(57)【要約】【課題】生理活性等で有用な化合物であるＮ−アシルスルフェンアミド化合物を、有害な試薬を用いることなく、安全にかつ収率よく製造するための工業的に有利な方法の提供。【解決手段】下記一般式（イ）【化１】2004051598.tif 000011（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物を製造する方法において、スルフェンアミド化合物と酸塩化物を−７８〜０℃の低温で反応させることによるＮ−アシルスルフェンアミド化合物の製造方法。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（イ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ハ）で表される酸塩化物を、−７８〜０℃の温度条件下に反応させることを特徴とするＮ−アシルスルフェンアミド化合物の製造方法。
【化１】
2004051598.tif 000008
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても、異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【化２】
2004051598.tif 000009
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
【化３】
2004051598.tif 000010
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、スルフェンアミド化合物と酸塩化物を反応させることによりＮ−アシルスルフェンアミド化合物を効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スルフェンアミド化合物は、従来からゴムの加硫化剤、殺菌剤、殺虫剤、除草剤としての機能を有するものがあることが知られており（Ｃｈｅｍ．　Ｒｅｖ．，　８９，　６８９　（１９８９））、特に、Ｎ−ベンゾイル−４−クロロベンゼンスルフェンアミドには、植物成長調整機能があることが報告されている（Ｆｉｚｉｏｌ．　Ａｋｔ．　Ｖｅｓｈｃｈ，　１６，　４７　（１９８４）；　Ｃｈｅｍ．　Ａｂｓｔｒ．，　１０３，　１８３１４　（１９８５）．）。このように、一群のＮ−アシルスルフェンアミド化合物は、産業上重要な化合物であり、より安全な製法の開発が必要とされている。
【０００３】
アミド化合物は一般的にはアミン化合物のアシル化によって製造されている。同様に２０世紀初頭の論文には、スルフェンアミドのアシル化によってＮ−アシルスルフェンアミド化合物が得られるとの報告があるが（Ａｎｎ．　３９１，　５５　（１９１２），Ａｎｎ．，　４００，　１　（１９１３），　Ａｎｎ．，　４０６，　１０３　（１９１４），　Ｂｅｒ．，　７２，　６６３　（１９３９）．），その後スルフェンアミド化合物に対するアシル化は、通常の方法である酸塩化物や酸無水物による反応では進行せず、ジスルフィド化合物やジスルフェニルアミン化合物が得られことが報告されている（Ｊ．　Ｇｅｎ．　Ｃｈｅｍ．　ＵＳＳＲ，　４７，　１００４　（１９７７）；Ｚｈ．　Ｏｂｓｈｃｈ．　Ｋｈｉｍ．，　４７，　１０９６　（１９７７）．）。したがって、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物を製造するためには、塩化スルフェニル化合物とアミド化合物の反応により製造されてきた（例えばＢｕｌｌ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ．　Ｊｐｎ．，　５１，　３００４　（１９７８）．）。
しかしながら、塩化スルフェニル化合物は、従来、チオール化合物あるいはジスルフィド化合物と塩素ガスとの反応により製造しなければならなかったので、有毒な塩素ガスを気体で反応系に供給することが必要であり、その取り扱いに困難なことが多く、安全な製造方法が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物を製造するにあたり、有毒な塩素ガスを用いて合成されている塩化スルフェニル化合物を原料に用いるという欠点を克服し、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物及びその製造方法について鋭意研究を重ねた結果、スルフェンアミド化合物と酸塩化物を−７８℃〜０℃の低温で反応させることにより、塩素ガスを用いることなく、安全かつ容易にＮ−アシルスルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００６】
本発明によれば、下記一般式（イ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ハ）で表される酸塩化物を、−７８〜０℃の温度条件下に反応させることを特徴とするＮ−アシルスルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【化４】
2004051598.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【化５】
2004051598.tif 000003
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
【化６】
2004051598.tif 000004
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【０００７】
【発明の実施の形態】
下記一般式（イ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるスルフェンアミド化合物と、
下記一般式（ハ）で表される酸塩化物を反応させる。
【化７】
2004051598.tif 000005
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【化８】
2004051598.tif 000006
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
【化９】
2004051598.tif 000007
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
この反応によれば、塩素ガスを用いることなく、また、効率よく反応を進めることができる。
【０００８】
前記式中、Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル、３−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−ヘプチル基、３−ヘプチル基、４−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−オクチル基、３−オクチル基、４−オクチル基等が挙げられる。
前記シクロアルキル基の具体例を示すと、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基の具体例を示すと、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ｎは０または１〜４の整数を示す。
Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
前記アルキル基もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル、３−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−ヘプチル基、３−ヘプチル基、４−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−オクチル基、３−オクチル基、４−オクチル基等が挙げられる。
シクロアルキル基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
また、前記芳香族基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基を有していてもよい。
【０００９】
前記反応条件は以下の通りである。
前記Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物の製造は、塩基として第三級アミン類の存在下で実施されるが、この場合のアミン類として、ピリジン、メチルピリジン、ジメチルピリジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が用いられる。また、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物の製造は、好ましくは反応溶媒の存在下で実施されるが、この場合の反応溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。
また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
前記製造方法は、−７８℃〜０℃の条件下に行う。この温度範囲未満の温度条件下に行うと、反応が進まなくなり、反応時間が長くなる。この温度範囲を超えて高温で行うと、分解反応や副反応が促進され、好ましくない。前記温度条件は、さらに−３０℃〜０℃の範囲で行うことが好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は５分〜５時間で十分である。
なお、前記原料物質である一般式（ロ）で表されるスルフェンアミド化合物は、チオール化合物とヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸を公知の方法で反応させて製造される。もう一方の原料物質である一般式（ハ）で表される酸塩化物は、カルボン酸を塩化チオニル等により塩素化させることにより製造される。
【００１０】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。なお、本発明の実施例は本発明の理解を容易にするために代表的な物をあげたものであり、本発明はこれだけに限定されるものではない。Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物は、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、未知のものについては各種スペクトルを主要な判定基準として同定した。
【００１１】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミド（９１．５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレンに溶解させ、塩化ベンゾイル（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）とピリジン（８０μｌ）を加えた。−２０℃で１５分撹拌させた後，溶媒を減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することによりＮ−ベンゾイル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収量１３８ｍｇ、収率９６％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１５６−１５８　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）：　ｄ　７．９９　（ｄ，　Ｊ　＝　７．７　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．９１　（ｄ，　Ｊ　＝　７．７　Ｈｚ，　２Ｈ），　７．５６　（ｓ，　１Ｈ），　７．５４　（ｄ，　Ｊ　＝　７．９　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．４５−７．４１　（ｍ，　３Ｈ），　７．３０　（ｄ，　Ｊ　＝　７．９　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．１６　（ｔ，　Ｊ　＝　７．６　Ｈｚ，　１Ｈ），　３．９２　（ｓ，　３Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ　（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）：　ｄ　１６９．０，　１６７．１，　１４４．９，　１３３．１，　１３２．４，　１３１．１，　１２８．８，　１２７．７，　１２４．６，　１２４．２，　１２２．１，　５２．４；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３２６４，　３０６３，　２９５１，　１７０１，　１６６３，　１４５３，　１４３３，　１３１２，　１２５６，　１１０５，　７４５，　６９３　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ１５Ｈ１３ＮＯ３Ｓ：　Ｃ，　６２．７０；　Ｈ，　４．５６；　Ｎ，　４．８７．　実測値：　Ｃ，　６２．６８；　Ｈ，　４．２７；　Ｎ，　４．７６．
【００１２】
実施例２
実施例１において反応を０℃で行うと、Ｎ−ベンゾイル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収率７８％で得た。同時に副生成物としてＮ，Ｎ−ビス（２−メトキシカルボニルフェニルチオ）アミンが収率２０％で得られた。
【００１３】
実施例３
実施例１において、２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに４−クロロベンゼンスルフェンアミド（８０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン）で精製することにより、Ｎ−ベンゾイル−４−クロロベンゼンスルフェンアミドを収率１１２ｍｇ、収率８５％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。融点１４３−１４４℃（文献値１４３−１４４，１３８−１３９℃）。
【００１４】
実施例４
実施例１において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化アセチル（４０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝１：１）で精製することにより、Ｎ−アセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収率１０６ｍｇ、収率９４％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１２９−１３０　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　８．０２　（ｄｄ，　Ｊ　＝　７．６，　１．２　Ｈｚ，１Ｈ），　７．５４　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　８．６，　７．４，　１．６　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２８　（ｄｄ，　Ｊ　＝　８．３，　０．７　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２２　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　７．５，　７．５，　１．０　Ｈｚ，　１Ｈ），　３．９１　（ｓ，　３Ｈ），　２．２１　（ｓ，　３Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ　（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　１７５．８，　１６８．３，　１４６．５，　１３４．２，　１３２．１，　１２５．５，　１２５．３，　１２３．１，　５２．８，　２３．０；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３２６４，　２９５７，　１７０３，　１６６７，　１４３９，　１３１４，　１２９０，　１２４２，　１１４８，　７４７　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ１０Ｈ１１ＮＯ３Ｓ：　Ｃ，　５３．３２；　Ｈ，　４．９２；　Ｎ，　６．２２．　実測値：　Ｃ，　５３．４４；　Ｈ，　４．６５；　Ｎ，　６．１１．
【００１５】
実施例５
実施例３において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化アセチル（４０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝５：１）で精製することにより、Ｎ−アセチル−４−クロロベンゼンスルフェンアミドを収率８３ｍｇ、収率８２％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１１５−１１７　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　７．３１　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　８．６，　２．１，　２．１　Ｈｚ，　２Ｈ　），　７．２０　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　８．８，　２．１，　２．１　Ｈｚ，　２Ｈ），　２．１４　（ｓ，　３Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　１７５．４，　１３９．３，　１３３．２，　１３０．１，　１２７．１，　２２．８；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３２４１，　２８６６，　１６７１，　１４７６，　１４５３，　１２４８，　１０９２，　８１４　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ８Ｈ８ＣｌＮＯＳ：　Ｃ，　４７．６４；　Ｈ，　４．００；　Ｎ，　６．９５．　実測値：　Ｃ，　４７．８０；　Ｈ，　３．７１；　Ｎ，　６．９０．
【００１６】
実施例６
実施例１において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化プロピオニル（４６ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝５：１）で精製することにより、Ｎ−プロピオニル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収率１１７ｍｇ、収率９８％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１３８−１３９　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　８．０１　（ｄｄ，　Ｊ　＝　８．０，　１．２　Ｈｚ，１Ｈ），　７．５３　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　７．８，　７．８，　１．５　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２６　（ｄ，　Ｊ　＝　７．７　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２１　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　７．５，　７．５，　０．９　Ｈｚ，　１Ｈ），　３．９０　（ｓ，　３Ｈ），　２．５０　（ｑ，　Ｊ　＝　７．７　Ｈｚ，　２Ｈ），　１．２１　（ｔ，　Ｊ　＝　７．６　Ｈｚ，　３Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ　（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　１７９．４，　１６８．３，　１４６．７，　１３４．１，　１３２．１，　１２５．５，　１２５．３，　１２３．０，　５２．８，　３０．４，　１０．２；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３２３９，　２９８６，　２９４９，　２８８２，　１７０５，　１６７６，　１４３９，　１３００，　１２７７，　１２５８，　１１９０，　７５６　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ１１Ｈ１３ＮＯ３Ｓ：　Ｃ，　５５．２１；　Ｈ，　５．４８；　Ｎ，　５．８５．　実測値：　Ｃ，　５５．４２；　Ｈ，　５．２３；　Ｎ，　５．７７．
【００１７】
実施例７
実施例１において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化イソブチリル（５３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝１０：１）で精製することにより、Ｎ−イソブチリル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収率１０７ｍｇ、収率８５％で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１４８．１−１４９．１　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　８．０２　（ｄｄ，　Ｊ　＝　８．０，　１．２Ｈｚ，　１Ｈ），　７．５２　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　８．２，　７．３，　１．２　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２５　（ｄ，　Ｊ　＝　８．２　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２１　（ｔ，　Ｊ　＝　７．３　Ｈｚ，　１Ｈ），　３．９２　（ｓ，　３Ｈ），　２．７６　（ｓｅｐ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ，　１Ｈ），　１．２４　（ｔ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ，　６Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ　（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　１８２．２，　１６８．１，　１４６．４，１３３．９，　１３２．０，　１２５．３，　１２５．０，　１２２．７，　５２．７，　３６．７，　１９．９；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３２１０，　１７０１，　１６７４，　１４３５，　１１０１，　７５０　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ１２Ｈ１５ＮＯ３Ｓ：　Ｃ，　５６．９０；　Ｈ，
５．９７；　Ｎ，　５．５３．　実測値：　Ｃ，　５７．０７；　Ｈ，　５．８５；　Ｎ，　５．４０．
【００１８】
実施例８
実施例１において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化ピバロイル（６０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより、Ｎ−ピバロイル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収率７６ｍｇ、収率５７％で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１２０．５−１２１．３　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）：　ｄ　８．００　（ｄｄ，　Ｊ　＝　７．６，　１．５Ｈｚ，　１Ｈ），　７．４６　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　８．８，　７．６，　１．２　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．１５−７．１９　（ｍ，　２Ｈ），　６．８２　（ｓ，　１Ｈ），　３．９３　（ｓ，　３Ｈ），　１．３４　（ｓ，　９Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ　（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）：　ｄ　１７９．８，　１６６．９，　１４５．１，　１３２．９，　１３１．１，　１２４．４，　１２４．３，　１２１．７，　５２．３，　４０．０，　２７．７；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３２５８，　１７０５，　１６６９，　１４３１，　１２７７，　１１４４，　７４１　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ１３Ｈ１７ＮＯ３Ｓ：　Ｃ，　５８．４０；　Ｈ，　６．４１；　Ｎ，　５．２４．　実測値：　Ｃ，　５８．３７；　Ｈ，　６．３０；　Ｎ，　５．１１．
【００１９】
実施例９
実施例１において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化フェニルアセチル（７７ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝１０：１）で精製することにより、Ｎ−フェニルアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収率１１１ｍｇ、収率７４％で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１４４．５−１４５　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　７．９７　（ｄｄ，　Ｊ　＝　７．９，　１．２　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２８−７．３９　（ｍ，　６Ｈ），　７．０１−７．０３　（ｍ，　１Ｈ），　７．０２　（ｄｄ，　Ｊ　＝　８．２，　０．９　Ｈｚ，１Ｈ），　３．８９　（ｓ，　３Ｈ），　３．７６　（ｓ，　２Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ　（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤ３ＯＤ）：　ｄ　１７６．４，　１６８．３，　１４６．５，　１３６．２，　１３４．０，　１３２．１，　１３０．３，　１２９．７，　１２８．３，　１２５．５，　１２５．２，　１２３．０，　５２．８，　４４．３；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３１９６，　１７０３，　１６６１，　１４３５，　１１０７，　７４１　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ１６Ｈ１５ＮＯ３Ｓ：　Ｃ，　６３．７７；　Ｈ，　５．０２；　Ｎ，　４．６５．　実測値：　Ｃ，　６３．９５；　Ｈ，　４．９２；　Ｎ，　４．５６．
【００２０】
実施例１０
実施例１において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化フェノキシアセチル（８５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒　塩化メチレン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより、Ｎ−フェノキシアセチル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドを収率１４７．５ｍｇ、収率９３％で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：１３１．８−１３２．６　°Ｃ．　１Ｈ　ＮＭＲ　（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）：　ｄ　８．０２　（ｄｄ，　Ｊ　＝　７．６，　１．２Ｈｚ，　１Ｈ），　７．６５　（ｓ，　１Ｈ），　７．４４　（ｄｄｄ，　Ｊ　＝　８．５，　７．１，　１．５　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．３８　（ｄｄ，　Ｊ　＝　８．８，　７．６　Ｈｚ，　２Ｈ），　７．１７−７．２２　（ｍ，　２Ｈ），　７．０９　（ｔ，　Ｊ　＝　７．６　Ｈｚ，　１Ｈ），　７．００　（ｄｄ，　Ｊ　＝　８．８，　０．９　Ｈｚ，　２Ｈ），　４．７６　（ｓ，　２Ｈ），　３．９４　（ｓ，３Ｈ）；　１３Ｃ　ＮＭＲ　（１２５　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）：　ｄ　１７０．６，　１６７．１，　１５６．９，　１４４．２，　１３３．２，　１３１．１，　１３０．０，　１２４．８，　１２４．４，１２２．６，　１２１．９，　１１４．７，　６７．９，　５２．５；　ＩＲ　（ＫＢｒ）：　３２２１，　１６９９，　１３７８，　１４５６，　１２９２，　１１７９，　７５０　ｃｍ−１；　元素分析：計算値Ｃ１６Ｈ１５ＮＯ４Ｓ：　Ｃ，　６０．５５；　Ｈ，　４．７６；　Ｎ，　４．４１．　実測値：　Ｃ，　６０．５２；　Ｈ，　４．６２；　Ｎ，　４．３４．
【００２１】
比較例１
実施例１において反応を室温で１０分行うと，Ｎ，Ｎ−ビス（２−メトキシカルボニルフェニルチオ）アミンが収率５６％で得られ、Ｎ−ベンゾイル−２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドは得られなかった。
【００２２】
【発明の効果】
本発明によれば、スルフェンアミド化合物と酸塩化物を反応させることにより、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物を収率よく製造することができる。しかも、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できるので、工業的なＮ−アシルスルフェンアミド化合物の合成法として最適である。