(57)【要約】【課題】  必要な一次被覆層の直径を確保しながら、光ファイバ線引き速度の増加に容易に対応できる、簡単、安価で、かつ、実効的な光ファイバ被覆装置を可能にする。【解決手段】光ファイバに一次被覆および二次被覆を施すための被覆装置であって、少なくとも１つの加圧された一次被覆材供給源と、光ファイバに一次被覆の第一の層を施すための第一の一次被覆液溜まりと、一次被覆の第一の層の寸法に適合するような第一の一次被覆ランド部を含んだ第一の一次被覆金型と、光ファイバに一次被覆の第二の層を施すための第二の一次被覆液溜まりと、第二の一次被覆ランド部を含んだ第二の一次被覆金型と、加圧された二次被覆材供給源と、光ファイバに二次被覆層を施すための二次被覆液溜まりと、二次被覆の寸法に適合するような二次被覆ランド部を含んだ二次被覆スとを含むことを特徴とする。【選択図】  図１
2004264847.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバに一次被覆および二次被覆を施すための被覆装置であって、
少なくとも１つの加圧された一次被覆材供給源と、
前記光ファイバに前記一次被覆の第一の層を施すための第一の一次被覆液溜まりと、
前記一次被覆の第一の層の寸法に適合するような第一の一次被覆ランド部を含む第一の一次被覆金型と、
前記光ファイバに一次被覆の第二の層を施すための第二の一次被覆液溜まりと、
前記一次被覆の第二の層の寸法に適合するような第二の一次被覆ランド部を含んだ第二の一次被覆金型と、
加圧された二次被覆材供給源と、
前記光ファイバに前記二次被覆の層を施すための二次被覆液溜まりと、
前記二次被覆の層の寸法に適合するような二次被覆ランド部を含む二次被覆金型
とを含むことを特徴とする被覆装置。
【請求項２】
入口ランド部を含んだ入口金型をもち、前記入口ランド部、前記第一の一次被覆ランド部、前記第二の一次被覆ランド部、および、前記二次被覆ランド部は軸方向に実質的に一直線に配置され、かつ、前記第一の一次被覆液溜まりは、前記入口ランド部と前記第一の一次被覆ランド部との間に配置され、前記第二の一次被覆液溜まりは前記第一の一次被覆ランド部と前記第二の一次被覆ランド部との間に配置され、かつ、前記二次被覆液溜まりは前記第二の一次被覆ランド部と前記二次被覆ランド部との間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の被覆装置。
【請求項３】
前記第一の一次被覆液溜まりと前記第二の一次被覆液溜まりとは、単一の加圧された一次被覆材供給源によって供給されることを特徴とする請求項２に記載の被覆装置。
【請求項４】
少なくとも１つの加圧された一次被覆材供給源は、第一および第二の加圧された一次被覆材供給源よりなり、前記第一の加圧材供給源は前記第一の一次被覆液溜まりに材料を供給し、前記第二の加圧材供給源は前記第二の一次被覆液溜まりに材料を供給することを特徴とする請求項２に記載の被覆装置。
【請求項５】
前記第一の一次被覆ランド部は、その長さが約２５から３５ミル（ｍｉｌｓ）の間で、かつ、直径は約１３ミルより小さく、前記第二の一次被覆ランド部の長さは、約１０から２０ミルの間で、かつ、直径は約１１から１７ミルであり、かつ、前記二次被覆ランド部は、その長さが約１０から２０ミルの間で、かつ、直径は約１５から２２ミルであることを特徴とする請求項２に記載の被覆装置。
【請求項６】
前記第一の一次被覆ランド部は、望ましい中心力を生じさせるような寸法と形に作られていることを特徴とする請求項１に記載の被覆装置。
【請求項７】
前記第二の一次被覆ランド部は、前記一次被覆の第二の層が前記第二の一次被覆液溜まりに材料を供給している前記加圧された一次被覆材供給源の圧力によって決められるように、その寸法と形が作られていることを特徴とする請求項１に記載の被覆装置。
【請求項８】
被覆装置を用いて光ファイバに一次被覆および二次被覆を施す方法であって、
光ファイバに一次被覆の第一の層を施し、
前記一次被覆の第一の層の周囲に一次被覆の第二の層を施し、かつ、
前記一次被覆の第二の層の周囲に二次被覆を施す
ことを特徴とする被覆塗布方法。
【請求項９】
前記一次被覆の第一の層の寸法は第一の一次被覆ランド部により決められ、かつ
前記一次被覆の第二の層の寸法は前記一次被覆の第二の層が施されるときの圧力によって調節される
ステップよりなることを特徴とする請求項８に記載の被覆塗布方法。
【請求項１０】
前記二次被覆の寸法は、前記二次被覆が施されるときの圧力を調節することによって決められるステップよりなることを特徴とする請求項９に記載の被覆塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光ファイバの被覆に関するものであり、特に、光ファイバに多層被覆を施すための装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
被覆された光ファイバの製造には、一般に、シリカ・ガラスよりなる光ファイバの線引き、および、光ファイバに保護用の被覆材料を施すことが含まれている。一次被覆層は、一般的には、比較的柔らかい高分子材料よりなり、ファイバが移動することによって発生する損失を防止する。一次被覆層は、また、被覆された光ファイバに加わった外力を吸収し、外力がファイバ・コアに到達することを防止する。二次被覆層は、一般的には、より高い弾性率の高分子材料よりなり、一次被覆層に施される。二次被覆層によって、被覆された光ファイバは、高い強度と耐摩耗性を維持することができる。このようにして被覆された光ファイバは、その全長において、光ファイバが布設中および使用中に受ける応力レベルに耐えるものでなければならない。被覆はまた空気中の粒子が線引きされた光ファイバの表面に衝突し付着して、光ファイバを弱くし、かつ、伝送特性に悪影響を与えることを防止する。線引きされた光ファイバに被覆を施すことは、また、製造中の次工程や布設取り扱い中に発生する表面の磨耗を防止する。  
【０００３】
光ファイバは、一般に、液体塗布プロセスによって被覆される。これには、光ファイバを液体高分子材料の貯蔵器中を通し、次に、液体高分子を紫外線照射のような硬化のための照射にさらし固化する工程を含んでいる。２重塗布プロセスは、タンデム方式でまたは同時方式（同一の塗布具あるいは金型組立体の中）で行われる。タンデム方式では、一次被覆を施し次にこれを硬化し、更に、二次被覆が施され硬化される。同時に２層被覆する方式では、両方の被覆が施された後で被覆の硬化が行われる。いずれの場合でも、一次被覆は、普通、低い弾性率の高分子材料よりなり、二次被覆は、比較的高い弾性率の高分子材料よりなる。記述を簡単にするため、同時に２層の被覆を行う方式のみについて説明する。
【０００４】
製造上の観点からは、与えられた時間内に、品質基準を維持しながら、最大量の被覆された光ファイバを製造することが望ましい。従って、光ファイバの線引き速度を最大化することが、製造工程における主要な目標となる。線引き速度またはファイバ速度を上げると、被覆外径を維持するためには、一次および二次被覆材の流れを上げなければならない。一般的に、同時に２層の被覆を行う方式においては、圧力または二次被覆金型ランド部の直径は比較的小さなトレードオフで増加できるので、二次被覆材の流れは比較的容易に調節できる。想像できるように、二次被覆金型ランド部の直径を調節するよりは、圧力を調節する方がより短時間により少ない労力で行える。従って、二次被覆金型ランド部の直径は、一定範囲の線引き速度に適応できるように設定し、線引き速度の変化に必要な調節は圧力によって行うのが望ましい。このことは、２層被覆装置内での光ファイバの中心化は、一次被覆が施される部分で行われることにより可能となる。光ファイバを中心に保つことを、２層被覆装置内の一次被覆部分で行うことは、高分子一次被覆材が一次被覆ランド部を通過するときに発生する粘弾性力を利用することにより可能となる。この粘弾性力は、一次被覆ランド部の直径を、必要な一次被覆層の直径を維持しながら、できるだけ小さくすることによって最大とすることができる。
【０００５】
一次被覆ランド部を通った一次被覆層の直径は、一次被覆が施される時の圧力、一次被覆ランド部の直径、光ファイバの温度、一次被覆材の温度、および、光ファイバがランド部を通過する時の速度など、いくつかの要因によって影響を受ける。これら要因のうちの１つまたは組合せた要因を調節することは、製造上の観点からは欠点を有している。例えば、一次被覆の塗布圧力を増加させることは、中心を保とうとする力を減少させることになる。同様に、一次被覆の流れ速度は一次被覆ランド部の比較的小さな直径により得られる引張力によって制御される傾向にあるので、一次被覆の流れ速度の増加を、一次被覆の圧力を調節することにより行うのは有効ではない。一次被覆ランド部の直径を大きくすることは、一次被覆材の流れを増加させる。しかしながら、一次被覆ランド部の直径を大きくすると、一次被覆ランド部内に生じる粘弾性力は小さくなり、従って、装置内で光ファイバを中心に維持する力を減少させることになる。中心を保とうとする力が減少すると、しばしば、偏心被覆および欠陥被覆という結果になる。光ファイバと一次被覆の間の引張り力を増加させるには、被覆温度またはファイバ温度を下げることになる。しかしながら、光ファイバおよび一次被覆の温度を下げるには、ヘリウム（しばしば冷却に使用される）の量を増やすことが必要になる。ヘリウムは高価なため、ヘリウム使用量を増やすことは、製造コストを増やすことになる。
【０００６】
２層被覆装置に存在するもう１つの一般的な問題は、光ファイバの線引き速度が上がると、それにつれて、スタート時のスクラップまたは使用不能なファイバも増加することである。これは主に、現存の一次被覆ランド部では、与えられた光ファイバ速度に対して望ましい一次被覆層の直径が得られるように、一次被覆ランド部の寸法が決められていることによる。他の要因（被覆圧力、ファイバ温度、被覆温度、など）が一定であると、一般的な一次被覆ランド部では、設計速度に対して１５％程度の狭い範囲の速度にしか適応できない。例えば、光ファイバ線速２５メータ/秒（ｍ/ｓｅｃ）に設計された一次被覆ランド部では、２１ｍ/ｓｅｃから２５ｍ/ｓｅｃの間のみで良品のファイバを製造できる。この狭い範囲外の速度で線引きされた光ファイバは、許容限界を外れた一次被覆をもつ可能性がある。範囲を広げるためには、光ファイバの温度を下げこれによって一次被覆の流れを増加させるために、既に述べたように、ヘリウムの使用量を増やすことになる。
【特許文献１】米国特許第４，８５１，１６５号
【特許文献２】米国特許第５，３７７，２９２号
【特許文献３】米国特許第５，８８５，６５２号
【特許文献４】米国特許第５，９７６，６１１号
【特許文献５】米国特許第６，０３０，６６４号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上述べてきたことにより、必要な一次被覆層の直径を確保しながら、光ファイバの増加する線引き速度に容易に対応できる、簡単、安価で、かつ、実効的な光ファイバ被覆装置が望まれていることがわかる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、光ファイバに一次被覆および二次被覆を施すための装置および方法を提供するものである。代表的な被覆装置の実施形態では、少なくとも１つの加圧された一次被覆材供給源と、光ファイバに一次被覆の第一の層を施すための第一の一次被覆液溜まりと、一次被覆の第一の層の寸法に適合するような第一の一次被覆ランド部を含んだ第一の一次被覆金型と、光ファイバに一次被覆の第二の層を施すための第二の一次被覆液溜まりと、第二の一次被覆ランド部を含んだ第二の一次被覆金型と、加圧された二次被覆材供給源と、光ファイバに二次被覆層を施すための二次被覆液溜まりと、更に、二次被覆層の寸法に適合するような二次被覆ランド部を含んだ二次被覆金型、とを含んでいる。
【０００９】
光ファイバに一次被覆および二次被覆を施すための被覆装置は、光ファイバに一次被覆および二次被覆を施すための方法と考えることもできる。この観点から、代表的な方法は、次のようなステップに要約できる、即ち、光ファイバに一次被覆の第一の層を施し、一次被覆の第一の層に一次被覆の第二の層を施し、かつ、一次被覆の第二の層に二次被覆層を施す。
【００１０】
本発明に関する分野の技術者が以下の図面および詳細な説明を調査すれば、光ファイバに一次被覆および二次被覆を施すための被覆装置に関する、他のシステム、方法、特徴および長所が明らかになるであろう。したがって、そのような他のシステム、方法、特徴および長所は、本説明に含まれるものであり、本被覆装置の範囲内にあり、本請求項で保護されるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
被覆装置の説明において図面が詳細に参照される。図面における部品の寸法は実物に比例したものではなく、被覆装置の原理を明確に説明するために部分的な拡大が行われている。いくつかの図で、対応する部品に同じような参照番号が付けられている。被覆装置はこれらの図面に関連付けて説明されるが、ここで開示される実施形態は、それに限定されるものではない。特許請求の範囲で明らかにされた被覆装置の意図および範囲に含まれる、全ての代替案、修正案および同等案は、全て包含されるものである。
【００１２】
図１はシステム（１０）を示す。これは、円柱状プリフォーム（１３）から光ファイバ（１１）を線引きし、次に、光ファイバ（１１）に、本発明による多層被覆装置（１００）の望ましい実施形態を使用して被覆を行うシステムである。一般的に、光ファイバ（１１）の製造は、温度２０００℃以上の加熱炉（１２）に保持されたガラス・プリフォーム（１３）を線引きすることにより始まる。クラッド径やファイバ張力などを測定する機器（１６）は、炉温度制御および引っ張りキャプスタンの速度制御（示されてはいない）のためのフィードバックを行う。ファイバ（１１）は、ファイバ（１１）の軸方向の温度プロファイルが好ましい範囲に保たれるように、アニーラ（１４）および冷却装置（１８）のような、いくつかの冷却ステージを通される。ファイバ（１１）が十分に、一般的には８０℃未満まで冷却されると、多層被覆装置（１００）によって２層の液状保護被覆が施される。２層の保護被覆が一般的であるが、多層被覆装置（１００）によって、いくつかの層の保護被覆を施すことも可能である。次に、被覆は、一般的には紫外線炉（２０）によって、硬化され、光ファイバ（３０）は巻取り機（２４）に巻き取られる。
【００１３】
図２は、図１に示されている光ファイバ被覆のための多層被覆装置（１００）の断面図である。分かりやすくするために、被覆されるべき光ファイバが多層被覆装置（１００）に通されているところは示されてない。しかしながら、図６に示されているように、被覆されるべき光ファイバ（１０１）は、入口ランド部（１３２）、第一の一次被覆ランド部（１５２）、第二の一次被覆ランド部（１６６）、および、二次被覆ランド部（１８６）の中心線を通過する。組み立てられたとき、被覆装置（１００）には、金型キャップ（１２０）、入口金型（１３０）、第一の一次被覆金型（１４０）、第二の一次被覆金型（１６０）、二次被覆金型（１８０）、および、ボディ部分（１０２）が含まれている。望ましい実施形態では、ボディ部分（１０２）には、第一の一次被覆金型（１４０）を受け入れ保持するための、傾斜した壁をもった空洞（１０３）が示されている。
【００１４】
ボディ部分（１０２）には、一次被覆材供給源（１０４）、第一の一次被覆孔（１０８）（図７）、第二の一次被覆孔（１１０）、および、二次被覆孔（１１２）（図７）が含まれている。図２および図７に示されているように、ボディ部分（１０２）の第一の一次被覆孔（１０８）は、ボディ部分（１０２）に隣接して、第一の一次被覆金型（１４０）に設けられた環状の溝（１４６）に通じている。環状の溝（１４６）は、第一の一次被覆金型（１４０）に設けられた第一の一次被覆孔（１０８）と液体的につながっている。ボディ部分（１０２）に形成された第二の一次被覆孔（１１０）は、一次被覆材供給源（１０４）および第一の一次被覆金型（１４０）に設けられた対応する第二の一次被覆孔（１１０）と液体的につながっている。図７をみれば分かるが、ボディ部分（１０２）に形成された二次被覆孔（１１２）は、二次被覆材供給源（１０６）および第一の一次被覆金型（１４０）と第二の一次被覆金型（１６０）に設けられた対応する二次被覆孔（１１２）と液体的につながっている。多くの一次被覆材供給源（１０４）および二次被覆材供給源（１０６）が示されているが、被覆装置（１００）の実現においては、１個の一次被覆材供給源（１０４）が、第一の一次被覆孔（１０８）および第二の一次被覆孔（１１０）の両方と液体的につなげられることも考えられる。同様に、１個の二次被覆材供給源（１０６）で本発明を実現することも考えられる。
【００１５】
図３に示されるように、第一の一次被覆金型（１４０）には、第一の空洞（１４２）および第二の空洞（１４４）が含まれている。第一の空洞（１４２）は、入口金型（１３０）（図２）を受けるように配置・形成されている。入口金型（１３０）には、光ファイバが中を通る入口ランド部（１３２）が含まれている。入口ランド部（１３２）は、一次被覆材が上方に流れ第一の一次被覆液溜まり（１４８）から流出することを防ぐ。第二の空洞（１４４）は、第二の一次被覆金型（１６０）および二次被覆金型（１８０）を受けるように配置・形成されている。既に説明したように、第一の一次被覆金型（１４０）には、環状の溝（１４６）および第一の一次被覆孔（１０８）が含まれている。既に示されたように、望ましくは、第一の一次被覆金型（１４０）は、４個の第一の一次被覆孔（１０８）を含んでいる。これらの第一の一次被覆孔（１０８）は、第一の一次被覆液溜まり（１４８）から半径方向に環状の溝（１４６）へと延びており、それぞれ隣接する第一の一次被覆孔（１０８）は直角となっている。第一の一次被覆孔（１０８）をこのように配置することによって、第一の一次被覆液溜まり（１４８）内におかれた光ファイバに加わる横方向の力を最小にするような方法で、一次被覆材を第一の一次被覆液溜まり（１４８）に供給することができる。第一の一次被覆液溜まり（１４８）に隣接して円錐部（１５０）があり、ここで粘弾性力が形成され、これにより光ファイバが中心に保たれる。円錐部（１５０）に隣接して第一の一次被覆ランド部（１５２）がある。第一の一次被覆ランド部（１５２）は、その内で発生した粘弾性力が光ファイバを中心に保つように配置・形成される。第一の一次被覆ランド部（１５２）内で形成された粘弾性力は、光ファイバを、被覆装置（１００）内全体に亘って、中心に維持する。１つの望ましい実施形態では、第一の一次被覆ランド部（１５２）は、約２５から３５mils、望ましくは３０milsの長さをもち、幅は、約７から１５mils、望ましくは１３mils以下である。
【００１６】
第一の一次被覆金型（１４０）の第二の空洞（１４４）は、第二の一次被覆金型（１６０）受けるように配置・形成されている。既に説明したように、第一の一次被覆金型（１４０）には、ボディ部分（１０２）にあって対応する第二の一次被覆孔（１１０）と一直線になるような第二の一次被覆孔（１１０）が含まれている。以下で詳細に説明されるが、第一の一次被覆金型（１４０）の第二の一次被覆孔（１１０）は、更に、第二の一次被覆金型（１６０）に形成された第二の一次被覆入口（１６４）とも結ばれている。同様に、第一の一次被覆金型（１４０）は、ボディ部分（１０２）（図７）にあって対応する二次被覆孔（１１２）と一直線になるような、二次被覆孔（１１２）が含まれている。二次被覆孔（１１２）は、更に、２二被覆入口（１８４）（図１０）とも結ばれている。
【００１７】
図４に示されているように、第二の一次被覆金型（１６０）は第二の一次被覆液溜まり（１６２）、第二の一次被覆入口（１６４）、および、第二の一次被覆ランド部（１６６）を含んでいる。既に述べたように、第二の一次被覆入口（１６４）は、第二の一次被覆孔（１１０）を経由して、一次被覆材供給源（１０４）と液体的につながっている。第二の一次被覆液溜まり（１６２）は、第一の一次被覆液溜まり（１４８）および第一の一次被覆ランド部（１５２）で被覆が施され寸法が決められた光ファイバの第一の一次被覆層の上に、第二の一次被覆を施す。第二の一次被覆ランド部（１６６）の寸法は、第二の一次被覆層の直径が、一次被覆材供給源（１０４）の圧力を制御することにより調節可能となるように決められており、このことについては以下に説明する。中心保持力は、第一の一次被覆ランド部（１５２）内で形成され制御されるので、第二の一次被覆金型（１６０）では、光ファイバを中心に保持することを考える必要はない。１つの望ましい実施形態では、第二の一次被覆ランド部（１６６）は、約１０から２０milsの長さをもち、幅は、約１１から１７milsである。
図５に示されたように、二次被覆金型（１８０）は、二次被覆液溜まり（１８２）、二次被覆入口（１８４）、および、二次被覆ランド部（１８６）を含んでいる。図７で分かるように、二次被覆金型（１８０）は、二次被覆入口（１８４）が第二の一次被覆金型（１６０）の二次被覆孔（１１２）と液体的に連結されるように、第二の一次被覆金型（１６０）内に取付けられる。光ファイバが二次被覆液溜まり（１８２）を通過するとき、光ファイバの第二の一次被覆層の上に二次被覆が施される。次に、光ファイバは、二次被覆層の直径が二次被覆材供給源（１０６）の圧力を制御することにより調節可能となるように寸法が決められた、二次被覆ランド部（１８６）を通過する。１つの望ましい実施形態では、二次被覆ランド部（１８６）は、約１０から２０milsの長さをもち、幅は、約１５から２２milsである。望ましくは、二次被覆金型（１８０）と第二の一次被覆金型（１６０）とは、金型１６０および１８０両方の保持フランジに切られたネジ、および、第一の一次被覆金型（１４０）に配設されたネジ結合できるような据付け穴（示されてはいない）よって、正規の位置に固定される。
【００１８】
図６を参考にして、本発明による被覆装置（１００）を使った光ファイバへの被覆プロセスについて説明する。光ファイバ（１０１）は、入口金型（１３０）を通って、一次被覆材が加圧収容されている第一の一次被覆液溜まり（１４８）に導かれる。入口ランド部（１３２）の直径は、望ましくは、光ファイバ（１０１）がランド部に衝突するのを防ぐに十分であり、かつ、第一の一次被覆液溜まり（１４８）内の加圧された一次被覆材が、入口ランド部（１３２）を通って上方に漏れることがなく効果的に収容されよう十分に狭く選択される。同様に、入口ランド部（１３２）の直径は第一の一次被覆液溜まり（１４８）内、従って、一次被覆層に空気が入るのを防ぐように選ばれる。一次被覆が施されるときの加圧には、入口ランド部（１３２）内の光ファイバを一次被覆材で密封しこれにより気泡が流入するのを防止すること、および、一次被覆材を第一の一次被覆ランド部（１５２）へ押し込み一次被覆層の直径を維持させることの２つの目的がある。前に述べたように、第一の一次被覆ランド部（１５２）は、その中で発生し光ファイバ（１０１）に作用する粘弾性力を最大にして光ファイバ（１０１）を中心に保持するために使われる。
【００１９】
第一の一次被覆ランド部（１５２）を通過すると、光ファイバ（１０１）は第二の一次被覆液溜まり（１６２）に入っていく、ここで一次被覆の第２の層が光ファイバ（１０１）に施される。示されているように、第二の一次被覆液溜まり（１６２）は第一の一次被覆金型（１４０）と第二の一次被覆金型（１６０）の間に第一の一次被覆ランド部（１５２）に隣接して形成される。第二の一次被覆液溜まり（１６２）は、第一の一次被覆液溜まり（１４８）に材料を供給している一次被覆材供給源（１０４）によって材料供給をされてもよいし、または、別の独立した一次被覆材供給源（１０４）によって材料供給されてもよい。被覆装置（１００）を通しての中心保持力は、第一の一次被覆ランド部（１５２）によって維持されており、第二の一次被覆ランド部（１６６）の寸法は、光ファイバ（１０１）に働く中心力への影響は考慮なしに決められる。従って、第二の一次被覆ランド部（１６６）の寸法は、一次被覆の第２の層の直径が、一次被覆が施されているときの圧力によって制御されるように決めればよい。光ファイバ（１０１）への一次被覆の第２の層の塗布は、二次被覆が施されるのと同じような方法で行えばよい。開示された構成の１つの長所は、光ファイバ（１０１）は第一の一次被覆ランド部（１５２）内で発生した粘弾性力によって中心を保持し、一次被覆圧力は、光ファイバ（１０１）に施される一次被覆の最終直径を決めるのに使われることである。一次被覆層の直径が固定されたランド部の直径に関係しないということにより、被覆装置（１００）は、より大きな範囲の線引き速度に対して一定の一次被覆層の直径を得ることができるようになる。
【００２０】
更に、光ファイバ（１０１）に施された一次被覆層の直径が、被覆時の圧力の制御により調節できるので、必要な一次被覆層の直径を維持することが、一次被覆圧の制御という簡単なアルゴリズムで可能となる。一次被覆が施されるときの圧力は、前に述べた一次被覆の流れを制御する要因（ファイバ温度、被覆温度、など）に比べて比較的急速に変化させることができる。従って、与えられた一次被覆金型・ランド部で施される一次被覆層の厚みを光ファイバ冷却器へのヘリウム流量の変化により制御する一般的な被覆装置に比べ、本被覆装置（１００）は線引き速度の変化への追随がはるかに優れており、運転開始中に発生する立ち上げスクラップをより少なくすることができる。一次被覆の圧力を変えても、一次被覆の光ファイバに対する密封効果に関しては最小の影響しか与えない、従って、第一の一次被覆液溜まり（１４８）および第二の一次被覆液溜まり（１６２）は、単一の加圧された一次被覆材供給源（１０４）により供給することができる。
【００２１】
図７は、被覆装置（１００）を図２の６-６面から視た断面図である。図８から図１０は、図７に示されているように、それぞれ、第一の一次被覆金型（１４０）、第二の一次被覆金型（１６０）、および、二次被覆金型（１８０）の詳細な断面図であり、本発明の望ましい実施形態の構造をさらに明らかにするために示したものである。図２から図１０では、一次被覆は２層、二次被覆は１層施された例が示されているが、被覆装置はこの構成に限定されるものではない。例えば、二次被覆が多層に施されたり、または、一次被覆および二次被覆に加えて追加層が施されたりすることも考えられる。
一次被覆および二次被覆を光ファイバに施す被覆装置は、一次被覆および二次被覆を光ファイバに施す方法を提供すること、とも考えられる。この観点から、図１１では、代表的な方法の大まかなステップを以下に要約して示した；
光ファイバに一次被覆の第一の層を施す（ブロック２０２に示されている）、
一次被覆の第一層の周囲に一次被覆の第二の層を施す（ブロック２０４に示されている）、
一次被覆の第二の層の周囲に二次被覆層を施す（ブロック２０６に示されている）。
【００２２】
被覆装置（１００）に関して、以上に説明された実施形態、特に、望ましい実施形態は、単に、実施のための可能な例であり、被覆装置（１００）の原理を明確に説明するために提供されたものである。実質的には、被覆装置（１００）の意図および原理を離れることなく、被覆装置（１００）に関して以上に説明された実施形態に多くの変形や変更が可能である。そのような全ての変形や変更は、本開示の範囲およびに被覆装置（１００）に含まれるものであり、請求項によって保護されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明による望ましい実施形態の被覆装置を含んだ、光ファイバに被覆を施すためのシステム概略図である。
【図２】本発明による被覆装置の望ましい実施形態の断面図である。
【図３】図２に示された第一の一次被覆金型の断面図である。
【図４】図２に示された第二の一次被覆金型の断面図である。
【図５】図２に示された二次被覆金型の断面図である。
【図６】図２に示された被覆装置の一部分の部分断面図である。
【図７】図２に示された被覆装置を６-６の断面から視た断面図である。
【図８】図７に示された第二の一次被覆金型の断面図である。
【図９】図７に示された第二の一次被覆金型の断面図である。
【図１０】図７に示された二次被覆金型の断面図である。
【図１１】本発明による光ファイバ被覆方法の望ましい実施形態を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００２４】
１０  システム
１１  光ファイバ
１２  加熱炉
１３  ガラス・プリフォ−ム
１４  アニーラ
１６  機器
１８  冷却装置
２０  紫外線炉
２４  巻取り機
１００  多層被覆装置
１０１  光ファイバ
１０２  ボディ部分
１０３  空洞
１０４  一次被覆材供給源
１０６  二次被覆材供給源
１０８  第一の一次被覆孔
１１０  第二の一次被覆孔
１１２  二次被覆孔
１２０  金型キャップ
１３０  入口金型
１３２  入口ランド部
１４０  第一の一次被覆金型
１４２  第一の空洞
１４４  第二の空洞
１４６  環状の溝
１４８  第一の一次被覆液溜まり
１５０  円錐部
１５２  第一の一次被覆ランド部
１６０  第二の一次被覆金型
１６２  第二の一次被覆液溜まり
１６４  第二の一次被覆入口
１６６  第二の一次被覆ランド部
１６８  保持フランジ
１８０  二次被覆金型
１８２  二次被覆液溜まり
１８４  二次被覆入口
１８６  二次被覆ランド部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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