(57)【要約】【課題】ＥＬ積層膜の劣化を抑制しつつ、発光層からの光を充分に取り出すことができるトップエミッション型のＥＬ素子用封止板及びその製造方法、並びに該封止板多面取り用マザーガラス基板を提供する。【解決手段】トップエミッション型有機ＥＬ素子１００は、パッシブ構造をとり、大きさ７．０ｃｍ角、厚さ１．０ｍｍの板状の透明なソーダライムガラスの基板１０と、基板１０の上に形成された有機ＥＬ積層体２０と、この有機ＥＬ積層体２０を積層した基板１０に頂面が接着される周辺突条部３１を周辺部に規定するように凹状に加工されたソーダライム製の封止板３０とから成る。封止板３０は、周辺突条部３１の頂面に、中央にエッチング加工された４．５ｃｍ角の開口部を有する大きさ５．０ｃｍ角、厚さ０．１ｍｍの無アルカリガラス製のガラス薄板３１１を備える。周辺突条部３１の内側面３１３から内側に突出している開口縁３１２により保持されたモレキュラシーブ５０が、周辺突条部３１の内側面３１３に配されている。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＬ積層体を積層した基板に頂面が接着される周辺突条部を周辺部に規定するように中央部が凹状に加工されたガラス製のＥＬ素子用封止板において、前記周辺突条部の内側面に吸湿剤が配されていることを特徴とするＥＬ素子用封止板。
【請求項２】
前記吸湿剤はモレキュラシーブであることを特徴とする請求項１記載のＥＬ素子封止板。
【請求項３】
前記周辺突条部の頂面に、中央に開口部を有すると共に前記吸湿剤を保持する保持部を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のＥＬ素子用封止板。
【請求項４】
前記保持部の開口縁は、前記周辺突条部の内側面から内側に突出していることを特徴とする請求項３記載のＥＬ素子用封止板。
【請求項５】
前記保持部は、厚さが０．０５〜１．１ｍｍの無アルカリガラス製であることを特徴とする請求項３又は４記載のＥＬ素子用封止板。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載のＥＬ素子用封止板がほぼマトリックス状に形成されたことを特徴とするＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板。
【請求項７】
ガラス素板と、エッチング速度が前記ガラス素板よりも遅いガラス薄板とを準備し、前記ガラス素板に前記ガラス薄板を接着し、前記ガラス薄板が接着されたガラス素板を、周辺部に周辺突条部を規定するように中央部において前記ガラス薄板側から凹状にエッチング加工し、前記周辺突条部の内側面に吸湿剤を配することを特徴とするＥＬ素子用封止板の製造方法。
【請求項８】
ガラス素板及びガラス薄板を準備し、周辺部に周辺突条部を規定するように中央部において凹状に前記ガラス素板をエッチング加工し、前記エッチング加工されたガラス素板の凹部より開口面積が小さい開口部を中央に有するように前記ガラス薄板をエッチング加工し、前記エッチング加工されたガラス素板と前記エッチング加工されたガラス薄板とを前記開口部の開口縁が前記周辺突条部の内側面から内側に突出するように接着し、前記周辺突条部の内側面に吸湿剤を配することを特徴とするＥＬ素子用封止板の製造方法。
【請求項９】
前記接着は加熱融着によって行われることを特徴とする請求項７又は８記載のＥＬ素子用封止板の製造方法。
【請求項１０】
前記加熱融着は、前記ガラス素板と前記ガラス薄板との間に低融点ガラスを介在させて行われることを特徴とする請求項９記載のＥＬ素子用封止板の製造方法。
【請求項１１】
前記接着は接着剤を用いて行われることを特徴とする請求項７又は８記載のＥＬ素子用封止板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＥＬ（エレクトロ・ルミネッセンス）素子用封止板及びその製造方法、並びに該封止板多面取り用マザーガラス基板に関し、特に、ＥＬ積層体を積層した基板に頂面が接着される周辺突条部を、周辺部に規定するように中央部が凹状に加工されたガラス製のトップエミッション型のＥＬ素子用封止板及びその製造方法、並びに該封止板多面取り用マザーガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＥＬ素子は、発光層を介して対向する電極及び背面電極に電圧を選択的に印加することによって該発光層を選択的に発光させることができ、マトリックス表示に適するパッシブ型のものと、高速スイッチング機能によって高速切換え表示を行うことができ、動画表示に適するアクティブ型のものとの２種類が知られている。
【０００３】
上記パッシブ型のＥＬ素子は、単純マトリックス構造をとり、基板と、該基板上に配された電極と、発光層を含み、該電極の上面に積層されたＥＬ積層体と、該ＥＬ積層体の上面に積層された背面電極と、該ＥＬ積層体を積層した基板に頂面が接着される周辺突条部を周辺部に規定するように中央部が凹状に加工され、周辺突条部の頂面の封止部を介して基板上に接着されたガラス製の封止板とから成る。
【０００４】
また、上記アクティブ型のＥＬ素子は、アクティブマトリックス構造をとり、ＴＦＴ液晶素子の構造と同様に、基板と、該基板上に画素毎に形成された薄膜トランジスター回路又はダイオードと、発光層を含み、該薄膜トランジスター回路又は該ダイオードの上面に積層されたＥＬ積層体と、該ＥＬ積層体を積層した基板に頂面が接着される周辺突条部を周辺部に規定するように中央部が凹状に加工され、周辺突条部の頂面の封止部を介して基板上に接着されたガラス製の封止板とから成る。
【０００５】
上記封止部は、ＥＬ素子内を水分や酸素から遮断する密封部を構成する。
【０００６】
上記パッシブ型のＥＬ素子と上記アクティブ型のＥＬ素子とにおいて、トップエミッション型のＥＬ素子は、上記発光層から上記封止板側までを透明部材で構成することにより、発光層からの光を封止板側から取出すものである。
【０００７】
このトップエミッション型のＥＬ素子においては、ＥＬ素子内が水分や酸素から遮断すべく封止板の封止部により密封されているが、長期間使用することにより密封部の密封性が低下してＥＬ素子内に水分等が混入することによりＥＬ積層膜が劣化することがある。このＥＬ積層膜の劣化を抑制するために、封止されたＥＬ素子内に吸湿剤を配することにより、混入した水分に対する耐水性を向上させている。この吸湿剤は、一般的に、ＥＬ積層体と対峙する封止板の凹部内面の全体に配される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、吸湿剤がＥＬ積層体と対峙する封止板の凹部内面の全体に配されていると、発光層からの光を封止板側から取出すトップエミッション構造では充分な開口率が得られず、発光層からの光を充分に取り出すことができないという問題がある。
【０００９】
本発明の目的は、ＥＬ積層膜の劣化を抑制しつつ、発光層からの光を充分に取り出すことができるトップエミッション型のＥＬ素子用封止板及びその製造方法、並びに該封止板多面取り用マザーガラス基板を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、請求項１記載のＥＬ素子用封止板は、ＥＬ積層体を積層した基板に頂面が接着される周辺突条部を周辺部に規定するように中央部が凹状に加工されたガラス製のＥＬ素子用封止板において、前記周辺突条部の内側面に吸湿剤が配されていることを特徴とする。
【００１１】
請求項２記載のＥＬ素子用封止板は、請求項１記載のＥＬ素子封止板において、前記吸湿剤はモレキュラシーブであることを特徴とする。
【００１２】
請求項３記載のＥＬ素子用封止板は、請求項１又は２記載のＥＬ素子用封止板において、前記周辺突条部の頂面に、中央に開口部を有すると共に前記吸湿剤を保持する保持部を備えることを特徴とする。
【００１３】
請求項４記載のＥＬ素子用封止板は、請求項３記載のＥＬ素子用封止板において、前記保持部の開口縁は、前記周辺突条部の内側面から内側に突出していることを特徴とする。
【００１４】
請求項５記載のＥＬ素子用封止板は、請求項３又は４記載のＥＬ素子用封止板において、前記保持部は、厚さが０．０５〜１．１ｍｍの無アルカリガラス製であることを特徴とする。
【００１５】
請求項６記載のＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板は、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のＥＬ素子用封止板がほぼマトリックス状に形成されたことを特徴とする。
【００１６】
上述の目的を達成するために、請求項７記載のＥＬ素子用封止板の製造方法は、ガラス素板と、エッチング速度が前記ガラス素板よりも遅いガラス薄板とを準備し、前記ガラス素板に前記ガラス薄板を接着し、前記ガラス薄板が接着されたガラス素板を、周辺部に周辺突条部を規定するように中央部において前記ガラス薄板側から凹状にエッチング加工し、前記周辺突条部の内側面に吸湿剤を配することを特徴とする。
【００１７】
上述の目的を達成するために、請求項８記載のＥＬ素子用封止板の製造方法は、ガラス素板及びガラス薄板を準備し、周辺部に周辺突条部を規定するように中央部において凹状に前記ガラス素板をエッチング加工し、前記エッチング加工されたガラス素板の凹部より開口面積が小さい開口部を中央に有するように前記ガラス薄板をエッチング加工し、前記エッチング加工されたガラス素板と前記エッチング加工されたガラス薄板とを前記開口部の開口縁が前記周辺突条部の内側面から内側に突出するように接着し、前記周辺突条部の内側面に吸湿剤を配することを特徴とする。
【００１８】
請求項９記載のＥＬ素子用封止板の製造方法は、請求項７又は８記載のＥＬ素子用封止板の製造方法において、前記接着は加熱融着によって行われることを特徴とする。
【００１９】
請求項１０記載のＥＬ素子用封止板の製造方法は、請求項９記載のＥＬ素子用封止板の製造方法において、前記加熱融着は、前記ガラス素板と前記ガラス薄板との間に低融点ガラスを介在させて行われることを特徴とする。
【００２０】
請求項１１記載のＥＬ素子用封止板の製造方法は、請求項７又は８記載のＥＬ素子用封止板の製造方法において、前記接着は接着剤を用いて行われることを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態にかかるＥＬ素子用封止板を図面を参照しながら説明する。
【００２２】
図１は、本発明の実施の形態に係るＥＬ素子用封止板を備えるＥＬ素子の断面図である。
【００２３】
図１において、トップエミッション型有機ＥＬ素子１００は、パッシブ構造をとり、大きさ７．０ｃｍ角、厚さ１．０ｍｍの板状の透明なソーダライムガラスの基板１０と、基板１０の上に形成された有機ＥＬ積層体２０と、この有機ＥＬ積層体２０を覆うように形成された封止板３０とから成る。
【００２４】
封止板３０は、大きさ５．０ｃｍ角、厚さ１．１ｍｍの板状の透明なソーダライムガラス製であり、ＥＬ積層体２０を積層した基板１０に頂面が接着される幅２．０ｍｍの周辺突条部３１を周辺部に規定するように中央部が凹状に加工され、底部の厚さが０．８ｍｍである。
【００２５】
さらに、封止板３０は、周辺突条部３１の頂面に、中央にエッチング加工された４．５ｃｍ角の開口部を有すると共に、後述するモレキュラシーブ５０を保持する大きさ５．０ｃｍ角、厚さ０．１ｍｍの無アルカリガラス製のガラス薄板３１１を備える。
【００２６】
このガラス薄板３１１の開口縁３１２は、周辺突条部３１の内側面３１３から内側に突出している。この開口縁３１２により保持されたモレキュラシーブ５０が、周辺突条部３１の内側面３１３に配されている。
【００２７】
基板１０と封止板３０とは、封止部に配された、例えば紫外線硬化型エポキシ樹脂製の接着剤４０を介して接着される。具体的には、ガラス薄板３１１に紫外線硬化型エポキシ樹脂製の接着剤を一定量塗布した後、封止板３０を基板１０上に載置し、次に封止板３０を１００ｋｇ／ｍ２程度の力で基板１０に押圧しつつ接着剤に紫外線を照射することにより行われる。
【００２８】
封止板３０の凹部３２の形成は、ガラス素板を後述するウェットエッチング法により凹状に形成することにより行われる。このウェットエッチング法によりエッチングされたガラス素板のエッチング深さを測定したところ３００μｍであった。また、凹部３２の底面隅角部において湾曲部位を有し、その曲率半径は約３００μｍであった。封止板３０の凹部３２の底部の厚さは、０．３〜１．１ｍｍが好ましい。厚さが、０．３ｍｍ未満では封止板３０の強度が不十分であり、１．１ｍｍで封止板３０の強度は十分得られる。
【００２９】
有機ＥＬ積層体２０は、基板１０上に形成され、厚さ３００ｎｍのＩＴＯ膜から成る導電膜２１と、後述する発光層を含み、該導電膜２１の上面に積層された有機ＥＬ積層膜２２と、有機ＥＬ積層膜２２の上面に形成され、厚さ５００ｎｍのＩＴＯ膜から成る上部透明電極２３と、上部透明電極２３に接続され、厚さ３００ｎｍのＩＴＯ膜から成る引出し電極２４とから成る。
【００３０】
有機ＥＬ積層膜２２は、導電膜２１側に配されたトリフェニルジアミンから成る高さ７０ｎｍの正孔輸送層と、この正孔輸送層の上面に形成されたキノリノールアルミ錯体から成る高さ７０ｎｍの発光層とから成る。さらには、上部透明電極２３と発光層との間に、さらにトリアゾールやオキサジアゾールから成る透明な電子輸送層が配されて構成されていてもよい。
【００３１】
図２は、図１における封止板３０の製造方法を示すフローチャートである。
【００３２】
図２において、まず、ガラス素板及びガラス薄板３１１を準備する（ステップＳ２１）。ここで、ガラス薄板３１１の材料は、上記開口縁３１２を形成すべく、エッチング速度がガラス素板のものよりも遅いことが好ましい。
【００３３】
次に、ガラス素板にガラス薄板３１１を接着する（ステップＳ２２）。このガラス素板とガラス薄板３１１との接着は、ガラス薄板３１１をガラス素板の軟化温度付近まで加熱して、互いに融着することにより行われる。
【００３４】
さらに、ガラス薄板３１１が接着されたガラス素板を、ウェットエッチング法を用いて、周辺部に周辺突条部３１を規定するように中央部においてガラス薄板３１１側から凹状にエッチング加工し（ステップＳ２３）、周辺突条部３１の内側面３１３にモレキュラシーブ５０を配する（ステップＳ２４）。
【００３５】
上記ステップＳ２３のウェットエッチング法は、ガラス薄板３１１が接着されたガラス素板の４．５ｃｍ角の中央部が露出するように耐酸性テープ、即ちレジストでマスキングした後、このマスキングされたガラス素板を、例えば２０質量％フッ化水素酸、１質量％ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの混合液から成り、２５℃に保たれたエッチング液に浸漬するものである。
【００３６】
上記ウェットエッチング法では、エッチング液として２０質量％フッ化水素酸、１質量％ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの混合液を用いたが、エッチング液は、これに限定されるものではなく、エッチング力を大きくするためにフッ化水素酸５〜５０質量％に、硫酸、塩酸、硝酸、及びリン酸から成る無機酸の群から選択された少なくとも１つの酸を適量含有させたものであってもよい。無機酸の群から選択される強酸は、単体でも２種類以上の混合物でもよい。
【００３７】
また、上記エッチング液は、カルボン酸類、ジカルボン酸類、アミン類、及びアミノ酸類からなる群から選択された１種又は２種以上の有機の酸や塩基の類を適量含有することが好ましい。
【００３８】
また、上記エッチング液に界面活性剤を適宜添加してもよく、添加される界面活性剤を適宜変更してもよい。
【００３９】
上述したようなエッチング液の成分とその濃度は、エッチング液の温度、並びにエッチングされるガラスの組成及び種類等によって適宜変更される。また、エッチング処理を施す際に、エッチングされるガラスを揺動させたり、弱い出力の超音波を付与したりすることも有効である。これにより、エッチング液を均一な溶液にすることができる。さらに、エッチング処理を施しているときに、エッチング液から取出して一旦水又は、硫酸、塩酸、硝酸、及びリン酸からなる無機酸の群から選択された少なくとも１つの酸、又はカルボン酸類、ジカルボン酸類、アミン類及びアミノ酸類から成る群から選択された１種又は２種以上の有機酸や塩基の類に浸漬することも有効である。これにより、エッチング処理を均一に施すことができる。
【００４０】
図３は、図１における封止板３０の他の製造方法を示すフローチャートである。
【００４１】
図３において、まず、ガラス素板及びガラス薄板３１１を準備する（ステップＳ３１）。
【００４２】
次に、ガラス素板を、上述のウェットエッチング法を用いて、周辺部に周辺突条部３１を規定するように中央部において凹状にエッチング加工し（ステップＳ３２）、ガラス薄板３１１を、上述のウェットエッチング法を用いて、エッチング加工されたガラス素板の凹部３２より開口面積が小さい開口部を中央に有するようにエッチング加工する（ステップＳ３３）。
【００４３】
さらに、上記エッチング加工されたガラス素板及びガラス薄板３１１を、ガラス薄板３１１の開口縁３１２が周辺突条部３１の内側面３１３から内側に突出するように接着し（ステップＳ３４）、周辺突条部３１の内側面３１３にモレキュラシーブ５０を配する（ステップＳ３５）。
【００４４】
本実施の形態によれば、周辺突状部３１の内側面３１３にモレキュラシーブ５０が配されているので、有機ＥＬ積層膜２２の劣化を抑制しつつ、発光層からの光を充分に取り出すことができる。
【００４５】
本実施の形態では、有機ＥＬ素子１００としてパッシブ型のものを用いたが、これに限定されるものではなく、アクティブ型のものであってもよい。
【００４６】
本実施の形態では、封止板３０は周辺突条部３１の頂面に設けられたガラス薄板３１１によって周辺突条部３１の内側面３１３にモレキュラシーブ５０を保持しているが、これに限定されるものではなく、例えば、図４に示すようにガラス薄板を設けず、接着層４０を保持手段としてもよい。
【００４７】
本実施の形態では、封止板３０用ガラス素板としてソーダライムガラスを用いたが、有機ＥＬ素子１００の構成に応じて低アルカリガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等を用いることができる。
【００４８】
本実施の形態では、ガラス薄板３１１として厚さが０．１ｍｍの無アルカリガラスを用いたが、これに限定されるものではなく、例えば、厚さが０．０５〜１．１ｍｍの無アルカリガラスであってもよい。
【００４９】
本実施の形態では、ガラス薄板３１１として無アルカリガラスを用いたが、これに限定されるものではなく、例えば、低アルカリガラス、ソーダライムガラス、石英ガラス等であってもよい。
【００５０】
本実施の形態では、吸湿剤として最も好適なモレキュラシーブ５０を用いたが、これに限定されるものではなく、例えば、シリカゲル（ＳｉＯ２）、デシカイト（クレイ系乾燥剤）、塩化カルシウム、酸化カルシウム、珪酸カルシウム等であってもよい。
【００５１】
本実施の形態では、ガラス素板とガラス薄板３１１との接着がガラス薄板３１１をガラス素板の軟化温度付近まで加熱して、互いに融着することにより接着しているが、これに限定されるものではなく、ガラス素板とガラス薄板３１１との間に低融点ガラスを介在させてもよく、また、接着剤を用いて接着してもよい。
【００５２】
本実施の形態では、ガラス素板に凹部３２を形成する方法として、ウェットエッチング法を用いているが、ドライエッチング法でもよく、ドライエッチング法とウェットエッチング法とを併用してもよい。ウェットエッチング法では、エッチング液の成分とエッチング温度とを選択することによりバッチ処理を行うことができ、もって封止板３０の生産性を向上させることができる。これに対して、ドライエッチング法では、エッチング処理を精密に行うことができるものの、バッチ処理を行うことができず、枚葉処理を余儀なくされるので、封止板３０の生産性が低い。
【００５３】
本実施の形態では、ＥＬ積層膜として有機ＥＬ積層膜２２を用いているが、、有機ＥＬ積層膜２２に代えて、無機ＥＬ積層膜を用いてもよい。この場合、透明導電膜側から順に、絶縁層、発光層、絶縁層から成るものや、電子障壁層、発光層、電流制限層から成るものが用いられる。
【００５４】
図４の有機ＥＬ素子１００に用いられる封止板３０は、上記のように枚葉処理による作製に加えて、下記図５の封止板多面取り用マザーガラス基板から切り出すことができる。
【００５５】
図５は、図４の有機ＥＬ素子１００に用いられる封止板３０がほぼマトリックス状に形成された封止板多面取り用マザーガラス基板の平面図である。
【００５６】
図５において、縦３０ｃｍ、横４０ｃｍの封止板多面取り用マザーガラス基板２００は、５×６のマトリックス状に形成された封止板３０を有する。
【００５７】
ガラス素板に封止板３０を５×６のマトリックス状に形成する方法としては、ウェットエッチング法によりガラス素板の所定部分を凹状にエッチング加工する方法がある。使用されるガラス素板は、その取り扱い上厚さ０．５ｍｍ以上、有機ＥＬ素子１００の薄型化の観点から１．１ｍｍ以下のものが好適に用いられる。
【００５８】
この方法では、まず、露出部を５×６のマトリックス状に形成すべくテープ状のレジストによりマスキング処理し、このマスキング処理されたガラス素板を、上述のエッチング液中に１０〜１８０分間程度浸漬して、ガラス素板から突条部１０１を残して凹状にエッチング加工して凹部１０２を形成するものである。このガラス素板を純水で十分洗浄した後にレジストを剥離する。
【００５９】
このようにガラス素板の所定部分をウェットエッチング法により凹状にエッチング加工するので、封止板３０の凹部３２の底部表面を確実に平坦にすることができ、外部圧力に対して封止板３０の強度を増大させることができる。
【００６０】
次いで、上記のように５×６のマトリックス状に凹部１０２が形成された封止板多面取り用マザーガラス基板２００を、凹部１０２を規定する突条部１０１の部位で切断する。これにより、封止板３０を３０（５×６）個取得することができる。
【００６１】
封止板多面取り用マザーガラス基板２００は、封止板３０の配列をマトリックス状としたが、多面取りに適した配列であればマトリックス状以外のものであってもよい。
【００６２】
また、レジストの幅は、取得された封止板３０の周辺突条部３１の幅が当該周辺突条部３１の厚さ以上であればよく、封止板３０の取りしろとして確保すべく１ｃｍ程度であってもよい。
【００６３】
また、封止板多面取りマザーガラス基板２００を切断した後の形状が上記封止板３０と同様の形状であることが望ましい。
【００６４】
また、上述のガラス素板に封止板３０を５×６のマトリックス状に形成する方法を、開口部を形成していないガラス薄板３１１が接着されたガラス素板に適用してもよく、図１における凹部３２がマトリックス状に形成されたガラス素板に開口部がマトリックス状に形成されたガラス薄板を接着してもよい。
【００６５】
図５の封止板多面取り用マザーガラス基板２００によれば、切断分離により各封止板３０を取得することができ、切断時に外部圧力に対して強度を増大させ、且つ枚葉処理を行うことをなくして封止板３０の生産性を向上させることができる。
【００６６】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。
【００６７】
本発明者は、周辺突条部３１の内側面３１３にモレキュラシーブ５０が配された有機ＥＬ素子１００（実施例１（図１）及び実施例２（図４））と、周辺突条部３１の内側面３１３にモレキュラシーブ５０が配されていない有機ＥＬ素子１００（比較例）とを作製した。ここで、実施例１の有機ＥＬ素子１００は、周辺突条部３１の頂面にモレキュラシーブ５０を保持するためのガラス薄板３１１を備える。
【００６８】
このようにして作製した有機ＥＬ素子１００に紫外線を照射し、駆動電流１０ｍＡ／ｃｍ２で連続駆動を行って初期の輝度を維持するための駆動電圧上昇（Ｖ）及び輝度の半減寿命（時間）を測定し、その測定結果を表１に示した。
【００６９】
【表１】
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【００７０】
表１から、周辺突条部３１の内側面３１３にモレキュラシーブ５０が配されていると、有機ＥＬ積層膜２２の劣化を抑制しつつ、発光層からの光を充分に取り出すことができることが分かった。
【００７１】
また、周辺突条部３１の頂面にモレキュラシーブ５０を保持するガラス薄板３１１を備える封止板３０を用いると、確実に、有機ＥＬ積層膜２２の劣化を抑制しつつ、発光層からの光を充分に取り出すことができることが分かった。
【００７２】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項１記載のＥＬ素子用封止板によれば、周辺突条部の内側面に吸湿剤が配されているので、ＥＬ積層膜の劣化を抑制しつつ、発光層からの光を充分に取り出すことができる。
【００７３】
請求項３記載のＥＬ素子用封止板によれば、周辺突条部の頂面に、中央に開口部を有すると共に吸湿剤を保持する保持部を備えるので、確実にＥＬ積層膜の劣化を抑制することができる。
【００７４】
請求項４記載のＥＬ素子用封止板によれば、保持部の開口縁が周辺突条部の内側面から内側に突出しているので、確実に吸湿剤を保持することができる。
【００７５】
請求項６記載のＥＬ素子用封止板多面取り用マザーガラス基板によれば、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の封止板がほぼマトリックス状に形成されたので、請求項１記載の効果と同等の効果を奏することができる。
【００７６】
請求項７記載のＥＬ素子用封止板の製造方法によれば、ガラス素板と、エッチング速度がガラス素板よりも遅いガラス薄板とを準備し、ガラス素板にガラス薄板を接着し、ガラス薄板が接着されたガラス素板を、周辺部に周辺突条部を規定するように中央部においてガラス薄板側から凹状にエッチング加工するので、ガラス素板とガラス薄板とのエッチングを同時に行うことができ、もって容易にＥＬ素子用封止板を作製することができる。
【００７７】
請求項９記載のＥＬ素子用封止板の製造方法によれば、ガラス素板とガラス薄板との接着が加熱融着によって行われるので、ガラス素板とガラス薄板とを確実に接着することができる。
【００７８】
請求項１０記載のＥＬ素子用封止板の製造方法によれば、加熱融着がガラス素板とガラス薄板との間に低融点ガラスを介在させて行われるので、ガラス素板とガラス薄板とをさらに確実に接着することができる。
【００７９】
請求項１１記載のＥＬ素子用封止板の製造方法によれば、接着が接着剤を用いて行われるので、加熱することなく、ガラス素板とガラス薄板とを接着することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るＥＬ素子用封止板を備えるＥＬ素子の断面図である。
【図２】図１における封止板３０の製造方法を示すフローチャートである。
【図３】図１における封止板３０の他の製造方法を示すフローチャートである。
【図４】図１の有機ＥＬ素子１００の変形例の断面図である。
【図５】図４の有機ＥＬ素子１００に用いられる封止板３０がほぼマトリックス状に形成された封止板多面取り用マザーガラス基板の平面図である。
【符号の説明】
１０　基板
２０　有機ＥＬ積層体
３０　封止板
３１　周辺突条部
３２　凹部
５０　モレキュラシーブ
１００　ＥＬ素子
３１１　ガラス薄板
３１２　開口縁
３１３　内側面
【図１】
2004087369.tif 000004
【図２】
2004087369.tif 000005
【図３】
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【図４】
2004087369.tif 000007
【図５】
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