(57)【要約】【課題】視認性に優れた携帯情報端末に適した反射型液晶表示装置を提供する。【解決手段】光源及び導光板からなるフロントライトを有する反射型液晶表示装置において、２枚の基板が対向して配置され、各基板の対向面に透明導電膜を有するタッチパネルがフロントライトの導光板の表示面側に搭載され、該タッチパネルの表示面側の基板が円偏光機能を有し、液晶セル側の基板がλ／４板を有し、該導光板のレターデーション値が３０ｎｍ以下であることを特徴とする反射型液晶表示装置。【選択図】　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源及び導光板からなるフロントライトを有する反射型液晶表示装置において、２枚の基板が対向して配置され、各基板の対向面に透明導電膜を有するタッチパネルがフロントライトの導光板の表示面側に搭載され、該タッチパネルの表示面側の基板が円偏光機能を有し、液晶セル側の基板がλ／４板を有し、該導光板のレターデーション値が３０ｎｍ以下であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フロントライトを有する液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
タッチパネルには、抵抗膜方式、光学式、静電容量式、超音波式、および電磁誘導式等の方式がある。これらの中で、抵抗膜方式は、比較的低コストである、また薄型軽量化が容易であるという特徴を有し、ディスプレイの表面に装着するだけで外部入力が可能となるため、特に携帯機器を中心として広く用いられている。近年、携帯電話や情報携帯端末などの携帯機器の需要が著しく、携帯機器の薄型軽量化やディスプレイの視認性の向上が強く求められている。
【０００３】
従来のタッチ入力式反射型液晶表示装置としては、表示面側に透明タッチパネルを備えたものが知られている。この透明タッチパネルの構成としては、上部電極側と、下部電極側とが空間層を介して配置されており、さらにその下に、表示面側から導光板、偏光板、λ／４板、液晶セルの順に配置されている。しかしながら、上記反射型液晶表示装置は、夜間や暗所では十分なコントラストの画面が得られないという欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記の欠点を改善するために、表示面の前方から照明を行なうフロントライト装置（Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｆｏｒ　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｄｉｓｐｌａｙ（ＳＩＤ）　’９５　ＤＩＧＥＳＴ、ｐ３７６）が提案されている。
しかし、上記従来のタッチ入力式反射型液晶表示装置にフロントライト装置を搭載した場合、夜間や暗所等の場合は視認性がよくなるが、蛍光灯等がある部屋や屋外においては、タッチパネルの上面、空間層、導光板部、偏光板表面等で外光の反射が起こるため、表示画面が非常に見にくいものとなる。これは、屈折率の低い媒質から高い媒質へ光が通過する際、その屈折率の差が大きいほど界面での光の反射が起こるためである。
【０００５】
また、特開平５−１２７８２２号公報、および月刊ディスプレイ１９９９年１月号６９頁に偏光板と液晶セルの間に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナータイプタッチパネルの提案がされている。この方式によれば、偏光板と位相差板とを組み合わせた円偏光板を液晶セルに対しタッチパネル部より外側（視認側）の電極基板に配置することで、タッチパネル内部の界面反射が著しく低減され、視認性が向上する。しかしながら、フロントライトを搭載した反射型液晶表示装置にインナータイプタッチパネルを適用する場合、タッチパネルが円偏光板と一体化したインナー型タッチパネルとなっているために、蛍光灯や外光による反射を効率よく抑えることが可能であるものの、フロントライト光が円偏光板を通して液晶セルに到達する必要があるため、必然的にタッチパネルの表示面側にフロントライトの導光板が位置することになり、導光板を介してのタッチ入力は実質的に困難となる。
【０００６】
更に、特開平１０−４８６２５号公報に、λ／４板を２枚、即ちタッチパネルの表示面側の基板及びタッチパネル部と液晶セル部の間の２箇所に用いることによって、より視認性を向上させたものが開示されているが、このようなタッチパネルをフロントライトを搭載した反射型液晶表示装置に設置する場合も導光板を表示面側に設置する必要があるため入力が困難となる。
【０００７】
以上のように、明るい場所でも低反射かつ高コントラストであって、しかも光量の少ない場所でも高コントラストで、フロントライトを使用することによる表示画面にムラが発生することのないタッチ入力方式の反射型液晶表示装置はこれまで実用化されるレベルのものはなく、その開発が求められていた。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記課題は、下記（１）のタッチパネルおよび液晶表示装置により達成された。
（１）　光源及び導光板からなるフロントライトを有する反射型液晶表示装置において、２枚の基板が対向して配置され、各基板の対向面に透明導電膜を有するタッチパネルがフロントライトの導光板の表示面側に搭載され、該タッチパネルの表示面側の基板が円偏光機能を有し、液晶セル側の基板がλ／４板を有し、該導光板のレターデーション値が３０ｎｍ以下であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【０００９】
【発明の実施の形態】
［反射型液晶表示装置の構成］
本発明の実施形態の一例を図１に厚み方向断面図として示すが、本発明はこの形態に限られるものではない。
但し、タッチパネルを表示装置に設置して用いた場合、表示側に配置される基板を可動基板、液晶セル側に配置される基板を固定基板と称する。
図１に示すように、本発明のタッチパネルを有しフロントライトを備えた反射型液晶表示装置２０は、液晶セル１３、λ／４板１２、偏光板１１、フロントライト１４、及びタッチパネル１５の順に積層してなる。タッチパネル１５は、表示面側の可動基板１６と、可動基板１６に離間して対向する固定基板１７とを有し、可動基板１６と固定基板１７との対向面には各々透明導電膜４が設けられている。２枚の透明導電膜４の間は空気層を設けてもよいし、周辺部は粘着剤５によって貼り合わせてもよい。
【００１０】
図１に示す本発明の実施形態は、可動基板１６は円偏光機能を有するものであり、例えば、λ／４板３の表示面側に偏光素子２を積層したものからなる。可動基板１６は偏光素子２の表示面側に保護フィルム１を備えていてもよい。また固定基板１７はλ／４板７を有しており、例えばガラス板８にλ／４板７を貼り合わせたものを用いることができる。
【００１１】
前述のように２枚の透明導電膜４の間にはギャップが形成されている。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティカル・マッチングの観点から、透明導電膜と屈折率の近い液体を充填させることもできる。また、各透明導電膜４と各基板との間にアンダーコート層（図示せず）、及び／又は各透明導電膜４の対抗面上にオーバーコート層（図示せず）を付与することにより、光反射を更に低減させることもできる。スティッキング性をなくし、打鍵寿命を改善するために、各透明導電膜４の対向面上は粗面化されていても良い。ギャップ間にはスペーサーを設けることができる。スペーサーとしては、例えば、ドット状スペーサー６や周辺部に設けた粘着剤５が用いられる。
また、タッチパネル部とタッチパネルの駆動回路（図示せず）は、例えばフレキシブル電極（図示せず）を通して接続をする。
【００１２】
液晶表示装置２０から入射した外光は、可動基板１６の偏光素子２とλ／４板３を通過することにより円偏光となり、更に固定基板１７のλ／４板７を通過することによって、直線偏光になる。直線偏光となった光は、導光板９、偏光板１１、λ／４板１２を通過し液晶セル１３に入射する。
液晶セル１３の底面にある反射板（図示せず）から反射されて、λ／４板１２、偏光板１１を通過して直線偏光となった光は、光学異方性のない導光板９を直線偏光のまま通過し、タッチパネル１５の固定基板１７に入射し、更に直線偏光のままタッチパネル１５の表示面へと進み観測者に視認される。
一方で、タッチパネル１５の表面から入射した外光の一部は、屈折率の異なる層の界面から反射されるが、可動基板１６が円偏光機能をもつために、可動基板１６から固定基板１７のλ／４板７の間の境界面から反射した光は再び可動基板１６を通過することができないため、表示面で観測される反射光は著しく少なくなる。
【００１３】
また、光源１０から発せられた光は、導光板９、偏光板１１、λ／４板１２を通して液晶セル１３に入射する。液晶セル１３の底面で反射し、偏光板１１に出射した光は、再び導光板９を通って、タッチパネル１５を通過して直線偏光のまま観測者に到達し視認される。このため、外光が少ない状態でも光源１０により液晶表示を認識することが可能となる。
【００１４】
以下、本発明の反射型液晶表示装置の各部材について詳述する。
《タッチパネル》
［可動基板及び固定基板の構成材料］
可動基板は、ポリマーフィルムで構成されることが好ましく、固定基板はポリマーフィルム単独でもよいし、ポリマーフィルムとガラス又はプラスチック基板とを粘着剤等を介して貼り合わせて用いてもよい。可動基板及び固定基板を構成するポリマーフィルムは光透過率が８０％以上であることが好ましい。
ポリマーフィルムを構成するポリマーの具体例としては、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリカーボネート誘導体（帝人（株）：ＷＲＦ−５）、セルロースアシレート系樹脂（セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）、ポリオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）：ゼオノア、ゼオネックス）、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）：アートン）、ポリエステル系樹脂（ＰＥＴ、ＰＥＮ）、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエーテルケトン、などが挙げられ、中でもポリカーボネート誘導体、セルロースアシレート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂が好ましい。
【００１５】
本発明においては可動基板は円偏光機能を有していることが必要であり、例えば後述する偏光板とλ／４板と貼り合わせたものを用いることができる。また、可動基板にはハードコート層や低反射膜などがコーティングされていてもよい。また、固定基板はλ／４板を有しており、このλ／４板をガラスやプラスチック板を貼り付けて使用してもよいし、λ／４板単独で用いてもよい。さらに、固定基板と導光板との間に反射防止コートを施してもよい。
【００１６】
［円偏光機能］
本発明に用いられる可動基板は円偏光機能を有するものであるが、市販の偏光板に後述するλ／４板を貼り合せたものでもよいし、従来の偏光板の保護フィルムの代わりにλ／４板を用いたものでもよい。
偏光板に用いる偏光素子の作製方法としては、ヨウ素または染料などの二色性分子を溶解又は吸着させ、その膜を一方向に引き延ばして二色性分子を配列させる方法、一軸方向に延伸したフィルムに上記の二色性分子を吸着させる方法、ビスアゾ化合物、その互変異性体、又はそれらの塩の水溶性有機色素を含む二色性色素を用いて作製する方法、あるいはビストリアジン化合物、その互変異生体、およびそれらの塩から選択される水溶性化合物を用いて作製する方法のいずれであってもよい。
偏光素子の吸収軸の方向とλ／４板の遅相軸は実質的に４５°であることが好ましい。偏光素子は長手方向に対して垂直又は水平方向に延伸されているものでもよいし、４５°方向に延伸して作製したものでもよい。
【００１７】
［λ／４板］
次に、可動基板及び固定基板に用いることができるλ／４板について説明する。
一軸延伸によってλ／４板を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリカーボネート、ポリカーボネート誘導体（帝人（株）：変性、共重合ポリカーボネート）、セルロース誘導体（セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）、ポリオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）：ゼオノア、ゼオネックス）、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）：アートン）、ポリエステル系樹脂（ＰＥＴ、ＰＥＮ）、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹、ポリエーテルケトン、ポリスチレン等が好ましい。
特にポリカーボネート誘導体、セルロース誘導体、ポリオレフィン系樹脂を一軸延伸したもの（ＷＯ―００／６５８４号公報）、ノルボルネン系樹脂（特許第３０１９７４１号、特開２００１−１９４５２７号公報、特開２００１−４２１３０号公報）やセルロース誘導体（特開２００１−９１７４３号公報）を用いることが好ましい。
【００１８】
ポリマーフィルムがλ／４板機能を有する場合、そのλ／４板のレターデーションとしては、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍの関係を満足する。Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出する。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、位相差板の面内の、遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｄは、位相差板の厚さ（ｎｍ）である。
フィルム面内のレターデーション分布は、下記式によって算出した。
（（レターデーション最大値）―（レターデーション最小値））／（レターデーションの平均値）×１００　（％）
【００１９】
タッチパネルの可動基板に用いるλ／４板と固定基板に用いるλ／４板の遅相軸の向きは、平行あるいは直交することが好ましいが、液晶表示装置に装着した際に視認性が優れる方向であれば、いずれの方向であっても構わない。
【００２０】
［透明導電膜］
タッチパネルとして用いる透明導電膜としては、表面抵抗率は、１０４Ω／□以下であることが好ましく、１００Ω／□以上１０００Ω／□以下であることがさらに好ましい。
透明導電膜の表面抵抗率を上記のような値にするためには、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどの塗布によって設けても構わないし、フィルム流延時に共流延することによって設けても構わない。また、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によっても、大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わない。フィルムの片面に透明導電膜を設けても構わないし、両面に設けても構わない。また、これらの方法を併用することも可能である。
【００２１】
真空成膜法にとしては「透明導電膜の新展開」シーエムシー、澤田　豊監修　「月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。
成膜する金属酸化物としてはＩｎ２Ｏ３系（Ｓｎなどドープ品、ＩＴＯ含む）、ＳｎＯ２系（Ｆ、Ｓｂなどドープ品含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品含む）またはこれらの複合品Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ系などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。また、銀などと共に成膜しても良い。
【００２２】
スパッタなどでポリマーフィルム上に成膜する際にはその表面をフッ素系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂などの高分子や、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＳｎＯ２などの無機物でコートすることが好ましい。コートする膜厚としては２ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは２ｎｍ以上５０μｍ以下であり、特に好ましくは２ｎｍ以上１０μｍ以下である。
【００２３】
スパッタ法により酸化インジウムを主として含む膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体であるターゲットを用いた反応性スパッタリングを行うことができる。反応の制御上、後者が好ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスとしては、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。放電形式としてはＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタなどが利用できる。また、酸素の流量を制御する方法としてはプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましい。
透明導電膜を付与したポリマーフィルムの光の透過率は、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが特に好ましく、８０％以上であることが最も好ましい。
【００２４】
透明導電膜の厚みは、ＩＴＯを用いた場合を例にとると、例えば１０〜１００ｎｍ、特に１５〜７０ｎｍとすることが多い。透明導電層は、全面を電極としたり、全面電極形成後にレジスト形成やエッチング処理、銀電極形成などを行なってパターン電極としたりし、透明導電膜が設けられたフィルム状のシートを得る。
【００２５】
《フロントライト》
本発明の反射型液晶表示装置はフロントライトを有する。
フロントライトとしては、「月刊ディスプレイ　２０００年　４月号　ｐ．５７−６４」（株）テクノタイムズ社に記載の反射型液晶ディスプレイ用フロントライトを用いることができる。
フロントライトは液晶セルの表示面側に、液晶セルに対して平行に導光板を配置し、導光板の端面部より冷陰極管やＬＥＤなどの光源からの光を取り込み液晶セルへ照射する。導光板の一方の面は、端面部より入光した光を液晶セルへ出射するための光拡散機能を有している。光拡散機能としては、導光板の上面にプリズムやマイクロレンズを形成したり、微細なマット加工を行って光を拡散することが好ましい。
【００２６】
導光板は液晶セルの表示面側に配置されるため、導光板は十分な光透過性を有し、視認性を妨げないことが要求され、透明樹脂からなるものを用いるとよい。透明樹脂としては、透明性、導光性に優れたアクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、セルロースアシレート系樹脂（セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート）、ポリメチルペンテン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂などを用いることができる。
【００２７】
本発明に用いられる導光板は、レターデーション値が３０ｎｍ以下である。導光板のレターデーション値は好ましくは０ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、０ｎｍ以上５ｎｍ以下であることがより好ましい。３０ｎｍ以上ずれると、非常にコントラストが悪い画像となる。また、面内のレターデーション分布は好ましくは２０％以下であり、より好ましくは０％以上１５％以下であり、更に好ましくは０％以上１０％以下である。
本発明に用いられる導光板のレターデーションは、可動基板に使われる円偏光板中の位相差板のレターデーションとを足し合わせたものを考慮して設けることが好ましい。
【００２８】
［ハードコート層、反射防止層］
本発明においては可動基板及び固定基板にハードコート層又は反射防止層を設けることができる。
本発明では、可動基板表面のプラスチックフイルムを高硬度化するためにハードコート層を設けることが好ましい。本発明に用いるハードコート層は硬化性樹脂を用いることができ、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線重合性樹脂等があるが、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂としてはメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のプレポリマーの架橋反応を利用するものがある。本発明に用いられるハードコート層の鉛筆硬度は２Ｈ以上、好ましくは３Ｈ以上、更に好ましくは４Ｈ以上である。またハードコート層を高硬度化するために、有機または無機微粒子などを混合しても構わない。更に鉛筆硬度向上の為には、ハードコート層の厚みを通常の３〜１０μｍよりも厚くすることが効果的であるが、ハードコート層の割れが生じやすい等、脆性の問題が発生することがある為、表面弾性率を４．５ＧＰａ以上９ＧＰａ以下の範囲、かつハードコート層厚みとの三乗の積が３０ＫＰａ・ｍｍ３以上７００ＫＰａ・ｍｍ３以下の範囲に制御したハードコート層を用い、ハードコート層の硬度と脆性の両立化を図ることも好ましい。また硬度と脆性の両立化から、ハードコート層の膜厚を薄くし、プラスチックフイルム成分と無機、有機微粒子の混合および、多官能モノマーの架橋等により、プラスチックフイルムの硬度を上げることも好ましい。この場合、プラスチックフイルム成分のみの層と、プラスチックフイルム成分と無機、有機微粒子、多官能モノマーの混合による高硬度層を積層することがより好ましく、積層方法としては、溶融による共押出による積層および、共流延による積層であっても、塗布による積層であっても構わない。
【００２９】
活性エネルギー線としては、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂層は、架橋しているポリマーを含む。架橋しているポリマーを含む活性エネルギー線硬化層は、多官能モノマーと重合開始剤を含む塗布液を上記の透明基材フイルム上に塗布し、多官能モノマーを重合させることにより形成できる。これらのモノマーの官能基としては、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。
【００３０】
多官能モノマーは、多価アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルであることが好ましい。多価アルコールの例には、エチレングリコール、１，４−シクロヘキサノール、ペンタエリスリトール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジペンタエリスリトール、１，２，４−シクロヘキサノール、ポリウレタンポリオールおよびポリエステルポリオールが含まれる。これらの中では、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびポリウレタンポリオールが好ましい。二種類以上の多官能モノマーを併用してもよい。
【００３１】
多官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン、ジビニルスルホン、メチレンビスアクリルアミドおよびメタクリルアミド、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテルなどが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
本発明では多官能モノマーとしてエチレン性不飽和基を有するモノマーに加えて、架橋性官能基を有する化合物を併用して高硬度化してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。開環重合性の架橋性官能基が好ましく、エポキシ基が特に好ましい。架橋性官能基を有する化合物はモノマーであってもポリマーであってもよい。前記エポキシ系化合物としては、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノールＡ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステルや、脂環式エポキシ等のモノマーおよびオリゴマーやその他、特開平１１−２０９７１７号、同６−１５７８１９号等に記載の化合物が上げられる。架橋性官能基を有する化合物を加える場合は、多官能モノマー中、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。
【００３２】
これらの活性エネルギー線硬化層に、無機微粒子を添加することで膜としての架橋収縮率を改良し、塗膜の硬度を上げることができる。無機微粒子としては硬度が高いものが好ましく、モース硬度が６以上の無機粒子が好ましい。例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子が含まれる。
【００３３】
これらの無機微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上４００ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の微粒子を１０質量％以上６０質量％以下、より好ましくは１５質量％以上５０質量％以下、より好ましくは２０質量％以上４５質量％以下添加させる。１ｎｍ以下では分散が難しく凝集粒子が出来、４００ｎｍ以上ではヘイズが大きくなり、どちらも透明性を落としてしまい好ましくない。
【００３４】
無機微粒子の添加量は、活性エネルギー線硬化層の全量の１以上９９質量％以下であることが好ましく、１０以上９０質量％以下であることがより好ましく、２０以上８０質量％以下であることがさらに好ましく、４０以上６０質量％以下であることが最も好ましい。
【００３５】
一般に無機微粒子はバインダーポリマーとの親和性が悪いため単に両者を混合するだけでは界面が破壊しやすく、膜として割れ、耐傷性を改善することは困難である。無機微粒子とポリマーバインダーとの親和性を改良するため、無機微粒子表面を有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することができる。表面修飾剤は、一方で無機微粒子と結合を形成し、他方でバインダーポリマーと高い親和性を有することが必要であり、金属と結合を生成し得る官能基としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド化合物や、リン酸、スルホン酸、カルボン酸基等のアニオン性基を有する化合物が好ましい。またバインダーポリマーとは化学的に結合させることが好ましく、末端にビニル性重合基等を導入したものが好適である。例えば、エチレン性不飽和基を重合性基および架橋性基として有するモノマーからバインダーポリマーを合成する場合は、金属アルコキシド化合物またはアニオン性化合物の末端にエチレン性不飽和基を有していることが好ましい。
【００３６】
有機金属化合物の表面処理剤例
ａ）シラン含有有機化合物
ａ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＳｉ（ＯＣ４Ｈ９）３
ａ−２　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８Ｏ）２Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）２
ａ−３　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８Ｏ）３ＳｉＯＣ４Ｈ９
ａ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６ＯＳｉ（ＯＣ４Ｈ９）３
ａ−５　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６Ｏ）２Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）２
ａ−６　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６Ｏ）３ＳｉＯＣ４Ｈ９
【００３７】
ｂ）アルミニウム含有有機化合物
ｂ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＡｌ（ＯＣ４Ｈ９）２
ｂ−２　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６ＯＡｌ（ＯＣ３Ｈ７）２
ｂ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＡｌ（ＯＣ２Ｈ５）２
ｂ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ４ＯＡｌ（ＯＣ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ５）２
ｂ−５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＡｌ（ＯＣ４Ｈ９）２
ｂ−６　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＡｌ（ＯＣ４Ｈ９）ＯＣ４Ｈ８ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２
ｂ−７　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＡｌ｛Ｏ（１，４−ｐｈ）｝２
【００３８】
ｃ）ジルコニウム含有有機化合物
ｃ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＺｒ（ＯＣ４Ｈ９）３
ｃ−２　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ７ＯＺｒ（ＯＣ３Ｈ７）３
ｃ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＺｒ（ＯＣ２Ｈ５）３
ｃ−４　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＺｒ（ＯＣ４Ｈ９）３
ｃ−５　｛ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ｝２Ｚｒ（ＯＣ４Ｈ９）２
【００３９】
ｄ）チタニウム含有有機化合物
ｄ−１　｛Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ｝３ＴｉＯＣ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３
ｄ−２　Ｔｉ｛ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨ２）２Ｃ２Ｈ５｝４
ｄ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＴｉ（ＯＣ４Ｈ９）３
ｄ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ７ＯＴｉ（ＯＣ３Ｈ７）３
ｄ−５　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
ｄ−６　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＳｉＯＴｉ（ＯＳｉＣＨ３）３
ｄ−７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＴｉ（ＯＣ４Ｈ９）２
【００４０】
アニオン性官能基含有表面処理剤例
ｅ）リン酸基含有有機化合物
ｅ−１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−４　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯＣｌ２
ｅ−６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＣＨ｛ＯＰＯ（ＯＨ）２）２
ｅ−７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＮａ）２
ｅ−８　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯ（１，４−ｐｈ）Ｃ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−９　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ）２ＣＨＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
【００４１】
ｆ）スルホン酸基含有有機化合物例
ｆ−１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
ｆ−２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ３Ｈ６ＳＯ３Ｈ
ｆ−３　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＳＯ３Ｈ
ｆ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＳＯ３Ｈ
ｆ−５　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ１２Ｈ２４（１，４−ｐｈ）ＳＯ３Ｈ
ｆ−６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＳＯ３Ｎａ
【００４２】
ｇ）カルボン酸基含有有機化合物例
ｇ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
ｇ−２　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
ｇ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯ（１，２−ｐｈ）ＣＯＯＨ
ｇ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ）２Ｈ
ｇ−５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
ｇ−６　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＣＯＯＨ
ここでｐｈはフェニル基を示す。
【００４３】
これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされる事が好ましい。表面修飾剤を溶解した溶液に無機微粒子を添加し、超音波、スターラー、ホモジナイザー、ディゾルバー、サンドグラインダーを用いて、撹拌、分散することが好ましい。
【００４４】
表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。
【００４５】
表面修飾した無機微粒子溶液に、上記の多官能モノマーと重合開始剤を加え活性エネルギー線硬化塗布液とする。
【００４６】
光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類が含まれる。特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が挙げられる。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントンが含まれる。また、架橋性官能基を有する化合物を併用する場合には、光カチオン性重合開始剤を併用する事が好ましく、光カチオン重合開始剤としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウムなどのオニウム塩が好ましくあげられる。これらの具体例としては特開平１１−２０９７１７号、同６−１５７８１９号等に記載の化合物が上げられる。
【００４７】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００重量部に対して、０．１乃至１５重量部の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０重量部の範囲で使用することがさらに好ましい。
光重合反応は、活性エネルギー線硬化層の塗布および乾燥後、紫外線照射により実施することが好ましい。
【００４８】
本発明のハードコートフイルムの作製は、ポリマーフイルム上に活性エネルギー線硬化塗料をディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、グラビア法、ワイヤーバー法等の公知の薄膜形成方法で形成、乾燥、活性エネルギー線照射して作製することが出来る。
【００４９】
本発明では、これらの作製したハードコート層の上に、低屈折率層と高屈折率層とからなる耐擦傷性に優れた反射防止層を設けることにより、高表面硬度の反射防止ハードコート層とすることができる。
【００５０】
本発明における低屈折率層および高屈折率層は活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂を主体とする層、および高屈折率層は活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と金属酸化物微粒子からなる層であることが好ましい。活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂としては、同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂が好ましい。具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシアネート硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られる多官能のウレタンアクリレートやポリエポキシ硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート（メタアクリレート）の反応によって得られる多官能のエポキシアクリレート等を挙げることができる。
【００５１】
金属酸化物微粒子としては、平均粒子サイズが１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などの屈折率が１．６より大きいものが挙げられる。屈折率が大きい二酸化チタンが添加量が少なくでき好ましい。
【００５２】
無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することが好ましく、表面修飾剤は、無機微粒子と結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、他方で活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と高い親和性を有するものが好ましい。
無機微粒子に結合もしくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド硬化性樹脂や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。さらに有機成分との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和基が好ましい。
本発明において好ましい金属酸化物微粒子の表面修飾剤は、金属アルコキシドもしくはアニオン性基とエチレン性不飽和基を同一分子内に有する硬化性樹脂やカルボン酸等のアニオン性基を有するアクリル酸共重合ポリマー等である。
【００５３】
これら表面修飾剤の代表例として以下の不飽和二重結合含有のカップリング剤や、リン酸基含有有機硬化性樹脂、硫酸基含有有機硬化性樹脂、カルボン酸基含有有機硬化性樹脂等が挙げられる。
Ｓ−１　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
Ｓ−４　　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０Ｏ）２ＰＯＯＨ
Ｓ−５　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
Ｓ−６　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
Ｓ−７　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
（Ｘ＝Ｈ、あるいはＣＨ３を表す）
【００５４】
これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされることが好ましい。無機微粒子を機械的に微細分散する時に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、または無機微粒子を微細分散したあとに表面修飾剤を添加して攪拌するか、さらには無機微粒子を微細分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはｐＨ変更を行う）、そのあとで微細分散を行う方法でも良い。
表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。
【００５５】
本発明において高屈折率層の硬化には、活性エネルギー線として、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが用いられる。その中でも紫外線を用いてラジカルを発生させる重合開始剤を添加し、紫外線により硬化させる方法が特に好ましい。
【００５６】
紫外線によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤が使用できる。また上記で挙げたように通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、本発明ではこれらを単独で用いてもよい。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。
【００５７】
重合開始剤は、単独でも複数開始剤を組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の添加量としては、硬化性組成物中に含まれるエチレン性不飽和基含有硬化性樹脂と開環重合性基含有硬化性樹脂の総質量に対し、０．１乃至１５質量％の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
【００５８】
これらの活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と金属酸化物微粒子からなる高屈折率層の屈折率は１．６以上、更に１．６５以上が好ましく、低屈折率層の屈折率よりも０．２以上大きいことが好ましい。
【００５９】
低屈折率層には高屈折率層に使用する活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と同様の硬化性樹脂を使用することができる。使用する樹脂の硬化後の屈折率は、１．６以下が好ましく、金属酸化物微粒子としては屈折率の小さな二酸化ケイ素が好ましい。
低屈折率層の屈折率は１．４５以上１．６以下であることが好ましく、更には１．５５以下であることが好ましい。
【００６０】
これらの高屈折率層と低屈折率層は、それぞれ５０〜１００ｎｍの範囲で塗布され、反射防止の効果を大きくするために光学距離（屈折率×厚み）を観測波長の４分の１にすることが好ましい。
本発明において高屈折率層と低屈折率層は、ハードコート層上に上記活性エネルギー線硬化性の塗布液を、高屈折率層、低屈折率層の順にスピナー法、グラビア法、ワイヤーバー法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、活性エネルギー線照射して、硬化させることにより作製することができる。
【００６１】
上記反射防止層の反射率（正反射率）は、３．０％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがさらに好ましい。
【００６２】
［表示装置］
本発明に用いられる表示装置は液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＦＥＤいずれの表示装置にも適用できるが、フロントライトを有する液晶表示装置に適用することが好ましい。
本発明に用いられる液晶表示装置のモードは特に限定されないが、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ　）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）型、　ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ　Ａｌｉｇｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、　または、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ　Ｈｏｓｔ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｎｔｒｏｌｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ　Ｐｌａｉｎ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型であることが好ましい。反射型液晶表示装置に用いられる、液晶セルと導光板との間に設置する偏光板とλ／４板は上記に挙げたものを用いることができる。また、この偏光板の表面には反射防止コートが施してあるものがより好ましい。
【００６３】
【実施例】
以下に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
（可動基板の作製）
λ／４板は特開２００１−９１７４３号公報の実施例１に記載の一枚のセルロースエステルからなるものを用いた。このλ／４板の厚みは１１３μｍであり、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２５．２ｎｍ、１３７．８ｎｍおよび１４１．１ｎｍであった。
【００６４】
このλ／４板上にロールコーターにて３μｍの下記のハードコート層を塗布した後、巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１５ｎｍ形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３５０Ω／□であり、光の透過率は８９％であった。
【００６５】
一方、ＰＶＡフィルムをヨウ素１．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて３０秒浸漬し、さらにホウ酸４０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて１２０秒浸漬後、延伸し偏光素子を作製した。偏光素子の両側にポリビールアルコール系粘着剤（クラレ社製　ポバール）を塗工し、一方に上記のλ／４板の透明導電膜を付与していない面を、反対側にあらかじめ反射防止層を付与したセルローストリアセテートフィルム（保護フィルム）（富士写真フイルム社製、タックスフイルムＴＤ８０）の反射防止層のない面をロールツーロールで貼り合わせた。なお、このときの偏光素子の吸収軸とλ／４板の遅層軸は実質的に４５°であった。さらに８０℃で乾燥して円偏光板としての機能を有し、透明導電膜が形成されているタッチパネル用可動基板を得た。
【００６６】
また、上記反射防止層及びハードコート層については以下の手順にて作製した。
（反射防止層の形成）
（１）高屈折率層塗布液の調製
二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）３０．０質量部、カルボン酸基含有モノマー（アロニクスＭ−５３００東亞合成（株）製）４．５質量部およびシクロヘキサノン６５．５質量部を、サンドグラインダーミルにより分散し、質量平均径５５ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。前記二酸化チタン分散物にジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）と、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガイギー社製、モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アニオン性モノマーおよびカチオン性モノマーの合計量に対し５％）とを混合し、高屈折率層の屈折率が１．８５になるように調整した。
【００６７】
（２）低屈折率層塗布液の調製
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ、日本化薬（株）製）６０質量部、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガイギー社製）２質量部、メガファック５３１Ａ（Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、大日本インキ化学工業（株）製）９質量ｇ、およびメチルエチルケトンを混合、攪拌して、低屈折率層の塗布液を調製した。
屈折率の調整は、二酸化ケイ素微粒子（アエロジル２００、日本アエロジル（株）製）３０．０質量部、カルボン酸基含有モノマー（アロニクスＭ−５３００東亞合成（株）製）４．５質量部およびシクロヘキサノン６５．５質量部を、サンドグラインダーミルにより分散調整した、質量平均径１２ｎｍの二酸化ケイ素微粒子分散液を添加して行った。
【００６８】
（３）反射防止層付きセルローストリアセテートフィルムの作製
セルローストリアセテートフィルム（富士写真フイルム社製、フジタックＴＤ８０）上に、高屈折率層塗布液を、ワイヤーバーを用いて乾燥膜厚が７５ｎｍになるように塗布、乾燥、紫外線照射し、さらに、高屈折率層の上に、上記低屈折率層塗布液を乾燥膜厚が９０ｎｍになるように塗布、乾燥、紫外線照射し反射防止層を形成した反射防止層付きセルローストリアセテートフィルムを得た。
【００６９】
（ハードコート層の形成）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６重量部を、１６重量部のメチルエチルケトンと２２０重量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５重量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０重量部のＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ２　ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
上記λ／４板をグロー放電処理した後、上記のハードコート層塗布液を３μｍの厚みになるように塗布・乾燥させ、紫外線照射しハードコート層付きλ／４板を作製した。
【００７０】
（固定基板の作製）
λ／４板として特開２００１−９１７４３号公報に記載の一枚のセルロースエステルからなるものを用いた。このλ／４板の厚みは１１３μｍであり、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２５．２ｎｍ、１３７．８ｎｍおよび１４１．１ｎｍであった。
このλ／４板上にロールコーターにて３μｍのハードコート層を塗布した後、巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１６ｎｍ形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３６０Ω／□であり、光の透過率は８９％であった。
得られた透明導電膜付きλ／４板を、粘着剤を介して、厚み０．７ｍｍのガラスに貼り合わせてタッチパネル用の固定基板を得た。
【００７１】
（タッチパネルの作製）
可動基板にスクリーン印刷にて、レジスト（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ、厚み約１２μｍ）および銀電極（アサヒ化学製、ＬＳ−４１５Ｃ−Ｍ、厚み約１０μｍ）を印刷した。また、固定基板にスクリーン印刷にてドットスペーサー（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ−ＤＳ、厚み約８μｍ）、レジスト、銀電極を印刷した。
可動基板と固定基板を透明導電膜同士が対向するように粘着剤を介して接着し、同時にフレキシブル電極（日本黒鉛製）を取り付けた。このときの可動基板のλ／４板の遅層軸と固定基板のλ／４板の遅相軸は平行となっていた。
【００７２】
（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き反射型液晶表示装置（ＭＩ−Ｅ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、共重合ポリカーボネートからなり面内のレターデーション値が５ｎｍでそのレターデーション分布が１０％である導光板を有するフロントライトを実装した。さらに導光板の表示面側に作製したタッチパネルを搭載し、図１に示すようなフロントライトを装備したタッチパネル付き反射型液晶表示装置を得た。なお、このときの液晶表示装置に貼り付けられている偏光板とタッチパネル部の偏光板の吸収軸方向は同じであった。
得られた液晶表示装置を蛍光灯がある屋内と太陽光のもとで観測したところ、表面反射が著しく少なかった。また、測定機（ＣＭ−２００２　ミノルタ（株）製）を用いて、コントラスト（白表示反射率／黒表示反射率）を測定すると、６．６と高く、視認性の優れたものであった。また、画面の色のむらもなく、表示の均一性が優れているものであった。
また、この液晶表示装置を暗室にてフロントライトを点灯して観測したところ、画面の色むらがなく、視認性がよいものであった。
【００７３】
［比較例１］
（可動基板の作製）
市販の厚み１８８μｍのλ／４板機能をもたないＰＥＴフィルム（東洋紡製　Ａ−４１００）を可動基板のフィルムとして、その上に巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１５ｎｍ形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３５１Ω／□であった。
【００７４】
（固定基板の作製）
厚み０．７ｍｍのガラス基板上にスパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１６ｎｍ形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３６０Ω／□であった。このようにしてタッチパネル用の固定基板を得た。
【００７５】
（タッチパネルの作製）
上記可動基板にスクリーン印刷にて、レジスト及び銀電極を印刷した。また、上記固定基板にスクリーン印刷にてドットスペーサー、レジスト、銀電極を印刷した。
可動基板と固定基板を透明導電膜同士が対向するように粘着剤を介して接着し、同時にフレキシブル電極を取り付けた。ここで用いたレジスト、銀電極、ドットスペーサ及びフレキシブル電極は実施例１で用いたものと同じものを用いた。
【００７６】
（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用したタッチパネル付き反射型液晶表示装置（ＭＩ−Ｅ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、液晶表示装置上にレターデーション値が３２ｎｍである導光板を有するフロントライトを実装した。さらに得られたタッチパネルを実装し、図２に示すようなフロントライトを装備したタッチパネル付き反射型液晶表示装置を得た。
得られた液晶表示装置を蛍光灯がある屋内と太陽光のもとで観測したところ、タッチパネルの表面の反射が多く、実施例１で使用した測定器で測定したコントラストが３．８と低く、実施例１と比較して著しく視認性の悪いものであった。また、この液晶表示装置を暗室にてフロントライトを点灯して観測したところ、視認性は悪かった。
【００７７】
［比較例２］
（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用したタッチパネル付き反射型液晶表示装置（ＭＩ−Ｅ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、液晶表示装置上にレターデーション値が３５ｎｍである導光板を有するフロントライトを実装し、さらに実施例１で得られたタッチパネルをその上に実装した。
得られた液晶表示装置を蛍光灯がある屋内と太陽光のもとで観測したところ、タッチパネルの表面の反射は少ないものの、実施例１で用いた測定器で測定したコントラストが３．６と低く、実施例１と比較して著しく視認性の悪いものであった。また、この液晶表示装置を暗室にてフロントライトを点灯して観測したところ、視認性が悪いものであった。
【００７８】
以上の実施例から明らかなように、蛍光灯のある室内や太陽光のもとで反射光が少なく、コントラストが高く、良好な視認性を持ち、かつ、光量の少ない暗室でも良好な視認性を示すタッチパネルおよび反射型液晶表示装置を作製することができた。
【発明の効果】
本発明により、蛍光灯などのある部屋や屋外において低反射でコントラストが高く、さらに光量の少ない部屋や夜間の屋外での使用を可能とした、フロントライト付きのタッチ入力式の反射型液晶表示装置を提供できる。
【００７９】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射型液晶表示装置の一実施形態を示す断面図である。
【図２】図２は比較例１の反射型液晶表示装置を示す断面図である。
【符号の説明】
１　保護フィルム
２　偏光素子
３　λ／４板
４　透明導電膜
５　粘着剤
６　ドットスペーサー
７　λ／４板
８　ガラス
９　導光版
１０　光源
１１　偏光板
１２　λ／４板
１３　液晶セル
１４　フロントライト
１５　タッチパネル
１６　可動基板
１７　固定基板
２０　液晶表示装置
【図１】
2004045642.tif 000002
【図２】
2004045642.tif 000003