(57)【要約】【課題】酸化や吸湿を防止する保護膜にしわを生じさせず、また輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができる放射線画像変換パネルの製造方法を提供し、併せて密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを提供する。【解決手段】板状の支持体と該支持体上に形成された輝尽性蛍光体層と該輝尽性蛍光体層を被覆して封止する保護膜とを有する放射線画像変換パネル。前記保護膜を前記支持体に固定する枠体を備える。前記支持体は一方の面に前記輝尽性蛍光体層が形成される蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む段差とを有する。前記枠体は前記段差との間に前記輝尽性蛍光体層を被覆する前記保護膜の周縁部を挟んで嵌合する。【選択図】      図１
2004205355.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の支持体と該支持体上に形成された輝尽性蛍光体層と該輝尽性蛍光体層を被覆して封止する保護膜とを有する放射線画像変換パネルであって、
前記保護膜を前記支持体に固定する枠体を備え、
前記支持体は一方の面に前記輝尽性蛍光体層が形成される蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む段差とを有し、
前記枠体は前記段差との間に前記輝尽性蛍光体層を被覆する前記保護膜の周縁部を挟んで嵌合していることを特徴とする放射線画像変換パネル。
【請求項２】
板状の支持体と該支持体上に形成された輝尽性蛍光体層と該輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜とを有する放射線画像変換パネルであって、
前記支持体は片面に輝尽性蛍光体層が形成される蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む接合部とを有し、
前記保護膜は前記輝尽性蛍光体層を被覆しかつ周縁部に前記接合部と接合する枠状部材を有し、
前記枠状部材は厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄いことを特徴とする放射線画像変換パネル。
【請求項３】
前記枠状部材の開口部を閉塞するように前記保護膜に前記枠状部材が接合されることにより、前記保護膜に前記枠状部材が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の放射線画像変換パネル。
【請求項４】
前記輝尽性蛍光体層は前記支持体上に気相堆積法により形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネル。
【請求項５】
前記輝尽性蛍光体層は柱状結晶構造を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネル。
【請求項６】
前記保護膜は樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の放射性画像変換パネル。
【請求項７】
前記保護膜は無機物質の蒸着層を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の放射性画像変換パネル。
【請求項８】
前記無機物質の蒸着層を有する保護膜は透湿度が０．０１〜１．０ｇ／m2／２４hrの範囲であることを特徴とする請求項７に記載の放射線画像変換パネル。
【請求項９】
板状の支持体に輝尽性蛍光体層を形成し該輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する放射線画像変換パネルの製造方法であって、
片面に輝尽性蛍光体層が形成される蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む段差とを有する支持体の前記蛍光体層形成部に輝尽性蛍光体層を形成し、次いで前記輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆した後、前記段差と嵌合可能な枠体と前記段差との間に前記輝尽性蛍光体層を被覆する前記保護膜の周縁部を挟み前記枠体と前記段差とを嵌合させることで前記保護膜を前記輝尽性蛍光体層上に固定して前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記保護膜を前記枠体と前記段差との間に挟んで前記枠体と前記段差とを嵌合させた後、前記保護膜の前記枠体よりも外側の周縁部を前記枠体の面方向外側へ引っ張ることを特徴とする請求項９に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記段差に前記枠体が嵌合する前に接着剤を塗布しておくことを特徴とする請求項９または１０に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記保護膜を前記枠体と前記段差との間に挟んで前記枠体と前記段差とを嵌合させた後、前記保護膜を前記蛍光体層形成部と前記段差との間で前記支持体に接合することを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記保護膜を前記枠体と前記段差との間に挟んで前記枠体と前記段差とを嵌合させた後、前記保護膜の前記段差よりも外側の周縁部で前記支持体と接合し前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする請求項９〜１２いずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項１４】
板状の支持体に輝尽性蛍光体層を形成し該輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆する放射線画像変換パネルの製造方法であって、
一方の面に蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む接合部とを有する前記支持体の前記蛍光体層形成部に前記輝尽性蛍光体層を形成し、厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄い枠状部材を前記保護膜に設け、前記枠状部材と前記接合部とを接合することで前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記枠状部材の開口部を閉塞するように前記枠状部材を前記保護膜に接合することにより、前記保護膜に前記枠状部材を設けることを特徴とする請求項１４に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する課程を乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気、または減圧雰囲気のいずれかで行うことを特徴とする請求項９〜１５のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、放射線画像を得るために銀塩を使用しないで放射線像を画像化する方法として、支持体上に輝尽性蛍光体層を設けた放射線画像変換パネルが開発されている。
【０００３】
放射線画像変換パネルは、輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線を当てて、被写体各部の放射線透過密度に対応する放射線エネルギーを蓄積させることができる。その後、輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを輝尽発光として放出させる。この光の強弱による信号を、例えば、光電変換して電気信号を得て、この信号をハロゲン化銀写真感光材料などの記録材料、ＣＲＴなどの表示装置上に可視像として再生することができる。
【０００４】
これらの輝尽性蛍光体を使用した放射線画像変換パネルは、放射線画像情報を蓄積した後、励起光の走査によって蓄積エネルギーを放出するので、走査後に再度放射線画像の蓄積を行うことができ、繰り返し使用が可能である。つまり従来の放射線写真法では、一回の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線画像変換方法では放射線画像変換パネルを繰り返し使用するので、資源保護、経済効率の面からも有利である。
【０００５】
繰り返し使用に耐えうるべく、放射線画像変換パネルには通常、輝尽性蛍光体層の支持体に面していない側の面に保護膜が設けられ、輝尽性蛍光体層を吸湿や酸化等の化学的な変質あるいは物理的な汚染から保護している。
【０００６】
放射線画像変換パネルに保護膜を設ける方法としては、図７ａに示すように、支持体１１上に形成された輝尽性蛍光体層１２を保護膜２１で被覆し、支持体の周辺部で保護膜２１と支持体１１とを接着する方法が知られている。保護膜２１の素材としては、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂フィルムなどが知られている。
【０００７】
また、無機物質が蒸着された樹脂フィルムで輝尽性蛍光体層を覆い、減圧しながら支持体の周辺部で熱接着する方法や、乾燥窒素ガスを封入して熱接着する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００２−１０７４９５号公報（第９頁）
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかし上記の方法では、保護膜にしわを生じさせずに輝尽性蛍光体層を被覆して密封することが難しかった。
また図７ｂに示すように、輝尽性蛍光体層２１に厚みがあるために輝尽性蛍光体層１２の角部では、保護膜２１と支持体１１との間に外部と連通する隙間２４が生じやすく、確実な封止が難しかった。このため保護膜２１と支持体１１との間に隙間２４が生じた場合には、輝尽性蛍光体層１２が吸湿したり酸化したりして感度が低下し、画質が劣化して放射線画像変換パネルの寿命を縮める恐れがあった。
【００１０】
本発明の課題は、酸化や吸湿を防止する保護膜にしわを生じさせず、また輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができる放射線画像変換パネルの製造方法を提供し、併せて密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するため、本発明の請求項１に記載の発明は、板状の支持体と該支持体上に形成された輝尽性蛍光体層と該輝尽性蛍光体層を被覆して封止する保護膜とを有する放射線画像変換パネルであって、前記保護膜を前記支持体に固定する枠体を備え、前記支持体は一方の面に前記輝尽性蛍光体層が形成される蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む段差とを有し、前記枠体は前記段差との間に前記輝尽性蛍光体層を被覆する前記保護膜の周縁部を挟んで嵌合していることを特徴とする。
【００１２】
請求項１に記載の発明によれば、輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部を枠体と支持体とで挟んで嵌合しているので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルとすることができる。
また輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部が枠体を嵌合させる際に引っ張られるので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を防止することができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、板状の支持体と該支持体上に形成された輝尽性蛍光体層と該輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜とを有する放射線画像変換パネルであって、前記支持体は片面に輝尽性蛍光体層が形成される蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む接合部とを有し、前記保護膜は前記輝尽性蛍光体層を被覆しかつ周縁部に前記接合部と接合する枠状部材を有し、前記枠状部材は厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄いことを特徴とすることを特徴とする。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、酸化や吸湿を防止する保護膜の枠状部材が支持体の接合部と接合しているので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルとすることができる。
また枠状部材の厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄いので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を防止することができる。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の放射線画像変換パネルであって、前記枠状部材の開口部を閉塞するように前記保護膜に前記枠状部材が接合されることにより、前記保護膜に前記枠状部材が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
請求項３に記載の発明によれば、請求項２に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、枠状部材の開口部を閉塞するように前記保護膜に前記枠状部材が接合されていることにより、前記保護膜に前記枠状部材が設けられているので、枠状部材を保護膜に容易に形成することができる。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルであって、前記輝尽性蛍光体層は前記支持体上に気相堆積法により形成されることを特徴とする。
【００１８】
請求項４記載の発明によれば、請求項１〜３のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、輝尽性蛍光体層を支持体上に気相堆積法により形成するので、輝尽性蛍光体層の層厚や組成を任意に設定することができる。
【００１９】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルであって、前記輝尽性蛍光体層は柱状結晶構造を有することを特徴とする。
【００２０】
請求項５に記載の発明によれば、請求項１〜４のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、輝尽性蛍光体層が柱状結晶構造を有するので、より一層感度及び鮮鋭性の優れた放射線画像変換パネルとすることができる。
【００２１】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載の放射性画像変換パネルであって、前記保護膜は樹脂フィルムであることを特徴とする。
【００２２】
請求項６に記載の発明によれば、請求項１〜５のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜を樹脂フィルムとすることで、薄層にしても強度に問題がなく、また薄層にすることで光の拡散による画質の劣化を防止し、より一層感度及び鮮鋭性の優れた放射線画像変換パネルとすることができる。
【００２３】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか一項に記載の放射性画像変換パネルであって、前記保護膜は無機物質の蒸着層を有することを特徴とする。
【００２４】
請求項７に記載の発明によれば、請求項１〜６のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜が無機物質の蒸着層を有するので、より一層、保護膜の透湿度、酸素透過度を低下させることができる。
【００２５】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の放射線画像変換パネルであって、前記無機物質の蒸着層を有する保護膜は透湿度が０．０１〜１．０ｇ／m2／２４hrの範囲であることを特徴とする。
【００２６】
請求項８に記載の発明によれば、請求項７に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、無機物質の蒸着層を有する保護膜の透湿度が０．０１〜１．０ｇ／m2／２４hrの範囲であるので、より一層、放射線画像変換パネルの感度、鮮鋭度及び輝度を向上させることができる。
【００２７】
請求項９に記載の発明は、板状の支持体に輝尽性蛍光体層を形成し該輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する放射線画像変換パネルの製造方法であって、片面に輝尽性蛍光体層が形成される蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む段差とを有する支持体の前記蛍光体層形成部に輝尽性蛍光体層を形成し、次いで前記輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆した後、前記段差と嵌合可能な枠体と前記段差との間に前記輝尽性蛍光体層を被覆する前記保護膜の周縁部を挟み前記枠体と前記段差とを嵌合させることで前記保護膜を前記輝尽性蛍光体層上に固定して前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする。
【００２８】
請求項９に記載の発明によれば、輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部を枠体と支持体とで挟んで嵌合させるので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを得ることができる。
また輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部が枠体を嵌合させる際に引っ張られるので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を抑制することができる。
【００２９】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の放射線画像変換パネルの製造方法であって、前記保護膜を前記枠体と前記段差との間に挟んで前記枠体と前記段差とを嵌合させた後、前記保護膜の前記枠体よりも外側の周縁部を前記枠体の面方向外側へ引っ張ることを特徴とする。
【００３０】
請求項１０に記載の発明によれば、請求項９に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜の枠体よりも外側の周縁部を枠体の面方向外側へ引っ張ることで、保護膜の張力を均等にしてより確実にしわをとることができる。
【００３１】
請求項１１に記載の発明は、請求項９または１０に記載の放射線画像変換パネルの製造方法であって、前記段差に前記枠体が嵌合する前に接着剤を塗布しておくことを特徴とする。
【００３２】
請求項１２に記載の発明は、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法であって、前記保護膜を前記枠体と前記段差との間に挟んで前記枠体と前記段差とを嵌合させた後、前記保護膜を前記蛍光体層形成部と前記段差との間で前記支持体に接合することを特徴とする。
【００３３】
請求項１３に記載の発明は、請求項９〜１２いずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法であって、前記保護膜を前記枠体と前記段差との間に挟んで前記枠体と前記段差とを嵌合させた後、前記保護膜の前記段差よりも外側の周縁部で前記支持体と接合し前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする。
【００３４】
請求項１１〜１３に記載の発明によれば、請求項９または１０に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜と支持体とを接合することで輝尽性蛍光体層を封止するので、より一層密封性に優れた構造とすることができる。
【００３５】
請求項１４に記載の発明は、板状の支持体に輝尽性蛍光体層を形成し該輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆する放射線画像変換パネルの製造方法であって、一方の面に蛍光体層形成部と該蛍光体層形成部を囲む接合部とを有する前記支持体の前記蛍光体層形成部に前記輝尽性蛍光体層を形成し、厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄い枠状部材を前記保護膜に設け、前記枠状部材と前記接合部とを接合することで前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする。
【００３６】
請求項１４に記載の発明によれば、酸化や吸湿を防止する保護膜の枠状部材を支持体の接合部と接合するので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを得ることができる。
また枠状部材の厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄いので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を防止することができる。
【００３７】
請求項１５に記載の発明は、請求項１４に記載の放射線画像変換パネルの製造方法であって、前記枠状部材の開口部を閉塞するように前記枠状部材を前記保護膜に接合することにより、前記保護膜に前記枠状部材を設けることを特徴とする。
【００３８】
請求項１５に記載の発明によれば、請求項１４に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、枠状部材の開口部を閉塞するように枠状部材を保護膜に接合することにより、前記保護膜に前記枠状部材を設けるので、枠状部材を保護膜に容易に形成することができる。
【００３９】
請求項１６に記載の発明は、請求項９〜１５のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法であって、前記輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する一連の課程を乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気、または減圧雰囲気のいずれかで行うことを特徴とする。
【００４０】
請求項１６に記載の発明によれば、請求項９〜１５いずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、前記輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する一連の課程を乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気、または減圧雰囲気のいずれかで行うので、水や酸素を輝尽性蛍光体層とともに封止することがなく、より一層酸化や吸湿を防止して密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを得ることができる。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の第１の実施の形態例について詳細に述べる。図１に示すように、本発明の実施の形態例の放射線画像変換パネルは、板状の支持体１１と、支持体１１の一方の面に形成された輝尽性蛍光体層１２と、輝尽性蛍光体層１２を被覆する保護膜２１と、保護膜２１を支持体１１に固定して輝尽性蛍光体層１２を封止する枠体２２とからなる。
【００４２】
図２に示すように、支持体１１の一方の面には輝尽性蛍光体層１２が形成される蛍光体層形成部１１ａと、蛍光体層形成部１１ａを囲んで段差１１ｂが設けられている。段差１１ｂは枠体２２との間に保護膜２１を挟んで嵌合するような形状となっていればよく、図２ｂに示すように溝状であってもよいし、図３に示すように支持体１１の周縁部に設けられた段差１１ｂであってもよい。また図では段差１１ｂの平面形状は矩形に形成されているが、本発明の効果が得られる範囲内で任意の形状とすることができ、円環状、多角形状等にすることができる。
【００４３】
支持体１１として、熱伝導率が０．１〜２０W/mKの高分子材料を用いることで、支持体１１上に形成される輝尽性蛍光体層１２の形成時における熱分布と放熱特性が均一化し、結果、結晶の先端径が細かく、結晶として大きくならない柱状結晶が得られ、かつ賦活剤を均一に蛍光体層に形成できる。
【００４４】
熱伝導率が０．１〜２０W/mKの高分子材料としては、例えば樹脂含浸炭素繊維（炭素繊維強化樹脂）を用いることができ、具体的には市販されている炭素繊維（東邦レーヨン（株）製＃１３２、エポキシ樹脂含浸）が挙げられる。また従来の放射線画像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選ぶこともでき、石英ガラスシート、アルミニウム、鉄、スズ、クロムなどからなる金属シート、およびアラミドなどからなる樹脂シートやこれらを貼り合わせたものなどを用いることができる。
【００４５】
また、支持体１１の少なくとも一方の面には、ガラス転移点（Ｔｇ）が８０℃〜３５０℃の化合物からなる樹脂層を有することが好ましい。支持体１１の少なくとも一方の面に樹脂層を設けることで、支持体１１の表面を平滑にすることができ、輝尽性蛍光体層１２を平滑に形成することができる。
さらに支持体１２の両方の面に樹脂層を有する場合には、加熱したときに樹脂含浸炭素繊維と樹脂層との熱膨張率の差によって支持体がひずむことを防止することができる。
【００４６】
ガラス転移点（Ｔｇ）が８０℃〜３５０℃の化合物としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート、パラフィン、グラファイト等を用いることができ、好ましくはポリイミドを用いることができる。
【００４７】
支持体１１の蛍光体層形成部１１ａには輝尽性蛍光体の柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層１２が気相堆積法で５０μｍ以上、好ましくは３００〜５００μｍの厚さに形成されている。
【００４８】
本発明に好ましく用いられる輝尽性蛍光体としては、一般式（１）で表されるものを使用することができる。
M1X・ａM2X'2・bM3X''3：eA・・・（１）
【００４９】
ここで、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、特にK、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であることが好ましい。
【００５０】
M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも一種の二価金属であり、特に、Be、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれる少なくとも一種の二価金属であることが好ましい。
【００５１】
M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、特に、Y、La、Ce、Sm、Eu、Gd、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも一種の三価金属であることが好ましい。
【００５２】
X、X'及びX''はF、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、特にXはBr及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであることが好ましい。
【００５３】
AはEu、Tb、In、Ga、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属であり、特にEu、Cs、Sm、Tl及びNaからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属であることが好ましい。
【００５４】
a、b、eはそれぞれ0≦a＜0.5、0≦b＜0.5、0＜e≦0.2の範囲の数値を示し、特にbは0≦b≦10-2 の範囲の数値を示すことが好ましい。
【００５５】
上記の輝尽性蛍光体は、例えば下記（ａ）〜（ｄ）の輝尽性蛍光体原料を用いて以下に述べる製造方法により製造される。
【００５６】
（ａ）LiF、LiCl、LiBr、LiI、NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CsBr及びCsIからなる群から選ばれる少なくとも１種もしくは２種以上の化合物。
【００５７】
（ｂ）BeF2、BeCl2、BeBr2、BeI2、MgF2、MgCl2、MgBr2、MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、SrCl2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaCl2、BaBr2、BaI2、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、CdI2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI2、NiF2、NiCl2、NiBr2及びNiI2からなる群から選ばれる少なくとも１種もしくは２種以上の化合物。
【００５８】
（ｃ）ScF3、ScCl3、ScBr3、ScI3、YF3、YCl3、YBr3、YI3、LaF3、LaCl3、LaBr3、LaI3、CeF3、CeCl3、CeBr3、CeI3、PrF3、PrCl3、PrBr3、PrI3、NdF3、NdCl3、NdBr3、NdI3、PmF3、PmCl3、PmBr3、PmI3、SmF3、SmCl3、SmBr3、SmI3、EuF3、EuCl3、EuBr3、EuI3、GdF3、GdCl3、GdBr3、GdI3、TbF3、TbCl3、TbBr3、TbI3、DyF3、DyCl3、DyBr3、DyI3、HoF3、HoCl3、HoBr3、HoI3、ErF3、ErCl3、ErBr3、ErI3、TmF3、TmCl3、TmBr3、TmI3、YbF3、YbCl3、YbBr3、YbI3、LuF3、LuCl3、LuBr3、LuI3、AlF3、AlCl3、AlBr3、AlI3、GaF3、GaCl3、GaBr3、GaI3、InF3、InCl3、InBr3及びInI3からなる群から選ばれる少なくとも１種もしくは２種以上の化合物。
【００５９】
（ｄ）Eu、Tb、In、Ga、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも一種もしくは２種以上の金属。
【００６０】
上記（ａ）〜（ｄ）の輝尽性蛍光体原料を一般式（１）のa、b、eの範囲を満たすように秤量し、純水にて混合する。この際、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合してもよい。
【００６１】
次に、得られた混合液のｐＨ値Cを0＜C＜7に調整するように所定の酸を加えた後、水分を蒸発気化させる。
【００６２】
次に、得られた原料混合物を石英ルツボあるいはアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉内で焼成を行う。焼成温度は５００〜１０００℃が好ましい。焼成時間は原料混合物の充填量、焼成温度等によって異なるが、０．５〜６時間が好ましい。
【００６３】
焼成雰囲気としては少量の水素ガスを含む窒素ガス雰囲気、少量の一酸化炭素を含む炭酸ガス雰囲気等の弱還元性雰囲気、窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気あるいは少量の酸素ガスを含む弱酸化性雰囲気が好ましい。
【００６４】
なお、前記の焼成条件で一度焼成した後、焼成物を電気炉から取り出して粉砕し、しかる後、焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填して電気炉に入れ、前記と同じ焼成条件で再焼成を行えば輝尽性蛍光体の発光輝度を更に高めることができ、また、焼成物を焼成温度より室温に冷却する際、焼成物を電気炉から取り出して空気中で放冷することによっても所望の輝尽性蛍光体を得ることができるが、焼成時と同じ、弱還元性雰囲気、中性雰囲気あるいは弱酸化性雰囲気のままで冷却してもよい。
【００６５】
また、焼成物を電気炉内で加熱部より冷却部へ移動させて、弱還元性雰囲気、中性雰囲気あるいは弱酸化性雰囲気で急冷することにより、得られた輝尽性蛍光体の輝尽による発光輝度をより一層高めることができる。
【００６６】
輝尽性蛍光体層は、上記の輝尽性蛍光体を支持体１１の一面へ気相堆積法を用いて形成される。
気相堆積法としては、PVD法（Physical Vapor Deposition、物理蒸着法）、スパッタリング法、CVD法（Chemical Vapor Deposition、化学蒸着法）、イオンプレーティング法、その他を用いることができる。
【００６７】
PVD法では、まず、支持体を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して１．３３３×１０-4Ｐａ程度の真空度とする。
次いで、前記輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて、前記支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに成長させる。
【００６８】
この結果、結着材を含有しない輝尽性蛍光体層が形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。
また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱機あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。
【００６９】
スパッタリング法では、PVD法と同様、支持体をスパッタリング装置内に設置した後、装置内を一旦排気して１．３３３×１０-4Ｐａ程度の真空度とし、次いでスパッタリング用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスをスパッタリング装置内に導入して１．３３３×１０-1Ｐａ程度のガス圧とする。次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、前記支持体上に輝尽性蛍光体層を所望の厚さに成長させる。
【００７０】
前記輝尽性蛍光体層の膜厚は、放射線画像変換パネルの使用目的によって、また輝尽性蛍光体の種類により異なるが、５０μｍ以上、好ましくは３００〜５００μｍである。
【００７１】
上記の気相堆積法による輝尽性蛍光体層の作成にあたり、輝尽性蛍光体層が形成される支持体の温度は、５０℃以上に設定することが好ましく、更に好ましくは、１５０℃以上であり、特に好ましくは１５０℃〜４００℃である。
【００７２】
図４は、支持体１１上に輝尽性蛍光体層１２が蒸着により形成される様子を示す図である。支持体ホルダ１５に固定された支持体１１面の法線方向（Ｒ）に対する輝尽性蛍光体の蒸気流１６の入射角度をθ2（図では６０°）とし、形成される柱状結晶１３の支持体面の法線方向（Ｒ）に対する角度をθ1（図では３０°）とすると、経験的にはθ1はθ2の約半分となり、この角度で柱状結晶１３が形成される。
【００７３】
また、柱状結晶１３の間に形成された間隙１４に結着剤等の充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層１２の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射の物質を充填してもよい。これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層１２に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。
【００７４】
スパッタリング工程ではPVD法と同様に各種応用処理を用いることができる。CVD法やイオンプレーティング法、その他においても同様である。
なお、前記気相堆積法における輝尽性蛍光体層の成長速度は、０．０５μｍ／ｍｉｎ〜３００μｍ／ｍｉｎであることが好ましい。成長速度が０．０５μｍ／ｍｉｎ未満の場合には放射線画像変換パネルの生産性が悪く好ましくない。また成長速度が３００μｍ／ｍｉｎを超える場合には成長速度のコントロールが難しく好ましくない。
【００７５】
以上のようにして輝尽性蛍光体層１２を形成した後、輝尽性蛍光体層１２を被覆する保護膜２１が設けられる。
【００７６】
保護膜２１の材料としては、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体などの通常の樹脂フィルムが用いられる。
【００７７】
また、これらの樹脂フィルムは、透湿度及び酸素透過性が低い無機物質の層を積層して有していてもよい。無機物質の層が積層された樹脂フィルムは、透湿度が０．０１〜１．０ｇ／m2／２４hrの範囲であることが好ましく、また保護膜の層厚は、０．１〜２０００μｍであることが好ましい。
【００７８】
このような無機物質としては、SiOx（SiO、SiO2）、Al2O3、ZrO2、SnO2，SiC、SiN等があるが、このうち特にAl2O3やSiOxは光透過率が高くかつ透湿度及び酸素透過性が高い、すなわちクラックやマイクロポアが少なく緻密な膜を形成することができるので特に好ましい。SiOx、Al2O3は単独で積層しても良いが、両方を共に積層すると透湿度及び酸素透過性をより高くすることができるので、SiOx、Al2O3の両方を積層することがより好ましい。
【００７９】
無機物質の樹脂フィルムへの積層は、PVD法、スパッタリング法、CVD法、PE-CVD（Plasma enhanced CVD）等の方法が使用できる。積層は、蛍光体層を樹脂フィルムで被覆したのちに行ってもよいし、蛍光体層を被覆する前に行ってもよい。積層厚は０．０１μmから１μm程度であることが好ましい。
【００８０】
保護膜２１を支持体１１に固定する枠体２２は、段差１１ｂとの間に保護膜２１を挟んで嵌合するような形状となっており、図２、３に示すように段差１１ｂと対応した形状であればよい。また図面では枠体２２の平面形状は輝尽性蛍光体層１２の平面形状に合わせて矩形に形成されているが、段差１１ｂと同様に本発明の効果が得られる範囲内で任意の形状とすることができ、円環状、多角形状等にすることができる。
枠体２２の素材としては、支持体１１と同様の素材を用いてもよいし、保護膜２１と同様の素材を用いてもよい。また、その他の素材を用いてもよい。
【００８１】
次に、本発明の放射線画像変換パネルの製造方法における、輝尽性蛍光体層１２を保護膜２１で被覆して封止する方法について説明する。
まず蛍光体層形成部１１ａに輝尽性蛍光体層１２が形成された支持体に、上記の保護膜２１を被せて輝尽性蛍光体層１２を被覆する。次に枠体２２を、支持体１１の輝尽性蛍光体層１２が形成された側の面に、枠体２２の開口部分に輝尽性蛍光体層１２がくるように保護膜２１を挟んで配置する。最後に支持体１１の段差１１ｂと枠体２２との間に保護膜２１の周縁部を挟んで段差１１ｂと枠体２２とを嵌合し、輝尽性蛍光体層１２を封止する。
【００８２】
このように輝尽性蛍光体層１２を被覆する保護膜２１の周縁部を枠体２２と支持体１１とで挟んで嵌合するので、保護膜２１と支持体１１との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層１２を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルとすることができる。
また輝尽性蛍光体層１２を被覆する保護膜２１の周縁部が枠体２２を嵌合させる際に引っ張られるので、保護膜２１に張力が発生し、保護膜２１のしわの発生を抑制することができる。
【００８３】
なお、段差１１ｂと枠体２２とを嵌合した後に、枠体２２よりも外側の保護膜２１の周縁部を枠体２２の面方向外側へ引っ張ると、保護膜２１にかかる張力を均等にしてしわをより確実にとることができる
【００８４】
また、段差１１ｂには枠体２２と嵌合する前に接着剤を塗布しておき、保護膜２１と支持体１１とを接着してもよい。あるいは、保護膜２１の一方の面全体に接着剤を塗布しておいてもよい。
【００８５】
接着剤としては、透湿度、酸素透過度がともに低いものであれば任意のものを使用することができ、ホットメルト等を使用することができる。保護膜全体に接着剤を塗布する場合には、さらに光透過率が高いものが好ましい。このような接着剤として例えばポリエステル樹脂溶液を使用することができる。
【００８６】
接着剤としてポリエステル樹脂溶液を使用する場合には、例えば保護膜の一方の面にポリエステル樹脂溶液を塗布、固化させて接着層とする。次に接着層が内側となるようにして上述のように輝尽性蛍光体層を封止した後、任意の箇所を一時的に熱して接着すればよい。
【００８７】
支持体１１と保護膜２１とを接着する場所としては、段差１１ｂのほかに、支持体１１の蛍光体層形成部１１ａと段差１１ｂとの間でもよいし、段差１１ｂよりも外側の周縁部でもよい。
【００８８】
以上の輝尽性蛍光体層１２を保護膜２１で被覆して封止する課程は、乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気、または減圧雰囲気のいずれかで行うことが好ましい。
【００８９】
以上示したように本発明の第１の実施例によれば、輝尽性蛍光体層１２を被覆する保護膜２１の周縁部を枠体２２と支持体１１とで挟んで嵌合することで酸化や吸湿を防止する保護膜で輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルとすることができる。
【００９０】
次に、本発明の第２の実施の形態例について述べる。
図５、６に示すように、本実施の形態例の放射線画像変換パネルは、支持体１１と、支持体上に形成された輝尽性蛍光体層１２と、輝尽性蛍光体層１２を被覆して封止する保護膜２１とからなる。
【００９１】
支持体１１は第１の実施の形態例と同様の素材で形成されているが、保護膜２１が接合される段差１１ｂの代わりに蛍光体層形成部を囲む接合部１１ｃがある。なお保護膜２１が接合される接合部１１ｃには上述の接着剤を塗布しておいてもよい。
輝尽性蛍光体層１２は先に述べた方法と同様にして形成される。
【００９２】
保護膜２１は先の実施の形態例と同様の素材を用いるが、一方の面に枠状部材２３が設けられている。
枠状部材２３は、支持体１１の接合部１１ｃと接着して接合されることにより輝尽性蛍光体層１２を保護膜２１で被覆して封止する。枠状部材２３の厚みは輝尽性蛍光体層１２の厚みよりも薄く形成されている。枠状部材２３は枠状の部材を保護膜２１に接着して接合されていてもよいし、また保護膜２１と一体に成形されていてもよい。枠状の部材を保護膜２１に接合するのに上述の接着剤を使用することができる。
【００９３】
枠状部材２３の素材としては、枠体２２と同様に、支持体１１と同様の素材を用いてもよいし、保護膜２１と同様の素材を用いてもよい。また、その他の素材を用いてもよい。
【００９４】
つぎに、本発明の放射線画像変換パネルの製造方法における、輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する方法について説明する。
まず蛍光体層形成部１１ａに輝尽性蛍光体層１２が形成された支持体１１に、上記の枠状部材２３が支持体１１側にくるように保護膜２１を被せて輝尽性蛍光体層１２を被覆する。次に枠状部材２３と支持体１１の接合部１１ｃとを接着して接合する。
【００９５】
このとき、枠状部材２３の厚みは輝尽性蛍光体層１２の厚みよりも薄く形成されているので、保護膜２１に張力が発生する。これにより保護膜２１のしわの発生を防ぎ空隙ができるのを防ぐことができる。
【００９６】
以上の輝尽性蛍光体層１２を保護膜２１で被覆して封止する課程は、第１の実施の形態例と同様、乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気、または減圧雰囲気のいずれかで行うことが好ましい。
【００９７】
以上示したように本発明の第２の実施の形態によれば、保護膜２１の枠状部材２３が支持体１１の接合部１１ｃと接合されるので、保護膜２１と支持体１１との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層１２を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルとすることができる。
また枠状部材２３の厚みが前記輝尽性蛍光体層１２の厚みよりも薄いので、保護膜２１に張力が発生し、保護膜２１のしわの発生を防止することができる。
【００９８】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載の発明によれば、輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部を枠体と支持体とで挟んで嵌合しているので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルとすることができる。
また輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部が枠体を嵌合させる際に引っ張られるので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を防止することができる。
【００９９】
請求項２に記載の発明によれば、酸化や吸湿を防止する保護膜の枠状部材が支持体の接合部と接合しているので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルとすることができる。
また枠状部材の厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄いので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を防止することができる。
【０１００】
請求項３に記載の発明によれば、請求項２に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、枠状部材の開口部を閉塞するように前記保護膜に前記枠状部材が接合されていることにより、前記保護膜に前記枠状部材が設けられているので、枠状部材を保護膜に容易に形成することができる。
【０１０１】
請求項４記載の発明によれば、請求項１〜３のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、輝尽性蛍光体層を支持体上に気相堆積法により形成するので、輝尽性蛍光体層の層厚や組成を任意に設定することができる。
【０１０２】
請求項５に記載の発明によれば、請求項１〜４のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、輝尽性蛍光体層が柱状結晶構造を有するので、より一層感度及び鮮鋭性の優れた放射線画像変換パネルとすることができる。
【０１０３】
請求項６に記載の発明によれば、請求項１〜５のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜を樹脂フィルムとすることで、薄層にしても強度に問題がなく、また薄層にすることで光の拡散による画質の劣化を防止し、より一層感度及び鮮鋭性の優れた放射線画像変換パネルとすることができる。
【０１０４】
請求項７に記載の発明によれば、請求項１〜６のいずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜が無機物質の蒸着層を有するので、より一層、保護膜の透湿度、酸素透過度を低下させることができる。
【０１０５】
請求項８に記載の発明によれば、請求項７に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、無機物質の蒸着層を有する保護膜の透湿度が０．０１〜１．０ｇ／m2／２４hrの範囲であるので、より一層、放射線画像変換パネルの感度、鮮鋭度及び輝度を向上させることができる。
【０１０６】
請求項９に記載の発明によれば、輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部を枠体と支持体とで挟んで嵌合させるので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを得ることができる。
また輝尽性蛍光体層を被覆する保護膜の周縁部が枠体を嵌合させる際に引っ張られるので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を抑制することができる。
【０１０７】
請求項１０に記載の発明によれば、請求項９に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜の枠体よりも外側の周縁部を枠体の面方向外側へ引っ張ることで、保護膜の張力を均等にしてより確実にしわをとることができる。
【０１０８】
請求項１１〜１３に記載の発明によれば、請求項９または１０に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、保護膜と支持体とを接合することで輝尽性蛍光体層を封止するので、より一層密封性に優れた構造とすることができる。
【０１０９】
請求項１４に記載の発明によれば、酸化や吸湿を防止する保護膜の枠状部材を支持体の接合部と接合するので、保護膜と支持体との間に隙間を生じさせることなく輝尽性蛍光体層を確実にかつ容易に封止することができ、密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを得ることができる。
また枠状部材の厚みが前記輝尽性蛍光体層の厚みよりも薄いので、保護膜に張力が発生し、保護膜のしわの発生を防止することができる。
【０１１０】
請求項１５に記載の発明によれば、請求項１４に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、枠状部材の開口部を閉塞するように枠状部材を保護膜に接合することにより、前記保護膜に前記枠状部材を設けるので、枠状部材を保護膜に容易に形成することができる。
【０１１１】
請求項１６に記載の発明によれば、請求項９〜１５いずれか一項に記載の発明と同様の効果が得られるとともに、前記輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する一連の課程を乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気、または減圧雰囲気のいずれかで行うので、水や酸素を輝尽性蛍光体層とともに封止することがなく、より一層酸化や吸湿を防止して密閉性がよく長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態例の放射線画像変換パネルを示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態例の輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する方法を説明する図である。ａ）輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆した図である。ｂ）被覆した保護膜の周縁部分を挟んで段差と枠体とが嵌合した図である。
【図３】段差の形状の他の例である。
【図４】支持体に輝尽性蛍光体層がPVD法により形成される様子を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態例の放射線画像変換パネルを示す図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態例の輝尽性蛍光体層を保護膜で被覆して封止する方法を説明する図である。ａ）保護膜に枠状部材を接合する図である。ｂ）枠状部材を接合した保護膜で輝尽性蛍光体層を被覆する図である。
【図７】ａ）従来の放射線画像変換パネルを示す図である。ｂ）ａ）の角部を示す図である。
【符号の説明】
１１   支持体
１１ａ 蛍光体層形成部
１１ｂ 段差
１１ｃ 接合部
１２   輝尽性蛍光体層
１３   柱状結晶
１４   間隙
１５   支持体ホルダ
１６   輝尽性蛍光体蒸気流
２１   保護膜
２２   枠体
２３   枠状部材
【図１】
2004205355.tif 000003
【図２】
2004205355.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2004205355.tif 000008
【図７】
2004205355.tif 000009