(57)【要約】【課題】長尺の積層フィルムから配向基板フィルム上に形成した液晶性高分子層を透光性基板フィルム上に転写して光学素子を製造する方法における液晶性高分子の転写残り、クラック、剥がれなどの欠陥やフィルムのしわ等を発生させずに、剥離する方法を提供する。【解決手段】配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺積層フィルムから、配向基板フィルム側に設けた剥離バーに沿わせて配向基板フィルムを剥離して透光性基板フィルム上に転写された液晶性高分子層を有する光学素子を製造する。【選択図】        図１
2004170545.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺配向基板フィルム上に液晶性高分子層を形成し、接着剤により該液晶性高分子層と透光性基板フィルムとを接着して得られた配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺積層フィルムから、配向基板フィルム側に設けた剥離バーに沿わせて配向基板フィルムを剥離することを特徴とする透光性基板フィルム上に転写された液晶性高分子層を有する光学素子を製造する方法。
【請求項２】
剥離後の配向基板フィルムが長尺積層フィルムとなす角度が９０°以下であることを特徴とする請求項１記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
剥離バーの直径が５ｍｍ〜３０ｍｍであることを特徴とする請求項１または２記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、液晶表示素子用色補償板、液晶表示素子用視野角改良板、光学的位相差板、輝度向上板、反射防止板、カラー偏光板、１／２波長板、１／４波長板、旋光性光学素子などの光学素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶性高分子、とりわけ液晶固有の配向構造を固定化した液晶性高分子からなる光学素子は、各種ディスプレイの光学用途に、例えば液晶表示用色補償板や液晶表示用視野角改良板として画期的な性能を示し、ディスプレイの高性能化、軽量化および薄型化に寄与している。この光学素子の製造法として、配向基板上に形成された液晶性高分子からなる層を透光性基板上に転写する方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。かかる製造法によって、配向基板と透光性基板の役割を分離することが可能になったために、種々の製品形態の光学素子を製造することができるようになり、とりわけフィルムタイプの液晶性高分子からなる光学素子への道が開かれた。
【０００３】
しかしながら、光学素子とりわけ液晶表示素子用の光学素子に対する要求性能は極めて厳しいものがあり、特に長尺の光学素子を連続的に製造しようとする際に種々の困難な問題に遭遇する。すなわち、液晶性高分子層の直径わずか１００μｍ程度の欠けた部分は光学的に欠陥とされるので、微小の転写残りも許されない。また、長尺の液晶性高分子層からなる光学素子フィルムは、製造工程において巻取り工程が不可欠であるが、塑性変形の大きい粘接着層では変形による光学的な歪みのために製品が不良となる。反対に粘接着層が硬すぎると、転写時や巻取り時にクラックが発生する。また、これらの転写工程は、液晶性高分子の光学性能を維持するために、液晶性高分子のＴｇ以下の温度で行う必要がある。さらに、これらの光学素子は、ヒートサイクル試験、高温試験、低温試験、高温高湿試験などの過酷な信頼性試験を満足させるものでなければならない。光学素子の使用される製品に対する品質要求がますます厳しくなっており、更なる改良が求められている。また、品質の向上と同時に生産性を高めることも要求されている。
【０００４】
これら光学素子に用いられる液晶性高分子は、非常に薄い膜であることおよび配向性を重視するために分子量としては比較的小さいものが使用されている。そのため配向基板フィルム上に形成された薄膜の液晶性高分子層を接着剤を用いることによって、透光性基板フィルムと貼合わせて積層フィルムとし、接着剤を硬化させて得られた、配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる層構成を有する積層フィルムから、配向基板フィルムのみを連続的に剥離する連続転写プロセスにおいて、特に最後の連続剥離工程はとりわけ細心の注意を払う必要のある難易度の高い工程である。すなわちこの連続剥離プロセスは、配向基板フィルムと薄膜の液晶性高分子層の間の界面剥離を行う最も重要な部分で、その剥離手段および条件が最適化されないと、液晶性高分子層の転写残りやクラック、剥がれ等の致命的な欠陥を生じる。
【０００５】
上記のような欠点を解決する方法として、本発明者らは先に、この積層フィルムをニップロールとバックロールの間を、配向基板フィルムがニップロールに、透光性基板フィルムがバックロールにそれぞれ接触するように通過させながら、配向基板フィルムのみをニップロールに沿わせて搬送することによって剥離して、透光性基板フィルムに液晶性高分子層を連続転写する方法を提案した（特許文献１参照）。しかし、光学フィルムに要求される品質上の要求が厳しくなり、わずかな欠陥も品質不良とされるようになった。バックロール上にごみや異物があると、ニップ時の圧力で接着剤層や液晶性高分子層が損傷を受け、剥離時に液晶性高分子層が一部配向基板フィルム側に残ってしまうことが生じる。また、ニップロールの表面精度や摩擦の影響で、配向基板フィルムがニップから開放されるときに、該フィルムの微細なしわの影響で不規則な剥離不良が発生する。
【０００６】
【特許文献１】
特開平７−１１３９１１号公報（特許請求の範囲、図１、図２）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような現状に鑑み、長尺配向基板フィルム上に液晶性高分子層を形成し、接着剤により該液晶性高分子層と透光性基板フィルムとを接着して得られた配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺積層フィルムから配向基板フィルムを剥離して透光性基板フィルム上に転写された液晶性高分子層を有する光学素子を製造する方法において、液晶性高分子の転写残り、クラック、剥がれなどの欠陥やフィルムのしわ等を発生させずに、剥離する方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１は、長尺配向基板フィルム上に液晶性高分子層を形成し、接着剤により該液晶性高分子層と透光性基板フィルムとを接着して得られた配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺積層フィルムから、配向基板フィルム側に設けた剥離バーに沿わせて配向基板フィルムを剥離することを特徴とする透光性基板フィルム上に転写された液晶性高分子層を有する光学素子を製造する方法に関する。
【０００９】
本発明の第２は、本発明の第１において剥離後の配向基板フィルムが長尺積層フィルムとなす角度が９０°以下であることを特徴とする光学素子の製造方法に関するものである。
【００１０】
本発明の第３は、本発明の第１または第２において、剥離バーの直径が５ｍｍ〜３０ｍｍであることを特徴とする光学素子の製造方法に関するものである。
【００１１】
以下に本発明をさらに説明する。本発明において、転写すべき物質は液晶性を示す高分子であって、溶融時に液晶性を示すサーモトロピック液晶ポリマーである。光学素子としては、好ましくは均一でモノドメインなネマチック液晶相またはねじれネマチック液晶相を示すものである。ここで選択されるサーモトロピック液晶ポリマーは、液晶状態ではネマチック配向またはねじれネマチック配向し、液晶転移温度以下の温度領域ではガラス状態となる液晶性高分子である。
【００１２】
液晶性高分子としては、カルボン酸基、アルコール基、フェノール基、アミノ基、チオール基などを有する化合物を縮合させて成る縮合系液晶性高分子、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など二重結合を有する液晶性化合物などを原料として得られる液晶性ビニルポリマー、アルコキシシラン基を有する液晶化合物などから合成される液晶性ポリシロキサン、エポキシ基を有する液晶性化合物などから合成される液晶性エポキシ樹脂および上記液晶性高分子の混合物などが例示できる。これらの各種液晶性高分子の中でも、得られるフィルムの光学特性などの点から縮合系液晶性高分子が最も好ましい。
【００１３】
縮合系液晶性高分子は、通常二官能性モノマーを適当な方法で縮合して得ることができる。当該二官能性モノマーとしては、芳香族またはシクロヘキサン環を有する二官能性モノマーが望ましく、具体的には、フェニレンジアミン等のジアミン類、ハイドロキノン、２−メチルハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、４−メチルカテコール、４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、２，３−ジヒドロキシナフタレン等のジオール類、１，４−フェニレンジチオール、１，２−フェニレンジチオール等のジチオール類、サリチル酸、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、７−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等のヒドロキシカルボン酸類、２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸、４−アミノ安息香酸等のアミノ酸類、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフィニルジカルボン酸、４，４’−スチルベンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等のジカルボン酸類などを例示できる。なかでもヒドロキシ基を持つ成分としてカテコール単位を必須構造単位として含有する縮合系液晶性高分子が最も好ましい。
【００１４】
縮合系液晶性高分子を調製する際の原料モノマーには、液晶性を破壊しない程度において、例えば、シュウ酸、フマル酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール等の脂肪族ジオール類、ジアミノエタン、ジアミノプロパン、ジアミノブタン、ジアミノペンタン、ジアミノヘキサン、ジアミノヘプタン、ジアミノオクタン、ジアミノノナン、ジアミノデカン等の脂肪族ジアミン類、ヒドロキシ酢酸、ヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシ酪酸、ヒドロキシ吉草酸、ヒドロキシヘキサン酸、ヒドロキシヘプタン酸、ヒドロキシオクタン酸、ヒドロキシノナン酸、ヒドロキシデカン酸等の脂肪族ヒドロキシカルボン酸類などが添加可能である。
【００１５】
また、必要に応じて液晶性高分子の主鎖末端を修飾するために、一官能性モノマーや三官能性モノマー等を原料モノマー中に添加することもできる。一官能性モノマーとしては、カルボン酸基、アミン基、アルコール基、フェノール基、チオール基などを一分子中に一個有する例えば芳香族カルボン酸類、脂肪族カルボン酸類、芳香族アミン類、脂肪族アミン類、フェノール類、脂肪族フェノール類が挙げられる。また三官能性モノマーとしては、例えばトリメリット酸、ジヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシベンゼンカルボン酸、ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸等が挙げられる。
【００１６】
これらのモノマーを縮合して縮合系液晶性高分子、具体的には液晶性ポリエステルを得る方法は、特に制限されるものではなく、当該分野で公知の如何なる方法も適宜採用することができる。例えば、カルボン酸を酸ハロゲン化物としたり、ジシクロヘキシルカルボジイミド等を存在させることによってカルボン酸を活性化した後、アルコール、アミン等と反応させる方法、フェノールを酢酸エステル化した後、カルボン酸と反応させ脱酢酸反応により合成する方法、カルボン酸をメチルエステルのようなエステル化物とした後、必要であれば適当な触媒の存在下、アルコールと反応させ脱アルコール反応により合成する方法などが任意に採用できる。
【００１７】
本発明の液晶性高分子には、上記したような縮合系液晶性高分子を単独で用いることもでき、また、２種類または３種類以上の縮合系液晶性高分子の混合物を用いることもできる。さらに、本発明の効果を損なわない範囲において光学活性な液晶性高分子、液晶性ビニルポリマー、液晶性ポリシロキサン、液晶性エポキシ樹脂等の各種液晶性高分子や非液晶性高分子などを適宜混合して用いることもできる。
【００１８】
これらのポリマーの分子量は、各種溶媒、例えばフェノール／テトラクロロエタン（重量比：６０／４０）混合溶媒中において、３０℃で測定した対数粘度が０．０５から３．０に相当するものが好ましく、さらに好ましくは０．０７から２．０の範囲である。対数粘度が０．０５より小さい場合は、得られた液晶性高分子の強度が弱くなり好ましくない。また３．０より大きい場合は、液晶形成時の粘性が高すぎて、配向性の低下や配向に要する時間の増加などの点で問題が生じる。
【００１９】
また、上記光学活性な高分子化合物の分子量は、例えばフェノール／テトラクロロエタン中、３０℃で測定した対数粘度が０．０５から５．０の範囲に相当するものが好ましい。対数粘度が５．０より大きい場合は、粘性が高すぎて結果的に配向性の低下を招き、また０．０５より小さい場合は、組成の調整が難しくなるため、いずれも好ましくない。
【００２０】
液晶性高分子として上記ポリエステル系ポリマーを採用すれば、接着剤層として使用するアクリル系樹脂との接着性がよく好ましいものである。液晶性高分子は、配向基板により配向が規制される。配向基板は、適宜の基材上に形成された高分子フィルムであることもできる。
【００２１】
本発明において用いることができる配向基板フィルムは、長尺の連続延伸フィルムをそのまま用いるか、あるいは長尺の連続フィルムのＭＤ（長手）方向に対して平行または所定の角度で斜め方向にラビング処理し、このラビング処理面と接触した液晶性高分子がラビング処理の方向に対応して配向し得るものである。このような配向基板フィルムとしては、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂；ナイロンなどのポリアミド；ポリエーテルイミド；ポリエーテルケトン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリケトン；ポリエーテルスルホン；ポリフェニレンサルファイド；ポリフェニレンオキサイド；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリアクリレート、ポリメタクリレート；トリアセテートセルロースなどのセルロース系樹脂；ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂などが例示される。
【００２２】
上記高分子フィルムは、それ自体にラビング処理を施すことができ、またこれらの高分子フィルムを基材として、その表面に上記のような他の高分子からなる有機薄膜を形成してなるものでもよい。また、このような基材上に形成される有機薄膜の基材としては、上記高分子フィルムの他に、銅、ステンレス鋼、鋼などの金属箔とすることもできる。その他、前記配向基板それ自体を、銅、ステンレス鋼、鋼などの金属箔で形成することもできる。本発明において特に好ましい配向基板フィルムは、長尺の自立性のある高分子フィルムそれ自体をラビング処理してなり、特に積層すべき基材などを使用しないものである。かかる目的に好適な長尺フィルムとしては、上記のフィルムのうち、熱可塑性樹脂からなるフィルム、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂である。熱硬化性樹脂フィルムとしては、ポリイミドが好適に用いられる。
【００２３】
ここで、長尺フィルムとは、一定の長さを有する連続したフィルムを意味し、工業的にはロール巻きされた形態で供給され得るような連続フィルムをいう。もちろん、ロール巻の形態が必須ではなく、適宜に折り畳まれた連続フィルムでもよい。長尺フィルムの長さは、場合により１０，０００ｍの長さに達することもある。
【００２４】
長尺の配向基板フィルム上へ長尺の液晶性高分子層を形成する操作は任意の方法で行うことができる。すなわち、液晶性高分子を適宜の溶剤に溶解させ、ロールコーターなどの塗工設備を用いて塗布、乾燥させて液晶性高分子層を形成する方法、あるいは、Ｔダイなどにより高分子液晶を溶融押出しするなどの方法を用いることができる。また、膜厚などの品質の観点から、溶液塗布および乾燥による方法が適当である。塗布方法は特に限定されず、例えば、ロールコート法、カーテンコート法やスロットコート法などのダイコート法などを採用することができる。塗工幅としては、通常１０〜２，０００ｍｍ、好ましくは１００〜１，０００ｍｍの範囲で選択される。塗布後、溶剤を乾燥により除去する。
【００２５】
ＭＤ方向に対し平行に、またはＭＤ方向に対し所定の角度で斜めの方向にラビング処理してなる長尺の配向基板フィルム上に、液晶性高分子層が形成された後に、所定の温度で所定時間加熱することにより、液晶性高分子を配向させ、次にＴｇ（ガラス転移温度）以下の温度に冷却することによって液晶構造を固定化する。ここで固定化される液晶構造としては、用いられる液晶性高分子の種類、組成比等が異なることから一概には言えないが、例えばネマチック配向、ネマチックハイブリッド配向、ねじれネマチック配向、コレステリック配向等が挙げられる。ただし、これら液晶構造は、例示であり、本発明はこれら液晶構造になんら限定されるものではない。固定化後の液晶性高分子層の膜厚は、特に制限はない。光の波長によって異なるが、例えば、ディスプレイ用途などの可視光が重要である分野においては、０．１μｍ以上、好ましくは２μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上である。０．１μｍ未満では精度よく膜厚を調整することが困難となるので好ましくない。また、あまり厚くなると光学素子としての規制力が弱まり好ましくなく、この観点から１，０００μｍ以下、好ましくは５００μｍ以下の範囲が適当である。本発明においては、下の配向基板フィルムが所定の角度でラビング処理された長尺配向基板フィルムであるから、このラビング処理に対応した角度に配向した長尺液晶性高分子フィルムが得られる。
【００２６】
透光性基板用フィルムとしては、透明性を有し、液晶性高分子層を支持できるものであれば特に限定されないが、長尺のものを必要とするところから、プラスチックフィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリエチレンサルファイド、アモルファスポリエチレン、トリアセチルセルロースなどを挙げることができる。また、基板用フィルムの厚さは０．５〜２００μｍ、好ましくは１〜１００μｍの範囲である。
【００２７】
本発明において用いることができる接着剤は特に限定されないが、連続転写に必須の極めて短時間に硬化が可能であること、液晶性高分子のＴｇ温度以下で硬化が可能であることを考慮して、光硬化型または電子線硬化型が好ましい。とりわけアクリル系オリゴマーを主成分とする接着剤は、液晶性高分子層の転写ミスを皆無にし、巻取りなどの操作の際にトラブルが生ずることがなく、製品となった光学素子の信頼性も高いという点から好適である。さらにこのアクリル系オリゴマーに対して、Ｎ−ビニルピロリドンのような極性ビニルモノマーを配合することも可能である。
【００２８】
次に、これらの光または電子線硬化型の接着剤を用いて、配向基板フィルム上に形成された液晶性高分子層を透光性基板フィルムに連続転写するプロセスを説明する。すなわち（１）長尺の配向基板フィルム上に形成された液晶性高分子層または長尺の透光性基板フィルムの少なくとも一方への接着剤の塗布、（２）接着剤塗布後の長尺の両基板フィルムの貼合わせ、（３）貼合わせ後の積層フィルムへの光または電子線の照射による接着剤の硬化、（４）接着剤の硬化後に配向基板フィルムのみの剥離、（５）長尺の透光性基板フィルム側に転写された液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺の光学素子フィルムの巻取りなどの工程からなる。これらの工程を０．５〜１００ｍ／ｍｉｎの範囲の速度で連続的に行う。
【００２９】
長尺の配向基板フィルム上に形成された液晶性高分子層、または長尺の透光性基板フィルムの少なくとも一方への接着剤の塗布方法としては、一般に行われている連続フィルムへの塗布手段であるロールコート法、カーテンコート法、スロットコート法などのダイコート法、スプレーコート法などを用いることができ、特に限定されない。塗布する接着剤の厚みは０．５〜２００μｍ、好ましくは１〜１００μｍであり、２００μｍ以上に厚いと接着剤の硬化速度が減少するため硬化が不十分となることもあるので好ましくない。接着剤を塗布した後の両基板フィルムの貼合わせは、一般に行われているラミネート手段により行うことができるが、貼合わせ時に気泡の混入を徹底的に排除するようにして行う。塗布および貼合わせ後の接着剤層の硬化は、用いる接着剤に応じて適宜の条件により、光または電子線を長尺の貼合わせフィルムの幅方向に均一に照射することにより行うことができる。
【００３０】
接着剤層の硬化後、配向基板フィルムのみを連続的に剥離することにより、配向基板フィルム上に形成された液晶性高分子層を硬化接着剤層を介して透光性基板フィルム側に連続的に転写し、巻取りロールに巻取る。この最後の連続剥離工程においては、液晶性高分子の配向基板フィルム側への転写残りが全くないこと、転写液晶性高分子層にクラックや剥がれを全く発生させないこと、さらには透光性基板フィルム、配向基板フィルム自体に傷やしわを生じさせないことなどが必須条件として挙げられ、この工程は特に重要でかつ難易度の高い工程である。
【００３１】
以下、図面に沿って本発明の剥離方法を説明する。図１は、本発明の剥離方法の一実施態様を示すものである。本発明の配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルム１をニップロール３（配向基板フィルムに接触）およびバックロール２（透光性基板フィルムに接触）の間に通過させ、ついで該積層フィルムを剥離バー５へ搬送する。ニップロール３およびバックロール２の材質に特に制限はなく、金属もしくはゴムまたは両者の組み合わせも可能である。好ましくは、ニップロールをゴムのような弾性材料とし、バックロールを金属とする。積層フィルム１をニップする際、ニップ圧はロール幅方向に偏りがないことが必要である。ニップ圧としては０．０１〜１００ｋｇｆ／ｍｍが好ましい。図１では積層フィルムをバックロールに沿わせて搬送しているが、沿わせることなく搬送しても良い。また、図中ではニップロールとバックロールの径が異なっているが、両者は同径、でも良い。
【００３２】
搬送された積層フィルムは、配向基板フィルム側を剥離バーに接触させ、配向基板フィルムのみを剥離バーに沿わせて搬送することにより、配向基板フィルムと残りの液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる光学素子製品フィルムとに分離される。光学素子製品フィルムは、搬送ロール、巻取りロールにより、搬送される。
【００３３】
剥離バーの形状は丸棒状であり、径は５〜３０ｍｍ、好ましくは１０ｍｍ〜２０ｍｍである。径が５ｍｍ未満では、剥離バーがたわみフィルムにしわが生じる場合があるので好ましくない。また、径が３０ｍｍを超えると剥離角度が小さくなり、配向基板フィルムの側に液晶性高分子層が部分的に残る危険があるので好ましくない。剥離バーの材質に特に制限はないが、平滑性に優れ発塵の恐れのないプラスチックや金属が好ましい。剥離バー近傍における、剥離バーを離脱した配向基板フィルムと、剥離バーへ進行する積層フィルムとがなす角度は、９０度以下が好ましい。９０度を越えると剥離状態が不安定になり配向基板フィルムの側に液晶性高分子層が部分的に残る危険があるので好ましくない。
【００３４】
積層シートを連続剥離する速度に特に制限はなく、装置の実用領域で自由に変えることができる。通常、０．１〜２００ｍ／ｍｉｎ、好ましくは０．５〜１００ｍ／ｍｉｎの範囲で実施する。フィルムにかける張力に特に制限はないが、フィルムにしわやたるみがない状態にする程度の張力であることが好ましい。張力の好ましい範囲は０．０５〜０．５０ｋｇｆ／ｍｍ２である。剥離前後で張力をほぼ等しく保つことが好ましい。配向性基板フィルムの剥離部は、大きな剥離帯電を生じ、剥離性を低下させたり液晶性高分子の薄膜に塵埃を付着させるなどの悪影響を及ぼしたり、作業環境上危険を伴うので、イオン化エアなどにより除電することが有効である。また、剥離バー自体のアースを取ることも有効である。
【００３５】
以上のように、配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる４層の積層フィルム１から配向基板フィルム４のみを剥離して転写フィルム６を得るにあたり、積層フィルム１を剥離バー５に沿わせて剥離を行えば、液晶性高分子の僅かな転写残りやクラック、剥がれなどを防ぎ、両基板フィルムに微小の傷も発生させずに安定した連続的な剥離が可能となるなど極めて工業的な価値が大きい。
【００３６】
【実施例】
以下に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお参考例および実施例で用いた各分折法は以下のとおりである。
（１）光学パラメータの測定
液晶フィルムの光学パラメータであるねじれ角およびリターデーション（Δｎ・ｄ）は偏光解析法により測定した。
（Δｎ：複屈折、ｄ：液晶フィルムの液晶層の厚み；単位ｎｍ）
（２）対数粘度の測定
ウッベローデ型粘度計を用いて、フェノール／テトラクロロエタン（６０／４０重量比）混合溶媒中、３０℃で測定した。
（３）液晶性高分子の組成の決定
液晶性ポリエステルを重水素化クロロホルムに溶解し、４００ＭＨｚの１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子製ＪＮＭ−ＧＸ４００）で測定し組成を決定した。
【００３７】
（参考例１）
式（１）の液晶性高分子物質（対数粘度＝０．２２ｄｌ／ｇ、Ｔｇ＝６１℃）、及び式（２）の（Ｒ）−３−メチルヘキサン−１，６−ジオール単位を含む光学活性な液晶性高分子物質（対数粘度＝０．１７ｄｌ／ｇ）を合成した。
これらの高分子材料の合成は、オルトジクロルベンゼン溶媒中、トリエチルアミンの共存下で、ジカルボン酸単位に対応する酸塩化物とジオール化合物とを反応させることによって行った。
得られた式（１）の液晶性高分子物質１８．１ｇ及び式（２）の液晶性高分子物質１．９ｇの混合物を８０ｇのＮ−メチルピロリドンに溶解させて液晶性高分子物質溶液−１を調製した。
【００３８】
【化１】
2004170545.tif 000003
【００３９】
【化２】
2004170545.tif 000004
【００４０】
（参考例２）
テレフタル酸８０ｍｍｏｌ、ピメリン酸２３ｍｍｏｌ、ヒドロキノンジアセテート５５ｍｍｏｌ、イソプロピルカテコールジアセテート５０ｍｍｏｌおよび触媒として酢酸ナトリウムを用いて窒素雰囲気下で、２８０℃で２時間、３００℃で２時間重合を行い、式（３）の液晶性高分子物質を合成した。
次に得られた液晶性高分子物質をテトラクロロエタンに溶解したのち、メタノールで再沈殿を行って精製した液晶性高分子物質２６ｇを得た。この液晶性高分子物質の対数粘度は０．３１ｄｌ／ｇであり、ＤＳＣ測定および偏光顕微鏡観察の結果液晶相はネマチックであり、液晶相より低温部に結晶相を持たずガラス相を有し、Ｔｇは１１７℃であった。
この液晶性高分子物質１５ｇを８５ｇのテトラクロロエタンへ溶解させて液晶性高分子物質溶液−２を調製した
【００４１】
【化３】
2004170545.tif 000005
【００４２】
（参考例３）
式（４）の液晶性高分子物質（対数粘度＝０．２１ｄｌ／ｇ、Ｔｇ＝６０℃）、及び式（５）の（Ｒ）−３−メチルヘキサン−１，６−ジオール単位を含む光学活性な液晶性高分子物質（対数粘度＝０．１８ｄｌ／ｇ）を合成した。
これらの高分子材料の合成は、オルトジクロルベンゼン溶媒中、トリエチルアミンの共存下で、ジカルボン酸単位に対応する酸塩化物とジオール化合物とを反応させることによって行った。
得られた式（４）の液晶性高分子物質９．２ｇ及び式（５）の液晶性高分子物質０．８ｇの混合物を９０ｇのＮ−メチルピロリドンに溶解させて液晶性高分子物質溶液−３を調製した。
【００４３】
【化４】
2004170545.tif 000006
【００４４】
【化５】
2004170545.tif 000007
【００４５】
＜長尺の積層フィルムの製造例＞
ＭＤ方向に対し平行または斜め方向にラビングした５００ｍｍ幅、厚み１０μｍの長尺のポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイドの各フィルムのラビング処理面上に、ロールコーターを使用して液晶性高分子物質溶液１〜３を４００ｍｍ幅で塗布した。乾燥後２２０℃×１５分間加熱処理して液晶性高分子を配向させ、次に室温まで冷却して液晶構造を固定化した。紫外線照射設備を備えたコーターラミネーター装置を使用して各配向基板フィルム上の液晶性高分子面にアクリル系オリゴマーを主成分とする紫外線硬化型接着剤（市販品Ａ、粘度３２０ｃｐ）をグラビアコーターにより４００ｍｍ幅、厚み１０μｍで連続塗布を行い、次いで５００ｍｍ幅、厚み１００μｍのトリアセチルセルロースあるいはポリエーテルスルホンの各フィルムを気泡を巻き込まないように注意しながら貼合わせた。次いで紫外線を照射することによって、表１に示す長尺の配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる積層フィルムＬ−１からＬ−６を製造した。
【００４６】
【表１】
2004170545.tif 000008
【００４７】
＜実施例１〜６＞
図１に示すニップロール、バックロール、剥離バーからなる剥離装置を使用して、製造例Ｌ−１からＬ−６の配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルム１から、配向基板フィルム４のみを連続的に剥離することによって光学素子としての転写フィルム６の製造を行った。長尺の積層フィルム１をニップロール２、３の間に通過させ、ついで剥離バー５に沿わせて配向基板フィルム４を剥離した。配向基板フィルム４の側に７０ｍｍφゴム製フリーロールからなるニップロール３を、透光性基板フィルム側のバックロール２に３００ｍｍφＳＵＳ製駆動ロールを用いた。ニップ圧は０．５ｋｇｆ／ｍｍとした。剥離バーとして、直径１５ｍｍφＳＵＳ製丸棒を用いた。フィルムの搬送テンションは繰り出しから巻取りまで０．１ｋｇｆ／ｍｍ２と一定にした。剥離後の配向基板フィルム４が剥離前の長尺積層フィルムとなす角度（Θ）を変化させ、剥離後、配向基板フィルムの未転写液晶性高分子の有無、および転写された液晶性高分子のクラック、剥がれ等の欠陥の有無および両基板の傷の有無を調べた。結果を表２に示す。
【００４８】
【表２】
2004170545.tif 000009
【００４９】
＜比較例１および２＞
製造例Ｌ−１（比較例１）およびＬ−５（比較例２）の長尺の積層フィルムおよび実施例１の装置から剥離バーを取り除いた装置を用いて、配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルム１をニップロール２、３の間に通過させ、配向基板フィルム４のみをニップロール３に沿わせて連続的に剥離することによって光学素子としての転写フィルムの製造を行った。ニップロールとしては、配向基板フィルム４の側に７０ｍｍφゴム製フリーロールからなるニップロール３を、透光性基板フィルム側のバックロール２に３００ｍｍφＳＵＳ製駆動ロールを用いた。ニップ圧は０．５ｋｇｆ／ｍｍ、フィルムの搬送テンションは繰り出しから巻取りまで０．１ｋｇｆ／ｍｍ２と一定にした。剥離速度は実施例１と同一にした。配向基板フィルムのニップロール３の全周に対する接触長さを１／４周（比較例１）および１／２周（比較例２）に変え、剥離後、配向基板フィルムの未転写液晶性高分子の有無、および転写された液晶性高分子のクラック、剥がれ等の欠陥の有無および両基板の傷の有無を調べた。結果を表３に示す。
【００５０】
【表３】
2004170545.tif 000010
【００５１】
【発明の効果】
本発明により、長尺の配向基板フィルム上に形成された液晶性高分子層を長尺の透光性基板フィルム上に連続的に転写して光学素子を製造するにあたり、配向基板フィルム／液晶性高分子層／硬化接着剤層／透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルムから配向基板フィルムのみを連続的に剥離する技術を確立することができた。これによって光学素子の歩留りが向上し、生産性および経済性が飛躍的に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法による光学素子製造装置の剥離部の略示側面図である。
【符号の説明】
１  積層フィルム
２  バックロール
３  ニップロール
４  配向基板フィルム
５  剥離バー
６  転写フィルム
【図１】
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