(57)【要約】【課題】軽元素分析の感度や空間分解能を低下させることなく、光学像から試料における分析位置を簡便かつ高精度に特定することのできるＸ線分析装置を提供すること。【解決手段】Ｘ線ガイド部材５を用いて細く絞られたＸ線ａを試料１２の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記Ｘ線ガイド部材５からのＸ線ａを前記試料１２に対して直接照射するように構成するとともに、前記試料１２の光学像を前記Ｘ線ガイド部材５と同軸方向において得るように構成した。【選択図】　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記Ｘ線ガイド部材からのＸ線を前記試料に対して直接照射するように構成するとともに、前記試料の光学像を前記Ｘ線ガイド部材と同軸方向において得るように構成したことを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項２】
Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記試料の上方に、反射面にＸ線ガイド部材挿通部を有するミラーを、その反射面が試料側に向きかつＸ線の照射方向と所定の角度をなすようにして設け、前記Ｘ線ガイド部材挿通部に前記Ｘ線ガイド部材の下端側を挿通させるとともに、前記反射面と所定の角度をなす方向に、前記反射面において反射した光を試料観察手段に収斂させる高開口数の集光レンズを設けたことを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項３】
ミラーと試料との間かつＸ線ガイド部材の周囲に試料位置を焦点とする放物面ミラーを設けてなる請求項２に記載のＸ線分析装置。
【請求項４】
Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記Ｘ線ガイド部材からのＸ線を前記試料に対して直接照射するように構成するとともに、前記Ｘ線ガイド部材に沿うようにして光ファイバーを設けたことを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項５】
Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記試料の上方に、反射面にＸ線ガイド部材挿通部を有する凹面ミラーを、その反射面が試料側に向くようにして設け、前記Ｘ線ガイド部材挿通部に前記Ｘ線ガイド部材の下端側を挿通させるとともに、前記反射面の焦点位置に前記反射面からの反射した光が入射する試料観察手段を設けたことを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項６】
Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析方法において、前記Ｘ線ガイド部材からのＸ線を前記試料に対して直接照射するとともに、前記試料の光学像を前記Ｘ線ガイド部材と同軸方向において得るようにしたことを特徴とするＸ線分析方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、試料中に含まれる元素およびその量やその分布状態を調べるのに用いられるＸ線分析装置および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】特開平４−１７５６４８号公報
【特許文献２】特開平６−２８８９４１号公報
Ｘ線分析装置は、例えば試料台上に載置された試料に対して一次Ｘ線を照射し、そのとき発生する螢光Ｘ線や散乱Ｘ線などの二次Ｘ線をＸ線検出器によって検出し、その検出出力を適宜処理することにより、試料の構成元素や内部構造の解析を行うことができる。
【０００３】ところで、近時、上記Ｘ線分析装置においては、試料の微小部分をより詳しく分析したいという要望が高まってきており、そのため、Ｘ線導管などのＸ線ガイド部材を用いて細く絞ったＸ線を前記微小部分に照射することが行われている。この場合、前記細径のＸ線が試料のどの位置に照射されているかを、ＣＣＤカメラなどの観察手段を用いて観察し、この観察画像を、装置全般を制御するパソコンなどの演算制御装置に付設された表示装置の表示画面上に表示するようにしている。
【０００４】従来のＸ線分析装置における試料観察のための構成として、例えば上記特許文献１および２にそれぞれ記載されるものがある。図６は、前記特許文献１に記載されるＸ線分析装置を概略的に示すもので、このＸ線分析装置においては、試料４１の斜め上方にＸ線管４２とＸ線検出器４３とを互いに対向するように設け、Ｘ線管４２を発したＸ線（一次Ｘ線）４４が例えばＸ線導管のようなＸ線ガイド部材４５Ａによって細く絞られて試料４１に照射したときに生ずる特性Ｘ線（例えば螢光Ｘ線）４６をＸ線検出器４３で検出するように構成するとともに、試料４１の真上に試料観察手段としてのＣＣＤカメラ４７を設けて、Ｘ線４４の照射方向（Ｘ線照射軸）と異なる方向（斜め方向）において試料４１の光学像（可視光像）を観察するようにしている。
【０００５】また、図７は、前記特許文献２に記載されるＸ線分析装置を概略的に示すもので、このＸ線分析装置においては、試料４１の真上にＸ線管４２およびコリメータのようなＸ線ガイド部材４５Ｂを設け、さらに、Ｘ線ガイド部材４５Ｂの下方にＸ線吸収率の低いベリリウム箔よりなるハーフミラー４８を、Ｘ線照射方向と４５°をなすように設け、その反射面側にＣＣＤカメラ４７を設けて、Ｘ線照射軸と同軸において試料４１の光学像（可視光像）を観察するようにしている。なお、図６および図７において、４９はＸ線検出器４３を冷却するための冷却用媒体を収容したタンクである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記図６に示すように、Ｘ線照射軸に対して斜め方向から光学像を観察するようにしたＸ線分析装置においては、試料４１の高さ位置が変わると、試料４１における光学像の観察位置とＸ線照射位置とにずれ（食い違い）が生じ、試料表面に凹凸が有ると、分析位置を正確に特定することができない。また、試料表面に凹凸が無い場合においても、試料４１の高さ決め精度によって分析位置が決まるため、高精度に高さを設定するための機構が必要なり、それだけ構造が複雑になる。
【０００７】一方、前記図７に示したＸ線分析装置においては、Ｘ線照射軸と同軸において試料４１の光学像（可視光像）を観察するようにしているので、上述した図６におけるような不都合は生じないが、ハーフミラー４８を介してＸ線４４を試料４１に照射するようにしているので、ハーフミラー４８としてベリリウム箔のようなＸ線吸収率の小さい素材を用いた場合においても、照射されるＸ線４４が多少の吸収を受ける。特に、軽元素を励起させるのに有効な低エネルギーのＸ線ほど吸収されやすいため、軽元素分析においては分析感度の低下を避けることができない。また、ハーフミラー４８を配置すると、Ｘ線出射端（この例では、Ｘ線ガイド部材４５Ｂの下端４５ｂ）と試料４１との距離がそれだけ大きくならざるを得ず、その分、空間分解能が低下する。
【０００８】この発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的は、軽元素分析の感度や空間分解能を低下させることなく、光学像から試料における分析位置を簡便かつ高精度に特定することのできるＸ線分析装置および方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため、この発明では、Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記Ｘ線ガイド部材からのＸ線を前記試料に対して直接照射するように構成するとともに、前記試料の光学像を前記Ｘ線ガイド部材と同軸方向において得るように構成している（請求項１）。
【００１０】上記構成によれば、試料に対するＸ線の照射軸と試料の光学像を同軸上で得ることができ、試料のＸ線分析に際して、試料に対するＸ線の照射とＸ線照射対象の試料の光学画像（可視画像）の確認を同時に行うことができる。したがって、試料にＸ線を照射しながら当該試料の状態（様子）を例えば目視によって確認することができ、表面に凹凸がある試料においても分析位置を精度よく特定することができる。そして、Ｘ線分析のためのＸ線が試料に対して直接照射されるので、Ｘ線がミラーによって吸収を受けたりすることがなく、軽元素分析においても分析感度が低下することがない。また、Ｘ線ガイド部材におけるＸ線出射端を試料に対して可及的に近づけることができるので、空間分解能の低下も防止することができる。
【００１１】より具体的には、Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記試料の上方に、反射面にＸ線ガイド部材挿通部を有するミラーを、その反射面が試料側に向きかつＸ線の照射方向と所定の角度をなすようにして設け、前記Ｘ線ガイド部材挿通部に前記Ｘ線ガイド部材の下端側を挿通させるとともに、前記反射面と所定の角度をなす方向に、前記反射面において反射した光を試料観察手段に収斂させる高開口数の集光レンズを設けている（請求項２）。
【００１２】ここで、Ｘ線ガイド部材の下端側を挿通させるためにミラーの反射面に形成されるＸ線ガイド部材挿通部としては、反射面に貫通孔を形成してもよいが、反射面に切り込みの浅い（小さい）凹部や切り込みの深い（大きい）凹部を設けてもよく、また、ミラーを複数（例えば２つ）のミラー部材で構成し、これらのミラー部材間に所定の間隙を形成してもよい。
【００１３】そして、請求項２に記載のＸ線分析装置において、ミラーと試料との間かつＸ線ガイド部材の周囲に試料位置を焦点とする放物面ミラーを設けてもよい（請求項３）。このようにした場合、ミラーの試料に対する高さ位置を任意に設定することができる。
【００１４】また、Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記Ｘ線ガイド部材からのＸ線を前記試料に対して直接照射するように構成するとともに、前記Ｘ線ガイド部材に沿うようにして光ファイバーを設けてもよい（請求項４）。このようにした場合、可視光線を反射させるミラーや集光レンズが不要になり、構成がより簡略化される。
【００１５】さらに、Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析装置において、前記試料の上方に、反射面にＸ線ガイド部材挿通部を有する凹面ミラーを、その反射面が試料側に向くようにして設け、前記Ｘ線ガイド部材挿通部に前記Ｘ線ガイド部材の下端側を挿通させるとともに、前記反射面の焦点位置に前記反射面からの反射した光が入射する試料観察手段を設けてもよい（請求項５）。このようにした場合、集光レンズが不要になる。
【００１６】そして、Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射するようにしたＸ線分析方法において、前記Ｘ線ガイド部材からのＸ線を前記試料に対して直接照射するとともに、前記試料の光学像を前記Ｘ線ガイド部材と同軸方向において得るようにしてもよい（請求項６）。このようなＸ線分析方法の作用効果は、上記請求項１に記載のＸ線分析装置のそれと同じである。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、この発明の詳細を、図を参照しながら説明する。図１および図２は、この発明の一つの実施の形態を示している。図１は、この発明のＸ線分析装置の分析部の要部構成の一例を概略的に示すものであり、図２は、前記分析部の光学的構成を模式的に示す図である。これらの図において、１はＸ線分析装置の本体ブロックで、その上方には、シール部２を介して、Ｘ線管３や電源部（図示していない）などを収容したＸ線発生機４が設けられている。そして、本体ブロック１には、Ｘ線発生機４によって発せられた一次Ｘ線を細いビーム径（例えば直径１０〜１００μｍ程度）に絞りつつガイドし、この細い一次Ｘ線ａを試料１２（後述する）に対して照射させるためのＸ線ガイド部材としてのＸ線導管５を挿通させる挿通孔６と、この挿通孔６に連なる下部空間７が形成されている。なお、Ｘ線導管５は、例えば下部先端部５ａにいくほど細くなるように形成されている。
【００１８】そして、８は本体ブロック１の下部に、より具体的には，Ｘ線導管５の下部先端部５ａより下方に設けられるＸ線遮蔽壁で、Ｘ線導管５の最下端のＸ線出射端（下部先端部）５ａに対応する位置には、適宜大きさの開口９が形成されている。このＸ線遮蔽壁８の下方には、本体ブロック１側の空間７とはＸ線を良好に透過させる素材、例えばポリエチレン樹脂よりなる薄い隔膜１０で気密に区分された大気圧状態の空間１１が形成されている。なお、隔膜１０より上方の空間７をＸ線照射室といい、隔膜１０より下方の空間１１を試料室というものとする。
【００１９】前記試料室１１内には、試料１２を載置する試料ステージ１３が図示してない駆動機構によって、Ｘ方向（紙面に対して垂直な方向）、Ｙ方向（紙面の左右方向）およびＺ方向（紙面の上下方向）のそれぞれに直線的に移動できるように設けられている。また、この試料室１１のＹ方向左側の適宜位置には、試料１２の挿入・取り出し用の開閉扉（図示していない）が設けられている。
【００２０】
また、前記Ｘ線照射室７は、その内部が挿通孔６とともに適宜の真空状態に保持されており、その内部にＸ線導管５のＸ線出射端５ａ、一次Ｘ線ａ（図２参照）を試料１２に対して照射したときに生ずる螢光Ｘ線ｂ（図２参照）を検出するための半導体検出器よりなるＸ線検出器１４が設けられている。なお、図１において、１５はＸ線検出器１４を冷却するための冷却用媒体を収容したタンクである。ここまでの構成は、従来のこの種のＸ線分析装置における分析部の構成と変わるところがない。この発明では、試料１２の観察およびその照射位置の確認手段を以下のように構成している。
【００２１】すなわち、１６は試料１２の上方のＸ線照射室７内に設けられる平面ミラーで、その平面視形状が例えば矩形であり、その反射面１６ａのほぼ中央に、Ｘ線ガイド部材としてのＸ線導管５を挿通させるための挿通部としての貫通孔１７が形成されている。そして、このミラー１６は、その反射面１６ａが試料１２側に向きかつＸ線の照射方向（この場合、鉛直方向）と４５°をなすようにして設けられ、前記貫通孔１７は、Ｘ線導管５の下端側を鉛直方向に挿通させるのに必要かつ十分な大きさに形成されている。そして、前記反射面１６ａは、可視光線を効率よく反射することができるように研磨仕上げされている。また、Ｘ線導管５は、その下端側が貫通孔１７を貫通するが、下端側のＸ線出射端５ａができるだけ試料１２の表面１２ａに近くなるようにするのが好ましい。さらに、この場合、Ｘ線導管５の貫通孔１７より下方に突出した外周面５ｂを、例えば、反射防止塗料を塗布するなどして、迷光防止面に形成しておくのがよい。なお、図１および図２には図示してないが、試料１２に対して可視光線が照射されるように構成されている。
【００２２】そして、１８は集光レンズで、その光軸がミラー１６の反射面１６ａと４５°をなすように設けられており、試料１２を発し貫通孔１７の周囲（周辺）の反射面１６ａにおいて反射した可視光ｃを、その光出射側の適宜位置に設けられる試料観察手段としてのＣＣＤカメラ１９の受光面１９ａに収斂させるもので、高開口数のレンズよりなる。この集光レンズ１８として高開口数のものを用いる理由は、試料１２からの可視光ｃをミラー１６で反射させ、特に、ミラー１６の貫通孔１７の周囲（周辺）の反射面１６ａによって反射させるようにしており、開口数が小さい場合には、完全な可視光像が得られず、いわゆる像がけられるのを防止するためである。
【００２３】そして、図１において、２０は画像処理機能を備えたパソコンなどの演算制御装置で、装置全体を制御し、Ｘ線検出器１４やＣＣＤカメラ１９などの出力信号に基づいて演算を行って、その演算結果や画像処理結果を表示装置２１の表示画面２１ａに画像表示させる機能を備えている。
【００２４】上記構成のＸ線分析装置においては、試料１２に対する一次Ｘ線ａの照射軸と試料の光学像を同軸上で得ることができ、特に、試料１２のＸ線分析に際して、試料１２に対する一次Ｘ線ａの照射とＸ線照射対象の試料１２の光学画像（可視画像）の確認を同時に行うことができる。したがって、試料１２に一次Ｘ線ａを照射しながら試料１２の状態（様子）を例えば目視によって確認することができ、表面に凹凸がある試料１２においても分析位置を精度よく特定することができる。そして、試料１２に対する一次Ｘ線ａは、ミラー１６の貫通孔１７を貫通するＸ線導管５によって試料１２に可及的に近い位置から試料１２に向けて照射されるので、軽元素分析において用いる一次Ｘ線ａが低エネルギーであるような場合においても、その一次Ｘ線ａのミラー１６による吸収がなくなり、軽元素分析を高感度で行うことができる。また、Ｘ線導管５のＸ線出射端５ａを試料１２に対して可及的に近づけることができるので、空間分解能の低下も防止することができる。さらに、Ｘ線導管５のミラー１６より下方に位置する外周面５ｂに反射防止塗料を塗布するなどして迷光防止面におくことにより、可視光ｃの迷光が防止され、鮮明な光学像を得ることができる。
【００２５】上述の実施の形態においては、Ｘ線発生機４によって発せられた一次Ｘ線ａを細いビーム径に絞りつつガイドするＸ線ガイド部材としてＸ線導管５を用いているが、このＸ線導管５に代えて、図３に示すように、下端側２２ｂが上端側２２ａに比べて細く形成されたコリーメータ筒２２の上下両側にピンホール２３ａ，２３ｂを備えたダブルピンホールタイプのコリメータ２４を用い、下端側２２ｂをミラー１６の貫通孔１７に挿通させるようにしてもよい。この場合も下端側２２ｂの貫通孔１７より下方に突出する外周面部分を迷光防止面にするのが好ましい。
【００２６】そして、上述の各実施の形態においては、ミラー１６の反射面１６に貫通孔１７を形成し、この貫通孔１７を、Ｘ線導管５やコリメータ２４などのＸ線ガイド部材の下端側を挿通させるようにしているが、前記Ｘ線ガイド部材の下端側を挿通させる挿通部としては、前記貫通孔１７に限られるものではなく、図４（Ａ）〜（Ｃ）に示すような種々の形態が考えられる。すなわち、例えば、Ｘ線導管５の下端側を挿通させるために、図４（Ａ）のように、ミラー１６の反射面１６の一部に切り込みの浅い（小さい）切欠き部１７ａを形成したり、あるいは、同図（Ｂ）に示すように切り込みの深い（大きい）切欠き部１７ｂを形成したりしてもよく、さらには、同図（Ｃ）に示すように、複数（例えば２つ）のミラー部材１６Ａ，１６Ｂを並列的に配置して一つのミラー１６を構成し、これらのミラー部材１６Ａ，１６Ｂ間に所定の間隙１７ｃを形成してもよい。
【００２７】そして、例えば、Ｘ線導管５が下部先端部にいくにしたがって先細りで、下部先端部５ａの外径が０．５ｍｍ、挿通部近傍の外径が３ｍｍであり、ミラー１６が２０ｍｍ×３０ｍｍであるような場合、前記切欠き部１７ａの切欠き部１７ａの切り込み長さは例えば４ｍｍ程度に設定される。前記図４（Ａ）〜（Ｃ）に示した形状の挿通部１７ａ，１７ｂ，１７ｃによれば、例えば、複数のＸ線導管５やコリメータ２４を切り換えて使用する場合、当該切換えを容易に行うことができる。
【００２８】また、上述の各実施の形態においては、試料１２の光学像をＸ線ガイド部材５または２４と同軸方向において得るのに平面ミラー１６を用いていたが、これに代えて、例えば図５に示すように、種々の手段を採用することができる。すなわち、図５（Ａ）に示すように、試料１２の光学像を得るものとして、例えば内視鏡等で用いられる光ファイバー２５を用い、これをＸ線ガイド部材としてのＸ線導管５の一側に沿うようにして、その下端をＸ線導管５の下端部と同じ程度になるように設け、上端側をＣＣＤカメラ１９に接続するのである。また、この光ファイバーを用いる場合、同図（Ｂ）に示すように構成してもよい。すなわち、この同図（Ｂ）においては、光ファイバー２６として、単線状態の光ファイバー２６ａを複数本束ねたものを用い、これらの光ファイバー２６ａを、同図（Ｂ）の拡大図に示すように、Ｘ線導管５の下端部近傍においてその周囲に設けるのである。上記図５（Ａ），（Ｂ）に示すいずれの構成においても、可視光線を反射させるミラー１６や集光レンズ１８が不要になり、それだけ装置の構成がより簡略化される。
【００２９】さらに、図５（Ｃ）に示すように、可視光線を集光させるミラーとして、反射面２７ａが凹面（楕円）よりなる凹面ミラー（楕円ミラー）２７を、試料１２の上方に設け、このミラー２７の反射面２７ａにＸ線導管５を挿通させる挿通部２８を形成し、Ｘ線導管５の下端部を前記挿通部２８を挿通させるとともに、前記反射面２７ａの焦点位置にＣＣＤカメラ１９ａを配置してもよい。この構成によれば、ミラー２７が反射部材と集光部材とを兼ねるので、集光レンズ１８が不要になり、構成が簡略化される。
【００３０】なお、図５（Ｄ）に示す実施態様は、図２に示した構成に放物面ミラー２９を設けたもので、より詳しくは、前記放物面ミラー２９は、ミラー１６と試料１２との間にＸ線導管５の周囲に設けられ、かつ、試料位置を焦点とするものであり、この構成によれば、試料１２の表面１２ａからの反射光ｃが鉛直線に対して平行な光となってミラー１６に入射するので、ミラー１６の試料１２に対する高さ位置を任意に設定することができる。
【００３１】なお、上述の実施の形態においては、試料観察手段としてＣＣＤカメラを用いているが、これに代えて、光学顕微鏡など他の試料観察手段を用いてもよく、その場合、集光レンズ１８からの可視光ｃなどの光が試料観察手段において所定の光学画像を結ぶようにすればよい。また、本体ブロック１の下部の薄い隔膜１０は必ずしも設ける必要はなく、これを省略した場合、Ｘ線導管５のＸ線出射端５ａを試料１２の表面１２ａに対してより近接させることができる。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のにおいては、Ｘ線ガイド部材を用いて細く絞られたＸ線を試料の上方から照射する場合、前記Ｘ線ガイド部材からのＸ線を前記試料に対して直接照射するとともに、前記試料の光学像を前記Ｘ線ガイド部材と同軸方向において得るようにしているので、試料に対するＸ線の照射軸と試料の光学像を同軸上で得ることができ、試料のＸ線分析に際して、試料に対するＸ線の照射とＸ線照射対象の試料の光学画像（可視画像）の確認を同時に行うことができる。したがって、試料にＸ線を照射しながら当該試料の状態（様子）を例えば目視によって確認することができ、表面に凹凸がある試料においても分析位置を精度よく特定することができる。そして、Ｘ線分析のためのＸ線が試料に対して直接照射されるので、Ｘ線がミラーによって吸収を受けたりすることがなく、軽元素分析においても分析感度が低下することがない。また、Ｘ線ガイド部材におけるＸ線出射端を試料に対して可及的に近づけることができるので、空間分解能の低下も防止することができる。
【００３３】したがって、この発明のＸ線分析装置および方法によれば、軽元素分析の感度や空間分解能を低下させることなく、光学像から試料における分析位置を簡便かつ高精度に特定することができ、高精度のＸ線分析を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明のＸ線分析装置の分析部の要部構成の一例を概略的に示す図である。
【図２】前記分析部の光学的構成を模式的に示す図である。
【図３】前記分析部において用いるＸ線ガイド部材の他の実施態様を示す図である。
【図４】前記分析部において用いるミラーの他の実施態様を示す図である。
【図５】前記分析部における試料の光学像を得る他の実施態様を示す図である。
【図６】従来例を説明するための図である。
【図７】他の従来例を説明するための図である。
【符号の説明】５…Ｘ線導管（Ｘ線ガイド部材）、１２…試料、１６…ミラー、１６ａ…反射面、１７，１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…Ｘ線ガイド部材挿通部、１８…集光レンズ、１９…試料観察手段、２４…コリメータ（Ｘ線ガイド部材）、２５，２６…光ファイバー、２７…凹面ミラー、２７ａ…反射面、２８…Ｘ線ガイド部材挿通部、２９…放物面ミラー、ａ…Ｘ線、ｃ…可視光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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