(57)【要約】【課題】光導波路を有する平面光回路部品とその他の光部品の接続において、平面基板に垂直な方向の両者の光軸を簡単に一致させること。【解決手段】シリコンの平面基板１０２上に形成された石英系光導波路１０１と第１の光部品固定溝１１１と第２の光部品固定溝１２１とによって構成され、光導波路１０１は、高い屈折率を有するコア１０３とその周りを囲むように形成された低い屈折率を有するクラッド１０４とから構成されている。また、第１の光部品固定溝１１１及び第２の光部品固定溝１２１は、それぞれ光軸調整溝１１２，１２２および光軸位置決め溝１１３，１２３とから構成されている。幅または深さが連続的に変化している光軸調整溝を形成した後、光軸位置決め溝を形成することによって、光軸調整溝を所望の幅または深さに調整できるため、光部品間の接続が容易かつ低損失に実現することが可能である。【選択図】        図１
2004198653.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面基板上に形成された光導波路と、該平面基板上に形成された光部品固定溝とから構成され、前記光導波路が、高い屈折率を有するコアと、該コアを囲むように形成された低い屈折率を有するクラッドとから構成され、前記光部品固定溝が、前記光導波路から出射される光の光路に沿って配置されている平面光回路部品において、
前記光部品固定溝が、前記光路に沿って幅または深さが連続的に変化している光軸調整溝と、該光軸調整溝と交差する光軸位置決め溝とから構成され、光軸調整溝の幅または深さが、前記交差部で最小となる構造を有し、前記平面基板上に少なくとも１つ以上の前記光部品固定溝を配置されていることを特徴とする平面光回路部品。
【請求項２】
前記光軸調整溝が、前記光導波路の形成時に、前記コアの両側に位置するように、該コアと同じ層に形成された位置合わせマーカに合わせてエッチングされることを特徴とする請求項１に記載の平面光回路部品。
【請求項３】
前記光導波路の光軸が一致する前記光軸調整溝の幅よりもわずかに大きな幅を有する溝マーカを前記コアの軸を挟んで設け、該溝マーカ間を基準としてエッチング加工することを特徴とする請求項１又は２に記載の平面光回路部品。
【請求項４】
前記光軸調整溝の幅Ｗ０は、前記光導波路のコアの高さｄとした時に、Ｗ０＝２（ｒ／ cosθ−ｄ tanθ）（ただし、ｒは光ファイバの半径、θは光軸調整溝の頂角）の関係を有することを特徴とする請求項１，２又は３に記載の平面光回路部品。
【請求項５】
前記光軸調整溝が、幅または深さが連続的に変わっている該光軸調整溝の途中または階段状に変わっている該光軸調整溝の段差部分に、該光軸調整溝と交差する区切り溝を少なくとも１つ以上有することを特徴とする請求項１に記載の平面光回路部品。
【請求項６】
前記光軸調整溝は、前記区切り溝とステップ領域を有し、前記区切り溝が、幅の異なる前記ステップ領域の境界に形成され、隣接する前記ステップ領域の幅よりも広い溝形状をしていることを特徴とする請求項５に記載の平面光回路部品。
【請求項７】
前記平面基板上に配置された前記光部品固定溝が、幅または深さの変化する向きが異なる複数の前記光軸調整溝を有することを特徴とする請求項１に記載の平面光回路部品。
【請求項８】
前記光部品固定溝を複数配置し、該光部品固定溝の各々の両側に前記光軸位置決め溝を設けるとともに、相対する前記光軸位置決め溝間に仕切部を介してフィルタ固定溝を設けたことを特徴とする請求項７に記載の平面光回路部品。
【請求項９】
平面基板上に形成された光導波路部と、該平面基板上に形成された光部品固定溝とから構成され、前記光導波路部が、高い屈折率を有するコアと、該コアを囲むように形成された低い屈折率を有するクラッドとから構成され、前記光部品固定溝が、前記光導波路部から出射される光の光路に沿って配置されている平面光回路部品の製造方法において、
前記光部品固定溝の製造工程が、前記光路に沿って幅または深さが連続的に変化する光軸調整溝を形成する工程と、形成した前記光軸調整溝の形状を測定する工程と、前記光軸調整溝の幅または深さが最小となる位置に該光軸調整溝と交差する光軸位置決め溝を形成する工程とから成ることを特徴とする平面光回路部品の製造方法。
【請求項１０】
前記光部品固定溝の製造工程が、幅または深さが連続的に変わっている該光部品固定溝の途中または階段状に変わっている該光部品固定溝の段差部分に、該光部品固定溝と交差する区切り溝を少なくとも１つ以上形成する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の平面光回路部品の製造方法。
【請求項１１】
前記平面基板がシリコンで、前記光軸調整溝の形成工程ではウェットエッチングを用い、前記光軸位置決め溝の形成工程では切削加工を用いることを特徴とする請求項９又は１０に記載の平面光回路部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平面光回路部品及びその製造方法に関し、より詳細には、光通信などの分野に適用される平面光回路部品及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
平面基板上に高い屈折率を有するコアとそれを取り囲む低い屈折率を有するクラッドからなる光導波路で構成される光デバイスを実用化する場合には、信号のインターフェースとして光導波路の入出力部に光ファイバを接続することが必要である。
【０００３】
従来、光導波路と光ファイバの接続方法の一つとして、平面基板上に高精度に位置決めされた溝を加工し、この溝に光ファイバを固定することによって、無調心で光ファイバと光導波路を接続する方法が開発されている。このような無調心接続法は、光導波路と光ファイバとの接続コストが低減でき、安価な平面光回路部品を実現することが可能である。
【０００４】
図５は、従来の光ファイバ接続法を説明するための基本構成図である。本構成では、クラッド５０４とコア５０３とからなる光導波路５０１が形成されている平面基板５０２上に光導波路の延長線に沿ってＶ溝（光部品固定溝）５４１が形成され、同時に、このＶ溝５４１と垂直な方向に凹溝５４２が形成される。ここで、Ｖ溝５４１は、フォトリソグラフィ技術を用いて形成することによって、光導波路の延長線上に精度良く容易に実現できる。従って、Ｖ溝５４１に沿って光ファイバ５３１を挿入し、凹溝５４２の壁面に露出している光導波路５０１のコア５０３の端面と突き合わせることによって、光導波路５０１のコア５０３と光ファイバ５３１との光軸を一致させることができる（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平８−３１３７５６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この従来技術では、光導波路５０１と光ファイバ５３１との平面基板に垂直な方向の光軸は、光導波路のコア５０３の高さとＶ溝５４１の深さを精度良く作製することによって一致させる必要があるため、光導波路およびＶ溝の垂直方向の作製精度が厳しいという問題点があった。一般にシングルモードの光導波路と光ファイバとの接続損失を０．１ｄＢ以下にするには、軸ずれ量を１μｍ以下にする必要がある。
【０００７】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、光導波路を有する平面光回路部品とその他の光部品（例えば、光ファイバ）の接続において、平面基板に垂直な方向の両者の光軸を簡単に一致させることが可能な平面光回路部品及びその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、平面基板上に形成された光導波路と、該平面基板上に形成された光部品固定溝とから構成され、前記光導波路が、高い屈折率を有するコアと、該コアを囲むように形成された低い屈折率を有するクラッドとから構成され、前記光部品固定溝が、前記光導波路から出射される光の光路に沿って配置されている平面光回路部品において、前記光部品固定溝が、前記光路に沿って幅または深さが連続的に変化している光軸調整溝と、該光軸調整溝と交差する光軸位置決め溝とから構成され、光軸調整溝の幅または深さが、前記交差部で最小となる構造を有し、前記平面基板上に少なくとも１つ以上の前記光部品固定溝を配置されていることを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記光軸調整溝が、前記光導波路の形成時に、前記コアの両側に位置するように、該コアと同じ層に形成された位置合わせマーカに合わせてエッチングされることを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の発明において、前記光導波路の光軸が一致する前記光軸調整溝の幅よりもわずかに大きな幅を有する溝マーカを前記コアの軸を挟んで設け、該溝マーカ間を基準としてエッチング加工することを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１，２又は３に記載の発明において、前記光軸調整溝の幅Ｗ０は、前記光導波路のコアの高さｄとした時に、Ｗ０＝２（ｒ／ cosθ−ｄ tanθ）（ただし、ｒは光ファイバの半径、θは光軸調整溝の頂角）の関係を有することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記光軸調整溝が、幅または深さが連続的に変わっている該光軸調整溝の途中または階段状に変わっている該光軸調整溝の段差部分に、該光軸調整溝と交差する区切り溝を少なくとも１つ以上有することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記光軸調整溝は、前記区切り溝とステップ領域を有し、前記区切り溝が、幅の異なる前記ステップ領域の境界に形成され、隣接する前記ステップ領域の幅よりも広い溝形状をしていることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項７に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記平面基板上に配置された前記光部品固定溝が、幅または深さの変化する向きが異なる複数の前記光軸調整溝を有することを特徴とする。
【００１５】
また、請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記光部品固定溝を複数配置し、該光部品固定溝の各々の両側に前記光軸位置決め溝を設けるとともに、相対する前記光軸位置決め溝間に仕切部を介してフィルタ固定溝を設けたことを特徴とする。
【００１６】
また、請求項９に記載の発明は、平面基板上に形成された光導波路部と、該平面基板上に形成された光部品固定溝とから構成され、前記光導波路部が、高い屈折率を有するコアと、該コアを囲むように形成された低い屈折率を有するクラッドとから構成され、前記光部品固定溝が、前記光導波路部から出射される光の光路に沿って配置されている平面光回路部品の製造方法において、前記光部品固定溝の製造工程が、前記光路に沿って幅または深さが連続的に変化する光軸調整溝を形成する工程と、形成した前記光軸調整溝の形状を測定する工程と、前記光軸調整溝の幅または深さが最小となる位置に該光軸調整溝と交差する光軸位置決め溝を形成する工程とから成ることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の発明において、前記光部品固定溝の製造工程が、幅または深さが連続的に変わっている該光部品固定溝の途中または階段状に変わっている該光部品固定溝の段差部分に、該光部品固定溝と交差する区切り溝を少なくとも１つ以上形成する工程を含むことを特徴とする。
【００１８】
また、請求項１１に記載の発明は、請求項９又は１０に記載の発明において、前記平面基板がシリコンで、前記光軸調整溝の形成工程ではウェットエッチングを用い、前記光軸位置決め溝の形成工程では切削加工を用いることを特徴とする。
【００１９】
このように本発明の構成によれば、光導波路の光路に沿って光軸調整溝の幅または深さが連続的に変化しているため、光軸調整溝と交差する光軸位置決め溝を最適な位置に形成することによって、光導波路とその他の光部品（例えば、光ファイバ）との光軸を簡単に一致させることができる。まず、光導波路のコア位置の作製誤差と所望の光部品（以下、説明を簡単にするために、光ファイバを例として説明する）を固定する光部品固定溝の幅または深さの作製精度を考慮して、光軸調整溝のいずれかの位置で光導波路と光ファイバの光軸がちょうど一致するように、光軸調整溝の幅または深さの変化量および最大値を設計する。
【００２０】
次に、光軸がちょうど一致する光軸調整溝の幅または深さよりも小さい溝は、光ファイバを固定する際の邪魔になるため、光軸がちょうど一致する光軸調整溝が残るように光軸位置決め溝を形成し、不要部分を削り取る。このような構造にすることによって、光部品固定溝に挿入された光ファイバは、基板と垂直な方向に対して光導波路の光軸とちょうど一致する位置に固定されるため、光導波路および光部品固定溝の作製精度に依存することなく低損失な接続を実現することが可能となる。
【００２１】
光ファイバを安定に固定するためには光軸がちょうど一致する溝幅または深さを有する構造を光部品固定溝内に縦列に２箇所以上配置することが望ましい。ただし、幅または深さが連続的に変化する光軸調整溝に光軸位置決め溝を形成する際は、加工面の荒れなどによって、光軸調整溝の幅または深さが所望の値からずれる場合がある。このような場合は、光部品固定溝を３箇所以上配置することによって加工面の荒れによる光軸調整溝の幅または深さのばらつき影響を低減することが可能である。特に、平面基板をシリコンなどの結晶基板を用い、溝または深さが連続的に変わる光軸調整溝を異方性エッチングで形成する場合は、（１１１）結晶面のみでなく（２２１）結晶面なども面も露出するため、加工面の荒れは比較的大きな物となるため、光部品固定溝を複数配置することは有効となる。
【００２２】
または、光軸位置決め溝を形成する際の加工荒れによって、光軸調整溝の幅または深さが所望の値とならず、ずれることがある。そこで、幅または深さが連続的に変化する光軸調整溝の途中に、光軸調整溝と交差する区切り溝を形成し、光軸位置決め溝をこの区切り溝に沿つて形成することによって、光軸位置決め溝を形成する際の加工荒れが直接光軸調整溝の幅または深さに影響しないようにすることが可能となるため、光ファイバと光導波路の光軸がちょうど一致する所望の幅または高さを有する光部品固定溝を確実に形成することが可能である。
【００２３】
以上のように、光導波路を有する平面光回路部品とその他の光部品を接続する際に、平面基板に垂直な方向の両者の光軸を簡単に一致させることが可能な平面光回路部品を提供し、低損失で安価な光デバイスを実現することが可能となる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の態様について説明する。
［実施例１］
図１は、本発明に係る平面光回路部品の実施例１を説明するための概略構成図で、図中符号１０１は光導波路、１０２は平面基板、１０３はコア、１０４はクラッド、１１１は第１の光部品固定溝、１１２は第１の光軸調整溝、１１３は第１の光軸位置決め溝、１２１は第２の光部品固定溝、１２２は第２の光軸調整溝、１２３は第２の光軸位置決め溝、１３１は光ファイバを示している。
【００２５】
本実施例に係る平面光回路部品は、シリコンの平面基板１０２上に形成された石英系光導波路１０１と第１の光部品固定溝１１１と第２の光部品固定溝１２１とによって構成されている。ここで、光導波路１０１は、高い屈折率を有するコア１０３とその周りを囲むように形成された低い屈折率を有するクラッド１０４とから構成されている。また、第１の光部品固定溝１１１及び第２の光部品固定溝１２１は、それぞれ光軸調整溝１１２，１２２および光軸位置決め溝１１３，１２３とから構成されている。
【００２６】
図２（ａ）〜（ｇ）は、本実施例の平面光回路部品の作製工程を示す図で、図中符号２０１は光導波路、２０２は平面基板、２０３はコア、２０４はクラッド、２０５は位置合わせマーカ、２１１は第１の光部品固定溝、２１２は第１の光軸調整溝、２１３は第１の光軸位置決め溝、２２１は第２の光部品固定溝、２２２は第２の光軸調整溝、２２３は第２の光軸位置決め溝、２２４は溝マーカを示している。なお、図１で示した構成要素と同一要素の参照番号は下二桁を同一の番号としてある。
【００２７】
まず、図２（ａ）において、シリコン平面基板２０２上に石英系光導波路２０１を形成した。この際、光部品固定溝２１１，２２１を形成する際に使用する位置合わせマーカ２０５をコア２０３の両側に位置するように、コア２０３と同じ層に形成した。
【００２８】
次に、図２（ｂ）において、光部品固定溝２１１，２２１を形成する部分の石英系光導波路２０１を除去し、シリコン平面基板２０２の表面を露出させた。ここで、図２（ｅ）に示すように、シリコン平面基板２０２から光導波路のコア２０３までの距離ｄを測定した。
【００２９】
次に、図２（ｃ）において、石英系光導波路２０１を形成時に作製した位置合わせマーカ２０５に合わせて、光軸調整溝２１２，２２２をシリコンの異方性エッチング（ウェットエッチング）を用いて作製した。ここで、幅が連続的に変化する光軸調整溝２１２，２２２を作製するには、幅が連続的に替えられているエッチング用マスクを使用することによって作製できた。また、この際、光フアイバ（図示せず）と光導波路２０２の光軸が一致する光軸調整溝２１２，２２２の幅Ｗ０よりも僅かに大きな幅Ｗを有する溝マーカ２２４を形成した。この溝マーカ２２４は、図２（ｆ）に示すように、２本の溝から構成され、２本の溝の間を基準とすることによって、エッチングの際の加工誤差が生じても、幅Ｗが変化しないようにした。
【００３０】
次に、光フアイバ（図示せず）と光導波路２０２の光軸が一致する光軸調整溝２１２，２２２の幅Ｗ０は、測定した光導波路のコア２０３の高さｄを用いて次式で算出した。
Ｗ０＝２（ｒ／ cosθ−ｄ tanθ）  ・・・（１）
ここで、ｒは、光ファイバの半径、θは光軸調整溝の頂角とした。
【００３１】
次に、図２（ｄ）において、溝マーカ２２４を基準として光軸調整溝２１２，２２２がちょうど幅Ｗ０となる位置に、図２（ｇ）に示すように、光軸位置決め溝２１３，２２３を機械加工で形成した。ここで、基準マーカ２２４は、２本の溝で構成し、その間が山として残るように形成した。このような構成にすることによって、溝形成の際の溝幅がずれたとしても溝の間の山の中心はずれないので、２本の基準マーカの間隔をこの山の中心で規定することで、精度良く位置決めすることができる。また、基準マーカ２２４の間隔は、Ｗ０よりも僅かに広いＷ０＋δとすることによって、光軸位置決め溝を形成した後も基準マーカが残るため、残った光軸調整溝から基準マーカ２２４までの距離を測定することで、容易に光軸調整溝の幅を測定することが可能となる。すなわち、光軸調整溝の幅が狭くなっている位置から基準マーカ２２４までの距離がδ／２の時が設計通りの加工ができていることになる。
最後に、作製した光部品固定溝２１１，２２１に光ファイバを挿入して固定した。
以上の工程によって本実施例の平面光回路部品を作製した。
【００３２】
本実施例では、当初の光軸調整溝２１２，２２２は幅の最大値（Ｗmax ）が１２５μｍ、幅の変化量（α）が１度で、長さ（Ｌ）が６００μｍとなるように設計した。この値は、（１００）面が露出したシリコン平面基板２０２の（１１１）結晶面に対して斜めに光軸調整溝２１２，２２２を形成するため生じる壁面の荒れ（以下の実施例においても、（１１１）面以外の面が露出するが、詳細は図示せず）、光軸調整溝２１２，２２２および光軸位置決め溝２１３，２２３を形成する際の作製誤差も考慮して決めた。
【００３３】
本実施例では、光軸調整溝２１２，２２２の幅の変化量を１度と小さくしているため、光軸位置決め溝２１３，２２３の位置精度を緩くする効果もある。例えば、光軸位置決め溝が設計よりもΔＬだけずれたとすると光軸調整溝の幅は、２ΔＬ tanθだけずれることになる。従って、θが小さいほど光軸位置決め溝の位置の許容量は大きくすることが可能となる。以上の結果、本実施例では、光ファイバ（図示せず）と光導波路２０２の光軸ズレによる損失は０．１ｄＢ以下の接続が実現された。
【００３４】
なお、本実施例では、シリコン平面基板２０２の（１００）面に光導波路２０１を形成した後、光軸調整溝２１２，２２２を形成したが、予め光軸調整溝を形成した後、光軸調整溝の無い部分に光導波路を形成しても同様の効果がある。更に、光軸調整溝の形成方法として、予め、シリコン平面基板の（１００）面に対して僅かに傾いた平面が露出したシリコン基板を使用することによっても、容易に連続的に深さの異なる光軸調整溝を実現することが可能である。
【００３５】
［実施例２］
図３（ａ），（ｂ）は、本発明に係る平面光回路部品の実施例２を説明するための概略構成図で、図３（ａ）は光軸位置決め溝の形成前の状態を示す図で、図３（ｂ）は光軸位置決め溝の形成後の状態を示す図である。
【００３６】
図中符号３０１は、光導波路、３０２は平面基板、３０３はコア、３０４はクラッド、３１１は第１の光部品固定溝、３１２は第１の光軸調整溝、３１３は第１の光軸位置決め溝、３２１は第２の光部品固定溝、３２２は第２の光軸調整溝、３２３は第２の光軸位置決め溝、３３１は光ファイバ、３２４はステップ領域、３２５は区切り溝を示している。なお、図１に示した構成要素と同一要素の参照番号は下二桁を同一の番号にしてある。
【００３７】
本実施例に係る平面光回路部品は、実施例１と同様の作製工程で作製した。図３（ａ）は光軸位置決め溝の形成前の状態を示す図で、光軸調整溝の拡大図に示すように、光軸調整溝３２２，３１１は、ステップ領域３２４と区切り溝３２５を有する。ステップ領域３２４は、シリコン平面基板３０２の（１１１）面が露出するように異方性エッチングを用いて形成することによって、極めて平坦性の良い面を有する。区切り溝３２５は、幅の異なるステップ領域３２４の境界に形成しており、隣接するステップ領域の幅よりも広い溝形状を有する。
【００３８】
図３（ｂ）は、光軸位置決め溝の形成後の構成図で、光軸位置決め溝３１３，３２３は、光ファイバ３３１と光導波路３０３の光軸がちょうど一致するような幅を有するステップ領域３２４が残り、そこよりも狭い幅のステップ領域を除去するように機械加工を用いて形成した。ここで、光軸位置決め溝３１３，３２３を区切り溝３２５に沿って、光軸調整溝３１２，３２２に接しないように形成することによって、極めて平坦性の良い光軸調整溝３１２，３２２の壁面を劣化させずに光軸位置決め溝３１３，３２３を形成した。この効果は、特に光軸調整溝が徐々に変化している場合には顕著である。
【００３９】
なお、本実施例では、光軸調整溝の幅を光導波路３０１のコア３０３に向かって細くなるように作製したが、逆に太くなるように作製しても同様の効果がある。更に、シリコン平面基板上に複数の光導波路が配置されている場合には、光軸調整溝を含む光部品固定溝も複数個並列して配置することになるが、光軸調整溝を近接して配置した場合、隣接する光軸調整溝の幅の広い部分が干渉して、所望の光軸調整溝を形成できない。そこで、光軸調整溝の幅が変化する方向を交互に配置することによって、隣接する光軸調整溝の干渉を回避することが可能である。
【００４０】
［実施例３］
図４は、本発明に係る平面光回路部品の実施例３を説明するための概略構成図で、４０１は光導波路、４０２は平面基板、４０３はコア、４０４はクラッド、４１１は第１の光部品固定溝、４１２は第１の光軸調整溝、４１３は第１の光軸位置決め溝、４２１は第２の光部品固定溝、４２２は第２の光軸調整溝、４２３は第２の光軸位置決め溝、４４１は第１のコリメータレンズ、４４２は第２のコリメータレンズ、４４３は誘電体多層膜フィルタ、４４４はフィルタ固定溝、４４５は仕切部を示している。なお、図１に示した構成要素と同一要素の参照番号は下二桁を同一の番号にしてある。
【００４１】
本実施例に係る平面光回路部品は、波長ａと波長ｂの光を分ける波長分波器を構成している。本実施例の平面光回路部品も実施例１と同様の作製工程で作製した。ただし、光軸位置決め溝４１３，４２３は、光部品固定溝４１１，４２１の両側に形成し、フィルタ固定溝４４４は、光軸位置決め溝４１３，４２３を作製する際に同時に機械加工で作製した。この際、光軸位置決め溝４１３，４２３の内、導波路側の溝幅を調整することによって、コリメータレンズ４４１，４４２との焦点を合わせた。また、コリメータレンズ４４１，４４２と多層膜フィルタ４４３が当たらないように光軸位置決め溝４１３，４２３とフィルタ固定溝４４４の間に仕切部４４５を形成した。
【００４２】
作製した平面光回路部品は、各波長の挿入損失が１ｄＢ以下であり、本発明を用いることによって、複数のコリメータレンズ、多層膜フィルタおよび光ファイバの接続を低損失にかつ安価に実現することが可能であった。
また、本実施例は、本発明が光ファイバの固定のみでなく、各種の光部品の固定にも有効であることを示すものである。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、幅または深さが連続的に変化している光軸調整溝を形成した後、光軸位置決め溝を形成することによって、光軸調整溝を所望の幅または深さに調整できるため、光導波路または光ファイバを含めた光部品間の接続が容易かつ低損失に・安価に実現することが可能であるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る平面光回路部品の実施例１を説明するための概略構成図である。
【図２】（ａ）〜（ｇ）は、本実施例の平面光回路部品の作製工程を示す図である。
【図３】図３は、本発明に係る平面光回路部品の実施例２を説明するための概略構成図で、（ａ）は光軸位置決め溝の形成前の状態を示す図で、（ｂ）は光軸位置決め溝の形成後の状態を示す図である。
【図４】本発明に係る平面光回路部品の実施例３を説明するための概略構成図である。
【図５】従来の光ファイバ接続法を説明するための基本構成図である。
【符号の説明】
１０１，２０１，３０１，４０１，５０１  光導波路
１０２，２０２，３０２，４０２，５０２  平面基板
１０３，２０３，３０３，４０３，５０３  コア
１０４，２０４，３０４，４０４，５０４  クラッド
１１１，２１１，３１１，４１１，５１１  第１の光部品固定溝
１１２，２１２，３１２，４１２，５１２  第１の光軸調整溝
１１３，２１３，３１３，４１３，５１３  第１の光軸位置決め溝
１２１，２２１，３２１，４２１，５２１  第２の光部品固定溝
１２２，２２２，３２２，４２２，５２２  第２の光軸調整溝
１２３，２２３，３２３，４２３，５２３  第２の光軸位置決め溝
１３１，３３１，５３１  光ファイバ
２２４  溝マーカ
３２４  ステップ領域
３２５  区切り溝
４４１  第１のコリメータレンズ
４４２  第２のコリメータレンズ
４４３  誘電体多層膜フィルタ
４４４  フィルタ固定溝
４４５  仕切部
５４１  Ｖ溝
５４２  凹溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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