(57)【要約】【課題】構成部品の設計の煩雑化、厳格な組立精度の維持、プロセス速度の変更に伴う画像形成条件の調整、過大なコストの上昇を招来することなく、被走査面における走査光の走査密度を容易に変更できるようにする。【解決手段】反射面数が異なる２個のポリゴンミラー２ａ，２ｂを同軸上に一体的にして上下に重ねて構成した回転多面鏡２を、回転軸方向の上下２位置に変位自在にした。回転多面鏡２が上側の位置にある場合には、入射ビームが下段のポリゴンミラー２ａに入射する。回転多面鏡２が下側の位置にある場合には、入射ビームが上段のポリゴンミラー２ｂに入射する。回転多面鏡２が１回転する間に入射ビームが走査される回数が異なり、回転多面鏡２の回転数と感光体ドラム２０の回転数との関係を変化させることなく、感光体ドラム２０の表面における走査密度が変化する。【選択図】図１
2004151204.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射面数が異なる複数個の回転多面鏡を同軸上に重ねて配置し、走査光を反射する回転多面鏡を選択的に切り換えることにより、被走査面における走査光の走査密度を変更することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、前記複数個の回転多面鏡を軸方向に変位させることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、前記回転多面鏡に対する走査光の照射光路を前記回転多面鏡の軸方向に変位させることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記被走査面における走査光の走査密度に拘らず、前記複数個の回転多面鏡の回転数を一定に維持することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記被走査面における走査光の走査密度に拘らず、前記被走査面の移動速度を一定に維持することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、主走査方向における走査光のビーム幅を変更することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、副走査方向における走査光のビーム幅を変更することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、主走査方向における走査光の走査範囲を変更することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記複数個の回転多面鏡の各々に走査光を照射する複数の照射手段を設け、これら複数の照射手段を選択的に駆動することにより、被走査面における走査光の走査密度を変更することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記複数個の回転多面鏡のうちの一部の回転多面鏡に前記複数の照射手段のうちの一部の照射手段から同時に走査光を照射することを特徴とする請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記複数個の回転多面鏡の各々の反射光を個別に被走査面に導く複数個の光学系部材を設けたことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディジタル複写機、プリンタ及びファクシミリ等の電子写真方式の画像形成装置に用いられる露光ユニット等の回転多面鏡を備えた光走査装置に関し、特に、走査光により感光体等の被走査面を走査する際の走査密度を変更できるようにした光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回転多面鏡を介して走査光を被走査面に走査する光走査装置として、ディジタル複写機のように電子写真方式の画像形成を行う画像形成装置に用いられる露光ユニットがある。この露光ユニットは、半導体レーザ等の光源から照射された画像光を回転多面鏡を介して副走査方向に走査し、被走査面である感光体表面を露光する。この露光によって感光体表面には光導電性作用により静電潜像が形成され、この静電潜像が現像剤によって可視像に顕像化された後に記録媒体に転写される。
【０００３】
このような画像形成装置において、記録媒体上に形成される画像の解像度を変更する場合には、感光体表面における画像光（走査光）の記録密度を主走査方向及び副走査方向について変える必要がある。
【０００４】
このため、従来の画像形成装置では、画像光における１画素当たりの露光周波数及び露光ユニットにおける回転多面鏡の回転速度を変更することによって主走査方向の記録密度を変え、感光体の回転速度及び記録媒体の搬送速度であるプロセス速度を変更することによって副走査方向の記録密度を変えていた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平６−１５８９０号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の画像形成装置のように、露光ユニットにおける回転多面鏡の回転速度を変更して主走査方向の記録密度を変えることすると、複数の回転数について回転多面鏡を安定して回転させる必要があり、構成部品の設計が煩雑になるとともに、組立精度を厳格に維持しなければならない。また、プロセス速度を変更して副走査方向の記録密度を変えることとすると、各プロセス速度において画像形成状態を適正に維持するために帯電電圧、現像バイアス及び転写電圧等の画像形成条件をも調整する必要がある。これらのことから、従来の画像形成装置では、記録密度の変更を容易に実現することができず、過大なコストの上昇を招く問題があった。
【０００７】
この発明の目的は、使用する回転多面鏡を切り換えることにより、被走査面における走査光の走査密度を容易に変更できるようにし、構成部品の設計の煩雑化を生じることがなく、また、厳格な組立精度の維持、及び、プロセス速度の変更に伴う画像形成条件の調整を不要にすることができ、過大なコストの上昇を防止することができる光走査装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
（１）反射面数が異なる複数個の回転多面鏡を同軸上に重ねて配置し、走査光を反射する回転多面鏡を選択的に切り換えることにより、被走査面における走査光の走査密度を変更することを特徴とする。
【０００９】
この構成においては、被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、同軸上に重ねて配置された反射面数が異なる複数個の回転多面鏡を択一的に切り換えて走査光の反射に使用される。回転多面鏡の回転数が一定である場合、走査光を反射する回転多面鏡の反射面数が変化すると被走査面に対する走査光の走査周期が変化し、副走査方向（走査光の走査方向である主走査方向に直交する方向）における被走査面の移動速度が変化しない場合には、単位時間当たりの走査ライン数も変化し、被走査面における走査光の走査密度が変わる。したがって、回転多面鏡の回転数及び副走査方向における被走査面の移動速度を変更することなく、被走査面における走査光の走査密度が変化する。また、電子写真方式の画像形成装置における感光体を被走査面とする場合、走査光を反射する回転多面鏡の変更に伴って走査光における１画素当たりの変調周波数を調整することにより、感光体に形成される静電潜像の画像形成密度又は倍率が変化する。
【００１０】
（２）前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、前記複数個の回転多面鏡を軸方向に変位させることを特徴とする。
【００１１】
この構成においては、同軸上に重ねて配置された反射面数が異なる複数個の回転多面鏡を軸方向に変位させて走査面における走査光の走査密度が変更される。走査光の照射光路を変更することなく複数個の回転多面鏡を軸方向に変位させると、走査光を反射する回転多面鏡が変化する。したがって、複数個の回転多面鏡を軸方向に変位させると、回転多面鏡の回転数及び副走査方向における被走査面の移動速度を変更することなく、被走査面における走査光の走査密度が変化する。
【００１２】
（３）前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、前記回転多面鏡に対する走査光の照射光路を前記回転多面鏡の軸方向に変位させることを特徴とする。
【００１３】
この構成においては、回転多面鏡に対する走査光の照射光路を回転多面鏡の軸方向に変位させて走査面における走査光の走査密度が変更される。同軸上に重ねて配置された反射面数が異なる複数個の回転多面鏡の位置を変更することなく走査光の照射光路を回転多面鏡の軸方向に変位させると、走査光を反射する回転多面鏡が変化する。したがって、回転多面鏡を軸方向に変位させると、回転多面鏡の回転数及び副走査方向における被走査面の移動速度を変更することなく、被走査面における走査光の走査密度が変化する。
【００１４】
（４）前記被走査面における走査光の走査密度に拘らず、前記複数個の回転多面鏡の回転数を一定に維持することを特徴とする。
【００１５】
この構成においては、被走査面における走査光の走査密度を変更する際にも、回転多面鏡の回転数が変更されない。したがって、複数の走査密度の各々に応じた複数の回転数について回転多面鏡の回転状態が適正になるように設計する必要がなく、回転数の制御が複雑になることもない。
【００１６】
（５）前記被走査面における走査光の走査密度に拘らず、前記被走査面の移動速度を一定に維持することを特徴とする。
【００１７】
この構成においては、被走査面における走査光の走査密度を変更する際にも、被走査面の移動速度が変更されない。したがって、電子写真方式の画像形成装置における感光体を被走査面とする場合にも、画像形成条件の調整を伴うプロセス速度の変化を生じることがない。
【００１８】
（６）前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、主走査方向における走査光のビーム幅を変更することを特徴とする。
【００１９】
この構成においては、主走査方向における走査光のビーム幅を変更した状態で被走査面における走査光の走査密度が変更される。したがって、走査密度に適した集光幅の走査光によって被走査面が走査される。
【００２０】
（７）前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、副走査方向における走査光のビーム幅を変更することを特徴とする。
【００２１】
この構成においては、副走査方向における走査光のビーム幅を変更した状態で被走査面における走査光の走査密度が変更される。したがって、走査密度に適した走査幅の走査光によって被走査面が走査される。
【００２２】
（８）前記被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、主走査方向における走査光の走査範囲を変更することを特徴とする。
【００２３】
この構成においては、主走査方向における走査光の走査範囲を変更した状態で被走査面における走査光の走査密度が変更される。したがって、被走査面における走査光の走査密度を変更する際の回転多面鏡における反射面数の増加又は減少による走査角度の減少又は増加を補正する必要がなく、回転多面鏡から被走査面に至る走査光の照射光路が複雑化することがない。
【００２４】
（９）前記複数個の回転多面鏡の各々に走査光を照射する複数の照射手段を設け、これら複数の照射手段を選択的に駆動することにより、被走査面における走査光の走査密度を変更することを特徴とする。
【００２５】
この構成においては、互いに反射面数が異なる複数の回転多面鏡の各々に走査光を照射する複数の照射手段のうちで被走査面における走査光の走査密度に応じた照射手段が選択的に駆動される。したがって、複数の照射手段の駆動制御のみによって被走査面における走査密度に応じた反射面数の回転多面鏡に走査光が照射され、回転多面鏡自体又は回転多面鏡に対する走査光の照射光路を回転多面鏡の軸方向に変位させる必要がない。
【００２６】
（１０）前記複数個の回転多面鏡のうちの一部の回転多面鏡に前記複数の照射手段のうちの２以上の照射手段から同時に走査光を照射することを特徴とする。
【００２７】
この構成においては、互いに反射面数が異なる複数の回転多面鏡の各々に走査光を照射する複数の照射手段のうちの２以上の照射手段が選択的に駆動される。したがって、走査密度が異なる複数の走査光によって被走査面が走査され、電子写真方式の画像形成装置における感光体が被走査面である場合に、例えばフォーマット画像と内容文書とのように複数種類の画像が互いに異なる密度で同時に形成される。
【００２８】
（１１）前記複数個の回転多面鏡の各々の反射光を個別に被走査面に導く複数個の光学系部材を設けたことを特徴とする。
【００２９】
この構成においては、複数個の回転多面鏡のそれぞれで反射した走査光が個別の光学系部材を介して被走査面に導かれる。したがって、複数の回転多面鏡から単一の被走査面に至る複数の光路を実現する光学系部材を備える必要がなく、光学系部材の設計が容易になる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の光走査装置を電子写真方式の画像形成装置に用いられるレーザスキャンユニット（以下、ＬＳＵという。）を例に挙げて説明する。
【００３１】
図１は、この発明の第１の実施形態に係る光走査装置であるＬＳＵの構成を示す斜視図である。ＬＳＵ１０は、半導体レーザ１（この発明の照射手段である。）から照射された光ビーム（入射ビーム）を回転方向に沿って複数の反射面が形成された回転多面鏡２によって反射した光ビーム（出射ビーム）により、感光体ドラム２０の表面（この発明の被走査面である。）を露光走査し、感光体ドラム２０の表面に静電潜像を形成する。
【００３２】
半導体レーザ１から回転多面鏡２までの光路（入射ビーム光路）、及び、回転多面鏡２から感光体ドラム２０の表面までの光路（出射ビーム光路）には、種々の光学部品が配置されている。入射ビーム光路に配置されている光学部品を入射光学系、出射ビーム光路に配置されている光学部品を出射光学系という。
【００３３】
入射光学系は、半導体レーザ２から照射された光ビームを平行光に変換するコリメートレンズ、略中央部に矩形の開口を備えた開口板、及び、光ビームを副走査方向について集光するシリンドリカルレンズを一体的に備えた入射光学系部品３によって構成されている。
【００３４】
回転多面鏡２は、互いに反射面数が異なる２個のポリゴンミラー２ａ，２ｂを同軸上に一体的にして上下に重ねて構成されている。回転多面鏡２は、図示しない移動機構を介して回転軸方向の２位置に移動自在にされている。この移動機構は、例えば、正逆両方向に回転駆動されるシャフト状の駆動ネジと、この駆動ネジに螺合して回転多面鏡２の支持体に固定された移動ネジと、から構成することができ、公知の他の機構を用いることもできる。回転軸方向の２位置とは、一方において入射ビームがポリゴンミラー２ａの反射面に入射し、他方において入射ビームがポリゴンミラー２ｂの反射面に入射する位置である。
【００３５】
出射光学系は、回転多面鏡２の反射面により反射された出射ビームを、所定のビーム径で感光体ドラム２０の表面において等速度で走査させるものであり、回転多面鏡２から感光体ドラム２０の表面に向かって順に配置されたｆθレンズ４、シリンドリカルレンズ５及び出射折返しミラー６によって構成されている。ｆθレンズ４は、回転多面鏡２によって等角速度偏向された出射ビームを等速度偏向する。シリンドリカルレンズ５は、回転多面鏡２の反射面の面倒れ補正を行なう。出射折返しミラー６は、出射ビームを感光体ドラム２０の表面に向けて反射する。
【００３６】
これにより、半導体レーザ１から照射された入射ビームは、回転多面鏡２を構成するポリゴンミラー２ａ又は２ｂの何れかの反射面における高さ方向の中央域に照射され、回転多面鏡２の回転によって主走査方向に偏向された出射ビームとして感光体ドラム２０の表面を走査する。
【００３７】
出射ビームは、回転多面鏡２の反射面における回転方向の位置により、主走査方向における異なる出射ビーム光路を通って感光体ドラム２０の表面に至る。出射ビーム光路のうちで、感光体ドラム２０の表面において画像形成に使用される感光体ドラム２０の軸方向の幅、即ち、主走査ラインを走査するために出射ビーム（主走査ビーム）が走査される際に通過する空間領域を主走査ビーム域とする。
【００３８】
出射ビームが感光体ドラム２０の表面を主走査方向に定期的に往復走査する間に感光体ドラム２０が回転するため、出射ビームは一定期間毎に感光体ドラム２０の表面の異なる場所を走査する。
【００３９】
図２は、上記ＬＳＵにおける入射光学系と回転多面鏡との位置関係を示す側面図である。半導体レーザ１から略円錐状に照射された入射ビームは、図外のコリメートレンズにより平行ビームに変換される。平行ビームとなった入射ビームの光軸に垂直な方向の断面は、略円形である。その後、入射ビームは、シリンドリカルレンズ３ａにより、入射ビームのシリンドリカルレンズ３ａの母線に平行な方向については略平行光のまま、この母線に垂直な方向については回転多面鏡２ポリゴンミラー２ａ又は２ｂの反射面に収束するように集光される。
【００４０】
前述のように、回転多面鏡２は、２個のポリゴンミラー２ａ，２ｂを同軸上に一体的にして上下に重ねて構成されており、回転軸方向の上下２位置に変位自在にされている。図２（Ａ）に示すように、回転多面鏡２が上側の位置にある場合には、入射ビームが下段のポリゴンミラー２ａに入射する。また、図２（Ｂ）に示すように、回転多面鏡２が下側の位置にある場合には、入射ビームが上段のポリゴンミラー２ｂに入射する。
【００４１】
ここで、上下のポリゴンミラー２ａ，２ｂのそれぞれの反射面数が相違しているため、回転多面鏡２が１回転する間に入射ビームが走査される回数は図２（Ａ）に示す状態と図２（Ｂ）に示す状態とで異なり、回転多面鏡２の回転数と感光体ドラム２０の回転数（プロセス速度）との関係を変化させることなく、感光体ドラム２０の表面における走査密度が変更される。
【００４２】
例えば、下段のポリゴンミラー２ａの反射面数が１２、上段のポリゴンミラー２ｂの反射面数が６である場合、回転多面鏡２の回転数を一定にすると、回転多面鏡２が１回転する間に、感光体ドラム２０の表面は出射ビームにより、図２  （Ａ）に示す状態では１２回走査され、図２（Ｂ）に示す状態では６回走査される。したがって、感光体ドラム２０の回転数、及び、記録媒体の搬送速度であるプロセス速度も一定にするとともに、図２（Ａ）に示す状態での半導体レーザ１から照射される入射ビームの１画素当たりの変調周波数を図２（Ｂ）に示す状態の２倍にすることにより、図２（Ａ）に示す状態での画像形成密度を図２（Ｂ）に示す状態の２倍にすることができる。
【００４３】
なお、回転多面鏡２の回転軸方向の位置を固定し、回転多面鏡２の回転軸方向における半導体レーザ１及び入射光学系の位置を上下に変位させることによっても同様の効果を得ることができる。
【００４４】
また、図２（Ａ）に示す状態での半導体レーザ１から照射される入射ビームの１画素当たりの変調周波数を図２（Ｂ）に示す状態のままにすると、副走査方向について同一の画像データが２倍の範囲に形成されることになり、画像の倍率が副走査方向について２倍になる。したがって、互いに反射面数の異なるポリゴンミラー２ａ又は２ｂを選択的に使用することにより、形成される画像の副走査方向の倍率を変更することができる。
【００４５】
図３は、上記ＬＳＵを備えた画像形成装置の制御部の構成を示すブロック図である。ＬＳＵ１を備えた画像形成装置の制御部３０は、ＲＯＭ３２及びＲＡＭ３３を有するＣＰＵ３１に操作パネルコントローラ３４及び移動機構ドライバ３５を含む入出力機器を接続して構成されている。操作パネルコントローラ３４は、操作パネル４０内に配置されているキースイッチ４１の操作データをＣＰＵ３１に入力するとともに、ＣＰＵ３１において作成された表示データに基づく表示画面を操作パネル４０内に配置されているディスプレイ４２に表示する。移動機構ドライバ３５は、ＣＰＵ３１から出力される駆動データに基づいて、回転多面鏡２をその回転軸方向に移動させるための上述した移動機構に含まれるモータ等のアクチュエータを駆動する。
【００４６】
ＣＰＵ３１は、操作パネルコントローラ３４から画像形成密度又は画像倍率の設定に係る操作データが入力されると、この操作データに基づいて作成した駆動データを移動機構ドライバ３５に出力する。即ち、操作者が操作パネル４０内のキースイッチ４１の操作により画像形成密度の設定内容を変更した場合、ＣＰＵ３１は、変更後の画像形成密度に応じて回転多面鏡２を上側又は下側の位置に移動させるように、移動機構ドライバ３５を介して移動機構を動作させる。また、操作者が操作パネル４０内のキースイッチ４１の操作により副走査方向の画像倍率の設定内容を変更した場合、ＣＰＵ３１は、変更後の画像倍率に応じて回転多面鏡２を上側又は下側の位置に移動させるように、移動機構ドライバ３５を介して移動機構を動作させる。
【００４７】
図４は、この発明の第２の実施形態に係る光走査装置であるＬＳＵにおける入射ビームと回転多面鏡との関係を示す側面図である。この実施形態に係るＬＳＵ１は、回転多面鏡２の回転軸方向における回転多面鏡２又は入射光学系（半導体レーザ１を含む。）の変位にともなって、入射ビームの副走査方向の幅を変化させる。
【００４８】
感光体ドラム２０の表面における出射ビームのスポット径と入射ビーム光路中における集光前の入射ビーム径とは、略反比例の関係にある。
【００４９】
そこで、入射ビームを反射するポリゴンミラー２ａ，２ｂの反射面数を変更して画像形成密度を変更する際に、入射光学系部品３において入射ビーム光路中にスリット３ｂを選択的に挿入して入射ビームの副走査方向の幅を変更し、感光体ドラム２０の表面における出射ビームのスポット径を画像形成密度（走査密度）に適したサイズにする。
【００５０】
即ち、図４（Ａ）に示すように、反射面数の少ないポリゴンミラー２ａを使用して画像形成密度を低くする場合には、入射光学系部品３内においてシリンドリカルレンズ３ａの手前にスリット３ｂを挿入して入射ビームの副走査方向の幅を小さくする。
【００５１】
一方、図４（Ｂ）に示すように、反射面数の多いポリゴンミラー２ｂを使用して画像形成密度を高くする場合には、入射光学系部品３内においてシリンドリカルレンズ３ａの手前からスリット３ｂを抜き取って入射ビームの副走査方向の幅を大きくする。
【００５２】
なお、スリット３ｂに代えてプリズムを用いることもできる。
【００５３】
図５は、この発明の第３の実施形態に係る光走査装置であるＬＳＵにおける入射ビームと回転多面鏡との関係を示す平面図である。この実施形態に係るＬＳＵ１は、回転多面鏡２の回転軸方向における回転多面鏡２又は入射光学系（半導体レーザ１を含む。）の変位にともなって、入射ビームの主走査方向の幅を変化させる。
【００５４】
感光体ドラム２０の表面における出射ビームのスポット径と入射ビーム光路中における集光前の入射ビーム径とは、略反比例の関係にある。
【００５５】
そこで、入射ビームを反射するポリゴンミラー２ａ，２ｂの反射面数を変更して画像形成密度を変更する際に、入射光学系部品３において入射ビーム光路中にスリット３ｃを選択的に挿入して入射ビームの主走査方向の幅を変更し、感光体ドラム２０の表面における出射ビームのスポット径を画像形成密度（走査密度）に適したサイズにする。
【００５６】
即ち、図５（Ａ）に示すように、反射面数の少ないポリゴンミラー２ａを使用して画像形成密度を低くする場合には、入射光学系部品３内においてシリンドリカルレンズ３ａの手前にスリット３ｃを挿入して入射ビームの主走査方向の幅を小さくする。
【００５７】
一方、図５（Ｂ）に示すように、反射面数の多いポリゴンミラー２ｂを使用して画像形成密度を高くする場合には、入射光学系部品３内においてシリンドリカルレンズ３ａの手前からスリット３ｃを抜き取って入射ビームの主走査方向の幅を大きくする。
【００５８】
なお、スリット３ｃに代えてプリズムを用いることもできる。
【００５９】
なお、回転多面鏡２において使用するポリゴンミラーの反射面数が増加するにしたがって、出射ビームによる感光体ドラム２０の表面の主走査方向の走査範囲が狭くなる。そこで、反射面数の多いポリゴンミラーを使用した高密度の画像形成時には、反射面数の少ないポリゴンミラーを使用した低密度の画像形成時に比較して、主走査方向の画像形成範囲を予め限定するようにしてもよい。
【００６０】
図６は、この発明の第４の実施形態に係る光走査装置の入射ビーム光路を示す側面図である。この実施形態に係るＬＳＵ１では、回転多面鏡２において同軸上に一体的に重ねられた複数（ここでは４個）のポリゴンミラー２ａ〜２ｄのそれぞれに対する入射ビームを照射する個別の半導体レーザ１ａ〜１ｄを個別の入射光学系部品１３ａ〜１３ｄとともに備えたものである。
【００６１】
この構成において、複数の半導体レーザ１ａ〜１ｄのいずれかを択一的に選択して駆動することにより、感光体ドラム２０の表面における走査密度を適宜変更することができる。
【００６２】
また、複数の半導体レーザ１ａ〜１ｄのいずれかを択一的に選択して駆動する場合に、駆動する半導体レーザを画像形成処理の開始後に変更可能にすることにより、１枚の画像中において画像形成密度を部分的に変更することができる。
【００６３】
さらに、複数の半導体レーザ１ａ〜１ｄのうちの２以上を同時に選択して駆動できるようにすれば、文書用のフォーマットの画像、及び、このフォーマット内に記載されるべき文書画像のように、画像形成密度の異なる画像の混在や重ね合わせが可能となる。
【００６４】
なお、回転多面鏡２をその回転軸方向に変位させることなく使用するポリゴンミラーを変更する構成のＬＳＵにあっては、回転多面鏡２と感光体ドラム２０との間に配置される出射光学系の一部又は全部を、複数のポリゴンミラーのそれぞれに個別に設けるようにしてもよい。これによって、複数のポリゴンミラーから感光体ドラム２０の表面に至る複数の出射ビーム光路を単一の出射光学系によって実現するための煩雑な設計を不要にすることができる。
【００６５】
【発明の効果】
この発明によれば、以下の効果を奏することができる。
【００６６】
（１）被走査面における走査光の走査密度を変更する際に、同軸上に重ねて配置された反射面数が異なる複数個の回転多面鏡を択一的に切り換えて走査光の反射に使用することにより、回転多面鏡の回転数及び副走査方向における被走査面の移動速度を変更することなく、被走査面における走査光の走査密度を変更することができる。また、電子写真方式の画像形成装置における感光体を被走査面とする場合、走査光を反射する回転多面鏡の変更に伴って走査光における１画素当たりの変調周波数を調整することにより、感光体に形成される静電潜像の画像形成密度又は倍率を変更することができる。
【００６７】
これによって、構成部品の設計の煩雑化を生じることなく、厳格な組立精度の維持、及び、プロセス速度の変更に伴う画像形成条件の調整を必要とすることなく、また、過大なコストの上昇を招来することなく、被走査面における走査光の走査密度を容易に変更することができる。
【００６８】
（２）同軸上に重ねて配置された反射面数が異なる複数個の回転多面鏡を軸方向に変位させることにより、回転多面鏡の回転数及び副走査方向における被走査面の移動速度を変更することなく、被走査面における走査光の走査密度を変更することができる。
【００６９】
（３）同軸上に重ねて配置された反射面数が異なる複数個の回転多面鏡の位置を変更することなく走査光の照射光路を回転多面鏡の軸方向に変位させることにより、回転多面鏡を軸方向に変位させると、回転多面鏡の回転数及び副走査方向における被走査面の移動速度を変更することなく、被走査面における走査光の走査密度を変更することができる。
【００７０】
（４）被走査面における走査光の走査密度を変更する際にも、回転多面鏡の回転数を変更しないことにより、複数の走査密度の各々に応じた複数の回転数について回転多面鏡の回転状態が適正になるように設計する必要をなくし、回転数の制御が複雑になることを防止できる。
【００７１】
（５）被走査面における走査光の走査密度を変更する際にも、被走査面の移動速度を変更しないことにより、電子写真方式の画像形成装置における感光体を被走査面とする場合にも、画像形成条件の調整を伴うプロセス速度の変更を不要にすることができる。
【００７２】
（６）主走査方向における走査光のビーム幅を変更した状態で被走査面における走査光の走査密度を変更することにより、走査密度に適した集光幅の走査光によって被走査面を走査することができる。
【００７３】
（７）副走査方向における走査光のビーム幅を変更した状態で被走査面における走査光の走査密度を変更することにより、走査密度に適した走査幅の走査光によって被走査面を走査することができる。
【００７４】
（８）主走査方向における走査光の走査範囲を変更した状態で被走査面における走査光の走査密度を変更することにより、被走査面における走査光の走査密度を変更する際の回転多面鏡における反射面数の増加又は減少による走査角度の減少又は増加を補正する必要をなくし、回転多面鏡から被走査面に至る走査光の照射光路が複雑化することを防止できる。
【００７５】
（９）互いに反射面数が異なる複数の回転多面鏡の各々に走査光を照射する複数の照射手段のうちで被走査面における走査光の走査密度に応じた照射手段を選択的に駆動することにより、複数の照射手段の駆動制御のみによって被走査面における走査密度に応じた反射面数の回転多面鏡に走査光が照射されるようにし、回転多面鏡自体又は回転多面鏡に対する走査光の照射光路を回転多面鏡の軸方向に変位させる機構及び制御を不要にすることができる。
【００７６】
（１０）互いに反射面数が異なる複数の回転多面鏡の各々に走査光を照射する複数の照射手段のうちの２以上の照射手段を選択的に駆動することにより、走査密度が異なる複数の走査光によって被走査面を走査し、電子写真方式の画像形成装置における感光体が被走査面である場合に、例えばフォーマット画像と内容文書とのように複数種類の画像を互いに異なる密度で同時に形成することができる。
【００７７】
（１１）複数個の回転多面鏡のそれぞれで反射した走査光を個別の光学系部材を介して被走査面に導くことにより、複数の回転多面鏡から単一の被走査面に至る複数の光路を実現する光学系部材を備える必要がなく、光学系部材の設計を容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施形態に係る光走査装置であるＬＳＵの構成を示す斜視図である。
【図２】上記ＬＳＵにおける入射光学系と回転多面鏡との位置関係を示す側面図である。
【図３】上記ＬＳＵを備えた画像形成装置の制御部の構成を示すブロック図である。
【図４】この発明の第２の実施形態に係る光走査装置であるＬＳＵにおける入射ビームと回転多面鏡との関係を示す側面図である。
【図５】この発明の第３の実施形態に係る光走査装置であるＬＳＵにおける入射ビームと回転多面鏡との関係を示す平面図である。
【図６】この発明の第４の実施形態に係る光走査装置の入射ビーム光路を示す側面図である。
【符号の説明】
１−半導体レーザ（照射手段）
２−回転多面鏡
２ａ，２ｂ−ポリゴンミラー
３−入射光学系部品
３ａ−シリンドリカルレンズ
３ｂ，３ｃ−スリット
４−ｆθレンズ（出射光学系）
５−シリンドリカルレンズ（出射光学系）
６−折り返しミラー（出射光学系）
１０−ＬＳＵ（光走査装置）
２０−感光体ドラム（被走査面）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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