(57)【要約】【課題】ステージ近傍の空間の温度揺らぎを高効率的に解消する。【解決手段】ウエハステージ１３０と投影光学系ＰＬの間の空間において、ウエハステージ１３０が＋Ｙ方向に移動するときには、給排気部１５６から気体を供給し、給排気部１５７から気体を排出することにより、＋Ｙ方向の気流を生成し、ウエハステージ１３０が−Ｙ方向に移動するときには、給排気部１５７から気体を供給し、給排気部１５６から気体を排出することにより、−Ｙ方向の気流を生成する。【選択図】　　　図１
2004063847.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光対象としての基板を少なくとも一軸に沿う正方向及び逆方向に移動するステージを備え、マスクのパターンの投影光学系を介した像を、該ステージ上の基板に露光転写する露光装置において、
前記投影光学系と前記ステージとの間の空間に前記ステージの移動方向に一致するような気流を生じさせる気流生成装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記気流生成装置は、前記一軸に沿うような気流が生じるように前記空間に気体を供給する管路を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記気流生成装置は、前記一軸に沿うような気流が生じるように前記空間の気体を排出する管路を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記気流生成装置は、前記一軸に沿う正方向に気体の流れを生じさせる第１モード、及び前記一軸に沿う逆方向に気体の流れを生じさせる第２モードを選択的に実施するモード切換装置と、
前記空間における前記気体の流れが前記ステージの移動方向に一致するように、前記モード切換装置のモードを切り換える制御装置を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記気流生成装置は、前記一軸に沿うような気流が生じるように前記空間に対する気体の供給又は排出をそれぞれ選択的に実施する一対の管路を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記一対の管路の給排気口は前記一軸に沿って互いに対応するように配置されたことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記気流生成装置は、前記管路の一方を介して気体を供給し他方を介して気体を排出して前記一軸に沿う正方向に気体の流れを生じさせる第１モード、及び該管路の一方を介して気体を排出し他方を介して気体を供給して前記一軸に沿う逆方向に気体の流れを生じさせる第２モードを選択的に実施するモード切換装置と、
前記空間における前記気体の流れが前記ステージの移動方向に一致するように、前記モード切換装置のモードを切り換える制御装置を有することを特徴とする請求項５又は６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記気流生成装置は、前記管路の一方に連通された第１ポンプ室と、前記管路の他方に連通された第２ポンプ室とを有し、該第１ポンプ室と該第２ポンプ室との間の隔壁の位置を移動して、該第１ポンプ室と該第２ポンプ室の体積比を変更することにより、前記管路を介して給排気を実施するポンプ装置を有することを特徴とする請求項５〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記隔壁は前記ステージの移動に連動して移動することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記管路は断面が網目状に配列された複数の気体通路を有することを特徴とする請求項２〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記管路の途中に該管路内を流通される気体の温度を調整する温度調整装置を設けたことを特徴とする請求項２〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
パターンが形成されたマスクと露光対象としての基板を、該基板の位置を検出光を用いて光学的に計測しつつ同期移動させながら露光する露光方法において、
前記基板の近傍の前記検出光の光路を含む空間に該基板の移動方向に沿う気流を形成しつつ露光することを特徴とする露光方法。
【請求項１３】
パターンが形成されたマスクと露光対象としての基板を、該マスクの位置を検出光を用いて光学的に計測しつつ同期移動させながら露光する露光方法において、
前記マスクの近傍の前記検出光の光路を含む空間に該マスクの移動方向に沿う気流を形成しつつ露光することを特徴とする露光方法。
【請求項１４】
移動対象物を少なくとも一軸に沿う正方向及び逆方向に移動するステージと、
前記移動対象物の位置を検出光を用いて光学的に計測する計測装置と、
前記移動対象物の近傍の前記検出光の光路を含む空間に、該移動対象物の移動方向に沿う正方向及び逆方向に選択的に気体の流れを生じさせる気流生成装置と、
前記移動対象物の移動方向の切り換えに応じて前記気体の流れ方向を切り換えるよう前記気流生成装置を制御する制御装置と、
を備えたことを特徴とするステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド、その他のマイクロデバイス、又はフォトマスク等をリソグラフィ技術を用いて製造する際に使用される露光装置及び露光方法、並びに該露光装置等に適用可能なステージ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッドを含むマイクロデバイス等の製造に際しては、マスクとしてのレチクルのパターンを投影光学系を介してフォトレジストが塗布された半導体ウエハやガラスプレート等の感光基板に露光転写するために露光装置が用いられる。
【０００３】
感光基板は、露光処理を実施する前に、投影光学系の光軸に直交する面内でＸＹ方向に位置決めされるとともに、その表面を投影光学系の像面に対して合わせ込むフォーカス・レベリング調整が行われる。感光基板のＸＹ方向の位置決めは、該感光基板を保持するステージの位置を複数のレーザ干渉計により検出し、その検出結果に基づいて、露光すべきショット領域を投影光学系の投影領域に一致するように移動することにより行われる。また、感光基板の表面の投影光学系の像面に対する合わせ込みは、感光基板の表面に斜めに露光光の波長と異なる波長の検出光を照射し、その反射光を光電検出して、その検出結果が所定の基準に一致するように感光基板のＺ方向（投影光学系の光軸に沿う方向）の位置及び傾きを自動調整するようにした斜入射光式のフォーカス調整装置（ＡＦ装置）を用いて行われる。
【０００４】
ところで、一般に、感光基板を保持する基板ステージは投影光学系の下側に配置される。そして、当該ステージは駆動機構等の発熱部を有しているとともに、感光基板に対する露光光の照射により発生する熱により周囲の温度が上昇する。このため、投影光学系と基板ステージの間及びその近傍の空間において、いわゆる陽炎現象によって温度揺らぎ（屈折率の変動）が生じる。基板ステージの近傍には、レーザ干渉計やＡＦ装置の検出光の光路が配置されているので、該検出光が不規則に屈折されてしまい、これらの検出値に誤差を生じ、感光基板の位置決めや姿勢制御に悪影響を与える。このため、精度の高いパターンの形成が行えない場合がある。
【０００５】
このような温度揺らぎによる干渉計等の計測誤差を緩和するため、投影光学系と基板ステージとの間の空間に温度調節された空気流を形成する送風手段を設け、投影光学系と基板ステージとの間の空間の空気を温度調節された空気で置換するようにしたものが、例えば、特開平５−１２６５２２号公報などに開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、基板ステージは、露光処理前の基板の位置決めのため、あるいは露光中に高速で移動されるため、投影光学系と基板ステージとの間の空間に単に温度調節された空気を送風するのみでは、基板ステージの移動の方向と送風手段による送風方向とが必ずしも一致せず、基板ステージの移動方向に応じて空気流の流入速度やその均一性に差異を生じ、投影光学系と基板ステージとの間の空間に生じている温度揺らぎを十分に解消することができないことがあった。
【０００７】
この場合、投影光学系と基板ステージとの間の空間に、基板ステージの移動方向に左右されない程度の強い空気流を形成するようにすれば、そのような問題を解消することが可能であると考えられるが、送風手段としてその出力が大きいものを用いる必要があるとともに、基板ステージの移動等に支障を与える可能性もあり、得策とはいえない。
【０００８】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、ステージ近傍の空間の温度揺らぎを高効率的に解消することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
以下、この項に示す説明では、本発明を、実施形態を表す図面に示す参照符号に対応つけて説明するが、本発明の各構成要件は、これら参照符号を付した図面に示す部材等に限定されるものではない。
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る発明によると、露光対象としての基板（Ｗ）を少なくとも一軸（Ｙ軸）に沿う正方向（＋Ｙ方向）及び逆方向（−Ｙ方向）に移動するステージ（１２０，１３０）を備え、マスク（Ｒ）のパターンの投影光学系（ＰＬ）を介した像を、該ステージ上の基板に露光転写する露光装置において、前記投影光学系と前記ステージとの間の空間に前記ステージの移動方向に一致するような気流を生じさせる気流生成装置（１５０）を備えた露光装置が提供される。
【００１１】
本発明の第１の観点に係る露光装置では、ステージの移動の方向と気流生成装置による気流方向とが必ず一致するため、従来のようにステージの移動方向に応じて気体の流入速度やその均一性に差異を生じるということがなくなり、投影光学系と基板ステージとの間の空間及びその近傍に生じている温度揺らぎを十分に解消することができる。
【００１２】
上述した本発明の第１の観点に係る露光装置において、前記気流生成装置（１５０）は、前記一軸に沿うような気流が生じるように前記空間に気体を供給する管路（１５６〜１５９）、又は前記一軸に沿うような気流が生じるように前記空間の気体を排出する管路（１５６〜１５９）を有することができる。この場合において、前記気流生成装置は、前記一軸に沿う正方向に気体の流れを生じさせる第１モード、及び前記一軸に沿う逆方向に気体の流れを生じさせる第２モードを選択的に実施するモード切換装置（１５５）と、前記空間における前記気体の流れが前記ステージ（１２０，１３０）の移動方向に一致するように、前記モード切換装置のモードを切り換える制御装置（１５１）を有することができる。
【００１３】
また、上述した本発明の第１の観点に係る露光装置において、前記気流生成装置（１５０）は、前記一軸に沿うような気流が生じるように前記空間に対する気体の供給又は排出をそれぞれ選択的に実施する一対の管路（１５６〜１５９）を有することができる。前記一対の管路の給排気口は前記一軸に沿って互いに対応するように配置されることが望ましい。これらの場合において、前記気流生成装置（１５０）は、前記管路（１５６，１５７）の一方を介して気体を供給し他方を介して気体を排出して前記一軸に沿う正方向に気体の流れを生じさせる第１モード、及び該管路の一方を介して気体を排出し他方を介して気体を供給して前記一軸に沿う逆方向に気体の流れを生じさせる第２モードを選択的に実施するモード切換装置（１５５）と、前記空間における前記気体の流れが前記ステージ（１２０，１３０）の移動方向に一致するように、前記モード切換装置のモードを切り換える制御装置（１５１）を有することができる。
【００１４】
上述した一対の給排気用の管路（２１４〜２１７）を設けた場合において、前記気流生成装置（１５０）は、前記管路の一方に連通された第１ポンプ室（２１２）と、前記給排気管の他方に連通された第２ポンプ室（２１３）とを有し、該第１ポンプ室と該第２ポンプ室との間の隔壁（２１１）の位置を移動して、該第１ポンプ室と該第２ポンプ室の体積比を変更することにより、前記管路を介して給排気を実施するポンプ装置（２１０）を有することができ、この場合に、前記隔壁は前記ステージの移動に連動して移動するようにできる。
【００１５】
また、上述した給気用若しくは排気用又は給排気用の管路（１５６，１５７）を設けた場合において、前記管路は断面が網目状に配列された複数の気体通路（Ｐ）を有することができる。
【００１６】
さらに、前記管路（１６０）の途中に該管路内を流通される気体の温度を調整する温度調整装置（１５３）を設けることができる。
【００１７】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点によれば、パターンが形成されたマスク（Ｒ）と露光対象としての基板（Ｗ）を、該基板の位置を検出光を用いて光学的に計測しつつ同期移動させながら露光する露光方法において、前記基板の近傍の前記検出光の光路を含む空間に該基板の移動方向に沿う気流を形成しつつ露光するようにした露光方法が提供される。基板の移動の方向と気流方向とを一致させているため、基板の移動に支障を生じることなく、基板近傍の空間における温度揺らぎを十分に解消することができる。従って、基板の位置の計測精度を向上することができ、露光精度を向上することができる。
【００１８】
上記目的を達成するため、本発明の第３の観点によれば、パターンが形成されたマスク（Ｒ）と露光対象としての基板（Ｗ）を、該マスクの位置を検出光を用いて光学的に計測しつつ同期移動させながら露光する露光方法において、前記マスクの近傍の前記検出光の光路を含む空間に該マスクの移動方向に沿う気流を形成しつつ露光するようにした露光方法が提供される。マスクの移動の方向と気流方向とを一致させているため、マスクの移動に支障を生じることなく、マスク近傍の空間における温度揺らぎを十分に解消することができる。従って、マスクの位置の計測精度を向上することができ、露光精度を向上することができる。
【００１９】
上記目的を達成するため、本発明の第４の観点によると、移動対象物（Ｒ，Ｗ）を少なくとも一軸に沿う正方向及び逆方向に移動するステージ（１２０，１３０）と、前記移動対象物の位置を検出光を用いて光学的に計測する計測装置（１２３，１３３，ＡＦ１，ＡＦ２）と、前記移動対象物の近傍の前記検出光の光路を含む空間に、該移動対象物の移動方向に沿う正方向及び逆方向に選択的に気体の流れを生じさせる気流生成装置（１５０）と、前記移動対象物の移動方向の切り換えに応じて前記気体の流れ方向を切り換えるよう前記気流生成装置を制御する制御装置（１５１）とを備えたステージ装置が提供される。移動対象物の移動の方向と気流方向とを一致させているため、移動対象物の移動に支障を生じることなく、移動対象物近傍の空間における温度揺らぎを十分に解消することができる。従って、移動対象物の位置の計測精度を向上することができ、移動対象物の位置決めや移動中の位置精度を向上することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。
【００２１】
図１は、本発明の実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図であり、この露光装置は、ステップ・アンド・スキャン方式の縮小投影露光装置である。なお、以下の説明においては、図１中に示されたＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸が紙面に対して垂直となるように設定され、Ｙ軸及びＺ軸が紙面に対して平行となるように設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。Ｙ軸に沿う方向がスキャン（走査）方向である。
【００２２】
図１において、光源１００からの光（ここでは、ＡｒＦエキシマレーザ光とする）としての紫外パルス光（以下、露光光と称する）は、照明光学系ＩＬとの間で光路を位置的にマッチングさせるための可動ミラー等を含むビームマッチングユニット（ＢＭＵ）１０１を通り、パイプ１０２を介して光アッテネータとしての可変減光器１０３に入射する。
【００２３】
この露光装置を全体的に管理・制御する主制御系１４０は、ウエハ（感光基板）Ｗ上に塗布されたレジストに対する露光量を制御するため、光源１００との間で通信することにより、発光の開始及び停止、発振周波数及びパルスエネルギーで定まる出力を制御するとともに、可変減光器１０３における露光光に対する減光率を段階的又は連続的に調整する。
【００２４】
可変減光器１０３を通った露光光は、所定の光軸に沿って配置されるレンズ系１０４、１０５よりなるビーム整形光学系を経て、オプチカル・インテグレータ（ホモジナイザー）としてのフライアイレンズ１０６に入射する。ここで、フライアイレンズ１０６を用いる代わりに、ロッドインテグレータ（内面反射型インテグレータ）あるいは回折光学素子等を採用してもよい。なお、フライアイレンズ１０６は、照度分布均一性をさらに高めるために、直列に２段配置してもよい。
【００２５】
フライアイレンズ１０６の射出面には開口絞り系１０７が配置されている。開口絞り系１０７には、通常照明用の円形の開口絞り、複数の偏心した小開口よりなる変形照明用の開口絞り、輪帯照明用の開口絞り等が切り換え自在に配置され、ウエハＷ上に転写すべきパターンに応じてレチクルＲの照明条件、即ち、照明光学系ＩＬの瞳面上での露光光の光量分布（オプティカル・インテグレータ１０６によって形成される２次光源の形状や大きさなど）を変更可能となっている。
【００２６】
なお、開口絞り系１０７を用いる代わりに、あるいはそれと組み合わせて、例えば照明光学系ＩＬの光路に交換して配置される複数の回折光学素子、照明光学系ＩＬの光軸に沿って移動可能なプリズム（円錐プリズムや多面体プリズムなど）、及びズーム光学系の少なくとも１つを含む光学ユニットを、光源１００とオプティカル・インテグレータ１０６との間に配置し、照明条件の変更に応じてオプティカル・インテグレータ１０６の入射面上での露光光の強度分布又は入射角度範囲を変更可能として、光量損失を抑えるようにしてもよい。
【００２７】
フライアイレンズ１０６から射出されて開口絞り系１０７の所定の開口絞りを通過した露光光は、透過率が高く反射率が低いビームスプリッタ１０８に入射する。ビームスプリッタ１０８で反射された光は光電検出器よりなるインテグレータセンサ１０９に入射し、インテグレータセンサ１０９の検出信号は不図示の信号線を介して主制御系１４０に供給される。
【００２８】
ビームスプリッタ１０８の透過率及び反射率は予め高精度に計測されて、主制御系１４０内のメモリに記憶されており、主制御系１４０は、インテグレータセンサ１０９の検出信号より間接的に投影光学系ＰＬに対する露光光の入射光量、ひいてはウエハＷ上での露光光の光量をモニタできるようになっている。
【００２９】
ビームスプリッタ１０８を透過した露光光は、コンデンサレンズ系１１０、反射ミラー１１１、コンデンサレンズ系１１２を介して、固定スリット板１１３に入射する。固定スリット板１１３は、Ｘ方向に延在する細長い矩形状のスリット（開口）を有しており、入射した露光光は、この固定スリット板１１３のスリットによってＸ方向に延在する細長い矩形状の光に整形される。
【００３０】
照明光学系ＩＬによって露光光が照射されるレチクルＲ上の照明領域、及び後述の投影光学系ＰＬに関してその照明領域と共役で、かつレチクルＲのパターン像が形成される投影領域（即ち、投影光学系ＰＬによって露光光が照射されるウエハＷ上の露光領域）は、基本的に固定スリット板１１３によって規定される。当該照明領域又は投影領域の形状、即ち走査露光時にレチクルＲ及びウエハＷが移動される走査方向としてのＹ方向についての幅（短辺方向の寸法）、及び該走査方向と直交する非走査方向としてのＸ方向についての幅（長辺方向の寸法）を調整するために、可動式のブラインド（遮光板）を有するレチクルブラインド機構（不図示）を設けてもよい。なお、これらの固定スリット板１１３（及びレチクルブランド機構は、後述するレチクルＲのパターン形成面と共役な面又はその近傍に配置されている。
【００３１】
固定スリット板１１３の矩形状のスリットによって整形された露光光は、結像用レンズ系１１４、反射ミラー１１５、及び主コンデンサレンズ系１１６を介して、レチクルＲの回路パターン領域上で固定スリット板１１３のスリットと相似な照明領域を照明する。
【００３２】
照明光学系ＩＬから射出された露光光により、マスクステージとしてのレチクルステージ１２０に保持されたレチクルＲの一部が照明される。レチクルＲのスリット状の照明領域内のパターンの像は、投影光学系ＰＬを介して縮小倍率１／α（αは、例えば、５又は４等）で、フォトレジストが塗布されたウエハＷの表面に投影される。
【００３３】
レチクルステージ１２０は、レチクルステージ用のベース１２１上で、保持しているレチクルＲをＸＹ平面内で回転方向及び並進方向に微動して、その姿勢を調整することができる。また、Ｙ方向に一定速度で往復移動できるようになっている。レチクルステージ１２０の上部には移動鏡１２２が固定されており、この移動鏡１２２に対向してレーザ干渉計１２３が配置されている。なお、図１においては、図示を簡略化しているが、移動鏡１２２として、レチクルステージ１２０上においてＸ方向に延びた移動鏡（又は少なくとも１つのレトロリフレクタ）とＹ方向に延びた移動鏡とが設けられており、各々の移動鏡に対向してレーザ干渉計が設けられている。
【００３４】
レチクルステージ１２０の上部に固定された移動鏡１２２、及び対向して配置されたレーザ干渉計１２３によってレチクルステージ１２０のＸ座標、Ｙ座標、及び回転角が計測され、この計測値が主制御系１４０に供給されている。主制御系１４０のステージ制御部（不図示）は、その計測値及び各種の制御情報に基づいて、レチクルステージ１２０の駆動モータ（リニアモータやボイスコイルモータ等）の動作を制御することにより、その走査速度及び位置の制御が行われる。レチクルＲの回転誤差は、ステージ制御部を介してレチクルステージ１２０を微少回転することにより補正される。
【００３５】
一方、ウエハＷは、ウエハステージ１３０にウエハホルダ（不図示）を介して吸着保持されている。ウエハステージ１３０上には、図示は省略するが、位置決め用の基準マーク部材や照度分布検出センサ（いわゆる照度ムラセンサ）が固定されている。ウエハステージ１３０は、ウエハステージ用のベース１３１上で、例えばリニアモータによりウエハＷのＹ方向への等速走査、Ｘ方向及びＹ方向へのステッピング動作を行う。
【００３６】
ウエハステージ１３０の上部には移動鏡１３２が固定されており、この移動鏡１３２に対向してレーザ干渉計１３３が配置されている。なお、図１においては、図示を簡略化しているが、移動鏡１３２として、ウエハステージ１３０上においてＸ方向に延びた移動鏡とＹ方向に延びた移動鏡とが設けられており、各々の移動鏡に対向してレーザ干渉計が設けられている。
【００３７】
ウエハステージ１３０の上部に固定された移動鏡１３２、及び対向して配置されたレーザ干渉計１３３によってウエハステージ１３０のＸ座標、Ｙ座標、及び回転角が計測され、この計測値が主制御系１４０に供給されている。主制御系１４０のステージ制御部は、その計測値及び各種の制御情報に基づいて、ウエハステージ１３０の駆動モータ（リニアモータやボイスコイルモータ等）の動作を制御することにより、その走査速度及び位置の制御が行われる。ウエハＷの回転誤差は、ステージ制御部を介してウエハステージ１３０を微少回転することにより補正される。
【００３８】
さらに、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向（Ｚ方向）に関するウエハＷの位置を検出する送光系ＡＦ１及び受光系ＡＦ２を有する斜入射方式の多点焦点位置検出系（以下、フォーカスセンサＡＦと呼ぶ）が設けられている。このフォーカスセンサＡＦは、投影光学系ＰＬの視野内でパターンの縮小像が投影される露光領域の内部、及びＹ方向に関する露光領域の両側に設定される複数の計測点にそれぞれ光ビームを照射するとともに、ウエハＷで反射された光をそれぞれ独立に受光して、各計測点におけるウエハＷのＺ方向の位置（本例では、所定の基準面、例えば投影光学系ＰＬの像面に対するウエハＷの表面の位置ずれ量）を検出するものである。このフォーカスセンサＡＦの計測値は主制御系１４０に出力され、主制御系１４０のステージ制御部はその計測値に基づいてウエハステージ１３０を駆動し、ウエハＷのフォーカス位置（光軸ＡＸ方向の位置）、及び傾斜角の制御（フォーカス及びレベリング調整）を行う。これにより、投影光学系ＰＬの露光領域内で投影光学系ＰＬの像面とウエハＷ上の各ショット領域の表面とがほぼ合致する、即ち、露光領域内でショット領域の表面が投影光学系ＰＬの焦点深度内に設定されることになる。
【００３９】
主制御系１４０のステージ制御部は、レチクルステージ１２０及びウエハステージ１３０のそれぞれの移動位置、移動速度、移動加速度、位置オフセット等の各種情報に基づいて、レチクルステージ１２０及びウエハステージ１３０を制御する。走査露光時には、レチクルステージ１２０とウエハステージ１３０とが同期駆動され、照明光学系ＩＬによって露光光が照射される照明領域に対してレチクルＲが＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に速度Ｖｒで移動されるのに同期して、投影光学系ＰＬによって露光光が照射される露光領域（照明領域内のパターン像が形成される投影領域）に対してウエハＷが−Ｙ方向（又は＋Ｙ方向）に速度（１／α）・Ｖｒ（αは、例えば、５又は４）で移動される。これにより、レチクルＲのパターン領域の全面が露光光で照明されるとともに、ウエハＷ上の１つのショット領域が露光光で走査露光され、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。
【００４０】
なお、投影光学系ＰＬは、ここでは屈折系（ジオプトリック系）であるが、反射屈折系（カタジオプトリック系）、又は反射系（カトプトリック系）としてもよい。
【００４１】
また、照明光学系ＩＬの主要部は、気密性の良好なサブチャンバ１１７内に収容されており、サブチャンバ１１７内は、光路中の光損失を低減するため、温度調節された清浄なドライエアー、又は窒素、ヘリウム等の不活性ガス（本実施形態ではヘリウムとする）で置換（パージ）されるようになっている。投影光学系ＰＬの鏡筒内も同様となっている。照明光学系ＩＬ、投影光学系ＰＬへのヘリウムガスの供給は管路１３４を介して行われる。これらのガスの供給ないし回収のための装置は、露光装置が設置されるクリーンルームの階下に設けられる、いわゆる機会室（ユーティリティースペース）内に設置される。また、露光装置本体は、全体を覆う箱状の環境チャンバ内に収容されており、環境チャンバ内も温度制御された気体（本実施形態では窒素とする）がフロー供給されている。
【００４２】
主制御系１４０は、磁気ディスク装置等の記憶装置（不図示）を有しており、記憶装置に、露光データファイルが格納されている。露光データファイルには、レチクルＲに関する情報やアライメント情報等が記録されている。
【００４３】
上述したように、投影光学系ＰＬとウエハステージ１３０の間の空間ないしその近傍（以下、簡単のため、ウエハ空間という）には、ステージ位置計測用のレーザ干渉計１３３の検出光の光路が設けられているとともに、フォーカスセンサＡＦ（ＡＦ１，ＡＦ２）の検出光の光路が設けられている。そして、ウエハステージ１３０は駆動モータ等の発熱部を備えているとともに、露光光のウエハＷへの照射により、ウエハ空間内には温度揺らぎ（気体の屈折率が部分的に異なる現象）が生じ、各計測装置１３３，ＡＦ１，ＡＦ２の計測精度を低下させる場合がある。これを防止するため、本実施形態では、ウエハ空間に温度制御された気体を供給するとともに、該ウエハ空間内の気体を排出することにより、該ウエハ空間に気体の流れを生成する気流生成装置１５０を設けている。
【００４４】
なお、この問題は、レチクルステージ１２０と照明光学系ＩＬとの間の空間及びその近傍（以下、簡単のため、レチクル空間という）についても同様にあてはまるので、本実施形態では、ウエハ空間に対する下記の気流生成装置１５０と同様の気流生成装置がレチクル空間についても同様に設けられているものとする。但し、その構成は両者ともほぼ同じなので、ウエハ空間についての気流生成装置１５０についてのみ説明し、レチクル空間についての気流生成装置についてはその説明を省略する。
【００４５】
この気流生成装置１５０は、気流制御装置１５１、気体供給装置１５２、気体温度調整装置（温調装置）１５３、気体回収装置１５４、モード切換装置１５５、管路１５８，１５９，１６０，１６１、及び気体給排部（管路の気体給排気口近傍の部分）１５６，１５７を備えて構成されている。なお、特に限定されないが、この実施形態では、この気流生成装置１５０によりウエハ空間に供給される気体は、環境チャンバ内のパージガスと同じ窒素ガスであるものとして説明する。
【００４６】
気体供給装置１５２は、高純度窒素が封入された窒素ボンベ、該窒素ボンベからの窒素の供給又は停止を制御する電磁弁、気体圧送用のポンプないしファン等を備えて構成されており、気流制御装置１５１からの制御信号に基づいて、窒素ガスの管路１６０に対する供給及び停止を行う。気体回収装置１５４は、気体吸引用のポンプないしファン及び回収した気体を蓄積保存する回収ボンベ等を備えて構成されており、気流制御装置１５１からの制御信号に基づいて、管路１６１を介してのガスの回収及び停止を行う。気体供給装置１５２及び気体回収装置１５４にその一端が接続された管路１６０，１６１の他端はモード切換装置１５５に接続されている。
【００４７】
気体供給装置１５２とモード切換装置１５５を接続する管路１６０上には、気体温度調整装置１５３が設けられている。気体温度調整装置１５３は、図２に示されているように、管路１６０に密着して、あるいは介装して設けられた熱交換ユニット１７１と、媒質温調ユニット１７２と、媒質管路１７３，１７４を備えて構成されている。フロリナート等の媒質（ここでは冷媒）が媒質温調ユニット１７２と熱交換ユニット１７１の間を媒質管路１７３，１７４を介して循環されており、媒質温調ユニット１７２にて所定の温度に調節（ここでは冷却）された媒質は媒質管路１７３を介して熱交換ユニット１７１に送られ、管路１６０を流通される窒素ガスＧＳとの間で熱交換を行い、該パージガスを所定の温度に設定する。熱交換ユニット１７１で熱交換により温度が上昇した媒質は媒質管路１７４を介して媒質温調ユニット１７２に戻され、ここで所定の温度に冷却された後、熱交換ユニット１７１に送られ、以後、この動作を繰り返す。
【００４８】
図１において、モード切換装置１５５は、４つのポートを有しており、管路１５８，１５９，１６０，１６１が対応するポートにそれぞれ接続されている。モード切換装置１５５は、管路１６０を管路１５８に接続するとともに管路１６１を管路１５９に接続する第１モードと、管路１６０を管路１５９に接続するとともに管路１６１を管路１５８に接続する第２モードとを、気流制御装置１５１からの制御信号に基づいて選択的に切り換える装置である。
【００４９】
モード切換装置１５５にその一端が接続された管路１５８の他端は、気体給排気部１５６に接続されており、同じくモード切換装置１５５にその一端が接続された管路１５９の他端は、気体給排気部１５７に接続されている。気体給排気部１５６，１５７は、それぞれ給排気口を有しており、これらの給排気口が、レーザ干渉計１３３の検出光の光路を含むようにウエハステージ１３０を挟んで対向して配置されている。
【００５０】
図３は気流制御装置１５１による気流生成処理を示すフローチャートである。気流生成装置１５１は、まず、気体供給装置１５２，気体回収装置１５４、気体温度調節装置１５３及びモード切換装置１５５を初期化するとともに、各装置の作動を開始した後（ステップ３０１）、主制御系１４０からウエハステージ１３０のスキャン方向（移動方向）についての情報を受け取り、ウエハステージ１３０のスキャン方向が第１方向（＋Ｙ方向）であるか、第２方向（−Ｙ方向）であるかを判断する（ステップ３０２）。
【００５１】
ウエハステージ１３０のスキャン方向が第１方向であると判断した場合には、第１方向に気流を生成するようモード切換装置１５５に制御信号を送る。モード切換装置１５５は、管路１６０を管路１５８に接続するとともに、管路１６１を管路１５９に接続する第１モードを実行する。これにより、気体供給装置１５２からの窒素ガスは管路１６０を介して送られ、気体温度調整装置１５３により所定の温度に設定され、モード切換装置１５５、管路１５８、気体給排気部１５６を経て、ウエハ空間に吐出される。一方、ウエハ空間内のガスは、気体給排気部１５７を介して吸引され、管路１５９、モード切換装置１５５、管路１６１を経て回収装置１５４により回収される。これにより、ウエハステージ１３０が第１方向に移動している時は、ウエハ空間内には、その移動方向と同じ第１方向に窒素ガスの流れが生じる。ウエハステージ１３０の移動方向と窒素ガスの気流方向が一致しているので、給排気部１５６から吐出された窒素ガスは、給排気部１５７へと円滑に流れ、ウエハ空間は所定温度に設定された清浄な窒素ガスで一様に置換される。その後、全てのショット領域に対する露光が終了したか否かを判断し（ステップ３０５）、終了と判断した場合にはこの処理を終了し、終了でないと判断した場合にはステップ３０２に戻る。
【００５２】
ステップ３０２において、気流制御装置１５１は、ウエハステージ１３０のスキャン方向が第２方向であると判断した場合には、第２方向に気流を生成するようモード切換装置１５５に制御信号を送る。モード切換装置１５５は、管路１６０を管路１５９に接続するとともに、管路１６１を管路１５８に接続する第２モードを実行する。これにより、気体供給装置１５２からの窒素ガスは管路１６０を介して送られ、気体温度調整装置１５３により所定の温度に設定され、モード切換装置１５５、管路１５９、気体給排気部１５７を経て、ウエハ空間に吐出される。一方、ウエハ空間内のガスは、気体給排気部１５６を介して吸引され、管路１５８、モード切換装置１５５、管路１６１を経て回収装置１５４により回収される。これにより、ウエハステージ１３０が第２方向に移動している時は、ウエハ空間内には、その移動方向と同じ第２方向に窒素ガスの流れが生じる。ウエハステージ１３０の移動方向と窒素ガスの気流方向が一致しているので、給排気部１５７から吐出された窒素ガスは、給排気部１５６へと円滑に流れ、ウエハ空間は所定温度に設定された清浄な窒素ガスで一様に置換される。
【００５３】
ウエハＷの各ショット領域に対するスキャン露光は、レチクルステージ１２０の移動量を最小にするため、往復動作、即ち、第１方向へのスキャンの後、ウエハＷをステップ移動し、第２方向へのスキャンを実施し、これらを順次繰り返すことにより行われる。従って、この実施形態におけるウエハ空間には、ウエハステージ１３０のスキャン動作に従ってそのスキャン方向と同じ方向への窒素ガスの流れが交互に生成されることになる。但し、複数のショット領域について同一方向へのスキャン動作を繰り返す場合には、ウエハ空間内での窒素ガスの流れもその複数のショット領域の露光中は同一方向に生成されることになる。
【００５４】
なお、一のショット領域の露光後、次のショット領域への移動のためのステップ移動中、即ちスキャン動作以外のウエハＷの移動中のウエハ空間内での気流の生成については、気流の生成を継続しても、気流の生成を停止してもいずれでもよい。気流の生成を継続する場合には、スキャン方向に沿う方向へのステップ移動については、ステップ移動の方向に一致するように気流を生成するようにでき、スキャン方向に沿う方向以外の方向へのステップ移動については、直前のモードをそのまま継続し、あるいは次のスキャン方向と一致するモードに切り換えるようにしてもよい。また、図１の露光装置では１つのショット領域の走査露光終了後であって走査方向（例えば＋Ｙ方向である第１方向）に関してウエハステージ１３０を減速している間に、次のショット領域の走査露光のためにウエハステージ１３０のＸ方向へのステップ移動を開始するとともに、このステップ移動が終了する前に−Ｙ方向（第２方向）へのウエハステージ１３０の加速を開始する、即ちＸ方向の速度成分とＹ方向の速度成分とが同時に零とならないようにウエハステージ１３０を移動してスループットを向上させるシーケンスが採用される。この場合は、例えばウエハステージ１３０のＹ方向の速度成分が零となるまでは第１方向に気流を生成し続け、それ以降は第２方向に気流を生成すればよい。なお、走査露光終了直後ではウエハステージ１３０の＋Ｙ方向の減速とＸ方向への加速とをほぼ同時に行い、次ショット領域の走査露光開始直前ではウエハステージ１３０の−Ｙ方向への加速とＸ方向の減速とをほぼ同時に行うこととしているが、必ずしもこの両方を行わなくてもよく、いずれか一方のみを行う場合でも同様にウエハステージ１３０のＹ方向の速度成分に着目し、この速度成分が零となる時点で第１方向への気流の生成と第２方向への気流の生成とを切り替えればよい。
【００５５】
上述した実施形態において、特に限定されないが、気体給排気部１５６及び／又は気体給排気部１５７の内部構造としては、例えば、図４に示されているように、その断面が網目状に仕切られた複数の気体通路Ｐを有するものを採用することが望ましい。このような構成を採用することにより、ウエハ空間に全体的に一様な気体の流れを生成することができ、ウエハ空間内の温度揺らぎをより高効率的に解消することができるようになるからである。この場合において、各気体通路の形状は、図４のように、矩形である必要はなく、三角形その他の多角形、あるいは円形若しくは楕円形であってもよい。給排気部の全体の形状も、同図のように矩形である必要はなく、その他の形状であってもよい。
【００５６】
また、上述した実施形態においては、互いに対向して設けられた一対の給排気部１５６，１５７により、第１方向及び第２方向へのそれぞれの気流生成を行うようにしたが、給排気部１５６，１５７のそれぞれの位置に、気体を供給する給気部と気体を排気する排気部をそれぞれ隣接して設けてもよい。この場合には、モード切換装置１５５は不要となり、一方側の給気部から気体を供給し他方側の排気部から排気するモードと、他方側の給気部から気体を供給し一方側の排気部から排気するモードを気流制御装置１５１により切り換えるようにすればよい。
【００５７】
さらに、ウエハ空間内に第１方向への気流と第２方向への気流を生成するためには、給気と排気の両者を行った方が円滑な気流を生成できる点で好ましいが、必ずしもそのようにする必要はなく、給排気部１５６，１５７の位置に給気部のみあるいは排気部のみを設け、給気のみあるいは排気のみを行うことにより、ウエハ空間内にウエハステージ１３０の移動方向に一致する気流を生成するようにしてもよい。
【００５８】
上述した実施形態では、環境チャンバ内を窒素ガスによりパージするとともに、ウエハ空間内に窒素ガスを用いて気流を生成するようにしたが、これらのガスとしては、ヘリウムガス、アルゴン、ネオン、その他の希ガスであってもよい。ヘリウムガスを用いる場合には、ヘリウムガスは比較的に高額であるので、供給したヘリウムガスを回収した後に、これを浄化して再度供給に用いるようにするとよい。さらに、露光光の波長によっては、ドライエアを用いてもよい。
【００５９】
また、レチクルステージ１２０と照明光学系ＩＬとの間及びその近傍の空間（レチクル空間）についての気流生成装置とウエハ空間についての気流生成装置との関係においては、レチクル空間用の気流生成装置をウエハ空間用の気流生成装置とは別に独立に設けてもよく、あるいは給排気部をレチクルステージ１２０を挟んで対応するように設け、ウエハ空間用の気流生成装置の管路１５８及び１５９から分岐した管路をレチクル空間用の各給排気部に接続するようにしてもよい。このとき、本実施形態では、レチクルＲとウエハＷのスキャン方向は互いに逆向きであるので、ウエハ空間に第１方向の気流を生成しているときには、レチクル空間には第２方向の気流が、ウエハ空間に第２方向の気流を生成しているときには、レチクル空間には第１方向の気流が生成されるように設定する。なお、レチクルＲとウエハＷのスキャン方向が同じ向きである場合には、ウエハ空間に第１方向の気流を生成しているときには、レチクル空間にも第１方向の気流が、ウエハ空間に第２方向の気流を生成しているときには、レチクル空間にも第２方向の気流が生成されるように設定する。
【００６０】
さらに、上述した実施形態では、スキャン方向としてのＹ方向に沿う方向に気流を生成するようにしたが、Ｘ方向に沿う方向にも気流を生成するようにして、Ｙ方向へのスキャン移動及びステップ移動に加えて、Ｘ方向へのステップ移動時にも、そのステージの移動方向に沿うように気流を生成するようにしてもよい。
【００６１】
次に、本実施形態の変形例を図５を参照して説明する。図１と実質的に同じ部分には同じ番号を付して、その説明は省略する。この変形例では、一対の給排気部２０３，２０４がウエハステージ１３０の左右の斜め上方からウエハステージ１３０を指向するように斜めに設けられており、各給排気部２０３，２０４の給排気口は下側を向くように設定されている。また、給排気機構２０１，２０２は、給排気部２０３，２０４に隣接して設けられており、気流生成制御装置２００により、給排気機構２０１，２０２の作動が制御されるようになってる。給排気機構２０１，２０２としては、環境チャンバ内の気体（ここでは、例えば、窒素ガス）を給排気部２０３，２０４からウエハ空間内に吹き出すとともに、ウエハ空間内の気体を環境チャンバ内に排出するものを採用している。具体的には、気体の送風及び吸引を選択的に切り換えることができる送風ファンないしポンプである。
【００６２】
この例では、図中、点線矢印で示されているような気流が生成されることになる。ステージ１３０の近傍に設置される各種の装置や部材との関係で、給排気部の設置場所に制約がある場合等に有利であるとともに、図１と比較してその構成が簡略なので、露光装置の仕様によっては、このような構成を採用するとよい。なお、給排気機構２０１，２０２内に、ケミカルフィルタやＨＥＰＡ（ＨｉｇｈＥｆｆｉｃｉｅｎｃｙ　Ｐａｒｔｉｃｌｅ　Ａｉｒ）フィルタ等の浄化フィルタ、及び温度調整装置等を設けるとよい。
【００６３】
図６は、図５の構成をさらに簡略化した例を示している。この例では、気体給排気機構として、同図に示されているような単一のポンプ装置２１０を採用している。このポンプ装置２１０は、隔壁２１１を介して左右に第１ポンプ室２１２及び第２ポンプ室２１３が設けられており、給排気部２１６にその一端が接続された管路２１４の他端が第１ポンプ室２１２に接続され、給排気部２１７にその一端が接続された管路２１５の他端が第２ポンプ室２１３に接続されている。給排気部２１６，２１７の構成は、図５の給排気部２０３，２０４と同様である。
【００６４】
隔壁２１１を図中左方向（−Ｙ方向）に移動すると、第１ポンプ室２１２が圧縮されて管路２１４を介して給排気部２１６から気体がウエハ空間内に吐出されるとともに、第２ポンプ室２１３が拡張してウエハ空間内の気体が給排気部２１７、管路２１５を介して第２ポンプ室２１３に流入される。これにより、ウエハ空間内に第１方向（＋Ｙ方向）の気流が生成される。一方、隔壁２１１を図中右方向（＋Ｙ方向）に移動すると、第２ポンプ室２１３が圧縮されて管路２１５を介して給排気部２１７から気体がウエハ空間内に吐出されるとともに、第１ポンプ室２１２が拡張してウエハ空間内の気体が給排気部２１６、管路２１４を介して第１ポンプ室２１２に流入される。これにより、ウエハ空間内に第２方向（−Ｙ方向）の気流が生成される。
【００６５】
ポンプ装置２１０の隔壁２１１の移動は、ウエハステージ１３０のスキャン方向に一致するように、独立した駆動装置により行うようにできる。但し、隔壁２１１の一部をウエハステージ１３０の可動部に方向変換機構及び変速機構等を介して取り付けて、ウエハステージ１３０の移動に同期して逆方向に隔壁２１１を移動するようにすれば、隔壁２１１の移動用に別途駆動機構や制御機構を設ける必要がなく高効率的である。ところで、上記各実施形態では窒素又はヘリウムなどの不活性ガス（以下、パージガスと総称する）を用いて気流を生成するときにそのパージガスを回収するものとしたが、必ずしもその回収を行わなくてもよいし、あるいは回収のみを行って再利用しなくてもよい。
【００６６】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。従って、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【００６７】
例えば、上記の実施形態においては、光源としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を射出するものを採用した露光装置について説明しているが、本発明はこれに限定されず、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ２　レーザ（１５７ｎｍ）等を採用することができる。
【００６８】
露光用照明光として、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム（又はエルビウムとイットリビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。
【００６９】
例えば、単一波長レーザの発振波長を１．５１〜１．５９μｍの範囲内とすると、発生波長が１８９〜１９９ｎｍの範囲内である８倍高調波、又は発生波長が１５１〜１５９ｎｍの範囲内である１０倍高調波が出力される。特に発振波長を１．５４４〜１．５５３μｍの範囲内とすると、１９３〜１９４ｎｍの範囲内の８倍高調波、即ちＡｒＦエキシマレーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られ、発振波長を１．５７〜１．５８μｍの範囲内とすると、１５７〜１５８ｎｍの範囲内の１０倍高調波、即ちＦ２　レーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られる。
【００７０】
また、発振波長を１．０３〜１．１２μｍの範囲内とすると、発生波長が１４７〜１６０ｎｍの範囲内である７倍高調波が出力され、特に発振波長を１．０９９〜１．１０６μｍの範囲内とすると、発生波長が１５７〜１５８μｍの範囲内の７倍高調波、即ちＦ２　レーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られる。なお、単一波長発振レーザとしてはイットリビウム・ドープ・ファイバーレーザを用いる。
【００７１】
また、上述の説明では、本発明を用いて特に好適なステップ・アンド・スキャン方式の縮小投影型露光装置（スキャニング・ステッパー）についての説明としたが、レチクルとウエハとを静止させた状態でレチクルパターンの全面に露光光を照射して、そのレチクルパターンが転写されるべきウエハ上の１つの区画領域（ショット領域）を静止露光するステップ・アップ・リピート方式の縮小投影型露光装置（ステッパー）にも本発明を適用することができる。さらに、ステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影型露光装置やミラープロジェクション・アライナー等にも適用することができる。その他、基板を移動するステージ装置に広く適用可能である。
【００７２】
さらに、半導体素子や液晶表示素子の製造に用いられる露光装置だけでなく、プラズマディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤなど）、マイクロマシン、ＤＮＡチップなどの製造に用いられる露光装置、及びレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。即ち本発明は、露光装置の露光方式や用途等に関係なく適用可能である。
【００７３】
前述した本発明の実施形態に係る露光装置（図１）は、光源１００、各種の光学素子ないし光学装置を含んで構成される照明光学系ＩＬ、レチクルステージ１２０を含むレチクル移動系、ウエハステージ１３０を含むウエハ移動系、投影光学系ＰＬ、ウエハ空間に気流を生成する気流生成装置１５０、レチクル空間に気流を生成する気流生成装置等の図１に示された各要素等を環境チャンバ内に収容し、各気流生成装置の管路１５８〜１６１等の配管や電気配線を行い、電気的、機械的、又は光学的に連結して組み上げた後、総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより製造される。なお、露光装置の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００７４】
本発明の実施形態に係る露光装置を用いてデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）を生産するには、まず、設計ステップにおいて、デバイスの機能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、マスク製作ステップにおいて、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ウエハ製造ステップにおいて、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
【００７５】
次に、ウエハプロセスステップにおいて、上記ステップで用意したマスクとウエハを使用して、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、組立ステップにおいて、ウエハプロセスステップにおいて処理されたウエハを用いてチップ化する。この組立ステップには、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程が含まれる。最後に、検査ステップにおいて、組立ステップで作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。
【００７６】
【発明の効果】
本発明は以上詳述したように、ステージ近傍の空間に該ステージの移動方向に一致するように気体の流れを生成するようにしたので、該ステージの移動の妨げとなることなく、ステージ近傍の空間の温度揺らぎを高効率的に解消することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る露光装置の全体構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態における気流生成装置の温度調整装置の概略を示す図である。
【図３】本発明の実施形態における気流生成装置の気流制御装置の処理を示すフローチャートである。
【図４】本発明の実施形態における気流生成装置の給排気部の断面構成の一例を示す図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係る露光装置の要部構成を示す図である。
【図６】本発明のさらに他の実施形態に係る露光装置の要部構成を示す図である。
【符号の説明】
ＩＬ…照明光学系
ＰＬ…投影光学系
Ｒ…レチクル
Ｗ…ウエハ
ＡＦ１，ＡＦ２…フォーカスセンサ
１２０…レチクルステージ
１３０…ウエハステージ
１２３，１３３…レーザ干渉計
１４０…主制御系
１５０…気流生成装置
１５１…気流制御装置
１５２…気体供給装置
１５３…気体温度調整装置
１５４…気体回収装置
１５５…モード切換装置
１５６，１５７…給排気部
１５８〜１６１…管路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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