(57)【要約】【課題】スロートの総面積を常に一定に保ちながら、ガス発生室から複数箇所に分配比率を連続的に変化させて分配することができ、かつ複数のうち必要箇所に全ガス量を分配することができ、アクチュエータの必要数が少なく、低コスト化が可能なガス分配装置を提供する。【解決手段】ガス発生室から複数の出口１１ａ〜１１ｄにガス流を分配するガス分配装置。複数の出口に通じる各流路面積を連続的に変化させる回動可能なシャッターを有する複数の流量調節バルブ１２と、複数の流量調節バルブを互いに連動して制御する連動制御機構２０とを備える。流量調節バルブ１２は、各流路面積を全開から全閉まで連続的に調整可能であり、連動制御機構２０は、複数の流量調節バルブの流路面積の総和が常に一定に保たれ、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流せるようになっている。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス発生室から複数の出口にガス流を分配するガス分配装置であって、
複数の出口に通じる各流路面積を連続的に変化させる回動可能なシャッターを有する複数の流量調節バルブと、
該複数の流量調節バルブを互いに連動して制御する連動制御機構とを備え、
前記流量調節バルブは、各流路面積を全開から全閉まで連続的に調整可能であり、
前記連動制御機構は、複数の流量調節バルブの流路面積の総和が常に一定に保たれ、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流せるようになっている、ことを特徴とするガス分配装置。
【請求項２】
前記連動制御機構は、複数のカム溝をそれぞれ有し互いに同軸に積層された２枚のカム板と、該２枚のカム板のカム溝の交叉位置に位置する複数のカムフォロアと、該カムフォロアとシャッターを連結する複数の動力伝達機構と、２枚のカム板を独立に回転駆動する２つの駆動装置とを有し、
前記カム溝と動力伝達機構は、２枚のカム板の回転角度に応じて、複数のシャッターを連動して回動させ各流路面積を連続的に変化させる、ことを特徴とする請求項１に記載のガス分配装置。
【請求項３】
前記連動制御機構は、外周部に案内面を有し互いに同軸に積層された２枚のカム板と、該２枚のカム板の案内面と摺動して揺動する複数対のフォロアアームと、該各対のフォロアアームの揺動によりシャッターを回動させる複数の動力伝達機構と、２枚のカム板を独立に回転駆動する２つの駆動装置とを有し、
前記カム溝と動力伝達機構は、２枚のカム板の回転角度に応じて、複数のシャッターを連動して回動させ各流路面積を連続的に変化させる、ことを特徴とする請求項１に記載のガス分配装置。
【請求項４】
互いに直交する４方向の出口に対応する４つの流量調節バルブと、各流量調節バルブに対応する４組の動力伝達機構と、２枚のカム板を独立に回転駆動する２つの駆動装置を備える、ことを特徴とする請求項２又は３に記載のガス分配装置。
【請求項５】
前記駆動装置は、カム板を回転駆動する歯車列と、該歯車列を回転駆動するサーボモータと、カム板の回転角度を検出するポテンショメータとからなる、ことを特徴とする請求項２又は３に記載のガス分配装置。
【請求項６】
前記シャッターは、動力伝達機構による目標スロート面積からのずれを低減するように、スロート形状が設定されていることを特徴とする請求項２に記載のガス分配装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガス発生室から複数の箇所にガスを分配するガス分配装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガス発生室から複数の箇所にガスを分配するガス分配装置として、例えば、ロケット、ミサイル及び宇宙船の軌道変更および姿勢制御に用いるサイドスラスタが知られている。サイドスラスタとは、大気圏内あるいは大気圏外を飛行する飛翔体に搭載し、機軸とほぼ垂直方向にジェットを噴射して飛翔体の軌道変更および姿勢制御を行うものである。
【０００３】
かかるガス分配装置及びサイドスラスタは、種々の構成のものが、特許文献１〜５、等に開示されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−３４６５９８号公報
【特許文献２】
特開平１０−１０３１５６号公報
【特許文献３】
特開２００１−１８８９７号公報
【特許文献４】
特開平６−３３１３００号公報「飛翔体のサイドスラスタ」
【特許文献５】
特開平８−２１９６９６号公報「飛翔体の制御装置」
【０００５】
特許文献１の「横推力制御装置」は、軌道姿勢制御用スラスタであり、図１５に示すように、４つのスラスタ５１が装備される。対向する２つのスラスタのピントル５２は対になっており、各ピントル５２を２つのサーボモータ５３で動かすことにより、スロート面積を変化させ、推力を調整する。またこの装置では、対向するスラスタ５２のスロート面積の和が一定（全面積の１／２）に保たれる構造になっているため、スロートの全面積（対向するスラスタが２セット）の和が常に一定になる。
【０００６】
特許文献２の「ガス流を配分する制御バルブ」は、軌道姿勢制御用スラスタであり、図１６に示すように、一般的に４つのスラスタ６１が装備される。半球面状のマニホールド６２に４つの穴（スロート６３）が開いており、制御バルブ６４を回転させることにより、スロート面積を変化させ、推力を調整する。制御バルブは２つのサーボモータ６５によって、ジョイスティックのように回転させる。またこの装置では、対向するスラスタのスロート面積の和が一定（全面積の１／２）に保たれる構造になっているため、スロート６３の全面積（対向するスラスタが２セット）の和が常に一定になっている。
【０００７】
特許文献３の「ロケット」は、図１７に示すように、４つのサーボモータがそれぞれのピントル７１を前後運動させ、スロート面積を変化させる。なおこの装置では、各スラスタのスロート面積を自由に変化させられるが、総面積が機械的に一定に保たれる構造にはなっていない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ロケット、ミサイル及び宇宙船等で用いられるガス分配装置（例えばサイドスラスタ）では、ガス発生剤（例えば固形推進剤）を用いたガス発生装置は、一旦始動するとそれが燃焼する時間にわたって高圧ガスを連続的に発生する。そのため、ガス分配装置は内部の圧力を一定に保持できるようにスロートの総面積を常に一定に保つ必要がある。
【０００９】
また、サイドスラスタとして軌道変更や姿勢制御に用いる場合には、使用するスラスタからできるだけ大量（好ましくは全量）のガスを噴射でき、かつ使用しないスラスタからの噴射ガスはできるだけ少く（好ましくはゼロに）できることが好ましい。
【００１０】
特許文献１、２の装置では、対向するスラスタのセットでそれぞれ半分のガスを消費するため、単軸作動（スラスタ軸に平行方向の力を発生させる作動状態）させたとき発生ガスの半分しか有効に利用できない。このとき作動方向と垂直方向の軸は、中立を保持するため１／４ずつのガスを消費している。そのため、使用するスラスタからガスを全量噴射できる装置（例えば、特許文献３の「ロケット」）と同じ性能を得るには、より大量の発生ガスが必要となり、ガス発生装置が大型化し、推進薬の重量が嵩む問題点があった。
また、この装置では、ピントルのストロークとスロート面積が比例するよう設計する必要があるが、実際にそのような設計をすることは困難であり、可能であってもスラスタ性能の損失を伴うおそれがある。
【００１１】
一方、特許文献３の装置は、４つのサーボモータを使う構造になっているため、サーボモータ、サーボアンプ、電池及び機械的リンク機構等の重量が大きくなり、かつアンプの数量が増加するので、コストが高くなる。また、それぞれのピントルが独立して動くため、スロート面積が常に一定にならず、燃焼が不安定になり、燃焼停止あるいは圧力上昇を引き起こしたり、燃焼室圧力が不安定になり、推力が安定しない問題点があった。
【００１２】
本発明は、上述した問題点を解決するために創案されたものある。すなわち、本発明の目的は、スロートの総面積を常に一定に保ちながら、ガス発生室から複数箇所に分配比率を連続的に変化させて分配することができ、かつ複数のうち必要箇所に全ガス量を分配することができ、アクチュエータの必要数が少なく、低コスト化が可能なガス分配装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、ガス発生室から複数の出口にガス流を分配するガス分配装置であって、
複数の出口に通じる各流路面積を連続的に変化させる回動可能なシャッターを有する複数の流量調節バルブと、
該複数の流量調節バルブを互いに連動して制御する連動制御機構とを備え、
前記流量調節バルブは、各流路面積を全開から全閉まで連続的に調整可能であり、
前記連動制御機構は、複数の流量調節バルブの流路面積の総和が常に一定に保たれ、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流せるようになっている、ことを特徴とするガス分配装置が提供される。
【００１４】
上記本発明の構成によれば、流量調節バルブが、各流路面積を全開から全閉まで連続的に調整可能であり、連動制御機構が、複数の流量調節バルブの流路面積の総和が常に一定に保たれ、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流せるようになっているので、スロートの総面積を常に一定に保ちながら、ガス発生室から複数箇所に分配比率を連続的に変化させて分配することができ、かつ複数のうち必要箇所に全ガス量を分配することができる。
【００１５】
本発明の第１実施形態によれば、前記連動制御機構は、複数のカム溝をそれぞれ有し互いに同軸に積層された２枚のカム板と、該２枚のカム板のカム溝の交叉位置に位置する複数のカムフォロアと、該カムフォロアとシャッターを連結する複数の動力伝達機構と、２枚のカム板を独立に回転駆動する２つの駆動装置とを有し、
前記カム溝と動力伝達機構は、２枚のカム板の回転角度に応じて、複数のシャッターを連動して回動させ各流路面積を連続的に変化させる。
【００１６】
この構成によれば、２つの駆動装置で２枚のカム板を独立に回転駆動し、２枚のカム板のカム溝の交叉位置に位置するカムフォロアを連続的に移動することにより、２枚のカム板の回転角度に応じて、複数のシャッターを連動して回動させ各流路面積を連続的に変化させることができる。
【００１７】
本発明の第２実施形態によれば、前記連動制御機構は、外周部に案内面を有し互いに同軸に積層された２枚のカム板と、該２枚のカム板の案内面と摺動して揺動する複数対のフォロアアームと、該各対のフォロアアームの揺動によりシャッターを回動させる複数の動力伝達機構と、２枚のカム板を独立に回転駆動する２つの駆動装置とを有し、
前記カム溝と動力伝達機構は、２枚のカム板の回転角度に応じて、複数のシャッターを連動して回動させ各流路面積を連続的に変化させる。
【００１８】
この構成によれば、２つの駆動装置で２枚のカム板を独立に回転駆動し、２枚のカム板の案内面と摺動して揺動する複数対のフォロアアームを連続的に揺動することにより、２枚のカム板の回転角度に応じて、複数のシャッターを連動して回動させ各流路面積を連続的に変化させることができる。
【００１９】
また、互いに直交する４方向の出口に対応する４つの流量調節バルブと、各流量調節バルブに対応する４組の動力伝達機構と、２枚のカム板を独立に回転駆動する２つの駆動装置を備える。
この構成により、２つの駆動装置で４つの流量調節バルブを制御することができ、アクチュエータの必要数を低減し、低コスト化を達成できる。
【００２０】
前記駆動装置は、カム板を回転駆動する歯車列と、該歯車列を回転駆動するサーボモータと、カム板の回転角度を検出するポテンショメータとからなる。
この構成により、カム板の回転角度をフィードバックしてサーボモータを制御し、カム板の回転角度を正確に制御することができる。
【００２１】
前記シャッターは、動力伝達機構による目標スロート面積からのずれを低減するように、スロート形状が設定されている。
この構成により、動力伝達機構（例えば、リンク機構、歯車機構）の制約による目標スロート面積からのずれを修正することも可能であり、より望ましい形態になる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施形態を図面を参照して説明する。なお、各図において共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。
【００２３】
図１は、本発明のガス分配装置を内蔵した飛翔体の模式図である。この図において、（Ａ）はロケット、ミサイル、宇宙船等の飛翔体１の側面図であり、（Ｂ）はそのＢ−Ｂ矢視図である。飛翔体１は、本発明のガス分配装置１０を内蔵し、複数（この例では４つ）の出口からガス流し噴射し、飛翔体１の軌道変更や姿勢制御をするようになっている。
【００２４】
図１（Ｂ）に示すように、この例では４つの出口（噴射口）は、互いに直交する４方向（０°、９０°、１８０°、２７０°）に設定されている。以下、各噴射方向又はこれに関連する機構を説明の便宜上、記号ａ，ｂ，ｃ，ｄで示す。
【００２５】
図２は第１実施形態における図１（Ａ）のＡ部断面図である。この図に示すように、本発明のガス分配装置１０は、隔壁５で仕切られたガス分配室６と分配制御室７からなり、ガス発生室２から複数の出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄにガス流３を分配する機能を有する。
【００２６】
図３は図２のＡ−Ａ断面図である。本発明のガス分配装置１０において、出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄに通じる各流路面積は、同一に設定されている。
また、ガス分配装置１０は、４つの流量調節バルブ１２を備える。この流量調節バルブ１２は、４つの出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄにそれぞれ通じる各流路面積を連続的に変化させる回動可能なシャッター１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを有する。各シャッター１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄは飛翔体１の軸心Ｚ−Ｚに平行な回動軸１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄを有し、この回動軸の回動により、出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄに通じる各流路面積を全開から全閉まで連続的に調整できるようになっている。
【００２７】
なお各シャッターは、後述する動力伝達機構による目標スロート面積からのずれを低減するように、スロート形状を設定するのが好ましい。
【００２８】
図４は、図２のＢ−Ｂ断面図である。この図に示すように、本発明のガス分配装置１０は、更に４つの流量調節バルブ１２を互いに連動して制御する連動制御機構２０を備える。
図２及び図４において、連動制御機構２０は、２枚のカム板２１、２２、４つのカムフォロア２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ、４組の動力伝達機構２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ、及び２つの駆動装置２８からなる。
【００２９】
図５は、カム板の構成図である。２枚のカム板２１、２２は、図２及び図４に示すように、互いに同軸に積層され、それぞれ独立に回転可能に支持される。また図５（Ａ）（Ｂ）に示すように、それぞれ４つのカム溝２１ａ〜２１ｄ，２２ａ〜２２ｄを有する。なお、この図ではカム溝の中心線のみを実線で示している。
図５（Ｃ）に示すように、２枚のカム板２１、２２を同軸に積層すると、２枚のカム板のカム溝は交叉するように設定されており、４つのカムフォロア２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄは、それぞれ２枚のカム板のカム溝の交叉位置に位置する。
【００３０】
４組の動力伝達機構２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄは、図４に示すように、この例ではそれぞれ２つのリンク部材がピンで連結されたリンク機構であり、カムフォロア２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄとシャッターの回動軸１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄを連結する。
【００３１】
２つの駆動装置２８は、図２及び図４に示すように、それぞれカム板２１又は２２を回転駆動する歯車列２９ａと、歯車列２９ａを回転駆動するサーボモータ２９ｂと、カム板２１又は２２の回転角度を検出するポテンショメータ２９ｃとからなる。
【００３２】
上述した２枚のカム板２１、２２のカム溝２１ａ〜２１ｄ，２２ａ〜２２ｄの形状と動力伝達機構（リンク機構）２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄは、２枚のカム板２１、２２の回転角度に応じて、４つのシャッター１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを連動して回動させ各流路面積を連続的に変化させるようになっている。またこの作動において、４つの流量調節バルブの流路面積の総和が常に一定に保たれ、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流せるようになっている。
【００３３】
図６〜図１０は、上述した第１実施形態のガス分配装置の作動説明図である。これらの図において、カム板２１に付した２つの数字（例えば０／０）は、カム板２１、２２の基準位置からの回転角度（°）であり、４つの出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの外側の数字（例えば０．２５）は、単一流路の最大面積に対する各流路面積の比率を示している。
【００３４】
また、図６〜図１０において、図６は各流路面積が同一（面積比率：０．２５）に設定された基準位置、図７は基準位置から２枚のカム板２１、２２が−１５°／０°の位置、図８はカム板２１、２２が＋１５°／０°の位置、図９は−１５°／−１５°の位置、図１０は＋１５°／＋１５°の位置を示している。
【００３５】
図６において、４つの出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの流路面積比率は、すべて０．２５であり、ガスの噴射量は流路面積に比例することから、４方向の噴射量が同一である状態を示している。また、４つの出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの流路面積比率の和は１．０であり、４つの出口の面積合計が単一流路の最大面積と一致しており、ガス発生室２で発生するガス圧を一定に保持している。
【００３６】
図７では、３つの出口１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの流路面積比率は、すべて０であり、出口１１ａのみが１となっている。この状態では、出口１１ａの流量調節バルブ１２のみに、ガス発生室からの全てのガス流量を流すことができる。また、この状態でも、４つの出口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの流路面積比率の和は１．０であり、４つの出口の面積合計が単一流路の最大面積と一致し、ガス発生室２で発生するガス圧を一定に保持することができる。
【００３７】
同様に図８、９、１０では、それぞれ出口１１ｃ，１１ｂ，１１ｄのみの流路面積比率が１で、その他がすべて０となっており、それぞれ１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流せるようになっている。また、どの場合でも４つの出口の流路面積比率の和は１．０であり、４つの出口の面積合計が単一流路の最大面積と一致し、ガス発生室２で発生するガス圧を一定に保持することができる。
【００３８】
図１１は、第１実施形態のガス分配装置の特性図である。この図は下側カム板２２を０°に固定し、上側カム板２１の回転角度（横軸）を変化させた時の、４つの流量調節バルブ１２の開度（縦軸）を示している。また、図中の４本の曲線は、図１に示したａ〜ｄのシャッターに対応している。
図４に示した４組の動力伝達機構（リンク機構）とカム溝は、対向する２対はそれぞれ軸心Ｚに対し点対称に構成され、かつ相互に直交する機構は、位相が９０°相違するように構成されている。
この結果、図１１すように、シャッターａが、最大→中立位置→０と変化するとき、点対称位置のシャッターｃは、０→中立位置→最大と逆に動作し、直交位置のシャッターｂ，ｃは０→中立位置→０と変化する。
従ってこの図から、図６〜図１０に示した以外の状態においても、４つの流量調節バルブの流路面積の総和を常に一定に保持し、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流すことができることがわかる。
【００３９】
図１２は、第１実施形態のガス分配装置の別の特性図である。この図は１軸方向（ａ方向）の推力全開状態から、３軸方向（ｃ方向）推力全開状態へ推力片樵るする場合を示している。この図において、横軸が下側カム板２２を０°に固定し、上側カム板２１の回転角度、縦軸は１軸方向（ａ方向）の推力と２軸方向（ｂ方向）の推力である。
この図から、２軸方向（ｂ方向）の推力をほぼ０に保持したまま、１軸方向（ａ方向）の推力を最大から逆方向（３軸方向（ｃ方向）の最大まで連続的に変化させることができることがわかる。
【００４０】
図１３は、本発明のガス分配装置の第２実施形態を示す部分断面図であり、図１４はその部分側面図である。
図１３において、本発明のガス分配装置１０は、４つの流量調節バルブ１２を互いに連動して制御する連動制御機構３０を備える。
【００４１】
連動制御機構３０は、２枚のカム板３１、３２、４対のフォロアアーム３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ、３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ、４組の動力伝達機構３６及び２つの駆動装置２８からなる。４つの流量調節バルブ１２と２つの駆動装置２８の構成は第１実施形態と同様である。
【００４２】
図１３（Ａ）は、２枚のカム板３１、３２と４対のフォロアアームの平面図、図１３（Ｂ）（Ｃ）はそれぞれカム板３１、３２とこれと係合する４対のフォロアアームの一方を示している。
２枚のカム板３１、３２は、外周部に案内面をそれぞれ有し、互いに同軸に積層されている。また、４対のフォロアアームの一方３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ（上アーム）は、カム板３１の案内面と摺動して揺動し、４対のフォロアアームの他方３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ（下アーム）は、カム板３２の案内面と摺動して揺動する。
２枚のカム板３１、３２と４対のフォロアアームは、対向する２対はそれぞれ軸心Ｚに対し点対称に構成され、かつ相互に直交する機構は、位相が９０°相違するように構成されている。
【００４３】
図４において、動力伝達機構３６は、４対のフォロアアームの揺動運動を合成してシャッター１２を回動させる機能を有する。
【００４４】
この動力伝達機構３６は、一種の遊星歯車装置であり、太陽ギヤ３６ａ、遊星ギヤ３６ｂ、外周の内歯ギヤ３６ｃ、および遊星ギヤとともに太陽ギヤを中心に回転する回転板３７からなる。
シャッター１２の回動軸（この図では１３ｂ）の一端（図で左端）に太陽ギヤ３６ａは回転可能に連結され、４対のフォロアアームの一方３４ｂ（上アーム）が回転板３７に固定され、４対のフォロアアームの他方３５ｂ（下アーム）が内歯ギヤ３６ｃの外面に固定されている。
なお、フォロアアームを太陽ギヤと内歯ギヤに接続し、シャッターを遊星ギヤに接続してもよい。
【００４５】
この構成により、４対のフォロアアーム３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄの揺動運動を合成してシャッター１２を回動させ、各流路面積を連続的に変化させることができる。
従って、２枚のカム板３１、３２、４対のフォロアアーム３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ、４組の動力伝達機構３６の設定により、第１実施形態と同様に、４つの流量調節バルブの流路面積の総和を常に一定に保持し、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流すことができる。
【００４６】
なお、本発明は上述した実施例及び実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更できることは勿論である。例えば、上述の例ではサイドスラスタを例示したが、本発明はこれに限定されず、複数の箇所にガスを分配するガス分配装置に適用することができる。また、板カムを溝カムに変更し、逆に溝カムを板カムに変更することもできる。
【００４７】
【発明の効果】
上述したように、本発明の構成によれば、流量調節バルブが、各流路面積を全開から全閉まで連続的に調整可能であり、連動制御機構が、複数の流量調節バルブの流路面積の総和が常に一定に保たれ、かつ任意の１つの流量調節バルブに、ガス発生室からの全てのガス流量を流せるようになっているので、スロートの総面積を常に一定に保ちながら、ガス発生室から複数箇所に分配比率を連続的に変化させて分配することができ、かつ複数のうち必要箇所に全ガス量を分配することができる。
【００４８】
従って、本発明のガス分配装置は、スロートの総面積を常に一定に保ちながら、ガス発生室から複数箇所に分配比率を連続的に変化させて分配することができ、かつ複数のうち必要箇所に全ガス量を分配することができ、アクチュエータの必要数が少なく、低コスト化が可能である、等の優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガス分配装置を内蔵した飛翔体の模式図である。
【図２】本発明の第１実施形態における図１（Ａ）のＡ部断面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図４】図２のＢ−Ｂ断面図である。
【図５】図２のカム板の構成図である。
【図６】第１実施形態のガス分配装置の作動説明図である。
【図７】第１実施形態のガス分配装置の別の作動説明図である。
【図８】第１実施形態のガス分配装置の別の作動説明図である。
【図９】第１実施形態のガス分配装置の別の作動説明図である。
【図１０】第１実施形態のガス分配装置の別の作動説明図である。
【図１１】第１実施形態のガス分配装置の特性図である。
【図１２】第１実施形態のガス分配装置の別の特性図である。
【図１３】本発明のガス分配装置の第２実施形態を示す部分断面図である。
【図１４】図１３の部分側面図である。
【図１５】従来の装置の構成図である。
【図１６】従来の装置の構成図である。
【図１７】従来の装置の構成図である。
【符号の説明】
１  飛翔体、３  ガス流、５  隔壁、６  ガス分配室、７  分配制御室、
１０  ガス分配装置、１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ  出口（噴射口）、
１２  流量調節バルブ、１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ  シャッター、
１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ  回動軸、
２０  連動制御機構、２１、２２  カム板、
２１ａ〜２１ｄ，２２ａ〜２２ｄ  カム溝、
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ  カムフォロア、
２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ  動力伝達機構（リンク機構）、
２８  駆動装置、２９ａ  歯車列、２９ｂ  サーボモータ、２９ｃ  ポテンショメータ、
３０  連動制御機構、３１、３２  カム板、
３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ  フォロアアーム（上アーム）、
３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ  フォロアアーム（下アーム）、
３６  動力伝達機構（遊星歯車装置）、３６ａ  太陽ギヤ、
３６ｂ  遊星ギヤ、３６ｃ  内歯ギヤ、３７  回転板
【図１】
2004324607.tif 000003
【図２】
2004324607.tif 000004
【図３】
2004324607.tif 000005
【図４】
2004324607.tif 000006
【図５】
2004324607.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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