(57)【要約】【課題】  集積回路デバイスの電気部品からレーザーダイオードへの熱伝達を抑制する。【解決手段】  集積回路デバイス１００は、基板１０６と、基板１０６上に設けられ、動作中に熱を発する電気部品１０４と、基板１０６上に電子部品１０４を覆うように形成された熱伝導性構造体１０８とを備え、熱伝導性構造体１０８は、電気部品１０４が発する熱の一部を吸収することにより、電気部品１０４からの熱移動を抑制している。【選択図】      図１
2004363602.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられ、動作中に熱を発する電気部品と、
前記基板上に前記電子部品を覆うように設けられた熱伝導性構造体と
を備え、
前記熱伝導性構造体は、前記電気部品が発する前記熱の一部を吸収することにより、前記電気部品からの熱移動を抑制していることを特徴とする集積回路デバイス。
【請求項２】
前記熱伝導性構造体が前記電気部品を実質的に封入するように構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の集積回路デバイス。
【請求項３】
前記熱伝導性構造体が金属材料で形成されていることを特徴とする、請求項２に記載の集積回路デバイス。
【請求項４】
前記熱伝導性構造体が多重レベルのパターニングされた金属層で構成され、前記金属層がプラグにより相互接続されていることを特徴とする、請求項３に記載の集積回路デバイス。
【請求項５】
前記基板の前記熱伝導性構造体の隣に溝が形成され、前記溝が断熱材料により充填されていることを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれかに記載の集積回路デバイス。
【請求項６】
基板を設けるステップと、
前記基板上に電気部品を設けるステップと、
前記基板上に前記電子部品を覆うように熱伝導性構造体を設けるステップと
を含み、
前記熱伝導性構造体が、前記電気部品が発する熱を吸収し、前記電気部品からの熱移動を抑制していることを特徴とする集積回路デバイスの製作方法。
【請求項７】
前記電気部品を設けるステップが、前記基板上に回路の出力トランジスタを設けるステップを含み、前記出力トランジスタが、外部デバイスへと信号を供給するようになっていることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記熱伝導性構造体を設けるステップが、前記電気部品を前記熱伝導性構造体で実質的に封入するステップを含むことを特徴とする、請求項６または請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記熱伝導性構造体を設けるステップが、プラグにより相互接続された、多重レベルのパターニングされた金属層で構成するステップを含むことを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記基板の前記熱伝導性構造体の隣に溝を設けるステップをさらに含み、前記溝を設けるステップが、前記溝を断熱材料で充填するステップを含むことを特徴とする、請求項６から請求項９のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、集積回路デバイスに関するものであり、より具体的にはレーザーダイオードを駆動するための集積回路デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザーダイオードは、光通信システムに広く利用されている。この光通信システムとは、高い出力パワー、狭いスペクトル幅、およびスイッチング速度の高速性等の望ましい特性によって光信号を伝送するものである。残念なことに、レーザーダイオードは高温に対する許容性を有していない。現状では、動作温度が８０℃程度まで上昇すると、レーザーダイオードのパフォーマンスは急激に低下してしまうことが多い。よってレーザーダイオードの所望のレベルのパフォーマンスを保証するためには、レーザーダイオードの動作温度を８０℃未満に維持しなければならない。
【０００３】
従来、レーザーダイオードの動作温度を所定温度、例えば８０℃未満に維持するための技術としては、ヒートシンクまたは電子冷却装置といった冷却素子をレーザーダイオードに熱的に接続することが挙げられる。冷却素子は、レーザーダイオードから熱を放散させるように動作し、レーザーダイオードの動作温度を低減させ、レーザーダイオードの温度を所定温度未満に維持する。しかしながら、レーザーダイオードの動作温度は、レーザーダイオード自体が発する熱のみに依存するわけではなく、レーザーダイオードの近傍にある電気部品が発する熱にも依存する。特にレーザーダイオードを駆動する集積回路（ＩＣ）デバイスの出力トランジスタが発する熱は、レーザーダイオードに相当な量の熱を与えることになってしまい、レーザーダイオードの動作温度を増大させてしまうことになる。ＩＣデバイスの出力トランジスタがレーザーダイオードの動作温度に影響を与えるこの熱により、冷却素子がレーザーダイオードの動作温度を所定温度未満に維持させることができない場合がある。代わりに、出力トランジスタからの熱を考慮に入れてレーザーダイオードの動作温度を所定温度未満に維持するために、冷却素子の大きさを、必要とする冷却素子のサイズの実質的限界よりも大きく設定することが考えられる。これにより、ＩＣデバイスの出力トランジスタによるレーザーダイオードの動作温度への熱の影響を低減させることが望まれる。
【０００４】
レーザーダイオードの動作温度に対するＩＣデバイス出力トランジスタの熱的影響を低減させるための１つの解決策として、出力トランジスタとレーザーダイオードとの間の距離を長くすることが挙げられる。しかしながら、高速アプリケーションの場合、出力トランジスタは、誘起効果のためにレーザーダイオードの近傍(very close)に設けられなければならない。さらに、製品全体のサイズの最少化やポート密度の増大への要求は高くなっている。ゆえに、出力トランジスタとレーザーダイオードとの間の距離を長くする手法は、一般に実用的な解決策ではない。
【０００５】
他の解決策としては、出力トランジスタの電力浪費を低減させ、これにより出力トランジスタが生じる熱についても低減させることが挙げられる。しかしながら、レーザーダイオードは一般に高い駆動電流を必要とし、レーザーダイオードを駆動させるには、結合するＩＣデバイスの出力トランジスタに大きい駆動電流を流さなければならない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これらの制約から、レーザーダイオードに供給される駆動電流を低下させることなく、ＩＣデバイスの出力トランジスタからレーザーダイオードへの熱移動を抑制する、レーザーダイオードを駆動するためのＩＣデバイスが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
レーザーダイオード等の発光素子を駆動するための集積回路（ＩＣ）デバイスは、電気部品と発光素子との間の熱移動を抑制するために、基板上に電気部品を覆うように製作された吸熱構造体を備えている。この吸熱構造体は、電気部品によって生じた熱の一部を吸収する。これにより、電気部品から発光素子への熱の伝達量を少なくすることで発光素子の動作温度を低減させるものである。吸熱構造体を使用することにより、ＩＣデバイスから発光素子へと供給される駆動電流を低減させることなく発光素子をより低温に維持することができる。
【０００８】
本発明によれば、ＩＣデバイスの吸熱構造体は、電気部品の全体を覆う(encase)多重レベルのパターニングされた金属層(patterned metal layer)とすることができる。一例を挙げると、吸熱構造体を構成する金属層は、アルミニウムおよび／またはチタニウムで製作することができる。ＩＣデバイスは、さらに、電気部品と発光素子との間に１つ以上の断熱溝(heat-insulating trenches)を備えていても良い。断熱溝は電気部品と発光素子間で熱的障壁としての機能を果たしている。
【０００９】
本発明に基づくＩＣデバイスの製作方法は、例えばシリコン基板などの基板を設けるステップと、基板上に電気部品を設けるステップと、そして基板上に熱伝導性の構造体を電気部品の上から設けるステップとを含む。熱伝導性構造体は、適切な金属材料の形成およびパターニングを順次実施して行くことにより形成することができる。方法はまた、電気部品と発光素子間の基板中に１つ以上の断熱溝を形成するステップを含んでいても良い。
【００１０】
本発明の他の態様は、本発明の原理を説明する例を描いた添付図と共に以下の詳細説明を読むことにより明らかとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１は、本発明の一実施例に基づく集積回路（ＩＣ）デバイス１００、或いは他のデバイスを示しており、このＩＣデバイス１００はレーザーダイオード１０２を駆動するようになっている。ＩＣデバイス１００は、動作中に熱を生じる（発する）少なくとも１つの電気部品１０４を備えている。電気部品１０４は、レーザーダイオードへと駆動電流を供給するように構成されており、レーザーダイオード１０２を選択的に動作させて光信号を生成するようになっている。この電気部品１０４は、レーザーダイオードの動作温度に影響を与えることになる熱を発しており、ＩＣデバイス１００は、この熱を低減させることにより、電気部品１０４とレーザーダイオード１０２との間の熱伝導量が少なくなる（熱伝達を抑制する）ようになっている。このＩＣデバイス１００を採用することにより、レーザーダイオード１０２の動作温度はより低く保たれることになり、駆動電流を低減させたり、或いはＩＣデバイスとレーザーダイオードとの間の距離を増大させたりすることなく、レーザーダイオード１０２の適正な性能が保証されることになる。
【００１２】
図１に示すように、ＩＣデバイス１００はシリコン基板等の基板１０６を備え、この基板１０６の上に電気部品１０４が組立てられている(fabricated)。本願で図示および説明するように、電気部品１０４は、基板１０６上に組立てられた駆動回路（図示せず）の出力バイポーラトランジスタである。しかしながら、電気部品１０４は、基板上１０６に設けられたいかなる種類のトランジスタであっても良い。また、電気部品１０４は、基板１０６上に形成され、動作時にはレーザーダイオード１０２の動作温度を増大させる可能性のある過剰な熱を生じるいずれの電気素子であっても良い。
【００１３】
ＩＣデバイス１００は、吸熱構造体１０８を備えており、この吸熱構造体１０８は、出力トランジスタ１０４を覆うように基板１０６の上に形成（組み立て）されている。吸熱構造体１０８は、出力トランジスタ１０４によって生じる熱の一部を吸収するように、熱伝導性材料で製作されている。一例として、吸熱構造体１０８は、熱エネルギーに対して高い伝導性を有する金属材料である。吸熱構造体１０８があるために出力トランジスタ１０４からレーザーダイオード１０２へと伝わる熱が小さくなり、これによりレーザーダイオード１０４はより低い温度で動作することができる。吸熱構造体１０８は、図１に示すように、方形のボックス形状に形成されており、その底面が設けられていない。出力トランジスタ１０４は、その上に配置されている吸熱構造体１０８により覆われて、すなわち密閉される(encapsulated)ことになる。他の実施例においては、吸熱構造体１０８は、六角形ボックス型等、他の密閉形状とすることも可能である。さらに、他の実施例においては、吸熱構造体１０８は、上面を含む１つ以上の面に開口を備えているものであっても良い。さらに、吸熱構造体１０８の上面を含む１つ以上の面は、単一の材質である必要はない。以下に詳細を説明するように、吸熱構造体１０８の面は、プラグにより相互接続された多重レベルの金属層(multi-leveled metal layers)とすることができる。ゆえに、吸熱構造体１０８の面は、相互接続プラグ間の空間により作られる開口を有するものであっても良いのである。吸熱構造体１０８が、１つ以上の開いた面、開口を持つ１つ以上の面、そして／または開いているか開口を有する上面を備えた場合も考えられるため、吸熱構造体１０８は出力トランジスタ１０４を完全に封入(entirely encase)するわけではなく、実質的に封入(substantially encase)することになるのである。
【００１４】
ＩＣデバイス１００は、また、断熱溝１１２も備えている。図１には断熱溝１１２を３つ示すが、ＩＣデバイス１００は断熱溝１１２をいくつ備えたものであっても良い。断熱溝１１２は、断熱材料で充填されており、この断熱材料によって出力トランジスタ１０４からレーザーダイオード１０２への熱の伝達を低下させている。つまり、断熱溝１１２は、出力トランジスタ１０４とレーザーダイオード１０２との間の熱的障壁として機能している。断熱溝１１２の充填にはいずれの断熱材料を使用しても良いが、断熱溝は良好な断熱特性を持つ酸化物で充填されることが望ましい。さらに、酸化物で充填された溝は、一般に、出力トランジスタ１０４のようなトランジスタ間の絶縁溝としても用いられている。従って、酸化物を充填した断熱溝１１２は、既知の製作プロセスを用いて作ることができる。ＩＣデバイス１００の断熱溝１１２の数は、必要に応じて変えることができる。
【００１５】
図２〜図８を参照しながら、ＩＣデバイス１００の出力トランジスタ１０４、吸熱構造体１０８、および断熱溝１１２についてより詳細に説明する。図２および図３は、図１に示すＩＣデバイス１００をそれぞれ２−２線、および３−３線に沿って水平面と平行に切断した場合の断面図である。２−２線は、吸熱構造体１０８の中心に沿って切断したものである。３−３線は、吸熱構造体１０８の１つの側壁に沿って切断したものである。図４〜図８はそれぞれにＩＣデバイス１００を図２に示す４−４線、５−５線、６−６線、７−７線、および８−８線に沿って水平面と平行に切断した断面の上面図である。図２に示すように、出力バイポーラトランジスタ１０４は、ｎ型コレクタ領域２０２、ｐ型ベース領域２０４、ｎ型エミッタ領域２０６、および酸化物を充填した深い絶縁溝２０８を備えている。図においては、出力トランジスタ１０４は、５つのｎ型エミッタ領域２０６を備えているが、出力トランジスタ１０４は、より少数の、或いは多数のｎ型エミッタ領域２０６を備えたものであっても良い。基板１０６上には、最初にコレクタ領域２０２が設けられる。その後コレクタ領域２０２上にベース領域２０４が設けられ、同様に、ベース領域上にエミッタ領域２０６が設けられる。エミッタ領域２０６は、これらが基板１０６の表面の細長い領域を画定するように、ベース領域２０４中に形成されている。この結果、ベース領域２０４は、エミッタ領域２０６とコレクタ領域２０２とに画定され、対応する細長い部分を基板１０６上に備えることになる。コレクタ領域２０２、ベース領域２０４、およびエミッタ領域２０６は、図４、図５、および図６に示すそれぞれの相互接続４１０、４２０、および４３０に電気的に接続されている。相互接続４１０、４２０、および４３０の各々は、１つ以上の金属レベルにある金属被覆で形成されている。一例として、コレクタ領域２０２の相互接続４１０は、図５に示すように、金属レベル２の金属被覆で形成されている。ベース領域２０４の相互接続４２０は、図６に示すように、金属レベル３の金属被覆で形成されている。最後に、エミッタ領域２０６の相互接続４３０は、図４および図５に示すように、金属レベル１および金属レベル２の金属被覆で形成されている。図５および図６に示すように、相互接続４１０、４２０、および４３０は、吸熱構造体１０８を通じて横断し、出力バイポーラトランジスタ１０４のコレクタ領域２０２、ベース領域２０４、およびエミッタ領域２０６へと延びている。
【００１６】
図２および図３に示すように、吸熱構造体１０８は５つの金属レベルにあるパターニングされた金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８と、金属層を相互に接続するプラグ２３０とで構成されている。金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８は、相互接続４１０、４２０、および４３０と同じ金属材料で形成することができる。かわりに、金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８は、相互接続４１０、４２０、および４３０とは異なる金属材料で形成することもできる。金属レベル１〜金属レベル４にある金属層２２０、２２２、２２４、および２２６とプラグ２３０とが吸熱構造体１０８の側壁を形成している。図４〜図７に示すように、上部から見た場合、金属層２２０、２２２、２２４、および２２６の各々は、方形の輪郭を持ち、出力トランジスタ１０４がその方形の内部に含まれている状態にある。しかしながら、１つ以上の金属層２２０、２２２、２２４、および２２６に沿って破断部があり、図３、図５および図６に示すように、相互接続４１０、４２０、および４３０が吸熱構造体１０８の側面を通過することができるようになっている。図３および図５は、相互接続４１０を収容するための金属層２２２中の破断部を示している。図５はさらに金属層２２２中の第二の破断部を示しているが、これは相互接続４３０を収容するためのものである。図６では、相互接続４３２を収容するための金属層２２４中の破断部を示している。金属レベル５の金属層２２８は、図８に示す吸熱構造体１０８の上面を形成している。金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８は、グランドまたは供給電圧へと電気的に接続することにより、相互接続４１０、４２０、および４３０、そして隣接する金属層２２０、２２２、２２４、および２２６により生じた寄生容量を低減することができる。
【００１７】
吸熱構造体１０８の金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８は、いかなる厚さにも構成することができる。例えば、金属層２２０、２２２、２２４、および２２６の厚さを各々約０．５μｍとし、金属層２２８の厚さを約２．５μｍとすることができる。金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８はまた、チタニウム、金、アルミニウム或いは銅等、いずれの金属材料で形成しても良い。一例として、金属レベル１にある金属層２２０をチタニウムとする一方、金属レベル２〜５にある金属層２２２、２２４、２２６、および２２８をアルミニウムとすることができる。図示はしていないが、吸熱構造体１０８は金属層２２８を保護するために、金属層２２８上に障壁層を含んでいても良い。例えば、障壁層は金とすることができる。さらに吸熱構造体１０８はプラグ２３０と金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８との間に形成された遷移層を含むものであっても良い。例えば、遷移層は窒化チタンとすることができる。
【００１８】
図３に示すように、吸熱構造体１０８は吸熱構造体が吸収した熱を放散させるためのヒートシンク３１０に取り付けることができる。ヒートシンク３１０は図１および図２には描かれていない。一例として、吸熱構造体１０８の金属層２２８に設けたはんだバンプを利用してＩＣデバイス１００をフリップチップ方式でヒートシンク３１０へと取り付けることができる。
【００１９】
ＩＣデバイス１００の断熱溝１１２は、これらが出力トランジスタ１０４とレーザーダイオード１０２の間に配置されるように基板１０６中に作られる。図１に示すように、断熱溝１１２は実質的に線形であり、吸熱構造体１０８の隣に配置される。断熱溝１１２の長さは、隣接する吸熱構造体１０８側面よりも短くても長くても良い。断熱溝１１２の深さおよび幅は、出力トランジスタ１０４とレーザーダイオード１０２間の熱伝導が最少化されることになるように変化させることができる。例えば、断熱溝１１２の深さを約１００μｍとし、幅を約１０μｍとすることができる。上述したように、断熱溝１１２は酸化物または他の断熱材料で充填される。断熱溝１１２は出力トランジスタ１０４の絶縁溝２０８と同じ製作プロセスを用いて形成することができる。図２に示す断熱溝１１２は、出力トランジスタ１０４の絶縁溝２０８と比較すると異なるサイズに作られているが、断熱溝および絶縁溝は同じサイズに作ることも可能である。
【００２０】
他の実施例においては、ＩＣデバイス１００の吸熱構造体１０８は、１つ以上の電気部品を収容するように設計することができる。一例として、２つのバイポーラトランジスタ或いは相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）トランジスタを収容するように吸熱構造体１０８を大きく作ることができる。さらに他の実施例においては、ＩＣ構造１００は更なる断熱溝を含む、或いは含まない、更なる吸熱構造体を含んでいても良い。
【００２１】
以下に、図９のフローチャートおよび図１０〜図２３を参照しながら本発明の一実施例に基づくＩＣデバイス１００の製作方法を説明する。図１０〜図２３は、図１に示す３−３線（吸熱構造体１０８の１つの側面を切断したもの）に沿った断面図に対応する図である。ブロック９０２では、断熱溝１１２が基板１０６中に形成される。断熱溝１１２は、図１０に示すように、基板１０６中に溝１００２を作ることにより形成することができる。例えば、溝１００２は、フォトレジスト・マスクを用いて基板１０６をエッチングすることにより作ることができる。次に、断熱溝１１２用の溝１００２が、図１１に示すように、断熱材料１００６で充填され、その後平坦化される。一例として、溝１００２は、化学蒸着（ＣＶＤ）法により酸化物で満たすことができる。ブロック９０４では、図１２に示すように、出力トランジスタ１０４が基板１０６上に形成される。バイポーラトランジスタを基板上に形成する手順は周知であり、よって出力トランジスタ１０４を基板１０６上に形成するステップは、本明細書においては説明しないものとする。
【００２２】
ブロック９０６では、吸熱構造体１０８が出力トランジスタ１０４を覆うように基板上１０６に形成されている。吸熱構造体１０８は、適正な金属材料を順次形成して行くことで金属層２２０、２２２、２２４、２２６、および２２８とプラグ２３０を構築することにより形成されている。金属レベル１の金属層２２０は、チタニウム等の金属材料の層１３１０を設け、次に設けた層を所望の形状にパターニングすることにより作られる（図４参照）。この結果得られた金属層２２０は図１３に示す。さらに相互接続４３０の一部も同じ金属レベルにおいて同様に作ることができる。次に、誘電体材料１４１２が形成、平坦化され、図１４に示すように、金属層２２０と同じ金属レベルに誘電体層が形成される。金属層２２０の形成後、図１５に示すように、誘電体層１５１４が金属層２２０上に形成され、誘電体層１５１４を通じてバイア１５１６が作られる。その後バイア１５１６はタングステン等の金属材料１６１８で充填、平坦化され、図１６に示すように、金属層２２０と２２２を接続するプラグ２３０が作られる。次に図１７に示すように、金属レベル２において金属層２２２が金属レベル１の金属層２２０と同様の方法で形成される。金属層２２２はアルミニウム等の金属材料の層１７２０を形成し、その後形成された層を所望の構成（図５参照）にパターニングすることにより作られる。さらに、相互接続４１０と、相互接続４３０の一部も同様に同じ金属レベルに作られる。次に誘電体材料の層１７２２が金属層２２２と同じ金属レベルに誘電体材料層１４１２と同様の方式で形成される。
【００２３】
金属層２２２が作られた後、図１８に示すように、金属層２２２および２２４を接続することになるプラグ２３０が、金属層２２０および２２２間のプラグ２３０と同様の方法で形成される。次に、金属レベル３において金属層２２４が、他の金属層２２０および２２２と同様の方法で形成される。金属層２２４は、アルミニウム等の金属材料の層１９２４を形成し、その後形成した層を所望の構成（図６参照）にパターニングすることにより形成される。さらに、相互接続４２０も同じ金属レベルに同様に形成される。その後誘電体材料の層１９２６が金属層２２２と同じ金属レベルに誘電体材料の層１４１２と同様の方法で形成される。
【００２４】
金属層２２４が作られた後、図２０に示すように、金属層２２４および２２６を接続することになるプラグ２３０が、金属層２２０、２２２、および２２４の間に作られたプラグ２３０と同様の方法で形成される。次に、他の金属層２２０、２２２、および２２４と同様の方法で、金属層２２６が金属レベル４に形成される。金属層２２６は、アルミニウム等の金属材料の層２１２８を形成し、その後形成した層を所望の構成（図７参照）にパターニングすることにより形成される。次に誘電体材料の層２１３０が金属層２２２と同じ金属レベルに誘電体材料の層１４１２と同じ方法で形成される。
【００２５】
金属層２２６が作られた後、図２２に示すように、金属層２２６および２２８を接続することになるプラグ２３０が、金属層２２０、２２２、および２２４の間に作られたプラグ２３０と同様の方法で形成される。次に、他の金属層２２０、２２２、２２４、および２２６と同様の方法で、金属層２２８が金属レベル４に形成される。金属層２２８は、アルミニウム等の金属材料の層２３３２を形成し、その後形成した層を所望の構成（図８参照）にパターニングすることにより形成される。次に誘電体材料の層２３３４が金属層２２８と同じ金属レベルに誘電体材料の層１４１２と同じ方法で形成される。
【００２６】
製作方法をより明確に説明するために、処理ステップの一部は省略した。例えば、吸熱構造体１０８の遷移および障壁層の形成ステップは省略してある。さらに、相互接続４１０、４２０、および４３０を出力トランジスタ１０４のコレクタ領域２０２、ベース領域２０４、およびエミッタ領域２０６へと電気接続するためのプラグの形成ステップも省略した。省略した処理ステップは、半導体プロセスの分野においては周知であり、本明細書においては重複して説明しない。
【００２７】
本発明の特定の実施例を図示、説明したが、本発明は図示および説明した特定の形式、或いは特定の部品構成に限られたものではない。本発明の範囲は、請求項およびこれに相当するものにより定義されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施例に基づく集積回路（ＩＣ）デバイスの図である。
【図２】図１に示すＩＣデバイスの異なる側面の断面図である。
【図３】図１に示すＩＣデバイスの異なる側面の断面図である。
【図４】図１に示すＩＣデバイスの異なる上面の断面図である。
【図５】図１に示すＩＣデバイスの異なる上面の断面図である。
【図６】図１に示すＩＣデバイスの異なる上面の断面図である。
【図７】図１に示すＩＣデバイスの異なる上面の断面図である。
【図８】図１に示すＩＣデバイスの異なる上面の断面図である。
【図９】本発明の一実施例に基づくＩＣデバイスの製作方法を説明するフローチャートである。
【図１０】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１１】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１２】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１３】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１４】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１５】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１６】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１７】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１８】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図１９】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図２０】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図２１】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図２２】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【図２３】ＩＣデバイスの製作過程の様々な段階を説明する図である。
【符号の説明】
【００２９】
１００  集積回路デバイス
１０２  外部デバイス
１０４  電気部品
１０６  基板
１０８  熱導電性構造体
１１２  溝
２２０、２２２、２２４、２２６、２２８  パターニングされた金属層
２３０  プラグ
１００６  溝を充填する断熱材料
【図１】
2004363602.tif 000003
【図２】
2004363602.tif 000004
【図３】
2004363602.tif 000005
【図４】
2004363602.tif 000006
【図５】
2004363602.tif 000007
【図６】
2004363602.tif 000008
【図７】
2004363602.tif 000009
【図８】
2004363602.tif 000010
【図９】
2004363602.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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