(57)【要約】【課題】フォトレジストの現像条件を決定する際に、現像条件以外の要因の影響を排除し、現像条件についての正確な評価を可能にする装置を提供する。【解決手段】仕切り壁２は、回転テーブル１１の上方に吊り下げられ、上下方向の移動及び回転が可能である。仕切り壁２は、被処理基板１０の中心軸から各隅に向かって伸びる４枚の板状の部材３により構成され、各部材３の下端面には、スリット状ノズル４が形成されている。被処理基板１０の上に仕切り壁２を固定した状態で、スリット状ノズル４から被処理基板１０の表面に向けて窒素ガスを噴出することにより、被処理基板１０の表面を４つの区画に分割することができる。現像液を吐出するためのノズル１は、各部材３が互いに接する４つの角の内側にそれぞれ取り付けられている。各ノズル１から吐出される現像液の濃度等を変えることにより、各区画毎の現像条件を変えることができる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の表面に現像用またはリンス用の薬液を吐出するための複数のノズルと、
各ノズルに対応させて被処理基板の表面を複数の区画に分割し、それにより、各ノズルから吐出される薬液が接触する範囲をそれぞれ対応する一つの区画に限定する仕切り壁と、
を備えたことを特徴とする現像条件評価装置。
【請求項２】
前記仕切り壁は、その下端面にスリット状ノズルを備え、これらのスリット状ノズルから被処理基板の表面に向けてガスを噴出することによって、被処理基板の表面を前記複数の区画に分割するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の現像条件評価装置。
【請求項３】
前記仕切り壁は、その下端面にゴムまたはプラスチックのパッドが取り付けられ、これらのパッドを被処理基板の表面に押し付けることによって、被処理基板の表面を前記複数の区画に分割するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の現像条件評価装置。
【請求項４】
被処理基板の表面に現像用またはリンス用の薬液を吐出するための複数のノズルと、
各ノズルに対応させて被処理基板の表面を複数の区画に分割し、それにより、各ノズルから吐出される薬液が接触する範囲をそれぞれ対応する一つの区画に限定する仕切り壁とを備えた装置を使用して、
各ノズルから吐出される薬液の濃度を変えることによって、前記各区画毎の現像条件を変えることを特徴とする現像条件評価方法。
【請求項５】
被処理基板の表面に現像用またはリンス用の薬液を吐出するための複数のノズルと、
各ノズルに対応させて被処理基板の表面を複数の区画に分割し、それにより、各ノズルから吐出される薬液が接触する範囲をそれぞれ対応する一つの区画に限定する仕切り壁とを備えた装置を使用して、
各ノズルから薬液が吐出される時間を変えることによって、前記各区画毎の現像条件を変えることを特徴とする現像条件評価方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジストの現像条件を評価する際に使用される装置及び方法に係る。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＳＩの高集積化に伴い、フォトレジストに対する要求が高度化している。特に、より微細なパターンを高い精度で形成することが、フォトレジストに対して求められている。そのような要求に応じて新たに開発されたフォトレジストについては、その特性が十分発揮されるような現像条件を決定する必要がある。
【０００３】
従来、フォトレジストの最適な現像条件を決定する際には、複数の基板を準備し、露光工程の終了後、それらの基板を現像条件を変えて現像し、その結果を比較して評価を行っている。そのため、基板間での露光条件の相違、環境の変動による影響、現像装置からの影響などを完全に取り除くことが難しく、正確な評価が行えない。しかも、複数の基板を準備しなければならないので、時間的及び経済的に効率が悪い。
【０００４】
なお、露光された１枚の基板を複数に切断して評価を行えば、露光条件のみは同一にすることができるが、その他の問題は解決されない。更に、基板を切断する工程が増えるため、効率的にも問題が残る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような従来の現像条件の評価方法についての問題点に鑑み成されたもので、本発明の目的は、現像条件以外の要因の影響を排除することによって、現像条件についての正確な評価を可能にする現像条件評価装置及びその装置を用いた評価方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の現像条件評価装置は、
被処理基板の表面に現像用またはリンス用の薬液を吐出するための複数のノズルと、
各ノズルに対応させて被処理基板の表面を複数の区画に分割し、それにより、各ノズルから吐出される薬液が接触する範囲をそれぞれ対応する一つの区画に限定する仕切り壁と、
を備えたことを特徴とする。
【０００７】
好ましくは、前記仕切り壁の下端面にスリット状ノズルを設ける。これらのスリット状ノズルから被処理基板の表面に向けてガスを噴出してガス・カーテンを形成することによって、被処理基板の表面を前記複数の区画に分割することができる。
【０００８】
あるいは、前記仕切り壁の下端面にゴムまたはプラスチックのパッドを取り付る。これらのパッドを被処理基板の表面に押し付けることによって、被処理基板の表面を前記複数の区画に分割することができる。
【０００９】
本発明の現像条件評価装置によれば、例えば、各ノズルから吐出される薬液の濃度を変えることによって、前記各区画毎の現像条件を変えることができる。あるいは、各ノズルから薬液が吐出される時間を変えることによって、前記各区画毎の現像条件を変えることもできる。
【００１０】
本発明の現像条件評価装置によれば、現像工程に先行する工程を１枚の基板を用いて行うことができる。これに加えて、複数の条件による現像工程を、１枚の基板を用いて同一の装置で同一の機会に行うことができる。その結果、現像条件以外の要因の影響を排除して、現像条件の相違のみに基づく変化を正確に評価することできる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１に、本発明に基づく現像条件評価装置の主要部の概要を示す。図中、１はノズル、２は仕切り壁、４はスリット状ノズル、１０は被処理基板、１１は回転テーブルを表す。
【００１２】
被処理基板１０は、回転テーブル１１の上にセットされる。回転テーブル１１の四隅には、それぞれ、２本のガイドポスト１３及び１本の支持ピン１４が設けられている。支持ピン１４は、被処理基板１０の各隅の近傍を下側から支持する。ガイドポスト１３は、各隅の近傍で被処理基板１０の側面に接触し、被処理基板１０の横方向の動きを拘束する。
【００１３】
仕切り壁２は、ロータリージョイント（図示せず）を介して、回転テーブル１１の上方に吊り下げられている。仕切り壁２は、上下方向に移動させることができる。また、仕切り壁２は、上記のロータリージョイントにより、回転テーブル１１と共通の軸の周りで回転することができる。
【００１４】
この例では、仕切り壁２は、被処理基板１０の中心軸から各隅に向かって伸びる４枚の板状の部材３により構成され、それによって、被処理基板１０の表面を２本の対角線に沿って４つの区画に分割している。各部材３の下端面には、スリット状ノズル４が形成されている。各スリット状ノズル４には、配管７を通って窒素ガスが供給される。各部材３の先端には、２個のガイドブッシュ８が取り付けられている。仕切り壁２を下降させて、ガイドブッシュ８をガイドポスト１３に挿入することによって、被処理基板１０の上に仕切り壁２を固定することができる。
【００１５】
このように被処理基板１０の上に仕切り壁２を固定した状態で、スリット状ノズル４から被処理基板１０の表面に向けて窒素ガスを噴出することにより、ガス・カーテンが形成される。これによって、図２に示すように、被処理基板１０の表面を４つの区画１０ａ〜ｄに分割することができる。
【００１６】
現像液を吐出するためのノズル１は、仕切り壁２を構成する各部材３が互いに接する４つの角の内側に、それぞれ取り付けられている。各ノズル１には、対応する各配管６を通って現像液が供給される。これによって、各ノズル１は、被処理基板１０の中心から各辺に向けて、現像液を吐出することができる。
【００１７】
図１に示した装置を使用して、各ノズル１から吐出される現像液（またはリンス液）の濃度を変えることによって、各区画毎の現像条件を変えることができる。なお、現像液等の濃度を変える他に、液の組成、液の温度、吐出流量などを変えることによって、各区画毎の現像条件を変えることができる。更に、現像液を吐出する時間、現像液及びリンス液を吐出するタイミングなどを変えることもできる。
【００１８】
なお、上記の例では、ガス・カーテンを形成して被処理基板１０の表面を複数の区画に分割しているが、仕切り壁３の下端面にゴムまたはプラスチックのパッドを取り付け、これらのパッドを被処理基板１０の表面に押し付けることによって、被処理基板１０の表面を複数の区画に分割することもできる。
【００１９】
【発明の効果】
本発明の現像条件評価装置によれば、現像工程に先行する工程を１枚の基板を用いて行うことができる。これに加えて、複数の条件による現像工程を、１枚の基板を用いて同一の装置で同一の機会に行うことができる。その結果、現像条件以外の要因の影響を排除して、現像条件の相違のみに基づく変化を正確に評価することができる。更に、本発明の現像条件評価装置によれば、１枚の基板を用いて露光工程及び現像工程が行われるので、現像条件の評価を、経済的に且つ効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の現像条件評価装置の一例を示す図。
【図２】被処理基板の表面を複数の区画に分割した例を示す図。
【符号の説明】１…ノズル、２…仕切り壁、３…板状の部材、４…スリット状ノズル、６、７…配管、８…ガイドブッシュ、１０…被処理基板、１１…回転テーブル、１３…ガイドポスト、１４…支持ピン。
【図１】
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【図２】
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