(57)【要約】【課題】真空紫外光を用いた露光装置であっても、各種調整作業性を維持しつつ、調整機構のために分割された光路空間構成部材の間の隙間をシールして光路空間内部を数ｐｐｍレベルもしくはそれ以下の純度に保持することを可能とする露光装置及び露光方法、フィルム構造体を提供する。【解決手段】マスクのパターンを基板Ｗに転写する露光装置本体と、露光装置本体内の所定の空間Ｓ１を外気から隔離する隔離機構７１とを備える露光装置１０において、隔離機構７１は、第１の薄膜部材７２ａと、該第１の薄膜部材７２ａに対して所定間隔離して設けられた第２の薄膜部材７２ｂと、第１の薄膜部材７２ａと第２の薄膜部材７２ｂとの間の空間Ｓ３に封入される気体とを有することを特徴とする。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパターンを基板に転写する露光装置本体と、前記露光装置本体内の所定の空間を外気から隔離する隔離機構とを備える露光装置において、
前記隔離機構は、第１の薄膜部材と、該第１の薄膜部材に対して所定間隔離して設けられた第２の薄膜部材と、前記第１の薄膜部材と前記第２の薄膜部材との間の空間に封入される気体とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記隔離機構は、前記第１の薄膜部材を保持する第１保持部と、前記第２の薄膜部材を保持する第２保持部と、前記第１の薄膜部材と前記第２の薄膜部材との間の空間に前記気体を供給する気体供給口とを備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１の保持部又は前記第２の保持部のいずれか一方は、前記第１の薄膜部材と前記第２の薄膜部材との間の空間に供給された前記気体を排気する気体排気口を備えることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記所定の空間内に、前記マスクのパターンを前記基板に転写するための露光光を透過する気体を供給するガス供給機構を備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記所定の空間内に供給される気体と、前記第１の薄膜部材と前記第２の薄膜部材との間の空間に封入される気体とは、同じであることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１の薄膜部材は、前記所定の空間に対し、前記外気に含まれる複数の物質のうち、第１の物質の侵入を遮断する機能を有し、
前記第２の薄膜部材は、前記所定の空間に対し、前記外気に含まれる複数の物質のうち、前記第１の物質とは異なる第２物質の侵入を遮断する機能を有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記所定の空間側から、前記第１の薄膜部材、前記第２の薄膜部材の順に設けられることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第１の薄膜部材は、伸縮性を有する第１材料よりなる第１の薄膜と、前記所定の空間に対する前記外気の侵入を遮断する第２材料よりなる第２の薄膜と、金属膜とで形成され、
前記第２の薄膜部材は、前記第１の薄膜で形成されることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記マスクパターンを前記基板に転写する露光方法。
【請求項１０】
マスクのパターンを基板に転写する露光装置本体内における所定の空間を外気から隔離するフィルム構造体であって、
前記フィルム構造体は、第１の薄膜部材と、該第１の薄膜部材に対して所定間隔離して設けられた第２の薄膜部材と、前記第１の薄膜部材と前記第２の薄膜部材との間の空間に封入される気体とを有することを特徴とするフィルム構造体。
【請求項１１】
前記第１の薄膜部材と、前記第２の薄膜部材とは、複数の薄膜が積層して形成されることを特徴とする請求項１０に記載にフィルム構造体。
【請求項１２】
前記第１の薄膜部材と、前記第２の薄膜部材とは、積層する薄膜の種類が異なることを特徴とする請求項１１に記載のフィルム構造体。
【請求項１３】
前記露光装置本体が備える、相互間の振動伝達が抑制された複数の要素間に配置されることを特徴とする請求項１０から請求項１２のいずれか一項に記載のフィルム構造体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッド等の電子デバイスを製造するための露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子や液晶表示素子等の電子デバイスをフォトリソグラフィ工程で製造する際に、パターンが形成されたマスクあるいはレチクル（以下、レチクルと称する）のパターン像を投影光学系を介して感光材（レジスト）が塗布された基板上の各投影（ショット）領域に投影する投影露光装置が使用されている。電子デバイスの回路は、上記投影露光装置で被露光基板上に回路パターンを露光することにより転写され、後処理によって形成される。
【０００３】
近年、集積回路の高密度集積化、即ち、回路パターンの微細化が進められている。そのため、投影露光装置における露光用照射ビーム（露光光）が短波長化される傾向にある。即ち、これまで主流だった水銀ランプに代わって、ＫｒＦエキシマレーザ（波長：２４８ｎｍ）といった短波長の光源が用いられるようになり、更に短波長のＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）を用いた露光装置の実用化も最終段階に入りつつある。また、高密度集積化をめざして、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）を用いた露光装置の開発が進められている。
【０００４】
一般に、波長約１９０ｎｍ以下のビームは真空紫外領域に属し、真空紫外光と呼ばれ、空気中を透過しないという性質を有している。これは、空気中に含まれる酸素分子・水分子・二酸化炭素分子などの物質（以下、吸光物質と称する）によってビームのエネルギーが吸収されるからである。また、真空紫外光を用いて、十分な生産性（スループット）を確保しつつ半導体製造作業を行うためには、吸光物質の濃度を数ｐｐｍ以下に抑制しなければならない。上記のように真空紫外光を用いた露光装置では、より微細な遮光パターンの転写が可能な一方で、吸光物質の排除を行う必要がある等、取り扱いが容易ではない。
【０００５】
このため真空紫外光を用いた露光装置においては、レチクルステージ系やウエハステージ系等を気密性の高いチャンバ等にそれぞれ収納し、また、照明光学系を筐体に収納し、また、投影光学系を鏡筒に収納し、それらの内部空間の吸光物質を低減もしくは排除している。さらに、筐体及び鏡筒と、レチクルステージ系を収容するチャンバとの間、及び鏡筒とウエハステージ系等を収容するチャンバとの間に関しては、一枚のフィルム状のベローズ機構で取付けられている（特許文献１参照。）。
【０００６】
【特許文献１】
国際公開第００／７４１２０号パンフレット
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このようなベローズ機構に用いられるフィルムは、その種類によって好適に遮蔽する吸光物質の種類が異なる。このフィルムからなるベローズ機構を上記の露光装置に取付けた場合には、遮蔽されなかった吸光物質が露光装置内に侵入し、真空紫外光のエネルギーが吸収され、良好な露光を行うことができず、即ち、十分な生産性が確保された半導体製造を行うことができないという問題がある。
【０００８】
本発明は、斯かる点に鑑み、露光装置内の所定の空間が外気から隔離し、所定の空間の内部を所望の雰囲気に保つことを可能とする露光装置及び露光方法、フィルム構造体を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１から図９に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の露光装置（１０）は、マスク（Ｒ）のパターンを基板（Ｗ）に転写する露光装置本体と、露光装置本体内の所定の空間（Ｓ１）を外気から隔離する隔離機構（７１）とを備える露光装置（１０）において、隔離機構（７１）は、第１の薄膜部材（７２ａ）と、第１の薄膜部材（７２ａ）に対して所定間隔離して設けられた第２の薄膜部材（７２ｂ）と、第１の薄膜部材（７２ａ）と第２の薄膜部材（７２ｂ）との間の空間（Ｓ３）に封入される気体とを有することを特徴とする。
従って、本発明の露光装置では、隔離機構（７１）によって外気の空間（Ｓ１）への侵入が抑制される。具体的には、空間（Ｓ３）に気体が封入されているので、外気が隔離機構（７１）の第２フィルム（７２ｂ）を透過した場合であっても、当該外気の空間（Ｓ１）への侵入が抑制される。また、空間（Ｓ３）内の外気が侵入したとしても、隔離機構（７１）は更に第１フィルム（７２ａ）を有しているので、所定の空間（Ｓ１）内への侵入を防止できる。即ち、所定の空間（Ｓ１）は気密な状態に保たれ、露光光のエネルギーが外気によって吸収されることなく、良好な露光を行うことができる。また、第１の薄膜部材（７２ａ）及び第２の薄膜部材（７２ｂ）は、可撓性を有する材料より形成されているため、露光装置（１０）を構成する要素間の振動伝播が抑制され、安定した光学特性を得ることができる。
【００１０】
また、本発明の露光方法は、上記の露光装置（１０）を用いて、マスクパターンを基板（Ｗ）に転写することを特徴とする。
従って、本発明の露光方法では、上記の露光装置（１０）と同様の効果が得られると共に、パターン精度の向上を図ることができる。
【００１１】
また、本発明のフィルム構造体（７１）は、マスク（Ｒ）のパターンを基板（Ｗ）に転写する露光装置本体内における所定の空間（Ｓ１）を外気から隔離するフィルム構造体（７１）であって、フィルム構造体（７１）は、第１の薄膜部材（７２ａ）と、第１の薄膜部材（７２ａ）に対して所定間隔離して設けられた第２の薄膜部材（７２ｂ）と、第１の薄膜部材（７２ａ）と第２の薄膜部材（７２ｂ）との間の空間（Ｓ３）に封入される気体とを有することを特徴とする。
従って、本発明のフィルム構造体では、上記の露光装置（１０）と同様の効果が得られる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
（第１実施形態）
以下、図面を参照し、本発明に係る露光装置の一実施の形態について説明する。本例は、露光用のエネルギービームとして真空紫外光を用いるステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置に本発明を適用したものである。
【００１３】
図１は、本例の露光装置１０の概略構成を示す図であって、露光装置１０の一部を切り欠いた構成図である。
図１に示すように露光装置１０の構成は、照明光学系２１と、レチクル操作部（要素）２２と、投影光学系（要素）ＰＬと、ウエハ操作部（要素）２３とに大別することができる。このうち、照明光学系２１とレチクル操作部２２と投影光学系ＰＬは、それぞれ箱状の照明系チャンバ２５とレチクル室（要素）２６と鏡筒（要素）２７の内部に、外気（ここでは後述のチャンバ内の気体）から隔離されて密閉度が高められた状態で収納されており、露光装置１０は、全体として内部の気体の温度が所定の目標範囲内に制御された環境チャンバ（不図示）の内部に収納されている。露光装置１０において露光光ＩＬが通過する光路空間には、透過性ガス（気体）が供給されるようになっている。
【００１４】
ここで、本例の露光光ＩＬは波長１５７ｎｍの真空紫外光であるため、その露光光ＩＬが透過する気体（エネルギー吸収がほとんど無い物質）としては、窒素ガス（Ｎ２）、水素（Ｈ２）、ヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎｅ）、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、キセノン（Ｘｅ）、ラドン（Ｒｎ）よりなる希ガスがある。以降、この窒素ガス及び希ガスをまとめて「透過性ガス」と呼ぶことにする。一方、露光光ＩＬを吸収する気体としては、酸素（Ｏ２）、水（水蒸気：Ｈ２Ｏ）、一酸化炭素（ＣＯ）、炭素ガス（二酸化炭素：ＣＯ２）、有機物、及びハロゲン化物等がある。以降、このような物質を「吸光物質」と呼ぶことにする。
【００１５】
照明光学系２１は、ミラー３０と、ビーム整形光学系３１と、フライアレイレンズ３２と、ミラー３４と、リレーレンズ３５と、視野絞り機構３６（レチクルブラインド）と、リレーレンズ３７と、ミラー３８と、コンデンサレンズ系３９とを備えており、これらの機器は、露光光源２０から発せられる露光光ＩＬの光路上に配置され、露光光ＩＬに対して後述する所定の処理を施すものである。
【００１６】
露光光源２０は、真空紫外域の波長１５７ｎｍのパルスレーザ光を発生するＦ２レーザ光源からなるものであって、前述した露光光ＩＬを発生させるものである。ビーム整形光学系３１は、露光光源２０から発せられミラー３０によって上方に反射された露光光ＩＬに対して、照明系の断面形状の整形と光量制御とを行うものである。フライアレイレンズ３２は、オプティカル・インテグレータ（ホモジナイザー）として構成されたものであって、露光光ＩＬの強度分布を一様化するものである。また、ビーム整形光学系３１の前段には、振動等による光軸ずれを位置合わせる自動追尾部（不図示）が設けられている。
【００１７】
視野絞り機構３６は、その配置面が露光対象であるレチクルＲのパターン面と光学的にほぼ共役となるように設定されたものであって、そのパターン面における細長い長方形（スリット）状に形成された照明領域の形状を規定する固定ブラインドと、走査露光の開始時及び終了時に不要な部分への露光を防止するためにその照明領域を閉じる可動ブラインドとを備えている。この視野絞り機構３６は、ミラー３４によってほぼ水平方向に反射された露光光ＩＬに対して、その前後段に配置されたリレーレンズ３５、３７を介してレチクルＲのパターン面における長方形状に形成された照明領域を均一な照度分布で照明するためのものである。コンデンサレンズ系３９は、ミラー３８によって下方に反射された露光光ＩＬに対して、むらのない平行光線を作り出すものである。
【００１８】
このような照明光学系２１により所定の処理を施した露光光ＩＬをレチクルＲに照射すると、レチクルＲの照明領域内のパターン像が投影光学系ＰＬを介して投影倍率β（βは例えば１／４、１／５等）で、感光材（フォトレジスト）が塗布されたウエハＷ上に投影される。ここで、ウエハＷは、例えば半導体（シリコン等）又はＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）等の円板状の基板である。
【００１９】
また、本例のように露光光ＩＬがＦ２レーザ光である場合には、透過率の良好な光学硝材は蛍石（ＣａＦ２の結晶）、フッ素や水素等をドープした石英ガラス、及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等に限られるため、投影光学系ＰＬを屈折光学部材のみで構成して所望の結像特性（色収差特性等）を得るのは困難である。そこで、本例の投影光学系ＰＬでは、屈折光学素子としての屈折光学部材と反射光学素子としての反射鏡とを組み合わせた反射屈折系を採用しており、これらの屈折光学部材や反射鏡は鏡筒２７に収容されている。
以下の説明では、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ（図２参照）と交差して、図１の紙面内を左側から右側へ向かう方向をＸ軸とし、図１の紙面を垂直に貫いて表側から裏側へ向かう方向をＹ軸とする。また、本例のレチクルＲ上の照明領域はＸ軸方向に細長い長方形であり、露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向はＹ軸方向である。
【００２０】
レチクル操作部２２は、レチクルＲと、レチクル室２６と、レチクルステージ４０と、レチクルベース（不図示）と、レチクル搬送路２８と、レチクルロードロック室（要素）２９とを備えている。レチクルＲは、レチクルロードロック室２９に配置された複数のレチクル群ＲＸのうちいずれかが選択されたものであり、レチクル搬送路２８を介して搬送された後に、レチクルステージ４０上に保持される。レチクルステージ４０はレチクルベース上でウエハステージ（後述）と同期してＹ軸方向にレチクルＲを連続移動させると共に、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸の回りの回転方向に同期誤差を低減させるようにレチクルＲを微小駆動させるものである。この際のレチクルステージ４０の駆動は、レチクルステージ４０の位置及び回転角の計測値と主制御系（不図示）からの制御情報とに基づいて行われ、この位置及び回転角は、レーザ干渉計（不図示）によって高精度に計測される。また、レチクルロードロック室２９からレチクル搬送路２８を介してレチクル室２６内に搬送される場合においても、主制御系の制御情報に基づいて行われる。ここで、主制御系とは装置全体の動作を統括制御するコンピュータからなるものである。
【００２１】
ウエハ操作部２３は、ウエハホルダ４５と、ウエハステージ４６とを備えており、ウエハホルダ４５は、その載置面にウエハＷが吸着保持された状態で、ウエハステージ４６上に固定されている。ウエハステージ４６は、ウエハベース（不図示）上で前述したレチクルステージ４０と同期してＹ軸方向にウエハＷを連続移動させると共に、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にウエハＷをステップ移動させるものである。また、ウエハステージ４６は、オートフォーカスセンサ（不図示）によって計測されるウエハＷ表面の光軸ＡＸ（図２参照）方向の位置（フォーカス位置）に関する情報に基づいて、オートフォーカス方式でウエハＷの表面を投影光学系ＰＬの像面に合焦させるものである。ウエハステージ４６のＸ軸方向、Ｙ軸方向の位置、及びＸ軸の回りの回転角（ピッチング量）、Ｙ軸の回りの回転角（ローリング量）、Ｚ軸の回りの回転角（ヨーイング量）は、レーザ干渉計（不図示）によって高精度に計測されるようになっており、この計測値及び主制御系からの制御情報に基づいて、ステージ駆動系（不図示）を介してウエハステージ４６が駆動されるようになっている。また、移動鏡４７ａは、ウエハステージ４６（ウエハホルダ４５）に取付けられ、レーザ干渉計からのレーザビーム（測長ビーム）を反射するものであり、当該移動鏡４７ａの構成は、一体型のＬ字型のミラーや、ウエハステージ（ウエハホルダ）の側面を鏡面加工したミラー等、様々の構成が適用され得る。このＬ字型ミラーを別々の角柱ミラーで構成してもよい。また、ウエハホルダ４５、ウエハステージ４６、及びウエハベース等によりウエハ操作部２３が構成されており、ウエハ操作部２３の側方に搬送系としてのウエハローダ等（不図示）が配置されている。
【００２２】
更に、本例の露光装置１０は、露光光ＩＬの光路上の空間、即ち、照明系チャンバ２５、レチクル室２６、及び鏡筒２７の各内部に、真空紫外域のビームに対してエネルギー吸収の少ない上記透過性ガスを供給して満たし、その気圧を大気圧と同程度もしくはより高く（例えば、大気圧に対し０．００１〜１０％の範囲内で高く）するガス供給・排気系（ガス供給機構）５０を備えている。ガス供給・排気系５０は、排気用の排気ポンプ５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃ、透過性ガスが高純度の状態で圧縮又は液化されて貯蔵されたボンベ５３、及び開閉制御されるバルブ５２Ａ、５２Ｂ及び５２Ｃ等を含む。なお、これらの数及び設置場所については図に示したものに限定されない。窒素ガスは、波長が１５０ｎｍ程度以下の光に対しては吸光物質として作用し、ヘリウムガスは、波長１００ｎｍ程度まで透過性ガスとして使用することができる。また、ヘリウムガスは、熱伝導率が窒素ガスの約６倍であり、気圧変化に対する屈折率の変動量が窒素ガスの約１／８であるため、特に高透過率と光学系の結像特性の安定性や冷却性とで優れている。なお、ヘリウムガスは高価であるため、露光光の波長がＦ２レーザのように１５０ｎｍ以上であれば、運転コストを低減させるためにその透過性ガスとして窒素ガスを使用してもよい。
【００２３】
図２は、図１の投影光学系ＰＬの下端部とウエハ（基板）Ｗとの間、即ち、ワーキング・ディスタンス部ＷＤの断面拡大図である。
ワーキング・ディスタンス部ＷＤには、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸを囲み、かつ、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＩＬが通過する開口部７０ａが形成されたパージガイド板７０が配置される。パージガイド板７０は、排気装置６４及び給気装置６７とを有しており、コラム（不図示）に設けられている。また、パージガイド板７０と鏡筒２７との間には、露光光ＩＬを囲むように隔離機構（フィルム構造体）７１が設けられている。
【００２４】
パージガイド板７０は、ステンレス鋼、あるいはセラミックスによって形成される。ここで、パージガイド板７０と鏡筒２７との間に設けられた空間、すなわち投影光学系ＰＬから開口部７０ａまでの間を空間Ｓ１とし、パージガイド板７０とウエハＷとの間を空間Ｓ２とする。
【００２５】
排気装置６４は、排気用の排気ポンプ６０と、排気配管６１と、排気口６６とから構成されており、排気配管６１及び排気口６６を介して、空間Ｓ１内の気体を排気ポンプ６０によって排気するようになっている。給気装置６７は、バルブ６３と、ガス供給配管６２と、ガス供給口６５とから構成されており、ボンベ５３（後述）から空間Ｓ１に光透過性ガスが供給されるようになっている。更に、排気口６６から排気される光透過性ガスの排気量よりも、ガス供給口６５から供給される光透過性ガスの供給量が多くなるように設定されている。
【００２６】
隔離機構７１は、隔離機構７１の内側（空間Ｓ１側）に位置する第１フィルム（第１の薄膜部材）７２ａと、その外側（大気側）に位置する第２フィルム（第２の薄膜部材）７２ｂと、第１及び第２フィルム７２ａ、７２ｂを保持する保持部材７３とから構成されている。
この保持部材７３は、鏡筒２７に取付けられる取付け面を備える第１の保持部材（第１保持部）７３ａと、パージガイド板７０に取付けられる取付け面を備える第２の保持部材（第２保持部）７３ｂとを有する。この第１の保持部材７３ａ及び第２の保持部材７３ｂは、それぞれ枠状に形成される。
第１の保持部材７３ａは、上記取付け面とは反対側の面に、第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７２ｂが取付けられる取付部を有する。そして、筒状に構成された第１フィルム７２ａ及び筒状に構成された第２フィルム７２ｂは、互いに所定間隔離した状態で、第１フィルム７２ａの一端部及び第２フィルム７２ｂの一端部が取付部に取付けられる。
また、第２の保持部材７３ｂは、上記取付け面とは反対側の面に、第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７３ｂが取付けられる取付部を有する。そして、筒状に構成された第１フィルム７２ａ及び筒状に構成された第２フィルム７２ｂは、所定間隔離した状態で、第１フィルム７２ａの他端部及び第２フィルム７２ｂの他端部が取付部に取付けられる。
第１の保持部材７３ａ及び第２の保持部材７３ｂの材料としては、アルミニウム、ステンレス鋼等が採用され、加工性が優れる材料が好適である。
このように、第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７２ｂの一端部及び他端部のそれぞれを、第１の保持部材７３ａ及び第２の保持部材７３ｂで保持することによって、空間Ｓ３が形成される。
なお、本実施形態のおいては、鏡筒２７の一部に形成された凹部に第１の保持部材７３ａのうち、取付面が形成された側の一部を埋設してもよく、また、鏡筒２７の一部に、第１の保持部材７３ａが取付けられるフランジ部を設け、このフランジ部に保持部材７３を締結してもよい。
【００２７】
また、第１の保持部材７３ａは、空間Ｓ３に透過性ガスを供給するガス供給口（気体供給口）７６を有し、また、第２の保持部材７３ｂは、空間Ｓ３内の気体（ガス供給口から供給される透過性ガスに数％の吸光物質が含まれた混合ガス）を排気するガス排気口（気体排気口）７７を有する。ガス供給口７６は、第１の保持部材７３ａに対して、一つ、若しくは等間隔置きに複数個設けられる。また、ガス排気口７７は、第２の保持部材７３ｂに対して、一つ、若しくは等間隔置きに複数個設けられる。なお、本実施形態では、ガス供給口７６とガス排気口７７とは互いに対向して設けられているが、この構成に限られず、互いに対向していなくともよい。
さらに、ガス供給口７６及びガス排気口７７の両方を第１の保持部材７３ａ（あるいは第２の保持部材７３ｂ）にのみ形成してもよい。この場合、第１の保持部材７３ａに対して、ガス供給口７６とガス排気口７７とが交互に複数設けられることが望ましい。また、ガス供給口７６、ガス排気口７７の少なくとも一方を第２フィルム７２ｂに設けてもよい。
【００２８】
ガス供給口７６には、ガス供給配管７５が接続され、当該ガス供給管の任意の位置にバルブ６３が設けられ、ボンベ５３から供給される透過性ガスが空間Ｓ３に供給されるようになっている。また、ガス排気口７７は、パージガイド板７０の一部と貫通するように設けられており、空間Ｓ３内の透過性ガスが露光装置１０の外部に排気される。ここで、空間Ｓ３に供給される透過性ガスは、露光光ＩＬの光路上の空間に供給される透過性ガスと同種類であることが好ましい。この場合、異種類ガスの混合による屈折率の変化が生じることがなく、干渉計に対する揺らぎ等を防止することが可能になり、正確な計測を実施することができる。なお、鏡筒２７内の空間と空間Ｓ１とが空間的に隔離されている場合には、鏡筒２７内の空間に供給される透過性ガスと、空間Ｓ１に供給される透過性ガスとは、互いに種類が異なっていてもよい。例えば、鏡筒２７内の空間にＨｅガスを供給し、空間Ｓ１にＮ２ガスを供給してもよい。
また、ガス供給口７６、又はガス排気口７７の少なくとも一方には、塵埃を除去するパーティクルフィルタや、有機物質（吸光物質）を除去するケミカルフィルタを設けることが望ましい。
また、本実施形態においては、透過性ガスがガス排気口７７から排気されるようになっているが、ガス排気口７７を設けずにガス供給口７６から供給された透過性ガスを空間Ｓ３内に封入し、密閉状態としてもよい。また、ガス排気口７７から露光装置１０の外部に排気される透過性ガスを排気ポンプ６０により回収してもよい。
【００２９】
また、第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７２ｂの一端部及び他端部は、第１の保持部材７３ａの突出部及び第２の保持部材７３ｂの突出部に対して、Ｏリングやクランプ部材（例えば、ホースクランプ）などの締結部材、又は吸光物質の発生が抑制された接着剤等を用いて固定される。ここで、当該締結部材や接着剤等は、空間Ｓ１の外部に配置されることが好ましく、より好ましくは露光装置１０外に配置されることが好ましい。この場合、Ｏリングや接着剤等から放出されるガスの空間Ｓ１内への侵入を防止することができる。
【００３０】
このように、第１及び第２フィルム７２ａ、７２ｂは、保持部材７３を介して鏡筒２７及びパージガイド板７０に締結されるので、鏡筒２７の歪みの発生を防止することが可能になる。
ここで、第１及び第２フィルム７２ａ、７２ｂは可撓性材料からなるので、鏡筒２７とパージガイド板７０との距離を柔軟かつ容易に変位させることが可能になる。
なお、第１及び第２フィルム７２ａ、７２ｂを蛇腹状に折り曲げてもよい。
【００３１】
第１フィルム７２ａは、露光光ＩＬの光路空間に侵入する吸光物質を遮蔽する薄膜材料（第２材料）により形成された遮蔽フィルム（第２の薄膜）を有している。このような薄膜材料としては、例えば、エバール（株式会社クラレ製）、カプトン（デュポン社製）、マイラー（デュポン社製）等が好ましく、本例においてはエバールが採用される。また、第１フィルム７２ａは、当該遮蔽フィルムのみからなる単層構造に限らず、遮蔽フィルムを有すると共に複数のフィルムからなる積層構造であってもよい。積層構造の場合には、吸光物質を遮蔽する薄膜材料（第２材料）の外面に、接着剤を介して伸縮性を有した薄膜材料（第１材料）により形成された伸縮フィルム（第１の薄膜）を被着し、さらに薄膜材料（第１材料）の内面に金属薄膜（金属膜）をコーティングして形成される。ここで、伸縮フィルムの材料としてはポリエチレンやポリウレタン等が採用される。また、金属薄膜の材料としては、Ａｌ（アルミニウム）等の無機物が採用され、当該金属薄膜は真空装置による蒸着法によって形成されることが好ましい。このような積層構造によれば、吸光物質の侵入を遮蔽するだけでなく、柔軟に伸縮が可能で、強度及び耐紫外線性に優れた第１フィルム７２ａとなる。
【００３２】
このように構成された第１フィルム７２ａを円筒状に閉じるために、フィルムの端部を互いに伸縮フィルムが対向するように折り曲げた後、溶着性にも優れている伸縮フィルム同士を溶着して、第１フィルム７２ａを円筒状に形成することができる。このように円筒状に形成された第１フィルム７２ａの内面は、金属薄膜で覆われることになる。第２フィルム７２ｂも第１フィルム７２ａと同様な遮蔽フィルムで構成され、かつ円筒状に閉じられる。
【００３３】
第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７２ｂとしては、吸光物質の全てを遮蔽する遮蔽フィルムを用いて形成することが望ましい。
しかしながら、本実施形態の第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７２ｂとして、吸光物質の全てを遮蔽する特性を有する遮蔽フィルムを用いずに次のように構成してもよい。
例えば、第１フィルム７２ａを形成する遮蔽フィルムとして、吸光物質のうち、酸素を透過し難いが、水蒸気を透過する特性を有するものを使用し、また、第２フィルム７２ｂを形成する遮蔽フィルムとして、水蒸気を透過し難いが、酸素を透過する特性を有するものを使用してもよい。このように、特性が異なる遮蔽フィルムで、第１フィルム７２ａ、第２フィルム７２ｂを形成したとしても、それぞれのフィルムに不足する特性を互いに補うことによって、空間Ｓ１に対する吸光物質の侵入を抑制することが可能になる。
また、第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７２ｂとして、吸光物質のうち、酸素を透過し難いが、水蒸気を透過する特性を有するものを使用してもよい。このように、同じ特性をもつ遮蔽フィルムを用いた場合、水蒸気は、第２フィルム７２ｂを透過して空間Ｓ３に侵入する。しかしながら、空間Ｓ２に侵入した水蒸気は、空間Ｓ３に供給される透過性ガスと共に、ガス排気口７７から排出することができるので、第１フィルム７２ａを透過して空間１に侵入することがほとんどない。
【００３４】
このように構成された露光装置１０においては、パージガイド板７０に設けられた給気装置６７が透過性ガスを空間Ｓ１内に供給し、排気装置６４が空間Ｓ１に存在していた吸光物質を透過性ガスと共に排気するので、空間Ｓ１が透過性ガスで満たされる。また、排気装置６４の排気量よりも給気装置６７の透過性ガスの供給量が多く設定されているので、空間Ｓ１内に透過性ガスが供給されてから所定時間が経過すると、空間Ｓ１内には透過性ガスが充填され、開口部７０ａを介して空間Ｓ２にも透過性ガスが供給される。なお、空間Ｓ２内に対する空間Ｓ１内からの透過性ガスの供給は、空間Ｓ１に透過性ガスが完全に充填されてから始まるものではなく、空間Ｓ１に透過性ガスを供給すると同時に、開口部７０ａから空間Ｓ２内に透過性ガスが供給される。
【００３５】
更に、隔離機構７１においては、透過性ガスがボンベ５３からガス供給配管７５及びガス供給口７６を介して空間Ｓ３内に供給され、当該透過性ガスがガス排気口７７から排気される。従って、空間Ｓ１内に新たに侵入しようとする気体は、隔離機構７１の第２フィルム７２ｂを透過しても、空間Ｓ３を流動する透過性ガスと共にガス排気口７７から排気される。また、第１フィルム７２ａを形成する遮蔽フィルムとして、吸光物質のうち、酸素を透過し難いが、水蒸気を透過する特性を有するものを使用し、また、第２フィルム７２ｂを形成する遮蔽フィルムとして、水蒸気を透過し難いが、酸素を透過する特性を有するものを使用した場合、空間Ｓ３内の酸素濃度が高くなったとしても、空間３内を流動する透過性ガスと共に、ガス排気口７７から排気される。さらに、第１フィルム７２ａを形成する遮蔽フィルムが、酸素を透過し難い特性を有するので、空間Ｓ３内に対する酸素の侵入を防止することができる。
なお、第１フィルム７２ａ、第２フィルム７２ｂの構成の他の例として、第１フィルム７２ａを上述したエバール等の遮蔽フィルムと、伸縮フィルムと、金属薄膜との積層構造とし、第２フィルム７２ｂを伸縮フィルムで構成してもよい。この場合、第２フィルム７２ｂは、吸光物質を遮蔽する特性を持たないので、吸光物質の全てが、第２フィルム７２ｂを透過して空間Ｓ３に侵入する。しかしながら、第２フィルム７２ｂを透過した吸光物質は、空間Ｓ３に供給される透過性ガスと共に、ガス排気口７７から排気され、かつ第１フィルム７２ｂの一部を構成する遮蔽フィルムによって遮蔽されるので、空間Ｓ１への侵入が抑制される。
【００３６】
更に、露光光ＩＬはレチクルＲを照射し、レチクルＲのパターン像は投影光学系ＰＬに入射すると共に所定の投影倍率によって縮小されてウエハＷに転写される。ここで、ワーキング・ディスタンス部ＷＤにおいて吸光物質が排除されているので、吸光物質による露光光ＩＬのエネルギーが吸収されることなく、良好に露光を行うことができる。
【００３７】
なお、本例においては、ウエハＷの中央付近を露光する時と、ウエハＷの端部を露光する時とで、ガス供給口６５からの透過性ガスの供給量や排気口６６からの気体の排気量を変化させてもよい。ウエハＷの交換時においても同様である。また、ワーキング・ディスタンス部ＷＤの吸光物質の濃度を計測する濃度計を設置し、その計測結果に基づいて透過性ガスの供給量や排気量を調整するなど、濃度管理を行ってもよい。また、透過性ガスの流れを所望の状態にするために、整流板やガイドなどを適宜設けるとよい。
【００３８】
また、ウエハＷ上に塗布された感光材（フォトレジスト）からの吸光物質を含む脱ガスは、感光材の種類や温度等によって量、種類共に異なる。この場合、感光材からの脱ガスの量、種類を予め調査しておき、感光材によって透過性ガスの供給量を調整するとよい。これにより、ワーキング・ディスタンス部ＷＤからの確実に吸光物質を排除する一方で、一般に高価な透過性ガスの消費量を必要最小限に抑えることが可能となる。
【００３９】
また、露光光ＩＬの光路上から吸光物質を排除するには、予め構造材料表面からの脱ガス量を低減する処置を施しておくことが好ましい。例えば、（１）構造材料の表面積を小さくする、（２）構造材料表面を機械研磨、電解研磨、バフ研磨、化学研磨、又はＧＢＢ（Ｇｌａｓｓ  Ｂｅａｄｓ  Ｂｌａｓｔｉｎｇ）といった方法によって研磨し、構造材料の表面粗さを低減しておく、（３）超音波洗浄、クリーンドライエア等の流体の吹き付け、真空加熱脱ガス（ベーキング）などの手法によって、構造材料表面を洗浄する、（４）炭化水素やハロゲン化物を含む電線被膜物質やシール部材（Ｏリング等）、接着剤等を光路空間に可能な限り設置しない、等の方法がある。
【００４０】
また、照明系チャンバ２５からウエハ操作部２３のカバーを構成する筐体（筒状体等も可）や、透過性ガスを供給する配管は、不純物ガス（脱ガス）の少ない材料、例えばステンレス鋼、チタン合金、セラミックス、四フッ化エチレン、テトラフルオロエチレン−テルフルオロ（アルキルビニルエーテル）、又はテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロペン共重合体等の各種ポリマーで形成することができる。
【００４１】
また、各筐体内の駆動機構（レチクルブラインドやステージ等）などに電力を供給するケーブルなども、同様に上述した不純物ガス（脱ガス）の少ない材料で被覆することが望ましい。
【００４２】
第１実施形態では、フィルム構造体としての隔離機構７１を鏡筒７１とパージガイド板７０との間に配置する構成について説明した。しかしながら、隔離機構７１を鏡筒７１とパージガイド板７０との間に配置する構成に限らず、露光装置本体内で、所定の空間を外気から隔離する必要がある箇所に適宜使用することが可能である。
以下に、露光装置本体内で、隔離機構７１を用いたほかの実施形態、即ち、第２から第５実施形態について説明する。
ここでは、図１及び図２に示した第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付してその説明を省略し、第１実施形態と異なる部分のみ説明する。
なお、フィルム構造体の構成は、第１実施形態で説明した構成と同じ構成であるので、ここではフィルム構造体の説明は省略する。
【００４３】
（第２実施形態）
図３は、第２実施形態を示す投影光学系ＰＬの断面拡大図である。
本例においては、投影光学系ＰＬが光軸ＡＸ方向に積み重ねられた複数の分割鏡筒１００ａ〜１００ｋを備えており、フランジＦを介して鏡筒定盤（不図示）に支持されている。また、複数の分割鏡筒１００ａ〜１００ｋのうち、分割鏡筒１００ｂ、１００ｄ、１００ｅ、１００ｆ、１００ｇにより支持されているレンズ素子１０１ｂ、１０１ｄ、１０１ｅ、１０１ｆ、１０１ｇは、光軸ＡＸ方向（Ｚ方向）に移動可能かつＸ方向又はＹ方向を軸として傾斜（チルト）可能な可動レンズ素子となっている。
【００４４】
レンズ素子１０１ｂ、１０１ｄ、１０１ｅ、１０１ｆ、１０１ｇを保持している分割鏡筒１００ｂ、１００ｄ、１００ｅ、１００ｆ、１００ｇの構成について分割鏡筒１００ｂの構成を代表して説明する。なお、他の分割鏡筒１００ｄ、１００ｅ、１００ｆ、１００ｇの構成については、分割鏡筒１００ｂの構成とほぼ同様であるため、ここでは説明を省略する。
分割鏡筒１００ｂは、分割鏡筒１００ｂの（Ｚ方向）上下に位置する分割鏡筒１００ａ、１００ｃと接続される外側環１０２ｂと、レンズ素子１０１ｂを保持するレンズ保持部１０３ｂとを備えている。このレンズ保持部１０３ｂは、外側環１０２ｂに対して光軸ＡＸ方向（Ｚ方向）に移動可能かつＸ軸に平行な軸又はＹ軸に平行な軸の周りでチルト可能となるように、外側環１０２ｂに駆動機構（ピエゾ素子等）を介して連結されている。
【００４５】
また、図３に示した分割鏡筒１００ａ〜１００ｋのうち、分割鏡筒１００ａ、１００ｃ、１００ｈ、１００ｉ、１００ｊ、１００ｋにより支持されているレンズ素子１０１ａ、１０１ｃ、１０１ｈ、１０１ｉ、１０１ｊ、１０１ｋは、固定レンズとなっている。例えば、分割鏡筒１００ｃは、分割鏡筒１００ｃの（Ｚ方向）上下に位置する分割鏡筒１００ｂ、１００ｄと接続される外側環１０２ｃと、外側環１０２ｃに取付けられてレンズ素子１０１ｃを保持するレンズ保持部１０３ｃとを備えて構成される。なお、上記レンズ素子１０１ａ〜１０１ｋは単一のレンズ素子から構成されることもあり、複数のレンズ素子を組み合わせたレンズ群からなることもある。
【００４６】
また、更に投影光学系ＰＬは、隔離機構７１を有しており、当該隔離機構７１は光軸ＡＸを囲むように分割鏡筒１００ａ〜１００ｋが積み重ねられる部分に配置されている。また、分割鏡筒１００ａ〜１００ｋには、隔離機構７１の第１の保持部材７３ａの取付け面及び第２の保持部材７３ｂの取付け面が取付けられる締結部Ｔが形成されており、隔離機構７１の締結に伴う外側環１０２ａ〜１０２ｋ及びフランジＦの歪みの発生を防止している。
【００４７】
このように構成された分割鏡筒１００ａ〜１００ｋにおいては、隔離機構７１を備えているので、分割鏡筒１００ａ〜１００ｋの相互間の隙間からの吸光物質の侵入を抑制することが可能になり、第１実施形態と同様の効果を奏する。
【００４８】
次に、第２実施形態の変形例を説明する。
図４は、分割鏡筒を備えた投影光学系ＰＬを示す断面拡大図である。
本変形例においては、図３と図４との相違点についてのみ説明し、他の構成は上記第２実施形態と同様である。図３に示した隔離機構７１は、分割鏡筒１００ａ〜１００ｋ及びフランジＦが積み重ねられる部分に配置された構成となっているが、本変形例の隔離機構７１は、外側環１０２ａ〜１０２ｋの全体を被覆するように配置されている。ここで、分割鏡筒１００ａ、１００ｋ及びフランジＦには、隔離機構７１の第１の保持部材７３ａの取付け面、及び第２の保持部材７３ｂの取付け面が取付けられる締結部Ｔが形成されており、上述と同様に外側環１０２ａ、１０２ｋの歪みの発生を防止している。
このように構成された投影光学系ＰＬにおいては、上記同様の効果を奏すると共に、分割鏡筒７１が外側環１０２ａ〜１０２ｋの全体を被覆することにより締結部Ｔの箇所数が減少するので、締結部Ｔと隔離機構７１との接合面からの吸光物質の侵入を抑制することが可能になる。
【００４９】
次に、第２実施形態の別の変形例を説明する。
図５は、分割鏡筒を備えた投影光学系ＰＬのうち分割鏡筒１００ｂ、１００ｃを示した断面拡大図である。図５に示す分割鏡筒１００ｂ、１００ｃは投影光学系ＰＬの一部を代表して示したものであり、他の分割鏡筒については同様の構成であるので説明を省略する。
本変形例においては、図３と図５との相違点についてのみ説明し、他の構成は上記第２実施形態と同様である。図３に示した分割鏡筒１００ｂは分割鏡筒１００ｃに積み重ねられた構成となっているが、図５に示した分割鏡筒１００ｂ、１００ｃは、接触することなく隔てて配置されており、分割鏡筒１００ｂ、１００ｃの相互間の空間を囲むように隔離機構７１が設けられている。
このように構成された投影光学系ＰＬにおいては、隔離機構７１の第１フィルム７２ａ及び第２フィルム７２ｂが伸縮性を有しているので、分割鏡筒１００ｂ、１００ｃのいずれか一方の位置を変更した場合でも、他方の位置ズレが生じず、また、振動が伝達されない。従って、本変形例においては、上記同様の効果を奏すると共に、投影光学系ＰＬの光学調整を行う場合には必要な分割鏡筒のみを調整することが可能になり、高精度に光学調整を行うことができる。
【００５０】
（第３実施形態）
図６は、第３実施形態を示すレチクル操作部２２と投影光学系ＰＬとの間の断面拡大図である。
本例においては、レチクル室２６が露光光ＩＬが通過する開口部２６ａを有しており、開口部２６ａと鏡筒２７との間には、露光光ＩＬを囲むように隔離機構７１が設けられている。
このような構成においては、上記同様の効果を奏すると共に、レチクル操作部２２で生じる振動、例えばレチクルステージ４０の駆動やレチクルＲの搬送に伴うレチクル室２６の振動等が鏡筒２７に伝達されない。従って、鏡筒２７を通過することにより所定の投影倍率によって縮小されたレチクルＲのパターン像にブレが生じることなくウエハＷに転写され、良好な露光を行うことができる。
なお、本例においては、開口部２６ａに窓材を嵌め込んで露光光ＩＬが当該窓材を透過するようにしてもよい。
【００５１】
次に、第３実施形態の変形例を説明する。
図７は、レチクル操作部２２と投影光学系ＰＬとの間の断面拡大図である。
本変形例においては、レチクル室２６及び鏡筒２７が締結部Ｔを有すると共に、隔離機構７１が締結部Ｔに設けられた構成となっている。隔離機構７１と締結部Ｔとの間には、脱ガス性が低いＯリングＯＲが配置されると共に、ＯリングＯＲの外側に配置されたネジＳＣが隔離機構７１と締結部Ｔとを締結している。ここで、隔離機構７１と締結部Ｔの締結はホースクランプのようなもので締め付けることで密封は可能であるが、この場合には、光軸ＡＸに対して直角方向（Ｘ方向、Ｙ方向）に締め付け力が働いてしまい、レチクル室２６や鏡筒２７に除去不可能な歪みが生じ、光軸ＡＸがずれてしまい、所望の露光特性が得られない。本変形例では、ネジＳＣが隔離機構７１と締結部Ｔとを締結することにより、締め付け力が光軸ＡＸの軸方向（Ｚ方向）に働くようになっている。なお、ネジＳＣを用いて締結することを限定せず、締め付け力がＺ方向に働くのであれば、クロークランプ等の他の締結部材を用いてもよい。また、ネジＳＣが配置されるネジ穴は未貫通ネジ穴が好ましく、この場合には高い密閉度が得られる。
このような構成においては、上記同様の効果を奏すると共に、ＯリングＯＲが配置されているので、隔離機構７１と締結部Ｔとの接合面からの吸光物質の侵入を抑制することが可能になる。また、ネジＳＣの締め付け力がＺ方向に働くので、当該締め付け力に伴う鏡筒２７の歪みを最小限に抑制されるので、レチクルＲのパターン像の位置精度を損なうことなく、所望の露光を行うことができる。
【００５２】
（第４実施形態）
図８は、第４実施形態を示すレチクル操作部２２の側面拡大図である。
本例においては、レチクル搬送路２８が隔離機構７１に被覆されており、当該隔離機構７１がレチクル室２６及びレチクルロードロック室２９との間に配置されている。
このように構成されたレチクル操作部２２においては、上記同様の効果を奏すると共に、レチクルＲの搬送に伴う振動がレチクル室２６に伝達されない。従って、移動鏡（不図示）に対するレーザ干渉計の誤差が生じることがなく、レチクルＲの微小駆動及びその位置精度が高精度に保たれるので、良好な露光を行うことができる。
【００５３】
（第５実施形態）
図９は、第５実施形態を示すウエハ操作部２３の断面拡大図である。
本例においては、ウエハ操作部２３がウエハＷを密閉状態に維持するチャンバ２０１と、チャンバ２０１内にウエハステージ４６を具備するステージ定盤２０３と、ステージ定盤２０２に伝達する振動を排除する反力キャンセラ２０３とを備えた構成となっている。チャンバ２０１には、上述のボンベ５３、ガス供給配管６２、バルブ６３、排気ポンプ６０、排気配管６１、が設けられており、チャンバ２０１内を気密に保持した状態で光透過性ガスが供給されるようになっている。チャンバ２０１の開口部２０１ａには、隔離機構７１が設けられており、投影光学系ＰＬとウエハ操作部２３との間からの吸光物質の侵入を抑制している。反力キャンセラ２０３がチャンバ２０１へ挿入される部位Ｑには、隔離機構７１が設けられており、隔離機構７１の一方の保持部材７３ｄはチャンバ２０１の外部に、他方の保持部材７３ｅは反力キャンセラ２０３に固定されている。
このように構成されたウエハ操作部２３においては、部位Ｑに隔離機構７１が設けられているので、反力キャンセラ２０３による振動の排除と共にチャンバ２０１内が光透過性ガスで気密に充填されるので、上記同様の効果を奏する。
【００５４】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００５５】
なお、本発明においては、隔離機構７１が設置される位置は上記実施形態に示しただけに限定せず、露光装置１０が備える複数の構成要素のうち、振動伝達が抑制された構成要素の相互間に配置してもよい。
【００５６】
また、本発明は、走査露光型の投影露光装置のみならず、一括露光型（ステッパー型）の投影露光装置等にも適用できることは明らかである。これらに備えられる投影光学系は、反射屈折系のみならず、屈折系や反射系であってもよい。さらに、投影光学系の倍率は縮小倍率のみならず、等倍や拡大であってもよい。
【００５７】
また、本発明はエネルギービームとして、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を使用する場合や、Ｋｒ２レーザ光（波長１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ光（波長１２６ｎｍ）、ＹＡＧレーザ等の高調波、又は半導体レーザの高調波等の波長が２００ｎｍ〜１００ｎｍ程度の真空紫外光にも適用できる。
また、本発明は、真空紫外光の露光装置に限らず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いた露光装置においても使用することができる。投影光学系としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合には、硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｘ線を用いる場合は反射系の光学系にし（レチクルも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。
【００５８】
また、エキシマレーザやＦ２レーザ等の代わりに、ＤＦＢ（Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ  ｆｅｅｄｂａｃｋ：分布帰還型）半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム（Ｅｒ）（又はエルビウムとイッテルビウム（Ｙｂ）との両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高波長を用いてもよい。
【００５９】
また、露光装置の用途としては、半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートの液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適用できる。
【００６０】
また、ウエハステージやレチクルステージにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。
【００６１】
また、ステージの駆動装置として平面モータを用いる場合、磁石ユニット（永久磁石）と電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。
【００６２】
また、ウエハステージの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００６３】
また、レチクルステージの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００６４】
以上のように、本願実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６５】
半導体デバイスは、図１０に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ３０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ３０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ３０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する基板処理ステップ３０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）３０５、検査ステップ３０６等を経て製造される。
【００６６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の露光装置によれば、フィルム構造体を備えるので、露光装置内部への吸光物質の侵入を抑制することができると共に、露光装置を構成する要素間の振動伝播が抑制されるので、安定した光学特性を得ることができる。また、本発明の露光方法によれば、パターン精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態として示した露光装置の構成図である。
【図２】本発明の第１実施形態として示した露光装置のワーキング・ディスタンス部の断面拡大図である。
【図３】本発明の第２実施形態として示した露光装置の投影光学系の断面拡大図である。
【図４】本発明の第２実施形態の変形例として示した露光装置の投影光学系の断面拡大図である。
【図５】本発明の第２実施形態の別の変形例として示した露光装置の投影光学系の断面拡大図である。
【図６】本発明の第３実施形態として示した露光装置のレチクル操作部と投影光学系との間の断面拡大図である。
【図７】本発明の第３実施形態の変形例として示した露光装置のレチクル操作部と投影光学系との間の断面拡大図である。
【図８】本発明の第４実施形態として示した露光装置のレチクル操作部の側面拡大図である。
【図９】本発明の第５実施形態として示した露光装置のウエハ操作部の断面拡大図である。
【図１０】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
１０  露光装置
２２  レチクル操作部（要素）
２３  ウエハ操作部（要素）
２６  レチクル室（要素）
２７  鏡筒（要素）
２９  レチクルロードロック室（要素）
５０  ガス供給・排気系（ガス供給機構）
７１  隔離機構（フィルム構造体）
７２ａ  第１フィルム（第１の薄膜部材）
７２ｂ  第２フィルム（第２の薄膜部材）
７３ａ  第１の保持部材（第１保持部）
７３ｂ  第２の保持部材（第２保持部）
７６  ガス供給口（気体供給口）
７７  ガス排気口（気体排気口）
Ｒ  レチクル（マスク）
Ｓ１  空間
Ｓ３  空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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