(57)【要約】【課題】湿式排ガス処理装置において、低温飽和ガスと温飽和ガスとを十分に混合させることでダストの除去効率の向上を図る。【解決手段】排ガスを冷却するスプレイノズル１４を有する冷却塔１１の下部に排ガスを導入するダクト１２を連結すると共に、ダクト１２を通過した排ガスの一部を冷却塔１１のスプレイノズル１４の下流側へ導入するバイパス路１８を連結し、冷却塔１１に低温飽和ガスと高温飽和ガスとを混合する混合部２０を設け、この混合部２０に低温飽和ガスと高温飽和ガスとの混合を促進する２つのバッフル板２２，２３からなる混合促進部２１を設ける。【選択図】　　　　図１
2004020141.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガスを導入する導入通路と、該導入通路を通過した排ガスを冷却する冷却部と、前記導入通路を通過した排ガスの一部を前記冷却部の下流側へ導入するバイパス路と、前記冷却部で冷却された低温飽和ガスと前記バイパス路を通過した高温飽和ガスを混合する混合部とを具え、該混合部に前記低温飽和ガスと前記高温飽和ガスとの混合を促進する混合促進部を設けたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項２】
請求項１において、前記混合促進部は、対向する各壁面にガス流動方向にずらして設けた複数のバッフル板であることを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項３】
請求項２において、前記複数のバッフル板は、前記バイパス路に連続してガス流動方向の上流側に設けられた第１バッフル板と、該第１バッフル板に対向してガス流動方向の下流側に設けられた第２バッフル板とを有することを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項４】
請求項３において、直線状をなす前記冷却部に前記バイパス路が直交して連結された位置に前記混合部が形成され、前記第１バッフル板の長さをガス通路幅の４０％〜６０％、前記第２バッフル板の長さをガス通路幅の１５％〜３５％に設定すると共に、前記各バッフル板の間隔を等価直径の４０％〜６０％に設定したことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項５】
請求項３において、前記第１バッフル板及び前記第２バッフル板を一組として、複数組のバッフル板がガス流動方向に交差する面内で９０度ずらして設けられたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項６】
請求項２において、前記バッフル板のガス流動方向の上流側に前記高温飽和ガスあるいは低温飽和ガスを該バッフル板に誘導するガイド部を設けたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項７】
請求項１において、前記混合促進部は、前記混合部におけるガス流動断面の一部を閉塞する複数の第１バッフル板と、該第１バッフル板に対してガス流動方向にずらして設けられて前記第１バッフル板の閉塞領域とは異なるガス流動断面の一部を閉塞する複数の第２バッフル板とを有することを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項８】
請求項１において、前記高温飽和ガスと前記低温飽和ガスとの混合比を調節するガス量調節機構を設けたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、排ガスボイラなどから排出された排ガスを浄化処理する湿式排ガス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の湿式排ガス処理装置、例えば、排煙脱硫装置の場合、硫黄酸化物や塩化水素などを吸収すると共に、ダストを除去することが可能となっており、このダスト除去のためには、排ガスを冷却する冷却部を設け、この冷却部で冷却された低温飽和ガスと迂回した高温飽和ガスを混合し、過飽和状態として集塵機に送給し、この集塵機でダストを除去している。
【０００３】
このような従来の湿式排ガス処理装置としては、例えば、特公平３−７６９６４号公報に開示されたものがある。この公報に開示された湿式排ガス処理装置は、吸収塔の下部にダクトを接続すると共に、ダクトと吸収塔とをバイパスダクトにより接続してダンパを装着し、ダクトの上部に一次冷却除塵部を設ける一方、吸収塔の下部に二次冷却除塵部を設け、バイパスダクトと吸収塔の接続部に過飽和部を設け、吸収塔の上部に吸着部、ミストキャッチ部を設けている。従って、ダクトから導入された排ガスは一次冷却除塵部で冷却され、吸収塔に流動して二次冷却除塵部で冷却されると共に、一部がバイパスダクトから吸収塔に流動し、過飽和部で低温飽和ガスと高温飽和ガスが混合して過飽和状態となり、吸着部及びミストキャッチ部でダスト粒子を除去することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来の湿式排ガス処理装置にあっては、一次冷却除塵部及び二次冷却除塵部で冷却された低温飽和ガスと、一次冷却除塵部のみで冷却された高温飽和ガスが過飽和部で混合して過飽和状態としている。ところが、この場合、吸収塔を上昇する低温飽和ガスに対してその側方から高温飽和ガスを単に流入して混合させている。そのため、この過飽和部での混合が不十分となり、排ガスを適正な過飽和状態とすることができず、ダスト粒子の除去効率が低下してしまうという問題がある。
【０００５】
本発明はこのような問題を解決するものであって、低温飽和ガスと温飽和ガスとを十分に混合させることでダストの除去効率の向上を図った湿式排ガス処理装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するための請求項１の発明の湿式排ガス処理装置は、排ガスを導入する導入通路と、該導入通路を通過した排ガスを冷却する冷却部と、前記導入通路を通過した排ガスの一部を前記冷却部の下流側へ導入するバイパス路と、前記冷却部で冷却された低温飽和ガスと前記バイパス路を通過した高温飽和ガスを混合する混合部とを具え、該混合部に前記低温飽和ガスと前記高温飽和ガスとの混合を促進する混合促進部を設けたことを特徴とするものである。
【０００７】
請求項２の発明の湿式排ガス処理装置では、前記混合促進部は、対向する各壁面にガス流動方向にずらして設けた複数のバッフル板であることを特徴としている。
【０００８】
請求項３の発明の湿式排ガス処理装置では、前記複数のバッフル板は、前記バイパス路に連続してガス流動方向の上流側に設けられた第１バッフル板と、該第１バッフル板に対向してガス流動方向の下流側に設けられた第２バッフル板とを有することを特徴としている。
【０００９】
請求項４の発明の湿式排ガス処理装置では、直線状をなす前記冷却部に前記バイパス路が直交して連結された位置に前記混合部が形成され、前記第１バッフル板の長さをガス通路幅の４０％〜６０％、前記第２バッフル板の長さをガス通路幅の１５％〜３５％に設定すると共に、前記各バッフル板の間隔を等価直径の４０％〜６０％に設定したことを特徴としている。
【００１０】
請求項５の発明の湿式排ガス処理装置では、前記第１バッフル板及び前記第２バッフル板を一組として、複数組のバッフル板がガス流動方向に交差する面内で９０度ずらして設けられたことを特徴としている。
【００１１】
請求項６の発明の湿式排ガス処理装置では、前記バッフル板のガス流動方向の上流側に前記高温飽和ガスあるいは低温飽和ガスを該バッフル板に誘導するガイド部を設けたことを特徴としている。
【００１２】
請求項７の発明の湿式排ガス処理装置では、前記混合促進部は、前記混合部におけるガス流動断面の一部を閉塞する複数の第１バッフル板と、該第１バッフル板に対してガス流動方向にずらして設けられて前記第１バッフル板の閉塞領域とは異なるガス流動断面の一部を閉塞する複数の第２バッフル板とを有することを特徴としている。
【００１３】
請求項８の発明の湿式排ガス処理装置では、前記高温飽和ガスと前記低温飽和ガスとの混合比を調節するガス量調節機構を設けたことを特徴としている。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１５】
図１に本発明の第１実施形態に係る湿式排ガス処理装置の概略構成、図２に混合部における低温飽和ガスと温飽和ガスの流れを表す説明を示す。
【００１６】
第１実施形態の湿式排ガス処理装置において、図１に示すように、冷却塔１１は矩形の筒形状をなし、下部に排ガスを導入するダクト（導入通路）１２が連結されている。そして、冷却塔１１は下端部にカセイソーダ及び水酸化マグネシウム等のアルカリ性物質を含有する冷却水を貯留する貯留槽１３が形成されると共に、ダクト１２との連結部の上方に位置してスプレイノズル（冷却部）１４が設けられており、貯留槽１３とスプレイノズル１４とはポンプ１５及び熱交換器１６を有する冷却水供給管１７により連結されている。
【００１７】
従って、排ガスはダクト１２から冷却塔１１の下部に導入される一方、貯留槽１３に貯留された冷却水がポンプ１５により冷却水供給管１７を介してスプレイノズル１４に供給され、この排ガスに対して冷却水を吐出することで、排ガスを冷却すると共に含有するＳＯｘやＨｃｌ等のガスを吸収することができる。
【００１８】
ダクト１２の途中部と冷却塔１１の中間部とはバイパス路１８により連結されており、このバイパス路１８に開度を調節可能なダンパ（ガス量調節機構）１９が設けられている。この場合、冷却塔１１に対するダクト１２の連結方向とバイパス路１８の連結方向とは同位置となっている。従って、ダクト１２を通過する排ガスの一部をこのバイパス路１８を通して冷却塔１１におけるスプレイノズル１４の下流側へ導入することができ、バイパス路１８を通った排ガス（高温飽和ガス）とスプレイノズル１４で冷却されて冷却塔１１内を上昇した排ガス（低温飽和ガス）とは、冷却塔１１の中間部で混合されることとなり、直線状をなす冷却塔１１にバイパス路１８が直交して連結されたこの位置が混合部２０となる。
【００１９】
そして、ダンパ１９の開度を調節してバイパス路１８を通る排ガス流量を調整することで、混合部２０でのバイパス路１８を通った排ガス（高温飽和ガス）とスプレイノズル１４で冷却された排ガス（低温飽和ガス）との混合比を調節することができる。この場合、ダクト１２に導入される排ガス温度は６０℃程度であると考えると、バイパス路１８を通す排ガス流量を３０％〜６０％に設定することが混合効率の面から望ましい。つまり、図２に示すように、バイパス路１８を通った排ガス流量をＱＢ　、スプレイノズル１４で冷却された排ガス流量をＱＭ　とすると、ＱＢ　／（ＱＭ　＋ＱＢ　）＝０．３〜０．６となる。
【００２０】
更に、図１に示すように、この混合部２０にて、低温飽和ガスと高温飽和ガスとの混合を促進させて混合促進部２１を設けており、具体的には、冷却塔１１の対向する壁面にガス流動方向にずらして２つのバッフル板２２，２３を設けている。第１バッフル板２２は、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交すると共に、バイパス路１８からのガス流動方向に沿ってその上側に位置し、バイパス路１８に連続するように冷却塔１１におけるバイパス路１８側に壁面に取付けられている。一方、第２バッフル板２３は、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交して第１バッフル板２２よりもガス流動方向の下流側に位置し、バイパス路１８（第１バッフル板２２）に対向する冷却塔１１の壁面に取付けられている。
【００２１】
この混合促進部２１を構成する第１バッフル板２２と第２バッフル板２３は、前述したように、互いに平行をなして冷却塔１１の対向する壁面から突出して配設されることで、この混合促進部２１でのガス流路はジグザグとなっている。この場合、各バッフル板２２，２３の長さは冷却塔１１の横幅Ｂに応じて適正長さを設定し、各バッフル板２２，２３の間隔は冷却塔１１の等価直径Ｄに応じて適正長さを設定すればよい。即ち、図２に示すように、矩形筒形状をなす冷却塔１１の横幅Ｂに対して、第１バッフル板２２の長さをＢ／２程度（４０％〜６０％で５０％が最適）、第２バッフル板２３の長さをＢ／４程度（１５％〜３５％で２５％が最適）に設定することが望ましい。また、矩形筒形状をなす冷却塔１１の等価直径Ｄに対して、第１バッフル板２２と第２バッフル板２３の間隔をＤ／２程度（４０％〜６０％で５０％が最適）に設定することが望ましい。この場合、適正範囲の最小値は、バッフル板２２，２３の効果が発揮されはじめる数値である。
【００２２】
なお、等価直径Ｄ＝（２ＢＷ）／（Ｗ＋Ｂ）であり、Ｂは冷却塔１１におけるガス流路の横幅、Ｗは冷却塔１１におけるガス流路の縦幅である。
【００２３】
従って、混合促進部２１にて、冷却塔１１内を上昇した低温飽和ガスは、第１バッフル板２２で閉塞されていない空間部を通って第２バッフル板２２の下面に当接する一方、バイパス路１８から冷却塔１１に導入された高温飽和ガスは、第１バッフル板２２に案内されながら上昇して第２バッフル板２２の下面に当接するため、ここで低温飽和ガスと高温飽和ガスが渦流となり、両ガスの混合を促進して十分に混合して適正な過飽和状態にすることができる。
【００２４】
このように構成された本実施形態の湿式排ガス処理装置にて、図１及び図２に示すように、約６０℃の排ガスがダクト１２に流入し、内部を下降して吸収塔１１の下部に導入され、この排ガスに対してスプレイノズル１４により冷却水が吐出供給されることで、排ガスが冷却されて低温飽和ガスとなると共に、含有するＳＯｘやＨｃｌ等のガスが吸収される。また、ダクト１２を流動する排ガスの一部はバイパス路１８を通して冷却塔１１におけるスプレイノズル１４の下流側へ導入される。この場合、ダンパ１９の開度を調節することで、バイパス路１８を通す排ガス流量を３０％〜６０％に設定し、バイパス路１８を通って冷却塔１１に導入される排ガス（高温飽和ガス）と、スプレイノズル１４で冷却されて冷却塔１１を上昇する排ガス（低温飽和ガス）との混合比を適正に調節する。
【００２５】
すると、バイパス路１８からの高温飽和ガスと冷却塔１１を上昇した低温飽和ガスとが混合部２０に至り、この混合部２０で低温飽和ガスと高温飽和ガスが混合して過飽和状態となって上昇する。このとき、混合促進部２１では、冷却塔１１内を上昇した低温飽和ガスが第１バッフル板２２の側方空間部を通って第２バッフル板２２の下面に当接する一方、バイパス路１８から冷却塔１１に導入された高温飽和ガスが第１バッフル板２２の下方を通って第２バッフル板２２の下面に当接することとなり、低温飽和ガスと高温飽和ガスはここで渦流となって混合が促進され、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合して適正な過飽和状態となる。
【００２６】
その後、過飽和状態となった排ガスの粒子が粗大化して冷却塔１１内を上昇し、図示しない電気集塵機でダスト粒子が効率よく除去されて浄化される。
【００２７】
このように第１実施形態の湿式排ガス処理装置にあっては、排ガスを冷却するスプレイノズル１４を有する冷却塔１１の下部に排ガスを導入するダクト１２を連結すると共に、ダクト１２を通過した排ガスの一部を冷却塔１１のスプレイノズル１４の下流側へ導入するバイパス路１８を連結し、冷却塔１１に低温飽和ガスと高温飽和ガスとを混合する混合部２０を設け、この混合部２０に低温飽和ガスと高温飽和ガスとの混合を促進する２つのバッフル板２２，２３からなる混合促進部２１を設けている。
【００２８】
従って、冷却塔１１内を上昇した低温飽和ガスとバイパス路１８から冷却塔１１に導入された高温飽和ガスとが、第１、第２バッフル板２２，２３により渦流となって混合が促進され、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合して粒子が粗大化した過飽和状態とすることができ、この過飽和状態のガスを浄化処理する電気集塵機の浄化効率を向上することができる。
【００２９】
図３に本発明の第２実施形態に係る湿式排ガス処理装置の概略構成、図４に第２実施形態の湿式排ガス処理装置の水平断面、図５に図３のＶ−Ｖ断面、図６に本発明の第３実施形態に係る湿式排ガス処理装置の概略構成、図７に図６のＶＩＩ−ＶＩＩ断面、図８に図６のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ断面、図９に図６のＩＸ−ＩＸ断面、図１０に図６のＸ−Ｘ断面を示す。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
【００３０】
第２実施形態の湿式排ガス処理装置において、図３乃至図５に示すように、冷却塔１１の下部にダクト１２が連結され、この冷却塔１１内にスプレイノズル１４が設けられ、ダクト１２から冷却塔１１の下部に導入された排ガスに対してスプレイノズル１４から冷却水を吐出することで、排ガスを冷却することができる。また、冷却塔１１にはダクト１２を通過した排ガスの一部をスプレイノズル１４の下流側へ導入するバイパス路１８が連結され、バイパス路１８にダンパ１９が設けられている。この場合、冷却塔１１に対するダクト１２の連結方向とバイパス路１８の連結方向が９０度ずれた位置となっている。そして、バイパス路１８を通った排ガス（高温飽和ガス）とスプレイノズル１４で冷却されて冷却塔１１内を上昇した排ガス（低温飽和ガス）とが合流する位置に混合部２０が形成され、この混合部２０に、低温飽和ガスと高温飽和ガスとの混合を促進させて混合促進部３１を設けている。
【００３１】
この混合促進部３１にて、冷却塔１１の対向する壁面にガス流動方向にずらして第１、第２バッフル板３２，３３が設けられている。第１バッフル板３２は、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交すると共に、ダクト１２からのガス流動方向に沿ってバイパス路１８の上側に位置する冷却塔１１の壁面に取付けられている。一方、第２バッフル板３３は、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交して第１バッフル板３２よりもガス流動方向の下流側に位置し、ダクト１２（第１バッフル板３２）に対向する冷却塔１１の壁面に取付けられている。
【００３２】
また、混合促進部３１にて、第１、第２バッフル板３２，３３の上方（ガス流動方向下流側）には、冷却塔１１の対向する壁面にガス流動方向にずらして第３、第４バッフル板３４，３５が設けられている。第３バッフル板３４は第２バッフル板３３よりもガス流動方向の下流側に位置し、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交すると共に、バイパス路１８からのガス流動方向に沿って冷却塔１１の壁面に取付けられている。一方、第４バッフル板３５は、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交して第３バッフル板３４よりもガス流動方向の下流側に位置し、バイパス路１８（第３バッフル板３４）に対向する冷却塔１１の壁面に取付けられている。
【００３３】
この混合促進部３１を構成する第１〜第４バッフル板３２〜３５は、前述したように、互いに平行をなして冷却塔１１の各壁面から突出して配設されることで、この混合促進部３１でのガス流路は４つの水平方向にジグザグとなっている。
【００３４】
このように構成された本実施形態の湿式排ガス処理装置にて、排ガスはダクト１２から吸収塔１１の下部に導入され、スプレイノズル１４により冷却水が吐出供給されることで、排ガスが冷却されて低温飽和ガスとなる。また、排ガスの一部がダクト１２からバイパス路１８を通して冷却塔１１に導入される。すると、バイパス路１８からの高温飽和ガスと冷却塔１１を上昇した低温飽和ガスとが混合部２０で混合して過飽和状態となって上昇する。
【００３５】
このとき、混合促進部３１では、冷却塔１１内を上昇した低温飽和ガスとバイパス路１８から冷却塔１１に導入された高温飽和ガスとが、第１〜第４バッフル板３２〜３５により渦流を生成して混合が促進され、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合して適正な過飽和状態となる。その後、過飽和状態となった排ガスの粒子が粗大化して冷却塔１１内を上昇し、図示しない電気集塵機でダスト粒子が効率よく除去されて浄化される。
【００３６】
このように本実施形態の湿式排ガス処理装置にあっては、混合部２０に設けた混合促進部３１を、冷却塔１１に対するダクト１２の連結方向に対応した第１、第２バッフル板３２，３３と、バイパス路１８の連結方向に対応した第３、第４バッフル板３４，３５とで構成している。
【００３７】
従って、冷却塔１１内を上昇した低温飽和ガスとバイパス路１８から冷却塔１１に導入された高温飽和ガスとの導入方向が異なっていても、第１〜第４バッフル板３２〜３５により渦流を生成して混合を促進し、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合して粒子が粗大化した過飽和状態とすることができ、過飽和状態のガスを浄化処理する電気集塵機の浄化効率を向上することができる。
【００３８】
第３実施形態の湿式排ガス処理装置において、図６乃至図１０に示すように、冷却塔１１の下部にダクト１２が連結され、この冷却塔１１内にスプレイノズル１４が設けられている。また、冷却塔１１にはダクト１２を通過した排ガスの一部をスプレイノズル１４の下流側へ導入するバイパス路１８が連結され、バイパス路１８にダンパ１９が設けられている。そして、バイパス路１８を通った排ガス（高温飽和ガス）とスプレイノズル１４で冷却されて冷却塔１１内を上昇した排ガス（低温飽和ガス）とが合流する位置に混合部２０が形成され、この混合部２０に、低温飽和ガスと高温飽和ガスとの混合を促進させて混合促進部４１を設けている。
【００３９】
この混合促進部４１にて、混合部２０におけるガス流路の一部を閉塞する２つの第１バッフル板４２と、第１バッフル板４２のガス流動方向の下流側に位置して第１バッフル板４２による閉塞領域とは異なるようにガス流動路の一部を閉塞する３つの第２バッフル板４３と、バイパス路１８からの高温飽和ガスを各バッフル板４２，４３側に誘導する６つのガイド部４４を設けている。
【００４０】
第１バッフル板４２は、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交すると共に、パイパス路１８からのガス流動方向に沿ってこのバイパス路１８の上側に位置し、所定間隔をあけて２つ取付けられており、３つの高温飽和ガス流路を形成している。一方、第２バッフル板４３は、第１バッフル板４２よりもガス流動方向の下流側に位置し、冷却塔１１でのガス流動方向にほぼ直交すると共に、パイパス路１８からのガス流動方向に沿って所定間隔をあけて３つ取付けられており、２つの高温飽和ガス流路を形成している。また、ガイド部４４は、パイパス路１８からのガス流動方向に沿う架台４５に垂下して取付けられ、下端部がパイパス路１８側に湾曲すると共に、パイパス路１８から離間するに伴って下方に長くなるように形成されている。
【００４１】
この場合、混合促進部４１を構成する第１バッフル板４２と第２バッフル板４３は、互いに平行をなして冷却塔１１の各壁面に掛け渡されると共に、ガス流路の閉塞領域か相違していることで、混合促進部４１でのガス流路はジグザグとなっており、且つ、ガイド部４４によりバイパス路１８からの高温飽和ガスを各バッフル板４２，４３側に誘導可能となっている。
【００４２】
このように構成された本実施形態の湿式排ガス処理装置にて、排ガスはダクト１２から吸収塔１１の下部に導入され、スプレイノズル１４により冷却水が吐出供給されることで、排ガスが冷却されて低温飽和ガスとなる。また、排ガスの一部がダクト１２からバイパス路１８を通して冷却塔１１に導入される。すると、バイパス路１８からの高温飽和ガスと冷却塔１１を上昇した低温飽和ガスとが混合部２０で混合して過飽和状態となって上昇する。
【００４３】
このとき、混合部２０では、バイパス路１８から冷却塔１１に導入された高温飽和ガスが各ガイド部４４により上方のバッフル板４２，４３側に誘導し、混合促進部４１では、冷却塔１１内を上昇した低温飽和ガスと各ガイド部４４により誘導された高温飽和ガスとが、第１、第２バッフル板４２，４３により渦流を生成して混合が促進され、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合して適正な過飽和状態となる。その後、過飽和状態となって排ガスは粒子が粗大化して冷却塔１１内を上昇し、図示しない電気集塵機でダスト粒子が効率よく除去されて浄化される。
【００４４】
このように本実施形態の湿式排ガス処理装置にあっては、混合部２０に設けた混合促進部４１を、ガス流路の一部を閉塞する２つの平行な第１バッフル板４２と、この第１バッフル板４２のガス流動方向の下流側に位置して第１バッフル板４２による閉塞領域とは異なるようにガス流動路の一部を閉塞する３つの第２バッフル板４３と、バイパス路１８からの高温飽和ガスを各バッフル板４２，４３側に誘導するガイド部４４を設けて構成している。
【００４５】
従って、バイパス路１８から冷却塔１１に導入された高温飽和ガスを各ガイド部４４により上方のバッフル板４２，４３側に適正に誘導し、冷却塔１１内を上昇した低温飽和ガスとこの高温飽和ガスとを第１、第２バッフル板４２，４３により渦流を生成して混合を促進し、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合して粒子が粗大化した過飽和状態とすることができ、過飽和状態のガスを浄化処理する電気集塵機の浄化効率を向上することができる。
【００４６】
なお、上述した実施形態にて、各バッフル板の個数や組数は冷却塔、ダクト、バイパス路などの形状により適宜設定すればよい。また、各バッフル板の形状も平板に拘らず湾曲して形成したり、折曲して形成してもよい。冷却塔の下部にダクト１２を連結し、中間部にバイパス路１８を連結したが、逆に連結してもよく、冷却塔の下方から高温飽和ガスを上昇させ、その途中に低温飽和ガスを導入するようにしてもよい。
【００４７】
【発明の効果】
以上、実施形態において詳細に説明したように請求項１の発明の湿式排ガス処理装置によれば、排ガスを導入する導入通路と、この導入通路を通過した排ガスを冷却する冷却部を設けると共に、導入通路を通過した排ガスの一部を冷却部の下流側へ導入するバイパス路を設け、冷却部で冷却された低温飽和ガスとバイパス路を通過した高温飽和ガスを混合する混合部に、低温飽和ガスと高温飽和ガスとの混合を促進する混合促進部を設けたので、冷却部で冷却された低温飽和ガスとバイパス路を通った高温飽和ガスとが混合促進部でその混合が促進され、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合して過飽和状態となり、粒子を粗大化することができ、粒子が粗大化した状態のガスを浄化処理する電気集塵機の浄化効率を向上することができる。
【００４８】
請求項２の発明の湿式排ガス処理装置によれば、混合促進部を対向する各壁面にガス流動方向にずらして設けた複数のバッフル板としたので、簡単な構成で低温飽和ガスと高温飽和ガスとを確実に混合して過飽和状態とすることができる。
【００４９】
請求項３の発明の湿式排ガス処理装置によれば、複数のバッフル板を、バイパス路に連続してガス流動方向の上流側に設けられた第１バッフル板と、第１バッフル板に対向してガス流動方向の下流側に設けられた第２バッフル板としたので、第１、第２ダッフル板により混合促進部でのガス流路をジグザグとし、低温飽和ガスと高温飽和ガスとの間で渦流を生成して確実に混合して過飽和状態とすることができる。
【００５０】
請求項４の発明の湿式排ガス処理装置によれば、直線状をなす冷却部にバイパス路が直交して連結した位置に混合部を形成し、第１バッフル板の長さをガス通路幅の４０％〜６０％、第２バッフル板の長さをガス通路幅の１５％〜３５％に設定すると共に、各バッフル板の間隔を等価直径の４０％〜６０％に設定したので、低温飽和ガスと高温飽和ガスとを適正に混合することができる。
【００５１】
請求項５の発明の湿式排ガス処理装置によれば、第１バッフル板及び第２バッフル板を一組として、複数組のバッフル板がガス流動方向に交差する面内で９０度ずらして設けたので、冷却部で冷却された低温飽和ガスとバイパス路を通った高温飽和ガスとの導入方向が異なっていても、複数組のバッフル板により渦流を確実に生成して混合を促進し、この低温飽和ガスと高温飽和ガスとを十分に混合することができる。
【００５２】
請求項６の発明の湿式排ガス処理装置によれば、バッフル板のガス流動方向の上流側に高温飽和ガスあるいは低温飽和ガスをバッフル板に誘導するガイド部を設けたので、高温飽和ガスあるいは低温飽和ガスを積極的にバッフル板に誘導することで、高温飽和ガスと低温飽和ガスとの更なる混合促進を図ることができる。
【００５３】
請求項７の発明の湿式排ガス処理装置によれば、混合促進部を、混合部におけるガス流動断面の一部を閉塞する複数の第１バッフル板と、第１バッフル板に対してガス流動方向にずらして設けられて第１バッフル板の閉塞領域とは異なるガス流動断面の一部を閉塞する複数の第２バッフル板としたので、簡単な構成で低温飽和ガスと高温飽和ガスとの間で渦流を生成して確実に混合し、過飽和状態とすることができる。
【００５４】
請求項８の発明の湿式排ガス処理装置によれば、高温飽和ガスと低温飽和ガスとの混合比を調節するガス量調節機構を設けたので、排ガス温度に応じて高温飽和ガスと低温飽和ガスとの混合比を変更することで、確実に過飽和状態のガスを生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る湿式排ガス処理装置の概略構成図である。
【図２】混合部における低温飽和ガスと温飽和ガスの流れを表す説明図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係る湿式排ガス処理装置の概略構成図である。
【図４】第２実施形態の湿式排ガス処理装置の水平断面図である。
【図５】図３のＶ−Ｖ断面図である。
【図６】本発明の第３実施形態に係る湿式排ガス処理装置の概略構成図である。
【図７】図６のＶＩＩ−ＶＩＩ断面図である。
【図８】図６のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ断面図である。
【図９】図６のＩＸ−ＩＸ断面図である。
【図１０】図６のＸ−Ｘ断面図である。
【符号の説明】
１１　冷却塔
１２　ダクト（導入通路）
１４　スプレイノズル（冷却部）
１８　バイパス路
１９　ダンパ（ガス量調節機構）
２０　混合部
２１，３１，４１　混合促進部
２２，３２，４２　第１バッフル板
２３，３３，４３　第２バッフル板
３４　第３バッフル板
３５　第４バッフル板
４４　ガイド部
【図１】
2004020141.tif 000003
【図２】
2004020141.tif 000004
【図３】
2004020141.tif 000005
【図４】
2004020141.tif 000006
【図５】
2004020141.tif 000007
【図６】
2004020141.tif 000008
【図７】
2004020141.tif 000009
【図８】
2004020141.tif 000010
【図９】
2004020141.tif 000011
【図１０】
2004020141.tif 000012