(57)【要約】【課題】光指向性及び光散乱性を得るための光反射層の非対称な立体形状を有する構造を安定かつ確実に得ることの可能な製造方法を実現するとともに、この製造方法によって得られた光反射基板、電気光学装置及び電子機器を提供する。【解決手段】本発明の光反射基板１０は、基材１１と、当該基材上に形成された光反射層１３とを有し、光反射層の表面には光指向性及び光散乱性を有するパターンが形成され、このパターンは、複数の凹状反射部１３ｆが分散配置された表面形状により構成され、凹状反射部１３ｆは、その一方側寄りに設けられた最深部１３ｏから反対側へ向けて徐々に傾斜した傾斜面１３ｓを備えた内面形状を有し、凹状反射部１３ｆの平面形状Ｐは、一方側は広幅に構成され、反対側は狭幅に構成された略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状であることを特徴とする。【選択図】          図４
2004198706.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方側は広幅に構成され、反対側は前記一方側に対して狭幅に構成された、略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状の複数の単位パターン部が分散配置されていることを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】
前記単位パターン部は、光学開口であることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項３】
基材と、当該基材上に形成された光反射層とを有する光反射基板であって、
前記光反射層の表面には光指向性及び光散乱性を有するパターンが形成され、前記パターンは、複数の凹状反射部が分散配置された表面形状により構成され、
前記凹状反射部は、その一方側寄りに設けられた最深部から反対側へ向けて徐々に傾斜した傾斜面を備えた内面形状を有し、
前記凹状反射部の平面形状は、前記一方側は広幅に構成され、前記反対側は狭幅に構成された略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状であることを特徴とする光反射基板。
【請求項４】
基材と、当該基材上に形成された光反射層とを有する光反射基板であって、
前記光反射層の表面には光指向性及び光散乱性を有するパターンが形成され、前記パターンは、複数の凹状反射部が分散配置された表面形状により構成され、
前記凹状反射部は、その一方側寄りに設けられた最深部から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を備えた内面形状を有し、
前記凹状反射部の平面形状は、前記一方側は広幅に構成され、前記反対側は狭幅に構成されているとともに、前記一方側から前記反対側への移行部分の外縁形状の少なくとも一部が凹状に構成されていることを特徴とする光反射基板。
【請求項５】
基材と、当該基材上に形成された光反射層とを有する光反射基板であって、
前記光反射層の表面には光指向性及び光散乱性を有するパターンが形成され、前記パターンは、複数の凹状反射部が分散配置された表面形状により構成され、
前記凹状反射部は、その一方側寄りに設けられた最深部から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を備えた内面形状を有し、
前記凹状反射部の平面形状は、前記一方側は広幅に構成され、前記反対側は狭幅に構成されているとともに、前記一方側の端部の外縁形状の少なくとも幅方向中央部が凹状に構成されていることを特徴とする光反射基板。
【請求項６】
前記基材上に形成された下地層を有し、当該下地層上に前記光反射層が形成されており、前記下地層の表面には前記凹状反射部の下に配置された凹状表面部が設けられ、前記凹状反射部の内面は、前記凹状表面部の内面形状を反映した形状に構成されていることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の光反射基板。
【請求項７】
前記一方側から前記反対側へ向かう方向は、前記基材の端辺に平行であることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の光反射基板。
【請求項８】
電気光学物質と、当該電気光学物質に電界を印加する電界印加手段と、前記電気光学物質に沿って配置された請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の光反射基板とを有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
基材上に感光性樹脂を配置する工程と、当該感光性樹脂を露光する露光工程と、前記感光性樹脂を現像して下地層を形成する現像工程と、当該下地層上に光反射層を形成する光反射層形成工程とを有する光反射基板の製造方法であって、
前記露光工程では、一方側が広幅でその反対側が狭幅に形成された開口形状を備えた光学開口を有するマスクパターンにより露光が行われ、
前記現像工程では、前記下地層の表面に、前記光学開口に対応した複数の凹状表面部が形成され、
前記光反射層形成工程では、前記光反射層の表面に、前記凹状表面部を反映した複数の凹状反射部が形成され、当該複数の凹状反射部により光指向性及び光散乱性を有するパターンが形成されることを特徴とする光反射基板の製造方法。
【請求項１０】
前記光学開口の開口形状は略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状であることを特徴とする請求項９に記載の光反射基板の製造方法。
【請求項１１】
前記光学開口の開口形状は、前記一方側から前記反対側への移行部分の外縁形状のうち少なくとも一部が凹状に構成されていることを特徴とする請求項９に記載の光反射基板の製造方法。
【請求項１２】
前記光学開口の開口形状は、前記一方側の端部の外縁形状のうち少なくとも幅方向中央部が凹状に形成されていることを特徴とする請求項９に記載の光反射基板の製造方法。
【請求項１３】
前記露光工程では、プロキシミティ露光が行われることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の光反射基板の製造方法。
【請求項１４】
電気光学物質と、当該電気光学物質に電界を印加する電界印加手段と、前記電気光学物質に沿って配置された光反射基板とを有する電気光学装置の製造方法であって、請求項９乃至１３のいずれか１項に記載された光反射基板の製造方法を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項８に記載の電気光学装置と、当該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトマスク、光反射基板、光反射基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器に係り、特に、光指向性及び光散乱性を呈する光反射基板の構造及び製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、携帯電話、ＰＤＡなどの携帯型情報端末、パーソナルコンピュータなどの電子機器においては、表示手段として液晶表示装置が用いられている。また、近年、プラズマディスプレイパネルについてもテレビジョン装置などに用いられるようになってきており、さらに、最近、有機エレクトロルミネッセンス装置が一部の機器に用いられるようになってきている。このような各種の電気光学物質の電気光学効果を利用した種々の電気光学装置は、今後、ますます多くの場面で利用されるようになっていくものと期待されている。
【０００３】
従来から用いられている液晶表示装置は自己発光性を有しないことから、通常、バックライトなどの照明装置を背後に配置し、この照明装置の光を用いて表示を視認可能にする透過型の液晶パネルが用いられてきた。しかしながら、照明装置を用いる方法は消費電力を低減することが困難であり、特に携帯型機器などにおいては電池寿命などに影響するため、以前においては照明装置を必要としない反射型の液晶パネルが多く用いられていた。
【０００４】
ところが、近年、表示の高精細化やカラー化が進むに従って、反射型の液晶パネルでは表示の明るさが不足するという事態が発生し、バックライトを用いながら反射型表示も可能な半透過反射型の液晶パネルが出現し、また、表示の明るさを改善した反射型の液晶パネルの開発も行われるようになってきた。さらに、基本的には透過型の液晶パネルでありながら、或いは、バックライトを用いる透過型表示でありながら、外光の反射光を積極的に表示に利用することによって、野外などの明るい場所でも視認性を悪化させないタイプの透過型若しくは半透過反射型の液晶パネルも開発されている。
【０００５】
一方、上記の反射型、或いは、半透過反射型の液晶パネルにおいては、液晶層の背後に外光を反射させるための光反射層が形成されるが、この光反射層が鏡面状に構成されていると、表示画面に背景が映り込んだり、太陽光や照明光による幻惑が生じやすくなったりして、視認性を悪化させるという問題がある。このため、光反射層の表面に微細な凹凸を形成し、反射面である程度光が散乱するように構成することが一般的に行われている。
【０００６】
また、上記のように光散乱性を有していても、その光反射層による反射特性が等方的であると、たとえば、太陽光や照明光などのように斜め上方からパネル内に入射する外光は主として表示画面から斜め下方に反射されるため、利用者の目に入る表示光として利用される割合が低く、表示を明るくできないという問題もある。このため、斜め上方から入射した光を表示画面の正面にいる利用者の側に効率良く反射（散乱）させるといった指向性を有する反射特性を光反射層に持たせるための工夫がなされる場合もある。たとえば、光指向性及び光散乱性を備えた光反射層を有する液晶表示装置では、光反射層の表面に微細な山部又は谷部を多数分散させて形成し、これらの山部又は谷部の立体形状を、所定軸線方向に延長された形状に構成したり、或いは、所定軸線を挟んで非対称となる形状に構成したりしている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００２−２５８２７０号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の液晶表示装置において、十分な光指向性を備えた光反射層を形成するためには、非対称な立体形状を備えた山部や谷部を光反射層の表面上に形成する必要があり、このような山部又は谷部を、光散乱性を呈するように数μｍ〜十数μｍ程度の大きさに形成する場合には、製造工程が複雑になるとともに、良好な再現性や高い歩留まりを得ることが困難であるという問題点がある。より具体的には、上記特許文献１に記載されている製造方法では、山部や谷部の平面形状を所定方向に延長された形状にすることは、フォトリソグラフィ法やエッチング時に用いるマスクの開口部の開口形状を単に延長された形状にするだけで形成できるが、山部や谷部の立体形状を非対称な形状とする場合には、マスクの開口形状だけでその非対称な立体形状を形成することは困難であり、しかも、その非対称な立体形状を再現性良く形成することはさらに難しい。また、上記特許文献１には、非対称な立体形状を形成するためのマスク形状に関する記述はほとんどなく、現在に至るまで、理想的な光指向性と光散乱性を実際の製造工程において実現することはきわめて困難であった。
【０００９】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、光指向性及び光散乱性を得るための光反射層の非対称な立体形状を有する構造を安定かつ確実に得ることの可能な製造方法を実現し、また、これを可能にするフォトマスクを構成するとともに、この製造方法によって得られた光反射基板、電気光学装置及び電子機器を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のフォトマスクは、一方側は広幅に構成され、反対側は前記一方側に対して狭幅に構成された、略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状の複数の単位パターン部が分散配置されていることを特徴とする。このフォトマスクを用いて露光を行うことによって、感光性樹脂の表面に非対称な内面形状を備えた凹部を形成することが可能になり、光指向性及び光散乱性を備えた光学部材を形成することができる。特に、プロキシミティ露光に用いることによって、良好な光指向性及び光散乱性を備えた構造を形成できる。
【００１１】
本発明において、前記単位パターン部は、光学開口（露光に用いる光を透過可能な部分）であることが好ましい。フォトマスクとしては、ポジ型の感光性樹脂を用いることによって単位パターン部を遮光部とするものであってもよいが、単位パターン部を光学開口とし、ネガ型の感光性樹脂を露光することによって、特に良好な凹部形状を実現できる。なお、本発明のフォトマスクは、その露光対象となる感光性樹脂や露光方法によって何ら限定されるものではない。
【００１２】
次に、本発明の光反射基板は、基材と、当該基材上に形成された光反射層とを有する光反射基板であって、前記光反射層の表面には光指向性及び光散乱性を有するパターンが形成され、前記パターンは、複数の凹状反射部が分散配置された表面形状により構成されたものである。
【００１３】
ここで、光指向性を有するとは、ある光が光反射層に入射角θ１で入射し、その光が反射されて出射角θ２で出射したとき、出射した光のなかに出射角θ２が入射角θ１と異なる光が含まれていることをいう。また、光散乱性を有するとは、ある光が入射角θ１で入射したとき、その光が反射されてなる出射光の少なくとも一部の出射角がθ３〜θ４の範囲内で分散していることを言う。ここで、出射角θ３〜θ４の範囲にθ１が含まれている場合もあれば、含まれていない場合もあり得る。
【００１４】
本発明において、前記凹状反射部は、その一方側寄りに設けられた最深部から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を備えた内面形状を有し、前記凹状反射部の平面形状は、前記一方側は広幅に構成され、前記反対側は狭幅に構成された略Ｔ字形状、或いは、略Ｙ字形状であることを特徴とするものである。
【００１５】
光反射層の表面に複数の凹状反射部を設けることによって光散乱性を得ることができる。また、当該凹状反射部の一方側寄りに設けられた最深部から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を備えた内面形状を設けることによって、一方側から反対側へ向けた方向に見たときに凹状反射部の内面形状が非対称となり、上記傾斜面による光反射によって第１領域と第２領域の配列方向に光指向性を得ることが可能になる。ここで、発明者らが鋭意実験を行った結果、凹状反射部の平面形状を、一方側は広幅に構成され、反対側は狭幅に構成された略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状とすることによって、上記の非対称な内面形状を容易に形成することができることが見い出された。たとえば、フォトリソグラフィ法やエッチング法等によって凹形状を形成する場合、凹形状の一方側の内面をより深くして、その最深部を一方側寄りに構成しようとすれば、当該一方側の部分のマスク形状を広幅に形成する必要があり、逆に、反対側の内面をより浅くしようとすれば、当該反対側の部分を被覆するマスク形状を狭い幅とすればよい。一般的には、広い幅の一方側には深く急峻な凹形状が形成され、狭い幅の反対側には浅くなだらかな凹形状が形成され、これによって、凹状反射部の内面形状には、一方側から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面が形成される。ただし、この場合に、凹状反射部の平面形状が一方側から反対側へ向けて徐々に幅が減少する形状であるとすれば、一方側と反対側との間に十分な非対称性を確保するとともに、所望の光指向性に寄与し得る傾斜面を形成することは難しい。そこで、発明者らはさらに実験を繰り返したところ、必要十分な光指向性を得ようとすれば、一方側の平面形状における広い幅と、反対側の平面形状における狭い幅とを大きく異ならせる必要があり、その結果、凹状反射部の平面形状が略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状となるようにすれば、凹状反射部の内面形状を十分に非対称に形成することができ、しかも、必要十分な光指向性を得ることのできる傾斜面を容易に形成することができることが判明した。
【００１６】
また、本発明の別の光反射基板は、前記凹状反射部は、その一方側寄りに設けられた最深部から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を備えた内面形状を有し、前記凹状反射部の平面形状は、前記一方側は広幅に構成され、前記反対側は狭幅に構成されているとともに、前記一方側から前記反対側への移行部分の外縁形状の少なくとも一部が凹状に構成されていることを特徴とする。
【００１７】
上記と同様に、一方側の平面形状における広い幅と、反対側の平面形状における狭い幅とを大きく異ならせることによって、凹状反射部における一方側から反対側への移行部分の外縁形状の少なくとも一部が凹状に構成される。発明者らが鋭意実験を行った結果、上記のように、移行部分の外縁形状の少なくとも一部が凹状に形成されるようにすると、凹状反射部の内面形状を十分に非対称に形成することができ、しかも、必要十分な光指向性を得ることのできる傾斜面を容易に形成できることが見い出された。
【００１８】
さらに、本発明の異なる光反射基板は、前記凹状反射部は、その一方側寄りに設けられた最深部から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を備えた内面形状を有し、前記凹状反射部の平面形状は、前記一方側は広幅に構成され、前記反対側は狭幅に構成されているとともに、前記一方側の端部の外縁形状の少なくとも幅方向中央部が凹状に構成されていることを特徴とする。
【００１９】
凹状反射部の一方側の平面形状における広い幅と、反対側の平面形状における狭い幅とを大きく異ならせることが重要であることは上述の通りであるが、発明者らの実験により、一方側の幅を反対側の幅よりも大幅に大きく形成した場合には、一方側の端部の外縁形状、特に当該外縁形状の幅方向中央部が当該端部の外側へ広がりやすくなり、それによって却って一方側の端部近傍の斜面の傾斜角度が小さく（すなわち傾斜が緩く）なり、これによって一方側から反対側へ向けた非対称性が低下して、光指向性を損なってしまうことが判明した。そこで、発明者らは、凹状反射部の一方側の端部の外縁形状の少なくとも幅方向中央部が凹状になるように構成した。そして、このようにすることによって、一方側の端部近傍の傾斜角度を急峻にすることができ、凹状反射部における一方側と反対側との非対称性を十分に高めることができ、光指向性を確保できることが判明した。
【００２０】
本発明において、前記基材上に形成された下地層を有し、当該下地層上に前記光反射層が形成されており、前記下地層の表面には前記凹状反射部の下に配置された凹状表面部が設けられ、前記凹状反射部の内面は、前記凹状表面部の内面形状を反映した形状に構成されていることが好ましい。
【００２１】
下地層の表面に凹状表面部を形成し、この下地層上に光反射層を形成することによって、上記凹状表面部の内面形状を反映した形状に凹状反射部が形成される。この場合、下地層に凹状表面部を形成すればよいことから、光反射層に直接凹状反射部を形成する場合に比べて、光反射特性を必要としない下地層に対して表面加工を行うことができるため、より容易に製造することが可能になる。特に、下地層として感光性樹脂が用いられることによって、下地層に対する露光パターンによって直接凹状表面部を形成することができるので、製造工数を低減できるという利点がある。また、露光条件としての、露光マスクのパターン形状だけでなく、露光ギャップを調整することによっても感光性樹脂の露光状態を変化させることができるので、より容易に凹状表面部を形成することができる。
【００２２】
本発明において、前記一方側から前記反対側へ向かう方向（後述する軸線方向）は、前記基材の端辺に対して平行であることが好ましい。凹状反射部の一方側から反対側へ向かう方向が基材の端辺に平行であることによって、光指向性を端辺に平行な方向に形成することができる。したがって、光反射基板を表示装置に用いた場合に、上記基材の端辺を垂直にした姿勢で視認する場合には、より明るい表示状態を得ることができる。
【００２３】
なお、本発明においては、全ての凹状反射部における第１領域と第２領域の配列方向（すなわち後述する軸線方向）が同一方向に設定されていることが望ましい。これによって、凹状反射部の内面形状による光指向性をより確実に得ることができる。
【００２４】
次に、本発明の電気光学装置は、電気光学物質と、当該電気光学物質に電界を印加する電界印加手段と、前記電気光学物質に沿って配置された上記いずれかに記載の光反射基板とを有することを特徴とする。電気光学装置に上記の光反射基板を用いることにより、光反射基板による光反射を利用して表示等を行うことが可能になり、その光指向性及び光散乱性によってより効率的に光を利用することが可能になる。
【００２５】
本発明において、前記光反射基板は半透過反射特性を有することが好ましい。光反射基板が半透過反射特性を有することによって、たとえば、電気光学装置を表示装置として構成した場合に、半透過反射型の表示装置とすることができる。このように半透過反射型の表示装置を構成する場合には、全反射型の表示装置を構成する場合に比べて光反射基板の反射率が低下するので、光指向性による光の利用効率の向上がより重要になる。本発明の光反射基板では、上記構成によって光指向性をより理想的なものとすることができるとともに、当該光指向性の再現性を向上させることができるので、より明るくかつ安定した品位の反射型表示を得ることが可能になる。
【００２６】
次に、本発明の光反射基板の製造方法は、基材上に感光性樹脂を配置する工程と、当該感光性樹脂を露光する露光工程と、前記感光性樹脂を現像して下地層を形成する現像工程と、当該下地層上に光反射層を形成する光反射層形成工程とを有する光反射基板の製造方法であって、前記露光工程では、一方側が広幅でその反対側が狭幅に形成された開口形状を備えた光学開口を有するマスクパターンにより露光が行われ、前記現像工程では、前記下地層の表面に、前記光学開口に対応した複数の凹状表面部が形成され、前記光反射層形成工程では、前記光反射層の表面に、前記凹状表面部を反映した複数の凹状反射部が形成され、当該複数の凹状反射部により光指向性及び光散乱性を有するパターンが形成されることを特徴とする。
【００２７】
この発明によれば、基材上に配置された感光性樹脂に対して、一方側が広幅で反対側が狭幅に形成された開口形状を備えた光学開口を有するマスクパターンにより露光が行われることにより、現像工程において一方側から反対側へ向けて徐々に浅くなる内面形状を備えた凹状表面部を備えた下地層を形成することができる。また、この方法では、下地層に所望の内面形状を有する凹状表面部を形成すればよいので、光反射層自体を成形する必要がなくなり、良好な光指向性を得ることができる凹形状をより容易に形成できるとともに、上記内面形状の再現性を向上させることが可能であり、所定の光指向性を確実に実現できる。
【００２８】
本発明において、前記光学開口の開口形状は略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状であることが好ましい。光学開口の開口形状としては、上述の通り、一方側の幅が反対側の幅よりも大幅に大きく構成されていることが好ましいが、特に、開口形状を略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状とすることによって、所望の光指向性を形成するに必要十分な程度に、凹状表面部の一方側と反対側との内面形状の非対称性を十分に高めることができるとともに、一方側から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を容易に形成することができる。
【００２９】
本発明において、前記光学開口の開口形状は、前記一方側から前記反対側への移行部分の外縁形状のうち少なくとも一部が凹状に構成されていることが好ましい。光学開口の開口形状として、たとえば、一方側から反対側へ向けて徐々に幅を変化させていくのではなく、上記移行部分の外縁形状のうち少なくとも一部が凹状に構成される程度に急激に幅を変化させることによって、所望の光指向性を形成するに必要十分な程度に、凹状表面部の一方側と反対側との内面形状の非対称性を十分に高めることができる。
【００３０】
本発明において、前記光学開口の開口形状は、前記一方側の端部の外縁形状のうち少なくとも幅方向中央部が凹状に形成されていることが好ましい。光学開口の開口形状において、一方側の端部の外縁形状のうち少なくとも幅方向中央部が凹状に形成されていることにより、一方側の端部近傍の内面形状を急峻に形成することができることから、所望の光指向性を形成するに必要十分な程度に、凹状表面部の一方側と反対側との内面形状の非対称性を十分に高めることができる。
【００３１】
本発明の光反射基板の製造方法としては、上記露光工程では、プロキシミティ露光が行われることが好ましい。コンタクト露光ではなく、プロキシミティ露光であることによって、光学開口と感光性樹脂との間に露光ギャップ（プロキシミティ・ギャップ）が確保され、この露光ギャップに応じて光の回折による露光範囲の広がりが生ずるので、上記の一方側の開口幅と反対側の開口幅との相違によって所望の内面形状を有する凹状表面部を容易に形成することができる。
【００３２】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学物質と、当該電気光学物質に電界を印加する電界印加手段と、前記電気光学物質に沿って配置された光反射基板とを有する電気光学装置の製造方法であって、上記のいずれかに記載された光反射基板の製造方法を用いることを特徴とする。
【００３３】
本発明において、半透過反射特性を有するように光反射基板を形成することにより、半透過反射型の電気光学装置を構成することができる。この場合には、実質的に光を透過する素材で前記下地層を形成し、独立して制御可能な画素毎に、前記光反射層の一部に開口部を形成すればよい。また、独立して制御可能な画素毎に、基材上の前記光反射層及び前記下地層の一部を除去してもよい。さらに、光反射層を薄く形成して、光の一部を反射させるとともに光の残部のうち少なくとも一部を透過させるように構成してもよい。
【００３４】
次に、本発明の電子機器は、上記の電気光学装置と、当該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする。上記の電気光学装置を制御手段によって制御することによって、各種電子機器の表示装置などとして用いることができる。特に、携帯電話、電子腕時計、携帯型情報端末などの携帯型電子機器に用いることが好ましい。携帯型電子機器においては、消費電力の低減に対する要請が強いことから反射型表示が必要とされ、光指向性によって実質的に反射型表示を明るくすることが表示品位の向上に大きく寄与する。なお、本発明に係る上記の光反射基板は、電気光学装置に限らず、各種の表示機器類にも広く用いることができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る光反射基板、光反射基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器の実施形態について詳細に説明する。
【００３６】
図１は、本発明に係る電気光学装置である液晶表示装置２００のパネル構成を示す概略斜視図、図２は、液晶表示装置２００の表示領域Ａ内の構造を拡大して模式的に示す拡大部分断面図、図３は、液晶表示装置２００を構成する光反射基板２１０の平面構造を模式的に示す拡大部分平面図である。なお、図１においては、観察側が図示下方になるように描いてあり、図２においては、観察側が図示上方になるように描いてある。
【００３７】
図１に示すように、液晶表示装置２００は、基板（光反射基板）２１０と、基板（対向基板若しくは素子基板）２２０とをシール材２３０を介して貼り合わせたものであり、これらの基板同士は、スペーサＳＰによる規制によって３〜１０μｍ程度の適宜の間隔とされ、その内側に液晶ＬＣが封入されているものである。基板２１０には、基材２１１上に電極２１６が形成されている。電極２１６はたとえば図示例のように複数平行に配列されている。一方、基板２２０には、基材２２１上に配線２２２が形成されている。この配線２２２には、図２に示す電極（画素電極２２５）が接続されている。電極２１６及び配線２２２は、基材２２１の張り出し部２２１Ｔ上に引き出され、半導体ＩＣ等で構成される半導体ＩＣチップ２６１に接続されている。半導体ＩＣチップ２６１は、張り出し部２２１Ｔ上においてフレキシブル配線基板等で構成される配線部材２６３に導電接続されている。
【００３８】
図２に示すように、基板２１０には、ガラスやプラスチック等で構成される基材２１１上に、ほぼ透明な下地層２１２が形成され、この下地層２１２の上にアルミニウム、銀、クロム、あるいはこれらの合金等で構成される光反射層２１３が形成されている。光反射層２１３には、独立して制御可能な領域である画素（ドット）毎に開口部２１３ａが設けられている。光反射層２１３上には、染料や顔料などの着色材を含む樹脂等で構成される着色層２１４ａを配列させたカラーフィルタ層２１４が形成されている。このカラーフィルタ層２１４は、たとえば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）などの複数種類の着色層２１４ａのいずれかが上記画素毎に配置され、適宜の配列パターン（ストライプ配列、デルタ配列など）で周期的に配列されたものである。図３には、ストライプ配列のカラーフィルタ層２１４を示す。画素間領域には黒色樹脂などで構成された遮光部２１４ｂが形成されている。カラーフィルタ層２１４上には、着色層２１４ａを保護するとともに平坦性を得るための透明保護膜２１５が形成されている。透明保護膜２１５の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等で構成される電極２１６が形成されている。また、電極２１６上には、ポリイミド樹脂等で構成される配向膜２１７が形成される。
【００３９】
基板２２０には、ガラスやプラスチック等で構成される基材２２１上に、Ｔａ等の金属などで上記配線２２２が形成されている。配線２２２上には、画素毎にダイオード素子が形成され、このダイオード素子は上記電極２２５に接続されている。より具体的には、配線２２２上に形成されたＴａ２Ｏ５等の絶縁膜２２３を介してＣｒ等で構成される対向端子２２４が接合され、この対向端子２２４がＩＴＯ等で構成される電極２２５に接続されている。上記ダイオード素子は、配線２２２、絶縁膜２２３及び対向端子２２４のＭＩＭ（金属−絶縁体−金属）構造によって構成される。このＭＩＭ構造で構成されるダイオード素子は、上記遮光部２１４ｂが配置された画素間領域と平面的に重なるように配置されている。これらの上には、上記と同様の配向膜２２６が形成されている。
【００４０】
なお、上記基板２１０及び２２０の製造工程においては、電極や配線はスパッタリング法により形成することができる。また、上記ＭＩＭ素子の絶縁膜２２３は配線２２２の表面を陽極酸化法によって酸化することにより形成できる。カラーフィルタ２１４は、ロールコータ法などによって着色した感光性レジストを塗布し、露光・現像を行うフォトリソグラフィ法を色毎に繰り返すことで形成できる。
【００４１】
液晶表示装置２００のパネル構造の背後には、図２に示すように、バックライト２４０が配置されている。また、パネル構造と、バックライト２４０との間には、偏光板２４１と位相差版２４２が順次配置され、また、パネル構造の前面にも、位相差版２４３と偏光板２４４が順次配置されている。なお、図示例の液晶表示装置２００では、上記液晶ＬＣによりＳＴＮモードの液晶層が構成されている場合について示してある。
【００４２】
図２及び図３に示すように、光反射層２１３には、複数の凹状反射部２１３ｆが分散配置されている。これらの凹状反射部２１３ｆは、下地層２１２の表面に形成された凹状表面部２１２ｆの立体形状を反映した内面形状を有している。図２に示すように、凹状反射部２１３は、所定方向に見たときに、その一方側（図示右側）と反対側（図示左側）の立体形状が非対称に構成されている。より具体的には、一方側の端部内面が急峻に形成され、最深部は一方側寄りに配置され、一方側から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面が形成されている。また、図３に示すように、凹状反射部２１３ｆの平面形状は略Ｔ字若しくは略Ｙ字状に構成されている。光反射層２１３ｆには、全ての凹状反射部２１３が相互に同一姿勢となるように配列形成されている。また、凹状反射部２１３ｆは、図３に示すように、ほぼ規則的に配列されていてもよく、或いは、ランダムに分散配置されていてもよい。
【００４３】
図４には、上記基板２１０の基材２１１、下地層２１２及び光反射層２１３と同じ構造を有する光反射基板１０の構造を拡大して示す。この光反射基板１０は、上記基材２１１と同様に構成された基材１１と、上記下地層２１２と同様に構成された下地層１２と、上記光反射層２１３と同様に構成された光反射層１３とを備えている。光反射層１３の表面には凹状反射部１３ｆが形成されている。また、凹状反射部１３ｆは、下地層１２に設けられた凹状表面部１２ｆを反映して形成されている。
【００４４】
凹状表面部１２ｆ及び凹状反射部１３ｆには、一方側（図示右側）寄りに最深部１２ｏ，１３ｏが形成され、この最深部１２ｏ，１３ｏの一方側には急峻な内面形状Ａ１が設けられ、最深部１２ｏ，１３ｏの反対側には緩やかな内面形状Ａ２が形成されている。すなわち、最深部１２ｏ，１３ｏの両側には、相互に非対称な内面形状Ａ１，Ａ２が形成されている。また、最深部１２ｏ，１３ｏから反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面１２ｓ，１３ｓが形成されている。この傾斜面１２ｓ、１３ｓは、水平面を基準とした傾斜角θを有している。この傾斜角θは、通常、５度から４０度の範囲内に設定される。特に、１０度から２５度の範囲内であることが好ましい。傾斜角θを有する傾斜面１３ｓは、入射角２θで入射する光Ｉを光反射基板１０の表面に対して垂直な方向に反射し、反射光Ｒとして出射する。
【００４５】
一方、凹状表面部１２ｆ及び凹状反射部１３ｆは、一方側（図示右側）が広幅で、反対側（図示左側）が狭幅の平面形状Ｐを備えている。ただし、この平面形状Ｐでは、一方側の幅と反対側の幅とが大きく異なっており、平面形状Ｐ全体としては略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状を備えている。なお、基板の表面上における一方側から反対側へ向かう方向を以下、単に「軸線方向」といい、基板の表面上において軸線方向と直交する方向を以下、単に「幅方向」という。平面形状Ｐは、より具体的には、一方側から反対側へ移行する部分において、すなわち、軸線方向のほぼ中央部分において、その外縁形状の一部Ｐｓが凹状（図示例では凹曲線状）に構成されている。
【００４６】
凹状表面部１２ｆ及び凹状反射部１３ｆは、上記平面形状Ｐに限らず、図示一点鎖線で示す平面形状Ｐ′や図示点線で示す平面形状Ｐ″のように、種々の形状で構成される。このような平面形状の中には、Ｔ字形をかなり崩した平面形状Ｐ″も含まれるが、いずれの平面形状Ｐ，Ｐ′、Ｐ″も、一方側が広幅で、反対側が狭幅であるとともに、一方側から反対側へ移行する部分の幅方向両側の外縁形状が共に凹状に構成されている場合には、略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状に含まれるものとする。ただし、本発明としては、略Ｔ字若しくは略Ｙ字形の平面形状を有する場合に限らず、移行部分の幅方向のいずれか一方の外縁形状が凹状に形成されていればよい。
【００４７】
なお、上記の平面形状Ｐ′では、一方側の端部の外縁形状のうち幅方向中央部Ｐｄ′が凹状（図示例では凹曲線状）に構成されている。この一方側の端部の外縁形状は、通常、一方側の端部の内面形状の急峻さを高めて、一方側と反対側の非対称性を増大させることに役立つ。
【００４８】
図５は、上記光反射基板１０を製造する方法を示す工程説明図（ａ）〜（ｃ）である。光反射基板１０を形成するには、最初に、図５（ａ）に示すように基材１１の表面上に感光性樹脂１２Ａをスピンコーティング法、ロールコート法、スクリーン印刷法などによって配置する。感光性樹脂１２Ａの膜厚ｔは、通常、０．８〜５．０μｍの範囲内であり、特に、１．０〜３．０μｍの範囲内であることが望ましい。感光性樹脂としてはポジ型フォトレジストを用いることができ、また、アクリル系樹脂を基剤としたものを用いることができる。
【００４９】
次に、プロキシミティ式露光装置などを用いて、図５（ｂ）に示すように、感光性樹脂１２Ａを露光する。この露光工程においては、露光マスク５０を用いて、感光性樹脂１２Ａに対して所定の露光パターンで露光を行う。この露光マスク５０は、たとえば、図示のようにガラス等の透明基材５１上に金属薄膜などの遮光層５２を設けた構造を有する。露光マスク５０には、複数の光学開口５０ａが規則的に、若しくは、ランダムに配列されている。
【００５０】
光学開口５０ａの換算直径Ｄ（光学開口５０ａの開口面積と同じ開口面積を有する円形開口の直径）は、良好な光散乱性を得るために、通常、５〜２０μｍの範囲内であり、特に７〜１５μｍの範囲内とすることが好ましい。また、各光学開口５０ａ間の平均間隙Ｌは、良好な光散乱性を得るために、通常、８〜３０μｍの範囲内であり、特に１０〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。露光マスク５０の有効露光領域（光学開口が配列された領域）の開口率は、通常、２０〜４０％程度であり、特に、２５〜３５％程度であることが好ましい。露光マスク５０と感光性樹脂１２Ａとの距離、すなわち露光ギャップ（プロキシミティ・ギャップ）Ｇは、通常、５０〜２５０μｍの範囲内であり、特に、６０〜１２０μｍの範囲内であることが好ましい。露光波長は、３００〜４５０ｎｍの範囲内とすることが好ましい。露光量は、通常、５０〜１５０ｍＪであり、特に、６０〜１００ｍＪの範囲内であることが好ましい。
【００５１】
露光工程の具体的な実施例としては、感光性樹脂１２Ａの膜厚を１．６〜１．７μｍ、露光波長は超高圧水銀灯のｉ線の３６５ｎｍ、露光量を約８０ｍＪ（一括露光で、光照射時間が４秒）、露光ギャップを約８０μｍ、光学開口５０ａを、軸線方向が１３．５μｍ、幅方向が約９．０μｍの長方形の内部にほぼぴったりと納まる大きさとした。なお、光学開口５０ａの詳細な形状については後述する。
【００５２】
上記のようにして露光された感光性樹脂１２Ａは、所定の現像液を用いて現像され、露光量に応じた表面形状に形成される。本実施形態では、感光性樹脂１２Ａとしてポジ型レジスト（ポリメチルメタクリレートやノボラック樹脂など）を用いた。これによって、光学開口５０ａを通して照射された露光量に応じて、現像時に図５（ｃ）に示す凹状表面部１２ｆが形成される。
【００５３】
ここで、図６（ｄ）に示すように、上記範囲内において、露光ギャップＧを比較的小さくすると、光学開口５０ａにおける光の回折に起因する露光範囲の広がりが小さくなるため、（ｄ−１）に示すように、凹状表面部１２ｆの内面形状は、光学開口５０ａの開口形状を比較的そのまま反映するコンタクト露光による平面形状に近づき、凹状表面部１２ｆの内側の内面形状の起伏が減少するとともに、凹状表面部１２ｆの外側の表面形状は平坦になる。また、露光ギャップＧを上記状態から増加させていくと、（ｄ−２）に示すように、光の回折に起因して露光範囲が広がるため、凹状表面部１２ｆの外縁はなだらかになり、凹状表面部１２ｆの内面形状の起伏（非対称性）が増大するとともに、凹状表面部１２ｇの外側の表面も緩やかに湾曲した曲面上の部分が増加し、平坦部分の面積は減少する。そして、露光ギャップＧをさらに増加させると、（ｄ−３）に示すように、光学開口５０ａの開口形状が凹状表面部１２ｆの平面形状に反映されにくくなり、凹状表面部１２ｆの内面形状の制御性が低下する。したがって、本実施形態において、露光ギャップＧは小さすぎても大きすぎても支障が出るので、上記範囲内において調整されることが好ましい。さらに、所定の膜厚ｔを有する感光性樹脂１２Ａに対して、露光量を大きくすると、（ｄ−１）に示すように、凹状表面部１２ｆの底部に基材表面が露出する場合があり、このようになると、露出した基材表面に対応する光反射層の表面では正反射が生ずるので、光散乱性及び光指向性の双方に影響を及ぼす。したがって、（ｄ−1）に示すように基材表面が露出しない範囲の条件で凹状表面部１２ｆを形成することが望ましい。
【００５４】
次に、図６（ｅ）に示すように、上記のようにして形成された下地層１２の表面上に、アルミニウム、銀、クロム、或いは、これらの合金などの反射性素材を用いて光反射層１３を形成する。光反射層１３の形成は、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などの各種の成膜方法を用いることができる。これによって、光反射層１３には、上記下地層１２の凹状表面部１２ｆの内面形状を反映した凹状反射部１３ｆが形成される。
【００５５】
その後、たとえば、エッチングなどによって、図６（ｆ）に示すように光反射層１３に開口部を形成したり（下地層１２が透明である場合）、或いは、図６（ｇ）に示すように、光反射層１３とともに下地層１２にも開口部を形成したりすることによって、光反射基板１０に光透過領域１０ａを設けてもよい。このようにして光反射基板１０が半透過反射特性を有するものとすることにより、上記の液晶表示装置２００などのように半透過反射型の装置を構成することが可能になる。
【００５６】
図７は、上記製造工程の代替方法となり得る別の光反射基板の製造方法を示す工程説明図（ａ）〜（ｃ）である。この方法では、まず、図７（ａ）に示すように、基材１１上に、上記光反射層１３と同様の反射性素材を用いた光反射層１３Ａを形成する。その後、レジストマスク１４を形成し、フォトリソグラフィ法などによってレジストマスク１４に開口部１４ａを形成する。次に、このレジストマスク１４を介してエッチングによって光反射層１３Ａをエッチングし、図７（ｂ）に示すように、凹状反射部１３ｆ′を備えた光反射層１３′を形成する。
【００５７】
このとき、エッチング液の組成と光反射層１３Ａの材質によって決定されるエッチング異方性が小さければ、すなわち、エッチングの等方性がある程度高ければ、開口部１４ａの幅が大きくなると凹状表面部１３ｆ′は深くなり、開口部１４ａの幅が小さくなると凹状反射部１３ｆ′は浅くなる。したがって、開口部１４ａの一方側の幅を大きくし、反対側の幅を小さくすることによって、一方側と反対側について非対称な内面形状、及び、一方側から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面を形成することができる。ここで、一方側（図示右側）の幅と、反対側（図示左側）の幅の差が小さければ、図７（ｃ）の（ｃ−１）に示すように凹状反射部１３ｆ′の非対称性は小さくなるが、一方側の幅と反対側の幅とが大きく異なっていれば、（ｃ−２）に示すように、上記実施形態の図４に示す凹状表面部１２ｆと同様の内面形状を備えた凹状反射部１３ｆ′を形成することができる。
【００５８】
図８は、上記実施形態の光反射基板１０に対して、その光指向性を測定する様子を示す説明図であり、図９は、測定された結果を示すグラフである。光反射基板１０の表面には、上述のように複数の凹状反射部１３ｆが配列されている。ここで、凹状反射部１３ｆの上記軸線方向Ｔは、矩形状に構成された光反射基板１０の一つ（或いは一組）の端辺１０Ｅに対して平行に設定されている。
【００５９】
光（可視光）Ｉを入射角δにて入射させ、その反射光Ｒの強度を角度ごとに光検出器によって検出した。ここで、入射角δを２５度とし、その正反射光Ｃの反射方向（反射角δ）を基準として法線Ｎ方向に計った反射光Ｒの角度を受光角度φとして図９に示してある。
【００６０】
図９には、光指向性を有しない等方性で、しかも光散乱性を備えた光反射基板を測定した結果を実線で示し、図４に示す状況と同様に、凹状反射部１３ｆの軸線方向Ｔの一方側から光を入射させて測定した結果を一点鎖線で示してある。図９に示すように、上記凹状反射部１３ｆを形成することによって、φ＝０度の正反射以外に、φ＝１０〜２４度の範囲に強い散乱光が出射されることがわかる。ここで、図４に示す傾斜面１３ｓの傾斜角度θと、上記受光角度φとの間には、θ＝φ／２の関係があるから、上記散乱光が傾斜面１３ｓの反射によって生じたものであるとすれば、傾斜面１３ｓの傾斜角度θは、ほぼ５〜１２度の範囲内において分布していることになる。
【００６１】
次に、図１０乃至図１３を参照して、上記実施形態における光学開口５０ａの開口形状の例について詳細に説明する。なお、以下に示すいずれの光学開口についても、軸線方向の長さは約１０〜１５μｍ、軸線方向と直交する方向の最大幅は約７〜１２μｍとした。
【００６２】
図１０（ａ）には、上記実施形態において用いることの可能な光学開口５１ａの開口形状を示す。この光学開口５０ａには、その一方側（図示上側）において幅方向に並列した一対の開口部５１ａ１，５１ａ２が設けられ、これらの開口部５１ａ１と５１ａ２との間には、開口していない遮光部５１ｂが設けられている。また、開口部５１ａ１，５１ａ２に共に連通し、反対側（図示下側）に向けて伸びた開口部５１ａ３が設けられている。この開口部５１ａ３は、先端側に向けてやや幅が減少する形状を備えている。
【００６３】
この光学開口５１ａにおいては、基本的に一方側において広幅で、反対側において狭幅の開口形状を有するとともに、一方側から反対側へ向けて移行する部分、すなわち、開口部５１ａ１，５１ａ２と、開口部５１ａ３との境界部分、の外縁形状の一部が凹状（図示例ではＶ字凹状）に構成されている。
【００６４】
上記の光学開口５１ａを用いて上述の製造工程を実施することにより、図示点線で示す平面形状Ｐを備えた凹状表面部が形成される。この平面形状Ｐは、全体として略Ｔ字状に構成される。また、一方側から反対側へ移行する部分の外縁形状の一部は凹状（図示例では凹曲面状）に構成される。そして、この平面形状Ｐを有する凹状表面部は、上記実施形態の凹状表面部１２ｆと同様に、一方側から反対側へ向けて（すなわち軸線方向に向けて）徐々に浅くなる傾斜面を備えたものとなる。
【００６５】
上記の光学開口５１ａにおいて、一方側に設けられた一対の開口部５１ａ１と５１ａ２との間には、遮光部５１ｂが設けられている。これによって、光学開口５１ａの一方側の端部の外縁形状の幅方向中央部は凹状に構成されていることになる。この光学開口５１ａを用いて露光する場合、感光性樹脂１２Ａの遮光部５１ｂと平面的に重なる領域には直接光は照射されないけれども、上記の露光ギャップＧの存在によって光が光学開口５１ａにおいて回折し、開口形状の周囲に広がるので、この遮光部５１ｂと重なる領域では、左右の開口部５１ａ１と５１ａ２の双方からの回折光が照射され、露光されることになる。したがって、それぞれの回折光の露光量がそれほど大きくなくても、両側から照射される光の重畳によって強く露光され、上記領域でも凹状表面部は深く形成されることになる。
【００６６】
上記のように構成すると、光学開口５１ａの一方側の端部の外側（図示上側）に向けた回折光の広がりによって、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の一方側の端部が外側に広がり、当該端部の傾斜面が却ってなだらかになってしまうことにより、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の軸線方向に見た非対称性が低下するという問題を回避することができる。すなわち、遮光部５１ｂを設けることによって、一方側の端部の幅方向中央では露光マスクの開口縁が内側に配置されているために、回折光が外側に広がりにくくなり、その結果、凹状表面部（若しくは凹状反射部）における一方側の端部の内面を急峻に形成することができるため、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の軸線方向に見た非対称性を高めることができる。
【００６７】
ここで、遮光部５１ｂと重なる上記領域における露光量は、上記露光ギャップＧや露光波長によっても異なるので、上記遮光部５１ｂの幅や軸線方向の長さを適宜に調整することによって、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の一方側の端部の内面形状を容易に最適化できる。たとえば、図１０（ｂ）に示す光学開口５１ａ′では、遮光部５１ｂ′の幅はより小さく構成してある。遮光部５１ｂ，５１ｂ′の幅や軸線方向の長さの値に応じて、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の平面形状Ｐにおける一方側の端部では、図１０（ａ）に示すようにその幅方向中央に凹状の外縁部分が構成されることもあり、図１０（ｂ）に示すようにほぼ直線状の外縁部分が構成されることもあり、さらには、逆にやや凸状の外縁部分が構成されることもある。
【００６８】
なお、上記光学開口５１ａの開口部５１ａ３は反対側に向けて徐々に幅が減少した形状を有し、これによって一方側から反対側へ向けた上記傾斜面の傾斜角度をより確実に構成することができるが、光学開口５１ａ′の開口部５１ａ３′は、軸線方向に見て同一の開口幅を備えている。このような開口形状でも、上記傾斜面の傾斜角度を得ること自体には何ら支障はない。
【００６９】
いずれにしても、上記の光学開口５１ａでは、遮光部５１ｂの幅や軸線方向の長さを調整することによって、非常に高い光指向性を得ることができた。
【００７０】
図１１（ａ）には、異なる開口形状を備えた光学開口５２ａを示す。この光学開口５２ａは、上記と同様に、全体として略Ｔ字若しくは略Ｙ字形状を有していて、しかも、一方側（図示上側）では広幅に、反対側（図示下側）では狭幅に構成されている。ただし、光学開口５２ａは、その一方側に設けられた広幅の開口部５２ａ１と、この開口部５２ａ１に連通し、反対側に伸びる狭幅の開口部５２ａ２によって構成されている。一方側の開口部５２ａ１における一方側の外縁形状は、幅方向中央部を中心とする略Ｖ字凹状に形成されている。また、一方側の開口部５２ａ１から反対側の開口部５２ａ２へ移行する部分には、一部に凹状（図示例ではＶ字凹状）の外縁形状が設けられている。
【００７１】
また、反対側の開口部５２ａ２は、反対側に向けて徐々に幅が減少する開口形状を有している。ただし、この先細の形状は必ずしも必要なものではなく、図１１（ｂ）に示す光学開口５２ａ′のように、その開口部５２ａ２′が軸線方向に見て同一の開口幅を有する形状を有していてもよい。
【００７２】
上記の光学開口５２ａ，５２ａ′においても、外縁形状の角度などを調整することにより、高い光指向性を獲得することができた。
【００７３】
図１２（ａ）には、さらに異なる開口形状を備えた光学開口５３ａを示す。この光学開口５３ａにおいても、上記各光学開口と同様に、一方側で広幅に、反対側で狭幅に構成されている。また、上記と同様に、一方側の端部の外縁形状が凹状（図示例ではＶ字凹状）に形成されている。しかしながら、この光学開口５３ａでは、一方側から反対側に向けて幅が徐々に減少している点で、上記の光学開口５１ａ，５２ａとは異なる。より具体的には、一方側から反対側に向けて外縁形状がほぼ直線状に構成されている。
【００７４】
この光学開口５３ａにおいては、上記のように一方側から反対側へ移行する部分において外縁形状の一部が凹状に構成されてはいない。しかし、全体として一方側から反対側に向けて徐々に幅が狭くなっているために、全体としては、凹状表面部（若しくは凹状反射部）において一方側から反対側へ向けて徐々に浅くなる傾斜面が形成される。また、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の平面形状Ｐにおいては、その一方側の端部において幅方向中央部が外側に広がらないように構成されるので、一方側の端部の内面部分を急峻に構成することができ、その結果、反対側の内面部分との間に高い非対称性を獲得することができる。
【００７５】
図１２（ｂ）に示す光学開口５３ａ′では、その一方側の端部形状及び反対側の端部形状については上記光学開口５３ａとほぼ同様であるが、一方側から反対側へ向かう途中の２箇所に、凹状（図示例ではそれぞれＶ字凹状）に形成された外縁形状が構成されている。したがって、その外縁形状の２箇所において上記傾斜面に十分な傾斜角度を付けることができるため、さらに高い光指向性を獲得することが可能である。
【００７６】
上記の光学開口５３ａ，５３ａ′においては、いずれも反対側に形成された開口部分の幅がその先端に向けて急速に減少しており、反対側の端部が先鋭形状に構成されている。これによって、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の反対側の内面部分に十分な傾斜角度を有する傾斜面を形成することが可能になり、その光指向性を高めることができる。
【００７７】
図１３には、さらに別の光学開口５４ａ，５４ａ′を示す。これらの光学開口５４ａ，５４ａ′においては、一方側の端部形状がそれぞれ上記の図１０（ａ）に示す光学開口５１ａ、並びに、図１１（ａ）及び図１２（ａ）に示す光学開口５２ａ，５３ａと同様の外縁形状を有するが、反対側には、先端に向けて急速に幅が減少する形状の開口部分が設けられ、また、反対側の開口部分の端部は先鋭形状に構成されている。これによって、凹状表面部（若しくは凹状反射部）の反対側の内面部分に十分な傾斜角度を有する傾斜面を形成することが可能になり、その光指向性を高めることができる。
【００７８】
［電子機器］
最後に、図１４及び図１５を参照して、本発明に係る電子機器の実施形態について説明する。この実施形態では、上記電気光学装置の液晶表示装置２００を表示手段として備えた電子機器について説明する。図１４は、本実施形態の電子機器における液晶表示装置２００に対する制御系（表示制御系）の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、表示情報出力源２９１と、表示情報処理回路２９２と、電源回路２９３と、タイミングジェネレータ２９４とを含む表示制御回路２９０を有する。また、上記と同様の液晶表示装置２００には、上記表示領域Ａ（図１参照）を駆動する駆動回路２００Ｇが設けられている。この駆動回路２００Ｇは、本実施形態では上記半導体ＩＣチップ２６１によって構成される。この駆動回路２００Ｇは、通常、図１に示すように液晶パネルに直接実装されている半導体ＩＣチップ２６１に限定されるものではなく、パネル表面上に形成された回路パターン、或いは、液晶パネルに導電接続された回路基板に実装された半導体ＩＣチップ若しくは回路パターンなどによって構成されていてもよい。
【００７９】
表示情報出力源２９１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路２９２に供給するように構成されている。
【００８０】
表示情報処理回路２９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｇへ供給する。駆動回路２００Ｇは、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路２９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００８１】
図１５は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話を示す。この携帯電話１０００は、操作部１００１と、表示部１００２とを有する。操作部１００１の前面には複数の操作ボタンが配列され、送話部の内部にマイクが内蔵されている。また、表示部１００２の受話部の内部にはスピーカが配置されている。
【００８２】
上記の表示部１００２においては、ケース体の内部に回路基板１１００が配置され、この回路基板１１００に対して上述の液晶表示装置２００が実装されている。ケース体内に設置された液晶表示装置２００は、表示窓２００Ａを通して表示面を視認することができるように構成されている。
【００８３】
尚、本発明は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。たとえば、上記実施形態では、電気光学装置の一例として液晶表示装置２００について説明したが、本発明は液晶装置に限定されるものではなく、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッション表示装置など、種々の電気光学装置にも適用できるものである。また、上記の光反射基板は、電気光学装置だけでなく、種々の表示装置その他の各種機器にも用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態の液晶表示装置のパネル構造を示す概略斜視図。
【図２】液晶表示装置の拡大部分断面図。
【図３】液晶表示装置の一方の基板の拡大部分平面図。
【図４】光反射基板の凹状反射部の平面形状及び断面形状を示す説明図。
【図５】光反射基板の製造工程を示す工程断面図（ａ）〜（ｃ）。
【図６】光反射基板の製造工程を示す工程断面図（ｄ）〜（ｇ）。
【図７】光反射基板の別の製造工程を示す工程断面図（ａ）〜（ｃ）。
【図８】光反射基板の光指向性の試験を説明する説明図。
【図９】光反射基板の光指向性を示すグラフ。
【図１０】光反射基板の製造時に用いる露光マスクの光学開口の形状を示す説明図（ａ）及び（ｂ）。
【図１１】光反射基板の製造時に用いる露光マスクの光学開口の異なる形状を示す説明図（ａ）及び（ｂ）。
【図１２】光反射基板の製造時に用いる露光マスクの光学開口のさらに異なる形状を示す説明図（ａ）及び（ｂ）。
【図１３】光反射基板の製造時に用いる露光マスクの光学開口の別の形状を示す説明図（ａ）及び（ｂ）。
【図１４】電子機器の制御系の構成を示す概略構成ブロック図。
【図１５】電子機器の構成例を示す概略斜視図。
【符号の説明】
１０…光反射基板、１１…基材、１２…下地層、１２ｆ…凹状表面部、１３…光反射層、１３ｆ…凹状反射部、Ｐ…平面形状、５０ａ…露光マスク、５０ａ〜５４ａ…光学開口、２００…液晶表示装置、２１０，２２０…基板、２１１，２２１…基材、２１２…下地層、２１２ｆ…凹状表面部、２１３…光反射層、２１３ｆ…凹状反射部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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