(57)【要約】【課題】容器用コーティング装置の運転を停止することなく、コーティングに使用する内部電極の堆積物を除去し、長期間にわたり連続的にコーティングを行うことを可能とするノズルクリーニング装置を提供する。【解決手段】外部電極６と内部電極７−１とノズルクリーニング装置５１とを備える容器用コーティング装置を用いる。外部電極６は容器５３の周囲に設けられる。内部電極７−１は昇降可能に設けられ、第１方向から容器５３の内部に挿入される。ノズルクリーニング装置５１は外部電極６の第１方向側に設けられ、気体を内部電極７−１へ送出可能である。そして、外部電極６−内部電極７−１間の原料ガスの放電で容器５３内部へ成膜後、内部電極７−１が容器５３から第１方向側へ引き抜かれる時、ノズルクリーニング装置５１の送出部４１、４２から気体が内部電極７−１へ噴出される。吸引部４４−１は、内部電極７−１付近の気体を吸引する。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器保持部の第１方向側に、原料ガス供給管から離れて設けられ、前記原料ガス供給管の外側へ気体を送出する送出部と、
前記容器保持部は、容器を囲むように設けられ、
前記原料ガス供給管は、前記第１方向から前記容器の内部に挿入され、
前記容器保持部の前記第１方向側に、前記原料ガス供給管から離れて設けられ、前記気体を吸引する吸引部と、
を具備し、
前記原料ガス供給管は、前記容器の内部へ原料ガスを供給し、
前記送出部は、前記容器の内部での前記原料ガスの放電による前記容器の内部への成膜後、前記原料ガス供給管が前記容器から前記第１方向側へ引き抜かれるとき、前記原料ガス供給管へ前記気体を送出し、
前記吸引部は、前記原料ガス供給管付近の前記気体を吸引する、
ノズルクリーニング装置。
【請求項２】
前記送出部は、前記気体を供給する気体供給部を備える、
請求項１に記載のノズルクリーニング装置。
【請求項３】
前記放電は、前記容器保持部と前記原料ガス供給管との間に電力を印加して行われる、
請求項１又は２に記載のノズルクリーニング装置。
【請求項４】
前記送出部は、前記原料ガス供給管の全周囲から前記気体を送出する、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のノズルクリーニング装置。
【請求項５】
前記吸引部は、前記送出部から前記気体が向かう前記原料ガス供給管の位置を囲むように設けられている、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のノズルクリーニング装置。
【請求項６】
前記吸引部は、前記原料ガス供給管を囲む複数の位置から前記気体を吸引する、
請求項５に記載のノズルクリーニング装置。
【請求項７】
前記吸引部は、前記原料ガス供給管の全周囲から前記気体を吸引する、
請求項５に記載のノズルクリーニング装置。
【請求項８】
容器を囲むように設けられた容器保持部と、
昇降可能に設けられ、第１方向から前記容器の内部へ挿入される原料ガス供給管と、
前記容器保持部の第１方向側に、原料ガス供給管から離れて設けられ、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のノズルクリーニング装置と、
を具備し、
前記原料ガス供給管は、前記容器の内部へ原料ガスを供給し、
前記ノズルクリーニング装置の送出部は、前記容器の内部での前記原料ガスの放電による前記容器の内部への成膜後、前記原料ガス供給管が前記容器から前記第１方向側へ引き抜かれるとき、前記原料ガス供給管へ前記気体を送出し、
前記ノズルクリーニング装置の吸引部は、前記原料ガス供給管付近の前記気体を吸引する、
容器用コーティング装置。
【請求項９】
（ａ）容器の内部に挿入された原料ガス供給管から前記容器の内部へ原料ガスを供給し、前記原料ガスの放電により前記容器の内部へ成膜した後の前記原料ガス供給管を、前記容器から引き抜くステップと、
（ｂ）前記原料ガス供給管へ向けて気体を送出するステップと、
（ｃ）前記原料ガス供給管へ向けて送出された前記気体を吸引するステップと、
を具備する、
ノズルクリーニング方法。
【請求項１０】
前記（ａ）ステップと、前記（ｂ）ステップとは同時に行われる、
請求項９に記載のノズルクリーニング方法。
【請求項１１】
（ｄ）容器の内部に挿入された原料ガス供給管から前記容器の内部へ原料ガスを供給し、前記原料ガスの放電により前記容器の内部へ成膜を行うステップと、
（ｅ）前記原料ガス供給管を前記容器から前記第１方向側へ引き抜きながら、前記原料ガス供給管をクリーニングするステップと、
を具備する、
容器コーティング方法。
【請求項１２】
前記（ｅ）ステップは、
（ｆ）前記原料ガス供給管へ向けて気体を送出するステップと、
（ｇ）前記原料ガス供給管へ向けて送出された前記気体を吸引するステップと、
を具備する、
請求項１１に記載の容器コーティング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ノズルクリーニング装置及びノズルクリーニング方法に関し、特に、容器の内部を膜でコーティングする容器用コーティング装置における原料ガス供給管（ノズル）のクリーニングを行うノズルクリーニング装置及びノズルクリーニング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ペットボトルのような容器の内部に、プラズマＣＶＤ法やマイクロ波放電成膜法を用いて膜をコーティングする容器用コーティング装置が知られている。そのような装置を用いて容器の内部に膜をコーティングするコーティング方法が知られている。容器用コーティング装置は、プラズマＣＶＤ法では、外部電極としての容器保持部と内部電極としての原料ガス供給管（ノズル）とを有するチャンバーと、成膜用電源を備える。コーティング方法としては、まず、容器保持部内に容器を配置する。次に、容器の開口部から容器の内部に原料ガス供給管（ノズル）を挿入する。続いて、チャンバー内部を真空排気した後、原料ガスを原料ガス供給管（ノズル）の先端から供給する。そして、原料ガス供給管（ノズル）と容器保持部との間に、成膜用電源により高周波電力を供給し、容器内部の原料ガスを放電させる。放電により分解した原料ガスの成分が、容器内壁に付着することにより、容器内部がコーティングされる。
【０００３】
このようなプラズマＣＶＤ法による成膜では、分解した原料ガスの成分は、容器内壁に付着すると共に、原料ガス供給管にも付着する。ここで、原料ガス供給管に付着する場合、原料ガスの成分は、粉状の堆積物を形成する。原料ガス供給管上でこのような堆積物が多くなると、原料ガス供給管からはがれて容器内部へ落下し、容器内部を汚染する他、成膜を妨害する。また、放電の安定性を乱す場合もある。そのため、ある程度の回数の成膜が終了した段階で、原料ガス供給管を取り出し、洗浄（堆積物を除去）しなければならない。そのためには、容器用コーティング装置を一時的に停止するする必要がある。また、洗浄直後は、原料ガス供給管の表面の状態によって、形成される膜が所望の特性を有しない場合や、放電が安定しない場合もある。
このような原料ガス供給管上に堆積物が付着する現象は、マイクロ波放電成膜法（容器内の原料ガスへマイクロ波を導入することにより、原料ガスを放電させ、成膜する方法）を用いて膜をコーティングする場合にも起こり、容器内部に堆積物が落下し、容器内部を汚染する他の不具合が発生する。
【０００４】
容器用コーティング装置の運転を停止することなく、原料ガス供給管の堆積物を除去することが可能な技術が求められている。コーティング作業のスループットを低下させずに、原料ガス供給管の堆積物を除去することが可能な技術が望まれている。堆積物の除去後においても原料ガス供給管表面や膜特性の安定化の必要性の無い技術が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、容器用コーティング装置の運転を停止することなく、原料ガス供給管（ノズル）の堆積物を除去することが可能なノズルクリーニング装置及びノズルクリーニング方法を提供することである。
また、本発明の他の目的は、容器内部のコーティング作業のスループットを低下させずに、原料ガス供給管（ノズル）の堆積物を除去することが可能なノズルクリーニング装置及びノズルクリーニング方法を提供することである。
本発明の更に他の目的は、堆積物の除去後においても原料ガス供給管（ノズル）表面や膜特性の安定化の必要性の無いノズルクリーニング装置及びノズルクリーニング方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
以下に、［発明の実施の形態］で使用される番号・符号を用いて、課題を解決するための手段を説明する。これらの番号・符号は、［特許請求の範囲］の記載と［発明の実施の形態］との対応関係を明らかにするために括弧付で付加されたものである。ただし、それらの番号・符号を、［特許請求の範囲］に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。
【０００７】
従って、上記課題を解決するために、本発明のノズルクリーニング装置は、送出部（４１、４２−１〜３）と、吸引部（４４−１、１−１）とを具備する。
送出部（４１、４２−１〜３）は、容器保持部（６）の第１方向側に、原料ガス供給管（７−１）から離れて設けられ、原料ガス供給管（７−１）の外側へ気体を送出する。吸引部（４４−１、１−１）は、容器保持部（６）のその第１方向側に、原料ガス供給管（７−１）から離れて設けられ、その気体を吸引する。ただし、容器保持部（６）は、容器（５３）を囲むように設けられている。また、原料ガス供給管（７−１）は、その第１方向から容器（５３）の内部に挿入される。
そして、原料ガス供給管（７−１）は、容器（５３）の内部へ原料ガスを供給する。送出部（４１、４２−１〜３）は、容器（５３）の内部でのその原料ガスの放電による容器（５３）の内部への成膜後、原料ガス供給管（７−１）が容器（５３）からその第１方向側へ引き抜かれるとき、原料ガス供給管（７−１）へその気体を送出する。
吸引部（４４−１、１−１）は、原料ガス供給管（７−１）付近のその気体を吸引する。
ここで、原料ガスの放電による成膜方法としては、容器保持部（６）を外部電極、原料ガス供給管（７−１）を内部電極とするプラズマＣＶＤ法、外部で発生させたマイクロ波を容器（５３）の内部へ照射するマイクロ波放電成膜法が利用できる。また、放電以外の成膜方法として、容器（５３）の内部の表面温度を高くして行う熱ＣＶＤ法が利用できる。また、第１方向とは、容器保持部（６）へ容器（５３）を配置したとき、容器（５３）の開口部が向く方向である。原料ガス供給管（７−１）は、その第１方向の開口部から容器（５３）の内部へ挿入される。
【０００８】
また、本発明のノズルクリーニング装置は、送出部（４１、４２−１〜３）が、その気体を供給する気体供給部（１３）を備える。
【０００９】
また、本発明のノズルクリーニング装置は、その放電が、容器保持部（６）と原料ガス供給管（７−１）との間に電力を印加して行われる。
【００１０】
また、本発明のノズルクリーニング装置は、送出部（４１、４２−１〜３）が、原料ガス供給管（７−１）の全周囲からその気体を送出する。
【００１１】
更に、本発明のノズルクリーニング装置は、吸引部（４４−１、１−１）が、送出部（４１、４２−１〜３）からその気体が向かう原料ガス供給管（７−１）の位置を囲むように設けられている。
【００１２】
更に、本発明のノズルクリーニング装置は、吸引部（４４−１、１−１）が、原料ガス供給管（７−１）を囲む複数の位置からその気体を吸引する。
【００１３】
更に、本発明のノズルクリーニング装置は、吸引部（４４−１、１−１）が、原料ガス供給管（７−１）の全周囲からその気体を吸引する。
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明の容器用コーティング装置は、容器保持部（６）と、原料ガス供給管（７−１）と、ノズルクリーニング装置（５１）とを具備する。
容器保持部（６）は、容器（５３）を囲むように設けられている。原料ガス供給管（７−１）は、昇降可能に設けられ、第１方向から容器（５３）の内部に挿入される。ノズルクリーニング装置（５１）は、容器保持部（６）の第１方向側に、原料ガス供給管から離れて設けられ、上記各項のいずれか一項に記載されている。
そして、原料ガス供給管（７−１）は、容器（５３）の内部へ原料ガスを供給する。送出部（４１、４２−１〜３）は、容器（５３）の内部でのその原料ガスの放電による容器（５３）の内部への成膜後、原料ガス供給管（７−１）が容器（５３）からその第１方向側へ引き抜かれるとき、原料ガス供給管（７−１）へその気体を送出する。
吸引部（４４−１、１−１）は、原料ガス供給管（７−１）付近のその気体を吸引する。
【００１５】
上記課題を解決するために、本発明のノズルクリーニング方法は、（ａ）容器（５３）の内部に挿入された原料ガス供給管（７−１）から容器（５３）の内部へ原料ガスを供給し、原料ガスの放電により容器（５３）の内部へ成膜した後の前記原料ガス供給管（７−１）を、容器（５３）から引き抜くステップと、（ｂ）原料ガス供給管（７−１）へ向けて気体を送出するステップと、（ｃ）原料ガス供給管（７−１）へ向けて送出されたその気体を吸引するステップとを具備する。
【００１６】
また、本発明のノズルクリーニング方法は、上記の（ａ）ステップと、（ｂ）ステップとは同時に行われる。
【００１７】
上記課題を解決するために、本発明の容器コーティング方法は、（ｄ）容器（５３）の内部に挿入された原料ガス供給管（７−１）から前記容器（５３）の内部へ原料ガスを供給し、前記原料ガスの放電により前記容器（５３）の内部へ成膜を行うステップと、（ｅ）原料ガス供給管（７−１）を容器（５３）からその第１方向側へ引き抜きながら、原料ガス供給管（７−１）をクリーニングするステップとを具備する。
【００１８】
また、本発明の容器コーティング方法は、上記の（ｅ）ステップが、（ｆ）原料ガス供給管（７−１）へ向けて気体を送出するステップと、（ｇ）原料ガス供給管（７−１）へ向けて送出されたその気体を吸引するステップとを具備する。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明であるノズルクリーニング装置及びノズルクリーニング方法の実施の形態に関して、添付図面を参照して説明する。
なお、本実施の形態では、プラズマＣＶＤ法を用いる容器用のコーティング装置に関して説明するが、マイクロ波放電成膜法に例示される他の成膜方法をを用いた容器用のコーティング装置についても同様に適用可能である。
【００２０】
まず、本発明であるノズルクリーニング装置を適用した容器用コーティング装置の実施の形態における構成について説明する。
図１は、本発明であるノズルクリーニング装置を適用した容器用コーティング装置の実施の形態における構成を示す図である。容器用コーティング装置は、ガス配給部５０、ノズルクリーニング部５１、ガス排気部５２、絶縁部３、外部電極６、内部電極部７、昇降部１６及び高周波電源部１１を具備する。そして、外部電極６内に容器５３を設置される。各部（ガス配給部５０、ノズルクリーニング部５１、ガス排気部５２、外部電極６、内部電極部７、昇降部１６及び高周波電源部１１）は、制御部（図示されず）により制御され、動作する。
【００２１】
ガス配給部５０は、内部電極保持部８を含む。
内部電極保持部８は、内部電極部７とノズルクリーニングヘッド部１との間に介設されている。筒形状を有し、内部に内部電極部７の内部電極ノズル７−１の通る空間を含む。本実施例では、内部電極保持部８は円筒形状であり、内部電極ノズル７−１が円筒の中心軸に沿うように内部電極部８が設置される。内部電極保持部８と内部電極部７とは、真空シール面９を介して配置され、成膜プロセス時には両者が接合され、内部電極ノズル７−１の洗浄プロセス時には、内部電極部７が内部電極保持部８から離れて上昇する。
【００２２】
ノズルクリーニング部５１は、洗浄ガス供給部１３、洗浄ガス流量制御弁３３、ガス吸引部１４、吸引ガス流量制御弁３４、配管２３−１〜配管２３−２、配管２４−１〜配管２４−２、ノズルクリーニングヘッド部１を備える。
洗浄ガス供給部１３は、配管２３−１の一端部に接続されている。配管２３−１を介して内部電極ノズル７−１のクリーニングに使用する洗浄ガスを供給する。洗浄ガスは、内部電極ノズル７−１や、そこに付着する堆積物と化学反応を起こさないガスが好ましい。洗浄ガスは、空気や窒素、アルゴン、二酸化炭素に例示される。
洗浄ガス流量制御弁３３は、一方を配管２３−１の他端部に、他方を配管２３−２の一端部に接続している。配管２３−１から配管２３−２へ供給される洗浄ガスの流量を制御する。
ノズルクリーニングヘッド部１は、内部電極保持部８と排気部２との間に介設されている。筒形状を有し、内部に内部電極部７の内部電極ノズル７−１の通る空間である洗浄室４４を含む。本実施例では、ノズルクリーニングヘッド部１は円筒形状であり、内部電極保持部８と同軸に設置されている。筒側面の肉厚部分には、洗浄ガスを流通させるガスの流路（ガス流路１−１やガス供給管４１等（後述））を含む。配管２３−２から洗浄ガスの供給を受け、内部電極ノズル７−１に洗浄ガスを吹き付ける。そして、使用済みの洗浄ガス（堆積物を含む）を配管２４−１へ送出する。
吸引ガス流量制御弁３４は、一方を配管２４−１の他端部に、他方を配管２４−２の一端部に接続している。配管２４−１から配管２４−２を介して、ガス吸引部１４で吸引する使用済みの洗浄ガスの流量を制御する。
ガス吸引部１４は、配管２４−２の他端部に接続されている。配管２４−２を介してノズルクリーニングヘッド部１で使用済みの洗浄ガスを吸引するポンプである。
【００２３】
ガス排気部５２は、排気ポンプ１５、排気ガス流量制御弁３５、配管２５−１〜配管２５−４、リーク弁３１及び排気部２を備える。
排気ポンプ１５は、配管２５−２の一端部に接続されている。配管２５−２を介して容器用コーティング装置内部の空間（ガス配給部５０、ノズルクリーニング部５１、ガス排気部５２、絶縁部３、外部電極６内部の各空間）の排気を行う。
排気ガス流量制御弁３５は、一方を配管２５−２の他端部に、他方を配管２５−１の一端部に接続している。配管２５−１から配管２５−２を介して排気される容器用コーティング装置内のガスの排気速度を制御する。
リーク弁３１は、一方を配管２５−３に、他方を配管２５−４に接続している。配管２５−４から配管２５−３を介して容器用コーティング装置内へ導入されるガス（空気）の流量を制御する。そして、容器用コーティング装置内を大気圧へ戻す。
排気部２は、ノズルクリーニングヘッド部１と絶縁部３との間に介設されている。箱形状を有し、内部に内部電極部７の内部電極ノズル７−１の通る空間である排気室４５を含む。本実施例では、排気部２は円筒型の箱形状であり、内部電極ノズル７−１が円筒の中心軸に沿う。容器用コーティング装置内部のガスは、内部の排気室４５を介して排気される。
【００２４】
絶縁部３は、排気部２と外部電極６との間に介設されている。環状形状を有し、内部に内部電極ノズル７−１の通る空間を有する。内部電極部７（、内部電極保持部８、ノズルクリーニングヘッド部１、排気部２）と外部電極６とを電気的に絶縁する。本実施例では、円形の環であり、内部電極ノズル７−１が環の中心軸に沿う。
【００２５】
容器保持部としての外部電極６は、上部電極４と下部電極５とを備える。
上部電極４は、絶縁部３と下部電極５との間に介設されている。筒形状を有し、内部に内部電極ノズル７−１が通り、容器５３の上部を囲むような空間である上部容器配置室４６を含む。本実施例では、上部電極４は円筒形状であり、内部電極ノズル７−１、上部容器配置室４６の中心軸、及び、内部に配置される容器５３の中心軸が円筒の中心軸に沿うように設けられている。下部電極５と共に、内部電極ノズル７−１との間に高周波電圧を印加され、容器５３内部の原料ガスを介した放電に寄与する。
下部電極５は、真空シール面１０を介して配置され、上部電極５の下部に設置されている。凹型の容器形状を有し、配置される容器５３の下部を囲むような凹型の空間である下容器配置室４８を含む。本実施例では、下部電極４は円柱型の凹型空間を有する円柱形状であり、下容器配置室４８の中心軸、及び、内部に配置される容器５３の中心軸が円柱の中心軸に沿うように設けられている。上部電極４と共に、内部電極ノズル７−１との間に高周波電圧を印加され、容器５３内部の原料ガスを介した放電に寄与する。
【００２６】
内部電極部７は、原料ガス供給管としての内部電極ノズル７−１、上部フランジ７−２、保持部７−３、ガス流路７−４、原料ガス供給部１２、原料ガス流量制御弁３２、配管２１−１、可動配管２１−２を備える。
内部電極ノズル７−１は、細長筒状の導体である。内部を原料ガスが流通する。一端部は、上部フランジ部７−２のガス流路７−４に接続し、原料ガスを供給される。そして、他端部の開口部７−５から原料ガスを送出する。電気的にアースに接続され、外部電極６との間に高周波電圧を印加され、容器５３内部の原料ガスを介した放電に寄与する。
上部フランジ７−２は、内部電極保持部８上に真空シール面９を介して設置され、ガス配給部５０、ノズルクリーニング部５１、ガス排気部５２、絶縁部３及び外部電極６で形成する空間を外部から遮蔽して密閉空間とする。成膜プロセス時には上部フランジ７−２と内部電極保持部８とが接合され、洗浄プロセス時には上部フランジ７−２を含む内部電極部７が内部電極保持部８から離れて上昇する。内部に原料ガスを流通するガス流路７−４を含む。下部の中心近傍に内部電極ノズル７−１の一端部が接続されている。ガス流路７−４は、一端部が内部電極ノズル７−１に接続している。他端部は、上部フランジ７−２の側面に接続された可動配管２１−２に接続している。成膜プロセス時には、可動配管２１−２から供給され原料ガスをガス流路７−４経由で内部電極ノズル７−１へ供給する。
保持部７−３は、上部フランジ部７−２の上部に接続している。柱形状を有し、内部電極部７を昇降させる際、昇降部１６により保持され、昇降部１６により昇降される。この昇降により、内部電極ノズル７−１が、上部電極４における内部電極部７側の方向（第１方向：外部電極６に保持された容器５３の開口部の方向）から容器５３内部へ挿入される。
【００２７】
原料ガス供給部１２は、配管２１−１の一端部に接続されている。配管２１−１を介して容器５３内部をコーティングする膜の原料となる原料ガスを成膜プロセス時に供給する。容器５３内部に成膜する膜がＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｌｉｋｅ　Ｃａｒｂｏｎ）、又は、シリコン含有のＤＬＣ膜の場合、従来知られた所定の性状の炭化水素系ガスを供給する。
原料ガス流量制御弁３２は、一方を配管２１−１の他端部に、他方を可動配管２１−２の一端部に接続している。配管２１−１から可動配管２１−２へ供給される原料ガスの流量を制御する。
【００２８】
昇降部１６は、保持部７−３と接続している。そして、昇降装置（図示されず）により昇降されることにより、保持部７−３を昇降する。それにより、一体化している内部電極部７全体が昇降する。
【００２９】
高周波電源部１１は、マッチング部１１−１及び高周波電源１１−２を備える。
高周波電源１１−２は、マッチング部１１−１を介して外部電極６（の上部電極４）へ高周波電力を供給する。マッチング部１１−１は、高周波電源１１−２が外部電極６へ供給する電力が、反射を生ずることなく効率よく外部電極６と内部電極ノズル７−１の放電系へ供給されるようにインピーダンスの整合を取る。
【００３０】
次に、ノズルクリーニング部５１のノズルクリーニングヘッド部１について更に説明する。
図２は、ノズルクリーニング部５１のノズルクリーニングヘッド部１の断面を示す図である。
ノズルクリーニング部１は、筒形状を有し、筒内部の洗浄室４４内に筒の中心軸に沿って配置される内部電極ノズル７−１に対して、洗浄ガスを供給する（吹き付ける）。そして、内部電極ノズル７−１上の堆積物を吹き飛ばし除去する。筒側面の肉厚部分に、ガス供給管４１、ガス分配流路４２−１、ガス送出流路４２−２、ガス噴出流路４２−３、ガス受け室４４−１、ガス流路１−１を備える。
【００３１】
ガス供給管４１は、一端部を配管２３−２を接続し、他端部をガス分配路４２−１に接続している。配管２３−２から洗浄ガスを供給され、ガス分配流路４２−１へ洗浄ガスを送出する。
ガス分配流路４２−１は、ノズルクリーニング部１の筒側面の肉厚部分内に、筒の中心軸を中心とする環状に設けられている。環状の流路の一部にガス供給管４１の一端部を接続し、洗浄ガスの供給を受ける。そして、環状の流路に沿って、洗浄ガスを流通させる。それと共に、環状の流路の内周側全体にわたって形成されているガス送出路４２−２へ、洗浄ガスを供給する。
ガス送出流路４２−２は、環状のガス分配路４２−１の内周側の全体に、ノズルクリーニング部１の中心軸に対して垂直な方向に、形成された平坦な環状の流路である。そして、概ねノズルクリーニング部１の中心軸方向（内部電極ノズル７−１の軸方向）に向かって洗浄ガスを流通させる。
ガス噴出流路４２−３は、環状のガス送出流路４２−２の内周側の全体に、ノズルクリーニング部１の中心軸に対して所定の角度を有する方向に、形成された平坦な環状の流路である。そして、概ねノズルクリーニング部１の中心軸方向（内部電極ノズル７−１の軸方向）に向かって洗浄ガスを流通させ、その内側先端部から吹き出させる（噴出させる）。
【００３２】
洗浄室４４は、ノズルクリーニング部１の筒内部の空間である。そこにおいて、挿入された内部電極ノズル７−１に、ガス噴出流路４２−３から噴出された洗浄ガスが衝突し、表面の堆積物を吹き飛ばして除去する。
ガス受け室４４−１は、ノズルクリーニング部１の洗浄室４４の軸方向の中間部分において、ノズルクリーニング部１の側面肉厚部分に食い込んだ領域である。洗浄室４４の外側の全周にわたって形成されている。その周状の領域の一部に、ガス流路１−１が接続されている。ガス受け室４４−１には、洗浄室４４で吹き飛ばされた堆積物が進入する。そして、その堆積物はガス流路１−１を介してノズルクリーニング部１の外部へ向かって吸引され、送出される。
ガス流路１−１は、ノズルクリーニング部１の肉厚部分に形成されている。一端部は、ガス受け室４４−１の外側に他端部を配管２４−１に接続している。ガス受け室４４−１へ進入した堆積物を配管２３−２へ送出する。
【００３３】
次に、ガス分配流路４２−１、ガス送出流路４２−２及びその周辺について更に説明する。
図３は、図２のＸ−Ｘ’断面を示す図である。
ガス分配流路４２−１は、ノズルクリーニング部１の筒の周に沿って、洗浄室４４を囲むように環状に設けられており、ガス分配管４１に接続している。また、ガス送出流路４２−２は、ガス分配流路４２−１の内側全体に洗浄室４４を囲むように環状に設けられている。ガス噴出流路４２−３（図３中明示されず）は、ガス分配流路４２−１の内側全体に洗浄室４４を囲むように環状に設けられ、一端部は、洗浄室４４に開放されている。
ガス分配管４１から供給され、ガス分配流路４２−１内を流路に沿って流れる（図３中のＡで例示）洗浄ガスは、その一部がガス送出流路４２−２内へ入り、ノズルクリーニング部１の筒の中心部へ向かって流れる（図３中のＢで例示）。そして、ガス噴出流路４２−３に入り（図３中のＣで例示）、その端部から内部電極ノズル７−１へ向かって吹き出す（図３中のＤで例示）。
【００３４】
なお、ここでは、ガス分配路（４２−１）、ガス送出流路（４２−２）及びガス噴出流路（４２−３）の組を１つ設けているが、本発明はこの数に制限されるものではない。例えば、ガス分配路、ガス送出流路及びガス噴出流路を、ガス受け室４４−１を挟んで、ガス分配路４２−１、ガス送出流路４２−２及びガス噴出流路４２−３の反対側にもう１組み設けても良い。すなわち、内部電極ノズル７−１上の堆積物の状態に応じた１つ以上の組が設置されていれば良い。
【００３５】
また、２組以上設ける場合、それぞれの組が内部電極ノズル７−１上の概ね同じ位置に洗浄ガスを吹き付けても良い。それぞれの組が、異なる位置に洗浄ガスを吹き付けても良い。
【００３６】
更に、ここでは、ガス送出流路（４２−２）及びガス噴出流路（４２−３）は、環状で、ガス分配路（４２−１）の内周側の全体に設けられているが、本発明はこの形状に制限されるものではない。例えば、ガス分配路（４２−１）から分岐した内部電極ノズル７−１方向に向かう（複数の）管状のガス流路により、同様の機能を持たせることが出来る。
【００３７】
次に、本発明であるノズルクリーニング方法を適用した容器のコーティング方法の実施の形態について説明する。
図４は、本発明であるノズルクリーニング方法を適用した容器のコーティング方法の実施の形態におけるタイミングチャートを示すグラフである。
図４（ａ）は、下部電極５の上下動のタイムスケジュールである。縦軸は下部電極５の上下方向の位置であり、横軸は時間である。図４（ｂ）は、内部電極ノズル７−１の上下動のタイムスケジュールである。縦軸は内部電極ノズル７−１の上下方向の位置であり、横軸は時間である。
【００３８】
（１）ステップＳ０１（時間ｔ０）
下部電極５は、下方の定位置である下定点Ａ１にある。下定点Ａ１では、下部電極５は上部電極４と離れている。また、この段階では、下部電極５上に容器５３は載せられていない。
内部電極ノズル７−１は、上方の定位置である上定点Ｂ２にある。上定点Ｂ２では、内部電極部７は、昇降部１６により上方に上がっており、内部電極保持部８と離れている。そして、内部電極ノズル７−１の開口部７−５がガス配給部５０内にある。
リーク弁３１、原料ガス流量制御弁３２、洗浄ガス流量制御弁３３、吸引ガス流量制御弁３４及び排気ガス流量制御弁３５は、閉止している。
【００３９】
（２）ステップＳ０２（時間ｔ０〜ｔ１）
下部電極５は、下方の定位置である下定点Ａ１にある。そして、所定の時間経過後、容器５３を載せられた後、下定点Ａ１から上部電極４方向へ上昇し始める。時間ｔ１で、下定点Ａ１よりも少し高い位置Ａ３に達する。
内部電極ノズル７−１を含む内部電極部７の状況は、ステップＳ０１と同様である。
【００４０】
（３）ステップＳ０３（時間ｔ１〜ｔ２）
下部電極５は、位置Ａ３を経由して更に上昇する。そして、時間ｔ２で、上方の定位置である上定点Ａ２に達する。この時点で、下部電極５の上部と上部電極４の下部とが重なり接合部１０を形成し、下部電極５と上部電極４とが一体の外部電極６となる。外部電極６の内部には、容器５３が配置されている。
内部電極ノズル７−１を含む内部電極部７は、上方の定位置である上定点Ｂ２から下降する。そして、時間ｔ２で、下方の定位置である下定点Ｂ１に達する。この時点で、内部電極部７の上部フランジ７−２の下部（内部電極ノズル７−１側）と内部電極保持部８の上部とが重なり接合部９を形成する。そして、ガス配給部５０、ノズルクリーニング部５１、ガス排気部５２、絶縁部３及び外部電極６で形成する空間が上部フランジ７−２により外部から遮蔽されて、密閉空間となる。すなわち、容器用コーティング装置は、内部を密閉された状態となる。その際、内部電極ノズル７−１は、その概ね下半分が外部電極６内の容器５３内部に挿入される。
【００４１】
（４）ステップＳ０４（時間ｔ２〜ｔ４）
アイドル時間（時間ｔ２〜ｔ３）の後、容器用コーティング装置内の真空引きを行う。
時間ｔ３〜ｔ４において、排気ガス流量制御弁３５を所定の速度で開放し、排気ポンプ１５により、容器用コーティング装置内の真空引きを行う。そして、時間ｔ４において、所望の真空度以下となる。
【００４２】
（５）ステップＳ０５（時間ｔ４〜ｔ７）
原料ガスを容器用コーティング装置内に導入し、容器５３内のコーティング（成膜）を行う。
時間ｔ４〜ｔ５において、成膜用の原料ガスを導入する。まず、所定の流量の原料ガスが流れるように、原料ガス流量制御弁３２を開く。そして、原料ガス供給部１２から、配管２１−１−原料ガス流量制御弁３２−可動配管２１−２−内部電極部７のガス流路７−４−内部電極ノズル７−１を経由して、開口部７−５より容器５３内部へ原料ガスを供給する。
その後、時間ｔ５〜ｔ６において、成膜を行う。すなわち、高周波電源部１１により、内部電極ノズル７−１と外部電極６との間に高周波電力が投入される。それにより、放電が発生し、原料がプラズマ化されて容器５３内壁に膜がコーティングされる。成膜時間（ｔ５〜ｔ６）は、所定の厚みを有する膜が成膜される時間の長さに設定される。この際、内部電極ノズル７−１にも、容器５３内壁の膜とほぼ同成分の堆積物が付着する。
時間ｔ６〜ｔ７において、容器用コーティング装置内の原料ガスを排気する。すなわち、原料ガス流量制御弁３２を閉止して、原料ガス供給部１２の原料ガスの供給を停止し、高周波電力の投入も停止する。
【００４３】
（６）ステップＳ０６（時間ｔ７〜ｔ８）
時間ｔ７〜ｔ８において、容器用コーティング装置内を大気圧に戻す。すなわち、排気ガス流量制御弁３５を閉止する。そして、リーク弁３１を開き、大気を容器用コーティング装置内へ導入する。時間ｔ８において、容器用コーティング装置内は大気圧となる。
【００４４】
（７）ステップＳ０７（時間ｔ８〜ｔ９）
時間ｔ８〜ｔ９において、下部電極５は、上定点Ａ２から下降する。それに伴い、下部電極５と上部電極４とが分離する。そして、時間ｔ９で、下部電極５は、下定点Ａ１に達する。
【００４５】
（８）ステップＳ０８（時間ｔ９〜ｔ１０）
内部電極部７は、昇降部１６の上昇により、下定点Ｂ１から上昇する。それに伴い、内部電極部７と内部電極保持部８とが分離する。そして、時間ｔ１０で、内部電極部７は、上定点Ｂ２に達する。
内部電極部７が上昇する際、所定の流量の洗浄ガスが流れるように洗浄ガス流量制御弁３３及び吸引ガス流量制御弁３４が開く。そして、洗浄ガス供給部１３から、配管２３−１−洗浄ガス流量制御弁３３−配管２３−２−ガス供給管４１−ガス分配流路４２−１−ガス送出流路４２−２−ガス噴出流路４２−３を経由して、洗浄室４４中心部の内部電極ノズル７−１に洗浄ガスを供給する（吹き付ける）。
内部電極ノズル７−１の開口部７−５がガス配給部５０付近へ上昇する間に連続的に洗浄ガスを吹き付けるので、ガス噴出流路４２−３の位置が固定されていても、堆積物が存在している内部電極ノズル７−１の全ての洗浄（洗浄ガスの吹き付けによる堆積物の除去）を行うことが出来る。そして、洗浄ガスの供給の勢いにより、内部電極ノズル７−１に付着した堆積物が除去される。除去された堆積物は、ガス吸引部１４の吸引の効果により使用済みの洗浄ガスと共にガス受け室４４−１へ入る。そして、ガス流路１−１−配管２４−１−吸引ガス流量制御弁３４−配管２４−２を介して、ガス吸引部１４へ吸引される。時間ｔ１０の時点で、内部電極ノズル７−１は、堆積物を除去された清浄な電極となる。
上記ステップＳ０１からステップＳ０８が連続して繰り返される。すなわち、時間ｔ１０を時間ｔ０に置き換えて、ステップＳ０１へ戻る。
【００４６】
本発明では、ノズルクリーニング部５１を搭載することにより、容器用コーティング装置の運転を停止することなく、内部電極ノズルの堆積物を除去することが可能となる。そして、洗浄のために容器用コーティング装置を停止する必要が無く、運転効率を向上させることが出来る。
【００４７】
また、容器５３内部のコーティング作業のサイクル中に、堆積物除去作業が含まれているので、容器５３内部のコーティング作業のスループットを低下させずに、内部電極の堆積物を除去することが可能となる。
【００４８】
更に、堆積物の生成直後に洗浄ガスで吹き飛ばすので、除去を極めて容易に行なうことが出来る。また、堆積物を洗浄ガスで物理的に除去するだけなので、内部電極ノズル７−１の表面に不要なものが付着せず、堆積物の除去後においても電極表面や膜特性は安定する。
【００４９】
また、容器５３を載せた下部電極５が上部電極４へ向けて移動する際、内部電極ノズル７−１が上部電極４内に固定的に存在せず、下部電極５が上昇し始めてから上部電極４内に挿入される。そのため、下部電極５の上昇の際、容器５３が上部電極４の内壁へ案内され、位置決めされた後に、内部電極ノズル７−１を容器５３へ挿入することが出来、容器５３が内部電極ノズル７−１にぶつかる「付きビン」現象を避けることが可能となる。
【００５０】
上記ステップＳ０５の時間ｔ５〜ｔ６において行う成膜は、外部にマイクロ波の発生装置を用意し、原料ガスを供給された外部電極６内の容器５３の内部へマクロ波を導入することによっても、行うことが可能である。その場合も、上記実施例と同様に内部電極ノズル７−１に付着する堆積物を除去することが出来る。
【００５１】
【発明の効果】
本発明により、容器用コーティング装置の運転を停止することなく、内部電極の堆積物を除去し、非常に長期間にわたり連続的にコーティングを行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明であるノズルクリーニング装置を適用した容器用コーティング装置の実施の形態における構成を示す図である。
【図２】ノズルクリーニングヘッド部の断面を示す図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ’断面を示す図である。
【図４】本発明であるノズルクリーニング方法を適用した容器のコーティング方法の実施の形態におけるタイミングチャートを示すグラフである。
【符号の説明】
１　　ノズルクリーニングヘッド部
１−１　　ガス流路
２　　排気部
３　　絶縁部
４　　上部電極
５　　下部電極
６　　外部電極
７　　内部電極部
７−１　　内部電極ノズル
７−２　　上部フランジ
７−３　　保持部
７−４　　ガス流路
７−５　　開口部
８　　内部電極保持部
９　　接合部
１０　　接合部
１１　　高周波電源部
１１−１　　マッチング部
１１−２　　高周波電源
１２　　原料ガス供給部
１３　　洗浄ガス供給部
１４　　ガス吸引部
１５　　排気ポンプ
１６　　昇降部
２１−１〜２１−２、２３−１〜２３−２、２４−１〜２４−２、２５−１〜２５−４　　配管
３１　　リーク弁
３２　　原料ガス流量制御弁
３３　　洗浄ガス流量制御弁
３４　　吸引ガス流量制御弁
３５　　排気ガス流量制御弁
４１　　ガス供給管
４２−１　　ガス分配流路
４２−２　　ガス送出流路
４２−３　　ガス噴出流路
４４　　洗浄室
４４−１　　ガス受け室
４５　　排気室
４６　　上部容器配置室
４８　　下部容器配置室
５０　　ガス配給部
５１　　ノズルクリーニング部
５２　　ガス排気部
５３　　容器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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