(57)【要約】【課題】液晶注入口の開口端を基板の側縁に一致させた液晶注入時の液晶の無駄が少ない液晶セルを歩留り良く製造する。【解決手段】複数の基板領域を有する第１と第２の基板材１０，１１に、枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応させて、基板材１０，１１に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い低密着性薄膜１５を、基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａからその基板領域の外側の部分にわたって形成し、いずれかの基板材の複数の基板領域にそれぞれ枠状シール材４を、その液晶注入口形成部の外端を基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出させて低密着性薄膜１５に対応させた形状に印刷し、これらの枠状シール材４を介して第１と第２の基板材１０，１１を接合してセル集合体を組立てた後、第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ複数の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って折断して複数の液晶セルに分離する。【選択図】    図２
2004205650.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された一対の基板の対向する内面のうち、一方の基板の内面に複数の電極が設けられ、他方の基板の内面に前記複数の電極と対向する部分により複数の画素を形成する少なくとも１つの電極が設けられ、これらの基板が、前記複数の画素の配列エリアを囲んで設けられ、一辺に液晶注入口が形成された枠状シール材を介して接合されてなる液晶セルの製造方法において、
前記液晶セルの一方の基板となる複数の基板領域を有し、前記複数の基板領域にそれぞれ前記少なくとも１つの電極が設けられた第１の基板材と、前記液晶セルの他方の基板となる複数の基板領域を有し、前記複数の基板領域にそれぞれ前記複数の電極が設けられた第２の基板材の少なくとも一方に、前記複数の基板領域にそれぞれ設ける前記枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対する密着強度が前記基板材と枠状シール材との密着強度よりも弱い低密着性薄膜を、前記基板領域の輪郭線からその基板領域の外側の部分にわたって形成し、前記第１と第２のいずれかの基板材の前記複数の基板領域にそれぞれ前記枠状シール材を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出させて前記低密着性薄膜に対応させた形状に印刷し、これらの枠状シール材を介して前記第１と第２の基板材を接合してセル集合体を組立てた後、前記第１と第２の基板材をそれぞれ前記複数の基板領域の輪郭線に沿って折断して複数の液晶セルに分離することを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項２】
第１の基板材に、枠状シール材の液晶注入口形成部に対応する縁部以外の少なくとも一つの縁部に第２の基板材の基板領域の外方に張出す端子配列部を有する複数の基板領域を連続的に並べて形成し、第２の基板材に、前記第１の基板材の複数の基板領域の前記端子配列部を除く部分にそれぞれ対応する複数の基板領域と前記端子配列部に対応する複数の捨て領域とを連続的に並べて形成し、前記第１の基板材の複数の基板領域の前記端子配列部と前記第２の基板材の前記捨て領域のうち、少なくとも前記端子配列部に低密着性薄膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項３】
低密着性薄膜は、基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対して、セル集合体を複数の液晶セルに分離する際に生じる応力により剥離する密着強度を有していることを特徴とする請求項１に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項４】
低密着性薄膜を形成する基板材の複数の基板領域の輪郭線よりも内側に、枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と低密着性薄膜の両方に対する密着強度が前記基板材と前記低密着性薄膜との密着強度よりも強い高密着性薄膜を形成しておくことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶セルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は液晶セルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶セルは、対向配置された一対の基板の対向する内面のうち、一方の基板の内面に複数の電極が設けられ、他方の基板の内面に前記複数の電極と対向する部分により複数の画素を形成する少なくとも１つの電極が設けられ、これらの基板が、前記複数の画素の配列エリアを囲んで設けられ、一辺に液晶注入口が形成された枠状シール材を介して接合された構成となっている（特許文献１参照）。
【０００３】
この液晶セルは、その一方の基板となる複数の基板領域を有し、前記複数の基板領域にそれぞれ前記少なくとも１つの電極が設けられた第１の基板材と、前記液晶セルの他方の基板となる複数の基板領域を有し、前記複数の基板領域にそれぞれ前記複数の電極が設けられた第２の基板材とのうち、いずれか一方の基板材の複数の基板領域にそれぞれ、前記枠状シール材を、その液晶注入口の開口端が前記基板領域の輪郭線に一致するように印刷し、これらの枠状シール材を介して前記第１と第２の基板材を接合してセル集合体を組立てた後、前記第１と第２の基板材をそれぞれ前記複数の基板領域の輪郭線に沿って折断して複数の液晶セルに分離する方法で製造されている（特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−２７０８０９号公報
【０００５】
【特許文献２】
特開平１１−１８３９１４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記液晶セルの製造において、前記枠状シール材は、スクリーン印刷により前記基板材の複数の基板領域に印刷されるが、その印刷精度にはある程度の誤差があるため、前記枠状シール材の印刷位置がずれることがある。
【０００７】
そして、前記枠状シール材の印刷位置が液晶注入口を形成する側とは反対側にずれた場合は、組立てられたセル集合体を分離して製造された液晶セルが、前記液晶注入口の開口端が基板の側縁よりも内側に入り込んだ構造となり、液晶セル内への真空注入法による液晶注入時に前記一対の基板の外縁部の間の隙間を毛細管現象により伝い上がって無駄になる液晶量が多くなる。
【０００８】
この発明は、液晶注入口の開口端を基板の側縁に一致させた液晶注入時の液晶の無駄が少ない液晶セルを歩留り良く製造することができる液晶セルの製造方法を提供することを目的としたものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明は、対向配置された一対の基板の対向する内面のうち、一方の基板の内面に複数の電極が設けられ、他方の基板の内面に前記複数の電極と対向する部分により複数の画素を形成する少なくとも１つの電極が設けられ、これらの基板が、前記複数の画素の配列エリアを囲んで設けられ、一辺に液晶注入口が形成された枠状シール材を介して接合されてなる液晶セルの製造方法において、前記液晶セルの一方の基板となる複数の基板領域を有し、前記複数の基板領域にそれぞれ前記少なくとも１つの電極が設けられた第１の基板材と、前記液晶セルの他方の基板となる複数の基板領域を有し、前記複数の基板領域にそれぞれ前記複数の電極が設けられた第２の基板材の少なくとも一方に、前記複数の基板領域にそれぞれ設ける前記枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対する密着強度が前記基板材と枠状シール材との密着強度よりも弱い低密着性薄膜を、前記基板領域の輪郭線からその基板領域の外側の部分にわたって形成し、前記第１と第２のいずれかの基板材の前記複数の基板領域にそれぞれ前記枠状シール材を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出させて前記低密着性薄膜に対応させた形状に印刷し、これらの枠状シール材を介して前記第１と第２の基板材を接合してセル集合体を組立てた後、前記第１と第２の基板材をそれぞれ前記複数の基板領域の輪郭線に沿って折断して複数の液晶セルに分離することを特徴とする。
【００１０】
この製造方法では、前記枠状シール材を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板材の基板領域の輪郭線よりも外側に突出させた形状に印刷しているため、前記枠状シール材の印刷精度に誤差があっても、その液晶注入口形成部の外端が前記基板領域の輪郭線よりも内側に入り込んでしまうことは無い。
【００１１】
そして、前記枠状シール材の液晶注入口形成部のうち、前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出する部分は、組立てた前記セル集合体の第１と第２の基板材をそれぞれ前記基板領域の輪郭線に沿って折断して複数の液晶セルに分離する際に前記輪郭線上において分離されるため、前記液晶注入口の開口端を基板の側縁に一致させた液晶セルを得ることができる。
【００１２】
しかも、この製造方法では、前記第１と第２の基板材の少なくとも一方に、前記複数の基板領域にそれぞれ設ける枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対する密着強度が前記基板材と枠状シール材との密着強度よりも弱い低密着性薄膜を、前記基板領域の輪郭線からその基板領域の外側の部分にわたって形成し、前記第１と第２のいずれかの基板材の複数の基板領域にそれぞれ前記枠状シール材を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出させて前記低密着性薄膜に対応させた形状に印刷しているため、前記セル集合体の組立て後に前記第１と第２の基板材をそれぞれ前記複数の基板領域の輪郭線に沿って折断して複数の液晶セルに分離する際に、前記第１と第２の基板材の少なくとも一方と、前記枠状シール材の液晶注入口形成部の前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出する部分との接合部を前記低密着性薄膜を剥離層として剥離させ、前記第１と第２の基板材をそれぞれ前記基板領域の輪郭線に沿って精度良く折断することができる。
【００１３】
したがって、この製造方法によれば、液晶注入口の開口端を基板の側縁に一致させた液晶注入時の液晶の無駄が少ない液晶セルを歩留り良く製造することができる。
【００１４】
このように、この発明の液晶セルの製造方法は、複数の基板領域を有する第１と第２の基板材の少なくとも一方に、前記複数の基板領域にそれぞれ設ける枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対する密着強度が前記基板材と枠状シール材との密着強度よりも弱い低密着性薄膜を、前記基板領域の輪郭線からその基板領域の外側の部分にわたって形成し、前記第１と第２のいずれかの基板材の前記複数の基板領域にそれぞれ前記枠状シール材を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出させて前記低密着性薄膜に対応させた形状に印刷し、これらの枠状シール材を介して前記第１と第２の基板材を接合してセル集合体を組立てた後、前記第１と第２の基板材をそれぞれ前記複数の基板領域の輪郭線に沿って折断して複数の液晶セルに分離することにより、液晶注入口の外端を一対の基板の側縁に一致させた液晶注入時の液晶の無駄が少ない液晶セルを歩留り良く製造するようにしたものである。
【００１５】
この製造方法においては、前記第１の基板材に、前記枠状シール材の液晶注入口形成部に対応する縁部以外の少なくとも一つの縁部に前記第２の基板材の基板領域の外方に張出す端子配列部を有する複数の基板領域を連続的に並べて形成し、前記第２の基板材に、前記第１の基板材の複数の基板領域の前記端子配列部を除く部分にそれぞれ対応する複数の基板領域と前記端子配列部に対応する複数の捨て領域とを連続的に並べて形成し、前記第１の基板材の複数の基板領域の前記端子配列部と前記第２の基板材の前記捨て領域のうち、少なくとも前記端子配列部に前記低密着性薄膜を形成するのが好ましい。
【００１６】
また、前記低密着性薄膜は、前記基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対して、前記セル集合体を複数の液晶セルに分離する際に生じる応力により剥離する密着強度を有しているのが望ましい。
【００１７】
さらに、この製造方法においては、前記低密着性薄膜を形成する基板材の複数の基板領域の輪郭線よりも内側に、枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と低密着性薄膜の両方に対する密着強度が前記基板材と前記低密着性薄膜との密着強度よりも強い高密着性薄膜を形成しておくのが好ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１〜図４はこの発明の第１の実施例を示しており、図１は組立てられた液晶セル集合体の平面図、図２は図１のII―II線に沿う拡大断面図、図３は前記液晶セル集合体の分離状態を示す断面図、図４は分離された液晶セルの正面図である。
【００１９】
まず、図４に示した液晶セル１について説明すると、この液晶セル１は、対向配置された一対の基板２，３の対向する内面のうち、一方の基板２の内面に複数の電極（図示せず）が設けられ、他方の基板３の内面に前記複数の電極と対向する部分により複数の画素を形成する少なくとも１つの電極（図示せず）が設けられ、これらの基板２，３が、前記複数の画素の配列エリアを囲んで設けられ、一辺に液晶注入口５が形成された枠状シール材４を介して接合された構成となっている。
【００２０】
前記一対の基板２，３はそれぞれガラスからなる透明基板、これらの基板２，３の内面にそれぞれ設けられた図示しない電極はＩＴＯ膜等の透明導電膜により形成された透明電極であり、また、前記枠状シール材４はエポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂により形成されている。
【００２１】
なお、図では省略しているが、前記一対の基板２，３の前記枠状シール材４により囲まれた画素配列エリアの内面にはそれぞれ、前記電極を覆って、液晶セル１内に注入された液晶の分子を配向させるためのポリイミドからなる配向膜が形成されている。
【００２２】
また、この液晶セル１は、単純マトリックス型のものであり、その一方の基板２の内面に設けられた電極は、列方向（図４において上下方向）に沿わせて互いに平行に形成された複数の信号電極、他方の基板３の内面に設けられた電極は、行方向（図４において左右方向）に沿わせて互いに平行に形成された複数の走査電極である。以下、前記信号電極が形成された一方の基板２を信号電極基板と言い、前記走査電極が形成された他方の基板３を走査電極基板と言う。
【００２３】
前記信号電極基板２は、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応する縁部以外の少なくとも一つの縁部、例えば前記液晶注入口形成部に対応する縁部とは反対側の縁部に、前記走査電極基板３の外方に張出す端子配列部２ａを有しており、その端子配列部２ａの内面に、この信号電極基板２の複数の信号電極と前記走査電極基板３の複数の走査電極をそれぞれ駆動回路に接続するための複数の端子（図示せず）が配列形成されている。
【００２４】
なお、この液晶セル１は、前記信号電極基板２の端子配列部２ａにＬＳＩからなる駆動回路素子を搭載されるものであり、前記複数の端子は、前記駆動回路素子の搭載部に配列されている。
【００２５】
図４において、Ａは、前記画素配列エリア内に形成された複数の信号電極の配列部、ａは、前記複数の信号電極と前記端子配列部２ａに形成された複数の信号電極端子とを接続する信号電極接続配線の形成部である。また、図４において、ｂは、前記画素配列エリア内の信号電極配列部の両側部から前記端子配列部２ａに導出されて複数の走査電極端子にそれぞれ接続された複数の走査電極接続配線の形成部であり、前記走査電極基板３の複数の走査電極は、前記画素配列エリア内の信号電極配列部の両側において、両基板２，３間に設けられた導電性クロス材を介して前記複数の走査電極接続配線に接続されている。さらに、図４において、ｃは、外部回路からの入力信号を前記駆動回路素子に供給するための複数の入力側配線の形成部である。
【００２６】
次に、前記液晶セル１の製造方法を説明すると、この実施例の製造方法は、前記液晶セル１の信号電極基板２となる複数の基板領域１２を有し、前記複数の基板領域１２にそれぞれ前記複数の信号電極が設けられた第１の基板材１０と、前記液晶セル１の走査電極基板３となる複数の基板領域１３を有し、前記複数の基板領域１３にそれぞれ前記複数の走査電極が設けられた第２の基板材１１の両方に、前記複数の基板領域１２，１３にそれぞれ設ける枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材１０，１１に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い低密着性薄膜１５を、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａからその基板領域１２，１３の外側の部分にわたって形成し、前記第１と第２のいずれかの基板材１０または１１の複数の基板領域１２または１３にそれぞれ前記枠状シール材４を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出させて前記低密着性薄膜１５に対応させた形状に印刷し、これらの枠状シール材４を介して前記第１と第２の基板材１０，１１を接合して図１及び図２に示したセル集合体を組立てた後、前記第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ前記複数の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って折断して複数の液晶セル１に分離するものである。
【００２７】
なお、この実施例では図４に示した液晶セル１を製造するため、前記第１の基板材１０に、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応する縁部とは反対側の縁部に第２の基板材１１の基板領域１３の外方に張出す端子配列部２ａを有する複数の基板領域１２を連続的に並べて形成し、第２の基板材１１に、前記第１の基板材１０の複数の基板領域１２の前記端子配列部２ａを除く部分にそれぞれ対応する複数の基板領域１３と前記端子配列部２ａに対応する複数の捨て領域１４とを連続的に並べて形成し、前記第１の基板材１０の複数の基板領域１２の前記端子配列部２ａと前記第２の基板材１１の前記捨て領域の両方に前記低密着性薄膜１５を形成している。
【００２８】
また、この実施例では、前記低密着性薄膜１５を、前記第１と第２の基板材１０，１１の複数の基板領域１２，１３の画素配列エリア内にそれぞれ設ける図示しない配向膜と同じポリイミド膜とし、この低密着性薄膜１５と前記配向膜とをスクリーン印刷により同時に形成している。
【００２９】
この低密着性薄膜１５は、その形成後に印刷する枠状シール材４の印刷誤差を考慮し、この枠状シール材４の印刷位置がずれても前記液晶注入口形成部の先端が必ず前記低密着性薄膜１５に対応するように、充分な面積に形成する。
【００３０】
また、前記枠状シール材４は、一方の基板材１０または１１の複数の基板領域１２，１３に、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂をスクリーン印刷により印刷して形成する。
【００３１】
そして、前記セル集合体は、前記第１と第２の基板材１０，１１を、一方の基板材１０または１１の複数の基板領域１２，１３にそれぞれ印刷した複数の枠状シール材４を介して重ね合わせて加圧し、これらの基板材１０，１１の内面（配向膜面）間の間隔を予め定められたセルギャップになるように調整した後に、前記複数の枠状シール材４を硬化させて両方の基板材１０，１１を接合することにより組立てる。
【００３２】
この製造方法では、前記枠状シール材４を、その液晶注入口形成部を前記基板材１０，１１の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出させた形状に印刷しているため、前記枠状シール材４の印刷精度に誤差があっても、その液晶注入口形成部の外端が前記基板領域の輪郭線よりも内側に入り込んでしまうことは無い。
【００３３】
そして、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部のうち、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分は、組立てた前記セル集合体の第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って折断して複数の液晶セル１に分離する際に、図３に示したように前記輪郭線１２ａ，１３ａ上において分離されるため、セル外への開口端が前記液晶セル１の一対の基板２，３の側縁に一致した液晶注入口５が形成される。
【００３４】
そのため、前記液晶注入口５の開口端を基板２，３の側縁に一致させた液晶セル１を得ることができる。
【００３５】
しかも、この製造方法では、前記第１と第２の基板材１０，１１の両方に、前記複数の基板領域１２，１３にそれぞれ設ける枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材１０，１１に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い低密着性薄膜１５を、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａからその基板領域１２，１３の外側の部分にわたって形成し、前記第１と第２のいずれかの基板材１０または１１の複数の基板領域１２または１３にそれぞれ前記枠状シール材４を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出させて前記低密着性薄膜１５に対応させた形状に印刷しているため、前記セル集合体の組立て後に前記第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ前記複数の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って折断して複数の液晶セル１に分離する際に、前記第１と第２の基板材１０，１１と、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分との接合部を前記低密着性薄膜１５を剥離層として剥離させ、前記第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って精度良く折断することができる。
【００３６】
すなわち、前記セル集合体の第１と第２の基板材１０，１１は、その外面を前記複数の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿ってスクライブし、その後にセル集合体にその曲げ力を加えてその応力を前記輪郭線１２ａ，１３ａに沿ったスクライブ部分に発生させることにより、前記複数の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って折断する。
【００３７】
その場合、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分が、第１の基板材１０の前記基板領域１２と隣り合う他の基板領域１２の端子配列部２ａと、第２の基板材１１の捨て領域１４の両方に高い密着強度で密着していると、第１と第２の基板材１０，１１に生じる応力が前記枠状シール材４の液晶注入口形成部の先端に対応する部分に集中し、その部分で基板材１０，１１が破断するため、前記基板材１０，１１を前記輪郭線１２ａ，１３ａに沿って精度良く折断することができないだけでなく、前記隣り合う他の基板領域１２の端子配列部２ａの配線を断線させてしまうこともある。
【００３８】
しかし、この実施例の製造方法では、前記基板材１０，１１の両方に、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材１０，１１に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い低密着性薄膜１５を、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａからその基板領域１２，１３の外側の部分にわたって形成することにより、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部の前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分と両方の基板材１０，１１との間に前記低密着性薄膜１５を介在させているため、前記セル集合体を複数の液晶セル１に分離する際に、前記第１と第２の基板材１０，１１と、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分との接合部を前記低密着性薄膜１５を剥離層として剥離させ、前記第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ、図３に示したように前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って精度良く折断することができる。
【００３９】
この実施例では、前記低密着性薄膜１５をポリイミドにより形成しており、このポリイミドからなる低密着性薄膜１５は、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂からなる枠状シール材４に対する密着硬度は高いが、ガラスからなる基板材１０，１１に対する密着強度が弱く、前記セル集合体を複数の液晶セル１に分離する際に生じる応力により簡単に剥離するため、前記第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿ってさらに精度良く折断することができる。
【００４０】
したがって、この製造方法によれば、液晶注入口５の開口端を基板２，３の側縁に一致させた液晶注入時の液晶の無駄が少ない液晶セル１を歩留り良く製造することができる。
【００４１】
図５はこの発明の第２の実施例を示す組立てられた液晶セル集合体の一部分の断面図である。
【００４２】
この実施例の製造方法は、前記低密着性薄膜１５を形成する基板材１０，１１の複数の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも内側に、枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材１０，１１と低密着性薄膜１５の両方に対する密着強度が前記基板材１０，１１と低密着性薄膜１５との密着強度よりも強い高密着性薄膜１６を予め形成しておくことにより、前記低密着性薄膜１５がその印刷精度の誤差により前記基板領域１２，１３の内側にずれて印刷された場合でも、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部の先端と基板２，３との密着強度を充分高くした液晶セル１を製造することができるようにしたものである。
【００４３】
すなわち、前記低密着性薄膜１５は、上述したようにスクリーン印刷により基板材１０，１１に印刷するため、その印刷精度の誤差により、この低密着性薄膜１５が前記基板領域１２，１３の内側にずれて印刷され、その縁部が前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも内側に入り込むことがあり、その場合は、前記セル集合体を分離して製造された液晶セル１の枠状シール材４の液晶注入口形成部の先端と基板２，３との密着強度が悪くなる。
【００４４】
そこで、この実施例では、図５に示したように、前記基板材１０，１１の複数の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも内側に、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部に対応させて前記高密着性薄膜１６を形成しておき、前記低密着性薄膜１５が前記基板領域１２，１３の内側にずれて印刷され、その縁部が前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも内側に入り込んだ場合でも、その部分が前記高密着性薄膜１６を介して基板材１０，１１の基板領域１２，１３に高い密着強度で密着するようにしている。
【００４５】
なお、この実施例では、前記高密着性薄膜１６を、前記基板材１０，１１の基板領域１２，１３に設ける信号電極及び走査電極と同じ透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）により、前記電極の形成と同時に形成している。
【００４６】
この透明導電膜からなる高密着性薄膜１６は、前記基板材１０，１１上に透明導電膜を成膜し、その透明導電膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングする方法により、高い位置精度で形成することができる。
【００４７】
そして、前記透明導電膜からなる高密着性薄膜１６は、ガラスからなる基板材１０，１１とポリイミドからなる低密着性薄膜１５の両方に対する密着強度が前記基板材１０，１１と低密着性薄膜１５との密着強度よりも充分強いため、前記低密着性薄膜１５の前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも内側に入り込んだ部分を、前記基板材１０，１１の基板領域１２，１３に高い密着強度で密着させることができる。
【００４８】
この実施例の製造方法によれば、前記低密着性薄膜１５がその印刷精度の誤差により前記基板領域１２，１３の内側にずれて印刷された場合でも、前記低密着性薄膜１５の前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも内側に入り込んだ部分を前記高密着性薄膜１６を介して基板材１０，１１の基板領域１２，１３に高い密着強度で密着させ、枠状シール材４の液晶注入口形成部の先端と基板２，３との密着強度を充分高くした液晶セル１を製造することができる。
【００４９】
なお、上記第１及び第２の実施例では、低密着性薄膜１５を第１と第２の基板材１０，１１の両方に形成しているが、前記低密着性薄膜１５（第２の実施例の場合は高密着性薄膜１６と低密着性薄膜１５）は、前記第１と第２の基板材１０，１１のいずれか一方だけに形成してもよく、その場合でも、前記セル集合体を複数の液晶セル１に分離する際に、前記低密着性薄膜１５を形成した基板材と、枠状シール材４の液晶注入口形成部の基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分との接合部を前記低密着性薄膜１５を剥離層として剥離させ、前記第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って精度良く折断することができる。
【００５０】
このように前記低密着性薄膜１５を第１と第２の基板材１０，１１のいずれか一方だけに形成する場合は、前記セル集合体の第１と第２の基板材１０，１１をそれぞれ前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａに沿って折断して複数の液晶セル１に分離したときに、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部のうち、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分が、前記低密着性薄膜１５を形成しない他方の基板材に密着したまま残る。
【００５１】
そのため、前記低密着性薄膜１５を第１と第２の基板材１０，１１のいずれか一方だけに形成する場合は、この低密着性薄膜１５を、端子配列部２ａを有する複数の基板領域１２を連続的に並べて形成した第１の基板材１０に形成するのが好ましい。
【００５２】
このように、低密着性薄膜１５を端子配列部２ａを有する複数の基板領域１２を形成した第１の基板材１０に形成すれば、前記枠状シール材４の液晶注入口形成部のうち、前記基板領域１２，１３の輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分が前記端子配列部２ａに残ることはないため、前記端子配列部２ａに余計な突起部を生じさせてしまうことはなく、また、前記枠状シール材４の前記輪郭線１２ａ，１３ａよりも外側に突出する部分を第２の基板材１１の複数の基板領域１３の間の捨て領域１４に密着させたままこの捨て領域１４と一緒に廃棄処分することができる。
【００５３】
また、上記実施例では、前記低密着性薄膜１５をポリイミドにより形成しているが、この低密着性薄膜１５は、前記基板材１０，１１に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い他の材料により形成してもよい。
【００５４】
さらに前記低密着性薄膜１５は、前記基板材１０，１１に対する密着強度が高く、枠状シール材４に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い材料で形成しても、また、前記基板材１０，１１と枠状シール材４の両方に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い材料により形成してもよい。
【００５５】
なお、前記第１の基板材１０の基板領域１２の端子配列部２ａに、基板材１０，１１に対する密着強度が高く、枠状シール材４に対する密着強度が前記基板材１０，１１と枠状シール材４との密着強度よりも弱い低密着性薄膜を形成した場合は、その低密着性薄膜が前記端子配列部２ａに密着したまま残るが、この低密着性薄膜は極く薄いため、前記端子配列部２ａに余計な突起部を生じさせてしまうことはない。
【００５６】
また、上記実施例の製造方法は、図４に示した液晶セル１の製造に適用する方法であるが、この発明は、信号電極基板の一端縁部と走査電極基板の一側縁部とにそれぞれ端子配列部を形成した単純マトリックス型液晶セルの製造にも利用することができ、その場合は、第１と第２の基板材にそれぞれ、端子配列部を有する複数の基板領域と、他方の基板材の基板領域の端子配列部に対応する複数の捨て領域とを連続的に並べて形成し、前記第１と第２のいずれか一方の基板材の複数の基板領域の端子配列部と他方の基板材の前記捨て領域のうち、少なくとも前記端子配列部に低密着性薄膜を形成すればよい。
【００５７】
さらに、この発明は、単純マトリックス型の液晶セルに限らず、例えば、一方の基板の内面に複数のマトリックス状に配列する複数の画素電極と、前記複数の画素電極にそれぞれ接続された複数のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）と、前記複数のＴＦＴにゲート信号を供給する複数のゲート配線と、前記複数のＴＦＴにデータ信号を供給する複数のデータ配線とを設け、他方の基板に前記複数の画素電極に対向する対向電極を設けるとともに、前記一方の基板の一端縁部と一側縁部とにゲート配線端子の配列部とデータ配線端子の配列部とを形成したアクティブマトリックス型液晶セルの製造にも適用することができる。
【００５８】
【発明の効果】
この発明の液晶セルの製造方法は、複数の基板領域を有する第１と第２の基板材の少なくとも一方に、前記複数の基板領域にそれぞれ設ける枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対する密着強度が前記基板材と枠状シール材との密着強度よりも弱い低密着性薄膜を、前記基板領域の輪郭線からその基板領域の外側の部分にわたって形成し、前記第１と第２のいずれかの基板材の前記複数の基板領域にそれぞれ前記枠状シール材を、その液晶注入口形成部の外端を前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出させて前記低密着性薄膜に対応させた形状に印刷し、これらの枠状シール材を介して前記第１と第２の基板材を接合してセル集合体を組立てた後、前記第１と第２の基板材をそれぞれ前記複数の基板領域の輪郭線に沿って折断して複数の液晶セルに分離するものであるため、液晶注入口の外端を一対の基板の側縁に一致させた液晶注入時の液晶の無駄が少ない液晶セルを歩留り良く製造することができる。
【００５９】
この製造方法においては、前記第１の基板材に、前記枠状シール材の液晶注入口形成部に対応する縁部以外の少なくとも一つの縁部に前記第２の基板材の基板領域の外方に張出す端子配列部を有する複数の基板領域を連続的に並べて形成し、前記第２の基板材に、前記第１の基板材の複数の基板領域の前記端子配列部を除く部分にそれぞれ対応する複数の基板領域と前記端子配列部に対応する複数の捨て領域とを連続的に並べて形成し、前記第１の基板材の複数の基板領域の前記端子配列部と前記第２の基板材の前記捨て領域のうち、少なくとも前記端子配列部に前記低密着性薄膜を形成するのが好ましく、このようにすることにより、前記枠状シール材の液晶注入口形成部のうち、前記基板領域の輪郭線よりも外側に突出する部分が前記端子配列部に残らないようにすることができる。。
【００６０】
また、前記低密着性薄膜は、前記基板材と枠状シール材の少なくとも一方に対して、前記セル集合体を複数の液晶セルに分離する際に生じる応力により剥離する密着強度を有しているのが望ましく、このようにすることにより、前記第１と第２の基板材をそれぞれ、前記基板領域の輪郭線に沿ってさらに精度良く折断することができる。
【００６１】
さらに、この製造方法においては、前記低密着性薄膜を形成する基板材の複数の基板領域の輪郭線よりも内側に、枠状シール材の液晶注入口形成部に対応させて、前記基板材と低密着性薄膜の両方に対する密着強度が前記基板材と前記低密着性薄膜との密着強度よりも強い高密着性薄膜を形成しておくのが好ましく、このようにすることにより、前記低密着性薄膜がその印刷精度の誤差により前記基板領域の内側にずれて印刷された場合でも、前記低密着性薄膜の前記基板領域の輪郭線よりも内側に入り込んだ部分を前記高密着性薄膜を介して基板材の基板領域に高い密着強度で密着させ、前記枠状シール材の液晶注入口形成部の先端と基板との密着強度を充分高くした液晶セルを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施例を示す組立てられた液晶セル集合体の平面図。
【図２】図１のII―II線に沿う拡大断面図。
【図３】前記液晶セル集合体の分離状態を示す断面図。
【図４】分離された液晶セルの正面図。
【図５】この発明の第２の実施例を示す組立てられた液晶セル集合体の一部分の断面図。
【符号の説明】
１…液晶セル、２，３…基板、２ａ端子配列部、４…シール材、５…液晶注入口、１０，１１…基板材、１２，１３…基板領域、１４…捨て領域、１５…低密着性薄膜、１６…高密着性薄膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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