(57)【要約】【課題】空のキャリアボックスの搬送先を指定し、使用環境を細分化することで、クロスコンタミを防止し、さらにキャリアボックス数を削減する。【解決手段】他の処理を行うウェハまたはキャリアを管理する保管装置２０−２への搬送前に、搬送元の保管装置２０−１でウェハとキャリアボックス４０−ｎ、または、ウェハ群及びキャリア５０とキャリアボックス４０−ｎとを紐付けして管理し、保管装置２０−２への搬送後、関連付けを解除し、キャリアボックス４０−ｎをフリーな状態にする。さらに、空のキャリアボックス４０−ｎに対し、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５のステータス、またはキャリアボックス４０−ｎの属性に応じて搬送先を割り付け、割り付けた先の保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５に搬送させる。【選択図】        図１
2004363219.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造工程で半導体ウェハを保管する複数の保管装置の制御方法において、
第１の保管装置に、処理後の前記半導体ウェハまたは１枚以上の前記半導体ウェハからなる半導体ウェハ群を収納したキャリアが収納されると、前記半導体ウェハまたは前記キャリアを密閉箱に収納し、
前記半導体ウェハと前記密閉箱、または、前記半導体ウェハ群及び前記キャリアと前記密閉箱とを関連付けて管理し、
前記密閉箱を、他の処理を行う前記半導体ウェハまたは前記キャリアを管理する第２の保管装置に搬送させ、
搬送後、前記関連付けを解除し、
関連付け解除後、空の前記密閉箱に対し、前記第１または第２の保管装置またはその他の前記保管装置のステータス、または空の前記密閉箱の属性に応じて搬送先を割り付け、
空の前記密閉箱を割り付けた先の前記保管装置に搬送させる、
ことを特徴とする保管装置の制御方法。
【請求項２】
空の前記密閉箱の不足が発生した前記保管装置がある場合は、空の前記密閉箱の数に余裕のある前記保管装置から、前記不足が発生した前記保管装置へ、空の前記密閉箱を搬送する請求項１記載の保管装置の制御方法。
【請求項３】
空の前記密閉箱のあふれが発生した前記保管装置がある場合は、前記あふれが発生した前記保管装置から、空の前記密閉箱の数に余裕のない前記保管装置へ、空の前記密閉箱を搬送する請求項１記載の保管装置の制御方法。
【請求項４】
同一の空調エリアに属する前記保管装置をグループ化して、他の空調エリアに属する前記保管装置へ前記半導体ウェハまたは前記キャリアを収納した前記密閉箱を搬送した場合、搬送後に空の前記密閉箱を搬送元の前記保管装置に戻すことを特徴とする請求項１記載の保管装置の制御方法。
【請求項５】
半導体装置の製造工程で半導体ウェハを保管する保管システムにおいて、
前記半導体ウェハまたは１枚以上の前記半導体ウェハからなる半導体ウェハ群を収納したキャリアを密閉箱に収納して保管する複数の保管装置と、
第１の前記保管装置において、前記半導体ウェハまたは前記キャリアが前記密閉箱に収納されると、前記半導体ウェハと前記密閉箱、または、前記半導体ウェハ群及び前記キャリアと前記密閉箱とを関連付けて管理し、前記密閉箱を他の処理を行う前記半導体ウェハまたは前記キャリアを管理する第２の前記保管装置に搬送させ、搬送後、関連付けを解除し、前記関連付け解除後、空の前記密閉箱に対し、前記第１または第２の前記保管装置またはその他の前記保管装置のステータス、または空の前記密閉箱の属性に応じて搬送先を割り付け、割り付けた先の前記保管装置に搬送させる制御部と、
を有することを特徴とする保管システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は保管装置の制御方法及び保管システムに関し、特に半導体装置の製造工程で半導体ウェハを保管する複数の保管装置の制御方法及び保管システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ  Ｓｃａｌｅ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）などの半導体装置における集積度の向上に伴い、処理途中の半導体ウェハ（以下単にウェハと呼ぶ）に対してパーティクルの付着や、工場の雰囲気に含まれる化学物質による化学汚染の影響により、製品の不良発生や歩留まりの低下が顕著に見られるようになってきた。
【０００３】
そのため、製造中にパーティクルや化学物質に対してウェハが直接さらされないように、異なる空調エリアに属する処理装置間の搬送や保管装置での保管中において、ウェハ単体もしくは、ウェハを複数枚収納する開放されたキャリアを、密閉された箱（以下キャリアボックスと呼ぶ）に格納する場合が増加してきた（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
従来、キャリア及びキャリアボックスを使用したウェハの搬送制御は、まず、生産管理システム（ＭＥＳ：Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｅｘｅｃｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ）のデータベースにて、ウェハまたはウェハ群、キャリア（使用する場合）、キャリアボックス、それぞれのＩＤの関連付け（以下紐付けと呼ぶ場合もある）を行う。そして工程の進捗に合わせてウェハの搬送要求を搬送コントローラに行い、キャリアボックスに格納されたウェハを、ウェハまたウェハ群に割り付けられた搬送先の情報に基づいて搬送した。
【０００５】
このように、従来では、ウェハまたはウェハ群に対してキャリア（使用する場合）及びキャリアボックスが常に紐付けされた状態で管理されているので、大きな単位の限られた工程以外は、同一のウェハの収納には常に同一のキャリアボックス及びキャリアが使用されていた。
【０００６】
これは、キャリアボックスやキャリアの交換には、空のキャリアボックスやキャリアを準備し、ウェハ単体またはウェハを収納したキャリアの移し替え、そして、データの紐付け修正などの作業が必要となり、多数の工程が必要であったためである。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００２−３５７２７１（段落番号〔００１９〕〜〔００５０〕，第１図）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来では、キャリアボックス単体では、搬送先が割り当てられないので、ウェハまたはウェハ群と紐付けされていないキャリアボックスは自動では搬送できないという問題があった。つまり、ウェハまたはウェハ群が取り出され空となったキャリアボックスは、他の保管装置へ搬送することができず、紐付けされたウェハまたはウェハ群が再び保管装置に戻されるまで待機している必要があった。そのため、保管に必要なフットプリントが大きくなってしまうという問題があった。
【０００９】
また、ウェハの搬送に、常に同一の紐付けしたキャリアボックスを用いると、多数の処理を進めるにあたり、処理を行ったウェハから発生する化学物質がキャリアボックス内に残留し、その残留した化学物質が以降の工程が終わったウェハに対して汚染の要因となる（以降このような汚染要因をクロスコンタミと呼ぶ）可能性が生じるという問題があった。
【００１０】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、必要に応じて紐付けされていない空のキャリアボックスを自動的に搬送でき、使用環境を細分化することで、クロスコンタミを防止し、高歩留まり化に貢献し、なおかつキャリアボックスを最低限の個数で運用できる保管装置の制御方法及び、保管システムを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、製造工程でのウェハを保管する複数の保管装置の制御方法において、図１に示すように、制御部１０は、保管装置２０−１に、処理後のウェハまたは１枚以上のウェハからなるウェハ群を収納したキャリア（図ではキャリアの場合を示している）５０が収納されると、ウェハまたはキャリア５０をキャリアボックス４０−ｎに収納し、ウェハとキャリアボックス４０−ｎ、または、ウェハ群及びキャリア５０とキャリアボックス４０−ｎとを関連付けて管理し、キャリアボックス４０−ｎを他の処理を行うウェハまたはキャリアを管理する保管装置２０−２に搬送させ、搬送後、関連付けを解除し、関連付け解除後、空のキャリアボックス４０−ｎに対し、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５のステータス、またはキャリアボックス４０−ｎの属性に応じて搬送先を割り付け、割り付けた先の保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５に搬送させることを特徴とする保管装置の制御方法が提供される。
【００１２】
上記の方法によれば、搬送前に関連付けを行い、搬送後に関連付けを解除し、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５のステータス、またはキャリアボックス４０−ｎの属性に応じて空のキャリアボックス４０−ｎに搬送先を割り付け、割り付けた先の保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５に搬送させるので、空のキャリアボックス４０−ｎは、ウェハまたはウェハ群に関連付けられた状態でなくとも自動的に割り付けた先の保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５に搬送される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１は、本発明の実施の形態の保管システムの構成図である。
【００１４】
本発明の実施の形態の保管システムは、例えば、半導体装置の製造工場などに配置され、主に、制御部１０と、制御部１０とＬＡＮ（Ｌｏｃａｌ  Ａｒｅａ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）などで接続された保管装置２０−１、２０−２、２０−３、２０−４、２０−５とから構成される。
【００１５】
また、各保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５間は、搬送用レール３０で接続されており、搬送台車３１によりキャリアボックス４０−１、４０−２、…、４０−ｎに収納された形態でキャリア５０を搬送する。
【００１６】
制御部１０は、半導体装置の製造処理を管理する生産管理システム（以下ＭＥＳと記す）１０ａ、キャリアボックス４０−１、４０−２、…、４０−ｎの保管数を管理する保管数管理システム（以下Ｎ／Ｃと記す）１０ｂ、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５及び保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５間の搬送を制御するキャリア搬送制御システム（以下Ｔ／Ｃと記す）１０ｃとからなる。これらのシステムは、サーバやデータベース機能を持った複数のコンピュータから構成される。
【００１７】
保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５は、処理前、または処理後の、ウェハまたは１枚以上のウェハからなるウェハ群を収納したキャリア５０をキャリアボックス４０−１、４０−２、…、４０−ｎに収納して保管する。
【００１８】
以下では、キャリア５０を保管する場合について説明する。
例えば、処理装置６０ａで処理されたキャリア５０は、キャリアポート２０ａに載せられ、保管装置２０−１に入る。なお、ここでは簡単のため保管装置２０−１に収納されるキャリア５０は、処理装置６０ａで処理されたものとしたが、複数の処理装置を介してもよく、その場合については後述する。
【００１９】
図２は、キャリアの例を示す斜視図である。
図のように、キャリア５０にはウェハを収納するための仕切り５１が設けられており、ここに、例えば、最大２５枚のウェハが格納される。
【００２０】
図３はキャリアボックスの例を示す斜視図である。
図３で示すキャリアボックス４０は、ＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ＩｎｔｅｒＦａｃｅ）ポッドと呼ばれるキャリアボックス４０である。キャリアボックス４０は、キャリアステージを兼ねるドア部４１と、把持部４２、４３を有し、ドア部４１を図の矢印方向に開閉することで、キャリア５０の収納、取り出しができる。
【００２１】
なお、図１では保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５と５つ図示しているが、この数には限定されず、２つ以上であればよい。
次に、図１で示した保管システムの動作を説明する。
【００２２】
キャリア５０に収納されたウェハ群を、処理装置６０ａで処理させる旨の命令が制御部１０によってなされると、保管装置２０−１は、例えば、キャリアボックス４０−１に収納された状態で保管されていたキャリア５０を、キャリアボックス４０−１から取り出し、キャリアポート２０ａにより保管装置２０−１から取り出す。取り出されたキャリア５０は、処理装置６０ａに搬送されて処理される。処理装置６０ａまでの搬送は、コンベア（図示を省略）などで自動的に行う。また人手によって搬送するようにしてもよい。
【００２３】
処理されたウェハを収納したキャリア５０は、再び、キャリアポート２０ａにより保管装置２０−１内に収納される。この際、従来では、予めウェハ群及びキャリア５０と紐付けされたキャリアボックス４０−１に再び収納され、制御部１０の制御のもと、次の工程を行うために搬送されるが、本発明の実施の形態では、キャリア５０と、キャリアボックス４０−１は紐付けされておらず、フリーな状態となっている。そこで、空いているキャリアボックスが自動的に選択されてキャリア５０が収納される。以下では例として、キャリア５０が保管装置２０−１内でキャリアボックス４０−ｎに収納された場合を説明する。
【００２４】
図４は、キャリア収納後の保管装置内での動作の概略を説明する図である。
キャリアポート２０ａにより保管装置２０−１に戻されたキャリア５０が、キャリアボックス４０−ｎに収納されると、ＩＤ読み取り部２０ｂにて、ウェハ群とキャリア５０とキャリアボックス４０−ｎのＩＤが読み取られ、制御部１０のＭＥＳ１０ａに送られ紐付けされる。ＩＤの読み取り方式としては、バーコード読取式、電波式、及び電磁誘導式などがある。紐付けされた製品情報は、ＭＥＳ１０ａ上のデータベースで以下のようなテーブルで管理される。
【００２５】
図５は製品情報テーブルの例である。
図のように、ウェハ群のＩＤであるロットＩＤ、キャリアＩＤ、キャリアボックスのＩＤであるボックスＩＤが関連付けられ、更に、現在の工程と、現在の場所と、次に行うべき工程と、次の場所とが管理される。
【００２６】
例えば１行目では、ロットＩＤ“ＡＡＡ０００１”のロットとキャリアＩＤ“ＡＡ１２３４”のキャリア、ボックスＩＤ“ＢＢ２３４５”のキャリアボックスが紐付けされていることを示している。更に現在の工程が、“検査”であり、現在の場所が“ベイ  ０５”、次工程は“コータ”（コーティング処理）、次の場所は“ベイ  ０３”（ベイについては後述の図１０で示す）であることを示している。
【００２７】
なお、工程名で、“リソ”はリソグラフィを示し、“デベロッパ”は現像処理を行う工程を示している。
図６は、処理フローテーブルの例である。
【００２８】
処理フローテーブルは、ＭＥＳ１０ａが管理しており、製造工程における処理の流れと、その処理を行う処理装置の名前と場所が管理されている。
前述の製品情報テーブル作成の際には、この処理テーブルが参照されて、次工程と次の搬送場所が決まる。
【００２９】
次に、図１のＴ／Ｃ１０ｃは、製品情報テーブルを参照して、キャリア５０を収納したキャリアボックス４０−ｎを、図４で示す搬送台車との受け渡しポート２０ｃによって、搬送台車３１に載せる。さらに、Ｔ／Ｃ１０ｃの制御のもと、搬送用レール３０により、例えば次工程の処理を行う処理装置６０ｂで処理するウェハやキャリアを保管する保管装置２０−２に搬送する。搬送が完了すると、ＭＥＳ１０ａは、キャリア５０と、キャリアボックス４０−ｎとの紐付けを解除する。つまり、保管装置２０−２において、キャリアボックス４０−ｎに入れるウェハまたはキャリアを限定しないようにする。
【００３０】
さらに、紐付け解除後、キャリア５０が取り出され空となったキャリアボックス４０−ｎに対し、制御部１０の例えば、Ｔ／Ｃ１０ｃは、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５のステータス、または空となったキャリアボックス４０−ｎの属性に応じて搬出先を割り付ける。キャリアボックス４０−ｎは割り付けられた先の保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５に搬送される。
【００３１】
ここで、ステータスとは、例えば、Ｎ／Ｃ１０ｂが管理する保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５の空のキャリアボックス数などであり、空のキャリアボックス数の不足した保管装置がある場合には、その保管装置が搬送先として割り付けられて搬送される（詳しくは後述する）。
【００３２】
また、空となったキャリアボックスの属性とは、例えば、キャリアボックスがどこの空調エリアに属するかなどの情報である。例えば、搬送元とは異なる空調エリアの保管装置に搬送されてきたキャリアボックスは、この属性に応じて搬送元の保管装置が搬送先として割り付けられ搬送される（詳しくは後述する）。
【００３３】
以下、本発明の実施の形態の保管システムの処理の流れをフローチャートでまとめるとともに、本発明の実施の形態の保管装置の制御方法を説明する。
図７は、本発明の実施の形態の保管装置の制御方法を示すフローチャートである。
【００３４】
処理装置でのウェハの処理が完了すると、Ｔ／Ｃ１０ｃの制御のもと、ウェハが収納されたキャリアを空のキャリアボックスに収納する（ステップＳ１）。
キャリア５０が収納されると、ＭＥＳ１０ａの制御のもと、ウェハ群と、キャリア５０と、キャリアボックス４０−ｎとを紐付けし、図５で示したような製品情報テーブルを作成する（ステップＳ２）。
【００３５】
次に、ＭＥＳ１０ａが管理する製品情報テーブルを参照して、Ｔ／Ｃ１０ｃは、キャリアを収納したキャリアボックスを次の処理を行う場所（保管装置２０−２）へ搬送する（ステップＳ３）。
【００３６】
搬送が完了すると、ＭＥＳ１０ａは、紐付けを解除してキャリアボックス４０−ｎをフリーな状態にする（ステップＳ４）。
紐付けが解除されると、キャリア５０が取り出され空となったキャリアボックス４０−ｎに対し、例えば、Ｔ／Ｃ１０ｃは、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５のステータス、または空となったキャリアボックス４０−ｎの属性に応じて搬送先を割り付ける（ステップＳ５）。
【００３７】
キャリアボックス４０−ｎをステップＳ５の処理で、割り付けた先の保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５に搬送する（ステップＳ６）。
このようにすることで、キャリアボックス４０−ｎは、キャリア５０が処理装置６０ｂで処理されるのを待機している必要がなくなり、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５のステータス、または空となったキャリアボックス４０−ｎの属性に応じて割り付けられた搬送先に自動的に搬送することができる。
【００３８】
以下、保管装置のステータスの一例であるキャリアボックス数において、不足やあふれが発生した場合の空のキャリアボックスの搬送について具体的に説明する。
【００３９】
図８は、キャリアボックスの不足分を補充する処理を説明する図である。
図１で示したＮ／Ｃ１０ｂは、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５内のキャリアボックス数を管理している。図８では、保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５内における、空キャリアボックスの抑制数、在庫数、下限数の例を示している。
【００４０】
今、保管装置２０−５において、処理が完了したキャリアが搬入された場合、または、空キャリアボックスが保管装置２０−５の外部に搬出されると、在庫数が５個となり、下限数の６個を下回ってしまう。そこで、Ｎ／Ｃ１０ｂは在庫数−下限数を算出して、その値が最も大きい保管装置２０−１から、Ｔ／Ｃ１０ｃの制御のもと、空のキャリアボックスの搬送先を割り当て、保管装置２０−５に搬送して不足分を補充する。これに伴い、保管装置２０−１の在庫数は−１され、１９個となる。
【００４１】
なお、下限数を下回ったときに、空のキャリアボックスを１個だけではなく余裕を持って複数個搬送するようにしてもよい。
図９は、キャリアボックスのあふれ分を他の保管装置へ搬送する処理を説明する図である。
【００４２】
ここでは、図８と同様の、空キャリアボックスの抑制数、在庫数、下限数の保管装置２０−１、２０−２、…、２０−５を示している。
今、保管装置２０−１において、空のキャリアボックスが１つ搬入された場合、または、処理のために、キャリアボックスからキャリアが搬出され、空のキャリアボックスが発生した場合、在庫数は２１個となり、抑制数の２０個を上回ることとなる。そこで、Ｎ／Ｃ１０ｂは、在庫数−下限数を算出して、その値が最も小さい保管装置２０−５宛てに、あふれ分の空のキャリアボックスに搬送先を割り当てて、保管装置２０−１から搬送する。これに伴い、保管装置２０−５の在庫数は＋１され、７個となる。
【００４３】
なお、抑制数を上回ったときに、空のキャリアボックスを１個だけではなく余裕を持って複数個搬送するようにしてもよい。
また、以上説明したようなキャリアボックス数の保管装置間での調整処理を、ウェハの処理の進捗に応じて行うようにしてもよい。その場合、ＭＥＳ１０ａにより管理される、ウェハの処理の進捗状況をモニタする処理進捗モニタ（図示せず）を使用して、処理の完了時間の予測を行う。さらに、一定時間間隔で、キャリアの保管装置への入庫量をシミュレータ（図示せず）にて予測し、Ｎ／Ｃ１０ｂは、入庫予測に対するキャリアボックスの過不足を算出する。その後Ｎ／Ｃ１０ｂはＴ／Ｃ１０ｃに過不足を報告する。Ｔ／Ｃ１０ｃは、必要分のキャリアボックスの搬送を行う。
【００４４】
また、キャリアボックスを常に一定数だけ、保管装置にて保管するようにしてもよい。例えば、図１において、保管装置２０−１から保管装置２０−２へ、キャリアボックスの搬送が発生した場合、Ｔ／Ｃ１０ｃの制御のもと、発生した搬送数と同じ数だけ保管装置２０−２から保管装置２０−１へ、空のキャリアボックスの搬送を行う。このように、出入りのキャリアボックスの数を同じにすることで、常に保管装置内に一定数のキャリアボックスを保管することができる。
【００４５】
また、キャリアボックスの在庫の設定は、過去の入庫の経験値を持って行うようにしてもよい。具体的には、まず、保管装置単位で過去数日のキャリア入出庫数状況を集計する。その後集計結果と、保管装置ごとが管理する処理装置群でのキャリアの仕掛かり状況から、保管装置が必要とする空のキャリアボックスの数を算出する。次に、算出結果と在庫状況を比較し、Ｎ／Ｃ１０ｂに対して空のキャリアボックスの過不足数を報告する。これを受けてＮ／Ｃ１０ｂは、過不足数の情報に応じた移動要求をＴ／Ｃ１０ｃに出す。Ｔ／Ｃ１０ｃは、移動要求に応答して、必要な個数のキャリアボックスを所定の保管装置に搬送する。
【００４６】
また、保管装置間の搬送を行うために周回している搬送システムの台車上に常にキャリアボックスがある状態とするようにしてもよい。この場合、キャリアの搬送時は、実荷が搬送台車に載り、搬送先の台車の受け渡しポートに空のキャリアボックスを待機しておき、搬送されたキャリアを保管装置に入れたときに、半搬送台車に空のキャリアボックスを載せる。これを実荷の搬出元の保管装置に、搬出することで、キャリアを収納したキャリアボックスを、他の保管装置に搬出したことによる空のキャリアボックスの不足が発生することを防止する。
【００４７】
以上説明した種々の制御により、保管装置のステータスであるキャリアボックス数に応じて、空のキャリアボックスの不足分やあふれ分を保管装置間で調整することができる。
【００４８】
これにより、保管装置内２０−１、２０−２、…、２０−５内でのキャリアボックス数の削減が可能になり、コストの削減が図られ、更に、保管装置の小型化、省スペース化によるコストの削減も期待できる。
【００４９】
次に、前述したキャリアボックスの属性に応じた搬送について具体的に説明する。
図１０は、エリア分離型生産工場の概略の構成例を示す図である。
【００５０】
なお、図１で示した制御部１０は図示を省略している。
半導体の製造工場では、空調を図のように、エリア１０１、１０２、１０３、１０４と分離し、雰囲気が混ざらないようになっている。空調を分離すべきエリアとは、例えば、素子の形成工程、配線工程、特殊な化学物質の使用工程などの処理を行うエリアである。
【００５１】
各エリアには、複数の保管装置と、その保管装置が保管するキャリアに収納されたウェハを処理する処理装置群がある。
例えば、エリア１０１には、保管装置１２０−１、１２０−２があり、保管装置１２０−１は、ベイ１０１ａの処理装置群で処理されたウェハを保管し、保管装置１２０−２は、ベイ１０１ｂの処理装置群で処理されたウェハを保管する。
【００５２】
保管装置間でのキャリアを収納したキャリアボックスの搬送は、搬送部（図１で示した搬送用レール３０、搬送台車３１などからなる）１１０により図１と同様に行われる。キャリアボックスには属性として、キャリアボックスが空調を分離したエリア１０１、１０２、１０３のどこに属するかの情報が付加される。この情報は、前述の制御部１０によって管理されている。これによって、異なる空調のエリア間の搬送では、図７で示したステップＳ４の処理での搬送先の割り付けでは、搬送元のエリアの保管装置が搬送先として割り付けられ搬送される。
【００５３】
このことによって、異なるエリアの処理装置群で処理されたウェハが、再び同じキャリアボックスに収納されるのを防止でき、クロスコンタミを防止することができ、さらに歩留まりを向上させることができる。また、密閉ボックスの洗浄回数削減及び洗浄機のランニングコスト削減が期待できる。
【００５４】
次に、１つの処理装置群において、複数の工程を処理する場合について説明する。
１つの処理装置群で複数の工程を処理するためには、次の工程への影響を防止するために、１つの保管装置内で管理するキャリアボックスを工程ごとに区別する必要がある。
【００５５】
図１１は、１つの処理装置群で異なる２つの工程を処理したウェハの保管に対応した保管装置の概略の構成図である。
図のように、保管装置１３０は、Ａ工程用のキャリアポート１３０ａと、Ｂ工程用のキャリアポート１３０ｂとを有しており、Ａ工程用のキャリアボックス１４０ａを保管する保管エリア１５０ａと、Ｂ工程用のキャリアボックス１４０ｂを保管する保管エリア１５０ｂとを区別して有している。
【００５６】
なお、このような保管装置１３０においては、図１で示したＮ／Ｃ１０ｂは、保管されているキャリアボックスの数を工程ごとに管理し、保管装置のステータスを検出し、不足やあふれが発生したら、工程ごとに、他の保管装置を搬送先に割りつけ、補充や、あふれ分の搬送を行う。
【００５７】
図１２は、１つの処理装置群で異なる２つの工程を処理する場合における、それぞれの工程での処理の流れの一例を概略的に示す図である。
保管装置１３０が管理する、処理装置１７０、１７１、…、１８１からなる処理装置群でＡ工程処理、Ｂ工程処理の工程の処理を行なう場合の例を、実線の矢印でＡ工程の処理フロー、点線の矢印でＢ工程の処理フローを示している。
【００５８】
Ａ工程の処理を行う場合は、例えば、図のようにＡ工程用のキャリアポート１３０ａからキャリアを搬出して、処理装置１７０、１７１、１７３、１７５、１７６、１８０の順で処理した後、再びキャリアポート１３０ａに載せて保管装置１３０に収納する。
【００５９】
一方、Ｂ工程の処理を行う場合は、例えば、図のようにＢ工程用のキャリアポート１３０ｂからキャリアを搬出して、処理装置１７２、１７４、１７７、１７８、１７９、１８１の順で処理した後、再びキャリアポート１３０ｂに載せて保管装置１３０に収納する。
【００６０】
図１３は、異なる２つの工程の処理を行うウェハを管理する保管装置における処理の流れを説明するフローチャートである。
まず保管装置１３０は、キャリアポート１３０ａ、１３０ｂに、処理装置群で処理されたキャリアが置かれたか否かを判断する（Ｓ１００）。ここで、キャリアポート１３０ａ、１３０ｂにキャリアが置かれない場合は、待機してステップＳ１００の処理を繰り返す。キャリアが置かれた場合、キャリアに付加されたキャリアＩＤを読み取る（ステップＳ１０１）。次に、保管装置１３０を管理している図１で示したようなＭＥＳ１０ａにキャリアＩＤを通知して、図５で示したような製品情報テーブルを参照して、そのキャリアのステータス（現在の工程など）の問い合わせを行う（ステップＳ１０２）。ステータスを取得すると（ステップＳ１０３）、キャリアが置かれたキャリアポート１３０ａ、１３０ｂと、取得したステータスとが合致しているか否かを判断する（ステップＳ１０４）。例えば、ステータスより、置かれたキャリアがＡ工程の処理を行ったキャリアである場合、Ａ工程用のキャリアポート１３０ａに置かれた場合は合致する。合致した場合は、合致したキャリアポート１３０ａ、１３０ｂに対応した工程用のキャリアボックスに、キャリアを収納して処理を終了する（ステップＳ１０５）。例えば、キャリアポート１３０ａに置かれたキャリアは、図１１で示したようなＡ工程用のキャリアボックス１４０ａに収納される。また、キャリアポート１３０ｂに置かれたキャリアは、Ｂ工程用のキャリアボックス１４０ｂに収納される。
【００６１】
一方ステップＳ１０４の処理で、キャリアポート１３０ａ、１３０ｂと、取得したステータスとが合致しなかった場合、アラームを発報して処理を終了する（ステップＳ１０６）。例えば、工程Ａの処理を行ったキャリアをキャリアポート１３０ｂに載せてしまった場合などに、誤りを防止するためにアラームを発報する。
【００６２】
一方、ステップＳ１０５の処理で、キャリアボックスにキャリアを収納した場合、読み取ったキャリアボックスのＩＤとキャリアのＩＤをＭＥＳ１０ａに通知する（ステップＳ１０７）。これによりし、ＭＥＳ１０ａの制御のもとウェハ群とキャリアとキャリアボックスとが紐付けされ、図５で示したような製品情報テーブルが作成されて管理される。
【００６３】
上記のようにすることで、１つの保管装置で、複数の工程の処理を行うウェハを汚染の影響を少なくして保管することができ、また、保管装置数の削減が可能である。
【００６４】
以上の説明では、保管装置から処理装置群へのウェハの搬出は、キャリア単位で行うとして説明したが、ウェハ単体で搬出するようにしてもよい。
図１４は、ウェハ単体で処理装置群内を搬送可能な生産工場の概略の構成例である。
【００６５】
なお、図１で示した制御部１０は図示を省略している。
図のように、保管装置２００と、処理装置群３００との間では、搬送コンベア４００により、ウェハ５００単体で搬送される。処理されたウェハ５００は、保管装置２００でキャリアボックス２１０に収納され、前述してきたように、ＩＤを読み取り、紐付けされて管理される。
【００６６】
図１５は、ウェハを収納するキャリアボックスの例を示す斜視図である。
キャリアボックス２１０は、ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ）と呼ばれるキャリアボックス２１０である。キャリアボックス２１０は、ドア部２１１と、保持部２１２を有し、ドア部２１１を図の矢印方向に開閉し、ウェハ単位で、収納及び取り出しができる。
【００６７】
他の保管装置に搬送される場合は、キャリアボックス２１０は、搬送台車６００に載せられ搬送用レール７００で搬送される。搬送後、紐付けを解除する。さらに、保管装置のステータス、または空となったキャリアボックス２１０の属性に応じて搬送先を割り付け空のキャリアボックス２１０を搬送する。
【００６８】
上記のように、ウェハ単体で処理装置群内を搬送するようなシステムにおいても、保管装置のステータス、または空となったキャリアボックスの属性に応じて割り付けられた搬送先に空のキャリアボックスを自動的に搬送することができる。
【００６９】
（付記１）半導体装置の製造工程で半導体ウェハを保管する複数の保管装置の制御方法において、
第１の保管装置に、処理後の前記半導体ウェハまたは１枚以上の前記半導体ウェハからなる半導体ウェハ群を収納したキャリアが収納されると、前記半導体ウェハまたは前記キャリアを密閉箱に収納し、
前記半導体ウェハと前記密閉箱、または、前記半導体ウェハ群及び前記キャリアと前記密閉箱とを関連付けて管理し、
前記密閉箱を、他の処理を行う前記半導体ウェハまたは前記キャリアを管理する第２の保管装置に搬送させ、
搬送後、前記関連付けを解除し、
関連付け解除後、空の前記密閉箱に対し、前記第１または第２の保管装置またはその他の前記保管装置のステータス、または空の前記密閉箱の属性に応じて搬送先を割り付け、
空の前記密閉箱を割り付けた先の前記保管装置に搬送させる、
ことを特徴とする保管装置の制御方法。
【００７０】
（付記２）空の前記密閉箱の不足が発生した前記保管装置がある場合は、空の前記密閉箱の数に余裕のある前記保管装置から、前記不足が発生した前記保管装置へ、空の前記密閉箱を搬送する付記１記載の保管装置の制御方法。
【００７１】
（付記３）空の前記密閉箱のあふれが発生した前記保管装置がある場合は、前記あふれが発生した前記保管装置から、空の前記密閉箱の数に余裕のない前記保管装置へ、空の前記密閉箱を搬送する付記１記載の保管装置の制御方法。
【００７２】
（付記４）同一の空調エリアに属する前記保管装置をグループ化して、他の空調エリアに属する前記保管装置へ前記半導体ウェハまたは前記キャリアを収納した前記密閉箱を搬送した場合、搬送後に空の前記密閉箱を搬送元の前記保管装置に戻すことを特徴とする付記１記載の保管装置の制御方法。
【００７３】
（付記５）半導体装置の製造工程で半導体ウェハを保管する保管システムにおいて、
前記半導体ウェハまたは１枚以上の前記半導体ウェハからなる半導体ウェハ群を収納したキャリアを密閉箱に収納して保管する複数の保管装置と、
第１の前記保管装置において、前記半導体ウェハまたは前記キャリアが前記密閉箱に収納されると、前記半導体ウェハと前記密閉箱、または、前記半導体ウェハ群及び前記キャリアと前記密閉箱とを関連付けて管理し、前記密閉箱を他の処理を行う前記半導体ウェハまたは前記キャリアを管理する第２の前記保管装置に搬送させ、搬送後、関連付けを解除し、前記関連付け解除後、空の前記密閉箱に対し、前記第１または第２の前記保管装置またはその他の前記保管装置のステータス、または空の前記密閉箱の属性に応じて搬送先を割り付け、割り付けた先の前記保管装置に搬送させる制御部と、
を有することを特徴とする保管システム。
【００７４】
（付記６）前記保管装置は、複数の異なる工程で処理された前記半導体ウェハまたは１枚以上の前記半導体ウェハからなる半導体ウェハ群を収納したキャリアを格納するための密閉箱を、前記工程に応じて区別して保管する複数の保管エリアを有することを特徴とする付記５記載の保管システム。
【００７５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、空のキャリアボックスを、保管装置のステータスやキャリアボックスの属性に応じて割り付けられた搬送先へ自動的に搬送することができる。
【００７６】
また、保管装置内のキャリアボックス数が削減でき、コストの削減が期待できる。
さらに、クロスコンタミによるウェハの汚染を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の保管システムの構成図である。
【図２】キャリアの例を示す斜視図である。
【図３】キャリアボックスの例を示す斜視図である。
【図４】キャリア収納後の保管装置内での動作の概略を説明する図である。
【図５】製品情報テーブルの例である。
【図６】処理フローテーブルの例である。
【図７】本発明の実施の形態の保管装置の制御方法を示すフローチャートである。
【図８】キャリアボックスの不足分を補充する処理を説明する図である。
【図９】キャリアボックスのあふれ分を他の保管装置へ搬送する処理を説明する図である。
【図１０】エリア分離型生産工場の概略の構成例を示す図である。
【図１１】１つの処理装置群で異なる２つの工程を処理したウェハの保管に対応した保管装置の概略の構成図である。
【図１２】１つの処理装置群で異なる２つの工程を処理する場合における、それぞれの工程での処理の流れの一例を概略的に示す図である。
【図１３】異なる２つの工程の処理を行うウェハを管理する保管装置における処理の流れを説明するフローチャートである。
【図１４】ウェハ単体で処理装置群内を搬送可能な生産工場の概略の構成例である。
【図１５】ウェハを収納するキャリアボックスの例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１０  制御部
１０ａ  ＭＥＳ（生産管理システム）
１０ｂ  Ｎ／Ｃ（保管数管理システム）
１０ｃ  Ｔ／Ｃ（キャリア搬送制御システム）
２０−１、２０−２、２０−３、２０−４、２０−５  保管装置
２０ａ  キャリアポート
３０  搬送用レール
３１  搬送台車
４０−１、４０−２、…、４０−ｎ  キャリアボックス
５０  キャリア
６０ａ、６０ｂ  処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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