(57)【要約】【課題】この発明は基板をリンスするリンス液を繰り返して有効に利用することができるようにした基板の処理装置を提供することにある。【解決手段】基板をリンス液でリンス処理するリンス室５と、このリンス室に上記基板の搬送方向に沿って配置されるとともに、上記リンス液を上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って供給する複数のリンス液供給装置１７〜１９と、複数のリンス液供給装置から供給されたリンス液をそれぞれのリンス液供給装置ごとに分けて回収する第１乃至第３の回収部を有する貯液槽５６と、この貯液槽５６によって分けて回収されたリンス液をそれぞれ上記基板の搬送方向の１つ上流のリンス液供給装置に戻す第１乃至第３の戻し管とを具備する。【選択図】　　図２
2004016997.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定方向に搬送しながらリンス液でリンスする基板の処理装置において、
上記基板を上記リンス液でリンス処理するリンス室と、
このリンス室に上記基板の搬送方向に沿って配置されるとともに、上記リンス液を上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って供給する複数のリンス液供給手段と、
複数のリンス液供給手段から供給されたリンス液をそれぞれのリンス液供給手段ごとに分けて回収するリンス液回収手段と、
このリンス液回収手段によって分けて回収されたリンス液をそれぞれ上記基板の搬送方向の１つ上流のリンス液供給手段に戻すリンス液循環手段と、
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。
【請求項２】
上記リンス液供給手段は、上面が開口し内部を空間部とした細長い容器状の筐体と、この筐体内の空間部を下端が連通部によって連通しかつ上記筐体の長手方向と交差する前後方向に位置する第１の空間部と第２の空間部とに隔別した仕切り部材と、上記筐体の前後方向後方に位置する上記第１の空間部にリンス液を供給しこのリンス液を上記連通部を通じて上記第２の空間部の上端開口から上記筐体の前面に沿って流出落下させる給液部とを具備したことを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項３】
上記リンス液回収手段は、上記リンス室内を上記複数のリンス液供給手段に対応する複数の回収部に区画した仕切り体と、複数の貯液部に区画されその１つには清浄なリンス液が貯えられ残りの貯液部には上記各回収部からのリンス液を貯える貯液槽とを備え、
上記リンス液循環手段は、上記貯液槽の各貯液部に一端を連通させた複数の戻し管を有し、その１つの戻し管は１つの貯液部に貯えられた清浄なリンス液を最下流に位置するリンス液供給手段に供給し、残りの戻し管は他の貯液部に貯えられたリンス液をそのリンス液を回収した回収部よりも１つ上流のリンス液供給手段に供給することを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項４】
最も上流側の回収部には、この回収部に回収されたリンス液を廃棄する廃棄管が接続されていることを特徴とする請求項３記載の基板の処理装置。
【請求項５】
基板を所定方向に搬送しながらリンス液でリンスする基板の処理方法において、
上記基板の搬送方向に沿う複数箇所からこの基板の搬送方向と交差する方向にリンス液をそれぞれ供給するとともに、上記基板の搬送方向上流側から下流側にゆくにつれて上記基板に清浄度の高いリンス液を供給することを特徴とする基板の処理方法。
【請求項６】
基板に供給されたリンス液を各供給箇所ごとに分けて回収する工程と、
それぞれの供給箇所から回収されたそれぞれのリンス液を１つ上流に位置する供給箇所に戻して循環供給する工程と、
を具備したことを特徴とする請求項５記載の基板の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は処理液によって処理された基板をリンス液でリンス処理する基板の処理装置及び処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
【０００３】
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが除去された部分をエッチングし、エッチング後にレジストを除去するなどの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
【０００４】
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板にエッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する処理工程が必要となる。
【０００５】
基板の板面を処理液によって処理する場合、たとえば基板を搬送ローラにより処理室に搬送するとともに、この処理室内で基板に処理液を供給して所望の処理を行うようにしている。
【０００６】
処理液によって処理された基板はリンス室に搬送される。このリンス室では基板にリンス液が供給される。それによって、基板に付着した処理液が除去されるから、処理液による基板に対する処理を停止することができる。つまり、基板には処理液によって所望する状態まで処理が行われ、その状態でリンス液によってリンスされて処理が停止することになる。
【０００７】
リンス室によってリンス処理がなされた基板は洗浄室に搬送され、ここで洗浄液により洗浄処理されて基板の汚れが除去される。リンス液や洗浄液としてはほとんどの場合、純水が用いられる。
【０００８】
上記リンス室で基板にリンス液を供給する方法としては、基板の搬送方向と交差する方向に沿って複数のノズル体を所定間隔で配置し、各ノズル体から基板の上面に向かってリンス液を噴射したり、基板の搬送方向と交差する方向に沿ってアクアナイフを配置し、このアクアナイフの下端の長手方向ほぼ全長にわたって開口形成された細長いスリットからリンス液を噴射するなどのことが行われている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、純水からなるリンス液は比較的高価であるから、ランニングコストの低減を図るためには、基板をリンス処理したリンス液を回収して繰り返して使用するということが行われている。
【００１０】
しかしながら、基板の搬送方向と交差する方向に配置された複数のノズル体やアクアナイフから基板の上面に供給されたリンス液を回収すると、そのリンス液には基板に付着残留していた全ての処理液が含まれている。そのため、基板に供給されたリンス液を回収しても、リンス液の純度が大幅に低下しているから、リンス効果などの点で有効に再使用することができないということがある。
【００１１】
複数のノズル体やアクアナイフから基板の上面に供給されたリンス液は処理液と混合して基板の上面に残留することがある。その場合、リンス室での基板のリンス処理が確実に行われないことになるから、残留する処理液により基板に対する処理が必要以上に進行したり、つぎの洗浄室での洗浄に時間が掛かったり、洗浄室で用いられる洗浄液の純度が低下し、洗浄液の再使用に制限を受けるなどのことがある。
【００１２】
この発明はリンス室で基板に供給されたリンス液を、有効に再利用することができるようにした基板の処理装置及び処理方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、基板を所定方向に搬送しながらリンス液でリンスする基板の処理装置において、
上記基板を上記リンス液でリンス処理するリンス室と、
このリンス室に上記基板の搬送方向に沿って配置されるとともに、上記リンス液を上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って供給する複数のリンス液供給手段と、
複数のリンス液供給手段から供給されたリンス液をそれぞれのリンス液供給手段ごとに分けて回収するリンス液回収手段と、
このリンス液回収手段によって分けて回収されたリンス液をそれぞれ上記基板の搬送方向の１つ上流のリンス液供給手段に戻すリンス液循環手段と、
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
【００１４】
請求項２の発明は、上記リンス液供給手段は、上面が開口し内部を空間部とした細長い容器状の筐体と、この筐体内の空間部を下端が連通部によって連通しかつ上記筐体の長手方向と交差する前後方向に位置する第１の空間部と第２の空間部とに隔別した仕切り部材と、上記筐体の前後方向後方に位置する上記第１の空間部にリンス液を供給しこのリンス液を上記連通部を通じて上記第２の空間部の上端開口から上記筐体の前面に沿って流出落下させる給液部とを具備したことを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置にある。
【００１５】
請求項３の発明は、上記リンス液回収手段は、上記リンス室内を上記複数のリンス液供給手段に対応する複数の回収部に区画した仕切り体と、清浄なリンス液を貯える第１の貯液部及び上記各回収部からのリンス液を貯える複数の第２の貯液部を有する貯液槽とを備え、
上記リンス液循環手段は、上記貯液槽の各貯液部に一端を連通させた複数の戻し管を有し、その１つの戻し管は１つの貯液部に貯えられた清浄なリンス液を最下流に位置するリンス液供給手段に供給し、残りの戻し管は他の貯液部に貯えられたリンス液をそのリンス液を回収した回収部よりも１つ上流のリンス液供給手段に供給することを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置にある。
【００１６】
請求項４の発明は、最も上流側の回収部には、この回収部に回収されたリンス液を廃棄する廃棄管が接続されていることを特徴とする請求項３記載の基板の処理装置にある。
【００１７】
請求項５の発明は、基板を所定方向に搬送しながらリンス液でリンスする基板の処理方法において、
上記基板の搬送方向に沿う複数箇所からこの基板の搬送方向と交差する方向にリンス液をそれぞれ供給するとともに、上記基板の搬送方向上流側から下流側にゆくにつれて上記基板に清浄度の高いリンス液を供給することを特徴とする基板の処理方法にある。
【００１８】
請求項６の発明は、基板に供給されたリンス液を各供給箇所ごとに分けて回収する工程と、
それぞれの供給箇所から回収されたそれぞれのリンス液を１つ上流に位置する供給箇所に戻して循環供給する工程と、
を具備したことを特徴とする請求項５記載の基板の処理方法にある。
【００１９】
この発明によれば、リンス液を、基板の搬送方向に沿って配置された複数のリンス液供給手段から基板の搬送方向と交差する方向に供給するため、リンス液を各リンス液供給手段から供給されたリンス液ごとに回収することが可能となるから、回収されたリンス液を１つ上流側のリンス液供給手段に戻すことで、リンス効果の低下を招くことなく再利用することが可能となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態を説明する。
【００２１】
図１はこの発明の一実施の形態に係る処理装置の概略的構成を示す。この処理装置は箱形状の装置本体１を備えている。この装置本体１内は仕切り板２によってローディング室３、処理室４、リンス室５、洗浄室６、乾燥処理室７及びアンローディング室８に順次区画されている。
【００２２】
上記仕切り板２にはシャッタ１１によって開閉される通孔１２が形成されている。上記装置本体１内には各室２〜８にわたって搬送手段を形成する複数の搬送ローラ１３を有する搬送軸１４が所定間隔で回転可能に設けられ、図示しない駆動機構によって回転駆動されるようになっている。
【００２３】
上記ローディング室３には未処理のガラス基板や半導体ウエハなどの基板Ｗが供給される。上記ローディング室３に供給された基板Ｗは処理室４に搬送される。処理室４には基板Ｗにエッチング液や現像液などの処理液を噴射する複数のシャワ−ノズル１５が設けられている。それによって、基板Ｗは処理室４で処理液によって処理されるようになっている。
【００２４】
上記処理室４で処理された基板Ｗは上記リンス室５に搬送される。基板Ｗはこのリンス室５で後述するように純水からなるリンス液によって処理液が洗い流されるリンス処理が行われる。
【００２５】
上記リンス室５でリンス処理された基板Ｗは、上記洗浄室６に搬送され、この洗浄室６で純水からなる洗浄液によって後述するごとく洗浄されて汚れが除去される。そして、洗浄室６で洗浄された基板Ｗは上記乾燥処理室７搬送される。
【００２６】
上記乾燥処理室７には基板Ｗの上下面に向けて清浄な圧縮気体を基板Ｗの搬送方向上流側に向けて噴射する一対のエアーナイフ１６が配設されている。それによって、基板Ｗの上下面は一対のエアーナイフ１６から噴射される圧縮空気によって乾燥処理される。上記乾燥処理室７で乾燥処理された基板Ｗはアンローディング室８に搬送され、ここから次の工程に供給されるようになっている。
【００２７】
図２と図３に示すように、上記リンス室５の幅方向一側には、基板Ｗの搬送方向に沿って所定間隔でリンス液供給手段を構成する複数、この実施の形態では第１乃至第３のリンス液供給装置１７〜１９が搬送ローラ１３によって搬送される基板Ｗの上方に配設されている。なお、第１のリンス液供給装置１７が基板Ｗの搬送方向の最も下流側に位置し、第３のリンス液供給装置１９が最も上流側に位置している。
【００２８】
図４と図５に示すように、上記各リンス液供給装置１７〜１９は筐体２１を有する。この筐体２１は断面形状がほぼＬ字状に折り曲げられた後板２２、この後板２２の水平部分の前端に下端部の内面を固着した前板２３及び後板２２と前板２３との長手方向両端に固着された一対の側板２４（一方のみ図示）とによって上面が開口した細長い容器状に形成されている。上記前板２３の後板２２に固着された箇所よりも下端側は筐体２１から離れる方向に向かって所定の角度で傾斜した案内面２５に形成されている。
【００２９】
上記筐体２１は前板２３の下端の上記案内面２５を、上記基板Ｗの搬送方向と交差する幅方向一側の上方に位置させて配設され、図示しない高さ調整機構によって高さ調整可能に保持されている。
【００３０】
上記筐体２１の後板２２の上端部内面には、この本体２１の長手方向全長にわたる長さの取付け板３１の幅方向の後端面が接合固定されている。この取付け板３１には長手方向中途部にねじ孔からなる供給部としての供給孔３２が穿設されている。
【００３１】
図５に示すように、上記供給孔３２には接続口体３３が接続されている。各供給装置１７〜１９の接続口体３３にはそれぞれ第１乃至第３の戻し管２７〜２９の一端が接続されている。各戻し管２７〜２９から供給装置１７〜１９には後述するように純水からなるリンス液が供給されるようになっている。
【００３２】
上記筐体２１の空間部内には仕切り部材３５が設けられている。この仕切り部材３５の上端部には図４に示すように上下方向に沿って細長い複数の長孔３６が上下方向と交差する長手方向に沿って所定間隔で形成されている。この仕切り部材３５は、上記長孔３６を介してねじ３７により、上記取付け板３１の幅方向前端面に取付けられている。この仕切り部材３５は上記本体２１内の空間部を上記後板２２側の第１の空間部３８と、上記前板２３側の第２の空間部３９とに隔別している。
【００３３】
上記仕切り部材３５は、板材をほぼクランク状に曲成してなり、中途部には上記供給孔３２の下方に対向位置する受け面４１が形成されている。この受け面４１は上記筐体２１の後板２２側に向かって低く傾斜している。上記供給孔３２から供給されたリンス液は上記受け面４１に落下する。
【００３４】
リンス液は上記受け面４１から仕切り部材３５の一側面に沿って筐体２１内の第１の空間部３８に円滑に流入する。そのため、処理液を筐体２１内に供給する際に、泡立ちが発生するのを防止することができる。
【００３５】
上記仕切り部材３５の下端と、上記筐体２１の内底面との間は、所定の隙間の連通部としての第１の抵抗流路４２に形成されている。上記供給孔３２から第１の空間部３８に供給された処理液は、上記第１の抵抗流路４２を通って上記第２の空間部３９の下端部へ流入する。
【００３６】
上記仕切り部材３５は、上端の長孔３６を介してねじ３７により取付け板３１に取付けられているから、上下方向の取付け位置を調整することで、上記第１の抵抗流路４２の間隔を設定することができる。それによって、第１の空間部３８から第２の空間部３９に流入する処理液の流入抵抗を調整することができる。つまり、第１の空間部３８から第２の空間部３９に流入する処理液の流速の設定が可能となっている。
【００３７】
上記前板２３の内面上端部には、前後方向に沿う幅寸法が第２の空間部３９の前後方向に沿う幅寸法に比べて十分に小さく設定された帯板状の取付け板４４が幅方向一端を固着してほぼ水平に設けられている。
【００３８】
上記取付け板４４の上面には帯板状の流路調整部材４５の幅方向一端がねじ４６によって取付け固定されている。この流路調整部材４５の幅方向一端には、図５に示すように幅方向に沿って細長い複数の長孔４５ａ（１つのみ図示）が長手方向に沿って所定間隔で形成され、この長孔４５ａを介して上記ねじ４６が上記取付け板４４に螺合されている。
【００３９】
上記流路調整部材４５の幅方向他端と、上記仕切り部材３５の第２の空間部３９側を向いた側面との間には、上記第１の空間部３８から第２の空間部３９に流入した処理液が第２の空間部３９の開放した上面から流出する際に通過する第２の抵抗流路４７に形成されている。この第２の抵抗流路４７の間隔は、上記流路調整部材４５の固定位置を筐体２１の前後方向に沿ってスライドさせることで調整可能となっている。
【００４０】
上記第１の空間部３８に供給され、上記第１の抵抗流路４２で減速されて第２の空間部３９に流入したリンス液は、上記第２の抵抗流路４７でさらに減速されてから筐体２１の前板２３の上端を乗り越えてこの前板２３の前面に沿って自然落下することになる。
【００４１】
前板２３に沿って落下したリンス液は、その下端の案内面２５にガイドされて流れる。つまり、リンス液は基板Ｗの上面を、その基板Ｗの搬送方向と交差する幅方向一端から他端に向かって流れ、その他端からリンス室５の底部に落下することになる。
【００４２】
なお、リンス液供給装置１７〜１９に供給されて前板２３の案内面２５に沿って流れるリンス液の流れを図３に矢印で示す。
【００４３】
図２と図３に示すように、上記リンス室５の内底部は、複数の仕切り体５１によって上記第１乃至第３のリンス液供給装置１７〜１９と対応する第１乃至第３の回収部５２〜５４に区画されている。
【００４４】
基板Ｗの搬送方向の最も下流側に位置する第１の回収部５２には上記第１のリンス液供給装置１７から基板Ｗの上面に供給されたリンス液が集積回収される。上記第２の回収部５３には第２のリンス液供給装置１８から基板Ｗの上面に供給されたリンス液が集積回収され、基板Ｗの搬送方向の最も上流側に位置する第３の回収部５４には第３のリンス液供給装置１９から基板Ｗの上面に供給されたリンス液が集積回収されるようになっている。
【００４５】
上記第１乃至第３のリンス液供給装置１７〜１９には図２に示す貯液槽５６に貯えられたリンス液が供給される。この貯液槽５６は第１乃至第３の貯液部５７〜５９に区画されている。
【００４６】
上記第１の貯液部５７には清浄なリンス液が供給管６０によって供給される。この供給管６０はリンス室５の下流側に位置する洗浄室６で使われた純水からなる洗浄液を上記第１の貯液部５７に供給するようになっている。
【００４７】
上記第２の貯液部５８には第１の回収部５２に回収されたリンス液が第１の連通管６１を通じて回収され、第３の貯液部５９には第２の回収部５３に回収されたリンス液が第２の連通管６２を通じて回収される。基板Ｗの搬送方向の最も上流側に位置する上記第３の回収部５４に回収されたリンス液は廃棄管６３を通じて廃棄される。
【００４８】
上記第１の貯液部５７に貯えられた清浄なリンス液は第１のポンプ６５を有する上記第１の戻し管２７によって最も下流側に位置する第１のリンス液供給装置１７に戻される。上記第２の貯液部５８に貯えられたリンス液は、第２のポンプ６７を有する上記第２の戻し管２８によって第２のリンス液供給装置１８に戻される。上記第３の貯液部５９に貯えられたリンス液は、第３のポンプ６９を有する上記第３の戻し管２９によって最も上流側に位置する第３のリンス液供給装置１９に戻される。すなわち、リンス室５の下流側の洗浄室６で使われた洗浄液がリンス液として第１乃至第３のリンス液供給装置１７〜１８で順次使用されるようになっている。
【００４９】
したがって、リンス室５を搬送される基板Ｗは、上記第１乃至第３のリンス液供給装置１７〜１９から基板Ｗの上面に供給されるリンス液によって順次リンス処理されるようになっている。
【００５０】
図１に示すように、上記洗浄室６にはリンス室５から搬送された基板Ｗの上下面に向けて純水からなる清浄な洗浄液を高圧で噴射する一対の第１のシャワ−パイプ７２及び第１のシャワ−パイプ７２の下流側に配置され基板Ｗの向けて清浄な洗浄液を噴射する複数の第２のシャワ−パイプ７３を有する。なお、洗浄室６には基板Ｗの洗浄効果を向上するために、洗浄液に超音波を付与する超音波洗浄装置などを設けるようにしてもよい。
【００５１】
上記洗浄室６で使用された洗浄液はほとんど汚れないため、上記供給管６０によって上記貯液槽５６の第１の貯液部５７に供給され、リンス液として使用されることになる。
【００５２】
つぎに、上記構成の処理装置によって基板Ｗを処理する手順を説明する。
【００５３】
ローディング室３に搬入された未処理の基板Ｗは、処理室４に搬送されて処理液によって処理される。処理室４で処理された基板Ｗは、リンス室５に搬入される。
【００５４】
基板Ｗがリンス室５に搬入されると、このリンス室５の幅方向一側に、基板Ｗの搬送方向上流側から下流側に沿って順次配置された第３のリンス液供給装置１９、第２のリンス液供給装置１８及び第１のリンス液供給装置１７からリンス液が基板Ｗの幅方向一端から他端に向けて供給される。つまり、リンス液は、図３に矢印で示すように基板Ｗの上面に、この基板Ｗの搬送方向と交差する方向に沿って供給される。
【００５５】
第３のリンス液供給装置１９から供給されたリンス液のほとんどは基板Ｗの幅方向他端から落下して第３の回収部５４で回収され、廃棄管６３を通じて廃棄される。第２のリンス液供給装置１８から供給されたリンス液は第２の回収部５３に回収され、第２の連通管６２を通じて貯液槽５６の第３の貯液部５９に流れ、ここから第３の戻し管２９を通じて第３のリンス液供給装置１９に供給される。
【００５６】
第１のリンス液供給装置１７から供給されたリンス液は第１の回収部５２に回収され、第１の連通管６１を通じて第２の貯液部５８に流れ、ここから第２の戻し管２８を通じて第２のリンス液供給装置１８に供給される。
【００５７】
リンス室５の下流側に位置する洗浄室６で使用された洗浄液は供給管６０を通じて第１の貯液部５６に供給され、ここから第１の戻し管２７を通じて第１のリンス液供給装置１７に供給される。
【００５８】
つまり、各リンス液供給装置１７〜１８からは、基板Ｗの幅方向一端から基板Ｗの搬送方向と交差する方向に向かってリンス液を供給するようにしたので、各リンス液供給装置１７〜１８から基板Ｗの上面に供給されたリンス液を、第１乃至第３の回収部５２〜５４に分けて回収し、各回収部で回収されたリンス液をその回収部よりも１つ上流側のリンス液供給装置に供給して再使用することができる。
【００５９】
基板Ｗをリンスして各回収部５２〜５４に回収されるリンス液は、基板Ｗの搬送方向上流側から下流側にゆくにつれて汚れ度合が少なくなる。つまり、リンス液に混合する処理液の混合度合が少なくなる。
【００６０】
そのため、上述したごとく、各回収部５２〜５４で回収されたリンス液を、１つ上流側のリンス液供給装置に戻して再使用すれば、その箇所から回収されるリンス液よりも清浄なリンス液によって基板をリンスすることができるから、リンス効果を損なうことなく、リンス液を繰り返して使用することが可能となる。
【００６１】
基板Ｗの搬送方向の最も下流側に配置された第１のリンス液供給装置１７から基板Ｗに供給されるリンス液は洗浄室６からの洗浄液であるから清浄である。しかも、各リンス液供給装置１７〜１９からは基板Ｗの搬送方向と交差する幅方向に沿ってリンス液が供給されるため、洗浄室６に搬送される基板Ｗの上面には第１のリンス液供給装置１７から供給されたリンス液以外のリンス液が残留するということがほとんどない。
【００６２】
そのため、基板Ｗは、最終的には第１のリンス液供給装置１７から供給されたリンス液によって清浄にリンスされる。しかも、第１のリンス液供給装置１７から供給されたリンス液が基板Ｗとともに洗浄室６に持込まれても、そのリンス液によって洗浄室６で回収されて第１のリンス液供給装置１７に供給される洗浄液の清浄度が損なわれることがない。
【００６３】
それによって、洗浄室６で使用された洗浄液をリンス液として再使用するようにしても、清浄度の高い洗浄液をリンス液としてリンス室５の第１のリンス液供給装置１７に供給することが可能となる。
【００６４】
この発明は上記一実施の形態に限定されず、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能である。たとえば、上記一実施の形態ではリンス室には基板の搬送方向に沿って３つのリンス液供給装置を配置したが、２つ或いは４つ以上のリンス液供給装置を配置するようにしてもよく、要は複数であればよい。
【００６５】
基板の搬送方向の最も下流に位置するリンス液供給装置には洗浄室で回収された洗浄液を供給してリンス液として再使用するようにしたが、洗浄液が洗浄室で使われることでリンス液として使用できない程に汚れる場合や他の理由によって再使用できない場合には、新しい純水を貯液槽の第１の貯液部に供給するようにしてもよい。
【００６６】
また、基板の幅方向一端から他端に向かってリンス液を供給するために所定の角度で傾斜した案内面を有するリンス液供給装置を用いたが、リンス液を供給する手段は上記構成のリンス液供給装置に限られず、スリット状のノズルを用いて供給してもよい。また、基板を幅方向に傾斜して搬送し、リンス室において傾斜方向の上端に位置する幅方向一端からシャワ−ノズルなどによってリンス液を供給するようにしてもよい。
【００６７】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、リンス液を、基板の搬送方向に沿って配置された複数のリンス液供給手段から基板の搬送方向と交差する方向に供給するようにした。
【００６８】
そのため、各リンス液供給手段から供給されたリンス液ごとに回収することが可能となるから、回収されたリンス液を１つ上流側のリンス液供給手段に戻すことで、リンス効果の低下を招くことなく、リンス液を再利用することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態に係る処理装置の概略的構成図。
【図２】リンス室を示す縦断面図。
【図３】リンス室を示す横断面図。
【図４】リンス液供給装置の長手方向一端面を断面した斜視図。
【図５】リンス液供給装置の縦断面図。
【符号の説明】
５…リンス室
１７〜１９…第１乃至第３のリンス液供給装置（リンス液供給手段）
２１…筐体
２７〜２９…第１乃至第３の戻し管（リンス液循環手段）
３８…第１の空間部
３９…第２の空間部
５２〜５４…第１乃至第３の回収部（リンス液回収手段）
５６…貯液槽（リンス液回収手段）
５７〜５９…第１乃至第３の貯液部（リンス液回収手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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