(57)【要約】【課題】膜の表面硬化にバラツキが生じない、したがって、所望の均一な硬度のフィルムベースが簡単に得られる紫外線硬化型樹脂の硬化方法を提供する。【解決手段】走行するフィルムベースに紫外線硬化型樹脂を塗布後、またはそれを乾燥後、該紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線硬化型樹脂の硬化方法において、前記フィルムベース幅方向の複数噴射箇所で前記フィルムベースに向けて窒素ガスを噴射させると共に、前記フィルムベース幅方向の中央部の窒素ガス噴射量よりも両端部付近へ行くに従い窒素ガス噴射量を多くする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
走行するフィルムベースに紫外線硬化型樹脂を塗布後、またはそれを乾燥後、該紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線硬化型樹脂の硬化方法において、
前記フィルムベース幅方向の複数噴射箇所で前記フィルムベースに向けて窒素ガスを噴射させると共に、前記フィルムベース幅方向の中央部の窒素ガス噴射量よりも両端部付近へ行くに従い窒素ガス噴射量を多くしていくことを特徴とする紫外線硬化型樹脂の硬化方法。
【請求項２】
フィルムベース上の紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置であって、
前記塗布液の塗布された前記フィルムベースの塗布面を幅方向に照射する紫外線照射ランプと、
前記フィルムベースの塗布面の前記照射領域の直上でこの照射領域を挟んで幅方向に囲う窒素ガス充満ハウジングと、を備え、該窒素ガス充満ハウジングには、前記フィルムベース幅方向に複数の窒素ガス取り込み孔が開けられており、かつ前記フィルムベース幅方向中央部の前記窒素ガス取り込み孔の間隔よりも両端部付近へいくに従い前記窒素ガス取り込み孔の間隔を狭くしていくことを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項３】
フィルムベース上に塗布された紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置であって、
前記塗布液の塗布された前記フィルムベースの塗布面を幅方向に照射する紫外線照射ランプと、
前記フィルムベースの塗布面の前記照射領域の直上でこの照射領域を挟んで幅方向に囲う窒素ガス充満ハウジングと、を備え、該窒素ガス充満ハウジングには、前記フィルムベース幅方向に複数の窒素ガス取り込み孔が開けられており、かつ前記フィルムベース幅方向中央部の前記窒素ガス取り込み孔の孔径よりも両端部付近へいくに従い前記窒素ガス取り込み孔の孔径を大きくしていくことを特徴とする紫外線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フィルムベース上に塗布された紫外線硬化型樹脂の紫外線照射方法に関するもので、塗布された紫外線硬化型樹脂の膜表面の酸素濃度を紫外線照射時に低くするための不活性ガス供給方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
超薄膜塗布量のフィルムベースに耐擦傷性や硬度などの物性的特性を満足させるために、フィルムベース上に紫外線硬化樹脂を塗布しておき、これに紫外線を照射して硬化させるという紫外線硬化法が従来より用いられていた。
ところが、紫外線硬化時にフィルムベース膜の表面に高濃度の酸素があると、紫外線がこれらの酸素を活性化するのに消費されてしまい、紫外線が肝心の膜を硬化させるのに有効に用いられなくなることが起こった。
そこでフィルムベース膜の表面から酸素を除去するために、窒素ガス等の不活性ガスをフィルムベース上に噴射することで酸素濃度を低くすることが従来より行われていた。その際、フィルムベース上の同伴空気を取り除く為に窒素ガス雰囲気ゾーンに入る入口のスリットを狭くすると、フィルムベースがスリット部に触れてベース上にスリキズを作ることとなり、また入口からランプまでの距離を長くすると装置が大きくなるなどの問題提起がこれまでなされていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−１０４５６２号公報
【０００４】
このため、特許文献１記載の紫外線照射式硬化装置の発明では、図４のように、バックアップロール上にスリット８１０を設けて、幅方向に精度良く、狭いスリットのクリアランスを維持するようにしている。
図４（ａ）は側面から見た紫外線照射式硬化装置の模式図であり、図４（ｂ）は正面から見た紫外線照射式硬化装置の模式図である。図において８０１は塗工フィルム、８０２はガイドロール、８０３はステンレスパイプおよび窒素ガス取込孔部分、８０４は紫外線照射室、８０５は紫外線照射装置室、８０６は石英ガラス、８０７は冷却空気入り口、８０８は水冷式冷却ロール、８０９は取り込み口および酸素濃度センサ、８１０は照射室入り口部分、８１１は照射室出口部分である。
【０００５】
この紫外線照射式硬化装置の動作は次のとおりである。
ステンレス板で囲って紫外線照射室８０４を工作し、接合部分をエポキシ樹脂でシールする。塗工フィルム８０１が照射室前のガイドロール８０２を通り照射室８０４に入れるように、照射室入り口部分８１０に５ｍｍのギャップを開けておく。照射室８０４内部には、予め照射室入り口部分８１０と照射室出口部分８１１及び、照射室内壁面にステンレスパイプ８０３を設置し、通気孔を設けて窒素供給部分８０３としてある。これによりステンレスパイプ８０３に窒素を通気することで紫外線照射室８０４内を窒素雰囲気にし、窒素通気流量を調節することで酸素濃度を制御できるようにした。この照射室８０４内部には取り込み口８０９を設け、ここから内部気体を吸引することにより、酸素濃度センサ８０９で酸素濃度が測定できるようにした。紫外線照射装置室８０５内には紫外線照射装置として空冷式超高圧水銀灯を設置した。紫外線照射装置室８０５は照射により加熱されるので、照射装置後方から冷却空気を照射装置室８０５内に送れるようにする。更にこの照射装置室８０５から照射室８０４への冷却空気の流入を防ぐために、間に石英ガラス８０６を設置した。また紫外線照射室８０４も照射により加熱されるので、冷却ロール８０８を設ける。これにより塗工フィルムは冷却ロール８０８上で紫外線照射されるので加熱の影響を低減できる。紫外線照射後のフィルム８０１は照射室出口部分８１１から排出され、巻き取られる、というものである。
紫外線硬化樹脂の硬化については、その樹脂膜の表面に酸素があると紫外線のエネルギーがカットされ、紫外線硬化型樹脂の硬化に有効に使われなくなり、十分な硬化が進まず、硬い膜を形成することができない。その為、紫外線照射時の酸素濃度をできるだけ下げることが提案されているが、走行するフィルムベース上の紫外線硬化型樹脂を硬化させる時に酸素濃度を低く抑えるにはベースにより照射装置内に同伴される空気を遮ることが大変重要になるばかりか、ベース幅方向の酸素濃度をいかに均一に下げるかが重要である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
紫外線照射時の酸素濃度を低くすることによって塗布膜の硬度を十分上げることが出来るが、一方、下層の硬膜の状況によって上層を塗布した場合の上層との密着が変化することが知られている。上層と下層の密着の強さは両層のバインダーの反応によって調整されることが多いが、下層に反応基が多く残り、上層にも反応基が多く含まれるほど密着は強くなる。反応基が紫外線硬化型樹脂バインダーの場合、下層塗布後に紫外線照射して、特に酸素濃度を下げるなどでバインダーの反応を１００％進めてしまうと、下層自体の硬膜は最高となるが、上層を塗布した時に上層と反応する下層の反応基がない為、上下層の密着が非常に弱くなってしまうことなどが知られている。このため、下層の硬化を完全には進めない様に例えば紫外線照射の照度や照射量を下げたり酸素濃度を高めに設定して上層との密着を出せる様にして、上層を塗布してから上下層共に十分に硬膜する様な紫外線照射の照度・照射量、酸素濃度とすることなども知られている。
実際、酸素濃度が１〜２％異なるだけで硬膜の進行が大きく変化し、上層との密着に大きな差を生じることがあった。即ち、酸素濃度は高過ぎると硬膜が不十分となり、低すぎても上層を塗布した場合の上層との密着が問題となる場合があるのである。
ところが、ベース幅方向の酸素濃度にバラツキがあると、必要な密着をベース幅方向で均一にすることが出来ない。
しかしながら上記紫外線照射式硬化装置によれば、窒素ガスを単に塗工フィルム上にその幅方向に噴射して酸素濃度を低くするだけのものであり、これではフィルム膜の幅方向の表面硬化にバラツキが生じることが起きることが判った。
フィルムベース幅方向のサイド部のクリアランスを狭くして幅方向の酸素濃度のコントロールをする方法も考えられるが、紫外線ランプによる発熱によりスリット部を構成するプレートが歪みを発生し、上記したスリキズとなり易い。
熱歪みの影響を回避するには上記プレートを凹型に精度良く削り出す必要があるが高価となり、所謂曲げ加工では精度を維持できないばかりか曲げ加工時に発生する内部応力による熱歪みを小さくすることは出来ない。ところが上記削り出し方法でも１ｍ以上の幅に亘って行うとなると上記プレートの高さや厚みを大きくしなければならない。
さらに、上記紫外線照射式硬化装置にあっては、紫外線照射室８０４内全体を窒素雰囲気にするものであるため、硬化装置が大がかりとなり、しかもその割には肝心の紫外線照射面に送りこまれる窒素ガスの量は多くなく、窒素ガスの使用効率が極端に低いものとなっていた。
本発明はこれらの問題を解決するもので、膜の表面硬化にバラツキが生じない、したがって、所望の均一な硬度のフィルムベースが簡単に得られる紫外線硬化型樹脂の硬化方法及びその装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１記載の紫外線硬化型樹脂の硬化方法の発明は、走行するフィルムベースに紫外線硬化型樹脂を塗布後、またはそれを乾燥後、該紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線硬化型樹脂の硬化方法において、前記フィルムベース幅方向の複数噴射箇所で前記フィルムベースに向けて窒素ガスを噴射させると共に、前記フィルムベース幅方向の中央部の窒素ガス噴射量よりも両端部付近へ行くに従い窒素ガス噴射量を多くしていくことを特徴とする。
請求項２記載の紫外線照射装置の発明は、フィルムベース上の紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置であって、塗布液の塗布された前記フィルムベースの塗布面を幅方向に照射する紫外線照射ランプと、前記フィルムベースの塗布面の前記照射領域の直上でこの照射領域を挟んで幅方向に囲う窒素ガス充満ハウジングと、を備え、該窒素ガス充満ハウジングには、前記フィルムベース幅方向に複数の窒素ガス取り込み孔が開けられており、かつ前記フィルムベース幅方向中央部の前記窒素ガス取り込み孔の間隔よりも両端部付近へいくに従い前記窒素ガス取り込み孔の間隔を狭くしていくことを特徴とする。
請求項３記載の紫外線照射装置の発明は、フィルムベース上に塗布された紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置であって、塗布液の塗布された前記フィルムベースの塗布面を幅方向に照射する紫外線照射ランプと、
前記フィルムベースの塗布面の前記照射領域の直上でこの照射領域を挟んで幅方向に囲う窒素ガス充満ハウジングと、を備え、該窒素ガス充満ハウジングには、前記フィルムベース幅方向に複数の窒素ガス取り込み孔が開けられており、かつ前記フィルムベース幅方向中央部の前記窒素ガス取り込み孔の孔径よりも両端部付近へいくに従い前記窒素ガス取り込み孔の孔径を大きくしていくことを特徴とする。
このように、本発明によれば、窒素ガスの供給ノズルの間隔を調整することで、また、各ノズルの供給量を幅方向で孔径等によりコントロールすることで幅方向の酸素濃度を低く抑え、かつ幅方向の分布を小さくすることが容易となる。特に、２％以下の酸素濃度、更に１％以下の酸素濃度に抑えようとする場合には顕著な効果がある。
また、ベース幅方向の酸素濃度分布を０．５％以下にすることが出来て、上層との密着も要求品質通りで均一に確保することができる。
尚、ノズルの間隔や窒素ガスの供給量調整についてはフィルムベースの走行速度、幅によって最適条件を選ぶ必要があるが、中央と端の間隔や供給量に差をつけ過ぎると窒素ガスの流れに乱れを生じ、ベース面を均一な酸素濃度に出来ず、濃度にムラを生じて製品の膜硬度も不均一になってしまうので注意が必要である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
フィルムベースを紫外線硬化させて膜の表面硬化が所望の均一な硬度となる本発明について説明する。
図１は本発明による紫外線照射式硬化装置を示し、図１（ａ）はその側面断面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図、図１（ｃ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ断面図を示している。図において６ｃはフィルムベースを巻回・移送するガイドロール、４は紫外線硬化樹脂の混じった塗布量分布が均一化されたフィルムベース、９０は紫外線照射式硬化装置で、９１の紫外線照射装置と９２の窒素ガス充満ハウジングとから成る。紫外線照射装置９１は中空筐体９１２と、中空筐体９１２の中に設けられた筒状紫外線（ＵＶ）ランプ９１０と、紫外線ランプ９１０からの紫外線をフィルムベース側に反射させる反射板９１１と、から成っており、また、中空筐体９１２のロール６ｃに対向する面にロール６ｃの軸方向に沿った開口部９１３を設けて、紫外線ランプ９１０からの紫外線をフィルムベースに届くようにしている。なお、９０７はランプ９１０の冷却用空気の出入り口である。
また、窒素ガス充満ハウジング９２は紫外線照射装置９１の上に固定されかつロール６ｃとの間に若干の隙間（例えば、３〜７ｍｍ）９２３を設けて成る外周壁９２１と、外周壁９２１の内側にて前記開口部９１３からロール６ｃ側に向けて屹立する内周壁９２４と、内周壁９２４の上方先端に開口部９１３を覆うように設けられた窒素ガス封止用透明材９２５と、から構成される。そして外周壁９２１には図１（ｃ）に示すようにロール６ｃの軸方向に窒素ガス取込孔９２２が多数開けられている。その際、本発明によると、窒素ガス取込孔９２２と隣りの窒素ガス取込孔９２２との間の間隔が、ロール６ｃの軸方向中心部付近の間隔が５〜１０ｃｍに対してロール６ｃの両端部付近の間隔が３〜６ｃｍと狭く形成されているのが特徴である。
【０００９】
本発明による紫外線照射式硬化装置９０の動作は次のとおりである。
紫外線硬化樹脂の混じった塗布量分布が均一化されたフィルムベース４がロール６ｃの回転に伴って移動する。その際、フィルムベース４は本発明による紫外線照射式硬化装置９０の箇所を通過する。紫外線照射式硬化装置９０はその筒状紫外線ランプ９１０を点灯し反射板９１１にて紫外線をフィルムベース４上に収束させている。そのとき、フィルムベース４近辺に高濃度の酸素が存在すると上述したように紫外線の光硬化作用が激減するので、不活性ガスである窒素ガスを窒素ガス充満ハウジング９２の窒素ガス取込孔９２２から取り込み、外周壁９２１と内周壁９２４と中空筐体９１２のフィルムベース側壁部と窒素ガス封止用透明材９２５との作用で窒素ガスはフィルムベース４の照射部近傍に送り込まれ、これによりフィルムベース４の照射部近傍から酸素を駆逐して、フィルムベース４近辺における酸素濃度を大幅に下げる。窒素ガス充満ハウジング９２の内圧は大気圧よりも０．１ｍｍＰａ程度高くしてあり、これにより大気が窒素ガス充満ハウジング９２に向けて逆流することのないようにしている。
このとき、窒素ガスの一部は隙間９２３から大気へ漏れ出るが、本発明により、窒素ガス取込孔９２２と隣りの窒素ガス取込孔９２２との間の間隔がロール６ｃの軸方向中心部付近のそれよりもロール６ｃの両端部付近のほうを狭く形成してあるので、窒素ガスは軸方向中心部付近よりも両端部付近のほうに多く行き渡ることとなる。
したがって、窒素ガスが隙間９２３から漏れ出ても結果的に幅方向の窒素ガスの濃度は均一でかつ高くなり、したがってそれに伴い酸素濃度が幅方向に均一でかつ低くなるので、膜の表面硬化が効率よく進むとともに軸方向での紫外線硬化のバラツキが生じなくなる。
窒素ガスがロール６ｃの軸方向に多数開けられている窒素ガス取込孔９２２から内部に入ると、窒素ガスは内周壁９２４に進行を妨げられてロール６ｃ側に向きを変え、再びフィルムベース４に進行を妨げられて熱硬化照射面側に向きを変えて進み、最終的に熱硬化照射面側の酸素を駆逐することとなる。
【００１０】
このように窒素ガス充満ハウジング９２とロール６ｃとの間には不可避な隙間９２３があり、窒素ガス充満ハウジング９２の内圧が大気圧よりも０．１ｍｍＰａ程度高くしているため、隙間９２３から窒素ガスが流失するものの、本発明の紫外線照射式硬化装置によれば、窒素ガス取込孔９２２と隣りの窒素ガス取込孔９２２との間の間隔が、ロール６ｃの軸方向中心部付近のそれよりもロール６ｃの両端部付近のほうを狭く形成しているので、窒素ガスは軸方向中心部付近よりも両端部付近のほうに多く行き渡ることとなり、窒素ガスが隙間９２３から流失しても結果的に幅方向の窒素ガスの濃度は均一かつ高くなり、したがってそれに伴い酸素濃度が幅方向に均一に低くなるので、膜の表面硬化が効率よく進むとともに軸方向でのバラツキが生じなくなる。
さらに、本発明の紫外線照射式硬化装置にあっては、前述の公知装置のようなガイドロール６ｃ全体を包含するものでなく、ただガイドロール６ｃの表面近傍に配設されるものであり、しかもその硬化装置の内部に内側の仕切である内周壁９２４を設けたために窒素ガスの流れに無駄がなくなり、紫外線硬化すべき箇所に集中的にかつ均一に窒素ガスが向かうこととなるので、窒素ガスの利用効率が高くなる。
【００１１】
また、ロール６ｃの軸方向中心部付近の窒素ガス取込孔どうしの間隔よりもロール６ｃの両端部付近のそれを狭く形成する代わりに、ロール６ｃの軸方向中心部付近の窒素ガス取込孔の孔径を５〜１５ｍｍとし、これに対してロール６ｃの両端部付近の窒素ガス取込孔の孔径を１０〜３０ｍｍと大きく形成するようにしてもよい。
図２は図１（ｃ）の変形例を示すもので、外周壁９２１に窒素ガス取込孔９２２が多数個等間隔で軸方向に開口されている。そして、軸方向中心部付近の窒素ガス取込孔の孔径よりもロール６ｃの両端部付近の窒素ガス取込孔の孔径を大きく形成している。
これにより窒素ガスは軸方向中心部付近よりも両端部付近のほうに多く行き渡ることとなる。したがって、窒素ガスが隙間から漏れ出ても結果的に幅方向の窒素ガスの濃度は均一でかつ高くなり、したがってそれに伴い酸素濃度が幅方向に均一でかつ低くなるので、膜の表面硬化が効率よく進むとともに軸方向での紫外線硬化のバラツキが生じなくなる。
【００１２】
また、フィルムベース４はその用途により適宜好ましいものが選択され、具体的には透明支持体が用いられる。透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例：トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例：ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィンなどが挙げられる。
紫外線照射に使用するランプとしては水銀ランプやメタルハライドランプがある。これらのランプは対象とする紫外線硬化型樹脂の種類や処方、塗布量によってその灯数や出力を調整して使用する。
酸素濃度を低くするために紫外線照射装置内にパージするガスとして窒素ガスの他の不活性ガスを使用することもできる。
【００１３】
また、塗布液は、特に限定されないが、固形分濃度０．０１〜８０重量％で、粘度０．１〜２０ｃＰ、塗布量１００ｃｃ／ｍ２  以下とし、水系でも有機溶剤系でもよい。溶剤系のバインダーとしては、モノマーでもポリマーでもよいが、例えばモノマーの場合、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例：１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。
【００１４】
更に、無機の超微粒子、有機や無機の微粒子、また、光硬化開始剤や界面活性剤を添加することができる。無機超微粒子としてはチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン及びジルコニウムの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の超微粒子、好ましくは５０ｎｍ以下の超微粒子。このような超微粒子の例としては、ＴｉＯ２  、Ａｌ２  Ｏ３  、Ｉｎ２  Ｏ３  、ＺｎＯ、ＳｎＯ２  、Ｓｂ２  Ｏ２  、ＩＴＯ、ＺｒＯ２等が挙げられる。バインダ中の無機超微粒子の含有量は、塗布液の全重量の１０〜９０重量％であることが好ましく、２０〜８０重量％であると更に好ましい。
【００１５】
微粒子としてはシリカビーズ等がある。ポリマー微粒子としては、ポリメタクリル酸メチルアクリレートビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレンビーズ、ポリアクリルスチレンビーズ、シリコーンビーズ等がある。
【００１６】
溶剤としてはアルコール類、ケトン類が主に使用され、アルコールではメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどが主に使用される。ケトンではメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが主に使用される。その他ではトルエンやアセトンなども使用される。これらは単独の場合もあるが、混合されて使用される場合もある。
【００１７】
また、本発明の紫外線照射式硬化装置９０をグラビア塗布装置１００の出口側に適用した場合の構成図を図３に示す。グラビア塗布装置１００は、回転駆動されるグラビアロール１の表面に塗布液２を供給し、グラビアロール１の表面に押し当てたドクターブレード３によってグラビアロール１の表面の余剰塗布液を掻き落とした後、グラビアロール１のセル内の塗布液をフィルムベース４上に塗布するというものである。ドクターブレード３は、塗布液貯留部５からグラビアロール１表面に塗布液２が供給されてからフィルムベース４に接触するまでの間で、グラビアロール１の表面を押し当てている。６ａ〜６ｃはガイドロール、８は乾燥部である。また、フィルムベース４は矢印Ｙ１方向に走行し、グラビアロール１は矢印Ｙ２方向に回転する。このことからリバースグラビア塗布方法とも呼ばれている。グラビアロール１は矢印Ｙ２方向に回転するリバースグラビア塗布方法に適用した例であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、フィルムベースとグラビアロールとが同一方向に向かうグラビア塗布方法にも適用できることは言うまでもない。
【００１８】
さらに、本発明の紫外線照射式硬化装置は、フィルムベースをガイドロールに巻回した状態にて適用した例で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、フィルムベースが直線移送装置によって直線移送される状態で紫外線照射されるタイプにも全く同じように適用できることは言うまでもない。
【００１９】
さらに、本発明の紫外線照射式硬化装置は、紫外線硬化樹脂塗布液をフィルムベース上に塗布した後、またはその後乾燥させた後、紫外線照射するものであれば、ロール塗布法やバー塗布方法、エクストージョン塗布方法、カーテン塗布方法にも適用可能である。
【００２０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の紫外線硬化型樹脂の硬化方法によれば、走行するフィルムベースに紫外線硬化型樹脂を塗布後、またはそれを乾燥後、該紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線硬化型樹脂の硬化方法において、前記フィルムベース幅方向の複数噴射箇所で前記フィルムベースに向けて窒素ガスを噴射させると共に、前記フィルムベース幅方向の中央部の窒素ガス噴射量よりも両端部付近へ行くに従い窒素ガス噴射量を多くしていくことを特徴とし、また、本発明の紫外線照射装置の発明によれば、フィルムベース上の紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置であって、塗布液の塗布された前記フィルムベースの塗布面を幅方向に照射する紫外線照射ランプと、前記フィルムベースの塗布面の前記照射領域の直上でこの照射領域を挟んで幅方向に囲う窒素ガス充満ハウジングと、を備え、該窒素ガス充満ハウジングには、前記フィルムベース幅方向に複数の窒素ガス取り込み孔が開けられており、かつ前記フィルムベース幅方向中央部の前記窒素ガス取り込み孔の間隔よりも両端部付近へいくに従い前記窒素ガス取り込み孔の間隔を狭くしていくことを特徴とし、
さらにもう１つ別の紫外線照射装置の発明によれば、フィルムベース上に塗布された紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置であって、塗布液の塗布された前記フィルムベースの塗布面を幅方向に照射する紫外線照射ランプと、前記フィルムベースの塗布面の前記照射領域の直上でこの照射領域を挟んで幅方向に囲う窒素ガス充満ハウジングと、を備え、該窒素ガス充満ハウジングには、前記フィルムベース幅方向に複数の窒素ガス取り込み孔が開けられており、かつ前記フィルムベース幅方向中央部の前記窒素ガス取り込み孔の孔径よりも両端部付近へいくに従い前記窒素ガス取り込み孔の孔径を大きくしていくことを特徴としているので、窒素ガスの供給ノズルの間隔を調整することで、また、各ノズルの供給量を幅方向で孔径等によりコントロールすることで幅方向の酸素濃度を低く抑え、かつ幅方向の分布を小さくすることが容易となる。特に、２％以下の酸素濃度、更に、１％以下の酸素濃度に抑えようとする場合には顕著な効果がある。
したがってそれに伴い酸素濃度が幅方向に均一に低くなり、もって膜の表面硬化が効率よく進むとともに、幅方向での硬膜と上層塗布した場合の上下層の密着のバラツキを小さくできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による紫外線照射式硬化装置を示し、（ａ）はその側面断面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図、（ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面図を示している。
【図２】図１（ｃ）の変形例を示す断面図である。
【図３】本発明が適用される１例としてのグラビア塗布装置の説明図である。
【図４】公知の紫外線照射式硬化装置を説明する図で、（ａ）は側面から見た紫外線照射式硬化装置の模式図、（ｂ）は正面から見た紫外線照射式硬化装置の模式図である。
【符号の説明】
１  グラビアロール
２  塗布液
３  ドクターブレード
４  フィルムベース
５  塗布液貯留部（塗布液供給部）
９０  紫外線照射式硬化装置
９１  紫外線照射装置
９０７  ランプ冷却用空気の出入り口
９１０  筒状紫外線（ＵＶ）ランプ
９１１  反射板
９１２  中空筐体
９１３  開口部
９２  窒素ガス充満ハウジング
９２１  外周壁
９２２  窒素ガス取込孔
９２３  隙間
９２４  内周壁
９２５  透明材
【図１】
2004244474.tif 000003
【図２】
2004244474.tif 000004
【図３】
2004244474.tif 000005
【図４】
2004244474.tif 000006