(57)【要約】【課題】基板に蒸着しなかった成膜材料が、真空チャンバ内等に蒸着することを極力防止して、真空チャンバ内各部の汚染を防止するとともに、高価な成膜材料を、効率的に回収可能とする蛍光体シートの製造装置を提供すること。【解決手段】真空チャンバ内で、成膜基板に蛍光体層を成膜する蛍光体シートの製造に際し、前記真空チャンバ内、幅方向を前記成膜材料の蒸発蒸気の進行方向に一致させたシート状物を配置し、基板に蒸着しなかった成膜材料をこのシート状物の表面に付着させるようにした蛍光体シートの製造装置。シート状物は、長尺で、適宜の速度で搬送されつつ使用される。【選択図】図１
2004077237.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバと、この真空チャンバ内の排気手段と、基板の保持手段並びに蛍光体層の成膜手段を有する蛍光体シートの製造装置であって、
前記真空チャンバ内にさらに、成膜材料蒸発位置の少なくとも一部を囲むようにして、幅方向を前記成膜材料の蒸発蒸気の進行方向に一致させた可撓性の長尺のシート状物を配置したことを特徴とする蛍光体シートの製造装置。
【請求項２】
前記シート状物が巻回された長尺のシート状物であり、この巻回されたシート状物を送出する送出手段と、この送出手段から送出された前記シート状物を巻き取る巻取り手段と、前記送出手段からこの巻取り手段に到る所定の搬送経路で、前記シート状物を断続的または連続的に搬送する搬送手段と、前記シート状物を冷却する冷却手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の蛍光体シートの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は蛍光体シートの製造技術の分野に属し、より具体的には、真空蒸着等によって基板上に蛍光体膜を形成する際に特に有効な、成膜材料の回収機能を含む蛍光体シートの製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
放射線（Ｘ線，α線，β線，γ線，電子線，紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、上述の蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この蓄積性蛍光体を含有する層（以下、蛍光体層という）を有するシート（蛍光体シート、または、放射線像変換シートと呼ばれる）を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、ＦＣＲ（Ｆｕｊｉ　Ｃｏｍｐｕｔｅｄ　Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ富士写真フィルム（株）商品名）等として実用化されている。
このシステムでは、蛍光体シートに人体などの被写体の放射線画像情報を記録し、記録後に、蛍光体シートをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、写真感光材料等の記録材料、あるいはＣＲＴ等の表示装置に、被写体の放射線画像の可視像として出力する。
【０００４】
このような蛍光体シートは、通常、蓄積性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のシート状の支持体に塗布し、乾燥して、蛍光体層を形成することによって、作製される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の物理蒸着法（気相成膜法）によって、支持体に蛍光体層を形成してなる蛍光体シートも知られている（特許第２７８９１９４号，特開平５‐２４９２９９号等の各公報参照）。蒸着によって作製される蛍光体層は、真空中で形成されるため不純物が少なく、また、バインダなどの蓄積性蛍光体以外の成分が殆ど含まれないので、性能のばらつきが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特徴を有している。
【０００５】
一般に、真空蒸着は、光学部品のコーティング，磁気記録媒体や電子ディスプレイの製造等の各種の分野における薄膜の成膜方法として利用されている。これらにおける蒸着による成膜では、殆どの場合、形成する膜の厚さは１μｍ以下であり、厚くても３μｍ程度である。
これに対して、真空蒸着で形成される蛍光体シートの蛍光体層は、薄くても２００μｍ以上、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さが必要になる。
【０００６】
本出願人は先に、このような蛍光体層の形成（蛍光体膜の製造）に好適に用い得る蛍光体シートの製造方法または装置を提案している（例えば、特願２００２−４２９１号，同２００２−１９６３１号参照）。
これらの技術は、いわゆる二元蒸着による蛍光体シートの製造技術に係るものであり、真空チャンバ内に、蛍光体の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、付活剤の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、基板の保持・回転手段とを設けてなる装置を提案しているものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、蒸着時に蒸発した成膜材料のうち、実際に基板に蒸着するのはその約２０％程度であり、残りの約８０％は真空チャンバ内の各所に蒸着してしまうものである。この場合、真空チャンバ内各所の蒸着材料の除去を頻繁に行う必要が生じ、蛍光体シートの製造装置の使用時間に対する保守・清浄化のための時間が多くなり、作業効率も低下するという問題があった。
【０００８】
また、蛍光体の成膜材料は一般に高価であることから、上述のように、実際に基板に蒸着しなかった成膜材料については、これを効率よく回収して、再利用可能とすることが望ましい。しかしながら、従来は、実際に基板に蒸着しなかった蛍光体の成膜材料を効率よく回収するという技術は存在しなかった。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、蒸発したが実際に基板には蒸着しなかった成膜材料が、真空チャンバ内の各所に蒸着して、真空チャンバ内をいわば汚染することを防止可能とすることにある。
また、本発明の他の目的は、上述のように実際に基板に蒸着しなかった成膜材料を効率よく回収する可能とすることにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る蛍光体シートの製造装置は、真空チャンバと、この真空チャンバ内の排気手段と、基板の保持手段並びに蛍光体層の成膜手段を有する蛍光体シートの製造装置であって、前記真空チャンバ内にさらに、成膜材料蒸発位置の少なくとも一部を囲むようにして、幅方向を前記成膜材料の蒸発蒸気の進行方向に一致させた可撓性の長尺のシート状物を配置したことを特徴とする。
【００１１】
ここで、前記シート状物が巻回された長尺のシート状物であり、この巻回されたシート状物を送出する送出手段と、この送出手段から送出された前記シート状物を巻き取る巻取り手段と、前記送出手段からこの巻取り手段に到る所定の搬送経路で、前記シート状物を断続的または連続的に搬送する搬送手段と、前記シート状物を冷却する冷却手段を有することが好ましい。
【００１２】
また、本発明に係る蛍光体シートの製造装置においては、前記シート状物を、このシート状物が当該蛍光体層成膜材料の蒸発位置を囲むように配置してなることが好ましく、特に、前記蛍光体層の成膜を、二元の真空蒸着により行う場合には、前記シート状物が当該蛍光体層成膜材料のそれぞれの蒸発位置を囲むように配置してなることが好ましい。
【００１３】
上述のような構成を有する本発明に係る蛍光体シートの製造装置によれば、前記基板に蒸着しなかった蛍光体層成膜材料を、前記シート状物に蒸着させることで、基板に蒸着しなかった成膜材料が真空チャンバ内の各所に蒸着して、真空チャンバ内を汚染するの防止することができる。
【００１４】
また、本発明に係る蛍光体シートの製造装置によれば、実際に基板に蒸着しなかった成膜材料を効率よく回収する可能も可能になる。特に、二元の蒸着を行う場合には、この２種類の材料を別々に（混合することなしに）効率よく回収することが可能となる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面に基づいて、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
なお、以下に説明する実施形態においては、本発明を、真空蒸着による蛍光体シートの製造に適用する例を示すが、本発明はこれ以外にも、例えば蛍光体を用いる放射線検出器（いわゆる、シンチレータ）の製造や、蒸着により成膜を行うプロセスを用いる蛍光体シート以外のものの製造にも、好適に利用することが可能である。
【００１６】
図１に、本発明の一実施形態に係る蛍光体シート製造装置の概念図を示す。
図示例の蛍光体シート製造装置（以下、単に製造装置ともいう）１０は、シート状のガラス基板Ｓの表面に、蓄積性蛍光体層を二元の真空蒸着によって形成して、蛍光体シートを作製するもので、基本的に、真空チャンバ１２と、基板保持・回転機構１４と、加熱蒸発部２２とを有して構成される、いわゆる基板回転型の真空蒸着装置を利用するものであり、さらに、この真空チャンバ１２内に、後述するような成膜材料の回収手段６０を有し、この回収手段６０の送り出し・巻取り部間に張設された樹脂フィルムＦを用いて、基板に蒸着しなかった成膜材料を効率よく回収することを特徴とする。
なお、真空チャンバ１２には、系内を排気して所定の真空度にするための、図示しない真空ポンプ（真空排気手段）が接続される。
【００１７】
図示例の製造装置１０では、一例として、臭化セシウム（ＣｓＢｒ）および臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒｘ　（ｘは、通常、２〜３））を成膜材料とした二元の真空蒸着を行って、ガラス基板Ｓ上にＣｓＢｒ：Ｅｕを蓄積性蛍光体とする蛍光体層を成膜して、蛍光体シートを作製する。
【００１８】
なお、本発明に係る製造装置で作製する蛍光体シートにおいて、蓄積性蛍光体は、上記ＣｓＢｒ：Ｅｕに限定はされず、各種のものが利用可能である。
好ましくは、波長が４００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が利用される。このような輝尽性蛍光体は、特公平７−８４５８８号，特開平２−１９３１００号，同４−３１０９００号の各公報に詳述されている。
【００１９】
真空チャンバ１２は、鉄，ステンレス，アルミニウム等で形成される、真空蒸着装置で利用される公知の真空チャンバ（ベルジャー，真空槽）である。
図示例において、真空チャンバ１２内には、上方に基板保持・回転機構１４が、また、下方に加熱蒸発部２２が配設される。なお、ここでは、加熱蒸発部２２が１組だけの場合を例示したが、加熱蒸発部２２は複数組設けてもよいことはいうまでもない。
【００２０】
前述のように、真空チャンバ１２には、図示しない真空ポンプが接続される。真空ポンプにも、特に限定はなく、必要な到達真空度を達成できるものであれば、真空蒸着装置で利用されている各種のものが利用可能である。一例として、油拡散ポンプ，クライオポンプ，ターボモレキュラーポンプ等を利用すればよく、また、補助として、クライオコイル等を併用してもよい。
なお、本実施形態に係る製造装置１０においては、真空チャンバ１２内の到達真空度は、６．７×１０−３Ｐａ以下、特に４．０×１０−４Ｐａ以下であることが好ましい。
【００２１】
上述の基板保持・回転機構１４は、公知の手段により基板Ｓを保持して回転するものであり、回転駆動源（モータ）２８ａと係合する回転軸２８と、ターンテーブル３０とから構成される。
ターンテーブル３０は、上側の本体３２と下側（加熱蒸発部２２側）のシースヒータ３４とからなる円板で、その中心に、モータ２８ａと係合する回転軸２８が固定される。ターンテーブル３０は、後述する加熱蒸発部２２（成膜材料の蒸発位置）に対応する所定位置において、下面（シースヒータ３４の下面）に基板Ｓを保持して、回転軸２８によって所定速度で回転される。シースヒータ３４は、成膜される基板Ｓを裏面（成膜面と逆側の面）から加熱する。
【００２２】
なお、ここで用い得る基板Ｓには特に限定はなく、ガラス，セラミックス，カーボン，アルミニウム，ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート），ポリイミド等、蛍光体シートにおいて利用されている各種のシート状の基板が全て利用可能である。
【００２３】
図１に戻って、説明を続ける。真空チャンバ１２内の、基板保持・回転機構１４下方には、加熱蒸発部２２が配置される。図２に、加熱蒸発部２２の概念図を示す。なお、図２中、（ａ）は上面図（図１の上方から見た図）、（ｂ）は正面図（図１と同方向から見た図）を、それぞれ示す。
【００２４】
前述のように、本実施形態に係る製造装置１０は、臭化セシウムおよび臭化ユーロピウムを成膜材料として用い、これらを個々に加熱蒸発させる二元の真空蒸着を行うものであり、このため、加熱蒸発部２２は、ユーロピウム蒸発部（以下、Ｅｕ蒸発部という）３８と、セシウム蒸発部（以下、Ｃｓ蒸発部という）４０とを有する。
【００２５】
Ｅｕ蒸発部３８は、抵抗加熱装置４２によって、蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容した臭化ユーロピウム（付活剤材料）を、抵抗加熱して蒸発させる部位である。本発明において、付活剤材料を抵抗加熱して蒸発させるための抵抗加熱装置４２には、特に限定はなく、用いる付活剤材料に応じて、これを好適に蒸発できるものであれば、真空蒸着装置に利用されている各種のものが利用可能である。
【００２６】
具体的には、加熱装置（蒸発源）としては、ボートタイプ、フィラメントタイプ、クルーシブルタイプ、チムニータイプ、Ｋセル（クヌーセンセル）等の、抵抗加熱装置で用いられる各種の装置が利用可能である。また、電源（加熱制御手段）も、サイリスタ方式、ＤＣ方式、熱電対フィードバック方式等、抵抗加熱装置で用いられる各種の方式が利用可能である。
また、抵抗加熱を行う際の出力にも特に限定はなく、付活剤材料等に応じて適宜設定すればよいが、図示例においては、ヒータの抵抗値によっても異なるが、５０Ａ〜１０００Ａ程度とすればよい。
【００２７】
なお、前述のように、蛍光体シートの蛍光体層においては、層中の付活剤と蛍光体の濃度は、モル濃度比で０．０００５／１〜０．０１／１程度であり、蛍光体層の大部分は蛍光体である。
従って、図示例の製造装置１０においては、Ｅｕ蒸発部３８（付活剤材料の蒸発部）は材料供給手段を有していないが、本発明はこれに限定はされず、必要に応じて、Ｃｓ蒸発部４０（蛍光体材料の蒸発部）と同様に、材料供給手段を有していてもよい。
【００２８】
また、付活剤材料の加熱蒸発手段も、図示例のような抵抗加熱手段に限定はされず、電子線（エレクトロンビーム＝ＥＢ）加熱や誘導加熱等、真空蒸着で用いられている加熱蒸発手段が、各種利用可能である。
【００２９】
一方、Ｃｓ蒸発部４０は、電子銃４４から出射した電子線（ＥＢ）を蒸発位置Ｐｃ（ハース）に照射することにより、蛍光体材料である臭化セシウムを加熱蒸発させる、電子線加熱装置である。
本実施形態に係る製造装置１０は、蛍光体層を真空蒸着で形成する蛍光体シートの製造において、蛍光体材料と付活剤材料とを別々に加熱蒸発させる二元蒸着とし、かつ、付活剤材料の加熱蒸発を抵抗加熱で行い、蛍光体材料の加熱蒸発を電子線加熱で行うことにより、蛍光体層（すなわち蛍光体中）に付活剤が均一に分散された、極めて高品質な蛍光体シートを効率良く製造可能としている。
【００３０】
本実施形態に係る製造装置１０において、Ｃｓ蒸発部４０（蛍光体材料の蒸発手段）は、電子線による加熱を行うものであれば、基本的に、公知の各種の蒸発手段が利用可能である。
従って、電子銃にも、特に限定はなく、電子線を１８０°偏向して蒸発位置に入射する１８０°偏向銃，同２７０°偏向銃，９０°偏向直進銃等、真空蒸着において利用されている各種の電子銃が利用可能である。図示例においては、電子銃４４は、一例として、２７０°偏向銃を利用している。
【００３１】
電子銃４４のエミッション電流やＥＢの加速電圧にも限定はなく、成膜材料や成膜する膜厚に応じた十分なものであればよい。
図示例においては、一例として、ＥＢの加速電圧は−１ｋＶ〜−３０ｋＶ、エミッション電流は、Ｃｓ蒸発部４０が５０ｍＡ〜２Ａとするのが好ましい。
【００３２】
ここで、前述のように、蛍光体シートに成膜される蛍光体層は、通常の真空蒸着膜に比して非常に厚く、薄くても２００μｍ程度、通常５００μｍ程度、厚い場合には、１０００μｍを超える場合もある。また、付活剤と蛍光体とは、例えば、モル濃度比で０．０００５／１〜０．０１／１程度と、蛍光体層の大部分が蛍光体である。
そのため、図示例の製造装置１０においては、好ましい態様として、Ｃｓ蒸発部４０は、臭化セシウム（蛍光体材料）の供給手段である材料供給手段４６を有している。
【００３３】
図示例において、材料供給手段４６は、基本的に、シリンダ４８と、ピストン５０と、ケーシング５２と、昇降手段（モータ）５４とから構成される。
シリンダ４８は、その上端部が電子線の照射位置と一致するように、真空チャンバ１２の下面を貫通して一部が外部に突出した状態で、真空チャンバ１２の壁面に固定される円筒である。すなわち、図示例においては、シリンダ４８がいわゆるハースとなっており、その上端部が臭化セシウムの蒸発位置Ｐｃとなる。
【００３４】
また、ピストン５０は、シリンダ４８内に緩く挿嵌される円柱状のピストンヘッド５０ａと、先端にピストンヘッド５０ａを固定するピストンピン５０ｂとから構成される。ピストンピン５０ｂには、ピストン５０を昇降（矢印ａ方向）する昇降手段５４が係合する。
さらに、シリンダ４８の開放端はケーシング５２で覆われて真空チャンバ１２内は気密に保たれ、かつ、ピストンピン５０ｂは、図示しないベアリングによって、前記昇降方向に往復動可能にケーシング５２に気密に軸支される。
【００３５】
臭化セシウムは、シリンダ４８の内径よりも若干小径の円柱状に成型されて、ピストンヘッド５０ａに載置された状態でシリンダ４８内に収容される。なお、柱状の成膜材料は、公知の方法で成型すればよく、例えば、粉末状の成膜材料を成型用のダイスに投入して、粉末金型プレス成型機で成型した後、真空乾燥処理を行う方法等が例示される。
基板への成膜によって、蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムが消費されると、それに応じて、昇降手段５４が駆動して円柱状の臭化セシウムを上昇する。これにより、シリンダ４８の上面すなわち蒸発位置には、常に、臭化セシウムが供給され、２００μｍを超えるような厚膜の成膜にも好適に対応することができる。
【００３６】
なお、本発明において、材料供給手段は図示例に限定はされず、真空蒸着装置等で用いられている材料供給手段が、各種、利用可能である。
具体的な一例として、本出願人による特願２００１−２９６３６４号の明細書に記載される各種の材料供給手段が好適に利用される。
【００３７】
前述のように、蛍光体シートでは、付活剤は蛍光体に対して極めて微量であり、蛍光体層の成分コントロールは重要である。ここで、本発明者らの検討によれば、付活剤を蛍光体中に均一に分散して添加（ドープ）した、厚さが２００μｍを超える高品質な蛍光体層を形成するためには、蛍光体の成膜材料と付活剤の成膜材料とで別々に蒸気を発生させて、両者を十分に混合した混合蒸気を生成し、この混合蒸気で基板に成膜を行うのが好ましい。
【００３８】
このためには、蛍光体材料と付活剤材料の蒸発位置を近接して配置するのが好ましく、両者の蒸発位置が近い（図２中の距離Ｌが小さい）ほど、付活剤を均一に分散した、良質な蛍光体層を形成できる。しかも、両蒸発位置が近いほど、２つの蒸気の混合領域を多くできるので、材料の利用効率も向上できる。
【００３９】
さらに、本実施形態に係る製造装置１０においては、前述のように、実際に基板に蒸着しなかった成膜材料を効率よく回収する手段を設けるようにして、必要な処理を行った後、成膜材料として再使用可能とすることを特徴としているものである。
【００４０】
図３に、本実施形態に係る製造装置１０に設けられる成膜材料の回収手段６０の模式平面図を示す。図３に示すように、真空チャンバ１２内で、蛍光体材料の蒸発位置Ｐｃと付活剤材料の蒸発位置Ｐｅとを囲む形に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等の耐熱性を有する樹脂フィルムＦを、搬送ローラ対を介して配置・構成したものであり、送り出し部から上記蒸発位置Ｐｃ，Ｐｅの周囲を通って巻取り部に到る経路の途中で、蒸着しなかった成膜材料の回収を行うものである。
なお、回収手段６０に用いるシート状物としては、上述のような樹脂フィルムＦ以外にも、例えばアルミ箔のような金属製のシート状物を使用することも可能である。
【００４１】
上述のように、樹脂フィルムＦに付着させて回収した成膜材料は、これを再利用するための処理工程において、例えば、付着した成膜材料を溶媒（通常は、水が用いられる）で溶解する処理が行われる。なお、回収した成膜材料を溶媒で溶解する代わりに、機械的に掻き落とすようにすることも可能である。
【００４２】
図示例においては、ロール状に巻回された樹脂フィルムＦを送り出し部６２にセットして、ここから送り出し、図示されていない駆動源により駆動される搬送ローラ対６４ａ，６４ｂ，……により上記蒸発位置Ｐｃ，Ｐｅの周囲を囲むように搬送し、この搬送過程において、基板Ｓに蒸着せずに真空チャンバ１２内に残存している成膜材料の蒸発成分を樹脂フィルムＦに付着させて、巻取り部６６に巻き取るものである。なお、前記搬送ローラ対６４ａ，６４ｂ，……の一部は、搬送力に影響しない範囲で、ニップされない単独のローラ（いわゆる、パスローラ）としてもよい。
【００４３】
これにより、真空チャンバ１２内で、蒸発したが基板Ｓに蒸着しなかった蛍光体成膜材料を、回収することができる。このような成膜材料の回収方法は、実施形態に示す真空蒸着のプロセスのような、高価な成膜材料を用い、蒸着率がきわめて低いという条件で行う蛍光体層の厚膜蒸着の場合に特に有効である。また、回収手段のシート状物として、ロール状に巻回した長尺のフィルム（金属でもよい）を用いると、その長さに応じて、長時間の連続使用が可能となり、１バッチ毎に回収用シート状物を交換する、というような手間が不要になるという効果がある。さらに、このような成膜材料の回収手段６０を用いることにより、真空チャンバ１２の内壁への成膜材料の付着を大巾に減少させることが可能となり、真空チャンバ１２の内壁の汚染の防止にも大きな効果がある。
【００４４】
ここで、前述の樹脂フィルムＦには特別な加工を施しておく必要はないが、成膜材料の蒸発成分をより吸着し易くするために、マット化等の表面処理を施しておいてもよい。
なお、上記樹脂フィルムＦの真空チャンバ１２内における位置は、平面的には、基板への成膜材料の蒸着を妨げない範囲内で、例えば基板の外形の近傍に配置することができるが、一方では、前述の蛍光体および付活剤の蒸発位置をできるだけ囲み込むようにするのが好ましい面もある。
【００４５】
また、樹脂フィルムＦの上下方向の寸法については、回収効率を向上させる点からは、上端部の位置は、基板の表面の位置程度とすることが好ましいが、成膜される蛍光体層の品質上は、特に二元蒸着時における蛍光体蒸気と付活剤蒸気との均一な混合を阻害しないことが重要なので、これらの諸条件の兼合いで、最も好ましい位置を実験的に求めるのがよい。
【００４６】
また、上記樹脂フィルムＦの搬送形路中の適宜の個所に冷却装置６８を設けて、樹脂フィルムＦをこの冷却装置により冷却して、成膜材料の蒸発成分の吸着・固化を促進するように構成することも可能である。ここで、冷却装置としては、内部に冷却水を挿通したドラム型の回転体等が好適に用い得るが、特に限定はなく、各種のものが利用可能である。
【００４７】
上述の樹脂フィルムＦの搬送形路中における搬送形態としては、１バッチ毎の断続的搬送形態から、成膜材料蒸着の実行中、断続的または連続的に搬送する搬送形態まで、種々の形態が取ることができ、また、これらの方法を適宜組み合わせることも可能であるが、通常は、成膜材料蒸着の実行中、連続的に搬送する搬送形態を採るのがよい。これは、成膜材料の蒸発量が多いため、樹脂フィルムＦの搬送を中断すると、次にスムーズに駆動を行いにくい場合もあるからである。なお、フィルムＦの搬送速度としては、０．０１ｍ／ｍｉｎ〜１０ｍ／ｍｉｎ、好ましくは０．１ｍ／ｍｉｎ〜１ｍ／ｍｉｎとするのがよい。
【００４８】
また、図３に示す回収手段６０では、上述の樹脂フィルムＦにより、前記成膜材料の蒸発位置Ｐｃ，Ｐｅの周囲を囲むようにして、樹脂フィルムＦの主として一方の面（つまり、蒸発位置Ｐｃ，Ｐｅ側の面）に成膜材料の蒸発成分の吸着・回収を行うように構成しているが、図４に模式的に示すように、樹脂フィルムＦの両方の面に二元蒸着時の異なる成膜材料の蒸発成分の吸着・回収を行うように構成することも可能である。
【００４９】
すなわち、図４に示すように、樹脂フィルムＦを送り出し部６２から送り出し、搬送ローラ対６４ａ，６４ｂ，……により上記蒸発位置Ｐｃ，Ｐｅの間を通過するように搬送し、この搬送過程において、基板Ｓに蒸着せずに真空チャンバ１２内に残存している成膜材料の蒸発成分を樹脂フィルムＦの両面に選択的に付着（つまり、樹脂フィルムＦの蒸発位置Ｐｃ側の面には蛍光体を、また、蒸発位置Ｐｅ側の面には付活剤を付着）させて、巻取り部６６に巻き取るものである。
【００５０】
このような形で回収を行うと、回収後の成膜材料の再利用のための処理の手数を大幅に削減することができるという利点がある。すなわち、例えば付着した成膜材料を片面ずつ溶媒（通常は、水）で溶かし、成膜材料を、材料毎に分けて回収することが、効率的に実施可能になり、得られる回収材料の純度を落とさず、比較的高純度での回収が可能となる。
【００５１】
なお、図４に示すような構成を採用した場合、蒸発位置Ｐｃ，Ｐｅ間に隔壁を設ける形になるが、前述のように、二元蒸着時においては、蛍光体蒸気と付活剤蒸気との均一な混合を阻害しないことが非常に重要なので、樹脂フィルムＦの幅（すなわち、樹脂フィルムＦの真空チャンバ１２内での高さ）は、成膜される蛍光体膜の品質との兼合いで、慎重に決定することが好ましい。
【００５２】
なお、図４においては図示を省略したが、この場合にも、前述のような冷却装置６８を設けて、巻き取り時に、異なる成分が混じり合わないように、冷却・固化を促進することが好ましい。
このような冷却機能を有する成膜材料の蒸発成分の回収手段を用いることにより、回収効率をより高めることが可能になることは前述の通りである。
【００５３】
以下、本実施形態に係る製造装置における蛍光体層の成膜手順を説明する。
前述のように、製造装置１０は、回転型の真空蒸着装置を利用するもので、蛍光体シートを製造する際には、まず、ガラス基板Ｓの四隅のコーナー部を保持する係止治具１４ａと、電極１４ｂを有する静電保持機構とを用いて、ターンテーブル３０下面の所定位置に成膜面を下方に向けてガラス基板Ｓを装着した後、真空チャンバ１２を閉塞して減圧すると共に、シースヒータ３４を駆動して、ガラス基板Ｓを裏面から加熱する。
【００５４】
真空チャンバ１２の内部が所定の真空度になったら、モータ２８によってターンテーブル３０を所定速度で回転しつつ、加熱蒸発部２２において、Ｅｕ蒸発部３８の抵抗加熱装置４２を駆動して蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容された臭化ユーロピウムを蒸発させ、かつ、Ｃｓ蒸発部４０の電子銃４４を駆動して蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムを蒸発させて、ガラス基板ＳへのＣｓＢｒ：Ｅｕの蒸着すなわち蛍光体層の成膜を開始する。
【００５５】
なお、前述のように、両蒸発位置は近接して配置され、かつ、臭化ユーロピウムの蒸発は抵抗加熱で行われるので、加熱蒸発部２２では、極微量な臭化ユーロピウムの蒸気が均一に分散された、両成膜材料の混合蒸気が構成され、この混合蒸気によって、付活剤が均一に分散されたＣｓＢｒ：Ｅｕが蒸着される。
【００５６】
この蒸着期間中（もしくは、蒸着機関を含むその後の所定期間）、前述の回収手段６０において、樹脂フィルムＦを前述のような速度で搬送して、蒸発したが基板Ｓには蒸着しなかった成膜材料の回収を並行して行う。冷却装置６８を使用する場合には、蒸着開始に先立って、そのスイッチをオンにして、必要な冷却温度にセットしておくことが必要であることはいうまでもない。
【００５７】
所定厚さの成膜が終了したら、ターンテーブル３０の回転を停止し、真空チャンバ１２を開放して、蛍光体層の成膜を終了したガラス基板Ｓを取り出す。連続的に成膜を行う際には、以下、上と同様にして、新たなガラス基板Ｓを装填して成膜を行えばよい。
なお、この際、前述の回収手段６０の樹脂フィルムＦの残量をチェックして、必要があれば、新しいものと交換することが好ましい。
【００５８】
上記実施形態に示した製造装置１０によれば、成膜状況には一切影響を与えることなしに、真空チャンバ内の汚染を防止し、また、効率的に成膜材料の回収を行うことが可能になり、蛍光体シートのコストダウンに大きく貢献することができる。
【００５９】
なお、上記実施形態は本発明の一例を示したものであり、本発明はこれに限定されるべきものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜の変更または改良を行ってもよいことはいうまでもない。
【００６０】
例えば、本発明に係る蛍光体シートの製造装置は、図示例のような回転型の真空蒸着装置を利用するものにも限定されず、例えば、真空チャンバに連結するロード室とアンロード室とを有し、基板をロード室に装填し、ロード室→真空チャンバ→アンロード室と基板を搬送しつつ成膜を行い、アンロード室から取り出す形式の、いわゆるロードロックタイプの真空蒸着装置を利用するものであってもよく、あるいは、基板を所定位置に固定して蒸着を行うタイプの真空蒸着装置を利用するものであってもよい。
【００６１】
また、上記実施形態においては、本発明を真空蒸着による蛍光体シートの製造装置として具体化した例を示したが、本発明は、これ以外にも、スパッタリング，ＣＶＤ（化学的蒸着）等、他の成膜方法による蛍光体シートの蛍光体層の膜形成にも適用可能であることもいうまでもない。
中でも、真空蒸着等の蒸着、特に二元の蒸着が好ましく、この場合に、図示例のように電子線加熱と抵抗加熱の組み合わせによる二元の蒸着が好適に利用可能である。
【００６２】
さらに、本発明は、蛍光体シート以外にも、例えば蛍光体を用いる放射線検出器（いわゆる、シンチレータ）の製造や、蒸着により成膜を行うプロセスを用いる蛍光体シート以外のものの製造にも、好適に利用することが可能であり、本発明の権利範囲は、そのような利用にも及ぶものである。
【００６３】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、第一に、蒸着により成膜を行う際に、実際に基板に蒸着しなかった成膜材料が、真空チャンバ内の各所に蒸着して、真空チャンバ内を汚染するのを防止することが可能になるという効果が得られる。
また、第二に、実際に基板に蒸着しなかった成膜材料を効率よく回収することが可能になるという効果も得られる。
特に、二元の真空蒸着において、シート状物の両面に異なる成膜材料を吸着・回収するように構成した場合には、再利用時の処理が簡略化されるというさらなる利点が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る蛍光体シート製造装置の概念を示す正面図である。
【図２】図１に示す蛍光体シート製造装置の加熱蒸発部の概念図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は正面図である。
【図３】実施形態に係る成膜材料回収手段を模式的に示す平面図（その１）である。
【図４】実施形態に係る成膜材料回収手段を模式的に示す平面図（その２）である。
【符号の説明】
１０　製造装置
１２　真空チャンバ
１４　基板保持・回転機構
２２　加熱蒸発部
２８ａ　モータ
３０　ターンテーブル
３４　シースヒータ
３８　Ｅｕ蒸発部
４０　Ｃｓ蒸発部
４２　抵抗加熱装置
４４　電子銃
４６　材料供給手段
６０　成膜材料回収手段
６２　送り出し部
６４ａ，６４ｂ，……　搬送ローラ対
６６　巻取り部
６８　冷却装置
Ｆ　樹脂フィルム
Ｓ　基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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