(57)【要約】【課題】工程数を増やすことなく配向ムラに起因する表示ムラをなくし、良好な表示特性を有する液晶表示装置の製造方法と、この製造方法に好適に用いられるラビング装置を提供する。【解決手段】基板２上に配向材料からなる配向膜３８（４０）を形成する配向膜形成工程と、配向膜３８（４０）に対してラビングによる配向処理を施す配向処理工程と、を備えた液晶表示装置の製造方法である。配向処理工程にて、配向膜３８（４０）に波長が４００ｎｍ以下の紫外線を照射する。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配向材料からなる配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜に対してラビングによる配向処理を施す配向処理工程と、を備えた液晶表示装置の製造方法において、
前記配向処理工程にて、前記配向膜に波長が４００ｎｍ以下の紫外線を照射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記紫外線が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも一種であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記紫外線が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも二種以上であることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記の紫外線を照射する時間がラビングによる配向処理を行う時間に少なくとも一部重なっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記の紫外線を照射する時間がラビングによる配向処理を行った直後であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
基板を載置するテーブルと、
前記テーブル上の基板に形成された配向膜をラビングするラビング部と、
前記テーブル上の基板に形成された配向膜に波長が４００ｎｍ以下の紫外線を照射する紫外線照射光源と、
前記テーブル、ラビング部、紫外線照射光源を覆う遮光カバーと、
を備えたことを特徴とするラビング装置。
【請求項７】
前記紫外線照射光源が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも一種からなることを特徴とする請求項６記載のラビング装置。
【請求項８】
前記紫外線照射光源が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも二種以上を有していることを特徴とする請求項７記載のラビング装置。
【請求項９】
前記テーブル上に載置される基板の側面及び裏面に前記紫外線照射光源からの紫外線が照射されるのを防止する遮光材が備えられていることを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載のラビング装置。
【請求項１０】
前記基板の温度を制御する温度制御機構が備えられていることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載のラビング装置。
【請求項１１】
基板上に配向材料からなる配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜に対してラビングによる配向処理を施す配向処理工程と、を備えた液晶表示装置の製造方法において、
前記配向処理工程にて、ラビング中あるいはラビング直後に前記配向膜に紫外線を照射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶の配向制御用としての配向膜の形成に係る液晶表示装置の製造方法、及びこの製造方法に好適に用いられるラビング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に液晶表示装置は、電極と配向膜とを形成した一対の基板が、液晶封入領域を囲むシール材を介して接着されることにより液晶セルに組立てられ、次いでこの液晶セル内に液晶が注入され、さらに液晶セルの両面に偏光板が貼付けられることにより、形成されている。そして、形成された液晶表示装置については、その表示状態が検査されることにより、表示欠陥のない良品は製品とされ、表示欠陥のあるものは不良品とされている。
【０００３】
ところで、前記液晶表示装置の表示欠陥としては、電極の断線や短絡、または液晶セル内への異物の混入による異常表示、さらには配向膜の表面状態が不均一である場合に生ずる液晶分子の不均一配向による表示ムラ等がある。このような表示欠陥のうち、特に配向膜の表面状態が不均一であることに起因して生ずる表示ムラ、すなわち、配向膜の配向ムラに起因する表示ムラについては、従来、液晶表示素子を組立後、表示状態の検査を行い、表示ムラがある場合にその表示ムラのある部分に紫外線を照射し、配向ムラを改善して表示ムラを補正する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
また、配向膜を配向処理した後配向ムラの有無を検査し、配向ムラがあるものについては紫外線を照射して配向ムラを改善し、表示ムラを補正する方法も知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−１６０８５７号公報
【特許文献２】
特開２０００−８９２３１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記の従来技術のうち先に示した方法では、表示ムラのある組立後の液晶表示素子について一個ずつ紫外線を照射しなければならず、またその際、ムラ部分に対する位置合わせを行わなければならないことなどから工程数が多くなり、生産性が低下するといった課題がある。
また、組立後に紫外線を照射するため、紫外線が基板等を介して照射される間接的照射となり、したがって紫外線照射による効果が小さくなってしまう。また、この際、液晶表示素子中の液晶にも紫外線が照射されてしまうため、液晶が劣化し、この劣化に起因して電流値増大といった副作用が生じる可能性がある。
【０００６】
一方、前記の従来技術のうち後に示した方法では、配向処理後に検査工程が新たに必要となり、また、紫外線照射の際にムラ部分に対する位置合わせを行わなければならないことなどから工程数が多くなり、やはり生産性が低下するといった課題がある。
また、配向処理を行い、さらに検査を行った後、配向ムラのあるものについて紫外線を照射するため、紫外線照射のタイミングが配向処理から長い時間経過した後となってしまい、これにより紫外線照射による配向ムラの改善効果が低くなってしまい、結果として表示ムラの補正を十分良好に行うことができない。
【０００７】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、工程数を増やすことなく配向ムラに起因する表示ムラをなくし、良好な表示特性を有する液晶表示装置の製造方法と、この製造方法に好適に用いられるラビング装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため本発明の液晶表示装置の製造方法では、基板上に配向材料からなる配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜に対してラビングによる配向処理を施す配向処理工程と、を備えた液晶表示装置の製造方法において、前記配向処理工程にて、前記配向膜に波長が４００ｎｍ以下の紫外線を照射することを特徴としている。
【０００９】
この液晶表示装置の製造方法によれば、配向膜に対してラビングによる配向処理を施す配向処理工程中で、配向膜に波長が４００ｎｍ以下の紫外線を照射するので、ラビングによる配向処理面が紫外線照射により活性化し、これにより特に配向不良（配向ムラ）が生じた箇所において配向不良が改善される。
したがって、紫外線照射の際に位置合わせを行う必要がないなど、特に工程数を増やすことなく配向ムラを改善することができ、これによりこの配向ムラに起因する表示ムラをなくして良好な表示特性を有する液晶表示装置を製造することができる。
【００１０】
ここで、配向不良（配向ムラ）の原因については現在のところ不明な点が多いが、原因の一つとして、配向膜中にイオン性の不純物が存在することが考えられる。すなわち、このような不純物によってラビングによる配向にムラが生じると考えられるのである。
そして、このような不純物は、紫外線の照射を受けて配向膜が活性化されることにより拡散し、結果として配向膜が均一化されることにより、この膜の配向についても均一化し、配向不良（配向ムラ）が改善されると考えられる。
【００１１】
また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記紫外線が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも一種であるのが好ましい。
このようなピーク波長を有する紫外線を照射する光源（ランプ）は市販のものとしてあり、したがってこの製造方法を実施するための装置コストが安価になる。
【００１２】
また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記紫外線が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも二種以上であるのが好ましい。
配向不良（配向ムラ）の原因の一つとして、配向膜中にイオン性の不純物が存在することを先に挙げたが、このような不純物は複数種あると考えられる。したがって、ピーク波長の異なる複数種の紫外線を照射することにより、より多くの不純物に対応してこれらを拡散することができる。
【００１３】
また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記の紫外線を照射する時間がラビングによる配向処理を行う時間に少なくとも一部重なっていてもよい。
このようにすれば、紫外線照射とラビングによる配向処理とを、それぞれの処理時間の一部を重ねることで全体の処理時間の短縮を図り、生産性を向上することができる。
【００１４】
また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記の紫外線を照射する時間がラビングによる配向処理を行った直後であってもよい。
このようにすれば、ラビングにより配向膜が活性化された直後に紫外線を照射するので、配向膜の活性化が相乗的に起こり、したがって紫外線照射による配向不良（配向ムラ）の改善がより効率的になる。
【００１５】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板上に配向材料からなる配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜に対してラビングによる配向処理を施す配向処理工程と、を備えた液晶表示装置の製造方法において、前記配向処理工程にて、ラビング中あるいはラビング直後に前記配向膜に紫外線を照射することを特徴としている。
【００１６】
本発明のラビング装置は、基板を載置するテーブルと、前記テーブル上の基板に形成された配向膜をラビングするラビング部と、前記テーブル上の基板に形成された配向膜に波長が４００ｎｍ以下の紫外線を照射する紫外線照射光源と、前記テーブル、ラビング部、紫外線照射光源を覆う遮光カバーと、を備えたことを特徴としている。
【００１７】
このラビング装置によれば、配向膜に対してラビング部による配向処理を施す配向処理工程中に、紫外線照射光源より波長が４００ｎｍ以下の紫外線を配向膜に照射することができる。よって、前述したようにラビングによる配向処理面を紫外線照射により活性化し、これにより特に配向不良（配向ムラ）が生じた箇所において配向不良を改善することができる。
したがって、紫外線照射の際に位置合わせを行う必要がないなど、特に工程数を増やすことなく配向ムラを改善することができ、これによりこの配向ムラに起因する表示ムラをなくして良好な表示特性を有する液晶表示装置を製造することができる。
【００１８】
また、前記ラビング装置においては、前記紫外線照射光源が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも一種からなっているのが好ましい。
このようにすれば、前記紫外線照射光源が市販のものとしてあるので、装置コストが安価になる。
【００１９】
また、前記ラビング装置においては、前記紫外線照射光源が、１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するもの、のうちの少なくとも二種以上を有しているのが好ましい。
このようにすれば、前述したようにピーク波長の異なる複数種の紫外線を照射することにより、より多くの不純物に対応してこれらを拡散することができる。
【００２０】
また、前記ラビング装置においては、前記テーブル上に載置される基板の側面及び裏面に前記紫外線照射光源からの紫外線が照射されるのを防止する遮光材が備えられているのが好ましい。
このようにすれば、特に基板に薄膜トランジスタ等が形成されている場合に、基板の側面から紫外線が透過し、あるいはテーブルを反射した紫外線が基板の裏面から透過し、薄膜トランジスタ等に紫外線が照射されてしまうのを、遮光材で防止することができ、これにより薄膜トランジスタ等の紫外線照射による劣化を防止することができる。
【００２１】
また、前記ラビング装置においては、前記基板の温度を制御する温度制御機構が備えられているのが好ましい。
このようにすれば、温度制御機構によって基板の温度を適宜に制御しておくことにより、紫外線照射とラビングとによる配向膜の活性化をさらに相乗的に高めることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
まず、本発明のラビング装置について説明する。
図１は本発明のラビング装置を示す図であり、図１中符号１はラビング装置である。このラビング装置１は、被処理体である基板２を載置するテーブル３と、基板２に形成された配向膜（図示せず）をラビングするラビング部４と、テーブル３上の基板２に形成された配向膜に紫外線を照射する紫外線照射ランプ（紫外線照射光源）５と、前記テーブル３、ラビング部４、紫外線照射ランプ５を覆う遮光カバー６と、を備えて構成されたものである。
【００２３】
テーブル３は、これの上に載置される基板２を保持固定する公知の固定機構（図示せず）と、この固定機構によって保持固定した状態で例えば図１中の矢印方向に基板２を移送する公知の移送機構（図示せず）とを備えたものである。また、このテーブル３には、前記基板２の温度を制御する温度制御機構（図示せず）が設けられている。この温度制御機構は、基板２の温度を検知するための温度センサと、加熱器及び冷却器からなる温調手段と、サーミスタで検知された温度と予め設定した温度との間の温度差に基づき、前記加熱器又は冷却器を作動させて基板を設定温度になるよう制御する制御部と、を備えた公知のもので、例えば基板２を１０〜８０℃の範囲の任意の温度に調整できるように構成されたものである。
【００２４】
ラビング部４は、基板２の移動方向に沿って回転し、かつ基板２表面に所定圧で当接するローラと、このローラの回転面に設けられたラビング布等のラビング材と、ローラを回転させる回転機構とを備えて構成された公知のものである。なお、ラビング材としては、ナイロンやポリエステルなどの布が用いられるが、これらナイロンやポリエステルなどをローラに植毛し、ラビング材としてもよい。また、このラビング部４は、ローラの回転軸の位置が固定されたものとなっており、これによって基板２の移送により基板２の相対位置を変化させるようになっている。
【００２５】
紫外線照射ランプ（紫外線照射光源）５は、市販の紫外線照射ランプからなるもので、本例では１８９ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するランプ５ａと、２５４ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するランプ５ｂと、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するランプ５ｃとを備えて構成されている。例えば、３６５ｎｍまたはその近傍にピーク波長を有するランプ５ｃとしては、水銀ランプのｉ線が用いられる。
【００２６】
これら紫外線照射ランプ５（５ａ、５ｂ、５ｃ）は、その紫外線照射エネルギーが１００ｍＪ〜１００００ｍＪ、好ましくは１０００ｍＪ〜５０００ｍＪとなるように調整されており、この範囲において予め実験等により適宜な紫外線照射エネルギー値が決定されている。
【００２７】
遮光カバー６は、前記テーブル３、ラビング部４、紫外線照射ランプ５を覆い、これによって紫外線照射ランプ５から照射された紫外線が外に出射するのを防止するもので、紫外線の透過を遮る材料によって形成されたものである。すなわち、この遮光カバー６は、例えば紫外線を反射する金属や、紫外線吸収剤を練り込んだ樹脂を内面にコーティングしたもの、あるいはこれら金属や樹脂によって形成されたもの、さらにはガラス等のカバー材に紫外線吸収剤を分散させたものなどからなっている。
【００２８】
また、このような構成からなるラビング装置１には、前記紫外線照射ランプ５から照射された紫外線が基板２の側面や裏面に照射されるのを防止するための遮光材７ａ、７ｂが備えられている。遮光材７ａは、特に、基板２の側面からその内部に紫外線が透過するのを防止するためのもので、基板２の外周に嵌まってその側面全体を覆う枠状のものであり、前記遮光カバー６と同様の材料によって形成されたものである。また、遮光材７ｂは、基板２の裏面、すなわち配向膜を形成した側と反対側の面からその内部に紫外線が透過するのを防止するためのもので、基板２に直接貼設されあるいはテーブル３の載置面に設けられる、例えばシート状、板状、または塗料製のものである。この遮光材７ｂも、前記遮光カバー６と同様の材料によって形成されたもので、特に塗料製のものについては、樹脂に紫外線吸収剤が添加されたものが用いられる。
【００２９】
次に、このような構成のラビング装置１を用いた液晶表示装置の製造方法を説明するが、これに先立ち、製造する液晶表示装置の一例を図２を参照して説明する。
図２において符号２０は半透過反射型のカラー液晶表示装置であり、この液晶表示装置２０は、液晶セル２１とバックライト２２（照明装置）とを備えたものである。液晶セル２１は、下基板２３と上基板２４とが対向配置されてなるもので、これら上基板２４と下基板２３との間に、位相差を例えばλ／２に設定したネマチック液晶などからなる液晶層２６を挟持したものである。液晶セル２１の後面側（下基板２３の外面側）にはバックライト２２が配置されており、バックライト２２は、ＬＥＤ（発光ダイオード）等からなる光源２７、導光板２８、反射板２９などを備えて構成されている。
【００３０】
ガラス等の透光性材料からなる下基板２３の内面側には半透過反射層３３が形成されている。下基板２３は、ガラス等の透光性基板から構成されたものであり、半透過反射層３３は、所定の回転方向を持つ円偏光のうちの一部を反射させ、一部を透過させるものである。
下基板２３の内面側の半透過反射層３３の上方には、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる下部電極３７がストライプ状に形成され、その上にはポリイミド等の樹脂からなる配向膜３８（液晶層２６の液晶分子を配向させる配向膜）が形成されている。
【００３１】
一方、上基板２４の内面側には、例えばＲ、Ｇ、Ｂの異なる色の顔料を含む色絵素３４ｒ、３４ｇ、３４ｂが区画材１６で区画された領域内にそれぞれ設けられており、これらによってカラーフィルター層３５が形成されている。
これら区画材１６及びカラーフィルター層３５（色絵素３４ｒ、３４ｇ、３４ｂ）の上には、保護膜（オーバーコート層）３６が形成されている。
さらに、保護膜３６の内面側には、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる上部電極３９がストライプ状に形成され、その上にはポリイミド等の樹脂からなる配向膜４０（液晶層２６の液晶分子を配向させる配向膜）が形成されている。
【００３２】
なお、下部電極３７、上部電極３９からなる電極構成には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、薄膜ダイオード（ＴＦＤ）等のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式、パッシブマトリクス方式のいずれが採用されている。また、前記の薄膜トランジスタ等からなるスイッチング素子は、通常、下基板２３側に形成される。
【００３３】
上基板２４の外面側には、上位相差板４２と上偏光板４３（双方で上基板側円偏光入射手段を構成する）とが基板側からこの順に設けられている。一方、下基板２３の外面側には、下１／４波長板（下位相差板）４４と下偏光板４５（双方で下基板側円偏光入射手段を構成する）とが基板側からこの順に設けられている。これら位相差板４２、４４と偏光板４３、４５は、液晶層２６に対して所定の回転方向を持つ円偏光を入射させるためのものである。ただし、特に上基板２４側に設ける位相差板に色補償の機能も持たせたい場合には必ずしも１／４波長板を用いることはなく、任意の位相差を持つ位相差板を選択すればよい。
【００３４】
このような構成の液晶表示装置２０を製造するに際し、特に下基板２３に配向膜３８を形成し、また上基板２４に配向膜４０を形成し、これらにそれぞれラビングを行って配向処理を施すには、まず、下基板２３の下部電極３７上、及び上基板２４の上部電極３９上にそれぞれ従来と同様にして配向膜材料、例えばポリイミドを成膜し、続いてこれを焼成する。
【００３５】
次いで、配向膜３８（配向膜４０）を形成した下基板２３（上基板２４）を、前記のラビング装置１に搬送し、その配向膜３８（配向膜４０）側を上にしてテーブル３に載置し、テーブル３の固定機構によって下基板２３（上基板２４）をテーブル３上に固定する。また、温度制御機構により、下基板２３（上基板２４）を予め設定した温度、例えば４０℃に調整しておく。ここで、特に下基板２３を処理する場合には、通常この下基板２３には前述したように薄膜トランジスタ等からなるスイッチング素子が形成されていることから、この薄膜トランジスタ等を紫外線から守るべく、下基板２３に枠状の遮光材７ａを嵌めてこの下基板２３の側面を遮光材７ａで覆い、紫外線が下基板２３の側面を透過してしまうのを防止しておく。また、下基板２３の裏面あるいはテーブル３の載置面に遮光材７ｂを設け、紫外線がテーブル３の載置面を反射して下基板２３の裏面を透過してしまうのを防止しておく。
【００３６】
このようにして下基板２３、あるいは上基板２４をテーブル３上にセットしたら、配向膜３８（配向膜４０）に対してラビングによる配向処理を施すべく、図３に示すように基板２（２３、２４）とラビング部４とを従来と同様にして相対移動させ、ラビング部４のローラを回転させる。また、この配向処理工程では、配向膜３８（配向膜４０）に対し、紫外線照射ランプ５から紫外線を照射する。ここで、紫外線の照射のタイミングとしては、以下の５通りがあり、配向膜の状態や製造工程上の条件などに合わせてこれら５通りの中から適宜選択し、配向処理を行う。
【００３７】
すなわち、第１の方法は、紫外線照射を、ラビング開始の前、例えばその直前から開始し、ラビング終了後、例えばラビング終了直後に終了する。
第２の方法は、紫外線照射を、ラビング開始後、例えばその直後から開始し、ラビング終了後、例えばラビング終了直後に終了する。
第３の方法は、紫外線照射を、ラビング開始の前、例えばその直前から開始し、ラビング終了前、例えばラビング終了直前に終了する。
第４の方法は、紫外線照射を、ラビング開始後、例えばその直後から開始し、ラビング終了前、例えばラビング終了直前に終了する。
これら第１〜第４の方法では、紫外線を照射する時間が、ラビングによる配向処理を行う時間に大部分が重なっているため、配向処理工程全体の処理時間の短縮を図り、生産性を向上することができる。
【００３８】
また、第５の方法は、紫外線照射を、ラビング終了直後から開始し、所定時間経過した後、終了する。
このようにすれば、ラビングにより配向膜が活性化された直後に紫外線を照射するので、配向膜の活性化が相乗的に起こり、したがって紫外線照射による配向不良（配向ムラ）の改善がより効率的になされる。
【００３９】
また、このようなタイミングで紫外線照射を行う際、この紫外線照射に使用する紫外線照射ランプ５としては、前述した３種のランプ５ａ、５ｂ、５ｃ全てとし、これらから同時に照射するのが好ましいものの、予め設定した任意の一種、あるいは二種のランプからのみ照射を行うようにしてもよい。また、これら３種のランプ５ａ、５ｂ、５ｃについて、タイミングをずらして照射を行わせるようにしてもよい。また、これらランプ５ａ、５ｂ、５ｃから照射する紫外線の照射エネルギーについては、前記した範囲で予め設定しておくものとする。また、各種類のランプ５ａ（５ｂ、５ｃ）をそれぞれ複数個設置しておき、これら複数個ランプから同時に紫外線を照射するようにしてもよい。
【００４０】
このようにして、ラビング中にあるいはラビング直後に配向膜３８（配向膜４０）へ紫外線を照射すると、ラビングによる配向処理面を紫外線照射により活性化することができ、したがって特に配向不良（配向ムラ）が生じた箇所において配向不良を改善することができる。
また、紫外線照射ランプ５として、前述した３種のランプ５ａ、５ｂ、５ｃのうちの二種以上を用いれば、配向不良（配向ムラ）の原因の一つと考えられるイオン性の不純物に対してより対応し易くなり、したがってより確実に配向不良が改善することができる
【００４１】
このようにしてラビングと紫外線照射による配向処理工程を終了したら、従来と同様にしてラビング後洗浄を行う。このラビング後洗浄については、ラビング後２時間程度はラビングによる活性化によって配向膜３８（配向膜４０）表面の濡れ性が均一になっているため、ラビング後２時間以内に行うのが好ましい。このようにしてラビング後洗浄を行えば、洗浄効果をより高くすることができる。以下、従来の製造方法と同様にして下基板２３と上基板２４とをシール材を介して接着し、液晶セルに組立て、次いでこの液晶セル内に液晶を注入し、さらに液晶セルの両面に偏光板を貼付けて液晶表示装置２０を得る。
【００４２】
このような液晶表示装置２０の製造方法にあっては、ラビング中にあるいはラビング直後に配向膜３８（配向膜４０）へ紫外線を照射し、特に配向不良（配向ムラ）が生じた箇所において配向不良を改善するようにしたので、従来に比べ紫外線照射の際に位置合わせを行う必要がないなど、工程数を増やすことなく、むしろ工程数を減らして生産性を向上しつつ、配向ムラを改善することができる。したがって、この配向ムラに起因する表示ムラをなくして良好な表示特性を有する液晶表示装置２０を、生産性向上を図りつつ製造することができる。
また、ラビング装置１にあっては、このような製造方法を容易に実施することができる。
【００４３】
（実施例１）
図１に示したラビング装置１を用い、ポリイミドからなる配向膜を形成した基板２（下基板２３、上基板２４）に対し、以下の条件で配向処理を行った。
まず、ラビング部４によるラビングを行うともに、このラビング開始直後からラビング終了直後までの間、前記紫外線照射ランプ５ｃによって３６５ｎｍ前後にピーク波長を有する紫外線を、基板２上の配向膜に１０００ｍＪの照射エネルギーで照射した。
次いで、ラビング終了後２時間以内にラビング後洗浄を行い、その後、得られた一対の基板２（下基板２３、上基板２４）を用いて通常の処理を行い、液晶表示装置を得た。
【００４４】
得られた液晶表示装置について表示特性を調べたところ、配向ムラによる表示ムラが認められなかった。
したがって、たとえラビング部４によるラビングによって一旦配向ムラが生じたとてしても、ラビングと共に紫外線を照射したことによって配向ムラを消失せしめることができ、これにより配向膜表面の全面を容易に均一化して表示ムラを防止することができる。すなわち、ラビング時及びその直後は配向膜が活性化中であり、この活性化している間に紫外線を照射することで、仮に配向ムラが生じた場合にも、これを確実に消失せしめることができるのである。
【００４５】
（実施例２）
図１に示したラビング装置１を用い、ポリイミドからなる配向膜を形成した基板２（下基板２３、上基板２４）に対し、以下の条件で配向処理を行った。
まず、ラビング部４によるラビングを行うともに、このラビング終了直前からラビング終了後までの間、前記紫外線照射ランプ５ｃによって３６５ｎｍ前後にピーク波長を有する紫外線を、また紫外線照射ランプ５ｂによって２５４ｎｍ前後にピーク波長を有する紫外線を、それぞれ基板２上の配向膜に５０００ｍＪの照射エネルギーで照射した。
次いで、ラビング終了後２時間以内にラビング後洗浄を行い、その後、得られた一対の基板２（下基板２３、上基板２４）を用いて通常の処理を行い、液晶表示装置を得た。
得られた液晶表示装置について表示特性を調べたところ、実施例１の場合と同様に、配向ムラによる表示ムラが認められなかった。
【００４６】
（実施例３）
図１に示したラビング装置１を用い、ポリイミドからなる配向膜を形成した基板２（下基板２３、上基板２４）に対し、以下の条件で配向処理を行った。
まず、温度制御機構によって基板２の温度を４０℃に維持し、その状態のもとでラビング部４によるラビングを行うともに、このラビング終了開始直後からラビング終了直後までの間、前記紫外線照射ランプ５ａによって１８９ｎｍ前後にピーク波長を有する紫外線を、基板２上の配向膜に２０００ｍＪの照射エネルギーで照射した。ここで、特に薄膜トランジスタ等を形成した下基板２３についての配向処理の際には、遮光材７ａ、７ｂを設けることにより、下基板２３側面からの紫外線の透過や、裏面からの回り込みによる紫外線の透過を防止した。
次いで、ラビング終了後２時間以内にラビング後洗浄を行い、その後、得られた一対の基板２（下基板２３、上基板２４）を用いて通常の処理を行い、液晶表示装置を得た。
【００４７】
得られた液晶表示装置について表示特性を調べたところ、実施例１の場合と同様に、配向ムラによる表示ムラが認められなかった。また、特に下基板２３に形成されている薄膜トランジスタ等にも、紫外線照射による悪影響は認められず、正常に動作することが確認された。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のラビング装置の一例の概略構成図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の概略構成を示す側断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の製造方法を説明するための図である。
【符号の説明】
１…ラビング装置、２…基板、３…テーブル、４…ラビング部、
５…紫外線照射ランプ（紫外線照射光源）、６…遮光カバー、
７ａ、７ｂ…遮光材、３８、４０…配向膜
【図１】
2004226475.tif 000003
【図２】
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【図３】
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