(57)【要約】【課題】蒸着室１に、成膜源２から飛翔する蒸着材料のワーク基板に対する蒸着膜の膜厚分布を補正する補正部材Ｒが設けられた真空成膜装置において、その補正部材Ｒを蒸着室１の真空状態に維持したまま交換できるようにする。【解決手段】キャリア移送機構１３により、古い補正部材Ｒが積み込まれたキャリア１２を蒸着室１から下流側に隣接する出口室６に順移送してその出口室６で保持機構２０により補正部材Ｒをキャリア１２から降ろした後、空のキャリア１２を元の蒸着室１を経て該蒸着室１上流側に隣接する入口室５まで逆移送して該入口室５で保持機構２０によりキャリア１２に新しい補正部材Ｒを積み込み、この後にキャリア１２を蒸着室１に順移送させる。【選択図】　図１
2004068053.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロードロック室にゲート弁を介して連通され、ワークに成膜する成膜室を備えた真空成膜装置において、
上記成膜室に交換可能に設けられ、成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材と、
上記補正部材を成膜室とロードロック室との間で移動させる移送機構とを備え、
成膜室及びロードロック室が真空状態にあるときに、ゲート弁を開きかつ上記移送機構を作動させて、補正部材を成膜室に対しロードロック室との間で移動させることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するように構成されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項２】
入口ゲート弁により開閉される開口を経て少なくともワークが搬入される入口ロードロック室と、出口ゲート弁により開閉される開口を経て少なくともワークが搬出される出口ロードロック室と、上記両ロードロック室間に連続して配置され、隣接する他の室の接続部に両室の連通を遮断する中間ゲート弁が設けられた１つ以上の成膜室とを備え、少なくともワークをキャリアにより支持して入口ロードロック室から成膜室に搬入し、該成膜室でワークに成膜した後に、成膜後のワークを出口ロードロック室に搬送するようにした真空成膜装置であって、
上記成膜室に交換可能に設けられ、成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材と、
上記キャリアを各室間に亘りワーク搬送方向と同じ方向に順移送させ又はワーク搬送方向と逆の方向に逆移送させる移送機構と、
少なくとも上記両ロードロック室に設けられ、ワーク又は補正部材を保持する保持機構とを備え、
上記移送機構により、常時は、ワークが支持されたキャリアを成膜室からそのワーク搬送方向下流側に隣接する室に順移送して該室で保持機構にワークを保持した後、空になったキャリアを元の成膜室を経て該成膜室のワーク搬送方向上流側に隣接する室まで逆移送して該室で保持機構に保持されている次のワーク又は補正部材をキャリアに支持し、しかる後に該キャリアを成膜室に順移送させる搬送動作を繰り返すことにより、ワークの成膜処理を行い、補正部材の交換時には、上記ワークに代えて補正部材をキャリアに支持して上記搬送動作を行わせることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するように構成されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項３】
請求項２の真空成膜装置において、
ロードロック室を除いた常時真空状態に保たれる成膜室が複数設けられている一方、
キャリアは上記成膜室の数と同じ複数台設けられており、
複数のキャリアをワーク搬送方向に隣接する３室間で並行して移送させてワーク又は補正部材を搬送するようにしたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項４】
請求項２の真空成膜装置において、
ロードロック室を除いた常時真空状態に保たれる成膜室が複数設けられている一方、
キャリアは成膜室の数よりも１つ以上少ない台数だけ設けられており、
各キャリアをワーク搬送方向に隣接する下流側の３室間で移送させてワーク又は補正部材を搬送した後に、ワーク搬送方向に隣接する上流側の３室間で移送させてワーク又は補正部材を搬送するようにしたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項５】
入出口ゲート弁により開閉される開口を経て少なくともワークが搬入出される１対の入出口ロードロック室と、該両ロードロック室間に連続して配置され、両ロードロック室との接続部に両室の連通を遮断する中間ゲート弁が設けられた１つの成膜室とを備え、少なくともワークをキャリアにより支持して各ロードロック室と成膜室との間で交互に搬送するようにした真空成膜装置であって、
上記成膜室に交換可能に設けられ、成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材と、
上記キャリアを各室間に亘り一方向又は他方向に移送させる移送機構と、
少なくとも上記両ロードロック室に設けられ、ワーク又はキャリアを保持する保持機構とを備え、
上記移送機構により、常時は、ワークが支持されたキャリアを成膜室から一方の入出口ロードロック室に移送して該入出口ロードロック室で保持機構にワークを保持した後、空になったキャリアを元の成膜室を経て他方の入出口ロードロック室まで移送して該入出口ロードロック室で保持機構に保持されている次のワークをキャリアに支持し、しかる後に該キャリアを成膜室に移送させる搬送動作を両入出口ロードロック室間で交互に繰り返すことにより、ワークの成膜処理を行い、補正部材の交換時には、上記ワークに代えて補正部材をキャリアに支持して上記搬送動作を行わせることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するように構成されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項６】
請求項２〜５のいずれか１つの真空成膜装置において、
移送機構は、ワーク搬送方向と直交する幅方向の両側に略対向して配置された搬送ローラを有し、
ロードロック室では、開口が上記搬送ローラによるワーク搬送方向と直交する方向に延びるように配置され、かつ該開口を介して搬入出されるワーク又は補正部材が、上記幅方向の両側に略対向して配置された搬送ローラ間を通るように設けられ、
ロードロック室における搬送ローラの位置は、上記開口の幅方向最大位置よりもワーク搬送方向前後両側にオフセットされていることを特徴とする真空成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空状態の成膜室内でワークに成膜材料を付着させて成膜する真空成膜装置に関し、詳しくは、成膜室において成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材を交換するための技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、真空状態に保たれる成膜室内でワークに成膜する真空成膜装置では、その成膜室内の成膜源とワークとの間に補正板等からなる補正部材を配置し、この補正部材により成膜源からワークに向かって飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正することが行われている。
【０００３】
例えば、特開昭６２―８９８６６号公報では、真空の蒸着室内でワークとしての基板を直線的に水平移動させながら、蒸着源からの蒸着材料をワークに飛翔させて蒸着させる連続蒸着装置において、移動する基板が蒸着源に最も近付く位置を中心として補正部材を配置することにより、基板に所望の膜厚分布を得つつ、膜質を均一化するようにすることが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような補正部材は、ワークに対する成膜プロセスを変更するとき等には、その成膜種や成膜分布の異なる補正部材に取り換える必要がある。また、補正部材に成膜材料が堆積することによる性能の低下等を回避するときにも、その補正部材を定期的又は必要に応じて交換する必要がある。その場合の交換方法としては、ワークの成膜処理を一旦終了させて成膜室を大気に開放し、その大気開放状態で成膜室における所定の保守用の扉を介して補正部材を交換する方法がある。
【０００５】
しかし、この方法では、補正部材の交換の都度、成膜室を大気に開放せねばならず、その補正部材の交換後に再度ワークを成膜するときに、成膜室の真空状態や温度等の成膜条件がそれまでの条件から変化するという問題がある。
【０００６】
一方、大気中からロードロック室を経由して成膜室に搬入出される例えばワーク搬送用のキャリアに補正部材を一体的に取り付けておき、成膜室内にキャリアと共に補正部材を搬入出するようにする方法もあり、この方法によれば、キャリアに取付固定される補正部材を変えておけば、成膜室を真空状態に保ったままで補正部材を容易に交換することができる。
【０００７】
しかしながら、その反面、ワーク等の搬入出の都度、常に、補正部材がキャリアと共に大気中から成膜室に搬入された後に再度大気中に戻されるので、その補正部材により大気中の不純物が成膜室内に持ち込まれる頻度が高く、成膜品質が低下する虞れがある。
【０００８】
また、成膜室でワークと共に成膜された補正部材の堆積物や汚れが大気中で剥がれ易くなる。しかも、成膜時にワークを加熱環境下で成膜するときには、そのワークと共に補正部材も加熱されるので、その補正部材が成膜室と大気中との間で移送されることで、補正部材の熱膨張及び収縮が繰り返され、上記堆積物や汚れがさらに剥離し易くなる。そして、この堆積物や汚れ等がワークの成膜時に剥離して飛散することで、基板の成膜品質に悪影響を及ぼすばかりでなく、さらには、上記補正部材の加熱のために大きな加熱エネルギーが必要であるという問題も生じる。
【０００９】
本発明の目的は、成膜室において成膜源とワークとの間に配置される補正部材の大気中との間の移動形態に工夫を凝らすことにより、成膜室の真空を破ることなく補正部材を交換できるようにすることにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明では、成膜室にゲート弁を介して連通するロードロック室を設けてワークを成膜室で成膜するときの構造を利用し、補正部材を成膜室及びそれに連通するロードロック室の間で移動させる移送機構を設けて、この移送機構により成膜室及びロードロック室が共に真空状態にあるときにゲート弁を開いて補正部材を成膜室に対し出入れするようにした。
【００１１】
すなわち、請求項１の発明では、ロードロック室にゲート弁を介して連通され、ワークに成膜する成膜室を備えた真空成膜装置が前提である。
【００１２】
そして、上記成膜室に交換可能に設けられ、成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材と、この補正部材を成膜室及びロードロック室の間で移動させる移送機構とを備え、成膜室及びロードロック室が真空状態にあるときに、ゲート弁を開きかつ上記移送機構を作動させて、補正部材を成膜室に対しロードロック室との間で移動させることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するように構成されているものとする。
【００１３】
上記の構成によれば、ワークの成膜時には、成膜室の成膜源とワークとの間の所定位置に補正部材が配置されており、ワークの成膜後に、この補正部材を交換する場合、まず、ロードロック室の大気への開放口を閉じてロードロック室を真空状態にし、その後に閉じ状態にあるゲート弁を開いて成膜室とロードロック室とを連通させる。この連通状態で、成膜室にある補正部材を移送機構により成膜室からロードロック室に移動させ、ゲート弁を閉じて成膜室を真空状態に保持した後、ロードロック室を大気に開放して、補正部材をロードロック室の移送機構から取り外して大気中に取り出す。この後、新しい補正部材をロードロック室に入れて移送機構にセットし、ロードロック室の大気への開放を止めてロードロック室を真空状態にし、その後にゲート弁を開いて成膜室とロードロック室とを連通させ、この連通状態で、ロードロック室にある補正部材を移送機構により成膜室に移動させ、その成膜室の所定位置（成膜源と成膜すべきワークとの間）に配置する。しかる後にゲート弁を閉じればよい。以上により、成膜室を真空状態に保持したままで補正部材をロードロック室を介して交換することができる。
【００１４】
したがって、成膜室はワークの成膜時は勿論、補正部材の交換時にも常時真空状態に保たれることとなり、成膜室の真空状態や温度等の成膜条件が乱されることはない。
【００１５】
しかも、成膜室の真空状態のままで補正部材のみを交換するので、補正部材により大気中の不純物が成膜室内に持ち込まれる頻度が極めて低く、成膜室と大気中との移動の繰り返しにより補正部材の堆積物が成膜室内で剥離することも抑制され、よってワークに対する成膜品質を向上維持することができる。
【００１６】
また、交換後の補正部材は、成膜室で加熱保持されるので、大きな加熱エネルギーは不要となる。
【００１７】
請求項２の発明では、入口ゲート弁により開閉される開口を経て少なくともワークが搬入される入口ロードロック室と、出口ゲート弁により開閉される開口を経て少なくともワークが搬出される出口ロードロック室と、上記両ロードロック室間に連続して配置され、隣接する他の室の接続部に両室の連通を遮断する中間ゲート弁が設けられた１つ以上の成膜室とを備え、少なくともワークをキャリアにより支持して入口ロードロック室から成膜室に搬入し、該成膜室でワークに成膜した後に、成膜後のワークを出口ロードロック室に搬送するようにした真空成膜装置が対象である、
上記成膜室に交換可能に設けられ、成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材と、上記キャリアを各室間に亘りワーク搬送方向と同じ方向に順移送させ又はワーク搬送方向と逆の方向に逆移送させる移送機構と、少なくとも上記両ロードロック室に設けられ、ワーク又は補正部材を保持する保持機構とを備える。
【００１８】
そして、上記移送機構により、常時は、ワークが支持されたキャリアを成膜室からそのワーク搬送方向下流側に隣接する室に順移送して該室で保持機構にワークを保持した後、空になったキャリアを元の成膜室を経て該成膜室のワーク搬送方向上流側に隣接する室まで逆移送して該室で保持機構に保持されている次のワーク又は補正部材をキャリアに支持し、しかる後に該キャリアを成膜室に順移送させる搬送動作を繰り返すことにより、ワークの成膜処理を行い、補正部材の交換時には、上記ワークに代えて補正部材をキャリアに支持して上記搬送動作を行わせることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するように構成されているものとする。
【００１９】
上記の構成によると、少なくとも成膜室は常に真空状態にあり、ワークの成膜処理を行う常時は、この成膜室にキャリアが位置している状態で、このキャリアに支持されたワークに対し所定の処理が行われる。このワークの処理が終了して入口及び出口ロードロック室が真空状態になった後、成膜室とそのワーク搬送方向下流側に隣接する室（例えば出口ロードロック室）との間、及び成膜室とそのワーク搬送方向上流側に隣接する室（例えば入口ロードロック室）との間の各中間ゲート弁が開いて移送機構によりキャリアがワークを支持して成膜室からその下流側の室に順移送され、この室ではその保持機構によりワークが保持されてキャリアから降ろされる。この空になったキャリアは、移送機構により元の成膜室を経て該成膜室のワーク搬送方向上流側に隣接する室まで逆移送され、その室で保持機構により保持されている次のワークがキャリアに支持される。このワークを支持したキャリアは移送機構により元の成膜室に順移送され、各中間ゲート弁が閉じて当初の状態に戻る。そして、上記成膜室でワークの処理が行われている間に、入口ゲート弁の開弁により入口ロードロック室の開口が開かれ、この開口を経て入口ロードロック室に次のワークが搬入されてその保持機構に保持される。一方、これと同時に、出口ゲート弁の開弁により出口ロードロック室の開口が開かれ、この開口を経て出口ロードロック室で保持機構により保持されていた処理後のワークが搬出される。以上の動作を１サイクルとして、以後は同様のサイクルが繰り返される。
【００２０】
これに対し、成膜室にある補正部材を交換するときには、上記の如きワークの搬送（成膜室に対する搬入出）が停止され、そのワークに代えて補正部材が上記キャリアに支持され、上記ワークの成膜処理の場合と同様の搬送動作が１サイクルだけ行われる。このことにより、成膜室内が真空状態に保たれたまま、成膜室にあった補正部材が第２ロードロック室を経て排出されるとともに、新しい補正部材が第１ロードロック室を経て成膜室内に搬入されて、成膜部材の交換が行われる。
【００２１】
したがって、この発明でも、成膜室が真空状態に保たれたまま、その内部の補正部材を交換することができ、上記請求項１の発明と同様の作用効果が得られる。
【００２２】
請求項３の発明では、上記請求項２の真空成膜装置において、ロードロック室を除いた常時真空状態に保たれる常時真空成膜室を複数設ける一方、キャリアは上記常時真空成膜室の数と同じ複数台設け、これら複数のキャリアをワーク搬送方向に隣接する３室間で並行して移送させてワーク又は補正部材を搬送するようにする。また、請求項４の発明では、上記常時真空成膜室を複数設ける一方、キャリアは常時真空成膜室の数よりも１つ以上少ない台数だけ設け、各キャリアをワーク搬送方向に隣接する下流側の３室間で移送させてワーク又は補正部材を搬送した後にワーク搬送方向に隣接する上流側の３室間で移送させてワーク又は補正部材を搬送するようにする。これらの発明でも上記請求項２の発明と同様の作用効果が得られる。
【００２３】
請求項５の発明では、入出口ゲート弁により開閉される開口を経て少なくともワークが搬入出される１対の入出口ロードロック室と、該両ロードロック室間に連続して配置され、両ロードロック室との接続部に両室の連通を遮断する中間ゲート弁が設けられた１つの成膜室とを備え、少なくともワークをキャリアにより支持して各ロードロック室と成膜室との間で交互に搬送するようにした真空成膜装置が対象である。
【００２４】
そして、上記成膜室に交換可能に設けられ、成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材と、上記キャリアを各室間に亘り一方向又は他方向に移送させる移送機構と、少なくとも上記両ロードロック室に設けられ、ワーク又はキャリアを保持する保持機構とを備え、上記移送機構により、常時は、ワークが支持されたキャリアを成膜室から一方の入出口ロードロック室に移送して該入出口ロードロック室で保持機構にワークを保持した後、空になったキャリアを元の成膜室を経て他方の入出口ロードロック室まで移送して該入出口ロードロック室で保持機構に保持されている次のワークをキャリアに支持し、しかる後に該キャリアを成膜室に移送させる搬送動作を両入出口ロードロック室間で交互に繰り返すことにより、ワークの成膜処理を行い、補正部材の交換時には、上記ワークに代えて補正部材をキャリアに支持して上記搬送動作を行わせることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するように構成されているものとする。
【００２５】
この発明の構成によると、上記請求項２の発明と比べ、キャリアが入出口ロードロック室の各々と成膜室との間で往復移送されることを除いた他は同様の動作が行われる。すなわち、ワークの成膜処理を行う場合、真空状態にある成膜室に、ワークを支持したキャリアが位置していて、このワークに対し所定の処理が行われる。このワークの処理の終了により両ロードロック室が真空状態になった後に成膜室と両ロードロック室との間の各中間ゲート弁が開いて移送機構によりキャリアがワークを支持して成膜室から一方のロードロック室に移送され、このロードロック室ではその保持機構によりワークが保持されてキャリアから降ろされる。この空になったキャリアは、移送機構により元の成膜室を経て他方のロードロック室まで移送され、そのロードロック室で保持機構により保持されている次のワークがキャリアに支持される。このワークを支持したキャリアは移送機構により元の成膜室に移送され、中間ゲート弁が閉じて当初の状態に戻る。そして、上記成膜室でワークの処理が行われている間に、上記一方のロードロック室の入口ゲート弁の開弁によりそのロードロック室の開口が開かれ、この開口を経てロードロック室に保持機構により保持されていたワークが搬出される。また同時に、他方のロードロック室のゲート弁の開弁により開口が開かれ、この開口を経てロードロック室にワークが搬入されてその保持機構に保持される。以上の動作を１サイクルとして、以後は同様のサイクルが両ロードロック室毎に交互に繰り返される。
【００２６】
また、成膜室にある補正部材を交換するときには、上記の如きワークの搬送（成膜室に対する搬入出）の停止後、そのワークに代えて補正部材が上記キャリアに支持され、上記ワーク搬送の場合と同様の搬送動作が１サイクルだけ行われる。このことにより、成膜室が真空状態に保たれたまま、その内部の補正部材を交換することができ、上記請求項１の発明と同様の作用効果が得られる。
請求項６の発明では、上記請求項２又は３の発明における移送機構は、ワーク搬送方向と直交する幅方向の両側に略対向して配置された搬送ローラを有するものとする。また、ロードロック室では、その開口が上記搬送ローラによるワーク搬送方向と直交する方向に延びるように配置され、かつこの開口を介して搬入出されるワーク又は補正部材が、上記幅方向の両側に略対向して配置された搬送ローラ間を通るように設けられ、このロードロック室における搬送ローラの位置は、上記開口の幅方向最大位置よりも搬送方向前後両側にオフセットされているものとする。
【００２７】
このことで、ロードロック室に対しワーク又は補正部材を移送機構の搬送ローラ間を通してかつ該搬送ローラによるワーク搬送方向と直交する方向に延びる開口を経由して搬入出する際、そのワーク又は補正部材が搬送ローラと干渉するのを防止することができる。しかも、上記搬送ローラは、ロードロック室の開口の幅方向最大位置よりもワーク搬送方向前後両側にオフセット配置されているので、その搬送ローラ間の間隔を可及的に短くして移送機構の幅を狭くし、延いてはロードロック室の容積を小さくすることができる。これらにより、ワークの搬入出時又は補正部材の交換時の搬送ローラへの干渉の防止と、移送機構の幅の縮小化とを両立させることができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
図１及び図２は本発明の実施形態に係る真空成膜装置Ａの全体構成を示し、この真空成膜装置Ａは、真空空間でワークＷを搬送して該ワークＷ上の各基板（図示せず）に蒸着膜を成膜するためのものである。
【００２９】
図４に示すように、上記ワークＷは、表面に複数の基板が支持された円形ドーム形状の基板ドームＷ１と、この基板ドームＷ１の中心部に着脱可能に設けられ、基板に対する例えば複数種類の多層の成膜状態をモニタするモニタガラス（図示せず）を底部に収容したモニタガラスホルダＷ２と、基板ドームＷ１をその周縁部にて載置する上向きの複数のドーム吊り金具Ｗ３，Ｗ３，…を有するリング状のドーム支持部Ｗ４とを備えてなる。
【００３０】
図１及び図２において、１は常時真空状態に保たれる常時真空成膜室としての蒸着室で、この蒸着室１内の底壁には複数の蒸着源２，２，…（成膜源）が配置されており、この各蒸着源２を加熱して蒸発させて成膜材料としての蒸着材料をワークＷに飛翔させ、そのワークＷにおける基板ドームＷ１上の各基板に対し蒸着膜を成膜するようにしている。３は各蒸着源２からの蒸着材料の飛散を許容及び停止させるためのシャッタである。
【００３１】
上記蒸着室１には、各蒸発源２から飛翔する蒸着材料（成膜材料）のワークＷにおける基板ドームＷ１上の各基板に対する蒸着膜の膜厚分布を補正する補正部材Ｒが交換可能に設けられている。この補正部材Ｒは、図７に拡大して示すように、基本的に上記ワークＷと略同様のドーム形状のもので、ワークＷにおける基板ドームＷ１よりも若干小さい外径を有するリング状の基部Ｒ１と、この基部Ｒ１の周方向の等分位置（図示例では４等分位置）に外端部が一体に接合固定され、各々が基部Ｒ１の中心部に向かって半径方向に延びる複数枚（図示例では４枚）の補正板Ｒ２，Ｒ２，…とを備えてなり、各補正板Ｒ２は例えば平面視で紡錘形状等（他の形状でもよい）のステンレス製等の薄板からなるもので、その内端側つまり基部Ｒ１の中心側に向かって上方に向かうように湾曲した傾斜状（ドーム形状）に形成されており、この傾斜状の補正板Ｒ２を各蒸発源２からワークＷに向かう蒸着材料の飛翔方向と略直交するように配置して、その蒸着材料のワークＷに対する飛翔状態を補正し、各基板に対する蒸着膜の膜厚分布を補正するようにしている。各補正板Ｒ２は外端部のみにて基部Ｒ１に接合固定されて片持ち状態に支持され、補正板Ｒ２，Ｒ２，…の内端部間には、基板ドームＷ１の中心部に配置される上記モニタガラスホルダＷ２を収容可能な略円形状のスペースがあけられている。
【００３２】
また、基部Ｒ１の外周面において上記各補正板Ｒ２の接合位置に対応した位置には、半径方向外側に延びた後に直角の折れ曲がって上方に延びる略Ｌ字状の複数の板状のフック部Ｒ３，Ｒ３，…が突設され、この各フック部Ｒ３の上端の内面（基部Ｒ１中心側）には係止部Ｒ４が突設されており、この係止部Ｒ４にてフック部Ｒ３を係止することで、補正部材Ｒが吊り下げ支持される。
【００３３】
上記蒸着室１の上部において対向する側壁の一方の外側には入口ロードロック室としての入口室５が、また他方の外側には出口ロードロック室としての出口室６がそれぞれ配設されている。上記入口室５と蒸着室１とは、開閉により両室１，５を連通又は連通遮断する入口中間ゲート弁７を介して接続されている。一方、蒸着室１及び出口室６についても、開閉して両室１，６を連通又は連通遮断する出口中間ゲート弁８を介して接続されている。
【００３４】
上記入口室５の底壁にはワークＷ又は補正部材Ｒを搬送姿勢（水平姿勢）のまま昇降させて挿通可能な大きさの円形状の開口９が形成され、この開口９は、後述する搬入機構３０の円板状の搬入テーブル３１により外部から気密状に開閉される。つまり、この搬入テーブル３１は入口ゲート弁を構成している。
【００３５】
一方、出口室６の底壁にもワークＷ又は補正部材Ｒを搬送姿勢のまま昇降させて挿通可能な大きさの円形状の開口１０が形成され、この開口１０は後述の搬出機構３４の円板状の搬出テーブル３５により外部から気密状に開閉されるようになっており、この搬出テーブル３５は出口ゲート弁を構成している。
【００３６】
上記ワークＷ及び補正部材Ｒは入口室５、蒸着室１及び出口室６の各々の内部で１台のキャリア１２により載置支持された状態で入口室５から蒸着室１を経由して出口室６に順に搬送される。上記キャリア１２は、図６に拡大詳示するように、矩形枠状のもので、その各辺の中央部には細板状のガイド部１２ａ，１２ａ，…が立設されており、ワークＷにあっては、その外周縁部を４本のガイド部１２ａ，１２ａ，…上に載置した状態で、また補正部材Ｒにあっては、基部Ｒ１から突出した各フック部Ｒ３の下面をガイド部１２ａに載置した状態でそれぞれキャリア１２上に支持される。
【００３７】
上記蒸着室１、入口室５及び出口室６の各々に亘り上記キャリア１２をワーク搬送方向（入口室５から蒸着室１を経由して出口室６に向かう方向）と同じ方向に順移送させ又はワーク搬送方向と逆の方向に逆移送させるキャリア移送機構１３が設けられている。このキャリア移送機構１３は、本発明でいう移送機構をなすもので、例えば図３に拡大して示するように（この図３では蒸着室１及び出口室６にある部分を示しており、入口室５のものも同様の構造である）、各室１，５，６においてワーク搬送方向と直交する幅方向に対向する側壁に該幅方向に対向配置された状態で回転可能に支持されかつ各室１，５，６毎に４対ずつ設けられた２種類の搬送ローラ１４ａ，１４ｂを備えてなる。これらの搬送ローラ１４ａ，１４ｂはキャリア１２の幅方向側部を上載支持するもので、いずれも入口室５、蒸着室１及び出口室６で同じ高さ位置となるように配置されている。各室１，５，６の４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂのうち、ワーク搬送方向前後両端において幅方向に対向する２対の端部側搬送ローラ１４ａ，１４ａ同士は各室１，５，６を幅方向に貫通する１本の支持軸１５上に回転一体に固定されている。図５に示すように、この支持軸１５の一端部は各室１，５，６の側壁を貫通する軸受部１６に気密状に支持されて室外に突出し、その突出部分には歯付プーリ１７が取り付けられ、この各歯付プーリ１７はいずれも図外の駆動制御部に駆動連結されている。各室１，５，６において幅方向の側壁には、ワーク搬送方向に沿った方向の中央側に向かうようにワーク搬送方向と平行に延びかつ基端部を上記各軸受部１６に一体的に固定した支持ブラケット１９が固定支持され、この各支持ブラケット１９の先端部に、各室１，５，６の４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂのうちワーク搬送方向前後中間側において幅方向に対向する２対の中間側搬送ローラ１４ｂ，１４ｂが回転自在に支持されている。そして、この各中間側搬送ローラ１４ｂは、支持ブラケット１９の基端部に位置する端部側搬送ローラ１４ａに対し、スプロケット１８ａ及びそれに噛合するチェーン１８ｂからなるチェーン伝動機構１８を介して駆動連結されており、駆動制御部の駆動により各室１，５，６毎の２対の端部側搬送ローラ１４ａを、またこれら端部側搬送ローラ１４ａにチェーン伝動機構１８を介して中間側搬送ローラ１４ｂをそれぞれ同じ方向に連動して回転させ、これら４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂの同方向の回転により、その例えば正転時にあってはキャリア１２をワーク搬送方向と同じ方向に順移送させる一方、逆転時にあってはワーク搬送方向と逆の方向に逆移送させるようにしている。
【００３８】
さらに、上記入口室５及び出口室６において各々の内部の上壁部にはそれぞれワークＷ又は補正部材Ｒを保持する保持機構２０，２０が設けられている。これら両保持機構２０，２０はいずれも同じ構造のもので、各室５，６の上壁に気密状に貫通した状態で回転可能にかつ昇降可能に支持されかつ室５，６の外部から駆動されて回転動作及び昇降動作が行われる回転昇降部２１と、この回転昇降部２１の下端に中央部にて一体的に固定され、外周縁部でワークＷにおける基板ドームＷ１の外周縁部又は補正部材Ｒのフック部Ｒ３（その係止部Ｒ４）を回転しながら係止する係止アーム部２２とを備えてなる。
【００３９】
そして、入口室５では、その内部（詳しくはその搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上）にキャリア１２がない状態で、保持機構２０の係止アーム部２２を回転昇降部２１により下降させておいて、後述の搬入機構３０の搬入テーブル３１により開口９を経て入口室５内に搬入された処理前（未処理）のワークＷを各ドーム吊り金具Ｗ３にて係止アーム部２２の正回転により係止し、その係止アーム部２２の上昇動作によりワークＷを搬入機構３０から取り上げて入口室５内の上部に保持する一方、入口室５に空のキャリア１２が位置している状態で、上記保持機構２０に保持されている処理前のワークＷを係止アーム部２２の下降移動により下降させ、その係止アーム部２２の逆回転によりワークＷとの係止を解除して該ワークＷをキャリア１２上に移載するようにしている。
【００４０】
これに対して、出口室６では、処理後（処理済み）のワークＷを載置支持したキャリア１２が出口室６内（詳しくはその搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上）に位置している状態で、係止アーム部２２を下降位置に位置づけた状態で正回転させてワークＷの各ドーム吊り金具Ｗ３に係止し、その係止アーム部２２の上昇動作によりワークＷをキャリア１２から取り上げて出口室６内の上部に保持する一方、出口室６にキャリア１２がないときに、後述の搬出機構３４の搬出テーブル３５を上昇させておき、上記保持機構２０に保持されているワークＷを係止アーム部２２の下降移動により下降させて、その係止アーム部２２の逆回転によりワークＷとの係止を解除して該ワークＷを搬出テーブル３５に移載するようにしている。
【００４１】
蒸着室１内の上壁部にはワークＷ及び補正部材Ｒを保持して回転させるワーク回転機構２３が設けられている。このワーク回転機構２３は、上記入口室５及び出口室６の保持機構２０と略同様のもので、蒸着室１の上壁に気密状に貫通した状態で回転可能に支持されかつ蒸着室１の外部から駆動されて回転動作が行われる回転軸部２４と、この回転軸部２４の下端に中央部にて一体的に固定され、外周縁部でワークＷにおけるドーム支持部Ｗ４のドーム吊り金具Ｗ３を回転しながら係止する係止アーム部２５とを備えてなる。
【００４２】
また、図３及び図４に示すように、蒸着室１内の下部にはそのキャリア移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上にあるキャリア１２を上昇動作により上昇させるキャリア昇降機構（図示せず）と、ワーク昇降機構２６とが設置されている。
【００４３】
上記ワーク昇降機構２６は、ワーク搬送方向と直交する方向に対向配置されて同期して昇降する１対の略円弧板状の昇降部材２７，２７を備え、この各昇降部材２７の両端部近くの上面にはそれぞれワークＷのドーム支持部Ｗ４を載置支持するドーム受け２７ａ，２７ａ，…が取り付けられており、ワークＷの各基板に成膜するときには、処理前のワークＷを載置支持したキャリア１２が蒸着室１（詳しくはその搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上）に位置している状態で、キャリア昇降機構の上昇動作によりキャリア１２を搬送ローラ１４ａ，１４ｂから持ち上げるとともに、ワーク昇降機構２６の両昇降部材２７，２７上のドーム受け２７ａ，２７ａ，…上にワークＷを受けて、その昇降部材２７，２７の昇降移動によりワークＷをキャリア１２から上昇させ、その状態でワーク回転機構２３の係止アーム部２５によりワークＷを各ドーム吊り金具Ｗ３により係止した後、このワーク回転機構２３によりワークＷを保持したままで回転させることにより、そのワークＷの基板に蒸着源２からの蒸着膜を成膜する。一方、ワークＷの基板に対する成膜処理が終了すると、上記成膜時とは逆に、ワーク回転機構２３の係止アーム部２５のワークＷとの係止を解除し、昇降部材２７，２７の下降移動によりワークＷを係止アーム部２５からキャリア１２上に預けるとともに、キャリア昇降機構を下降移動させてキャリア１２をキャリア移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上に載置支持するようにしている。
【００４４】
また、入口室５底壁の下方（室外側）の床面上には、処理前のワークＷ又は交換しようとする新しい補正部材Ｒを上記入口室５に搬入する搬入機構３０が設置されている。この搬入機構３０は、上記入口室５底壁の開口９を開閉する入口ゲート弁としての搬入テーブル３１を構成部材の一部として有し、この搬入テーブル３１は図外の昇降手段により昇降移動される。そして、搬入テーブル３１の上面にはワークＷ又は補正部材Ｒを上載支持する支持部３１ａが突設されており、搬入テーブル３１が下降端位置にあるときに、搬入台車３２により供給された処理前のワークＷ又は新しい補正部材Ｒを搬入テーブル３１の支持部３１ａ上に移載し、搬入テーブル３１の上昇により支持部３１ａ上のワークＷ又は補正部材Ｒを入口室５の開口９を通って入口室５内に搬入した後に、保持機構２０に移載するようにしている。
【００４５】
一方、出口室６底壁の下方（室外側）の床面上には、処理後のワークＷ又は交換しようとする古い補正部材Ｒを出口室６から搬出する搬出機構３４が設置されている。この搬出機構３４は、上記搬入機構３０と同様に、上記出口室６底壁の開口１０を開閉する出口ゲート弁としての搬出テーブル３５を構成部材の一部として有し、この搬出テーブル３５は図外の昇降手段により昇降移動される。搬出テーブル３５の上面にはワークＷ又は補正部材Ｒを上載支持する支持部３５ａが突設されており、搬出テーブル３５が上昇端位置にあるときに、保持機構２０から処理後のワークＷ又は古い補正部材Ｒを搬出テーブル３５の支持部３５ａ上に移載した後、搬出テーブル３５の下降により支持部３５ａ上のワークＷ又は補正部材Ｒを出口室６外にその底壁の開口１０を通って搬出し、搬出テーブル３５の下降端位置で支持部３５ａ上のワークＷ又は補正部材Ｒを図外の搬出台車に移載するようにしている。
【００４６】
尚、上記搬入機構３０及び搬出機構３４の各テーブル３１，３５は常時は上昇端位置にあり、この上昇端位置にあるテーブル３１，３５により入口室５及び出口室６の各底壁の開口９，１０を閉塞するようにしている。
【００４７】
また、図３及び図４に示すように、上記ワーク昇降機構２６の各昇降部材２７の両端部上面には、上記補正部材Ｒを基部Ｒ１にて上載支持する補正部材受け２７ｂ，２７ｂ，…が取り付けられ、この各補正部材受け２７ｂの高さは上記ドーム受け２７ａよりも低く設定されている。
【００４８】
さらに、蒸着室１内には、図４に示すように、上記ワークＷにおける基板の成膜時、そのモニタガラスホルダＷ２を基板ドームＷ１から取り出して、その底部のモニタガラスを多層膜の蒸着処理の変更の都度回動させてその成膜位置を変えるモニタガラス位置交換機構４０が設けられている。このモニタガラス位置交換機構４０は、開口４１ａが貫通形成されたマスク４１と、このマスク４１を昇降させるマスク昇降機構４２と、上記マスク４１が底部に押し付けられた状態でモニタガラスホルダＷ２を回転させる回転機構（図示せず）とを備えており、マスク昇降機構４２によりマスク４１を上昇移動させてモニタ位置に位置付けたときには、そのマスク４１をモニタガラスホルダＷ２の下端部に押し付けてホルダＷ２底部のモニタガラスを覆い、そのモニタガラスの一部分にマスク４１の開口４１ａのみを通して蒸着源２から飛翔する蒸着材料を蒸着させて、その膜厚をモニタするとともに、基板に対する多層膜の蒸着処理の変更の都度、回転機構によりモニタガラスホルダＷ２を回転させることで、そのモニタガラスでの蒸着膜の位置を変えて膜厚をモニタするようにしている。
【００４９】
そして、この実施形態では、図１に示すように、上記蒸着室１と、入口室５及び出口室６（ロードロック室）とがいずれも真空状態にあるときに、中間ゲート弁７，８を開きかつ上記キャリア移送機構１３を作動させ、補正部材Ｒをキャリア１２に載置して蒸着室１に対し入口室５及び出口室６との間で移動させることにより、蒸着室１内を真空状態に保ったままで補正部材Ｒを入口室５及び出口室６を介して交換するように構成されている。
【００５０】
具体的には、上記キャリア移送機構１３の作動制御により、常時はワークＷの成膜処理を行い、図２に示すように、キャリア１２を蒸着室１に配置し、かつワーク昇降機構２６の昇降部材２７，２７の上昇移動により、このキャリア１２（搬送ローラ１４ａ，１４ｂ）の上側の使用位置に補正部材ＲをワークＷの基板ドームＷ１に近付けて配置し（図４参照）、この蒸着室１でワークＷの各基板に対する成膜処理（蒸着処理）を行う。この成膜処理が終了すると、上記昇降部材２７，２７の下降移動により、補正部材Ｒをキャリア１２内（搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間）を通してその下側の退避位置に下降させるとともに、その成膜処理後のワークＷをキャリア１２上に積み込み、そのキャリア１２を蒸着室１から下流側に隣接する出口室６に順移送して該出口室６で保持機構２０によりワークＷを保持してキャリア１２から降ろした後、空のキャリア１２を元の蒸着室１を経て該蒸着室１の上流側に隣接する入口室５まで逆移送して該入口室５で、保持機構２０に保持されている次の処理前のワークＷをキャリア１２に積み込み、次いで、その処理前のワークＷを蒸着室１で成膜処理するために、キャリア１２を元の蒸着室１に順移送させる搬送動作を繰り返す一方、上記ワークＷの成膜処理を行わない状態で補正部材Ｒの交換を行い、この交換時には、図１に示すように、上記ワークＷに代えて補正部材Ｒをキャリア１２に支持して上記ワークＷの成膜時と同様の搬送動作を行わせることにより、蒸着室１内を真空状態に保ったままで補正部材Ｒを入口室５及び出口室６（ロードロック室）を介して交換するように構成されている。
【００５１】
また、上記の如く、上記キャリア移送機構１３は、入口室５、蒸着室１及び出口室６の各々においてワーク搬送方向と直交する幅方向の両側に対向して配置された４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂを有する。そして、入口室５及び出口室６においては、その底壁の開口９，１０が上記搬送ローラ１４ａ，１４ｂの下方で搬送ローラ１４ａ，１４ｂによるワーク搬送方向と直交する上下方向に延びるように配置され、かつ該開口９，１０を経て搬入出される円形ドーム形状のワークＷ又は補正部材Ｒが搬送姿勢（水平姿勢）のままで上記キャリア移送機構１３における対向する４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間を通るように設定されている。この４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂの位置は、いずれも上記円形状の開口９，１０の幅方向最大位置（幅方向の内径位置）よりもワーク搬送方向前後両側（図２で左右両側）にオフセットされている。
【００５２】
尚、入口室５内の下部にはハロゲンヒータ３６が、また上部にはシースヒータ３７がそれぞれ配置されており、入口室５において保持機構２０により処理前のワークＷを保持して回転させながら各ヒータ３６，３７を作動させることにより、ワークＷを加熱するようにしている。
【００５３】
また、蒸着室１の上部にはハロゲンヒータ３８が、また上部にはシースヒータ３９がそれぞれ配置されており、蒸着室１でワーク回転機構２３によりワークＷを回転させながら成膜するときにヒータ３８，３９の作動によりワークＷ及び各蒸着源２を加熱するようにしている。
【００５４】
次に、上記実施形態の真空成膜装置Ａの作動について説明する。
【００５５】
（ワークの成膜処理）
図２に示すように、今、最初の状態として、ワークＷの各基板が成膜処理される状態を仮定する。すなわち、入口及び出口の中間ゲート弁７，８は閉弁しており、蒸着室１のみが真空状態にある（尚、入口室５及び出口室６は、後述するようにワークＷの搬入出のためにいずれも一時的に大気に開放される）。そして、この蒸着室１においては、蒸着源２の加熱状態でワークＷがワーク昇降機構２６における両昇降部材２７，２７のドーム受け２７ａ，２７ａ，…に支持されて、その昇降部材２７，２７の上昇移動によりワーク回転機構２３に移載されて吊り下げ支持され、その状態でワークＷが回転して、このワークＷの各基板に蒸着源２による蒸着膜が成膜される。
【００５６】
このとき、図４に示すように、補正部材Ｒは基部Ｒ１にて上記ワーク昇降機構２６における昇降部材２７，２７の補正部材受け２７ｂ，２７ｂ，…上に支持され、図６に実線にて示すように、その基部Ｒ１外周のフック部Ｒ３，Ｒ３，…は、キャリア１２の各ガイド部１２ａに一致しないようにワーク搬送方向に対し平面視で周方向に略４５°だけずれた状態となっており、この状態では、補正部材Ｒが昇降部材２７，２７の昇降移動に伴って昇降しても、各フック部Ｒ３は矩形枠状のキャリア１２の四隅角部に対応して、キャリア１２とは干渉しない。
【００５７】
そして、図４に示すように、上記ワークＷの成膜時には、補正部材Ｒは上昇して、ワークＷの基板ドームＷ１下側にそれと近接した使用位置に位置付けられており、各蒸着源２から基板ドームＷ１上の基板に向かう蒸着材料の飛翔状態が補正部材Ｒの各補正板Ｒ２により補正されて、各基板に対する蒸着膜の膜厚分布が補正される。また、上記基板に対する成膜が変更される都度、モニタガラス位置交換機構４０の回転機構によりモニタガラスホルダＷ２が回転して、その底部のモニタガラスにおいてマスク４１の開口４１ａに対応する成膜位置が変更される。この状態では、蒸着室１のキャリア昇降機構は上昇していて、キャリア１２は蒸着室１に位置している。
【００５８】
このようなワークＷの基板に対する多層の成膜が全て終了すると、上記蒸着源２の加熱が停止するとともに、ワーク回転機構２３の作動停止によりワークＷの回転が停止する。
【００５９】
このとき、搬入機構３０の搬入テーブル３１及び搬出機構３４の搬出テーブル３５はいずれも上昇していて、これらのテーブル３１，３５により入口室５及び出口室６の各底壁の開口９，１０がいずれも気密状に閉塞され、入口室５及び出口室６は真空状態とされる。
【００６０】
そして、ワークＷがワーク回転機構２３からワーク昇降機構２６における昇降部材２７，２７のドーム受け２７ａ，２７ａ，…上に移載され、昇降部材２７，２７の下降移動によりワークＷが下降移動してキャリア１２に支持され、このキャリア１２は、上昇しているキャリア昇降機構に支持される。この後、キャリア昇降機構の下降移動によりワークＷを載せたキャリア１２が下降してキャリア移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上に載置支持される。
【００６１】
また、上記昇降部材２７，２７のさらなる下降移動により、上記補正部材Ｒがそのまま（基部Ｒ１外周の各フック部Ｒ３がキャリア１２の各ガイド部１２ａに一致しないように中心回りに略４５°だけ回転したまま）上記使用位置からキャリア１２内を通過して下降移動し、図２に示す如く搬送ローラ１４ａ，１４ｂ下側の退避位置に位置付けられる。
【００６２】
さらに、マスク昇降機構４２によりマスク４１が下降してモニタガラスホルダＷ２の底部から離れるとともに、そのモニタガラスホルダＷ２が基板ドームＷ１に戻される。
【００６３】
このような動作と並行して、上記入口及び出口の中間ゲート弁７，８が開き、蒸着室１が入口室５及び出口室６といずれも真空のままで連通した状態となる。
【００６４】
この後、キャリア移送機構１３が作動して各室１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂがキャリア１２の順移送方向に回転し、上記成膜処理後のワークＷを載せたキャリア１２が蒸着室１から出口室６に順移送され、そのワークＷが蒸着室１から出口室６に搬送される。この出口室６では保持機構２０の係止アーム部２２が上昇位置にあり、順移送されたキャリア１２が出口室６の所定位置で停止すると、上記係止アーム部２２が上昇位置から下降し、キャリア１２上のワークＷに係止した後に上昇する。このことでワークＷがキャリア１２から降ろされて保持機構２０に保持され、キャリア１２が空になる。尚、上記保持機構２０の係止アーム部２２は、処理後のワークＷを係止した状態で回転し、このことで処理後のワークＷが回転しながら出口室６で冷却される。
【００６５】
次いで、キャリア移送機構１３が作動して各１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂが今度はキャリア１２の逆移送方向に回転する。これにより、上記空になったキャリア１２が元の蒸着室１を経てその上流側に隣接する入口室５まで逆移送される。この入口室５では保持機構２０の係止アーム部２２が上昇位置にあり、その係止アーム部２２には、次の成膜処理前のワークＷが保持されて回転しながらヒータ３６，３７により加熱されており、上記逆移送されたキャリア１２が入口室５の所定位置で停止すると、上記係止アーム部２２によるワークＷの回転が停止し、その係止アーム部２２がワークＷを係止保持したまま上昇位置から下降して、このワークＷをキャリア１２上に載置支持した後に上昇する。このことでワークＷが保持機構２０から降ろされてキャリア１２に載置支持される。
【００６６】
この後、キャリア移送機構１３が作動して各室１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂが再びキャリア１２の順移送方向に回転し、このことで上記成膜処理前のワークＷを載せたキャリア１２が入口室５から蒸着室１に順移送され、そのワークＷが入口室５から蒸着室１に搬送される。そして、この蒸着室１では、キャリア昇降機構の上昇動作によりキャリア１２がワークＷと共に持ち上げられ、そのワークＷは、ワーク昇降機構２６における昇降部材２７，２７の上昇によりそのドーム受け２７ａ，２７ａ，…上に移載された後、ドーム受け２７ａ，２７ａ，…上からワーク回転機構２３に係止支持されるとともに、ワークＷのモニタガラスホルダＷ２が基板ドームＷ１から取り出される。また、上記昇降部材２７，２７の上昇移動により補正部材Ｒが退避位置からキャリア１２内を通って使用位置まで上昇する。しかる後に、上記と同様にして、各蒸着源２が加熱された状態でワークＷがワーク回転機構２３により支持されて回転し、このワークＷの各基板に蒸着膜が成膜される。
【００６７】
そして、こうして蒸着室１でワークＷの成膜処理が行われている間に、搬入機構３０が下降動作し、その搬入テーブル３１（入口ゲート弁）が下降して入口室５底壁の開口９が開かれ、入口室５が大気に開放される。上記搬入テーブル３１が下降位置に移動すると、搬入台車３２により供給された次の処理前のワークＷが搬入テーブル３１の支持部３１ａ上に移載される。その後に、搬入テーブル３１が上昇して入口室５底壁の開口９が気密状に閉じられるとともに、この搬入テーブル３１の支持部３１ａ上のワークＷが開口９を経て入口室５に搬入される。このワークＷの搬入後、入口室５が真空引きされるとともに、保持機構２０の係止アーム部２２が下降して上記搬入テーブル３１の支持部３１ａ上のワークＷを係止してから上昇し、このことでワークＷが搬入テーブル３１から保持機構２０に吊り上げられる。そして、入口室５が真空状態になると、保持機構２０によりワークＷが回転しながらヒータ３６，３７の作動により加熱される。
【００６８】
また、このワークＷの搬入動作と並行して処理後のワークＷの搬出動作が行われる。すなわち、出口室６では保持機構２０の係止アーム部２２によるワークＷの回転が停止した後、その係止アーム部２２が下降して搬出機構３４における搬出テーブル３５（出口ゲート弁）の支持部３５ａ上に上記成膜処理後のワークＷを移載してから上昇する。しかる後、搬出機構３４が下降動作し、その搬出テーブル３５が下降して出口室６底壁の開口１０が開かれ、出口室６が大気に開放される。そして、上記搬出テーブル３５が下降位置に移動すると、その支持部３５ａ上の処理後のワークＷが搬出台車に移載され、このことで処理後のワークＷが出口室６から搬出される。このワークＷの移載後に、搬出テーブル３５が上昇して出口室６底壁の開口１０が気密状に閉じられ、その後に入口室５が真空引きされる。
【００６９】
以上の動作を１サイクルとして、以後は同様のサイクルが繰り返される。
【００７０】
（補正部材の交換）
これに対し、上記蒸着室１内にある補正部材Ｒを新しいものに交換するときには、上記の如きワークＷの成膜処理が終了した後に、そのワークＷを補正部材Ｒに置換して、上記ワークＷと同様の搬送処理が行われる。
【００７１】
具体的には、図１に示す如く、入口及び出口の中間ゲート弁７，８が閉弁して、蒸着室１が真空状態にあり、かつ、この蒸着室１にワークＷがないとき、ワーク昇降機構２６の昇降部材２７，２７の上昇移動により、退避位置にある補正部材Ｒがキャリア１２内を通ってその上側に上記通常の使用位置よりも少し高い位置まで上昇移動し、この使用位置よりも高い位置では、その各フック部Ｒ３上端の係止部Ｒ４が上記ワーク回転機構２３の係止アーム部２５に係止可能となる。この状態で、上記ワークＷの係止支持の場合と同様にして、補正部材Ｒが係止アーム部２５に係止され、その回転により、補正部材Ｒは、各フック部Ｒ３がキャリア１２のガイド部１２ａから略４５°だけ周方向にずれた状態（キャリア１２内を通過可能な状態）から、略４５°だけずれ方向とは逆の方向に回転し、この回転により図６（図４）で仮想線にて示すように、各フック部Ｒ３がキャリア１２のガイド部１２ａに一致した状態で昇降部材２７，２７の下降移動により補正部材Ｒが下降してキャリア１２に載置される。このキャリア１２はキャリア昇降機構に支持され、この後、キャリア昇降機構の下降移動により補正部材Ｒを載せたキャリア１２が下降してキャリア移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上に載置支持される。
【００７２】
そして、このような蒸着室１で行われる動作と並行して、搬入機構３０が下降動作し、その搬入テーブル３１（入口ゲート弁）が下降して入口室５底壁の開口９が開かれ、入口室５が大気に開放される。上記搬入テーブル３１が下降位置に移動すると、交換しようとする新しい補正部材Ｒが搬入テーブル３１の支持部３１ａ上に移載される。その後に、搬入テーブル３１が上昇して入口室５底壁の開口９が気密状に閉じられるとともに、この搬入テーブル３１の支持部３１ａ上の補正部材Ｒが開口９を経て入口室５に搬入される。この補正部材Ｒの搬入後、入口室５が真空引きされるとともに、保持機構２０の係止アーム部２２が下降して上記搬入テーブル３１の支持部３１ａ上の補正部材Ｒをフック部Ｒ３，Ｒ３，…にて係止してから上昇し、このことで補正部材Ｒが搬入テーブル３１から保持機構２０に吊り上げられる。このことで、入口室５が真空状態になり、その内部に補正部材Ｒが吊下げ保持される。
【００７３】
一方、搬出機構３４の搬出テーブル３５も上昇して、このテーブル３５により出口室６の底壁の開口１０が気密状に閉塞され、出口室６も真空状態になっている。こうして各室１，５，６がいずれも真空状態にある状態で、上記入口及び出口の中間ゲート弁７，８が開き、蒸着室１が入口室５及び出口室６といずれも真空のままで連通した状態となる。
【００７４】
そして、キャリア移送機構１３が作動して各室１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂがキャリア１２の順移送方向に回転し、上記交換しようとする古い補正部材Ｒを載せたキャリア１２が蒸着室１から出口室６に順移送され、その補正部材Ｒが蒸着室１から出口室６に搬送される。この出口室６では保持機構２０の係止アーム部２２が上昇位置にあり、順移送されたキャリア１２が出口室６の所定位置で停止すると、上記係止アーム部２２が上昇位置から下降し、キャリア１２上の補正部材Ｒに各フック部Ｒ３にて係止した後に上昇する。このことで補正部材Ｒがキャリア１２から降ろされて保持機構２０に保持され、キャリア１２が空になる。
【００７５】
次いで、キャリア移送機構１３が作動して各１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂが今度はキャリア１２の逆移送方向に回転する。これにより、上記空になったキャリア１２が元の蒸着室１を経てその上流側に隣接する入口室５まで逆移送される。この逆移送されたキャリア１２が入口室５の所定位置で停止すると、その入口室５における上記保持機構２０の係止アーム部２２が、上記交換しようとする新しい補正部材Ｒを係止保持したまま上昇位置から下降して、この補正部材Ｒをキャリア１２上に載置支持した後に上昇する。このことで新しい補正部材Ｒが保持機構２０から降ろされてキャリア１２に載置支持される。
【００７６】
この後、キャリア移送機構１３が作動して各室１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂが再びキャリア１２の順移送方向に回転し、このことで上記新しい補正部材Ｒを載せたキャリア１２が入口室５から蒸着室１に順移送され、その補正部材Ｒが入口室５から蒸着室１に搬送される。そして、このように補正部材Ｒが蒸着室１に搬送された後、入口側及び出口側の各中間ゲート弁７，８が閉じ、蒸着室１が独立して真空状態に保たれる。この蒸着室１では、キャリア昇降機構の上昇動作によりキャリア１２が補正部材Ｒと共に持ち上げられ、その補正部材Ｒが上記古い補正部材Ｒを載置したのと逆の動作でキャリア１２から降ろされて上記退避位置に位置付けられる。
【００７７】
そして、こうして蒸着室１で補正部材Ｒの移換えが行われている間に、上記出口室にある古い補正部材Ｒの搬出動作が行われる。すなわち、出口室６では保持機構２０の係止アーム部２２が下降して搬出機構３４における搬出テーブル３５（出口ゲート弁）の支持部３５ａ上に上記古い補正部材Ｒを移載してから上昇する。しかる後、搬出機構３４が下降動作し、その搬出テーブル３５が下降して出口室６底壁の開口１０が開かれ、出口室６が大気に開放される。そして、上記搬出テーブル３５が下降位置に移動すると、その支持部３５ａから補正部材Ｒが取り出され、このことで古い補正部材Ｒが出口室６から搬出される。この後に、搬出テーブル３５が上昇して出口室６底壁の開口１０が気密状に閉じられ、その後に入口室５が真空引きされる。
【００７８】
以上により、補正部材Ｒが古いものから新しいものに交換される。
【００７９】
したがって、この実施形態では、上記のように蒸着室１を真空状態に保持したままで補正部材Ｒを入口室５及び出口室６（ロードロック室）を介して交換することができ、蒸着室１はワークＷの蒸着処理時は勿論、補正部材Ｒの交換時にも常時真空状態に保たれることとなり、蒸着室１の真空状態や温度等の成膜条件が乱されることはない。
【００８０】
しかも、蒸着室１の真空状態のままで補正部材Ｒのみを交換するので、補正部材Ｒにより大気中の不純物が蒸着室１内に持ち込まれる頻度が極めて低く、蒸着室１と大気中との移動の繰り返しにより補正部材Ｒの堆積物が蒸着室１内で剥離することも抑制され、よってワークＷに対する成膜品質を向上維持することができる。
【００８１】
また、交換後の補正部材Ｒは蒸着室１で加熱保持されるので、その加熱のために大きな加熱エネルギーも不要となる。
【００８２】
また、上記入口室５及び出口室６においては、そのキャリア移送機構１３の４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂの位置が各室５，６の底壁における円形状の開口９，１０の幅方向最大位置よりもワーク搬送方向前後両側にオフセットされているので、搬入機構３０により処理前のワークＷ又は交換する新しい補正部材Ｒを入口室５に対し、その底壁の開口９から該開口９の上側にあるキャリア移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間を通して搬入する際、或いは出口室６の保持機構２０に保持されている処理後のワークＷ又は古い補正部材Ｒを搬出機構３４によりキャリア移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間を経てその下側にある底壁の開口１０を通して搬出する際、その円形ドーム形状のワークＷ又は補正部材Ｒが搬送ローラ１４ａ，１４ｂと干渉することを防止することができる。しかも、上記４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂの位置が各室５，６の開口の幅方向最大位置よりもワーク搬送方向前後両側にオフセットされていることで、その搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間の間隔を可及的に短くしてキャリア移送機構１３の幅を狭くし、延いては入口室５及び出口室６の容積を小さくすることができる。すなわち、ワークＷ又は補正部材Ｒの搬入出時の搬送ローラ１４ａ，１４ｂへの干渉の防止と、キャリア移送機構１３の幅の縮小化とを両立させることができる。
【００８３】
（他の実施形態）
尚、上記実施形態では、常時真空状態に保たれる常時真空成膜室としての蒸着室１を１つとし、それに対してキャリア１２を蒸着室１と同数の１つとしているが、２つ以上の蒸着室１を入口室５及び出口室６間に直列に接続し、キャリア１２も蒸着室１毎につまり蒸着室１と同数設けて複数として、これら複数のキャリア１２を各々が常在する室を含めた上下流側の３室間で並行して移送させるようにしてもよく、上記実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００８４】
また、同様に、常時真空成膜室としての蒸着室１を複数設ける一方、キャリア１２は蒸着室１の数よりも１つ以上少ない台数だけ設けて、その各キャリア１２を下流側の３室間で移送させてワークＷ又は補正部材Ｒを搬送した後に上流側の３室間で移送させてワークＷ又は補正部材Ｒを搬送するようにすることもできる。その場合、上記のように蒸着室１と同数のキャリア１２を設けた場合のように、複数のキャリア１２が並行して移送されないので、搬送タクト時間が長くなるが、キャリア１２の必要数を少なくすることができる利点がある。
【００８５】
尚、これらの場合、各蒸着室１にも、移送されるキャリア１２との干渉を避けるために、ワークＷ又は補正部材Ｒのみをキャリア１２から吊り上げて保持する保持機構２０（ワーク回転機構２３で兼用してもよい）が必要となる。
【００８６】
また、上記実施形態では、ワークＷを入口室５に搬入した後、キャリア１２に載置支持して入口室５から蒸着室１に送って成膜処理し、その成膜後のワークＷをキャリア１２に載置支持して出口室６に搬送して該出口室６から搬出するようにしているが、上記入口室５及び出口室６をいずれも入出口室とし、その各入出口室にワークＷを搬入した後、その入出口室から１つの蒸着室１に送って成膜処理し、その成膜後のワークＷを元の同じ入出口室から搬出するインターバック動作を各入出口室について交互に行うようにしてもよい。
【００８７】
その場合、キャリア１２は１台とし、各室のキャリア移送機構１３により、成膜処理後のワークＷが積み込まれたキャリア１２を蒸着室１から一方の入出口室に移送して該入出口室で保持機構２０によりワークＷをキャリア１２から降ろした後、空のキャリア１２を元の蒸着室１を経て他方の入出口室まで移送して該入出口室で保持機構２０によりキャリア１２に成膜処理前の次のワークＷを積み込み、そのキャリア１２を蒸着室１に移送させる搬送動作を両入出口室間で交互に繰り返すようにすればよい。
【００８８】
そして、補正部材Ｒの交換時には、上記ワークＷの搬送を補正部材Ｒに置き換えればよく、上記実施形態と同様の作用効果が得られる。
【００８９】
さらに、上記実施形態では、基板を支持した円形ドーム形状のワークＷをキャリア１２で搬送して蒸着室１において基板に蒸着膜を成膜処理するようにしているが、本発明はこのように基板に対する蒸着処理や成膜処理に限らず、ワークを常時真空成膜室に搬入した後に所定の処理を行い、その後にワークを常時真空成膜室から搬出する真空成膜装置であれば適用することができる。
【００９０】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明では、ロードロック室にゲート弁を介して連通された成膜室を備えた真空成膜装置において、成膜室の成膜源から飛翔する成膜材料のワークに対する成膜の膜厚分布を補正する補正部材を成膜室とロードロック室との間で移動させる移送機構を設け、成膜室及びロードロック室が真空状態にあるときに、ゲート弁を開きかつ移送機構を作動させて、補正部材を成膜室に対しロードロック室との間で移動させることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するようにした。
【００９１】
また、請求項２〜４の発明では、入出口ロードロック室間に１つ以上の常時真空成膜室を連続して配置し、これらの室の内部でワーク又は補正部材をキャリアにより支持して入口ロードロック室から成膜室を経由して出口ロードロック室に順に搬送する場合に、移送機構により、常時は、ワークが支持されたキャリアを成膜室から下流側に隣接する室に順移送してその室で保持機構にワークを支持した後、空のキャリアを元の成膜室を経て該成膜室の上流側に隣接する室まで逆移送して該室で保持機構に支持されている次のワークをキャリアに支持し、しかる後にそのキャリアを成膜室に順移送させる搬送動作を繰り返し、補正部材の交換時には、ワークに代えて補正部材をキャリアに支持して同様の搬送動作を行わせることにより、成膜室内を真空状態に保ったままで補正部材をロードロック室を介して交換するようにした。
【００９２】
また、請求項５の発明では、１対のロードロック室間に１つの常時真空成膜室を連続して配置し、これら３つの室内でワーク又は補正部材をキャリアにより支持して各ロードロック室と成膜室との間で交互に搬送する場合において、移送機構により、ワーク又は補正部材が支持されたキャリアを成膜室から一方のロードロック室に移送して該ロードロック室で保持機構にワーク又は補正部材を支持した後、空のキャリアを元の成膜室を経て他方のロードロック室まで移送して該ロードロック室で保持機構に支持されている次のワーク又は補正部材をキャリアに支持し、その後に該キャリアを成膜室に移送させる搬送動作を両ロードロック室間で交互に繰り返すように構成した。
【００９３】
これらの発明によれば、成膜室を補正部材の交換時に真空状態に保って、その真空状態や温度等の成膜条件を適正に維持できるとともに、交換時に補正部材により大気中の不純物が成膜室内に持ち込まれる頻度を極めて低くし、成膜室と大気中との移動の繰り返しにより補正部材の堆積物が成膜室内で剥離することも抑制して、ワークに対する成膜品質を向上維持することができる。
【００９４】
請求項６の発明によると、移送機構は、ワーク搬送方向と直交する幅方向の両側に略対向して配置された搬送ローラを有するものとし、ロードロック室では、ワーク搬入出用の開口が搬送ローラによるワーク搬送方向と直交する方向に延びるように配置されて、ワーク又は補正部材が移送機構におけるワーク搬送方向と直交する幅方向の搬送ローラ間を通って出入りするようにし、このロードロック室における搬送ローラを開口の幅方向最大位置よりもワーク搬送方向前後両側にオフセットして配置したことにより、ワークの搬入出時又は補正部材の交換時の搬送ローラへの干渉の防止と移送機構の幅の縮小化とを両立させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る真空成膜装置において補正部材の交換時の動作を示す概略断面図である。
【図２】ワークの蒸着処理時の動作を示す図１相当図である。
【図３】キャリア移送機構の搬送ローラの配置を拡大して示す平面図である。
【図４】蒸着室の要部を示す拡大断面図である。
【図５】搬送ローラの連動機構を示す拡大平面図である。
【図６】キャリアの拡大平面図である。
【図７】補正部材の拡大斜視図である。
【符号の説明】
Ａ　真空成膜装置
１　蒸着室（常時真空成膜室）
２　蒸着源（成膜源）
５　入口室（入口ロードロック室）
６　出口室（出口ロードロック室）
７　入口中間ゲート弁
８　出口中間ゲート弁
１２　キャリア
１３　キャリア移送機構（移送機構）
１４ａ，１４ｂ　搬送ローラ
２０　保持機構
２６　ワーク昇降機構
３１　搬入テーブル（入口ゲート弁）
３５　搬出テーブル（出口ゲート弁）
Ｗ　ワーク
Ｗ１　基板ドーム
Ｒ　補正部材
Ｒ１　基部
Ｒ２　補正板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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