(57)【要約】【課題】低ヘーズ、高透明、長尺化した、支持フィルム及びその支持フィルムを使用したレジストフィルムはレジストパターンの微細化及び保存安定性に優れる感光性エレメント及びその製造方法を提供する。レジストパターンの微細化及び保存安定性に優れる感光性エレメントの製造法を提供する。【解決手段】支持フィルム（Ａ）、感光性樹脂組成物（Ｂ）、保護フィルム（Ｃ）の３層又は（Ａ）と（Ｂ）の２層からなる感光性エレメントにおいて、支持フィルム（Ａ）が５〜３０μｍの３層又は２層の構造体になっているポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）または、ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰ）上に１〜１５０μｍの感光性樹脂組成物（Ｂ）を積層した感光性エレメント。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルム（Ａ）、感光性樹脂組成物（Ｂ）、保護フィルム（Ｃ）の３層又は（Ａ）と（Ｂ）の２層からなる感光性エレメントにおいて、支持フィルム（Ａ）が５〜３０μｍの３層又は２層の構造体になっているポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）または、ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰ）上に１〜１５０μｍの感光性樹脂組成物（Ｂ）を積層した感光性エレメント。
【請求項２】
支持フィルム（Ａ）のヘーズ値が０．２〜３．０％であり、３層又は、２層の構造はＰＥＴまたはＰＰ樹脂＋滑剤の層とＰＥＴまたはＰＰ樹脂層があり、透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であることを特徴とする感光性エレメント。
【請求項３】
支持フィルム（Ａ）の表面平滑度を３層及び２層にし、表裏の平滑度を変えることにより、表裏選択で使用することが可能である感光性エレメント。
【請求項４】
感光性樹脂組成物層が、（Ｂ１）バインダーポリマー、（Ｂ２）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｂ３）光重合開始剤を含有してなる請求項１、２又は３記載の感光性エレメント。
【請求項５】
（Ｂ１）バインダーポリマーが、スチレン又はスチレン誘導体を必須の共重合成分とする請求項４記載の感光性エレメント。
【請求項６】
（Ｂ２）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物がビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を必須成分とする請求項４又は５記載の感光性エレメント。
【請求項７】
樹脂組成物を透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルム上に塗布、乾燥してなる感光性エレメントの製造法。
【請求項８】
樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥し、さらに前記感光性樹脂組成物の層の支持体とは反対側の面に透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルムを積層してなる感光性エレメントの製造法。
【請求項９】
請求項５、６、７又は８記載の感光性エレメントの製造法により製造された感光性エレメント。
【請求項１０】
請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の感光性エレメントを、回路形成用基板上に感光性樹脂組成物層が密着するようにして積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。
【請求項１１】
請求項１０記載のレジストパターンの製造法により、レジストパターンの製造された回路形成用基板をエッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性エレメント、感光性エレメントの製造法、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プリント配線基板の製造に用いられている感光性エレメントは、感光性樹脂組成物層が支持フイルムと保護フイルムに挟まれ積層フイルムの形態をしており、使用に際しては、保護フイルムを剥がしながら感光性樹脂組成物層をプリント配線基板にラミネートし、所定のマスクを介して紫外線を選択的に照射後、現像処理を施してプリント配線板上に画像を形成するようにしている。この感光性ドライフイルムは従来の感光性樹脂組成物溶液を使用した、いわゆるウエット方式に対応して呼称するものであるが、フイルム状の感光性樹脂組成物層を用いることからその使用方法が簡便であり、最近ではウエット方式に代わって使用されるようになってきた。
【０００３】
従来より感光性エレメントの支持フィルムにはポリエチレンテレフタレートを使用しているが、単層構造又は、２層張り合わせのものが主流であった。
【０００４】
しかしながら単層や張り合わせでは、支持フィルム中の滑材量をコントロールすることが困難であった。そのことにより、フィルムのヘーズとフィルムの巻き取り長さの関係が相反する特性となっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は１１記載の発明は、低ヘーズ、高透明、長尺化した、支持フィルム及びその支持フィルムを使用したレジストフィルムはレジストパターンの微細化及び保存安定性に優れる感光性エレメント及びその製造方法を提供するものである。
【０００６】
請求項９、１０発明は、レジストパターンの微細化及び保存安定性に優れる感光性エレメントの製造法を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
（１）  支持フィルム（Ａ）、感光性樹脂組成物（Ｂ）、保護フィルム（Ｃ）の３層又は（Ａ）と（Ｂ）の２層からなる感光性エレメントにおいて、支持フィルム（Ａ）が５〜３０μｍの３層又は２層の構造体になっているポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）または、ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰ）上に１〜１５０μｍの感光性樹脂組成物（Ｂ）を積層した感光性エレメント。
（２）  支持フィルム（Ａ）のヘーズ値が０．２〜３．０％であり、３層又は、２層の構造はＰＥＴまたはＰＰ樹脂＋滑剤の層とＰＥＴまたはＰＰ樹脂層があり、透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であることを特徴とする感光性エレメント。
【０００８】
（３）  支持フィルム（Ａ）の表面平滑度を３層及び２層にし、表裏の平滑度を変えることにより、表裏選択で使用することが可能である感光性エレメント。
（４）  感光性樹脂組成物層が、（Ｂ１）バインダーポリマー、（Ｂ２）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｂ３）光重合開始剤を含有してなる上記（１）、（２）又は（３）記載の感光性エレメント。
（５）  （Ｂ１）バインダーポリマーが、スチレン又はスチレン誘導体を必須の共重合成分とする上記（４）記載の感光性エレメント。
【０００９】
（６）  （Ｂ２）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物がビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を必須成分とする上記（４）又は（５）記載の感光性エレメント。
（７）  樹脂組成物を透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルム上に塗布、乾燥してなる感光性エレメントの製造法。
（８）  樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥し、さらに前記感光性樹脂組成物の層の支持体とは反対側の面に透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルムを積層してなる感光性エレメントの製造法。
【００１０】
（９）  上記（５）、（６）、（７）又は（８）記載の感光性エレメントの製造法により製造された感光性エレメント。
（１０）  上記（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）又は（８）記載の感光性エレメントを、回路形成用基板上に感光性樹脂組成物層が密着するようにして積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。
（１１）  上記（１０）記載のレジストパターンの製造法により、レジストパターンの製造された回路形成用基板をエッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造法。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本発明における（メタ）アクリル酸とはアクリル酸及びそれに対応するメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートとはアクリレート及びそれに対応するメタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイル基とはアクリロイル基及びそれに対応するメタクリロイル基を意味する。
【００１２】
本発明の感光性エレメントは、透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルム上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる。
上記透湿度は０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）である必要があり、０〜３０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であることが好ましく、０〜２０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であることがより好ましく、０〜１０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であることが特に好ましく、０〜５ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であることが極めて好ましい。この透湿度が５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）を超えると感光性エレメントのエッジフユージョン現象が発生しやすい。なお、本発明において、透湿度はＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠して測定され、Ａ法により試験温度４０±０．５℃及び相対湿度差９０±２％ＲＨの条件で行われる。
【００１３】
前記フィルムは透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルムの厚みは、１〜１００μｍであることが好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましく、３〜５０μｍであることが特に好ましく、５〜２０μｍであることが極めて好ましい。この厚みが１μｍ未満では製造容易性及び入手容易性が劣る傾向があり、１００μｍを超えると経済性が劣る傾向がある。
【００１４】
前記感光性樹脂組成物の層が、（Ｂ１）バインダーポリマー、（Ｂ２）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｂ３）光重合開始剤を含有してなるもの等が挙げられる。
【００１５】
前記（Ｂ１）バインダーポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、アミドエポキシ系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。アルカリ現像性の見地からは、アクリル系樹脂が好ましい。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１６】
前記（Ｂ１）バインダーポリマーは、例えば、重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。上記重合性単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−エトキシスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン等の重合可能なスチレン誘導体、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミド、アクリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステル類、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、α−ブロモ（メタ）アクリル酸、α−クロル（メタ）アクリル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸、プロピオール酸などが挙げられる。上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、一般式（Ｉ）
【００１７】
【化１】
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−ＣＯＯＲ２              （Ｉ）
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基を示す）
で表される化合物、これらの化合物のアルキル基に水酸基、エポキシ基、ハロゲン基等が置換した化合物などが挙げられる。
【００１８】
上記一般式（Ｉ）中のＲ２で示される炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基及びこれらの構造異性体が挙げられる。上記一般式（Ｉ）で表される単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１９】
前記（Ａ）バインダーポリマーは、アルカリ現像性の見地から、カルボキシル基を含有させることが好ましく、例えば、カルボキシル基を有する重合性単量体とその他の重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。上記カルボキシル基を有する重合性単量体としては、メタクリル酸が好ましい。また、前記（Ａ）バインダーポリマーは、可とう性の見地からスチレン又はスチレン誘導体を重合性単量体として含有させることが好ましい。
【００２０】
上記スチレン又はスチレン誘導体を共重合成分として、密着性及び剥離特性を共に良好にするには、０．１〜３０重量％含むことが好ましく、１〜２８重量％含むことがより好ましく、１．５〜２７重量％含むことが特に好ましい。この含有量が０．１重量％未満では、密着性が劣る傾向があり、３０重量％を超えると、剥離片が大きくなり、剥離時間が長くなる傾向がある。
【００２１】
これらのバインダーポリマーは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。２種類以上を組み合わせて使用する場合のバインダーポリマーとしては、例えば、異なる共重合成分からなる２種類以上のバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度の２種類以上のバインダーポリマーなどが挙げられる。
【００２２】
前記（Ａ）バインダーポリマーは、重量平均分子量が２０，０００〜２００，０００であることが好ましく、３０，０００〜１２０，０００であることがより好ましい。この重量平均分子量が２０，０００未満では耐現像液性及び膜強度が低下する傾向があり、２００，０００を超えると解像度が低下する傾向がある。但し、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定され、標準ポリスチレンを用いて作成した検量線により換算されたものである。
【００２３】
前記（Ｂ）光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリブトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマー、ノニルフェニルポリオキシアルキレン（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシアルキル−β′−（メタ）アクリロイルオキシアルキル−ｏ−フタレート等のフタル酸系化合物、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられるが、ビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物又はウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物を必須成分とすることが好ましい。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２４】
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレン基の数が２〜１４であり、プロピレン基の数が２〜１４であるポリエチレンポリプロピレングリコールグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
上記２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘプタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシオクタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシノナエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシウンデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシドデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサデカエトキシ）フェニル）プロパン等が挙げられ、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製、製品名）として商業的に入手可能であり、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−１３００（新中村化学工業（株）製、製品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２６】
上記２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシヘキサプロポキシ）フェニル）プロパン等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２７】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業（株）製、製品名ＵＡ−１１等が挙げられる。また、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業（株）製、製品名ＵＡ−１３等が挙げられる。
【００２８】
なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。
【００２９】
前記（Ｃ）光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）等のＮ，Ｎ’−テトラアルキル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン、アルキルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインアルキルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、アルキルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。また、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は同一で対象な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また、密着性及び感度の見地からは、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体がより好ましい。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００３０】
前記（Ａ）バインダーポリマーの配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、４０〜８０重量部とすることが好ましい。この配合量が４０重量部未満では光硬化物が脆くなり易く、感光性エレメントとして用いた場合に、塗膜性が劣る傾向があり、８０重量部を超えると光感度が不充分となる傾向がある。
【００３１】
前記（Ｂ）光重合性化合物の配合量は、（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分の総量１００重量部に対して、２０〜６０重量部とすることが好ましい。この配合量が２０重量部未満では光感度が不充分となる傾向があり、６０重量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。
【００３２】
前記（Ｂ３）光重合開始剤の配合量は、（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分の総量１００重量部に対して、０．１〜２０重量部であることが好ましい。この配合量が０．１重量部未満では光感度が不充分となる傾向があり、２０重量部を超えると露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾向がある。
【００３３】
また、前記感光性樹脂組成物には、必要に応じて、分子内に少なくとも１つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性化合物、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤などを（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して各々０．０１〜２０重量部程度含有することができる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００３４】
前記感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して固形分３０〜６０重量％程度の溶液として塗布することができる。
【００３５】
また、感光性樹脂組成物層の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで１〜２００μｍであることが好ましく、１〜１００μｍであることがより好ましく、１〜３０μｍであることが特に好ましい。この厚みが１μｍ未満では工業的に塗工困難な傾向があり、２００μｍを超える場合では本発明の効果が小さく、また感度が不十分となり、レジスト底部の光硬化性が悪化する傾向がある。
【００３６】
一般的に感光性エレメントは、例えば、支持体上に感光性樹脂組成物を塗布、乾燥することにより得られ、必要に応じて、さらに前記感光性樹脂組成物の層の支持体とは反対側の面に保護フィルムを積層してなる。しかしながら、本発明の感光性エレメントは、例えば、上記支持体又は保護フィルムに吸湿能若しくは吸水能を有するフィルム又は透湿度が０〜３０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルムを使用することにより、耐エッジフージョンの効果を飛躍的に向上することができる。上記支持体及び保護フィルムが存在する場合、どちらかの一方を吸湿能若しくは吸水能を有するフィルム又は透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルムとしてもよいし、両方を吸湿能若しくは吸水能を有するフィルム又は透湿度が０〜５０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルムとしてもよい。
【００３７】
また、上記支持体及び保護フィルムが存在し、どちらかの一方を吸湿能若しくは吸水能を有するフィルム又は透湿度が０〜３０ｇ／（２４ｈ・ｍ２）であるフィルムとした場合、もう一方は、例えば、公知の重合体フィルムを使用することができる。上記重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等が挙げられる。透明性の見地からは、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等を用いることが好ましい。
【００３８】
また、これらの支持体及び保護フィルムは、後に感光性樹脂組成物層から除去可能でなくてはならないため、除去が不可能となるような表面処理が施されたものであったり、材質であったりしてはならない。これらの重合体フィルムの厚みは、１〜１００μｍとすることが好ましく、１〜３０μｍとすることがより好ましい。この厚みが１μｍ未満の場合、機械的強度が低下し、塗工時に重合体フィルムが破れるなどの問題が発生する傾向があり、３０μｍを超えると解像度が低下し、価格が高くなる傾向がある。保護フィルムとしては、感光性樹脂組成物層及び支持体の接着力よりも、感光性樹脂組成物層及び保護フィルムの接着力の方が小さいものが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムが好ましい。
【００３９】
前記塗布は、例えば、ロールコータ、コンマコータ、グラビアコータ、エアーナイフコータ、ダイコータ、バーコータ、スレーコータ等の公知の方法で行うことができる。また、乾燥は、７０〜１５０℃、５〜３０分程度で行うことができる。また、感光性樹脂組成物層中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する点から、２重量％以下とすることが好ましい。
【００４０】
本発明の感光性エレメントは、例えば、円筒状の巻芯に巻きとって貯蔵される。なお、この際支持フィルムが１番外側になるように巻き取られることが好ましい。上記ロール状の感光性エレメントロールの端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、梱包方法として、透湿性の小さいブラックシートに包んで包装することが好ましい。
【００４１】
上記巻芯としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックなどが挙げられる。
【００４２】
上記感光性エレメントを用いてレジストパターンを製造するに際しては、前記の保護フィルムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光性樹脂組成物層を７０〜１３０℃程度に加熱しながら回路形成用基板に０．１〜１ＭＰａ程度（１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ２程度）の圧力で圧着することにより積層する方法などが挙げられ、減圧下で積層することが好ましい。積層される表面は、通常金属面であるが、特に制限はない。
【００４３】
このようにして積層が完了した感光性樹脂組成物層は、ネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線が画像状に照射される。上記活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線、可視光などを有効に放射するものが用いられる。
【００４４】
次いで、露光後、感光性樹脂組成物層上に支持体が存在している場合には、支持体を除去した後、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像、ドライ現像等で未露光部を除去して現像し、レジストパターンを製造することができる。上記アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１〜５重量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５重量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１〜５重量％水酸化ナトリウムの希薄溶液等が挙げられる。上記アルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。上記現像の方式としては、例えば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。
【００４５】
現像後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０ｍＪ／ｃｍ２程度の露光を行うことによりレジストパターンをさらに硬化して用いてもよい。
【００４６】
現像後に行われる金属面のエッチングには、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液等を用いることができる。
【００４７】
本発明の感光性エレメントを用いてプリント配線板を製造する場合、現像されたレジストパターンをマスクとして、回路形成用基板の表面を、エッチング、めっき等の公知方法で処理する。上記めっき法としては、例えば、銅めっき、はんだめっき、ニッケルめっき、金めっきなどがある。次いで、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液よりさらに強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。上記強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜１０重量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０重量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。上記剥離方式としては、例えば、浸漬方式、スプレイ方式等が挙げられる。また、レジストパターンが形成されたプリント配線板は、多層プリント配線板でもよく、小径スルーホールを有していてもよい。
【００４８】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて詳細に説明する。
実施例１〜２及び比較例１〜２
表１に示す（Ｂ１）成分、（Ｂ２）成分、（Ｂ３）成分及びその他の成分を混合し、感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
【００４９】
【表１】
2004151230.tif 000002
【００５０】
次いで、この感光性樹脂組成物の溶液を１６μｍ厚の支持体上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流乾燥機で５分間乾燥し、保護フイルムをラミネートし、感光性エレメントを得た。その後、この感光性エレメントをロール状に巻き取り、さらに５００ｍｍ×５００ｍの寸法に切り、巻芯（ポリエチレン樹脂）にロール状に巻き取り、感光性エレメントロールを得た。下記表２に支持フィルムを示す。
【００５１】
【表２】
2004151230.tif 000003
【００５２】
表２で使用した材料について下記に示す。
ＨＴＲ−０２（ポリエチレンテレフタレートフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製）
ＦＢ５２−１６（ポリエチレンテレフタレートフィルム、東レ株式会社製）
ＧＳ−１６（ポリエチレンテレフタレートフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製：単層品）
Ｒ−３１２（ポリエチレンテレフタレートフィルム、三菱ポリエステル株式会社製：単層品）
【００５３】
上記、表２記載の支持フィルム上に感光性樹脂組成物を塗布したものを使用し、レジストパターンを形成する。
この時、ネガは評価用ネガマスクを利用する。
評価結果を表３に示す。
【００５４】
【表３】
2004151230.tif 000004
密着は評価用ネガマスクＬ／ｓ＝ｎ／４００μｍを、使用した。
【００５５】
【発明の効果】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は１１記載の感光性エレメントは、実施例１、２のように多層透明ＰＥＴを使用する事により、一般感光特性（特に解像・密着）を向上させることを提供できる。