(57)【要約】【課題】基板上でつなぎ合わせ露光する際に、露光順序を容易に確認する。【解決手段】第１パターンＡと第２パターンＢとを基板Ｐのショット領域につなぎ合わせて露光する露光装置１において、ショット領域へのつなぎ合わせ露光順序に関する情報を表示する表示装置１３を備える。【選択図】      図１
2004281806.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１パターンと第２パターンとを基板のショット領域につなぎ合わせて露光する露光装置において、
前記ショット領域へのつなぎ合わせ露光順序に関する情報を表示する表示装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置において、
前記表示装置は、前記ショット領域の配列と、該配列における露光順序を示す記号とを表示することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１記載の露光装置において、
前記表示装置は、前記露光順序に対応した色で区分された前記ショット領域の配列を表示することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の露光装置において、
前記つなぎ合わせ露光で合成された合成パターンが前記基板上に複数形成されることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の露光装置において、
前記第１パターンは第１のマスクに形成され、前記第２パターンは前記第１のマスクとは異なる第２のマスクに形成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の露光装置において、
前記露光順序に関する情報を設定する設定部と、
該設定部で設定された情報を前記表示装置に表示させる制御部とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
第１パターンと第２パターンとを基板のショット領域につなぎ合わせて露光する露光方法において、
前記ショット領域へのつなぎ合わせ露光順序を設定した際に、該つなぎ合わせ露光順序に関する情報を表示することを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスクのパターンを基板上に露光する露光装置および露光方法に関し、特に、複数のパターンを基板上でつなぎ合わせて露光する際に用いて好適な露光装置および露光方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
基板に対して所定の処理を施す基板処理装置としては、ウエハやガラスプレート等の基板に対して露光処理を施してマスクやレチクル（以下、レチクルと称する）に形成されたパターンを転写し、半導体素子や液晶ディスプレイを製造する露光装置が知られている。例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を製造する露光装置においては、いわゆるステップ・アンド・リピート方式（以下、ステッパーと称する）が数多く使用されている。このステッパにおいては、レチクル上に形成されたＬＣＤのパターンをガラスプレートの所定の領域に露光した後、ガラスプレートが載置されているステージを一定距離だけステッピング移動させて、ガラスプレートの別の領域に再び露光を行っている。そして、このような動作を基板上の全ての領域に対して繰り返し行うことにより、ガラスプレート全体の露光が完了する。
【０００３】
従来、例えば液晶表示素子用のＬＣＤパターンをステッパーで形成する際には、通常画面合成法が用いられている。この画面合成法は、図１０に示すように、単一のＬＣＤパターン（合成パターン）ＬＰを例えば２行３列の６つのパターンＡ〜Ｆに分割し、各分割パターンＡ〜Ｆにそれぞれ対応する複数のレチクルを用い、一枚のレチクルに対応するガラスプレートＰのショット領域（露光領域）ＰＡに該レチクルのパターンＡを露光した後に、ガラスプレートＰをステップさせるとともにレチクルを別のものに交換し、このレチクルに対応するショット領域ＰＢに該レチクルのパターンＢをつなぎ合わせて露光することを順次繰り返すことにより、ガラスプレートＰ上のショット領域ＰＡ〜ＰＦに複数の分割パターンＡ〜Ｆが合成されたＬＣＤパターンＬＰを形成するものである（特許文献１参照）。
【０００４】
これら複数のショット領域ＰＡ〜ＰＦの位置、露光順序、あるいは露光順序の最適化に関する露光データは、予めオペレータがコントローラが持つ画面上にて設定、編集することで作成されている。そして、これらの露光データを基に、ガラスプレートＰを保持する基板ステージが駆動されることで、所定のショット領域ＰＡ〜ＰＦに上記パターンＡ〜Ｆが順次露光される。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−１０９１６１号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来の露光装置には、以下のような問題が存在する。
上記ショット領域の位置情報は、ガラスプレートＰを模写したショット領域のレイアウトを画面上に描画することで視覚的に容易に確認できたが、露光順序に関する情報の確認は容易ではなかった。すなわち、露光データとして設定された露光順序は、図１１に示すようなデータ編集画面で、羅列された数値を確認するしかなく、視覚的な認識が困難であった。
【０００７】
また、ショット領域の位置とその露光順序との相関関係を確認するには、上記レイアウト画面とデータ編集画面とを切り替える必要があり、視覚的な認識の困難に拍車をかけるだけではなく、作業が繁雑になるという問題があった。特に、露光順序を最適化して編集した際には、変更後の露光データを確実、且つ迅速に確認するという要望が強かった。
【０００８】
しかも、複数のレチクルを用いて一枚のガラスプレートＰ上にＬＣＤパターンを複数形成する場合は、同じレチクルを用いるショット領域を連続して露光することが多く露光経路も多岐に亙るため、露光順序の確認が一層困難になり、より視覚的に容易に確認する必要性があった。
【０００９】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、基板上でつなぎ合わせ露光する際に、露光順序を容易に確認できる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、複数のレチクルを用いたり、基板上に複数の合成パターンをつなぎ合わせ露光する際にも、露光順序を容易に確認できる露光装置および露光方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図８に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の露光装置は、第１パターン（Ａ）と第２パターン（Ｂ）とを基板（Ｐ）のショット領域（ＰＡ、ＰＢ）につなぎ合わせて露光する露光装置（１）において、ショット領域（ＰＡ、ＰＢ）へのつなぎ合わせ露光順序に関する情報を表示する表示装置（１３）を備えることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の露光方法は、第１パターン（Ａ）と第２パターン（Ｂ）とを基板（Ｐ）のショット領域（ＰＡ、ＰＢ）につなぎ合わせて露光する露光方法において、ショット領域（ＰＡ、ＰＢ）へのつなぎ合わせ露光順序を設定した際に、該つなぎ合わせ露光順序に関する情報を表示することを特徴とするものである。
【００１２】
従って、本発明の露光装置および露光方法では、基板（Ｐ）上に第１パターン（Ａ）と第２パターン（Ｂ）とをつなぎ合わせるように露光データを設定、編集した際に、表示装置（１３）に露光順序に関する情報が表示されるので、設定、編集した露光順序を容易、且つ迅速に確認できる。このとき、表示装置（１３）に、ショット領域（ＰＡ、ＰＢ）の配列とこの配列における露光順序を示す記号（Ｙ、ＹＡ〜ＹＤ）とを表示させたり、露光順序に対応した色で区分されたショット領域（ＰＡ、ＰＢ）の配列を表示させることで、視覚的に露光順序を認識でき、より露光順序の確認が容易になる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の露光装置の第１の実施の形態を、図１ないし図４を参照して説明する。ここでは、例えば、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置において、図１に示すように、６枚のレチクル（マスク）ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ、ＲＤ、ＲＥ、ＲＦ（これらの符号ＲＡ〜ＲＦを適宜Ｒと総称する）を搭載するレチクルチェンジャー用い、図１０に示したように、各レチクルＲＡ〜ＲＦに形成された分割パターンＡ〜Ｆによりガラスプレート（基板）Ｐ上に、液晶表示デバイスのパターンＬＰを画面合成する場合の例を用いて説明する。これらの図において、従来例として示した図１０および図１１と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００１４】
図１は、露光装置１の概略構成図である。露光装置１は、露光光によりレチクルＲに形成されたパターンをガラスプレートＰに投影露光するものであって、照明光学系２と、露光ステージ３と、レチクルステージとしてのレチクルチェンジャー４と、投影光学系ＰＬと、ガラスプレートＰを保持して移動するプレートステージ５と、制御部６とを主体として構成されている。なお、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向をＺ方向とし、このＺ方向に直交してレチクルＲＡ〜ＲＦが配列される方向をＸ方向とし、これらＺ方向、Ｘ方向に直交する方向をＹ方向とする。
【００１５】
照明光学系２は、超高圧水銀ランプ等の光源（不図示）から出射した露光光から、露光に必要な波長（ｇ線やｉ線）を選択するとともに、照度が均一化された露光光によりレチクルＲを重畳的に照明するものである。なお、照明光学系２には、露光光の照明領域を設定するための、例えばＬ字形状をなす一対のブラインド（不図示）が含まれており、これらのブラインドの開口によって上記照明領域が設定される。これらのブラインドの駆動は、制御部６によって制御されている。
【００１６】
露光ステージ３は、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸとほぼその中心が一致する矩形開口を有しており、不図示の駆動機構を介してＸ、Ｙ、θ（Ｚ軸周りの回転）方向に駆動されるようになっている。この駆動機構は、制御部６に制御されている。また、露光ステージ３の下方には、矩形開口の真下に移動してきたレチクルＲを真空吸着により保持する保持機構（不図示）が設けられており、この保持機構も制御部６に制御される。
【００１７】
レチクルチェンジャー４は、露光ステージ３の下方に配置されＺ方向およびＸ方向に移動自在になっており、駆動機構１１を介して制御装置６によってＺ方向およびＸ方向に駆動される。レチクルチェンジャー４としては、Ｘ方向に沿って６枚のレチクルＲＡ〜ＲＦを搭載可能なものが使用されている。
【００１８】
投影光学系ＰＬは、レチクルＲの照明領域に存在するパターンの像をガラスプレートＰ上に結像させる。そして、ガラスプレートＰ上に塗布された感光剤が感光することで、ガラスプレートＰ上にパターン像が転写される。
【００１９】
プレートステージ５は、ガラスプレートＰを保持するものであって、駆動機構７によってＸＹ座標系上を二次元に移動可能に構成されている。このプレートステージ５上には、不図示の移動鏡がＸ方向およびＹ方向に沿ってそれぞれ設置されている。そして、プレートステージ５の位置（ひいてはガラスプレートＰの位置）は、レーザ干渉計８ａ、８ｂからそれぞれ出射されたレーザ光が移動鏡で反射してレーザ干渉計８ａ、８ｂに入射し、その反射光と入射光との干渉に基づいて正確に計測されるようになっている。
【００２０】
また、この露光装置１には、レチクルＲをアライメントする一対のレチクルアライメント系９と、ガラスプレートＰをアライメントするオフアクシス方式のプレートアライメント系１０とが備えられている（なお、プレートアライメント系１０は、図１中、投影光学系ＰＬの−Ｘ側にのみ配置されているが、実際には投影光学系ＰＬの＋Ｘ側にも２つ配置されている）。これらアライメント系９、１０のアライメント方式としては、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等を使用するＬＳＡ方式およびＬＩＡ方式や画像処理を行うＦＩＡ方式または露光光を使用する露光光アライメント方式が採用される。
【００２１】
制御部６には、露光処理に用いる露光データ（レシピデータ）を設定、編集するための入力部（設定部）１２と、データ編集画面や露光順序表示画面等を切替可能に表示する表示装置１３とが設けられている。そして、入力部１２から入力されたデータは、制御部６に保持・記憶され、制御部６が表示装置１３に適宜表示させる構成になっている。露光データとしては、ガラスプレートＰ上に分割パターンＡ〜Ｆが露光されるショット領域ＰＡ〜ＰＦの位置、大きさ、露光順序、露光量等の設計データが設定される。
【００２２】
上記の構成の露光装置１により、レチクルＲＡ〜ＲＦの分割パターンＡ〜ＦをガラスプレートＰ上につなぎ合わせてＬＣＤパターンＬＰを画面合成する手順を説明する。
【００２３】
まず、予め入力部１２からガラスプレートＰ上でのショット領域ＰＡ〜ＰＦの位置や露光順序等の露光データを入力する。ここでは、ガラスプレートＰ上で分割パターン（第１パターン）Ａを最初に露光した後に分割パターン（第２パターン）Ｂ〜分割パターンＦを順次露光する順序を図１１に示したデータ編集画面で設定したものとする。入力が完了すると表示装置１３は、制御部６の指示により、図２に示すように、露光順序表示画面においてショット領域ＰＡ〜ＰＦの配列レイアウトとレイアウト中での露光順序を示す矢印記号（記号）Ｙとを表示する。このとき、最初に露光を行うショット領域ＰＡのみを他のショット領域と色を変えて表示することで、露光順序に対する視覚的認識をより容易にしてもよい。
【００２４】
露光データ入力後、ショット領域ＰＡ〜ＰＦのＸ方向の配列ピッチがＹ方向の配列ピッチよりも小さく、Ｙ方向のステップ移動を多くした方がプレートステージ５の移動距離が短い等、露光順序の最適化により露光順序を分割パターンＡ→Ｆ→Ｅ→Ｂ→Ｃ→Ｄに変更する場合は、データ編集画面における露光順序（ショット順序）を編集する。これにより、図３に示すように、画面上で露光順序に対応する位置（行、列）が切り替わる。そして、編集が終了すると露光順序表示画面では、図４に示すように、ショット領域のレイアウト中での矢印記号が切り替えられて表示される。
【００２５】
このように、画面表示でショット領域ＰＡ〜ＰＦの位置、分割パターンＡ〜Ｆの露光順序を確認すると、設定・編集した露光データに基づいて露光処理を実行する。具体的には、まず、制御部６が、駆動機構１１を介してレチクルチェンジャー４をＸ方向およびＺ方向に駆動して、図１に示されるように、露光ステージ３の位置にレチクル（第１のマスク）ＲＡを概略的に位置決めした後、レチクルＲＡを露光ステージ３に保持させる。そして、制御部６は、レチクルアライメント系９が検出可能な領域にレチクルＲＡのアライメントマークが位置するように駆動機構を用いて速やかに露光ステージ３のＸ、Ｙ、θ微動（プリアライメント）を行う。
【００２６】
そして、レチクルアライメント系９によってアライメントマークの位置検出が実行されると、制御部６は検出されたアライメントマークの位置に基づいて駆動機構を介してレチクルＲＡの位置決めを行う。この後、プレートアライメント系１０と投影光学系ＰＬとの距離（ベースライン量）に基づいて、レチクルＲＡに対応するガラスプレートＰ上のショット領域ＰＡが投影光学系ＰＬの直下に位置するようにプレートステージ５を駆動して位置決めするとともに、投影光学系ＰＬの結像特性等を調整した後、レチクルＲＡの分割パターンＡをガラスプレートＰ上に露光する。
【００２７】
続いて、レチクルチェンジャー４を駆動して露光ステージ３の位置にレチクル（第２のマスク）ＲＢを位置決めするとともにショット領域ＰＢが投影光学系ＰＬの直下に位置するようにプレートステージ５を位置決めした後、上記と同様に、レチクルＲＢの分割パターンＢをガラスプレートＰ上に露光する。このように、レチクルチェンジャー４とプレートステージ５とを駆動することにより、上記で設定・編集した露光順序によりレチクルＲＡ〜ＲＦのパターンが順次ガラスプレートＰに露光されてＬＣＤパターンＬＰが画面合成される。
【００２８】
本実施の形態の露光装置および露光方法では、つなぎ合わせ露光に関する情報が表示装置１３の露光順序表示画面で表示されるので、露光データ設定後や編集後に、パターンＡ〜Ｆのショット領域ＰＡ〜ＰＦの位置と露光順序との相関関係を容易に確認することができる。しかも、本実施の形態では、ショット領域ＰＡ〜ＰＦの配列レイアウトに矢印記号Ｙとを表示することで、数字の羅列に基づいて確認する場合と比較して上記相関関係を視覚的に一目で容易に確認することができる。
【００２９】
図５は、本発明の露光装置および露光方法の第２の実施の形態を示す図である。この図において、図１ないし図４に示す第１の実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第２の実施の形態と上記の第１の実施の形態とが異なる点は、表示装置１３の露光順序表示画面の表示である。
【００３０】
すなわち、図５に示すように、露光データの設定・編集が完了すると、露光順序表示画面には、ショット領域ＰＡ〜ＰＦ毎に区分して塗色された配列レイアウトが表示される。この場合、各ショット領域は同色で、且つ露光順序に従って濃い色から漸次淡い色になるように濃淡を付して塗色される。
【００３１】
本実施の形態の露光装置および露光方法では、上記第１の実施の形態と同様の効果が得られることに加えて、ショット領域ＰＡ〜ＰＦの位置およびその露光順序を色で区分しているので、矢印記号よりも塗色領域の方が表示面積が大きくなり、設定・編集した露光順序を一層明瞭、且つ迅速に視覚的に認識することができる。
【００３２】
なお、上記実施の形態のように、ショット領域の位置および露光順序を色で区分して表示する方法としては、図６に示すように、各ショット領域が順次塗色・消色されて露光順序に従って塗色部が進行する方法や、図７に示すように、露光順序に従ってショット領域の塗色が順次進行する方法でもよい。この場合、露光順序が動的に表示されることになり、視覚的な認識が一層向上する。（なお、図６、図７に示す矢印は、塗色部が進行する様子を示すもので、画面上には表示されない。ただし、塗色進行と矢印記号の双方とを表示してもよい。）
【００３３】
図８は、本発明の露光装置および露光方法の第３の実施の形態を示す図である。この図において、図１ないし図４に示す第１の実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第２の実施の形態と上記の第１の実施の形態とが異なる点は、ガラスプレートＰ上のＬＣＤパターンＬＰの構成および個数である。
【００３４】
すなわち、図８に示すように、本実施の形態では、ＬＣＤパターンＬＰは、４つの分割パターンＡ〜Ｄがつなぎ合わされて合成される。また、ＬＣＤパターンＬＰは、ガラスプレートＰ上に複数（ここでは４つ）互いに間隔をあけて矩形配置で形成される。なお、各ＬＣＤパターンＬＰ間で分割パターンＡ〜Ｄは同一であるが、ここでは、便宜上、各ＬＣＤパターンＬＰが分割パターンＡ１〜Ｄ１、Ａ２〜Ｄ２、Ａ３〜Ｄ３、Ａ４〜Ｄ４でそれぞれ画面合成されるものとして説明する。
【００３５】
この場合、レチクル交換に要する時間を短縮するため、レチクルＲＡで分割パターンＡ１を露光した後、同じレチクルＲＡで分割パターンＡ２〜Ａ４を露光する。同様に、レチクルＲＢを使用する場合は分割パターンＢ１〜Ｂ４を、レチクルＲＣを使用する場合は分割パターンＣ１〜Ｃ４を、レチクルＲＤを使用する場合は分割パターンＤ１〜Ｄ４をそれぞれ連続して露光する。なお、このとき、レチクルチェンジャー４には、レチクルＲＡ〜ＲＤが順次配置される。
【００３６】
そして、露光データには、分割パターンＡ１〜Ａ４を順次露光した後に、レチクルＲＢを用いた分割パターンＢ１〜Ｂ４の中、プレートステージ５の移動距離が短いことから、同じＬＣＤパターンＬＰ内の分割パターンＢ４を最初に露光した後に、分割パターンＢ１〜Ｂ３を順次露光するように設定する。同様にレチクルＲＣを用いる場合は、露光順序として分割パターンＣ３、Ｃ４、Ｃ１、Ｃ２の順に、レチクルＲＤを用いる場合は露光順序として分割パターンＤ２、Ｄ３、Ｄ４、Ｄ１の順に露光するものとして設定する。
【００３７】
そして、露光データの設定が完了すると、露光順序表示画面には、露光ショットの配列レイアウト中での露光順序を示す矢印記号ＹＡ〜ＹＤが表示される。ここで、矢印記号ＹＡ〜ＹＤは、レチクルＲＡ〜ＲＤをそれぞれ用いて露光する際の露光順序を示すものである。なお、矢印記号ＹＡ〜ＹＤは、画面上では色で区分されているが、ここでは便宜上、レチクルＲＡに対応する矢印記号ＹＡを実線で示し、レチクルＲＢに対応する矢印記号ＹＢを破線で示し、レチクルＲＣに対応する矢印記号ＹＣを一点鎖線で示し、レチクルＲＤに対応する矢印記号ＹＤを二点鎖線で示している。
【００３８】
本実施の形態の露光装置および露光方法では、上記第１の実施の形態と同様の効果が得られることに加えて、複数枚のレチクルＲＡ〜ＲＤを用いて合成されるＬＣＤパターンＬＰをガラスプレートＰ上に複数形成する場合で、露光経路が多岐に亙っても、露光順序を視覚的に容易に確認することができる。また、本実施の形態では、矢印記号ＹＡ〜ＹＤをレチクル毎に区分表示しているので、露光順序のみならず、露光データ中にレチクル交換が設定されたかどうかも容易に確認することができる。
【００３９】
なお、上記第２の実施の形態では、露光順序を矢印記号ＹＡ〜ＹＤで区分表示する構成としたが、これに限られず、第１の実施の形態のように、ショット領域の配列レイアウトに濃淡を付して塗色してもよい。この場合、レチクル毎に色分けし、且つ各色毎に露光順序に従って濃淡を付せばよい。さらに、上述したように、各ショット領域を順次塗色・消色させたり、露光順序に従ってショット領域の塗色を順次進行させたりする方法も適用可能である。このように、視覚的な認識を容易にすることで、数字の羅列により確認する場合に比較して、データ作成・編集等の作業効率が向上する。
【００４０】
なお、上記実施の形態において、複数のレチクルＲＡ〜ＲＦ、またはＲＡ〜ＲＤで画面合成を行うものとして説明したが、一枚のレチクルを用い、当該レチクルに対する照明領域を調整することで画面合成を行うものとしてもよい。
【００４１】
また、上記実施の形態では、露光順序を示す記号として、配列レイアウト上に矢印記号を表示させる構成としたが、他の記号を用いてもよい。さらに、露光順序に従ってショット領域に濃淡を付す構成に限られず、例えばショット領域毎に露光順序やレチクルに対応するように、ハッチングやスマッジングを付して表示させてもよい。
【００４２】
なお、本実施の形態の基板としては、液晶ディスプレイデバイス用のガラスプレートＰのみならず、半導体デバイス用の半導体ウエハや、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００４３】
露光装置１としては、レチクルＲ（ＲＡ〜ＲＦ）とガラスプレートＰとを静止した状態でガラスプレートＰのパターンを露光し、ガラスプレートＰを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパー）の他に、レチクルＲとガラスプレートＰとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニング・ステッパー；ＵＳＰ５，４７３，４１０）にも適用することができる。
【００４４】
露光装置１の種類としては、ガラスプレートＰに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限られず、半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクルＲなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００４５】
また、照明光学系２の光源としては、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００４６】
投影光学系ＰＬの倍率は、等倍系のみならず縮小系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、レチクルＲとガラスプレートＰとを密接させてレチクルＲのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００４７】
プレートステージ５やレチクルステージ４にリニアモータ（ＵＳＰ５，６２３，８５３またはＵＳＰ５，５２８，１１８参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ４、５は、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００４８】
各ステージ４、５の駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ４、５を駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ４、５に接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージ４、５の移動面側に設ければよい。
【００４９】
プレートステージ５の移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−１６６４７５号公報（ＵＳＰ５，５２８，１１８）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
レチクルステージ４の移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−３３０２２４号公報（ＵＳ  Ｓ／Ｎ  ０８／４１６，５５８）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
【００５０】
以上のように、本願実施形態の露光装置１は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００５１】
液晶表示デバイスや半導体デバイス等のデバイスは、図９に示すように、液晶表示デバイス等の機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたレチクルＲ（マスク）を製作するステップ２０２、石英等からガラスプレート（ガラス基板）Ｐ、またはシリコン材料からウエハを製作するステップ２０３、前述した実施の形態の露光装置１によりレチクルＲのパターンをガラスプレートＰ（またはウエハ）に露光するステップ２０４、液晶表示デバイス等を組み立てるステップ（ウエハの場合、ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る露光装置は、表示装置がショット領域へのつなぎ合わせ露光順序に関する情報を表示する構成となっている。
これにより、この露光装置では、露光データ設定後や編集後に、ショット領域の位置と露光順序との相関関係を容易に確認することができ、データ作成・編集等の作業効率が向上するという効果が得られる。
【００５３】
請求項２に係る露光装置は、表示装置がショット領域の配列と、この配列における露光順序を示す記号とを表示する構成となっている。
これにより、この露光装置では、露光データ設定後や編集後に、ショット領域の位置と露光順序との相関関係を、記号により視覚的に容易に確認できるという効果が得られる。
【００５４】
請求項３に係る露光装置は、表示装置が露光順序に対応した色で区分されたショット領域の配列を表示する構成となっている。
これにより、この露光装置では、露光データ設定後や編集後に、ショット領域の位置と露光順序との相関関係を、区分された色により明瞭且つ迅速に視覚的に容易に確認できるという効果が得られる。
【００５５】
請求項４に係る露光装置は、つなぎ合わされた合成パターンが基板上に複数形成される構成となっている。
これにより、この露光装置では、露光経路が多岐に亙っても、露光データ設定後や編集後に、ショット領域の位置と露光順序との相関関係を容易に確認することができるという効果が得られる。
【００５６】
請求項５に係る露光装置は、第１パターンが第１のマスクに形成され、第２パターンが第２のマスクに形成される構成となっている。
これにより、この露光装置では、マスクを複数用いる場合、露光順序のみならず、レチクル交換が行われるかどうかも容易に確認できるという効果が得られる。
【００５７】
請求項６に係る露光装置は、設定部が露光順序に関する情報を設定し、制御部が設定部で設定された情報を表示装置に表示させる構成となっている。
これにより、この露光装置では、露光データ設定後や編集後に、ショット領域の位置と露光順序との相関関係を容易に確認することができ、データ作成・編集等の作業効率が向上するという効果が得られる。
【００５８】
請求項７に係る露光方法は、ショット領域へのつなぎ合わせ露光順序を設定した際に、つなぎ合わせ露光順序に関する情報を表示する手順となっている。
これにより、この露光方法では、露光データ設定後や編集後に、ショット領域の位置と露光順序との相関関係を容易に確認することができ、データ作成・編集等の作業効率が向上するという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図であって、制御部に入力部および表示装置が設けられた露光装置の概略構成図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態を示す図であって、露光順序に従って配列レイアウトに矢印記号が付された表示図である。
【図３】表示装置に表示されたデータ編集画面の図である。
【図４】データ編集された露光順序に従って配列レイアウトに矢印記号が付された表示図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態を示す図であって、露光順序に従ってショット領域が濃淡を付して色区分された表示図である。
【図６】別の表示例を示す図であって、露光順序に従ってショット領域の塗色・消色が進行する表示図である。
【図７】別の表示例を示す図であって、露光順序に従ってショット領域が順次塗色される表示図である。
【図８】本発明の第３の実施の形態を示す図であって、一枚のガラスプレート上に複数のＬＣＤパターンが形成された配列レイアウトに矢印記号が付された表示図である。
【図９】液晶表示デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図１０】複数の分割パターンによりつなぎ合わされて画面合成されるＬＣＤパターンを有するガラスプレートの外観斜視図である。
【図１１】表示装置に表示されたデータ編集画面の図である。
【符号の説明】
Ａ  分割パターン（第１パターン）
Ｂ  分割パターン（第２パターン）
ＬＰ  ＬＣＤパターン（合成パターン）
Ｐ  ガラスプレート（基板）
Ｒ、ＲＣ、ＲＤ、ＲＥ、ＲＦ  レチクル（マスク）
ＲＡ  レチクル（マスク、第１のマスク）
ＲＢ  レチクル（マスク、第２のマスク）
Ｙ、ＹＡ〜ＹＤ  矢印記号（記号）
１  露光装置
６  制御部
１２  入力部（設定部）
１３  表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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