(57)【要約】【課題】大型のフォトマスクに適した露光方法を提供する。【解決手段】基板１００とフォトマスク４とをプロキシミティギャップＰを介して対向させて露光を行う露光方法において、フォトマスク４の周囲から基板１００とフォトマスク４との間隙の給排気を行い、基板１００とフォトマスク４との間隙における圧力を調整する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板とフォトマスクとを所定のプロキシミティギャップを介して対向させて露光を行う露光方法において、
前記フォトマスクの周囲から前記基板と前記フォトマスクとの間隙の加減圧を行い、前記基板と前記フォトマスクとの間隙を調整することを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記基板への露光開始前に前記フォトマスクの撓みが矯正されるように、前記基板と前記フォトマスクとの間隙における圧力を調整することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
大気圧にフォトマスクの単位面積あたりの重さを加算した圧力となるように、前記基板と前記フォトマスクとの間隙における圧力を調整することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光方法。
【請求項４】
基板とフォトマスクとのギャップ調整を行って露光する露光方法において、
前記基板と前記フォトマスクとの間隙を狭くするときには、前記フォトマスクの周囲から前記間隙の排気を行い、前記基板と前記フォトマスクとの間隙を広くするときには、前記フォトマスクの周囲から前記間隙へ給気を行うことでギャップ調整を行う露光方法。
【請求項５】
基板とフォトマスクとを所定のプロキシミティギャップを介して対向させて露光を行う露光装置において、
前記フォトマスクを囲むスリット状のノズルと、
前記ノズルを介して給排気を行う給排気手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記フォトマスクは前記フォトマスクを囲むマスクホルダーに保持され、
前記ノズルは、前記フォトマスクの側壁と、前記マスクホルダーの内壁との間に間隙が設けられて形成されていることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記マスクホルダーの下端部と前記基板とのギャップは、前記フォトマスクと前記基板とのギャップの５倍以下であることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光方法及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
カラーフィルタ等の基板とフォトマスクとをプロキシミティギャップを介して対向させて露光を行う露光方法が知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−３４７０２０号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
近年、カラーフィルタの大型化に伴い、フォトマスクのサイズも大型化している。このため、プロキシミティ方式の露光において、カラーフィルタやフォトマスクの大型化の影響を考慮する必要がある。例えば、フォトマスクが大型化すると、フォトマスクの自重による撓み変形により、フォトマスクの露光面に亘ってプロキシミティギャップの均一性を確保することが困難となる。多面取りの基板を大型化した場合には、１枚の基板に対する露光回数も増加し、露光工程のタクトが低下する。基板とフォトマスクとの間隙を変化させる場合、当該間隙へ大気が流入、流出することにより、当該間隙の圧力の増減が緩和されるが、基板やフォトマスクが大型化すると、大気の流入、流出が圧力の増減の速さに追い着かず、間隙の圧力が著しく増減することがある。この場合、例えばフォトマスクがマスクホルダーから離脱したり、破損することもある。
【０００５】
そこで、本発明は、大型のフォトマスクに適した露光方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【０００７】
本発明の露光方法は、基板（１００）とフォトマスク（４）とを所定のプロキシミティギャップ（Ｐ）を介して対向させて露光を行う露光方法において、前記フォトマスクの周囲から前記基板と前記フォトマスクとの間隙の加減圧を行い、前記基板と前記フォトマスクとの間隙を調整することにより、上述した課題を解決する。
【０００８】
本発明の露光方法によれば、基板とフォトマスクとの間隙の加減圧によって、間隙の圧力によりフォトマスクが下面から受ける力を調整可能である。従って、例えば、間隙の圧力を高めて大型のフォトマスクの自重による撓みを矯正することができる。また、基板とフォトマスクとの離間や接近に伴う間隙の圧力変化を緩和し、フォトマスクの脱落等を防止することもできる。しかも、本発明の露光方法では、フォトマスクの全周から間隙の加減圧を行うから、迅速に間隙の圧力を調整可能である。従って、間隙の圧力の変化に対して間隙の気体の流入、流出が追い着かない大型のフォトマスクに対して特に有効である。
【０００９】
本発明の露光方法において、前記基板への露光開始前に前記フォトマスクの撓みが矯正されるように、前記基板と前記フォトマスクとの間隙における圧力を調整してもよい。この場合、フォトマスクの撓みが矯正されてから露光が開始されるため、フォトマスクが変形したままで露光されるという不都合を回避できる。なお、撓みが完全に矯正された後に露光が開始されてもよいし、適宜に設定したレベルまで矯正された後に露光が開始されてもよい。撓みが矯正されたことを確認後、露光を開始するようにしてもよいし、設定された露光開始時期に間に合うように撓み矯正を行ってもよい。
【００１０】
本発明の露光方法において、大気圧にフォトマスクの単位面積あたりの重さを加算した圧力となるように、前記基板と前記フォトマスクとの間隙における圧力を調整してもよい。この場合、基板とフォトマスクとの間隙の気体がフォトマスクを押し上げる力は、大気圧とフォトマスクの重さによりフォトマスクに対して下方へ働く力と同じになる。従って、フォトマスクに働く力がキャンセルされて、自重による撓み変形が適正に矯正される。なお、間隙の圧力を上述した適正な圧力に保つためには、例えば、上述した適正な圧力で間隙に気体を噴出すればよい。また、フォトマスクの単位面積あたりの重さは、例えば、フォトマスクの材質の比重（比重量）にフォトマスクの厚さを乗算して求めればよい。
【００１１】
本発明の他の露光方法は、基板（１００）とフォトマスク（４）とのギャップ調整を行って露光する露光方法において、前記基板と前記フォトマスクとの間隙を狭くするときには、前記フォトマスクの周囲から前記間隙の排気を行い、前記基板と前記フォトマスクとの間隙を広くするときには、前記フォトマスクの周囲から前記間隙へ給気を行うことでギャップ調整を行うことにより上述した課題を解決する。
【００１２】
基板とフォトマスクとを急激に接近又は離間させると、基板とフォトマスクとの間隙の気体がフォトマスクの周囲から流出、流入する時間的余裕が無く、間隙の圧力が上昇又は低下する。そして、間隙の圧力の上昇や低下がフォトマスクの脱落等を招くこともある。しかし、基板とフォトマスクとの接近、離間に合わせて間隙の排気、給気を行うことにより、圧力の上昇、低下が緩和され、フォトマスクの脱落等も防止される。換言すれば、基板とフォトマスクとを迅速に接近又は離間させることができる。しかも、本発明の他の露光方法では、フォトマスクの全周から間隙の給排気を行うから、迅速に間隙の圧力を調整可能である。従って、間隙の圧力の変化に対して間隙の気体の流入、流出が追い着かない大型のフォトマスクに対して特に有効である。
【００１３】
本発明の露光装置は、基板（１００）とフォトマスク（４）とを所定のプロキシミティギャップ（Ｐ）を介して対向させて露光を行う露光装置（１）において、前記フォトマスクを囲むスリット状のノズル（１３）と、前記ノズルを介して給排気を行う給排気手段（６）とを備えることにより、上述した課題を解決する。
【００１４】
本発明の露光装置によれば、上述した本発明の露光方法を実現可能である。
【００１５】
本発明の露光装置において、前記フォトマスクは前記フォトマスクを囲むマスクホルダー（５）に保持され、前記ノズルは、前記フォトマスクの側壁（４ｂ）と、前記マスクホルダーの内壁（１１ｃ）との間に間隙が設けられて形成されていてもよい。この場合、ノズルの内周側はフォトマスクの側壁によって形成されるから、マスクホルダーの構成を簡素にすることができる。しかも、ノズルはフォトマスクに隣接することになるから、フォトマスクと基板との間隙の給排気が確実に行われる。
【００１６】
本発明の露光装置において、前記マスクホルダーの下端部（１５）と前記基板とのギャップは、前記フォトマスクと前記基板とのギャップの５倍以下であってもよい。フォトマスクと基板との間隙の圧力は、ノズルからの給排気量、ギャップ、スリットの長さ等によって決定される。ここで、マスクホルダーの下端部が下方に突出するほど、フォトマスクと基板との間隙を正圧に保つ観点では望ましいが、その一方で、マスクホルダーの下端部が基板に接触するおそれも生じる。しかし、マスクホルダーの下端部と基板とのギャップがフォトマスクと基板とのギャップの５倍以下であれば、フォトマスクと基板との間隙の圧力を正圧に保つことが可能である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明を適用した露光装置１の構成を示す側面図である。露光装置１は、カラーフィルタ用の基板１００に対して露光を行う装置として構成されている。
【００１８】
基板１００は、例えばガラス基板で構成され、ガラス基板の表面には顔料やレジストが薄膜状に成膜されている。基板１００は、例えば厚さ１ｍｍ、面積４ｍ２に形成されている。１枚の基板１００からは、６枚のカラーフィルターが取り出される。このため、図５にも示すように、基板１００上の６つの露光領域１００ａ…１００ａに対して露光装置１により露光が行われる。
【００１９】
図１の露光装置１は、基板１００を載置するステージ２と、ステージ２をＸ軸方向、Ｙ軸方向（図５参照）及び上下方向に駆動する駆動装置３と、ステージ２の上方に配置されたフォトマスク４と、フォトマスク４を保持するマスクホルダー５と、マスクホルダー５に給気を行うとともに、マスクホルダー５から排気を行う給排気装置６と、マスクホルダー５に窒素を供給する窒素供給装置７と、フォトマスク４の上方に配置された光源８と、制御装置９とを備えている。
【００２０】
駆動装置３は例えば電動モータとして構成されている。給排気装置６は加圧、減圧ラインと圧力調整弁などで構成され、不図示の窒素タンクから所望の圧力で窒素を送り出すことが可能である。窒素供給装置７は例えば圧力調整弁を含んで構成され、不図示の加圧窒素タンクから所望の圧力で窒素を送り出すことが可能である。制御装置９は、自己の記憶領域に保持しているプログラム等に従って、駆動装置３、給排気装置６、窒素供給装置７及び光源８の動作を制御する。
【００２１】
フォトマスク４は、図５に示すように、一つの露光領域１００ａを覆う大きさを有しており、露光領域１００ａと同じ面積の露光面４ａにマスクパターンが形成されている。
【００２２】
図２（ａ）はマスクホルダー５を示す断面図、図２（ｂ）はマスクホルダー５を下方からみた平面図である。マスクホルダー５は、下段部１１と、上段部１２とを備えている。
【００２３】
下段部１１は断面形状を逆Ｌ字型に形成され、フォトマスク４を囲むように設けられている。下段部１１は、フォトマスク４を保持するために吸着溝３を備えている。吸着溝３は下段部１１の水平部１１ａの下面内側に設けられている。吸着溝３を介して不図示の真空ポンプによりフォトマスク４と水平部１１ａの下面との間のエア抜きを行うことにより、フォトマスク４は下段部１１に吸着固定される。
【００２４】
下段部１１は、下方に開口するノズル１３と、ノズル１３に開口する気体流路１４とを備えている。ノズル１３は、下段部１１の内壁１１ｃとフォトマスク４の側壁４ｂとの間に間隙が設けられることにより形成され、フォトマスク４を囲むスリット状のノズルとなっている。気体流路１４はノズル１３の外周に沿って設けられている。気体流路１４は全周に亘って連続してノズル１３に開口していてもよいし、間欠的にノズル１３に開口していてもよい。気体流路１４は給排気装置６と接続されている。また、ノズル１３の外周側（内壁１１ｃ）には下方に突出するエアダム１５が設けられている。エアダム１５はフォトマスク４の下面４ｄに比較して数十μｍ下方まで突出している。
【００２５】
上段部１２は断面形状を逆Ｌ字型に形成され、下段部１１を囲むように設けられている。上段部１２は、下方に開口するノズル１６と、ノズル１６に開口する気体流路１７とを備えている。ノズル１６は、上段部１２の内壁１２ａと下段部１１の外壁１１ｄとの間に間隙が設けられることにより形成され、下段部１１を囲むスリット状のノズルとなっている。ノズル１６の外周側（内壁１２ａ）の下端は、内周側（外壁１１ｄ）の下端よりも高くなっている。気体流路１７はノズル１６の外周に沿って設けられている。気体流路１７は全周に亘って連続してノズル１６に開口していてもよいし、間欠的にノズル１６に開口していてもよい。気体流路１７は窒素供給装置７と接続されている。
【００２６】
以上の構成を有する露光装置１の動作状態を説明する。図３は、制御装置９が実行する露光処理の手順を示すフローチャートである。この処理は、例えば基板１００がステージ２に載置されたときに開始される。
【００２７】
まず、制御装置９は、フォトマスク４の下方に露光領域１００ａ…１００ａのいずれか一つ（例えば図５の（１）の露光領域１００ａ）が位置するように、駆動装置３の動作を制御してステージ２をＸＹ平面上で移動させる（ステップＳ１）。このときのフォトマスク４と基板１００との間隙は、例えば３００μｍである。ステップＳ２では、ステージ２を上昇させて、フォトマスク４と基板１００との間隙がプロキシミティギャップＰ（図１参照）になるように調整する。プロキシミティギャップは例えば１００μｍであり、フォトマスク４と基板１００との間隙は１秒程度で３００μｍから１００μｍまで狭められる。ステップＳ３では、光源８を駆動してフォトマスク４を介した露光を行う。ステップＳ４では、フォトマスク４と基板１００との間隙がステップＳ１における間隙（３００μｍ）になるまでステージを下降させる。このとき、フォトマスク４と基板１００との間隙は１秒程度で１００μｍから３００μｍまで広げられる。ステップＳ５では、全ての露光領域１００ａ…１００ａに対して露光が終了したか否か判定し、終了していないと判定したときは、ステップＳ１〜Ｓ４までを繰り返し、（２）から（６）までの露光領域１００ａに対する露光を順次実行する。
【００２８】
基板１００がフォトマスク４下にある間、制御装置９は給排気装置６を駆動して気体流路１４を介した給排気を行うことにより、フォトマスク４と基板１００との間隙の圧力を適宜な圧力に調整する。また、窒素供給装置７を駆動して、適宜な圧力で連続して気体流路１７に窒素を送り込む。特に、ステージの上昇時（図３のステップＳ２）及び下降時（図３のステップＳ４）では、以下のように給排気装置６を駆動する。
【００２９】
図４は、制御装置９が実行する圧力調整処理の手順を示すフローチャートである。この処理は、例えば、基板１００がステージ２に載置されたときに開始され、図３の露光処理と並行して実行される。また、この処理は、例えば、開始されてから図３の露光処理が終了するまでの間、０．１秒間隔で繰り返し実行される。
【００３０】
制御装置９は、ステージ上昇中（図３のステップＳ２参照）であるか否かを判定する（ステップＳ１１）。ステージ上昇中と判定した場合は、給排気装置６を駆動して、気体流路１４から気体を排気する（ステップＳ１２）。このときの排気量は、例えば、フォトマスク４と基板１００との間隙の圧力がフォトマスク４の撓み変形を矯正可能な正圧になるように設定する。ステージ上昇中でないと判定した場合は、ステージ下降中（図３のステップＳ４参照）であるか否かを判定する（ステップＳ１３）。ステージ下降中と判定した場合は、給排気装置６を駆動して、気体流路１４へ窒素を送り込む（ステップＳ１４）。
【００３１】
以上のように、露光装置１では、光源８を駆動して露光する前に、フォトマスク４と基板１００との間隙の圧力がフォトマスク４の撓み変形を矯正可能な静圧に調整される。従って、フォトマスク４の露光面４ａに亘ってフォトマスク４と基板１００とのプロキシミティギャップを均一にした状態で露光を行うことができる。
【００３２】
しかも、露光装置１では、フォトマスク４の外周四辺から窒素を送り込むため、大型のフォトマスク４に対しても迅速に給気可能である。さらに、フォトマスク４と基板１００との間隙の上部はエアダム１５に囲まれているから、間隙に気体が保持されやすい。従って、間隙の圧力を一定に保つことが容易である。
【００３３】
フォトマスク４と基板１００との間隙の圧力は、フォトマスク４の撓み変形を矯正可能な静圧であればよいが、より好ましくは、以下の式に示す圧力になるように調整してもよい。
【数１】
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【００３４】
上式では、フォトマスクの材質比重（比重量）ρにフォトマスクの厚さｔを乗算してフォトマスクの単位面積あたりの重さを求め、そのフォトマスクの単位面積あたりの重さと大気圧とを足し合わせた圧力を間隙の圧力の適正値としている。適正値において、間隙の気体がフォトマスク４を押し上げる力は、大気圧とフォトマスク４の重さによりフォトマスク４に対して下方へ働く力と同じになる。従って、フォトマスク４に働く力がキャンセルされて、自重による撓み変形が適切に矯正される。なお、間隙の圧力が上式の適正値以下であると、フォトマスク４の変形を十分に矯正することができず、以上となると、間隙の圧力が増大しすぎてマスクが凸状に変形する。また、フォトマスク４の平坦度が重力ベンドを矯正しても凸又は凹である事が判れば間隙の圧力を更に補正して精度を向上できる。
【００３５】
基板１００とフォトマスク４との間隙の圧力を上式の圧力に保つには、種々の方法を利用してよい。例えば上式の圧力でノズル１３から窒素を送り込むように給排気装置６の動作を制御してもよい。間隙の圧力をモニタするとともに、そのモニタ結果に基づいて給排気装置６に対してフィードバック制御を行うことにより、間隙の圧力を上式の圧力に保ってもよい。間隙の圧力が上式の圧力に迅速に収束する給排気装置６の動作のパターンを実験等により予め求めておき、その動作を行うように給排気装置６を制御してもよい。
【００３６】
また、露光装置１では、ステージを上昇させている間は駆動装置６を駆動してフォトマスク４と基板１００との間隙から気体を排気し（ステップＳ１２）、ステージを下降させている間は駆動装置６を駆動して間隙に窒素を供給している（ステップＳ１４）。従って、ステージの上昇及び下降を短時間で実行することができる。
【００３７】
具体的には、例えばフォトマスク４、基板１００が大型化された場合（例えば基板サイズ１８００×１５００ｍｍ以上、マスクサイズ１１００×１０００ｍｍ以上）、ステップＳ２で基板１００とフォトマスク４との間隙を１秒間で３００μｍから１００μｍまで狭めようとすると、間隙の気体がフォトマスク４の周囲から抜ける時間的余裕が無く、間隙の圧力が上昇してしまう。このとき、間隙の容積は１／３となるため、間隙の圧力は部分的には大気圧の３倍になり得る。このため、フォトマスク４に加わる力がマスクホルダー５のフォトマスク４を吸着固定する能力を超えてしまい、フォトマスク４の固定位置にずれが生じてしまう。ずれが生じると露光領域１００ａ…１００ａの位置がずれてしまい、基板１００をＴＦＴ基板と貼り合わせたときに、露光領域１００ａ…１００ａとＴＦＴ基板に配置されたＴＦＴ回路との位置がずれてしまう。
【００３８】
また、ステップＳ４で基板１００とフォトマスク４との間隙を１秒間で１００μｍから３００μｍまで広げようとすると、間隙は負圧となるため、フォトマスク４がマスクホルダー５から脱落してしまい、フォトマスク４が破損してしまう。
【００３９】
このような事態を防ぐために、ステップＳ２及びＳ４における間隙の変化を時間をかけて（例えば３秒）行ったとすれば、基板の露光作業に長時間を要することになる。特に、基板１００では６つの露光領域に対して露光を行うから、ステップＳ２及びＳ４は１枚の基板１００に対して１２回行われ、作業時間の増加が累積される。このことは、１枚の基板１００から複数枚のカラーフィルタを取り出すことにより、カラーフィルタ１枚に対する平均作業時間を短縮可能とする多面取りのメリットを減殺することにもなる。
【００４０】
しかし、露光装置１では、ステップＳ２のステージ上昇時には間隙の気体を排気し、ステップＳ４のステージ下降時には間隙に気体を送り込むから、間隙の圧力変化の速さが緩和され、基板１００とフォトマスク４との間隙を変化させる時間を短くできる。
【００４１】
なお、ステージ上昇、ステージ下降における給排気においても、露光装置１はフォトマスク４の外周四辺から窒素を送り込むため、大型のフォトマスク４に対しても迅速に給排気可能である。
【００４２】
ステージ上昇、ステージ下降におけるノズル１３の給排気の量は、基板１００とフォトマスク４との間隙の変化の速さや、フォトマスクの大きさ等の種々の条件を考慮して適宜に設定してよい。また、ステージ上昇中又はステージ下降中に連続して給排気を行わなくともよく、例えば、間隙の圧力が負圧となるときに給気を行い、間隙の圧力が正圧となるときに排気を行ってもよい。
【００４３】
露光装置１では、基板１００がフォトマスク４下にある間、ノズル１３、１６から窒素が噴出される。従って、ステージ２をＸＹ軸方向に移動させたときに、フォトマスク４の上流側のノズル１６から噴出された窒素が基板１００とフォトマスク４との間隙に流入し、間隙は窒素で満たされる。さらに、露光時にはノズル１３から間隙へ窒素が送り込まれる。このため、レジストの酸素阻害による感度低下が生じず、露光時間を短縮することができる。
【００４４】
ノズル１６からの噴出圧力は、フォトマスク４の変形を矯正するための間隙の圧力に影響を及ぼさない圧力にすることが望ましい。
【００４５】
ノズル１６の外周側（内壁１２ａ）の下端は、内周側（外壁１１ｄ）の下端に比較して、基板１００との間隔が大きい。従って、ノズル１６の噴出圧力が何らかの原因により適正値より高くなっても、ノズル１６から噴出された窒素は外周側に逃げるため、基板１００とフォトマスク４との間隙の圧力に及ぼす影響は小さい。
【００４６】
本発明は以上の実施形態に限定されず、本発明の技術的思想と実質的に同一である限り、種々の形態で実施してよい。
【００４７】
給排気装置６によって気体流路１４に送り込まれる気体は窒素でなくともよい。また、ノズル１６を省略し、ステップＳ１におけるステージ２の移動の際にもノズル１３から窒素を送り込むようにしてもよい。
【００４８】
基板１００とフォトマスク４との間隙の圧力の調整は、数式１に示した圧力のように予め実験等により求められた適正圧力まで調整するものに限定されない。例えば、図３の露光処理の実行中にフォトマスク４の撓み変形をモニタし、その撓み変形を矯正するようにフィードバック制御等により間隙の圧力を調整してもよい。
【００４９】
基板１００がフォトマスク４下に入る時から露光時のギャップになるように制御しステップ移動時もこのギャップを維持する様制御すれば露光毎のギャップ調整動作が不要になるだけでなく矯正精度も向上し能率が向上する。
【００５０】
マスクホルダーの下端部に突起部（エアダム１５）を設けなくともよい。また、マスクホルダーの下端部はフォトマスク４の下面４ｄよりも下方に突出していなくともよい。マスクホルダーの下端部と基板とのギャップがフォトマスクと基板とのギャップの５倍以下であれば、フォトマスクと基板との間隙の圧力を正圧に保つことが可能である。例えば、プロキシミティギャップが１００μｍである場合、マスクホルダーの下端部と基板とのギャップは５００μｍ以下であればよい。
【００５１】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、基板とフォトマスクとの間隙の加減圧によって、間隙の圧力によりフォトマスクが下面から受ける力を調整可能である。従って、例えば、間隙の圧力を高めて大型のフォトマスクの自重による撓みを矯正することができる。また、基板とフォトマスクとの離間や接近に伴う間隙の圧力変化を緩和し、フォトマスクの脱落等を防止することもできる。しかも、本発明の露光方法では、フォトマスクの全周から間隙の加減圧を行うから、迅速に間隙の圧力を調整可能である。従って、間隙の圧力の変化に対して間隙の気体の流入、流出が追い着かない大型のフォトマスクに対して特に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の露光装置の構成を示す側面図。
【図２】図１の露光装置のマスクホルダーの構成を示す図。
【図３】図１の露光装置の制御装置が実行する露光処理の手順を示すフローチャート。
【図４】図１の露光装置の制御装置が実行する圧力調整処理の手順を示すフローチャート。
【図５】図１の露光装置のステージ上の様子を示す平面図。
【符号の説明】
１  露光装置
２  ステージ
４  フォトマスク
５  マスクホルダー
６  給排気装置
９  制御装置
１３  ノズル
４ｂ  側壁
１１ｃ  内壁
１００  基板
Ｐ  プロキシミティギャップ
【図１】
2004226897.tif 000004
【図２】
2004226897.tif 000005
【図３】
2004226897.tif 000006
【図４】
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【図５】
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