(57)【要約】【課題】２以上のブロック単位由来の性質を兼ね備えているとともに、製膜条件に応じて力学的特性が変化可能な被膜を形成し得る、化粧料用樹脂として有用なブロックポリマーを提供する。【解決手段】アルコールもしくは水（以下、まとめて「水／アルコール溶媒」と記す）に分散又は溶解可能なブロック単位（Ａ）を４０重量％以上、９０重量％以下、及び水／アルコール溶媒に難溶もしくは不溶で−１５０〜３０℃のＴｇを有するブロック単位（Ｂ）を１０重量％以上、６０重量％以下含有し、前記ブロック単位（Ａ）及び（Ｂ）の数平均分子量が、１，０００〜５００，０００であり、且つ水／アルコール溶媒の溶液から製膜したキャストフィルムが、前記ブロック単位（Ａ）を主成分とするマトリックスと前記ブロック単位（Ｂ）を主成分とするドメインとからなるミクロ相分離構造を形成するブロックポリマーである。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルコールもしくは水（以下、まとめて「水／アルコール溶媒」と記す）に分散又は溶解可能なブロック単位（Ａ）を４０重量％以上、９０重量％以下、及び水／アルコール溶媒に難溶もしくは不溶で−１５０〜３０℃のガラス転移点（以下「Ｔｇ」と略記する）を有するブロック単位（Ｂ）を１０重量％以上、６０重量％以下含有し、前記ブロック単位（Ａ）及び（Ｂ）の数平均分子量が１，０００〜５００，０００であり、且つ水／アルコール溶媒の溶液から製膜したキャストフィルムが、前記ブロック単位（Ａ）を主成分とするマトリックスと前記ブロック単位（Ｂ）を主成分とするドメインとからなるミクロ相分離構造を形成するブロックポリマー。
【請求項２】
５０℃、４時間の条件で製膜した場合、前記ドメインの平均径が５ｎｍ〜８０ｎｍであり、且つ前記ドメイン間の平均距離が１０ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１に記載のブロックポリマー。
【請求項３】
前記ドメインの平均径及び／又は前記ドメイン間の平均距離が、前記キャストフィルムの製膜条件によって変化する請求項１または２に記載のブロックポリマー。
【請求項４】
前記ブロック単位（Ａ）が、カルボン酸基、硫酸基、リン酸基及びこれらの塩からなるアニオン性基の群、アミノ基（四級アンモニウム塩基を含む）、ピリジル基及びこれらの塩からなるカチオン性基の群、水酸基、アルコキシ基、エポキシ基、アミド基及びシアノ基からなるノニオン性基の群、カルボキシベタイン基からなる両イオン性基、ならびにアミンオキシド基からなる分極性基の群から選ばれる少なくとも一種である親水性基を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のブロックポリマー。
【請求項５】
前記ブロック単位（Ａ）が、エチレン性不飽和カルボン酸又はこれらの塩からなる請求項１〜４のいずれか１項に記載のブロックポリマー。
【請求項６】
前記ブロック単位（Ｂ）が、水又はアルコールに難溶性もしくは不溶性のエチレン性不飽和単量体であって、ホモポリマーのＴｇが−１５０〜３０℃の単量体からなる請求項１〜５のいずれか１項に記載のブロックポリマー。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のブロックポリマーを含有する化粧料。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のブロックポリマーを含有する毛髪用化粧料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ミクロ相分離構造を形成するブロックポリマーおよびそれを用いた化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、皮膚用、爪用および毛髪用の化粧料として、被膜形成性を有する樹脂を利用したものが知られている。例えば、皮膚用又は爪用としては、化粧持ちを改良するため、皮膚もしくは爪の保護のため、または皮膚もしくは爪への着色その他の装飾のための化粧料が知られている。また、毛髪用のセットポリマーにおいては毛髪への親和性や被膜形成能、毛髪間の接着性によりスタイリングを保持する役割を果たしてきた。例えば、毛髪用化粧料用樹脂としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン系および両性系の樹脂が、従来使用されている。しかし、これらの汎用イオン性樹脂を利用したスタイリング剤は、吸湿時のべたつき及び乾燥時のごわつきなどの問題点を有する。そのため、実際の処方系では、少量の油剤等をポリマーに加えることで感触の改善を図っている。油剤の添加はポリマー性能の低下を引き起こし、その結果、本来の高いセット力の保持が困難となる。これを解決する一つの手段として、セット性および良感触性といった複数の性能を保持しつつ、洗髪時の洗浄容易性を有する新しいポリマーの開発が要望されている。
【０００３】
このような背景を踏まえ、近年、ランダム共重合体主鎖に水溶性グラフト鎖を有する水又はアルコール可溶又は分散性の熱可塑性エラストマーの検討がなされてきたが、吸湿時のべたつきを生じ、化粧品用樹脂組成物としての十分な樹脂弾性能を得るには至っていない（特許文献１及び２等参照）。また、ブロックポリマーとしては、ポリシロキサンを高分子開始剤としてランダム重合で得られたブロックポリマーの報告が多くなされているが、充分な被膜性能を得るには至っていない（特許文献３等参照）。また、アクリル酸ブロック単位を有するランダム重合による分岐ブロックポリマーの報告もなされている（特許文献４等参照）。しかし、これらブロック共重合体をミクロ構造のレベルから解析し、力学物性の制御につなげた検討は、未だ充分になされていない。
この様に、従来の毛髪用化粧料では、ヘアスタイルを所望の形状に維持するために、毛髪とのイオン結合性（アニオン性、ノニオン性、カチオン性、両性系等）の違い又は樹脂自体の特性を利用して、硬い・柔らかいといった感触等の特徴付けを行っていて、樹脂被膜の微細構造（モルフォロジー）から力学物性を制御するという知見はいまだ得られていない。
【０００４】
【特許文献１】
特表平８−５１２０８３号公報
【特許文献２】
特開平１１−１８１０２９号公報
【特許文献３】
特開平９−１５７３３９号公報
【特許文献４】
国際公開ＷＯ００／４０６２８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、熱可塑性エラストマー性共重合体は周知であり、代表的なものとしてスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、及びこれらの水添重合体（それぞれ、スチレン−エチレン−ブチレン共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン共重合体と呼ばれる）が広く使用されている。これらのブロック共重合体は、ソフトマトリックスにハードドメインを分散させたミクロ相分離構造により、共重合体に溶解性、成形加工性及び強度を付与する熱可塑性と、共重合体に柔軟性及び形状保持性を付与するゴム様弾性とをともに有する。また、これらのブロック共重合体は、分子量やポリマー組成を制御することにより、多用なミクロ相分離構造を取り得るため、種々の汎用熱可塑性樹脂の相溶化剤として使用し得ることが知られている。しかしながら、ほとんどの熱可塑性エラストマー性共重合体は、水及び／又はアルコール系溶媒に、通常、不溶であるか又は難溶である。そのため、前記性質を有するとともに、水及び／又はアルコールに対する溶解性を有する熱可塑性エラストマー性共重合体を提供できれば、改善された水溶性樹脂組成物を開発する上で有用である。
【０００６】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、２以上のブロック単位由来の性質を兼ね備えているとともに、製膜条件に応じて力学的特性が変化可能な被膜を形成し得るブロックポリマーを提供することを課題とする。
また、本発明の他の課題は、被膜形成性に優れるとともに、ゴム弾性による形状維持性およびしなやかさを有し、水溶性に優れ、被膜形成によるべたつき感および違和感を与えない、化粧料用樹脂とし有用なブロックポリマーを提供することである。
本発明の他の課題は、毛髪用化粧料に用いた場合に、セット性と共に、ヘア感を自然にみせる、あるいはダメージヘアの補修、即ち乾燥・吸湿時のべたつき、および乾燥時のごわつきなどの感触に関する問題点の克服に寄与し得るブロックポリマーを提供することである。
本発明の他の課題は、改善されたスタイリング及び／又は保持性質を有し、しかも改善された美観を有する、新規な毛髪用化粧料を提供することである。
本発明の他の課題は、水洗により容易に除去可能な良洗髪性の毛髪化粧料を提供することである。
本発明の他の課題は、局所スキンケア化粧料及び医薬組成物に有用な新規のブロックポリマーを提供することである。
本発明の他の課題は、皮膚又は爪に対して被膜形成性に優れるとともに、ゴム弾性によるしなやかさを有し、被膜形成によるべたつき感および違和感を与えない使用感に優れた化粧料を提供することである。
また、本発明の他の課題は、化粧品用途の他、洗濯のり等の水溶性被膜形成樹脂として、対象物（衣類、繊維、不織布等）を所望の形状に長時間維持させるのに寄与するブロックコポリマーを提供することである。また、本発明の他の課題は、優れた分散性能を有する顔料、染料分散性、ラテックス増粘剤、乳化剤、相溶化剤を調製するのに有用なブロックポリマーを提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を図った結果、ミクロ相分離構造の被膜は、そのモルフォロジーを被膜形成時の温度などによって容易に制御でき、従って、該モルフォロジーに基づく被膜の力学的物性（硬さ・軟らかさ）も容易に制御できるとの知見を得た。さらに、親水性のセグメントと疎水性で且つ柔軟性の低ガラス転移点（以下「Ｔｇ」と略記する）セグメントとを、所定の比率で含有するブロックポリマーは、双方のセグメント由来の特性を維持しつつ、それぞれのセグメントを主成分とするマトリックスとドメインとからなるミクロ相分離構造の被膜を形成し得るとの知見を得、これらの知見に基づいてさらに検討を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
【０００８】
本発明の一態様は、アルコールもしくは水（以下、まとめて「水／アルコール溶媒」と記す）に分散又は溶解可能なブロック単位（Ａ）を４０重量％以上、９０重量％以下、及び水／アルコール溶媒に難溶もしくは不溶で−１５０〜３０℃のＴｇを有するブロック単位（Ｂ）を１０重量％以上、６０重量％以下含有し、前記ブロック単位（Ａ）及び（Ｂ）の数平均分子量が、１，０００〜５００，０００であり、且つ水／アルコール溶媒の溶液から製膜したキャストフィルムが、前記ブロック単位（Ａ）を主成分とするマトリックスと前記ブロック単位（Ｂ）を主成分とするドメインとからなるミクロ相分離構造を形成するブロックポリマーに関する。
【０００９】
また、本発明の好ましい態様として、５０℃、４時間の条件で製膜した場合、前記ドメインの平均径が５ｎｍ〜８０ｎｍであり、且つ前記ドメイン間の平均距離が１０ｎｍ〜１００ｎｍである前記ブロックポリマー；前記ドメインの平均径及び／又は前記ドメイン間の平均距離が、前記キャストフィルムの製膜条件によって変化する前記ブロックポリマー；前記ブロック単位（Ａ）が、カルボン酸基、硫酸基、リン酸基及びこれらの塩からなるアニオン性基の群、アミノ基（四級アンモニウム塩基を含む）、ピリジル基及びこれらの塩からなるカチオン性基の群、水酸基、アルコキシ基、エポキシ基、アミド基及びシアノ基からなるノニオン性基の群、カルボキシベタイン基からなる両イオン性基、ならびにアミンオキシド基からなる分極性基の群から選ばれる少なくとも一種である親水性基を含有する前記ブロックポリマー；前記ブロック単位（Ａ）が、エチレン性不飽和カルボン酸又はこれらの塩からなる前記ブロックポリマー；前記ブロック単位（Ｂ）が、水又はアルコールに難溶性もしくは不溶性のエチレン性不飽和単量体からなる前記ブロックポリマー；上記キャストフィルムが、水又はアルコールに溶解もしくは分散可能である前記ブロックポリマー；が提供される。
【００１０】
本発明のブロックポリマーは、制御重合により製造されたポリマーであるのが好ましい。制御重合の中でも、リビングアニオン重合や連鎖移動剤を用いるラジカル重合、リビングラジカル重合が好ましく、リビングラジカル重合が分子量および構造制御の容易さから好ましい。また、本発明のブロックポリマーは、有機ハロゲン化物を開始剤とし、周期律表第８族、９族、１０族、または１１族元素を中心金属とする金属錯体を触媒として用いた制御ラジカル重合で製造されるのが好ましい。中でも、ハロゲン化銅を触媒とし、アミン配位子を用いた制御ラジカル重合により製造されるのが、分子量制御の容易さから特に好ましい。
【００１１】
また、本発明の他の態様として、上記ブロックポリマーを含有する化粧料；上記ブロックポリマーを含有する毛髪用化粧料；上記ブロックポリマーを含有し、毛髪の表面の少なくとも一部に前記ブロックポリマーからなる被膜を形成可能な毛髪用化粧料であって、該被膜の硬さが製膜条件に応じて変化可能である毛髪化粧料；上記ブロックポリマーを含有し、前記ブロックポリマーが前記ブロック単位（Ａ）を主成分とするマトリクスと前記ブロック単位（Ｂ）を主成分とするドメインとからなるミクロ相分離構造の被膜を、毛髪の表面の少なくとも一部に形成可能な毛髪用化粧料；が提供される。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明のブロックポリマーは、アルコールもしくは水（水／アルコール溶媒）に分散又は溶解可能なブロック単位（Ａ）と、水／アルコール溶媒に難溶もしくは不溶で−１５０〜３０℃のＴｇを有するブロック単位（Ｂ）とを含有するとともに、上記水／アルコール溶媒の溶液からキャストフィルムとした場合に、前記ブロック単位（Ａ）を主成分とするマトリックスと前記ブロック単位（Ｂ）を主成分とするドメインとからなるミクロ相分離構造を形成する。本発明のブロックポリマーは、水溶性で且つハードセグメントである前記ブロック単位（Ａ）と、非水溶性で且つソフトセグメントである前記ブロック単位（Ｂ）とを含有しているので、双方のセグメント由来の性質を兼ね備えている。さらに、本発明のポリマーは、キャストフィルムを形成した場合に、前記相分離構造を構築するので、例えば、化粧料中に含有させ、毛髪、皮膚、爪等の表面上に適用した場合に、ミクロ相分離構造に基づく力学物性、具体的には適当な硬さとゴム様弾性質等を持ち合わせたフィルムを形成することができる。
【００１３】
本明細書において、「水もしくはアルコールに分散又は可溶」とは、水及びエタノールのどちらか一種又はそれらの混合溶媒に（乳化剤を加えなくても安定な懸濁液として）自由に溶解又は分散し得ることを意味する。より具体的には、本発明のブロックポリマーの水溶性および水分散性は、該ポリマー１重量部と脱イオン水／エタノール（重量比５０／５０）混合溶液９９重量部とを、６０℃で２時間加熱撹拌し、冷却後、さらに１日室温に放置した後、水溶液が沈殿を形成することなく均一であり、６５５ｎｍにおける透過率が７０％以上であるものをいう。
なお、ここでいうアルコールとは、メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロピルアルコール等の分岐あるいは直鎖状アルキルアルコールであり、より好ましくはエタノールである。
【００１４】
本発明のブロックポリマーにおいて、前記ブロック単位（Ａ）を４０重量％以上、９０重量％以下含有するのが好ましく、５０重量％以上含有するのがより好ましい。４０重量％未満では、ポリマーの水／アルコール溶媒への溶解性が低下し、またキャストフィルムとした場合に、ブロック単位（Ａ）を主とするマトリックスを形成し難く、９０重量％を超えると相分離構造を取りにくい。一方、ブロック単位（Ｂ）を１０重量％以上、６０重量％以下含有することが好ましく、２０重量％以上、５０重量％以下含有することがより好ましい。１０重量％未満であると、キャストフィルムとした場合に、相分離構造を取りにくく、６０重量％を超えると、ブロックコポリマーとしての溶解性が低下し、相分離構造が逆転する傾向にある。
【００１５】
前記ブロック単位（Ｂ）のガラス転移温度は、−１５０〜３０℃であり、好ましくは−１００〜０℃であり、さらに好ましくは−８０〜−２０℃である。なお、本明細書において、「ガラス転移温度（Ｔｇ）」とは、ポリマー又はその一部が固体もしくは脆性物質から液体もしくはゴム様物質への転移を起こす温度を意味し、例えば、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）法によって測定できる。ポリマーのガラス転移現象はＩｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：  Ａｎ  ＳＰＥ  Ｔｅｘｔｂｏｏｋ（ｅｄｓ．Ｈ．Ｓ．Ｋａｕｆｍａｎ及びＪ．Ｊ．Ｆａｌｃｅｔｔａ），（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ：１９７７）に記載されている。
なお、前記ブロック単位（Ａ）のガラス転移温度については、特に制限ははないが、５０℃〜２００℃が好ましい。
【００１６】
本発明のブロックポリマーは、Ａ−Ｂ型のジブロック共重合体、Ａ−Ｂ−Ａ型のトリブロック共重合体、Ｂ−Ａ−Ｂ型のトリブロック共重合体及び（Ａ−Ｂ）n型のマルチブロック共重合体のいずれであってもよい。これらの中でも、樹脂にゴム弾性を付与するにはＡ−Ｂ−Ａ型のトリブロック共重合体、（Ａ−Ｂ）n型のマルチブロック共重合体、またはこれらの混合物が好ましい。前記ブロック共重合体の構造は、線状ブロック共重合体または分岐状（星状）ブロック共重合体であり、これらの混合物であってもよい。このようなブロック共重合体の構造は、必要特性に応じて使い分ければよい。
【００１７】
各ブロック単位を構成するセグメントのゲルパーミエーションクロマトグラフィーにて測定した数平均分子量は特に限定はされないが、１，０００〜５，０００，０００であるのが好ましい。数平均分子量が小さいと粘度が低く被膜形成能が不充分となりやすく、また、数平均分子量が大きいと粘度が高くなる傾向があるため、必要とする樹脂性能に応じて設定される。また、本発明のブロックポリマーの平均分子量は、その用途に応じて好ましい範囲も異なるが、数平均分子量（Ｍｎ）は３，０００〜１，０００，０００であるのが好ましい。また、分子量分布は均一であるほど好ましく、Ｍｗ／Ｍｎは、１．０〜２．５であるのが好ましい。
【００１８】
次に、ブロック単位（Ａ）および（Ｂ）について、それぞれ詳細に説明する。
前記ブロック単位（Ａ）は、親水性基を有するブロック単位であるのが好ましい。前記親水性基は、アニオン性基、カチオン性基、ノニオン性基、両イオン性基および分極性基のいずれであってもよい。本発明のより好ましい様態として、前記親水性基が、カルボン酸基、硫酸基、リン酸基及びこれらの塩からなるアニオン性基の群、アミノ基（四級アンモニウム塩基を含む）、ピリジル基及びこれらの塩からなるカチオン性基の群、水酸基、アルコキシ基、エポキシ基、アミド基及びシアノ基からなるノニオン性基の群、カルボキシベタイン基からなる両イオン性基、ならびにアミンオキシド基からなる分極性基の群から選ばれる少なくとも一種であるのが好ましい。
【００１９】
前記ブロック単位（Ａ）の少なくとも一部が、エチレン性不飽和カルボン酸又はこれらの塩からなるのが好ましく、下記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される単位からなるのがより好ましい。
【００２０】
【化１】
2004203917.tif 000002
【００２１】
式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ6はそれぞれ炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜２４のアリール基、又はこれらの組み合わせからなる炭素原子数７〜２４のアリールアルキル基もしくはアルキルアリール基を表し、Ｘ1は−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。Ａ-はアニオンを表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属イオン又はアンモニウムイオンを表す。ｍは０又は１を表し、ｎは１〜５０のいずれかの整数を表す。
【００２２】
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5がそれぞれ表す炭素原子数１〜２４のアルキル基には、直鎖状、分岐鎖状及び環状のアルキル基のいずれも含まれる。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5がそれぞれ表すアリールアルキル基のアルキル基部分、及びアルキルアリール基のアルキル基部分についても同様である。
Ａ-で表されるアニオンとしては、酸のアニオン性基が挙げられ、例えば、ハロゲンイオン、硫酸イオン、ＣＯＯ-等が挙げられる。Ｍで表されるアルカリ金属イオンとしては、Ｎａ+及びＫ+が挙げられる。また、Ｍで表されるアンモニウムイオンにはアンモニアから誘導されるＮＨ4+の他、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、アリルアミン、エチレンジアミン、モルホリン、ピリジン等の揮発性アミン；モノ−、ジ−もしくはトリエタノールアミン、モノ−、ジ−もしくはトリイソパノールアミン、アミノエチルプロパノール、アミノエチルプロパンジオール、リジン等の非揮発性アミン；等のアミン類から誘導されるアルキルアンモニウムイオンも含まれる。
【００２３】
前記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される構成単位を含むブロックは、前記一般式（１）〜（５）で表される構成単位に対応する二重結合含有化合物をモノマーとして用いて重合することによって製造できる。また、前記一般式（１）〜（５）で表される構成単位に対応する化合物をモノマーとして用いない場合であっても、他のモノマーを用いて重合した後、生成したブロックを加水分解等の後処理を施すことによって製造できる。例えば、前記一般式（１）で表される構成単位からなるブロックを有するブロック共重合体は、（メタ）アクリル酸エステルを共重合モノマーとして用い、該モノマー由来の重合体ブロックを有する共重合体を合成した後、該ブロックを加水分解（及びその後、必要に応じて中和）することによって、製造することもできる。前記ブロック共重合体は、前記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される構成単位からなるブロックを２種以上有するブロック共重合体であってもよい。
【００２４】
以下に、前記ブロック共重合（Ａ）の少なくとも一部を構成可能な親水性基含有エチレン性不飽和結合を有する化合物例（前記一般式（１）〜（５）で表される単位を形成可能な化合物例も含む）を挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
アニオン性の単量体の具体例：
（メタ）アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸化合物；不飽和多塩基酸無水物（例えば無水コハク酸、無水フタル酸等）と、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）とのハーフエステル化合物；スチレンスルホン酸、スルホエチル（メタ）アクリレート等のスルホン酸基を有する化合物；アシッドホスホオキシエチル（メタ）アクリレート等のリン酸基を有する化合物；など。
これらのアニオン性不飽和単量体は、酸のままもしくは部分中和又は完全中和して使用することができ、又は酸のまま共重合に供してから部分中和又は完全中和することもできる。中和に使用する塩基物としては例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、アンモニア水、モノ、ジ、トリエタノールアミン、トリメチルアミン等のアミン化合物がある。
【００２５】
カチオン性単量体の具体例：
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ｐ−ジメチルアミノメチルスチレン、ｐ−ジメチルアミノエチルスチレン、ｐ−ジエチルアミノメチルスチレン、ｐ−ジエチルアミノエチルスチレン等を、カチオン化剤（例えば、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキル類、ジメチル硫酸等のジアルキル硫酸類、Ｎ−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロリド等の第３級アミン鉱酸塩のエピクロルヒドリン付加物、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸等）でカチオン化したカチオン性単量体；など。
【００２６】
ノニオン性の単量体の具体例：
アクリル酸−ｔ−ブチル、アクリル酸−トリメチルシリル等のアクリル酸エステル（加水分解後アクリル酸に変換可能）；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系化合物；メタアクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸２−アミノエチル、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）トリメトキシシラン、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）ジメトキシメチルシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸−２−トリフルオロメチルエチル、などのメタクリル酸エステル；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ−ポリアルキレンオキシ（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリルアミドと炭素数２〜４のアルキレンオキシドとから誘導されるモノマー；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルフォリン、アクリルアミド等の親水性ノニオン性モノマー；など。
【００２７】
両イオン性単量体の具体例：
前述のカチオン性単量体前駆体の具体例に、ハロ酢酸ナトリウムもしくはカリウム等の変性化剤を作用させることによって得られる化合物など。
分極性単量体の具体例：
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピオン酸ビニル、ｐ−ジメチルアミノメチルスチレン、ｐ−ジメチルアミノエチルスチレン、ｐ−ジエチルアミノメチルスチレン、ｐ−ジエチルアミノエチルスチレン等のアミンオキシド化物；など。
【００２８】
これらの単量体は単独で又はこれらの２種以上を組み合わせて用いられる。
これらの中でも、アクリル酸エステル系及びメタクリル酸エステル系の単量体は工業的に入手しやすい点で好ましい。
前記ブロック単位（Ａ）のモノマーとしては、好ましくは、（メタ）アクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチル（重合後に加水分解可能）、（メタ）アクリル酸−トリメチルシリル（重合後に加水分解可能）、（メタ）アクリル酸−ジメチルアミノエチル、およびこれらの四級塩、あるいはカルボキシベタイン、アミンオキシド変性（メタ）アクリル酸、およびこれらの塩、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルメタクリルアクリルアミド、ビニルモノマーには、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、シクロヘキシルビニルエーテル、ビニルアルコール、ビニルイミダゾールが挙げられる。その他のモノマーとしては、ジアリルジメチル塩化アンモニウム、マレイミド、マレイン酸、無水マレイン酸およびその半エステル、クロトン酸、イタコン酸、アクリルアミド、アクリレートアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、ジアリルジメチル塩化アンモニウム、ビニルピロリドン、ビニルエーテル（メチルビニルエーテルなど）、マレイミド、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、その他の極性ビニルヘテロ環、スチレンスルホネート、アリルアルコール、ビニルアルコール（重合後に酢酸ビニルの加水分解によって生成されるものなど）、ビニルカプロラクタム、メタノール、エタノール、メトキシエタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、１−メチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ペンタノール、３−メチル−１−ペンタノール、ｔ−ブタノール（２−メチル−２−プロパノール）、シクロヘキサノール、ネオデカノール、２−エチル−１−ブタノール、３−ヘプタノール、ベンジルアルコール、２−オクタノール、６−メチル−１−ヘプタノ一ル、２−エチル−１−ヘキサノール、３，５−ジメチル−１−ヘキサノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ドデカノール、１−ヘキサデカノールおよび１−オクタデカノールなどの約１〜１８個の炭素原子、好ましくは約１〜１２個の炭素原子を有するＣ１〜Ｃ１８アルコールのメタクリル酸エステル；が挙げられる。
【００２９】
前記ブロック単位（Ａ）のより好ましいモノマーとしては、（メタ）アクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸−トリメチルシリル、（メタ）アクリル酸、又はこれらの塩、等のエチレン性不飽和カルボン酸、又は、これらの塩が挙げられる。
【００３０】
前記ブロック単位（Ａ）は、前述の通り、親水性基を有していないモノマーを使用して共重合体を得た後、加水分解により親水性基に変換されたものであってもよく（例えば、エチレン性不飽和カルボン酸エステルをモノマーとして用いて重合し、その後、加水分解によってエチレン性不飽和カルボン酸単位に変換されたもの等）、その加水分解率により、ブロックコポリマーの水溶性および被膜形成能を所望の範囲に調整することができる。エステルの加水分解反応は、特に限定されないが、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸等の酸触媒を用いる。加水分解率は触媒種、触媒量及び加水分解条件（温度・時間）により制御可能である。
加水分解により得られたエチレン性不飽和カルボン酸は、酸のまま若しくは部分中和又は完全中和して使用することができる。中和に使用する塩基物としては例えば水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、アンモニア水、モノ、ジ、トリエタノールアミン、トリメチルアミン等のアミン化合物がある。また、該樹脂被膜はカウンターイオンの違いにより樹脂被膜の力学特性を制御することも可能である。たとえば、アルカリ金属のイオン半径や吸湿性等、カウンターイオンの化学特性に応じて、使い分けることが可能である。
【００３１】
一方、前記ブロック単位（Ｂ）は、水もしくはアルコールに難溶性もしくは不溶性である。前記ブロック単位（Ｂ）を構成可能な単量体として、エチレン性不飽和単量体が挙げられる。前記ブロック単位（Ｂ）は、水又はアルコールに難溶性もしくは不溶性のエチレン性不飽和単量体であって、ホモポリマーのＴｇが−１５０〜３０℃の単量体からなるのが好ましい。前記エチレン性不飽和単量体の非限定的な種類として、以下のものが挙げられる。
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｔ−ブチル、アクリル酸−ｎ−ペンチル、アクリル酸−ｎ−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−ｎ−ヘプチル、アクリル酸−ｎ−オクチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸トルイル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸−２−メトキシエチル、アクリル酸−３−メトキシブチル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−アミノエチル、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）トリメトキシシラン、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）ジメトキシメチルシラン、アクリル酸トリフルオロメチルメチル、アクリル酸２−トリフルオロメチルエチル、アクリル酸−２−パーフルオロエチルエチル、アクリル酸２−パーフルオロエチル−２−パーフルオロブチルエチル、アクリル酸２−パーフルオロエチル、アクリル酸パーフルオロメチル、アクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、アクリル酸−２−パーフルオロメチル−２−パーフルオロエチルメチル、アクリル酸−２−パーフルオロヘキシルエチル、アクリル酸２−パーフルオロデシルエチル、アクリル酸−２−パーフルオロヘキサデシルエチル、アクリル酸４−ビフェニル、アクリル酸ペンタクロロフェニルなどのアクリル酸エステル；
【００３２】
スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレンなどの芳香族アルケニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；ブタジエン、イソプレン、シクロヘキサジエン；ビシクロヘプタジエン、２，３−ジカルボキシメチル−１，６ヘキサジエン、エチレン；プロピレン、インデン、ノルボルニレン、β−ピネン、α−ピネン等の共役ジエン系化合物；塩化ビニル、塩化ビニリデン、パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデンなどのハロゲン含有不飽和化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのケイ素含有不飽和化合物；無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル、フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステルなどの不飽和ジカルボン酸化合物；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニルなどのビニルエステル化合物；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系化合物；
【００３３】
メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸−ｎ−プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸−ｎ−ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチル、メタアクリル酸−ｎ−ペンチル、メタアクリル酸−ｎ−ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸−ｎ−ヘプチル、メタアクリル酸−ｎ−オクチル、メタアクリル酸−２−エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸トルイル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸−２−メトキシエチル、メタアクリル酸−３−メトキシブチル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸２−アミノエチル、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）トリメトキシシラン、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）ジメトキシメチルシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸−２−トリフルオロメチルエチル、メタアクリル酸−２−パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸−２−パーフルオロエチル−２−パーフルオロブチルエチル、メタアクリル酸−２−パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロメチル、メタアクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、メタアクリル酸−２−パーフルオロメチル−２−パーフルオロエチルメチル、メタアクリル酸−２−パーフルオロヘキシルエチル、メタアクリル酸−２−パーフルオロデシルエチル、メタアクリル酸−２−パーフルオロヘキサデシルエチル、メタアクリル酸−４−メトキシカルボニル、メタアクリル酸トリメチルシリルなどのメタクリル酸エステル；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ−ポリアルキレンオキシ（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリルアミドと炭素数２〜４のアルキレンオキシドとから誘導されるモノマー；などが挙げられる。
【００３４】
好ましいエチレン性不飽和カルボン酸エステル単位としては、低Ｔｇで且つ水又はアルコールに難溶性もしくは不溶性の疎水性を示すモノマー由来の単位が好ましく、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル由来の単位が好ましい。
前記条件を満たすブロック単位（Ｂ）を構成可能なモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸のエステルとして、例えば、３−メトキシブチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルエステル、２−ヒドロキシエチルエステル、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−エトキシエトキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ドデシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルブチルアクリレート、ｎ−エチルアクリレート、ｎ−ヘプチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、イソブチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソプロピルアクリレート、３−メチルブチルアクリレート、２−メチルペンチルアクリレート、ノニルアクリレート、オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート；アクリルアミドモノマーとして、Ｎ−ドデシルアクリルアミド、Ｎ−オクタデシルアクリルアミド；ビニルモノマーとして、ｓｅｃ−ブチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、デシルビニルエーテル、メチルビニルエーテル；スチレンモノマーとして、４−デシルスチレン；が挙げられる。その他、イソブチレン、１−ブテン、５−メチル−１−ヘキセン、重合後（コポリマーの生成後）水素化し得るオレフィンモノマーとして、例えば、イソプレン、１，２−ブタジエン、１，４−ブタジエンが挙げられる。
【００３５】
これらは、単独でまたはこれらの２種以上を組み合わせて用いられる。これらのビニル系単量体は、ソフトセグメントとしてのブロック単位（Ｂ）に要求されるガラス転移温度（Ｔg）に応じて好ましいものを選択することができる。
前記ブロック単位（Ｂ）のモノマーとしては、３−メトキシブチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ドデシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルブチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ヘプチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、イソ−デシルアクリレート、イソ−プロピルアクリレート、３−メチルブチルアクリレート、２−メチルペンチルアクリレート、ノニルアクリレート、オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、Ｎ−オクタデシルアクリルアミドが、更に好ましく、中でも２−エチルブチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。
【００３６】
次に、本発明のブロックポリマーからなるキャストフィルムのモルフォロジーについて説明する。
本発明のブロックポリマーは、キャストフィルムとした場合に、前記ブロック単位（Ａ）を主成分とするマトリックスと前記ブロック単位（Ｂ）を主成分とするドメインからなるミクロ相分離構造を形成する。
本明細書において「ミクロ相分離構造」には、シリンダー、ラメラ、球状といった構造が含まれ、樹脂の一次構造、分子量、分子量分布等の条件により適宜安定な相分離構造を取り得る。
【００３７】
前記キャストフィルムは、本発明のブロックポリマーを、水／アルコール溶媒に溶解又は分散させた液を、テフロン（登録商標）シャーレ上にて溶媒が平衡状態に達するまで温度０〜７０℃で乾燥して得たものである。均一なキャストフィルムを作製するには、均一な溶液形態をとり、好ましくは溶解しているものが好ましい。
【００３８】
前記ブロック単位（Ｂ）から主になるドメインの平均径は５ｎｍ〜８０ｎｍであるのが好ましく、且つ前記ドメイン間の平均距離は１０ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましい。前記ドメインの平均径は１０〜７０ｎｍであるのがより好ましく、１５〜６０ｎｍであるのが特に好ましい。前記ドメイン間の平均距離は、１５〜９０ｎｍであるのがより好ましく、２０〜８０ｎｍであるのが特に好ましい。ドメインの平均径およびドメイン間の平均距離は、温度や乾燥時間といった製膜条件によって変化するが、前記温度範囲において製膜した際のドメインの平均径およびドメイン間の距離が前記範囲であると、形成された被膜の均一性が良好となって、べたつき・ごわつきが少なく、滑り性の良好な被膜を得ることができる。このようなドメインの平均径、ドメイン間平均距離は、被膜の形成条件により調整できるが、代表的には５０℃、４時間の条件で製膜すればよい。
なお、これらの相分離構造については、電子顕微鏡観察および小角Ｘ線散乱測定により求めることができる。
【００３９】
なお、被膜形成時のモルフォロジーは、ポリマー溶液中で形成された構造がある程度反映され、溶液調製条件によっても、フィルムの柔軟性を制御可能であると推測される。そのため、本発明のブロックポリマーを用いて理想的なモルフォロジーを形成するためには、水あるいはアルコールに難溶性もしくは不溶性の疎水性のソフトセグメントを貧溶媒中、ある程度凝集させ、ドメイン構造を形成させることが重要である。また、本発明のブロックポリマーは、高い被膜形成性およびゴム弾性の性能を有するものであり、製膜時および溶液調整時の温度及び時間の制御により、ブロック構造によるミクロ相分離構造モルフォロジーを制御することが可能であり、フィルムの硬さや軟らかさといった力学物性を反映することができる。製膜時の温度は、高温で製膜すると、ソフトセグメントの分子運動が活発になり、セグメントが占める自由体積が大きくなるため、比較的大きなドメインを形成し、ハードセグメントも同様に、セグメントが占める自由体積が大きくなるためポリマー鎖間の相互作用が大きくなり比較的硬い被膜が形成される。一方、低温（室温付近）で製膜すると比較的柔らかい被膜が形成される。また、さらに被膜形成時の溶媒の蒸発速度あるいは製膜時間を制御することによってもドメイン間距離を制御可能である。すなわち速く乾燥させるとマトリックス間の密度が低くなり、ゆっくりと乾燥させるとより安定な構造に近づくためポリマー鎖間の相互作用が強くなり、マトリックス間の密度が高くなる傾向にある。このようなモルフォロジーの違いはフィルム物性等の力学特性に反映される。例えば、毛髪用化粧料などでは、毛髪に適用後、ドライヤーなどを用いて比較的高温で乾燥する場合と、自然乾燥など比較的低温で乾燥する場合とで、毛髪に与える諸特性、風合い、手触り及び形状維持性などについて、異なる性質が要求される場合があり、本発明のブロックポリマーはこれらの要求に応えるものである。
【００４０】
本発明のブロックポリマーは、水もしくはアルコールに溶解又は分散可能なキャストフィルムを形成するのが好ましい。ここでいうキャストフィルムの溶解性は、ガラス板上にキャストしたフィルムを４０℃の水に浸した際、手でこすった際に、５分以内に、ガラス板からはがれ、水中に溶解あるいは分散するということを意味する。前記キャストフィルムの水又はアルコールへの溶解性能は、化粧品用途に応用される際に特に重要である。
【００４１】
前記キャストフィルムの硬さは、引っ張り試験においてヤング率および伸び率によって求めることができる。ヤング率は、５０ＭＰａ以上であるのが好ましく、伸び率は５０％以上であるのが好ましい。より好ましいヤング率は８０ＭＰａ以上、伸び率は１００％以上である。
ヤング率および伸び率についてはＪＩＳ  Ｋ７１６１に基づいて測定する。
【００４２】
本発明のブロックポリマーを製造する方法としては、特に限定されないが、制御重合を用いることが好ましい。制御重合としては、リビングアニオン重合や連鎖移動剤を用いるラジカル重合、近年開発されたリビングラジカル重合が挙げられ、リビングラジカル重合がブロック共重合体の分子量および構造制御の容易さから好ましい。また、本発明のブロック共重合体は有機ハロゲン化物を開始剤とし、周期律表第８族、９族、１０族、または１１族元素を中心金属とする金属錯体を触媒として用いた制御ラジカル重合で製造されるのが好ましい。
例えば、ハロゲン化銅を触媒とし、アミン配位子を用いた制御ラジカル重合により製造されることが分子量制御の容易さから好ましい。
【００４３】
前記ブロックポリマーは、制御重合を利用して製造するのが好ましい。前記制御重合としては、リビングアニオン重合や連鎖移動剤を用いるラジカル重合、近年開発されたリビングラジカル重合が挙げられるが、中でも、制御ラジカル重合の一種であるリビングラジカル重合を利用すると、製造されるブロック共重合体の分子量及び構造を容易に制御できるので好ましい。リビングラジカル重合とは、重合末端の活性が失われることなく維持されるラジカル重合をいう。リビング重合とは、狭義には、末端が常に活性を持ち続ける重合のことをいうが、一般的には、末端が不活性化されたものと活性化されたものが平衡状態にある擬リビング重合も含まれる意味で用いられ、本明細書でも後者の意味で用いる。リビングラジカル重合は、近年様々なグループで積極的に研究がなされている。その例としては、ポリスルフィドなどの連鎖移動剤を用いるもの、コバルトポルフィリン錯体（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９４、１１６、７９４３）やニトロキシド化合物などのラジカル捕捉剤を用いるもの（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１９９４、２７、７２２８）、有機ハロゲン化物などを開始剤とし、遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合（Ａｔｏｍ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：ＡＴＲＰ）などが挙げられる。本発明においてはいずれの方法により前記ブロック共重合体を製造してもよいが、制御の容易さなどから原子移動ラジカル重合を利用するのが好ましい。
【００４４】
原子移動ラジカル重合では、有機ハロゲン化物、又はハロゲン化スルホニル化合物を開始剤として、周期律表第８族、９族、１０族、又は１１族元素から選ばれる金属を中心金属とする金属錯体を触媒として用いることができる。例えば、Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９５，１１７，５６１４；Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９５，２８，７９０１；Ｓｃｉｅｎｃｅ，１９９６，２７２，８６６；あるいはＳａｗａｍｏｔｏら、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９５，２８，１７２１；に原子移動ラジカル重合法の例が記載されていて、本発明にも好ましく用いられる。これらの方法によれば、一般的には非常に重合速度が速く、ラジカル同士のカップリングなどの停止反応が起こりやすいラジカル重合系であるにもかかわらず、重合がリビング的に進行し、分子量分布の狭いＭｗ／Ｍｎ＝１．１〜１．５程度の重合体が得られる。また、分子量はモノマーと開始剤の仕込み比によって自由にコントロールすることができる。
【００４５】
原子移動ラジカル重合法において、一官能性、二官能性もしくは多官能性の有機ハロゲン化物又はハロゲン化スルホニル化合物を開始剤として用いることができる。これらは目的に応じて使い分ければよいが、ジブロック共重合体を製造する場合は、開始剤として一官能性化合物を使用するのが好ましく、トリブロック共重合体を製造する場合は、二官能性化合物を使用するのが好ましい。
また、重合を開始する以外の官能基を有する有機ハロゲン化物又はハロゲン化スルホニル化合物を用いると、容易に末端に官能基が導入された重合体が得られる。このような官能基としては、アルケニル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アミド基、シリル基などがあげられる。
これらの開始剤として使用可能な有機ハロゲン化物又はハロゲン化スルホニル化合物は、ハロゲンが結合している炭素がカルボニル基もしくはフェニル基などと結合しており、炭素−ハロゲン結合が活性化されて重合開始能を有する化合物である。
使用する開始剤の量は、必要とするブロック共重合体の分子量に合わせて、単量体との比から決定すればよい。すなわち、開始剤１分子あたり、何分子の単量体を使用するかによって、ブロック共重合体の分子量を制御できる。
【００４６】
前記原子移動ラジカル重合の触媒として用いられる遷移金属触媒としては、特に制限はないが、好ましいものとして、１価及び０価の銅、２価のルテニウム、２価の鉄又は２価のニッケル錯体が挙げられる。これらの中でも、コストや反応制御の点から銅の錯体を用いるのが好ましい。前記金属触媒として錯体を用いる場合、あらかじめ合成した錯体を重合系内に添加してもよいし、もしくは金属塩と該金属に配位結合して錯体を形成する配位子とを各々重合系内に添加して、系内で錯体を生成させてもよい。中でも、金属触媒としてハロゲン化銅及び銅に配位結合可能なアミン化合物を用い、それぞれを重合系内に添加するのが好ましい。
【００４７】
前記原子移動ラジカル重合の触媒として使用可能な１価の銅化合物としては、例えば、塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一銅、シアン化第一銅、酸化第一銅、過塩素酸第一銅などが挙げられる。銅化合物を用いる場合、触媒活性を高めるために２，２’−ビピリジル及びその誘導体、１，１０−フェナントロリン及びその誘導体、テトラメチルエチレントリアミン（ＴＭＥＤＡ）、ペンタメチルジエチレントリアミン、ヘキサメチル（２−アミノエチル）アミンなどのポリアミンなどを配位子として添加することができる。また、２価の塩化ルテニウムのトリストリフェニルホスフィン錯体（ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3）も触媒として好ましい。ルテニウム化合物を触媒として用いる場合は、活性化剤としてアルミニウムアルコキシド類を添加してもよい。さらに、２価の鉄のビストリフェニルホスフィン錯体（ＦｅＣｌ2（ＰＰｈ3）2）、２価のニッケルのビストリフェニルホスフィン錯体（ＮｉＣｌ2（ＰＰｈ3）2）、及び２価のニッケルのビストリブチルホスフィン錯体（ＮｉＢｒ2（ＰＢｕ3）2）も触媒として好ましい。使用する触媒、配位子及び活性化剤の量は、特に制限されないが、使用する開始剤、単量体及び溶媒の量と所望の反応速度の関係から適宜決定すればよい。
【００４８】
前記原子移動ラジカル重合は、無溶媒（塊状重合）又は各種の溶媒中で行うことができる。用いる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノールなどのアルコール系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート系溶媒；その他、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アニソール、Ｎ−メチルピロリドン、水などが挙げられる。これらは、単独又は２種以上を混合して用いることができる。前述したように、無溶媒で実施する場合は塊状重合となる。一方、溶媒を使用する場合、その使用量は、系全体の粘度と必要とする撹拌効率（すなわち、反応速度）の関係から適宜決定すればよい。
また、原子移動ラジカル重合は、室温〜２００℃の範囲で行うことができ、５０〜１５０℃の範囲で行うのが好ましい。
【００４９】
原子移動ラジカル重合によりブロック共重合体を製造する方法としては、単量体を逐次添加する方法、あらかじめ合成した重合体を高分子開始剤として次のブロックを重合する方法、別々に重合した重合体を反応により結合する方法などが挙げられる。これらの方法は目的に応じて使い分ければよいが、製造工程の簡便性の点から、単量体の逐次添加又は高分子開始剤による方法が好ましい。
前記ブロック重合体を製造する方法としては特に限定されないが、ハロゲン化銅を触媒とし、アミン配位子を用いた単量体の逐次添加による制御ラジカル重合により製造すると、製造されるブロック重合体の分子量制御が容易になるので好ましい。特に、反応溶媒としてはジメチルホルムアミド、トルエン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、アニソール等を用いると、前記触媒に対するキレート効果から、反応速度が向上するのでより好ましい。
【００５０】
本発明のブロックポリマーは、毛髪上で被膜を形成することによって、優れたヘアケア効果を奏する。さらに、本発明のブロックポリマーは、皮膚への局所適用が可能であり、様々な化粧及び医薬組成物中への配合にも有用である。本発明のブロックポリマーは、皮膚上でより容易かつ均一にひろがり、皮膚に快く感じられ、しかも高度に直接性である局所組成物を提供する。更に、本発明のブロックポリマーは皮膚中への又は皮膚から全身デリバリーのために様々な化粧及び医薬活性剤の浸透性を高める上で有用である。
さらに、本発明のブロックポリマーは、均一なミクロ相分離構造を形成し、更にモルフォロジー的観点から、温度等の製膜条件を制御する事で硬さ柔らかさといった被膜の力学物性を制御し得る。
【００５１】
次に、本発明の化粧料について説明する。
本発明の化粧料は、本発明のブロックポリマーを含有することを特徴とする。本発明の化粧料は、毛髪用、皮膚用または爪用の化粧料であるのが好ましく、特に、毛髪用化粧料であるのが好ましい。
以下、各々の化粧料について、詳細に説明する。
（毛髪用化粧料）
本発明の毛髪用化粧料は、シャンプー、リンス、トリートメント、セット剤、パーマネントウエーブ液等、いずれの目的の毛髪用化粧料であってもよい。また、液体、クリーム、エマルジョン、ゲル、ムース等、いずれの形態の毛髪用化粧料であってもよい。例えば、本発明のブロックポリマーを、公知のシャンプー、リンス、トリートメント、セット剤、パーマネントウエーブ液などの毛髪用化粧料中に、公知の樹脂の代わりに添加することができる。この時、従来使用されている公知の樹脂と併用してもよい。毛髪用化粧料における前記ブロックポリマーの含有量の好ましい範囲は、毛髪用化粧料の形態および目的、ならびに併用する他の材料の種類および量によって異なるが、前記ブロックポリマーは、毛髪用化粧料において０．０１〜１０重量％含有されるのが好ましい。
【００５２】
以下、本発明を毛髪用化粧料に適用した実施形態について詳細に説明する。
（１）セット剤
本明細書において「セット剤」の語は、毛髪をセットする目的で使用される毛髪用化粧料を全て含む広い概念として用いる。エアゾールヘアスプレー、ポンプ式ヘアスプレー、フォーム状ヘアスプレー、ヘアミスト、セットローション、ヘアクリーム、ヘアオイル等いずれの形態のものも含まれる。セット剤は、通常、水および／またはエタノール、イソプロパノールなどのアルコール類を溶媒として、セット能を有する樹脂を溶解および／または分散等することによって調製されるが、本発明では、セット能を有する樹脂として、前記ブロックポリマーを単独で、または慣用のカチオン性、アニオン性、ノニオン性もしくは両性の公知のセット用ポリマーとともに使用することができる。
【００５３】
併用可能な公知のセット用ポリマーとしては、カチオン性ポリマーとして、例えば、ヒドロキシセルロースとグリシジルトリメチルアンモニウムクロライドとのエーテル（商品名：レオガードＧ（ライオン社製））、商品名：ポリマーＪＲ−３０Ｍ−１２５および同−４００（ユニオンカーバイド社製））、ビニルピロリドン−ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合体の四級化物（商品名：ＧＡＦＱＵＡＴ  ７３４および７５５（ＧＡＦ社製））、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド重合体（商品名：ＭＥＲＱＵＡＴ１００（メルク社製））、ジメチルジアリルアンモニウムクロライドアクリルアミド共重合体（商品名：ＭＥＲＱＵＡＴ  ５５０（メルク社製））などが挙げられる。アニオン性ポリマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸とメタクリル酸アルキルとの共重合体（商品名：ダイヤホールド（三菱化学社製）、商品名：プラスサイズ（互応化学社製））、マレイン酸モノアルキルエステルとメチルビニルエーテル共重合体（商品名：ＧＡＮＴＲＥＺ（ＩＳＰ社製））などが挙げられる。ノニオン性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン重合体（商品名：ＰＶＰ（ＩＳＰ社製））ビニルピロリドンと酢酸ビニル共重合体（商品名：ＬＵＶＩＳＫＯＬ（ＢＡＳＦ社製））などが挙げられる。両性ポリマーでは、例えば、メタクリル酸エステル共重合体（商品名：ユカフォーマ−ＡＭ−７５Ｗ（三菱化学社製））などが挙げられる。
【００５４】
泡沫状態で噴出可能なセット用の毛髪用化粧料（ムース）の態様では、その組成を、前記ブロックポリマーが０．０１〜１０重量％、公知のセット用ポリマーが０〜１５重量％、ノニオン性界面活性剤が０．１〜５重量％、液化ガスが３〜２５重量％および水を主体とする水溶性溶媒が６０重量％〜残余とするのが好ましい。但し、水は毛髪用化粧料中、６０重量％以上含有される様に調製するのが好ましい。ジェルの態様では、その組成を、前記ブロックポリマーが０．０１〜１０重量％、公知のセット用ポリマーが０〜１５重量％、ジェルベースが０．１〜３重量％、水が７２重量％〜残余とするのが好ましい。ヘアスプレーの態様では、その組成を、前記ブロックポリマーが０．０１〜１０重量％、公知のセット用ポリマーが０〜１５重量％、溶剤が３０〜８０重量％、噴射剤が１０〜７０重量％とするのが好ましい。
【００５５】
ムースに使用可能なノニオン性界面活性剤としては、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、脂肪酸アルカノールアミドなどが挙げられる。また、スプレーまたはムースに使用可能な噴射剤としては、液化石油ガス、ジメチルエーテル、ハロゲン化炭化水素などの液化ガスおよび空気、二酸化炭素ガス、窒素ガスなどの圧縮ガスなどがある。
【００５６】
（２）コンディショニング機能付与剤
本明細書において、「コンディショニング機能付与剤」の語は、毛髪のコンディションを整える目的に使用される毛髪用化粧料を全て含む広い概念として用いる。シャンプー、リンス、パーマネント液などのいずれの形態も含まれる。これらの毛髪用化粧料には、シャンプー、リンス、パーマネントなどの水および／またはエタノール、イソプロパノールなどのアルコール類を溶媒とする毛髪用化粧料、およびヘアトリートメントなどの、水および（または）エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、またはアルコール類および／または沸点５０℃〜３００℃である炭化水素類を溶媒とする毛髪用化粧料が含まれる。前述のセット剤と同様、本発明では、コンディショニング能を有する樹脂として、前記ブロックポリマーを単独で、または慣用のカチオン性、アニオン性、ノニオン性もしくは両性のコンディショニング用ポリマーとともに使用することができる。
【００５７】
シャンプーの態様では、公知のアニオン性、両性またはノニオン性の界面活性剤基材に、前記ブロックポリマーを添加して調製する。前記アニオン性界面活性剤基材としては、Ｎ−ココノイル−Ｎ−メチル−β−アラニンナトリウム、Ｎ−ミリストイル−Ｎ−メチル−β−アラニンナトリウムなどのＮ−脂肪酸アシル−Ｎ−メチル−β−アラニン塩など；前記両性界面活性剤基材としては、ココアシドプロピルベタイン、ジメチルラウリルベタイン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ラウリルベタイン、シクロヘキシルラウリルアミンオキシド、ジメチルラウリルアミンオキシド、ビス（２−ヒドロキシエチル）ラウリルアミンオキシドなど；前記ノニオン性界面活性剤基材としては、ステアリン酸ジエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、ソルビタンセスキオレエート、ポリオキシエチレンステアリルエーテルなど；が挙げられる。
【００５８】
リンスの態様では、公知のカチオン性界面活性剤に、前記ブロックポリマーを添加して調製する。前記カチオン性界面活性剤基材としては、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウムなどが挙げられる。パーマネント液の態様では、公知の臭素酸塩類、過ホウ素酸類などの酸化剤、およびチオグリコール酸およびその塩、システインなどの還元剤に、前記ブロックポリマーを添加して調製する。
【００５９】
ヘアトリートメントの態様では、公知のカチオン性界面活性剤基材、および／またはカチオン性ポリペプタイド、カチオン性セルロース、カチオン性ポリシロキサンなどのカチオン化ポリマーと併用または代換して、前記ブロックポリマーを添加して調製する。前記カチオン性界面活性剤基材としては、例えばリンス用に使用できるとして例示したものが、ヘアトリートメントにも使用できる。
【００６０】
セット剤およびコンディショニング機能付与剤のいずれの態様の毛髪用化粧料にも、前述した各種成分の他に、必要に応じて、本発明の効果に影響のない範囲で、他の任意成分を配合することができる。任意成分としては、例えば、流動パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン、オレフィンオリゴマーなどの炭化水素類；エタノール、ラウリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ミリスチルアルコール、オレイルアルコール、セトステアリルアルコールなどの直鎖アルコール；モノステアリルグリセリンエーテル、２−デシルテトラデシノール、ラノリンアルコール、コレステロール、フィトステロール、ヘキシルドデカノール、イソステアリルアルコール、オクチルドデカノールなどの分枝アルコールなどのアルコール類；ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン（ベヘニル）酸、オレイン酸、１，２−ヒドロキシステアリン酸、ウンデシレン酸、トール酸、ラノリン脂肪酸、イソステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、γ−リノレン酸、エイコサペンタエン酸などの高級脂肪酸類およびその誘導体；
【００６１】
カラギーナン、ペクチン、カンテン、クインスシード（マルメロ）、アルゲコロイド（カッソウエキス）、デンプン（コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ）、グリチルリチン酸などの植物系高分子；キサンタンガム、デキストラン、プルランなどの微生物系高分子；コラーゲン、ゼラチンなどの動物系高分子などの天然水溶性高分子；メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム（ＣＭＣ）、結晶セルロース、セルロース末などのセルロース系高分子；アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステルなどのアルギン酸系高分子などの半合成水溶性高分子；
【００６２】
ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー（カーボポール）などのビニル系高分子；ポリエチレングリコール２０，０００、４，０００，０００、６００，０００などのポリオキシエチレン系高分子；ポリエチレンイミンなどの合成水溶性高分子；ベントナイト、ケイ酸ＡｌＭｇ（ビーガム）、ラボナイト、ヘクトライト、無水ケイ酸などの無機の水溶性高分子；揮発性シリコーン油、シリコーン樹脂、シリコーンガム、アルキル変性シリコーンなどのシリコーン類；Ｎ−ラウリル−Ｌ−グルタミン酸モノナトリウム、Ｎ−ヤシ油脂肪酸−Ｌ−グルタミン酸モノトリエタノールアミン、Ｎ−ミリスチル酸アシル−Ｌ−グルタミン酸モノナトリウム、Ｎ−混合脂肪酸アシル−Ｌ−グルタミン酸モノナトリウムなどのＮ−脂肪酸アシル−Ｌ−グルタミン酸塩；
【００６３】
ラウリン酸メチルタウリンナトリウム、ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウムなどのＮ−脂肪酸−Ｎ−メチルタウリン塩；ラウロイルサルコシンナトリウム、ココイルサルコシンナトリウムなどのＮ−脂肪酸サルコシン縮合物の塩；アシルサルコシンナトリウム、アシルグルタミン酸塩、アシル−β−アラニンナトリウム、アシルタウレート、ラウリル硫酸塩、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、塩化アルキルトリメチルアンモニウム、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油などの界面活性剤；
【００６４】
１−ヒドロキシエタン−１，１−ジフォスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジフォスホン酸四ナトリウム塩、エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、エデト酸四ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸などの金属イオン封鎖剤；３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，１−カンファー、３−ベンジリデン−ｄ，１−カンファー、ウロカニン酸、ウロカニン酸エチルエステル、２−フェニル−５−メチルベンゾキサゾール、２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニルベンゾトリアゾール、ジベンザラジン、ジアニソイルメタン、４−メトキシ−４’−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン、５−（３，３−ジメチル−２−ノルボルニリデン）−３−ペンタン−２−オン、安息香酸系、アントラニル酸系、サリチル酸系、桂皮酸系、ベンゾフェノン系などの各種紫外線吸収剤；
【００６５】
グリセリルモノステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートなどの乳化剤；（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール、グリセリン、１，３−ブチレングリコール、マルチトール、ソルビトール、コンドロイチン硫酸、ヒアルロン酸、アテロコラーゲン、コレステリル−１，２−ヒドロキシステアレート、乳酸ナトリウム、胆汁酸塩、ｄｌ−ピロリドンカルボン酸塩、短鎖可溶性コラーゲンなどの保湿剤；ヒノキチオール、ヘキサクロロフェン、ベンザルコニウムクロリド、トリクロロカルバニリドおよびピチオノールなどの抗菌剤；塩化カルプロニウムなどの血管拡張剤；メントール類などの清涼感付与剤；ニコチン酸ベンジルなどの刺激感付与剤；ビタミンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅなどのビタミン類；グルコン酸クロルヘキシジン、イソプロピルメチルフェノール、パラオキシ安息香酸エステルなどの殺菌防腐剤；
【００６６】
タンパク加水分解物、アミノ酸、植物抽出エキス、ＥＤＴＡ−Ｎａなどのキレート化剤；コハク酸、コハク酸ナトリウム、トリエタノールアミンなどのｐＨ調製剤；増泡剤；発泡剤；泡安定剤；エアゾール製品の場合は液化石油ガス、ジメチルエーテルなどの噴射剤；金属イオン捕獲剤；防黴剤；殺菌剤；乳濁剤；コンディショニング剤；増粘剤；酸化防止剤；可溶化剤；ロジン；ハイドロトロープ；養毛剤；生薬；色素；香料；などが挙げられる。
【００６７】
（皮膚用および爪用化粧料）
皮膚用および爪用化粧料の形態としては、特に限定されるものではないが、皮膚用化粧料としては、クリーム、乳液などの基礎化粧料や、ファンデーション、白粉、ほほ紅、アイシャドウ、口紅などのメーキャップ化粧料が挙げられる。また爪用化粧料としては、ネールカラー、ネールケア用クリーム、ネールエナメル、ネールエナメル・ベースコート、ネールエナメル・オーバーコートなどが挙げられる。
【００６８】
皮膚用および爪用の化粧料の形態では、前記ブロックポリマーを化粧料中に１〜３０重量％含有するのが好ましい。前記皮膚用および爪用の化粧料は、前記ブロックポリマーを含む配合成分を、水、エタノールなどのアルコール系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、流動パラフィン、ワセリンなどの炭化水素類等に溶解、乳化または分散することによって製造することができる。
【００６９】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
［製造例１］（アクリル酸２−エチルヘキシル−アクリル酸ｔ−ブチル系ブロック共重合体Ｐ−１の製造例）
熱電対、撹拌翼を取り付け窒素置換した反応容器に臭化銅（Ｉ）４３０ｍｇを加え、８０℃に昇温した。上記反応容器に窒素雰囲気下、２５０ｒｐｍで撹拌しながらジメチル２，６−ジブロモヘプタンジオエート１．３７ｇ、アクリル酸２−エチルヘキシル１８４ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン１．０４ｇ、ジメチルホルムアミド９０ｇの混合液を加えた。３時間撹拌後、反応容器を氷浴にて急冷し反応を停止した。反応溶液をＭｅＯＨ／水（５／１）混合溶媒に注ぎ洗浄後、デカンテーションにて上澄み液を除去後、析出したポリマーをトルエンに溶解し、水を加えてポリマー層と触媒層に層分離させて臭化銅を除去後、ポリマー層の溶媒を減圧下留去後乾燥した。得られたポリマー（以下「ポリアクリル酸２−エチルへキシル高分子開始剤」という場合がある）は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１０８００、数平均分子量（Ｍｎ）が１００００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０７であった。
【００７０】
熱電対、撹拌翼を取り付け窒素置換した反応容器に臭化銅（Ｉ）７１５ｍｇを加え、８０℃に昇温した。上記反応容器に窒素雰囲気下、２５０ｒｐｍで撹拌しながらポリアクリル酸２−エチルヘキシル高分子開始剤５０ｇ、アクリル酸ｔ−ブチル３２０ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン１．７３５ｇ、ジメチルホルムアミド１３８ｇの混合液を加えた。５時間撹拌後、反応容器を氷浴にて急冷し反応を停止した。反応溶液をＭｅＯＨ／水（５／１）混合溶媒に注ぎ洗浄後、デカンテーションにて上澄み液を除去後、析出したポリマーをトルエンに溶解し、水を加えてポリマー層と触媒層に層分離させて臭化銅を除去後、ポリマー層の溶媒を減圧下留去後乾燥した。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は４９，８００、数平均分子量（Ｍｎ）は３７，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．３３であった。Ｍｎ値より算出したブロック共重合体中のアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルの重量分率は、それぞれ、２７重量％と７３重量％であった。また、1Ｈ−ＮＭＲにより、ブロック共重合体中のアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルの重量分率を確認した。
得られたブロック共重合体は、トリブロック共重合体であった。
【００７１】
得られたアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルトリブロックポリマー  ７０ｇをトルエン６５０ｍＬに溶解させた。ｐ−トルエンスルホン酸３．８ｇを加え１００℃オイルバスにて２時間加熱環流した。冷却した後、減圧下溶媒を濃縮し、テトラヒドロフラン溶解後、水にて再沈させ、減圧乾燥してブロック共重合体Ｐ−１を得た。
得られたブロック共重合体をＰ−１の加水分解率を、０．１Ｎ−水酸化カリウム水溶液を用いた酸価滴定により確認した。加水分解率は１００％であった。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、アクリル酸２−エチルヘキシルブロックが−５０℃、アクリル酸ブロックが１０７℃であった。得られたブロック共重合体中の組成比は13Ｃ−ＮＭＲ測定より確認し、アクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸の重量分率はそれぞれ、４５重量％と５５重量％であった。
【００７２】
［製造例２］（アクリル酸２−エチルヘキシル−アクリル酸ｔ−ブチル系ブロック共重合体Ｐ−２の製造例）
上記と同様の製造法において、臭化銅（Ｉ）１．２９ｇ、ジメチル２，６−ジブロモヘプタンジオエート４．１１ｇ、アクリル酸２−エチルヘキシル５５３．２ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン３．１２ｇ、ジメチルホルムアミド２８０ｇ使用し、１時間反応したところ、得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１３，８００、数平均分子量（Ｍｎ）は１２，８００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０８であった。
上記と同様の製造例において、臭化銅（Ｉ）２．１５ｇ、ポリアクリル酸２−エチルヘキシル高分子開始剤２００ｇ、アクリル酸ｔ−ブチル１０００ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン５．２ｇ、ジメチルホルムアミド３７０ｇを用いて同様に重合を実施してブロック共重合体を得た。
得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は６８，６００、数平均分子量（Ｍｎ）は５１，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．３３であった。Ｍｎ値より算出したブロック共重合体中のアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルの重量分率は、それぞれ２５重量％と７５重量％であった。
上記と同様の加水分解条件で加水分解を行い、ブロック共重合体Ｐ−２を得た。上記と同様に加水分解率を求めたところ、ブロック共重合体Ｐ−２の加水分解率は１００％であった。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、アクリル酸２−エチルヘキシルブロックが−５０℃、アクリル酸が１０７℃であった。得られたブロック共重合体中の組成比を13Ｃ−ＮＭＲ測定より確認したところ、アクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸の重量分率はそれぞれ、４０重量％と６０重量％であった。
【００７３】
［製造例３］（アクリル酸２−エチルヘキシル−アクリル酸ｔ−ブチル系ブロック共重合体Ｐ−３の製造例）
上記と同様の製造法において、臭化銅（Ｉ）０．４３ｇ、ジメチル２，６−ジブロモヘプタンジオエート１．３７ｇ、アクリル酸２−エチルヘキシル１８４ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン１．０４ｇ、ＤＭＦ  ９２ｇを使用し、１時間反応したところ、得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１２，０００、数平均分子量（Ｍｎ）は１１，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０８であった。上記と同様の製造例において、塩化銅（Ｉ）０．４９５ｇ、ポリアクリル酸２−エチルヘキシル高分子開始剤  １６ｇ、アクリル酸ｔ−ブチル  ６４ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン１ｇ、アニソール２８ｇを用いて同様に重合を実施してブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は３３，７００、数平均分子量（Ｍｎ）は２７，４００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．２３であった。
上記と同様の加水分解条件で加水分解を行い、ブロック共重合体Ｐ−４を得た。上記と同様に加水分解率を求めたところ、ブロック共重合体Ｐ−２の加水分解率は１００％であった。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、アクリル酸２−エチルヘキシルブロックが−５０℃、アクリル酸が１０７℃であった。得られたブロック共重合体中の組成比を13Ｃ−ＮＭＲ測定より確認したところ、アクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸の重量分率はそれぞれ、５０重量％と５０重量％であった。
【００７４】
［製造例４］（アクリル酸２−エチルヘキシル−アクリル酸ｔ−ブチル系ブロック共重合体Ｐ−４の製造例）
上記と同様の製造法において、臭化銅（Ｉ）５５０ｍｇ、ジメチル２，６−ジブロモヘプタンジオエート２．６５ｇ、アクリル酸２−エチルヘキシル３５４ｇ、２，５，８，１１−テトラメチル−２，５，８，１１−テトラアザドデカン８８５ｍｇ、トルエン２００ｇを使用し、１００℃で３時間反応したところ、得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は３９，８００、数平均分子量（Ｍｎ）は２０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９９であった。
上記と同様の製造法において、臭化銅（Ｉ）８２６ｍｇ、ポリアクリル酸２−エチルヘキシル高分子開始剤５０ｇ、アクリル酸ｔ−ブチル２６５ｇ、２，５，８，１１−テトラメチル−２，５，８，１１−テトラアザドデカン１．３２ｇ、トルエン１５０ｇを使用し、１００  ℃にて５時間撹反応したところ、得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は８３，７００、数平均分子量（Ｍｎ）は３９，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．１２あった。Ｍｎ値より算出したブロック共重合体中のアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルの重量分率は、それぞれ、４０重量％と６０重量％であった。また、1Ｈ−ＮＭＲにより、ブロック共重合体中のアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルの重量分率を確認した。得られたブロック共重合体は、トリブロック共重合体であった。
上記と同様の加水分解条件で加水分解を行い、ブロック共重合体Ｐ−４を得た。得られたブロック共重合体Ｐ−４の加水分解率は１００％であった。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、アクリル酸２−エチルヘキシルブロックが−５０℃、アクリル酸が１０７℃であった。得られたブロック共重合体中の組成比を13Ｃ−ＮＭＲ測定より確認したところ、アクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸の重量分率はそれぞれ、４５重量％と５５重量％であった。
【００７５】
［製造例５］（アクリル酸２−エチルヘキシル−アクリル酸ｔ−ブチル系ブロック共重合体Ｐ−５の製造例）
熱電対、撹拌翼を取り付け窒素置換した反応容器に臭化銅（Ｉ）７７７ｍｇを加え、８０℃に昇温した。上記反応容器に窒素雰囲気下、２５０ｒｐｍで撹拌しながら２−ブロモイソ酪酸１．４ｇ、アクリル酸２−エチルヘキシル２００ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン１．８７ｇ、ジメチルホルムアミド２０ｇの混合液を加えた。１．５時間撹拌後、反応容器を氷浴にて急冷し反応を停止した。反応溶液をＭｅＯＨ／水（５／１）混合溶媒に注ぎ洗浄後、デカンテーションにて上澄み液を除去後、析出したポリマーをトルエンに溶解し、水を加えてポリマー層と触媒層に層分離させて臭化銅を除去後、ポリマー層の溶媒を減圧下留去後乾燥した。得られたポリマー（以下「ポリアクリル酸２−エチルへキシル高分子開始剤」という場合がある）は、重量平均分子量（Ｍｗ）が９，０００、数平均分子量（Ｍｎ）が８，４００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０７であった。
【００７６】
熱電対、撹拌翼を取り付け窒素置換した反応容器に臭化銅（Ｉ）５０２ｍｇを加え、８０℃に昇温した。上記反応容器に窒素雰囲気下、２５０ｒｐｍで撹拌しながらポリアクリル酸２−エチルヘキシル高分子開始剤３０ｇ、アクリル酸ｔ−ブチル１５０ｇ、ペンタメチルジエチレントリアミン１．２１ｇ、ジメチルホルムアミド１５ｇの混合液を加えた。５時間撹拌後、反応容器を氷浴にて急冷し反応を停止した。反応溶液をＭｅＯＨ／水（５／１）混合溶媒に注ぎ洗浄後、デカンテーションにて上澄み液を除去後、析出したポリマーをトルエンに溶解し、水を加えてポリマー層と触媒層に層分離させて臭化銅を除去後、ポリマー層の溶媒を減圧下留去後乾燥した。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は３６，６００、数平均分子量（Ｍｎ）は３１，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１６であった。Ｍｎ値より算出したブロック共重合体中のアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルの重量分率はそれぞれ、２７重量％と７３重量％であった。また、1Ｈ−ＮＭＲにより、ブロック共重合体中のアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルの重量分率を確認した。
得られたブロック共重合体は、トリブロック共重合体であった。
得られたアクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸ｔ−ブチルジブロックポリマー３０ｇをトルエン３００ｍＬに溶解させた。ｐ−トルエンスルホン酸０．７４ｇを加え１００℃オイルバスにて２時間加熱環流した。冷却した後、減圧下溶媒を濃縮し、テトラヒドロフラン溶解後、水にて再沈させ、減圧乾燥してブロック共重合体Ｐ−５を得た。
得られたブロック共重合体をＰ−５の加水分解率を、０．１Ｎ−水酸化カリウム水溶液を用いた酸価滴定により確認した。加水分解率は１００％であった。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、アクリル酸２−エチルヘキシルブロックが−５０℃、アクリル酸が１０７℃であった。得られたブロック共重合体中の組成比は13Ｃ−ＮＭＲ測定より確認し、アクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸の重量分率はそれぞれ、４５重量％と５５重量％であった。
【００７７】
［比較例１］（比較例用ランダム共重合体（Ｐｃ−１）の製造例）
５つ口フラスコに反応容器に還流冷却器、滴下ロート、温度計、窒素置換ガラス管及び撹拌装置を取付けた後、アクリル酸２−エチルヘキシル４０重量部、アクリル酸６０重量部及びエチルアルコール１００重量部を入れ、α，α’−アゾビスイソバレロニトリル１．０重量部を加え、窒素置換下８０℃で還流加熱して１０時間重合を行った。得られた共重合体を、２０％ＮａＯＨ水溶液で１００％中和した。得られた共重合体のガラス転移点は−６℃であった。このランダム共重合体をＰｃ−１とした。このＰｃ−１の重量平均分子量は４０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．５１であった。
【００７８】
上記で得られた共重合体の組成は、重量比で、
ブロック共重合体Ｐ−１がＥＨＡ／ＡＡ＝４５／５５、
ブロック共重合体Ｐ−２がＥＨＡ／ＡＡ＝４０／６０、
ブロック共重合体Ｐ−３がＥＨＡ／ＡＡ＝５０／５０、
ブロック共重合体Ｐ−４がＥＨＡ／ＡＡ＝４５／５５、
ブロック共重合体Ｐ−５がＥＨＡ／ＡＡ＝４５／５５、
ランダム共重合体Ｐｃ−１がＥＨＡ／ＡＡ＝４０／６０であった。
なお、ＥＨＡはアクリル酸２−エチルヘキシル、ＡＡはアクリル酸を示す。
さらに、アニオン系ランダム共重合体の市販樹脂（マレイン酸モノアルキルエステルとメチルビニルエーテル共重合体（商品名：ＧＡＮＴＲＥＺ  Ａ−４２５（ＩＳＰ社））をＰｃ−２として用いた。
【００７９】
＜相分離構造解析＞
相分離構造サイズは、電子顕微鏡観察および小角Ｘ線散乱測定により決定を行った。ミクロ相分離構造は、透過型電子顕微鏡（日本電子製  ＪＥＭ−２０１０）加速電圧２００ｋＶにて観察した。試料は四酸化ルテニウム（ＲｕＯ4）にて染色し、超薄切片の観察を倍率１万倍〜５０万倍にて行った。倍率校正には市販のポリスチレンラテックスを使用した。上記のごとくして得られた共重合体に基づくキャストフィルム（製膜方法は、後述のフィルム物性評価の際の製膜方法と同様である）の断面を各種刃物で切り出し、四酸化ルテニウム蒸気に接触させ、さらにウルトラミクロトーム装置を用い市販のダイヤモンドナイフで透過型電子顕微鏡観察に供する超薄切片を採取した。ドメインサイズは、２０万倍写真上で抽出した１００個のドメインの平均値より算出した。
【００８０】
小角Ｘ線散乱の測定は、銅を陰極とする回転対陰極型Ｘ線発生装置をＸ線源とし、グラファイト結晶を用いたＸ線単色化装置によりＣｕＫα線のみを抽出し、測定試料への入射Ｘ線として使用した。測定試料への入射に際し、２０ｃｍ以上の間隔を隔てて、設置した２つの０．５ｍｍφ以下の円形の穴の開いたＸ線用スリットによりＸ線ビーム形状を絞った。散乱Ｘ線を、試料位置より１ｍ以上離れた場所に設置したＸ線用比例計数管にて散乱角度０〜３度までを測定して、散乱強度分布図を得た。得られた各散乱強度分布データより、試料がない状態で測定した散乱強度分布データ（通常、エアー散乱強度と呼ばれる。）にＸ線透過率を掛けたものを引き算した。ここで、Ｘ線透過量とは、入射したＸ線の強度に対する、入射したＸ線のうち散乱せず試料を透過してきたＸ線の強度の割合である。
波数ベクトル：ｓ＝２×ｓｉｎ（θ）÷１．５４
２×θ  は散乱角度、１．５４：ＣｕＫα  Ｘ線の波長
こうして得られた処理済みデータの散乱ピークのうち最も小角度側に観測されるピークが、相関距離に対応するものであり、相関距離は波数ベクトルの逆数で表される。
【００８１】
＜フィルム物性＞
上記で作製したブロック共重合体Ｐ−１〜５、比較例用ポリマーＰｃ−１のフィルム物性（ヤング率および伸び率）を測定した。
まず、各ポリマーについて、室温にてＥｔＯＨ溶媒中ポリマーを完全に溶解させた後、水を加えて３％ポリマー溶液（ＥｔＯＨ／Ｈ2Ｏ（１／２）とした後、２０％ＮａＯＨ水溶液にてＰＨ＝７に調整した。各ポリマー溶液を、１）温度２３℃、相対湿度６０％、約２週間；２）室温ドラフト（減圧）、１週間；３）５０℃、４ｈの各々の条件下にて、テフロンシャーレ中でそれぞれ乾燥させた。ポリマー溶液が被膜となった後もそのまま放置し、被膜の重量が変化しなくなるまでテフロンシャーレにて乾燥させた。被膜の厚みは、１００±１５μｍになるように調整した。
この様にして得られた各フィルムを、幅５ｍｍ、長さ４０ｍｍの短冊状に切断し、引っ張り試験用のサンプルとして用いた。引っ張り試験は、被膜乾燥条件と同じ温度２３℃、相対湿度６０％条件下、引張速度２０ｍｍ／ｍｉｎ、クランプ顎部間距離２０ｍｍとして引張試験を行い、ヤング率と破断点伸びを測定した。フィルム引張試験（ヤング率および伸び率）についてはＪＩＳ  Ｋ７１６１に基づいて測定した。測定結果を表１に示した。
【００８２】
【表１】
2004203917.tif 000003
【００８３】
［実施例６］
以下のシャンプー組成物を調製した。
2004203917.tif 000004
この組成物をシャンプーとして使用したところ、洗髪後の毛髪は容易に櫛通しをすることができ、乾燥後の毛髪は優れた光沢と艶を有し、なめらかな感触でハリのある感触を与えることができた。また、シャンプーを繰り返しても、べとつきなどの悪い影響はなかった。また、ブロック共重合体Ｐ−２〜５を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られると推測できる。
【００８４】
［実施例７］
以下のリンス組成物を調製した。
2004203917.tif 000005
この組成物をリンスに使用したところ、リンス後の毛髪は容易に櫛通しをすることができ、乾燥後の毛髪は優れた光沢と艶を有し、なめらかな感触で容易に櫛通しをすることができた。また、リンスを繰り返しても、べとつきなどの悪い影響はなかった。また、ブロック共重合体Ｐ−１およびＰ−３〜Ｐ−５を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られると推測できる。
【００８５】
［実施例８］
以下の希釈原液をスプレー缶に入れ、液化石油ガスを充填することにより、ヘアスプレー組成物を調製した。
希釈原液                                                    （重量％）
ブロック共重合体Ｐ−１                                          １％
無水エタノール                                                ４９％
合計                                                          ５０％
液化石油ガス（３ｋｇ／ｃｍ2Ｇ、２０℃）                       ５０％
この組成物を毛髪にスプレー塗布して使用したところ、ポリマー使用量が少量でも毛髪に対して優れたセット保持力を与え、更に、毛髪に優れた光沢と艶、良好な櫛通し及びなめらかな感触を与えた。また、ブロック共重合体Ｐ−２〜５を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られるものと推測できる。
【００８６】
［比較例３］
比較例用ランダム共重合体Ｐｃ−１及びＰｃ−２を用いて調製した、実施例８と同様の組成の組成物を、スプレー塗布して使用したところ、樹脂使用量が少ないこともあり、毛髪に対してセット保持力が弱く、更に、塗布後の毛髪は光沢、艶、なめらかな感触を与えなかった。
【００８７】
［実施例９］
実施例８と同様にして、フォーム状エアゾール組成物を調製した。
希釈原液                                                    （重量％）
ブロック共重合体Ｐ−１                                          ２％
ポリオキシエチレンセチルエーテル（１０ＥＯ付加物）          ０．３％
ポリオキシエチレンセチルエーテル（２ＥＯ付加物）            ０．１％
純水                                                      ８５．６％
合計                                                          ８８％
液化石油ガス（３ｋｇ／ｃｍ2Ｇ、２０℃）                       １２％
この組成物を毛髪に使用したところ、２−３のヘアスプレーと同様の優れた結果が得られた。また、ブロック共重合体Ｐ−２〜５を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られるものと推測できる。
【００８８】
［実施例１０］
以下のセットローション組成物を調製した。
2004203917.tif 000006
この組成物を毛髪に塗布使用したところ、２−３と同様の優れた結果が得られた。また、ブロック共重合体Ｐ−２〜５を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られるものと推測できる。
【００８９】
［比較例４］
比較例用ランダム共重合体Ｐｃ−１及びＰｃ−２を用いて、実施例１０と同様な組成物をセットローションとして使用したところ、毛髪に対してセット保持力が弱く、更に、毛髪は光沢、艶、なめらかな感触を与えなかった。
【００９０】
［実施例１１］
以下のジェル組成物を調製した。
2004203917.tif 000007
この組成物を毛髪にジェルとして使用したところ、毛髪に対して優れたセット保持力を与え、更に、毛髪に優れた光沢と艶、及びなめらかな感触を与えた。また、このジェル組成物の塗布使用と洗髪を繰り返した場合、べとつき、蓄積等による違和感などの悪い影響はなかった。また、ブロック共重合体Ｐ−１及びＰ−３〜５を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られるものと推測できる。
【００９１】
Ｐ−１〜Ｐ−５のブロックポリマーはランダム共重合体及び従来のアニオン系樹脂と比較して、洗髪性、セット性、耐湿性及び良感触のすべての性能において優れていた。
【００９２】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明によれば、親水性のセグメントと疎水性の低Ｔｇセグメントとを所定の範囲で含有することにより、水／アルコール溶媒の溶液からキャストフィルムとした場合に、親水性成分を主成分とするマトリックスと低Ｔｇ・疎水性成分を主成分とするドメインとからなるミクロ相分離構造を形成し、柔軟性および形状維持性を付与するゴム弾性とともに、強靱性および所定の溶解性を有する被膜を形成可能な、ブロックポリマーを提供することができる。即ち、本発明のブロックポリマーを含有する化粧品は、例えば毛髪に塗布した際に、自然感を損なわずに樹脂被膜のゴム弾性によるセット回復力、維持力を有するため、セットおよびスタイリング目的の整髪剤に有用である。また、皮膚に塗布した際には、皮膚上に樹脂由来の弾性被膜を形成するため、自然な感触であり、経皮的に皮膚又は皮膚中に活性成分を送達するスキンケア用化粧料としても有用である。