(57)【要約】【課題】膜厚により光学特性が変化する傾斜膜上に反射防止効果等を有する膜を形成する必要がある。【解決手段】基板ａ上に、膜厚に応じて光学特性が変化する傾斜膜ｂを蒸着形成した後、該傾斜膜上に、膜厚が略均一な反射防止効果等を有する膜ｄを蒸着形成して、光学フィルタを製造する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、膜厚に応じて光学特性が変化する傾斜膜を蒸着形成する工程と、
前記傾斜膜上に、膜厚が略均一な膜を蒸着形成する工程とを含むことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ビデオカメラ等の撮像装置やレンズ装置といった光学機器に用いられるＮＤフィルタ等の光学フィルタの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
撮像装置やレンズ装置には、銀塩フィルム又はＣＣＤ等の固体撮像素子への入射光量を制御するために光量調節装置が設けられており、被写体が明るい場合には絞り羽根によって形成される絞り開口を小さく絞り込み、撮像面への入射光量が過大となるのを抑える。
【０００３】
また、このような光量調節装置では、図１７に示すように、１つの絞り羽根４ａに光量を減衰させることができるフィルム状のＮＤ（neutral density ）フィルタ７ｂを取り付け、撮像面に到達する光量が同じでも、絞り開口７ａの面積が大きくなるようにすることにより、いわゆる小絞り回折による解像力の低下を防止している。
【０００４】
但し、透過率の低い（濃度の濃い）ＮＤフィルタを使用すると、図１７に示すように、ＮＤフィルタ７ｂと絞り羽根４ｂとで小絞り状態と同様の状況が発生する。また、絞り開口７ａのうちＮＤフィルタ７ｂにより覆われている部分が大きいと、いわゆる片絞りとなり、撮像面の周辺部で光量差が生じ、シェーディングの原因となる。
【０００５】
その対策として、図１８に示すように、ＮＤフィルタ８において、透過率の高い（濃度の薄い）領域８ａと、透過率の低い（濃度の濃い）領域８ｂとを設けることにより、小絞りになるにつれて透過率を低くする構成としている。これにより、絞り開口をＮＤフィルタが覆う直前での解像力の低下が少なくなり、片絞り現象も改善できる。
【０００６】
このようにＮＤフィルタにおける透過率を変化させたものとしては、以下の特許文献１〜３にて提案されているものがある。
【０００７】
特許文献１では、均一な透過率に設定された第１の濃度領域と、第１の濃度領域から連続的に透過率が変化する第２の濃度領域とを有するＮＤフィルタが提案されている。
【０００８】
また、特許文献２では、段階的もしくは連続的に透過率が変化するＮＤフィルタを用いて、解像力低下を防止した光量調節装置が提案されている。
【０００９】
このように、透過率が変化するＮＤフィルタの製造方法には様々なものがあるが、このうち薄膜の蒸着によるＮＤフィルタの製造方法に関しては、特許文献３にて提案されているものがある。
【００１０】
特許文献３には、蒸着マスクを回転させて、真空蒸着法により、フィルタ基板上に略楕円形の金属薄膜をその中心部から外周部に向かって透過率が連続的に高くなるように形成したグラデーションＮＤフィルタの製造方法が提案されている。
【００１１】
【特許文献１】
特開平４−７７３４９号公報
【特許文献２】
特開平８−４３８７８号公報
【特許文献３】
特開平１１−３８２０６号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
誘電体膜の多層膜の膜厚に傾斜を持たせ、透過率が連続的に変化するグラデーションＮＤフィルタにおいて、光の吸収性を有する誘電体物質には、例えば、ＴｉＯｘ（ｘ＝１〜２）が使われている。ＴｉＯｘ（以下、誘電体物質Ａとする）は不完全な酸化物のため、空気に触れると酸化し、透過率が変化してしまう。このため、上記製造方法によりグラデーションＮＤフィルタを製造する際には、透過率を制御するための領域の空気側に接する最外層に酸化防止効果を狙った保護膜および反射防止膜としての誘電体物質（例えば、ＳｉＯ２ ：以下、誘電体物質Ｂとする）を一度で蒸着する必要がある。
【００１３】
しかしながら、上記製造方法により反射防止膜を蒸着すると、反射防止膜までも傾斜膜となってしまうため、グラデーションＮＤフィルタの透過率の高い部分（濃度の濃い部分）から透過率の低い部分（濃度の薄い部分）の全領域にわたり、十分な反射防止効果を得ることができない。
【００１４】
本発明は、高い反射防止効果等を有する膜を最外層に有する光学フィルタの製造方法を提供することを目的としている。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の光学フィルタの製造方法は、基板上に、膜厚に応じて光学特性が変化する傾斜膜を蒸着形成する工程と、該傾斜膜上に、膜厚が略均一な膜を蒸着形成する工程とを含む。
【００１６】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の実施形態を説明する前に、従来のグラデーションＮＤフィルタのうち、透過率制御を行うため傾斜膜部分を有する第１領域上に、反射防止効果を備えた傾斜膜部分を有する第２領域を形成し、該第２領域の膜厚補正（反射防止補正）が施されていないグラデーションＮＤフィルタを図１４を用いて説明する。
【００１７】
図１４中のａは透明基板であり、ガラス、合成樹脂材などが選ばれる。ｂは透過率を制御するための第１領域であり、透明基板ａ上に誘電体物質を多層に蒸着して形成されている。
【００１８】
この第１領域ｂには、光吸収性を有する不完全な酸化物である誘電体物質ＡとしてＴｉＯ，ＣｅＯ２ 、ＨｆＯ２ などが使用されている。これらの物質は、酸化の度合いを変えることで透過率を操作することができる。
【００１９】
また、誘電体物質Ｂとしては、Ａｌ２Ｏ３，ＳｉＯ２ ，ＭｇＦ２ があり、光吸収性を有する不完全な酸化物である誘電体物質Ａと共に多層に蒸着することで、第１領域ｂにおいて反射防止効果を得ることができ、透過率も制御できる。
【００２０】
金属膜と誘電体を用いた多層膜は従来あり、金属膜を含む多層膜とすることにより、膜厚勾配を形成するのは容易であるが、第１領域ｂにおける反射光を制御することは難しい。このため、反射光を制御することが容易である誘電体物質のみで多層膜を構成することが望ましい。
【００２１】
ｃは反射防止補正を施していない保護膜である第２領域を示している。透過率を制御する第１領域ｂの空気側に接する最終層の上には、反射防止を制御する第２領域ｃとして誘電体物質Ｂを蒸着する。光吸収性を有する不完全な酸化物である誘電体物質Ａは空気に触れると酸化してしまうため、最終層の上には誘電体物質Ｂを反射防止効果を有する保護膜として蒸着している。
【００２２】
蒸着技術を用いてグラデーションＮＤフィルタを製造した場合には、反射防止効果を制御する誘電体膜も傾斜形状になってしまうため、第１領域ｂの透過率の低い（濃度の濃い）部分から透過率の高い（濃度の薄い）部分の全領域にわたって十分な反射防止特性を得ることができない。すなわち、反射防止補正を施していない図１４のようなグラデーションＮＤフィルタでは、膜厚勾配の表面で反射される光量が大きく、撮影画像にゴースト、フレアが発生し、画像の品位が落ちることになる。
【００２３】
図１５および図１６には、反射防止効果を制御する最終層の第２領域ｃに膜厚補正（反射防止補正）を施さないグラデーションＮＤフィルタの設計特性を示している。図１５は、評価波長域４００ｎｍ〜８００ｎｍ間における透過特性を示し、図１６は評価波長域４００ｎｍ〜８００ｎｍ間における反射特性を示している。設計特性は、グラデーションＮＤフィルタの膜厚に対して、４点を表示している。グラフの１，２，３，４はグラデーションＮＤフィルタの最大膜厚に対して、膜厚比率１，0.5，0.75，0.125 での透過特性、反射特性を示している。
【００２４】
誘電体膜の多層膜である第１領域ｂにより透過率が制御されているため、透過特性に関しては評価波長全域に渡って均一な透過特性になっている。一方、反射特性に関しては、第２領域ｃに反射防止補正を施していないため、大きな反射が発生している。
【００２５】
次に、透過率制御を行う第１傾斜膜領域上に形成された、反射防止効果を有する第２傾斜膜領域に対して膜厚補正（反射防止補正）が施された本発明に係るグラデーションＮＤフィルタおよびその製造方法について説明する。
【００２６】
（実施形態１）
図１には、上記反射防止補正が施されたグラデーションＮＤフィルタの完成状態を示している。図中のａ〜ｃは、図１４に示した反射防止補正が施されていないグラデーションＮＤフィルタにおけるａ〜ｃと同じで、透明基板、透過率制御を行う第１傾斜膜領域、反射防止効果を有する第２傾斜膜領域である。
【００２７】
本実施形態では、まず、上記反射防止補正が施されたグラデーションＮＤフィルタと同様に、透明基板ａ上に、傾斜膜部分を有する第１領域ｂを蒸着形成する。このとき、後述する蒸着マスクを用いることにより傾斜膜部分がを形成する。
【００２８】
次に、上記蒸着マスクをそのまま用いて、図２に示すように、反射防止効果を有する酸化防止保護膜として、傾斜膜部分を有する第２領域（第２の傾斜膜）ｃを第１領域ｂ上に蒸着形成する。この状態では、第２領域ｃの膜厚は、第１領域ｂと同様に、図中左方向に向かって漸次減少している。また、図２において、Ｍは蒸着マスクであり、マスクＭ中の矢印は、該マスクＭを通して蒸着した傾斜膜の膜厚が減少する方向を示している。
【００２９】
次に、図３に示すように、蒸着マスクはそのままとし（図３中の矢印は、蒸着マスクＭを通して蒸着した傾斜膜の膜厚が減少する方向を示している）、透明基板ａを、第１領域ｂおよび第２領域ｃの蒸着時とは反対向きに置き直して、再度、誘電体物質Ｂを蒸着し、反射防止効果を有する第３領域（第３の傾斜膜）ｄを形成する。
【００３０】
第３領域ｄの膜厚は、第１および第２領域ｂ，ｃの膜厚が減少する方向とは反対方向に減少する。このため、透過率を制御する第１領域ｂ上に、合計の膜厚が略均一である第２および第３領域ｃ，ｄを蒸着することができ、第２領域ｃの膜厚補正を行わない場合に比べて、高い反射防止効果を得ることができる。
【００３１】
図４および図５には、本実施形態のグラデーションＮＤフィルタの設計特性を示している。図４は、評価波長域４００ｎｍ〜８００ｎｍ間における透過特性を示し、図５は評価波長域４００ｎｍ〜８００ｎｍ間における反射特性を示している。設計特性は、グラデーションＮＤフィルタの膜厚に対して、４点を表示している。グラフの１，２，３，４はグラデーションＮＤフィルタの最大膜厚に対して、膜厚比率１，0.5，0.75，0.125 での透過特性、反射特性を示している。
【００３２】
誘電体膜の多層膜である第１領域ｂにより透過率が制御されているため、透過特性に関しては評価波長全域に渡って均一な透過特性になっている。さらに、反射特性に関しても、第２領域ｃ上に第３領域ｄを形成して反射防止補正を施したため、該反射防止補正を施していない場合（図１６参照）に比べて大幅に反射が抑制されている。
【００３３】
図６および図７には、上記実施形態１にて説明したグラデーションＮＤフィルタの製造装置である真空蒸着装置を示している。
【００３４】
これらの図において、２０ａは真空蒸着装置の本体としての蒸着釜である。２０ｂは蒸着釜２０ａの真空引きや排気を行うための排気口、２０ｃは電子銃の蒸着源、２０ｄは基板加熱用のヒータである。また、２０ｅは透過用光源、２０ｆは反射用光源、２０ｇは受光部である。
【００３５】
さらに、２０ｈは被蒸着透明基板（透明基板ａ）、２０ｉは膜厚制御用のモニタ基板、２０ｊは被蒸着基板用の支持傘、２０ｋは蒸着マスク用の支持傘、２０ｌは蒸着時に被蒸着透明基板２０ｈに対向した位置に配置される蒸着マスク、２０ｍは蒸着マスク２０ｌの開口部である。図２１は蒸着マスク２０ｌおよび支持傘２０ｋを上方から見た図である。
【００３６】
図７に示すように、三角形状の開口部２０ｍが形成された蒸着マスク２０ｌは、マスク用の支持傘２０ｋ上に配置される。支持傘２０ｋはこの状態で図中の矢印方向に、不図示のモータ等によって回転駆動可能である。
【００３７】
蒸着釜２０ａ内が所定の真空状態とされた後、蒸着源２０ｃから発せられて被蒸着透明基板２０ｈ（透明基板ａ）に向かう蒸着物質は、蒸着マスク２０ｌの開口部２０ｍを通過して被蒸着透明基板２０ｈに蒸着される。
【００３８】
蒸着マスク２０ｌの開口部２０ｍは、図７に示す状態では、マスク用支持傘２０ｋの中心から外側に向かうにつれて開口幅が小さくなる三角形状に形成されているため、被蒸着透明基板２０ｈには、マスク用支持傘２０ｋの内側から外側に向かって膜厚が小さくなる傾斜膜が形成される。この状態で、透明基板ａ上には第１領域ｂおよび第２領域ｃが蒸着形成されることになる。
【００３９】
なお、図６および図７には１つの蒸着マスク２０ｌしか示していないが、実際の装置では、蒸着マスク２０ｌを支持傘２０ｋ上に同心円上に多数配置するとともに、被蒸着基板用の支持傘２０ｊ上にも同数の被蒸着透明基板２０ｈを配置し、一度に多数のグラデーションＮＤフィルタを製造することが可能となっている。
【００４０】
また、透過用光源２０ｅ，反射用光源２０ｆおよび受光部２０ｇにより光学制御装置が構成されており、モニタ基板２０ｉからの透過光および反射光の単波長および可視域波長の分光強度に基づいて膜厚の制御を行っている。
【００４１】
そして、第２領域ｃの蒸着が終了すると、蒸着釜２０ａの気圧を空気圧に戻し、蒸着釜２０ａ開け、被蒸着透明基板２０ｈを蒸着マスク２０ｌに対して１８０°回転させる。このとき、蒸着マスク２０ｌを被蒸着透明基板２０ｈに対して１８０°回転させてもよい。これにより、蒸着マスク２０ｌと被蒸着透明基板２０ｈとの相対向きは、第１領域ｂおよび第２領域ｃの蒸着時とは反対になる。
【００４２】
そして、再度、蒸着釜２０ａ内を真空状態とし、第２領域ｃ上に反射防止物質を蒸着して第３領域ｄを形成する。これにより、第２領域ｃの膜厚の減少方向と第３領域ｄの膜厚の減少方向とが反対となり、第２領域ｃと第３領域ｄにより構成される反射防止膜層の膜厚を略均一にすることができる。
【００４３】
（実施形態２）
実施形態１では、蒸着釜２０ａを一度開けて（蒸着釜２０ａ内を一旦大気圧に戻し）、再び真空状態として蒸着を行う場合について説明したが、このような工程を経ることなく、すなわち蒸着釜２０ａ内を真空状態に保ったまま蒸着を完了すれば、蒸着工程に要する時間を短くすることができる。
【００４４】
この場合、透過率を制御する第１領域ｂを蒸着した後に、不図示の機構によって支持傘２０ｋ上で蒸着マスク２０ｌを又は支持傘２０ｊ上で被蒸着透明基板２０ｈを１８０度回転させ、第１領域ｂ上に反射防止物質を蒸着して第３領域ｄを形成すればよい。
【００４５】
（実施形態３）
上記実施形態１，２では、透過率を制御する第１領域ｂ上に、膜厚が減少する方向が互いに反対である第２および第３領域ｃ，ｄを形成することで略均一な膜厚を有する反射防止膜を形成する場合について説明したが、第１領域ｂを蒸着した後に、例えば、図６および図７に示した蒸着マスク用の支持傘２０ｋを回転させることによって、蒸着マスク２０ｌを蒸着釜２０ａ内で被蒸着透明基板２０ｈに対向する位置から取り除き、第１領域ｂ上に反射防止物質を蒸着する。
【００４６】
これにより、図８に示すように、第１領域ｂ上に、略均一な膜厚を有して反射防止効果の高い反射防止領域ｅを一度に形成することができる。なお、本実施形態により製造されるグラデーションＮＤフィルタの設計上の透過特性および反射特性は、図４および図５に示したのと同様である。
【００４７】
次に、上記実施形態１〜３にて説明した方法により実際に製造したグラデーションＮＤフィルタの透過特性および反射特性について説明する。表１には、誘電体多層膜における各層の構成成分とその厚さを示している。
【００４８】
【表１】
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【００４９】
表１に示すグラデーションＮＤフィルタは、誘電体物質による２３層構成となっている。透明基板ａとしてはＰＭＭＡプラスチック材を用いており、この透明基板ａ上に誘電体物質Ａ（ＴｉＯ，Ｔｉ２Ｏ３）と誘電体物質Ｂ（Ａｌ２Ｏ３，ＳｉＯ２ ）とを２２層積層した多層膜を形成することで、透過率を制御する傾斜膜（第１領域ｂ）が形成されている。また、２３層目の最終層には、反射防止効果を有する誘電体物質Ｂとして、ＳｉＯ２  が蒸着されている。
【００５０】
図９には、実施形態１および実施形態２にて説明した方法により製造したグラデーションＮＤフィルタの評価波長域４００ｎｍ〜８００ｎｍ間における透過特性の実測値を、図１０には、評価波長域４００ｎｍ〜８００ｎｍ間における反射特性の実測値を示している。これらの図のグラフに書かれている数値は、図１１に示すように、第１領域ｂの膜厚の最も小さい点を始点（０ｍｍ）とし、この始点からの距離を示している。
【００５１】
これら図９および図１０から分かるように、実際に製造したグラデーションＮＤフィルタにおいても、図４に示した設計上の透過特性と同様に、評価波長全域に渡って均一な透過特性が得られる。また、反射特性に関しても、図５に示した設計上の反射特性と同様に、反射防止補正を施していない場合（図１６参照）に比べて大幅に反射が抑制されている。
【００５２】
図１２には、上記各実施形態で説明したグラデーションＮＤフィルタを備えた撮像装置（光学機器）の構成を示している。
【００５３】
この図において、１８ｇは屈折系、反射系、回折系等によって構成されたレンズ装置、１８ａは開閉作動が可能な絞り羽根、１８ｂはグラデーションＮＤフィルタ、１８ｃは絞り羽根１８ａとグラデーションＮＤフィルタ１８ｂとを備えた光量調節装置である。
【００５４】
グラデーションＮＤフィルタ１８ｂは、絞り羽根１８ａを絞り込むに従って光軸上を通る光線の透過率が低くなるように構成されている。
【００５５】
例えば、図１３（ａ）には、２枚の絞り羽根１８ａを有し、これら２枚の絞り羽根１８ａを相対的に移動させることにより絞り開口の面積が変化する光量調節装置を示している。
【００５６】
この光量調節装置１８ｃの一方の絞り羽根１８ａにグラデーションＮＤフィルタ１８ｂが貼り付けられている。図１３（ａ）において、２本の点線の交点Ｌは光軸を示し、光軸Ｌは図の紙面に垂直方向に延びている。
【００５７】
図１３（ｂ），（ｃ）は、図１３（ａ）の状態から絞り開口を徐々に絞っていったときの様子を示す。光軸Ｌ上を通過する光量は、絞り開口を絞っていくにつれ小さくなっていく。
【００５８】
このような配置にすることで、絞り開口のうちグラデーションＮＤフィルタ１８ｂがない部分を通過する光量とグラデーションＮＤフィルタ１８ｂがある部分を通過する光量との差が少なくなるため、撮影画面の光量むらの発生を防ぐことができる。
【００５９】
図１２において、１８ｅはレンズ装置１８ｇによって形成された被写体像を受光し電気信号に変換するＣＣＤやＣＭＯＳセンサ等からなる撮像素子（光電変換素子）である。１８ｆは撮像素子１８ｅにより光電変換された被写体像の画像を記録する、半導体メモリ、磁気ディスク、光ディスク等の記録媒体である。以上により、グラデーションＮＤフィルタ１８ｂを用いた撮像装置１８ｈが構成される。
【００６０】
なお、上記各実施形態では、透過率を制御する第１領域ｂ上に、反射を防止する第２および第３領域ｃ，ｄを蒸着形成したＮＤフィルタについて説明したが、本発明は、膜厚の変化により透過率以外の光学特性が変化する傾斜膜上に、膜厚が略均一である膜を形成するＮＤフィルタ以外の各種光学フィルタにも適用が可能である。
【００６１】
また、上記各各実施形態は、以下に示す各発明を実施した場合の一例でもあり、下記の各発明は上記各実施形態に様々な変更や改良が加えられて実施されるものである。
【００６２】
〔発明１〕  基板上に、膜厚に応じて光学特性が変化する第１の傾斜膜を蒸着形成する工程と、
前記第１の傾斜膜上に、膜厚が漸次減少する方向が互いに反対である第２および第３の傾斜膜を重ねて蒸着形成する工程とを含むことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【００６３】
本発明によれば、第２および第３の傾斜膜の膜厚が減少する方向を互いに反対とすることにより、第１の傾斜膜を覆う保護膜や反射防止膜等としての第２および第３の傾斜膜の合計膜厚を略均一とすることができる。特に、第２および第３の傾斜膜を反射防止膜とする場合には、反射防止膜を傾斜膜とする場合に比べて高い反射防止効果が得られる。
【００６４】
〔発明２〕  膜厚が漸次減少する傾斜膜を蒸着するためのマスクを用いた光学フィルタの製造方法であって、
基板上に、膜厚に応じて光学特性が変化する第１の傾斜膜を蒸着形成する工程と、
前記第１の傾斜膜上に、該第１の傾斜膜を覆う第２の傾斜膜を蒸着形成する工程と、
前記第２の傾斜膜上に、該第２の傾斜膜とは膜厚が減少する方向が反対である第３の傾斜膜を蒸着形成する工程とを含み、
前記第２の傾斜膜を蒸着する工程と前記第３の傾斜膜を蒸着する工程とで前記マスクと前記基板との相対向きを反対とすることを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【００６５】
〔発明３〕  前記第３の傾斜膜を形成する工程において、前記マスクと前記基板との相対向きを、前記第１および第２の傾斜膜を蒸着形成する工程とは反対とすることを特徴とする発明２に記載の光学フィルタの製造方法。
【００６６】
これら発明２および発明３によれば、第２の傾斜膜を形成する工程と第３の傾斜膜とを形成する工程とでマスクと基板との相対向きを反対にするという簡易な作業を行うだけで、第１の傾斜膜を蒸着するためのマスクと同じマスクを用いて、第１の傾斜膜上に略均一の膜厚を有する保護膜や反射防止膜等を形成することができる。
【００６７】
〔発明４〕  前記第１の傾斜膜が、膜厚に応じて光の透過率が変化する膜であり、
前記第２および第３の傾斜膜が反射防止膜であることを特徴とする発明１から３のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【００６８】
〔発明５〕  前記マスクと前記基板との相対向きを反対とする作業を、前記基板および前記マスクが収容された蒸着容器内を真空に保った状態で行うことを特徴とする発明２又は３に記載の光学フィルタの製造方法。
【００６９】
これにより、マスクと基板との相対向きを反対にするために蒸着容器内を大気圧にし、再び真空にして蒸着を行う場合に比べて、短時間で光学フィルタを製造することができる。
【００７０】
〔発明６〕  前記第１から第３の傾斜膜を、誘電体物質の蒸着により形成することを特徴とする発明１から５のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【００７１】
〔発明７〕  膜厚が漸次減少する傾斜膜を蒸着するためのマスクを用いた光学フィルタの製造方法であって、
基板に対向する位置に前記マスクを配置し、該基板上に、膜厚に応じて光学特性が変化する傾斜膜を蒸着形成する工程と、
前記基板に対向する位置から前記マスクを取り除き、前記傾斜膜を覆う略均一な膜厚を有する膜を蒸着形成する工程とを含み、
前記基板に対向する位置から前記マスクを取り除く作業を、前記基板および前記マスクが収容された蒸着容器内を真空に保った状態で行うことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【００７２】
これにより、マスクを取り除くために蒸着容器内を大気圧にし、再び真空にして蒸着を行う場合に比べて、短時間で光学フィルタを製造することができる。
【００７３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、基板上に傾斜膜を蒸着形成した後、この傾斜膜を膜厚が略均一な膜で覆うことができる。特に、膜厚が略均一な膜を反射防止膜とする場合には、反射防止膜を傾斜膜とする場合に比べて高い反射防止効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態１である、膜厚補正を行ったグラデーションＮＤフィルタの概略図。
【図２】上記実施形態１のグラデーションＮＤフィルタの製造方法の説明図。
【図３】上記実施形態１のグラデーションＮＤフィルタの製造方法の説明図。
【図４】上記実施形態１のグラデーションＮＤフィルタの設計上の透過特性を示すグラフ図。
【図５】上記実施形態１のグラデーションＮＤフィルタの設計上の反射特性を示すグラフ図。
【図６】上記実施形態１のグラデーションＮＤフィルタを製造する真空蒸着装置の概略断面図。
【図７】上記真空蒸着装置における蒸着マスクおよび支持傘の上面図。
【図８】本発明の実施形態３であるグラデーションＮＤフィルタの概略図。
【図９】上記実施形態１〜３に示す方法により製造された、表１に示す膜構成を有するグラデーションＮＤフィルタの透過特性を示すグラフ図。
【図１０】上記実施形態１〜３に示す方法により製造された、表１に示す膜構成を有するグラデーションＮＤフィルタの反射特性を示すグラフ図。
【図１１】図９および図１０に示した各グラフ曲線に対応するグラデーションＮＤフィルタ上での位置を説明する図。
【図１２】上記各実施形態にて説明したグラデーションＮＤフィルタを用いた撮像装置の構成を示す概略図。
【図１３】上記撮像装置内の光量調節装置の構成および動作を説明する図。
【図１４】膜厚補正を行っていないグラデーションＮＤフィルタの概略図。
【図１５】図１４に示すグラデーションＮＤフィルタの設計上の透過特性を示すグラフ図。
【図１６】図１４に示すグラデーションＮＤフィルタの設計上の反射特性を示すグラフ図。
【図１７】従来の光量調節装置の説明図。
【図１８】従来の光量調節装置の説明図。
【符号の説明】
ａ  透明基板
ｂ  第１領域（透過率制御用の傾斜膜）
ｃ  第２領域（反射防止用の傾斜膜）
ｄ  第３領域（反射防止用の傾斜膜）
ｅ  反射防止領域（膜厚均一領域）
１８ａ  絞り羽根
１８ｂ  グラデーションＮＤフィルタ
１８ｃ  光量調節装置
１８ｅ  固体撮像素子（ＣＣＤ）
１８ｆ  記録媒体
１８ｇ  レンズ装置
１８ｈ  撮像装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2004205777.tif 000011
【図９】
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【図１０】
2004205777.tif 000013
【図１１】
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【図１２】
2004205777.tif 000015
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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