(57)【要約】【課題】熱処理炉内における被処理体の配置スペースを広く確保するとともに、熱処理炉内に配置された被処理体の温度をリアルタイムで検出し、その結果に応じて熱処理炉の加熱或いは冷却の微調整を行う。【解決手段】熱処理炉２３の内外の間を移動する架台１０に載せられた被処理体Ｘの温度測定箇所４１に配置されているセンサー部３９と、熱処理炉２３外に配置された計器４８から熱処理炉２３に形成された貫通孔を通って熱処理炉２３内に運ばれたセンサー部３９に電気的に接続されている測定部６１とをそれぞれ備える温度測定装置であって、センサー部３９は架台１０に取り付けられた第１の接続端子３７に電気的に接続され、測定部の熱処理炉２３内側の端部には第２の接続端子４５が設けられ、第１の接続端子３７と第２の接続端子４５とは被処理体Ｘが熱処理炉２３内に配置されたときに接続される。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱処理炉の内外の間を移動する架台に載せられた被処理体の温度測定箇所に配置されているセンサー部と、
前記熱処理炉外に配置された計器から前記熱処理炉に形成された貫通孔を通って前記熱処理炉内に運ばれた前記センサー部に電気的に接続されている測定部とをそれぞれ備える温度測定装置であって、
前記センサー部は前記架台に取り付けられた第１の接続端子に電気的に接続され、前記測定部の前記熱処理炉内側の端部には第２の接続端子が設けられ、前記第１の接続端子と前記第２の接続端子とは前記被処理体が前記熱処理炉内に配置されたときに接続されることを特徴とする温度測定装置。
【請求項２】
請求項１記載の温度測定装置において、
前記第２の接続端子には、該第２の接続端子を前記第１の接続端子に接触する位置と接触しない位置との間で移動させる移動機構が設けられていることを特徴とする温度測定装置。
【請求項３】
請求項２記載の温度測定装置において、
前記熱処理炉は気密状態の熱処理室内に配置され、前記移動機構の稼動部は前記熱処理室内から前記熱処理炉内に貫通されていることを特徴とする温度測定装置。
【請求項４】
請求項２または３記載の温度測定装置において、
前記熱処理炉内には、前記移動機構の移動方向を案内するガイド機構が設けられていることを特徴とする温度測定装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか記載の温度測定装置において、
前記第１の接続端子と前記第２の接続端子とのうち少なくとも一方には、接触方向に付勢する付勢材が備えられていることを特徴とする温度測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内部に配置された被処理体の加熱或いは冷却を行う熱処理炉内における被処理体の温度を測定する温度測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、真空状態の熱処理炉内における被処理体の温度を測定する場合、被処理体の温度測定箇所に温度を検出するセンサーを取り付け、センサーにデータを記憶するデータレコーダを接続し、センサーで検出された被処理体の温度測定結果をデータレコーダに記憶する。このとき、データレコーダは被処理体と一緒に熱処理炉内に配置されているとともに、耐熱性、断熱性に優れたケースの中に収容されている。データレコーダは被処理体の熱処理完了後に熱処理炉内から取り出し、データレコーダに記憶された温度測定結果を取り出す。上記した構成からなる温度測定装置により、熱処理炉内における被処理体の温度を測定することができる（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平９−２８０９６８号公報  （第２−４頁、第１図）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の温度測定装置によると、データレコーダを収容するとともに耐熱性、断熱性を確保するため、ケースの外形は相当の大きさのものとなる。このため、温度測定装置は熱処理炉内において相当のスペースを専有し、被処理体の外形が大きい場合は相当の大きさの熱処理炉が必要になるという問題が存在する。
【０００５】
また、上記した従来の温度測定装置によると、熱処理炉内に配置された被処理体の温度測定結果は熱処理完了後に熱処理炉内から取り出されたデータレコーダにより得られ、被処理体の温度は事後的にのみ把握される。このため、熱処理を行いつつ被処理体の温度を把握することはできないという問題が存在する。
【０００６】
本発明は、上記した従来の問題が考慮されたものであり、熱処理炉内に配置される温度測定装置の専有するスペースを縮小し、熱処理炉内における被処理体の配置スペースを広く確保できる温度測定装置を提供することを目的としている。また、熱処理炉内に配置された被処理体の温度をリアルタイムで検出し、その結果に応じて熱処理炉の加熱或いは冷却の微調整を行うことができる温度測定装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、熱処理炉の内外の間を移動する架台に載せられた被処理体の温度測定箇所に配置されているセンサー部と、前記熱処理炉外に配置された計器から前記熱処理炉に形成された貫通孔を通って前記熱処理炉内に運ばれた前記センサー部に電気的に接続されている測定部とをそれぞれ備える温度測定装置であって、前記センサー部は前記架台に取り付けられた第１の接続端子に電気的に接続され、前記測定部の前記熱処理炉内側の端部には第２の接続端子が設けられ、前記第１の接続端子と前記第２の接続端子とは前記被処理体が前記熱処理炉内に配置されたときに接続されることを特徴としている。
【０００８】
このような特徴により、測定部は熱処理炉の外部に配置されるため断熱性、耐熱性に優れたケースの中に収納する必要はなく、熱処理炉の内部には外形の大きい温度測定装置の部品等は配置されない。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の温度測定装置において、前記第２の接続端子には、該第２の接続端子を前記第１の接続端子に接触する位置と接触しない位置との間で移動させる移動機構が設けられていることを特徴としている。
【００１０】
このような特徴により、架台とともに被処理体を熱処理炉内に入れるときには第２の接続端子は架台の移動に干渉しないところに配置され、被処理体が熱処理炉内の所定の位置に配置されたときには第２の接続端子は第１の接続端子に接触する位置に移動する。
【００１１】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の温度測定装置において、前記熱処理炉は気密状態の熱処理室内に配置され、前記移動機構の稼動部は前記熱処理室内から前記熱処理炉内に貫通されていることを特徴としている。
【００１２】
このような特徴により、稼動部は気密状態の熱処理室内から熱処理炉内に貫通されているため、稼動部が貫通する熱処理炉が気密状態でなくても熱処理炉の中に外気が流入することはない。
【００１３】
請求項４記載の発明は、請求項２または３記載の温度測定装置において、前記熱処理炉内には、前記移動機構の移動方向を案内するガイド機構が設けられていることを特徴としている。
【００１４】
このような特徴により、第２の接続端子は第１の接続端子に確実に接触される。
【００１５】
請求項５記載の発明は、請求項１から４のいずれか記載の温度測定装置において、  前記第１の接続端子と前記第２の接続端子とのうち少なくとも一方には、接触方向に付勢する付勢材が備えられていることを特徴としている。
【００１６】
このような特徴により、第１の接続端子と第２の接続端子との密着度は向上するとともに、第１の接続端子と第２の接続端子とが接触した時の衝撃は緩和される。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図１及び図２は、本実施形態に係る熱処理装置１の全体構成の概略図であり、図１は縦断面図、図２は横断面図である。図１、図２に示すように、熱処理装置１は、被処理体Ｘを冷却する冷却室（熱処理室）２、被処理体Ｘを加熱する加熱室（熱処理室）３を備える多室型熱処理装置であり、これらに加えて、冷却室２と加熱室３との間に中間室４を有している。
【００１８】
冷却室２は、冷却室２の内部が加圧状態となった場合にその圧力に耐えられるように略円筒形に形状設定されており、この円筒形の中心軸が水平となるように姿勢設定されている。冷却室２の一方側（図１及び図２における右側）には冷却室２の軸方向に水平移動するクラッチ式の扉５が設置されており、他方側（図１及び図２における左側）には上下に開閉するクランプ式の真空シールド扉（中間扉）６が設置されている。熱処理装置１の内側空間は、扉５が閉じた状態で外部と遮断された密閉状態となる。この冷却室２の内部には、冷却室２の中心軸方向に長い略直方体形の風路室（熱処理炉）７が設置され、風路室７の上方および下方には冷却室２内の冷却ガスの流路方向を調節するガス流案内板８ａ、８ｂがそれぞれ設置されている。また、風路室７外の冷却室２の内部は、図示せぬ仕切板によって上下に区分けされている。
【００１９】
風路室７の長手方向に対応する風路室７の側面部７ａ，７ｂはそれぞれ扉５および真空シールド扉８に固定されているとともに風路室の本体７ｃと着脱自在に形成されており、扉５及び真空シールド扉６が閉まった場合には風路室７の内部が閉じられた空間となるように形成されている。風路室７の上壁部及び下壁部には、冷却ガスを整流して通過させる格子状の整流板９ａ，９ｂがそれぞれ形成されている。また、風路室７の内部には、被処理体Ｘを載せた架台１０を冷却室２の軸方向に移送するための移送台１１が設置されており、移送台１１には複数のフリーローラ１２が架台１０の移送方向に回転自在に備えられている。また、架台１０は冷却ガスが通過できるように例えば格子状に形成されている。
【００２０】
また、風路室７の内部には冷却室２の外部から供給される冷却ガスを吐出するガス吐出枝管１３が被処理体Ｘの全体に吹付けられるように被処理体Ｘを囲む位置に配置されている。具体的には、４本のガス吐出枝管１３が各々風路室７の長手方向に配置され、４本のガス吐出枝管１３はヘッダー管１４に各々接続されている。また、ガス吐出枝管１３には被処理体Ｘに向けて冷却ガスが吐出する吐出口が複数形成されている。
【００２１】
扉５は中空形状に形成されており、その内部には熱交換器１５、冷却ファン１６及びダンパ１７ａ，１７ｂが備えられている。熱交換器１５は、水と冷却ガスを熱交換することによって冷却ガスを冷却するものであり、扉５内に配置された熱交換器格納室１８の内部に配置されている。冷却ファン１６は、熱交換器１５内からガス通過口１９ａを通過してきた冷却ガスに流れを与えるためのものであり、熱交換器１５と扉５の内周面との間、すなわち、冷却室２に載置される被処理体Ｘの側面から水平方向に離間するように配置されている。この冷却ファン１６は、扉５から突出するように設置された冷却ファンモータ２０によって駆動される。ダンパ１７ａ，１７ｂは、冷却ファン１６による冷却ガスの流路方向を決定するものであり、熱交換器格納室１８の上方に形成された複数のガス通過口１１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄをそれぞれ選択的に閉鎖するものである。なお、熱交換器格納室１８外の扉５の内部は、図示せぬ仕切板によって上下に区分けされている。
【００２２】
一方、図３に示すように、加熱室３は、水冷二重壁の略円筒形に形状設定され、内壁３ａと外壁３ｂとの間には水３ｃが介在されており、冷却室２に対向して配置されている。また、加熱室３に連結された搬送棒収納室２１の内部には、本熱処理装置１の内部において、被処理体Ｘが載置された架台１０を搬送することによって被処理体Ｘを搬送するための搬送棒２２が設置されている。
【００２３】
加熱室３の内部には略直方形に形状設定された加熱容器（熱処理炉）２３が設置されている。この加熱容器２３の一方側（冷却室２と対向する側）には上下に開閉する断熱扉２４が設置されており、他方側には搬送棒２２の出入口となる搬送棒用扉２５が設置されている。この搬送棒用扉２５は、加熱室３の外壁から突出するように設置された昇降機構２６によって上下方向に開閉される。加熱容器２３の内部には、被処理体Ｘを載せた架台１０を加熱室３の軸方向に移送するための複数のフリーローラ２７を有する移送台２８が設置されており、この移送台２８は風路室７内部に設置された移送台１１の延長線上に配置されている。なお、搬送棒用扉２５、移送台２８および架台１０は断熱扉２４と同様に断熱設計されている。また、加熱容器２３の内部には、被処理体Ｘを加熱するためのヒータ２９が、被処理体Ｘの全体が均等に加熱されるように被処理体Ｘの上下に複数設置されている。
【００２４】
また、加熱室３には、加熱容器２３内に配置された被処理体Ｘの温度を測定する温度測定装置３０が備えられている。図３、図４に示すように、架台１０には、鉛直方向に延在する矩形の嵌入孔３１を有するガイド受け部３２が載せられている。ガイド受け部３２の下端部には架台１０の上面に対向する円盤状の下フランジ部３３が形成されており、下フランジ部の下面中央には架台１０に形成された固定孔３４に遊挿される固定軸３５が設けられている。ガイド受け部３２の上端部外周には間隔をあけて下フランジ部３３と対向する円盤状の上フランジ部３６が形成されており、上フランジ部３６には鉛直方向に延在する第１の接続端子３７が嵌入孔３１の廻りを囲うように間隔をあけて複数取り付けられている。第１の接続端子３７の上端部には電極となる拡径部３７ａが形成されており、第１の接続端子３７の中間部および下端部にはナット３８ａ、３８ｂがそれぞれ螺合されている。拡径部３７ａと中間部のナット３８ａとで上フランジ部３６を挟み込み第１の接続端子３７は固定されている。
【００２５】
上フランジ部３６の設けられた複数の第１の接続端子３７の下端部には、センサー部３９に一端が接続された第１の導線４０の他端がそれぞれ取り付けられている。センサー部３９は被処理体Ｘの温度測定箇所４１にそれぞれ接触しており、温度測定箇所４１は被処理体Ｘ全体に間隔をあけて複数設定される。温度測定装置３０には熱電対が利用されており、第１の導線４０には対（二種類）となる導線が使用され、例えばクロメル−アルメル、クロメル−コンスタン、鉄−コンスタン、銅−コンスタン、ナイクロシル−ナイシル、白金・ロジウム（１０％）−白金、白金・ロジウム（１３％）−白金、白金・ロジウム（３０％）−白金・ロジウム（６％）、クロメル−金・鉄、イリジウム−イリジウム・ロジウム（４９％）、タングステン・レニウム（５％）−タングステン・レニウム（２６％）、ニッケル−ニッケル・モリブデン（１８％）、パラジウム・白金・金−金・パラジウムからなるものが使用される。また、第１の接続端子３７上端の電極となる拡径部３７ａは上フランジ部３６の上方に突出されている。
【００２６】
ガイド受け部３２の上方には、嵌入孔３１に挿嵌される嵌入ロッド４２を有するガイド部４３が配置されている。嵌入ロッド４２は嵌入孔３１に対応するように矩形に形成され鉛直方向に延在する角形の棒材であり、嵌入ロッド４２の下端は尖り形状に形成されている。また、嵌入ロッド４２の下端部には、ガイド受け部３２の上フランジ部３６に対向する円盤状のガイドフランジ部４４が形成さている。ガイドフランジ部４４の上フランジ部３６に設けられた第１の接続端子３７に対向する位置には、鉛直方向に延在する第２の接続端子４５が嵌入ロッド４２の廻りを囲うように間隔をあけて複数設けられている。第２の接続端子４５の下端部には電極となる拡径部４５ａが形成されており、第２の接続端子４５の中間部と上端部にはナット４６ａ、４６ｂがそれぞれ螺合されている。拡径部４５ａと中間部のナット４６ａとでガイドフランジ部４４を挟み込み第２の接続端子４５は固定されている。また、拡径部４５ａとガイドフランジ部４４との間にはフェルト（セラミック系、カーボン系等）からなる付勢材４７が介在されている。
【００２７】
加熱容器２３上部には貫通孔５０が形成されており、貫通孔５０上方の加熱室３には鉛直に加熱容器２３上部に立設された筒状の立上り部６２が設けられている。貫通孔５０には嵌入ロッド４２が挿通されており、嵌入ロッド４２の上端部は加熱容器２３外の加熱室３の内部に配置されている。また、加熱室３の上方にはシリンダー５１が配置されており、シリンダー５１には上下動するピストン５１ａが下向きに備えられている。ピストン５１ａは立上り部６２内に配置され、下端部には嵌入ロッド４２の上端部が固定されている。シリンダー本体５１ｂは立上り部６２の上端面に形成されたフランジ６２ａ上に載せられている。
【００２８】
図５はシリンダー本体５１ｂとフランジ６２ａとの接触部の断面図である。図５に示すように、シリンダー本体５１ｂとフランジ６２ａとの接触部には、ピストン５１ａの外周に沿って設けられたシール基材５８ａが介在されている。シール基材５８ａとピストン５１ａとの間にはＯリング５８ｂ、５８ｃが二段介装されており、シール基材５８ａとフランジ６２ａとの間にはＯリング５８ｄが介装されている。また、シール基材５８ａには二段のＯリング５８ｂ、５８ｃの間まで貫通する孔５８ｅが形成されており、孔５８ｅと二段のＯリング５８ｂ、５８ｃの間にはグリース５８ｆが充填されている。これによって、加熱室３の内部は気密性が保持される。
【００２９】
また、図３に示すように、立上り部６２の中間部には、水平方向に延びる筒状の張出し部６３が形成されている。張出し部６３の先端のフランジ６３ａには、加熱室３内の気密性を保持しつつ加熱室３の内外を電気的に接続する電極貫通板５９が設けられている。電極貫通板５９には複数の貫通端子５９ａが設けられており、複数の貫通端子５９ａの加熱室３内側の一端部とガイドフランジ部４４に設けられた複数の第２の接続端子４５の上端部とは第２の導線４９によってそれぞれ電気的に接続されている。また、複数の貫通端子５９ａの加熱室３外側の他端部と加熱室３外に配置された温度を測定する計器４８とは、第３の導線６０によってそれぞれ電気的に接続されている。計器４８はセンサー部３９との電位差（熱起電力）を検出して温度測定箇所４１の温度を測定する計器であり、加熱容器２３外の加熱室３の内部に配置されている。第２の導線４９および第３の導線６０には第１の導線４０に対応した補償導線が使用されている。
【００３０】
ピストン５１ａと嵌入ロッド４２とで上下方向に往復移動する稼動部５２が形成されており、シリンダー本体５１ｂとピストン５１ａと嵌入ロッド４２とにより、第２の接続端子４５を第１の接続端子３７に接触する位置と接触しない位置との間で移動させる移動機構５３が構成されている。また、ガイド受け部３２とガイドフランジ部４４とにより、移動機構５３の稼動部５２を案内するガイド機構５４が構成されている。さらに、第２の導線４９と貫通端子５９ａと第３の導線６０とにより、加熱室外に配置された計器４８からセンサー部３９に接続された第１の接続端子３７に電気的に接続される測定部６１が構成されている。
【００３１】
一方、図１に示すように、中間室４は、中空の略方形状に形状設定されており、冷却室２と加熱室３との間に配置されている。その上部には、真空シールド扉６を昇降させるためのホイスト等からなる昇降機構５５ａと断熱扉２４を昇降させるための断熱扉用昇降部５５ｂとが設置されている。また、冷却室２、加熱室３及び中間室４の外部には、加圧ガス供給装置５６及び減圧装置５７が設置されている。加圧ガス供給装置５６は、ヘッダー管１４を介して冷却ガスを冷却室２内部に供給するものである。また、減圧装置５７は、冷却室２及び加熱室３の内部を真空引きするためのものであり、冷却室２及び加熱室３にそれぞれ接続されている。
【００３２】
次に、上記した構成からなる熱処理装置１に備えられた温度測定装置３０の動作について説明する。
【００３３】
まず、図１に示すように、熱処理装置１外で、架台１０に被処理体Ｘとガイド受け部３２とを載せる。ガイド受け部３２は下面に設けられた固定軸３５を架台１０に形成された固定孔３４に嵌入して位置決めを行う。そして、複数のセンサー部３９を被処理体Ｘの温度測定箇所４１にそれぞれ配置するとともに、第１の導線４０の他端を上フランジ部３６に設けられた第１の接続端子３７に接続する。
【００３４】
次に、扉５を後方に移動させて風路室７の側面部７ａを開くとともに昇降機構５５ａ、５５ｂを駆動させ、真空シールド扉６および断熱扉２４を上方に移動させて風路室７、中間室４、加熱容器２３を連通させる。次に、風路室７内の移送台１１の上に被処理体Ｘが載せられた架台１０を載置して、被処理体Ｘが載せられた架台１０を加熱容器２３の中まで移動させる。図３、図４に示すように、架台１０を加熱容器２３内の所定位置に配置した後に、シリンダー５１を駆動させて稼動部５２を下方に移動させる。稼動部５２を下方に移動させることで嵌入ロッド４２は嵌入孔３１の中に挿嵌して、稼動部５２の下方への移動を案内する。また、嵌入ロッド４２に固定されたガイドフランジ部４４は下方に移動し、ガイドフランジ部４４に設けられた複数の第２の接続端子４５の拡径部４５ａは、ガイド受け部３２の上フランジ部３６に設けられた対向する第１の接続端子３７の拡径部３７ａにそれぞれ圧接する。
【００３５】
次に、扉５を前方に移動させて風路室７の側面部７ａを閉じるとともに昇降機構５５ａ、５５ｂを駆動させ、真空シールド扉６および断熱扉２４を下方に移動さて風路室７、中間室４および加熱容器２３を密閉する。そして、減圧装置５７を稼動させ、風路室７、中間室４および加熱容器２３の中をそれぞれ真空状態にする。次に、ヒータ２９を作動させて被処理体Ｘを加熱するとともに、温度測定装置３０によって被処理体Ｘの温度測定箇所４１における温度を測定する。温度測定箇所４１の温度は、センサー部３９と第１の導線４０と第２の導線４９と第３の導線６０と計器４８とによって構成された回路に発生する熱起電力を、計器４８で測定することで検出する。
【００３６】
上記した構成からなる温度測定装置３０によれば、加熱室３外に計器４８が配置され、第１の接続端子３７と第２の接続端子４５とは被処理体Ｘが加熱容器２３内に配置されたときに接触されるため、計器４８を断熱性、耐熱性に優れたケースに収納する必要はなく、また加熱容器２３内には外形の大きい計器４８は配置されない。これによって、加熱容器２３内における被処理体Ｘの配置スペースを広く確保することができ、外形の大きい被処理体Ｘの加熱処理をすることができる。また、加熱容器２３内に配置された被処理体Ｘの温度を加熱しながら検出することができるため、被処理体Ｘの温度を確認しながらヒータ２９の温度調節を行うことができ、或いは加熱時間の調節をすることができる。
【００３７】
また、移動機構５３により、架台１０を加熱容器２３内に入れるとき、第２の接続端子３７が取り付けられたガイド部４３は、架台１０の移動に干渉しないところに配置される。また、架台１０が加熱容器２３内の所定の位置に配置されたとき、第２の接続端子４５が取り付けられたガイド部４３は第１の接続端子３７に接触する位置に移動する。これによって、第１の接続端子３７と第２の接続端子４５との着脱は制御することができる。
【００３８】
また、稼動部５２は気密状態の加熱室３内から閉ざされた加熱容器２３内に貫通されているため、加熱容器２３内において稼動部５２が貫通する貫通孔５０が気密でなくても真空状態は保たれる。これによって、貫通孔５０を通して加熱容器２３外への放熱を防止することができる。
【００３９】
また、ガイド機構５４によって、移動機構５３の稼動部５２の移動方向は案内されるため、ガイド部４３に取り付けられた第２の接続端子４５はガイド受け部３２に取り付けられた第１の接続端子３７に確実に接触する。これによって、架台１０を所定の位置にセットする際に微妙な調整を必要とせずに、第１の接続端子３７と第２の接続端子４５とを接触させることができる。さらに、第２の接続端子４５の拡径部４５ａとガイドフランジ部４４との間に付勢材４７が介在されているため、第１の接続端子３７と第２の接続端子４５との密着度を向上するとともに接触時の衝撃を軽減することができる。
【００４０】
以上、本発明に係る温度測定装置３０の実施の形態について説明したが、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、上記した実施の形態では加熱容器２３内に配置された被処理体Ｘの温度を測定する場合について説明したが、本発明に係る温度測定装置３０を冷却室２に設置して、風路室７内に配置された被処理体Ｘの温度を測定してもよく、無論、温度測定装置３０を加熱室３および冷却室２のそれぞれに設置して加熱容器２３内および風路室７内の双方における被処理体Ｘの温度を測定してもよい。
【００４１】
また、上記した実施の形態では第２の導線４９に補償導線を使用しているが、本発明は第２の導線４９も熱電対を利用するための導線を使用してもよい。また、本発明は第１の導線４０の他端に測温抵抗体やサーミスタ等を接続して、被処理体Ｘの温度を測定してもよい。また、上記した実施の形態では付勢材４７は第２の導線４９の他端側にのみ介在されているが、本発明は第１の導線４０の他端側に介在させてもよく、或いは第１の導線４０の他端側および第２の導線４９の他端側の双方に介在させてもよい。また、風路室７内における付勢材４７にはフェルトのほか、ゴム（シリコン系、フッ素系等）やばね材等を使用することもできる。
【００４２】
また、上記した実施の形態では第２の接続端子４５を上下方向に移動させ、第１の接続端子３７の上方から第２の接続端子４５を接触させているが、本発明は第１の接続端子３７の下方から第２の接続端子４５を接触させてもよく、第１の接続端子３７の測方から第２の接続端子４５を接触させてもよい。さらに、移動機構５３を設けずに、架台１０の移動を利用して第１の接続端子３７と第２の接続端子４５とを接触させてもよい。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る温度測定装置によれば、計器は熱処理炉外に配置され、熱処理炉内には外形の大きい温度測定装置の部材は配置されないため、熱処理炉内における被処理体の配置スペースを広く確保でき、熱処理炉の小型化を図ることができる。また、熱処理炉内に配置された被処理体の温度を熱処理しながら検出されるため、被処理体の温度に応じて熱処理しながら熱処理炉の加熱或いは冷却の微調整を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る温度測定装置が設置された熱処理装置の断面図である。
【図２】本発明に係る温度測定装置が設置された熱処理装置の平面図である。
【図３】本発明に係る温度測定装置の全体図である。
【図４】本発明に係る温度測定装置の部分図である。
【図５】本発明に係る温度測定装置の部分拡大図である。
【符号の説明】
２  冷却室（熱処理室）
３  加熱室（熱処理室）
７  風路室（熱処理炉）
１０  架台
２３  加熱容器（熱処理炉）
３０  温度測定装置
３７  第１の接続端子
３９  センサー部
４１  温度測定箇所
４５  第２の接続端子
４７  付勢部材
４８  計器
５２  稼動部
５３  移動機構
５４  ガイド機構
６１  測定部
【図１】
2004264216.tif 000003
【図２】
2004264216.tif 000004
【図３】
2004264216.tif 000005
【図４】
2004264216.tif 000006
【図５】
2004264216.tif 000007