(57)【要約】【課題】浄化処理後の土壌を含む土地を浄化処理直後から利用できる技術を提供すること。【解決手段】汚染土壌の浄化工事後の土壌を含む領域を、外部から遮水しかつ開閉自在の通水孔を有する遮水壁と、該遮水壁内の土壌中に設けられた、土壌中の有害物質をモニタリングするためのモニタリング用井戸と、揚水用井戸と、注水用井戸とを有することを特徴とする汚染土壌の浄化工事後の土壌のモニタリング構造およびモニタリング方法。【選択図】  図１
2004170085.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚染土壌の浄化工事後の土壌を含む領域を、外部から遮水しかつ開閉自在の通水孔を有する遮水壁と、該遮水壁内の土壌中に設けられた、土壌中の有害物質をモニタリングするためのモニタリング用井戸と、揚水用井戸と、注水用井戸とを有することを特徴とする汚染土壌の浄化工事後の土壌のモニタリング構造。
【請求項２】
汚染土壌の浄化工事後の土壌を含む領域を、開閉自在の通水孔を有する遮水壁により周囲から遮水し、該遮水壁内に、土壌中の有害物質をモニタリングするためのモニタリング用井戸と、揚水用井戸と、注水用井戸とを設け、上記モニタリング用井戸から定期的に地下水を採取し、土壌中の有害物質の変化をモニタリングすることを特徴とする汚染土壌の浄化工事後の土壌のモニタリング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、汚染土壌の浄化工事後の土壌（以下、本発明では単に「浄化済土壌」という。）のモニタリング構造およびモニタリング方法に関し、更に詳しくは揮発性有機化合物などの有害物質によって汚染された土壌を浄化した後、該浄化済土壌の再汚染をモニタリングする浄化済土壌のモニタリング構造およびモニタリング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、揮発性有機化合物は地球のオゾン層を破壊する物質、あるいは発ガン性物質として使用が禁止されている。しかしながら、揮発性有機化合物は優れた安定性と優れた溶解性を有することから、過去において広い産業分野において大量に使用された結果、現在においても多くの地下水や土壌中に残存しており、地下水の利用および工場跡地などの利用に際しては、地下水や土壌中に残存している揮発性有機化合物を除去することが要求されている。
【０００３】
揮発性有機化合物の除去方法としては、多くの方法が提案されているが、最も実用的な方法は汚染土壌を掘り出して揮発性有機化合物を除去した後、該浄化済土壌を埋戻す方法や、土壌中に揮発性有機化合物の分解剤などを混合して揮発性有機化合物を分解除去する方法がある。このような方法によって浄化された土壌は、浄化処理直後には揮発性有機化合物が基準値以下になっているが、時間の経過とともに地下水の流れやその他の原因で再汚染される可能性があり、従ってある期間、例えば、２年間程度は定期的に土壌の汚染具合をモニタリングし、再汚染が生じないことが確認された後でなければ、浄化済土壌を含む土地は要リスク管理地としての指定が解除されない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記の如き長期間土地の利用が制限されることは、経済的に大きな損失である。従って汚染領域を浄化処理した後に、直ちに該土地を利用することが望ましいが、浄化処理後、直ちに土地にコンクリートを敷設したり、建物を建設することは、後に上記土地が再汚染された場合、これらの構造物を撤去して、再度浄化処理せねばならず、浄化直後の土地の再利用はリスクが大きい。
従って本発明の目的は、浄化処理後の土壌を含む土地を浄化処理直後から利用できる技術を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的は以下の本発明によって達成される。すなわち、本発明は、浄化済土壌を含む領域を、周囲から遮水しかつ開閉自在の通水孔を有する遮水壁と、該遮水壁内の土壌中に設けられた、土壌中の有害物質をモニタリングするためのモニタリング用井戸と、揚水用井戸と、注水用井戸とを有することを特徴とする浄化済土壌のモニタリング構造を提供する。
【０００６】
また、本発明は、浄化済土壌を含む領域を、開閉自在の通水孔を有する遮水壁により周囲から遮水し、該遮水壁内に、土壌中の有害物質をモニタリングするためのモニタリング用井戸と、揚水用井戸と、注水用井戸とを設け、上記モニタリング用井戸から定期的に地下水を採取し、土壌中の有害物質の変化をモニタリングすることを特徴とする浄化済土壌のモニタリング方法を提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】
次に好ましい実施の形態を示す図面を参照して本発明をさらに詳しく説明する。図１および図２は本発明の浄化済土壌のモニタリング構造およびモニタリング方法を図解的に説明する図である。図１および図２に示すように、本発明の浄化済土壌のモニタリング構造は、浄化済土壌を含む領域を、周囲から遮水しかつ開閉自在の通水孔を有する遮水壁と、該遮水壁内の土壌中に設けられた、土壌中の汚染物をモニタリングするためのモニタリング用井戸と、揚水用井戸と、注入用井戸とを有することを特徴としており、本発明の浄化済土壌のモニタリング方法は、上記モニタリング用井戸から定期的に地下水を汲み上げ、土壌中の有害物質を検査して、浄化済土壌中の有害物質の濃度を検出することを特徴としている。
【０００８】
上記浄化済土壌とは、例えば、工場跡地などの土壌中には、有害物質、例えば、揮発性有機化合物が含まれており、該汚染土壌を掘り出し、加熱などにより揮発性有機化合物を土壌から分離して浄化し、該浄化済土壌を元の位置に埋戻したものをいう。このように有害物質が浄化された土地を舗装したり、建物を構築した場合、その後に浄化済土壌が再度揮発性有機化合物などによって汚染される畏れがある。例えば、地中では地下水が流れており、周辺から汚染された地下水が浄化済土壌の領域に入り、再汚染されたり、敷地内の他の領域に揮発性有機化合物が残っていて、該揮発性有機化合物が拡散して浄化済領域が再汚染される可能性がある。
【０００９】
本発明では、先ず、第一に浄化済領域を含む敷地内に、該敷地内とその周辺との間の地下水の出入りを制御する遮水壁を図１に示すように設ける。この遮水壁は、通水性のないプラスチックフイルムなどで十分であり、コンクリートなどの強度の高い材料である必要はない。この遮水壁の少なくとも２辺には、壁内部と外部とが通水できる通水孔が設けられ、地下水の流れを阻害しないようになっている。該通水孔は開閉自在となっており、通常は開の状態で通水されている。従って必要時にはいつでも壁の内外の通水を遮断することができる。この遮水壁は帯水層の深さとの関係で異なるが、一般的には地下５〜２０ｍ程度まで設ける。また、開閉自在の通水孔の構造は、通水孔をプラスチックシートなどを上下させて封鎖する方式でも、開閉自在のバルブ方式でもよい。
【００１０】
また、遮水壁内部には、モニタリング用井戸、揚水用井戸および注水用井戸を設ける。モニタリング用井戸は浄化済領域内で、かつ検査用の地下水がポンプなどにより容易に採取できれば、どこに設けてもよく、例えば、浄化後の浄化領域上に建物が建てられている場合には、建物の下に設け、配管して地下水を採取できるようにしておけばよい。また、地下水位を常時観察し得る地下水位測定器を有していることが好ましい。
【００１１】
このモニタリング用井戸は、浄化済領域中に掘られ、浄化済土壌中の地下水が汲み上げられる深さ、例えば、地表から約５〜２０ｍの深さまで設ける。このモニタリング用井戸から定期的に地下水を採取し、地下水中に含まれている有害物質の濃度を検出し、土壌の汚染具合をモニタリングする。
【００１２】
上記モニタリング用井戸から採取された地下水中の有害物質が２年間程度基準値以下の濃度であれば、何ら問題はない。しかしながら、地下水のモニタリング中に地下水中の有害物質の濃度が基準値を超えた場合には、該有害物質は遮水壁外から入ってくる地下水によって汚染された可能性がある。この場合には直ちに遮水壁の通水路を閉じ、遮水壁内外の通水を遮断する。
【００１３】
この状態で揚水用井戸から汚染された地下水を汲み上げ、適当な処理によって地下水を浄化し、浄化済地下水を注水用井戸から土壌中に圧入し、揚水による遮水壁内外の地盤沈下を防止する。この間に地下水の汚染の原因を調べ、汚染原因が外部にある場合には、必要な処置を採る。なお、上記揚水用井戸および注水用井戸の深さは、前記モニタリング用井戸と同様である。また、以上のモニタリング用井戸、揚水用井戸および注水用井戸は少なくとも１本あればよく、敷地の広さや浄化済土壌の量などに応じて複数本とすることができる。
【００１４】
また、遮水壁の孔を遮蔽した状態でも有害物質の濃度が上昇する場合もあり得るが、この場合には汚染源が敷地内にあることが分かるので、遮水壁を閉じて有害物質が敷地外に漏洩することを防止しつつ、揚水用井戸から汚染地下水を汲み上げ、有害物質を除去し、処理された水を注水用井戸から土壌中に圧入し、遮水壁内外の地盤沈下を防止する。
【００１５】
以上有害物質が揮発性有機化合物である場合について述べたが、本発明は、揮発性有機化合物に限られず、クロムなどの重金属、その他の有害物質のモニタリングにも同様に有用である。
【００１６】
【発明の効果】
以上の如き本発明によれば、浄化済土壌を定期的にモニタリングすることによて、浄化済領域を含む土地に、直ちに建物を建てたりすることができるので、土地を２年間も放置することなく有効に使用できるので極めて経済的である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のモニタリング構造とモニタリング方法を説明する図。
【図２】本発明のモニタリング構造とモニタリング方法を説明する図。
【図１】
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【図２】
2004170085.tif 000004