(57)【要約】【課題】フェースプレート前面の効果的な清浄化を行い、良質の表面処理膜の形成を可能とする陰極線管の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】陰極線管のフェースプレート前面を、界面活性剤を添加した研磨分散液を用いて研磨する工程、及び前記研磨されたフェースプレート前面に表面処理膜を形成する工程を具備することを特徴とする。【選択図】　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
陰極線管のフェースプレート前面を、界面活性剤を添加した研磨分散液を用いて研磨する工程、及び
前記研磨されたフェースプレート前面に表面処理膜を形成する工程
を具備することを特徴とする陰極線管の製造方法。
【請求項２】
前記研磨分散液中の研磨剤の濃度は１ｗｔ％以上、１０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項１に記載の陰極線管の製造方法。
【請求項３】
前記研磨剤は、ＣｅＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３　およびＳｉＯ２　からなる群から選ばれた少なくとも１種類であることを特徴とする請求項１または２に記載の陰極線管の製造方法。
【請求項４】
前記研磨分散液中の界面活性剤の濃度は、０．０１ｗｔ％以上、１．０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の陰極線管の製造方法。
【請求項５】
前記界面活性剤は、ノニオン系またはアニオン系の界面活性剤であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の陰極線管の製造方法。
【請求項６】
前記界面活性剤は、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル硫酸エステル塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルアリルスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、アルキル燐酸エステル塩、及びポリオキシエチレンアルキル燐酸エステル塩からなる群から選ばれたアニオン系界面活性剤の少なくとも１種、またはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、脂肪酸エステル型、及び脂肪酸アミド型からなる群から選ばれたノニオン系界面活性剤の少なくとも１種であることを特徴とする請求項５に記載の陰極線管の製造方法。
【請求項７】
前記表面処理膜は、反射防止膜、帯電防止膜、高屈性率膜、及び低屈折率膜からなる群から選ばれた１層または２層以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の陰極線管の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、陰極線管の製造方法に係り、特に、陰極線管のフェースプレート前面への表面処理膜の形成方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、帯電防止を目的としたり、ＣＲＴディスプレイの漏洩電場（ＡＥＦ）を防止するために有効な方法として、陰極線管のフェースプレート前面に表面処理膜を形成する方法が、特開昭６１−１１８９３２号公報、特開昭６１−１１８９４６号公報、特開昭６３−１６０１４０号公報などに開示されている。
【０００３】
これらの表面処理方法においては、その表面処理膜を形成する際にフェースプレート前面にゴミ、オイルなどの付着があると、その上に表面処理膜の形成を行った場合に、欠点不良となり、陰極線管のの歩留りの低下につながってしまう。
【０００４】
近年、これまでは視認できなかった微小な欠点であっても、反射防止特性等の向上により欠点としてとらえられてしまうようになってきた。そのため、陰極線管のフェースプレート前面の清浄化が重要な課題となってきている。
【０００５】
一般に、陰極線管のフェースプレート前面には、微細な物質、すなわち工程内で付着する油分、ホコリなどが付着している。即ち、通常、ガラス面には微細な不純物が存在し、これを通常の洗浄法（酸、アルカリ、洗剤、水洗いずれかの組み合わせによる洗浄）のみで完全に除去することは、極めて困難である。そこで、陰極線管では、フェースプレート前面に反射防止膜等の目的で表面処理膜を形成する直前に、フェースプレート前面を、研磨剤分散液を用い、羊毛などのバフで研磨して洗浄することが一般に行われている。
【０００６】
しかしながら、研磨剤の水分散液のみでは、工程内で付着する油分を十分に除去することができず、また油分の除去能力を高めるために研磨強度を上げると、フェースプレート前面にキズ不良が発生する可能性が高くなるため、いずれも不良となってしまう。更には、フェースプレート前面に付着した研磨剤自身が十分に除去されないと、次工程での薄膜形成時にゴミ欠点不良の核となり、歩留り低下の原因となる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、フェースプレート前面の効果的な清浄化を行い、良質の表面処理膜の形成を可能とする陰極線管の製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明者らは、種々の検討を行った結果、研磨剤分散液に界面活性剤を添加することにより、これらの問題を解決し得ることをも見出し、本発明をなすに至った。
【０００９】
即ち、本発明は、陰極線管のフェースプレート前面を、界面活性剤を添加した研磨分散液を用いて研磨する工程、及び前記研磨されたフェースプレート前面に表面処理膜を形成する工程を具備する陰極線管の製造方法を提供する。
【００１０】
通常、界面活性剤は、溶液の表面張力を低下させるだけでなく、親水基と親油基を有しているため、ミセル化して油分を除去するのに優れた効果を発揮する。また、界面活性剤は、脱粒子効果を有し、フェースプレート前面に付着した研磨剤や汚染物質等の粒子をフェースプレート前面から除去する効果を発揮する。
【００１１】
一方、研磨剤は、ガラスと直接接触することによりガラス面を研磨し、汚れを除去するものであるため、水溶液中の研磨剤分散液がより多くガラスと接触する方が、研磨能力は向上する。従って、研磨剤分散液の表面張力を低下させる界面活性剤の添加は、研磨能力の向上につながるものである。
【００１２】
しかしながら、研磨剤微粒子が界面活性剤などに包含されてしまうと、ガラスとの接触チャンスは少なくなってしまうため、多量の界面活性剤の添加は、逆に研磨能力の低下につながる可能性がある。一方、界面活性剤の添加量が少なすぎても、界面活性剤添加の効果を得ることが出来ない。
【００１３】
そこで、研磨分散液中の界面活性剤の濃度は、０．０１ｗｔ％以上、１．０ｗｔ％以下であることが望ましい。
【００１４】
なお、研磨分散液中の研磨剤の濃度については、研磨剤が少なすぎる場合には所望の研磨効果が得られず、多すぎる場合には、後述するように、フェースプレート前面に付着する研磨剤粒子の数が増加し、除去が困難となることから、１ｗｔ％以上、１０ｗｔ％以下であるのが望ましい。
【００１５】
また、通常の研磨工程は、研磨剤分散液を浸潤させたバフで圧力を加えながらガラス面を研磨するものであるため、研磨後の研磨剤粒子は、ガラス表面に圧着されてしまう。特に、キズ防止、研磨面の平面化等の目的で微粒子研磨剤を使用した場合には、付着した研磨剤微粒子は、水洗により容易に洗い流すことができない。
【００１６】
一方、前述のように、陰極線管のフェースプレート前面に表面処理膜を形成する前にフェースプレート前面を研磨する場合には、ガラスを研磨した後の研磨剤分散液をフェースプレート前面から容易に洗い流すことができなければ、残留する研磨剤粒子による欠点不良となり、陰極線管の歩留り低下につながる。そこで、以下の機能を有する研磨剤と界面活性剤の種類を選択することが望ましい。
【００１７】
１）研磨剤分散液の表面張力を下げる。
【００１８】
２）研磨剤とフェースプレート前面との間の親和度を上げる。
【００１９】
３）研磨直後に研磨剤が容易にフェースプレートから離脱できるように、界面活性剤のみがフェースプレート表面に薄膜を形成するようにする。
【００２０】
以上の機能を考慮し、具体的な研磨剤としては、ＣｅＯ２　，Ａｌ２　Ｏ３　，ＳｉＯ２　を好適に用いることが出来る。
【００２１】
また、界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル硫酸エステル塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルアリルスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、アルキル燐酸エステル塩、及びポリオキシエチレンアルキル燐酸エステル塩からなる群から選ばれたアニオン系界面活性剤の少なくとも１種、またはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、脂肪酸エステル型、及び脂肪酸アミド型からなる群から選ばれたノニオン系界面活性剤の少なくとも１種を好適に用いることが出来る。
【００２２】
なお、界面活性剤の機能としては、上述した３つの機能だけでなく、界面活性剤が研磨処理後もフェースプレート前面に残留することにより発揮される機能がある。即ち、表面処理膜の形成前のフェースプレート前面に汚れや研磨剤粒子が存在すると、その部分で表面処理膜に欠陥が生じてしまうが、たとえ、そのような汚れや研磨剤粒子が除去しきれずに一部残存したとしても、それらは界面活性剤により覆われてしまうため、表面処理膜に欠陥が生じることはない。
【００２３】
例えば、表面処理膜の形成前のフェースプレート前面に油分が強固に残存する場合、この油分に界面活性剤の親油基が結合して、油分を界面活性剤が覆い、一方、界面活性剤の親水基は、表面処理膜形成用塗布液に溶媒として含まれるアルコールとの親和性が良好であることから、油分を覆った界面活性剤上に、良質の表面処理膜を形成することが出来るものと考えられる。
【００２４】
以上のように、界面活性剤を添加した研磨剤分散液を用いて、陰極線管のフェースプレート前面を研磨処理することにより、陰極線管のフェースプレート前面の清浄度が大幅に改善され、フェースプレート前面への表面処理膜の形成を欠陥を生ずることなく行うことが可能である。その欠課、陰極線管の歩留が向上し、陰極線管の生産性が改善され、安定な生産を可能にすることが出来る。
【００２５】
なお、本発明の方法で形成される表面処理膜は、反射防止膜、帯電防止膜、高屈性率膜、低屈折率膜の１層またはこれらの２層以上とすることが出来る。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態としての種々の実施例について説明する。
【００２７】
実施例１
下記表１に示す濃度の研磨剤および界面活性剤を含む研磨液を調製し、それぞれの研磨液を使用して、バフ圧力３．５ｋｇ／ｃｍ２　、バフ回転速度５００ｒｐｍで、約１分間、膜形成前の陰極線管のフェースプレート前面を研磨した。
【００２８】
なお、研磨剤としては、粒径３．４μｍのＣｅＯ２　を、界面活性剤としてはアルスコープＴＡＰ−３０（ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウムの商品名、東邦化学工業社製）を用いた。
【００２９】
その後、研磨面を純水にて約１分間洗浄し、乾燥した後、２層の反射防止膜をそれぞれ１００本の陰極線管のフェースプレート前面に作成した。なお、２層の反射防止膜は、以下のようにして成膜した。
【００３０】
まず、ＡｇＰｄ合金微粒子の分散液からなる１層目の塗布液を、陰極線管を２０ｒｐｍで回転させつつ、フェースプレート前面にスプレー塗布した。次いで、陰極線管を１５０ｒｐｍの回転速度で高速回転させて１層目の塗布液を均一に振切り、１層目の薄膜である高屈折率導電性微粒子層を成膜した。
【００３１】
次に、１層目の薄膜と同様の方法により、２層目の薄膜である低屈折率層を成膜した。２層目の塗布液は、シリケートのアルコール溶液である。
【００３２】
以上のようにして２層目まで成膜した後、１８０℃で焼成し、陰極線管のフェースプレート前面に２層反射防止膜を形成した。
【００３３】
以上のようにして形成された２層反射防止膜について、検査を行い、不良の発生率を求めた。その結果を下記表１に示す。
【００３４】
【表１】
2004087384.tif 000002
【００３５】
上記表１から、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、どのような研磨剤濃度であっても、２層反射防止膜の不良率は３５％以上と高いことがわかる。
【００３６】
これに対し、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、不良率は減少し、特に界面活性剤濃度が０．０１ｗｔ％〜１．０ｗｔ％、研磨剤濃度が１．０ｗｔ％〜１０．０ｗｔ％の場合には、不良率は２０％以下に減少することがわかる。
【００３７】
実施例２
界面活性剤としてＥＥ−１１２０（ポリオキシエチレンアルキルエーテルの商品名、オリンパス光学社製）を用いたことを除いて、実施例１と同様にして、陰極線管のフェースプレート前面を研磨処理し、２層反射防止膜を形成した。
【００３８】
実施例１と同様にして２層反射防止膜の不良率を求めたところ、下記表２に示す結果を得た。
【００３９】
【表２】
2004087384.tif 000003
【００４０】
上記表２から、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、どのような研磨剤濃度であっても、２層反射防止膜の不良率は３５％以上と高いことがわかる。
【００４１】
これに対し、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、不良率は減少し、特に界面活性剤濃度が０．０１ｗｔ％〜１．０ｗｔ％、研磨剤濃度が１．０ｗｔ％〜１０．０ｗｔ％の場合には、不良率は２０％以下に減少することがわかる。
【００４２】
実施例３
研磨剤としてＡｌ２　Ｏ３　、界面活性剤としてアルスコープＴＡＰ−３０（ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウムの商品名、東邦化学工業社製）を用いたことを除いて、実施例１と同様にして、陰極線管のフェースプレート前面を研磨処理し、２層反射防止膜を形成した。
【００４３】
実施例１と同様にして２層反射防止膜の不良率を求めたところ、下記表３に示す結果を得た。
【００４４】
【表３】
2004087384.tif 000004
【００４５】
上記表３から、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、どのような研磨剤濃度であっても、２層反射防止膜の不良率は３５％以上と高いことがわかる。
【００４６】
これに対し、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、不良率は減少し、特に界面活性剤濃度が０．０１ｗｔ％〜１．０ｗｔ％、研磨剤濃度が１．０ｗｔ％〜１０．０ｗｔ％の場合には、不良率は２０％以下に減少することがわかる。
【００４７】
実施例４
研磨剤としてＳｉＯ２　、界面活性剤としてノニオンＬＴ−２２１（ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートの商品名、日本油脂社製）を用いたことを除いて、実施例１と同様にして、陰極線管のフェースプレート前面を研磨処理し、２層反射防止膜を形成した。
【００４８】
実施例１と同様にして２層反射防止膜の不良率を求めたところ、下記表４に示す結果を得た。
【００４９】
【表４】
2004087384.tif 000005
【００５０】
上記表４から、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、どのような研磨剤濃度であっても、２層反射防止膜の不良率は３７％以上と高いことがわかる。
【００５１】
これに対し、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合には、不良率は減少し、特に界面活性剤濃度が０．０１ｗｔ％〜１．０ｗｔ％、研磨剤濃度が１．０ｗｔ％〜１０．０ｗｔ％の場合には、不良率は２２％以下に減少することがわかる。
【００５２】
実施例５
研磨剤として濃度５．０ｗｔ％のＣｅＯ２　、界面活性剤として下記表５に示す種々のものを用いたことを除いて、実施例１と同様にして、陰極線管のフェースプレート前面を研磨処理し、２層反射防止膜を形成した。
【００５３】
実施例１と同様にして２層反射防止膜の不良率を求めたところ、下記表５に示す結果を得た。
【００５４】
【表５】
2004087384.tif 000006
【００５５】
上記表５から、上述の実施例１〜４における、界面活性剤を含まない研磨液を用いて研磨した場合に比べ、不良率は減少していることがわかる。また、特に、界面活性剤として上で列挙した範囲のもの（アルキル硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ジアルキルスルフォコハク酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ヤシ脂肪酸モノエタノールアミド）を用いた場合には、それ以外のもの（グリセリルモノジオオレート、ラウリルアミンアセテート）を用いた場合に比べ、不良率は減少しており、更に、濃度が０．０１ｗｔ％〜１．０ｗｔ％の場合には、不良率は１８％以下に減少することがわかる。
【００５６】
【発明の効果】
以上，詳細に説明したように、本発明によると、界面活性剤を添加した研磨剤分散液を用いて、陰極線管のフェースプレート前面を研磨処理することにより、陰極線管のフェースプレート前面の清浄度が大幅に改善され、フェースプレート前面への表面処理膜の形成を欠陥を生ずることなく行うことが可能である。その欠課、陰極線管の歩留が向上し、陰極線管の生産性が改善され、安定な生産を可能にすることが出来る。