＋）樹脂で中和し、揮発性分を減圧下で蒸発させた。その残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ，  ２：１）によって精製し、化合物６（２９３．４ｍｇ，  ７５％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．６９−６．７６（ｍ，  ２８Ｈ，  Ａｒ），  ５．５９（ｍ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ５．２６（ｄ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  Ｈ−１１ｏｒ２），  ４．９９（ｄｄｄ，  Ｊ＝１．６，  １．６，  １７．２Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ４．９７（ｄ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  Ｈ−１１ｏｒ２），  ４．６８（ｓ，  Ｈ−１３），  ４３７（ｄｄ，  Ｊ＝８．４，  １０．４Ｈｚ，  Ｈ−３１ｏｒ２），  ３．２８（ｍ，  ２Ｈ，  Ｈ−５１，２），  ２．９５（ｍ，  Ｈ−５３），  １．５７（ｍ，  １０Ｈ，  ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｉｄｅｎｅ）；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝１００．２３（ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｉｄｅｎｅ），  ９９．８５（Ｃ−１３），  ９７．０５（Ｃ−１２），  ９６．８５（Ｃ−１１），  ７５．５７（Ｃ−５３），  ５６．５４，  ５５．７０．；  Ｃ７１Ｈ７４Ｎ２Ｏ１８  ：ｃａｌｃｄ  Ｃ  ６８．５９  Ｈ  ６．００，  ｆｏｕｎｄ  Ｃ６８．１８  Ｈ  ６．０１．
【００６７】
参考例１（化合物２７の合成）
【化５５】
2004244583.tif 000035
【００６８】
化合物２７（２７．１  ｍｇ，  ０．０７５  ｍｍｏｌ）、ＢｎＢｒ（１０  μＬ）、及びＢｕ４ＮＨＳＯ４を含むＣＨ２Ｃｌ２（２  ｍＬ）溶液に、撹拌下、５％ＮａＯＨ水溶液（０．１  ｍＬ）を添加した。その混合物を４５℃で１２時間撹拌した。その溶液をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＣｌ飽和水溶液で洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ４）そして揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ、８：１）で精製し、化合物２８（２０．６ｍｇ，  ６１％）を得た。この化合物の物理的データはすでに報告された（Ｃｈｅｒｉｍ，  Ｓ．；  Ｃｌａｖｅｌ，  Ｊ．−Ｍ．；  Ｍｏｎｎｅｒｅｔ，  Ｃ．  Ｊ．  Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．  Ｃｈｅｍ．  １９９８，  １７，  １２０３−１２１８）  ものと完全に一致した。
【００６９】
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．５１−７．３０  （ｍ，１５Ｈ，  Ａｒ），  ５．５９  （ｓ，  １Ｈ，  ＣＨ），  ５．５８  （ｓ，  １Ｈ，  Ｈ−１），  ４．７７−４．６３  （ｍ，  ２Ｈ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３３  （ｍ，  Ｈ−５），  ４．２２  （ｄｄ，  Ｈ−４），  ４．２１  （ｍ，  ２Ｈ，  Ｈ−２，  Ｈ−６ｅ），  ３．４０  （ｔ，  １Ｈ，  Ｈ−６ａ），  ３．８４  （ｔ，  １Ｈ，  Ｈ−３）．
【００７０】
参考例２（化合物２８の合成）
【化５６】
2004244583.tif 000036
【００７１】
化合物２７（１．２７  ｇ，  ２．８３  ｍｍｏｌ）とアリールブロマイド（４９０  μＬ）を含むＤＭＦ（２６  ｍＬ）溶液に、撹拌下、０℃でＮａＨ（１７０  ｍｇ，  ４．２４  ｍｍｏｌ）を加えた。その混合物を室温で１２時間撹拌した。反応混合物にＴＥＡ（１  ｍＬ）を加えて１時間撹拌し、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液を加えた。その混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、塩水で洗浄して、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、揮発成分を減圧下蒸発させた。その残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ、  １０：１）で精製し、化合物２８（１．３２  ｇ，  ９５％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．５１−７．２５  （ｍ，１５Ｈ，  Ａｒ），  ５．９０  （ｍ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ５．６２  （ｓ，  １Ｈ，  ＰｈＣＨ），  ５．５２  （ｓ，  １Ｈ，  Ｈ−１），  ４．７６−４．７５  （２Ｈ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３０−４．２５  （４Ｈ，  Ｈ−５，  Ｈ−６，  ＣＨ２），  ４．２３−４．０８  （２Ｈ，  Ｈ−２，  Ｈ−６），  ３．９１−３．８５  （２Ｈ，  Ｈ−３，  Ｈ−４）；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  １０１．４５  （ＰｈＣＨ）  ８７．１９  （Ｃ−１），  ７９．２４（Ｃ−３），  ７９．０５，  ７８．０５，  ７５．８８，  ７３．０９，  ７１．９４，  ６８．５１，  ６５．４０  ；  Ｃ２９Ｈ３０Ｏ５Ｓ：  ｃａｌｃｄ  Ｃ  ７１．００，  Ｈ  ６．１６，  ｆｏｕｎｄ  Ｃ  ７１．０７，  Ｈ  ６．１８．
【００７２】
参考例３（化合物２９）
【化５７】
2004244583.tif 000037
【００７３】
化合物２８（７５０  ｍｇ，  １．５４  ｍｍｏｌ）のメタノール（２４  ｍＬ）溶液に、ＣＳＡ（３５．９  ｍｇ，  ０．１５  ｍｍｏｌ）を室温で３時間撹拌しながら加えた。その反応をＴＥＡ（１  ｍＬ）で反応停止させ、減圧下で濃縮した。残留物は、シリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ，  ３：１）で精製し、化合物２９（６２０  ｍｇ，  ９９  ％）を得た。
【００７４】
Ｒｆ  ０．３３（１：１  ｔｏｌｕｅｎｅ−ＥｔＯＡｃ）．
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．４３−７．４４（ｍ，１０Ｈ，  Ａｒ），  ５．８３（ｍ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ５．５１（ｄ，  Ｊ＝１．６Ｈｚ，  Ｈ−１），  ５．２４（ｄｄｄ，  Ｊ＝１７．２  １．６  ３．２  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ５．１７（ｄｄｄ，  Ｊ＝１０．４  １．６  ２．８  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ４．６１（ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．０６（ｍ，  Ｈ−５），  ４．０２（ｄｄ，  Ｈ−４），  ３．９８（ｍ，  Ｈ−２），  ３．９８（ｄｄｄ，  Ｊ＝１．６  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ３．８９（ｄｄｄ，  Ｊ＝１．２，  ５．６  １２．４  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ３．８３（ｄｄ，  Ｊ＝３．６，  １１．６  Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．７７（ｄｄ，  Ｊ＝５．２  １１．６  Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．５６（ｄｄ，  Ｊ＝３．２  ９．２  Ｈｚ，  Ｈ−３）；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  ８６．０５（Ｃ−１），  ７９．２４（Ｃ−３），  ７５．１７（Ｃ−２），  ７３．１９（Ｃ−５），  ６７．３１（Ｃ−４），  ６２．７８（Ｃ−６）  ；  Ｃ２２Ｈ２６Ｏ５Ｓ：  ｃａｌｃｄ  Ｃ  ６５．６５，  Ｈ  ６．５１，  ｆｏｕｎｄ  Ｃ  ６５．３４，  Ｈ  ６．６０．
【００７５】
参考例４（化合物３０の合成）
【化５８】
2004244583.tif 000038
【００７６】
化合物２９（６２０  ｍｇ，  １．５４  ｍｍｏｌ）とＢｎＢｒ（９１０  μＬ，  ７．７０  ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（１０  ｍＬ）溶液に、撹拌下、０℃でＮａＨ（２２０  ｍｇ，  ５．５８ｍｍｏｌ）を加えた。その混合物を室温で１２時間撹拌した。反応混合物にＴＥＡ（１  ｍＬ）を加え、１時間撹拌後、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液を加えた。その混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、塩水で洗浄、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ，  ２０：１）で精製し、化合物３０（０．７２ｇ，  ８０％）を得た。
【００７７】
Ｒｆ  ０．１８（２０：１  ｈｅｘａｎｅ−ＥｔＯＡｃ）；  ［α］Ｄ＝＋９２．９（ｃ＝０．９６  ｉｎ  ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ）；  １Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．４６−７．２２（ｍ，  ２０Ｈ，  Ａｒ），  ５．９２（ｍ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ５．６１（ｄ，  Ｊ＝１．２Ｈｚ，  Ｈ−１），  ５．３２（ｄｄｄ，  Ｊ＝１．４，  ３．１，  １４．３  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ５．１９（ｄｄｄ，  Ｊ＝１．７，  １０．２  Ｈｚ，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ４．８９（ｄ，  Ｊ＝１０．７  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．７６（ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．６７（ｄ，  Ｊ＝１１．９  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．６４（ｄ，  Ｊ＝１１．７  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．５２（ｄ，  Ｊ＝１０．７  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．４８（ｄ，  Ｊ＝１１．９  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２−），  ４．２７（ｍ，  Ｈ−５），  ４．０４−３．９９（ｍ，  ４Ｈ，  Ｈ−２，  Ｈ−４，  ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ３．８３（ｄｄ，  Ｊ＝５．１，  １０．７  Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．７６（ｄｄ，  Ｊ＝３．１，  ９．２  Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．７４（ｄｄ，  Ｊ＝１．９，  １０．９  Ｈｚ，  Ｈ＝３）；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝８５．７８（Ｃ−１），  ７９．８７（Ｃ−３），  ７６．１９（Ｃ−２），  ７５．２０（ＰｈＣＨ２−），  ７４．９４（Ｃ−４），  ７３．２６（ＰｈＣＨ２−），  ７２．７０（Ｃ−５），  ７１．８９（ＰｈＣＨ２−），  ７１．０３（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−），  ６９．２１（Ｃ−６）；  Ｃ３６Ｈ３８Ｏ５Ｓ：ｃａｌｃｄ  Ｃ  ７４．２０，  Ｈ  ６．５７，  ｆｏｕｎｄ  Ｃ  ７４．０６，  Ｈ  ６．５６
【００７８】
参考例５（化合物３１の合成）
【化５９】
2004244583.tif 000039
【００７９】
１，５シクロオクタジエン  ビスメチルジフェニルホスフィン  イリジウム  ヘキサフルオロホスフェート（［Ｉｒ（ＣＯＤ）［ＰＣＨ３（Ｃ６Ｈ５）２］］ＰＦ６：１０．４  ｍｇ，  ０．０１２ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（１０  ｍＬ）中溶液を、周囲の雰囲気をＨ２に変換しながら色が消えるまで撹拌した。この溶液を５ｍＬに濃縮し、そしてフラスコをＮ２でパージした。その後、化合物３０（３９８．３  ｍｇ，  ０．６８３  ｍｍｏｌ）溶液を加え、この混合物を１時間撹拌し、ＥｔＯＡｃで希釈し、そして減圧下で濃縮した。残留物を９０％アセトン水溶液中に溶解し、ＨｇＣｌ２（４６３．９  ｍｇ，  １．７０９  ｍｍｏｌ）：  ＨｇＯ（５９．２  ｍｇ，  ０．２７３  ｍｍｏｌ）で２時間処理した。その混合物をＣＨＣｌ３で希釈後、１０％ＫＩ水溶液と塩水で洗浄した。その溶液をＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ，  ７：１）で精製し、化合物３１（３００．１  ｍｇ，  ８０％）を得た。
【００８０】
Ｒｆ  ０．１８（１０：１  ｈｅｘａｎｅ−ＥｔＯＡｃ）；１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．４９−７．２２（ｍ，  ２０Ｈ，  Ａｒ），  ５．６７（ｓ，  Ｈ−１），  ４．８６（ｄ，  Ｊ＝１１．２，  ＰｈＣＨ２−），  ４．７６（ｄ，  Ｊ＝１１．６，  ＰｈＣＨ２−），  ４．６５（ｄ，  Ｊ＝１１．６，  ＰｈＣＨ２−），  ４．５５（ｄ，  Ｊ＝１０．８，  ＰｈＣＨ２−），  ４．５１（ｄ，  Ｊ＝１２．０，  ＰｈＣＨ２−），  ４．４８（ｄ，  Ｊ＝１２．０，  ＰｈＣＨ２−），  ４．２８（ｄｄｄ，  Ｊ＝２．４，  ４．８，  １０．０  Ｈｚ，  Ｈ−５），  ４．００（ｓ，  Ｈ−２），  ３．９９（ｄｄ，  Ｊ＝３．６，  Ｈ−３），  ３．８４（ｄｄ，  Ｊ＝４．８，  １１．２  Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．８０（ｄｄ，  Ｊ＝８．４，  ９．６  Ｈｚ，  Ｈ−４），  ３．７４（ｄｄ，  Ｊ＝２．０，  １０．８  Ｈｚ，  Ｈ−６）；  １３Ｃ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３）  δ＝８４．９５（Ｃ−１），  ７９．６７（Ｃ−２），  ７６．７５（Ｃ−４），  ７４．８７（ＰｈＣＨ２−），  ７３．３０（ＰｈＣＨ２−），  ７２．２８（Ｃ−３），  ７２．１７（ＰｈＣＨ２−），  ７１．９９（Ｃ−５），  ６９．０７（Ｃ−６）；  Ｃ３３Ｈ３４Ｏ５Ｓ：ｃａｌｃｄ  Ｃ  ７３．０４，  Ｈ  ６．３１，  ｆｏｕｎｄ  Ｃ  ７２．７０  Ｈ  ６．５２．
【００８１】
参考例６（化合物３２）
【化６０】
2004244583.tif 000040
【００８２】
化合物３１（３００．１  ｍｇ，  ０．５５３ｍｍｏｌ）とＴＢＤＰＳＣＩ（２８０μＬ，  １．１０  ｍｍｏｌ）の無水アセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ：８  ｍＬ）溶液に、撹拌下、室温でイミダゾール（１１０  ｍｇ，  １．６５  ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を１２時間撹拌し、ＥｔＯＡｃで希釈後、２ＮのＨＣｌと塩水、ＮａＨＣＯ３水溶液、塩水で洗浄した。その溶液をＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ，  ２０：１）で精製し、化合物３２（４３１．９  ｍｇ，  ｑｕａｎｔ）を得た。
【００８３】
Ｒｆ  ０．４６  （２０：１  ｈｅｘａｎｅ−ＥｔＯＡｃ）；  ［α］Ｄ＝＋１１３．９（ｃ＝０．８１  ｉｎ  ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ）；  １Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．７９−７．１５（ｍ，  ３０Ｈ，  Ａｒ），  ５．２９（ｓ，  Ｈ−１），  ４．６０（ｄ，  Ｊ＝１２．０，  ＰｈＣＨ２−），  ４．４５（ｄ，  Ｊ＝１２．０，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３２（ｄ，  Ｊ＝１１．６，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３２（ｍ，  Ｈ−３），  ４．２５（ｄ，  Ｊ＝１１．２，  ＰｈＣＨ２−），  １．２０（ｍ，  Ｈ−５），  ４．０８（ｍ，  Ｈ−４），  ３．８３（ｄｄ，  Ｊ＝５．２，  １０．８  Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．６９（ｄ，  Ｊ＝１０．０Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．２９（ｓ，  Ｈ−２），  １．２２（ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ−）  ；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝８５．３７（Ｃ−１），  ７９．７９（Ｃ−２），  ７６．３４（Ｃ−４），  ７５．０８（ＰｈＣＨ２−），  ７４．１０（Ｃ−３），  ７３．１９（ＰｈＣＨ２−），  ７２．８４（Ｃ−５），  ７１．８５（ＰｈＣＨ２−）．  ６９．４０（Ｃ−６），  ２７．２８（Ｍｅ３Ｃ−），  １９．４６（Ｍｅ３Ｃ−）；  ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ４９Ｈ５２Ｏ５ＳＳｉＮａ：  ｃａｌｃｄ  ８０３．３２０２，  ｆｏｕｎｄ：  ｍ／ｚ  ８０３．３２１０  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【００８４】
実施例５（化合物１８の合成）
【化６１】
2004244583.tif 000041
【００８５】
化合物３２（１．０９９ｇ，  １．４０７ｍｍｏｌ）とＮＢＳ（０．５０１ｇ，  ２．８１１ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液に、−４０℃でＤＡＳＴ（３７０  μＬ，  ２．８００ｍｍｏｌ）を加えた。この混合物を徐々に−１５℃まで暖め、１２時間撹拌した。反応混合物はＥｔＯＡｃで希釈後、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液と塩水で洗浄した。その溶液をＭｇＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。その残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：トルエン，  １：１）で精製し、化合物１８（０．４８５  ｇ，  ５０％）を得た。
【００８６】
Ｒｆ  ０．４７  （２０：１  ｈｅｘａｎｅ−ＥｔＯＡｃ）；  ［α］Ｄ＝＋１１３．９（ｃ＝０．８１  ｉｎ  ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ）；  １Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．７９−７．１５（ｍ，  ３０Ｈ，  Ａｒ），  ５．２９（ｓ，  Ｈ−１），  ４．６０（ｄ，  Ｊ＝１２．０，  ＰｈＣＨ２−），  ４．４５（ｄ，  Ｊ＝１２．０，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３２（ｄ，  Ｊ＝１１．６，  ＰｈＣＨ２−），  ４．３２（ｍ，  Ｈ−３），  ４．２５（ｄ，  Ｊ＝１１．２，  ＰｈＣＨ２−），  １．２０（ｍ，  Ｈ−５），  ４．０８（ｍ，  Ｈ−４），  ３．８３（ｄｄ，  Ｊ＝５．２，  １０．８  Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．６９（ｄ，  Ｊ＝１０．０Ｈｚ，  Ｈ−６），  ３．２９（ｓ，  Ｈ−２），  １．２２（ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ−）  ；  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝８５．３７（Ｃ−１），  ７９．７９（Ｃ−２），  ７６．３４（Ｃ−４），  ７５．０８（ＰｈＣＨ２−），  ７４．１０（Ｃ−３），  ７３．１９（ＰｈＣＨ２−），  ７２．８４（Ｃ−５），  ７１．８５（ＰｈＣＨ２−）．  ６９．４０（Ｃ−６），  ２７．２８（Ｍｅ３Ｃ−），  １９．４６（Ｍｅ３Ｃ−）；  ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ４９Ｈ５２Ｏ５ＳＳｉＮａ：  ｃａｌｃｄ  ８０３．３２０２，  ｆｏｕｎｄ：  ｍ／ｚ  ８０３．３２１０  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【００８７】
実施例６（化合物１７ａの合成）
【化６２】
2004244583.tif 000042
【００８８】
ＡｇＯＴｆ（３．３０  ｇ，  １２．８５  ｍｍｏｌ）とモレキュラシーブ（１５  ｇ，  タイプ４Ａ）を無水トルエン（１０  ｍＬ）中、０℃で３０分撹拌後、−３０℃で冷やした。これに、ドナー１６（３．００  ｍｇ，  ５．８７  ｍｍｏｌ）とアクセプター１５（２．００  ｇ，  ４．６  １ｍｍｏｌ）を含む無水ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ（４０  ｍＬ）溶液を５分間滴下して加えた。反応混合物を−３０℃で１時間撹拌し、周辺温度にした（１２時間）。その反応をＴＥＡ（１  ｍＬ）で反応停止させた。その反応混合物はＥｔＯＡｃで希釈後、セルライトを通して濾過した。その濾過液をＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で洗浄した。その溶液をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ，  ５０：１〜１５／１）で精製し、化合物１７ａ（３．２２  ｇ，  ８．１％）を得た。
【００８９】
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝５．５１（ｄ，  Ｊ＝２．０  Ｈｚ），  ５．２６，  ５．０４（ｄ，  Ｊ＝１．６  Ｈｚ），  ４．８４（ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ＝１０．８  Ｈｚ），  ２．１２（ｓ，  ３Ｈ，  ＳＭｅ），  ２．００（ｓ，  ３Ｈ，  Ａｃ）．  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  １６９．８７  （Ｃ＝Ｏ），  ９９．５２  （Ｃ−１２），  ８４．７４  （Ｃ−１１），  ６８．７０  （Ｃ−２２），  ２１．２４  （Ａｃ），  １３．９１  （ＳＭｅ）．  ＭＳ  （ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）  Ｃ５７Ｈ６２Ｏ１１ＳＫ：  ｃａｌｃｄ  ９９４．２，  Ｆｏｕｎｄ：  ９９５．１  （Ｍ＋Ｋ）＋．ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ５７Ｈ６２Ｏ１１ＳＮａ：  ｃａｌｃｄ  ９７７．３９１１，  ｆｏｕｎｄ：  ｍ／ｚ  ９７７．３９５８  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【００９０】
実施例７（化合物１７ｂの合成）
【化６３】
2004244583.tif 000043
【００９１】
化合物１７ａ（０．９４  ｇ，  ０．９４６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ：ＭｅＯＨ（１：１，  １０  ｍＬ）溶液に、撹拌下、室温で２８％  ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ（３００  μＬ）を加えた。その混合物を１２時間撹拌後、アンバーライト１５（Ｈ＋）樹脂で中和し、不溶性物質を除去し、その濾過液の揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ，  １０：１）で精製し、１７ｂ（０．９０４ｍｇ，  ｑｕａｎｔ）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝  ７．５１−７．１６  （ｍ，  ３０Ｈ，  ａｒｏｍ，），  ５．３１（ｓ，  １Ｈ，  Ｈ−１１），  ５．１２（ｓ，  １Ｈ，  Ｈ−１２），  １．９３  （ｓ，  ３Ｈ，  ＳＭｅ）．  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  １０１．０５  （Ｃ−１２），  ８４．９５  （Ｃ−１１），  １３．９５  （ＳＭｅ）．  ＭＳ  （ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）：  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ５５Ｈ６０Ｏ１０ＳＮａ，  ９３６．１  Ｆｏｕｎｄ：  ９３６．１  （Ｍ＋Ｎａ）＋．；  ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ５５Ｈ６０Ｏ１０ＳＮａ：  ｃａｌｃｄ  ９３５．３８０５，  ｆｏｕｎｄ：  ｍ／ｚ  ９３５．３８５７  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【００９２】
実施例８（化合物７の合成）
【化６４】
2004244583.tif 000044
【００９３】
Ｃｐ２ＨｆＣｌ２（３１９．７  ｍｇ，  ０．８４２  ｍｍｏｌ）、銀トリフラート（６６１．５  ｍｇ  １．６８５ｍｍｏｌ）及びモレキュラーシーブ（１０ｇ，  タイプ４Ａ）の無水ＣＨ２Ｃｌ２（１５  ｍＬ）混合溶液に、撹拌下、−４５℃で、グリコシルドナー１８（４８５．０  ｍｇ，  ０．７０２  ｍｍｏｌ）とグリコシルアクセプタ−１７ｂ（６２２．２  ｍｇ，  ０．６８１  ｍｍｏｌ）を含む無水ＣＨ２Ｃｌ２（６  ｍＬ）溶液を加えた。この混合物を徐々に周囲温度にまで暖め、１時間撹拌した。不溶性物質をセライトを通して除去し、その濾過液をＥｔＯＡｃで希釈し、塩水とＮａＨＣＯ３水溶液、塩水で洗浄した。この溶液をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ減圧下で濃縮させた。その残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ，  １０：１）で精製し化合物７を（９７９．１  ｍｇ，  ９１％）得た。
【００９４】
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  Ｃ６Ｄ６，  ２５℃）  δ＝５．８８（ｓ，  Ｃ−１），  ５．０５（ｄ，  Ｊ＝１１．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ５．００（ｄ，  Ｊ＝１１．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．７４（ｄ，  Ｊ＝１１．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．６９（ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．５９（ｄ，  Ｊ＝１１．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．５１，  ４．４８，  ４．４７，  ４．４２，  ４．３９，  ４．３４，  ４．３３，  ４．３１，  ４．２４，  ４．２２，  ４．０５，  ３．９７，  ３．９５，  ３．９２，  ３．９１，  ３．８９，  ３．８７，  ３．７６，  ３．６８，  ３．６５，  １．８６（ｓ，  ３Ｈ，  ＳＭｅ），  １．２７（ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ）．１３Ｃ  ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，  Ｃ６Ｄ６，  ２５℃）  δ＝１０２．０２（Ｃ−１），  ８５．３４（Ｃ−１），  ８０．１７，  ８０．１０，  ７８．９１，  ７８．２４，  ７５．９６，  ７５．２９（ＣＨ２），  ７５．０９（ＣＨ２），  ７３．３４，  ７３．２３，  ７２．７１，  ７２．６９，  ７２．３８，  ７１．８９，  ７１．４３，  ７１．４３，  ７０．３２，  ６９．５３，  ５９．８６，  ３０．０６，  ２７．４３（ＣＨ３），  ２０．４７（ＣＨ３），  １９．６２（Ｍｅ３Ｃ−），  １４．１６（ＣＨ３），  １３．７２（ＣＨ３）
【００９５】
実施例９（化合物２１の合成）
【化６５】
2004244583.tif 000045
【００９６】
ＡｇＯＴｆ（１４．８  ｇ，  ０．０５８  ｍｏｌ）、モレキュラシーブ（１００  ｇ，  タイプ４Ａ）及びアクセプタ−１９（５．６４  ｇ，  ０．０１２８  ｍｏｌ）を無水ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ（１００  ｍＬ）中、０℃で３０分間撹拌後、−３０℃に冷やした。その混合物にドナー２０（２０．２  ｇ，  ０．０２８９  ｍｏｌ）の無水ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ（１００  ｍＬ）溶液を１５分間かけて滴下して加えた。反応混合物を−３０℃で１時間、そして周囲の温度（１２時間）で撹拌した。この反応をＴＥＡ（１  ｍＬ）によって反応停止させた。この反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈しセルライトを通して濾過した。この濾過液をＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で洗浄した。この溶液をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ、２：１〜１／３）で精製し、化合物２１（２１．０  ｇ，  ７２  ％）を得た。
【００９７】
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  Ｃ６Ｄ６，  ７０℃）  δ＝５．７５（ｓ，  Ｈ−１），  ５．５４（ｓ，  Ｈ−１），  ５．２１（ｓ，  Ｃ
−１），  ４．８８（ｄｄ，  Ｊ＝８．８  Ｈｚ），  ４．７８，  ４．７１（ｄ，  Ｊ＝１１．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．６５（ｄ，  Ｊ＝１２．０  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．６３（ｄ，  Ｊ＝１１．２  Ｈｚ，  ＰｈＣＨ２），  ４．５５，  ３．９３，  ３．９１，  ３．９０，  ３．８５，  ３．８１，  ３．７７，  ３．７４，  ３．７０，  ３．６７，  １．８６（ｓ，  ３Ｈ，  ＳＭｅ），  １．２５（Ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ），  １３Ｃ  ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，  Ｃ６Ｄ６，  ７０℃）  δ＝１０２．２１（Ｃ−１），  １００．８５（Ｃ−１），  ８５．７６（Ｃ−１），  ８０．５５，  ８０．５０，  ７９．３９，  ７８．５５，
７７．９８，  ７６．４３，  ７６．０１，  ７５．６８，  ７５．４７（ＣＨ２），  ７５．２６（ＣＨ２），  ７４．６１，  ７４．０９，  ７３．７４（ＣＨ２），  ７３．６３（ＣＨ２），  ７３．２８，  ７３．２１，  ７２．７７（ＣＨ２），  ７２．５４（ＣＨ２），  ７２．０２（ＣＨ２），  ７０．９２（ＣＨ２），  ７０．７５，  ７０．０４，  ２７．８０（ＣＨ３），  ２１．４８（ＣＨ３），  １９．９３（Ｍｅ３Ｃ−），  １３．９２（ＣＨ３）  ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ９８Ｈ１０６Ｏ１５ＳＮａ：  ｃａｌｃｄ  １６０５．６９７９，  ｆｏｕｎｄ：  ｍ／ｚ  １６０５．６９１９  （Ｍ＋Ｎａ）＋，  Ｃ９８Ｈ１０６Ｏ１５Ｓ；  ｃａｌｃｄ  Ｃ，  ７４．３１；  Ｈ，  ６．７４．  ｆｏｕｎｄ；  Ｃ，  ７３．８４；  Ｈ，  ６．７８．
【００９８】
実施例１０（化合物８の合成）
【化６６】
2004244583.tif 000046
【００９９】
化合物２１（５０．１  ｍｇ，  ０．０３０  ｍｍｏｌ）とＮＢＳ（７．５  ｍｇ，  ０．０４２  ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２（２ｍＬ）溶液に、−４０℃で、ＤＡＳＴ（４．７  μＬ，  ０．０３６  ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を−３０℃で１時間、さらに周囲温度（１２時間）で撹拌した。この反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈しＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で洗浄した。その溶液をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ、２／３）で精製し、化合物８（４０．８  ｍｇ，  ８５％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．３８−７．２９（ｍ，  １０Ｈ，  ａｒｏｍ），  ５．６６  （ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１），  ２．１５−２．００（Ａｃ）．  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  １７０．７３−１６９．１０  （Ｃ＝Ｏ），  １０５．５１，  １００．０８，  ９９．２５，  ９９．１４，  ９９．０８  （Ｃ−１）  ＭＳ  （ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）  Ｃ７２Ｈ９１ＦＯ３９Ｎａ：  ｃａｌｃｄ  １６２２．５，  ｆｏｕｎｄ：  １６２２．２  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【０１００】
実施例１１（化合物２２ａの合成）
【化６７】
2004244583.tif 000047
【０１０１】
化合物７（６５．５  ｍｇ，  ０．０４１  ｍｍｏｌ）、化合物６（３４．３  ｍｇ  ０．０２８  ｍｍｏｌ）及びモレキュラシーブ（２００  ｍｇ，  タイプ４Ａ）の混合物を無水ＣＨ２Ｃｌ２（２  ｍｌ）中、−４０℃で３０分間撹拌し、その後、１Ｍ  メチルトリフラート（ＭｅＯＴｆ：０．２６  ｍＬ，  ０．２６  ｍｍｏｌ）ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ溶液を加えた。反応混合物を−４０℃で３０分間、周囲温度（１２時間）で撹拌した。その反応をＴＥＡ（０．１  ｍＬ）で反応停止させた。その反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、セライトを通し濾過した。その濾過液をＮａＨＣＯ３飽和水溶液、及び塩水で洗浄した。その溶液をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、そして減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ，  ３０：１）で精製し、化合物２２ａ（５８．９  ｍｇ，  ７７％）と化合物２２ａの位置異性体（１０．３  ｍｇ  １３％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．６８−６．６６（ｍ，  ａｒｏｍ），  ５．５３  （ｍ，  １Ｈ，  ＣＨ＝ＣＨ２），  １．１６  （ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ），  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  １００．００，  ９９．８１，  ９９．５５，  ９９．０２，  ９７．０３，  ９６．８８，  ５６．５８，  ５５．６８；  Ｃ１６８Ｈ１７６Ｎ２Ｏ３３Ｓ：  ｃａｌｃｄ  Ｃ，  ７２．６０；  Ｈ，  ６．３８．  ｆｏｕｎｄ  Ｃ，  ７２．５１；  Ｈ，  ６．４５．
【０１０２】
実施例１２（化合物２２ｃの合成）
【化６８】
2004244583.tif 000048
【０１０３】
化合物２２ａ（１００．０  ｍｇ，  ０．０３６ｍｍｏｌ）とＤＭＡＰ（０．５  ｍｇ）を含むピリジン（０．１２  ｍＬ）溶液に、撹拌下、無水酢酸（０．０７  ｍＬ）を添加した。その混合物を室温で１２時間撹拌した。反応混合物にメタノールを添加した。その溶液の揮発成分を減圧下で蒸発させた。その残留物をＥｔＯＡｃで希釈し、ＣｕＳＯ４水溶液、塩水、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で順次洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ４）そして揮発成分を減圧下蒸発させた。その残留物（化合物２２ｂ）は無水ＣＨ３ＣＮで希釈し、３時間室温でｐＴｏｓＯＨ一水和物（１７．２  ｍｇ，  ０．０９  ｍｍｏｌ）を加えた。その反応をＴＥＡ  （０．１  ｍＬ）で反応停止させ、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＥｔＯＡｃ、１０：１）で精製し化合２２ｃ（５５．２  ｍｇ，  ５６％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝７．８６−６．７４  （ｍ，  ａｒｏｍ），  ５．５９  （ｍ，  １Ｈ，  ＣＨ＝ＣＨ２），  １．９５  （ｓ，  ３Ｈ，  Ａｃ），  １．０８  （ｓ，  ９Ｈ，  ｔ−Ｂｕ），  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  １００．５９，  ９９．５０，  ９８．０４，  ９７．０２，  ９６．９２  （Ｃ−１），  ５６．４９，  ５５．６４，  ２７．２０．  ＭＳ  （ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）  Ｃ１６４Ｈ１７０Ｎ２ＮａＯ３４：  ｃａｌｃｄ  ２７６３．２，  ｆｏｕｎｄ：  ２７６３．７  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【０１０４】
実施例１３（化合物２３ａの合成）
【化６９】
2004244583.tif 000049
【０１０５】
ＡｇＯＴｆ  （７４．３  ｍｇ，  ０．２８９  ｍｍｏｌ）、Ｃｐ２ＨｆＣｌ２  （５４．４  ｍｇ，  ０．１４３  ｍｍｏｌ）  及びモレキュラシーブ（２  ｇ  タイプ４Ａ）の無水トルエン（３  ｍＬ）混合溶液を室温で３０分撹拌した後、−３０℃で冷やした。これを、ドナー８（３３１．２ｍｇ，  ０．２０６  ｍｍｏｌ）とアクセプター２２ｃ（３７７．５  ｍｇ，  ０．１３８  ｍｍｏｌ）を含む無水トルエン（２７  ｍＬ）溶液を５分間かけて滴下して加えた。反応混合物を３時間−１０℃で撹拌した。その反応をＴＥＡ（１  ｍＬ）で反応停止させた。その反応混合物を、ＥｔＯＡｃで希釈し、そしてセライトを通して濾過した。この濾過液をＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、そして減圧下で濃縮した。残留物はシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ、１：１）によって精製し、化合物２３ａ（５１０．１  ｍｇ，  ８７％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝  ７．７５−６．７０  （ｍ，  ａｒｏｍ，），  ５．５６（ｍ，  １Ｈ，  ＣＨ＝ＣＨ２），  ２．１０−１．９０（ｓ，  ３Ｈ＊１５，  Ａｃ），  １．０５  （．ｓ，  ９Ｈ，  ｔＢｕ）  １３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ＝  １０１．１１９，  ９．９０，  ９９．３１，  ９９．０８，  ９８．６２，  ９６．９１  （Ｃ−１）；  Ｃ２３６Ｈ２６０Ｎ２Ｏ７３Ｓ：  ｃａｌｃｄ  Ｃ，  ６５．６０；  Ｈ，  ６．０７，  Ｎ，  ０．６５，  ｆｏｕｎｄ；  Ｃ，  ６５．５６；  Ｈ，  ６．１２，  Ｎ，  ０．５６．
【０１０６】
実施例１４（化合物２３ｂの合成）
【化７０】
2004244583.tif 000050
【０１０７】
化合物２３ａ（１７６．６  ｍｇ，  ０．０４１  ｍｍｏｌ）とＤＭＡＰ（１．０  ｍｇ）を含むピリジン（１  ｍＬ）溶液に、撹拌下、無水酢酸（０．５  ｍＬ）を加えた。その混合物を５０℃で１２時間撹拌した。反応混合物にメタノールを加えた。その溶液の揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をＥｔＯＡｃで希釈し、ＣｕＳＯ４水溶液、塩水、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で順次洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ４）そして揮発成分を減圧下蒸発させた。この残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−ＥｔＯＡｃ  ５：１〜１：３）から精製し、化合物２３ｂ（１７４．０  ｍｇ，  ９８％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝  ７．７５−６．７０  （ｍ，  ａｒｏｍ，）  ５．５８（ｍ，  １Ｈ，  ＣＨ＝ＣＨ２），  ２．１０−１．９０（ｓ，  ３Ｈ×１６，  Ａｃ），  １．０７  （．ｓ，  ９Ｈ，  ｔＢｕ）  ＭＳ（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）  Ｃ２３８Ｈ２６２Ｎ２Ｏ７４ＳＮａ：  ｃａｌｃｄ．  ４３８２．６，  ｆｏｕｎｄ；  ４３８１．３．
【０１０８】
実施例１５（化合物２３ｃの合成）
【化７１】
2004244583.tif 000051
【０１０９】
１  ｍＬテフロン（登録商標）反応容器に、化合物２３ｂ（９６．９  ｍｇ，  ０．０２２  ｍｍｏｌ）をいれ、１０％ＨＦ／ピリジンを含んだＤＭＦ（０．８  ｍＬ）中で溶解した。１．０ＧＰａの圧力をかけ、３０℃で１２時間放置し、得られた混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、続いて、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液と塩水で洗浄した。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥し、そして揮発成分を減圧下蒸発させた。その残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−ＥｔＯＡｃ、１０：１〜１：２）で精製し、化合物２３ｃ（７８．９  ｍｇ  ８６％）を得た。
Ｒｆ  ０．２８  （１：１  ｔｏｌｕｅｎｅ−ＥｔＯＡｃ）；  １Ｈ  ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ：  ７．７９−６．７１  （ｍ，  Ａｒ），  ５．６５−５．５４  （１Ｈ，  ｍ，  ＣＨ２＝ＣＨ），  ２．１０−１．８８  （４８Ｈ，  ｓ  （１６，  Ａｃ）；  ＭＳ（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）  Ｃ２２２Ｈ２４４Ｎ２Ｏ７４Ｎａ：  ｃａｌｃｄ  ４１４４．５，  ｆｏｕｎｄ：  ４１４４．２  （Ｍ＋Ｎａ）＋，  Ｃ２２２Ｈ２４４Ｎ２Ｏ７４：  ｃａｌｃｄ  Ｃ，  ６４．６５；  Ｈ，  ５．９６；  Ｎ，  ０．６８，  ｆｏｕｎｄ：  Ｃ，  ６４．４４；  Ｈ，  ５．９７；  Ｎ，  ０．６５．
【０１１０】
実施例１６（化合物１ｂの合成）
【化７２】
2004244583.tif 000052
【０１１１】
化合物２３ｃ（２８．７  ｍｇ，  ０．００７０ｍｍｏｌ）を含む０．５  ｍＬ  エチレンジアミン含有ｎ−ブタノール（２  ｍＬ）溶液を９０℃で１５時間撹拌した。揮発性物質は減圧下で蒸発することによって除去し、残留物をピリジン（０．３  ｍＬ）中に溶解した。この溶液に無水酢酸０．２ｍＬを加えて２４時間攪拌したのちに、発性物質は減圧下で蒸発することによって除去した。残留物をＭｅＯＨ（５  ｍＬ）に溶解した後、１Ｎ  ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ（０．１  ｍＬ）を０℃で添加した。この混合物を６０℃で１２時間撹拌した後、アンバーライト１５（Ｈ＋）樹脂で中和し、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をゲル濾過（セファデックスＬＨ２０、ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ，  １：１）で精製し、脱アセチル化した化合物を回収し、そして揮発成分を減圧下蒸発させた。残留物を６０％  ＡｃＯＨ水溶液（５  ｍＬ）中で、Ｐｄ（ＯＨ）２（５  ｍｇ）の存在下、室温で２４時間水素添化した。その混合物をセルライトを通して濾過した。その濾過液を減圧下で濃縮した。残留物をゲル濾過（セファデックスＬＨ２０、Ｈ２Ｏ）で精製し、化合物１ｂ（７．３  ｍｇ，  ５４％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  Ｄ２Ｏ）  δ５．２７，  ５．２０，  ５．１７，  ５．０１，  ４．９２，４．９０，  ４．７３，  ４．４５（ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１２），  ４．３６（ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１１），  １．９３  ａｎｄ  １．８８  （ｓ，  ３Ｈ×２，  ｓ，  Ａｃ），  １．４０  （ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ０．７２  （ｔ，  ３Ｈ，  Ｍｅ）．
【０１１２】
参考例７（化合物４の合成）
【化７３】
2004244583.tif 000053
【０１１３】
化合物３３（７３．０  ｍｇ，  ０．２４５ｍｍｏｌ）、ｐＭＢｎＣｌ（４１  μＬ）及びＢｕＮＨＳＯ４（４０  ｍｇ）を含むＣＨ２Ｃｌ２（４  ｍＬ）溶液に、撹拌下、５％  ＮａＯＨ（０．５  ｍＬ）水溶液を加えた。この混合物を４５℃で１２時間撹拌した。反応混合物をＣＨＣｌ３で希釈し、ＮａＣｌ飽和水溶液で洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、そして揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をＰＴＬＣ（トルエン：ＥｔＯＡｃ、８：１）で精製し、化合物３４（５３．２ｍｇ，  ５２％）と、レジオ異性体（３３．０  ｍｇ，  ３２％）を得た。ピリジン（３  ｍＬ）中の化合物３４（３２７．３  ｍｇ，  ０．７８２  ｍｍｏｌ）溶液に、撹拌下、ＰｉｖＣｌ（０．５７  ｍＬ）を加えた。その混合物を室温で１２時間撹拌した。反応混合物をＭｅＯＨ（１  ｍＬ）に加えて、揮発成分を減圧下蒸発させた。残留物をＥｔＯＡｃで希釈し、ＣｕＳＯ４水溶液、塩水、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液で洗浄して、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物を２−プロパノール中で結晶化し、化合物４（２３８  ｍｇ，  ６１％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ；  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ７．４２−６．８５  （ｍ，  ９Ｈ，  ａｒｏｍ），  ５．５８  （１Ｈ，  ｓ，  ｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅ  ＣＨ），  ５．４１（ｔ，  １Ｈ，  Ｈ−３）  ４．５２  （ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１），  ３．９７（ｓ，  ３Ｈ，  ＯＭｅ），  ２．２６（ｓ，  ３Ｈ，  ＳＭｅ），  １．２２（ｓ，  ９Ｈ，  Ｍｅ）；  １３Ｃ  ＮＭＲ；  （１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ１００．９７（ｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅ），  ８６．３１（Ｃ−１），  ７４．７３（Ｃ−３），  ６８．６３（Ｃ−６），  ５５．３１（ＯＭｅ），  ２７．２３（ｔＢｕ），  １３．４６（ＳＭｅ）；  Ｃ２７Ｈ３４Ｏ７Ｓ：  ｃａｌｃｄ  Ｃ，  ６４．５２；  Ｈ，  ６．９２；  Ｓ，  ６．３８，  ｆｏｕｎｄ：  Ｃ，  ６４．２６；  Ｈ，  ６．７７，
Ｎ，  ６．２０．
【０１１４】
実施例１７（化合物２４）
【化７４】
2004244583.tif 000054
【０１１５】
化合物２３ｃ（４４．３  ｍｇ，  ０．０１０７  ｍｍｏｌ）、化合物４（２０．９  ｍｇ，  ０．０４１６  ｍｍｏｌ）、ＤＴＢＭＰ（１０．０  ｍｇ，  ０．０４９  ｍｍｏｌ）及びモレキュラシーブ（５００  ｍｇ、タイプ４Ａ）を無水ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ（１  ｍＬ）とシクロへキサン（５  ｍＬ）の混合溶液中、室温で１時間、氷冷で３０分撹拌し、その後１Ｍ  ＭｅＯＴｆ（０．０６  ｍＬ，  ０．０６  ｍｍｏｌ）ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ溶液を加えた。反応混合物を５０℃で１２時間撹拌した。その反応をＴＥＡ（０．１  ｍＬ）で反応停止させた。反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、セライトを通して濾過した。その濾過液をＮａＨＣＯ３飽和水溶液、及び塩水で洗浄した。この溶液をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。残留物はＰＴＬＣ（トルエン：ＥｔＯＡｃ、１：２）で精製し、化合物２４（４１．７  ｍｇ，  ８５％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝５．７４（ｔ，  １Ｈ，  Ｈ−３Ｇ），  ５．５８  （ｍ，  １Ｈ，  ＣＨ＝ＣＨ２）  ３．６８  （ｓ，  ＯＭｅ），  ２．１０−１．８８（Ａｃ），  １．７１  （ｓ，  ９Ｈ，  Ｍｅ）；  Ｃ２４８Ｈ２７４Ｎ２Ｏ８１：  ｃａｌｃｄ  Ｃ，  ６５．０５；  Ｈ，  ６．０３；  Ｎ，  ０．６１，  ｆｏｕｎｄ：  Ｃ，  ６４．５１；  Ｈ，  ５．９７；  Ｎ，  ０．５８．
【０１１６】
実施例１８（化合物２ｂの合成）
【化７５】
2004244583.tif 000055
【０１１７】
化合物２４（３４．７  ｍｇ，  ０．００７６  ｍｍｏｌ）の０．５  ｍＬ  エチレンジアミンを含有したｎ−ブタノール（５  ｍＬ）溶液を８０℃で４８時間撹拌した。揮発性物質を減圧下で蒸発させることによって除去し、残留物をピリジン（２  ｍＬ）中に溶解した。この溶液をＡｃ２Ｏ（１  ｍＬ）で０℃、２４時間処理し、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をＭｅＯＨ（５  ｍＬ）に溶解し、０℃で１Ｎ  ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ（０．１ｍＬ）を添加した。この混合物を５０℃で１２時間撹拌後、アンバーライト１５（Ｈ＋）樹脂で中和し、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をゲル濾過（セファデックスＬＨ２０、ＣＨＣｌ３：ＭｅＯＨ，  １：１）によって精製し、脱アセチル化した化合物を回収して、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物を５０％  ＡｃＯＨ水溶液中（５  ｍＬ）でＰｄ  （ＯＨ）２（１０  ｍｇ）存在下、室温で２４時間水素添化した。この混合物をセルライトで濾過した。この濾過液を減圧下で濃縮した。残留物をゲル濾過（セファデックスＬＨ２０、Ｈ２Ｏ）で精製し、化合物２ｂ（８．５  ｍｇ，  ５４％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  Ｄ２Ｏ）  δ５．２７，  ５．２０，  ５．１７，  ５．１１  （ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１Ｇ），５．０１，  ４．９２，  ４．９０，  ４．７３，  ４．４５（ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１２），  ４．３６（ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１１），  １．９３  ａｎｄ  １．８９  （ｓ，  ３Ｈ×２，  ｓ，  Ａｃ），  １．４０  （ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ０．７２  （ｔ，  ３Ｈ，  Ｍｅ）．
【０１１８】
参考例８（化合物５の合成）
【化７６】
2004244583.tif 000056
【０１１９】
１  ｍＬテフロン（登録商標）反応容器に化合物３３（５１．０  ｍｇ，  ０．１７１  ｍｏｌ）を入れ、ピリジン（０．７５  ｍＬ）中に溶解し、ＰｉｖＣｌ（５０  μＬ）を加えた。１．０Ｇｐａに加圧し、２５℃で４時間放置した。得られた混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、ＣｕＳＯ４水溶液、塩水、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で順次洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、そして、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン／ＡｃＯＥｔ＝５０：１〜１０：１）で精製し、７５．２  ｍｇ  （９８％）の化合物５を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ；  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ７．４２−７．３２  （ｍ，  ５Ｈ，  ａｒｏｍ），  ５．５４  （１Ｈ，  ｓ，  ｂｅｎｚｙｌｏｄｅｎＣＨ），  ５．３９（ｔ，  １Ｈ，  Ｈ−３），  ５．１３（ｔ，  １Ｈ，  Ｈ−２）  ４．５１  （ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１），  ３．６０（ｍ，  １Ｈ，  Ｈ−５），  ２．２０（ｓ，  ３Ｈ，  ＳＭｅ），  １．１９，  １．１４（ｓ×２，  １８Ｈ，  Ｍｅ）；  １３Ｃ  ＮＭＲ；  （１２５ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ１７６．７９，  １７６．５２  （Ｃ＝Ｏ），  １０１．００（ｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅ），  ８３．８４（Ｃ−１），  ２７．２２，  ２７．１８（ｔＢｕ），  １１．６０  （ＳＭｅ）；  ＨＲＭＳ  （ＦＡＢ）  Ｃ２４Ｈ３４Ｏ７Ｓ：  ｃａｌｃｄ  ４８９．１９２３，  ｆｏｕｎｄ：  ｍ／ｚ  ４８９．１９２４  （Ｍ＋Ｈ）＋．
【０１２０】
実施例１９（化合物２５の合成）
【化７７】
2004244583.tif 000057
【０１２１】
化合物２３ｃ（３７．３  ｍｇ，  ０．００９０  ｍｍｏｌ）、化合物５（２４．１  ｍｇ，  ０．０５１７  ｍｍｏｌ）、ＤＴＢＭＰ（２２．０  ｍｇ，  ０．１０７３  ｍｍｏｌ）及びモレキュラシーブ（５００  ｍｇ，  タイプ４Ａ）の無水ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ（１  ｍＬ）混合物を室温で１時間、０℃で３０分撹拌し、その後、１Ｍ  ＭｅＯＴｆ（０．０９  ｍＬ、０．０９ｍｍｏｌ）ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ溶液を加えた。反応混合物を室温で１２時間撹拌した。この反応をＴＥＡ  （０．１  ｍＬ）で停止させた。反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈しセルライトを通して濾過した。この濾過液はＮａＨＣＯ３飽和水溶液及び塩水で洗浄した。この溶液をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。残留物をＰＴＬＣ（トルエン：ＥｔＯＡｃ、１：１）で精製し、化合物２５（３２．９  ｍｇ，  ８１％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝５．５８（ｍ，  １Ｈ，  ＣＨ＝ＣＨ２），  ５．０５  （ｄｄ，  １Ｈ，  Ｈ−２Ｇ  １Ｊ１−２  ７．６Ｈｚ）  ２．１０−１．８８（Ａｃ），  １．１５，  １．１２  （ｓ（２  １８Ｈ，  Ｍｅ）．  ＭＳ  （ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）  Ｃ２４５Ｈ２７４Ｎ２Ｏ８１：  ｃａｌｃｄ  ４５６５．７．  ｆｏｕｎｄ：  ４５６５．３  （Ｍ＋Ｎａ）＋；  Ｃ２４５Ｈ２７４Ｎ２Ｏ８１：  ｃａｌｃｄ  Ｃ，  ６４．７８；  Ｈ，  ６．０８；  Ｎ，  ０．６２，  ｆｏｕｎｄ：  Ｃ，  ６４．３２；  Ｈ，  ６．０５；  Ｎ，  ０．５９．
【０１２２】
実施例２０（化合物３の合成）
【化７８】
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【０１２３】
化合物２５（３４．７  ｍｇ，  ０．００６７  ｍｍｏｌ）の０．３ｍＬエチレンジアミンを含んだｎ−ブタノール（２  ｍＬ）溶液を、８０℃で６０時間撹拌した。揮発性物質を減圧下で蒸発させることによって除去し、この残留物をピリジン（２  ｍＬ）に溶解した。この溶液を０℃でＡｃ２Ｏ（１  ｍＬ）を用いて処理し、４０℃、２４時間撹拌し、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をＥｔＯＡｃで希釈後、ＣｕＳＯ４水溶液、塩水、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液、塩水で順次洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物を５０％  ＡｃＯＨ水溶液中（５  ｍＬ）でＰｄ（ＯＨ）２（２０  ｍｇ）存在下、室温で２４時間水素添化した。この混合物をセルライトを通して濾過した。濾過液を減圧下で濃縮した。残留物をＭｅＯＨ（２０  ｍＬ）で溶解し、０℃で１Ｎ  ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ（０．１ｍＬ）を添加した。この混合物を７０℃で３時間撹拌し、アンバーライト１５（Ｈ＋）樹脂で中和した。樹脂を除去した後に、揮発成分を減圧下で蒸発させた。残留物をゲル濾過（セファデックスＬＨ２０、Ｈ２Ｏ）で精製し、化合物３（１２．９ｍｇ，  ９２％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  Ｄ２Ｏ）  δ５．２９，  ５．２２，  ５．２０，  ５．０３，  ４．９９，  ４．９５，  ４．９３，  ４．７６，  ４．５１  （ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１Ｇ），  ４．４８  （ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１２），  ４．３９  （ｄ，  １Ｈ，  Ｈ−１１），  １．９６  ａｎｄ  １．９２  （ｓ，  ３Ｈ×２，  ｓ，  Ａｃ），  １．４３  （ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ０．７５  （ｔ，  ３Ｈ，  Ｍｅ），  ＭＳ  （ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）  Ｃ７９Ｈ１３４Ｎ２Ｏ６１Ｎａ，  ｃａｌｃｄ  ２１１０．８，  ｆｏｕｎｄ：．２１１０．１  （Ｍ＋Ｎａ）＋．
【０１２４】
実験例（ＣＲＴの発現）
ヒトカルレティキュリン（ＣＲＴ）をコードするＤＮＡのＮ末端にＧＳＴの一部分をコードしたＤＮＡ断片を持つ遺伝子を、ｐＧＥＸ−６Ｐ−１プラスミドベクター（Ａｍｅｒｓｈａｍ  Ｐｈａｒｍａｃｉａ  Ｂｉｏｔｅｃｈ，  Ｐｉｓｃａｔａｗａｙ，  ＮＪ）に導入した。このプラスミドを用いて、ＢＬ２１（ＤＥ３）株（Ｓｔｒａｔａｇｅｎｅ，  Ｌａ  Ｊｏｌｌａ，  ＣＡ）を形質転換しタンパク質発現用の形質転換体を得た。タンパク質産生のため、細胞をＬＢ培地で培養した。ＧＳＴ融合タンパク質を、グルタチオンセファロースカラムを用いて細胞溶解物から精製した。この融合タンパク質を、ＧＳＴ融合タンパク質１  ｍｇあたり、３ユニットのプレシジョンプロテアーゼ  （Ａｍｅｒｓｈａｍ  Ｐｈａｒｍａｃｉａ  ＢｉｏＴｅｃｈ）を用いて１６時間、４℃でインキュベートすることにより切断した。その融合タンパク質分解産物を、第２のグルタチオンセファロースカラムに通すことによってＧＳＴを除去した。このタンパク質はＢｉｏ−Ｓｃａｌｅ  Ｑ２アニオン交換樹脂カラム（Ｂｉｏ  Ｒａｄ）を用いてさらに精製した。
【０１２５】
【発明の効果】
本発明によれば、Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物１ｂ）、α−Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物２ｂ）及びβ−Ｇｌｃ１Ｍａｎ９ＧｌｃＮＡｃ２（化合物３）などの新規高マンノース型糖化合物、あるいはこれに蛍光標識した化合物、その合成方法、その合成において用いられる中間体となる糖ブロック化合物などを提供することができる。このような高マンノース型糖化合物は、生体内におけるタンパク質の品質管理において重要な役割を有していると考えられていることから、その機能の解明に有意義に用いることができる。また、本発明において提供される糖ブロック化合物は、他の多糖化合物の合成にも有用に用いることができる。