(57)【要約】【課題】蛍光体シートからの放射線画像情報の読み取り時における情報の劣化を防止可能とすること、より具体的には、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さを有する蛍光体層における厚みの均一化と、優れた光学的特性を実現可能とした蛍光体層の製造方法を提供すること。【解決手段】真空チャンバ内でシート状の基板に蛍光体層を蒸着により成膜し、成膜後の蛍光体層の表面を研磨することを特徴とする蛍光体層の製造方法であり、前記蛍光体層の表面の研磨は、研磨材料を、所定の基準面との間に所定の間隔を以って位置させた状態で、前記研磨材料と前記基板とを相対的に移動させることによって行うことが好ましい。【選択図】図１
2004077236.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内でシート状の基板に蛍光体層を蒸着により成膜し、成膜後の蛍光体層の表面を研磨することを特徴とする蒸着蛍光体層の製造方法。
【請求項２】
前記蛍光体層の表面の研磨は、研磨材料を、所定の基準面との間に所定の間隔を以って位置させた状態で、前記研磨材料と前記基板とを相対的に移動させることによって行うことを特徴とする請求項１に記載の蒸着蛍光体層の製造方法。
【請求項３】
前記蛍光体層の表面の研磨に用いる研磨材料として、前記蛍光体層の幅を超える幅を有する研磨材料を用い、前記研磨材料と前記基板に前記蛍光体層が成膜された蛍光体シートとを、前記蛍光体層の幅方向と直交する長さ方向に相対的に移動させることによって行うことを特徴とする請求項２に記載の蒸着蛍光体層の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は蒸着蛍光体層の製造技術の分野に関し、より具体的には、真空蒸着によって基板に蛍光体層（蛍光体膜）を形成する際に有効であり、高品質の蛍光体層を得ることが可能な蛍光体層の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
放射線（Ｘ線，α線，β線，γ線，電子線，紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、上述の蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この蓄積性蛍光体を含有する層（すなわち、蛍光体層）を有するシート（蛍光体シート、または、放射線像変換シートと呼ばれる）を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、ＦＣＲ（Ｆｕｊｉ　Ｃｏｍｐｕｔｅｄ　Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ富士写真フイルム（株）商品名）等として実用化されている。
このシステムでは、蛍光体シートに人体などの被写体の放射線画像情報を記録し、記録後に、蛍光体シートをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、写真感光材料等の記録材料、あるいはＣＲＴ等の表示装置に、被写体の放射線画像の可視像として出力する。
【０００４】
このような蛍光体シートは、通常、蓄積性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のシート状の支持体に塗布し、乾燥して、蛍光体層を形成することによって、作製される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の物理蒸着法（気相成膜法）によって、支持体に蛍光体層を形成してなる蛍光体シートも知られている（特許第２７８９１９４号，特開平５−２４９２９９号等の各公報参照）。蒸着によって作製される蛍光体層は、真空中で形成されるため不純物が少なく、また、バインダなどの蓄積性蛍光体以外の成分が殆ど含まれないので、性能のばらつきが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特徴を有している。
【０００５】
一般に、真空蒸着は、光学部品のコーティング，磁気記録媒体や電子ディスプレイの製造等の各種の分野における薄膜の成膜方法として利用されている。これらにおける蒸着による成膜では、殆どの場合、形成する膜の厚さは１μｍ以下であり、厚くても３μｍ程度である。
これに対して、真空蒸着で形成される蛍光体シートの蛍光体層は、薄くても２００μｍ以上、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さが必要になる。
【０００６】
本出願人は先に、このような蛍光体層の形成（蛍光体膜の製造）に好適に用い得る蛍光体シートの製造方法または装置を提案している（例えば、特願２００２−４２９１号，同２００２−１９６３１号参照）。
これらの技術は、いわゆる二元蒸着による蛍光体シートの製造技術に係るものであり、真空チャンバ内に、蛍光体の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、付活剤の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、基板の保持・回転手段とを設けてなる装置を提案しているものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述のＦＣＲのシステムにおいては、前述のように、蛍光体シートに放射線画像情報を記録し、記録後に、蛍光体シートをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、写真感光材料等の記録材料、あるいはＣＲＴ等の表示装置に、被写体の放射線画像の可視像として出力する。
【０００８】
ここで問題になるのは、上述の蛍光体シートからの放射線画像情報の読み取りに際しては、読み取りヘッド（受光部）と蛍光体シート上の蛍光体層表面との間の距離が均一である必要があるということである。
ところが、前述のような厚膜の蛍光体層を蒸着によって成膜する場合、特に、前述のような厚膜の蛍光体層を有する、大サイズの蛍光体シートを製造する場合には、全面を均一な厚みに成膜することは難しく、現状では膜厚分布を±３％程度に収めることがその限界である。
【０００９】
蛍光体シートに記録された画像情報を読み取る場合、図４に示すように、蛍光体シート９０の基板上に形成された蛍光体層９４に、図示されていない光ビーム照射手段から光ビーム（励起光）を照射し、発生する輝尽発光光をラインＣＣＤセンサ９６で読み取る。
この際、ラインＣＣＤセンサ９６と蛍光体シート９０表面との距離Ａは約１００μｍである。これに対して、蛍光体層９４の膜厚を約５００μｍとすると、前述の膜厚分布が±３％程度ということから、蛍光体層９４の膜厚の変動幅Ｂは約３０μｍになる。従って、ラインＣＣＤセンサ９６と蛍光体シート９０表面との距離Ａが、場所によって大きく変動するため、画像にボケが発生するという問題がある。このため、蛍光体層９４の膜厚の変動幅をできるだけ小さくすることが望まれる。
【００１０】
また、成膜条件によっては、成膜中に材料中に含まれる異物等の影響で、スプラッシュ（突沸）と呼ばれる突起状の面荒れが発生することがある。このようなスプラッシュが発生した場合には、読み取り時における励起光または輝尽発光光の散乱が発生して、やはり読み取りヘッドによる読み取り時における情報の劣化（画像のボケ等）が発生する。
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、蛍光体シートからの放射線画像情報の読み取り時における情報の劣化を防止可能とすることにあり、より具体的には、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さを有する蛍光体層における、その厚みの均一性を実現可能として光学的特性に優れた蛍光体層の製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る蛍光体層の製造方法は、真空チャンバ内で、シート状の基板に蛍光体層を蒸着により成膜し、成膜後の蛍光体層の表面を研磨することを特徴とする。
【００１３】
ここで、本発明に係る蛍光体層の製造方法においては、前記蛍光体層の表面の研磨は、前記蛍光体層の表面の研磨は、所定の均一厚みの蛍光体層を得るとともに、前記蛍光体層の表面の突起等を除去するために行うものであり、具体的には、研磨材料を、所定の基準面との間に所定の間隔を以って位置させた状態で、前記研磨材料と前記基板とを相対的に移動させることによって行うことが好ましい。また、前記蛍光体層の表面の研磨に用いる研磨材料として、前記蛍光体層の幅を超える幅を有する研磨材料を用い、前記研磨材料と前記基板に前記蛍光体層が成膜された蛍光体シートとを、前記蛍光体層の幅方向と直交する長さ方向に相対的に移動させて行うことが好ましい。
【００１４】
このような構成を有する本発明によれば、蛍光体シートの製造に際し、成膜後の蛍光体層の表面を研磨して、所定の均一厚みとして、蛍光体シートの表面を平滑にしたことにより、読み取りヘッドと蛍光体シートとの間の距離が均一になるので、読み取りヘッドによる読み取り時における情報の劣化（画像のムラ等）が発生せず、良好な読み取りが可能になるという効果が得られる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面に基づいて、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、以下の説明においては、まず、真空蒸着装置によりシート状の基板に蛍光体膜を成膜して、蛍光体シートを作成する過程の概要を説明した後、作成された蛍光体シートの蛍光体層の研磨を行う過程を詳細に説明する。
【００１６】
図２に、本発明の一実施形態に係る蒸着蛍光体層の製造方法の第１段階である蛍光体シートの製造方法を具体化した蛍光体シート製造装置の概念図を示す。
なお、図示例の蛍光体シート製造装置（以下、単に製造装置ともいう）１０は、前述の、本出願人が特願２００２−４２９１号，同２００２−１９６３１号により提案した真空蒸着型の製造装置に準ずるものである。
【００１７】
すなわち、本実施形態に係る製造装置は、シート状の基板（ここでは、ガラス基板とする）Ｓの表面に、蓄積性蛍光体層を二元蒸着によって形成して、（蓄積性）蛍光体シートを作製するもので、基本的に、真空チャンバ１２と、基板保持・回転機構１４と、加熱蒸発部２２とを有して構成される、いわゆる基板回転型の真空蒸着装置を利用するものである。
【００１８】
なお、真空チャンバ１２には、系内を排気して所定の真空度にするための、図示しない真空ポンプ（真空排気手段）が接続される。
また、図示例の製造装置１０では、一例として、臭化セシウム（ＣｓＢｒ）および臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒｘ　（ｘは、通常、２〜３））を成膜材料とした二元の真空蒸着を行って、ガラス基板Ｓ上にＣｓＢｒ：Ｅｕを蓄積性蛍光体とする蛍光体層を成膜して、蛍光体シートを作製する。
【００１９】
なお、本発明に係る製造装置で作製する蛍光体シートにおいて、蓄積性蛍光体は、上記ＣｓＢｒ：Ｅｕに限定はされず、各種のものが利用可能である。
好ましくは、波長が４００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が利用される。このような輝尽性蛍光体は、特公平７−８４５８８号，特開平２−１９３１００号，同４−３１０９００号の各公報に詳述されている。
【００２０】
図２に戻って、説明を続ける。真空チャンバ１２は、鉄，ステンレス，アルミニウム等で形成される、真空蒸着装置で利用される公知の真空チャンバ（ベルジャー，真空槽）である。
図示例において、真空チャンバ１２内には、上方に基板保持・回転機構１４が、また、下方に加熱蒸発部２２が配設される。なお、ここでは、加熱蒸発部２２が１組だけの場合を例示したが、加熱蒸発部２２は複数組設けてもよいことはいうまでもない。
【００２１】
基板保持・回転機構１４はガラス基板Ｓを保持して回転するものであり、回転駆動源（モータ）２８ａと、ターンテーブル３０とから構成される。
ターンテーブル３０は、上側のガラス基板Ｓを保持する本体３２と下側（加熱蒸発部２２側）のシースヒータ３４とからなる円板で、その中心に、モータ２８ａと係合する回転軸２８が固定される。ターンテーブル３０は、後述する加熱蒸発部２２（成膜材料の蒸発位置）に対応する所定位置において、下面（シースヒータ３４の下面）にガラス基板Ｓを保持して、回転軸２８によって所定速度で回転される。また、シースヒータ３４は、成膜されるガラス基板Ｓを裏面（成膜面と逆側の面）から加熱する。なお、ガラス基板Ｓは、公知の治具１４ａ等を用いる方法（図２参照）で、成膜面を下方に向けてターンテーブル３０（シースヒータ３４の下面）に保持すればよい。
【００２２】
真空チャンバ内の、基板保持・回転機構１４の下方には、１組（２つ）の加熱蒸発部２２が配置される。図３に、加熱蒸発部２２の概念図を示す。なお、図３中、（ａ）は上面図（図１の上方から見た図）、（ｂ）は正面図（図２と同方向から見た図）を、それぞれ示す。
前述のように、本実施形態に係る製造装置１０は、臭化セシウムおよび臭化ユーロピウムを成膜材料として用い、これらを個々に加熱蒸発させる二元の真空蒸着を行うものであり、このため、加熱蒸発部２２は、ユーロピウム蒸発部（以下、Ｅｕ蒸発部という）３８と、セシウム蒸発部（以下、Ｃｓ蒸発部という）４０と、材料供給装置４６とを有する。
【００２３】
Ｅｕ蒸発部３８は、抵抗加熱装置４２によって、蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容した臭化ユーロピウム（付活剤材料）を、抵抗加熱して蒸発させる部位である。ここで、付活剤材料を抵抗加熱して蒸発させるための抵抗加熱装置４２には特に限定はなく、用いる付活剤材料に応じて、これを好適に蒸発できるものであれば、真空蒸着装置に利用されている各種のものが利用可能である。
また、抵抗加熱を行う際の出力にも特に制限はなく、付活剤材料等に応じて適宜設定すればよいが、図示例においては（ヒータの抵抗値によって異なるが）、５０Ａ〜１０００Ａ程度とすればよい。
【００２４】
一方、Ｃｓ蒸発部４０は、電子銃４４から出射した電子線（ＥＢ）を蒸発位置Ｐｃ（ハース）に照射することにより、蛍光体材料である臭化セシウムを加熱蒸発させる、電子線加熱装置である。
本実施形態に係る製造装置１０は、蛍光体層を真空蒸着で形成する蛍光体シートの製造において、蛍光体材料と付活剤材料とを別々に加熱蒸発させる二元蒸着とし、かつ、付活剤材料の加熱蒸発を抵抗加熱で行い、蛍光体材料の加熱蒸発を電子線加熱で行うことにより、蛍光体層（すなわち蛍光体中）に付活剤が均一に分散された、極めて高品質な蛍光体シートを効率よく製造可能としている。
【００２５】
本実施形態に係る製造装置１０において、Ｃｓ蒸発部４０は、電子線による加熱を行うものであれば、基本的に、公知の各種の蒸発手段が利用可能である。
従って、電子銃にも、特に限定はなく、電子線を１８０°偏向して蒸発位置に入射する１８０°偏向銃，同２７０°偏向銃，９０°偏向直進銃等、真空蒸着において利用されている各種の電子銃が利用可能である。図示例においては、電子銃４４は、一例として、２７０°偏向銃を利用している。
【００２６】
電子銃４４のエミッション電流やＥＢの加速電圧にも限定はなく、成膜材料や成膜する膜厚に応じた十分なものであればよい。
図示例においては、一例として、ＥＢの加速電圧は−１ＫＶ〜−３０ＫＶ、エミッション電流はＣｓ蒸発部３０が５０ｍＡ〜２Ａとするのが好ましい。
【００２７】
ここで、前述のように、蛍光体シートに成膜される蛍光体層は、通常の真空蒸着膜に比して非常に厚く、薄くても２００μｍ程度、通常５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍを超える場合もある。また、付活剤と蛍光体とは、例えば、モル濃度比で０．０００１／１〜０．０１／１程度と、蛍光体層の大部分が蛍光体である。そのため、図示例の製造装置１０においては、好ましい態様として、Ｃｓ蒸発部４０は、臭化セシウムの供給手段である、材料供給手段４６を有している。
【００２８】
図示例において、材料供給手段４６は、基本的に、シリンダ４８と、ピストン５０と、ケーシング５２と、昇降手段（モータ）５４とから構成される。
シリンダ４８は、その上端部が電子線の照射位置と一致するように、真空チャンバ１２の下面を貫通して一部が外部に突出した状態で、真空チャンバ１２の壁面に固定される円筒である。すなわち、図示例においては、シリンダ４８がいわゆるハースとなっており、その上端部が臭化セシウムの蒸発位置Ｐｃとなる。
【００２９】
また、ピストン５０は、シリンダ４８内に緩く嵌装される円柱状のピストンヘッド５０ａと、先端にピストンヘッド５０ａを固定するピストンピン５０ｂとから構成される。ピストンピン５０ｂには、ピストン５０を昇降（矢印ａ方向）する昇降手段５４が係合する。
さらに、シリンダ４８の開放端はケーシング５２で覆われて真空チャンバ１２内は気密に保たれ、かつ、ピストンピン５０ｂは、図示しないベアリングによって、前記昇降方向に往復動可能にケーシング５２に気密に軸支される。
【００３０】
臭化セシウムは、シリンダ４８の内径よりも若干小径の円柱状に成型されて、ピストンヘッド５０ａに載置された状態でシリンダ４８に収容される。
基板への成膜によって、蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムが消費されると、それに応じて、昇降手段５４が駆動して円柱状の臭化セシウムを上昇させる。これにより、シリンダ４８の上面すなわち蒸発位置には、常に臭化セシウムが供給され、２００μｍを超えるような厚膜の成膜にも好適に対応することができる。
【００３１】
前述のように、蛍光体シートでは、付活剤は蛍光体に対して極めて微量であり、蛍光体層の成分コントロールは重要である。本発明者らの検討によれば、付活剤を蛍光体中に均一に分散して添加（ドープ）した、厚みが２００μｍを超える高品質な蛍光体層を形成するためには、蛍光体の成膜材料と付活剤の成膜材料とで別々に蒸気を発生させて、両者を十分に混合した混合蒸気を生成し、この混合蒸気で基板に成膜を行うのが好ましい。
【００３２】
なお、ここでは、蒸着量が多い蛍光体材料の蒸発を電子線加熱で行うことにより、良好な制御性かつ効率で蒸発を行うことができ、成膜のコントロールを、より好適に行うことが可能になる。他方、抵抗加熱は、微量な成膜材料を空間的に高い均一性で分散して蒸発させることができるので、これを付活剤材料の加熱手段として用いることにより、混合蒸気中に微量の付活剤材料の蒸気を好適に分散して、付活剤をより均一に分散した、高品質な蛍光体層を形成することが可能である。
【００３３】
次に、本実施形態に係る蒸着蛍光体層の製造方法の第２段階である、作成された蛍光体シートの蛍光体層の研磨を行う研磨装置について説明する。
【００３４】
図１は、本実施形態に係る蒸着蛍光体層の研磨工程を示す模式側面図であり、ここでは、一例として、４３０ｍｍ角の蛍光体シート６４の蛍光体層６４ａの表面を、送り出し・巻き取り駆動機構により移送される幅４５０ｍｍの長尺の研磨材料（ラッピングシート）６２を用いて、研磨する構成としている。
すなわち、図示例の研磨工程では、シート支持台６６上に係止された蛍光体シート６４の表面（実際には、蛍光体シート６４上の蛍光体層６４ａの表面）に、上述の長尺の研磨材料６２を接触駆動させつつ、さらに自らも移動する研磨装置６０を用いて、研磨を行うように構成されている。
【００３５】
ここで、上述の研磨装置６０は、長尺の研磨材料６２を送り出す送り出し部６０ａとこれを巻き取る巻き取り部６０ｂ、および研磨材料６２を蛍光体シート６４に対して位置決めして接触させる当接部６０ｃから構成されており、さらに、この研磨装置６０全体が、図示されていない水平面内の移動機構により、図中の矢印ａ方向（蛍光体シート６４の一つの中心線に沿う方向）に沿って往復動するように構成されている。そして、上記研磨材料６２を、蛍光体シート６４の基準面（例えば、蛍光体シート６４の底面、もしくはシート支持台６６の表面）との間に所定のクリアランス（図中に、Ｐで示す距離）を有するように保持して移動させて、研磨を行うように構成されている。
【００３６】
なお、上記Ｐの値は、用いる研磨材料６２の特性や、研磨対象となる蛍光体層６４ａの特性によって、適宜決定すればよい。
具体的には、図１に示す通り、蛍光体層の好ましい厚み（平均的な厚み）ｔと基板Ｓの厚みＳｔとの合計値、すなわち、Ｐ＝ｔ＋Ｓｔとし、この値を、前述の基準面との間に設定するようにする。
【００３７】
ここでの研磨装置６０の移動機構としては、ラックアンドピニオンによる機構、ボールねじによる機構等、公知の種々の機構を用いて、駆動源であるモータ等の回転を変換するものでよく、移動方向も一方向への移動でもよく、移動方向を周期的に切り換える往復移動としてもよい。この場合の、移動方向の切り換え速度（周波数）は、適宜決定してよい。
なお、蛍光体シート６４と研磨材料６２との相対的な移動速度（研磨材料の当接速度）については、蛍光体層の特性や研磨材料の特性に応じて適宜決定すればよいが、本実施形態に示す蛍光体層（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）の場合は、比較的軟質なので、低速でもかなりの研磨速度が得られるものである。
【００３８】
以下、上述のように構成される製造装置における蛍光体層の成膜手順と、研磨装置における研磨手順を説明する。
前述のように、製造装置１０は、回転型の真空蒸着装置を利用するもので、蛍光体シートを製造する際には、まず、基板保持・回転機構１４のターンテーブル３０の下面に成膜面を下方に向けてガラス基板Ｓを装着した後、真空チャンバ１２を閉塞して減圧するとともに、シースヒータ３４を駆動して、ガラス基板Ｓを裏面から加熱する。
【００３９】
真空チャンバ１２の内部が所定の真空度に達したら、モータ２８ａによってターンテーブル３０を所定速度で回転しつつ、加熱蒸発部２２において、Ｅｕ蒸発部３８の抵抗加熱装置４２を駆動して蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容された臭化ユーロピウムを蒸発させ、かつ、Ｃｓ蒸発部４０の電子銃４４を駆動して蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムを蒸発させて、基盤ＳへのＣｓＢｒ：Ｅｕの蒸着すなわち蛍光体層の成膜を開始する。
【００４０】
ここで、前述のように、両蒸発位置は近接して配置され、かつ、臭化ユーロピウムの蒸発は抵抗加熱で行われるので、加熱蒸発部２２では、ごく微量な臭化ユーロピウムの蒸気が均一に分散された、両成膜材料の混合蒸気が構成され、この混合蒸気によって、付活剤が均一に分散されたＣｓＢｒ：Ｅｕが蒸着される。
所定厚さの蛍光体膜が成膜されたら、ターンテーブル３０の回転を停止し、真空チャンバ１２を開放して、蛍光体層の成膜を終了したガラス基板Ｓを取り出す。連続的に成膜を行う場合には、以下、上と同様にして、新たなガラス基板Ｓを装填して、成膜を行えばよい。
【００４１】
上述のような過程で蛍光体層が成膜されたガラス基板Ｓ、つまり蛍光体シート６４は、所定の時間経過後に、研磨装置６２による研磨工程にかけられる。
本実施形態における蛍光体シート６４のセットは、例えば、シート支持台６６に蛍光体シート６４を公知の係止部材により係止することにより行う。次に、研磨装置６０を、予め定められている前述のクリアランスＰとなるように位置調整して、必要な研磨量になるようにセットする。この位置調整は、例えば、研磨装置６０を、予め設定された位置に設けられているガイドレール上に載置する等の方法で行えばよい。
【００４２】
蛍光体シート６４のセットおよび研磨装置６０の位置決めが完了したら、まず、研磨装置６０における研磨材料６２の送りを開始し、さらに、前述の図示されていない移動（往復動）機構の駆動を開始して、研磨装置６０を、図１（ａ）の状態から図中の右方向に駆動して、蛍光体シート６４の蛍光体層６４ａの表面の研磨材料６２による研磨を開始する。通常は、研磨装置６０が蛍光体シート６４上を通過し終わった時点で、研磨が完了する。
【００４３】
上述のように構成される本実施形態に係る蛍光体層の研磨工程においては、前段の蒸着工程で作製された蛍光体シート６４の蛍光体層６４ａを、研磨装置６０における研磨材料６２の送り、および研磨装置６０自体の移動の２つの動作で、前述のクリアランスＰに基づく所定の厚みに研磨する。
この研磨動作により、蛍光体シート６４の蛍光体層６４ａの厚みが均一化されるとともに、スプラッシュ等による突起のような面荒れ状況も解消されて、良好な画像読み取りが可能な蛍光体シート層６４ａを有する蛍光体シート６４が得られる。
【００４４】
なお、蛍光体シート６４の蛍光体層６４ａの研磨動作をよりスムーズに行うために、研磨装置６０の位置を最初から最終目標となる厚みにはセットせず、段階的に位置調整を行うようにプログラムしてもよい。このように構成した場合には、研磨の進捗に伴って（もしくは予め定めたタイミングで）、研磨装置６０の位置を少しずつ降下させていくことになる。
【００４５】
ここで、表面研磨を行う際に用いるラッピングシートの粗さ、およびそれを用いて行う蛍光体シート６４の研磨時間については、予め実験的に測定して決定するようにしてもよい。
また、ラッピングシートの繰り返し使用回数等についても、ある程度、実験的に定めるようにしてもよい。
【００４６】
上記実施形態によれば、蒸着を行って作製した蛍光体シート上の蛍光体層を、予め定めた所定厚みに仕上げる（厚みの均一化）とともに、その表面から、成膜時に発生する突起状の異物を除去して、表面状態の良好な蛍光体層を有する蛍光体シートを得ることができるという顕著な効果を奏するものである。
また、上記実施形態によれば、基になる基板に厚みムラあるいはうねり等があった場合にも、それを吸収して、表面の平面性に優れた蛍光体シートを得ることができるという効果も奏するものである。
【００４７】
なお、上記実施形態は本発明の一例を示したものであり、本発明はこれに限定されるべきものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜の変更または改良を行ってもよいことはいうまでもない。
例えば、前述の実施形態においては、長尺のラッピングシート（ラッピングテープ）を用いた研磨装置を例に挙げたが、これ以外にも、蛍光体シートの蛍光体層表面に平行な面内で回転する研磨シート（もしくは、砥石類）を用いる方法、平板状のラッピングシート（いわば、ラッピングプレート）を往復動させる方法等が利用可能である。
【００４８】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さを有する蛍光体層における厚みの均一化と、それに基づく優れた光学的特性を実現可能とした蛍光体層の製造方法を実現できるという顕著な効果を奏するものである。
【００４９】
より具体的には、成膜後における蛍光体シートの蛍光体層の表面を研磨することにより、その厚みの不均一さを解消するとともに、成膜時に異物等に起因して発生する突起等を除去して、良好な表面状態を実現し、光学的特性の安定した、極めて高品質な蛍光体層を備えた蛍光体シートを効率よく製造することが可能になるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明の一実施形態に係る蒸着蛍光体層の研磨工程の説明図である。
【図２】実施形態に係る蛍光体シート製造装置の概念を示す図である。
【図３】実施形態に係る加熱蒸発部の概念図である。
【図４】蛍光体シートからの情報読み取りの説明図である。
【符号の説明】
１０　製造装置
１２　真空チャンバ
１４　基板保持・回転機構
２２　加熱蒸発部
２８ａ　モータ
３０　ターンテーブル
３４　シースヒータ
３８　Ｅｕ蒸発部
４０　Ｃｓ蒸発部
４２　抵抗加熱装置
４４　電子銃
４６　材料供給手段
６０ａ　研磨材料送り出し部
６０ｂ　研磨材料巻き取り部
６０ｃ　研磨材料当接部
６２　研磨材料
６４　蛍光体シート
６４ａ　蛍光体層
６６　シート支持台
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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