(57)【要約】【課題】コストの削減や作業の効率化、迅速化を図ることができ、視認性を損なうことのない露光用治具及び電磁波シールド体の製造方法を提供する。【解決手段】透明ガラス３０に紫外線硬化型の黒色層３４と導電層３５を積層する工程と、これらをパターンマスク４７を介し露光、現像するとともに、透明ガラス３０の裏面側から黒色層３４を露光して中間体を形成する工程と、中間体を熱処理して電磁波シールド層を導電パターン形成する工程等とを備え、露光時に黒色層３４と導電層３５を積層した透明ガラス３０を露光用治具４０に収容する。そして、露光用治具４０を、透明ガラス収納用の支持フレーム４１と、支持フレーム４１の透明ガラス３０を被覆する透明保護板４４と、支持フレーム４１と透明保護板４４間の空気を外部に導く吸引路４６と、透明ガラス３０の導電層３５と透明保護板４４間に介在されるパターンマスク４７とから構成する。【選択図】  図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性の被露光体を収容する露光用治具であって、被露光体を収納する支持体と、この支持体内の被露光体を覆う透明保護板と、支持体と透明保護板との間の気体を外部に導く吸引路と、被露光体の導電層と透明保護板との間に介在されるパターンマスクとを含んでなることを特徴とする露光用治具。
【請求項２】
被露光体を、感光性の視認性保持層と導電層とを重ね備えた透明基板とした請求項１記載の露光用治具。
【請求項３】
支持体を中空に形成してその開口部内には被露光体を嵌め入れるようにし、この支持体の開口部には、パターンマスクの反対側に位置する弾性密着板を設け、この弾性密着板を被露光体に対向させるようにした請求項１又は２記載の露光用治具。
【請求項４】
電磁波をシールドする電磁波シールド体の製造方法であって、
透明基板の一面に感光性の視認性保持層と導電層とを重ねて形成する工程と、これらをパターン露光、現像して中間体を形成する工程と、中間体を熱処理して電磁波シールド層を導電化する工程とを含み、パターン露光時に請求項１、２、又は３いずれかに記載の露光用治具を用いることを特徴とする電磁波シールド体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）の表示画面等から放射される電磁波をシールドする電磁波シールド体、プリント配線板、あるいは半導体パッケージのパターン形成等に使用される露光用治具及び電磁波シールド体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント配線板や半導体パッケージのパターン形成に際しては、露光装置が使用されるが、この露光装置の露光には、微細なパターン形成の必要性から平行光が必要不可欠とされる（特許文献１参照）。
一方、カラーテレビには様々なタイプがあるが、近年、図１１に示すようなカラーのＰＤＰ１が注目されている。このＰＤＰ１は、発光部であるパネル本体２と、このパネル本体２の前面に装着される前面パネル３とを備え、視野角、応答速度、低消費電力に優れるという特徴を有している。
【０００３】
前面パネル３は、図１２に示すように、透明ガラス３０の表面に電磁波シールド層３１と無反射処理層３２とが順次積層され、透明ガラス３０の裏面には近赤外線吸収層３３が積層形成されており、図示しない枠フレーム等に組み合わされる。透明ガラス３０の表面には、電磁波をシールド（遮蔽）して周囲の電子・電気機器や人体等に対する悪影響を抑制防止する電磁波シールド層３１が形成されるが、この電磁波シールド層３１を形成する場合には、例えば透明ガラス３０の表面に、導電性の金属粉末を含有したインクをスクリーン印刷法によりパターン形成する方法が採用される（特許文献２、特許文献３参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１‐２７９００２号公報
【０００５】
【特許文献２】
特開昭６２‐５７２９７号公報
【０００６】
【特許文献３】
特開平９‐２８３９７７号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従来のプリント配線板や半導体パッケージのパターン形成に際しては、以上のように平行光が必要不可欠とされ、専用の露光装置により平行性の大きい平行光をわざわざ形成しているが、これでは、コストの削減のみならず、作業の効率化や迅速化を達成することができないという問題がある。
また、従来の電磁波シールド層３１は、以上のように透明ガラス３０に、金属粉末含有のインクをスクリーン印刷法により単にパターン形成しているが、これでは、パターンの形成に伴い、透明ガラス３０が全体として曇るので、透明ガラス３０に求められる重要な視認性を損なうという問題がある。
【０００８】
この問題の解消に際しては、フォトリソ法を採用した製造方法が有効であるが、この製造方法の露光作業時には上記した平行光等が必要になると予想される。この平行光等は、あえて形成する必要がなければ、特に支障はないが、わざわざ形成しなければならないとすると、やはりコスト削減、作業の効率化、迅速化を図ることができなくなるおそれがある。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みなされたもので、コストの削減や作業の効率化、迅速化を図ることのできる露光用治具を提供することを目的としている。また、視認性を損なうことのない電磁波シールド体の製造方法を提供する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、上記課題を達成するため、感光性の被露光体を収容するものであって、被露光体を収納する支持体と、この支持体内の被露光体を覆う透明保護板と、支持体と透明保護板との間の気体を外部に導く吸引路と、被露光体の導電層と透明保護板との間に介在されるパターンマスクとを含んでなることを特徴としている。
なお、被露光体を、感光性の視認性保持層と導電層とを重ね備えた透明基板とすることができる。
また、支持体を中空に形成してその開口部内には被露光体を嵌め入れるようにし、この支持体の開口部には、パターンマスクの反対側に位置する弾性密着板を設け、この弾性密着板を被露光体に対向させることができる。
【００１１】
さらに、本発明においては、上記課題を達成するため、電磁波をシールドするものの製造方法であって、
透明基板の一面に感光性の視認性保持層と導電層とを重ねて形成する工程と、これらをパターン露光、現像して中間体を形成する工程と、中間体を熱処理して電磁波シールド層を導電化する工程とを含み、パターン露光時に請求項１、２、又は３いずれかに記載の露光用治具を用いることを特徴としている。
【００１２】
ここで特許請求の範囲における感光性の被露光体には、少なくとも電磁波シールド体、プリント配線板、あるいは半導体パッケージが含まれる。吸引路は、支持体に単数複数設けられ、負圧発生手段（例えば、各種の真空ポンプ）に直接的あるいは間接的に接続される。また、視認性保持層は、紫外線により硬化可能な樹脂組成物を含有した黒色インクにより形成されることが好ましい。この視認性保持層は、導電性又は絶縁性を有していても良いし、そうでなくても良い。導電層は、紫外線により硬化可能な樹脂組成物に金属粒子を含有した導電インク、より具体的には銀インクにより形成されることが好ましい。
【００１３】
透明基板としては、強化ガラスの他、歪みの問題を生じなければ、例えばアクリル基板等が使用される。この透明基板には、電磁波シールド層の他、無反射処理層や電子機器の誤作動を防止する近赤外線吸収層を適宜形成することができる。また、中間体の形成時には、透明基板の他面側から視認性保持層を露光するようにしても良い。本発明に係る電磁波シールド体は、ＰＤＰの前面パネルの一部として使用されるが、何らこれに限定されるものではない。例えば、ＦＥＤ等の他の機器に応用することもできる。さらに、ＰＤＰには、ＤＣ型、ＡＣ型、ハイブリッド型があるが、何ら限定されるものではない。
【００１４】
本発明によれば、露光用治具の内部に被露光体をセットして透明保護板で覆い、露光用治具の内部の気体を吸引路を介して外部に排出し、露光用治具の内部を負圧にすると、パターンマスクが被露光体の導電層に密着して光線の不要領域に対する侵入を減少させ、露光時の解像度が向上する。このようなパターンマスクの密着により、露光装置を専用品としなくても、解像度の高いパターンを簡単に形成することができるので、専用装置の省略に伴うコスト削減、作業の効率化、迅速化等を達成することができる。
【００１５】
また、本発明によれば、露光用治具に透明基板をセットして透明保護板で覆い、露光用治具の内部の気体を吸引路を介して排気し、露光用治具内を負圧にすると、パターンマスクが透明基板の導電層に密着して光線の不要領域に対する侵入を減少させ、露光時の解像度が向上する。さらに、透明基板に導電層を直接設けるのではなく、透明基板と導電層との間に、光線を吸収する視認性保持層を介在させ、透明基板に導電層を間接的に設けるので、透明基板の曇りを抑制することができる。したがって、透明基板の視認性が向上する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における電磁波シールド体の製造方法は、図１ないし図８に示すように、透明ガラス３０の表面に紫外線により硬化する黒色層３４と導電層３５とを順次重ねて積層する工程と、これら黒色層３４と光透過性の導電層３５とをパターンマスク４７を介して露光、現像するとともに、透明ガラス３０の裏面側から黒色層３４を露光して中間体３６を形成する工程と、この中間体３６を熱処理して電磁波シールド層３１を導電パターン形成する工程等とを備え、露光時に黒色層３４と導電層３５とを重ね備えた透明ガラス３０を露光用治具４０に収容するようにしている。
【００１７】
透明ガラス３０は、例えば強化されて耐熱性や透光性に優れる平面略矩形のガラス板からなる。この透明ガラス３０は、例えば平坦なソーダライムガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が使用される。透明ガラス３０の厚さは、特に限定されるものではないが、視認性や透光性の確保の観点から薄いほうが好ましい。具体的には、視認性、透光性、機械的強度の観点から、０．０５〜５ｍｍ、好ましくは１．５〜３．０ｍｍ程度の厚さに形成される。
【００１８】
黒色層３４は、少なくとも紫外線により硬化可能な樹脂組成物を含有した黒色インクからなるとともに、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤、分散剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤等が必要に応じて加えられ、透明ガラス３０の全表面に形成される。この黒色層３４は、例えば、紫外線硬化型の樹脂組成物、黒色顔料、金属酸化物系着色剤、所定の溶剤等を適宜配合して調製される。
導電層３５は、例えば紫外線により硬化する樹脂組成物に多数の導電性付与フィラー、換言すれば、金属粒子を含有した導電インクからなるとともに、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤、分散剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤等が必要に応じて加えられ、黒色層３４の全表面に重ねて形成される。
【００１９】
紫外線により硬化する黒色層３４の樹脂組成物、そして導電層３５の樹脂組成物としては、水、アルカリ性水溶液、溶剤等により現像できれば良い。これらの中でも、解像度や作業性の観点からアルカリ性水溶液により現像可能な樹脂組成物が望ましい。このような樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー又はオリゴマー、光重合開始剤からなることで達成される。
【００２０】
アルカリ可溶性樹脂の具体例をあげると、例えばカルボン酸のような酸性基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体が最適である。酸性基の成分としては、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸２‐メタクリロイルオキシエチル、コハク酸２‐アクリロイルオキシエチル、フタル酸２‐メタクリロイルオキシエチル、フタル酸２‐アクリロイルオキシエチル等があげられる。
【００２１】
エチレン性不飽和成分としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ‐プロピルアクリレート、ｎ‐プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ‐ブチルアクリレート、ｎ‐ブチルメタクリレート、ｓｅｃ‐ブチルアクリレート、ｓｅｃ‐ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ‐ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ‐ブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等があげられる。
アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ現像性を損なわない範囲で上記成分と他のモノマーとの種々の共重合体を使用することができる。
【００２２】
不飽和二重結合を有する架橋性モノマーは、少なくとも１のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物であり、光照射により光重合開始剤から発生したラジカルで反応し、アルカリ現像液に対する溶解性を低下させてパターンを形成する。具体的には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２‐エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２‐ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２‐メトキシアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４‐ブタンジオールジアクリレート、１，５‐ペンタンジオールジアクリレート、１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート、１，３‐プロパンジオールジアクリレート、１，４‐シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２‐ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４‐ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４‐トリメチル‐１，３‐ペンタンジオールジアクリレート、１，１０‐デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記アクリレートをメタクリレートに置き換えたもの、γ‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１‐ビニル‐２‐ピロドリン等があげられる。なお、上記架橋性モノマーを２種以上組み合わせても良い。
【００２３】
光重合開始剤は、通常のネガタイプのフォトリソグラフに使用可能であれば、特に限定されるものではない。具体的には、ベンゾフェノン、ｏ‐ベンゾイル安息香酸メチル、４‐ジメチルアミノ安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α‐アミノアセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４‐ベンゾイル‐４‐メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、１‐ヒドロキシ‐シクロヘキシル‐フェニル‐ケトン、フルオレソン、２，２‐ジエトキシアセトフェノン、２，２‐ジメトキシ‐１，２‐ジフェニルエタン‐１‐オン、２‐ヒドロキシ‐２‐メチル‐１  フェニルプロパン‐１‐オン、ｐ‐ｔ‐ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２‐メチルチオキサントン、２‐クロロチオキサントン、２‐イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル‐メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２‐ｔ‐ブチルアントラキノン、２‐アミルアントラキノン、β‐クロロアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４‐アジトベンザルアセトフェノン、２，６‐ビス（ｐ‐アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６‐ビス（ｐ‐アジトベンジリデン）‐４‐メチルシクロヘキサノン、２‐フェニル‐１，２ブタジオン‐２‐（ｏ‐メトキシカルボニル）オキシム、１‐フェニル‐プロパンジオン‐２‐（ｏ‐エトキシカルボニル）オキシム、１‐フェニル‐３‐エトキシ‐プロパントリオン‐２‐（ｏ‐ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２メチル‐１〔４‐（メチルチオ）フェニル〕‐２‐モルフォリノプロパン‐１‐オン、ナフタレンスルフォニルクロライド、キノリンスルフォニルクロライド、Ｎ‐フェニルチオアクドリン、４，４‐アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールスルフィド、トリフェニルフォスフィン、ビス（２，４，６‐トリメチルベンゾイル）‐フェニルフォスフィンオキサイド、カンファーキノン等であるが、２種以上併用することも可能である。
【００２４】
金属粒子としては、例えば高い導電率を有する金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金等があげられる。これらは、単独種で使用しても良いが、複数種を併用することもできる。これらの金属粒子の中では、入手の容易性、コスト、導電性、耐酸化性の観点から銀の粒子が望ましい。また、金属粒子は、各種の分散剤により表面処理され、二次凝集の生じないことが好ましい。分散剤としては、熱処理工程で分解、あるいは揮発する性質のものが好適に使用される。
【００２５】
金属粒子は、平均粒径が０．０５〜１μｍ、好ましくは０．０７〜０．８μｍに形成されるとともに、真球度が０．７以上、好ましくは０．８以上の略球形に形成される。これは、平均粒径が０．０５μｍ未満の場合には、導電性確保のために添加量を増加する必要があるからである。逆に、１μｍを超える場合には、光透過率に悪影響を与え、微細なパターンを得ることができなくなるからである。また、真球度が０．７未満の場合には、光透過率が悪化し、微細なパターンを形成することが困難になるという理由に基づく。この真球度の測定に際しては、金属粒子を適当な分散媒に分散させて顕微鏡等により拡大観察し、個々の粒子の長径、短径を計測し、真球度＝短径／長径により算出したものの平均値とする。
【００２６】
金属粒子の粒径バラツキは、３σで平均粒径の値以下が好ましい。これは、金属粒子の粒径バラツキが大き過ぎると、大きな金属粒子間に小さな金属粒子が侵入し、良好な光線透過率を得ることが困難になるからである。
【００２７】
露光用治具４０は、図７や図８に示すように、透明ガラス収納用の支持フレーム４１と、この支持フレーム４１の表面を覆う着脱自在の透明保護板４４と、支持フレーム４１と透明保護板４４との間の空気を外部に導く吸引路４６と、透明ガラス３０と透明保護板４４との間に介在されるネガタイプのパターンマスク４７とから構成され、露光作業時に露光装置５０にセットされる（図６参照）。
【００２８】
支持フレーム４１は、図７や図８に示すように、所定の金属や樹脂を使用して中空の薄い略枠形に形成され、その矩形の開口部内に透明ガラス３０が隙間を介し着脱自在に嵌合される。この平坦な支持フレーム４１の内周部には、内方向に突出する段差部４２が周方向に形成され、この段差部４２の表面には、透明保護板４４やパターンマスク４７の下方に位置する弾性密着板４３の周縁部が接着される。この弾性密着板４３は、例えば可撓性で黒色のゴムプレートからなり、支持フレーム４１の底部を形成して直上の透明ガラス３０の裏面に対向、あるいは対向接触するよう機能する。
【００２９】
透明保護板４４は、例えば平坦で透明なガラス板からなり、支持フレーム４１の表面に、シール部材であるエンドレスのゴムシール４５を介し着脱自在に密着されることにより、支持フレーム４１との間の空間を密閉するとともに、透明ガラス３０を被覆する。また、吸引路４６は、支持フレーム４１の内部に穿孔されて内外方向に指向し、図示しない真空ポンプにチューブを介して接続されており、支持フレーム４１と透明保護板４４との間の空気（図８の矢印参照）を外部の真空ポンプに流出させるよう機能する。さらに、パターンマスク４７は、例えば格子形、ストライプ形、幾何学模様等にパターン形成され、パターンが透明化されており、透明ガラス３０の導電層３５と透明保護板４４の裏面との間に介在される。
【００３０】
上記において、電磁波シールド体３７を製造する場合には、先ず、所定の厚さの透明ガラス３０を用意し（図１参照）、この透明ガラス３０の全表面に黒色インクからなる黒色層３４を塗布形成して乾燥させ、この全黒色層３４上に銀層等からなる導電層３５を重ねて塗布形成して乾燥させる（図２参照）。導電層３５の形成に際しては、例えばロールコータやカーテンコータ等を用いることができる。
【００３１】
黒色層３４と導電層３５とを多層に積層形成したら、これらを備えた透明ガラス３０を露光用治具４０内にセットして透明ガラス３０の導電層３５上にパターンマスク４７を接触させ、真空ポンプを作動させて露光用治具４０内を真空にするとともに、この露光用治具４０をコンベヤ付きの露光装置５０にセット（図６参照）し、黒色層３４と導電層３５とを露光装置５０の紫外線によりパターン露光（図３参照）して現像液に対して不溶化させる。
【００３２】
上記作業の際、真空ポンプの作動により露光用治具４０内が真空化されると、透明ガラス３０の裏面に弾性密着板４３が屈曲して密着し、透明保護板４４がゴムシール４５に強く圧接されるとともに、パターンマスク４７が透明ガラス３０の導電層３５に強く密着して平行光を形成し、解像度を向上させる（図８参照）。作業に使用する露光装置５０としては、例えば８ｋＷメタルハライドランプを３灯備えた汎用のコンベヤ式ＵＶ硬化炉等が使用される。黒色層３４及び導電層３５は、現像時に露光されない不要領域が除去され、格子形、ストライプ形、幾何学模様等にパターン形成される。
【００３３】
次いで、透明ガラス３０を露光用治具４０から取り出して所定の現像液中に浸漬、現像し、この現像された透明ガラス３０を表裏逆にして露光装置５０を使用するとともに、透明ガラス３０の裏面側から黒色層３４を露光して耐食性等を向上させ、黒色層３４及び導電層３５が所定のパターンに形成された中間体３６を形成する（図４参照）。
【００３４】
次いで、中間体３６をオーブン等に投入して２００〜６００℃の温度で熱処理し、この熱処理を所定の時間維持して所定温度に冷却する。そして、オーブンから中間体３６を取り出し、その後、中間体３６を所定時間放置して電磁波シールド層３１を完全に導電パターン形成すれば、電磁波シールド体３７を製造することができる（図５参照）。
電磁波シールド層３１におけるパターンの線幅は２〜４０μｍが好ましい。これは、線幅が２μｍ未満の場合には、電磁波のシールド特性が劣化し、パターンの断線を招くおそれがあるからである。逆に、線幅が４０μｍを超える場合には、透光性とシールド特性の両立が困難化するという理由に基づく。
【００３５】
電磁波シールド体３７を製造したら、透明ガラス３０の裏面に近赤外線吸収層３３を透明の接着剤により接着し、電磁波シールド層３１に無反射処理層３２を透明の接着剤により接着し、図示しない枠フレーム等と組み合わせる。こうすれば、前面パネル３を得ることができる。
なお、無反射処理層３２は、必ずしも必要ではなく、特に必要がなければ、適宜省略することができる。
【００３６】
上記によれば、露光用治具４０の真空化に伴い、透明ガラス３０の裏面に弾性密着板４３が隙間なく密着し、パターンマスク４７が透明ガラス３０の導電層３５に隙間なく密着して紫外線の不要領域に対する余計な侵入を遮断し、解像度が向上するので、平行光をあえて形成する必要がなく、これを通じてコストの削減、作業の効率化、及び迅速化を図ることができる。また、汎用の露光装置５０を使用することができ、しかも、露光装置５０の照射エネルギーを大幅に向上させることができるから、高充填フィラーパターンの形成が大いに期待できる。
【００３７】
また、パターンマスク４７を単に使用するのではなく、パターンマスク４７を支持フレーム４１や透明保護板４４と組み合わせて使用するので、導電層３５にパターンマスク４７を適切に密着させたり、位置決めすることができ、しかも、長期に亘り安定して使用することもできる。また、透明ガラス３０に導電層３５を直接形成するのではなく、透明ガラス３０と導電層３５との間に、光線を吸収する無彩色の黒色層３４を介在させるので、透明ガラス３０が全体として曇ることがない。したがって、透明ガラス３０に求められる視認性を著しく向上させることができる。
【００３８】
また、透明ガラス３０の裏面側から黒色層３４を露光して透明ガラス３０と黒色層３４との境界面を硬化させるので、耐食性等が向上し、長期にわたり安定して使用することが可能になる。さらに、電磁波シールド層３１の導電層自体が光透過性を有しているので、きわめて高い光線透過率を得ることが可能になる。さらにまた、黒色層３４と導電層３５とをそれぞれ感光性とし、通常のフォトリソ法を用いるので、スクリーン印刷法や凸版印刷法等と比較して高精度のパターン形成が可能になり、しかも、製造工程とコストの削減が大いに期待できる。
【００３９】
次に、図９、図１０は本発明の第２の実施形態を示すもので、この場合には、露光用治具４０の支持フレーム４１を底の浅い断面略Ｕ字の枠形に形成してその矩形の凹部内に透明ガラス３０を隙間を介し着脱自在に嵌合させ、弾性密着板４３を省略するようにしている。
【００４０】
支持フレーム４１の表面と凹んだ内面とは、それぞれ黒染めのアルマイト処理等が施されて耐食性や耐磨耗性の向上が図られる。勿論、これに限定されるものではなく、黒染めのレイデント処理等を施すこともできる。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、弾性密着板４３を省略するので、部品点数の削減が期待できるのは明らかである。
【００４１】
なお、上記実施形態の露光用治具４０については、露光前に真空化しても良いし、露光時に真空化しても良い。
【００４２】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、コストの削減や作業の効率化、迅速化等を図ることのできる露光用治具を提供することができるという効果がある。また、視認性を損なうことのない電磁波シールド体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における透明ガラスを示す模式説明図である。
【図２】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における透明ガラスの全表面に黒色層を塗布して乾燥させ、この全黒色層上に導電層を塗布する状態を示す模式説明図である。
【図３】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における導電層上に露光用治具のパターンマスクをセットし、黒色層と導電層を紫外線により露光する状態を示す模式説明図である。
【図４】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における黒色層及び導電層が所定のパターンに形成された中間体を示す模式説明図である。
【図５】本発明に係る電磁波シールド体及びその製造方法の実施形態における電磁波シールド層を完全に導電パターン化した電磁波シールド体を示す模式説明図である。
【図６】図３の露光時に露光用治具を露光装置にセットする状態を示す模式説明図である。
【図７】本発明に係る露光用治具の実施形態を示す平面図である。
【図８】本発明に係る露光用治具の実施形態を示す断面図である。
【図９】本発明に係る露光用治具の第２の実施形態を示す平面図である。
【図１０】本発明に係る露光用治具の第２の実施形態を示す断面図である。
【図１１】プラズマディスプレイを示す全体斜視説明図である。
【図１２】プラズマディスプレイの前面パネルを示す断面説明図である。
【符号の説明】
１            プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）
３            前面パネル
３０          透明ガラス（被露光体の一部、透明基板）
３１          電磁波シールド層
３４          黒色層（被露光体の一部、視認性保持層）
３５          導電層（被露光体の一部）
３６          中間体
４０          露光用治具
４１          支持フレーム（支持体）
４３          弾性密着板
４４          透明保護板
４６          吸引路
４７          パターンマスク
５０          露光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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