(57)【要約】【課題】従来の基板加熱装置においては、昇温時機械的強度の低下によりその中央部が下方に垂れ下がるため種々の不都合を生じていた。【解決手段】本発明の基板加熱装置は、断面が逆Ｕ字状の保持部材と、上記保持部材によって支持したプレートヒーターとより成る。また、本発明の基板加熱装置は、断面が逆Ｕ字状の下側保持部材と、断面がＵ字状の上側保持部材と、上記両保持部材によって挟持したプレートヒーターとより成り、上記下側保持部材の表面積が上側保持部材の表面積より大きいか、上記下側保持部材の材質の熱膨張係数が上記上側保持部材の材質の熱膨張係数より小さい。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平部分と垂直部分とを有する保持部材と、この保持部材によって支持したプレートヒーターとより成ることを特徴とする基板加熱装置。
【請求項２】
下側保持部材と、この下側保持部材の縁にその縁を固定した上側保持部材と、上記両保持部材によって挟持したプレートヒーターとより成り、上記下側保持部材の表面積が上側保持部材の表面積より大きいことを特徴とする基板加熱装置。
【請求項３】
下側保持部材と、この下側保持部材の縁にその縁を固定した上側保持部材と、上記両保持部材によって挟持したプレートヒーターとより成り、上記下側保持部材の材質の熱膨張係数が上記上側保持部材の材質の熱膨張係数より小さいことを特徴とする基板加熱装置。
【請求項４】
上記下側保持部材の断面が逆Ｕ字状であることを特徴とする請求項２または３記載の基板加熱装置。
【請求項５】
上記上側保持部材の断面がＵ字状であることを特徴とする請求項２、３または４記載の基板加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板加熱装置、特に、大型の半導体基板やガラス基板用の加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりガラス基板をプレートヒーターによって加熱する装置は知られている（特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−１４９９７７号（第１頁、図１）。
【０００４】
また、加熱炉内に棚を上下に多段に配置し、この各棚上に加熱源であるプレートヒーターと大型のガラス基板とを配置したものも既知である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
然しながら、ガラス基板が大型になるにつれて、プレートヒーターも大型となり、棚に支持されているプレートヒーター及びまたは棚の中央部が昇温時下方に垂れ下がり、下方に位置するガラス基板やプレートヒーターに損傷を与える恐れがあった。
【０００６】
本発明はこのような欠点を除くようにしたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板加熱装置は、水平部分と垂直部分とを有する保持部材と、この保持部材によって支持したプレートヒーターとより成ることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の基板加熱装置は、下側保持部材と、この下側保持部材の縁にその縁を固定した上側保持部材と、上記両保持部材によって挟持したプレートヒーターとより成り、上記下側保持部材の表面積が上側保持部材の表面積より大きいことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の基板加熱装置は、下側保持部材と、この下側保持部材の縁にその縁を固定した上側保持部材と、上記両保持部材によって挟持したプレートヒーターとより成り、上記下側保持部材の材質の熱膨張係数が上記上側保持部材の材質の熱膨張係数より小さいことを特徴とする。
【００１０】
上記下側保持部材の断面が逆Ｕ字状であり、上記上側保持部材の断面が、Ｕ字状であることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下図面によって本発明の実施例を説明する。
【００１２】
図１は本発明の基板加熱装置を有する加熱炉１を示し、２はその炉壁を構成する断熱材、３は棚、４はこの棚３上に載置したプレートヒーター、５は大型のガラス基板、６はこのガラス基板５の受けである。
【００１３】
本発明の第１実施例においては図１及び図２に示すように、棚３として水平部分と垂直部分とを有する、断面が例えば逆Ｕ字状や格子（ハネカム）状の互いに側方に隣接した複数の下側保持部材７を用い、その折り曲げ脚部下面を加熱炉１の断熱材２に固定した断面逆Ｌ字状の保持体８によって支持せしめ、この下側保持部材７上にプレートヒーター４を載置し、このプレートヒーター４の上面にガラス基板５を受け６を介して支持せしめる。
【００１４】
本発明の第１実施例の基板加熱装置は上記のような構成であるから、逆Ｕ字状の下側保持部材７により昇温による中央部の機械的強度の低下が少なく、それだけ垂れ下がる量も少なくなる。
【００１５】
本発明の第２実施例においては、図３及び図４に示すように、棚３として断面が逆Ｕ字状の互いに側方に隣接した複数の下側保持部材７を用い、その折り曲げ脚部下面を加熱炉１の断熱材２に固定した断面逆Ｌ字状の保持体８によって支持せしめ、この下側保持部材７上にプレートヒーター４を載置し、このプレートヒーター４の上面に断面がＵ字状の互いに側方に隣接した複数の上側保持部材９を載置し、上記下側及び上側保持部材７，９によってプレートヒーター４を挟持し、これらはその周囲をボルト、ナット（図示せず）でまたは溶接により互いに一体に結合せしめる。
【００１６】
更に、図２に示すように例えば下側保持部材７の脚部の長さを上側保持部材９の脚部の長さより長くし、その結果、下側保持部材７の表面積が上側保持部材９の表面積より大きくなるようにする。
【００１７】
本発明の第２実施例の基板加熱装置は上記のような構成であるから、昇温時には放熱面積の上記相異により下側保持部材７の温度が上側保持部材９の温度より低くなり、昇温による中央部の機械的強度の低下が少なく、それだけ垂れ下がる量も少なくなる。また、上記下側及び上側保持部材７，９の熱膨張係数が互いに等しい場合には温度差により上側保持部材９の伸びが下側保持部材７の伸びより大きくなり、バイメタルと同様の原理でこれらの中央部に上方に膨らむ力が発生するため垂れ下がり力と相殺されて昇温時でも下側保持部材７の中央部は略平面状態を維持するようになる。
【００１８】
本発明の第３実施例においては、下側保持部材７の材質を例えばステンレス  ＳＵＳ  ３１６とし、上側保持部材９の材質を例えばステンレス  ＳＵＳ  ３０４として上記下側保持部材７の熱膨張係数が上記上側保持部材９の熱膨張係数より例えば１０％小さくなるようにする。
【００１９】
この第３実施例によれば、下側保持部材７の熱膨張係数が上側保持部材９のそれより小さいため昇温時、上記バイメタルと同様その中央部に上方に膨らむ力が発生するため垂れ下がり力と相殺されて昇温時でも下側保持部材７の中央部は略平面状態を維持するようになる。
【００２０】
【発明の効果】
上記のように本発明の基板加熱装置によれば、温度上昇によってプレートヒーター保持部材が昇温時下方に垂れ下がるという従来の欠点を一掃でき、また、保持部材をより薄くしてコストの低下をはかることができる等大きな利益がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の基板加熱装置を有する加熱炉の縦断正面図である。
【図２】図１に示す基板加熱装置の拡大縦断側面図である。
【図３】本発明の他の実施例の基板加熱装置を有する加熱炉の縦断正面図である。
【図４】図３に示す基板加熱装置の拡大縦断側面図である。
【符号の説明】
１  加熱炉
２  断熱材
３  棚
４  プレートヒーター
５  ガラス基板
６  受け
７  下側保持部材
８  保持体
９  上側保持部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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