(57)【要約】【課題】処理ラインの一方から他方に基板を搬送する機能を有し、且つ搬送中に基板を効率的に処理することができる基板処理装置などを提供する。【解決手段】基板処理装置１０は、上下に並設された基板投入口１１ａ及び基板排出口１１ｂを備えた筐体状のカバー体１１と、カバー体１１内に内装された処理機構２０であって、基板投入口１１ａから搬入された基板を受容して支持する一方、基板排出口１１ｂから基板を排出する搬送・支持手段、搬送・支持手段を支持する支持架台２１、搬送・支持手段によって支持された基板を傾斜させる基板傾斜手段、搬送・支持手段の上方に配設され、基板傾斜手段によって傾斜せしめられた基板上に処理流体を吐出する処理流体吐出手段を備えた処理機構２０と、処理機構２０を支持して上下方向に昇降させ、処理機構２０を基板投入口１１ａ及び基板排出口１１ｂに経由せしめる昇降機構４０とから構成される。【選択図】　　　　　図３
2004140336.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上下に並設された基板投入口及び基板排出口を備えた筐体状のカバー体と、
前記カバー体内に内装された処理機構であって、前記基板投入口から搬入された基板を受容して支持する一方、前記基板排出口から前記基板を排出する搬送・支持手段と、該搬送・支持手段を支持する支持架台と、前記搬送・支持手段によって支持された基板を傾斜させる基板傾斜手段と、前記搬送・支持手段の上方に配設され、前記基板傾斜手段によって傾斜せしめられた基板上に処理流体を吐出する処理流体吐出手段とを備えた処理機構と、
前記処理機構を支持して上下方向に昇降させ、該処理機構を前記基板投入口及び基板排出口に経由せしめる昇降機構とを設けて構成したことを特徴とする昇降式基板処理装置。
【請求項２】
前記処理流体吐出手段が、処理流体としてエッチング液を吐出するように構成され、
前記基板傾斜手段が、前記基板を水平面に対して１°以上７．５°以下の角度で傾斜させるように構成されてなることを特徴とする請求項１記載の昇降式基板処理装置。
【請求項３】
前記処理流体吐出手段が、処理流体としてエッチング液を吐出するように構成され、
前記基板傾斜手段が、前記基板の傾斜方向に沿って流動する処理流体の加速度が、重力加速度の０．０２倍以上０．１３倍以下の範囲内となるように、前記基板を傾斜させるように構成されてなることを特徴とする請求項１記載の昇降式基板処理装置。
【請求項４】
前記処理流体吐出手段が、処理流体として洗浄液又は剥離液を吐出するように構成され、
前記基板傾斜手段が、前記基板を水平面に対して４５°以上７５°以下の角度で傾斜させるように構成されてなることを特徴とする請求項１記載の昇降式基板処理装置。
【請求項５】
前記処理流体吐出手段が、処理流体として洗浄液又は剥離液を吐出するように構成され、
前記基板傾斜手段が、前記基板の傾斜方向に沿って流動する処理流体の加速度が、重力加速度の０．７倍以上０．９７倍以下の範囲内となるように、前記基板を傾斜させるように構成されてなることを特徴とする請求項１記載の昇降式基板処理装置。
【請求項６】
前記処理機構が、前記処理流体吐出手段により吐出される処理流体の吐出方向を、前記基板の傾斜方向と平行であり且つ該基板と直交する平面内で揺動させる揺動手段を備えてなることを特徴とする請求項１乃至５記載のいずれかの昇降式基板処理装置。
【請求項７】
前記搬送・支持手段が、前記基板を受容した後、受容した基板を、前記基板の搬入／排出方向に、繰り返し前後動させるように構成されてなることを特徴とする請求項１乃至６記載のいずれかの昇降式基板処理装置。
【請求項８】
前記カバー体が、仕切り部材によって前記基板の搬入／排出方向に駆動室及び処理室の２つの室に分割されると共に、前記基板投入口及び基板排出口を有する前記処理室には前記処理機構が配設される一方、前記駆動室には前記昇降機構が配設されてなり、
前記仕切り部材には、上下方向に沿って、前記処理室と駆動室とを連通する開口部が形成され、
前記仕切り部材に形成された開口部の上下方向に沿った両縁部はそれぞれ筒状に形成され、且つ該一対の各筒状部には、相互に対向する面に、上下方向に沿った切り欠き溝が形成され、
前記処理機構は、その前記支持架台が、前記仕切り部材の開口部内に設けられた連結具によって前記昇降機構と連結せしめられ、
前記連結具には、前記一対の筒状部間に配設され、且つ前記連結具の上方及び下方に延在するように配設された帯状のシート体であって、その両側縁部がそれぞれ前記切り欠き溝から前記筒状部内に挿入せしめられたシート体が接続されてなり、
前記駆動室と処理室が、前記仕切り部材，連結具及びシート体によって仕切られてなることを特徴とする請求項１乃至７記載のいずれかの昇降式基板処理装置。
【請求項９】
前記開口部，連結具及びシート体の複数組が設けられてなることを特徴とする請求項８記載の昇降式基板処理装置。
【請求項１０】
前記筒状部内の気体を排気する排気手段を備えてなることを特徴とする請求項８又は９記載の昇降式基板処理装置。
【請求項１１】
前記シート体が無端，環状に形成されてなることを特徴とする請求項８乃至１０記載のいずれかの昇降式基板処理装置。
【請求項１２】
前記シート体の巻き取り／繰り出しを行う巻取／繰出機構を、前記シート体の上部側及び下部側のそれぞれに設け、前記昇降機構によって昇降せしめられる前記シート体の動きに応じ、該巻取／繰出機構によって前記シート体の巻き取り／繰り出しを行うように構成されてなることを特徴とする請求項８乃至１０記載のいずれかの昇降式基板処理装置。
【請求項１３】
前記巻取／繰出機構は、前記シート体を巻き取る巻取軸と、該巻取軸を回転させる駆動手段とから構成され、
前記駆動手段は、前記巻取軸が繰出方向に回転する際には、制動力のみを巻取軸に作用させる一方、前記巻取軸を巻取方向に回転させる際には、摩擦クラッチを介して前記巻取軸に動力を伝達するように構成されてなることを特徴とする請求項１２記載の昇降式基板処理装置。
【請求項１４】
前記駆動手段が、前記巻取軸に連結した受動歯車と、この受動歯車に噛合した駆動歯車と、駆動歯車に連結された摩擦クラッチと、摩擦クラッチに連結された回転軸と、回転軸の両端部にそれぞれ連結し、回転軸の回転を一方向にのみ許容する２つの一方向クラッチと、一方の前記一方向クラッチを介して前記回転軸に連結されたプーリと、該プーリに巻回された伝動ベルトと、他方の前記一方向クラッチを支持する支持部材とから構成され、
前記２つの一方向クラッチが、前記巻取軸を巻取方向に回転させる方向の前記回転軸の回転を許容する一方、前記巻取軸を繰出方向に回転させる方向の前記回転軸の回転を規制するように構成されるとともに、
前記伝動ベルトが前記昇降機構によって回動せしめられるように構成されてなることを特徴とする請求項１３記載の昇降式基板処理装置。
【請求項１５】
前記請求項１乃至１４記載のいずれかの昇降式基板処理装置を備えると共に、
基板を水平若しくは傾斜させた状態で移動させつつ処理を行う第１基板処理装置と第２基板処理装置とを上下に並設し、
前記第１基板処理装置の基板排出部と、前記昇降式基板処理装置の基板投入口とを接続させる一方、
前記第２基板処理装置の基板投入部と、前記昇降式基板処理装置の基板排出口とを接続させ、
基板を、第１基板処理装置，昇降式基板処理装置，第２基板処理装置に順次経由せしめるように構成したことを特徴とする基板処理システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体（シリコン）ウエハ，液晶ガラス基板，フォトマスク用ガラス基板，光ディスク用基板などの各種基板に対し、これを移動させながら（搬送しながら）所定の処理を行なう処理装置、並びに複数の処理装置を連結して構成される基板処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、液晶ガラス基板の製造工程では、現像液の塗布，エッチング液の塗布，レジスト膜を剥離するための剥離液の塗布といったウェットプロセス処理が行なわれ、各ウェットプロセス処理間では、洗浄処理及び乾燥処理が行なわれる。
【０００３】
そして、上記各処理を行なうための処理装置として、従来、搬送ローラ上に基板を載置して、当該搬送ローラによって基板を水平方向に移送しながら処理を行なうように構成された処理装置が知られており、更に、上記各処理を連続的に行なうために、各処理装置を連結して構成された図１５に示す如き基板処理システムが知られている。
【０００４】
図１５は、従来例に係る基板処理システムの概略構成を示した平面図であるが、同図１５に示すように、この基板処理システム２００は、基板投入／排出部２０１，基板処理部２０５及び基板搬送部２１０からなる。前記基板投入／排出部２０１は、複数の基板を収納したカセット２０３を載置する載置台２０２と、載置台２０２上に載置されたカセット２０３内から基板を一枚づつ取り出して基板処理部２０５に投入し、処理を終えた基板を基板処理部２０５から取り出してカセット２０３に格納する移戴装置２０４からなる。尚、移戴装置２０４は、通常、載置台２０２の長手方向に移動可能となったロボットから構成される。
【０００５】
前記基板処理部２０５は、相互に平行に並設された第１処理部２０６及び第２処理部２０７の２つの処理ラインからなり、第１処理部２０６及び第２処理部２０７は、図１６に示すように、それぞれ矢示方向に基板を搬送する複数の搬送ローラ２０８を備え、この搬送ローラ２０８によって基板を搬送しながら所定の処理を行なうようになっている。例えば、第１処理部２０６は基板をエッチングする処理部であり、搬送中の基板に対してエッチング液が塗布される。また、第２処理部２０７は、水洗処理部２０７ａ及び乾燥処理部２０７ｂからなり、水洗処理部２０７ａでは基板に洗浄水が供給され、乾燥処理部２０７ｂでは基板に乾燥用の気体が供給される。
【０００６】
前記基板搬送部２１０は、第１処理部２０６によって処理された基板を第２処理部２０７に搬送する手段であり、第１処理部２０６から排出された基板の搬送方向を切り換えて搬送する方向切換装置２１１と、方向切換装置２１１から排出された基板を前記排出方向に搬送する複数の搬送ローラ２１２と、搬送ローラ２１２によって搬送された基板を、その搬送方向を切り換えて第２処理部２０７に搬送する方向切換装置２１３とから構成される。
【０００７】
図１７に示すように、前記方向切換装置２１１は、第１処理部２０６を構成する搬送ローラ２０８の搬送面と同じ水平面内で同じ搬送方向に基板Ｋを搬送する複数の第１搬送ローラ２１４と、この第１搬送ローラ２１４間に配設され、第１搬送ローラ２１４の搬送面から上下方向に突没するリフタ２１５と、第１搬送ローラ２１４の上方に相互に対向して配設され、第１搬送ローラ２１４の中心軸と直交する中心軸を有し、基板Ｋを前記搬送ローラ２１２側に搬送する複数組みの第２搬送ローラ２１６とからなる。尚、互いに対向する第２搬送ローラ２１６は、相互に接近／離反する方向に移動可能となっている。また、図中、符号２１７は、基板Ｋの移動を制止するストッパを示している。
【０００８】
この方向切換装置２１１によると、第１処理部２０６から排出された基板Ｋは、第１搬送ローラ２１４によってストッパ２１７に当接するまで前記排出方向に搬送される。このときリフタ２１５は第１搬送ローラ２１４の搬送面から下方に没している。ついで、リフタ２１５が第１搬送ローラ２１４の搬送面から上方に突出し、これによって基板Ｋが図１７において２点鎖線で示す位置に上昇せしめられる。このとき第２搬送ローラ２１６は互いに離反した位置に在る。ついで、第２搬送ローラ２１６が相互に接近する位置に移動した後、リフタ２１５が降下する。これにより、基板Ｋは第２搬送ローラ２１６によって支持された状態になり、この後、この第２搬送ローラ２１６によって第１搬送ローラ２１４の搬送方向と直交する方向、即ち、搬送ローラ２１２側に搬送，排出せしめられる。この様にして基板Ｋの搬送方向が切り換えられる。
【０００９】
特に図示しないが、前記方向切換装置２１３も上述の方向切換装置２１１とほぼ同様の構成を備えており、搬送ローラ２１２によって搬送された基板Ｋを、その搬送方向を切り換えて第２処理部２０７に搬送する。
【００１０】
図１５に示すように、この基板処理システム２００は、第１処理部２０６，基板搬送部２１０及び第２処理部２０７が平面視Ｃ字形状に配設され、移戴装置２０４によってカセット２０３から取り出された基板Ｋは、まず、第１処理部２０６に投入される。ついで、基板Ｋは、第１処理部２０６内を矢示方向に搬送されながら所定の処理（エッチング処理）を施された後、基板搬送部２１０においてその搬送方向が切り換えられて第２処理部２０７に投入される。そして、基板Ｋは、第２処理部２０７内を矢示方向に搬送されながら所定の処理（水洗処理及び乾燥処理）を施された後、移戴装置２０４によって再びカセット２０３内に格納される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、第１処理部２０６及び第２処理部２０７において、搬送中に基板Ｋの姿勢が変化すると、例えば、搬送方向に対しこれと直交する方向に斜めに傾いたりすると、精度の良い処理を行なうことができない。そこで、従来、図１６に示すように、上記搬送ローラ２０８の両端部のローラに鍔部２０８ａを形成し、この鍔部２０８ａによって搬送中の基板Ｋの姿勢を制御するようにしている。このことは、上記第１搬送ローラ２１４及び第２搬送ローラ２１６についても同様である。ところが、このような鍔部２０８ａを設けると、当該鍔部２０８ａが障害となり、基板Ｋの搬送方向を搬送ローラ２０８の搬送面内で切り換えることができない。そこで、上述した方向切換装置２１１，２１３では、基板Ｋを鍔部２０８ａの上端より上方に持ち上げて、その搬送方向を切り換えるようにしている。
【００１２】
また、上記理由から基板Ｋを昇降させるように構成した基板搬送部２１０では、同部において基板Ｋの処理を行なうことができないため、基板Ｋの搬送のみを行なっていた。即ち、例えば、同部において基板の洗浄を行なう場合、基板Ｋを昇降させると、ノズルから噴射される洗浄液の強くあたるところと、そうでないところを生じ、洗浄効果にむらを生じるのである。
【００１３】
このため、従来の基板処理システム２００では、上記のように基板搬送部２１０において基板Ｋへの処理を行わないようにしているが、その一方で、このことにより却って、以下に説明するような問題を生じていた。
【００１４】
即ち、例えば、図１５に示した例のように、第１処理部２０６において基板Ｋにエッチング処理を施した後、未洗浄のままこれを搬送すると、第２処理部２０７への搬送時間のバラツキによってエッチングの進行度合いが異なってしまい、エッチングを高精度にコントロールすることができないのである。基板搬送部２１０は、基板Ｋを昇降させる機構及び第２搬送ローラ２１６を移動させる機構からなる複雑な動作機構を有するため、その搬送時間を高精度にコントロールするのは極めて困難である。
【００１５】
また、例えば、第１処理部２０６の最終工程を洗浄工程とした場合、基板Ｋを乾燥させないで搬送すると、表面に乾燥むらを生じたり、或いは染みを生じて、基板Ｋが不良品となる。
【００１６】
更に、上記従来の基板処理システム２００では、水平に支持した状態の基板Ｋを水平方向に搬送しながら、これにエッチング液や洗浄水といった各種の処理液を供給しているが、このように水平姿勢の基板Ｋに処理液を供給した場合、基板Ｋの表面上で処理液の液流が生じ難くく、当初に供給された処理液が基板Ｋ表面上に滞留するため、引き続き供給される新たな処理液との置換が行われ難くく、処理に時間がかかったり、均一な処理を行うことができないという問題もある。
【００１７】
その一方、基板Ｋ上に多量の処理液を供給するようにすれば、処理液の置換性を改善することができるが、多量の処理液を用いたのでは、効率的でなく、また、当該処理液を貯留するタンクの大型化など、装置の大型化を招くこととなる。
【００１８】
また、上記従来の基板処理システム２００では、第１処理部２０６と第２処理部２０７の２つの処理ラインを平行に並設しているので、装置の設置効率が悪いという問題もある。
【００１９】
本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであって、一方の処理ラインから他方の処理ラインに基板を搬送する機能を有すると共に、搬送中の基板に対して効率的に処理を行なうことができるようになった基板処理装置及びこれを備えた基板処理システムの提供をその目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段及びその効果】
上記目的を達成するための本発明は、上下に並設された基板投入口及び基板排出口を備えてなる筐体状のカバー体と、
前記カバー体内に内装された処理機構であって、前記基板投入口から搬入された基板を受容して支持する一方、前記基板排出口から前記基板を排出する搬送・支持手段と、該搬送・支持手段を支持する支持架台と、前記搬送・支持手段によって支持された基板を傾斜させる基板傾斜手段と、前記搬送・支持手段の上方に配設され、前記基板傾斜手段によって傾斜せしめられた基板上に処理流体を吐出する処理流体吐出手段とを備えてなる処理機構と、
前記処理機構を支持して上下方向に昇降させ、該処理機構を前記基板投入口及び基板排出口に経由せしめる昇降機構とを設けて構成したことを特徴とする昇降式基板処理装置に係る。
【００２１】
この昇降式基板処理装置によると、処理機構が昇降機構によって上下方向に昇降せしめられ、基板投入口及び基板排出口に経由せしめられる。そして、処理機構は、基板投入口に経由したときに、前工程の処理部から排出された基板を前記基板投入口から受容してこれを支持し、基板排出口に移動するまでの所定時間、処理流体吐出手段から基板上に処理流体を吐出する。これにより、基板は所定の処理が施され、処理後、前記基板排出口から次工程の処理部に排出，移送される。尚、処理流体が吐出され、所定の処理が行われる間、基板は基板傾斜手段によって水平面に対して所定角度だけ傾斜せしめられる。
【００２２】
このように、この昇降式基板処理装置によれば、基板を支持する搬送・支持手段及び支持された基板上に処理流体を吐出する処理流体吐出手段からなる処理機構全体を昇降させるようにしているので、基板を搬送する際に、基板と処理流体吐出手段との位置関係が変化することがなく、したがって、例えば、基板を洗浄する場合に、処理流体吐出手段から吐出される洗浄液を基板上の各部にほぼ均等に供給することが可能であり、むらのない洗浄を行なうことができる。
【００２３】
また、昇降機構によって処理機構を昇降させるという単一の動作で基板を搬送することができるので、その速度コントロールが容易であり、したがって、エッチングなどの処理を行なう場合にも、これを高精度にコントロールすることが可能である。
【００２４】
更に、傾斜させた基板に対して処理流体を吐出させるようにしているので、基板表面上に供給された処理流体は、基板の傾斜によって下方に流下する液流を生じ、かかる液流によって、基板表面上の処理流体が、継続的に供給される新たな処理流体によって順次置換されることになる。斯くして、この処理流体の置換作用により、少量の処理流体で、短時間の内に、しかも均一に基板表面を処理することができるのである。
【００２５】
尚、近年、基板大型化に伴って、これを処理するための処理流体の使用量や、処理時間が増加する傾向にあるが、上記のように基板を傾斜させて処理を行うことにより、その使用量の低減や装置の小型化を図ることができ、処理コストの低減を図ることができる。
【００２６】
本発明において、前記処理流体には、現像液，エッチング液，レジスト膜を剥離するための剥離液や、洗浄用の洗浄水，乾燥用の気体といった基板を処理するための各種の流体が含まれ、かかる各種の処理流体を基板上に供給して、これを処理することが可能である。
【００２７】
ところで、基板の傾斜角度は、基板表面上を流下する液流の速度を制御するものであり、言い換えれば、基板表面上に処理液が滞留する時間を制御するものであり、この速度が適当であるときに所望の処理効果を得ることができる。
【００２８】
この意味で、前記処理液吐出手段が処理流体としてエッチング液を吐出するように構成されている場合には、前記基板傾斜手段によって傾斜せしめられる基板の水平面に対する傾斜角度は、１°以上７．５°以下の範囲内であるのが好ましい（より好ましくは、２°以上５°以下）。傾斜角度が７．５°を超えると、液流の速度が速くなり過ぎ、即ち、基板表面におけるエッチング液の滞留時間が短くなり過ぎ、逆に、傾斜角度が５°未満では、液流の速度が遅くなり過ぎ、即ち、基板表面にエッチング液が長時間滞留することとなって、いずれも処理が十分に行われず、エッチング液の使用量が増大するからである。
【００２９】
尚、上記基板の傾斜角度が１°以上７．５°以下の場合、当該基板表面上を流下するエッチング液の加速度にこれを換算すると、当該加速度は重力加速度の０．０８倍以上０．１３倍以下の範囲となり、より好ましい範囲の２°以上５°以下の場合、重力加速度の０．０３倍以上０．０９倍以下の範囲となる。
【００３０】
また、前記処理液吐出手段が処理流体として洗浄液や剥離液を吐出するように構成されている場合には、前記基板傾斜手段によって傾斜せしめられる基板の水平面に対する傾斜角度は、４５°以上７５°以下の範囲内であるのが好ましい（より好ましくは、５５°以上７０°以下）。傾斜角度が７５°を超えると、液流の速度が速くなり過ぎ、即ち、基板表面における洗浄液や剥離液の滞留時間が短くなり過ぎ、逆に、傾斜角度が４５°未満では、液流の速度が遅くなり過ぎ、即ち、基板表面に洗浄液や剥離液が長時間滞留することとなって、いずれも処理が十分に行われず、洗浄液や剥離液の使用量が増大するからである。
【００３１】
尚、上記基板の傾斜角度が４５°以上７５°以下の場合、当該基板表面上を流下する洗浄液や剥離液の加速度にこれを換算すると、当該加速度は重力加速度の０．７倍以上０．９７倍以下の範囲となり、より好ましい範囲の５５°以上７０°以下の場合、重力加速度の０．８２倍以上０．９４倍以下の範囲となる。
【００３２】
また、前記処理機構は、処理流体吐出手段により吐出される処理流体の吐出方向を、前記基板の傾斜方向と平行であり且つ該基板と直交する平面内で揺動させる、即ち、基板の傾斜、上り方向と下り方向とに揺動させる揺動手段を備えた構成のものであっても良い。
【００３３】
このようにすれば、処理流体の吐出方向が基板の傾斜上り方向に揺動せしめられるときには、かかる揺動によって、処理流体を基板表面上に滞留させる作用が増大する一方、処理流体の吐出方向が基板の傾斜下り方向に揺動せしめられるときには、かかる揺動によって、基板表面上を流下する処理流体の速度が増大することになり、処理液の滞留と流下とが基板表面全体に渡って繰り返し生起されることとなる。斯くして、かかる作用により、基板表面全体を短時間の内に、しかもより少量の処理流体で均一に処理することが可能となる。
【００３４】
また、前記搬送・支持手段は、これを、前記基板を受容した後、受容した基板を、前記基板の搬入／排出方向に、繰り返し前後動させるように構成することができる。
【００３５】
上述したように、上記昇降式基板処理装置においては、処理流体吐出手段から吐出される処理流体を基板上の各部にほぼ均等に供給することが可能であるが、その一方で処理流体自体に、例えば、圧力の高いところと低いところがあるというようにむらを生じている場合があり、このような場合には、基板に対し、厳密な意味で均質な処理を行なうことができない。
【００３６】
そこで、上記のように、搬送・支持手段に受容，支持された基板を、その搬入／排出方向に繰り返し前後動させるように構成すれば、基板の前後動によって、基板に当たる処理流体の圧力むらが平均化され、基板に対して均質な処理を行なうことが可能となる。尚、この処理流体の圧力むらの平均化は、前記処理流体の吐出方向の揺動によっても行われる。
【００３７】
また、前記昇降式基板処理装置は、これを、そのカバー体が、仕切り部材によって、前記基板の搬入／排出方向に駆動室及び処理室の２つの室に分割されると共に、前記基板投入口及び基板排出口を有する前記処理室には前記処理機構が配設される一方、前記駆動室には前記昇降機構が配設されてなり、
前記仕切り部材には、その上下方向に沿って、前記処理室と駆動室とを連通するための開口部が形成され、
前記仕切り部材に形成された開口部の上下方向に沿った両縁部はそれぞれ筒状に形成され、且つ該一対の各筒状部には、相互に対向する面に、上下方向に沿った切り欠き溝が形成され、
前記処理機構は、その前記支持架台が、前記仕切り部材の開口部内に設けられた連結具によって前記昇降機構と連結せしめられ、
前記連結具には、前記一対の筒状部間に配設され、且つ前記連結具の上方及び下方に延在するように配設された帯状のシート体であって、その両側縁部がそれぞれ前記切り欠き溝から前記筒状部内に挿入せしめられたシート体が接続されてなり、
前記駆動室と処理室が、前記仕切り部材，連結具及びシート体によって仕切られた構成とすることができる。
【００３８】
処理流体に含まれる前記現像液，エッチング液や剥離液などは腐食性が高く、これが昇降機構に付着すると、当該昇降機構が損傷してその機能が損なわれる懸念がある。そこで、上記のように、昇降機構が配設される駆動室と、処理機構が配設される処理室とを、仕切り部材，連結具及びシート体によって仕切れば、処理室で使用される処理流体が駆動室に侵入するのを防止することができ、処理流体によって昇降機構が損傷するのを防止することができる。特に、仕切り部材に設けた開口部の上下方向に沿った縁部を筒状に形成するとともに、連結具の上方及び下方に延在するように配設されたシート体の両側縁部を、前記筒状部に形成された切り欠き溝から当該筒状部内に挿入せしめた、いわゆるラビリンス構造とすることで、駆動室及び処理室双方を気密性の高いものとすることが可能となる。
【００３９】
更に、前記開口部，連結具及びシート体は、これらを複数組設けた構成としても良い。また、前記筒状部内の気体を排気する排気手段を設けると、前記シート体と切り欠き溝との隙間から筒状部内に侵入した処理流体を、前記排気手段によって排気することができるので、駆動室への処理流体の侵入を更に確実に防止することができる。
【００４０】
また、前記シート体は、これを無端の環状に形成することができる。また、前記シート体の巻き取り／繰り出しを行う巻取／繰出機構を、前記シート体の上部側及び下部側のそれぞれに設け、前記昇降機構によって昇降せしめられる前記シート体の動きに応じ、当該巻取／繰出機構によって前記シート体の巻き取り／繰り出しを行うように構成しても良く、巻取／繰出機構は、前記シート体を巻き取る巻取軸と、該巻取軸を回転させる駆動手段とからこれを構成し、更に、前記駆動手段を、前記巻取軸が繰出方向に回転する際には、制動力のみを巻取軸に作用させる一方、前記巻取軸を巻取方向に回転させる際には、摩擦クラッチを介して前記巻取軸に動力を伝達するように構成しても良い。この巻取／繰出機構によれば、シート体に弛みを生じさせることなく、その巻き取り，繰り出しを行なうことができる。
【００４１】
更に、前記駆動手段は、これを、前記巻取軸に連結した受動歯車と、この受動歯車に噛合した駆動歯車と、駆動歯車に連結された摩擦クラッチと、摩擦クラッチに連結された回転軸と、回転軸の両端部にそれぞれ連結し、回転軸の回転を一方向にのみ許容する２つの一方向クラッチと、一方の前記一方向クラッチを介して前記回転軸に連結されたプーリと、該プーリに巻回された伝動ベルトと、他方の前記一方向クラッチを支持する支持部材とから構成し、前記２つの一方向クラッチを、前記巻取軸を巻取方向に回転させる方向の前記回転軸の回転を許容する一方、前記巻取軸を繰出方向に回転させる方向の前記回転軸の回転を規制するように構成するとともに、前記伝動ベルトが前記昇降機構によって回動せしめられるように構成することができる。
【００４２】
そして、上記構成の昇降式基板処理装置によれば、基板を水平若しくは傾斜させた状態で移動させつつ処理を行う第１基板処理装置と第２基板処理装置とを上下に並設し、第１基板処理装置の基板排出部と、前記昇降式基板処理装置の基板投入口とを接続させる一方、第２基板処理装置の基板投入部と、前記昇降式基板処理装置の基板排出口とを接続させ、基板を、第１基板処理装置，昇降式基板処理装置，第２基板処理装置に順次経由せしめるように構成した基板処理システムを構築することができ、第１基板処理装置と第２基板処理装置とを同一の水平平面内に並設した上記従来の処理システムと比べて、設置スペースが小さくて足りる基板処理システムとすることができる。
【００４３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施形態について添付図面に基づき説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示した正面図であり、図２はその平面図である。また、図３は、本実施形態に係る昇降式基板処理装置の概略構成を示した正断面図であり、図４は、本実施形態に係る洗浄装置の概略構成を示した正断面図であり、図５はその側断面図である。また、図６は、図５における矢視ＣＣ−ＣＣ方向の平断面図であり、図７は、図３における矢視ＡＡ−ＡＡ方向の平断面図であり、図８は、図３における矢視ＢＢ−ＢＢ方向の平断面図である。尚、図３は、図７における矢視ＤＤ−ＤＤ方向の断面図でもある。
【００４４】
まず、本例の基板処理システム１の構成について説明する。
図１及び図２に示すように、本例の基板処理システム１は、基板投入／排出部２、上下に並設された第１基板処理装置６及び第２基板処理装置７、並びに昇降式基板処理装置１０からなる。基板投入／排出部２は、複数の基板を収納したカセット５を載置する載置台４と、載置台４上に載置されたカセット５内から基板を一枚づつ取り出して第１基板処理装置６に投入する一方、処理を終えた基板を第２基板処理装置７から取り出してカセット５に格納する移戴装置３からなる。尚、移戴装置３は、載置台４の長手方向（矢示方向）に移動可能となったロボットから構成される。また、カセット５は図示しないＡＧＶなどの搬送装置によって搬送される。
【００４５】
前記第１基板処理装置６は、その基板投入側に、基板を水平状態から１°以上７．５°以下の角度（本例では７°）に傾斜させる基板傾斜機構部を備えるとともに、傾斜させた基板を引き続き傾斜した状態で矢示方向に搬送する傾斜搬送部を備える。一方、第２基板処理装置７は、昇降式基板処理装置１０から排出された基板を受け入れて、これを更に、４５°以上７５°以下の角度（本例では７０°）に大きく傾斜させる基板傾斜機構部と、傾斜させた基板を引き続き傾斜した状態で矢示方向に搬送する傾斜搬送部と、傾斜した基板を水平状態に戻す傾斜戻し機構部とを矢示方向に順次備える。そして、本例では、第１基板処理装置は、基板を搬送しながらエッチングするように構成され、第２基板処理装置７は同じく基板を搬送しながら洗浄及び乾燥させるように構成されている。
【００４６】
図３，図７及び図８に示すように、前記昇降式基板処理装置１０は、筐体状をしたカバー体１１と、このカバー体１１内に配設された処理機構２０及び昇降機構４０などからなる。尚、カバー体１１には、第１基板処理装置６内に連通する開口部１１ａ及び第２基板処理装置７内に連通する開口部１１ｂが形成されている。また、カバー体１１は支柱１２によって支持され、その内部は、処理機構２０が配設される処理室Ａと、昇降機構４０が配設される駆動室Ｂに仕切られている。
【００４７】
前記処理機構２０は、エッチング装置２２及びこのエッチング装置２２を支持する支持架台２１からなる。エッチング装置２２は、図４乃至図６に示すように、基板Ｋが搬入／排出される開口部２３ａを一側面に備えた筐体状のカバー２３と、このカバー２３内に配設された複数の搬送ローラ２６と、この搬送ローラ２６の上方に配設された複数のノズル２９及び搬送ローラ２６の下方に配設された同じく複数のノズル３０などからなる。
【００４８】
前記開口部２３ａに最も近い搬送ローラ２６には、その上部に当接して、基板Ｋをニップするニップローラ２７が設けられており、これら搬送ローラ２６及びニップローラ２７が正逆に回転することによって、基板Ｋが前記開口部２３ａから搬入され、同開口部２３ａから排出される。
【００４９】
また、搬送ローラ２６は、その回転軸２６ａの両端部が基台３３によって回転自在に支持されており、この基台３３には、基板Ｋの搬送方向に対して直交する方向に基板Ｋが移動するのを規制するガイドローラ３４が配設されている。基台３３は、基板Ｋの搬送方向に対して直交する方向に傾斜可能となるように、その中央部がカバー２３の底面に立設された支持部材３５に、接続部材３６を介して揺動自在に支持されるとともに、その一方端部が駆動シリンダ３７のロッド３７ａに係合部材３８を介して係合されている。
【００５０】
前記駆動シリンダ３７は、油圧シリンダ若しくは空圧シリンダから構成され、そのロッド３７ａを昇降させることによって、前記接続部材３６の支持位置を支点として、基台３３を基板Ｋの搬送方向と直交する方向に傾斜させ、これにより、搬送ローラ２６上の基板Ｋを同様に傾斜させる。尚、この基台３３の水平面に対する傾斜角は、１°以上７．５°以下の範囲が好ましく、本例では、７°に設定している。
【００５１】
搬送ローラ２６の上方に配設された前記各ノズル２９は、図示しないエッチング液供給源に接続された複数の供給管２８にそれぞれ固設されており、前記エッチング液供給源（図示せず）から各供給管２８に供給されたエッチング液を基板Ｋの上面（表面）に向けて吐出する。前記供給管２８は、その軸線が基板Ｋの搬送方向に沿うようにその２本が所定間隔を空けて一列に配設され、且つこの供給管２８列が基台３３の前記傾斜角と同じ角度で傾斜した平面内で複列に並設されており、その両端部に形成された支持部２８ａが支持部材１００によって軸受１０１を介して回転自在にそれぞれ支持される。そして、各供給管２８列は揺動装置１１０によってその軸中心に正逆に回転せしめられようになっている。斯くして、この各供給管２８の正逆回転によって、各ノズル２９が基板Ｋの搬送方向と直交する平面内で揺動せしめられ、各ノズル２９から吐出せしめられるエッチング液の吐出方向が、基板Ｋの傾斜上り方向と下り方向とに揺動せしめられる。
【００５２】
図６及び図９に示すように、前記揺動装置１１０は、駆動モータ１１１と、駆動モータ１１１の出力軸１１１ａに設けられた回転板１１２と、回転板１１２の中心位置から外れた位置に、軸中心に回転自在に立設された第１ロッド１１３と、一方端がカバー２３内に設けられ、他方端がカバー２３外に設けられた第１駆動軸１１４と、第１駆動軸１１４の他方端側外周部に、軸中心に回転自在に立設された第２ロッド１１５と、第１ロッド１１３と第２ロッド１１５とを接続する第１リンク１１６と、前記各列を構成する供給管２８，２８間の下方位置に、所定間隔を空けて前記支持部材１００と平行に配設された２本の第２駆動軸１１８と、一方端に前記各供給管２８の支持部２８ａとそれぞれ係合する係合穴１１７ａが形成され、他方端に前記第２駆動軸１１８に形成された係合穴１１８ａに嵌挿される係合軸１１７ｂが突設された複数の第２リンク１１７と、前記各第２駆動軸１１８に形成された切り欠き部１１８ｂに係合する係合軸１１９ａを有する係合部材１１９と、前記第１駆動軸１１４の前記一方端に固着され、前記係合部材１１９を支持する支持部材１２０などからなる。尚、図９は、図６における矢視ＧＧ−ＧＧ方向の側断面図である。
【００５３】
斯くして、駆動モータ１１１が回転すると、その回転動力が出力軸１１１ａを介して回転板１１２に伝達されてこれが回転し、この回転板１１２の回転によって第１ロッド１１３，第１リンク１１６及び第２ロッド１１５を介して第１駆動軸１１４がその軸線方向に前後動（往復動）せしめられる。そして、第１駆動軸１１４がその軸線方向に前後動すると、その動力が支持部材１２０，係合部材１１９を介して第２駆動軸１１８に伝達され、これが前後駆動される。そして、第２駆動軸１１８の前後動により、第２リンク１１７を介してこの第２駆動軸１１８に連結された各供給管２８が、上述した如くその軸中心に正逆回転せしめられ、これに固設された各ノズル２９が基板Ｋの搬送方向と直交する平面内で揺動せしめられる。
【００５４】
搬送ローラ２６の下方に配設された前記各ノズル３０は、前記エッチング液供給源（図示せず）に接続された複数の供給管３１に固設されており、これら各供給管３１を介して前記エッチング液供給源（図示せず）から供給されたエッチング液を基板Ｋの下面に向けて吐出する。尚、各供給管３１は、基板Ｋ搬送方向に沿って並設され、固定部材１０２を介して基台３３に固設された支持部材１０３によって支持されている。また、前記支持部材１０３には、基板Ｋの有無を検出するセンサ３２が設けられている。
【００５５】
また、前記カバー２３の下端部には、開口部２３ｂを介して相互に連通される集液槽２４が設けられており、各ノズル２９，３０から吐出されたエッチング液がこの集液槽２４に回収され、排出管２５を通して適宜排出される。
【００５６】
前記駆動室Ｂ内には、角パイプからなり、縦格子状に形成されたフレーム１７が立設されており、このフレーム１７に前記昇降機構４０が付設されている。尚、フレーム１７はブラケット１８を介して支柱１２に取り付けられている。
【００５７】
前記昇降機構４０は、連結具５５，５６及び５７，５８を介して支持架台２１に連結される昇降台４４と、前記フレーム１７を構成する縦桟の、前記処理室Ａ側の面に並設された一対のガイドレール４５と、各ガイドレール４５にそれぞれこれに沿って移動自在に係合し、且つ昇降台４４に固設されたスライド部材４６と、回転自在且つガイドレール４５に対して平行となるようにフレーム１７に支持されたボールねじ４１と、このボールねじ４１に螺合した状態で昇降台４４に固設されたナット４２と、フレーム１７に固設されてボールねじ４１を回転，駆動するサーボモータ４３などからなる。
【００５８】
サーボモータ４３によってボールねじ４１が回転せしめられると、これに螺合したナット４２がボールねじ４１に沿って移動（昇降）し、ナット４２に連結された昇降台４４、この昇降台４４に連結具５５，５６及び５７，５８を介して連結された支持架台２１、及びこれに支持されるエッチング装置２２がナット４２と共に昇降する。
【００５９】
駆動室Ｂと処理室Ａとは、仕切り部材１１ａ，１４，１６によって仕切られている。仕切り部材１１ａ，１４間、及び仕切り部材１４，１６間にはそれぞれ開口部が形成されており、各開口部内に位置するようにそれぞれ連結具５５，５６及び５７，５８が設けられている。また、各開口部を形成する仕切り部材１４の両側縁部１５は、これに沿って筒状に形成され、これと対向する仕切り部材１１ａ，１６の各縁部には、これに沿ってそれぞれ筒状部材１３が固設されている。また、仕切り部材１４の両側縁の筒状部１５と筒状部材１３の各対向面にはそれぞれ上下方向に沿った切り欠き溝が形成されている。
【００６０】
また、前記仕切り部材１４の両側縁の筒状部１５と前記筒状部材１３との間には、これに沿って帯状のシート体６５，６６がそれぞれ設けられている。このシート体６５，６６は、その両側縁が前記切り欠き溝から筒状部１５，筒状部材１３内にそれぞれ挿入され、連結具５５，５６及び５７，５８によって表裏から挟持された状態でこれらに固着されている。そして、シート体６５，６６の各上端部及び下端部はそれぞれ後述の巻取／繰出機構７０に巻き取られている。また、筒状部１５及び筒状部材１３は、図示しない適宜排気手段によってその内部の気体が排気されるようになっている。尚、本例では、前記シート体６５，６６に、耐摩擦性及び耐食性に優れたテフロン（登録商標）製のシートを用いた。但し、これに限られるものではなく、この他に、例えばステンレス製のものを使用することができる。
【００６１】
斯くして、前記駆動室Ｂと処理室Ａとは、実質的に、仕切り部材１１ａ，１４，１６、筒状部材１３，１３、連結具５５，５６，５７，５８、シート体６５，６６によって仕切られている。
【００６２】
また、図７に示すように、昇降台４４には駆動モータ６０が取り付けられると共に、バランサ５０が接続されている。駆動モータ６０はブラケット６２を介して昇降台４４に固設され、伝動ベルト６１を介してエッチング装置２２の搬送ローラ２６を駆動する。一方、バランサ５０は、ガイドレール４５に対して平行となるようにフレーム１７に固設されたガイドロッド５１と、このガイドロッド５１に沿って移動可能に当該ガイドロッド５１に係合すると共に、昇降台４４に係合した本体５２からなる。
【００６３】
前記巻取／繰出機構７０は、図３に示すように、フレーム１７の上部及び下部の双方に設けられており、具体的には、図８に示すように、巻取軸７２，７６、この巻取軸７２，７６の双方に連結した駆動軸７１、駆動軸７１を駆動するギヤ８５などからなる。
【００６４】
前記巻取軸７２，７６はそれぞれブラケット７５，７９によって回転自在に支持されている。そして、シート体６６は、ブラケット７５に回転自在に支持されたガイドローラ７３，７４を順次経由してその端部が巻取軸７２に巻き取られ、シート体６５は、前記ブラケット７９に回転自在に支持されたガイドローラ７７，７８を順次経由してその端部が巻取軸７６に巻き取られている。
【００６５】
前記ギヤ８５は、図１０に示すように、トルクキーパ８６に固設されている。トルクキーパ８６は回転軸８１によって軸通され、回転軸８１はブラケット８４に固着されたベアリング９０及び一方向クラッチ８７によって支持されている。また、回転軸８１の端部には一方向クラッチ８８を介してプーリ８０が固着されている。そして、ギヤ８５は、駆動軸７１に固着されたギヤ８９と噛合している。尚、前記一方向クラッチ８７，８８は、回転軸８１の回転方向を規制する機能を有する。本例では、上部に設けられた巻取／繰出機構７０の場合、回転軸８１の矢示Ｅ方向への回転を規制する一方、矢示Ｆ方向への回転はこれを許容するようになっており、下部に設けられた巻取／繰出機構７０の場合、回転軸８１の矢示Ｆ方向への回転を規制する一方、矢示Ｅ方向への回転はこれを許容するようになっている。また、トルクキーパ８６は、いわゆる摩擦クラッチであり、回転軸８１に対して所定の制動力（ブレーキ力）を付与する。
【００６６】
また、図３に示すように、上下に設けられた前記プーリ８０，８０には、無端状に形成された伝動ベルト８２が巻回され、伝動ベルト８２は、前記ナット４２に固着されたホルダ８３によって保持されている。
【００６７】
次に、以上の構成を備えた基板処理システム１の作動について説明する。尚、昇降式基板処理装置１０は、図３において実線で示した状態にあるものとする。
【００６８】
まず、移戴装置３によってカセット５から順次基板Ｋが取り出され、第１基板処理装置６に投入される。投入された基板Ｋは、第１基板処理装置６内で、基板傾斜機構部によって、水平状態から所定の角度（本例では７°）に傾斜せしめられ、傾斜した状態で傾斜搬送部によって矢示方向に搬送されながら所定の処理（エッチング処理）を施された後、順次第１基板処理装置６から排出される。
【００６９】
排出された基板Ｋは、次に昇降式基板処理装置１０の開口部１１ａ，開口部２３ａを順次通ってエッチング装置２２内に進入し、搬送ローラ２６の作用によって内部に搬入される。
【００７０】
尚、エッチング装置２２内の基台３３は、駆動シリンダ３７によって、予め水平面に対して７°に傾斜せしめられており、第１基板処理装置６から傾斜状態で排出された基板Ｋは、当該傾斜状態を維持した状態でエッチング装置２２内に搬入される。その際、基板Ｋの両側はガイドローラ３４によって案内されており、基板Ｋが傾斜方向に滑落することはない。そして、基板Ｋの搬入が完了すると、エッチング処理とエッチング装置２２の降下が同時に行われる。
【００７１】
即ち、エッチング液供給源（図示せず）から供給管２８，３１にそれぞれエッチング液が供給され、供給管２８に設けられたノズル２９及び供給管３１に設けられたノズル３０からそれぞれエッチング液が吐出されて、基板Ｋの表面がエッチングされる。尚、基板Ｋの裏面に向けてエッチング液を吐出するのは、そうしない場合に、基板Ｋの表面からエッチング液が部分的に回り込んで、同裏面に染みが形成されるからであり、裏面全面にエッチング液を吹きかけることで、染みが形成されるのを防止することができる。そして、このエッチング中、揺動装置１１０によって各供給管２８がその軸中心に正逆に回転せしめられ、各ノズル２９から吐出せしめられるエッチング液の吐出方向が、基板Ｋの傾斜上り方向と下り方向とに揺動せしめられる。
【００７２】
そして、所定時間エッチングが行われると、エッチング液供給源（図示せず）からのエッチング液の供給が停止され、揺動装置１１０によるノズル２９の揺動が停止せしめられる。尚、このエッチング処理は、エッチング装置２２が降下を完了するまでの間に完了される。
【００７３】
一方、エッチング装置２２の降下は、昇降機構４０のサーボモータ４３が駆動されることによって行われる。即ち、サーボモータ４３によりボールねじ４１が降下方向に回転せしめられると、これに螺合したナット４２がボールねじ４１に沿って降下し、ナット４２に連結された昇降台４４、この昇降台４４に連結具５５，５６及び５７，５８を介して連結された支持架台２１、及び支持架台２１に支持されるエッチング装置２２がナット４２と共に降下する。
【００７４】
ナット４２が降下すると、ホルダ８３を介してナット４２に連結された伝動ベルト８２が矢示Ｃ方向に回動する。また、連結具５５，５６及び５７，５８が降下すると、これに固着されたシート体６５，６６が共に下方に移動し、これに伴って、上部に設けられた巻取／繰出機構７０からシート体６５，６６が繰り出され、下部に設けられた巻取／繰出機構７０にシート体６５，６６が巻き取られる。
【００７５】
この巻取／繰出機構７０の巻取／繰出動作を、図１０を用いて更に詳しく説明する。図１０は、上部及び下部に設けられた巻取／繰出機構７０の平断面図である。尚、図示に基づき、連結具５７，５８及びシート体６６について説明するが、連結具５５，５６及びシート体６５についても同様である。
【００７６】
まず、上部に設けられた巻取／繰出機構７０について説明する。上部に設けられた巻取／繰出機構７０では、連結具５７，５８が降下すると、シート体６６に張力が生じ、巻取軸７２に矢示Ｈ方向に回転動力が付与される。この回転動力は、巻取軸７２に連結した駆動軸７１、これに固着されたギヤ８８、ギヤ８８に噛合したギヤ８５、ギヤ８５が装着されたトルクキーパ８６を順次介して回転軸８１に伝達される。しかしながら、回転軸８１は一方向クラッチ８７によって矢示Ｅ方向への回転が規制されているため、同方向の回転が阻止される。このため、シート体６６に生じる張力が次第に増大して前記トルクキーパ８６に伝達されるトルクが増大する。
【００７７】
トルクキーパ８６は、ギヤ８５に作用するトルクが所定の大きさよりも大きくなると、ギヤ８５がトルク作用方向に回転するのを許容する。これにより、ギヤ８５は矢示Ｅ方向に、ギヤ８８，駆動軸７１及び巻取軸７２は矢示Ｈ方向にそれぞれ回転して、シート体６６が巻取軸７２から繰り出される。このように、シート体６６は所定の張力を生じた状態で繰り出されるので、繰り出しの際に弛みを生じることがない。
【００７８】
一方、ナット４２の降下によって、伝動ベルト８２が図３に示した矢示Ｃ方向に回動すると、プーリ８０は矢示Ｅ方向の回転動力を受けるが、プーリ８０と回転軸８１との間に介在する一方向クラッチ８８によって、プーリ８０は回転軸８１に対して矢示Ｅ方向に回転自在となっており、プーリ８０は支障なく伝動ベルト８２に従って矢示Ｅ方向に回転する。一方向クラッチ８８は、回転軸８１の矢示Ｅ方向の回転を規制するが、矢示Ｆ方向の回転はこれを許容するようになっている。したがって、一方向クラッチ８８は、回転軸８１に対して矢示Ｅ方向に回転自在となっている。
【００７９】
次に、下部に設けられた巻取／繰出機構７０について説明する。下部に設けられた巻取／繰出機構７０では、ナット４２が降下して伝動ベルト８２が前記矢示Ｃ方向に回動すると、プーリ８２が矢示Ｅ方向の回転動力を受ける。上述したように、下部に設けられた巻取／繰出機構７０の場合、一方向クラッチ８７，８８は、回転軸８１の矢示Ｆ方向への回転を規制する一方、矢示Ｅ方向への回転はこれを許容するようになっている。したがって、プーリ８２が矢示Ｅ方向の回転動力を受けると、回転軸８１は同方向に回転する。回転軸８１が矢示Ｅ方向に回転すると、その回転動力がトルクキーパ８６，ギヤ８５及びギヤ８８を介して、駆動軸７１及び巻取軸７２に伝達され、これらが矢示Ｈ方向に回転せしめられて、シート体６６が巻取軸６６に巻き取られる。
【００８０】
尚、本例では、シート体６６及び伝動ベルト８２の移動速度よりも、巻取軸７２の巻取速度が速くなるように、巻取軸７２の軸径、プーリ８０の径、及びギヤ８５とギヤ８８との間のギヤ比が設定されている。シート体６６の移動速度よりも巻取軸７２の巻取速度を速くすると、シート体６６に生じる張力が次第に増大してトルクキーパ８６に伝達されるトルクが増大する。上述したように、トルクキーパ８６は、ギヤ８５に作用するトルクが所定の大きさよりも大きくなると、ギヤ８５がトルク作用方向に回転するのを許容する。これにより、ギヤ８５と回転軸８１とはスリップした状態となり、回転軸８１は支障なくプーリ８０に従って矢示Ｅ方向に回転する。このように、シート体６６は所定の張力を生じた状態で巻き取られるので、巻取に際して弛みを生じることがない。
【００８１】
以上詳述したように、本例の巻取／繰出機構７０によれば、エッチング装置２２の降下に伴って、弛み無く、シート体６５，６６を巻き取り及び繰り出しすることができる。
【００８２】
そして、上記の如くしてエッチング装置２２が下降端まで降下すると、搬送ローラ２６が排出方向に回転せしめられて基板Ｋが開口部２３ａから排出され、カバー体１１の開口部１１ｂから第２基板処理装置７に移送される。尚、エッチング装置２２が下降端に達した状態を、図３において２点鎖線で示している。
【００８３】
基板Ｋの排出を完了すると、昇降機構４０のサーボモータ４３が駆動され、エッチング装置２２が上昇せしめられる。その際、上記とは逆の作動によって、上部に設けられた巻取／繰出機構７０にシート体６５，６６が巻き取られ、下部に設けられた巻取／繰出機構７０からシート体６５，６６が繰り出される。
【００８４】
そして、エッチング装置２２が上昇端に達すると、上述した基板Ｋの搬入以降の動作が繰り返される。尚、エッチング装置２２の昇降の際にサーボモータ４３に作用する負荷が、バランサ５０によって軽減されるようになっている。
【００８５】
一方、第２基板処理装置７では、昇降式基板処理装置１０から排出された基板Ｋが基板傾斜機構部によって７０°の角度に更に大きく傾斜せしめられ、傾斜した状態で矢示方向に搬送されながら、所定の処理（水洗処理及び乾燥処理）が施され、処理後、傾斜戻し機構部によって水平状態に戻された後、当該第２基板処理装置７から排出され、移戴装置３によって再びカセット５内に格納される。このように、本例の基板処理システム１では、カセット５内に格納された基板Ｋが、順次、第１基板処理装置６，昇降式基板処理装置１０及び第２基板処理装置７に経由することによって、所定の処理が施され、再び、カセット５内に格納される。
【００８６】
以上詳述したように、本例の基板処理システム１によれば、第１基板処理装置６と第２基板処理装置７とを上下に並設し、これらを昇降式基板処理装置１０によって連結した構成としているので、第１基板処理装置６と第２基板処理装置７とを同一の水平平面内に並設した上記従来の処理システム２００と比べて、その設置スペースが小さくて足り、これを効率良く設置することが可能である。
【００８７】
また、本例の昇降式基板処理装置１０では、基板Ｋを搬送，支持する搬送ローラ２６及び基板Ｋにエッチング液を吐出するノズル２９，３０からなるエッチング装置２２全体を昇降させるようにしているので、基板Ｋを搬送する際に、基板Ｋとノズル２９，３０との位置関係が変化することがなく、したがって、ノズル２９，３０から吐出されるエッチング液を基板Ｋの各部にほぼ均等に供給することが可能であり、これにより、むらのないエッチングを行なうことができる。
【００８８】
また、昇降機構４０によってエッチング装置２２を昇降させるという単一の動作で基板Ｋを搬送しており、また、サーボモータ４３，ボールねじ４１及びナット４２からなる高精度に制御可能な機構によって昇降させているので、その速度制御を高精度に行うことができる。
【００８９】
また、傾斜させた基板Ｋに対してエッチング液を吐出するようにしているので、基板Ｋの表面に供給されたエッチング液は、基板Ｋの傾斜によって下方に流下する液流を生じ、かかる液流によって、基板Ｋ表面のエッチング液が、継続的に供給される新たなエッチング液によって順次置換され、このエッチング液の置換作用によって、少量のエッチング液で、短時間の内に、しかも均一に基板Ｋ表面をエッチングすることが可能となる。
【００９０】
更に、各ノズル２９を揺動させて、これらから吐出されるエッチング液の吐出方向を、基板の傾斜上り方向と下り方向とに揺動させるようにしているので、エッチング液の吐出方向が基板Ｋの傾斜上り方向に揺動せしめられるときには、かかる揺動によって、エッチング液を基板Ｋの表面上に滞留させる作用が増大する一方、エッチング液の吐出方向が基板Ｋの傾斜下り方向に揺動せしめられるときには、かかる揺動によって、基板Ｋの表面上を流下するエッチング液の速度が増大することになり、エッチング液の滞留と流下とが基板Ｋの表面全体に渡って繰り返し生起されて、かかる作用により、基板Ｋの表面全体を短時間の内に、しかもより少量のエッチング液で均一にエッチングすることが可能となる。
【００９１】
尚、近年、基板大型化に伴って、これをエッチングするためのエッチング液の使用量や、エッチング時間が増加する傾向にあるが、上記のように基板Ｋを傾斜させてエッチングすることにより、その使用量の低減や装置の小型化を図ることができ、処理コストの低減を図ることができる。
【００９２】
前記ノズル２９の揺動角は、９０度以上１２０度以下の範囲が好ましく、更に、揺動速度は、１揺動動作が２秒以上１０秒以下であるのが好ましい。
【００９３】
また、エッチング液は腐食性が極めて高く、これがエッチング装置２２から流出して昇降機構４０に付着すると、当該昇降機構４０が損傷してその機能が損なわれる懸念がある。本例の昇降式基板処理装置１０によれば、昇降機構４０が配設される駆動室Ｂと、エッチング装置２２が配設される処理室Ａとを、仕切り部材１１ａ，１４，１６、筒状部材１３，１３、連結具５５，５６，５７，５８、シート体６５，６６により仕切っているので、エッチング装置２２から流出したエッチング液が駆動室Ｂに侵入するのを防止することができ、エッチング液によって昇降機構４０が損傷するのを防止することができる。
【００９４】
特に、仕切り部材１１ａ，１４，１６間に形成した開口部の上下方向の縁部にそれぞれ筒状部１５及び筒状部材１３を設けるとともに、連結具５５，５６及び５７，５８に固着されたシート体６５，６６の両側縁部を、筒状部１５及び筒状部材１３に形成された切り欠き溝から内部に挿入せしめた、いわゆるラビリンス構造とし、しかも筒状部１５及び筒状部材１３の内部を排気手段によって排気しているので、駆動室Ｂへのエッチング液の侵入を確実に防止することができる。
【００９５】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限定されるものではない。
【００９６】
例えば、上述の例では、エッチング装置２２の昇降に合わせて、シート体６５，６６を巻取／繰出機構７０によって巻き取り，繰り出しするようにしたが、シート体６５，６６を無端，環状に形成し、エッチング装置２２の昇降に合わせて、これらが回動するように構成することもできる。
【００９７】
また、上例では、昇降式基板処理装置１０においてエッチングを行なうように構成したが、これに限られるものでは無く、洗浄や剥離処理など他の処理を行なうようにしても良い。このことは、第１基板処理装置６及び第２基板処理装置７についても同様である。
【００９８】
尚、洗浄や剥離処理行う場合、前記駆動シリンダ３７によって傾斜せしめられる基板Ｋの傾斜角は、４５°以上７５°以下の範囲内であるのが好ましい（より好ましくは、５５°以上７０°以下）。傾斜角が７５°を超えると、液流の速度が速くなり過ぎ、即ち、基板Ｋ表面における洗浄液や剥離液の滞留時間が短くなり過ぎ、逆に、傾斜角度が４５°未満では、液流の速度が遅くなり過ぎ、即ち、基板Ｋ表面に洗浄液や剥離液が長時間滞留することとなって、いずれも処理が十分に行われず、洗浄液や剥離液の使用量が増大するからである。
【００９９】
また、基板Ｋのエッチング中は、基板Ｋが搬入／排出方向に所定距離だけ前後動するように、搬送ローラ２６の回転が正逆に連続して切り換えられるように構成しても良い。このようにすれば、各ノズル２９，３０から吐出されるエッチング液の吐出量，吐出圧にむらがある場合であっても、基板Ｋを前後動させることで、基板Ｋ上面における前記むらを平均化することができ、基板Ｋをむらなくエッチングすることができる。
【０１００】
また、前記処理機構２０内において実施される処理が、上記のように、エッチング後の後工程に該当せず、エッチング液の付着による問題が生じない場合には、前記カバー体１１内を前記処理室Ａと駆動室Ｂとに仕切らずに、前記昇降機構４０を、図１１及び図１２に示すような昇降機構１３０として構成することもできる。
【０１０１】
即ち、この昇降機構１３０は、駆動モータ１３１と、相互に平行に配設され、両端部にスプロケット１３２が装着された２本の下側回転軸１３３と、下側回転軸１３３の上方にそれぞれ配設され、同じく両端部にスプロケット１３４が装着された２本の上側回転軸１３５と、駆動モータ１３１の回転動力を傘歯車を介して各下側回転軸１３３にそれぞれ伝達する伝達軸１３６と、エッチング装置２２を支持する支持架台１３９と、前記支柱１２にそれぞれ固設された４つのガイドプレート１３７と、前記支持架台１３９に回転自在に支持され、前記各ガイドプレート１３７に当接してこれに沿ってそれぞれ案内される複数のローラ１３８と、前記上側及び下側のスプロケット１３２，１３４に掛け渡され、一方端が支持架台１３９の上部に、他方端が支持架台１３９の下部にそれぞれ固着された４本のチェーン１４０などを備えて構成される。
【０１０２】
この昇降機構１３０によれば、駆動モータ１３１が正逆に回転すると、その回転動力が、伝達軸１３６を介して各下側回転軸１３３に伝達され、当該各下側回転軸１３３がそれぞれ軸中心に回転せしめられ、かかる回転軸１３３の回転によってスプロケット１３２を介してチェーン１４０が回動せしめられて、エッチング装置２２を支持した支持架台１３９が、各ガイドプレート１３７及び各ローラ１３８により案内されて上方又は下方に移動、即ち昇降せしめられる。
【０１０３】
斯くして、この昇降機構１３０によれば、上例の昇降機構４０に比べて、構造を簡素化することができ、その製造コストを低減することができる。
【０１０４】
また、本発明に係る昇降式基板処理装置を用いた基板処理システムの他の態様として、図１３及び図１４に示したものを挙げることができる。同図１３に示すように、この基板処理システム１５０は、基板投入／排出装置１５１、ドライ処理装置１６０、エッチング・洗浄装置１７０からなる。
【０１０５】
基板投入／排出装置１５１は、複数の基板を収納したカセット１８１を載置する載置台１５２と、基板を搬送する移載装置１５３とからなり、移載装置１５３は、軌道１５４上をその長手方向に沿って移動可能に設けられた移載ロボット１５５から構成される。移載ロボット１５５は３次元空間内の任意位置に移動可能となったハンドを備え、当該ハンド上に基板を載置した状態で、載置台１５２上のカセット１８１内から基板を一枚づつ取り出してドライ処理装置１６０，エッチング・洗浄装置１７０に投入したり、ドライ処理装置１６０，エッチング・洗浄装置１７０から排出された基板をカセット１８１内に再び格納したり、ドライ処理装置１６０とエッチング・洗浄装置１７０との間で基板を移送する処理を行う。
【０１０６】
尚、ドライ処理装置１６０は、基板に対してアッシング処理や成膜処理などのドライプロセスを実施する。また、カセット１８１は自動搬送車１８０によって載置台１５２上に搬入され、当該載置台１５２上から搬出される。
【０１０７】
エッチング・洗浄装置１７０は、図１４に示すように、筐体状のカバー体を備え、その内部を、基板受入部１７１，基板降下搬送部１７２，エッチング部１７３，基板上昇搬送部１７４，基板乾燥部１７５及び基板払出部１７６などからなる複数の領域に区画形成した構成を備え、前記移載ロボット１５５によって基板受入部１７１に基板が搬入され、基板払出部１７７から基板が排出される。
【０１０８】
前記基板受入部１７１，基板降下搬送部１７２，エッチング部１７３，基板上昇搬送部１７４，基板乾燥部１７５及び基板払出部１７６はそれぞれ図１６に示した如き搬送ローラ２０８の複数を備えており、基板受入部１７１に搬入された基板が、搬送ローラ２０８によって矢示方向に搬送され、基板降下搬送部１７２，エッチング部１７３，基板上昇搬送部１７４，基板乾燥部１７５を順次経由して基板払出部１７６に搬送される。
【０１０９】
前記基板降下搬送部１７２及び基板上昇搬送部１７４は、上述した昇降式基板処理装置１０とほぼ同様の構成を備えている。そして、このエッチング・洗浄装置１７０では、基板降下搬送部１７２及びエッチング部１７３においてエッチング処理が行われ、基板上昇搬送部１７４において洗浄処理が行われ、基板乾燥部１７５において乾燥処理が行われる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示した正面図である。
【図２】本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示した平面図である。
【図３】本実施形態に係る昇降式基板処理装置の概略構成を示した正断面図である。
【図４】本実施形態に係るエッチング装置の概略構成を示した正断面図である。
【図５】本実施形態に係るエッチング装置の概略構成を示した側断面図である。
【図６】図５における矢視ＣＣ−ＣＣ方向の平断面図である。
【図７】図３における矢視ＡＡ−ＡＡ方向の平断面図である。
【図８】図３における矢視ＢＢ−ＢＢ方向の平断面図である。
【図９】図６における矢視ＧＧ−ＧＧ方向の側断面図である。
【図１０】本実施形態に係る巻取／繰出機構の平断面図である。
【図１１】本発明の他の実施形態に係る昇降機構の概略構成を示した正断面図である。
【図１２】図１１における矢視ＥＥ−ＥＥ方向の平断面図である。
【図１３】本発明の他の実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示した平面図である。
【図１４】図１３における矢視ＦＦ方向の側面図である。
【図１５】従来例に係る基板処理システムの概略構成を示した平面図である。
【図１６】従来例に係る搬送ローラを示した正面図である。
【図１７】従来例に係る方向切換装置の概略構成を示した模式図である。
【符号の説明】
１　　　基板処理システム
２　　　基板投入／排出部
５　　　カセット
６　　　第１基板処理装置
７　　　第２基板処理装置
１０　　昇降式基板処理装置
１１ａ，１４，１６　仕切り板
１３　　筒状部材
１５　　筒状部
２０　　処理機構
２１　　支持架台
２２　　エッチング装置
２６　　搬送ローラ
２９，３０　ノズル
３３　　基台
３７　　駆動シリンダ
４０　　昇降機構
４１　　ボールねじ
４２　　ナット
４３　　サーボモータ
６５，６６　シート体
７０　　巻取／繰出機構
７２，７６　巻取軸
８０　　プーリ
８２　　伝動ベルト
８５，８０　ギヤ
８７，８８　一方向クラッチ
８６　　トルクキーパ
１１０　揺動装置
１１４　移動軸
１１７　第２リンク
１１８　第２駆動軸
１１９　係合部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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