(57)【要約】【課題】スケジュール装置より指示されるレシピライブラリ番号に基づき、半導体製造装置にてライブラリ展開テーブルに格納しながらウエハ処理を実行するとき、ウエハ１枚毎に解析／展開処理を行っているため、ウエハ処理の開始時間に遅れがでている。【解決手段】レシピライブラリの解析／展開データテーブルをメモリ上に複数面持たせる。そのレシピライブラリ展開テーブルの管理データ領域に使用頻度カウンタを設け、使用頻度の少ないデータテーブルを検索し、そのデータテーブルに新しい解析／展開データを格納することによって、解析／展開処理を減少させる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スケジュール装置より指示されたレシピライブラリ番号に基づき、半導体製造装置にて予め記憶されたデータより当該レシピライブラリ読み出してライブラリ展開テーブルに格納しながらウエハ処理を実行す半導体製造装置において、
前記ライブラリ展開テーブルをメモリ上に複数面持たせ、且つ、各ライブラリ展開テーブルの管理データ領域に使用頻度カウンタを設け、このカウンタのカウント値に基づいて使用頻度の少ないデータテーブルを検索し、そのデータテーブルに新しい解析／展開データを格納するよう構成したことを特徴としたライブラリ展開テーブルの制御装置。
【請求項２】
前記半導体製造装置は、スケジュール装置からレシピライブラリ展開指示あったとき、前記複数面の各ライブラリ展開テーブルの使用頻度カウンタを−１とする歩進手段と、指示されたレシピライブラリがライブラリ展開テーブルに展開されているか否かを判断し、非展開時には前記使用頻度カウンタの最小カウント値ライブラリ展開テーブルにデータを格納した後、使用頻度カウンタを展開テーブル総数の数字に入れ替え、展開時には直接使用頻度カウンタを展開テーブル総数の数字に入れ替えるカウンタ制御手段を設けたことを特徴とした請求項１記載のライブラリ展開テーブルの制御装置。
【請求項３】
前記ライブラリ展開テーブルの面数は、３面であることを特徴とした請求項１又は２記載のライブラリ展開テーブルの制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ライブラリ展開テーブルの制御装置に係わり、特に半導体製造装置でのウェハ処理時におけるライブラリ展開制御装置に関するものである。。
【０００２】
【従来の技術】
図４は、半導体製造装置において、ウェハを処理する場合におけるレシピ解析ソフトウェア処理を示したものである。同図において、Ａはスケジュール装置で、この装置よりウェハの処理手順（レシピライブラリ）を示すレシピライブラリ番号が半導体製造装置Ｂに通知される。半導体製造装置Ｂでのソフトウェアは、通知された番号のレシピライブラリをハードディスク装置Ｃから検索し、そのレシピライブラリを解析して装置Ｂ内で処理できる状態のデータに変換する。変換したデータは、処理を行えるようライブラリ展開テーブルＤに記憶する。
【０００３】
【特許文献１】
特開平８ー２１３２９５  号公報（図１，図２）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図４において、上位のスケジュール装置Ａから指示されるステップＳ１のレシピライブラリは、ロットやウェハ毎によって異なり、半導体製造装置Ｂのレシピ解析ソフトウェアは、ステップＳ２で示すように、その都度ハードディスク装置Ｃからレシピライブラリを読み出し、ライブラリ展開テーブルＤに展開処理（Ｓ３）する。
【０００５】
この展開時に次の（１），（２）の条件が内在する。
（１）レシピライブラリの解析／展開処理は時間がかかり、ウェハ処理の開始時間遅れの原因になる。
（２）実際のウェハ処理では、図５で示すように数枚間隔で同じレシピライブラリが使用される場合が多い。
【０００６】
図５で示すように、直前のウェハが異なるレシピライブラリで処理された場合、ライブラリ展開テーブルＤには異なる処理データが格納されていることから、図６で示すように、再度ハードディスク装置Ｃからのレシピライブラリを読み出しと展開処理が必要になる。
【０００７】
すなわち、ウェハ１枚目のレシピライブラリ００１の指示があった場合には、ステップＳ１１にて解析／展開命令を出し、Ｓ１２では解析／展開されたデータを参照して１枚目のウェハ処理が行われる。
また、２枚目のレシピライブラリ００２の指示があった場合には、ステップＳ１３にて解析／展開命令を出し、Ｓ１４では解析／展開されたデータを参照して２枚目のウェハ処理が行われる。
次に、３枚目において、１枚目と同じレシピライブラリ００１の指示があった場合でも、ステップＳ１５にて解析／展開命令を出し、Ｓ１６では解析／展開されたデータを参照して３枚目のウェハ処理が行われる。
これによって、処理時間の遅れが発生している。
【０００８】
したがって、前述した内在する条件（１）（２）の他に、
（３）図７で示すように、複数面のライブラリ展開テーブル１，２を持たすことにより、過去に解析／展開処理を行ったデータを再利用すれば、（１）（２）の問題を緩和させることができる。
【０００９】
しかし、半導体製造装置Ｂ内には、レシピ解析ソフトウェア以外のソフトウェア処理も実行しているため、使用できるメモリには限界がある。
また、複雑なウェハ処理を行うレシピライブラリの解析／展開データを持つライブラリ展開テーブルのサイズが大きくなるため、数枚（３〜４枚）のライブラリ展開テーブルを持つのが限界である。
したがって、（１）〜（３）の条件を踏まえると、実際には複数面（３〜４面）のライブラリ展開テーブルを使用して処理を行うことになるが、この場合においても、どのライブラリ展開テーブルに上書き格納するかの問題が発生する。
【００１０】
すなわち、図８はライブラリ展開テーブルが３面存在している場合を考察したもので、全てのライブラリ展開テーブル１〜３に解析／展開処理を行ったデータが格納されているとき、ウエハ番号６枚目は新しく解析／展開処理を行ったデータをライブラリ展開テーブルの何れかに上書き格納する必要がある。そのときの上書き方法としては、図９，図１０で示す方法が考えられる。
【００１１】
図９は、時間ベースの使用順序に基づいて上書きするもので、その場合、図１１で示すような順序でレシピライブラリが指示されると、ウエハ６枚目の解析／展開データはライブラリ展開テーブル１に格納されることになる。
しかし、ライブラリ展開テーブル１は、直前に使用されていたレシピライブラリ００１の展開テーブルが格納されており、この００１のレシピライブラリは次回においても使用頻度が高いと推測されるにも拘わらず削除されてしまう。
【００１２】
図１０は、ライブラリ展開テーブルをリンク構造にしておき、最後に使用したライブラリ展開テーブルをリンクリストの最初に置くようにしたものである。
この方法は、一番過去に使用されたライブラリ展開テーブルが最後に置れているため、上書きはこのライブラリ展開テーブルとなるが、毎回複雑なリンクの入れ替え処理が発生してしまい、一定の高い処理負荷を伴う。
この方法は、解析／展開データを格納するテーブル数が多い場合には有効と考えられるが、テーブル数が２〜３面しかない場合でも同等の高い処理負荷が発生するため、性能低下の原因となると共に、処理が複雑なので混乱のもとになる可能性が高い等の問題を有している。
【００１３】
本発明の目的は、上記した各課題を除去したライブラリ展開テーブルの制御装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１は、スケジュール装置より指示されたレシピライブラリ番号に基づき、半導体製造装置にて予め記憶されたデータより当該レシピライブラリ読み出してライブラリ展開テーブルに格納しながらウエハ処理を実行す半導体製造装置において、
前記ライブラリ展開テーブルをメモリ上に複数面持たせ、且つ、各ライブラリ展開テーブルの管理データ領域に使用頻度カウンタを設け、カウンタのカウント値に基づいて使用頻度の少ないデータテーブルを検索し、そのデータテーブルに新しい解析／展開データを格納するよう構成したことを特徴としたものである。
【００１５】
本発明の第２は、前記半導体製造装置は、スケジュール装置からレシピライブラリ展開指示あったとき、前記複数面の各ライブラリ展開テーブルの使用頻度カウンタを−１とする歩進手段と、指示されたレシピライブラリがライブラリ展開テーブルに展開されているか否かを判断し、非展開時には前記使用頻度カウンタの最小カウント値ライブラリ展開テーブルにデータを格納した後、使用頻度カウンタを展開テーブル総数の数字に入れ替え、展開時には直接使用頻度カウンタを展開テーブル総数の数字に入れ替えるカウンタ制御手段を設けたことを特徴としたものである。
【００１６】
本発明の第３は、前記ライブラリ展開テーブルの面数は、３面であることを特徴としたものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施形態を示す処理フローで、半導体製造装置Ｂのライブラリ展開テーブルの管理領域に使用頻度カウンタを設け、このカウンタを利用して各ライブラリ展開テーブルの使用頻度を検索する。
【００１８】
図１において、先ず、ステップＳ２０で全てのライブラリ展開テーブルの使用頻度カウンタを０にして初期化し、上位スケジュール装置Ａからのレシピライブラリ展開指示を待つ（Ｓ２１）。ステップＳ２２で、上位スケジュール装置Ａからレシピライブラリ展開指示が出され、その指示としてレシピライブラリ番号が指定される。Ｓ２３では、全てのライブラリ展開テーブルの使用頻度カウンタを−１とした後、Ｓ２４で指定されたレシピライブラリ番号の解析／展開データがライブラリ展開テーブルに格納されているか否かを検索する。
【００１９】
展開されていない場合はＳ２５に移り、指定されたレシピライブラリ番号の解析／展開データがライブラリ展開テーブルに格納されていなかった場合は、使用頻度カウンタ０以下のテーブルを見つけだして新しい展開データを格納する。
一方、Ｓ２４で、指定されたレシピライブラリが既に展開されていた場合にはＳ２６に移る。Ｓ２６では、指定されたレシピライブラリ番号の解析／展開データが格納されているライブラリ展開テーブルの使用頻度カウンタに、ライブラリ展開テーブル総数（例えばライブラリ展開テーブルが３個存在するならば３）を入れ、終了した場合にはＳ２１にもどって待期する。
なお、Ｓ２４〜Ｓ２６のステップは、Ｓ２２において全テーブルにアクセスするため、通常はその時点にて判断できる。
【００２０】
図２と図３は、それぞれ使用頻度カウンタを用いた場合の処理例を示したものである。なお、各図において、使用頻度カウンタの値は各処理が終了した時点での値であるため、新しい解析データを格納するライブラリ展開テーブルの検索は、カウンタ値を−１した結果０以下になる。
【００２１】
図２はライブラリ展開テーブルが３面で、且つ、図５で示した順でレシピライブラリが指定された場合の処理を示したものである。ウエハ１枚目処理時に、００１のレシピライブラリ番号が指定されると、図１でのステップＳ２３に従って使用頻度カウンタは全て−１となるが、Ｓ２４〜Ｓ２６の処理によって００１は先ずライブラリ展開テーブル１に新規格納し、使用頻度カウンタを３とする。
２枚目の処理時の００２の場合も同様にしてライブラリ展開テーブル２に新規格納され、使用頻度カウンタを３とする。一方、他のライブラリ展開テーブル１と３のカウンタには、−１が加算されることにより、テーブル１のカウンタは２となり、テーブル３のカウンタは−２にされる
次に、３枚目の処理時に、１枚目の処理時と同じ００１のレシピライブラリ番号が指定されると、この番号のものは、既にライブラリ展開テーブル１に展開されているのでこのテーブル１がヒットし、ステップＳ２６の処理に基づき使用頻度カウンタを３とする。テーブル２，３のカウンタは、ステップＳ２３の処理によって、それぞれ−１が加算される。
【００２２】
６枚目の処理時にはレシピライブラリ００４が指定される。この００４番号は初めてのレシピライブラリであり、且つ、３面のテーブルには全てレシピライブラリが格納されている。この場合には、現時点の使用頻度カウンタのカウント数を判別し、最も小さい数値のライブラリ展開テーブルに格納する。したがって、ここではライブラリ展開テーブル１のカウント数が最も小さいので、６枚目のウエハのレシピライブラリはテーブル１に新しい展開データとして格納する。
以下同様にして処理される。
【００２３】
図３は、図１１で示すスケジュール装置から指示されたレシピライブラリの場合の対応を示したものである。
１枚から４枚目までの処理は前述した図２の処理と同じであるが、４枚目において、レシピライブラリ００２がライブラリ展開テーブル２に格納されていることを検出したとき、他のテーブルカウンタはそれぞれ−１される。その結果、使用頻度カウンタのカウント値は、テーブル１は０であり、テーブル３は２となっている。
【００２４】
５枚目のウエハ処理時に、１枚目と同じ００１のレシピライブラリが指示されたときには、ライブラリ展開テーブル１がヒットされる。
すなわち、使用頻度の高いレシピライブラリのデータが上書きされて削除される前にヒットされ、そのデータは保存される。
【００２５】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明によれば、半導体製造装置のライブラリ展開テーブルの管理データ領域に使用頻度カウンタを設け、このカウンタ値に基づいて使用頻度の少ないデータテーブルを検索し、そのデータテーブルに新しい解析／展開データを格納するようにしたものである。これによって、
（１）使用頻度の多いレシピライブラリの解析／展開処理の発生率が大幅に下がり、ウエハ処理開始時に時間遅れが発生する確立は減少するものである。
（２）処理時においても複雑なリンク処理がないため、検索や解析／展開処理時の負荷が減り、処理が高速になるものである。
（３）上記（１）（２）の結果、ウエハ１枚当たりにかかる処理時間を減少させることができ、半導体製造装置の時間当たりのウエハ処理枚数を多くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を示す処理フロー。
【図２】本発明の処理説明図。
【図３】本発明の他の処理説明図。
【図４】半導体製造装置のレシビ解析ソフトウェアの処理説明図。
【図５】スケジュール装置から指示されるレシピライブラリの説明図。
【図６】ライブラリ展開テーブルの処理説明図。
【図７】複数面のライブラリ展開テーブルが存在する場合の処理説明図。
【図８】複数面のライブラリ展開テーブルが存在する場合の他の処理説明図。
【図９】ライブラリ展開テーブルの時間ベース使用順序の説明図。
【図１０】ウエハ処理時のライブラリ展開のリンク状態説明図。
【図１１】スケジュール装置から指示されるレシピライブラリの説明図。
【符号の説明】
Ａ…スケジュール装置
Ｂ…半導体製造装置
Ｃ…ハードディスク装置
Ｄ…ライブラリ展開テーブル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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