(57)【要約】【課題】高温高湿環境下でも基板密着性が良好で液晶表示装置としての信頼性に優れ、被転写基板への拡散反射下地層材料の転写性が良く歩留まりが良好で、かつ凹凸転写性と解像性が両立する拡散反射下地層を形成するための拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物及びこれを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法を提供する。【解決手段】凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメントにおいて、該感光性樹脂組成物が、（Ｉ）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（ａ）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）との反応により得られ、分子量１，０００当りの不飽和基数が０．５〜１．５個である不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）、（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、（ＩＩＩ）光重合開始剤、（ＩＶ）一般式（Ａ）で表されるブロックイソシアネートを含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメントにおいて、該感光性樹脂組成物が、
（Ｉ）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（ａ）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）との反応により得られ、分子量１，０００当りの不飽和基数が０．５〜１．５個である不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）、
（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、
（ＩＩＩ）光重合開始剤、
（ＩＶ）一般式（Ａ）で表されるブロックイソシアネートを含有することを特徴とする拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物。
【化１】
2004170593.tif 000004
〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立してアルキレン基、置換アルキレン基、アルキレンオキサイド基、アリール基又は置換アリール基を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立してイソシアネートと活性水素を有する化合物が反応した際に得られる残基を示す〕
【請求項２】
凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に請求項１に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層し、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、該仮支持体をはく離して所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成することを特徴とする反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型液晶表示装置に使用する拡散反射下地層を形成するための拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物及びこれを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、ノート型パソコン、電子手帳、携帯情報端末機、アミューズメント機器、携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特にこれらのうち、携帯用機器については、バックライトが不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いられつつある。
【０００３】
一般に反射型液晶表示装置では、光源として外光の反射を利用しているが、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るためには、さらにあらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。
【０００４】
これを実現するための有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面となるようにした転写フイルムを使用し、転写フイルムの薄膜層の被転写基板への接着面を基板表面に貼り合わせ、仮支持体をはく離して基板に薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与することにより拡散反射板を形成する方法（特許文献１参照）が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−４７１９９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法で拡散反射板を作製する際には、特に拡散反射下地層用材料の選定が難しく、従来歩留まり良く製造できないという問題点があった。これは、特に以下の３つの理由により生じていた。
【０００７】
１つめは、高温高湿環境下での基板密着性の問題である。液晶表示装置の使用においては、あらゆる環境下が予想されることから、信頼性として高温高湿時にも拡散反射下地層の基板密着性が良いことが必要とされるが、従来の拡散反射下地層材料では、特に耐湿性の問題から、高温高湿環境下で基板密着性が著しく悪化し、液晶表示装置としての信頼性を得られないという不具合があった。
【０００８】
２つめは、拡散反射下地層材料と仮支持体との接着力に起因する転写性の問題である。拡散反射下地層材料と仮支持体との接着力は、被転写基板へ拡散反射下地層材料を転写した直後、活性光線照射前に仮支持体が拡散反射下地層材料から容易にはがれてしまうほど小さくなく、また活性光線照射後に仮支持体をはがす際、拡散反射下地層材料が被転写基板からはがれてしまうほど大きくない範囲であることが重要であるが、従来の拡散反射下地層材料では、転写性が良好で、かつ上記した高温高湿環境下での基板密着性も良好となるものを見出すことができなかった。
【０００９】
３つめは、凹凸転写性と解像性との両立の問題である。特にこれは、拡散反射下地層材料を部分的に設ける際に発生する問題である。拡散反射板が光を拡散反射し得る凹凸形状を有するよう作製するためには、例えば感光性樹脂組成物により拡散反射下地層を形成する場合においては、仮支持体の凹凸形状をきちんと再現させるために活性光線を十分照射して光反応を促進させる必要がある。しかし活性光線量が過剰になると、拡散反射層を設けたくない部分がネガマスク等で遮光しているにもかかわらず露光かぶりしてしまい、アルカリ水溶液等の現像液などで除去することができなくなってしまう。また逆に、拡散反射層を設けたくない部分をきちんと除去するために活性光線量を抑制すると、凹凸形状をきちんと再現することができなくなってしまい、凹凸転写性と解像性とを両立させることが困難であった。
【００１０】
本発明は、高温高湿環境下でも基板密着性が良好で液晶表示装置としての信頼性に優れ、被転写基板への拡散反射下地層材料の転写性が良く歩留まりが良好で、かつ凹凸転写性と解像性が両立する拡散反射下地層を形成するための拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物及びこれを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法を提供する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、［１］凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメントにおいて、該感光性樹脂組成物が、
（Ｉ）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（ａ）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）との反応により得られ、分子量１，０００当りの不飽和基数が０．５〜１．５個である不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）、
（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、
（ＩＩＩ）光重合開始剤、
（ＩＶ）一般式（Ａ）で表されるブロックイソシアネートを含有することを特徴とする拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物である。
【００１２】
【化２】
2004170593.tif 000002
【００１３】
〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立してアルキレン基、置換アルキレン基、アルキレンオキサイド基、アリール基又は置換アリール基を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立してイソシアネートと活性水素を有する化合物が反応した際に得られる残基を示す〕
上記［１］に記載の発明は、特に耐湿性に優れることで高温高湿下で拡散反射下地層の基板密着性に優れ、拡散反射下地層である感光性樹脂組成物と仮支持体との程良い接着力により被転写基板への拡散反射下地層の転写性が良く、かつ凹凸転写性と解像性が両立でき、拡散反射板を歩留まり良く製造するための拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を提供するものである。
【００１４】
また、本発明は、［２］凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に上記［１］に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層し、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、該仮支持体をはく離して所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成することを特徴とする反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法である。
上記［２］に記載の発明は、上記［１］の効果に加えて、さらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得られる拡散反射板及び反射型液晶表示装置を提供するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における感光性樹脂組成物は、（Ｉ）共重合成分としてメタクリル酸及び５〜２５重量％のアクリル酸アルキルエステルを必須成分として得られるアクリル系樹脂（ａ）と、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）との反応により得られ、分子量１，０００当りの不飽和基数が０．５〜１．５個である不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）を必須成分として含有する。
前記アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部分に１〜１２個の炭素を有するもの、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリルなどが挙げられる。
前記アクリル系樹脂（ａ）の共重合成分として使用するアクリル酸アルキルエステルが５重量部未満では、拡散反射下地層と仮支持体との接着力が著しく小さくなる傾向があり、活性光線照射前に仮支持体が拡散反射下地層から容易にはがれてしまい不適である。また２５重量％を超えると、耐湿性が著しく劣り、高温高湿環境下での基板密着性が悪化する恐れがあること、また、拡散反射下地層と仮支持体との接着力が著しく大きくなる傾向があり、仮支持体をはがす際、拡散反射下地層が被転写基板からはがれてしまう恐れがあり不適である。
【００１６】
前記アクリル系樹脂（ａ）の共重合成分としてメタクリル酸を必須成分とする理由としては、耐湿性に優れるため及び、光硬化性樹脂としての性質を十分得るべく、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）を導入するためである。
前記アクリル系樹脂（ａ）は、メタクリル酸を必須成分とし、それ以外の共重合成分として、通常公知の、その他のエチレン性不飽和単量体を使用することができる。
【００１７】
その他のエチレン性不飽和単量体としては、例えば２−カルボキシエチルメタクリレート、（無水）マレイン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、メタクリル酸アミノメチル、メタクリル酸Ｎ−メチルアミノメチル、メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル等のメタクリル酸アミノアルキル、アクリル酸Ｎ−メチルアミノメチル、アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル等のアクリル酸アミノアルキル、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体、酢酸ビニル等が挙げられる。
【００１８】
また前述したとおり、アクリル系樹脂（ａ）に分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）を導入する必要があることから、アクリル系樹脂（ａ）の酸価は２０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以上が好ましく、５０〜５００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）が特に好ましい。
本発明に使用される、分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）としては、例えば、グリシジルメタクリレート、β−メチルグリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、１，２−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられ、これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。これらの中でも、光硬化性、入手容易性、廉価性の点から、グリシジルメタクリレートが特に好ましい。
上記化合物（ｂ）の使用量は、得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）の不飽和基数が、分子量１，０００当り０．５〜１．５個の範囲になるように設定することが必須である。不飽和基数が０．５個未満では、十分な硬化性が得られないために、凹凸形状性、耐熱性等が劣り、逆に不飽和基数が１．５個を超えて多い場合には、硬化歪みが大きくなり、高温高湿環境下での基板密着性が悪化することや、長期間保存すると増粘、ゲル化する恐れがあることが問題となる。
【００１９】
上記カルボキシル基を含むアクリル系樹脂（ａ）と分子内にエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）から不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）を得る方法としては、例えばアクリル系樹脂（ａ）の有機溶剤溶液（アルコール系、エステル系、エーテル系、ケトン系等、種々のものが好適）とエポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）とを５０〜１５０℃、０．５〜５時間程度の反応条件で開環付加反応させることにより行うことができる。このとき、化合物（ｂ）のエポキシ基への、アクリル系樹脂（ａ）のカルボキシル基の開環付加を促進するために、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン等の３級アミンや、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド等の４級アンモニウム塩等を反応触媒として用いることができる。
上記により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）の重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定され、標準ポリスチレンを用いて作製した検量線により換算される）は、耐熱性、耐湿性、塗工性及び溶媒への溶解性等の点から、１０，０００〜１５０，０００であることが好ましく、２０，０００〜８０，０００であることが特に好ましい。
さらに、上記により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）の酸価は１０〜３００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）、好ましくは２０〜２００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）である。酸価が１０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）未満の場合、希アルカリ水溶液による現像性が劣る。逆に酸価が３００を超えると硬化後の塗膜の耐湿性、耐アルカリ性等が悪くなる。
（Ｉ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、２０〜７０重量部とすることが好ましい。この使用量が２０重量部未満では、塗工性が低下する傾向があり、７０重量部を超えると、耐熱性、光硬化性が低下する傾向がある。
【００２０】
本発明に用いられる（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記α，β−不飽和カルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸等が拳げられる。
上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）等が挙げられ、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。
上記グリシジル基含有化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）フェニル等が拳げられる。
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。
【００２１】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
本発明で用いる（ＩＩ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、３０〜８０重量部とすることが好ましい。この使用量が３０重量部未満では、光感度が低い傾向があり、８０重量部を超えると、塗膜性が低下する傾向がある。
【００２２】
本発明で用いる（ＩＩＩ）光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナンタラキノン、２−メチル１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。また、密着性及び感度の見地からは、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体がより好ましい。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
本発明で用いる（ＩＩＩ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、０．１〜１０重量部とすることが好ましい。この使用量が０．１重量部未満では、光感度が低い傾向があり、１０重量部を超えると、耐熱性が低下する傾向がある。
【００２３】
さらに本発明の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物は、（ＩＶ）成分として前記の一般式（Ａ）で表されるブロックイソシアネートを含有する。ブロックイソシアネートは、ポリイソシアネート化合物にある種の活性水素を有する化合物（ブロック剤）を反応させた常温で安定な化合物である。ある種の活性水素を有する化合物として、フェノール、クレゾール、メチルエチルケトオキシム、ε−カプロラクタムのようなフェノール類、ケトオキシム類、ラクタム類等でイソシアネート基をブロックしたブロックイソシアネート樹脂を好適に使用できる。この化合物としては、スミジュールＢＬ３１７５（住友バイエルウレタン（株）製、商品名）が商業的に入手可能である。ＢＬ３１７５は、一般式（Ａ）において、Ｒ１＝Ｒ２＝Ｒ３が−（ＣＨ２）６−であり、Ｒ４＝Ｒ５＝Ｒ６が−Ｎ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）である。
本発明で用いる（ＩＶ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、０．５〜１０重量部とすることが好ましく、２〜５重量部とすることがより好ましい。この使用量が０．５重量部未満では、凹凸転写性を高める効果が得られず、１０重量部を超えると、解像性が低下する傾向があることや、拡散反射下地層と仮支持体との接着力が著しく大きくなる傾向があり、不適である。
【００２４】
また、本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、はく離促進剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤などを（Ｉ）成分及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して各々０．０１〜２０重量部程度含有することができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２５】
さらに、本発明における感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して固形分３０〜６０重量％程度の溶液として塗布することができる。
【００２６】
本発明における凹凸形状を有する仮支持体としては、特に制限なく公知のものを使用することができるが、基板上に拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を貼り合わせる点、及び拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を貼り付け、光硬化させた後、はく離する点で特に好適であるという理由から、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル等を材質としたフイルムをベースフイルムとして用い、それをサンドブラスト処理等で直接凹凸形状を設けて仮支持体とすることや、前記したベースフイルム上に光硬化性樹脂及びまたは熱硬化樹脂性樹脂を積層して、像状露光や熱成形等により凹凸形状を設けてベースフイルムと合わせて仮支持体とすること等が特に好ましい。
また、このときの凹凸形状については、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るために、垂直な方向に散乱する光の強度を増加させることができるような構造を有するものであれば、特に制限はない。
【００２７】
本発明における感光性樹脂組成物の層を積層する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、ドクターブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。
【００２８】
本発明における、光硬化させるための活性光線としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【００２９】
本発明においては、アートワークと呼ばれるネガマスクパターンを通して活性光線をパターン状に照射した後、現像液等で現像して未露光部を除去し、部分的に拡散反射層を形成しても良い。この際、現像液としては、安全かつ安定であり、操作性が良好なものが用いられ、例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（１〜５重量％水溶液）などが用いられる。
また現像後、反応性を向上させ、凹凸転写性を良好とすることを目的として、８０〜２５０℃程度で加熱を行うことが特に好適である。
【００３０】
【実施例】
次に本発明を実施例により具体的に説明する。
（実施例１）
凹凸形状を有する仮支持体としてサンドブラスト処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、表１の配合で調整した感光性樹脂組成物を、このフィルム上にコンマコーターで５μｍの厚さに塗布し、１１０℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥した後ポリエチレンフィルムを被覆することで、拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を仮支持体に積層した感光性エレメントを作製した。
【００３１】
【表１】
2004170593.tif 000003
（＊）メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で２０／４０／１５／２５）１００重量部とグリシジルメタクリレート１５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４５重量％）；重量平均分子量は３０，０００、酸価（固形分）は６２、不飽和基数は、分子量１，０００当り０．９２個。
【００３２】
＜拡散反射下地層の転写性評価＞
（１）感光性樹脂組成物と仮支持体との接着性
得られた感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのソーダガラス基板の上に感光性樹脂組成物の層を、ロール温度１２０℃、ロール圧０．４ＭＰａ、速度０．５ｍ／分の条件でラミネートして、ガラス基板上に感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層した基板を作製した。このとき、仮支持体は、軽い衝撃を基板へ与えても感光性樹脂組成物の層からはがれることはなく、接着性は良好であった。
（２）被転写基板と感光性樹脂組成物の層との接着性（活性光線照射後）
上記した、ガラス基板上に感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層した基板に、仮支持体上にネガマスク（部分的に幅１００μｍを遮光するパターン有り）を載置し、仮支持体側から、３ＫＷ超高圧水銀灯（ＨＭＷ−５９０、（株）オーク製作所製）で６０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してから、仮支持体を引きはがしたところ、感光層は仮支持体と一緒に引きはがれることなく、ガラス基板にきちんと転写した。
【００３３】
＜現像性と凹凸転写性の評価＞
上記した、活性光線照射後の基板を、３０℃、１重量％炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像を行った後、２３０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化したところ、感光性樹脂層の表面はサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、拡散反射特性に優れた凹凸形状であった。また紫外線照射時にネガマスクで遮光した幅１００μｍのパターンは、露光かぶりすることなく解像されていた。
【００３４】
＜拡散反射下地層の基板密着性評価＞
上記工程で得られた感光性樹脂組成物を基板に転写積層した拡散反射下地層付き基板を、温度６０℃、湿度９０％に保った恒温槽へ２４０時間投入した後、クロスカット試験（ＪＩＳ−Ｋ５４００、１ｍｍ角碁盤目法）を行ったところ、拡散反射下地層のはがれが一切なく、良好な基板密着性であった。
【００３５】
（比較例１）
（Ｉ）成分として、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体（重量比で２０／４０／４０）１００重量部とグリシジルメタクリレート１５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４４重量％、重量平均分子量は４０，０００、酸価（固形分）は６２、不飽和基数は、分子量１，０００当り０．９２個。）を用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、拡散反射下地層の転写性を評価した。
＜拡散反射下地層の転写性評価＞
拡散反射下地層と仮支持体との接着性が悪く、仮支持体はわずかな衝撃を基板へ与えるだけで感拡散反射下地層からはがれてしまった。
【００３６】
（比較例２）
（Ｉ）成分として、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で４０／２０／２０／２０）１００重量部とグリシジルメタクリレート４５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４２重量％、重量平均分子量は３５，０００、酸価（固形分）は５７、不飽和基数は、分子量１，０００当り２．１９個。）を用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、拡散反射下地層の転写性及び拡散反射下地層の基板密着性を評価した。
＜拡散反射下地層の転写性評価＞
仮支持体は軽い衝撃を基板へ与えても感光性樹脂層からはがれることはなく、接着性は良好であった。また、活性光線照射後に仮支持体を引きはがしても感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがれることなく、ガラス基板にきちんと転写した。
＜拡散反射下地層の基板密着性評価＞
基板密着性評価用の拡散反射下地層を作製し、実施例１と同様にして基板密着性を評価したところ、１ｍｍ角の拡散反射下地層のはがれが１００個中９０個発生していた。
【００３７】
（比較例３）
（Ｉ）成分として、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で２０／２０／４０／２０）１００重量部とグリシジルメタクリレート１５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４４重量％、重量平均分子量は３０，０００、酸価（固形分）は６２、不飽和基数は、分子量１，０００当り０．９２個。）を用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、拡散反射下地層の転写性を評価した。
＜拡散反射下地層の転写性評価＞
仮支持体は軽い衝撃を基板へ与えても感光性樹脂層からはがれることはなく、接着性は良好であった。しかし、活性光線照射後に仮支持体を引きはがすと感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがれてしまい、ガラス基板にきちんと転写できなかった。
【００３８】
（比較例４）
（ＩＶ）成分を添加しなかった以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、拡散反射下地層の転写性を評価した。
＜拡散反射下地層の転写性評価＞
仮支持体は軽い衝撃を基板へ与えても感光層からはがれることはなく、接着性は良好であった。また、活性光線照射後に仮支持体を引きはがしても感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがれることなく、ガラス基板にきちんと転写した。
＜現像性と凹凸転写性の評価＞
紫外線照射時にネガマスクで遮光した幅１００μｍのパターンは、露光かぶりすることなく解像されていたが、感光性樹脂層の表面形状は、露光不足及び熱反応不足によりサンドブラスト加工された凹凸形状をきちんと転写できなかった。
【００３９】
実施例１は、本発明の感光性樹脂組成物を用いたもので、感光性樹脂組成物と仮支持体との接着性は良好で、基板に工程でかかる以上の衝撃を与えても仮支持体からはがれることはなく、また、ガラス基板上に感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層され、紫外線を照射してから、仮支持体を引きはがしたところ、感光層は仮支持体と一緒に引きはがれることなく、ガラス基板にきちんと転写し、基板への良好な転写性を示した。さらに、凹凸の転写性も良好で、基板への密着性も良好であった。
これに対し、比較例１の不飽和基を導入したポリマーの原料にアクリル酸アルキルエステルを使用しないアクリル系樹脂を用いた場合、感光性樹脂組成物と仮支持体との接着性は悪く、仮支持体はわずかな衝撃を基板へ与えるだけで感拡散反射下地層からはがれてしまった。また、比較例２の不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）の分子量１，０００当りの不飽和基数が０．５〜１．５個である範囲を超えて２．１９個であるものを使用した場合、感光性樹脂組成物である拡散反射下地層と基板の密着性が悪化した。さらに、比較例３の不飽和基を導入したポリマーの原料にアクリル酸アルキルエステルが５〜２５重量％より多い４０重量％のアクリル系樹脂を用いた場合、活性光線照射後に仮支持体を引きはがすと感光性樹脂層は仮支持体と一緒に引きはがれてしまい、ガラス基板にきちんと転写できなかった。また、比較例４の（ＩＶ）一般式（Ａ）で表されるブロックイソシアネート成分を添加しなかった場合、感光性樹脂層の表面形状は、露光不足及び熱反応不足によりサンドブラスト加工された凹凸形状をきちんと転写できなかった。
【００４０】
【発明の効果】
本発明により、拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物に耐湿性及び基板への良好な転写性に優れる特性を付与することで、高温高湿下で拡散反射下地層の基板密着性に優れた拡散反射板を歩留り良く製造することができる。また、高温高湿環境下でも反射膜との密着性に優れることから、これによりさらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得られる信頼性に優れた拡散反射板及び反射型液晶表示装置用拡散反射板を歩留り良く製造することができる。