(57)【要約】【課題】植物病害防除に効力を有する新規な化合物を提供すること。【解決手段】  式（１）2004300140.tif 000031〔式中、Ｘ1はＯＲ4を表し、Ｙ1は水素原子を表すか、あるいはＸ1とＹ1とが一緒になって、ＮＯＲ5を表し、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基等を表し、Ｒ3、Ｒ5はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ4は水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕で示されるフェニルイソキサゾール化合物は植物病害防除に効力を有する。【選択図】  なし  【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2004300140.tif 000030
〔式中、
Ｘ1はＯＲ4を表し、Ｙ1は水素原子を表すか、
あるいはＸ1とＹ1とが一緒になって、ＮＯＲ5を表し、
Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、
あるいはＲ1とＲ2とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、
Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｒ4は水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｒ5はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕
で示されるフェニルイソキサゾール化合物。
【請求項２】
請求項１記載のフェニルイソキサゾール化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
【請求項３】
請求項１記載のフェニルイソキサゾール化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェニルイソキサゾール化合物及びその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、植物病害を防除するために多くの化合物が開発され、それらの化合物を有効成分とする植物病害防除剤が実用に供されている。
【０００３】
【非特許文献１】「ファルマコ，エヂジオネ  サイエンティフィカ（Ｆａｒｍａｃｏ，Ｅｄｉｚｉｏｎｅ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃａ）」，１９８８年，第４３巻，第９号，ｐ．７５３−７６１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、それらの植物病害防除剤では、十分な効力を示さない場合がある。
本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）で示されるフェニルイソキサゾール化合物が優れた植物病害防除活性を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式（１）
2004300140.tif 000002
〔式中、Ｘ1はＯＲ4を表し、Ｙ1は水素原子を表すか、あるいはＸ1とＹ1とが一緒になって、ＮＯＲ5を表し、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、あるいはＲ1とＲ2とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ4は水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ5はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕で示されるフェニルイソキサゾール化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明において、
Ｒ1で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、
Ｒ2で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、
Ｒ3で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられ、
Ｒ4で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられ、
Ｒ5で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられる。
【０００８】
本発明化合物の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ３アルキル基またはハロゲン原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がメチル基または塩素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1が塩素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ2が水素原子またはハロゲン原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ2が水素原子または塩素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ2が水素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
【０００９】
式（１）において、Ｒ3がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ3がメチル基、エチル基または２−プロピニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ3がメチル基またはエチル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ3がメチル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
【００１０】
式（１）において、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がメチル基または２−プロピニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4が２−プロピニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
【００１１】
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ３アルキル基またはハロゲン原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がメチル基、エチル基または塩素原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1が臭素原子または塩素原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1が塩素原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルイソキサゾール化合物；
【００１２】
式（１）において、Ｒ3がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ3がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ３アルキル基またはハロゲン原子であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ３アルキル基またはハロゲン原子であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
【００１３】
式（１）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ３アルキル基またはハロゲン原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がメチル基、エチル基、塩素原子または臭素原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
式（１）において、Ｒ1が塩素原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｘ1がＯＲ4であり、Ｙ1が水素原子であり、Ｒ4がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルイソキサゾール化合物；
【００１４】
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の製造法１〜製造法３により製造することができる。
製造法１
式（１）で示される本発明化合物のうち、式（１−ａ）で示される本発明化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2004300140.tif 000003
〔式中、Ｘ1-1はＯＲ4-1基を表し、Ｙ1-1は水素原子を表すか、あるいはＸ1-1とＹ1-1とが一緒になって、ＮＯＲ5を表し、Ｒ4-1はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、式（３）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−ａ）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１−ａ）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１５】
製造法２
式（１）で示される本発明化合物は、式（４）で示される化合物と式（５）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2004300140.tif 000004
〔式中、Ｌ1は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｘ1およびＹ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（５）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１６】
製造法３
式（１）で示される本発明化合物は、式（６）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
2004300140.tif 000005
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｘ1およびＹ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、式（３）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物に希塩酸等の酸を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
（ｉｉｉ）反応混合物を濾過した後、濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１７】
（中間体製造法１）
2004300140.tif 000006
〔式中、Ｒ6、はメチル基、エチル基またはプロピル基を表し、Ｒ3およびＬ1は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１−１）
式（９）で示される化合物は、式（７）で示される化合物と式（８）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（７）で示される化合物１モルに対して、式（８）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（９）で示される化合物を単離することができる。単離された式（９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１８】
（工程１−２）
式（１１）で示される化合物は、式（９）で示される化合物と式（１０）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造させることができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（９）で示される化合物１モルに対して、式（１０）で示される化合物が通常１モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に希塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる
【００１９】
（工程１−３）
式（１２）で示される化合物は、式（１１）で示される化合物とヒドロキシルアミンまたはその塩酸塩、硫酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１１）で示される化合物１モルに対して、ヒドロキシルアミンまたはその塩が通常１〜３モルの割合であり、塩基が触媒量〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、濾過する等の後処理操作を行うことにより、式（１２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２０】
（中間体製造法２）
2004300140.tif 000007
〔式中、Ｒ7はメチル基またはエチル基を表し、Ｍｓはメタンスルホニル基を表し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4-1は前記と同じ意味を表す。〕
【００２１】
（工程２−１）
式（１４）で示される化合物は、式（１３）で示される化合物と水素化ホウ素ナトリウムとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物が用いられる。
反応に用いられる水素化ホウ素ナトリウムの量は、式（１３）で示される化合物１モルに対して、通常０．２５〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、水を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２２】
（工程２−２）
式（１５）で示される化合物は、式（１４）で示される化合物と塩化メタンスルホニルとを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１４）で示される化合物１モルに対して、塩化メタンスルホニルが通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（１５）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
単離された式（１５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。
【００２３】
（工程２−３）
式（１７）で示される化合物は、式（１５）で示される化合物と式（１６）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる式（１６）で示される化合物の量は、式（１５）で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常５０℃〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより式（１７）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じてトルエン等の有機溶媒を加え、濃縮する方法。
単離された式（１７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２４】
（工程２−４）
式（１８）で示される化合物は、式（１７）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造する事ができる。
該反応は、通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１７）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２５】
（工程２−５）
式（１９）で示される化合物は、式（１８）で示される化合物と塩化チオニルとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩化チオニルの量は、式（１８）で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１９）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１９）で示される化合物は、蒸留等によりさらに精製することができる。
【００２６】
（中間体製造法３）
2004300140.tif 000008
〔式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ7は前記と同じ意味を表す。〕
式（２０）で示される化合物は、中間体製造法２の（工程２−４）に準ずる方法で、式（１７）で示される化合物の代わりに式（１４）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
【００２７】
（中間体製造法４）
2004300140.tif 000009
〔式中、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｌ2は塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ6、Ｘ1およびＹ1は前記と同じ意味を表す。〕
（工程４−１）〜（工程４−３）
式（２４）で示される化合物は、中間体製造法１の（工程１−１）〜（工程１−３）に準ずる方法で、式（８）で示される化合物の代わりに式（２１）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
【００２８】
（工程４−４）
式（２５）で示される化合物は、式（２４）で示される化合物と水素とをパラジウム炭素の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、トルエン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられるパラジウム炭素の量は、式（２５）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１〜０．１モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２９】
（工程４−５）
式（４）で示される化合物は、製造法３に準ずる方法で、式（３）で示される化合物の代わりに式（２５）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
【００３０】
（中間体製造法５）
2004300140.tif 000010
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ5およびＲ7は前記と同じ意味を表す。〕
（工程５−１）
式（２７）で示される化合物は、式（１３）で示される化合物と式（２６）で示される化合物またはその塩酸塩、硫酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１３）で示される化合物１モルに対して、式（２６）で示される化合物またはその塩が通常１〜５モルの割合であり、塩基が通常触媒量〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を必要により例えば希塩酸等の酸性水で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。
【００３１】
（工程５−２）
式（２８）で示される化合物は、式（２７）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応をさせることにより製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（２７）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００３２】
次に、本発明化合物の具体例を以下に示す。
式（Ａ）で示される化合物
2004300140.tif 000011
上記式（Ａ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、以下の（表１）〜（表５）に記載する。
【００３３】
【表１】
2004300140.tif 000012
【００３４】
【表２】
2004300140.tif 000013
【００３５】
【表３】
2004300140.tif 000014
【００３６】
【表４】
2004300140.tif 000015
【００３７】
【表５】
2004300140.tif 000016
【００３８】
式（Ｂ）で示される化合物
2004300140.tif 000017
上記式（Ｂ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ5は、以下の（表６）〜（表８）に記載する。
【００３９】
【表６】
2004300140.tif 000018
【００４０】
【表７】
2004300140.tif 000019
【００４１】
【表８】
2004300140.tif 000020
【００４２】
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。
【００４３】
本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
【００４４】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水があげられる。
【００４５】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤があげられる。
【００４６】
その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤があげられる。
【００４７】
本発明の植物病害防除剤は、例えば植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
【００４８】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合または土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ2あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
【００４９】
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は、通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。
【００５０】
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
【００５１】
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／または病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
【００５２】
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／または肥料と共に用いることもできる。
【００５３】
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ニコビフェン、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ及びアシベンゾラールＳメチルがあげられる。
【実施例】
【００５４】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。
【００５５】
まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例１
５−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）イソキサゾール０．３７ｇとトリエチルアミン０．５０ｇとをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、ここに２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸塩化物０．４０ｇを滴下して、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に酢酸エチルを加えて濾過し、濾液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）に付し、Ｎ−｛４−（３，４−ジメトキシフェニル）イソキサゾール−５−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（１−１）と記す。）０．０４９ｇを得た。
本発明化合物（１−１）
2004300140.tif 000021
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ(ｐｐｍ)：２．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．７１（３Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、４．１２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．２０（１Ｈ，ｓ）、６．７７−６．８０（３Ｈ，ｍ）、７．２２−７．４０（４Ｈ，ｍ）、８．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７５（１Ｈ，ｓ）
【００５６】
次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
参考製造例１
４−クロロフェニルグリオキシル酸メチル８０．２ｇをメタノール５００ｍｌに溶解し、０〜５℃で水素化ホウ素ナトリウム３．８ｇを加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝５／１〜２／１）に付し、２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇを得た。
２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル
2004300140.tif 000022
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、７．３１−７．３８（４Ｈ，ｍ）
【００５７】
参考製造例２
２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇとトリエチルアミン４０．８ｇとをテトラヒドロフラン２００ｍｌに溶解し、０℃で塩化メタンスルホニル４２．８ｇを加え、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて濾過した。濾液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝３／１）に付し、２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７５．６ｇを得た。
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル
2004300140.tif 000023
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．１２（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、５．９２（１Ｈ，ｓ）、７．３６−７．４３（４Ｈ，ｍ）
【００５８】
参考製造例３
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７０ｇと２−プロピニルアルコール７０ｇとを混合し、８０℃で１．５時間攪拌した。その後、反応混合物にトルエンを加えて減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝１０／１）に付し、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル
2004300140.tif 000024
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．１２（３Ｈ，ｓ）、４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）
2004300140.tif 000025
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ）
【００５９】
参考製造例４
参考製造例３で製造された２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇをテトラヒドロフラン８００ｍｌに溶解し、０℃で水酸化リチウム水溶液（水酸化リチウム６．７４ｇと水２８０ｍｌとの混合物）を滴下し、０℃〜室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して、得られた結晶をヘキサンで洗浄して、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸４３．４ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸
2004300140.tif 000026
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．２０（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４４（４Ｈ，ｍ）、８．７０−９．５０（１Ｈ，ｂｒ）
【００６０】
参考製造例５
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸４．７ｇと塩化チオニル３．０ｇとをトルエン５０mlと混合し、１００℃で２時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷してから反応混合物を減圧下濃縮して、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸塩化物５．０ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸塩化物
2004300140.tif 000027
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、５．３９（１Ｈ，ｓ）、７．３７−７．４４（４Ｈ，ｍ）
【００６１】
参考製造例６
水素化ナトリウム（重量％；６０％）６．８ｇをギ酸エチル５０ｍｌに混合し、ここに０℃で２−（３，４−ジメトキシフェニル）アセトニトリルのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２−（３，４−ジメトキシフェニル）アセトニトリル２５ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌとの混合物）を滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を乾燥、濃縮した。得られた結晶をヘキサンで洗浄して２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル２２ｇを得た。
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル
2004300140.tif 000028
融点：１１４℃
【００６２】
参考製造例７
エタノール１００ｍｌに、０℃でヒドロキシルアミン塩酸塩３．７ｇを混合し、ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（重量％濃度；２０％）１８ｇを加えた。０℃付近で３０分間攪拌した後、２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル１０ｇを加え、室温で１５分間、７５〜８０℃で４時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷してから反応混合物に水を加え、減圧下濃縮後、氷冷した。得られた結晶をヘキサン洗浄し、減圧乾燥して、５−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）イソキサゾール８．３ｇを得た。
５−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）イソキサゾール
2004300140.tif 000029
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ） 、４．６０（２Ｈ，ｂｒ）、６．８４−６．９１（３Ｈ，m)、８．１６（１Ｈ，s）
【００６３】
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
【００６４】
製剤例１
本発明化合物（１−１）５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
【００６５】
製剤例２
本発明化合物（１−１）２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
【００６６】
製剤例３
本発明化合物（１−１）２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
【００６７】
製剤例４
本発明化合物（１−１）５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、乳剤を得る。
【００６８】
製剤例５
本発明化合物（１−１）２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
【００６９】
製剤例６
本発明化合物（１−１）１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。
【００７０】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物（１−１）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が５００ｐｐｍとなるように希釈して試験用薬液を調製した。この試験用薬液を上記のトマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このトマト苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で1日間栽培し、さらに昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して４日間栽培した後、植物上の病斑面積を調査した。上記本発明化合物（１−１）を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【００７１】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種:ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物（１−１）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で２００ｐｐｍの濃度に希釈し、希釈液を調製した。該希釈液を前記のブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。次いで葉面上の散布液を風乾させた後、ブドウべと病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このブドウ苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、さらに昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。
植物上の病斑面積を目視観察したところ、薬剤にて処理していない植物の病斑の面積に対して、本発明化合物（１−１）にて供試した植物の病斑面積は１０％以下であった。