(57)【要約】【課題】モータに生じるコギングを相殺して、組立て調整、メインテナンス性に優れた位置決め装置を提供する。【解決手段】移動体を駆動させる駆動源を、位置情報に基づいて制御して該移動体を位置決めする位置決め装置は、駆動源に発生するコギングを相殺するために、保持力を駆動源に発生させる補正指令を、移動体の位置情報に応じて出力するコギング補正ユニット（２１０）と、駆動源の制御モードを選択的に切替えるためのモード制御情報を生成するモード切替制御ユニット（２５０）と、コギング補正ユニット（２１０）により出力された補正指令を駆動源に対する第１制御情報として、モード制御情報に基づき出力する第１モード切替ユニット（２２０）とを備える。【選択図】　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体を駆動させる駆動源を、位置情報に基づいて制御して該移動体を位置決めする位置決め装置であって、
前記駆動源に発生するコギングを相殺するために、保持力を該駆動源に発生させる補正指令を、前記位置情報に応じて出力する補正手段と、
前記駆動源の制御モードを選択的に切替えるためのモード制御情報を生成するモード制御手段と、
前記補正手段により出力された前記補正指令を前記駆動源に対する第１制御情報として、前記モード制御情報に基づき出力する第１モード切替手段と、
を備えることを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記位置情報に基づいて、前記移動体を位置制御するための位置制御情報を、前記モード制御情報に応じて、前記駆動源に対する第２制御情報として出力する第２モード切替手段を更に備え、
前記モード制御手段は、
前記第１及び／または第２制御情報を前記駆動源に出力させるために、前記第１及び第２モード切替手段における出力を選択的に切替え制御する
ことを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記モード制御手段が生成するモード制御情報には、
前記第１制御情報単独、該第１制御情報及び前記第２制御情報の組み合わせ、該第２制御情報単独、による制御モードが含まれる
ことを特徴とする請求項１または２に記載の位置決め装置。
【請求項４】
前記補正手段は、前記移動体を目標位置に保持させるための位置制御情報と、該目標位置毎の位置情報と、を対応させた補正指令データテーブルを生成し、
前記コギングを相殺する保持力を前記駆動源に発生させるための補正指令を、前記位置情報に応じて該補正指令データテーブルから読み出し、前記第１モード切替手段に出力する
ことを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項５】
前記補正手段は、前記移動体を目標位置に保持させるための位置制御情報を、該目標位置毎の位置情報とともに、不揮発性メモリに格納する
ことを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項６】
前記補正手段は、前記駆動源に発生するコギングを相殺する保持力を該駆動源に発生させるために、前記位置情報に応じた前記補正指令を、前記不揮発性メモリより読み出し、前記第１モード切替手段に出力する
ことを特徴とする請求項５に記載の位置決め装置。
【請求項７】
前記駆動源にはリニアモータが含まれることを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項８】
露光装置であって、
原版を保持し、所定の位置に駆動して、所定の位置に位置決めする原版ステージの位置決め装置と、
基板を保持し、所定の位置に駆動して、所定の位置に位置決めする基板ステージの位置決め装置と、
前記基板に前記原版のパターンを投影する投影光学系と、
を含み、
前記原版ステージの位置決め装置及び／または前記基板ステージの位置決め装置は、
ステージの駆動源に発生するコギングを相殺するために、保持力を該駆動源に発生させる補正指令を、前記ステージの位置情報に応じて出力する補正手段と、前記駆動源の制御モードを選択的に切替えるためのモード制御情報を生成するモード制御手段と、
前記補正手段により出力された前記補正指令を前記駆動源に対する第１制御情報として、前記モード制御情報に基づき出力する第１モード切替手段と、を備える
ことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
前記位置情報に基づいて、前記ステージを位置制御するための位置制御情報を、前記モード制御情報に応じて、前記駆動源に対する第２制御情報として出力する第２モード切替手段を更に備え、
前記モード制御手段は、
前記第１及び／または第２制御情報を前記駆動源に出力させるために、前記第１及び第２モード切替手段における出力を選択的に切替え制御する
ことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
デバイス製造方法であって、
基板に感光剤を塗布する工程と、
前記基板を請求項８に記載の露光装置によって露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体露光装置、検査装置等において使用され、露光原版や被露光物、被検査物を所定の位置に位置決めする位置決め装置、その位置決め装置を適用した露光装置、デバイスの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体素子製造に用いられる露光装置として、ステッパと呼ばれる装置とスキャナと呼ばれる装置が知られている。ステッパは、ステージ装置上の半導体ウエハを投影レンズ下でステップ移動させながら、レチクル上に形成されているパターン像を投影レンズでウエハ上に縮小投影し、１枚のウエハ上の複数箇所に順次露光していくものである。スキャナは、ウエハステージ上の半導体ウエハとレチクルステージ上のレチクルとを投影レンズに対して相対移動させ、走査移動中にスリット上の露光光を照射し、レチクルパターンをウエハに投影するものである。スキャナは、解像度および重ね合わせ精度の性能面から露光装置の主流と見られている。
【０００３】
図６にスキャナにおいて従来用いられているレチクルステージの概観を示す。レチクルステージ本体６１０にはレチクル定盤６２の上面及び側面との間に不図示の静圧案内が設けられており、Ｙ方向のみ移動ができるように支持されている。レチクルステージ本体６１０には不図示のレチクルチャックによりレチクルが搭載される。レチクルステージ上にはコーナーキューブ６３０が設けられており、不図示のレーザ干渉計からの計測光を反射し、レチクルステージのＹ方向の位置が計測される。
【０００４】
また、レチクルステージの両側には磁石から構成される可動子６４０、６５０が設けられ、ステージ定盤と同じ構造体に取り付けられているコイル固定子６６０、６７０とにより、ローレンツ力を用いたリニアモータが構成されている。これらのリニアモータによりレチクルステージはＹ方向に駆動力が与えられる。不図示の位置制御系によりレチクルステージは高精度に位置決め制御される。
【０００５】
半導体製造装置において、装置の性能示す指標の一つとして、１時間あたりのウエハ処理枚数を示すスループットがある。高いスループットを達成するために、半導体製造装置に使用するステージには高速移動が要求され、移動の際の加減速が大きくなってきている。図６の従来の空芯型のローレンツ力を用いたリニアモータでは加減速時に大推力を出すと、コイル部での発熱が非常に大きくなる。この発熱がステージ構造体に伝わってしまうと、ステージやレチクル自体が熱膨張をおこし、露光の重ねあわせ精度を悪化させてしまう。また、大電流を流すための電気系設備にも負担が大きくなる。
【０００６】
低発熱で大推力を発生できるリニアモータの構成として、図７のような鉄心型のリニアモータが提案されている。このリニアモータの固定子７１０は櫛歯状の珪素鋼薄板を積層にして構成された鉄心７２０にコイル７３０が巻かれている。可動子７４０は永久磁石７５０を、その極性が交互になるように並べて構成されている。永久磁石７５０と鉄心７２０の間には吸引力が発生するので、これを相殺するために可動磁石を上下から挟み込む形で固定子を配置している。この形のリニアモータでは、同程度の大きさのローレンツ型リニアモータにくらべて発熱量を数十分の１以下にすることができる。
【０００７】
その一方で、図７のような鉄心型リニアモータでは、コギングと呼ばれる力の外乱が発生する。これは磁石と鉄心の位置関係により、磁石がある安定位置に引き込まれるように力を受けるものである。この力の方向はリニアモータの推力方向であり、コイルの電流の有無によらない。このコギングの周期は、可動磁石型のリニアモータでは鉄心の歯の間隔により定まる。コギング自体を減らすために歯や磁石の形状が工夫されてはいるが、完全に零にすることはできない。このコギングはステージの位置制御系に対して外乱として作用し、位置決め精度を悪化させて露光精度にも影響を与えてしまう。
【０００８】
コギングを有するリニアモータの位置決め制御（もしくはコギング測定技術）に関する先行技術としては、以下の文献がある（特許文献１を参照）。
【０００９】
特許文献１では、コギングによる精度の劣化を解決するための手段が開示されている。すなわち、予備駆動として、フィードバック位置制御手段を用いて移動体を移動させることによって得られる、各々の移動体の位置における駆動指令値から、コギングの補正テーブルを生成し、この補正テーブルによってコギングを相殺するものである。これらの手段を用いることによって、コギングの影響を除去でき、高精度な位置決め精度を実現できる。
【００１０】
【特許文献１】
特開２００２−０８４７８１号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、こうした従来の技術では、サーボ制御がオフの状態においては、上述のコギング補正テーブルによる補償も同時に切れる。そのため、サーボオフ状態においては、人手によってステージを動かすことが困難な状況となる。たとえば、露光装置の粗動ステージに必要な推力を発生し得る鉄芯リニアモータにおいては、このコギング力は数百Ｎにも達する。したがって、組み立て時の調整や、メンテナンス時など、ステージを手動で移動させる必要がある場合などにおいて、組み立てやメンテナンスが著しく困難になる、という問題点があった。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するべく、本発明にかかる位置決め装置及び、その位置決め装置を適用した露光装置等は以下の構成を有することを特徴とする。
【００１３】
すなわち、移動体を駆動させる駆動源を、位置情報に基づいて制御して該移動体を位置決めする位置決め装置は、
前記駆動源に発生するコギングを相殺するために、保持力を該駆動源に発生させる補正指令を、前記位置情報に応じて出力する補正手段と、
前記駆動源の制御モードを選択的に切替えるためのモード制御情報を生成するモード制御手段と、
前記補正手段により出力された前記補正指令を前記駆動源に対する第１制御情報として、前記モード制御情報に基づき出力する第１モード切替手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明にかかる露光装置は、
原版を保持し、所定の位置に駆動して、所定の位置に位置決めする原版ステージの位置決め装置と、
基板を保持し、所定の位置に駆動して、所定の位置に位置決めする基板ステージの位置決め装置と、
前記基板に前記原版のパターンを投影する投影光学系と、
を含み、
前記原版ステージの位置決め装置及び／または前記基板ステージの位置決め装置は、
ステージの駆動源に発生するコギングを相殺するために、保持力を該駆動源に発生させる補正指令を、前記ステージの位置情報に応じて出力する補正手段と、前記駆動源の制御モードを選択的に切替えるためのモード制御情報を生成するモード制御手段と、
前記補正手段により出力された前記補正指令を前記駆動源に対する第１制御情報として、前記モード制御情報に基づき出力する第１モード切替手段と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明にかかるデバイス製造方法は、
基板に感光剤を塗布する工程と、
前記基板を上記の露光装置によって露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態＞
図１は本実施形態にかかるレチクルステージを概略的に示す図である。レチクルステージ本体１０はレチクルステージ定盤上２０に不図示の静圧案内を用いてＸＹ平面内に移動自由に案内されている。同様にしてレチクルステージ定盤の側面をヨーガイド面として用い、不図示の静圧案内によってステージはωｚ方向に姿勢が保持される。よってレチクルステージはレチクルステージ定盤上をＹ方向のみに移動自由に案内される。他の方向（Ｘ，Ｚ，ωｘ、ωｙ、ωｚ）は静圧案内の剛性により姿勢を保持される。
【００１７】
レチクルステージ本体１０上には不図示のレチクルチャックが搭載され、レチクルを保持できる。レチクルステージ本体１０には左右１対の可動磁石３０、４０が取り付けられている。各々の可動磁石は左右の鉄心リニアモータ固定子５０，６０とそれぞれ組になりリニアモータを構成している。このリニアモータによりレチクルステージはＹ方向に駆動力を受けることができる。
【００１８】
レチクルステージ本体１０には不図示のレーザ干渉計からのレーザ光を反射するコーナーキューブ７０が設けられており、レチクルステージのＹ方向位置を計測することができる。ここでは１軸ステージであるレチクルステージを示したが、適用するステージはこの構成には限らない。図１のステージ上に微動ステージを搭載したものでもよい。また、１軸ステージに限られず、２軸のＸＹステージに鉄心リニアモータを用いたものでもよい。
【００１９】
図２は第１実施形態にかかるレチクルステージの制御系の制御ブロック図であり、フィードバック制御ユニット２００は通常の位置制御系ＰＩＤ補償器２７０を用いた構成である。例えば、不図示の露光システム全体制御系からレチクルステージに対して移動指令が送られると、レチクルステージのフィードバック制御ユニット２００では移動指令とレーザ干渉計によるステージ位置計測値とから偏差信号を算出し、この偏差をもとに位置制御系ＰＩＤ補償器２７０はリニアモータへの指令を演算する。レチクルステージのフィードバック制御系はデジタル計算機で構成されており、実際にリニアモータへ指令を送るには不図示のＤ／Ａ変換器が用いられる。
【００２０】
＜コギング補正テーブルの作成＞
まず、コギング補正ユニット２１０に生成されるコギング補正テーブルの作成手順を説明する。図３はコギング補正テーブルを生成するためのフローチャートである。
【００２１】
まず、ステップＳ３１０でレチクルステージ本体１０をストロークの一端（Ａ：図１を参照）に移動させ、ここからレチクルステージ本体１０を所定量の微少ストローク分移動させ（Ｓ３２０）、位置決めをして、レチクルステージ本体１０の整定を待つ（Ｓ３３０）。そして、ステップＳ３４０で、整定状態のレチクルステージ本体１０に対する駆動指令値を計測し、計測したデータの平均化処理をする。ステップＳ３４０で平均化された各微小ストロークに対する駆動指令値は補正テーブルにストアされコギング補正テーブルが作成される（Ｓ３５０）。
【００２２】
ステップＳ３６０では、レチクルステージ本体１０が移動可能な全ストロークを移動したか、すなわち、ストロークの他端（Ｂ：図１を参照）まで到達したか否かを判断し、他端（Ｂ）まで到達していない場合（Ｓ３６０−Ｎｏ）は処理をステップＳ３２０に戻し、再び、レチクルステージの微小ストローク移動を開始させる。他端（Ｂ）まで到達した場合（Ｓ３６０−Ｙｅｓ）はコギング計測駆動を終了する。
【００２３】
ＡＢ間の移動において、微少ストロークごとに、対応する駆動指令値が測定され、このデータがコギング補正テーブルにストアされる。
【００２４】
ステップＳ３４０における処理で、各微小ストローク移動の後、各々の位置におけるレチクルステージ本体１０の整定状態では、フィードバック制御ユニット２００によって位置情報の偏差がゼロに押え込まれており、この時（整定状態）、レチクルステージを駆動するモータに対する指令値は、モータの制御をフリーにしているのではなく、コギングの外乱に打ち勝ってレチクルステージ本体１０を目標位置に保持するために必要な制御が施された指令値とほとんど等価となる。換言すると、この状態（整定状態）では、リニアモータに対する制御指令データにコギングの外乱の成分が、ほぼそのまま表れることになる。
【００２５】
そして、このコギングは鉄心の歯と磁石との相対位置の関係で定まり、再現性は非常に高い。そこで、上記の微小ステップごとの移動を行いつつ、制御指令値を、その位置情報に対応させてストアする処理（Ｓ３５０）を全ストロークにわたって行うことによって得られる、レチクルステージの位置情報とリニアモータ制御指令値の関係を、コギング補正テーブルとしてコギング補正ユニット２１０のメモリに記録して、コギングを解消するための補正データとして利用するものである。
【００２６】
なお、コギング補正ユニット２１０内のメモリには限度があるので、レチクルステージ本体１０を微小ストローク移動させるためのストローク量は適当な大きさにすることが望ましい。
【００２７】
コギング補正テーブル２６０に格納されるデータは、理論的にはステージの微小ストローク量が小さいほど、全ストロークに対する分解能（次数）が高くなるので精密な補正テーブルになるが、実際にはコギング外乱以外の非定常的な外乱による影響があるため、必要以上に次数を大きく、すなわち微小ストロークを必要以上に小さくしても計測データには精度の限界が生じるために、処理の効率は悪くなる。こうした外乱を除去するために、複数の駆動指令値をサンプルし、これを平均化処理することによってこの影響を極小化するのが望ましい。
【００２８】
次に、コギング補正ユニット２１０を機能させる制御の内容を図２のブロック図を参照して説明する。
【００２９】
レーザ干渉計で計測されたレチクルステージ本体１０の位置情報は、フィードバック制御ユニット２００へ送られるのと同時にコギング補正ユニット２１０に送られる。上記のコギングの特性は、モータ個体の差、組み立て状態等の機差が存在するため、装置組み立て時に、各機毎に補正テーブルを作成するのが望ましい。
【００３０】
＜フィードバック制御ユニットの制御＞
フィードバック制御ユニット２００は移動指令と、フィードバックされたレチクルステージ本体１０の位置情報に基づき位置偏差を補償するための位置制御情報を第２モード切替ユニット２３０に出力する。
【００３１】
第２モード切替ユニット２３０は、制御モードを以下の３つに切替えて、位置制御情報を出力することができる。
【００３２】
（１）　Ｏｆｆモード
第２モード切替ユニット２３０における接点ＳＷ２を接点１に接続して位置制御を制御ループから切り離した状態にする。
【００３３】
（２）　コギング（Ｃｏｇｇｉｎｇ）モード
第２モード切替ユニット２３０における接点ＳＷ２を接点２に接続して位置制御を切り、後に説明する第１モード切替ユニット２２０における接点ＳＷ１を接点２に接続して、コギング補正ユニット２１０から出力されるコギング補正命令をレチクルステージを駆動するモータに出力する状態にする。この場合、第１及び第２モード切替ユニットが連動した制御は、モード切替制御ユニット２５０が統括的に制御する。
【００３４】
（３）　位置制御（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ）モード
第２モード切替ユニット２３０における接点ＳＷ２を接点３に接続してフィードバック制御ユニット２００の位置制御情報をレチクルステージ本体１０を駆動するモータに出力する状態にする。分岐点２４０において、コギング補正ユニット２１０からのコギング補正命令が出力されている場合、この位置制御情報と重ね合わせされた情報が制御情報としてレチクルステージ本体１０を駆動するモータに入力される。
【００３５】
＜コギング補正ユニットの制御＞
一方、コギング補正ユニット２１０は、レチクルステージ本体１０の位置情報に基づき、その位置に対応する、データをコギング補正テーブル２６０から読み出し、このデータを、コギングを相殺するためのコギング補正指令として、第１モード切替ユニット２２０に出力する。
【００３６】
第１モード切替ユニット２２０は、制御モードを以下の３つに切替えて、コギング補正指令を出力することができる。
【００３７】
（４）　Ｏｆｆモード
第１モード切替ユニット２２０における接点ＳＷ１を接点１に接続してコギングの補正（コギングを相殺するための制御）を切った状態にする。
【００３８】
（５）　コギング（Ｃｏｇｇｉｎｇ）モード
第２モード切替ユニット２３０における接点ＳＷ２を接点２に接続してフィードバック制御ユニット２００による位置制御を切り、第１モード切替ユニット２２０における接点ＳＷ１を接点２に接続してコギング補正ユニット２１０から出力されるコギング補正命令のみをレチクルステージ本体１０を駆動するモータに出力する。この場合、第１及び第２モード切替ユニットが連動した制御は、モード切替制御ユニット２５０が統括的に制御する。
【００３９】
（６）　位置制御（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ）モード
第１モード切替ユニット２２０における接点ＳＷ１を接点３に接続して、コギング補正指令を出力する。分岐点２４０において、コギング補正命令とフィードバック制御ユニット２００から出力される位置制御情報とが重ね合わせされてレチクルステージ１０を駆動するモータに入力される。
【００４０】
位置制御を行うための位置制御モードに加えて、レチクルステージ本体１０の位置に応じて発生するコギングを相殺するためのコギング補正指令を出力する制御ループを設けて、両モードを選択的に組み合わせることにより、レチクルステージ本体１０の移動において、コギングを相殺した状態にしてステージを駆動することが可能になる。
【００４１】
コギングが相殺されることにより、位置制御における整定時間の短縮や、位置決め精度の向上を図ることが可能になる。
【００４２】
また、コギングを補正する制御の結果、コギングが補正指令により相殺されると、従来では困難であった、ステージの組み立て調整時やメンテナンス時などにおける、人手によるステージの移動をスムーズに行うことが可能になる。
【００４３】
＜第２実施形態＞
第１実施形態におけるコギング補正テーブル２６０が、揮発性のメモリに格納される場合、そのデータは装置のリセット時に消失する。このために、新たにコギングの補正を行なうためには、コギング補正ユニット２１０にコギング補正テーブル２６０を用意する必要が生じる。
【００４４】
しかしながら、コギング補正テーブル２６０に格納されるデータは非常に正確なデータとして計測することが可能な一方で、その補正テーブルを作成するための時間は長時間を要するので、装置のリセット毎にコギング補正テーブル２６０の作成を新たに行うと、装置のスループットに影響を与えてしまうことになる。
【００４５】
第２実施形態はこうした点に鑑みたものである。図４は第２実施形態にかかる制御ブロック図を示したものであり、図５は装置の組み立て時およびその後の装置リセット時のコギング補正テーブルの初期化ルーチンを説明するためのフローチャートである。図４のブロック線図において、図２のブロック線図と参照番号が同じ要素については、説明を省略する。
【００４６】
適用するステージは第１実施形態と同様に、図１の１軸ステージでもよいし、２軸のＸＹステージに鉄心リニアモータを構成したものでもよい。図４において、まず、ステージを微小ストロークごとに移動させて、その該当する位置ごとに、整定状態におけるリニアモータに対する制御指令データを測定し（図５のステップＳ５３０に対応）、補正テーブルにストアする（この処理は図３のフローチャートにおけるステップＳ３５０に対応する）。
【００４７】
コギング補正ユニット２１０にコギング補正テーブルを第１実施形態で説明した手順（図３）に従って作成した後、このデータをハードディスクなどの不揮発性の外部記憶用メモリ２７０にストアする（図５のステップＳ５４０）。これにより、コギング補正データをバックアップすることが可能になる。
【００４８】
コギング補正テーブル２６０の内容を初期化する場合、例えば、外部記憶メモリに所望のコギング補正テーブルが保存されている場合（図５のステップＳ５１０−ＹＥＳ）、外部記憶メモリから、保存されているコギング補正テーブルのデータをコギング補正ユニット２１０にロードすればよい（Ｓ５２０）。コギング補正テーブルの初期化毎に、図３のステップＳ３２０〜Ｓ３５０のシーケンスによるデータを測定するためにステージを駆動する必要がなくなり、上述の外部記憶メモリ２７０に格納されているコギング補正テーブルデータをロードすることにより、初期化動作を高速に行うことが可能となり、装置のスループットの向上を図ることが可能になる。
【００４９】
＜第３実施形態（露光装置）＞
図８は、上記の位置決め装置を基板ステージ及び／または原版ステージとして組み込んだ露光装置の概略構成を示す図である。この露光装置は、原版ステージ８２０に保持された原版（レチクル、マスク）８２１を照明光学系８１０により照明し、原版８２１のパターンを投影光学系８３０を介して基板ステージ（ウエハステージ）８４０上の基板（ウエハ）８４１に投影し基板８４１を露光する。ここで、基板ステージ８４０は、第１、第２実施形態において説明した位置決め装置が適用され、図２若しくは図４に示すようなステージの制御系が構成されている。
【００５０】
このように本発明にかかる位置決め装置を組み込んだ露光装置によれば、位置制御を行うための位置制御モードに加えて、ステージ（８２０、８４０）の位置に応じて発生するコギングを相殺するためのコギング補正指令を出力する制御ループを設けて、両モードを選択的に組み合わせることにより、ステージ（８２０、８４０）の移動において、コギングを相殺した状態にしてステージを駆動することが可能になる。
【００５１】
コギングが相殺されることにより、位置制御における整定時間の短縮や、位置決め精度の向上を図ることが可能になる。
【００５２】
また、コギングを補正する制御の結果、コギングが補正指令により相殺されると、従来では困難であった、ステージの組み立て調整時やメンテナンス時などにおける、人手によるステージの移動をスムーズに行うことが可能になる。
【００５３】
＜第４実施形態（半導体製造プロセス）＞
次に、上記の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図９は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
【００５４】
一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。
【００５５】
図１０は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記の露光装置によって回路パターンをウエハに転写する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、コギングを相殺する制御モードを単独に、あるいは位置制御モードと選択的に組み合わせることにより、従来では困難であった、組み立て調整時やメンテナンス時などにおける、人手によるステージの移動をスムーズに行うことが可能になる。
【００５７】
また、コギング補正テーブルデータをストアする外部記憶メモリを設け、装置の制御開始時にメモリからロードすることにより、コギングを相殺するためのデータの測定を毎回繰り返して行う必要がなくなり、組み立て調整後および、装置リセット時の初期化を高速に行うことが可能になり、装置のスループットの向上を図ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態にかかるレチクルステージを概略的に示す図である。
【図２】第１実施形態にかかる制御ブロック図である。
【図３】コギング補正テーブルを生成するためのフローチャートである。
【図４】第２実施形態にかかる制御ブロック図である。
【図５】コギング補正テーブルの初期化ルーチンを説明するためのフローチャートである。
【図６】従来例におけるスキャナで用いられているレチクルステージを概略的に示す図である。
【図７】従来例において、ステージを駆動するためのリニアモータの構造を説明するための図である。
【図８】第１または第２実施形態にかかる位置決め装置を適用した露光装置の概略的な構成を示す図である。
【図９】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図１０】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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