(57)【要約】【課題】  高品質の記憶媒体用基板をプレス成形で好適に作成する。【解決手段】  ガラス素材８を上金型１ａと下金型１ｂとの間に配置したまま加熱および加圧成形する工程に続き、上金型１ａと下金型１ｂとに水冷ジャケット３ａ，３ｂを接触させて冷却する。加熱から加圧成形の間は、金型１ａ，１ｂとガラス素材８とを含むチャンバー１８内の雰囲気を真空に保ち、加圧成形が終了した際、チャンバー１８に不活性ガスを充填して大気圧とし、その後冷却工程を行う。【選択図】  図１
2004196651.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上金型と下金型との間にガラス素材を配置し、ガラス基板をプレス成形する記憶媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記ガラス素材を前記上金型と下金型との間に配置したまま加熱する加熱工程と、
前記加熱された前記ガラス素材を前記上金型と下金型とを介してプレスし、前記上金型と下金型との成形面を精密に転写して所望の基板を成形する加圧成形工程と、
前記加圧成形工程の後、成形した前記ガラス素材を前記上金型と下金型との間に配置したまま、冷却部材を前記上金型と下金型とに接触させることにより冷却する冷却工程と、
を含み、
前記加熱工程から前記加圧成形工程の間は、前記金型と前記ガラス素材とを含む空間の雰囲気を真空に保ち、前記加圧成形工程が終了した際、前記空間に不活性ガスを充填して大気圧とし、その後前記冷却工程を行うことを特徴とする記憶媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記冷却工程中に、前記ガラス素材の温度が、前記ガラス素材のガラス転移点以下になるまで、前記上金型と下金型とを介して前記ガラス素材を加圧する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の記憶媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の製造方法により製造された記憶媒体用ガラス基板。
【請求項４】
請求項３に記載の記憶媒体用ガラス基板を含む記憶媒体。
【請求項５】
上金型と下金型との間にガラス素材を配置し、ガラス基板をプレス成形する記憶媒体用ガラス基板の製造装置において、
前記ガラス素材を、前記上金型と下金型との間に配置したまま、加熱部材により加熱する加熱手段と、
加熱された前記ガラス素材を前記上金型と下金型とを介してプレスして、前記上金型と下金型との成形面を精密に転写して所望の基板を成形する加圧成形手段と、
成形した前記ガラス素材を前記上金型と下金型との間に配置したまま、冷却部材を前記上金型と下金型とに接触させることにより、成形した前記ガラス素材を冷却する冷却手段と、
前記上金型と下金型および前記加熱部材および前記冷却部材とを収容する収容手段と、
前記収容手段で形成された空間を排気・充填する排気・ガス充填手段と、
を備え、
前記排気・ガス充填手段は、前記加圧成形手段により前記上金型と下金型とが成型用の閉空間を形成するまで排気を行い、前記加圧成形手段により前記上金型と下金型とが成型用の閉空間を形成した後に、不活性ガスを充填して大気圧とし、
前記冷却手段は、前記排気・ガス充填手段が前記不活性ガスを充填して大気圧とした後に、前記ガラス素材を冷却することを特徴とする記憶媒体用ガラス基板の製造装置。
【請求項６】
請求項５に記載の記憶媒体用ガラス基板の製造装置であって、
前記冷却手段は、前記上金型と下金型の前記成形面と反対側の面との接触および非接触が可能な上下の水冷ジャケットを備え、
前記冷却は、前記上下の水冷ジャケットを前記上金型と下金型の前記成形面と反対側の面に接触させることにより行うことを特徴とする記憶媒体用ガラス基板の製造装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の記憶媒体用ガラス基板の製造装置であって、
前記加熱手段は、前記上金型と下金型の周囲に配置されたふく射ヒータを含むことを特徴とする記憶媒体用ガラス基板の製造装置。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれかに記載の記憶媒体用ガラス基板の製造装置により製造された記憶媒体用ガラス基板。
【請求項９】
請求項８に記載の記憶媒体用ガラス基板を含む記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスクなどの記憶媒体に適したガラス基板の製造方法および装置、これを用いた記憶媒体用ガラス基板および記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気ディスク用ガラス基板は、所定のサイズに切り抜かれた基板を、平滑な表面を得るために研磨する研磨法により製造されてきた。しかしながら、近年、基板には高い平滑性が要求されるようになったため、研磨法は多くの工程を要し、製品の高価格化につながるという欠点があった。
【０００３】
一方、ガラス素材を加熱、成形、冷却し、金型成形面を高精度で転写するプレス成形方法は、後加工を必要としないため、安価で生産性が高い。したがって、光学素子の製造分野では、プレス成形方法に関して既に多くの検討がなされ実用化が試みられている。
【０００４】
光学素子の製造に用いられている従来のプレス成形の工程は、概略次の通りである。上下の型の間にガラス素材をセットし、金型の酸化を防止する目的で、金型とガラス素材を収容する成形室の雰囲気を、窒素ガスなどの不活性ガスで置換する。その後、ヒータ（誘導加熱装置、ランプ加熱装置、カートリッジヒータ等）を用いて金型とガラス素材とを加熱する。所定の温度に到達した後、上下の型を用いてガラス素材をプレスし、最後に冷却して製品を取り出す。
【０００５】
このような光学素子のプレス成形において、エア溜まりによる欠陥と型の酸化を防止する方策として、減圧された雰囲気中でプレスし、不活性ガスを金型に吹き付けて冷却する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
他方、磁気ディスク用ガラス基板を製造するために、加熱、プレス、冷却の各工程を、それぞれ個別の室で行う方法も提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−３３０１２１号公報
【特許文献２】特開２０００−３５１６３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、プレス成形方法によって、磁気ディスク用ガラス基板を製造することは、光学素子の場合とは違った課題を有している。
【０００９】
すなわち、ハードディスク用媒体の基板は、光学素子に比べて大面積かつ、基板厚が薄いにもかかわらず、面のうねりができるだけ小さいこと（平坦度）、特に周方向でのうねりを抑えること、および内外径の寸法精度を上げることが求められている。例えば２．５インチのディスクでは、４μｍ以下の平坦度が要求されうる。これは、特に高速回転時における磁気ヘッドの追従性を高めるためである。
【００１０】
金型にガスを吹き付けて冷却する特許文献１の方法は、均一温度での冷却が難しく、冷却の不均一さに起因する基板の変形が生じるため、基板の好適な平坦さを提供することが難しい。
【００１１】
また、特許文献２の方法では、成形工程中にそれぞれの室の間を搬送するときに、チャック跡や歪みが生じるおそれがある。
【００１２】
本発明は上記のような従来技術の問題点に鑑みて、高品質の記憶媒体用基板をプレス成形で好適に作成するための手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため、本発明の記憶媒体用ガラス基板の製造方法は、上金型と下金型との間にガラス素材を配置し、ガラス基板をプレス成形する記憶媒体用ガラス基板の製造方法において、前記ガラス素材を前記上金型と下金型との間に配置したまま加熱する加熱工程と、前記加熱された前記ガラス素材を前記上金型と下金型とを介してプレスし、前記上金型と下金型との成形面を精密に転写して所望の基板を成形する加圧成形工程と、前記加圧成形工程の後、成形した前記ガラス素材を前記上金型と下金型との間に配置したまま、冷却部材を前記上金型と下金型とに接触させることにより冷却する冷却工程と、を含み、前記加熱工程から前記加圧成形工程の間は、前記金型と前記ガラス素材とを含む空間の雰囲気を真空に保ち、前記加圧成形工程が終了した際、前記空間に不活性ガスを充填して大気圧とし、その後前記冷却工程を行うことを特徴とする。
【００１４】
前記冷却工程は、前記ガラス素材の温度が、前記ガラス素材のガラス転移点以下になるまで、前記上金型と下金型とを介して前記ガラス素材を加圧する工程を含むことができる。
【００１５】
また、本発明の記憶媒体用ガラス基板の製造装置は、上金型と下金型との間にガラス素材を配置し、ガラス基板をプレス成形する記憶媒体用ガラス基板の製造装置において、前記ガラス素材を、前記上金型と下金型との間に配置したまま、加熱部材により加熱する加熱手段と、加熱された前記ガラス素材を前記上金型と下金型とを介してプレスして、前記上金型と下金型との成形面を精密に転写して所望の基板を成形する加圧成形手段と、成形した前記ガラス素材を前記上金型と下金型との間に配置したまま、冷却部材を前記上金型と下金型とに接触させることにより、成形した前記ガラス素材を冷却する冷却手段と、前記上金型と下金型および前記加熱部材および前記冷却部材とを収容する収容手段と、前記収容手段で形成された空間を排気・充填する排気・ガス充填手段と、を備え、前記排気・ガス充填手段は、前記加圧成形手段により前記上金型と下金型とが成型用の閉空間を形成するまで排気を行い、前記加圧成形手段により前記上金型と下金型とが成型用の閉空間を形成した後に、不活性ガスを充填して大気圧とし、前記冷却手段は、前記排気・ガス充填手段が前記不活性ガスを充填して大気圧とした後に、前記ガラス素材を冷却することを特徴とする。
【００１６】
ここで、前記冷却手段は、前記上金型と下金型のプレス成形面と反対側の面との接触および非接触が可能な上下の水冷ジャケットを備え、前記冷却は、前記上下の水冷ジャケットを前記上金型と下金型の前記プレス成形面と反対側の面に接触させることにより行ってもよい。
【００１７】
また、前記加熱手段は、前記上金型と下金型の周囲に配置されたふく射ヒータを含んでもよい。
【００１８】
また、本発明の記憶媒体用ガラス基板は、上述の製造装置又は製造方法により製造されたことを特徴とする。
【００１９】
さらに、本発明の記憶媒体は、上述の記憶媒体用ガラス基板を含むことを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に本発明の好適な実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態のガラス基板製造装置を示す。この製造装置は、上金型１ａおよび下金型１ｂを支持する金型支持台７ａ，７ｂ、および、金型支持台７ｂを昇降させるプレス機５を有している。
【００２１】
装置はフレームを有し、フレームは上プレート２１、固定ステージ２２および支柱２３を含んでいる。固定ステージ２２の開口部を覆うように、可動ステージ２４が配置されている。上側の金型支持台７ａは、上プレート２１に固定されている。下側の金型支持台７ｂは、可動ステージ２４に固定されている。固定ステージ２２の開口部と可動ステージ２４の周縁とは、ベローズ１０で結合および密封されている。
【００２２】
可動ステージ２４は、プレス機５の往復動するロッド６に固定されている。プレス機５は、その内部に設けられたサーボモータによって駆動されるスクリュージャッキである。
【００２３】
金型１ａ，１ｂは、一般的にタングステンカーバイドを主成分とするセラミック材から構成されている。さらに、金型１ａ，１ｂの成形面（ガラスと接触する面）には、タンタル、イリジウム、白金といった高融点金属、またはそれらの合金材料で構成された、コーティング層（図示せず）が形成されている。このコーティング層は、ガラスとの融着を防止することで、確実な離型を行い、精度の高い表面形状を維持する効果を持っている。金型１ｂには規制リング４が設置されている。金型１ａ，１ｂと規制リング４との各接合面は平滑に仕上げられており、これにより、後述するプレス中には、金型１ａ，１ｂと規制リング４との間に、密封されたキャビティが形成される。
【００２４】
チューブヒータ１６は、金型１ａ，１ｂの側面に対面して設置されている。上下金型１ａ，１ｂの裏面に接して、加熱用および温度バランス調整用のフラットヒータ２ａ，２ｂが設置されている。チューブヒータ１６を囲んで、効率的な熱ふく射を促進するためのリフレクタ１５が設置されている。
【００２５】
チューブヒータ１６は、真空中での加熱に適した電気抵抗加熱式のふく射ヒータである。チューブヒータ１６には、アルミナ、ジルコニア、窒化アルミニウム、窒化ホウ素などを主材料とするセラミックヒータや、黒鉛ヒータ、ニクロムヒータなどを用いることが好ましい。チューブヒータ１６は、成形温度（ガラス素材の、ガラス転移点（以下、Ｔｇと記す）から軟化点近傍まで）より高い温度、ヒータの信頼性の観点から好ましくは成形温度より２００℃以上高い温度まで金型１ａ、１ｂを加熱できる性能を持つことが好ましい。
【００２６】
フラットヒータ２ａ，２ｂは、真空中での加熱に適した電気抵抗加熱式のものであり、チューブヒータ１６に比べて小容量である。
【００２７】
上プレート２１と固定ステージ２２とを接続するように、筒形のシェル１７が設置されている。上プレート２１、固定ステージ２２、可動ステージ２４、シェル１７およびベローズ１０によって、収容手段であるチャンバー１８が画定される。チャンバー１８は金型１ａ，１ｂ、フラットヒータ２ａ，２ｂ，および後述する水冷ジャケット３ａ，３ｂ等の構成部材を収容する。
【００２８】
チャンバー１８には、真空排気または不活性ガスを急速充填するための排気・ガス充填手段として、真空吸引ラインＬ１を介して真空ポンプ１１が接続されている。この真空ポンプ１１を作動させることにより、チャンバー１８内を例えばおよそ１Ｐａ程度の真空状態にすることができる。真空吸引ラインＬ１には、真空ゲージ１２ａおよびバルブ１２ｂ等も接続されている。
【００２９】
チャンバー１８にはまた、不活性ガス供給ラインＬ２を介して、不活性ガス供給装置２５が接続されている。供給ラインＬ２に設けられたバルブ２６を開くことにより、チャンバー１８内にＮ２ガス等の不活性ガスが供給される。
【００３０】
冷却手段を構成する冷却部材である水冷ジャケット３ａ，３ｂは、熱伝導に優れる銅等の金属材料からなるブロックを主部材として構成されている。ブロックの内部に水路が設けられている。水冷ジャケット３ａ，３ｂの水路には、管である支柱３ｃを経由して、水ポンプ２８によって冷却水が供給されるようになされており、これによって水冷ジャケット３ａ，３ｂが均一温度（冷却水温）に保たれる。
【００３１】
支柱３ｃには駆動機構２７が操作可能に接続されており、この駆動機構２７によって、水冷ジャケット３ａ，３ｂが上昇および下降できるようにされている。駆動機構２７は例えばサーボモータを含むことができる。この結果、水冷ジャケット３ａ，３ｂをフラットヒータ２ａ，２ｂに対して、選択的に接触または非接触にさせることができ、接触させられているときには、金型１ａ，１ｂおよびガラス素材８が冷却され、それらの面内温度の均一性が高められる。
【００３２】
フラットヒータ２ａ，２ｂには、金型１ａ，１ｂの温度をモニタするための温度センサ３１が設けられている。
【００３３】
製造装置の各部を制御するために、コントローラ３０が設けられている。コントローラ３０は周知のマイクロコンピュータシステムであり、その入力側には金型１ａ，１ｂの温度を検出するための温度センサ３１、チャンバー１８内に設けられた圧力センサ３２、および各部品の動作位置・圧力・温度を検出するための不図示の他のセンサを含む他の各種のセンサが接続されている。またコントローラ３０の出力側には、チャンバー１８内からの排気を制御するための真空ポンプ１１およびバルブ１２ｂ、不活性ガスの供給を制御するバルブ２６、水冷ジャケット３ａ，３ｂを昇降させる駆動機構２７、チューブヒータ１６に給電する電源装置２９、プレス機５、水ポンプ２８などの各種のアクチュエータが接続されている。
【００３４】
コントローラ３０は、不図示の入力装置からのオペレータの入力、各種センサからの信号入力、および記憶部に格納されたプログラムに基づいて演算処理を実行し、その演算結果に基づき各種アクチュエータのための制御信号を出力する。
【００３５】
次に、上記製造装置を用いた成形方法について説明する。
（１）加熱工程
不図示の搬送アームを用いて、球やマーブル状の形のガラス素材８を、下金型１ｂの成形面上にセットする（図２における期間Ａ）。次に、下型１ｂを、チューブヒータ１６に対向する原点位置に移動した後、真空ポンプ１１を用いてチャンバー１８を排気する。
【００３６】
１Ｐａ以下の目標真空度に到達した後、加熱手段を構成する加熱部材であるチューブヒータ１６とフラットヒータ２ａ，２ｂとを用いて、金型１ａ，１ｂの温度を制御しながら、ガラス素材８と金型１ａ，１ｂを、ガラス素材８の軟化点Ｔｇの近傍まで加熱する。この時、ガラス素材はＴｇ以下に保たれている。金型はＴｇ程度に保たれている。
【００３７】
もしダストが金型の成形面に付着していると、これが基盤の欠陥を生じさせることになる。また、図３に示すように、ガラスが高温になると、ガラス表面およびその近傍から水や酸素などの腐食性ガスが発生する。なお図３ないし図５における矢印は、ガラスから発生したガスの挙動を示す。
【００３８】
しかし、本実施形態では、真空中で加熱するため、大気中で加熱する場合に発生するガスの対流による浮遊ダストが無くなるので（図２における期間Ｂ）、ダスト由来の欠陥発生率を抑制することができる。また、高温のガラス素材８から発生する腐食性ガスは、真空ポンプ１１によって瞬時にまたは迅速にチャンバー１８の外に排気されるため、金型１ａ，１ｂの成形面の劣化を防止することができる。
【００３９】
（２）加圧成形工程
加熱されたガラス材料８は一定時間保持された後、加圧成形手段を構成するプレス機５によってロッド６を介して加圧され、規制リング４により厚みを規制されて、ガラス基板へと成形される。
【００４０】
加圧成形工程では、金型温度が軟化点近傍の設定温度に達した後、上下金型１ａ，１ｂに荷重を加えてガラス素材８を押しつぶす。加圧によりガラス素材８がつぶれると上型１ａが下型１ｂ上に設けられた規制リング４に当接する。この規制リング４の厚みを製品の厚みに合せて調整することにより、ばらつきの少ない一定厚のガラス基板を作成することができる。
【００４１】
図４に示すように、加熱されて軟化したガラスが変形する際、酸素や水、炭酸ガスなどのガスが発生する。そのガスが変形中のガラスに取り込まれると、図５に示されるマイクロバブルと呼ばれる数ミクロン以下の発泡５０が生じ、欠陥となる。そのガスは、成形面に形成されたコーティング層を腐食し、その結果、離型性や成形面の表面精度が損なわれる。
【００４２】
本実施形態では、上下金型１ａ，１ｂが規制リング４に当接することによってプレスが終了するまで（図２における期間Ｃ）、チャンバー１８内の排気を継続し、これによって金型１ａ，１ｂとガラス素材８とを含む空間の雰囲気が真空に保たれる。このため、加圧成形行程中にガラス素材８が発したガスが瞬時にまたは迅速に拡散され、かつチャンバー１８外に排出され、その結果、バブル欠陥の発生と金型１ａ，１ｂの成形面の劣化とが抑制される。
【００４３】
（３）冷却工程〜基板取り出し
プレス成形により所望の板厚に変形された後は、温度Ｔｇ以下まで冷却する（図２における期間Ｄ）。冷却のために、金型１ａ，１ｂの裏面に水冷ジャケット３ａ，３ｂを押し付ける。水冷ジャケット３ａ，３ｂは加熱中およびプレス中は、それぞれフラットヒータ２ａ，２ｂと非接触の状態に保持され、冷却時にはそれぞれフラットヒータ２ａ，２ｂの裏面に押し付けられるように、コントローラ３０によって制御される。
【００４４】
冷却工程中は、成形されたガラス基板が収納されている上下金型１ａ，１ｂと規制リング４とで構成されるキャビティが閉空間になっている。したがって、浮遊ダストはキャビティ内へ侵入しない。さらに、変形が終了した後にガラスから発生するガスは微量であり無視できるため、冷却工程ではチャンバー１８内を排気する必要が無い。
【００４５】
そこで、本実施形態では冷却時間を短縮するために、上下金型１ａ，１ｂと規制リング４とで構成されるキャビティが閉空間となるプレス終了後に、窒素ガス等の不活性ガス（金型やそのコーティング剤と反応しない）をチャンバー内に急速に充填し大気圧にすることにより、水冷ジャケット３ａ，３ｂ、フラットヒータ２ａ，２ｂ、金型１ａ，１ｂおよび成形ガラス材質間の熱伝達率を向上させる。
【００４６】
金型１ａ，１ｂから水冷ジャケット３ａ，３ｂヘの伝熱において、真空雰囲気中では著しく接触熱抵抗が大きいため、冷却効率が悪い。そのためプレス終了後に、チャンバー１８内の排気を停止し、不活性ガスを急速に充填して、金型１ａ，１ｂと水冷ジャケット３ａ，３ｂとの間の接触面の熱抵抗を小さくすることにより、金型１ａ，１ｂの面内温度分布の均一化と、冷却時間の短縮とを実現できる。
【００４７】
このように、不活性ガスにより大気圧雰囲気中にしたチャンバー１８内で、良好な熱伝導材料でできた水冷ジャケット３ａ，３ｂを金型１ａ，１ｂまたはフラットヒータ２ａ，２ｂに押し付けて冷却および離型を行うことにより、高速かつ均一な温度冷却が可能となり、反りが少ない良質かつ低コストな基板を、高い生産性で作成することができる。
【００４８】
成形基板と上下金型１ａ，１ｂをＴｇ以下に冷却した後、上下金型１ａ，１ｂを開いて成形基板を取り出す。成形ガラス基板は、不図示の移載機によりチャンバー１８の外に取り出され、搬送機で内外周加工などの後工程に送る（図２における期間Ｅ）。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態では、水冷ジャケット３ａ，３ｂが駆動機構２７によって上昇および下降できるようにされ、この結果、水冷ジャケット３ａ，３ｂがフラットヒータ２ａ，２ｂに対して、選択的に接触または非接触にされることができるため、金型１ａ，１ｂおよびガラス素材８の面内温度の均一性が高められ、これによって、冷却の不均一さに起因する基板の変形を抑制でき、基板の好適な平坦さを提供することができる。また面内温度の均一化は、面内温度の安定までの長時間の待機を不要とするので、冷却時間の短縮も可能となる。
【００５０】
本実施形態では水冷ジャケット３ａ、３ｂがフラットヒータ２ａ、２ｂを介して金型１ａ，１ｂに接触するので、熱源であるフラットヒータ２ａ，２ｂを冷却することでチャンバー１８内を急速に冷却できる。しかしながら、本発明では、水冷ジャケット３ａ、３ｂが金型１ａ，１ｂにダイレクトに接触するように装置を設計しても良いことに注意しなければならない。
【００５１】
また、本実施形態では、一般に材料間の熱伝達が悪い真空雰囲気中においても、金型１ａ，１ｂの外周側面に対向するように配置されたふく射式のチューブヒータ１６を用いることにより、金型１ａ，１ｂを介してガラス素材８を加熱するフラットヒータ２ａ，２ｂに比し効率的に、ガラス素材８を加熱できる。このため、ガラス素材８の加熱時間を短縮することができる。
【００５２】
また本実施形態では、ガラス素材８を金型１ｂに乗せてから昇温が終わるまでの加熱中に雰囲気を真空に保つので、金型１ａ，１ｂの周囲の雰囲気中に浮遊するダスト数を減らすことができ、ダストによる欠陥の発生率が少なくなる。
【００５３】
また本実施形態では、冷却を真空中で行わずに、不活性ガス雰囲気中で行うので、熱伝達が低い真空での冷却に比べて、冷却効率を向上できる。また、真空中では物質間（ここでは、金型と成形ガラス）の摩擦力が増大するが、本実施形態では、冷却を真空中でなく不活性ガス雰囲気中で行うので、離型性を向上でき、不完全な離型やガラスの割れ等の不具合発生率を減じることができる。
【００５４】
また本実施形態では、成形基板が収納されているキャビティが閉空間になっているので、冷却中に真空排気をしなくても、雰囲気からのダストの侵入を避けることができる。
【００５５】
また本実施形態では、昇温開始からＴｇ以下の冷却が終了するまでを、同一の金型上で行うので、それらの工程の途中でのガラス素材８への接触または搬送工程がなくなり、チャックによる欠陥や歪みを防止し、基板形状の複雑化および欠陥の低減が可能となる。
【００５６】
図１に示す構成を持つ装置での水冷ジャケット３ａ，３ｂを用いた実験によると、真空雰囲気での金型１ａ，１ｂの冷却速度が１０℃／ｍｉｎであったのに対して、窒素ガス中では２４℃／ｍｉｎであり、冷却時にガスを充填することにより２．４倍冷却速度を向上できることを確認した。
【００５７】
以上の効果により、本実施形態の方法および装置を用いれば、高密度で信頼性が高く且つ安価な記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスクを製造することができる。
【００５８】
以上、本発明を具体的な実施形態を参照しながら説明してきたが、当業者であれば、本発明が開示した実施形態に限定されるものではなく、以下に添付した請求の範囲の趣旨および範囲を逸脱しない範囲の他のさまざまな修正、変更および置換および広義等価物をカバーするものであることは明白である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施形態の製造装置を示す正面図である。
【図２】本発明の実施形態の成形工程のタイムチャートである。
【図３】加熱工程中にガラス素材から発生するガスの挙動を示す概念図である。
【図４】プレス行程中にガラス素材から発生するガスの挙動を示す概念図である。
【図５】本発明による改良前における成形中のバブルの発生の状態を示す要部拡大図である。
【図６】冷却工程中のガラス素材の状態を示す概念図である。
【符号の説明】
【００６０】
１ａ，１ｂ        金型
２ａ，２ｂ        フラットヒータ
３ａ，３ｂ        水冷ジャケット
４            規制リング
５            プレス機
７ａ，７ｂ        金型支持台
１６            チューブヒータ
２４            可動ステージ
２７            駆動機構
３０            コントローラ
【図１】
2004196651.tif 000003
【図２】
2004196651.tif 000004
【図３】
2004196651.tif 000005
【図４】
2004196651.tif 000006
【図５】
2004196651.tif 000007
【図６】
2004196651.tif 000008