(57)【要約】【課題】簡単な構成で広がり角度が大きい複数のライン光を発生させることができるライン光発生光学系及びそれを搭載し、複数ライン光を照射できる低価格のレーザ墨出し装置を提供する。【解決手段】ロッドレンズ１のレンズ面のうち、光入射面側の一部に入射光を反射する光反射面を形成する。反射面の膜厚はロッドレンズ固有の形状誤差をキャンセルするような膜厚分布を持っている。従って指示精度が極めて高いライン光を得ることが可能である。また、このライン光発生光学系をレーザ墨出し装置に搭載することで簡単な構成で高精度の複数方向のライン光を得ることができる。【選択図】  図１
2004264151.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の一部に入射光を反射する反射面を設け、入射光を広がり角度の大きいライン光に変換するロッドレンズであって、
上記反射面を形成するために表面に設けられた反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにしたことを特徴とするロッドレンズ。
【請求項２】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を入射し、ライン光を発生するロッドレンズとから構成され、上記ロッドレンズの表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにしたことを特徴とするライン光発生光学系。
【請求項３】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を反射光と透過光に分離する少なくとも１個のハーフミラーと、上記反射光と透過光の光路に配置されたロッドレンズとから構成され、上記ロッドレンズの表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにし、少なくとも２本のライン光を形成することを特徴とするライン光発生光学系。
【請求項４】
上記ハーフミラーの反射光が上記ロッドレンズに入射したときの反射光を再び上記ハーフミラーに入射し、該ハーフミラーを透過した光を得るように構成したことを特徴とする請求項３記載のライン光発生光学系。
【請求項５】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を反射光と透過光に分離する第１ハーフミラーと、上記反射光の光路に配置された第１ロッドレンズと、上記透過光の光路に配置された第２ハーフミラーと、該第２ハーフミラーの反射光の光路に配置された第２ロッドレンズと、上記第２ハーフミラーの透過光の光路に配置された第３ロッドレンズとからなり、上記第１、２、３のロッドレンズの少なくとも１個のロッドレンズの表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにしたことを特徴とするライン光発生光学系。
【請求項６】
上記第１ハーフミラーの反射光が上記ロッドレンズに入射したときの反射光を再び上記第１ハーフミラーに入射し、該第１ハーフミラーを透過した光を得るように構成したことを特徴とする請求項５記載のライン光発生光学系。
【請求項７】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光を反射光と透過光に分離する少なくとも１個のハーフミラーと、上記反射光と上記透過光の光路の少なくとも一方に配置されたロッドレンズとから構成され、上記ロッドレンズの表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにし、少なくとも２本のライン光を形成することを特徴とするライン光発生光学系。
【請求項８】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を入射し、ライン光を発生するロッドレンズとから構成されるライン光発生光学系と、該ライン光発生光学系を支持する支持機構とから構成されるレーザ墨出し装置であって、
上記ロッドレンズはその表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにしたことを特徴とするレーザ墨出し装置。
【請求項９】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を反射光と透過光に分離する少なくとも１個のハーフミラーと、上記反射光と上記透過光の光路に配置されたロッドレンズとから構成されたライン光発生光学系と、該ライン光発生光学系を支持する支持機構から構成されるレーザ墨出し装置であって、
上記ロッドレンズの表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにし、少なくとも２本のライン光を形成することを特徴とするレーザ墨出し装置。
【請求項１０】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を反射光と透過光に分離する第１ハーフミラーと、上記反射光の光路に配置された第１ロッドレンズと、上記透過光の光路に配置された第２ハーフミラーと、該第２ハーフミラーの反射光の光路に配置された第２ロッドレンズと、上記第２ハーフミラーの透過光の光路に配置された第３ロッドレンズとから構成されるライン光発生光学系と、該ライン光発生光学系を支持する支持機構から構成されるレーザ墨出し装置であって、
上記第１、２、３のロッドレンズの少なくとも１個のロッドレンズの表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにしたことを特徴とするレーザ墨出し装置。
【請求項１１】
半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光を反射光と透過光に分離する少なくとも１個のハーフミラーと、上記反射光と上記透過光の光路の少なくとも一方に配置されたロッドレンズとから構成されるライン光発生光学系と、該ライン光発生光学系を支持する支持機構から構成されるレーザ墨出し装置であって、
上記ロッドレンズの表面の一部に反射膜を形成して光反射面を設け、上記反射膜の厚さをレンズ長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をレンズ軸心と平行となるようにし、少なくとも２本のライン光を形成することを特徴とするレーザ墨出し装置。
【請求項１２】
上記反射膜を真空蒸着により形成し、ロッドレンズ固有の平行度誤差角をα、反射膜形成領域の長さをｘ、蒸発源真上における反射膜の膜厚をｔｏ、蒸発源とロッドレンズの距離をｈとした時、
ｈ＝ｘ・［（１−ｘ・ｔａｎα／ｔｏ）−１／２  −１］−１／２    の関係を満たすように距離ｈを設定したことを特徴とするロッドレンズの光反射膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は極めて広がり角度の大きいライン光を発生できるライン光発生光学系及びそれを搭載したレーザ墨出し装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
広がり角度の大きいライン光を発生できるロッドレンズを特願２００２−２５８０１２により提案した。これは表面の一部に入射光を反射する反射面を形成し、反射光と透過光を利用して広がり角度の大きいライン光を発生するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記反射面により形成されたライン光の指示精度はロッドレンズの形状精度の影響を大きく受けるが、これを図３を参照して説明する。今、図３（ｂ）におけるロッドレンズ断面上任意の点Ｓ１の座標はＳ１（−Ｒｓｉｎξ、−Ｒｃｏｓξ）である。ここで入射光Ｂ１はｙ軸に平行であり、反射点Ｓ１により反射した光Ｂ２がロッドレンズ中心ＯからＬだけ離れた観測地点にてＰ点に到達すると仮定する。入射光Ｂ１と半径Ｌの円との交点をＩとし、線分（Ｓ１−Ｉ）及び線分（Ｓ１−Ｐ）の長さをｂとすると、Ｐ点の座標は
Ｐ（−（ｂｓｉｎ２ξ＋Ｒｓｉｎξ）、−（ｂｃｏｓ２ξ＋Ｒｃｏｓξ））
となる。今ロッドレンズは長手方向において平行度αの誤差を有しているものとする。すなわち反射光は図３（ａ）において左方向に傾くことになる。図３においてＣ点における法線について考えると、この法線はＹ軸上でＯ´と交わる。ロッドレンズ円周上の任意の点における法線は全てＹ軸上でＯ´と交わる。そこで次に点Ｏ´の座標を求める。
【０００４】
図３（ａ）において点Ｃ（−Ｒ、０）を通る法線の式は
Ｙ＝−ｔａｎα・Ｘ−Ｒｔａｎα  （１）
となる。従って図３（ａ）におけるＯ´のの座標は（０、−Ｒｔａｎα）となる。図３（ａ）において任意の点Ｓ１の座標は（−Ｒｓｉｎξ、０）であるから点Ｓ１における法線Ｓ１Ｏ´の式は
Ｙ＝−（ｔａｎα／ｓｉｎξ）・Ｘ−Ｒｔａｎα    （２）
となる。今図３（ａ）において法線Ｓ１Ｏ´とＸ軸がなす角度をψとすると
ｔａｎψ＝ｔａｎα／ｓｉｎξ      （３）
となる。反射光Ｓ１ＰとＹ軸がなす角度は２ψとなるため反射光Ｓ１Ｐの式は
Ｙ＝−ｔａｎ２ψ・Ｘ−Ｒｓｉｎξ・ｔａｎ２ψ      （４）
となる。
ここで（４）式にＸ＝−（ｂｓｉｎ２ξ＋Ｒｓｉｎξ）を代入すると
Ｙ＝ｂ・ｓｉｎ２ξ・ｔａｎ２ψ      （５）
となる。すなわち図３（ａ）においてＰ点のＹ座標の絶対値が反射光到達点における指示精度となる。ライン光到達点における誤差量をΔとすると
Δ＝｜Ｙ｜＝｜ｂ・ｓｉｎ２ξ・ｔａｎ２ψ｜      （６）
となる。ここでｂは、線分（Ｓ１−Ｉ）及び線分（Ｓ１−Ｐ）の長さであるため図３（ａ）において、
直線Ｓ１Ｉの式    ｘ＝−Ｒｓｉｎξ      （７）
及び
半径Ｌの円の式  ｘ２＋ｙ２＝Ｌ２      （８）からｂを求める。
式（７）を式（８）に代入してまとめると
ｙ＝±（Ｌ２−Ｒ２ｓｉｎ２ξ）１／２
となる。すなわち点Ｓ１及びＩの座標はそれぞれ
（−Ｒｓｉｎξ、−Ｒｃｏｓξ）
（−Ｒｓｉｎξ、−（Ｌ２−Ｒ２ｓｉｎ２）１／２）
となる。
【０００５】
従って線分Ｓ１Ｉの長さは
2004264151.tif 000003
となる。式（９）を式（６）に代入しまとめると
2004264151.tif 000004
ここでｔａｎψ＝ｔａｎα／ｓｉｎξ      （３）を代入してまとめると
Δ＝４［（Ｌ２−Ｒ２ｓｉｎ２ξ）１／２  −Ｒｃｏｓξ］  ｃｏｓξ・ｔａｎα
（ただしξ＝０を除く）となる。今、反射光の到達点の距離Ｌはロッドレンズの半径Ｒに比べて十分に大きいので上式は次のように変形できる。
Δ＝４Ｌｃｏｓξ・ｔａｎα        （１０）
すなわちロッドミラー上の反射面によって形成されたライン光の指示精度は式（１０）によって表され、ロッドレンズ長手方向の平行度の影響を受けることが明らかである。従ってライン光の指示精度を向上させるためにはロッドレンズ長手方向の平行度を向上させる必要がある。
【０００６】
しかし、ロッドレンズ本体の平行度を改善するためにはロッドレンズに修正加工を施す必要が生じ大変な手間であり、コスト増となる。
【０００７】
本発明の目的は、このような従来の課題を解決した、簡易なロッドレンズ、ライン光発生光学系及びそれを用いたレーザ墨出し装置を提供することである。
【０００８】
本発明の他の目的は、ライン光の広がり角度が２４０°近くに達する極めて広い角度範囲のライン光を発生する光学系及びそれを用いたレーザ墨出し装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、反射面を形成するために表面に設けられた反射膜の厚さをロッドレンズの長手方向に沿って変え、反射膜の軸方向に沿う表面をロッドレンズの軸心と平行となるようにすることにより達成される。すなわち、ロッドレンズ本体の平行度を改善するのではなく、ロッドレンズ表面に形成する反射膜の厚みを最適化して平行度を改善しライン光指示精度を向上することにより達成される。
【００１０】
本発明の他の特徴は、半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を反射光と透過光に分離する少なくとも１個のハーフミラーと、上記反射光と上記透過光の光路に配置されたロッドレンズとからライン光発生光学系を構成したことにある。このようにすると、２４０°程度の広がり角度を有する複数のライン光を形成することが可能になる。
【００１１】
本発明の他の特徴は、上記ハーフミラーの反射光が上記ロッドレンズに入射したときの反射光を再び上記ハーフミラーに入射し、該ハーフミラーを透過した光を得るように構成したことにある。このようにすると、広がり角度の大きいライン光とは別に地墨光に使用できる光線を得ることができる。
【００１２】
本発明の他の特徴は、半導体レーザと、該半導体レーザからの出射光をコリメート光に変換するコリメータレンズと、該コリメート光を反射光と透過光に分離する第１ハーフミラーと、上記反射光の光路に配置された第１ロッドレンズと、上記透過光の光路に配置された第２ハーフミラーと、該第２ハーフミラーの反射光の光路に配置された第２ロッドレンズと、上記第２ハーフミラーの透過光の光路に配置された第３ロッドレンズとからなり、上記第１、２、３のロッドレンズの少なくとも１個のロッドレンズの表面の一部に上記の反射膜を形成したことにある。このように構成することにより多数のしかも異なる種類のライン光を容易かつ高精度に得ることが可能になる。
【００１３】
本発明の他の特徴は、上述のようなロッドレンズを有する光学系を搭載したレーザ墨出し装置を構成したことにある。このようにすると、複数ライン光照射用レーザ墨出し装置を低価格で提供することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
（実施形態１）
本発明ライン光発生光学系は、基本的にはレーザ光源とロッドレンズから構成される。図１はその一実施形態を示す。ロッドレンズ１の側面に反射面２ａ及び２ｂが形成されている。図２はロッドレンズ１の断面で、紙面と垂直方向に長い円柱形状をしている。本実施形態ではロッドレンズ１の材料としてガラス材であるＢＫ７（屈折率１．５）を用いている。また、ロッドレンズ１の直径は２ｍｍ、長さは１０ｍｍとした。
【００１５】
ロッドレンズ１のレンズ面のうち、入射面側に一部の入射光を反射させる反射面２ａ、２ｂが形成されている。この光学反射面は本実施形態では２箇所に形成されている。すなわち、ロッドレンズ１の断面形状でみると、図２のように光の入射側の光軸付近の円周面すなわち透過面２ｃを除く上下の円周面に反射面２ａ，２ｂが形成されている。この光学反射面２ａ，２ｂはＣｒやＡｌ等の金属薄膜を真空蒸着法やスパッタリング法等の手法により成膜することで形成することができる。
【００１６】
反射面が存在しない透過面２ｃに入射した光Ｇはスネルの法則に従い、ロッドレンズ１内部を屈折した後、反対側の面から出射する。ロッドレンズ１は長手方向には屈折作用を持たないため、ロッドレンズ１へ入射した光は一方向のみ広がりライン光に変換される。一方、反射面２ａ及び２ｂで反射した光は同様にライン光となる。
【００１７】
今、ロッドレンズ１の長手方向の平行度を測定した所、１０ｍｍの領域において平行度は５秒であった。そこでロッドレンズ１表面にＣｒ薄膜からなる反射面２ａ及び２ｂを形成した。この時、最小膜厚２．７６μｍから最大膜厚３μｍまで反射膜の厚さがゆるやかに変わるように反射膜を形成した。比較例として均一な厚みに反射面を形成したサンプルも作製した。作製した２種類のロッドレンズを用いてライン光を発生させ１０ｍ離れたスクリーンにライン光を照射させ指示精度を評価した結果、比較サンプルでは最大約０．９ｍｍライン光指示位置がずれていたが、本発明ロッドレンズ１ではライン光の指示位置に誤差は生じなかった。
【００１８】
（実施形態２）
次に本発明ロッドレンズ１の製造方法について説明する。本実施形態では真空蒸着法を用いて反射膜を形成した。一般に真空蒸着法においては蒸発源から薄膜形成面までの距離に応じて膜厚が変化することは周知である。図４に示すように蒸発源１３から高さｈの距離にある平面１４ａ上の中心Ｏからｘ離れた平面１４ｂにおける膜厚をｔ、中心Ｏにおける膜厚をｔｏとするとＨｏｌｌａｍｄ−Ｓｔｅｃｋｅｌｍａｃｈｅｒの式から、
ｔ／ｔｏ＝１／［１＋（ｘ／ｈ）２］２      （１１）
となる（共立出版  光学薄膜１４５〜１４９頁）。上式から例えばｘ／ｈ＝０．１の場合、ｔ／ｔｏ＝０．９８となる。すなわち長さが１０ｍｍのロッドレンズに薄膜を形成する場合、ｘ／ｈ＝０．１とするのには蒸発源１３から平面１４ａまでの距離を１００ｍｍに設定する必要がある。この時、中心Ｏにおいて膜厚１μｍの薄膜を形成すると中心Ｏから１０ｍｍ離れた点における膜厚は０．９８μｍとなり０．０２μｍ薄くなる。これは平行度で表すと
ｔａｎ−１（０．０２／１００００）＝０．４秒となる。すなわち薄膜形成面が０．４秒の平行度を有する場合は、上記の条件で薄膜を形成することにより形成後の反射面の平行度を０にすることが可能となる。
【００１９】
本実施形態では直径が２ｍｍ、長さが１０ｍｍ、５秒の長手方向平行度を有するロッドレンズ１側面にＣｒ薄膜の光学反射面２ａ、２ｂを形成し、さらに形成後の平行度を０にする方法について説明する。
【００２０】
ロッドレンズ１が５秒の平行度を有するため、ロッドレンズ１の端部から１０ｍｍの位置では１００００×ｔａｎ（５／３６００）＝０．２４３  μｍだけ傾いていることになる。そこで蒸発源とロッドレンズ１の配置を最適化することによりロッドレンズ１が有する０．２４３μｍの傾き成分をキャンセルする。すなわち蒸発源からの距離ｈを５０ｍｍに設定し、中心Ｏにロッドレンズの一方の端面を配置することによりｘ／ｈ＝１０／５０＝０．２となるため、前述の式から
ｔ／ｔｏ＝１／［１＋（０．２）２］２＝０．９２
が得られる。ここでｔｏ＝３μｍとなるように薄膜形成を行うとｘ＝１０ｍｍの位置では３×０．９２＝２．７６μｍとなり、膜厚の差は３−２．７６＝０．２４μｍが得られる。すなわち薄膜形成面の平行度は補正され０となる。
【００２１】
今、蒸発源１３の真上に薄膜形成領域の一端を配置し、薄膜形成領域の長さをｘ、ロッドレンズ１の長さ方向の平行度をαとすると、薄膜形成領域の始点と終点におけるロッドレンズ１の半径偏差は  ｘ・ｔａｎα  となる。この半径偏差を０とすることで薄膜形成後のロッドレンズ１の長さ方向の平行度は０となる。すなわち薄膜形成領域において薄膜膜厚差をΔｔとすると
Δｔ＝ｘ・ｔａｎα    （１２）
となるように薄膜を形成すればよいことが分かる。
また、Δｔ＝ｔｏ−ｔ    である。これを変形して
ｔ＝ｔｏ−Δｔ      （１３）
となる。式（１３）を式（１１）に代入すると
2004264151.tif 000005
式（１２）を式（１４）に代入してまとめると
１−（ｘ／ｔｏ）・ｔａｎα＝１／［１＋（ｘ／ｈ）２］２
上式をｈについてまとめると
ｈ＝ｘ・［（１−ｘ・ｔａｎα／ｔｏ）−１／２  −１］−１／２    （１５）
となる。
【００２２】
すなわちロッドレンズ１の平行度α、薄膜形成領域の長さｘ及び蒸発源真上における成膜膜厚ｔｏが与えられた場合、蒸発源とロッドレンズ１の距離ｈを式（１５）で表される距離に設定して蒸着することで、ロッドレンズ固有の平行度誤差αを補正することが可能な反射膜を形成することが可能となる。上記方法に加えて蒸着方法としてはいわゆる斜め蒸着による方法を用いてもよい。
【００２３】
（実施形態３）
本発明のロッドレンズ１をレーザ墨出し装置に実装した形態について説明する。図５に示すようにレーザ墨出し装置１０は基本的にはライン光を発生させる光学系３と光学系３を水平に保つための支持機構部４から構成されている。
【００２４】
図６にライン光発生光学系３の概略を示す。レーザ墨出し装置１０本体に対して水平方向に配置した半導体レーザ５から出射されたレーザ光はコリメータレンズ６により断面形状が円形であるコリメート光（平行光）Ｂ１に変換される。本実施形態ではコリメート光Ｂ１のビーム径は２ｍｍになるように設定している。
【００２５】
コリメート光Ｂ１の光路上には光軸に対して４５°の角度をなすように第１ハーフミラー７が配置されている。このハーフミラー７は３３％の光が反射し、６７％の光が透過するような特性を有している。反射光Ｒ１は垂直上向きに向かって進み、光路上に設置された本発明のロッドレンズ１ａに入射する。このロッドレンズ１ａはその長手方向が半導体レーザ５の出射方向と平行になるように設置されている。従って反射光Ｒ１により形成されるライン光はＲ１を含み紙面と垂直な面に約２４０°の広がりがりをもつライン光となる。
【００２６】
また、ロッドレンズ１ａに垂直に入射した光のうち５０％の光は反射角０°で反射するため、そのまま通ってきた光路を戻り、再びハーフミラー７に入る。ハーフミラー７への戻り光のうち６７％がハーフミラー７を透過して光線Ｔ０となる。この光ＴＯは鉛直下向きに進むため、いわゆる地墨光として用いることができる。
【００２７】
次にハーフミラー７を透過した６７％の光は光路上に設けられた第２ハーフミラー８により５０％の光は反射し、５０％の光は透過する。設置条件はハーフミラー７の場合と同一であるため、反射光Ｒ２は垂直上向きに向かって進み、光路上に設置された本発明のロッドレンズ１ｂに入射する。このロッドレンズ１ｂは、その長手方向が半導体レーザ５の出射方向と直交するように、つまり紙面と垂直方向に設置されている。従って反射光Ｒ２により形成されるライン光はＲ２を含み紙面と同じ面に約２４０°の広がりを持ち、指示精度の高いライン光を得ることができる。
【００２８】
次にハーフミラー８を透過した透過光Ｔ１はその前方に設けられたロッドレンズ１ｃに入射する。このロッドレンズ１ｃはその長手方向が紙面と同じ面で半導体レーザ５の出射方向と垂直方向に向くように設置している。従ってＴ１により形成されるライン光は、Ｔ１を含み、紙面と垂直方向の面に約２４０°の広がりを有する水平ライン光となる。
【００２９】
図７では本発明のレーザ墨出し装置１０のライン光発生の様子を示す。図７で半導体レーザ５の左側を前方、右側を後方、半導体レーザ５の上側を上方、下側を下方とすれば、Ｒ１から形成されたライン光は装置左右垂直ライン光及び装置上方左右ライン光、Ｒ２から形成されたライン光は装置前後で垂直ライン光及び装置上方前後ライン光、Ｔ１から形成されたライン光は装置前方水平ライン光及び装置左右水平ライン光となる。さらにＴ０から装置下方に地墨光を得ることができる。なお、ミラー等の光学素子を用いることにより光線Ｒ１、Ｒ２あるいはＴ１の出射方向を変えてもよい。
【００３０】
【発明の効果】
上述のように本発明にかかる光反射面を有するロッドレンズを用いれば、簡易な方法で、広がり角度の大きくかつ高い支持精度を有するライン光を得ることが可能となる。また、本発明ロッドレンズをレーザ墨出し装置の光学系に搭載することで１個の光源から広がりの大きな複数本のライン光を容易に得ることができるため、低コストで複数本の墨出し用レーザライン光を発生させることが可能となった。その結果、従来は非常に高価であった高精度な複数ライン光照射用レーザ墨出し装置を低価格で提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明ライン光発生光学系を構成するロッドレンズの一実施形態を示す外観図。
【図２】本発明ロッドレンズの断面説明図。
【図３】本発明ロッドレンズのライン光の拡がり角度の説明図。
【図４】蒸着装置における蒸発源と被蒸着面の関係を示す説明図。
【図５】本発明ライン光発生光学系を搭載したレーザ墨出し装置の概略図。
【図６】本発明ライン光発生光学系の一実施形態を示す構成図。
【図７】本発明レーザ墨出し装置により発生されるライン光の説明図。
【符号の説明】
１はロッドレンズ、２ａ、２ｂは光反射面、２ｃは透過面、３はライン光発生光学系、４は支持機構部、５は半導体レーザ、６はコリメータレンズ、７は第１ハーフミラー、８は第２ハーフミラー、１０はレーザ墨出し装置、１３は蒸発源、１４ａ、１４ｂは被蒸着平面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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