(57)【要約】【課題】パレットに載置した基板にラビング処理を行う際、高歩留まり、かつ低コストでラビング処理を行うことができる基板のラビング装置とそれに用いるパレット及びラビング方法を提供する。【解決手段】基板３とラビングローラ２の相対進行方向に対して、前記基板３の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット５上に載置して基板３上の配向膜にラビング処理を施すラビング装置において、上記パレット５は、複数の基板を載置する複数列、複数行の基板着座部１０を有し、２列目以降の上記基板着座部１０は、上記所定の角度に応じて列方向の位置が相互でずれていることを特徴とする。【選択図】  図６
2004151344.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施すラビング装置において、
上記パレットは、複数の基板を載置する複数列、複数行の基板着座部を有し、
２列目以降の上記基板着座部は、上記所定の角度に応じて列方向の位置が相互でずれていることを特徴とする基板のラビング装置。
【請求項２】
上記パレットは、上記基板と上記ラビングローラとの相対的な進行方向に平行な線上であって、上記ラビングローラが最初に当接する基板の角部を通過する線上に、２列目以降の基板の表示領域が位置しないよう、２列目以降の上記基板着座部を形成したことを特徴とする請求項１に記載の基板のラビング装置。
【請求項３】
基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施すための基板載置用パレットであって、
複数の基板を載置する複数列、複数行の基板着座部を有し、
２列目以降の上記基板着座部は、上記所定の角度に応じて列方向の位置が相互でずれていることを特徴とするパレット。
【請求項４】
基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施すための基板載置用パレットであって、
上記基板を載置する着座面を有する基板着座部と、
この基板着座部に載置した上記基板のラビング方向に対する移動を規制する第１の係止部と、
上記基板着座部に載置した上記基板のラビング方向と交差する方向の移動を規制する第２の係止部と、
を具備し、
上記基板着座部は、上記第１の係止部により複数列形成され、上記第２の係止部により複数行形成されており、２列目以降の上記基板着座部が、上記基板とラビングローラとの相対的な進行方向に平行な線上であって、上記ラビングローラが最初に当接する基板の角部を通過する線上に、２列目以降の基板の表示領域が位置しないよう形成されていることを特徴とするパレット。
【請求項５】
上記複数行の基板着座部は、上記ラビングローラに最初に当接する上記基板の角部に起因して生ずる上記ローラ面の乱れによって、上記基板の表示領域に直線状のスジが転写するのを回避するために、上記スジの軌跡上からずらした位置に形成されていることを特徴とする請求項４に記載のパレット。
【請求項６】
上記複数列の基板着座部は、上記ラビングローラに最初に当接する１列目の基板の角部に起因して生ずる上記ローラ面の乱れによって、上記基板の表示領域に直線状のスジが転写するのを回避するために、２列目以降の基板着座部が、上記スジの軌跡上からずらした位置に形成されていることを特徴とする請求項４に記載のパレット。
【請求項７】
上記基板を上記ラビングローラに当接させる所定の角度は、上記ラビングローラに最初に当接する１列目の上記基板の角部に起因する上記ラビングローラ面のクロスの乱れが、１列目の上記基板着座部に載置した基板の表示領域に直線状のスジとして転写することを回避する角度であることを特徴とする請求項４に記載のパレット。
【請求項８】
上記基板着座部は、その着座面に真空吸引用の孔を有し、載置した基板を真空吸引により着座面に保持することを特徴とする請求項４に記載のパレット。
【請求項９】
上記第１の係止部及び上記第２の係止部は、基板着座部の着座面に載置した上記基板の表面よりも、低い位置で上記基板の移動を規制していることを特徴とする請求項４に記載のパレット。
【請求項１０】
基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施す基板のラビング方法において、
上記ラビングローラに最初に当接する１列目の基板の角部に起因して生ずる上記ラビングローラ当接面のクロスの乱れによって、上記基板の表示領域に直線状のスジが転写するのを回避するために、２列目以降の基板を上記スジの軌跡上から回避するよう２列目以降が形成された複数列の上記基板着座部を有する上記パレットにそれぞれ上記基板を真空吸着により載置する工程と、
上記基板着座部に載置された基板を有する上記パレットを、上記所定の角度傾けて上記ラビングローラに向けて移送し、上記基板を上記ラビングローラに当接させる工程と、
を具備したことを特徴とする基板のラビング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板のラビング装置とそれに用いるパレット及びラビング方法に関し、特に基板を載置するパレットに関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、液晶装置等の電気光学装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＴＦＴと称す）等のスイッチング素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【０００４】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール部を設け、このシール部を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【０００５】
ここで、ラビング処理とは、布等のクロス材で表面が形成されたラビングローラに、基板表面に形成された配向膜を接触させ、直線的に移動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００６】
このラビング処理には、基板の各製造工程において製造された、例えば８インチ以上の大板からなる基板に配向膜を形成し、この配向膜にラビングする方法と、前記８インチ以上の大板からなる基板を規定の大きさに切り出したものに配向膜を形成し、この切り出した基板をパレット上に載置してラビング処理を行う方法とがある。
【０００７】
切り出した上記基板をパレット上に載置してラビング処理を行う方法は、複数の基板着座部を有するパレットを用い、複数の切り出した基板を上記基板着座部に載置して一度にラビングするため、一回の工程で複数の基板をラビングすることができるという利点がある。このようなパレットを用いて基板にラビング処理を行う方法は特許文献１等に開示されている。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００２−３１８０３号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１に開示されている基板のラビング装置においては、切り出した複数の基板を、パレット上に形成された複数の基板着座部に載置することにより、一回の工程で複数の上記基板をラビングすることを可能としている。
【００１０】
ところで、このラビング処理は、従来、上記基板を、上記基板と上記ラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度θ（例えば３°叉は４°）を以って、周面がラビングクロスで構成された上記ラビングローラに当接させるのが一般的である。このように、ある所定の角度を以ってラビング処理を行うことにより、このラビング処理後の基板によって構成される液晶表示装置の視野角を広く確保することができる。
【００１１】
ところが、この場合、図９に示すように、パレット１１０上に複数列、複数行整列して設けられた基板着座部１１５に載置した基板１２０の、ラビングローラ１００に最初に当接する１列目の角部１２０ａにより、上記ラビングローラ１００の周面１００ａには、凹み、傷等のクロスの乱れが生じ、２列目以降の上記基板１２０の表示領域に直線状のスジ１３０として転写してしまう。この転写したスジ１３０を有する２列目以降の基板１２０を使用して構成された液晶装置をプロジェクタ等の投影機に用いた場合には、投影された画面に１本のスジとして写し出されてしまうといった問題があった。
【００１２】
本発明は上記問題に着目してなされたものであり、その目的は、パレットに載置した基板にラビング処理を行う際、２列目以降の基板にクロスの乱れによる直線状のスジが転写しない、高歩留まり、かつ低コストでラビング処理を行うことができる基板のラビング装置とそれに用いるパレット及びラビング方法を提供するにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係る基板のラビング装置の一つの態様としては、基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施すラビング装置において、上記パレットは、複数の基板を載置する複数列、複数行の基板着座部を有し、２列目以降の上記基板着座部は、上記所定の角度に応じて列方向の位置が相互でずれていることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係る基板のラビング装置によれば、上記パレットは、上記基板と上記ラビングローラとの相対的な進行方向に平行な線上であって、上記ラビングローラが最初に当接する基板の角部を通過する線上に、２列目以降の基板の表示領域が位置しないよう、２列目以降の上記基板着座部を形成したことを特徴とする。
【００１５】
本発明の基板のラビング装置によれば、上記基板と上記ラビングローラとの相対的な進行方向に平行な線上であって、上記ラビングローラが最初に当接する基板の角部を通過する線上に、２列目以降の基板の表示領域が位置しないよう、２列目以降の上記基板着座部を形成したパレットを用いることにより、２列目以降の基板にクロスの乱れによるスジが転写せず、高歩留まり、かつ低コストで基板にラビング処理を行うことができるという効果を有する。
【００１６】
本発明に係る、基板のラビング装置に用いるパレットの一つの態様としては、基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施すための基板載置用パレットであって、複数の基板を載置する複数列、複数行の基板着座部を有し、２列目以降の上記基板着座部は、上記所定の角度に応じて列方向の位置が相互でずれていることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明に係るパレットによれば、基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施すための基板載置用パレットであって、上記基板を載置する着座面を有する基板着座部と、この基板着座部に載置した上記基板のラビング方向に対する移動を規制する第１の係止部と、上記基板着座部に載置した上記基板のラビング方向と交差する方向の移動を規制する第２の係止部とを具備し、上記基板着座部は、上記第１の係止部により複数列形成され、上記第２の係止部により複数行形成されており、２列目以降の上記基板着座部が、上記基板とラビングローラとの相対的な進行方向に平行な線上であって、上記ラビングローラが最初に当接する基板の角部を通過する線上に、２列目以降の基板の表示領域が位置しないよう形成されていることを特徴とする。
【００１８】
本発明のパレットによれば、基板を載置する２列目以降の基板着座部は、基板とラビングローラとの相対的な進行方向に平行な線上であって、上記ラビングローラが最初に当接する上記基板の角部を通過する線上に、２列目以降の基板の表示領域が位置しないよう形成されているので、複数個の上記基板を同時にラビング処理しても、２列目以降の上記基板に、クロスの乱れによるスジが転写することがないという効果を有する。
【００１９】
さらに、本発明によるパレットは、上記複数行の基板着座部は、上記ラビングローラに最初に当接する上記基板の角部に起因して生ずる上記ローラ面の乱れによって、上記基板の表示領域に直線状のスジが転写するのを回避するために、上記スジの軌跡上からずらした位置に形成されていることを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、基板を載置する複数行の基板着座部は、上記ラビングローラに最初に当接する上記基板の角部に起因して生ずる上記ローラ面の乱れによって、上記基板の表示領域に直線状のスジが転写するのを回避するために、上記スジの軌跡上からずらした位置に形成されているので、上記ラビングローラ周面のクロスの乱れが、上記基板の表示領域に直線状のスジとして転写することを回避することができ、ラビング処理後の上記基板をプロジェクタ等の投影機に用いた際、投影された画面にクロスの乱れが１本のスジとして写し出されることを防ぐことができるという効果を有する。
【００２１】
また、本発明によるパレットは、上記複数列の基板着座部は、上記ラビングローラに最初に当接する１列目の基板の角部に起因して生ずる上記ローラ面の乱れによって、上記基板の表示領域に直線状のスジが転写するのを回避するために、２列目以降の基板着座部が、上記スジの軌跡上からずらした位置に形成されていることを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、基板を載置する複数列の基板着座部は、ラビング処理の際、ラビングローラに最初に当接する１列目の基板の角部に起因する上記ラビングローラ周面のクロスの乱れが、２列目以降の基板の表示領域に直線状のスジとして転写することを回避するよう形成されていることにより、ラビング処理後のパレットの２列目以降の基板着座部に載置した上記基板をプロジェクタ等の投影機に用いた際、投影された画面にクロスの乱れが１本のスジとして写し出されることを防ぐことができるという効果を有する。
【００２３】
さらに、本発明によるパレットは、上記基板を上記ラビングローラに当接させる所定の角度は、上記ラビングローラに最初に当接する１列目の上記基板の角部に起因する上記ラビングローラ面のクロスの乱れが、１列目の上記基板着座部に載置した基板の表示領域に直線状のスジとして転写することを回避する角度であることを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、パレット上に載置した基板をラビングローラに所定の角度で当接させることにより、上記ラビングローラ周面のクロスの乱れが、１列目の上記基板着座部に載置した上記基板の表示領域に直線状のスジとして転写することを回避することができ、ラビング処理後の上記パレットの１列目の上記基板着座部に載置した上記基板をプロジェクタ等の投影機に用いた際、投影された画面にクロスの乱れが１本のスジとして写し出されることを防ぐことができるという効果を有する。
【００２５】
また、本発明によるパレットは、上記基板着座部の着座面に真空吸引用の孔を有し、載置した基板を真空吸引により着座面に保持することを特徴とする。
【００２６】
この構成によれば、基板を基板着座部の着座面に真空吸着により固定するので、基板を十分安定した状態で、ラビング処理を行うことができるという効果を有する。
【００２７】
さらに、本発明によるパレットは、上記第１の係止部及び上記第２の係止部は、基板着座部の着座面に載置した上記基板の表面よりも低い位置で上記基板の移動を規制していることを特徴とする。
【００２８】
この構成によれば、基板着座部の着座面に載置した基板の移動を、上記基板の表面よりも低い位置で、第１の係止部及び第２の係止部が上記基板の移動を規制するので、ラビング処理の際、ラビングローラが上記第１の係止部及び上記第２の係止部に当接することにより発生する上記ラビングローラ周面のクロスの乱れを防ぐことができるという効果を有する。
【００２９】
本発明による基板のラビング方法の一つの態様としては、基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度傾斜させてパレット上に載置して基板上の配向膜にラビング処理を施す基板のラビング方法において、上記ラビングローラに最初に当接する１列目の基板の角部に起因して生ずる上記ラビングローラ当接面のクロスの乱れによって、上記基板の表示領域に直線状のスジが転写するのを回避するために、２列目以降の基板を上記スジの軌跡上から回避するよう２列目以降が形成された複数列の上記基板着座部を有する上記パレットにそれぞれ上記基板を真空吸着により載置する工程と、上記基板着座部に載置された基板を有する上記パレットを、上記所定の角度傾けて上記ラビングローラに向けて移送し、上記基板を上記ラビングローラに当接させる工程とを具備したことを特徴とする。
【００３０】
本発明の基板のラビング方法によれば、ラビングローラに最初に当接する基板の角部に起因する上記ラビングローラ周面のクロスの乱れに基づいて、基板の表示領域に直線状のスジが転写することを回避したパレットを用いてラビングを行うので、ラビング処理後の上記基板をプロジェクタ等の投影機に用いた際、投影された画面にクロスの乱れが１本のスジとして写し出されることを防ぐことができるという効果を有する。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の一実施の形態であるラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、図２は、図１のラビング装置に用いるパレットを拡大して示した平面図、図３は、図２のパレットの基板着座部の拡大斜視図、図４は、図２のパレットの基板着座部に基板を載置した状態を示した拡大斜視図、図５は、図１のラビング装置に用いるパレットの基板着座部を、所定の角度に沿って順次ずらした状態を示す概略線図、図６は、本発明のパレットの作用を説明するためのラビング装置の概略平面図である。
【００３２】
図１に示すように、ラビング装置１は、基台４の上面４ａ（以下、基準平面と称す）に固定されたラビングローラ２と、ラビング処理時に基板３を載置して上記基準平面４ａ上を移動するパレット５と、このパレット５に載置した基板３上の配向膜がラビングローラ２の周面２ｂに当接するように、パレット５を上記基準平面上でガイドするガイド６と、ラビングローラ２の回転軸２ｃに回転駆動力を供給するモータ７とで、その主要部が構成されている。
【００３３】
上記ラビングローラ２は、布等のクロス材で形成されたローラ周面２ｂを有するローラ部２ａと、回転軸２ｃと、一対の軸受け２ｄとで、その主要部が構成されており、回転軸２ｃは、一対の軸受け２ｄにより基準平面４ａに平行な平面上に回転自在に軸支されている。一対の軸受け２ｄは、基準平面４ａに対し図示しない高さ調節機構を有しており、ローラ２の高さを任意に調節できるようになっている。
【００３４】
このように構成されたラビングローラ２は、軸受け２ｄで支持された回転軸２ｃを介してモータ７により回転力が供給されることにより、ローラ部２ａの周面２ｂが一方向に回転しながら基板３の表面３ｂ（図４参照）に形成された配向膜に当接し、基板３の配向膜表面に細かい溝を形成して前記配向膜を配向異方性の膜にするものである。
【００３５】
上記パレット５は、ラビング処理時に、パレット５上に複数個形成された基板着座部１０の着座面１０ａ（図２参照）に複数個の基板３を載置して、上記基準平面４ａ上でガイド６により移動し、このパレット５に載置した複数個の基板３をラビングローラ２に当接させるものである。
【００３６】
上記ガイド６は、パレット角調節機構６ａを有し、このパレット角調節機構６ａは、ラビング処理時に、ガイド６がガイドするパレット５に載置した上記基板を、上記基板と上記ラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度θ（例えば３°叉は４°）を以って上記ラビングローラに当接させるよう、上記所定の角度を設定し、パレットを所定角度に固定するものである。
【００３７】
次に、このように構成されたラビング装置１に用いるパレット５の構成について図２の平面図、及び図３、図４の斜視図を用いて説明する。
【００３８】
図２に示すように、パレット５は、アルミニウム等の金属で構成されており、基板３を載置する着座面１０ａを有する複数の、例えば縦３列横４行からなる計１２個の基板着座部１０と、この基板着座部１０のそれぞれの着座面１０ａのほぼ中央に穿設され、図示しない真空装置の真空吸着により、載置した基板３を保持する真空吸引用の孔１１と、ラビング処理時、基板着座部１０の着座面１０ａに載置した基板３のラビング方向（以下、基板の長手方向と称す）１５に対する移動を規制する第１の係止部１２と、ラビング処理時、基板着座部１０の着座面１０ａに載置した基板３のラビング方向１５に交差する方向（以下、基板の幅方向と称す）に対する移動を規制する第２の係止部１３とで構成されている。
【００３９】
尚、基板着座部１０、第１の係止部１２、第２の係止部１３は、パレット５と同一金属で一体形成されている。
【００４０】
上記基板着座部１０は、パレット５の上面に基板の幅方向に突設された複数本の凸条で形成された第１の係止部１２により複数列、例えば３列形成され、また、パレット５の上面に基板の長手方向に突設された複数本のピンで形成された第２の係止部１３により複数行、例えば４行形成されている。また、基板着座部１０における上記複数列は、２列目は、基板着座部の１列目よりも、基板３の幅方向の上側に形成されており、３列目は、２列目よりも、基板３の幅方向の上側に形成されている。即ち、基板３をローラ２に対して所定の角度を以って当接させるその所定の角度に沿って、基板着座部１０が、列方向の位置で相互にずれて形成されている。
【００４１】
上記第１の係止部１２及び上記第２の係止部１３は、図３及び図４に示すように、基板着座部１０の着座面１０ａに載置した基板３の表面３ｂ（図４参照）よりも、低い位置で上述した各方向に対する基板３の移動を規制している。これは、ラビング処理時、ラビングローラ２が第１の係止部１２及び第２の係止部１３に当接することにより発生する、ラビングローラ２のローラ周面２ｂのクロスの乱れを防ぐためである。
【００４２】
続いて、このように構成されたパレット５の基板着座部１０の形成方法について図５、図６を用いて説明する。
【００４３】
ラビング処理は、上述したように、上記基板を、上記基板と上記ラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の水平叉は垂直方向を所定の角度θ（例えば３°叉は４°）を以って周面がクロスで構成された上記ラビングローラに当接させるのが一般的である。ここで、所定の角度θは、ラビングローラ２に最初に当接する１列目の各基板３の角部３ａに起因する上記ラビングローラ周面２ｂのクロスの乱れが、１列目の上記基板３の基板着座部１０の着座面１０ａに載置した上記基板３の表示領域へ直線状のスジとして転写することを回避する角度であることが必要であり、その角度はθ＝１°〜５°であることが判明している。これは、上記角度θを５°以上に設定すると、ラビングローラ２に最初に当接する１列目の上記基板３の角部３ａに起因する上記ラビングローラ周面２ｂのクロスの乱れが、１列目の上記基板３の基板着座部１０の着座面１０ａに載置した上記基板３の表示領域へ直線状のスジとして転写してしまうためである。
【００４４】
このように、上記角度θを決定してラビング処理を行った場合、前述した図９に示すように、従来のパレットにおける基板着座部の形成方法では、ラビングローラに、パレットに載置した基板の最初に当接する１列目の基板の角部により、上記ラビングローラの周面に発生するクロスの乱れが、２列目以降の上記基板の表示領域へ直線状のスジとして転写してしまうといった問題があった。
【００４５】
そこで、図５に示すように、ラビングローラ２が、パレット５に載置した基板３の最初に当接する１列目の基板の角部３ａにより、上記ラビングローラ２の周面２ｂに発生したクロスの乱れが、２列目以降の上記基板３の表示領域へ直線状のスジ５０として転写してしまわないよう、２列目以降の基板３を載置する着座部１０を、順次基板の幅方向にずらし、スジ５０を回避する位置に形成する。即ち、上記パレット５は、上記基板３と上記ラビングローラ２との相対的な進行方向に平行な線上であって、上記ラビングローラ２が最初に当接する基板３の角部３ａを通過する線上に、２列目以降の基板３の表示領域が位置しないよう、２列目以降の上記基板着座部１０を形成する。
【００４６】
詳しくは、図６に示すように、１行目の基板着座部１０に対して２列目以降を、角部３ａにより発生するスジ５１よりも基板３の幅方向の上側に形成し、２行目の基板着座部１０に対する２列目以降を、角部３ａにより発生するスジ５２よりも基板３の幅方向の上方であって、スジ５１よりも基板３の幅方向下側に形成し、３行目の基板着座部１０の２列目以降を、角部３ａにより発生するスジ５３よりも基板３の幅方向の上方であって、スジ５２よりも基板３の幅方向下側に形成し、４行目の基板着座部１０の２列目以降を、角部３ａにより発生するスジ５４よりも基板３の幅方向の上方であって、スジ５３よりも基板３の幅方向下側に形成する。尚、上記スジ５１〜５４は、詳しくはラビングローラ２に、パレット５に載置した基板３の最初に当接する１列目の角部３ａにより、上記ラビングローラ２の周面２ｂに発生したクロスの乱れが、２列目以降の上記基板３の表示領域へ転写する直線状のスジのことである。また、上述した２列目以降の基板着座部１０の形成位置は、基板３をラビングローラ２に当接させる上記所定の角度θによって変化する。
【００４７】
このように本発明の一実施の形態を示す基板のラビング装置とそれに用いるパレット及びラビング方法においては、ラビング処理時、ラビングローラ２が、パレット５に載置した基板３の最初に当接する１列目の角部３ａにより、上記ラビングローラ２の周面２ｂに発生したクロスの乱れが、２列目以降の上記基板３の表示領域へ転写する直線状のスジ５１〜５４を、パレット５上の基板３以外の位置に転写させることができる。
【００４８】
よって、パレット５に載置した基板３にラビング処理を行う際、基板３を高歩留まりでラビング処理を行うことが出来、また、ラビングローラ２に基板３が当接する、上記所定の角度θを変更しても、既存の生産ラインを変更することなくパレット５をそれぞれの角度に対応したものに変更するだけで、上述した基板の表示領域に転写するスジを防止することができるため、低コストでラビング処理を行うことができる。
【００４９】
尚、本実施形態においては、上述したラビング装置１に用いるパレット５は、金属製のアルミニウムで形成したが、基板３を載置して行う各工程における所定の処理に耐えうるものであれば、どのような材質のものであっても構わない。
【００５０】
また、上述したラビング装置１に用いるパレット５に形成される上記基板着座部１０は、第１の係止部１２により複数列、例えば３列形成され、第２の係止部１３により複数行、例えば４行形成されたものとしたが、これに限らず、図７に示すように、ラビングローラ２の周面２ｂに当接できる範囲であれば、パレット７０に基板着座部６０を１列に形成しても、また、図８に示すように、パレット８０に基板着座部６５を１個のみ形成しても、さらに、何行何列形成しても本実施の形態と同様の効果が得られることは云うまでもない。
【００５１】
さらに、基板着座部１０、第１の係止部１２、第２の係止部１３は、パレット５と同一金属で一体形成するようにしたが、パレット５は別体に形成しても良い。
【００５２】
また、上記実施形態は、固定したラビングローラ２に、パレット５に載置した基板３を移動させ当接させることにより、ラビング処理を行うとしたが、固定したパレット５に載置した基板３に、ラビングローラ２を移動させ当接させても良い。
【００５３】
さらに、上記実施形態は、ＴＦＴ基板及びＴＦＴ基板に対向する対向基板を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、ＴＦＤ基板及びＴＦＤ基板に対向して形成される基板に適用しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態であるラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、
【図２】図１のラビング装置に用いるパレットの拡大平面図、
【図３】図２のパレットの基板着座部を示した拡大斜視図、
【図４】図２のパレットの基板着座部に基板を載置した状態を示した拡大斜視図、
【図５】図１のラビング装置に用いるパレットの基板着座部の形成方法を示したラビング装置の要部概略線図、
【図６】パレットに基板着座部をずらすことによって形成したラビング装置の要部概略線図、
【図７】本発明の一実施の形態であるラビング装置の変形例を示した要部概略平面図、
【図８】本発明の一実施の形態であるラビング装置の他の変形例を示した要部概略平面図、
【図９】従来のラビング装置の一例を示す要部概略平面図。
【符号の説明】
１…ラビング装置
２，１００…ラビングローラ
２ｂ，１００ａ…ラビングローラ周面
３，１２０…基板
３ａ，１２０ａ…基板の角部
５，７０，８０，１１０…パレット
１０，６０，６５，１１５…基板着座部
１０ａ…基板着座面
１１…真空吸引用の孔
１２…第１の係止部
１３…第２の係止部
５０，５１，５２，５３，５４，１３０…直線状のスジ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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