(57)【要約】　　　（修正有）【課題】優れたＬＤＬ酸化抑制作用及びＡＣＡＴ阻害作用を有するベンゼン誘導体を提供する。【解決手段】該化合物は、一般式2004123704.tif 000107［式中、Ｒ１は、置換フェニル基を示し、Ｒ２は、アルカノイル基、アルキルスルフォニル基又は置換可アリールスルフォニル基などを示し、Ｒ３は、置換可カルバモイル基又は置換可スルファモイル基などを示し、Ａは、単結合又はアルキレン基を示す。］を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化１】
2004123704.tif 000104
｛式中、
Ｒ１は、一般式
【化２】
2004123704.tif 000105
又は
【化３】
2004123704.tif 000106
［式中、Ｒ４は、水酸基又はＣ１−Ｃ６アルコキシ基を示し、
Ｒ５は、水素原子又はメチル基を示す。］を有する基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルフォニル基、Ｃ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基、又は、置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基（該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシ基）を示し、
Ｒ３は、カルバモイル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基を示し、
Ａは、単結合又はＣ１−Ｃ６アルキレン基を示す。但し、Ｒ１が一般式（ＩＩＩ）を有する基を示し、Ｒ５が水素原子を示し、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルカノイル基を示す場合、Ｒ３は、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基を示す。｝を有するベンゼン誘導体又はその薬理上許容される塩。
【請求項２】
Ｒ１が、一般式（ＩＩＩ）を有する基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ４が、水酸基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ４が、水酸基、メトキシ基又はエトキシ基である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ５が、水素原子である、請求項１乃至５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ２が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基；Ｃ２−Ｃ６アルキルスルフォニル基；ベンゼンスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−２−イルスルフォニル基；或いは、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基からなる群より選択される一の置換基を有するベンゼンスルフォニル基である、請求項１乃至６に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基又は４−メトキシベンゼンスルフォニル基である、請求項１乃至６に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ２が、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基又は４−メチルベンゼンスルフォニル基である、請求項１乃至６に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ２が、プロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基又はベンゼンスルフォニル基である、請求項１乃至６に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ３が、カルバモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）スルファモイル基である、請求項１乃至１０に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基である、請求項１乃至１０に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基である、請求項１乃至１０に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ３が、メチルカルバモイル基である、請求項１乃至１０に記載の化合物。
【請求項１５】
Ａが単結合又はＣ１−Ｃ４アルキレン基である、請求項１乃至１４に記載の化合物。
【請求項１６】
Ａが単結合、メチレン基又はエチレン基である、請求項１乃至１４に記載の化合物。
【請求項１７】
Ａが単結合である、請求項１乃至１４に記載の化合物。
【請求項１８】
請求項１より選択される下記群の化合物或いはその薬理上許容される塩：
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、又は
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド。
【請求項１９】
請求項１乃至１８に記載のベンゼン誘導体又はその薬理上許容される塩を含有する医薬。
【請求項２０】
Ｒ１が、一般式（ＩＩ）を有する基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項２１】
Ｒ４が、水酸基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基である、請求項２０に記載の化合物。
【請求項２２】
Ｒ４が、水酸基、メトキシ基又はエトキシ基である、請求項２０に記載の化合物。
【請求項２３】
Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基である、請求項２０に記載の化合物。
【請求項２４】
Ｒ５が、水素原子である、請求項２０乃至２３に記載の化合物。
【請求項２５】
Ｒ２が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基；Ｃ２−Ｃ６アルキルスルフォニル基；ベンゼンスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−２−イルスルフォニル基；或いは、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基からなる群より選択される一の置換基を有するベンゼンスルフォニル基である、請求項２０乃至２４に記載の化合物。
【請求項２６】
Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基又は４−メトキシベンゼンスルフォニル基である、請求項２０乃至２４に記載の化合物。
【請求項２７】
Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基又は４−メチルベンゼンスルフォニル基である、請求項２０乃至２４に記載の化合物。
【請求項２８】
Ｒ２が、ブチリル基、ペンタノイル基、プロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基又はベンゼンスルフォニル基である、請求項２０乃至２４に記載の化合物。
【請求項２９】
Ｒ３が、カルバモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）スルファモイル基である、請求項２０乃至２８に記載の化合物。
【請求項３０】
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基である、請求項２０乃至２８に記載の化合物。
【請求項３１】
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基である、請求項２０乃至２８に記載の化合物。
【請求項３２】
Ｒ３が、メチルカルバモイル基である、請求項２０乃至２８に記載の化合物。
【請求項３３】
Ａが単結合又はＣ１−Ｃ４アルキレン基である、請求項２０乃至３２に記載の化合物。
【請求項３４】
Ａが単結合、メチレン基又はエチレン基である、請求項２０乃至３２に記載の化合物。
【請求項３５】
Ａが単結合である、請求項２０乃至３２に記載の化合物。
【請求項３６】
請求項２０より選択される下記群の化合物或いはその薬理上許容される塩：
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（フェニルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、又は、
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（フェニルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド。
【請求項３７】
請求項２０乃至３６に記載のベンゼン誘導体又はその薬理上許容される塩を含有する医薬。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れた低比重リポ蛋白（以下、ＬＤＬと略す。）酸化抑制作用及びアシルコエンザイム・コレステロール・アシルトランスフェラーゼ（以下、ＡＣＡＴと略す。）阻害作用を有し、高脂血症又は動脈硬化性疾患の治療薬又は予防薬として有用なベンゼン誘導体、その薬理上許容される塩、及びそれらを有効成分として含有する医薬組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
狭心症、心筋梗塞などの虚血性心疾患の成因の中で、最も重要な位置を占めるものが粥状動脈硬化症である。その粥状動脈硬化症の主な原因として、血管内皮細胞下の泡沫細胞がコレステロールエステルを蓄積することが挙げられている。
ＡＣＡＴ阻害剤は、この泡沫細胞でのコレステロールエステルの合成を阻害し、コレステロールエステルの蓄積を減少させ、コレステロールエステルの蓄積による粥状病変の形成及び発展を抑制する。一方、粥状動脈化硬化症は高コレステロール血症と相関していることが確立されている。食物中のコレステロールは遊離コレステロールとして、腸管粘膜細胞に吸収され、ＡＣＡＴによってエステル化されて、血液中に移行する。従って、ＡＣＡＴ阻害剤は、食物中のコレステロールの血中への移行を阻害することによって血中コレステロールの上昇を抑制する。このような理由から、ＡＣＡＴ阻害作用を有する化合物は、高脂血症又は動脈硬化性疾患の治療薬及び／又は予防薬として有用である。
【０００３】
ＡＣＡＴ阻害作用を有する化合物としては、例えば、特開平１１−１５８１３３号に記載されているフェノール誘導体又はＰＣＴ／ＪＰ０１／１１２９５号（ＷＯ　０２／０５１７９６）に記載されているアミド誘導体を挙げることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者等は、ＬＤＬ酸化抑制作用及びＡＣＡＴ阻害作用を有する化合物の開発を目指し、種々のベンゼン誘導体の合成とその薬理活性について、永年に亘り鋭意研究をおこなった結果、特異な構造を有するベンゼン誘導体が、優れたＬＤＬ酸化抑制作用及びＡＣＡＴ阻害作用を併せ持ち、且つ優れた経口吸収性を示し、更に副作用（特に、副腎毒性）が低く、安全域（薬効と毒性発現の濃度差）が広いため、高脂血症又は動脈硬化性疾患の治療薬又は予防薬（特に、治療薬）として有用であることを見いだし、本発明を完成した。
【０００５】
本発明は、優れたＬＤＬ酸化抑制作用及びＡＣＡＴ阻害作用を有するベンゼン誘導体又はその薬理上許容される塩、及び、高脂血症又は動脈硬化性疾患の予防薬又は治療薬として有用な前記ベンゼン誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のベンゼン誘導体は、下記一般式（Ｉ）を有する。
【０００７】
【化４】
2004123704.tif 000002
上記式中、
Ｒ１は、一般式
【０００８】
【化５】
2004123704.tif 000003
又は
【０００９】
【化６】
2004123704.tif 000004
［式中、Ｒ４は、水酸基又はＣ１−Ｃ６アルコキシ基を示し、
Ｒ５は、水素原子又はメチル基を示す。］を有する基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルフォニル基、Ｃ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基、又は、置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基（該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基若しくはＣ１−Ｃ６アルコキシ基）を示し、
Ｒ３は、カルバモイル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基を示し、
Ａは、単結合又はＣ１−Ｃ６アルキレン基を示す。
【００１０】
但し、Ｒ１が一般式（ＩＩＩ）を有する基を示し、Ｒ５が水素原子を示し、Ｒ２がＣ１−Ｃ６アルカノイル基を示す場合、Ｒ３は、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基を示す。
【００１１】
上記一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）に於て、Ｒ４の定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基」は、例えは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、１−エチルプロポキシ基、ヘキシルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基、２，２−ジメチルブトキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，２−ジメチルブトキシ基、１，３−ジメチルブトキシ基、２，３−ジメチルブトキシ基又は２−エチルブトキシ基のような、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、好適にはＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、更に好適にはメトキシ基又はエトキシ基であり、特に好適にはメトキシ基である。
【００１２】
上記一般式（Ｉ）に於いて、Ｒ２の定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルカノイル基」は、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ｓ−ブチリル基、ｔ−ブチリル基、ペンタノイル基、イソペンタノイル基、２−メチルブチリル基、ネオペンタノイル基、１−エチルプロピオニル基、ヘキサノイル基、４−メチルペンタノイル基、３−メチルペンタノル基、２−メチルペンタノイル基、１−メチルペンタノイル基、３，３−ジメチルブチリル基、２，２−ジメチルブチリル基、１，１−ジメチルブチリル基、１，２−ジメチルブチリル基、１，３−ジメチルブチリル基、２，３−ジメチルブチリル基、２−エチルブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖のアルカノイル基であり、好適には、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基であり、より好適には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基であり、更に好適には、プロピオニル基、ブチリル基又はペンタノイル基であり、より更に好適には、ブチリル基又はペンタノイル基であり、最も好適には、ブチリル基である。
【００１３】
上記に於いて、Ｒ２の定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルキルスルフォニル基」は、例えば、メチルスルフォニル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、イソブチルスルフォニル基、ｓ−ブチルスルフォニル基、ｔ−ブチルスルフォニル基、ペンチルスルフォニル基、イソペンチルスルフォニル基、２−メチルブチルスルフォニル基、ネオペンチルスルフォニル基、１−エチルプロピルスルフォニル基、ヘキシルスルフォニル基、４−メチルペンチルスルフォニル基、３−メチルペンチルスルフォニル基、２−メチルペンチルスルフォニル基、１−メチルペンチルスルフォニル基、３，３−ジメチルブチルスルフォニル基、２，２−ジメチルブチルスルフォニル基、１，１−ジメチルブチルスルフォニル基、１，２−ジメチルブチルスルフォニル基、１，３−ジメチルブチルスルフォニル基、２，３−ジメチルブチルスルフォニル基又は２−エチルブチルスルフォニル基のような、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖のアルキルスルフォニル基であり得、好適には、Ｃ２−Ｃ６アルキルスルフォニル基であり、更に好適には、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基又はブチルスルフォニル基であり、特に好適にはプロピルスルフォニル基又はブチルスルフォニル基である。
【００１４】
上記に於て、Ｒ２の定義に於ける「Ｃ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基」及び「置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基」の「Ｃ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基」部分は、例えば、ベンゼンスルフォニル基、インデン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−２−イルスルフォニル基、フェナンスレン−１−イルスルフォニル基又はアントラセン−９−イルスルフォニル基のような、Ｃ６−Ｃ１４アリール基にスルフォニル基が結合した基であり得、好適には、ベンゼンスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基又はナフタレン−２−イルスルフォニル基であり、特に好適にはベンゼンスルフォニル基である。
【００１５】
上記に於て、Ｒ２の「置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基」の置換基の定義に於ける「ハロゲン原子」は、例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子であり得、好適には弗素原子、塩素原子又は臭素原子であり、更に好適には、弗素原子又は塩素原子であり、特に好適には弗素原子である。
【００１６】
上記に於て、Ｒ２の「置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基」の置換基の定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基又は２−エチルブチル基のような、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、好適にはＣ１−Ｃ４アルキル基であり、更に好適にはメチル基又はエチル基であり、特に好適にはメチル基である。
【００１７】
上記に於て、Ｒ２の「置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基」の置換基の定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基」は、前述したものと同意義を示し、好適にはＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、更に好適にはメトキシ基又はエトキシ基であり、特に好適にはメトキシ基である。
【００１８】
上記に於て、Ｒ２の定義に於ける「置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基（該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ１−Ｃ６アルコキシ基を示す。）」は、例えば、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、３，４−ジフルオロベンゼンスルフォニル基、２，５−ジクロロベンゼンスルフォニル基、２，３−ジヨードベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−エチルベンゼンスルフォニル基、３−エチルベンゼンスルフォニル基、４−エチルベンゼンスルフォニル基、４−イソプロピルベンゼンスルフォニル基、４−ブチルベンゼンスルフォニル基、４−ペンチルベンゼンスルフォニル基、４−ヘキシルベンゼンスルフォニル基、３，５−ジメチルベンゼンスルフォニル基、２，４，６−トリメチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基、４−メトキシベンゼンスルフォニル基、２−エトキシベンゼンスルフォニル基、３−エトキシベンゼンスルフォニル基、４−エトキシベンゼンスルフォニル基、４−ペンチルオキシベンゼンスルフォニル基、３，５−ジメトキシベンゼンスルフォニル基、２−フルオロナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−フルオロナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−フルオロナフタレン−１−イルスルフォニル基、２−クロロナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−クロロナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−クロロナフタレン−１−イルスルフォニル基、２−ブロモナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−ブロモナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−ブロモナフタレン−１−イルスルフォニル基、３，４−ジフルオロナフタレン−１−イルスルフォニル基、２，５−ジクロロナフタレン−１−イルスルフォニル基、２，３−ジヨードナフタレン−１−イルスルフォニル基、２−メチルナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−メチルナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−メチルナフタレン−１−イルスルフォニル基、２−エチルナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−エチルナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−エチルナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−ヘキシルナフタレン−１−イルスルフォニル基、３，５−ジメチルナフタレン−１−イルスルフォニル基、２−メトキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−メトキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−メトキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、２−エトキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−エトキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−エトキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−ペンチルオキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、３，５−ジメトキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−プロポキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、４−ヘキシルオキシナフタレン−１−イルスルフォニル基、３−フルオロナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−フルオロナフタレン−２−イルスルフォニル基、３−クロロナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−クロロナフタレン−２−イルスルフォニル基、３−ブロモナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−ブロモナフタレン−２−イルスルフォニル基、３，４−ジフルオロナフタレン−２−イルスルフォニル基、３−メチルナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−メチルナフタレン−２−イルスルフォニル基、３−エチルナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−エチルナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−ヘキシルナフタレン−２−イルスルフォニル基、３，５−ジメチルナフタレン−２−イルスルフォニル基、３−メトキシナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−メトキシナフタレン−２−イルスルフォニル基、３−エトキシナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−エトキシナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−ペンチルオキシナフタレン−２−イルスルフォニル基、３，５−ジメトキシナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−プロポキシナフタレン−２−イルスルフォニル基、４−ヘキシルオキシナフタレン−２−イルスルフォニル基又は９−ヘキシルフェナンスレン−１−イルスルフォニル基のような、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ１−Ｃ６アルコキシ基からなる群より、同一又は異なって選択される一乃至三の置換基を有する、前記Ｃ６−Ｃ１４アリールスルフォニル基であり得、好適には、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基からなる群より選択される一の置換基を有するベンゼンスルフォニル基であり、更に好適には、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基又は４−メトキシベンゼンスルフォニル基であり、特に好適には、４−フルオロベンゼンスルフォニル基又は４−メチルベンゼンスルフォニル基である。
【００１９】
上記に於いて、Ｒ３の定義に於ける「（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基」は、例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、イソプロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、イソブチルカルバモイル基、ｓ−ブチルカルバモイル基、ｔ−ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基又はヘキシルカルバモイル基のような、前記Ｃ１−Ｃ６アルキル基がカルバモイル基に結合した基であり得、好適にはＣ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基であり、更に好適にはメチルカルバモイル基又はエチルカルバモイル基であり、特に好適にはメチルカルバモイル基である。
【００２０】
上記に於いて、Ｒ３の定義に於ける「ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基」は、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｓ−ブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルカルバモイル基又はＮ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイル基のような、前記Ｃ１−Ｃ６アルキル基より、同一又は異なって選択される２個のアルキル基が、カルバモイル基に結合した基であり得、好適にはジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）カルバモイル基であり、更に好適にはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基であり、特に好適にはＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基である。
【００２１】
上記に於て、Ｒ３の定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基」は、前記「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」がスルファモイル基に結合した基を示し、例えば、メチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、プロピルスルファモイル基、イソプロピルスルファモイル基、ブチルスルファモイル基、イソブチルスルファモイル基、ｓ−ブチルスルファモイル基、ｔ−ブチルスルファモイル基、ペンチルスルファモイル基又はヘキシルスルファモイル基であり得、好適にはＣ１−Ｃ４アルキルスルファモイル基であり、更に好適にはメチルスルファモイル基又はエチルスルファモイル基であり、特に好適にはメチルスルファモイル基である。
【００２２】
上記に於て、Ｒ３の定義に於ける「ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基」は、前記「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」が２個、スルファモイル基に結合した基を示し、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｓ−ブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基であり得、好適にはジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）スルファモイル基であり、更に好適にはＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基であり、特に好適にはＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基である。
【００２３】
上記に於て、Ａの定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルキレン基」は、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖のアルキレン基示し、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基であり得、好適には、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基であり、更に好適には、メチレン基、エチレン基又はトリメチレン基であり、より更に好適にはメチレン基又はエチレン基であり、特に好適にはメチレン基である。
【００２４】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物は、常法に従って塩基と処理することにより、それぞれ相当する薬理上許容される塩にすることができる。例えば、化合物（Ｉ）を、溶媒中（例えばエーテル類、エステル類又はアルコール類であり得、好適にはアルコール類）、相当する塩基と室温で１分間乃至３０分間処理し、析出した結晶をろ取するか又は減圧下で溶媒を留去することにより得ることができる。そのような塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属塩；アンモニウム塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジルフェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機アミン塩であり得、好適にはアルカリ金属塩（特にナトリウム塩又はカリウム塩）である。
【００２５】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩は、分子内に不斉炭素原子を有する場合、Ｒ配位、Ｓ配位である立体異性体が存在するが、その各々、或はそれらの任意の割合の化合物のいずれも本発明に包含される。そのような立体異性体は、例えば、光学分割された原料化合物を用いて合成するか又は合成した化合物（Ｉ）を、所望により通常の光学分割又は分離法を用いて光学分割することができる。
【００２６】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩は、大気中に放置したり、又は再結晶することにより、水分を吸収し、吸着水がついたり、水和物になる場合が有り、そのような水を含む化合物及び塩も本発明に包含される。
【００２７】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物に於て、好適には、
（１）　Ｒ１が、一般式（ＩＩＩ）を有する基である化合物、
（２）　Ｒ４が、水酸基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基である化合物、
（３）　Ｒ４が、水酸基、メトキシ基又はエトキシ基である化合物、
（４）　Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基である化合物、
（５）　Ｒ５が、水素原子である化合物、
（６）　Ｒ２が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基；Ｃ２−Ｃ６アルキルスルフォニル基；ベンゼンスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−２−イルスルフォニル基；或いは、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基からなる群より選択される一の置換基を有するベンゼンスルフォニル基である化合物、
（７）　Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基又は４−メトキシベンゼンスルフォニル基である化合物、
（８）　Ｒ２が、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基又は４−メチルベンゼンスルフォニル基である化合物、
（９）　Ｒ２が、プロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基又はベンゼンスルフォニル基である化合物、
（１０）　Ｒ３が、カルバモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）スルファモイル基である化合物、
（１１）　Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基である化合物、
（１２）　Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基である化合物、
（１３）　Ｒ３が、メチルカルバモイル基である化合物、
（１４）　Ａが単結合又はＣ１−Ｃ４アルキレン基である化合物、
（１５）　Ａが単結合、メチレン基又はエチレン基である化合物、
（１６）　Ａが単結合である化合物を挙げることができる。
【００２８】
尚、上記に於いて、Ｒ４に関しては、（２）から（４）の順で好適な順位が上がり、Ｒ２に関しては、（６）から（９）の順で好適な順位が上がり、Ｒ３に関しては、（１０）から（１３）の順で好適な順位が上がり、Ａに関しては、（１４）から（１６）の順で好適な順位が上がる。
【００２９】
また、本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物としては、（１）、（２）−（４）、（５）、（６）−（９）、（１０）−（１３）及び（１４）−（１６）からなる群から２乃至６を選択し、それらを任意に組み合わせたものを挙げることができ、その組み合わせに於ける好適なものとしては、
（１７）　Ｒ４が、水酸基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、
Ｒ２が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基；Ｃ２−Ｃ６アルキルスルフォニル基；ベンゼンスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−２−イルスルフォニル基；或いは、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基からなる群より選択される一の置換基を有するベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、カルバモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）スルファモイル基であり、
Ａが単結合又はＣ１−Ｃ４アルキレン基である化合物、
（１８）　Ｒ４が、水酸基、メトキシ基又はエトキシ基であり、
Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基又は４−メトキシベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基であり、
Ａが単結合、メチレン基又はエチレン基である化合物、
（１９）　Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基であり、
Ｒ２が、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基又は４−メチルベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であり、
Ａが単結合である化合物、
（２０）　Ｒ１が、一般式（ＩＩＩ）を有する基であり、
Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基であり、
Ｒ５が、水素原子であり、
Ｒ２が、プロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基又はベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、メチルカルバモイル基であり、
Ａが単結合である化合物、を挙げることができ、上記に関しては、（１７）から（２０）の順で好適な順位が上がる。
【００３０】
また、本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物に於いて、更に好適には、Ｒ１が、一般式（ＩＩ）を有する基であり、
（２１）　Ｒ４が、水酸基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基である化合物、
（２２）　Ｒ４が、水酸基、メトキシ基又はエトキシ基である化合物、
（２３）　Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基である化合物、
（２４）　Ｒ５が、水素原子である化合物、
（２５）　Ｒ２が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基；Ｃ２−Ｃ６アルキルスルフォニル基；ベンゼンスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−２−イルスルフォニル基；或いは、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基からなる群より選択される一の置換基を有するベンゼンスルフォニル基である化合物、
（２６）　Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基又は４−メトキシベンゼンスルフォニル基である化合物、
（２７）　Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基又は４−メチルベンゼンスルフォニル基である化合物、
（２８）　Ｒ２が、ブチリル基、ペンタノイル基、プロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基又はベンゼンスルフォニル基である化合物、
（２９）　Ｒ３が、カルバモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）スルファモイル基である化合物、
（３０）　Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基である化合物、
（３１）　Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基である化合物、
（３２）　Ｒ３が、メチルカルバモイル基である化合物、
（３３）　Ａが単結合又はＣ１−Ｃ４アルキレン基である化合物、
（３４）　Ａが単結合、メチレン基又はエチレン基である化合物、
（３５）　Ａが単結合である化合物を挙げることができる。
【００３１】
尚、上記に於いて、Ｒ４に関しては、（２１）から（２３）の順で好適な順位が上がり、Ｒ２に関しては、（２５）から（２８）の順で好適な順位が上がり、Ｒ３に関しては、（２９）から（３２）の順で好適な順位が上がり、Ａに関しては、（３３）から（３５）の順で好適な順位が上がる。
【００３２】
更に、本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物に於いて、Ｒ１が、一般式（ＩＩ）を有する基である化合物としては、（２１）−（２３）、（２４）、（２５）−（２８）、（２９）−（３２）及び（３３）−（３５）からなる群から２乃至６を選択し、それらを任意に組み合わせたものを挙げることができ、その組み合わせに於ける好適なものとしては、
（３６）　Ｒ４が、水酸基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、
Ｒ２が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基又はヘキサノイル基；Ｃ２−Ｃ６アルキルスルフォニル基；ベンゼンスルフォニル基、ナフタレン−１−イルスルフォニル基、ナフタレン−２−イルスルフォニル基；或いは、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基からなる群より選択される一の置換基を有するベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、カルバモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルバモイル基、ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）カルバモイル基、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）スルファモイル基であり、
Ａが単結合又はＣ１−Ｃ４アルキレン基である化合物、
（３７）　Ｒ４が、水酸基、メトキシ基又はエトキシ基であり、
Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、２−フルオロベンゼンスルフォニル基、３−フルオロベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基、２−クロロベンゼンスルフォニル基、３−クロロベンゼンスルフォニル基、４−クロロベンゼンスルフォニル基、２−ブロモベンゼンスルフォニル基、３−ブロモベンゼンスルフォニル基、４−ブロモベンゼンスルフォニル基、２−メチルベンゼンスルフォニル基、３−メチルベンゼンスルフォニル基、４−メチルベンゼンスルフォニル基、２−メトキシベンゼンスルフォニル基、３−メトキシベンゼンスルフォニル基又は４−メトキシベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基であり、
Ａが単結合、メチレン基又はエチレン基である化合物、
（３８）　Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基であり、
Ｒ２が、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、イソプロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンゼンスルフォニル基、４−フルオロベンゼンスルフォニル基又は４−メチルベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であり、
Ａが単結合である化合物、
（３９）　Ｒ４が、水酸基又はメトキシ基であり、
Ｒ５が、水素原子であり、
Ｒ２が、ブチリル基、ペンタノイル基、プロピルスルフォニル基、ブチルスルフォニル基又はベンゼンスルフォニル基であり、
Ｒ３が、メチルカルバモイル基であり、
Ａが単結合である化合物、を挙げることができ、上記に関しては、（３６）から（３９）の順で好適な順位が上がる。
【００３３】
本発明の代表化合物としては、例えば、以下の表に記載する化合物を挙げることができるが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
【００３４】
表中の略号は、以下の通りである。
Ａｃ　　　　　　：　　アセチル基
Ｂｕ　　　　　　：　　ブチル基
Ｂｕｉ　　　　　：　　イソブチル基
Ｂｕｓ　　　　　：　　セカンダリーブチル基
Ｂｕｔ　　　　　：　　ターシャリーブチル基
Ｂｙｒ　　　　　：　　ブチリル基
Ｂｙｒｉ　　　　　：　　イソブチリル基
Ｅｔ　　　　　　：　　エチル基
Ｈｘ　　　　　　：　　ヘキシル基
Ｈｘａ　　　　　：　　ヘキサノイル基
Ｍｅ　　　　　　：　　メチル基
Ｐｈ　　　　　　：　　フェニル基
Ｐｉｖ　　　　　：　　ピバロイル基
Ｐｎ　　　　　　：　　ペンチル基
Ｐｒ　　　　　　：　　プロピル基
Ｐｒｉ　　　　　：　　イソプロピル基
Ｐｒｎ　　　　　：　　プロピオニル基
Ｖａ　　　　　　：　　バレリル基
Ｖａｉ　　　　　：　　イソバレリル基
【００３５】
【表１】
【００３６】
【化７】
2004123704.tif 000005
2004123704.tif 000006
2004123704.tif 000007
2004123704.tif 000008
2004123704.tif 000009
2004123704.tif 000010
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2004123704.tif 000012
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2004123704.tif 000016
2004123704.tif 000017
2004123704.tif 000018
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2004123704.tif 000020
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2004123704.tif 000022
2004123704.tif 000023
2004123704.tif 000024
2004123704.tif 000025
2004123704.tif 000026
2004123704.tif 000027
2004123704.tif 000028
2004123704.tif 000029
2004123704.tif 000030
2004123704.tif 000031
2004123704.tif 000032
2004123704.tif 000033
2004123704.tif 000034
2004123704.tif 000035
2004123704.tif 000036
2004123704.tif 000037
2004123704.tif 000038
2004123704.tif 000039
2004123704.tif 000040
2004123704.tif 000041
2004123704.tif 000042
2004123704.tif 000043
2004123704.tif 000044
2004123704.tif 000045
2004123704.tif 000046
2004123704.tif 000047
2004123704.tif 000048
2004123704.tif 000049
2004123704.tif 000050
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【００３７】
【表２】
【００３８】
【化８】
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2004123704.tif 000060
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2004123704.tif 000062
2004123704.tif 000063
2004123704.tif 000064
2004123704.tif 000065
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2004123704.tif 000067
2004123704.tif 000068
2004123704.tif 000069
2004123704.tif 000070
2004123704.tif 000071
2004123704.tif 000072
2004123704.tif 000073
2004123704.tif 000074
2004123704.tif 000075
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2004123704.tif 000077
2004123704.tif 000078
2004123704.tif 000079
2004123704.tif 000080
2004123704.tif 000081
2004123704.tif 000082
2004123704.tif 000083
2004123704.tif 000084
2004123704.tif 000085
2004123704.tif 000086
2004123704.tif 000087
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2004123704.tif 000089
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物に於て、好適な化合物としては、例示化合物番号ＩＩ−１４、ＩＩ−１７、ＩＩ−３１、ＩＩ−３４、ＩＩ−３６、ＩＩ−４０、ＩＩ−４２、ＩＩ−４６、ＩＩ−４８、ＩＩ−４９、ＩＩ−５１、ＩＩ−５２、ＩＩ−５４、ＩＩ−１１７、ＩＩ−３４１、ＩＩ−３４６、ＩＩ−３５７、ＩＩ−３６０、ＩＩ−３６３、ＩＩ−３６８、ＩＩ−３７０、ＩＩ−３７１、ＩＩ−３７３、ＩＩ−３７４、ＩＩ−３８２、ＩＩ−３８４、ＩＩ−３８５、ＩＩ−３８７、ＩＩ−３８８、ＩＩ−３９０、ＩＩ−５２０、ＩＩ−５２２、ＩＩ−５２３、ＩＩ−５２５、ＩＩ−５２６、ＩＩ−５２８、ＩＩ−５２９、ＩＩ−５３１、ＩＩ−５３２、ＩＩ−５３４、ＩＩ−５３５、ＩＩ−５３７、ＩＩＩ−３、ＩＩＩ−４、ＩＩＩ−５、ＩＩＩ−６、ＩＩＩ−７、ＩＩＩ−８、ＩＩＩ−９、ＩＩＩ−１０、ＩＩＩ−１１、ＩＩＩ−１３、ＩＩＩ−１４、ＩＩＩ−１５、ＩＩＩ−　１６、ＩＩＩ−１７、ＩＩＩ−１８、ＩＩＩ−１９、ＩＩＩ−２０、ＩＩＩ−２１、ＩＩＩ−４１、ＩＩＩ−４２、ＩＩＩ−４３、ＩＩＩ−４４、ＩＩＩ−４５、ＩＩＩ−４６、ＩＩＩ−４７、ＩＩＩ−４８、ＩＩＩ−４９、ＩＩＩ−１１４、ＩＩＩ−１１５、ＩＩＩ−１１６、ＩＩＩ−１１７、ＩＩＩ−１１８、ＩＩＩ−１１９、ＩＩＩ−１２７、ＩＩＩ−１２８、ＩＩＩ−１２９、ＩＩＩ−１３０、ＩＩＩ−１３１、ＩＩＩ−１３２、ＩＩＩ−１３７、ＩＩＩ−１３８、ＩＩＩ−１３９、ＩＩＩ−１４０、ＩＩＩ−１４１、ＩＩＩ−１４２、ＩＩＩ−１５０、ＩＩＩ−１５１、ＩＩＩ−１５２、ＩＩＩ−１５３、ＩＩＩ−１５４、ＩＩＩ−１９２、ＩＩＩ−１９３、ＩＩＩ−１９４、ＩＩＩ−１９５、ＩＩＩ−１９６、ＩＩＩ−１９７、ＩＩＩ−２０５、ＩＩＩ−２０６、ＩＩＩ−２０７、ＩＩＩ−２０８、ＩＩＩ−２０９、ＩＩＩ−２１０、ＩＩＩ−２１５、ＩＩＩ−２１６、ＩＩＩ−２１７、ＩＩＩ−２１８、ＩＩＩ−２１９、ＩＩＩ−２２０、ＩＩＩ−２２８、ＩＩＩ−２２９、ＩＩＩ−２３０、ＩＩＩ−２３１、ＩＩＩ−２３２、ＩＩＩ−２３３、ＩＩＩ−３３９、ＩＩＩ−３４０、ＩＩＩ−３４１、ＩＩＩ−３４２、ＩＩＩ−３４３、ＩＩＩ−３４４、ＩＩＩ−３４５、ＩＩＩ−３４６、ＩＩＩ−３４７、ＩＩＩ−３４８、ＩＩＩ−３４９、ＩＩＩ−３５０、ＩＩＩ−３５１、ＩＩＩ−３５２、ＩＩＩ−３５３、ＩＩＩ−３５４、ＩＩＩ−５９２、ＩＩＩ−６０２、ＩＩＩ−６６２、ＩＩＩ−６６４、ＩＩＩ−６７４又はＩＩＩ−８０１を挙げることができ、
更に好適には、例示化合物番号ＩＩ−１４、ＩＩ−１７、ＩＩ−３１、ＩＩ−３４、ＩＩ−３６、ＩＩ−４０、ＩＩ−４２、ＩＩ−４６、ＩＩ−４８、ＩＩ−４９、ＩＩ−５１、ＩＩ−５２、ＩＩ−５４、ＩＩ−１１７、ＩＩＩ−１１４、ＩＩＩ−１１６、ＩＩＩ−１２７、ＩＩＩ−１９２、ＩＩＩ−１９３、ＩＩＩ−１９４、ＩＩＩ−１９５、ＩＩＩ−２０５、ＩＩＩ−２０６、ＩＩＩ−２１５、ＩＩＩ−２１６、ＩＩＩ−２１７、ＩＩＩ−２１８、ＩＩＩ−２２８、ＩＩＩ−２２９、ＩＩＩ−３３９、ＩＩＩ−３４０、ＩＩＩ−３４１、ＩＩＩ−３４３、ＩＩＩ−３４５、ＩＩＩ−３４７、ＩＩＩ−３４９、ＩＩＩ−３５０、ＩＩＩ−３５１、ＩＩＩ−３５２、ＩＩＩ−３５３、ＩＩＩ−３５４、ＩＩＩ−５９２、ＩＩＩ−６０２、ＩＩＩ−６６２、ＩＩＩ−６６４、ＩＩＩ−６７４又はＩＩＩ−８０１を挙げることができ、
特に好適には、
例示化合物番号ＩＩＩ−１９２：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド、
例示化合物番号ＩＩＩ−１９４：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、
例示化合物番号ＩＩＩ−２０５：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、
例示化合物番号ＩＩＩ−３４１：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、又は
例示化合物番号ＩＩＩ−３４５：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、を挙げることができる。
【００３９】
また、別の側面から、本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物に於て好適な化合物としては、例示化合物番号ＩＩ−９、ＩＩ−１１、ＩＩ−１２、ＩＩ−１４、ＩＩ−１５、ＩＩ−１７、ＩＩ−１８、ＩＩ−２１、ＩＩ−２４、ＩＩ−３１、ＩＩ−３３、ＩＩ−３４、ＩＩ−３６、ＩＩ−３７、ＩＩ−３９、ＩＩ−４０、ＩＩ−４２、ＩＩ−４３、ＩＩ−４５、ＩＩ−４６、ＩＩ−４８、ＩＩ−４９、ＩＩ−５１、ＩＩ−５２、ＩＩ−５４、ＩＩ−１１２、ＩＩ−１１４、ＩＩ−１１５、ＩＩ−１１７、ＩＩ−１１８、ＩＩ−１２０、ＩＩ−１２２、ＩＩ−１２４、ＩＩ−１２５、ＩＩ−１２７、ＩＩ−１２８、ＩＩ−１３０、ＩＩ−１３１、ＩＩ−１３３、ＩＩ−１３４、ＩＩ−１３６、ＩＩ−２５４、ＩＩ−２５６、ＩＩ−２５７、ＩＩ−２５９、ＩＩ−２６０、ＩＩ−２６８、ＩＩ−２７０、ＩＩ−２７７、ＩＩ−２７９、ＩＩ−２８０、ＩＩ−２８２、ＩＩ−２９１、ＩＩ−３３９、ＩＩ−３４１、ＩＩ−３４２、ＩＩ−３４４、ＩＩ−３４５、ＩＩ−３４７、ＩＩ−３５５、ＩＩ−３５７、ＩＩ−３５８、ＩＩ−３６０、ＩＩ−３６１、ＩＩ−３６３、ＩＩ−３６８、ＩＩ−３７０、ＩＩ−３７１、ＩＩ−３７３、ＩＩ−３７４、ＩＩ−３８２、ＩＩ−３８４、ＩＩ−３８５、ＩＩ−３８７、ＩＩ−３８８、ＩＩ−３９０、ＩＩ−５２０、ＩＩ−５２２、ＩＩ−５２３、ＩＩ−５２５、ＩＩ−５２６、ＩＩ−５２８、ＩＩ−５２９、ＩＩ−５３１、ＩＩ−５３２、ＩＩ−５３４、ＩＩ−５３５、ＩＩ−５３７、ＩＩ−７２２、ＩＩＩ−６、ＩＩＩ−８、ＩＩＩ−１０、ＩＩＩ−１６、ＩＩＩ−１８、ＩＩＩ−２０、ＩＩＩ−４４、ＩＩＩ−４６、ＩＩＩ−４８、ＩＩＩ−１１４、ＩＩＩ−１１６、ＩＩＩ−１１８、ＩＩＩ−１２７、ＩＩＩ−１２９、ＩＩＩ−１３１、ＩＩＩ−１３７、ＩＩＩ−１３９、ＩＩＩ−１４１、ＩＩＩ−１５０、ＩＩＩ−１５２、ＩＩＩ−１５４、ＩＩＩ−１９２、ＩＩＩ−１９４、ＩＩＩ−１９６、ＩＩＩ−２０５、ＩＩＩ−２０７、ＩＩＩ−２０９、ＩＩＩ−２１５、ＩＩＩ−２１７、ＩＩＩ−２１９、ＩＩＩ−２２８、ＩＩＩ−２３０、ＩＩＩ−２３２、ＩＩＩ−３３９、ＩＩＩ−３４１、ＩＩＩ−３４２、ＩＩＩ−３４５、ＩＩＩ−３４６、ＩＩＩ−３４９、ＩＩＩ−３５１、ＩＩＩ−３５３、ＩＩＩ−５９２、ＩＩＩ−６０２、ＩＩＩ−６６２、ＩＩＩ−６６４、ＩＩＩ−６７４又はＩＩＩ−８０１を挙げることができ、
更に好適には、例示化合物番号ＩＩ−９、ＩＩ−１１、ＩＩ−１２、ＩＩ−１４、ＩＩ−１５、ＩＩ−１７、ＩＩ−３１、ＩＩ−３３、ＩＩ−３４、ＩＩ−３６、ＩＩ−４０、ＩＩ−４２、ＩＩ−４６、ＩＩ−４８、ＩＩ−４９、ＩＩ−５１、ＩＩ−５２、ＩＩ−５４、ＩＩ−１１２、ＩＩ−１１４、ＩＩ−１１５、ＩＩ−１１７、ＩＩ−１２２、ＩＩ−１２４、ＩＩ−１２８、ＩＩ−１３１、ＩＩ−１３４、ＩＩ−２５４、ＩＩ−２５７、ＩＩ−２６８、ＩＩ−２７７、ＩＩ−２８０、ＩＩ−２９１、ＩＩ−３３９、ＩＩ−３４２、ＩＩ−３５５、ＩＩ−３６８、ＩＩ−３７１、ＩＩ−３８２、ＩＩ−５２０、ＩＩ−５２３、ＩＩ−５２６、ＩＩ−５２９、ＩＩ−５３２、ＩＩ−５３５、ＩＩＩ−１１４、ＩＩＩ−１１６、ＩＩＩ−１２７、ＩＩＩ−１９２、ＩＩＩ−１９４、ＩＩＩ−２０５、ＩＩＩ−２１５、ＩＩＩ−２１７、ＩＩＩ−２２８、ＩＩＩ−３３９、ＩＩＩ−３４１、ＩＩＩ−３４５、ＩＩＩ−３４９、ＩＩＩ−３５１又はＩＩＩ−３５３を挙げることができ、
特に好適には、
例示化合物番号ＩＩ−３４：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、
例示化合物番号ＩＩ−４０：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、
例示化合物番号ＩＩ−４９：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド、
例示化合物番号ＩＩ−５２：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド、
例示化合物番号ＩＩ−３４２：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、
例示化合物番号ＩＩ−３５５：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、
例示化合物番号ＩＩ−５２３：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（フェニルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド、又は、
例示化合物番号ＩＩ−５２６：　４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（フェニルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、を挙げることができる。
【００４０】
【発明の実施の形態】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物は、以下の方法に従い容易に製造することができる。
【００４１】
【化９】
2004123704.tif 000090
【００４２】
【化１０】
2004123704.tif 000091
【００４３】
【化１１】
2004123704.tif 000092
上記に於いて、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＡは、前述したものと同意義を示し、
Ｒ１ａは、一般式
【００４４】
【化１２】
2004123704.tif 000093
又は
【００４５】
【化１３】
2004123704.tif 000094
を有する基を示し［式中、Ｒ５は、前述したものと同意義を示し、Ｒ４ａは、水酸基が保護されている他、Ｒ４と同意義を示す。］、
Ｒ３ａは、カルバモイル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基を示し、
Ｒ６はカルボキシル基の保護基を示し、
Ｘは脱離基を示し、
Ｂｕｔは、ターシャリーブチル基を示す。
【００４６】
上記に於いて、Ｒ４ａ定義に於ける「水酸基の保護基」は、一般に水酸基の保護基として使用される基であれば、特に限定はなく用いることができるが、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル又は２−エチルブチル基のようなアルキル基；ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル、ヘナイコサノイルのようなアルカノイル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのようなアルコキシアルキルカルボニル基、アクリロイル、プロピオロイル、メタクリロイル、クロトノイル、イソクロトノイル、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「低級脂肪族アシル基」（好適には、炭素数１乃至６個の低級脂肪族アシル基である。）；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリ−ルカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲン化アリ−ルカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリ−ルカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリ−ルカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ−ルカルボニル基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリ−ルカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリ−ル化アリ−ルカルボニル基等の「芳香族アシル基」；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｓ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル基等の「アルコキシカルボニル基」；テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４��イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリ−ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル基」；メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基、２−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチルのようなハロゲノ低級アルコキシメチル等の「アルコキシメチル基」；１−エトキシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低級アルコキシ化エチル基、２，２，２−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基等の「置換エチル基」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基でアリ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基等の「アラルキル基」；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル基」；或いはベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、１乃至２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリ−ル環が置換されていてもよい「アラルキルオキシカルボニル基」であり、好適にはアルキル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、アラルキル基、アルコキシメチル基又はトリアルキルシリル基であり、更に好適には、メチル基、ベンジル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイル基、ベンジル基、メトキシメチル基、ナフチル基、４−メトキシベンジル基、トリメチルシリル基又はｔ−ブチルジメチルシリル基であり、特に好適には、メチル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基又はベンジル基である。
【００４７】
Ｒ３ａの定義に於ける「カルバモイル基」、「（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基」及び「ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基」は、各々Ｒ３で定義したものと同意義を示す。
【００４８】
Ｒ６の定義に於ける「カルボキシル基の保護基」は、、一般にカルボキシル基の保護基として使用される基であれば、特に限定はなく用いることができるが、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル又は２−エチルブチル基のような「アルキル基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「アルケニル基」；エチニル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、２−メチル−２−プロピニル、２−エチル−２−プロピニル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、２−メチル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−ペンチニル、１−メチル−２−ペンチニル、２−メチル−２−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、２−メチル−３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニルのような「アルキニル基」；トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２−フルオロエチル、２−ヨードエチル、３−クロロプロピル、４−フルオロブチル、６−ヨードヘキシル、２，２−ジブロモエチルのような「ハロゲノアルキル基」；２−ヒドロキシエチル、２，３−ジヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチルのような「ヒドロキシアルキル基」；アセチルメチルのような「脂肪族アシルアルキル基」；前記「アラルキル基」；或いは前記「シリル基」であり、好適には、アルキル基又はアラルキル基であり、最も好適には、メチル、ベンジル又は４−メトキシベンジル基である。
【００４９】
Ｘの定義に於ける「脱離基」は、通常、求核性残基として脱離する基であれば特に限定はないが、例えば、塩素原子、臭素原子又は沃素原子のようなハロゲン原子；メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、プロパンスルホニルオキシ基又はブタンスルホニルオキシ基のようなＣ１−Ｃ４アルカンスルホニルオキシ基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、２，２，２−トリクロロエタンスルホニルオキシ基、３，３，３−トリブロモプロパンスルホニルオキシ基又は、４，４，４−トリフルオロブタンスルホニルオキシ基のような、ハロゲノＣ１−Ｃ４アルカンスルホニルオキシ基；或は、ベンゼンスルホニルオキシ基、α−ナフチルスルホニルオキシ基、β−ナフチルスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、４−ｔ−ブチルベンゼンスルホニルオキシ基、メシチレンスルホニルオキシ基又は６−エチル−α−ナフチルスルホニルオキシ基のような、Ｃ１−Ｃ４アルキルを１乃至３個有してもよいＣ６−Ｃ１０アリ−ルスルホニルオキシ基であり得、好適には、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、２，２，２−トリクロロエタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基又はメシチレンスルホニルオキシ基であり、更に好適には、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はメシチレンスルホニルオキシ基であり、より更に好適には、ハロゲン原子であり、特に好適には塩素原子である。
【００５０】
Ａ法は、一般式（Ｉ）を有する化合物を製造する方法である。
【００５１】
第Ａ１工程は、化合物（Ｉ）を製造する工程であり、
反応（１）　一般式（ＩＶ）を有する化合物を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、一般式（Ｖ）を有する化合物と縮合させる反応、及び、所望に応じて、
反応（２）　水酸基の保護基を除去する反応を、適宜順序を変えて組み合わせて行うことにより達成される。
【００５２】
上記反応（１）において使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；酢酸エチル又は酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリルのようなニトリル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はイソブタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホラミド（ＨＭＰＡ）又はヘキサメチルホスホラストリアミド（ＨＭＰＴ）のようなアミド類；或いはジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類であり、好適には、アミド類（最も好適には、ジメチルホルムアミド）である。
【００５３】
反応（１）において使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；酢酸ナトリウムのようなアルカリ金属酢酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド又はリチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリウム又はエチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機アミン類；メチルリチウム、エチルリチウム又はブチルリチウムのようなアルキルリチウム類；弗化ナトリウム、弗化カリウム、沃化カリウムのようなアルカリ金属ハロゲン化物類；リチウムジイソプロピルアミド又はリチウムジシクロヘキシルアミドのようなリチウムアルキルアミド類；或いは上記２以上の塩基の組み合わせであり、好適には、有機アミン類又はアルカリ金属ハロゲン化物類或いは前記塩基の組み合わせ（最も好適には、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又はトリエチルアミン或いはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンと沃化カリウムの組み合わせ）である。
【００５４】
反応（１）の反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常、０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１５０℃）である。
【００５５】
反応（１）の反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常、１０分間乃至６０時間（好適には、３０分間乃至４８時間）である。
【００５６】
尚、反応（１）に於いて、沃化カリウムを触媒として用いることができる。
【００５７】
反応終了後、反応（１）の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、溶媒を留去し、得られる残渣に水を加えた後、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出し、抽出した有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーによって更に精製することができる。
【００５８】
所望の反応である反応（２）の「水酸基の保護基を除去する反応」は、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い行うことができる。
【００５９】
水酸基の保護基が、シリル基である場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合物で処理するか又は塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸で処理することにより除去できる。
【００６０】
尚、弗素アニオンにより除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えることによって、反応が促進することがある。
【００６１】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；酢酸のような有機酸；水；又は上記溶媒の混合溶媒である。
【００６２】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、反応温度は、０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至５０℃）であり、反応時間は、１時間乃至２４時間である。
【００６３】
水酸基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下、常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。
【００６４】
接触還元による除去に使用される不活性溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；蟻酸、酢酸のような脂肪酸類；水；又は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、アルコ−ル類（最も好適には、メタノール）である。
【００６５】
接触還元による除去に使用される触媒は、通常、接触還元反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、パラジウム−炭素、パラジウム−黒、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム又はパラジウム−硫酸バリウムであり、好適には、パラジウム−炭素である。
【００６６】
圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
【００６７】
接触還元による除去における反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、反応温度は、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至７０℃）であり、反応時間は、５分間乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）である。
【００６８】
酸化による除去において使用される不活性溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水有機溶媒である。
【００６９】
このような有機溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類である。
【００７０】
上記反応において使用される酸化剤は、酸化に使用される化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレイト（ＣＡＮ）又は２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。
【００７１】
酸化による除去における反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、反応温度は、０℃乃至１５０℃であり、反応時間は、１０分間乃至２４時間である。
【００７２】
また、液体アンモニア中若しくはメタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類中において、−７８℃乃至０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのようなアルカリ金属類を作用させることによっても除去できる。
【００７３】
更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又は、トリメチルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド類を用いて除去することができる。
【００７４】
上記反応において使用される溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；又は上記溶媒の混合溶媒である。
【００７５】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、反応温度は、０℃乃至５０℃であり、反応時間は、５分間乃至７２時間である。
【００７６】
尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いられる。
【００７７】
水酸基の保護基が、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合には、不活性溶媒中、塩基で処理することにより除去される。
【００７８】
上記反応において使用される塩基は、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド類；又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類であり、好適には、アルカリ金属水酸化物類、金属アルコキシド類又はアンモニア類（最も好適には、アルカリ金属水酸化物類又は金属アルコキシド類）である。
【００７９】
上記反応において使用される不活性溶媒は、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；水；又は上記溶媒の混合溶媒である。
【００８０】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なり特に限定はないが副反応を抑制するために、通常、反応温度は、−２０℃乃至１５０℃であり、反応時間は、１時間乃至１０時間である。
【００８１】
水酸基の保護基が、低級アルキル基、アルコキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基又は置換エチル基である場合には、通常、不活性溶媒中、酸で処理することにより除去される。
【００８２】
上記反応において使用される酸は、通常、ブレンステッド酸又はルイス酸として使用されるものであれば特に限定はなく、好適には、塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸：又は三弗化ホウ素、三臭化ホウ素のようなルイス酸であるが、ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができる。
【００８３】
上記反応において使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水；又は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類（最も好適には、ジクロロメタン）である。
【００８４】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用される酸、溶媒等により異なるが、通常、反応温度は、−１０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至１５０℃）であり、反応時間は、５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至１０時間）である。
【００８５】
水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理することにより達成される。
【００８６】
尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、特にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス（メチルジフェニルホスフィン）（１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキサフルオロホスフェートを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することができる。
【００８７】
反応終了後、反応（２）の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、反応液に水を加え、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出した後、抽出した有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させた後、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーにより更に精製できる。
【００８８】
Ｂ法は、化合物（Ｉ）に於いて、Ｒ３が、カルバモイル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基である、一般式（Ｉａ）を有する化合物を製造する方法である。
【００８９】
第Ｂ１工程は、一般式（ＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＩＶ）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、一般式（ＶＩ）を有する化合物と縮合させることにより達成され、第Ａ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことができる。
【００９０】
第Ｂ２工程は、一般式（ＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＶＩＩ）のカルボキシル基の保護基を除去することにより達成される。
【００９１】
カルボキシル基の保護基の除去はその保護基の種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い行うことができる。
【００９２】
カルボキシル基の保護基が、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ヒドロキシ低級アルキル基又は低級脂肪族アシル低級アルキル基である場合には、酸又は塩基で処理することにより除去することができる。
【００９３】
上記反応に使用される酸は、例えば、塩酸、硫酸、燐酸又は臭化水素酸である。
【００９４】
上記反応に使用される塩基は、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり、好適には、アルカリ金属水酸化物類（最も好適には、水酸化ナトリウム）である。
【００９５】
上記反応において使用される不活性溶媒は、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；水；又は上記有機溶媒と水との混合溶媒であり、好適には、アルコール類又はアルコール類と水の混合溶媒であり、最も好適には、メタノール又はエタノールと水の混合溶媒である。
【００９６】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常、−１０℃乃至１００℃（好適には、３０℃乃至８０℃）である。
【００９７】
反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常、３０分間乃至１２時間（好適には、１時間乃至５時間）である。
【００９８】
カルボキシル基の保護基が、アラルキル基又はハロゲノ低級アルキル基である場合は、通常、不活性溶媒中、還元により除去される。
【００９９】
還元方法としては、カルボキシル基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場合には、亜鉛−酢酸のような化学的還元による方法が好適であり、アラルキル基である場合には、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い接触還元による方法を行なうか又は硫化カリウム、硫化ナトリウムのようなアルカリ金属硫化物を用いて、化学的還元による方法により実施される。
【０１００】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類；酢酸のような脂肪酸；又は上記有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。
【０１０１】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒及び還元方法等により異なるが、通常、反応温度は、−２０℃乃至１００℃であり、反応時間は、５分間乃至１２時間である。
【０１０２】
カルボキシル基の保護基が、シリル基である場合には、通常、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸で処理することにより除去できる。
【０１０３】
尚、弗素アニオンにより除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えることによって、反応が促進することがある。
【０１０４】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；酢酸のような有機酸；水；又は上記溶媒の混合溶媒である。
【０１０５】
反応温度及び反応時間は、原料化合物、酸、溶媒等により異なるが、通常、反応温度は、０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至５０℃）であり、反応時間は、１時間乃至２４時間である。
【０１０６】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、反応液に水酸化ナトリウム水溶液を加え、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を用いて水層をを洗浄した後、濃塩酸等を用いて溶液（水層）のｐＨを酸性とし、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を用いて目的化合物を抽出し、抽出液を水洗した後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィーにより更に精製できる。
【０１０７】
第Ｂ３工程は、化合物（Ｉａ）を製造する工程であり、
反応（１）　化合物（ＶＩＩＩ）を、ペプチド合成法における常法、例えば、アジド法、活性エステル法、混合酸無水物法又は縮合法（好適には、縮合法）に従い、アンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンと縮合させる反応、及び、所望に応じて、
反応（２）　水酸基の保護基を除去する反応を、適宜順序を変えて組み合わせることにより達成される。
【０１０８】
必須の反応である第Ｂ３工程の反応（１）で使用されるアンモニア類は、例えば、アンモニアガス又は濃アンモニア水であり得、好適にはアンモニア水である。
【０１０９】
反応（１）で使用されるＣ１−Ｃ６アルキルアミンは、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ｓ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ペンチルアミン又はヘキシルアミンである。
【０１１０】
反応（１）で使用されるジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンは、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｓ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミン又はＮ，Ｎ−ジヘキシルアミンである。
【０１１１】
上記に於いて、アジド法は、不活性溶媒中（例えばホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類であり、好適にはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、ヒドラジンと、−１０℃乃至１００℃（好適には０℃乃至５０℃）で反応させることによって得られるヒドラジドを亜硝酸化合物と反応させアジド化合物に変換した後、アンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンと処理することにより行われる。
【０１１２】
使用される亜硝酸化合物は、例えば亜硝酸ナトリウムのようなアルカリ金属亜硝酸塩又は亜硝酸イソアミルのような亜硝酸アルキルである。
【０１１３】
反応は、好適には不活性溶媒中で行われ、使用される溶媒は、例えばホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類；或はＮ−メチル−２−ピロリジノンのようなピロリドン類であり得、好適にはアミド類（特にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）である。
【０１１４】
又、本反応の２つの工程［アジド化及びアンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンとの反応］は、通常１つの反応液中で行われる。
【０１１５】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって変化するが、通常、アジド化の工程は−７０℃乃至５０℃（好適には−５０℃乃至０℃）であり、アンモニア類等との反応は−７０℃乃至５０℃（好適には−１０℃乃至１０℃）である。
【０１１６】
反応に要する時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって変化するが、通常、アジド化の工程は５分乃至３時間（好適には１０分乃至１時間）であり、アンモニア類等との反応は５時間乃至７日間（好適には１０時間乃至５日間）である。
【０１１７】
活性エステル法は、不活性溶媒中、活性エステル化剤と反応させ、活性エステルを製造した後、不活性溶媒中、アンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンと反応させることによって行われる。
【０１１８】
両反応に於て使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；或はアセトニトリルのようなニトリル類であり得、好適にはエーテル類（特にテトラヒドロフラン）又はアミド類（特にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）である。
【０１１９】
使用される活性エステル化剤は、例えば、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール又はＮ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドのようなＮ−ヒドロキシ化合物或はジピリジルジスルフィドのようなジスルフィド化合物であり得、活性エステル化反応は、ジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール又はトリフェニルホスフィンのような縮合剤の存在下に好適に行われる。
【０１２０】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって変化するが、通常、活性エステル化反応では、−７０℃乃至１５０℃（好適には−１０℃乃至１００℃）であり、活性エステル化合物とアンモニア類等との反応では−２０℃乃至１００℃（好適には０℃乃至５０℃）である。
【０１２１】
反応に要する時間は原料化合物、試薬、反応温度によって変化するが、両反応ともに、通常、３０分乃至８０時間（好適には１時間乃至４８時間）である。
【０１２２】
混合酸無水物法は、不活性溶媒中、塩基存在下、混合酸無水物化剤を反応させ、混合酸無水物を製造した後、不活性溶媒中、混合酸無水物とアンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンを反応させることにより行われる。
【０１２３】
混合酸無水物を製造する反応に於て使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解する物であれば特に限定はないが、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；或は、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類であり得、好適にはエーテル類（特にテトラヒドロフラン）である。
【０１２４】
混合酸無水物化剤は、例えば、クロロギ酸エチル又はクロロギ酸イソブチルのようなハロゲノギ酸Ｃ１−Ｃ４アルキル、ピバロイルクロリドのようなＣ１−Ｃ５アルカノイルハライド或はジエチルシアノリン酸又はジフェニルシアノリン酸のようなＣ１−Ｃ４アルキル若しくはジＣ６−Ｃ１４アリールシアノリン酸であり得、好適には、ハロゲノギ酸Ｃ１−Ｃ４アルキル（特にクロロギ酸エチル）である。
【０１２５】
使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；或はトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には有機アミン類（特にトリエチルアミン）である。
【０１２６】
混合酸無水物を製造する反応に於ける反応温度は、原料化合物、試薬等によって変化するが、通常−５０℃乃至１００℃（好適には−１０℃乃至５０℃）である。
【０１２７】
混合酸無水物を製造する反応に於ける反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって変化するが、通常５分乃至２０時間（好適には１０分乃至１０時間）である。
【０１２８】
混合酸無水物とアンモニア類等の反応に於て使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類或はホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類であり得、好適にはエーテル類（特にテトラヒドロフラン）である。
【０１２９】
混合酸無水物とアンモニア類等の反応に於ける反応温度は、原料化合物、試薬等によって変化するが、通常−３０℃乃至１００℃（好適には０℃乃至８０℃）である。
【０１３０】
混合酸無水物とアンモニア類等の反応に於ける反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって変化するが、通常５分乃至２４時間（好適には１０分乃至５時間）である。
【０１３１】
縮合法は、不活性溶媒中、縮合剤存在下、アンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンと直接反応させることによって行われる。
【０１３２】
使用される縮合剤は、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール又は１−メチル−２−クロロ−ピリジニウムヨージド−トリエチルアミンであり得、好適にはジシクロヘキシルカルボジイミドである。
【０１３３】
本反応は、前記の活性エステルを製造する反応と同様の条件下で行うことができる。
【０１３４】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば、反応終了後、溶媒を留去すること、又は溶媒を留去した残渣に水を注ぎ、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出し、抽出した有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム等で乾燥し、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０１３５】
所望の反応である第Ｂ３工程の反応（２）は、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い、第Ａ１工程の反応（２）と同様の条件下で行うことができる。
【０１３６】
Ｃ法は、化合物（Ｉ）を別途製造する方法である。
【０１３７】
第Ｃ１工程は、化合物（Ｉ）を製造する工程であり、
反応（１）　一般式（ＩＸ）又は（Ｘ）を有する化合物を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、一般式（ＸＩ）を有する化合物と縮合させる反応、及び、所望に応じて、
反応（２）　水酸基の保護基を除去する反応を、適宜順序を変えて組み合わせて行うことにより達成される。
【０１３８】
必須の反応である第Ｃ１工程の反応（１）で使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；ニトロメタンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類；或いは、ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にジクロロメタン）、エーテル類（特にジエチルエーテル若しくはテトラヒドロフラン）又はアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）である。
【０１３９】
使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類（特に炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（特に炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム）或いは有機塩基類（特に、トリエチルアミン、ピリジン又は４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン）である。
【０１４０】
反応温度は原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−１０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０１４１】
反応時間は原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には１時間乃至１２時間である。
【０１４２】
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば、反応終了後、反応液に水を加え、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出した後、抽出した有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させた後、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーにより更に精製できる。
【０１４３】
所望の反応である第Ｃ１工程の反応（２）は、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い、第Ａ１工程の反応（２）と同様の条件下で行うことができる。
【０１４４】
本発明の原料化合物である、化合物（ＩＶ）、（Ｖ）（ＶＩ）、（ＩＸ）又は（Ｘ）は、例えば、以下の方法に従い容易に製造することができる。
【０１４５】
【化１４】
2004123704.tif 000095
【０１４６】
【化１５】
2004123704.tif 000096
【０１４７】
【化１６】
2004123704.tif 000097
【０１４８】
【化１７】
2004123704.tif 000098
【０１４９】
【化１８】
2004123704.tif 000099
【０１５０】
【化１９】
2004123704.tif 000100
【０１５１】
【化２０】
2004123704.tif 000101
【０１５２】
【化２１】
2004123704.tif 000102
上記に於いて、Ｒ１、Ｒ１ａ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３ａ、Ｒ４、Ｒ４ａ、Ｒ５、Ｒ６、Ａ及びＸは、前述したものと同意義を示し、
Ｒ３ｂは、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基を示し、
Ｒ７は保護されたアミノ基を示し、
Ｒ８は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ６−Ｃ１４アリール基を示し、
Ｘａは、ハロゲン原子を示し、
Ｂｕｔは、ターシャリーブチル基を示す。
【０１５３】
上記に於いて、Ｒ３ｂの定義に於ける「スルファモイル基」、「Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基」及び「ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基」は、各々Ｒ３で定義したものと同意義を示す。
【０１５４】
Ｒ７の定義に於ける「保護されたアミノ基」の「保護基」は、一般にアミノ基の保護基として使用される基であれば、特に限定はなく用いることができるが、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ピバロイル基、バレリル基、イソバレリル基又はヘキサノイル基のようなＣ１−Ｃ６アルカノイル基；クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、３−フルオロプロピオニル基、４，４−ジクロロブチリル基、メトキシアセチル基、ブトキシアセチル基、エトキシプロピオニル基又はプロポキシブチリル基のような、ハロゲン若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されたＣ１−Ｃ４アルカノイル基；アクリロイル基、プロピオロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基又はイソクロトノイル基のような不飽和Ｃ１−Ｃ４アルカノイル基；ベンゾイル基、α−ナフトイル基、β−ナフトイル基、２−フルオロベンゾイル基、２−ブロモベンゾイル基、２，４−ジクロロベンゾイル基、６−クロロ−α−ナフトイル基、４−トルオイル基、４−プロピルベンゾイル基、４−ｔ−ブチルベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、６−エチル−α−ナフトイル基、４−アニソイル基、４−プロポキシベンゾイル基、４−ｔ−ブトキシベンゾイル基、６−エトキシ−α−ナフトイル基、２−エトキシカルボニルベンゾイル基、４−ｔ−ブトキシカルボニルベンゾイル基、６−メトキシカルボニル−α−ナフトイル基、４−フェニルベンゾイル基、４−フェニル−α−ナフトイル基、６−α−ナフチルベンゾイル基、４−ニトロベンゾイル基、２−ニトロベンゾイル基又は６−ニトロ−α−ナフトイル基のような、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、Ｃ６−Ｃ１０アリ−ル又はニトロで置換されてもよいＣ６−Ｃ１０アリ−ルカルボニル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、クロロメトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、２−フルオロプロポキシカルボニル基、２−ブロモ−ｔ−ブトキシカルボニル基、２，２−ジブロモ−ｔ−ブトキシカルボニル基、トリエチルシリルメトキシカルボニル基、２−トリメチルシリルエトキシカルボニル基、４−トリプロピルシリルブトキシカルボニル基又はｔ−ブチルジメチルシリルプロポキシカルボニル基のような、ハロゲン又はトリＣ１−Ｃ４アルキルシリルで置換されてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基；ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、１，３−ブタジエニルオキシカルボニル基又は２−ペンテニルオキシカルボニル基のようなＣ２−Ｃ５アルケニルオキシカルボニル基；フタロイル基のようなアリールジカルボニル基；ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、α−ナフチルジフェニルメチル基又は９−アンスリルメチル基のようなアラルキル基；或はベンジルオキシカルボニル基、（１−フェニル）ベンジルオキシカルボニル基、α−ナフチルメチルオキシカルボニル基、β−ナフチルメチルオキシカルボニル基、９−アンスリルメチルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基又はｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基のような、メトキシ又はニトロで置換されてもよいＣ７−Ｃ１５アラルキルオキシカルボニル基であり得、好適には、Ｃ１−Ｃ４アルカノイル基；トリフルオロアセチル基；メトキシアセチル基；ベンゾイル基；α−ナフトイル基；β−ナフトイル基；アニソイル基；ニトロベンゾイル基；Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル基；２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基；トリエチルシリルメトキシカルボニル基；２−トリメチルシリルエトキシカルボニル基；ビニルオキシカルボニル基；アリルオキシカルボニル基；フタロイル基；ベンジル基；ベンジルオキシカルボニル基；又はニトロベンジルオキシカルボニル基であり、更に好適には、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、４−アニソイル基、４−ニトロベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、フタロイル基、ベンジル基、ベンジルオキシカルボニル基又はｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基であり、特に好適にはベンジル基である。
【０１５５】
Ｒ８の定義に於ける「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基又は２−エチルブチル基のような、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり得、好適にはＣ１−Ｃ４アルキル基であり、更に好適にはメチル基又はエチル基である。
【０１５６】
Ｒ８の定義に於ける「Ｃ６−Ｃ１４アリール基」は、例えば、フェニル基、インデニル基、ナフチル基、フェナンスレニル基又はアントラセニル基のような炭素数６乃至１４個の芳香族炭化水素基であり得、好適にはフェニル基又はナフチル基であり、更に好適にはフェニル基である。
【０１５７】
Ｘａの定義に於ける「ハロゲン原子」は、例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。
【０１５８】
Ｄ法は、一般式（ＩＶ）を有する化合物を製造する方法である。
【０１５９】
第Ｄ１工程は、一般式（ＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、
反応（１）　　ニトロ基を還元する反応、及び、所望に応じて
反応（２）　　水酸基を保護する反応を、適宜順序を変えて行うことにより達成される。
【０１６０】
第Ｄ１工程の反応（１）のニトロ基の還元は、原料化合物を、
反応（ａ）　不活性溶媒中、１気圧乃至５気圧の水素雰囲気下（好適には１気圧）、接触還元触媒を用いて還元するか、或いは、
反応（ｂ）　金属粉存在下、酢酸中で攪拌する等により、通常、有機化学的に既知なニトロ基のアミノ基への還元法を適用することにより達成される。
【０１６１】
反応（１）（ａ）の「接触還元」に於て使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール又はイソブタノールのようなアルコール類；或いは、それらの混合溶媒であり得、好適にはアルコール類（特にメタノール）又はエーテル類及びアルコール類の混合溶媒（特にテトラヒドロフラン及びメタノール又はエタノールの混合溶媒）である。
【０１６２】
使用される接触還元触媒は、通常の接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、パラジウム黒、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム、水酸化パラジウム−炭素、ラネーニッケル、ロジウム−酸化アルミニウム、パラジウム−硫酸バリウム、酸化白金又は白金黒であり得、好適には、パラジウム−炭素である。
【０１６３】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−１０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０１６４】
反応時間は原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至１０時間であり、好適には３０分間乃至６時間である。
【０１６５】
反応（１）（ｂ）の「金属粉を用いた還元」に於て使用される溶媒は、酢酸、塩酸水、水、アルコール又は水に溶解する有機溶媒との混合物であり得、好適には酢酸である。
【０１６６】
使用される金属粉は、例えば、亜鉛粉、錫粉又は鉄粉であり得、好適には亜鉛粉又は錫粉である。
【０１６７】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−１０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０１６８】
反応時間は原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至１０時間であり、好適には３０分間乃至３時間である。
【０１６９】
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、不溶物をろ去した後、ろ液を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーにより更に精製できる。
【０１７０】
第Ｄ１工程の反応（２）の「水酸基を保護する反応」は、その保護基の種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い行うことができ、例えば、原料化合物を、
反応（ａ）　不活性溶媒中、塩基存在下又は不存在下（好適には塩基存在下）、一般式　Ｒ９−Ｘ　有する化合物（式中、Ｒ９は、前述の水酸基の保護基を示し、Ｘは前述したものと同意義を示す。）又は一般式　Ｒ９ａ−Ｏ−Ｒ９ａを有する化合物（式中、Ｒ９ａは、アシル基を示す他はＲ９と同意義を示す。）と反応させるか、
反応（ｂ）　不活性溶媒中、縮合剤及び塩基存在下又は不存在下（好適には塩基存在下）　一般式　Ｒ９ａ−ＯＨ　を有する化合物（式中、Ｒ９ａは、前記と同意義を示す。）と反応させるか、
反応（ｃ）　不活性溶媒中、塩化燐酸ジエチルのようなハロゲン化燐酸ジアルキルエステル類及び塩基存在下、一般式　Ｒ９ａ−ＯＨ　を有する化合物（Ｒ９ａは、前記と同意義を示す。）と反応させるか、又は
反応（ｄ）　不活性溶媒中、酸存在下又は不存在下（好適には酸存在下）、ジヒドロフラン若しくはジヒドロピラン類と反応させることにより達成される。
【０１７１】
反応（２）（ａ）に於いて使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；ニトロメタンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類；メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール又はイソブタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類；或いは、ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にジクロロメタン）、エーテル類（特にジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン）或いはアミド類（特にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）である。
【０１７２】
反応（２）（ａ）で使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド又はリチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；或いは、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、アルカリ金属水素化物類（特に水素化ナトリウム）、アルカリ金属アルコキシド類（特にカリウムｔ−ブトキシド）或いは有機アミン類（特にトリエチルアミン又はピリジン）である。
【０１７３】
尚、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、４−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合わせて、触媒量を用いることもでき、又、反応を効果的に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−クラウン−６のようなクラウンエーテル類等を添加することもできる。
【０１７４】
反応（２）（ａ）の反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０１７５】
反応（２）（ａ）の反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には３０分間乃至１２時間である。
【０１７６】
一般式　Ｒ９−Ｘ　を有する化合物の具体例としては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサノイルクロリド、メトキシカルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、エトキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルクロリド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシカルボニルクロリド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド又はナフトイルクロリドのようなアシルハライド類；ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリエチルシリルブロミド、トリイソプロピルシリルクロリド、ジメチルイソプロピルシリルクロリド、ジエチルイソプロピルシリルクロリド、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド、ジフェニルメチルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリドのようなシリルハライド類又は対応するシリルトリフルオロメタンスルホネート類；ベンジルクロリド、ベンジルブロミドのようなアラルキルハライド類；或いは、メトキシメチルクロリド、エトキシメチルクロリド、ピバロイルオキシメチルクロリド、エトキシカルボニルオキシメチルクロリドのようなアルキルハライド類を挙げることができ、好適にはアルキルハライド類（特にメトキシメチルクロリド）である。
【０１７７】
一般式　Ｒ９ａ−Ｏ−Ｒ９ａ　を有する化合物の具体例としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水バレリル酸、無水ヘキサン酸のような脂肪族カルボン酸無水物を挙げることができ、更に、ギ酸と酢酸のような混合酸無水物を使用することもできる。
【０１７８】
反応（２）（ｂ）に於いて使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；ニトロメタンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類；或いは、ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類であり得、好適には、エーテル類（特にジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン）或いはアミド類（特にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン）である。
【０１７９】
反応（２）（ｂ）に於いて使用される縮合剤は、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール又は１−メチル−２−クロロ−ピリジニウムヨージド−トリエチルアミンであり得、好適にはジシクロヘキシルカルボジイミドである。
【０１８０】
反応（２）（ｂ）に於いて使用される塩基は、反応（２）（ａ）に於いて使用されるものと同様のものを挙げることができる。
【０１８１】
反応（２）（ｂ）の反応温度は原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０１８２】
反応（２）（ｂ）の反応時間は原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には３０分間乃至１２時間である。
【０１８３】
反応（２）（ｃ）に於いて使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ニトロメタンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類；或いは、ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類であり得、好適には、エーテル類（特にジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン）である。
【０１８４】
反応（２）（ｃ）に於いて使用される塩基は、反応（２）（ａ）に於いて使用されるものと同様のものを挙げることができる。
【０１８５】
反応（２）（ｃ）の反応温度は原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０１８６】
反応（２）（ｃ）の反応時間は原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には３０分間乃至１２時間である。
【０１８７】
反応（２）（ｄ）に於いて使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類；ニトロメタンのようなニトロ化合物類；或いは、アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にジクロロメタン）又はエーテル類（特にジエチルエーテル若しくはテトラヒドロフラン）である。
【０１８８】
反応（２）（ｄ）で使用される酸は、例えば、弗化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硝酸、過塩素酸、硫酸又は燐酸等の鉱酸；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸又はｐ−トルエンスルホン酸のようなスルホン酸；或いは、酢酸、プロピオン酸、酪酸、フマール酸、コハク酸、クエン酸、酒石酸、蓚酸、マレイン酸又は安息香酸等のカルボン酸であり得、好適にはスルホン酸（特にｐ−トルエンスルホン酸）である。
【０１８９】
反応（２）（ｄ）の反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０１９０】
反応（２）（ｄ）の反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には３０分間乃至１２時間である。
【０１９１】
反応終了後、第Ｄ１工程の各反応の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、反応液に水を加え、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出した後、抽出した有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させた後、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーにより更に精製できる。
【０１９２】
第Ｄ２工程は、化合物（ＩＶ）を製造する工程であり、化合物（ＸＩＩＩ）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、一般式（ＸＩ）を有する化合物と縮合させることにより達成され、第Ｃ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことが出来る。
【０１９３】
Ｅ法は、Ｂ法に於ける中間体化合物である、化合物（ＶＩＩ）を、別途製造する方法である。
【０１９４】
第Ｅ１工程は、一般式（ＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＶＩ）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物と縮合させることにより達成され、第Ａ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことができる。
【０１９５】
第Ｅ２工程は、化合物（ＶＩＩ）を製造する工程であり、化合物（ＸＶ）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、一般式（ＸＩ）を有する化合物と縮合させることにより達成され、第Ｃ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことが出来る。
【０１９６】
Ｆ法は、Ｄ法に於ける中間体化合物である化合物（ＸＩＩＩ）を、別途製造する方法である。
【０１９７】
第Ｆ１工程は、一般式（ＸＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＶＩ）を有する化合物のアミノ基を保護することにより達成される。尚、「アミノ基を保護する反応」は、その保護基の種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎＯｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い、例えば、化合物（ＸＶＩ）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は不存在下（好適には塩基存在下）、一般式　Ｒ１０−Ｘ　有する化合物（式中、Ｒ１０は、前述のアミノ基の保護基を示し、Ｘは前述したものと同意義を示す。）又は一般式　Ｒ１０ａ−Ｏ−Ｒ１０ａを有する化合物（式中、Ｒ１０ａは、アシル基を示す他はＲ１０と同意義を示す。）と反応させることにより達成される。
【０１９８】
一般式　Ｒ１０−Ｘ　を有する化合物の具体例としては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサノイルクロリド、メトキシカルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、エトキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルクロリド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシカルボニルクロリド、ベンジルオキシカルボニルクロリド、ベンジルオキシカルボニルブロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド又はナフトイルクロリドのようなアシルハライド類；ベンジルクロリド、ベンジルブロミドのようなアラルキルハライド類；或いは、メトキシメチルクロリド、エトキシメチルクロリド、ピバロイルオキシメチルクロリド、エトキシカルボニルオキシメチルクロリドのようなアルキルハライド類を挙げることができ、好適にはブトキシカルボニルクロリド、ベンジルオキシカルボニルクロリド又はベンジルブロミドである。
【０１９９】
一般式　Ｒ１０ａ−Ｏ−Ｒ１０ａ　を有する化合物の具体例としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水バレリル酸、無水ヘキサン酸のような脂肪族カルボン酸無水物を挙げることができ、更に、ギ酸と酢酸のような混合酸無水物を使用することもできる。
【０２００】
上記に於いて使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジエチルのようなエステル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；ニトロメタンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類；メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール又はイソブタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類；或いは、ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にジクロロメタン）、エーテル類（特にジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン）或いはアミド類（特にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）である。
【０２０１】
上記に於いて使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド又はリチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；或いは、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり得、好適には、アルカリ金属水素化物類（特に水素化ナトリウム）、アルカリ金属アルコキシド類（特にカリウムｔ−ブトキシド）或いは有機アミン類（特にトリエチルアミン又はピリジン）である。
【０２０２】
尚、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、４−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合わせて、触媒量を用いることもでき、又、反応を効果的に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−クラウン−６のようなクラウンエーテル類等を添加することもできる。
【０２０３】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０２０４】
反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には３０分間乃至１２時間である。
【０２０５】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、反応液に水を加え、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出した後、抽出した有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させた後、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーにより更に精製できる。
【０２０６】
第Ｆ２工程は、一般式（ＸＶＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩ）を、水中で酸存在下、亜硝酸塩（特に亜硝酸ナトリウム又は亜硝酸カリウム）と反応させることにより達成される。
【０２０７】
使用される酸は、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸のような鉱酸であり、好適には硫酸である。
【０２０８】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常−１０℃乃至５０℃であり、好適には０℃乃至３０℃である。
【０２０９】
反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常１０分間乃至１０時間であり、好適には３０分間乃至３時間である。
【０２１０】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、反応混合物にを炭酸水素ナトリウムのような塩基を加えて中和した後、水と混和しない溶媒（例えば酢酸エチル等）を加え、水洗した後、目的化合物を含む有機層を無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することにより目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２１１】
第Ｆ３工程は、化合物（ＸＩＩＩ）を製造する工程であり、必須の反応である
反応（１）　水酸基を保護する反応、及び、所望に応じて
反応（２）　アミノ基の保護基を除去する反応、及び
反応（３）　アミノ基を保護する反応を、必要に応じて適宜順序を変えて組み合わせることにより達成される。
【０２１２】
第Ｆ３工程の反応（１）の「水酸基を保護する反応」は、第Ｄ１工程の反応（２）と同様の条件下で行うことができる。
【０２１３】
第Ｆ３工程の反応（２）の「アミノ基の保護基を除去する反応」は、一般に有機合成化学の技術において周知の方法に従い、以下の様に実施される。
【０２１４】
アミノ基の保護基が、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、２−トリメチルシリルエトキシカルボニル基、２−ブロモ−ｔ−ブトキシカルボニル基、２，２−ジブロモ−ｔ−ブトキシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、（１−フェニル）ベンジルオキシカルボニル基、９−アンスリルメチルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基又はｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基である場合には、不活性溶媒中又は水性溶媒中で酸で処理することにより除去することができる。尚、その際に、目的化合物を塩として得ることもできる。
【０２１５】
使用される酸は、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸又はトリフルオロ酢酸であり得、好適には、塩酸、硫酸、臭化水素酸又はトリフルオロ酢酸である。
【０２１６】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；酢酸メチル又は酢酸エチルのようなエステル類；メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール又はブタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類；蟻酸又は酢酸のような脂肪酸類；或は水又は水と上記溶媒との混合溶媒を挙げることができるが、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、脂肪酸類又は水と上記溶媒との混合溶媒であり、さらに好適にはハロゲン化炭化水素類（特にジクロロメタン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン又はジオキサン）、脂肪酸類（特に酢酸）、アルコール類（特にメタノール又はエタノール）、或は、水又は水と上記溶媒との混合溶媒である。
【０２１７】
反応温度は、原料化合物、溶媒又は使用される酸によって変化するが、通常−１０℃乃至１５０℃であり、好適には０℃乃至１００℃である。
【０２１８】
反応時間は、原料化合物、溶媒又は使用される酸によって変化するが、通常５分乃至４８時間であり、好適には１０分乃至１５時間である。
【０２１９】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば、反応液中に析出した目的化合物をろ取するか、必要に応じ、適宜中和して、溶媒を留去し、乾燥させるか、又は、反応液を水に注いだり、必要に応じ適宜中和して、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加え抽出し、目的化合物を含む有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２２０】
アミノ基の保護基がアルカノイル類、アリールカルボニル類、アルコキシカルボニル類、アルケニルオキシカルボニル類、アリールジカルボニル類、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、不活性溶媒中又は水性溶媒中で塩基で処理することにより除去することができる。
【０２２１】
使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド又はリチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリウム又はエチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタンアルカリ金属類；ヒドラジン、メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類（特に炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム）、アルカリ金属水酸化物類（特に水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム）、アルカリ金属アルコキシド類（特にナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド又はカリウム−ｔ−ブトキシド）或は有機塩基類（特にヒドラジン又はメチルアミン）である。
【０２２２】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール又はブタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類；又は水と上記溶媒との混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、又は水と上記溶媒との混合溶媒であり、さらに好適にはエーテル類（特にテトラヒドロフラン又はジオキサン）、アルコール類（特にメタノール、エタノール）、又は水と上記溶媒との混合溶媒である。
【０２２３】
反応温度は、原料化合物、溶媒又は使用される塩基によって変化するが、通常−１０℃乃至５０℃であり、好適には−５℃乃至１０℃である。
【０２２４】
反応時間は、原料化合物、溶媒又は使用される塩基によって変化するが、通常５分間乃至２０時間であり、好適には１０分間乃至３時間である。
【０２２５】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば、反応液中に析出した目的化合物をろ取するか、又は必要に応じて酸で中和した後溶媒を留去し、或いは、反応液に水を注ぎ、水層のｐＨを調整して生じた析出物をろ取するか、又は水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加え抽出し、目的化合物を含む有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム等で乾燥し、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２２６】
尚、アミノ基の保護基がｔ−ブトキシカルボニル基の場合には、特に不活性溶媒中で、シリル化合物又はルイス酸と処理することによっても除去することもできる。
【０２２７】
使用されるシリル化合物としては、例えば、トリメチルシリルクロリド、トリメチルシリルイオダイド又はトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートを挙げることができ、使用されるルイス酸としては、例えば塩化アルミニウム等を挙げることができる。
【０２２８】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン又はジオキサンのようなエ−テル類；或いは、アセトニトリルのようなニトリル類であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にジクロロメタン又はクロロホルム）或いはニトリル類（特にアセトニトリル）である。
【０２２９】
反応温度は、原料化合物、試薬又は溶媒等によって変化するが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適には０℃乃至５０℃である。
【０２３０】
反応時間は、原料化合物、試薬、溶媒又は反応温度等によって変化するが、通常１０分乃至１０時間であり、好適には３０分乃至３時間である。
【０２３１】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば、溶媒を留去し、反応液に水を注ぎ、水層をアルカリ性にして析出物をろ取するか、又は水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加え抽出し、目的化合物を含む有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム等で乾燥し、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２３２】
尚、アミノ基の保護基がアリルオキシカルボニル基の場合は、特に、アラルキル基等の場合の接触還元反応による除去方法と同様に除去することができる。即ちパラジウム、及びトリフェニルホスフィン又はニッケルテトラカルボニルを使用して除去することができる。
【０２３３】
アミノ基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、不活性溶媒中で、還元剤と接触（好適には、触媒存在下に接触還元）させることにより除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法を挙げることができる。
【０２３４】
接触還元による保護基の除去反応の場合に於て、使用される溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン又はシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサンのようなエーテル類；酢酸エチル又は酢酸プロピルのようなエステル類；メタノール、エタノール又は２−プロパノールのようなアルコール類；蟻酸又は酢酸のような脂肪酸類；或いは、これらの有機溶媒と水との混合溶媒であり得、好適には、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、エステル類、アルコール類、脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒であり、更に好適には、アルコール類（特にメタノール又はエタノール）、脂肪酸類（特に蟻酸又は酢酸）或いはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒である。
【０２３５】
使用される触媒は、通常の接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、パラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、ロジウム−酸化アルミニウム又はパラジウム−硫酸バリウムを挙げることができるが、好適には、パラジウム−炭素又はラネ−ニッケルである。
【０２３６】
圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれ、好適には１気圧である。
【０２３７】
反応温度は、原料化合物、溶媒又は使用される還元剤等によって変化するが、通常０℃乃至１００℃であり、好適には１０℃乃至５０℃である。
【０２３８】
反応時間は、原料化合物、溶媒、使用される還元剤又は反応温度等によって変化するが、通常１５分乃至２４時間であり、好適には３０分乃至１２時間である。
【０２３９】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば、触媒をろ去した後溶媒を留去し、反応液に水を注ぎ、水層をアルカリ性にして析出物をろ取するか、又は水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加え抽出し、目的化合物を含む有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム等で乾燥し、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２４０】
酸化による除去において使用される溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、例えば、アセトンのようなケトン類；ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサンのようなエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；或いは、これらの有機溶媒と水との混合溶媒であり得、好適には、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類、エーテル類、アミド類、スルホキシド類或いはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒であり、更に好適には、ケトン類（特にアセトン）、ハロゲン化炭化水素類（特にジクロロメタン）、ニトリル類（特にアセトニトリル）、アミド類（特にヘキサメチルホスホロトリアミド）、スルホキシド類（特にジメチルスルホキシド）或いはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒である。
【０２４１】
使用される酸化剤は、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレイト（ＣＡＮ）又は２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）であり得、好適には、ＣＡＮ又はＤＤＱである。
【０２４２】
反応温度は、原料化合物、溶媒又は使用される酸化剤等によって変化するが、通常０℃乃至１５０℃であり、好適には１０℃乃至５０℃である。
【０２４３】
反応時間は、化合物、溶媒又は使用される酸化剤等によって変化するが、通常１５分乃至２４時間であり、好適には３０分乃至１２時間である。
【０２４４】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば、酸化剤をろ去した後溶媒を留去し、反応液に水を注ぎ、水層をアルカリ性にして析出物をろ取するか、又は水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加え抽出し、目的化合物を含む有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム等で乾燥し、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２４５】
第Ｆ３工程の反応（３）の「アミノ基を保護する反応」は、その保護基の種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い、例えば、原料化合物を、不活性溶媒中、塩基存在下又は不存在下（好適には塩基存在下）、一般式　Ｒ１０−Ｘ　有する化合物（式中、Ｒ１０は、前述のアミノ基の保護基を示し、Ｘは前述したものと同意義を示す。）又は一般式　Ｒ１０ａ−Ｏ−Ｒ１０ａを有する化合物（式中、Ｒ１０ａは、アシル基を示す他はＲ１０と同意義を示す。）と反応させることにより達成され、第Ｆ１工程と同様の条件下で行うことができる。
【０２４６】
Ｇ法は、化合物（Ｖ）に於いて、Ｒ３が、カルバモイル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルバモイル基である、一般式（Ｖａ）を有する化合物を製造する方法である。
【０２４７】
第Ｇ１工程は、一般式（ＸＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＩＸ）を有する化合物を、アンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンと反応させることにより達成され、ペプチド合成法における常法、例えば、アジド法、活性エステル法、混合酸無水物法又は縮合法（好適には、縮合法）に従い、第Ｂ３工程と同様の条件下で行うことができる。
【０２４８】
第Ｇ２工程は、一般式（ＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸ）を、
反応（ａ）　不活性溶媒中、１気圧乃至５気圧の水素雰囲気下（好適には１気圧）、接触還元触媒を用いて還元するか、又は、
反応（ｂ）　金属粉存在下、酢酸中で攪拌する等により、通常、有機化学的に既知なニトロ基のアミノ基への還元法を適用することにより達成され、第Ｄ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことができる。
【０２４９】
第Ｇ３工程は、化合物（Ｖａ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、化合物（ＸＸＩ）を、一般式（ＸＸＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
【０２５０】
使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；酢酸エチル又は酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリルのようなニトリル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はイソブタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホラミド（ＨＭＰＡ）又はヘキサメチルホスホラストリアミド（ＨＭＰＴ）のようなアミド類；或いはジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類であり、好適には、アミド類（最も好適には、ジメチルアセトアミド）である。
【０２５１】
使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；酢酸ナトリウムのようなアルカリ金属酢酸塩類；或はトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機アミン類であり、好適には、有機アミン類（最も好適には、トリエチルアミン）である。
【０２５２】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常、−１０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至５０℃）である。
【０２５３】
反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常、１０分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃至１５時間）である。
【０２５４】
尚、本工程において、ジメチルアミノピリジン又はピリジンを触媒として用いることができる。
【０２５５】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、溶媒を留去し、得られる残渣に水を加えた後、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出し、抽出した有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーによって更に精製することができる。
【０２５６】
Ｈ法は、化合物（Ｖ）に於いて、Ｒ３が、スルファモイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルファモイル基又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スルファモイル基である、一般式（Ｖｂ）を有する化合物を製造する方法である。
【０２５７】
第Ｈ１工程は、一般式（ＸＸＩＶ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＩＩＩ）を有する化合物を、不活性溶媒中又は溶媒非存在下（好適には不活性溶媒中）、ハロゲン化剤（好適には、塩化チオニル又は五塩化リン）と反応させることにより達成される。
【０２５８】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム又は１，２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭素類であり得、好適にはジクロロメタン又は１，２−ジクロロエタンである。尚、塩化チオニルを用いる場合は、塩化チオニル自体を溶媒として用いることができる。
【０２５９】
反応温度は、溶媒、原料、試薬等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃であり、好適には３０℃乃至８０℃である。
【０２６０】
反応時間は、溶媒、原料、試薬、反応温度等により異なるが、通常、１０分間乃至３０時間であり、好適には３０分間乃至２４時間である。
【０２６１】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、溶媒を留去し、得られる残渣に水を加えた後、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出し、抽出した有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーによって更に精製することができる。
【０２６２】
第Ｈ２工程は、一般式（ＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＶ）を、不活性溶媒中、アンモニア類、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミン又はジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミンと反応させることにより達成される。
【０２６３】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム又はジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類；或は上記溶媒と水の混合溶媒であり得、好適には、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル又は上記溶媒と水の混合溶媒である。
【０２６４】
反応温度は、溶媒、原料、試薬等により異なるが、通常、−５０℃乃至１００℃であり、好適には−１０℃乃至４０℃である。
【０２６５】
反応時間は、溶媒、原料、試薬、反応温度等により異なるが、通常、１０分間乃至３０時間であり、好適には３０分間乃至２４時間である。
【０２６６】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、溶媒を留去し、得られる残渣に水を加えた後、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出し、抽出した有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーによって更に精製することができる。
【０２６７】
第Ｈ３工程は、一般式（ＸＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶ）を、
反応（ａ）　不活性溶媒中、１気圧乃至５気圧の水素雰囲気下（好適には１気圧）、接触還元触媒を用いて還元するか、又は、
反応（ｂ）　金属粉存在下、酢酸中で攪拌する等により、通常、有機化学的に既知なニトロ基のアミノ基への還元法を適用することにより達成され、第Ｄ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことができる。
【０２６８】
第Ｈ４工程は、化合物（Ｖｂ）を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、化合物（ＸＸＶＩ）を、化合物（ＸＸＩＩ）と反応させることにより達成され、第Ｇ３工程と同様の条件下で行うことができる。
【０２６９】
Ｊ法は、Ｇ法に於ける原料化合物である、一般式（ＸＩＸ）を有する化合物を製造する方法である。
【０２７０】
第Ｊ１工程は、一般式（ＸＸＩＸ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＶＩＩ）を有する化合物を、不活性溶媒中、塩基存在下、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）を有する化合物と反応させることにより達成される。
【０２７１】
使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、好適には、ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；或いはジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類又はエーテル類（最も好適には、ジクロロメタン又はテトラヒドロフラン）である。
【０２７２】
使用される塩基は、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、イソプロビルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような有機塩基類であり、好適には、トリエチルアミンである。
【０２７３】
反応温度は、溶媒、原料化合物、試薬等により異なるが、通常、−４０℃乃至５０℃（好適には、−２０℃乃至２５℃）である。
【０２７４】
反応時間は、溶媒、原料化合物、試薬、反応温度等により異なるが、通常、５分間乃至１０時間（好適には、１０分間乃至３時間）である。
【０２７５】
本工程は、好適には窒素気流下に行なわれる。
【０２７６】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、反応液に水を加え、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出した後、抽出した有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させた後、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーにより更に精製できる。本工程の目的化合物は、精製することなく次工程に用いることもできる。
【０２７７】
第Ｊ２工程は、一般式（ＸＸＸ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＸ）を、不活性溶媒中、アルカリ金属シアニドと反応させることにより達成される。
【０２７８】
使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；或いはジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類であり、好適には、アミド類（最も好適には、ジメチルホルムアミド）である。
【０２７９】
使用されるアルカリ金属シアニドは、例えば、シアン化リチウム、シアン化ナトリウム又はシアン化カリウムが好適である。
【０２８０】
本反応ではクラウンエーテル化合物を添加することが出来る。使用されるクラウンエーテル化合物は、例えば、１２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、１−アザ−１２−クラウン−４、１−アザ−１５−クラウン−５、１−アザ−１８−クラウン−６、ベンゾ−１５−クラウン−５、４’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５、ベンゾ−１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６、ジベンゾ−２４−クラウン−８、ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６又はジシクロヘキサノ−２４−クラウン−８であり、好適には、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、１−アザ−１５−クラウン−５、１−アザ−１８−クラウン−６、ベンゾ−１５−クラウン−５、４’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５、ベンゾ−１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６又はジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６であり、更に好適には、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、１−アザ−１８−クラウン−６、ベンゾ−１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６又はジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６であり、最も好適には、１５−クラウン−５又は１８−クラウン−６である。
【０２８１】
反応温度は、溶媒、原料化合物、試薬等により異なるが、通常、０℃乃至１８０℃（好適には、０℃乃至５０℃）である。
【０２８２】
反応時間は、溶媒、原料化合物、試薬、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至２４時間（好適には、２時間乃至１２時間）である。
【０２８３】
本工程は、好適には窒素気流下に行なわれる。
【０２８４】
尚、本工程においては沃化ナトリウムのような沃化アルカリ金属を共存させて行うことが出来る。
【０２８５】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、反応液に水を加え、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出した後、抽出した有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させた後、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーにより更に精製できる。
【０２８６】
第Ｊ３工程は、一般式（ＸＸＸＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶＩＩ）を、不活性溶媒中、ハロゲン化剤と反応させることにより達成される。
【０２８７】
使用されるハロゲン化剤は、例えば、チオニルクロリド、チオニルブロミド、チオニルアイオダイドのようなチオニルハライド類；スルフリルクロリド、スルフリルブロミド、スルフリルアイオダイドのようなスルフリルハライド類；三塩化燐、三臭化燐、三沃化燐のような三ハロゲン化燐類；五塩化燐、五臭化燐、五沃化燐のような五ハロゲン化燐類；又はオキシ塩化燐、オキシ臭化燐、オキシ沃化燐のようなオキシハロゲン化燐類であり、好適には、チオニルハライド類（最も好適には、チオニルクロリド）である。
【０２８８】
使用される不活性溶媒は、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；或いはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類であり、好適には、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類（最も好適には、ベンゼン又はジクロロメタン）である。
【０２８９】
反応温度は、原料化合物、試薬等によって異なるが、通常、−２０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至５０℃）である。
【０２９０】
反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度によって異なるが、通常、１０分間乃至１０時間（好適には、１時間乃至５時間）である。
【０２９１】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、溶媒を留去し、得られる残渣に水を加えた後、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出し、抽出した有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーによって更に精製することができる。
【０２９２】
第Ｊ４工程は、化合物（ＸＸＸ）を別途製造する工程であり、化合物（ＸＸＸＩ）を、不活性溶媒中、アルカリ金属シアニドと反応させることにより達成され、第Ｊ２工程と同様の反応条件下で行うことができる。尚、本工程に於いては、沃化ナトリウムのような沃化アルカリ金属を共存させて行うこともできる。
【０２９３】
第Ｊ５工程は、化合物（ＸＩＸ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＸ）を、酸又はアルカリを用いて加水分解することにより達成される。
【０２９４】
酸を用いた加水分解は、化合物（ＸＸＸ）を、不活性溶媒（好適には、アセトニトリル又はイソブチロニトリルのようなニトリル類）中、含水塩酸、含水硫酸又は含水硝酸のような含水鉱酸と、１時間乃至１０時間（好適には、１．５時間乃至７時間）、１０℃乃至１００℃（好適には、５０℃乃至１００℃）で反応させることにより行われる。
【０２９５】
アルカリを用いた加水分解は、化合物（ＸＸＸ）を、不活性溶媒（好適には、水、メタノール若しくはエタノールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン若しくはジオキサンのようなエーテル類又はこれら溶媒の混合溶媒）中、１乃至１０当量（好適には、１乃至５当量）の水酸化リチウム、水酸化ナトリウム若しくは水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物又は水酸化カルシウム若しくは水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物と、０℃乃至１２０℃（好適には、２０℃乃至１００℃）、３０分間乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）反応させることにより行われる。
【０２９６】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従い反応混合物から採取することができる。例えば、アルカリを用いた加水分解の場合には、反応液に塩酸のような鉱酸を加え、酸性にし、目的化合物が、溶媒中で沈殿として析出すれば、これを濾取により採取できる。又、溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラフィーに付して、目的化合物を単離することでき、更に、酸性にした後、残留物に水と酢酸エチルのような水不混和性有機溶媒を加え、有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、溶媒を留去することにより、目的化合物を採取することができる。また、酸を用いた加水分解の場合には、目的化合物が反応系中に析出しているなら、これを濾取することにより単離できる。又、酢酸エチルのような水不混和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、溶媒を留去することにより、目的化合物を得ることができる。
【０２９７】
Ｋ法は、Ｂ法又はＥ法の原料化合物である、一般式（ＶＩ）を有する化合物を製造する方法である。
【０２９８】
第Ｋ１工程は、一般式（ＸＸＸＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＩＸ）を有する化合物のカルボキシル基を保護することにより達成される。
【０２９９】
カルボキシル基を保護する反応は、その保護基の種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス，第３版，Ｔ．Ｗ．グリーン・アンド・Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ，　ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インク［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，　３ｒｄ　ｅｄｉｔｉｏｎ，　Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ　＆　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ；　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載される方法に従い、原料化合物を、反応（１）　不活性溶媒中（好適には、ジメチルホルムアミドのようなアミド類）、塩基の存在又は非存在下（好適には、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類の存在下）、一般式　Ｒ６−Ｘａ　又は、Ｒ６−Ｏ−Ｒ６　（式中、Ｒ６及びＸａは、前述したものと同意義を示す。）を有する化合物と、−２０℃乃至溶媒の還流温度（好適には、０℃乃至溶媒の還流温度）で、１０分間乃至３日間（好適には、１時間乃至６時間）反応させるか、又は
反応（２）　不活性溶媒中（好適には、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類）、縮合剤及び塩基の存在又は非存在下（好適には、オキサゾリルクロリド及びジシクロヘキシルカルボジイミドのようなカルボジイミド類の存在下）、一般式　Ｒ６−ＯＨ　（式中、Ｒ６は、前述したものと同意義を示す。）を有する化合物と、−２０℃乃至８０℃（好適には、０℃乃至３０℃）で、１０分間乃至３日間（好適には、３０分間乃至１日間）反応させることにより行われる。
【０３００】
反応終了後、本工程の目的化合物は、常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了後、溶媒を留去し、得られる残渣に水を加えた後、水と混和しない溶媒（例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチル等）を加えて目的化合物を抽出し、抽出した有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウム等を用いて乾燥させ、溶媒を留去することによって目的化合物が得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈澱、クロマトグラフィーによって更に精製することができる。
【０３０１】
第Ｋ２工程は、一般式（ＸＸＸＩＩＩ）を有する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＸＩＩ）を、
反応（１）　不活性溶媒中、１気圧乃至５気圧の水素雰囲気下（好適には１気圧）、接触還元触媒を用いて還元するか、又は、
反応（２）　金属粉存在下、酢酸中で攪拌する等により、通常、有機化学的に既知なニトロ基のアミノ基への還元法を適用することにより達成され、第Ｄ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことができる。
【０３０２】
第Ｋ３工程は、化合物（ＶＩ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＸＩＩＩ）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、化合物（ＸＸＩＩ）と反応させることにより達成され、第Ｇ３工程と同様の条件下で行うことができる。
【０３０３】
Ｌ法は、Ｃ法の原料化合物である、一般式（ＩＸ）を有する化合物及び一般式（Ｘ）を有する化合物を製造する方法である。
【０３０４】
第Ｌ１工程は、化合物（ＩＸ）又は化合物（Ｘ）を製造する工程であり、一般式（Ｖ）を有する化合物を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下（好適には存在下）、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物又は一般式（ＸＸＸＩＶ）を有する化合物と縮合させることにより達成され、第Ａ１工程の反応（１）と同様の条件下で行うことができる。
【０３０５】
本発明の原料化合物（ＸＩ）、（ＸＩＩ）、（ＸＩＶ）、（ＸＶＩ）、（ＸＩＸ）、（ＸＸＩＩ）、（ＸＸＩＩＩ）、（ＸＸＶＩＩ）及び（ＸＸＶＩＩＩ）等は、公知であるか又は公知の方法に従って容易に製造される。｛例えば、特開平９−１４３１３７号　（ＥＰ　０７６３５２５）、ＷＯ　９９／０９００２、カナディアン・ジャーナル・オブ・ケミストリー，第６２巻，第１４４６頁（１９８４年）［Ｃａｎ．　Ｊ．　Ｃｈｅｍ．，　６２，　１４４６　（１９８４）］、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ，第７２巻，第１８３１頁（１９５０年）［Ｊ．　Ａｍ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ．，　７２，　１８３１　（１９５０）］等｝。
【０３０６】
本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩は、優れたＬＤＬ酸化抑制作用及びＡＣＡＴ阻害作用を有し、且つ優れた経口吸収性を示し、更に副作用（特に、副腎毒性）が低く、安全域（薬効と毒性発現の濃度差）が広いため、医薬［特に、高脂血症又は動脈硬化性疾患の治療薬又は予防薬（特に、治療薬）］として有用である。
【０３０７】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物又はその薬理上許容される塩類を、上記疾患の治療薬又は予防薬として使用する場合には、それ自体あるいは適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射剤若しくは坐剤等による非経口的に投与することができる。
【０３０８】
これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニトール、ソルビトールのような糖誘導体；トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリンのような澱粉誘導体；結晶セルロースのようなセルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルランのような有機系賦形剤；及び、軽質無水珪酸、合成珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘導体；燐酸水素カルシウムのような燐酸塩；炭酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーズワックス、ゲイ蝋のようなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムのような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリウム；ＤＬロイシン；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤（例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができる。）、崩壊剤（例えば、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセルロース誘導体；カルボキシメチルスターチ、カルボキシメチルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げることができる。）、乳化剤（例えば、ベントナイト、ビーガムのようなコロイド性粘土；水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウムのような金属水酸化物；ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸カルシウムのような陰イオン界面活性剤；塩化ベンザルコニウムのような陽イオン界面活性剤；及び、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルのような非イオン界面活性剤を挙げることができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロサール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げることができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。
【０３０９】
その使用量は症状、年齢等により異なるが、経口投与の場合には、１回当り下限１ｍｇ（好適には、１０ｍｇ）、上限１０００ｍｇ（好適には、５００ｍｇ）を、静脈内投与の場合には、１回当り下限０．５ｍｇ（好適には、５ｍｇ）、上限５００ｍｇ（好適には、２５０ｍｇ）を成人に対して、１日当り１乃至６回症状に応じて投与することが望ましい。
【０３１０】
【実施例】
以下に、実施例、参考例、試験例及び製剤例を示し、本発明の化合物をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲は、これらに限定されるものではない。
【０３１１】
尚、ＮＭＲ　スペクトルは、内部標準にテトラメチルシランを用い、δ値を　ｐｐｍ　で示し、結合定数はＪ値　（Ｈｚ）　で示した。カップリング・パターンは、
ｂｒｄ　：　幅広、または形の崩れたダブレット様に観測されたシグナル、
ｂｒｓ　：　幅広、または形の崩れたシングレット様に観測されたシグナル、
ｄ　　：　ダブレット、
ｄｄ　　：　ダブルダブレット、
ｍ　　：　マルチプレット、
ｑ　　：　カルテット、
ｓ　　：　シングレット、
ｔ　　：　トリプレット、
と略した。
【０３１２】
実施例１
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（プロピルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−５９２）
参考例１３で得られたＮ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−プロパンスルホンアミド　１００ｍｇ　（０．３８９ｍｍｏｌ）　のジメチルホルムアミド　６ｍｌ　溶液に、０℃で攪拌下、カリウム　ｔ−ブトキシド（１．０Ｍ　テトラヒドロフラン溶液）０．４７ｍｌ　（０．４７ｍｍｏｌ）　を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を０℃に冷却した後、参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミド　１００ｍｇ　（０．３５４ｍｍｏｌ）　及びヨウ化カリウム　５９ｍｇ　（０．３５ｍｍｏｌ）　を加え、室温で一晩攪拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／５）を用いて精製することにより、標記化合物　１５４ｍｇ　（８６％）　をアモルファスとして得た。
【０３１３】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３６９０，　３４６４，　２９７３，　１６７２，　１４８２，　１３５２，　１１５１，　１００９；１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０７　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．４２　（９Ｈ，ｓ），　１．８５−１．９５　（２Ｈ，　ｍ），　２．２８　（６Ｈ，　ｓ），　２．９６　（３Ｈ，　ｓ），　３．０６−３．１０　（２Ｈ，　ｍ），　３．７３　（３Ｈ，　ｓ），　４．５１　（２Ｈ，　ｓ），　６．３０　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　７．１０　（２Ｈ，　ｓ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．７９　（１Ｈ，　ｓ），　８．２８　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．実施例２
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−６６４）
参考例１２で得られたＮ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド　３７５ｍｇ　（１．３３ｍｍｏｌ）　及び参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミド　３００ｍｇ　（１．１１ｍｍｏｌ）　を、実施例１と同様に反応させることにより、標記化合物　４５４ｍｇ　（８３％）　をアモルファスとして得た。
【０３１４】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３６９１，　３４６４，　３４２６，　２９６７，　１６７０，　１４８２，　１４１７，　１３４６，
１１５０；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０７　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．４２　（９Ｈ，ｓ），　１．４５−１．４８　（２Ｈ，　ｍ），　１．８５−１．９３　（２Ｈ，　ｍ），　２．２７　（６Ｈ，　ｓ），　２．９６　（３Ｈ，　ｓ），　３．０４−３．１０　（２Ｈ，　ｍ），　３．７３　（３Ｈ，　ｓ），　４．５２　（２Ｈ，　ｓ），　６．２８　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　７．１０　（２Ｈ，　ｓ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．６４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．８０　（１Ｈ，　ｓ），　８．２８　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
実施例３
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（プロピルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−６０２）
参考例１３で得られたＮ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−プロパンスルホンアミド　１９０ｍｇ　（０．７３８ｍｍｏｌ）　及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　２００ｍｇ　（０．６７４ｍｍｏｌ）　を、実施例１と同様に反応させることにより、標記化合物　３０４ｍｇ　（８７％）　を黄色アモルファスとして得た。
【０３１５】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４２６，　２９８２，　１６８７，　１６２４，　１４８２，　１４１０，　１３５２，　１１５０，
１１０６；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０６　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．４２　（９Ｈ，ｓ），　１．８７−１．９３　（２Ｈ，　ｍ），　２．２８　（６Ｈ，　ｓ），　３．０２　（３Ｈ，　ｓ），　３．０６　（３Ｈ，　ｓ），　３．０５−３．０９　（２Ｈ，　ｍ），　３．７３　（３Ｈ，　ｓ），　４．５１　（２Ｈ，　ｓ），　７．０９　（２Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　７．４３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．５６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　８．２７　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
実施例４
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−６７４）
参考例１２で得られたＮ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド　２１９ｍｇ　（０．８０７ｍｍｏｌ）　及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　２００ｍｇ　（０．６７４ｍｍｏｌ）　を、実施例１と同様に反応させることにより、標記化合物　３３７ｍｇ　（９４％）　を淡黄色アモルファスとして得た。
【０３１６】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４２６，　２９８２，　１６８７，　１６２４，　１４８２，　１４１０，　１３５２，　１１５０，
１１０６；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．４２　（９Ｈ，ｓ），　１．４２−１．４８　（２Ｈ，　ｍ），　１．８０−１．８８　（２Ｈ，　ｍ），　２．２８　（６Ｈ，　ｓ），　３．０２　（３Ｈ，　ｓ），　３．０７　（３Ｈ，　ｓ），　３．０６−３．１１　（２Ｈ，　ｍ），　３．７３　（３Ｈ，　ｓ），　４．５１　（２Ｈ，　ｓ），　７．０９　（２Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　７．４３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．５６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　８．２８　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
実施例５
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−６６２）
参考例１２で得られたＮ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド　２９９ｍｇ　（１．１６ｍｍｏｌ）　及び参考例３で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ安息香酸　メチルエステル　３００ｍｇ　（１．０６ｍｍｏｌ）　を、実施例１と同様に反応させることにより、エステル体　４１０ｍｇ　（７８％）　を得た。
【０３１７】
次いで、得られたエステル体　３９５ｍｇ　（０．７８３ｍｍｏｌ）　のメタノール　６ｍｌ　溶液に、水酸化ナトリウム　３１３ｍｇ　（７．８３ｍｍｏｌ）　の水　３ｍｌ　溶液を加え、室温で２時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣の　ｐＨ　が酸性となるまで濃塩酸を加えた後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／５）を用いて精製することにより、カルボン酸体　２９０ｍｇ　（７６％）　を得た。
【０３１８】
次いで、得られたカルボン酸体　１１７ｍｇ　（０．２３８ｍｍｏｌ）　のジクロロメタン　３ｍｌ　溶液に、１，１−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール　５８ｍｇ　（０．３６ｍｍｏｌ）　を加え、室温で１．５時間攪拌した後、アンモニア水　３ｍｌ　を加え、室温で一晩攪拌した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣を酢酸エチルで抽出し、抽出液を　１０％　塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンを用いて再結晶させることにより、標記化合物　７５ｍｇ　（４５％）　を結晶として得た。
【０３１９】
融点：１８０．０−１８０．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４６，　３２０１，　２９６８，　１６６４，　１６１５，　１５６１，　１５１８，　１４８３，
１４１６，　１３４９，　１２２６，　１１４９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　１．３９　（９Ｈ，ｓ），　１．５０−１．５７　（２Ｈ，　ｍ），　１．８８−１．９３　（２Ｈ，　ｍ），　２．２８　（６Ｈ，　ｓ），　３．０５−３．０９　（２Ｈ，　ｍ），　３．７４　（３Ｈ，　ｓ），　４．５２　（２Ｈ，　ｓ），　５．３０　（２Ｈ，　ｓ），　７．１０　（２Ｈ，　ｓ），　７．５１　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．６７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．８９　（１Ｈ，　ｓ），　８．２８　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．実施例６
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−１９２）
参考例１０で得られたＮ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド　３１０ｍｇ　（０．８９３ｍｍｏｌ）　及び参考例６で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノベンズアミドを、実施例１と同様に反応させることにより、ベンジル体　３１９ｍｇ　（７４％）　を橙色のアモルファスとして得た。
【０３２０】
次いで、得られたベンジル体　３１０ｍｇ　（０．５３５ｍｍｏｌ）　のエタノール　５ｍｌ　溶液に、１０％パラジウム炭素触媒　６０ｍｇ　を加え、６０℃で４時間攪拌した。セライト（商標）を用いて濾過することにより触媒を除いた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ジクロロメタン／メタノール＝２０／１）を用いて精製した後、酢酸エチル−ヘキサンを用いて再結晶させることにより、標記化合物　２３４ｍｇ　（９０％）　を、無色の結晶として得た。
【０３２１】
融点：１２９．０−１３０．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４７７，　３３３４，　２９６２，　１７２５，　１６５０，　１４８６，　１４２６，　１３３５，
１２３７，　１１４９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．３８−１．５０（２Ｈ，　ｍ），　１．４３　（９Ｈ，　ｓ），　１．８０−１．８８　（２Ｈ，　ｍ），　２．２１　（６Ｈ，　ｓ），　３．１０　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　４．５０　（２Ｈ，　ｓ），　５．３３　（１Ｈ，　ｓ），　５．６４　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．２０　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　７．０５（２Ｈ，　ｓ），　７．５０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．６５　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．８２　（１Ｈ，　ｓ），　８．３２　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例７
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−１９４）
参考例１０で得られたＮ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド　２７０ｍｇ　（０．７７８ｍｍｏｌ）　及び参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミド　２００ｍｇ　（０．７０７ｍｍｏｌ）　を、実施例６と同様に反応させることにより、標記化合物　１４７ｍｇ　（４１％）　を無色結晶として得た。
【０３２２】
融点：　１７３．０−１７３．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４８５，　３３４８，　２９６４，　１６７９，　１６３４，　１５５８，　１４８７，　１４１１，１３３６，　１３１９，　１２３７，　１２０１，　１１４９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４０−１．５０（２Ｈ，　ｍ），　１．４２　（９Ｈ，　ｓ），　１．８０−１．８８　（２Ｈ，　ｍ），　２．２３　（６Ｈ，　ｓ），　２．９６　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．８Ｈｚ），　３．１０　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　４．４９　（２Ｈ，　ｓ），　５．０６　（１Ｈ，　ｓ），　６．１９　（１Ｈ，　ｂｒｄ，　Ｊ＝３．６Ｈｚ），　７．０６　（２Ｈ，　ｓ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．６２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．７６　（１Ｈ，　ｓ），　８．２９　（１Ｈ，　ｓ）．実施例８
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−２０５）
参考例１０で得られたＮ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド　２５８ｍｇ　（０．７４１ｍｍｏｌ）　及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　２００ｍｇ　（０．６７４ｍｍｏｌ）　を、実施例６と同様に反応させることにより、標記化合物　２０２ｍｇ　（５８％）　を黄色結晶として得た。
【０３２３】
融点：　１９４．５−１９５．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３５８，　２９６２，　２８７５，　１６８７，　１６１７，　１４８６，　１４１１，　１３２４，
１２３９，　１２１０，　１１４７，　１１１４，　１０５６；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４１−１．５０（２Ｈ，　ｍ），　１．４３　（９Ｈ，　ｓ），　１．８０−１．８８　（２Ｈ，　ｍ），　２．２２　（６Ｈ，　ｓ），　３．０１　（３Ｈ，　ｓ），　３．０７　（３Ｈ，　ｓ），　３．０５−３．１１　（２Ｈ，　ｍ），　４．４９　（２Ｈ，　ｓ），　５．０６　（１Ｈ，　ｓ），　７．０４　（２Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．９Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．４３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．５１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．９Ｈｚ），　８．２９　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例９
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（プロピルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−１１４）
参考例１１で得られたＮ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−プロパンスルホンアミド　１３４ｍｇ　（０．５００ｍｏｌ）　及び参考例６で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノベンズアミド　２００ｍｇ　（０．５９４ｍｍｏｌ）　を、実施例６と同様に反応させることにより、標記化合物　１５９ｍｇ　（６７％）　を淡赤色結晶として得た。
【０３２４】
融点：　１２２．０−１２３．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４８０，　３３４３，　２９６９，　１６６３，　１６１４，　１４８６，　１４２５，　１３３４，
１１４７，　１０５２；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０６　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４３　（９Ｈ，ｓ），　１．８５−１．９５　（２Ｈ，　ｍ），　２．２０　（６Ｈ，　ｓ），　３．０９　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．７Ｈｚ），　４．４９　（２Ｈ，　ｓ），　５．４３　（１Ｈ，　ｓ），　５．６９　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．２５　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　７．０５　（２Ｈ，　ｓ），　７．４９　（１Ｈ，ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．６４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．７Ｈｚ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．８１　（１Ｈ，　ｓ），　８．３３　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１０
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（プロピルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド（例示化合物番号：ＩＩＩ−１１６）
参考例１１で得られたＮ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−プロパンスルホンアミド　１４１ｍｇ　（０．５００ｍｍｏｌ）　及び参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミド　２００ｍｇ　（０．６００ｍｍｏｌ）　を、実施例６と同様に反応させることにより、標記化合物　１７２ｍｇ　（５８％）　を無色結晶として得た。
【０３２５】
融点；１７１．０−１７１．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３６５，　２９６９，　１６７９，　１６４４，　１５４２，　１４８７，　１３１９，　１２０４，
１１４５，　８３８；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０６　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　１．４２　（９Ｈ，ｓ），　１．８５−１．９４　（２Ｈ，　ｍ），　２．２２　（６Ｈ，ｓ），　２．９５　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．０Ｈｚ），　３．０８　（２Ｈ，　ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），　４．４７　（２Ｈ，　ｓ），　５．１７　（１Ｈ，　ｓ），　６．２３　（１Ｈ，　ｂｒｄ，　Ｊ＝３．９Ｈｚ），　７．０５　（２Ｈ，　ｓ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ），　７．６２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ），　７．７６　（１Ｈ，　ｓ），　８．２９　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１１
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（プロピルスルホニル）−Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−１２７）
参考例１１で得られたＮ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−プロパンスルホンアミド　２２４ｍｇ　（０．７５５ｍｍｏｌ）　及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　３０２ｍｇ　（０．９０６ｍｍｏｌ）　を、実施例６と同様に反応させることにより、標記化合物　２０３ｍｇ　（５４％）　をアモルファスとして得た。
【０３２６】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４２３，　２９６９，　１７３６，　１６９０，　１６２１，　１５２８，　１４８６，　１２３９，
１１４７，　８３９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０６　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４２　（９Ｈ，ｓ），　１．８５−１．９５　（２Ｈ，　ｍ），　２．２２　（６Ｈ，　ｓ），　３．０１　（３Ｈ，　ｓ），　３．０６　（３Ｈ，　ｓ），　３．０７　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　４．４９　（２Ｈ，　ｓ），　４．９７　（１Ｈ，　ｓ），　７．０５　（２Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．４４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．５２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１，５Ｈｚ），　８．２７　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１２
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−８０１）
参考例１４で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド　２００ｍｇ　（０．５０３ｍｍｏｌ）　を、ベンゼンスルホニルクロリド　７１μｌ　（０．５５ｍｍｏｌ）　を用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　２３０ｍｇ　（８０％）　を無色結晶として得た。
【０３２７】
融点：　１８１．０−１８２．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４１６，　３３５０，　２９５８，　１６９３，　１６４６，　１５１９，　１４８２，　１３５３，
１２２６，　１１６６，　１０９１，　６０２；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　２．２０　（６Ｈ，　ｓ），　２．９５（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９），　３．７２　（３Ｈ，　ｓ），　４．３１　（２Ｈ，　ｓ），　６．２０　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．７２　（２Ｈ，　ｓ），　７．４９−７．５３　（３Ｈ，　ｍ），　７．６０−７．６８　（４Ｈ，　ｍ），　７．８５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０），　８．５５　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
実施例１３
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−３４１）
参考例１４で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド　２．００ｇ　（５．０３ｍｍｏｌ）　のジクロロメタン　２５ｍｌ　溶液に、−７８℃で攪拌下、三臭化ホウ素（１Ｍジクロロメタン溶液）２２．６ｍｌ　（２２．６ｍｍｏｌ）　を滴下し、室温で１．５時間攪拌した。反応液を−７８℃に冷却し、メタノールを約　２０ｍｌ　加えた後、室温で１時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した後、抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をメタノール−ジクロロメタンを用いて再結晶させることにより、フェノール体　１．５４ｇ
（８０％）　を結晶として得た（融点：１７３．０−１７３．５℃）。
【０３２８】
次いで、得られたフェノール体　１５０ｍｇ　（０．３９１ｍｍｏｌ）　を、ベンゼンスルホニルクロリド　７５μｌ　（０．５９ｍｍｏｌ）　を用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　１４２ｍｇ　（６９％）　を無色結晶として得た。
【０３２９】
融点：　１５７．０−１５８．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３３５，　２９６１，　１６７８，　１６５９，　１６１２，　１５５９，　１５０９，　１４９１，
１３２１，　１１９８；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　２．１６　（６Ｈ，　ｓ），　３．０２（ｓ，　３Ｈ），　４．３１　（ｓ，　２Ｈ），　５．１０　（ｂｒｓ，　１Ｈ），　６．２９　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．６７　（ｓ，　２Ｈ），　７．４９−７．５３　（３Ｈ，　ｍ），　７．６０−７．６８　（４Ｈ，　ｍ），　７．８０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　８．５６　（１Ｈ，　ｓ）．実施例１４
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩＩ−３４５）
参考例１５で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル〕アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　５００ｍｇ　（１．２２ｍｍｏｌ）　を、実施例１３と同様に脱メチル化させることにより、フェノール体　４５３ｍｇ　（９４％）　を得た。次いで、得られたフェノール体　２１４ｍｇ　（０．５３８ｍｍｏｌ）　を、実施例１３と同様にベンゼンスルホニルクロリドと反応させることにより、標記化合物　１７９ｍｇ（６２％）　を黄色結晶として得た。
【０３３０】
融点：　１８７．０−１８８．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４２５，　２９５８，　１６９４，　１６１９，　１４８６，　１３５１，　１１７０，　１１０６，
１０９２；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　２．１５　（６Ｈ，　ｓ），　３．０２（６Ｈ，　ｓ），　４．３０　（２Ｈ，　ｓ），　４．９８　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．６６　（２Ｈ，　ｓ），　７．４４−７．６７　（８Ｈ，　ｍ），
８．５１　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１５
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−３１）
参考例１８で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　１５０ｍｇ　（０．３４０ｍｍｏｌ）　を、アンモニア水を用いて参考例５のアミド体の合成方法と同様に反応させることにより、標記化合物　１０７ｍｇ　（７２％）　を結晶として得た。
【０３３１】
融点：１２８．０−１２９．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２９４，　２９６５，　２８７４，　１７７７，　１６６４，　１４９２，　１４２０，　１２４０，
１１６９，　１１０２，　１００６，　７６０；
１Ｈ　ＮＭＲペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４７　（９Ｈ，　ｓ），　１．５６−１．６５　（２Ｈ，　ｍ），　１．９２−２．０３　（２Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．２３　（３Ｈ，　ｓ），　４．０２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．５　Ｈｚ），　４．７６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．５Ｈｚ），　５．４０　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　５．６２　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．２２　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．７１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．７Ｈｚ），　７．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．５０（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．６５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．７Ｈｚ），　７．９６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ），　８．８５　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１６
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−３４）
参考例１８で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　１５０ｍｇ　（０．３４０ｍｍｏｌ）　を、参考例５のアミド体の合成方法と同様に反応させることにより、標記化合物　１１０ｍｇ　（７１％）　を結晶として得た。
【０３３２】
融点：１８５．０−１８５．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３１８，　２９６４，　２８７４，　１６４３，　１５５９，　１４９２，　１４１４，　１３１６，
１２５２，　１１７０，　１００６，　７６７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４６　（９Ｈ，ｓ），　１．５５−１．５８　（２Ｈ，　ｍ），　１．９４−２．０２　（２Ｈ，　ｍ），　２．１２　（３Ｈ，　ｓ），　２．２５　（３Ｈ，　ｓ），　２．９７　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９Ｈｚ），　３．９３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．３　Ｈｚ），　４．７８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．３Ｈｚ），　５．３４　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．３１　（１Ｈ，　ｓ），　６．７１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．６Ｈｚ），　６．９９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．６０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．６Ｈｚ），　７．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．９Ｈｚ），　８．８０　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１７
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−４０）
参考例１８で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　２００ｍｇ　（０．４５０ｍｍｏｌ）　を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミンを用いて参考例５のアミド体の合成方法と同様に反応させることにより、標記化合物　１１３ｍｇ　（５５％）　を得た。
【０３３３】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６０６，　３３１８，　２９７０，　２８７５，　１７２１，　１６８６，　１６２８，　１４９４，　１４０１，　１２５０，　１１６６，　１１０４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４７　（９Ｈ，ｓ），　１．５２−１．６６　（２Ｈ，　ｍ），　１．９３−２．０２　（２Ｈ，　ｍ），　２．１２　（３Ｈ，　ｓ），　２．２４　（３Ｈ，　ｓ），　３．０４　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．８Ｈｚ），　３．０９　（３Ｈ，　ｓ），　３．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．３Ｈｚ），　４．８２　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ），　５．３１　（１Ｈ，　ｓ），　６．６９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．９９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．２３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．４４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．６０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　８．８０　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１８
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−３６）
参考例１９で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド　１４５ｍｇ　（０．３６５ｍｍｏｌ）　を、ブチリルクロリド　２００μｌ　（１．９３ｍｍｏｌ）　を用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　１２７ｍｇ　（７４％）　を結晶として得た。
【０３３４】
融点：２３６．０−２３７．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４３，　２９６５，　１６７６，　１６４０，　１５６１，　１５２５，　１４８４，　１４１４，
１３１３，　１２５０；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　１．４９　（９Ｈ，ｓ），　１．５５−１．６４　（２Ｈ，　ｍ），　１．９６　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．２２　（３Ｈ，　ｓ），　２．９６　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．０Ｈｚ），　４．１９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　４．４３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　５．３５　（１Ｈ，　ｓ），　６．３２　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．９０　（１Ｈ，　ｓ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．５８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ），　９．３３　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例１９
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｎ−プロピオニルグリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−１４）
参考例１９で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２、４、６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド　１４０ｍｇ　（０．３５２ｍｍｏｌ）　を、プロピオニルクロリド　７７μｌ　（０．８９ｍｍｏｌ）　を用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　１１３ｍｇ　（７１％）　を結晶として得た。
【０３３５】
融点：２３６．０−２３７．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３５０，　２９６８，　１６４０，　１５６０，　１５２７，　１４８４，　１４１４，　１２５０，
１２００，　１１５５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０５　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．４９　（９Ｈ，ｓ），　２．００　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　２．１３　（３Ｈ，　ｓ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．２０　（３Ｈ，　ｓ），　２．９５　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．０Ｈｚ），　４．１９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　４．４３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　５．５８　（１Ｈ，　ｓ），　６．３９　（１Ｈ，　ｂｒｄ，　Ｊ＝３．９Ｈｚ），　６．８８　（１Ｈ，　ｓ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．５７　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．８　Ｈｚ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ），　９．３４　（１Ｈ，　ｓ）．実施例２０
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｎ−ペンタノイルグリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−１１７）
参考例１９で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド　１９０ｍｇ　（０．４７８ｍｍｏｌ）　を、ペンタノイルクロリド　２２０μｌ　（１．８５ｍｍｏｌ）　を用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　１５１ｍｇ　（６６％）　を結晶として得た。
【０３３６】
融点：２２９．０−２３０．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４３，　２９５９，　２８７３，　１６４０，　１５６１，　１５２７，　１４８４，　１３０７，
１２５１，　１１５５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．１６−１．２５（２Ｈ，　ｍ），　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　１．５２−１．５８　（２Ｈ，　ｍ），　１．９８　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．２２　（３Ｈ，　ｓ），　２．９６　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．７Ｈｚ），　４．１９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　４．４３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　５．３５　（１Ｈ，　ｓ），　６．３４　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．９０　（１Ｈ，　ｓ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ），　７．５８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ），　７．９０　（１Ｈ，
ｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ），　９．３２　（１Ｈ，　ｓ）．
実施例２１
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−４２）
参考例２０で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　１４９ｍｇ　（０．３６２ｍｍｏｌ）　を、ブチリルクロリド　１１３μｌ　（１．０９ｍｍｏｌ）　を用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　１６１ｍｇ　（９２％）　を結晶として得た。
【０３３７】
融点：９０．０−９１．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２９０，　２９６３，　２９３１，　１６９４，　１６３５，　１４８４，　１４０２，　１２５０，
１２１０，　１１４９，　１１０８；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　１．５０　（９Ｈ，ｓ），　１．５４−１．６４　（２Ｈ，　ｍ），　１．９５　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　２．１２　（３Ｈ，　ｓ），　２．１３　（３Ｈ，　ｓ），　２．２１　（３Ｈ，　ｓ），　３．０４　（３Ｈ，　ｓ），　３．０９　（３Ｈ，　ｓ），　４．２５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　４．３７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　５．３１　（１Ｈ，　ｓ），　６．８８　（１Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．４５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．６１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ），　９．３２　（１Ｈ，　ｓ）．実施例２２
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｎ−プロピオニルグリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−１７）
参考例１９で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　１１５ｍｇ　（０．２７９ｍｍｏｌ）　を、プロピオニルクロリド　７３μｌ　（０．８４ｍｍｏｌ）　を用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　１０８ｍｇ　（８３％）　を結晶として得た。
【０３３８】
融点：１８５．０−１８７．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２９７，　２９６５，　１６９４，　１６３８，　１５２８，　１４８４，　１４０２，　１２５０，
１１４８，　１１０７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０５　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　１．５０　（９Ｈ，ｓ），　１．９９　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　２．１２　（３Ｈ，　ｓ），　２．１３　（３Ｈ，　ｓ），　２．２０　（３Ｈ，　ｓ），　３．０５　（３Ｈ，　ｓ），　３．０９　（３Ｈ，　ｓ），　４．２５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　４．３８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．０Ｈｚ），　５．３１　（１Ｈ，　ｓ），　６．８８　（１Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．９Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．４５　（１Ｈ，ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．６２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．９Ｈｚ），　９．３２　（１Ｈ，　ｓ）．実施例２３
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−メトキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−７２２）
参考例２２で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−メトキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド　６４ｍｇ　（０．１７ｍｍｏｌ）　を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド　５ｍｌ　に溶解させ、ブチリルクロリド　１９μｌ　（０．１９ｍｍｏｌ）　を加え、窒素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。反応液に水を加えた後、有機物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。濾過した後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／２〜酢酸エチル〜酢酸エチル／メタノール＝５／１）を用いて精製することにより、標記化合物　６０ｍｇ　（７９％）　を無色アモルファスとして得た。
【０３３９】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２９６，　２９６３，　１６６４，　１４８６，　１４０３，　１２６１，　１２１８，　１１０２，
１０１６，　８４２，　７７０；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．７６　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．１５　（９Ｈ，ｓ），　１．４５−１．５４　（２Ｈ，　ｍ），　１．８５−１．９１　（１Ｈ，　ｍ），　１．９９−２．０７　（１Ｈ，　ｍ），　２．１３　（３Ｈ，　ｓ），　２．２３　（３Ｈ，　ｓ），　３．６７　（３Ｈ，　ｓ），　３．８０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．０Ｈｚ），　４．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．０Ｈｚ），　７．０３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．４８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．５５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　７．６６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ）．実施例２４
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−３３）
３−アミノ−２，４，６−トリメチルフェノール　４０ｍｇ　（０．２６ｍｍｏｌ）　及び参考例６で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノベンズアミド　７０ｍｇ　（０．２６ｍｍｏｌ）　を、参考例４と同様に反応させることにより、橙色泡状物質　５５ｍｇ　を得た。
【０３４０】
次いで、得られた化合物とブチリルクロリド　１８μｌ　（０．１７ｍｍｏｌ）　を、参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　２１ｍｇ　（１８％，　２　ｓｔｅｐｓ）　を無色泡状物質として得た。
【０３４１】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６７６，　３４１３，　３３１３，　２９６９，　１６７９，　１６３０，　１４８４，　１２５０，　１１４２；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８２　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．５０　（９Ｈ，ｓ），　１．５８　（２Ｈ，　ｍ），　１．９６　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　２．１２　（３Ｈ，　ｓ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．１６　（３Ｈ，　ｓ），　４．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１３．９Ｈｚ），　４．５７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１３．９Ｈｚ），　５．９７　（２Ｈ，　ｂｒｓ），　６．６５　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．８７　（１Ｈ，　ｓ），　７．４９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．６１　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　７．９４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　９．３８　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．実施例２５
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−５２０）
参考例２５で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンズアミド　２９０ｍｇ　（０．４８４ｍｍｏｌ）　を、メタノール　２０ｍｌ　に溶解させ、５％パラジウム炭素　４０ｍｇ　を加え、水素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。反応液をセライトを用いて濾過した後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）で精製することにより、標記化合物　２６０ｍｇ　（１００％）　を無色アモルファスとして得た。
【０３４２】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３５４，　２９６４，　１６６５，　１４８７，　１４１９，　１３４７，　１２５４，　１１６２，
１０９１，　８８４，　８４３，　７２５，　６８９，　６３３；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．２４　（９Ｈ，　ｓ），　２．１６　（３Ｈ，　ｓ），　２．１９（３Ｈ，　ｓ），　４．４４　（１Ｈ，　ｓ），　４．４５　（１Ｈ，　ｓ），　６．３３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．８０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．４８−７．５７　（４Ｈ，　ｍ），　７．６５−７．７４　（４Ｈ，　ｍ）．実施例２６
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−５２３）
参考例２６で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンズアミドを、実施例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３４３】
融点：２２３−２２７　℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３３６，　２９６４，　１６４４，　１５３７，　１４８８，　１３４５，　１１６２，　１０９２，
８８５，　８４３，　６３３；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．２３　（９Ｈ，　ｓ），　２．１６　（３Ｈ，　ｓ），　２．１９（３Ｈ，　ｓ），　２．８８　（３Ｈ，　ｓ），　４．４４　（１Ｈ，　ｓ），　４．４５　（１Ｈ，　ｓ），　６．３３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．８０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．４２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．４Ｈｚ），　７．４９−７．５７　（３Ｈ，　ｍ），　７．６２−７．６８　（２Ｈ，　ｍ），　７．７３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ）．実施例２７
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　（例示化合物番号：ＩＩ−５２６）
参考例２７で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミドを、実施例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３４４】
融点：２３４−２３６　℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３６１，　２９６３，　１６９３，　１６１４，　１４８８，　１４０３，　１３４９，　１１６５，
１０９２，　８９０，　８４１，　７２４，　６９０，　６３４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．２４　（９Ｈ，　ｓ），　２．１７　（３Ｈ，　ｓ），　２．１９（３Ｈ，　ｓ），　２．９７　（３Ｈ，　ｓ），　３．０６　（３Ｈ，　ｓ），　４．３４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．６Ｈｚ），　４．４６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．６Ｈｚ），　６．２９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．７９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．８６　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），　７．２７　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．４９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．５５　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．６７　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．７２　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ）．実施例２８
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−３３９）
参考例２９で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンズアミドを、実施例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３４５】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４２，　２９６０，　１６９４，　１６１７，　１５２４，　１４８９，　１４６４，　１４０４，
１３３５，　１１７２，　１１４５，　１０８０；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．４１　（９Ｈ，ｓ），　１．４５　（２Ｈ，　ｑｕｉｎ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．８４−１．９０　（２Ｈ，　ｍ），　２．２３　（３Ｈ，　ｓ），　２．３２　（３Ｈ，　ｓ），　３．１９−３．３１　（２Ｈ，　ｍ），　４．２５−４．３５　（１Ｈ，　ｍ），　４．４８−４．５８　（１Ｈ，　ｍ），　５．１１　（１Ｈ，ｂｒｓ），　６．９６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．０１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．５０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．６５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．７７　（１Ｈ，　ｓ），　８．０９　（１Ｈ，　ｂｒｄ）．実施例２９
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−３４２）
参考例３０で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンズアミドを、実施例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３４６】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３５０，　２９６１，　１６８１，　１６４６，　１５５７，　１４９０，　１４１４，　１３３２，
１１７３，　１１４４，　１０８３；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　１．３９　（９Ｈ，ｓ），　１．４５　（２Ｈ，　ｑｕｉｎ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　１．８３−１．８９　（２Ｈ，　ｍ），　２．２４　（３Ｈ，　ｓ），　２．３０　（３Ｈ，　ｓ），　２．９７　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９Ｈｚ），　３．１８−３．３４　（２Ｈ，　ｍ），　４．２０−４．３３　（１Ｈ，　ｍ），　４．４５−４．５８　（１Ｈ，　ｍ），　５．０８　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．２４（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．９６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．４７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．６１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．６７　（１Ｈ，　ｓ），　８．０７　（１Ｈ，　ｂｒｄ）．
実施例３０
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（ブチルスルホニル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　（例示化合物番号：ＩＩ−３５５）
参考例３１で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミドを、実施例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３４７】
融点：８４．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３５４，　２９６１，　１６６７，　１６１４，　１５２２，　１４８９，　１４１９，　１３３４，
１１７３，　１１４４，　１０７９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．６Ｈｚ），　１．３７　（９Ｈ，ｓ），　１．４４　（２Ｈ，　ｑｕｉｎ，　Ｊ＝７．６Ｈｚ），　１．８１−１．８９　（２Ｈ，　ｍ），　２．２２　（３Ｈ，　ｓ），　２．２８　（３Ｈ，　ｓ），　３．００　（３Ｈ，ｓ），　３．０６　（３Ｈ，　ｓ），　３．１５−３．１６　（２Ｈ，　ｍ），　４．１７−４．３２　（１Ｈ，　ｍ），　４．４５−４．６０　（１Ｈ，　ｍ），　５．２２　（１Ｈ，　ｓ），　６．９２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　６．９６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．２０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．３１　（１Ｈ，　ｓ），　７．３９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　８．１１　（１Ｈ，　ｂｒｄ）．
実施例３１
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンゼンスルホンアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−４６）
参考例３６で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ブチリルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド　１０１．１ｍｇ　（０．１７９ｍｍｏｌ）　のメタノール　３０ｍｌ　溶液に、１０％パラジウム炭素触媒　１０ｍｇ　を加え、水素気流下、室温で３時間撹拌した。セライトを用いた濾過によりパラジウム炭素触媒を除き、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜２／３）を用いて精製することにより、標記化合物　７９．９ｍｇ　（９４％）　をアモルファスとして得た。
【０３４８】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３６９０，　３６０６，　３４４２，　２９７０，　１６８６，　１６３３，　１４０５，　１１６７；１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８２　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．３６　（９Ｈ，ｓ），　１．５２−１．６０　（２Ｈ，　ｍ），　１．９６−２．０２　（１Ｈ，　ｍ），　２．０７−２．１２　（１Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．２４　（３Ｈ，　ｓ），　３．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．１Ｈｚ），　４．９２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．１Ｈｚ），　６．８９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．６７　（１Ｈ，ｄ，　Ｊ＝２．０　Ｈｚ），　７．７３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ）．実施例３２
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−４９）
参考例４１で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ブチリルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド　２１３ｍｇ　（０．３６７ｍｍｏｌ）　を、実施例３１と同様に反応させることにより、標記化合物　１７５ｍｇ　（９７％）　を得た。
【０３４９】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３３８６，　２９７１，　１６８７，　１６３２，　１５１４，　１４９５，　１４０４，　１３３４，　１１６５，　１１１９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．１Ｈｚ），　１．４８　（９Ｈ，ｓ），　１．５６−１．６１　（２Ｈ，　ｍ），　１．９５−２．０１　（１Ｈ，　ｍ），　２．０７−２．１２　（１Ｈ，　ｍ），　２．１３　（３Ｈ，　ｓ），　２．２４　（３Ｈ，　ｓ），　２．６７　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９Ｈｚ），　４．０２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．７Ｈｚ），　４．５３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９Ｈｚ），　４．７３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．７Ｈｚ），　５．２２　（１Ｈ，　ｓ），　６．６９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．０１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．５５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　８．０２　（１Ｈ，　ｓ），　８．９７　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．実施例３３
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド　（例示化合物番号：ＩＩ−５２）
参考例４６で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ブチリルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミドを、実施例３１と同様に反応させることにより、標記化合物を定量的に得た。
【０３５０】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３６０６，　３３１２，　２９６６，　１６８８，　１６３３，　１４０４，　１３４３，　１１６４；１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．３８　（９Ｈ，ｓ），　１．５３−１．６０　（２Ｈ，　ｍ），　１．９６−２．０２　（１Ｈ，　ｍ），　２．１０−２．１６　（１Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．２５　（３Ｈ，　ｓ），　２．６８　（６Ｈ，　ｓ），　３．９２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．６Ｈｚ），　４．９３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．６Ｈｚ），　６．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．５５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　７．６２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．７１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ）．実施例３４
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ペンタノイル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンゼンスルホンアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−１２８）
参考例４７で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ペンタノイルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミドを、実施例３１と同様に反応させることにより、標記化合物を定量的にアモルファスとして得た。
【０３５１】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６０５，　３３４４，　２９６２，　１６８５，　１６３２，　１４０５，　１３５２，　１１６７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．１９−１．２６（２Ｈ，　ｍ），　１．３７　（９Ｈ，　ｓ），　１．４９−１．５６　（２Ｈ，　ｍ），　１．９９−２．０６　（１Ｈ，　ｍ），　２．１２−２．１８　（１Ｈ，　ｍ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．２５　（３Ｈ，　ｓ），　３．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．６Ｈｚ），　４．９３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．６Ｈｚ），　６．８９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．６９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　７．７４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ）．実施例３５
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ペンタノイル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
（例示化合物番号：ＩＩ−１３１）
参考例４８で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ペンタノイルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド　１９０ｍｇ　（０．３２ｍｍｏｌ）　を、実施例３１と同様に反応させることにより、標記化合物　１５０ｍｇ　（９３％）　をアモルファスとして得た。
【０３５２】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６０６，　３３８６，　２９６２，　２９３２，　２８７４，　１６８７，　１６３３，　１４０４，　１３３４，　１１６５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　１．１７−１．２４（２Ｈ，　ｍ），　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　１．５２−１．５８　（２Ｈ，　ｍ），　１．９８−２．０４　（１Ｈ，　ｍ），　２．０９−２．１５　（１Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．２４　（３Ｈ，　ｓ），　２．６７　（３Ｈ，　ｓ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．７Ｈｚ），　４．７２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．７Ｈｚ），　６．６８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．０１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　８．０３　（１Ｈ，　ｓ），　８．９９　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
実施例３６
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ペンタノイル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド　（例示化合物番号：ＩＩ−１３４）
参考例４９で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ペンタノイルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミドを、実施例３１と同様に反応させることにより、標記化合物をアモルファスとして定量的に得た。
【０３５３】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６０６，　３３１０，　２９６４，　１６８８，　１６３３，　１４０４，　１３４３，　１１６４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．１８−１．２７（２Ｈ，　ｍ），　１．３８　（９Ｈ，　ｓ），　１．４８−１．５６　（２Ｈ，　ｍ），　１．９８−２．０８　（１Ｈ，　ｍ），　２．１１−２．１９　（１Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．２５　（３Ｈ，　ｓ），　２．６９　（６Ｈ，　ｓ），　３．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．４Ｈｚ），　４．９３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．４Ｈｚ），　６．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．０１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　７．６２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ），　７．７０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
参考例１
２−メトキシ−１，３−ジメチル−５−ニトロベンゼン
２，６−ジメチル−４−ニトロフェノール　５０．６ｇ　（３０２ｍｍｏｌ）　のジメチルホルムアミド　５００ｍｌ　溶液に、窒素気流下、炭酸カリウム　１２５．４ｇ　（９０７．２ｍｍｏｌ）　を加え、室温で３０分間撹拌した後、ヨウ化メチル　２８．２ｍｌ　（４５４ｍｍｏｌ）　を滴下し、室温で３．５時間攪拌した。反応液に水を加えた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣に水を加えた後、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣にヘキサンを加えてトリチレートした後、エーテルで洗浄することにより、標記化合物　４９．４ｇ　（９０％）　を淡黄色結晶として得た。
【０３５４】
融点：９０．０℃；
ＩＲスペクトル　（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　２９６６，　１５１８，　１３４６，　１２３１，　１００４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル　（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　２．３６　（６Ｈ，　ｓ），　３．７９　（３Ｈ，　ｓ），　７．９２　（２Ｈ，　ｓ）．
参考例２
４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルアミン
参考例１で得られた２−メトキシ−１，３−ジメチル−５−ニトロベンゼン　４９．４ｇ　（２７．３ｍｍｏｌ）　のメタノール　５００ｍｌ　溶液に、１０％パラジウム炭素触媒　４．０ｇを加え、水素気流下、室温で７．５時間攪拌した。触媒を、セライト（商標）を用いて濾過することにより除いた後、減圧下溶媒を留去した。残渣をヘキサンを用いてトリチレートし、標記化合物　３８．３ｇ　（９３％）　を淡褐色結晶として得た。
【０３５５】
融点：５８．０−５９．５℃；
ＩＲ　スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４０１，　３３２４，　２９４９，　１６４０，　１４８７，　１２９１，　１０１７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　２．２０　（６Ｈ，　ｓ），　３．４０　（２Ｈ，　ｂｒｓ），　３．６５　（３Ｈ，　ｓ），　６．３５　（２Ｈ，　ｓ）．
参考例３
４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ安息香酸　メチルエステル
３−アミノ−４−ｔ−ブチル安息香酸　メチルエステル　１９．３ｇ　（９３．３ｍｍｏｌ）　のジクロロメタン　１００ｍｌ　溶液に、トリエチルアミン　３９．１ｍｌ　（２８０ｍｍｏｌ）　及び触媒量のジメチルアミノピリジンを加え、０℃に冷却した後、クロロ酢酸クロリド　１４．９ｍｌ　（１８７ｍｍｏｌ）　を滴下した。室温で一晩攪拌した後、トリエチルアミン　３９．１ｍｌ　（２８０ｍｍｏｌ）　を加え、０℃に冷却した後、クロロ酢酸クロリド　７．４ｍｌ　（９３ｍｍｏｌ）　を滴下し、室温で１時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した後、抽出液を１０％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製した後、酢酸エチルを用いて再結晶化させることにより、標記化合物　１８．０ｇ　（６８％）　を結晶として得た。
【０３５６】
融点：１２１．０−１２２．０℃；
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３４２９，　２９７２，　２８７７，　１７２１，　１６８７，　１５２９，　１５１５，　１４３８，　１４１０，　１３０３，　１２７２，　１１２５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４５　（９Ｈ，　ｓ），　３．９０　（３Ｈ，　ｓ），　４．２９（２Ｈ，　ｓ），　７．５０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．８６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　８．３０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　８．４６　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
参考例４
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　メチルエステル
参考例３で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ安息香酸　メチルエステル　２０．６ｇ　（７２．７ｍｍｏｌ）、よう化カリウム　１１．０ｇ　（６６．１ｍｍｏｌ）　及び参考例２で得られた４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルアミン　１０．０ｇ　（６６．１ｍｍｏｌ）　のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド　２００ｍｌ　溶液に、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン　２２．６ｍｌ　（１３２ｍｍｏｌ）　を滴下し、室温で一晩攪拌した後、９０℃で５時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）を用いて精製することにより、標記化合物　２０．８ｇ　（７９％）　を結晶として得た。
【０３５７】
融点：８４．０−８５．０℃；
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３４１９，　３３７５，　２９５５，　１７２１，　１６８３，　１６１１，　１５３０，　１４９５，　１３０２，　１１２６，　１０１０；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．２８　（９Ｈ，　ｓ），　２．２４　（６Ｈ，　ｓ），　３．６６（３Ｈ，　ｓ），　３．９０　（３Ｈ，　ｓ），　３．９３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．５Ｈｚ），　４．１９　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝５．５Ｈｚ），　６．３９　（２Ｈ，　ｓ），　７．４３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．７９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ），　８．５０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ），　８．９２　（１Ｈ，　ｓ）．
参考例５
４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミド
３−ニトロ−４−ｔ−ブチル安息香酸　４１．５ｇ　（１８６ｍｍｏｌ）　のジクロロメタン　４５０ｍｌ　溶液に、０℃で攪拌下、１，１−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール　３３．０ｇ　（２０４ｍｍｏｌ）　を加えた後、室温で１時間攪拌し、０℃に冷却した後、メチルアミン（４０％メタノール溶液）３０．０ｍｌ　（３６８ｍｍｏｌ）　を加え、室温で２０分間攪拌した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣を酢酸エチルで抽出し、抽出液を１０％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、残渣をヘキサンで洗浄することにより、アミド体　３６．６ｇ　（８３％）　を無色固体として得た。
【０３５８】
次いで、得られたアミド体　３６．６ｇ　（１５５ｍｍｏｌ）　のエタノール　５００ｍｌ　溶液に、１０％パラジウム炭素触媒　３．７ｇ　を加え、水素雰囲気下、室温で５．５時間攪拌した。セライト（商標）を用いて濾過することにより触媒を除いた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチル−へキサンを用いて再結晶させることにより、アニリン体　２９．８ｇ　（９３％）　を無色結晶として得た。
【０３５９】
次いで、得られたアニリン体　２９．８ｇ　（１４４ｍｍｏｌ）　のジメチルアセトアミド　３００ｍｌ　溶液に、０℃で攪拌下、クロロ酢酸クロリド　１４．０ｍｌ　（１７６ｍｍｏｌ）　を加え、室温で１０分間攪拌した。反応液にメタノールを加えた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣に水を加え、生じた沈殿を濾取した後乾燥させることにより、標記化合物　３６．０ｇ　（８８％）　を白色粉末として得た。
【０３６０】
融点：１３４．０−１３５．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２４４，　２９６６，　１６６７，　１６２７，　１５５８，　１５３４，　１４１１，　１３２８，
１２５５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４５　（９Ｈ，　ｓ），　３．０３　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．５Ｈｚ），　４．２７　（２Ｈ，　ｓ），　６．２５　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　７．４９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．６６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　８．０５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　８．５３　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．参考例６
４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノベンズアミド
３−ニトロ−４−ｔ−ブチル安息香酸を、アンモニア水を用いて参考例５と同様に反応させることにより、標記化合物を白色固体として得た。
【０３６１】
融点：２０９．０−２０９．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３９９，　３３１２，　２９６８，　１６５５，　１５３８；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４６　（９Ｈ，　ｓ），　４．２８　（２Ｈ，　ｓ），　５．７０（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．２６　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　７．５２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．６９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），　８．１３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　８．５４　（１Ｈ，　ｓ）．参考例７
４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド３−ニトロ−４−ｔ−ブチル安息香酸を、ジメチルアミンを用いて参考例５と同様に反応させることにより、標記化合物を白色固体として得た。
【０３６２】
融点：１２６．０−１２７．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２４８，　２９５３，　１７０１，　１６５７，　１６３６，　１６０９，　１５３１，　１４８２，
１４０５，　１１０９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４５　（９Ｈ，　ｓ），　３．０５　（３Ｈ，　ｓ），　３．０９（３Ｈ，　ｓ），　４．２６　（２Ｈ，　ｓ），　７．２８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．４５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．７９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ），　８．５３　（１Ｈ，　ｓ）．参考例８
２−ベンジルオキシ−１，３−ジメチル−５−ニトロベンゼン
２，６−ジメチル−４−ニトロフェノール　２０．０ｇ　（１２０ｍｍｏｌ）　のジメチルホルムアミド　２００ｍｌ　溶液に、窒素気流下、炭酸カリウム　４６．８ｇ　（１４４ｍｍｏｌ）　を加え、室温で３０分間攪拌した後、ベンジルブロミド　１７．１ｍｌ　（１４４ｍｍｏｌ）　を滴下し、５５℃で４時間攪拌した。反応液に水を加えた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣に水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチルを用いて再結晶させることにより、標記化合物　２６．８ｇ　（８７％）　を淡黄色結晶として得た。
【０３６３】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　１５８７，　１５１４，　１３５４，　１２７８，　１２０７，　１０９７，　９７５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　２．３５　（６Ｈ，　ｓ），　４．８８　（２Ｈ，　ｓ），　７．３８−７．４６　（５Ｈ，　ｍ），　７．９４　（２Ｈ，　ｓ）．
参考例９
４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルアニリン
参考例８で得られた２−ベンジルオキシ−１，３−ジメチル−５−ニトロベンゼン　２６．８ｇ　（１０４ｍｍｏｌ）　のメタノール　３００ｍｌ　溶液に、亜鉛末　１０２ｇ　（１．５６ｍｏｌ）　を加え、０℃に冷却した後、酢酸　２０ｍｌ　を滴下し、４時間加熱還流させた。セライト（商標）を用いて濾過することにより亜鉛末を除いた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）を用いて精製することにより、標記化合物　１９．３ｇ　（８１％）　を得た。
【０３６４】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３４４７，　３３７４，　１７３２，　１６２０，　１４８６，　１３７４，　１２４９，　１０２６，　９９４，　８５４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　２．２３　（６Ｈ，　ｓ），　３．４２　（２Ｈ，　ｂｒｓ），　４．７４　（２Ｈ，　ｓ），　６．３８　（２Ｈ，　ｓ），　７．３１−７．４１　（３Ｈ，　ｍ），　７．４７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．０Ｈｚ）．参考例１０
Ｎ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド
参考例９で得られた４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルアニリン　１．０ｇ　（４．４ｍｍｏｌ）　のジメチルアセトアミド　１０ｍｌ　溶液に、窒素気流下、０℃で攪拌下、１−ブタンスルホニルクロリド　０．８７３ｍｌ　（６．８０ｍｍｏｌ）　を滴下し、４０℃で４時間攪拌した。反応液に水を加え、減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）を用いて精製した後、酢酸エチル−ヘキサンを用いて再結晶させることにより、標記化合物　１．２ｇ　（７８％）　を淡桃色の結晶として得た。
【０３６５】
融点：６６．０−６６．５℃；
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６９１，　３３７７，　２９６５，　１６０４，　１４８２，　１３７８，　１３２５，　１１４６，　１０３２；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９２　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４），　１．３９−１．４８　（２Ｈ，　ｍ），　１．７８−１．８５　（２Ｈ，　ｍ），　２．２９　（６Ｈ，　ｓ），　３．０６−３．１０　（２Ｈ，　ｍ），　４．７９　（２Ｈ，　ｓ），　６．２８　（１Ｈ，　ｓ），　６．８９　（２Ｈ，　ｓ），　７．２８−７．４３　（３Ｈ，　ｍ），　７．４５−７．４８　（２Ｈ，　ｍ）．参考例１１
Ｎ−（４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−プロパンスルホンアミド
参考例９で得られた４−ベンジルオキシ−３，５−ジメチルアニリンを、１−プロパンスルホニルクロリドを用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３６６】
融点：８４．５℃；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．８３−１．９４（２Ｈ，　ｍ），　２．２９　（６Ｈ，　ｓ），　３．０４−３．０７　（２Ｈ，　ｍ），　４．７９　（２Ｈ，　ｓ），　６．１３　（１Ｈ，　ｂｒｓ），６．８８　（２Ｈ，　ｓ），　７．３６−７．４２　（３Ｈ，　ｍ），　７．４６−７．４７　（２Ｈ，　ｓ）．参考例１２
Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド
参考例２で得られた４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルアミンを、１−ブタンスルホニルクロリドを用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物を油状物質として得た。
【０３６７】
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９２　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．３８−１．４８（２Ｈ，　ｍ），　１．７７−１．８４　（２Ｈ，　ｍ），　２．２７　（６Ｈ，　ｓ），　３．０４−３．０８　（２Ｈ，　ｍ），　３．７０　（３Ｈ，　ｓ），　６．２１　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．８６　（２Ｈ，　ｓ）．
参考例１３
Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１−プロパンスルホンアミド
参考例２で得られた４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルアミンを、１−プロパンスルホニルクロリドを用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３６８】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２２１，　１４８５，　１３８１，　１３１３，　１２２７，　１１９９，　１１４８，　１１３５，
１０１０，　９１５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．０４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．８２−１．９１（２Ｈ，　ｍ），　２．２７　（６Ｈ，　ｓ），　３．０２−３．０６　（２Ｈ，　ｍ），　３．７０　（３Ｈ，　ｓ），　６．２８　（１Ｈ，　ｓ），　６．８６　（２Ｈ，　ｓ）．
参考例１４
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
参考例２で得られた４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルアミン　３．２ｇ　（１１ｍｍｏｌ）　及び参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミド　３．０ｇ　（１１ｍｍｏｌ）　を、参考例４と同様に反応させることにより、標記化合物　３．６ｇ　（８５％）　を得た。
【０３６９】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４４，　２９６２，　１６７７，　１６２０，　１５６１，　１５２７，　１４９２，　１４０５，
１２１０，　１１０７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．２６　（９Ｈ，　ｓ），　２．２３　（６Ｈ，　ｓ），　２．９９（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．８Ｈｚ），　３．６６　（３Ｈ，　ｓ），　３．９１　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．６Ｈｚ），　４．２１−４．２７　（１Ｈ，　ｍ），　６．３７　（２Ｈ，　ｓ），　６．４４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．８Ｈｚ），　７．４２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．６１　（１Ｈ，ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　８．２９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　９．０６　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．参考例１５
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
参考例２で得られた４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルアミン　５３５ｍｇ　（３．５４ｍｍｏｌ）　及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　１．０ｇ　（３．７ｍｍｏｌ）　を、参考例４と同様に反応させることにより、標記化合物　１．４ｇ　（９７％）　を得た。
【０３７０】
融点：１４６．５−１４７．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３６９，　３３１１，　２９５４，　１６８６，　１６２４，　１６１０，　１５６１，　１５２５，
１４８７，　１４０４，　１２２６，　１１０７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．２５　（９Ｈ，　ｓ），　２．２３　（６Ｈ，　ｓ），　３．０７（３Ｈ，　ｓ），　３．１１　（３Ｈ，　ｓ），　３．６５　（３Ｈ，　ｓ），　３．８９　（２Ｈ，　ｓ），　４．０９−４．１５　（１Ｈ，　ｍ），　６．３７　（２Ｈ，　ｓ），　７．２０　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．３８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　８．０３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　８．９９　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
参考例１６
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　メチルエステル
参考例３で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ安息香酸　メチルエステル及びモナトヘフテ・フィア・ヘミー，第９６巻，第１３１４頁（１９６５年）［　Ｍｏｎａｔｓｈ．　Ｃｈｅｍ．，　９６，　１３１４　（１９６５）　］に従い合成した　３−アミノ−２，６−ジメチルフェノール　６８０ｍｇ　（４．９６ｍｍｏｌ）　を、参考例４と同様に反応させることにより、標記化合物　１．７ｇ　（８７％）　を得た。
【０３７１】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６１０，　３４３０，　３３８４，　２９７２，　２９５５，　２９１４，　１７１９，　１６８６，　１５０４，　１３１１，　１２７２，　１１３０；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．２５　（９Ｈ，　ｓ），　２．１６　（３Ｈ，　ｓ），　２．１８（３Ｈ，　ｓ），　３．９０　（３Ｈ，　ｓ），　４．０２　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．２Ｈｚ），　４．２３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝５．２Ｈｚ），　４．７０　（１Ｈ，　ｓ），　６．２４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　６．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．４０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　７．７６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．３Ｈｚ），　８．６０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　８．８８　（１Ｈ，　ｓ）．
参考例１７
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　メチルエステル
参考例１６で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　メチルエステル　１．７ｇ　（４．３ｍｍｏｌ）　を、ブチリルクロリドを用いて参考例１０と同様に反応させることにより、標記化合物　１．９ｇ　（９５％）　を得た。
【０３７２】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３６０６，　３３１５，　２９７０，　２８７５，　１７２０，　１６８６，　１６３２，　１４３８，　１３０３，　１２６８，　１１２４，　１００７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．５Ｈｚ），　１．４８　（９Ｈ，ｓ），　１．５６−１．６５　（２Ｈ，　ｍ），　１．９５−２．０２　（２Ｈ，　ｍ），　２．０５　（３Ｈ，　ｓ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　３．８９　（３Ｈ，　ｓ），　４．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．２Ｈｚ），　４．８３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．２Ｈｚ），　５．６３　（１Ｈ，　ｓ），　６．６９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．９８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．５０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．８２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　８．１４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ），　８．８８　（１Ｈ，　ｓ）．参考例１８
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸
参考例１７で得られた４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−ブチリル−Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝安息香酸　メチルエステル　７００ｍｇ　（１．５４ｍｍｏｌ）　のメタノール　１０ｍｌ　溶液に、水酸化ナトリウム　６１６ｍｇ（１５．４ｍｍｏｌ）　の水　３ｍｌ　溶液を加え、室温で２日攪拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣の　ｐＨ　が酸性になるまで濃塩酸を加えた後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をエーテルで洗浄することにより、標記化合物　５９０ｍｇ　（８７％）　を得た。
【０３７３】
融点：２３３．５−２３４．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４１１，　３３１４，　２９６６，　２８７５，　１６９７，　１６３７，　１４２０，　１２３４，１１２８，　１００７，　７７５，　６１６；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．３６　（９Ｈ，ｓ），　１．５０−１．６３　（２Ｈ，　ｍ），　１．９５−２．０３　（２Ｈ，　ｍ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．２５　（３Ｈ，　ｓ），　３．８７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．５Ｈｚ），　４．９６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．５Ｈｚ），　６．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．５６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．７８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．８７　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ）．
参考例１９
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ−メチルベンズアミド
ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー，第４２巻，第４４８５頁（１９９９年）［　Ｊ．　Ｍｅｄ．　Ｃｈｅｍ．，　４２，　４４８５　（１９９９）　］に記載の方法に従い合成した３−アミノ−２，４，６−トリメチルフェノール　５９９ｍｇ　（３．９６ｍｍｏｌ）　及び参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミド　９９９ｍｇ　（３．５３ｍｍｏｌ）　を、参考例４と同様に反応させることにより、標記化合物　６９７ｍｇ
（４４％）　を結晶として得た。
【０３７４】
融点：１７９．０−１８０．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４５，　２９６４，　１６５０，　１６１５，　１５６０，　１４８３，　１４１４，　１３１８，
１２５０，　１１２１；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４７　（９Ｈ，　ｓ），　２．２０　（３Ｈ，　ｓ），　２．２４（３Ｈ，　ｓ），　２．２６　（３Ｈ，　ｓ），　２．９９　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．６Ｈｚ），　３．５５　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　３．７６　（２Ｈ，ｂｒｓ），　４．８４　（１Ｈ，　ｓ），　６．３３　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．８２　（１Ｈ，　ｓ），　７．４９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．６５　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　８．２７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　９．４１　（１Ｈ，　ｓ）．参考例２０
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−ヒドロキシ−２，４，６−トリメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
３−アミノ−２，４，６−トリメチルフェノール　２５１ｍｇ　（１．６６ｍｍｏｌ）　及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド　４４１ｍｇ　（１．４９ｍｍｏｌ）　を、参考例４と同様に反応させることにより、標記化合物　４５１ｍｇ　（６６％）　を結晶として得た。
【０３７５】
融点：１６３．０−１６４．０℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３７７，　２９５９，　１６７６，　１６１６，　１５３３，　１４８２，　１４５２，　１２５３，
１１９４，　１１１３；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４５　（９Ｈ，　ｓ），　２．１９　（３Ｈ，　ｓ），　２．３４（３Ｈ，　ｓ），　２．２５　（３Ｈ，　ｓ），　３．０８　（３Ｈ，　ｓ），　３．１０　（３Ｈ，　ｓ），　３．５４　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　３．７３（１Ｈ，　ｓ），　３．９９　（１Ｈ，　ｓ），　４．９１　（１Ｈ，　ｓ），　６．８１　（１Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．４４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．９９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ），　９．３５　（ｓ，　１Ｈ）．参考例２１
３−メトキシ−２，４‐ジメチルアニリン　塩酸塩
（１）　３−メトキシ−２，４‐ジメチルアニリン
テトラヘドロン，第５６巻，第８１９７頁（２０００年）［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，　５６，　８１９７　（２０００）　］に記載の方法に従い合成した２−メトキシ−１，３−ジメチル−４−ニトロベンゼン　１．４７ｇ　（８．１１ｍｍｏｌ）　を、参考例２と同様に反応させることにより、標記化合物　１．１９ｇ　（９７％）　を無色油状物質として得た。
【０３７６】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　２９３９，　１６２１，　１４９２，　１４６７，　１２９６，　１１２５，　１０５８，　１００５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　２．１０　（３Ｈ，　ｓ），　２．１９　（３Ｈ，　ｓ），　３．５２（２Ｈ，　ｂｒｓ），　３．６８　（３Ｈ，　ｓ），　６．４１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．８３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ）．（２）　３−メトキシ−２，４‐ジメチルアニリン　塩酸塩
上記で得られた３−メトキシ−２，４‐ジメチルアニリンを、酢酸エチル　２０ｍｌ　に溶解させ、４規定塩酸の酢酸エチル溶液　６ｍｌ　を加えた。析出した結晶を濾取し、エーテルで洗浄した後、乾燥させることにより、標記化合物を得た。
【０３７７】
参考例２２
４−ｔ−ブチル−３−｛［Ｎ−（３−メトキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝ベンズアミド
参考例２１で得られた３−メトキシ−２，４‐ジメチルアニリン塩酸塩　１２８ｍｇ（０．６８５ｍｍｏｌ）、参考例６で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノベンズアミド　９２ｍｇ　（０．３５ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム　８５ｍｇ　（０．５２ｍｍｏｌ）　及びジイソプロピルエチルアミン　３５３μｌ　（２．０ｍｍｏｌ）　を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド　１０ｍｌ　に溶解させ、窒素雰囲気下、１００℃で９時間撹拌した。反応液に水を加えた後、有機物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。濾過した後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチル‐へキサンで洗浄することにより、標記化合物６６ｍｇ　（２５％）　を無色固体として得た。
【０３７８】
融点：１９０−１９４　℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３５４，　３２２３，　２９６６，　１６５１，　１５０８，　１４０７，　１２１２，　１１４７，
１０７０，　１００７，　７９６；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．２３　（９Ｈ，　ｓ），　２．１９　（３Ｈ，　ｓ），　２．２０（３Ｈ，　ｓ），　３．６９　（３Ｈ，　ｓ），　４．０１　（２Ｈ，　ｓ），　４．１９　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．３８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　６．９５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．４２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　８．５１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　８．９６　（１Ｈ，　ｓ）．参考例２３
３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリン　塩酸塩
（１）　３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリン
ヘルベチカ・ヘミカ・アクタ，第５１巻，第１２０３頁（１９６８年）［Ｈｅｌｖ．　Ｃｈｉｍ．　Ａｃｔａ．，　５１，　１２０３　（１９６８）］に記載の方法に従い合成した２−ベンジルオキシ−１，３−ジメチル−４−ニトロベンゼン　２６．５ｇ　（１０３ｍｍｏｌ）　を、エタノール　２００ｍｌ　に溶解させ、二塩化すず二水和物　１１６ｇ　（５１５ｍｍｏｌ）　を加えた後、８５℃で１時間撹拌した。反応液に１５％水酸化ナトリウム水溶液　３００ｍｌ　を加え、有機物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。濾過した後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／２〜２／１）で精製することにより、標記化合物　２１．６ｇ　（９２％）　を無色油状物質として得た。
【０３７９】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　２９２５，　１７３１，　１６２０，　１４９２，　１３７３，　１２９５，　１２４９，　１１６９，　１１２７，　１０５２，　９９２；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　２．１１　（３Ｈ，　ｓ），　２．２２　（３Ｈ，　ｓ），　３．５１（２Ｈ，　ｂｒｓ），　４．７７　（２Ｈ，　ｓ），　６．４５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．８６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．３２−７．４１　（３Ｈ，　ｍ），　７．４９　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ）．（２）　３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリン　塩酸塩
上記で得られた３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリンを、酢酸エチル　２００ｍｌ　に溶解させ、４規定塩酸の酢酸エチル溶液　７０ｍｌ　を加えた。析出した結晶を濾取し、エーテルで洗浄した後、乾燥させることにより、標記化合物を得た。
【０３８０】
参考例２４
Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）ベンゼンスルホンアミド
参考例２３で得られた３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリン塩酸塩９２７ｍｇ　（３．５１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン　７４０μｌ　（５．２７ｍｍｏｌ）　及び４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン　５ｍｇ　を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド　２０ｍｌ　に溶解させ、ベンゼンスルホニルクロリド　５３８μｌ　（４．２２ｍｍｏｌ）　を加え、窒素雰囲気下、６０℃で１時間撹拌した。反応液に水を加えた後、有機物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。濾過した後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜２／１）で精製することにより、標記化合物　１．０８ｇ　（８４％）　を無色油状物質として得た。
【０３８１】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３３７２，　２９２９，　１７３１，　１５８８，　１４８４，　１３８３，　１３２５，　１１６５，　１０７４，　９８４，　９０５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．８８　（３Ｈ，　ｓ），　２．２４　（３Ｈ，　ｓ），　４．６６（２Ｈ，　ｓ），　６．１９　（１Ｈ，　ｓ），　６．９８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．０Ｈｚ），　７．０２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．０Ｈｚ），　７．３２−７．４５　（７Ｈ，　ｍ），　７．５２−７．５６　（１Ｈ，　ｍ），　７．７１　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．０Ｈｚ）．参考例２５
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンズアミド
参考例２４で得られたＮ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）ベンゼンスルホンアミド　２６３ｍｇ　（０．７１６ｍｍｏｌ）　を、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド　１０ｍｌ　に溶解させ、カリウムｔ‐ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液　０．７２ｍｌ　（０．７２ｍｍｏｌ）　を室温で加え、窒素雰囲気下、室温で１５分間撹拌した。反応液にヨウ化カリウム　１１８ｍｇ　（０．７２ｍｍｏｌ）　及び参考例６で得られた４‐ｔ‐ブチル‐３‐クロロアセチルアミノベンズアミド　１６０ｍｇ　（０．６０ｍｍｏｌ）　を室温で加え、窒素雰囲気下、６０℃で１時間撹拌した。反応液に水を加えた後、有機物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。濾過した後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１〜酢酸エチル〜酢酸エチル／メタノール＝５／１）で精製することにより、標記化合物　２９９ｍｇ　（７０％）　を無色アモルファスとして得た。
【０３８２】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３４１４，　２９７１，　１６７９，　１５８６，　１４８３，　１３６９，　１３５５，　１２６２，　１１６６，　１１２０，　１０９１，　１０７３；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．５０　（９Ｈ，　ｓ），　２．１０　（３Ｈ，　ｓ），　２．３１（３Ｈ，　ｓ），　４．２５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．０Ｈｚ），　４．３５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．０Ｈｚ），　４．７８　（２Ｈ，　ｓ），　６．６１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．００　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．３４−７．４５　（５Ｈ，　ｍ），　７．５１−７．５５　（３Ｈ，　ｍ），　７．６４−７．７７　（５Ｈ，　ｍ），　８．４７　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．参考例２６
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンズアミド
参考例２４で得られたＮ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）ベンゼンスルホンアミド及び参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミドを、参考例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３８３】
融点：１０４−１０６　℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４９，　２９６２，　１６４４，　１５５７，　１３４９，　１１６５，　１０９１，　７３８；１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　２．１１　（３Ｈ，　ｓ），　２．３１（３Ｈ，　ｓ），　２．９４　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．５Ｈｚ），　４．２４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．５Ｈｚ），　４．３５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．５Ｈｚ），　４．７８　（２Ｈ，　ｓ），　６．０８　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　６．６１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　６．９９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．３４−７．４５　（５Ｈ，　ｍ），　７．５０−７．５５　（３Ｈ，　ｍ），　７．６４−７．７７　（５Ｈ，　ｍ），　８．４５　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
参考例２７
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（フェニルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
参考例２４で得られたＮ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）ベンゼンスルホンアミド及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミドを、参考例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３８４】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　２９７０，　１６８６，　１６２５，　１４８３，　１４０２，　１３５２，　１２６４，　１１６６，　１０９１，　９０９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　２．０８　（３Ｈ，　ｓ），　２．３０（３Ｈ，　ｓ），　３．００　（３Ｈ，　ｓ），　３．０４　（３Ｈ，　ｓ），　４．２４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．８Ｈｚ），　４．３２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．８Ｈｚ），　４．７７　（２Ｈ，　ｓ），　６．６１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　６．９８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．２８−７．５４　（１０Ｈ，　ｍ），　７．６５　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ），　７．７０　（２Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．６Ｈｚ，　Ｊ＝８．０Ｈｚ），　８．４６　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．
参考例２８
Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド
参考例２３で得られた３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリン塩酸塩及びブタンスルホニルクロライドを、参考例２４と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３８５】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　４２１５，　３３８２，　２９６５，　２８７６，　１５８９，　１４８７，　１３９０，　１３２４，　１２７５，　１１４８，　１０７４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．９５　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．７Ｈｚ），　１．４２−１．５１　（２Ｈ，　ｑｕｉｎ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．７６−１．８４　（２Ｈ，　ｍ），　２．２６　（３Ｈ，　ｓ），　２．２９　（３Ｈ，　ｓ），　３．０７（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　４．８１　（２Ｈ，　ｓ），　７．０５　（２Ｈ，　ｂｒｄ），　７．４６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．０Ｈｚ）．参考例２９
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンズアミド
参考例２８で得られたＮ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド及び参考例６で得られた４‐ｔ‐ブチル‐３‐クロロアセチルアミノベンズアミドを、参考例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３８６】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４１，　２９６１，　２４２５，　１６６７，　１４８４，　１４１９，　１３３６，　１１７２，
１１４５，　１０８１；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．２８　（９Ｈ，ｓ），　１．４７　（２Ｈ，　ｑｕｉｎ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．７９−１．８６　（２Ｈ，　ｍ），　２．３０　（３Ｈ，　ｓ），　２．３８　（３Ｈ，　ｓ），　２．８９　（３Ｈ，ｓ），　３．３０−３．３６　（１Ｈ，　ｍ），　３．５２−３．５８　（１Ｈ，　ｍ），　４．２３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１７．６Ｈｚ），　４．７６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１７．６Ｈｚ），　４．８０　（２Ｈ，　ｓ），　７．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．３１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．３５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．３９（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．４８　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．５６　（２Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ，　Ｊ＝１．９６Ｈｚ），　７．７３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝６．８Ｈｚ，　Ｊ＝１．９６Ｈｚ）．
参考例３０
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンズアミド
参考例２８で得られたＮ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド及び参考例５で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンズアミドを、参考例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３８７】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３４０，　２９６０，　１６９２，　１６４４，　１５２６，　１４８４，　１４１３，　１３３５，
１１７２，　１１４５，　１０８３；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．９４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．２８　（９Ｈ，ｓ），　１．４７　（２Ｈ，　ｑｕｉｎ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．７８−１．８７　（２Ｈ，　ｍ），　２．３０　（３Ｈ，　ｓ），　２．３８　（３Ｈ，　ｓ），　２．８９　（３Ｈ，　ｓ），　３．２８−３．３７　（１Ｈ，　ｍ），　３．５０−３．５９　（１Ｈ，　ｍ），　４．２２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１８．３Ｈｚ），　４．５５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１８．３Ｈｚ），　４．７８　（２Ｈ，　ｓ），　７．１１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．３１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．３４−７．４１　（３Ｈ，　ｍ），　７．４７−７．４９　（３Ｈ，　ｍ），　７．５４　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），　７．６８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ）．参考例３１
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（ブチルスルホニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド
参考例２８で得られたＮ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−１−ブタンスルホンアミド及び参考例７で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミドを、参考例２５と同様に反応させることにより、標記化合物を得た。
【０３８８】
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．９５　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．２９　（９Ｈ，ｓ），　１．４７　（２Ｈ，　ｑｕｉｎ，　Ｊ＝７．４Ｈｚ），　１．７６−１．８７　（２Ｈ，　ｍ），　２．２９　（３Ｈ，　ｓ），　２．３８　（３Ｈ，　ｓ），　３．０２　（３Ｈ，ｓ），　３．０６　（３Ｈ，　ｓ），　３．２８−３．３８　（１Ｈ，　ｍ），　３．４７−３．５７　（１Ｈ，　ｍ），　４．２３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．０Ｈｚ），　４．７５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．０Ｈｚ），　４．８１　（２Ｈ，　ｓ），　７．０５　（１Ｈ，　ｓ），　７．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．２９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．３２−７．４１　（４Ｈ，　ｍ），　７．４５−７．４９　（２Ｈ，　ｍ），　７．５３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
参考例３２
４−ｔ−ブチル−３−ニトロベンゼンスルホンアミド
発煙硝酸　１５ｍｌ　を０℃に冷却し、４−ｔ−ブチルベンゼンスルホニルクロリド３．８９ｇ　（１６．７１ｍｍｏｌ）　を少しずつ加えた後、０℃で２時間撹拌した。反応液を氷中に加え、炭酸水素ナトリウムを用いて中和した後、水を加え、有機物を酢酸エチルで抽出した後、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去することにより、中間体化合物　４．７８ｇ　を得た。
【０３８９】
次いで、得られた中間体化合物　４．７８ｇ　（１４６．３５ｍｍｏｌ）　の塩化メチレン　３０ｍｌ　溶液に、２７％アンモニア水　１０ｍｌ　を加え、室温で１時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣に５％硫酸水素カリウム水溶液を加えた後、有機物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンでトリチレートすることにより、標記化合物　４．０２ｇ　（２行程で９３％）を得た。得られた化合物は、酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶化させた。
【０３９０】
融点：１４６．７−１４２．１℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３３４，　３２４３，　２９６８，　１５２８，　１３６０，　１３３６，　１１７３；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４３　（９Ｈ，　ｓ），　４．９８　（２Ｈ，　ｂｒｓ），　７．７４（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　７．９８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
参考例３３
３−アミノ−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド
参考例３２で得られた４−ｔ−ブチル−３−ニトロベンゼンスルホンアミド　４．００ｇ　（１５．４９ｍｍｏｌ）　のメタノール　３０ｍｌ　溶液に、１０％パラジウム炭素触媒　０．３５ｇ　を加え、水素気流下、室温で７時間撹拌した。セライトを用いて濾過することによりパラジウム炭素触媒を除いた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２から１／１）を用いて精製することにより、標記化合物　３．４８ｇ　（９８％）　を結晶として得た。得られた化合物は、酢酸エチル及びヘキサンを用いて、再結晶化させた。
【０３９１】
融点：１０７．３−１０８．１℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３１９，　３２３２，　２９６４，　１６２９，　１４１３，　１３３６，　１１５９；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４２　（９Ｈ，　ｓ），　４．０９　（２Ｈ，　ｂｒｓ），　４．８３　（２Ｈ，　ｂｒｓ），　７．１７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　７．２３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．３４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
参考例３４
４‐ｔ‐ブチル‐３‐クロロアセチルアミノベンゼンスルホンアミド
参考例３３で得られた３−アミノ−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド　３．４５ｇ　（１５．１１ｍｍｏｌ）　のジメチルアセトアミド　３０ｍｌ　溶液に、０℃で攪拌下、クロロ酢酸クロリド　１．４４ｍｌ　（１８．１３ｍｍｏｌ）　を加え、室温で３時間撹拌した。反応液に水を加えた後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸エチルと水を加えた後、濾過した。析出した結晶を濾取した後、８０℃で減圧下乾燥させることにより、標記化合物　４．２８ｇ　（９３％）　を粗結晶として得た。
【０３９２】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３２５，　２９７３，　１６８６，　１５１６，　１３３７，　１１７０，　１１２２；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．４２　（９Ｈ，　ｓ），　４．２９　（２Ｈ，　ｓ），　７．６７（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．７２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　７．７８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
参考例３５
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド
参考例２３で得られた３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリン　６３８ｍｇ（２．４２ｍｍｏｌ）　と参考例３４で得られた４‐ｔ‐ブチル‐３‐クロロアセチルアミノベンゼンスルホンアミド　７００．６ｍｇ　（２．３０ｍｍｏｌ）　のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド　６ｍｌ　溶液に、よう化カリウム　３８２ｍｇ　（２．３０ｍｍｏｌ）　とジイソプロピルエチルアミン　８０１μｌ　（４．６０ｍｍｏｌ）　を加え、窒素気流下、６０℃で６時間半撹拌した。反応液に水を加えた後、減圧下溶媒を留去し、残渣に水を加えた後、有機物をジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１から１／１）を用いて精製することにより、標記化合物　８９９．６ｍｇ　（７９％）　を得た。
【０３９３】
参考例３６
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ブチリルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド
参考例３５で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド　２６７．２ｍｇ　（０．５３９ｍｍｏｌ）　のジメチルアセトアミド　２．０ｍｌ　溶液に、０℃で攪拌下、酪酸クロリド　６７μｌ　（０．６４７ｍｍｏｌ）　を加え、窒素気流下、室温で１時間半撹拌した。反応液に水を加えた後、減圧下溶媒を留去し、残渣に水を加えた後、有機物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１から１／１）を用いて精製することにより、標記化合物　１２９．１ｍｇ　（４２％）　をアモルファスとして得た。
【０３９４】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３４４４，　３３４４，　２９６６，　１６８７，　１６３３，　１４０５，　１３５５，　１１６７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．３８　（９Ｈ，ｓ），　１．５３−１．６２　（２Ｈ，　ｍ），　１．９２−１．９９　（１Ｈ，　ｍ），　２．０８−２．１３　（１Ｈ，　ｍ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．３４　（３Ｈ，　ｓ），　３．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．０Ｈｚ），　４．５５　（２Ｈ，　ｂｒｓ），　４．９５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．０Ｈｚ），　７．１５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．１９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．３３−７．４１　（３Ｈ，　ｍ），　７．４５−７．４７（ｍ，　２Ｈ），　７．６４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ），　７．６８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．７Ｈｚ），　７．７４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．７Ｈｚ，　Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
参考例３７
４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチル−３−ニトロベンゼンスルホンアミド
メチルアミン水溶液、トリエチルアミンを用いて、参考例３２と同様の反応を行うことにより、標記化合物を定量的に得た。
【０３９５】
ＩＲ　スペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３３９３，　２９７６，　１７３２，　１５３７，　１３９９，　１３６７，　１３４０，　１１７３，　１１１７，　１０６１；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．４３　（９Ｈ，　ｓ），　２．５７　（３Ｈ，　ｓ），　７．８３（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　７．８９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．９４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
参考例３８
３−アミノ−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
参考例３７で得られた４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチル−３−ニトロベンゼンスルホンアミド　３．８１ｇ　（１４．０ｍｍｏｌ）　を用いて、参考例３３と同様の反応を行うことにより、標記化合物　２．７３ｇ　（８１％）　を得た。
【０３９６】
融点：１１８−１２０℃；
ＩＲ　スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３８６，　２９６７，　１６３４，　１４１１，　１３２１，　１１６２，　１１１３，　７１１，
６３３，　５８１；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．４１　（９Ｈ，　ｓ），　２．５１　（３Ｈ，　ｓ），　７．０３（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．１２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　７．３４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
参考例３９
４‐ｔ‐ブチル‐３‐クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
参考例３８で得られた３−アミノ−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド　１．２０　ｇ　（４．９７　ｍｍｏｌ）　及びクロロアセチルクロリド　（０．６３　ｍｌ）　を用いて、参考例３４と同様に反応を行うことにより、標記化合物　１．４２ｇ　（９０％）　を無色の固体として得た。
【０３９７】
融点：１３６−１３７℃；
ＩＲ　スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３２８９，　３２４７，　２９６８，　１６６７，　１５１８，　１４０３，　１３２２，　１１６１，　１１１１，　１０７１；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４７　（９Ｈ，　ｓ），　２．７２　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．９Ｈｚ），　４．２８　（２Ｈ，　ｓ），　４．３９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．９Ｈｚ），　７．５７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．６７　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　８．２５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　８．５６　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．参考例４０
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
参考例３９で得られた４‐ｔ‐ブチル‐３‐クロロアセチルアミノ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド　８０３ｍｇ　（２．５１ｍｍｏｌ）　と参考例２３で得られた３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルアニリン　７４５ｍｇ　（２．８２ｍｍｏｌ）　を用いて、参考例３５と同様に反応を行うことにより、標記化合物　２６５ｍｇ　（２１％）　を得た。
【０３９８】
融点：１７２−１７３℃；
ＩＲ　スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３８０，　２９６８，　１６８６，　１６１１，　１５６９，　１５０９，　１４０６，　１３２６，　１１６２，　１０６８；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．２６　（９Ｈ，　ｓ），　２．１９　（６Ｈ，　ｓ），　２．５５（３Ｈ，　ｓ），　３．９９　（２Ｈ，　ｓ），　４．７８　（２Ｈ，　ｓ），　６．３２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　６．９４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．３２−７．４０　（３Ｈ，　ｍ），　７．４８　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．５６−７．６１　（２Ｈ，　ｍ），
８．３１　（１Ｈ，　ｓ）．
参考例４１
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ブチリルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド参考例４０で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド　２０３ｍｇ　（０．３９８ｍｍｏｌ）　及びブチリルクロリド　５８μｌ　を用いて、参考例３６と同様に反応を行うことにより、標記化合物　２２９ｍｇ　（９９％）　を得た。
【０３９９】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３３８７，　２９７０，　２８７５，　１６８８，　１６３３，　１５１３，　１４８７，　１４０４，　１３３４，　１１６５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　１．４９　（９Ｈ，ｓ），　１．５６−１．６４　（２Ｈ，　ｍ），　１．９１−１．９７　（１Ｈ，　ｍ），　２．０５−２．１１　（１Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．３６　（３Ｈ，　ｓ），　２．６９　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９Ｈｚ），　３．８６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１４．７Ｈｚ），　４．４５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９Ｈｚ），　４．８３−４．８９　（３Ｈ，　ｍ），　６．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．１３（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．３５−７．４３　（３Ｈ，　ｍ），　７．４６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．５６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　８．０５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　８．９０　（１Ｈ，　ｂｒｓ）．参考例４２
４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−ニトロベンゼンスルホンアミド
ジメチルアミン塩酸塩とトリエチルアミンを用いて、参考例３２と同様に反応を行うことにより、標記化合物を２工程７７％の収率で得た。得られた化合物は、酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶化させた。
【０４００】
融点：１３３．１−１３３．８℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　２９７１，　１１３５，　１３７０，　１３４０，　１１７０，　９６０；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　１．４４　（９Ｈ，　ｓ），　２．７７　（６Ｈ，　ｓ），　７．７２（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　７．７５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．８２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
参考例４３
３−アミノ−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド
参考例４２で得られた４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−ニトロベンゼンスルホンアミドを用いて、参考例３３と同様に反応を行うことにより、標記化合物を　９４％　の収率で得た。得られた化合物は、酢酸エチルを用いて再結晶化させた。
【０４０１】
融点：１５０．９−１５１．５℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３４０４，　２９７１，　１６３５，　１４１０，　１３３５，　１１６１；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．４２　（９Ｈ，　ｓ），　２．６６　（６Ｈ，　ｓ），　６．９６（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．０７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ），　７．３７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
参考例４４
４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド
参考例４３で得られた３−アミノ−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミドを用いて、参考例３４と同様に反応を行うことにより、標記化合物を　９３％　の収率で得た。
【０４０２】
融点：１５９．０−１５９．９℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３１９５，　２９６５，　１６６８，　１５３２，　１３４２，　１２４１，　１１７４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．４４　（９Ｈ，　ｓ），　２．６９　（６Ｈ，　ｓ），　４．３１（２Ｈ，　ｓ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　７．６６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ），　７．７４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．５Ｈｚ）．
参考例４５
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド
参考例４４で得られた４−ｔ−ブチル−３−クロロアセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミドを用いて、参考例３５と同様に反応を行うことにより、標記化合物を　８８％　の収率で得た。得られた化合物は、酢酸エチル及びヘキサンを用いて再結晶化させた。
【０４０３】
融点：１８６．６−１８７．７℃；
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３７６，　２９６４，　２９２１，　１６９４，　１５１５，　１４０５，　１３４０，　１１６２；１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　１．２６　（９Ｈ，　ｓ），　２．１９　（６Ｈ，　ｓ），　２．７０（６Ｈ，　ｓ），　３．９９　（２Ｈ，　ｓ），　４．７８　（２Ｈ，　ｓ），　６．３２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　６．９５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．３２−７．４１　（３Ｈ，　ｍ），　７．４７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．５３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　８．２８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ）．参考例４６
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ブチリルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド
参考例４５で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミドを用いて、参考例３６と同様に反応を行うことにより、標記化合物を　９８％　の収率で得た。
【０４０４】
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　３３１１，　２９６９，　１６８８，　１６３２，　１５１２，　１４８７，　１４０４，　１３４３，
１１６４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．３９　（９Ｈ，ｓ），　１．５３−１．６１　（２Ｈ，　ｍ），　１．９２−１．９８　（１Ｈ，　ｍ），　２．０８−２．１４　（１Ｈ，　ｍ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．３４　（３Ｈ，　ｓ），　２．６９　（６Ｈ，　ｓ），　３．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．１Ｈｚ），　４．５５　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　４．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．７Ｈｚ），　４．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．７Ｈｚ），　４．９５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．１Ｈｚ），　７．１５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．１８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．３３−７．４０　（３Ｈ，　ｍ），　７．４５　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．８Ｈｚ），　７．５５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．７１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
参考例４７
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ペンタノイルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド
参考例３５で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチルベンゼンスルホンアミド及びペンタノイルクロリドを用いて、参考例３６と同様に反応を行うことにより、標記化合物を　７８％　の収率でアモルファスとして得た。
【０４０５】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３３４４，　２９６２，　１６８７，　１６３３，　１４８７，　１４０４，　１３５５，　１１６７；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．２１−１．２５（２Ｈ，　ｍ），　１．３７　（９Ｈ，　ｓ），　１．４９−１．５６　（２Ｈ，　ｍ），　１．９５−２．０１　（１Ｈ，　ｍ），　２．０９−２．１５　（１Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．３３　（３Ｈ，　ｓ），　３．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．１Ｈｚ），　４．８１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　４．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　４．９４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．１Ｈｚ），　７．１４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．１８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．３３−７．４０　（３Ｈ，　ｍ），　７．４３−７．４７（２Ｈ，　ｍ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．６６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．４Ｈｚ），　７．７４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．４Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
参考例４８
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ペンタノイルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
参考例４０で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド　１７８　ｍｇ　（０．３４８　ｍｍｏｌ）　及びペンタノイルクロリド　５８μｌ　を用いて、参考例３６と同様に反応を行うことにより、標記化合物　１９７ｍｇ　（９５％）　を得た。
【０４０６】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　３３８６，　２９６３，　２９３３，　２８７４，　１６８８，　１６３３，　１４８７，　１４０４，　１３３４，　１１６５；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：　０．８１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　１．１８−１．２５（２Ｈ，　ｍ），　１．４９　（９Ｈ，　ｓ），　１．５２−１．５９　（２Ｈ，　ｍ），　１．９４−２．０１　（１Ｈ，　ｍ），　２．０４−２．１３　（１Ｈ，　ｍ），　２．１４　（３Ｈ，　ｓ），　２．３６　（３Ｈ，　ｓ），　２．７０　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．９Ｈｚ），　３．８６　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ），　４．４３　（１Ｈ，　ｂｒｓ），　４．８３−４．８８　（３Ｈ，　ｍ），　６．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．１３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．３５−７．４３　（３Ｈ，　ｍ），　７．４７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．５６　（１Ｈ，ｄ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０Ｈｚ，　Ｊ＝７．８Ｈｚ），　８．０５　（１Ｈ，　ｓ），　８．９１　（１Ｈ，　ｓ）．
参考例４９
３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−ペンタノイルグリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド
参考例４５で得られた３−｛［Ｎ−（３−ベンジルオキシ−２，４−ジメチルフェニル）グリシル］アミノ｝−４−ｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミド及びペンタノイルクロリドを用いて、参考例３６と同様に反応を行うことにより、標記化合物を　９８％　の収率で得た。
【０４０７】
ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ３）ｃｍ−１：　２９６４，　２８７５，　１６８８，　１６３２，　１４０４，　１３４３，　１１６４；
１Ｈ　ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：　０．８２　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．１９−１．２８（２Ｈ，　ｍ），　１．３９　（９Ｈ，　ｓ），　１．４９−１．５７　（２Ｈ，　ｍ），　１．９５−２．０２　（１Ｈ，　ｍ），　２．１０−２．１７　（１Ｈ，　ｍ），　２．１５　（３Ｈ，　ｓ），　２．３３　（３Ｈ，　ｓ），　２．６９　（６Ｈ，　ｓ），　３．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．８Ｈｚ），　４．８６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．０Ｈｚ），　４．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．０Ｈｚ），　４．９４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１５．８Ｈｚ），　７．１４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．１８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．３４−７．４１　（３Ｈ，　ｍ），　７．４６（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ），　７．５５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ），　７．６３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５Ｈｚ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．７１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
試験例１
血清総コレステロール及びｎｏｎ　ＨＤＬコレステロールに及ぼす作用
１．動物
雄性７週齢のシリアンゴールデンハムスターを日本ＳＬＣより購入し、水および通常飼育飼料（ＦＲ−２，船橋農場）は自由摂取とし、７日間以上予備飼育した動物を実験に供した。
【０４０８】
２．試験群の構成
非絶食下における８週齢の体重測定を行なった。各試験において体重を測定した全ての個体のうち極端な外れ値を示した個体を実験から除外した。除外後の動物の体重がほぼ均等になるように、５匹ずつ分けた。実験に供さなかった動物は安楽死させた。
【０４０９】
３．被験物質の投与
被験物質は投与ｖｅｈｉｃｌｅ（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅｇｌｙｃｏｌ：Ｔｗｅｅｎ　８０＝４：１溶液）に溶解し、体重　１ｋｇ　あたり　２ｍｌ　の割合で８日間経口投与した。対照群にはｖｅｈｉｃｌｅのみを投与した。
【０４１０】
４．実験期間、採血、および薬効の判定
薬物投与期間は１週間とした。非絶食下において採血を行った。得られた血清からＨＤＬ分画用試薬（ＨＤＬ−コレステロール沈殿試液セット，和光純薬工業）を用いて、ＨＤＬ画分を分離した。血清中の総コレステロールおよびＨＤＬ画分の総コレステロールは、日立７２５０形自動分析装置を用いて酵素法により測定した。血清総コレステロールからＨＤＬコレステロールを除して、ｎｏｎ　ＨＤＬコレステロール値を算出した。各群におけるコレステロール値を対照群に対する低下率にて標記し、表３に示した。
【０４１１】
2004123704.tif 000103
製剤例１
ハードカプセル剤
５０ｍｇ　の粉末状の実施例７の化合物、１２８．７ｍｇ　のラクトース、７０ｍｇ　のセルロース及び　１．３ｍｇ　のステアリン酸マグネシウムを混合し、６０メッシュのふるいを通した後、この粉末を　２５０ｍｇ　の３号ゼラチンカプセルに入れ、カプセル剤とする。
【０４１２】
製剤例２
錠剤
５０ｍｇ　の粉末状の実施例７の化合物、１２４ｍｇ　のラクトース、２５ｍｇ　のセルロース及び　１ｍｇ　のステアリン酸マグネシウムを混合し、打錠機により打錠して、１錠　２００ｍｇ　の錠剤とする。この錠剤は必要に応じて糖衣を施すことができる。
【０４１３】
【発明の効果】
本発明の一般式（Ｉ）を有するベンゼン誘導体又はその薬理上許容される塩は、優れたＬＤＬ酸化抑制作用及びＡＣＡＴ阻害作用を有し、毒性も弱いため、医薬［特に、高脂血症又は動脈硬化性疾患の治療薬又は予防薬（特に治療薬）］として有用である。