(57)【要約】【課題】電気光学装置に適用した場合に表示不良の生じ難い電気光学装置用カラーフィルタを提供する。【解決手段】本発明に係るカラーフィルタ１４は、基板３上に形成された複数の導電層１９と、該導電層１９を含む基板３上に形成された着色層３１〜３６とを備え、１ドットの領域内に導電層１９が複数形成され、さらに異なる導電層上に層厚の異なる着色層が少なくとも形成され、着色層の層厚が、１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄く構成されている。【選択図】　　　　図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板本体上に形成された着色層を備える電気光学装置用カラーフィルタであって、前記着色層の層厚が、１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄く構成されていることを特徴とする電気光学装置用カラーフィルタ。
【請求項２】
基板本体上に形成された複数の導電層と、該導電層を含む基板本体上に形成された着色層とを備える電気光学装置用カラーフィルタであって、１ドットの領域内に前記導電層が複数形成され、さらに異なる導電層上に層厚の異なる着色層が少なくとも形成され、前記着色層の層厚が、１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄く構成されていることを特徴とする電気光学装置用カラーフィルタ。
【請求項３】
前記着色層が、１ドットの領域内でその層厚が段階的に変化する第１着色層と、該第１着色層を覆う態様にて形成された第２着色層とを備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置用カラーフィルタ。
【請求項４】
前記着色層の層厚が、１ドットの領域内において無段階に変化することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の電気光学装置用カラーフィルタ。
【請求項５】
基板本体上に形成された着色層を備える電気光学装置用カラーフィルタの製造方法であって、
前記基板本体上に複数の導電層を形成する工程と、
形成した導電層上に電着法を用いて着色材料を付着させる工程と、
前記導電層上に付着した着色材料を覆う態様にて、更に同色の着色材料を塗布して着色層を形成する工程とを含み、
前記着色材料を付着させる工程において、少なくとも２以上の導電層において着色材料の膜厚を異ならせることを特徴とする電気光学装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記着色材料の膜厚を、電着の際の印加電圧量及び／又は電圧印加時間に基づいて制御することを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記導電層を１ドットの領域内において複数形成し、前記着色材料の膜厚を１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において小さくすることを特徴とする請求項５又は６に記載の電気光学装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
基板本体上に形成された着色層を備える電気光学装置用カラーフィルタの製造方法であって、
前記基板本体上に第１着色材料層を形成する工程と、
前記第１着色材料層上に、該第１着色材料層と同色で、該第１着色材料層よりも狭幅の第２着色材料層を形成する工程と、
前記第１着色材料層及び第２着色材料層を覆う態様にて、各着色材料層と同色の着色材料を塗布して着色層を形成する工程とを含むことを特徴とする電気光学装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記第２着色材料層を、前記第１着色材料層の中心領域に形成するとともに、前記第１着色材料層及び第２着色材料層を覆う態様にて着色材料を塗布して着色層を形成することで、該着色層の層厚を、１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄くすることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記第２着色材料層を、フォトリソグラフィ法により形成することを特徴とする請求項８又は９に記載の電気光学装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の電気光学装置用カラーフィルタを備えることを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置用カラーフィルタ及びその製造方法、並びに該カラーフィルタを用いた電気光学装置に関し、特に、カラーフィルタの膜厚を制御する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置等に用いるカラーフィルタの製造方法として、電着法、印刷法、染色法、顔料分散法等が知られている。これらの製造方法については、それぞれ一長一短の部分があり、例えば、染色法によると分光特性に優れたカラーフィルタが得られるものの、顔料分散法や電着法により得られるものに比して耐熱性や耐光性に劣る場合がある。また、精細度の観点からは染色法、顔料分散法によるものが優れ、表面平坦性は電着法によるもの、経済性は印刷法によるものが優れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような方法により製造されるカラーフィルタは、膜厚が面内均一に構成され、例えば画素の周辺領域、特に画素のエッジ部分において段差ができ、該段差部分において色の濃淡差に境界領域が生じて表示不良を生じる場合がある。本発明は、このような事情に鑑み、電気光学装置に適用した場合に表示不良の生じ難いカラーフィルタ、そのカラーフィルタの製造方法、及びそのカラーフィルタを用いた電気光学装置用基板を提供することを目的とする。また、特にカラーフィルタの製造方法においては、カラーフィルタの膜厚を位置毎に制御することが可能な方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置用カラーフィルタは、基板本体上に形成された着色層を備え、前記着色層の層厚が、１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄く構成されていることを特徴とする。
【０００５】
このような電気光学装置用カラーフィルタによると、着色層の膜厚が１ドットの領域内で分布をなし、具体的には電気光学装置の１ドットの領域のうち、中心領域よりも周辺領域において薄く構成されているため、１ドットのエッジ領域においてカラーフィルタに段差が形成され難く、また仮に形成されてもその段差は小さいものとなるため、該カラーフィルタの面内で色の濃淡の境界が生じ難くなる。
【０００６】
また、上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置用カラーフィルタは、基板本体上に形成された複数の導電層と、該導電層を含む基板本体上に形成された着色層とを備える電気光学装置用カラーフィルタであって、１ドットの領域内に前記導電層が複数形成され、さらに異なる導電層上に層厚の異なる着色層が少なくとも形成され、前記着色層の層厚が、１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄く構成されていることを特徴とする。
【０００７】
この場合、ドット領域内の導電層上に層厚の異なる着色層が少なくとも形成され、特に１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において、着色層の層厚が薄く構成されているため、１ドットのエッジ領域においてカラーフィルタに段差が形成され難く、また仮に段差が形成されても小さいため、該カラーフィルタの面内で色の濃淡の境界が生じ難くなる。なお、電着層上に形成される着色層の層厚は、該電着層上への着色層の付着（電着）の際の条件、すなわち電着条件によって制御可能で、例えば電着時の電圧印加量、又は電着時の電圧印加時間等の設定によって電着層の膜厚が決定される。
【０００８】
前記着色層は、１ドットの領域内でその層厚が段階的に変化する第１着色層と、該第１着色層を覆う態様にて形成された第２着色層とを備えるものとすることができる。この場合、第１着色層は１ドットの領域内で層厚分布をもたせる機能を担い、第２着色層は１ドットの領域内で当該着色層の表面を平坦化させる機能を担うこととなる。また、着色層の層厚は、１ドットの領域内において無段階に変化するものとすることができる。すなわち、着色層の層厚が１ドットの領域面内において連続して変化するものとすれば、該領域内で着色層に段差がなくなり、色の濃淡の境界領域が生じる等の不具合発生を防止ないし抑制することが可能となる。
【０００９】
次に、上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置用カラーフィルタの製造方法は、基板本体上に形成された着色層を備える電気光学装置用カラーフィルタの製造方法であって、基板本体上に複数の導電層を形成する工程と、形成した導電層上に電着法を用いて着色材料を付着させる工程と、導電層上に付着した着色材料を覆う態様にて、更に同色の着色材料を塗布して着色層を形成する工程とを含み、着色材料を付着させる工程において、少なくとも２以上の導電層において着色材料の膜厚を異ならせることを特徴とする。
【００１０】
このような方法によると、導電層毎に着色層の層厚を異ならせることが可能となり、しかも導電層上に付着した着色材料を覆う態様で更に着色材料を塗布形成しているため、着色層の層厚変化を反映させた形にて該着色層において段差のない構成を提供することが可能となる。特に、１ドットの領域内において導電層を面内に複数形成し、着色材料の膜厚を１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において小さくすれば、周辺領域のエッジ部分において段差の少ない若しくは段差の小さい構成のカラーフィルタを提供することが可能となり、ひいては面内で色の濃淡の境界が生じ難い電気光学装置用カラーフィルタを提供可能となる。なお、着色材料の膜厚は、例えば電着の際の印加電圧量及び／又は電圧印加時間に基づいて制御することができる。
【００１１】
また、上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置用カラーフィルタの製造方法は、基板本体上に形成された着色層を備える電気光学装置用カラーフィルタの製造方法であって、基板本体上に第１着色材料層を形成する工程と、第１着色材料層上に、該第１着色材料層と同色で、該第１着色材料層よりも狭幅の第２着色材料層を形成する工程と、第１着色材料層及び第２着色材料層を覆う態様にて、各着色材料層と同色の着色材料を塗布して着色層を形成する工程とを含むことを特徴とする。
【００１２】
このような方法によると、第２着色材料層の形成領域と非形成領域とで、着色層の層厚が異なることとなり、さらにこれら第１及び第２の着色材料層を覆う態様で更に着色材料を塗布形成しているため、着色層の層厚変化を反映させた形にて該着色層において段差のない構成を提供することが可能となる。特に、第２着色材料層を第１着色材料層の中心領域に形成するとともに、第１着色材料層及び第２着色材料層を覆う態様にて着色材料を塗布して着色層を形成することで、着色層の層厚を、１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄くすることが可能となる。その結果、周辺領域のエッジ部分において段差の少ない若しくは段差の小さい構成のカラーフィルタを提供することが可能となり、ひいては面内で色の濃淡の境界が生じ難い電気光学装置用カラーフィルタを提供可能となる。
【００１３】
なお、第２着色材料層は例えばフォトリソグラフィ法等により、第１着色材料層上の所定位置に形成することができる。また、それを覆う着色材料については、少なくとも第１着色材料層及び第２着色材料層を覆う形にて、これら各着色材料層と同色のカラーレジストを塗布し、これを露光・現像により第１及び第２着色材料層上のみに形成することができる。
【００１４】
次に、本発明の電気光学装置は、上記電気光学装置用カラーフィルタを備えることを特徴とする。このような電気光学装置によると、色の濃淡の境界領域が生じ難く、色むらの少ないカラー表示を提供することが可能となる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施形態について詳細に説明する。なお、各実施形態においては、図面を参照しながら説明するが、各図において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１６】
（電気光学装置用カラーフィルタの製造方法）
本発明に係る電気光学装置用カラーフィルタの製造方法について、その一例を図１〜図６を参照して説明する。図１〜図６は、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造工程を示した図である。これらの図においては、便宜上多数のドットのうちの一部を示している。
【００１７】
まず、図１に示すように、電気光学装置用基板（以下、単に基板とも言う）３上の全面にＩＴＯなどからなる透明導電膜１９０を形成する。この透明導電膜１９０は、例えばスパッタ法により形成することができる。次に、基板３の全面に形成した透明導電膜１９０を、図２に示すように、ストライプ状にパターニングして、複数の帯状に形成された透明導電層１９を形成する。
【００１８】
図２（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図をそれぞれ示している。この場合において、透明導電層１９は、各ドット毎に導電層１９ａ〜１９ｆとして分割構成され、そのドット毎の導電層１９ａ〜１９ｆは複数（本実施形態の場合は３つ）の導電層を備えて構成されている。なお、透明導電膜１９０のパターニングは、例えばフォトリソグラフィ方法を用い、所定のレジストを形成した後、硝酸と塩酸との混酸等からなるエッチング液を使用して不要部分を除去することにより行うことができる。
【００１９】
次いで、帯状の透明導電層１９上に、電着法によりカラーフィルタ層の着色部を形成する。具体的には図３に示すように、透明導電層１９のうち選択されたドット領域（本実施形態の場合は導電層１９ａ，１９ｄ）のみに、所定の色（この場合は赤色）の着色材料３１ａ〜３１ｃ，３４ａ〜３４ｃを形成するものとしている。この場合、選択された導電層１９ａ，１９ｄについて、その単位となる導電層２１ａ，２１ｂ，２１ｃ、及び導電層２４ａ，２４ｂ，２４ｃ毎に電着する着色材料の量を異なるものとしており、特に本実施形態の場合には、ドット領域の周辺領域（導電層２１ａ，２１ｃ、及び導電層２４ａ，２４ｃ）において電着量を少なくし、中心領域において電着量を多くしている。
【００２０】
このようにドット領域内において、例えば導電層２１ａ，２１ｂ，２１ｃ毎に着色材料３１ａ，３１ｂ，３１ｃの形成量を異ならせるために、本実施形態の場合、電着の際の印加電圧量及び／又は電圧印加時間を、導電層２１ａ，２１ｂ，２１ｃ毎にそれぞれ異ならせて電着を行っている。電着に際しては、例えば、図１３に示すような電着装置を用い、図２に示した透明導電層１９を有する基板３を電解質溶液１２内浸漬し、導電層１９ａ，１９ｄに対し選択的に通電を行うことで、該導電層１９ａ，１９ｃ上のみにパターン化した着色部を得ている。
【００２１】
電着装置は、図１３（ａ）に示すような電解槽１１内に、アニオン型樹脂８、顔料７を水、有機溶媒等の電解質溶媒に溶解・分散させた電解質溶液１２を満たしたものである。電着を行う際には、図２に示した透明導電層１９が形成された基板３を電解質溶液１２に浸漬させる一方、対極となる電極５も浸漬し、透明導電層１９を電極として、対極５との間に電圧を印加することにより、この透明導電層１９の通電した部分、本実施形態の場合、導電層１９ａ，１９ｄに選択的に着色部を形成することができる。
【００２２】
そして特に本実施形態の場合、ドット領域内の周辺領域に形成された導電層２１ａ，２１ｃ，２４ａ，２４ｃと、中心領域に形成された導電層２１ｂ，２４ｂとにおいて通電時間、通電電圧を異ならせ、着色材料の形成量を周辺領域において少なく設定している。
【００２３】
続いて、このようにして形成した着色材料３１ａ〜３１ｃ，３４ａ〜３４ｃ上に、更に着色材料を塗布形成する。具体的には、図４に示すように、導電層１９ａ，１９ｄ上に形成した着色材料３１ａ〜３１ｃ，３４ａ〜３４ｃを覆う態様にて、これら着色材料３１ａ〜３１ｃ，３４ａ〜３４ｃと同色（この場合は赤色）のカラーレジスト（着色材料）４０を基板全面に塗布形成する。なお、カラーレジスト４０は、この場合、赤色に着色されている。
【００２４】
全面形成したカラーレジスト４０に対して露光・現像を行い、図５に示すようにドット領域毎にパターン形成する。この場合、個々の着色材料３１ａ〜３１ｃ、３４ａ〜３４ｃを覆う態様にてカラーレジストをパターニングし、パターン化カラーレジスト４０ａ，４０ｄを形成する。したがって、各着色材料３１ａ〜３１ｃ、３４ａ〜３４ｃの隙間にもカラーレジスト４０ａ，４０ｄが形成され、形成されるカラーレジスト４０ａ，４０ｄの表面（すなわち着色部３１，３４の表面）は段差のない曲凸面となる。以上の工程により、赤色の着色部３１，３４が所定パターンにて形成されることとなる。
【００２５】
さらに、このように赤色着色部３１，３４を形成した基板３上に、図６に示すように、該赤色着色部３１，３４と異なるドット領域の導電層１９ｂ，１９ｅに緑色着色部３２，３５を、さらに異なるドット領域の導電層１９ｃ，１９ｆに青色着色部３３，３６を形成する。すなわち、図１３に示した電着装置において、電解質溶液１２中の顔料の色を変更するとともに、電極として選択する透明導電層を変更して、導電層１９ｂ，１９ｅ、及び導電層１９ｃ，１９ｆに対しそれぞれ通電を行い、同様の電着工程を繰り返すことで、図６に示すような赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色光に対応した着色部３１（３４），３２（３５），３３（３６）を含むカラーフィルタ層１４が形成される。
【００２６】
（電気光学装置用カラーフィルタ）
次に、図６に基づいて、本発明の電気光学装置用カラーフィルタの一実施形態について説明する。
本実施形態のカラーフィルタ１４は、基板３上に形成された複数の導電層１９ａ〜１９ｆと、該導電層１９ａ〜１９ｆ上に形成された着色部３１〜３６とを備えて構成されている。導電層１９ａ〜１９ｆは、ＩＴＯを主体として構成される透明電極であって、それぞれ複数の導電層に分割形成され、例えば導電層１９ａにあっては、該導電層１９ａが１ドットの領域内においてストライプ状の導電層２１ａ〜２１ｃを含んで構成されている。
【００２７】
各着色部３１〜３６は、その層厚が１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄く構成されている。具体的には、着色部３１においては、周辺領域に該当する導電層２１ａ，２１ｃ上では薄膜にて、中心領域に該当する導電層２１ｂでは厚膜にて形成されている。なお、各着色部３１〜３６の層厚は、１ドットの領域内において無段階に変化するものであって、該着色部３１〜３６の表面に段差のない構成とされている。
【００２８】
このように、本実施形態のカラーフィルタ１４は上述した方法により製造されるものであって、着色部の層厚が、１ドットの領域内で中心領域よりも周辺領域において薄く構成されている。したがって、１ドットのエッジ領域において段差が形成され難く、形成されても小さいため、層厚の不連続な変化が原因として生じ得る色むらが生じ難く、すなわち当該カラーフィルタの面内で色の濃淡の境界が生じ難くなる。
【００２９】
（製造方法の変形例）
次に、電気光学装置用カラーフィルタの製造方法について、その一変形例を説明する。
図７は、電着法を用いずにフォトリソグラフィ法により、１ドットの領域において着色部の層厚に分布をもたせる方法である。まず図７（ａ）に示すように、基板３上に着色層５０をベタ状に塗布形成し、これをフォトリソグラフィ法により、図７（ｂ）に示すような赤色第１着色層５１，５４にそれぞれパターン形成する。
【００３０】
さらに図７（ｃ）に示すように、パターン形成した赤色第１着色層５１，５４上に、更に赤色第２着色層６１，６４を形成する。この場合、赤色第２着色層６１，６４は、赤色第１着色層５１，５４よりも狭幅にて構成され、具体的には赤色第１着色層５１，５４の中心領域に形成する。そして、このように積層構成された着色層５１，６１と、着色層５４，６４に対して、図８（ａ）に示すように、図５と同様のカラーレジスト７１，７４を形成する。なお、この場合も各カラーレジスト７１，７４は、赤色に着色されたカラーレジストであって、露光・現像により各着色層上に形成されることとなる。
【００３１】
そして、図８（ｂ）に示すように、緑色着色層５２，６２（５５，６５）、及び青色着色層５３，６３（５６，６６）ついても同様に形成し、これに対して緑色用のカラーレジスト７２，７５、及び青色用のカラーレジスト７３，７６を覆う態様にて形成してカラーフィルタ１４０を得る。このように、フォトリソグラフィ法によっても着色部の層厚を制御可能となり、１ドットの領域内で中央領域よりも周辺領域の層厚を小さくすることができ、該周辺領域において色の濃淡の境界が生じ難くなる。
【００３２】
次に、電着法を用いた製造方法の変形例について説明する。図１〜図６に示したカラーフィルタの製造方法によると、ストライプ状の各導電層１９ａ〜１９ｆについて、その長手方向には層厚の分布はなく、一定の層厚で着色部が長手状に形成されている。そこで、少なくとも２方向において着色部の層厚に分布をもたせ、より一層色の濃淡の境界が生じ難いカラーフィルタを提供可能な製造方法について図９〜図１１を参照しつつ説明する。
【００３３】
図９は、基板３上に形成する導電層の構成を示す平面模式図である。図９において、第１導電層８０及び第２導電層９５は、それぞれ一方向に延びる長手状に形成されているものの、第１導電層８０の一部が、第２導電層９５の一部に食い込んだ形にて構成されている。したがって、第２導電層９５は、第１導電層８０の食い込んだ領域を境にして、複数のドット領域９０，９１等を形成しており、これらドット領域９０，９１等はそれぞれ接続領域９９により通電可能にされている。なお、第１導電層８０と第２導電層９５とは、絶縁部８９を介して互いに絶縁されている。
【００３４】
このような構成の第１導電層８０及び第２導電層９５に対して通電制御を行い、それぞれ電着する着色材料の量を制御する。具体的には、第１導電層８０上に層厚の薄い着色部を形成し、第２導電層９５上に層厚の厚い着色部を形成する。すなわち、図１０に示すように、図９のＡ−Ａ’断面において第１導電層８０上に、層厚の小さい着色部８１ａ，８１ｃを、第２導電層９１上に層厚の大きい着色部８１ｂを形成するものとしている。また、図１１に示すように、図９のＢ−Ｂ’断面において、同じく第１導電層８０上に層厚の小さい着色部８１ａ，８１ｃを、第２導電層９１上に層厚の大きい着色部８１ｂを形成するものとしている。
【００３５】
そして、これら着色部８１ａ〜８１ｃ上に、上記と同様にカラーレジスト８２を形成することにより、Ａ−Ａ’断面及びＢ−Ｂ’断面の互いに交わる方向において層厚の異なる着色部を形成することが可能となる。このような方法により製造されるカラーフィルタは、色の濃淡の境界領域が一層生じ難いものとなる。
【００３６】
（電気光学装置）
次に、上記実施形態の電気光学装置用カラーフィルタ１４を用いた電気光学装置の一実施形態として、液晶表示装置について図１２を参照しつつ説明する。なお、図１２においては、各図において各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００３７】
液晶表示装置２００は、対向して配置された上基板１０１と下基板１０２との間に液晶層１０４が挟持された構成を具備し、該液晶層１０４をシール材１０５で封止した液晶パネル１００と、この液晶パネル１００の背面側（図示下側）に配設されたバックライト（照明装置）１３０とを備えて構成されている。液晶パネル１００の上基板１０１の内面側（液晶層１０４側）には、カラーフィルタ層１１１と、カラーフィルタ層１１１の各色間に形成された遮光膜（図示略）と、これらカラーフィルタ層１１１及び遮光膜１１０を覆う平坦化膜１１２と、共通電極１１３と、配向膜１１５とが形成されており、上基板１０１の外面側（図示上面側）には偏光層１１９が形成されている。
【００３８】
一方、液晶パネル１００の下基板１０２の内面側（液晶層１０４側）には、基板面内においてマトリクス状に配列された画素電極１２０と、その画素電極１２０の上層に形成された配向膜１１６とが設けられ、また、下基板１０２の外面側には偏光層１２９が設けられている。
【００３９】
液晶表示装置２００においては、カラーフィルタ層１１１が上記実施形態の電気光学装置用カラーフィルタにて構成されているため、色の濃淡の境界が生じ難く視認性に優れたカラー表示を提供可能となる。
【００４０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置用カラーフィルタによれば、着色層の層厚が１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において薄く構成されているため、１ドットのエッジ領域においてカラーフィルタに段差が形成され難く、また仮に形成されても小さいため、該カラーフィルタの面内で色の濃淡の境界が生じ難くなる。
【００４１】
また、本発明の電気光学装置用カラーフィルタの製造方法によると、導電層毎に着色層の層厚を異ならせることが可能となり、しかも導電層上に付着した着色材料を覆う態様で更に着色材料を塗布形成しているため、着色層の層厚変化を反映させた形にて該着色層において段差のない構成を提供することが可能となる。特に、１ドットの領域内において導電層を面内に複数形成し、着色材料の膜厚を１ドットの領域のうち中心領域よりも周辺領域において小さくすれば、周辺領域のエッジ部分において段差の少ない若しくは段差の小さい構成のカラーフィルタを提供することが可能となり、ひいては面内で色の濃淡の境界が生じ難い電気光学装置用カラーフィルタを提供可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法における、透明導電膜の形成工程を示す断面図である。
【図２】図１に続く透明導電層のパターン化工程を示すもので、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
【図３】図２に続く着色部の形成工程を示すもので、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
【図４】図３に続く着色部の形成工程を示すもので、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
【図５】図４に続く着色部の形成工程を示すもので、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
【図６】図５に続く着色部の形成工程を示すもので、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
【図７】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一変形例について、その一工程を示す断面図である。
【図８】図７に続く着色部の形成工程を示す断面図である。
【図９】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一変形例について、導電層の形成例を示す平面図である。
【図１０】図９のＡ−Ａ’断面図である。
【図１１】図９のＢ−Ｂ’断面図である。
【図１２】本実施形態の電気光学装置用カラーフィルタを用いた液晶表示装置を示す断面模式図である。
【図１３】電着装置の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
３　基板（電気光学装置用基板）
１４　カラーフィルタ（電気光学装置用カラーフィルタ）
１９　導電層
３１〜３６　着色部（着色層）
【図１】
2004045957.tif 000003
【図２】
2004045957.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004045957.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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