(57)【要約】【課題】高コントラストおよび広視野角の表示を可能とするプラズマ表示装置とその製造方法を提供する。【解決手段】前面ガラス基板１には、くぼみ１１が発光領域ごとに形成されている。表示の際に発光領域で生じる光は、凹レンズとして機能するくぼみ１１の球殻面において屈折し、拡散して表示面側に射出される。反対に、表示面側から発光領域に入射しようとする外光は、くぼみ１１にて拡散され、実際に発光領域に入ることができる光量は減少する。【選択図】　　　　図１
2004087144.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示面側に配され、その上に凹レンズとしての機能を果たすくぼみが形成されている第１の基板と、
前記第１の基板と互いに対向して配置される第２の基板と、
前記第１および第２の基板の間に画素ごとに形成されている発光領域と
を備えたプラズマ表示装置。
【請求項２】
前記くぼみは、前記第１の基板自体に形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項３】
前記第１の基板は、本体部分である基板主部と前記くぼみを構成する表層部とからなる
ことを特徴とする請求項２に記載のプラズマ表示装置。
【請求項４】
前記第１の基板は、前記基板主部の対向面とは反対の側に、高分子材料からなる表層部が付設されてなる
ことを特徴とする請求項３に記載のプラズマ表示装置。
【請求項５】
前記第１の基板の対向面に、前記くぼみを有する誘電体層が設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項６】
さらに、前記第１の基板には反射防止層が設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項７】
前記反射防止層は、前記くぼみの周縁部に設けられている
ことを特徴とする請求項６に記載のプラズマ表示装置。
【請求項８】
前記くぼみは、前記発光領域の内部と装置外部との間の光路上に形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項９】
前記くぼみは、前記発光領域の個々に対応して点状に形成されている
ことを特徴とする請求項８に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１０】
前記くぼみは、前記発光領域の行または列に対応して直線状の溝として形成されている
ことを特徴とする請求項８に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１１】
前記くぼみは、前記発光領域の行および列に対応して格子状の溝として形成されている
ことを特徴とする請求項８に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１２】
前記くぼみの断面形状は円弧状である
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１３】
前記くぼみの断面形状は放物線の弧状である
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１４】
前記くぼみの断面形状は楕円弧状である
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１５】
前記くぼみの断面形状は台形状である
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１６】
前記くぼみの断面形状は階段状である
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
【請求項１７】
表示面側に配される基板の上に、くぼみを形成する
ことを特徴とするプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記基板自体に、くぼみを形成する
ことを特徴とする請求項１７に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記基板に、前記くぼみの形状に対応する型で型押しする
ことを特徴とする請求項１８に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記基板のうち、前記くぼみを形成する領域以外の領域をマスクで覆い、前記基板を研削する
ことを特徴とする請求項１８に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２１】
研削の後に、前記基板にエッチングによる表面処理を施す
ことを特徴とする請求項２０に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記エッチングは、フッ化水素酸（ＨＦ）を含む溶液を用いる化学的エッチングである
ことを特徴とする請求項２１に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記基板の本体部分である基板主部の一面に、前記くぼみを構成する表層部を形成する
ことを特徴とする請求項１８に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２４】
前記基板主部のうち、前記くぼみを形成する領域をマスクで覆い、前記基板主部に表層部を塗布形成する
ことを特徴とする請求項２３に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記表層部をスクリーン印刷法により形成する
ことを特徴とする請求項２４に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２６】
前記表層部を蒸着法により形成する
ことを特徴とする請求項２４に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２７】
前記基板主部に表層部を形成し、前記表層部に前記くぼみの形状に対応する型で型押しする
ことを特徴とする請求項２３に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２８】
前記くぼみを有する表層部を高分子材料を用いて形成し、形成した表層部を前記基板主部に付設する
ことを特徴とする請求項２３に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２９】
前記基板主部の一面に、前記表層部を転写法により形成する
ことを特徴とする請求項２３に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項３０】
前記基板に、くぼみのある誘電体層を形成する
ことを特徴とする請求項１７に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項３１】
前記基板に誘電材料を塗布して誘電体層を形成する工程と、前記誘電体層に、前記くぼみの形状に対応する型で型押しする工程とを含む
ことを特徴とする請求項３０に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項３２】
前記基板のうち、前記くぼみを形成する領域をマスクで覆い、前記基板に誘電体層を塗布形成する
ことを特徴とする請求項３０に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項３３】
前記誘電体層をスクリーン印刷法により形成する
ことを特徴とする請求項３２に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項３４】
前記誘電体層を蒸着法により形成する
ことを特徴とする請求項３２に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項３５】
前記基板に、前記くぼみを有する誘電体層を転写法により形成する
ことを特徴とする請求項３０に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、交流プラズマ放電を利用して表示を行うプラズマ表示装置、および、その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ　Ｄｉｓｐｌａｙ　Ｐａｎｅｌ）　は、テレビジョン受像機やコンピュータ用ディスプレイにおいて、従来広く用いられてきた陰極線管（ＣＲＴ：Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ　Ｔｕｂｅ）では実現が難しいとされる薄型・大画面化に対応し得るディスプレイとして注目されており、既に４０インチ以上の大型ディスプレイが製品化されている。
【０００３】
図１５は、従来のＡＣ型プラズマ表示装置の構成を表している。このプラズマ表示装置は、前面ガラス基板１０１と背面ガラス基板１０２とが対向配置された構造を有し、前面ガラス基板１０１と背面ガラス基板１０２に挟まれた放電空間は、周縁部において気密封止され、放電ガスで満たされている。
【０００４】
前面ガラス基板１０１上には、一対の維持電極１０７（１０７Ｘ，１０７Ｙ）が放電ギャップを介して複数並列するように形成されている。また、その上には、維持電極１０７を覆うように誘電体層１０８，保護層１０９が順に形成されている。一方、背面ガラス基板１０２の上には、複数のアドレス電極１０３が維持電極１０７との交差方向に配列するように形成されている。アドレス電極１０３の上には誘電体層１０４が形成され、更にその上に、各画素に対応して、アドレス電極１０３毎に放電空間を仕切る隔壁１０５が形成されている。区画された放電領域の各々には、隔壁１０５の側面と底面に、赤（Ｒ；Ｒｅｄ），緑（Ｇ；Ｇｒｅｅｎ）および青（Ｂ；Ｂｌｕｅ）の３原色の蛍光体層１０６が周期的に塗布形成されている。ここで、維持電極１０７とアドレス電極１０３とはマトリクス状に交差し、その交差した領域の各々が画素に対応した発光領域である。
【０００５】
こうしたプラズマ表示装置では、維持電極１０７Ｘ，１０７Ｙに電圧を印加し、その間で放電させることで発光表示が行われる。すなわち、この放電により放電ガスを励起させ、真空紫外線を発生させると、背面ガラス基板１０２上の蛍光体層１０６が真空紫外線の照射を受けて各色に発光する。この可視光は、前面ガラス基板１０１を透過して表示発光色となる。なお、アドレス電極１０３は、発光画素を選択するためにデータ書き込みを行う際に、データ信号の入力配線として用いられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
現在、プラズマ表示装置は実用の域に達しているが、それでも以下のような問題点があった。一つ目は、外光の反射によるコントラスト低下である。一般に、太陽光や室内の照明などの装置外部から内部に入射する外光の一部は、蛍光体層１０６で反射されて表示面側に戻ってくることが知られている。この戻り光は、画面の輝度を引き上げるために、画像が全体に白っぽく表示されることとなり、コントラストを低下させていた。プラズマ表示装置の場合は、用いる蛍光体の色が元々白色系であることから、こうした戻り光の影響がより強調されて、画像が白茶けてみえることがあり、画質低下の原因となっていた。
【０００７】
二つ目は、視野角の広角化が必要となってきたことである。現在のプラズマ表示装置は、ほぼ全方向に対し１６０°〜１７０°と良好な視野角を有している。しかしながら、高精細化が進み、画素ピッチが小さくなってゆくと、発光領域の（水平方向の）幅に対する深さの比率が高くなるために水平方向の視野角が狭くなってゆくという問題があった。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、高コントラストおよび広視野角の表示を可能とするプラズマ表示装置とその製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ表示装置は、表示面側に配され、その上に凹レンズとしての機能を果たすくぼみが形成されている第１の基板と、第１の基板と互いに対向して配置される第２の基板と、第１および第２の基板の間に画素ごとに形成されている発光領域とを備えたものである。
【００１０】
本発明のプラズマ表示装置の製造方法は、表示面側に配される基板の上に、くぼみを形成するものである。
【００１１】
本発明のプラズマ表示装置および本発明のプラズマ表示装置の製造方法では、発光領域からの光が表示面側に射出される経路上に、くぼみが形成される。このくぼみは凹レンズとして作用し、外部から発光領域側への入射光を拡散させ、また発光領域内から外側への射出光を拡散させる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
〔第１の実施の形態〕
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部を示す構成図であり、図２は、そのＹ方向の断面図、図３は、このプラズマ表示装置の表示面側からみた平面図である。このプラズマ表示装置では、従来の装置と同様に、表示面側に配される前面ガラス基板１に背面ガラス基板２が対向配置され、その間に各画素に対応する発光領域Ｐが形成されている。発光領域Ｐは、図３に点線で示したように、対をなす維持電極７（７Ｘ，７Ｙ）とアドレス電極３とが交差する領域を一構成単位とし、隔壁５によって垂直方向（図のＹ方向）に区画されている。この発光領域で生じた光が、前面ガラス基板１を透過して外部へ射出されることで、発光表示が行われる。ただし、ここでは、前面ガラス基板１の表示面側にくぼみ１１が形成されている。
【００１４】
くぼみ１１は、凹レンズとして作用するものであり、断面形状は円弧状とするほか、例えば楕円や放物線の弧状、台形状や階段状などのレンズ構造とされる。こうしたくぼみ１１は、前面ガラス基板１に形成されることで、発光領域Ｐの内部と装置外部との間の光路上に形成されている。また、本実施の形態では、くぼみ１１は、前面ガラス基板１の個々の発光領域Ｐに対応する位置に、点状に配列するようにして形成されている。
【００１５】
くぼみ１１の作用は、図４によって直感的に説明される。図４（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ、本実施の形態のプラズマ表示装置において、発光領域Ｐからその表示面側の外部に射出される光の進路、外部から発光領域Ｐへ入射する光の進路を表している。また、図４（Ｃ）は、比較のために、従来のプラズマ表示装置における発光領域から外部への射出光の進路、および、外部から発光領域への入射光の進路を表している。すなわち、くぼみ１１の球殻状の面は、発光領域Ｐから前面ガラス基板１に射出する光束を拡散して外部へ放射すると共に、前面ガラス基板１を透過して発光領域Ｐに向かう外光の光束を拡散させる。これに対し、従来では、射出光も入射光も平坦な前面ガラス基板１０１を介して進行するため、ガラス基板１０１に垂直な光は直進し、それ以外の入射角をもつ光もガラスの屈折率に応じて屈折するに留まっていた。
【００１６】
このプラズマ表示装置は、前面ガラス基板１にくぼみ１１を形成すること以外は、従来と同様にして製造することができる。
【００１７】
まず、前面ガラス基板１となるガラス基板を用意し、その一面にくぼみ１１を形成する。ここでは、くぼみ１１をサンドブラスト法を用いて形成する。用意するガラス基板１Ａは、例えば、高歪点ガラスやソーダライムガラス等の基板である。図５（Ａ）に示したように、このガラス基板１Ａの一面に、フォトリソグラフィ等によりくぼみ１１となる領域以外の領域を覆うマスク２１を形成する。なお、くぼみ１１の形成領域は、発光領域Ｐ各々からの光が透過してくる位置に、予め設定される。
【００１８】
次に、図５（Ｂ）に示したように、ガラス基板１Ａをサンドブラスト機に投入し、マスク２１の上から砂を衝突させる。これにより、ガラス基板１Ａの表面のうち、マスク２１で覆われていない領域が研削され、くぼみ１１が形成される。このとき、サンドブラストの砂の量や圧力等を調整することにより、くぼみ１１を所定形状（断面形状を円弧状あるいは楕円や放物線の弧状などとする）に形成する。最後に、図５（Ｃ）に示したように、マスク２１を剥がす、溶かす、焼くなどの方法により除去する。これにより、くぼみ１１のある前面ガラス基板１が製造される。
【００１９】
次に、前面ガラス基板１に表面処理を施す。前面ガラス基板１のうち、くぼみ１１の表面は、サンドブラストにより表面が粗くなっている。よって、透明性を維持するため、基板１に、フッ化水素酸（ＨＦ：フッ酸）系の溶液を用いたウエットエッチングを必要に応じて施すようにする。これにより、くぼみ１１の表面が平滑化される。
【００２０】
なお、くぼみ１１の形成方法は、以上のようにガラス基板１Ａを直接研削するほか、種々の方法が考えられる。例えば、図６に示したように、（１）ガラス基板１Ａの上により加工性の高いガラス層１Ｂを重ねるようにして設け、このガラス層１Ｂを研削して、くぼみ１１のある前面ガラス基板１を形成するようにしてもよい。ガラス層１Ｂは、例えば、ガラス基板１Ａの一面にガラスペーストを塗布し、乾燥・焼成等の処理を施すことにより形成される。あるいは、（２）ガラス層１Ｂを低融点ガラスで形成し、ガラス層１Ｂがやわらかい状態にある軟化点以上の所定温度で、くぼみ１１に対応した型で型押しするようにしても、くぼみ１１のある前面ガラス基板１を形成することができる。また、（３）図７（Ａ），（Ｂ）に示したように、ガラス基板１Ａに、くぼみ１１となる領域以外の領域を覆うマスク（あるいはスクリ−ン）２２を用いて蒸着またはスクリーン印刷を施してガラス層１Ｂを形成するようにしても、くぼみ１１のある前面ガラス基板１が形成される。なお、ここでは、ガラス基板１Ａ，ガラス層１Ｂが、本発明の「基板主部」，「表層部」に対応している。
【００２１】
以下の製造工程は、従来どおりである。すなわち、前面ガラス基板１のくぼみ１１のある面とは反対側の面に、維持電極７（７Ｘ，７Ｙ）を形成する。具体的には、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）等の透明電極材料をスパッタなどにより薄膜として形成し、さらに維持電極７Ｘ，７Ｙの配置形状にパターンエッチングを施す。なお、透明電極材料は一般的に高抵抗であるので、例えば、維持電極７Ｘ，７Ｙの側縁に沿って良導性の電極材料がバス電極として被着形成される。これらの電極形成後、前面ガラス基板１の全面に、例えば、ＳｉＯ２をＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などにより成膜したり、低融点ガラスを主成分とするガラスペーストを印刷したりすることによって、誘電体層８を形成する。次に、誘電体層８の上に、ＭｇＯを電子ビーム蒸着法により成膜して、保護層９を形成する。
【００２２】
次に、背面ガラス基板２を用意する。これは、前面ガラス基板１と同様の材質のガラスであってよい。この背面ガラス基板２の上に、例えば直接的にあるいは絶縁層、絶縁基板を介して間接的に、相互に所定の間隔を保持して並置配列されるようにアドレス電極３を形成する。その材料としては、導電性に優れた電極材料、例えばＡｌ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ等の金属が用いられ、スパッタリング法もしくはスクリーン印刷法などにより形成される。次に、背面ガラス基板２の全面に、ＳｉＯ２等をＣＶＤ法や印刷法を用いて成膜することにより、誘電体層４を形成する。次に、誘電体層４の上の所定の領域にガラスペーストをパターニングし、これを焼成することにより隔壁５を形成する。より具体的には、ペースト状の低融点ガラスをスクリーン印刷法により塗布形成した後、サンドブラスト法によりストライプ状に整形し、焼成する。この隔壁５により、対向する２つの基板１，２が所定間隔をとって配置され、同時に、基板１，２の間の放電空間が発光領域Ｐの列ごとに仕切られる。次に、この仕切られた発光領域Ｐ内の底面から側面（露出する誘電体層４、および隣り合う隔壁５の側壁面）にかけて、例えば蛍光体スラリーを印刷することにより、蛍光体層６を形成する。
【００２３】
次に、前面ガラス基板１および背面ガラス基板２を合わせて、組み立てる。例えば、スクリーン印刷法により前面ガラス基板１の周縁部に低融点ガラスからなるシール層を形成する。そののち、維持電極７Ｘ，７Ｙとアドレス電極３の延長方向が直交するようにして前面ガラス基板１と背面ガラス基板２とを貼り合わせ、焼成してシール層を硬化させる。さらに、放電空間に対し、排気、ガスの注入を行う。ガスには、例えばＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒ等の希ガスのうち１種以上が用いられ、より具体的にはＮｅとＸｅの混合比率が最適化された混合ガス、いわゆるペニングガスが用いられる。このガスは、維持電極７Ｘ，７Ｙ，アドレス電極３の相互間の間隔等に関連して高輝度、高効率の放電を安定維持できる圧力値でもって封入される。
【００２４】
また、実際には、基板１，２は互いに一方の辺縁が他方の辺縁から突出するように配置され、これら突出部より維持電極７Ｘ，７Ｙ、アドレス電極３の端部が外部に導出される。導出された電極端部はそれぞれ給電端子となり、ここでは詳述しないが、これらの電極に信号電圧を印加する駆動回路に接続される。こうして、本実施の形態のプラズマ表示装置が完成する。
【００２５】
このように、このプラズマ表示装置は、前面ガラス基板１にくぼみ１１が形成されていることを除けば従来どおりに構成されているので、例えば従来どおりの駆動方法によって駆動することができる。
【００２６】
その際、発光表示は、維持電極７Ｘ，７Ｙの間で放電させることによって行われる。維持電極７Ｘ，７Ｙのそれぞれに電圧を印加し、両者の電位差が放電開始電圧を越えると、放電が発生する。この放電により生じた紫外線が照射されて蛍光体層６が発光し、生じた光のうち、前面ガラス基板１を透過して発光領域Ｐから射出された成分によって対応画素が表示される。本実施の形態では、発光領域Ｐから前面ガラス基板１に入射した光束は、くぼみ１１により拡散される方向に屈折し、前面ガラス基板１の外へ射出される（図４（Ａ））。これにより、表示面側における視野角が広がる。ちなみに、従来では、射出光の視野角は、発光領域のピッチによって自ずと決まっていたが（図４（Ｃ））、このようにして外部へ放射する光を拡散させることで、視野角を従来よりも広げることができる。
【００２７】
また、このとき表示面において視認されるのは、発光領域Ｐの内部で生じた表示光成分のほか、外光が蛍光体層６で反射された戻り光成分がある。図８は、前面ガラス基板を透過して発光領域へ入射する外光の進路を表しており、（Ａ）が本実施の形態の装置、（Ｂ）が従来の装置の場合を示している。本実施の形態では、前面ガラス基板１を透過して発光領域Ｐに入射しようとする外光は、くぼみ１１の湾曲面において屈折し、進路がくぼみ１１を中心として拡がる。これにより、外光のうち、発光領域Ｐの内部、蛍光体層６への入射光量が減少する。よって、蛍光体層６で反射され、表示面側へ放出される成分が低減されて、いわゆる戻り光の現象が抑制される。一方、従来の場合には、光束は、前面ガラス基板１０１による屈折以外では進路を曲げられることがない。こうして入射する外光は、外部において射出光が放射される範囲から射出光とおなじ光路を逆にたどって発光領域内に達することが可能であり、蛍光体層１０６における反射によって無視できない量の戻り光が発生することとなる。
【００２８】
このように本実施の形態によれば、前面ガラス基板１のうち各発光領域Ｐからの光の進路に、凹レンズとして作用するくぼみ１１を形成するようにしたので、各発光領域Ｐにて生じ、前面ガラス基板１へと入射する光は、くぼみ１１により拡散される。よって、各発光領域Ｐにおける表示光は、表示面側では常に拡散して放出されることとなり、視野角が従来よりも広がる。また、画素ピッチを狭くするとき、従来の装置構造では、隔壁５の側壁面から放射される成分の放射角度が隔壁５の間隔が狭まるにしたがって小さくなっていき、視野角は狭くなる。これに対し、本実施の形態では、表示光を拡散する分だけ視野角をかせぐことができ、画素ピッチを縮めても広い視野角を保つことが可能となる。
【００２９】
また、本実施の形態では、発光領域Ｐに入射しようとする外光は、くぼみ１１により拡散される。よって、外光のうち、実際に発光領域Ｐ内に入り込んで蛍光体層６で反射される成分、つまり戻り光の光量が低減され、コントラストの低下が緩和される。
【００３０】
次に、上記第１の実施の形態の変形例について説明する。なお、以下の変形例では、第１の実施の形態と同様の構成要素については、同一の符号を付して適宜説明を省略する。
【００３１】
［第１の変形例，第２の変形例］
図９，図１０はそれぞれ、第１の実施の形態の第１，第２の変形例に係るプラズマ表示装置の要部を示している。第１の実施の形態では、前面ガラス基板１に形成したくぼみ１１は、発光領域Ｐの個々の上に点々と形成されるようになっている。これに対し、第１の変形例では、並列する発光領域Ｐの行または列に対応する直線状の溝として、前面ガラス基板１にくぼみ１２を形成するようにしている。第２の変形例は、同じく直線状の溝であるくぼみ１２を、発光領域Ｐの行および列に対応する格子状に形成するようにしている。こうした直線状のくぼみ１２は、研削等で形成する際に加工しやすいという利点がある。なお、くぼみ１２は、断面が円弧状となる方向に対してのみ、凹レンズとして作用する。
【００３２】
［第３の変形例］
図１１は、第１の実施の形態の第３の変形例に係るプラズマ表示装置の要部を示している。本変形例は、第１の実施の形態の装置におけるくぼみ１１の周縁部に沿った所定範囲に、反射防止層１３を設けるようにしたものである。
【００３３】
反射防止層１３は、Ｃｒ等の黒色系材料に代表される無反射材料あるいは低反射材料からなり、斜め蒸着などにより湾曲したくぼみ１１の内面に形成される。この反射防止層１３は、例えば、くぼみ１１で拡散されると、本来入射するはずの発光領域Ｐからそれて隣接する発光領域Ｐに入射するようになる外光成分の光路を遮断する領域に形成される。これにより、拡散後の光が隣接する発光領域Ｐにて反射し、戻り光となることが防止される。あるいはまた、外光を、発光領域Ｐ内に入射する前に反射防止層１３で吸収することにより、その反射・表示を未然に防ぐことができる。
【００３４】
ところで、反射防止層１３と同様の効果は、いわゆるブラックマトリクスによってもある程度達成される。ブラックマトリクスは、個々の発光領域Ｐの間を区切って表示するため、前面ガラス基板１に黒色体で形成される。通常、隔壁５に添って形成するが、このブラックマトリクスを、隔壁５から発光領域Ｐの上にはみ出すように形成すると、反射防止層１３と同様に、外光を吸収し、その反射を防止することができる。
【００３５】
〔第２の実施の形態〕
図１２は、第２の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部を示す構成図である。第１の実施の形態では、前面ガラス基板１のくぼみ１１は、ガラス基板１Ａもしくはガラス層１Ｂに形成されるが、本実施の形態では、前面基板３１は、高分子フィルム３１Ｃが貼り付けられたガラス基板３１Ａからなり、高分子フィルム３１Ｃにくぼみ３２が形成されている。なお、以下の実施の形態においても、第１の実施の形態と同様の構成要素についてはやはり同一の符号を付すものとし、説明を適宜省略する。
【００３６】
高分子フィルム３１Ｃとしては、通常のプラスチック基板と同様の高分子材料、例えば、ＰＣ（ポリカーボネート），フッ素ＰＩ（ポリイミド），ＰＭＭＡ（アクリル樹脂），ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＰＡＮ（ポリエーテルニトリル），ＰＥＳ（ポリエーテルスルフォン），ＰＡＲ（ポリアリレート），シクロ・オレフィン系樹脂などが用いられる。こうした樹脂等に型押しして、くぼみを成型加工することで、容易にくぼみ３２のある高分子フィルム３１Ｃを得ることができる。
【００３７】
ここでは、まず、ガラス基板３１Ａを前面基板とみなして表示装置を作製しておき、次いで、組み立て後の表示装置のガラス基板３１Ａに、ローラ等を用いて高分子フィルム３１Ｃを貼り付ける。これにより、本実施の形態のプラズマ表示装置が出来上がる。
【００３８】
このように、高分子フィルム３１Ｃにくぼみ３２を形成するようにしたので、ガラス等に比べてくぼみの成型加工を容易なものとできる。また、装置を製造する前に予め基板に加工するのではなく、出来上がった装置の前面基板（ガラス基板３１Ａ）に予め成型しておいた高分子フィルム３１Ｃを貼り付けるだけでよいので、極めて簡便にくぼみ３２のある前面基板３１を得ることができる。なお、その他の作用効果は、第１の実施の形態と同様である。
【００３９】
〔第３の実施の形態〕
図１３は、第３の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部を示す断面構成図である。本実施の形態では、前面ガラス基板４１の発光領域Ｐ側にくぼみ４２が形成されている。この前面ガラス基板４１は、第１の実施の形態における前面ガラス基板１と同様にして製造することができる。ただし、この場合、前面ガラス基板４１には、維持電極４７がくぼみ４２の形状に沿って形成される。
【００４０】
また、その上に形成される誘電体層４８は、ガラスやＳｉＯ２を用いて形成されるため屈折率が前面ガラス基板４１に近く、ここでは、これ自身も凹レンズの一部となっている。よって、光の拡散効果を引き出すために、誘電体層４８は、厚みを均一にして、その表面が前面ガラス基板４１の表面形状をできるだけ忠実に写したものとすることが好ましい。
【００４１】
こうした前面ガラス基板４１においても、第１の実施の形態と同様に、くぼみ４２により、入射光・射出光とも拡散される。よって、その他の作用効果は、第１の実施の形態と同様である。
【００４２】
〔第４の実施の形態〕
図１４は、第４の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部を示す断面構成図である。上記の各実施の形態では、前面ガラス基板自体にくぼみを形成する場合について説明したが、本実施の形態では、前面ガラス基板５１に設けられた誘電体層５８の放電空間側にくぼみ５２が形成されている。よって、ここでの前面ガラス基板５１は、通常と同様のものである。
【００４３】
誘電体層５８は、低融点ガラスを主成分とするガラスペーストやＳｉＯ２を用いて、くぼみ５２をもつように形成される。その方法としては、例えば、（１）誘電材料を前面ガラス基板５１の上に層状に塗布形成し、さらに型押ししてくぼみ５２を成型して焼成する方法、（２）前面ガラス基板５１の上に、くぼみ５２を形成する領域を覆うマスク（あるいはスクリーン）を設置し、その上から誘電体を蒸着法またはスクリーン印刷法を用いて塗布する方法、（３）くぼみ５２が形成された誘電体層５８を、転写法により前面ガラス基板５１の上に形成する方法などがある。すなわち、誘電体層５８は、これ自体が凹レンズとなっており、第１の実施の形態におけるガラス層１Ｂと実質的に同等の構成であり、同様の方法によりくぼみを形成することができる。
【００４４】
この誘電体層５８においても、第３の実施の形態と同様に、くぼみ５２により、入射光・射出光とも拡散される。よって、その他の作用効果は、上記の実施の形態と同様である。
【００４５】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されず種々の変形実施が可能である。例えば、第２〜第４の実施の形態は、それぞれのくぼみの形成位置に特徴があるので、くぼみの形状は第１の実施の形態およびその変形例に倣ってよい。また、第１の実施の形態の変形例１〜３は、第１の実施の形態だけでなく、そのほかの実施の形態に単独で、または複数同時に適用することができる。
【００４６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のプラズマ表示装置およびその製造方法によれば、表示面側に配される基板の上に、凹レンズとしての機能を果たすくぼみを形成するようにしたので、発光領域内から外部へ射出される光、および逆に外部から発光領域内に入射する光に対し、くぼみが凹レンズとして作用し、これらの光束を拡散させる。よって、各発光領域で生じる光は表示面側へ拡散されて導かれるために、視野角を広げることが可能となる。また、発光領域の表示面積を縮小して高精細化されるプラズマ装置においては、表示面積の縮小に伴って視野角が狭くなることを防止し、高品位の画像表示を行うことができる。さらに、外部より表示領域内に入射する外光もまた拡散されるために、反射して表示面側に戻る成分が低減され、高いコントラストで表示することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示したプラズマ表示装置のＹ方向断面図である。
【図３】図１に示したプラズマ表示装置の表示面側から見た平面図である。
【図４】図１に示したプラズマ表示装置におけるくぼみの作用の説明図である。
【図５】図１に示したプラズマ表示装置の前面ガラス基板の製造方法を説明する工程図である。
【図６】図１に示したプラズマ表示装置の前面ガラス基板の他の製造方法を説明するための図である。
【図７】図１に示したプラズマ表示装置の前面ガラス基板の他の製造方法を説明する工程図である。
【図８】プラズマ表示装置に表示面側から外光が入射する様子を表した図であり、（Ａ）は第１の実施の形態の装置の場合、（Ｂ）は従来の装置の場合を示す。
【図９】図１に示したプラズマ表示装置の第１の変形例に係る要部構成図である。
【図１０】図１に示したプラズマ表示装置の第２の変形例に係る要部構成図である。
【図１１】図１に示したプラズマ表示装置の第３の変形例に係る要部構成図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部構成を示す斜視図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の第４の実施の形態に係るプラズマ表示装置の要部構成を示す断面図である。
【図１５】従来の面放電型プラズマ表示装置の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
１，４１，５１…前面ガラス基板、３１…前面基板、１Ａ，３１Ａ…ガラス基板、１Ｂ…ガラス層、３１Ｃ…高分子フィルム、１１，１２，３２，４２，５２…くぼみ、２…背面ガラス基板、３…アドレス電極、５…隔壁、６…蛍光体層、７，７Ｘ，７Ｙ，４７…維持電極、４，８，４８，５８…誘電体層、９…保護層、Ｐ…発光領域、２１，２２…マスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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