(57)【要約】【課題】処理流体による部品の腐食を軽減するとともに小型化を図ることができ、かつ大型な被処理物に対して均一な処理を行なうことができる処理装置および処理方法を提供する。【解決手段】処理装置１は、被処理基板４を収容する内部空間を有する筐体２と、被処理基板４の表面に対して隙間を設けて位置決めされる対向面７ａを有し、筐体２の内部空間に設けられるノズル体９とを備える。ノズル体９は、対向面７ａに設けられた供給口１１を有し、供給口１１を介して被処理基板４の表面にオゾン水を供給する供給ライン６１と、対向面７ａに設けられた排出口１０ａおよび１０ｂを有し、被処理基板４の表面に供給されたオゾン水を吸引することによって排出口１０ａおよび１０ｂを介してオゾン水を回収する排出ライン６０ａおよび６０ｂとを含む。処理装置１は、被処理基板４の表面に供給されたオゾン水に向けて紫外線を照射する光ケーブル１３をさらに備える。【選択図】        図１
2004193455.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オゾンを含む処理流体を被処理物の表面に供給し、その処理流体に光を照射することによって被処理物を分解除去する処理装置であって、
被処理物を収容する内部空間を有する筐体と、
被処理物の表面に対して隙間を設けて位置決めされる対向面を有し、前記内部空間に設けられるノズル体とを備え、
前記ノズル体は、前記対向面に設けられた第１の供給口を有し、前記第１の供給口を介して被処理物の表面に処理流体を供給する供給手段と、前記対向面に設けられた排出口を有し、被処理物の表面に供給された処理流体を吸引することによって前記排出口を介して処理流体を回収する回収手段とを含み、
被処理物の表面に供給された処理流体に向けて光を照射する光照射手段をさらに備える、処理装置。
【請求項２】
前記光照射手段は、前記対向面側に設けられた出光端と、前記筐体の外部に設けられた光源に光学的に接続される接続端とを含む、請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記出光端は、前記第１の供給口と前記排出口との間に位置するように前記対向面側に設けられている、請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記排出口は、前記対向面の周縁部に沿って設けられている、請求項１から３のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項５】
前記対向面は、石英ガラス、酸化アルミニウムおよび酸化チタンからなる群より選ばれた少なくとも１種を含む親水性材料から形成されている、請求項１から４のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項６】
前記第１の供給口および前記排出口は、一方向に延びるスリットによって規定されており、前記第１の供給口および前記排出口の各々は、スリットが延びる方向にほぼ垂直方向に並列して設けられている、請求項１から５のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項７】
前記第１の供給口および前記排出口は、一方向に延びるスリットによって規定されており、そのスリットはスリットが延びる方向に複数に分割されており、その分割された各々のスリットは千鳥状に配置されている、請求項１から６のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項８】
前記供給手段は、前記第１の供給口から供給される処理流体とは別の処理流体を供給するための第２の供給口をさらに有する、請求項１から７のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項９】
オゾンを含む処理流体を被処理物の表面に供給し、その処理流体に光を照射することによって被処理物を分解除去する処理方法であって、
対向面を有するノズル体を、前記対向面と被処理物の表面との間に隙間が設けられるように位置決めする工程と、
前記隙間を設けた状態で前記被処理物を前記ノズル体に対して相対的に移動させる工程と、
前記被処理物を移動させる工程と並行して、前記対向面に向い合う前記被処理物の表面に前記ノズル体から処理流体を供給し、その処理流体に向けて光を照射するとともに、前記被処理物の表面に供給された前記処理流体を吸引することによって前記ノズル体へ回収する工程とを備える、処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一般的には、被処理物を分解除去する処理装置および処理方法に関し、より特定的には、基板上に形成したレジスト等の被膜を分解除去する処理装置および処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
酸素プラズマ処理を用いて半導体基板上のフォトレジストを除去する場合、導入される酸素プラズマにより半導体基板が損傷するおそれがある。このため、酸素プラズマ処理にかわって光アッシングという方法がフォトレジストの除去に用いられている。そして、フォトレジストの除去に光アッシングを用いた処理装置が、特許第２５８８５０８号明細書に開示されている（特許文献１）。
【０００３】
図８は、特許文献１に開示されている処理装置を示す断面図である。図８を参照して、本体１０１の底面には載置台１０２が設けられている。載置台１０２の上面には、フォトレジストなどが表面に形成された被処理物１０３が着脱自在に位置決めされている。載置台１０２の内部には図示しないヒータが設けられており、状況に応じて被処理物１０３に加熱が行なわれる。
【０００４】
載置台１０２の上方には、石英ガラスなどからなる案内板１０４が設けられている。被処理物１０３と案内板１０４との間には比較的小さな間隙の流路１０５が形成されている。載置台１０２には図示しない移動機構が設けられており、流路１０５の間隙を所定の値にすることができる。案内板１０４によって本体１０１の内部は上下に区切られている。
【０００５】
案内板１０４にはノズル１０６が貫通して設けられている。ノズル１０６には矢印１０７に示す方向から、酸素とオゾンとの混合気体などからなる処理流体が導入される。この処理流体は、ノズル１０６から流路１０５へと層流をなして供給される。案内板１０４の上方には、低圧水銀ランプなどからなる複数の光源１０８が設けられている。本体１０１の側面の下方には複数の排気口１０９が設けられている。
【０００６】
光源１０８から所定の波長を有する紫外線などが被処理物１０３の表面に向けて照射される。これにより、流路１０５に供給されている処理流体が励起して反応活性種が生成される。被処理物１０３の表面に形成されたフォトレジストなどは、その反応活性種によって酸化され炭酸ガスまたは水蒸気などとなって排気口１０９から排出される。
【０００７】
【特許文献１】
特許第２５８８５０８号明細書
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上述のとおり特許文献１で開示されている処理装置によれば、被処理物１０３の表面に形成されたフォトレジストは酸化されて処理流体とともに排気口１０９から排出される。しかし、処理流体には酸化力の大きいオゾンが含まれているため、処理流体が本体１０１の外部に排出されるまでの間に、載置台１０２、本体１０１および排気口１０９など処理装置を構成する部品を腐食させるおそれがある。
【０００９】
また、特許文献１で開示されている処理装置では、ノズル１０６から被処理物１０３の上方に設けられた流路１０５に向けて処理流体が供給される。しかし、被処理物１０３が液晶基板のように大型である場合、処理流体の供給量は膨大になる。このため、処理流体を被処理物１０３の周縁部まで均一に供給することは困難である。このため、被処理物１０３の表面に形成されたフォトレジストに除去されない部分が生じるという問題が発生する。
【００１０】
さらに、特許文献１に開示されている処理装置では、本体１０１の内部に光源１０８を内臓しているため、処理装置全体が大型になるという問題が発生する。
【００１１】
そこでこの発明の目的は、上記の課題を解決することであり、処理流体による部品の腐食を軽減するとともに小型化を図ることができ、かつ大型な被処理物に対して均一な処理を行なうことができる処理装置および処理方法を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明に従った処理装置は、オゾンを含む処理流体を被処理物の表面に供給し、その処理流体に光を照射することによって被処理物を分解除去する処理装置である。処理装置は、被処理物を収容する内部空間を有する筐体と、被処理物の表面に対して隙間を設けて位置決めされる対向面を有し、筐体の内部空間に設けられるノズル体とを備える。ノズル体は、対向面に設けられた第１の供給口を有し、第１の供給口を介して被処理物の表面に処理流体を供給する供給手段と、対向面に設けられた排出口を有し、被処理物の表面に供給された処理流体を吸引することによって排出口を介して処理流体を回収する回収手段とを含む。処理装置は、被処理物の表面に供給された処理流体に向けて光を照射する光照射手段をさらに備える。
【００１３】
このように構成された処理装置によれば、第１の供給口から被処理物の表面に供給された処理流体に光が照射されることによって、処理流体に含まれるオゾン（Ｏ3）が励起して反応活性種が生成される。処理流体は、その反応活性種によって被処理物を分解除去し、その後回収手段によってノズル体の対向面に設けられた排出口から回収される。このように被処理物の表面に供給された処理流体は、被処理物を分解除去する役割を果たした後、直ちにノズル体側へと回収される。このため、処理流体と処理装置を構成する部品との接触を極力抑制することができる。これにより、処理流体を効率良く被処理物の表面に供給するとともに、処理流体が回収される工程において処理流体が処理装置を腐食することを防止できる。
【００１４】
また好ましくは、光照射手段は、対向面側に設けられた出光端と、筐体の外部に設けられた光源に光学的に接続される接続端とを含む。このように構成された処理装置によれば、光源より発せられた光は、光照射手段によってノズル体の対向面に設けられた出光端にまで達し、出光端より被処理物の表面上の処理流体に向けて照射される。このように光源から発せられた光を距離が離れた出光端にまで伝達することができ、光源を筐体の外部に設けて別置きにすることができる。これにより、光源を都合の良いレイアウトで配置し、処理装置の小型化を図ることができる。
【００１５】
また好ましくは、出光端は、第１の供給口と排出口との間に位置するように対向面側に設けられている。このように構成された処理装置によれば、被処理物の表面上において、第１の供給口から排出口へと向かう処理流体の流路上に出光端が設けられている。このため、被処理物の表面上を移動する処理流体に向けて効率良く光を照射することができる。これにより、処理流体を励起させることによって行なう被処理物の分解除去をより確実に行なうことができる。
【００１６】
また好ましくは、排出口は、対向面の周縁部に沿って設けられている。このように構成された処理装置によれば、被処理物の表面に供給された処理流体は対向面の周縁部に向かうため、その周縁部に設けられた排出口によって確実に処理流体を回収することができる。このため、処理流体が排出口から回収されず被処理物の表面とノズル体の対向面との間に設けられた隙間から外部に漏れることを防止できる。これにより、処理流体が回収される工程において処理流体が処理装置を腐食することをより確実に防止できる。
【００１７】
また好ましくは、対向面は、石英ガラス、酸化アルミニウムおよび酸化チタンからなる群より選ばれた少なくとも１種を含む親水性材料から形成されている。このように構成された処理装置によれば、処理流体が液体の場合、対向面を親水性材料から形成することにより対向面と処理流体との接触性を向上させることができる。このため、被処理物の表面とノズル体の対向面との間に設けられた隙間に処理流体の液膜を形成しやすくなる。また他方で、石英ガラスなどの親水性材料は、対向面を形成する材料として十分な強度を有している。以上の理由から、対向面の耐久性を確保しつつ、表面張力の作用によって処理流体を被処理物の表面と対向面との間の隙間に確実に保持することができる。これにより、処理流体が回収される工程において処理流体が処理装置を腐食することをさらに防止できる。
【００１８】
また好ましくは、第１の供給口および排出口は、一方向に延びるスリットによって規定されており、第１の供給口および排出口の各々は、スリットが延びる方向にほぼ垂直方向に並列して設けられている。このように構成された処理装置によれば、被処理物の表面上において第１の供給口から排出口に向けた処理流体の流路の面積を確保しつつ、ノズル体の小型化を図ることができる。
【００１９】
また好ましくは、第１の供給口および排出口は、一方向に延びるスリットによって規定されており、そのスリットはスリットが延びる方向に複数に分割されており、その分割された各々のスリットは千鳥状に配置されている。このように構成された処理装置によれば、スリットはスリットが延びる方向に複数に分割されているため、機械加工が容易となってスリット幅を一定にすることができる。このため、被処理物の表面に供給する処理流体の供給量、および被処理物の表面から回収する被処理物の回収量をスリットの全ての位置において均一にすることができる。
【００２０】
また、分割された各々のスリットは千鳥状に配置されている。つまり、スリットが延びる方向に垂直方向に見た場合、第１の供給口および排出口の各々を規定する分割されたスリットはずれた位置に配置されている。このため、第１の供給口から排出口に向けた処理流体の流路が被処理物の表面全体を覆うようにして処理を行なうことができる。以上の理由から、被処理物の表面上で均一な処理を行なうことができる。
【００２１】
また好ましくは、供給手段は、第１の供給口から供給される処理流体とは別の処理流体を供給するための第２の供給口をさらに有する。このように構成された処理装置によれば、ノズル体によって複数の連続した処理工程を同時に行なうことが可能となる。これにより、被処理物の処理速度を向上させることができる。
【００２２】
この発明に従った処理方法は、オゾンを含む処理流体を被処理物の表面に供給し、その処理流体に光を照射することによって被処理物を分解除去する処理方法である。対向面を有するノズル体を、対向面と被処理物の表面との間に隙間が設けられるように位置決めする工程と、隙間を設けた状態で被処理物をノズル体に対して相対的に移動させる工程と、被処理物を移動させる工程と並行して、対向面に向い合う被処理物の表面にノズル体から処理流体を供給し、その処理流体に向けて光を照射するとともに、被処理物の表面に供給された処理流体を吸引することによってノズル体へ回収する工程とを備える。
【００２３】
このように構成された処理方法によれば、ノズル体から被処理物の表面に供給された処理流体に光が照射されることによって、処理流体に含まれるオゾン（Ｏ3）が励起して反応活性種が生成される。処理流体は、その反応活性種によって被処理物を分解除去し、その後被処理物の表面上から吸引されてノズル体へ回収される。このように処理流体を供給し、この処理流体に光を照射し、その後処理流体を吸引して回収するという一連の動作を、被処理物をノズル体に対して相対的に移動させながら行なうことによって、大型の被処理物に対して均一、かつ効率良く処理を行なうことができる。また、処理流体は被処理物を分解除去する役割を果たした後、直ちにノズル体へと回収されるため、処理流体が回収される工程において処理流体が本発明を実施するための装置を腐食することを防止できる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
この発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２５】
（実施の形態１）
図１は、この発明の実施の形態１における処理装置を示す断面図である。図１を参照して、処理装置１は、処理空間を規定する筐体２と、筐体２の内部に設けられたノズル体９と、光ケーブル１３とを備える。筐体２とは別置きにして、低圧水銀灯１６、オゾン水生成装置１７および吸引ポンプ１８が設けられている。
【００２６】
筐体２の底面には、載置面３ａを有する載置台３が設けられている。載置面３ａ上には、上面にフォトレジストが成膜された被処理基板４が位置決めされている。載置台３には図示しない搬送装置が設けられており、この搬送装置を駆動させることによって被処理基板４を水平方向に移動させることができる。
【００２７】
載置台３の上方にはノズル体９が設けられている。ノズル体９は、本体部８と、本体部８の底面側に設けられた石英被膜部７とから構成されている。本体部８は耐腐食性に優れたフッ素樹脂によって形成されており、石英被膜部７は石英ガラスから形成されている。石英ガラスの表面にはシラノール基が形成されており、石英被膜部７は親水性の性質を有する。
【００２８】
石英被膜部７は、載置台３に載置された被処理基板４の表面と向い合う位置に長方形形状の対向面７ａを有する。ノズル体９には、高さ方向の位置を微調整できる図示しない機構が設けられており、この機構によって被処理基板４の表面と対向面７ａとの間に所定の大きさの隙間を形成することができる。
【００２９】
なお、本実施の形態では、本体部８をフッ素樹脂によって形成したが、本体部８を所定の材質で形成しこれに石英ガラスまたは酸化アルミニウム（アルミナ）を被膜しても良い。また、本体部８を形成するフッ素樹脂としては、オゾンによって侵されるＣ−Ｈ結合を有さないという理由からポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を用いるのが好ましい。また、石英被膜部７にかえて、酸化アルミニウムまたは酸化チタン（チタニア）によって対向面７ａを形成しても良く、これらの材料も親水性の性質を示す。但し、コスト面および紫外線の透過性に優れていることを理由に、石英ガラスから形成された石英被膜部７を使用するのが好ましい。
【００３０】
図２は、図１中のＩＩ−ＩＩ線上から見たノズル体の底面図である。図１および図２を参照して、ノズル体９には、本体部８の上面から石英被膜部７の対向面７ａにまで達する供給ライン６１ならびに排出ライン６０ａおよび６０ｂが設けられている。供給ライン６１は、対向面７ａで供給口１１を形成している。供給口１１は、対向面７ａの中央部において対辺を結ぶ線上にスリット状に延びて形成されている。
【００３１】
ノズル体９には、本体部８の上面から底面にまで達する光ケーブル挿入孔６３ａおよび６３ｂが形成されている。光ケーブル挿入孔６３ａおよび６３ｂは、本体部８の底面において供給口１１の両側でスリット状に開口しており、供給口１１を形成するスリットに平行に延びている。光ケーブル挿入孔６３ａおよび６３ｂの内部には光ファイバの束からなる光ケーブル１３が挿入されている。光ケーブル１３の開口端である光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂは、本体部８の底面において光ケーブル挿入孔６３ａおよび６３ｂの形状にならってスリット状に配置されている。
【００３２】
また、排出ライン６０ａおよび６０ｂは、対向面７ａで排出口１０ａおよび１０ｂを形成している。排出口１０ａおよび１０ｂは、対向面７ａにおいて光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂの両側でスリット状に開口しており、供給口１１を形成するスリットに平行に延びている。排出口１０ａおよび１０ｂは、対向面７ａの周縁部に形成されている。
【００３３】
このようにスリット状に形成した供給口１１、光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂ、ならびに排出口１０ａおよび１０ｂを並べて配置することによって、ノズル体９の小型化を図ることができる。
【００３４】
図１を参照して、供給ライン６１は、本体部８の上面において供給用ホース１４の一方端に接続されている。供給用ホース１４の他方端は、オゾン（Ｏ3）水を生成しノズル体９に向けて供給することができるオゾン水生成装置１７に接続されている。また、排出ライン６０ａおよび６０ｂは、本体部８の上面において排出用ホース１５の一方端に接続されている。排出用ホース１５の他方端は、被処理基板４の表面に負圧を発生させることができる吸引ポンプ１８に接続されている。
【００３５】
光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂから延びる光ケーブル１３の他方の端の接続端１３ｍは、低圧水銀灯１６に接続されている。低圧水銀灯１６は、所定の波長を有する紫外線を発生させる光源である。光ケーブル１３は所望の位置で曲げて使用することが可能である。これにより、ノズル体９が設けられた筐体２に対して低圧水銀灯１６を自由にレイアウトすることができる。
【００３６】
図３は、図１中のノズル体に挿入された光ケーブルを示す模式図である。図１および図３を参照して、低圧水銀灯１６から発せられた紫外線２１は、光ファイバの内部に形成された反射面と反射を繰り返すことによって光ケーブル１３を伝達し光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂにまで達する。その後、紫外線２１は、石英被膜部７を透過して被処理基板４の表面に向けて照射される。
【００３７】
なお、本実施の形態では、低圧水銀灯１６で発生させた紫外線２１を被処理基板４の表面に向けて照射するため光ケーブル１３を使用したが、光ケーブル１３のかわりに光導光板を用いても良い。
【００３８】
図４は、光導光板を示す模式図である。図１および図４を参照して、光導光板２３は、互いが向い合う反射面２３ａおよび２３ｂを有する厚さ数ｍｍ程度の透明板で形成されている。光ケーブル１３の光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂが本体部８の底面でスリット状に配置されているのと同様に、光導光板２３も本体部８の底面で出光端２６がスリット状に形成されるように設けられている。光導光板２３に入射した紫外線２４は、光導光板２３の内部で反射面２３ａおよび２３ｂとの間を反射しながら伝搬することによって出光端２６に達する。そして、出光端２６に達した紫外線２４は石英被膜部７を透過して被処理基板４の表面に向けて照射される。
【００３９】
この発明の実施の形態１に従った処理装置１は、オゾンを含む処理流体としてのオゾン水を被処理物としての被処理基板４の表面に供給し、そのオゾン水に光としての紫外線を照射することによって被処理基板４の表面に成膜されたフォトレジストを分解除去する処理装置である。処理装置１は、被処理基板４を収容する内部空間を有する筐体２と、被処理基板４の表面に対して隙間を設けて位置決めされる対向面７ａを有し、筐体２の内部空間に設けられるノズル体９とを備える。ノズル体９は、対向面７ａに設けられた第１の供給口としての供給口１１を有し、供給口１１を介して被処理基板４の表面にオゾン水を供給する供給手段としての供給ライン６１と、対向面７ａに設けられた排出口１０ａおよび１０ｂを有し、被処理基板４の表面に供給されたオゾン水を吸引することによって排出口１０ａおよび１０ｂを介してオゾン水を回収する回収手段としての排出ライン６０ａおよび６０ｂとを含む。処理装置１は、被処理基板４の表面に供給されたオゾン水に向けて紫外線を照射する光照射手段としての光ケーブル１３をさらに備える。
【００４０】
光ケーブル１３は、対向面７ａ側に設けられた光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂと、筐体２の外部に設けられた光源としての低圧水銀灯１６に光学的に接続される接続端１３ｍとを含む。光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂは、供給口１１と排出口１０ａおよび１０ｂとの間に位置するように対向面７ａ側に設けられている。排出口１０ａおよび１０ｂは、対向面７ａの周縁部に沿って設けられている。
【００４１】
対向面７ａは、石英ガラス、酸化アルミニウムおよび酸化チタンからなる群より選ばれた少なくとも１種を含む親水性材料としての石英ガラスから形成されている。供給口１１ならびに排出口１０ａおよび１０ｂは、一方向に延びるスリットによって規定されており、供給口１１ならびに排出口１０ａおよび１０ｂの各々は、スリットが延びる方向にほぼ垂直方向に並列して設けられている。
【００４２】
なお、本実施の形態では、処理流体としてオゾン水を用いたが、このオゾン水に適宜添加物を加えても良い。また、オゾン水にかえて過酸化水素水を用いても良い。さらに、処理流体は液体に限られずオゾンガスなどの気体を用いても良い。この際、オゾンガスには窒素などの不活性ガスがキャリアガスとして加えられる。
【００４３】
続いて、処理装置１を用いて被処理基板４を処理する方法について説明する。図１を参照して、載置台３の載置面３ａに表面にフォトレジストが形成された被処理基板４を載置する。ノズル体９の高さ方向の位置を調整して被処理基板４の表面とノズル体９の対向面７ａとの間に所定の大きさの隙間を形成する。この隙間の大きさは、被処理基板４に成膜されたフォトレジストの種類、処理流体の種類、処理流体の供給量、被処理基板４を移動させる速度、および被処理基板４の処理速度などの条件を考慮して決定される。隙間の大きさの一例としては、本実施の形態のように処理流体が液体である場合、隙間の大きさを３ｍｍ未満に規定する。また、処理流体が気体である場合、隙間の大きさを液体の場合よりも小さい値とする。
【００４４】
また、本実施の形態では、被処理基板４の表面とノズル体９の対向面７ａとの隙間をノズル体９の位置調整により設定したが、機械的にギャップを一定に保つことが困難な場合には、処理流体の供給量および排出量のバランスを調節して隙間の大きさを制御しても良い。
【００４５】
被処理基板４を図示しない搬送装置によって水平方向に移動させる。これと同時に、低圧水銀灯１６、オゾン水生成装置１７および吸引ポンプ１８を稼働させる。オゾン水生成装置１７から被処理基板４の表面上に数十ｐｐｍから数百ｐｐｍの濃度のオゾン水が供給される。そのオゾン水は供給口１１が位置する対向面７ａの中央部から排出口１０ａおよび１０ｂが位置する周縁部へと向かう。
【００４６】
この際、供給口１１ならびに排出口１０ａおよび１０ｂはスリット状に並列して形成されているため、オゾン水は被処理基板４の表面をより広い面積で覆って通過することができる。また、対向面７ａは親水性の石英ガラスから形成されているため、オゾン水は被処理基板４の表面と対向面７ａとの間の隙間で液膜を形成しやすくなっている。さらに、オゾン水と接触するノズル体９の本体部８には耐腐食性に優れたフッ素樹脂が使用されているため、本体部８がオゾン水が有する酸化力によって腐食されることを防止できる。
【００４７】
オゾン水が被処理基板４の表面上で移動する途中、オゾン水には光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂから発せられた例えば波長２５４ｎｍの紫外線が照射される。紫外線の照射によりオゾン水中に含まれるオゾンが分解し、オゾンよりも酸化力が強い反応活性種が生成される。この反応活性種は被処理基板４の表面に成膜されたフォトレジストを酸化分解する。その後、オゾン水はフォトレジストの分解生成物とともに排出口１０ａおよび１０ｂから吸引ポンプ１８へと排出される。被処理基板４の移動によって対向面７ａに向い合う位置のフォトレジストを次々に除去していき、これにより被処理基板４の全面に渡って処理を完了させることができる。
【００４８】
なお、被処理基板４は、供給口１１ならびに排出口１０ａおよび１０ｂを形成するスリットが延びる方向に対して垂直方向に移動させるのが好ましい。これにより、被処理基板４の表面上に供給されたオゾン水が排出口１０ａおよび１０ｂが位置する対向面７ａの周縁部へと向かいやすくなる。
【００４９】
この発明の実施の形態１に従った処理方法は、対向面７ａを有するノズル体９を、対向面７ａと被処理基板４の表面との間に隙間が設けられるように位置決めする工程と、隙間を設けた状態で被処理基板４をノズル体９に対して相対的に移動させる工程と、被処理基板４を移動させる工程と並行して、対向面７ａに向い合う被処理基板４の表面にノズル体９からオゾン水を供給し、そのオゾン水に向けて紫外線を照射するとともに、被処理基板４の表面に供給されたオゾン水を吸引することによってノズル体９へ回収する工程とを備える。
【００５０】
このように構成された処理装置１および処理方法によれば、被処理基板４の表面上に供給されたオゾン水は、フォトレジストを分解除去した後直ちに排出口１０ａおよび１０ｂからノズル体９へと回収される。このため、オゾン水が載置台３など筐体２の内部に設けられた部品と接触することを抑制し、これらの部品がオゾン水の酸化力によって腐食されるのを防止できる。また、ノズル体９は、被処理基板４の表面に紫外線を照射する手段として光ケーブル１３を備えている。このため、紫外線を発生させる低圧水銀灯１６をノズル体９の内部に設ける必要がなく筐体２の外部に設置することができる。これにより、処理装置１の小型化を図ることができる。さらに、処理装置１では、被処理基板４がノズル体９の下を移動していく平流しタイプを採用しているため、被処理基板４が液晶基板のように大型のものであっても被処理基板４の表面全体に均一な処理を行なうことができる。
【００５１】
なお、本実施の形態では、処理装置１を用いて被処理基板４の表面に成膜されたフォトレジストを分解除去したが、フォトレジスト以外にも酸化分解できる材質であれば処理を行なうことができる。フォトレジスト以外の材質としては、アクリル、ポリイミドまたはフッ素樹脂などの被膜、厚みが無視できるような場合の表面処理層（親水処理、撥水処理または硬化処理による場合など）、および有機物汚染物（油膜または粉塵など）が挙げられる。
【００５２】
（実施の形態２）
図５は、この発明の実施の形態２における処理装置を示す断面図である。図２を参照して、処理装置３１は、基本的には実施の形態１における処理装置１と同様の構造を備える。以下において重複する構造の説明は省略する。
【００５３】
処理装置３１は、筐体２、ノズル体９および光ケーブル１３を備える。筐体２とは別置きにして、低圧水銀灯１６、オゾン水生成装置１７、吸引ポンプ１８および純水供給装置３３が設けられている。
【００５４】
図６は、図５中のＶＩ−ＶＩ線上から見たノズル体の底面図である。図５および図６を参照して、ノズル体９には、本体部８の上面から石英被膜部７の対向面７ａにまで達する供給ライン６１および８７ならびに排出ライン６０ａ、６０ｂおよび６０ｃが設けられている。供給ライン６１および８７は、対向面７ａで供給口１１および３７を形成している。供給口１１および３７は、対向面７ａにおいて対辺を結ぶ線上にスリット状に延びて形成されている。
【００５５】
ノズル体９には、本体部８の上面から底面にまで達する光ケーブル挿入孔６３ａ〜６３ｄが形成されている。光ケーブル挿入孔６３ａ〜６３ｄは、本体部８の底面においてスリット状に開口している。光ケーブル挿入孔６３ａ〜６３ｄの内部には光ケーブル１３が挿入されている。光ケーブル１３の開口端である光ファイバ出光端１３ａ〜１３ｄは、本体部８の底面において光ケーブル挿入孔６３ａ〜６３ｄの形状にならってスリット状に配置されている。
【００５６】
排出ライン６０ａ〜６０ｃは、対向面７ａで排出口１０ａ〜１０ｃを形成している。排出口１０ａ〜１０ｃは、対向面７ａにおいてスリット状に開口している。排出ライン６０ａおよび６０ｃは、対向面７ａの周縁部に形成されている。
【００５７】
対向面７ａの中央部において対辺を結ぶ線上には、排出口１０ａがスリット状に延びている。排出口１０ａの両側には、内側から順に光ファイバ出光端１３ａおよび１３ｂと、供給口３７および１１と、光ファイバ出光端１３ｃおよび１３ｄと、排出口１０ｂおよび１０ｃとが、排出口１０ａを形成するスリットに平行に設けられている。
【００５８】
供給ライン６１は、供給用ホース１４によってオゾン水生成装置１７に接続されている。供給ライン８７は、供給用ホース３５によって純水をノズル体９に向けて供給するための純水供給装置３３に接続されている。排出ライン６０ａ〜６０ｃは、排出用ホース１５によって吸引ポンプ１８に接続されている。
【００５９】
処理装置３１においても、実施の形態１に記載の処理方法によって被処理基板４を処理することができる。但し、被処理基板４の表面上には供給口１１からオゾン水が供給されるほか、供給口３７から純水が供給される。被処理基板４を矢印５０に示す方向に移動させることによって、オゾン水によるフォトレジストの分解除去に続いて、被処理基板４の表面に対する純水リンスを連続して行なうことができる。被処理基板４の表面上に供給されたオゾン水および純水は、排出口１０ａ〜１０ｃを介してノズル体９へと回収される。
【００６０】
この発明の実施の形態２に従った処理装置３１では、供給手段としての供給ライン６１および８７は、供給口１１から供給されるオゾン水とは別の処理流体としての純水を供給するための第２の供給口としての供給口３７をさらに有する。
【００６１】
このように構成された処理装置３１によれば、フォトレジストの除去および純水リンスという異なる２つの処理を被処理基板４に連続して行なうことができる。従来、酸化処理槽と純水リンス槽とは別々に設けられており、それぞれの処理が別々に行なわれることが多かった。しかし、複数の処理流体を同時に供給することができるノズル体９を設けることによって、連続する工程の処理を並行して行なうことができる。これにより、被処理基板４の処理速度を向上させることができる。
【００６２】
（実施の形態３）
実施の形態３における処理装置は、基本的には実施の形態２における処理装置３１と同様の構造を備える。ただ、ノズル体９に設けられた供給口１１および３７、ならびに排出口１０ａ〜１０ｃの形状が異なる。以下において重複する構造の説明は省略する。
【００６３】
図７は、実施の形態３において、図５中のＶＩ−ＶＩ線上から見たノズル体の底面図である。図７は、実施の形態２における図６に相当する。図７を参照して、供給口３７はスリットが延びる方向に３つに分割されており、供給口３７ｐ、３７ｑおよび３７ｒによって構成されている。供給口３７ｐと供給口３７ｑとの間には、供給口が形成されていない対向面７ａの部分４１が存在する。また、供給口３７ｑと供給口３７ｒとの間には、供給口が形成されていない対向面７ａの部分４３が存在する。また同様に、供給口１１も同じ位置で３つに分割されている。
【００６４】
排出口１０ｂはスリットが延びる方向に２つに分割されており、排出口１０ｐおよび１０ｑによって構成されている。排出口１０ｐと排出口１０ｑとの間には、排出口が形成されていない対向面７ａの部分４２が存在する。また同様に、排出口１０ａおよび１０ｃも同じ位置で２つに分割されている。
【００６５】
供給口３７ｐ、３７ｑおよび３７ｒ、ならびに排出口１０ｐおよび１０ｑは、排出口が形成されていない対向面７ａの部分４２と、供給口が形成されていない対向面７ａの部分４１および４３とがスリットが延びる方向に垂直方向においてずれるように設けられている。
【００６６】
この発明の実施の形態３に従った処理装置では、供給口１１および３７ならびに排出口１０ａ〜１０ｃは、一方向に延びるスリットによって規定されており、そのスリットはスリットが延びる方向に複数に分割されており、その分割された各々のスリットは千鳥状に配置されている。
【００６７】
このように構成された処理装置によれば、スリット幅を一定に保って供給口１１および３７ならびに排出口１０ａ〜１０ｃを形成することができる。供給口１１および３７ならびに排出口１０ａ〜１０ｃはノズル体９に機械加工を行なうことによって形成する。しかし、加工するスリットの長さが長い場合、ノズル体９の材料（押し出し部材または圧延板材など）の内部応力、および加工装置の送り精度などに起因してスリット幅が一定にならないおそれが生じる。スリット幅が一定でないと、被処理基板４の表面に供給される処理流体の供給量および被処理基板４の表面から排出される処理流体の排出量が不均一になり、処理を均一に行なえないという問題が発生する。そこで、供給口１１および３７ならびに排出口１０ａ〜１０ｃを分割して形成することによって、このような問題を解決して被処理基板４の表面に対する均一な処理を行なうことができる。
【００６８】
また、分割された供給口３７ｐ、３７ｑおよび３７ｒ、ならびに排出口１０ｐおよび１０ｑは千鳥状に配置されている。このため、供給口および排出口が形成されていない対向面７ａの部分が一直線上に位置して、この直線上において被処理基板４の表面に処理流体が流れないことを防止できる。これにより、被処理基板４の表面の全面に渡って処理を行なうことができる。
【００６９】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００７０】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明に従えば、処理流体による部品の腐食を軽減するとともに小型化を図ることができ、かつ大型な被処理物に対して均一な処理を行なうことができる処理装置および処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態１における処理装置を示す断面図である。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線上から見たノズル体の底面図である。
【図３】図１中のノズル体に挿入された光ケーブルを示す模式図である。
【図４】光導光板を示す模式図である。
【図５】この発明の実施の形態２における処理装置を示す断面図である。
【図６】図５中のＶＩ−ＶＩ線上から見たノズル体の底面図である。
【図７】実施の形態３において、図５中のＶＩ−ＶＩ線上から見たノズル体の底面図である。
【図８】特許文献１に開示されている処理装置を示す断面図である。
【符号の説明】
１  処理装置、２  筐体、４  被処理基板、７ａ  対向面、９  ノズル体、１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｐ，１０ｑ  排出口、１１，３７，３７ｐ，３７ｑ，３７ｒ  供給口、１３  光ケーブル、１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ  光ファイバ出光端、１３ｍ  接続端、１６  低圧水銀灯、１７  オゾン水生成装置、１８  吸引ポンプ、３３  純水供給装置、６０ａ，６０ｂ，６０ｃ  排出ライン、６１，８７  供給ライン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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