(57)【要約】【課題】基板から剥離させた汚染物が基板に再付着するのを効果的に防止できるとともに、基板端部に付着した汚染物を的確に除去でき、洗浄効果の向上が図れる基板処理装置及び基板洗浄ユニットを提供する。【解決手段】この基板処理装置１では、基板Ｗが傾斜搬送されつつ洗浄処理が行われ、搬送方向Ａ上流側から順に、低圧で純水を吐出する吐出部３３，３５，３７，４１，４３、高圧で純水を吐出する吐出部４７，４９，５５、純水とエアとのミスト状の混合流体を吐出する吐出部５３が備えられる。各洗浄部７，９，１１，１３間には、パイプノズル等である水流形成部１９，２１，２３が備えられ、洗浄部７の前段及び洗浄部１３の後段には、液カーテン等である水流形成部１７，２５が備えられる。水流形成部２５の後段には、装置１外の供給ライン６３から未使用の純水が供給される吐出部５９，６１が備えられる。【選択図】　　　　図１
2004074021.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して高圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第１の吐出部と、
前記搬送経路上における前記第１の吐出部の搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して、洗浄液と気体とを混合してミスト状の混合流体として吐出して洗浄を行う第２の吐出部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記搬送経路上における前記第１の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して低圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第３の吐出部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記吐出部のすべてを収容する処理槽をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記処理槽内の前記搬送経路上における前記各吐出部間に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第１の液流形成部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の基板処理装置において、
前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第１の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第３の吐出部が設けられる場合には前記第３の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第２の液流形成部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項３ないし５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第２の吐出部の前記搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第３の液流形成部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項３ないし６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理槽内における前記搬送経路上における前記第２の吐出部の前記搬送方向下流側、又は前記第３の液流形成部が設けられる場合には前記第３の液流形成部の前記搬送方向下流側に設けられ、装置外部から供給される未使用の洗浄液を基板に対して吐出して洗浄する第４の吐出部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記各吐出部によって洗浄される際に、基板が水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ洗浄されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項３ないし８のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部により使用される洗浄液は、使用された洗浄液が回収されて再使用されるものであり、
洗浄液は、回収後、共通のポンプにより昇圧されて前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部に供給されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第３の吐出部が設けられる場合は前記第３の吐出部の前記搬送方向上流側若しくは第３の吐出部と実質的に同一位置に設けられ、基板に対して近接した近接位置と、基板から離反した待避位置との間で移動可能とされ、前記近接位置に位置する状態で基板を洗浄する洗浄ブラシをさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部のうちの少なくとも一方が、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部を含むことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の基板処置装置において、
前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部のうちの少なくとも一方が、
前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部を含み、
前記複数のノズル部は、
前記吐出流が基板表面における前記一方向が、前記搬送方向に対して角度α（ただし、０°＜α＜１８０°）で交差するように設けられた第１のノズル部と、前記吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられられた第２のノズル部と、
を備え、
前記第２のノズル部を前記基板端部洗浄用のノズル部としたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の基板処置装置において、
前記基板端部洗浄用のノズル部は、
その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっており、当該吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記洗浄液は水であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１６】
搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、
基板の搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっている基板端部洗浄用のノズル部を備えていることを特徴とする基板洗浄ユニット。
【請求項１７】
搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、
前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部と、
前記複数のノズル部は、その各ノズル部の前記各吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置されており、
前記複数のノズル部のうちの基板の前記幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出するノズル部における前記吐出流の軸直角断面形状の前記略長楕円の長手方向が、前記搬送方向と略平行に設定されていることを特徴とする基板洗浄ユニット。
【請求項１８】
搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、
前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置された複数の第１のノズル部と、
基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を吐出する少なくとも１個の第２のノズル部と、
を備え、
前記各第１のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に対して斜めに傾斜した方向に沿って細長い略長楕円形となっており、
前記第２のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっていることを特徴とする基板洗浄ユニット。
【請求項１９】
請求項１６ないし１８のいずれかに記載の基板洗浄ユニットにおいて、
前記吐出流は、高圧で吐出される洗浄水であることを特徴とする基板洗浄ユニット。
【請求項２０】
請求項１６ないし１８のいずれかに記載の基板洗浄ユニットにおいて、
前記吐出流は、洗浄水と気体とがミスト状に混合されて吐出される混合流体であることを特徴とする基板洗浄ユニット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板、プリント基板等の板状基板を湿式にて処理（洗浄、現像、エッチング、剥離処理など）するための基板処理装置、及び基板洗浄ユニットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パターンの微細化や、ＡＬ膜等の柔らかい膜質の膜が用いられるようになるのに伴い、基板に対するダメージの少ない洗浄ツールが求められている。
【０００３】
ダメージの少ない洗浄ユニットとしては、洗浄液を高圧で基板に吐出して洗浄する高圧洗浄ユニット、洗浄液とエアとを混合してミスト状の混合流体として基板に吐出して洗浄を行う２流体洗浄ユニット、及び超音波が印加された洗浄液を基板に吐出して洗浄する超音波洗浄ユニット等が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の高圧洗浄ユニット、２流体洗浄ユニット及び超音波洗浄ユニット等を単体で使用する構成では、それぞれ一定の洗浄効果は得られるものの、満足できる効果は得られていない。特に、洗浄によって基板から剥離された汚染物が基板から離れる前に再付着してしまい、再び基板を汚染するのを防止する効果が不十分であった。
【０００５】
また、成膜処理等の上流側の工程で、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部が汚染された場合に、上述の各洗浄ユニットでは、その基板端部の汚染物を的確に除去することができず、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラによって他の基板が汚染されてしまう２次汚染が生じるなどの問題もある。
【０００６】
そこで、前記問題点に鑑み、本発明の第１の目的は、基板から剥離させた汚染物が基板に再付着するのを効果的に防止でき、洗浄効果の向上が図れる基板処理装置を提供することである。
【０００７】
また、本発明の第２の目的は、基板端部に付着した汚染物を的確に除去でき、洗浄効果の向上が図れる基板処理装置及び基板洗浄ユニットを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための技術的手段は、所定の搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して高圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第１の吐出部と、前記搬送経路上における前記第１の吐出部の搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して、洗浄液と気体とを混合してミスト状の混合流体として吐出して洗浄を行う第２の吐出部と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
好ましくは、前記搬送経路上における前記第１の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して低圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第３の吐出部をさらに備えるのがよい。
【００１０】
また、好ましくは、前記吐出部のすべてを収容する処理槽をさらに備えるのがよい。
【００１１】
さらに、好ましくは、前記処理槽内の前記搬送経路上における前記各吐出部間に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第１の液流形成部をさらに備えるのがよい。
【００１２】
また、好ましくは、前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第１の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第３の吐出部が設けられる場合には前記第３の吐出部の前記搬送方向上流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第２の液流形成部をさらに備えるのがよい。
【００１３】
さらに、好ましくは、前記処理槽内の前記搬送経路上における前記第２の吐出部の前記搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路を仕切るようにして液流を吐出する第３の液流形成部をさらに備えるのがよい。
【００１４】
また、好ましくは、前記処理槽内における前記搬送経路上における前記第２の吐出部の前記搬送方向下流側、又は前記第３の液流形成部が設けられる場合には前記第３の液流形成部の前記搬送方向下流側に設けられ、装置外部から供給される未使用の洗浄液を基板に対して吐出して洗浄する第４の吐出部をさらに備えるのがよい。
【００１５】
さらに、好ましくは、前記各吐出部によって洗浄される際に、基板が水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ洗浄されるのがよい。
【００１６】
また、好ましくは、前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部により使用される洗浄液は、使用された洗浄液が回収されて再使用されるものであり、洗浄液は、回収後、共通のポンプにより昇圧されて前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部に供給されるのがよい。
【００１７】
さらに、好ましくは、前記第１の吐出部の前記搬送方向上流側、又は前記第３の吐出部が設けられる場合は前記第３の吐出部の前記搬送方向上流側若しくは第３の吐出部と実質的に同一位置に設けられ、基板に対して近接した近接位置と、基板から離反した待避位置との間で移動可能とされ、前記近接位置に位置する状態で基板を洗浄する洗浄ブラシをさらに備えるのがよい。
【００１８】
また、好ましくは、前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部のうちの少なくとも一方が、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部を含むのがよい。
【００１９】
さらに、好ましくは、前記第１の吐出部及び前記第２の吐出部のうちの少なくとも一方が、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部を含み、前記複数のノズル部は、前記吐出流が基板表面における前記一方向が、前記搬送方向に対して角度α（ただし、０°＜α＜１８０°）で交差するように設けられた第１のノズル部と、前記吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられられた第２のノズル部と、を備え、前記第２のノズル部を前記基板端部洗浄用のノズル部とするのがよい。
【００２０】
また、好ましくは、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部をさらに備えているのがよい。
【００２１】
さらに、好ましくは、前記基板端部洗浄用のノズル部は、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっており、当該吐出流が基板の前記端部に当たる位置に、前記一方向が前記搬送方向に対して略平行となるように設けられているのがよい。
【００２２】
また、好ましくは、前記洗浄液は水であるのがよい。
【００２３】
さらに、前記目的を達成するための技術的手段は、搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、基板の搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっている基板端部洗浄用のノズル部を備えていることを特徴とする。
【００２４】
また、前記目的を達成するための技術的手段は、搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の軸直角断面形状が一方向に細長い略長楕円形となっている複数のノズル部と、前記複数のノズル部は、その各ノズル部の前記各吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置されており、前記複数のノズル部のうちの基板の前記幅方向の端部に向けて前記吐出流を吐出するノズル部における前記吐出流の軸直角断面形状の前記略長楕円の長手方向が、前記搬送方向と略平行に設定されていることを特徴とする。
【００２５】
さらに、前記目的を達成するための技術的手段は、搬送されてくる基板に対して所定の吐出流を吐出して洗浄を行う基板洗浄ユニットであって、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を基板に向けてそれぞれ吐出し、その吐出流の基板上における吐出領域が、前記搬送方向上流側又は下流側から見たときに基板における前記搬送方向に垂直な幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置された複数の第１のノズル部と、基板における前記搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて、前記洗浄液又は前記混合流体からなる吐出流を吐出する少なくとも１個の第２のノズル部と、を備え、前記各第１のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に対して斜めに傾斜した方向に沿って細長い略長楕円形となっており、前記第２のノズル部の前記吐出流の軸直角断面形状が、前記搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっていることを特徴とする。
【００２６】
また、好ましくは、前記吐出流は、高圧で吐出される洗浄水であるのがよい。
【００２７】
さらに、好ましくは、前記吐出流は、洗浄水と気体とがミスト状に混合されて吐出される混合流体であるのがよい。
【００２８】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の構成を模式的に示す図である。この基板処理装置１は、図１に示すように、例えば半導体基板やフラットパネル製造用の矩形ガラス基板、あるいはプリント配線基板などの基板Ｗ（図２参照）を、図示しない駆動源により駆動される搬送ローラ３によって搬送しつつ、処理槽５内で洗浄処理を施して、基板Ｗを洗浄する基板洗浄装置である。なお、実際の構成では、基板Ｗの安定搬送のために基板Ｗを上方から抑える上乗せローラ６９（図２参照）、及び基板Ｗを上下から挟み込んで支持する支持ローラ７１（図２参照）が備えられているが、図１ではこれらが便宜上省略されている。また、本明細書及び図面では、説明の便宜のためにｘ，ｙ，ｚの直交座標系を導入し、２個の水平軸方向のうちの基板Ｗの搬送方向Ａと略平行な方向をｘ方向とし、残りの水平軸方向である搬送方向Ａと垂直な方向をｙ方向とし、鉛直方向をｚ方向としている。
【００２９】
基板処理装置１の処理槽５内には、基板Ｗの搬送方向Ａ上流側から順に、洗浄部７，９，１１，１３，１５が備えられている。また、処理槽５内における洗浄部７の搬送方向上流側、洗浄部７と洗浄部９との間、洗浄部９と洗浄部１１との間、洗浄部１１と洗浄部１３との間、及び洗浄部１３と洗浄部１５との間には、基板Ｗの搬送経路を仕切るようにして略カーテン状に純水を吐出する水流形成部１７，１９，２１，２３，２５がぞれぞれ備えられている。これらの構成要素のうち、本発明に係る第１の吐出部には洗浄部１１，１３の後述する吐出部４７，４９，５５が相当し、第２の吐出部には洗浄部１３の後述する吐出部５３が相当し、第３の吐出部には洗浄部７，９の後述する吐出部３３，３５，３７，４１，４３が相当し、第４の吐出部には洗浄部１５の後述する吐出部５９，６１が相当している。また、第１の液流形成部には水流形成部１９，２１，２３が相当し、第２の液流形成部には水流形成部１７が相当し、第３の液流形成部には水流形成部２５が相当している。さらに、本発明に係る基板洗浄ユニットには、洗浄部１１若しくは洗浄部１３、又はその両方が相当している。
【００３０】
水流形成部１７，２５は具体的には液カーテンであり、基板Ｗの搬送経路を仕切るように、図１の矢印Ｂ１，Ｂ２で示す如く上方から基板Ｗに向けて略カーテン状の純水の水流を吐出する。本実施形態では、基板Ｗの上面側にのみ水流形成部１７，２５を設けたが、基板Ｗの下面側にも水流形成部１７，２５を設けてもよい。
【００３１】
水流形成部１９，２１，２３は、具体的にはパイプノズル又は液カーテンであり、基板Ｗの搬送経路を仕切るように、図１中の矢印Ｂ３，Ｂ４，Ｂ５で示す如く上方から基板Ｗに向けて略カーテン状の純水の水流を吐出する。本実施形態では、基板Ｗの上面側にのみ水流形成部１９，２１，２３を設けたが、基板Ｗの下面側にも水流形成部１９，２１，２３を設けてもよい。
【００３２】
洗浄部７は、洗浄ブラシ３１と、洗浄液として低圧の純水を吐出する吐出部３３，３５，３７と、洗浄ブラシ３１及び吐出部３３，３５，３７を収容する容器３９とを備えている。洗浄ブラシ３１は、基板Ｗの下面側に備えられ、図示しない駆動機構により回転駆動されて基板Ｗの下面側をブラシ洗浄する。吐出部３３は、基板Ｗの上面側に備えられ、低圧の純水を図１の矢印Ｂ６で示す如く上方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄する。吐出部３５，３７は、基板Ｗの下面側に備えられ、低圧の純水を図１の矢印Ｂ７，Ｂ８で示す如く下方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄する。また、吐出部３５，３７から吐出される純水は、洗浄ブラシ３１及び洗浄ブラシ３１により洗浄される基板Ｗの洗浄面を濡らせる役割も担っている。容器３９の対向する両側壁部には、基板Ｗの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【００３３】
ここで、本実施形態において、上記の吐出部３３，３５，３７及び後述の吐出部４１，４３，４７，４９における純水の吐出圧力について、「低圧」という場合には、３ｋｇ／ｃｍ２（０．２９４ＭＰａ）よりも小さな圧力をいい、「高圧」という場合には、３ｋｇ／ｃｍ２（０．２９４ＭＰａ）以上の圧力、さらに具体的には３ｋｇ／ｃｍ２（０．２９４ＭＰａ）から１５ｋｇ／ｃｍ２（１．４７ＭＰａ）の範囲の圧力をいう。
【００３４】
洗浄部９は、洗浄液として低圧の純水を吐出する吐出部４１，４３と、吐出部４１，４３を収容する容器４５とを備えている。吐出部４１は、基板Ｗの上面側に備えられ、定圧の純水を図１の矢印Ｂ９で示す如く上方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部４３は、基板Ｗの下面側に備えられ、低圧の純水を図１の矢印Ｂ１０で示す如く下方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。容器４５の対向する両側壁部には、基板Ｗの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【００３５】
洗浄部１１は、洗浄液として高圧の洗浄水を吐出する吐出部４７，４９と、吐出部４７，４９を収容する容器５１とを備えている。吐出部４７は、基板Ｗの上面側に備えられ、高圧の純水を図１の矢印Ｂ１１で示す如く上方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部４９は、基板Ｗの下面側に備えられ、高圧の純水を図１の矢印Ｂ１２で示す如く下方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。容器５１の対向する両側壁部には、基板Ｗの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【００３６】
洗浄部１３は、吐出部５３，５５と、吐出部５３，５５を収容する容器５７とを備えている。吐出部５３は、後述する供給ライン６７から供給される洗浄液である純水と、供給ライン５８から供給されるエア（気体）とを所定の体積比、例えば１：１００程度の比で混合してミスト状の混合流体として吐出する。そして、吐出部５３は、基板Ｗの上面側に備えられ、ミスト状の混合流体を図１の矢印Ｂ１３で示す如く上方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部５５は、基板Ｗの下面側に備えられ、洗浄液として高圧の純水を図１の矢印Ｂ１４で示す如く下方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。容器５７の対向する両側壁部には、基板Ｗの搬入及び排出のための開口部が設けられている。
【００３７】
洗浄部１５は、洗浄液である純水を吐出する吐出部５９，６１を備えている。吐出部５９は、基板Ｗの上面側に備えられ、純水を図１の矢印Ｂ１５で示す如く上方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。吐出部６１は、基板Ｗの下面側に備えられ、純水を図１の矢印Ｂ１６で示す如く下方から基板Ｗに向けて吐出して洗浄を行う。
【００３８】
洗浄部１５には、基板処理装置１外部の工場施設である純水供給ライン６３から供給される未使用の純水が供給され、その純水が吐出部５９，６１を介して直接基板Ｗに吐出されるようになっている。
【００３９】
それ以外の洗浄部７，９，１１，１３及び水流形成部１７，１９，２１，２３，２５については、洗浄部７，９，１１，１３，１５及び水流形成部１７，１９，２１，２３，２５によって処理槽５内に放出された純水を回収して濾過等の清浄化処理を施したものが再使用（循環使用）されるようになっている。回収されて清浄化された純水は、図示しないタンクに一旦貯められ、そのタンクから各洗浄部７，９，１１，１３及び水流形成部１７，１９，２１，２３，２５に昇圧されて供給される。
【００４０】
本実施形態では、図１に示すように昇圧のためのポンプ６５が洗浄部１１，１３の高圧の純水を吐出する吐出部４７，４９，５５と、洗浄部１３のミスト状の混合流体を吐出する吐出部５３とについて共用されている。すなわち、図示しないタンクから供給される純水は、ポンプ６５によって昇圧され、供給ライン６７を介して各吐出部４７，４９，５３，５５に供給される。
【００４１】
図２は、基板Ｗの傾斜搬送について説明するための図であり、基板処理装置１の洗浄部１１が設けられる部分の断面構成を模式的に示している。本実施形態に係る基板処理装置１では、基板Ｗをｙ軸方向から所定の角度θだけ傾斜させた状態で搬送しつつ各洗浄部７，９，１１，１３，１５及び水流形成部１７，１９，２１，２３，２５での洗浄処理を行うようになっている。より具体的には、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側が前方側となるようにして基板処理装置１を見たときに、基板Ｗが水平方向に対して左側に角度θだけ傾いた状態で搬送されるようになっている。図２に示すように、各洗浄部１１等の容器５１の側壁部に設けられる基板Ｗの搬入、排出のための開口部５１ａをはじめとする各開口部も、基板Ｗの傾斜に合わせて形成されている。また、図２に示される吐出部４７，４９をはじめとする各洗浄部の各吐出部についても傾斜搬送される基板Ｗと略平行になるように傾斜配置されている。
【００４２】
さらに、搬送ローラ３には基板Ｗと直接接触する２個のローラ部３ａ，３ｂが備わっているが、傾斜下方側（図２の左側）に備わるローラ部３ｂには、基板Ｗが滑り落ちるのを防止するための鍔部３ｃが設けられている。上乗せローラ６９及び支持ローラ７１についても同様に、基板Ｗと直接接触するローラ部６９ａ，６９ｂ、及びローラ部７１ａ，７１ｂがそれぞれ備わっている。
【００４３】
図３及び図４は、洗浄部１１及び洗浄部１３の吐出部４７，５３から吐出される吐出流の一般的（基本的）な形態を説明するための図である。なお、下面側の吐出部４９，５５については上面側の吐出部４７，５３と概ね同様な吐出形態であるため、ここでは上面側の吐出部４７，５３について説明する。
【００４４】
吐出部４７，５３は、図３に示すように、基板Ｗにおける搬送方向Ａと垂直な幅方向と概ね略平行に延びるパイプ部７３と、そのパイプ部７３に間隔をあけて設けられ、上述の高圧の純水又はミスト状の混合流体からなる吐出流７７を基板Ｗに向けて吐出する複数のノズル部７５とを備えている。ノズル部７５は、各ノズル部７５の吐出流７７の基板Ｗ上における吐出領域が、搬送方向Ａ上流側又は下流側から見たときに基板Ｗの幅方向に対して互いに部分的に重なり合うように配置する必要がある。各ノズル部７５が吐出する吐出流７７の軸直角断面形状は、図４に示すように一方向に細長い略長楕円形となっている。吐出流７７の軸直角断面形状の指向性（その略長楕円形の長手方向をいずれの方向に向かせるか）は、例えばノズル７５のパイプ部７３に対するその軸回りの設定角度位置を調節することにより変更することができる。
【００４５】
各ノズル部７５の吐出流７７の指向性についての一般的な設定形態では、各ノズル部７５の吐出流７７の指向性は、図３及び図４に示すように、その軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向Ｎが基板Ｗの搬送方向Ａに対して所定角度αを有するように斜めに傾斜し、各ノズル部７５の吐出流７７間でその傾斜角度αが等しくなるように設定されてる。なお、ノズル部７５の吐出領域の長手方向Ｎと基板Ｗの搬送方向Ａとのなす角αは、０°＜α＜１８０°の値であればよいが、α≠９０°とすれば、ノズル部７５の吐出領域の長手方向Ｎの大きさが隣接するノズル部７５間の距離よりも大きい場合であっても、隣接するノズル部７５の吐出領域同士が干渉するのを防止できる。
【００４６】
これに対し、本実施形態では、洗浄部１１及び洗浄部１３のうちの少なくともいずれか一方について、その吐出部４７，５３における一部のノズル部７５の吐出流７７の指向性が図５及び図６に示すように変更されている。すなわち、吐出部４７，５３に設けられる複数のノズル部７５のうちの基板Ｗの幅方向の両端部に向けて吐出流７７を吐出するノズル部７５（ここでは左右両側のノズル部７５ａ，７５ｂ）について吐出流７７の指向性が変更されており、このノズル部７５ａ，７５ｂが基板端部洗浄用のノズル部として機能する。より詳細には、ノズル７５ａ，７５ｂから吐出される吐出流７７の軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向Ｎが、搬送方向Ａと略平行になるように設定されている。これによって、ノズル部７５ａ，７５ｂの吐出流７７が基板Ｗの幅方向の両端部（両端面を含む）に向けて集中的に吐出されるようになっている。
【００４７】
なお、このノズル７５ａ，７５ｂの吐出流７７の指向性についての設定変更に伴って、ノズル部７５の配置位置、配置間隔、設置数等が必要に応じて変更される。ノズル部７５ａ，７５ｂ以外のノズル部７５の吐出流７７の指向性（Ｎ）については実質的に変更はない。本実施形態に係る設定状態においても、各ノズル部７５から吐出される各吐出流７７の吐出領域は、搬送方向Ａの上流側又は下流側から見たときに基板Ｗの幅方向に関して互いに部分的に重なり合うように設定されている。
【００４８】
このような吐出流７７の指向性についての設定変更は、洗浄部１１についてのみ行ってもよく、洗浄部１３についてのみ行ってもよく、洗浄部１１及び洗浄部１３の両方について行ってもよい。また、図５及び図６に示した例では、上面側の吐出部４７，５３のみについて吐出流７７の指向性の設定変更を行ったが、下面側の吐出部４９，５５のみについて同様な設定変更を行ってもよく、上下両側の吐出部４７，４９，５３，５５について同様な設定変更を行ってもよい。
【００４９】
また、変形例として、図７に示すように、図３及び図４に示す複数のノズル部（第１のノズル部）７５に追加して、基板Ｗの幅方向の両端部を専ら洗浄する少なくとも２個（ここでは２個）のノズル部（第２のノズル部、基板端部洗浄用のノズル部）７９ａ，７９ａが設けられている。このノズル部７９ａ，７９ｂは、他のノズル部７５と同様な高圧の純水又はミスト状の混合流体からなる吐出流７７を基板Ｗの幅方向の対応する端部に向けて吐出する。また、ノズル部７９ａ，７９ｂから吐出される吐出流７７の軸直角断面形状は他のノズル部７５と同様な形状であり、その軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向Ｎが搬送方向Ａと略平行になるように設定されている。このため、ノズル部７９ａ，７９ｂの吐出流７７は、基板Ｗの対応する端部（両端面を含む）に集中的に吐出される。なお、このように基板Ｗの端部を洗浄するノズル部７５ａ，７５ｂ，７９ａ，７９ｂについては、必ずしも軸直角断面が略長楕円形の吐出流を形成するものでなくてもよい。また、必ずしも基板Ｗの両端部に対応して設けなくてもよい。例えば、基板Ｗの傾斜方向上側の端部に汚れが基板Ｗ表面側に流れてくるのを防止するためには、基板Ｗの傾斜方向の上側端部に対応してノズル部７５ａ，７５ｂを設ければよく、また搬送ローラ３の鍔部３ｃとの接触により基板Ｗの傾斜方向の下側端部が汚れがちである場合には、基板Ｗの傾斜方向の下側端部に対応してノズル部７５ａ，７５ｂを設ければよい。
【００５０】
次に、この基板処理装置１による洗浄処理について説明する。所定の搬送経路に従って基板処理装置１内に導入された基板Ｗは、上述のように搬送方向Ａに沿って傾斜搬送されつつ洗浄が行われる。まず、水流形成部１７の略カーテン状の純水の水流により基板Ｗが洗浄された後、洗浄部７に送られる。洗浄部７では、基板Ｗの上面側が吐出部３３から吐出される低圧の純水により洗浄されるとともに、基板Ｗの下面側が、吐出部３５，３７によって低圧の純水が基板Ｗに向けて吐出されつつ、洗浄ブラシ３１によりブラシ洗浄される。
【００５１】
続いて、水流形成部１９の略カーテン状の純水の水流により基板Ｗが洗浄された後、洗浄部９に送られる。洗浄部９では、吐出部４１，４３により上下から基板Ｗに低圧の純水が吐出され、基板Ｗの洗浄が行われる。
【００５２】
続いて、水流形成部２１の略カーテン状の純水の水流により基板Ｗが洗浄された後、洗浄部１１に送られる。洗浄部１１では、吐出部４７，４９により上下から基板Ｗに高圧の純水が吐出され、基板Ｗの洗浄が行われる。
【００５３】
続いて、水流形成部２３の略カーテン状の純水の水流により基板Ｗが洗浄された後、洗浄部１３に送られる。洗浄部１３では、吐出部５３により上方から基板Ｗに純水とエアとが混合されたミスト状の混合流体が吐出され、基板Ｗの上面側の洗浄が行われるとともに、吐出部５５により下方から基板Ｗに高圧の純水が吐出され、基板Ｗの下面側の洗浄が行われる。
【００５４】
続いて、水流形成部２５の略カーテン状の純水の水流により基板Ｗが洗浄された後、洗浄部１５に送られる。洗浄部１５では、吐出部５９，６１により、処理装置１外部から未使用の清浄度の高い純水が上下から基板Ｗに吐出され、基板Ｗの洗浄が行われる。洗浄部１５を通過した基板Ｗは基板処理装置１外に排出される。
【００５５】
以上のように、本実施形態によれば、洗浄部１１の吐出部４７による高圧で吐出される純水の強い打力により汚染物を基板Ｗ上面側から効果的に剥離させた後、洗浄部１３の吐出部５３によるミスト状の混合流体のソフトであり、かつエアの力を利用した大きな流速を生かして基板Ｗ上面側上で浮遊する汚染物を瞬時に基板Ｗ外に除去することができる。その結果、基板Ｗから剥離させた汚染物が基板Ｗに再付着するのを効果的に防止でき、洗浄効果の向上が図れる。
【００５６】
また、洗浄部１１及び洗浄部１３による洗浄が行われる前に、洗浄部７の吐出部３３，３５，３７及び洗浄部９の吐出部４１，４３による低圧の純水によって付着力の弱い汚染物や、粒子サイズの大きい粒子状の汚染物を予め除去することができ、洗浄部１１及び洗浄部１３での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、洗浄部１１及び洗浄部１３で剥離させた汚染物が基板Ｗに再付着する確率を低減することができ、その結果処理装置１全体として洗浄効果の向上が図れる。この効果は汚染の程度が大きな基板Ｗの洗浄において特に有効である。
【００５７】
さらに、各洗浄部７，９，１１，１３，１５及び水流形成部１７，１９，２１，２３，２５が処理槽５に収容されているため、各洗浄部７，９，１１，１３，１５及び水流形成部１７，１９，２１，２３，２５で使用される純水（ミストも含む）や除去した汚染物等が基板処理装置１外に漏れるのを防止することができるとともに、外界から遮断された状態で各洗浄部７，９，１１，１３，１５及び水流形成部１７，１９，２１，２３，２５での洗浄処理及び各洗浄部７，９，１１，１３，１５間の基板搬送を行うことができる。
【００５８】
また、洗浄部７，９，１１，１３では容器３９，４５，５１，５７が設けられた二重ボックス構造となっているため、各洗浄部７，９，１１，１３で使用された純水（ミストも含む）や除去された汚染物が洗浄部７，９，１１，１３外に漏れて他の洗浄部７，９，１１，１３等に悪影響を与えるのを防止することができるとともに、洗浄部７，９，１１，１３での洗浄中に処理槽５の天井部等から落下する水滴等が基板Ｗ上に落下して基板Ｗが汚染されるのを防止することができる。
【００５９】
さらに、各洗浄部７，９，１１，１３間に設けられた水流形成部１９，２１，２３の略カーテン状の水流によって、前段の洗浄部７，９，１１により基板Ｗから剥離されて基板Ｗ上で浮遊している汚染物を水流形成部１９，２１，２３によって基板Ｗ外に除去することができ、前段の洗浄部７，９，１１で剥離された汚染物が後段の洗浄部９，１１，１３に運ばれるのを効果的に抑制することができる。
【００６０】
また、搬送方向Ａ最上流端の洗浄部である洗浄部７の搬送方向Ａ上流側に設けられた水流形成部１７の略カーテン状の水流によって、各洗浄部７，９，１１，１３，１５での洗浄が行われる前段階で基板Ｗに付着した汚染物を予め除去、低減することができ、後段の各洗浄部７，９，１１，１３，１５での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、各洗浄部７，９，１１，１３，１５で剥離させた汚染物が基板Ｗに再付着する確率を低減することができ、その結果処理装１置全体として洗浄効果の向上が図れる。
【００６１】
さらに、洗浄部１５を除く搬送方向Ａ最下流端の洗浄部である洗浄部１３の搬送方向Ａ下流側に設けられた水流形成部２５の略カーテン状の水流によって、前段の各洗浄部７，９，１１，１３で基板Ｗから剥離されて基板Ｗ上で浮遊している汚染物が基板Ｗに再付着するのを防止できるとともに、一度基板Ｗから除去された汚染物が洗浄液である純水のミストや水滴等に混じって基板Ｗに再付着するのを防止できる。
【００６２】
また、搬送方向Ａ最下流側の洗浄部として洗浄部１５が設けられているため、基板洗浄の仕上げ工程として、洗浄部１５の清浄度の高い未使用の純水で基板Ｗの洗浄を行うことにより、前段の各洗浄部７，９，１１，１３等で基板Ｗから剥離されて基板Ｗ上で浮遊している汚染物が基板Ｗに再付着するのを防止できるとともに、一度基板Ｗから除去された汚染物が洗浄液である純水のミストや水滴等に混じって基板Ｗに再付着するのを防止できる。この効果は、前段の各洗浄部７，９，１１，１３等で使用される純水が一度使用されたあと回収されて再使用されるものである場合に特に有効である。
【００６３】
さらに、基板Ｗが水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ各洗浄部７，９，１１，１３，１５及び各水流形成部１７，１９，２１，２３，２５での洗浄が行われるため、洗浄に用いられた純水が基板Ｗ表面に長時間滞留することがないので、汚染物等の基板Ｗへの再付着が抑制できる。
【００６４】
また、洗浄部１１及び洗浄部１３について純水を供給するためのポンプ６５が共用されるため、コスト削減及び設置スペースの削減を図れる。
【００６５】
さらに、洗浄部１１及び洗浄部１３のうちの少なくとも一方について、その吐出部４７，５３（あるいは上下の吐出部４７，４９，５３，５５）における基板Ｗの幅方向の両端を洗浄するノズル部７５ａ，７５ｂの吐出流７７の指向性が、図５及び図６に示すように吐出流７７の軸直角断面形状である略長楕円形の長手方向が搬送方向Ａに略平行になるように設定されている。このため、ノズル部７５ａ，７５ｂの吐出流７７が基板Ｗの幅方向の両端部に向けて集中的に吐出されるようになっている。これによって、基板Ｗ端部に付着した汚染物を的確に除去することができ、その結果、剥離させた基板Ｗ端部の汚染物が基板Ｗ表面に再付着してしまったり、搬送ローラ３等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ３等によって他の基板Ｗが汚染されてしまう２次汚染が生じるのを防止することができる。
【００６６】
また、各洗浄部７，９，１１，１３，１５及び各水流形成部１７，１９，２１，２３，２５で使用される洗浄液として純水が使用されるため、洗浄後に純水で再度洗浄する必要がなく、装置１の小型、低コスト化等が図れる。
【００６７】
さらに、洗浄部７に設けられる汚染物の剥離力の高い洗浄ブラシ３１を用いて基板Ｗの下面側を洗浄することにより、付着力の強い汚染物等も効果的に基板Ｗから剥離させて除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【００６８】
また、洗浄部７の洗浄ブラシ３１が洗浄部９，１１，１３の搬送方向Ａ上流側に設けられるため、洗浄ブラシ３１で基板Ｗから剥離させた汚染物が仮に基板Ｗに再付着しても、その再付着した汚染物を後段の各洗浄部９，１１，１３で効果的に基板Ｗ外に除去することができる。
【００６９】
＜第２実施形態＞
図８は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置１の構成を模式的に示す図である。本実施形態に係る基板処理装置１が上述の第１実施形態に係る基板処理装置１と実質的に異なる点は、洗浄部７に基板Ｗの上面側の洗浄ブラシ８１を追加した点のみであり、互いに対応する部分が同一の参照符号を付して説明を省略する。
【００７０】
本実施形態に係る基板処理装置１では、洗浄部７に基板Ｗの上面側の洗浄ブラシ８１が追加的に設けられている。洗浄ブラシ８１は、容器７内における基板Ｗの上面側に設けられ、図示しない移動機構により基板Ｗ上面に対して近接した近接位置と、基板Ｗ上面から離反した待避位置との間で移動される。また、洗浄ブラシ８１は、近接位置に位置されている状態において、図示しない駆動機構により回転駆動されて基板Ｗの上面側をブラシ洗浄する。吐出部３３から吐出される純水は、洗浄ブラシ８１及び洗浄ブラシ８１により洗浄される基板Ｗの洗浄面を濡らせる役割も担っている。
【００７１】
このような構成により、パターン形成面である上面側へのダメージを回避すべき基板Ｗの場合には、洗浄ブラシ８１を待避位置に待避させた状態で洗浄を行うことにより、基板Ｗの上面側へのダメージを与えることなく、洗浄処理を行うことができる。
【００７２】
また、ダメージを考慮しなくてもよい基板Ｗ（素ガラスの基板や、成膜された膜の膜質が硬い基板等）に対しては、洗浄ブラシ８１を近接位置に位置させ、汚染物の剥離力の高い洗浄ブラシ８１を用いて洗浄を行うことにより、付着力の強い汚染物等も効果的に基板Ｗ上面から剥離させて除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【００７３】
また、洗浄部７の洗浄ブラシ８１が洗浄部９，１１，１３の搬送方向Ａ上流側に設けられるため、洗浄ブラシ８１で基板Ｗから剥離させた汚染物が仮に基板Ｗに再付着しても、その再付着した汚染物を後段の各洗浄部９，１１，１３で効果的に基板Ｗ外に除去することができる。
【００７４】
＜変形例＞
（１）上記各実施形態において、洗浄部７，９，１５についてはそれぞれ省略可能である。各水流形成部１７，１９，２１，２３，２５についてもそれぞれ省略可能である。
【００７５】
特に、洗浄部７，９，１１，１３間の水流形成部１９，２１，２３については、上記各実施形態のように基板Ｗを傾斜搬送しつつ洗浄処理を行う場合には、傾斜搬送により汚染物の基板Ｗの再付着を効果的に抑制できるため、省略可能である。ただし、基板Ｗを傾斜搬送しなで水平搬送する場合には、水流形成部１９，２１，２３を設けた方が望ましい。
【００７６】
また、洗浄部９の上面側の吐出部４１については、第２実施形態のように洗浄部７の上面洗浄用の洗浄ブラシ８１を設けた場合には省略可能である。
【００７７】
（２）上記各実施形態では、洗浄部１１，１３の吐出部４７，４９，５５と洗浄部１３の吐出部５３とについて、純水を供給するためのポンプ６５を共用する構成としたが、洗浄部１１，１３の吐出部４７，４９，５５と洗浄部１３の吐出部５３とについて個別にポンプを設ける構成としてもよい。
【００７８】
（３）上記各実施形態に係る基板処理装置１を薬液又は機能水（オゾン水、アルカリ性水、水素水など）を用いて処理を行う基板処理装置に適用してもよい。
【００７９】
（４）上記各実施形態において、下面側の清浄度があまり要求されない基板Ｗについて洗浄を行う場合には、洗浄部７の下面洗浄用の洗浄ブラシ３１を省略してもよい。
【００８０】
（５）上記各実施形態の洗浄部９，１１，１３において、上下に吐出部４１，４３，４７，４９，５３，５５を設けているが、下面側の清浄度があまり要求されない基板Ｗについて洗浄を行う場合には、下面側の吐出部４３，４９，５５を省略してもよい。逆に、基板Ｗの清浄度をより高めたい場合には、上面側、又は上下両方について、吐出部４１，４３，４７，４９，５３，５５を複数個（例えば２個）ずつ並列に設けてもよい。
【００８１】
また、洗浄部１３について、基板Ｗの下面側の清浄度を高めたい場合には、基板Ｗの下面側にも、純水とエアとのミスト状の混合流体を吐出する吐出部４７を追加的に設けてもよい。さらに、下面側の洗浄度をより高めたい場合には、基板Ｗの下面側に吐出部４７を２個以上併設してもよい。
【００８２】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、第１の吐出部の高圧で吐出される洗浄液の強い打力により汚染物を基板から効果的に剥離させた後、第２の吐出部におけるミスト状の混合流体のソフトであり、かつ気体の力を利用した大きな流速を生かして基板上で浮遊する汚染物を瞬時に基板外に除去することができる。その結果、基板から剥離させた汚染物が基板に再付着するのを効果的に防止でき、洗浄効果の向上が図れる。
【００８３】
請求項２に記載の発明によれば、第１及び第２の吐出部による洗浄が行われる前に、第３の吐出部による低圧の洗浄液によって付着力の弱い汚染物や、粒子サイズの大きい粒子状の汚染物を予め除去することができ、第１及び第２の吐出部での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、第１及び第２の吐出部で剥離させた汚染物が基板に再付着する確率を低減することができ、その結果処理装置全体として洗浄効果の向上が図れる。この効果は汚染の程度が大きな基板の洗浄において特に有効である。
【００８４】
請求項３に記載の発明によれば、第１及び第の吐出部、又は第１ないし第３の吐出部が処理槽に収容されているため、各吐出部で使用される洗浄液や除去した汚染物等が基板処理装置外に漏れるのを防止することができるとともに、外界から遮断された状態で各吐出部での洗浄処理及び各吐出部間の基板搬送を行うことができる。
【００８５】
請求項４に記載の発明によれば、各吐出部間に設けられた第１の液流形成部の液流によって、前段の吐出部により基板から剥離されて基板上で浮遊している汚染物を第１の液流形成部によって基板外に除去することができ、前段の吐出部で剥離された汚染物が後段の吐出部に運ばれるのを効果的に抑制することができる。
【００８６】
請求項５に記載の発明によれば、第１の吐出部の搬送方向上流側、又は第３の吐出部が設けられる場合は第３の吐出部の搬送方向上流側に設けられた第２の液流形成部の液流によって、各吐出部での洗浄が行われる前段階で基板に付着した汚染物を予め除去、低減することができ、後段の各吐出部での汚染物除去の負担を軽減することができるとともに、各吐出部で剥離させた汚染物が基板に再付着する確率を低減することができ、その結果処理装置全体として洗浄効果の向上が図れる。
【００８７】
請求項６に記載の発明によれば、第２の吐出部の搬送方向下流側に設けられた第３の液流形成部の液流によって、前段の各吐出部で基板から剥離されて基板上で浮遊している汚染物が基板に再付着するのを防止できるとともに、一度基板から除去された汚染物が洗浄液のミストや液滴等に混じって基板に再付着するのを防止できる。
【００８８】
請求項７に記載の発明によれば、第２の吐出部の搬送方向下流側、又は第３の液流形成部が設けられる場合にはその搬送方向下流側に、装置外部から供給される未使用の洗浄液を直接使用して基板を洗浄する第４の吐出部が設けられるため、基板洗浄の仕上げ工程として、第４の吐出部の清浄度の高い未使用の洗浄液で基板の洗浄を行うことにより、前段の各吐出部等で基板から剥離されて基板上で浮遊している汚染物が基板に再付着するのを防止できるとともに、一度基板から除去された汚染物が洗浄液のミストや液滴等に混じって基板に再付着するのを防止できる。この効果は、前段の各吐出部等で使用される洗浄液が一度使用されたあと回収されて再使用されるものである場合に特に有効である。
【００８９】
請求項８に記載の発明によれば、基板が水平方向に対して傾斜した状態で搬送されつつ各吐出部での洗浄が行われるため、洗浄に用いられた液体が基板表面に長時間滞留することがないので、汚染物等の基板への再付着が抑制できる。
【００９０】
請求項９に記載の発明によれば、第１の吐出部及び第２の吐出部について洗浄水を供給するためのポンプが共用されるため、コスト削減及び設置スペースの削減を図れる。
【００９１】
請求項１０に記載の発明によれば、待避機能付きの洗浄ブラシが設けられるため、ダメージを回避すべき基板の場合には、洗浄ブラシを待避させた状態で洗浄を行う一方、ダメージを考慮しなくてもよい基板（素ガラスの基板や、成膜された膜の膜質が硬い基板等）に対しては、汚染物の剥離力の高い洗浄ブラシを用いて洗浄を行うことにより、付着力の強い汚染物等も効果的に基板から剥離させて除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【００９２】
また、洗浄ブラシが第１の吐出部の搬送方向上流側、又は第３の吐出部が設けられる場合は第３の吐出部の搬送方向上流側若しくは第３の吐出部と実質的に同一位置に設けられるため、洗浄ブラシで基板から剥離させた汚染物が仮に基板に再付着しても、その再付着した汚染物を後段の各吐出部で効果的に基板外に除去することができる。
【００９３】
請求項１１に記載の発明によれば、第１の吐出部及び第２の吐出部のうちの少なくとも一方が、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部を含んでいるため、基板端部を的確に洗浄できる。
【００９４】
請求項１２に記載の発明によれば、第１の吐出部及び第２の吐出部のうちの少なくとも一方に設けられる複数の第１のノズル部から吐出される吐出流によって基板全体を一様に洗浄して基板に付着した汚染物を効果的に洗浄できるとともに、基板端部洗浄用のノズル部の吐出流の軸直角断面形状が基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう２次汚染が生じるのを防止することができる。
【００９５】
請求項１３に記載の発明によれば、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部を洗浄する基板端部洗浄用のノズル部が備えられているため、基板端部を的確に洗浄できる。
【００９６】
請求項１４に記載の発明によれば、基板端部洗浄用のノズル部の吐出流の軸直角断面形状が基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう２次汚染が生じるのを防止することができる。
【００９７】
請求項１５に記載の発明によれば、洗浄液として水が使用されるため、洗浄後に水で再度洗浄する必要がなく、装置の小型、低コスト化等が図れる。
【００９８】
請求項１６に記載の発明によれば、基板における搬送方向に垂直な幅方向の端部に向けて洗浄用の吐出流を吐出する基板端部洗浄用のノズル部が設けられ、そのノズル部の吐出流の軸直角断面形状が基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形となっているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう２次汚染が生じるのを防止することができる。
【００９９】
請求項１７に記載の発明によれば、複数のノズル部から吐出される吐出流によって基板に付着した汚染物を効果的に洗浄できるとともに、その複数のノズル部のうちの基板の幅方向の端部に向けて吐出流を吐出するノズル部における吐出流の軸直角断面形状の略長楕円形の長手方向が、基板の搬送方向と略平行に設定されているため、そのノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう２次汚染が生じるのを防止することができる。
【０１００】
請求項１８に記載の発明によれば、基板を全体的に一様に洗浄する複数の第１のノズル部と、基板端部を集中的に洗浄する少なくとも２個の第２のノズル部とが設けられている。このため、複数の第１のノズル部から吐出される吐出流によって基板全体が一様に洗浄できるとともに、少なくとも２個の第２のノズル部における吐出流の軸直角断面形状の略長楕円形が、基板の搬送方向に沿って細長い略長楕円形に設定されているため、その各ノズル部の吐出流を基板端部に向けて集中的に吐出させることができ、基板端部に付着した汚染物を的確に除去することができる。その結果、剥離させた基板端部の汚染物が基板表面に再付着してしまったり、基板の搬送ローラ等が汚染されてしまい、その汚染された搬送ローラ等によって他の基板が汚染されてしまう２次汚染が生じるのを防止することができる。
【０１０１】
請求項１９に記載の発明によれば、高圧で吐出される洗浄液の強い打力により汚染物を基板から効果的に剥離させることができ、洗浄効果の向上が図れる。
【０１０２】
請求項２０に記載の発明によれば、ミスト状の混合流体のソフトであり、かつ気体の力を利用した大きな流速を生かして基板に付着した汚染物や、基板上で浮遊する汚染物を瞬時に基板外に除去することができ、洗浄効果の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の構成を模式的に示す図である。
【図２】基板の傾斜搬送について説明するための図である。
【図３】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の一般的（基本的）な形態を説明するための図である。
【図４】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の一般的（基本的）な形態を説明するための図である。
【図５】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の第１実施形態に係る設定形態を説明するための図である。
【図６】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の第１実施形態に係る設定形態を説明するための図である。
【図７】洗浄部又は洗浄部の吐出部から吐出される吐出流の設定形態の変形例を説明するための図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１　基板処理装置
３　搬送ローラ
５　処理槽
７，９，１１，１３，１５　洗浄部
１７，１９，２１，２３，２５　水流形成部
３１　洗浄ブラシ
３３，３５，４１，４３，４７，４９，５３，５５，５９，６１　吐出部
３９，４５，５１，５７　容器
７５，７５ａ，７５ｂ，７９ａ，７９ｂ　ノズル部
８１　洗浄ブラシ
Ａ　搬送方向
Ｐ　ポンプ
Ｗ　基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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