(57)【要約】【課題】  実用的な高感度の電子写真感光体に好適に用いられる新規なアゾ化合物及び該アゾ化合物の効率のよい製造方法、並びに、感光層用材料の提供。【解決手段】  下記一般式（１）で表されることを特徴とするアゾ化合物、及び該アゾ化合物の製造方法である。【化６０】2004300422.tif 000125  ただし、前記一般式（１）中、ｒ１及びｒ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はニトロ基を表す。２つのＣｐはカップラー残基を表す。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されることを特徴とするアゾ化合物。
【化１】
2004300422.tif 000114
ただし、前記一般式（１）中、ｒ１及びｒ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はニトロ基を表す。２つのＣｐはカップラー残基を表し、該２つのＣｐの少なくとも１つは下記一般式（２）、下記一般式（３）及び下記一般式（４）のいずれかで表されるカップラー残基である。
【化２】
2004300422.tif 000115
【化３】
2004300422.tif 000116
【化４】
2004300422.tif 000117
ただし、前記一般式（２）、一般式（３）、及び一般式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１とＲ２は互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Ｘは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。Ｙは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する２価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する２価の有機残基、又はＣＯ−Ｚ−で示される２価のカルボニル基含有有機残基（ただし、Ｚは、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族性を有する２価の有機残基、複素芳香族性を有する２価の有機残基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい）を表す。
【請求項２】
一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（５）で表されるカップラー残基である請求項１に記載のアゾ化合物。
【化５】
2004300422.tif 000118
ただし、前記一般式（５）中、Ａ１は、芳香族基、又は複素環基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。ｍは、１〜６の整数を示す。
【請求項３】
一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（６）、及び下記一般式（７）のいずれかで表されるカップラー残基である請求項１に記載のアゾ化合物。
【化６】
2004300422.tif 000119
【化７】
2004300422.tif 000120
ただし、前記一般式（７）中、Ｙは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する２価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する２価の有機残基、又はＣＯ−Ｚ−で示される２価のカルボニル基含有有機残基（ただし、Ｚは、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族性を有する２価の有機残基、複素芳香族性を有する２価の有機残基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい）を表す。
【請求項４】
一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（８）で表されるカップラー残基である請求項１に記載のアゾ化合物。
【化８】
2004300422.tif 000121
ただし、前記一般式（８）中、Ｚ１は、式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の炭化水素環を形成する２価の有機残基、又は式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の複素環を形成する２価の有機残基を表す。Ｒ１４は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、又は置換又は無置換のフェニル基を表す。Ｙ２は、置換又は無置換の炭化水素環基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。
【請求項５】
一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（２３）及び下記一般式（２４）のいずれかで表されるカップラー残基である請求項１に記載のアゾ化合物。
【化９】
2004300422.tif 000122
【化１０】
2004300422.tif 000123
ただし、前記一般式（２３）及び一般式（２４）中、ｙ2は、芳香族炭化水素の２価基又は窒素原子を環内に含む複素環の２価基を表す。これらの環は更に置換基により置換されていてもよい。
【請求項６】
下記一般式（９）で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式（１０）で表わされるカップラー化合物とを反応させることを特徴とするアゾ化合物の製造方法。
【化１１】
2004300422.tif 000124
ただし、前記一般式（９）中、ｒ１及びｒ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表す。Ｚ−は、アニオン基を表す、
ＨＣｐ                          一般式（１０）
ただし、前記一般式（１０）中、Ｃｐは、カップラー残基を表す。
【請求項７】
請求項１から５のいずれかに記載のアゾ化合物からなることを特徴とする感光層用材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なアゾ化合物及び該アゾ化合物の製造方法、並びに、感光層用材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、アゾ化合物は種々の産業分野において古くから染料、或いは顔料として広く用いられており、例えば、繊維の染色用やカラー写真光材料の色材として、また最近では、フォトクロミックな用途にも利用されているきわめて重要な化合物群である。このアゾ化合物は、一般には「ジアゾニウム化合物」と「カップラー化合物」とをカップリング反応させて合成する。このジアゾニウム化合物及びカップラー化合物に関しては、目的とするアゾ染料或いは顔料の用途に応じ、種々の構造を有する化合物が用いられており、そのジアゾニウム化合物及びカップラー化合物の選択により、得られるアゾ染料或いはアゾ顔料の吸収波長と強度、水に対する溶解度、光に対する堅牢性或いは樹脂に対する分散特性等が決定される。
【０００３】
特に、電子写真感光体の分野においては、ある種のアゾ化合物が電子写真感光体の一つの形態である積層型感光体に用いられる有機光導電体、特に、電荷発生顔料として有用であることが知られている。この積層型感光体は、周知のように導電性支持体上に光によって電荷担体を発生する能力を有する電荷発生顔料を主成分とする電荷発生層とその上に電荷発生層で発生した電荷担体を効率よく注入し、更に、これを搬送する能力を有する電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層とを設けた感光体である。このような感光体に使用されるアゾ化合物としては、例えば、ベンジジン系ビスアゾ化合物（特許文献１及び特許文献２参照）、スチルベンゼン系ビスアゾ化合物（特許文献３参照）、ジフェニルヘキサトリエン系ビスアゾ化合物（特許文献４参照）、ジフェニルブタジエン系ビスアゾ化合物（特許文献５参照）、等が知られている。
【０００４】
一方、このようなアゾ顔料に使用されるカップラー化合物としては、例えば、ナフトール系カップラー（特許文献６参照）、ベンズカルバゾール系カップラー（特許文献７参照）、ナフタルイミド系カップラー（特許文献８参照）、ペリノン系カップラー（特許文献９参照）、アズレン系カップラー（特許文献１０参照）、アントラセン系カップラー（特許文献１１参照）、等がすでに知られている。
【０００５】
しかし、従来のアゾ化合物を用いた積層型感光体は、一般に感度、及び耐久性が低いため、実用上必ずしも十分とはいえず、電子写真プロセスに必要とされる種々の要求を満足するに至らっておらず、一層の感度、及び耐久性の向上が望まれているのが現状である。
【０００６】
【特許文献１】特開昭４７−３７５４３号公報
【特許文献２】特開昭５２−５５６４３号公報
【特許文献３】特開昭５２−８８３２号公報
【特許文献４】特開昭５８−２２２１５２号公報
【特許文献５】特開昭５８−２２２１５３号公報
【特許文献６】特開昭４７−３７５４３号公報
【特許文献７】特開昭５８−１２２９６７号公報
【特許文献８】特開昭５４−７９６３２号公報
【特許文献９】特開昭５７−１７６０５５号公報
【特許文献１０】特開昭６０−１０２５６号公報
【特許文献１１】特開昭６１−２５７９５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、実用的な高感度の電子写真感光体に好適に用いられる新規なアゾ化合物及び該アゾ化合物の効率のよい製造方法、並びに、感光層用材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のカップラーを使用した新規アゾ化合物が、容易に製造可能であり、特に、電子写真感光体に用いた場合に実用的な感度と耐久性を有することを知見した。
【０００９】
本発明は、本発明者らの前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  下記一般式（１）で表されることを特徴とするアゾ化合物である。
【化１２】
2004300422.tif 000002
ただし、前記一般式（１）中、ｒ１及びｒ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はニトロ基を表す。２つのＣｐはカップラー残基を表し、該２つのＣｐの少なくとも１つは下記一般式（２）、下記一般式（３）及び下記一般式（４）のいずれかで表されるカップラー残基である。
【化１３】
2004300422.tif 000003
【化１４】
2004300422.tif 000004
【化１５】
2004300422.tif 000005
ただし、前記一般式（２）、一般式（３）、及び一般式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１とＲ２は互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Ｘは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。Ｙは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する２価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する２価の有機残基、又はＣＯ−Ｚ−で示される２価のカルボニル基含有有機残基（ただし、Ｚは、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族性を有する２価の有機残基、複素芳香族性を有する２価の有機残基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい）を表す。
＜２＞  一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（５）で表されるカップラー残基である前記＜１＞に記載のアゾ化合物である。
【化１６】
2004300422.tif 000006
ただし、前記一般式（５）中、Ａ１は、芳香族基、又は複素環基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。ｍは、１〜６の整数を示す。
＜３＞  一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（６）、及び下記一般式（７）のいずれかで表されるカップラー残基である前記＜１＞に記載のアゾ化合物である。
【化１７】
2004300422.tif 000007
【化１８】
2004300422.tif 000008
ただし、前記一般式（７）中、Ｙは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する２価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する２価の有機残基、又はＣＯ−Ｚ−で示される２価のカルボニル基含有有機残基（ただし、Ｚは、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族性を有する２価の有機残基、複素芳香族性を有する２価の有機残基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい）を表す。
＜４＞  一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（８）で表されるカップラー残基である前記＜１＞に記載のアゾ化合物である。
【化１９】
2004300422.tif 000009
ただし、前記一般式（８）中、Ｚ１は、式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の炭化水素環を形成する２価の有機残基、又は式中のベンゼン環と縮合して置換又は無置換の複素環を形成する２価の有機残基を表す。Ｒ１４は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、又は置換又は無置換のフェニル基を表す。Ｙ２は、置換又は無置換の炭化水素環基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。
＜５＞  一般式（１）において、２つのＣｐの少なくとも１つは、下記一般式（２３）及び下記一般式（２４）のいずれかで表されるカップラー残基である前記＜１＞に記載のアゾ化合物である。
【化２０】
2004300422.tif 000010
【化２１】
2004300422.tif 000011
ただし、前記一般式（２３）及び一般式（２４）中、ｙ2は、芳香族炭化水素の２価基又は窒素原子を環内に含む複素環の２価基を表す。これらの環は更に置換基により置換されていてもよい。
＜６＞  下記一般式（９）で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式（１０）で表わされるカップラー化合物とを反応させることを特徴とするアゾ化合物の製造方法である。
【化２２】
2004300422.tif 000012
ただし、前記一般式（９）中、ｒ１及びｒ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表す。Ｚ−は、アニオン基を表す、
ＨＣｐ                          一般式（１０）
ただし、前記一般式（１０）中、Ｃｐは、カップラー残基を表す。
＜７＞  前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のアゾ化合物からなることを特徴とする感光層用材料である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、従来に比べて製造が容易であり、特に、電荷発生物質として用いることにより、高感度の電子写真感光体を製造することができる新規アゾ化合物を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（アゾ化合物及びその製造方法）
本発明のアゾ化合物は、下記一般式（１）で表されるものである。
【化２３】
2004300422.tif 000013
ただし、前記一般式（１）中、ｒ１及びｒ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はニトロ基を表す。２つのＣｐはカップラー残基を表し、該２つのＣｐの少なくとも１つは下記一般式（２）、下記一般式（３）及び下記一般式（４）のいずれかで表されるカップラー残基である。
【化２４】
2004300422.tif 000014
【化２５】
2004300422.tif 000015
【化２６】
2004300422.tif 000016
ただし、前記一般式（２）、一般式（３）、及び一般式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１とＲ２は互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成してもよい。Ｘは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、又はアミノ基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい。Ｙは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する２価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する２価の有機残基、又はＣＯ−Ｚ−で示される２価のカルボニル基含有有機残基（ただし、Ｚは、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族性を有する２価の有機残基、複素芳香族性を有する２価の有機残基を表し、これらは置換基により更に置換されていてもよい）を表す。
本発明のアゾ化合物の製造方法は、下記一般式（９）で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式（１０）で表わされるカップラー化合物とを反応させる。
【化２７】
2004300422.tif 000017
ただし、前記一般式（９）中、ｒ１、ｒ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表わし、Ｚ−はアニオン基を表す、
ＨＣｐ                          一般式（１０）
ただし、前記一般式（１０）中、Ｃｐはカップラー残基を表す。
以下、本発明のアゾ化合物の製造方法の説明を通じて、本発明のアゾ化合物の詳細も明らかにする。
【００１２】
本発明のアゾ化合物、及び該アゾ化合物の製造原料は、以下の方法により製造することができる。
即ち、下記一般式（１１）で表わされるスチレン化合物と、下記一般式（１２）で表わされるアセチレンジカルボン酸エステル化合物を、次のような反応（Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応）をさせることで下記一般式（１３）で表されるナフタレン化合物を得る。
【００１３】
【化２８】
2004300422.tif 000018
ただし、前記反応は酸化反応を伴うＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応であり、Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．，５９５，１（１９５５）には、ハイドロキノン類とヨウ素による反応が、Ｂｅｒ．，６９，１６８６（１９３６）には、ニトロベンゼン溶媒中で、無水マレイン酸による反応が記載されている。本発明においては、ニトロベンゼン溶媒中、アセチレンジカルボン酸エステルによる反応を、反応温度を１００℃〜１６０℃、更に好適には１３０℃〜１５０℃に制御することにより、１段階の反応で、高収率で上記一般式（１３）で表されるナフタレン化合物を得ることができる。
【００１４】
次に、上記で得られた一般式（１３）のナフタレン化合物の保護基であるＲ６を次のように除去することで下記一般式（１４）で表されるナフタレン化合物が得られる（脱保護基）。
【化２９】
2004300422.tif 000019
ただし、前記一般式（１４）中、Ｒ６は、ＯＨ基の保護基であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、アリル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、トリメチルシリル基等が挙げられ、これらの中でも、更に好適には、酸触媒下、室温で除去可能なｉｓｏ−プロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシメチル基である。前記酸触媒としては、例えば、硫酸、トリフルオロ酢酸、臭化水素酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、などを挙げることができる。
【００１５】
次に、前記合成で得られた一般式（１４）のナフタレン化合物と、下記一般式（１５）のアミン化合物を、次に示されるようなエステル／アミド交換反応させることにより、下記一般式（１６）で表されるカップラー化合物を得ることができる。
【化３０】
2004300422.tif 000020
【００１６】
一般に、エステル／アミド交換反応は塩基性触媒下で行われるが、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７１，１２４５（１９４５）には、エステル／アミド交換反応にグリコール系、水、或いはグリセロール系溶剤の添加が有効であることが記載されている。本発明においては、前記一般式（１４）のナフタレン化合物と前記一般式（１５）のアミン化合物を、エステル／イミド交換反応（環化反応を含む）で、グリコール系、或いはグリセロール系溶媒より選ばれた少なくとも１種含有する系中で、反応温度を１００℃〜１７０℃、好適には１１０℃〜１５０℃に温度制御することにより、高収率で、前記一般式（１６）のカップラー化合物が得られる。
【００１７】
また、下記一般式（１８）又は下記一般式（１９）のカップラー化合物は、次式で示されるように、前記合成で得られた前記一般式（１４）のナフタレン化合物と下記一般式（１７）のジアミン化合物より製造される。
【００１８】
【化３１】
2004300422.tif 000021
【００１９】
この場合、前記一般式（１６）のカップラー化合物の製造と同様のエステル／イミド交換反応（２回の環化反応を含む）を使用できる。ただし、反応温度は１３０℃〜１８０℃、好適には１４０℃〜１７０℃である。
また、一般式（１６）、一般式（１８）、一般式（１９）で示されるカップラー化合物は以下に示す方法によっても製造可能である。
【００２０】
【化３２】
2004300422.tif 000022
即ち、式（１３）のナフタレン化合物を酸触媒存在下で反応させることにより、一般式（２０）で示されるナフタレン化合物を得ることができる。この場合、Ｒ６は保護基であれば特に制約はないが、メチル基、ｉｓｏ−プロピル基などが一般に使用でき、好適にはメチル基が使用できる。前記酸触媒としては、例えば、臭化水素酸、三臭化ホウ素などを挙げることができる。
【００２１】
次に、前記合成で得られた前記一般式（２０）のナフタレン化合物と前記一般式（１５）のアミン化合物を酸触媒下で反応させることより前記一般式（１６）のカップラー化合物を得ることができる。前記酸触媒としては、例えば、酢酸、硫酸等が使用でき、必要に応じて反応により生成する水を反応系外に出すことにより更に効率よく反応することができる。
【００２２】
また、前記一般式（１８）或いは前記一般式（１９）のカップラー化合物は、前記合成で得られた一般式（２０）のナフタレン化合物と前記一般式（１７）のジアミン化合物を酸触媒下で反応させることより得ることができる。前記酸触媒としては、例えば、酢酸、硫酸等が使用でき、必要に応じて反応により生成する水を反応系外に出すことにより更に効率よく反応することができる。
【００２３】
前記一般式（１）で表わされるアゾ化合物は、以下の反応式により合成することができる。まず、相当する２，７−ジアミノジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジン化合物を出発原料とし、これをジアゾ化して一般式（９）で表わされるジアゾニウム塩として単離したのち、これを適当な有機溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなど）中で、前記の各顔料に対応する一般式（１０）で表わされるカップラー化合物とアルカリの存在下でカップリング反応させることにより製造することができる。
【化３３】
2004300422.tif 000023
【００２４】
本発明の一般式（１）のアゾ化合物中、２種以上のカップラー化合物（１０）の使用が可能で、この場合、前記一般式（９）で表わされるジアゾニウム化合物に、前記一般式（１６）、一般式（１８）又は一般式（１９）のカップラー化合物と、後述の一般式（Ｃｐ１）〜一般式（Ｃｐ１５）で例示されるカップラー化合物とを２段階に順に反応させるか、或いは最初のカップリング反応によって得られるジアゾニウム塩化合物を単離した後、更に、それぞれに対応するカップラー化合物を反応することによって得ることができる。
【００２５】
前記一般式（１）中、ｒ１、ｒ２はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表す。この場合、アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２５、より好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。ｒ１、ｒ２のアルコキシ基は、好ましくは炭素数１〜２５、より好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられるがこれらに限るものではない。ｒ１、ｒ２のハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。また、Ｚ−は、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＢＦ−、ＰＦ−、Ｂ（Ｃ６Ｈ５）４−、ＣｌＯ４−、ＳＯ４２−、ＡｓＦ６−、下記式で表される基、ＳｂＦ６−などのアニオン官能基を示し、これらの中でも、ＢＦ４−が特に好ましい。
【化３４】
2004300422.tif 000024
【００２６】
また、前記一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（１１）、一般式（１３）、一般式（１４）、一般式（１６）、一般式（１８）、一般式（１９）、及び一般式（２０）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、ただし、Ｒ１とＲ２は互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成しても良い。この場合、アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２５、より好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。また、アルコキシ基は、好ましくは炭素数１〜２５、より好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられるがこれらに限るものではない。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。Ｒ１とＲ２が互いに結合して環を形成する場合、Ｒ１とＲ２が互いに結合してできる原子団はとしては、置換又は無置換のプロピレン基、置換又は無置換のブチレン基、置換又は無置換のペンチレン基などの置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のプロペニレン基、置換又は無置換のブテニレン基、置換又は無置換のペンテニレン基などの置換又は無置換のアルケニレン基、或いは置換又は無置換のベンゼン環、置換又は無置換のナフタレン環などの芳香環を形成しても良い。この場合、置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子等が挙げられる。
【００２７】
また、前記一般式（１２）、一般式（１３）、一般式（１４）中、Ｒ５はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの、好ましくは炭素数１〜２５、より好ましくは炭素数１〜８アルキル基、ベンジル基等のアルアルキル基、２−メトキシエチル基等の置換アルキル基が挙げられる。
【００２８】
また、前記一般式（１１）、一般式（１３）中、Ｒ６はＯＨ基の保護基であれば特に制約はないが、好適にはメチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、アリル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、トリメチルシリル基等が挙げられ、更に好適には、ｉｓｏ−プロピル基、ｔ−ブチル基が挙げられるがこれらに限るものではない。
【００２９】
また、前記一般式（２）、一般式（１５）、一般式（１６）中、Ｘは水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換の環状不飽和脂肪族基、置換又は無置換の芳香族基、置換又は無置換の複素環基、又は置換又は無置換のアミノ基を表す。この場合、前記アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２５、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのアルキル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記シクロアルキル基は、好ましくは炭素数５〜８のシクロアルキル基であり、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記環状不飽和脂肪族基は、例えば、インダニル基、テトラリニル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記芳香族基は、好ましくは炭素数６〜３０芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。前記複素環基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも１つ含むもので、例えば、ピリジル基、ピラジノ基、キノリノ基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基などが挙げられる。前記アミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基などの芳香族アミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基が挙げられるがこれらに限るものではない。
【００３０】
これらのアルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基；ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基；置換基を有しても良いフェニル基；置換基を有しても良い、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などの芳香族基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；ヒドロキシ基；置換基を有しても良いアミノ基；置換基を有しても良い、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基；ニトロ基；シアノ基；アセチル基；置換基を有してもよいベンゾイル基；置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基；置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基；置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。
前記一般式（２）で示されるカップラー残基の中でも、Ｘが置換又は無置換のアルキル基であるカップラー残基が好ましく、これらの中でも、前記一般式（５）で表されるカップラー残基が特に好ましい。
【００３１】
また、前記一般式（５）中、Ａ１は、置換又は無置換の芳香族基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。この場合、芳香族基は、好ましくは炭素数６〜３０芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。複素環基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも１つ含むもので、例えば、ピリジル基、ピラジノ基、キノリノ基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基などが挙げられる。アミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基などの芳香族アミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基が挙げられるがこれらに限るものではない。それらの置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、置換基を有しても良いフェニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。
【００３２】
また、前記一般式（３）、一般式（４）、一般式（６）、一般式（７）、一般式（１８）、一般式（１９）中、Ｙは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する２価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する２価の有機残基、又はＣＯ−Ｚ−で示される２価のカルボニル基含有有機残基（ただし、Ｚは置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する２価の有機残基、又は置換又は無置換の複素芳香族性を有する２価の有機残基を表す。この場合、アルキレン基は、好ましくは炭素数１〜２５、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基などのアルキレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。アルキレン基はその炭素−炭素結合で芳香族環が形成されても良い。シクロアルキレン基は、好ましくは炭素数５〜８のシクロアルキレン基であり、例えばシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。アラルキレン基は、好ましくは炭素数７〜２０のアラルキレン基であり、例えばトルイレン基、キシリレン基、エチレンフェニレンエチレン基、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。芳香族性を有する２価の有機残基としては、好ましくは炭素数６〜３０のアリール基やアリール基の骨格にさらに飽和脂肪族環もしくは不飽和脂肪族環が縮合したものであり、例えばｏ−フェニレン基、１，８−ナフチレン基、２，３−ナフチレン基、１，２−アンスリレン基、９，１０−フェナンスリレン基、等が挙げられがこれらに限るものではない。複素環芳香族性を有する２価の有機残基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも１つ含むもので、複素環芳香族基の他、複素環芳香族基の骨格にさらに飽和脂肪族環、不飽和脂肪族環、もしく複素環が縮合したものを含み、例えば、３，４−ピラゾールジイル基、２，３−ピリジンジイル基、５，６−ピリミジンジイル基、６，７−ベンズイミダゾールジイル基、６，７キノリンジイル基等が挙げられがこれらに限るものではない。カルボニル基含有２価の有機残基としては、２−ベンゾイル基、２−ナフチルカルボニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。
【００３３】
これらのアルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基、芳香族性を有する２価の有機残基、複素芳香族性を有する２価の有機残基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、置換基を有しても良いフェニル基、置換基を有しても良いナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などの芳香族基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ヒドロキシ基、置換基を有しても良いアミノ基、アセチルアミノ基、置換基を有してもよいベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。
【００３４】
前記一般式（３）、及び一般式（４）で示されるカップラー残基の中でも、前記一般式（６）、及び一般式（７）で示されるカップラー残基が好ましく、これらの中でもＹが置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のカルボニル基含有２価の有機残基であるカップラー残基が好ましく、これらの中でも特にＹが、下記一般式（２１）、及び一般式（２２）で示されるカップラー残基が好ましい。
【００３５】
【化３５】
2004300422.tif 000025
【００３６】
前記一般式（２１）中のＢ１、及び前記一般式（２２）中のＢ２は、例えば、ｏ−フェニレン基、２，３−ナフチレン基などの芳香族炭化水素環の２価基、例えば２，３−ピリンイル基、３，４−ピラゾールイル基、２，３−ピリジンイル基、４，５−ピリジンイル基、４，５−イミダゾールイル基などの芳香族複素環の２価基を表し、それらの置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基などが挙げられる。
【００３７】
以下に本発明の新規カップラー（Ｃｐ）の例を示す。
【００３８】
【表１】
2004300422.tif 000026
【００３９】
【表２】
2004300422.tif 000027
【００４０】
【表３】
2004300422.tif 000028
【００４１】
【表４】
2004300422.tif 000029
【００４２】
【表５】
2004300422.tif 000030
【００４３】
【表６】
2004300422.tif 000031
【００４４】
【表７】
2004300422.tif 000032
【００４５】
【表８】
2004300422.tif 000033
【００４６】
【表９】
2004300422.tif 000034
【００４７】
【表１０】
2004300422.tif 000035
【００４８】
【表１１】
2004300422.tif 000036
【００４９】
【表１２】
2004300422.tif 000037
【００５０】
【表１３】
2004300422.tif 000038
【００５１】
【表１４】
2004300422.tif 000039
【００５２】
【表１５】
2004300422.tif 000040
【００５３】
【表１６】
2004300422.tif 000041
【００５４】
【表１７】
2004300422.tif 000042
【００５５】
【表１８】
2004300422.tif 000043
【００５６】
【表１９】
2004300422.tif 000044
【００５７】
【表２０】
2004300422.tif 000045
【００５８】
【表２１】
2004300422.tif 000046
【００５９】
前記一般式（１）のＣｐにおいて、前記一般式（２）、一般式（３）、及び一般式（４）で示されるカップラー残基以外に共存しても良いカップラー残基の例としては、例えば、フェノール類、ナフトール類などのフェノール性水酸基を有する化合物、アミノ基を有する芳香族アミノ化合物あるいはアミノ基とフェノール性水酸基を有するアミノナフトール類、脂肪族もしくは、芳香族のエノール性ケトン基を有する化合物（活性メチレン基を有する化合物）などが挙げられ、好ましくは、カップラー残基Ｃｐが下記一般式（Ｃｐ１）、一般式（Ｃｐ２）、一般式（Ｃｐ３）、一般式（Ｃｐ４）、一般式（Ｃｐ５）、一般式（Ｃｐ６）、一般式（Ｃｐ７）、一般式（Ｃｐ８）、一般式（Ｃｐ９）、一般式（Ｃｐ１０）、一般式（Ｃｐ１１）、一般式（Ｃｐ１２）又は一般式（Ｃｐ１３）で表わされるものである。
【００６０】
【化３６】
2004300422.tif 000047
【００６１】
【化３７】
2004300422.tif 000048
【００６２】
【化３８】
2004300422.tif 000049
【００６３】
【化３９】
2004300422.tif 000050
ただし、前記一般式（Ｃｐ１）、一般式（Ｃｐ２）、一般式（Ｃｐ３）、及び一般式（Ｃｐ４）中、Ｘ１、Ｙ１、Ｚ１、ｌ及びｍは、それぞれ以下のものを表す。
【００６４】
【化４０】
2004300422.tif 000051
Ｘ１は−ＯＨ又はＮＨＳＯ２−Ｒ１３を表す。
ただし、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、Ｒ１３は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
Ｙ１は水素原子、ハロゲン、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基、置換もしくは無置換のスルファモイル基又は下記式で表される機を表す。
【００６５】
【化４１】
2004300422.tif 000052
ただし、Ｒ１４は水素原子、アルキル基又はその置換体、フェニル基又はその置換体を表わし、Ｙ２は炭化水素環基又はその置換体、複素環基又はその置換体、あるいは、下記式で表される基を表す。
【００６６】
【化４２】
2004300422.tif 000053
ただし、Ｒ１５は炭化水素環基又はその置換体、複素環基又はその置換体、あるいはスチリル基又はその置換体、Ｒ１６は水素原子、アルキル基、フェニル基又はその置換体を表すか、あるいはＲ１５及びＲ１６はそれらに結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。
Ｚ１は炭化水素環又はその置換体あるいは複素環又はその置換体を表す。
ｌは１又は２の整数である。
ｍは、１又は２の整数である。
【００６７】
【化４３】
2004300422.tif 000054
ただし、式（Ｃｐ５）中、Ｒ１７は置換もしくは、無置換の炭化水素基を表わし、Ｘ１は前記に同じである。
【００６８】
【化４４】
2004300422.tif 000055
ただし、式（Ｃｐ６）中、Ｙ２は芳香族炭化水素の２価基又は窒素原子を環内に含む複素環の２価基を表す。これらの環は、置換又は無置換でもよい。Ｘ１は前記に同じである。
【００６９】
【化４５】
2004300422.tif 000056
ただし、式（Ｃｐ７）中、Ｒ１８はアルキル基、カルバモイル基、カルボキシ基又はそのエステルを表わし、Ａｒ１は炭化水素環基又はその置換体を表わし、Ｘ１は前記と同じである。
【００７０】
【化４６】
2004300422.tif 000057
【００７１】
【化４７】
2004300422.tif 000058
ただし、上記一般式（Ｃｐ８）及び一般式（Ｃｐ９）中、Ｒ１９は水素原子又は置換もしくは無置換の炭化水素基を表わし、Ａｒ２は炭化水素環基又はその置換体を表す。
【００７２】
前記一般式（Ｃｐ１）、一般式（Ｃｐ２）、一般式（Ｃｐ３）又は一般式（Ｃｐ４）のＺ１の炭化水素環としてはベンゼン環、ナフタレン環などが例示できる。また、置換基を有してもよい複素環としてはインドール環、カルバゾール環、ベンゾラン環、ジベンゾフラン環などが例示できる。Ｚ１の環における置換基としては塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。
【００７３】
Ｙ２又はＲ１５における炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基などが、また、複素環基としてはピリジル基、チェニル基、フリル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基などが例示でき、さらに、Ｒ１５及びＲ１６が結合して形成する環としては、フルオレン環などが例示できる。
【００７４】
Ｙ２又はＲ１５の炭化水素環基又は複素環基あるいはＲ５及びＲ１６によって形成される環における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルアミノ基、トリフルオロメチル基などのハロメチル基、ニトロ基、シアノ基位、カルボキシル基又はそのエステル、水酸基、−ＳＯ３Ｎａなどのスルホン酸塩基などが挙げられる。
【００７５】
Ｒ１４のフェニル基の置換体としては、塩素原子又は臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。
【００７６】
Ｒ１７又はＲ１９における炭化水素基の代表例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基又はこれらの置換体が例示できる。
【００７７】
Ｒ７又はＲ９の炭化水素基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、水酸基、ニトロ基などが例示できる。
【００７８】
Ａｒ１又はＡｒ２における炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基などがその代表例であり、また、これらの基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、ニトロ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルアミノ基などが例示できる。
また、Ｘ１の中では特に水酸基が適当である。
【００７９】
上記カップラー残基の中でも好ましいのは上記一般式（Ｃｐ２）、一般式（Ｃｐ５）、一般式（Ｃｐ６）、一般式（Ｃｐ７）、一般式（Ｃｐ８）及び一般式（Ｃｐ９）で示されるものであり、この中でも一般式におけるＸ１が水酸基のものが好ましい。また、一般式（Ｃｐ２）で示されるカップラー残基の中でも、特に一般式（Ｃｐ１０）で示されるカップラー残基が好ましい。
【００８０】
【化４８】
2004300422.tif 000059
ただし、Ｙ１及びＺ１は前記に同じである。
さらに好ましくは一般式で表わされるカップラー残基である。
【００８１】
【化４９】
2004300422.tif 000060
ただし、Ｚ１、Ｙ２及びＲ１２は前記と同じである。
【００８２】
さらにまた、上記の好ましいカップラー残基の中でも一般式（Ｃｐ１２）又は一般式（Ｃｐ１３）で表わされるものが適当である。
【００８３】
【化５０】
2004300422.tif 000061
【００８４】
【化５１】
2004300422.tif 000062
ただし、Ｚ１、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６は前記と同じである。また、Ｒ２０としては上記のＹ２の置換基が例示できる。
また、前記一般式（Ｃｐ６）で示されるカップラー残基の中でも、特に下記一般式（Ｃｐ１４）あるいは下記一般式（Ｃｐ１５）で示されるカップラー残基が好ましい。
【化５２】
2004300422.tif 000063
【化５３】
2004300422.tif 000064
ただし、前記一般式（Ｃｐ１４）及び（Ｃｐ１５）中、Ｗ１は、芳香族炭化水素の２価基又は窒素原子を環内に含む複素環の２価基を表す。これらの環は、置換又は無置換でもよい。
【００８５】
以下に、カップラー残基（Ｃｐ）の例を示す。
【００８６】
【表２２】
2004300422.tif 000065
【００８７】
【表２３】
2004300422.tif 000066
【００８８】
【表２４】
2004300422.tif 000067
【００８９】
【表２５】
2004300422.tif 000068
【００９０】
【表２６】
2004300422.tif 000069
【００９１】
【表２７】
2004300422.tif 000070
【００９２】
【表２８】
2004300422.tif 000071
【００９３】
【表２９】
2004300422.tif 000072
【００９４】
【表３０】
2004300422.tif 000073
【００９５】
【表３１】
2004300422.tif 000074
【００９６】
【表３２】
2004300422.tif 000075
【００９７】
【表３３】
2004300422.tif 000076
【００９８】
【表３４】
2004300422.tif 000077
【００９９】
【表３５】
2004300422.tif 000078
【０１００】
【表３６】
2004300422.tif 000079
【０１０１】
【表３７】
2004300422.tif 000080
【０１０２】
【表３８】
2004300422.tif 000081
【０１０３】
【表３９】
2004300422.tif 000082
【０１０４】
【表４０】
2004300422.tif 000083
【０１０５】
【表４１】
2004300422.tif 000084
【０１０６】
【表４２】
2004300422.tif 000085
【０１０７】
【表４３】
2004300422.tif 000086
【０１０８】
【表４４】
2004300422.tif 000087
【０１０９】
【表４５】
2004300422.tif 000088
【０１１０】
【表４６】
2004300422.tif 000089
【０１１１】
以下に本発明のアゾ化合物の具体例を以下の表に示すが、簡略化のため、下記表４７に示す中心骨格と、表４８ないし表５５に示すＡｒ１、Ａｒ２、及び２つのカップラー化合物（Ｃｐ）を示し、それらの各々の番号の組合せでアゾ化合物を示す。なお、これらの具体例に本発明のアゾ化合物が限定されるものではない。
【０１１２】
【表４７】
2004300422.tif 000090
【０１１３】
【表４８】
2004300422.tif 000091
【０１１４】
【表４９】
2004300422.tif 000092
【０１１５】
【表５０】
2004300422.tif 000093
【０１１６】
【表５１】
2004300422.tif 000094
【０１１７】
【表５２】
2004300422.tif 000095
【０１１８】
【表５３】
2004300422.tif 000096
【０１１９】
【表５４】
2004300422.tif 000097
【０１２０】
【表５５】
2004300422.tif 000098
【実施例】
【０１２１】
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、これにより本発明の態様が限定されるものではない。
【０１２２】
（合成例１）
＜２−（ｔ−ブトキシ）７，８−ナフタル酸ジメチルエステル（一般式（１３）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｒ５＝ＣＨ３，Ｒ６＝ｔ−Ｃ４Ｈ９の化合物）の製造＞
ｐ−ｔ−ブトキシスチレン３５．２５ｇ（０．２ｍｏｌ）、アセチレンジカルボン酸ジメチルエステル５６．８４ｇ（０．４ｍｏｌ）をニトロベンゼン２００ｍｌに溶解し、１４０℃で５時間、反応、放冷する。更に、減圧下、ニトロベンゼンを留去後、残渣に対し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒として、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）処理を施し、４０．７８ｇの粗製の目的物が得られた。
次いで、ジイソプロピルエーテルより再結晶して、３６．６３ｇ（収率５７．９％）の目的のナフタレン化合物を得た。融点は、８２．０〜８３．０℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１２３】
【表５６】
2004300422.tif 000099
【０１２４】
（合成例２）
＜２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸ジメチルエステル（一般式（１４）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｒ５＝ＣＨ３の化合物）の製造＞
合成例１で得られた、２−（ｔ―ブトキシ）７，８−ナフタル酸ジメチルエステル３１．６３ｇ（０．１ｍｏｌ）を１２０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、室温攪拌下、トリフルオロ酢酸５７．０１ｇ（０．５ｍｏｌ）を１０分を要して滴下し、更に、同条件（室温）下で３時間攪拌反応を続ける。反応後、反応物を氷上に注ぎ、水を加え、分相する。塩化メチレン相を、更に２回水洗し、無水硫酸マグネシウムにより脱水する。ろ過により、硫酸マグネシウムを除去し、塩化メチレンを留去した残渣を、トルエンより再結晶して、２４．３１ｇ（収率９３．４％）の目的のナフタレン化合物を得た。融点は、１３９．０〜１３９．８℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１２５】
【表５７】
2004300422.tif 000100
【０１２６】
（合成例３）
＜Ｎ−ｎ−ヘキシル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（一般式（１６）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｘ＝Ｃ６Ｈ１３−ｎ〔カップラーＮｏ．Ｃ１〕の化合物）の製造＞
合成例２で得られた２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸ジメチルエステル１０．４１ｇ（０．０４ｍｏｌ）、及びｎ−ヘキシルアミン１２．１４ｇ（０．１２ｍｏｌ）をエチレングリコール１００ｍｌ中、窒素ガス気流下１２０℃にて４時間、攪拌反応を行った。反応終了、放冷後、反応物を氷上に注ぎ、塩酸酸性した後、析出した結晶をろ取し、５００ｍｌのイオン交換水で洗浄後、６０℃で減圧下に乾燥して、粗製の目的物９．７３ｇを得た。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒として、トルエン：酢酸エチル＝４：１）処理、及びトルエンより再結晶して７．１２ｇ（収率５９．９％）の黄色のカップラー化合物＜カップラーＮｏ．Ｃ１＞を得た。融点は、１６５．５〜１６６．５℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１２７】
【表５８】
2004300422.tif 000101
【０１２８】
（合成例４）
＜Ｎ−ベンジル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（一般式（１６）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｘ＝下記式のベンジル〔カップラーＮｏ．Ｃ５〕の化合物）の製造＞
【０１２９】
【化５４】
2004300422.tif 000102
合成例２で得られた２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸ジメチルエステル１０．４１ｇ（０．０４ｍｏｌ）、及びベンジルアミン８．５７ｇ（０．０８ｍｏｌ）をエチレングリコール１００ｍｌ中、窒素ガス気流下１４０℃で６時間、攪拌反応を行なった。反応終了、放冷後、反応物を氷上に注ぎ、塩酸酸性とした後、析出した結晶をろ取し、５００ｍｌのイオン交換水で洗浄後、６０℃で減圧下に乾燥して、粗製の目的物１０．２１ｇを得た。得られた粗製物をｎ−ブタノールより再結晶して９．５７ｇ（収率７８．９％）の橙色のカップラー化合物＜カップラーＮｏ．Ｃ５＞を得た。融点は、２５５．２〜２５９．０℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１３０】
【表５９】
2004300422.tif 000103
【０１３１】
（合成例５）
＜Ｎ−（２−フェニルエチル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（一般式（１６）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｘ＝下記式のフェニルエチル〔カップラーＮｏ．Ｃ１４〕の化合物）の製造＞
【０１３２】
【化５５】
2004300422.tif 000104
ベンジルアミン８．５７ｇ（０．０８ｍｏｌ）をフェネチルアミン９．６９ｇ（０．０８ｍｏｌ）使用する以外は、合成例４と同様に反応して、粗製の目的物１０．４８ｇを得た。得られた粗製物をｎ−ブタノールより再結晶して９．９５ｇ（収率７８．４％）の黄色のカップラー化合物＜カップラーＮｏ．Ｃ１４＞を得た。融点は、２３３．５〜２３６．５℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１３３】
【表６０】
2004300422.tif 000105
【０１３４】
（合成例６）
＜Ｎ−（３−フェニルプロピル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（一般式（１６）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｘ＝下記式のフェニルプロピル〔カップラーＮｏ．Ｃ２４〕の化合物）の製造＞
【０１３５】
【化５６】
2004300422.tif 000106
ベンジルアミン８．５７ｇ（０．０８ｍｏｌ）を３−フェニルプロピルアミン１０．８２ｇ（０．０８ｍｏｌ）使用する以外は、合成例４と同様に反応して、粗製の目的物１３．２５ｇを得た。得られた粗製物をｎ−ブタノールより再結晶して１１．１７ｇ（収率８４．３％）の黄色のカップラー化合物＜カップラーＮｏ．Ｃ２４＞を得た。融点は、２０６．９〜２１２．０℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１３６】
【表６１】
2004300422.tif 000107
【０１３７】
（合成例７）
＜Ｎ−フェニル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（一般式（１６）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｘ＝下記式のフェニル〔カップラーＮｏ．Ｃ２８〕の化合物）の製造＞
【０１３８】
【化５７】
2004300422.tif 000108
ベンジルアミン８．５７ｇ（０．０８ｍｏｌ）をアニリン７．４５ｇ（０．０８ｍｏｌ）使用する以外は、合成例４と同様に反応して、粗製の目的物１２．０４ｇを得た。得られた粗製物をｎ−ブタノール／トルエン（１／１ｖｏｌ）より再結晶して、８．１５ｇ（収率６９．７％）の黄色のカップラー化合物＜カップラーＮｏ．Ｃ２８＞を得た。融点は、２４５．５〜２４８．９℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１３９】
【表６２】
2004300422.tif 000109
【０１４０】
（合成例８）
＜１２−ヒドロキシ−ベンゾ〔６，７〕イソインドール〔２，１−ａ〕ペリミジン−１４−オン、或いは９−ヒドロキシ−ベンゾ〔４，５〕イソインドール〔２，１−ａ〕ペリミジン−１４−オン（一般式（１８）或いは一般式（１９）におけるＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ，Ｙ＝下記式のナフチレン＜カップラーＮｏ．Ｅ２３＞の化合物〕の製造＞
【０１４１】
【化５８】
2004300422.tif 000110
合成例２で得られた２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸ジメチルエステル１０．４１ｇ（０．０４ｍｏｌ）、及び１，８−ジアミノナフタレン１２．６６ｇ（０．０８ｍｏｌ）をエチレングリコール１００ｍｌ中、窒素ガス気流下１６０℃で８時間、攪拌反応を行なった。反応終了、放冷後、反応物を氷上に注ぎ、塩酸酸性とした後、析出した結晶をろ取し、５００ｍｌのイオン交換水で洗浄後、６０℃で減圧下に乾燥して、粗製の目的物９．９６ｇを得た。得られた粗製物をニトロベンゼンより再結晶して８．８０ｇ（収率６５．４％）の赤色のカップラー化合物＜カップラーＮｏ．Ｅ２３＞を得た。分解点は３９８℃であった。元素分析値を下表に示す。
【０１４２】
【表６３】
2004300422.tif 000111
【０１４３】
（実施例１）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ３）の製造−
Ｎ−ベンジル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ５の化合物）０．９１ｇ（３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、室温にて、予め２，７−ジアミノジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジンより合成されたジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジン−２，７−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート０．７６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加えた。次いで、１０質量％酢酸ナトリウム水溶液４．９２ｇを１０分を要して滴下し、室温にて６時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてＤＭＦ１２０ｍｌで３回洗浄し、次に、水１２０ｍｌで２回洗浄した。７０℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ３）を得た。
得られたアゾ化合物についての、収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１４４】
（実施例２）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ４）の製造−
Ｎ−ベンジル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ５の化合物）０．４６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ６０ｍｌに溶解し、室温にて、予め２，７−ジアミノジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジンより合成されたジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジン−２，７−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート０．７６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間室温攪拌した。次いで、２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイルナフタレン（カップラーＮｏ．１７の化合物）０．３９ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とＤＭＦ４０ｍｌからなる溶液を加える。
次いで、１０質量％酢酸ナトリウム水溶液４．９２ｇを１０分を要して滴下し、室温にて６時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてＤＭＦ１２０ｍｌで３回洗浄し、次に、水１２０ｍｌで２回洗浄した。７０℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ４）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１４５】
（実施例３）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２０）の製造−
実施例１において、Ｎ−ベンジル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ５の化合物）０．９１ｇ（３ｍｍｏｌ）の代わりに、Ｎ−（２−フェニルエチル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ１４の化合物）０．９５ｇ（３ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に製造し、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２０）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１４６】
（実施例４）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２１）の製造−
実施例１において、Ｎ−ベンジル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ５の化合物）０．４６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）の代わりに、Ｎ−（２−フェニルエチル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ１４の化合物）０．４８ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に製造し、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２１）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１４７】
（実施例５）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２７）の製造−
実施例１において、Ｎ−ベンジル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ５の化合物）０．９１ｇ（３ｍｍｏｌ）の代わりに、Ｎ−（３−フェニルプロピル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ２４の化合物）０．９９ｇ（３ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に製造し、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２７）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１４８】
（実施例６）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２８）の製造−
実施例１において、Ｎ−ベンジル−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ５の化合物）０．４６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）の代わりに、Ｎ−（３−フェニルプロピル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ２４の化合物）０．５０ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に製造し、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２８）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１４９】
（実施例７）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ１６９）の製造−
Ｎ−（３−フェニルプロピル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ２４の化合物）０．５０ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ６０ｍｌに溶解し、室温にて、予め２，７−ジアミノ−１１−メチルジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジンより合成された１１−メチルジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジン−２，７−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート０．７８ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間室温攪拌した。次いで、２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイル−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラーＮｏ．７３の化合物）０．５７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とＤＭＦ４０ｍｌからなる溶液を加える。次いで、１０質量％酢酸ナトリウム水溶液４．９２ｇを１０分を要して滴下し、室温にて６時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてＤＭＦ１２０ｍｌで３回洗浄し、次に、水１２０ｍｌで２回洗浄した。７０℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ１６９）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１５０】
（実施例８）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２０７）の製造−
Ｎ−（３−フェニルプロピル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ２４の化合物）０．９９ｇ（３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、室温にて、予め２，７−ジアミノ−１１−クロルジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジンより合成された１１−クロルジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジン−２，７−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート０．０．８１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加えた。次いで、１０質量％酢酸ナトリウム水溶液４．９２ｇを１０分を要して滴下し、室温にて６時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてＤＭＦ１２０ｍｌで３回洗浄し、次に、水１２０ｍｌで２回洗浄した。７０℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２０７）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１５１】
（実施例９）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２０９）の製造−
Ｎ−（３−フェニルプロピル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ２４の化合物）０．５０ｇ（１．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ６０ｍｌに溶解し、室温にて、予め２，７−ジアミノ−１１−クロルジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジンより合成された１１−クロルジベンゾ［ａ，ｃ］フェナジン−２，７−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート０．８１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間室温攪拌した。次いで、２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイル−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラーＮｏ．７３の化合物）０．５７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とＤＭＦ４０ｍｌからなる溶液を加える。次いで、１０質量％酢酸ナトリウム水溶液４．９２ｇを１０分を要して滴下し、室温にて６時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてＤＭＦ１２０ｍｌで３回洗浄し、次に、水１２０ｍｌで２回洗浄した。７０℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２０９）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１５２】
（実施例１０）
−アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２８９）の製造−
Ｎ−（２−フェニルエチル）−２−ヒドロキシ−７，８−ナフタル酸イミド（カップラーＮｏ．Ｃ１４の化合物）０．１５９ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）をＤＭＳＯ  ２０ｍｌに溶解し、室温にて、予め２，７−ジアミノ−１１，１２−ジメチルジベンゾ[ａ，ｃ]フェナジンより合成された１１，１２−ジメチルジベンゾ[ａ，ｃ]フェナジン−２，７−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート０．２６８ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を加え、１０分間室温攪拌した。次いで、２（５）−ヒドロキシ−７Ｈ−ベンズイミダゾ[２，１−ａ]ベンズイソキノリノン−７（カップラーＮｏ．１９５の化合物）０．１４３ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）とＤＭＳＯ  ２０ｍｌからなる溶液を加えた。次いで、１０質量％酢酸ナトリウム水溶液１．６５ｇを１０分を要して滴下し、室温にて６時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてＤＭＳＯ  ６０ｍｌで３回洗浄し、次に、水６０ｍｌで２回洗浄した。７０℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２８９）を得た。
得られたアゾ化合物についての収量（収率）、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表６４に示す。
【０１５３】
【表６４】
2004300422.tif 000112
【０１５４】
更に、本発明を以下の応用例により具体的に説明するが、これにより本発明の実施の形態が安定されるものではない。
（応用例１）
本発明の実施例５（アゾ化合物Ｎｏ．Ｐ２７）のアゾ化合物７．５質量部、ポリエステル樹脂（バイロン２００：東洋紡製）の０．５質量％テトラヒドロフラン溶液５００質量部をボールミル中で粉砕、混合し、得られた分散液をアルミニウム蒸着ポリエステルフィルム上にドクターブレードで塗布し、自然乾燥して、厚さ約１μｍの電荷発生層を形成した。
次に、下記構造式（Ｄ−１）で示される電荷輸送物質１質量部、ポリカーボネート樹脂（パンライトＫ１３００：帝人化成製）１質量部、テトラヒドロフラン８質量部の電荷輸送層塗布液を調整し、前記電荷発生層上にドクターブレードで塗布し、８０℃にて２分間、次いで１２０℃にて５分間乾燥して厚さ２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１５５】
【化５９】
2004300422.tif 000113
【０１５６】
以上のようにして得られた電子写真感光体について、２５℃／５５％ＲＨの環境下、静電複写紙試験装置ＥＰＡ−８２００（川口電機製作所製）を用いて、暗所で−６ｋＶのコロナ放電を２０秒間行って帯電させた後、更に２０秒間暗所に放置し、そのときの表面電位Ｖ０（Ｖ）を測定し、次いで、タングステンランプによって感光体表面の照度５．３ルックスになるようにして光を照射しその表面電位がＶ０の１／２になるまでの時間（秒）を求め、露光量Ｅ１／２（ルックス・秒）を算出した。その結果はＶ０＝−１３８２ボルト、Ｅ１／２＝１．９４ルックス・秒であった。
【産業上の利用可能性】
【０１５７】
本発明のアゾ化合物の製造原料（カップラー化合物）は、従来のカップラー化合物と比較して製造が容易であり、この製造原料（カップラー化合物）を用いたアゾ化合物も容易に製造することができる。また、本発明のアゾ化合物は、感光層用材料として用いることにより、高感度の電子写真感光体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１５８】
【図１】図１は、本発明のアゾ化合物（実施例１）の赤外線吸収スペクトルを示す図である。
【図２】図２は、本発明のアゾ化合物（実施例２）の赤外線吸収スペクトルを示す別の図である。
【図３】図３は、本発明のアゾ化合物（実施例３）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図４】図４は、本発明のアゾ化合物（実施例４）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図５】図５は、本発明のアゾ化合物（実施例５）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図６】図６は、本発明のアゾ化合物（実施例６）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図７】図７は、本発明のアゾ化合物（実施例７）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図８】図８は、本発明のアゾ化合物（実施例８）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図９】図９は、本発明のアゾ化合物（実施例９）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図１０】図１０は、本発明のアゾ化合物（実施例１０）の赤外線吸収スペクトルを示す更に別の図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004300422.tif 000132
【図８】
2004300422.tif 000133
【図９】
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【図１０】
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