(57)【要約】【課題】磁気記録媒体の研磨能を研磨材に関する特定のパラメータにより把握可能とすることで、適正な研磨能を備える磁気記録媒体、およびその研磨能のより効率的な評価方法を提供する。【解決手段】単層の表面に微細な凹凸を有する磁性層において、非磁性支持体表面と平行な平面の、非磁性支持体表面からの高さを横軸に、前記平面により微細な凹凸の凸が切断される際のその断面積の総和ｐと前記平面の面積ｑとの面積比（ｐ／ｑ）を縦軸に、夫々取った際に、高さに対する面積比を表す曲線が変曲点を示す高さでの前記平面を基準面としたとき、次式、Ｐ＝ｈ／（（Ｒａ）２×Ｈ）（式中、ｈ、ＨおよびＲａは夫々、原子間力顕微鏡による測定値としての、基準面からの研磨材の平均突出高さ（ｎｍ）、微細な凹凸を切断する最低高さの前記平面を基準として得られる磁性層表面の平均高さ（ｎｍ）、および磁性層の表面平均粗さ（ｎｍ）である）で示される研磨効果Ｐが０．４〜０．９の範囲内である。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に、磁性粉末、バインダーおよび研磨材を含む単層の表面に微細な凹凸を有する磁性層を有し、該磁性層において、非磁性支持体表面と平行な平面の、該非磁性支持体表面からの高さを横軸に、前記平面により前記微細な凹凸の凸が切断される際のその断面積の総和ｐと前記平面の面積ｑとの面積比（ｐ／ｑ）を縦軸に、夫々取った際に、前記高さに対する前記面積比を表す曲線が変曲点を示す高さでの前記平面を基準面としたとき、下記式（１）、
Ｐ＝ｈ／（（Ｒａ）２×Ｈ）                                  （１）
（式中、ｈ、ＨおよびＲａは夫々、原子間力顕微鏡による測定値としての、前記基準面からの前記研磨材の平均突出高さ（ｎｍ）、前記微細な凹凸を切断する最低高さの前記平面を基準として得られる前記磁性層表面の平均高さ（ｎｍ）、および前記磁性層の表面平均粗さ（ｎｍ）である）で示される研磨効果Ｐが０．４〜０．９の範囲内であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
非磁性支持体上に、磁性粉末、バインダーおよび研磨材を含む単層の表面に微細な凹凸を有する磁性層を有する磁気記録媒体の研磨能を評価するにあたり、前記磁性層において、非磁性支持体表面と平行な平面の、該非磁性支持体表面からの高さを横軸に、前記平面により前記微細な凹凸の凸が切断される際のその断面積の総和ｐと前記平面の面積ｑとの面積比（ｐ／ｑ）を縦軸に、夫々取った際に、前記高さに対する前記面積比を表す曲線が変曲点を示す高さでの前記平面を基準面としたとき、下記式（１）、
Ｐ＝ｈ／（（Ｒａ）２×Ｈ）                                  （１）
（式中、ｈ、ＨおよびＲａは夫々、原子間力顕微鏡による測定値としての、前記基準面からの前記研磨材の平均突出高さ（ｎｍ）、前記微細な凹凸を切断する最低高さの前記平面を基準として得られる前記磁性層表面の平均高さ（ｎｍ）、および前記磁性層の表面平均粗さ（ｎｍ）である）で示される研磨効果Ｐを用いることを特徴とする磁気記録媒体の評価方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気記録媒体およびその評価方法に関し、詳しくは、研磨材の分布状態を特定のパラメータを用いて規定することにより良好な研磨能を実現した磁気記録媒体、およびその研磨能の評価方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録媒体の研磨能は、その耐久性や信頼性を維持するために、非常に重要な要素の一つである。そのため、磁性層中に含有させる研磨材と研磨能との関係については、従来より様々に検討がなされてきている。
【０００３】
磁気記録媒体の研磨能を評価するための基準としては、例えば、センダストバーを用いた研磨試験がよく知られている（特許文献１等に記載）。また、特許文献２には、所定条件下で摩耗試験を行って摩耗量を演算することにより、短時間で簡易に研磨力を測定することが可能な研磨力の測定装置および方法が記載されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１１−８６２６５号公報（特許請求の範囲、［０００８］等）
【特許文献２】
特開平１０−２５５２４１号公報（特許請求の範囲、図１等）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これまで研磨能を適正に評価することのできる十分な基準は存在せず、また、上記従来技術では、実際に磁気記録媒体を摩耗させて試験を行うことが必須であることから、実際の製品検査等に適用するには効率的な評価方法であるとは言えなかった。
【０００６】
そこで本発明の目的は、磁気記録媒体の研磨能を、研磨材に関する特定のパラメータにより把握可能とすることで、適正な研磨能を備える磁気記録媒体、および、その研磨能のより効率的な評価方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、磁性層における研磨材の分布状態を規定することのできる特定のパラメータを見出し、これを用いることにより良好な研磨能を実現した磁気記録媒体およびその評価方法を実現できることを見出して、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、上記課題を解決するために、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、磁性粉末、バインダーおよび研磨材を含む単層の表面に微細な凹凸を有する磁性層を有し、該磁性層において、非磁性支持体表面と平行な平面の、該非磁性支持体表面からの高さを横軸に、前記平面により前記微細な凹凸の凸が切断される際のその断面積の総和ｐと前記平面の面積ｑとの面積比（ｐ／ｑ）を縦軸に、夫々取った際に、前記高さに対する前記面積比を表す曲線が変曲点を示す高さでの前記平面を基準面としたとき、下記式（１）、
Ｐ＝ｈ／（（Ｒａ）２×Ｈ）                                  （１）
（式中、ｈ、ＨおよびＲａは夫々、原子間力顕微鏡による測定値としての、前記基準面からの前記研磨材の平均突出高さ（ｎｍ）、前記微細な凹凸を切断する最低高さの前記平面を基準として得られる前記磁性層表面の平均高さ（ｎｍ）、および前記磁性層の表面平均粗さ（ｎｍ）である）で示される研磨効果Ｐが０．４〜０．９の範囲内であることを特徴とするものである。
【０００９】
また、本発明の磁気記録媒体の評価方法は、非磁性支持体上に、磁性粉末、バインダーおよび研磨材を含む単層の表面に微細な凹凸を有する磁性層を有する磁気記録媒体の研磨能を評価するにあたり、前記磁性層において、非磁性支持体表面と平行な平面の、該非磁性支持体表面からの高さを横軸に、前記平面により前記微細な凹凸の凸が切断される際のその断面積の総和ｐと前記平面の面積ｑとの面積比（ｐ／ｑ）を縦軸に、夫々取った際に、前記高さに対する前記面積比を表す曲線が変曲点を示す高さでの前記平面を基準面としたとき、下記式（１）、
Ｐ＝ｈ／（（Ｒａ）２×Ｈ）                                  （１）
（式中、ｈ、ＨおよびＲａは夫々、原子間力顕微鏡による測定値としての、前記基準面からの前記研磨材の平均突出高さ（ｎｍ）、前記微細な凹凸を切断する最低高さの前記平面を基準として得られる前記磁性層表面の平均高さ（ｎｍ）、および前記磁性層の表面平均粗さ（ｎｍ）である）で示される研磨効果Ｐを用いることを特徴とするものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、磁性粉末、バインダーおよび研磨材を含む単層の表面に微細な凹凸を有する磁性層を有するものであり、その磁性層が、研磨能について以下に示す所定の条件を満足する点に特徴がある。
【００１１】
具体的には、表面に微細な凹凸を有する磁性層において、非磁性支持体表面と平行な平面の、該非磁性支持体表面からの高さを横軸に、前記平面により前記微細な凹凸の凸が切断される際のその断面積の総和ｐと前記平面の面積ｑとの面積比（ｐ／ｑ）を縦軸に、夫々取った際に、前記高さに対する前記面積比を表す曲線が変曲点を示す高さでの前記平面を基準面として定め、かかる基準面からの研磨材の平均突出高さｈ（ｎｍ）、前記微細な凹凸を切断する最低高さの前記平面を基準として得られる磁性層表面の平均高さＨ（ｎｍ）、および、磁性層の表面平均粗さＲａ（ｎｍ）とから、下記式（１）、
Ｐ＝ｈ／（（Ｒａ）２×Ｈ）                                  （１）
により求められる研磨効果Ｐが０．４〜０．９の範囲内であることが必要である。研磨効果Ｐが０．４未満では、磁気記録媒体の研磨能が低すぎて、ヘッドに堆積した付着を取り除くことができず、ヘッドの目詰まりを起こしてしまう。一方、研磨効果Ｐが０．９を超えると、磁気記録媒体の研磨能が高すぎて、ヘッドの摩耗が激しくなり、要求されるヘッドの寿命が満足できなくなる。従って、上記測定値から得られる研磨効果Ｐをこの範囲内とすることで、磁気記録媒体としての適正な研磨能を確保することが可能となる。また、上記研磨効果Ｐをパラメータとして用いて研磨能を評価する場合、非破壊測定のみで評価を行うことができるので、従来方法のように実際に時間をかけて磁気記録媒体を摩耗させる作業を行う必要がなく、短時間で効率的な評価が可能である。
【００１２】
本発明に係る上記各測定値を得るに際しては、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ；Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いる。また、磁性層表面における磁性粉末および研磨材の存在箇所を特定するためには、ＡＦＭと走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ    Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）とを併用して、磁性層表面のＡＦＭ像とＳＥＭ像とを対比する手法を用いることができる。
【００１３】
磁性層表面のＡＦＭ像およびＳＥＭ像の拡大顕微鏡写真を、夫々図１（イ）および（ロ）に示す。図示するように、磁性層表面には磁性粉末の集中している箇所Ａと、その中に分散された研磨材の存在する箇所Ｂとが存在し、さらに、これらのいずれもが存在せず隙間になっている箇所Ｃのあることが見てとれる。比較観察の結果、研磨材の存在箇所Ｂと隙間の存在箇所Ｃとは隣接している場合が多く、即ち、凹凸が激しくなっている一方、磁性粉末の集中する箇所Ａは、比較的平坦な状態になっていることがわかった。
【００１４】
ここで、研磨能を評価するためには、磁性層表面に存在する研磨材の高さが重要となると考えられるが、この高さを数値的に規定するためには一定の基準面を設定することが必要である。そこで、本発明においては、上記したように、表面に微細な凹凸を有する磁性層において、非磁性支持体表面からの高さに対して、前記面積比（ｐ／ｑ）をプロットして、高さごとの水平面内に占める磁性層の割合の変動を表す曲線を描き、この曲線が変曲点を示す高さを基準面として定めることとした。この手順についてもＡＦＭを用いて行うことができ、具体的には、例えば、図３に示すような高さ−磁性層占有率曲線が描かれる。図示するように、最低高さ（ｂ）では磁性層占有率Ｙ＝１００（％）となり、最大高さ（ａ）ではＹ＝０（％）となる。基準面となる高さは図中に矢視で示す変曲点に対応する高さであり、即ち、変曲点でのＸ軸の値に対応する水平面が基準面となる。
【００１５】
基準面からの研磨材の突出高さｈ（ｎｍ）は、上記のようにして研磨材の存在箇所Ｂを特定した後、特定した研磨材の最大高さの位置にて、ＡＦＭを用いて当該磁性層表面の断面形状を得ることにより、この断面における基準面高さから研磨材最大高さまでの距離として得られる。
【００１６】
この研磨材の平均突出高さｈ（ｎｍ）の研磨能への寄与は、磁性層の表面平均粗さＲａ（ｎｍ）との関係で、下記式（２）、
（突出率）＝ｈ／Ｒａ                                          （２）
により定義される突出率として評価することができる。特に、Ｒａの影響は研磨能に対し大きく働くものと考えられるので、さらに、下記式（２’）、
（突出率）＝ｈ／（Ｒａ）２                                  （２’）
として、突出率を評価した。
【００１７】
また、磁性層表面における隙間の存在が研磨能に及ぼす影響を考えた場合、図２（イ）に示すように研磨材１と隙間２とが隣接している箇所では、磁性層表面がヘッド等と接触する際に、突出する研磨材１が隙間２の側に倒れ込むものと考えられる（同図（ロ）参照）。従って、このような箇所では本来の状態よりも研磨材の突出状態が弱められ、研磨効果が低下することが予想される。即ち、このような隙間２の存在は、研磨能を軽減する方向に作用する要素として考慮することが必要となる。
【００１８】
一方、隙間２の深さは磁性層表面の凹凸に反映されるものと考えられる。そこで、磁性層表面の凹凸の尺度として、突出高さｈ（ｎｍ）を得たのと同様の断面形状において、ＡＦＭにより検出される磁性層表面の最低高さ面を基準とする磁性層表面の平均高さＨを規定する。この平均高さＨは、具体的には、ＡＦＭ測定により相対的な数値として得られる測定高さの全数値のうち、最も低い点を最低高さ面としてゼロ基準とし、この面からの各測定箇所における高さの測定値Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３・・・Ｈｎを全体で平均することにより、下記式（３）、
Ｈ＝（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３・・・Ｈｎ）／ｎ                      （３）
により得ることができる。ここで、ｎはデータポイント数（測定箇所数）を表す。従って、隙間２の存在による軽減のパラメータとして、下記式（４）、
（緩和率）＝１／Ｈ                                            （４）
にて緩和率を定義し、これを上記突出率に乗ずることにより、隙間２の効果を含めて研磨能を評価することが可能となる。以上より、上記式（２’）および式（４）から、（突出率）×（緩和率）として、前記式（１）で示される研磨効果Ｐを得た。
【００１９】
なお、上記手順において、磁性層表面の断面形状および研磨材突出高さ、基準面高さ等のデータ処理は、例えば、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ社製ＳＰＭＬａｂ  ＮＴ  Ｖｅｒ．５０１ｂ１１（データ処理アプリケーション）を用いて行うことができる。また、上記範囲の研磨効果Ｐを得るための好適な各測定値の範囲としては、研磨材の平均突出高さｈについては８〜１３（ｎｍ）、磁性層表面の平均高さＨとしては４０〜６０（ｎｍ）、磁性層の表面平均粗さＲａとしては５〜１０（ｎｍ）、特には５〜８（ｎｍ）の範囲である。
【００２０】
本発明に係る上記研磨効果Ｐは、非磁性支持体上に単層の磁性層を有する磁気記録媒体の研磨能を評価するに際して有効な評価基準であり、特に、ＡＦＭと、補助的にＳＥＭを併用した測定のみにより評価可能であるという利点を有する。また、本発明の磁気記録媒体においては、研磨効果Ｐが上記範囲を満足するものであれば、磁性粉末、バインダーおよび研磨材等の磁性層の具体的な構成材料や、非磁性支持体、磁性層の下層に設ける非磁性層等の他の層構成等については、特に制限されるものではないが、例えば、以下のような構成とすることができる。
【００２１】
磁性粉末としては、γ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、γ−Ｆｅ２Ｏ３とＦｅ３Ｏ４との固溶体、Ｃｏ化合物被着型γ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ化合物ドープ型γ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ化合物被着型Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｏ化合物ドープ型Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｏ化合物被着型γ−Ｆｅ２Ｏ３とＣｏ化合物被着型Ｆｅ３Ｏ４との固溶体、Ｃｏ化合物ドープ型γ−Ｆｅ２Ｏ３とＣｏ化合物ドープ型Ｆｅ３Ｏ４との固溶体、ＣｒＯ２等の酸化物強磁性粉末、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ合金、Ｍｎ−Ｂｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｐ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐ合金、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｐ合金等、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏを主成分とする従来公知の金属磁性粉末が挙げられる。
【００２２】
このような磁性粉末は、磁性層組成中に７０〜９０質量％程度含まれていればよい。磁性粉末の含有量が多すぎるとバインダの含有量が減少するためカレンダ加工による表面平滑性が悪化しやすくなり、一方、少なすぎると高い再生出力が得られにくくなる。
【００２３】
また、バインダとして用いる樹脂材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に使用することができ、特に制限されるべきものではない。例えば、塩化ビニル−エポキシ系共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、セルロース系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、繊維素系樹脂、合成ゴム系樹脂などがあり、これらは一般に磁気記録媒体用に使用されるバインダとしての樹脂材料である。
【００２４】
磁性層に用いられるこれらのバインダ樹脂の含有量は、磁性粉末１００部に対して５〜４０質量部、特には１０〜３０質量部が好ましい。バインダ樹脂の含有量が少なすぎると磁性層の強度が低下するため、走行耐久性が悪化しやすくなる。一方、多すぎると磁性粉末の含有量が低下するため、電磁変換特性が低下してくる。
【００２５】
これらのバインダ樹脂を硬化させる架橋剤としては、例えば、熱硬化型樹脂の場合は、既知の各種ポリイソシアナートを挙げることができ、この架橋剤の含有量はバインダ樹脂１００質量部に対し、１０〜３０質量部とすることが好ましい。また、磁性層中には、必要に応じ、分散剤、潤滑剤、研磨材、帯電防止剤、硬化剤などを添加してもよい。これらは、一般に磁性塗料中に添加して用いられるものである。
【００２６】
また、溶剤として用いる有機溶剤としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、トルエン、シクロへキサノン、酢酸エチル、テトラヒドロフランなどを挙げることができ、これらはバインダの樹脂材料を溶解するのに適し、特に制限されることなく、単独または２種以上混合して使用することができる。有機溶剤の添加量は、固形分（磁性粉末や各種無機粒子等）とバインダ樹脂との合計量１００質量部に対して１００〜９００質量部程度とすればよい。
【００２７】
磁性層に用いる研磨材としては、例えば、α−アルミナ（モース硬度９）、酸化クロム（モース硬度９）、炭化珪素（モース硬度９．５）、酸化珪素（モース硬度７）、窒化アルミニウム（モース硬度９）、窒化ホウ素（モース硬度９．５）等の、モース硬度６以上の研磨材を好適に用いることができる。中でも特に、モース硬度９以上の研磨材を少なくとも１種含有させることが好適である。また、研磨材として、平均粒径の異なる２種以上のものを併用した場合には、出力変動の低下や耐久走行性の向上を図ることができる。
【００２８】
研磨材の平均粒径は、磁性層の膜厚よりも小さいことが好ましく、通常０．０１〜０．２μｍ、好適には０．０５〜０．２μｍ程度である。平均粒径が大きすぎると、磁性層表面からの突出量が大きくなりやすく、電磁変換特性の低下やドロップアウトの増加、ヘッド摩耗量の増大等を招く傾向がある。一方、平均粒径が小さすぎると、磁性層表面からの突出量が小さくなりやすく、ヘッド目詰まりの防止効果が不十分となる。なお、平均粒径は、一般に、透過型電子顕微鏡により測定することができる。かかる研磨材の含有量は、磁性粉末１００質量部に対し、通常８〜２０質量部、好ましくは５〜２０質量部である。
【００２９】
バックコート層は、走行安定性の改善や磁性層の帯電防止等のために、必要に応じて設けることができ、本発明においては必須ではない。バックコート層には、３０〜８０質量％のカーボンブラックを含有させることが好ましく、かかるカーボンブラックとしては通常使用されるものであればどのようなものであってもよく、上述の非磁性層に用いるものと同様のものを用いることができる。また、カーボンブラック以外に、必要に応じ、磁性層に用いられるような各種研磨材等の非磁性無機粉末や、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００３０】
また、非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリオレフィン類、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルホンセルローストリアセテート、ポリカーボネート等の公知の材料からなるものを適宜使用することができる。その厚さ等についても既知の範囲内で適宜決定することができ、特に制限されるべきものではないが、例えば、厚み７〜１５μｍ程度とすることができる。
【００３１】
これらＰＥＴ等からなる薄い支持体の上に磁性塗料と、所望に応じバックコート塗料を夫々塗布して磁性層およびバックコート層を形成する際に用いられる塗布方法としては、特に制限されるものではないが、押し出し塗布法、リバースロール塗布法、グラビアロール塗布法、ナイフコータ塗布法、ドクターブレード塗布法、キスコート塗布法、カラーコート塗布法、スライドビード塗布法等を用いることができる。中でも、特に、塗布膜厚の均一性の点で、押し出し塗布法が好適である。なお、磁性層の塗布形成時には、好ましくは、マグネットスムーザー（ＭＧＳ）を用いて磁性層表面の平滑化を行う。ＭＧＳは、Ｎ／Ｓの磁極が交互に入れ替わるようベースフィルムに対向する位置に配置した、複数個の磁石により磁場を形成する装置であり、この磁場中に、未乾燥の磁性層を通過させることにより、磁界の作用で磁性粉末を振動させて、レベリングを行うことができる（詳細は、特開平５−６５４０号公報等に記載）。
【００３２】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
下記組成物を用いて、磁性層形成用の磁性塗料を調製した。
〈磁性塗料組成物〉
強磁性粉末                                                  １００質量部
（関東電化工業（株）製、Ｈｃ＝１７００  Ｏｅ、平均長軸長０．１５μｍ、Ｆｅ／Ｓｉ／Ａｌ／Ｎｉ／Ｃｏ＝１００／２．６／５．８／３／５（原子比）、ＢＥＴ比表面積＝５２．０ｍ２／ｇ）
塩化ビニル共重合体                                            １０質量部
（日本ゼオン（株）製、商品名  ＭＲ−１１０、重合度３００、極性基−ＳＯ３−Ｋ含有）
ポリウレタン樹脂                                                ８質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製、商品名  Ｎ−３３０１、カルボン酸含有）
α−Ａｌ２Ｏ３                                                  １５質量部
（住友化学工業（株）製、商品名  ＨＩＴ−６０Ａ、平均粒径０．２μｍ）
メチルエチルケトン                                          １００質量部
トルエン                                                    １００質量部
シクロヘキサノン                                              ４０質量部
【００３３】
上記組成物をニーダーにて十分に混練した後、サンドグラインドミルにて５時間分散を行った。その後に下記材料を投入して、さらに１時間サンドグラインドミルにて分散を行った。
ステアリン酸                                                １．０質量部
ステアリン酸アミド                                          ０．５質量部
ブチルステアレート                                          １．０質量部
メチルエチルケトン                                            ３０質量部
トルエン                                                      ３０質量部
シクロヘキサノン                                              １５質量部
【００３４】
このようにして得られた混合液に硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を３質量部添加混合して、これをさらに平均孔径０．３μｍのフィルターで濾過して、磁性塗料を作製した。
【００３５】
次いで、下記のバックコート層形成用の塗料組成物を用いて、バックコート塗料を作製した。
〈バックコート塗料組成物〉
カーボンブラック                                            １００質量部
（キャボット社製、商品名  ＢＰ−８００、平均粒径１７ｎｍ、ＢＥＴ比表面積ｍ２／ｇ）
ニトロセルロース                                              ８０質量部
（旭化成工業（株）製、商品名  ＢＴＨ１／２）
ポリウレタン樹脂                                              ４０質量部
（東洋紡績（株）製、商品名  ＵＲ−８７００、スルホン酸Ｎａ含有）
メチルエチルケトン                                          １５０質量部
トルエン                                                    １５０質量部
シクロヘキサノン                                              ８０質量部
【００３６】
上記組成物をニーダーにて十分に混練した後、サンドグラインドミルにて５時間分散を行った。その後に下記材料を投入して、さらに１時間サンドグラインドミルにて分散を行った。
メチルエチルケトン                                          ４００質量部
トルエン                                                    ４００質量部
シクロヘキサノン                                            ２００質量部
【００３７】
このようにして得られた混合液に硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を２０質量部添加混合して、これをさらに平均孔径０．５μｍのフィルターで濾過して、バックコート塗料を作製した。
【００３８】
以上のようにして得られた磁性塗料およびバックコート塗料を用いて、下記の要領で磁気記録媒体サンプルを作製した。
まず、非磁性支持体（材質：ＰＥＮ）上に、上記磁性塗料を厚み２．３μｍとなるように塗設して、ＭＧＳ（９ｍｍ離れた水平方向の磁束密度：０．１Ｔ）を非磁性支持体から１５ｍｍ離れた位置に設置し、平滑化処理を施した。続いて、０．７Ｔの配向磁石を印加して、その後塗膜を乾燥し、次いで１００℃、線圧２６０ｋｇ／ｃｍ、３ニップの条件でカレンダリング処理を行った。
【００３９】
次いで、非磁性支持体の上記磁性層形成面とは反対側の面上に、上記バックコート塗料を厚み０．５μｍとなるように塗設し、その後塗膜を乾燥し、さらに、温度９０℃、線圧２１０ｋｇ／ｃｍ、３ニップの条件でカレンダリング処理を行った。このような一連の処理が完了した磁気記録媒体フィルムを巻き取りロールに巻き取った。そのままの状態で２４時間放置して、しかる後、熱硬化処理を６０℃にて２４時間行った。
以上のようにして作製された磁気記録媒体フィルムをスリッタにかけ、１／２インチ幅に切断して、実施例１の磁気記録媒体サンプルを作製した。
【００４０】
実施例２〜６および比較例１〜５
ＭＧＳの設置距離または研磨材量を下記の表１中に示すように変更した以外は実施例１と同様にして、磁気記録媒体サンプルを作製した。
【００４１】
〈平均突出高さｈ、平均高さＨ、表面平均粗さＲａの測定〉
実施例および比較例で得られた各磁気記録媒体サンプルにつき、ＡＦＭとＳＥＭを用いて、研磨材の平均突出高さｈ（ｎｍ）、磁性層表面の平均高さＨ（ｎｍ）および磁性層の表面平均粗さＲａ（ｎｍ）の測定を行った。ＡＦＭとしては、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ社製  Ａｕｔｏ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍ５を用い、下記の走査条件にて測定を行った。また、ＳＥＭとしてはＪＥＯＬ社製  ＪＳＭ−６３４０Ｆを用いた。
分析回数；Ｎ＝３
探針；シリコン単結晶プローブ（曲率半径２ｎｍ、ナノセンサーズ社製）
走査モード；ノンコンタクトモード
走査面積（ｓｃａｎ  ａｒｅａ）；３×３μｍ
（「平面の面積ｑ」に対応する）
画素数；１２８×１２８データポイント
走査速度（ｓｃａｎ  ｒａｔｅ）；０．６Ｈｚ
測定環境；室温、大気中
イメージデータの傾き、湾曲補正；イメージ全体のデータに対して、縦横両方向の傾き補正を行った（２Ｄ補正）。（手順（入力コマンド）：Ｐｒｏｃｅｓｓ／Ｌｅｖｅｌｉｎｇ／Ａｕｔｏ  Ｌｅｖｅｌｉｎｇ／２Ｄ）
【００４２】
具体的な手順としては、まず、各磁気記録媒体サンプルの磁性層上の任意の部位につき、ＡＦＭとおよびＳＥＭにて夫々１回のスキャンを行い、得られたＡＦＭ像とＳＥＭ像との対比より、研磨材の存在箇所を特定した。その後、ＡＦＭで当該磁性層表面の断面形状を磁気記録媒体の幅方向にて得て、この断面上において、基準面からの研磨材の突出高さを、計３点の研磨材につき求めた。この際の基準面は、ＡＦＭ測定より得られた磁性層における高さ−磁性層占有率曲線から、その変曲点を示す高さに対応する水平面に定めた。
【００４３】
上記手順を各磁気記録媒体サンプルの他２箇所の部位につき繰り返して、夫々３箇所の部位ごとに３点の研磨材、即ち、計９点の研磨材の突出高さの測定値を得た。この測定値を平均することにより、平均突出高さｈ（ｎｍ）を求めた。
【００４４】
また、ＡＦＭの１回のスキャン結果をデータ処理用ソフトウェアを用いて解析することにより、平均高さＨ（ｎｍ）および表面平均粗さＲａ（ｎｍ）を求めた。なお、上記各測定値のデータ処理には、データ処理アプリケーションとして、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ社製  ＳＰＭＬａｂ  ＮＴ  Ｖｅｒ．５０１ｂ１１を用いた（平均高さＨ算出用入力コマンド：Ａｎａｌｙｓｉｓ／Ａｒｅａ  Ａｎａｌｙｓｉｓ／Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）。
【００４５】
以上により得られた各測定値より、前記式（１）に従い研磨効果Ｐを算出した。
【００４６】
〈センダスト摩耗量の測定〉
また、各磁気記録媒体（磁気テープ）サンプルのセンダスト摩耗量を、図４（イ）に示す装置にて測定した。図示する装置には、長さ２５ｍｍ、断面６．０ｍｍ×６．０ｍｍのセンダストバー１１（トーキン（株）製  センダストバー（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金）、商品名：ブロック、材質：ＳＤ−５）が、角部が鉛直方向を向くよう固定具１２により装置本体１３に固定されている。なお、測定においては、センダストバー１１として、角部に摩耗がなく、１μｍ以上のチップや欠けがないものを用いた。
【００４７】
このセンダストバー１１の角部に対し、片側のテープラップθを１２°として、単位テープ幅当りのテープ張力０．５２６Ｎ／ｃｍにて各サンプルテープを押し当てた状態でテープを走行させ、図４（ロ）に示すように、走行後のセンダストバー１１の摩耗パターン（幅）により摩耗量を評価した。各サンプルテープ長は５０ｍとし、テープ速度０．３ｍ／ｓにて２パス（１往復）の走行を行った。摩耗パターンの測定は、図４（ロ）に示すテープ幅方向１／４、１／２、３／４の計３点において行い、これらの平均値より、各サンプルテープの摩耗量を得た。
【００４８】
〈ヘッド付着の有無の判定およびヘッド摩耗量の測定〉
以下の条件にて各磁気記録媒体サンプルを走行させて、夫々下記の手順に従い試験を行った。
走行モード：２５℃  ６０％、２５０時間、全長Ｐｌａｙ←→Ｒｅｗ、６３分（６３０ｍ）テープ
ＶＴＲ：Ｐａｎａｓｏｎｉｃ  ＡＪ−Ｄ５８０
【００４９】
ヘッド付着の有無については、上記条件での走行後に、光学顕微鏡の２００倍にて付着量を目視で観察することにより判定した。判定基準は以下のとおりであり、◎、○が合格ラインである。
◎：全くなし
○：摺動部に少し堆積した状態
△：ヘッドギャップ近傍まで堆積
×：ヘッドギャップまで堆積
【００５０】
ヘッド摩耗量については、走行前と走行後の記録・再生ヘッドの突き出し量の差を平均スリット光による光切断顕微鏡（日商精密（株）製、ハイミクロンスコープ）を用いて計測した。摩耗量３．０μｍ以下が合格ラインである。
これらの結果を下記の表１および図５に示す。
【００５１】
【表１】
2004303346.tif 000002
【００５２】
上記の表１中に示したように、本発明に係る研磨効果Ｐが０．４〜１．０である実施例の磁気記録媒体は、センダスト摩耗量についても良好な範囲の値を示し、適正な研磨能を有していることが確認できた。また、実際の使用時におけるヘッド付着、ヘッド摩耗量試験についても、良好な結果を示すことが確認された。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、研磨材に関する特定のパラメータを用いて磁気記録媒体の研磨能を把握することで、適正な研磨能を備える磁気記録媒体、および、その研磨能のより効率的な評価方法を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】（イ）は磁性層表面のＡＦＭ像を示す拡大顕微鏡写真図であり、（ロ）は同ＳＥＭ像を示す拡大顕微鏡写真図である。
【図２】（イ）は研磨材と隙間とが隣接している箇所を示す模式的断面図であり、（ロ）は研磨材が隙間の側に倒れ込む状態を示す模式的断面図である。
【図３】基準面の規定方法に係る、非磁性支持体表面からの高さを横軸に、これに対応する磁性層占有率を縦軸に取ったグラフである。
【図４】（イ）はセンダスト摩耗量の測定装置を示す断面図であり、（ロ）はセンダストバーの摩耗量の評価方法を示す説明図である。
【図５】実施例および比較例の磁気記録媒体の研磨効果Ｐとセンダスト摩耗量との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１  研磨材
２  隙間
１１  センダストバー
１２  固定具
１３  装置本体
【図１】
2004303346.tif 000003
【図２】
2004303346.tif 000004
【図３】
2004303346.tif 000005
【図４】
2004303346.tif 000006
【図５】
2004303346.tif 000007