(57)【要約】【課題】  グレーティングファイバを基板に接着固定する際、グレーティングファイバの反射中心波長の所望の値からのずれを防止することを目的とする。【解決手段】  グレーティングファイバ２をヒータ基板４に固定する際、薄膜ヒータ３に近接させて配置し、グレーティングファイバ２に沿って接着剤５を上方から線状に微量塗布し、重力及び毛細管現象によって接着剤５をグレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の感激に浸透させることにより、光ファイバ５と温度制御機構３との間の接着層を極めて薄くする。【選択図】        図3
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
上記基板上に配列された複数のヒータエレメントと、
軸線方向が上記ヒータエレメントの配列方向に沿って配置され、上記夫々のヒータエレメントと間隙を有し上記基板上に近接して接着固定されるグレーティングファイバとを備え、
上記グレーティングファイバの外周に皮膜を形成するように接着剤が塗布されるとともに、当該接着剤が上記ヒータエレメントとグレーティングファイバの間隙を埋めるように充填されたことを特徴とするファイバ加熱用デバイス。
【請求項２】
上記ヒータエレメントの上面と上記グレーティングファイバの下端の間隔を、１５μｍ以下に近接させたことを特徴とする請求項１記載のファイバ加熱用デバイス。
【請求項３】
上記基板は、上記ヒータエレメントの配列に沿った両側もしくは片側に設けられ、長手方向が上記ヒータエレメントの配列方向を向くように配置された突起を備えたことを特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載のファイバ加熱用デバイス。
【請求項４】
上記夫々のヒータエレメントは複数の導体パッドの夫々に接続され、上記突起は当該導体パッドと該接続されるヒータエレメントとの間に配置されたことを特徴とする請求項３記載のファイバ加熱用デバイス。
【請求項５】
上記突起の高さは、上記グレーティングファイバの下端よりも高いことを特徴とする請求項３もしくは請求項４に記載のファイバ加熱用デバイス。
【請求項６】
上記接着剤は、硬化前の粘度が、２３℃で０．１〜２０Ｐａ・ｓの接着剤を用いたことを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のファイバ加熱用デバイス。
【請求項７】
上記接着剤の主成分は、シリコーン系樹脂であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のファイバ加熱用デバイス。
【請求項８】
基板上に複数のヒータエレメントを配列し、
軸線方向が上記ヒータエレメントの配列方向に沿うように、上記基板上の夫々のヒータエレメントと間隙を有するようにグレーティングファイバを近接させて接着固定するファイバ加熱用デバイスの製造方法であって、
接着剤を、上記グレーティングファイバの軸線に沿って上記グレーティングファイバの上方に滴下もしくは塗布し、当該接着剤が上記グレーティングファイバの外周を伝って、上記ヒータエレメントとグレーティングファイバの間隙に浸透するように接着固定したことを特徴とするファイバ加熱用デバイスの製造方法。
【請求項９】
接着剤の滴下もしくは塗布時に、ヒータエレメントとグレーティングファイバとが間隙を有した状態で、当該グレーティングファイバの軸方向の応力が１．２ＭＰａ以下となるようにグレーティングファイバの両端を固定することを特徴とする請求項８記載のファイバ加熱用デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回折格子付きの光ファイバ（以下、グレーティングファイバ）と、グレーティングファイバを加熱するヒータとを備えたファイバ加熱用デバイス、およびその製造方法に関するものである。このファイバ加熱用デバイスは、例えば光通信用途の分散補償器に利用される。
【背景技術】
【０００２】
従来のファイバ加熱用デバイスとして、所定波長の光信号をブラッグ反射するグレーティングファイバに対してヒータを近接させて配置し、グレーティングを加熱することによって、光信号の波長分散を補償する分散補償器が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような分散補償器では、ヒータの加熱によりグレーティングに所望の温度分布を付与してグレーティングの部分的な屈折率を変化させ、グレーティングピッチに夫々対応する波長の反射光の遅延時間を変化させる。この際、グレーティングファイバをヒータに対して正確に位置決め固定し、グレーティングの温度分布のばらつきを防ぐ必要がある。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１８２１７０号公報
【０００５】
分散補償器を構成するヒータとグレーティングファイバを固定するための構造として、特許文献１には、石英基板に溝を設けて溝内にグレーティングファイバを収納し、基板の溝の上方に複数のヒータを設ける構造が示されている。また、同文献中には、他の固定構造として、ヒータとグレーティングファイバとを石英ガラスで被覆して、基板平面上に固定する構造も記載されている（例えば、特許文献１の段落番号２３、５０、および図２、図１５参照）。
【０００６】
このようなグレーティングファイバを石英基板の溝内に収容する、或いは石英ガラスで被覆する固定構造を用いた場合、グレーティングファイバ周囲の熱容量が大きくなる。この熱容量が大きくなると、グレーティングファイバに温度分布を与えるためのヒータの消費電力が大きくなる、或いはグレーティングファイバの温度制御の精度が劣化するという問題があった。
【０００７】
一方、グレーティングファイバの周囲を石英の保持部材で覆わずに、基板上に設けたヒータにグレーティングファイバを近接して配置することによって、グレーティングファイバ周囲の熱容量を小さくすることができる（例えば、特許文献１の図１４参照）。この場合、基板に設けられたヒータ上に接着用のポッティング剤を塗布し、グレーティングファイバの周囲をポッティング剤で覆って、グレーティングファイバをヒータ上に接着固定する。しかし、この接着固定の場合、ポッティング剤の硬化収縮や残留する気泡の存在によって、グレーティングファイバと各ヒータとの距離にばらつきが生じたり、グレーティングファイバに不要な張力変化を与えて、グレーティングの反射中心波長がずれてしまうという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来のファイバ加熱用デバイスとして、グレーティングファイバの周囲を石英部材で覆う固定構造が知られていたが、このような構造はグレーティングファイバ周囲の熱容量を大きくしてしまうという問題があった。また、グレーティングファイバをヒータの搭載基板上に接着固定する際、接着剤の硬化収縮や残留気泡によって、グレーティングの反射中心波長がずれてしまうという問題があった。
【０００９】
本発明はこのような問題点を解決するためになされたもので、グレーティングファイバをヒータ上に固定する際、グレーティングファイバ周囲の熱容量をより小さくするとともに、接着固定に伴なうグレーティングファイバの反射中心波長のずれを抑圧することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係るファイバ加熱用デバイスは、基板と、上記基板上に配列された複数のヒータエレメントと、軸線方向が上記ヒータエレメントの配列方向に沿って配置され、上記夫々のヒータエレメントと間隙を有して上記基板上に近接して接着固定されるグレーティングファイバとを備え、上記グレーティングファイバの外周に皮膜を形成するように接着剤を塗布するとともに、当該接着剤を、上記ヒータエレメントとグレーティングファイバの間隙を埋めるように充填したものである。
【発明の効果】
【００１１】
以上説明したように本発明は、グレーティングファイバの外周に皮膜を形成するように接着剤を塗布するとともに、当該接着剤が上記ヒータエレメントとグレーティングファイバの近接した間隙を埋めるように充填したので、グレーティングファイバとヒータ搭載基板との間に隙間が出来ることを防ぎ、固定のための部材によりグレーティングファイバ周囲の熱容量が大きくなることや、グレーティングファイバの反射中心波長のずれを防止でき、光学特性の高いデバイスを得る効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
実施の形態１．
図１乃至図３は、本発明の実施形態１に係るファイバ加熱用デバイスを示すものであり、図１はファイバ加熱用デバイスの側面図、図２はファイバ加熱用デバイスのヒータ基板に設けられた薄膜ヒータの配列パターンを示す上面図である。同図中、グレーティングファイバ２、接着剤５は想像線で示している。図３はグレーティングファイバの接着構造の詳細を示す断面図である。この実施の形態では、特に光通信用途として分散補償器に用いられるファイバ加熱用デバイスを例に説明する。
【００１３】
図１において、被覆ファイバ１は、コアとクラッドから成る光ファイバの周囲を、湿気防止用の外皮で覆って成る。光ファイバ２０は所定の長さにわたって外皮が除去されている。光ファイバ２０には、ブラッググレーティングの形成されたコア（グレーティングファイバ）２が設けられている。ヒータ搭載用の基板（ヒータ基板）４は、長方形板状の石英ガラスから成る。ヒータ基板４の材質は、石英ガラス（ＳｉＯ２：熱伝導率１．３８Ｗ／（Ｋ・ｍ））、や石英（熱伝導率６〜１１Ｗ／（Ｋ・ｍ））等が望ましいが、他の材料であっても良く、好ましくは熱伝導率が４０Ｗ／（Ｋ・ｍ）以下の材料であることが望ましい。
【００１４】
ヒータ基板４の上面には、夫々ヒータエレメントを構成する複数の薄膜ヒータ３が蒸着される。複数の薄膜ヒータ３の上面にはグレーティングファイバ２が配置され、接着剤５に覆われて固定される。クランプ６はヒータ基板４の長手方向（光ファイバ２０）を挟んでその両側に少なくとも２つ配置され、被覆ファイバ１を保持する。なお、このクランプ６はグレーティングファイバ２の固着時に使用されるが、グレーティングファイバ２が固着された後は、取り外しても良い。
【００１５】
図２に示すように、各々の薄膜ヒータ３は長手方向が基板の長手方向に沿うように一列に配置され、互いに僅かな間隔を空けて近接して配列されている。薄膜ヒータ３の一例として、ヒータ基板４の長手方向（グレーティングファイバ２の軸線方向）の長さが３．９５ｍｍ、幅が０．０６ｍｍ、厚さが０．５μｍの薄膜クロム（Ｃｒ）を用いると良い。この場合、薄膜ヒータ３は、間隔を０．０５ｍｍづつ空けて３２本配置すると良い。各々の薄膜ヒータ３の両端には、基板の短手方向に走向するように配置された導体線路３１（３１ａ、３１ｂ）が夫々接続されている。
【００１６】
薄膜ヒータ３（３ａ、３ｂ…）の一方端に、一端が接続された導体線路３１ｂの他端は、共通電極３３に接続され、後述するように一対の薄膜ヒータ３が直列に接続される。共通電極３３は、その長手方向がヒータ基板４の長手方向と一致するようにヒータ基板４上面に設けられる。複数の個別の電極３２はヒータ基板４の長手方向に沿って配設され、ボンディングワイヤの接合用の導体パッドを形成している。電極３２は導体線路３１ａの一端に接続され、導体線路３１ａの他端は薄膜ヒータ３の他方端に接続される。すなわち、薄膜ヒータ３を挟んでその両側に導体線路３１ａ、３１ｂが夫々設けられ、それに対応して、薄膜ヒータ３を挟んでその両側に電極３２と共通電極３３が設けられる。グレーティングファイバ２は、その軸線がヒータ上に重なるように配置されている。電極３２および共通電極３３の厚みは１〜２０μｍが望ましく、その上面が薄膜ヒータ３の上面との間に段差を成すように厚みが設定される。
なお、共通電極３３は、電極３２のように個別の電極であっても良い。この場合、夫々の電極３２が個別に、図示しないヒータ用の電流供給回路に接続されて、夫々の薄膜ヒータ３への供給電流が印加される。
【００１７】
ヒータ基板４の電極３２側に隣接して基板５０が設けられる。基板５０上面には導体線路５１（５１ａ、５１ｂ…）が配線されて、導体線路５１は図示しないヒータ用の電流供給回路に接続されている。ボンディングワイヤ５２（５２ａ、５２ｂ…）を介して電極３２（３２ａ、３２ｂ…）と導体線路５１が接続される。ここで、例えば導体線路５１ａがボンディングワイヤ５２ａを介して電極３２ａに接続され、導体線路５１ｂがボンディングワイヤ５２ｂを介して電極３２ｂに接続される。これによって、導体線路３１ａおよび導体線路３１ｂを介在させて、導体線路５１ａ、ボンディングワイヤ５２ａ、電極３２ａ、薄膜ヒータ３ａ、および共通電極３３が接続され、薄膜ヒータ３ａへの供給電流が電極３２ａから共通電極３３に流れる。同様に、他の導体線路３１ａおよび導体線路３１ｂを介在させて、導体線路５１ｂ、ボンディングワイヤ５２ｂ、電極３２ｂ、薄膜ヒータ３ｂ、および共通電極３３が接続され、薄膜ヒータ３ｂへの供給電流が電極３２ｂから共通電極３３に流れる。
【００１８】
図３に示すように、グレーティングファイバ２の下端は、薄膜ヒータ３との間に間隙ｄを有して近接して配置され、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間隙には接着剤が充填されて固定される。グレーティングファイバ２の外周全面には、接着剤５が皮膜を形成するように固着し、グレーティングファイバ２は接着剤５によって覆われる。グレーティングファイバ２の下側で接着剤５が末広がりに固着し、この広がった接着剤は電極３２および電極３３の段差によってせき止められて、ヒータ基板上の電極３２と電極３３の間に存在する。なお、接着剤５は多少なりとも電極３２間を通過して、ヒータ基板４の端縁付近まで流れて固着しても良い。
【００１９】
次に、この実施の形態１によるファイバ加熱用デバイスの動作について説明する。
被覆ファイバ１の端部（入力端）から入力された光信号は、グレーティングファイバ２の夫々のグレーティングにおける、ブラッグ波長に対応した光の反射点でブラッグ反射される。グレーティングファイバ２で反射された光信号は被覆ファイバ１の入出力端から出力される。
【００２０】
グレーティングファイバ２のグレーティング形状は、間隔を光ファイバ２０の長手方向に線形に変化させたチャープドグレーティングとし、このときのブラッグ波長は光ファイバの長手方向に対して１次関数的に分布する。これは各ブラッグ波長に対応したグレーティングの光の反射点が、グレーティングファイバの長手方向に１次関数的に分布していることと等価であり、その反射点までの距離に応じて遅延時間が決まるため、遅延量は波長の１次関数となる。この原理を利用して、伝送路中の遅延時間が小さい波長には、グレーティング中の反射点までの距離を長く与え、遅延時間が大きい波長には、グレーティング中の反射点までの距離を短く与え、その間の波長域には遅延量を線形に与えることで、グレーティングで反射された信号光の、各波長における分散量を一定にすることができる。
【００２１】
光ファイバの屈折率は温度の関数でもあるため、グレーティングの等価屈折率も温度の関数になる。そのため、各薄膜ヒータ３への供給電流を適宜調整することにより、グレーティングファイバ２のグレーティングの温度を変化させて等価屈折率を変えることで、グレーティング中の反射点までの距離を制御することができる。この原理により、グレーティング部に温度差ΔＴとなる温度勾配を与えると、グレーティング中の反射点までの距離が温度に対して線形に変化するため分散量が変わる。グレーティングに温度勾配を与えて温度差ΔＴを可変することで分散量の制御ができるため、波長の分散量に応じた分散補償を実現できる。
【００２２】
なお、可変の分散補償における理想的な温度勾配は、グレーティング全長において温度変化率が一定の直線勾配となることである。このため、薄膜ヒータ３はヒータ面積が小さく、ヒータ数量が多く、ヒータ間の隙間が極小であるほど、直接近似の温度勾配を得ることが可能となる。また、各ヒータの発熱量と各ヒータ位置での光ファイバ温度の関係が、グレーティング全長において均一であることが重要であり、ばらつきがある場合には分散補償精度の低下につながる。
【００２３】
例えば、位置の異なる薄膜ヒータ３間で、グレーティングファイバ２の温度が均一な温度勾配（一定の傾きの温度勾配）となるように、各薄膜ヒータ３に対して適宜所望の発熱量を与える場合を考える。この際、各薄膜ヒータ３の発熱量に応じて各薄膜ヒータ３の位置でのグレーティングファイバ２の温度分布がばらつくことによって、グレーティングファイバ２の温度分布が非線形なものとなり、所望の分散量を得ることができなくなる。特に、各薄膜ヒータ３の位置とグレーティングファイバ２との距離が不均一にばらつく場合、各薄膜ヒータ３の発熱量に応じたグレーティングファイバ２の位置がずれ、グレーティングファイバ２の温度分布がばらついてしまう。薄膜ヒータ３は、ヒータ基板４上に精度良く形成することが可能であるため、薄膜ヒータ３に対するグレーティングファイバ２の位置を正確に決めて固定する必要がある。
【００２４】
ここで、グレーティングファイバ２の接着固定方法について、詳細に説明する。
まず、被覆ファイバ１をクランプ６で保持する。次に、ヒータ基板４上に形成された薄膜ヒータ３の上方でグレーティングファイバ２が薄膜ヒータ３に近接するように、クランプ６を位置調整する。このとき、グレーティングファイバ２の下端と薄膜ヒータ３との距離（間隙ｄ）は、１５μｍ以下に近接するように調整するのが好ましい。これによって、薄膜ヒータ３の消費電力を小さくすることができ、グレーティングファイバ２の温度分布を１℃以下に抑えることが可能となって、光学特性の劣化を防ぐことができる。また、薄膜ヒータ３の軸線がグレーティングファイバ２の軸線と一致するように、クランプ６に対するヒータ基板４の位置を移動させて、ヒータ基板４の位置を設定する。この際、グレーティングファイバ２を精密に位置決めするために、グレーティングファイバ２に加わる張力を、例えば１．５ｇｆ以下とするのが望ましい。これによって、グレーティングファイバ２の位置決めの精度が向上し、接着固定後の反射中心波長のずれを０．０２ｎｍ以下に抑えることができる。
【００２５】
次に、例えばディスペンサを用いて接着剤５を吐出させ、グレーティングファイバ２の軸線に沿って、接着剤５をグレーティングファイバ２の上方から線状に滴下もしくは塗布する。グレーティングファイバ２に滴下もしくは塗布された接着剤５は、重力によってグレーティングファイバ２の外周を伝わって流れ落ち、グレーティングファイバ２の下部に至る。この際、接着剤５を滴下する量は、近接配置されたグレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間隙に、接着剤５が浸透するに足りる程度微量に塗布する。次に、接着剤５の重力およびグレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の僅かな間隙ｄによって生じる毛細管現象によって、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間に接着剤５が浸透する。接着剤５は、主成分がシリコーン系樹脂である接着剤を用いると良い。これによって、浸透するに適度な粘性を有するとともに、接着剤５を多く塗布した場合でも接着剤５の硬化収縮によってグレーティングファイバ２に加わる応力を小さくでき、応力による反射中心波長ずれを抑え光学特性の劣化を防ぐことができる。
【００２６】
グレーティングファイバ２とヒータ３の間隙に接着剤５が浸透する時、グレーティングファイバ２は薄膜ヒータ３に吸い寄せられ、接着層が十分に薄くなるとともに、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３との間の空気は接着剤５によって追い出される。これによって、接着層に気泡が残らずに、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間隙に接着剤５を浸透させることができる。その後、接着剤５を加熱等により硬化させ、グレーティングファイバ２をヒータ基板４に確実に固定する。
【００２７】
この際、接着剤５によりグレーティングファイバ２が薄膜ヒータ３に引き寄せられて接着層が薄くなるので、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３を押圧したり、グレーティングファイバ２に加重を与えることなく接着することができる。これによって、グレーティングファイバ２に張力を加えることを防止できる。加えて、接着剤５を微量に使用しているため、接着剤５の硬化収縮によるグレーティングファイバ２への過剰な張力の印加を防止することができる。また、製造時にグレーティングファイバ２に張力が加わり、反射中心波長が所望の値からずれることを抑制できる。
【００２８】
さらに、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間の接着層が薄いので、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間の熱抵抗を低くすることができる。また、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３との接合部の熱容量を小さくすることができるため、薄膜ヒータ３によるグレーティングファイバ２の温度制御を精密に行うことができる。さらに、反射中心波長が所望の値からずれることも抑制できる。さらに、気泡のない接着層を形成できるので、グレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間の熱伝導むらを防ぐこともできる。これによって、薄膜ヒータ３によるグレーティングファイバ２の温度制御が精密に行え、反射中心波長が所望の値からずれることを抑制することが可能となる。
【００２９】
なお、毛細管現象によってグレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間に接着剤５を浸透させる際、接着剤５が十分に浸透するとともに接着層を所望の厚さとするには、グレーティングファイバ２又はヒータ基板４の予備加熱などの温度制御が必要である。このため、一実施例として、硬化前の粘度が２３℃であって、０．１〜２０Ｐａ・ｓである接着剤を用いるのが望ましい。これによって、グレーティングファイバ２とヒータ基板４の間に、接着剤を浸透させる工程を常温で行うことができ、予備加熱が不要となり、ファイバ加熱用デバイスを安価に製造することができる。
【００３０】
実施の形態２．
図４および図５は本発明の実施の形態２に係るファイバ加熱用デバイスを示すもので、図４はファイバ加熱用デバイスの上面図である。同図中、グレーティングファイバ２、接着剤５は想像線で示している。図５はファイバ加熱用デバイスの接着固定の詳細を示す断面図である。図において、実施の形態１の図１乃至図３と同一の符号のものは同一相当のものを示す。
【００３１】
図において、突出部９は薄膜ヒータ３と電極３２の間に形成される。突出部９の高さはグレーティングファイバ２の下端と同じ高さか、それよりも高いことが望ましい。突出部９は夫々の電極３２間が短絡しないように絶縁部材を用いて形成され、グレーティングファイバ２を固定する前に、ヒータ基板４上に接着剤で付着させ固定しておく。なお、その他の構成および動作については、実施形態１の図１乃至図３と同様である。
【００３２】
この実施の形態においては、接着剤５によるグレーティングファイバ２の固定に特徴がある。まず、実施の形態１と同様に、グレーティングファイバ２を位置決めして被覆ファイバ１をクランプ６で固定した後、ディスペンサを用いて接着剤５をグレーティングファイバ２の上に滴下もしくは塗布し、グレーティングファイバ２に沿って線状に接着剤５を付着させる。グレーティングファイバ２に付着した接着剤は、重力によってグレーティングファイバ２の外周を流れ、毛細管現象によってグレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間隙ｄに浸透する。接着剤５はその間隙ｄに充填されるに足りる程度微量に塗布する。接着剤５をグレーティングファイバ２と薄膜ヒータ３の間に浸透させる際に、接着剤５はヒータ基板４の表面、および薄膜ヒータ３と電極３２および電極３３を接続するパターンを伝って流れる。
【００３３】
ここで、導体パッドである電極３２と、導体線路５１とは、ボンディングワイヤ５２によって接続される。グレーティングファイバ２に付着した接着剤５が電極３２上面に流れると、電極３２に接合されたボンディングワイヤ５２の接合強度を低下させることになる。しかし、本実施形態では、薄膜ヒータ３と電極３２の間に形成された突出部９の存在によって、接着剤５がせき止められる。このため、電極３２上面に接着剤５が付着することを防止でき、ボンディングワイヤ５２の接合強度を安定させることが可能となる。
【００３４】
なお、共通電極３３はボンディングワイヤが接続されていないので、共通電極３３と薄膜ヒータ３との間には突出部９を設けなくても良い。
【００３５】
実施の形態３．
図６および図７は本発明の実施の形態２に係るファイバ加熱用デバイスを示すもので、図６はファイバ加熱用デバイスの上面図である。同図中、グレーティングファイバ２、接着剤５は想像線で示している。図７はファイバ加熱用デバイスの接着固定の詳細を示す断面図である。図６において、薄膜ヒータ３および電極３２の詳細や、導体線路３１は図示省略している。また、実施の形態１の図１乃至図３と同一の符号のものは同一相当のものを示す。
【００３６】
図において、突起７０はヒータ基板４上に薄膜ヒータ３と並行に形成されており、その配列方向に沿ってグレーティングファイバ２の両側に、全部で２本配置されている。グレーティングファイバ２は２本の突起７０の間に挟まれ、グレーティングファイバ２の下面が２本の突起７０で形成される溝に接触して位置決めされるように配置される。グレーティングファイバ２の下端と薄膜ヒータ３との間に間隙ｄが設けられる。この際、毛細管現象により接着剤５が浸透するように、突起の高さｄ２は間隙ｄよりも高くなるように設定されている。また、電極３２および電極３３の厚みが厚すぎると、蒸着時にヒータ基板４から電極３２および電極３３が剥離してしまうので、電極３２および電極３３の高さは突起７０の高さよりも低いことがより望ましい。
【００３７】
上述した実施形態１、２においては、ヒータ基板４上に形成されたヒータ３の上に、グレーティングファイバ２をヒータ３に近接するように精密に位置決めしていた。このため、クランプ６とヒータ基板４との位置調整による位置決め作業に時間を要していた。しかし、本実施の形態３では、グレーティングファイバ２を２本の突起７０の間に沿わせて載せるだけで、グレーティングファイバ２は薄膜ヒータ３と間隙を有して近接するように位置決めされる。これによって、グレーティングファイバ２の位置決め作業が容易となる。
【００３８】
なお、上述した実施の形態１乃至３は、何れも光通信用途として、特に分散補償器に用いられるファイバ加熱用デバイスに適用した場合について説明した。しかし、各実施の形態で説明した発明は、光ファイバと基板との接着固定に際して、両者の配置上の位置精度を保ったまま固定できるものであれば、他の用途にも利用できる。例えば、グレーティングファイバ以外の光ファイバ（例えば偏波保存ファイバ）と、ヒータ基板以外の基板（例えば、ペルチェからの伝熱によって加熱または冷却される温度制御基板）との接着固定構造に適用しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施の形態１のファイバ加熱用デバイスを示す側面図である。
【図２】本発明の実施の形態１のファイバ加熱用デバイスを示す上面図である。
【図３】本発明の実施の形態２のファイバ加熱用デバイスを示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態２のファイバ加熱用デバイスを示す上面図である。
【図５】本発明の実施の形態２のファイバ加熱用デバイスを示す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態３のファイバ加熱用デバイスを示す上面図である。
【図７】本発明の実施の形態３のファイバ加熱用デバイスを示す断面図である。
【符号の説明】
【００４０】
２  グレーティングファイバ、３  薄膜ヒータ（ヒータエレメント）、４  ヒータ基板、５  接着剤、６  クランプ、３２  電極（導体パッド）、３３  共通電極、９  突起、７０  突起。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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