(57)【要約】【課題】製造プロセス中においてフィルム基板に皺が発生する問題を抑制して、製造歩留まりと品質の安定性の向上を図り、さらに、装置の小型化を図った薄膜形成装置、特に、薄膜太陽電池の製造装置を提供する。【解決手段】基板１０の巻出し用ロール１１ａおよび巻取り用ロール１２ａの間に配設された複数個のガイドロール５を、所定の間隔（ｄ）を有し互いに平行な線（Ａ，Ｂ線）上に、それぞれ複数個のガイドロールのロール軸中心があって、かつ前記Ａ，Ｂ線上のロール軸中心が互いに段違いとなるように配設し、さらに、基板を、Ａ，Ｂ線上のガイドロール間を交互に千鳥掛けとなるように搬送し、かつ、隣接するＡ，Ｂ線上の２個のガイドロール間に跨る基板に所定の張力（Ｃ，Ｄ）が加わるように、前記所定の間隔（ｄ）を定めた構成とする。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基板の巻出し用ロールおよび巻取り用ロールと、前記両ロール間に配設され、前記基板の搬送をガイドしかつ基板に所定の張力をかけるための複数個のガイドロールを有する基板搬送手段と、基板へ所定の薄膜形成を行なう薄膜形成処理室とを備えたロール搬送方式の薄膜形成装置において、
前記複数個のガイドロールを、所定の間隔（ｄ）を有し互いに平行な線（Ａ，Ｂ線）上に、それぞれ複数個のガイドロールのロール軸中心があって、かつ前記Ａ，Ｂ線上のロール軸中心が互いに段違いとなるように配設し、
さらに、前記基板を、前記Ａ，Ｂ線上のガイドロール間を交互に千鳥掛けとなるように搬送し、かつ、隣接するＡ，Ｂ線上の２個のガイドロール間に跨る前記基板に所定の張力が加わるように、前記所定の間隔（ｄ）を定めた構成としたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載の薄膜形成装置において、前記基板の千鳥掛けの際の基板変向角度は、６０〜１２０度としたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の薄膜形成装置において、前記Ａ，Ｂ線上に跨って隣接する２個のガイドロールのロール軸中心間距離は、基板の幅寸法の１／４以下としたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜形成装置において、前記隣接するＡ，Ｂ線上の２個のガイドロール間に跨る前記基板を挟んで基板と平行に、スパッタ処理用ターゲットと基板加熱用のヒータとを配設し、かつ前段の隣接ガイドロール間と後段の隣接ガイドロール間における少なくとも二つのターゲットは、その基板との対向面が、一方を基板表面側、他方を基板裏面側となるように配設したことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項５】
請求項４に記載の薄膜形成装置において、前記巻出し用ロールまたは巻取り用ロールと、ガイドロール間に跨る基板を挟んで基板と平行に、基板予備加熱用のヒータを配設したことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の薄膜形成装置において、前記所定の薄膜形成は、薄膜太陽電池における電極層の薄膜形成としたことを特徴とする薄膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ロール搬送方式の薄膜形成装置、特に、薄膜太陽電池の薄膜形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜太陽電池は、薄型で軽量、製造コストの安さ、大面積化が容易であることなどから、今後の太陽電池の主流となると考えられる。
【０００３】
従来の薄膜太陽電池はガラス基板を用いていたが、軽量化、施工性、量産性においてプラスチックフィルムおよび金属フィルムを用いたフレキシブルタイプの太陽電池の研究開発がすすめられている。このフレキシブル性を生かし、ロールツーロール方式またはステッピングロール方式の製造方法により大量生産が可能となった。
【０００４】
上記の薄膜太陽電池は、フレキシブルな電気絶縁性フィルム基板上に金属電極層、薄膜半導体層からなる光電変換層および透明電極層が積層されてなる光電変換素子（またはセル）が複数形成されている。ある光電変換素子の金属電極と隣接する光電変換素子の透明電極を電気的に接続することを繰り返すことにより、最初の光電変換素子の金属電極と最後の光電変換素子の透明電極とに必要な電圧を出力させることができる。例えば、インバータにより交流化し商用電力源として交流１００Ｖを得るためには、薄膜太陽電池の出力電圧は１００Ｖ以上が望ましく、実際には数１０個以上の素子が直列接続される。
【０００５】
このような光電変換素子とその直列接続は、電極層と光電変換層の成膜と各層のパターニングおよびそれらの組み合わせ手順により形成される。上記太陽電池の構成および製造方法は、例えば特開平１０−２３３５１７号公報に記載されている。
【０００６】
前記特開平１０−２３３５１７号公報に記載された薄膜太陽電池の構成概念図を、図８に示す。図８は、プラスチックフィルムを基板とした可撓性薄膜太陽電池の斜視図を示す。基板６１の表面に形成した単位光電変換素子６２および基板６１の裏面に形成した接続電極層６３はそれぞれ複数の単位ユニットに完全に分離され、それぞれの分離位置をずらして形成されている。このため、素子６２のアモルファス半導体部分である光電変換層６５で発生した電流は、まず透明電極層６６に集められ、次に該透明電極層領域に形成された集電孔６７を介して背面の接続電極層６３に通じ、さらに該接続電極層領域で素子の透明電極層領域の外側に形成された直列接続用の接続孔６８を介して上記素子と隣り合う素子の透明電極層領域の外側に延びている下電極層６４に達し、両素子の直列接続が行われている。
【０００７】
前記薄膜太陽電池の薄膜の製造方法としては、前述のように、ロールツーロール方式またはステッピングロール方式がある。両方式共に、複数のロールによる基板搬送手段を備え、前者は各成膜室内を連続的に移動する基板上に連続的に成膜する方式であり、後者は各成膜室内で同時に停止させた基板上に成膜し，成膜の終わった基板部分を次の成膜室へ送り出す方式を採用している。
【０００８】
ステッピングロール方式の成膜装置は、隣接する成膜室間のガス相互拡散を防止できることから各薄膜の特性が安定して得られるなどの点で優れており、その装置の構成は、例えば、特開平６−２９２３４９号公報や特開平８−２５０４３１号公報に記載されている。
【０００９】
前述の薄膜太陽電池の製造方法を概括的に説明した薄膜太陽電池の製造プロセスおよびロール搬送方式の製造装置における各種装置の一例を、図７に示す。図７の左側に各プロセスを示し、右側に各プロセスで使用される装置の概要を矢印で示す。
【００１０】
装置としては、穴あけ装置５１，ロールツーロール方式によるスパッタ装置５２，ステッピングロール方式による成膜装置５３，レーザースクライバー５４，特性評価装置５５などがあり、前記各装置は、巻出し用ロール１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅおよび巻取り用ロール２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄと、ガイドロール３、張力ロール４などを備える。
【００１１】
図６に、前記ロールツーロール方式によるスパッタ装置を例として、装置の詳細構成の一例を示す。図６に示す装置は、密閉容器により外部と分離され、排気ポンプ８により容器内部を真空排気される巻出し室１１の中に、巻出し用ロール１１ａに巻かれた高分子樹脂フィルム基板１０をセットし、複数個のガイドロール５を介して、フィルム基板１０の終端部を、巻取り室１２内の巻取り用ロール１２ａに巻き取るように構成されている。
【００１２】
基板１０は、繰り出しロール６とそれに接するプレスロール７との回転により搬送され、巻出し用および巻取り用のロール間を搬送する間に、基板１０は、基板内部の水分放出用予備加熱室１３とスパッタ処理室１４および１５の各処理室を経由して処理される。この間に、基板は、前記各処理室の密閉容器内に設置した各２個合計６個の鋳込みヒータ９および一つの赤外線ヒータ９ａにより加熱処理される。ヒータ９と高分子樹脂基板１０との間隔は、１０ｍｍ以下とし、基板とヒータが接触しない程度に構成される。なお、１３ａは、水分放出用予備加熱室１３で放出された水分の排出を行ない、かつスパッタ処理室との圧力を緩和するための予備室をイメージ的に示し、この中に、前記赤外線ヒータ９ａが設けられている。
【００１３】
また、図６に示す装置において、基板１０は、真空容器内で、例えば、３５０℃に設定した鋳込みヒータ９により加熱される。雰囲気ガスとしてはＡｒガスを用い、真空容器内圧力は約２７Ｐａ（２００ｍＴｏｒｒ）となるように制御される。加熱処理中にフィルム基板には、両側のプレスロール７によって仕切られる領域で所定の加熱領域張力（ＦＰ−Ｐ）が加えられる。また、その外側に位置する巻出し用および巻取り用のロール（１１ａ，１２ａ）とプレスロール７との間で、所定の巻出し側および巻取り側張力（ＦＵＷ，ＦＷ）が加えられる。
【００１４】
次に前記各処理室の詳細構成について、図５に基づき以下に述べる。図５は、図６におけるスパッタ処理室１４および１５相当部分の拡大図を示す。図５においては、図６に示す装置とは異なり、前記処理室における基板搬送方向の２つの鋳込みヒータ９間の略中央部に設けたガイドロール５は、前記基板の搬送方向中央および左右２個を含む合計３個のガイドロール（５ａ，５ｂ，５ｃ）からなり、前記中央ロール５ａと左右２個のロール（５ｂ，５ｃ）との間に基板１０を挟んでガイドするものとしている。なお、１４ａ，１５ａは、スパッタターゲットを示す。上記３個のガイドロール構成により、フィルム基板は弛むことなく、一定の張力を掛けることが出来る。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の薄膜太陽電池の製造装置においては、下記のような問題があった。
【００１６】
従来の製造装置により、可撓性を有するフィルム基板上に金属電極膜などの薄膜を形成する場合、ヒータやスパッタ放電（もしくはＣＶＤ）により基板に加わる熱の影響と、処理中（もしくは搬送中）に基板に加わる張力の影響等で、フィルム基板上に、搬送方向に平行な皺が発生する問題があった。
【００１７】
上記皺の発生のケースは、大きく二つに分類される。一つは、フィルム基板が急激に加熱され、縮むことにより発生する場合であり、もう一つは、加熱された基板が急激に冷却されることにより皺が発生する場合である。即ち、基板温度の上昇または降下の温度差が大きい程皺が発生し易く、どちらの場合も、皺が発生したままフィルム基板を巻き取ると、その形状が次工程まで、そのまま残る。
【００１８】
なお、基板の処理性格に応じて基板の最適温度が決められ、その到達温度への上昇スピードは、上記を考慮して決められるが、製造プロセスにおいて、基板温度の上昇・降下を繰り返す際に、皺が発生する場合が生ずる。
【００１９】
皺が発生した基板上に、薄膜等を形成した場合には、膜の均一性が得られず、薄膜太陽電池の特性低下や外観不良の原因となる。また、皺がある場合、形成後の薄膜に余分な応力が残留することとなるので、時間経過とともに、形成した薄膜が剥離するなどの不具合が生ずる。
【００２０】
上記のようにして生ずる皺は、前記図５に示したような３個のガイドロールの構成では、充分にその発生を防止できず、皺の発生を抑制するために、先に本件出願人は、特願２００２−５９０４５号により、下記のような薄膜太陽電池の製造装置の発明を出願している。
【００２１】
即ち、「フィルム基板の巻出し室と巻取り室との間のロール搬送処理工程上の少なくとも一部に、上流の処理工程において加熱されたフィルム基板の上昇または降下の温度差を低減させる基板温度差低減手段を備える。例えば、基板加熱用の鋳込みヒータを２分割して、高温用鋳込みヒータおよび低温用鋳込みヒータとし、それぞれのヒータの前半で温度を高く、後半で低くすることにより、基板温度の平均化を行なうことにより、皺の発生を抑制する」ことを特徴とする薄膜太陽電池の製造装置である（詳細は、前記特願２００２−５９０４５号参照）。
【００２２】
前記特願２００２−５９０４５号の発明によれば、熱的影響による皺の発生は緩和できるが、装置構成やヒータ操作が複雑となる。また、前記基板温度差低減手段やスパッタ処理装置等が順次配設されるので、装置が大型化する欠点がある。さらに、残留応力に基づく皺の発生・残留の問題が残る。
【００２３】
ところで、単純に皺をなくすことを優先した場合、大きなドラムロールにフィルム基板を巻きつける方式、所謂、キャンロール方式が有効である。この場合、製膜面積が大きくなるに従って、ドラムロールの直径を大きくしなければならない。そのため、ドラムロールを含む装置全体が大型化する問題がある。
【００２４】
皺をなくすための異なる方式として、ガイドロール数を増やすことが考えられる。前記図５に示すように、３個のガイドロールのセットを、プロセスの進行方向、即ち基板の流れ方向に、複数設ける方式もその一つであるが、この場合には、前述のように、水平または垂直方向に装置が長くなり、結果として、装置全体が大型化する。
【００２５】
さらに、多数個のガイドロールを円弧状に配置する方式も提案されている。この方式は、前記キャンロール方式における大径のドラムロールの外周を、見かけ上、複数本のガイドーロールで分割して、円弧状に配置することで、キャンロール方式と同様の機能を持たせる方式である。この方式は、キャンロール方式でドラムロール径を大きくすることに限界があるために提案された方式と考えられるが、装置全体が大型化する問題はキャンロール方式と変わりがない。
【００２６】
この発明は、上記のような問題点を解消するためになされたもので、本発明の課題は、製造プロセス中においてフィルム基板に皺が発生する問題を抑制して、製造歩留まりと品質の安定性の向上を図り、さらに、装置の小型化を図った薄膜形成装置、特に、薄膜太陽電池の製造装置を提供することにある。
【００２７】
【課題を解決するための手段】
前述の課題を解決するため、この発明は、フィルム基板の巻出し用ロールおよび巻取り用ロールと、前記両ロール間に配設され、前記基板の搬送をガイドしかつ基板に所定の張力をかけるための複数個のガイドロールを有する基板搬送手段と、基板へ所定の薄膜形成を行なう薄膜形成処理室とを備えたロール搬送方式の薄膜形成装置において、
前記複数個のガイドロールを、所定の間隔（ｄ）を有し互いに平行な線（Ａ，Ｂ線）上に、それぞれ複数個のガイドロールのロール軸中心があって、かつ前記Ａ，Ｂ線上のロール軸中心が互いに段違いとなるように配設し、
さらに、前記基板を、前記Ａ，Ｂ線上のガイドロール間を交互に千鳥掛けとなるように搬送し、かつ、隣接するＡ，Ｂ線上の２個のガイドロール間に跨る前記基板に所定の張力が加わるように、前記所定の間隔（ｄ）を定めた構成とする（請求項１の発明）。
【００２８】
上記構成によれば、フィルム基板に所定の張力を、所定の間隔で容易に加えることができ、張力制御機構が単純となり、かつ比較的大きなスペースを要しない利点がある。従って、比較的小型な装置で、製造プロセス中においてフィルム基板に皺が発生する問題が抑制できる。
【００２９】
上記請求項１の発明の実施態様としては、下記請求項２ないし６の発明が好ましい。即ち、請求項１に記載の薄膜形成装置において、前記基板の千鳥掛けの際の基板変向角度は、６０〜１２０度とすれば、前記効果は、より向上する（請求項２の発明）。また、請求項１または２に記載の薄膜形成装置において、前記Ａ，Ｂ線上に跨って隣接する２個のガイドロールのロール軸中心間距離は、基板の幅寸法の１／４以下とする（請求項３の発明）。これによれば、詳細は後述するように、基板の幅寸法が大きい場合でも、基板の弛みの発生を抑制することができ、皺の発生防止効果が大きい。
【００３０】
さらに、請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜形成装置において、前記隣接するＡ，Ｂ線上の２個のガイドロール間に跨る前記基板を挟んで基板と平行に、スパッタ処理用ターゲットと基板加熱用のヒータとを配設し、かつ前段の隣接ガイドロール間と後段の隣接ガイドロール間における少なくとも二つのターゲットは、その基板との対向面が、一方を基板表面側、他方を基板裏面側となるように配設したものとする（請求項４の発明）。
【００３１】
さらにまた、請求項５の発明のように、請求項４に記載の薄膜形成装置において、前記巻出し用ロールまたは巻取り用ロールと、ガイドロール間に跨る基板を挟んで基板と平行に、基板予備加熱用のヒータを配設したものとする。
【００３２】
前記請求項４ないし５の発明の構成および作用効果の詳細については、実施例とともに後述する。
【００３３】
また、前記発明の適用は、薄膜太陽電池の薄膜形成において最も効果的である。即ち、前記請求項１ないし５のいずれかに記載の薄膜形成装置において、前記所定の薄膜形成は、薄膜太陽電池における電極層の薄膜形成としたものとする（請求項６の発明）。
【００３４】
【発明の実施の形態】
図面に基づき、本発明の実施例について以下に述べる。
【００３５】
図１は本発明の実施例の模式的概略構成に関わり、主として基板搬送系の模式的概略構成を示し、図２は図１における基板搬送系の模式的斜視図を示す。図１，図２において、図５，図６に示した部材と同一機能部材には、同一番号を付して詳細説明を省略する。
【００３６】
図１に示す装置は、密閉容器２０により外部と隔離され、排気ポンプ８により容器内部を真空排気している。この容器の中に、巻出し用ロール１１ａに巻かれたフィルム基板１０をセットし、複数のガイドロール５に基板を掛け渡し、フィルム基板終端部を巻取り用ロール１２ａに固定している。基板１０は、繰り出しロール６とそれに接するプレスロール７との回転により搬送され、巻出し用および巻取り用のロール間を搬送する間に、密閉容器２０内で、薄膜形成処理が行なわれる。なお、図１では、薄膜形成処理用の装置の図示は省略している。
【００３７】
図１は、請求項１に記載のようなフィルム基板搬送のためのガイドロール５の配置により、製膜時の皺発生を抑えた実施例である。即ち、複数のガイドロール５のロール軸中心を、図示Ａ，Ｂ線上の２列に配置する。各列のガイドロール５の軸中心は、列ごとに同一直線上に配設され、２列の軸中心を結んだ直線Ａ，Ｂは互いに平行になるようにする。また、各列のガイドロール５は、対向する他の列の２本のロールの中間に配置して、互い違いになるように配置されている。
【００３８】
この場合、フィルム基板１０は、そのガイドロール５の間を「く」の字型になるように搬送される。即ち、基板１０は、前記Ａ，Ｂ線上のガイドロール間を交互に千鳥掛けとなるように搬送され、かつ、隣接するＡ，Ｂ線上の２個のガイドロール間に跨る基板に、所定の張力（図示Ｃ，Ｄ）が加わるように、Ａ，Ｂ間距離（ｄ）が定められている。
【００３９】
上記のようにすることで、基板１０には、一対のプレスロール７および繰り出しロール６により基板搬送方向に加える張力（搬送張力）に加えて、ガイドロール５間で基板に加わる張力が重畳されて、図１における矢印Ｃ，Ｄで示すような引っ張り力が作用する。その結果、前記搬送張力が小さい場合でも、基板は伸ばされ、ガイドロール５間に位置する基板面は皺の発生が防止され平らとなる。なお、搬送張力が大きすぎると、Ｃ，Ｄで示す引っ張り力が大きくなり過ぎ、搬送方向に平行な皺が発生するので、適切な値を選定する必要ある。前記引っ張り力としては、例えば、２ｋｇｆ／ｍ（基板幅）が望ましい。
【００４０】
また図１において、基板の千鳥掛けの際の基板変向角度αは、６０度から１２０度の範囲となるように、ガイドロール５を配設することがより好ましい。さらに、詳細は後述するが、図２に示すように、隣接する２個のガイドロールのロール軸中心間距離ｐは、基板の幅寸法Ｌの１／４以下とすることが好ましい。
【００４１】
上記のように、ガイドロールの構成を工夫したことにより、複雑な張力制御機構を設けることなく、フィルム基板を好適に支持し、かつ皺の発生が防止可能となる。なお、ガイドロールの配置は、鉛直であっても、水平であっても構わない。しかしながら、図２に示すように、ガイドロールを水平に配置し、ガイドロールに沿ってフィルム基板１０が鉛直方向の上から下に搬送される構成とする方が、搬送張力を低くする上で好ましい。なぜならば、基板の自重により、基板は鉛直方向に伸びようとするので、張力発生用として加える機械的な力を低減できる。また、搬送経路を「く」の字型にしたことによって、真空容器を小型化でき、装置全体の小型化が可能となる。
【００４２】
次に、前述のように、ガイドロールのロール軸中心間距離ｐを、基板の幅寸法Ｌの１／４以下とすることの効果について述べる。図１，２の実施例において、ロール軸中心間距離ｐが大きくなると、フィルム基板の弛み（撓み）が生じ、皺の発生防止の効果が小さくなる。実用的な基板幅は０．５〜１．５ｍ程度であり、この範囲のフィルム基板について、前記ロール軸中心間距離ｐを任意に変えて、フィルム基板の弛みとロール間の基板の状態を確認した。一例として、５００ｍｍ幅のフィルム基板について測定した結果を図３に示す。
【００４３】
図３はロール軸中心間距離（ｍｍ）と基板弛み（ｍｍ）との関係の実験結果を示す図である。ロール軸中心間距離を、フィルム幅の２倍である１０００ｍｍにした場合、基板の弛みは約１８ｍｍとなるが、基板幅の四分の一である１２５ｍｍとすることにより、基板弛みは、ほぼゼロとなった。この結果から、ガイドロールのロール軸中心間距離ｐは、基板の幅寸法Ｌの１／４以下とすることが好ましいことが判明した。
【００４４】
次に、請求項４ないし６の発明に関わる実施例について、図４に基づいて述べる。図４は、前記図８に示す薄膜太陽電池の基板６１の表面側に下電極層６４を形成し、裏面側に接続電極層６３をロールツーロールスパッタ装置により形成する場合の実施例を示す。
【００４５】
従来のロールツーロールスパッタ装置では、フィルム基板１０の両面に電極層を形成する場合、まず一方の面のみに電極層を形成した後、一旦真空密閉容器内を大気に開放する。その後、基板の表裏を入れ替え、再び真空排気し、所定の真空度に到達してからもう一方の面の電極層形成を行っていた。前記従来の方法では、始めの電極層形成終了後、膜が形成された側への基板の反り返りや膜応力による歪が生ずる問題があった。
【００４６】
図３の実施例によれば、通常の皺の発生の問題に加えて、上記のような基板の表裏入れ替えに伴う問題も同時に解消できる。即ち、図３によれば、フィルム基板１０を挟んで平行な位置に、対向するように設置された加熱ヒータ３０とスパタッタターゲット１４ａとにより、ガイドロール５を通過する間に電極層の膜形成を行う。この方法によれば、フィルム基板の表裏を、各ガイドロール５間で、互い違いに順次製膜することができ、前記基板表裏の入れ替え操作が必要ないので、前記膜応力による反りや歪の発生を抑制できる。
【００４７】
なお、一つのスパタッタターゲット１４ａで形成する薄膜の厚さは、１００ｎｍ程度が好ましく、また加熱ヒータ３０による基板加熱は、３００℃前後が好ましい。電極層の所定膜厚を形成する場合、加熱ヒータ３０及びスパタッタターゲット１４ａを任意の数だけ配置することで対応できる。
【００４８】
また、製膜を行わない部分では、予備ヒータ３１による加熱を行ない、ガイドロール５自身も加熱することによって、基板１０に加わる温度の変化を緩和できる。上記のような構成とすることにより、１回の基板搬送により、基板両面に電極膜を形成し、かつ電極層の膜に残留する膜応力を低減することが可能となる。
【００４９】
【発明の効果】
この発明によれば前述のように、フィルム基板の巻出し用ロールおよび巻取り用ロールと、前記両ロール間に配設され、前記基板の搬送をガイドしかつ基板に所定の張力をかけるための複数個のガイドロールを有する基板搬送手段と、基板へ所定の薄膜形成を行なう薄膜形成処理室とを備えたロール搬送方式の薄膜形成装置において、前記複数個のガイドロールを、所定の間隔（ｄ）を有し互いに平行な線（Ａ，Ｂ線）上に、それぞれ複数個のガイドロールのロール軸中心があって、かつ前記Ａ，Ｂ線上のロール軸中心が互いに段違いとなるように配設し、さらに、前記基板を、前記Ａ，Ｂ線上のガイドロール間を交互に千鳥掛けとなるように搬送し、かつ、隣接するＡ，Ｂ線上の２個のガイドロール間に跨る前記基板に所定の張力が加わるように、前記所定の間隔（ｄ）を定めた構成としたことにより、
製造プロセス中においてフィルム基板に皺が発生する問題を抑制して、製造歩留まりと品質の安定性の向上を図り、さらに、装置の小型化を図った薄膜形成装置、特に、薄膜太陽電池の製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例の模式的構成図
【図２】図１のロール搬送系の斜視図
【図３】ロール軸中心間距離と基板弛みの関係の実験結果を示す図
【図４】本発明のロールツーロールスパッタ装置の実施例の模式的構成図
【図５】従来の薄膜形成処理室の拡大概略構成図
【図６】従来のロールツーロールスパッタ装置の詳細構成の一例を示す図
【図７】薄膜太陽電池の製造プロセスおよび各種装置の一例を総括的に示す図
【図８】薄膜太陽電池の概略構成を説明する斜視図
【符号の説明】
５：ガイドロール、６：繰り出しロール、７：プレスロール、１０：基板、１１ａ：巻出し用ロール、１２ａ：巻取り用ロール、１４ａ：スパッタリングターゲット、３０：加熱ヒータ、３１：予備ヒータ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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