(57)【要約】【課題】転写膜の膜厚ムラやハジキの生じにくい転写方法及び転写用被覆剤を提供することにある。【解決手段】基材表面に、バインダー樹脂及び溶剤を必須成分として含有する被覆剤を転写する方法において、該被覆剤は、２０℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ、静置状態における表面張力が２８ｍＮ／ｍ以下であり、更に、静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤を、該被覆剤中の全溶剤に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特徴とする転写方法及び転写用被覆剤。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面に、バインダー樹脂及び溶剤を必須成分として含有する被覆剤を転写する方法において、該被覆剤は、２０℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ、静置状態における表面張力が２８ｍＮ／ｍ以下であり、更に、静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤を、該被覆剤中の全溶剤に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特徴とする転写方法。
【請求項２】
被覆剤の基材との静的接触角が３６゜以下である請求項１に記載の転写方法。
【請求項３】
静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍである溶剤が、パラフィン系溶剤、イソパラフィン系溶剤及びアルコール系溶剤から選ばれる少なくとも１種である請求項１又は２に記載の転写方法。
【請求項４】
沸点１７５℃以上で、かつ、静置状態における表面張力２７．５ｍＮ／ｍ以上の溶剤が、被覆剤中の全溶剤に対して１５質量％未満である請求項１〜３のいずれかに記載の転写方法。
【請求項５】
基材表面に転写するための、必須成分としてバインダー樹脂及び溶剤を含有する被覆剤において、該被覆剤は、２０℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ、静置状態における表面張力が２８ｍＮ／ｍ以下であり、更に、静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤を、該被覆剤中の全溶剤に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特徴とする転写用被覆剤。
【請求項６】
基材との静的接触角が３６゜以下である請求項５に記載の転写用被覆剤。
【請求項７】
静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍである溶剤が、パラフィン系溶剤、イソパラフィン系溶剤及びアルコール系溶剤から選ばれる少なくとも１種である請求項５又は６に記載の転写用被覆剤。
【請求項８】
沸点１７５℃以上で、かつ、静置状態における表面張力２７．５ｍＮ／ｍ以上の溶剤が、被覆剤中の全溶剤に対して１５質量％未満である請求項５〜７のいずれかに記載の転写用被覆剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基材表面に被覆剤を、ハジキや膜厚ムラの生じにくい状態で転写する方法及び基材への転写用被覆剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、プラスチック、紙、金属、木材、無機質等の各種素材からなる基材表面に、装飾、画像、機能性等を付与する目的で各種被覆剤が、印刷もしくは塗装されている。その印刷、塗装手段の一つとして、転写方法が知られている。
【０００３】
ところで、シート状、フィルム状あるいは板状の基材表面に被覆剤を転写する際、しばしば膜厚ムラやハジキが生じ易く、それを解消するため、通常、基材表面を特定の表面処理剤で予め処理したり、被覆剤に消泡剤や粘度調整剤等の各種添加剤を配合して解決していた。しかしながら、基材表面を表面処理剤で処理する方法は、処理工程が増え、またコストの面でも問題があり、更に、基材の種類毎に表面処理剤を開発する必要があり、それでもしばしば膜厚ムラやハジキ等が生じる問題があった。また、添加剤等を配合する方法も基材の種類に応じて被覆剤を配合設計しないと同様な問題がしばしば発生しており、更に、添加剤を多く配合すると膜性能に悪影響を及ぼす恐れがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、このような従来技術の課題を背景になされたもので、膜厚ムラや、ハジキの生じにくい転写方法及び転写用被覆剤を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明に従って、基材表面に、バインダー樹脂及び溶剤を必須成分として含有する被覆剤を転写する方法において、該被覆剤は、２０℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ、静置状態における表面張力が２８ｍＮ／ｍ以下であり、更に、静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤を、該被覆剤中の全溶剤に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特徴とする転写方法が提供される。
【０００６】
また、本発明に従って、基材表面に転写するための、必須成分としてバインダー樹脂及び溶剤を含有する被覆剤において、該被覆剤は、２０℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ、静置状態における表面張力が２８ｍＮ／ｍ以下であり、更に、静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤を、該被覆剤中の全溶剤に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特徴とする転写用被覆剤が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、転写される被覆剤として、特定の粘度と表面張力を有し、更に、特定の表面張力を有する溶剤を含有する被覆剤を使用することにより、上記課題が達成できることを見出し、本発明に到達したものである。
【０００８】
本発明で使用する被覆剤は、バインダー樹脂（必要に応じてその硬化剤併用）、それを溶解、もしくは安定に分散させるための溶剤を必須成分として含み、更に必要に応じて、通常、塗料やインクに使用されている着色顔料、体質顔料、染料、等の染顔料；分散剤、粘度調整剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、硬化促進剤等の各種添加剤を配合したものから構成される。
【０００９】
上記バインダー樹脂としては、通常、塗料やインクに使用されているものが特に制限なく利用可能であるが、具体的には、例えば、エポキシ樹脂や、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、アルキッド樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、あるいはこれら樹脂の変性樹脂等が代表的なものとして挙げられる。なお、これらバインダー樹脂は、必要に応じて、各バインダー樹脂と共に通常に使用されている硬化剤を併用してもよい。
【００１０】
また、上記溶剤としては、通常、塗料やインクに使用されているものが特に制限なく利用可能であるが、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール（アルコール系）；ヘキサン、オクタン、ノナン、デカン（パラフィン系）；イソヘキサン、イソオクタン、イソドデカン（イソパラフィン系）；イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル、ジイソアミルエーテル（エーテル系）；メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン（ケトン系）；酢酸メチル、酢酸エチル、ギ酸イソブチル（エステル系）；等の静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤が代表的なものとして挙げられ、これら溶剤は、二種以上の混合溶剤として使用してもよい。
【００１１】
また、これら溶剤に、通常、塗料やインクに使用されている、表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの範囲外の溶剤を併用することも可能である。
【００１２】
本発明で使用する被覆剤は、こうような成分から構成され、ハジキや膜厚ムラが生じないようにするため、以下の特性を有する必要がある。
【００１３】
（１）被覆剤は、２０℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは６０ｍＰａ・ｓ以下であること。
【００１４】
なお、粘度が１００ｍＰａ・ｓを超えると、転写膜の膜厚制御が困難となる。
【００１５】
粘度は、回転粘度計（例えば、（株）トキメック製、Ｂ型粘度計）にて測定される。
【００１６】
（２）被覆剤は、静止状態における表面張力が２８ｍＮ／ｍ以下、好ましくは２２〜２６ｍＮ／ｍであること。
【００１７】
なお、表面張力が、２８ｍＮ／ｍを超えると薄膜、例えば、５μｍ以下の膜厚制御が困難となる。
【００１８】
（３）被覆剤の構成成分である溶剤として、静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍ、好ましくは１８〜２６ｍＮ／ｍの溶剤を、全溶剤に対して５〜１００質量％、好ましくは１０〜９０質量％含有すること。
【００１９】
なお、表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤が、５質量％未満の場合、被覆剤の表面張力の調整が困難となる。
【００２０】
表面張力は、Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法（例えば、協和界面科学（株）製、表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ型）にて測定される。
【００２１】
更に、好ましくは、以下の（４）、（５）及び（６）の条件を満たす被覆剤が好ましい。
【００２２】
（４）被覆剤の、転写される基材との静的接触角が３６°以下、より好ましくは３２°以下、更に好ましくは３０°以下であること。
【００２３】
なお、静的接触角が３６°を超えると、被覆剤の精密な印刷、塗装の制御が難しくなり、また、ハジキや膜厚ムラも生じ易くなる傾向にある。
【００２４】
静的接触角は、液滴法（例えば、協和界面科学（株）製、接触角計ＣＡ−Ｘ型）にて測定される。
【００２５】
（５）静置状態における表面張力が１７〜２７ｍＮ／ｍの溶剤が、パラフィン系溶剤、イソパラフィン系溶剤、アルコール系溶剤であること。
【００２６】
なお、溶剤として、パラフィン系溶剤、イソパラフィン系溶剤あるいはアルコール系溶剤を全く含まない場合、転写ロールがシリコーンゴム系の場合、転写ロールの溶解や膨潤が生じ易く、ロールを傷めるだけでなく、転写が不完全になったり膜厚ムラが生じ易くなる傾向にある。
【００２７】
（６）沸点１７５℃以上で、かつ、静置状態における表面張力２７．５ｍＮ／ｍ以上の溶剤が全溶剤に対して１５質量％未満であること。
【００２８】
なお、この溶剤が１５質量％以上となると、被覆剤の乾燥が遅くなるため、膜厚制御が困難となるので好ましくない。
【００２９】
本発明の転写方法は、以上説明した（１）〜（３）の条件、好ましくは（１）〜（６）の条件を満たす方法で実施することにより、ハジキや膜厚ムラのない転写膜が形成される。
【００３０】
なお、これら条件を満たすためには、実際に転写される基材を使用して、上記被覆剤のバインダー樹脂や溶剤等の構成成分の種類、量等を事前に調整し、被覆剤の上記特性を確認測定して決定すればよい。
【００３１】
なお、被覆剤中のバインダー樹脂や溶剤の量は、それらの種類や形成する膜厚等により任意に決定されるが、通常、バインダー樹脂５〜５０質量％、溶剤９５〜５０質量％が適当である。
【００３２】
転写方法としては、転写する目的や用途に応じて決定すればよく、例えば、ロールコーター法、ダイコーター法、ブレードコーター法、グラビアコート法、フローコーター法及びバーコート法等が代表的な方法として挙げられる。
【００３３】
【実施例】
以下、実施例により、更に詳細に説明する。なお、実施例中の「部」、「％」は、特に断らない限り、質量基準として示す。
【００３４】
（被覆剤の調製）
「被覆剤Ａ」
メチルイソブチルケトン（表面張力２３．６ｍＮ／ｍ；２０℃）５９％のアクリル樹脂溶液７２部に、メチルイソブチルケトン２８部と、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル（表面張力２７．７ｍＮ／ｍ；２０℃、沸点１８９℃）１５部を加え、被覆剤Ａを調製した。なお、被覆剤Ａは、２０℃における粘度が３６ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が２６ｍＮ／ｍであった。
【００３５】
「被覆剤Ｂ」
イソパラフィン系炭化水素［商品名：ＩＰソルベント１６２０、出光石油化学（株）製、（表面張力２４．０ｍＮ／ｍ；２０℃）］６０％のアクリル樹脂溶液６８部に、ｎ−オクタン（表面張力２１．８ｍＮ／ｍ；２０℃）２２部と、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル１３部を加え、被覆剤Ｂを調製した。なお、被覆剤Ｂは、２０℃における粘度が３７ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が２６ｍＮ／ｍであった。
【００３６】
「被覆剤Ｃ」
酢酸２−エチルヘキシル（表面張力２５．９ｍＮ／ｍ；２０℃）４８％のアクリル樹脂溶液５０部に、イソプロピルアルコール（表面張力２１．７ｍＮ／ｍ；２０℃）４３部と、ｎ−ドデシルアルコール（表面張力２８．６ｍＮ／ｍ；２０℃、沸点２５９℃）２部を加え、被覆剤Ｃを調製した。なお、被覆剤Ｃは、２０℃における粘度が３２ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が２４ｍＮ／ｍであった。
【００３７】
「被覆剤Ｄ」
乳酸エチル（表面張力２９．２ｍＮ／ｍ；２０℃、沸点１５４℃）５５％のアクリル樹脂溶液６２部に、酢酸−イソプロピル（表面張力２１．２ｍＮ／ｍ；２０℃）４３部と、ｎ−ドデシルアルコール２部を加え、被覆剤Ｄを調製した。なお、被覆剤Ｄは、２０℃における粘度が２２ｍＰａ・ｓ、表面張力が２７ｍＮ／ｍであった。
【００３８】
「被覆剤Ｅ」
メチルイソブチルケトン４７％のアクリル樹脂溶液１６０部に、メチルイソブチルケトン１５部と、ｎ−ドデシルアルコール２部を加え、被覆剤Ｅを調製した。なお、被覆剤Ｅは、２０℃における粘度が１３４ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が２５ｍＮ／ｍであった。
【００３９】
「被覆剤Ｆ」
メチルイソブチルケトン４７％のアクリル樹脂溶液６３部に、シクロヘキサノン（表面張力３４．５ｍＮ／ｍ；２０℃、沸点１５６℃）２８部と、ｎ−ドデシルアルコール２部を加え、被覆剤Ｆを調製した。なお、被覆剤Ｆは、２０℃における粘度が３８ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が３４ｍＮ／ｍであった。
【００４０】
「被覆剤Ｇ」
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（表面張力２８．２ｍＮ／ｍ；２０℃）４９％のアクリル樹脂溶液６１部に、イソヘキサン（表面張力１７．４ｍＮ／ｍ；２０℃）２部と、ジメチルシリコーンオイル（表面張力１６．０ｍＮ／ｍ；２０℃）１１部と、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル２部を加え、被覆剤Ｇを調製した。なお、被覆剤Ｇは、２０℃における粘度が４１ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が２７ｍＮ／ｍであった。
【００４１】
（基材）
厚さ１．２ｍｍ、幅７０ｍｍ、長さ１５０ｍｍのポリプロピレン板を基材Ａとし、同じ寸法のガラス板を基材Ｂとして使用した。
【００４２】
（実施例１〜８及び比較例１〜３）
各基材に、幅５０μｍの直線パターンの塗膜を形成するシリコーンゴムブランケットを有するグラビアコーターを用いて、膜厚が５μｍとなるように被覆剤Ａ〜Ｅを塗布し、転写された塗膜を得た。
【００４３】
形成させた塗膜につき、以下の通り、ハジキ、塗膜のパターン幅の均一性、膜厚の均一性の試験をし、その結果を表１に示した。
【００４４】
＜ハジキ試験＞
転写した塗膜のハジキ状態を目視判定した。
（評価基準）
○○：転写した直後の塗膜が、３０秒超える時間、はじかずに濡れている
○：転写した直後の塗膜が、１０〜３０秒、はじかずに濡れている
×：転写した直後の塗膜が、１０秒未満で、はじいてしまう
【００４５】
＜パターン幅の均一性試験＞
幅５０μｍの直線パターンと実際に形成された塗膜幅との差異を測定した。
（評価基準）
○○：０．２μｍ未満
○：０．２〜０．５μｍ
×：０．５μｍ超える
【００４６】
＜膜厚均一性試験＞
形成された塗膜の３０個所をランダムに膜厚測定し、最大膜厚と最小膜厚との差異を計算した。
（評価基準）
○○：０．１μｍ未満
○：０．１〜０．５μｍ
×：０．５μｍ超える
【００４７】
【表１】
2004051780.tif 000002
【００４８】
表１より明らかの通り、本発明の実施例１〜８は、良好な転写膜が得られた。一方、粘度の高い被覆剤を使用した比較例１、表面張力の高い被覆剤を使用した比較例２、表面張力２７ｍＮ／ｍ以下の溶剤量の少ない比較例３は、いずれも転写膜が不良であった。
【００４９】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば、転写膜の膜厚ムラやハジキの生じにくい転写方法及び転写用被覆膜を提供することが可能となった。