(57)【要約】【課題】解像度が高いカラーフィルターを容易に製造可能なカラーフィルターの製造方法を提供する。【解決手段】基板上に、（１）塗布法により；又は（２）仮支持体上に少なくとも酸素遮断層と感光性樹脂層とが設けられた感光性転写材料を、前記基板の表面と前記感光性樹脂層とが接するように密着させ積層体を形成し、該積層体から前記仮支持体を剥離する剥離することにより；感光性樹脂層と、酸素遮断層とを形成する工程と、前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、を含むカラーフィルターの製造方法であって、前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有するカラーフィルターの製造方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層と、アルカリ可溶な酸素遮断層とを塗布法により形成する工程と、
前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、
を含むカラーフィルターの製造方法であって、
前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項２】
基板上に、仮支持体上に少なくともアルカリ可溶な酸素遮断層と、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層とが設けられた感光性転写材料を、前記基板の表面と前記感光性樹脂層とが接するように密着させ積層体を形成し、該積層体から前記仮支持体を剥離する剥離することにより、感光性樹脂層と、酸素遮断層とを形成する工程と、
前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、
を含むカラーフィルターの製造方法であって、
前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項３】
仮支持体上に少なくとも、熱可塑性樹脂層と、アルカリ可溶な酸素遮断層と、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層とが設けられた感光性転写材料を、基板の表面と前記感光性樹脂層とが接するように密着させ積層体を形成し、該積層体から前記仮支持体を剥離することにより、感光性樹脂層と、酸素遮断層と、熱可塑性樹脂層とを基板上に形成する工程と、
前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、
を含むカラーフィルターの製造方法であって、
前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー液晶表示装置用のカラーフィルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
カラー液晶表示装置用のカラーフィルターを作製するための感光性転写材料は公知である。例えば、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、アルカリ可溶な中間層（酸素遮断層）、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層をこの順に設けてなる感光性転写材料の例が知られている（特許文献１〜２参照。）。そして、カラーフィルターの製造に際し、基板上に、この感光性転写材料の感光樹脂層と該基板とが接するように密着させ、前述の各層からなる積層体を形成し、該積層体から仮支持体を剥離し、感光性樹脂層を露光することにより画素を形成し、該画素を硬化させる。その後、感光性樹脂層の未硬化部分を除去する。赤色、緑色、青色の感光性転写材料を用いて、以上の工程を繰り返し行うことにより、ＲＧＢからなるカラーフィルターを作製することができる。
【０００３】
フォトリソグラフィーの解像度向上については、ＣＥＬ（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  Ｌａｙｅｒ）による方法が提案されている。具体的にはフォトレジスト上にコントラストを高める特性を有するパターン形成層（ＣＥＬ層）を積層する方法が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。
しかし、この方法ではフォトレジスト上に新たにＣＥＬ層を形成する必要があり、塗布工程が増えてしまう。
【０００４】
【特許文献１】
特開平５−１７３３２０号公報
【特許文献２】
特開平１１−１４９００８号公報
【特許文献３】
特開昭５９−１０４６４２号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は以上の従来の問題に鑑みなされたもので、以下の目的を達成することを課題とする。
本発明の目的は、解像度が高いカラーフィルターを容易に製造可能なカラーフィルターの製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  基板上に、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層と、アルカリ可溶な酸素遮断層とを塗布法により形成する工程と、前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、を含むカラーフィルターの製造方法であって、前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。
＜２＞  基板上に、仮支持体上に少なくともアルカリ可溶な酸素遮断層と、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層とが設けられた感光性転写材料を、前記基板の表面と前記感光性樹脂層とが接するように密着させ積層体を形成し、該積層体から前記仮支持体を剥離する剥離することにより、感光性樹脂層と、酸素遮断層とを形成する工程と、前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、を含むカラーフィルターの製造方法であって、前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。
＜３＞  仮支持体上に少なくとも、熱可塑性樹脂層と、アルカリ可溶な酸素遮断層と、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層とが設けられた感光性転写材料を、基板の表面と前記感光性樹脂層とが接するように密着させ積層体を形成し、該積層体から前記仮支持体を剥離することにより、感光性樹脂層と、酸素遮断層と、熱可塑性樹脂層とを基板上に形成する工程と、前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、を含むカラーフィルターの製造方法であって、前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明のカラーフィルターの製造方法は、第１の態様によると、基板上に、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層と、アルカリ可溶な酸素遮断層とを塗布法により形成する工程と、前記感光性樹脂層を露光、現像することによって、前記基板の表面に画素を形成する露光現像工程と、必要に応じて前記露光現像工程によって形成された前記画素を加熱して硬化させる加熱工程と、を含むカラーフィルターの製造方法であって、前記酸素遮断層が光褪色性材料を含有することを特徴としている。
以下、先ず、本発明のカラーフィルターの製造方法により製造されるカラーフィルターについて説明する。
【０００８】
＜カラーフィルター＞
先ず、アルカリ可溶性について説明する。
（アルカリ可溶性）
本発明においてアルカリ可溶とは、下記のアルカリ物質の水溶液、又はこれに水と混和性のある有機溶媒を混合したものに可溶であることをいう。
適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えぱテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムなどである。アルカリ性物質の濃度は、０．０１質量％〜３０質量％であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０００９】
水と混和性の有る適当な有機溶剤は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カブロラクタム、Ｎ一メチルピロリドンなどである。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％である、またさらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【００１０】
（感光性樹脂層）
本発明に係る感光性樹脂層を構成する樹脂としては公知の光重合性組成物を使用できる。好ましい具体例は例えば特願平２−８２２６２号明細書に記載されている。ただし、ここでいう「樹脂」の中にはモノマー又はオリゴマーで露光後重合して樹脂となるものも含む。
【００１１】
本発明に係る感光性樹脂層は樹脂以外に顔料を含む。好ましい顔料種、サイズ等の例は例えば特開平１１−１４９００８号公報に記載されている。本発明に係る感光性樹脂層には必要に応じて界面活性剤等の添加剤を添加してもよい。また本発明に係る感光性樹脂層の塗布液の溶媒としてはこの層を構成する樹脂を溶解する限り特に制限なく使用でき、例えばメチルエチルケトン、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等を使用できる。
【００１２】
感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から感光性樹脂層を保護するために薄い被覆シートを設けることが好ましい。被覆シートは仮支持体と同じか、又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。被覆シート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオルエチレンシートが適当である。被覆シートの厚みは約５〜１００μｍであるのが好ましい。特に好ましくは１０〜３０μｍ厚のポリエチレンまたはポリピレンフイルムである。
【００１３】
（酸素遮断層）
酸素遮断層は、パターン露光する際に感光性樹脂層中での光硬化反応を阻害する空気中からの酸素の拡散を防止する目的と、前記熱可塑性樹脂層を設けた場合に該層と前記感光性樹脂層とが互いに混ざり合わないようにする目的で設けられる。そして、本発明においては、酸素遮断層は、後述する光褪色性材料を含有する。
【００１４】
前記酸素遮断層としては、水又はアルカリ水溶液に分散、溶解可能な樹脂成分を主に構成され、必要に応じて、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよい。前記酸素遮断層を構成する樹脂成分としては、公知のものの中から適宜選択でき、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらを２種以上組合せたもの等が挙げられる。
【００１５】
中でも、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組合せてなるものが特に好ましい。更に、前記ポリビニルアルコールとしては、鹸化率が８０％以上のものが好ましい。また、前記ポリビニルピロリドンの含有量としては、酸素遮断層の固形体積の１〜７５％であることが好ましく、１〜６０％であることがより好ましく、１０〜５０％であることが最も好ましい。
前記固形体積が、１％未満であると、感光性性樹脂層との十分な密着性が得られないことがあり、７５％を越えると、酸素遮断能が低下することがある。
【００１６】
前記酸素遮断層は、その酸素遮断能が低下すると、感光性樹脂層の重合感度が低下して、露光時の光量をアップしたり、露光時間を長くしたりする必要が生ずるばかりか、解像度も低下することになるため、酸素透過率の小さいことが好ましい。
【００１７】
前記酸素遮断層は、樹脂成分等を水系溶媒に溶解、分散して塗布液（酸素遮断層用塗布液）を調製し、公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等して形成することができる。前記水系溶媒としては、蒸留水等の水を主成分とし、所望により本発明の効果を損なわない範囲でアルコール等の水と親和性のある溶剤や塩等を添加した溶媒が挙げられる。
【００１８】
前記酸素遮断層の層厚としては、約０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。前記層厚が、約０．１μｍ未満であると、酸素透過性が高すぎて硬化性樹脂層の重合感度が低下することがあり、約５μｍを越えると、現像や酸素遮断層除去時に長時間を要することがある。
【００１９】
《光褪色性材料》
本発明においては、酸素遮断層には、光褪色性材料を含有する。光褪色性材料は、代表例として、光褪色性染料が挙げられる。その条件としては、光を吸収する波長が、紫外線から短波長可視域であること、及び光吸収エネルギーが概ね１００ｍＪ／ｃｍ2以下であることが挙げられる。これを満足するものは、ジアゾ系染料に多く、具体的には，以下のようなものが挙げられる。〔〕内はＣＡＳ Ｎｏ．を示す。４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩〔１３５３３−１７−０〕、４−（４’−メトキシベンゾイルアミノ）−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩〔５２５４３−２４−５〕、４−モルホリノ−２，５−ジブトキシ−ベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩〔１４７２６−５８−０〕、４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム テトラフッ化ホウ酸塩〔３４７−４６−６〕、４−モルホリノ−２，５−ジブトキシ−ベンゼンジアゾニウム テトラフッ化ホウ酸塩〔５０５４３−７８−７〕、４−（４’−メチルフェニルチオ−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニウム テトラフッ化ホウ酸塩〔７４５７７−１０−９〕、４−モルホリノベンゼンジアゾニウム テトラフッ化ホウ酸塩〔２２４８−３４−２〕、４−ピロリジノ−３−メチルベンゼンジアゾニウム−テトラフッ化ホウ酸塩〔３６４２２−９５−４〕、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウム ヘキサフッ化ホウ酸塩〔７３３−５１−７〕、４−モルホリノ−２，５−ジブトキシ−ベンゼンジアゾニウム ヘキサフッ化ホウ酸塩〔６８０１５−８８−３〕、４−（４’−メチルフェニルチオ）−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニウム−ヘキサフッ化ホウ酸塩〔３８６８６−７０−３〕、４−ピロリジノ−３−メチルベンゼンジアゾニウム−ヘキサフッ化ホウ酸塩〔６８０１５−９０−７〕がある。このうち、塩化亜鉛塩を構成しているものは，水に可溶であるため、特開昭６０−１２９７３８号公報で開示された着色画像を形成する際に用いることができる。一方、塩化亜鉛塩を構成していないものは，溶剤可溶であるため、特開平２−１５３３５３号公報で開示されたカラーフィルターを形成する際に用いることができる。いずれにしても、感光性樹脂に十分可溶で、かつ、適度な光吸収により透過率が増加する材料が選択される。
【００２０】
光褪色性材料は、酸素遮断層の全固形分中、１０〜４０質量％であることが好ましい。光褪色性材料の含有量を当該範囲内とすることにより、十分な解像度が得られる。
【００２１】
（基板）
本発明において、カラーフィルターが形成される基板としては、例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、あるいは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。
【００２２】
＜カラーフィルターの製造方法＞
本発明のカラーフィルターの製造方法においては、第１の態様では、基板上に感光性樹脂層と、酸素遮断層を、各層の塗布液を塗布することにより形成する。各塗布液の塗布は、公知の塗布法により行うことができ、例えば、スピンコート、ロールコーター、バーコーター、ダイコーターなどを用いた塗布法が挙げられる。
【００２３】
感光性樹脂層、酸素遮断層の各層は、既述の各層の好ましい層厚となるように塗布液を塗布する。
【００２４】
（露光現像工程）
露光現像工程は、感光性樹脂層表面をパターン露光し、現像して基板上にパターンを形成する工程である。該パターンはその目的に応じて、画素、スペーサーおよび配向制御材となる。また、当該工程では必要に応じて画素内にコンタクトホールも形成してもよい。
まず、所定のフォトマスクを通し、上記感光性樹脂層を露光（パターン露光）し、現像する。
【００２５】
−パターン露光−
上記パターン露光の光源としては、感光性樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、さらに好ましくは１５〜８０ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００２６】
−現像−
現像は公知の方法で、溶剤系もしくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液に浸漬するか、スプレーから現像液を噴射すること、更には超音波を印加しながら現像処理することでおこなわれる。
【００２７】
次に、非画像形成部の現像残膜を除去するために、現像残膜除去液中で、パターニングされ現像された感光性樹脂層が設けられた透明ガラス基板表面をブラッシングすると共に、同様の薬液を高圧で噴射等するのが好ましい。上記現像残膜除去液としては、従来公知の洗浄液を広汎に使用できるが、中でも、界面活性剤とアルカリ剤とを、それぞれ少なくとも一種含む水溶液が好ましい。
【００２８】
上記ブラッシングに使用されるブラシとしては、特に限定はされないが、ナイロンやアクリル製の繊維ロールブラシ、ＰＶＡスポンジ製のディスクブラシ等が適宜利用できる。繊維ロールブラシを使用する際には毛脚が長く（少なくとも１０ｍｍ以上）繊維径が細い（１００μｍ以下）物が好ましい。毛脚が短く、繊維径の太いブラシを用いると、形成パターンに傷が付いたり画素が剥がれたりするため好ましくない。ブラシ擦りする時間は現像装置や使用するブラシによって異なるが、例えば、繊維径５０μｍ、毛脚２５ｍｍのロールブラシを用い、ブラシの回転数１００ｒｐｍで、１秒〜２０秒程度である。これはブラシの回転下、基板表面がブラシの毛先に軽く触れる状態で基板を水平に搬送した時の各部接触時間である。接触時間が短すぎると、残膜が十分に除去できず、逆に長すぎると画素等のパターンに傷が付いたり、剥がれたりするので好ましくない。
【００２９】
ブラッシング処理と高圧噴射処理とは、現像後直ちに出来るようにインライン化することが好ましい。現像とブラッシングおよび高圧噴射を別々の装置でおこなう際には、現像後に一旦、感光性樹脂層を水洗して現像を停止する必要がある。
【００３０】
〈パターン〉
露光現像工程において形成されるパターンはその目的に応じて、画素、スペーサー、配向制御材等になる。
−画素−
当該工程において基板上に形成される画素のサイズは作製するカラーフィルターの目的に応じて適宜選定することができるが、通常、幅５０〜１００μｍ、長さ１００〜３００μｍ程度であり、画素の厚さは通常０．５〜３．０μｍ程度である。また、画素にコンタクトホールを形成する場合、該コンタクトホールの穴径は通常１０〜２０μｍ程度である。
【００３１】
−スペーサー−
当該工程において基板上に形成されるスペーサーは、液晶空間の確保等の目的で形成され、既に形成された画素上に形成してもよいし、画素と画素との間に形成してもよい。スペーサーのサイズは、カラーフィルターの目的に応じて適宜選定することができるが、通常、幅５〜４０μｍ、長さ５〜４０μｍ程度であり、厚みは２．０〜６．０μｍ程度である。スペーサーは無色透明であってもよいし、画素の上に形成する場合には、該画素と同色としてもよい。
【００３２】
−配向制御材−
当該工程において基板上に形成される配向制御材は、液晶材料の配向を特定の方向へ制御する目的で形成され、主として、既に基板上に形成された画素上に形成される。配向制御材のサイズは、カラーフィルターの目的に応じて適宜選定することができるが、通常、幅５〜４０μｍ、長さ３０〜５００μｍ程度であり、厚みは０．５〜２．０μｍ程度である。配向制御材は無色透明であってもよいし、有色であってもよい。
【００３３】
次いで、本発明のカラーフィルターの製造方法の第２の態様について説明する。第２の態様は、感光性樹脂層と酸素遮断層とを塗布ではなく、転写によって基板上に形成する点においてのみ第１の態様とは異なる。つまり、第２の態様においては、基板上に、仮支持体上に少なくともアルカリ可溶な酸素遮断層と、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層とが設けられた感光性転写材料を、前記基板の表面と前記感光性樹脂層とが接するように密着させ積層体を形成し、該積層体から前記仮支持体を剥離することにより、感光性樹脂層と、酸素遮断層とを基板上に形成する点においてのみ第１の態様とは異なる。その他の構成は実質的に第１の態様と同様である。以下、感光性転写材料について説明する。
【００３４】
＜感光性転写材料＞
前記感光性転写材料は、仮支持体上に少なくともアルカリ可溶な酸素遮断層と、アルカリ可溶で顔料を含む感光性樹脂層とが設けられている。
（仮支持体）
感光性転写材料の仮支持体としてはポリエステル、ポリスチレン等の公知の支持体を用いることができる。中でも２軸延伸したポリエチレンテレフタレートはコスト、耐熱性、寸法安定性の観点から好ましい。仮支持体の厚みは１５〜２００μｍ程度が好ましく、３０〜１５０μｍ程度がより好ましい。厚みが１５〜２００μｍの範囲ではラミネーション工程時に熱によりトタン板状のしわが発生することもなく、コスト上も不利とはならない。
【００３５】
また仮支持体には必要に応じて導電層、帯電調整層、離型層、下塗り層その他の塗布層や蒸着層を有してもよい。仮支持体の上にこれらの層がある場合はこれらを含めて仮支持体という。
離型層とは仮支持体とその表面に塗設された隣接する層の剥離力を低下させるために仮支持体の最外部に塗設される層である。
また下塗り層とはすべり、耐傷性など色々な目的のために仮支持体の上に塗設される層である。
なお導電層、帯電調整層については後述する。これらの層は塗布により塗設される場合が多いが、蒸着その他の方法で設けてもよい。
【００３６】
−剥離条件−
剥離は仮支持体と酸素遮断層との間で行う。剥離速度、剥離角度には特に制限はないが、剥離速度は０．０１〜１５ｍ／ｍｉｎが好ましく、０．１〜５ｍ／ｍｉｎがより好ましい。剥離角度は０〜１８０度のいずれの角度でもよい。
【００３７】
次いで、本発明のカラーフィルターの製造方法の第３の態様について説明する。第３の態様は、感光性転写材料の酸素遮断層上に熱可塑性樹脂層を設けた点において第２の態様とは異なる。以下、第３の態様で設けられる熱可塑性樹脂層について説明する。
【００３８】
（熱可塑性樹脂層）
本発明に係る熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としてはアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ゴム系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂およびこれらの共重合体等をあげることができる。本発明の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂は、アルカリ可溶であることが必須ではないが、アルカリ可溶であることが望ましい。
【００３９】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂として具体的には、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレン／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステル３元共重合体、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチックエ業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著  工業調査会発行、１９６８年１０月２５目発行）による有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なもの、などから少なくとも１つが挙げられる。
【００４０】
これらの樹脂は以下のように２種類を混合して用いる事がこのましい。
すなわち、これらの樹脂の中で、重量平均分子量が５万〜５０万で、且つガラス転移温度（Ｔｇ）が０〜１４０℃の範囲〔以下、樹脂（Ａ）ともいう〕で、更に好ましくは重量平均分子量が６万〜２０万で、且つガラス転移温度(Ｔｇ)が３０〜１１０℃の範囲で選択して使用することができる。これらの樹脂の具体例としては、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５５−３８９６１号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭６１−１３４７５６号、特公昭５９−４４６１５号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５４−９９４１８号、特開昭５４−１３７０８５号、特開昭５７−２０７３２号、特開昭５８−９３０４６号、特開昭５９−９７１３５号、特開昭６０−１５９７４３号、ＯＬＳ３５０４２５４号、特開昭６０−２４７６３８号、特開昭６０−２０８７４８号、特開昭６０−２１４３５４号、特開昭６０−２３０１３５号、特開昭６０−２５８５３９号、特開昭６１−１６９８２９号、特開昭６１−２１３２１３号、特開昭６３−１４７１５９号、特開昭６３−２１３８３７号、特開昭６３−２６６４４８号、特開昭６４−５５５５１号、特開昭６４一５５５５０号、特開平２−１９１９５５号、特開平２−１９９４０３号、特開平２−１９９４０４号、特開平２−２０８６０２号、特願平４−３９６５３号の各明細書に記載されているアルカリ水溶液に可溶な樹脂を挙げることができる。特に好ましいのは、特開昭６３−１４７１５９号公報に記載されたメタクリル酸／２一エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート共重合体である。
【００４１】
また、上記した種々の樹脂の中から重量平均分子量が３千〜３万で、且つガラス転移温度（Ｔｇ）が３０〜１７０℃の範囲〔以下、樹脂（Ｂ）ともいう〕で、更に好ましくは重量平均分子量が４千〜２万で、且つガラス転移温度(Ｔｇ)が６０〜１４０℃の範囲で選択して使用することができる。好ましい具体例は、上記の特許明細書に記載されているものの中から選ぶことができるが、特に好ましくは、特公昭５５−３８９６１号、特開平５−２４１３４０号明細書に記載のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体が挙げられる。
【００４２】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂（Ａ）の重量平均分子量が５万未満、又はガラス転移温度(Ｔｇ)が０℃未満では、レチキュレーションの発生や、転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を汚染することがある。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が５０万を越え、又はガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃を越えると、転写時に画素間に気泡が入ったり、熱可塑性樹脂のアルカリ水溶液除去性が低下することがある。
【００４３】
熱可塑性樹脂の厚みは６μｍ以上が好ましい。この理由としては熱可塑性樹脂の厚みが５μｍ以下であると１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能であるためである。また、上限については、アルカリ水溶液除去性、製造適性から約１００μｍ以下、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００４４】
本発明に係る熱可塑性樹脂層の塗布液としてはこの層を構成する樹脂を溶解する限り特に制限なく使用でき、例えばメチルエチルケトン、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等を使用できる。
【００４５】
本発明のカラーフィルターの製造方法は、いずれの態様においても、酸素遮断層に光褪色性材料が含まれており、酸素遮断層がＣＥＬ層の機能を有するため、従来のように、ＣＥＬ層を別途形成することがなく、工程が増えることがない。
【００４６】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。
（比較例）
＜感光性転写材料の作製＞
仮支持体として、ロール状に巻かれた、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を準備し、該仮支持体上に、下記組成よりなる熱可塑性樹脂層用塗布液Ａを塗布、乾燥して、乾燥層厚１５μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
【００４７】
2004205732.tif 000002
【００４８】
続いて、前記熱可塑性樹脂層上に、該熱可塑性樹脂層と後に設ける感光性樹脂層とが混ざり合うのを防止し、酸素遮断層として、下記組成よりなる酸素遮断層用塗布液Ｂを塗布、乾燥して、乾燥層厚１．６μｍの酸素遮断層を形成した。
2004205732.tif 000003
【００４９】
続いて、下記組成よりなる、赤色層（Ｒ層）用の感光性樹脂層用塗布液（Ｒ）を調製した。上記のように、ロール状のＰＥＴフィルム上に熱可塑性樹脂層と酸素遮断層とがこの順に積層されたものを準備し、その酸素遮断層上に前記感光性樹脂層用塗布液（Ｒ）を塗布、乾燥して、乾燥層厚２．０μｍの感光性樹脂層を形成した。
以上より、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、酸素遮断層、及び赤色の感光性樹脂層がこの順に積層されてなる、Ｒ層形成用のロール形態の感光性転写材料を作製した。
【００５０】
2004205732.tif 000004
【００５１】
＜カラーフィルターの形成＞
−赤色マトリクス形成工程−
まず、洗浄した透明なガラス基板（厚さ０．７ｍｍ、サイズ４００ｍｍ×３００ｍｍ；＃１７３７，コーニング（株）製）を用意し、感光性転写材料の感光性樹脂層との密着性を向上させるために、前記ガラス基板をシランカップリング剤（ＫＢＭ−６０３，信越化学（株）製）の０．３％水溶液中に３０秒間浸漬した後、３０秒間純粋でリンスし、エアーナイフにより乾燥した。
【００５２】
次に、上記より得たＲ層形成用感光性転写材料の感光性樹脂層（Ｒ）の表面と前記ガラス基板とを重ね合わせ、オートカットラミネーターＡＳＣ−２４（ソマール社製）を用いて、圧力２ＭＰａ、温度１３０℃、搬送速度１．０ｍ／分の条件下で貼り合わせた。その後、仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去してガラス基板上に、感光性樹脂層（Ｒ）を転写した。
この状態では、ガラス基板上に、感光性樹脂層（Ｒ）、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。
【００５３】
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に所定のフォトマスクを配置し、該フォトマスクを介して、超高圧水銀灯により露光した。
その後、現像液Ｔ−ＰＤ−１（富士写真フイルム（株）製）の１０倍希釈液を用い、熱可塑性樹脂層及び酸素遮断層をシャワー現像して除去した〔現像処理１〕。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像はされていない。続いて、現像液Ｔ−ＣＤ−１（富士写真フイルム（株）製）の５倍希釈液を用いてシャワー現像し、感光性樹脂層（Ｒ）の不要部（未硬化部）を現像除去した〔現像処理２〕。更に、現像液Ｔ−ＳＤ−１（富士写真フイルム（株）製）の１０倍希釈液（３３℃）を感光性樹脂層上にシャワーで散布しながら、回転ブラシで擦りながら不要部を完全に除去した〔現像処理３〕。前記現像処理の諸条件を下記表４に示す。
以上の工程により比較例のカラーフィルターを作製した。
【００５４】
（実施例１）
前記比較例の酸素遮断層塗布液Ｂを以下の処方に変更したこと以外、前記比較例と同様にして実施例１のカラーフィルターを作製した。
2004205732.tif 000005
【００５５】
（実施例２）
下記組成の緑色画素形成用塗布液を調液し、この塗布液を比較例で用いたガラス基板と同じシランカップリング剤で処理したガラス基板上にスピンコーターを用いて１７０ｒｐｍにて塗布し感光性樹脂層（Ｇ）を形成した。次いで、この感光性樹脂層上に、比較例で使用した酸素遮断層用塗布液Ｂをスピンコーターにより１２０ｒｐｍにて塗布した。次に、最外層である酸素遮断層の上方に所定のフォトマスクを配置し、該フォトマスクを介して、超高圧水銀灯により露光した。最後に、比較例で示した現像処理１〜３を施し、実施例２のカラーフィルターを作製した。
2004205732.tif 000006
【００５６】
（実施例３）
実施例２において、緑色画素形成用塗布液の代わりに、下記組成の青色画素形成用塗布液を調液し、この塗布液を基板上にスピンコーターを用いて２１０ｒｐｍにて塗布した後、赤色画素パターン形成と同様にして、青色（Ｂ）画素パターンが形成された実施例３のカラーフィルターを得た。
2004205732.tif 000007
【００５７】
【表１】
2004205732.tif 000008
【００５８】
表１より、実施例１〜３のカラーフィルターは、比較例のカラーフィルターと比較して、同じベタ段数でも解像度が向上しているのが分かる。
【００５９】
【発明の効果】
本発明によれば、解像度が高いカラーフィルターを容易に製造可能なカラーフィルターの製造方法を提供することができる。