(57)【要約】【課題】ネガ型平版印刷版原版の記録層として有用な、皮膜形成性、皮膜強度および保存安定性に優れた感熱／感光性組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）非酸性の水素結合性基を側鎖に有し、水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物と、（Ｂ）光または熱によりラジカルを生成する化合物と、を含有し、さらに、（Ａ）高分子化合物の好ましい態様としては、エチレン性不飽和結合を側鎖に有することを特徴とする。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）非酸性の水素結合性基を側鎖に有し、水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物と、
（Ｂ）光または熱によりラジカルを生成する化合物と、
を含有する感熱／感光性組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、３次元光造形やホログラフィー、平版印刷用版材、カラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルター等の画像形成材料や、インク、塗料、及び接着剤等に用いられる、熱あるいは光硬化樹脂材料として利用可能な感熱／感光性組成物に関し、特に、コンピュータ等のデジタル信号から各種レーザを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷原版の記録層として好適に用いられる感熱／感光性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に、波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ、ガスレーザは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになっており、これらのレーザは、平版印刷におけるコンピュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源として、非常に有用である。これら各種レーザ光に感応する記録材料については種々研究がなされており、感光波長７６０ｎｍ以上の赤外線レーザ対応型の記録材料としては、米国特許第４７０８９２５号記載のポジ型記録材料、特開平８−２７６５５８号に記載の酸触媒架橋型のネガ型記録材料等が挙げられ、また、３００ｎｍ〜７００ｎｍの紫外光または可視光レーザ対応型の記録材料としては、米国特許２８５０４４５号及び特公昭４４−２０１８９に記載されているラジカル重合型のネガ型記録材料等が代表的に挙げられる。
【０００３】
通常、このようなネガ型の画像記録材料は、光又は熱によりラジカルを発生する化合物と、重合性化合物とを含有し、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型の画像形成材料は、レーザ照射のエネルギーにより記録層の可溶化を起こさせるポジ型に比較して画像形成性が低く、重合による硬化反応を促進させて強固な画像部を形成するため、現像工程前に加熱処理を行うのが一般的である。
このような光又は熱による重合系の記録層を有する印刷版としては、特開平８−１０８６２１号、特開平９−３４１１０号の各公報に記載されるような光重合性或いは熱重合性組成物を記録層として用いる技術が知られている。これらの記録層は高感度画像形成性に優れているものの、支持体として、親水化処理された基板を用いた場合、記録層と支持体との界面における密着性が低く、耐刷性に劣るという問題があった。
【０００４】
また、感度を向上させるため、高出力の赤外線レーザを用いることも検討されているが、レーザー走査時に記録層のアブレーションが発生し光学系を汚染するといった問題が生じる。そのほか、特開平１１−６５１０５号公報に開示されているような、いわゆる化学増幅型感材や、特開２０００−８９４５５公報に開示されるようなエチレン性不飽和化合物の重合を利用した感材が検討されているが、このような感材は光や熱に対する反応性に優れる成分を含有するため、白灯下での取り扱いや保存又は環境温度の変化により、所望されない反応が生起しやすく、保存安定性に劣るという懸念がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、ネガ型平版印刷版原版の記録層として有用な、皮膜形成性、皮膜強度および保存安定性に優れた感熱／感光性組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討の結果、バインダーの機能を果たす高分子化合物として、非酸性の水素結合性基を側鎖に有する水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物を用いることで上記目的が達成されることを見出し、本発明を解決するに至った。
即ち、本発明の感熱／感光性組成物は、（Ａ）非酸性の水素結合性基を側鎖に有し、水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物と、
（Ｂ）光または熱によりラジカルを生成する化合物と、
を含有することを特徴とする。
また、上記（Ａ）非酸性の水素結合性基を側鎖に有し、水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物としては、さらにエチレン性不飽和結合を側鎖に有することが好ましい態様である。
【０００７】
本発明の感熱／感光性組成物においては、バインダーの機能を果たす高分子化合物として、非酸性の水素結合性基を側鎖に有する水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物（以下、適宜「特定アルカリ可溶性高分子」と称する）を用いる。以下、作用は明確ではないが、本発明の感熱／感光性組成物を特にネガ型平版印刷版原版の記録層に使用した場合について説明する。
本発明に用いられる非酸性の水素結合性基とは、プロトン非供与性、且つ、プロトン受容性であり、更には、Ｐａｕｌｉｎｇの電気陰性度の異なる原子が結合した基であり、構成する原子にヘテロ原子を含む場合、そのヘテロ原子に水素原子が結合していない基のことを指す。このような非酸性の水素結合性基としては、例えばニトリル基が挙げられ、この場合、窒素原子上に負電荷が大きく分極しているため、特定アルカリ可溶性高分子中に存在する他の官能基、例えばカルボキシル基などの水素原子と水素結合して強固な膜を形成する。さらには、ニトリル基同士も、その極性により互いに相互作用し強固な膜を形成するため、高強度な画像を形成し、高耐刷性を与えることできる。
【０００８】
また、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子は、好ましくは、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する。この構造は、ラジカル反応性の高い官能基を有するものであるため、露光時のエネルギー付与によりラジカルが発生した後に速やかに特定アルカリ可溶性高分子間で架橋反応を起こす。このような不飽和結合を有する構造単位を高分子組成中に含有することで、硬化膜形成すなわち現像液や有機溶剤に対する不溶化が非常に速く起きる。
さらに、上記の如く、露光後速やかに架橋反応を起こし、また、非酸性の水素結合性基による水素結合あるいは互いの相互作用により架橋密度の高い硬化膜を形成するため、特に赤外線レーザ走査露光によるアブレーション、すなわち、記録層の他の低分子成分、例えば、光熱変換剤などが記録層から放出されるといった現象が生じることなく、したがって、アブレーションに起因する光学系の汚染が抑制されるという効果も奏する。
【０００９】
また、通常、ラジカル重合を利用した硬化膜形成において多くの場合、充分な強度の硬化膜を得るために外部酸素によるラジカル重合阻害を抑制し、充分に反応を進行させる目的で記録層の上層に酸素遮断層（保護層）を設けるが、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子をバインダーとして用いた場合、架橋密度の高い硬化膜が形成されるため、酸素による重合阻害の影響を実質ほとんど受けない。そのため、酸素遮断層を設ける必要がなくなるというメリットを有する。そのほか、本発明に係るバインダーと、感熱／感光性組成物を構成する他の成分、例えばラジカルを生成する化合物と、の相溶性が改善されるため、組成物の経時的な相分離の発生が抑制されることから、保存安定性に優れるものと考えられる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の感熱／感光性組成物は、（Ａ）非酸性の水素結合性基を側鎖に有し、水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物（特定アルカリ可溶性高分子）と、（Ｂ）光または熱によりラジカルを生成する化合物と、を含有することを特徴とする。さらに、本発明の感熱／感光性組成物は、所定の波長の光を吸収し熱に変換する機能を有する（Ｃ）増感色素と、感度および皮膜形成性向上の目的で（Ｄ）ラジカル重合性化合物と、を含有することができる。
また、上記（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子は、エチレン性不飽和結合を側鎖に有することが好ましい。
以下、本発明の感熱／感光性組成物に使用しうる各化合物について順次説明する。
【００１１】
〔（Ａ）非酸性の水素結合性基を側鎖に有し、水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物〕
本発明の感熱／感光性組成物のバインダー成分として使用する高分子化合物は、非酸性の水素結合性基を側鎖に有し、水またはアルカリ水溶液に可溶あるいは膨潤する高分子化合物（特定アルカリ可溶性高分子）である。
なお、本発明において、水又はアルカリ水溶液に可溶とは、特定アルカリ可溶性高分子が、ｐＨ７以上の水またはアルカリ水溶液を加えたときに溶解することを指し、膨潤するとは、特定アルカリ可溶性高分子が、ｐＨ７以上の水またはアルカリ水溶液に加えたときに膨潤することを指す。
【００１２】
本発明において、非酸性の水素結合性基とは、非酸性で水素結合性能を有する基、即ち、プロトン非供与性、且つ、プロトン受容性であり、更には、Ｐａｕｌｉｎｇの電気陰性度の異なる原子が結合した基であり、構成する原子にヘテロ原子を含む場合、そのヘテロ原子に水素原子が結合していない基のことを指す。この様な基の具体例としては、炭素−ハロゲン基、Ｎ位が置換されたアミノ基、ニトリル基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、チオエーテル基、チオカルボニル基、チオエステル基、Ｎ位が置換されたカルバモイル基、Ｎ位が置換されたウレイド基、ホルミル基、Ｎ位が置換されたカルバモイルオキシ基、Ｓ位が置換されたスルフィニル基、スルホニル基、Ｎ位が置換されたスルフィナモイル基、Ｎ位が置換されたスルファモイル基、Ｎ位が置換されたスルホニルスルファモイル基、Ｎ位が置換されたスルホニルカルバモイル基、Ｏ位が置換されたホスホノ基、Ｏ位が置換されたホスホノオキシ基、ニトロ基、窒素原子を含むヘテロ環基等が挙げられ、中でも好ましい基としては、ニトリル基、窒素原子を含むヘテロ環基などが挙げられる。
【００１３】
このような非酸性の水素結合性基を高分子化合物の側鎖に導入する方法としては、非酸性の水素結合性基を有するラジカル重合性化合物１種以上を重合あるいは共重合する方法、または、非酸性の水素結合性基を有するラジカル重合性基１種以上と、その共重合成分として他のラジカル重合性化合物１種以上と、を共重合する方法が挙げられる。このような重合方法としては、懸濁重合法あるいは溶液重合法など、一般に公知の重合法を用いることができ、特に共重合体を形成する場合は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。
なお、特定アルカリ可溶性高分子中の、非酸性の水素結合性基を有する構成単位の含有量は、０．１モル％以上であることを要し、好ましい範囲は、１０〜８０モル％であり、より好ましい範囲は、２０〜６０モル％である。この範囲において皮膜形成性と皮膜強度が良好となる傾向にある。
【００１４】
本発明に係る非酸性の水素結合性基を有するラジカル重合性化合物としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、および下記式（Ａ）で表されるものが好ましい。
【００１５】
【化１】
2004077761.tif 000002
【００１６】
式中、Ｘは、水素原子、メチル基を表し、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、Ｎ−Ｗを表し、Ｗは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｚは、上記非酸性の水素結合性基を有する基を表す。
これらの中でも特に好ましいラジカル重合性化合物としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、芳香族基とニトリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル類、芳香族基とニトリル基を有する（メタ）アクリルアミド類が挙げられる。
ここで、本発明に係る非酸性の水素結合性基を有するラジカル重合性化合物として好ましい具体例（Ａ−１）〜（Ａ−８２）を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１７】
【化２】
2004077761.tif 000003
【００１８】
【化３】
2004077761.tif 000004
【００１９】
【化４】
2004077761.tif 000005
【００２０】
【化５】
2004077761.tif 000006
【００２１】
【化６】
2004077761.tif 000007
【００２２】
【化７】
2004077761.tif 000008
【００２３】
（エチレン性不飽和結合を有する高分子化合物）
本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子は、好ましくは、側鎖に少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する。このようなエチレン性不飽和基としては、下記一般式（１）〜（３）で表されるものが好ましい。
【００２４】
【化８】
2004077761.tif 000009
【００２５】
一般式（１）において、Ｒ１は水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、中でも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、または１価の有機基を表し、１価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられる。中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または−ＮＲ４−を表し、Ｒ４は、水素原子、または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、中でも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００２６】
ここで、上記Ｒ１〜Ｒ４において導入しうる各置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
【００２７】
一般式（２）において、Ｒ４〜Ｒ８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、または１価の有機基を表し、１価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げらる。中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。導入しうる置換基としては、一般式（１）で挙げたものと同様のものが挙げられる。
Ｙは、酸素原子、硫黄原子、又は−ＮＲ４−を表す。Ｒ４としては、一般式（１）で挙げたものと同様のものが挙げられる。
【００２８】
一般式（３）において、Ｒ９は、水素原子または一価の有機基を表し、好ましくは、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、中でも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
Ｒ１０、Ｒ１１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、または１価の有機基を表し、１価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられる。中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
ここで、導入しうる置換基としては、一般式（１）で挙げたものと同様のものが挙げられる。
Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ１２−、または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。Ｒ１２は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、中でも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００２９】
このようなエチレン性不飽和基を側鎖に有する、特定アルカリ可溶性高分子は、下記に示す合成方法１）〜３）の少なくとも１つにより製造することができる。
合成方法１）
▲１▼非酸性の水素結合性基を有するラジカル重合性化合物と、▲２▼下記一般式（４）または（５）で表されるラジカル重合性化合物１種以上と、必要に応じて、▲３▼他のラジカル重合性化合物を１種以上と、を通常のラジカル重合法によって共重合させ、所望の高分子化合物の前駆体を合成した後に、塩基を用いて、プロトンを引き抜きＬ１またはＬ２を脱離させ、非酸性の水素結合性基を有する基と、前記一般式（１）で表される構造と、を側鎖に有する所望の特定アルカリ可溶性高分子を得る方法。
このとき、高分子化合物前駆体の製造には、一般に公知の懸濁重合法あるいは溶液重合法などを適用することができる。その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであってもよい。
【００３０】
【化９】
2004077761.tif 000010
【００３１】
＜▲２▼一般式（４）または（５）で表されるラジカル重合性化合物＞
式中、Ｒ１〜Ｒ３およびＸは前記一般式（１）と同義であり、Ｒ１３〜Ｒ１５はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、特にＲ１３、Ｒ１４は水素原子が好ましく、Ｒ１５は水素原子、メチル基が好ましい。
Ａは、酸素原子、硫黄原子、又は、−Ｎ（Ｒ１６）を表し、ここで、Ｒ１６は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
ｎは、１〜１０の整数を表す。
Ｇは、有機連結基を表す。好ましくは、炭素数１〜２０の置換基を有してもよいアルキル基、炭素数３〜２０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜２０の置換基を有してもよい芳香族基などが挙げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数３〜１０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換基を有してもよい芳香族基が皮膜強度、現像性等の性能上、好ましい。
【００３２】
式中、Ｌ１、Ｌ２は、アニオン性脱離基を表す。具体例としては、ハロゲン原子、スルホン酸基、スルフィン酸基、カルボン酸基、シアノ基、アンモニウム基、アジド基、スルホニウム基、ニトロ基、水酸基、アルコキシ基、フェノキシ基、チオアルコキシ基、オキソニウム基が例として挙げられ、ハロゲン原子、スルホン酸基、アンモニウム基、スルホニウム基が好ましい。中でも、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルキルスルホン酸基、アリールスルホン酸基が特に好ましい。好ましいアルキルスルホン酸基の例としては、メタンスルホン酸基、エタンスルホン酸基、１−プロパンスルホン酸基、イソプロピルスルホン酸基、１−ブタンスルホン酸基、１−オクチルスルホン酸基、１−ヘキサデカンスルホン酸基、トリフルオロメタンスルホン酸基、トリクロロメタンスルホン酸基、２−クロロ−１−エタンスルホン酸基、２，２，２−トリフルオロエタンスルホン酸基、３−クロロプロパンスルホン酸基、パーフルオロ−１−ブタンスルホン酸基、パーフルオロ−１−オクタンスルホン酸基、１０−カンファースルホン酸基、ベンジルスルホン酸基が挙げられる。好ましいアリールスルホン酸基の例としては、ベンゼンスルホン酸基、トランス−ベータ−スチレンスルホン酸基、２−ニトロベンゼンスルホン酸基、２−アセチルベンゼンスルホン酸基、３−（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホン酸基、３−ニトロベンゼンスルホン酸基、４−ニトロベンゼンスルホン酸基、ｐ−トルエンスルホン酸基、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホン酸基、４−フルオロベンゼンスルホン酸基、４−クロロベンゼンスルホン酸基、４−ブロモベンゼンスルホン酸基、４−ヨードベンゼンスルホン酸基、４−メトキシベンゼンスルホン酸基、４−（トリフルオロメトキシ）ベンゼンスルホン酸基、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸基、２−ニトロ−４−（トリフルオロメチル）−ベンゼンスルホン酸基、４−クロロ−３−ニトロベンゼンスルホン酸基、２，４−ジニトロベンゼンスルホン酸基、２−メシチレンスルホン酸基、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホン酸基、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸基、１−ナフタレンスルホン酸基、２−ナフタレンスルホン酸基が挙げられる。
【００３３】
＜▲３▼他のラジカル重合性化合物＞
本発明に係るエチレン性不飽和基を有する高分子化合物には、皮膜強度などの諸性能を向上する目的で、一般式（４）、（５）で表される構造単位を有さない他のラジカル重合性化合物を共重合させることが好ましい。他のラジカル重合性化合物の例としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、Ｎ，Ｎ−２置換アクリルアミド類、Ｎ，Ｎ−２置換メタクリルアミド類、スチレン類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。
【００３４】
具体的には、例えば、アルキルアクリレート（該アルキル基の炭素原子数は１〜２０のものが好ましい）等のアクリル酸エステル類、（具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど）、アリールアクリレート（例えば、フェニルアクリレートなど）、
【００３５】
アルキルメタクリレート（該アルキル基の炭素原子は１〜２０のものが好ましい）等のメタクリル酸エステル類（例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー卜、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど）、アリールメタクリレート（例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど）、
【００３６】
スチレン、アルキルスチレン等のスチレン類、（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン）等が挙げられる。
これらを１種あるいは２種以上用いることができる。
【００３７】
＜脱離反応を生起させるために用いられる塩基＞
また脱離反応を生起させるために用いる塩基としては、アルカリ金属類の水素化物、水酸化物または炭酸塩、有機アミン化合物、金属アルコキシド化合物が好ましい例として挙げられる。
アルカリ金属類の水素化物、水酸化物または、炭酸塩の好ましい例としては、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどが挙げられる。
【００３８】
有機アミン化合物の好ましい例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキシルアミン、Ｎ−エチルジシクロヘキシルアミン、ピロリジン、１−メチルピロリジン、２，５−ジメチルピロリジン、ピペリジン、１−メチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ピペラジン、１，４−ジメチルピペラジン、キヌクリジン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］−オクタン、ヘキサメチレンテトラミン、モルホリン、４−メチルモルホリン、ピリジン、ピコリン、４−ジメチルアミノピリジン、ルチジン、１、８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルエチルアミン、Ｓｃｈｉｆｆ塩基などが挙げられる。
金属アルコキシド化合物の好ましい例としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドなどが挙げられる。これらの塩基は、１種あるいは２種以上の混合であってもよい。
【００３９】
本発明における脱離反応において、塩基を添加する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、水などが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは２種以上混合してもよい。
【００４０】
使用される塩基の量は、化合物中の特定官能基の量に対して、当量以下であってもよく、また当量以上であってもよい。
また、過剰の塩基を使用した場合、脱離反応後、余剰の塩基を除去する目的で酸などを添加することも好ましい形態である。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸、過塩素酸のような無機酸、酢酸、フルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸が例としてあげられる。
脱離反応における、温度条件は、室温、冷却、過熱いずれの条件であってもよい。好ましい温度条件としては、−２０〜１００℃の範囲である。
【００４１】
ここで、上記一般式（４）で表されるラジカル重合性化合物の具体例（Ｍ−１）〜（Ｍ−１３）を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４２】
【化１０】
2004077761.tif 000011
【００４３】
【化１１】
2004077761.tif 000012
【００４４】
ここで、上記一般式（５）で表されるラジカル重合性化合物の具体例（Ｍ−１４）〜（Ｍ−６３）を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４５】
【化１２】
2004077761.tif 000013
【００４６】
【化１３】
2004077761.tif 000014
【００４７】
【化１４】
2004077761.tif 000015
【００４８】
【化１５】
2004077761.tif 000016
【００４９】
【化１６】
2004077761.tif 000017
【００５０】
【化１７】
2004077761.tif 000018
【００５１】
合成方法２）
▲１▼非酸性の水素結合性基を有するラジカル重合性化合物と、以下に詳述するような▲４▼特定の官能基を有するラジカル重合性化合物１種以上と、必要に応じて▲５▼他のラジカル重合性化合物を１種以上と、を通常のラジカル重合法によって共重合し、幹高分子化合物を合成した後に、側鎖の該特定の官能基と、▲６▼下記一般式（６）〜（８）で表される構造を有する化合物と、を反応させ、非酸性の水素結合性基を有する基と、前記一般式（１）〜（３）で表される構造と、を側鎖に有する所望の特定アルカリ可溶性高分子を得る方法。
幹高分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁重合法あるいは溶液重合法などを適用することができる。その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであってもよい。なお、ここで用いられる▲５▼他のラジカル重合性化合物とは、前記合成方法１）における▲３▼他のラジカル重合性化合物と同様のものを用いることができる。
【００５２】
【化１８】
2004077761.tif 000019
【００５３】
＜▲４▼特定の官能基を有するラジカル重合性化合物＞
特定の官能基の例としては、水酸基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、カルボン酸無水物基、アミノ基、ハロゲン化アルキル基、イソシアネート基、エポキシ基等が挙げられる。これら官能基を有するラジカル重合性化合物としては、２−ヒドロキシルエチルアクリレート、２−ヒドロキシルエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメタクリレート、２−クロロエチルメタクリレート、２−イソシアン酸エチルメタクリレート、３−イソシアン酸プロピルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、２−ブロモエチルメタクリレート、３−ブロモプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリルアミド、イタコン酸等が挙げられる。
【００５４】
＜▲６▼一般式（６）〜（８）で表される構造を有する化合物＞
一般式（６）中、Ｒ１〜Ｒ３は、前記一般式（１）と同義である。
一般式（６）で表される基を有する低分子化合物の例としては、２−ヒドロキシルエチルアクリレート、２−ヒドロキシルエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメタクリレート、２−クロロエチルメタクリレート、２−イソシアン酸エチルメタクリレート、３−イソシアン酸プロピルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、２−ブロモエチルメタクリレート、３−ブロモプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリルアミド、イタコン酸等が挙げられる。
【００５５】
一般式（７）中、Ｒ４〜Ｒ８は、前記一般式（２）と同義である。
一般式（７）で表される構造を有する化合物としては、アリルアルコール、アリルアミン、ジアリルアミン、２―アリロキシエチルアルコール、２−クロロ−１−ブテン、アリルイソシアネート等が例として挙げられる。
【００５６】
一般式（８）中、Ｒ９〜Ｒ１１およびＺは、前記一般式（３）と同義である。
一般式（８）で表される基を有する低分子化合物の例としては、エチレングリコールモノビニルエーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、ブチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、１−クロロエチルビニルエーテル、１−アミノエチルビニルエーテル、４−クロロメチルスチレン、ｐ−スチレンカルボン酸等が例として挙げられる。
【００５７】
合成方法３）
▲１▼非酸性の水素結合性基を有するラジカル重合性化合物と、▲７▼前記一般式（７）または（８）で表される不飽和基と、該不飽和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基と、必要に応じて、▲８▼他のラジカル重合性化合物を１種以上と、を通常のラジカル重合法によって共重合し、非酸性の水素結合性基を有する基と、前記一般式（２）または（３）で表される構造と、を側鎖に有する所望の特定アルカリ可溶性高分子を得る方法。
高分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁重合法あるいは溶液重合法などを適用することができる。その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであってもよい。なお、ここで用いられる▲８▼他のラジカル重合性化合物とは、前記合成方法１）における▲３▼他のラジカル重合性化合物と同様のものを用いることができる。
【００５８】
＜▲７▼前記一般式（７）または（８）で表される不飽和基と該不飽和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジカル重合性化合物＞
一般式（７）で表される不飽和基と、該不飽和基よりも更に付加重合性に富んだエチレン性不飽和基と、を有するラジカル重合性化合物としては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、２−アリロキシエチルアクリレート、２−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルアクリレート、プロパルギルメタクリレート、Ｎ−アリルアクリレート、Ｎ−アリルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリルメタクリレート、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等が例として挙げられる。
【００５９】
一般式（８）で表される不飽和基と、該不飽和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基と、を有するラジカル重合性化合物としては、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、２−フェニルビニルアクリレート、２−フェニルビニルメタクリレート、１−プロペニルアクリレート、１−プロペニルメタクリレート、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド等が例として挙げられる。
【００６０】
上記合成方法１）〜３）は、いずれかひとつを行うか、または、それぞれ組み合わせて本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子を得てもよい。
特定アルカリ可溶性高分子中の、一般式（１）〜（３）で表される構造単位の含有量は、０．１モル％以上であることを要し、より好ましい範囲は、３０〜８０モル％である。この範囲において皮膜形成性および皮膜強度が良好となる傾向にある。
【００６１】
また、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子には、水またはアルカリ水溶液に対する溶解性などの諸性能を向上させるために、酸基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることが好ましい。このようなラジカル重合性が有する酸基としては、例えば、カルボン酸、スルホン酸、リン酸基などがあり、特に好ましいものは、カルボン酸である。カルボン酸を含有するラジカル重合性化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、マレイン酸、ｐ−カルボキシルスチレンなどがあり、特に好ましいものは、アクリル酸、メタクリル酸、ｐ−カルボキシルスチレンである。
これらを１種あるいは１種以上用いることができ、特定アルカリ可溶性高分子の酸価は、０．５〜４．０ｍｅｑ／ｇであり、特に好ましくは、アルカリ水現像による画像強度ダメージ抑制という観点から、０．５〜３．０ｍｅｑ／ｇである。３．０ｍｅｑ／ｇを越えるとアルカリ水現像による画像強度ダメージを受けやすくなる。
【００６２】
このような特定アルカリ可溶性高分子を合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独あるいは２種以上混合してもよい。
【００６３】
本発明における特定アルカリ可溶性高分子は、重量平均分子量で、好ましくは４０，０００以上であり、さらに好ましくは、７万〜１８万の範囲である。４万を下回ると皮膜強度が不足し、１８万を越えると、水またはアルカリ水溶液に対する溶解性が低下する。
また、このような特定アルカリ可溶性高分子中には、未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、単量体の高分子化合物中に占める割合は、１５質量％以下が望ましい。
【００６４】
本発明における特定アルカリ可溶性高分子は単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。また、他の高分子化合物を混合して用いてもよい。この場合、他の高分子化合物は、特定アルカリ可溶性高分子中で５０質量％以下で、更に好ましくは１０質量％以下である。
【００６５】
以下に、本発明に係る（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子の具体的な高分子化合物と代表的な合成例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６６】
【表１】
2004077761.tif 000020
【００６７】
【表２】
2004077761.tif 000021
【００６８】
【表３】
2004077761.tif 000022
【００６９】
【表４】
2004077761.tif 000023
【００７０】
【表５】
2004077761.tif 000024
【００７１】
（合成例）
＜高分子化合物４の合成＞
１０００ｍｌ三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド６０ｇを入れ、窒素気流下、７０℃まで加熱した。化合物（Ｍ−１４）３３．５ｇ、アクリロニトリル１２．７ｇ、メタクリル酸３．４ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬製）０．４０１ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド６０ｇ溶液を、２．５時間かけて滴下した。滴下終了後、更に２時間撹拌した。次に、ｐ−メトキシフェノール０．１ｇを入れ、氷水を入れた氷浴にて冷却した。混合液温度が５℃以下になった後に、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）６０．５ｇを滴下ロートを用いて、２時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに６時間撹拌した。反応液を濃塩酸７５ｍｌを溶解させた水３Ｌに投入し高分子化合物４を析出させた。析出した高分子化合物を濾取、水で洗浄、乾燥し高分子化合物を３８ｇ得た。得られた高分子化合物の１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、高分子化合物４であることが確認された。また、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、１０３，０００であった。
【００７２】
＜高分子化合物１２の合成＞
２０００ｍｌ三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２１０ｇを入れ、窒素気流下、７０℃まで加熱した。化合物（Ａ−１）８３．７ｇ、化合物（Ｍ−１４）７４．５ｇ、メタクリル酸２５．８ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬製）１．２０６ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２１０ｇ溶液を、２．５時間かけて滴下した。更に２時間撹拌した。次に、ＴＥＭＰＯ　０．６ｇを入れ、氷水を入れた氷浴にて冷却した。混合液温度が５℃以下になった後に、１、８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）１８２．５ｇを滴下ロート用いて、２時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに６時間撹拌した。反応液を濃塩酸１００ｍｌを溶解させた水８Ｌに投入し高分子化合物１２を析出させた。析出した高分子化合物を濾取、水で洗浄、乾燥し高分子化合物を１０５ｇ得た。得られた高分子化合物の１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、高分子化合物１２であることが確認された。また、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、１０４，０００であった。
【００７３】
さらに、本発明の感熱／感光性組成物に含まれる特定アルカリ可溶性高分子の含有量は固形分で約５〜９５質量％であり、好ましくは、約４０〜９０質量％である。含有量が少なすぎる場合には、皮膜強度が低下する傾向があり、多すぎると皮膜形成性に影響を与え、いずれ好ましくない。
【００７４】
〔（Ｂ）光または熱によりラジカルを生成する化合物〕
本発明の感熱／感光性組成物には、光または熱によりラジカルを生成する化合物（以下、適宜、「ラジカル開始剤」と称する）を含有する。ラジカル開始剤とは、光および／または熱のエネルギーによってラジカルを発生し、前述の（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子、及び、所望により併用される後述の重合性の不飽和基を有する（Ｄ）ラジカル重合性化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。また、本発明に係る（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子は、それ自体が高分子化合物であり、皮膜形成性を有するため、ラジカル開始剤のみを添加することで優れた感熱／感光性組成物となる。
本発明において、好ましいラジカル開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられる。以下に、上記（ａ）〜（ｋ）の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７５】
（ａ）芳香族ケトン類
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ａ）芳香族ケトン類としては、「ＲＡＤＩＡＴＩＯＮ　ＣＵＲＩＮＧ　ＩＮ　ＰＯＬＹＭＥＲ　ＳＣＩＥＮＣＥ　ＡＮＤ　ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ」Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕａｓｓｉｅｒ，Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ（１９９３），ｐ７７−１１７記載のベンゾフェノン骨格あるいはチオキサントン骨格を有する化合物が挙げられる。例えば、
【００７６】
【化１９】
2004077761.tif 000025
【００７７】
が挙げられる。中でも、特に好ましい（ａ）芳香族ケトン類の例としては、特公昭４７−６４１６記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭４７−３９８１記載のベンゾインエーテル化合物、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００７８】
【化２０】
2004077761.tif 000026
【００７９】
特公昭４７−２２３２６記載のα−置換ベンゾイン化合物、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００８０】
【化２１】
2004077761.tif 000027
【００８１】
特公昭４７−２３６６４記載のベンゾイン誘導体、特開昭５７−３０７０４記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭６０−２６４８３記載のジアルコキシベンゾフェノン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００８２】
【化２２】
2004077761.tif 000028
【００８３】
特公昭６０−２６４０３、特開昭６２−８１３４５記載のベンゾインエーテル類、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００８４】
【化２３】
2004077761.tif 000029
【００８５】
特公平１−３４２４２、米国特許第４，３１８，７９１号、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号記載のα−アミノベンゾフェノン類、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００８６】
【化２４】
2004077761.tif 000030
【００８７】
特開平２−２１１４５２記載のｐ−ジ（ジメチルアミノベンゾイル）ベンゼン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００８８】
【化２５】
2004077761.tif 000031
【００８９】
特開昭６１−１９４０６２記載のチオ置換芳香族ケトン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００９０】
【化２６】
2004077761.tif 000032
【００９１】
特公平２−９５９７記載のアシルホスフィンスルフィド、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００９２】
【化２７】
2004077761.tif 000033
【００９３】
特公平２−９５９６記載のアシルホスフィン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００９４】
【化２８】
2004077761.tif 000034
【００９５】
また、特公昭６３−６１９５０記載のチオキサントン類、特公昭５９−４２８６４記載のクマリン類等を挙げることもできる。
【００９６】
（ｂ）オニウム塩化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｂ）オニウム塩化合物としては、下記一般式（９）〜（１１）で表される化合物が挙げられる。
【００９７】
【化２９】
2004077761.tif 000035
【００９８】
式（９）中、Ａｒ１とＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、または炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基が挙げられる。（Ｚ２）−はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
【００９９】
式（１０）中、Ａｒ３は、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１２個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数１２個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。（Ｚ３）−は（Ｚ２）−と同義の対イオンを表す。
【０１００】
式（１１）中、Ｒ２３、Ｒ２４及びＲ２５は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、または炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基が挙げられる。（Ｚ４）−は（Ｚ２）−と同義の対イオンを表す。
【０１０１】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、本願出願人が先に提案した特願平１１−３１０６２３号明細書の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載されたものや特願２０００−１６０３２３号明細書の段落番号［００１５］〜［００４６］に記載されたものを挙げることができる。
【０１０２】
本発明において用いられるオニウム塩は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、さらに３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。
【０１０３】
（ｃ）有機過酸化物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｃ）有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリイブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。
【０１０４】
中でも、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
【０１０５】
（ｄ）チオ化合物
本発明で用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｄ）チオ化合物としては、下記一般式（１２）で示される構造を有する化合物が挙げられる。
【０１０６】
【化３０】
2004077761.tif 000036
【０１０７】
（ここで、Ｒ２６はアルキル基、アリール基または置換アリール基を示し、Ｒ２７は水素原子またはアルキル基を示す。また、Ｒ２６とＲ２７は、互いに結合して酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。）
上記一般式（１２）におけるアルキル基としては炭素原子数１〜４個のものが好ましい。またアリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数６〜１０個のものが好ましく、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれる。Ｒ２７は、好ましくは炭素原子数１〜４個のアルキル基である。一般式（１２）で示されるチオ化合物の具体例としては、下記に示すような化合物が挙げられる。
【０１０８】
【表６】
2004077761.tif 000037
【０１０９】
（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号記載のロフィンダイマー類、例えば２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【０１１０】
（ｆ）ケトオキシムエステル化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｆ）ケトオキシムエステル化合物としては、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。
【０１１１】
（ｇ）ボレート化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｇ）ボレート化合物の例としては、下記一般式（１３）で表される化合物を挙げることができる。
【０１１２】
【化３１】
2004077761.tif 000038
【０１１３】
（ここで、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０およびＲ３１は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素環基を示し、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０およびＲ３１はその２個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０およびＲ３１のうち、少なくとも１つは置換もしくは非置換のアルキル基である。（Ｚ５）＋はアルカリ金属カチオンまたは第４級アンモニウムカチオンを示す。）
上記Ｒ２８〜Ｒ３１のアルキル基としては、直鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８のものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例えば−Ｃｌ、−Ｂｒなど）、シアノ基、ニトロ基、アリール基（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、−ＣＯＯＲ３２（ここでＲ３２は水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す）、−ＯＣＯＲ３３又は−ＯＲ３４（ここでＲ３３、Ｒ３４は炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す）、及び下記式で表されるものを置換基として有するものが含まれる。
【０１１４】
【化３２】
2004077761.tif 000039
【０１１５】
（ここでＲ３５、Ｒ３６は独立して水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す）
上記Ｒ２８〜Ｒ３１のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの１〜３環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数１〜１４のアルキル基を有するものが含まれる。上記Ｒ２８〜Ｒ３１のアルケニル基としては、炭素数２〜１８の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アルケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。上記Ｒ２８〜Ｒ３１のアルキニル基としては、炭素数２〜２８の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。また、上記Ｒ２８〜Ｒ３１の複素環基としてはＮ、ＳおよびＯの少なくとも１つを含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基として挙げたものを有していてもよい。一般式（１３）で示される化合物例としては具体的には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，７７３号に記載されている化合物および以下に示すものが挙げられる。
【０１１６】
【化３３】
2004077761.tif 000040
【０１１７】
（ｈ）アジニウム化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｈ）アジニウム塩化合物としては、特開昭６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭６３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３７号ならびに特公昭４６−４２３６３号記載のＮ−Ｏ結合を有する化合物群をあげることができる。
【０１１８】
（ｉ）メタロセン化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｉ）メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号記載のチタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５３号、特開平１−１５２１０９号記載の鉄−アレーン錯体をあげることができる。
【０１１９】
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−アミノ）フェニル〕チタン、
【０１２０】
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−４−トリル−スルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１２１】
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、等を挙げることができる。
【０１２２】
（ｊ）活性エステル化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｊ）活性エステル化合物としては、特公昭６２−６２２３記載のイミドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０号、特開昭５９−１７４８３１号記載の活性スルホネート類をあげることができる。
【０１２３】
（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、下記一般式（１４）から（２０）のものを挙げることができる。
【０１２４】
【化３４】
2004077761.tif 000041
【０１２５】
（式中、Ｘ２はハロゲン原子をし、Ｙ１は−Ｃ（Ｘ２）３、−ＮＨ２、−ＮＨＲ３８、−ＮＲ３８、−ＯＲ３８を表わす。ここでＲ３８はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ３７は−Ｃ（Ｘ２）３、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基、を表わす。）
【０１２６】
【化３５】
2004077761.tif 000042
【０１２７】
（ただし、Ｒ３９は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘ３はハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）
【０１２８】
【化３６】
2004077761.tif 000043
【０１２９】
（ただし、Ｒ４０は、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ４１は、以下に示す基又はハロゲンであり、Ｚ６は−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ２−である。）
【０１３０】
【化３７】
2004077761.tif 000044
【０１３１】
（Ｒ４２、Ｒ４３はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ４４は一般式（１４）中のＲ３８と同じであり、Ｘ３はハロゲン原子であり、ｍは１又は２である。）
【０１３２】
【化３８】
2004077761.tif 000045
【０１３３】
（ただし、式中、Ｒ４５は置換されていてもよいアリール基又は複素環式基であり、Ｒ４６は炭素原子１〜３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニル基であり、ｐは１、２又は３である。）
【０１３４】
【化３９】
2004077761.tif 000046
【０１３５】
（式（１８）は、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物を表す。Ｌ７は水素原子又は式：ＣＯ−（Ｒ４７）ｑ（Ｃ（Ｘ４）３）ｒの置換基であり、Ｑ２はイオウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−１，２−イレン基、１，２−フェニレン基又はＮ−Ｒ基であり、Ｍ４は置換又は非置換のアルキレン基又はアルケニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基であり、Ｒ４８はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、Ｒ４７は炭素環式又は複素環式の２価の芳香族基であり、Ｘ４は塩素、臭素またはヨウ素原子であり、ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及びｒ＝１又は２である。）
【０１３６】
【化４０】
2004077761.tif 000047
【０１３７】
（式（１９）は、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）−オキサゾール誘導体を表す。Ｘ５はハロゲン原子であり、ｔは１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ４９は水素原子又はＣＨ３−ｔＸ５ｔ基であり、Ｒ５０はｓ価の置換されていてもよい不飽和有機基である）
【０１３８】
【化４１】
2004077761.tif 000048
【０１３９】
（式（２０）は、２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲノ−オキサゾール誘導体を表す。Ｘ６はハロゲン原子であり、ｖは１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ５１は水素原子又はＣＨ３−ｖＸ６ｖ基であり、Ｒ５２はｕ価の置換されていてもよい不飽和有機基である。）
【０１４０】
このような炭素−ハロゲン結合を有する化合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、たとえば、２−フェニル４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、たとえば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン）、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１４１】
【化４２】
2004077761.tif 000049
【０１４２】
また、Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、たとえば２−メチル−４，６−ビス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。さらに特開昭６２−５８２４１号記載の、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１４３】
【化４３】
2004077761.tif 000050
【０１４４】
更に特開平５−２８１７２８号記載の、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１４５】
【化４４】
2004077761.tif 000051
【０１４６】
あるいはさらにＭ．Ｐ．Ｈｕｔｔ、Ｅ．Ｆ．ＥｌｓｌａｇｅｒおよびＬ．Ｍ．Ｈｅｒｂｅｌ著「Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第７巻（Ｎｏ．３）、第５１１頁以降（１９７０年）に記載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができる次のような化合物群、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１４７】
【化４５】
2004077761.tif 000052
【０１４８】
（ｌ）アゾ系化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｉ）アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスプロピオニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等を挙げることができる。
【０１４９】
本発明におけるラジカル開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、を挙げることができ、さらに最も好ましい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、チタノセン化合物、一般式（１４）であらわされるトリハロメチル−Ｓ−トリアジン化合物を挙げることができる。
【０１５０】
これらのラジカル開始剤は、感熱／感光性組成物の全固形分に対し、０．１〜５０質量％、好ましくは、０．５〜３０質量％、特に好ましくは５〜２０質量％の割合で感熱／感光性組成物中に添加することができる。
本発明におけるラジカル開始剤は単独もしくは２種以上の併用によって好適に用いられる。
【０１５１】
〔（Ｃ）増感色素〕
本発明の感熱／感光性組成物には、所定の波長の光を吸収する増感色素を添加することが好ましい。この増感色素が吸収し得る波長の露光により上記ラジカル開始剤のラジカル発生反応や、それによる上記特定アルカリ可溶性高分子の重合反応が促進されるものである。このような増感色素としては、公知の分光増感色素または光を吸収して光ラジカル開始剤と相互作用する染料あるいは顔料が挙げられる。この増感色素の吸収する光の波長により、本発明の感熱／感光性組成物は、紫外線から可視光線および赤外線まで種々の波長に感応する組成物となる。
【０１５２】
＜分光増感色素あるいは染料＞
本発明に用いられる増感色素として好ましい分光増感色素または染料は、多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、フタロシアニン類（例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン）、ポルフィリン類（例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン）、クロロフィル類（例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル）、金属錯体、アントラキノン類、例えば（アントラキノン）、スクアリウム類、例えば（スクアリウム）、例えば、下記化合物等が挙げられる。
【０１５３】
【化４６】
2004077761.tif 000053
【０１５４】
より好ましい分光増感色素又は染料の例としては特公平３７−１３０３４号記載のスチリル系色素、例えば、
【０１５５】
【化４７】
2004077761.tif 000054
【０１５６】
特開昭６２−１４３０４４号記載の陽イオン染料、例えば、
【０１５７】
【化４８】
2004077761.tif 000055
【０１５８】
特公昭５９−２４１４７号記載のキノキサリニウム塩、例えば、
【０１５９】
【化４９】
2004077761.tif 000056
【０１６０】
特開昭６４−３３１０４号記載の新メチレンブルー化合物、例えば、
【０１６１】
【化５０】
2004077761.tif 000057
【０１６２】
特開昭６４−５６７６７号記載のアントラキノン類、例えば、
【０１６３】
【化５１】
2004077761.tif 000058
【０１６４】
特開平２−１７１４号記載のベンゾキサンテン染料、特開平２−２２６１４８号及び特開平２−２２６１４９号記載のアクリジン類、例えば、
【０１６５】
【化５２】
2004077761.tif 000059
【０１６６】
特公昭４０−２８４９９号記載のピリリウム塩類、例えば、
【０１６７】
【化５３】
2004077761.tif 000060
【０１６８】
特公昭４６−４２３６３号記載のシアニン類、例えば、
【０１６９】
【化５４】
2004077761.tif 000061
【０１７０】
特開平２−６３０５３号記載のベンゾフラン色素、例えば、
【０１７１】
【化５５】
2004077761.tif 000062
【０１７２】
特開平２−８５８５８号、特開平２−２１６１５４号の共役ケトン色素、例えば、
【０１７３】
【化５６】
2004077761.tif 000063
【０１７４】
特開昭５７−１０６０５号記載の色素、特公平２−３０３２１号記載のアゾシンナミリデン誘導体、例えば、
【０１７５】
【化５７】
2004077761.tif 000064
【０１７６】
特開平１−２８７１０５号記載のシアニン系色素、例えば、
【０１７７】
【化５８】
2004077761.tif 000065
【０１７８】
特開昭６２−３１８４４号、特開昭６２−３１８４８号、特開昭６２−１４３０４３号記載のキサンテン系色素、例えば、
【０１７９】
【化５９】
2004077761.tif 000066
【０１８０】
特公昭５９−２８３２５号記載のアミノスチリルケトン、例えば、
【０１８１】
【化６０】
2004077761.tif 000067
【０１８２】
特開平２−１７９６４３号記載の以下の一般式（２１）〜（２３）で表わされる色素、
【０１８３】
【化６１】
2004077761.tif 000068
【０１８４】
（式中、Ａ３は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキル又はアリール置換された窒素原子またはジアルキル置換された炭素原子を表し、Ｙ２は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、または置換アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ５３、Ｒ５４は、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、もしくは置換基として、−ＯＲ５５、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｗ−Ｒ５５、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、及び下記式で表される基を有する炭素数１〜１８の置換アルキル基（但し、Ｒ５５は水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｂ１は、ジアルキルアミノ基、水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。ｗは０〜４の整数を表す。）
【０１８５】
【化６２】
2004077761.tif 000069
【０１８６】
特開平２−２４４０５０号記載の以下の一般式（２４）で表されるメロシアニン色素、
【０１８７】
【化６３】
2004077761.tif 000070
【０１８８】
（式中、Ｒ５６およびＲ５７は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を表わす。Ａ４は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。Ｘ７は含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非金属原子群を表わす。Ｙ３は置換フェニル基、無置換ないし置換された多核芳香環、または無置換ないしは置換されたヘテロ芳香環を表わす。Ｚ７は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシカルボニル基を表しし、Ｙ３と互いに結合して環を形成していてもよい。好ましい具体例としては、下記化合物）
【０１８９】
【化６４】
2004077761.tif 000071
【０１９０】
特公昭５９−２８３２６号記載の以下の一般式（２５）で表されるメロシアニン色素、
【０１９１】
【化６５】
2004077761.tif 000072
【０１９２】
（式中、Ｒ５８およびＲ５９はそれぞれ水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を表わし、それらは互いに等しくても異ってもよい。Ｘ８はハメット（Ｈａｍｍｅｔｔ）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．５までの範囲内の置換基を表す）
【０１９３】
特開昭５９−８９３０３号記載の以下の一般式（２６）で表されるメロシアニン色素、
【０１９４】
【化６６】
2004077761.tif 000073
【０１９５】
〔（式中Ｒ６０およびＲ６１は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を表わす。Ｘ９はハメット（Ｈａｍｍｅｔｔ）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．５までの範囲内の置換基を表わす。Ｙ４は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表す）好ましい具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる〕
【０１９６】
【化６７】
2004077761.tif 000074
【０１９７】
特願平６−２６９０４７号記載の以下の一般式（２７）で表されるメロシアニン色素、
【０１９８】
【化６８】
2004077761.tif 000075
【０１９９】
〔（式中、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ７０、Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ基、ニトロ基を表すか、もしくは、Ｒ６２とＲ６３、Ｒ６３とＲ６４、Ｒ６４とＲ６５、Ｒ７０とＲ７１、Ｒ７１とＲ７２、Ｒ７２とＲ７３が互いに結合して脂肪族又は芳香族環を形成していても良く、Ｒ６６は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、又は置換アリール基を表し、Ｒ６７は置換、又は無置換のアルケニルアルキル基、又は置換もしくは無置換のアルキニルアルキル基を表し、Ｒ６８、Ｒ６９はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換カルボニル基を表す）好ましい具体例としては、下記で示す化合物が挙げられる〕
【０２００】
【化６９】
2004077761.tif 000076
【０２０１】
特願平７−１６４５８３号記載の以下の一般式（２８）で表されるベンゾピラン系色素、
【０２０２】
【化７０】
2004077761.tif 000077
【０２０３】
（式中、Ｒ７４〜Ｒ７７は互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基又はアミノ基を表す。またＲ７４〜Ｒ７７はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成していても良い。Ｒ７８は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アルコキシ基、カルボキシ基又はアルケニル基を表す。Ｒ７９はＲ７８で表される基または−Ｚ７−Ｒ７８であり、Ｚ７はカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカルボニル基を表す。またＲ７８及びＲ７９は共に非金属原子から成る環を形成しても良い。Ａ５はＯ原子、Ｓ原子、ＮＨまたは置換基を有するＮ原子を表す。Ｂ２はＯ原子、または＝Ｃ（Ｇ７）（Ｇ８）の基を表す。Ｇ７、Ｇ８は同一でも異なっていても良く、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はフルオロスルホニル基を表す。但し、Ｇ７、Ｇ８は同時に水素原子となることはない。またＧ７及びＧ８は炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成していても良い。）等を挙げることができる。
【０２０４】
その他、増感色素として特に以下の赤外線吸収剤（染料或いは顔料）も好適に使用される。好ましい前記染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載されているシアニン染料、英国特許４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【０２０５】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、さらに、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）公報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や、特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【０２０６】
また、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料、ＥＰ９１６５１３Ａ２号明細書に記載のフタロシアニン系染料も好ましい染料として挙げることができる。
【０２０７】
さらに、特願平１０−７９９１２号公報に記載のアニオン性赤外線吸収剤も、好適に使用することができる。アニオン性赤外線吸収剤とは、実質的に赤外線を吸収する色素の母核にカチオン構造がなく、アニオン構造を有するものを示す。例えば、（イ）アニオン性金属錯体、（ロ）アニオン性カーボンブラック、（ハ）アニオン性フタロシアニン、さらに（ニ）下記一般式（２９）で表される化合物などが挙げられる。これらのアニオン性赤外線吸収剤の対カチオンは、プロトンを含む一価の陽イオン、あるいは多価の陽イオンである。
【０２０８】
【化７１】
2004077761.tif 000078
【０２０９】
ここで、（イ）アニオン性金属錯体とは、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属および配位子全体でアニオンとなるものを示す。
【０２１０】
（ロ）アニオン性カーボンブラックは、置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等のアニオン基が結合しているカーボンブラックが挙げられる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、カーボンブラック便覧第三版（カーボンブラック協会編、１９９５年４月５日、カーボンブラック協会発行）第１２頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラックを酸化する等の手段をとればよい。
【０２１１】
（ハ）アニオン性フタロシアニンは、フタロシアニン骨格に、置換基として、先に（ロ）の説明において挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニオンとなっているものを示す。
【０２１２】
次に、前記（ニ）一般式（２９）で表される化合物、について、詳細に説明する。前記一般式（２９）中、Ｇ９はアニオン性置換基を表し、Ｇ１０は中性の置換基を表す。（Ｘ１０）＋は、プロトンを含む１〜ｍ価のカチオンを表し、ｍは１ないし６の整数を表す。Ｍ５は共役鎖を表し、この共役鎖Ｍ５は置換基や環構造を有していてもよい。共役鎖Ｍ５は、下記式で表すことができる。
【０２１３】
【化７２】
2004077761.tif 000079
【０２１４】
式中、Ｒ８０、Ｒ８１、Ｒ８２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基を表し、これらは互いに連結して環構造を形成していてもよい。ｎは、１〜８の整数を表す。
【０２１５】
前記一般式（２９）で表されるアニオン性赤外線吸収剤のうち、以下のＩＲＡ−１〜ＩＲＡ−５のものが、好ましく用いられる。
【０２１６】
【化７３】
2004077761.tif 000080
【０２１７】
また、以下のＩＲＣ−１〜ＩＲＣ−４４に示すカチオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
【０２１８】
【化７４】
2004077761.tif 000081
【０２１９】
【化７５】
2004077761.tif 000082
【０２２０】
【化７６】
2004077761.tif 000083
【０２２１】
【化７７】
2004077761.tif 000084
【０２２２】
【化７８】
2004077761.tif 000085
【０２２３】
【化７９】
2004077761.tif 000086
【０２２４】
【化８０】
2004077761.tif 000087
【０２２５】
【化８１】
2004077761.tif 000088
【０２２６】
【化８２】
2004077761.tif 000089
【０２２７】
前記構造式中、Ｔ−は、１価の対アニオンを表し、好ましくは、ハロゲンアニオン（Ｆ−，Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−）、ルイス酸アニオン（ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＣｌＯ４−）、アルキルスルホン酸アニオン、アリールスルホン酸アニオンである。
【０２２８】
前記アルキルスルホン酸のアルキルとは、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基を意味し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【０２２９】
また前記アリールスルホン酸のアリールとは、１個のベンゼン環からなるもの、２又は３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを表し、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらの中でも、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【０２３０】
また、以下のＩＲＮ−１〜ＩＲＮ−９に示す非イオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
【０２３１】
【化８３】
2004077761.tif 000090
【０２３２】
【化８４】
2004077761.tif 000091
【０２３３】
【化８５】
2004077761.tif 000092
【０２３４】
前記例示化合物中、特に好ましいアニオン性赤外線吸収剤としてはＩＲＡ−１が、カチオン性赤外線吸収剤としてはＩＲＣ−７、ＩＲＣ−３０、ＩＲＣ−４０、およびＩＲＣ−４２が、非イオン性赤外線吸収剤としてはＩＲＮ−９が挙げられる。
【０２３５】
＜顔料＞
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【０２３６】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０２３７】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２３８】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像記録層の均一性の点で好ましくない。
【０２３９】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２４０】
なお、本発明の感熱／感光性組成物の硬化反応を促進するために添加される増感色素は組成物中に他の成分とともに直接添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることができる。
特に、本発明の感熱／感光性組成物を後述する平版印刷版原版のネガ型画像記録層に使用する場合、該画像記録層の同一の層に添加してもよいし、別の層を設け、そこへ添加してもよいが、ネガ型画像記録材料を作成した際に、記録層の波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲における吸収極大での光学濃度が、０．１〜３．０の間にあることが好ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記増感色素の添加量と記録層の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより得られる。記録層の光学濃度は常法により測定することができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。
【０２４１】
〔（Ｄ）ラジカル重合性化合物〕
本発明の感熱／感光性組成物には、感度、皮膜形成性を向上させる目的で、ラジカル重合性化合物を併用することができる。ここで、併用可能なラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。
【０２４２】
モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
【０２４３】
また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。
【０２４４】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【０２４５】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０２４６】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
【０２４７】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
【０２４８】
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
【０２４９】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【０２５０】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
【０２５１】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
【０２５２】
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものをあげる事ができる。
【０２５３】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（３０）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【０２５４】
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ８３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ８４）ＯＨ　　　一般式（３０）
【０２５５】
一般式（３０）中、Ｒ８３及びＲ８４は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。
【０２５６】
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
【０２５７】
さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。
【０２５８】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等もあげることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【０２５９】
ラジカル重合性化合物は単独で用いても２種以上併用してもよい。これらのラジカル重合性化合物について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な感熱／感光性組成物の性能設計にあわせて、任意に設定できる。
【０２６０】
但し、本発明の感熱／感光性組成物を平版印刷版原版の記録層として使用する場合には、感熱／感光性組成物中のラジカル重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、記録層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、記録層成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して５〜８０質量％、好ましくは２０〜７５質量％である。
【０２６１】
特に、本発明において、前記（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子と、（Ｄ）ラジカル重合性化合物とを併用する場合、（Ａ）成分と（Ｄ）成分の比率は、質量比で、１：０．０５〜１：３の範囲で併用され、好ましくは１：０．１〜１：２の範囲、さらに好ましくは１：０．３〜１：１．５の範囲である。
【０２６２】
ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面接着性等の観点から、適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。
以上のようにして得られた本発明の感熱／感光性組成物は、被膜形成性、被膜強度および保存安定性に優れ、特に、ネガ型の平版印刷版原版の記録層として好適に用いられる。
【０２６３】
〔平版印刷版原版への応用〕
本発明の感熱／感光性組成物を、平版印刷版原版の記録層として用いる際は、上記感熱／感光性組成物を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより製造することができる。また、目的に応じて、後述する種々の添加剤、保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
【０２６４】
本発明の感熱／感光性組成物には、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等、及び特開昭６２−２９３２４７号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。
【０２６５】
これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、記録層塗布液全固形分に対し、０．０１〜１０質量％の割合である。
【０２６６】
また、本発明においては、感熱／感光性組成物の調製中あるいは保存中においてラジカル重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．１質量％〜約１０質量％が好ましい。
【０２６７】
また、本発明の感熱／感光性組成物は、主として平版印刷版原版の記録層を形成するために用いられるが、そのような記録層の現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号や特開平３−２０８５１４号に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
【０２６８】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
【０２６９】
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【０２７０】
さらに、本発明に係る記録層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
【０２７１】
本発明の感熱／感光性組成物を使用して平版印刷版原版を製造するには、通常、感熱／感光性組成物の構成成分を塗布液に必要な各成分とともにを溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
【０２７２】
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、平版印刷版原版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ２が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、記録層の皮膜特性は低下する。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
【０２７３】
本発明に係る記録層塗布液には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全記録層の材料固形分中０．０１〜１質量％、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。
【０２７４】
（支持体）
本発明の感熱／感光性組成物を用いて平版印刷版原版を形成する場合に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、２以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。
【０２７５】
前記支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
前記アルミニウム板の厚みは、およそ０．１〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２〜０．３ｍｍである。
【０２７６】
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
【０２７７】
このように粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【０２７８】
陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ２、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ２以上が好適であるが、より好ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ２の範囲である。陽極酸化被膜が１．０ｇ／ｍ２未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ２の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
【０２７９】
支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化処理の後に施されるものであり、従来より知られている処理法が用いられる。このような親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩（例えば、珪酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号公報に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
これらの中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理について、以下に説明する。
【０２８０】
上述の如き処理を施したアルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜１０質量％であり、２５℃でのｐＨが１０〜１３である水溶液に、例えば１５〜８０℃で０．５〜１２０秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨが１０より低いと液はゲル化し１３．０より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨを高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第ＩＶＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第ＩＶＢ族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、第ＩＶＢ族金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は０．０１〜１０質量％であり、更に好ましい範囲は０．０５〜５．０質量％である。
珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。
【０２８１】
（バックコート層）
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
【０２８２】
（保護層）
一般的な平版印刷版原版においては、通常、露光を大気中で行うため、記録層の上に、さらに保護層を設けることができる。この様な保護層に望まれる特性としては、酸素等の低分子化合物の透過性が低く、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることであり、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが一般的である。
一方、本発明の感熱／感光性組成物は、酸素などの重合阻害による画像形成性の低下を抑制し得るという利点を有するため、必ずしもこのような保護層を備えなくてもよいが、さらに外部からの酸素遮断性を高め、画像形成性、特に、画像強度を高める目的で上記保護層を備えてもよい。
【０２８３】
（露光、現像および印刷）
上述された支持体表面に、本発明の感熱／感光性組成物を記録層として作製した平版印刷版原版は、赤外線レーザで記録することができる。また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。本発明においては、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。
【０２８４】
赤外線レーザにより露光した後、本発明の感熱／感光性組成物は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。
【０２８５】
現像液として、アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明の感熱／感光性組成物の現像液及び補充液としては、従来公知のアルカリ性水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【０２８６】
さらに、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
【０２８７】
現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しくはその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくはその誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもできる。
【０２８８】
さらに、現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナトリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
【０２８９】
以上記述した現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感熱／感光性組成物を印刷用版材として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０２９０】
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、電気伝導度をセンサーにて感知し、自動的に補充することもできる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【０２９１】
以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
【０２９２】
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。また、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ２（乾燥質量）が適当である。
整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー（例えば、富士写真フイルム（株）より販売されているバーニングプロセッサー：ＢＰ−１３００）等で高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。
【０２９３】
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
【０２９４】
このような処理によって、本発明の感熱／感光性組成物より得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０２９５】
【実施例】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本願実施例においては、本発明の感熱／感光性組成物を記録層として用いた平版印刷版についての評価を行い、その評価を本発明の感光性組成物の評価とする。
〔実施例１〜７、比較例１〜３〕
［支持体の作成］
９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆｅ　０．３０％、Ｓｉ　０．１０％、Ｔｉ　０．０２％、Ｃｕ　０．０１３％を含むＪＩＳ　Ａ１０５０合金の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５００ｍｍの鋳塊を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように５５０℃で１０時間均質化処理を行った。次いで、４００℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で５００℃、６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さＲａを０．２μｍに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。
【０２９６】
次に平版印刷版支持体とするための表面処理を行った。
まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。
次いで、支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ２、デューティー比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ２を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。
さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより１４Ａ／ｄｍ２の直流で電解処理を行うことで２．５ｇ／ｍ２の陽極酸化皮膜を作成した。
その後、印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は３号珪酸ソーダ１．５％水溶液を７０℃に保ちアルミウェブの接触時間が１５秒となるよう通搬し、さらに水洗した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ２であった。以上により作成した支持体のＲａ（中心線表面粗さ）は０．２５μｍであった。
【０２９７】
［記録層の形成］
下記記録層塗布液１を調製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ２の範囲内であった。
なお、本発明の実施例に使用したアルカリ可溶性高分子は、前記合成例により得られた特定アルカリ可溶性高分子であり、比較例に使用したアルカリ可溶性高分子（Ｐ−１）〜（Ｐ−３）の構成単位については以下に示す。
【０２９８】
＜記録層塗布液１＞
・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表７に記載の化合物、表７に記載の量）
・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表７に記載の化合物、表７に記載の量）
・増感色素：（Ｃ）成分（表７に記載の化合物）　　　　　　　　　０．１５ｇ
・ラジカル開始剤：（Ｂ）成分（表７に記載の化合物）　　　　　　０．２０ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸　　　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・ｐ−メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００１ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０２９９】
【表７】
2004077761.tif 000093
【０３００】
比較例に使用したアルカリ可溶性高分子（Ｐ−１）〜（Ｐ−３）の構成単位を以下に示す。
【０３０１】
【化８６】
2004077761.tif 000094
【０３０２】
同様に本発明の実施例および比較例に使用したラジカル開始剤（Ｓ−１）〜（Ｓ−５）の構造を以下に示す。
【０３０３】
【化８７】
2004077761.tif 000095
【０３０４】
同様に本発明の実施例および比較例に使用した増感色素（Ｃ−１）、（Ｃ−２）および（ＩＲ−１）〜（ＩＲ−３）の構造を以下に示す。
【０３０５】
【化８８】
2004077761.tif 000096
【０３０６】
同様に本発明の実施例および比較例に使用したラジカル重合性化合物（ＤＰＨＡ）、（Ｕ−１）、（Ｕ−２）の構造を以下に示す。
【０３０７】
【化８９】
2004077761.tif 000097
【０３０８】
さらにポリビニルアルコール（ケン化度８６．５〜８９モル％、重合度１０００）の３質量％の水溶液を乾燥塗布質量が２ｇ／ｍ２となるように塗布し、１００℃で２分間乾燥させ、記録層上に保護層を形成してなる平版印刷版原版を得た。
【０３０９】
［露光］
７５ｍＷ空冷ＹＡＧ−ＳＨＧレーザー（露光波長５３２ｎｍ）を光源とした走査露光系にて、０．２０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で走査露光した。
【０３１０】
［現像処理］
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０３１１】
［耐刷性の評価］
次に、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前記表７に併記する。
表７に明らかなように、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子を用いた実施例１〜７の平版印刷版は、本発明の範囲外のアルカリ可溶性高分子を用いた比較例１〜３の平版印刷版に比べ、耐刷性に優れることが確認された。
【０３１２】
〔実施例８〜１１、比較例４、５〕
実施例１〜７で用いたのと同様のアルミニウム支持体上に、下記に示す記録層塗布液２を支持体上に、ワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、１．２〜１．３ｇ／ｍ２の範囲内であった。
【０３１３】
＜記録層塗布液２＞
・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表８に記載の化合物、表８に記載の量）
・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表８に記載の化合物、表８に記載の量）
・増感色素「ＩＲ−１」：（Ｃ）成分　　　　　　　　　　　　　　０．０９ｇ
・ラジカル開始剤「Ｓ−３」：（Ｂ）成分　　　　　　　　　　　　０．３５ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸　　　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム　０．００１ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０３１４】
【表８】
2004077761.tif 000098
【０３１５】
［露光］
得られた平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力６．５Ｗ、外面ドラム回転数８１ｒｐｍ、版面エネルギー１８８ｍＪ／ｃｍ２、解像度、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０３１６】
［現像処理］
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処理した。現像液は、下記「Ｄ−１」を仕込み液、下記「Ｄ−２」を補充液に用いた。現像欲浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０３１７】
＜現像液［Ｄ−１］＞
・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３ｇ
・炭酸水素カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ｇ
・亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル　　　　　　　　　１５０ｇ
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩　　　　　　　　　　　５０ｇ
・エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩　　　　　　　　　　　　　　８ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８５ｇ
【０３１８】
＜現像液［Ｄ−２］＞
・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６ｇ
・炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ｇ
・亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル　　　　　　　　　１５０ｇ
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩　　　　　　　　　　　５０ｇ
・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩　　　　　　　　　　　　　４ｇ
・シリコンＴＳＡ−７３１（東芝シリコーン社（株）製）　　　　　０．１ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８６．９ｇ
【０３１９】
［耐刷性、汚れ性および保存安定性の評価］
得られた平版印刷版を、前記実施例１〜７と同様に印刷した。また、得られた平版印刷版原版を、それぞれ６０℃で３日間保存、及び、４５℃、湿度７５％ＲＨで３日間保存して強制経時させた後、同様に印刷を行ない、耐刷性、汚れ性および保存安定性を評価した。結果を前記表８に併記する。
表８に明らかなように、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子を用いた実施例８〜１１の平版印刷版は、本発明の範囲外のアルカリ可溶性高分子を用いた比較例４、５の平版印刷版に比べ、耐刷性に優れ、非画像部の汚れもみられなかった。また、高温高湿度環境下で保存した後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、保存安定性に優れていることがわかった。
【０３２０】
〔実施例１２〜１７、比較例６、７〕
実施例１〜７で用いたのと同様のアルミニウム支持体上に、下記に示す下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃雰囲気下で３０秒間乾燥した。乾燥塗布量は、１０ｍｇ／ｍ２であった。
＜下塗り層用塗布液＞
下記組成の化合物を混合し、下塗り層用塗布液を調製した。
・２−アミノエチルホスホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０ｇ
【０３２１】
下記に示す記録層塗布液３を前記下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、１．２〜１．３ｇ／ｍ２の範囲内であった。
【０３２２】
＜記録層塗布液３＞
・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表９に記載の化合物、表９に記載の量）
・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表９に記載の化合物、表９に記載の量）
・赤外線吸収剤「ＩＲ−２」：（Ｂ）成分　　　　　　　　　　　　０．１０ｇ
・ラジカル開始剤「Ｓ−４」：（Ｃ）成分　　　　　　　　　　　　０．４０ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸　　　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム　０．００１ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０３２３】
【表９】
2004077761.tif 000099
【０３２４】
［露光］
得られた平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力６．５Ｗ、外面ドラム回転数８１ｒｐｍ、版面エネルギー１８８ｍＪ／ｃｍ２、解像度、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０３２５】
［現像処理］
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０３２６】
［耐刷性、汚れ性および保存安定性の評価］
得られた平版印刷版を、前記実施例１〜７と同様に印刷した。また、得られた平版印刷版原版を、それぞれ６０℃で３日間保存、及び、４５℃、湿度７５％ＲＨで３日間保存して強制経時させた後、同様に印刷を行ない、耐刷性、汚れ性および保存安定性を評価した。結果を前記表９に併記する。
表９に明らかなように、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子を用いた実施例１２〜１７の平版印刷版は、本発明の範囲外のアルカリ可溶性高分子を用いた比較例６、７の平版印刷版に比べ、耐刷性に優れ、非画像部の汚れもみられなかった。また、高温高湿度環境下で保存した後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、保存安定性に優れていることがわかった。
【０３２７】
〔実施例１８〜２１、比較例８〕
［支持体の作成］
厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム版をナイロンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁波とを用いその表面を砂目立てした後、水でよく洗浄した。１０質量％水酸化ナトリウム水溶液に７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、２０質量％硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをＶＡ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１質量％硝酸水溶液中で１６０クーロン／ｄｍ２の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、０．６μｍ（Ｒａ表示）であった。引き続いて３０質量％の硫酸水溶液中に浸漬し５５℃で２分間デスマットした後、２０質量％硫酸水溶液中、電流密度２Ａ／ｄｍ２において、陽極酸化被膜の厚さが２．７ｇ／ｍ２になるように、２分間陽極酸化処理した。
【０３２８】
［下塗り層の形成］
次に下記の手順によりＳＧ法の液状組成物（ゾル液）を調整した。
＜ゾル液組成物＞
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１３０ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０ｇ
・８５質量％リン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６ｇ
・テトラエトキシシラン　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｇ
・３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン　　　　　　６０ｇ
上記ゾル液組成物を混合し、撹拌した。約５分で発熱が認められた。６０分間反応させた後、内容物を別の容器へ移し、メタノール３０００ｇを加えることにより、ゾル液を得た。
このゾル液をメタノール／エチレングリコール＝９／１（質量比）で希釈して、基板上のＳｉの量が３０ｍｇ／ｍ２となるように塗布し、１００℃１分間乾燥させた。
このように処理されたアルミニウム支持体上に、下記に示す組成の感光層塗布液４を上記の下塗り済みのアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ２の範囲内であった。
【０３２９】
＜感光層塗布液４＞
・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表１０に記載の化合物）　　　１．２ｇ
・ラジカル重合性化合物「ＤＰＨＡ」：（Ｄ）成分　　　　　　　　　０．８ｇ
・赤外線吸収剤「ＩＲ−３」：（Ｃ）成分　　　　　　　　　　　　０．０９ｇ
・スルホニウム塩「Ｓ−５」：（Ｂ）成分　　　　　　　　　　　　０．３５ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸　　　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・ｐ−メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００１ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０３３０】
【表１０】
2004077761.tif 000100
【０３３１】
［露光］
得られた平版印刷版原版を、マルチチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ　Ｔ−９０００ＣＴＰにて、ビーム１本当たりの出力２５０ｍＷ、外面ドラム回転数８００ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０３３２】
［現像処理］
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム（株）製ＤＶ−１の１：４水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＧＵ−７の１：２水希釈液を用いた。
【０３３３】
［耐刷性、汚れ性の評価］
次に、ハイデルベルクＳＯＲ一ＫＺ印刷機を用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを計測し、耐刷性を評価した。また、得られた印刷物について非画像部の汚れ性を目視にて評価した。結果を前記表１０に併記する。
表１０に明らかなように、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子を用いた実施例１８〜２１の平版印刷版は、本発明の範囲外のアルカリ可溶性高分子を用いた比較例８の平版印刷版に比べ、耐刷性に優れ、非画像部の汚れもみられなかった。
以上、実施例によれば、本発明の感熱／感光性組成物を記録層として用いた平版印刷版は、耐刷性、汚れ性および保存安定性に優れており、したがって、本発明の感熱／感光性組成物は、皮膜形成性、皮膜強度、及び保存安定性に優れることが確認された。
【０３３４】
【発明の効果】
本発明によれば、ネガ型平版印刷版原版の記録層として有用な、皮膜形成性、皮膜強度および保存安定性に優れた感熱／感光性組成物を得ることができる。