(57)【要約】【課題】写真印画紙調の光沢を有し、インク吸収速度及びインク吸収量に優れ、なおかつインク受容層製造工程において乾燥時のひび割れによる成膜不良を生じることのないインクジェットプリンター用記録シートを提供する。【解決手段】支持体の少なくとも片面に、平均粒径が０．５μｍ以下である湿式法により製造される微細シリカと、電解質、及びポリビニルアルコールを含有する多孔質インク受容層を設け、更に光沢発現層を設けたインクジェット記録シート。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の少なくとも片面に、平均粒径が０．５μｍ以下である湿式法により製造される微細シリカと、電解質、及びポリビニルアルコールを含有する多孔質インク受容層を設け、更に光沢発現層を設けたインクジェット記録シート。
【請求項２】
７５度鏡面光沢度（ＪＩＳ　Ｐ８１４２）が４０％以上である請求項１に記載のインクジェット記録シート。
【請求項３】
該支持体が非透気性支持体である請求項１または２に記載のインクジェット記録シート。
【請求項４】
該非透気性支持体の７５度鏡面光沢度（ＪＩＳ　Ｐ８１４２）が６０％以上である請求項３に記載のインクジェット記録シート。
【請求項５】
該微細シリカが平均粒径３ｎｍ〜１００ｎｍの１次粒子が凝集してなる平均粒径８ｎｍ〜５００ｎｍの２次粒子である請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項６】
該微細シリカの窒素吸着法による比表面積と細孔容積が（式１）を満たすことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
（式１）　比表面積（ｍ２／ｇ）＜７３０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
【請求項７】
該微細シリカの窒素吸着法による比表面積と細孔容積が（式２）を満たすことを特徴とする請求項６に記載のインクジェット記録シート。
（式２）　比表面積（ｍ２／ｇ）＞４５０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
【請求項８】
さらに該微細シリカの比表面積が１５０〜３００ｍ２／ｇであり、かつ細孔容積が０．５〜０．９ｍｌ／ｇであることを特徴とする請求項７に記載のインクジェット記録シート。
【請求項９】
該微細シリカが活性ケイ酸を縮合させて製造されたものである請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項１０】
該電解質がアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩から選ばれる少なくとも一種である請求項１〜９のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項１１】
該電解質がアルカリ金属の強酸塩である請求項１０に記載のインクジェット記録シート。
【請求項１２】
該電解質の含有量が、該微細シリカ１００質量部に対し０．０５〜５質量部の割合である請求項１〜１１のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項１３】
ポリビニルアルコールのけん化度が９０％以上である請求項１〜１２のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項１４】
ポリビニルアルコールの重合度が１７００以上である請求項１〜１３のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項１５】
該多孔質インク受容層が、水銀ポロシメータで測定した細孔分布曲線において細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に２つのピーク、または肩を有する１つの幅広いピークを有することを特徴とする、請求項１〜１４のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項１６】
該細孔分布曲線におけるモード細孔径とメジアン細孔径との差の絶対値が１０ｎｍ以上である請求項１５に記載のインクジェット記録シート。
【請求項１７】
該多孔質インク受容層の細孔径６ｎｍ〜１μｍの範囲における細孔容積が０．５〜２．０ｍｌ／ｇである請求項１５または１６に記載のインクジェット記録シート。
【請求項１８】
該多孔質インク受容層の膜面ｐＨが５〜１０である請求項１〜１７のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【請求項１９】
該微細シリカ、該電解質及びポリビニルアルコールを含有するｐＨが７以上の水性塗料を支持体に塗工後、乾燥することによって該多孔質インク受容層を形成してなる請求項１〜１８のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェット記録シートに関するものであり、特に、写真印画紙調の光沢を有し、高いインク吸収速度とインク吸収量を兼ね備え、インク受容層にひび割れが発生することがないインクジェット記録シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
インクジェット記録方式は、簡易な装置で安価にカラー印刷ができるためパーソナルユースに適した記録方式であり、オフィスや家庭での印刷用途に急速に普及している。近年フルカラー化及び高解像度化が達成されたことにより、画質が急速に向上してきており、カラー画像の手軽な出力形式として注目され、銀塩写真の代替として最も有力な方式の一つと考えられている。そのため、銀塩写真に匹敵する高画質並びに高光沢を有するインクジェット記録シートに対する要望が高まっている。
【０００３】
インクジェット方式で使用されるインクは多量の溶媒を含んでいるため、高い印字濃度を得るためには大量のインクを吐出する必要がある。そのため、インクジェット記録シート上に設けるインク受容層としては、吐出されるインクを十分に吸収できるような材料が要求される。また、インク液滴は連続的に吐出されるため、最初の液滴が吸収されないうちに次の液滴が吐出されるとにじみや濃度むらの原因となり、鮮明な画像が得られない。よって、インク受容層としては吸収量とともに、速い吸収速度を持つことが要求される。さらに、上記の画質面への要求だけでなく、インクの乾燥性、印字物の耐水性、長期保存する場合の画像の保存安定性などさまざまな性能が要求される。
【０００４】
以上のような要求を満たすため、樹脂系または顔料系のインク受容層を設けたインクジェット記録シートが数多く提案され、市販されている。樹脂系受容層は一般に、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ゼラチンなどの水溶性樹脂の水溶液を支持体に塗工し、乾燥して形成されるものである。樹脂系受容層においては、透明性が高いため印字濃度が高く、光沢も高いという長所がある反面、インクの吸収速度が遅いので画質が悪く、また、インクの乾燥速度が遅くて耐水性も悪いという欠点がある。そのため、近年要求されている銀塩写真と同等の印字品質を得るのは困難であり、最近では以下に述べる顔料系受容層が主流になってきた。
【０００５】
顔料系受容層は、シリカ、アルミナ、擬ベーマイト、炭酸カルシウム、カオリンなどの顔料にポリビニルアルコール、セルロース誘導体などの水溶性樹脂をバインダー樹脂として添加することにより形成されるものである。上記顔料の形態としては、１次粒子が凝集して２次粒子を形成しているものが好ましく用いられる。このような顔料系受容層においては、顔料の１次粒子間及び２次粒子間の空隙に毛細管現象ですばやくインクが吸収されて画像を形成するため画質が良好であり、インク乾燥性も良い。
【０００６】
一般的に市販されている顔料は２次粒子径が１μｍを超えるものが多く、これらを顔料系受容層に用いた場合には大きな２次粒子間の空隙が形成されるためインク吸収性が高い。しかし、２次粒子径が大きいために受容層の表面の平滑度は低く、光沢が低い。よって、近年求められている写真印画紙調の高光沢を得る目的には不適である。また、受容層の透明度が低いので印字濃度が低いという欠点もある。例えば、特開昭６１−４７２９０号公報（特許文献１）において提案されている、アルカリ金属の弱酸塩及び／又はその複塩を含有するインク受容層は、アルカリ金属の弱酸塩と平均２次粒子径が０．５〜３０μｍである顔料との併用により、インク吸収性と画像の耐水性及び耐光性を兼ね備えていたが、２次粒子径が大きな顔料を用いる必要があったため、光沢や印字濃度は低かった。
【０００７】
以上のような欠点を克服するため、粒子径が１μｍ以下の微細顔料を用いた顔料系インクジェット受容層を設けたインクジェット記録シートが数多く提案されている。特開平９−１８３２６７号公報（特許文献２）では、最上層がコロイダルシリカを含有し、細孔分布曲線が細孔直径２ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にピークを持つインク受容層を提案している。この範囲に細孔ピークが存在するとインク吸収速度は速くなり、また、粒子径の小さい単分散コロイダルシリカを用いているので光沢にすぐれ、透明性も良好であった。しかし、コロイダルシリカは２次粒子を形成していないため受容層の細孔容積が低く、吐出される多量のインクを吸収させるために多くの塗工量が必要であるという欠点があった。特開平９−１８３２６７号公報（特許文献２）の実施例の中にはこの範囲に２つのピークをもつ例が記載されているが、これはインク受容層を２層設けた場合にそれぞれの受容層中に１つずつ存在するピークが現れたものである。また、インク受容層に電解質を含むことは記載されていない。
【０００８】
特開２００１−９６８９７号公報（特許文献３）では、気相法シリカ及び水溶性の金属化合物を含有し、膜面ｐＨが３〜５であるインク受容層を有するインクジェット記録材料を提案している。気相法シリカは平均粒径３ｎｍ〜１０ｎｍの１次粒子が凝集して１００ｎｍ〜５００ｎｍの２次粒子を形成している超微粒子であり、小粒径なため高い光沢を持たせることができる。２次粒子間の空隙があるためインク吸収性も高い。しかしこうした２次粒径が１μｍ以下の超微粒子を用いる場合、粒径が小さいために細孔径が小さくなり、強い毛細管収縮力のため乾燥工程においてインク受容層がひび割れやすくなるといった製造上の問題がある。毛細管収縮力を緩和させてひび割れを防止するためにバインダー樹脂の添加量を増加させることは、インク吸収性の極端な低下を招くので好ましくない。上記公報では水溶性金属化合物の添加を提案しているが、膜面ｐＨを３〜５にする必要があった。また、気相法シリカは湿式法シリカに比べ乾燥過程において生じる毛細管収縮力が格段に強いため、十分にひび割れの無い受容層を製造するには上記方法に加え、ホウ酸によりバインダー樹脂を架橋させるという方法を用いなければならず、そのようにして形成された受容層は高温高湿下で強度的にもろくなり、剥がれてしまうという欠点を有していた。
【０００９】
【特許文献１】
特開昭６１−４７２９０号公報（請求項）
【特許文献２】
特開平９−１８３２６７号公報（請求項及び表１）
【特許文献３】
特開２００１−９６８９７号公報（請求項）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、前記従来の技術が抱えている諸問題を解決し、写真印画紙調の光沢を有し、インク吸収速度及びインク吸収量に優れ、なおかつインク受容層製造工程において乾燥時のひび割れによる成膜不良を生じることのないインクジェットプリンター用記録シートを提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
水銀ポロシメーターによる測定で得られる細孔分布曲線において細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にピークを持つ多孔質インク受容層では一般に、その強い毛細管力によりインクを素早く吸収して鮮明な画像を得ることができる。しかし、細孔径が上記の範囲の多孔質受容層で、図２のように幅の狭いシャープなピークが１つだけしかないものは、インク受容層塗工液を塗工後の乾燥工程において強い毛細管収縮力が働いてひび割れによる成膜不良が生じている場合が多い。また、吐出される多量のインクを瞬時に吸収するにはインク吸収量が不十分な場合が多く、インクがあふれたり、ビーディングと呼ばれる印字濃度むらが生じる傾向がある。
【００１２】
本発明者らが鋭意検討したところ、図１のように細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に２つのピーク、または肩を有する１つの幅広いピークを有する多孔質インク受容層が、乾燥工程におけるひび割れが発生せず、かつインク吸収速度が速く、インク吸収量も増加することを見出した。そしてこのような細孔分布を有する上記多孔質インク受容層を形成させる方法を鋭意検討した結果、湿式法により製造される微細シリカ及びポリビニルアルコールに加え、電解質を用いることによって形成させることができることを見出した。該多孔質インク受容層は大きな細孔を有するためにそのままでは光沢が十分ではないが、さらにその上に光沢発現層を設けることにより、高い光沢を与えることができ、優れた記録濃度、銀塩写真のような外観が得られることが分かり本発明を完成させるに至った。
【００１３】
本発明は下記の態様を含む。
［１］　支持体の少なくとも片面に、平均粒径が０．５μｍ以下である湿式法により製造される微細シリカと、電解質及びポリビニルアルコールを含有する多孔質インク受容層を設け、更に光沢発現層を設けたインクジェット記録シート。
［２］　７５度鏡面光沢度（ＪＩＳ　Ｐ８１４２）が４０％以上である［１］に記載のインクジェット記録シート。
［３］　該支持体が非透気性支持体である［１］または［２］に記載のインクジェット記録シート。
［４］　該非透気性支持体の７５度鏡面光沢度（ＪＩＳ　Ｐ８１４２）が６０％以上である［３］に記載のインクジェット記録シート。
［５］　該微細シリカが平均粒径３ｎｍ〜１００ｎｍ，好ましくは３ｎｍ〜４０ｎｍの１次粒子が凝集してなる平均粒径８ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ〜３００ｎｍの２次粒子である［１］〜［４］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【００１４】
［６］　該微細シリカの窒素吸着法による比表面積と細孔容積が（式１）を満たすことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
（式１）　比表面積（ｍ２／ｇ）＜７３０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
［７］　該微細シリカの窒素吸着法による比表面積と細孔容積が（式２）を満たすことを特徴とする［６］に記載のインクジェット記録シート。
（式２）　比表面積（ｍ２／ｇ）＞４５０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
［８］　さらに該微細シリカの比表面積が１５０〜３００ｍ２／ｇであり、かつ細孔容積が０．５〜０．９ｍｌ／ｇであることを特徴とする［７］に記載のインクジェット記録シート。
［９］　該微細シリカが活性ケイ酸を縮合させて製造されたものである［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
［１０］該電解質がアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩から選ばれる少なくとも一種である［１］〜［９］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
［１１］　該電解質がアルカリ金属の強酸塩である［１０］に記載のインクジェット記録シート。
［１２］該電解質の含有量が、該微細顔料１００質量部に対し０．０５〜５質量部の割合である［１］〜［１１］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
［１３］ポリビニルアルコールのけん化度が９０％以上である［１］〜［１２］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
［１４］　ポリビニルアルコールの重合度が１７００以上である［１］〜［１３］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
［１５］　該多孔質インク受容層が、水銀ポロシメータで測定した細孔分布曲線において細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に２つのピーク、または肩を有する１つの幅広いピークを有することを特徴とする、［１］〜［１４］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
［１６］　該細孔分布曲線におけるモード細孔径とメジアン細孔径との差の絶対値が１０ｎｍ以上である［１５］に記載のインクジェット記録シート。
［１７］　該多孔質インク受容層の細孔径６ｎｍ〜１μｍの範囲における細孔容積が０．５〜２．０ｍｌ／ｇである［１５］または［１６］に記載のインクジェット記録シート。
［１８］該多孔質インク受容層の膜面ｐＨが５〜１０である［１］〜［１７］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
［１９］　該微細シリカ、該電解質及びポリビニルアルコールを含有するｐＨが７以上の水性塗料を支持体に塗工後、乾燥することによって該多孔質インク受容層を形成してなる［１］〜［１８］のいずれかに記載のインクジェット記録シート。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明における多孔質インク受容層の形成方法について説明する。本発明の多孔質インク受容層は平均粒径が０．５μｍ以下の湿式法微細シリカをポリビニルアルコールで固めて製造されるものである。形成方法は特に限定されるものではないが、インク吸収速度及びインク吸収量に優れ、なおかつ製造工程において乾燥時のひび割れによる成膜不良を生じることのない多孔質インク受容層を得るためには以下の方法が好適に用いられる。微細シリカ１００質量部に対して、ポリビニルアルコールを１〜１００質量部、好ましくは３〜２８質量部、より好ましくは５〜２０質量部の割合で含有し、かつ電解質を好ましくは０．０１〜１０質量部、より好ましくは０．０５〜５質量部の割合で含有する水性塗料を支持体に塗布し、乾燥してインク受容層を形成する。
【００１６】
本発明において用いる微細シリカは粒子径が０．５μｍ以下であり、上記水性塗料中では安定にコロイド状に分散している。乾燥過程において、水性塗料の濃度が上昇して乾燥されていくまでの間に、含有している電解質が微細シリカ表面に吸着されて表面の電荷量が減少し、分散安定性が失われ、ポリビニルアルコールの作用で大きな凝集構造を生成する。この凝集構造中に存在する空隙が６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に分布し、その結果細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に２つのピーク、または肩を有する１つの幅広いピークを有する多孔質インク受容層が形成される。このように電解質の影響により凝集構造が生成し、径の大きな細孔が多数存在することによって毛細管収縮力が緩和され、インク受容層を塗布した後、乾燥工程でのひび割れを防止することができる。
【００１７】
本発明で使用されるシリカは湿式法により化学的に合成されるシリカである。シリカは石英などの天然のシリカを粉砕して得られる天然シリカと、合成により製造される合成シリカに大別され、合成シリカは湿式法シリカと乾式法シリカに大別される。湿式法シリカは、、沈降法によるシリカとゲル法によるシリカが知られており、後述するがその他に活性珪酸を縮合させて製造されるシリカも含まれる。沈降法シリカは、例えば、特開昭５５―１１６６１３号公報に開示されているようにケイ酸アルカリ水溶液に鉱酸を段階的に加え、沈降したシリカをろ過して製造されるものである。ゲル法シリカはケイ酸アルカリ溶液に鉱酸を混合し、ゲル化させたのち、洗浄及び粉砕して得られるものである。この沈降法シリカとゲル法シリカはシリカの一次粒子が結合して二次粒子を形成しており、一次粒子間と二次粒子間に多くの空隙を有しており、そのためにインク吸収量が大きい上、光を散乱する性質が小さいので高い印字濃度が得られるので本発明に好ましく用いられる。
【００１８】
また乾式法シリカとは、気相法シリカとも称され、例えば特公昭５９−１６９９２２号公報に開示されているように、揮発性珪素化合物を火焔中で高温分解する方法により製造されるシリカであり、非常に嵩密度が低い粉体として市販されている。乾式法シリカの水分散物を乾燥すると、多孔質のシリカゲルとなり、そのゲルの窒素吸着法による細孔容積は一般に１．２〜１．６ｍｌ／ｇであり、インクを吸収させるには都合が良いが、乾燥時のひび割れが著しく、ひび割れの無いインク受容層を製造することは容易ではない。またポリビニルアルコールと電解質を添加してインク受容層を製造しても、凝集構造を形成しない。この点で湿式法のシリカの方が優れている。
【００１９】
湿式法シリカのやや特殊な製造方法として活性珪酸を縮合して製造する方法が知られている。例えば米国特許第２５７４９０２号明細書には、ケイ酸ナトリウムの希釈水溶液をカチオン交換樹脂で処理してナトリウムイオンを除去することにより活性ケイ酸水溶液を調製し、この活性ケイ酸水溶液の一部にアルカリを添加して安定化させて重合することにより、シリカのシード粒子が分散した液（シード液）を作り、アルカリ条件を保持しながら活性ケイ酸水溶液の残部（フィード液）をこれに徐々に添加してケイ酸を重合させ、コロイダルシリカの粒子を成長させる方法が開示されている。この方法で製造されるシリカは直径が３ｎｍ〜数百ｎｍであり、二次凝集をしておらず、しかも粒度分布がきわめて狭いという特長を有している。通常、コロイダルシリカと呼ばれ、７ｎｍ〜１００ｎｍの製品が水分散液として市販されており、インク受容層に用いると、極めて高光沢で透明性が高い受容層が得られる。しかし二次粒子でないことから、インク吸収量の点では前記、沈降法シリカやゲル法シリカの方が優れている。
【００２０】
沈降法シリカやゲル法シリカの長所とコロイダルシリカの長所を併せ持ったシリカを、活性珪酸を縮合させて製造することも可能であり、具体的には特開平２００１−３５４４０８号公報、特開平２００２−１４５６０９号公報に開示されているシリカが例示される。このシリカはシリカの一次粒子が結合した二次粒子であり、しかも二次粒子径を光の波長以下に調節することが容易であるので、インク吸収量と光沢度に優れるインク受容層を容易に製造できることから本発明に最も好ましく用いられる。
特開平２００１−３５４４０８号公報には、
「　窒素吸着法による比表面積が３００ｍ２／ｇ〜１０００ｍ２／ｇで、細孔容積が０．４ｍｌ／ｇ〜２．０ｍｌ／ｇであるシリカ微粒子がコロイド状に分散した液をシード液とし、該シード液にアルカリを添加したのち、該シード液に対し活性ケイ酸水溶液及びアルコキシシランから選ばれる少なくとも一種類からなるフィード液を少量ずつ添加してシリカ微粒子を成長させることを特徴とする、窒素吸着法による比表面積が１００ｍ２／ｇ〜４００ｍ２／ｇ、平均二次粒子径が２０ｎｍ〜３００ｎｍ、かつ細孔容積が０．５ｍｌ／ｇ〜２．０ｍｌ／ｇのシリカ微粒子がコロイド状に分散したシリカ微粒子分散液の製造方法。」
【００２１】
「　窒素吸着法による比表面積が３００ｍ２／ｇ〜１０００ｍ２／ｇで、細孔容積が０．４ｍｌ／ｇ〜２．０ｍｌ／ｇであるシリカ微粒子がコロイド状に分散した液をシード液とし、該シード液に対し活性ケイ酸水溶液及びアルコキシシランから選ばれる少なくとも一種類からなるフィード液とアルカリの混合物を少量ずつ添加するか、もしくは該フィード液とアルカリを少量ずつ同時に添加してシリカ微粒子を成長させることを特徴とする、窒素吸着法による比表面積が１００ｍ２／ｇ〜４００ｍ２／ｇ、平均二次粒子径が２０ｎｍ〜３００ｎｍ、かつ細孔容積が０．５ｍｌ／ｇ〜２．０ｍｌ／ｇのシリカ微粒子がコロイド状に分散したシリカ微粒子分散液の製造方法。」が記載されている。
【００２２】
特開２００２−１４５６０９号公報には「　活性ケイ酸及びアルコキシシランから選ばれる少なくとも１種を含有する水溶液を加熱することによってシリカ微粒子からなる凝集物を含む懸濁液を形成し、次に該懸濁液にアルカリの存在下に活性ケイ酸を含有する水溶液及びアルコキシシランから選ばれる少なくとも１種を少量ずつ添加して懸濁液中のシリカ微粒子を成長させた後、該懸濁液を湿式粉砕することを特徴とするシリカ微粒子分散液の製造方法。」が記載されている。
【００２３】
微細シリカの形態としては、高光沢、高透明性のインク受容層を得るために、平均粒子径を０．５μｍ以下とする。さらに微細シリカが平均１次粒子径３ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは３ｎｍ〜４０ｎｍの１次粒子からなる２次粒子であると細孔容積が高いので好ましい。これら１次粒子が凝集した２次粒子の平均粒径は０．５μｍ以下、好ましくは８ｎｍ〜４９９ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ〜４００ｎｍ、最も好ましくは２０ｎｍ以上３００ｎｍ未満である。１次粒子径や２次粒子径が小さすぎるとインク吸収に寄与する空隙を形成し難くなり、受容層の細孔容積が低下してインク吸収性が低下する恐れがある。また、１次粒子径や２次粒子径が大きすぎると受容層の透明性が低下し、印字濃度や光沢が低下する恐れがある。なお、本発明でいう１次粒子径はすべて電子顕微鏡（ＳＥＭ及びＴＥＭ）で観察した粒径（マーチン径）である。また、２次粒子径は動的光散乱法によって測定され、キュムラント法を用いた解析から算出される値である。
【００２４】
微細シリカの窒素吸着法による比表面積と細孔容積は式１を満たすことが望ましい。
（式１）　比表面積（ｍ２／ｇ）＜７３０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
本発明者等は特開平２００１−３５４４０８号公報に基づいて、種々の比表面積と細孔容積を有する微細シリカを製造し、ポリビニルアルコールをバインダーとして添加して塗工によりインク受容層を作成してみたところ、図３に示すように、インク受容層の透明性が高い、即ちヘイズ値が小さい領域と、透明性が低い、即ちヘイズ値が高い領域に明瞭に分けられることを見出した。そしてこの二つの領域の境界線を表わす式は比表面積（ｍ２／ｇ）＝７３０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）であった。ヘイズ値が高いということは、細孔径の大きな空隙が多量に生じていることを示している。インク受容層に用いた場合、式１を満たすシリカは、シリカ１００質量部に対し０．０５〜１質量部というわずかな電解質の添加で凝集が促進され、インク受容層のひび割れが防止でき、さらにインク吸収性も良好であった。
【００２５】
ただし、微細シリカの比表面積と細孔容積が式３を満たすシリカはインク吸収性がやや劣るために、式１と式２を同時に満たすことがより好ましい。
（式２）　比表面積（ｍ２／ｇ）＞４５０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
（式３）　比表面積（ｍ２／ｇ）＜４５０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
【００２６】
さらに好ましい微細シリカは式１と式２を同時に満たし、かつ比表面積が１５０〜３００ｍ２／ｇであり、かつ細孔容積が０．５〜０．９ｍｌ／ｇである。この範囲にあるシリカはインク受容層のひび割れ、インク吸収性、及び光沢のバランスが非常に優れている。
【００２７】
シリカを平均粒径０．５μｍ以下の微細シリカとする方法は特に限定されないが、その手段の一つとして市販のシリカ（粒径が数μｍ〜数十μｍのもの）に機械的手段で強い力を与えることにより粉砕、分散して得る方法が挙げられる。つまり、ｂｒｅａｋｉｎｇ　ｄｏｗｎ法（塊状原料を細分化する方法）によって得られるものである。機械的手段としては、超音波ホモジナイザー、圧力式ホモジナイザー、ナノマイザー、高速回転ミル、ローラーミル、容器駆動媒体ミル、媒体攪拌ミル、ジェットミル、サンドグラインダー等の機械的手法が挙げられる。得られる微細シリカはコロイド状であっても、スラリー状であっても良い。
【００２８】
特開２００１−３５４４０８号公報で開示されている活性ケイ酸の縮合による方法は、機械的手段によらずに直接、上記の粒子径や細孔容積を有する微細シリカを製造でき、かつ粒度分布が狭いのでインク受容層の透明度や光沢が良好なので本発明に好ましく用いることができる。ここで活性ケイ酸とは、例えばアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を水素型陽イオン交換樹脂でイオン交換処理して得られるｐＨ４以下のケイ酸水溶液をさす。ＳｉＯ２濃度として１〜６質量％が好ましく、より好ましくは２〜５質量％でかつｐＨ２〜４である活性ケイ酸水溶液が望ましい。アルカリ金属ケイ酸塩としては、市販工業製品として入手できるものでよく、より好ましくはＳｉＯ２／Ｍ２Ｏ（但し、Ｍはアルカリ金属原子を表す）モル比として２〜４程度のナトリウム水ガラスを用いるのが好ましい。
【００２９】
活性ケイ酸の縮合方法としては、熱水に上記活性ケイ酸水溶液を滴下するか、活性ケイ酸水溶液を加熱してシード粒子を生成させ、分散液が沈殿を生じる前、若しくはゲル化する前にアルカリを添加してシード粒子を安定化し、次いで該安定状態を保ちながら活性ケイ酸水溶液をシード粒子に含まれるＳｉＯ２１モルに対してＳｉＯ２に換算して好ましくは０．００１〜０．２モル／分の速度で添加してシード粒子の一次粒子を成長させたシリカ微粒子が好ましい
【００３０】
使用される電解質としては、無機酸、無機塩基、塩、有機酸、有機塩基のいずれでも構わないが、強電解質を用いると添加量が少なくて済むので好ましい。また１００ｇの水への溶解度が２５℃で０．０１ｇ以上のものが好ましい。
好ましい電解質の例としては、硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム、硫酸水素ナトリウム、硝酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸三ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化カリウム、硫酸水素カリウム、硝酸カリウム、酢酸カリウム、ギ酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸三カリウム、チオ硫酸カリウムなどのアルカリ金属塩、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、硝酸カルシウム、酢酸カルシウム、ギ酸カルシウム、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸三カルシウム、硫酸バリウム、塩化バリウム、硝酸バリウム、酢酸バリウム、ギ酸バリウム、炭酸バリウム、リン酸水素バリウム、リン酸二水素バリウム、リン酸三バリウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、硝酸マグネシウム、酢酸マグネシウム、炭酸マグネシウムなどのアルカリ土類金属塩、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガン、塩化第二銅、硫酸銅、塩化コバルト、硫酸ニッケル、塩化ニッケル、硫酸アルミニウム、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム、塩化アルミニウム、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛等の水溶性塩類や、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウムなどが挙げられるがこれらに限定されない。これら電解質を単独で使用するだけでなく、二種類以上混合して用いることもできる。
【００３１】
特にこの中でも、アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩は容易に水性塗料に混合でき、かつ水性塗料を塗工後の乾燥過程において顔料の凝集を引き起こしやすく、本発明における多孔質インク受容層を容易に得ることができるため好適に用いられる。さらに、アルカリ金属、アルカリ土類金属の強酸塩、即ち塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩などは水性塗料中で最も安定に存在でき、アルカリ性においても沈降することがないため最も好適に用いられる。硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム、硝酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化カリウム、硝酸カリウム、塩化カルシウム、硫酸カルシウム、硝酸カルシウム等が例示できる。とりわけアルカリ金属の塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩が好ましい。
【００３２】
特開昭６１−４７２９０号公報にも、アルカリ金属の弱酸塩が用いられているが、弱酸塩に限られている点、及び使用されている顔料の２次粒子径が０．５〜３０μｍと大きい点が本発明と異なる。本発明においては乾燥工程において粒子の凝集を引き起こし、ひび割れを防止する目的で水溶性塩類等の電解質が用いられ、特にアルカリ金属の弱酸塩に限られるものではない。
【００３３】
特開２００１−９６８９７号公報では、気相法シリカ及び水溶性の金属化合物が使用されているが、用いる顔料が気相法シリカである点、及び膜面ｐＨが３〜５の酸性領域である点が本発明と異なる。本発明は、湿式法による微細シリカと電解質が併用される点、及び電解質としてアルカリ金属塩が好ましく用いられる点において、多価金属塩が用いられる特開２００１−９６８９７号公報とは異なる。また本発明における多孔質インク受容層の膜面ｐＨは５以上が好ましい点も特開２００１−９６８９７号公報と異なる。本発明の多孔質インク受容層の膜面ｐＨは特に限定されるものではないが、５以上であることが好ましく、上限は特にはないが１０程度である。膜面ｐＨを５以上に保つとひび割れが少なく好ましい。
【００３４】
使用されるバインダー樹脂はポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコール以外のバインダー樹脂を用いてもインク受容層のひび割れが発生し、またインク吸収性も良くないので使用できない。ポリビニルアルコールが良い理由は明確ではないが、シリカとの適度な相互作用があり、水溶性塩との相乗効果によりシリカを凝集させるためと考えられる。
【００３５】
ポリビニルアルコールのけん化度は９０％以上が特に好ましく、さらに９５％以上が最も好ましい。けん化度が高い方がインク受容層のひび割れが少なく、かつインク吸収性も良好である。その理由は水酸基を多く含む高けん化度のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の方がシリカとより強く相互作用し、凝集を促進するためと考えられる。また重合度は１７００以上が好ましく、より好ましくは２５００以上であり、最も好ましくは３５００以上である。上限は特にないが１００００程度である。重合度が高い方がインク受容層のひび割れが少ない。
【００３６】
本発明における水性塗料のｐＨは特に限定されるものではないが、ｐＨを７以上、好ましくは８以上に調節することは、乾燥過程における大きな凝集構造の生成を促進するため、本発明のインクジェット受容層を得るのに好適に用いられる。ｐＨに上限は特にないが例えば１０程度である。ｐＨの調節方法は特に限定されるものではないが、該水性塗料にアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムを加える方法が簡便で効果的であり、好適に用いられる。
【００３７】
微細シリカ、ポリビニルアルコール、電解質以外にも、目的に応じ各種添加物が用いられる。たとえば、インク定着剤としてのカチオン性樹脂が挙げられる。カチオン性樹脂の例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート四級化物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート四級化物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド四級化物、ビニルイミダゾリウムメトクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド、メチルジアリルアミン塩、ジアリルアミン塩、モノアリルアミン塩、アミジン環等のカチオン性を有する構造単位を含む樹脂が挙げられる。これらカチオン性樹脂をシリカなどのアニオン性顔料の分散液に混合して添加する際、両者の静電特性のため塗料は一時的にゲル化するが、ホモジナイザー等の機械的手段を用いて再分散させることによって使用可能となる。また、カチオン性物質として、アルミナゾル等を配合することも可能である。ただし、カチオン性樹脂の添加はインク受容層のひび割れを悪化させる傾向があるので、添加はインク受容層を形成してから、カチオン性樹脂の水溶液を塗布または含浸する等の方法でインク受容層に含ませることが好ましい。
【００３８】
その他添加物として、一般的塗工紙製造に使用される分散剤、増粘剤、消泡剤、着色剤、帯電防止剤、濡れ剤などの助剤、また、印字画像の保存性向上のための紫外線吸収剤や光安定化剤を適宜添加することができる。
【００３９】
本発明における支持体は特に限定されるものではないが、紙又はフィルム、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリイミド、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの合成樹脂フィルムまたはポリエチレンラミネート紙などの合成樹脂ラミネート紙などの非透気性支持体を用いると高光沢のインクジェット記録シートを得やすいので好ましい。非透気性支持体の７５度鏡面光沢度は好ましくは６０％以上、より好ましくは８０％以上、最も好ましくは１００％以上である。なお、本発明における７５度鏡面光沢度はＪＩＳ規格Ｐ８１４２に従って測定したものである。
【００４０】
これらの支持体はその表面に形成するインク受容層との接着力が不十分な場合には下塗り層を施したり、コロナ放電処理などの各種の易接着処理を施すことができる。支持体の厚さは、プリンターの通紙性を考慮すると５０〜５００μｍが好ましい。
【００４１】
本発明における水性塗料の塗工方法としては公知の塗工手段、例えばバーコーティング法、ロールコーティング法、ブレードコーティング法、エアーナイフコーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、カーテンコーティング法などを用いることができるが、これらに限らない。
【００４２】
インク受容層の塗工量は乾燥後の質量として１〜５０ｇ／ｍ２程度が好ましく、さらに好ましくは３〜２５ｇ／ｍ２である。ここで１ｇ／ｍ２より少ないとインクの吸収が不十分となる恐れがあり、５０ｇ／ｍ２より多くなるとカールが発生しやすくなる恐れがあり、コストもかさむ。
【００４３】
次に水銀ポロシメータによる細孔分布測定について説明する。細孔分布はマイクロメトリックス　ポアサイザ９３２０（（株）島津製作所製）を用い、水銀圧入法により求めた空隙量分布曲線から細孔分布を計算して求めた。水銀圧入法による細孔径の測定は細孔の断面を円形として仮定して導かれた下記の式を用いて計算した。
【００４４】
Ｄ＝−４γＣＯＳθ／Ｐ
ただし、Ｄ：細孔直径、γ：水銀の表面張力、θ：接触角、Ｐ：圧力とする。
水銀の表面張力は４８２．５３６ｄｙｎ／ｃｍとし、使用接触角は１３０°とし、高圧部測定（０〜３００００ｐｓｉａ、測定細孔径６μｍ〜６ｎｍ）を行った。インク受容層の平均細孔容積は予め測定したインク受容層の質量と空隙量分布曲線から計算される。本発明におけるインク受容層の細孔分布曲線においては、６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にピークを持ち、ピークの裾野が１μｍまで及ぶことが多いため、６ｎｍ〜１μｍの範囲での細孔容積を積算して求めた。
【００４５】
次に本発明に必須の多孔質インク受容層について説明する。本発明における多孔質インク受容層は、平均粒径が０．５μｍ以下である湿式法の微細シリカと、電解質及びポリビニルアルコールを含有する多孔質インク受容層を有し、前述の方法により形成される。本発明の特徴である、インク吸収速度及びインク吸収量に優れ、なおかつ製造工程において乾燥時のひび割れによる成膜不良を生じることのないインクジェット記録シートを実現させるため、該多孔質インク受容層は細孔分布において以下のような特徴を有することが好ましい。すなわち、上記の水銀ポロシメータによる測定で得られた細孔分布曲線が、図１のように細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に２つのピーク、または肩を有する１つの幅広いピークを持つことを特徴とする。２つのピークのうちどちらかのピークが８ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にあるか、または肩を有する１つの幅広いピークが８ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にまでわたっていることが好ましい。この範囲の細孔は毛細管力が強いため、吐出されるインクを瞬時に吸収することができるという利点を持つが、インク受容層の乾燥工程においてひび割れによる成膜不良を生じやすいという欠点もある。しかし、さらに細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にもう一つの細孔ピークを有するか、またはピークは１つであるが幅広いという特徴を有すると、径の大きな細孔が多数存在することによって毛細管収縮力が緩和され、乾燥工程におけるインク受容層のひび割れを防止することができる。また、径の大きな細孔が多数存在することによってインク吸収に寄与する細孔容積が増え、８ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にある細孔で一旦吸収した多量のインクを即座に取り込むことができ、次々とインクが吐出されてもあふれることなくインクを吸収することができる。
【００４６】
特開平９−１８３２６７号公報の実施例の中にもこの範囲に２つのピークをもつ例が記載されているが、これはインク受容層を２層設けた場合にそれぞれの受容層中に１つずつ存在するピークが現れたものである。一方、本発明における多孔質インク受容層では、少なくとも１つの受容層中について細孔径６ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に２つのピーク、または肩を有する１つの幅広いピークを持つものであり、受容層１層に２つのピークが存在する点が特開平９−１８３２６７号発明とは異なる。
【００４７】
細孔径のピークが６ｎｍ未満の範囲のみに存在する場合は、十分なインク吸収速度が得られず、インクあふれやビーディングと呼ばれる印字濃度むらが生じる恐れがある。また、細孔径のピークが１５０ｎｍを越える範囲のみに存在する受容層は、インクが広がりやすく、鮮明な画像が得られない恐れがある。また、透明性が低下して印字濃度が低下し、光沢感も失われる恐れがある。
【００４８】
前記の方法にて測定された、該多孔質インク受容層の細孔分布曲線において、モード細孔径とメジアン細孔径との差の絶対値が１０ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍを超えていることが好ましい。モード細孔径とメジアン細孔径との差が大きいほどピークが幅広くなり、肩が明確に認められるようになり、最終的には肩が明確なピークとして分離し、二つのピークとなる。１０ｎｍより小さい場合には細孔分布曲線におけるピークは１つのシャープなピークとなり、細孔のサイズにばらつきがなく毛細管収縮力が緩和されにくいためインク受容層を塗布乾燥する際にひび割れが生じる恐れがある。差の値に上限はないが、１００ｎｍ未満程度が好ましい。
【００４９】
前記の方法で測定された該多孔質インク受容層の、細孔径６ｎｍ〜１μｍの範囲での細孔容積は０．５〜２．０ｍｌ／ｇ、好ましくは０．５〜１．８ｍｌ／ｇ、より好ましくは０．６〜１．５ｍｌ／ｇである。細孔径６ｎｍ〜１μｍの細孔容積が０．５ｍｌ／ｇより大きいと、インク受容層は、吐出される多量のインクを十分に吸収することができ、インクあふれにより画像が乱れることがない。一方、細孔径６ｎｍ〜１μｍの細孔容積が２．０ｍｌ／ｇ以下であると、染料の定着性に優れ、インク受容層の強度にも優れる。
【００５０】
本発明では上述の多孔質インク受容層の上に光沢発現層を設けることによって、写真印画紙調の高い光沢を有するインクジェット記録シートを得ている。光沢発現層を設ける方法は特に限定されるものではないが、写真印画紙調の光沢を有し、高いインク吸収速度とインク吸収量を兼ね備えるためには以下の２通りの態様が好適に用いられる。
【００５１】
第１の態様は、本発明における多孔質インク受容層の上に、微細顔料を含む塗工液を塗工後乾燥して、光沢発現層を少なくとも１層設けたものである。微細顔料としては種々の顔料を用いることができるが、平均粒子径が１μｍ以下のシリカ、水酸化アルミニウム、ベーマイト、擬ベーマイト、アルミナは細孔容積が大きく、インク吸収性に優れている。さらに微細顔料が平均一次粒子径５〜１００ｎｍ、好ましくは６〜４０ｎｍの一次粒子からなる二次粒子であると細孔容積が高いので好ましい。これら一次粒子が凝集した二次粒子の平均粒径は１μｍ以下、好ましくは９〜８００ｎｍ、より好ましくは１０〜６００ｎｍ、最も好ましくは１５〜４００ｎｍである。
またコロイダルシリカを用いた場合には特に光沢が優れる。
【００５２】
上記塗工液に含まれるバインダー樹脂としては水分散性樹脂や水溶性高分子が使用できるが、水溶性高分子が好ましい。例としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリビニルアセタール、ポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリアクリルアミド、ポリアクリロイルモルホリン、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリアクリル酸、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチン、カゼイン等の水溶性樹脂及びこれらの水溶性誘導体が挙げられる。更にＳＢＲラテックス、ＮＢＲラテックス等の水分散性樹脂も使用できるが、水溶性樹脂が好ましい。また、これら樹脂を単独で使用するだけでなく、二種類以上混合して用いることもできる。
【００５３】
光沢発現層の塗布量は乾燥後の質量として０．５〜１０ｇ／ｍ２程度が好ましく、さらに好ましくは２〜８ｇ／ｍ２である。ここで０．５ｇ／ｍ２より少ないと光沢の発現が不足する恐れがあり、１０ｇ／ｍ２より多くなると乾燥時のひび割れが生じる恐れがある。
【００５４】
光沢発現層中の微細顔料としてシリカを用いる場合には、インク定着性を向上させるためにカチオン変性したシリカも好適に用いられ、例えば特開２００１−８０２０４号公報ではフュームドシリカとカチオン化合物を含む分散液を機械的粉砕により平均粒子径１μｍ以下に分散または粉砕したスラリー状混合物を含有する塗工液を塗工することにより高光沢と高印字濃度を兼ね備えたインクジェット記録シートを得ている。
【００５５】
第２の態様は、キャスト方式による光沢発現層（以下ではキャスト塗工層と呼ぶ）を設けるという方法である。キャスト方式とは、塗工層を、平滑性を有するキャストドラム（鏡面仕上げした金属、プラスチック、ガラス等のドラム）、鏡面仕上げした金属板、プラスチックシートやフィルム（フィルム転写キャスト法、フィルムキャスト法）、ガラス板等上で乾燥し、平滑面を塗工層上に写し取ることにより、平滑で光沢のある塗工層表面を得る方法である。鏡面ドラムを用いてキャスト塗工層を設ける方法としては、キャスト塗工層用塗工液を本発明における多孔質インク受容層上に塗工して、該塗工層が湿潤状態にある間に加熱された鏡面ドラムに圧接、乾燥して仕上げる方法（ウェットキャスト法）、あるいは一旦乾燥し、再湿潤した後加熱された鏡面ドラムに圧接、乾燥して仕上げる方法（リウェットキャスト法）等が例示できる。また加熱された鏡面ドラムに直接キャスト塗工層用塗工液を塗工した後、本発明の多孔質インク受容層面に圧接、乾燥して仕上げる方法（プレキャスト法）も採用することができる。
【００５６】
尚、鏡面ドラムの表面温度は４０〜２００℃程度が好ましく、７０〜１５０℃がより好ましい。４０℃未満であると乾燥に時間がかかり、光沢が低下する恐れがあり、生産性が低下する恐れがある。２００℃を超えて高いと用紙表面が荒れたり光沢が低下する場合がある。
【００５７】
キャスト塗工層用塗工液を本発明の多孔質インク受容層上に塗工して、インク受容層が湿潤状態にある間に加熱された鏡面ドラムに圧接、乾燥して仕上げる場合、キャスト塗工層用塗工液の浸透を抑える目的で、キャスト塗工層用塗工液の不動化を促進する方法を採ることもできる。この方法としては例えば、（１）多孔質インク受容層中にキャスト塗工層用塗工液の不動化を促進するゲル化剤を配合しておく、（２）多孔質インク受容層上にキャスト塗工層用塗工液の不動化を促進するゲル化剤を塗工・含浸させる、（３）キャスト塗工層用塗工液を塗工した後、キャスト塗工層用塗工液の不動化を促進するゲル化剤を表面に塗工・含浸させる、（４）キャスト塗工層用塗工液中に塗工液が乾燥する過程で不動化が促進されるゲル化剤を配合しておくことが挙げられる。この様なゲル化剤としては、キャスト塗工層用塗工液中の接着剤の架橋剤である、ほう酸、ぎ酸等およびそれらの塩、アルデヒド化合物、エポキシ化合物等が挙げられる。上記の方式の内、ウェットキャスト法を採用する場合、多孔質インク受容層上にキャスト塗工液を塗工し、鏡面ドラム上に圧接し乾燥するまでの時間をなるべく短くした方が、塗工液の浸透が抑えられるため、光沢が発現しやすい。さらに、多孔質インク受容層面がドラムに圧接される直前に、圧接ロール（プレスロール）上の多孔質インク受容層面と鏡面ドラム間にキャスト塗工液を付与して直ちに圧接する方式（ニップキャスト方式と称する）が、塗工液の浸透が極力抑えられ、少ない塗工量で良好な光沢、印字品位が得られ易く、特に好ましい。
【００５８】
キャスト塗工層用塗工液は特に限定されるものではないが、例えば特開平０７−０８９２２０号公報に開示されているように、エチレン性不飽和結合を有するモノマーを重合させてなる好ましくは４０℃以上のガラス転移点を有する重合体を含有する塗工液が例示できる。エチレン性不飽和結合を有するモノマー（以下エチレン性モノマーという）を重合してなる重合体としては、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等のアルキル基炭素数が１〜１８個のアクリル酸エステル、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等のアルキル基炭素数が１〜１８個のメタクリル酸エステル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、エチレン、ブタジエン等のエチレン性モノマーを重合して得られる重合体である。また、必要に応じて２種類以上のエチレン性モノマーを併用した共重合体であっても良いし、他のモノマーを共重合させることも出来る。上記の中でも、特にスチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体が好ましい。
【００５９】
さらに重合体は、これら重合体あるいは共重合体の置換誘導体でも良い。因みに、置換誘導体としては、例えばカルボキシル基化したもの、またはそれをアルカリ反応性にしたもの等が例示される。また、上記のエチレン性モノマーをコロイダルシリカの存在下で重合させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｒ（Ｒ：重合体成分）結合によって複合体になった形で使用することも可能である。上記のエチレン性モノマーを重合してなる重合体は、そのガラス転移点が４０℃以上のものが好ましく、より好ましくは約５０℃〜約１００℃の範囲であるものが望ましい。最も好ましくは約７０℃〜約９０℃である。ガラス転移点は例えばエチレン性モノマーの種類や重合体の架橋度合いにより調整することができる。例えば比較的にガラス転移点を高くするスチレン等のモノマーを５０質量％以上含有させることによりガラス転移点を高くすることが出来る。キャスト塗工層用塗工液中には、上記重合体の他にコロイダルシリカ等の顔料を配合することができ、通常その量は重合体１００質量部に対し約１質量部〜約２００質量部が好ましい。またウレタン樹脂を用いることもできる。
【００６０】
キャスト塗工層用塗工液中には白色度、粘度、流動性等を調節するために、一般の印刷用塗工紙やインクジェット用紙に使用されている顔料、消泡剤、着色剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、防腐剤及び分散剤、増粘剤等の各種助剤が適宜添加される。また、キャスト塗工層用塗工液中にはキャストドラム等からの離型性を付与する目的で、離型剤を添加するのが好ましい。
離型剤としては、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等のポリオレフィンワックス類、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、オレイン酸カリウム、オレイン酸アンモニウム等の高級脂肪酸アルカリ塩類、レシチン、シリコーンオイル、シリコーンワックス等のシリコーン化合物、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素化合物が挙げられる。離型剤の配合量は、顔料１００質量部に対し０．１〜５０質量部、好ましくは０．３〜３０質量部、より好ましくは０．５〜２０質量部の範囲で調節される。ここで配合量が少ないと、離型性改善の効果が十分に得られない恐れがあり、多いと逆に光沢が低下したり、インクのハジキや記録濃度の低下が生じる場合がある。
【００６１】
第１の態様と第２の態様を組み合わせることも可能である。すなわち、本発明における多孔質インク受容層の上に、第一の態様に従い、微細顔料を含む塗工液を塗工後乾燥して少なくとも一層の光沢発現層を設け、さらに第２の態様に従って、キャスト方式による光沢発現層を設けることができる。この方式では光沢がことに良好である。
【００６２】
上記のような方法により光沢発現層を設けた本発明のインクジェット記録シートの７５度鏡面光沢度は４０％以上が好ましく、さらに好ましくは５０％以上であり、最も好ましくは７０％以上である。
【００６３】
また、インクジェット記録シートのカール抑制や、搬送性の向上のため、支持体上のインク受容層とは反対側に裏面層を設けることもできる。裏面層の構成及びそれに伴う支持体裏面はその用途に応じて選択することができ、特に限定されるものではないが、塗工性及びコストを鑑みると親水性樹脂を主成分とする裏面層を設けることが好適である。また裏面に粘着剤層と剥離シートを設けてもよい。
【００６４】
【実施例】
以下実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、もとより本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、本実施例で、特に断らない限り濃度を表わす「％」は質量％を意味し、「部」は質量部を意味する。
【００６５】
［シリカの細孔容積及び細孔径の測定方法］
シリカの水分散液を１０５℃で乾燥し、得られた粉体試料の細孔容積及び細孔径分布を、ガス吸着法比表面積・細孔分布測定装置（Ｃｏｕｌｔｅｒ社製ＳＡ３１００ｐｌｕｓ型）を用い、前処理として２００℃で２時間真空脱気した後に測定した。吸着ガスとしては窒素を用いた。細孔容積は細孔径１００ｎｍ以下の細孔の全細孔容積の値を使用した。細孔径は、脱着等温線のＢＪＨ法による解析から求められた細孔分布曲線における最大体積分率の細孔径とした。
【００６６】
［シリカの平均二次粒子径測定法］
動的光散乱法によるレーザー粒度計（大塚電子（株）製、ＬＰＡ３０００／３１００）を用いて、シリカの水分散液を充分に蒸留水で希釈した状態で測定した。平均粒径はキュムラント法を用いた解析から算出される値を用いた。
【００６７】
［微細シリカ分散液Ａの製造方法］
ゲル法によって製造された平均粒径１３．１μｍの合成無定型シリカ（グレースデビソン社製、商品名：サイロジェットＰ６１２、比表面積２９０ｍ２／ｇ、一次粒子径９ｎｍ）を濃度２０％で水分散させ、アンモニア水を添加してｐＨを９．０に調整したスラリーを、横型ビーズミル（シンマルエンタープライゼス（株）製、ダイノーミルＫＤＬ−Ｐｉｌｏｔ）により繰り返し粉砕分散し、平均二次粒径３００ｎｍのシリカの２０％水分散液を製造した。このシリカ微細顔料の比表面積は２９０ｍ２／ｇ、細孔容積は０．７ｍｌ／ｇ、であった。
【００６８】
［微細シリカ分散液Ｂの製造方法］
（活性ケイ酸水溶液の調製）
ＳｉＯ２濃度３０％、ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏモル比３．１のケイ酸ソーダ溶液〔（株）トクヤマ製、三号珪酸ソーダ〕に蒸留水を混合し、ＳｉＯ２濃度４．０％の希ケイ酸ソーダ水溶液を調製した。この水溶液を、水素型陽イオン交換樹脂〔三菱化学（株）製、ダイヤイオンＳＫ−１ＢＨ〕が充填されたカラムに通じて活性ケイ酸水溶液を調製した。得られた活性ケイ酸水溶液中のＳｉＯ２濃度は４．０％、ｐＨは２．９であった。
（シード液の調製）
還流器、攪拌機、温度計を備えた５リットルのガラス製反応容器中で、４００ｇの蒸留水を１００℃に加温した。この熱水を１００℃に保ちながら、上記の活性ケイ酸水溶液を８ｇ／分の速度で合計４８０ｇ添加し、シード液を調製した。
（微細シリカ分散液の調製）
上記シード液に対し濃度１モル／リットルの水酸化カリウム溶液１３．５ｇを一時に添加して安定化させた。このシード液を１００℃に保ちながら、上記の活性ケイ酸水溶液を８ｇ／分の速度でさらに９２０ｇ添加した。添加終了後、１００℃に保って１時間加熱還流を行い、微細シリカ分散液を得た。分散液は薄い乳白色の透明溶液であり、ｐＨは８．６であった。この微細シリカ分散液の性状は、平均二次粒子径９９ｎｍ、一次粒径１４ｎｍ、比表面積１９３ｍ２／ｇ、細孔容積０．６２ｍｌ／ｇ、細孔径１３．５ｎｍであった。この分散液をエバポレーターでシリカ濃度２０％に濃縮し、水素型陽イオン交換樹脂〔三菱化学（株）製、ダイヤイオンＳＫ−１ＢＨ〕を投入し攪拌して、水酸化カリウムを除去したのち、アンモニア水でｐＨ９．０に調整し、インクジェット記録シートの製造に用いた。
【００６９】
［微細シリカ分散液Ｃの製造方法］
気相法によって製造された平均一次粒径２０ｎｍのシリカ（日本アエロジル（株）製、商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ１３０）を濃度２０％で水分散させ、塩酸でｐＨを２．５に調整したのち、油圧式超高圧ホモジナイザー（みづほ工業（株）製、マイクロフルイタイザーＭ１１０−Ｅ／Ｈ）にて３回分散して、平均二次粒径２５０ｎｍのシリカの２０％水分散液を製造した。このシリカ微細顔料の比表面積は１３７ｍ２／ｇ、細孔容積は１．２ｍｌ／ｇであった。
【００７０】
［カチオン変性微細シリカ分散液Ｄの製造方法］
気相法によって製造された平均一次粒径９ｎｍのシリカ（日本アエロジル（株）製、商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ３００）の１１％水分散液を、シリカゾルＣの製造方法で用いた油圧式超高圧ホモジナイザーにて３回分散した。この微細シリカの比表面積は３０８ｍ２／ｇ、細孔容積は１．６ｍｌ／ｇであった。該分散液１００部にインク定着剤としてのカチオン樹脂であるジアリルジメチルアンモニウムクロライド・アクリルアミド共重合体（日東紡績（株）製、商品名：ＰＡＳ−Ｊ−８１）の１１％水溶液１０部を添加し、ゲル化した混合物を同ホモジナイザーにて更に分散を繰り返し、平均二次粒径１００ｎｍのシリカ水分散液を製造した。この分散液は固形分濃度１１％であり、シリカ濃度は１０％、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド・アクリルアミド共重合体濃度は１％であった。
【００７１】
［キャスト塗工層用塗工液Ｅの製造方法］
ガラス転移点８５℃のスチレン−２−メチルヘキシルアクリレート共重合体樹脂と、平均粒子径３０ｎｍのコロイダルシリカの５０：５０複合体を１００部、粘度調整剤としてアルキルビニルエーテル・マレイン酸誘導体樹脂５部、離型剤としてレシチン３部を、水とともに混合・分散し、固形分濃度１０％のキャスト塗工層用塗工液を製造した。
【００７２】
［微細シリカ分散液Ｆの製造方法］
微細シリカ分散液Ｂと同様の方法で比表面積がほぼ同一で、細孔容積が大きなシリカを製造した。使用した活性珪酸及び製造装置は同一である
ガラス製反応容器中で、４００ｇの蒸留水を１００℃に加温した。この熱水を１００℃に保ちながら、上記の活性ケイ酸水溶液を１６ｇ／分の速度で合計１１２０ｇ添加し、シード液を調製した。
上記シード液に対し濃度１モル／リットルの水酸化カリウム溶液２７ｇを一時に添加してして安定化させた。このシード液を１００℃に保ちながら、上記の活性ケイ酸水溶液を１６ｇ／分の速度でさらに１７６０ｇ添加した。添加終了後、１００℃に保って１時間加熱還流を行い、微細シリカ分散液を得た。分散液は薄い乳白色の透明溶液であり、ｐＨは８．８であった。この微細シリカ分散液の性状は、平均二次粒子径１５４ｎｍ、一次粒径１４ｎｍ、比表面積１９８ｍ２／ｇ、細孔容積１．１０ｍｌ／ｇであった。この分散液をエバポレーターでシリカ濃度２０％に濃縮し、水素型陽イオン交換樹脂〔三菱化学（株）製、ダイヤイオンＳＫ−１ＢＨ〕を投入し攪拌して、水酸化カリウムを除去したのち、アンモニア水でｐＨ９．０に調整し、インクジェット記録シートの製造に用いた。
【００７３】
［微細シリカ分散液Ｇの製造方法］
微細シリカ分散液Ｂと同様の方法で比表面積がほぼ同一で、細孔容積が小さなシリカを製造した。使用した活性珪酸及び製造装置は同一である。
ガラス製反応容器中で、４００ｇの蒸留水を１００℃に加温した。この熱水を１００℃に保ちながら、活性珪酸を１６ｇ／分の速度で合計３６０ｇ添加し、シード液を作成した。
このシード液に対し濃度１モル／リットルの水酸化カリウム溶液９ｇを一時に添加して安定化させた。このシード液を１００℃に保ちながら、活性珪酸を１６ｇ／分の速度でさらに合計５６０ｇ添加した。添加終了後、１００℃に保って１時間加熱還流を行ない、微細シリカ分散液を調製した。分散液は薄い青味を帯びた透明溶液でありｐＨは８．８であった。この微細シリカ分散液の性状は、平均二次粒子径５１ｎｍ、一次粒径１４ｎｍ、比表面積１９０ｍ２／ｇ、細孔容積０．３５ｍｌ／ｇであった。この分散液をエバポレーターでシリカ濃度２０％に濃縮し、水素型陽イオン交換樹脂〔三菱化学（株）製、ダイヤイオンＳＫ−１ＢＨ〕を投入し攪拌して、水酸化カリウムを除去したのち、アンモニア水でｐＨ９．０に調整し、インクジェット記録シートの製造に用いた。
【００７４】
［支持体原紙の製造］
ＣＳＦ（ＪＩＳ　Ｐ−８１２１）が２５０ｍｌまで叩解した針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ）と、ＣＳＦが２８０ｍｌまで叩解した広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）とを、質量比２：８の割合で混合し、濃度０．５％のパルプスラリーを調製した。このパルプスラリー中にパルプ絶乾質量に対しカチオン化澱粉２．０％，アルキルケテンダイマー０．４％，アニオン化ポリアクリルアミド樹脂０．１％，ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン樹脂０．７％を添加し、十分に攪拌して分散させた。上記組成のパルプスラリーを長網マシンで抄紙し、ドライヤー、サイズプレス、マシンカレンダーを通し、坪量１８０ｇ／ｍ２、緊度１．０ｇ／ｃｍ３の原紙を製造した。上記サイズプレス工程に用いたサイズプレス液は、カルボキシル変性ポリビニルアルコールと塩化ナトリウムとを２：１の質量比で混合し、これを水に加えて加熱溶解し、濃度５％に調製したもので、これを紙の両面にトータルして２５ｃｃ塗布して原紙を得た。
【００７５】
［支持体の製造］
支持体原紙の両面にコロナ放電処理を施した後、バンバリーミキサーで混合分散した下記のポリオレフィン樹脂組成物１を原紙のフェルト面側に塗工量が２５ｇ／ｍ２になるようにして、またポリオレフィン樹脂組成物２（裏面用樹脂組成物）をワイヤー面側に塗工量が２０ｇ／ｍ２になるようにして、Ｔ型ダイを有する溶融押し出し機（溶融温度３２０℃）で塗布し、フェルト側を鏡面、ワイヤー側を粗面のクーリングロールで冷却固化して、平滑度（王研式、Ｊ．ＴＡＰＰＩＮｏ．５）が６０００秒、不透明度（ＪＩＳ　　Ｐ８１３８）が９３％の樹脂被覆支持体を製造した。
（ポリオレフィン樹脂組成物１）長鎖型低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９２６ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）３５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９１９ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２ｇ／１０分）５０部、アナターゼ型二酸化チタン（Ａ−２２０；石原産業製）１５部、ステアリン酸亜鉛０．１部、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０；チバガイギー製）０．０３部、群青（青口群青Ｎｏ．２０００；第一化成製）０．０９部、蛍光増白剤（ＵＶＩＴＥＸ　ＯＢ；チバガイギー製）０．３部
（ポリオレフィン樹脂組成物２）高密度ポリエチレン樹脂（密度０．９５４ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）６５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９２４ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス４ｇ／１０分）３５部
【００７６】
＜実施例１＞
微細シリカ分散液Ａ１００部に、塩化ナトリウムの１０％水溶液を０．５部、及びけん化度が９８．５％、重合度が４０００であるポリビニルアルコール（（株）クラレ製、商品名：ＰＶＡ−１４０）の１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対して塩化ナトリウムが０．２５部、ポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１７．１％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて濃度を１６．０％とした。この塗料の主成分、ｐＨを表１に示した。この塗料を支持体上に乾燥質量で塗工量が２０ｇ／ｍ２になるようにバー塗工した。この被膜を１２０℃で乾燥し、多孔質インク受容層を設けた。
続いてこのインク受容層上に、カチオン変性微細シリカ分散液Ｄ（濃度１１％）１００部に上記のけん化度が９８．５％であるポリビニルアルコールの１０％水溶液を２２部を混合した塗工液を乾燥質量で塗工量が５ｇ／ｍ２になるようにバー塗工した。この被膜を１２０℃で乾燥して光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。このインクジェット記録シートの光沢発現層積層方法を表１に示し、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を以下の方法で評価し、表２に示した。
【００７７】
［多孔質インク受容層の細孔分布の測定］
本発明の実施例及び比較例のインクジェット記録シートにおける多孔質インク受容層の細孔分布の測定は、光沢発現層を設ける前のインク受容層を用いて以下のように行った。インク受容層塗料をＰＥＴフィルムに塗工し、ナイフで剥がしたサンプルを測定した。マイクロメトリックス　ポアサイザ９３２０（（株）島津製作所製）を用い、水銀圧入法により求めた空隙量分布曲線から細孔分布を計算して求め、ピーク位置及びモード細孔径を求めた。また、得られた細孔分布曲線より、６ｎｍ〜１μｍの範囲での細孔容積を積算して求めた。各実施例及び比較例の受容層における、細孔径６〜１５０ｎｍの範囲のピークの数、ピーク位置、モード細孔径、メジアン細孔径、モード細孔径とメジアン細孔径の差の絶対値及び細孔径６ｎｍ〜１μｍの範囲の細孔容積を表２に示した。
【００７８】
［多孔質インク受容層のひび割れ］
本発明における多孔質インク受容層のひび割れの評価は、光沢発現層を設ける前のインク受容層について目視にて行い、１０ｃｍ×１０ｃｍのシート内のひび割れ状況を次の３段階で評価した。
◎：ひび割れ無し
○：１ｍｍ以上にわたるひび割れが数箇所あるが、良好
×：全面にひび割れあり、実用上問題がある
【００７９】
［多孔質インク受容層の膜面ｐＨ］
本発明における多孔質インク受容層の膜面ｐＨは光沢発現層を設ける前のインク受容層について、Ｊ．ＴＡＰＰＩ紙パルプ試験方法Ｎｏ．４９に記載の方法に従って、蒸留水を用い、３０秒後に測定した表面ｐＨの値をもって膜面ｐＨとした。
【００８０】
インクジェット記録シートの品質評価方法
［７５°鏡面光沢度］
ＪＩＳ規格Ｐ８１４２に従って測定した。
【００８１】
［インク吸収速度］
本発明におけるインクジェット記録シートのインク吸収速度を以下の方法で評価した。インクジェット記録シートにインクジェットプリンター（ＥＰＳＯＮ製、ＰＭ−８００Ｃ）のスーパーファイン専用紙推奨設定印刷モードで、１００％シアン、１００％マゼンタ、１００％イエロー及び１００％ブラックの各色ベタを印字した。印字部にＰＰＣ用紙を手で押し当て、インクが転写するかどうかを目視にて調べた。転写がなくなるまでの時間を測定し、次の３段階で評価した。
◎：１秒未満
○：１秒以上３０秒未満
×：３０秒以上
【００８２】
［インク吸収量］
本発明におけるインクジェット記録シートのインク吸収量を以下の方法で評価した。インクジェット記録シートに上記方法で１００％赤、１００％緑、１００％青の混色べたを印字し、インクあふれの有無、印字濃度の均一性を以下の３段階で評価した。
◎：インクあふれはなく、均一性もよい。
○：インクあふれはないが、濃度がやや不均一。
×：インクあふれが見られる。
【００８３】
＜実施例２＞
微細シリカ分散液Ａ１００部に、硫酸ナトリウムの１０％水溶液を０．５部、及び実施例１にて使用のポリビニルアルコールの１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対して硫酸ナトリウムが０．２５部、ポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１７．１％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて希釈した濃度１６．０％の塗料を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で多孔質インク受容層及び光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００８４】
＜実施例３＞
微細シリカ分散液Ａ１００部に、硫酸ナトリウムの１０％水溶液を１部、及びけん化度が９５．０％、重合度が３５００であるポリビニルアルコール（（株）クラレ製、商品名：ＰＶＡ−６３５）の１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対して硫酸ナトリウムが０．５部、ポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１７．１％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて希釈した濃度１６．０％の塗料を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で多孔質インク受容層及び光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００８５】
＜実施例４＞
微細シリカ分散液Ａ１００部に、炭酸ナトリウムの１０％水溶液を０．５部、及び実施例１にて使用のポリビニルアルコールの１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対して炭酸ナトリウムが０．２５部、ポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１７．１％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて希釈した濃度１６．０％の塗料を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で多孔質インク受容層及び光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００８６】
＜実施例５＞
微細シリカ分散液Ｂ１００部に、塩化ナトリウムの１０％水溶液を１部、及び実施例１にて使用のポリビニルアルコールの１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対して塩化ナトリウムが０．５部、ポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１７．０％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて希釈した濃度１６．０％の塗料を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で多孔質インク受容層及び光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００８７】
＜実施例６＞
微細シリカ分散液Ｂ１００部に、硫酸ナトリウムの１０％水溶液を２部、及び実施例１にて使用のポリビニルアルコールの１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対して硫酸ナトリウムが１部、ポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１６．９％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて希釈した濃度１６．０％の塗料を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で多孔質インク受容層及び光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。表２における細孔ピークの肩は１０〜２０ｎｍにわたってなだらかに存在する。
【００８８】
＜実施例７＞
実施例１と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設けた。続いてこのインク受容層上に、キャスト塗工層用塗工液Ｅをロールコーターを用いて塗被した後、ただちに表面温度が７５℃の鏡面ドラムに圧接し、乾燥後、離型させ、光沢発現層（キャスト塗工層）を設け、インクジェット記録シートを製造した。この時のキャスト塗工量は固形分質量で、５ｇ／ｍ２であった。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００８９】
＜実施例８＞
実施例２と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９０】
＜実施例９＞
実施例３と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９１】
＜実施例１０＞
実施例４と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９２】
＜実施例１１＞
実施例５と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９３】
＜実施例１２＞
実施例６と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。表２における細孔ピークの肩は１０〜２０ｎｍにわたってなだらかに存在する。
【００９４】
＜実施例１３＞
微細シリカ分散液Ｆを用いたこと以外は、実施例５と同様にして光沢発現層を有するインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９５】
＜実施例１４＞
微細シリカ分散液Ｇを用いたこと以外は、実施例５と同様にして光沢発現層を有するインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９６】
＜実施例１５＞
実施例５において、塩化ナトリウムの１０％水溶液１部に代えて、水酸化ナトリウムの１０％水溶液１部を用いたこと以外は実施例５と同様にして、光沢発現層を有するインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９７】
＜比較例１＞
塩化ナトリウムを添加しなかったこと以外は実施例１と同様の方法で支持体上に多孔質インク受容層及び光沢発現層を設けてインクジェット記録シートを得た。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９８】
＜比較例２＞
微細シリカ分散液Ａ１００部に、けん化度が８８．０％、重合度が３５００であるポリビニルアルコール（（株）クラレ製、商品名：ＰＶＡ−２３５）の１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対してポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１７．１％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて希釈した濃度１６．０％の塗料を用いたこと（電解質添加なし）以外は実施例１と同様の方法で多孔質インク受容層及び光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【００９９】
＜比較例３＞
塩化ナトリウムを添加しなかったこと以外は実施例５と同様の方法で多孔質インク受容層及び光沢発現層を設け、インクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【０１００】
＜比較例４＞
比較例１と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【０１０１】
＜比較例５＞
比較例２と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【０１０２】
＜比較例６＞
比較例３と同様にして支持体上に多孔質インク受容層を設け、続いて実施例７と同様にして光沢発現層（キャスト塗工層）を設けてインクジェット記録シートを製造した。塗料の主成分、ｐＨ及び光沢発現層の積層方法を表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨ及びインクジェット記録シートの品質を表２に示した。
【０１０３】
＜比較例７＞
微細シリカ分散液Ｃ１００部に、実施例１にて使用のポリビニルアルコールの１０％水溶液を４０部混合し、シリカ１００部に対してポリビニルアルコールが２０部含まれる固形分濃度１７．０％の塗料を調製し、イオン交換水を加えて希釈した濃度１６．０％の塗料を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で多孔質インク受容層を設けた。この受容層は大きいひび割れを多数生じているため支持体から剥がれる部分も多く、この上に塗料を塗工することはできなかった。よって光沢発現層を設けることはできなかった。塗料の主成分、ｐＨを表１、多孔質インク受容層の細孔分布、ひび割れ、膜面ｐＨを表２に示した。
【０１０４】
【表１】
2004001463.tif 000002
【０１０５】
【表２】
2004001463.tif 000003
【０１０６】
表１の各実施例のように、湿式法微細シリカ、電解質及びポリビニルアルコールを含む水性塗料を支持体に塗工、乾燥して多孔質インク受容層を設け、その上に光沢発現層を設けることが本発明の特徴である。水溶性塩類の効果により多孔質インク受容層中に大きな凝集構造が形成され、大きな細孔が多数存在することによって毛細管収縮力が緩和され、乾燥工程のひび割れが防止されている。その結果、表２の各実施例から明らかなように、各実施例の多孔質インク受容層は、細孔径６〜１５０ｎｍの範囲に２つのピーク、または肩を有する１つの幅広いピークを有していた。また顔料の細孔径に比べて受容層の細孔径が大きく、モード細孔径とメジアン細孔径の差の絶対値が１０ｎｍ以上であることからも分かるように大きな細孔が多数存在する幅広い細孔ピークを有していた。そのためインク吸収速度が十分に速く、インク吸収量も大きかった。さらにインクジェット記録シートの光沢度も十分に高かった。
【０１０７】
一方、各比較例のように電解質を含まない水性塗料を塗工、乾燥して多孔質インク受容層を得た場合、大きな凝集構造を生じないために乾燥過程での強い毛細管収縮力を緩和することができず、受容層はひび割れを多数生じた。そのため比較例１〜６では光沢発現層を設けても光沢度は低かった。上記細孔径範囲の細孔ピークが１つのみであることからも分かるように、凝集構造を生じないために受容層の細孔径は大きくなっておらず、そのためにインク吸収速度は遅く、細孔容積も大きくなりにくいためにインク吸収量も不足していた。比較例７では大きなひび割れが多数生じ、支持体から剥がれたために光沢発現層を設けることができなかった。
【０１０８】
シリカの種類の影響について述べれば、活性珪酸を縮合させて製造された微細シリカ分散液Ｂを用いた場合にはインク受容層の細孔容積が最も高く、インク吸収量も良好である上、光沢も良好であった。この微細シリカは式１と式２を同時に満たすものであった。
（式１）　比表面積（ｍ２／ｇ）＜７３０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
（式２）　比表面積（ｍ２／ｇ）＞４５０−６００×細孔容積（ｍｌ／ｇ）
微細シリカ分散液Ｆは、やはり活性珪酸を縮合させて製造されたシリカであるが、式１は満たさず、式２のみを満たす。この場合は、インク受容層に多少ひび割れが見られた。微細シリカ分散液Ｇは、式１を満たし、式２を満たさない例であり、インク受容層の細孔容積がやや低めであり、インク吸収量が多少低下した。
【０１０９】
【発明の効果】
本発明のインクジェット記録シートは、微細顔料を用いた場合にしばしば問題となるひび割れによる成膜不良を生じること無く製造することができた。また、写真印画紙調の高い光沢を有し、高いインク吸収速度とインク吸収量を兼ね備えたものであり、銀塩写真の代替として好適なものである。
【０１１０】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における多孔質インク受容層の細孔分布曲線の図。Ｖはインク受容層の細孔容積を、Ｄはインク受容層の細孔径を示す。
【図２】電解質をインク受容層に含まず、細孔径６〜１５０ｎｍの範囲にピークを１つしか持たないインク受容層の細孔分布曲線の図（本発明外）。
【図３】シリカの比表面積と細孔容積をそれぞれグラフの縦軸と横軸にとり、各シリカを塗料として基材に塗工した際の塗膜ヘイズ値を５段階に分類し、記載した。ヘイズ値は、（株）クラレ製ポリビニルアルコール１４０Ｈをシリカに対し２０部数混合した塗料を、基材の（株）東レ製、商品名：ルミラー１００−Ｑ８０Ｄに乾燥質量が２０ｇ　／ｍ２になるように塗工したものを、ＪＩＳ規格Ｋ７１０５に従って測定した。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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