(57)【要約】【課題】細胞培養容器を、ガラス容器と同等の細胞に対する親和性を達成しながら、衝撃に対する強度を高め、しかも安価に製造する。【解決手段】容器本体２と、該容器本体２の少なくとも底部内面２ａに形成されたセラミックス皮膜３とを備える細胞培養容器１を提供する。【選択図】  図１
2004222531.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器本体と、該容器本体の少なくとも底部内面に形成されたセラミックス皮膜とを備える細胞培養容器。
【請求項２】
前記容器本体が、熱可塑性プラスチックにより構成されている請求項１に記載の細胞培養容器。
【請求項３】
前記セラミックス皮膜が、ゾルゲル法により形成されている請求項１または請求項２に記載の細胞培養容器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、細胞培養容器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
接着性の細胞を培養する容器として、ガラス容器やポリスチレン等のプラスチック容器が知られている。ガラス容器は、接着性の細胞との親和性が高く、接着性の細胞を成長させるのに適しているが、製造コストが高く付くという不都合がある。また、ガラス容器は破損し易いという欠点がある。
プラスチック容器は、安価に製造できるとともに、衝撃を与えても破損し難いという利点がある反面、ガラス容器と比較すると細胞との親和性が劣るという欠点がある。
【０００３】
また、薬剤を保存するという全く異なる目的により、熱可塑性プラスチック容器の外面を酸化珪素を主成分とするセラミックスにより被覆した薬剤保存容器が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平８−１８２７４０号公報（段落００１０等）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、ガラス容器と同等の細胞に対する親和性を達成しながら、衝撃に対する強度を高め、しかも安価に製造することができる細胞培養容器を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明は、以下の手段を提供する。
請求項１に係る発明は、容器本体と、該容器本体の少なくとも底部内面に形成されたセラミックス皮膜とを備える細胞培養容器を提供する。
この発明によれば、容器本体の底面に細胞との親和性が高いセラミックス皮膜が形成されているので、該セラミックス皮膜に細胞を付着させて、効率よく細胞を培養することが可能となる。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の細胞培養容器において、前記容器本体が、熱可塑性プラスチックにより構成されている細胞培養容器を提供する。
この発明によれば、熱可塑性プラスチックにより構成された容器本体は、射出成形等により安価に製造することができるとともに、軽く、かつ、衝撃に強いという利点がある。したがって、セラミックス皮膜により細胞に対する高い親和性を達成しながら、軽く、衝撃に強い安価な細胞培養容器を提供することが可能となる。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の細胞培養容器において、前記セラミックス皮膜が、ゾルゲル法により形成されている細胞培養容器を提供する。
この発明によれば、表面にセラミックス皮膜が形成された細胞培養容器を簡易に製造することが可能となる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
この発明の一実施形態に係る細胞培養容器について、図面を参照して以下に説明する。
本実施形態に係る細胞培養容器１は、図１に示されるように、シャーレ状の容器本体２を備えている。容器本体２は、例えば、ポリスチレンのような熱可塑性プラスチックにより構成されている。
【００１０】
前記容器本体２の底部内面２ａには、ガラス皮膜３が形成されている。ガラス皮膜３は、例えば、０．５μｍ程度の膜厚寸法を有している。
ガラス皮膜３は、例えば、ゾルゲル法により製造される。
【００１１】
このように構成された本実施形態に係る細胞培養容器１を用いて細胞を培養するには、所定の培地を細胞培養容器１内に貯留するとともに、該培地内に接着性の細胞、例えば、間葉系幹細胞を投入する。間葉系幹細胞は、投入後しばらくは培地内に浮遊するが、底面まで沈下すると、該底面に付着して広がるように成長を開始する。
【００１２】
この場合において、本実施形態に係る細胞培養容器１は、底部内面２ａにガラス皮膜３を備えているので、ガラス皮膜３の細胞に対する高い親和性によって、間葉系幹細胞がガラス皮膜３に付着し易く、間葉系幹細胞を効率的に成長させることができる。
【００１３】
また、本実施形態に係る細胞培養容器１は、ポリスチレンのような熱可塑性プラスチックからなる容器本体２を備えているので、落下等の衝撃によっても破損することがなく、高い耐衝撃強度を達成することができる。また、熱可塑性プラスチックにより容器本体２を構成しているので、例えば、射出成形等により極めて安価かつ簡易に製造することができる。また、ガラス皮膜３もゾルゲル法により簡易に製造することができる。
【００１４】
したがって、細胞が付着して成長する底部内面２ａにガラス皮膜３を有するポリスチレン製の容器本体２により、細胞に対する高い親和性を達成しながら、衝撃に強く、安価かつ計量の細胞培養容器１を提供することができる。
なお、本実施形態においては、容器本体２の底部内面２ａのみにガラス皮膜３を形成することとしたが、これに代えて、容器本体２の全面、あるいは、容器本体２の内面全面等にガラス皮膜３を形成することにしてもよい。また、ガラス皮膜３に代えて、他の任意のセラミックス皮膜を形成することにしてもよい。
【００１５】
さらに、容器本体２をポリスチレンにより構成したが、これに代えて、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリエチレンのような他の任意の熱可塑性プラスチックを採用してもよい。
また、ガラス皮膜３をゾルゲル法により形成することとしたが、これに代えて、蒸着法等、他の任意の方法を採用することにしてもよい。
【００１６】
【実施例】
（実施例１）
次に、この発明に係る細胞培養容器の製造方法の第１の実施例について、以下に説明する。
本実施例では、まず、テトレエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）２５ｇを、加水分解触媒として塩化水素（ＨＣｌ）０．３ｇを用いて、エタノール（Ｃ２Ｈ５ＯＨ）３７．６ｇ、水（Ｈ２Ｏ）２３．５ｇと混合し、セラミックを含有するゲルを生成した。
次に、このゲル内に、例えば、ポリスチレン製の容器本体を浸して１．６７ｍｍ／ｓの速度で引き上げた（ディッピング法）。
【００１７】
ゲルは室温に放置することにより、加水分解および重合反応によって粘度が徐々に大きくなるので、この速度で引き上げることにより、容器本体の表面に適正な膜厚（略０．５μｍ）のセラミックス皮膜が形成された。その後、８０℃で３０分間乾燥させた後、さらに８０〜９０℃で１時間乾燥させた。
乾燥温度を８０〜９０℃に設定したのは、ポリスチレン製の容器本体が軟化しないようにするためである。
【００１８】
なお、容器本体は、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンあるいはポリエチレンにより構成してもよく、その場合には、最終の乾燥・焼成温度を１１０〜１２０℃とすればよい。
【００１９】
（実施例２）
次に、この発明に係る細胞培養容器の製造方法の第２の実施例について、以下に説明する。
本実施形態では、まず、円形の底面を有する容器本体を用意した。また、上記と同様にしてセラミックスを含有するゲルを製造した。
【００２０】
そして、任意の回転手段によって、底面を水平状態に維持しつつ、容器本体をその中心軸回りに回転させた。この状態で、容器本体の底部内面に、上からゲルを滴下した（スピンコーティング法）。
その後、上記と同様の条件下で乾燥・焼成することにより、容器本体の底部内面全域にセラミックス皮膜を備える細胞培養容器が製造された。
【００２１】
スピンコーティング法によれば、接着精細胞の成長に必要とされる容器本体の底部内面のみにセラミックス皮膜を簡易に形成することができるという利点がある。なお、容器本体の底部内面の全域にわたってセラミックス皮膜を形成するために円形の底面を有する容器本体を採用したが、これに代えて、任意の携帯を有する容器本体を使用してスピンコーティング法によりセラミックス皮膜を形成することにしてもよいことは言うまでもない。
【００２２】
また、本実施形態においては、加水分解溶液内にアパタイトゲル状の微粉末（粒径約０．０１〜１０μｍ）を含有するゲルを採用することにしてもよい。このようにすることで、セラミックス皮膜中にＯＨ基増加させる琴似が可能となり、容器本体の底部内面をより親水性の高い表面状態にすることができるという利点がある。
また、上記実施形態においては、培養する細胞として間葉系幹細胞を例に挙げて説明したが、これに代えて、他の細胞を培養することにしてもよい。
【００２３】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明に係る細胞培養容器によれば、細胞との親和性が高いセラミックス皮膜を底部内面に有しているので、効率よく細胞を培養することができる。その結果、培養速度を向上し、施術までに要する時間を短縮することができる。また、細胞に対して、成長に適した環境を提供することができるので、細胞の健全性を向上し、活性の高い細胞を成長させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施形態に係る細胞培養容器を示す縦断面図である。
【符号の説明】
１  細胞培養容器
２  容器本体
２ａ  底部内面
３  ガラス皮膜（セラミックス皮膜）
【図１】
2004222531.tif 000003