(57)【要約】【課題】処理液を排出するための配管径を小さくし、工場側の廃液設備スペースを小さくすることができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】接続管３０ｂ、３０ｄ、３０ｅは、それぞれ開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅを有し、純水が貯留される処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅにおける排出口２１ｂ、２１ｄ、２１ｅと、廃液タンク４０における流入口４１ｂ、４１ｄ、４１ｅとを接続する。また、廃液管５０は、開閉弁５１を有し、廃液タンク４０における排出口４２と、工場の廃液管６０とを接続する。なお、接続管３０における開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅ、および廃液管５０における開閉弁５１は、この基板処理装置における制御手段としての制御部により、互いに遅延して開閉制御される構成となっている。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理液中に浸漬することにより基板を処理する基板処理装置において、
処理液を排出するための排出口を各々有する複数の処理槽と、
前記各排出口に接続された複数の接続管と、
前記各接続管に配設された複数の開閉弁と、
前記各接続管に連結され、前記各接続管から排出される処理液を外部へ排出するための廃液管と、
前記複数の開閉弁を、互いに遅延させて開放する制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記複数の開閉弁を開閉制御することにより、前記複数の接続管から排出される処理液の量を、前記廃液管から外部に排出可能な処理液の量よりも小さくした基板処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記複数の接続管から排出される処理液は、廃液タンクを介して前記廃液管へ排出される基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記廃液タンクは、その内部に所定量以上の処理液が貯留されたことを検出する検出手段を備える基板処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記制御手段は、前記複数の開閉弁のうち一の開閉弁のみを開放するように制御する基板処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記複数の処理槽には、純水が貯留される基板処理装置。
【請求項７】
基板を、薬液を貯留する処理槽と純水を貯留する複数の処理槽に順次浸漬することにより当該基板を処理する基板処理装置において、
前記純水を貯留する処理槽に形成された純水排出用の排出口と各々接続された複数の接続管と、
前記各接続管に連結され、前記各接続管から排出される処理液を外部へ排出するための廃液管と、
前記複数の開閉弁を、互いに遅延させて開放する制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハや液晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光ディスク用の基板等を浸漬することにより基板の処理を行う基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ等を浸漬することにより基板の処理を行う基板処理装置として、例えば特許文献１または特許文献２に記載される装置が開示されている。
【０００３】
特許文献１には、所定の表面処理液を貯留した複数の処理槽と、複数枚のウエハを搬送するウエハ搬送装置と、前記複数の処理槽のうち所定の処理槽における表面処理毎に搬送されるウエハの枚数を計測するウエハ枚数の検知手段とを備える基板処理装置が記載されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平５−１５２４２３
【０００５】
また、特許文献２には、被処理体を薬液洗浄するための処理槽と、被処理体を水洗浄するための処理槽と、被処理体を有機溶媒の蒸気による乾燥処理を行うための乾燥処理槽と、これらの処理槽の間で被処理体を搬送する搬送手段とを備えた基板処理装置が記載されている。
【０００６】
【特許文献２】
特開平９−２８３４８３
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１や特許文献２に記載された基板処理装置においては、基板の処理に使用した処理液は、一定量の基板を処理する毎に交換する必要がある。特に、基板の洗浄に使用した処理液としての純水は、基板を薬液処理するための処理液としての薬液に比べて頻繁に交換する必要がある。一方、このような基板処理装置には、純水を貯留する処理槽が複数個配設されている。このため、特許文献１や特許文献２に記載された基板処理装置においては、交換すべき純水を複数の処理槽から同時に排出する必要がある場合にも、各処理槽から基板処理装置の外部に純水がスムースに排出しうるように、処理槽から外部へ接続する配管を大きい径のものとしなければならない。このため、工場側の廃液設備に広大なスペースを要するという問題が生ずる。
【０００８】
この発明は、以上のような課題を解決するためになされたものであり、処理液を排出するための配管径を小さくし、工場側の廃液設備スペースを小さくすることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板を処理液中に浸漬することにより基板を処理する基板処理装置において、処理液を排出するための排出口を各々有する複数の処理槽と、前記各排出口に接続された複数の接続管と、前記各接続管に配設された複数の開閉弁と、前記各接続管に連結され、前記各接続管から排出される処理液を外部へ排出するための廃液管と、前記複数の開閉弁を、互いに遅延させて開放する制御手段とを備えることを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記複数の開閉弁を開閉制御することにより、前記複数の接続管から排出される処理液の量を、前記廃液管から外部に排出可能な処理液の量よりも小さくした。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記複数の接続管から排出される処理液は、廃液タンクを介して前記廃液管へ排出される。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の基板処理装置において、前記廃液タンクは、その内部に所定量以上の処理液が貯留されたことを検出する検出手段を備える。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置において、前記制御手段は、前記複数の開閉弁のうち一の開閉弁のみを開放するように制御する。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記複数の処理槽には、純水が貯留される。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、基板を、薬液を貯留する処理槽と純水を貯留する複数の処理槽に順次浸漬することにより当該基板を処理する基板処理装置において、前記純水を貯留する処理槽に形成された純水排出用の排出口と各々接続された複数の接続管と、前記各接続管に連結され、前記各接続管から排出される処理液を外部へ排出するための廃液管と、前記複数の開閉弁を、互いに遅延させて開放する制御手段とを備えることを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施形態について図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置を示す概略図である。
【００１７】
この基板処理装置は、基板１を浸漬するための薬液を貯留する処理槽２０ａ、２０ｃと、基板１を浸漬するための純水を貯留する処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅ（以下、これらの処理槽２０ａ乃至２０ｅを「処理槽２０」と総称する）と、基板１を保持し、各処理槽２０へ順次浸漬させるための基板搬送機構１０と、純水を貯留する処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅからの使用済みの純水を一時貯留するための廃液タンク４０と、純水を貯留する処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅと廃液タンク４０とを接続する接続管３０ｂ、３０ｄ、３０ｅ（以下、これらの接続管３０ｂ、３０ｄ、３０ｅを「接続管３０」と総称する）と、廃液タンク４０と工場の廃液管６０とを接続する廃液管５０とを備える。
【００１８】
基板搬送機構１０は、基板１を処理槽２０に順次浸漬させるために備えられ、基板１を保持可能な基板保持部１１と、この基板保持部１１を図１の矢印に示すように紙面上下左右方向に搬送可能とする移動部１２を備える。
【００１９】
また、処理槽２０ａには硫酸、処理槽２０ｂには純水、処理槽２０ｃには塩酸、処理槽２０ｄには純水、処理槽２０ｅにはリンス液としての純水がそれぞれ貯留される構成となっている。そして、各処理槽２０は、それぞれに貯留された純水を排出するための排出口２１ａ乃至２１ｅ（以下、これらの排出口２１ａ乃至２１ｅを「排出口２１」と総称する）を有する。
【００２０】
廃液タンク４０は、純水が貯留される処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅからの純水を流入させるための流入口４１ｂ、４１ｄ、４１ｅと、廃液タンク４０に流入した純水を廃液管５０へ廃液するための排出口４２と、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されたことを検出する図示しない検出手段４３（図２参照）とを備える。
【００２１】
なお、処理槽２０ａの排出口２１ａおよび処理槽２０ｃの排出口２１ｃは、各々、専用の廃液管と接続されている。
【００２２】
接続管３０ｂ、３０ｄ、３０ｅは、それぞれ開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅを有し、純水が貯留される処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅにおける排出口２１ｂ、２１ｄ、２１ｅと、廃液タンク４０における流入口４１ｂ、４１ｄ、４１ｅとを接続する。また、廃液管５０は、開閉弁５１を有し、廃液タンク４０における排出口４２と、工場の廃液管６０とを接続する。なお、接続管３０における開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅ、および廃液管５０における開閉弁５１は、この基板処理装置における制御手段としての制御部７０（図２参照）により、後に詳細に説明するように互いに遅延して開閉制御される構成となっている。
【００２３】
図２は、この発明に係る基板処理装置における処理液の排出についての電気的制御を示すブロック図である。
【００２４】
基板処理装置は、接続管３０における開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅ、廃液管５０における開閉弁５１、および廃液タンク４０における検出手段４３と電気的に制御する制御手段として制御部７０を備える。
【００２５】
この基板処理装置は、処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅから排出される純水の量が工場の廃液管６０に排出可能な純水の量を超えないように調整するため、制御部７０の制御により、接続管３０における開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅのうち一の開閉弁のみを開放するように制御する。このとき、この基板処理装置は、処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅ内の純水を入れ替えることにより、基板１の処理を行えない無駄な時間を短縮させるため、制御部７０の制御により基板１の処理を終えた処理槽２０から順に純水を排出する。
【００２６】
次に、この発明に係る基板処理装置の動作について説明する。図３は、この発明の基板処理装置において基板を処理する作業工程を示すフローチャートである。
【００２７】
まず、図１に示されるように、基板搬送機構１０における基板保持部１１によりカセット２内に装填された基板１を保持し、移動部１２を紙面上方に搬送させることにより、カセット２から基板１を取り出す。
【００２８】
基板搬送機構１０に保持された基板１は、硫酸を貯留する処理槽２０ａに浸漬される（ステップＳ１）。処理槽２０ａへの浸漬が終わると、基板１は、純水を貯留する処理槽２０ｂに浸漬される（ステップＳ２）。
【００２９】
ステップＳ２における処理槽２０ｂへの基板１の浸漬が終わると、処理槽２０ｂに貯留される純水が排出される。このとき、廃液タンク４０における検出手段４３（図２参照）により、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されているか否かの判断がされる（ステップＳ３）。そして、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていないと判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｂにおける開閉弁３１ｂが開放される。これにより、処理槽２０ｂ内の純水が排出される（ステップＳ４）。
【００３０】
一方、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていると判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｂにおける開閉弁３１ｂが閉鎖される。これにより、廃液タンク４０内の純水が所定量以下となるまで処理槽２０ｂ内の純水の排出を延期する。
【００３１】
また、ステップＳ４により処理槽２０ｂ内の純水の排出が完了すると、次の基板１を早期に処理するために、接続管３０ｂにおける開閉弁３１ｂが閉鎖され、処理槽２０ｂへ純水を供給するための図示しない純水供給装置により、処理槽２０ｂ内に純水が供給される。
【００３２】
ステップＳ４において処理槽２０ｂ内の純水が排出され始めると、基板１は、塩酸を貯留する処理槽２０ｃに浸漬される（ステップＳ５）。処理槽２０ｃへの浸漬が終わると、基板１は、純水を貯留する処理槽２０ｄに浸漬される（ステップＳ６）。
【００３３】
ステップＳ６における処理槽２０ｄへの基板１の浸漬が終わると、処理槽２０ｄに貯留される純水が排出される。このとき、廃液タンク４０における検出手段４３により、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されているか否かの判断がされる（ステップＳ７）。そして、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていないと判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｄにおける開閉弁３１ｄが開放される。これにより、処理槽２０ｄ内の純水が排出される（ステップＳ８）。
【００３４】
一方、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていると判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｄにおける開閉弁３１ｄが閉鎖される。これにより、廃液タンク４０内の純水が所定量以下となるまで処理槽２０ｄ内の純水の排出を延期する。
【００３５】
また、ステップＳ８により処理槽２０ｄ内の純水の排出が完了すると、次の基板１を早期に処理するために、接続管３０ｄにおける開閉弁３１ｄが閉鎖され、処理槽２０ｄへ純水を供給するための図示しない純水供給装置により、処理槽２０ｄ内に純水が供給される。
【００３６】
ステップＳ８において処理槽２０ｄ内の純水が廃液され始めると、基板１は、リンス液としての純水を貯留する処理槽２０ｅに浸漬される（ステップＳ９）。処理槽２０ｅへの浸漬が終わると、処理槽２０ｅに貯留される純水が排出される。このとき、廃液タンク４０における検出手段４３により、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されているか否かの判断がされる（ステップＳ１０）。そして、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていないと判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｅにおける開閉弁３１ｅが開放される。これにより、処理槽２０ｅ内の純水が排出される（ステップＳ１１）。
【００３７】
一方、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていると判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｅにおける開閉弁３１ｅが閉鎖される。これにより、廃液タンク４０内の純水が所定量以下となるまで処理槽２０ｅ内の純水の排出を延期する。
【００３８】
また、ステップＳ１１により処理槽２０ｅ内の純水の排出が完了すると、次の基板１を早期に処理するために、接続管３０ｅにおける開閉弁３１ｅが閉鎖され、処理槽２０ｅへリンス液としての純水を供給するための図示しないリンス液供給装置により、処理槽２０ｅ内に純水が供給される。
【００３９】
その後、基板１は、例えばＩＰＡ蒸気中に浸漬されることにより乾燥処理を行う乾燥処理槽に搬送される。
【００４０】
このような基板処理装置によれば、全ての処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅから純水を排出するための複数の開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅが遅延した状態で開放されることから、純水を排出するための配管径を小さくし、工場側の廃液設備スペースを小さくすることができる。
【００４１】
なお、上述した基板処理装置において、例えば、装置を停止させる場合等において、全ての処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅから純水を排出する必要がある場合には、以下の工程により作業が進められる。
【００４２】
図４は、全ての処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅから純水を排出する作業工程を示すフローチャートである。
【００４３】
まず、処理槽２０ｂに貯留される純水が排出される。このとき、廃液タンク４０における検出手段４３（図２参照）により、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されているか否かの判断がされる（ステップＳ２０）。そして、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていないと判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｂにおける開閉弁３１ｂが開放される。これにより、処理槽２０ｂ内の純水が排出される（ステップＳ２１）。
【００４４】
一方、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていると判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｂにおける開閉弁３１ｂが閉鎖される。これにより、廃液タンク４０内の純水が所定量以下となるまで処理槽２０ｂ内の純水の排出を延期する。
【００４５】
また、ステップＳ２１により処理槽２０ｂ内の純水の排出が完了すると、処理槽２０ｄに貯留される純水が排出される。このとき、廃液タンク４０における検出手段４３（図２参照）により、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されているか否かの判断がされる（ステップＳ２２）。そして、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていないと判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｄにおける開閉弁３１ｄが開放される。これにより、処理槽２０ｄ内の純水が排出される（ステップＳ２３）。
【００４６】
一方、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていると判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｄにおける開閉弁３１ｄが閉鎖される。これにより、廃液タンク４０内の純水が所定量以下となるまで処理槽２０ｄ内の純水の排出を延期する。
【００４７】
さらに、ステップＳ２３により処理槽２０ｄ内の純水の排出が完了すると、処理槽２０ｅに貯留される純水が排出される。このとき、廃液タンク４０における検出手段４３（図２参照）により、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されているか否かの判断がされる（ステップＳ２４）。そして、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていないと判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｅにおける開閉弁３１ｅが開放される。これにより、処理槽２０ｅ内の純水が排出される（ステップＳ２５）。
【００４８】
一方、廃液タンク４０内に所定量以上の純水が貯留されていると判断された場合には、検出手段４３より制御部７０へ信号が送られ、接続管３０ｅにおける開閉弁３１ｅが閉鎖される。これにより、廃液タンク４０内の純水が所定量以下となるまで処理槽２０ｅ内の純水の排出を延期する。
【００４９】
このように、全ての処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅから純水を排出する場合においても、全ての処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅから純水を排出するための複数の開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅが遅延した状態で開放されることから、純水を排出するための配管径を小さくし、工場側の廃液設備スペースを小さくすることができる。
【００５０】
なお、以上に記載した実施形態においては、接続管３０より排出される純水は廃液タンク４０を介して廃液管５０へ排出されることとしているが、接続管３０ｂ、３０ｄおよび３０ｅから排出される純水の量が廃液管５０から工場の配管に排出可能な純水の量よりも小さくなるように開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅが制御されることを条件に、純水が貯留される処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅに接続される接続管３０ｂ、３０ｄ、３０ｅから直接廃液管５０へ排出されることとしてもよい。例えば、接続管３０ｂ、３０ｄ、３０ｅに流量計が備えられ、接続管３０ｂ、３０ｄ、３０ｅに所定量以上の純水が排出されないように制御されることとしてもよい。
【００５１】
また、以上に記載した実施形態においては、開閉弁３１ｂ、３１ｄ、３１ｅのうち一の開閉弁のみを遅延させながら開放することとしているが、処理槽を多く備える場合には、そのうちの数個の開閉弁を一時に開放して、これらの開閉弁に対応する処理槽内の排水が完了した後、その他の数個の開閉弁を一時に開放することとしてもよい。
【００５２】
また、以上に記載した実施形態においては、基板１を硫酸、純水、塩酸、純水、リンス液の順に浸漬させることとしているが、この順序に限られるものではなく、また、これ以外の薬液を使用することとしてもよい。
【００５３】
さらに、以上に記載した実施形態においては、各処理槽２０内にはそれぞれに対して一種類の純水のみを供給しているが、各処理槽２０に多種類の処理液を供給可能な構成とするようにしてもよい。
【００５４】
【発明の効果】
請求項１乃至請求項７に記載の発明によれば、複数の開閉弁を、互いに遅延させて開放する制御手段を備えることから、処理液を排出するための配管径を小さくし、工場側の廃液設備スペースを小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る基板処理装置を示す概略図である。
【図２】この発明に係る基板処理装置における処理液の排出についての電気的制御を示すブロック図である。
【図３】この発明の基板処理装置において基板を処理する作業工程を示すフローチャートである。
【図４】全ての処理槽２０ｂ、２０ｄ、２０ｅから純水を排出する作業工程を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１      基板
２      カセット
１０    基板搬送機構
１１    基板保持部
１２    移動部
２０    処理槽
２１    排出口
３０    接続管
３１    開閉弁
４０    廃液タンク
４１    流入口
４２    排出口
４３    検出手段
５０    廃液管
５１    開閉弁
６０    工場の廃液管
７０    制御部
【図１】
2004363261.tif 000003
【図２】
2004363261.tif 000004
【図３】
2004363261.tif 000005
【図４】
2004363261.tif 000006