(57)【要約】【課題】　炭化水素系溶剤やシリコーン系溶剤からなる非水系洗浄液を用いて被洗浄物の乾燥を促進することにより、シミの発生を防止することが可能な洗浄方法を提供する。【解決手段】　洗浄を行う少なくとも最終槽に対して、引火点が７０℃以上の非水系洗浄液を４０〜６０℃に加温して用いると共に、被洗浄物を１０ｍｍ／ｓｅｃ以下の速度で前記最終槽から引き上げる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄を行う少なくとも最終槽に対して、引火点が７０℃以上の非水系洗浄液を４０〜６０℃に加温して用いると共に、被洗浄物を１０ｍｍ／ｓｅｃ以下の速度で前記最終槽から引き上げることを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】
３０ＫＨｚ以下の周波数の超音波を付与しながら、４〜１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で被洗浄物を揺動させて洗浄することを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、炭化水素系溶剤、シリコーン系溶剤からなる非水系洗浄液を使用して光学部品や金属部品を洗浄する洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　光学硝子レンズ、光学硝子プリズム等の材料を研削、研磨した後においては、加工後の被加工物に付着している研削油や研磨材及び水等を洗浄する必要がある。この洗浄方法としては、従来から、フロンや１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン等の塩素系有機溶剤が用いられてきた。
【０００３】
　また、近年の環境対策から、塩素系有機溶剤よりも環境に対する安全性の高い洗浄液として炭化水素系溶剤やシリコーン系溶剤等の非水系洗浄液や水に界面活性剤を数パーセント添加した水系洗浄液等が用いられている。例えば、特開平６−２９６９４１号公報には、一般式ＣｎＨ２ｎ＋２で表される炭化水素系溶剤として、イソパラフィン系溶剤を用いた洗浄液で洗浄ラインを構成し、各洗浄槽で浸漬、噴流、シャワー洗浄等により洗浄することが記載されている。また、特開平６−２９３８９８号公報には、炭素数１０〜１３の飽和脂肪族炭化水素にフェノール類を含有させ、熱に対する安定性を向上させた洗浄組成物を用いて洗浄を行うことが記載されている。
【特許文献１】特開平６−２９６９４１号公報
【特許文献２】特開平６−２９３８９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
　しかしながら、フロンや１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤は非水溶性の切削油等の汚れは洗浄できるが、非水溶性のため、同時に水溶性切削油や水に分散させた研磨材等の汚れは洗浄できない。また、フロンは、成層圏のオゾン層を破壊する物質として使用が規制されている。更に、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン等の塩素系有機溶剤は、人体に対して毒性が高く、労働安全衛生法、有機溶剤中毒予防規則の規制を受け、これを取り扱う作業の危険性及び煩雑さを考慮すると洗浄液として用いることは好ましくない。また、地下水汚染等の環境問題もあり、安全性の高い洗浄液への転換が求められている。
【０００５】
　これに対して、特開平６−２９６９４１号公報や特開平６−２９３８９８号公報で提案されている炭化水素系溶剤で構成する洗浄ラインは、安全性が高いと共に、洗浄ラインの槽数が少なく、水を使用しないため排水処理施設が不要であることや溶剤自体のコストが安い等の利点が多い。
【０００６】
　しかし、被洗浄物に付着している油性（非水溶性）の汚れは炭化水素系溶剤によって、ある程度は洗浄できるが、水溶性切削油や水に分散させて用いられている研磨材等の水系汚れは、炭化水素系溶剤自体が非水溶性のため、汚れが凝集して、洗浄除去することができない。同様にシリコーン系溶剤等の非水系洗浄液でも水系の汚れは洗浄することができない。
【０００７】
　また、水系汚れを洗浄するため、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤を用いることもあるが、アルコール系溶剤は、汚れに対する溶解力が弱かったり、引火点が低く安全性に劣っている。さらに、洗浄槽数が多い場合や槽容量自体が大きい場合には、その使用量が制限される等の問題を有している。
【０００８】
一方、水系の汚れを洗浄するため、水に界面活性剤を数パーセント添加した水系洗浄液を用いる場合もあるが、この水系洗浄液で洗浄した後には、水でリンスする必要があるため、洗浄ラインの槽数が多くなったり、リンスした水の排水処理が必要となり、特別な排水設備が必要となる等の問題があり、容易に導入できない。また、光学硝子レンズや光学硝子プリズムでは、耐水性の悪い硝材が多用されており、これらの硝材を水や水系洗浄液に浸漬すると「ヤケ」や「潜傷」などの不具合が発生する。更に、プラスチックレンズでは吸水性のある材料が多いため、この様な水系洗浄液による洗浄は不可能である。
【０００９】
　本発明はこのような従来の問題点を考慮してなされたものであり、水や水系洗浄液を使用せず、炭化水素系溶剤やシリコーン系溶剤からなる非水系洗浄液を用いても、研磨材、微粒子等の水系汚れも洗浄できる洗浄方法を提供することを目的とする。特に、本発明は、被洗浄物の乾燥を促進することにより、シミの発生を防止することが可能な洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
　上記目的を達成するため、請求項１の発明の洗浄方法は、洗浄を行う少なくとも最終槽に対して、引火点が７０℃以上の非水系洗浄液を４０〜６０℃に加温して用いると共に、被洗浄物を１０ｍｍ／ｓｅｃ以下の速度で前記最終槽から引き上げることを特徴とする。
【００１１】
　請求項１の発明では、非水系洗浄液によって洗浄ラインが構成されるため、排水処理が不要となり、ガラス等の光学部品を洗浄しても、ヤケ、潜傷が生じないメリットがある。又、引火点が７０℃以上の非水系洗浄液を用いるため、引火点が高く、難燃性であり、取扱い上の安全性が向上する。なお、引火点が７０℃未満では、加温した場合の引火性が高くなって危険となる。
【００１２】
　また、請求項１の発明では、非水系洗浄液を４０〜６０℃に加温して用いると共に、被洗浄物の引き上げ速度を１０ｍｍ／ｓｅｃ以下とするものである。非水系洗浄液の加温温度が４０℃未満の場合には、乾燥を促進することができず、シミが発生する。加温温度が６０℃を越える場合には、上述した引火点との関係で引火性が高くなる。引き上げ速度が上述の値よりも越える場合、乾燥を促進できず、シミが発生する。
【００１３】
　請求項２の発明は、請求項１記載の洗浄方法であって、３０ＫＨｚ以下の周波数の超音波を付与しながら、４〜１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で被洗浄物を揺動させて洗浄することを特徴とする。
【００１４】
　請求項２のような物理力を付与することで、高い洗浄効果を得ることができる。この場合、超音波の周波数はピッチ等の重度の汚れの付着力との兼ね合いで決定されるものであり、上述した周波数ではこの汚れを短時間で除去できる。なお、揺動の速度が４ｍｍ／ｓｅｃ未満では、被洗浄物から剥離した汚れが被洗浄物に再度、付着して好ましくなく、１０ｍｍ／ｓｅｃを超える場合には超音波の洗浄効果が減衰して好ましくない。
【発明の効果】
【００１５】
　本発明の洗浄方法によれば、非水系洗浄液により洗浄するため、排水処理が不要となり、洗浄ラインが短くなり、しかも、乾燥を促進できるため、洗浄のシミを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
　（実施の形態１）
　図１はこの実施の形態に適用される洗浄ラインであり、光学レンズ、プリズム等の光学部品を洗浄するためのものである。同図において、１は投入コンベアであり、被洗浄物を洗浄槽に供給する。洗浄槽は第１槽〜第５槽の５槽構成となっている。
【００１７】
　第１槽２及び第２槽３には洗浄液として炭化水素系溶剤に界面活性剤が添加された洗浄液が充填されている。炭化水素系溶剤としては、イソパラフィン系溶剤である商品名「ダフニーアルファクリーナーＨ（出光興産株式会社製）」または、ナフテン系溶剤である商品名「ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社製）」が充填されている。これに対し、水溶性界面活性剤と油溶性界面活性剤が、それぞれ０．１〜１．５重量％添加されている。この洗浄液は常温となっている。
【００１８】
　第３槽４には、第１槽及び第２槽に充填された同一の炭化水素系溶剤のみが充填されている。この槽においても液温は常温である。これらの槽２、３、４の底部には、２８ＫＨｚ、６００Ｗの出力の超音波発振器が設置されている。
【００１９】
　第４槽５及び第５槽６の洗浄槽は第３槽４の洗浄液のすすぎと乾燥性を向上させるものである。これらの槽５、６には、シリコーン系溶剤として、乾燥が良好な商品名「ＥＥ−３１１０（オリンパス光学工業株式会社製）」、またはイソパラフィン系溶剤として、商品名「ダフニーアルファクリーナーＬ（出光興産株式会社製）」が充填されている。これらの液温は常温である。
【００２０】
　第５槽６には温風乾燥機７が連結されている。この温風乾燥機７の温度は、７０〜８０℃に設定されている。８は処理が終了した被洗浄物を洗浄ラインから搬出する搬出コンベアである。
【００２１】
　この実施の形態では、被洗浄物として、水と、酸化セリウムからなる研磨材と、研磨性を向上させるために研磨材を均一に分散させる界面活性剤とが付着した硝材ＢＡＬ４１（小原光学硝子製造所（社）製）からなる光学硝子プリズムを用いた。この被洗浄物はプリズム研磨用のラップ盤を用いて、上記研磨材を掛け流ししながら１時間ラップ研磨したものである。
【００２２】
　図２はこのプリズムの形状を示す。このプリズム１０は３０ｍｍ×３０ｍｍの直角形をなし、２２ｍｍの厚さとなっており、３面が研磨されているが、両側面１１、１２が砂目状になっている。このため、一部乾燥した研磨材が両側面の砂目に強固に付着している。
【００２３】
　この実施の形態では、第１槽２、第２槽３、第３槽４の炭化水素系溶剤として、ダフニーアルファクリーナーＨ（出光興産株式会社製）を、第４槽５、第５槽６の溶剤として、ＥＥ−３１１０（オリンパス光学工業株式会社製）を使用した。第１槽２、第２槽３の添加剤としては、水溶性界面活性剤としてポリオキシアルキレン系ノニオン水溶性界面活性剤ＢＴ−９（日光ケミカルズ株式会社製）と、油溶性界面活性剤としてリン酸エーテル系アニオン油溶性界面活性剤ＤＤＰ−２（日光ケミカルズ株式会社製）を使用した。この添加剤の添加量はそれぞれ０．５重量％で合計１．０重量％である。
【００２４】
　第１槽〜第５槽の洗浄液の液温は常温とし、各槽とも９０秒で処理を行った。第１槽２及び第２槽３では、超音波発振器９を作動して洗浄し、全槽を９ｍｍ／ｓｅｃで揺動しながら各洗浄槽の洗浄時間を１分に設定した。温風乾燥機７は８０℃に設定し、乾燥時間は３分とした。
【００２５】
　添加剤として水溶性界面活性剤と油溶性界面活性剤を添加した場合と、従来のように入れない場合との洗浄性を比較するため、同一条件で洗浄、乾燥して比較した。結果を表１に示す。
【００２６】
　表１から明らかなように、添加剤がない場合は、研磨材等の微粒子がプリズムの全面に付着したまま除去できていない。また、その他の油溶性汚れや水溶性汚れも洗浄できていないため、全数にシミが発生した。しかし、添加剤を入れた場合は、研磨材などの微粒子が効率よく洗浄できている。また、油溶性汚れや水溶性汚れも洗浄でき、シミがなくなり、洗浄品質が向上した。さらに水を使用しないため、耐水性が小さな硝材でもヤケや潜傷の発生がなかった。
【００２７】
【表１】
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【００２８】
　（実施の形態２）
　図１の洗浄ラインを用い、図２のプリズムを洗浄した。第１槽２〜第３槽４の炭化水素系溶剤としては、イソパラフィン系溶剤である商品名「ダフニーアルファクリーナーＨ（出光興産株式会社製）」を、第４槽５及び第５槽６の溶剤としては、シリコーン系溶剤である商品名「ＥＥ−３１１０（オリンパス光学工業株式会社製）」を用いた。添加剤は、水溶性界面活性剤としてポリオキシアルコレン系ノニオン水溶性界面活性剤ＢＴ−９（日光ケミカルズ株式会社製）と、油溶性界面活性剤としてリン酸エーテル系アニオン油溶性界面活性剤ＤＤＰ−２（日光ケミカルズ株式会社製）を用いた。添加量は、それぞれ０．５重量％で合計１．０％である。液温は常温とし、洗浄時間は、各槽３０秒、６０秒及び９０秒に設定した。温風乾燥機７は８０℃、３分に設定した。
【００２９】
　表２に洗浄時間を変えて洗浄した結果を示す。評価は目視で研磨材の残留やシミの発生を確認した。比較として、添加剤を添加しないで洗浄し、比較した。添加剤を入れない場合の洗浄時間は９０秒、１２０秒に設定した。表２の結果から、添加剤を添加した場合は、洗浄時間９０秒で完全に洗浄でき、研磨材等の微粒子の残留がなくなった。また、その他の油溶性汚れや水溶性汚れも洗浄され、汚れの残留により発生するシミもなくなった。
【００３０】
　しかし、添加剤がない場合は、研磨材等の微粒子がプリズムの全面に付着したまま除去できていなかった。また、その他の油溶性汚れや水溶性汚れも洗浄できていないため、９０秒では全数にシミが発生した。したがって、添加剤を入れることによって効率良く研磨材等の微粒子が洗浄できると共に、油溶性汚れや水溶性汚れも短時間（９０秒）で洗浄できることが判明した。更に水を使用しないため、耐水性の悪い硝材を長時間浸漬、洗浄してもヤケや潜傷等の不具合の発生がなかった。
【００３１】
【表２】
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【００３２】
　（実施の形態３）
　添加剤を添加する図１の第１槽２及び第２槽３の炭化水素系溶剤としてナフテン系溶剤、イソパラフィン系溶剤、単環芳香族溶剤を用いて洗浄性を確認した。ナフテン系溶剤として商品名「ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社製）」、イソパラフィン系溶剤として商品名「ダフニーアルファクリーナーＨ（出光興産株式会社製）」、単環芳香族溶剤として商品名「クリーンゾルＧ（日本石油株式会社製）」を用いた。
【００３３】
　各炭化水素系溶剤による洗浄性を確認するため、被洗浄物として、水と研磨材が付着した図２に示す光学硝子プリズムを図１の洗浄ラインを用いて洗浄した。第４槽５、第５槽６の溶剤としては、シリコーン系溶剤である商品名「ＥＥ−３１１０（オリンパス光学工業株式会社製）」を用いた。添加剤は、水溶性界面活性剤としてポリオキシアルキレン系ノニオン水溶性界面活性剤ＢＴ−９（日光ケミカルズ株式会社製）と、油溶性界面活性剤としてリン酸エーテル系アニオン油溶性界面活性剤ＤＤＰ−２（日光ケミカルズ株式会社製）を用いた。添加量は、それぞれ０．５重量％で合計１．０％である。液温は常温とし、洗浄時間は各槽９０秒に設定した。乾燥機は８０℃、３分に設定した。添加剤の添加量は、各炭化水素系溶剤全て同量添加し、同一条件で洗浄、乾燥して比較した。評価は、目視で研磨材の残留やシミの発生を確認した。
【００３４】
　表３の結果から、第１〜第３槽の炭化水素系溶剤は、ナフテン系溶剤、イソパラフィン系溶剤、単環芳香族溶剤のどれを用いても添加剤の効果により、研磨材等の微粒子が完全に洗浄された。シリコーン系溶剤でも同様であり、添加剤により研磨材の洗浄性が向上した。また、物理力として超音波を用いているが、浸漬のみや噴流を用いても同様の結果であった。
【００３５】
　しかし、その他の油溶性汚れや水溶性汚れは、炭化水素系溶剤の溶解力に若干影響されるため、油溶性汚れや水溶性汚れの残留によるものと思われるシミの発生率に差があった。
【００３６】
【表３】
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【００３７】
　（実施の形態４）
　図３は実施の形態４の洗浄ラインを示す。第１槽２２、第２槽２３、第３槽２４及び温風乾燥機２５が順に連設されており、第１槽２２に対して搬入コンベア２１が被洗浄物を搬入し、処理が終了した被洗浄物を温風乾燥機２５から搬出コンベア２６に搬出する。第１槽２２〜第３槽２４はいずれも洗浄槽であり、非水系洗浄液が充填されていると共に、底面には２８ＫＨｚ、６００Ｗの出力の超音波発振器２７が取り付けられている。２８は第１槽２２及び第３槽２４を連結する蒸留再生装置である。同図において、実線は被洗浄物の移動順を、破線は洗浄液の流れを示している。表４は洗浄に使用する非水系洗浄液の商品名毎の特性を示している。
【００３８】
【表４】
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【００３９】
　被洗浄物としては硝材ＢＡＬ４１からなる直径（φ）２４ｍｍの光学硝子レンズを使用した。この光学レンズにはストレートアスファルト系ピッチである商品名「Ｋ３」（九重電気（株）製）が付着している。
【００４０】
　この実施の形態では、最終槽である第３槽２４を液温を常温（２５℃）、４０℃、５０℃、６０℃に設定し、被洗浄物の引き上げ速度を５ｍｍ／ｓｅｃにして乾燥性を確認した。なお、第１槽２２及び第２槽２３の液温は４０℃に設定し、温風乾燥槽２５は６０℃に設定した。洗浄時間は各槽とも６０秒とした。洗浄液としての非水系洗浄液はエステル系溶剤である商品名「ＥＥ−４１２０」を使用した。乾燥時間を１０分、１５分としたときのレンズの乾燥状態を確認した結果を表５に示す。同表において、○はシミがないか、あっても極薄いシミの場合を、△は薄いシミで工程上、問題がないものを、×は濃いシミのものを示す。
【００４１】
【表５】
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【００４２】
　表５に示すように、最終の第３槽２４の液温が４０℃以下の場合、温風乾燥機２５で１５分間乾燥しても、未乾燥のレンズが発生した。なお、乾燥を１５分以上行うことは実用的ではないものである。最終の第３槽２４の液温が６０℃以上の場合、乾燥性が向上するが、液温が非水系洗浄液の引火点に近づくため、安全性の観点から好ましくない。又、乾燥温度を６０℃以上とすると、僅かに残留した汚れが被洗浄物に焼き付き、次工程で精密洗浄する際の除去ができない。このため極力、低温で乾燥させる必要がある。第３槽２４からの引き上げ速度を１５ｍｍ／ｓｅｃ以上とした場合、同槽２４の液温を５０℃以上にしても未乾燥のレンズが発生した。
【００４３】
　以上の表５の結果から、最終槽２４の液温を４０℃〜６０℃とし、被洗浄物の引き上げ速度を１０ｍｍ／ｓｅｃ以下とすることにより、２００℃〜２３０℃等の沸点が高い洗浄液でも短時間で乾燥でき、被洗浄物に乾燥シミも生じない。これにより洗浄後においては、低沸点の溶剤を使用して乾燥を行う必要がなくなり、工程を簡略化できる。なお、第３槽２４を除く第１槽２２及び第２槽２３においては、被洗浄物を比較的、早く引き上げるものである。
【００４４】
　このようにこの実施の形態では、ＥＥ−４１２０のような沸点および引火点が高い洗浄液を使用できるため、引火の危険性が少なく、安全性が向上した洗浄が可能である。さらに、この実施の形態ではナフテン系溶剤である商品名「ナフテゾールＭ」（日本石油化学（株）製）、ナフテン系溶剤とイソパラフィン系溶剤の混合溶剤である商品名「アクトレル１１７８Ｌ」（エクソン化学（株）製）、芳香族系溶剤である商品名「クリーンソルＧ」（日本石油（株）製）を使用しても、上述と同様な結果となった。
【００４５】
　（実施の形態５）
　この実施の形態では、被洗浄物として、直径３５ｍｍ、厚さ３ｍｍの鏡面加工された真鍮板を使用し、図３に示す洗浄ラインを用いて洗浄した。真鍮板には切削油である商品名「ダフニ−カットＨＳ−３２」（出光興産（株）製）が付着している。
【００４６】
　最終槽である第３槽２４を液温を常温（２５℃）、４０℃、５０℃、６０℃に設定し、被洗浄物の引き上げ速度を５ｍｍ／ｓｅｃにして乾燥性を確認した。なお、第１槽２２及び第２槽２３の液温は４０℃に設定し、温風乾燥槽２５は６０℃に設定した。洗浄時間は各槽とも６０秒とした。洗浄液としての非水系洗浄液はエステル系溶剤である商品名「ＥＥ−４１２０」を使用した。乾燥時間を１０分、１５分としたときのレンズの乾燥状態を確認した結果を表６に示す。同表は洗浄籠１個に対し真鍮板１０個を投入し、未乾燥の数と発生したシミの度合いを評価したものである。同表において、○はシミがないか、あっても極薄いシミの場合を、△は薄いシミで工程上、問題がないものを、×は濃いシミのものを示す。
【００４７】
【表６】
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【００４８】
　表６に示すように、最終槽２４の引き上げ速度が１５ｍｍ／ｓｅｃ以上では、温風乾燥機２５で５０℃以上、１５分間乾燥させても未乾燥の真鍮板が発生している。一方、乾燥性はレンズ等のガラス部材に比べて良好であり、ガラス部材よりも低温又は引き上げ速度が大きくても、シミを発生させることなく、乾燥することができ、これにより洗浄条件の幅が広がっている。
【００４９】
　この実施の形態ではナフテン系溶剤である商品名「ナフテゾールＭ」（日本石油化学（株）製）、ナフテン系溶剤とイソパラフィン系溶剤の混合溶剤である商品名「アクトレル１１７８Ｌ」（エクソン化学（株）製）、芳香族系溶剤である商品名「クリーンソルＧ」（日本石油（株）製）を使用しても、上述と同様な結果となった。
【００５０】
　（実施の形態６）
　超音波周波数による被洗浄物の洗浄性を確認するため、２５ＫＨｚと４０ＫＨｚの周波数で洗浄を行った。洗浄ラインは図３に示すものを使用した。同図における各槽の洗浄時間を６０秒とし、被洗浄物として実施の形態４と同様のレンズを用い、ピッチが残留しているレンズ数を確認した。各槽の液温は５０℃、揺動速度を１０ｍｍ／ｓｅｃ、引き上げ速度を１０ｍｍ／ｓｅｃに設定して行った。
【００５１】
　表７は洗浄籠１個に２０個のレンズを投入して洗浄し、ピッチが残留している未洗浄のレンズ数を示す。超音波の周波数が４０ＫＨｚの高周波数側では、未洗浄のレンズが発生しているが、２５ＫＨｚの低周波数側では短時間でピッチ等の重度の汚れを除去できている。このような低周波数を使用することにより、低い温度の洗浄液を使用した洗浄ができ、引火の危険性が少なくなる。
【００５２】
【表７】
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【００５３】
　（実施の形態７）
　揺動速度による洗浄性を確認するため揺動速度を５、１０、１５ｍｍ／ｓｅｃに変化させた、被洗浄物としては実施の形態４と同様のレンズを用い、図３に示す洗浄ラインを使用して洗浄した。各槽の液温は５０℃、引き上げ速度は１０ｍｍ／ｓｅｃとし、超音波２５ＫＨｚの超音波を用いた。表８は洗浄籠１個にレンズを２０個投入して、洗浄した場合の未洗浄のレンズ数を示す。同表に示すように、揺動速度を１０ｍｍ／ｓｅｃ以上とした場合、洗浄性が低下した。これは揺動速度が大きくなることにより、超音波による洗浄効果が低減したためである。かかる揺動速度を種々、変えて洗浄した結果、４〜１０ｍｍ／ｓｅｃの範囲の揺動速度で、良好な洗浄が可能となっている。
【００５４】
【表８】
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【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】洗浄ラインの一例の構成図である。
【図２】被洗浄物の斜視図である。
【図３】別の洗浄ラインの構成図である。
【符号の説明】
【００５６】
２ 第１槽
３ 第２槽
４ 第３槽
５ 第４槽
６ 第５槽
７ 温風乾燥機
【図１】
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【図２】
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【図３】
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