(57)【要約】【課題】除染効果が高く、かつ除染作業が短時間であり、さらに除染装置のコンパクト化および少人数運転を図ることができる放射能物質汚染機器の除染方法およびその装置を提供する。【解決手段】放射性物質で内部が汚染された機器１を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する放射性物質汚染機器の除染方法であって、汚染機器１の出入口を閉止具１０で塞ぎ、超臨界流体除染装置から除染流体を汚染機器１内部に供給し、通過させて汚染機器１内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射性物質で内部が汚染された機器を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する放射性物質汚染機器の除染方法であって、汚染機器の出入口を閉止具で塞ぎ、超臨界流体除染装置から除染流体を汚染機器内部に供給し、通過させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離することを特徴とする放射性物質汚染機器の除染方法。
【請求項２】
前記汚染機器内部と超臨界流体除染装置とを除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、超臨界流体除染装置から前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する請求項１記載の放射性物質汚染機器の除染方法。
【請求項３】
前記除染流体が除染補助剤を含む請求項１または２記載の放射性物質汚染機器の除染方法。
【請求項４】
放射性物質で内部が汚染された仕切弁を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、前記仕切弁の弁座を閉止板で塞ぎ、超臨界流体除染装置から前記除染流体を弁箱中央部に供給し、通過させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離することを特徴とする仕切弁の除染方法。
【請求項５】
前記弁箱中央部と超臨界流体除染装置とを除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する請求項４記載の仕切弁の除染方法。
【請求項６】
仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた除染流体循環治具を弁箱と弁蓋との間に挿入し、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部、弁蓋および前記除染流体循環治具の内側の空間に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染することを特徴とする請求項５記載の仕切弁の除染方法。
【請求項７】
仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた筒状の除染流体循環治具を弁蓋のパッキン箱を貫通させ、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環治具の下端部に弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部および弁蓋の内側の内部に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染することを特徴とする請求項５記載の仕切弁の除染方法。
【請求項８】
弁箱から弁蓋を取り外した状態で仕切弁の両弁座を閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第１除染流体循環治具で弁蓋の弁箱側開口部を塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第２除染流体循環治具で弁箱の弁蓋側開口部を塞ぎ、さらに第１除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、第１除染流体循環治具の除染流体排出管を第２除染流体循環治具の除染流体注入管に接続し、第２除染流体循環治具の除染流体排出管を超臨界流体除染装置の除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁蓋および弁箱中央部の内部にそれぞれ除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染する請求項５記載の仕切弁の除染方法。
【請求項９】
弁箱または弁蓋に弁体を収納して除染するする請求項８記載の仕切弁の除染方法。
【請求項１０】
前記除染流体が除染補助剤を含む請求項４〜９のいずれか１項に記載の仕切弁の除染方法。
【請求項１１】
請求項４または請求項５記載の仕切弁の除染方法に用いられる除染装置であって、両弁座をそれぞれ塞いで弁箱中央部を弁箱流路から遮断する一対の閉止板および閉止板を弁座面に押圧する押さえ金具を有する弁座閉止治具と、前記弁箱中央部に前記超臨界流体除染装置からの除染流体を注入する除染流体注入管および除染流体を超臨界流体除染装置に排出する除染流体排出管を有する除染流体循環治具とを備えたことを特徴とする仕切弁の除染装置。
【請求項１２】
放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、弁箱内に通じる除染流体注入管を弁蓋の上部グランドパッキンに貫通させ、除染流体注入管から弁箱中央部および弁蓋の内部に前記除染流体を注入することを特徴とする仕切弁の除染方法。
【請求項１３】
放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、除染流体注入治具を弁箱または弁蓋の枝管に取り付け、前記除染流体注入治具から枝管を介して弁箱中央部および弁蓋の内部に除染流体を注入することを特徴とする仕切弁の除染方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、放射性物質で内部が汚染されたバルブ、ポンプ、容器、配管などの機器を除染する放射性物質汚染機器の除染方法およびその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
原子力発電所では、炉水中の放射性物質が原子力機器や配管あるいはバルブの表面の酸化皮膜中に取り込まれて放射線被ばく線源になるため、保守、点検、補修の前に、この放射性物質を除去している。
【０００３】
このように放射性汚染されたバルブ、ポンプ、容器などの機器の除染方法としては、デッキブラシ方式を代表とする機械的な除染方法が主流を占めている。しかし、このような機械的な除染方法では、除染効果はせいぜい１０％程度で限界がある。さらに、最近では、化学除染方法が採用されるようになつてきたが、化学除染では除染効果は大きいが除染時間が長く、除染液に腐食性流体を使用するという問題があった。そこで、除染効果が高く、かつ除染作業が短時間であり、さらに除染装置のコンパクト化および少人数運転を図ることができる除染方法が求められている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
例えば、除染対象機器が原子力発電所で使用されるバルブである場合、バルブ内部は高い放射能濃度で汚染されている。バルブでは、弁箱、弁蓋の内面および弁体の表面が除染範囲となる。バルブの除染作業には、弁蓋を弁箱から取り外して弁内部を開放し、弁箱に除染治具などを装着して、除染する必要がある。
【０００５】
従来の除染方法では、弁蓋を弁箱から取り外した段階および、除染治具などの装着時にも、相当量の被ばくがある。その後、除染作業に入るが、デッキブラシなどを使用して除染する場合などは、除染作業者自身も被ばくする。さらに、弁内部の点検・手入れなどの本作業においても相当量の被ばくがある。
【０００６】
このように、従来方法のデッキブラシなどを使用して除染作業をする場合、本作業を開始する前段でもかなり被ばくする。これは、化学除染においても同様の課題がある。さらに、化学除染などは、除染時間が３０時間以上と極めて長時間のため、近年、原子力発電所などで、定検工事の短縮が要求されているがこれに逆行する。
【０００７】
この発明は、除染効果が高く、かつ除染作業が短時間であり、さらに除染装置のコンパクト化および少人数運転を図ることができる放射能物質汚染機器の除染方法およびその装置を提供することを課題にしている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明の放射性物質汚染機器の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された機器を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する放射性物質汚染機器の除染方法であって、前記汚染機器の出入口を閉止具で塞ぎ、汚染機器内部と超臨界流体除染装置とを前記除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、超臨界流体除染装置から前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する。
【０００９】
上記放射性物質汚染機器の除染方法において、除染流体として取扱いやすさ、安全性、経済性の点から超臨界流体または亜臨界流体二酸化炭素が適している。その他の超臨界流体または亜臨界流体として窒素、亜酸化窒素、キセノン、六フッ化イオウなどが用いることができる。また、除染流体は除染補助剤、例えば表面活性剤、シュウ酸などを含むものであってもよい。
【００１０】
超臨界流体は液体に近い密度をもち、油などの非極性物質の溶解性が大きい。また、気体のように粘度が低く、拡散性が高い。このために、超臨界流体は洗浄力が高いので、短い作業時間で、小型かつ運転が容易な除染装置により放射性物質を除染することができる。また、作業時間が短いので、作業者の被ばく線量を低減することができる。
【００１１】
上記除染方法において、前記汚染機器と超臨界流体除染装置とを記除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、汚染機器の出入口を閉止具で塞ぎ、汚染機器内部に除染流体を充満して前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去するようにしてもよい。
【００１２】
この除染方法では、除染流体循環ループを形成するので、超臨界流体除染装置で除染済みの除染流体を再生するとともに、放射性物質を除染流体から分離することができる。除染流体の再生および放射性物質の分離は閉じたループ内で行なわれるので、除染流体および放射性物質が外部に拡散することはなく、安全である。
【００１３】
この発明の第１の仕切弁の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された仕切弁を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、前記仕切弁の弁座を閉止板で塞ぎ、超臨界流体除染装置から前記除染流体を弁箱中央部に供給し、通過させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する。
【００１４】
上記仕切弁の除染方法では、超臨界流体を用いて除染するので前述のような作用効果を奏する。また、弁座面を閉止板で塞ぎ、弁箱の除染範囲を弁箱中央部に限っているので、治具取付け作業時間、および除染時間は短時間で済み、放射能被ばく線量を大きく減少することができる。弁箱は配管に取り付けた状態で、除染可能である。
【００１５】
上記仕切弁の除染方法において、前記弁箱中央部と超臨界流体除染装置とを除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離するようにしてもよい。
【００１６】
この仕切弁の除染方法では、除染流体循環ループを形成するので、前述のように除染流体の再生および放射性物質の分離は閉じたループ内で行なわれるので、除染流体および放射性物質が外部に拡散することはなく、安全である。
【００１７】
上記除染流体循環ループを形成する仕切弁の除染方法において、仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた除染流体循環治具を弁箱と弁蓋との間に挿入し、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部、弁蓋および前記除染流体循環治具の内側の空間に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染するようにしてもよい。この除染方法によれば、弁箱中央部とともに、弁蓋および弁体も同時に除染することができので、除染作業時間を短縮することができる。
【００１８】
また、仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた筒状の除染流体循環治具を弁蓋のパッキン箱を貫通させ、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環治具の下端部に弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部および弁蓋の内側の内部に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染するようにしてもよい。この除染方法によれば、弁蓋のパッキン箱を貫通するように除染流体循環治具が取り付けられているので、除染流体循環治具の取付けに広い空間を要しない。したがって、狭い場所であっても除染作業が可能である。
【００１９】
さらに、弁箱から弁蓋を取り外した状態で仕切弁の両弁座を閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第１除染流体循環治具で弁蓋の弁箱側開口部を塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第２除染流体循環治具で弁箱の弁蓋側開口部を塞ぎ、さらに第１除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、第１除染流体循環治具の除染流体排出管を第２除染流体循環治具の除染流体注入管に接続し、第２除染流体循環治具の除染流体排出管を超臨界流体除染装置の除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁蓋および弁箱中央部の内部にそれぞれ除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染するようにしてもよい。また、弁箱または弁蓋に弁体を収納して除染するようにしてもよい。この除染方法によれば、弁箱と弁蓋とを別々に除染するので、仕切弁設置場所周辺が狭い場合に適している。
【００２０】
この発明の仕切弁の除染装置は、前記第１および第２の仕切弁の除染方法に用いられる除染装置であって、両弁座をそれぞれ塞いで弁箱中央部を弁箱流路から遮断する一対の閉止板および閉止板を弁座面に押圧する押さえ金具を有する弁座閉止治具と、前記弁箱中央部に前記超臨界流体除染装置からの除染流体を注入する除染流体注入管および除染流体を超臨界流体除染装置に排出する除染流体排出管を有する除染流体循環治具とを備えている。
【００２１】
この発明の仕切弁の除染装置は、閉止板および閉止板を弁座面に押圧する押さえ金具を有する弁座閉止治具を備え、弁座面を閉止板で塞ぎ、弁箱の除染範囲を弁箱中央部に限っている。したがって、治具取付け作業時間および除染時間は短時間で済み、放射能被ばく線量を大きく減少することができる。
【００２２】
この発明の第２の仕切弁の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、弁箱内に通じる除染流体注入管を弁蓋の上部グランドパッキンに貫通させ、除染流体注入管から弁箱中央部および弁蓋の内部に前記除染流体を注入する。
【００２３】
上記第２の仕切弁の除染方法では、弁箱と弁蓋を組立てたままグランドパッキン部から除染流体を注入する。したがって、本分解時の時には、すでに弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【００２４】
この発明の第３の仕切弁の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、除染流体注入治具を弁箱または弁蓋の枝管に取り付け、前記除染流体注入治具から枝管を介して弁箱中央部および弁蓋の内部に除染流体を注入する。
【００２５】
上記第３の仕切弁の除染方法も、第２の除染方法と同様に本分解時の時には、すでに弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【００２６】
【発明の実施の形態】
汚染機器としてウエッジ仕切弁を、例として、図１〜図３を参照しながら、この発明の実施の形態について説明する。除染流体は超臨界二酸化炭素である。
【００２７】
図１は弁座閉止治具および除染流体循環治具を取付けたウエッジ仕切弁の断面図、図２は超臨界流体除染装置の概略図、図３は弁座閉止治具の一例を示す詳細図である。
【００２８】
除染作業は、まず準備作業として弁座閉止治具１０で弁座３を閉止し、ついで除染流体循環治具３０を装着する。
【００２９】
弁座３を閉止するために、弁棒８を取付けたままの状態で弁蓋６をチェーンブロック（図示しない）などで吊り上げ、弁箱２から取り外す。これで、弁箱２の上部開口部は開放された状態になる。次に、ウエッジ仕切弁１の両弁座３を弁座閉止治具１０で塞ぐ。弁座閉止治具１０は、閉止板１１と押さえ金具１５とからなっている。
【００３０】
閉止板１１は一対からなり、それぞれの板面が入口側および出口側の弁座面に接する。閉止板１１は、表面（弁座に向かい合う面）に環状のガイド１２が設けられている。ガイド１２は弁座３の内周に嵌め合って閉止板１１の弁座３に対する位置を決め、閉止板１１の取付けを助ける。閉止板表面の外周寄りに環状のガスケット１３が取付けられている。ガスケット１３の材料は、例えばＮＢＲやテフロン（登録商標）などである。
【００３１】
押さえ金具１５は、図３に示すように４節リンクを備えたねじジャッキ機構からなっている。上側のリンク連結部１７Ｔは、本体２０にリンク１６がピン連結されており、本体２０はねじ軸２３を回転可能に保持している。ねじ軸２３は本体２０に嵌め合う部分の上下にそれぞれつば２４が設けられているので、ねじ軸２３は回転しても本体２０に対し上下に移動しない。下側のリンク連結部１７Ｂはナツト２１にリンク１６がピン連結されており、ナット２１に上記ねじ軸２３が嵌め合っている。左右に向かい合うリンク連結部１７Ｌ，１７Ｒは、閉止板１１にピン連結されている。上記のように構成された弁座閉止治具１０で閉止板１１を弁座３に押圧するには、ねじ軸頂部の角部２５に回転治具（図示しない）を挿入し、ねじ軸２３を回転する。ねじ軸２３の回転により、４節リンクが左右方向に伸びて、閉止板１１は弁座面４に押圧される。
【００３２】
弁座３が閉止されると、除染流体循環治具３０を弁箱上面にガスケット３６を介して載せる。弁体７を弁棒８で吊り下げた状態で、弁蓋６を除染流体循環治具３０の上面にガスケット３６を介して載せる。そして、通しボルト３７により除染流体循環治具３０を弁箱２と弁蓋６との間で締め付け、これらの間をシールする。除染流体循環治具３０では、除染流体注入管３３および除染流体排出管３４が円筒状本体３１の周壁をそれぞれ貫通して本体内部に達している。除染流体注入管３３は除染流体注入弁６０および配管４４を介して超臨界流体除染装置４０の除染流体供給口４１に接続し、除染流体排出管３４は除染流体排出弁６１および配管４５を介して除染流体戻り口４２に接続する。これにより、除染流体循環ループが形成される。
【００３３】
超臨界流体除染装置４０の基本構成を図２に示す。ここで、超臨界流体除染装置４０には、二酸化炭素（除染流体）の昇圧装置４７、二酸化炭素の減圧装置４８および二酸化炭素と汚染物質を分離する分離槽４９を備えている。
【００３４】
このように構成された超臨界流体除染装置４０の除染機能を説明する。
【００３５】
昇圧装置４７に送り込まれた二酸化炭素ガスは、昇圧装置４７の内部で昇温昇圧され、７２０N/cm2×３１℃前後の亜臨界あるいは超臨界状態になり、接続配管４
４を介してウエッジゲート弁１に供給され、弁箱２の中央内部５、弁蓋６の内部および弁体７を満遍なく除染し、汚染物質と共に接続配管４５を通って、減圧装置４８に送り込まれる。減圧装置４８内では、亜臨界あるいは超臨界状態で導かれた二酸化炭素を減圧し、低圧低温のガス体にして汚染物質と共に分離槽４９に送り込まれる。分離槽４９内では、送り込まれた二酸化炭素ガス中の汚染物質のみを分離し、回収する。回収方法としては、フィルタなどに汚染物質を付着させ収集して廃棄するなどが考えられる。汚染物質を分離し清浄化した二酸化炭素ガスは、再び昇圧装置４７に導かれて昇温昇圧される。
【００３６】
このように超臨界流体除染装置４０は、ウエッジゲート弁１を除染した除染流体中の汚染物質のみを回収し、二酸化炭素ガスは再生して再使用する。ウエッジゲート弁１と超臨界流体除染装置４０との間で除染流体循環ループが形成され、いわゆるクローズドシステムになつているため、二酸化炭素による環境への影響を最小限にとどめている。
【００３７】
なお、この発明の超臨界流体除染装置４０に使用する除染流体は二酸化炭素単体ではなく、汚染状況により除染補助剤の適用も考えられる。
【００３８】
図４はこの発明の他の実施の形態であり、弁座閉止治具および除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁を示している。
【００３９】
除染流体循環治具１１０は、円筒状本体１１１の下端にブロック状の弁体吊り下げ部１１２が形成されている。本体１１１上端寄りに、除染流体注入管１１３および除染流体排出管１１４が取り付けられている。除染流体注入管１１３は、除染流体注入口弁６０および配管４４を介して図２に示す超臨界流体除染装置４０の除染流体供給口４１に接続されている。除染流体排出管１１４は、除染流体排出口弁６１および配管４５を介して図２に示す超臨界流体除染装置４０の除染流体戻り口４２に接続されている。除染流体注入管１１３は本体内部の除染流体注入孔１１７に通じており、除染流体排出管１１４は除染流体排出孔１１８に通じている。
【００４０】
上記のように構成された除染流体循環治具１１０を用いて除染作業を行う場合、弁蓋６を弁棒と一体として弁箱２から取り外した後、弁座閉止治具１０で弁座３を塞ぐ。ついで、除染流体循環治具１１０を弁棒の代わりにパッキン箱９を貫通して弁蓋６に取付ける。除染流体循環治具１１０の弁体吊り下げ部１１２に弁体７を吊るした状態で、弁蓋６を弁箱２に取り付ける。
【００４１】
この実施の形態では、除染流体循環治具１１０が弁箱２と弁蓋６との間に挿入された場合に比べて、除染流体循環治具３０（図１参照）の高さだけ除染作業中の高さが低くてすむ。したがって、この実施の形態は作業現場の高さに余裕が無い場合に適している。
【００４２】
図５および図６は、この発明の他の実施の形態を示している。図５は第１除染流体循環治具１３０を取付けた弁蓋６および超臨界流体除染装置４０を示し、図６は弁座閉止治具１０および第２除染流体循環治具１４０を取り付けた弁箱２を示している。図１および図４の除染設備による除染方法では、弁箱２と弁蓋６とを一体として除染していたが、この実施の形態では別々に除染する。
【００４３】
第１除染流体循環治具１３０は、内側にキャップ１３２が取り付けられた弁蓋カバー１３１を備えている。キャップ１３２は弁蓋６の内部空間を狭め、除染流体の消費量を少なくする。弁蓋カバー１３１には除染流体注入管１３３および除染流体排出管１３４が取付けられている。第２除染流体循環治具１４０は、弁箱カバー１４１に除染流体注入弁１４２、除染流体注入管１４３および除染流体排出管１４４が取り付けられている。また、弁箱カバー１４１には、弁体吊り下げ金具１４７が設けられている。
【００４４】
除染作業では、弁棒を組み付けたままの弁蓋６を弁箱２から取り外し、弁棒から弁体７を外し、さらに弁棒を弁蓋６から引き抜く。ついで、弁体７を吊り下げた状態の弁箱カバー１４１で弁箱２の上部開口部を塞ぐ。一方、弁蓋６の開口部を弁蓋カバー１３１で塞ぐ。弁蓋６のパッキン箱にプラグ１３８を挿入する。
【００４５】
上記第１除染流体循環治具１３０の除染流体排出管１３４と第２除染流体循環治具１４０の除染流体注入管１４３とを、除染流体排出弁１３５、連絡管１３６および除染流体注入弁１４２を介して接続する。除染流体注入管１３３は配管４４を介して超臨界流体除染装置４０の除染流体供給口４１に接続し、除染流体排出管１４４は配管４５を介して除染流体戻り口４２に接続する。これにより、除染流体循環ループが形成される。
【００４６】
この実施の形態では、超臨界流体除染装置４０から送出された除染流体は弁蓋６を除染し、次に弁箱２および弁体７を除染して超臨界流体除染装置４０に戻る。
【００４７】
図７および図８は、さらに他の実施の形態を示している。図７は第１除染流体循環治具１５０を取り付けた弁蓋６および超臨界流体除染装置４０を示し、図８は弁座閉止治具１０および第２除染流体循環治具１６０を取り付けた弁箱２を示している。この実施の形態は、図５および図６に示した場合と同様に弁箱２と弁蓋６とを別々に除染する。なお、以下の説明では、図５および図６に示す部材と同様の部材には同一の参照番号を付け、その説明は省略する。
【００４８】
第１除染流体循環治具１５０は、弁蓋６より外側に張り出した弁体収容室１５２を有する弁蓋カバー１５１を備えている。弁体収容室１５２には、除染流体注入管１５３および除染流体排出管１５４が取り付けられている。
【００４９】
第２除染流体循環治具１６０は、弁箱内に張り出したキャップ１６２が取り付けられた弁箱カバー１６１を備えている。キャップ１６２には、除染流体注入弁１６３、除染流体注入管１６４および除染流体排出管１６５が取り付けられている。キャップ１６２は弁箱２の中央内部５を狭め、除染流体の循環流量を少なくする。
【００５０】
除染作業では、弁棒８を組み付けたままの弁蓋６を弁箱２から取り外す。弁体７を吊り下げた状態の弁蓋６の開口部を弁蓋カバー１５１で塞ぐ。一方、弁箱２の開口部を弁箱カバー１６１で塞ぐ。上記第１除染流体循環治具１５０の除染流体排出管１５４と第２除染流体循環治具１６０の除染流体注入管１６４とを、除染流体排出弁１３５、連絡管１３６および除染流体注入弁１６３を介して接続する。除染流体注入管１５３は配管４４を介して超臨界流体除染装置４０の除染流体供給口４１に接続し、除染流体排出管１６５は配管４５を介して除染流体戻り口４２に接続する。これにより、除染流体循環ループが形成される。
【００５１】
この実施の形態では、超臨界流体除染装置４０から送出された除染流体は弁蓋６および弁体７を除染し、次に弁箱２を除染して超臨界流体除染装置４０に戻る。
【００５２】
この発明は、上記実施の形態に限られるのではなく、例えばこの発明の超臨界二酸化炭素除染方法および超臨界流体除染装置は、パラレルスライド仕切弁についてもウエッジ仕切弁と同様に適用することができる。
【００５３】
図９は、第２の仕切弁の除染方法の実施の形態を示している。図１の除染設備による除染方法では、弁箱２と弁蓋６とを一度切り離して本除染を行うが、この実施の形態では、図１による本除染の前にウエッジ仕切弁１を組立てたままの状態で、臨界点以下の気体（ここでは、二酸化炭素ガス）で予備除染を行う。
【００５４】
この予備除染を実施する場合、弁体７を全閉し、弁蓋６の上部操作機構を取り外し、パッキン箱からパッキンを抜き取った状態で、除染流体を注入する。除染流体注入治具２００は、一端に除染流体注入管２０１が設けられ、除染流体注入弁２０４を介して他端に配管４４が取り付けられている。除染流体注入管２０１は、パッキン上部の気密用のスペーサ２０２およびブッシュ２０３の内側挿入口を介して、パッキン箱内に挿入する。この状態で配管４４より除染流体を注入することにより、弁箱２の中央内部５と弁蓋６の内部に除染流体が充満する。これにより、本分解時の時には、既に弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【００５５】
図１０は、第３の仕切弁の除染方法の実施の形態を示している。図１の除染設備による除染方法では、弁箱２と弁蓋６とを一度切り離して本除染を行うが、この実施の形態では、図９と同様に図１による本除染の前にウエッジ仕切弁１を組み立てたままの状態で、臨界点以下の気体で予備除染を行う。
【００５６】
この予備除染を実施する場合、弁体７を全閉し、弁蓋６の上部操作機構を取り外した状態で、除染流体を注入する。弁蓋６のベント管２１０に取り付けられた除染流体注入治具２１３は、除染流体注入弁２１６を介して他端に配管４４が取り付けられている。この状態で配管４４より除染流体を注入することにより、弁箱２の中央内部５と弁蓋６の内部に除染流体が充満する。これにより、本分解時の時には、すでに弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【００５７】
他の枝管として、弁蓋６のパッキン部のリークオフ管２１１や弁箱２に取り付けられたドレン管２１２があるが、これらに除染流体注入治具２１４および除染流体注入弁２１７あるいは除染流体注入治具２１５および除染流体注入弁２１８を取り付けても同様の効果が得られる。
【００５８】
【発明の効果】
この発明の放射性物質汚染機器の除染方法では、洗浄力が高い超臨界流体または亜臨界流体を使用するので、小型かつ運転が容易な除染装置により放射性物質を短い作業時間で除染することができ、作業者の被ばく線量を低減することもできる。除染流体循環ループを形成することにより、除染流体の再生および放射性物質の分離は閉じたループ内で行なわれるので、除染流体および放射性物質が外部に拡散することはなく、安全である。
【００５９】
この発明の仕切弁の除染方法では、弁座面を閉止板で塞ぎ、弁箱の除染範囲を弁箱中央部に限っているので、治具取付け作業時間、および除染時間は短時間で済み、放射能被ばく線量を大きく低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態を示すもので、弁座閉止治具および除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【図２】超臨界流体除染装置の概略図である。
【図３】図１に示す弁座閉止治具の拡大側面図である。
【図４】この発明の他の実施の形態を示すもので、弁座閉止治具および除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【図５】この発明の更に他の実施の形態において、第１除染流体循環治具を取り付けた弁蓋の断面図および超臨界流体除染装置の概略図である。
【図６】図５に示す実施の形態で、弁座閉止治具および第２除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の弁箱の断面図である。
【図７】この発明の他の実施の形態を示すもので、第１除染流体循環治具を取り付けた弁蓋の断面図および超臨界流体除染装置の概略図である。
【図８】図７に示す実施の形態で、弁座閉止治具および第２除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の弁箱の断面図である。
【図９】この発明の他の実施の形態を示すもので、パッキン部に除染流体注入治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【図１０】この発明の更に他の実施の形態を示すもので、枝管に除染流体注入治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【符号の説明】
１  ウエッジ仕切弁                  ２  弁箱
３  弁座                            ５  弁箱の中央内部
６  弁蓋                            ７  弁体
８  弁棒                          １０  弁座閉止治具
１１  閉止板                        １５  押さえ金具
１６  リンク                        １７  リンク連結部
２０  連結部本体                    ２３  ねじ軸
３０  除染流体循環治具              ３１  治具本体
３３  除染流体注入管                ３４  除染流体排出管
４０  超臨界流体除染装置            ４１  除染流体供給口
４２除染流体戻り口                  ４７  昇圧装置
４８  減圧装置                      ４９  分離槽
１１０  除染流体循環治具            １１１  治具本体
１１３  除染流体注入管              １１４  除染流体排出管
１３０  第１除染流体循環治具        １３１  弁蓋カバー
１３３  除染流体注入管              １３４  除染流体排出管
１３８  プラグ                      １４０  第２除染流体循環治具
１４１  弁箱カバー                  １４３  除染流体注入管
１４４  除染流体排出管              １４７  弁体吊り下げ金具
１５０  第１除染流体循環治具        １５１  弁蓋カバー
１５２  弁体収容室                  １５３  除染流体注入管
１５４  除染流体排出管              １６０  第２除染流体循環治具
１６１  キャップ                    １６４  除染流体注入管
１６５  除染流体排出管              ２００  除染流体注入治具
２０１  除染流体注入管              ２０２  スペーサ
２０３  ブッシュ                    ２１０  ベント管（枝管）
２１１  リークオフ管（枝管）        ２１２  ドレン管（枝管）
２１３  除染流体注入治具            ２１４  除染流体注入治具
２１５  除染流体注入治具
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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