(57)【要約】【課題】位置決め装置がオブジェクトテーブルの支持部材に与える反力によるマシンフレームの動きを可及的に阻止する。【解決手段】光リソグラフ装置の運転中に、力アクチュエータシステム６９、７１、７３が、位置決め装置３５によって支持部材３に同時に働く反力の方向と反対方向で且つ反力の値と実質的に等しい値の補償力をマシンフレームに加える。【選択図】図２
2004140401.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
　ｚ方向に平行な垂直光学主軸を有するレンズ系と、該レンズ系の下にある位置決め装置とを具備する光リソグラフ装置であり、
　前記レンズ系が光リソグラフ装置のマシンフレームに固定され、
　前記位置決め装置によって、オブジェクトテーブルが、前記位置決め装置に結合されている支持部材のガイド面上で前記レンズ系に対して変移可能になされており、
　前記支持部材のガイド面が、前記ｚ方向に対して直角に延在している構成の光リソグラフ装置において、
　前記支持部材が、前記マシンフレームに対して固定され、
　前記マシンフレームが、光リソグラフ装置の基準フレームに固定されたベース上の高周波振動遮断支持体によって支持されており、
　前記光リソグラフ装置が力アクチュエータシステムを具備し、
　前記力アクチュエータシステムが、前記基準フレームに固定され、かつ、フィードフォワード制御システムによって制御されるようになっており、
　光リソグラフ装置の運転中に、前記力アクチュエータシステムが、前記位置決め装置によって前記支持部材に同時に働く反力の方向と反対方向で且つ前記反力の値と実質的に等しい値の補償力を前記マシンフレームに加えるようになっている光リソグラフ装置。
【請求項２】
　前記支持部材が前記マシンフレームのベースであり、前記力アクチュエータシステムが前記支持部材に前記補償力を加えるようになっている請求項に記載された光リソグラフ装置。
【請求項３】
　前記レンズ系が、その下側に近い位置で前記マシンフレームに属するマウント部材に固定され、
　前記力アクチュエータシステムが、前記マウント部材から懸吊されたキャリアに対して前記補償力を加えるようになっており、
　前記キャリアには、前記位置決め装置と前記支持部材とが一体的に配設されている請求項１に記載された光リソグラフ装置。
【請求項４】
　前記制御システムが加速度の負帰還を有し、前記力アクチュエータシステムが、加速度トランスデューサによって測定される前記マシンフレームの加速度によって決定される値と方向を有する制御力を前記マシンフレームに加えることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載された光リソグラフ装置。
【請求項５】
　前記力アクチュエータシステムが、前記光学主軸に対して直角である前記位置決め装置の第一変移方向と平行に各々動作する第一および第二力アクチュエータと、前記第一変移方向に対して直角であるとともに前記光学主軸に対して直角である前記位置決め装置の第二変移方向と平行に動作する第三力アクチュエータとを有する請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載された光リソグラフ装置。
【請求項６】
　前記力アクチュエータシステムの各々が、前記基準フレームに固定された電気モータと、関連する変移方向と平行に延在する結合ロッドとを備え、ロッド第一端部が前記電気モータの出力シャフトに偏心的にピボット支持され、ロッド第二端部が前記マシンフレームにピボット支持されている請求項５に記載された光リソグラフ装置。
【請求項７】
　前記力アクチュエータシステムが磁束密度トランスデューサを有する少なくとも１つの電磁石を有し、該電磁石の発生力を制御可能な電子制御回路の電気入力端に前記磁束密度トランスデューサの電気出力端が接続されている請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載された光リソグラフ装置。
【請求項８】
　前記電子制御回路が電子平方根エクストラクタを備え、
　前記電子平方根エクストラクタに対する入力信号が、前記電子制御回路の入力信号によって形成されるとともに、前記電磁石に発生させるべき所望の電磁力によって定まる値を有することを特徴とする請求項７に記載された光リソグラフ装置。
【請求項９】
　前記力アクチュエータシステムが、前記光学主軸に対して直角である面内で前記光リソグラフ装置の基準フレームに対して三角形状に配置されて固定されている３つの電磁石を有し、その各電磁石の作用方向が、前記力アクチュエータシステムの残る２つの電磁石の作用方向に対して角度１２０°だけ回転した方向であることを特徴とする請求項７または請求項８に記載された光リソグラフ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、レンズ系と位置決め装置とを有する光リソグラフ装置に係り、前記レンズ系がｚ方向に平行である垂直光学主軸を有するとともに光リソグラフ装置のマシンフレームに固定されており、前記位置決め装置が、レンズ系の下に位置し、かつ該位置決め装置に結合された支持部材の、前記ｚ方向に対して直角に延在する、ガイド面上で前記レンズ系に対してオブジェクトテーブルの変移を可能とする構成の前記光リソグラフ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
　前記光リソグラフ装置は米国特許第４７３７８２３号によって公知である。この既知の光リソグラフ装置の場合、支持部材は、光リソグラフ装置のマシンフレームの基礎となる長方形の花崗岩スラブである。ｚ方向に延在するマシンフレームの４本の柱は、花崗岩スラブの上面が形成するガイド面に固定されている。このレンズ系は花崗岩スラブより或る距離だけ上にある水平マウント板によって４本の柱に固定されている。花崗岩スラブの下側には各々スプリング部材とダンピング部材を備えた下側フレーム支持体が設けられている。この既知の光リソグラフ装置のマシンフレームは、この装置が下側フレーム支持体によって位置づけられている底面に対してｚ方向に平行な方向とｚ方向を横切る方向とに振動数の低いスプリングで配設されていて、マシンフレームと下側フレーム支持体とにより形成されているマススプリング系は２〜４Ｈｚの機械的固有振動数を有する。下側フレーム支持体の使用により、好ましくない高振動数の底面振動が下側フレーム支持体を介してマシンフレームに伝達されることが防止される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
　この既知の光リソグラフ装置の欠点は、マシンフレームと下側フレーム支持体によって形成されるマススプリング系の機械的固有振動数が、装置の運転中、位置決め装置によって与えられる交互の駆動力の下で、オブジェクトテーブルによって実行される段階的な動きの周波数よりも低い点である。駆動力によって定まり且つ位置決め装置によってマシンフレームに加えられる交互反力により、マシンフレームが底面に対して揺動し、これが光リソグラフ装置の精度に悪影響を及ぼす。
【０００４】
　本発明の目的は前述した欠点を可能な限り除去した光リソグラフ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
　この目的に対して、本発明光リソグラフ装置の特徴点は、光リソグラフ装置の基準フレームに固定されていてかつフィードフォワード制御システムによって制御される力アクチュエータシステムが、光リソグラフ装置に設けられていて、装置の運転中、位置決め装置により前記支持部材に同時に発生する反力の方向と反対の方向でかつ当該反力の値に実質的に等しい値で、力アクチュエータシステムがマシンフレームに補償力を発生させる点である。
　本発明の光リソグラフ装置は、以下の構成を有する。
　ｚ方向に平行な垂直光学主軸を有するレンズ系と、該レンズ系の下にある位置決め装置とを具備する光リソグラフ装置であり、
　レンズ系が光リソグラフ装置のマシンフレームに固定され、
　位置決め装置によって、オブジェクトテーブルが、前記位置決め装置に結合されている支持部材のガイド面上でレンズ系に対して変移可能になされており、
　支持部材のガイド面が、ｚ方向に対して直角に延在している構成の光リソグラフ装置において、
　支持部材が、マシンフレームに対して固定され、
　マシンフレームが、光リソグラフ装置の基準フレームと固定関係にあるベース上の高周波振動遮断支持体によって支持されており、
　光リソグラフ装置が力アクチュエータシステムを具備し、
　力アクチュエータシステムが、基準フレームに固定され、かつ、フィードフォワード制御システムによって制御されるようになっており、
　光リソグラフ装置の運転中に、力アクチュエータシステムが、位置決め装置によって支持部材に同時に働く反力の方向と反対方向で且つ前記反力の値と実質的に等しい値の補償力をマシンフレームに加えるようになっている光リソグラフ装置。
　かかる構成によれば、位置決め装置が支持部材に与える反力によるマシンフレームの動きは力アクチュエータシステムの使用により可及的に阻止される。基準フレームは光リソグラフ装置が載置される底面に対して固定位置に配置されている。補償力の値に関して使用される用語「実質的に」は、装置の機械部品および電気部品の両者における許容度の結果として補償力と反力との間に現実に発生する差を考慮する時に使用される。用語「等しい」は、以後、この関連で使用される時は、常に前記のとおり「実質的に等しい」を意味するものと解すべきである。前記支持部材がマシンフレームのベースを形成しかつ前記補償力が実際的かつ実効的な位置でマシンフレームに加えられる本発明の光リソグラフ装置の特別な実施態様によれば、力アクチュエータシステムが支持部材に補償力を加える。
【０００６】
　レンズ系の下部がマシンフレームに属するマウント部材に固定されていて、補償力が実際的かつ効果的な位置でマシンフレーム（ｚ方向で見てコンパクトな構成になっている）に加えられるようになされた本発明光リソグラフ装置の別の実施態様では、マウント部材から懸吊されているキャリアに対して力アクチュエータシステムが補償力を加え、位置決め装置と支持部材がユニットとしてキャリアに配設される点に特徴がある。
【０００７】
　マシンフレームに対して基準フレームもコンパクトな配置を与える本発明光リソグラフ装置の更に別の実施態様における特徴点は、基準フレームが光リソグラフ装置のベースによって形成され、このベースに下側フレーム支持体によってマウント部材が固定される点である。
【０００８】
　前記制御システムの大きなバンド幅と安定かつ正確な動作を与える本発明光リソグラフ装置の特別な実施態様の特徴点は、制御システムが加速度の負帰還を有し、力アクチュエータシステムが、加速度トランスデューサによって測定されるマシンフレームの加速度によって決定される値と方向を有する制御力をマシンフレームに加える点である。さらに、加速度の負帰還の使用により、オブジェクトテーブルに対して位置決め装置から加わる力（例えば、ハンドリング力のような駆動力以外の力）によって生じるマシンフレームの動きを防ぐことができる。
【０００９】
　本発明光リソグラフ装置の別の実施態様の特徴点は、力アクチュエータシステムが、前記光学主軸に対して直角である前記位置決め装置の第一変移方向と平行に各々動作する第一および第二力アクチュエータと、前記第一変移方向に対して直角であって且つ前記光学主軸に対して直角である前記位置決め装置の第二変移方向に対して平行に動作する第三力アクチュエータとを有する点である。３つの力アクチュエータを備えたこのよな力アクチュエータシステムの使用により、位置決め装置の２つの変移方向におけるマシンフレームの望ましくない動きが防止されるだけでなく光学主軸に平行である回転軸についてのマシンフレームの望ましくない回転も防止される。
【００１０】
　前記力アクチュエータシステムの簡単な構成を提供する本発明光リソグラフ装置の更に別の実施態様の特徴点は、前記基準フレームに固定された電気モータを前記力アクチュエータの各々に設け、かつ関連する変移方向に平行に延在する結合ロッドを設け、第一のロッド端を電気モータの出力軸に偏心的にピボット支持（回転可能に支持）し、かつ第二のロッド端をマシンフレームにピボット支持する点である。
【００１１】
　機械的摩耗のない強固な力アクチュエータシステムを提供する本発明光リソグラフ装置の特別な実施態様の特徴点は、力アクチュエータシステムが磁束密度センサを有する少なくとも１つの電磁石を有し、この電磁石の発生力を制御することのできる電子制御回路の電気入力端に前記磁束密度センサの電気出力端が接続されている点である。このような力アクチュエータシステムの使用により、望ましくない機械的振動が基準フレームを介してマシンフレームに伝達されることが防止される。
【００１２】
　本発明光リソグラフ装置の別の実施態様の特徴点は、前記制御回路に電子平方根エクストラクタを設け、電子平方根エクストラクタの入力信号が、前記制御回路の入力信号によって形成されるとともに、前記電磁石に発生させるべき所望の電磁力によって決定される値を有する点である。電子平方根エクストラクタの使用により、電磁石は線形力アクチュエータを形成し、電磁石によって与えられる電磁力は制御回路の入力信号に比例する値を有する。
【００１３】
　本発明光リソグラフ装置の更に別の実施態様の特徴点は、力アクチュエータシステムが前記光学主軸に対して直角である面内で光リソグラフ装置の基準フレームに対して三角状に配置された３つの電磁石を有し、その各電磁石の作用方向が、前記力アクチュエータシステムの残る２つの電磁石の作用方向に対して角度１２０°だけ回転した方向である点である。３つの力アクチュエータの使用によって、単純な構成の力アクチュエータシステムが得られ、これにより、位置決め装置の互いに直角である２つの変移方向におけるマシンフレームの望ましくない動きが阻止される。
【００１４】
　以下、添付図面を見ながら、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】
【００１５】
　図１〜図３に示す光リソグラフ装置の第一実施例では、長方形の花崗岩スラブとして構成されている支持部材３を有するマシンフレーム１が設けられている。この支持部材３は、図１、図２に示される垂直ｚ方向に対して直角に延在する上面５を有する。マシンフレーム１の４本の柱７は、各々ｚ方向に平行に上面５に固定されている。図１には２本の柱しか示されていないが、図３には４本の柱７の断面が示されている。柱７は、支持部材３から或る距離で、ｚ方向に横切って延在する長方形の板として構成されているマウント部材９に固定されている。さらに、この光リソグラフ装置には、図１、図２に輪郭線のみが示され、ｚ方向に一致する光学主軸１３を有するとともに下側でマウント部材９に固定された光学レンズ系１１が配置されている。
【００１６】
　レンズ系１１の上端近傍において、光リソグラフ装置には、レンズ系１１に対してマスク１７を位置決めし支持するためのマスクマニュプレータ１５が配置されている。装置の運転中、光源１９からの光ビームが、鏡２１，２３により、例えば集積回路のパターンを有するマスク１７に誘導され、かつ光リソグラフ装置のオブジェクトテーブル２７上に置かれている、例えば半導体基板２５の様な基板上に、レンズ系１１によって焦点づけされる。この様にして、当該パターンが半導体基板２５上に縮小し画像化される。オブジェクトテーブル２７は、ｚ方向に直角である図１、図３におけるｘ方向、およびｚ方向とｘ方向に直角であるｙ方向で変移可能である。半導体基板２５は、ｘ方向およびｙ方向と平行に様々な照射位置でオブジェクトテーブル２７を段階的に変移させることによって、多数の同一集積回路に対応する多数位置で照射を行うことができる。
【００１７】
　図１に示されるように支持部材３には、光リソグラフ装置が平坦なベース面に位置決めされる様に４つのフレーム支持体３１が下面２９に設けられている。図１に２つの下側フレーム支持体３１のみが示されている。光リソグラフ装置は、ベース面に対して、ｚ方向に平行とｚ方向を横切る方向とに、下側フレーム支持体３１によって低振動数でスプリング支持されている。これら下側フレーム支持体の各々には、図１において詳細に示されていないスプリング部材とダンピング部材が設けられていて、マシンフレーム１と下側フレーム支持体３１によって形成されるマススプリング系は、１〜約２０Ｈｚの間に６つの機械的固有振動数を有する。このようにして光リソグラフ装置の正確な動作に悪影響を与えるベース面の望ましくない高い振動数の振動が、下側フレーム支持体３１を介してマシンフレーム１とレンズ系１１とに伝達することが防止される。
【００１８】
　図２に示されるようにオブジェクトテーブル２７は、静的ガス支持手段が設けられているいわゆる静的空気脚３３により支持部材３の上面５に沿って案内される。オブジェクトテーブル２７は、３つのリニア電気モータ３７，３９，４１を有する位置決め装置３５により上面５に沿って移動可能である。図２に示されるようにリニアモータ３７は、ｘ方向に平行に延在するｘステータ４３とオブジェクトテーブル２７をｘ方向に平行にｘステータ４３に沿って変移可能とするオブジェクトテーブル２７に固定されているｘトランスレータ４５とを有する。リニアモータ３９と４１は、ｘステータ４３の第一端４９に固定されているｙトランスレータ５１を有するｙ方向に平行に延在するｙステータ４７と、ｘステータ４３の第二端５５に固定されているｙトランスレータ５７を有するｙ方向に平行に延在するｙステータ５３とを各々有する。ｙステータ４７と５３はマウントブロック５９，６１、マウントブロック６３，６５により各々支持部材３の上側面５に固定されている。オブジェクトテーブル２７は、ｙ方向に平行に変移可能でかつリニアモータ３９および４１の手段によりｚ方向に平行に延在する回転軸について非常に限定された角度回転可能である。静的空気脚３３と互いにＨ型に配置されているリニアモータ３７，３９，４１を有する位置決め装置３５それ自身は、米国特許第４７３７８２３号で知られている。
【００１９】
　動作中、前述したようにオブジェクトテーブル２７は位置決め装置３５によりｘ方向とｙ方向に段階的に変移する。この段階的な変移は２Ｈｚ〜４Ｈｚの振動数で行われる。これにより、位置決め装置３５のリニアモータ３７，３９，４１は、マシンフレーム１の支持部材３にリニアモータ３７，３９，４１がオブジェクトテーブル２７に与える駆動力に対向する低振動数の反力を発生させる。前述したように光リソグラフ装置は、下側フレーム支持体３１によりベース面に対して低振動数のスプリングで支持されているので、当該反力は新たな手段が講じられない限り、下側フレーム支持体３１にマシンフレーム１の振動数の低い正しくダンプ（防振）されていない揺れを発生させる。マシンフレーム１のこのような動きは位置決め装置３０の精度に悪影響を与える。
【００２０】
　図１〜図３の光リソグラフ装置の場合、前述したマシンフレーム１の揺れは、図２と図３に線図的に示されている力アクチュエータシステム６７の使用により防止できる。力アクチュエータシステム６７には、各々ｘ方向に平行に動作する第一および第二力アクチュエータ６９，７１とｙ方向に動作する第三の力アクチュエータ７３とが設けられている。図２が示すように力アクチュエータ６９，７１，７３の各々には、ｚ方向に平行に延在しかつ一端の近くでトランクアーム７９が設けられている出力軸７７を有するブラッシュレス電気サーボモータ７５が設けられている。第一および第二力アクチュエータ６９，７１のクランクアーム７９はｙ方向に平行に向けられていて、第三の力アクチュエータ７３クランクアーム７９はｘ方向に平行に向けられている。サーボモータ７５は、ベース面に対して固定された位置を占める基準フレーム８３の一部分を形成するマウントブロック８１に各々固定されている。更に第一および第二力アクチュエータ６９，７１には各々ｘ方向に平行に延在する結合ロッド８５が設けられていて、第三の力アクチュエータ７３には実質上ｙ方向に延在する結合ロッド８７が設けられている。結合ロッド８５，８７の各々の第一端８９は支持部材３にピボット支持されていて、結合ロッド８５，８７の各々の第二端９１はヒンジピン９３にピボット支持されていて、これは出力軸７７に対して偏芯させて対応するサーボモータ７５のクランクアーム７９に固定されている。
【００２１】
　動作中、力アクチュエータ６９，７１，７３を有する力アクチュエータシステム６７は、図３に線図的に示されているフィードフォワード制御システム９５によりその値と方向が制御されている補償力を支持部材３上に発生させる。制御システム９５には入力信号ｕxsetおよびｕyset（電圧信号）を有する第一電子コントローラ９７が設けられている。これらの値がｘおよびｙ方向でレンズ系１１に対しオブジェクトテーブル２７の所望の変移の値に比例していてかつ（図３に示されていない）装置のリソグラフ工程を制御する装置のコンピュータシステムにより供給される信号ｕxsetおよびｕysetは、各々動作中増幅ユニット１０１、増幅ユニット１０３および増幅ユニット１０５を介して位置決め装置３５のリニアモータ３７，３９，４１を制御する電子制御ユニット９９に対する入力信号をも形成する。ｘ方向とｙ方向におけるレンズ系１１に対するオブジェクトテーブル２７の実際の変移を測定し、かつ制御ユニット１０１にこれをフィードバックさせるトランスデューサシステムは、単純化のために図３には表示されていない。
【００２２】
　第一コントローラ９７は、入力信号ｕxsetおよびｕysetから、連続的にｘ方向およびｙ方向に平行なオブジェクトテーブル２７の各々の加速度の値、当該加速度から生じかつ位置決め装置３５により支持部材３に与えられるｘ方向およびｙ方向に平行な各々の反力ＦrxおよびＦryの値、および反力ＦrxおよびＦryが発生させる光学主軸１３についての機械モーメントＭrxyの値を計算する。第一コントローラ９７の第一および第二出力信号ｕc1およびｕc2（電圧信号）は、各々ｘ方向に比例する第一力アクチュエータ６９により供給される補償力Ｆc1に比例する値および第二力アクチュエータ７１により供給される補償力Ｆc2に比例する値第一コントローラ９７の第三出力信号ｕc3（電圧信号）はｙ方向の第三力アクチュエータ７３によって供給される補償力Ｆc3に比例する値を有する。出力信号ｕc1およびｕc2の値は、補償力Ｆc1およびＦc2の合計が反力Ｆrxに値が同じで方向が反対でかつ補償力Ｆc1およびＦc2が発生させる光学主軸１３についての機械モーメントＭcxyが機械モーメントＭrxyの値と等しくかつ方向が反対となるような値である。出力信号ｕc3の値は、補償力Ｆc3が反力Ｆryに値が等しくかつ方向が反対となるような値である。補償力Ｆc3は光学主軸１３を通る画内で動作しかつ光学主軸１３については何等の機械モーメントを発生させないことに注意すべきである。このようにしてフィードフォワード制御システム９５により制御される力アクチュエータシステム６７により、支持部材３とマシンフレーム１が位置決め装置３５のリニアモータ３７，３９，４１によって支持部材３に与えられる反力の影響により望ましくない動きをすることが防止される。
【００２３】
　図３に示されるように制御システム９５は、入力信号ｕa1，ｕa2，ｕa3（電圧信号）を有する第二電子コントローラ１０９が設けられている負帰還１０７を更に有している。入力信号ｕa1およびｕa2は、各々第一加速度トランスデューサ１１１および第二加速度トランスデューサ１１３から導出され、かつ当該加速度トランスデューサ１１１，１１３によって測定されるｘ方向に平行な方向に於ける支持部材３の絶対加速度に比例する値を各々有している。入力信号ｕa3は、第三加速度トランスデューサ１１５から導出され、そして加速度トランスデューサ１１５によって測定されるｙ方向の支持部材３の絶対加速度に比例する値を有している。第二コントローラ１０９は、入力信号ｕa1，ｕa2，ｕa3からｘ方向およびｙ方向の支持部材３の加速度および光学主軸１３の周囲における支持部材３の角加速度を計算する。第二コントローラ１０９の第一および第二出力信号ｕr1およびｕr2（電圧信号）は、いずれもｘ方向に向いた力である、第一力アクチュエータ６９によって与えられる制御力Ｆr1、および第二力アクチュエータ７１によって与えられる制御力Ｆr2にそれぞれ比例する値を有し、また第二コントローラ１０９の第三出力信号ｕr3（電圧信号）はｙ方向において第三力アクチュエータ７３によって与えられる制御力Ｆr3に比例する値を有する。出力信号ｕr1，ｕr2，ｕr3の値は、加速度トランスデューサ１１１，１１３，１１５によって測定されたｘ方向およびｙ方向における支持部材３の加速度と、光学主軸１３の周囲における支持部材３の測定された角加速度とが、制御力Ｆr1，Ｆr2，Ｆr3の作用の下で低減化される様な値である。負帰還１０７の使用により、例えば前記位置決め装置３５のハンドリング力のような反力以外の力の作用、またはベース面の低振動数振動の影響の下で生じる支持部材３とマシンフレーム１のｘ方向およびｙ方向に対して平行な望ましくない動きや振動が防止される。また、図３に示されるように、制御システム９５には出力信号ｕs1の第一合算回路１１７が設けられており、出力信号ｕsiの値は信号ｕc1とｕr1の合計に等しくかつ増幅器ユニット１１９によって第一力アクチュエータ６９を通る電流ｉ1に増幅される。制御システム９５の第二および第三合算回路１２１，１２３の各出力信号ｕs2，ｕs3は、和「ｕc2＋ｕr2」、「ｕc3＋ｕr3」にそれぞれ等しい。信号ｕs2，ｕs3は、増幅器ユニット１２５，１２７によって、第二力アクチュエータ７１を通る電流ｉ2と、第三力アクチュエータ７３を通る電流ｉ3とに、それぞれ増幅される。合算回路１１７，１２１，１２３の使用によれば、力アクチュエータ６９，７１，７３の各々によって加えられるべき補償力Ｆc1，Ｆc2，Ｆc3と、制御力Ｆr1，Ｆr2，Ｆr3との合計に等しい力が、力アクチュエータ６９，７１，７３の各々から支持部材３に加えられる。
【実施例２】
【００２４】
　図４〜図８は本発明の光リソグラフ装置の第二実施例を示している。図１〜図３に示される光リソグラフ装置の第一実施例に対応する部品には同一の符号が付されている。この光リソグラフ装置の第二実施例には、ｚ方向に一致する光学主軸１３を有しかつ下側でマウント部材９に固定されている光学レンズ系１１が設けられている。装置のマシンフレーム１の部分を形成するマウント部材９は、ｚ方向に垂直な面内に延在する三角形の板として構成されている。この装置には、レンズ系１１の上端の近傍で、例えば半導体集積回路のパターンを有するマスク１７に対するマスクマニュプレータ１５、光源１９、および２つの鏡２１および２３が設けられている。第一実施例の装置と同様に第二実施例の装置にも更に、例えば半導体基板２５のような基板を置くことができるオブジェクトテーブル２７が設けられている。オブジェクトテーブル２７は、ｚ方向に直角であるｘ方向に対して平行に、かつｚ方向およびｘ方向に直角であるｙ方向に対して平行に段階的に変移可能であるため、数多くの照射位置での半導体基板２５に対する照射が可能となる。
【００２５】
　三角形のマウント部材９には、各々が下側フレーム支持体３１に載置されている３つのコーナー部分１２９が設けられている。図４には２つのコーナー部分１２９と２つの下側フレーム支持体３１のみが示されている。下側フレーム支持体３１は、マシンフレーム１のベース１３１に設置されていて、ベース１３１は調整部材１３３によって平坦な基台に設置されている。この装置は、ｚ方向に平行な方向とｚ方向を横切る方向で、図４には詳細には示されていないスプリング部材とダンピング部材が設けられている下側フレーム支持体３１によって、基台に対して低周波数でスプリング支持されているため、下側フレーム支持体３１を介してマウント部材９とレンズ系１１に、基台の望ましくない高振動数の振動が伝わることが防止される。
【００２６】
　図１〜図３の光リソグラフ装置における場合と同様に、図４〜図８の装置のオブジェクトテーブル２７は、長方形花崗岩スラブとして構成されている支持部材３の上面５に示されかつ静的ガスベアリングが設けられている静的空気脚３３により誘導される。オブジェクトテーブル２７は、既に前述した米国特許第４７３７８２３号により公知でありかつＨ型に互いに位置決めされているリニアモータ３７，３９，４１が設けられている位置決め装置３５により上面５に渡って変移可能で、図５に示されるようにリニアモータ３９と４１は支持部材３の上面でそのコーナーの近くに固定されている位置決め装置３５のフレーム１３５に固定されている。オブジェクトテーブル２７はリニアモータ３７によってｘ方向に平行に変移可能であり、オブジェクトテーブル２７はリニアモータ３９，４１によりｙ方向に平行に変移可能でかつｚ方向に平行な回転軸について非常に限られた角度回転可能である。
【００２７】
　図４、図５に示されるように第二実施例の光リソグラフ装置内の支持部材３と位置決め装置３５は、ユニット（単位装置）１３７を構成して、マシンフレーム１のキャリア１３９に設けられている。図６は、キャリア１３９が実質的に三角形の板によって形成され、この板がｚ方向に対して直角に延在しかつ主側辺１４１を有し、この主側辺１４１の各々が２つの下側フレーム支持体３１の間に延在していることを示す。支持部材３は、図６に輪郭線のみが示されている３つの締め付け部品１４３によりキャリア１３９の上面１４５に固定されている。キャリア１３９は、３つの鋼製板状サスペンション部材（懸架部材）１４７，１４９，１５１により図４に示されているマウント部材９の下面１５３から懸吊されている。図４には、サスペンション部材１４９，１５１のみが部分的に示されているが、図６はサスペンション部材１４７，１４９，１５１の断面を示している。サスペンション部材１４７，１４９，１５１は各々ｚ方向に平行な互いに６０°の角度をなす垂直面に延在する板により形成されている。サスペンション部材１４７，１４９，１５１の使用によりマウント部材９からキャリア１３９の懸吊された構成が得られ、これにより支持部材３と位置決め装置３５から成るユニットが下側フレーム支持体３１の間に配置される。この様にしてｚ方向でもｚ方向に対して直角方向で見てもコンパクトで堅固な構成の光リソグラフ装置が得られる。
【００２８】
　ｘ方向とｙ方向とに平行な方向にオブジェクトテーブル２７を段階的に変移させることは、図１に示した装置の場合と同様に図４に示した装置においても振動数２Ｈｚ〜４Ｈｚで行われる。この時位置決め装置３５のリニアモータ３７，３９，４１は、支持部材３を介してマシンフレーム１のキャリア１３９に、リニアモータ３７，３９，４１がオブジェクトテーブル２７に与える駆動力に対して反対向きの低振動数の反力を発生させる。図４〜図８に示された光リソグラフ装置の場合、当該反力から生ずるマシンフレーム１の望ましくない動きは、図６に模式的に示される力アクチュエータ１５５の使用により防止される。力アクチュエータシステム１５５は３つの電磁石１５７，１５９，１６１を具備し、これらがマシンフレーム１のベース１３１に固定され、それぞれ３つの下側フレーム支持体３１のうちの一つの下に位置している。かくして、調整部材１３３によって基台に対して固定された位置にセットされるベース１３１が、力アクチュエータシステム１５５を固定するための装置の基準フレームとなる。図６に示されるように電磁石１５９はｘ方向に作動し、電磁石１５７，１６１は各々光学主軸１３を横切る水平面内に存在し、かつｘ方向に対して１２０°回転した位置にある方向に各々作動する。動作中電磁石１５７，１５９，１６１は、光学主軸１３から離れた各サスペンション部材１４７，１４９，１５１の側面に電磁吸引力を加える。電磁石１５７，１５９，１６１と各サスペンション部材１４７，１４９，１５１との間の空気間隙の寸法は約１ｍｍである。図６から明らかなように、電磁石１５７，１５９，１６１によってキャリア１３９に与えられる力の合計は常に光学主軸１３を通る面内で作動するため、ｘ方向の補償力Ｆcxとｙ方向の補償力Ｆcyは力アクチュエータシステム１５５により与えられ、その光学主軸１３についての機械的モーメントを常にゼロ（０）に等しくかつ光学主軸１３についてのマシンフレーム１の望ましくない回転の動きを阻止することができる。
【００２９】
　力アクチュエータシステム１５５によりキャリア１３９に与えられる補償力ＦcxおよびＦcyの値と方向は、図６に示すフィードフォワード制御システム１６５によって制御される。制御システム１６５には入力信号ｕxset，ｕyset（電圧信号）を有する電子コントローラ１６７が設けられている。ｘ方向およびｙ方向における支持部材３上でのオブジェクトテーブル２７の所望の変移の大きさに比例する値の信号ｕxsetおよびｕysetは、光リソグラフ装置のリソグラフ工程を制御するコンピュータシステム（図６）によって与えられ、同時に、その各々は、動作中、増幅器ユニット１７１，１７３，１７５（図６）を介して位置決め装置３５のリニアモータ３７，３９および４１をそれぞれ制御する電子制御ユニット１６９に対する入力信号を形成する。ｘ方向とｙ方向のレンズ系１１に対するオブジェクトテーブル２７の実際の変移を測定するトランスデューサシステムは、簡単化のため図６には示されていない。
【００３０】
　電子コントローラ１６７は、入力信号ｕxsetおよびｕysetから各々ｘ方向とｙ方向のオブジェクトテーブル２７の加速度の値を計算し、かつ当該加速度により決められかつ支持部材３を介して位置決め装置３５によりキャリア１３９に各々与えられるｘ方向およびｙ方向に平行な反力Ｆrx，Ｆryの値を計算する。コントローラ１６７の第一および第二出力信号ｕfx+，ｕfx-（電圧信号）は、力アクチュエータシステム１５５により各々正および負のｘ方向に供給される反力Ｆrxと同じ値でかつ向きが反対の補償力Ｆcxに比例する値を有する。コントローラ１６７の第三および第四出力信号ｕfy+およびｕfy-は、力アクチュエータシステム１５５により供給される各々正および負のｙ方向の、反力Ｆryと同じ値で向きが反対の補償力Ｆcyに比例する値を有する。この様にしてフィードフォワード制御システム１６５により制御される力アクチュエータシステム１５５は、反力Ｆrx，Ｆryから生じるｘ方向およびｙ方向に平行なマシンフレーム１の望ましくない動きのみを阻止する。
【００３１】
　図６に示されるように信号ｕfx+，ｕfx-，ｕfy+，ｕfy-は、各々出力信号ｕf1，ｕf2，ｕf3を有する電子合算回路１７７に対する入力信号を形成する。合算回路１７７は、信号ｕfx+，ｕfx-，ｕfy+，ｕfy-から出発して各々電磁石１５７，１５９，１６１によって与えられる電磁力Ｆem1，Ｆem2，Ｆem3の値を計算する。この時、出力信号ｕf1，ｕf2，ｕf3は当該電磁力に比例する値を有する。
【００３２】
　図７の合算回路１７７の詳細を示し、図７のｂは電磁力Ｆem1，Ｆem2およびＦem3に対する力のダイアグラムを示す。図７のｂから明らかなように、力Ｆem2が（０）でかつ力Ｆem1，Ｆem3が各々所望の力Ｆcx(+)に等しい値を有する場合には、正のｘ方向の補償力Ｆcx(+)は力Ｆem1とＦem3の重畳によって得られ、それ故図７のａに示される合算回路１７７において入力信号ｕfx+は、ブランチ１７９を介して出力信号として信号ｕf1を有する加算器１８１に与えられ、かつブランチ１８３を介して出力信号として信号ｕf3を有する加算器１８５に与えられる。図７のｂから、力Ｆem1とＦem3がゼロ（０）の場合負のｘ方向の補償力Ｆcx(-)は力Ｆem2により得られることも明らかである。それ故、合算回路１７７（図７のａ参照）の場合、入力信号ｕfx-は出力信号として信号ｕf2を有している加算器１８７にのみに与えられる。力Ｆem3がゼロ（０）の場合正のｙ方向の補償力Ｆcy(+)は、力Ｆem1とＦem2との重畳により得られ、そして力Ｆem1とＦem2は所望の力Ｆcy(+)よりも各々係数２／√３および１／√３だけ大きい。したがって、合算回路１７７の場合入力信号ｕfy+は、ブランチ１８９を介して加算器１８１に、かつブランチ１９１を介して加算器１８７に加えられる。ブランチ１８９は信号ｕfy+に係数２／√３を乗算する増幅器１９３を有し、ブランチ１９１は信号ｕfy+に係数１／√３を乗算する増幅器１９５を有している。最後に図７のｂは、力Ｆem1がゼロ（０）の場合負のｙ方向の補償力Ｆcy(-)は力Ｆem2とＦem3の重畳によって得られ、かつ力Ｆem2とＦem3は所望の力Ｆcy(-)よりも各々係数１／√３および係数２／√３だけ大きいことを示している。したがって、合算回路１７７の入力信号ｕfy-は、ブランチ１９７を介して加算器１８７に与えられ、かつブランチ１９９を介して加算器１８５に与えられる。ブランチ１９７はｕfy-に係数１／√３を乗算する増幅器２０１を有し、かつブランチ１９９は信号ｕfy-に係数２／√３を乗算する増幅器２０３を有する。
【００３３】
　電磁石１５７，１５９，１６１の各々によって得られる電磁力の値は、当該電磁石１５７，１５９，１６１を流れる電流の値の２乗に比例しかつ空気間隙１６３の寸法の２乗に反比例するものと考えられる。もしも、空気間隙１６３の寸法がベース１３１に対するキャリア１３９の小さな動きにより変化する場合には、電磁力の値は別の手段が採用されない限り変化するであろう。したがって、電磁石１５７，１５９，１６１の各々が制御システム１６５のコントローラ１６７によりその値が決まる力をベース１３１に与える様に、電磁石１５７，１５９，１６１を力アクチュエータとして使用することは、電磁石１５７，１５９，１６１を流れる電流が制御されている場合にのみ可能である。図６に示されるように制御システム１６５には、この目的のために、電磁石１５７，１５９，１６１の電圧ｕ1，ｕ2，ｕ3の各々を制御する３つの同一の電子制御回路２０５，２０７，２０９が設けられている。制御回路２０５，２０７，２０９は、それらの入力信号に対し各々信号ｕf1，ｕf2，ｕf3を有している。制御回路２０５，２０７，２０９の別の入力信号が各々信号ｕmf1，ｕmf2，ｕmf3（電圧信号）によって形成される。これらの信号は、図８に示すように電磁石１５７の磁束密度トランスデューサ２１１の出力信号であり、電磁石１５９の磁束密度トランスデューサ２１３および電磁石１６１の磁束密度トランスデューサ２１５の出力信号である。制御回路２０５の出力信号ｕu1（電圧信号）は、電磁石１５７の電流ｉ1を決定する電圧ｕ1にまで増幅器ユニット２１７によって増幅される。同様に制御回路２０７の出力信号ｕu2は増幅器ユニット２１９により電磁石１５９の電流ｉ2を決定する電圧ｕ2にまで増幅され、制御回路２０９の出力信号ｕu3は増幅器ユニット２２１により電磁石１６１の電流ｉ3を決定する電圧ｕ3にまで増幅される。
【００３４】
　図８は電磁石１５７の電子制御回路２０５を示す。制御回路２０７および２０９も同様に構成されている。図８が示すように電磁石１５７によって与えられる力Ｆem1に比例する値を有する制御回路２０５の入力信号ｕf1は、電子平方根エクストラクタ２２３に与えられる。この平方根エクストラクタ２２３の出力信号ｕsqr（電圧信号）は信号ｕf1の平方根に等しい値を有する。
［数１］
　　ｕsqr＝√ｕf1
平方根エクストラクタ２２３の電子出力は、出力信号ｕhdf1を有する第一電子ハイパスフィルタ２２５の電子入力端に接続される。以下、制御回路２０５の第一ハイパスフィルタ２２５の機能について説明する。
【００３５】
　図８に示されるように、信号ｕhdf1は、コンパレータ（比較器）２２７の第一電気入力端に与えられる。コンパレータ２２７の第二電気入力端は、負帰還ライン２２９を介して電磁石１５７の二次電気コイルによって形成される磁束密度トランスデューサ２１１の電気出力端に接続される。フラックス密度トランスデューサ２１１の出力信号ｕmf1（電圧信号）は二次コイル内の電磁石１５７の電磁フィールドによって生じた電圧によって決定され、かつその値は電磁石１５７の空気間隙１６３内の磁束密度Ｂm1の値の変化に比例するとみなされる。
[数２]
　　ｕmf1＝Ｃtransducer・（δＢm1／δｔ）
この式でＣtransducerは、例えば二次電気コイルの巻数のような磁束密度トランスデューサ２１１の多くの特性値によって決定される定数である。空気間隙１６３内の磁束密度Ｂm1は電磁石１５７の電流ｉ1の値に比例し、かつ空気間隙１６３のサイズに反比例するものと考えられるので、電磁石１５７によって与えられる力Ｆem1は磁束密度Ｂm1の値の２乗に比例する。
[数３]
　　Ｂm1＝Ｃmagnet1・（ｉ1／ｈ1）
[数４]
　　Ｆem1＝Ｃmagnet2・（Ｂm1）2
[数５]
　　Ｂm1＝√（Ｆem1／Ｃmagnet2）
これらの式において、Ｃmagnet1，Ｃmagnet2は、例えば電磁石１５７の巻数および電磁石１５７に使用される磁気鉄の透磁率のような電磁石１５７の数多くの特性値によって決定される定数である。さらにｈ1は、図８に示されるように空気間隙１６３の寸法である。
【００３６】
　また、図８は、負帰還ライン２２９が、電子積分器２３１を有することを示し、これにより磁束密度トランスデューサ２１１の出力信号ｕmf1が、その値が磁束密度Ｂm1に比例する信号ｕb1に積分される。したがってコンパレータ２２７の入力信号ｕb1は、その値が磁束密度Ｂm1の特定された値に比例する信号であり、一方その値が所望の力Ｆem1の平方根に等しい入力信号ｕhdf1は磁束密度Ｂm1の所望の値に比例している。コンパレータ２２７の出力信号ｕcomはコンパレータ２２７の２つの入力信号の差ｕhdf1−ｕb1に等しい。
【００３７】
　前述したように信号ｕmf1は電子積分器２３１によって信号ｕb1に積分される。このような積分器の積分機能は理想的には行かず有限時間間隔のみで行われる。その結果、特に非常に低周波数（１０-4Ｈｚより小）の入力信号ｕmf1で出力信号ｕb1の不正確さが発生し、これは制御回路２０５の不正確な動作を導く。制御回路２０５のこの様な不正確な動作を防止するために、制御回路２０５には入力信号ｕf1の非常に低い周波数の成分をフィルタ除去する前述の第一ハイパスフィルタ２２５と、それの電気入力端がコンパレータ２２７の出力端に接続されていて、かつそれにより出力信号ｕcomの非常に低い周波数成分をフィルタ除去する出力信号がｕhdf2の第二ハイパスフィルタ２３３とが設けられている。
【００３８】
　図８に示されるように、出力信号ｕhdf2は、比例制御アクション（増幅率Ｋp＝１００のオーダ）を有する電子コントローラ２３５に与えられる。コントローラ２３５の出力信号ｕu1はＫp・ｕhdf2に等しい値を有しかつ図６に制御回路２０５の出力信号として示されている。動作中磁束密度Ｂm1（信号ｕhdf1）の所望の値と磁束密度Ｂm1（信号ｕb1）の測定された値の間に差が生じた場合、電磁石１５７の電圧ｕ1は、コントローラ２３５の比例制御アクションによって空気間隙１６３の所望の磁束密度と測定された磁束密度とが実質上等しくなるような平衡状態が形成される様な値とされる。電磁石１５７によって与えられる力Ｆbm1の値は磁束密度Ｂm1の値の２乗に比例するため、平方根エクストラクタ２２３の使用によって力Ｆem1を制御回路２０５の入力信号ｕf1に比例する値にすることができる。この様にして制御回路２０５により制御される電磁石１５７は線形力アクチュエータを構成する。電磁石の力は、この様にして空気間隙１６３のサイズに依存しなくなるため、ベース１３１の機械的振動が電磁石１５７，１５９，１６１を介してキャリア１３９に伝達されることがなくなる。さらに、電磁石１５７，１５９，１６１の使用によって機械的摩耗のない力アクチュエータシステム１５５が得られる。
【００３９】
　ｘ方向とｙ方向のマシンフレーム１の望ましくない動きおよび主軸１３についてのマシンフレーム１の望ましくない回転の動きは、力アクチュエータシステム６７と図１〜図３に示されている光リソグラフ装置の第一実施例の加速度トランスデューサ１１１，１１３，１１５によって阻止することができる。力アクチュエータと加速度トランスデューサを数多く使用することにより、ｚ方向の望ましくない動きおよび／またはｘ方向またはｙ方向に平行な回転軸についての回転の動きを阻止することが可能である。この場合、適用された制御システムは力アクチュエータシステムとして使用しなければならないであろう。
【００４０】
　力アクチュエータシステム１５５のみがｘ方向とｙ方向とにマシンフレーム１に補償力を与え、この力が、図４〜図８に示される光リソグラフ装置の第二実施例の位置決め装置３５によって当該方向にキャリア１３９に与えられる反力に等しい値を有することに留意すべきである。制御システム１６５にキャリア１３９に固定されている加速度トランスデューサから負帰還を与えることによって、前記反力以外の力によって生ずる当該方向での望ましくない動きをも防ぐことができる。さらに、マシンフレーム１の他の望ましくない動き（例えば、光学主軸１３についての回転のような動き）もまた、非常に多くの電磁石の使用によって第二実施例において阻止することができる。しかしながら、現実的には装置の精度は主にｘおよびｙ方向のレンズ系１１に対するキャリア１３９の望ましくない動きによって悪化することが見い出された。電磁石１５７，１５９，１６１を３つしか使用しないことによってコンパクトで簡単な力アクチュエータ１５５が得られる。
【００４１】
　図１〜図３に示される光リソグラフ装置の第一実施例において、力アクチュエータシステム６７が、力アクチュエータ６９，７１，７３の各々が当該方向で互いに向いている一対の電磁石により、または、例えば永久磁石または機械的なスプリングのようなプリテンショニング部材と協働しかつ当該方向に１つの電磁石により置換されている電磁石を有する別の力アクチュエータシステムを使用することも可能である点にも注意されたい。図４〜図８に示される光リソグラフ装置の第二実施例において、力アクチュエータシステム１５５の代わりに第一実施例で使用されている力アクチュエータ６９，７１，７３に対応する３つの力アクチュエータが設けられている力アクチュエータシステムを使用することも可能である。この際、結合ロッド８５は、各々、例えばキャリア１３９の主側辺１４１の一面に平行に向けられている。
【００４２】
　磁束密度トランスデューサ２１１に代えて、それ自身は公知のホールトランスデューサを図８に示される制御回路２０５に使用することが可能であることにも注意されたい。その様なホールトランスデューサの出力信号は磁束密度Ｂmに比例する値を有するので、ホールトランスデューサの使用によりインテグレータ２３１とハイパスフィルタ２２５と２３３を不要とする。しかしながら多くの場合ホールトランスデューサの使用はマウント空間が必要となる点から不利である。
【００４３】
　前記力アクチュエータシステム６７，１５５は、基板上の各集積回路が場所を変えて照射される光リソグラフ装置においても使用することができる点にも留意すべきである。相対的にコンパクトなレンズ系を有するこの様な光リソグラフ装置の場合は、レンズ系がマシンフレームに固定されているが、位置決め装置とマスクマニュプレータを有する支持部材はレンズ系とマシンフレームに対して移動可能なキャリアに設けられる。支持部材上の位置決め装置によって与えられる反力は、その種の装置におけるマシンフレームにキャリアを介して伝達され、オブジェクトテーブルに対するレンズ系の望ましくない動きの原因となる。加えてその様な装置の場合、オブジェクトテーブルに対するレンズ系の望ましくない動きが、マシンフレームに対してキャリアが動く時に発生する。その様な望ましくない動きは、基準フレームに固定され且つマシンフレームに制御力または補償力を加える力アクチュエータシステムの使用により減少させることができる。
【００４４】
　本発明光リソグラフ装置の前記２つの実施例は、集積電子回路の製造の間に半導体基板を照射するのに特に適している。しかしながら、この様な装置はマスクパターンがこの装置により基板上に画像化されるようなマイクロメータの領域の微細な寸法を有する構造を備えた、他の製造物の製造にも使用することができる。それらの例は、集積化された光学システム、コンダクタおよび磁気ドメインメモリの検知パターン、および液晶画像パターンの構造である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の光リソグラフ装置の第一実施例を示す。
【図２】図１の第一実施例の一部の斜視図である。
【図３】図１の線ＩＩＩ−ＩＩＩについての第一実施例の断面図を線図的に示す。
【図４】本発明の光リソグラフ装置の第二実施例の斜視図を示す。
【図５】図４の第二実施例の位置決め装置と支持部材によって形成されるユニットを示す。
【図６】図４の第二実施例の断面図を線図的に示す。
【図７】ａは図４の光リソグラフ装置の電子制御システムの部品の合算回路を示し、ｂは図４の光リソグラフ装置の力アクチュエータシステムの力のダイアグラムを示す。
【図８】図４の光リソグラフ装置の電子制御システムの部品の電子制御回路を示す。
【符号の説明】
【００４６】
　１　マシンフレーム
　３　支持部材
　５　上面
　７　柱
　９　マウント部材
　１１　レンズ系
　１３　光学主軸
　１５　マスクマニュプレータ
　１７　マスク
　１９　光源
　２１，２３　鏡
　２５　半導体基板
　２７　オブジェクトテーブル
　２９　下面
　３１　下側フレーム支持体
　３３　静的空気脚
　３５　位置決め装置
　３７，３９，４１　リニア電気モータ
　４３　ｘステータ
　４５　ｘトランスレータ
　４７，５３　ｙステータ
　４９　ｘステータの第一端
　５５　ｘステータの第二端
　５９，６１，６３，６５　マウントブロック
　６７　力アクチュエータシステム
　６９　第一力アクチュエータ
　７１　第二力アクチュエータ
　７３　第三力アクチュエータ
　７５　電気サーボモータ
　７７　出力軸
　７９　クランクアーム
　８１　マウントブロック
　８３　基準フレーム
　８５，８７　結合ロッド
　９５　制御システム
　９７　第一コントローラ
　９９　電子制御ユニット
　１０１，１０３，１０５　増幅ユニット
　１０７　負帰還
　１０９　第二電子コントローラ
　１１１　第一加速度トランスデューサ
　１１３　第二加速度トランスデューサ
　１１５　第三加速度トランスデューサ
　１３１　ベース
　１３３　調整部材
　１３５　フレーム
　１３７　ユニット
　１３９　キャリア
　１４３　締め付け部品
　１４７，１４９，１５１　板状スチールサスペンション
　１５３　下面
　１５５　力アクチュエータシステム
　１５７，１５９，１６１　電磁石
　１６３　空気間隙
　１６５　フィードフォワード制御システム
　１６７　電子コントローラ
　１６９　電子制御ユニット
　１７１，１７３，１７５　増幅器ユニット
　１７７　合算回路
　１７９，１８３，１８９，１９１，１９７，１９９　ブランチ
　１８１，１８５，１８７　加算器
　１９３，１９５，２０１，２０３　増幅器
　２０５，２０７，２０９　制御回路
　２１１，２１３，２１５　磁束密度トランスデューサ
　２１７，２１９，２２１　増幅器ユニット
　２２３　平方根エクストラクタ
　２２５　第一電子ハイプスフィルタ
　２２７　コンパレータ
　２２９　負帰還ライン
　２３１　電子インテグレータ
　２３３　第二ハイパスフィルタ
　２３５　電子コトローラ
【図１】
2004140401.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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