(57)【要約】【課題】コンデンサ素子内蔵多層配線基板において、コンデンサ素子の引き出し電極部と絶縁層に設けられた貫通導体との間で接続不良が発生する。【解決手段】多数の電極層１およびセラミック誘電体層２を交互に積層して成り、多数の電極層１に対して垂直方向に貫通する貫通孔３に導体が充填されて成る複数の引き出し電極部４を有するコンデンサ素子６であって、セラミック誘電体層２は、複数の引き出し電極部４が露出した表面に複数の引き出し電極部４を取り囲んで形成された溝５を有している。【選択図】　図１
2004063611.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の電極層およびセラミック誘電体層を交互に積層して成り、前記多数の電極層に対して垂直方向に貫通する貫通孔に導体が充填されて成る複数の引き出し電極部を有するコンデンサ素子であって、前記セラミック誘電体層は、前記複数の引き出し電極部が露出した表面に前記複数の引き出し電極部を取り囲んだ溝を有していることを特徴とするコンデンサ素子。
【請求項２】
多数の電極層およびセラミック誘電体層を交互に積層して成り、前記多数の電極層に対して垂直方向に貫通する貫通孔に導体が充填されて成る複数の引き出し電極部を有するコンデンサ素子であって、前記セラミック誘電体層は、前記複数の引き出し電極部が露出した表面に前記引き出し電極部を個々に取り囲んだ溝を有していることを特徴とするコンデンサ素子。
【請求項３】
有機材料から成る複数の絶縁層を積層するとともにこれら絶縁層の表面に配線導体を形成し、前記絶縁層を挟んで上下に位置する前記配線導体間を前記絶縁層に形成された貫通導体を介して電気的に接続して成り、上下の最外層に位置する前記配線導体の一部が外部電気回路と接続される接続パッドとされており、前記絶縁層の少なくとも一層に設けられた空洞部の内部に請求項１または請求項２記載のコンデンサ素子を内蔵するとともに、該コンデンサ素子の上下両主面において前記引き出し電極部が前記貫通導体を介して前記接続パッドに電気的に接続されていることを特徴とするコンデンサ素子内蔵多層配線基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種ＡＶ機器や家電機器・通信機器・コンピュータやその周辺機器等の電子機器に使用されるコンデンサ素子およびそれを内蔵したコンデンサ素子内蔵多層配線基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、配線基板はアルミナ等のセラミック材料から成る絶縁層あるいはガラスエポキシ樹脂等の有機樹脂材料から成る絶縁層の内部および表面に複数の配線導体を形成し、上下に位置する配線導体間を絶縁層に形成した貫通導体を介して電気的に接続して成り、この配線基板の表面に半導体素子やコンデンサ・抵抗素子等の電子素子を搭載取着するとともにこれらの電極を各配線導体に接続することによって電子機器に使用される電子装置が形成されている。
【０００３】
しかしながら、近年、電子機器は、移動体通信機器に代表されるように小型・薄型・軽量化が要求されてきており、このような電子機器に搭載される配線基板も小型・高密度化が要求されるようになってきている。また、近年、通信速度の高速化に伴い通信機器等の電子機器類は周波数が数１００ＭＨｚ以上の高周波領域で使用されるようになってきており、このような高周波領域での使用に対応するため、電子素子や配線基板の低インダクタンス化も要求されるようになってきている。
【０００４】
このような要求に対応するために、本出願人は特願２００１−３３３２８１号において、多数の電極層およびセラミック誘電体層を交互に積層して成るとともに、これらの電極層に対して垂直方向に貫通する貫通孔に導体が充填されて成る引き出し電極部を有するコンデンサ素子を多層配線基板の内部に形成した空洞部に内蔵することを提案している。
【０００５】
このようにコンデンサ素子を多層配線基板の内部に内蔵することにより、多層配線基板の表面に搭載される電子素子の数を減らすことができ、多層配線基板を小型化することができる。また、コンデンサ素子の電極層の直上に最短距離で引き出し電極部を形成することができるので、コンデンサ素子内部で電極を引き回す必要がないため、インダクタンス成分を小さくすることが可能となり、高周波領域においても電源ノイズの小さい電気特性に優れたものとすることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなコンデンサ素子を多層配線基板に内蔵する場合、表面に配線導体および内部に貫通導体を形成した絶縁層を積層するとともに、絶縁層に設けた空洞部に、絶縁層に形成した貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極部とが接続するようにコンデンサ素子を収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、絶縁層の成分である樹脂が圧着の際の圧力によってコンデンサ素子を収納した空洞部にはみだして貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極部との間に浸入し、貫通導体と引き出し電極部との間で接続不良が生じてしまい、配線基板の導通信頼性が低下してしまうという問題点を有していた。
【０００７】
また、空洞部にはみ出してくる樹脂を避けるために、コンデンサ素子の複数の引き出し電極部をコンデンサ素子の中央部に近接させて形成した場合、絶縁層に形成した貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極部とが接続するようにコンデンサ素子を収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、貫通導体を形成する導電性ペーストがコンデンサ素子の表面にはみ出して近接する貫通導体や引き出し電極に接触し、貫通導体間で短絡してしまうという問題点を有していた。
【０００８】
本発明はかかる従来技術の問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は、配線基板の貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極との導通信頼性に優れたコンデンサ素子およびこれを内蔵したコンデンサ素子内蔵多層配線基板を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１のコンデンサ素子は、多数の電極層およびセラミック誘電体層を交互に積層して成り、多数の電極層に対して垂直方向に貫通する貫通孔に導体が充填されて成る複数の引き出し電極部を有するコンデンサ素子であって、セラミック誘電体層は、複数の引き出し電極部が露出した表面に複数の引き出し電極部を取り囲んだ溝を有していることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の第２のコンデンサ素子は、多数の電極層およびセラミック誘電体層を交互に積層して成り、多数の電極層に対して垂直方向に貫通する貫通孔に導体が充填されて成る複数の引き出し電極部を有するコンデンサ素子であって、セラミック誘電体層は、複数の引き出し電極部が露出した表面に引き出し電極部を個々に取り囲んだ溝を有していることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板は、有機材料から成る複数の絶縁層を積層するとともにこれら絶縁層の表面に配線導体を形成し、絶縁層を挟んで上下に位置する配線導体間を絶縁層に形成された貫通導体を介して電気的に接続して成り、上下の最外層に位置する配線導体の一部が外部電気回路と接続される接続パッドとされており、絶縁層の少なくとも一層に設けられた空洞部の内部に本発明の第１または第２のコンデンサ素子を内蔵するとともに、このコンデンサ素子の上下両主面において引き出し電極部が貫通導体を介して接続パッドに電気的に接続されていることを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の第１のコンデンサ素子によれば、セラミック誘電体層が複数の引き出し電極部が露出した表面に複数の引き出し電極部を取り囲んで形成された溝を有していることから、コンデンサ素子を多層配線基板に内蔵する際、表面に配線導体および内部に貫通導体を形成した絶縁層を積層するとともに、絶縁層に設けた空洞部に、絶縁層に形成した貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極部とが接続するようにコンデンサ素子を収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、絶縁層を構成する樹脂が圧着の際の圧力によってコンデンサ素子を収納した空洞部にはみだしてきたとしても、空洞部にはみだしてきた樹脂は複数の引き出し電極部を取り囲んで形成された溝によって貫通導体と引き出し電極部との間に浸入することが有効に防止され、その結果、絶縁層の貫通導体と引き出し電極部とを良好に接続することが可能なコンデンサ素子とすることができる。
【００１３】
本発明の第２のコンデンサ素子によれば、セラミック誘電体層が複数の引き出し電極部が露出した表面に引き出し電極部を個々に取り囲んで形成された溝を有していることから、絶縁層に形成した貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極部とが接続するようにコンデンサ素子を収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、貫通導体を形成する導電性ペーストがコンデンサ素子の表面にはみ出してきたとしても、導電性ペーストは引き出し電極部を個々に取り囲んで形成された溝によって近接する貫通導体と接触することが有効に防止され、その結果、貫通導体間で短絡することのないコンデンサ素子とすることができる。
【００１４】
また、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板によれば、上記の本発明の第または第２のコンデンサ素子を多層配線基板内部に埋設していることから、コンデンサ素子の引き出し電極部と貫通導体との間に絶縁層の樹脂が流れ込んで断線を生じたり、近接する貫通導体間や引き出し電極間で短絡したりすることのない、接続信頼性に優れたコンデンサ素子内蔵多層配線基板とすることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
次に本発明のコンデンサ素子およびコンデンサ素子内蔵多層配線基板を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明の第１のコンデンサ素子の実施の形態の一例を示す断面図であり、図２は、図１に示す第１のコンデンサ素子の平面図である。また、図３は、本発明の第２のコンデンサ素子の実施の形態の一例を示す平面図である。さらに、図４は、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板の実施の形態の一例を示す断面図であり、この図では、第１のコンデンサ素子を１個内蔵した場合の例を示している。
【００１６】
これらの図において、１は電極層、２はセラミック誘電体層、３は貫通孔、４は引き出し電極部、５ａは複数の引き出し電極部４を取り囲んだ溝、５ｂは個々の引き出し電極部４を取り囲んだ溝であり、電極層１、セラミック誘電体層２、貫通孔３、引き出し電極部４および溝５ａで本発明の第１のコンデンサ素子６ａが構成され、電極層１、セラミック誘電体層２、貫通孔３、引き出し電極部４および溝５ｂで本発明の第２のコンデンサ素子６ｂが構成される。
【００１７】
また、７は絶縁層、８は配線導体、９は貫通穴、９ａは貫通導体、１０は外部電気回路と接続される接続パッドで、主にこれらと第１のコンデンサ素子６ａまたは第２のコンデンサ素子６ｂとで、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２が構成されている。
【００１８】
なお、図１に示す第１のコンデンサ素子６ａは、セラミック誘電体層２を７層積層することにより構成されている。また、本例のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２は、絶縁層７を４層積層することにより構成されているとともに、絶縁層７の少なくとも１層には第１のコンデンサ素子６ａまたは第２のコンデンサ素子６ｂを収容する空洞部１１が形成されている。
【００１９】
第１のコンデンサ素子６ａおよび第２のコンデンサ素子６ｂは、縦・横・高さがそれぞれ０．３〜５ｍｍの直方体であり、図１に第１のコンデンサ素子６ａの断面図で示すように、電極層１とセラミック誘電体層２とを交互に複数積層することにより形成されている。
【００２０】
このようなセラミック誘電体層２の材料としては、種々の誘電体セラミック材料を用いることができ、例えば、ＢａＴｉＯ３やＬａＴｉＯ３・ＣａＴｉＯ３・ＳｒＴｉＯ３等のセラミック組成物、あるいは、ＢａＴｉＯ３の構成元素であるＢａをＣａで、ＴｉをＺｒやＳｎで部分的に置換した固溶体等のチタン酸バリウム系材料や、鉛系ペロブスカイト型構造化合物等が挙げられる。また、電極層１を形成する材料としては、例えばＰｄやＡｇ・Ｐｔ・Ｎｉ・Ｃｕ・Ｐｂ等の金属やそれらの合金が用いられる。
【００２１】
さらに、第１のコンデンサ素子６ａおよび第２のコンデンサ素子６ｂは、多数の電極層１に対して垂直方向に貫通する貫通孔３に導体が充填されて成る引き出し電極部４を有している。なお、図２および図３の平面図では、引き出し電極部４を格子状に配列した例を示している。
【００２２】
本発明の第１のコンデンサ素子６ａおよび第２のコンデンサ素子６ｂによれば、コンデンサ素子６ａ・６ｂを多数の電極層１に対して垂直方向に貫通する貫通孔３に導体が充填されて成る引き出し電極部４を有するものとしたことから、コンデンサ素子６ａ・６ｂに端面電極や表面電極を印刷する必要がないために工程を簡単化することができるとともに、直径が数１０μｍという微細な引き出し電極部４を容易に形成することができ、コンデンサ素子６ａ・６ｂを小型化することができる。
【００２３】
このようなコンデンサ素子６ａ・６ｂに形成される貫通孔３は、電極層１とセラミック誘電体層２とから成る積層体に、パンチングによる打ち抜き加工やＵＶ−ＹＡＧレーザやエキシマレーザ・炭酸ガスレーザ等によるレーザ穿設加工等の方法により形成され、特に微細な貫通孔３とするためには、レーザに穿設加工されることが好ましい。また、貫通孔３の径は数１０μｍ〜数ｍｍであり、コンデンサ素子６ａ・６ｂの大きさに合わせて適宜決められる。なお、貫通孔３は、内部に充填される導体と電極層１との電気的接続を良好にするために、打ち抜き加工やレーザ穿設加工後に超音波洗浄処理やデスミア処理等を施しても良い。
【００２４】
また、貫通孔３に充填される導体としては、ＰｄやＡｇ・Ｐｔ・Ｎｉ・Ｃｕ・Ｐｂ等の金属やそれらの合金が用いられ、特に電極層１との電気的接続を良好にするという観点からは、電極層１と同じ材質のものを含有することが好ましい。
【００２５】
このような貫通孔３に充填される導体は、有機溶剤に有機バインダ樹脂を溶解させた有機ビヒクル中に金属粉末を分散させて成る導電ペーストを貫通孔３にスクリーン印刷法等の方法で充填することにより形成される。なお、ビヒクル中には、これらの他、各種分散剤・活性剤・可塑剤などが必要に応じて添加されても良い。
【００２６】
また、導電ペーストに用いられる有機バインダ樹脂は、金属粉末を均質に分散させるとともに貫通孔３への埋め込みに適正な粘度とレオロジーを与える役割をもっており、例えば、アクリル樹脂やフェノール樹脂・アルキッド樹脂・ロジンエステル・エチルセルロース・メチルセルロース・ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）・ポリビニルブチラート等が挙げられる。特に、金属粉末の分散性を良くするという観点からは、アクリル樹脂を用いることが好ましい。
【００２７】
さらに、導電ペーストに用いられる有機溶剤は、有機バインダ樹脂を溶解して金属粉末粒子を分散させ、このような混合系全体をペースト状にする役割をなし、例えば、α−テルピネオールやベンジルアルコール等のアルコール系や炭化水素系・エーテル系・ＢＣＡ（ブチルカルビトールアセテート）等のエステル系・ナフサ等が用いられ、特に、金属粉末の分散性を良くするという観点からは、α−テルピネオール等のアルコール系溶剤を用いることが好ましい。
【００２８】
さらにまた、導電ペーストは、埋め込み・焼成後のコンデンサ磁器への接着強度を上げるために、ガラスフリットやセラミックフリットを加えたペーストとすることができる。この場合のガラスフリットやセラミックフリットとしては特に限定されるものではなく、例えば、ホウ珪酸塩系やホウ珪酸亜鉛系のガラス、あるいはチタニア・チタン酸バリウムなどのチタン系酸化物などを適宜用いることができる。
【００２９】
また、本発明の第１のコンデンサ素子６ａにおいては、セラミック誘電体層２の複数の引き出し電極部４が露出した表面に複数の引き出し電極部４を取り囲む溝５ａが、さらに本発明の第２のコンデンサ素子６ｂにおいては、セラミック誘電体層２の複数の引き出し電極部４が露出した表面に引き出し電極部４を個々に取り囲む溝５ｂが、ＵＶ−ＹＡＧレーザやエキシマレーザ・炭酸ガスレーザ等によるレーザ穿設加工等の方法により形成されている。そして、本発明ではこのことが重要である。
【００３０】
本発明の第１のコンデンサ素子６ａによれば、セラミック誘電体層２が複数の引き出し電極部４が露出した表面に複数の引き出し電極部４を取り囲んだ溝５ａを有していることから、第１のコンデンサ素子６ａを多層配線基板１２に内蔵する際、表面に配線導体８および内部に貫通導体９を形成した絶縁層７を積層するとともに、絶縁層７に設けた空洞部１１に、絶縁層７に形成した貫通導体９と第１のコンデンサ素子６ａの引き出し電極部４とが接続するように第１のコンデンサ素子６ａを収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、絶縁層７を構成する樹脂が圧着の際の圧力によって第１のコンデンサ素子６ａを収納した空洞部１１にはみ出してきとしても、空洞部１１にはみ出してきた樹脂が複数の引き出し電極部４を取り囲んで形成された溝５ａによって貫通導体９と引き出し電極部４との間に浸入することが有効に防止され、その結果、絶縁層７の貫通導体９と引き出し電極部４とを良好に接続することが可能なコンデンサ素子とすることができる。
【００３１】
また、本発明の第２のコンデンサ素子６ｂによれば、セラミック誘電体層２が複数の引き出し電極部４が露出した表面に引き出し電極部４を個々に取り囲んだ溝５ｂを有していることから、上述の効果に加え、絶縁層７に形成した貫通導体９と第２のコンデンサ素子６ｂの引き出し電極部４とが接続するように第２のコンデンサ素子６ｂを収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、貫通導体９を形成する導電性ペーストが第２のコンデンサ素子６ｂの表面にはみ出してきたとしても、導電性ペーストは引き出し電極部４を個々に取り囲んで形成された溝５ｂによって近接する貫通導体９や引き出し電極４と接触することが有効に防止され、その結果、貫通導体９間や引き出し電極部４間で短絡することのないコンデンサ素子とすることができる。
【００３２】
このような引き出し電極部４を取り囲む溝５ａ・５ｂは、その断面形状が半円や略半円状、長方形や略長方形状、あるいは三角形や略三角形状であり、溝５ａ・５ｂの深さは、溝５ａ・５ｂの深さをｔ１としコンデンサ素子６ａ・６ｂの厚みをｔ２としたときに、コンデンサ素子内蔵多層配線基板１２を製作する際に、絶縁層７の樹脂や貫通導体９を構成する、後述する導電性ペーストが引き出し電極部４上へ流れ込むのを防止するという観点からはｔ１／ｔ２が０．１以上であること好ましく、コンデンサ素子６ａ・６ｂの強度の観点からはｔ１／ｔ２が０．３以下であることが好ましい。
【００３３】
また、溝５ａ・５ｂの幅は、絶縁層７の樹脂や貫通導体９を構成する導電性ペーストが引き出し電極部４上へ流れ込むのを防止するという観点からは５μｍ以上であることが好ましく、絶縁層７を積層する際に、溝内にボイドが生じてしまうのを防止するという観点からは、１００μｍ以下であることが好ましい。
【００３４】
なお、溝５ａは、図２に平面図で示すように第１のコンデンサ素子６ａ上面の引き出し電極部４を１つの溝５で取り囲むように形成されていることが必要であるが、溝５ａの内側の領域で引き出し電極４間にさらに溝を形成してもよい。
【００３５】
このようなコンデンサ素子６ａ・６ｂは、次に述べる方法により製作される。まず、周知のシート成形法により作成されたセラミック誘電体層２と成る、例えばＢａＴｉＯ３誘電体セラミックグリーンシート表面に、周知のペースト作成法により作成したＮｉ金属ペーストをスクリーン印刷法により所定形状と成るように印刷して未焼成電極層を形成し、続いてこれらを所定順序に積層し、圧着して積層体を得る。そして、この積層体にレーザにより所定の位置に複数の貫通孔３を形成後、超音波洗浄により貫通孔３を水洗し、この貫通孔３に例えばＮｉ金属粉末とアクリル樹脂とα−テルピネオールとから成る導電ペーストをスクリーン印刷法により充填する。しかる後、これらを８００〜１６００℃の温度で焼成することにより製作される。
【００３６】
なお貫通孔３に充填された導体は、焼成後有機バインダ樹脂や溶剤が除去され、引き出し電極部４と成る。
さらに、絶縁層２の表面に露出した複数の引き出し電極部４を取り囲む溝５ａを、ＵＶ−ＹＡＧレーザやエキシマレーザ・炭酸ガスレーザ等によるレーザ穿設加工等の方法により形成することにより、本発明の第１のコンデンサ素子６ａが完成し、絶縁層２の表面に露出した個々の引き出し電極部４を取り囲む溝５ｂをＵＶ−ＹＡＧレーザやエキシマレーザ・炭酸ガスレーザ等によるレーザ穿設加工等の方法により形成することにより、本発明の第２のコンデンサ素子６ｂが完成する。
【００３７】
次に、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２を図４および図５に基づいて詳細に説明する。なお、図５は、図４のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２を製作するための工程毎の断面図である。
【００３８】
まず、図５（ａ）に断面図で示すように、絶縁層７と成る未硬化の前駆体シートを準備し、この前駆体シートにレーザ加工により所望の個所に直径が１７〜１５０μｍ程度の貫通穴９を穿設する。
【００３９】
このような絶縁層７と成る未硬化の前駆体シートは、エポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂・熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂・液晶ポリマー樹脂等の有機樹脂材料から成り、機械的強度を向上させるためのシラン系やチタネート系等のカップリング剤、熱安定性を改善するための酸化防止剤や耐光性を改善するための紫外線吸収剤等の光安定剤、難燃性を改善するためのハロゲン系もしくはリン酸系の難燃性剤、アンチモン系化合物やホウ酸亜鉛・メタホウ酸バリウム・酸化ジルコニウム等の難燃助剤、潤滑性を改善するための高級脂肪酸や高級脂肪酸エステル・高級脂肪酸金属塩・フルオロカーボン系界面活性剤等の滑剤、熱膨張係数を調整するためおよび／または機械的強度を向上させるための酸化アルミニウム・酸化珪素・酸化チタン・酸化バリウム・酸化ストロンチウム・酸化ジルコニウム・酸化カルシウム・ゼオライト・窒化珪素・窒化アルミニウム・炭化珪素・ホウ酸アルミニウム・スズ酸バリウム・ジルコン酸バリウム・ジルコン酸ストロンチウム等の充填材、あるいは繊維状ガラスを布状に織り込んだガラスクロス等や耐熱性有機樹脂繊維から成る不織布等の基材を含有させてもよい。
【００４０】
このような前駆体シートは、例えば、絶縁材料として熱硬化性樹脂と無機絶縁粉末との複合材料を用いる場合、以下の方法によって製作される。まず、前述した無機絶縁粉末に熱硬化性樹脂を無機絶縁粉末量が１７〜８０体積％となるように溶媒とともに加えた混合物を得、この混合物を混練機（ニーダ）や３本ロール等の手段によって混合してペーストを製作する。そして、このペーストを圧延法や押し出し法・射出法・ドクターブレード法などのシート成形法を採用してシート状に成形した後、熱硬化性樹脂が完全硬化しない温度に加熱して乾燥することにより絶縁層７となる前駆体シートが製作される。なお、ペーストは、好適には、熱硬化性樹脂と無機絶縁粉末の複合材料に、トルエン・酢酸ブチル・メチルエチルケトン・メタノール・メチルセロソルブアセテート・イソプロピルアルコール・メチルイソブチルケトン・ジメチルホルムアミド等の溶媒を添加してなる所定の粘度を有する流動体であり、その粘度は、シート成形法にもよるが１００〜３０００ポイズが好ましい。
【００４１】
次に、図５（ｂ）に断面図で示すように、貫通穴９内に銅・銀・金・半田等から成る導電性ペーストを従来周知のスクリーン印刷法等を採用して充填し、貫通導体９ａを形成する。
【００４２】
次に、図５（ｃ）に断面図で示すように、前駆体シートの表面と裏面とに被着する配線導体８を準備する。そして、図５（ｄ）に断面図で示すように、配線導体８を前駆体シートの表面および裏面に、必要な配線導体８と貫通導体９ａとが電気的に接続するように重ね合わせて転写する。なお、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２においては、最外層に位置する絶縁層７の表面に、配線導体８の一部を用いて形成した外部電気回路（図示せず）と電気的に接続する接続パッド１０が形成されている。
【００４３】
なお、本実施例では、配線導体８の形成を転写法によって行なっており、このような配線導体８は、次に述べる方法により形成される。まず、離型シート等の支持体１４の表面にめっき法などによって製作され、銅・金・銀・アルミニウム等から選ばれる１種または２種以上の合金からなる厚さ１〜３５μｍの電解金属箔を接着し、その表面に所望の配線パターンの鏡像パターンとなるようにレジスト層を形成した後、エッチング・レジスト除去によって所定の配線パターンの鏡像の配線導体８を形成する。次に、配線導体８の絶縁層７と成る前駆体シートの表面および裏面への被着は、配線導体８が形成された支持体１４を前駆体シートの表面および裏面へ重ね合わせ、しかる後、圧力が０．５〜１０ＭＰａ、温度が６０〜１５０℃の条件で加圧加熱した後、支持体１４を剥がすことにより、図５（ｅ）に断面図に示すように配線導体８が絶縁層７の前駆体シートに被着される。なお、この時、貫通導体９ａは、完全に硬化していない未硬化状態としておくことが重要である。
【００４４】
なお、支持体１４としては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート・ポリイミド・ポリフェニレンサルファイド・塩化ビニル・ポリプロピレン等公知のものが使用できる。支持体１４の厚みは１０〜１００μｍが適当であり、望ましくは２５〜５０μｍが良い。支持体１４の厚みが１０μｍ未満であると支持体１４の変形や折れ曲がりにより形成した配線導体８が断線し易くなり、厚みが１００μｍを超えると支持体１４の柔軟性がなくなって、前駆体シートからの支持体１４の剥離が困難となる傾向がある。また、支持体１４表面に電解金属箔を形成するために、アクリル系やゴム系・シリコン系・エポキシ系等公知の接着剤を使用してもよい。
【００４５】
そして、図５（ｆ）に断面図で示すように、上記（ａ）〜（ｆ）の工程を経て製作した絶縁層７と成る複数の前駆体シートと、コンデンサ素子６ａ・６ｂとを準備し、次に、コンデンサ素子６ａ・６ｂの引き出し電極部４と貫通導体９ａとの位置合わせを行ないコンデンサ素子６ａ・６ｂを載置するとともに前駆体シートを積層し、温度が１５０〜３００℃、圧力が０．５〜１０ＭＰａの条件で３０分〜２４時間ホットプレスして前駆体シートおよび導電性ペーストを完全硬化させることによって、図５（ｇ）に断面図で示す、コンデンサ素子６ａ・６ｂの上下両主面において引き出し電極部４が貫通導体９ａを介して接続パッド１０に電気的に接続されたコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２が完成する。
【００４６】
なお、コンデンサ素６ａ・６ｂを収容する空洞部１１は、前駆体シートを積層する前に、前駆体シートのコンデンサ素子６ａ・６ｂが収容される個所にレーザ法やパンチング法により穿設しておけばよい。
【００４７】
本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２によれば、第１のコンデンサ素子６ａのセラミック誘電体層２が、複数の引き出し電極部４が露出した表面に複数の引き出し電極部４を取り囲んで形成された溝５ａを有していることから、第１のコンデンサ素子６ａを多層配線基板に内蔵する際、表面に配線導体８および内部に貫通導体９ａを形成した絶縁層７を積層するとともに、絶縁層７に設けた空洞部１１に、絶縁層７に形成した貫通導体９ａと第１のコンデンサ素子６ａの引き出し電極部４とが接続するように第１のコンデンサ素子６ａを収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、絶縁層７を構成する樹脂が圧着の際の圧力によって第１のコンデンサ素子６ａを収納した空洞部１１にはみ出してきとしても、空洞部１１にはみ出してきた樹脂が引き出し電極部４を取り囲んで形成された溝５ａによって貫通導体９ａと引き出し電極部４との間に浸入することが有効に防止され、その結果、絶縁層７の貫通導体９ａと引き出し電極部４とを良好に接続することが可能でき、接続信頼性に優れたコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２とすることができる。
【００４８】
また、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２によれば、コンデンサ素子６として第２のコンデンサ素子６ｂを内蔵した場合、上記第１のコンデンサ素子６ａを内蔵した場合の効果に加え、絶縁層７に形成した貫通導体９と第２のコンデンサ素子６ｂの引き出し電極部４とが接続するように第２のコンデンサ素子６ｂを収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、貫通導体９を形成する導電性ペーストが第２のコンデンサ素子６ｂの表面にはみ出してきたとしても、導電性ペーストは引き出し電極部４を個々に取り囲んで形成された溝５ｂによって近接する貫通導体９や引き出し電極４と接触することが有効に防止され、その結果、貫通導体９間や引き出し電極部４間で短絡することのない、接続信頼性に優れたコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２とすることができる。
【００４９】
かくして、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２によれば、上記構成のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２の上面に形成した配線導体２の一部から成る接続パッド１０の上に形成された半田等の導体バンプ（図示せず）を介して半導体素子等の電子部品（図示せず）に電気的に接続することにより、配線密度が高く電気特性に優れるとともに接続信頼性に優れた小型の混成集積回路とすることができる。
【００５０】
なお、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２は上述の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能であり、例えば、上述の実施例では４層の絶縁層７を積層することによってコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２を作製したが、２層や３層あるいは５層以上の絶縁層７を積層してコンデンサ素子内蔵多層配線基板１２を積層してもよい。また、上述の実施例ではコンデンサ素子６を含む絶縁層７を１層としたが、２層（連続層を含む）以上としてもよい。
【００５１】
【実施例】
次に本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板を、以下の試料を製作して評価した。
（実施例）
先ず、熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂に平均粒径が０．６μｍの球状溶融シリカを加え、これに溶剤としてトルエン、さらに有機樹脂の硬化を促進させるための触媒を添加し、１時間混合してワニスを調整した。次に、厚みが５０μｍの液晶ポリマー層を用意し、この表面を、真空プラズマ装置を用いて、電圧を２７ｋＶ、雰囲気をＯ２およびＣＦ４（ガス流量がそれぞれ８０ｃｍ３／分）とし、片面１５分×２回の条件でプラズマ処理して、トリアリルイソシアヌレートとの接触角が３５°で、かつ表面エネルギーが６０ｍＪ／ｍ２、中心線表面粗さＲａが０．１４μｍとなるようにし、この液晶ポリマー層の上面に上記ワニスをドクターブレード法により塗布し、熱硬化性ポリフェニレンエーテル被覆層を成形した。そして、この液晶ポリマー層の下面にも同様に熱硬化性ポリフェニレンエーテル被覆層を成形し絶縁層を製作した。
【００５２】
次に、この絶縁層の一部に、ＵＶ−ＹＡＧレーザによりコンデンサ素子を内蔵するための空洞部を形成した。
さらに、この絶縁層に、ＵＶ−ＹＡＧレーザにより直径５０μｍの貫通穴を形成し、この貫通穴に銅粉末と有機バインダを含有する導体ペーストをスクリーン印刷により埋め込むことにより貫通導体を形成した。
【００５３】
次に、厚みが１２μｍで、回路状に形成した銅箔が付いた支持体と、貫通導体が形成された絶縁層とを位置合わせして真空積層機により３ＭＰａの圧力で３０秒加圧した後、支持体を剥離して配線導体を絶縁層上に埋設した。
さらに、空洞部と貫通導体が形成された絶縁層を２枚重ね合わせ、この空洞部に複数の引き出し電極部の周囲にＵＶ−ＹＡＧレーザにより、幅が５０μｍで所定の深さの溝を形成したセラミック誘電体層と電極層とを積層して成るコンデンサ素子を埋設した。
【００５４】
最後に、貫通穴内にコンデンサ素子が埋設された絶縁層を配線導体が形成された絶縁層で挟み重ね合わせ、３ＭＰａの圧力下で２００℃の温度で５時間加熱処理して完全硬化させて多層配線基板を得た。
【００５５】
なお、接続性の評価は、コンデンサ素子内蔵多層配線基板を２６０℃の半田浴に２０秒間浸漬し、これを数回繰り返した後、コンデンサ素子内蔵多層配線基板の外観観察とコンデンサ素子の容量測定を行なうことにより評価した。表１に接続性の評価結果を示す。
【００５６】
【表１】
2004063611.tif 000003
【００５７】
表１からは、コンデンサ素子の引き出し電極部を取り囲む上面側と下面側の溝の深さをそれぞれ同じ深さｔ１とし、コンデンサ素子の厚みをｔ２としたとき、ｔ１／ｔ２が０、すなわち溝のない場合（試料Ｎｏ．１）には半田浸漬５回で膨れが発生、接続不良が発生した。また、ｔ１／ｔ２が０．０８の場合（試料Ｎｏ．２）には、半田浸漬１０回で膨れがみられたが、接続は良好であった。
【００５８】
これに対して、ｔ１／ｔ２が０．１〜０．４であるコンデンサ素子内蔵多層配線基板（Ｎｏ３〜６）では、半田浴への浸漬を１０回繰り返した後の導通検査においても、接続不良が生じることはなく、導通は確保されており接続性において優れていることが確認された。
【００５９】
【発明の効果】
本発明の第１のコンデンサ素子によれば、セラミック誘電体層が複数の引き出し電極部が露出した表面に複数の引き出し電極部を取り囲んで形成された溝を有していることから、コンデンサ素子を多層配線基板に内蔵する際、表面に配線導体および内部に貫通導体を形成した絶縁層を積層するとともに、絶縁層に設けた空洞部に、絶縁層に形成した貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極部とが接続するようにコンデンサ素子を収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、絶縁層を構成する樹脂が圧着の際の圧力によってコンデンサ素子を収納した空洞部にはみだしてきたとしても、空洞部にはみだしてきた樹脂は複数の引き出し電極部を取り囲んで形成された溝によって貫通導体と引き出し電極部との間に浸入することが有効に防止され、その結果、絶縁層の貫通導体と引き出し電極部とを良好に接続することが可能なコンデンサ素子とすることができる。
【００６０】
本発明の第２のコンデンサ素子によれば、セラミック誘電体層が複数の引き出し電極部が露出した表面に引き出し電極部を個々に取り囲んで形成された溝を有していることから、絶縁層に形成した貫通導体とコンデンサ素子の引き出し電極部とが接続するようにコンデンサ素子を収納し、その後これらを圧着・熱硬化する過程において、貫通導体を形成する導電性ペーストがコンデンサ素子の表面にはみ出してきたとしても、導電性ペーストは引き出し電極部を個々に取り囲んで形成された溝によって近接する貫通導体や引き出し電極と接触することが有効に防止され、その結果、貫通導体間や引き出し電極部間で短絡することのないコンデンサ素子とすることができる。
【００６１】
また、本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板によれば、上記の第１または第２のコンデンサ素子を多層配線基板内部に埋設していることから、コンデンサ素子の引き出し電極部と貫通導体との間に絶縁層の樹脂が流れ込んで断線を生じたり、近接する貫通導体間や引き出し電極間で短絡したりすることのない、接続信頼性に優れたコンデンサ素子内蔵多層配線基板とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１のコンデンサ素子の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図２】図１に示す第１のコンデンサ素子の平面図である。
【図３】本発明の第２のコンデンサ素子の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図４】本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｇ）は、それぞれ本発明のコンデンサ素子内蔵多層配線基板の製造方法を説明するための工程毎の断面図である。
【符号の説明】
１・・・・・・・・・電極層
２・・・・・・・・・セラミック誘電体層
３・・・・・・・・・貫通孔
４・・・・・・・・・引き出し電極部
５・・・・・・・・・溝
５ａ・・・・・・・・複数の引き出し電極部を取り囲んだ溝
５ｂ・・・・・・・・個々の引き出し電極部を取り囲んだ溝
６・・・・・・・・・コンデンサ素子
６ａ・・・・・・・・第１のコンデンサ素子
６ｂ・・・・・・・・第２のコンデンサ素子
７・・・・・・・・・絶縁層
８・・・・・・・・・配線導体
９・・・・・・・・・貫通導体
１０・・・・・・・・・接続パッド
１１・・・・・・・・・空洞部
１２・・・・・・・・・コンデンサ素子内蔵多層配線基板
【図１】
2004063611.tif 000004
【図２】
2004063611.tif 000005
【図３】
2004063611.tif 000006
【図４】
2004063611.tif 000007
【図５】
2004063611.tif 000008