(57)【要約】【課題】電子部品の洗浄処理装置の小型化を図ると共に、装置にかかるイニシャルコスト及びランニングコストを低減する。【解決手段】洗浄処理装置１は、薬液槽４及びリンス槽５が配置される処理室３６と、貯水槽３７から供給される水を噴霧する噴射ノズル１２を備えた湿式処理部３８と、噴射ノズル１２から噴霧される水の温度を制御する冷却用熱交換器９と、湿式処理部３８で洗浄された空気を加温して相対湿度を低下させる再熱用ヒータ１３と、再熱用ヒータ１３で相対湿度の低下された空気からケミカル物質を除去するケミカルフィルタ１４と、処理室３６を巡って配置された空気循環路４２と、ＦＦＵ３と協働して処理室３６内の空気を排気口３４から空気供給口３５へ送気する送風機２とを備えている。これにより、本装置は、クリーンルーム３１内に設置される完全クローズドの無排気型の処理装置として好適である。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルーム内に設置されるクローズド型の処理装置であって、
室内空気を排気する排気口を下方又は側方に設け、清浄空気を室内に供給する空気供給口を上方に設けた処理室と、
下方に貯水槽を配置し上方にこの貯水槽から供給される水を噴霧する噴射ノズルを配置して前記排気口から排気された空気を洗浄する湿式処理部と、
前記噴射ノズルから噴霧される水の温度を制御する温度制御装置と、
前記湿式処理部で洗浄された空気を加温して相対湿度を低下させる熱交換部と、
前記熱交換部で相対湿度の低下された空気からケミカル物質を除去する乾式処理部と、
前記空気供給口の上方に配置され、前記ケミカル物質を除去された空気をさらに清浄化して前記処理室に供給するフィルタユニットと、
前記処理室を巡って配置され経路内に前記湿式処理部、前記熱交換部、前記乾式処理部を含む空気循環路と、
前記空気循環路内に配置され前記処理室内の空気を前記排気口から前記空気供給口へ向けて送気する送気ファンと
を具備することを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記処理室には、
被洗浄物を洗浄する薬液を貯留する薬液槽と、
前記薬液槽で前記被洗浄物に付着した前記薬液を洗浄して除去する薬液除去槽と
が配置されることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
前記フィルタユニットが、ファンフィルタユニットであることを特徴とする請求項１又は２記載の処理装置。
【請求項４】
前記貯水槽内の貯留水から汚濁成分を除去する前記薬液除去ユニットをさらに有し、
前記薬液除去ユニットが、前記薬液の種類に応じて選択された吸着剤とイオン交換樹脂とを備えることを特徴とする請求項２記載の処理装置。
【請求項５】
前記吸着剤が、活性炭カラムであり、且つ前記イオン交換樹脂が、強カチオン交換樹脂カラム、強アニオン交換樹脂カラム、又は弱アニオン交換樹脂カラムであることを特徴とする請求項４記載の処理装置。
【請求項６】
前記湿式処理部に配置された前記噴射ノズルが、フルコーンノズル又はホロコーンノズルであることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項に記載の処理装置。
【請求項７】
前記湿式処理部が、充填材を備えることを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項に記載の処理装置。
【請求項８】
前記充填材が、ビニロック及び／又はテラレットであることを特徴とする請求項７記載の処理装置。
【請求項９】
前記薬液除去ユニットによって処理された処理水の導電度を監視する導電率モニタを備えることを特徴とする請求項２ないし８いずれか１項に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、例えば過酸化水素、アンモニア、無機酸（フッ酸、塩酸、硫酸、燐酸など）、有機物などの薬品を用いて各種電子部品の洗浄処理などを行うための処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電子部品の製造工程において、各種薬品を用いて電子部品を洗浄する洗浄装置の排ガス処理は、いわゆるワンパス処理であり、屋外にある洗浄塔の中で、クリーンルーム内の空気を、苛性ソーダ・硫酸などの薬品を使用し中和・分解などの処理を行う、酸・アルカリ薬品洗浄方法が用いられている。ここで、この酸・アルカリ薬品洗浄方法では、酸・アルカリが排水処理されるため、その廃液処理を行う必要がある。
【０００３】
また、上記洗浄方法では、クリーンルーム内の空気、つまり清浄化処理及び温度調節された空気を屋外に放出しており、省エネルギー化が絶えず要求されている昨今の風潮に逆行するというエネルギー収支上の課題がある。さらに、屋外に放出された排ガスは、スクラバなどで処理されるものの、完全な処理とは言えず、微量とは言え大気へ放出されて、環境汚染の原因にもなっている。
【０００４】
そこで、このような事情を考慮して各種提案がなされている。例えば、特開２０００−１６７４１６公報には、汚れ成分の濃厚な排ガスのみを屋外に排気し、汚れ成分の希薄な排ガスを装置内部で処理する洗浄装置が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報の洗浄装置では、クリーンルーム内で温調及び清浄化処理された空気の屋外放出量などは減少するものの、排水処理装置や屋外型の排ガス処理装置の設置が無論必要であり、イニシャルコスト、ランニングコストに課題を残すと共に、装置全体の設置に広い設置面積が必要になるといった課題もある。
【０００６】
そこで本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、装置の小型化が図れると共に、装置にかかるイニシャルコスト及びランニングコストを低減できる処理装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る処理装置は、クリーンルーム内に設置されるクローズド型の処理装置であって、室内空気を排気する排気口を下方又は側方に設け、清浄空気を室内に供給する空気供給口を上方に設けた処理室と、下方に貯水槽を配置し上方にこの貯水槽から供給される水を噴霧する噴射ノズルを配置して前記排気口から排気された空気を洗浄する湿式処理部と、前記噴射ノズルから噴霧される水の温度を制御する温度制御装置と、前記湿式処理部で洗浄された空気を加温して相対湿度を低下させる熱交換部と、前記熱交換部で相対湿度の低下された空気からケミカル物質を除去する乾式処理部と、前記空気供給口の上方に配置され、前記ケミカル物質を除去された空気をさらに清浄化して前記処理室に供給するフィルタユニットと、前記処理室を巡って配置され経路内に前記湿式処理部、前記熱交換部、前記乾式処理部を含む空気循環路と、前記空気循環路内に配置され前記処理室内の空気を前記排気口から前記空気供給口へ向けて送気する送気ファンとを具備することを特徴とする。
【０００８】
本発明の処理装置のフィルタユニットとして、例えばファンフィルタユニットを適用してもよい。また、本発明の処理装置の前記処理室には、被洗浄物を洗浄する薬液を貯留する薬液槽と、前記薬液槽で前記被洗浄物に付着した前記薬液を洗浄して除去する薬液除去槽とが例えば配置される。本発明の処理装置において、前記薬液とは、過酸化水素水、アンモニア水、フッ酸、塩酸、硫酸、燐酸及び有機物からなる群から選択される１又は２以上のものが挙げられる。
【０００９】
また、本発明の処理装置では、前記貯留槽内の貯留水から汚濁成分を除去する前記薬液除去ユニットを備え、この薬液除去ユニットが、前記薬液の種類に応じて選択された吸着剤として例えば活性炭カラムが適用され、イオン交換樹脂として強カチオン交換樹脂カラム、強アニオン交換樹脂カラム、又は弱アニオン交換樹脂カラムなどが適用される。
【００１０】
さらに、本発明の処理装置では、前記熱交換部で冷却された処理水の湿式洗浄部での霧化処理は、噴射ノズル、例えばフルコーンノズル又はホロコーンノズルによって行われる。また、圧搾空気と水を同時に噴射する二流体ノズルを用いる場合もある。
【００１１】
また、本発明の処理装置では、前記湿式処理部を構成する充填材としてビニロック及び／又はテラレットなどを適用していることで、上記湿式処理部での気液接触効率の向上（気液接触面積の向上及び気液接触時間の増加）を図ることができる。
【００１２】
さらに、本発明の処理装置では、前記乾式処理部にケミカルフィルタや有機物ガス成分を乾式吸着処理する活性炭フィルタを設けることが望ましい。ケミカルフィルタとしては、カチオン汚濁成分を吸着処理するフィルタやアニオン汚濁成分を吸着処理するフィルタなどが例示される。
【００１３】
また、本発明の処理装置において、ファンフィルタユニットに組み込むべきフィルタとしてはＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタなどが好適である。また、本発明の処理装置において、薬液除去ユニットによって処理された処理水の導電率を例えばμＳ／ｃｍオーダで監視できる導電率モニタを設けてもよい。
【００１４】
このように構成される本発明の処理装置では、洗浄用の薬液が気化した汚濁成分を含む気体が、上述した湿式処理部や乾式処理部で処理されて処理室に帰還し再使用される。ここで、乾式処理部の前段に、装置内の相対湿度を低減させる熱交換部が配置されていることから、気化蒸発成分中の汚れ成分の水への溶解性能が向上することになる。
【００１５】
つまり、本発明の処理装置は、クリーンルーム内に設置される完全クローズドの無排水・無排気型の装置として好適である。さらに、本発明の処理装置によれば、清浄化処理及び温調されたクリーンル−ム内の清浄空気を排気する必要がないので、エネルギー的にむだがなく、また無排気型であるため環境汚染のおそれもない。これにより、本発明では、装置にかかるイニシャルコスト及びランニングコストを低減できる。また、本発明の処理装置によれば、気化蒸発成分中の汚れ成分を処理（排気処理など）するためのユニット部分を、薬液槽、薬液除去槽などが配置される処理室と一体的に構成したので、排気ガス処理用のスクラバなどを屋外に設置することことなどが不要となる。これにより、装置全体の小型化及び構造の簡略化を図ることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る洗浄処理装置を概略的に示す全体図、図２は、この洗浄処理装置を示す斜視図、図３は、本装置を機能的に示す模式図である。
これらの図に示すように、本実施形態の洗浄処理装置１は、例えばクリーンルーム３１内に設置され、循環風量が１２ｍ３／ｍｉｎ程度の完全クローズド型の装置であって、洗浄機本体部３２と洗浄機付帯部３３とを一体的に構成したものである。
【００１７】
洗浄処理装置１は、室内空気を排気する排気口３４を下方の側部に備え且つ清浄空気を室内に供給する空気供給口３５を上方に備えた処理室３６と、下方に貯水槽３７を配置し上方にこの貯水槽３７から供給される水を噴霧する噴射ノズル１２を配置して排気口３４から排気された空気を洗浄する湿式処理部３８と、熱交換部３９に配置され噴射ノズル１２から噴霧される水の温度を制御する冷却用熱交換器９と、熱交換部４０に配置され湿式処理部３８で洗浄された空気を加温して相対湿度を低下させる再熱用ヒータ１３と、乾式処理部４１に配置され熱交換部４０で相対湿度を低下させた空気からケミカル物質を除去するケミカルフィルタ１４と、ケミカル物質を除去された空気を処理室３６にダウンフローする処理室３６の空気供給口３５の上方に配置されたＦＦＵ（ファンフィルタユニット）３と、処理室３６を巡って配置され経路内に湿式処理部３８、再熱用ヒータ１３、乾式処理部４１を含む空気循環路４２と、空気循環路４２内に配置され、ＦＦＵ３と協働して処理室３６内の空気を排気口３４から空気供給口３５へ向けて送気する送風機（シロッコファン）２とを備えて構成されている。
【００１８】
処理室３６には、浴槽部４３と洗浄部４５とが設けられている。浴槽部４３には、例えば半導体ウエハなどの被洗浄物を洗浄する薬液を貯留する、加熱ヒータ４６を備えた薬液槽４が配置されている。洗浄部４５には、薬液槽４で被洗浄物に付着した薬液を洗浄して除去する、スプレーノズル４７を備えた薬液除去槽としてのリンス槽５が配置されている。送風機２は、洗浄機付帯部３３の最上部にある乾式処理部４１に配置されている。勿論、送風機２を洗浄機本体部３２の最上部にある誘引送風部４３ａに設置してもよい。
【００１９】
ＦＦＵ部４８に設置されるＦＦＵ３は、ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタとファンとが一体化された装置である。ここで、薬液槽４及びリンス槽５の上部より気化蒸発する成分は、ＦＦＵ部４８より下方に送気された空気と共に湿式処理部３８へ送気される。また、洗浄処理装置１には、図２に示すように、装置前面に扉部４４が設けられており、この扉部４４を一部開けた状態で処理室３６内に作業者が腕を入れることにより、この処理室３６内で薬品類を取り扱えるようになっている。
【００２０】
さらに、洗浄処理装置１には、貯水槽３７内の貯留水から汚濁成分を除去する薬液除去ユニット８が設けられている。噴射ノズル１２へ供給される水は、貯水槽３７に貯留された水をポンプ５５によりポンプアップして薬液除去ユニット８へ圧送される。
【００２１】
湿式処理部３８には、下方からの気液接触効率が高まるように、気液分離処理を行うための充填材であるビニロック１０及びテラッレト１１と、噴霧（霧化）処理を行うための噴射ノズル１２を備えた噴霧器４９が設けられている。上記充填材は、気液接触時間を延ばすことと気液分離を効率良く行うためのもである。
【００２２】
噴霧器４９は、図４の平面図（噴霧器を下側からみた図）及び図５の垂直断面図にそれぞれ示すように、例えば８個のフルコーン型の噴射ノズル１２を備えた角型タイプの装置が用いられている。
すなわち、この噴霧器４９には、各噴射ノズル１２を中心としてそれぞれを格子状の領域で区画すると共に上部及び下部に開口した貫通孔５１を形成する仕切りフレーム５２が設けられている。各噴射ノズル１２は、配管５４と接続されており、ポンプ５５で圧送された処理水をノズル先端の吐出口５３から吐出するようになっている。吐出された処理水は、吐出口５３を頂点として噴出され、この噴出された処理水は、仕切りフレーム５２の各内壁面に衝突する。この衝突の際にさらに微細な霧状の処理水微粒子が形成される。湿式処理部３８に流動してきたガスは、各貫通孔５１を通過するときに処理水微粒子と接触する。
【００２３】
また、このような噴霧器４９に代えて、図６の平面図（噴霧器を下側からみた図）及び図７の垂直断面図でそれぞれ示すように、ホロコーン型の噴射ノズル６０を備えた円形型タイプの噴霧器６１を適用してもよい。
すなわち、この噴霧器６１は、噴射ノズル６０とほぼ同じ高さに、案内板６２を備えている。この案内板６２には、例えば８個の貫通孔６３が設けられている。この貫通孔６３には円筒状のソケット６４が案内板６２の下向きに配設されている。各噴射ノズル６０は、各貫通孔５１の中心に配設されている。噴射ノズル６０は、配管６７と接続されており、ポンプで圧送された処理水を吐出口６５から吐出するようになっている。吐出された処理水は、吐出口６５を中心として放射状に噴出される。
【００２４】
薬液除去ユニット８には、図８に示すように、連通水管５９に直列に接続された活性炭カラム５６、カチオン交換樹脂カラム５７及びアニオン交換樹脂カラム５８が設けられている。また、カチオン交換樹脂及びアニオン交換樹脂を一つのカラムに入れた混床カラム（ミックスべット：ＭＢとも呼ぶ）を用いる場合もある。
吸着材である活性炭カラム５６では、過酸化水素分解をはじめとする分解処理と、有機物などの吸着処理とが行われる。カチオン交換樹脂カラム５７は、アンモニアをはじめとするカチオン成分を強カチオン交換樹脂によりイオン交換処理するためのものである。また、アニオン交換樹脂カラム５８は、アニオン成分を強アニオン交換樹脂又は弱アニオン交換樹脂によりイオン交換処理するためのものである。また、薬液除去ユニット８では、上記いずれかのカラムで薬液成分の除去処理を行った後、薬液成分を主成分とする汚れ成分の負荷状態により噴射ノズル１２へ圧送するものと貯水槽３７に戻されるものとが振り分けられる。
【００２５】
薬液除去ユニット８で汚れ成分を除去された処理水は、精製水程度の高純度水であり、いわゆる「ハングリーウォータ」と呼ばれ、普通の水では考えられないような汚れ成分の処理性がある。噴射ノズル１２へ圧送される処理水は、冷却用熱交換器９を通して圧送される。冷却用熱交換器９で処理水を冷却する目的は相対湿度の低減のためと「ハングリーウォータ」としての汚れ成分の処理性を向上させるためである。さらに、後段のケミカルフィルタ１４の除去性能は湿度に依存するため、予め処理対象汚れ成分の除去性能を実験で確認し、最も除去性能の優れた相対湿度にするための水温に設定してある。ここで、除去すべきケミカル物質は、例えばＮａ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋などの金属イオン成分、Ｃｌ−、ＮＯ３−、ＳＯ４−などの無機酸成分、ＴＯＣ（全有機炭素）であらわされる有機化合物成分などである。
【００２６】
湿式処理部３８を通過した空気は、相対湿度を低減させるための再熱用ヒータ１３へ送気される。ここで、気化蒸発成分中の薬液成分を主成分とする汚れ成分の除去率が、例えば９８％より悪い場合、汚れ成分の種類により、活性炭系、カチオン系（アンモニア等）、アニオン系などのケミカルフィルタを選定することが好ましい。ケミカルフィルタ１４の配置される乾式処理部３９からの戻り空気は、送風機２で吸引循環される。
【００２７】
薬液除去ユニット８で処理された処理水及び貯水槽３７に収容された水は、冷却用熱交換器９の後段に設けられた導電率モニタ１５で連続的に監視される。これにより、処理水の噴射ノズル１２又は貯水槽３７への振り分け、薬液除去ユニット８の各種カラムの交換時期などの管理を行うことができる。
【００２８】
ビニロック１０及びテラッレト１１は、フッ素樹脂などの化学的に不活性な材料で形成されており、同材料は、不織布状、メッシュ状、ハニカム状、コイル状など、気体が通過する際の経路が複雑化するように形成されている。すなわち、ビニロック１０及びテラッレト１１は、気液接触効率を向上させ且つ空気中の水滴や水蒸気を結露し易くし、また、気液分離にも使用できる。これら結露水、噴射水、気液接触に用いられた水は、貯水槽３７に一旦収容され、薬液除去ユニット８及び冷却用熱交換器９に送られ、再び噴射ノズル１２に移送される。
【００２９】
このように構成された本実施形態の洗浄処理装置１では、薬液槽４及びリンス槽５から気化蒸発する薬液成分を主成分とする汚れ成分を、湿式処理及び乾式処理することで、空気を装置内で循環させることができ、環境破壊のおそれがない。さらに、湿式処理で処理された薬液成分を主成分とする汚れ成分は、薬液除去ユニット８で処理・貯留され、処理水は貯水槽３７に貯留、再利用されるため、無排水となり前記同様環境破壊のおそれがない。したがって、洗浄処理装置１では、装置を小型化できることから、設置面積の省スペース化が図れ、しかもイニシャルコスト及びランニングコストを低減させることができる。
【００３０】
【実施例】
次に本発明を実施例により詳細に説明する。
本実施例では、発明の実施の形態で説明した洗浄処理装置１と同一の装置を適用した。本実施例の洗浄処理装置１の主な仕様や条件は下記の通りである。
処理条件を表１に示し測定箇所ａ及び測定箇所ｂでの測定結果を表２に示す。
【００３１】
【表１】
2004020120.tif 000003
【００３２】
【表２】
2004020120.tif 000004
【００３３】
（１）洗浄処理装置
洗浄処理装置１は、小型化を図り、装置サイズとして、幅３，０００ｍｍ×奥行１，２００ｍｍ×高さ２，５００ｍｍのものを使用した。
洗浄処理装置１の稼動条件は、ＨＥＰＡ又はＵＬＰＡフィルタが組み込まれたＦＦＵ（幅８００ｍｍ×奥行１，１００ｍｍ×高さ３００ｍｍ）３により、洗浄機付帯部３３で処理された清浄な空気を、風速０．３５〜０．５ｍ／ｓｅｃで薬液槽４、リンス槽（共に幅４００ｍｍ×奥行３００ｍｍ×深さ３００ｍｍ）５へダウンフローし、薬液槽４、リンス槽５よりの気化蒸発成分を同搬して湿式処理部３８へ送気する。
【００３４】
（２）薬液槽
薬液槽４は、薬液が酸でもアルカリでも使用可能なように石英管で保護した加熱ヒータ４６付の硬質ガラス槽を用いた。薬液は下記組成のものを使用した。
（フッ酸）５０％フッ酸（ＨＦ）試薬２ｌを比抵抗値が５ＭΩ・ｃｍの一次純水１８ｌで希釈して使用した。加熱温度は、常温（２３℃程度）で使用した。
（過酸化水素＋硫酸）３５％過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）試薬４ｌと７５％硫酸（Ｈ２ＳＯ４）１６ｌとを混和して使用した。加熱温度は、常温から最大１２０℃までの設定値で制御した。
８５％燐酸（Ｈ３ＰＯ４）試薬１３．５ｌを比抵抗値が５ＭΩ・ｃｍの一次純水１．５ｌで希釈して使用した。加熱温度は、常温から最大１２０℃までの設定値で制御を行った。
（アンモニア水）２８〜３０％アンモニア水（ＮＨ４ＯＨ）試薬２ｌに比抵抗値が５ＭΩ・ｃｍの一次純水１２ｌに希釈して使用した。加熱温度は、常温の設定値で制御した。
【００３５】
（３）リンス槽
リンス槽５は、薬液槽４で薬液洗浄された各種部品に付着した薬液を洗浄する槽である。リンス槽５は、その上部にスプレーノズル４７が付帯されている。洗浄水には、比抵抗値が５ＭΩ・Ｃｍの一次純水を使用した。
【００３６】
（４）湿式処理部
湿式処理部３８は、送気された気化蒸発した汚れ成分を除去するものであって、２枚のビニロック（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ５０ｍｍ）１０でテラレット１１を挟んだ気液接触部分（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ３５０ｍｍ）と、その上部にフルコーン型噴射ノズル（８個）１２が噴射方向を下方に向けそれぞれ独立して仕切られた部屋に配設された噴霧器（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ２５０ｍｍ）４９と、その上部に、２枚のビニロック（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ５０ｍｍ）１０でテラレット１１を挟んだ気液分離部分（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ１５０ｍｍ）とで構成される。
また、上記フルコーン型噴射ノズル（８個）の代わりとしては、例えば、ノズル内部の中心に圧搾空気が移送されその外側に水が流れる内部混合型の二流体ノズル（８個）を使用する。この場合、圧搾空気圧を４Ｋｇ／ｃｍ２、送風量を４ｍ３／ｍｉｎ、水の噴射圧を２Ｋｇ／ｃｍ２、噴射量を５００ｌ／ｍｉｎに設定する。
【００３７】
（５）薬液除去ユニット
薬液除去ユニット８は、ポンプ（仕様：１５Ｋｗ×２００Ｖ×５０Ｈｚ）５５により水槽よりポンプアップされた水から、水側に移行した汚れ成分を除去する。ここで、冷却用熱交換器９を通して噴射ノズル１２へと分岐されるその割合は、薬液成分の量の影響を受けるが、ほぼ１対１０で処理されている。
薬液除去ユニット８は、過酸化水素の分解、有機成分の吸着を目的とした活性炭カラム（φ２００ｍｍ×高さ９５０ｍｍ）５６に、ヤシガラ活性炭（ＡＣ）２８ｌを充填したものを用いた。
次に、カチオン交換樹脂カラム（φ２００ｍｍ×高さ９５０ｍｍ）５７に、強カチオン交換樹脂（ＳＣ）２８ｌを充填したものを用いた。
さらに、アニオン交換樹脂カラム（φ２００ｍｍ×高さ９５０ｍｍ）５８には、強アニオン交換樹脂（ＳＡ）２８ｌを充填したもの、又は弱アニオン交換樹脂（ＷＡ）２８ｌを充填したものを用いた。
また、上記構成を変更する場合には、例えば、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを混合した容量５６ｌの混床カラム（φ２５０ｍｍ×高さ１２３０ｍｍ）が適用される。
【００３８】
（６）再熱ヒータ
再熱ヒータ１３は、気液分離部分で処理された気体の相対湿度を調整する。高湿度の環境下ではケミカルフィルタ１４でガス成分を高効率に除去できるため、相対湿度が高め（４０〜９５％ＲＨ）になるように再熱ヒータ１３の制御温度が設定される。
【表３】
2004020120.tif 000005
【００３９】
（７）ケミカルフィルタ
ケミカルフィルタ１４としては、不織布に、活性炭層、カチオン交換樹脂層、アニオン交換樹脂層として加工された市販品を使用した。
【００４０】
（８）送風機
送風機２は、仕様：０．７５Ｋｗ×２００Ｖ×６０Ｈｚのものを適用した。
【００４１】
以上のような条件、仕様で、表１に示す稼動条件で運転したところ、表２に示したような結果が得られた。
表２の測定箇所ｂにおける測定結果から判断して、従来のワンパス処理である室内空気取り入れ方式と優位差のない結果が得られた。
【００４２】
（他の実施例）
この実施例の洗浄処理装置では、洗浄機付帯部３３をクリーンドラフトに設置して一体化してある。
ドラフト内でフッ酸ガスを５００ｐｐｂ程度発生させ、循環戻り空気中のフッ酸濃度を測定したところ、０．１ｐｐｂ以下の結果が得られた。
この実施例の洗浄処理装置では、クリーンブースをはじめ、各種気化蒸発成分を放散する、あらゆる機器の汚れ成分を処理し、一体型の完全クローズド型装置として適用可能であることを確認できた。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の処理装置は、クリーンルーム内に設置される完全クローズドの無排水・無排気型の装置として好適であり、清浄化処理及び温調されたクリーンル−ム内の清浄空気を排気する必要がないので、エネルギ的にむだがなく、また無排気型であるため環境汚染のおそれもない。これにより、本発明では、装置にかかるイニシャルコスト及びランニングコストを低減できる。また、本発明の処理装置によれば、気化蒸発成分中の汚れ成分を処理（排気処理など）するためのユニット部分を、薬液槽、薬液除去槽などが配置される処理室と一体的に構成したので、排気ガス処理用のスクラバなどを屋外に設置することことなどが不要となる。これにより、装置全体の小型化及び構造の簡略化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る洗浄処理装置を概略的に示す全体図である。
【図２】図１の洗浄処理装置を示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄処理装置を機能的に示す模式図である。
【図４】図１の洗浄処理装置が備える噴霧器を下側からみた平面図である。
【図５】図４の噴霧器を示す垂直断面図である。
【図６】図４、図５に示す噴霧器と構造の異なる他の噴霧器を下側からみた平面図である。
【図７】図６の噴霧器を示す垂直断面図である。
【図８】図１の洗浄処理装置が備える薬液除去ユニットの構成を概略的に示す図である。
【符号の説明】
１…洗浄処理装置、２…送風機（シロッコファン）、３…ＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット）、４…薬液槽、５…リンス槽、７…ポンプ、８…薬液除去ユニット、９…冷却用熱交換器、１０…ビニロック（充填材）、１１…テラレット（充填材）、１２，６０…噴射ノズル、１３…再熱用ヒータ、１４…ケミカルフィルタ、１５…導電率モニタ、３４…排気口、３５…空気供給口、３６…処理室、３７…貯水槽、３８…湿式処理部、３９，４０…熱交換部、４１…乾式処理部、４２…空気循環路、５６…活性炭カラム、５７…カチオン交換樹脂カラム、５８…アニオン交換樹脂カラム、５９…連通水管、ａ…各種測定項目の入口測定個所、　ｂ…各種測定項目の出口測定個所。
【図１】
2004020120.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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