(57)【要約】【課題】一般家庭用のプラズマディスプレイ用前面フィルターとして、視認性を著しく損なわない光学特性を有し、実用的な電磁遮蔽性能、近赤外線シールド能を兼ね備え、ディスプレイの電源オフ時にも外観上違和感のない反射特性を有するプラズマディスプレイ用前面フィルターを提供する。【解決手段】ディスプレイ画面の０度から４５度の入射角範囲で、可視光線反射率が１０％以下、反射色のクロマティクネス指数ａが３０以下であり、ハンターのクロマティクネス指数ｂが１０以下である。透明基体に透明導電膜、透明粘着剤、透明樹脂フィルムの順に積層されたものであって、該透明樹脂フィルムは、反射防止層が形成されているか、または、表面が防眩処理されている。また、可視光線透過率が４０％以上であり、波長８００〜１０００ｎｍでの透過率が２０％以下、透明導電膜の表面抵抗値が２．５Ω／□以下である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイに用いる前面フィルターにおいて、ディスプレイ画面の０度から４５度の入射角範囲で、可視光線反射率が、１０％以下であることを特徴とする前面フィルター。
【請求項２】
ディスプレイ画面の０度から４５度の入射角範囲において、反射色のクロマティクネス指数ａが３０以下であり、ハンターのクロマティクネス指数ｂが１０以下であることを特徴とする請求項１に記載の前面フィルター。
【請求項３】
反射色のクロマティクネス指数ａが２０以下であることを特徴とする請求項２に記載の前面フィルター。
【請求項４】
透明基体に透明導電膜、透明粘着剤、透明樹脂フィルムの順に積層されたものであって、該透明樹脂フィルムは、反射防止層が形成されているか、または、表面が防眩処理されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の前面フィルター。
【請求項５】
可視光線透過率が４０％以上であり、波長８００〜１０００ｎｍでの透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の前面フィルター。
【請求項６】
透明導電膜の表面抵抗値が２．５Ω／□以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の前面フィルター。
【請求項７】
透明導電膜は、透明酸化物層と金属層とが交互に積層されたものであり、金属層はｎ層でなり、透明酸化物層は（ｎ＋１）層でなり、ｎは３もしくは４であり、金属層はＡｇが主成分であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかにに記載の前面フィルター。
【請求項８】
透明導電膜の表面抵抗値が１．２Ω／□以下であり、波長８００〜１０００ｎｍの範囲での透過率が２％以下であり、金属層が４層からなり、各金属層の膜厚が１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至７に記載の前面フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのディスプレイ、特に、プラズマディスプレイから発生する電磁波或いはリモコンの誤動作を生じる近赤外線の遮蔽機能を有する前面フィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】
社会が高度に情報化されてくるにつれて、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩、普及している。そのなかでディスプレイはテレビジョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普及し、また、その薄型化、大型化が進んでおり、大型の薄型ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されている。しかしプラズマディスプレイは、その構造や動作原理上、強度の漏洩電磁波、近赤外線を発生する。近年漏洩電磁波の人体や他の機器に与える影響が取り沙汰されるようになっており、例えば日本の情報処理装置等電波障害自主規制協議会ＶＣＣＩ（Ｖｏｌｕｎｔａｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｃｏｕｎｃｉｌ  ｆｏｒ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ  ｂｙ  ｄａｔａ  ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｏｆｆｉｃｅ  ｍａｃｈｉｎｅ）による基準値内に抑えることが必要となってきている。
【０００３】
また、近赤外線は、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こす問題が生じている。特に問題となる波長としてリモコンや伝送系光通信に使用されている８２０ｎｍと８８０ｎｍ、９８０ｎｍが挙げられる。そのため、近赤外領域である８００〜１０００ｎｍの波長領域の光を実用上問題のないレベルまでシールドする必要がある。近赤外線シールド能に関しては、従来、近赤外線吸収色素を用いて近赤外吸収フィルターを作製することが知られている（特許文献１）。
【０００４】
しかし近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光といった環境よる劣化が生じ、経時とともに近赤外線シールド能が低下してしまう問題があった。これらの問題を解決するための手段として、特許３００４２２２号では金属層と高屈折率透明薄膜層が交互に積層された導電性の透明積層体が記載されている。
【０００５】
しかし一般家庭用テレビとしてプラズマディスプレイを使用する場合、漏洩電磁波に関するＶＣＣＩのクラスＢの規制を満足する必要があり、クラスＢの規制値を満足するためには１．２Ω／□以下の表面抵抗値をもつ透明導電膜を有する前面フィルターが必要であり、このような表面抵抗値とディスプレイの視認性を著しく損なわないような導電体を金属層と高屈折率透明薄膜層の交互積層体で作製するのは困難であった。（特許文献２）
さらに従来の金属層と高屈折率透明薄膜層の交互積層体による透明積層体による前面フィルターにおいては、反射率や反射色調が垂直入射での最適化しか行われていないため、斜入射での反射率が高く、斜めから見た場合に赤味を帯びた色となってしまうことがある。
【０００６】
表面抵抗値を下げて電磁遮蔽性能を高めるために、導電層であるＡｇの膜厚を厚くする必要があるが、Ａｇを厚くすると反射率が大きくなるとともに、反射色調も紫から赤系の色調になってしまう。特に反射色調は垂直入射でニュートラルであっても、入射角が大きくなるにつれて赤みを帯び、ディスプレイのコントラストを大幅に低下させるとともに、ディスプレイの電源オフ時の外観が著しく損なわれてしまう。
【０００７】
これらの理由から通常一般家庭用のプラズマディスプレイとしては低抵抗な導電性メッシュを有するプラズマディスプレイ用前面フィルターが使用されている。しかしながら、導電性メッシュは近赤外線シールド能がないために別途近赤外線吸収層を設ける必要があることや、メッシュパターンとディスプレイの画素パターンによる干渉縞の発生や、歩留まりの悪さによるコスト高などが問題となる。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１０−２１７３８０
【特許文献２】
特許第３００４２２２号報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、上記従来技術に鑑み、一般家庭用のプラズマディスプレイ用前面フィルターとして、プラズマディスプレイの視認性を著しく損なわない光学特性を有し、さらに実用的な電磁遮蔽性能、特にＶＣＣＩのクラスＢの規制値を満足するのに充分な電磁遮蔽性能と、周辺電子機器の誤動作をまねく近赤外線を遮断するのに充分な近赤外線シールド能を兼ね備え、さらにまた、ディスプレイの電源オフ時にも外観上違和感のない反射特性を有し、耐環境性に優れた、低コストのプラズマディスプレイ用前面フィルターを提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、ディスプレイ用フィルターを構成する透明導電膜の基本膜構成として透明酸化物層とＡｇを主成分とする金属層とが交互に計９層積層された積層体の膜構成を最適設計することにより、ディスプレイの視認性を損なわない光学特性を有し、一般家庭用途に適する電磁遮蔽性能と近赤外線シールド性能をもち、且つ、電源オフ時にも外観上違和感のない反射特性を有し、さらに実用レベルの耐環境性をも併せ持つ前面フィルターが、低コストに得ることができることを見出し、本発明に到った。
【００１１】
すなわち本発明の前面フィルターは、ディスプレイに用いる前面フィルターにおいて、ディスプレイ画面の０度から４５度の入射角範囲で、可視光線反射率が、１０％以下であることを特徴とする前面フィルターである。
【００１２】
また、本発明の前面フィルターは、前記前面フィルターにおいて、ディスプレイ画面の０度から４５度の入射角範囲において、反射色のクロマティクネス指数ａが３０以下であり、ハンターのクロマティクネス指数ｂが１０以下であることを特徴とする前面フィルターである。
【００１３】
また、本発明の前面フィルターは、前記前面フィルターにおいて、反射色のクロマティクネス指数ａが２０以下であることを特徴とする前面フィルターである。
【００１４】
また、本発明の前面フィルターは、前記前面フィルターにおいて、透明基体に透明導電膜、透明粘着剤、透明樹脂フィルムの順に積層されたものであって、該透明樹脂フィルムは、反射防止層が形成されているか、または、表面が防眩処理されていることを特徴とする前面フィルターである。
【００１５】
また、本発明の前面フィルターは、前記前面フィルターにおいて、可視光線透過率が４０％以上であり、波長８００〜１０００ｎｍでの透過率が２０％以下であることを特徴とする前面フィルターである。
【００１６】
また、本発明の前面フィルターは、前記前面フィルターにおいて、透明導電膜の表面抵抗値が２．５Ω／□以下であることを特徴とする前面フィルターである。
【００１７】
また、本発明の前面フィルターは、前記フィルターにおいて、透明導電膜の表面抵抗値が２．５Ω／□以下であることを特徴とする前面フィルターである。
【００１８】
また、本発明の前面フィルターは、前記フィルターにおいて、透明導電膜は透明酸化物層と金属層とが交互に積層されたものであり、金属層はｎ層でなり、透明酸化物層は（ｎ＋１）層でなり、ｎは３もしくは４であり、金属層はＡｇが主成分であることを特徴とする前面フィルターである。
【００１９】
また、本発明の前面フィルターは、前記フィルターにおいて、透明導電膜の表面抵抗値が１．２Ω／□以下であり、波長８００〜１０００ｎｍの範囲での透過率が２％以下であり、金属層が４層からなり、各金属層の膜厚が１５ｎｍ以下であることを特徴とする前面フィルターである。
【００２０】
従来の前面フィルターの光学特性に関して、特に反射率と反射色調（以下反射特性と表記する）についは、垂直入射（入射角度＝０度）での最適設計が行われていた。
【００２１】
しかし、実際の視聴環境や電源オフ時の外観等を考慮すると、斜入射における反射特性を含めて考慮した設計をする必要がある。
【００２２】
斜入射で特に問題となる角度範囲は、ディスプレイ表示時の視聴環境であれば０度〜３０度以内であるが、電源がオフの時を考慮すれば、０度から４５度の範囲で見る外観が問題となる。
【００２３】
前面フィルターの可視光線反射率は、ディスプレイのコントラストを向上させるために、垂直入射において通常３％以下となるように、電磁遮蔽および赤外線遮蔽のために形成される膜の構成が設計される。
【００２４】
通常入射角が大きくなるにつれて可視光線反射率は大きくなり、垂直入射のみを考慮した光学設計では、斜めの入射角において、可視光反射率が２０％を超えてしまうこともある。前面フィルターの可視光線反射率が１０％を超えると蛍光灯等の映り込みにより、ディスプレイの視認性が著しく損なわれてしまう。
【００２５】
本発明の前面フィルターは０〜４５度までの入射角においても可視光線反射率が１０％以下とし、ディスプレイに蛍光灯等が映っても視認性を著しく損なうことはない。さらに、ディスプレイの電源がオフの状態においても、ギラツキ感がほとんど無く、外観上の違和感が無い。
【００２６】
また、前面フィルターの反射色調は、垂直入射においてなるべく無彩色となるように光学設計されているが、垂直入射のみを考慮した光学設計では、入射角が大きくなるにつれてやや黄色がかった色や赤色がかった色となってしまう。これらの黄色や赤色は、ディスプレイの電源がオフの状態において、外観に違和感が強く感じられ、問題となる。
【００２７】
外観上の違和感については、個人差はあるものの、ハンターのクロマティクネス指数について、ａが２０以上でｂが１０以上の場合、やや違和感を覚え、ａが３０以上でｂが２０以上の場合、かなりの違和感を覚えるようになる。
【００２８】
本発明の前面フィルターは４５度までの入射角において黄色や赤色が強くならないようにハンターのクロマティクネス指数ａが３０以下、好ましくは２０以下とし、ハンターのクロマティクネス指数ｂが１０以下となるように光学設計するものであり、ディスプレイの電源がオフの状態において、外観上の違和感が無い。
【００２９】
さらに、前述の反射特性を有する本発明の前面フィルターは、一般家庭用プラズマディスプレイとして使用するために、クラスＢの電磁遮蔽性能を満たすように、１．２Ω／□以下の表面抵抗値の透明導電膜からなる。
【００３０】
前面フィルターの可視光線透過率を低くすることにより、前面フィルター裏面（ディスプレイ側の面）の反射の影響を小さくすることができるが、可視光線透過率が低い前面フィルターを配置すると、ディスプレイの視認性が低下してしまい、好ましくない。このため、本発明の前面フィルターは、可視光線透過率が４０％以上とするものである。
【００３１】
つぎに、プラズマディスプレイから放射される近赤外線を実用上問題とならないように遮蔽するためには、８００〜１０００ｎｍの波長領域における透過率を２％以下とする必要があり、２０％を越えると、プラズマディスプレイから放射される近赤外線が、周辺電子機器の誤動作を引き起こすおそれがある。
【００３２】
さらに、表示器から発生する電磁波を実用レベルで遮蔽するためには、２．５Ω／□以下の表面抵抗値とすることが必要であり、一般家庭などを対象とするとＶＣＣＩのクラスＢでは、１．２Ω／□以下とすることが好ましい。
【００３３】
本発明の前面フィルターが有する反射特性と可視光透過率を達成し、さらに、表面抵抗値が２．５Ω／□以下とするためには、Ａｇを主成分とする厚みが１５ｎｍ以下の金属層を３層もしくは４層とすることが好ましい。
【００３４】
さらに、表面抵抗値が１．２Ω／□以下で、本発明の前面フィルターが有する反射特性と可視光透過率を達成する透明導電膜は、Ａｇを主成分とする金属層が４層であることが好ましく、各金属層の厚みは、１５ｎｍ以下とするのが望ましい。
【００３５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の前面フィルターの構成を示すもので、透明基体１に透明導電膜２，透明粘着剤層３、樹脂フィルム層４、反射防止コーティング層５が積層されている構成である。
【００３６】
透明基体１としては、透明のガラス、プラスチック等を用いることが出来、例えばガラス基板としては、汎用の普通板ガラス、所謂フロート板ガラスなどであり、クリアをはじめグリ−ン、ブロンズ等各種着色ガラスや各種機能性ガラスが使用できることは言うまでもない。また、ガラスは透明プラスチック板等との積層体であってもよい。なお、ガラスの組成は、ソーダ石灰ガラス、アルミノシリケートガラス等であるが、これらに限定されないことは、言うまでもない。なお、強化された強化ガラス（例えば、表面圧縮応力が１００ＭＮ／ｍ２程度）、或いは半強化ガラス（例えば、表面圧縮応力が４０〜８０ＭＮ／ｍ２程度）を用いるとガラスが割れにくいのでより好ましい。なお透明基体としてはプラズマディスプレイの前面板ガラス自体を透明基体として利用することもできる。
【００３７】
透明導電膜２の成膜方法としては、生産性の点よりスパッタリング法が好ましいが、その他の成膜法である真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＰＣＶＤ（プラズマＣＶＤ）法等で成膜することも可能である。
【００３８】
透明粘着剤層３には透光性に優れたアクリル系粘着剤（２５μｍ厚）をバーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等の湿式法で塗布することができる。
【００３９】
反射防止コーティング層５を形成する基板となる樹脂フィルム４はＴＡＣ、ＰＥＴ等の透光性に優れた樹脂フィルムが使用でき、また、反射防止コーティング層５は、反射防止コーティング層５を形成する樹脂フィルム４の光学特性を考慮し、光学理論に基づいた光学設計によって反射防止コーティング層の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定する。
【００４０】
反射防止コーティング層５は、反射防止コーティング層が形成されている面の可視光線反射率が０．５％以下の性能を有することが望ましい。反射防止コーティング層が形成されている面の可視光線反射率は、反対面（反射防止コーティング層が形成されていない面）をサンドペーパーで荒らし、黒色塗装等により、反対面の反射を無くして、反射防止コーティング層が形成されている面のみでおこる反射光を測定することにより測定される。
【００４１】
反射防止層５として具体的には、可視域において吸収が無く屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば反射率を抑えたい波長の１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、樹脂フィルム５の光学特性による光学設計の制限が少ない。特に基材側から順に、屈折率が１．６０〜１．９０の高屈折率層、屈折率が１．３０〜１．５５の低屈折率層から構成される２層の反射防止層は広い波長領域にわたって優れた反射防止性能がえられるため、反射防止性能と製造コストのバランスのとれた反射防止コーティング層として好適に用いることができる。これらの透明な無機化合物薄膜は、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化合物薄膜は、湿式塗工等、従来公知の方法を採用できる。
【００４２】
図２は、本発明における透明導電膜の構成であり、ＡＺＯ１０と金属層１２とで構成されている。
【００４３】
【実施例】
実施例により本発明を具体的に説明する。
【００４４】
なお、実施例、比較例で得られた透明導電膜あるいは前面フィルターの性能評価は以下の方法で評価した。
（１）表面抵抗値：  ４探針プローブ抵抗計（エプソン社製）
（２）可視光線透過率、可視光線反射率：  ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６に準拠し、分光光度計（４０００型、日立製作所製スペクトロフォトメーター）により波長３８０〜７８０ｎｍ間の可視光線透過率、可視光線反射率を測定した。
（３）反射色調：反射色調については大塚電子製マルチ測光（ＭＣＰＤ７０００）により種々の入射角での波長３８０〜７８０ｎｍの分光反射率を測定し、色演算によってＣ光源ベースのハンターのクロマティクネス指数を算出した。
（４）膜厚：段差測定器ｄｅｋｔａｋ３（Ｓｌｏａｎ社製）により測定した。
【００４５】
実施例１
透明基体として、大きさが１０００ｍｍ×５８０ｍｍ×約３ｍｍ（厚さ）のフロートガラス基板（可視光線透過率：９０．４％、ガラスの周縁部の黒枠プリントおよびブスバー付き、半強化加工品）の表面上に、ＤＣマグネトロンスパッタリング装置を用いて下記順序で被膜を形成した。先ず、スパッタ装置のカソードに予めＡｕを１原子％ドープしたＡｇターゲット、Ａｌを４原子％ドープしたＺｎＯターゲット（以下ＡＺＯターゲットと称し、ＡＺＯターゲットを用いて成膜される膜をＡＺＯと称する）を取り付けた後、成膜前の圧力が２×１０―４Ｐａ以下となるように真空チャンバー内の排気を充分に行った。なお、本方法は、真空チャンバー内のターゲットが地面に対し垂直に配置され、搬送キャリアに固定されたガラス基板がターゲットの前面を横方向に往復動する時に所定の電力が印加されたターゲットから飛び出した金属あるいは金属酸化物がガラス基板に付着することにより成膜されるようになっている。
【００４６】
１パス目として、成膜室の雰囲気をＡｒ：Ｏ２＝９７：３とした後、ＡＺＯターゲットに所定の電力を印加しＡＺＯの膜厚が３０ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００４７】
２パス目として、成膜室の雰囲気をＡｒ１００％とした後、Ａｕを１原子％ドープしたＡｇターゲットに所定の電力を印加し、金属層の膜厚が１２ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００４８】
３パス目として、成膜室の雰囲気を再びＡｒ：Ｏ２＝９７：３とした後、ＡＺＯターゲットに所定の電力を印加しＡＺＯの膜厚が７０ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００４９】
４パス目として、成膜室の雰囲気をＡｒ１００％とした後、Ａｕを１原子％ドープしたＡｇターゲットに所定の電力を印加し、金属層の膜厚が１４ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００５０】
５パス目として、成膜室の雰囲気を再びＡｒ：Ｏ２＝９７：３とした後、ＡＺＯターゲットに所定の電力を印加しＡＺＯの膜厚が７０ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００５１】
６パス目として、成膜室の雰囲気をＡｒ１００％とした後、Ａｕを１原子％ドープしたＡｇターゲットに所定の電力を印加し、金属層の膜厚が１３ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００５２】
７パス目として、成膜室の雰囲気を再びＡｒ：Ｏ２＝９７：３とした後、ＡＺＯターゲットに所定の電力を印加しＡＺＯの膜厚が７０ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００５３】
８パス目として、成膜室の雰囲気をＡｒ１００％とした後、Ａｕを１原子％ドープしたＡｇターゲットに所定の電力を印加し、金属層の膜厚が１２ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。
【００５４】
９パス目として、成膜室の雰囲気を再びＡｒ：Ｏ２＝９７：３とした後、ＡＺＯターゲットに所定の電力を印加しＡＺＯの膜厚が３５ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行った。実施例１の透明導電膜の各層の膜厚を含めた層構成を表１に示す。
【００５５】
以上のようにしてガラス基板上に透明酸化物層と金属層を交互に所定の膜厚成膜することにより、透明導電膜を形成させた後、アクリル系粘着剤シート｛商品名「ノンキャリア」、リンテック（株）製｝をロールによって圧着させるラミネーターを用いて貼り合わせ、さらにその上にポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：１００μｍ）を同様のラミネーターによって貼り合わせた。このフィルムの上層に真空蒸着法により高屈折率層としてＭｇＯを１００ｎｍを形成し、低屈折率層としてＭｇＦ２を９０ｎｍ形成し、反射防止コーティング層を形成させた。該反射防止コーティング層を前記の反射防止コーティング層が形成されている面のみでおこる反射光を測定する方法で測定したところ、可視光線反射率は０．３％であった。以上のようにして透明ガラス基板上に透明導電性積層膜、透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層が形成された前面フィルターを作製した。ただし透明導電膜の表面抵抗値の測定は粘着剤シートを貼り合わせる前に測定し、他の光学特性の評価は透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し、前面フィルターとして完成されたものについて行った。このように作製した前面フィルターの各特性（可視光線透過率、シート抵抗、８００〜１０００ｎｍでの最大透過率、入射角０度〜４５度での可視光線反射率と反射色のハンターのクロマティクネス指数）を表１に示す。実施例１で作製した前面フィルターの特性を評価した結果、可視光線透過率：６３．０％、表面抵抗値：１．１Ω／□、８００〜１０００ｎｍでの最大透過率：１．０％であった。また、可視光反射率は入射角１０度のとき６．６％、入射角３０度のとき７．７％、入射角４５度のとき９．３％であった。また、反射色のハンターのクロマティクネス指数は入射角１０度のとき（ａ，ｂ）＝（５．２，０．６）、入射角３０度のとき（ａ，ｂ）＝（１１．０，３．０）、入射角４５度のとき（ａ，ｂ）＝を（１８．６，７．０）であり、ディスプレイ表示の視認性を損なわない光学特性と、ＶＣＣＩのクラスＢを満足する電磁遮蔽性能、さらに実用レベルの近赤外線遮蔽性能を示すとともに、耐湿性（６０℃、９０％ＲＨ、１０００ｈ）も評価した結果、０．２ｍｍ以上の大きさをもつ顕著な膜欠陥や色度変化は無く前面フィルターとして優れた性能を有していた。
【００５６】
実施例２
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が３０ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１１ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、４層目の金属層の膜厚が１１ｎｍ、５層目のＡＺＯの膜厚が３５ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。実施例２の透明導電膜の各層の膜厚を含めた層構成を表１に示す。また、表２に実施例１と同様の評価を行った結果を示した。
【００５７】
実施例３
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が３０ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、４層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、５層目のＡＺＯの膜厚が３５ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。実施例３の透明導電膜の各層の膜厚を含めた層構成を表１に示す。また、表２に実施例１と同様の評価を行った結果を示した。
【００５８】
実施例４
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が３０ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１４ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１４ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、４層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、５層目のＡＺＯの膜厚が３５ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。実施例４の透明導電膜の各層の膜厚を含めた層構成を表１に示す。また、表２に実施例１と同様の評価を行った結果を示した。
【００５９】
実施例５
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が４７ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１１ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が８９ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１５ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が９１ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が４７ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い、合計７層の透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。
【００６０】
実施例６
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が４７ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１０ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が８９ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１４ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が９１ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１２ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が４７ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い、合計７層の透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。
【００６１】
実施例５および実施例６は、透明導電膜の表面抵抗値が２．５Ω／□以下の場合であり、その膜構成を表３に、また実施例１〜４と同様の評価結果を表４に示す。
【００６２】
比較例１
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が３０ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、４層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、５層目のＡＺＯの膜厚が３５ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。比較例１の透明導電膜の各層の膜厚を含めた層構成を表１に示す。また、表２に実施例１と同様の評価を行った結果を示した。
【００６３】
比較例２
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が３０ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１５ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１４ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が７０ｎｍ、４層目の金属層の膜厚が１３ｎｍ、５層目のＡＺＯの膜厚が３５ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。比較例３の透明導電膜の各層の膜厚を含めた層構成を表１に示す。また、表２に実施例１と同様の評価を行った結果を示した。
【００６４】
比較例３
実施例１と同じ成膜基板を用い、実施例１と同様の成膜条件によって、１層目のＡＺＯの膜厚が３５ｎｍ、１層目の金属層の膜厚が１７ｎｍ、２層目のＡＺＯの膜厚が８０ｎｍ、２層目の金属層の膜厚が１７ｎｍ、３層目のＡＺＯの膜厚が８０ｎｍ、３層目の金属層の膜厚が１７ｎｍ、４層目のＡＺＯの膜厚が４０ｎｍとなるようにガラス基板の搬送速度を調節して成膜を行い合計７層の透明導電性積層膜を形成させた後、実施例１と同様に透明粘着剤層、樹脂フィルム層、反射防止コーティング層を形成し前面フィルターを作製した。比較例４の透明導電膜の各層の膜厚を含めた層構成を表１に示す。また、表２に実施例１と同様の評価を行った結果を示した。
【００６５】
【表１】
2004264350.tif 000003
【００６６】
【表２】
2004264350.tif 000004
【００６７】
【表３】
2004264350.tif 000005
【００６８】
【表４】
2004264350.tif 000006
【００６９】
以上の実施例に示すように、透明酸化物層とＡｇを主成分とする金属層とが交互に積層された透明導電膜を用い、ディスプレイ表示の視認性を損なわない光学特性と、ＶＣＣＩのクラスＢを満足する電磁遮蔽性能、さらに実用レベルの近赤外線遮蔽性能をもち、かつ電源がオフの時にも外観上の違和感がない反射色調を有する前面フィルターが得られた。
【００７０】
【発明の効果】
本発明のプラズマディスプレイ用前面フィルターは、プラズマディスプレイの視認性を損なわない光学特性を有し、さらにＶＣＣＩのクラスＢの規制値を満足するのに充分な電磁遮蔽性能と、周辺電子機器の誤動作をまねく近赤外線を遮断するのに充分な近赤外線シールド能を兼ね備え、さらにまた、ディスプレイの電源オフ時にも外観上違和感のない反射色調を有し、併せて耐環境性に優れるため、一般家庭用のプラズマディスプレイに好適に用いることができる前面フィルターを安価に提供するものである。
【００７１】
【符号の説明】
【図面の簡単な説明】
【図１】前面フィルターの構成を示す概念断面図。
【図２】透明導電膜の構成を示す概念断面図。
【符号の説明】
１      透明基体
２      透明導電膜
３      透明粘着剤層
４      樹脂フィルム層
５      反射防止コーティング層
１０      ＡＺＯ
１２      金属層
【図１】
2004264350.tif 000007
【図２】
2004264350.tif 000008