(57)【要約】【課題】所定濃度の飽和塩溶液を得ることにより、原料塩を少なくて済むと共に、溶解槽を小型化した飽和原料塩溶液製造設備を提供することにある。【解決手段】原料塩２を供給水１で溶解する際に原料塩溶解槽３Ａ内に設けた供給水を迂回させる堰３Ｄにより、供給水１が原料塩２と接触する接触面積が増加するように供給水を迂回させて食塩濃度の濃い飽和塩溶液４を生成し、上記課題を解決する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶解槽内に設けた仕切板を介して飽和槽と原料塩溶解槽とを形成し、前記仕切板に飽和槽と原料塩溶解槽との間を連通する連通手段を設け、前記原料塩溶解槽に投入した原料塩を供給水で溶解して飽和塩溶液となし、この飽和塩溶液は連通手段を介して飽和槽に供給する飽和原料塩溶液製造設備において、前記供給水が原料塩と接触する接触面積が増加するように供給水を迂回させる迂回手段を前記原料塩溶解槽内に設けることを特徴とする飽和原料塩溶液製造設備。
【請求項２】
前記迂回手段は供給水が原料塩と接触する接触面積が増加するように供給水を迂回させる堰を前記原料塩溶解槽内に設けることを特徴とする請求項１に記載の飽和原料塩溶液製造設備。
【請求項３】
前記迂回手段は供給水が原料塩と接触する接触面積が増加するように供給水を迂回させる堰を前記原料塩溶解槽内に複数個設けることを特徴とする請求項１に記載の飽和原料塩溶液製造設備。
【請求項４】
前記迂回手段は供給水を上昇させるようにした形状をなすことを特徴とする請求項１に記載の飽和原料塩溶液製造設備。
【請求項５】
前記連通手段の供給口側は飽和塩溶液が上昇する形状をなすことを特徴とする請求項１に記載の飽和原料塩溶液製造設備。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、次亜塩素酸ナトリウム製造するのに必要な飽和原料塩溶液製造設備に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の浄水場の次亜塩素酸ナトリウム製造設備を例えば引用文献１により説明する。従来、水道水の原水は浄水場の近傍の河川から取水され、沈砂池などで処理後に原水ポンプで浄水場に送られる。浄水場内では、取水池を経由して凝縮沈殿池で薬注し、攪拌によって不要なフロック（濁質がコロイド粒子となったのも）を形成し、これを沈殿させる。下部に蓄積する汚泥を定期的に排出し、排泥処理で濃縮，脱水してケーキ残士として排出する。
【０００３】
一方、凝縮沈殿池の上澄水はミクロフロックを含んだまま吐き出され、砂濾過して不要成分を更に除去し、浄水する。更に、かび臭の原因となる有機物などがある場合は、オゾン接触させて低有機物に分解し、粒状活性炭を充填した活性炭濾過によって処理して浄水とする。
【０００４】
この浄水には、法令により、需要家端末の塩素濃度が０．２ｐｐｍとなるように浄水側の薬注設備で次亜塩素酸ナトリウムを注入する。次亜塩素酸ナトリウムの製造方法を、引用文献１の第５７ページに掲載させた次亜塩素酸ナトリウムの製造設備により説明する。
【０００５】
即ち、原料塩槽内に設けた仕切板を介して飽和槽と原料塩溶解槽とを形成し、仕切板に飽和槽と原料塩溶解槽との間を連通する連通手段を設ける。原料塩溶解槽に投入した原料塩を供給水で溶解して飽和塩溶液となし、この飽和塩溶液は連通手段を介して飽和槽に供給する。飽和槽内の飽和塩溶液と別個所からの水例えば軟水をポンプにより電解槽に供給される。
【０００６】
直流電源により電解槽内の水と塩水とを次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）及び水素（Ｈ２）に変換する。水素（Ｈ２）は排気すると共に、ＮａＣｌＯ溶液は循環槽に供給される。循環槽は電気分解により暖められたＮａＣｌＯ溶液を冷却すると共に、冷却された所定濃度のＮａＣｌＯ溶液を一時貯槽に貯められる。一時貯槽からのＮａＣｌＯ溶液を浄水場に注入して浄水場の河川などの原水を殺菌する。原水を殺菌して品質の良い水を得るには、所定濃度のＮａＣｌＯを得ることであるが、従来の次亜塩素酸ナトリウムの製造設備では品質に安定したＮａＣｌＯ溶液を得ることができない。この原因について検討した結果、次のことが判った。
【０００７】
【引用文献１】
日立評論Ｖｏｌ．８５Ｎｏ２第５５ページ〜５８ページ「浄水場オンサイトの次亜塩素酸ナトリウム製造設備」［２００３年２月発行］に掲載
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
即ち、原料塩溶解槽に投入した原料塩を供給水で溶解して飽和塩溶液となし、この飽和塩溶液は連通手段を介して飽和槽に供給する。最初の内は供給水と原料塩とが接触して濃度の濃い飽和塩溶液が得られる。時間の経過と共に供給水と原料塩とが接触が少なくなり、塩分の薄い供給水つまり塩分濃度の少ない飽和塩溶液となり、品質の良いＮａＣｌＯ溶液が得られなくなる。そうすると、原料塩があるにも関わらず、更に原料塩を追加注入したりする。
【０００９】
このため、原料塩溶解槽が大型化したり、原料塩が無駄に使用されたりする等の欠点を生じる。
【００１０】
本発明の目的は、少ない原料塩で所定濃度の飽和塩溶液を得ることにより、溶解槽を小型化した飽和原料塩溶液製造設備を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成するために、本発明の飽和原料塩溶液製造設備では、溶解槽内に設けた仕切板を介して飽和槽と原料塩溶解槽とを形成し、仕切板に飽和槽と原料塩溶解槽との間を連通する連通手段を設け、原料塩溶解槽に投入した原料塩を供給水で溶解する際に原料塩溶解槽内に設けた供給水を迂させる迂回手段により、供給水が原料塩と接触する接触面積が増加するように供給水を迂回させて食塩濃度の濃い飽和塩溶液を生成し、上記課題を解決することを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に実施例を図１及び図２により説明する。図１は本発明の次亜塩素酸ナトリウム製造設備の全体構成を示すものである。
【００１３】
供給水１及び原料塩２を本発明の溶解槽３内に供給する。溶解槽３の詳細構造及び作用については後述する。溶解槽３で供給水１と原料塩２とを混合して得た飽和塩溶液４はポンプＰにより電解槽５に供給される。
【００１４】
電解槽５内には飽和塩溶液４と軟水６とを入力料液として、これを隔膜（イオン交換膜式）の電解槽５に供給し、電極５Ａ，５Ｂ間に直流電流５Ｃを流し、次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）７を生成する。次亜塩素酸ナトリウム７を５％溶解した水溶液を一時貯槽８に貯えられる。そして、必要に応じて薬品処理所９に送られ浄水場の消毒用として使用される。
【００１５】
次に、前述した溶解槽３の詳細構造を図２により説明する。
【００１６】
即ち、溶解槽３内に設けた仕切板１３を介して原料塩溶解槽３Ａと飽和槽３Ｂを設ける。仕切板１３には原料塩溶解槽３Ａと飽和槽３Ｂとの間を連通する連通手段である連通管３Ｃを取付ける。原料塩溶解槽３Ａ内には堰３Ｄ及び供給水１を供給する供給部１Ｂをそれぞれ設けている。
【００１７】
ザラメ状の原料塩２を原料塩溶解槽３Ａ内に投入すると共に、外部からの供給水１は供給部１Ｂを介して原料塩溶解槽３Ａ内に供給される。供給水１により原料塩２が溶解された飽和塩溶液４は連通管３Ｃにより飽和槽３Ｂ内に供給される。飽和塩溶液４はポンプＰにより電解槽５に供給される。この際、供給水１は迂回手段である堰３Ｄがあると、堰３Ｄに沿って供給水１が迂回するので、原料塩２と接触する面積が堰３Ｄを設けた分だけ多くなり、供給水１に溶解する原料塩２が多くなり、原料塩２の濃度を濃くした飽和塩溶液４は堰３Ｄを設けた分だけ効率良く得ることができる。
【００１８】
従来のように堰を設けていない場合の図４には、原料塩２が時間の経過と共に、原料塩２の粒子間に気泡が集合されてガス溜り２１が形成される。ガス溜り２１は原料塩２の重量に押されて、原料塩溶解槽３Ａ内の底面３Ｅに形成される。このガス溜り２１内を供給水１が流通するようになり、飽和槽３Ｂ内に供給される。飽和槽３Ｂ内に設けた塩分濃度計２０（図３参照）により測定した塩分濃度値は所定値に成らず、更に原料塩２を原料塩溶解槽３Ａ内に供給するので、多くの原料塩２を必要とするばかりか、また溶解槽３が大型化する欠点があった。
【００１９】
これに対して、本発明では前述のように堰３Ｄに沿って供給水１が矢印で示すように迂回するので、原料塩２と接触する面積が堰３Ｄを設けた分だけ多くなり、供給水１に溶解する原料塩２が多くなり、原料塩２の濃度を濃くした飽和塩溶液４は堰３Ｄを設けた分だけ効率良く得ることができるので、従来に比べて多くの原料塩２を多く必要としないと共に、原料塩溶解槽３Ａを大型化する必要がないので経済的である。
【００２０】
図３には複数の堰３Ｄを設け、供給水１を迂回するようにしても、本発明の前述した効果と同様な効果を達成することができる。またガス溜り２１のガスを抜くガス抜き管２２を原料塩溶解槽３Ａ内に設ける。ガス抜き管２２によりガス溜り２１のガスＧを外気に排気する。３０はガスＧを抜く時のゴミなどを除去する３０メッシよりなる網取付板である。
【００２１】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、原料塩を効率良く溶解した飽和塩溶液に使用できると共に、溶解槽を小型化することができる経済的な飽和原料塩溶液製造設備を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例である次亜塩素酸ナトリウム製造設備の全体工程を示す概略ブロック図。
【図２】図１に使用した溶解槽の詳細を示した側断面図。
【図３】本発明の他の実施例として示した溶解槽の側断面図。
【図４】従来の溶解槽を示した側断面図。
【符号の説明】
１…溶解槽、２…原料塩、３…溶解槽、３Ａ…原料塩溶解槽、３Ｂ…飽和槽、３Ｃ…連通管、３Ｄ…堰、３Ｅ…底面、４…飽和塩溶液、５…電解槽、６…軟水、７…次亜塩素酸ナトリウム、８…一時貯槽、９…薬品処理所、１３…仕切板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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