(57)【要約】【課題】転写工程の生産性向上と、安定化および転写膜に関わる積層表示素子の品質向上を図る。【解決手段】（ａ）に示すように、剥離基板２０上に剥離膜１１を形成し、剥離膜１１上に電極層１３を成膜して所定のパターン形状を形成する。剥離基板２０を傷つけないように転写領域を囲むようにして（複数の素子部を一括して囲むようにして）剥離膜１１をハーフカットしたカットライン２１を入れる。液晶又は液晶を含む調光層前駆体１９を所定量シール剤１４で囲まれた領域内に塗布し、図４（ｂ）に示すように、スペーサ１６によって所定の間隔を保った状態で、電極層１７を有する被転写基板１８を重ね合わせてシール剤１４を硬化接着させる。最後に、図４（ｃ）に示すように、剥離基板２０を取り除く。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
剥離基板上に、高分子樹脂からなる剥離可能な膜であって剥離後に保護層となる剥離膜と所定電極パターンを順次形成した多面付け基板であって、上記所定電極パターンを含む素子部からはみ出さないでその周辺を囲むように接着可能なシール剤を上記剥離基板もしくは可撓性を有する高分子フィルムからなる被転写基板のいずれか一方に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記剥離基板上に、電極層を有する上記被転写基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、上記剥離基板を取り除き、上記被転写基板上に上記シール剤で囲まれた調光層と電極層及び保護層を同時に剥離転写により得る積層基板の製造方法において、
上記剥離基板のほぼ全面に上記剥離膜を形成し、剥離方向に存在する複数の素子部を一括して囲む領域に沿って上記剥離膜上にカットラインを入れ、該剥離膜の転写領域と非転写領域を分離することを特徴とする積層基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の積層基板の製造方法による剥離転写を複数回繰り返し、複数の調光層と電極層及び保護層を積層した１つの基板を得ることを特徴とする積層基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の積層基板の製造方法において、
上記剥離基板から転写される電極層と、上記被転写基板上の電極層の一部とを電気的に接続することを特徴とする積層基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板。
【請求項５】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板を分割して得られる積層型液晶表示素子。
【請求項６】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板を２枚用いて、互いの保護層が内側になるように重ね合わせて接着固定した後、分割カットすることを特徴とする積層型液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子。
【請求項８】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板と、電極層を有し且つ予め設けられた複数の穴を有する可撓性を持った高分子フィルムからなる第２の基板とを用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記積層基板と上記第２の基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットすることを特徴とする積層型液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
請求項８記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子。
【請求項１０】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板と、電極層を有し且つ予め設けられた複数の穴を有する可撓性を持った高分子フィルムからなる第２の基板とを用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記積層基板と上記第２の基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットし、上記スペーサで保たれた空隙に液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を注入して封止することを特徴とする積層型液晶表示素子の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子。
【請求項１２】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板２枚を用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態でこれら２枚の積層基板同士を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットすることを特徴とする積層型液晶表示素子の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子。
【請求項１４】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板２枚を用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態でこれら２枚の積層基板同士を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットし、上記スペーサで保たれた空隙に液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を注入して封止することを特徴とする積層型液晶表示素子の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子。
【請求項１６】
請求項４記載の積層基板において、
上記調光層が、液晶と高分子の複合体からなることを特徴とする積層基板。
【請求項１７】
請求項５、７、９、１１、１３又は１５記載の積層型液晶表示素子において、上記調光層が、液晶と高分子の複合体からなることを特徴とする積層型液晶表示素子。
【請求項１８】
請求項４記載の積層基板において、
上記調光層が、水素結合性を有するゲル化剤と液晶との混合物からなる物理ゲルからなることを特徴とする積層基板。
【請求項１９】
請求項５、７、９、１１、１３又は１５記載の積層型液晶表示素子において、上記調光層が、水素結合性を有するゲル化剤と液晶との混合物からなる物理ゲルからなることを特徴とする積層型液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、剥離転写によって形成する多面付けされた積層基板及びその製造方法、その積層体からなる積層型液晶表示素子及びその製造方法に関し、積層型液晶表示素子では、フレキシブルな反射型液晶表示素子、特に明るいモノカラー表示あるいはカラー表示が可能な反射型液晶表示素子とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、インターネットに代表される情報技術の進歩に伴って、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯端末、あるいは携帯電話等の情報機器が急速に普及してきている。これらの情報機器からの膨大な情報を瞬時に処理し、表示するために、高品質、高性能の液晶表示素子が求められている。
特に、携帯機器用の液晶表示素子においては、薄型、軽量かつ低消費電力への期待が大きく、フレキシブル基板を用いた反射型の液晶表示素子の研究開発が盛んである。
反射型液晶表示素子の最大の課題は明るさ（反射率）の向上である。透過型の液晶表示素子で良く知られた赤、緑、青の３色のカラーフィルターを用いて空間的な加法混色によってカラー表示を行う方式では、原理的に３分の１以下の光しか利用しないので光の利用効率が悪い。
【０００３】
従って、この方式を反射型の液晶表示素子に使用しても、一般に明るいカラー表示は期待できない。そこで、明るい表示を得るための方式の一つとして、近年、積層型の液晶表示素子の提案が多くなされている。
これは、積層された複数の液晶層を一つの画素として表示を行わせるので、明るいカラー表示および白黒表示が可能になるというものである。２層積層型の液晶表示素子としては、例えば２層の液晶層の配向方向を互いに直交させたモノカラーのゲストホスト方式が知られている。
また、シアン、マゼンタ、イエローの３色のゲストホスト液晶層を重ねてフルカラー表示を行う方式も知られている。また、調光層に高分子分散型の液晶（ＰＤＬＣ）を用いて光散乱型の液晶表示素子を構成することも可能であり、ＰＤＬＣを積層した反射型表示素子も提案されている。
【０００４】
ところが、単純に複数の液晶表示素子を重ねた場合には、基板の厚みのために生じる視差による画素ずれが問題となる。視差を解消するには、画素サイズ（１００μｍ程度）より十分に薄い層で液晶層を隔てる必要がある。
これは、ガラス基板のかわりに０．１ｍｍ程度の厚さの薄いフィルム基板を使用すると、ある程度避けられるが、数１０μｍという画素サイズの小さい高精細の表示素子においては、やはりガラス基板を用いた場合と同様に視差の影響は避けられない。さらに薄い、数１０μｍ厚のフィルム基板を使用して液晶表示素子を作製する場合には、その薄さゆえに取り扱いが難しく、枠に固定する等の工夫が必要であり、生産性が悪く、量産化は困難であった。
そこで、電極層を含む薄いフィルムもしくは保護膜を転写によって基板上に形成する方法が、いくつか提案されている。
【０００５】
これは、剛性のある支持体面に予め固定されたフィルムもしくは保護膜を被転写基板に転写するというものである。
特開平１１−２４０８１号公報には、ポリイミドを含む塗膜を接着剤層を介して基板上に転写する方法が記載されているが、液晶を含む調光層を転写するものではない。
特開平１１−２６７３３号公報には、固体膜からなる薄膜デバイスの転写方法が記載されているが、液晶を含む調光層を含む樹脂膜を同時に転写する方法についてのものではない。
特許第２８０７５１０号公報には、調光層として液晶ポリマーを用いた転写シートについての発明が記載されている。液晶ポリマーは室温付近ではほぼ固体状態であるために、固体膜と同じように比較的容易に転写することが可能である。特開２０００−１４７４７８号公報には、液晶とマトリックス樹脂からなる調光層上に導電性膜を転写することが記載されている。また、転写した膜を利用して調光層を積層することが記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
特許第２８０７５１０号公報では、調光層として液晶ポリマーを用いているが、一般に液晶ポリマーは応答速度が遅く駆動電圧も高いので液晶表示素子としては不向きであり、あまり実用化された例はない。
特開２０００−１４７４７８号公報では、導電性膜を調光層上に転写するときに、どのようにして剥離基板から剥離するかについての詳しい方法は示されていない。
一般に、液晶とマトリックス樹脂からなる調光層と基板との接着力は固体膜のように十分大きくはないので、剥離時の剥離力で調光層が分離して剥がれてしまうことがあり、安定した転写は難しかった。
調光層と被転写基板との接着力を上げるには液晶に対する樹脂成分の分量を多くすることが有効であるが、駆動電圧が高くなったり、液晶の分量が少なくなるので液晶の光学効果として得られるべきコントラスト等の光学特性を低下させてしまうといった欠点もあった。
【０００７】
また、液晶表示素子の画像を制御するために必要な駆動回路と液晶表示素子との接続のためには、引き出し電極として表示部外に電極層の一部を露出させておく必要がある。
薄い保護層を伴った転写電極は外部との接続用の電極として使用するには物理的強度が弱いので、被転写基板上の電極層の一部を引き出し電極とすることが好ましい。このとき、転写電極の一部は、被転写基板上の一部と接続するようにする。
しかしながら、従来の方式では、転写される膜もしくはフィルムを全面にわたって被転写基板に転写してしまっていたので、被転写基板の一部を露出するように調光層と電極層および保護層を容易に転写できなかった。
一方、量産性を考慮すると一枚の基板から多数個の素子を得ることのできる、いわゆる多面付けが有効であるが、液晶を含む調光層、電極層、保護層からなる積層体を転写によって多面付けできる方法は知られていない。
このような多面付けされた積層基板を通常の液晶表示素子用の基板と同じように用いて重ね合わせれば、さらに積層数を増やした液晶表示素子を作製することが可能となる。
【０００８】
このような多面付けされた積層基板においては、基板面上に調光層が部分的に積層された領域と積層されていない領域を配置し、確実に積層領域を転写できることが求められる。また、調光層、電極層および保護層を剥離基板から確実に剥離し、被転写基板上に転写するためには、保護層と剥離基板との界面での剥離に要する力（剥離力）は弱いほど良いが、剥離までの各層の積層工程において剥離してはならないといった問題がある。
接着力が変化する樹脂層を剥離界面に設けて、剥離前に剥離力を弱める処理を行うこともできる。例えば、特開平１１−２６７３３号公報では、熱溶融性接着剤層を加熱によって溶融させて剥離する方法やレーザーアブレーションによって界面において剥離を生じさせる方法が示されている。
この方法は固体膜の転写には有効であるが、液晶を含む調光層の転写においては加熱処理やアブレーションを生じるほどの強い光照射によって調光層にダメージを与えてしまう。調光層にダメージを与えないために、電極層と保護層を剥離、転写した後に生じる電極層で挟まれた空隙に液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を封入して調光層を形成するようにした場合は、一方の保護層が薄いので通常の液晶表示素子のように均一な厚さの調光層を形成することは困難である。
【０００９】
このような問題に鑑み、本出願人は、先に、確実に転写が可能で、一枚の基板から複数個の積層型液晶表示素子を製造することが可能な量産性に優れた製造方法を提案した。
この方法では、被転写基板上の引き出し電極部を転写膜で覆うことなく露出しておくために転写膜（剥離膜）を剥離基板上にスクリーン印刷法、凸版印刷法等で所定パターン部（転写部）のみに形成するようになっている。
しかしながら、剥離基板上にスクリーン印刷法、凸版印刷法等で転写領域を塗布、形成する場合、印刷エッジのだれ等の膜厚異常が発生してしまうことがあった。例えば、図１６に示すように、印刷のエッジ部が盛り上がって膜厚が厚くなり、積層工程中にエッジ部が剥離してしまったり、被転写基板と重ねたときに調光層のギャップ異常等を発生することがあった。図１６において、符号２０は剥離基板を、１１は剥離膜を、１３は電極層をそれぞれ示す。
また、剥離膜のあるところと無いところで段差があるので、図１７に示すように、被転写基板１８として可撓性のある高分子フィルムを用いた場合には、段差でフィルム基板が変形し、電極層１７にクラックＣＬが発生して断線する等の不具合が発生することがあった。図１７において、符号１６はスペーサを示す。
また、多面付けした各転写部が孤立して配置されているために、剥離時に各転写部に対応した剥離開始点を複数回通過することとなる。かような薄膜の剥離に関しては、その剥離開始時に最も膜に応力がかかり、このとき膜の破断等の不具合が発生しやすかった。剥離開始時の応力低減と、剥離開始点を出来うる限り少なくすることが重要である。
【００１０】
本発明は、液晶を含む調光層と電極層および保護層が積層された積層型液晶表示素子の多面付けされた積層基板の製造方法において、転写工程の生産性向上と、安定化および転写膜に関わる積層表示素子の品質向上を、その主な目的とする。
また、フレキシブルで明るいモノカラー表示または明るいカラー表示が可能な反射型液晶表示素子（積層型液晶表示素子）を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明では、剥離基板上に、高分子樹脂からなる剥離可能な膜であって剥離後に保護層となる剥離膜と所定電極パターンを順次形成した多面付け基板であって、上記所定電極パターンを含む素子部からはみ出さないでその周辺を囲むように接着可能なシール剤を上記剥離基板もしくは可撓性を有する高分子フィルムからなる被転写基板のいずれか一方に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記剥離基板上に、電極層を有する上記被転写基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、上記剥離基板を取り除き、上記被転写基板上に上記シール剤で囲まれた調光層と電極層及び保護層を同時に剥離転写により得る積層基板の製造方法において、上記剥離基板のほぼ全面に上記剥離膜を形成し、剥離方向に存在する複数の素子部を一括して囲む領域に沿って上記剥離膜上にカットラインを入れ、該剥離膜の転写領域と非転写領域を分離することとした。
【００１２】
請求項２記載の発明では、請求項１記載の積層基板の製造方法による剥離転写を複数回繰り返し、複数の調光層と電極層及び保護層を積層した１つの基板を得ることとした。
【００１３】
請求項３記載の発明では、請求項１又は２記載の積層基板の製造方法において、上記剥離基板から転写される電極層と、上記被転写基板上の電極層の一部とを電気的に接続することとした。
【００１４】
請求項４記載の発明では、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板とした。
【００１５】
請求項５記載の発明では、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板を分割して得られる積層型液晶表示素子とした。
【００１６】
請求項６記載の発明では、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板を２枚用いて、互いの保護層が内側になるように重ね合わせて接着固定した後、分割カットすることとした。
【００１７】
請求項７記載の発明では、請求項６記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子とした。
【００１８】
請求項８記載の発明では、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板と、電極層を有し且つ予め設けられた複数の穴を有する可撓性を持った高分子フィルムからなる第２の基板とを用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記積層基板と上記第２の基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットすることとした。
【００１９】
請求項９記載の発明では、請求項８記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子とした。
【００２０】
請求項１０記載の発明では、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板と、電極層を有し且つ予め設けられた複数の穴を有する可撓性を持った高分子フィルムからなる第２の基板とを用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記積層基板と上記第２の基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットし、上記スペーサで保たれた空隙に液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を注入して封止することとした。
【００２１】
請求項１１記載の発明では、請求項１０記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子とした。
【００２２】
請求項１２記載の発明では、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板２枚を用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態でこれら２枚の積層基板同士を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットすることとした。
【００２３】
請求項１３記載の発明では、請求項１２記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子とした。
【００２４】
請求項１４記載の発明では、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板２枚を用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態でこれら２枚の積層基板同士を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットし、上記スペーサで保たれた空隙に液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を注入して封止することとした。
【００２５】
請求項１５記載の発明では、請求項１４記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子とした。
【００２６】
請求項１６記載の発明では、請求項４記載の積層基板において、上記調光層が、液晶と高分子の複合体からなることとした。
【００２７】
請求項１７記載の発明では、請求項５、７、９、１１、１３又は１５記載の積層型液晶表示素子において、上記調光層が、液晶と高分子の複合体からなることとした。
【００２８】
請求項１８記載の発明では、請求項４記載の積層基板において、上記調光層が、水素結合性を有するゲル化剤と液晶との混合物からなる物理ゲルからなることとした。
【００２９】
請求項１９記載の発明では、請求項５、７、９、１１、１３又は１５記載の積層型液晶表示素子において、上記調光層が、水素結合性を有するゲル化剤と液晶との混合物からなる物理ゲルからなることとした。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第１の実施形態を図１乃至図４に基づいて説明する。図１は、剥離基板２０のほぼ全面に成膜された剥離膜（保護層）１１にカットライン２１を入れた様子を示した模式図である。カットライン２１は、３つの素子部１２ａ、１２ｂ、１２ｃを一括して囲む領域に沿って、また、３つの素子部１２ｄ、１２ｅ、１２ｆを一括して囲む領域に沿って入れられている。換言すれば、素子部１２の転写領域（多面付けされたパターンの各列毎）を囲むようにして入れてあり、剥離基板２０を傷つけないように剥離膜１１だけがハーフカットされている。
図１においてカットライン２１は破線で示しているが、実際には連続している。
【００３１】
図２は、剥離基板２０と被転写基板１８が重ね合わされ、剥離される直前の様子を示した断面図（図１のラインａでの断面）である。図３は、本実施形態の製造方法で得られる積層基板の断面を示した模式図である。
カットライン２１によって隔てられた転写領域だけが被転写基板１８上に転写されている。すなわち、剥離膜１１の非転写領域１１ａは剥離基板２０に残り、転写領域１１ｂだけが被転写基板１８上に転写される。
【００３２】
次に、本実施形態で使用される材料について説明する。
剥離基板２０としては、ガラス等の無機物、あるいは高分子フィルム等の有機物のいずれであっても構わないが、耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性、耐熱性の高いものを使用する。あるいは、耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性の表面コートが施されたものを使用してもよい。通常の液晶表示素子で使用されているサイズのガラス基板を用いれば、通常の液晶製造工程の一部をそのまま適応することが可能である。
剥離膜（保護層）１１となる高分子樹脂は、剥離基板２０と同様に耐溶剤性、耐熱性の高いもの、例えば紫外線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化性のエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等、一般的な材料から選定することができる。
被転写基板１８は、電極付の高分子フィルムを使用するので、剥離時に屈曲させることができ、剥離が容易になるという利点もある。高分子フィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン、ポリイミド等があげられる。
被転写基板１８上には、剥離基板２０から転写される位置に対応して電極層１７（電極パターン）を形成しておく。電極層１３、電極層１７の材料としては、酸化インジウム錫等の透明導電性膜あるいは必要に応じてアルミニウム、銀等の金属電極膜を用いることができる。電極層１３、電極層１７は、スパッタ法、蒸着法等の良く知られた真空成膜法で成膜することができる。
【００３３】
シール剤１４としては、液晶表示素子で一般的に用いられている熱硬化型のエポキシ樹脂や紫外線硬化型の樹脂が使用できる。シール剤１４によって剥離膜（保護層）１１と被転写基板１８とがしっかりと接着されるので、剥離の時に調光層１５と電極層１３および保護層１１を確実に転写することができる。
シール剤１４として熱硬化型のエポキシ樹脂を使用する場合には、液晶にできるだけダメージを与えないためと、被転写基板１８との接着性を確保するために低温硬化型の接着剤が好ましい。紫外線硬化型の樹脂は、短時間で硬化させることができるため、本実施形態の製造方法に適している。
調光層１５にはネマティック液晶、コレステリック液晶、スメクティック液晶等の良く知られた液晶を使用することができる。さらに、調光層として、液晶と高分子樹脂の複合体からなる、いわゆる高分子分散型液晶や水素結合性を有するゲル化剤と液晶とを混合した物理ゲル等が使用できる。
【００３４】
調光層前駆体１９とは、例えば紫外線硬化型の高分子樹脂と液晶との混合液体であって紫外線照射前の状態、あるいはゲル化前のゾル状態等の液晶混合物等を示している。ゲル化剤としては、分子間水素結合によって物質をゲル化する性質を持ち、かつ、使用する液晶に溶解する低分子化合物である。
この低分子化合物とは、分子量分布を持たない化合物をさし、分子量としては２０００以下、特に１０００〜２０００のものが好ましい。分子間水素結合が可能な分子構造上の条件は、一般的にはアミド基（−ＮＨＣＯ−）、アミノ基（−ＮＨ−）とカルボニル基（−ＣＯ−）の組み合わせを有するものが望ましい。これ以外に、カルバメート基、ウレア基、カルボキシル基、アルコキシ基、リン酸基および水酸基などがあっても良く、これらの数、位置については限定しない。そのようなゲル化剤の中でも特に、分子間水素結合が可能な基およびアルキレン基を１分子中にそれぞれ２個以上有する化合物が望ましい。アルキレン基としては、炭素数４以上、好ましくは６〜２０の長鎖構造（分岐があっても良い）を持つ方が、液晶への溶解性が高い。
また、ゲル化剤はキラル構造を有することが好ましい。具体的には、特開平５−２１６０１５号、１１−２１５５６号、１１−５２３４１号、１１−２５６１６４号、２０００−２３９６６３号の公報に開示されているもの等が使用できる。
【００３５】
調光層１５の厚さを制御するためのスペーサ１６は、ガラスファイバー、ガラスビーズ、樹脂ビーズ等、あるいはその他に紫外線反応型の樹脂をフォトリソグラフ法によって柱状のスペーサとして剥離基板２０もしくは被転写基板１８上に形成することも可能である。
次に、本実施形態の基本的な製造方法について順を追って説明する。
図４は、本実施形態の製造方法における積層基板の重ね合わせから剥離までを示した概略図であり、図１に示した剥離方向に剥離した場合のラインａの断面での状態を示している。
【００３６】
まず、図４（ａ）に示すように、剥離基板２０上に、高分子樹脂からなる剥離可能な膜であって剥離後に保護層となる剥離膜１１を形成する。剥離膜１１は、紫外線硬化型、あるいは熱硬化型の高分子樹脂をスクリーン印刷法、凸版印刷法、ブレードコート法等の一般的な印刷法で剥離基板２０のほぼ全面に印刷した後、紫外線の照射、加熱等の処理によって成膜する。
剥離膜１１の表面平滑性を向上させるために、剥離膜１１となる高分子樹脂の印刷後に硬化しない程度の温度で加熱するなどの膜表面のレベリング処理を実施する工程を追加してもよい。高分子樹脂膜をガラスのように熱膨張率の小さい剥離基板２０上に成膜すると、硬化収縮時に剥離膜に残留応力が発生するので比較的容易に剥離することができる。
但し、膜が剥離可能な程度の残留応力を発生させるためには、少なくとも１μｍ以上、好ましくは１０μｍ程度以上の膜厚とすることが望ましく、材質に応じて最適な膜厚に設定する。調光層１５を保護する保護層として機能するための膜厚としては、１〜３０μｍ程度、好ましくは１０μｍ程度が最適な膜厚である。一方、剥離基板として可撓性を有する高分子フィルムを用いる場合には、剥離しやすくするために予めフィルムの表面に酸化シリコン等の無機物を薄く蒸着しておいてもよい。
【００３７】
次に、スパッタ法、蒸着法等の良く知られた真空成膜法で剥離膜１１上に電極層１３を成膜し、フォトリソグラフ法等によって所定のパターン形状を形成する。さらに、剥離基板２０を傷つけないように転写領域を囲むようにして剥離膜１１をハーフカットしたカットライン２１を入れる。
このとき剥離膜１１の非転写領域１１ｂに、被転写基板１８の引き出し電極１７ａが対向するように素子部１２、カットライン２１の配置に留意する必要がある。
電極層１３上には必要に応じて配向膜を塗布してラビング等の配向処理を施すこともできる。また、カットライン２１の形成は、電極層１３や配向膜の形成前であってもよい。
さらに、転写領域１１ｂからはみ出さないで所定の素子部１２の周辺を囲むように接着可能なシール剤１４をディスペンサ、あるいはスクリーン印刷等で塗布する。
【００３８】
さらに、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体１９を所定の量だけを前記シール剤１４で囲まれた領域内に塗布し、図４（ｂ）に示すように、面内（剥離基板２０側と被転写基板１８側の対向面内）に配置されたスペーサ１６によって所定の間隔を保った状態で、電極層１７を有する被転写基板１８を重ね合わせてシール剤１４を硬化接着させる。
剥離膜１１は剥離基板２０のほぼ全面に塗布されているので、素子部間での段差は存在せず、該素子部間にもスペーサ１６があるので（図面上では省略）、被転写基板１８として可撓性のある高分子フィルムを用いた場合でも、段差でフィルム基板が変形し、電極層１７にクラックＣＬが発生して断線する等の不具合は生じない。
最後に、図４（ｃ）に示すように、剥離基板２０を取り除くと調光層１５、電極層１３および保護層１１が同時に被転写基板１８に転写された所望の積層基板が得られる。
ここで、被転写基板１８は可撓性を有する高分子フィルム基板からなり、屈曲性を利用して容易に剥離基板２０から剥離が可能である。剥離基板２０上には、剥離後に非転写領域１１ａは残ることになる。
複数の素子部１２を一括して囲む領域を転写するので、剥離開始時の剥離開始点は１回となり、膜の破断等の不具合を抑制できる。
また、調光層１５と接する被転写基板１８の面上には、必要に応じて配向処理された配向膜を形成しておくことも可能である。このとき、スペーサ１６はいずれか一方の基板上に散布するか、前述のフォトリソグラフ法で配置しても構わないが、スペーサ１６を液晶もしくは調光層前駆体１９に混合して、これらといっしょにディスペンサ等で滴下、あるいは凸版印刷やスクリーン印刷によって塗布してもよい。
【００３９】
この積層基板は、分割カット後に積層型液晶表示素子となる調光層１５、電極層１３、１７および保護層１１が積層された素子部１２が多面付けされたものになっている。また、引き出し電極部１７ａに対応する部分は非転写領域１１ａであって転写されないので、引き出し電極１７ａの露出した構造になっている。
また、この積層基板には、他のフィルム基板と重ね合わせたときに対向部の引き出し電極が取り出せるように、対向基板の引き出し電極部に対応した位置に予めあるいは積層後に長方形の穴を設けても良い。
多面付けされた積層基板は、そのまま分割カットして積層型液晶表示素子とすることができる。
【００４０】
以上述べた剥離転写を複数回繰り返すことによって、複数の調光層１５、電極層１３、１７および保護層１１ａが積層された積層基板を構成することができる（第２の実施形態）。
図５はその製造工程を示している。被転写基板１８が既に多面付けされた積層基板となっている点を除けば図４で示した工程（製造方法）と同様である。
図６には、そのようにして構成された２層の調光層１５、電極層１３、１７および保護層１１ａが積層された積層基板の断面図を示した。
本実施形態の多面付けされた積層基板は、そのまま分割カットして積層型液晶表示素子とすることができる。
【００４１】
図７に第３の実施形態を示す。本実施形態では、剥離基板２０から転写された電極層１３が被転写基板１８上の電極層１７の一部である引き出し電極１７ａと導通剤２３によって電気的に接続されていることを特徴としている。
導通剤２３には、銀ペーストのような導電性ペースト、金属めっきの施された樹脂ビーズを接着剤中に分散させたもの等を使用することができる。
図８に第４の実施形態を示す。保護層１１ｂ剥離基板２０よりも薄いので光吸収層や反射層を保護層１１側に貼りつけて反射型の積層型液晶表示素子を構成すれば、視差の影響を少なくすることが可能である。
この観点から、本実施形態における積層型液晶表示素子では、保護膜１１ｂの表面に光吸収層２４を貼り付けている。この場合には、調光層１５としては高分子分散型液晶等の光散乱性の光学効果を利用するものが適している。
【００４２】
図９に第５の実施形態を示す。第１の実施形態で２枚の積層基板を互いの保護層１１ｂが内向きになるように粘着剤２２等を介して張り合わせれば、２層型の積層型液晶表示素子を得ることができる。
図９において、符号２５は上述した長方形の穴を示し、符号２６は分割カットラインを示している。
積層基板を従来の液晶用の基板と同じように使用して、さらに調光層１５を増やした積層型の液晶表示素子を得ることも可能である（第６の実施形態）。本発明の積層基板と従来の液晶用の基板（第２の基板）とを用いて、積層型の液晶表示素子を作製する手順を図１０に示した。調光層１５の形成は、図４で説明した方法と全く同じ方法が適用できる。図１０において、符号２７は第２の基板を示している。
【００４３】
図１１に示すように、空隙２８を形成し、分割カットした後に液晶あるいは液晶を含む調光層前駆体１９を空隙２８に封入して調光層１５とすることも可能である（第７の実施形態）。この方法は従来から知られた液晶表示素子の製造方法と全く同じである。
同様にして、２枚の積層基板を従来の液晶用の基板として使用すれば、３層以上の調光層を有する積層型の液晶表示素子を容易に得ることが可能である（第８の実施形態）。その作製手順を図１２に示す。第３の調光層（真中の調光層）を挟むようにして積層基板を重ねる。分割カットすると複数の積層型液晶表示素子が得られる。
図１３に、空隙２８を形成して重ね合わせる製造方法（第９の実施形態）を示す。分割カットした後に液晶あるいは液晶を含む調光層前駆体１９を空隙２８に封入して調光層１５とすることが可能である。
【００４４】
次に、いくつかの具体的な実施例をあげて説明するが、当然のことながら本発明はこれらの実施例だけに限定されるものではない。
［実施例１］
剥離基板２０として、寸法が５０ｍｍ×６０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのガラス基板を使用し、十条ケミカル（株）製のＵＶマスキングインキ（紫外線硬化型のアクリレートモノマー及びアクリレートオリゴマーを含むアクリレート化合物よりなる）をスクリーン印刷で４５ｍｍ×５５ｍｍの寸法で塗布した。スクリーン版は、ステンレス製の３００メッシュを使用した。
印刷後、表面性を向上させるために９０℃のホットプレート上で３分間レベリングを行った。次に高圧水銀ランプからなる紫外線照射装置により波長３６５ｎｍ中心の紫外線（強度５０ｍＷ／ｃｍ２）を３０ｓ照射することで、膜厚１８μｍの剥離膜（保護層）１１とした。この剥離膜１１上に真空成膜スパッタリング法により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明電極層を１３０ｎｍの膜厚で形成し、通常のフォトリソグラフ法で電極パターンを形成した。この基板には２個の素子が配置されている。
【００４５】
カッターナイフを用いて、転写する領域を囲むように剥離膜１１をハーフカットした。被転写基板１８としてＩＴＯ付きのポリエーテルサルフォンシート（ＰＥＳ：住友ベークライト製、厚み１５０μｍ）をパターニングした基板を準備した。
剥離基板２０上の剥離膜１１と電極層１３およびカットライン２１、被転写基板１８上の電極層１７、引出し電極１７ａとの配置関係の模式図を図１４に示した。剥離基板２０に印刷された剥離膜１１の周辺にはみ出さないで素子部１２を囲むようにしてシール剤１４をディスペンサで塗布した。
シール剤１４として紫外線硬化型の接着剤を用いた。また、シール剤１４には、粒径が１２μｍの金メッキの施された樹脂ビーズ（積水ファインケミカル社製ミクロパールＡＵ）を導通剤２３として混合し、電極層１３は対向した被転写基板１８上の引き出し電極１７ａに接続するようにした。
【００４６】
被転写基板１８には１０μｍ粒径の樹脂ビーズ（積水ファインケミカル社製ミクロパールＳＰ）をイソプロピルアルコールを溶媒として、約３００個／ｍｍ２の密度で散布した。調光層１５は、大日本インキ化学工業（株）製のポリマーネットワーク型液晶素子用の液晶組成物とモノマー組成物および重合開始剤の混合物（製品名：ＰＮＭ−１０１）をシール領域内にディスペンサで塗布した後、被転写基板１８と重ね合わせ加圧しながら前記紫外線照射装置を用いて２分間紫外線を照射して調光層１５およびシール剤１４を硬化させた。
端から被転写基板１８を屈曲させながらゆっくりと剥離すると、調光層１５と電極層１３および保護層１１ｂが被転写基板１８上に転写された積層基板が得られた。
【００４７】
［実施例２］
実施例１で作製した積層基板を２枚用いて、日東電工製の透明粘着シート（品名ＨＪ−９１５０Ｗ）を用いて２枚の積層基板を互いの保護層１１ｂが内側になるようにして張り合わせた後、分割カットして２層の調光層１５を有する積層型液晶表示素子を得た。
［実施例３］
剥離基板２０上の透明電極層１３の上と被転写基板１８上の透明電極層１７の上に垂直配向性を有する配向膜（ＪＳＲ社製ＪＡＬＳ−２０２１−Ｒ２）を形成し、調光層１５としてゲスト・ホスト液晶を用いた以外は、実施例１と全く同様にして積層基板を得た。配向膜は、フレキソ印刷版を用いて印刷後、１５０℃で１時間焼成し、上下の基板で互いに反平行となる向きにラビング処理を施して、垂直配向から少し傾くようにプレティルトを持たせた配向をさせておいた。
このようにして得られた積層基板を分割カットしたあと、１／４波長板と反射板を順次保護層１１ｂ側に貼付して、反射型の積層型液晶表示素子を得た。
【００４８】
［実施例４］
実施例１で作製された積層基板と被転写基板１８に用いたものと同じＩＴＯのパターニングされたＰＥＳ基板を用意した。シランカップリング剤からなる垂直配向剤を積層基板とＰＥＳ基板上に塗布した後、９０℃で１０分間焼成した。
ＰＥＳ基板には前記スペーサ１６を約３００個／ｍｍ２の密度で散布し、積層基板にはシール剤を塗布した後、重ね合わせてシール剤１４を硬化させた。
シールの一部には後で液晶を注入するための注入口が設けられている。重ね合わせられた基板を分割カットしてスペーサ１６で隔てられら空隙２８を有する空セルを得た。
この空セルにメルク・ジャパン製の誘電異方性が正のネマチック液晶と三菱化学製の２色性色素（４種類の色素を混合して黒色に調製）からなるゲスト・ホスト液晶（色素濃度３ｗｔ％）を真空中で注入、注入口を封止して２層積層型の液晶表示素子を得た。ゲスト・ホスト液晶層側の基板の外側に反射板を配置して、垂直配向のゲスト・ホスト液晶と光散乱型の液晶の積層によって、明るい反射型の積層型液晶表示素子が得られた。
【００４９】
［実施例５］
剥離基板２０として、寸法が１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのガラス基板を使用し、実施例１と同様の素子を図１５に示すように４行２列に配置し、同様の材料と手順で８個の素子部を有する多面付け積層基板を得た。
【００５０】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、剥離基板上に、高分子樹脂からなる剥離可能な膜であって剥離後に保護層となる剥離膜と所定電極パターンを順次形成した多面付け基板であって、上記所定電極パターンを含む素子部からはみ出さないでその周辺を囲むように接着可能なシール剤を上記剥離基板もしくは可撓性を有する高分子フィルムからなる被転写基板のいずれか一方に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記剥離基板上に、電極層を有する上記被転写基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、上記剥離基板を取り除き、上記被転写基板上に上記シール剤で囲まれた調光層と電極層及び保護層を同時に剥離転写により得る積層基板の製造方法において、上記剥離基板のほぼ全面に上記剥離膜を形成し、剥離方向に存在する複数の素子部を一括して囲む領域に沿って上記剥離膜上にカットラインを入れ、該剥離膜の転写領域と非転写領域を分離することとしたので、調光層にダメージを与えることなく確実に転写が可能で、引き出し電極が容易に形成でき、量産性に優れた積層型液晶表示素子を得ることができる。
また、剥離膜を剥離基板のほぼ全面に形成してあるので転写領域と非転写領域に段差が無く、可撓性を有する高分子フィルムを被転写基板として用いても電極の断線が発生しにくい。
【００５１】
請求項２記載の発明によれば、請求項１記載の積層基板の製造方法による剥離転写を複数回繰り返し、複数の調光層と電極層及び保護層を積層した１つの基板を得ることとしたので、容易に複数の調光層、電極層および保護層が積層された積層型液晶表示素子を得ることができる。
【００５２】
請求項３記載の発明によれば、請求項１又は２記載の積層基板の製造方法において、上記剥離基板から転写される電極層と、上記被転写基板上の電極層の一部とを電気的に接続することとしたので、転写された電極層から外部の電極への接続が容易になる。
【００５３】
請求項４記載の発明によれば、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板としたので、容易に複数の液晶表示素子を得ることができる。
また、調光層の片側が通常の基板よりも薄い保護層から構成されているので、反射板や光吸収層を保護層側に貼りつけるだけで、視差のない反射型の液晶表示素子が容易に得られる。
【００５４】
請求項５記載の発明によれば、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板を分割して得られる積層型液晶表示素子としたので、容易に複数の液晶表示素子を得ることができる。
また、調光層の片側が通常の基板よりも薄い保護層から構成されているので、反射板や光吸収層を保護層側に貼りつけるだけで、視差のない反射型の液晶表示素子が容易に得られる。
【００５５】
請求項６記載の発明によれば、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板を２枚用いて、互いの保護層が内側になるように重ね合わせて接着固定した後、分割カットすることとしたので、少なくとも２層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を容易に得ることができる。
【００５６】
請求項７記載の発明によれば、請求項６記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子としたので、少なくとも２層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を容易に得ることができる。
【００５７】
請求項８記載の発明によれば、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板と、電極層を有し且つ予め設けられた複数の穴を有する可撓性を持った高分子フィルムからなる第２の基板とを用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記積層基板と上記第２の基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットすることとしたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも２層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００５８】
請求項９記載の発明によれば、請求項８記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子としたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも２層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００５９】
請求項１０記載の発明によれば、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板と、電極層を有し且つ予め設けられた複数の穴を有する可撓性を持った高分子フィルムからなる第２の基板とを用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態で上記積層基板と上記第２の基板を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットし、上記スペーサで保たれた空隙に液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を注入して封止することとしたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも２層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６０】
請求項１１記載の発明によれば、請求項１０記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子としたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも２層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６１】
請求項１２記載の発明によれば、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板２枚を用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を所定量上記シール剤で囲まれた領域内に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態でこれら２枚の積層基板同士を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットすることとしたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも３層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６２】
請求項１３記載の発明によれば、請求項１２記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子としたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも３層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６３】
請求項１４記載の発明によれば、請求項１乃至３の何れか１つに記載の積層基板の製造方法により製造された積層基板２枚を用いて、多面付けされた各素子部を囲むように接着可能なシール剤をいずれか一方の基板に塗布し、スペーサによって所定の間隔を保った状態でこれら２枚の積層基板同士を重ね合わせて上記シール剤を硬化接着した後、分割カットし、上記スペーサで保たれた空隙に液晶もしくは液晶を含む調光層前駆体を注入して封止することとしたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも３層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６４】
請求項１５記載の発明によれば、請求項１４記載の積層型液晶表示素子の製造方法により得られる積層型液晶表示素子としたので、容易に引き出し電極が形成でき、且つ少なくとも３層の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６５】
請求項１６記載の発明によれば、請求項４記載の積層基板において、上記調光層が、液晶と高分子の複合体からなることとしたので、自己保持型の調光層とすることができ、かつ明るい光散乱型の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６６】
請求項１７記載の発明によれば、請求項５、７、９、１１、１３又は１５記載の積層型液晶表示素子において、上記調光層が、液晶と高分子の複合体からなることを特徴とする積層型液晶表示素子としたので、自己保持型の調光層とすることができ、かつ明るい光散乱型の調光層を有する積層型の液晶表示素子を得ることができる。
【００６７】
請求項１８記載の発明によれば、請求項４記載の積層基板において、上記調光層が、水素結合性を有するゲル化剤と液晶との混合物からなる物理ゲルからなることとしたので、自己保持型の調光層とすることができるとともに、調光層を塗布等で容易に形成することが可能になる。
【００６８】
請求項１９記載の発明によれば、請求項５、７、９、１１、１３又は１５記載の積層型液晶表示素子において、上記調光層が、水素結合性を有するゲル化剤と液晶との混合物からなる物理ゲルからなることとしたので、自己保持型の調光層とすることができるとともに、調光層を塗布等で容易に形成することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態における積層基板の製造途中の状態を示す概要平面図である。
【図２】図１におけるラインａでの概要断面図である。
【図３】剥離転写後の状態を示す概要断面図である。
【図４】第１の実施形態における積層基板の製造工程を示す概要断面図で、（ａ）は被転写基板を重ねる前の状態を示す図、（ｂ）は重ねた状態を示す図、（ｃ）は剥離転写後の状態を示す図である。
【図５】第２の実施形態における積層基板の製造工程を示す概要断面図で、（ａ）は被転写基板を重ねる前の状態を示す図、（ｂ）は重ねた状態を示す図、（ｃ）は剥離転写後の状態を示す図である。
【図６】第２の実施形態で得られた積層基板を示す概要断面図である。
【図７】第３の実施形態で得られた積層基板を示す概要断面図である。
【図８】第４の実施形態で得られた積層型液晶表示素子を示す概要断面図である。
【図９】第５の実施形態における積層型液晶表示素子の製造工程を示す概要断面図で、（ａ）は積層基板同士を重ねる前の状態を示す図、（ｂ）は重ねた状態を示す図、（ｃ）は分割カットされた積層型液晶表示素子を示す図である。
【図１０】第６の実施形態における積層型液晶表示素子の製造工程を示す概要断面図で、（ａ）は第２の基板を重ねる前の状態を示す図、（ｂ）は重ねた状態を示す図、（ｃ）は分割カットされた積層型液晶表示素子を示す図である。
【図１１】第７の実施形態における積層型液晶表示素子の製造工程を示す概要断面図で、（ａ）は第２の基板を重ねる前の状態を示す図、（ｂ）は重ねた状態を示す図、（ｃ）は分割カットされた積層型液晶表示素子を示す図、（ｄ）は積層型液晶表示素子の空隙に調光層前駆体を注入した状態を示す図である。
【図１２】第８の実施形態における積層型液晶表示素子の製造工程を示す概要断面図で、（ａ）は積層基板同士を重ねる前の状態を示す図、（ｂ）は重ねた状態を示す図、（ｃ）は分割カットされた積層型液晶表示素子を示す図である。
【図１３】第９の実施形態における積層型液晶表示素子の製造工程を示す概要断面図で、（ａ）は積層基板同士を重ねる前の状態を示す図、（ｂ）は重ねた状態を示す図、（ｃ）は分割カットされた積層型液晶表示素子を示す図、（ｄ）は積層型液晶表示素子の空隙に調光層前駆体を注入した状態を示す図である。
【図１４】剥離基板上の剥離膜と電極層およびカットライン、被転写基板上の電極層、引出し電極との配置関係を示す模式図としての概要平面図である。
【図１５】剥離基板上の剥離膜と電極層およびカットライン、被転写基板上の電極層、引出し電極との配置関係を示す模式図としての概要平面図である。
【図１６】剥離膜の転写領域を素子部毎に設けた場合の不具合を示す概要断面図図である。
【図１７】被転写基板として可撓性のある高分子フィルムを用いた場合に電極層にクラックが生じる不具合を示す概要断面図である。
【符号の説明】
１１　剥離膜
１１ａ　剥離膜の非転写領域
１１ｂ　剥離膜の転写領域
１２　素子部
１３　電極層
１４　シール剤
１５　調光層
１６　スペーサ
１７　電極層
１８　被転写基板
１９　調光層前駆体
２０　剥離基板
２１　カットライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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