(57)【要約】【目的】基板に塗布するインキ液の状態が最初の１枚目と２枚目以降で変化せず、常に一定に保たれるようにする。【構成】版１に接近させて軸と平行に洗浄・乾燥装置７を取り付け、この洗浄・乾燥装置７の中心部に設けた噴射スリット８から水（Ａ）を噴射して回転方向に沿って版面を洗浄する。同時に、噴射スリット８の前後に設けた吸引スリット９によって染料が溶けた水を版１と洗浄・乾燥装置７の隙間ｂから入った空気（Ｂ）と一緒に吸い込んで版面を脱水する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を版胴に留めた版に塗布して薄膜を形成し、
この薄膜を版から基板に転写塗布して偏光膜を作製する工程において、
前記インキ液の薄膜を基板に転写塗布する毎に版の洗浄と乾燥処理を行うことを特徴とする偏光膜の製造方法。
【請求項２】
前記インキ液を塗布した版に洗浄液を噴射し、
同時に版に付着した洗浄液を空気と一緒に吸い込んで前記版の洗浄と乾燥処理を行うことを特徴とする請求項１記載の偏光膜の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄液を横方向の流路パターンと縦方向の流路パターンを内側に形成したスリットから噴射することを特徴とする請求項２記載の偏光膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイの製造方法に係わり、特に二色性染料のインキを塗布して偏光膜を形成する技術を適用した偏光膜の製造方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】
従来、液晶セルの両面に配置する偏光板は、パネル検査を合格した液晶セルの外側に接着剤を用いて貼り付けていた。
このため、スクライバで分断した液晶セルの一つ一つに偏光板を貼り合わせる必要があり、作業性が非常に悪かった。
また、貼合せ時に位置決め精度や密着強度の確保、気泡やダスト混入の防止、静電気の発生防止などさまざまな対策を必要とし、その後の工程で偏光板とパネルの密着性の強化や間に残存する気泡の除去などのためにオートクレーブ処理を行うなど、その組立てに多くの時間と労力を費やしていた。
【０００３】
この問題を解決するために、本出願人は米国Ｏｐｔｉｖａ社の開発した二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を通常のフレキソ印刷装置でガラスやプラスチック基板に剪断力をかけながら塗布して偏光膜を作製する技術を開発し、先に出願している。この技術により偏光板の貼り付け作業を必要としない液晶セルの組立てが可能になり、ＬＣＤの生産効率が大幅にアップされた。
【０００４】
このインキ液の基本単位は、図５に示すような染料物質である。これにいくつかのスルホン酸基をつけアンモニウム塩にする。これを定まった割合に混合し、所定の濃度に調整する。溶剤は水である。ｐＨは５〜６程度である。
この染料の長円板状の分子であり、その周辺に置換されたスルホン酸基は親水性である。平板に垂直な方向はπ電子が非局在化して疎水性である。従って、この分子が水の中に存在すると、疎水性の部分が積み重なりあってスティック状の超分子複合体に成長する。この重なり合う力は水系結合より弱い力である。
塗布に適する濃度は１０〜１５％である。この値でスティックの長さと幅の比（アスペクト比）は１５０程になるといわれている。
濃度がこの範囲より下ると、超分子複合体の成長が不充分で、塗布により染料分子を規則正しく整列させて偏光性能を持たせることはできない。
一方、濃度が１５％以上になると粘度が上り、結晶化して塗布できない。
１０〜１５％は塗布に適した濃度である。この範囲は主にすでに述べた基本となる染料の調合割合によって変化する。
このスティック状の超分子複合体は熱振動によって離れ離れになったり、再結合を繰り返している。そのため、濃度・温度等の状態を変えると平衡状態になるまでに７２時間程の時間がかかる。
【０００５】
このインキ液を通常のフレキソ印刷装置で基板に塗布する場合、最初の１枚目は問題なく均一に塗布できる。
ところが、２枚目からは前回の残っている液と新たに供給された液が混合して状態が変わるため、所望の偏光性能を持たせることができなくなる。
【０００６】
そこで本発明は、基板に塗布するインキ液の状態が最初の１枚目と２枚目以降で変化せず、常に一定に保たれるようにすることを目的になされたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明は以下のように構成した。
【０００８】
すなわち、本発明の偏光膜の製造方法は、二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を版胴に留めた版に塗布して薄膜を形成し、この薄膜を版から基板に転写塗布して偏光膜を作製する工程において、前記インキ液の薄膜を基板に転写塗布する毎に版の洗浄と乾燥処理を行うことにより上記目的が達成される。
【０００９】
また、本発明の偏光膜の製造方法は、前記インキ液を塗布した版に洗浄液を噴射し、同時に版に付着した洗浄液を空気と一緒に吸い込んで前記版の洗浄と乾燥処理を行うことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の偏光膜の製造方法は、前記洗浄液を横方向の流路パターンと縦方向の流路パターンを内側に形成したスリットから噴射することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
【００１２】
図１に、本発明を実施した偏光膜作製処理の模式図を示す。
偏光膜作製処理は、印刷方向に沿って多数の微細溝ａを有する版１を版胴２に取り付け、回転している版１に横長のディスペンサ３から前述のインキ液を滴下してブレード４で塗り広げ、液晶状態の二色性染料を微細溝ａに押し込める。
このとき、ブレード４は版１に接することなくわずかなギャップを設けて保持されているので、版面にインキ液の薄膜が形成される。
そして、印刷テーブル５上に固定された基板６が版胴２直下を通過するときにこのインキ液の薄膜が版１から基板６に転写塗布される。
【００１３】
図２に、本発明を実施した版の洗浄と乾燥処理の模式図を示す。
版の洗浄と乾燥処理は、版１に接近させて軸と平行に洗浄・乾燥装置７を取り付け、この洗浄・乾燥装置７の中心部に設けた噴射スリット８から水（Ａ）を噴射して回転方向に沿って版面を洗浄する。
同時に、噴射スリット８の前後に設けた吸引スリット９によって染料が溶けた水を版１と洗浄・乾燥装置７の隙間ｂから入った空気（Ｂ）と一緒に吸い込んで版面を脱水する。
【００１４】
このとき吸い込んだ空気（Ｂ）の流れによって脱水と同時に版面が乾燥する。
噴射スリット８と吸引スリット９の間から空気を吹き出して版面を乾燥させてもよいが、その必要はなく吸い込んだ空気（Ｂ）だけで十分乾燥する。
また、このとき隙間ｂの間隔と吸引スリット９の真空圧を調節して版面に付着した水が垂れ落ちないようにする。
これにより、通常の印刷速度に見合った速さで版１を洗浄して乾燥させることができる。
なお、噴射スリット８から水を吹き出すときは、霧状に吹き出すと水の節約に役立つ。
【００１５】
洗浄・乾燥装置７は、図３に示すように、サイドウォール１０を介して一体に版胴２に取り付ける構造で、簡単に取付け・取外しができるようになっている。
そのため、基板６を１回塗布する度に版胴２を取り外して洗浄・乾燥し、別に洗浄・乾燥した版胴２をワンタッチで取り付けて次の基板６を塗布することもできる。
【００１６】
噴射スリット８は、図４（ａ）（ｂ）に示すように、２枚の金属板８１の間に多数の仕切板８２をサンドイッチ状に挟んで流路パターンを形成する構成で、先端部を縦長の仕切板８２で区切って多数のノズル８３を形成し、その上流を横長の仕切板８２で区切って給水口８４の先を分流し、各ノズル８３に供給する水の分量を均一に制御する。
仕切板８２は、版１の製作と同様にペットフィルム上に付着した感光性樹脂をパターン露光し、露光しなかった部分を洗い流すことで形成する。
吸引スリット９は、噴射スリット８の両側を挟み込む構成で、流路パターンは異なるが噴射スリット８と同様の方法で作製することができる。
噴射スリット８は、内側に流路パターンを形成したもの以外に先端部に多数のノズルやスプレーを配列したものであってもよい。
【００１７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、インキ液の薄膜を基板に転写塗布する毎に版の洗浄と乾燥処理を行うので、基板に塗布するインキ液の濃度や温度などの状態が一定に保たれ、常に安定した偏光性能を有する偏光膜を容易に作製できるようになる。
また、濃度や温度などの状態が変わると平衡状態になるまでに長時間を要し、作業効率が大幅に低下するが、このような問題も同時に解消される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実施した偏光膜作製処理の模式図である。
【図２】本発明を実施した版の洗浄と乾燥処理の模式図である。
【図３】洗浄・乾燥装置の取り付け図である。
【図４】噴射スリットの内部構成図である。
【図５】二色性染料の表示色と分子構造式の一例を示す図である。
【符号の説明】
１            版
２            版胴
３            ディスペンサ
４            ブレード
５            印刷テーブル
６            基板
７            洗浄・乾燥装置
８            噴射スリット
８１            金属板
８２            仕切板
８３            ノズル
８４            給水口
９            吸引スリット
１０            サイドウォール
ａ            微細溝
ｂ            隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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