(57)【要約】【課題】青色レーザ波長領域、特に４０５（ｎｍ）近傍の波長領域であっても、有機材料からなる追記型の光記録媒体を実現させ、また、変調度が大きい追記型の光記録媒体を実現させ、さらに、記録再生波長の変動に対し、記録感度や変調度、ジッタやエラー率といったような記録特性や、反射率等の変化が少ない追記型の光記録媒体を実現させること。【解決手段】光吸収層上に、色素材料を含む熱受容層を、膜厚２００ｎｍ以下になるように積層した層構造を有する情報記録媒体であって、この媒体にガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、熱受容層が、記録のため光強度を高くした記録マーク領域の内側および外側の部分が変質することにより記録がなされることを特徴とする情報記録媒体。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光吸収層上に、色素材料を含む熱受容層を、膜厚２００ｎｍ以下になるように積層した層構造を有する情報記録媒体であって、この媒体にガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、熱受容層が、記録のため光強度を高くした記録マーク領域の内側および外側の部分が変質することにより記録がなされることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
光吸収層上に、色素材料を含む熱受容層を、膜厚２００ｎｍ以下になるように積層した層構造を有する情報記録媒体であって、この媒体にガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、ガウス分布の中央領域に対応する部分の熱受容層における色素材料の変質により、該色素材料の量が外周部より減少することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項３】
色素材料がシアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、メロシアニン系、アゾ系及びホルマザンキレート系の色素からなる群から選択される少なくとも１つの色素であることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報記録媒体。
【請求項４】
ガウス分布を有する光の照射により少なくとも熱受容層が変形することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項５】
熱受容層が、記録のため光強度を高くした記録マーク領域の内側および外側の部分が変質することにより記録がなされていることを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項６】
熱受容層上に反射層がさらに積層されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項７】
ｒ＝λ／２ＮＡ×Ｋ（但し、λは記録に用いる波長、ＮＡはレンズの開口率を表わし、Ｋ＝０．６〜１．２２である。）で表わせるレーザスポットを照射し、このスポットを移動することで得られる領域をマーク領域とすることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項８】
熱受容層が、変質により、変質部と非変質部が剥離され、それぞれ隣接する別の層に選択的に密着することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項９】
熱受容層の変質が成膜後の材料の溶解特性の変化として確認しうることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の情報記録媒体を使用して情報を記録する方法であって、記録後の未記録部の見かけ上の光学特性の変化量が、記録前の未記録部の光学特性の値に対して相対値で±５０％以内となるように設定されたことを特徴とする情報記録方法。
【請求項１１】
記録部の見かけ上の光学特性の変化が、記録により反射率が低下する様に設定されたことを特徴とする請求項１０に記載の情報記録媒体の記録方法。
【請求項１２】
請求項８に記載の情報記録媒体において、前記変質部と非変質部に溶媒を浸透させ、溶解性を比較することを特徴とする変質部の確認方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザーにより情報の記録および再生が可能な情報記録媒体およびその記録方法、さらにその媒体の記録部の確認手段に関するものであり、光情報記録媒体に応用される。
【０００２】
【従来の技術】
従来公知技術には、本発明のように、記録マーク領域の内側および外側の部分が溶解性が変わるまで変質する、またはガウス分布の中央部に対応する部分の色素層材料の量が外周部より少ないことを特徴とする光情報記録媒体に関する言及はない。
超高密度の記録が可能となる青色レーザの開発は急速に進んでおり、それに対応した追記型の光記録媒体の開発が行なわれている。従来の追記型の光記録媒体では、有機材料からなる記録層にレーザ光を照射し、有機材料の分解・変質による屈折率変化を主に生じさせることで記録ピットを形成させており、記録層に用いられる有機材料の光学定数、分解挙動が良好な記録ピットを形成させるための重要な要素となっている。
したがって、記録層に用いる有機材料は、青色レーザ波長に対する光学的性質、分解挙動の適切な材料を選択する必要がある。
すなわち、未記録時の反射率を高め、またレーザの照射によって有機材料が分解し、大きな屈折率変化が生じるようにするため（これによって大きな変調度が得られる）、記録再生波長は大きな吸収帯の長波長側の裾に位置するように選択される。なぜなら、大きな吸収帯の長波長側の裾では、適度な吸収係数を有し、かつ大きな屈折率が得られる波長領域となるためである。
【０００３】
しかしながら、青色レーザ波長に対する光学的性質が従来並みの値を有する材料は見い出されていない。これは、有機材料の吸収帯を青色レーザ波長近傍に持たせるためには、分子骨格を小さくする、あるいは共役系を短くする必要があるが、これは吸収係数の低下、すなわち屈折率の低下を招くためである。つまり、青色レーザ波長近傍に吸収帯を持つ有機材料は多数存在し、吸収係数を制御することは可能となるが、大きな屈折率は持たないため、大きな変調度を得ることができなくなる。
【０００４】
青色レーザ対応の有機材料としては、例えば、特許文献１〜５等記載されている。
しかし、これらの公報では、実施例は溶液と薄膜のスペクトルを測定したのみで、記録再生に関する記載がない。
【０００５】
また、特許文献６〜８には、実施例で記録の記載があるものの、記録波長は４８８（ｎｍ）であり、また記録条件や記録密度に関する記載はなく、良好な記録ピットが形成できた旨の記載があるのみである。
また、特許文献９には、実施例で記録の記載があるものの、記録波長は４３０（ｎｍ）であり、また記録条件や記録密度に関する記載はなく、良好な変調度が得られた旨の記載があるのみである。
【０００６】
特許文献１０〜１９には、実施例で記録波長４３０（ｎｍ）、ＮＡ０．６５での記録例があるが、最短ピットが０．４（μｍ）という低記録密度条件（ＤＶＤと同等の記録密度）である。
特許文献２０には、記録再生波長が４０５〜４０８（ｎｍ）であるが、記録密度に関する具体的な記載がなく、１４Ｔ−ＥＦＭ信号の記録という低記録密度条件である。
【０００７】
また、従来のＣＤ、ＤＶＤ系光記録媒体と異なる層構成、記録方法に関して、以下のような技術が公開されている。
特許文献２１には、基板／可飽和吸収色素含有層／反射層という構成で、可飽和吸収色素の消衰係数（本発明でいう吸収係数）の変化により記録を行なう技術が記載されており、特許文献２２には、基板／金属蒸着層／光吸収層／保護シートという構成で、光吸収層によって発生した熱によって、金属蒸着層を変色もしくは変形させることで記録を行なう技術が記載されており、特許文献２３には、基板／誘電体層／光吸収体を含む記録層／反射層という構成で、記録層の膜厚を変えて溝部の深さを変えることにより記録を行なう技術が記載されており、特許文献２４には、基板／光吸収体を含む記録層／金属反射層という構成で、記録層の膜厚を１０〜３０％変化させることにより記録を行なう技術が記載されており、特許文献２５には、基板／有機色素を含有する記録層／金属反射層／保護層という構成で、基板の溝幅を未記録部に対して２０〜４０％広くすることにより記録を行なう技術が記載されており、特許文献２６には、基板／中間層／金属薄膜という構成で、金属薄膜が変形しバブルを形成することにより記録を行なう技術が記載されており、特許文献２７には、基板／光吸収層／記録補助層／光反射層という構成で、記録補助層を凹状に変形させるとともに、記録補助層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行なう技術が記載されており、特許文献２８には、基板／光吸収層／多孔質な記録補助層／光反射層、あるいは基板／多孔質な記録補助層／光吸収層／光反射層という構成で、記録補助層を凹状に変形させるとともに、記録補助層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行なう技術が記載されており、特許文献２９には、基板／多孔質な光吸収層／光反射層という構成で、光吸収層を凹状に変形させるとともに、光吸収層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行なう技術が記載されており、特許文献３０には、基板／有機色素を含む記録層／記録補助層という構成で、記録補助層と有機色素が相溶して、有機色素の吸収スペクトルを短波長側へシフトさせることで記録を行なう技術が記載されている。
しかしながら、上記の技術は、青色レーザ波長領域での光記録媒体の実現を狙ったものでなく、青色レーザ波長領域で有効となる層構成や記録方法ではない。
【０００８】
以上のように、現段階では青色レーザ波長領域において、特に現在実用化されている青色半導体レーザの発振波長の中心である４０５（ｎｍ）近傍においては、従来の追記型光記録媒体の記録層に要求される光学定数と同程度の光学定数を有する有機材料がほとんど存在しない。
また、４０５（ｎｍ）近傍で記録条件を明確にし、ＤＶＤよりも高記録密度で記録された例はない。
さらに、上記公報での実施例は、従来のディスク構成での実験であり、青色レーザ波長領域で、有機材料からなる追記型光記録媒体を容易に実現する層構成や記録原理、記録方式についての有効な提案はない。
【０００９】
また、従来から、有機材料からなる追記型の光記録媒体では、有機材料の光学定数の波長依存性が大きいため（波長によって光学定数が大きく変動する）、レーザの個体差や、環境温度の変化等による記録再生波長の変動に対し、記録感度や変調度、ジッタやエラー率といったような記録特性や、反射率等が大きく変化するという問題があった。
【００１０】
【特許文献１】
特開２００１−１８１５２４号公報
【特許文献２】
特開２００１−１５８８６５号公報
【特許文献３】
特開２０００−３４３８２４号公報
【特許文献４】
特開２０００−３４３８２５号公報
【特許文献５】
特開２０００−３３５１１０号公報
【特許文献６】
特開平１１−２２１９６４号公報
【特許文献７】
特開平１１−３３４２０６号公報
【特許文献８】
特開２０００−４３４２３号公報
【特許文献９】
特開平１１−５８９５５号公報
【特許文献１０】
特開２００１−３９０３４号公報
【特許文献１１】
特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献１２】
特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献１３】
特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献１４】
特開２０００−２２２７７２号公報
【特許文献１５】
特開２０００−２１８９４０号公報
【特許文献１６】
特開２０００−２２２７７１号公報
【特許文献１７】
特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献１８】
特開２０００−２８０６２１号公報
【特許文献１９】
特開２０００−２８０６２０号公報
【特許文献２０】
特開２００１−１４６０７４号公報
【特許文献２１】
特開平７−３０４２５８号公報
【特許文献２２】
特開平８−８３４３９号公報
【特許文献２３】
特開平８−１３８２４５号公報
【特許文献２４】
特開平８−２９７８３８号公報
【特許文献２５】
特開平９−１９８７１４号公報
【特許文献２６】
特許第２５０６３７４号公報
【特許文献２７】
特許第２５９１９３９号公報
【特許文献２８】
特許第２５９１９４０号公報
【特許文献２９】
特許第２５９１９４１号公報
【特許文献３０】
特許第２９８２９２５号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明の目的は、上記従来技術に鑑みて、青色レーザ波長領域、特に４０５（ｎｍ）近傍の波長領域であっても、有機材料からなる追記型の光記録媒体を実現させ、また、変調度が大きい追記型の光記録媒体を実現させ、さらに、記録再生波長の変動に対し、記録感度や変調度、ジッタやエラー率といったような記録特性や、反射率等の変化が少ない追記型の光記録媒体を実現させることにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、本発明の（１）「光吸収層上に、色素材料を含む熱受容層を、膜厚２００ｎｍ以下になるように積層した層構造を有する情報記録媒体であって、この媒体にガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、熱受容層が、記録のため光強度を高くした記録マーク領域の内側および外側の部分が変質することにより記録がなされることを特徴とする情報記録媒体」、（２）「光吸収層上に、色素材料を含む熱受容層を、膜厚２００ｎｍ以下になるように積層した層構造を有する情報記録媒体であって、この媒体にガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、ガウス分布の中央領域に対応する部分の熱受容層における色素材料の変質により、該色素材料の量が外周部より減少することを特徴とする情報記録媒体」、（３）「色素材料がシアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、メロシアニン系、アゾ系及びホルマザンキレート系の色素からなる群から選択される少なくとも１つの色素であることを特徴とする前記第（１）項又は第（２）項に記載の情報記録媒体」、（４）「ガウス分布を有する光の照射により少なくとも熱受容層が変形することを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載の情報記録媒体」、（５）「熱受容層が、記録のため光強度を高くした記録マーク領域の内側および外側の部分が変質することにより記録がなされていることを特徴とする前記第（２）項乃至第（４）項のいずれかに記載の情報記録媒体」、（６）「熱受容層上に反射層がさらに積層されていることを特徴とする前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載の情報記録媒体」、（７）「ｒ＝λ／２ＮＡ×Ｋ（但し、λは記録に用いる波長、ＮＡはレンズの開口率を表わし、Ｋ＝０．６〜１．２２である。）で表わせるレーザスポットを照射し、このスポットを移動することで得られる領域をマーク領域とすることを特徴とする前記第（１）項乃至第（６）項のいずれかに記載の情報記録媒体」、（８）「熱受容層が、変質により、変質部と非変質部が剥離され、それぞれ隣接する別の層に選択的に密着することを特徴とする前記第（１）項乃至第（７）項のいずれかに記載の情報記録媒体」、（９）「熱受容層の変質が成膜後の材料の溶解特性の変化として確認しうることを特徴とする前記第（１）項乃至第（８）項のいずれかに記載の情報記録媒体」によって解決される。
【００１３】
また、上記課題は、本発明の（１０）「前記第（１）項乃至第（９）項のいずれかに記載の情報記録媒体を使用して情報を記録する方法であって、記録後の未記録部の見かけ上の光学特性の変化量が、記録前の未記録部の光学特性の値に対して相対値で±５０％以内となるように設定されたことを特徴とする情報記録方法」、（１１）「記録部の見かけ上の光学特性の変化が、記録により反射率が低下する様に設定されたことを特徴とする前記第（１０）項に記載の情報記録媒体の記録方法」によって解決される。
【００１４】
また、上記課題は、本発明の（１２）「前記第（８）項に記載の情報記録媒体において、前記変質部と非変質部に溶媒を浸透させ、溶解性を比較することを特徴とする変質部の確認方法」によって解決される。
【００１５】
即ち、前記第（１）項〜第（６）項は、従来の追記型光記録媒体の記録層に要求される光学定数と同程度の光学定数が得ることが困難な青色レーザ波長領域であっても、高密度化が図れ、かつ高変調度が得られる追記型光記録媒体の層構成と、その光記録媒体における記録原理を提供することにある。
前記第（７）項は記録部の改質を確認する方法を提供することにある。
前記第（８）項は光記録媒体における記録原理を提供することにある。
前記第（９）項、第（１０）項は、従来の追記型光記録媒体の記録層に要求される光学定数と同程度の光学定数が得ることが困難な青色レーザ波長領域であっても、高密度化が図れ、かつ高変調度が得られる記録方法を提供することにある。
【００１６】
前記本発明の目的を達成するために、本発明では、光吸収層と、この光吸収層と隣接して熱受容層を有する追記型の光記録媒体を提供し、また、前記本発明の目的を達成するために、本発明では、光吸収層と、この光吸収層と隣接して熱受容層を有する追記型の光記録媒体を用い、レーザ光の照射により光吸収層が発熱し、この熱によって有機材料の分解または変質を誘発させ、記録再生波長で記録を行なう追記型の光記録媒体、あるいは、ガウス分布を示すレーザ光の照射により光吸収層が発熱し、この熱によって熱受容層がガウス分布の中央部に対応する部分の色素層材料の量が外周部より少なくなる変形をさせることで記録を行なう追記型の光記録媒体が提供される。
【００１７】
本発明の光記録媒体は、従来、熱発生層であり、かつ分解・変質に起因した屈折率（複素屈折率の実部）変化による変調度発生層として機能していた有機材料からなる記録層から、熱発生層と熱受容層（変調度発生層）とを分離させたものである。
従来の追記型光記録媒体では、有機材料の分解・変質によって記録再生波長における吸収係数を低下させ、これによる大きな屈折率変化を利用して変調度を発生させていた。
しかし、本発明の追記型光記録媒体では、上記のように熱発生層と熱受容層とを分離し、熱受容層のスポットより大きい範囲を改質し、また、媒体にガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、ガウス分布の中央領域に対応する部分の色素層材料の量が外周部より減少させることによって変調度を発生させるものである。
そのため、従来の記録層において要求されていた、使用する有機材料についての屈折率の制限が全くなくなり、また、記録再生波長に対し、熱受容層は光吸収能がある必要がなくなるため、全体として、使用する有機材料についての光学定数に関して従来のような厳しい制限がなくなる。したがって、本発明によれば、青色レーザー、特に現在実用化されている青色半導体レーザを使用する場合においても、種々の有機材料を使用することが可能となり、材料選択の幅が大幅に拡大する。しかし、本発明の原理からいって、特に青色レーザー使用のものに留まらないことはいうまでもないことである。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明に係る光情報記録媒体を、図１及び図２に基づいて説明する。図１は本発明に係る光情報記録媒体の要部拡大断面図であり、図２は本発明の光情報記録媒体の平面図である。
これらの図から明らかなように、本発明の光情報記録媒体は、片面にプリフォーマットパターン（２）が微細な凹凸状に形成された透明基板（１）と、光吸収層（３）と、光吸収層（３）上に被着された熱受容層（４）と、熱受容層（４）上に積層された反射層（５）と、反射層（５）を覆うようにコーティングされた保護層（１０）から構成されている。
透明基板（１）としては、例えばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルペンテン、エポキシなどの透明樹脂材料を所望の形状に成形し、その片面に所望のプリフォーマットパターンを転写したものや、所望の形状に形成されたガラス等の透明セラミックス板の片面に所望のプリフォーマットパターンが転写された透明樹脂層を密着したものなど、公知の任意の透明基板を用いることができる。
ディスク状光情報記録媒体（以下、光ディスクという）を構成する透明基板（１）は、図２に示すように、中心部にセンタ孔（１ａ）を有する円盤状に形成される。なお、透明基板（１）の作製方法については、公知であり、かつ本発明の要旨でもないので、説明を省略する。
【００１９】
プリフォーマットパターン（２）は、少なくとも記録・再生用レーザビームを記録トラックに追従させるためのビーム案内部を含んで構成される。図１及び図２の例では、ビーム案内部が、センタ孔（１ａ）と同心の渦巻状又は同心円状に形成された案内溝（２ａ）をもって構成されており、当該案内溝（２ａ）に沿って、アドレスピットやクロックピット等のプリピット（２ｂ）が形成されている。プリピット（２ｂ）が案内溝（２ａ）上に重ねて形成される場合には、両者を光学的に識別できるようにするため、図１に示すように、案内溝（２ａ）とプリピット（２ｂ）とがそれぞれ異なる深さに形成される。プリピット（２ｂ）が相隣接する案内溝（２ａ）の間に形成される場合には、両者を同じ深さに形成することもできる。なお、ビーム案内部としては、案内溝（２ａ）に代えて、ウォブルピットを記録トラックに沿って形成することもできる。また、プリピット（２ｂ）がなく、案内溝のみで形成されていても良い。
【００２０】
光吸収層（３）は、光エネルギを吸収して熱エネルギに変換する材料、若しくはこの種のイオン性の色素材料を少なくとも一部に含むヒートモード記録材料で形成される。
光吸収層（３）を形成可能な色素材料としては、例えば、ポリメチン系色素、アントラキノン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、キサンテン系色素、トリフェニルメタン系色素、ピリリウム系色素、アズレン系色素、含金属アゾ染料、アゾ染料等を挙げることができる。これらのうちでは、ジカルボシアニン誘導体、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、シアニン誘導体、アゾ染料誘導体が特に好適に用いられる。また、アミニウム系色素などの各種クエンチャが添加された色素材料を用いることもできる。さらには、上記色素材料群より選択される１種又は２種以上の色素材料を樹脂中に分散したものを、光吸収層（３）の形成材料として用いることもできる。色素材料を分散可能な樹脂材料としては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂などを挙げることができる。
【００２１】
光吸収層（３）は、透明基板（１）のプリフォーマットパターン形成面に、先に例示的に列挙された色素材料群より選択された色素材料の溶剤溶液をスピンコートし形成する。さらに溝状のプリフォーマットパターン（２）内に色素材料を充填した後、プリフォーマットパターン（２）の間のランド部（２ｃ）に付着した色素材料を選択的に除去し、透明基板（１）の表面を露出すると共に、プリフォーマットパターン（２）内にのみ色素材料を充填することによって形成できる。なお、色素材料の溶剤としては、アルコール系溶剤あるいはセルソルブ系溶剤などを用いることができる。
【００２２】
さらに、以下に示す二座配位子を取りうるキレート材を含有し、本発明の目的を達成することもできる。たとえば、無機酸類、ジカルボ酸類、オキシカルボ酸類、ジオキシ化合物、オキシオキシム類、オキシアルデヒドおよび誘導体類、ジケトン類および類似化合物、オキシキノン類、トロボロン類、Ｎ−オキシド化合物、アミノカルボン酸および類似化合物、ヒドロキシルアミン類、オキシン類、アルジミン類、オキシオキシム類、オキシアゾ化合物、ニトロソナフトール類、トリアゼン類、ピウレット類、ホルマザン類およびジチゾン類、ビクアリド類、グリオキシム、ジアミン類および類似化合物、ヒドラジン誘導体、チオエーテル類がある。さらに、イミノ基（イミド、アミド）を有する誘導体も使用可能である。
【００２３】
また、上記の有機材料の他、原子配列を変化し情報の記録ができる相変化材料も使用可能である。具体的にはＡ−Ｂ−Ｃ−Ｇｅ−Ｔｅで代表される金属、および合金である。
ここでＡはＣｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｐ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、ランタニド元素、アクチニド元素、アルカリ土類金属元素、不活性ガス元素などのうち少なくとも一つの元素を表わす。ＢはＴｌ、Ｉなどハロゲン元素、およびＮａなどのアルカリ金属元素のうち少なくとも一元素を表わす。
ＣはＳｂ、Ｓｎ、Ａｓ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｓｉ、Ａｌ、ＧａおよびＩｎのうち少なくとも一元素を表わす。
また、光磁気材料に使用される金属材料、たとえば上記金属元素のＴｂ、Ｆｅ、Ｃｏなども記録層として使用可能である。
【００２４】
さらに、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｌ、およびＰｔからなる群より選ばれる少なくとも一種の物質からなるか、または、芳香族化合物、脂肪族化合物、アミド、エステル、アミン、ウレア、硫黄化合物及びヒドロキシ化合物からなる群から選択される少なくとも１つのものであるか、またはアントラキノン系、ダイオキシディン系、トリフェノジチアジン系、フェナントレン系、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、メロシアニン系、ピリリウム系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、クロコニウム系、アゾ系、インジゴイド系、メチン系、アズレン系、スルファイド系及びメタンジチオールレート系の色素からなる群から選択される少なくとも１つの色素であるか、または５０重量％以下の高分子物質を含み、高分子物質は、ビニールアルコール系樹脂、ビニールアセテート系樹脂、アクリルレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂及び脂肪酸系樹脂からなる群から選択された少なくとも１つのもの、またはアルミニウム、銀、銅などの金属材料、ＳｉＯ、ＳｉＮ、ＡｌＮ、ＳｉＣ、ＺｎＯ２等の無機材料が使用可能であり、特に銀を主体とする金属または合金を用いることが好適である。
銀を主体とするときは、銀の含有率が８０〜１００原子％、特に９０〜１００％であることが好ましい。
【００２５】
光吸収層（３）の厚さは、５〜２００ｎｍが好適である。
膜厚が５ｎｍより薄いと吸収率が低下し、光から熱への変換が不充分となる。また、膜厚が２００ｎｍより厚い場合、体積が大きすぎるため、変形や熱の伝達が不充分となる。
ＳｉＣを選択した場合、膜厚は８〜１４ｎｍが好適である。
Ａｇを選択した場合は膜厚１０〜４０ｎｍが好適であった。
この層にはマイクロポアが存在してもよく、中には貫通している連続気泡タイプのものが存在する。
また、光吸収層としては、高硬度で、かつ熱伝導率が低い材料が適している。高硬度は、基板やカバー層変形の余計な広がりを抑制するために必要であり、クロストークの低減につながる。また、低熱伝導率は、効率よく（低記録パワーで）光吸収層と基板、あるいは光吸収層とカバー層、あるいは光吸収層と有機材料層との界面を変形させるために必要であり、また効率よく（低記録パワーで）有機材料を分解させるためにも必要である。
以上の点から、光吸収層として、セラミックスを用いることが好ましい。
【００２６】
また、光吸収層と基板、あるいは光吸収層とカバー層、あるいは光吸収層と有機材料層との界面変形を低記録パワーで生じさせるために、また、有機材料の分解を低記録パワーで生じさせるために、光吸収層として、記録波長に対する吸収係数がある程度大きいものを用いることが好ましい。
セラミックスとしては、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢｅＯ、ＺｒＯ２、ＵＯ２、ＴｈＯ２などの単純酸化物系の酸化物、ＳｉＯ２、２ＭｇＯ・ＳｉＯ２、ＭｇＯ・ＳｉＯ２、ＣａＯ・ＳｉＯ３、ＺｒＯ２・ＳｉＯ２、３Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２、２ＭｇＯ・２Ａｌ２Ｏ３・５ＳｉＯ２、Ｌｉ２Ｏ・Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２などのケイ酸塩系の酸化物、Ａｌ２ＴｉＯ５、ＭｇＡｌ２Ｏ４、Ｃａ１０（ＰＯ４）６（ＯＨ）２、ＢａＴｉＯ３、ＬｉＮｂＯ３、ＰＺＴ、ＰＬＺＴ、フェライトなどの複酸化物系の酸化物、あるいは、Ｓｉ３Ｎ４、Ｓｉ６−ＺＡｌＺＯＺＮ８−Ｚ、ＡｌＮ、ＢＮ、ＴｉＮなどの窒化物系の非酸化物、ＳｉＣ、Ｂ４Ｃ、ＴｉＣ、ＷＣなどの炭化物系の非酸化物、ＬａＢ６、ＴｉＢ２、ＺｒＢ２などのホウ化物系の非酸化物、ＣｄＳ、ＭｏＳ２などの硫化物系の非酸化物、ＭｏＳｉ２などのケイ化物系の非酸化物、アモルファス炭素、黒鉛、ダイアモンド等の炭素系の非酸化物を用いることができる。
【００２７】
一方、熱受容層は、光吸収層よりも熱的な影響を受けやすく、変形又は光学的に変化しやすいものである必要がある。このような材料としては、アントラキノン系、ダイオキシディン系、トリフェノジチアジン系、フェナントレン系、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、メロシアニン系、ピリリウム系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、クロコニウム系、アゾ系、インジゴイド系、メチン系、アズレン系、スルファイド系及びメタンジチオールレート系の色素からなる群から選択される少なくとも１つの色素；上記少なくとも１つの色素に加え、ビニールアルコール系樹脂、ビニールアセテート系樹脂、アクリルレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂及び脂肪酸系樹脂からなる群から選択された少なくとも１つの高分子物質を５０重量％以下含有する材料が挙げられるが、使用する色素材料としては、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、メロシアニン系、アゾ系及びホルマザンキレート系の色素が好ましい。熱受容層（４）を成膜するための溶剤は光吸収層にポアがある場合は、ポアに進入しない一定の接触角を有する溶液を形成する材料であれば特に限定はない。たとえば、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１、２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
【００２８】
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上併用して適宜用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。さらに、マイクロポアへの進入をいっそう効果的に防止するためには、熱受容層用の塗布液を塗布した後、乾燥するか又は架橋処理、結晶化処理などを行って、早期に膜を固定化することが好ましい。架橋処理の具体化手段としては、後述する下地層の場合と同様な手段を採用できる。
光吸収層又は熱受容層の成膜に際してはさらに結合剤を使用できる。結合剤としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。
【００２９】
前述したように、熱受容層（４）は光吸収層（３）より熱的な影響を受け、変形、変質または光学的に変化する。熱受容層（４）はガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、ガウス分布の中央部に対応する部分の色素層材料の量が外周部より減少している。
【００３０】
また、他の層の変形の種類を以下に示す。
基板（１）は図３に示す様に隆起する場合と、図４に示す様に変形しないかまたは一次的に変化して最終的に変形なしの形となる場合と、図５に示す様に陥没する場合がある。
基板上に積層された光吸収層（３）は図３、４に示す様に、基板と反対の方向に隆起する場合と、図５に示す様に基板側に陥没する場合、図１３、１４の様に膨潤する場合がある。
また図３のように、光吸収層の隆起に伴って基板もともに隆起する場合と、図４のように、基板と光吸収層の間に空洞が形成される場合がある。
【００３１】
熱受容層（４）の変形の形態は、図３、４に示すように、上下が凹状に変化する場合、図８に示す様に基板と反対側が凹状に変化する場合、図７に示す様に基板側が凹状に変化する場合、図６に示す様に熱受容層の中心付近に空洞が形成される場合、図５に示す様に熱受容層の上下が基板側に凹状に変化する場合、図９に示す様に熱受容層の上下が基板と反対側に凹状に変化する場合がある。
【００３２】
反射層（５）の変形は図１０に示す様に反射層の上下が基板と反対側に隆起する場合、図１１に示す様に基板と反対側に凸状に変化する場合、図１２に示す様に基板側に凸状に変化する場合、図８に示す様に基板側に陥没する場合がある。基板、光吸収層、熱受容層、反射層の形状はそれぞれ独自に組み合わせることができる。その際、各階面で変形が逆方向の場合は図３、４、５に示す様に空洞が界面に形成される。
【００３３】
次に、熱受容層（４）に含まれる成分の変質に関して説明する。
例えば、色素材料を用いた場合、色素材料は光吸収層（３）より熱を受け取り、その一部またはすべてが分解、溶融、昇華する。その結果、変質部分は反射層（５）に癒着し、熱受容層（４）で剥離した際、変質部は反射層（５）に非変質部は光吸収層（３）にそれぞれ優先的に密着して剥離される。
本発明では、反射層／熱受容層界面が反射の担い手であるため、反射層界面を改質した色素材料が癒着することはその部分からの反射光を制御する意味で重要である。
また、逆に変質により密着性がかわり、非変質部分が反射層に癒着し熱受容層で剥離した際、非変質部は反射層に変質部は光吸収層にそれぞれ優先的に密着して剥離される場合もある。この場合は記録後に反射率が増加することがある。
また、変質の様子範囲を確認しながら、記録パワー、記録パルスの長さ、種類を決める必要がある。変質部の色素材料はその構造が破壊されているため、溶解性が変化する。溶解性の変化は非変質部と差がでれば変質の範囲を確認することができる。
例えば、色素材料が分解し低分子化して、溶解性があがる場合、つまり溶けやすい方向に変化する場合でも問題はないが、本発明においては変質部の溶解性がさがる、つまり、溶けにくい方向に変質することが色素の溶融、分解、昇華に伴う光学的特性の変化である反射率の低下の方向となり、好適であった。
溶解性が下がる色素材料には、例えばアゾ系色素及びホルマザンキレート色素等があり、溶解性が上がる色素材料にはフタロシアニン系色素、シアニン系色素等がある。
【００３４】
溶解性の確認には直接、変質部と非変質部に溶媒を浸透させ、溶解性を比較する。
用いる溶媒としては、たとえば、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１、２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上併用して適宜用いることができる。
【００３５】
変質の範囲は、ガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、記録のため光強度を高くした記録マーク領域の内側および外側まで及んでいる必要がある。
その理由は、記録再生時、基板の傾きなどによりスポット系が変化した場合でもスポット系外に及ぶ記録が成されているので、信号には変化なく、傾き等の影響を受けにくいためである。
ここで記録マーク領域とはｒ＝λ／２ＮＡ×Ｋ（但し、λは記録に用いる波長、ＮＡはレンズの開口率を表わし、Ｋ＝０．６〜１．２２である。）で表わされるスポットを照射し、そのスポットを移動して得られる領域の範囲であり、ｒ＝λ／２ＮＡ×０．６の範囲の場合は信号はジッターの少ない良好な記録となる。ここでλは記録に用いる波長、ＮＡはレンズの開口率を表わす。
また、ｒ＝λ／２ＮＡの場合でも熱受容層の膜厚を制御することでジッターの少ない良好な記録を達成することができる。
また、ｒ＝λ／２ＮＡ×１．２２の場合では、記録マーク領域外の変質範囲が広くなる、強いコントラストが得られる他、ディスクの傾き等の影響も受けにくくなる。
本発明においては、Ｋ＝０．６〜１．２２が好ましい。
【００３６】
本発明では特に記録領域における未記録部、すなわち記録後の未記録部の見かけ上の光学特性の変化量が、未記録領域における未記録部、すなわち記録前の未記録部の光学特性の値に対して相対値で±５０％以内となるように設定することが好ましい。ここで、見かけ上の光学特性に関して説明すると、ディスクが停止している場合においては、例えば未記録−記録−未記録というように記録領域を形成した場合、反射光量は、記録部分のみが未記録部分よりある程度低下する。これに対して、ディスクがある線速で回転している場合には、上記未記録−記録−未記録のうち記録部分のみ反射光量が低下するわけではなく、未記録部分の反射率を充分関知する前に、次の記録部分が来るため、未記録部分の反射率も低下してしまう。見かけ上の光学特性の変化とは、このような現象により未記録部分の反射率が見かけ上低下することである。
本発明においては上記したように記録領域の未記録部の見かけ上の光学特性の変化量が、未記録領域における未記録部の光学特性の値に対して相対値で±５０％以内となるように設定するが、上記±５０％以内であれば、記録領域の未記録部の反射率が記録により変化しないため、記録領域の未記録部と未記録領域の未記録部の反射率の差が小さくなり、記録領域から続けて未記録領域を再生、記録する場合でも光ピックアップが安定してトラックを追随でき、トラックオフなどの発生を防止できる。この光学特性の変化量はスポット系の大きさを制御することにより制御できる。
【００３７】
また、未記録部の反射率を１００とした場合、本記録部の形状、記録部の変質、および変質の確認方法で、記録部の反射率を１０〜２５０の範囲で任意に調整できる。
反射率と各要因の関係は以下の関係式による。
光が媒質１から媒質２に進むときの振幅反射率をγ１２、振幅透過率をｔ１２とすると、垂直入射の場合の振幅反射率γ１２、振幅透過率ｔ１２は、媒質１、媒質２の屈折率ｎ１、ｎ２を使って下記の式で表わされる。
【００３８】
【数１】
2004047055.tif 000003
【００３９】
【数２】
2004047055.tif 000004
また、エネルギー反射率Ｒは、振幅反射率γを用いて下記式で表わされる。
【００４０】
【数３】
Ｒ＝｜γ｜２　　　　　　　　　………（３）
すなわち、入射波をａ０ｃｏｓθとして、反射した波の合成波をａ’ｃｏｓ（θ＋Δ）とするとき、エネルギー反射率Ｒは下記式によって表わされる。
【００４１】
【数４】
2004047055.tif 000005
このことを利用して、各要因の好適となる範囲や材料の選定、記録条件を算出することができる。
【００４２】
熱受容層（４）は膜厚が５ｎｍより薄い場合は熱の吸収が充分ではなく、変形や変化が不充分となる。また、膜厚が２００ｎｍより厚い場合は体積が大きいため変形が抑えられたり、熱的な影響を受けて光学的に変化できない部分が存在するため問題である。
本発明において、熱受容層は、前述した材料を有機溶媒に溶解した後、これを光吸収層上にスピンコーティングすることによって形成される。この際、有機溶媒は、前述した材料が容易に溶解できるものである必要があり、その溶液は光吸収層にポアを有する場合はポアに進入しない一定の接触角を有する必要がある。
【００４３】
ここでポアに進入しない一定の接触角とは、ポアのサイズにより必要とされる表面張力が異なるため表面張力の値を数値化できないが、成膜後ポア部分に発生する海島状の平均膜厚より平均膜厚の２％以上薄い部分は２２５μｍ２が上限であり、この範囲以上ではトラッキング精度、エラー訂正が不可能になるなどの問題が発生する。よって、ポアに溶液が浸透した場合でも上記の範囲以上に浸透が広がらなければ、ポアに進入しない一定の接触角を有する溶液と判断する。
【００４４】
反射層（５）に用いる材料には特に限定はないが、アルミニウム、銀、銅などの金属材料又はこれらを主成分とする合金材料を使用することができる。特に金を主体とする金属または合金を用いることが好適である。
銀を主体とするとは、銀の含有率が８０〜１００原子％、特に９０〜１００％であることが好ましい。
また、これらの反射層材料のうちでは、安価でありかつコンパクトディスクにおいて使用されて実績があることから、アルミニウムを使用することもできる。反射層材料として金属材料又は合金材料を用いる場合には、スパッタリングや真空蒸着などの真空成膜方法によって、反射層を形成することができる。この場合、真空槽内の真空度を変えて（例えば、１０−５ｔｏｒｒ程度）スパッタリングを行ない、密度または結晶化の状態の違う膜を形成して金属反射層の反射率を高くする技術を適用することもできる。
【００４５】
保護層（１０）は、例えばＳｉＯ、ＳｉＮ、ＡｌＮ等の無機材料や、光硬化性樹脂などの有機材料を用いて形成することができる。無機保護層は、真空成膜方法によって形成することができ、有機保護層は、反射層（５）上に光硬化性樹脂膜（たとえば、大日本インキ化学工業（株）のＳＤ１７００、ＳＤ３１８、ＳＤ３０１）をスピンコートした後、樹脂硬化光を照射することによって形成できる。
また、高密度化を図るために、高ＮＡのレンズを用いる場合、保護層を光透過性とする必要となる。例えば高ＮＡ化すると、再生光が透過する部分の厚さを薄くする必要がある。これは、高ＮＡ化に伴い、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角度（いわゆるチルト角、光源の波長の逆数と対物レンズの開口数の積の２乗に比例する）により発生する収差の許容量が小さくなるためであり、このチルト角が基板の厚さによる収差の影響を受け易いためである。
したがって、基板の厚さを薄くしてチルト角に対する収差の影響をなるべく小さくするようにしている。
【００４６】
そこで、例えば基板上に凹凸を形成して記録層とし、その上に反射層を設け、さらにこの上に光を透過する薄膜である光透過性の保護層を設けるようにし、保護層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような光記録媒体や、基板上に反射層を設け、その上に熱受容層、光吸収層を形成して記録層とし、さらにこの上に光透過性を有する保護層を設けるようにし、保護層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような光記録媒体が提案されている。このようにすれば、カバー層を薄型化していくことで対物レンズの高ＮＡ化に対応可能である。つまり、薄いカバー層を設け、このカバー層側から記録再生することで、さらなる高記録密度化を図ることができる。なお、このような保護層はポリカーボネートシートや、紫外線硬化型樹脂により形成されるのが一般的である。厚みは０．１ｍｍ以下が好適である。
【００４７】
本発明において、基板（１）は、レーザーに対して透明性を維持し、優れた衝撃強度を持っており、８０乃至２００℃の温度で容易に膨脹または変形、変質される材料からなる。このような特性を満足する材質としてはポリカボネート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、ポリエステル、非晶質ポリオレフィンなどがあり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００乃至２００℃であることが望ましい。また、基板表面には、記録又は再生時、入射レーザー光を案内するためのプリグルーブが形成されており、その深さは１０乃至２００ｎｍであることが望ましい。プリグルーブの深さが１０ｎｍ未満の場合には、記録後基板膨脹により反射率が大きく増加されて記録信号にノイズが多くなり、２００ｎｍを超える場合には、熱受容層層にもプリグルーブが深く生じるため均一な成膜が得難い。
【００４８】
光吸収層（３）の熱伝導度は、１０（Ｗ／ｃｍ・℃）以下であることが望ましい。１０（Ｗ／ｃｍ・℃）を超過する場合には、レーザーにより金属記録膜から発生する熱が周囲に急速に伝導されて薄膜自体が必要な所定温度以上に加熱され難く、加熱されても記録ピットが大きいので隣接したトラックまで変形させる恐れがある。
さらに、光吸収層（３）の線膨脹係数は、３×１０−７／℃以上であることが望ましい。前記範囲の未満なら、記録時基板の膨脹により金属記録膜に亀裂が生じ、よって均一の記録信号が得られない。
熱受容層を構成するために使用する溶媒は、溶解度が５ｍｇ／１ｍｌ以上が必要である。
【００４９】
一方、光吸収層には超解像技術を付加することも可能である。通常光ディスクの再生限界はλ／２ＮＡで表わされる（ここで、λは波長、ＮＡは光の絞り込み確度の正弦である。）。
この限界を超える分解能を実現するため、以下の超解像技術を適応する。
対物レンズでレーザ光を媒体の上に集光させた再生ビームの強度分布Ｉは下記式で表わされる。
【００５０】
【数５】
Ｉ＝Ｉ０＊ｅｘｐ（−２（ｒ／ｒ０）２）
（ここで、Ｉ０はレーザビームの中心部の強度、レーザビームの強度が１／ｅ２になる半径をｒ０としている。）
このように強度分布がガウス分布の再生ビームで記録媒体が加熱されると、ビームが照射された部分の温度分布も同じようにガウス分布に近いものとなる。
ビームの中心付近の温度が高い部分を再生領域とし、周辺部分の温度の低い部分を記録再生に関与しない部分とすることで実行的なビームスポットの経が小さくなり分解能が向上する。
ガウス分布では中心温度のおよそ０．６倍のところ、すなわち半径ｒ０／２のところで傾斜が急になる。この部分にあわせると安定した記録再生が可能となる。
【００５１】
さらに、熱受容層はサーモクロミック色素を使用し、吸収係数の変化などの熱吸収層の光学的変化を利用して記録再生することもできる。
用いるサーモクロミック色素としてはスピロピラン、フルオラン、ビアントロン、トリアリールイミダゾールが使用可能である。
【００５２】
さらに、光吸収層は光を吸収し、光を電気エネルギーに変換し、その電気化学的酸化還元で熱吸収層に記録を行なうこともできる。
その場合、光吸収層はＧｅ、Ｓｉ、ＧａＡｓ、Ｇａｐ、ＣｄＳｅ、ＣｄＳ、ＺｎＯ、ＳｎＯ、ＴｉＯ、ＳｉＣなどが使用可能である。
また、熱受容層にはチオニン色素、インジゴ系色素、酸化タングステン、メロシアニン、フタロシアニン、ペリレンテトラカルボン酸、ローダミン、キナクリドン、ポリアセチレン、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（Ｎ−メチルピロール）が使用可能である。
【００５３】
図１７は、本発明の光情報記録媒体の各界面での反射光の合成光を説明するための図である。図中の各信号は下記の通りである。
１：ポリカーボネイト製基板
４：有機色素製記録層
３：ＳｉＣ製薄層
１，３の間の空隙：空気（空隙）
５：Ａｇ反射層
ｎ０：ａｉｒの屈折率（ｎ０＝１）
ｎ１：ＰＣの屈折率（ｎ１＝１．６）
ｎ２：ＳｉＣの屈折率（ｎ２＝２．８）
ｎ３：ｄｙｅの屈折率（ｎ３＝１．４）
ｎ４：Ａｇの屈折率（ｎ４＝０．１）
ｄ１：空洞の厚さ
ｄ２：ＳｉＣの膜厚
ｄ３：ｄｙｅの厚さ
ｄ４：Ａｇの膜厚
Ａ１：ＰＣと空洞の界面での反射光
Ａ２：空洞とＳｉＣの界面での反射光
Ａ３：ＳｉＣとｄｙｅの界面での反射光
Ａ４：ｄｙｅとＡｇの界面での反射光
Ａ５：ＡｇとＰＣの界面での反射光
各界面の反射光Ａ１〜Ａ５は、下式で表わすことができる。
【００５４】
【数６】
Ａ１＝γ１０ｃｏｓθ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　………（１）
Ａ２＝ｔ１０γ０２ｔ０１ｃｏｓ（θ＋４πｎ０ｄ１／λ）　　　　　　　　　　　　　　　………（２）
Ａ３＝ｔ１０ｔ０２γ２３ｔ２０ｔ０１ｃｏｓ（θ＋４π（ｎ０ｄ１＋ｎ２ｄ２）／λ）　　　　　　　　………（３）
Ａ４＝ｔ１０ｔ０２ｔ２３γ３４ｔ３２ｔ２０ｔ０１ｃｏｓ（θ＋４π（ｎ０ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３）／λ）　　　………（４）
Ａ５＝ｔ１０ｔ０２ｔ２３ｔ４１γ４１ｔ１４ｔ３２ｔ２０ｔ０１ｃｏｓ（θ＋４π（ｎ０ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３＋ｎ４ｄ４）／λ）………（５）
したがって各界面の反射光Ａ１〜Ａ５の合成した光（Ａ１＋Ａ２＋Ａ３＋Ａ４＋Ａ５）＝ａ’ｃｏｓ（θ＋Δ）を解いて、ａ’をγ、ｔ、ｎ、ｄ、λで表わし、それぞれの値を代入して２乗したものが、エネルギー反射率Ｒとなる（ａ０＝１のため）。
ここでは代表例として記録中央部分の計算を示したが、実際には計算の場所をわずかにかえ、各層の形状の影響を考慮する必要がある。
また、ここでは変質の影響を加味していないが、この影響は変形とともに考慮する必要がある。
さらに、上記式では各層間での多重反射を考慮していないが実際には適宜考慮の必要がある。
【００５５】
具体的には図２１に記載の内容となる。ここでは簡単のために、３層構造を考えると、反射波Ｃの複素振幅は、１回反射光Ｃ１、２回反射光Ｃ２、３回反射光Ｃ３、…の和で表わされる。
したがって、反射波の複素振幅の和Ｃは等比級数で表わされる。
【００５６】
【数７】
Ｃ＝｛ｒ＋ｔｔ’ｒ’ｅｊδ（１＋ｒ’２ｅｊδ＋ｒ’４ｅ２ｊδ＋…）｝Ａ０
【００５７】
以下に、本発明の情報記録媒体及びその製法について、図１８〜２０に基づき具体的に説明する。
図１８は本発明に係る光情報記録媒体の一例を示す要部拡大断面図である。この図から明らかなように、本例の光情報記録媒体は、透明基板（１）のプリフォーマットパターン形成面に下地層（６）を形成している。下地層（６）は、透明基板（１）と光吸収層（３）との密着性の改善や記録感度の改善、それに光吸収層（３）の保護等および熱吸収層として設けられるものであって、例えばポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリアクリル酸、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、ポリメタクリル酸、ポリプロピレングリコール、メチルセルロース、ポリビニルナイトレート、ニトロセルロースなどの親水性樹脂によって形成される。下地層（６）の形成は、親水性樹脂の水溶液を、透明基板（１）のプリフォーマットパターン形成面（２）にスピンコートすることによって行なえる。
なお、下地層（６）は、親水性樹脂よりなっているため、耐水性（耐湿性、透湿性）及び耐熱性が悪い。したがって、下地層（６）には、架橋処理や結晶化処理を施して、耐水性及び耐熱性を改善することが好ましい。具体的には、親水性樹脂の水溶液に架橋剤を添加して下地層（６）を成膜した後に、光照射による架橋反応や加熱による架橋反応を起こさせたり、あるいは架橋剤の添加のない下地層（６）を熱処理して結晶化（例えば、親水性樹脂としてポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いる場合には、ＰＶＡを変性ＰＶＡ化する。）させる。
【００５８】
架橋処理と結晶化処理とを比較すると、加熱による悪影響を透明基板（１）に与えることがなく、かつ作業性にも優れていることから、結晶化処理よりも架橋処理の方が好ましい。以下に、架橋反応の具体例を示す。実施に際しては、これらの架橋反応から、必要に応じて任意の手段を採用することができる。
（Ｉ）架橋剤として、重クロム酸アンモニウムを添加し、色素表面を処理すると同時に、成膜後反応光を照射して、下地層に架橋反応を起こさせる方法。
（ＩＩ）無機系架橋剤として、例えば銅、ホウ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、スズ、バナジウム、クロム等を添加する方法。
（ＩＩＩ）アルデヒドを用いてアセタール化する方法。
（ＩＶ）水酸基をアルデヒド化する方法。
（Ｖ）活性化ビニル化合物を添加する方法。
（ＶＩ）エポキシ化合物を添加してエテール化する方法。
（ＶＩＩ）酸解媒のもとでジカルボン酸反応を起させる方法。
（ＶＩＩＩ）コハク酸及び硫酸を添加する方法。
（ＩＶ）トリエチレングリコール及びアクリル酸メチルを添加する方法。
（Ｘ）ポリアクリル酸及びメチルビニルエテールマレイン酸共重合体をブレンドする方法。
【００５９】
下地層（６）は、光エネルギを吸収して熱エネルギに変換する材料、若しくはこの種のイオン性の色素材料を少なくとも一部に含むヒートモード記録材料を、前記プリフォーマットパターン（２）内に充填することによって形成される。
下地層（６）を形成可能な色素材料としては、例えばポリメチン系色素、アントラキノン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、キサンテン系色素、トリフェニルメタン系色素、ピリリウム系色素、アズレン系色素、含金属アゾ染料、アゾ染料等を挙げることができる。これらのうちでは、ジカルボシアニン誘導体、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、シアニン誘導体、アゾ染料誘導体が特に好適に用いられる。また、アミニウム系色素などの各種クエンチャが添加された色素材料を用いることもできる。さらには、上記色素材料群より選択される１種又は２種以上の色素材料を樹脂中に分散したものを、下地層（６）の形成材料として用いることもできる。色素材料を分散可能な樹脂材料としては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂などを挙げることができる。
【００６０】
また、下地層（６）は、透明基板（１）のプリフォーマットパターン形成面に、先に例示的に列挙された色素材料群より選択された色素材料の溶剤溶液をスピンコートし形成する。さらに溝状のプリフォーマットパターン（２）内に色素材料を充填した後、プリフォーマットパターン（２）の間のランド部（２ｃ）に付着した色素材料を選択的に除去し、透明基板（１）の表面を露出すると共に、プリフォーマットパターン（２）内にのみ色素材料を充填することによって形成できる。なお、色素材料の溶剤としては、アルコール系溶剤あるいはセルソルブ系溶剤などを用いることができる。
【００６１】
さらに、以下に示す二座配位子を取りうるキレート材を含有し、本発明の目的を達成することもできる。たとえば、無機酸類、ジカルボ酸類、オキシカルボ酸類、ジオキシ化合物、オキシオキシム類、オキシアルデヒドおよび誘導体類、ジケトン類および類似化合物、オキシキノン類、トロボロン類、Ｎ−オキシド化合物、アミノカルボン酸および類似化合物、ヒドロキシルアミン類、オキシン類、アルジミン類、オキシオキシム類、オキシアゾ化合物、ニトロソナフトール類、トリアゼン類、ピウレット類、ホルマザン類およびジチゾン類、ビクアリド類、グリオキシム、ジアミン類および類似化合物、ヒドラジン誘導体、チオエーテル類がある。さらに、イミノ基（イミド、アミド）を有する誘導体も使用可能である。
【００６２】
また、上記の有機材料の他、原子配列を変化し情報の記録ができる相変化材料も使用可能である。
具体的にはＡ−Ｂ−Ｃ−Ｇｅ−Ｔｅで代表される金属、および合金である。
ここでＡはＣｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｐ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、ランタニド元素、アクチニド元素、アルカリ土類金属元素、不活性ガス元素、などのうち少なくとも一つの元素を表わす。
ＢはＴｌ、Ｉなどハロゲン元素、およびＮａなどのアルカリ金属元素のうち少なくとも一元素を表わす。
ＣはＳｂ、Ｓｎ、Ａｓ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｓｉ、Ａｌ、ＧａおよびＩｎのうち少なくとも一元素を表わす。
また、光磁気材料に使用される金属材料、たとえば上記金属元素のＴｂ、Ｆｅ、Ｃｏなども記録層として使用可能である。
【００６３】
さらに、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｌ、およびＰｔからなる群より選ばれる少なくとも一種の物質からなるか、または、芳香族化合物、脂肪族化合物、アミド、エステル、アミン、ウレア、硫黄化合物及びヒドロキシ化合物からなる群から選択される少なくとも１つのものであるか、またはアントラキノン系、ダイオキシディン系、トリフェノジチアジン系、フェナントレン系、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、メロシアニン系、ピリリウム系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、クロコニウム系、アゾ系、インジゴイド系、メチン系、アズレン系、スルファイド系及びメタンジチオールレート系の色素からなる群から選択される少なくとも１つの色素であるか、または５０重量％以下の高分子物質を含み、高分子物質は、ビニールアルコール系樹脂、ビニールアセテート系樹脂、アクリルレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂及び脂肪酸系樹脂からなる群から選択された少なくとも１つのもの、またはアルミニウム、銀、銅などの金属材料、ＳｉＯ、ＳｉＮ、ＡｌＮ、ＳｉＣ、ＺｎＯ２等の無機材料が使用可能であり、特に金を主体とする金属または合金を用いることが好適である。
銀を主体とするとは、銀の含有率が８０〜１００原子％、特に９０〜１００％であることが好ましい。
【００６４】
下地層（６）の厚さは、５〜２００ｎｍが好適である。
膜厚が５ｎｍより薄いと成膜が安定しない。また、膜厚が２００ｎｍより厚い場合、体積が大きすぎるため、変形や熱の伝達、穴形成が不充分となる。
ＳｉＣを選択した場合、膜厚は８〜１４ｎｍが好適である。
Ａｇを選択した場合は膜厚１０〜４０ｎｍが好適であった。
この層にはマイクロポアが存在し、中には貫通している連続気泡タイプが存在する。
【００６５】
また、図１９は、本発明に係る光情報記録媒体の別の例を示す要部拡大断面図である。この図から明らかなように、本発明の光情報記録媒体は、光吸収層（３）と熱受容層（４）の間に中間層（７）を介して積層している。中間層（７）は、情報記録部（３）と反射層（４）との密着性の改善や記録感度の改善、それに情報記録部（３）の保護等のために設けられるものであって、下地層（６）と同種の親水性樹脂または光吸収層（３）の材料を使用することができる。中間層（７）の材料に、親水性樹脂を選択した場合、その水溶液を情報記録部（３）上にスピンコートすることによって行なえる。当該中間層（７）についても、耐水性及び耐熱性を改善するため、スピンコートされた中間層（７）に、架橋処理や結晶化処理を施すことが好ましい。架橋処理及び結晶化処理は、下地膜同様の方法で行なえる。
【００６６】
図２０は本発明のディスク製造のフローチャートの一例である。
以下、手順を具体的に説明する。
Ｓ１：ガラス円盤を研磨、洗浄する。
Ｓ２：シランコート
Ｓ３：ガラス円盤上にフォトレジストをスピンコートし、所定の膜厚を有するレジスト層を形成する。
Ｓ４：溶剤をとばすためプリベークを行なう。
Ｓ５：レジスト層に集光レンズを介してレーザを照射する（カッティング）。
Ｓ６：この露光済みガラス円盤の現像処理する。
Ｓ７：レジストをＴｇ以上に加熱し溝形状を整形する（第一ベーク）。
Ｓ８：パターンの固化のためベークを行なう（第二ベーク）。
Ｓ９：蒸着、メッキ
Ｓ１０：ガラス円盤の凹凸面に金属膜を形成し、それを剥離することによりスタンパーを作成する。
Ｓ１１：スタンパーを用いて射出成形を行ない、所定の膜厚を有するレプリカ層を形成する。
Ｓ１２：透明基板の片側にスピンコート法によりハードコート層を形成する。
Ｓ１３：透明基板の片面に必要に応じてスピンコート法またはスパッタ法により下地層を形成する。
Ｓ１４：下地層の上面にスピンコート法またはスパッタ法で光吸収層を形成する。
Ｓ１５：光吸収層上に熱受容層を形成する。
Ｓ１６：熱受容層上に反射層を形成する。
Ｓ１７：必要に応じ保護層、他の層を積層し、単板に状態にて使用する場合。
Ｓ１８：必要に応じ保護層、他の層を積層し、それぞれのディスクを張り合わせ両面ディスクとする。
Ｓ１９：このディスクをカートリッジに収納する。
Ｓ２０：特性の評価を行なう。
このフローチャートに関して、Ｓ７およびＳ８は同時に行なうこともできる。溝形状の整形には加熱温度９０度以上１８０度以下、時間は５から９０分で任意に選択できる。
なお、この説明においては、ディスク状記録媒体を例に挙げたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えばカード状、スティック状あるいはテープ状など、他の形態の情報記録媒体にも応用できることは勿論である。
【００６７】
【実施例】
以下に、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
図１及び図２に示すプリフォーマットパターンを有するポリカーボネート基板に、ＳｉＣ膜をスパッタ法にて成膜し、さらにその上に下記（化１）で示される色素の混合物からなる有機材料層をスピンコート法によって形成し（平均膜厚１００ｎｍ）、熱吸収層を形成した。
この熱吸収層上にスパッタ法により厚さ１００ｎｍの銀膜を形成し反射層とした。反射層上に大日本インキ化学工業（株）のＳＤ１７００（熱伝導率１．０以下）を膜厚５μｍで積層し保護層とした。さらに保護層上にＵＶ硬化性のインク層を設けた。具体的にはＤＩＣＵＶインク（大日本インキ化学工業（株））を０．１ｇから７．０ｇの範囲で積層した。
上記光記録媒体に対し、パルステック工業（株）製の光ディスク評価装置ＤＤＵ−１０００（波長：４０５ｎｍ、ＮＡ：０．６５）を用いて、以下の条件で記録を行なった。
その結果は、短マーク＝０．３μｍ、変調度３０％、長マーク＝１．０μｍ、変調度６０％で、短マーク、長マークとも、変調度が充分大きく、非常に明瞭な信号が得られた。
【００６８】
【化１】
2004047055.tif 000006
【００６９】
（記録条件）
記録線速度：６．０（ｍ／ｓ）
記録ストラテジ：Ｂａｓｉｃ　ｓｔｒａｔｅｇｙ　Ｔｔｏｐ−Ｔｍｐ＝
１．４０−０．７５（Ｔ）
記録パワー：１１．０（ｍｗ）
記録パターン：３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ、８Ｔ、１４Ｔの単一周期信号
【００７０】
上記の記録条件は情報記録媒体の記録部を観察しながら決定した。その方法は、まず熱受容層を剥離する。本実施例では変質部の色素材が反射層に優先的に癒着し、非変質部は光吸収層側に優先的に癒着した。
さらに、剥離した反射層、および光吸収層にエタノールを滴下し変質の範囲を測定し、その結果を記録条件に反映し、上記の条件を見い出した。
【００７１】
記録部の断面の様子をランドに記録した場合を図１５に、グルーブに記録した場合を図１６に示す。図１５および１６よりわかるように、本実施例では熱受容層は記録スポットの中央部の色素量が低下し、記録スポット径の外側まで変質が見られた。ここで用いた記録スポット径ｒとはｒ＝λ／２ＮＡ×Ｋ（但し、Ｋ＝０．６〜１．２２）で表わされる範囲である。
また、光吸収層は基板と反対側に凸状となり、基板は凹状の変形をした。
【００７２】
この媒体では光吸収層に１０個以上のφ＝２μｍのポア、４個のφ＝５μｍのポア、一個φ＝１０μｍのポアが存在し、この影響により、２２５μｍ２の範囲で、平均膜厚より平均膜厚の２％以上薄い部分があったが、プレヤーでエラー訂正され良好に再生することができた。
また、ポアが存在しない部分でも島状に平均膜厚より平均膜厚の２％以上薄い部分が確認できた。この部分は連続気泡ではなく、独立気泡となっている。
なお、４０５ｎｍにおける（化１）の複素屈折率は１．４８５−ｉ　０．０６９である。
【００７３】
本実施例により、本発明の光記録媒体の層構成と記録原理が、青色レーザ波長対応の有機材料からなる追記型光記録媒体の実現に非常に有効であることが確認できた。また、本発明の光記録媒体の層構成と記録原理が、青色レーザ波長対応の高変調度が確保できる追記型光記録媒体の実現に非常に有効であることが確認できた。
【００７４】
【発明の効果】
以上、詳細且つ具体的な説明より明らかなように、請求項１の発明は、色素材料を含む熱受容層を膜厚２００ｎｍ以下になるように光吸収層の上に積層した層構造を有する情報記録媒体に係るものであって、この媒体にガウス分布を示す光を照射し記録した結果、熱受容層が、記録のため光強度を高くした記録マーク領域の内側、およびその外側の部分が変質したことにより大きなコントラストを得ることができるとともに、基板が傾いた場合にも信号には変化がなく、傾き等の影響を受けにくいという効果を有する。
請求項２の発明は、色素材料を含む熱受容層を膜厚２００ｎｍ以下になるように光吸収層の上に積層した層構造を有する情報記録媒体に係るものであって、この媒体にガウス分布を示す光を照射し、記録した結果、ガウス分布の中央部に対応する部分の熱受容層中の成分量が外周部より減少していることにより、大きなコントラストを得ることができ、良好に記録することができる。また、請求項３の発明は、請求項１又は２に記載の情報記録媒体において、色素材料をシアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、メロシアニン系、アゾ系及びホルマザンキレート系からなる群から選択される少なくとも一つの色素に限定したものであって、さらに大きなコントラストを得ることができる。請求項４の発明は、ガウス分布を示す光を照射することにより熱受容層の変質に加え、少なくとも熱受容層が変形しているものであり、これにより、より高いコントラストを得ることができる。請求項５の発明は熱受容層が記録のため光強度を高くした範囲、すなわち、記録マーク領域の内側、およびその外側の部分が変質することで大きなコントラストを得ることができ、良好に記録することができる。また、請求項６の発明は、熱受容層上に反射層を積層しており、反射層／熱受容層界面を反射の担い手としたものであって、これによれば、光照射により変質し剥離した熱受容層の色素材料は上記反射層界面に癒着することになり、これは上記界面の部分からの反射光を制御する意味で重要である。このことにより、大きなコントラストを得ることができ、良好に記録することができる。
請求項７の発明は、記録マーク領域の範囲がｒ＝λ／ＮＡ×０．８（λは記録に用いる波長、ＮＡはレンズの開口率を表わす。）のスポットを照射し移動して得られる範囲としているので、隣のトラックへの影響が少なく、ジッターの小さい良好な記録をすることができる。請求項８の発明は、熱受容層の変質により、密着性が変化し剥離させるもので、このことは、変質部と非変質部とがそれぞれ上下の別の層に優先的に密着し、剥離するまで変質を促進していることを意味し、このことにより、大きなコントラストを得ることができる。
請求項９の発明は、熱受容層の変質が材料の分解、昇華、溶融により起こり、その光学的性質変化を見る目安として溶解特性を用いたものであり、溶解特性が変化するまでの範囲の変質を誘発することにより、大きなコントラストを得ることができる。
請求項１０の発明は、例えば記録領域において記録−未記録−記録というように形成した未記録部分の見かけ上の光学特性の変化量が、記録を行っていない未記録領域の光学特性の値に対して相対値で±５０％以内としているので、記録領域の未記録部と未記録領域の未記録部との反射率の差が小さくなり、記録領域から続けて未記録領域を再生、記録する場合でも、光ピックアップが安定してトラックを追随できる。
請求項１１の発明は、記録部の見かけ上の光学特性の変化が記録により反射率が低下するように設定したものである。通常、情報記録媒体は記録前にアドレスを示す、プリピットなどが存在し、その信号は反射率が低下する方向に設定されているが、記録後の信号も同じく反射率が低下する方向である方が、信号を検出する方向が同じであるため、回路の設計などが容易となる。
請求項１２の発明は、前記変質部と非変質部に溶媒を浸透させ、溶解性を比較して、変質部を確認するもので、簡便に記録範囲を確認することができる。これにより、その情報を簡便に記録条件に反映でき、良好な記録をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光情報記録媒体の構成を表わす要部拡大断面図の一例である。
【図２】本発明に係る光情報記録媒体の平面図である。
【図３】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の一例である。
【図４】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図５】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図６】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図７】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図８】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図９】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１０】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１１】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１２】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１３】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１４】本発明に係る光情報記録媒体の記録の状態を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１５】本発明に係る光情報記録媒体の変質の様子を表わす要部拡大断面図の一例である。
【図１６】本発明に係る光情報記録媒体の変質の様子を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１７】本発明に係る光情報記録媒体の各界面での反射光の合成光を説明するための図である。
【図１８】本発明に係る光情報記録媒体の構成を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図１９】本発明に係る光情報記録媒体の構成を表わす要部拡大断面図の他の例である。
【図２０】本発明に係る光情報記録媒体製造のフローチャートである。
【図２１】各層間での多重反射を説明するための図である。
【符号の説明】
１　透明基板
２　プリフォーマットパターン
３　光吸収層（情報記録部）
４　熱受容層
５　反射層
６　下地層
７　中間層
１０　保護層
１ａ　センタ孔
２ａ　案内溝
２ｂ　プリピット
２ｃ　ランド部
【図１】
2004047055.tif 000007
【図２】
2004047055.tif 000008
【図３】
2004047055.tif 000009
【図４】
2004047055.tif 000010
【図５】
2004047055.tif 000011
【図６】
2004047055.tif 000012
【図７】
2004047055.tif 000013
【図８】
2004047055.tif 000014
【図９】
2004047055.tif 000015
【図１０】
2004047055.tif 000016
【図１１】
2004047055.tif 000017
【図１２】
2004047055.tif 000018
【図１３】
2004047055.tif 000019
【図１４】
2004047055.tif 000020
【図１５】
2004047055.tif 000021
【図１６】
2004047055.tif 000022
【図１７】
2004047055.tif 000023
【図１８】
2004047055.tif 000024
【図１９】
2004047055.tif 000025
【図２０】
2004047055.tif 000026
【図２１】
2004047055.tif 000027