(57)【要約】【課題】バーチェーンタイプのコンベヤにタイルを載せて搬送し、上から釉薬を噴霧して施釉する施釉装置がある。この施釉装置にはコンベヤのチェーンに釉薬が掛からないようチェーンカバーが設けられているが、霧状になって漂う釉薬がチェーンカバーの下方から回込んで結局チェーンに付着する問題があった。【解決手段】側縁にチェーン２を有する無端状のコンベヤ３と、コンベヤ３の上に載せたタイルＴに対して釉薬を吹き付ける吹付け装置と、チェーン２を覆う釉薬除けのチェーンカバー８とを有する施釉装置であって、前記チェーンカバー８によるカバー領域１５とコンベヤ３の施釉領域４の境界部を横切る方向に流れる気流を強制的に発生させる気流発生手段（送風管１３）を設け、その気流によって前記カバー領域１５内への釉薬の侵入を防止するようにした。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
側縁にチェーンを有する無端状のコンベヤと、前記コンベヤの上に載せた被施釉物に対して釉薬を吹き付ける吹付け装置と、前記チェーンを覆う釉薬除けのチェーンカバーとを有する施釉装置であって、
前記チェーンカバーによるカバー領域とコンベヤの施釉領域の境界部を横切る方向か又はカバー領域から施釉領域の方向に流れる気流を強制的に発生させる気流発生手段を設け、その気流によって前記カバー領域内への釉薬の侵入を防止するようにしたことを特徴とする施釉装置。
【請求項２】
前記気流発生手段は、チェーンカバーの外側高所に取り付けた送風管で構成し、その送風管の通気孔からコンベヤに向けて下向きにエアーを吐出させるようにしてなることを特徴とする請求項１記載の施釉装置。
【請求項３】
前記気流発生手段は、前記チェーンカバーを、コンベヤ挿通用の隙間を有するほぼ筒状に形成してその内部にエアーを吹き込むように構成し、前記隙間からコンベヤの施釉領域に向けてエアーを吐出させるようにしてなることを特徴とする請求項１記載の施釉装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンベヤ上に被施釉物を載せて搬送しつつ釉薬を吹き付けるようにした施釉装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来公知の施釉装置１を図４により説明する。施釉装置１は、側縁にチェーン２を有する無端状のコンベヤ３と、コンベヤ３上の施釉領域４を囲う装置カバー５と、前記コンベヤ３の上に載せた被施釉物たるタイルＴに対して釉薬６を霧状に吹き付ける吹付け装置７と、前記チェーン２を覆う釉薬除けのチェーンカバー８とを有する。
【０００３】
前記コンベヤ３は、平行に並べた２列のチェーン２，２間に多数のステーピン３ａを簀の子状に差し渡したいわゆるバーチェーンタイプであり、タイルＴの無い部分に吹き付けられた釉薬６が搬送面に貯まらないようになっている。また、このタイプのコンベヤ３は、チェーン２の下側をレール９で受けることによってタイルＴの荷重を支える構造になっている。
【０００４】
吹付け装置７は、釉薬６をコンベヤ３の上方から霧状にして噴霧する施釉ノズル７ａと、その施釉ノズル７ａをコンベヤ３の幅方向に往復動作させる駆動手段（図示せず）とからなり、施釉ノズル７ａから釉薬６を連続して噴霧させつつその施釉ノズル７ａをコンベヤ３上で反復往復させることにより、コンベヤ３に載って連続搬送されるタイルＴに満遍なく釉薬６を塗布することができる。なお、装置カバー５の底部は傾斜付きの釉薬受け１１になっていて、タイルＴに付着しなかった釉薬６を釉薬受け１１で回収し、釉薬６の貯留タンク（図示せず）に戻して施釉ノズル７ａから再度噴霧する。
【０００５】
前記チェーンカバー８は、チェーン２の外側に立設した縦板８ａと、その縦板８ａの上端からチェーン２の上面を覆うように延設した屋根板８ｂと、その屋根板８ｂの前縁を下向きに屈曲させてチェーン２の内側上方をカバーする仕切板８ｃで構成されており、コンベヤ３目掛けて噴霧される釉薬６からチェーン２を防護する役割を果たす。なお、チェーン２に釉薬６が付着すると、その釉薬６が研磨剤として機能するため、チェーン２の摩耗が早まり寿命が短くなる問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
釉薬６は噴霧により細かい霧状になって漂うため、チェーンカバー８の下方から回り込んだ釉薬６がチェーン２やレール９に付着し、結局チェーン２を傷める問題が発生していた。
【０００７】
本発明は上記に鑑みなされたもので、その目的はチェーンに対する釉薬の付着防止効果に優れた施釉装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため本発明は、側縁にチェーンを有する無端状のコンベヤと、前記コンベヤの上に載せた被施釉物に対して釉薬を吹き付ける吹付け装置と、前記チェーンを覆う釉薬除けのチェーンカバーとを有する施釉装置であって、前記チェーンカバーによるカバー領域とコンベヤの施釉領域の境界部を横切る方向か又はカバー領域から施釉領域の方向に流れる気流を強制的に発生させる気流発生手段を設け、その気流によって前記カバー領域内への釉薬の侵入を防止するようにした施釉装置を提供する。
【０００９】
本発明によれば、霧状になって漂う釉薬がチェーンカバーに接近しても、気流発生手段による気流によって釉薬の向きが変えられるため、チェーンカバー内に釉薬が侵入しない。よってチェーンに対する釉薬の付着が効果的に防止できる。
【００１０】
なお、請求項２に記載したように前記気流発生手段は、チェーンカバーの外側高所に取り付けた送風管で構成し、その送風管に開設した通気孔からコンベヤに向けて下向きにエアーを吐出させるようにするとよい。こうすることにより霧状の釉薬が釉薬受けに集まりやすくなるから、釉薬の回収が促進される。
【００１１】
また、請求項３に記載したように前記気流発生手段は、前記チェーンカバーを、コンベヤ挿通用の隙間を有するほぼ筒状に形成してその内部にエアーを吹き込むように構成し、前記隙間からコンベヤの施釉領域に向けてエアーを吐出させるようにするとよい。この場合は、チェーンカバーの外部に気流発生手段を出っ張らせて設ける必要がないから、コンベヤの施釉領域を狭めるおそれがない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。なお、施釉装置１の概略は上記従来技術の項で説明したとおりであり、よって重複する部分の説明を省略する。
【００１３】
本発明のチェーンカバー８は、前記した縦板８ａ、屋根板８ｂ、仕切板８ｃに加え、底板８ｄと下仕切板８ｅを設けて、コンベヤ（ステーピン３ａ）挿通用の隙間１２を有するほぼ筒状に形成される。そして、図１のようにチェーンカバー８の外側高所に当たる仕切板８ｃの外面に送風管１３を取り付け、その送風管１３に下向きの通気孔１４を開設して気流発生手段となす。
【００１４】
上記の構成よりなる気流発生手段は、送風管１３にエアーを送ると送風管１３の通気孔１４からコンベヤ３に向けて下向きにエアーが吐出し、このエアーがチェーンカバー８によるカバー領域１５とコンベヤ３の施釉領域４の境界部を横切る方向の気流となり、チェーンカバー８に向かう霧状の釉薬６の流れを下向きに変える。従って、チェーンカバー８の内部に釉薬６が侵入しないから、チェーン２に対する釉薬６の付着が効果的に防止できる。なお、下向きに流れを変えた霧状の釉薬６は底部の釉薬受け１１に当たってそのまま回収される。
【００１５】
図２は気流発生手段の他の実施形態を示すものであり、前記チェーンカバー８自体を送風管にしてその内部にエアーを吹き込むようにしたものである。そうすると、吹き込まれたエアーが前記コンベヤ挿通用の隙間１２からコンベヤ３の施釉領域４に向けて吐出するから、前記と同様にチェーンカバー８内部への釉薬６の侵入が阻止できる。
【００１６】
以上本発明を実施の形態について説明したが、もちろん本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、前記第一の実施形態では送風管１３をチェーンカバー８自体に固着したが、チェーンカバー８の上方に送風管１３を独立配置させてもよい。また、実施形態では被施釉物としてタイルＴを例示したが、例えば被施釉物を瓦や陶板にすることも可能であり、従って本発明において被施釉物は特に限定されない。
【００１７】
また、第一の実施形態ではチェーンカバー８をほぼ筒状に形成したが、例えば図４に示した従来型のチェーンカバー８に図１に示した送風管１３を設置するだけでも従来装置との比較においてチェーンカバー８の大幅な機能アップが可能である。もちろんそれより筒状にした送風管１３の方が高い効果を発揮することは言うまでもない。
【００１８】
また、第一の実施形態では送風管１３を単純な角筒で形成したが、このような角筒や或いは円筒で送風管１３を形成した場合、送風管１３の設置態様によっては周りに付着した釉薬６が外面を伝って通気孔１４に行き着く可能性がある。もし、そのような釉薬６が送風停止後に自然硬化して通気孔１４を塞ぐなどの弊害をもたらすおそれがあるとすれば、そのような釉薬６の流れを通気孔１４に到達する前に断つべく、送風管１３の最高所と通気孔１４の間に最低所を作ってそこを釉薬切り部１６にするとよい。例えば、図３に示したように通気孔１４を有する送風管１３の底板１３ａを非固定側の下角部に向けて下り勾配にすれば、前記下角部が釉薬切り部１６として機能し、送風管１３の外面から伝い降りた釉薬６がその釉薬切り部１６に集まって滴となり、通気孔１４に到達することなく釉薬受け１１に滴下する。
【００１９】
【発明の効果】
本発明によれば、霧状になって漂う釉薬がチェーンカバーに接近しても、気流発生手段による気流によって釉薬の向きが変えられるため、チェーンカバー内に釉薬が侵入しない。よってチェーンに対する釉薬の付着が効果的に防止できる。
【００２０】
また、請求項２に記載の施釉装置は、霧状の釉薬が釉薬受けに集まりやすくなるから釉薬の回収促進に効果があり、また、請求項３に記載の施釉装置は、チェーンカバーの外部に気流発生手段を出っ張らせて設ける必要がないから、コンベヤの施釉領域を狭めるおそれがない、などの効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】施釉装置の要部を示す一部拡大断面図である。
【図２】施釉装置の要部を示す一部拡大断面図である。
【図３】施釉装置の要部を示す一部拡大断面図である。
【図４】従来の施釉装置を示す断面図である。
【符号の説明】
１  …施釉装置
２  …チェーン
３  …コンベヤ
４  …施釉領域
６  …釉薬
７  …吹付け装置
８  …チェーンカバー（気流発生手段）
１２…隙間
１３…送風管（気流発生手段）
１４…通気孔
１５…カバー領域
Ｔ  …タイル（被施釉物）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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