(57)【要約】【課題】狭ピッチで、高アスペクト比を有するリブを形成することが可能なペーストを提供する。【解決手段】基板１０表面に形成されたペースト膜１１に所定のくし歯１２ｂを有するブレード１２を突き刺し、ブレード１２をペースト膜１１に対して一定方向に移動することにより、ペースト膜１１を塑性変形させて基板１０表面にリブ状物１３を形成可能なペーストであって、ペーストの組成が、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％、溶剤を３〜６０重量％、少なくとも１種類の有機・無機複合揺変剤を０．１〜２０重量％含む。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面に形成されたペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成可能なペーストであって、
前記ペーストの組成が、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％、溶剤を３〜６０重量％、少なくとも１種類以上の有機・無機複合揺変剤を０．１〜２０重量％含むことを特徴とするセラミックリブを形成するためのペースト。
【請求項２】
基板表面に形成されたペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成可能なペーストであって、
前記ペーストの組成が、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％、溶剤を３〜６０重量％、少なくとも１種類以上の無機揺変剤と少なくとも１種類以上の有機・無機複合揺変剤とを０．１〜２０重量％含むことを特徴とするセラミックリブを形成するためのぺースト。
【請求項３】
可塑剤または分散剤のいずれかを含むことを特徴とする請求項１または２記載のセラミックリブを形成するためのペースト。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか記載のペーストを基板表面に塗布してペースト膜を形成する工程と、
前記ペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し、前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成する工程と、
を有することを特徴とするリブ状物の形成方法。
【請求項５】
請求項４記載のリブ状物の形成方法により形成されたリブ状物を乾燥焼成してなることを特徴とするセラミックリブ。
【請求項６】
請求項５記載のセラミックリブを有することを特徴とするＦＰＤ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＰＤＰ（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅ１：  プラズマデイスプレイパネル）、ＰＡＬＣ（ｐｌａｓｍａ  ａｄｄｒｅｓｓｅｄ  ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）等のＦＰＤ（Ｆｌａｔ  ｐａｎｅｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）の製造工程におけるリブ状物（ｃｅｒａｍｉｃ  ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｒｉｂ）を形成するためのペースト及びその製造方法並びにそれ用いたリブ状物の形成方法、更にこのリブ状物から作られたセラミックリブ並びにこのセラミックリブを有するＦＰＤに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、セラミックリブは、ガラス基板上に、ペーストを塗布してペースト膜にした後、この状態でペースト膜にブレードをつき刺し、このブレードをペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、ペースト膜を塑性変形してリブ状物が形成される。（特許文献１）
上記のペーストは塑性変形によってリブ状物を形成可能に構成される。このペーストはガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９８重量％と、樹脂を０．１〜１０重量％と、溶媒を２〜５０重量％と、比表面積が１０ｍ２／ｇ以上のセラミック超微粒子（無機微粒子）を１０重量％とを含むものである。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−２６８７２９号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記のようにセラミック超微粒子（無機微粒子）のみを添加した従来のペーストでは粘度が高くなり、攪拌・混合に大きな力を必要とする。このため、量産用設備（装置）を用いた、ペーストの製造が困難であった。
また、上記のペーストを用いたセラミックリブ形成方法では、ペーストの粘度が高いため、ブレード走行速度を一定に保つことが困難となり、ブレード走行速度に依存するリブ高さが変動し、基板内でのリブ高さの偏差が大きくなるという問題があった。
また、これを改善しようとしてセラミック超微粒子（無機微粒子）の添加量を低減した場合には、ペーストがダレてしまう可能性があり、同様に、リブ成形における寸法精度が低下するという問題があった。
【０００５】
本発明の目的は、量産用設備（装置）を用いたペーストの製造が可能な範囲の粘度を有し、かつ、狭ピッチで、高アスペクト比のリブを形成することが可能なペーストを提供するとともに、このペーストから作られたセラミックリブ並びにセラミックリブを有するＦＰＤを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のセラミックリブを形成するためのペーストは、基板表面に形成されたペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成可能なペーストであって、
前記ペーストの組成が、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％、溶剤を３〜６０重量％、少なくとも１種類以上の有機・無機複合揺変剤を０．１〜２０重量％含むことにより上記課題を解決した。
【０００７】
本発明のセラミックリブを形成するためのペーストは、上記の組成にてペーストを調製することにより、製造中のペーストの粘度を量産設備が使用可能範囲まで低下させることができるため、量産レベルでのペースト製造が可能となる。また、ブレード成型中、ペーストはブレードから受けるせん断応力により粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓ程度に急激に低下するため、ブレード開口形状に従って塑性変形し、リブを形成する。成型直後には、ブレードからのせん断応力が除去されるため、粘度が１０００〜３０００Ｐａ・ｓ程度に急激に上昇し、形成されたリブの形状が変化することなく、保持され、狭ピッチ・高アスペクト比のリブを得ることができる。更に、ブレード成型中は、ペーストの粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓ程度に低下しているため、ブレードの走行に対して反力を及ぼすことなく一定の走行速度でのリブ成型が可能となるため、基板内でのリブ高さの偏差（バラツキ）を縮小することができる。
【０００８】
ここで、有機・無機複合揺変剤は、例えば無機揺変剤ベントナイト等の層状粘土鉱物の層表面もしくは端面を有機物（有機置換基）で修飾するか、もしくは、無機揺変剤と、ポリマー又は溶剤と複合させたものが挙げられる。
【０００９】
本発明のセラミックリブを形成するためのペーストは、基板表面に形成されたペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成可能なペーストであって、
前記ペーストの組成が、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％、溶剤を３〜６０重量％、少なくとも１種類以上の無機揺変剤と少なくとも１種類以上の有機・無機複合揺変剤とを０．１〜２０重量％含むことにより上記課題を解決した。
【００１０】
本発明のセラミックリブを形成するためのペーストは、上記の組成にてペーストを調製することにより、製造中のペーストの粘度を量産設備が使用可能範囲まで低下させることができるため、量産レベルでのペースト製造が可能となる。また、ブレード成型中、ペーストはブレードから受けるせん断応力により粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓ程度に急激に低下するため、ブレード開口形状に従って塑性変形し、リブを形成する。成型直後には、ブレードからのせん断応力が除去されるため、粘度が１０００〜３０００Ｐａ・ｓ程度に急激に上昇し、形成されたリブの形状が変化することなく、保持され、狭ピッチ・高アスペクト比のリブを得ることができる。更に、ブレード成型中は、ペーストの粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓ程度に低下しているため、ブレードの走行に対して反力を及ぼすことなく一定の走行速度でのリブ成型が可能となるため、基板内でのリブ高さの偏差（バラツキ）を縮小することができる。
【００１１】
同時に、無機揺変剤、有機・無機複合揺変剤を含むことにより、前記揺変剤の分散程度によりペーストの増粘・チクソ性を調整することができる。従って、揺変剤の分散程度を混練条件により制御することで、所望のリブ形状を得ることができる。
【００１２】
本発明のセラミックリブを形成するためのペーストでは、さらに、可塑剤または分散剤の、いずれか一方または双方を含むことができる。
【００１３】
本発明のリブ状物の形成方法は、上記のペーストを基板表面に塗布してペースト膜を形成する工程と、前記ペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し、前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成する工程と、を有することにより上記課題を解決した。
【００１４】
本発明のセラミックリブは、上記の方法で形成されたリブ状物を乾燥焼成してなることが好ましい。
【００１５】
本発明のＦＰＤは、上記のセラミックリブを有する。
【００１６】
本発明においては、上記のペーストでリブ状物、セラミックリブ、および、ＦＰＤを製造することが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第１実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１８】
図１に示すように、本実施形態においては、所定の形状を有するリブ状物１３が、基板１０の表面にペーストを塗布して形成されたペースト膜１１に、ブレード１２に形成されたくし歯１２ｂをつき刺し、ブレード１２のエッジ１２ａを基板１０表面に接触させた状態でブレード１２または基板１０を一定方向に移動することにより基板１０表面に形成される。
【００１９】
ペーストは、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末と、樹脂と、溶媒（溶剤と可塑剤と分散剤）と、有機・無機複合揺変剤とを含むペーストであり、ガラス粉末はＳｉＯ２，Ｂ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＰｂＯ等を主成分として、その軟化点が３００℃〜６００℃とされていることが好ましい。
【００２０】
ガラス・セラミック混合粉末とはＳｉＯ２，Ｂ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＰｂＯ等を主成分とするガラス粉末と、フィラー（骨材）の役割を果すアルミナ，ジルコン，コージェライト，ムライト，フォルステライト等のセラミック粉末とを含むものであり、このセラミック粉末は形成されるリブ１３の熱膨張係数をガラス基板１０の熱膨張係数と均等にするため、及び焼成後のセラミックリブの強度を向上させるために混合される。
【００２１】
セラミック粉末は６０容積％以下が好ましい。セラミック粉末が６０容積％以上になるとセラミックリブが多孔質になり好ましくない。なお、ガラス粉末及びセラミック粉末の粒径はそれぞれ０．１〜３０μｍであることが好ましい。ガラス粉末及びセラミック粉末の粒径が０．１μｍ未満であると凝集し易くその取扱いが煩わしくなる。また、３０μｍを越えると後述するブレード１２の移動時に所望のリブ１３が形成できなくなる不具合がある。
【００２２】
樹脂としては、バインダーとしての機能を有し、熱分解しやすく、溶剤に溶けて高粘度を有するポリマーであって、セルロース系樹脂（エチルセルロース，メチルセルロース等）、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート等等）などが挙げられる。
【００２３】
溶剤としては、アルコール系、エーテル系、あるいはエステル系等の溶剤が好ましい。ペーストは上述した粉末、樹脂及び有機揺変剤と、溶剤からなるが、必要である場合これらを主成分として、これら以外に、可塑剤及び分散剤を含ませることもできる。可塑剤としてはグリセリン、ジブチルフタレート等が挙げられる。
【００２４】
更に、分散剤としては、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンジアルキルフェニルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸、ポリオキシフェニルエーテルリン酸、ラウリルリン酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオレイルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸カリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸トリエタノールアミン、オクチルフェノキシジエトキシエチルスルホン酸ナトリウム、テトラデセンスルホン酸ナトリウム、ポリエーテルポリカルボン酸、エステルエーテルポリカルボン酸等の分散剤が挙げられる。
【００２５】
ここで、揺変剤として有機・無機複合揺変剤は、無機揺変剤の表面もしくは端面を有機物で修飾した揺変剤及び無機揺変剤とされ、例えば無機揺変剤ベントナイト等の層状粘土鉱物の層表面及び端面を有機置換基で修飾したものや、もしくは、無機揺変剤ベントナイトと、カルボキシビニルポリマーや溶剤などとを複合したものを用いることができる。
さらに、有機物で修飾する無機揺変剤を、スメクタイト、バイデライト、サボナイト、ベントナイト、モンモリロナイト、ノントロナイト、ヘクトライト、カオリナイト、ハロサイト、加水ハロサイト、セリサイト、イライト、白雲母、滑石、無機酸化物微粒子（シリカ、アルミナ、マグネシア、ジルコニア等）などから選択することができる。
【００２６】
ペーストは、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％と、樹脂を０．１〜１５重量％と、溶媒（溶剤と可塑剤と分散剤）を３〜６０重量％と、有機・無機複合有機揺変剤０．１〜２０重量％とをそれぞれ配合して調製される。ここで、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％の範囲に限定したのは、５０重量％未満ではブレードを用いて所定の形状のリブ状物を得るのが困難になり、９７重量％を越えると基板表面にペーストを均一に塗布することが困難になるからである。
【００２７】
また、有機・無機複合揺変剤を０．１〜２０重量％の範囲に設定したのは、０．１重量％より少ないと、十分なチクソ性を得られずブレードを用いて所定の形状のリブ状物を得ることが困難となるため好ましくなく、また、２０重量％よりも多い場合には、ペーストの粘度が高くなりすぎペースト製造が困難になるという不具合を生じるため好ましくないからである。
【００２８】
樹脂を０．１〜１５重量％の範囲に限定したのは、０．１重量％未満ではブレードを用いて所定の形状のリブ状物を得るのが困難になり、１５重量％を越えると基板表面にペーストを均一に塗布することが困難になり、かつ焼成後のセラミックリブ内に有機物が残存するという不具合があるからである。
【００２９】
また溶媒を３〜６０重量％の範囲に限定したのは、３重量％未満では基板表面にペーストを均一に塗布することが困難になるからであり、６０重量％を越えるとブレードを用いて所定の形状のリブ状物を得るのが困難になるからである。
【００３０】
ペーストを上記のように調整することにより、ブレード成型中、ペーストはブレードから受けるせん断応力により粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓ程度に急激に低下するため、ブレード開口形状に従って塑性変形し、リブ状物を形成する。成型直後には、ブレードからのせん断応力が除去されるため、粘度が１０００〜３０００Ｐａ・ｓ程度に急激に上昇し、形成されたリブ形状が変化することなく、保持され、狭ピッチ・高アスペクト比のリブ状物を得ることができる。更に、ブレード成型中は、ペーストの粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓ程度に低下しているため、ブレードの走行に対して反力を及ぼすことなく一定の走行速度でのリブ成形が可能となるため、基板内でのリブ高さ偏差（バラツキ）を縮小することができる。
上記ペーストでは、チクソ性に優れた揺変剤を添加したことにより、ペーストに大きなチクソ性（チクソトロピーＴｈｉｘｏｔｒｏｐｙ）を持たせてペーストの成形性と保形性とを同時に向上することが可能となる。
【００３１】
セラミックペーストの基板１０表面への塗布は、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、ディップ法又はドクタブレード法等の既存の手段により行われる。次いでこのペースト膜１１をブレード１２により塑性変形させて所定形状を有するリブ状物１３を形成する。このリブ状物１３は変形した後の形状に保たれ、かつリブ状物１３にはガラス粉末等が均一に分散されている。
【００３２】
このペースト膜１１の形成された基板１０表面に接触させるブレード１２には複数のくし歯１２ｂが等問隔にかつ同一方向に形成される。このブレード１２はペーストとの反応やペーストに溶解されることのない金属、セラミック又はプラスチック及びこれらの複合物質等により作られ、特に、寸法精度、耐久性の観点からＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏを含む合金もしくはＣｏ、Ｎｉ中にタングステンカーバイト等のセラミックを分散させた超硬合金やセラミックが好ましい。それぞれのくし歯１２ｂの隙問はこのブレード１２により形成されるリブ状物１３の断面形状に相応して形成される。
本実施形態におけるブレード１２は、図３および図４に示すように、厚さｔ、くし歯のピッチＰ、くし歯の隙間ｗ、その深さｈが所定の値のステンレススチールもしくは超硬合金により形成される。
【００３３】
ここで、ブレード１２は、厚さが０．００５ｍｍ以上５ｍｍ以下であって、くし歯のピッチをＰとし、くし歯の隙間をｗ、その隙間の深さをｈとするとき、０．０５≦ｈ≦５．０ｍｍで、０．０３ｍｍ≦ｗ≦３．０ｍｍであることが好ましい。これらの条件を満たすブレード１２により形成されたリブ状物１３は、その後の乾燥及び焼成により引き締り、所望のリブの隙問を有する緻密なセラミックリブ１４を得ることができる。
また、くし歯１２ｂの隙問の形状は図３に示すように方形状に形成する場合のみならず、最終的に作られるＦＰＤの用途によりくし歯１２ｂの隙問の形状を台形状又は逆台形に形成してもよい。くし歯１２ｂの隙問の形状を台形にすれば、開口部を広くした用途に適したリブ状物１３を形成することができ、くし歯１２ｂの隙間の形状を逆台形にすれば、リブの頂部が広い面積で平坦化したリブ状物１３を形成することができる。
【００３４】
図１に示すように、このように構成されたブレード１２によるリブ状物１３の形成は、ブレード１２のくし歯１２ｂをペースト膜１１につき刺し、エッジ１２ａを基板１０表面に接触させた状態で、基板１０を固定して図１の実線矢印で示すようにブレード１２を一定方向に移動するか、またはブレード１２を固定して図１の破線矢印で示すように基板１０を一定方向に移動させてペースト膜１１を塑性変形させることにより行われる。すなわち、ブレード１２の相対移動により基板１０表面に塗布されたぺーストのくし歯１２ｂに対応する箇所は、くし歯１２ｂの隙問に移動するかもしくは掃き取られ、くし歯１２ｂの隙間に位置するペーストのみが基板１０上に残存して基板１０表面にリブ状物１３が形成される。くし歯の溝の深さがペースト膜１１の厚さより大きい場合にはブレード１２またはガラス基板１０を移動するときに掃き取られたペーストが溝に入り込みペースト膜１１の厚さ以上の高さを有するリブ状物１３を形成できる。
この所定形状を有するリブ状物１３を形成した後、大気中１００〜２００℃で１０〜３０分問乾燥し、さらに、大気中５２０〜５８０℃で１０〜３０分問焼成することにより、図２に示すセラミックリブ１４を得る。
このセラミックリブを用いて図示しないＰＤＰを作製することができる。
【００３５】
上述のようにして基板１０上に形成されたセラミックリブ１４は、図２の拡大した円内に示すように、リブ１４の高さをＨとし、高さ（１／２）Ｈのところのリブ１４の幅をＷＣ  とするとき、Ｈ、およびＷＣ  の標準偏差がそれぞれ４％以下であって、Ｈ／ＷＣ  で表されるアスペクト比が１．５〜１０であることが好ましい。リブピッチが小さくかつアスペクト比が１．５〜１０であることにより、極めて高精細なセラミックリブ１４を得ることができる。
【００３６】
本実施形態のペーストにおいては、上記のように少なくとも１種類以上の有機・無機揺変剤を、増粘剤、ダレ防止剤、沈降防止剤として加えることにより、ペーストに大きなチクソ性（チクソトロピー：Ｔｈｉｘｏｔｒｏｐｙ）を持たせることが可能となる。このため、ペーストにシェアー（切断：ｓｈｅａｒ）のかかる成形時には粘度が低下し、塑性変形を受けやすくなり、シェアーの無くなる成形後には粘度が高くなる。
このため、成形時にペーストを塑性変形させるため等、切断力のかかった場合には粘度が低下して、容易に塑性変形することが可能になるとともに、切断力のなくなった場合には粘度が高くなり、形成された形状を容易に維持することができる。つまり、ペーストの成形性と保形性とを同時に向上することができる。
【００３７】
これにより、ブレード１２によるリブ状物１３形成時にブレード１２くし歯１２ｂに過大な反力を作用することなく、かつ、ブレード１２の進行を妨げることがなく、ブレード１２速度を一定に維持した状態で不要なペーストを除去することができるため、成形したペースト１１におけるリブ形状を維持し、かつ、ペースト膜１１の成形精度を維持した状態でリブ形成における寸法精度を向上することができるため、成形したペーストにおけるリブ状物１３形状を維持することができる。さらに、ブレード１２くし歯１２ｂにかかる反力を削減することができるため、成形に必要なブレード１２くし歯１２ｂの強度を低下することが可能となるため、ブレード１２におけるくし歯１２ｂの寸法を小さくして、より高精細なリブを形成することが可能となるとともに、リブ状物１３形成における寸法精度を向上し、高保形指数を維持することが可能となる。
【００３８】
同時に、このペーストは、チクソ性の高い有機・無機複合揺変剤を添加したことにより、ペーストの粘度・チクソ性を調整することができる。従って、添加量を調整することにより、所望のリブ形状を得ることができる。
具体的には、図７に示すように、有機・無機複合揺変剤を加えたことにより、揺変剤の分散の程度によってペーストの増粘・チクソ性を調整することができる。従って、分散の程度を混練条件により制御することで、所望のリブ形状を得ることができる。また、ペーストを調合した直後から良好なアスペクト比を得ることができる。
【００３９】
これによって、基板表面に形成されたペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し前記ブレードを前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、前記ペースト膜を塑性変形させて前記基板表面にリブ状物を形成する際に、例えば、６０μｍ程度のリブをピッチ寸法１２０μｍ程度で形成する際に、寸法精度を±５μｍ程度以下にすることが可能となる。
【００４０】
以下、本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第２実施形態を図面に基づいて説明する。
【００４１】
図５および図６において図１および図２と略同一の構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
【００４２】
この実施の形態では、上記第１の実施の形態と同様に基板１０の表面に形成されたペースト膜１１にブレード１２のくし歯１２ｂをつき刺し、ブレード１２のエッジ１２ａを基板１０表面から所定の高さ浮上した状態でブレード１２又は基板１０を一定方向に移動してペースト膜１１を塑性変形させることにより、基板１０表面に下地層２２とこの下地層２２上に所定形状を有するリブ状物２３が形成される。ペーストの成分及びペーストの塗布方法は上記第１の実施の形態と同一に構成される。
【００４３】
ブレード１２によるリブ状物２３の形成は、図５に示すように、ブレード１２のエッジ１２ａをペースト膜１１を形成した基板１０表面から所定の高さ浮上した状態で基板１０を固定して実線矢印で示すようにブレード１２を一定方向に移動するか、またはブレード１２を固定して破線矢印で示すように基板１０を一定方向に移動させることによりおこなわれる。
この移動により基板１０表面から所定の高さまでのペーストは基板表面上に残存して下地層２２を形成し、この下地層２２より上方のペーストにおいては、ブレード１２のくし歯１２ｂに対応する箇所がくし歯１２ｂの隙問に移動するかもしくは掃き取られ、くし歯１２ｂの隙問に位置するペーストのみが下地層２２上に残存して下地層２２上に所定形状を有するリブ状物２３が形成される。
【００４４】
次に、上記下地層２２およびリブ状物２３から、上記第１実施形態における方法と同様にして、図５に示す基板１０上に絶縁下地層２４が形成され、この絶縁下地層２４上にセラミックリブ２５が形成される。
絶縁下地層２４上に形成されたセラミックリブ２５は、図６の拡大した円内に示すように、リブ２５の高さをＨとし、高さ（１／２）Ｈのところのリブ２５の幅をＷＣ  とするとき、Ｈ、およびＷＣの標準偏差がそれぞれ４％以下であって、Ｈ／ＷＣで表されるアスペクト比が１．５〜１０であることが好ましい。リブピッチが小さくかつアスペクト比が１．５〜１０であることにより、極めて高精細なセラミックリブ２５を得ることができる。
【００４５】
本実施形態においては、上記の第１実施形態と同様の効果を奏することが可能となる。
【００４６】
なお、上記の各実施形態において、揺変剤は、図７（ａ）に示すように、ペースト中において、溶剤（分散剤・樹脂等を含む）Ｐの内部で、揺変剤Ｔの大きな分子が互いに端面で結合状態となることによって３次元のネットワークを形成して高粘度化し、ガラス−セラミック粒子Ｓどうしを結びつけている。この状態が、ブレード成形時等において外力がかかることによって、図７（ｂ）に示すように、揺変剤Ｔの接合が崩れ、低粘度化すると考えられる。
【００４７】
さらに、上記の各実施形態において、揺変剤として、有機・無機複合揺変剤のみならず、有機・無機複合揺変剤と無機複合揺変剤とを同時に使用することができる。このとき、有機・無機複合揺変剤と無機複合揺変剤とをあわせて揺変剤として０．１〜２０重量％の範囲に設定することが好ましい。この場合、ペースト中の有機成分量を低減することができる。
【００４８】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
【００４９】
＜実施例１＞
平均粒径１μｍのＰｂＯ−ＳｉＯ２一Ｂ２Ｏ３系ガラス粉末を８０重量％と、セラミックフィラーとして平均粒径Ｏ．５μｍのアルミナ粉末を２０重量％とを用意し、両者を十分に混合した。この混合粉末と、樹脂としてのエチルセルロースと、有機・無機複合揺変剤としての有機ベントナイトと、溶剤としてのα−テレピネオールとを重量比で８７．５／０．５／１／１１の割合になるように秤量した。この秤量された混合粉末と、樹脂と、有機揺変剤と溶剤とを、十分に混練してペーストを得た。
【００５０】
次に、図１に示すように、対角寸法が４２インチであって、厚さが３ｍｍの長方形のソーダライム系ガラス基板１０を固定した状態で、このガラス基板１０上に上記ペーストをロールコーターにより、厚さ１５０μｍで塗布してペースト膜１１を形成した。
【００５１】
くし歯１２ｂのピッチＰが１２０μｍであって、くし歯１２ｂの隙間ｗが６０μｍ、その深さｈが２００μｍ、厚さｔが０．１ｍｍのステンレス鋼により形成されたブレード１２を用意した。（図３および図４）
【００５２】
ペーストを塗布してから、ガラス基板１０を固定したまま、このブレード１２のくし歯１２ｂをペースト膜１１に突き刺し、そのエッジ１２ａをガラス基板１０に接触させた状態で、図１の実線矢印で示す方向にブレード１２を一定方向に移動してペースト膜１１を塑性変形させることにより、基板１０表面にリブ状物１３を形成した。その後、リブ状物１３を大気中１５０℃で２０分間乾燥して溶剤を揮発させ、更に大気中５５０℃で１０分間焼成してセラミックリブ１４とした。このセラミックリブ１４を実施例１とした。
【００５３】
＜実施例２＞
平均粒径１μｍのＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系ガラス粉末を８０重量％と、セラミックフィラーとして平均粒径０．５μｍのアルミナ粉末とを２０重量％を用意し、両者を十分に混合した。この混合粉末と、樹脂としてのエチルセルロースと、無機揺変剤としてのベントナイトと、有機・無機複合揺変剤としての有機ベントナイトと、溶剤としてのα−テレピネオールとを重量比で８７．５／０．５／０．８／０．２／１１の割合になるように秤量した。この秤量された混合粉末と、樹脂と、揺変剤と溶剤とを、十分に混練してペーストを得た。以下、実施例１と同様の手順でリブ状物１３およびセラミックリブ１４を得た。このセラミックリブ１４を実施例２とした。
【００５４】
＜比較例１＞
平均粒径１μｍのＰｂＯ−ＳｉＯ２一Ｂ２Ｏ３系ガラス粉末を８０重量％と、セラミックフィラーとして平均粒径Ｏ．５μｍのアルミナ粉末を２０重量％とを用意し、両者を十分に混合した。この混合粉末と、樹脂としてのエチルセルロースと、溶媒としてのα−テルピネオールと、セラミック超微粒子としてのシリカ（比表面積が３００ｍ２／ｇ）とを、重量比で８７／１／１１／１の割合で配合し、十分に混練してセラミックペーストを得た。以下、実施例１と同様の手順でリブ状物１３およびセラミックリブ１４を得た。このセラミックリブ１４を比較例１とした。
【００５５】
＜比較試験及び評価＞
このように焼成して得られた各実施例のセラミックリブ１４のそれぞれ任意の１００本と、比較例で得られたセラミックリブ１４の任意の１００本について、その高さＨ及び幅を以下のようにそれぞれ測定した。
【００５６】
図２に示すように、実施例１、２及び比較例１の基板上の任意の１００本のセラミックリブの幅の測定は、セラミックリブの高さをＨとしたときの高さ（１／２）Ｈのところのリブの幅ＷＣとし、これらの高さＨおよび幅Ｗから、それぞれのアスペクト比Ｈ／ＷＣを算出した。また、これらの測定値の平均値を算出した後、Ｈ，ＷＣ，Ｈ／ＷＣのそれぞれのばらつき値を算出した。
表１に実施例１および比較例１の結果（リブの高さＨ，幅Ｃ，アスペクト比Ｈ／ＷＣの平均値およびばらつき値）を対比させて示す。
【００５７】
【表１】
2004303668.tif 000003
【００５８】
表１から明らかなように、比較例１と比べて、実施例１、２では、あきらかにアスペクト比が向上しているとともに、リブの高さＨ，幅Ｃ，各データのばらつきが減少しており、セラミックリブ１４における寸法精度が向上していることが解る。
つまり、実施例では比較例に比べて、高精細のＰＤＰに対して対応することが可能であると考えられる。
【００５９】
【発明の効果】
本発明によれば、前記ペーストの組成が、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を５０〜９７重量％、樹脂を０．１〜１５重量％、溶剤を３〜６０重量％、を含み、このペースト組成に０．１〜２０重量％の少なくとも一種類以上の有機・無機複合揺変剤を、増粘剤、ダレ防止剤、沈降防止剤として加えることにより、ペーストに大きなチクソ性（チクソトロピーＴｈｉｘｏｔｒｏｐｙ）を持たせることが可能となるため、ペーストにシェアー（切断：ｓｈｅａｒ）のかかる成形時には粘度が低下し、塑性変形を受けやすくなり、シェアーの無くなる成形後には粘度が高くなる。つまり、ブレードによるリブ形成時にブレードに過大な反力を作用することなく、かつ、成形精度を維持した状態で不必要なペーストを除去することができるため、成形したペーストにおけるリブ形状を維持し、リブ形成における寸法精度を向上することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第１実施形態におけるセラミックキャピラリリブの形成状態を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面におけるセラミックキャピラリリブを乾燥、加熱及び焼成することにより得たセラミックリブを示す断面図である。
【図３】そのブレードの正面図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】本発明に係るセラミックリブを形成するためのペーストの第２実施形態におけるセラミックキャピラリリブの形成状態を示す図１に対応する斜視図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ線断面におけるセラミックキャピラリ層付リブを乾燥、加熱及び焼成することにより得た絶縁層付セラミックリブを示す図２に対応する断面図である。
【図７】ペースト中における揺変剤の働きを示す模式図で、外力のない状態（ａ）、および外力のある状態（ｂ）を示すものである。
【符号の説明】
１０  ガラス基板
１１  ペースト膜
１２  ブレード
１２ａ  エツジ
１２ｂ  くし歯
１３，２３  リブ状物
１４，２５  セラミックリブ
２２  下地層
２４  絶縁下地層
Ｐ  溶剤（分散剤・樹脂等を含む）
Ｔ  揺変剤Ｔ
Ｓ  ガラス−セラミック粒子
【図１】
2004303668.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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