(57)【要約】【課題】小型化、信頼性、高速性、光学特性に優れ、多チャンネル化にも対応できる光スイッチなどの光素子とその作製方法を提供する。【解決手段】光スイッチは可動光ファイバ１と、この可動光ファイバ１の先端に選択的に対応する２本の固定光ファイバ２を備え、固定光ファイバ２は支持プレート３のＶ溝内に固定されている。そして、前記可動光ファイバ１の外周面の一部には駆動層４が直接形成されている。この駆動層４は銅などの電極層４ａ、ＰＺＴなどの圧電体層４ｂ、銅などの電極層４ｃを径方向にエアロゾルデポジション法にて順次積層されている。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動光ファイバと、この可動光ファイバの先端に選択的に対応する複数の固定光ファイバとを備えた光スイッチにおいて、前記可動光ファイバの長手方向の所定領域の表面には、電極層、圧電体層、電極層を径方向に順次積層した駆動層が直接形成されていることを特徴とする光スイッチ。
【請求項２】
可動光ファイバと、この可動光ファイバの先端に選択的に対応する複数の固定光ファイバとを備えた光スイッチにおいて、前記可動光ファイバの長手方向の所定領域の表面には、電極層、圧電体層、電極層が長手方向に連続した駆動層が直接形成されていることを特徴とする光スイッチ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の光スイッチにおいて、前記電極層は駆動層に連続した状態で駆動層から離間した位置まで延長されていることを特徴とする光スイッチ。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の光スイッチにおいて、前記電極層は多結晶であり、前記圧電体層を構成する結晶は実質的に結晶配向性がなく、また前記結晶同士の界面にはガラス層からなる粒界層が実質的に存在しないことを特徴とする光スイッチ。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４に記載の光スイッチにおいて、前記駆動層の厚みは５μｍ以上であることを特徴とする光スイッチ。
【請求項６】
伸縮又は曲がることで反射もしくは透過波長を可変するグレーティング部を光ファイバー内に備えた波長可変素子において、前記グレーティング部に対応する光ファイバの外周には、電極層、圧電体層、電極層を径方向に順次積層した駆動層が直接形成されていることを特徴とする波長可変素子。
【請求項７】
伸縮又は曲がることで反射もしくは透過波長を可変するグレーティング部を光ファイバー内に備えた波長可変素子において、前記グレーティング部に対応する光ファイバの外周には、電極層、圧電体層、電極層が長手方向に連続した駆動層が直接形成されていることを特徴とする波長可変素子。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載の波長可変素子において、前記圧電体層は多結晶であり、前記圧電体層を構成する結晶は実質的に結晶配向性がなく、また前記結晶同士の界面にはガラス層からなる粒界層が実質的に存在しないことを特徴とする波長可変素子。
【請求項９】
請求項６または請求項７に記載の波長可変素子において、前記電極層は駆動層に連続した状態で駆動層から離間した位置まで延長されていることを特徴とする波長可変素子。
【請求項１０】
請求項６乃至請求項９に記載の波長可変素子において、前記駆動層の厚みは５μｍ以上であることを特徴とする波長可変素子。
【請求項１１】
先端部が対向する一対の光ファイバの先端部をずらすことで一方の光ファイバから他方の光ファイバへの伝達光量を可変とした光可変減衰素子において、前記一対の光ファイバの一方の光ファイバの長手方向の所定領域の表面には、電極層、圧電体層、電極層を径方向に順次積層した駆動層が直接形成されていることを特徴とする光可変減衰素子。
【請求項１２】
先端部が対向する一対の光ファイバの先端部をずらすことで一方の光ファイバから他方の光ファイバへの伝達光量を可変とした光可変減衰素子において、前記一対の光ファイバの一方の光ファイバの長手方向の所定領域の表面には、電極層、圧電体層、電極層が長手方向に連続した駆動層が直接形成されていることを特徴とする光可変減衰素子。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２に記載の光可変減衰素子において、前記圧電体層は多結晶であり、前記圧電体層を構成する結晶は実質的に結晶配向性がなく、また前記結晶同士の界面にはガラス層からなる粒界層が実質的に存在しないことを特徴とする光可変減衰素子。
【請求項１４】
請求項１１または請求項１２に記載の光可変減衰素子において、前記電極層は駆動層に連続した状態で駆動層から離間した位置まで延長されていることを特徴とする光可変減衰素子。
【請求項１５】
請求項１１乃至請求項１４に記載の光可変減衰素子において、前記駆動層の厚みは５μｍ以上であることを特徴とする光可変減衰素子。
【請求項１６】
光ファイバの表面に電極層を形成し、次いで、圧電体微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを前記電極層に向けて吹き付けて、圧電体微粒子が接合してなる圧電体層を形成し、次いで、この圧電体層の表面に電極層を形成することを特徴とする光素子の作製方法。
【請求項１７】
光ファイバの表面に圧電体微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを吹き付けて、圧電体微粒子が接合してなる圧電体層を形成し、次いで、この圧電体層の長手方向の端面に電極層を形成することを特徴とする光素子の作製方法。
【請求項１８】
光ファイバの表面の長手方向に離間した位置に電極層を形成し、次いで電極層に挟まれた光ファイバの表面に圧電体微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを吹き付けて、圧電体微粒子が接合してなる圧電体層を形成することを特徴とする光素子の作製方法。
【請求項１９】
請求項１６乃至請求項１８に記載の光素子の作製方法において、前記電極層の形成は、金属微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを光ファイバの表面に向けて吹き付けて金属微粒子材料を接合する方法、蒸着による方法または塗布による方法の何れかとしたことを特徴とする光素子の作製方法。
【請求項２０】
請求項１６乃至請求項１９に記載の光素子の作製方法において、前記圧電体層または電極層を形成する工程が、常温環境下で行われることを特徴とする光素子の作製方法
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光スイッチ、波長可変素子、光可変減衰素子などの光素子とその作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
波長分割多重（ＷＤＭ）ネットワークには、光クロスコネクト（ＯＸＣ）装置や光挿入・分岐・多重（ＯＡＤＭ）装置が多数用いられている。
上記光クロスコネクト（ＯＸＣ）装置や光挿入・分岐・多重（ＯＡＤＭ）装置には光信号を電気信号に変換することなくそのまま光路を切り替える光スイッチ、波長可変素子或いは光可変減衰器などの光素子が組み込まれている。
【０００３】
光素子にはミラー、レンズなどを組み合わせたバルクタイプ、これを半導体加工技術により小型一体化したＭＥＭＳ、更には光ファイバ自体を動かすタイプがある。
【０００４】
光ファイバ自体を曲げたり、伸張・圧縮することで光信号を処理する光素子として、特開平８−２２０４５６号公報、特開平９−９０２５１号公報に開示されるものが知られている。
これらの公報には光スイッチが開示されており、具体的には、可動光ファイバとこの可動光ファイバに選択的に対応する複数の固定光ファイバとを備え、前記可動光ファイバに磁性体を取付け、この磁性体を取付けた可動光ファイバの周囲にソレノイドコイルを配置し、更にソレノイドコイルの外側に永久磁石を配置した構成となっている。そして、前記ソレノイドコイルに電流を流すことで可動光ファイバを曲げ、複数の固定光ファイバのうちの所定の固定光ファイバにその先端を一致せしめる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述した光素子のうち光ファイバ自体を動かすタイプのものは、磁性体、ソレノイドコイル、永久磁石等の駆動部材が必要となり、これら駆動部材を配置するためのスペースが大きくなるとともに取付けるための作業が面倒で、小型化、信頼性、コスト面で問題が多い。
【０００６】
特に多チャンネルの光クロスコネクト（ＯＸＣ）装置等に組み込む場合には、複数の可動光ファイバを独立して動かすことが要求されるが、単純に磁性体、ソレノイドコイルおよび永久磁石を用いただけでは、複数の可動光ファイバが同一方向に動いてしまうので、特開平８−２２０４５６号公報に開示されるように、磁性体、ソレノイドコイルおよび永久磁石の組み合わせを２つ以上光ファイバの長さ方向に沿って配置しなければならず、小型化を達成できない。
【０００７】
また、小型化という点では静電気によって光ファイバを駆動する光スイッチも考えられるが、このような静電気によって光ファイバを駆動に十分な駆動力を得ることは難しく、比較的大きな駆動力を発生させるには圧電素子が好適に用いられる。この場合、ＣＶＤなどの蒸着法によって光ファイバの表面に直接圧電体層などを形成することは可能であるが、１〜２μｍ程度の極めて薄い膜しか形成することができず、駆動部材として利用することはできない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく、本発明に係る光素子は光ファイバ表面に、電極層、圧電対層をエアロゾルデポジション法によって直接形成した。
即ち、本発明に係る光スイッチは、可動光ファイバと、この可動光ファイバの先端に選択的に対応する複数の固定光ファイバとを備え、前記可動光ファイバの長手方向の所定領域の表面には、電極層、圧電体層、電極層を径方向に順次積層した駆動層が直接形成された、あるいは、電極層、圧電体層、電極層が長手方向に連続した駆動層が直接形成された構成とした。
【０００９】
前記電極層は駆動層から離れた位置まで連続し延長することが可能である。この場合、電極への配線は光ファイバ上に一体となり形成されており、配線作業を省略することができる。特に、電極層は駆動部から離れ光ファイバーが固定されている部分まで延長されていることが望ましい。このようにすれば、繰り返し駆動による断線や接触不良をなくし、製品の信頼性を高めることができる。また正極、陰極の電極層の延長される長さは異なることが望ましい。このようにすることで、電極層に導通をとる際に短絡をおこしにくくすることができる。
【００１０】
光ファイバを動かすための駆動層としては、５μｍ以上の厚さが必要であり、これ以下では駆動力が不足するおそれがある。このためには、後述するエアロゾルデポジション法によって少なくとも圧電体層を形成することが望ましい。この圧電体層の形成に際しては、エアロゾルデポジション法の加工時間をあまり長くしないために２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下とする。
尚、エアロゾルデポジション法によれば、厚みのみでなく直径寸法も容易にコントロールすることができる。
【００１１】
また、本発明に係る波長可変素子は、伸縮又は曲がることで反射もしくは透過波長を可変するグレーティング部を光ファイバー内に備え、前記グレーティング部に対応する光ファイバの外周には、電極層、圧電体層、電極層を径方向に順次積層した駆動層が直接形成された、あるいは、電極層、圧電体層、電極層が長手方向に連続した駆動層が直接形成された構成とした。この場合も前記駆動層の厚みは５μｍ以上とすることが好ましい。
【００１２】
また、本発明に係る光可変減衰素子は、先端部が対向する一対の光ファイバの先端部をずらすことで一方の光ファイバから他方の光ファイバへの伝達光量を可変とし、前記一対の光ファイバの一方の光ファイバの長手方向の所定領域の表面には、電極層、圧電体層、電極層を径方向に順次積層した駆動層が直接形成された、あるいは、電極層、圧電体層、電極層が長手方向に連続した駆動層が直接形成された構成とした。この場合も前記駆動層の厚みは５μｍ以上とすることが好ましい。
【００１３】
また、本発明に係る光素子の作製方法は、電極層、圧電体層、電極層を径方向に積層する場合、光ファイバの表面に電極層を形成し、次いで、圧電体微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを前記電極層に向けて吹き付けて、圧電体微粒子が接合してなる圧電体層を形成し、次いで、この圧電体層の表面に電極層を形成するようにした。
【００１４】
ここで、上記の作製方法はセラミック微粒子をガス中に分散したエアロゾルを基板に吹き付けて、基板上にセラミックの構造物を形成する方法はエアロゾルデポジション法と呼ばれる。特許第３２６５４８１号、国際出願特許ＷＯ　０１／２７３４８　Ａ１に開示されるものが知られている。このエアロゾルデポジション法は常温で実施する。ここで常温とは、セラミックスの焼成温度に対して十分低い室温付近の温度のことであり、実質的に２００℃以下の温度を言う。
【００１５】
前記圧電体材料としては強誘電性を示すチタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸鉛系材料、チタン酸ジルコン系材料、チタン酸ジルコン酸鉛系材料、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウムなどを用いることができるがこれらに限定されるものではない。
【００１６】
前記圧電体については上記のエアロゾルを用いたエアロゾルデポジション法とするが、電極層については他の方法、例えばＣＶＤや塗布方法によって形成してもよい。エアロゾルデポジション法によれば格子欠陥の少ない圧電体層を形成でき、十分な駆動力を得ることができ、また焼成工程がないため焼成に起因する寸法誤差が生じない。
【００１７】
また、別発明に係る光素子の作製方法は、電極層、圧電体層、電極層を長手方向に積層する場合であり、光ファイバの表面に圧電体微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを吹き付けて、圧電体微粒子が接合してなる圧電体層を形成し、次いで、この圧電体層の長手方向の端面に電極層を形成する、または、光ファイバの表面の長手方向に離間した位置に電極層を形成し、次いで電極層に挟まれた光ファイバの表面に圧電体微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを吹き付けて、圧電体微粒子が接合してなる圧電体層を形成した。
【００１８】
上記光素子の作製において、エアロゾルの吹き付けにより、光ファイバの表面に微細な欠陥が生じ、光ファイバーの耐久性が低下する場合、光ファイバ表面に樹脂または金属の保護層を、エアロゾルデポジション法以外の方法で作製することにより、耐久性を向上させることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基いて説明する。図１は本発明に係る光スイッチを説明した図、図２は同光スイッチを構成する可動光ファイバの拡大図であり、光スイッチは可動光ファイバ１と、この可動光ファイバ１の先端に選択的に対応する２本の固定光ファイバ２を備え、固定光ファイバ２は支持プレート３のＶ溝内に固定されている。
【００２０】
前記可動光ファイバ１の外周面の一部には駆動層４が直接形成されている。この駆動層４は銅などの電極層４ａ、ＰＺＴなどの圧電体層４ｂ、銅などの電極層４ｃを径方向に順次積層した構成となっている。
【００２１】
その作用は、電極層４ａ、４ｂを介して圧電体層４ｂに通電することで、圧電体層４ｂが伸縮し、これにより図１に示すように、一方の固定光ファイバ２の光軸とその光軸が一致していた可動光ファイバ１が曲げられ、想像線で示すように、他方の固定光ファイバ２の光軸とその光軸が一致し、光路の変更つまりスイッチングが行われる。
【００２２】
図３は可動光ファイバ表面に駆動層を作製する装置の概略図、図４（ａ）〜（ｄ）は可動光ファイバ表面に駆動層を作製する手順を説明した図であり、図３において、作製装置４０は窒素ガスボンベ４０１がガス搬送管４０２を介して、サブミクロン粒径の誘電体セラミックス微粒子又は金属微粒子を内蔵するエアロゾル発生器４０３に接続し、エアロゾル搬送管４０４を介して形成室４０５内に設置された、縦０．４ｍｍ横５ｍｍの開口を持つノズル４０６に接続されている。ノズル４０６の先にはＸＹステージ４０７に設置された光ファイバ４０８が配置される。形成室４０５は真空ポンプ４０９に接続されている。光ファイバ４０８の表面または表面から若干離れた位置には、形成する駆動層４のサイズに応じた貫通孔が空けられたマスク４１０が設けられている。
【００２３】
以上の構成からなる作製装置４０による駆動層４の作製手順を述べる。窒素ガスボンベ４０１を開栓し、窒素ガスを搬送管４０２を通じてエアロゾル発生器４０３に導入させ、金属微粒子を含むエアロゾルを発生させる。エアロゾルは搬送管４０４を通じてノズル４０６へと送られ、ノズル４０６の開口より高速で光ファイバ４０８の表面に噴出される。このとき真空ポンプの作動により、形成室４０５内は数ｋＰａの減圧環境下におかれている。その結果、図４（ａ）に示すように、光ファイバ４０８表面に電極層４ａが形成される。
【００２４】
次いで、前記同様にしてＰＺＴなどの圧電材料微粒子を含むエアロゾルを発生させ、ノズル４０６の開口より高速で光ファイバ４０８の表面に既に形成した電極層４ａの上に噴出する。すると、圧電材料微粒子が電極層４ａに高速で衝突し、破砕・変形などを起こして粒子や断片がお互いに接合し、図４（ｂ）に示すように電極層４ａの上に圧電体層４ｂが形成される。
【００２５】
この後、前記と同様にして圧電体層４ｂの上に電極層４ｃを形成することで、厚みが５μｍ以上の駆動層４が形成される。尚、以上の操作は常温環境下で行われる。
なお、駆動層４の別の作製手順として、光ファイバ４０８の表面に圧電体層４ｂを上記と同様にエアロゾルデポジション法により作製し、その長手方向の両端面に電極層４ａ，４ｃを形成しすることもできる。この場合、電極層４ａ，４ｃを形成するのは、圧電体層４ｂの作製の前後何れでも可能である。
【００２６】
また、エアロゾルデポジション法により作製される構造物（圧電体層）は多結晶であり、前記構造物を構成する結晶は実質的に結晶配向性がなく、また前記結晶同士の界面にはガラス層からなる粒界層が実質的に存在しないものとすることができ、硬さ、耐摩耗性、耐食性などの機械的・化学的特性に優れた圧電素子となる。また、エアロゾルデポジション法による直接接合部はアンカー部を形成し、接着剤を用いることなく強固な接合が達成される。
【００２７】
なお、本明細書では上記多結晶等については以下のように定義する。
（多結晶）
本件では結晶子が接合・集積してなる構造体を指す。結晶子は実質的にそれひとつで結晶を構成しその径は通常５ｎｍ以上である。ただし、微粒子が破砕されずに構造物中に取り込まれるなどの場合がまれに生じるが、実質的には多結晶である。
（結晶配向性）
本件では多結晶である構造物中での結晶軸の配向具合を指し、配向性があるかないかは、一般には実質的に配向性のないと考えられる原料粉体微粒子を測定したデータあるいは粉末Ｘ線回折などによって標準データとされたＪＣＰＤＳ（ＡＳＴＭ）データ、を指標として判断する。
構造物中の脆性材料結晶を構成する物質を挙げたこの指標における主要な回折３ピークのピーク強度を１００％として、構造物の同物質測定データ中、最も主要なピークのピーク強度をこれに揃えた場合に、他の２つのピークのピーク強度が指標の値と比較して３０％以内にそのずれが収まっている状態を，本件では実質的に配向性がないと称する。
（界面）
本件では結晶子同士の境界を構成する領域を指す。
（粒界層）
界面あるいは焼結体でいう粒界に位置するある厚み（通常数ｎｍ〜数μｍ）を持つ層で、通常結晶粒内の結晶構造とは異なるアモルファス構造をとり、また場合によっては不純物の偏析を伴う。
（アンカー部）
本件においてアンカー部とは、基材と構造物の界面に形成された凹凸を指し、特に、予め基材に凹凸を形成させるのではなく、構造物形成時に、元の基材の表面精度を変化させて形成される凹凸のことを指す。
【００２８】
図５は別実施例に係る光スイッチを説明した図、図６は同光スイッチを構成する可動光ファイバの拡大図であり、この実施例にあっては可動光ファイバ１の外周面の光ファイバー駆動面において対面に駆動層４を形成している。このように光ファイバー駆動面において対面に駆動層４を形成することで、可動光ファイバ１の可動範囲を大きくすることができる。
【００２９】
図７は別実施例に係る光スイッチ（２×２）を説明した図、図８は図７のＡ方向拡大矢視図であり、この実施例にあっては２本の可動光ファイバ１の外周面にそれぞれ駆動層４を形成し、各可動光ファイバ１が図８の想像線で示すように、独立した動きができるようにしている。
【００３０】
図９は別実施例に係る光スイッチ（多チャンネル）を説明した図、図１０（ａ）は図９のＢ−Ｂ方向の拡大断面図、（ｂ）は図９のＣ方向矢視図であり、この実施例にあっては、可動光ファイバ１の外周面に周方向に離間して複数の駆動層４を形成し、また固定光ファイバ２の数も複数の駆動層４と同数だけ可動光ファイバ１の周囲に配置し、所定の駆動層４に通電することで、この駆動層４に対応する固定光ファイバ２と光軸が一致するように可動光ファイバ１が曲がる。
【００３１】
図１１は本発明に係る波長可変素子を説明した図であり、この波長可変素子は光ファイバ１１のコアの部分にファイバーブラッググレーティング１２が形成され、このファイバーブラッググレーティング部１２に対応する光ファイバの外周に、電極層１３ａ、圧電体層１３ｂ、電極層１３ｃが長手方向に連続した駆動層１３が形成されている。この形成方法も前記したエアロゾルデポジション法とする。
【００３２】
図１１に示した波長可変素子は、通電を行なわない状態では、λ１、λ２・・・λｎまでの波長が入射し、ブラッグの反射条件に相当するλ１が反射され、λ２・・・λｎの波長は透過することができるよう設計されている。電極層１３ａ、１３ｃに通電することで駆動層１３が伸縮し、これにつれて光ファイバ１１及びグレーティング１２も伸縮することにより、グレーティングピッチが変化しブラッグの反射条件が変わるため、反射及び、透過波長が可変せしめられる。
【００３３】
また、図１２に示す波長可変素子は光ファイバ１１の一側に駆動層１３を形成することで、光ファイバ１１を湾曲させることで波長を可変せしめるようにしている。
【００３４】
図１３は本発明に係る光可変減衰素子を説明した図であり、この実施例にあっては、可動光ファイバ２１と固定光ファイバ２２とがニュートラル状態では光軸が一致するように配置され、また可動光ファイバ２１の外周面には前記同様のエアロゾルデポジション法にて駆動層２３が形成され、これに通電すると、可動光ファイバ２１が湾曲して可動光ファイバ２１と固定光ファイバ２２の光軸がずれ、伝達光量が変化する構成になっている。
【００３５】
図１４及び図１５は駆動層の構成の別実施例を示す図であり、図１４に示す実施例は、径方向に電極層、圧電層、電極層が形成された場合の電極層のパターンの一例である。上層電極層Ｅ１、下層電極層Ｅ２は短絡することがないように駆動部から取り出され駆動部から離れた位置まで延長されている。また、上層電極層Ｅ１、下層電極層Ｅ２の延長長さは異なり、双方ともファイバ固定部に達している。
【００３６】
図１５に示す実施例は、長手方向に電極層、圧電層、電極層が形成された場合の電極層のパターンの一例である。上部電極層Ｅ３、下部電極層Ｅ４は短絡することがないように駆動部から取り出され駆動部から離れた位置まで延長されている。また、上部電極層Ｅ３、下部電極層Ｅ４の延長長さは異なり、双方ともファイバ固定部に達している。
【００３７】
【本発明の効果】
以上に説明したように本発明によれば、エアロゾルデポジション法によって光ファイバの外側面に直接、電極層、圧電体層及び電極層を積層した駆動層を形成したので、小型化、信頼性、高速性、光学特性に優れ、多チャンネル化にも対応できる光スイッチなどの光素子を得ることができる。
また本発明によれば、焼成などの加熱工程を経ることなく圧電素子を形成できるので、光素子の特性に影響を与えることもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光スイッチを説明した図
【図２】同光スイッチを構成する可動光ファイバの拡大図
【図３】可動光ファイバ表面に駆動層を作製する装置の概略図
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、可動光ファイバ表面に駆動層を作製する手順を説明した図
【図５】別実施例に係る光スイッチを説明した図
【図６】同光スイッチを構成する可動光ファイバの拡大図
【図７】別実施例に係る光スイッチ（２×２）を説明した図
【図８】図７のＡ方向矢視図
【図９】別実施例に係る光スイッチ（多チャンネル）を説明した図
【図１０】（ａ）は図９のＡ−Ａ方向の拡大断面図、（ｂ）は図７のＢ方向矢視図
【図１１】本発明に係る波長可変素子を説明した図
【図１２】波長可変素子の別実施例を示す図
【図１３】本発明に係る光可変減衰素子を説明した図
【図１４】駆動層の構成の別実施例を示す図
【図１５】駆動層の構成の別実施例を示す図
【符号の説明】
１，１１，２１…可動光ファイバ、２，１２，２２…固定光ファイバ、３…支持プレート、４，　１３，２３…駆動層、４ａ，４ｃ，　１３ａ，　１３ｃ…電極、４ｂ，１４ｂ…圧電体層、１２…グレーティング、４０…作製装置、４０１…窒素ガスボンベ，４０２…ガス搬送管，４０３…エアロゾル発生器、４０４…エアロゾル搬送管、４０５…形成室、４０６…ノズル、４０７…ＸＹステージ、４０８…光ファイバ、４０９…真空ポンプ、４１０…マスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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