(57)【要約】【課題】表示面の形状を特徴的に形成することにより需要者の購買欲を増進するような電気光学装置及び電子機器を提供すること。【解決手段】液晶装置１は、第１基板１０を有し、第１基板１０の表示面である第１面１１上には、エッチング技術等を用いて形成された視認可能なパターンである凸部１３が配置されていることにより、視覚を通じて従来の液晶装置と異なった表示面形状を認識でき、従来の液晶装置と異なり表示面が特徴的な液晶装置１を得ることができる。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する第１面及び第２面を有する第１基板を備えた電気光学装置であって、
前記第１基板の第１面に、視認可能なパターンが形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記パターンはエッチングにより形成されていることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記エッチングにより形成される凹部の深さは３０〜２００μｍであることを特徴とする請求項２記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１基板の第１面は表示面側に位置することを特徴とする請求項１または請求項２記載の電気光学装置。
【請求項５】
対向する第１面と第２面とを有し、該第２面と前記第１基板の第２面とが対向するように配置された第２基板を更に有することを特徴とする請求項１から請求項４いずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第１基板の第２面上には偏光層が設けられていることを特徴とする請求項５記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６いずれか一項に記載の電気光学装置を搭載することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯型コンピュータ、携帯電話機、ビデオカメラ等といった電子機器の表示部に液晶装置や有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置という）等といった電気光学装置が表示装置として広く用いられている。
【０００３】
液晶装置では、電気光学物質としての液晶を一対の電極で挟持し、それらの電極に印加する電圧を制御することにより液晶の配向を制御し、この液晶の配向制御により該液晶を通過する光を変調し、これにより、文字、数字等といった像を外部へ表示する（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、有機ＥＬ装置では、電気光学物質としてのＥＬ発光層を一対の電極で挟持し、それらの電極に印加する電圧を制御することにより上記ＥＬ発光層に供給する電流を制御してＥＬ発光層からの発光を制御することにより、文字、数字等といった像を外部に表示する。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−０１４３３４号公報（第９頁、図１）
【発明が解決しようとする課題】
近年、各メーカーにて各装置内部の高精細化・高画質化を図る開発が種々なされているものの、他社の製品と横並びになってしまうといった問題が生じている。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、電気光学装置の表示面の形状を特徴的に形成することにより需要者の購買欲を増進するような電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学装置は、対向する第１面及び第２面を有する第１基板を備えた電気光学装置であって、前記第１基板の第１面に、視認可能なパターンが形成されていることを特徴とする。
【０００８】
このような構成によれば、電気光学装置の基板の一方面に視認可能なパターンを形成し、従来の電気光学装置と異なった表示面の形状を認識することができるので、需要者の購買欲を増進することが可能となる。
【０００９】
本発明の一の形態によれば、前記パターンはエッチングにより形成されていることを特徴とする。
【００１０】
このように、視認可能なパターンをエッチングにより形成してもよい。
【００１１】
本発明の一の形態によれば、前記エッチングにより形成される凹部の深さは３０〜２００μｍであることを特徴とする。
【００１２】
このような構成によれば、凹部が３０μｍよりも浅いと視認が困難となり、２００μｍよりも深いと凹部が形成される基板の割れ等に影響を与えるので、３０μｍから２００μｍが好ましい。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記第１基板の第１面は表示面側に位置することを特徴とする。
【００１４】
このような構成によれば、表示面に視認可能なパターンを形成することにより、従来の電気光学装置の表示面と異なった特徴的な表示面を形成することができる。
【００１５】
本発明の一の形態によれば、対向する第１面と第２面とを有し、該第２面と前記第１基板の第２面とが対向するように配置された第２基板を更に有することを特徴とする。
【００１６】
このように、２枚の基板を用いる電気光学装置に適用することが可能となる。
【００１７】
本発明の一の形態によれば、前記第１基板の第２面上には偏光層が設けられていることを特徴とする。
【００１８】
このように、第１基板の第１面に凹凸を設けて視認可能なパターンを形成する場合、凹凸がない第２面上に偏光層を設けることが望ましい。例えば、電気光学装置としての液晶装置では、凹凸を有する第１面に隣接して例えば偏光板を設けると、偏光板と第１面との間に空間ができる箇所が生じてしまう。このため、この空間が生じる領域では、表示に用いられる光は空気層を通過するため屈折して、表示が不鮮明となってしまう。従って、偏光板を設ける代わりに、偏光機能を有する偏光層を凹凸のない第２面上に設けることにより、表示品位の高い電気光学装置を得ることができる。
【００１９】
本発明の電子機器は、上述に記載の電気光学装置を搭載することを特徴とする。
【００２０】
このような構成によれば、表示面が特徴的な形状を有する電気光学装置を搭載するので、特徴的な電子機器を形成することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
＜液晶表示装置の構成＞
以下、図１及び図２を用いて、本発明による電気光学装置の一例としてＣＯＧ方式を採用したパッシブマトリクス型液晶装置について説明する。
【００２２】
図１は本実施形態の液晶装置の外観を模式的に示す概略平面図であり、図２は、図１の液晶装置をＡ―Ａ´で破断した状態の概略断面図である。
【００２３】
図１及び図２に示すように、液晶装置１では、第１基板１０と第２基板２０とがシール材３０を挟んで所定の間隙を隔てて接着固定されている。第１基板１０は、ガラス、石英、プラスチック等の透明な基板材料で形成され、表示面となる第１面１１と、この第１面１１と対向する第２面１２とを有し、該第１面１１には視認可能なパターンとして凸部１３が形成されている。同様にガラス、石英、プラスチック等の透明な基板材料で形成された第２基板２０は対向する第１面２１と第２面２２とを有し、第１基板１０及び第２基板２０は互いの第１面１１及び２１とが対向するように配置されている。また、第２基板２０の内面側または外面側に反射層を設けて反射型の液晶装置として用いる場合には第２基板２０の材料として不透明な基板材料、例えば、シリコン等を用いることもできる。シール材３０には、液晶１７を注入する際の液晶注入口３１としての途切れ部分が形成され、この液晶注入口３１は紫外線硬化樹脂からなる封止材３２で封止されている。
【００２４】
第１基板１０の第１面１１には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）から形成される第１透明電極１４がストライプ状に形成されている。この第１透明電極１４上に、従来の第２面１２側に偏光板を設ける代わりに、第１面１１側に内部偏光層１５が形成されている。ここで、例えば、凹凸を有する第２面１２に隣接して偏光板または位相差板を設けると、凹凸部分に気泡が入り、表示が不明瞭となってしまう。また、この気泡が入らないように偏光板または位相差板を糊で埋めると、特徴的な模様を見ることができなくなる。また、偏光板と第２面１２との間に空間ができる箇所が生じてしまうと、この空間が生じる領域では、表示に用いられる光は空気層を通過するため屈折して、表示が不鮮明となってしまう。従って、偏光板を設ける代わりに、偏光機能を有する内部偏光層１５を凹凸のない第１面１１上に設けることにより、表示品位の高い液晶装置１を得ることができる。この内部偏光層１５の材料は、透過光を減衰させることなく、偏光させる機能があれば、特に限定されるものではないが、偏光特性と製造の容易さから水溶性の液晶材料を主体とするものが好ましい。更に、この内部偏光層１５の上に配向膜１６が形成されている。
【００２５】
一方、第２基板２０の第１面２１には、ＩＴＯから形成される第２透明電極２４が第１透明電極１４と直交するようにストライプ状に形成され、更に、この第２透明電極２４上に配向膜２６が形成されている。また、第２基板２０の第１面２１には偏光板２５が貼られている。
【００２６】
液晶１７はＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型などの各種の液晶を用いることができる。
【００２７】
画素は、第１透明電極１４と第２透明電極２４の交差部分において電圧を印加される液晶１７によって構成されている。
【００２８】
本実施形態の液晶装置１において、第１基板１０は第２基板２０よりも大きいので、第１基板１０はその一部が第２基板２０の端縁から突出した張り出し領域１９を有している。この張り出し領域１９は、液晶駆動用ＩＣ１８を実装するための領域であり、液晶駆動用ＩＣ１８は、液晶装置１の各画素を駆動するために、第１透明電極１４と第２透明電極２４それぞれに対してアドレス信号や表示信号といった駆動信号を出力するものであって、第１基板１０に対して、チップ状態で能動面を基板に対向させてＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）方式で実装されている。
【００２９】
次に、凸部１３について詳細に説明をする。
【００３０】
図１、図２に示した液晶装置１を実際に電子機器に搭載した場合にどのように視認可能な凸部１３が表示に用いられるかを図３に示し、図４には図３の断面構造を簡略化して示している。図３は、第１基板の凸部の具体的な態様を示した概略平面図であり、図４は、図３のＢ−Ｂ´で破断した概略断面図である。
【００３１】
ここで、図３において、シール材３０により囲まれた領域にほぼ相当する領域であり、電子機器に搭載された際に実際に表示が行われる領域を有効表示領域４０とする。本実施形態においては、この有効表示領域４０の図面上右側に凸部１３が形成され、この凸部１３が形成された領域に例えば、図３に示すように電池マーク、時刻、メールマーク及び電波マーク等が表示される。このように凸部１３を設けることにより、有効表示領域４０内に長方形状のパターンが視認可能となり、有効表示領域４０中、凸部１３に相当する領域とそれ以外の領域との識別が容易となる。従って、凸部１３に相当する領域になされる表示情報を強調させることができる。
【００３２】
また、この凸部１３の高さは３０μｍ〜２００μｍである。つまり、凸部１３の高さが３０μｍよりも低いと視認が困難となり、２００μｍよりも高いと第１基板１０の割れ等に影響を与えるから３０μｍ〜２００μｍが好ましい。
【００３３】
また、視認可能なパターンを凸部１３を設けて形成するだけではなく、以下に示すような凹部１３´を設けて形成してもよい。
【００３４】
図５は、第１基板に凹部を設ける場合の具体的な態様を示した概略平面図であり、図６（ａ）は、図５のＣ−Ｃ´で破断した概略断面図であり、図６（ｂ）は、図５のＤ−Ｄ´で破断した概略断面図である。
【００３５】
図５において、有効表示領域４０内の略中央に例えば平面形状が星型の凹部１３´が形成されている。
【００３６】
図５及び図６（ａ）において、平面形状が星型の凹部１３´は、その周縁部が３段の段差を有している。凹部１３´は、凹部１３´の１番外側にあり凹部の深さが１番浅い外側凹部１３´ａと、該外側凹部１３´ａの内側にあり該外側凹部１３´ａよりも凹部の深さが深い中央凹部１３´ｂと、該中央凹部１３´ｂの内側にあり該中央凹部１３´ｂよりも凹部の深さが深い内側凹部１３´ｃとから形成されている。また、図６（ｂ）に示すように、Ｄ−Ｄ´断面図においては、外側凹部１３´ａだけが形成されている。
【００３７】
このように、凸部だけでなく、凹部を用いて視認可能なパターンを形成することもできる。また、パターンの平面形状やその断面形状にデザイン性などの特徴をもたせることにより、従来の液晶装置よりも表示面が特徴的な液晶装置１´を形成することができる。
【００３８】
さらに、図７に示すように、視認可能なパターンを、凸部１３´´ａと凹部１３´´ｂの双方を用いて形成してもよい。
【００３９】
図７は、第１基板の凸部及び凹部の具体的な態様を示した概略平面図であり、図８は、図７のＥ−Ｅ´で破断した概略断面図である。
【００４０】
図７及び図８において、有効表示領域４０内の略中央に例えば平面形状が円形の額縁形状の凸部１３´´ａと、該凸部１３´´ａの内縁に近接して４つの平面形状が三角形の凹部１３´´ｂとが形成されている。平面形状が円形の額縁形状の凸部１３´´ａにより囲まれた領域に、短針４１と長針４２とを液晶１７を用いて表示することによって、例えば時計を表示することが可能である。
【００４１】
このように凸部１３´´ａと凹部１３´´ｂとを形成することにより、従来の液晶装置よりも表示面が特徴的な液晶装置１´´を形成することができる。
【００４２】
このように本実施形態に係る液晶装置１（１´、１´´）では、第１基板１０の第１面１１、つまり、液晶装置１（１´、１´´）の表示面上にエッチング技術等を用いて視認可能なパターンである凸部１３（凹部１３´、凸部１３´´ａ、凹部１３´´ｂ）を形成することにより、視覚を通じて従来の液晶装置と異なった表示面形状を認識することができるので、従来の液晶装置と異なり表示面が特徴的な液晶装置１（１´、１´´）を得ることができる。また、上述の実施形態においては、内面に偏光層を有し、ガラス基板の前面に偏光板、位相差板などが設けられない構成の液晶表示装置としたが、ガラス基板の前面に偏光板、位相差板などを設ける必要のない表示モード、例えば、散乱状態と透過状態とを切り替えて表示を行う表示モードの液晶表示装置にも本発明は適用可能である。
【００４３】
＜液晶表示装置の製造方法＞
図９は、液晶パネルの製造方法のフローチャート図である。図１０及び図１１は液晶パネルの概略製造工程図である。図１１はエッチング工程前のマスクとしてのレジスト膜が形成された状態の液晶パネルの概略斜視図である。
【００４４】
次に、上述の液晶パネル１００の製造方法について図９に従って順に説明する。まず、図１０（ａ）に示すガラスからなる第１母基板１１０とガラスからなる第２母基板１２０に対して、透明電極の形成や配向膜の形成等の所定の処理を行った後（工程ＳＴＥＰ１）、一方の母基板上に複数（ここでは１６個）の液晶注入口３１を有する開曲線状のシール材３０を塗布する。その後、２枚の母基板をシール材３０を介して貼りあわせる（工程ＳＴＥＰ２）。これにより図１０（ａ）に例示する大板パネル基板１０１が得られる。
【００４５】
次に、図１０（ａ）に示す切断線１１６に沿って１次切断を行い、更に切断線１１８に沿って第２母基板１２０側のみを除去する（工程ＳＴＥＰ３）。その後、切断面に露出した各液晶注入口３１から基板間に液晶１７を注入し、液晶注入口３１を封止材３２により封止する（工程ＳＴＥＰ４）。これにより、図１０（ｂ）に示す液晶１７が封入された状態の張り出し部１１９を有する短冊状パネル１０２が得られる。
【００４６】
次に、この短冊状パネル１０２を図１０（ｂ）に示す切断線１１５に沿って２次切断し、図１０（ｃ）に示すような個別の液晶パネル１００を得る（工程ＳＴＥＰ５）。液晶パネル１００は、第１面及び第２面を有する第１基板と、第１面及び第２面を有する第２基板と、１対の基板１０及び２０とを接着するシール材３０と、１対の基板１０及び１０間に挟持された液晶１７とを備えている。第１基板１０と第２ガラス基板２０とは、互いの第１面１２及び２２が対向するように配置されている。第１基板１０は、第２ガラス基板２０よりも面積が大きく、第２基板２０よりも突出した張り出し領域１９を有している。この張り出し領域１９の第２基板２０側（第１面２１側）に位置する面上には、例えば後工程で液晶駆動用ＩＣ１８が実装される。また、張り出し領域１９の第２基板２０側に位置する面上には、外部の回路基板や液晶駆動用ＩＣ１８等と電気的接続を得るための端子が形成されている。
【００４７】
次に、図１１に示すように、第１基板１０の第２面１２の凸部１３を形成予定領域１３ａ、第１基板の第１面１１である張り出し領域１９及び第２基板の第２面２２に、マスクとしてレジスト膜４３を塗布する。（工程ＳＴＥＰ６）。ここでは、第１基板１０の第２面１２に凸部１３を形成するために、凸部１３を形成予定領域１３ａはレジスト膜４３によってマスクして保護する。つまり、形成予定領域１３ａ以外は、レジスト膜４３のマスクで保護されていないので、後工程のエッチング処理工程でエッチングされる。これによって、レジスト膜４３のマスクにより保護されていた凸部１３が形成される。その他視認可能なパターン形状に関しても同様の技術を用いて行う。張り出し領域１９上には端子等の電気的な配線が形成されているので、これらを、後工程のエッチング処理工程により損傷しないようレジスト膜４３によりマスクして保護する。同様に、第２基板の第２面２２もレジスト膜４３によりマスクして保護する。レジスト膜４３の塗布方法としては、本実施形態においてはインジェクションを用いた。尚、図１１において、レジスト膜４３が塗布される領域は右下がり斜線で埋めた領域である。
【００４８】
ここでは、マスク方法としてレジスト膜を使用したが、他にエッチング液に使用する薬液に対する耐性を有する耐薬品性材料を使用することもできる。例えば、耐薬品性材料としては、例えばワックス、油性のコーティングを行う、耐薬品性のテープを張る、パテや粘土状の材料で被マスク部位を覆うなどの方法がある。また、レジストの塗布方法としては、ここではインジェクションを用いたが、これに限られるものではない。例えば、スクリーン印刷により印刷したり、被マスク部をレジスト中に漬け（ディップする）またはスプレー噴射してレジストを塗布した後、露光及び現像して所望のマスクパターンを形成する方法がある。また、刷毛や筆を用いてレジストを被マスク部位に塗るようにしてもよい。この場合、レジスト塗布に用いる設備を安価なものとすることができる。尚、ここで用いたノズルから液滴材料を吐出させて所望のマスクパターンにレジストを塗布するいわゆるインジェクションによるレジスト塗布方法は、レジストを細密パターンで塗布することができるので、小型の液晶パネル製造時に用いる場合に非常に有効である。
【００４９】
次に、レジスト塗布後、液晶パネル１００をエッチング処理する（工程ＳＴＥＰ７）。これにより、前述したレジスト膜４３のマスクにより保護されていない領域がエッチングされる。
【００５０】
上述のエッチング処理は、エッチング液中に基板を浸漬して行われる。エッチング液としては、フッ酸系の薬液を好適に使用することができる。例えば、フッ酸液、フッ化硝酸液、ケイフッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸などのエッチング液を好適に使用することができる。また、それらを含む水溶液も使用することができる。例えば、フッ化水素酸と硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムと硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムの水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムと硝酸の水溶液などを使用することができる。また、エッチング速度が遅いという面はあるが、苛性ソーダ（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）などの強アルカリ性の薬液を使用することもできる。エッチング方法としては、上述のようなエッチング液に処理基板を浸漬して行われるウエットエッチングが好適であるが、エッチングガスを用いたドライエッチング方法等も使用できる。
【００５１】
エッチング処理後、所定の薬液により張り出し領域１９上のレジスト膜４３を剥離する（工程ＳＴＥＰ８）。尚、マスク方法としてワックスや油性コーティングを用いた場合にも、薬液によりコーティングを溶かして除去することができる。また、耐薬品性テープやパテなどを使用した場合は、単にそれらを剥離すればよい。
【００５２】
次に、張り出し領域１９上の所定位置に液晶駆動用ＩＣ１８を実装する。これによって、図１及び図２に示すような液晶装置１が完成する。
【００５３】
尚、上述の実施形態においては、単個のパネルの状態で、視認可能なパターンを形成するためのエッチング処理を行っているが、短冊状パネルの状態で行っても良く、また、１枚の母基板の状態で行っても良い。この場合、一括して複数のパネルの視認可能なパターンの形成を行うことができ、製造効率が良い。
【００５４】
（第２の実施形態）
上述の実施形態においては、電気光学装置として液晶装置を例にあげたが、これに限定されるものでなく、基板を有する電気光学装置、例えば有機ＥＬ装置にも本発明を適用することができる。すなわち、電気光学装置を構成する基板にエッチング処理などにより凸部や凹部を設けて視認可能なパターンを形成することによって、表示面に特徴のある電気光学装置を得ることができる。以下に、有機ＥＬ装置を例にあげて説明する。
【００５５】
＜有機ＥＬ装置の構成＞
図１２は本実施形態の有機ＥＬ装置の外観を模式的に示す概略平面図であり、図１３は、図１２の有機ＥＬ装置をＦ―Ｆ´で破断した状態の概略断面図である。
【００５６】
次に図１２及び図１３に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置２００は、ガラス、石英、プラスチック等の透明な基板材料からなり、視認可能なパターンとして設けられた凸部２１３を有する基板２０１と、マトリックス状に配置された発光素子を具備して基板２０１上に形成された発光素子部２１１と、発光素子部２１１上に形成された陰極２１２とを具備している。発光素子部２１１と陰極２１２とにより表示素子２１０が構成される。
【００５７】
基板２０１は、基板２０１の中央に位置する表示領域２０１ａと、基板２の周縁に位置して表示領域２０１ａを囲む非表示領域２０１ｂとに区画されている。
【００５８】
表示領域２０１ａは、マトリックス状に配置された発光素子によって形成される領域であり、表示領域の外側に非表示領域２０２ｂが形成されている。そして、非表示領域２０１ｂには、表示領域２０１ａに隣接するダミー表示領域２０１ｄが形成されている。
【００５９】
また、図１３に示すように、発光素子部２１１と基板２０１の間には回路素子部２１４が備えられ、この回路素子部２１４に前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ２２３等が備えられている。
【００６０】
また、陰極２１２は、その一端が発光素子部２１１上から基板２０１上に形成された陰極用配線２１２ａに接続しており、この配線の一端部２１２ｂがフレキシブル基板２５０上の配線２５０ａに接続されている。また、配線２５０ａは、フレキシブル基板２５０上に備えられた駆動ＩＣ２１８（駆動回路）に接続されている。
【００６１】
また、図１２及び図１３に示すように、回路素子部２１４の非表示領域２０１ｂには、前述の電源線２０３（２０３Ｒ、２０３Ｇ、２０３Ｂ）が配線されている。
【００６２】
また、表示領域２０１ａの図１２中両側には、前述の走査側駆動回路２０５が配置されている。この走査側駆動回路２０５はダミー表示領域２０１ｄの下側の回路素子部２１４内に設けられている。更に回路素子部２１４内には、走査側駆動回路２０５、２０５に接続される駆動回路用制御信号配線２０５ａと駆動回路用電源配線２０５ｂとが設けられている。
【００６３】
また図１３に示すように、発光素子部２１１上には封止部２３０が備えられている。この封止部２３０は、基板２０１に塗布された封止樹脂２３０ａと、封止缶３０４とから構成されている。封止樹脂３０３は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂よりなることが好ましい。
【００６４】
基板２０１上に設けられた視認可能な凸部２１３は、第１実施形態と同様に凸形状に限定されるものではなく、凹形状でもよく、凸形状及び凹形状の双方を設けてもよい。
【００６５】
また、基板２０１上の視認可能なパターンは、第１実施形態と同様にレジスト膜等でマスクし、エッチングすることにより、形成することができる。
【００６６】
このように本実施形態に係る有機ＥＬ装置２００では、第１基板２０１に視認可能なパターンとして凸部２１３を形成することにより、視覚を通じて従来の有機ＥＬ装置と異なった表示面形状を認識することができるので、従来の有機ＥＬ装置と異なり表示面が特徴的な有機ＥＬ装置２００を得ることができる。
【００６７】
＜電子機器＞
さらに、本発明の液晶装置１を電子機器に搭載した例を以下に記す。
【００６８】
（携帯電話機）
図１４は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機３１１を示している。ここに示す携帯電話機３１１は、複数の操作ボタン３１１ａの他、受話口３１１ｂ、送話口３１１ｃを有する外枠に、液晶装置が組み込まれてなる。この液晶装置は、例えば上述した第１実施形態に示した凸部１３を有する液晶装置１を用いて構成できる。
【００６９】
図１５は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記と同様の液晶装置３００と、これを制御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶装置３００を、パネル構造体３００Ａと、液晶駆動用ＩＣ等で構成される駆動回路３００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示情報処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有する。
【００７０】
表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されている。
【００７１】
表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３００Ｂへ供給する。駆動回路３００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００７２】
また、本発明に係る電子機器としては、上記の例の他に、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機などがあげられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として本発明に係る液晶装置を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態に係る液晶装置の外観を模式的に示す概略平面図である。
【図２】図１の液晶装置をＡ―Ａ´で破断した状態の概略断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液晶装置の凸部の具体的な態様を示した概略平面図である。
【図４】図３の液晶装置をＢ−Ｂ´で破断した概略断面図である。
【図５】第１実施形態に係る一の変形例の凹部の具体的な態様を示した概略平面図である。
【図６】（ａ）は、図５の液晶装置をＣ−Ｃ´で破断した概略断面図であり、（ｂ）は、図５の液晶装置をＤ−Ｄ´で破断した概略断面図である。
【図７】第１実施形態に係る他の変形例凸部及び凹部の具体的な態様を示した概略平面図である。
【図８】図７の液晶装置をＥ−Ｅ´で破断した概略断面図である。
【図９】第１実施形態に係る液晶パネルの製造方法のフローチャート図である。
【図１０】図９のフローチャートを具体的に示した液晶パネルの概略斜視図である。
【図１１】エッチング工程前のレジスト膜が形成された状態の液晶パネルの概略斜視図である。
【図１２】第２実施形態に係る有機ＥＬ装置の外観を模式的に示す概略平面図である。
【図１３】図１２の有機ＥＬ装置をＦ―Ｆ´で破断した状態の概略断面図である。
【図１４】電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示した概略斜視図である。
【図１５】電子機器の全体構成を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１…液晶装置、１０…第１基板、１１…第１面、１２…第２面、１３…凸部、１３´…凹部、１３´´ａ…凸部、１３´´ｂ…凹部、１５…内部偏光層、２０…基板、２１…第１面、２２…第２面、２００…有機ＥＬ装置、２０１…基板、２１３…凸部、３１１…携帯電話機
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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