(57)【要約】【課題】重量が要求されずかつ低コスト化が可能なローラを有する基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】マグネット円板３２、隙間調整円板３３および基板支持円板３５は搬送ローラ軸３１の一端側に取り付けられている。マグネット円板２２、隙間調整円板２３および基板押え円板２４は、上乗せローラ軸２１に取り付けられている。マグネット円板３２の外周面はマグネット円板２２の外周面に対向し、隙間調整円板３３の外周面は隙間調整円板２３の外周面に対向し、基板支持円板３４の外周面は基板押え円板２４の外周面に対向する。マグネット円板２２とマグネット円板３２とは内蔵された磁石の磁力で互いに引き合う。【選択図】        図３
2004281617.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する基板搬送装置であって、
基板を支持しつつ回転可能に設けられた第１のローラと、
基板を挟んで前記第１のローラに対向するように回転可能に設けられた第２のローラと、
前記第１のローラを回転させる回転駆動手段と、
前記第１のローラの回転力を前記第２のローラに伝達する回転力伝達手段とを備え、
前記回転力伝達手段は、
前記第１のローラに設けられ、前記第１のローラと同心の第１の外周面を有する第１の伝達部材と、
前記第２のローラに設けられ、前記第２のローラと同心でかつ前記第１の外周面に対向する第２の外周面を有する第２の伝達部材とを含み、
前記第１の伝達部材および前記第２の伝達部材は、前記第１の外周面と前記第２の外周面との間で磁力により回転力を伝達することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記第１の伝達部材は、非磁性材料により形成されるとともに前記第１の外周面に沿って配列された複数の第１の磁石を内蔵し、
前記第２の伝達部材は、非磁性材料により形成されるとともに前記第２の外周面に沿って配列された複数の第２の磁石を内蔵し、
前記第１の伝達部材の各第１の磁石と前記第２の伝達部材の各第２の磁石との間に引力が作用するように前記複数の第１の磁石と前記複数の第２の磁石とが配置されたことを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記第１の外周面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように前記複数の第１の磁石が等ピッチで設けられ、前記第２の外周面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように前記複数の第２の磁石が前記複数の第１の磁石と同じピッチで設けられたことを特徴とする請求項２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記第１のローラは、
回転可能に設けられた第１の軸と、
前記第１の軸に同心に設けられ、基板の一面に接触する外周部を有する第１の押さえ部材とを含み、
前記第２のローラは、
回転可能に設けられた第２の軸と、
前記第２の軸に同心に設けられ、基板の他面に接触する外周部を有する第２の押さえ部材と、
前記第２の押さえ部材が前記第１の押さえ部材に対して離間または近接するように前記第２の軸を所定位置を支点として揺動可能に支持する支持手段とを含み、
前記第１の伝達部材は、前記第１の軸に同心に設けられ、前記第２の伝達部材は、前記第２の軸に同心に設けられたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板搬入装置。
【請求項５】
前記第１のローラは、
前記第１の軸に設けられ、前記第１の軸と同心の外周面を有する第１の隙間調整部材をさらに含み、
前記第２のローラは、
前記第２の軸に設けられ、前記第２の軸と同心の外周面を有する第２隙間調整部材をさらに含み、
前記第１の隙間調整部材の外周面と前記第２の隙間調整部材の外周面とが接触した状態で前記第１の押さえ部材の外周部と前記第２の押さえ部材の外周部との間の隙間が所定の大きさに設定されることを特徴とする請求項４記載の基板搬入装置。
【請求項６】
前記第１のローラおよび前記第２のローラは、水平面に平行にまたは水平面に対して傾斜するように設けられることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板搬入装置。
【請求項７】
基板を搬送する基板搬送装置と、
前記基板搬送装置により搬送される基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備え、
前記基板搬送装置は、
基板を支持しつつ回転可能に設けられた第１のローラと、
基板を挟んで前記第１のローラに対向するように回転可能に設けられた第２のローラと、
前記第１のローラを回転させる回転駆動手段と、
前記第１のローラの回転力を前記第２のローラに伝達する回転力伝達手段とを備え、
前記回転力伝達手段は、
前記第１のローラに設けられ、前記第１のローラと同心の第１の外周面を有する第１の伝達部材と、
前記第２のローラに設けられ、前記第２のローラと同心でかつ前記第１の外周面に対向する第２の外周面を有する第２の伝達部材とを含み、
前記第１の伝達部材および前記第２の伝達部材は、前記第１の外周面と前記第２の外周面との間で磁力により回転力を伝達することを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を搬送する基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウェハ等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられる。
【０００３】
基板処理装置においては、例えば、平行に配列された複数の搬送ローラに基板が載置され、上方の噴射ノズルから処理液が噴射され、基板面に洗浄処理、現像処理、エッチング処理、剥離処理等のウェット処理が行われる。基板は、ウェット処理がなされるとともに搬送ローラにより搬送される。
【０００４】
この場合、搬送ローラに対向するように基板上に上乗せローラが設けられる。ウェット処理により搬送ローラと基板との間の摩擦が低減しないように、搬送ローラと上乗せローラとで基板が挟まれ、搬送ローラと上乗せローラとが回転することにより基板が搬送される（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−１００９６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上乗せローラの重量で摩擦を生じさせるためには、上乗せローラを重量のある材料で構成せざるを得ず、金属材料が使用される。しかしながら、金属材料は基板処理時の処理液により腐食されるため、樹脂等で被覆する必要があり、加工にコストがかかる。
【０００７】
また、上乗せローラが傾斜している場合には、基板に加わる押圧力が分散し、搬送ローラおよび上乗せローラと基板との間の摩擦力が低減する。
【０００８】
本発明の目的は、重量が要求されずかつ低コスト化が可能なローラを有する基板搬送装置を提供することである。
【０００９】
本発明の他の目的は、重量が要求されずかつ低コスト化が可能なローラを有する基板搬送装置を備えた基板処理装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、基板を支持しつつ回転可能に設けられた第１のローラと、基板を挟んで第１のローラに対向するように回転可能に設けられた第２のローラと、第１のローラを回転させる回転駆動手段と、第１のローラの回転力を第２のローラに伝達する回転力伝達手段とを備え、回転力伝達手段は、第１のローラに設けられ、第１のローラと同心の第１の外周面を有する第１の伝達部材と、第２のローラに設けられ、第２のローラと同心でかつ第１の外周面に対向する第２の外周面を有する第２の伝達部材とを含み、第１の伝達部材および第２の伝達部材は、第１の外周面と第２の外周面との間で磁力により回転力を伝達するものである。
【００１１】
本発明に係る基板搬送装置においては、基板が第１のローラと第２のローラとで挟まれる。回転駆動手段は、第１のローラを回転させる。第１のローラの回転は、第１の伝達部材の第１の外周面と第２の伝達部材の第２の外周面との間の磁力により第２のローラへ伝達される。
【００１２】
この場合、第１の伝達部材および第２の伝達部材の磁力により第１のローラおよび第２のローラと基板との間には摩擦が発生する。したがって、第２のローラが重量を有さなくても第１のローラおよび第２のローラが基板に対して空転することがない。また、第２のローラに重量が要求されないことから、第２のローラの製作コストが低減する。さらに、第２のローラを支持する第１のローラの強度が要求されないことから、第１のローラの製作コストも低減する。
【００１３】
第１の伝達部材は、非磁性材料により形成されるとともに第１の外周面に沿って配列された複数の第１の磁石を内蔵し、第２の伝達部材は、非磁性材料により形成されるとともに第２の外周面に沿って配列された複数の第２の磁石を内蔵し、第１の伝達部材の各第１の磁石と第２の伝達部材の各第２の磁石との間に引力が作用するように複数の第１の磁石と複数の第２の磁石とが配置されてもよい。
【００１４】
この場合、第１の伝達部材に内蔵された複数の第１の磁石と第２の伝達部材に内蔵された複数の第２の磁石との間に磁力による引力が発生する。したがって、基板は、重力に関係なく第１のローラと第２のローラとで一定の押圧力で挟まれる。
【００１５】
第１の外周面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように複数の第１の磁石が等ピッチで設けられ、第２の外周面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように複数の第２の磁石が複数の第１の磁石と同じピッチで設けられてもよい。
【００１６】
この場合、第１の外周面のＮ極と第２の外周面のＳ極との間に引力が発生し、第１の外周面のＳ極と第２の外周面のＮ極との間で引力が発生する。したがって、第１の伝達部材の回転に伴い第２の伝達部材も回転する。また、第１の磁石と第２の磁石とが等ピッチで設けられているため、第１の伝達部材および第２の伝達部材の周速は等しくなる。その結果、第１の伝達部材の回転力が第２の伝達部材に確実に伝達される。
【００１７】
第１のローラは、回転可能に設けられた第１の軸と、第１の軸に同心に設けられ、基板の一面に接触する外周部を有する第１の押さえ部材とを含み、第２のローラは、回転可能に設けられた第２の軸と、第２の軸に同心に設けられ、基板の他面に接触する外周部を有する第２の押さえ部材と、第２の押さえ部材が第１の押さえ部材に対して離間または近接するように第２の軸を所定位置を支点として揺動可能に支持する支持手段とを含み、第１の伝達部材は、第１の軸に同心に設けられ、第２の伝達部材は、第２の軸に同心に設けられてもよい。
【００１８】
この場合、支持手段により支持された第２の支持部材の所定位置が支点となり、第１の伝達部材と第２の伝達部材の対向する位置が力点となり、第１の押さえ部材と第２の押さえ部材の対向する位置が作用点となり、基板の一面に第１の押さえ部材が押圧され、基板の他面に第２の押さえ部材が押圧される。それにより、基板が第１の押さえ部材と第２の押さえ部材とで確実に挟持される。また、第１の押さえ部材が第１の軸とともに回転し、第１の伝達部材から第２の伝達部材へ磁力により回転力が伝達されることにより、第２の押さえ部材が第２の軸とともに回転する。したがって、第１のローラの回転に伴い第２のローラが回転し、基板を確実に搬送することができる。
【００１９】
第１のローラは、第１の軸に設けられ、第１の軸と同心の外周面を有する第１の隙間調整部材をさらに含み、第２のローラは、第２の軸に設けられ、第２の軸と同心の外周面を有する第２隙間調整部材をさらに含み、第１の隙間調整部材の外周面と第２の隙間調整部材の外周面とが接触した状態で第１の押さえ部材の外周部と第２の押さえ部材の外周部との間の隙間が所定の大きさに設定されてもよい。
【００２０】
この場合、第１の伝達部材と第２の伝達部材の引力により第１の隙間調整部材と第２の隙間調整部材が接触することにより、第１の押さえ部材の外周部と第２の押さえ部材の外周部との間に所定の大きさの隙間が確保される。したがって、基板に過度の押圧力が加わらず、基板が破損することが防止される。
【００２１】
第１のローラおよび第２のローラは、水平面に平行にまたは水平面に対して傾斜するように設けられてもよい。
【００２２】
この場合、第１のローラおよび第２のローラの傾斜の有無に関わりなく、基板は第１の伝達部材と第２の伝達部材との間の磁力により第１のローラと第２のローラとで効率的に挟持される。
【００２３】
本発明に係る基板処理装置は、基板を搬送する基板搬送装置と、基板搬送装置により搬送される基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備え、基板搬送装置は、基板を支持しつつ回転可能に設けられた第１のローラと、基板を挟んで第１のローラに対向するように回転可能に設けられた第２のローラと、第１のローラを回転させる回転駆動手段と、第１のローラの回転力を第２のローラに伝達する回転力伝達手段とを備え、回転力伝達手段は、第１のローラに設けられ、第１のローラと同心の第１の外周面を有する第１の伝達部材と、第２のローラに設けられ、第２のローラと同心でかつ第１の外周面に対向する第２の外周面を有する第２の伝達部材とを含み、第１の伝達部材および第２の伝達部材は、第１の外周面と第２の外周面との間で磁力により回転力を伝達するものである。
【００２４】
本発明に係る基板処理装置においては、基板が第１のローラと第２のローラとで挟まれる。回転駆動手段は、第１のローラを回転させる。第１のローラの回転は、第１の伝達部材の第１の外周面と第２の伝達部材の第２の外周面との間の磁力により第２のローラへ伝達される。また、処理液供給手段により基板に処理液が供給される。
【００２５】
この場合、基板は、第１の伝達部材および第２の伝達部材の磁力により第１のローラおよび第２のローラに挟まれる。したがって、処理液により基板の摩擦係数が低減しても、基板に対して第１のローラと第２のローラとが空転することはない。
【００２６】
また、第２のローラに重量が要求されないことから、第２のローラの製作コストが低減する。さらに、第２のローラを支持する第１のローラの強度が要求されないことから、第１のローラの製作コストも低減する。
【００２７】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の概略的側面図である。図２は、図１の基板処理装置の概略的平面図である。図３は、図１の基板処理装置の一部拡大正面図である。以下、図１〜図３を参照して本実施の形態に係る基板処理装置の説明を行う。
【００２８】
ここで、図１〜図３において水平面内で互いに直交する２方向を第１の方向Ｘおよび第２の方向Ｙとする。また、基板とは、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウエハ等をいう。
【００２９】
図１に示すように、基板処理装置１００は、複数の上乗せローラ２０および複数の搬送ローラ３０ａ，３０ｂを含む。各搬送ローラ３０ａ，３０ｂは、後述するように、第２の方向Ｙから上方にやや傾斜した方向に延びるように設けられている。各搬送ローラ３０ａ上に上乗せローラ２０が設けられている。
【００３０】
図２に示すように、支持板５０ｂ，５０ｃが所定の間隔を隔てて第１の方向Ｘに沿ってかつ鉛直方向からやや傾斜して設けられている。また、支持板５０ａが支持板５０ｂに沿って設けられている。搬送ローラ３０ａ，３０ｂの一端は、支持板５０ｂを貫通しかつ回転可能に支持板５０ｂに支持されている。搬送ローラ３０ａ，３０ｂの他端は、支持板５０ｃを貫通しかつ回転可能に支持板５０ｃに支持されている。
【００３１】
上乗せローラ２０の一端は、支持板５０ａに回転可能に支持され、他端は支持板５０ｂに回転可能に支持されている。また、複数の基板支持部材４０が支持板５０ｂに沿って第１の方向Ｘに配列されている。
【００３２】
基板Ｗは、搬送ローラ３０ａ，３０ｂ上に支持されるとともに、上乗せローラ２０と搬送ローラ３０ａとで挟み込まれる。また、基板Ｗの側部端面が基板支持部材４０に接触し、基板Ｗの第２の方向Ｙの位置が規制される。
【００３３】
また、基板処理装置１００の上方には、図１の処理液供給装置２００が設けられており、搬送中の基板Ｗに処理液が供給される。処理液は、例えば、エッチング液、現像液、洗浄液などである。
【００３４】
図３に示すように、搬送ローラ３０ａは、搬送ローラ軸３１、マグネット円板３２、隙間調整円板３３および基板支持円板３４，３５を備える。基板支持円板３４の外周面にはＯリング３６が装着されており、基板支持円板３５の外周面にはＯリング３７が装着されている。
【００３５】
マグネット円板３２、隙間調整円板３３および基板支持円板３５は搬送ローラ軸３１の一端側に取り付けられており、搬送ローラ軸３１の一端側からマグネット円板３２、隙間調整円板３３、基板支持円板３４の順に並んでいる。基板支持円板３５は、搬送ローラ軸３１の他端側に取り付けられている。それにより、搬送ローラ軸３１、マグネット円板３２、隙間調整円板３３および基板支持円板３４，３５は一体となって回転する。
【００３６】
マグネット円板３２と隙間調整円板３３との間の搬送ローラ軸３１の部分が軸受け５２により支持板５０ｂに回転可能に支持される。基板支持円板３５よりも他端側の搬送ローラ軸３１の部分が軸受け５３により支持板５０ｃに回転可能に支持される。支持板５０ｂ，５０ｃは鉛直方向からやや傾斜しているため、搬送ローラ３０ａは、一端側に対して他端側が高くなるように傾斜する。搬送ローラ３０ｂの構造は、搬送ローラ３０ａの構造と同様である。
【００３７】
搬送ローラ３０ａ，３０ｂは、Ｏリング３６により基板Ｗの一側部下面を支持し、Ｏリング３７により基板Ｗの他側部下面を支持する。
【００３８】
上乗せローラ２０は、上乗せローラ軸２１、マグネット円板２２、隙間調整円板２３および基板押え円板２４を備える。基板押え円板２４の外周面にはＯリング２７が装着されている。マグネット円板２２、隙間調整円板２３および基板押え円板２４は、上乗せローラ軸２１に取り付けられている。それにより、上乗せローラ軸２１、マグネット円板２２、隙間調整円板２３および基板押え円板２４は一体となって回転する。
【００３９】
なお、上乗せローラ軸２１、搬送ローラ軸３１、マグネット円板２２，３２、隙間調整円板２３，３３、基板押え円板２４および基板支持円板３４，３５は、非磁性体で形成される。例えば、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン）、ＰＣＴＦＥ（三フッ化エチレン）等のフッ素樹脂、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）等の樹脂またはチタン、アルミニウム等の非磁性体の軽金属もしくは合金を用いることができる。それにより、上乗せローラ２０および搬送ローラ３０ａ，３０ｂの軽量化が図られる。また、ステンレスを用いることもできる。それにより、上乗せローラ２０および搬送ローラ３０ａ，３０ｂの強度が向上する。
【００４０】
上乗せローラ軸２１、搬送ローラ軸３１、マグネット円板２２，３２、隙間調整円板２３，３３、基板押え円板２４および基板支持円板３４，３５を構成する材料は、処理液の種類により選択する。
【００４１】
上乗せローラ軸２１の一端が軸受け２５により支持板５０ａに回転可能に支持され、マグネット円板２２と隙間調整円板２３との間の上乗せローラ軸２１の部分が軸受け２６により支持板５０ｂに回転可能に支持されている。軸受け２６は、支持板５０ｂの上端に形成された矩形の切欠き５４（図２参照）に上下動可能に嵌合している。
【００４２】
また、マグネット円板３２の外周面はマグネット円板２２の外周面に対向し、隙間調整円板３３の外周面は隙間調整円板２３の外周面に対向し、基板支持円板３４の外周面は基板押え円板２４の外周面に対向する。
【００４３】
基板支持部材４０は、ローラ部４１と支持棒４２とから構成される。ローラ部４１は、支持棒４２の上端に回転自在に設けられている。ローラ部４１は基板Ｗの一側部端面に接触し、基板Ｗの搬送に伴い回転する。それにより、搬送ローラ３１ａ，３１ｂの傾斜による基板Ｗの横ずれが防止される。
【００４４】
搬送ローラ駆動装置１０は、支持板５０ｃの外側に設けられ、モータ、ギア等の駆動機構を内蔵する。制御部６０からの制御信号に基づいて搬送ローラ駆動装置１０の内部のモータが回転することにより、搬送ローラ３０ａ，３０ｂが一斉に同一方向に回転する。それにより、基板Ｗは第１の方向Ｘに搬送される。
【００４５】
図４は、図３のマグネット円板２２およびマグネット円板３２の模式的断面図である。以下、図４を用いてマグネット円板２２およびマグネット円板３２の回転動作について説明する。
【００４６】
図４に示すように、マグネット円板２２の外周近傍には、複数の磁石ＭＧが上乗せローラ軸２１に対して同心円を形成するように埋め込まれている。また、複数の磁石ＭＧは、外周側が交互にＮ極およびＳ極になるように配置されている。
【００４７】
マグネット円板３２も同様に、外周近傍に複数の磁石ＭＧが搬送ローラ軸３１に対して同心円を形成するように埋め込まれている。また、複数の磁石ＭＧは、外周側が交互にＮ極およびＳ極になるように配置されている。
【００４８】
したがって、マグネット円板２２およびマグネット円板３２の外周面上には、Ｎ極およびＳ極の磁界が交互に発生している。また、マグネット円板２２およびマグネット円板３２における磁石ＭＧのピッチは等しい。さらに、マグネット円板２２の直径とマグネット円板３２の直径との比は、基板押え円板２４の直径と基板支持円板３４の直径との比に等しい。
【００４９】
マグネット円板２２の外周面のＮ極とマグネット円板３２の外周面のＳ極とが磁力で引き合い、さらに、マグネット円板２２の外周面のＳ極とマグネット円板３２の外周面のＮ極とが磁力で引き合う。それにより、マグネット円板２２とマグネット円板３２との間に引力が発生する。
【００５０】
さらに、マグネット円板２２とマグネット円板３２との間の引力により、マグネット円板２２およびマグネット円板３２が非接触であっても、マグネット円板３２が回転するとマグネット円板２２も回転する。それにより、マグネット円板２２とマグネット円板３２とが摺動することがない。したがって、パーティクルの発生が防止される。
【００５１】
また、マグネット円板２２およびマグネット円板３２における磁石ＭＧのピッチは等しいため、マグネット円板３２の回転における周速Ｖ１とマグネット円板２２の回転における周速Ｖ２とは等しくなる。さらに、マグネット円板２２の直径とマグネット円板３２の直径との比が基板押え円板２４の直径と基板支持円板３４の直径との比に等しいため、基板押え円板２４の周速と基板支持円板３４の周速とは等しくなる。
【００５２】
上記のように、マグネット円板２２とマグネット円板３２とは内蔵された磁石の磁力で互いに引き合う。それにより、軸受け２５が支点となり、マグネット円板２２とマグネット円板３２との引力発生点が力点となり、Ｏリング２７と基板Ｗとの接触点が作用点となって基板Ｗに対して押圧力が加わる。
【００５３】
したがって、上乗せローラ２０の重量による押圧力以上の押圧力が基板Ｗに加わる。その結果、図１の処理液供給装置２００から処理液が基板Ｗに供給されることにより基板Ｗの摩擦係数が低減しても、基板Ｗに対して搬送ローラ３０ａが空転することはない。
【００５４】
また、重力に関係なくマグネット円板２２とマグネット円板３２とが磁力で引き合う。それにより、搬送ローラ３０ａの傾斜角度が異なっても基板Ｗに加わる押圧力が分散することはない。したがって、基板Ｗは搬送ローラ３０ａおよび上乗せローラ２０により常に一定の押圧力で挟持される。
【００５５】
なお、マグネット円板２２とマグネット円板３２との間に作用する磁力が大きい場合には、隙間調整円板２３と隙間調整円板３３とが接触し、Ｏリング２７とＯリング３６との隙間が所定値以下になることはない。したがって、基板Ｗに過度の押圧力が加わらず、基板Ｗが破損することが防止される。
【００５６】
また、上乗せローラ２０を重量のある材料で構成した場合には、基板Ｗに過度の押圧力が加わらないように軸受け２５の位置をマグネット円板２２に近い方向に移動させてもよい。また、上乗せローラ２０の重量が大きすぎる場合には、軸受け２５をマグネット円板２２と軸受け２６との間に設け、基板Ｗに加わる過大な押圧力を低減してもよい。
【００５７】
Ｏリング２５とＯリング３５との間の隙間は搬送される基板の厚みに応じて設定されるが、外径の異なる隙間調整円板２３および隙間調整円板３３を使用することでその隙間を調整することもできる。
【００５８】
なお、マグネット円板２２，３２、隙間調整円板２３，３３、基板押え円板２４および基板支持円板３４，３５の形状は、上記実施の形態に限定されず、上乗せローラ軸２１または搬送ローラ軸３１と同心の外周面を有すれば球状等の他の形状であってもよい。また、搬送ローラ３０ａ，３０ｂは水平に配置されてもよい。
【００５９】
本実施の形態においては、搬送ローラ３０ａが第１のローラに相当し、上乗せローラ２０が第２のローラに相当し、搬送ローラ駆動装置１０が回転駆動手段に相当し、マグネット円板２２，３２が回転力伝達手段に相当し、マグネット円板３２が第１の伝達部材に相当し、マグネット円板２２が第２の伝達部材に相当し、マグネット円板３２の外周面が第１の外周面に相当し、マグネット円板２２の外周面が第２の外周面に相当する。
【００６０】
また、磁石ＭＧが第１の磁石および第２の磁石に相当し、搬送ローラ軸３１が第１の軸に相当し、上乗せローラ軸２１が第２の軸に相当し、基板支持円板３４が第１の押さえ部材に相当し、基板押さえ円板２４が第２の押さえ部材に相当し、軸受け２５が支持手段に相当し、隙間調整円板３３が第１の隙間調整部材に相当し、隙間調整円板２３が第２の隙間調整部材に相当し、処理液供給装置２００が処理液供給手段に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の概略的側面図である。
【図２】図１の基板処理装置の概略的平面図である。
【図３】図１の基板処理装置の一部拡大正面図である。
【図４】図３のマグネット円板の模式的断面図である。
【符号の説明】
１０  搬送ローラ駆動装置
２０  上乗せローラ
２１  上乗せローラ軸
２２，３２  マグネット円板
２３，３３  隙間調整円板
２４  基板押え円板
２５，２６，５２，５３  軸受け
２７，３６，３７  Ｏリング
３０ａ，３０ｂ  搬送ローラ
３１  搬送ローラ軸
３４，３５  基板支持円板
４０  基板支持部材
５０ａ，５０ｂ，５０ｃ  支持板
６０  制御部
１００  基板処理装置
ＭＧ  磁石
Ｗ  基板
【図１】
2004281617.tif 000003
【図２】
2004281617.tif 000004
【図３】
2004281617.tif 000005
【図４】
2004281617.tif 000006