(57)【要約】【課題】パーティクルの発生がなく、大口径で而も構造が簡潔なゲートバルブを具備する基板処理装置を提供する。【解決手段】開口部３７ａを気密に閉塞するゲートバルブ２５を具備する基板処理装置に於いて、前記ゲートバルブが開口面に対して移動可能な弁ユニット７６を有し、該弁ユニットはバックアッププレート７８と、該バックアッププレートに対して近接離反可能な弁体７９と、該弁体と前記バックアッププレート間に気密に設けられたベローズ８９と、該ベローズ内部に形成された背圧室８０とを有し、該背圧室に圧力流体を供給可能とした。【選択図】        図５
2004225878.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を気密に閉塞するゲートバルブを具備する基板処理装置に於いて、前記ゲートバルブが開口面に対して移動可能な弁ユニットを有し、該弁ユニットはバックアッププレートと、該バックアッププレートに対して近接離反可能な弁体と、該弁体と前記バックアッププレート間に気密に設けられたベローズと、該ベローズ内部に形成された背圧室とを有し、該背圧室に圧力流体を供給可能としたことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンウェーハ、ガラス基板等の基板に薄膜を生成し、或は不純物の拡散、エッチング等の処理を行う基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
基板処理装置の１つに、処理炉に連設される気密室（ロードロック室）を具備するものがあり、該ロードロック室を介して基板を処理炉に装入、払出しすることで基板の自然酸化、パーティクルの付着を防止しているものがある。
【０００３】
斯かる基板処理装置に於いては、ロードロック室への基板の出入れはゲートバルブによって開閉される開口部を介して行われる。斯かるゲートバルブとして、例えば特許文献１に示されるものがある。
【０００４】
図１０により略述する。
【０００５】
処理室Ｃと搬送室Ｔ間に枠体１が設けられ、該枠体１内部に基体２が昇降可能に収納され、該基体２には弁体３が水平方向に出入り自在に嵌合されている。前記基体２は後述するロッド７の上端に固着されている。
【０００６】
前記枠体１の下端よりスリーブ４が垂設され、該スリーブ４に同心に中空のシリンダガイド５が設けられている。該シリンダガイド５と前記スリーブ４との間には筒状の空間が形成されると共に該空間の下端は気密に閉塞されている。
【０００７】
前記シリンダガイド５の下端には昇降駆動機構６が設けられ、該昇降駆動機構６は上方に延出し昇降される前記ロッド７を有し、該ロッド７は前記シリンダガイド５に摺動自在に嵌合され、上述した様に前記ロッド７は前記基体２に固着されている。
【０００８】
前記シリンダガイド５と前記スリーブ４との間には金属製のベローズ８が嵌設され、該ベローズ８の上端は前記基体２に気密に固着され、前記ベローズ８の下端は前記シリンダガイド５の下端に気密に固着されている。又、前記ベローズ８は所要間隔でリング９を有し、該リング９は前記シリンダガイド５に摺動自在に外嵌し、前記ベローズ８は前記シリンダガイド５によりガイドされて伸縮する様になっている。
【０００９】
前記基体２の背面には弁圧室１１が形成され、該弁圧室１１には前記ロッド７に形成された給排気路１２が連通し、該給排気路１２は前記ロッド７と前記シリンダガイド５間に形成された隙間１３、配管１５を介してソレノイドバルブ１４に接続され、該ソレノイドバルブ１４は真空源、大気、加圧源と前記配管１５を介して択一的に接続される様になっている。
【００１０】
上記したゲートバルブに於いて、開口部１６を閉塞する場合、前記昇降駆動機構６を駆動し、前記ロッド７を介して前記弁体３を前記開口部１６と対峙する位置迄上昇させ、前記ソレノイドバルブ１４により配管１５と加圧源とを連通させ、前記給排気路１２を介して前記弁圧室１１に加圧気体を供給し、前記弁体３により前記開口部１６を閉塞する。
【００１１】
又、前記ソレノイドバルブ１４を切替え、前記弁圧室１１内の気体を放出し、更に前記配管１５を真空源に連通し、前記弁圧室１１を真空引することで前記弁体３が前記開口部１６を開放する。前記昇降駆動機構６より前記ロッド７を介して前記基体２を降下させることで、前記開口部１６は完全に解放される。
【００１２】
【特許文献１】
特開２００１−３５５７４５号公報
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
上記した従来のゲート弁に於いて、前記基体２と前記弁体３の摺動部、或は前記スリーブ４に摺接する可能性がある前記ベローズ８が前記基板の収納される空間に露出する。又、前記基体２と前記弁体３の摺動部を通し、前記隙間１３を通過した加圧気体が漏出する虞れがある。この為、前記摺動部から或は漏出した気体から前記基板にパーティクルが混入する虞れがある。パーティクルが基板に付着すると、歩留り、製品品質に影響を及すという問題がある。
【００１４】
本発明は斯かる実情に鑑み、パーティクルの発生がなく、大口径で而も構造が簡潔なゲートバルブを具備する基板処理装置を提供するものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、開口部を気密に閉塞するゲートバルブを具備する基板処理装置に於いて、前記ゲートバルブが開口面に対して移動可能な弁ユニットを有し、該弁ユニットはバックアッププレートと、該バックアッププレートに対して近接離反可能な弁体と、該弁体と前記バックアッププレート間に気密に設けられたベローズと、該ベローズ内部に形成された背圧室とを有し、該背圧室に圧力流体を供給可能とした基板処理装置に係るものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
【００１７】
図１〜図３に於いて、基板処理装置の１つである縦型処理炉を具備する基板処理装置について説明する。
【００１８】
基板処理装置は、基板搬送容器授受部２１、該基板搬送容器授受部２１に気密に連設される基板搬送部２２、該基板搬送部２２に気密に連結される基板処理部２３により主に構成され、前記基板搬送容器授受部２１と前記基板搬送部２２間には大気ゲートバルブ２４が設けられ、前記基板搬送部２２と基板処理部２３間には真空ゲートバルブ２５が設けられている。
【００１９】
前記基板搬送容器授受部２１について説明する。
【００２０】
基板は、基板搬送容器２７により収納された状態で搬送される様になっており、図示される該基板搬送容器２７は密閉式となっている。筐体２６の前部には前記基板搬送容器２７の授受テーブル２８が設けられており、前記筐体２６の内部には前記授受テーブル２８に対峙して容器搬送装置２９が設けられ、該容器搬送装置２９は昇降、横行、進退（図１中左右方向）可能な移載部３０を有し、後述する容器蓋開閉装置３１或は搬送容器保管棚（図示せず）に前記基板搬送容器２７を搬送可能となっている。前記筐体２６の前記基板搬送部２２側の壁面には前記容器蓋開閉装置３１が設けられ、該容器蓋開閉装置３１は前記容器搬送装置２９により搬送された前記基板搬送容器２７を受載する容器受け台３２を有し、該容器受け台３２に載置された前記基板搬送容器２７の蓋を開閉する様になっている。
【００２１】
前記基板搬送部２２は気密な搬送室３４及び基板移載装置３５を具備し、該基板移載装置３５は前記搬送室３４内で進退、回転するロボットアーム３６を有し、該ロボットアーム３６はウェーハを載置可能となっている。
【００２２】
前記基板処理部２３は前記基板搬送部２２に前記真空ゲートバルブ２５を介して気密に連設する気密室（ロードロック室）３７及び該ロードロック室３７の上側に立設された熱処理炉３８を有し、該熱処理炉３８と前記ロードロック室３７間には前記熱処理炉３８の炉口を開閉する炉口ゲートバルブ３９が設けられている。
【００２３】
前記ロードロック室３７の内部には基板保持具（ボート）４１を前記熱処理炉３８内に装入、引出するボートエレベータ４２が設けられ、該ボートエレベータ４２に載置される前記ボート４１は基板（ウェーハ）４３を水平姿勢で多段に保持するものである。
【００２４】
前記熱処理炉３８について、図３を参照して説明する。
【００２５】
前記ロードロック室３７の上面に炉口フランジ４４が設けられ、該炉口フランジ４４の上端に有天筒状の外管４５が立設され、該外管４５と同心に上端が開放された内管４６が配設され、該内管４６は下端を前記炉口フランジ４４に支持されている。
【００２６】
炉口蓋５３に処理ガス導入ノズル４７が連通され、該処理ガス導入ノズル４７はガス供給ライン５０を介して処理ガス供給源（図示せず）、或は窒素ガス等不活性ガス供給源（図示せず）に接続されている。又、前記炉口フランジ４４の前記内管４６の下端より上方に排気管４８が連通され、該排気管４８は排気装置（図示せず）に接続されている。
【００２７】
前記外管４５と同心に筒状のヒータユニット４９が配設され、該ヒータユニット４９はヒータベース５１に立設されている。
【００２８】
前記ボートエレベータ４２が支持する昇降台５２には前記炉口蓋５３が設けられ、該炉口蓋５３は前記炉口フランジ４４の下端開口部（炉口部）を気密に閉塞する。前記炉口蓋５３の下面にはボート回転装置５４が設けられ、該ボート回転装置５４の回転軸５５が前記炉口蓋５３を気密に貫通している。前記回転軸５５の上端にボート受台５６が設けられ、該ボート受台５６に前記ボート４１が載置される。
【００２９】
前記熱処理炉３８で処理される前記ウェーハ４３の処理状態は主制御部５７によって制御される。該主制御部５７は、炉内の温度を制御する温度制御部５８、処理ガスの流量を制御するガス流量制御部５９、前記外管４５内の圧力を制御する圧力制御部６１、前記ボート回転装置５４を制御する駆動制御部６２を備えている。
【００３０】
前記内管４６と前記外管４５との間には温度検出器６３が設けられ、該温度検出器６３は前記外管４５内の温度を検出し、前記温度制御部５８には温度検出信号が入力される。前記ガス供給ライン５０にガス流量制御器６４が設けられ、前記ガス流量制御部５９により所要のガス流量に制御される。前記排気管４８には圧力検出器６５が設けられ、前記排気管４８は排気ライン６６を介して図示しない排気装置に接続され、前記排気ライン６６には圧力制御弁６７が設けられている。前記圧力検出器６５により排気圧力が検出される圧力検出信号は前記圧力制御部６１に入力され、該圧力制御部６１は前記圧力制御弁６７を制御して前記外管４５内の圧力の制御を行う。
【００３１】
次に、図４〜図６を参照して前記真空ゲートバルブ２５について説明する。
【００３２】
前記ロードロック室３７の前記基板搬送容器授受部２１（図１参照）に対峙する垂直面にバルブベース６８を固着し、該バルブベース６８に上下に延びるリニアガイド６９，６９を設け、該リニアガイド６９にスライダ７１が摺動自在に設けられ、該スライダ７１に昇降ベース７２が水平に取付けられている。前記バルブベース６８の上部の両幅端部に、一対の流体圧シリンダ、例えばエアシリンダ７３，７３が配設され、該エアシリンダ７３の上端は前記バルブベース６８の上端部に連結され、前記エアシリンダ７３の下端部は前記昇降ベース７２に連結されている。前記エアシリンダ７３には図示しない空圧源が電磁切替弁（図示せず）を介して接続され、該電磁切替弁の操作で前記エアシリンダ７３が伸縮する様になっている。
【００３３】
前記バルブベース６８に沿って垂下する弁体収納ボックス７４が前記搬送室３４（図１参照）の下面に気密に取付けられ、該弁体収納ボックス７４は後述する弁体ユニットを収納可能となっている。
【００３４】
前記昇降ベース７２に弁体支持柱７５が垂直に立設され、該弁体支持柱７５は前記弁体収納ボックス７４の底板を遊貫して前記搬送室３４内部迄延出し、前記弁体支持柱７５の上端には弁ユニット７６が取付けられている。前記弁体支持柱７５と同心に金属製のベローズ７７が配設され、該ベローズ７７の下端は前記昇降ベース７２に気密に取付けられ、上端は前記弁体収納ボックス７４の下面に気密に取付けられている。前記弁体支持柱７５は中空であり、鋼製等の弾性材料からなり、前記弁ユニット７６に水平荷重が作用した場合に前記弁体支持柱７５が弾性の範囲で撓む様になっている。即ち、前記弁ユニット７６は前記弁体支持柱７５により水平方向に弾性変位可能に支持されている。
【００３５】
前記弁ユニット７６はバックアッププレート７８、弁体７９を有し、前記バックアッププレート７８が前記弁体支持柱７５の上端に固着されている。
【００３６】
前記バックアッププレート７８に短筒状の弁体ガイド８１が水平方向に突設されている。前記弁体７９は断面が凸字形状であり、該弁体７９の凸部７９ａが前記弁体ガイド８１に摺動自在に内嵌されている。前記凸部７９ａの周囲にはシール部材であるＯリング８２が設けられ、該Ｏリング８２によって前記弁体ガイド８１と前記凸部７９ａとが気密にシールされている。尚、前記凸部７９ａと前記バックアッププレート７８との間には背圧室８０が形成されている。
【００３７】
前記弁体７９には前記凸部７９ａの周囲に沿って所要数の孔８３が穿設され、該孔８３の前記ロードロック室３７側には前記孔８３と同心に座刳穴８４が穿設されている。前記孔８３を貫通するフランジ付ピン８５が前記バックアッププレート７８に螺着され、前記フランジ付ピン８５のフランジ８５ａと前記座刳穴８４の底面との間には復帰スプリング８６が圧縮状態で設けられている。
【００３８】
前記弁体７９の前記ロードロック室３７側には前記座刳穴８４の全てを覆うカバープレート８７が固着され、該カバープレート８７は前記座刳穴８４を気密に閉塞し、前記カバープレート８７の表面は前記弁体７９の表面と面一となっている。
【００３９】
前記ロードロック室３７のゲート口３７ａの周囲に当接するシール部材８８、例えばＯリングが、前記弁体７９の前記ゲート口３７ａに対峙する面に嵌設されている。
【００４０】
金属製のベローズ８９が前記バックアッププレート７８と前記弁体７９間に気密に設けられ、前記ベローズ８９は前記弁体ガイド８１を囲繞し、該弁体ガイド８１の周囲に密閉された空間９１を形成する。
【００４１】
前記弁体支持柱７５を貫通し、前記バックアッププレート７８の内部を通過し、前記背圧室８０に開口する第１流路９２が形成され、前記弁体支持柱７５を貫通し、前記バックアッププレート７８の内部を通過し、前記空間９１に開口する第２流路９３が形成され、前記第１流路９２は前記電磁切替弁（図示せず）を介して前記空圧源（図示せず）に接続され、前記第２流路９３は例えば大気に開放され、常に大気圧となるように接続されたり基板搬送部と同圧になるように接続されたりする。
【００４２】
前記ロードロック室３７にクランク形状をしたバックアップブロック９４を前記ゲート口３７ａの両側に所要箇所（図示では各箇所）固着する。前記バックアップブロック９４は前記弁ユニット７６が昇降する際には該弁ユニット７６に非接触であり、前記弁体７９が前記ゲート口３７ａを閉塞した状態では前記バックアッププレート７８が前記バックアップブロック９４に当接する様になっている。
【００４３】
以下、作用について説明する。
【００４４】
前記基板搬送容器２７が外部搬送装置（図示せず）により前記授受テーブル２８に搬入されると、前記容器搬送装置２９が前記移載部３０を介して前記容器受け台３２に前記基板搬送容器２７を移載する。前記大気ゲートバルブ２４、前記真空ゲートバルブ２５が開放される。
【００４５】
該真空ゲートバルブ２５が開放される状態では前記ボート４１が前記ボートエレベータ４２により降下され、前記炉口ゲートバルブ３９が閉塞され、前記搬送室３４内部と前記ロードロック室３７内部とは大気圧に同圧化されている。
【００４６】
前記容器蓋開閉装置３１により前記基板搬送容器２７の蓋が開けられ、前記ロボットアーム３６が駆動され、前記基板搬送容器２７から未処理前記ウェーハ４３が前記ゲート口３７ａを通して前記ボート４１に移載される。該ボート４１に所定枚数の前記ウェーハ４３が移載される。前記ボート４１への移載枚数が前記基板搬送容器２７の収納枚数より多い場合は、前記容器搬送装置２９により新しい基板搬送容器２７に交換される。
【００４７】
前記ボート４１への前記ウェーハ４３の移載が完了すると、前記真空ゲートバルブ２５により前記ゲート口３７ａが閉塞され、前記ロードロック室３７内が真空引され、更に窒素ガス等の不活性ガスによりガスパージされ、前記ロードロック室３７内部と前記外管４５内部が同圧化され、前記炉口ゲートバルブ３９が開放される。
【００４８】
前記ボートエレベータ４２により、前記ボート４１が前記外管４５内に装入され、前記炉口蓋５３により炉口部（図示せず）が気密に閉塞され、前記ウェーハ４３の処理が行われる。
【００４９】
前記ヒータユニット４９により前記外管４５内部を加熱し、該外管４５内部が所定の処理温度に維持される様、前記温度制御部５８により前記ヒータユニット４９が制御される。前記排気管４８を介して図示しない排気装置により前記外管４５内部が真空状態迄排気され、前記外管４５内部の圧力は前記圧力検出器６５の検出結果に基づき前記圧力制御部６１によって前記圧力制御弁６７を介して制御される。前記駆動制御部６２により前記ボート回転装置５４が駆動され、前記ボート４１が回転されると共に前記処理ガス導入ノズル４７を介して処理ガスが前記外管４５内に導入される。処理ガスの導入量は前記ガス流量制御器６４を介し、前記ガス流量制御部５９によって制御される。
【００５０】
尚、ウェーハの処理の一例として、ウェーハの成膜を行う場合は、ウェーハ温度５３０℃、処理ガスはＳｉＨ４  及びＰＨ３  ／Ｈｅ、各ガス流量は８０（ｓｃｃｍ）及び１０（ｓｃｃｍ）、処理圧力は２００Ｐａである。
【００５１】
前記ウェーハ４３の処理が完了すると、前記ボート回転装置５４が停止され、前記外管４５内が窒素ガス等の不活性ガスによりガスパージされ、前記ロードロック室３７内部と同圧化され、前記ボートエレベータ４２により前記ボート４１が前記ロードロック室３７内部に降下される。前記炉口ゲートバルブ３９が閉塞され、前記ボート４１の前記ウェーハ４３が前記ロボットアーム３６により払出され、空の前記基板搬送容器２７に移載される。尚、処理後の前記ウェーハ４３の移載作動については、上述した処理前の移載作動の逆の手順によって行われる。
【００５２】
次に、図５，図７〜図９を参照して前記真空ゲートバルブ２５の作動について詳述する。
【００５３】
図７は、該真空ゲートバルブ２５の開放状態を示しており、前記弁ユニット７６が降下し、前記弁体収納ボックス７４に収納されている。前記背圧室８０には圧縮空気は供給されてなく、前記復帰スプリング８６の反発力で前記弁体７９は前記弁体ガイド８１に当接している。尚、前記凸部７９ａと前記バックアッププレート７８間には上記した様に前記背圧室８０が形成されている。
【００５４】
前記エアシリンダ７３を伸長して前記弁ユニット７６を上昇させ、前記弁体７９を前記ゲート口３７ａに対峙させる。この状態では前記弁体７９は前記ロードロック室３７に当接してなく、前記バックアッププレート７８とバックアップブロック９４とも当接していない（図８参照）。
【００５５】
図示しない電磁切替弁が操作され、前記第１流路９２と空圧源が連通され、前記第１流路９２を通して圧縮空気が前記背圧室８０に供給される。該背圧室８０の圧力が上昇することで、前記弁体７９に背圧が作用し、前記バックアッププレート７８に対して離反する。前記弁体７９が前記バックアッププレート７８に対して離反することで、前記弁体７９が前記ロードロック室３７に当接し、前記弁体７９の変位が拘束される。更に、背圧が上昇することで、前記弁体支持柱７５が水平方向に撓み、前記バックアッププレート７８は前記ロードロック室３７に対して離反方向に変位し、前記バックアップブロック９４に当接する。更に、該バックアップブロック９４が反力受けとなって、前記弁体７９は前記ロードロック室３７に押圧される。前記弁体７９と前記ロードロック室３７間は前記シール部材８８によって気密にシールされ、前記ゲート口３７ａは気密に閉塞される（図９参照）。
【００５６】
而して、前記背圧室８０に供給する圧縮空気の圧力を調整することで、前記弁体７９と前記ロードロック室３７間の押圧力を調整することができる。
【００５７】
前記ゲート口３７ａを開放する場合は、前記電磁切替弁が操作され、前記第１流路９２が例えば大気に開放され、常に大気圧となるように接続されたり、基板搬送部と同圧となるように接続されたりする。背圧が低下し、前記復帰スプリング８６の反発力で前記弁体７９が前記バックアッププレート７８に近接し、前記弁体７９が前記ロードロック室３７から離反すると共に前記弁体支持柱７５の弾性で該弁体支持柱７５の撓みが無くなり、前記バックアッププレート７８が前記バックアップブロック９４から離反する。
【００５８】
又、前記空間９１は前記第２流路９３を介して例えば大気に開放され、常に大気圧となるように接続されたり、基板搬送部と同圧となるように接続されたりするので、前記弁体７９の動作に支障はない。
【００５９】
前記真空ゲートバルブ２５が開放される場合は、前記エアシリンダ７３が短縮される。前記弁ユニット７６が降下し、前記弁体収納ボックス７４に収納され、前記ゲート口３７ａが開放される。
【００６０】
上記した様に、前記弁ユニット７６の昇降動で摺動する部分はなく、又前記凸部７９ａと前記弁体ガイド８１とは前記ベローズ８９により覆われているので、摺動部分から発生するパーティクルは前記搬送室３４内、前記ロードロック室３７内に飛散することはなく、前記真空ゲートバルブ２５の開閉動作で、前記搬送室３４内、前記ロードロック室３７内の清浄雰囲気を損うことがない。
【００６１】
又、前記弁ユニット７６は前記搬送室３４外の前記弁体収納ボックス７４に収納されるので、前記ゲート口３７ａを大口径とすることができる。
【００６２】
尚、上記実施の形態では、前記空間９１を前記第２流路９３を介して大気と連通させたが、前記弁体ガイド８１に通孔等を穿設し、前記背圧室８０と前記空間９１とを連通させてもよい。その際は、前記第２流路９３は省略してもよい。又、前記背圧室８０にガイドピンを立設し、前記弁体７９に摺動自在に嵌合してもよい。更に、前記ベローズ８９の軸心と直交する方向の変位が少ない場合は、前記弁体ガイド８１を省略できる。この場合、前記ベローズ８９で囲繞される空間が背圧室となる。又、上記実施の形態では、真空ゲートバルブとしたが、必ずしも真空下での使用でなければならないことはなく、例えば、大気圧下や過加圧下の使用でも可能であり、使用する圧力に範囲はない。
【００６３】
又、上記実施の形態では、前記弁ユニット７６を開口面と平行の上下方向に移動させたが、前記弁体収納ボックス７４を前記搬送室３４の側方等に設け、前記弁ユニット７６を水平方向等、開口面と平行に移動させる様にしてもよい。又、開口面に対し、徐々に離れるように上下水平方向に移動させてもよい。
【００６４】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、開口部を気密に閉塞するゲートバルブを具備する基板処理装置に於いて、前記ゲートバルブが開口面に対して移動可能な弁ユニットを有し、該弁ユニットはバックアッププレートと、該バックアッププレートに対して近接離反可能な弁体と、該弁体と前記バックアッププレート間に気密に設けられたベローズと、該ベローズ内部に形成された背圧室とを有し、該背圧室に圧力流体を供給可能としたので、前記弁ユニットの前記弁体を支持する機構が前記ベローズ内に収納され、パーティクル飛散が防止され、処理室内の清浄雰囲気を損うことがなく、製品品質の向上が図れるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の全体を示す側面概略図である。
【図２】本発明の実施の形態の全体を示す平面概略図である。
【図３】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図４】本発明の実施の形態の要部を示す斜視図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ矢視図である。
【図６】図４のＣ−Ｃ矢視図である。
【図７】本発明の実施の形態に於ける真空ゲートバルブの作動を示す説明図である。
【図８】本発明の実施の形態に於ける真空ゲートバルブの作動を示す説明図である。
【図９】本発明の実施の形態に於ける真空ゲートバルブの作動を示す説明図である。
【図１０】従来例の断面図である。
【符号の説明】
２１        基板搬送容器授受部
２２        基板搬送部
２３        基板処理部
２５        真空ゲートバルブ
３４        搬送室
３５        基板移載装置
３６        ロボットアーム
３７        ロードロック室
３７ａ      ゲート口
７４        弁体収納ボックス
７５        弁体支持柱
７６        弁ユニット
７８        バックアッププレート
７９        弁体
８０        背圧室
８１        弁体ガイド
８６        復帰スプリング
８８        シール部材
８９        ベローズ
９１        空間
９２        第１流路
９４        バックアップブロック
【図１】
2004225878.tif 000003
【図２】
2004225878.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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