(57)【要約】【課題】有機ＥＬディスプレイのコストダウンを実現可能な転写基板を提供する。【解決手段】レーザ光を透過可能な基板本体８１の一面に、光の３原色に対応する３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の有機発光色素パターン層８２（８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ）と、位置合わせ用のマーカー８３とを配列させることにより、転写基板８０を構成する。この転写基板８０を用いれば、外部から基板本体８１にレーザ光を照射し、この基板本体８１を透過したレーザ光に基づく熱を利用して有機発光色素パターン層８２を昇華させることにより、転写基板８０から配線基板に有機発光色素パターン層８２を転写可能となる。有機発光色素パターン層８２を転写させるために必要な熱源（ここではレーザ光源）を備えていないため、熱源を備えていない分だけ転写基板８０のコストが安くなる。【選択図】　　図３
2004087143.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被転写基板に有機発光色素層をパターン形成するために用いられる転写基板であって、
光を透過可能な光透過部を有する基板本体と、
この基板本体の光透過部に配列され、前記光に基づく熱を利用して前記被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層と
を含むことを特徴とする転写基板。
【請求項２】
前記有機発光色素パターン層は、光の３原色に対応する３色の色素を含んで構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の転写基板。
【請求項３】
さらに、
前記被転写基板に対して前記有機発光色素パターン層を位置合わせするために、前記基板本体に位置合わせパターンが設けられている
ことを特徴とする請求項１記載の転写基板。
【請求項４】
有機発光色素層を利用して映像を表示する表示装置を製造するために用いられる転写装置であって、
光を透過可能な光透過部を有する基板本体の前記光透過部に、前記光に基づく熱を利用して被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層が配列された転写基板と、
前記有機発光色素パターン層が前記被転写基板と対向するように、前記転写基板を前記被転写基板と共に保持する保持機構と、
前記基板本体の光透過部に向けて前記光を照射する光源と
を備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項５】
前記保持機構は、前記転写基板および前記被転写基板を吸引して固定するための吸引機構を含んで構成されている
ことを特徴とする請求項４記載の転写装置。
【請求項６】
前記転写基板の光透過部は、前記光源から照射された前記光により走査される
ことを特徴とする請求項４記載の転写装置。
【請求項７】
前記保持機構は、光学窓が設けられたチャンバーの内部に収容されており、
前記光源は、前記光学窓を通じて前記チャンバーの内部に前記光を照射するものである
ことを特徴とする請求項４記載の転写装置。
【請求項８】
有機発光色素層を利用して映像を表示する表示装置を製造するために用いる転写方法であって、
光を透過可能な光透過部を有する基板本体の前記光透過部に、前記光に基づく熱を利用して被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層が配列された転写基板を使用し、
保持機構を用いて、前記有機発光色素パターン層が前記被転写基板と対向するように、前記転写基板を前記被転写基板と共に保持したのち、
光源から前記基板本体の光透過部に向けて前記光を照射することにより、前記光に基づく熱を利用して前記有機発光色素パターン層を前記被転写基板に転写させる
ことを特徴とする転写方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば配線基板などの被転写基板に有機発光色素層をパターン形成するために用いられる転写基板、ならびにこの転写基板を用いて表示装置を製造するために用いられる転写装置および転写方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、映像を表示するためのディスプレイとして、多様な表示機構を備えたものが知られている。その中でも、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ　）素子の発光現象を利用した平面フルカラー型の有機ＥＬディスプレイは、駆動電圧が低く、かつ輝度が高い点で注目されている。
【０００３】
この有機ＥＬディスプレイの表示方式としては、例えば、光の３原色（Ｒ（Ｒｅｄ　），Ｇ（Ｇｒｅｅｎ　），Ｂ（Ｂｌｕｅ））に対応する３色の有機発光色素層をパターン配列した三色独立発光方式や、３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のカラーフィルターを利用したカラーフィルター方式や、色変換フィルターを利用して、青色光源または白色光源から得られた光を色変換するＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ　Ｃｈａｎｇｉｎｇ　Ｍｅｄｉａ）方式などが挙げられる。このうち、三色独立発光方式を採用した有機ＥＬディスプレイは、透過性の配線基板に３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のピクセルがパターン配列された発光パネルを含んで構成されている。この発光パネルは、ピクセルを構成する３色の有機発光色素層が配線基板にパターン形成されることにより製造される。
【０００４】
配線基板に３色の有機発光色素層をパターン形成する手法としては、例えば、転写方式、蒸着方式およびインクジェット方式の３つが知られている。
【０００５】
転写方式は、例えば、特許第２９１８０３７号に開示されているように、加熱機構を備えた基板に３色の有機発光色素パターン層が配列された構成の転写基板を用いる手法である。この転写方式では、配線基板に転写基板を密着させた状態において、加熱機構を利用して有機発光色素パターン層が加熱され、その有機発光色素パターン層が各色ごとに昇華して配線基板に転写されることにより、配線基板に有機発光色素層がパターン形成される。なお、転写方式では、例えば、特開平２００１−１９６１６８号公報に開示されているように、柔軟性を有するフィルム状の転写基板が使用される場合もある。
【０００６】
蒸着方式は、例えば、特許第２８５０９０６号に開示されているように、蒸着源と配線基板との間にマスクを配置し、このマスクを用いて各色ごとに蒸着処理を施すことにより、配線基板に有機発光色素層をパターン形成する手法である。
【０００７】
インクジェット方式は、例えば、特開平２０００−１０６２７８号公報に開示されているように、配線基板上でインクジェット装置を走査させ、このインクジェット装置から有機発光色素を噴出させることにより、配線基板に有機発光色素層をパターン形成する手法である。
【０００８】
これらの３つの方式のうち、転写方式は、主に、発光パネルを製造する際の作業性の点で、他の蒸着方式やインクジェット方式よりも優れている。なぜなら、例えば、ディスプレイの製造メーカーが発光パネルを製造する場合、蒸着方式やインクジェット方式では、作業者が自ら有機発光色素を取り扱わなければならない点で煩わしさを抱えるが、転写方式では、有機発光色素パターン層があらかじめ配列形成された転写基板を入手すれば、作業者が自ら有機発光色素を取り扱う煩わしさを免れるからである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、有機ＥＬディスプレイを市場で広く普及させるためには、例えば、コストの面で他の競合ディスプレイとの差別化を図るべく、転写方式で使用される転写基板のコストを可能な限り安くする必要がある。
【００１０】
また、転写基板のコストダウンを実現した上、その転写基板を使用して有機ＥＬディスプレイを量産可能な転写装置および製造方法の確立も望まれる。
【００１１】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、有機ＥＬディスプレイのコストダウンを実現可能な転写基板を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の第２の目的は、上記した転写基板を使用して有機ＥＬディスプレイを量産可能な転写装置および転写方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の転写基板は、被転写基板に有機発光色素層をパターン形成するために用いられるものであり、光を透過可能な光透過部を有する基板本体と、この基板本体の光透過部に配列され、光に基づく熱を利用して被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層とを含むものである。
【００１４】
本発明の転写装置は、有機発光色素層を利用して映像を表示する表示装置を製造するために用いられるものであり、光を透過可能な光透過部を有する基板本体の光透過部に、光に基づく熱を利用して被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層が配列された転写基板と、有機発光色素パターン層が被転写基板と対向するように、転写基板を被転写基板と共に保持する保持機構と、基板本体の光透過部に向けて光を照射する光源とを備えたものである。
【００１５】
本発明の転写方法は、有機発光色素層を利用して映像を表示する表示装置を製造するために用いる方法であり、光を透過可能な光透過部を有する基板本体の光透過部に、光に基づく熱を利用して被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層が配列された転写基板を使用し、保持機構を用いて、有機発光色素パターン層が被転写基板と対向するように、転写基板を被転写基板と共に保持したのち、光源から基板本体の光透過部に向けて光を照射することにより、光に基づく熱を利用して有機発光色素パターン層を被転写基板に転写させるようにしたものである。
【００１６】
本発明の転写基板では、基板本体の光透過部に光が照射されると、この光透過部を透過した光に基づく熱を利用して、光透過部に配列された有機発光色素パターン層が被転写基板に転写される。これにより、被転写基板に有機発光色素層がパターン形成される。
【００１７】
本発明の転写装置ならびに転写方法では、光を透過可能な光透過部を有する基板本体の光透過部に、光に基づく熱を利用して被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層が配列された転写基板を使用し、保持機構により、有機発光色素パターン層が被転写基板と対向するように、転写基板が被転写基板と共に保持されたのち、光源から基板本体の光透過部に向けて光が照射されることにより、光に基づく熱を利用して有機発光色素パターン層が被転写基板に転写される。これにより、有機発光色素層を利用して映像を表示する表示装置が製造される。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】
まず、図１を参照して、本発明の一実施の形態に係る転写装置の構成について説明する。図１は、転写装置の概略断面構成を表している。なお、本発明の「転写方法」は本転写装置の機能・動作に基づいて具現化され、かつ本発明の「転写基板」は本転写装置において用いられるものであるため、以下併せて説明する。なお、図１では、図示上の便宜を図るために、ステージ４２、転写基板８０および配線基板９０の構造をそれぞれ簡略化して示している。
【００２０】
この転写装置は、主に有機ＥＬディスプレイを製造するために用いられるものであり、特に、転写方式により発光パネルを製造するためのものである。この転写装置は、図１に示したように、チャンバー１０に、転写基板ポート２０と、配線基板ポート３０と、位置合わせ機構４０と、転写機構５０と、送風機６０と、吸引機７０とが設けられた構成をなしている。
【００２１】
チャンバー１０は、例えば、内部の圧力を所望の低圧状態となるまで減圧可能なものである。
【００２２】
転写基板ポート２０は、転写基板８０を貯蔵するためにチャンバー１０内に設けられた貯蔵部屋であり、開閉可能な隔壁２０Ｗが設けられている。
【００２３】
配線基板ポート３０は、配線基板９０を貯蔵するためにチャンバー１０内に設けられた貯蔵部屋であり、開閉可能な隔壁３０Ｗが設けられている。
【００２４】
位置合わせ機構４０は、配線基板９０に対して転写基板８０を位置合わせするためにチャンバー１０内に設けられたものであり、搬送台４１上に配置されたステージ４２と、このステージ４２に附設された搬送アーム４３およびマーカー検出機４４とを含んで構成されている。
【００２５】
搬送台４１は、位置合わせ機構４０と転写機構５０との間でステージ４２を搬送させるためのものであり、位置合わせ機構４０の作業スペースから転写機構５０の作業スペースに渡って延在している。
【００２６】
ステージ４２は、転写基板８０および配線基板９０を保持するためのものであり、転写基板８０および配線基板９０を収容するための窪み（収容スペース）４２Ｓが設けられている。なお、ステージ４２の詳細な構成については後述する（図２参照）。ここで、ステージ４２が本発明における「保持機構」の一具体例に対応する。
【００２７】
搬送アーム４３は、例えば真空ピンセットなどの把持機構と同様の機能を有しており、転写基板８０を把持して転写基板ポート２０から搬出入させたり、その転写基板８０をステージ４２に着脱させるものである。この搬送アーム４３は、転写基板８０と同様に、配線基板９０の搬出入や着脱を行うことも可能である。
【００２８】
マーカー検出機４４は、配線基板９０に対して転写基板８０を位置合わせするために用いられるものであり、光学顕微鏡などの観察機器を含んで構成されている。
【００２９】
転写機構５０は、転写基板８０から配線基板９０に対して転写処理を施すためにチャンバー１０外に設けられたものであり、レーザ光源５１と、チャンバー１０に設けられた光学窓１０Ｍに対応して配置されたミラー５２およびレンズ５３と、このレンズ５３を支持するＸＹステージ５４とを含んで構成されている。
【００３０】
レーザ光源５１は、加熱用のレーザ光を発するものであり、例えば、弗化アルゴン（ＡｒＦ），弗化クリプトン（ＫｒＦ），塩化キセノン（ＸｅＦ）などのエキシマレーザや、ＹＡＧレーザの第３，第４高調波などの紫外線レーザなどにより構成されている。ここで、レーザ光源５１が本発明における「光源」の一具体例に対応する。
【００３１】
ミラー５２は、レーザ光源５１から発せられたレーザ光をレンズ５３に向けて反射させるためのものであり、レンズ５３は、ミラー５２において反射されたレーザ光を集光させるためのものである。
【００３２】
ＸＹステージ５４は、図中のＸ軸方向およびＹ軸方向に移動可能なものである。このＸＹステージ５４の移動動作に伴ってレンズ５３が移動することにより、レンズ５３において集光されたレーザ光が光学窓１０Ｍ上を走査するようになっている。
【００３３】
送風機６０は、主に、チャンバー１０内に清浄空気を供給するためのものであり、例えば、送風用のファン（図示せず）や異物除去用のフィルタ６０Ｆを含んで構成されている。
【００３４】
吸引機７０は、送風機６０によりチャンバー１０内に供給された清浄空気を排出するためのものであり、例えば、吸引用のポンプ（図示せず）を含んで構成されている。送風機６０および吸引機７０が稼働することにより、チャンバー１０内において清浄空気をダウン・フローさせることが可能になっている。
【００３５】
次に、図２を参照して、ステージ４２の詳細な構成について説明する。図２は、ステージ４２の断面構成を拡大して表している。
【００３６】
ステージ４２に設けられた収容スペース４２Ｓは、図２に示したように、スペース幅（図中の左右方向の寸法）が異なる２段構成をなしており、配線基板９０を収容するための１段目の下層スペース４２ＳＡと、転写基板８０を収容するための２段目の上層スペース４２ＳＢとを含んでいる。この収容スペース４２Ｓでは、例えば、上層スペース４２ＳＢのスペース幅が転写基板８０の幅とほぼ一致しているのに対して、下層スペース４２ＳＡのスペース幅は配線基板９０の幅よりも若干大きくなっている。
【００３７】
収容スペース４２Ｓの底面には、例えば、乾燥エアーなどの不活性気体を給排気するための排出管４２Ｈ１，４２Ｈ２および導入管４２Ｄ１，４２Ｄ２が設けられている。排出管４２Ｈ１は、エアー排気に基づく吸引力を利用してステージ４２に配線基板９０を固定させるためのものであり、排出管４２Ｈ２は、同様の吸引力を利用してステージ４２に転写基板８０を固定させるためのものである。また、導入管４２Ｄ１は、エアー給気に基づく圧力を利用してステージ４２から配線基板９０を脱離（浮上）させるためのものであり、排出管４２Ｈ２は、同様の圧力を利用してステージ４２から転写基板８０を脱離させるためのものである。なお、導入管４２Ｄ２および排出管４２Ｈ２は、後述する図７に示したように、下層スペース４２ＳＡに配線基板９０が収容された状態において転写基板８０を固定または脱離可能とすべく、下層スペース４２ＳＡに配線基板９０を収容した際に生じる間隙Ｇに対応して設けられている。なお、排気管４２Ｈ１，４２Ｈ２や導入管４２Ｄ１，４２Ｄ２の配設位置は必ずしも上記した場合に限られず、例えば転写基板８０や配線基板９０の形状、大きさまたは収容状態等に応じて自由に設定可能である。ここで、排出管４２Ｈ１，４２Ｈ２が本発明における「吸引機構」の一具体例に対応する。
【００３８】
次に、図３を参照して、転写基板８０の詳細な構成について説明する。図３は、転写基板８０の断面構成を拡大して表している。
【００３９】
転写基板８０は、配線基板９０に有機発光色素層をパターン形成するために用いられるものであり、図３に示したように、基板本体８１の一面に、有機発光色素パターン層８２と、マーカー８３とが設けられた構成をなしている。
【００４０】
基板本体８１は、配線基板９０に有機発光色素パターン層８２を転写させる際にレーザ光を透過させるべく、例えばガラスなどの透明材料により構成されている。この基板本体８１の厚みは、取り扱い上の機械的強度やレーザ光の透過性を考慮し、約１ｍｍ〜５ｍｍである。
【００４１】
有機発光色素パターン層８２は、ＥＬ現象により発光可能で、かつレーザ光に基づく熱を利用して昇華可能なものであり、光の３原色に対応する３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂを含んでいる。これらの有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂは、既知の蒸着法やインクジェット法を利用して基板本体８１上に形成されたものであり、その基板本体８１上に規則的にパターン配列されている。各有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの寸法は、例えば、厚み（図中の縦方向の寸法）が約１０ｎｍ〜１００ｎｍ，幅（図中の横方向の寸法）が約０．３ｍｍ以下，パターン間隔が約０．１ｍｍである。
【００４２】
有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの具体例は、以下の通りである。有機発光色素パターン層８２Ｒは、ホストのアルミノキノリン錯体に、ドーパントとして４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ドーピング濃度＝約５重量％）が共蒸着されたものであり、その厚みは約２５ｎｍである。有機発光色素パターン層８２Ｇは、ホストのトリス（８−キノリノール）アルミニウムに、ドーパントしてキナクリドン（ドーピング濃＝約５重量％）が共蒸着されたものであり、その厚みは約２５ｎｍである。有機発光色素パターン層８２Ｂは、ペリレンが蒸着されたものであり、その厚みは約２５ｎｍである。なお、上記した有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂの構成は一例にすぎず、ディスプレイ分野における映像の高精細化傾向を考慮し、寸法やパターン間隔がより微細化される場合もある。
【００４３】
マーカー８３は、配線基板９０に対して転写基板８０を位置合わせする際に用いられる目印部品である。このマーカー８３は、光学的に不透明な材料、例えばアルミニウムなどの金属により構成されており、例えば蒸着法などを利用して基板本体８１上に形成されたものである。マーカー８３は、例えば、基板本体８１の終縁部に、有機発光色素パターン層８２を挟むように２つ（約１ｍｍ幅）、かつ有機発光色素パターン層８２中に２つ（約１ｍｍ未満幅）の計４つ設けられている。これらのマーカー８３の厚みは約０．５μｍ〜１０μｍであり、後述する配線基板９０（図４参照）の転写スペース９０Ｖの深さよりも大きいことが好ましい。ここで、マーカーが本発明における「位置合わせパターン」の一具体例に対応する。
【００４４】
次に、図４を参照して、配線基板９０の詳細な構成について説明する。図４は、配線基板９０の断面構成を拡大して表している。
【００４５】
配線基板９０は、発光パネルの大本をなすものであり、図４に示したように、図示しない配線パターン間に構成された複数の窪み（転写スペース）９０Ｖを有している。この転写スペース９０Ｖは、転写基板８０から有機発光色素パターン層８２（８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ）が転写されるスペースである。ここで、配線基板９０が本発明における「被転写基板」の一具体例に対応する。
【００４６】
次に、図１〜図８を参照して、転写装置を使用した発光パネルの製造工程について説明する。図５および図６は、発光パネルの製造工程における転写装置の動作を説明するためのものであり、いずれも図１に対応している。図７および図８は、発光パネルの製造手順を説明するためのものであり、いずれも図２に対応している。
【００４７】
この転写装置では、発光パネルの製造前の状態において、図１に示したように、例えば、ステージ４２（図２参照）が位置合わせ機構４０の作業スペースに位置すると共に、有機発光色素パターン層８２が下側を向くように複数の転写基板８０（図３参照）が転写基板ポート２０に貯蔵され、かつ転写スペース９０Ｖが上側を向くように複数の配線基板９０（図４参照）が配線基板ポート３０に貯蔵されている。この状態において、送風機６０および吸引機７０が稼働して清浄空気をダウンフローさせることによりチャンバー１０内を清浄化したのち、所望の低圧状態となるまでチャンバー１０内が減圧される。
【００４８】
発光パネルを製造する際には、まず、図５に示したように、隔壁２０Ｗ，３０Ｗが開くと、位置合わせ機構４０において、搬送アーム４３が配線基板９０を把持して配線基板ポート３０から取り出し、ステージ４２の収容スペース４２Ｓに収容したのち、引き続き転写基板８０を把持して転写基板ポート２０から取り出し、収容スペース４２Ｓに収容する。この際、マーカー検出機４４を利用して転写基板８０のマーカー８３が検出され、このマーカー８３の検出位置に基づいて、配線基板９０に対して転写基板８０が位置合わせされる。
【００４９】
ステージ４２では、図７に示したように、配線基板９０は、収容スペース４２Ｓのうちの下層スペース４２ＳＡのほぼ中央部に収容され、転写基板８０は、上層スペース４２ＳＢに収容される。これにより、転写基板８０に設けられた有機発光色素パターン層８２（８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ）が、配線基板９０に設けられた転写スペース９０Ｖと対向配置される。この際、ステージ４２に設けられた排出管４２Ｈ１を通じてエアーＲが排気され、その排気に基づく吸引力を利用して配線基板９０がステージ４２に固定されると共に、同様に排出管４２Ｈ２を通じてエアーＲが排気される際の吸引力を利用して転写基板８０がステージ４２に固定される。なお、図７（後述する図８，図１４でも同様）では、図示の便宜上の理由により転写基板８０と配線基板９０との間の間隔を大きく示しているが、これらの転写基板８０と配線基板９０とは実際には互いに近接して密着している。
【００５０】
続いて、図６に示したように、搬送台４１の搬送機構を利用して、転写基板８０および配線基板９０を収容したステージ４２が、位置合わせ機構４０の作業スペースから転写機構５０の作業スペースまでスライドしたのち、静止する。
【００５１】
続いて、転写機構５０において、レーザ光源５１がレーザ光Ｌを発すると、このレーザ光Ｌがミラー５２で反射され、さらにレンズ５３で集光されたのち、光学窓１０Ｍを透過して転写基板８０に照射される。レーザ光Ｌの照射エネルギー密度は、例えば０．３Ｊ／ｃｍ２　程度である。この状態において、レンズ５３を支持するＸＹステージ５４が図中のＸ軸方向およびＹ軸方向に移動することにより、レーザ光Ｌにより転写基板８０が走査される。
【００５２】
転写基板８０では、図８に示したように、基板本体８１を透過したレーザ光Ｌが有機発光色素パターン層８２に到達すると、このレーザＬに基づく熱を利用して有機発光色素パターン層８２が昇華し、配線基板９０の転写スペース９０Ｖに転写される。レーザ光Ｌが基板本体８１を走査すると、このレーザ光Ｌの走査に応じて有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂが転写スペース９０Ｖに順次転写される。これにより、配線基板９０に有機発光色素層９１（９１Ｒ，９１Ｇ，９１Ｂ）がパターン形成され、発光パネル１００が製造される。
【００５３】
こののち、レーザ光源５１が停止すると、ステージ４２が転写機構５０の作業スペースから位置合わせ機構４０の作業スペースまでスライドする。そして、ステージ４２において排出管４２Ｈ１，４２Ｈ２を利用した排気が停止し、代わりに導入管４２Ｄ１，４２Ｄ２を通じてエアーＲが給気される際の圧力を利用して転写基板８０および配線基板９０がステージ４２から開放されると、搬送アーム４３がステージ４２から転写基板８０を把持して転写基板ポート２０に収容したのち、引き続き配線基板９０を把持して配線基板ポート３０に収容する。
【００５４】
以上の一連の動作が反復されることにより、転写基板ポート２０に貯蔵された複数の転写基板８０および配線基板ポート３０に貯蔵された複数の配線基板９０を使用して、順次発光パネルが量産される。
【００５５】
以上説明したように、本実施の形態に係る転写基板８０では、基板本体８１に有機発光色素パターン層８２やマーカー８３が設けられた簡単な構成をなし、特に、有機発光色素パターン層８２を転写させるために必要な熱源（ここではレーザ光源５１）を備えていないため、熱源（加熱機構）を備えた従来の転写基板と比較して、熱源を備えていない分だけコストが安くなる。したがって、本実施の形態では、転写基板８０のコスト低下に基づいて発光パネル１００のコストが低下するため、有機ＥＬディスプレイのコストダウンを図ることができる。
【００５６】
しかも、本実施の形態では、熱源を備えていない分だけ転写基板８０の重量が軽くなるため、転写基板８０の軽量化を図り、その転写基板８０を使用する際の作業性を向上させることができる。
【００５７】
また、本実施の形態では、折れ曲がりにくく、かつ伸縮しにくいガラス製の基板本体８１を含んで転写基板８０が構成されているため、上記「従来の技術」の項で例示したフィルム上の転写基板とは異なり、各有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ間のパターン間隔が変化する可能性が小さくなる。したがって、本実施の形態では、転写基板８０から配線基板９０に有機発光色素パターン層８２を転写させる際に、各有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂのパターン配列精度がほぼそのまま有機発光色素層９１Ｒ，９１Ｇ，９１Ｂのパターン形成精度として再現されるため、配線基板９０に有機発光色素層９１を高精度に形成することができる。発光パネル１００に関する一般的なピクセルサイズが約０．３×０．３ｍｍ２　，ピクセル間のピッチが約０．１ｍｍであり、ピクセル条件が高精細な点を考慮すると、有機発光色素層９１の形成に関する高精度化は大きな利点と言える。
【００５８】
特に、本実施の形態に係る転写装置、ならびにこの転写装置を使用した転写方法では、位置合わせ機構４０および転写機構５０が転写基板８０を使用して自働的かつ連続的に発光パネル１００を製造可能なため、コストダウンを図りつつ有機ＥＬディスプレイを量産することができる。
【００５９】
また、本実施の形態では、位置合わせ機構４０による転写基板８０と配線基板９０との位置合わせ作業、ならびに転写機構５０による有機発光色素パターン層８２の転写作業が、いずれも減圧かつ清浄化されたチャンバー１０内において行われるため、これらの作業が大気圧下の開放系で行われる場合とは異なり、大気中の塵やゴミなどの異物が混入しにくく、転写基板８０や配線基板９０に異物が付着するおそれがない。しかも、有機発光色素パターン層８２の転写時際に転写基板８０や配線基板９０が移動せずに静止しているため、塵やゴミなどの異物が飛散するおそれもない。なお、転写時にはＸＹステージ５４が移動するが、このＸＹステージ５４はチャンバー１０の外側で移動するため、このときのＸＹステージ５４の移動の影響がチャンバー１０内に及ぶことはない。したがって、本実施の形態では、異物の混入や付着に起因する不良の発生率が低くなるため、有機ＥＬディスプレイの歩留まりを向上させることができる。この利点は、大気圧下で転写方式を用いた場合だけでなく、他の蒸着方式やインクジェット方式を用いた場合と比較しても言えることである。すなわち、蒸着方式ではマスクの移動時、インクジェット方式ではインクジェット装置の噴出動作時に、異物の飛散や付着が生じる可能性が高いのである。
【００６０】
また、本実施の形態では、転写方式を採用しているため、蒸着方式を採用した場合と比較して有機発光色素層９１を高精度に形成することができる。なぜなら、蒸着方式では、蒸着源と配線基板９０との間にマスクが配置されるため、このマスクの配置スペースだけ蒸着源が配線基板９０から離れてしまう。この場合には、蒸着源の蒸着方向がマスクに対して傾いていると、マスクの存在に起因して蒸着処理が妨げられるため、有機発光色素パターン層８２の転写効率が低下するおそれがある。これに対して、転写方式では、転写基板８０と配線基板９０との間に障害物（マスク）が存在しないため、配線基板９０に転写基板８０を密着させた上で有機発光色素パターン層８２を効率よく転写させることが可能になるのである。
【００６１】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。
【００６２】
具体的には、例えば、上記実施の形態では、図９に示したように、各有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ間に、例えば、マーカー８３と同様の機能を兼ねるセパレータ８４を附設するようにしてもよい。この場合には、セパレータ８４により各有機発光色素パターン層８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ間が仕切られるため、任意の有機発光色素パターン層において昇華した色素分子が、その色素に隣接する他の有機発光色素パターン層に到達したり、あるいは他の有機発光色素パターン層において昇華した色素分子と混同する可能性が小さくなる。したがって、この観点においても、有機発光色素層９１の形成に関する高精度化に寄与することができる。なお、図９に示した転写基板８０に関する上記特徴箇所以外の構成は、上記実施の形態と同様である。
【００６３】
また、上記実施の形態では、図３に示したように、基板本体８１全体がガラスなどの透明材料により構成されるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図１０に示したように、基板本体８１が、プラスチックや金属製の外枠８１Ｆにガラス製の光学窓８１Ｐが嵌め込まれた構成をなすようにしてもよい。この基板本体８１を含んで構成された転写基板８０においても、レーザ光Ｌの走査範囲に対応して光学窓８１Ｐを設けることにより、上記実施の形態で説明した転写基板８０と同様の機能を確保することができる。ここで、光学窓８１Ｐが本発明における「光透過部」の一具体例に対応する。なお、上記実施の形態で説明したように、基板本体８１全体が透明材料よりなる場合には、基板本体８１全体が「光透過部」の一具体例に対応する。
【００６４】
また、上記実施の形態では、転写機構５０において、転写基板８０および配線基板９０を収容したステージ４２を静止させた状態で、ＸＹステージ５４の移動を利用してレーザ光Ｌを走査させるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図１１に示したように、移動不能な固定型の支持アーム５５によりレンズ５３を支持した状態で、支持アーム５５の代わりにステージ４２をＸ軸方向またはＹ軸方向に移動させるようにしてもよい。この場合においても、転写基板８０に対してレーザ光Ｌを相対的に走査させることが可能になるため、上記実施の形態と同様の効果を得ることが可能となり、特に、光学窓１０Ｍを小さく設計することができる。なお、図１１に示した転写装置に関する上記特徴箇所以外の構成は、上記実施の形態と同様である。
【００６５】
また、上記実施の形態では、図１に示したように、転写機構５０を位置合わせ機構４０の横に並列配置するようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図１２に示したように、位置合わせ機構４０の下方に転写機構５０を積層配置するようにしてもよい。
【００６６】
この場合、ステージ４２に対して上方からレーザ光Ｌが照射される上記実施の形態とは異なり、下方からレーザ光Ｌが照射されることとなるため、このレーザ光Ｌの照射方向の変更に伴い、ステージ４２の構成を変更する必要がある。具体的には、ステージ４２は、例えば、図１３に示したように、収容スペース４２が、転写基板８０を収容するための下層スペース４２ＳＥと、配線基板９０を収容するための上層スペース４２ＳＦとを含み、この収容スペース４２に対応して光学窓４３が設けられた構成をなしている。このステージ４２では、例えば、収容スペース４２Ｓの側面に排出管４２Ｈ１，４２Ｈ２および導入管４２Ｄ１，４２Ｄ２が設けられており、上記実施の形態と同様に、排出管４２Ｈ１，４２Ｈ２を通じた排気機構を利用して転写基板８０や配線基板９０をステージ４２に固定したり、導入管４２Ｄ１，４２Ｄ２を通じた給気機構を利用して転写基板８０や配線基板９０をステージ４２から開放することが可能である。
【００６７】
このステージ４２を利用すれば、例えば、図１４に示したように、下層スペース４２ＳＥに転写基板８０が収容され、かつ上層スペース４２ＳＦに配線基板９０が収容された状態において、下方から光学窓４３を通じてレーザ光Ｌを入射させることが可能になるため、上記実施の形態と同様に、転写基板８０から配線基板９０に有機発光色素パターン層８２を転写させることができる。
【００６８】
位置合わせ機構４０の下方に転写機構５０を積層配置した場合には、転写機構５０を位置合わせ機構４０の横に並列配置した上記実施の形態と比較して、転写装置全体の設置スペースが転写機構５０のスペース分だけ小さくなるため、転写装置を小型化することができる。なお、図１２〜図１４に示した転写装置（ステージ４２を含む）に関する上記特徴箇所以外の構成は、上記実施の形態と同様である。
【００６９】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の転写基板によれば、基板本体の光透過部に、光に基づく熱を利用して被転写基板に転写可能な有機発光色素パターン層が配列された構成をなしているので、構成が簡単である。しかも、有機発光色素パターン層を転写させるために必要な加熱機構を備えていないため、加熱機構を備えた従来の転写基板と比較して、その加熱機構の分だけコストが安くなる。したがって、転写基板のコスト低下に基づき、有機ＥＬディスプレイのコストダウンを図ることができる。
【００７０】
また、請求項４ないし請求項７のいずれか１項に記載の転写装置、または請求項８に記載の転写方法によれば、保持機構および光源と共に本発明の転写基板を使用して、自働的かつ連続的に転写基板から被転写基板に有機発光色素パターン層を転写させることが可能なため、有機ＥＬディスプレイを量産することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る転写装置の断面構成を表す断面図である。
【図２】ステージの断面構成を拡大して表す断面図である。
【図３】転写基板の断面構成を拡大して表す断面図である。
【図４】配線基板の断面構成を拡大して表す断面図である。
【図５】発光パネルの製造工程における転写装置の動作を説明するための断面図である。
【図６】図５に示した動作に続く動作を説明するための断面図である。
【図７】発光パネルの製造手順を説明するための断面図である。
【図８】図８に示した製造手順に続く製造手順を説明するための断面図である。
【図９】転写基板の構成に関する変形例を表す断面図である。
【図１０】転写基板の構成に関する他の変形例を表す断面図である。
【図１１】転写装置の構成に関する変形例を表す断面図である。
【図１２】転写装置の構成に関する他の変形例を表す断面図である。
【図１３】図１２に示した転写装置のステージの断面構成を拡大して表す断面図である。
【図１４】図１２に示した転写装置における発光パネルの製造手順を説明するための断面図である。
【符号の説明】
１０…チャンバー、１０Ｍ，４３，８１Ｐ…光学窓、２０…転写基板ポート、２０Ｗ，３０Ｗ…隔壁、３０…配線基板ポート、４０…位置合わせ機構、４１…搬送台、４２…ステージ、４２Ｓ…収容スペース、４２ＳＡ，４２Ｅ…下層スペース、４２ＳＢ，４２ＳＦ…上層スペース、４２Ｄ１，４２Ｄ２…導入管、４２Ｈ１，４２Ｈ２…排出管、４３…搬送アーム、４４…マーカー検出機、５０…転写機構、５１…レーザ光源、５２…ミラー、５３…レンズ、５４…ＸＹステージ、５５…支持アーム、６０…送風機、６０Ｆ…フィルタ、７０…吸引機、８０…転写基板、８１…基板本体、８１Ｆ…外枠、８２…有機発光色素パターン層（８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ）、８３…マーカー、８４…セパレータ、９０…配線基板、９０Ｖ…転写スペース、９１（９１Ｒ，９１Ｇ，９１Ｂ）…有機発光色素層、１００…発光パネル、Ｇ…間隙、Ｌ…レーザ光、Ｒ…エアー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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