(57)【要約】【課題】本発明は、ベイの数が少なくスペース効率の高いライン構成が可能な製造設備の配置構成を提供することを課題とする。【解決手段】中央搬送機構が設けられた中央ストッカＣを設備の中央に配置する。同一工程を行なう複数の装置Ｄ，ＰＨ，Ｅ，Ｔと、内部にベイ内搬送機構を有するベイストッカＢｗ１１とよりなる複数のベイを、中央ストッカＣに放射状に接続する。複数のベイのうち互いに隣接するベイの間で製品の受け渡しを行なうショートカット搬送機構Ｓｗ１１を、隣接するベイストッカＢｗ２１との間に設ける。【選択図】        図３
2004303833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の製造工程により製品を製造するための製造設備の配置構成であって、
設備の中央に設けられ、工程間搬送路として設けられた中央搬送機構と、
該中央搬送機構から放射状に配列された同一工程を行なう複数の装置と、内部に第１のベイ内搬送機構を有し且つ該装置が接続されたベイストッカとよりなる複数のベイと、
該複数のベイのうち互いに隣接するベイの間で製品の受け渡しを行なうショートカット搬送機構と
を有することを特徴とする製造設備の配置構成。
【請求項２】
請求項１記載の製造設備の配置構成であって、
前記ベイストッカは同一のベイにおいて複数台がメイン通路に対して放射状に配置され、同一のベイ内において隣接する該ベイストッカの間で製品の受け渡しを行なうベイストッカ間搬送機構が設けられたことを特徴とする配置構成。
【請求項３】
請求項１又は２記載の製造設備の配置構成であって、
同一のベイ内のベイストッカに沿って、前記第１のベイ内搬送機構とは異なる第２のベイ内搬送機構が設けられたことを特徴とする製造設備の配置構成。
【請求項４】
請求項３記載の製造設備の配置構成であって、
前記メイン通路は、製造設備が配置されるクリーンルームの床下まで延在する中央ストッカ内に配置され、
前記第２のベイ内搬送機構は、該床下に設けられたコンベア及び／又は軌道搬送車（ＲＧＶ）であることを特徴とする製造設備の配置構成。
【請求項５】
複数の製造工程により製品を製造するための製造設備における製品の搬送方法であって、
該製造設備の中央に設けられた中央搬送機構から、ベイ内搬送機構に製品を搬送し、
該ベイ内搬送機構から、前記中央搬送機構に対して放射状に配列された複数の装置に対して製品を搬入し、
該装置から前記第１のベイ内搬送機構に対して処理済みの製品を搬出し、
前記ベイ内搬送機構から、隣接するベイのベイ内搬送機構に対して、前記中央搬送機構とは異なる搬送機構により該製品を搬送し、
隣接するベイのベイ内搬送機構から次工程を行う装置に該製品を搬入する
ことを特徴とする製品の搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は製造設備の配置構成に係り、特にクリーンルーム内に設置される半導体製品の製造設備等の配置構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】
多くの液晶表示装置の液晶パネル（特に薄膜トランジスタ基板：ＴＦＴ基板）や半導体製品の製造設備では、同種機能を有する装置群、またはこのような装置群を複数個組合せたさらに大きな装置群から構成されるジョブショップを用いた生産形態を採用している。このような一群の装置またはそれに設けられるローダー／アンローダー（カセットの搬入出ポートを有するカセットステーション）をパーテション等で仕切られた小部屋内に配置して、装置の群管理を行うことが一般的に行なわれている。この小部屋は全体の搬送系に対してベイと称される。
【０００３】
従来の生産ラインの構成として最も一般的なものは、中央にベイ（工程）間搬送のメイン通路を配置し、メイン通路の周りに各ベイ（工程）毎に１台のストッカを設けて、このストッカから各ベイ内の搬送を行う方式である。この場合、ストッカはベイ内およびベイ間の搬送に対するバッファとしての機能を果たす。
【０００４】
中央のベイ間搬送（メイン通路）に対して両側にベイを配置する方式を、一般に両側ベイ方式と称する。各ベイへのカセットの搬送は、通常各ループ内を一定方向に移動する搬送機にカセットを搭載して行われる。両側ベイ方式の特殊な場合として、中央のベイ間搬送のメイン通路に対し、片側だけにベイを配置する方式を、片側ベイ方式と称する。ベイ間搬送通路の長さが両側ベイ方式と同等であれば、ベイの長さは長くなり、ベイの数は少なくなる。
【０００５】
これらの従来方式に対し、図１に示すような貫通ベイ方式と称されるベイ方式が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。図１において、Ｄは成膜装置、ＰＨはフォトリソグラフィ装置、Ｅはエッチング装置、Ｔは試験装置を表す。また、実線で示すループは工程間搬送路であり、点線で示すループは工程内搬送路である。
【０００６】
図１に示すような貫通ベイ方式では、中央のベイ（工程）間搬送路である主搬送路（実線のループ）に対し、工程内搬送路であるベイの副搬送路（点線のループ）が交差する構成となっている。したがって、この方式ではベイの数が少なく、工程間を横切る主搬送路からベイの先端までの距離が短くなる。
【０００７】
また、従来のベイ間搬送システムは、中央通路に沿って各ストッカの側壁近くを順次経由していく独立した走行路を有し、ベイを構成する各ストッカとの間にカセットの受け渡し手段を設けた天井搬送装置により行われる。あるいは、中央通路に沿って設置された各ストッカを順次経由するように設けられたループ軌道上を走行する地上搬送無人台車により行われることもある。
【０００８】
これらの従来方式に対し、図２に示す製造ラインでは、略密閉した空間内で一定の気流を画成する中央ストッカＣ内に工程間搬送路が設けられる。また、ストッカＳと各装置とを直接接続してベイを構成する。そして、ストッカＳ（ベイ）と工程間搬送路が設けられた中央ストッカＣとをコンベアＣＶ等で接続して製造ラインを構成している（例えば、特許文献１参照。）。
【０００９】
なお、図２において、各ストッカＳには、成膜装置Ｄ、フォトリソグラフィ装置ＰＨ、エッチング装置Ｅ、試験装置Ｔが夫々複数第接続され、一つのストッカＳに対して１つのベイが形成される。
【００１０】
【特許文献１】
米国特許第  ６，０８９，８１１号明細書
【００１１】
【特許文献２】
特開２０００−２１６２１３号公報
【００１２】
【特許文献３】
特開平６−３１０４２４号公報
【００１３】
【特許文献４】
特開平１０−８６０４３号公報
【００１４】
【特許文献５】
特開平１１−６７８７０号公報
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
両側ベイ方式は、ストッカと装置の平均距離が短く、ベイ内の１カセット搬送当りの平均時間も短くできる。また、中央のベイ間搬送路の長さに対して装置の搬入出経路をより多くの数設けることができるため、段階投資等で装置の段階的搬入を行う場合に有利である。しかし、ベイがたくさんあるため、ベイとの受け渡しが多くなり、全体の搬送量が増加し、工程間搬送の負荷が大きいという問題がある。
【００１６】
一方、片側ベイ方式は、全体の搬送量を削減でき、特に工程間搬送システムの負荷が少ない。しかし、ストッカと装置との間の平均距離が長く、ベイ内の１カセット搬送当りの平均時間も長くなる。また、装置の搬入出経路が少ないためストッカに接続可能な装置の数が制限され、装置の段階的増設に適していない。
【００１７】
図１に示す貫通ベイ方式では、中央にベイ（工程）間搬送のメイン通路を設け、このベイ間搬送を貫通して両側を１つのベイとして構成する。そして、この貫通ベイとベイ間搬送路との交差点に、貫通ベイ内の搬送とベイ間搬送との間のバッファリング機能を有するストッカを配置する。
【００１８】
この構成により、工程間搬送路と装置との平均距離（したがって１カセット搬送当りの平均時間）が短く、かつ装置の搬入出経路を多く設けることができ、段階投資時の装置の段階的増設に適しているという両側ベイ方式の長所と、全体の搬送量を削減できて、特に工程間搬送の負荷が少ないとの片側ベイ方式の長所とを兼ね備えた製造ラインの構成が可能となる。
【００１９】
しかし、この方式では、ベイ間で搬送される製造物としての基板サイズが超大型になると、工程毎の装置の大きさの差が顕著になり、ベイ毎のアンバランスによりスペース効率が低下する。すなわち、ベイの大きさに大きな差ができるため、製造ライン全体を収容するクリーンルーム等の床面積を考慮した場合、各ベイを工程間搬送路に対して有効に配置できない。また、工程間搬送が長くなり、かつループ状の工程間搬送路の復路が、各ベイとの取合いの無い無駄な搬送路となってしまう。
【００２０】
図２に示す製造ライン構成では、気流を画成するストッカで貫通ベイと工程間搬送を構成し、これらのストッカを直接装置と接続し、かつストッカ間をコンベア等で接続する。この方式では、ストッカクレーンとコンベアによりベイ内と工程間の搬送が行われ、ベイ内搬送と工程間搬送を構成するストッカとその接続コンベアは、容易に密閉またはそれに近い状態で清浄度を管理することができる。すなわち、ストッカ自身の空調系以外に特別なクリーンルームやクリーントンネル等を設けること無く、ベイ内及び工程間の搬送システムを構築できる。したがって、ベイ及び工程間搬送路となる通路の清浄度はクラス１０，０００程度以下に抑えることができる。
【００２１】
しかしこの方式では、基板サイズが超大型になるとベイを構成するストッカが大きくなり過ぎ、クレーンへの負荷が著しく増加してクレーンでの搬送が不可能となってしまう。
【００２２】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、ベイの数が少なくスペース効率の高いライン構成が可能な製造設備の配置構成を提供することを目的とする。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために本発明によれば、複数の製造工程により製品を製造するための製造設備の配置構成であって、設備の中央に設けられ、工程間搬送路として設けられた中央搬送機構と、該中央搬送機構から放射状に配列された同一工程を行なう複数の装置と、内部に第１のベイ内搬送機構を有し且つ該装置が接続されたベイストッカとよりなる複数のベイと、該複数のベイのうち互いに隣接するベイの間で製品の受け渡しを行なうショートカット搬送機構とを有することを特徴とする製造設備の配置構成が提供される。
【００２４】
上述の発明によれば、中央搬送機構から放射状に配置された複数のベイのうち、隣接したベイ間を直接接続するショートカット搬送機構を設けたため、隣接したベイに製品を搬送する際に、中央搬送機構に製品を戻す必要がなく、中央搬送機構の負荷を低減することができる。したがって各ベイに対してより多くの装置を設けることができ、且つ装置の配置の自由度が増すため、製造設備全体が占める面積を低減することができる。
【００２５】
上述の発明による製造設備の配置構成において、前記ベイストッカは同一のベイにおいて複数台がメイン通路に対して放射状に配置され、同一のベイ内において隣接する該ベイストッカの間で製品の受け渡しを行なうベイストッカ間搬送機構が設けられることが好ましい。このような構成とすることにより、各ベイにおいて段階的に装置の数を増やし、段階的な設備投資を容易に達成することができる。
【００２６】
また、同一のベイ内のベイストッカに沿って、前記第１のベイ内搬送機構とは異なる第２のベイ内搬送機構が設けられることが好ましい。これにより、ベイストッカ内の第１のベイ内搬送機構に対する負荷の一部を第２のベイ内搬送機構に受け持たせることができ、効率よくベイ内の搬送を行なうことができる。
【００２７】
前記メイン通路は、製造設備が配置されるクリーンルームの床下まで延在する中央ストッカ内に配置され、前記第２のベイ内搬送機構は、該床下に設けられたコンベア及び／又は軌道搬送車（ＲＧＶ）であることとしてもよい。
【００２８】
また、本発明によれば、複数の製造工程により製品を製造するための製造設備における製品の搬送方法であって、該製造設備の中央に設けられた中央搬送機構から、第１のベイ内搬送機構に製品を搬送し、該第１のベイ内搬送機構から、前記中央搬送機構に対して放射状に配列された複数の装置に対して製品を搬入し、該装置から前記第１のベイ内搬送機構に対して処理済みの製品を搬出し、前記第１のベイ内搬送機構から、隣接するベイ内搬送機構に対して、前記中央搬送機構とは異なる搬送機構により該製品を搬送し、隣接するベイ内搬送機構から製品を次工程を行う装置に搬入することを特徴とする製品の搬送方法が提供される。
【００２９】
上述の発明によれば、中央搬送機構から放射状に配置された複数のベイのうち、隣接したベイに製品を搬送する際に、中央搬送機構を用いずに別の搬送機構で搬送するため、中央搬送機構に製品を戻す必要がなく、中央搬送機構の負荷を低減することができる。したがって各ベイに対してより多くの装置を設けることができ、且つ装置の配置の自由度が増すため、製造設備全体が占める面積を低減することができる。
【発明の実施の形態】
まず、本発明の原理について図３を参照しながら説明する。図３は本発明による製造設備の配置構成の概念を示す図である。
【００３０】
図３に示すライン構成において、中央に工程間搬送用のメイン通路Ｃ（中央搬送機構に相当する）が配置され、メイン通路Ｃを中央として複数の装置とベイストッカから成る同一工程装置から成るベイを、中央のメイン通路に対して放射状に連ねて配置し、放射状にベイを構成する。すなわち、各ベイにおける複数の装置は、工程間搬送用のメイン通路Ｃに対して垂直方向に、すなわちメイン通路から放射状に整列して配置される。このような構成を放射状ベイ方式と称する。
【００３１】
そして、放射状ベイ群と隣接した放射状ベイ群との間の受け渡しを、放射状ベイ群中の各ベイと隣接した放射状ベイ群の各ベイの間に設けられたショートカットＳｗ１１，Ｓｗ１２，Ｓｌ１１，Ｓｌ１２（ショートカット搬送機構に相当）で行うように構成する。
【００３２】
具体的な搬送順序としては、図３において、Ｃ⇒Ｂｗ１１，Ｂｗ１２⇒Ｓｗ１１，Ｓｗ１２⇒Ｂｗ２１，Ｂｗ２２⇒Ｃ⇒Ｂｌ２１，Ｂｌ２２⇒Ｓｌ１１，Ｓｌ１２⇒Ｂｌ１１，Ｂｌ１２⇒Ｃ⇒Ｂｗ１１，Ｂｗ１２というように、片流れで搬送を繰り返しながら処理を行なうループ搬送となる。
【００３３】
この構成によると、同一工程の長さの揃った複数の装置を一直線に並べることができ、中央の工程間搬送路の左右（あるいは上下）で幅が揃うように放射状ベイの左右の割り振りを調整できる。したがってベイの数が少なくスペース効率の高いライン構成が可能となる。さらにベイの中間に隣接ベイとの間のショートカットＳｗ１１，Ｓｗ１２，Ｓｌ１１，Ｓｌ１２を設けることで、ベイの全長は長くても平均搬送距離を大幅に削減でき、かつショートカットに片道通行の搬送方式を採用することで搬送効率も極めて高くなる。
【００３４】
放射状ベイに適した搬送システムとして、トールストッカ＋床下ＲＧＶシャトルの搬送システムを有するライン構成を図４に示す。また、この時のクリーンルームの断面図を図５に示す。なお、図５中に示す矢印はストッカ内及びその付近の気流を表すものである。
【００３５】
図４に示すように、本発明による放射ベイ方式では、中央のストッカＣに対して各ベイが放射状に接続される。ベイの各々はベイストッカを有するが、ベイストッカは２つに分割され、その間をコンベアで接続する。例えば、成膜装置用のベイでは、２つのベイストッカＤ１，Ｄ２が長手方向に整列して配置され、それらはコンベアＣＶ（ベイストッカ間搬送機構に相当する）により接続される。
【００３６】
また、隣接するベイの間には、ショートカト用コンベアが設けられてストッカの間を接続する。例えば、成膜装置用のベイのベイストッカＤ１とフォトリソグラフィ装置用のベイのベイストッカＰ１とは、ショートカット用コンベアＳｗにより接続される。同様に、ベイストッカＤ１とベイストッカＰ１との間も、ショートカット用コンベアＳｗにより接続される。したがって、成膜装置用のベイから隣接するフォトリソグラフィ装置用のベイへの搬送は、中央のストッカＣを経由することなく、コンベアＳｗにより直接行なうことができ、中央のストッカＣ内のベイ間搬送手段の負荷を軽減することができる。
【００３７】
図４に示すライン構成では、図５に示すように、トールストッカＴＳを床下のポンプ室Ｐから立上げ、床上では装置と直接接続する。ポンプ室Ｐでは一階の装置接続インタフェースとなるローダ・アンローダ（Ｌ／ＵＬＤ）の直下をＲＧＶシャトルが走行する。隣接ベイとのショートカットとなるコンベアＢＣＶも立体方式を採用し、ポンプ室Ｐの天井下、または床上のプロセス室の天井下でストッカ間を接続する。
【００３８】
上述のような構成において、ストッカと直結したＬ／ＵＬＤの直下をストッカに平行してＲＧＶシャトルが走行し、ＲＧＶシャトルにより工程間搬送のストッカと互いに離れたストッカの間（例えば、Ｄ１とＤ２の間）での搬送を行う。図４において、床下を走行するＲＧＶの経路が点線で示されている。ＲＧＶをストッカに平行に配置することにより、工程内の搬送をＲＧＶ（第２のベイ内搬送機構に相当）とベイストッカ内のクレーン（第１のベイ内搬送機構に相当する）との両方で行なうことができる。これにより、工程内搬送手段を構成するストッカ内のクレーンの負荷が軽減され、容易に６０，０００枚／月程度の製造ラインに適用可能な自動搬送システムを構築することができる。
【００３９】
［第１実施例］
次に、本発明の第１実施例について図６を参照しながら説明する。図６は本発明の第１実施例による製造設備の構成を、大型ＴＦＴ液晶基板の工場に適用した場合の装置の配置構成を示す図である。図６に示す製造設備は、例えば、大型液晶パネルの製造設備であり、それぞれストッカに接続された複数の成膜装置Ｄ、複数のフォトリソグラフィ装置ＰＨ、複数のエッチング装置Ｅ、複数の試験装置Ｔが配置される。これらの装置の間を大型の液晶基板が搬送されながら、製品としての液晶基板上に液晶表示装置としての構造を形成する処理が行われる。液晶基板は通常、複数枚まとめてカセットに収納された状態でストッカの間を搬送される。
【００４０】
図６において、中央に工程間搬送用のメイン通路として工程間搬送用ストッカＣ１，Ｃ２が配置される。ストッカＣ１，Ｃ２を中央として、同一工程を行なう複数の装置とストッカとを有するベイを、ストッカＣ１，Ｃ２に対して放射状に連ねて配置し、放射状にベイを構成する。この放射状ベイ群と隣接した放射状ベイ群との受け渡しを、放射状ベイ群の各ベイと隣接放射状ベイ群の各ベイの間に設けられたショートカットで行うようにする。ショートカットは、例えばコンベア等で構成される搬送手段である。
【００４１】
具体的には、図６において、Ｂｗ１１とＢｗ１２  、Ｂｗ２１とＢｗ２２、Ｂｌ１１とＢｌ１２、Ｂｌ２１とＢｌ２２、Ｂｌ３１とＢｌ３２は、夫々同一工程を行なう装置を放射状に連ねたベイを構成する。Ｓｗ１１とＳｗ１２は、夫々Ｂｗ１１とＢｗ２１、Ｂｗ１２とＢｗ２２を接続するショートカット用のコンベアである。同様に、Ｓｌ１１とＳｌ１２は、夫々Ｂｌ１１とＢｌ２１、Ｂｌ１２とＢｌ１２をつなぐショートカット用のコンベアである。
【００４２】
搬送順序としては、図６において、Ｃ１⇒Ｂｗ１（Ｂｗ１１とＢｗ１２のベイ群）⇒Ｓｗ１（Ｓｗ１１とＳｗ１２のショートカット群）⇒Ｂｗ２（Ｂｗ２１とＢｗ２２の群）⇒Ｃ２⇒Ｂｌ１（Ｂｌ１１とＢｌ１２のベイ群）⇒Ｓｌ１（Ｓｌ１１とＳｌ１２のショートカット群）⇒Ｂｌ２（Ｂｌ２１とＢｌ２２のベイ群）⇒Ｃ２⇒Ｃ１⇒Ｂｗ１、というように片流れでレイヤ数（液晶基板上に形成する薄膜層の数）だけ繰り返すループ搬送となる。
【００４３】
なお、Ｂｌ３（Ｂｌ３１とＢｌ３２のベイ群）は、製造ラインへの入出力ベイであり、Ｂｌ３を経由して工程間搬送手段であるストッカＣ１にカセットが搬入され、また外部に設備に搬出される。
【００４４】
図６において、例えば成膜ベイＢｗ１１は、ベイストッカＤ１と４台の成膜装置Ｄ１１，Ｄ１２，Ｄ１３，Ｄ１４とよりなる。成膜装置Ｄ１１，Ｄ１２，Ｄ１３，Ｄ１４は、ＲＧＶシャトルＲｄ１（経路を点線で示す）によりベイストッカＤ１に接続される。工程間搬送用ストッカＣ１とベイストッカＤ１との間はコンベアＣＶ１１で接続さる。また、工程間搬送用ストッカＣ２とベイストッカＰ１との間はコンベアＣＶ２１で接続される。同様に、工程間搬送用ストッカＣ２とベイストッカＥ１との間はコンベアＣＶ３１で接続され、工程間搬送用ストッカＣ２とベイストッカＴ１との間はコンベアＣＶ４１で接続される。
【００４５】
したがって、工程間搬送用ストッカＣ１とベイストッカＤ２との間は、Ｃ１⇒ＣＶ１１⇒Ｄ１⇒ＣＶ１２⇒Ｄ２という搬送経路により接続される。また、ベイストッカＰ２と工程間搬送用ストッカＣ２との間は、Ｐ２⇒ＣＶ２２⇒Ｐ１⇒ＣＶ２１Ｃ⇒Ｃ２という搬送経路により接続される。同様に、工程間搬送用ストッカＣ２とベイストッカＥ２との間は、Ｃ２⇒ＣＶ３１⇒Ｅ１⇒ＣＶ３２⇒Ｅ２という搬送経路により接続され、ベイストッカＴ２と工程間搬送用ストッカＣ２との間は、Ｔ２⇒ＣＶ４２⇒Ｔ１⇒ＣＶ４１⇒Ｃ２という搬送経路により接続される。
【００４６】
放射状ベイ群Ｂｗ１１のベイストッカＤ１と隣接した放射状ベイ群Ｂｗ２１のベイストッカＰ１との間は、ショートカットコンベアＳｗ１１で接続される。ストッカＤ１，Ｐ１の各々は、クレーンを２台を有し、コンベアＳｗ１１は、ストッカＤ１，Ｐ１の２台のクレーンと、それぞれ引込み口、払出し口でカセットを受け渡しできるように構成される。これらの引込み口、払出し口へは２台のクレーンが同時に入らないようにエリア管理を行っている。
【００４７】
また、ベイストッカＰ１からベイストッカＥ１への搬送は、ＣＶ２１⇒Ｃ２⇒ＣＶ３１⇒Ｅ１という経路で行う。
【００４８】
ここで、以上のような構成の本実施例による生産ライン（製造設備）を、図７に示す従来の貫通ベイ方式で生産ラインを構成した場合と比較する。比較にあたり、基板に形成する層の数が６層であり、生産量が１次投資時で１００００枚／月、フル実装時で２００００枚／月と仮定する。
【００４９】
図７に示す従来の貫通ベイ方式ではベイ内の搬送は、ＡＧＶ（地上搬送無軌道台車）によって行われている。ＡＧＶと中央のストッカＳの間のカセット搬入出口は、ベイ内搬送ループに面したストッカの両側面にあり、搬送側から向かって左側に入庫口が、右側に出庫口が設けられている。ベイ間搬送は天井搬送方式のＬＩＭによって行われている。ストッカとＬＩＭとの間には、ストッカがＬＩＭのループ型搬送路の直線部に面する中央側側面にロボットアーム式の移載装置が設けられ、移載装置によりカセットのストッカＳへの搬入・搬出を行っている。
【００５０】
本実施例では、１次投資時に中央の工程間搬送路を中央として二点鎖線で囲まれた範囲内の装置のみ設置し、２次投資時に残りの部分の装置を設置する。一方図７に示す従来の貫通ベイ方式において、上述のように２回に分けて設置する場合、１次投資時（段階投資時）に中央の工程間搬送路の片側で二点鎖線で囲まれた範囲の装置を設置し、２次投資時（フル実装時）に残りの部分の装置を設置する。
【００５１】
ここで、図６に示す本実施例による設備構成と図７に示す従来の設備構成とにおいて、設備全体が占める領域の面積を比較すると、１次投資時も２次投資時も、本実施例による設備構成の方が約１０％面積が少ないことがわかった。また搬送設備に対する投資額で比較すると、１次投資時は本実施例の方が搬送投資額が約１５％少なく、２次投資時にはほぼ同じとなることがわかった。
【００５２】
また、図６に示す本実施例による設備構成では、中央部分に配置された複数の検査装置Ｔは人手による作業が必要とするが、検査装置ＴはストッカによってＢｗ１，Ｂｗ２の加工装置群から隔てられており、作業者から排出される塵埃が製品加工に影響を及ぼさないような構成となっている。
【００５３】
［第２実施例］
次に、本発明の第２実施例について図８を参照しながら説明する。図８は本発明の第２実施例による製造設備の構成を、大型ＴＦＴ液晶基板の工場に適用した場合の装置の配置構成を示す図である。図８において、図６に示す構成部品と同等な部品には同じ符号を付し、その説明は省略する。
【００５４】
図８において、例えば成膜ベイＢｗ１１は、上述の第１実施例と同様に、ベイストッカＤ１と４台の成膜装置Ｄ１１，Ｄ１２，Ｄ１３，Ｄ１４とよりなる。ただし、成膜装置Ｄ１１，Ｄ１２，Ｄ１３，Ｄ１４の各々へのカセットの搬入・搬出は、ベイストッカＤ１が有するクレーンにより行われる。
【００５５】
工程間搬送ストッカＣ１とベイストッカＤ１との間はコンベアＣＶ１１で接続される。また、ストッカＣ１とベイストッカＤ２との間は、床下ＲＧＶにより搬送が行われる。すなわち、ＣＶ１１⇒Ｒｄ  （床下ＲＧＶシャトル）⇒Ｄ２でという経路により搬送する。放射状ベイ群Ｂｗ１のベイストッカＤ２と隣接放射状ベイ群Ｂｗ２のベイストッカＰ２との間は、ショートカットコンベアＳｗ１２で接続される。ベイストッカＰ２からベイストッカＥ１への搬送は、Ｒｄ（床下ＲＧＶシャトル）⇒Ｃ２⇒ＣＶ３１⇒Ｅ１という経路で行われる。
【００５６】
ここで、第２実施例における床下ＲＧＶと工程間搬送ストッカとのカセット受渡し方法について、図９を参照しながらを説明する。図９に示すように、工程間搬送ストッカＣ１から搬出されコンベアＣＶ１１に移載されたカセットは、コンベアＣＶ１１の中央の位置でＲＧＶに移載する。すなわち、コンベアＣＶ１１は、床下部分の中央のストッカＣ１に設けられたカセット払い出し口Ｃ１−１と、床下部分のベイストッカＤ１に設けられたカセット引き込み口Ｄ１−１との間に設けられる。また、ＲＧＶの搬送路（レース）Ｒｄ１は、床下においてストッカＤ１の端部よりさらに延長され、コンベアＣＡ１１の中央位置まで延在する。この位置でカセットをコンベアＣＶ１１からＲＧＶシャトルＶＳに移載する。
【００５７】
次に、第２実施例における床下ＲＧＶとベイストッカとのカセット受渡し方法について、図５（ｂ）を参照しながら説明する。受渡し部上部には、ストッカ内のクリーンエア（清浄化された空気）をＲＧＶとストッカとの間に吹出すための吹出し口が設けられている。また、ストッカ下部には、隙間に吹出したストッカ内の空気を、ストッカのリターン系に吸込む吸込み口が設けられている。これらの吹出し・吸込み口は、実際にカセットの移載を行なう直前にシヤッターまたはバルブを開き、ＲＧＶとストッカの隙間の空間をクリーンエアで置換する。
【００５８】
以上説明したように、本実施例では、工程内搬送手段として床下ＲＧＶ採用し、各装置への搬送をベイストッカのクレーンで行なうこととしている。これにより、設備全体が配置される領域の面積を図６に示す構成よりさらに低減することができる。図６に示す設備構成における面積と、図８に示す本実施例により設備構成の面積を試算して比較した結果、本実施例では、段階投資時は約１７％、フル実装時も約１５％面積が少なくなることがわかった。また、搬送設備の投資額を試算して比較すると、段階投資時は本実施例の方が約１０％少なく、フル実装時も約５％少なくなることがわかった。
【００５９】
以上の如く本明細書は以下の発明を開示する。
【００６０】
（付記１）  複数の製造工程により製品を製造するための製造設備の配置構成であって、
設備の中央に設けられ、工程間搬送路として設けられた中央搬送機構と、
該中央搬送機構から放射状に配列された同一工程を行なう複数の装置と、内部に第１のベイ内搬送機構を有し且つ該装置が接続されたベイストッカとよりなる複数のベイと、
該複数のベイのうち互いに隣接するベイの間で製品の受け渡しを行なうショートカット搬送機構と
を有することを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６１】
（付記２）  付記１記載の製造設備の配置構成であって、
前記ベイストッカは同一のベイにおいて複数台がメイン通路に対して放射状に配置され、同一のベイ内において隣接する該ベイストッカの間で製品の受け渡しを行なうベイストッカ間搬送機構が設けられたことを特徴とする配置構成。
【００６２】
（付記３）  付記１又は２記載の製造設備の配置構成であって、
同一のベイ内のベイストッカに沿って、前記第１のベイ内搬送機構とは異なる第２のベイ内搬送機構が設けられたことを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６３】
（付記４）  付記３記載の製造設備の配置構成であって、
前記メイン通路は、製造設備が配置されるクリーンルームの床下まで延在する中央ストッカ内に配置され、
前記第２のベイ内搬送機構は、該床下に設けられたコンベア及び／又は軌道搬送車（ＲＧＶ）であることを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６４】
（付記５）  付記４記載の製造設備の配置構成であって、
前記中央ストッカと前記ベイストッカとの間は、前記床下に設けられた中央コンベアにより接続され、前記ベイ内搬送機構は前記中央コンベアとの間で製品の受け渡しを行なうよう構成されたことを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６５】
（付記６）  付記１乃至５のうちいずれか一項記載の製造設備の配置構成であって、
前記ショートカット搬送機構は、前記ベイストッカとの間で製品の受け渡し可能に構成されたコンベアであることを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６６】
（付記７）  付記１乃至６のうちいずれか一項記載の製造設備の配置構成であって、
前記ベイストッカのうち互いに隣接するベイストッカの間に、製造設備内の自動搬送システムから切り離されて独立した装置が配置されることを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６７】
（付記８）  付記１乃至７のうちいずれか一項記載の製造設備の配置構成であって、
前記製造設備は液晶パネル装置の製造設備であって、前記製品は液晶基板であり、
前記装置は、成膜装置、フォトリソグラフィ装置、エッチング装置、及び試験装置を含むことを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６８】
（付記９）  付記８記載の製造設備の製造設備であって、
前記試験装置は、前記ベイストッカのうち互いに隣接するベイストッカの間に配置されることを特徴とする製造設備の配置構成。
【００６９】
（付記１０）  複数の製造工程により製品を製造するための製造設備における製品の搬送方法であって、
該製造設備の中央に設けられた中央搬送機構から、第１のベイ内搬送機構に製品を搬送し、
該第１のベイ内搬送機構から、前記中央搬送機構に対して放射状に配列された複数の装置に対して製品を搬入し、
該装置から前記第１のベイ内搬送機構に対して処理済みの製品を搬出し、
前記第１のベイ内搬送機構から、隣接するベイの第１のベイ内搬送機構に対して、前記中央搬送機構とは異なる搬送機構により該製品を搬送し、
隣接するベイの第１のベイ内搬送機構から次工程を行う装置に製品を搬入する
ことを特徴とする製品の搬送方法。
【００７０】
（付記１１）  付記１０記載の製品の搬送方法であって、
前記中央搬送機構から前記装置に対して、前記第１のベイ内搬送機構とは異なる第２の搬送機構を用いて並行して製品を搬送することを特徴とする製品の搬送方法。
【００７１】
（付記１２）  付記１０又は１１記載の製品の搬送方法であって、
前記第１のベイ内搬送機構は複数の搬送機構に分割されており、分割された搬送機構の各々から、隣接するベイにおける分割された第１の搬送機構に対して、前記中央搬送機構とは異なる搬送機構により該製品を搬送することを特徴とする製品の搬送機構。
【発明の効果】
上述の如く本発明によれば、中央搬送機構をなす中央ストッカから放射状に配置された複数のベイのうち、隣接したベイ間を直接接続するショートカットを設けたため、隣接したベイに製品を搬送する際に、中央ストッカに製品を戻す必要がなく、中央搬送機構の負荷を低減することができる。したがって各ベイに対してより多くの装置を設けることができ、且つ装置の配置の自由度が増すため、製造設備全体が占める面積を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】貫通ベイ方式による装置の配置構成を示す概略配置図である。
【図２】中央のストッカ内に工程間搬送路を設けた場合の装置の配置構成を示す概略配置図である。
【図３】本発明による製造ラインの配置構成を示す概略配置図である。
【図４】トールストッカ＋床下ＲＧＶシャトルの搬送システムを有する製造設備における装置の概略配置図である。
【図５】図４に示す製造設備の一部の断面図である。
【図６】本発明の第１実施例による製造設備の構成を大型ＴＦＴ液晶基板の工場に適用した場合の装置の配置構成を示す図である。
【図７】従来の貫通ベイ方式による装置の配置構成を示す図である。
【図８】本発明の第２実施例による製造設備の構成を大型ＴＦＴ液晶基板の工場に適用した場合の装置の配置構成を示す図である。
【図９】本発明の第２実施例における床下ＲＧＶと工程間搬送ストッカとのカセット受渡し方法について説明するための図である。
【符号の説明】
Ｃ１，Ｃ２  中央ストッカ
Ａ１，Ａ２，Ｄ１，Ｄ２，Ｅ１，Ｅ２，Ｐ１，Ｐ２，Ｔ１，Ｔ２  ベイストッカ
ＣＶ１１，ＣＶ２１，ＣＶ３１，ＣＶ４１  コンベア
ＣＶ１２，ＣＶ２２，ＣＶ３２、ＣＶ４２  ストッカ接続用コンベア
Ｓｗ１１，Ｓｗ１２，Ｓｌ１１，Ｓｌ１２  ショートカットコンベア
Ｂｗ１１，Ｂｗ１２，Ｂｗ２１，Ｂｗ２２  装置群
Ｂｌ１１，Ｂｌ１２，Ｂｌ２１，Ｂｌ２２，Ｂｌ３１，Ｂｌ３２  装置群
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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