(57)【要約】【課題】液晶表示装置トータルの部材数および厚みの減少、コスト低減を達成しながら、タッチパネル一体型の透過型液晶表示装置のコントラストや色味などの表示品位を改善し、視認性が改善を達成する。【解決手段】バックライトユニット上に液晶セルと偏光板とタッチパネルを有するタッチパネル一体型の透過型液晶表示装置において、バックライトユニット上に第１の円偏光板、液晶セルおよび第２の円偏光板をこの順に有し、液晶セルと第２の円偏光板の間にタッチパネルを有することを特徴とするタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックライトユニット上に液晶セルと偏光板とタッチパネルを有するタッチパネル一体型の透過型液晶表示装置において、バックライトユニット上に第１の円偏光板、液晶セルおよび第２の円偏光板をこの順に有し、液晶セルと第２の円偏光板の間にタッチパネルを有することを特徴とするタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、タッチパネル一体型透過型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
タッチパネルには、抵抗膜方式、光学式、静電容量式、超音波式、および電磁誘導式等の方式がある。これらの中で、抵抗膜方式は、比較的低コストである、薄型軽量化が容易である、という特徴を有し、ディスプレイの表面に装着するだけで外部入力が可能となり、現在、特に携帯機器を中心にして広く用いられている。近年、携帯電話、情報携帯端末などの携帯機器の成長が著しく、太陽光のもとでの視認性、および薄型軽量が強く求められている。
抵抗膜方式のタッチパネルは、２枚の透明導電層付き基板が、空間を介して透明導電膜同士を向かいあわせて配置されたものである。押圧によって透明導電膜同士が接触した際の、接触位置または抵抗値を検出することによって、位置を検出する。通常、タッチパネルは、ディスプレイ表面に装着される。この場合、空気層が２層となり、各空気界面での反射による視認性の低下が著しく、さらに装置自体が厚くなるという問題点があった。これに対して、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００１−１１２６６３号公報および月刊ディスプレイ１９９９年１月号６９頁に偏光板と液晶セルの間に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナー型タッチパネルの提案がされている。この方式によれば、界面が減少し、さらにλ／４板と組み合わせることで、界面反射が著しく低減され、視認性が向上する。
このようなインナー型タッチパネルの構成としては、これまで、タッチパネル部に限られた提案がなされてきた。透過型液晶表示装置の表示原理は通常は直線偏光のねじれをコントロールする旋光モードであり、その上にインナータイプタッチパネルを搭載する場合はタッチパネル下部基板にも位相差板の機能が必要となる。特に下部基板としては、硝子基板に位相差板を粘着剤などで貼り合せる必要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このような構成は複雑であり、厚み、製造適性の面で最適とは言えない。従って、更に装置の薄型化および低コスト化を達成するために厚みの低減、表示装置構成の削減が必要であるが、表示性能および入力性能との両立が必要である。
即ち、コントラスト、タッチパネルとしての入力性能に優れ、さらには色味のないニュートラルグレーを達成し、外光の写り込みのない視認性に優れ、軽量化および製造適性に優れたタッチパネル一体型透過型液晶表示装置が求められていた。
本発明の目的は、タッチパネル一体型透過型液晶表示装置において、液晶表示装置トータルの部材数および厚みの減少、コスト低減を達成しすることである。
さらには、コントラストに優れ、かつタッチパネルとしての入力性能に優れたタッチパネル一体型透過型液晶表示装置を提供することにある。
さらには色味のないニュートラルグレーを達成し、かつ外光の写り込みのない視認性に優れたタッチパネル一体型透過型液晶表示装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、以下の手段によって達成された。
（１）バックライトユニット上に液晶セルと偏光板とタッチパネルを有するタッチパネル一体型の透過型液晶表示装置において、バックライトユニット上に第１の円偏光板、液晶セルおよび第２の円偏光板をこの順に有し、液晶セルと第２の偏光板の間にタッチパネルを有することを特徴とするタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
（２）第１の円偏光板が第１の位相差板と第１の偏光膜で構成され、第２の円偏光板が第２の位相差板と第２の偏光膜で構成される上記（１）に記載のタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
（３）第１および第２の位相差板が、λ／４板である上記（２）に記載のタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
（４）λ／４板がポリマーフィルム１枚で構成されている上記（３）に記載のタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
（５）λ／４板がポリマーフィルム１枚で下記式を満足する上記（４）に記載のタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦２
式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｎｚは、厚み方向の屈折率である。
（６）λ／４板が、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍの関係を満足する上記（３）乃至（５）に記載のタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
（７）第１および第２の位相差板の厚さが、１０乃至２００μｍである上記（２）乃至（６）に記載のタッチパネル一体型透過型液晶表示装置。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明は、液晶セルの両側に偏光板と位相差板からなる円偏光板を有し、バックライトと逆側の位相差板と液晶セルの間にタッチパネル挟み込んだ構造を有するタッチパネル一体型透過型液晶表示装置である。
【０００６】
［透過型液晶］
本発明の透過型液晶表示装置の構成の代表的な例を下記に示す。勿論、本発明の透過型液晶表示装置はこの例に限定されず、各種のバリエーションがあることは当業者には理解され得る。
透過型液晶表示装置は、液晶を前面側基板と背面側基板で挟み込んだ液晶セルを有する。液晶セルの背面側にはバックライトを有しており、液晶セルとバックライトユニット間に液晶セルに近い側より第１の位相差板と第１の偏光膜から構成される第１の円偏光板を有し、反対側の液晶セルに近い側より第２の位相差板と第２の偏光膜よりなる第２の円偏光板を有している。本特許では、液晶セルと第２の円偏光板の間にタッチパネルを挟み込んだ構造を持つ。また、本液晶セルには、透過可能な光の波長が相互に異なる２種類以上のカラーフィルターを含んでカラー表示を行うこともできる。
【０００７】
以下、この透過型液晶表示装置の構成の一例をその製法と共に詳しく説明する。ただし、透過型液晶装置の構成はこれに限るものではない。
液晶セルの前面側基板および背面側基板には、通常ガラス材料から成る基板が使用されるが、フィルムを用いてもよい。背面側基板の一方面上に、タンタル（Ｔａ）等からなる導電性材料の薄膜をスパッタリング法を用いて成膜し、該薄膜を所定形状にパターニングする。これによって、二端子素子内の信号電極と、該信号電極に接続される信号配線とが形成される。次いで、二端子素子内の絶縁層を形成するために、酒石酸アンモニウム等の電解液中で、信号電極の表面および信号配線の表面を陽極酸化する。続いて、二端子素子内の上部電極を形成するために、背面側基板の一方面上に、チタン（Ｔｉ）等からなる導電性材料の薄膜をスパッタリング法を用いて成膜し、該薄膜を所定形状にパターニングする。
この後、画素電極として機能する背面電極を形成するために、背面側基板の二端子素子を形成した面上に、透明導電成膜を成膜する。
【０００８】
カラー表示をする場合には、前面側基板上に所定波長域の光成分だけを透過可能な樹脂材料から成るカラーフィルターを色毎に印刷する。その後、ＩＴＯの透明薄膜が成膜される。
【０００９】
上述のように一方面に部品がそれぞれ形成された前面側基板および背面側基板は画素の位置が合うように位置合せし、さらに、所定の間隔を空けた状態で両基板の周囲が貼り合わされる。こうして得られた液晶セルの内部空間に、液晶部を形成する液晶材料（例えば、屈折率異方性Δｎが０．０６５のＴＮ液晶）が封入される。一般には液晶部が形成された後、液晶セルの前背両面に円偏光板が貼付けられるが、本特許においては、液晶セルの背面のみに円偏光板が張り合わせられ、前面側の円偏光板はタッチパネルの上部基板内に含まれる。
【００１０】
透過型液晶表示装置は、このようにして作製されるパネルとバックライトとの組み合わせからなる。
画像の表示は、２つの円偏光板（第１の円偏光板と第２の円偏光板）の配置と液晶セル層の液晶配向状態の電圧印加による変化を利用して行う。前面側基板に貼り付けられた第２の円偏光板の偏光膜の透過軸と背面側基板に貼り付けられた第１の円偏光板の偏光膜の透過軸と液晶部内の各基板に最近接する液晶分子の配向状態とは、通常、モノクロ液晶表示パネルがノーマリホワイト（液晶部に電圧を印加しないときに白表示）になるように位置合わせされるが、この配置に限定されるわけではない。
【００１１】
本発明の透過型液晶表示装置に用いられる円偏光板について、さらに説明する。
円偏光板は、偏光能を持つ偏光膜を有し、必要により偏光膜の両面又は片面に保護膜（保護膜）が接着剤層を介して設けられ、さらに片面側には、位相差板が設けられる。
本発明において、第１の円偏光板は、第１の位相差板と第１の偏光膜で構成され、第２の円偏光板は第２の位相差板と第２の偏光膜から構成される。それぞれの位相差板が液晶セル側となるように配置される。
【００１２】
本発明の円偏光板を構成する位相差板としては一般にλ／４板を用いるが、特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各公報に記載されたレターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折率フイルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長においてλ／４となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４が得られる位相差板、特開平１０−９０５２１号公報に記載された二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／２６７０５号に記載された変性ポリカーボネートフイルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／６５３８４号に記載されたセルロースアセテートフイルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板等を挙げることができる。
【００１３】
液晶材料や配向方向、視野角特性などの観点から、λ／４板の遅相軸と偏光膜の吸収軸との角度は２０°以上７０°未満とするが、偏光板の吸収軸と４５°の角度で配置されることが望ましい。
また、λ／４板の光の波長に対する位相遅れの公差を補償するために、偏光板とλ／４板との間にλ／２板を配置することもある。
【００１４】
一般に、λ／４板、λ／２板などの位相差板は透湿性が低くなるので、偏光膜と直に貼り合わせると、偏光膜の含水率は通常１０％以上で比較的に高いので、疎水性保護膜と貼り合わせると偏光膜中の水が偏光板外に揮発するまでの時間が長くなり、偏光度が低下したり、色ムラを生じたり好ましくない。したがって、通常は、λ／４板が偏光膜の保護膜を兼ねることができず、偏光板としては、保護膜／偏光膜／保護膜／（λ／４板）の構成となるが、偏光膜の含水率が５％以下の少ない状態に乾燥することで、λ／４板のように透湿性の低いフィルムを偏光膜の保護膜として、偏光膜に直接貼り合わせることができる。結果として、保護膜の使用枚数を減らすこととなり、偏光板全体の厚みを薄くすることができ、液晶表示装置をさらに薄膜・軽量化することが可能となる。また、前述のようなセルロースエステルをベースとしたλ／４板の場合は、偏光膜の含水率を特に気にせず偏光板の保護膜として用いられるという長所がある。
【００１５】
［位相差板のレターデーション］
本発明の第１および第２の円偏光板に用いる第１および第２の位相差板としては、λ／４板が好ましいが、それに限るものではない。また、１枚のポリマーフィルムでなるλ／４板の代わりに、例えば、λ／２板とλ／４板の２枚を組み合わせて使用しても良い。λ／４板としては波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍの関係を満足することが好ましい。Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
さらに、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が１０８乃至１２０ｎｍであり、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５５０）が１２５乃至１４２ｎｍであり、波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１３０乃至１５２ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ５５０≧２ｎｍの関係を満足することが好ましい。Ｒｅ５９０−Ｒｅ５５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ５５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。また、Ｒｅ５５０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることも好ましい。
【００１６】
本発明にλ／２板を用いる場合は、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が１２０乃至２７０ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が２００乃至３４０ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧４ｎｍの関係を満足する。Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２０ｎｍであることが最も好ましい。
【００１７】
さらに波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が２１６乃至２４０ｎｍであり、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５５０）が２５０乃至２８４ｎｍであり、波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が２６０乃至３０４ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ５５０≧４ｎｍの関係を満足することが好ましい。またＲｅ５９０−Ｒｅ５５０≧１０ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ５５０≧２０ｎｍであることが最も好ましい。また、Ｒｅ５５０−Ｒｅ４５０≧２０ｎｍであることも好ましい。
【００１８】
レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出する。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｄは、位相差板の厚さ（ｎｍ）である。
本発明に用いられるポリマーフィルムは１枚で下記式を満足することが好ましい。
１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦２
式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｎｚは、厚み方向の屈折率である。
以上のような光学異方性を有する位相差板は、以下に述べる材料と方法により製造することができる。
【００１９】
［ポリマーフィルム］
本発明の第１および第２の円偏光板を構成する第１および第２の位相差板は光透過率が８０％以上であるポリマーフィルムを用いる事が好ましい。例としては、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）、ゼオネックス（商品名、日本ゼオン社製）等の商品であるノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、変性ポリカーボネート（帝人社製）等が挙げられる。本発明に用いられる位相差版のベースフィルムとしては、偏光板貼合せ工程で偏光子と直接貼合せが可能なセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースエステル）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースエステルが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
また、従来知られているポリカーボネート、ポリスルホン等の複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５に記載の分子・修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもでき、それらに限らず、位相差版の機能を有する材料であれば何でも用いることはできる。
【００２０】
本発明のポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０乃至６２．５％であるセルロースエステルを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０乃至６２．０％であることが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位重量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースエステル等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
【００２１】
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用されるセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。
【００２２】
一般に、セルロースエステルの２，３，６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースエステルの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下アシル基で置換されていることが好ましく、更には３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。さらにセルロースエステルの６位アセチル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。
６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。
【００２３】
本発明のセルロースエステルとして、公開特許公報　特開平１１−５８５１記載の［００４３］〜［００４４］［実施例］［合成例１］、［００４８］〜［００４９］［合成例２］、［００５１］〜［００５２］［合成例３］を用いることができる。
ポリマーフィルムとその上に設けられる層（接着層、配向膜、あるいは光学異方性層）との接着を改善するために、ポリマーフィルムに表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線処理、火炎処理）を実施してもよい。これらのポリマーフィルムは、紫外線吸収剤等を含むことが好ましい。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のようにポリマーフィルム上に接着層（下塗り層）を設けてもよい。接着層の厚みは０．１乃至２μであることが好ましく、０．２μ乃至１μであることがさらに好ましい。
【００２４】
［レターデーション制御剤］
本発明のポリマーフィルムは、２５０ｎｍよりも短波長側に吸収極大を有する棒状化合物をレターデーション制御剤として用いてレターデーションを調整することが好ましい。
レターデーション制御剤としては、少なくとも１つの芳香族環を有する棒状化合物が好ましく、より好ましくは棒状化合物が熱力学的にもっとも安定な構造において直線的である化合物が好ましい。
化合物の最安定化構造については、結晶構造解析のほかに分子軌道計算によって求めることができる。分子軌道計算ソフト（ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００、富士通（株）製）を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱がもっとも小さくなるような分子の構造を求める。このようにして計算して求められる分子構造において、分子構造の角度が１４０度以上である化合物が直線的な化合物であり、そのような構造の棒状化合物が本発明のレターデーション制御剤として好ましい。
実質的に直線的である化合物とは、下記の一般式で表される構造を有する化合物のことを指し、これらであることが好ましい。
一般式（Ｉ）
Ａｒ１−Ｌ１−Ｘ−Ｌ２−Ａｒ２
一般式（Ｉ）において、Ａｒ１，Ａｒ２は芳香族基を表し、Ｌ１、Ｌ２は、−ＯＣＯ−、アルキレン基、アルキレンオキシ基を表し、Ｘは単結合、エチレン基、アセチレン基、１，４−シクロヘキシレン基、を表す。さらには、一般式（Ｉ）において、Ａｒ１とＸとＡｒ２のなす角度が１４０度以上であることが好ましい。
【００２５】
以下に、一般式（Ｉ）についてさらに詳細に説明する。Ａｒ１，Ａｒ２は芳香族基を表し、同じであっても異なっていてもよい。本発明において、芳香族環とは芳香族炭化水素環に加えて芳香族性へテロ環を含む。
芳香族炭化水素環は６員環（すなわちベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性へテロ環は一般には不飽和へテロ環である。芳香族性ヘテロ環は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環、６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく窒素原子、硫黄原子が特に好ましい。芳香族性へテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環が好ましい。
レターデーション上昇剤が有する芳香族環の数は１から２０であることが好ましく、１から１２であることがさらに好ましい。
【００２６】
芳香族環は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子（具体的にはＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、ヒドロキシ基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基（たとえば、無置換のアミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基など）、ニトロ基，スルホ基、カルバモイル基（たとえば、無置換のカルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、など）、スルファモイル基（たとえば、無置換のスルファモイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、など）、ウレイド基（たとえば、無置換のウレイド基、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルウレイド基など）、アルキル基（たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、など）、アルケニル基（たとえば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基、など）、アルキニル基（たとえば、エチニル基、ブチニル基、など）、アシル基（たとえば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基など）、アシルオキシ基（たとえば、アセチルオキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基など）、アルコキシ基（たとえば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、など）、アリールオキシ基（たとえば、フェノキシ基、など）、アルコキシカルボニル基（たとえば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（たとえば、フェノキシカルボニル基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（たとえば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘイシルオキシカルボニルアミノ基など）、アルキルチオ基（たとえば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、など）、アリールチオ基（たとえばフェニルチオ基など）、アルキルスルホニル基（たとえば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、など）、アシルアミノ基（たとえば、アセチルアミノ基、ブチリルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ラウリルアミノ基など）、非芳香族環状炭化水素基（たとえば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基など）、非芳香族性複素環基（たとえば、モルホリル基、ピラジニル基など）が挙げられる。
【００２７】
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、が好ましく、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、はさらに置換していてもよい。置換基の例としては、芳香族の置換基として挙げたものが好ましい。より好ましくは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキル基、が挙げられる。
【００２８】
一般式（Ｉ）において、Ｌ１、Ｌ２は、−ＯＣＯ−、アルキレン基、アルキレンオキシ基を表し、Ｌ１とＬ２は同じでも異なっていてもよい。アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、などが挙げられる。アルキレンオキシ基としては、メチレンオキシ、エチレンオキシ、トリプロピレンオキシなどが挙げられる。Ｌ１，Ｌ２として好ましくはアルキレンオキシ基、または−ＯＣＯ−である。
【００２９】
一般式（Ｉ）において、Ｘは単結合、エチレン基、アセチレン基、１，４−シクロヘキシレン基、を表す。Ｘとして、好ましくはエチレン基、アセチレン基、１，４−シクロヘキシレン基、であり、より好ましくは、アセチレン基、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキシレン基、である。
【００３０】
一般式（Ｉ）において、Ｌ１−Ｘ−Ｌ２で表される部分構造のうち、好ましくは、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボニルオキシ、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基、アセチレンジカルボン酸残基、である。
【００３１】
以下に一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
【化１】
2004045987.tif 000002
【００３３】
【化２】
2004045987.tif 000003
【００３４】
【化３】
2004045987.tif 000004
【００３５】
【化４】
2004045987.tif 000005
【００３６】
【化５】
2004045987.tif 000006
【００３７】
【化６】
2004045987.tif 000007
【００３８】
本発明のレターデーション制御剤は文献既知の合成方法に準じて合成できる。たとえば、Ｍｏｌ．　Ｃｒｙｓｔ．　Ｌｉｑ．　Ｃｒｙｓｔ．，　５３巻、２２９ページ（１９７９年）、同８９巻、９３ページ（１９８２年）、同１４５巻、１１１ページ（１９８７年）、同１７０巻、４３ページ（１９８９年）、Ｊ．　Ａｍ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ．，　１１３巻、１３４９ページ（１９９１年）、同１１８巻、５３４６ページ（１９９６年）、同９２巻、１５８２ページ（１９７０年）、Ｊ．　Ｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．，　４０巻、４２０ページ（１９７５年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、４８巻１６号、３４３７ページ（１９９２年）、などに合成方法が記載されている。
【００３９】
本発明のレターデーション制御剤は、単独で用いても、２種類上の化合物を混合して用いてもよい。
【００４０】
［ポリマーフィルムの製造］
本発明のポリマーフィルムはレタデーション上昇剤およびポリマーを溶剤に溶解した溶液（ドープ）を用いるソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
ソルベントキャスト法によるポリマーフィルムの製造方法の具体例としてセルロースエステルフィルムに関する記載は発明協会公開技報２００１−１７４５に詳しく記述してある。原料綿に関しては７頁の４．セルロースアシレート原料綿、溶液およびフィルムの作成方法に関しては８頁の５．セルロースアシレート溶液及びフィルムの作製、溶媒に関しては１２頁の６．セルロースアシレート溶液の有機溶媒、添加剤に関しては１６頁の７．セルロースアシレートへの添加剤、製造工程に関しては２２頁の８．セルロースアシレートフィルムの製造工程および２５ページの９．流延、乾燥、延伸工程、表面処理に関しては３０頁の１０．表面処理、下塗り、バック素材に関しては３２頁の１１．下塗り、バック素材、機能層に関しては３２頁の１２．機能層を参照することができる。
【００４１】
ポリマーフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整し、位相差板とすることができる。延伸倍率は、３乃至１００％であることが好ましい。
【００４２】
位相差板の厚さは、１０乃至２００μｍが好ましく、２０乃至１５０μｍが更に好ましく、最も好ましくは３０乃至１４０μｍである。従って、複屈折は、５５０ｎｍの光で、０．００１９６乃至０．０１３７５であることが好ましく、０．００１６８乃至０．００６８７５が更に好ましく、最も好ましくは０．００２７５乃至０．００４５８である。
【００４３】
［位相差板の表面処理］
本発明の位相差板には、表面処理を施してもよい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理、紫外線照射処理を施したり、ウレタン系、ポリエステル系、アクリル系などのアンカーコーティング層を設けたり、シリカなどの無機質薄層などのアンダー層を設けたりすることができる。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理において位相差板フィルムの温度をＴｇ以下とすることが好ましい。
偏光膜の透明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理を実施することが特に好ましい。
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好ましく、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲が好ましく、４０℃乃至７０℃がさらに好ましい。
【００４４】
［偏光膜］
本発明の第１および第２偏光膜は、その両側に配置された二枚の透明保護膜とで偏光板を構成する。一方の保護膜として、前述した位相差板を用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースエステルフィルムを用いてもよい。また、両側とも通常のセルロースエステルフィルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
ポリマーフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸の関係を適用される液晶表示装置の種類により異なるが、実質的に４５度となるように配置することが好ましい。
偏光膜のλ／４板とは反対側の面には、透明保護膜を設けることが好ましい。透明保護膜の上には、ハードコート層を設けることが好ましい。ハードコート層付き保護膜の鉛筆硬度は２Ｈ以上が望ましく、３Ｈ以上が更に望ましく、最も望ましくは４Ｈ以上である。最外層には反射防止層を設けることが好ましい。
【００４５】
［タッチパネル］
本発明においてタッチパネルは液晶セルと第２の円偏光板の間に配置される。本発明のタッチパネルは、液晶セルに近い側の固定基板と、対向する可動基板とからなる。固定基板と可動基板の対向面に、それぞれ透明電極を備えている。固定基板及び可動基板は、表示品質を高めるため、透明な光学材料で形成されていることが好ましい。固定基板と可動基板に用いられる材料としては、例えば、ガラス、非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステルなどのポリマーフィルムなどが挙げられる。本発明ではλ／４板は、可動基板として用いるか、可動基板に張り合わせて用いるのが好ましく、可動基板として用いるのが更に好ましい。
【００４６】
二つの透明電極間にはギャップが形成される。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティカル・マッチングを取るために透明電極と屈折率の近い液体を充填させることもできる。また、透明電極膜の基板側にアンダーコート層、または、基板と反対側にオーバーコート層を付与し、光反射を低減させることもできる。スティッキング性をなくし、打鍵寿命を改善するために、透明電極膜表面は粗面化されていても良い。ギャップ間にはスペーサを設けることができる。スペーサとしては、ドット状スペーサや、固定基板と可動基板との周辺部に設けた貼合せ材などが用いられる。
タッチパネルは、デジタル式、アナログ式のどちらとしても用いられる。デジタル式では、押圧による透明電極同士の接触と、接触位置に対応してデータ位置を検出することができる。アナログ式では、例えば、固定基板のＸ軸方向の両端部、および、可動基板のＹ軸方向の両端部に電極を形成し、押圧により透明電極同士が接触し、接触位置により生じるＸ方向、Ｙ方向の抵抗値を検出することによって、データ入力位置を検出することができる。
【００４７】
本発明においては、タッチパネルは表示素子と共に用いられることが好ましい。タッチパネル部が表示部とは別々になっていて、容易に脱着できる構造でも構わないし、両者が一体となっていても構わない。
【００４８】
［透明導電膜］
本発明のタッチパネルに用いる透明導電膜としては、表面抵抗率は、２０００Ω／□以下であることが好ましく、１０００Ω／□以下であることがさらに好ましい。さらに好ましくは１００Ω／□以上９００Ω／□以下である。
可動基板用にはλ／４板の少なくとも一方の面に透明導電膜を設け、インナータイプのタッチパネルとして用いることが特に好ましいが、透明電極膜を形成したフィルムをλ／４板に貼り合せて使用しても構わない。
【００４９】
透明導電膜の表面抵抗率を上記のような値にするためには、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどの塗布によって設けても構わないし、フィルム流延時に共流延することによって設けても構わない。また、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によっても、大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わないが、好ましくはスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング、特に好ましくはスパッタリング法である。フィルムの片面に透明導電膜を設けても構わないし、両面に設けても構わない。また、これらの方法を併用することも可能である。
【００５０】
導電性微粒子分散物を塗布する方法としては、基本的には少なくとも１種以上の金属および、または金属酸化物、金属窒化物からなる微粒子を含有する層からなる。１種以上の金属からなる微粒子としては、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、パラジウム、プラチナ等の金属あるいはこれらの合金が挙げられる。特に銀が好ましく、さらに耐候性の観点からパラジウムと銀の合金が好ましい。パラジウムの含有量としては５〜３０ｗｔ％が好ましく、パラジウムが少ないと耐候性が悪く、パラジウムが多くなると導電性が低下する。金属微粒子の作成方法としては、低真空蒸発法による微粒子の作製方法や金属塩の水溶液を鉄（ＩＩ）、ヒドラジン、ボロンハイドライド、ヒドロキシエチルアミン等のアミン等の還元剤で還元する金属コロイド作製方法が挙げられる。
【００５１】
金属酸化物としてはＩｎ２Ｏ３系（Ｓｎなどドープ品含む）、ＳｎＯ２系（Ｆ、Ｓｂなどドープ品含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品含む）、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ３、Ｖ２Ｏ５、またはこれらの複合品などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。
【００５２】
これら導電性微粒子の平均粒径は１．０〜７００ｎｍが好ましく、２．０〜３００ｎｍが更に好ましく、５．０〜１００ｎｍが最も好ましい。粒径が大きすぎると、導電性微粒子による光の吸収が大きくなり、このために粒子層の光透過率が低下すると同時にヘイズが大きくなり、また、これら導電性微粒子の平均粒径が１ｎｍ未満の場合には微粒子の分散が困難になること、微粒子層の表面抵抗が急激に大きくなるため、本発明の目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する被膜を得ることができない。
【００５３】
導電性微粒子層の形成は、導電性微粒子を水を主体とする溶液あるいは有機溶剤等に分散した塗料を塗布して作製することができる。塗布する前に、表面処理や下塗りを施すことができる。表面処理としては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられる。下塗り層の素材としては塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、（メタ）アクリル酸エステル、ビニルエステル等の共重合体或いはラテックス、ゼラチン等の水溶性ポリマーなどが挙げられるが特に限定はされない。導電性微粒子の分散安定化のためには水を主体とする溶液が好ましく、水と混合出来る溶剤としてはエチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ブチルアルコール、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコールが好ましい。導電性微粒子の塗布量としては、１０乃至１０００ｍｇ／ｍ２が好ましく、２０乃至５００ｍｇ／ｍ２がさらに好ましく、５０〜１５０ｍｇ／ｍ２が最も好ましい。塗布量が少ないと導電性が取れず、塗布量が多いと透過性が劣る。
【００５４】
透明導電層はバインダーを含有していても、バインダーを含有せず、実質的に導電性微粒子のみから形成されていてもどちらでも構わない。バインダーを用いる場合、素材は特に限定されないが、親水性バインダー、疎水性バインダー、あるいは、ラテックスを用いることができる。親水性バインダーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどである。疎水性バインダーとしては、セルロースエステル（例えば、ニトロセルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、メチルセルロース）、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレートなどを含むビニル系ポリマー、ポリアミド、ポリエステルなどのポリマーである。
【００５５】
透明導電性層の導電性や透過性の向上のため、熱処理や水処理することが出来る。
熱処理は、ポリマーフィルムの耐熱性によるが、１５０℃以下が好ましい。１００℃から１５０℃が好ましい。１５０℃以上ではポリマーフィルムの熱による変形が起こりやすく、１００℃以下では熱処理の効果が出難く、長時間の処理時間が必要になってしまう。
【００５６】
熱処理の方法は、ウェッブ状態で加熱ゾーンを通しながら処理することが均一な処理が出来て好ましい。加熱ゾーンの長さと搬送速度で滞在時間を調節することが出来る。またロール状のフィルムを恒温槽中で加熱することも可能であるが、熱伝導のバラツキを考慮した時間設定が必要になる。
【００５７】
また、熱処理に先立ち、透明導電性層を水洗等の水処理をする事で熱処理をさらに効率良くすることが出来る。水洗等の水処理は、通常の塗布方式による水だけの塗布、具体的にはディップコート塗布、ワイヤーバーによる水の塗布等があり、他にはスプレーやシャワーで水を透明導電性層に掛ける方法がある。透明導電性層に水をかけた後、過剰の水は必要に応じて、ワイヤーバー、ロッドバーで掻き取ったり、エアーナイフで掻き取ることが出来る。
【００５８】
これらの水処理により、熱処理後の透明導電性層の表面抵抗をさらに低下させることが出来、加えて透過率の増加、透過スペクトルの平坦化、反射防止層を積層した後の反射率の低下に対する効果が顕著になる。
【００５９】
真空成膜法にとしては「透明導電膜の新展開」シーエムシー、澤田　豊監修＝月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。
成膜する金属酸化物としてはＩｎ２Ｏ３系（Ｓｎなどドープ品、ＩＴＯ含む）、ＳｎＯ２系（Ｆ、Ｓｂなどドープ品含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品含む）またはこれらの複合品Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ系などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。
また、銀などと共に成膜しても良い。
【００６０】
スパッタなどでポリマーフィルム上に成膜する際にはその表面をフッ素系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂などの高分子や、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＳｎＯ２などの無機物でコートすることが好ましい。また、高分子中に無機微粒子を分散してコートすることも好ましい。コートする膜厚としては２ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは２ｎｍ以上５０μｍ以下であり、特に好ましくは２ｎｍ以上１０μｍ以下である。
スパッタ法により酸化インジウムを主として含む膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体であるターゲットを用いた反応性スパッタリングを行うことができる。反応の制御上、後者が好ましい。特に好ましくは酸化スズを含有する酸化インジウムであり、酸化スズを１重量％から２０重量％含むのが望ましく、３重量％から１２重量％含むのが特に望ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスとしては、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。また、酸素の流量を制御する方法としてはプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましいが、最適の酸素量を導入する方法でも構わない。放電形式には特に規定しないが、ＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタ、１対のターゲット間にＡＣまたはパルス電圧を印加する方法などが好ましい。成膜時の基板の温度は特に規定はないが、基板の硝子転移点以下で可能な範囲で加熱した方が膜強度は向上する傾向がある。
【００６１】
透明導電層を付与したポリマーフィルムの光の透過率は、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがさらに好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。
【００６２】
透明導電層の厚みは、ＩＴＯを用いた場合を例にとると、５〜２００がよく、好ましくは５〜１５０ｎｍ、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。透明導電層は、全面を電極として用いる場合と、全面電極形成後にレジスト形成およびエッチングを行なってパターン加工して用いる場合がある。
【００６３】
タッチパネルを作製するときは、典型的な例として、上記シートと相手方の透明導電性シート（ガラスを含む）とを、それら２枚のシートの透明導電層側を対向させると共に、両シート間に例えば０．０２〜１．０ｍｍ程度の厚みのドット・スペーサーを介在させればよい。相手方の透明導電性シートとしては、ポリマーフィルムをであってもよく、他の適当な透明導電性シートであってもよく、導電層付きのガラスであってもよい。すなわち本発明においては、対向する２枚の透明導電性シートのうち少なくとも一方の透明導電性シートとして、上記の透明導電性シートを用いる。このようにして得たタッチパネルは、液晶表示素子の入射光側の偏光板の下に設置され、インナータイプとして使用できる。
【００６４】
本発明の用いられる液晶モードは特に限定されないが、液晶セル内に円偏光状態の光を入射した場合に、液晶のＯＮ／ＯＦＦにより、液晶セルより出射する光が直線偏光と円偏光の２つの状態に変化させられる必要がある。なお、出射する光が直線偏光または円偏光の場合がＯＮ／ＯＦＦ時のいずれの場合に対応していても構わない。本モードの液晶としては、特にＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ　）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ　Ａｌｉｇｎｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　ｂｅｎｄ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ　ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ　Ａｌｉｇｎｅｄ）型であることが好ましく、ＥＣＢ型が特に望ましい。
【００６５】
【実施例】
以下に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
（ポリマーフィルムの作製）
室温において、平均酢化度５９．５％のセルロースエステル１００質量部、トリフェニルホスフェート７．８質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート３．９質量部、下記のレターデーション制御（上昇）剤１．３２質量部、メチレンクロリド５８７．６９質量部、メタノール５０．８５質量部を混合して、溶液（ドープ）を調製した。
【００６６】
【化７】
2004045987.tif 000008
【００６７】
得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０重量％であった。セルロースエステルフィルムをバンドから剥離し、１２０℃で１０分間乾燥した後、１３０℃で流延方向とは平行な方向に実倍で１．３４倍に延伸した。延伸方向と垂直な方向は、自由に収縮できるようにした。延伸後、１２０℃で３０分間乾燥した後、延伸フィルムを取り出した。延伸後の溶剤残留量は０．１重量％であった。
得られたポリマーフィルムフイルム（ＰＦ−１）の厚さは、１１３μｍであり、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２５．２ｎｍ、１３７．８ｎｍおよび１４１．１ｎｍであった。従って、このセルロースエステルフイルムは、広い波長領域でλ／４を達成していた。
さらに、アッベ屈折率計による屈折率測定と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長５５０ｎｍにおける面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚを求め、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を計算したところ、１．４８であった。
【００６８】
（透明導電膜付きλ／４板の形成）
上記フィルムの片面にＳｉＯ２微粒子を３０ｗｔ％含有するアクリル系のハードコート膜を３μｍ設けた後、巻取り型のスパッタリング装置にセットして、真空槽を１．２ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒ＋Ｏ２混合ガス（Ｏ２＝１．５％）を導入し、圧力を０．３Ｐａに調整した後、基板温度を２５℃、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ２にて、ＤＣスパッタリングを行ない、厚み２１ｎｍのＩｎ２Ｏ３系の透明導電膜を形成した。
このようにして得られたフィルムの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、４０６Ω／□であり、光の透過率は８８％であった。
得られた透明導電膜付きフィルムについてエリプソメータ（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２５．２ｎｍ、１３７．８ｎｍ、１４１．１ｎｍであった。したがって、このセルロースエステルフィルムは広い波長領域でλ／４を達成していた。
さらに、アッベ屈折率計による屈折率測定と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長５５０ｎｍにおける面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚを求め、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を計算したところ、１．４８であった。
【００６９】
（タッチパネル上部基板の作製）
上記透明導電膜付きλ／４板と偏光板を貼り付けた。偏光板としてはλ／４板と反対側の保護膜の表面にＨＣ膜と反射防止膜（平均反射率１．０％）がこの順に設けられたものを用いた。λ／４板の延伸方向（遅相軸方向と平行）と偏光板の透過軸方向とのなす角は４５°とした。このようにして円偏光機能を有する透明導電性膜付きのタッチパネル上部基板を作製した。
【００７０】
（タッチパネルの作製）
片面の表面抵抗率が４２５Ω／□の透明導電膜（ＩＴＯ）が付いた０．７ｍｍ厚みのガラス板を用意し、表面に１ｍｍピッチで７０μｍ径のドットスペーサを印刷した後、周辺部に絶縁コートおよび銀電極を印刷し、基板の長辺側の両端部に直線状に透明導電性膜と接するような銀電極を形成した。また、上記タッチパネル上部基板の周辺部に絶縁コートおよび銀電極を印刷し、基板の短辺側の両端部に直線状に透明導電性膜と接するような銀電極を形成した。銀電極を形成したガラス板と上部基板をそれぞれ透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、銀電極からの電気信号を読み出すための４端子のフレキシブル電極を取り付けた。接着は両基板の周囲に絶縁性貼り合せ剤を形成し、両基板間に１００μｍの空間を設けるように行った。
【００７１】
（タッチパネル付き透過型液晶表示装置の作製）
ＥＣＢモードの液晶セルを用意し、背面面側にタッチパネル部に用いたものと同じ位相差板と偏光板を液晶セルから近い側に位相差板が位置するように貼合せ、その後面にバックライトを配置し、前面側に上記で作製したタッチパネルを取り付けた。
作製したタッチパネル付き液晶表示装置について、測定機（（株）トプコン製分光放射計ＳＲ−２）を用いて、白表示時と黒表示時の輝度を測定し、その比よりコントラスト比を求めたところ、正面で８．５：１であった。測定環境は蛍光灯照明の一般室でタッチパネル表面の照度は３００Ｌｘであった。また、照明の光源がタッチパネル付きディスプレイに反射して、直接測定機に直接入射しないように設置した。このタッチパネル付き液晶ディスプレイは晴天時の外光下でも画像をはっきりと認識でき、視認性に優れていた。また、偏光板は２枚で、タッチパネルを搭載しない場合と同じ枚数のため、タッチパネル搭載による透過光量の減少は特に感じられなかった。作製した液晶表示装置は白表示においても黒表示においても色味がなくニュートラルグレーが表示されていることが確認できた。また、外光の映り込みがないため視認性に優れていた。タッチパネルとしての入力性能は良好であった。
【００７２】
［実施例２］
（ポリマーフィルムの作製）
室温において、セルローストリアセテート（置換度２．８２、粘度平均重合度３２０、含水率０．４質量％、メチレンクロライド溶液中６質量％の粘度　３０５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍであって標準偏差０．５ｍｍである粉体）２０質量部、酢酸メチル５８質量部、アセトン５質量部、メタノール５質量部、エタノール５質量部、ブタノール５質量部、可塑剤ジトリメチロールプロパンテトラアセテート１．２　質量部、可塑剤トリフェニルフォスフェート１．２　質量部、ＵＶ剤１（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン）０．２質量部、ＵＶ剤２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール０．２質量部、ＵＶ剤３（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール）０．２質量部、Ｃ１２Ｈ２５ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）２（剥離剤）０．０２質量部、クエン酸（剥離剤）０．０２質量部、微粒子（シリカ（粒径２０ｎｍ）、モース硬度　約７）０．０５質量部を混合して溶液を調整した。
【００７３】
なお、ここで使用したセルローストリアセテートは、残存酢酸量が０．０１質量％以下であり、Ｃａが０．０５質量％、Ｍｇは０．００７質量％であり、さらにＦｅは５ｐｐｍであった。また６位アセチル基は０．９５であり全アセチル中の３２．２％であった。また、アセトン抽出分は１１質量％、重量平均分子量と数平均分子量の比は０．５であり、分布の均一なものであった。また、イエローネスインデックスは０．３であり、ヘイズは０．０８、透明度は９３．５％であり、Ｔｇは１６０℃、結晶化発熱量は６．２Ｊ／ｇであった。
得られたポリマーフィルムフイルム（ＰＦ−１）の厚さは、１２１．７μｍであり、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２６．２ｎｍ、１３８．８ｎｍおよび１４２．１ｎｍであった。従って、このセルロースエステルフイルムは、広い波長領域でλ／４を達成していた。
さらに、アッベ屈折率計による屈折率測定と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長５５０ｎｍにおける面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚを求め、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を計算したところ、１．５０であった。
【００７４】
（透明導電膜付きλ／４板の形成）
実施例１と同様にポリマーフィルム上にスパッタリング法で厚み２０ｎｍのＩｎ２Ｏ３系の透明導電膜を形成した。
このようにして得られたフィルムの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、４２６Ω／□であり、光の透過率は８７％であった。
得られた透明導電膜付きフィルムについてエリプソメータ（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２６．２ｎｍ、１３８．８ｎｍ、１４２．１ｎｍであった。したがって、このセルロースエステルフィルムは広い波長領域でλ／４を達成していた。
さらに、アッベ屈折率計による屈折率測定と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長５５０ｎｍにおける面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚを求め、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を計算したところ、１．５０であった。
【００７５】
タッチパネルの作製およびタッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製は実施例と同じ方法で行った。
作製した液晶表示装置について、測定機（（株）トプコン製分光放射計ＳＲ−２）を用いて、白表示時と黒表示時の輝度を測定し、その比よりコントラスト比を求めたところ、正面で８．４：１であった。測定環境は蛍光灯照明の一般室でタッチパネル表面の照度は３００Ｌｘであった。また、照明の光源がタッチパネル付きディスプレイに反射して、直接測定機に直接入射しないように設置した。このタッチパネル付き液晶ディスプレイは晴天時の外光下でも画像をはっきりと認識でき、視認性に優れていた。また、偏光板は２枚で、タッチパネルを搭載しない場合と同じ枚数のため、タッチパネル搭載による透過光量の減少は特に感じられなかった。作製した液晶表示装置は白表示においても黒表示においても色味がなくニュートラルグレーが表示されていることが確認できた。また、外光の映り込みがないため視認性に優れていた。タッチパネルとしての入力性能は良好であった。
【００７６】
以上の実施例から明らかなように、本発明のタッチパネルを用いることで、液晶表示装置トータルの部材数および厚みの減少、コスト低減を達成しながら、透過型液晶表示装置のコントラストや色味などの表示品位を改善し、視認性が改善できることがわかった。
【００７７】
［比較例１］
ＴＮモードの液晶セルの両側に直線偏光板を配置し、片側にバックライトユニットを配置して、表示可能な一般の構成の透過型液晶パネルを用意した。その上に、実施例１で作製したインナータイプタッチパネルを載せて、タッチパネル一体型液晶表示装置を作製したが、明瞭な画像の表示はできなかった。
【００７８】
［比較例２］
比較例１のタッチパネルの硝子基板のＩＴＯ膜とは反対側に、実施例１で用いた位相差板を粘着剤で貼合せた以外は比較例１と同じタッチパネル一体型液晶表示装置を作製した結果、コントラストは６．８：１であった。また、フィルム数、粘着剤貼合せ工程数ともに、実施例と比較して多く、約２００μｍの厚いパネルとなった。
【図面の簡単な説明】
【図１】タッチパネル一体型透過型液晶表示装置の基本的な構成を示す模式図である。
【符号の説明】
１　　バックライト
２　　保護膜
３　　第１の偏光膜
４　　λ／４板（第１の位相差板）
５　　下基板
６　　スイッチング素子
７　　下配向膜
８　　液晶層
９　　上配向膜
１０　透明電極
１１　カラーフィルター
１２　上基板
１３　タッチパネル固定基板
１４　透明電極
１５　透明電極
１６　λ／４板（第２の位相差板）
１７　第２の偏光膜
１８　保護膜
１９　反射防止膜
【図１】
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