(57)【要約】【課題】製造容易であり、透明基板全面を光出射領域として有効に活用することができる。【解決手段】透明基板１０の下面に透明電極層１１，１２，１３を形成し、その上に有機ＥＬ層１４，１５，１６、金属電極層１７を積層して、面状の発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを形成する。発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから出射して透明基板内に入射した光は、表示領域ＡＲ，ＡＧ，ＡＢから出射すると共に透明基板１０の端縁部付近に形成された光出射領域Ａ１，Ａ２からも出射する。【選択図】　　　　図２
2004063404.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に第１電極層，発光機能層，第２電極層を積層させて該透明基板上に面状の発光素子領域を形成し、該透明基板の表面において、前記発光素子領域に対面する領域以外に、前記発光素子領域から発光して前記透明基板内を伝搬した光を出射させる光出射領域を形成することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記透明基板の表面における前記光出射領域以外の一部又は全部に、反射被覆を施したことを特徴とする請求項１記載の発光装置。
【請求項３】
透明基板上に第１電極層，発光機能層，第２電極層を積層させて該透明基板上に面状の発光素子領域を形成し、該透明基板の表面において、前記発光素子領域に対面する領域に表示領域を形成し、該表示領域以外に、前記発光素子領域から発光して前記透明基板内を伝搬した光を出射させる光出射領域を形成することを特徴とする発光装置。
【請求項４】
透明基板上に第１電極層，発光機能層，第２電極層を積層させて該透明基板上に面状の発光素子領域を形成し、該透明基板に装着される他の透明基板の表面において、前記発光素子領域に対面する領域以外に、前記発光素子領域から発光した光を出射させる光出射領域を形成することを特徴とする発光装置。
【請求項５】
前記光出射領域は、前記透明基板の端縁部付近に形成されることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の発光装置。
【請求項６】
前記光出射領域は、前記透明基板に形成された溝又はカット面によって形成されることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の発光装置。
【請求項７】
前記光出射領域は線状に形成され、該光出射領域からの出射光により線状光源が形成されることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の発光装置。
【請求項８】
前記発光素子領域は、複数の異なる色の発光素子領域に区画され、各発光素子領域で発光された光が合成されて前記光出射領域から出射されることを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載の発光装置。
【請求項９】
前記各発光素子領域における発光を点灯制御することにより、前記光出射領域から出射される光の合成色を調節可能にしたことを特徴とする請求項８記載の発光装置。
【請求項１０】
前記発光機能層は有機ＥＬ層であることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載の発光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光装置に関し、特には、透明基板上に面状の発光素子領域を形成した発光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
表示装置等として用いられる発光装置の中で、透明基板上に所定の領域を有する面状の発光素子領域を形成し、透明基板を介して光を出射させるものが各種提案されている。このような発光装置では、透明基板において光を取り出す領域（光出射領域）毎に発光素子領域を形成しており、必要に応じて透明基板の表面に複数の光出射領域を形成している（特開２００１−２６５２７０号、特開２００１−２６７０８４号等参照）。
【０００３】
図１に従来の発光装置の一例を示して説明する。発光装置は、ガラス基板や透明樹脂基板等からなる透明基板１上に、ＩＴＯ膜等からなり陽極として機能する透明電極層２（第１電極層）と、その透明電極層２上に形成される絶縁層４と、所定の有機材料からなる有機発光機能層５と、Ａｌ等により形成され陰極として機能する金属電極層６（第２電極層）とが順次積層されて形成されており、透明電極層２と金属電極層６との間に電圧を印加することによって、これら電極層間の有機発光機能層５が発光して、透明基板を介して光が出射されるものである。
【０００４】
この発光装置においては、表示部分を略コの字状の第１〜第４表示部分Ａ〜Ｄと補助表示部分Ｅとに区分している。各表示部分の形成に当たっては、透明基板１上に表示パターンの透明電極層２（表示パターン部２Ａ〜２Ｅ）をパターン形成している。これらの表示パターン部２Ａ〜２Ｅは、同じく透明電極層２によって形成された図示省略の配線部を介して透明基板１の端縁部に設けられた図示省略のリードフレームに個別に接続されている。
【０００５】
この透明電極層２上の表示パターン部２Ａ〜２Ｅを除く部分に前述の配線部を覆うように絶縁層４が形成されている。この絶縁層４によって、前述の配線部に対応する部分の有機発光機能層５に電圧が印加されないようにしており、この部分での発光を防止している。この絶縁層４上を含む透明基板１全面に表示パターン部２Ａ〜２Ｅを覆うように有機発光機能層５が形成され、更にその上全面に金属電極層６が形成されている。
【０００６】
このような構造の発光装置は、単一の基板上に複数の表示部分を形成して、発光装置の高機能化或いはデザイン性の向上を図っている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の発光装置によると、第１電極層，発光機能層，第２電極層からなる発光素子領域を透明基板表面の光出射領域毎にそれぞれ形成しており、必要な光出射形態を得るためには、透明電極層等に対して要求に応じたパターニングを施す必要があり、製造工程が煩雑になるという問題がある。
【０００８】
また従来のものでは、リードフレーム等の形成を考慮すると透明基板の端縁部付近に発光素子領域を形成するのは困難であるから、透明基板の端縁部付近に光出射領域を形成することができず、透明基板表面全体を光出射領域として有効に活用することができないという問題がある。
【０００９】
更には、透明基板上に形成された発光素子領域から発光した光のうち、透明基板に対してほぼ垂直に入射した光は透明基板を介して出射させることが可能であるが、透明基板に対してある程度の角度で入射した光は透明基板の光出射領域から出射されないことになるので、発光素子領域から発光した光全部を有効に活用していないという問題もある。
【００１０】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものであって、製造容易であり、透明基板全面を光出射領域として有効に活用することができること、発光素子領域から発光した光を有効に活用できること、また、簡単に光出射領域を形成でき、発光素子の高機能化或いは高デザイン化を達成できること等を目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明による発光装置は、以下の特徴を具備するものである。
【００１２】
請求項１に係る発明の発光装置は、透明基板上に第１電極層，発光機能層，第２電極層を積層させて該透明基板上に面状の発光素子領域を形成し、該透明基板の表面において、前記発光素子領域に対面する領域以外に、前記発光素子領域から発光して前記透明基板内を伝搬した光を出射させる光出射領域を形成することを特徴とする。
【００１３】
請求項３に係る発明の発光装置は、透明基板上に第１電極層，発光機能層，第２電極層を積層させて該透明基板上に面状の発光素子領域を形成し、該透明基板の表面において、前記発光素子領域に対面する領域に表示領域を形成し、該表示領域以外に、前記発光素子領域から発光して前記透明基板内を伝搬した光を出射させる光出射領域を形成することを特徴とする。
【００１４】
また、請求項４に係る発明の発光装置は、透明基板上に第１電極層，発光機能層，第２電極層を積層させて該透明基板上に面状の発光素子領域を形成し、該透明基板に装着される他の透明基板の表面において、前記発光素子領域に対面する領域以外に、前記発光素子領域から発光した光を出射させる光出射領域を形成することを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図２は本発明の一実施形態に係る発光装置を示す説明図である。この実施形態に係る発光装置によると、第１には、透明基板１０上に区画された第１電極層１１，１２，１３を並設し，それぞれの第１電極層１１，１２，１３の上に発光機能層１４，１５，１６、更には第２電極層１７を積層させて、透明基板１０上に面状の発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを形成し、透明基板１０の表面において、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに対面する領域以外に、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから発光して透明基板１内を伝搬した光Ｌａを出射させる光出射領域Ａ１，Ａ２を形成することを特徴とする。
【００１６】
第２には、第１の特徴の発光装置を前提にして、透明基板１０の表面における光出射領域Ａ１，Ａ２以外の一部又は全部に、反射被覆１８を施したことを特徴とする。
【００１７】
第３には、透明基板１０上に区画された第１電極層１１，１２，１３を並設し、それぞれの第１電極層１１，１２，１３の上に発光機能層１４，１５，１６、更には第２電極層１７を積層させて、透明基板１０上に面状の発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを形成し、透明基板１０の表面において、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに対面する領域に表示領域ＡＲ，ＡＧ，ＡＢを形成すると共に、表示領域以外に、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから発光して透明基板１０内を伝搬した光を出射させる光出射領域Ａ１，Ａ２を形成することを特徴とする。
【００１８】
第４には、前述の第１電極層１１，１２，１３を並設して，それぞれの第１電極層１１，１２，１３の上に発光機能層１４，１５，１６、更には第２電極層１７を積層させて、面状の発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを形成する透明基板に他の透明基板を装着させて、これを前述の光出射領域Ａ１，Ａ２が形成される透明基板とするものである。つまり、この透明基板の表面において、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに対面する領域以外に、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから発光した光Ｌａを出射させる光出射領域Ａ１，Ａ２を形成することを特徴とする。
【００１９】
第５には、前述の発光装置を前提として、光出射領域Ａ１，Ａ２は、透明基板１０の端縁部付近に形成されることを特徴とする。
【００２０】
第６には、前述の発光装置を前提として、光出射領域Ａ１，Ａ２は、透明基板１０に形成された溝１０ａ又はカット面１０ｂによって形成されることを特徴とする。
【００２１】
第７には、前述の発光装置を前提として、光出射領域Ａ１，Ａ２は線状に形成され、光出射領域Ａ１，Ａ２からの出射光により線状光源が形成されることを特徴とする。
【００２２】
第８には、前述の発光装置を前提として、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢは、複数の異なる色の発光素子領域に区画され、各発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢで発光された光が合成されて光出射領域Ａ１，Ａ２から出射されることを特徴とする。
【００２３】
第９には、前述の発光装置を前提として、各発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢにおける発光を点灯制御することにより、光出射領域Ａ１，Ａ２から出射される光の合成色を調節可能にしたことを特徴とする。
【００２４】
第１０には、前述の発光装置を前提として、発光機能層１４，１５，１６は有機ＥＬ層であることを特徴とする。
【００２５】
このような特徴を有する実施形態の発光装置によると、以下の作用を奏する。つまり、第１の特徴によると、透明基板１０の表面に発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから発光して透明基板１０内を伝搬した光を出射させる光出射領域Ａ１，Ａ２を形成しているから、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢ　の位置とは異なる箇所から光を取り出すことが可能になり、透明基板全面を光出射領域として有効に活用することができ、これによって、発光装置の高機能化或いは高デザイン化を達成することができる。
【００２６】
また、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから発光した光の内、基板面に対して斜めに入射して透明基板１０内を伝搬した光を活用して光出射領域Ａ１，Ａ２を形成するので、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから発光した光を有効に活用することができる。これは、第２の特徴として挙げているように、透明基板１０の表面における光出射領域Ａ１，Ａ２以外の一部又は全部に反射被覆１８を施すことによってより効果を上げることができる。
【００２７】
第３の特徴によると、透明基板１０表面の発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに対面する領域に表示領域ＡＲ，ＡＧ，ＡＢを形成し、この表示領域以外に前述の光出射領域Ａ１，Ａ２を形成しているので、表示領域を利用して各種の表示を行うことができると共に、光出射領域Ａ１，Ａ２を補助的な表示或いはその他の光源として機能させることができる。
【００２８】
第４の特徴によると、発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを形成する透明基板と光出射領域Ａ１，Ａ２を形成する透明基板と別部材とすることにより、光出射領域Ａ１，Ａ２が形成される透明基板の加工等を容易に行うことが可能になる。
【００２９】
第５の特徴によると、発光素子領域を形成できない透明基板１０の端縁部付近から光を出射させることができるので、基板表面を有効に活用できる。
【００３０】
第６の特徴によると、基板表面に溝１０ａ又はカット面１０ｂを形成するだけで光出射領域を形成できるので、それぞれの光出射領域毎に発光素子領域を形成する場合と比較して、形成が容易である。
【００３１】
第７の特徴によると、基板端部付近に形成した光出射領域Ａ１，Ａ２を線状にすることによって、透明基板幅を有効に利用した線状の光を出射させることが可能になり、各種の用途に使える線状光源を形成することができる。
【００３２】
第８の特徴によると、複数の異なる色の発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢが合成されて光出射領域Ａ１，Ａ２から出射するので、出射光の色を各発光素子領域からの色の混色又は白色とすることができる。
【００３３】
第９の特徴によると、各発光素子領域における発光を点灯制御することにより、出射光の色を各発光素子領域の色の単色からそれらの合成色或いは白色に至るまで適宜に調節することができる。
【００３４】
そして、前述の発光機能層を有機ＥＬ層とすることによって、有機ＥＬ表示装置に対して、透明基板端縁部付近に補助表示部或いは他機能光源を形成することができる。これによって、有機ＥＬ表示装置の高機能化或いは高デザイン化を達成することが可能になる。
【００３５】
【実施例】
図３は、本発明の一実施例に係る発光装置を示す説明図である。同図（ａ）が発光装置の平面図、同図（ｂ）がそのＸ−Ｘ断面図を示している。なお、以下に示す実施例は、有機ＥＬ発光装置を例にしているが本発明はこれに限定されるものではない。
【００３６】
図３において、透明基板２０の下面上には、第１電極層としてＩＴＯ等からなり陽極を形成する透明電極層２１、発光機能層として形成された有機ＥＬ層２２、第２電極層として陰極を形成するＡｌ等の金属電極層２３が順次積層されている。ここで有機ＥＬ層２２は、陽極側から、例えば、銅フタロシアニンからなる正孔注入層、ＴＤＰ等からなる正孔輸送層、Ａｌｑ３等からなる発光層又は電子輸送層、ＬｉＯ２等からなる電子注入層を積層させたものである。これにより、透明電極層２１の形成領域に応じて発光素子領域Ｅが形成されている。この例では、透明電極層２１は単一面状に形成したものを示しているが、この透明電極層２１を任意のセグメント形状、ストライプ形状、ドットマトリクス形状に形成して、発光素子領域Ｅを複数の画素領域に区画された領域にすることもできる。
【００３７】
透明基板２０の下面側には、有機ＥＬ層２２を覆うように金属製又はガラス製の封止部材２４が装着され、その内部が気密に封止されている。また、封止部材２４の内部には必要に応じて捕水剤２５が装填されている。
【００３８】
このような基本構造を有する発光装置において、本実施例では、透明基板２０における一つの端縁部に、基板内面が上方に向いたカット面２０ａを形成しており、また、他の端縁部においては、端面にプリズム形状の反射部品２７を接続している。
【００３９】
この実施例では、透明電極層２１と金属電極層２３との間に電圧を印加することによって有機ＥＬ層２３から発光された光が透明基板２０の上面側に出射されることになる。この際、透明基板２０内にほぼ垂直に入射した光は直接透明基板２０の上面側から出射することになって、発光素子領域Ｅに対面する透明基板２０表面の領域に表示領域Ａ２０を形成する。また、透明基板２０内にある程度の角度で入射した光は、透明基板２０内を伝搬してカット面２０ａ及び反射部品２７の反射面で反射されて透明基板２０の上面側に出射することになる。これによって、透明基板２０の表面には、端縁部付近にカット面２０ａ，反射部品２７の反射面に応じた光出射領域Ａ２１，Ａ２２が形成されることになる。ここで、透明基板２０の屈折率を高屈折率に設定することによって、全反射を利用した効率の良い光の伝搬が可能になる。
【００４０】
このような実施例の発光装置によると、表示領域Ａ２０において表示装置としての機能を発揮することができ、光出射領域Ａ２１，Ａ２２においては補助表示機能を持たせて表示装置を高機能化或いは高デザイン化させることが可能になる。また、光出射領域Ａ２１，Ａ２２は透明基板２０の幅を利用した線状の形態を形成することができるので、スキャナ光源等として利用する線状光源として機能させ、発光装置を実装する電子機器の多機能化を図ることもできる。
【００４１】
そして、このような光出射領域Ａ２１，Ａ２２は、別途発光素子領域を形成する必要がなく、透明基板２０に対する加工及び反射部品装着のみで形成可能であるから、形成が容易であり、また、発光素子領域を形成することが困難な基板端縁部においても簡単に形成することができる。
【００４２】
透明基板２０に形成されるカット面２０ａは、平面カット、カット面の鏡面仕上げ或いは磨りガラス状仕上げ等、用途に応じて適宜に採用することができる。平面に模様を彫ってデザイン性を向上させることもできる。また、装着される反射部品は形状，材質（乳化材の利用等），色を適宜に選択することによって、用途に応じた光の出射を得ることができる。更には、前述の表示領域Ａ２０，光出射領域Ａ２１，Ａ２２の表面には、必要に応じて光学フィルタや偏光板を貼った構造にしても良い。そして、透明基板２０は必ずしもガラスでなくてもよく、例えばフレキシブル性のあるプラスチック基板等を用いることもできる。
【００４３】
図４〜図６は、表示装置として用いられる前述の実施例の改良例を示すものである。前述の実施例と同一の箇所には同一の符号を付して重複した説明を一部省略する。図４の実施例は、湾曲したカット面２０ｂを透明基板２０の一方の端縁部に形成して光出射領域Ａ２３を形成し、透明基板２０の他方の端縁部に乱反射面からなるカット面２０ｃを形成して光出射領域Ａ２４を形成している。これによると、光出射領域Ａ２３によって湾曲した線状光源を形成することができ、湾曲走査のためのスキャナ光源として利用することが可能になる。また、光出射領域Ａ２４によって、均一な平面光源を形成することが可能になる。
【００４４】
図５の実施例では、透明基板２０の下面側に溝を形成して文字又は図形状の光出射領域Ａ２５，Ａ２６，Ａ２７を形成し、発光色の異なる蛍光体を透明基板２０の下面側に付着させて任意形状の光出射領域Ａ２８を形成している。また、透明基板２０の一方の端縁部に部分的にカット面を形成してアイコン状の光出射領域Ａ２９を形成している。
【００４５】
図６（同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）はＹ−Ｙ断面図を示している。）の実施例では、透明基板２０の表面の一部に反射被覆２６を施している。また、線状の光出射領域Ａ３０を得るために、透明基板２０の下面に逆Ｖ状の溝部２０ｄを形成している。反射被覆２６を施すことにより透明基板２０の表面から放出される光の損失を少なくすることが可能であり、溝部２０ｄによって簡単な構造で直線状の出射光を得ることができる。
【００４６】
図７〜図１２においては、光源装置して用いられる発光装置の例を示している。図７の実施例は、透明基板３０に対して前述の実施例と同様に形成された発光素子領域Ｅ全体を覆って反射被覆３１が形成されており、透明基板３０の端縁部周辺において開口部３１ａが形成されている。そして、この開口部３１ａに臨むように、光出射領域Ａ３１，Ａ３２が形成されている。光出射領域Ａ３１は、透明基板３０の端縁部に部分的にカット面を形成してアイコン状の領域を形成したものである。光出射領域Ａ３２は、透明基板３０の下面に逆Ｖ状の溝部を形成して直線状の領域を形成したものである。
【００４７】
このような実施例の発光装置では、発光素子領域Ｅから発光して透明基板３０内に入射した光は透明基板３０内を伝搬して開口部３１ａまで導かれ、その開口部３１ａに臨む光出射領域Ａ３１，Ａ３２から設定された形態の光出射を行うことができる。これによって、発光素子領域Ｅを形成することが困難な基板端縁部付近からの光出射を簡単に行うことが可能になる。また、面状の発光素子領域Ｅを採用しているので領域内で均一な強度を有する光出射領域を形成することができる。
【００４８】
図８の実施例は、円環状の出射光を得るために、円形の透明基板３０を用いて円状の光出射領域Ａ３３を形成したものである。発光素子領域Ｅの構造自体は前述の実施例と同様であって同一符号を付して重複した説明を省略する。発光素子領域Ｅを覆って円形の反射被覆３１を施し、透明基板３０の周端縁部のみを開口している。そして、その周端縁部に臨むように、透明基板３０の端縁部にカット面３０ａを形成した光出射領域Ａ３３を形成している。
【００４９】
図９〜図１２は、カラーの発光素子領域を形成し、光源装置として用いる発光装置の例を示すものである。前述の実施例と同一の部分には同一の符号を付して重複した説明を一部省略する。図９（同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）はＸ−Ｘ断面図を示している。）の実施例は、透明基板４０の下面上に、３つの領域に区画された透明電極層４１，４２，４３が形成されており、各透明電極層４１，４２，４３上にＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各色有機ＥＬ層４４，４５，４６が積層されている。また、この各色の有機ＥＬ層４４，４５，４６上には金属電極層４７が一様に形成されている。そして、透明電極層４１，４２，４３の形成領域に応じて３つの発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢが形成されている。
【００５０】
この実施例においては、透明基板４０における表面を反射被覆４８と封止部材２４によって覆っており、透明基板４０の上面端縁部に開口部４８ａを形成すると共にこの開口部４８ａに対応してカット面４０ａを形成して、直線状の光出射領域Ａ４０を形成している。
【００５１】
したがって、各発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢから透明基板４０に入射した光は透明基板４０内を伝搬する間に合成され、その合成された色の光が直線状の光出射領域Ａ４０から出射されることになる。ここで、透明電極層４４，４５，４６と金属電極層４７間に印加される電圧は、透明電極層４４，４５，４６及び金属電極層４７にそれぞれ繋げられる図示省略した配線部に接続されるフレキシブル配線４９から供給するように構成しているが、各発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに印加される電圧を個別に制御して、各発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢの発光をそれぞれ独立して点灯制御することもできる。
【００５２】
これによると、各発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢの発光量を調整して、光出射領域Ａ４０から出射される合成光を白色光とすることができるし、各色発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢの何れか一つを点灯させて他を非点灯とした場合には、ＲＧＢ何れかの単色光を出射させることもできる。また、各色発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢからの発光量をそれぞれ調整するか、或いは選択した２つの発光素子領域からの発光量をそれぞれ調整すると共に他の一つを非点灯とする等して、ＲＧＥの合成色、或いはＲＧ，ＧＢ，ＲＢの合成色（混色）を適宜調整して出射させることもできる。なお、ここでは、ＲＧＢ３色の発光素子領域を形成しているが、同様の構造で、ＲＧ，ＧＢ，ＲＢの２色構造の発光素子領域を形成し、同様に出射光の色調整をすることもできる。
【００５３】
図１０の実施例は、図９の実施例の改良例であり、同様の部位には同様の符号を付して重複した説明を一部省略する。この実施例においては、透明基板４０の一方の端面を開口部として、その端面をレンズ加工面４０ｂとして光出射領域Ａ４１を形成したものである。これによると透明基板４０の端面から集光した出射光を得ることができる。
【００５４】
図１１の実施例も、図９の実施例の改良例である。この実施例では、各色発光素子領域（ＥＲ１，ＥＧ１，ＥＢ１，ＥＲ２，ＥＧ２，ＥＢ２，ＥＲ３，ＥＧ３，ＥＢ３）をマトリクス状に配列したものである。これによると幅広の光出射領域Ａ４２に対してより均一な合成色の出射光を得ることができる。また、多列の発光素子領域の出力を任意に制御することによって、より緻密な合成色の制御を行うことが可能になる。
【００５５】
図１２の実施例は、個々の発光装置には単色の発光素子領域ＥＲ，ＥＧ，ＥＢをそれぞれ形成して、それぞれの発光装置の光出射領域Ａ４３，Ａ４４，Ａ４５　から単色の出射光（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を得るようにしたもので、このような発光装置を並列配置して単色出射光又は合成色出射光を得ようとしたものである。
【００５６】
図１３に示す実施例は、フレキシブル性の透明基板を用いて発光装置全体にフレキシブル性をもたせたものである。ここではフレキシブル性を有する透明フィルム基板５０Ａ上に前述した透明電極層２１，有機ＥＬ層２２，金属電極層２３を積層させて発光素子領域Ｅを形成している。この金属電極層２３上には樹脂製の封止膜６０が施されている。そして、この透明フィルム基板５０Ａに対して更にフレキシブル性のあるプラスチック製等の透明基板５０が装着されている。この例では、表示領域Ａ５０以外の領域に光出射領域Ａ５１を形成した透明基板５０を発光素子領域Ｅが形成される透明フィルム基板５０Ａとは別の基板にすることによって、透明基板５０の加工性や表面への光学膜５１（フィルタ，偏光板等）の形成を容易にしている。更に薄型でフレキシブル性が要求される場合には、透明フィルム基板５０Ａのみの透明基板にして、これに光出射領域Ａ５１を形成することもできる。
【００５７】
このような実施形態又は実施例に係る発光装置によると、製造容易であり、透明基板全面を光出射領域として有効に活用することができると共に、発光素子領域から発光した光を有効に活用でき、また、簡単に光出射領域を形成できて、発光素子の高機能化或いは高デザイン化を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来例の発光装置を示す説明図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る発光装置を示す説明図である。
【図３】本発明の一実施例に係る発光装置を示す説明図である。同図（ａ）が発光装置の平面図、同図（ｂ）がそのＸ−Ｘ断面図。
【図４】本発明の実施例で表示装置として用いられる発光装置を示す説明図である。
【図５】本発明の実施例で表示装置として用いられる発光装置を示す説明図である。
【図６】本発明の実施例で表示装置として用いられる発光装置を示す説明図（同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）はＹ−Ｙ断面図。）である。
【図７】本発明の実施例で光源装置として用いられる発光装置を示す説明図である。
【図８】本発明の実施例で光源装置として用いられる発光装置を示す説明図である。
【図９】カラーの発光素子領域を形成し、光源装置として用いる発光装置の実施例を示す説明図である。
【図１０】カラーの発光素子領域を形成し、光源装置として用いる発光装置の実施例を示す説明図である。
【図１１】カラーの発光素子領域を形成し、光源装置として用いる発光装置の実施例を示す説明図である。
【図１２】カラーの発光素子領域を形成し、光源装置として用いる発光装置の実施例を示す説明図である。
【図１３】フレキシブル性の透明基板を用いて発光装置全体にフレキシブル性をもたせた発光装置の実施例を示す説明図である。
【符号の説明】
１０，２０，３０，４０，５０　透明基板
１０ａ，２０ｄ　溝
１０ｂ，２０ａ，２０ｂ，２０ｃ　カット面
１１，１２，１３，２１，４１，４２，４３　透明電極層
１４，１５，１６，２２，４４，４５，４６　有機ＥＬ層
１７，２３，４７　金属電極層
１８，２６，３１，４８　反射被覆
３１ａ　開口部
２４　封止部材
２５　捕水剤
２７　反射部品
４９　フレキシブル配線
５０Ａ　透明フィルム基板
５１　光学膜
６０　封止膜
Ｅ，ＥＲ，ＥＧ，ＥＢ　発光素子領域
Ａ１，Ａ２，Ａ２１〜Ａ３３，Ａ４０〜Ａ４５，Ａ５１　光出射領域
ＡＲ，ＡＧ，ＡＢ，Ａ２０　表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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