(57)【要約】【課題】吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、スループット（生産能率）の向上が図れる液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、金属配線形成方法および電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワークを支持するワーク搬送テーブルと、前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体２に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対し、当該液滴吐出装置１が置かれた雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付け、前記ワーク上に吐出された液滴を乾燥させる少なくとも１つのブロー装置１４とを有する。【選択図】図２
2004198856.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドとを備える液滴吐出装置であって、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対し、当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付け、前記ワーク上に吐出された液滴を乾燥させる少なくとも１つのブロー装置を有することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
当該液滴吐出装置は、内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ内に設置されて使用される請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気の温度をａとしたとき、前記ブロー装置から噴出するガスの温度は、ａ±１℃である請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気の湿度をｂとしたとき、前記ブロー装置から噴出するガスの湿度は、ｂ±３０％である請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記ブロー装置から噴出するガスの種類は、当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気と同一である請求項１ないし４のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記ブロー装置から噴出するガスは、空気または不活性ガスである請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記ブロー装置は、前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に沿ってスリット状に開口するノズルを有する請求項１ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記ブロー装置は、前記開口の幅を調節する開口幅調節手段を有する請求項７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
前記ブロー装置は、前記ワーク搬送テーブルからの離間距離を調節する離間距離調節手段を有する請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１０】
前記ブロー装置は、該ブロー装置から噴出するガスの前記ワーク搬送テーブルに対する噴出角度を調節する噴出角度調節手段を有する請求項１ないし９のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１１】
前記ブロー装置は、該ブロー装置から噴出するガスの温度および／または湿度を調節する温度・湿度調節手段を有する請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１２】
前記ブロー装置から噴出するガスの噴出方向は、前記液滴吐出ヘッドの反対側である請求項１ないし１１のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１３】
前記ブロー装置は、前記装置本体に設けられている請求項１ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１４】
前記ブロー装置は、前記液滴吐出ヘッドを介し、Ｙ軸方向に互いに離れた２箇所に設けられている請求項１ないし１３のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１５】
前記２個のブロー装置のうちの一方は、前記ワークの一部を乾燥し、他方は、少なくとも前記ワークの残部を乾燥するよう構成されている請求項１４に記載の液滴吐出装置。
【請求項１６】
前記ブロー装置からガスを噴出しつつ、前記ワーク搬送テーブルをＹ軸方向に移動させて前記ワーク上に吐出された液滴を乾燥させる請求項１ないし１５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１７】
前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成する請求項１ないし１６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１８】
前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構を有する請求項１ないし１７のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１９】
前記Ｙ軸方向と前記Ｘ軸方向とのいずれか一方を主走査方向とし、他方を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出する請求項１８に記載の液滴吐出装置。
【請求項２０】
前記Ｙ軸方向を主走査方向とし、前記Ｘ軸方向を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出する請求項１８に記載の液滴吐出装置。
【請求項２１】
当該液滴吐出装置は、ワーク上に金属配線を形成するものである請求項１ないし２０のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項２２】
請求項１ないし２１のいずれかに記載の液滴吐出装置と、前記液滴吐出装置を収容し、その内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバとを備えることを特徴とする液滴吐出システム。
【請求項２３】
前記チャンバ内の温度および／または湿度を調節する空調装置を備える請求項２２に記載の液滴吐出システム。
【請求項２４】
請求項１ないし２１のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２５】
請求項１ないし２１のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２６】
請求項１ないし２１のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いてワーク上に金属配線を形成することを特徴とする金属配線形成方法。
【請求項２７】
請求項２４に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、金属配線形成方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
インクジェットプリンターのインクジェット方式（液滴吐出方式）を応用して、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに使用する産業用の液滴吐出装置（インクジェット描画装置）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような液滴吐出装置は、基板等のワークが載置されるワーク搬送テーブルと液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ液滴を吐出することにより、ワーク上に所定のパターンを形成（描画）するものである。特許文献１に記載されている従来の液滴吐出装置では、ワーク上に液滴を吐出した後、２０℃以上の温風やランプなどにより加熱部分の温度が室温以上（３０〜２００℃）になるようにワークを加熱し、乾燥させる。そして、この後、ワーク上に別の液滴を吐出し、それを乾燥させ、さらに、別の液滴を吐出し、それを乾燥させることによって、カラーフィルタを製造する。
【０００４】
上述したような用途に使用する液滴吐出装置は、形成（描画）するパターンに極めて高い精度が必要とされる。このため、例えば、液滴吐出装置は、内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ内に設置されて使用されるのが好ましい。
【０００５】
しかしながら、前記従来の液滴吐出装置では、ワークに吐出された液滴を乾燥させる際、そのワークを加熱するので、これにより、チャンバ内の雰囲気（環境）が乱れ、特に環境温度が高くなってしまうとともに、ワークが熱膨張してしまい、常に高い精度で安定してパターンを形成（描画）するのが困難であった。
【０００６】
【特許文献１】
特開平８−３１３７２１号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、スループット（生産能率）の向上が図れる液滴吐出装置および液滴吐出システム、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、かかる液滴吐出装置を用いる金属配線形成方法および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、
ワークを支持するワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク搬送テーブルに支持されたワークに対し、当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付け、前記ワーク上に吐出された液滴を乾燥させる少なくとも１つのブロー装置とを有することを特徴とする。
【０００９】
これにより、液滴吐出装置が置かれた雰囲気（環境）を乱すことなく、かつ、ワークが熱膨張してしまうこともなく、ワーク上に吐出された液滴を乾燥（仮乾燥および／または本乾燥）させることができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
また、ワーク上に吐出された液滴を乾燥させる際、そのワークをプリベーク炉に移動させて乾燥させる方式に比べ、下記の利点を有する。
【００１０】
まず、液滴吐出装置がブロー装置を有しているので、ワーク上に吐出された液滴をその液滴吐出装置において乾燥させることができる。
すなわち、ワーク上への液滴の吐出と、ワーク上に吐出された液滴の乾燥とを、交互に繰り返し行う場合、プリベーク炉で乾燥させる方式では、給除材に時間がかかり、特に、再びワークを液滴吐出装置へ給材する際、アライメントを行う必要があるが、本発明では、液滴吐出装置において乾燥を行うことができるので、前記給除材やアライメントを行う必要がなく、これにより、スループット（生産能率）の向上が図れる。
【００１１】
また、液滴吐出装置が内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ内に設置されて使用される場合、特に、ワーク上への液滴の吐出と、ワーク上に吐出された液滴の乾燥とを、交互に繰り返し行う場合は、プリベーク炉で乾燥させる方式では、乾燥（給除材）の際、チャンバ内の雰囲気（環境）が破壊されるので、それを元の条件（適正な条件）に戻す時間（例えば、チャンバ内が窒素パージされている場合は、再度窒素パージするための時間）が必要であるが、本発明では、液滴吐出装置において乾燥を行うことができるので、液滴吐出装置が置かれた雰囲気（環境）を破壊してしまうことがなく、これにより、スループット（生産能率）の向上が図れる。
【００１２】
また、ワーク上への液滴の吐出と、ワーク上に吐出された液滴の乾燥とを、交互に繰り返し行う場合、プリベーク炉で乾燥させる方式では、ワークを加熱するので、再びワークが適正温度（環境温度）に戻るまで時間を要するが、本発明では、液滴吐出装置が置かれた雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付けて乾燥を行うので、乾燥直後でもワークが適正温度（環境温度）を保持しており、これにより、乾燥後、すぐに次の工程を実行することができ、スループット（生産能率）の向上が図れる。
また、プリベーク炉で乾燥させる方式では、液滴吐出装置の外側にプリベーク炉を設置するためのワーク寸法以上の設置スペースを必要とし、システム全体が大型化してしまうが、本発明では、液滴吐出装置がブロー装置を有しているので、システム全体を小型化することができる。
【００１３】
本発明の液滴吐出装置では、当該液滴吐出装置は、内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ内に設置されて使用されるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
本発明の液滴吐出装置では、当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気の温度をａとしたとき、前記ブロー装置から噴出するガスの温度は、ａ±１℃であるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１４】
本発明の液滴吐出装置では、当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気の湿度をｂとしたとき、前記ブロー装置から噴出するガスの湿度は、ｂ±３０％であるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１５】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置から噴出するガスの種類は、当該液滴吐出装置が置かれた雰囲気と同一であるのが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置から噴出するガスは、空気または不活性ガスであるのが好ましい。
これにより、高い品質の製品を得ることができる。
【００１６】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置は、前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に沿ってスリット状に開口するノズルを有するのが好ましい。
これにより、ワークに対し、ガスをＸ軸方向に均一に吹き付けることができ、ワーク全体を均一に乾燥させることができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置は、前記開口の幅を調節する開口幅調節手段を有するのが好ましい。
これにより、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて、ノズルの開口（スリット）の幅を適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
【００１８】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置は、前記ワーク搬送テーブルからの離間距離を調節する離間距離調節手段を有するのが好ましい。
これにより、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて、ワーク表面とブロー装置との間の距離を適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
【００１９】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置は、該ブロー装置から噴出するガスの前記ワーク搬送テーブルに対する噴出角度（吹き付け角度）を調節する噴出角度調節手段を有するのが好ましい。
これにより、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて、ガスの噴出角度を適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
【００２０】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置は、該ブロー装置から噴出するガスの温度および／または湿度を調節する温度・湿度調節手段を有するのが好ましい。
これにより、液滴吐出装置が置かれた雰囲気（環境）に応じて、ガスの温度や湿度を適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
【００２１】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置から噴出するガスの噴出方向は、前記液滴吐出ヘッドの反対側であるのが好ましい。
これにより、例えば、ワークに対して液滴を吐出しつつ乾燥を行う場合であっても、ワークに吹き付けられるガスによって液滴の吐出に影響を与えることがなく、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。
【００２２】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置は、前記装置本体に設けられているのが好ましい。
これにより、ワーク上に吐出された液滴を乾燥させる際、ワーク搬送テーブルがＹ軸方向に移動することによって、そのワーク搬送テーブルに支持されたワークが、ブロー装置に対してＹ軸方向に移動し、これにより、そのワーク全体を確実に乾燥させることができる。
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置は、前記液滴吐出ヘッドを介し、Ｙ軸方向に互いに離れた２箇所に設けられているのが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の小型化が図れ、特に、Ｙ軸方向の長さを短縮することができる。
【００２３】
本発明の液滴吐出装置では、前記２個のブロー装置のうちの一方は、前記ワークの一部を乾燥し、他方は、少なくとも前記ワークの残部を乾燥するよう構成されているのが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の小型化が図れ、特に、Ｙ軸方向の長さを短縮することができる。
【００２４】
本発明の液滴吐出装置では、前記ブロー装置からガスを噴出しつつ、前記ワーク搬送テーブルをＹ軸方向に移動させて前記ワーク上に吐出された液滴を乾燥させるのが好ましい。
これにより、種々の寸法のワークについて、そのワーク全体を確実に乾燥させることができる。
【００２５】
本発明の液滴吐出装置では、前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００２６】
本発明の液滴吐出装置では、前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構を有するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００２７】
本発明の液滴吐出装置では、前記Ｙ軸方向と前記Ｘ軸方向とのいずれか一方を主走査方向とし、他方を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００２８】
本発明の液滴吐出装置では、前記Ｙ軸方向を主走査方向とし、前記Ｘ軸方向を副走査方向として前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出するのが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
本発明の液滴吐出装置では、当該液滴吐出装置は、ワーク上に金属配線を形成するものであるのが好ましい。
これにより、高い精度で金属配線パターンが形成（描画）された高い品質の製品を得ることができる。
【００２９】
本発明の液滴吐出システムは、本発明の液滴吐出装置と、
前記液滴吐出装置を収容し、その内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバとを備えることを特徴とする。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
本発明の液滴吐出システムは、前記チャンバ内の温度および／または湿度を調節する空調装置をさらに備えることが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００３０】
本発明の電気光学装置は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電気光学装置を提供することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、ワークに対するパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
【００３１】
本発明の金属配線形成方法は、本発明の液滴吐出装置を用いてワーク上に金属配線を形成することを特徴とする。
これにより、ワークに対する金属配線パターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、製造コストの低減が図れる金属配線形成方法を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電子機器を提供することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１および図２は、それぞれ、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムの実施形態を示す平面図および側面図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図１および図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図１中の上下方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向であって図１および図２中の右方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図１および図２中の左方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図１中の下方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図１中の上方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００３３】
図１および図２に示す液滴吐出システム（液滴吐出系）１０は、液滴吐出ヘッド１１１を有する液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１と、この液滴吐出装置１を収容するチャンバ９１とを備えている。
液滴吐出装置１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置である。この液滴吐出装置１は、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができるものであり、その用途は、特に限定されないが、金属配線の形成に用いるのが好ましい。液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。
【００３４】
また、本発明で対象とするワークは、板状の部材に限らず、底面が平らな部材であればいかなるものでもよい。例えば、本発明は、レンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。また、本発明は、比較的大型のワーク（例えば、長さ、幅がそれぞれ数十ｃｍ〜数ｍ程度のもの）にも対応することができる比較的大型の液滴吐出装置１に特に好ましく適用することができる。
【００３５】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワーク搬送テーブル（ワーク搬送ステージ）としての基板搬送テーブル（基板搬送ステージ）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、給液タンク、排液タンクおよび再利用タンクを備えたタンクユニット１３と、基板Ｗにガスを吹き付けるブロー装置１４と、基板搬送テーブル３の移動距離を測定するレーザー測長器１５と、制御装置１６と、ドット抜け検出ユニット１９とを備えている。
【００３６】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（electroluminescence）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００３７】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２とを有している。石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板搬送テーブル３は、リニアモータ５１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板Ｗは、基板搬送テーブル３上に載置される。
【００３８】
液滴吐出装置１では、基板搬送テーブル３と同程度の大きさの比較的大型の基板Ｗから、基板搬送テーブル３より小さい比較的小型の基板Ｗまで、様々な大きさおよび形状の基板Ｗを対象にすることができる。基板Ｗは、原則としては基板搬送テーブル３と中心を一致させるように位置決めした状態で液滴吐出動作をすることが好ましいが、比較的小型の基板Ｗの場合には、基板搬送テーブル３の端に寄せた位置に位置決めして液滴吐出動作をしてもよい。
【００３９】
図１に示すように、基板搬送テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板Ｗに対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出（フラッシング）された吐出液滴を受ける描画前フラッシングユニット１０４が設置されている。描画前フラッシングユニット１０４には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００４０】
基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離は、移動距離検出手段としてのレーザー測長器１５により測定される。レーザー測長器１５は、装置本体２に設置されたレーザー測長器センサヘッド１５１、プリズム１５２およびレーザー測長器本体１５３と、基板搬送テーブル３に設置されたコーナーキューブ１５４とを有している。レーザー測長器センサヘッド１５１からＸ軸方向に沿って出射したレーザー光は、プリズム１５２で屈曲してＹ軸方向に進み、コーナーキューブ１５４に照射される。コーナーキューブ１５４での反射光は、プリズム１５２を経て、レーザー測長器センサヘッド１５１に戻る。液滴吐出装置１では、このようなレーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの吐出タイミングが生成される。
【００４１】
また、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ６１が、基板搬送テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、リニアモータとガイドとを備えたリニアモータアクチュエータ６２の駆動により、メインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に前進・後退する。
【００４２】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動しつつ、レーザー測長器１５を用いて生成した吐出タイミングに基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の駆動（吐出液滴の選択的吐出）を行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）のＸ軸方向への移動により行われる。
【００４３】
また、装置本体２には、基板搬送テーブル３に支持された基板Ｗに対し、液滴吐出装置１が置かれた雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付け、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥（仮乾燥（半乾燥）および／または本乾燥）させるブロー装置１４が設置されている。なお、このブロー装置１４については、後に詳述する。
【００４４】
メンテナンス装置１２は、架台２１および石定盤２２の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット１２３と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００４５】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、クリーニング（ワイピング）および定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００４６】
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００４７】
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通ってタンクユニット１３に設置された再利用タンク内に流入し貯留される。この貯留された液体は、回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００４８】
クリーニングユニット１２２は、洗浄液を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
定期フラッシングユニット１２３は、ヘッドユニット１１の待機時のフラッシングに使用されるものであり、液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した吐出液滴を受けるものである。定期フラッシングユニット１２３には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００４９】
重量測定ユニット１２５は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置１６は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００５０】
ドット抜け検出ユニット１９は、石定盤２２上における基板テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１のノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各ノズルから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１９は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしているノズルの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１９が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００５１】
タンクユニット１３には、前述したキャッピング時に回収された吐出液を貯留する再利用タンクと、描画前フラッシング、定期フラッシングおよびドット抜け検出で回収された吐出液を貯留する排液タンクのほか、液滴吐出ヘッド１１１へ供給される吐出液を貯留する給液タンクや、クリーニングユニット１２２へ供給される洗浄液を貯留する給液タンクなどがそれぞれ設置されている。各給液タンク内は、液滴吐出装置１の近傍（好ましくは後述するチャンバ９１の外）に設置された図示しない加圧気体供給源から供給された例えば窒素ガス等の加圧気体により加圧され、この圧力によって、吐出液および洗浄液が送出される。
【００５２】
制御装置（制御手段）１６は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御するものであり、ＣＰＵ（Central Processing Unit）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有している。図示の構成では、制御装置１６は、後述するチャンバ９１の外部に設置されている。
【００５３】
このような液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、好ましくは、チャンバ装置９により、温度および湿度などの雰囲気の条件が管理された環境下に置かれている。チャンバ装置９は、液滴吐出装置１を収納するチャンバ９１と、チャンバ９１の外部に設置された空調装置９２とを有している。空調装置９２は、例えば公知のエアーコンディショナー装置を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（温調空気）を生成する。この温調空気は、導入ダクト９３を通ってチャンバ９１の天井裏９１１に送り込まれる。この温調空気は、天井裏９１１からフィルタ９１２を透過して、チャンバ９１の主室９１３に導入される。
【００５４】
チャンバ９１内には、隔壁９１４、９１５により副室９１６が設けられており、タンクユニット１３は、この副室９１６内に設置されている。隔壁９１４には、主室９１３と副室９１６とを連通する連通部（開口）９１７が形成されている。
副室９１６には、チャンバ９１の外部に対する開閉扉（開閉部）９１８が設けられている（図１参照）。なお、副室９１６の開閉部は、開閉扉９１８のような開き戸に限らず、引き戸、シャッターなどでもよい。
また、副室９１６には、副室９１６内の気体を排出する排気口が形成され、この排気口には、外部へ伸びる排気ダクト９４が接続されている。主室９１３に導入された温調空気は、連通部９１７を通過して副室９１６に流入した後、排気ダクト９４を通過してチャンバ装置９の外部に排出される。
【００５５】
このようなチャンバ装置９によって液滴吐出装置１の周囲の温度および湿度が管理されることにより、温度変化による基板Ｗや装置各部の膨張・収縮が原因となって誤差が生じるのを防止することができ、基板Ｗ上に吐出液滴によって描画（形成）されるパターンの精度をより高くすることができる。また、タンクユニット１３も温度および湿度が管理された環境に置かれるので、吐出液の粘度等も安定し、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高精度に行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、基板Ｗを清浄に維持することができる。
なお、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度・湿度調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。この場合、後述するブロー装置１４からは、そのチャンバ９１の内部の雰囲気と同一の種類のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を噴出して基板Ｗの乾燥を行う。
【００５６】
また、このような液滴吐出システム１０では、開閉扉９１８を開くことにより、主室９１３を外部に開放することなく、タンクユニット１３にアクセスすることができる。これにより、タンクユニット１３へのアクセス時に液滴吐出装置１の周囲（環境）の管理された温度および湿度を乱すことがないので、タンクの交換、液体の補充または回収を行った直後でも、高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。また、タンクの交換、液体の補充または回収を行った後でも、主室９１３内の温度や液滴吐出装置１の各部の温度が管理された値に戻るのを待たずに済むので、スループット（生産能率）の向上が図れる。このようなことから、基板Ｗ等のワークを高い精度で量産するのに極めて有利であり、製造コスト低減が図れる。
【００５７】
図３は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図、図４は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図である。
図３および図４に示すように、石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３と、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構５とが設置されている。図３に示すように、基板搬送テーブル３には、載置された基板Ｗを吸着して固定するための複数の吸引口（吸引部）３３２が形成されている。
【００５８】
図４に示すように、Ｙ軸方向移動機構５は、リニアモータ５１と、エアスライダ５２とを有している。エアスライダ５２は、石定盤２２上でＹ軸方向に沿って延在するスライドガイド５２１と、このスライドガイド５２１に沿って移動するスライドブロック５２２とを有している。スライドブロック５２２は、スライドガイド５２１との間に空気を吹き出す吹き出し口を有しており、この吹き出し口から吹き出す空気をスライドガイド５２１との間に介在させることにより、円滑に移動可能になっている。
【００５９】
スライドブロック５２２上には、ベース１０８が固定され、このベース１０８の上に、基板搬送テーブル３がθ軸回転機構１０５を介して固定されている。このようにして、基板搬送テーブル３は、エアスライダ５２によってＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ５１の駆動によりＹ軸方向に移動するようになっている。また、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構１０５により、基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。
【００６０】
Ｙ軸方向移動機構５の上方には、例えばステンレス鋼等の金属材料で構成された一対の帯状の薄板１０１がＹ軸方向移動機構５を上側から覆うように張り渡されている。薄板１０１は、ベース１０８の上面に形成された凹部（溝）内を通ってベース１０８とθ軸回転機構１０５との間を挿通している。この薄板１０１が設けられていることにより、液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液がＹ軸方向移動機構５に付着するのを防止することができ、Ｙ軸方向移動機構５を保護することができる。
【００６１】
石定盤２２は、無垢の石材で構成され、その上面は、高い平面度を有している。この石定盤２２は、環境温度変化に対する安定性、振動に対する減衰性、経年変化（劣化）に対する安定性、吐出液に対する耐食性等の各種の特性に優れている。本発明では、このような石定盤２２によってＹ軸方向移動機構５および後述するＸ軸方向移動機構６を支持したことにより、環境温度変化、振動、経年変化（劣化）等の影響による誤差が少なく、基板搬送テーブル３とヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）との相対的な移動に高い精度が得られるとともに、その高い精度を常に安定して維持することができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００６２】
石定盤２２を構成する石材は、特に限定されないが、ベルファストブラック、ラステンバーグ、クルヌールおよびインディアンブラックのいずれかであるのが好ましい。これにより、石定盤２２の上記の各特性をより優れたものとすることができる。
このような石定盤２２は、架台２１に支持されている。架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。架台２１は、好ましくは空気バネまたはゴムブッシュ等による防振構造を有しており、床からの振動を石定盤２２に極力伝達しないように構成されている。
また、石定盤２２は、好ましくは架台２１と非締結状態（非固定状態）で架台２１に支持（載置）されている。これにより、架台２１に生じる熱膨張等が石定盤２２に影響するのを回避することができ、その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をさらに高い精度で行うことができる。
【００６３】
図５は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図、図６は、図５中の矢印Ａ方向から見た側面図、図７は、図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図である。
図６および図７に示すように、石定盤２２の上には、４本の支柱２３と、これらの支柱２３に支持されたＸ軸方向に沿って延びる互いに平行な２本の桁（梁）２４および２５とが設置されている。基板搬送テーブル３は、桁２４および２５の下を通過可能になっている。
【００６４】
液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）をＸ軸方向に移動させるＸ軸方向移動機構６は、桁２４および２５を介して、４本の支柱２３に支持されている。図５に示すように、Ｘ軸方向移動機構６は、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ（ヘッドユニット支持体）６１と、桁２４上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するとともに駆動するリニアモータアクチュエータ６２と、桁２５上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するガイド６３とを有している。メインキャリッジ６１は、リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間に架け渡されるようにして設置されている。
【００６５】
ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ６１に対し着脱可能に支持されている。ヘッドユニット１１がメインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１１１の副走査が行われる。
リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間には、さらに、カメラキャリッジ１０６が架け渡されるようにして設置されている。カメラキャリッジ１０６は、リニアモータアクチュエータ６２およびガイド６３をメインキャリッジ６１と共用するとともに、メインキャリッジ６１と独立してＸ軸方向に移動する。
カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラ１０７が設置されている。認識カメラ１０７は、カメラキャリッジ１０６から下方に吊り下げられた状態で支持されている。なお、認識カメラ１０７は、他の用途に用いてもよい。
【００６６】
図６に示すように、メインキャリッジ６１上には、二次タンク４１２が設置されており、この二次タンク４１２には、タンクユニット１３に設置された吐出液を貯留する給液タンクから延びる給液配管４１１が接続されている。給液配管４１１は、可撓性を有するチューブで構成され、この給液配管４１１の途中には、メインキャリッジ６１とともに移動する二次タンク４１２の移動に合わせて給液配管４１１の二次タンク４１２側の部分が移動可能となるように給液配管４１１を中継する中継部４１３が設けられている。
【００６７】
二次タンク４１２には、１２個の液滴吐出ヘッド１１１の各々に対応する１２本の分岐配管４１４の一端がそれぞれ接続されており、これらの分岐配管４１４の他端は、ヘッドユニット１１に設けられた、各液滴吐出ヘッド１１１に対応する１２個の流入口１１２にそれぞれ接続されている。なお、図６中では、見易くするため、１２本の分岐配管４１４のうちの２本のみを図示する。
【００６８】
各分岐配管４１４の途中には、遮断弁４１５が設けられている。給液配管４１１を通った吐出液は、二次タンク４１２に流入し、二次タンク４１２内で圧力調整された後、各分岐配管４１４を通って各液滴吐出ヘッド１１１に供給される。遮断弁４１５は、二次タンク４１２内の圧力を調整する負圧制御ユニットが何らかの原因で機能しない場合、分岐配管４１４の流路を遮断し、二次タンク４１２より低い位置にある液滴吐出ヘッド１１１に二次タンク４１２から吐出液が流れ続けて液滴吐出ヘッド１１１から漏出するのを防止する。
【００６９】
図８は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図８に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００７０】
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
【００７１】
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の液滴吐出ヘッド１１１で構成してもよい。また、メインキャリッジ６１に複数のヘッドユニット１１が設置されていてもよい。
【００７２】
次に、ブロー装置１４を説明する。
図２および図６に示すように、装置本体２には、基板搬送テーブル３に支持された基板Ｗに対し、液滴吐出装置１が置かれたチャンバ９１内の雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付け、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥（仮乾燥（半乾燥）および／または本乾燥）させるブロー装置１４が設置されている。
【００７３】
ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズル１４２を有しており、基板Ｗを基板搬送テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズル１４２より基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、装置本体２に、液滴吐出ヘッド１１１を介し、Ｙ軸方向に互いに離れた２箇所に位置する２個のブロー装置１４が設けられている。
【００７４】
以下、この１対のブロー装置１４を説明するが、これらの構造や作用は同様であるので、代表的に、一方（図２および図６中左側）のブロー装置１４を説明する。
図１２は、図１に示す液滴吐出装置におけるブロー装置を示す側面図、図１３は、ブロー装置を図１２中の矢印Ｃ方向から見た正面図、図１４は、ブロー装置による乾燥時の動作を模式的に示す図である。
【００７５】
図１２および図１３に示すように、ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に延在する長尺状のケーシング１４１と、１対の支持板１４４と、１対のステー１４７とを有している。
ケーシング１４１の下方には、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズル１４２が設けられている。すなわち、ノズル１４２には、Ｘ軸方向に沿ってスリット（開口）１４３が形成されており、そのスリット１４３は、ケーシング１４１内の中空部に連通している。これにより、基板Ｗに対し、ガスをＸ軸方向に均一に吹き付けることができ、基板Ｗ全体を均一に乾燥させることができる。
【００７６】
このスリット１４３のＸ軸方向の長さＬ１は、基板ＷのＸ軸方向の長さより長く設定されている。これにより、基板Ｗに対し、ガスをＸ軸方向の一端から他端まで吹き付けることができ、基板Ｗ全体を乾燥させることができる。
ここで、このブロー装置１４は、前記ノズル１４２のスリット（開口）１４３の幅Ｗを変更し得るように構成されている。この構成は、図示されていないが、下記にその一例を示す。
【００７７】
ノズル１４２は、対向配置された１対のプレートを有しており、この１対のプレートの間の間隙がスリット１４３を構成する。この１対のプレートは、スリット１４３の幅Ｗの方向（幅方向）に、相対的に移動（変位）し得るように設置されている。
また、ケーシング１４１には、前記１対のプレートを相対的に移動させる図示しないネジやリードスクリューなどを備えた開口幅調節手段が設けられている。
【００７８】
この開口幅調節手段により、１対のプレートを移動させることによって、スリット１４３の幅Ｗを調節することができる。１対のプレートをそれらが離間する方向に移動させると、スリット１４３の幅Ｗが大きくなり、逆に、接近する方向に移動させると、スリット１４３の幅Ｗが小さくなる。
従って、この開口幅調節手段により、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて、スリット１４３の幅Ｗを適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
【００７９】
前記スリット１４３の幅Ｗは、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて適宜設定されるが、０．１〜１０ｍｍ程度であるのが好ましい。
また、図１２中におけるノズル１４２の方向、すなわち、ノズル１４２から噴出するガスの噴出方向は、液滴吐出ヘッド１１１の反対側（図１２中左側）であって、かつ、斜めの方向（図１２中の角度θが鋭角となる方向）に設定されている。
【００８０】
これにより、例えば、基板Ｗに対して液滴を吐出しつつ乾燥を行う場合であっても、基板Ｗに吹き付けられるガスによって液滴の吐出に影響を与えることがなく、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる。
このケーシング１４１は、１対の支持板１４４に対し、移動可能に設置されている。すなわち、各支持板１４４には、それぞれ、略直線状の長穴１４５ａおよび１４５ｂが形成され、ケーシング１４１のＸ軸方向の両端部には、それぞれ、この長穴１４５ａおよび１４５ｂに挿入されたピン（突起）１４６ａおよび１４６ｂが形成されており、各ピン１４６ａおよび１４６ｂが、それぞれ、長穴１４５ａおよび１４５ｂに沿って移動し得るようになっている。
【００８１】
また、各支持板１４４は、それぞれ、対応するステー１４７に対し、軸１４８を中心に回動可能に設置されている。この場合、各支持板１４４には、それぞれ、略円弧状の長穴１４５ｃが形成され、各ステー１４７には、それぞれ、この長穴１４５ｃに挿入されたピン（突起）１４６ｃが形成されており、ピン１４６ｃが、長穴１４５ｃに沿って移動し得るようになっている。
【００８２】
なお、前記各ピン１４６ａおよび１４６ｂを、それぞれ、例えば、ケーシング１４１に螺合する雄ネジに変更してもよい。この場合には、ケーシング１４１を支持板１４４に対して移動させるとき、雄ネジを緩め、移動後、雄ネジを締めて固定する。
また、前記ピン１４６ｃを、例えば、ステー１４７に螺合する雄ネジに変更してもよい。この場合には、支持板１４４をステー１４７に対し回動させるとき、雄ネジを緩め、回動後、雄ネジを締めて固定する。
【００８３】
図２および図６に示すように、各ステー１４７は、それぞれ、装置本体２の桁２４の図２および図６中左側に固定的に設置されている。
図１２に示すように、ケーシング１４１または支持板１４４を、ステー１４７に対し、図１２中上側または下側に操作すると、ケーシング１４１および支持板１４４は一体的に、ステー１４７に対し、軸１４８を中心に回動し、ケーシング１４１の向きが変更される。この場合、ピン１４６ｃが長穴１４５ｃの端部に当接するまで、ケーシング１４１および支持板１４４を回動させることができる。
これにより、ブロー装置１４のノズル１４２から噴出するガスの基板搬送テーブル３（基板Ｗ）に対する噴出角度（吹き付け角度）θを調節することができる。
【００８４】
従って、前記支持板１４４およびステー１４７により、噴出角度（吹き付け角度）θを調節する噴出角度調節手段が構成され、この噴出角度調節手段により、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて、ガスの噴出角度θを適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
【００８５】
また、ケーシング１４１を、支持板１４４に対し、長穴１４５ａおよび１４５ｂの方向に沿って図１２中上側または下側に操作すると、ケーシング１４１は、支持板１４４に対し、長穴１４５ａおよび１４５ｂの方向に沿って移動する。この場合、ピン１４６ａ、１４６ｂが長穴１４５ａ、１４５ｂの端部に当接するまで、ケーシング１４１を移動させることができる。
これにより、ブロー装置１４の基板搬送テーブル３（基板Ｗ）からの離間距離を調節することができる。
【００８６】
従って、前記ケーシング１４１および支持板１４４により、基板搬送テーブル３（基板Ｗ）からの離間距離を調節する離間距離調節手段が構成され、この離間距離調節手段により、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて、基板Ｗの表面とブロー装置１４のノズル１４２の先端部との間の距離Ｌ２を適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
【００８７】
ここで、ブロー装置１４のノズル１４２から噴出するガスの基板搬送テーブル３（基板Ｗ）に対する噴出角度（吹き付け角度）θは、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて適宜設定されるが、３０〜７５°程度であるのが好ましい。
また、基板Ｗの表面とブロー装置１４のノズル１４２の先端部との間の距離Ｌ２は、例えば使用する液滴の種類や噴出するガスの流量などの諸条件に応じて適宜設定されるが、０．１〜１００ｍｍ程度であるのが好ましく、１５〜５０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【００８８】
図２に示すように、液滴吐出装置１は、チャンバ９１の外部に設置された空調装置（温度・湿度調節手段）７１を有している。空調装置７１は、例えば公知のエアーコンディショナー装置および送風機を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（温調空気）を生成し、送出する。
この空調装置７１の前記温調空気の出口には、チューブ７２の一端側が接続されており、チューブ７２の他端側は、途中で２つに分岐し、図１３に示すように、ブロー装置１４のケーシング１４１のＸ軸方向の両端部にそれぞれ、ケーシング１４１内の中空部に連通するように接続されている。
空調装置７１から送出された温調空気（ガス）は、チューブ７２を通ってブロー装置１４のケーシング１４１内の中空部に送り込まれ、ノズル１４２のスリット１４３から噴出される。
【００８９】
前述したように、このブロー装置１４から噴出するガス、すなわち、空調装置７１で生成され、送出されるガスは、液滴吐出装置１が置かれたチャンバ９１内の雰囲気と、ガスの種類、温度、湿度などの条件が、ほぼ同様のガスである。
これにより、チャンバ９１内の雰囲気（環境）を乱すことなく、かつ、基板Ｗが熱膨張してしまうこともなく、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥（仮乾燥および／または本乾燥）させることができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００９０】
すなわち、ブロー装置１４から噴出するガスの種類は、チャンバ９１内の雰囲気と同一とされる。従って、例えば、チャンバ９１内に空気を供給・充填する場合には、ブロー装置１４から空気を噴出し、また、チャンバ９１内に、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスを供給・充填する場合には、ブロー装置１４から、それと同一の種類の不活性ガスを噴出する。
【００９１】
また、チャンバ９１内の雰囲気の温度をａとしたとき、ブロー装置１４から噴出するガスの温度は、ａ±１℃程度であるのが好ましく、ａ±０．２℃程度であるのがより好ましく、ａ±０．１℃程度であるのがさらに好ましい。特に、チャンバ９１内の雰囲気の温度ａの温度制御誤差を±ｄ℃としたとき、ブロー装置１４から噴出するガスの温度は、ａ±２ｄ℃程度であるのが好ましく、ａ±ｄ℃程度であるのがより好ましい。
【００９２】
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
また、チャンバ９１内の雰囲気の温度ａは、例えば使用する液滴の種類、ガスの種類、基板Ｗの種類などの諸条件に応じて適宜設定されるが、１５〜３０℃程度であるのが好ましく、１９〜２６℃程度であるのがより好ましい。
【００９３】
また、チャンバ９１内の雰囲気の湿度をｂとしたとき、ブロー装置１４から噴出するガスの湿度は、ｂ±３０％程度であるのが好ましく、ｂ±１０％程度であるのがより好ましく、ｂ±５％程度であるのがさらに好ましい。特に、チャンバ９１内の雰囲気の湿度ｂの湿度制御誤差を±ｅ％（この「％」は、湿度の単位）としたとき、ブロー装置１４から噴出するガスの湿度は、ｂ±２ｅ％程度であるのが好ましく、ｂ±ｅ％程度であるのがより好ましい。
【００９４】
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
また、チャンバ９１内の雰囲気の湿度ｂは、例えば使用する液滴の種類、ガスの種類、基板Ｗの種類などの諸条件に応じて適宜設定されるが、２０〜７０％程度であるのが好ましく、３０〜６０％程度であるのがより好ましい。
また、ブロー装置１４から噴出するガスの流量は、例えば使用する液滴の種類、ガスの種類、ノズル１４２の寸法などの諸条件に応じて適宜設定されるが、１００ｍｌ／分〜１０ｋｌ／分程度であるのが好ましく、５００ｍｌ／分〜５ｋｌ／分程度であるのがより好ましい。
【００９５】
なお、液滴吐出装置１は、空調装置（温度・湿度調節手段）７１を有しているので、チャンバ９１内の雰囲気の温度や湿度を変更した場合でも、ブロー装置１４から噴出するガスの温度や湿度を適正値に調節することができ、適正な条件で乾燥を行うことができる。
他方（図２および図６中右側）のブロー装置１４については、前述した一方（図２および図６中左側）のブロー装置１４と同様であるので、その説明を省略する。
【００９６】
図１４に示すように、基板Ｗの乾燥の際は、基板Ｗを基板搬送テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、２個のブロー装置１４により基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。
この場合、図１４（ｂ）に示すように、２個のブロー装置１４のうちの一方（図１４中左側）のブロー装置１４は、基板Ｗの一部（図１４中左側の領域）にガスを吹き付け、その基板Ｗの一部を乾燥し、図１４（ａ）に示すように、他方（図１４中右側）のブロー装置１４は、少なくとも基板Ｗの残部（図１４中右側の領域）にガスを吹き付け、その基板Ｗの残部を乾燥するように、Ｙ軸方向移動機構５やブロー装置１４（空調装置）などの駆動を制御する。また、一方（図１４中左側）のブロー装置１４が、基板Ｗの図１４中左側ほぼ半分の領域を乾燥し、他方（図１４中右側）のブロー装置１４が、基板Ｗの図１４中右側ほぼ半分の領域を乾燥するように、分担させるのが好ましい。
【００９７】
これにより、液滴吐出装置１のＹ軸方向の長さを短縮することができ、装置の小型化および軽量化を図ることができる。
前記ブロー装置１４からガスを噴出する動作（ガス噴出動作）は、基板搬送テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板搬送テーブル３を複数回往復させて、前記ガス噴出動作を複数回繰り返し行ってもよい。
【００９８】
また、前記基板Ｗの乾燥は、液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出してパターンを形成している途中で行ってもよく、また、パターンをすべて形成し終えた後に行ってもよい。
なお、本実施形態では、２個のブロー装置１４は、その構造、形状、寸法等の諸条件が同一であるが、その一部または全部が異なっていてもよい。
【００９９】
また、本実施形態では、ブロー装置１４を２個設けているが、ブロー装置１４の数は、１個でもよく、また、３個以上でもよい。
また、ブロー装置１４は、本実施形態の構成のものに限らず、例えば、チャンバ９１内のガス（雰囲気）を吸引し、それを噴出するような構成のものであってもよい。
【０１００】
ここで、制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。基板搬送テーブル３上に基板Ｗが給材され、液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置（説明省略）の作動により基板搬送テーブル３上で所定の位置に位置決め（プリアライメント）されると、基板搬送テーブル３の各吸引口３３２からのエアー吸引により、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に吸着・固定される。次いで、基板搬送テーブル３およびカメラキャリッジ１０６がそれぞれ移動することにより、認識カメラ１０７が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークの上方に移動し、このアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転機構１０５が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる（本アライメント）。
【０１０１】
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。このとき、液滴吐出動作は、基板搬送テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板搬送テーブル３を複数回往復させて、液滴吐出動作を複数回繰り返し行ってもよい。以上の動作により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って伸びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【０１０２】
その後、メインキャリッジ６１を移動させることにより、ヘッドユニット１１を前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させる。この状態で、前述した動作と同様に、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。そして、この領域への液滴吐出動作が終了したら、ヘッドユニット１１をさらに前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させた状態として、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、同様の液滴吐出動作を行う。これを、数回繰り返すことで、基板Ｗの全領域に液滴吐出が行われる。このようにして、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する。
【０１０３】
また、この液滴吐出装置１では、前述したように、基板搬送テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、ブロー装置１４により基板Ｗへ向けてガスを吹き付け、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥させる。前述したように、この基板Ｗの乾燥は、液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出してパターンを形成している途中で行ってもよく、また、パターンをすべて形成し終えた後に行ってもよい。
【０１０４】
図９は、図３に示す状態から基板搬送テーブルを取り外した状態を示す平面図、図１０は、架台の平面図である。
図９に示すように、石定盤２２は、平面視で、Ｙ軸方向に長い長方形をなすＹ軸方向移動機構支持部２２１と、このＹ軸方向移動機構支持部２２１の長手方向の途中の部分からＸ軸方向に両側にそれぞれ突出する支柱支持部２２２および２２３とで構成されており、その結果、石定盤２２の形状は、平面視で十字状をなしている。換言すれば、石定盤２２は、平面視で、長方形から４つの隅部付近（除去部分Ｃ）を除去したような形状をなしている。
【０１０５】
Ｙ軸方向移動機構支持部２２１上には、Ｙ軸方向移動機構５が設置されている。そして、支柱支持部２２２の角部２２２ａおよび２２２ｂと、支柱支持部２２２３の角部２２３ａおよび２２３ｂの４箇所の上には、それぞれ、支柱２３が設置される。
このように、石定盤２２は、平面視で、図９中の一点鎖線で示す長方形Ｒから、Ｙ軸方向移動機構５および支柱２３を設置しない部分（除去部分Ｃ）を除去したような形状をなすものとなっている。これにより、長方形Ｒのような形状のままで使用した場合と比べ、重量を軽減することができる。その結果、液滴吐出装置１の据え付け場所への輸送が容易になるとともに、工場の据え付け場所の床の耐荷重も小さくて済む。
【０１０６】
また、除去部分Ｃの分だけ石定盤２２が占める領域を少なくできるので、液滴吐出装置１全体の小型化が図れる。すなわち、除去部分Ｃに配管部品、電装部品等を設置することにより省スペース化を図ることができたり、除去部分Ｃを装置のメンテナンスのためのスペースとして用いることができる。よって、工場内での占有面積を小さくすることができ、また、液滴吐出装置１の据え付け場所への輸送も容易となる。また、液滴吐出装置１をチャンバ９１内に収容して稼動する場合にも、チャンバ９１の大きさを小さくすることができ、有利である。
このようなことから、液滴吐出装置１を用いることにより、基板Ｗのようなワークに対するパターンの形成（描画）を低コストで行うことができる。
【０１０７】
また、本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構５は、平面視で、石定盤２２の長手方向に平行にかつその中心線が石定盤２２の中心線（石定盤２２の長手方向に沿った中心線）にほぼ合致した状態で設置され、Ｘ軸方向移動機構６は、平面視で、石定盤２２の長手方向に垂直にかつその中心線が石定盤２２の中心線（石定盤２２の短手方向に沿った中心線）にほぼ合致した状態で設置されている。これにより、Ｙ軸方向移動機構５およびＸ軸方向移動機構６が相互の中間位置で十字状に交差し、かつ石定盤２２の中央に設置される。このため、Ｙ軸方向移動機構５およびＸ軸方向移動機構６を石定盤２２上により一層バランス良く支持することができる。
【０１０８】
また、本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構５は、石定盤２２の長手方向と平行に延在し、かつ石定盤２２上に直接載置されている。これにより、Ｙ軸方向移動機構５をより一層高い精度（平面度）で安定的に支持することができる。
また、本実施形態では、Ｘ軸方向移動機構６は、４つの支柱２３を介してＹ軸方向移動機構５を跨いで設置されるとともに、４つの支柱２３は、平面視で、石定盤２２の長手方向に沿った中心線を介して対称に分散配置されている。これにより、Ｘ軸方向移動機構６をより一層高い精度（平面度）で安定的に支持することができる。
【０１０９】
図１０に示すように、石定盤２２を支持する架台２１は、平面視で石定盤２２とほぼ同様の形状（十字状）をなしている。これにより、液滴吐出装置１全体としてのさらなる重量軽減（軽量化）、小型化（省スペース化）が図れる。この架台２１は、３点（３箇所）以上の複数の支持部２１３にて石定盤２２を支持している。この支持部２１３は、例えばアジャストボルト等の機構による高さ調整機構を備えており、各支持部２１３の高さを調整することにより、石定盤２２の上面の平面度および水平度を調整可能になっている。
【０１１０】
図１１は、石定盤の他の構成例を示す平面図である。前述した実施形態では、石定盤２２は、１個の石材で構成されていたが、図１１に示す石定盤２２’では、Ｙ軸方向移動機構支持部２２１’と、支柱支持部２２２’と、支柱支持部２２３’とがそれぞれ別個の石材で構成されている。そして、石定盤２２は’、これら３個の石材を組み合わせ、図示しない固定部材により互いに連結して構成されている。
【０１１１】
このように、複数個の石材を組み合わせて石定盤２２’を構成することにより、長方形でない石定盤２２’を容易かつ安価で製造することができる。また、石定盤２２’を分解して据え付け場所へ輸送することができ、輸送も容易に行うことができる。
なお、石定盤２２’を複数個の石材を組み合わせて構成する場合、その分割の境界は、図示の構成に限らず、例えば図１１中で横方向に３分割されるようなものでもよい。
【０１１２】
以上、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、液滴吐出装置および液滴吐出システムを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
例えば、Ｙ軸方向移動機構、Ｘ軸方向移動機構は、リニアモータに代えて、例えばボールネジ（送りネジ）などでもよい。
【０１１３】
以上述べたように、本発明によれば、ブロー装置１４により、基板Ｗに対し、液滴吐出装置１が置かれたチャンバ９１内の雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付け、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥させるので、チャンバ９１内の雰囲気（環境）を乱すことなく、かつ、基板Ｗが熱膨張してしまうこともなく、ワーク上に吐出された液滴を乾燥させることができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
また、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥させる際、その基板Ｗをプリベーク炉に移動させて乾燥させる方式に比べ、本発明は、下記の利点を有する。
【０１１４】
まず、液滴吐出装置１がブロー装置１４を有しているので、基板Ｗ上に吐出された液滴をその液滴吐出装置１において乾燥させることができる。
すなわち、基板Ｗ上への液滴の吐出と、基板Ｗ上に吐出された液滴の乾燥とを、交互に繰り返し行う場合、プリベーク炉で乾燥させる方式では、給除材に時間がかかり、特に、再び基板Ｗを液滴吐出装置１へ給材する際、アライメントを行う必要があるが、この液滴吐出装置１では、液滴吐出装置１において乾燥を行うことができるので、前記給除材やアライメントを行う必要がなく、これにより、スループット（生産能率）の向上が図れる。
【０１１５】
また、液滴吐出装置１が内部の雰囲気の条件が管理されるチャンバ９１内に設置されて使用されているので、特に、基板Ｗ上への液滴の吐出と、基板Ｗ上に吐出された液滴の乾燥とを、交互に繰り返し行う場合は、プリベーク炉で乾燥させる方式では、乾燥（給除材）の際、チャンバ内の雰囲気（環境）が破壊されるので、それを元の条件（適正な条件）に戻す時間（例えば、チャンバ内が窒素パージされている場合は、再度窒素パージするための時間）が必要であるが、この液滴吐出装置１では、液滴吐出装置１において乾燥を行うことができるので、チャンバ９１内の雰囲気（環境）を破壊してしまうことがなく、これにより、スループット（生産能率）の向上が図れる。
【０１１６】
また、基板Ｗへの液滴の吐出と、基板Ｗ上に吐出された液滴の乾燥とを、交互に繰り返し行う場合、プリベーク炉で乾燥させる方式では、基板Ｗを加熱するので、再びワークが適正温度（環境温度）に戻るまで時間を要するが、この液滴吐出装置１では、チャンバ９１内の雰囲気とほぼ同様の条件のガスを吹き付けて乾燥を行うので、乾燥直後でも基板Ｗが適正温度（環境温度）を保持しており、これにより、乾燥後、すぐに次の工程を実行することができ、スループット（生産能率）の向上が図れる。
また、プリベーク炉で乾燥させる方式では、液滴吐出装置の外側にプリベーク炉を設置するための基板Ｗの寸法以上の設置スペースを必要とし、システム全体が大型化してしまうが、この液滴吐出装置１では、液滴吐出装置１がブロー装置１４を有しているので、システム全体を小型化することができる。
【０１１７】
本発明の液滴吐出装置の用途は、特に限定されないが、金属配線の形成に用いるのが好ましい。
本発明の金属配線形成方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の金属配線形成方法では、金属材料を含む液体（液状金属材料）を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出し、それをブロー装置で乾燥させることにより、基板上に金属配線の乾燥膜を形成する。次いで、液滴吐出装置から基板を取り出し、その基板に対し、熱処理および／または光処理を施す。これにより、前記乾燥膜は、その微粒子間の電気的接触が確保され、導電膜に変換され、基板上に金属配線が形成される。
【０１１８】
この本発明の金属配線形成方法は、例えば、液晶表示装置におけるドライバと各電極とを接続する金属配線、有機ＥＬ表示装置におけるＴＦＴ等と各電極とを接続する金属配線、各種アンテナ回路などの形成に適用することができる。
また、本発明の電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。本発明の電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
【０１１９】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【０１２０】
また、本発明の電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。本発明の電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図２】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図３】架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図。
【図４】架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図。
【図５】ヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図。
【図６】図５中の矢印Ａ方向から見た側面図。
【図７】図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図。
【図８】ヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を示す模式的平面図。
【図９】図３に示す状態から基板搬送テーブルを取り外した状態を示す平面図。
【図１０】架台の平面図。
【図１１】石定盤の他の構成例を示す平面図。
【図１２】ブロー装置を示す側面図。
【図１３】ブロー装置を図１２中の矢印Ｃ方向から見た正面図。
【図１４】ブロー装置による乾燥時の動作を模式的に示す図。
【符号の説明】
１……液滴吐出装置、２……装置本体、１４……ブロー装置
【図１】
2004198856.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2004198856.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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