(57)【要約】【課題】表示層、例えば液晶２２の両面に、電圧により状態が変化する画素がマトリックス状に存在するように電極を配設した表示素子、例えば液晶表示素子１０を備えたディスプレイにおいて、Ｙ方向（縦方向）に延びるＹラインや、ゲート線或いはＸ方向（横方向）に延びるＸラインの如き、各画素を表示状態にする画素電極に走査用駆動電圧、駆動信号電圧を供給するための配線に有効表示領域を占有させない。【解決手段】液晶表示素子１０の表示側と反対側に多層配線基板６を配置し、該基板６の表示素子１０と反対側の面に表示素子１０を駆動する一又は複数のＩＣ４を配置し、配線基板６はＩＣ４の端子からの各信号電圧をそれと対応する上記各画素に伝達する各配線経路を有する。【選択図】　　　　図１
2004020810.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電圧を印加されたときと、されないときとの状態の違いから表示をする表示層と、該表示層の両面に電圧により状態が変化する画素がマトリックス状に存在するように配設した電極からなる表示素子を備えたディスプレイにおいて、
上記表示素子の表示側と反対側に配線基板が配置され、
上記配線基板の上記表示素子と反対側の面に、又は該配線基板自身の内部に、上記表示素子を駆動する一又は複数の半導体集積回路が配置され、
上記配線基板は上記半導体集積回路の端子からの各信号電圧をそれと対応する上記各画素に伝達する各配線経路を有する
ことを特徴とするディスプレイ。
【請求項２】
電圧を印加されたときと、されないときとの状態の違いから表示をする表示層と、該表示層の両面に電圧により状態が変化する画素がマトリックス状に存在するように配設した電極と、からなり、表示光の色が互いに異なる複数の表示素子を積層したカラーのディスプレイであって、
上記表示素子の積層体の表示側と反対側に配線基板が配置され、
上記配線基板の上記表示素子と反対側の面に、又は該配線基板自身の内部に、上記各表示素子を駆動する一又は複数の半導体集積回路が配置され、
上記配線基板は上記半導体集積回路の端子からの各信号電圧をそれと対応する上記各表示素子の各画素に伝達する各配線経路を有する
ことを特徴とするディスプレイ。
【請求項３】
上記表示層が液晶からなり、上記表示素子が液晶表示素子である
ことを特徴とする請求項１又は２記載のディスプレイ。
【請求項４】
上記表示層がＥＬ（エレクトロルミネッセンス）層からなり、上記表示素子がＥＬ表示素子である
ことを特徴とする請求項１又は２記載のディスプレイ。
【請求項５】
上記表示層がカプセル化電気泳動表示用層からなり、上記表示素子がカプセル化電気泳動表示素子である
ことを特徴とする請求項１又は２記載のディスプレイ。
【請求項６】
上記表示層が紙状表示素子用電気メッキデバイス層からなり、上記表示素子が電気メッキデバイス紙状表示素子である
ことを特徴とする請求項１又は２記載のディスプレイ
【請求項７】
上記配線基板の上面の、電極、又はそれが存在しない部分に反射膜が形成された
ことを特徴とする請求項１、２又は３記載のディスプレイ。
【請求項８】
上記表示素子と上記配線基板との間に該配線基板を通じて点灯用電圧を受けて点灯するバックライトを配置してなる
ことを特徴とする請求項１、２又は３記載のディスプレイ。
【請求項９】
上記バックライトがＥＬ発光素子からなる
ことを特徴とする請求項６記載のディスプレイ。
【請求項１０】
表示層にカラーフィルタが形成された
ことを特徴とする請求項１、３、４、５、６、７、８又は９記載のディスプレイ。
【請求項１１】
該表示素子又はその積層体に信号電圧等を供給して駆動する一或いは複数の半導体集積回路を内蔵し、又は、上記表示素子又はその積層体と該一又は複数の半導体集積回路との間に介在せしめられる反射型表示装置用の配線基板であって、
上記半導体集積回路から表示素子又はその積層体への信号電圧を伝達する配線経路と、
上記表示素子又はその積層体側の面の上記配線経路の露出する部分、又はそれ以外の部分に形成された反射膜と、
を有することを特徴とする配線基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイとそれに用いる配線基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、液晶素子等を用いたディスプレイは、一般に画素を縦横にマトリックス状に配置し、任意の画素を表示状態にすることにより、文字、記号、絵画等の画像を表示するようになっている。図９はそのようなタイプのディスプレイの一例であるＴＦＴ型液晶ディスプレイの概略構成を示す平面図である。
【０００３】
図において、ａは表示パネル、ｂは該表示パネルａの一部を占有する有効表示領域で、該領域ａ内に液晶による画素を駆動する画素電極ｃが縦横に（マトリックス状に）配設されている。ｄは該ディスプレイを制御するためのコントローラ、ｅはゲートドライバで、該有効表示領域ｂ内を図９における横方向（左右方向）に延び互いに等間隔で縦方向（上下方向に）離間して配置された各ゲート線１、２、３、・・・を、上記コントローラｄにより制御されて制御する。ｆはソースドライバで、上記コントローラｄにより制御され、上記有効表示領域ｂ内を図９における縦方向（上下方向）に延び、互いに等間隔で横方向（左右方向）に離間して配置された上記ソース線１、２、３、・・・に所定の順序で信号電圧を供給するものであり、水平走査と信号電圧の供給を兼ねている。ｇは基準電源回路で、ソースドライバｆに対して、画素を表示状態にするために必要な電源電圧を画素電極ｃへ供給する。
【０００４】
ＴＦＴは各ゲート線と各ソース線の各交点に対応して配置された薄膜トランジスタで、ゲート電極に上記ゲート線が接続され、ゲートドライバｅからの垂直走査用の電圧を受ける。そして、ソースがソース線に、ドレインが画素を成す上記画素電極ｃに接続されている。そして、ゲート電極に垂直走査用の電圧を受け、且つソースにドライバｆからの駆動信号電圧を受けた薄膜トランジスタＴＦＴがその駆動信号電圧を増幅して画素電極ｃに伝達し、その画素を表示状態にする。尚、液晶表示素子の液晶の一方の面には画素電極ｃが多数マトリックス状に配置され、他方の面には有効表示領域ｂを略全面的に占有する図示しない共通電極が配置され、液晶の各画素電極ｃと共通電極との間の部分が画素となり、駆動信号電圧を受けたとき表示状態となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図９に示すような従来のディスプレイには、下記のような問題があった。第１に、液晶表示パネルａ内において、有効表示領域ｂの外側に、ソースドライバｆ、ゲートドライバｅ、コントローラｄ、基準電源回路ｇ等のディスプレイの駆動に必要な駆動回路を設けなければならないので、装置の大きさが有効表示領域に比して大きくなるという問題があった。
そして、有効表示領域を駆動回路と共に一つの液晶表示パネル上に設けるために、有効表示領域に不良があった場合、駆動回路に不良がなくても液晶表示パネル全体が不良になり、歩留まりを高くすることが難しいという問題もあった。
【０００６】
第２に、有効表示領域内のマトリックス状に配置された各画素に対して該有効表示領域の外側から垂直走査用駆動電圧及び駆動信号電圧を供給するために、縦横にソース線、ゲート線を配設しなければならず、そのため、有効表示領域の小型化、高画素数化が難しいという問題があった。
というのは、ソース線、ゲート線は、画素を表示状態にする各画素電極と接しないように形成しなければならず、そのため、有効表示領域を占有してしまうからである。
【０００７】
本発明はこのような問題点を解決すべく為されたものであり、ソース線或いはＹ方向（縦方向）に延びるＹラインや、ゲート線或いはＸ方向（横方向）に延びるＸラインの如き、各画素を表示状態にする画素電極に走査用駆動電圧、駆動信号電圧を供給するための配線が有効表示領域を占有しないようにし、表示領域の単位面積当たりの画素数を顕著に増やすことができるようにし、更には、表示パネルを有効表示領域のみに占有させ、駆動用回路が表示パネルを占有しないようにすることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１のディスプレイは、電圧を印加されたときと、されないときとの状態の違いから表示をする表示層と、該表示層の両面に電圧により状態が変化する画素がマトリックス状に存在するように配設した電極と、からなる表示素子を備えたディスプレイにおいて、上記表示素子の表示側と反対側に配線基板が配置され、該配線基板の上記表示素子と反対側の面に上記表示素子を駆動する一又は複数の半導体集積回路（以後「ＩＣ」という。）が配置され、上記配線基板は上記ＩＣの端子からの各信号電圧をそれと対応する上記各画素に伝達する各配線経路を有することを特徴とする。
【０００９】
請求項２のディスプレイは、電圧を印加されたときと、されないときとの状態の違いから表示をする表示層と、該表示層の両面に電圧により状態が変化する画素がマトリックス状に存在するように配設した電極と、からなり、表示光の色が互いに異なる複数の表示素子を積層したカラーのディスプレイであって、上記表示素子の積層体の表示側と反対側に配線基板が配置され、該配線基板内に、又は上記表示素子と反対側の面に、上記各表示素子を駆動する一又は複数のＩＣが配置され、該配線基板は上記ＩＣの端子からの各信号電圧をそれと対応する上記各表示素子の各画素に伝達する各配線経路を有することを特徴とする。
【００１０】
請求項３のディスプレイは、請求項１又は２記載のディスプレイにおいて、上記表示層が液晶からなることを特徴とする。尚、液晶には、例えばＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）方式、のもの、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ　Ｈｏｓｔ）方式のもの等種々のものがあり、本発明の実施には各種の液晶を用いることができる。特に、電圧をかけると螺旋状の分子配列がほぐれて色のない状態になり、電圧をかけないときは色のある状態になり、その状態から表示をし、メモリ効果のあるコリステック液晶も本発明の実施に用い得る。
【００１１】
請求項４のディスプレイは、請求項１記載のディスプレイにおいて、上記表示層がＥＬ（エレクトロルミネッセンス）層からなることを特徴とする。尚、ＥＬには、有機ＥＬと、無機ＥＬがあり、本発明において、ＥＬは有機ＥＬと、無機ＥＬのいずれかに限定されるものではなく、光源として機能するものであればどのＥＬでも用い得る。
請求項５のディスプレイは、請求項１又は２記載のディスプレイにおいて、上記表示層がカプセル化電気泳動表示用層からなり、上記表示素子がカプセル化電気泳動表示素子であることを特徴とする。尚、カプセル化電気泳動表示素子については、ＩＳＳＮ／０００２−０９６６Ｘ／０２／３３０１−０１２６−＄１．００＋．００ｃ２００２　ＳＩＤのＳＩＤ０２ＤＩＧＥＳＴ　１２６〜１２９「１０．４：Ｉｍａｇｅ　Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ　ｉｎ　Ａｃｔｉｖｅ−Ｍａｔｒｉｘ　Ｍｉｃｒｏｅｎｃａｐｓｕｌａｔｅｄ　Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ　Ｄｉｓｐｌａｙｓ」に詳細が説明されている。尚、上記文献を表示する英文字中の「００ｃ２００２」の　ｃはアルファベットの小文字のｃを○で囲んだコピーライトを意味する文字に代わるのでものである。オンライン出願では当該文字を使用できないからである。
【００１２】
請求項６のディスプレイは、　請求項１又は２記載のディスプレイにおいて、上記表示層が紙状表示素子用電気メッキデバイス層からなり、上記表示素子が電気メッキデバイス紙状表示素子であることを特徴とする。尚、電気メッキデバイス紙状表示素子については、ＩＳＳＮ／０００２−０９６６Ｘ／０２／３３０１−００３９−＄１．００＋．００ｃ２００２　ＳＩＤのＳＩＤ０２ＤＩＧＥＳＴ　３９〜４１「５．５：Ｌａｔｅ−Ｎｅｗｓ　Ｐａｐｅｒ：Ｅｌｅｃｔｏｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅ　ｆｏｒＰａｐｅｒ−Ｌｉｋｅ　Ｄｉｓｐｌａｙ」に詳細が説明されている。尚、この文献を表示する英文字中の「００ｃ２００２」の　ｃはアルファベットの小文字のｃを○で囲んだコピーライトを意味する文字に代わること前の場合と同じである。
【００１３】
請求項７のディスプレイは、請求項１、２又は３記載のディスプレイにおいて、上記配線基板の上面の電極上に、又は電極が存在しない部分に反射膜が形成されたことを特徴とする。尚、電極上への反射膜の形成は、例えば銅等の電極上にそれより反射率の高い金属膜を転写や蒸着等により行うことができる。また、電極が存在しない部分への反射膜の形成する場合の典型例は、例えば銅からなる電極とは別にその電極が形成されていないところにそれより反射性の高い金属、例えばアルミニウムを反射膜として形成する場合である。
請求項８のディスプレイは、請求項１、２又は３記載のディスプレイにおいて、上記表示素子と上記配線基板との間に該配線基板を通じて点灯用電圧を受けて点灯するバックライトを配置してなることを特徴とする。
【００１４】
請求項９のディスプレイは、請求項８記載のディスプレイにおいて、上記バックライトがＥＬ発光素子からなることを特徴とする。
請求項１０のディスプレイは、請求項１、３、４、５、６、７、８又は９記載のディスプレイにおいて、表示層にカラーフィルタが形成されたことを特徴とする。尚、カラーフィルタは表示層の上部側（表示面側）に設けるようにしても良いし、下部側（表示面側と反対側）に設けるようにしても良い。そして、カラーフィルタは原色フィルタであっても良いし、補色フィルタであっても良い。
【００１５】
請求項１１の配線基板は、該表示素子又はその積層体に信号電圧等を供給して駆動する一或いは複数の半導体集積回路を内蔵し、又は、上記表示素子又はその積層体と該一又は複数の半導体集積回路との間に介在せしめられる反射型表示装置用の配線基板であって、上記ＩＣから表示素子又はその積層体への信号電圧を伝達する配線経路と、上記表示素子又はその積層体側の面の上記配線経路の露出する部分、或いはそれ以外の部分に形成された反射膜を有することを特徴とする。尚、電極上への反射膜の形成は、例えば銅等の電極上にそれより反射率の高い金属膜を転写や蒸着等により行うことができる。また、電極が存在しない部分への反射膜の形成する場合の典型例は、例えば銅からなる電極とは別にその電極が形成されていないところにそれより反射性の高い金属、例えばアルミニウムを反射膜として形成する場合である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示実施の形態例に従って詳細に説明する。
【００１７】
（第１の実施の形態例）
図１（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第１の実施の形態例を示すもので、（Ａ）は概略平面図、（Ｂ）は拡大縦断面図である。
先ず、図１（Ａ）を参照してディスプレイの概略を説明する。１はディスプレイ、２は表示パネル、３は該表示パネル２の略全域を占有する有効表示領域、４、４、・・・は該表示パネル２の下面側に図１（Ａ）では図示しない多層配線基板（６）を介して配設された半導体集積回路（以後「ＩＣ」という。）である。
【００１８】
図１（Ａ）に示すように、本ディスプレイ１は、表示パネル２の略全域を有効表示領域３が占有し、それを駆動する回路は、該表示パネル２の下面側に多層配線基板（６）を介して配設されたＩＣ４、４、・・・内に設けられている。尚、画素は、図１（Ａ）ではＩＣ４、４、・・・と重なることを避けるための便宜のために図示しなかったが、縦横に（マトリックス状に）配設されている点では従来のものと本質的に相違はない。
【００１９】
しかし、本ディスプレイ１においては、各画素を表示状態にする電極へ走査用駆動電圧、駆動信号電圧を供給する電圧伝達配線［図９に示した従来例におけるソース線、ゲート線に相当する配線：但し、本実施例は画素毎のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）はない。従って、ソース線、ゲート線なるものはない。］は、表示パネル２の裏側に配置された多層配線基板（６）に形成され、表示パネル２自体には形成されてはいない。　従って、駆動回路（図９に示した従来例におけるコントローラ、ゲートドライバ、ソースドライバ、基準電源回路）や電圧伝達配線（図９に示した従来例におけるソース線、ゲート線に相当する配線）が表示パネル２を占有することはない。
【００２０】
次に、図１（Ｂ）を参照してディスプレイ１の縦断面構造を説明する。図１（Ｂ）において、４はＩＣ（ＩＣ４は多数あるが図１（Ｂ）には一つのＩＣ４のみ現れる。）、６は該ＩＣ４の各電極（４ｆ）と後述する液晶表示素子（１０）の各画素電極（１８）との間を電気的に接続する高集積多層配線基板（例えば４層乃至７層程度の高集積多層配線基板）であり、８はその本体部分である。表示素子１０の画素配置ピッチ（画素電極配置ピッチと同じ）と、それよりかなり小さなＩＣ４の電極配置ピッチとの間を調整するピッチアダプタとしての役割を果たす。
従って、駆動回路を成すＩＣ４、４、・・・を表示パネル１０の裏側に配置し、その電極を、多層配線基板４の電圧伝達経路を介して表示パネル２の裏側から画素電極に電気的に接続することができるのである。
【００２１】
ここで、ＩＣ４の電極部を図１（Ｂ）下部の電極部拡大図を参照して簡単に説明する。４ａは半導体基板の拡散層、４ｂは表面保護用酸化膜、４ｃは電極取り出し用金属膜、４ｄはパシベーション膜、４ｅは電極パッド膜、４ｆは半田電極で、該半田電極４ｆを介して多層配線基板６の配線と電気的に接続される。
次に、多層配線基板６のＩＣ４との接続部を簡単に説明する。６ａは表面絶縁膜、６ｂはメッキ膜で、該メッキ膜６ｂ上に半田電極が形成され、該半田電極は上記半田電極４ｆと一体化して互いが電気的に接続されるようになっている。６ｃは上下配線間接続用のバンプ、６ｄは該バンプ６ｃと接続された配線層である。　　本多層配線基板６においては、このような配線層６ｄが複数層積層され、層の異なる配線層間６ｄ・６ｄが上記バンプ６ｃを介して接続されている。
【００２２】
１２、１２、・・・は上記多層配線基板６上面に形成された配線膜で、銅からなり、後で述べる画素電極（１８）と対応する位置に配置されている。
【００２３】
１６は層間絶縁膜で、上記多層配線基板６ａ上面の各配線膜６を露出させる開口を有する。１８、１８、・・・は該開口を通じて上記各配線膜６に電気的に接続された画素電極で、透明性を有する例えばＩＴＯからなる。該各画素電極１８、１８、・・・は各々多層配線基板６の内部配線経路（駆動用電圧伝達経路）を介していずれかのＩＣ４の電極に接続されている。２０は例えばポリイミド等の材料からなり、上面が配向処理されてなる配向膜であり、層間膜１６及び画素電極１８上を覆っている。尚、本実施例において、多層配線基板６は配向膜２０をも有するように一体的に形成されるが、少なくとも透明な画素電極１８、１８、・・・及び配向膜２０は液晶表示素子１０の一部をも成している。そして、液晶２２が該多層配線基板６とその上に所定間隔を置いて配置されたトッププレート２４との間に配置されている。
尚、配線基板６の表面に配線膜１２のみならず、反射性の良い材料からなる金属膜を反射手段として形成しても良い。その場合、鏡面反射する場合と、乱反射させるために表面に微細な凹凸を有するように形成する場合とがある。しかし、開口率を良くするために、反射手段としての金属膜を形成せず、各画素の画素電極１８を可能な限度で広く形成するようにする本実施例の方が好ましい。
【００２４】
トッププレート２４はガラス或いは透明樹脂からなる。２６は該トッププレート２４の下面に略全面的に形成された共通電極で、透明なＩＴＯからなる。２８は該共通電極２６の下面に形成された色分解用のカラーフィルタで、例えば赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂが所定の配置ルールに従って配置されている。カラーフィルタは、原色系の色フィルタに代えて補色フィルタを用いることもでき得る。
ところで、本実施の形態において、カラーフィルタは表示層である液晶２２の表示面側に設けられているが、必ずしもそれに限定されるものではなく、液晶２２の表示面側と反対側（配線基板側）に設けるようにしても良い。
また、カラーフィルタ２８を表示面側に設けた場合においても、本実施の形態のように共通電極２６と液晶２２との間に形成するようにしても良いが、共通電極２６とトッププレート２４との間に設けるようにしても良く、カラーフィルタ２８の形成態様には種々のものがある。
【００２５】
尚、上記共通電極２６にもＩＣ４側から一つ又は小数の電極を通じて所定の電位（共通電極電位）が付与されるようになっている。
本発明において、表示層として液晶を用いる場合、そのタイプは特に限定されない。例えば、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）方式のもの、或いはＧＨ（Ｇｕｅｓｔ　Ｈｏｓｔ）方式のものを用いることもできるが、更には、電圧をかけると螺旋状の分子配列がほぐれて色のない状態になり、電圧をかけないときは色のある状態になり、その状態から表示をし、メモリ効果のあるコリステック液晶も本発明の実施に用い得る。
【００２６】
このようなディスプレイ１においては、表示パネル２の裏側に駆動回路を有するＩＣ４、４、・・・を配置し、該ＩＣ４、４、・・・の各電極を多層配線基板６を介して液晶表示素子１０の電極１８、１８、・・・、２６に電気的に接続するので、駆動回路（図９に示した従来例におけるコントローラ、ゲートドライバ、ソースドライバ、基準電源回路）や電圧伝達配線（図９に示した従来例におけるソース線、ゲート線に相当する配線）が表示パネル２を占有することはない。
【００２７】
（第２の実施の形態例）
図２は本発明ディスプレイの第２の実施の形態例１ａの断面図である。本実施の形態例は、配線基板６ａの表面に形成した銅からなる配線膜１２をそのまま画素電極とし、該各配線膜１２を隣接配線膜１２・１２間における絶縁を確保するに必要な限度で広めに形成し、更に、その表面の反射率を高めるようにしたものである。配線膜１２の表面の反射性を高めることは、その配線膜１２を成す材料（この場合銅）よりも反射率の高い材料からなる金属からなる反射膜１２ａをメッキ或いは蒸着等により形成することにより為し得る。そして、画素を成す配線膜１２での反射光は拡散させることが好ましいので、その反射膜１２ａの表面を粗面化すると良い。
その粗面化は例えば反射膜１２の形成後、その上面に樹脂を塗布し、選択的にエッチングすることにより微細な樹脂部が互いに分離して存在する状態にし、その後、加熱等により溶融させて各微細な樹脂をドーム状に整形し、その後、樹脂及び反射膜をエッチバックすることによりそのドーム形状を転写して、凹凸のある反射面を形成することにより成し得る。
【００２８】
配向膜２０はその表面が粗面化された反射率向上用の金属膜１２ａが形成された配線膜１２上を覆うように全面的に形成される。本実施の形態１ａは、第１の実施の形態１とは、上述した点でのみ異なり、それ以外の点では、共通する。そして、共通する点については既に説明済みなので、その説明は省略する。
【００２９】
（第３の実施の形態例）
図３（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第３の実施の形態例１ｂを示すもので、（Ａ）は拡大縦断面図、（Ｂ）は光源を成す有機ＥＬ素子の一部の下側電極、上側電極及びその間に配置されるＥＬ層を示す分解斜視図である。
本実施の形態例１ｂは、バックライト型である点で、図１（Ａ）〜（Ｂ）に示した実施の形態例１、図２（Ａ）、（Ｂ）に示した実施の形態例１ａ等とは異なるが、それ以外の点では共通する。そして、共通する点については既に説明済みなので、その説明は省略する。
【００３０】
尚、バックライトとして用いる光源は、白色発光型有機ＥＬ素子で、有機色素の一種を導電性樹脂フィルムに塗布したもの［ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）層］を主要素材とし、それを挟んだ電極に電圧を加えることによりその電圧の加わった部分を白色発光させることができる。従来において白色発光は、赤の光を発する発光素子と、青の光を発する発光素子と、緑の光を発する発光素子とを組み合わせることにより得るようにしていたが、近年、単一の色素で三原色を同時に発生させることによりその光を混ざり合わせて白色光になるようにすることが可能になった。
そして、バックライトを成す光源としてどちらのタイプの白色発光型有機ＥＬ素子を用いても良いが、本実施の形態例は後者のタイプ（単一の色素で三原色を同時に発生させるタイプ）のものを採用した。
【００３１】
６ｂは多層配線基板、３２、３４は銅からなる上面配線膜で、図１に示した実施の形態例１に用いる多層配線基板６とは、上面に露出する電極として、画素電極に対応する電極３２、３２、・・・の他に、光源を成すＥＬ素子の一方の電極３４を有し、バックライト型であることの当然の帰結として反射膜を有さず、また、配向膜も不要なので存在せず、そして上記各電極３２、３２、・・・上に透明電極材料からなる画素電極３６、３６、・・・が形成されている点で異なる。それ以外の点で、該多層配線基板６ｂは図１に示した実施の形態例１に用いる多層配線基板６とは同じである。３８はＥＬ層（白色発光型有機ＥＬ層）で、フィルム状であり、上記画素電極３６、３６、・・・を逃げる逃げ孔４０、４０、・・・が形成されており、本多層配線基板６ａの上面に、該各逃げ孔４０、４０、・・・にて上記各画素電極３６、３６、・・・を逃げるように積層される。
【００３２】
４２は該ＥＬ層３８上に積層された絶縁層で、下面にはＥＬ素子の他方の電極（上側電極）４４が形成されており、上面は配向処理をされており、その上に形成される液晶表示素子１０にとっての配向膜としての役割も果たす。該上側電極４４は、図３（Ｂ）に示すように、画素電極３６、３６、・・・を逃げる逃げ孔４６、４６、・・・を有し、絶縁層４２はその各逃げ孔４６、４６、・・・が各画素電極３６、３６、・・・を逃げるようにＥＬ層３８上に積層される。
【００３３】
尚、上記の上面が配向処理された絶縁層４２上に、液晶表示素子１０が形成される。この液晶表示素子１０は図１に示した第１の実施の形態例の液晶表示素子１０と同じであるので、特に説明はしない。
本実施の形態例は、第１の実施の形態例とは、光源として白色発光型ＥＬ素子を用いるバックライト型である点では異なるが、それ以外の点では共通するので、第１の実施の形態例と同様に、表示パネル２の裏側に駆動回路を有するＩＣ４、４、・・・を配置し、該ＩＣ４、４、・・・の各電極を多層配線基板６ｂを介して液晶表示素子１０の電極３６、３６、・・・、４４に電気的に接続するので、駆動回路（図９に示した従来例におけるコントローラ、ゲートドライバ、ソースドライバ、基準電源回路）や電圧伝達配線（図９に示した従来例におけるソース線、ゲート線に相当する配線）が表示パネル２を占有することはない。
【００３４】
（第４の実施の形態例）
図４（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第４の実施の形態例を示すもので、（Ａ）は概略平面図、（Ｂ）は拡大縦断面図である。
本実施の形態例１ｃは、表示素子として白色発光型有機ＥＬ素子を用いた点で上記第１の実施形態例とは相違するが、それ以外の点では共通する。そして、その共通する点については既に説明済みなので、その説明は省略し、相違する点についてのみ詳細に説明する。
【００３５】
６ｃは本実施の形態例１ｃに用いる多層配線基板で、上面に透明電極材料からなる画素電極４８、４８、・・・が形成されている。５０は白色発光型有機ＥＬ層で、上記多層配線基板６ｂ上に積層されている。そして、該ＥＬ層５０上にトップパネル２４が積層される。該トップパネル２４はその下面に透明電極材料からなる共通電極２６が形成され、更に該共通電極２６の下面上にはカラーフィルタ（Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色）２８が形成されている点については、第１、第２の実施の形態例１、１ａと異なるところはない。
【００３６】
このような第４の実施の形態例１ｃによれば、より構造を簡単化することができ、第１〜第３の実施の形態例１、１ａ、１ｂと同様に、表示パネル２ａの裏側に駆動回路を有するＩＣ４、４、・・・を配置し、該ＩＣ４、４、・・・の各電極を多層配線基板６を介してＥＬ表示素子１０ａの電極３６、３６、・・・、４４に電気的に接続するので、駆動回路（図９に示した従来例におけるコントローラ、ゲートドライバ、ソースドライバ、基準電源回路）や電圧伝達配線（図９に示した従来例におけるソース線、ゲート線に相当する配線）が表示パネル２を占有することがないという効果を奏する。
【００３７】
（変形例）
図５は図４に示した第４の実施の形態例１ｃの変形例１ｄを示す断面図である。　　本変形例１ｄは、多層配線基板として、上面に画素電極４８、４８、・・・と共に、それと接しないように例えばアルミニウムからなる反射膜５２、５２、・・・を形成したものを用い、ディスプレイを反射型にしたものである。該多層配線基板６ｄ上にＥＬ層５０と、共通電極２６及びカラーフィルタ２８が下面に形成されたトップパネル２４を積層することは図４に示した第４の実施の形態例１ｃと同じである。
【００３８】
（第５の実施の形態例）
図６は本発明ディスプレイの第５の実施の形態例１ｅの要部の概要を示す分解断面図である。本実施の形態例１ｅは、液晶表示素子１０を三層（１０Ｂ、１０Ｇ、１０Ｒ）積層してなるものであり、各画素がそれぞれ３原色の全部を発生し得るようにされている。従って、カラーフィルタは不要なので、設けられていない。そして、各画素毎に、その青の液晶表示素子１０Ｂの画素電極に駆動用電圧を供給する伝送経路と、緑の液晶表示素子１０Ｇの画素電極に駆動用電圧を供給する伝送経路と、赤の液晶表示素子１０Ｇの画素電極に駆動用電圧を供給する伝送経路とを設ける必要があり、層間の電気的接続が必要になる。しかし、それは、スペーサボール及び液晶を介して存在する対向する配線層形成層同士を積層プレスし、対向する配線層同士を電気的に接続させることにより為し得る。
【００３９】
図６はそのようなディスプレイの積層プレスする前の状態を簡単に示しており、４、４はベアのＩＣチップ、６ｅは高集積多層配線基板、６０は液晶を堰き止めるダム、６２、６２、・・・は例えばアルミニウムからなる配線膜で、一部の配線膜６２、６２、・・・は赤の液晶表示素子１０Ｂの画素電極を成し、残りの配線膜６２、６２、・・・は緑の液晶表示素子１０Ｇ或いは青の液晶表示素子１０Ｂの画素電極と接続される配線膜となる。６４は例えばポリイミド等からなる配向膜で、その上面は配向処理されている。
【００４０】
６６１は第１のレイヤーで、高集積多層配線膜６ｄ表面との間に液晶を封入されて青の液晶表示素子１０Ｂが構成される。６６２は第２のレイヤーで、第１のレイヤー６６１との間に液晶を封入されて緑の液晶表示素子１０Ｇが構成される。６６３は第３のレイヤーで、第２のレイヤー６６２との間に液晶を封入されて赤の液晶表示素子１０Ｒが構成される。６８は例えばポリエステルからなり、第３のレイヤー６６３を構成する。
【００４１】
上記第１のレイヤー６６１、第２のレイヤー６６２及び第３のレイヤー６６３をスペーサボール７０、７０、・・・を介して積層し、高集積多層配線基板６ｂ・第１のレイヤー６６１間、第１のレイヤー６６１・第２のレイヤー６６２間、及び第２のレイヤー６６２・第３のレイヤー６６３・間に液晶を介在させた適宜加圧して一体化する。このとき、対向する配線層同士を電気的に接続されて層間の接続ができるようになっている。
このような態様でも本発明を実施することができ、より明るく、実質的解像度の高いカラー液晶型のディスプレイを提供することができる。
【００４２】
図７（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第６の実施の形態例１ｆを説明するための断面図で、（Ａ）は層間配線接続の必要性の説明のためのものであり、（Ｂ）は層間配線接続の具体例を示す。
本実施の形態例１ｆは、図７（Ａ）に示すように、カラーの有機ＥＬ素子１１Ｒ（赤）、１１Ｇ（緑）、１１Ｂ（青）を積層してカラーディスプレイを構成したものであり、各カラーＥＬ素子１１Ｒ（赤）、１１Ｇ（緑）、１１Ｂ（青）の各画素はそれぞれ互いに重なっているので、図７（Ａ）に示すように、一つの画素領域内に、カラーＥＬ素子１１Ｂの画素電極に駆動信号電圧を伝送する経路と、カラーＥＬ素子１１Ｇの画素電極に駆動信号電圧を伝送する経路と、カラーＥＬ素子１１Ｂの画素電極に駆動信号電圧を伝送する経路が必要となる。そのために、カラーＥＬ素子１１Ｒ・１１Ｇ・１１Ｂ間の垂直方向における電気的接続が必要であるが、それは図７（Ｂ）に示すように構成することにより実現できる。
【００４３】
８０、８０、・・・は多層配線基板６ｆの表面に形成された配線膜で、一部はカラーＥＬ素子１１Ｂの画素電極を成し、残りの一部はカラー素子１１Ｇの画素電極への中継用配線膜を成し、残りはカラー素子１１Ｒの画素電極への中継用配線膜を成す。５０Ｂは青のＥＬ層で、多層配線基板６ｆ上に積層されている。尚、中継用配線膜を成す配線膜８０、８０、・・・と対応する部分には層間接続を可能にする逃げ孔８２、８２、・・・を有する。尚、８０ｇは緑のＥＬ表示素子１１ｇの画素電極、８０ｒは赤のＥＬ表示素子１１ｒの画素電極である。
【００４４】
８４１、８４２は第１、第２のレイヤーで、図７（Ｂ）に示すように間にＥＬ層５０Ｂ、５０Ｇ、５０Ｒを介在して積層することによりカラーＥＬ素子１１Ｂ、１１Ｇ、１１Ｒが構成されるようになっている。８２、８２、・・・はＥＬ層５０Ｂ、５０Ｇに形成された逃げ孔で、層間接続部を逃げる。
そして、第１、第２のレイヤー８４１、８４２には層間接続用のスルーホール８４、８４、・・・が形成され、そして、多層配線基板６ｅと第１のレイヤー８４１との間の電気的接続及び第１のレイヤー８４１と第２のレイヤー８４２との間の電気的接続は半田８６を介して為されている。
尚、８８、８８、８８は共通電極で、第１、第２のレイヤー８４１、８４２には層間接続部を逃げる逃げ孔が形成されている。
【００４５】
このように、赤、緑、青のＥＬ表示素子１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを積層してカラー化することもできるのである。
【００４６】
図８は本発明ディスプレイに用い得るＩＣ（半導体集積回路）内蔵配線基板６ｇを示す断面図である。本発明ディスプレイの上記各実施例においては、配線基板として、多層配線膜を有するも、ＩＣやその他の電子部品を内蔵しないものを用いていた。しかし、配線基板として、配線経路のみならず、ＩＣやその他の電子部品を内蔵したものがあり、図８に示す配線基板６ｇはその一例を示すものである。図８において、４はそ配線基板６ｆ内のＩＣである。
このような配線基板６ｇは本発明ディスプレイに、配線基板６、６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄ、６ｅ、６ｇ等に代えて用いることができ、その場合、配線基板６ｇ内にＩＣがあるので、配線基板６ｇとは別にＩＣを設けることが必要ではなくなる。従って、ディスプレイの薄型化、軽量化をより図り易くすることができる。
【００４７】
尚、上記実施の形態例は、表示素子を構成する表示層として液晶或いはＥＬ層を用いていたが、必ずしもこれに限定されるものではなく、電圧を印加されたときと、されないときとの状態の違いから表示をする表示層を表示素子を構成するものとしてたものは本発明ディスプレイに用いることができ、例えば、表示素子がカプセル化電気泳動表示素子を、或いは電気メッキデバイス紙状表示素子を用いることもできるのである。
【００４８】
【発明の効果】
請求項１のディスプレイによれば、表示素子の表示側と反対側に配線基板を配置し、該配線基板内に、又はそれの表示素子と反対側の面に上記表示素子を駆動する一又は複数のＩＣを配置し、上記配線基板は上記ＩＣの端子からの各信号電圧をそれと対応する上記各画素に伝達する各配線経路を形成したので、ソース線或いはＹ方向（縦方向）に延びるＹラインや、ゲート線或いはＸ方向（横方向）に延びるＸラインの如き、各画素を表示状態にする画素電極に走査用駆動電圧、駆動信号電圧を供給するための配線のみが有効表示領域を占有することをなくすことができる。
従って、表示領域の単位面積当たりの画素数を顕著に増やすことのできる。更には、表示パネルを有効表示領域のみに占有させ、駆動用回路のみが表示パネルを占有することのないようにできる。
【００４９】
請求項２のディスプレイによれば、表示素子積層タイプのカラーディスプレイにおいて、表示素子の積層体の表示側と反対側に配線基板を配置し、該配線基板内に、又はその上記表示素子と反対側の面に上記各表示素子を駆動する一又は複数のＩＣを配置し、上記配線基板に上記ＩＣの端子からの各信号電圧をそれと対応する上記各表示素子の各画素に伝達する各配線経路を設けたので、表示素子積層タイプのカラーのディスプレイにおいて、請求項１のディスプレイが奏すると同じ効果を享受することができる。
【００５０】
請求項３のディスプレイによれば、表示層を液晶で構成したので、本発明を液晶ディスプレイに適用することができる。
請求項４のディスプレイによれば、表示層をＥＬ層で構成したので、本発明をＥＬディスプレイに適用することができる。
【００５１】
請求項５のディスプレイによれば、表示層をカプセル化電気泳動表示用層で構成したので、本発明をカプセル化電気泳動型ディスプレイ（表示素子）に適用することができる。
請求項６のディスプレイによれば、表示層を紙状表示素子用電気メッキデバイス層で構成したので、本発明を電気メッキデバイス紙状ディスプレイ（表示素子）に適用することができる。
【００５２】
請求項７のディスプレイによれば、配線基板の上面の、電極上に、又は電極が存在しない部分に反射膜を形成したので、反射型にでき、画像の明るさを高めることができる。
請求項８のディスプレイは、表示素子と配線基板との間に該配線基板を通じて点灯用電圧を受けて点灯するバックライトを配置したので、バックライト型のディスプレイを提供することができる。
【００５３】
請求項９のディスプレイは、ＥＬ発光素子をバックライトとして用いることができる。
請求項１０のディスプレイは、表示層にカラーフィルタを形成したので、カラーのディスプレイを提供できる。
【００５４】
請求項１１の配線基板によれば、ＩＣから表示素子又はその積層体への信号電圧を伝達する配線経路と、上記表示素子又はその積層体側の面の上記配線経路の露出する部分又は、それ以外の部分に形成された反射膜を有するので、表示素子又はその積層体と、該表示素子又はその積層体に信号電圧等を供給するＩＣを内蔵する、或いはＩＣとの間に介在せしめられる、反射型表示装置用の配線基板として好適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第１の実施の形態例を示すもので、（Ａ）は概略平面図、（Ｂ）は拡大縦断面図である。
【図２】本発明ディスプレイの第２の実施の形態例を示す断面図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第３の実施の形態例を示すもので、（Ａ）は拡大縦断面図、（Ｂ）は光源を成す有機ＥＬ素子の一部の下側電極、上側電極及びその間に配置されるＥＬ層を示す分解斜視図である。
【図４】（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第４の実施の形態例を示すもので、（Ａ）は概略平面図、（Ｂ）は拡大縦断面図である。
【図５】図４に示した第３の実施の形態例の変形例を示す断面図である。
【図６】本発明ディスプレイの第５の実施の形態例の要部の概要を示す分解断面図である。
【図７】（Ａ）、（Ｂ）は本発明ディスプレイの第６の実施の形態例を説明するための断面図で、（Ａ）は層間配線接続の必要性の説明のためのものであり、（Ｂ）は層間配線接続の具体例を示す。
【図８】本発明の実施に用い得る半導体集積回路内蔵配線基板の一つの例を示す断面図である。
【図９】液晶ディスプレイの従来例の概略構成を示す平面図である。
【符号の説明】
１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅ、１ｆ・・・ディスプレイ、
２・・・表示パネル、３・・・有効表示領域、
４・・・半導体集積回路（ベアＩＣ）、
６、６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄ、６ｅ、６ｆ、６ｇ・・・配線基板（多層配線基板）、
８・・・多層配線基板の絶縁体本体、１０・・・液晶表示素子、
１０Ｒ・・・赤の液晶表示素子、１０Ｇ・・・緑の液晶表示素子、
１０Ｂ・・・青の液晶表示素子、１１、１１ａ・・・ＥＬ表示素子、
１１Ｒ・・・赤のＥＬ表示素子、１１Ｇ・・・緑のＥＬ表示素子、
１１Ｂ・・・青のＥＬ表示素子、１２・・・配線膜、１２ａ・・・反射膜、
１８・・・画素電極、２０・・・配向膜、２２・・・液晶、２４・・・トップパネル、２６・・・共通電極、２８・・・カラーフィルタ、
３２・・・画素電極と接続された配線膜、
３４・・・光源を成すＥＬ素子の下側電極を成す配線膜、３６・・・画素電極、３８・・・ＥＬ層、４０・・・配向膜、
４２・・・光源を成すＥＬ素子の下側電極を成す配線膜、
４８・・・画素電極、５０・・・ＥＬ表示層、５０Ｒ・・・赤のＥＬ表示層、
５０Ｇ・・・緑のＥＬ表示層、５０Ｂ・・・青のＥＬ表示層、５２・・・反射膜、
６２・・・アルミニウム配線膜、６４・・・配向膜、
６６１〜６６３・・・第１〜第３のレイヤー、１０Ｒ・・・赤の液晶表示素子、
１０Ｇ・・・緑の液晶表示素子、１０Ｂ・・・青の液晶表示素子、
７０・・・スペーサボール、８０・・・配線膜、８２・・・逃げ孔、
８４・・・スルーホール、８６・・・半田。
【図１】
2004020810.tif 000003
【図２】
2004020810.tif 000004
【図３】
2004020810.tif 000005
【図４】
2004020810.tif 000006
【図５】
2004020810.tif 000007
【図６】
2004020810.tif 000008
【図７】
2004020810.tif 000009
【図８】
2004020810.tif 000010
【図９】
2004020810.tif 000011