(57)【要約】【課題】高画質で信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】誘電体層５で覆われた複数の表示電極４を形成するとともに誘電体層５上に保護層１６を形成した基板と、表示電極４と交差するように複数のデータ電極１０を形成した基板とを対向配置することにより、表示電極４とデータ電極１０との交差部に放電セルを形成したプラズマディスプレイパネルであって、保護層１６は第１の保護層１６ａとその第１の保護層１６ａよりも２次電子放出係数が低い第２の保護層１６ｂとから構成され、第２の保護層１６ｂは各放電セルを囲むように形成されるとともに隣り合う表示電極４間の領域１７においてその領域１７の幅ａよりも狭い幅ｂで形成されている。【選択図】　図２
2004087356.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体層で覆われた複数の表示電極を形成するとともに前記誘電体層上に保護層を形成した基板と、前記表示電極と交差するように複数のデータ電極を形成した基板とを対向配置することにより、前記表示電極と前記データ電極との交差部に放電セルを形成したプラズマディスプレイパネルであって、前記保護層は第１の保護層とその第１の保護層よりも２次電子放出係数が低い第２の保護層とから構成され、第２の保護層は各放電セルを囲むように形成されるとともに隣り合う表示電極間の領域においてその領域の幅よりも狭い幅で形成されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
基板上に、複数の表示電極を形成しその表示電極を覆うように誘電体層を形成した後、その誘電体層上に第１の保護層と所定のパターン形状の金属層を形成し、その後、熱処理して前記金属層を酸化させることにより前記第１の保護層よりも２次電子放出係数が低い第２の保護層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
基板上に、複数の表示電極を形成しその表示電極を覆うように誘電体層を形成した後、その誘電体層上に、その誘電体層よりも軟化点温度が低い所定のパターン形状の低軟化点誘電体層を形成し、次に、前記誘電体層および前記低軟化点誘電体層を覆うように保護材料層を形成した後、前記低軟化点誘電体層の軟化点温度以上でかつ前記誘電体層の軟化点温度よりも低い温度で前記基板を加熱処理することにより保護層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネルは、ガス放電によって発生した紫外線によって蛍光体を励起発光させ、画像表示するディスプレイである。その放電の形成手法から交流（ＡＣ）型と直流（ＤＣ）型に分類することができる。ＡＣ型の特徴は、輝度、発光効率、寿命の点でＤＣ型より優れている点である。さらに、ＡＣ型の中でも反射型面放電タイプは輝度、発光効率の点で特に優れているため、このタイプが最も一般的である。
【０００３】
図９は従来のＡＣ型プラズマディスプレイパネルである。図９に示すように、ガラスからなる透明な前面側の前面基板１上には、放電ギャップをあけて平行に配置された走査電極２と維持電極３とで対を成すストライプ状の表示電極４が複数形成されている。この走査電極２は透明電極２ａとこの透明電極２ａに電気的に接続された金属からなるバス電極２ｂとから構成され、維持電極３は透明電極３ａとこの透明電極３ａに電気的に接続された金属からなるバス電極３ｂとから構成されている。また、前面基板１上には、複数の表示電極４を覆うように低融点ガラスからなる誘電体層５が形成され、その誘電体層５上には酸化マグネシウム（ＭｇＯ）膜６が形成されており、これによりフロントパネル７が構成されている。
【０００４】
また、前面基板１に対向配置される背面基板８上には、下地誘電体層９で覆われた複数のストライプ状のデータ電極１０が表示電極４と直交して交差するように形成されている。このデータ電極１０間の下地誘電体層９上には、データ電極１０と平行にストライプ状の複数の隔壁１１が配置され、この隔壁１１の側面および下地誘電体層９の表面に蛍光体層１２が設けられており、これによりバックパネル１３が構成されている。
【０００５】
これらのフロントパネル７とバックパネル１３とは、表示電極４とデータ電極１０とが直交するように微小な放電空間１４を挟んで対向配置されるとともに、周囲が封止され、そして放電空間１４には、放電ガスとして、ネオン（Ｎｅ）とキセノン（Ｘｅ）の混合ガスがおよそ６６．５ｋＰａ（５００Ｔｏｒｒ）の圧力で充填されている。また、放電空間１４は、隔壁１１によって複数の区画に仕切られることにより、表示電極４とデータ電極１０とが交差した部分に放電セルが設けられ、その各放電セルには、赤色、緑色及び青色となるように蛍光体層１２が一色ずつ順次配置されている。
【０００６】
このようなプラズマディスプレイパネルにおいては、走査電極２と維持電極３との間に数十ｋＨｚ〜数百ｋＨｚのＡＣ電圧を印加して放電空間１４に放電を発生させ、励起されたＸｅ原子から放射される紫外線によって蛍光体層１２を励起することにより可視光を発生させて表示動作を行う。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
プラズマディスプレイパネルは、近年高精細化が進んで隣接する表示電極４間の間隔が狭まるために、誤放電が生じやすいという問題が生じた。
【０００８】
この問題を解決するための方法が、例えば特開平９−１２９１４０号公報に記載されている。これは、隣接する表示電極４間上の誘電体層５の表面を除く誘電体層５の表面を酸化マグネシウム膜６で被覆したものであり、酸化マグネシウム膜６が形成されていない領域、すなわち隣接する表示電極４間において誤放電を防止するというものである。
【０００９】
しかしながら、この構成では、各電極に印加される電圧によって隣接する表示電極４間の領域にも所定強度の電界がかかっているために、酸化マグネシウム膜６で被覆されていない領域の誘電体層５は、放電で発生するイオンが衝突することによってスパッタされ絶縁破壊が起こりやすくなるという課題があった。さらに、隔壁１１の先端部と酸化マグネシウム膜６との間に電荷の相互移動ができる隙間が存在すると、隔壁１１の先端部近傍からも酸化マグネシウム膜６から盛んに２次電子が供給されるため、隔壁１１を介して隣り合う放電セル間で誤放電が発生するという課題があった。
【００１０】
また、同公報には、隔壁１１の先端部に対向する領域も除いて酸化マグネシウム膜を形成することも記載されているが、この場合には、隔壁１１の先端部に対向する領域において誘電体層５がスパッタされ、パネル寿命が短くなるという課題があった。
【００１１】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、高画質で信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために本発明は、誘電体層で覆われた複数の表示電極を形成するとともに前記誘電体層上に保護層を形成した基板と、前記表示電極と交差するように複数のデータ電極を形成した基板とを対向配置することにより、前記表示電極と前記データ電極との交差部に放電セルを形成したプラズマディスプレイパネルであって、前記保護層は第１の保護層とその第１の保護層よりも２次電子放出係数が低い第２の保護層とから構成され、第２の保護層は各放電セルを囲むように形成されるとともに隣り合う表示電極間の領域においてその領域の幅よりも狭い幅で形成されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
【００１３】
また、本発明は、基板上に、複数の表示電極を形成しその表示電極を覆うように誘電体層を形成した後、その誘電体層上に第１の保護層と所定のパターン形状の金属層を形成し、その後、熱処理して前記金属層を酸化させることにより前記第１の保護層よりも２次電子放出係数が低い第２の保護層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１４】
さらに、本発明は、基板上に、複数の表示電極を形成しその表示電極を覆うように誘電体層を形成した後、その誘電体層上に、その誘電体層よりも軟化点温度が低い所定のパターン形状の低軟化点誘電体層を形成し、次に、前記誘電体層および前記低軟化点誘電体層を覆うように保護材料層を形成した後、前記低軟化点誘電体層の軟化点温度以上でかつ前記誘電体層の軟化点温度よりも低い温度で前記基板を加熱処理することにより保護層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルについて、図１〜図８を用いて説明する。なお、図９に示す部分と同一部分については同一番号を付している。
【００１６】
図１は本発明の第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの断面図であり、図２は保護層のパターン形状と各種電極との位置関係がわかるように示した概略平面図である。
【００１７】
本実施の形態のプラズマディスプレイパネルは、図１に示すように、間に放電空間１４を形成するようにフロントパネル１５とバックパネル１３とを対向配置し、放電空間１４に放電ガスとして、ネオン（Ｎｅ）とキセノン（Ｘｅ）の混合ガスをおよそ６６．５ｋＰａ（５００Ｔｏｒｒ）の圧力で充填して構成されている。
【００１８】
フロントパネル１５は次のような構成である。すなわち、透明なガラス製の前面基板１上には、放電ギャップをあけて平行に配置された走査電極と維持電極とで対を成すストライプ状の表示電極４が複数形成されており、さらにこの表示電極４を覆うように低融点ガラスからなる誘電体層５が形成され、その誘電体層５上には保護層１６が形成されている。保護層１６は、誘電体層５上の全面に形成された第１の保護層１６ａと、第１の保護層１６ａ上に所定のパターン形状に形成された第２の保護層１６ｂとによって構成されている。なお、表示電極４を構成している走査電極および維持電極は図９に示した走査電極２および維持電極３と同じ構成であり、図９に示したように、走査電極２は透明電極２ａとこの透明電極２ａに電気的に接続されたバス電極２ｂとから構成され、維持電極３は透明電極３ａとこの透明電極３ａに電気的に接続されたバス電極３ｂとから構成されている。透明電極２ａ、３ａはインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）や酸化スズ（ＳｎＯ２）などからなり、バス電極２ｂ、３ｂは銀（Ａｇ）の厚膜やアルミニウム（Ａｌ）薄膜やクロム／銅／クロム（Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）の積層薄膜からなる。
【００１９】
また、バックパネル１３は図９に示した従来のものと同じ構成である。すなわち、前面基板１に対向配置される背面基板８上には、下地誘電体層９で覆われた複数のストライプ状のデータ電極１０が表示電極４と直交して交差するように形成されている。このデータ電極１０間の下地誘電体層９上には、データ電極１０と平行にストライプ状の複数の隔壁１１が配置され、この隔壁１１の側面および下地誘電体層９の表面に蛍光体層１２が設けられている。
【００２０】
そして、表示電極４とデータ電極１０とが交差する部分に放電セルが形成され、その各放電セルには、赤色、緑色および青色となるように蛍光体層１２が一色ずつ順次配置されており、各放電セルでの放電を制御することにより画像表示が行われる。
【００２１】
次に、フロントパネル１５の誘電体層５上に形成された保護層１６のパターン形状について図２を用いて説明する。図２は、背面基板８側から前面パネル１５を見たときの保護層１６のパターン形状を、走査電極２、維持電極３およびデータ電極１０との位置関係がわかるように示している。図２に示すように、保護層１６は第１の保護層１６ａと第２の保護層１６ｂとによって構成されており、第２の保護層１６ｂの２次電子放出係数は第１の保護層１６ａの２次電子放出係数に比べて低くなっている。そして第２の保護層１６ｂは、各放電セルを囲むように形成されるとともに、隣り合う表示電極４間の領域１７においてはその領域１７の幅ａよりも小さい幅ｂで形成されている。このように、第２の保護層１６ｂが形成されている領域は、隔壁１１が形成された位置に対応する領域と隣接する表示電極４間の領域とから構成されている。また、第１の保護層１６ａは２次電子放出係数が高いＭｇＯからなり、第２の保護層１６ｂは、アルミニウム（Ａｌ）、シリコン（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、カルシウム（Ｃａ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）およびチタン（Ｔｉ）等の金属の酸化物からなる。
【００２２】
次に、本実施の形態のプラズマディスプレイパネルを製造する方法について説明する。まずフロントパネル１５の製造方法について図３を用いて説明する。
【００２３】
ガラス製の前面基板１上に、スパッタリング法およびエッチングなどによりＩＴＯまたは酸化スズなどの透明導電性材料からなる透明電極を形成し、透明電極の上にＡｇ厚膜、Ａｌ薄膜またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜などのバス電極を順次積層することにより、図３（ａ）に示すように走査電極２および維持電極３からなる表示電極４を形成する。
【００２４】
次に、図３（ｂ）に示すように酸化鉛（ＰｂＯ）または酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）または酸化燐（ＰＯ４）を主成分とする低融点ガラスからなる誘電体層５をスクリーン印刷によって形成した後、図３（ｃ）に示すように、ＭｇＯからなる第１の保護層１６ａを誘電体層５上の全面に、電子ビーム蒸着法またはスパッタリング法により形成する。
【００２５】
次に、第２の保護層１６ｂを形成する。すなわち、第２の保護層１６ｂを形成する位置に対応した開口部を有するマスクを介してアルミニウム（Ａｌ）を電子ビーム蒸着法またはスパッタリング法により第１の保護層１６ａ上に形成することにより、図３（ｄ）に示すように第１の保護層１６ａ上にＡｌからなる所定のパターン形状の金属層１８を形成する。続いて空気中または酸素雰囲気中において４５０〜５５０℃で１〜３０分間加熱して熱酸化処理を行って金属層１８を酸化させることにより、図３（ｅ）に示すように第１の保護層１６ａ上に所定のパターン形状を有する第２の保護層１６ｂを形成する。金属層１８を形成する際に使用する金属は、Ａｌの他にシリコン（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、カルシウム（Ｃａ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）またはチタン（Ｔｉ）等であってもよい。
【００２６】
一方、バックパネル１３は、ガラス製の背面基板８上にＡｇ厚膜、Ａｌ薄膜またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜からなるデータ電極１０を形成した後、酸化鉛（ＰｂＯ）または酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）または酸化燐（ＰＯ４）を主成分とする低融点ガラスからなる下地誘電体層９をスクリーン印刷によって形成する。その後、ガラスを主成分とする隔壁１１を所定のピッチで形成し、さらに隔壁１１によって挟まれた各空間に赤色蛍光体、緑色蛍光体、青色蛍光体による蛍光体層１２を形成する。
【００２７】
次に、このようにして作製したフロントパネル１５とバックパネル１３とを封着用ガラスを用いて張り合わせると共に、放電空間１４内を１×１０−４Ｐａに排気した後、例えばネオンガスとキセノンガスの混合ガスを体積比でそれぞれ９５％、５％とし、圧力を６６．５ｋＰａ（５００Ｔｏｒｒ）としてパネル内に封入することによってプラズマディスプレイパネルを完成させる。
【００２８】
次に、このプラズマディスプレイパネルの駆動方法について図４および図５を用いて説明する。
【００２９】
図４はこのプラズマディスプレイパネルの電極配列図を示しており、図４に示すように、電極はｍ×ｎのマトリックス構成であり、列方向にはｍ列のデータ電極Ｄ１〜Ｄｍが配列されており、行方向にはｎ行の走査電極ＳＣＮ１〜ＳＣＮｎおよび維持電極ＳＵＳ１〜ＳＵＳｎが配列されている。そして、走査電極ＳＣＮｉおよび維持電極ＳＵＳｉ（ｉ＝１〜ｎ）とデータ電極Ｄｊ（ｊ＝１〜ｍ）との各交差部に放電セルが形成され、パネル内にｍ×ｎ個の放電セルが形成されている。
【００３０】
画像表示を行う場合、１フィールド期間を、所定の発光強度を持つ維持パルスの数で重み付けされた複数のサブフィールドで構成し、１フィールド期間を構成するサブフィールドのうち表示に用いるサブフィールドを選択して所定輝度の表示を行うことにより階調表示を行っている。各サブフィールドは、表示データに応じて放電セルに電荷を形成する書き込み期間、書き込み期間において電荷が形成された放電セルで維持放電を行う維持期間および維持放電を停止させる消去期間を有している。また、１フィールド期間を構成するサブフィールドのうち１つのサブフィールドは、書き込み期間の前に放電セル内の電荷をリセットするための初期化期間を有している。なお、初期化期間はすべてのサブフィールドに設けてもよい。
【００３１】
プラズマディスプレイパネルの駆動動作の一例について、駆動波形図である図５を用いて説明する。図５では、初期化期間、書き込み期間、維持期間および消去期間を有する第１サブフィールドとそれに続く第２サブフィールドを表しており、走査電極の波形は或る１つの走査電極に印加される波形を表し、維持電極の波形はすべての維持電極に印加される波形を表し、データ電極の波形は表示データに応じてデータ電極に印加される波形を表している。
【００３２】
まず、第１サブフィールドにおいて、走査電極ＳＣＮ１〜ＳＣＮｎに初期化波形Ｐｉを印加し、放電セル内の壁電荷を初期化する。
【００３３】
次に、書き込み期間において、１行目の走査電極ＳＣＮ１に走査パルスＰｃを印加し、表示データを書き込むべき所定のデータ電極Ｄｊ（ｊ＝１〜ｍ）に書き込みパルスＰａを印加することにより、所定のデータ電極Ｄｊと１行目の走査電極ＳＣＮ１との間に書き込み放電（アドレス放電）を起こし、アドレス放電をトリガーにして走査電極ＳＣＮ１と維持電極ＳＵＳ１との間でも放電が起こり、保護層１６表面に壁電荷が蓄積され、１行目の書き込み動作（アドレス動作）が行われる。このようなアドレス動作を各行について順次行い、ｎ行目のアドレス動作が終了した時点で、１画面分の表示データが書き込まれる。
【００３４】
次に維持期間において、全てのデータ電極Ｄ１〜Ｄｍを接地し、全ての走査電極ＳＣＮ１〜ＳＣＮｎに維持パルスＰｓを印加し、続いて全ての維持電極ＳＵＳ１〜ＳＵＳｎに維持パルスＰｓを印加し、続いて交互にこの動作を継続して維持パルスＰｓを印加することにより、書き込み期間においてアドレス動作が行われた放電セルにおいて維持放電の発光が継続して行われ、画像表示が行われる。
【００３５】
その後、消去期間において、幅の狭い消去パルスＰｅを印加することによって放電が発生し、壁電荷が消滅するため、消去動作が行われる。
【００３６】
次の第２サブフィールドでは、第１サブフィールドにおける書き込み期間、維持期間および消去期間での動作と同様な一連の動作が行われ、引き続き１フィールドの最後のサブフィールドまで同様な動作が継続されることにより、画像表示が行われる。
【００３７】
本実施の形態のパネルでは、前述したように第２の保護層１６ｂは、隣り合う表示電極４間の領域１７においてその領域の幅ａよりも小さい幅ｂで形成されている。すなわち、第１の保護層１６ａは、各放電セル内で表示電極４を構成する走査電極２および維持電極３の外側端部を超えて隣接する表示電極４間の領域１７にまで広く形成されている。走査電極２と維持電極３との間で発生する維持放電は第１の保護層１６ａが形成された領域に広がることになるため、維持放電が発生する領域は広くなり高輝度の表示を得ることができる。
【００３８】
また、第２の保護層１６ｂは２次電子放出係数が低いので、第２の保護層１６ｂが形成された領域では２次電子が発生しにくい。このような第２の保護層１６ｂは各放電セルを囲むように形成されているので、維持放電が放電セル内において第１の保護層１６ａの形成領域に広がっても、その維持放電が隣の放電セルにまで広がって誤放電が発生することは防止される。さらに、誘電体層５は第１の保護層１６ａと第２の保護層１６ｂとからなる保護層１６で覆われているので、放電によって誘電体層５がスパッタされることはなく、絶縁破壊を起こすことを防止でき長寿命のパネルを得ることができる。
【００３９】
次に、具体的な実施例について説明する。本発明の実施例として、４２インチクラスのＸＧＡ表示（画素数が１０２４×７６８）のパネルを作製し、表示電極４間ピッチを６７５μｍ、隔壁１１間ピッチを３００μｍ、誘電体層５の厚さを３５μｍ、保護層１６ａ、１６ｂそれぞれの厚さを０．８μｍ、表示電極４を構成する走査電極２と維持電極３との間のギャップを８０μｍ、隣接する表示電極４間の距離を２００μｍ、隔壁１１の高さを１２０μｍ、１つの放電セル内に設けられる第１の保護層１６ａの大きさを５８０μｍ×２１０μｍとした。第１の保護層１６ａは酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で形成し、第２の保護層１６ｂは酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）で形成した。
【００４０】
また、比較例として、誘電体層５上の全面にＭｇＯ膜を形成したパネル（比較例１）と、誘電体層５上の隔壁１１と対向する領域および隣接する表示電極４間の領域を除いてＭｇＯ膜を形成したパネル（比較例２）を作製した。比較例２のパネルにおけるＭｇＯ膜のパターン形状について図２を参照して説明すると、図２における第２の保護層１６ｂの領域の幅ｂを隣り合う表示電極４間の領域１７の幅ａと同じに設定しており、第１の保護層１６ａの領域にＭｇＯ膜を形成し、第２の保護層１６ｂの領域には何も形成していないため誘電体層５表面が露出している。
【００４１】
まず、本発明の実施例および比較例１のパネルについて、図５に示した駆動波形で駆動した。このとき、電圧値はＶａ＝４００Ｖ、Ｖｂ＝−９０Ｖ、Ｖｃ＝−１０Ｖ、Ｖｄ＝１４０Ｖ、Ｖｅ＝１５０Ｖ、Ｖｄａｔ＝６７Ｖと設定し、維持パルスＰｓの電圧Ｖｓを変えて誤放電（クロストーク）が発生するＶｓの電圧値Ｖ１を測定した。その結果、比較例１のパネルではＶ１＝２００Ｖであるのに対し、実施例のパネルではＶ１＝２０５Ｖとなった。すなわち、実施例のパネルは比較例１のパネルに比べてクロストークが発生しにくい構成であり、クロストークの発生を抑制できるという効果があった。
【００４２】
このことは次のように説明される。すなわち、誘電体層５上の全面にＭｇＯ膜を形成した比較例１の場合、隣接する表示電極４間の領域または隔壁１１と対向する領域に放電が到達すると、それらの領域のＭｇＯ膜に、放電によって発生したイオンが衝突することによって２次電子が放出されることで放電の規模が拡大し、クロストークが発生する。一方、本発明の実施例の場合では、２次電子放出係数の低い第２の保護層１６ｂの存在によって、隣り合う放電セルの境界領域において２次電子の発生がほとんどないために放電が減衰し誤放電の発生を防止することができる。
【００４３】
次に、実施例および比較例２のパネルについて維持パルス数を従来の１１倍に設定し、長時間点灯させて不灯が発生する時間を計る寿命測定を行ったところ、実施例のパネルは比較例２のパネルに比べて寿命が１．２倍に伸びた。これは、比較例２のパネルではＭｇＯ膜で被覆されていない領域の誘電体層５がスパッタされて放電空間の不純物ガス濃度が増加し放電が不安定になるのに対し、実施例のパネルでは誘電体層５が保護層１６で覆われているため、誘電体層５のスパッタが起こらず放電が安定になったためである。また、実施例のパネルは比較例２のパネルに比べて各放電セルでの放電の広がりが大きくなり高い発光輝度を得ることができた。
【００４４】
また、ＸＧＡのパネルだけでなく、電極の幅、電極間隔等が異なるＳＸＧＡなどのパネルにおいても同様の効果が得られた。
【００４５】
なお、上記実施の形態ではＭｇＯからなる第１の保護層１６ａを誘電体層５上の全面に形成したが、誘電体層５上にマスクを使用して所定のパターン形状を有する第１の保護層１６ａを形成し、第１の保護層１６ａが形成されていない領域に第２の保護層１６ｂを形成してもよい。また、第２の保護層１６ｂとしては、通常のＭｇＯ材料と同じで結晶性を異ならせることにより２次電子放出係数を低下させたものを用いてもよい。
【００４６】
次に、本発明の第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルについて図面を用いて説明する。
【００４７】
図６に示すプラズマディスプレイパネルは、フロントパネル１９とバックパネル１３とを対向配置して構成されており、バックパネル１３の構成は図１に示したパネルと同じである。フロントパネル１９は次のような構成である。すなわち、前面基板１上には、放電ギャップをあけて平行に配置された走査電極と維持電極とで対を成すストライプ状の表示電極４が複数形成され、表示電極４を覆うように低融点ガラスからなる誘電体層５が形成されている。そして、誘電体層５上には格子パターン形状の低軟化点誘電体層２０が形成されており、誘電体層５および低軟化点誘電体層２０を覆うように保護層２１が形成されている。保護層２１は、誘電体層５上に直に形成された第１の保護層２１ａと低軟化点誘電体層２０を覆う第２の保護層２１ｂとからなる。また、表示電極４とデータ電極１０との交差部には放電セルが形成される。低軟化点誘電体層２０は各放電セルを囲むように形成されている。
【００４８】
図７は背面基板８側からフロントパネル１９を見たときの保護層２１のパターン形状を示しており、保護層２１は第１の保護層２１ａと第２の保護層２１ｂとによって構成されており、第２の保護層２１ｂの２次電子放出係数は第１の保護層２１ａの２次電子放出係数に比べて低くなっている。そして第２の保護層２１ｂは、各放電セルを囲むように形成されるとともに、隣り合う表示電極４間の領域１７においてその領域の幅ａよりも小さい幅ｂで形成されている。このように、第２の保護層２１ｂが形成されている領域は、隔壁１１が形成された位置に対応する領域と隣接する表示電極４間の領域とから構成されている。
【００４９】
次に、フロントパネル１９の製造方法について図８を用いて説明する。
【００５０】
まずガラス製の前面基板１上に、スパッタリング法およびエッチングなどによりＩＴＯまたは酸化スズなどの透明導電性材料からなる透明電極を形成し、透明電極の上にＡｇ厚膜、Ａｌ薄膜またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜などのバス電極を順次積層することにより、図８（ａ）に示すように前面基板１上に走査電極２および維持電極３からなる表示電極４を形成する。
【００５１】
その後、図８（ｂ）に示すように酸化鉛（ＰｂＯ）または酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）または酸化燐（ＰＯ４）を主成分とする低融点ガラスからなる誘電体層５をスクリーン印刷によって形成する。
【００５２】
次に、図８（ｃ）に示すように、誘電体層５上の第２の保護層２１ｂを形成する領域に酸化鉛（ＰｂＯ）または酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）または酸化燐（ＰＯ４）を主成分とする低融点ガラスからなる低軟化点誘電体層２０をスクリーン印刷によって形成する。ここで、低軟化点誘電体層２０は、その軟化点温度が誘電体層５の軟化点温度よりも低い材料を用いて形成されており、表示電極４とデータ電極１０との交差部に形成される各放電セルを囲むように所定のパターン形状に形成される。
【００５３】
続いて、図８（ｄ）に示すように誘電体層５および低軟化点誘電体層２０を覆うように、電子ビーム蒸着法またはスパッタリング法によりＭｇＯからなる保護層２２を形成する。
【００５４】
その後、低軟化点誘電体層２０の軟化点温度以上かつ誘電体層５の軟化点温度よりも低い温度で、誘電体層５、低軟化点誘電体層２０および保護層２２等を形成した前面基板１を加熱処理することにより、図８（ｅ）に示すように誘電体層５上に第１の保護層２１ａと第２の保護層２１ｂを形成する。すなわち、加熱処理することによって低軟化点誘電体層２０が軟化するため、低軟化点誘電体層２０を覆っている保護層２２の結晶性が悪くなる。その結果、結晶性が悪くなった領域では２次電子放出係数が低下するため、低２次電子放出係数を有する第２の保護層２１ｂが形成される。また、誘電体層５を覆っている保護層２２は高２次電子放出係数を有する第１の保護層２１ａとなる。
【００５５】
このようにして作製したフロントパネル１９と、前述と同様に作製したバックパネル１３とを封着用ガラスを用いて張り合わせ、ネオンガスとキセノンガスの混合ガスを体積比でそれぞれ９５％、５％とし、圧力を６６．５ｋＰａ（５００Ｔｏｒｒ）としてパネル内に封入することによってプラズマディスプレイパネルが得られる。
【００５６】
第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの保護層２１は、第１の保護層２１ａと第１の保護層２１ａよりも２次電子放出係数が低い第２の保護層２１ｂとから構成され、第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの保護層１６と同様なパターン形状に形成されている。したがって、第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルによれば、第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルと同様の効果を得ることができる。
【００５７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、隣接した放電セル間の誤放電の発生を防ぎ、誘電体層がスパッタされるのを防止できるので、高画質で信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの要部を示す断面図
【図２】同プラズマディスプレイパネルの保護層のパターン形状と電極との位置関係がわかるように示した概略平面図
【図３】（ａ）〜（ｅ）は同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための断面図
【図４】同プラズマディスプレイパネルの電極配列図
【図５】同プラズマディスプレイパネルの駆動波形図
【図６】本発明の第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの要部を示す断面図
【図７】同プラズマディスプレイパネルの保護層のパターン形状と電極との位置関係がわかるように示した概略平面図
【図８】（ａ）〜（ｅ）は同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための断面図
【図９】従来のプラズマディスプレイパネルの要部を示す斜視図
【符号の説明】
１　前面基板
２　走査電極
３　維持電極
４　表示電極
５　誘電体層
８　背面基板
９　下地誘電体層
１０　データ電極
１３　バックパネル
１４　放電空間
１５、１９　フロントパネル
１６、２１、２２　保護層
１６ａ、２１ａ　第１の保護層
１６ｂ、２１ｂ　第２の保護層
１８　金属層
２０　低軟化点誘電体層
【図１】
2004087356.tif 000003
【図２】
2004087356.tif 000004
【図３】
2004087356.tif 000005
【図４】
2004087356.tif 000006
【図５】
2004087356.tif 000007
【図６】
2004087356.tif 000008
【図７】
2004087356.tif 000009
【図８】
2004087356.tif 000010
【図９】
2004087356.tif 000011