(57)【要約】【課題】レーザアニール装置におけるレーザビームの強度分布の均一性を安価に向上する。【解決手段】ファイババンドル２０、２１、２２を用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布を得られるようにする。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布を得られるようにすることを特徴とするレーザビームの伝送方法。
【請求項２】
請求項１において、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置することを特徴とするレーザビームの伝送方法。
【請求項３】
請求項２において、出口側のファイバを１列又は複数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布を線状にすることを特徴とするレーザビームの伝送方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、複数系統のファイババンドルにそれぞれ別のレーザからレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、
これらの別系統のファイババンドルの出口側を束ねて１系統とし、
強度分布がマクロ的に均一となるように１本１本のファイバを並べて配置することを特徴とするレーザビームの伝送方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、複数のレーザを同時に動作させず、交互に動作させることを特徴とするレーザの運転方法。
【請求項６】
ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにされていることを特徴とするビーム強度分布変換器。
【請求項７】
請求項６において、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置されていることを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項８】
請求項７において、出口側のファイバを１列又は複数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布が線状にされていることを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれかに記載の複数系統のファイババンドルと、
各ファイババンドルにレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射するための複数のレーザとを備え、
別系統のファイババンドルの出口側を束ねて１系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように１本１本のファイバが並べて配置されていることを特徴とするレーザビームの伝送装置。
【請求項１０】
請求項６に記載のビーム強度分布変換器、請求項７又は８に記載のビームホモジナイザ、又は、請求項９に記載の伝送装置を備えたことを特徴とするレーザ光学系。
【請求項１１】
請求項１０に記載のレーザ光学系を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームの伝送方法及びビーム強度分布変換器に係り、特に、ガラス基板上のアモルファス層を結晶化するためのレーザアニール装置等のレーザ加工装置のビームホモジナイザとして用いるのに好適な、レーザアニール装置におけるレーザビームの強度分布の均一性を安価に向上することが可能な、レーザビームの伝送方法及び装置、レーザの運転方法、ビーム強度分布変換器、ビームホモジナイザ、レーザ光学系及びレーザ加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レーザ加工装置、特にレーザアニール装置においては、できるだけ強度分布が均一なレーザビームを半導体基板等の加工対象物に照射することが望ましい。
【０００３】
そこで、レーザビームの強度分布を均一化するため、特許文献１に記載されているように、ビームホモジナイザと呼ばれる光学系が利用されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−２４４０７８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、小さなレンズを多数並べた、フライアイ方式と呼ばれる従来のビームホモジナイザ１０は、例えば図１に示す如く、片面が平面で、もう一方の面に複数の凸部が配列して形成された２枚のアレイレンズ１１、１２および（複数枚の）集光レンズ１３で形成されており、複雑な光学設計計算、高額な光学部品、精密な部品製作と組立調整等が必要であるという問題点を有していた。
【０００６】
本発明は、前記従来の問題点を解消するべくなされたもので、レーザビームの任意の強度分布を安価に得ることを第１の課題とする。
【０００７】
本発明は、又、レーザビームの強度分布の均一性を安価に向上することを第２の課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、レーザビームの伝送に際して、ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにして、前記第１の課題を解決したものである。
【０００９】
又、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置して、前記第２の課題を解決したものである。
【００１０】
又、出口側のファイバを１列又は数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布を線状としたものである。
【００１１】
又、複数系統のファイババンドルにそれぞれ別のレーザからレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、これらの別系統のファイババンドルの出口側を束ねて１系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように１本１本のファイバを並べて配置するようして、複数のレーザを同時に運転し、完全同時照射することによってピークパワーを倍増させたり、あるいは、一方を所定時間遅延させて、実質的にパルス幅の長いレーザ光を作り出すことができるようにしたものである。
【００１２】
又、複数のレーザを同時に動作させず、交互に動作させることにより、レーザ発振器のメンテナンス時間等のダウンタイムを補間するようにレーザを交互に運転できるようにしたものである。即ち、１台のレーザ発振器を数時間乃至数十時間運転した後、メンテナンス等のために停止するときに、もう１台のレーザを運転することにより、実質上無停止で加工対象にレーザを照射することが可能となる。
【００１３】
本発明は、又、ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにされていることを特徴とするビーム強度分布変換器を提供するものである。
【００１４】
又、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置されていることを特徴とするビームホモジナイザを提供するものである。
【００１５】
又、出口側のファイバを１列又は複数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布が線状にされていることを特徴とするビームホモジナイザを提供するものである。
【００１６】
本発明は、又、複数系統のファイババンドルと、各ファイババンドルにレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射するための複数のレーザとを備え、別系統のファイババンドルの出口側を束ねて１系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように１本１本のファイバが並べて配置されていることを特徴とするレーザビームの伝送装置を提供するものである。
【００１７】
又、前記のビーム強度分布変換器、ビームホモジナイザ、又は、伝送装置を備えたことを特徴とするレーザ光学系を提供するものである。
【００１８】
又、前記のレーザ光学系を備えたことを特徴とするレーザ加工装置を提供するものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００２０】
本発明においては、レーザ光強度分布の均一化のため、従来のようなアレイレンズを用いたホモジナイザではなく、図２に示す第１実施形態の如く光ファイババンドル２０を用いる。通常、ファイババンドル２０は、ファイバの束ね方を入口と出口で同一にするため、出口の強度分布は、入口のレーザの強度分布と全く同じになる。しかし本発明では、ファイババンドルの入口と出口での個々のファイバの配置を、必要な強度分布に応じて、意図的に並べ替えた構成とする。
【００２１】
出口側のファイバの束ね方を敢えて崩し、ランダムに並べ替えることにより、入口における強度分布を、出口ではマクロ的に均一にすることが可能となる。
【００２２】
又、例えばガウス分布型のレーザ強度分布の光を入射する場合、各ファイバに取り込まれた光のみがファイバを伝播し、当然中央部のビームを伝播したファイバはエネルギが強く、端部のビームを伝播したエネルギが弱い。よって各ファイバの取り回しを強弱強弱・・・とすれば、近接したビーム強度の波は相殺され、均一性の良いビームを作り出すことができる。又、バンドル入口では中心部にあったファイバを、出口では外側に配置し、外側にあったファイバは中心部に配置すれば、通常とは逆に、中央が低く周辺が高いリング状の強度分布を得ることも可能である。
【００２３】
この際、ファイバの並べ替えを容易とするために、ファイバを色分けしたり、番号を付けることが可能である。
【００２４】
又、出口でのファイバの並べ方を、図３に示す第２実施形態のように１列又は必要な長さに応じて折り返して複数列に並べることにより、線状のビーム強度分布を作り出すことも可能である。図において３０は（例えばエキシマまたは固体または高調波固体）レーザ（発振器）である。
【００２５】
このように、レーザビームの強度分布を線状にする場合も、第１実施形態と同様の方法で容易に均一化することができる。即ち、入口での強度が強い部分と弱い部分のファイバを出口で交互に直線上に並べることにより、エネルギ強度分布の均一度の高い線状ビームを作り出すことができる。
【００２６】
次に、本発明の第３実施形態を図４に示す。本実施形態は、複数系統（図では２系統）のファイババンドル２１、２２に、それぞれ別のレーザ３１、３２からレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、これらの別系統のファイババンドル２１、２２の出口側を束ねて１系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように、１本１本のファイバの交互に並べて配置したものである。
【００２７】
本実施形態においては、図５に示す如く、完全に同時照射した場合には、ピークパワーＡを２倍にできる。又、図６に示す如く、一方を、所定時間、例えば数十ナノ秒遅延させれば、実質的にパルス幅Ｔの長い（図６の例では２倍）レーザ光を作り出すことができる。
【００２８】
あるいは、複数台（図４では２台）のレーザ３１、３２を同時に動作させずに、交互に動作させることも可能である。即ち、レーザのパルス動作を交互に行なうのではなく、１台のレーザ発振器を数時間乃至数十時間運転した後、メンテナンス等のために停止するときに、もう一方のレーザを運転することにより、実質上、半導体基板等の加工対象にとっては無停止にすることが可能となる。また、複数のレーザを交互または順番に発振させることにより、実質的に高繰り返し照射が可能となる。
【００２９】
なお、ファイババンドルの本数やレーザの台数は２に限定されない。
【００３０】
前記実施形態においては、出口側の強度分布が均一となるようにファイバを並べ替えていたが、ファイバを並べ替える方法はこれに限定されず、出口側で必要な強度分布に応じて任意の配置に並べ替えることが可能である。
【００３１】
又、前記実施形態において、本発明が、レーザアニール装置に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定されず、他のレーザ加工装置にも同様に適用できる。
【００３２】
【発明の効果】
本発明によれば、任意の強度分布を有するレーザビームを安価に得ることができる。特に、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置することによって、マクロ的に見て均一なビーム強度を安価に得ることができる。又、線状のレーザビームも容易に得ることができる。
【００３３】
本発明により、ビームホモジナイザ等の複雑な光学系を設計製作する必要が無く、自在な強度分布を作り出すことができる。特に、均一強度分布を作り出す場合に非常に有効である。
【００３４】
又、ファイバを用いた伝送光学系であるから、ミラーやレンズの部品点数を大幅に削減することができるため、低コスト化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のフライアイ方式のビームホモジナイザの一例の基本的な構成を示す斜視図
【図２】本発明の第１実施形態の構成を示す図
【図３】同じく第２実施形態の構成を示す正面図
【図４】同じく第３実施形態の構成を示す正面図
【図５】第３実施形態の一つの動作形態を示すタイムチャート
【図６】第３実施形態の他の動作形態を示すタイムチャート
【符号の説明】
２０、２１、２２…（光）ファイババンドル
３０、３１、３２…レーザ（発振器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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