(57)【要約】【課題】生産工程が効率的であり、反射型の明るさと透過型表示の彩度を共に確保することを可能とした半透過反射型カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。【解決手段】半透過反射型カラーフィルタ基板は、１つの画素領域に対して、透過型カラーフィルタ部分と反射型カラーフィルタ部分を有する。透過モードにおいて、バックライトからの光は着色層を１回通過し、反射モード時、表示装置に入射した外光は、下層に配置された反射板によって、着色層を２回通過することになる。したがって、透過領域と反射領域のカラーフィルタ膜厚を検討することにより、電気光学表示装置の彩度および明るさを改善することができる。本発明は、ハーフトーンマスクを用いることにより、従来と同じマスク数にも関らず、透過領域と反射領域のカラーフィルタ膜厚差を大きくとることを可能にしている。したがって、本発明は、プロセスを増やすことなく、表示品位の高い半透過反射型電気光学装置を得ることができる。【選択図】　　　図１
2004045757.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、透過表示領域及び反射表示領域を規定する工程と、
前記透過表示領域及び前記反射表示領域に着色層を形成する工程と、
全透過領域、中間透過率領域及び遮光領域を有するマスクを使用して、前記透過表示領域及び前記反射表示領域における膜厚が異なるように、前記着色層をパターニングする工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記透過表示領域に対応する前記着色層を前記マスクの全透過領域を通して露光する工程と、
前記反射表示領域に対応する前記着色層を前記マスクの中間透過率領域を通して露光する工程と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記中間透過率領域の透過率は１０％〜５０％の範囲であることを特徴とする請求項１又は２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記透過表示領域における前記着色層の膜厚が、前記反射表示領域における前記着色層の膜厚よりも厚くなるようにパターニングを行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記透過表示領域における前記着色層の膜厚は、前記反射表示領域における前記着色層の膜厚の２〜５倍となるように前記パターニングを行うことを特徴とする請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記基板上に、開口を有する反射膜を形成する工程を有し、前記開口が形成された領域を前記透過表示領域と規定し、前記開口が形成された領域以外の領域を前記反射表示領域と規定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記マスクにおいて、前記中間透過率領域は前記遮光領域内に矩形の領域として設けられており、前記全透過領域は前記中間透過率領域内に矩形の領域として設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記マスクにおいて、前記中間透過率領域は前記遮光領域内に矩形の領域として設けられており、前記全透過領域は前記中間透過率領域内に矩形の領域として設けられており、前記全透過領域は前記開口と同一の矩形形状を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記マスクにおいて、前記中間透過率領域は前記遮光領域内に矩形の領域として設けられており、前記全透過領域は前記中間透過率領域内に矩形の領域として設けられており、前記全透過領域は前記開口より小さい矩形形状を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載のカラーフィルタ基板を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｒ・Ｇ・Ｂ等といった複数の色絵素を基板上に形成してなる半透過反射型カラーフィルタの製造方法に関する。また、本発明は、そのカラーフィルタを用いて構成される電気光学装置及び電子機器に関する。
【０００２】
【背景技術】
反射型の液晶表示装置は、バックライト等の光源を持たないために消費電力が小さく、また、薄型化を可能にするため、携帯性に優れているという利点を有する。そのため、以前から、種々の携帯型電子機器などの表示部などに多用されている。ところが、反射型の液晶表示装置は、自然光や照明光などの外光を利用して表示するため、暗い場所では表示の視認性が低下するという欠点があった。
【０００３】
そこで、明るい場所では、通常の反射型の液晶表示装置と同様に外光を利用し、暗い場所では、表示装置に付属されたバックライトなどの光源を利用して視認性を向上させた液晶表示装置が提案されている。つまり、この液晶表示装置は、反射型と透過型を兼ね備えた表示方式を採用しており、周囲の明るさに応じて、反射表示モードまたは透過表示モードのいずれかの表示方式に切り替えることができる。反射型と透過型を兼ね備えた半透過反射型の液晶表示装置は、消費電力を低減しつつ、周囲が暗い場合でも、表示品位の高い表示を可能にしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
近年、携帯型電子機器などの普及に伴って、液晶表示装置のカラー化の要求が高まっている。これは、上記の半透過反射型液晶表示装置が備えられた電子機器においても同様である。この要求に対応したカラーの半透過反射型液晶表示装置としては、カラーフィルタ基板を備えた半透過反射型液晶表示装置が用いられている。
【０００５】
このような半透過反射型カラー液晶表示装置の場合、反射表示モードでは、液晶表示装置に入射した外光はカラーフィルタを通過し、カラーフィルタの下方に設置されている反射板によって反射され、再びカラーフィルタを通過して観察者へ至るようになっている。要するに、２回カラーフィルタを通過することになる。また、透過表示モードでは、バックライト光源などからの光が、カラーフィルタを１度通過して観察者へ至ることになる。このため、透過表示モードと反射表示モードの両方で共通のカラーフィルタ基板を使用する場合、各モードにおける表示画像の彩度や明るさが不足するという問題がある。
【０００６】
即ち、反射表示モードで最適な彩度が得られるように色素濃度が低めのカラーフィルタを使用すると、透過表示モードにおいては表示画像の彩度が不十分となってしまう。一方、透過表示モードで最適な彩度が得られるように色素濃度が高めのカラーフィルタを使用すると、反射表示モードでは表示画像の明るさが不足しがちになる。
【０００７】
このため、特開平１１−１０５１８４号公報や特開平１１−２０１９０５号公報では、透過表示領域のカラーフィルタの膜厚よりも反射表示領域のカラーフィルタの膜厚を薄くすることにより、半透過反射型液晶表示装置の表示特性を改善する方法を提案している。
【０００８】
しかし、上記の方式では、透過表示用カラーフィルタ領域と反射表示用カラーフィルタ領域の膜厚比率を大きくすることには、限界がある。そのため、反射表示モードでは、明るさが不足し、透過表示モードでは、最適な彩度を得ることが難しい。
【０００９】
また、従来のカラーフィルタでは、透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタの境界部分では、大きな段差が発生し、オーバーコート層を形成しても、充分にカバーすることが難しい。そのため、透明電極として使用されるＩＴＯ膜１１のパターン化が難しくなり、透明電極の配線切れが発生しやすい。また、基板表面の平坦性が重要視されるＳＴＮ（スーパーツイストネマッテイク）方式等では、カラーフィルタの段差部分による液晶の配向むらなどが生じてしまう可能性がある。
【００１０】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、反射表示モードの明るさと透過表示モードの好適な彩度を得ることができるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の１つの観点では、カラーフィルタの製造方法において、基板上に、透過表示領域及び反射表示領域を規定する工程と、前記透過表示領域及び前記反射表示領域に着色層を形成する工程と、全透過領域、中間透過率領域及び遮光領域を有するマスクを使用して、前記透過表示領域と前記反射表示領域における膜厚が異なるように、前記着色層をパターニングする工程と、を有する。
【００１２】
上記のカラーフィルタの製造方法によれば、ガラスなどの基板上に、透過表示領域と反射表示領域とを規定する。次に、それらの領域上にカラーフィルタ材料などにより着色層を形成する。そして、全透過領域、中間透過率領域及び遮光領域を有するマスクを使用して、透過表示領域と反射表示領域の膜厚が異なるように、着色層をパターニングする。これにより、一回の工程により、異なる膜厚を有するように透過表示領域と反射表示領域に着色層を形成することができる。
【００１３】
上記のカラーフィルタの製造方法の一態様では、前記透過表示領域は前記マスクの全透過領域を通じた露光によりパターニングされ、前記反射表示領域は前記マスクの中間透過率領域を通じた露光によりパターニングされる。これによれば、マスクの全透過領域と中間透過率領域との光透過率の相違に応じて着色層の露光量を異ならせ、透過表示領域と反射表示領域の着色膜厚を調整することができる。好適な例では、前記中間透過率領域の透過率は１０％〜５０％の範囲とすることができる。
【００１４】
上記のカラーフィルタの製造方法の他の一態様では、前記透過表示領域における前記着色層の膜厚は、反射表示領域における前記着色層の膜厚よりも厚くなるようにパターニングを行う。より詳細には、前記透過表示領域における前記着色層の膜厚は、前記反射表示領域における前記着色層の膜厚の２〜５倍となるように前記パターニングを行うことが好ましい。
【００１５】
上記のカラーフィルタの製造方法のさらに他の一態様は、前記基板上に、開口を有する反射膜を形成する工程を有し、前記開口が形成された領域を前記透過表示領域と規定し、前記開口が形成された領域以外の領域を前記反射表示領域と規定する。即ち、反射膜に形成された開口の領域を透過表示領域とし、それ以外の領域を反射表示領域とすることができる。
【００１６】
上記のカラーフィルタの製造方法のさらに他の一態様では、前記マスクにおいて、前記中間透過率領域は前記遮光領域内に矩形の領域として設け、前記全透過領域は前記中間透過率領域内に矩形の領域として設けることができる。この場合、前記全透過領域は前記開口と同一の矩形形状を有することができる、また、前記全透過領域は前記開口より小さい矩形形状を有することができ、これにより、透過表示領域と反射表示領域との境界において着色層の平坦性を向上させることができる。
【００１７】
上記のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を利用して電気光学装置を構成することができ、その電気光学装置を備える電子機器を構成することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態について説明する。本実施の形態においては、電気光学装置の一例である液晶表示パネルのための構成要素としてカラーフィルタ基板を用いる場合について説明する。尚、これから説明する実施形態は本発明を理解するために例示されるものであり、本発明はその実施形態に限定されるものではない。
【００１９】
［カラーフィルタ基板］
以下、本発明を適用することによって製造されるカラーフィルタ基板の一例について説明する。本実施例では、カラーフィルタ層はフォトリソグラフィー工程により形成される。その際、マスクとして、例えばハーフトーンマスクを使用することにより、透過表示用カラーフィルタ領域と反射表示用カラーフィルタ領域の膜厚比を大きくすることに１つの特徴を有する。
【００２０】
（マスクの構造）
まず、カラーフィルタ層を形成する際に使用されるマスクについて説明する。図１は、本実施例においてカラーフィルタ層を製造する際に使用されるマスク１００を示している。このマスク１００はハーフトーンマスクを利用したものである。ハーフトーンマスクとは、位相シフト法を用いたフォトリソグラフィー用のマスクのことであり、以下にその方式について説明する。
【００２１】
光は、物質を通過する際に伝播速度が遅れ、その分だけ位相が変わる。そこで、透明な薄膜をマスク上に設けると、局所的に位相を変えることが可能になる。この透明膜は、位相を変換するという意味で位相シフタと呼ぶ。この方法は転写すべきパターンが形成されているマスクに光の位相を変化させる部分（シフタ）を設け、シフタを通過して位相が変わった光とシフタを通過せずに位相の変わっていない光の干渉を利用する方式である。
【００２２】
ハーフトーンマスクは、上記位相シフタ方式を利用しており、遮光部に相当する吸収体によって、一部光を通過させることを可能にしている。前記一部通過した光と、そのまま通過した光とは、位相が反転している。このため、位相反転による光強度の低下が起こり、従来とは異なるフォトリソグラフィー工程を実施することができる。ハーフトーン膜の材料としては、クロム系、モリブデン系、タングステン系、シリコン系などが挙げられる。
【００２３】
上述のマスク１００を用い、半透過反射型カラーフィルタ基板用の透過表示用カラーフィルタ領域と反射表示用カラーフィルタ領域を一度に作製し、それぞれの領域において、好適なカラーフィルタ特性を兼ね備えたカラーフィルタ基板を作製できる。
【００２４】
本実施例では、カラーフィルタ材料としてネガ型カラーレジストを用いているが、この他にポジ型カラーレジストを用いることも可能である。
【００２５】
図１のマスク１００は、１００％の光透過率を有する全透過領域１と、光を全く透過しない遮光領域２と、光を所定の割合（１０％〜５０％の範囲）透過する領域３（以下、「中間透過率領域」と記す）とから形成されている。本実施例では、中間透過率領域の光透過率が４０％のマスクを使用する。上記マスク１００を使用してＲ・Ｇ・Ｂごとにフォトリソグラフィー工程を行い、所望のカラーフィルタ層を作製する。
【００２６】
（カラーフィルタ基板の構造）
上述のマスク１００を使用して作製されたカラーフィルタ基板２００の平面図を図２に示す。カラーフィルタ基板２００は、複数のドット部分１９を含み、各ドット部分１９はＲ、Ｇ、Ｂのいずれかに対応しており、図２の例では、同一色のドット部分１９が縦方向に配列したストライプ配列をとっている。各ドット部分１９にはＲ、Ｇ、Ｂいずれかの着色層７、８、９が形成され、その上に図示しないオーバーコート層が形成され、さらにその上に透明電極１１が形成されている。図中、横方向に繰り返し配列されたＲ、Ｇ、Ｂの３つのドット部分１９により、１つのカラー画素が構成される。本発明の適用により製造されるカラーフィルタ基板では、各着色層を、上記のようなストライプ配列だけでなく、デルタ配列、ダイヤゴナル配列などの各種の配列に構成することが可能である。
【００２７】
図３は、図２における１つのカラー画素、即ち３つのドット部分１９のＢ−Ｂ’断面図を示したものである。図２および図３に示すように、カラーフィルタ基板２００は、ガラスやプラスチック等の基板４上に、Ａｌ（アルミニウム）膜などの反射膜６が形成されている。反射膜６は、１つのドット部分１９の中央付近に開口１３を有する。この開口１３の領域が透過表示用カラーフィルタ領域に相当する。
【００２８】
また、反射膜６の上には、アクリルなどの透明な樹脂による透明レジスト５が形成されている。透明レジスト５は、このカラーフィルタ基板２００を、例えば液晶表示パネルを構成する基板に用いた場合において、透過表示領域と反射表示領域におけるカラーフィルタの彩度と明るさを調整するために設けられている。即ち、透明レジスト５は、透過表示領域においてバックライト光源などからの光が液晶層内を通過する場合、及び反射表示領域において外光が液晶層内を往復する場合においてリタデーションの最適化を図り、透過表示領域と反射表示領域における色再現性を好適化する機能を有している。
【００２９】
反射膜６が形成された反射表示領域のうち、カラーフィルタ層、即ち、着色層７、８、９が形成された領域では、外光Ｒ１は、着色層７、８、９を通過して反射膜６に至り、反射膜６で反射されて再度着色層７、８、９を通過して反射光Ｒ２としてカラーフィルタ基板２００の外部へ至る。また、透過表示領域においては、図示していないバックライト光源などからの照明光（透過光）Ｔ１は、開口１３を通過し、着色層７、８、９を１回通過して、着色層７、８、９のそれぞれの色に応じた着色光として観測者により認識される。
【００３０】
本実施例による反射表示用カラーフィルタの膜厚Ｌ２は、透過表示用カラーフィルタの膜厚Ｌ１と比較して、薄い膜厚を得ることができる。そのため、反射表示モードでも、観測者は、十分な明るさを持つ表示画像を視認することができる。透過表示用カラーフィルタの膜厚Ｌ１は、反射表示用カラーフィルタの膜厚Ｌ２の２〜５倍となることが好ましい。
【００３１】
（カラーフィルタ基板の製造方法）
次に、本実施例のカラーフィルタ基板を形成する工程の一例を図４に示す。また、図３に示す１つのカラー画素、すなわち３つのドット領域１９に対応する部分を形成する場合の形成過程を図５及び図６に示す。
【００３２】
まず、ガラスやプラスチックなどの基板４上に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金、クロムなどの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜した後、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングする。これにより、図５（ａ）に示すように、開口１３を備えた反射膜６を形成する（工程Ｐ１）。なお、開口１３は透過表示領域に対応して形成されるものであり、その幅をＸで示す。
【００３３】
次に、図５（ｂ）に示すように、上記反射膜６の開口１３を除く部分に、透明レジスト５を形成する（工程Ｐ２）。この透明レジスト５は、例えば基板４及び反射膜６の表面上にフォトリソグラフィー法などによって開口１３の直上領域の部分を選択的に除去することにより形成できる。なお、透明レジスト５の材料としては、例えば透明なアクリル樹脂やエポキシ樹脂などを用いることができる。
【００３４】
なお、反射膜６と透明レジスト５の積層状態は、透明レジスト５が下、反射膜６がその上とすることも可能である。
【００３５】
次に、図１に示すマスク１００を利用し、カラーフィルタの赤色着色層７、緑色着色層８、及び青色着色層９を順に作製する（工程Ｐ３）。
【００３６】
具体的には、まず、図５（ｃ）に示すように、赤の着色材料１５を基板４に塗布し、マスク１００を使用して、フォトリソグラフィー法によりパターニングを実施する。このマスク１００における全透過領域１の幅をＸ−２Ｙとする。ただし、Ｙは、プロセス用のマスク重ね合わせマージンとする。
【００３７】
この全透過領域１は、照射された光の１００％が透過される領域であり、この全透過領域１においては露光量が大きいため形成される着色層７の膜厚は厚くなる。これが透過表示用カラーフィルタ領域となる。一方、中間透過率領域３は、４０％の透過率を有するため、着色材料１５の露光量はその分減少し、その結果、中間透過率領域３に対応した着色層７の膜厚は薄くなる。この膜厚の薄い領域が反射表示用カラーフィルタ領域となる。このようにして、図６（ａ）に示すように、着色層７が形成される。
【００３８】
同様にして、緑色着色層８及び青色着色層９を作製し、さらに隣接するドット領域間に遮光層（ブラックマスク）ＢＭが形成される。以上の工程を経て、図６（ｂ）に示すように、３色の着色層７〜９、即ちカラーフィルタ層が形成される。なお、遮光層ＢＭは、樹脂ブラックではなく、３色の着色層７〜９が重ね合わされた、いわゆる重ね遮光層として形成してもよい。
【００３９】
このように、中間透過率領域（ハーフトーンマスク領域）を含むマスク１００を使用し、光の強度を落として露光量を調整してフォトリソグラフフィー工程を実施することができるため、反射表示用カラーフィルタ領域の薄膜化が可能となる。
【００４０】
本実施例では、フォトリソグラフィー工程において、マスク１００全体に２５０ｍＪの露光量を照射した場合、透過表示用カラーフィルタ領域で露光量が２５０ｍＪとなり、反射表示用カラーフィルタ領域では透過表示用カラーフィルタ部分と比較して４０％の照射光、すなわち１００ｍＪで露光が可能なマスク設計をとっている。ただし、この条件は、４０％に限定されるものではなく、１０％〜５０％の範囲内の他の条件でも、望ましい好適な膜厚を得ることができる。もし、この条件を１０％未満、又は５０％よりも大きくした場合、すなわち、中間透過率領域の光透過率が１０％〜５０％の範囲外である場合には、反射表示用カラーフィルタ領域において、好適な膜厚を得ることはできない。中間透過率領域の光透過率が１０％未満の場合、反射表示用カラーフィルタ領域に対応する膜厚が過度に薄く形成される。つまり、明るさは充分得られる反面、所望の彩度を得ることができない。一方、光透過率が５０％を越える場合には、反射表示用カラーフィルタ領域に対応する膜厚が過度に厚く形成される。つまり、中間透過率領域の光透過率が１０％未満の場合とは逆に、彩度は充分得られる反面、所望の明るさを得ることができない。このように、光透過率が１０％〜５０％の範囲外の条件では、反射表示用カラーフィルタ領域において好適な膜厚を得ることができない。
【００４１】
従来の作製方法で作製されたカラーフィルタ基板の膜厚の比率（透過表示用カラーフィルタ領域／反射表示用カラーフィルタ領域）は、一般的に１．４程度であったが、本発明の適用による製造方法で作製されたカラーフィルタ基板においては、膜厚の比率Ｌ１／Ｌ２は、２〜５と高い値を得ることができる。
【００４２】
また、Ｒ・Ｇ・Ｂ各色毎に、中間透過率領域３の光透過率を調整した別個のマスク１００を使用してパターニングを行うことにより、色毎に個別に好適な膜厚比率を作製することも可能である。
【００４３】
こうして、各色の着色層７〜９が形成された後、図６（ｃ）に示すようにオーバーコート層１０を形成する。本発明によるカラーフィルタ基板では、反射表示用カラーフィルタ領域の膜厚を薄くすることができるため、透過表示用カラーフィルタ領域と反射表示用カラーフィルタ領域との段差を小さくすることができる。よって、その上に形成するオーバーコート層１０の上面を平坦化することができ、結果的にカラーフィルタ基板の平坦化が実現できる。
【００４４】
なお、後述するように、オーバーコート層上には透明電極が成膜されるが、この際にも、オーバーコート層上面の平坦性が高いため、透明電極を安定的に形成することができる。
【００４５】
したがって、従来の方法で作製された反射表示用カラーフィルタ領域と比較すると、本発明では、反射表示用カラーフィルタ領域の薄膜化を実現できる。また、透過表示モードの好適な彩度を得るため、濃度の濃いカラーフィルタ材料を使用することができる。したがって、本実施例では、明るく鮮やかな色特性を持つカラーフィルタ基板を作製できる。
【００４６】
また、本実施例では、ハーフトーンマスクを利用したフォトリソグラフィー方式を用いているため、透過表示用カラーフィルタ領域と反射表示用カラーフィルタ領域の境界の段差は、従来と比較して、小さくすることができる。そのため、オーバーコート層１０の形成により、基板表面を十分にカバーすることが可能である。よって、透明電極の配線切れなどの発生確率も低下し、液晶の配向むらも発生しにくくなる。その結果、本発明により、反射型表示と透過型表示の双方を高品位にした半透過反射型液晶表示装置が提供できる。
【００４７】
（マスク変形例）
次に、マスク１００の変形例について、説明する。図７（ａ）は、図１に示すマスク１００のＡ−Ａ’断面と、図２に示すカラーフィルタ基板のＣ−Ｃ’断面を示す。
【００４８】
図１に示すマスク１００は、全透過領域１と中間透過率領域３と遮光領域２とを有している。この全透過領域１の幅は、反射膜６の開口１３の幅Ｘよりやや狭く、Ｘ−２Ｙの値とすることができる。ここで、Ｙはプロセス用のマスク重ね合わせマージンとする。上述したように、このサイズのマスク１００を使用することにより、良好なカラーフィルタ基板を得ることができるが、選択したカラーフィルタ作製の露光条件によっては、透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタの境界部分で、凸状のパターン不良が発生する可能性がある。即ち、全透過領域１と中間透過率領域３の境界付近では、透過光量が急峻に変化するため、図７（ａ）に示すように、着色層７〜９に例えば図示のような隆起などが生じる可能性がある。
【００４９】
この問題点を解決するためには、マスク１００の設計において、図７（ｂ）に示すマスク１００Ａのように、全透過領域１の幅ＺをＸ−２Ｙより小さくする方法がある。こうすることにより、透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタの境界で、露光量が急峻に変化することを防止することができ、透過表示用カラーフィルタ領域と反射表示用カラーフィルタ領域の境界部分で、着色層の表面を滑らかにすることができる。
【００５０】
［液晶表示パネル］
次に、上述のカラーフィルタ基板を利用した液晶表示パネルの構成について説明する。
【００５１】
図８において、液晶表示パネル３００は、ガラスやプラスチック基板などからなる基板３１と基板３２とが、シール材３３を介して貼り合わせられ、このパネル内部に液晶３４が封入されている。また、基板３２の外面上には、位相差板３５および偏光板３６が順に配置され、基板３１の外面上には、位相差板３７および偏光板３８が配置される。なお、偏光板の下方には、透過型表示を行う際に照明光を発するバックライト３９が配置される。
【００５２】
［液晶表示パネルの製造方法］
次に、こうして得られたカラーフィルタ基板を用いて、図８に示す液晶表示パネル３００を製造する方法について、図９を参照して説明する。図９は、表示パネル３００の製造工程を示すフローチャートである。
【００５３】
まず、上述した方法により、上記の実施形態によるカラーフィルタ層が形成された基板３１が製造される（工程Ｓ１）。さらにオーバーコート層の上に透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、フォトリソグラフィー方式によってパターニングを実施し、透明電極１１を形成する（工程Ｓ２）。
【００５４】
その後、透明電極上に図示しないポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ３）。
【００５５】
一方、対向基板３２を製作し（工程Ｓ４）、同様の方法で透明電極を形成し（工程Ｓ５）、さらに透明電極上に図示しない配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ６）。
【００５６】
そして、シール材３３を介して、上記の基板３１と基板３２を貼り合わせて、パネル構造を構成する（工程Ｓ７）。基板３１と基板３２とは、基板間に分散配置された図示しないスペーサーなどによって、ほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせられる。
【００５７】
その後、シール材３３の図示しない開口部から液晶３４を注入し、シール材の開口部を紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する（工程Ｓ８）。こうして主要なパネル構造が完成した後に、位相差板や偏光板などを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け（工程Ｓ９）、図８に示す液晶表示パネル４００が完成する。
【００５８】
［電子機器］
次に、本発明による高品位カラーフィルタを用いた液晶表示パネルを電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図１０は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示パネル３００と同様の液晶表示パネル４００と、これを制御する制御手段４１０を有する。ここでは、液晶表示パネル４００を、パネル構造体４００Ａと、半導体ＩＣなどで構成される駆動回路４００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段４１０は、表示情報出力源４１１と、表示情報処理回路４１２と、電源回路４１３と、タイミングジェネレータ４１４と、を有する。
【００５９】
表示情報出力源４１１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ４１４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路４１２に供給するように構成されている。
【００６０】
表示情報処理回路４１２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫとともに駆動回路４００Ｂへ供給する。駆動回路４００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路４１３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００６１】
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図１１を参照して説明する。
【００６２】
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１１（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ５１０は、キーボード５１１を備えた本体部５１２と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部５１３とを備えている。
【００６３】
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１１（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機５２０は、複数の操作ボタン５２１のほか、受話口５２２、送話口５２３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部５２４を備える。
【００６４】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図１１（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図１１（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【００６５】
［変形例］
本発明は、マルチタイプギャップ構造を採用することにより、透過表示領域と反射表示領域における液晶層の膜厚を調整したマルチギャップ構造の半透過型液晶表示装置に適用することにより、さらなる液晶表示装置の明るさおよび色調の向上を図ることも可能である。
【００６６】
また、本発明の電気光学装置は、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけではなく、アクティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールド・エミッション・ディスプレイ（電界放出表示装置）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のカラーフィルタ基板の製造に使用されるマスクの例を示す。
【図２】本発明の実施形態によるカラーフィルタ基板の平面図例である。
【図３】本発明の実施形態によるカラーフィルタ基板の断面図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ基板の形成工程を示す図である。
【図５】本発明によるカラーフィルタ基板の製造プロセス例を示す図である。
【図６】本発明によるカラーフィルタ基板の製造プロセス例を示す他の図である。
【図７】本発明において使用されるマスクの構造を示す図である。
【図８】本発明を適用した液晶表示パネルの構造を示す断面図である。
【図９】本発明を適用した液晶表示パネルの製造工程を示す図である。
【図１０】本発明を適用した液晶表示パネルを利用する電子機器の構成を示す。
【図１１】本発明を適用した液晶表示パネルを備えた電子機器の例を示す。
【符号の説明】
１　　　　　　　　　全透過領域
２　　　　　　　　　遮光領域
３　　　　　　　　　中間透過率領域
４　　　　　　　　　基板
５　　　　　　　　　透明レジスト
６　　　　　　　　　反射膜
７　　　　　　　　　赤色着色層（カラーフィルタ層）
８　　　　　　　　　緑色着色層（カラーフィルタ層）
９　　　　　　　　　青色着色層（カラーフィルタ層）
１０　　　　　　　　オーバーコート層
１１　　　　　　　　透明電極
１２　　　　　　　　反射表示用カラーフィルタ領域
１３　　　　　　　　開口
１５　１６　１７　　カラーフィルタ材料（Ｒ・Ｇ・Ｂ）
１００　　　　　マスク
２００　　　　　カラーフィルタ基板
【図１】
2004045757.tif 000003
【図２】
2004045757.tif 000004
【図３】
2004045757.tif 000005
【図４】
2004045757.tif 000006
【図５】
2004045757.tif 000007
【図６】
2004045757.tif 000008
【図７】
2004045757.tif 000009
【図８】
2004045757.tif 000010
【図９】
2004045757.tif 000011
【図１０】
2004045757.tif 000012
【図１１】
2004045757.tif 000013