(57)【要約】【課題】α−及びβ−メチル−γ−ブチロラクトン（ＭｅＧＢＬ）並びに／又は３−メチルテトラヒドロフラン（ＭｅＴＨＦ）の製造方法の提供。【解決手段】本発明は、３−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロフラン（ＨＯＭｅＴＨＦ）、３−ホルミルテトラヒドロフラン（ＦＴＨＦ）又はそれらの混合物からのＭｅＧＢＬ並びに／又はＭｅＴＨＦの製造方法であって、ＭｅＧＢＬ及び／又はＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下において、ＨＯＭｅＴＨＦ、ＦＴＨＦ又はそれらの混合物を水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒と接触させるによる方法に関する。この方法は、不活性雰囲気及び／又は水素ガスの存在下で実施できる。更に、この方法は、第二アルコールの存在下で実施できる。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
α−及びβ−メチル−γ−ブチロラクトン（ＭｅＧＢＬ）並びに３−メチルテトラヒドロフラン（ＭｅＴＨＦ）の混合物の製造方法であって、反応ゾーン中、ＭｅＧＢＬ及びＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒の存在下において、３−ホルミルテトラヒドロフラン（ＦＴＨＦ）もしくは３−ヒドロキシメチルテトラヒドロフラン（ＨＯＭｅＴＨＦ）又はそれらの混合物を水素と接触させることを含んでなる前記製造方法。
【請求項２】
温度２５０〜３２０℃及び圧力１５〜５５バール（１５００〜５５００ｋＰａ）において前記方法を実施する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第二アルコールの存在下で前記接触を実施する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第二アルコールがシクロヘキサノール又は２−プロパノールである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
温度２５０〜３２０℃及び圧力１５〜５５バール（１５００〜５５００ｋＰａ）において前記方法を実施する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
反応ゾーン中、ＭｅＧＢＬ及びＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下、不活性雰囲気下において、ＦＴＨＦもしくはＨＯＭｅＴＨＦ又はそれらの混合物を、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒及び場合によっては第二アルコールと接触させることを含んでなる、α−及びβ−ＭｅＧＢＬ並びにＭｅＴＨＦの混合物の製造方法。
【請求項７】
前記不活性雰囲気が窒素又は二酸化炭素である請求項６に記載の方法。
【請求項８】
温度２５０〜３２０℃及び圧力１５〜５５バール（１５００〜５５００ｋＰａ）において前記方法を実施する請求項７に記載の方法。
【請求項９】
水素の存在下で前記接触を実施する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
第二アルコールがシクロヘキサノール又は２−プロパノールである請求項７又は９に記載の方法。
【請求項１１】
反応ゾーン中、ＭｅＧＢＬの形成を誘導する温度及び圧力の条件下、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒の存在下において、ＦＴＨＦを水素と接触させることを含んでなるα−及びβ−ＭｅＧＢＬの混合物の製造方法。
【請求項１２】
温度２５０〜３２０℃及び圧力１５〜５５バール（１５００〜５５００ｋＰａ）において前記方法を実施する請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
反応ゾーン中、ＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒の存在下においてＦＴＨＦを水素及び第二アルコールと接触させることを含んでなるＭｅＴＨＦの製造方法。
【請求項１４】
温度２５０〜３２０℃及び圧力１５〜５５バール（１５００〜５５００ｋＰａ）において前記方法を実施する請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第二アルコールがシクロヘキサノール又は２−プロパノールである請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
反応ゾーン中、ＭｅＧＢＬの形成を誘導する温度及び圧力の条件下、不活性雰囲気下においてＨＯＭｅＴＨＦを水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒と接触させることを含んでなるα−及びβ−ＭｅＧＢＬの混合物の製造方法。
【請求項１７】
温度２５０〜３２０℃及び圧力１５〜５５バール（１５００〜５５００ｋＰａ）において前記方法を実施する請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記不活性雰囲気が窒素又は二酸化炭素である請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
反応ゾーン中、ＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒の存在下で不活性雰囲気下において、ＨＯＭｅＴＨＦを第二アルコールと接触させることを含んでなるＭｅＴＨＦの製造方法。
【請求項２０】
温度２５０〜３２０℃及び圧力１５〜５５バール（１５００〜５５００ｋＰａ）において、前記方法を実施する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記第二アルコールがシクロヘキサノール又は２−プロパノールである請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記不活性雰囲気が窒素又は二酸化炭素である請求項２１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、α−及びβ−メチル−γ−ブチロラクトン（α−ＭｅＧＢＬ、β−ＭｅＧＢＬ）並びに／又は３−メチルテトラヒドロフラン（ＭｅＴＨＦ）の新規な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
α−ＭｅＢＧＬは、溶剤として、また、ウレタン樹脂のような種々の材料の製造において中間体として有用であることが知られている。更に、米国特許第５，５３２，２７１号は、α−ＭｅＧＢＬが免疫抑制及び抗炎症活性を有することを開示しており、特許文献１及び特許文献２は、α−ＭｅＧＢＬを抗高コレステロール血性化合物の合成のための出発原料として使用することを開示している。非特許文献１は、（−）−Ｓ−α−ＭｅＧＢＬがα−トコフェロールの側鎖の形成において中心的構成要素となり得ることを開示している。
【０００３】
特許文献３は、メタクリル酸メチルのヒドロホルミル化とそれに続く中間体アルデヒドのα−メチル−γ−ヒドロキシブチレートへの還元による、α−ＭｅＧＢＬの製造を開示している。非特許文献２は、ラクトンエノレートを介するα−ＭｅＧＢＬの合成を開示している。
【０００４】
【特許文献１】
米国特許第４，６６５，０９１号
【特許文献２】
米国特許第４，８５１，４３６号
【特許文献３】
特開平６−０９２，９５１号公報
【非特許文献１】
Ｚｅｌｌ，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ  Ａｃｔａ，（１９７９），６２（２），４７４
【非特許文献２】
Ｊｅｄｉｎｓｋｉら，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，（１９８７）５２（２）４６０１
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明に従って製造されるＭｅＴＨＦは、工業溶剤として、また、更に重要なことにはエラストマーのようなポリマーの製造におけるモノマーとして有用である。ＭｅＴＨＦは、改良されたガラス転移温度及びより広い弾性範囲を生じる可塑剤用改質剤として広く使用されている。
【０００６】
更に、α−及びβ−メチル−γ−ブチロラクトン又はそれらの混合物は接触還元されて、ＭｅＴＨＦを生成できる。例えば、未置換γ−ブチロラクトンのテトラヒドロフランへの還元について特に論じている米国特許第５，９９０，３２４号、同第４，００６，１０４号及び同第３，９６９，３７１号を参照されたい。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ＨＯＭｅＴＨＦ、ＦＴＨＦもしくはそれらの混合物を、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒と接触させることによる、α−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬ（一緒にして、ＭｅＧＢＬという）の製造方法又はそれとＭｅＴＨＦとの同時製造法を提供する。この方法は、不活性雰囲気、水素ガス又はそれらの混合物の存在下で実施できる。更に、この方法は、α−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬ並びに／又はＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下で実施する。
【０００８】
更に、本発明は、水和ジルコニアに担持された銅を含む触媒の存在下において、ＦＴＨＦ及び／又はＨＯＭｅＴＨＦを第二アルコールと接触させることによってα−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬ並びに／又はＭｅＴＨＦを製造する方法を提供する。この方法はまた、不活性雰囲気、水素ガス又はそれらの混合物の存在下で実施できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明は、ＭｅＧＢＬ及び／もしくはＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下でＨＯＭｅＴＨＦ、ＦＴＨＦもしくはそれらの混合物を、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒と接触させることによる、α−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬ（一緒にして、ＭｅＧＢＬ）もしくはＭｅＴＨＦの製造方法、又はα−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬ（一緒にして、ＭｅＧＢＬ）並びにＭｅＴＨＦの同時製造方法を提供する。この方法は、不活性雰囲気もしくは水素ガス又はそれらの混合物の存在下で実施できる。
【００１０】
更に、本発明は、水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒の存在下でＦＴＨＦ及び／又はＨＯＭｅＴＨＦを第二アルコールと接触させることによってＭｅＧＢＬ及び／又はＭｅＴＨＦを製造する方法を提供する。この方法はまた、不活性ガスもしくは水素ガス又はそれらの混合物の存在下で実施できる。
【００１１】
ＨＯＭｅＴＨＦ又はＦＴＨＦ出発原料は市販されているか、又は当業者に知られた方法によって製造できる。例えばＦＴＨＦの製造方法を記載している米国特許第５，８４０，９２８号（Ｓａｔｏｈら）を参照。更に、ＨＯＭｅＴＨＦは、例えば水素化触媒の存在下にＦＴＨＦを水素と接触させてＦＴＨＦをＨＯＭｅＴＨＦに転化することによって得ることができる。例えば、同時係属米国特許出願第１０／１２５，６６４号を参照。
【００１２】
本発明の新規な製造方法に使用する水和ジルコニアは、市販されている多数のジルコニア触媒製品の任意のものとすることができ、これらは他の金属又は金属錯体の担持媒体としてよく使用される。あるいは、本発明に用いる水和ジルコニアは、当業者に知られた方法によって製造することができる。
【００１３】
例えば水和ジルコニアはジルコニウム塩又は他のジルコニウム前駆体化合物を塩基で処理することによって製造できる。多数の任意のジルコニウム塩が触媒製造の出発原料とすることができるが、好ましい塩は水溶性のものである。使用できるジルコニウム前駆体化合物の例としては、塩化ジルコニウム、臭化ジルコニウム、ヨウ化ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、塩化ジルコニル、臭化ジルコニル、ヨウ化ジルコニル、フッ化ジルコニル、硝酸ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、炭酸水素ジルコニウム、炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、水和ジルコニア、及び有機金属又は無機錯体を含むジルコニウムが挙げられる。好ましいジルコニウム供給源は、入手容易性及び水溶性の故に、塩化ジルコニル又は硝酸ジルコニルである。
【００１４】
水和ジルコニアの合成は、当業者に知られた任意の常法、例えば焙焼、沈殿又は熱分解を使用できる。他の方法を用いた場合の適正な酸度及び含水量の保持という課題のために、水和ジルコニアの塩基触媒された沈殿化が好ましい。使用する塩基は、一般に知られ且つ使用されている多数の任意の塩基物質、又はもっと特殊な塩基物質とすることができるが、塩基の働きは、ジルコニウム対イオンを水酸化物又は酸化物に置き換え且つ環境のｐＨを制御することであるので、特殊な塩基の選択は特には有利ではない。従って、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム又は炭素数１〜２０の任意の有機アミンを塩基として使用できる。
【００１５】
代表的には、ジルコニア塩前駆体は水中に溶解させてから、塩基で処理する。水溶液中の濃度は重要ではなく、０．０１〜９５重量％又は飽和の任意の量が適当であり、水中１〜５０重量％、そして１０〜２０重量％の濃度が代表的である。ジルコニウム塩溶液を塩基で適正なｐＨ（即ち、ほぼ中性、例えば５〜７）に処理した後、粗製水和ジルコニアを沈殿させ、濾過又は遠心分離によって回収する。粗製水和ジルコニアは、例えば水で充分に洗浄して、元の対イオン（即ち、出発Ｚｒ塩上の陰イオン）をできる限り除去し、それによって触媒の性質及び／又は性能を変える可能性がある不純物をなくす。従って、例えば、元の対イオンの少なくとも９０重量％、好ましくは少なくとも９９．９重量％を洗浄によって除去して、活性触媒を生成する。
【００１６】
水和ジルコニアを製造するための最終処理は焼成である。焼成は、２００〜６００℃の範囲の温度で実施し、２５０〜５００℃がより好ましく、３００〜４００℃が最も好ましい。焼成条件は、触媒活性を左右する触媒の残留含水量及び表面積を決定する。焼成時間は、目標とする最終性質に依存するが、１０分〜１００時間の範囲が好ましく、０．５〜１０時間がより好ましく、１〜３時間が最も好ましい。水和ジルコニアの表面積は３〜３００Ｍ2／ｇ、より好ましくは３０〜１５０Ｍ2／ｇ、最も好ましくは４０〜６０Ｍ2／ｇである。
【００１７】
本発明において使用する触媒は、水和ジルコニアに担持された銅を含み、そのジルコニア部分は前述のようにして製造することもできるし、商業的に販売している供給元から購入することもできる。この触媒は、金属、金属錯体又は金属塩を適当な溶媒中で初期湿潤（ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ  ｗｅｔｎｅｓｓ）、蒸発、熱分解又は金属スパッタリングを用いて担持させることによって製造できる。しかし、好ましい方法は、水和ジルコニアの製造に関して記載した方法のような方法（試薬濃度、中和塩基、最終ｐＨ、並びに焼成時間及び温度）による、水酸化ナトリウムのような塩基を用いた、銅前駆体化合物及びジルコニウム塩又は前駆体化合物の溶液の共沈である。銅前駆体化合物の例としては、銅の塩化物、臭化物、ヨウ化物、フッ化物、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩又は炭素数２０以下の脂肪族もしくは芳香族カルボン酸塩が挙げられる。使用できる他の金属前駆体化合物としては、前記対イオンを有するかゼロ価であり且つアンモニア、炭素数２０以下の脂肪族もしくは芳香族アミン、炭素数２０以下の脂肪族もしくは芳香族ホスフィン、炭素数２０以下の脂肪族もしくは芳香族アルシンで錯化された金属錯体が挙げられる。
【００１８】
本発明の方法に使用する水和ジルコニア上の銅の量は、操作様式及び他のプロセス変数によってかなり変化し得る。通常、銅の量は触媒中の総銅及びジルコニア元素成分に基づき元素で０．００１〜７５％、より一般的には１〜２５元素％の範囲である。好ましい触媒は、水和ジルコニア担持銅を元素で１０〜２０元素％含む。
【００１９】
触媒は、使用前に、水素で還元して、酸化銅を全てより低い酸化状態に、好ましくはゼロ価の金属に転化する。好ましくはないが、この前還元処理は、本発明の水添分解プロセスの操作と併せて実施できる。この前還元は一般に２００℃〜焼成温度の範囲の温度で実施し、２５０〜５００℃がより好ましく、３００〜４００℃が最も好ましい。
【００２０】
通常使用する触媒の量では、ＨＯＭｅＴＨＦ及び／又はＦＴＨＦ：触媒比（グラム原子：モル）は０．１：１〜１０，０００：１であろう。低い方の反応体：触媒比は、オートクレーブ／スラリー様式に一般的であり、高い方の比は固定床系に一般的である。いずれの場合にもより好ましい反応体：触媒比は、０．１：１〜１００：１であり、０．２：１〜５０：１が最も好ましい。
【００２１】
本発明は水の存在下で実施できるが、必要ではない。水の使用量は、ＨＯＭｅＴＨＦ及び／又はＦＴＨＦ反応体重量部当たり１〜９９重量部とすることができる。必ずしも好ましくはないがより一般的な水の量はＨＯＭｅＴＨＦ及び／又はＦＴＨＦ反応体重量部当たり１０〜９０重量部であり、水２０〜８０重量部（同じベース）が最も一般的である。更に、第二アルコールは、ここに記載した本方法によって製造される生成物の比に影響を与えるおそれがあり、また、第二アルコールは溶媒としての機能を果たすこともできる。溶媒として適当な第二アルコールは以下に記載するものである。以下の示すように、第二アルコールを使用する場合には、シクロヘキサノール及び２−プロパノール（イソプロパノール）が好ましい。
【００２２】
本発明者らはまた、アルコールは水素供給源として働くので、本発明の実施によって一般的に得られる生成物混合物、ＭｅＧＢＬ及びＭｅＴＨＦは第二アルコールの存在によって操作できることを見い出した。例えば、水素及び第二アルコールの存在下でＦＴＨＦを用いてこの方法を実施する場合には、生成物混合物はＭｅＧＢＬよりもＭｅＴＨＦを多く含む傾向がある。逆に水素及び対象触媒の存在下でＦＴＨＦを用い、第二アルコールを用いずにこの方法を実施する場合には、生成物混合物はＭｅＴＨＦよりもＭｅＧＢＬを多く含む傾向がある。
【００２３】
同様に、不活性雰囲気下でＨＯＭｅＴＨＦを出発原料として用いる場合にはＭｅＧＢＬ及びＭｅＴＨＦの両方が本方法によって得られるが、第二アルコールを使用しない場合には生成物混合物はＭｅＴＨＦよりもＭｅＧＢＬを多く含む傾向がある。即ち、不活性雰囲気下でＨＯＭｅＴＨＦを対象触媒及び第二アルコールと接触させる場合には、生成物混合物は、第二アルコールの不存在下で本方法を実施する場合に比べて、ＭｅＧＢＬを少なく、ＭｅＴＨＦを多く含む傾向がある。
【００２４】
本発明の方法において使用するのに適当な第二アルコールとしては、２−プロパノール、２−ブタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、２−ヘキサノール、３−ヘキサノール、３−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−３−ペンタノール、１−フェニル−２−プロパノール、１，３−ジフェニル−２−プロパノール及びシクロヘキサノール並びにそれらの誘導体が挙げられる。第二アルコールは、好ましくは炭素数３〜２０の第二アルカノール又はシクロアルカノール、即ち、飽和脂肪族及び脂環式アルコールである。２−プロパノール（又はイソプロパノール）及びシクロヘキサノールが最も好ましい第二アルコールである。ベンジル型及びアリル型アルコールは反応条件下で水添分解する傾向があるので適当ではない。
【００２５】
この方法は、窒素、二酸化炭素、アルゴン、ネオンガスなどのような不活性雰囲気下で実施できる。ＦＴＨＦを出発原料とする場合や更にＭｅＴＨＦの同時製造することが望ましい場合には、水素ガスも使用できる。水素雰囲気下においては、ＨＯＭｅＴＨＦ及び／又はＦＴＨＦ反応体及び若干のＭｅＧＢＬがＭｅＴＨＦに転化される。これは以下の実施例によって説明する。しかし、水素の不存在下では、より速い供給材料転化速度を達成でき、従ってα−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬの製造速度がより速くなる。
【００２６】
この方法は２５０〜５００℃、好ましくは２８０〜４００℃、最も好ましくは３００〜３２０℃の範囲の温度で実施できる。この方法は、１〜６９０バール（絶対）（１５〜１０，０１２ポンド／平方インチゲージ−ｐｓｉｇ；１００〜６９，０００ｋＰａ）、好ましくは１０〜６０バール（絶対）（１０００〜６，０００ｋＰａ）、より好ましくは１５〜５５バール（絶対）（１５００〜５５００ｋＰａ）、最も好ましくは４０〜５５バール（絶対）（４０００〜５５００ｋＰａ）の圧力を用いて実施する。
【００２７】
満足のいく結果を得るのに必要な反応時間は、プロセス温度及び圧力、雰囲気の型及び使用触媒のような多数のプロセス変数及びどの生成物がより望ましいかによってかなり異なるであろう。反応時間の範囲は通常は滞留時間で約１０秒〜１０分であり、１０秒〜９０秒がより一般的である。
【００２８】
ここに記載した通り、本発明の実施によって得られる生成物は代表的にはα−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬ並びにＭｅＴＨＦの混合物を含む。得られる生成物は、当業者に知られた方法によって容易に分離できる。例えばα−ＭｅＧＢＬとＭｅＴＨＦとはかなり異なる沸点を有する（それぞれ、２００〜２０１℃及び８６℃）ので、それらは蒸留によって容易に分離できる。
【００２９】
本発明の実施の際に形成されるＭｅＧＢＬのα−Ｍｅ異性体対β−Ｍｅ異性体の比は、例えば、転化率及び滞留時間に応じて、通常４．０：１〜５．５：１の範囲である。本発明者らは、転化率が高く且つ滞留時間が長いほどβ−ＭｅＧＢＬ異性体が多く形成されることを見い出した。
【００３０】
【実施例】
本発明によって提供される方法を、以下の実施例によって更に説明する。実施例中に示した百分率は全て、特に断らない限り重量に基づく。本明細書中で使用するＨＯＭｅＴＨＦ（又はＦＴＨＦ）の転化率％は、
2004203857.tif 000002
であり、化合物への選択率％は、
2004203857.tif 000003
であり、化合物の収率％は、
2004203857.tif 000004
である。
【００３１】
触媒の製造
ジルコニア担体担持銅触媒の製造
硫酸ジルコニウム四水和物（１０６．５ｇ，０．３モル）及び塩化銅水和物（４．０ｇ，０．０３モル）を水１０００ｍｌ中に溶解させた。ＫＯＨ水溶液（５０％）を、ｐＨが９〜１０に達するまで時々撹拌しながら滴加した。淡青色の沈殿物を４８時間、元の溶液中に放置し、即ち、熟成させた。塩化バリウムによって硫酸イオンが検出されず且つ硝酸銀によって塩化物イオンが検出されなくなるまで、沈殿物を脱イオン水で洗浄した。得られた固体を室温で５時間、１１０℃で５時間乾燥させた。次いで、それを４００℃で１０時間焼成した。得られた水和ジルコニア担持銅触媒を水素下で３００℃において３時間還元した。計算された銅含量は１０モル％であった。
【００３２】
例１
水和ジルコニア担持銅触媒を用いて水素雰囲気下で回分式で行ったＦＴＨＦの反応
３００ｍｌのオートクレーブに、ＦＴＨＦ（１０．０ｇ，０．１モル）、水（１０．０ｇ，０．５５モル）及び水和ジルコニア上に１０％の銅を含む触媒（１０．０ｇ）を装填した。オートクレーブを圧力３．４ｂａｒｇ（５０ｐｓｉｇ；３４０ｋＰａ）において水素で３回フラッシした。初期水素圧を１３．８ｂａｒｇ（２００ｐｓｉｇ；１３８０ｋＰａ）に設定した。オートクレーブを１５０℃において２時間、２８０℃において更に２時間、撹拌及び加熱した。オートクレーブからサンプルを取り、ＧＣによって分析したところ、反応混合物はα−ＭｅＧＢＬ及びβ−ＭｅＧＢＬ  ４９．６％、ＨＯＭｅＴＨＦ  ４２．８％並びにＭｅＴＨＦ  ５．３％からなることがわかった。反応混合物の撹拌及び加熱を３００℃及び水素圧４４．８ｂａｒｇ（６５０ｐｓｉｇ；４４８０ｋＰａ）において更に２時間続けた。オートクレーブを周囲温度まで冷却し、ガス抜きした。粗製混合物をＧＣによって分析した。ＦＴＨＦの転化は完了していた。ＭｅＧＢＬ及び副生成物への選択率は、α−Ｍｅ及びβ−ＭｅＧＢＬの混合物が６４．４％；ＭｅＴＨＦが１４．３％；ＨＯＭｅＴＨＦが２１．４％であった。
【００３３】
例２
水和ジルコニア担持銅触媒を用いて水素雰囲気下で回分式で行ったＦＴＨＦの反応
オートクレーブを１５０℃において２時間、３００℃において更に８時間撹拌及び加熱した以外は、この例は例１と同様にして行った。粗製混合物をＧＣによって分析した。ＦＴＨＦの転化は完了していた。ＭｅＧＢＬ及び副生成物への選択率は、α−ＭｅＧＢＬが７６．６％；β−ＭｅＧＢＬが１３．７％；ＭｅＴＨＦが３．９％；ＨＯＭｅＴＨＦが２．１％であった。
【００３４】
例３
水和ジルコニア担持銅触媒を用いて窒素下で連続式で行ったＨＯＭｅＴＨＦの脱水素化
水５６％、ＨＯＭｅＴＨＦ  ４３％の供給材料の混合物を、Ｃｕ／ＺｒＯ2触媒（触媒床１３０ｍｌ）を充填した１インチの管状反応器に、２５０〜３７０℃及び窒素圧５４．４ｂａｒ（８００ｐｓｉ；５４４０ｋＰａ）において３７．９ｍｌ／時の速度で供給した。連続操作の３時間毎に生成物を採取し、ＧＣによって分析した。選択率及び生産速度を表１に示す。
【００３５】
【表１】
2004203857.tif 000005
【００３６】
例４
水和ジルコニア担持銅触媒を用いて水素下で連続式で行ったＨＯＭｅＴＨＦの反応
水（５５％）、ＨＯＭｅＴＨＦ（４３．８％）の混合物を、Ｃｕ／ＺｒＯ2触媒（触媒床１３０ｍｌ）を充填した１インチの管状反応器に、２６０〜３４０℃及び水素圧５４．４ｂａｒ（８００ｐｓｉ；５４４０ｋＰａ）において３５．０〜３９．４ｍｌ／時の速度で供給した。３時間毎に生成物を採取し、ＧＣによって分析した。選択率及び生産速度を表２に示す。
【００３７】
【表２】
2004203857.tif 000006
【００３８】
例５
銅／ジルコニア触媒及び第二アルコールを用いた、水素によるＦＴＨＦの連続式還元
イソプロパノール（３８．７３％）、水（３６．７４％）及びＦＴＨＦ（２３．８１％）の混合物を、Ｃｕ／ＺｒＯ2触媒（触媒床１３０ｍｌ）を充填した１インチの管状反応器に、３００〜３４４℃及び水素圧８００ｐｓｉにおいて３７．３〜３９．４ｍｌ／時の速度で供給した。３時間毎に生成物を採取し、ＧＣによって分析した。完全転化における選択率及び生産速度を表３に示す。
【００３９】
【表３】
2004203857.tif 000007
【００４０】
例６
銅／ジルコニア触媒及び第二アルコールを用いた、水素によるＦＴＨＦの連続式還元（例５の繰り返し）
イソプロパノール（２１．９１％）、水（４４．８１％）及びＦＴＨＦ（３０．８６％）の混合物を、Ｃｕ／ＺｒＯ2触媒（触媒床１３０ｍｌ）を充填した１インチの管状反応器に、３１０〜３４８℃及び水素圧８００ｐｓｉにおいて３７．７〜３８．８ｍｌ／時の速度で供給した。連続操作の３時間毎に生成物を採取し、ＧＣによって分析した。選択率及び生産速度を表４に示す。
【００４１】
【表４】
2004203857.tif 000008
【００４２】
例７
銅／ジルコニア触媒及び第二アルコールを用いた、水素によるＦＴＨＦの連続式還元（例５の繰り返し）
イソプロパノール（１０．９１％）、水（５０．８８％）及びＦＴＨＦ（３５．２％）の混合物を、Ｃｕ／ＺｒＯ2触媒（触媒床１３０ｍｌ）を充填した１インチの管状反応器に、３１０〜３２０℃及び水素圧８００ｐｓｉにおいて３９．４ｍｌ／時の速度で供給した。連続操作の３時間毎に生成物を採取し、ＧＣによって分析した。選択率及び生産速度を表５に示す。
【００４３】
【表５】
2004203857.tif 000009
【００４４】
例８
銅／ジルコニア触媒及び第二アルコールを用いた、ＨＯＭｅ−ＴＨＦの連続式還元
イソプロパノール（４０．５２％）、水（３３．９８％）及びＨＯＭｅＴＨＦ（２５．４９％）の混合物を、Ｃｕ／ＺｒＯ2触媒（触媒床１３０ｍｌ）を充填した１インチの管状反応器に、２８４〜３４０℃及び窒素圧８００ｐｓｉにおいて３７．６〜３７．９ｍｌ／時の速度で供給した。３時間毎に生成物を採取し、ＧＣによって分析した。選択率及び生産速度を表６に示す。
【００４５】
【表６】
2004203857.tif 000010
【００４６】
例９
銅／ジルコニア触媒及び第二アルコールを用いた、ＦＴＨＦの連続式還元
イソプロパノール（３８．７３％）、水（３６．７４％）及びＦＴＨＦ（２３．８１％）の混合物を、Ｃｕ／ＺｒＯ2触媒（触媒床１３０ｍｌ）を充填した１インチの管状反応器に、３４０℃及び窒素圧８００ｐｓｉにおいて３７．９ｍｌ／時の速度で供給した。３時間毎に生成物を採取し、ＧＣによって分析した。選択率及び生産速度を表７に示す。
【００４７】
【表７】
2004203857.tif 000011