(57)【要約】【課題】誘電体層の表面に凹部などの立体構造を精度良く形成することで、放電セル間の干渉が抑制され、且つ高効率であるプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。【解決手段】誘電体層２７が、誘電体材料をその軟化点温度より低い温度で焼成して形成したものであり、放電空間３４側の表面に放電セル３５毎に少なくとも一つの凹部２７ａを有するというプラズマディスプレイパネルである。以上により、放電は、誘電体層２７の膜厚の薄い領域となる凹部２７ａの底面に集中的に形成されることとなり高効率化が実現できる。また、誘電体層２７の形成時には、誘電体材料をその軟化点温度より低い温度で焼成することから、凹部２７ａの角や辺などの端部に、放電セル３５間での荷電粒子の漏れの原因となる、焼成時の収縮による尖り等の盛り上がりのような形状変化が発生することが抑制される。【選択図】  図２
2004363010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板間に隔壁により仕切られた放電空間が形成されるように対向配置した一対の前面側および背面側の基板と、前記隔壁間に放電セルが形成されるように前記前面側の基板に配列して形成した複数の表示電極と、この表示電極を覆うように前面側の基板に形成し、放電空間側の表面に放電セル毎に少なくとも一つの凹部を有する誘電体層と、前記表示電極間での放電により発光する蛍光体層とを有し、誘電体層は、誘電体材料をその軟化点温度より低い温度で焼成して形成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
凹部を有する誘電体層が多層構造であり、誘電体層を構成する各層の少なくとも最上層の誘電体層は、誘電体材料をその軟化点温度よりも低い温度で焼成して形成したことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
誘電体層を構成する各層は、その層より下層の誘電体層の軟化点温度より低い温度で誘電体材料を焼成して形成したことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
凹部は、その底面が下層側に形成した誘電体層の表面となるように、上層側の誘電体層をくりぬいて形成したことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
軟化点温度より低い温度は、その下限が、軟化点温度より５０℃低い温度であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
誘電体層が、フィラーを含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
フィラーの屈折率が、１から２であることを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
誘電体層は、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系の混合物、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物の中から選ばれるガラス粉末を含有する誘電体材料により形成したことを特徴とする請求項１から４、および６のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は表示デバイスとして知られているプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、双方向情報端末として大画面、壁掛けテレビへの期待が高まっている。そのための表示デバイスとして、液晶表示パネル、フィールドエミッションディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の数多くのものがあり、そのうちの一部は市販され、一部は開発中である。これらの表示デバイス中でもプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、自発光型で美しい画像表示ができ、大画面化が容易である等の理由から、視認性に優れた薄型表示デバイスとして注目されており、高精細化および大画面化が進められている。
【０００３】
このＰＤＰには、大別して、駆動的にはＡＣ型とＤＣ型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の２種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、ＡＣ型で面放電型のＰＤＰが主流を占めるようになってきている。
【０００４】
図９にＰＤＰのパネル構造の一例を示しており、この図９に示すようにＰＤＰは、前面パネル１と背面パネル２とで構成している。
【０００５】
前面パネル１は、ガラス基板などの絶縁性で透明な前面側の基板３上に、走査電極４と維持電極５とで対をなすストライプ状の表示電極６を複数対配列して形成し、そしてその表示電極６群を覆うように誘電体層７を形成し、その誘電体層７上にＭｇＯからなる保護層８を形成することにより構成している。なお、走査電極４および維持電極５は、それぞれ透明電極４ａ、５ａ、およびこの透明電極４ａ、５ａに電気的に接続したＣｒ／Ｃｕ／ＣｒまたはＡｇ等からなるバス電極４ｂ、５ｂとから構成している。また、図示していないが、前記表示電極６間には、遮光膜としてのブラックストライプを表示電極６と平行に複数列形成している。
【０００６】
また、背面パネル２は、前記前面側の基板３に対向配置される背面側の基板９上に、表示電極６と直交する方向にアドレス電極１０を形成するとともに、そのアドレス電極１０を覆うように誘電体層１１を形成し、そしてアドレス電極１０間の誘電体層１１上にアドレス電極１０と平行にストライプ状の複数の隔壁１２を形成するとともに、この隔壁１２間の側面および誘電体層１１の表面に、赤、緑、青の３色の蛍光体層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成している。
【０００７】
そして、前面パネル１と背面パネル２とを、表示電極６とアドレス電極１０とが直交し、且つ、隔壁１２を挟んで微小な放電空間１４を形成するように対向配置するとともに、周囲を封着部材（不図示）により封止し、そして前記放電空間にネオンおよびキセノンなどを混合してなる放電ガスを６６５００Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の圧力で封入することによりＰＤＰを構成している。
【０００８】
そして放電空間１４は、隔壁１２によって複数の区画に仕切られており、この隔壁１２間に発光画素領域となる複数の放電セル１５を形成するように表示電極６を設けるとともに、表示電極６とアドレス電極１０とが直交するように配置している。
【０００９】
すなわち、図１０に示すように、走査電極４と維持電極５とを放電ギャップ１６を挟んで配列することにより表示電極６を形成し、この表示電極６と隔壁１２で囲まれた領域が、発光画素領域となる放電セル１５であり、そして隣接する放電セル１５の表示電極６間は非発光領域１７となる。
【００１０】
このＰＤＰでは、アドレス電極１２、表示電極６に印加される周期的な電圧によって放電を発生させ、この放電による紫外線を蛍光体層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂに照射して可視光に変換させることにより、画像表示を行う。
【００１１】
このＰＤＰの発展のためには、更なる高輝度化、高効率化、低消費電力化、低コスト化が不可欠となっている。そして、高効率化を達成するための手法の一つとして、例えば特許文献１に記載されているように、誘電体層７の表面に凹部のような立体構造を形成する手法が知られている。
【００１２】
【特許文献１】
特開平８−２５００２９号公報
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
誘電体層７の表面に凹部のような立体構造を形成する際には、誘電体層７の前駆体となる誘電体材料を凹部形状を有するように塗布し、その後、焼成するという方法が採られる。ここで、誘電体層７には、高効率化のため、蛍光体層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂからの発光光を遮ることなく取り出すことが要求され、したがって、誘電体層７の透過率は高いことが必要とされる。そのため、一般的に、誘電体材料の焼成温度は、誘電体材料の焼結を促進することで透過率をできるだけ高い値に保つことを目的として、その軟化点温度よりも数十℃高い温度に設定される場合が多い。例えば、軟化点５８０℃の誘電体材料に対して焼成温度は５９０℃と設定され、その場合の基板３込みでの透過率は７０％程度となる。
【００１４】
ここで、誘電体材料は、軟化点温度より高い温度で焼成すると、一旦、軟化し、その後、固化するという変化をし、その際、誘電体層７には収縮が発生することから、誘電体層７の表面に形成した凹部には、その角部や辺部などの端部が尖るように盛り上がり形状が変形してしまうという問題が生じる場合がある。誘電体層７の表面にこのような盛り上がりが存在すると、前面パネル１と背面パネル２とを隔壁１２を挟んで対向させる際、この盛り上がりが隔壁１２と当接する箇所である場合には、背面パネル２と隔壁１２との間に隙間が生じる原因となる。このような隙間が存在すると、この隙間を通じて、荷電粒子などの漏れが発生し、放電セル１５間での放電に干渉が発生し、ＰＤＰの画像の表示特性に悪影響を与える場合がある。
【００１５】
本発明はこのような課題を解決するためになされたもので、誘電体層の表面に凹部などの立体構造を精度良く形成することで、放電セル間の干渉が抑制され、且つ高効率であるプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を実現するために本発明のプラズマディスプレイパネルは、基板間に隔壁により仕切られた放電空間が形成されるように対向配置した一対の前面側および背面側の基板と、前記隔壁間に放電セルが形成されるように前記前面側の基板に配列して形成した複数の表示電極と、この表示電極を覆うように前面側の基板に形成し、放電空間側の表面に放電セル毎に少なくとも一つの凹部を有する誘電体層と、前記表示電極間での放電により発光する蛍光体層とを有し、誘電体層は、誘電体材料をその軟化点温度より低い温度で焼成して形成したことを特徴とするものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明の請求項１に記載の発明は、基板間に隔壁により仕切られた放電空間が形成されるように対向配置した一対の前面側および背面側の基板と、前記隔壁間に放電セルが形成されるように前記前面側の基板に配列して形成した複数の表示電極と、この表示電極を覆うように前面側の基板に形成し、放電空間側の表面に放電セル毎に少なくとも一つの凹部を有する誘電体層と、前記表示電極間での放電により発光する蛍光体層とを有し、誘電体層は、誘電体材料をその軟化点温度より低い温度で焼成して形成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
【００１８】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、凹部を有する誘電体層が多層構造であり、誘電体層を構成する各層の少なくとも最上層の誘電体層は、誘電体材料をその軟化点温度よりも低い温度で焼成して形成したことを特徴とするものである。
【００１９】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、誘電体層を構成する各層は、その層より下層の誘電体層の軟化点温度より低い温度で誘電体材料を焼成して形成したことを特徴とするものである。
【００２０】
また、請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、凹部は、その底面が下層側に形成した誘電体層の表面となるように、上層側の誘電体層をくりぬいて形成したことを特徴とするものである。
【００２１】
また、請求項５に記載の発明は、請求項１から３のいずれかに記載の発明において、軟化点温度より低い温度は、その下限が、軟化点温度より５０℃低い温度であることを特徴とするものである。
【００２２】
また、請求項６に記載の発明は、請求項１から４のいずれかに記載の発明において、誘電体層が、フィラーを含むことを特徴とするものである。
【００２３】
また、請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、フィラーの屈折率が、１から２であることを特徴とするものである。
【００２４】
また、請求項８に記載の発明は、請求項１から４、および６のいずれかに記載の発明において、誘電体層は、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系の混合物、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物の中から選ばれるガラス粉末を含有する誘電体材料により形成したことを特徴とするものである。
【００２５】
以下、本発明の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルのいくつかの例について、図面を用いて説明する。
【００２６】
図１に本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の構造の一例を示しており、この図１に示すようにＰＤＰは、前面パネル２１と背面パネル２２とから構成されている。
【００２７】
前面パネル２１は、例えばフロート法による硼珪素ナトリウム系ガラス等からなるガラス基板などの、透明、且つ絶縁性の前面側の基板２３上に、走査電極２４と維持電極２５とで対をなすストライプ状の表示電極２６を複数対配列して形成し、そしてその表示電極２６群を覆うように誘電体層２７を形成し、その誘電体層２７上にＭｇＯからなる保護層２８を形成することにより構成している。なお、走査電極２４および維持電極２５は、それぞれ透明電極２４ａ、２５ａ、および、この透明電極２４ａ、２５ａに電気的に接続されたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ、またはＡｇ等からなるバス電極２４ｂ、２５ｂとから構成している。また、図示していないが、前記表示電極２６間には、遮光膜としてのブラックストライプを表示電極２６と平行に複数列形成している。
【００２８】
また、背面パネル２２は、前記前面側の基板２３に対向配置される背面側の基板２９上に、表示電極２６と直交する方向にアドレス電極３０を形成するとともに、そのアドレス電極３０を覆うように誘電体層３１を形成し、そしてアドレス電極３０間の誘電体層３１上にアドレス電極３０と平行にストライプ状の複数の隔壁３２を形成するとともに、この隔壁３２間の側面および誘電体層３１の表面に、赤、緑、青の３色の蛍光体層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂを形成している。
【００２９】
そして、これらの前面パネル２１と背面パネル２２とを、表示電極２６とアドレス電極３０とが直交し、且つ、隔壁３２を挟んで微小な放電空間３４を形成するように対向配置するとともに、周囲を封着部材（不図示）により封止し、そして前記放電空間３４にネオンおよびキセノンなどを混合してなる放電ガスを６６５００Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の圧力で封入することによりＰＤＰを構成している。
【００３０】
そして、放電空間３４は隔壁３２によって複数の区画に仕切っており、この隔壁３２間に発光画素領域となる複数の放電セル３５を形成するように表示電極２６を設けるとともに、表示電極２６とアドレス電極３０とを直交して配置している。
【００３１】
図２に、前面パネル２１の放電セル３５（図１）部分を拡大して示している。図に示すように、誘電体層２７は、表示電極２６を覆うように前面側の基板２３上に形成し、その表面、すなわち放電空間３４（図１）側には、放電セル３５（図１）毎に少なくとも一つの凹部２７ａを有する構造である。また、誘電体層２７は、誘電体材料をその軟化点温度より低い温度で焼成して形成したものである。
【００３２】
次に、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法について説明する。
【００３３】
まず、前面パネル２１の前面側の基板２３上に、ＩＴＯやＳｎＯ２等からなる透明電極材料膜をスパッタ法により一様に成膜する。次に、透明電極材料膜上に、ノボラック樹脂を主成分とするポジ型レジストを塗布し、所望のパターンの露光乾板を介して紫外線を露光し、レジストを硬化させる。次に、アルカリ水溶液で現像を行い、レジストパターンを形成する。その後、塩酸を主成分とする溶液に基板を浸漬させてエッチングを行い、不要部分の除去を行い、最後にレジストを剥離して透明電極２４ａ、２５ａを形成する。
【００３４】
次に、ＲｕＯ２等からなる黒色顔料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系やＢｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系等）を含有する黒色電極材料膜と、Ａｇ等の導電性材料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系やＢｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系等）を含有する金属電極材料膜とからなる電極材料膜を形成し、所望のパターンの露光乾板を介して紫外線を照射し露光部を硬化させ、その後、アルカリ性現像液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）を用いて現像してパターンを形成し、その後、ガラスフリットの軟化点温度以上の温度で焼成を行うことで、透明電極２４ａ、２５ａ上にバス電極２４ｂ、２５ｂを形成する。以上のようにして前面パネル２１の表示電極２６を形成することができる。
【００３５】
次に、ガラス粉末、結着樹脂、および溶剤を含有するペースト状のガラス粉末含有組成物の誘電体材料を、例えばダイコート法を用いて表示電極２６が形成された基板２３の表面に塗布、乾燥し、焼成することにより、誘電体層２７を形成する。ここで、誘電体層２７の表面には放電セル３５毎に少なくとも一つの凹部２７ａを有するように形成し、また形成時において、誘電体材料を焼成する温度は、誘電体材料の軟化点温度より低い温度である。
【００３６】
ここで、凹部２７ａの形成は、例えば、フォトリソ法によるハーフエッチングなどの方法を挙げることができる。
【００３７】
また、ガラスペースト組成物である誘電体材料を基板２３の表面に塗布する方法としては、誘電体材料を支持フィルム上に塗布し、乾燥することでシート状誘電体材料とし、これを転写により基板２３上に形成するという方法でも良い。この場合、誘電体層２７は、シート状誘電体材料のカバーフィルムを剥離した後、誘電体材料層の表面が基板２３に接するようにシート状誘電体材料を重ね合わせながら、支持フィルム側から加熱ローラーで圧着して基板２３に固着することとなる。そしてその後、基板２３上に固着された誘電体材料層から支持フィルムを剥離除去し、その後、軟化点温度より低い温度で焼成することで誘電体層２７が得られる。この時の圧着に使用する手段としては、加熱ローラー以外に、加熱しない単なるローラーでもよい。
【００３８】
その後、ＭｇＯを電子ビーム蒸着法により誘電体層２７上に一様に成膜することで保護層２８を形成する。以上により、ＰＤＰの前面パネル２１が得られる。
【００３９】
一方、ＰＤＰの背面パネル２２の製造方法は、まずフロート法により製造された背面パネル２２の背面側の基板２９に対し、前面パネル２１でのバス電極２４ａ、２５ａと同様にしてアドレス電極３０を形成する。その上に誘電体層２８を形成する。これも基本的には前面パネル２１の誘電体層２７と同様であるが、形成時の焼成の温度を軟化点温度以下とする必要はない。そして誘電体層３１の上に隔壁３２を形成する。
【００４０】
隔壁３２の形成に利用する材料としては、ガラス粉末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状のガラス粉末含有組成物である誘電体材料である。またその形成方法としては、フォトリソグラフィー法やサンドブラスト法を用いて形成することができる。
【００４１】
次に、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する蛍光体材料を隔壁３２間に塗布し、焼成することで蛍光体層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂを形成する。以上により背面パネル２２を得ることができる。
【００４２】
以上のようにして作製した前面パネル２１と背面パネル２２とを、表示電極２６とアドレス電極３０とがほぼ直角に交差するように位置合わせをして対向配置し、その周辺部をシール材（不図示）によって封着して貼り合わせ、その後、隔壁３２で仕切られた放電空間３４内を排気することで不純ガスの除去を行い、そして、その放電空間３４内に、Ｎｅ、Ｘｅ等の放電ガスを封入して封止することにより、図１に示すような構成のＰＤＰを製造することができる。
【００４３】
ここで、ＰＤＰの高効率化を達成するための一つの方法として、発光光が遮蔽される部分、すなわち金属材料で形成されているため透過率が低いバス電極２４ｂ、２５ｂの領域にまで放電が拡がらないように放電を制御することが有効である。
【００４４】
そして、上述した実施の形態の構成によれば、誘電体層２７が、放電セル３５毎に少なくとも一つの凹部２７ａを有し、バス電極２４ｂ、２５ｂが存在する領域においては誘電体層２７の膜厚が厚くなった構成とすることで、その領域での静電容量は低くなり、表面に発生する電荷は抑制されることから、その領域での放電は抑制される。さらに、誘電体層２７の膜厚が厚い領域では、放電開始電圧は上昇するため、このことからも、その部分での放電は抑制される。すなわち、図３に示すように、上述した実施の形態の構成によれば、放電Ａは、誘電体層２７の膜厚の薄い領域である凹部２７ａの底面に集中的に形成されることとなる。これに対して、図４に示すような、凹部２７ａのない構造では、誘電体層２７の膜厚が一定であるため、容量が誘電体層２７の面上で一定であり、放電Ｂはバス電極２４ｂ、２５ｂ付近にまで拡がり、その発光光がバス電極２４ｂ、２５ｂにより遮蔽される部分の蛍光体層を発光させてしまうため、効率が低下する。
【００４５】
また、放電が隔壁３２近傍にまで拡がった場合、隔壁３２により電子温度が低下するため効率が低下する恐れがあり、さらに、隔壁３２付近で放電を行うと隔壁３２が負に帯電し、これにより正イオンがひきつけられ、イオン爆撃を受けてエッチングされ、エッチングされた隔壁３２が蛍光体層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂに降り積もるなどして特性を劣化させる恐れがあるという問題が発生する場合があるが、上述した構成では隔壁３２よりも内側に凹部２７ａを形成することで、放電が隔壁３２付近にまで拡がることを抑制することができる。
【００４６】
なお、凹部２７ａの形状としては、上記の形状以外に、円柱、円錐、三角柱、三角錐などの形状でもよく、上記実施の形態での形状に限るものではない。
【００４７】
ここで、上述した構成においては、誘電体層２７を形成する際の、誘電体材料の焼成は、その軟化点温度より低い温度で行っている。
【００４８】
すなわち、ＰＤＰの高効率化のためには、前面パネル２１に用いられる誘電体層２７においては、蛍光体層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂからの発光光を遮ることなく取り出すことが要求され、したがって、誘電体層２７の透過率は高いことが必要とされる。そのため、従来は、誘電体層２７の焼成温度は、誘電体材料の焼結を促進することで透過率をできるだけ高い値に保つことを主目的として、その軟化点温度よりも数十度高い温度に設定されることが多かった。例えば、軟化点温度５８０℃の誘電体材料に対しては焼成温度は５９０℃と設定され、これにより、基板２３込みでの透過率として７０％程度としていた。しかしながら本発明者は、この誘電体材料に対して、様々な焼成温度とその際の透過率との関係を検討し、その結果、焼成温度を軟化点温度に対し±３０℃（軟化点温度が５８０℃の場合には５５０℃〜６１０℃）とした場合は、低温側では焼結の不足、高温側では泡の成長となるものの、１〜５％程度の透過率の低下に収まることを確認している。また、軟化点温度よりも５０℃以上低い温度（軟化点温度が５８０℃の場合には５３０℃）で焼成した場合には、誘電体材料はほとんど軟化せず、したがって焼結は促進されず、透過率も５０％未満にまで低下することも確認している。
【００４９】
そこで以上の結果に基づき、本発明においては、透過率を大きく低下させないことを目的としつつも、誘電体材料を焼成する際の軟化、固化に伴う、凹部２７ａの端部の尖りなどの形状変化の発生を抑制することも目的とし、そのために、軟化点温度より、低い温度、その下限は上述より５０℃程度、プロセスの変動による影響を考慮して、好ましくは３０℃程度として焼成するものである。
【００５０】
以上のような誘電体材料の焼成によれば、誘電体材料は軟化して溶融することがないので、固化の際に収縮して凹部２７ａの端部が盛り上がるなどの形状変化が発生することが抑制され、その結果、誘電体層２７の表面に凹部２７ａを精度良く形成することが可能となる。
【００５１】
なお、上述のような軟化点温度以下での焼成を行うことで、誘電体層２７の透過率には若干の低下が発生するが、上述した構成においては、誘電体層２７の表面に凹部２７ａが形成され、放電はその凹部２７ａ内に制限されることから、放電により発生する発光光の透過に実質的に寄与する部分は、誘電体層２７の厚みが薄くなっている凹部２７ａであり、したがって、誘電体層２７の透過率に若干の低下があっても、凹部２７ａでは誘電体層２７の厚みが薄くなっており、これにより誘電体層２７を透過する発光光の量への影響は抑制されることとなる。
【００５２】
また、誘電体材料は、焼成することによってガラス焼結体である誘電体層２７となるものであり、含有されるガラス粉末としては、例えば、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系の混合物、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物、Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の混合物などを挙げることができる。
【００５３】
次に、図５〜図８に、本発明の他の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの一例を示す。なお、図１〜図３に示した構成と同じ要素には同じ番号を付している。
【００５４】
図１〜図３に示す構成と異なる点は、誘電体層２７が多層構造であり、誘電体層２７を構成する各層の、少なくとも最上層の誘電体層は、誘電体材料をその軟化点温度よりも低い温度で焼成して形成したことである。
【００５５】
図５〜図８は、多層構造の一例として、誘電体層２７が２層構造、すなわち、表示電極２６を覆うように前面側の基板２３上に形成した下層の誘電体層２７ｂと、その上を覆うように放電空間側に形成した上層の誘電体層２７ｃとから構成されている場合の放電セル部を拡大して示しており、誘電体層２７を構成する各層２７ｂ、２７ｃの、少なくとも最上層の誘電体層２７ｃは、誘電体材料をその軟化点温度よりも低い温度で焼成することで形成している。
【００５６】
上述したような実施の形態の構成によれば、最上層の誘電体層２７ｃは、それ自身を形成するための誘電体材料の軟化点温度よりも低い温度で焼成しているため、図１〜図３に示した構成と同様、凹部２７ａの端部が尖るなどの形状変化が発生するという問題が抑制される。
【００５７】
ここで、誘電体層２７を構成する各層が、その層より下層となる誘電体層の軟化点温度より低い温度で誘電体材料を焼成して形成したものとすれば、例えば図５から図８に示す構成の場合には、下層の誘電体層２７ｂを形成した後に、上層の誘電体層２７ｃを形成するための誘電体材料を塗布、乾燥し、焼成する段階において、下層の誘電体層２７ｂが再軟化することが抑制されるため、さらに安定した形状の凹部２７ａを形成することが可能となる。
【００５８】
ここで、軟化点温度の調整は、誘電体材料に含有されるＰｂＯの組成比やＳｉＯ２の組成比を変更することで行うことができる。一般的に、ＰｂＯの組成比を高くすると軟化点が低下し、また、ＳｉＯ２の組成比を下げると、同様に軟化点が低下する。例えば、軟化点が６００℃付近のガラス粉末としては、全体を１００重量％として、酸化鉛（ＰｂＯ）４５重量％〜６５重量％、酸化硼素（Ｂ２Ｏ３）１０重量％〜３０重量％、酸化硅素（ＳｉＯ２）１０重量％〜３０重量％、添加物として酸化カルシウム（ＣａＯ）１重量％〜１０重量％、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）０重量％〜３重量％という組成のものが挙げられ、これに対して軟化点を３０℃上げるためには、ＰｂＯの重量％を５〜１０％上げることで実現できる。
【００５９】
また、誘電体層２７の表面の凹部２７ａとしては、例えば上層の誘電体層２７ｃをフォトリソ法によるハーフエッチングで形成することによる図７に示すような構成や、上層の誘電体層２７ｃを放電セル毎にくりぬいて形成し、凹部２７ａの底面が下層の誘電体層２７ｂの表面となるように形成することによる図８に示すような構成が例として挙げられる。図８に示す構成は、例えば、まず下層の誘電体層２７ｂを形成した後、上層の誘電体層２７ｃを形成するための誘電体材料に感光性材料を添加して作製した感光性の誘電体材料を下層の誘電体層２７ｂ上に塗布し、そして孔部が形成されるように、露光、現像し、その後、焼成することで、上層の誘電体層２７ｃに孔部が形成された状態となり、このことにより、誘電体層２７として凹部２７ａを有した構成となるというものである。また、このような形成方法による凹部２７ａの構成の方が、凹部２７ａの深さ方向の精度が高まるため好ましい。
【００６０】
なお、以上説明した構成においては、保護層２８は誘電体層２７の凹部２７ａを含め、その表面に形成されるものである。
【００６１】
また、以上説明した構成においては、誘電体層２７にフィラーを含有させることで、さらに形状を保持させることが可能となり、盛り上がりを抑制することができる。ここでフィラー成分としては酸化チタン、アルミナ、炭酸カルシウム、石英ガラス、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム等を挙げることができる。
【００６２】
前面板に形成するためフィラーを添加しても透明性を保持する必要があり、さらに好ましくは誘電体ガラスの屈折率に近いものが好ましい。例えば誘電体ガラスの屈折率が１．７付近のものであれば、フィラーの屈折率を１〜２とすることが好ましい。さらに、好ましくは１．５から１．９とすることが好ましい。ここで、アルミナは１．５６、炭酸カルシウムは１．５３〜１．６１、石英ガラスは１．４６、水酸化マグネシウムは１．５４、硫酸バリウムは１．６５、硫酸カルシウムは１．５７であり、前述したフィラーの中でも好ましい屈折率の材料である。逆に酸化チタンは屈折率が２．７６であり透明性が失われるおそれがある。
【００６３】
【発明の効果】
以上述べたように本発明のプラズマディスプレイパネルによれば、誘電体層の表面に凹部などの立体構造を精度良く形成することが可能となり、放電セル間の干渉が抑制され、且つ高効率であるプラズマディスプレイパネルを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図
【図２】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルにおける放電セル部の概略構成を示す斜視図
【図３】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルにおける放電セル部の概略構成を示す断面図
【図４】従来のプラズマディスプレイパネルにおける放電セル部の概略構成を示す断面図
【図５】本発明の他の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図
【図６】同じく、本発明の他の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルにおける放電セル部の概略構成を示す斜視図
【図７】同じく、本発明の他の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルにおける放電セル部の概略構成を示す断面図
【図８】同じく、本発明の他の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルにおける放電セル部の概略構成を示す断面図
【図９】従来のプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図
【図１０】従来のプラズマディスプレイパネルにおける放電セル部の概略構成を示す断面図
【符号の説明】
２１  前面パネル
２２  背面パネル
２３  （前面側の）基板
２４  走査電極
２５  維持電極
２６  表示電極
２７  誘電体層
２７ａ  凹部
２９  （背面側の）基板
３０  アドレス電極
３２  隔壁
３３  蛍光体層
３４  放電空間
３５  放電セル
【図１】
2004363010.tif 000003
【図２】
2004363010.tif 000004
【図３】
2004363010.tif 000005
【図４】
2004363010.tif 000006
【図５】
2004363010.tif 000007
【図６】
2004363010.tif 000008
【図７】
2004363010.tif 000009
【図８】
2004363010.tif 000010
【図９】
2004363010.tif 000011
【図１０】
2004363010.tif 000012