(57)【要約】【課題】液晶表示パネルに液晶を注入する方法及びこれを利用した液晶注入システムを提供する。【解決手段】カラーフィルタ基板に液晶密封用シールライン３及びスペーサを形成した状態で、液晶密封用シールライン３により形成された第１体積及びスペーサが占める第２体積を算出する（段階１０、段階２０）。第１体積及び第２体積の差異である第３体積を算出し、第３体積に相当する液晶を、液晶密封用シールライン３の内部に注入する（段階３０、段階４０）。このとき、液晶量を精密に算出して、液晶密封用シールライン３内部に液晶が溢れたり、足りなくないように精密な量の液晶を供給するため、液晶を供給するに所要される工程数を最少化させることができる。また、液晶注入の途中に液晶が液晶表示パネルの周辺を汚染させることを防止することができる。最後に、液晶を密閉する（段階５０）。【選択図】　　　図１
2004021260.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板に形成された液晶密封用シールラインにより取囲まれて形成された領域の第１体積を算出する段階と、
前記液晶密封用シールラインの内部に形成された少なくとも１個のスペーサが占める第２体積を算出する段階と、
前記第１体積と第２体積との差異である第３体積を算出する段階と、
前記第３体積に当該する液晶量を算出して、前記液晶密封用シールライン内部に液晶を供給する段階と、
前記第１基板に第２基板を覆って前記液晶を密封する段階と、
を含む液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項２】
前記第１体積を算出する段階は、
前記液晶密封用シールライン内部に第１平面積を測定する段階と、
前記液晶密封用シールラインの第１高さを測定する段階と、
前記第１平面積及び前記第１高さを演算する段階と、
を含む、請求項１に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項３】
前記第１平面積を測定する段階は、
前記液晶密封用シールラインの第１画像イメージを生成する段階と、
前記第１画像イメージを映像処理する段階と、
映像処理された第１画像イメージから前記第１平面積を演算する段階と、
を含む、請求項２に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項４】
前記第１高さを測定する段階は、前記液晶密封用シールラインの少なくとも一所以上を測定する、請求項２に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項５】
前記スペーサは球形状でランダムの個数が散布されたスペーサであって、
前記スペーサの第２体積を算出する段階は、
前記スペーサの個数を測定する段階と、
測定された前記スペーサの個数に一つのスペーサの単位体積を演算する段階と、
を含む、請求項１に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項６】
前記スペーサの個数を測定する段階は、
前記スペーサの第２画像イメージを生成する段階と、
前記第２画像イメージを映像処理して前記スペーサの位置データを算出する段階と、
前記スペーサの前記位置データから前記スペーサでの個数を演算する段階と、を含む、請求項５に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項７】
前記スペーサは感光物質をパターニングして指定された位置に柱形状で形成されたスペーサであって、
前記スペーサの第２体積を算出する段階は、
各々の前記スペーサの第２平面積を測定する段階と、
各々の前記スペーサの第２高さを測定する段階と、
測定された各々の前記スペーサの前記第２平面積及び第２高さを演算する段階と、
を含む、請求項１に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項８】
前記第２平面積を測定する段階は、
前記スペーサの第３画像イメージを生成する段階と、
前記第３画像イメージを映像処理する段階と、
映像処理された前記第３画像イメージにより前記第２平面積を演算する段階と、
を含む、請求項７に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項９】
前記液晶量を算出する段階は、前記第３体積に液晶の比重を掛けて算出することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項１０】
前記液晶を供給する段階は、前記液晶量の９５％〜１０５％を供給する、請求項１に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項１１】
前記液晶を供給する段階は、前記液晶量の９５％〜１００％を供給する、請求項１０に記載の液晶表示パネルに液晶を注入する方法。
【請求項１２】
第１基板に形成された液晶密封用シールライン及び前記液晶密封用シールラインの内部に形成されたスペーサの画像イメージを生成するための画像イメージ生成手段と、
前記液晶密封用シールライン及び前記スペーサの高さを測定して高さデータを発生するための高さ測定手段と、
前記画像イメージ及び前記高さデータから前記液晶密封用シールライン内部に注入される液晶の量を算出するための液晶量算出手段と、
前記液晶量算出モジュールで算出された液晶量に前記液晶密封用シールライン内部に前記液晶を供給する液晶供給手段と、
前記第１基板に前記第２基板を覆って前記液晶を密封する基板組立装置と、
を含む液晶注入システム。
【請求項１３】
前記画像イメージ生成手段は、前記第１基板を撮影して前記液晶密封用シールラインの第１画像イメージ、前記スペーサの第２画像イメージを生成するためのＣＣＤカメラである、請求項１２に記載の液晶注入システム。
【請求項１４】
前記高さ測定手段は、前記液晶密封用シールラインの高さ、前記スペーサの高さを測定するための高さ測定センサーである、請求項１２に記載の液晶注入システム。
【請求項１５】
前記液晶供給手段は、前記液晶量を制御する液晶流量制御器、前記液晶流量制御器で制御された液晶を供給する液晶ディスペンサーを含む、請求項１２に記載の液晶注入システム。
【請求項１６】
前記液晶量算出手段は、データ記録モジュール、演算プログラム記録モジュール及び液晶量演算モジュールを含む、請求項１２に記載の液晶注入システム。
【請求項１７】
前記データ記録モジュールには、前記液晶密封用シールラインにより取囲まれた第１平面積データ、前記液晶密封用シールラインの高さデータ、前記スペーサの第２平面積データ、前記スペーサの個数データが記録される、請求項１６に記載の液晶注入システム。
【請求項１８】
前記液晶供給手段は、前記液晶量の９５％〜１０５％を供給する、請求項１２に記載の液晶注入システム。
【請求項１９】
前記液晶供給手段は、前記液晶量の９５％〜１００％を供給する、請求項１８に記載の液晶注入システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示パネルに液晶を注入する方法及びこれを利用した液晶注入システムに関するものであり、より詳細には、液晶の供給量を精密に制御して液晶表示パネル内部に気泡発生または液晶がオーバーフローされることを最少化した液晶表示パネルに液晶を注入する方法及びこれを利用した液晶注入システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、液晶は液晶表示パネルのＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板との間に注入される。
【０００３】
液晶はＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板の間に形成される電界の影響を受ける。具体的に、液晶は電界により外部から供給された光の透過率を変更させる。このような液晶により所望の画像をフル−カラーディスプレイすることができる。
【０００４】
ＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板は液晶が収納される空間であるセルギャップを有する。セルギャップは数μｍにすぎないために、セルギャップ全体に均一に液晶を供給するためには特別な方法を必要とする。
【０００５】
セルギャップに液晶を供給するためには、まず、セルギャップが形成された液晶表示パネルを、液晶表示パネルの一部が入るように、筒（ｂａｒｒｅｌ）に収納された液晶に入れる。。続いて、セルギャップ内部に真空圧を形成することにより、液晶の圧力が低下されたセルギャップ内部に注入する。
【０００６】
このように、真空圧を利用した液晶注入方法は数μｍにすぎないセルギャップの内部に空き空間なしに液晶を全て埋めることができるという長所を有する。一方、真空圧を利用した液晶注入方法は、セルギャップ内部に所望の液晶量よりさらに多い液晶が供給されるという短所を有する。
【０００７】
従って、真空圧を利用した液晶注入方法はセルギャップ内部に液晶を注入する工程以外に、セルギャップ内部に過度に注入された液晶を逆に排出させるプレス工程、液晶が注入または逆に排出される部分を別途の密封物質に密封する液晶密封工程、液晶表示パネルの外部面に付いた液晶を洗浄するための洗浄工程などを附随的に必要とする。
【０００８】
最近、真空圧を利用した液晶注入方法以外にドロップ方式液晶注入方法が開発されたことがある。ドロップ方式液晶注入方法は、カラーフィルタ基板に液晶をドロップさせ、ＴＦＴ基板をカラーフィルタ基板に接合する過程を経てカラーフィルタ基板とＴＦＴ基板間に液晶を注入する。
【０００９】
このようなドロップ方式液晶注入方法は減圧環境下で用いられ、前述した真空圧方式液晶注入方法に比べて工程が簡単であるという長所を有する。一方、ドロップ方式液晶注入方法は液晶表示パネル内部に気泡が生じたり、液晶がオーバーフローされるという問題点を共に有する。
【００１０】
例えば、液晶が要求される量より多く供給される場合、残余液晶は液晶表示パネル外部にオーバーフローされる。一方、液晶が要求される量より少なく供給される場合、液晶表示パネル内部に液晶が存在しない気泡領域が発生される。気泡領域ではディスプレイとならない。
【００１１】
結局、ドロップ方式液晶注入方法は液晶表示パネルに供給される液晶量を精密に算出することが最も重要である。液晶表示パネルに供給される液晶量は、カラーフィルタ基板に形成されたシールラインにより形成された内部体積、スペーサの体積により決定される。
【００１２】
しかし、液晶量を決定する内部体積及びスペーサの体積は基板に液晶を注入する工程ごとに異なる。
【００１３】
特に、スペーサの体積は基板ごとに変化量が大きい。これはスペーサの形成方法にその原因がある。通常、スペーサはスペーサ散布器によりカラーフィルタ基板のシールライン内部のランダムの位置にランダムの個数で付着される。このように、ランダムの個数のスペーサがカラーフィルタ基板のランダムな位置に付着される場合、スペーサが占める全体体積を把握することは相当に困難である。
【００１４】
このような問題点により、スペーサが占める体積は正確に算出することが困難である。これにより、液晶の供給量も精密に算出することが困難であるという問題点を有する。
【００１５】
また、スペーサはフォトレジスト薄膜をパターニングして製作することができる。フォトレジスト薄膜をパターニングしたスペーサは、基板の指定された位置に指定された個数が形成されるので、概略的なスペーサの体積は容易に算出することができる。
【００１６】
しかし、フォトレジスト薄膜は位置により若干の高さ差異がある。これにより、各スペーサの体積は少しずつ異なる。これにより、スペーサが占める体積は正確に算出することが困難であり、結局、正確な液晶の供給量を算出することが困難であるという問題点を有する。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の第１目的は、液晶の供給量に影響を及ぼす複数の工程変数を精密に測定及び算出して工程変数により精密な液晶の供給量を算出し、算出された供給量により基板に液晶を供給して液晶供給過程で、液晶の不足及び液晶のオーバーフローなどの工程不良が発生しないようにする液晶表示パネルに液晶を注入する方法を提供することにある。
【００１８】
本発明の第２目的は、液晶の供給量に影響を及ぼす複数の工程変数を精密に測定及び算出して工程変数により精密な液晶の供給量を算出し、算出された供給量により基板に液晶を供給して液晶供給過程で、液晶の不足及び液晶のオーバーフローなどの工程不良が発生しないようにする液晶注入システムを提供することにある。
【００１９】
【発明の解決するための手段】
上述した目的を達成するための本発明による液晶注入方法は、第１基板に形成された液晶密封用シールラインにより取囲まれて形成された領域の第１体積を算出する段階と、前記液晶密封用シールラインの内部に形成された少なくとも１個のスペーサが占める第２体積を算出する段階と、前記第１体積と第２体積との差異である第３体積を算出する段階と、前記第３体積に当該する液晶量を算出して、前記液晶密封用シールライン内部に液晶を供給する段階と、前記第１基板に第２基板を覆って前記液晶を密封する段階とを含む。
【００２０】
上述した他の目的を達成するための本発明による液晶注入システムは、第１基板に形成された液晶密封用シールライン及び前記液晶密封用シールラインの内部に形成されたスペーサの画像イメージを生成するための画像イメージ生成手段と、前記液晶密封用シールライン及び前記スペーサの高さを測定して高さデータを発生するための高さ測定手段と、前記画像イメージ及び前記高さデータから前記液晶密封用シールライン内部に注入される液晶の量を算出するための液晶量算出手段と、前記液晶量算出モジュールで算出された液晶量に前記液晶密封用シールライン内部に前記液晶を供給する液晶供給手段と、前記第１基板に前記第２基板を覆って前記液晶を密封する基板組立装置とを含む。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施形態をより詳細に説明する。
【００２２】
図１は、本発明の一実施形態により液晶表示パネルに液晶を注入する方法を示した順序図である。
【００２３】
図１に示すように、液晶表示パネルに液晶を注入する方法は、大きく５段階（段階１０、段階２０、段階３０、段階４０、段階５０）からなる。
【００２４】
５段階のうちの第一段階（段階１０）では、液晶を密封するために第１基板に形成された液晶密封用シールラインにより取囲まれて形成された領域の第１体積（ｖｏｌｕｍｅ）が求められる。
【００２５】
ここで、第１体積は液晶密封用シールラインにより取囲まれた平面積及び高さにより変更される。
【００２６】
図２は図１の第１体積を算出するサブ段階を示した順序図である。図２に示すように、第１体積は三つのサブ段階（段階１、段階２、段階３）により算出される。
【００２７】
図２に示すように、第１体積を求める第一段階（段階１）では、液晶密封用シールラインにより取囲まれた第１基板の第１平面積が算出される。ここで、第１平面積は液晶密封用シールラインの内側壁により取囲まれた平面積である。
【００２８】
図３は図２の第１平面積を算出するサブ段階を示した順序である。
【００２９】
図３に示すように、第１平面積を算出する段階は、再び三つのサブ段階（段階１Ａ、段階１Ｂ、段階１Ｃ）からなる。
【００３０】
図３に示すように、第１平面積を算出する第一段階（段階１Ａ）では、第１基板に形成された液晶密封用シールラインの画像イメージが生成される。
【００３１】
第１平面積を算出する第二段階（段階１Ｂ）では、生成された画像イメージが映像処理される。
【００３２】
本発明では一実施形態として、液晶密封用シールラインが長方形を有する。
【００３３】
画像処理されたイメージからは、液晶密封用シールラインの向き合う横壁（ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ　ｗａｌｌ）の内側面と内側面との間の幅データ（ｗｉｄｔｈ　ｄａｔａ）及び向き合う縦壁（ｖｅｒｔｉｃａｌ　ｗａｌｌ）の内側面と内側面との間の長さデータが算出される。段階１Ｂで生成された幅データ及び長さデータは記録媒体に臨時的に記憶される。
【００３４】
第１平面積を算出する第三段階（段階１Ｃ）は、映像処理されたイメージから得た幅データ及び長さデータを利用して第１平面積を演算モジュールにより演算する。演算により第１平面積データが生成される。段階１Ｃで演算された第１平面積データは、やはり記録媒体に臨時的に記憶される。
【００３５】
図３の方法を通じて液晶密封用シールラインにより取囲まれて形成された第１平面積が算出されると、図２に示したように第１体積を算出する第二段階（段階２）が実施される。
【００３６】
第１体積を求める第二段階（段階２）では、液晶密封用シールラインの第１高さが測定される。ここで、第１高さは液晶密封用シールラインの少なくとも１箇所以上で測定される。測定結果は第１高さデータに変換された状態で記録媒体に臨時的に記録される。ここで、第１高さは液晶密封用シールラインの複数所で測定することが望ましい。
【００３７】
第１体積を求める第三段階（段階３）では、段階１で測定された第１平面積データ及び段階２で測定された第１高さデータが演算される。ここで、演算は演算モジュールにより実施される。演算モジュールにより第１体積データが生成され、第１体積データは記録媒体に臨時的に記録される。
【００３８】
続いて、図１に示した５個の段階のうちの第二段階（段階２０）が実施される。
【００３９】
５個の段階のうちの第二段階（段階２０）では、液晶を密封するために第１基板に形成された液晶密封用シールラインの内部に形成されたスペーサの第２体積が求められる。
【００４０】
ここで、スペーサの第２体積を求める方法は、スペーサの種類により異なる。本発明ではスペーサの種類により２個の実施形態が提供される。
【００４１】
〈実施形態１〉
図４は本発明の第１実施形態により第２体積を算出する方法を示した順序図である。
【００４２】
図４に示すように、第２体積を算出する段階（段階２０）は、再び２個のサブ段階（段階２２、段階２４）により構成される。
【００４３】
第２体積を算出するための第一段階（段階２２）では、液晶密封用シールラインの内部に位置したスペーサの個数が算出される。ここで、スペーサはランダムな個数が第１基板のランダムな位置に散布（ｓｃａｔｔｅｒ）された球形状を有する。
【００４４】
図５は本発明の第１実施形態により球形スペーサの個数を算出する方法を示した順序図である。
【００４５】
図５に示すように、球形スペーサの個数を算出する段階（段階２２）は、再び四つのサブ段階（段階２２Ａ、段階２２Ｂ、段階２２Ｃ、段階２２Ｄ）により構成される。
【００４６】
第一サブ段階（段階２２Ａ）では、球形状を有するスペーサの第２画像イメージが生成される。この画像イメージは記録媒体に臨時的に記録される。
【００４７】
第二サブ段階（段階２２Ｂ）では、画像イメージが画像処理される。ここで、画像イメージは処理モジュールにより画像処理される。画像処理された画像データは記録媒体に臨時的に記録される。
【００４８】
第三サブ段階（段階２２Ｃ）では、画像データから球形状を有するスペーサの各々の位置データを間接的に算出する。この位置データは、記録媒体に臨時的に記録される。ここで、位置データは球形状のスペーサが位置した座標データである。
【００４９】
第四サブ段階（段階２２Ｄ）では、記録媒体に記録された位置データによりスペーサの個数が演算される。スペーサの個数は、演算モジュールにより演算され、スペーサ個数データが生成される。スペーサ個数データは記録媒体に臨時的に記録される。
【００５０】
続いて、図４に示したように第２体積を算出するための第二段階（段階２４）が実施される。
【００５１】
第２体積を算出するための第二段階（段階２４）では算出された球形状のスペーサ個数データ及び一つのスペーサが有する単位体積データを演算する。ここで、１個のスペーサが有する単位体積データは記録モジュールに予め記録されたデータである。段階２４で演算された第２体積データは記録媒体に臨時的に記録される。
【００５２】
〈実施形態２〉
図６は、本発明の第２実施形態により第２体積を算出する方法を示した順序図である。
【００５３】
図６に示すように、第２体積を算出する第一段階（段階２０）は、再び３個のサブ段階（段階２５、段階２７、段階２９）により構成される。
【００５４】
第２体積を算出するための第一サブ段階（段階２５）では、液晶密封用シールラインの内部に位置したスペーサの第２平面積が算出される。
【００５５】
ここで、スペーサは指定された個数が前記基板の指定された位置に形成された柱形状を有する。柱形状を有するスペーサは感光物質をパターニングして形成される。
【００５６】
本発明では一実施形態としてスペーサが円柱形状を有する。
【００５７】
図７は本発明の実施形態により柱形状のスペーサの第２平面積を算出する方法を示した順序図である。
【００５８】
図７に示すように、柱形状のスペーサの第２平面積を算出する段階（段階２５）は、再び３個のサブ段階（段階２５Ａ、段階２５Ｂ、段階２５Ｃ）により構成される。
【００５９】
第一サブ段階（段階２５Ａ）では、柱形状を有するスペーサの第３画像イメージが生成される。第３画像イメージは記録媒体に臨時記録される。
【００６０】
第二サブ段階（段階２５Ｂ）では、第３画像イメージが画像処理される。ここで、第３画像イメージは画像イメージ処理モジュールにより画像処理され、画像データが生成される。画像データは記録媒体に臨時記録される。
【００６１】
第三サブ段階（段階２５Ｃ）では、画像データにより柱形状を有するスペーサ各々の第２平面積が演算される。ここで、第２平面積の演算は演算モジュールにより実施される。演算モジュールにより生成された柱形状のスペーサの第２平面積データは記録媒体に臨時的に記録される。
【００６２】
続いて、図７に示したように第２体積を算出するための第二段階（段階２７）が実施される。
【００６３】
第２体積を算出するための第二段階（段階２７）では、柱形状を有するスペーサの各々の第２高さが算出される。算出された柱形状を有するスペーサの第２高さのデータは記録媒体に臨時的に記録される。
【００６４】
第２体積を算出するための第三段階（段階２９）では、第２平面積データ及び第２高さデータが演算される。演算は演算モジュールにより実施され、演算モジュールで生成された第２体積データは記録媒体に臨時的に記録される。
【００６５】
続いて、図１に示した５個の段階のうちの第三段階（段階３０）が実施される。
【００６６】
５個の段階のうちの第三段階（段階３０）では、前述した第一段階（段階１０）及び第二段階（段階２０）で算出された第１体積データ及び第２体積データを利用して液晶密封用シールラインの第１体積及びスペーサの体積の差異に該当する第３体積が演算される。第３体積は演算モジュールにより算出され、演算モジュールで算出された第３体積データは記録媒体に臨時的に記録される。
【００６７】
続いて、図１に示した５個の段階のうちの第四段階（段階４０）が実施される。
【００６８】
５個の段階のうちの第四段階（段階４０）では、第３体積に該当する液晶が液晶密封用シールライン内部に供給される。ここで、液晶の供給量は液晶の重み及び比重により算出される。ここで、液晶の供給量は多様な工程変数を考慮して第３体積より若干小さい９５％以上１０５％以下である。望ましくは、液晶の供給量は９５％〜１００％である。
【００６９】
続いて、図１に示した５個の段階のうちの第五段階（段階５０）が実施される。第五段階（段階５０）では、第１基板に第２基板を覆って液晶が第１基板及び第２基板間で密封されるようにする。
【００７０】
以下、本発明の一実施形態による液晶注入システムを説明する。
【００７１】
図８は、本発明の実施形態による液晶注入システムを示したブロック図である。図９は本発明の一実施形態による液晶注入システムの概念図である。
【００７２】
図８または図９に示すように、液晶注入システム８００は全体的に制御ユニット１００、画像イメージ処理装置２００、高さ測定装置３００、液晶量算出モジュール４００、液晶供給装置５００及び基板組立装置６００により構成される。
【００７３】
制御ユニット１００は液晶注入システム８００の各構成要素を制御する。制御ユニット１００の制御のための制御信号の入出入はコントロールバス（ｃｏｎｔｒｏｌ　ｂｕｓ）により実施され、データ信号の入力入はデータバス（ｄａｔａ
ｂｕｓ）により実施される。
【００７４】
画像イメージ処理装置２００は、画像イメージ生成装置２１０及び映像処理装置２２０により構成される。
【００７５】
図１０は本発明の実施形態による第１基板の斜視図である。図１０に示すように、符号１に示した部分は第１基板であり、符号３に示した部分は一実施形態である液晶密封用シールラインである。符号５に示した部分はスペーサである。
【００７６】
液晶密封用シールライン３は第１基板１のエッジに沿って帯形状で形成される。ここで、液晶密封用シールライン３は閉ループ形状を有する。ここで、符号３ａは液晶密封用シールライン３の外側面であり、符号３ｂは液晶密封用シールライン３の内側面である。
【００７７】
図９に示すように、画像イメージ処理装置２００の画像イメージ生成装置２１０は図１０に示した第１基板１に形成された液晶密封用シールライン３及び液晶密封用シールライン３内部に形成されたスペーサ５の画像イメージを生成する。
【００７８】
画像イメージ生成装置２１０は事物を撮影してデジタル画像イメージを生成するＣＣＤカメラであり、映像処理装置２２０は画像イメージを処理して画像イメージから所望の各種データを抽出する。
【００７９】
図１１は、本発明の実施形態による画像イメージ生成装置により生成された画像イメージである。
【００８０】
図１１に示すように、映像処理装置２２０は画像イメージ２１５の液晶密封用シールライン２１５ａ内部の第１平面積データ及び画像イメージ２１５のスペーサ２１５ｂの個数データまたは第２平面積データを抽出する。ここで、第１平面積データには画像イメージ２１５の液晶密封用シールライン２１５ａのうちの向き合う縦壁の内側面と内側面との間の距離Ｈ及び向き合う横壁の内側面と内側面間の距離Ｖが含まれる。
【００８１】
高さ測定装置３００は液晶密封用シールライン３の高さｈ１及びスペーサ５の高さｈ２を測定する。この高さ測定装置３００には、レーザビームを第１基板１側に照射して反射された光に高さを測定する高さ測定センサーである。この高さ測定装置３００は図９に示したようにＸ−Ｙテーブル２０１に固定され、第１基板１上に形成された液晶密封用シールライン３及び全てスペーサ５の高さを測定することができる。
【００８２】
液晶量算出モジュール４００は、データ記録モジュール４１０、演算プログラム記録モジュール４２０及び液晶量演算モジュール４３０により構成される。
【００８３】
図９または図１１に示すように、データ記録モジュール４１０は映像処理装置２２０で処理された液晶密封用シールライン２１５ａ内部の第１平面積データ、スペーサ２１５ｂの第２平面積データ及びスペーサ２１５ｂの個数データなどが臨時的に記録される。
【００８４】
また、データ記録モジュール４１０には、図９に示したように高さ測定装置３００で測定された後に発生した液晶密封用シールライン３の第１高さデータ及びスペーサの第２高さデータが臨時的に記録される。
【００８５】
その外にも、液晶量を算出するに必要とする残りデータは、全てデータ記録モジュール４１０に臨時的に記録される。
【００８６】
演算プログラム記録モジュール４２０には、液晶の液晶量を演算するに必要とする演算プログラムが記録されている。
【００８７】
液晶量演算モジュール４３０は、演算プログラム記録モジュール４２０に記録された演算プログラムをローディングする。さらに、液晶量演算モジュール４３０は、データ記録モジュール４１０から第１平面積データ、スペーサの第２平面積データ、第１高さデータ、第２高さデータ及びスペーサの個数データにアクセスして、実際液晶密封用シールライン３内部に供給される液晶量を算出する。
【００８８】
図１２は本実施形態の液晶供給装置により液晶密封用シールライン内部に液晶が供給されたことを示した概念図である。
【００８９】
図９または図１２に示すように、液晶供給装置５００は液晶量演算モジュール４３０で算出された液晶量データに該当する量の液晶５１５を第１基板１の液晶密封用シールライン３の内部に供給する。これを具現するために、液晶供給装置５００は液晶供給タンク５２０及び液晶流量制御コントローラ５１０、液晶流量制御コントローラ５１０で制御された液晶を供給する液晶供給用ディスペンサー５３０とを含む。ここで、液晶供給装置５００から供給された液晶の供給量は多様な工程変数を考慮して液晶量データより若干小さい９５％〜１０５％に設定する。望ましくは、液晶の供給量は９５％〜１００％である。
【００９０】
基板組立装置６００は第１基板１に形成された液晶密封用シールライン３内部に液晶５１５が注入された状態で第１基板１に第２基板７を覆う。これにより液晶５１５は第１基板１と第２基板７との間に完全に密封される。
【００９１】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できるであろう。
【００９２】
【発明の効果】
本発明によると、液晶を２個の基板間に供給して密封するに必要とする工程数を最少化することができる。また、液晶を２個の基板間に供給して密封するに所要される工程時間を最少化することができる。また、２個の基板間に供給された液晶が足りないことにより、発生する気泡または２個の基板間に供給された液晶が過度に発生する液晶のオーバーフローまでも防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態により液晶表示パネルに液晶を注入する方法を示した順序図である。
【図２】図１の第１平面積を算出するサブ段階を示した順序図である。
【図３】図２の第１平面積を算出するサブ段階を示した順序図である。
【図４】本発明の第１実施形態により第２体積を算出する方法を示す順序図である。
【図５】本発明の第１実施形態により球形スペーサの個数を算出する方法を示す順序図である。
【図６】本発明の第２実施形態により第２体積を算出する方法を示す順序図である。
【図７】本発明の第２実施形態により柱形状のスペーサの第２平面積を算出する方法を示す順序図である。
【図８】本発明の一実施形態による液晶注入システムを示したブロック図である。
【図９】本発明の一実施形態による液晶注入システムの概念図である。
【図１０】本発明の一実施形態による第１基板の斜視図である。
【図１１】本発明の一実施形態による画像イメージ生成装置により生成された画像イメージである。
【図１２】液晶供給装置により液晶密封用シールライン内部に液晶が供給されたことを示した概念図である。
【符号の説明】
１　　第１基板
３　　液晶密封用シールライン
１００　　制御ユニット
２００　　画像イメージ処理装置
２１０　　画像イメージ生成装置
２１５　　画像イメージ
２１５ａ　　液晶密封用シールライン
２１５ｂ　　スペーサ
２２０　　映像処理装置
３００　　高さ測定装置
４００　　液晶量算出モジュール
４１０　　データ記録モジュール
４２０　　演算プログラム記録モジュール
４３０　　液晶量演算モジュール
５００　　液晶供給装置
６００　　基板組立装置
８００　　液晶注入システム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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