(57)【要約】【課題】パッケージ工程及び動作状態で発生する液晶セルの厚み変動を抑制し、高品位の画像を表示する反射型液晶表示素子を提供する。【解決手段】Ｓｉ基板２Ａと、透明基板１Ａと、前記両基板２Ａ，１Ａ間に封止された液晶３とからなる液晶セル１０Ａと、液晶セル１０ＡをＳｉ基板２Ａ側で接着剤２５により一方の面上に固定するセルベース４０と、セルベース４０の他方の面上に固定配置する、液晶セル１０Ａを冷却するためのヒートシンク５０と、液晶セル１０Ａに光を導入するための光学系とセルベース４０との間に配置したセルハウジング３０とからなる反射型液晶表示素子において、セルベース４０をセルハウジング３０に３点で固定し、セルベース４０を、液晶表示セル１０Ａを構成するＳｉ基板２Ａの熱膨張率と略等しい熱膨張率を有する部材より構成した。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板と、透明基板と、前記シリコン基板及び前記透明基板間に封止された液晶とからなる反射型液晶表示セルと、前記反射型液晶表示セルを前記シリコン基板側で接着剤によりその一方の面上に接着固定するセル固定部材と、前記セル固定部材の他方の面上に固定配置する、前記反射型液晶表示セルを前記セル固定部材を介して冷却するためのヒートシンクと、前記反射型液晶表示セルに光を導入するための光学系と前記セル固定部材との間に配置され、前記反射型液晶表示セルが前記光学系に対して所定配置となるように前記セル固定部材を前記光学系に配置固定するための固定部材とからなる反射型液晶表示素子において、
前記セル固定部材を前記固定部材に３点支持で固定すると共に、前記セル固定部材を、前記反射型液晶表示セルを構成する前記シリコン基板の熱膨張率と略等しい熱膨張率を有する部材より構成したことを特徴とする反射型液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プロジェクター，プロジェクションＴＶ等の基幹部品としての反射型液晶表示素子に係り、特に、使用時の温度上昇による液晶セル厚の変化を抑制すると共に、良好な放熱を可能にして、輝度ムラなどの表示品質の低下を防止するのに好適な反射型液晶表示素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プロジェクターやプロジェクションＴＶの表示素子として、液晶表示素子が広く用いられている。近年、特に、マトリクス状に配置された反射電極とそれに電圧を供給するためのＣＭＯＳトランジスタ駆動回路とを配したシリコン基板と、共通電極を形成した透明ガラス基板とを対向して貼り合わせ、その間に液晶を封止したＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｏｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ）素子と呼ばれる反射型液晶表示素子が、その表示画像品質の高さで注目されている。
【０００３】
このような反射型液晶表示素子は、液晶層をシリコン基板と透明ガラス基板との間に封止して形成した反射型液晶表示セル（以下、単に液晶セルともいう）を、金属製又は樹脂製のパッケージ（ハウジング）にフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）と共に収納したものより構成されている。
【０００４】
図６は、従来例の反射型液晶表示素子を示す概略断面構成図である（例えば、特許文献１参照。）。
同図に示すように、反射型液晶表示素子２０は、プレート１１と、プレート１１内部の所定位置に配置された反射型液晶表示セル１０と、透明ガラスからなる窓材１４とから構成されている。
【０００５】
反射型液晶表示セル１０においては、透明ガラス基板１とシリコン基板２とをその間に液晶（表示せず）を封止して貼り合わせてある。
透明ガラス基板１の液晶と接する面には、透明電極（図示しない）を形成してあり、他方の面（窓材１４側）には、反射防止膜（図示しない）を形成してある。
【０００６】
シリコン基板１上には、マトリクス状に配置したスイッチングトランジスタ（図示しない）を形成してあり、さらにその上に絶縁層を介して、各スイッチングトランジスタによって駆動される各画素電極（反射電極）（図示しない）を形成してある。ここで、シリコン基板２の画素電極側が透明ガラス基板１に対向する。
【０００７】
ガラス基板１とシリコン基板２は、間に封入する液晶層のセルギャップを決めるスペーサを混入したシール接着剤で固着されている。
反射型液晶表示セル１０のシリコン基板２を、プレート１１の底面部１１ａに対向させて、その透明ガラス基板１の４隅を、ＵＶ接着剤からなる接着層１３により、プレート１１の中間部１１ｂに接着されている。
【０００８】
アルミニウムからなるプレート１１には、複数の冷却フィン１１ｄを設けてある。
一方、プレートの底面部１１ａとシリコン基板２の間には、それぞれに接するようにシリコーンゲル剤（以下，単にシリコーンゲルともいう）単位１２を塗布してある。このシリコーンゲル剤１２は、プレート１１と反射型液晶表示セル１０の位置決めを保持する。シリコーンゲル剤１２としては、高熱伝導性を有する材料を使用する。
プレート１１の上面部１１ｃには、プレート１１の内部に固定配置した反射型液晶表示セル１０の防塵のために、透明ガラスの窓材１４を密着配置してある。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２９６５６８号公報（第３−５頁、第１−５図）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、反射型液晶表示素子は、プロジェクタ装置等に組み込まれて、光源より読出し光が照射されると、その光の一部を吸収して、温度が上昇する。
このとき、読出し光が通過する反射型液晶表示セルに、接合部材との間の熱膨張率との差により、応力が生じたり、セルギャップのムラが生じると、これらは、不均一な複屈折を発生させ、表示画像の品質を劣化させる。
【００１１】
上述した従来例の反射型液晶表示素子は、このような温度上昇に係る放熱及び熱膨張の問題を考慮したものであったが、表示画像のいっそうの高密度化、高輝度化が求められて、高出力の光源が使用されるに至っては、温度上昇により、良好な画像品質を保持するのが困難となっている。
【００１２】
すなわち、シリコーンゲル１２によって、反射型液晶表示セル（以下，単に液晶表示セルともいう）１０のシリコン基板２とアルミニウムからなるプレート１１を接着固定しており、液晶表示セル１０で発生した熱を、シリコーンゲル１２及びプレート１１の放熱フィン１１ｄを通して放熱する構造となっているが、高出力の読出し光照射により一層高温となると、シリコン基板２とプレート１１を構成するアルミニウムとの熱膨張率の差が大きいため、大きな応力が発生して、液晶表示セル１０に複屈折を生じることにより、表示画像の品質が劣化してしまう。また、反射型液晶表示セル１０の作製時及びパッケージ工程において発生するセル厚（ギャップ）の不均一性は、液晶表示セル１０が高温になると一層大きくなり、表示画像の品質を劣化させるという問題がある。
【００１３】
パッケージ工程及びプロジェクタ装置使用時に、反射型液晶表示セルのセル厚が変動する要因として、パッケージ工程においては、反射型液晶表示セルを固定する際に、歪んだ状態で反射型液晶表示セルを固定することによって発生する応力によって起きるセル厚の変動であり、プロジェクタ装置使用時においては、温度上昇によって生じる反射型液晶表示セルとこれを配置固定するパッケージ材料との熱膨張率差によるセル厚変動であり、これらの問題の解決が求められている。
【００１４】
そこで、本発明は、上記問題を解決して、パッケージ工程及び動作状態で発生する液晶セルの厚み変動を抑制し、高品位の画像を表示する反射型液晶表示素子を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための手段として、本発明は、シリコン基板２Ａと、透明基板１Ａと、前記シリコン基板及び前記透明基板間に封止された液晶３とからなる反射型液晶表示セル１０Ａと、前記反射型液晶表示セル１０Ａを前記シリコン基板２Ａ側で接着剤（シリコーンゲル剤２５）によりその一方の面上に接着固定するセル固定部材（セルベース４０）と、前記セル固定部材の他方の面上に固定配置する、前記反射型液晶表示セルを前記セル固定部材を介して冷却するためのヒートシンク５０と、前記反射型液晶表示セルに光を導入するための光学系と前記セル固定部材との間に配置され、前記反射型液晶表示セルが前記光学系に対して所定配置となるように前記セル固定部材を前記光学系に配置固定するための固定部材（セルハウジング３０）とからなる反射型液晶表示素子において、
前記セル固定部材を前記固定部材に３点支持で固定すると共に、前記セル固定部材を、前記反射型液晶表示セルを構成する前記シリコン基板の熱膨張率と略等しい熱膨張率を有する部材より構成したことを特徴とする反射型液晶表示素子である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態につき、好ましい実施例により、図面を参照して説明する。
【００１７】
＜第１実施例＞
図１は、本発明の反射型液晶表示素子の第１実施例を示す概略断面構成図である。
図２は、本発明の反射型液晶表示素子の第１実施例を示す概略分解斜視構成図である。
図３は、本発明の反射型液晶表示素子に係る反射型液晶表示セルを示す概略断面構成図である。
【００１８】
図３に示すように、以下の本第１実施例も含めて各実施例に係る反射型液晶表示セル１０Ａは、シリコン基板２Ａと、透明ガラス基板１Ａと、シリコン基板２Ａと透明ガラス基板１Ａとを対向させてスペーサ４を介して配置した間隙に封止した液晶３と、シリコン基板２Ａ上に配置したフレキシブル配線板５とから構成されている。
【００１９】
シリコン基板２Ａの液晶３側の面上には、画素に対応してマトリクス状に、スイッチングトランジスタを含む駆動回路（図示しない）と、これによって信号電圧を印加される画素電極（図示しない）とが形成されている。画素電極は、ガラス基板１Ａ側から入射する読出し光を反射する反射電極である。
透明ガラス基板１Ａの液晶３側の面上には透明電極（図示しない）が、反対側の面上には反射防止膜（図示しない）がそれぞれ形成されている。
【００２０】
シリコン基板２Ａ上の駆動回路及びガラス基板１Ａ上の透明電極は、フレキシブル配線板５に接続されており、回路部（図示しない）よりフレキシブル配線板５を通して電気信号が供給される。
スペーサ４の厚さは、例えば５μｍであり、これが、反射型液晶表示セル１０Ａのセル厚となる。
【００２１】
反射型液晶表示セル１０Ａの画像表示動作は、シリコン基板２Ａ上に形成した駆動回路に接続する画素電極と、ガラス基板１Ａ上に形成した透明電極間に、画像に対応した信号電圧を印加し、液晶３の偏光方向を変えることによって、ガラス基板１Ａを通して液晶３に入射した後、画素電極で反射して出射する光の偏光方向を変えることによって行われる。反射型液晶表示セル１０Ａにおいて、画素は、２次元のマトリクス状に配置されているので、この画素を選択的に駆動することにより、２次元の画像表示を行うことができる。
【００２２】
図１及び図２に示すように、反射型液晶表示セル１０Ａは、セルハウジング３０に組み込まれて、反射型液晶表示素子２０Ａとして、プロジェクタ装置（図示しない）の色分解合成光学系（図示しない）に組み込まれる。
色分解合成光学系（図示しない）は、光源（図示しない）から出射される読出し光を、反射型液晶表示素子２０Ａの反射型液晶表示セル１０Ａに導き、反射型液晶表示セル１０Ａから出射される画像信号で変調された読出し光（画像光である）を、スクリーン（図示しない）に投射する機能を有する。
【００２３】
図１及び２に示されるように、第１実施例の反射型液晶表示素子２０Ａは、ガラス窓材２６の取り付けられたセルハウジング３０と、セルハウジング３０に取り付けられたセルベース４０と、セルベース４０にシリコーンゲル剤２５によって固着された反射型液晶表示セル１０Ａと、セルベース４０に放熱シート２３を介して固定配置されたヒートシンク５０より構成される。
【００２４】
板状のセルベース４０においては、一方の面は平坦にされており、他方の面側には、反射型液晶表示セル１０Ａを配置する凹部４７が設けられている（場合により、特に、凹部を設けなくても良い）。セルベース４０の大きさは例えば縦４３ｍｍ（取付部４２，４３，４４を除いた長さ）、横４７ｍｍとしたとき、厚さは、十分な剛性を確保できる１．９ｍｍとしている。セルベース４０はコバールより構成されている。コバールは、Ｃｏ（１７ｗｔ％）−Ｎｉ（２９ｗｔ％）−Ｆｅ（ｂａｌ）合金であり、その熱膨張率は４９×１０-7／°Ｃである。なお、コバールの熱伝導度は１７Ｗ／ｍ°Ｃである。
ちなみに、シリコン基板２Ａの熱膨張率は３２×１０-7／°Ｃである。
また、ガラス基板１Ａは、コーニング社製の＃１７３７より構成されており、この熱膨張率は３８×１０-7／°Ｃである。
【００２５】
反射型液晶表示セル１０Ａは、シリコン基板２Ａをセルベース４０に形成してある凹部４７の底面４７ａに対向して、シリコーンゲル剤２５で、セルベース４０に接着固定されている。ここで、凹部４７の側面４７ｂが、反射型液晶表示セルに触れないように、凹部４７は十分な大きさに形成されている。使用するシリコーンゲル剤２５は，柔軟性の大きいものを用いており、例えば、信越シリコーン（株）製のＫＥ１０５２が用いられる。シリコーンゲル剤２５の厚さは、シリコン基板の４隅に配置した厚さ１２５μｍのスペーサ２４によって規制され、略１２５μｍである。
【００２６】
セルベース４０の外周部には３箇所の取付部４２，４３，４４が設けられている。取付部４２，４３，４４には取付孔４２ａ，４３ａ，４４ａがそれぞれ設けられている。
【００２７】
セルハウジング３０は、例えば厚さ略５ｍｍのＳＵＳ３０３より構成され、中央部に、矩形状の貫通部３５を形成してある。貫通部３５の広さは、非接触で反射型液晶表示セル１０Ａを収納するのに十分である。貫通部３５の一部は、より狭い貫通部分である矩形状の窓材取付部３９になっており、その窓材取付面３９ａ上に、窓材２６が接着固定されている。
【００２８】
セルハウジング３０の一方の面には、３箇所にスペーサ３２，３３，３４が設けられており、これらのスペーサ３２，３３，３４の露出した面は同一平面になるように精密研磨加工されている。スペーサ３２，３３，３４には、取付ネジ孔３２ａ，３３ａ，３４ａがそれぞれ設けられている。これらの取付ネジ孔３２ａ，３３ａ，３４ａは、セルベース４０に設けられた取付孔４２ａ，４３ａ，４４ａに対応している。
【００２９】
反射型液晶表示セル１０Ａを凹部４７の所定位置に接着固定したセルベース４０はセルハウジング３０に取付・固定される。取付は、３本のネジをセルベースの取付孔４２ａ，４３ａ，４４ａをそれぞれ通し、セルハウジング３０の取付ネジ孔３２ａ，３３ａ，３４ａにそれぞれネジ止めすることによって行われる。３点支持で、セルベース４０をセルハウジング３０に固定しているので、セルベース４０には、取付による捻り等が発生しない。
【００３０】
従って、セルベース４０の凹部にシリコーンゲル材２５を介して接着されている反射型液晶表示セル１０Ａにも、取付によって、応力が発生することがなく、液晶セル厚は、正しく保持される。複屈折を発生することもない。反射型液晶表示セル１０Ａは、セルハウジング３０とは非接触で保持されている。
【００３１】
セルベース４０は放熱シート２３を介して、ヒートシンク５０に配置されている。放熱シート２３の片側には接着剤が塗布されており、セルベース４０に放熱シートが接着されている。セルベース４０とヒートシンク５０は、放熱シート２３を挟んで、互いに４隅で、所定の荷重のかかるバネにより圧着されて保持されている。
【００３２】
ヒートシンク５０の放熱シート２３とは反対側には、ヒートシンク５０の放熱を良好に行うための複数の放熱フィン５２Ａ１〜５２Ａｎが設けられている。ヒートシンク５０は、アルミニウムから構成されており、その熱膨張率は２２０〜２４０×１０-7／°Ｃである。なお、アルミニウムの熱伝導度は１３０〜２３０Ｗ／ｍ°Ｃであり、剛性は７０〜８０ＧＰａである。
【００３３】
反射型液晶表示素子２０Ａは、色分解合成光学系の偏光ビームスプリッタ（図示しない）に、ガラス窓剤２６を対向させて、セルハウジング３０に取付・固定された取付部材（図示しない）を介して固定されている。
【００３４】
このようにして液晶プロジェクタ装置を構成し、実際に動作させて，評価した。
本第１実施例の反射型液晶表示素子２０Ａにおける反射型液晶表示セル１０Ａのサイズは対角１．３インチ（アスペクト比４：３）であり、１画素のサイズは、１２．９μｍ×１２．９μｍである。
用いた光学系は、スクリーン上で５０００ｌｍ（ルーメン）の明るさを有するものであり、反射型液晶表示素子２０Ａへの入射光量は１２Ｗである。
【００３５】
表示品質として、位置ズレと均一性を評価した。スクリーン上に表示された３原色画像の位置ズレは、最大で０．６画素分であリ、良好であった。画面の明るさをスクリーンの中央部及び４隅の５箇所で比較したところ、明るさの均一性はムラがあるものの、判定は良であった。
また、反射型液晶表示セル１０Ａのガラス基板１Ａの４隅の温度を測定したところ、５０．２°Ｃと５１．５°Ｃの範囲（温度差１．３°Ｃ）であった。
【００３６】
＜比較例＞
上述の従来例の構成の反射型液晶表示素子２０を、第１実施例におけると同様の色分解合成光学系にセットし、第１実施例と同様に評価した。
位置ズレは２．５画素分あり、表示品質としては、不良である。明るさの均一性は、ムラがあり不良であった。
また、反射型液晶表示セル１０のガラス基板１の４隅の温度を測定したところ、４８．１°Ｃと４８．９°Ｃの範囲（温度差０．８°Ｃ）であった。
【００３７】
＜第２実施例＞
図４は、本発明の反射型液晶表示素子の第２実施例を示す概略断面構成図である。
同図に示すように、第２実施例の反射型液晶表示素子２０Ｂは、第１実施例の反射型液晶表示素子２０Ａにおいて、セルベース４０に代えてセルベース４０Ａとした以外は第１実施例の反射型液晶表示素子２０Ａと同様に構成したものである。
【００３８】
ここで、セルベース４０Ａは、セルベース４０と機械的寸法は同様であり、構成する材料をコバールに代えて、金属基複合体としたものである。
金属基複合体（Ｍｅｔａｌ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ：ＭＭＣと略称する。）は、金属とセラミック粉末を焼結して形成した複合材料である。ＭＭＣとしては、ＰＳＳ−５０（セランクス（株）製）を用いている。このＭＭＣの熱膨張率は２８×１０-7／°Ｃであり、その熱伝導度は１７５Ｗ／ｍ°Ｃであり、剛性は２８０ＧＰａである。
【００３９】
この第２実施例の反射型液晶表示素子２０Ｂを、第１実施例におけると同様の色分解合成光学系にセットし、第２実施例と同様に評価した。
位置ズレは０．３画素分あり、表示品質としては、良好である。明るさの均一性は、ムラがなく、良好であった。
また、反射型液晶表示セル１０Ａのガラス基板１Ａの４隅の温度を測定したところ、４８．３°Ｃと４８．９°Ｃの範囲（温度差０．６°Ｃ）であった。
なお、ＭＭＣとしては、ＰＳＩ−７０（セランクス（株）製：熱膨張率が６２×１０-7／°Ｃ、熱伝導度が１７２Ｗ／ｍ°Ｃ、剛性が２６５ＧＰａである。）を用いた場合には、温度は４８．２°Ｃから４８．７°Ｃの範囲（温度差０．５°Ｃ）であり、位置ズレは、０．７画素分であり、均一性は良好であった。
【００４０】
＜第３実施例＞
図５は、本発明の反射型液晶表示素子の第３実施例を示す概略断面構成図である。
同図に示すように、第３実施例の反射型液晶表示素子２０Ｃは、第１実施例の反射型液晶表示素子２０Ａにおいて、セルベース４０に代えて、セルベース４０Ａとし、放熱シート２３とヒートシンク５０との間に新たにペルチェ素子６０を挿入固定した以外は、第１実施例の反射型液晶表示素子２０Ａと同様に構成してある。
【００４１】
セルベース４０Ａは、上述の第２実施例の反射型液晶表示素子２０Ｂで用いたものである。
ペルチェ素子６０は、電流を流すことによって、一方の面の熱を他方の面に移動させるものである。
【００４２】
この第３実施例の反射型液晶表示素子２０Ｃを、第１実施例におけると同様の色分解合成光学系にセットし、第１実施例と同様に評価した。このときペルチェ素子６０には、電流１Ａを流しておいた。
位置ズレは０．３画素分あり、表示品質としては、良好である。明るさの均一性は、ムラがなく、良好であった。
また、反射型液晶表示セル１０Ａのガラス基板１Ａの４隅の温度を測定したところ、３３．５°Ｃと３４．１°Ｃの範囲（温度差０．６°Ｃ）であった。第２実施例に比較して、反射型液晶表示セル１０Ａにおいて、約１５°Ｃ温度低下することができた。
【００４３】
本発明の反射型液晶表示素子２０Ａと比較例の反射型液晶表示素子２０とを比較すると、比較例においては、光照射時における反射型液晶表示セル１０の温度が４８．１から４８．９°Ｃであり、第１実施例における液晶表示セル１０Ａの温度である５０．２〜５１．５°Ｃより低く保たれている。にもかかわらず、表示品質が良好でない結果になっている。
【００４４】
これは、少なくとも、温度上昇による液晶表示セル１０自体の歪による影響は少ないものの、液晶表示セル１０とプレート１１との熱膨張率差が大きいことによる液晶表示セル１０における歪の発生，及び４点で液晶表示セル１０をプレートに固定するパッケージングにおける歪の発生により、液晶表示セル１０のセル厚の変動が大きいためと考えられる。
【００４５】
すなわち、アルミニウムを液晶表示セルの保持材料に用いた場合、熱伝導度が高いため液晶表示セルは均一に冷却されるが、シリコン基板に比較し熱膨張率が一桁大きいため、光学系に対する液晶表示セルの位置ずれが大きくなり、表示品質の低下を招く。また、熱膨張率差による応力が加わり、表示ムラも発生した。
【００４６】
本発明の反射型液晶表示素子においては、（１）液晶表示セル１０Ａを配置するパッケージ（セルベース４０）の材料に、液晶表示セル１０Ａ（特に密着するシリコン基板２Ａ）と熱膨張率の近い材料（具体的にはコバール）を使用する、（２）パッケージ（コバール）に液晶表示セルを固着する際に、やわらかい物性を持つシリコーンゲルを使用する、（３）パッケージをパッケージ本体（セルハウジング３０）に固定する際に３点支持としている。
これにより、本発明の反射型液晶表示素子２０Ａは、パッケージ工程でのセル厚変化およびプロジェクタ装置に装着した使用時における温度変動によるセル厚変動を抑制し、高品位の映像表示することが可能である。
【００４７】
また、本発明の反射型液晶表示素子２０Ｂにおいては、セルベースとして、シリコン基板の熱膨張率に近い熱膨張率を有し、且つ、熱伝導度の高い材料であるＭＭＣを用いることにより、セルベースをセルハウジングに３点支持で固定することと相まって、一層良好な反射型液晶表示素子の表示品質を実現している。
【００４８】
また、本発明の反射型液晶表示素子２０Ｃにおいては，セルベースとヒートシンクの間にペルチェ素子を配置することにより、液晶表示セルの温度を低下させることができ、より高出力の光源を用いる高輝度の画像表示を可能とする。
ペルチェ素子は流す電流によって熱の移動を制御できる。従って、入射光量が大きくなり液晶表示セル（デバイスともいう）の温度が高くなった場合、また環境温度に応じてデバイスの温度が変化した場合でも、ペルチェ素子に流す電流値を制御することで、デバイス温度を一定温度以下にすることが出来る。また、温度センサーをセルベースなどに組み込むことで、デバイス温度を常に一定に保つ事も可能である。
【００４９】
ここで、セルベース（パッケージ）を構成する材料の熱膨張率を２８×１０-7／°Ｃから６２×１０-7／°Ｃの範囲（シリコン基板の熱膨張率との比（セルベースの熱膨張率／シリコン基板の熱膨張率）では、０．８から１．９である。）とし、熱伝導度を２０Ｗ／ｍ°Ｃから１７５Ｗ／ｍ°Ｃの範囲とすることで、反射型液晶表示素子の表示品質の低下を防止できる。
また、ペルチェ素子に代えて、水冷機構をセルベースとヒートシンクの間に設けても良い。
【００５０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、請求項１記載によれば、セル固定部材を固定部材に３点支持で固定すると共に、前記セル固定部材を、反射型液晶表示セルを構成するシリコン基板の熱膨張率と略等しい熱膨張率を有する部材より構成したことにより、パッケージ工程及び動作状態で発生する液晶セルの厚み変動を抑制し、高品位の画像を表示する反射型液晶表示素子を提供できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射型液晶表示素子の第１実施例を示す概略断面構成図である。
【図２】本発明の反射型液晶表示素子の第１実施例を示す概略分解斜視構成図である。
【図３】本発明の反射型液晶表示素子に係る反射型液晶表示セルを示す概略断面構成図である。
【図４】本発明の反射型液晶表示素子の第２実施例を示す概略断面構成図である。
【図５】本発明の反射型液晶表示素子の第３実施例を示す概略断面構成図である。
【図６】従来例の反射型液晶表示素子を示す概略断面構成図である。
【符号の説明】
１，１Ａ…透明ガラス基板、２，２Ａ…シリコン基板、３…液晶、４…スペーサ、５…フレキシブル配線板、１０，１０Ａ…反射型液晶表示セル、１１…プレート、１１ａ…底面部、１１ｂ…中間部、１１ｃ…上面部、１１ｄ…冷却フィン、１２…シリコーンゲル剤、１３…接着剤、１４…窓材、２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ…反射型液晶表示素子、２３…放熱シート、２４…スペーサ、２５…シリコーンゲル剤、２６…窓材、３０…セルハウジング、３２…スペーサ、３２ａ…取付ネジ孔、３３…スペーサ、３３ａ…取付ネジ孔、３４…スペーサ、３４ａ…取付ネジ孔、３５…貫通部、３８…取付孔、３９…窓材取付部、３９ａ…窓材取付面、４０，４０Ａ…セルベース、４２…取付部、４２ａ，４２ｂ…取付孔、４３…取付部、４３ａ…取付孔、４４…取付部、４４ａ…取付孔、４７…凹部、４７ａ…底面、４７ｂ…側面、５０…ヒートシンク、５２Ａ１，５２Ａｎ…放熱フィン、５３…取付孔、５３…取付孔、５４…取付孔、５５…取付孔、５６…取付孔。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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