(57)【要約】　　　（修正有）【課題】固定砥粒から遊離する砥粒が良好に分散することで、研磨面に対する作用砥粒数をより多くし、十分な研磨速度を有すると共に、シャープな研磨特性を有する固定砥粒研磨工具を提供する。【解決手段】カップリング剤により表面処理された砥粒１１と樹脂１５とで構成される固定砥粒研磨工具であって、カップリング剤と樹脂との組合わせは、カップリング剤がもつ有機官能基と、本来結合しにくい樹脂との組合せからなる。また、砥粒と樹脂とで構成される固定砥粒研磨工具であって、前記樹脂は前記砥粒を核として、該砥粒の周囲に高分子が重合被覆されたコアシェル型複合高分子１３である。【選択図】　　　図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カップリング剤により表面処理された砥粒と、樹脂とで構成される固定砥粒研磨工具であって、前記カップリング剤と樹脂との組合わせは、前記カップリング剤がもつ有機官能基と、本来結合しにくい樹脂との組合せからなることを特徴とする固定砥粒研磨工具。
【請求項２】
砥粒をカップリング剤により表面処理し、該砥粒を樹脂により固定保持する固定砥粒研磨工具の製造方法であって、前記カップリング剤と樹脂との組合わせは、前記カップリング剤がもつ有機官能基と、本来結合しにくい樹脂との組合せからなることを特徴とする固定砥粒研磨工具の製造方法。
【請求項３】
砥粒と樹脂とで構成される固定砥粒研磨工具であって、前記樹脂は前記砥粒を核として、該砥粒の周囲に高分子が重合被覆されたコアシェル型複合高分子であることを特徴とする固定砥粒研磨工具。
【請求項４】
砥粒を核として、その周囲に樹脂を重合させ、前記砥粒をコアとしたコアシェル型複合高分子原料を形成し、前記コアシェル型複合高分子原料を成形して研磨工具を形成することを特徴とする固定砥粒研磨工具の製造方法。
【請求項５】
前記樹脂が膨潤樹脂であることを特徴とする請求項４記載の固定砥粒研磨工具の製造方法。
【請求項６】
砥粒と、
前記砥粒を保持する第１の樹脂と、
前記第１の樹脂をさらに結合させる第２の樹脂と、からなる固定砥粒研磨工具であって、
前記第１の樹脂と第２の樹脂は、相互に接着力が低いことを特徴とする固定砥粒研磨工具。
【請求項７】
前記第１の樹脂と第２の樹脂は、溶解性パラメータが３以上、好ましくは６以上離れていることを特徴とする請求項６記載の固定砥粒研磨工具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ等の被加工物の表面を鏡面状に研磨する研磨工具に係り、特に砥粒をバインダ樹脂で保持した固定砥粒研磨工具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
研磨液（スラリ）を用いた化学機械研磨（ＣＭＰ）装置においては、比較的柔らかな研磨布に研磨砥粒を多量に含む研磨液（スラリ）を供給しつつ研磨するので、パターン依存性に問題がある。パターン依存性とは研磨前に存在する半導体ウェハ上の凹凸パターンにより、研磨後にもその凹凸に起因した緩やかな凹凸が形成され、完全な平坦度が得られにくいことである。即ち、細かなピッチの凹凸の部分は研磨速度が速く、大きなピッチの凹凸の部分は研磨速度が遅くなり、これにより研磨速度の早い部分と研磨速度の遅い部分とで緩やかな凹凸が形成されるという問題である。
【０００３】
近年、砥粒をバインダ樹脂で固定した固定砥粒研磨工具を用いた研磨プロセスが発表されている。固定砥粒研磨プロセスではその基本的特徴である高硬度のため、非常に高い平坦性が得られているが、一般に研磨液（スラリ）と研磨パッドとを用いた研磨に比べて研磨速度が遅く、半導体ウェハ等の研磨に際しては実用上スループットが低く、生産性が低下するという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、固定砥粒から遊離する砥粒が良好に分散することで、研磨面に対する作用砥粒数をより多くし、十分な研磨速度を有すると共に、シャープな研磨特性を有する固定砥粒研磨工具を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の固定砥粒研磨工具は、カップリング剤により表面処理された砥粒と、樹脂とで構成される固定砥粒研磨工具であって、前記カップリング剤と樹脂との組合わせは、前記カップリング剤がもつ有機官能基と、本来結合しにくい樹脂との組合せからなることを特徴とする。
【０００６】
上記本発明によれば、砥粒を表面処理したカップリング剤が持つ有機官能基と、本来結合しにくい樹脂との組合せから固定砥粒研磨工具が構成されているので、研磨の進行に際してカップリング剤がこれを保持する樹脂から分離しやすい。これにより、固定砥粒から遊離する砥粒が良好に分散して、研磨面に対する作用砥粒数をより多くし、研磨速度を向上することができる。
【０００７】
また、本発明の固定砥粒研磨工具は、砥粒と樹脂とで構成される固定砥粒研磨工具であって、前記樹脂は前記砥粒を核として、該砥粒の周囲に高分子が重合被覆されたコアシェル型複合高分子であることを特徴とする。また、砥粒と、前記砥粒を保持する第１の樹脂と、前記第１の樹脂をさらに結合させる第２の樹脂と、からなる固定砥粒研磨工具であって、前記第１の樹脂と第２の樹脂は、相互に接着力が低い（例えば、溶解性パラメータが３以上離れている）ことを特徴とする。
【０００８】
上記本発明によれば、砥粒を核としてその周囲に樹脂を重合被覆することで、例えばその樹脂が研磨液により膨潤することで、砥粒のバインダ樹脂からの離脱が容易となる。これにより研磨面に対する作用砥粒数をより多くし、研磨速度の向上を図ることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について添付図面を参照しながら説明する。
【００１０】
図１（ａ）は、砥粒１１を示し、図１（ｂ）は、砥粒１１をカップリング剤により処理し、その表面にカップリング剤１２による被膜を形成したことを示す。カップリング剤１２は、砥粒１１を構成する無機物に結合し、その表面を被覆する。固定砥粒研磨工具においては、砥粒がバインダ樹脂に保持され、砥粒とバインダ樹脂と気孔とが適当な比率で組み合わせて構成されている。カップリング剤には、樹脂と結合する有機官能基が含まれるが、本発明の固定砥粒研磨工具においては、カップリング剤が有する有機官能基と、その官能基に本来結合しにくい種類の樹脂との組合せにより構成されていることを特徴としている。
【００１１】
固定砥粒研磨工具中の砥粒が、その製造段階の乾燥状態においても砥粒同士が凝集しない手段として、砥粒にカップリング剤や高分子をコーティングする表面改質方法を採用する。砥粒としては粒径０．５μｍ以下のシリカ系、アルミナ系、酸化セリウム系、二酸化マンガン系、微粒子ダイヤモンド、酸化チタン系などがある。
【００１２】
カップリング剤は異質の材料同士、特に無機材料と有機材料を結合する際に、その結合力を向上する目的で使用され、無機材料と結びつく官能基と有機材料と結びつく官能基の両者を持っている。カップリング剤としては、クロム系、シラン系、チタン系、アルミニウム系、ジルコニウム系、また有機金属化合物がある。
【００１３】
固定砥粒研磨工具の製造段階においては、図２（ａ）に示すように、砥粒同士が凝集して研磨工具中に砥粒が均一に分散しなくなるという問題がある。従って、図２（ｂ）に示すようにカップリング剤により砥粒を表面処理しておくことで、その製造段階における砥粒同士の凝集を防止することができる。
【００１４】
砥粒同士の接近である凝集を防止するためには、砥粒に吸着したカップリング剤同士が立体的に反発する立体障害効果を利用することができ、吸着層の厚さが厚いほどその効果が強く表れる。吸着層の厚さは、カップリング剤の分子鎖の長さによって決まる。その長さは１００Å程であれば良いとされており、カップリング剤の選択の基準となる。
【００１５】
製造後の研磨に使用する段階では、砥粒とバインダ樹脂との結合性は弱いことが好ましい。カップリング剤が有する有機官能基と本来結合しにくい樹脂との組合せを採用することにより、研磨に際して研磨面における固定砥粒研磨工具からの砥粒の遊離が起こり易く、これにより研磨速度を向上することができる。
【００１６】
本発明の固定砥粒研磨工具に用いるカップリング剤は、特にシラン系カップリング剤およびチタン系カップリング剤であり、カップリング剤と固定砥粒のバインダ樹脂との結合性を弱める場合には、カップリング剤の有機官能基とバインダ樹脂との組合せを選択する必要がある。
【００１７】
例えば、バインダ樹脂がポリアクリル系・ポリメタクリル系・ポリスチレン・ポリエチレン・ジアリルフタレート・エチレンプロピレンジエン三元共重合体等のように官能基にアルキル基を含む場合には、シラン系カップリング剤は有機官能基にエポキシ基やアミノ基、ハロゲン基、メルカプト基を含む３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランやＮ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が好適である。チタン系カップリング剤には、有機官能基にアミノ基やカルボキシル基を持つものが適当である。
【００１８】
また、バインダ樹脂がエポキシ樹脂・フェノール樹脂・ウレタン樹脂・メラミン樹脂・ポリカーボネート・ポリ塩化ビニル・ポリイミド・スチレン−ブタジエン共重合体・天然ゴム等の場合には、シラン系カップリング剤は有機官能基にビニル基やアルコキシ基を持つビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン等が好適であり、チタン系カップリング剤は上記同様、有機官能基にアミノ基やカルボキシル基を持つものが好適である。
【００１９】
チタン系カップリング剤は、シラン系カップリング剤が樹脂と共有結合するのとは異なり、樹脂とファンデルワールス的な相互作用を示すために、その結合性は弱く、容易にバインダ樹脂より砥粒が遊離する。分子鎖の長いカップリング剤では、アルコキシ基を持つ例えば（Ｃ１７Ｈ３３ＣＯＯ）３ＳｉＣ３Ｈ６ＯＣＯＣ１７Ｈ３３等が好適である。
【００２０】
次に、固定砥粒研磨工具の製造方法の概要について図３を参照して説明する。まず、固定砥粒の原料を調整する。即ち、微細な砥粒と、樹脂材料および添加剤、すなわち界面活性剤などの砥粒分散剤、バッファーなどの加工安定化剤、ＫＯＨなどのＰＨ調整剤に代表される加工促進剤、高分子剤などの鏡面性向上剤等を含む添加剤などからなる固定砥粒原料（粉）を所要量秤量する。これらの原料を混合し、必要に応じ、純水や溶剤を加え、混合液を製作する。この際、攪拌機、超音波分散器等の分散処理を行い、各原料の分散を十分に行う。
【００２１】
次に、スプレードライヤで代表される乾燥手法を用い、乾燥造粒を行い、各種原料が均一に混合された０．１μｍ〜数百μｍの粉体（造粒粉）、望ましくは平均粒径が数〜数十μｍの粉体（造粒粉）を製作する。または、上記乾燥手法の他にフリーズドライ後粉砕粉や凝集およびまたは沈殿作用を利用し、混合粒子を作成する方法を採ってもよい。上記粉体（造粒粉）製作は必要に応じて混合後、乾燥工程または乾燥後混合工程、またはこれらを適宜繰り返し行ってもよく、混合する材料により他の材料の乾燥粉体と直接混合する工程をとってもよい。
【００２２】
次に、上記工程で得られた混合粉（造粒粉）に、必要に応じて適当な添加剤（薬剤）を加え、ホットプレスで代表される圧縮成形技術により成形し、固定砥粒研磨工具を得る。この際、成形するサイズにより圧縮成形機のサイズが決まる。このことから非分割構造の固定砥粒と比較し、分割構造、すなわちセグメント構造の固定砥粒を製作するほうが圧縮成形機のサイズが小さくて済む。さらに付帯する設備および後工程の設備も分割構造、すなわちセグメント構造の固定砥粒を製作するほうが小型の装置で済み、初期投資が少なく、製造コストを低く抑えることが可能である。
【００２３】
固定砥粒の保護と研磨装置への装着を容易にするために、上記工程で得られた固定砥粒を金属またはエンジニアリングプラスチック等機械的強度のある支持体（ベース）に接着や溶着等で固定する。この際、多数の、または複雑な形状のセグメントからなる固定砥粒は、固定の際の位置決めが難しく、また、位置決めが不正確である場合、固定砥粒とベースを固定するための接着剤がセグメント間にはみ出すリスクがある。接着剤が固定砥粒研磨作用面上にある場合、研磨を阻害する、またはウェハにスクラッチを発生させるなど好ましくないため、正確な位置決めが必要である。
【００２４】
上記製造工程において、砥粒をカップリング剤で表面処理するには、砥粒を溶媒中に分散させ、その溶媒中で処理できるカップリング剤を投入し、超音波分散装置等により溶媒中において砥粒及びカップリング剤を十分に分散させる。この時、カップリング剤は砥粒に対して０．１〜１０ｗｔ％程度混合することが好ましい。なお、溶媒として水系を用いる場合には、カップリング剤は水中で処理できるものを用いることが好ましい。この超音波分散装置等によりカップリング剤を溶媒中で十分に分散させることで、砥粒の表面にカップリング剤の被膜が形成される。このカップリング剤の被膜により固定砥粒研磨工具の製造過程において砥粒の凝集を防止でき、完成して研磨工具中に砥粒を均一に分散できることは上述したとおりである。
【００２５】
この後に、樹脂原料を上記溶媒中に分散し、噴霧乾燥法や凍結真空乾燥法等を用いて造粒粉を形成する。この造粒粉は、砥粒及び樹脂原料を含む溶媒が例えば霧状に噴霧されて高温の空気流により乾燥されて粉状に形成されたものであり、砥粒が凝集せずに分散を保った状態で得られる。
【００２６】
次に、砥粒を核として砥粒の周囲に高分子樹脂が重合被覆されたコアシェル型複合高分子を用いた固定砥粒研磨工具について説明する。図４は、この固定砥粒研磨工具を模式的に示したものである。この実施形態においては、砥粒１１を核として、その周囲に樹脂が重合被覆した被膜１３が形成されている。そして、この単位となる砥粒１１をコアとしたコアシェル型複合高分子が相互に結合して固定砥粒研磨工具が構成されている。ここで、砥粒の周囲にカップリング剤を介して高分子を重合させてコアシェル型複合高分子を形成するようにしても良い。
【００２７】
このコアシェル型複合高分子の形成は、上記砥粒を含むスラリ中に、バインダ樹脂例えばポリアクリル系・ポリメタクリル系・ポリスチレン・ＳＢＲ・ＮＢＲ・ＭＢＲ・ポリ酢酸ビニル・アクリルスチレン共重合体等のモノマーを添加し、乳化重合やソープフリー乳化重合を行い、砥粒の表面に重合体の被膜１３を形成することができる。また、乳化重合用乳化剤、例えば、脂肪酸ナトリウム・カリウム、不均斉化ロジンナトリウム・カリウム、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、スルホコハク酸ジアルキルエステルナトリウム、高級アルコール硫酸エステルナトリウム、アルキル（またはアルキルフェニル）エーテル硫酸エステルナトリウム・アンモニウム、部分けん化ポリビニルアルコール、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、第４級アンモニウム塩等を用いることができる。これらをカップリング剤に吸着させてから上記モノマーの重合を行うこともできる。
【００２８】
また、ソープフリー乳化重合法の一つである反応性乳化剤を用いる方法は、乳化剤自体が重合性を持ち、砥粒表面上のカップリング剤に吸着させて重合させることができる。反応性乳化剤として、例えば、アリル・プロペニル誘導体、アクリル酸誘導体、イタコン酸誘導体、マレイン酸誘導体等があり、これらと他のモノマーとの共重合体も用いることができる。
【００２９】
上記カップリング剤を用いない場合には、反応性乳化剤を直接砥粒表面に吸着させて重合もしくは他のモノマーとの共重合を行い、砥粒表面に被膜１３を形成することができる。これらの砥粒表面に高分子被膜を形成したコアシェル型複合高分子原料を直接加熱圧縮成型することで、固定砥粒研磨工具を形成することができる。このようにして形成した固定砥粒研磨工具は砥粒自体に高分子被膜を備えているので、その他のバインダ樹脂を用いることなく固定砥粒研磨工具を形成することができる。
【００３０】
一般に、コアシェル型樹脂は、例えばＡＢＳ樹脂のように、コア部が樹脂でできているが、本発明の固定砥粒研磨工具においてはコア部に砥粒を用いていることを特徴としている。このため、樹脂同士でコアシェル型樹脂を形成しないように、高分子核の生成を抑制し、砥粒表面のみに高分子を成長するようにしている。即ち、砥粒表面と生成する核のエントロピーを調整し、均質溶液の下限臨界過飽和濃度以下に溶液を調整し、生成する核の成長を抑制する。即ち、過飽和濃度以上で下限臨界過飽和濃度以下に溶液濃度を調整する。そして、砥粒同士の凝集を押さえるため、等電位点をはずし、且つ塩濃度を低く抑える。また、非機械的ドレッシングによる等方的ドレッシング方法に適した高分子（シェル）を採用するようにしても良い。
【００３１】
尚、コアシェル型複合高分子の製造方法には、以下の方法がある。
第一に、砥粒周囲に均質に高分子を成長させることが難しいため、砥粒表面に界面活性剤や有機高分子（官能基）の吸着処理を施す。そして、有機高分子（官能基）の吸着層にシェルとなる高分子被膜をカプセル重合する。尚、有機質・無機質の親和性向上がポイントとなる。
第二に、ヘテロ凝集を利用する。
第三に、懸濁重合法、乳化重合法を採用する。
いずれの方法においても、複合微粒子のサイズ・粒度分布のコントロールが必要であり、配向等により固定砥粒研磨工具としての特性に大きく影響する。
【００３２】
図５は、本発明の他の実施形態の固定砥粒研磨工具を示す。この実施形態の研磨工具においては、砥粒１１と、その砥粒を保持する第１の樹脂１３と、その第１の樹脂１３をさらに結合させる第２の樹脂１５とから構成されている。即ち、砥粒１１を核としてその周囲に高分子１３が重合被覆されたコアシェル型複合高分子が第２の樹脂１５により結合されて固定砥粒研磨工具が構成されている。ここで第１の樹脂１３と第２の樹脂１５とは、結合性が低く、溶解性パラメータが３以上離れていることを特徴としている。なお、溶解性パラメータは６以上離れていることが好ましい。ここで、複数の砥粒１１が第１の樹脂１３内にのみ分散されていて、第２のバインダ樹脂１５が第１のバインダ樹脂１３を結合するようにしても良い。
【００３３】
即ち、上述した固定砥粒研磨工具の製造工程で、固定砥粒研磨工具の原料である造粒粉を形成するに際して、バインダ樹脂１３中に砥粒１１を含む造粒粉を形成する。そして、溶解性パラメータが異なる第２の樹脂１５を用いて砥粒を含む第１の樹脂を保持するようにしたものである。第１の樹脂１３と第２の樹脂１５との溶解性パラメータが３以上離れていることで、これらの樹脂相互間の接着力が低くなり、砥粒を分散保持した第１のバインダ樹脂１３が容易に第２のバインダ樹脂１５から遊離して、多くの作用砥粒が研磨面に放出され、これにより高速の研磨が可能となる。また、樹脂１３，１５間の接着力が低いことから、樹脂の研磨工具への再付着を防止することができる。
【００３４】
第１のバインダ樹脂１３と第２のバインダ樹脂１５との間の結合性を低いものとすることは、例えば溶解性パラメータが３以上、好ましくは６以上異なる樹脂を用いることで実現できる。この時、砥粒を分散保持した第１あるいは第２のバインダ樹脂１３，１５の溶解性パラメータを研磨液のそれに近似することで、研磨液に溶解して研磨面に砥粒を分散して研磨を促進する。例えば水の溶解性パラメータ（２３．４）に近似した樹脂として、水溶性樹脂・エラストマーが挙げられ、例えばポリビニルアルコール（２３．４）等があり、これらを第１あるいは第２のバインダ樹脂として用い、第２あるいは第１のバインダ樹脂として、テフロン（６．２）、シリコンゴム（７．３）、天然ゴム（７．９）、ポリイソブチレン（８．０）、ポリブタジエン（８．４−８．６）、ポリブタジエンスチレン（８．１−８．６）、ポリスチレン（９．７）、ネオプレン（８．２−９．２）、ポリブタジエン−アクリロニトリル（９．４−９．５）、ポリ塩化ビニル（９．５−９．７）、ポリ酢酸ビニル（９．４）、ポリメタクリル酸メチル（９．５）、ポリエチレンテレフタレート（１０．７）、ポリアクリロニトリル（１５．４）、エポキシ樹脂やウレタン樹脂などの熱硬化性樹脂を用いることができる。
また、第１のバインダ樹脂内の砥粒は、より分散性を良好にするために上述のカップリング剤や高分子でコーティングするようにしてもよい。
【００３５】
ここで第１の樹脂１３として、研磨液に対して膨潤する性質を有する膨潤樹脂を用いることができる。研磨に際して、固定砥粒研磨工具の研磨面が研磨液に接触することで、樹脂１３が膨潤軟化し、弾性を有するように変化する。
【００３６】
図６に示すように、固定砥粒研磨工具１７の表面は、被加工物の凸部接触時にある程度の剛性を有し、凹部接触時にフレキシビリティを有することが必要である。例えば半導体ウェハ等の被研磨物２１の凸部２１ａが接触する部分では、膨潤した樹脂１３ａが押しつぶされ、高剛性が発揮され、加工圧力が大となり高い加工能率が発揮される。一方で、被研磨物２１の凹部２１ｂでは、膨潤した樹脂１３ｂのため加工圧力が小さくなり、柔軟な性質を呈し砥粒１１が介在してもスクラッチが発生しない。
【００３７】
従って、固定砥粒研磨工具１７の表面は被加工物の凸部接触時にある程度の剛性が発揮され、凹部接触時にフレキシビリティを呈することになる。従って、凸部のみを研磨可能にし、凹部を研磨し難くすることができ、シャープな研磨特性を維持することができる。即ち、研磨面が研磨液により樹脂１３が膨潤軟化し、弾性を有するように変化し、被加工物の凸部研磨時には圧縮限界を迎え、弾性変形しないことにより大きな加工圧力で加工できるので、高速研磨が可能で且つシャープな研磨特性を発揮することができる。
【００３８】
なお、この実施形態においては、樹脂１３が研磨液を吸収して膨潤する例について述べたが、例えば光線の照射により樹脂が軟化して弾性化するような性質を有するものを用いても良い。これにより、同様に研磨の進行に伴い光線を照射することで、樹脂１３を膨潤させ、これにより遊離砥粒の自生促進と共にシャープな研磨特性を得ることが可能である。
【００３９】
尚、上記実施形態は本発明の実施例の一態様を述べたもので、本発明の趣旨を逸脱することなく種々の変形実施例が可能なことは勿論である。
【００４０】
【発明の効果】
上述した本発明によれば、研磨加工時に研磨面に対する作用砥粒数をより多くし、固定砥粒研磨工具に十分な研磨速度を与えることができる。また、被加工物に対してシャープな研磨特性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は砥粒を示し、（ｂ）は砥粒にカップリング剤の被膜を形成した状態を示す図である。
【図２】（ａ）は砥粒が凝集した状態を示す図であり、（ｂ）はカップリング剤による表面処理を施して砥粒が分散した状態を示す図である。
【図３】固定砥粒研磨工具の製造工程の概要を示すフロー図である。
【図４】高分子被膜を備えた砥粒を結合して構成した固定砥粒研磨工具を模式的に示す図である。
【図５】砥粒を保持する第１の樹脂を第２の樹脂を用いて結合して構成した固定砥粒研磨工具を模式的に示す図である。
【図６】砥粒を保持する樹脂が膨潤性を有する場合の研磨時の状態を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１１　　　砥粒
１２　　　カップリング剤による表面処理膜
１３　　　コアシェル型複合高分子被膜（第１の樹脂）
１３ａ，１３ｂ　　　膨潤樹脂
１５　　　第２の樹脂
１７　　　固定砥粒研磨工具
２１　　　被加工物（半導体ウェハ）
２１ａ　　　凸部
２１ｂ　　　凹部
【図１】
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【図２】
2004074330.tif 000004
【図３】
2004074330.tif 000005
【図４】
2004074330.tif 000006
【図５】
2004074330.tif 000007
【図６】
2004074330.tif 000008