(57)【要約】      （修正有）【課題】コネクタなどの電気電子部品用材料に要求される諸特性を兼備した銅合金、すなわち強度、導電性、耐応力緩和特性、ヤング率、プレス成形性、熱間加工性およびコストに優れた銅合金およびその製造方法を提供する。【解決手段】２０〜４６重量％のＺｎと０．１〜５．０重量％のＳｎと０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなる銅合金材料に粒径５μｍ以下のＢ酸化物を含有させることによって、鋳造結晶粒微細化と動的再結晶促進効果による熱間加工性に優れ、また、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下であるコネクタ用銅合金を得る。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２０〜４６重量％のＺｎと、０．１〜５．０重量％のＳｎと、０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなり、粒径５μｍ以下のＢ酸化物を含有することを特徴とする、銅合金。
【請求項２】
２０〜４６重量％のＺｎと、０．１〜５．０重量％のＳｎと、０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなり、Ｂ酸化物を含有し且つＢ酸化物の粒径が５μｍ以下であることを特徴とする、銅合金。
【請求項３】
粒径１μｍ未満のＢ酸化物を含有し且つ粒径１〜５μｍのＢ酸化物を含有することを特徴とする、請求項１または２に記載の銅合金。
【請求項４】
展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の銅合金。
【請求項５】
前記銅合金が、さらに０．０１〜３重量％のＦｅと、０．０１〜５重量％のＮｉと、０．０１〜３重量％のＣｏと、０．０１〜３重量％のＴｉと、０．０１〜２重量％のＭｇと、０．０１〜２重量％のＺｒと、０．０１〜１重量％のＣａと、０．０１〜３重量％のＳｉと、０．０１〜１０重量％のＭｎと、０．０１〜３重量％のＣｄと、０．０１〜５重量％のＡｌと、０．０１〜３重量％のＰｂと、０．０１〜３重量％のＢｉと、０．０１〜３重量％のＢｅと、０．０１〜１重量％のＴｅと、０．０１〜３重量％のＹと、０．０１〜３重量％のＬａと、０．０１〜３重量％のＣｒと、０．０１〜３重量％のＣｅと、０．０１〜１重量％のＶと、０．０１〜１重量％のＢａと、０．０１〜５重量％のＡｕと、０．０１〜５重量％のＡｇと、０．００５〜０．５重量％のＰのうち少なくとも１種以上の元素を、その総量が０．０１〜５重量％になるように含むことを特徴とする、請求項１乃至４のいずれかに記載の銅合金。
【請求項６】
２０〜４６重量％のＺｎと、０．１〜５．０重量％のＳｎと、０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなる銅合金の製造方法において、銅合金の原料を溶解し、液相線温度から６００℃までの温度域において５０℃／分以上の冷却速度で冷却して鋳塊を得た後、９００℃以下の温度で熱間圧延を行い、次いで冷間圧延と３００〜６５０℃の温度域における焼鈍を繰り返すことによって焼鈍後の結晶粒径を２５μｍ以下にし、次いで３０％以上の加工率の冷間圧延と４５０℃以下の低温焼鈍を行うことを特徴とする、銅合金の製造方法。
【請求項７】
前記熱間圧延において、１パス目の熱間圧延における圧下率を５〜３０％とし、次のパスの熱間圧延における圧下率を５〜４０％とし、最終パス目の熱間圧延における圧下率を２５％以上とすることを特徴とする、請求項６に記載の銅合金の製造方法。
【請求項８】
前記１パス目の熱間圧延における圧下率を１０〜２０％とすることを特徴とする、請求項７に記載の銅合金の製造方法。
【請求項９】
前記焼鈍後の結晶粒径を１５μｍ以下とすることを特徴とする、請求項６乃至８のいずれかに記載の銅合金の製造方法。
【請求項１０】
前記３０％以上の加工率の冷間圧延の加工率を６０％以上とすることを特徴とする、請求項６乃至９のいずれかに記載の銅合金の製造方法。
【請求項１１】
前記銅合金が粒径５μｍ以下のＢ酸化物を含有することを特徴とする、請求項６乃至１０のいずれかに記載の銅合金の製造方法。
【請求項１２】
前記銅合金が、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下であることを特徴とする、請求項６乃至１１のいずれかに記載の銅合金の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コネクタなどの電気電子部品用材料として好適な強度、導電性、耐応力緩和特性などを有し、さらに熱間加工性やコストに優れた銅合金およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年のエレクトロニクスの発達により、種々の機械の電気配線の複雑化や高集積化が進み、それに伴ってコネクタなどの電気電子部品用の伸銅品材料の使用量が増加している。また、コネクタなどの電気電子部品では、軽量化、高信頼性化および低コスト化が要求されている。これらの要求を満たすために、コネクタ用銅合金材料は、薄肉化され、また、複雑な形状にプレスされるので、強度、弾性、導電性およびプレス成形性が良好でなければならない。
【０００３】
具体的には、コネクタ用銅合金材料では、端子の挿抜や曲げに対して座屈や変形しない強度、電線の加締めや嵌合保持に対する強度として、０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、好ましくは６５０Ｎ／ｍｍ２以上、さらに好ましくは７００Ｎ／ｍｍ２以上であり、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、好ましくは７００Ｎ／ｍｍ２以上、さらに好ましくは７５０Ｎ／ｍｍ２以上であることが要求されている。また、端子をプレスする際に、連鎖方向の関係から、圧延などにおける展伸方向に対して直角方向の強度が所定の強度であることが要求されており、この直角方向の強度として、０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、好ましくは７００Ｎ／ｍｍ２以上、さらに好ましくは７５０Ｎ／ｍｍ２以上であることが要求され、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、好ましくは７５０Ｎ／ｍｍ２以上、さらに好ましくは８００Ｎ／ｍｍ２以上であることが要求されている。また、通電によるジュ−ル熱の発生を抑えるために、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上であることが好ましい。
【０００４】
さらに、コネクタ用銅合金材料では、耐食性や耐応力腐食割れ性に優れていることが必要であり、メス端子の場合には、熱的負荷が加わるため、耐応力緩和特性にも優れていなければならない。具体的には、応力腐食割れ寿命が従来の黄銅一種の３倍以上であり、応力緩和率が１５０℃において黄銅一種の半分以下、好ましくは２５％以下、さらに好ましくは２０％以下であることが必要である。
【０００５】
従来、コネクタ材として一般に黄銅やりん青銅などが使用されていた。黄銅は低コストの材料として使用されているが、０．２％耐力および引張強さは、質別がＨ０８（ばね材用）でもそれぞれ５７０Ｎ／ｍｍ２および６４０Ｎ／ｍｍ２程度であり、０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上で引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上というコネクタ材としての要求を満足できない。また、黄銅は、耐食性、耐応力腐食割れ性および耐応力緩和特性にも劣っている。一方、りん青銅は、強度、耐食性、耐応力腐食割れ性および耐応力緩和特性のバランスに優れているが、例えば、ばね用りん青銅の場合、導電率が１２％ＩＡＣＳと小さく、且つ熱間加工することができず、コスト的にも不利である。
【０００６】
ここで、黄銅およびりん青銅のヤング率は、いずれも展伸方向において１１０〜１２０ｋＮ／ｍｍ２、直角方向において１１５〜１３０ｋＮ／ｍｍ２であり、このように小さいヤング率は、コネクタ材としての要求に合致し、最近、これらの材料が見直されている。したがって、黄銅とりん青銅の特長を兼備し、黄銅に近い価格で、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下である材料が望まれている。
【０００７】
また、コネクタ用の材料は、Ｓｎめっきされる機会が多くなり、合金にＳｎを含んでいる方が原料としての利用度が高まる。さらに、黄銅に代表されるように、Ｚｎを含むと、強度、加工性およびコストのバランスに優れた合金が得られ易い。このような見地から、Ｃｕ−Ｚｎ−Ｓｎ合金は注目に値する合金系である。
【０００８】
例えば、ＣＤＡ規格のＣ４２５００は、Ｃｕ−９．５Ｚｎ−２．０Ｓｎ−０．２Ｐ合金であり、コネクタ用の材料として良く知られている。また、Ｃ４３４００は、Ｃｕ−１４Ｚｎ−０．７Ｓｎ合金であり、少量ではあるがスイッチ、リレ−、端子用として使用されている。しかしながら、これよりＺｎ量が多いＣｕ−Ｚｎ−Ｓｎ合金は、コネクタ用の材料としてほとんど使用されていない。Ｚｎ量とＳｎ量が増加すると熱間加工性が低下するためである。例えば、Ｃ４２５００よりＺｎ量が多い銅合金として、Ｃ４３５００（Ｃｕ−１８Ｚｎ−０．９Ｓｎ）、Ｃ４４５００（Ｃｕ−２８Ｚｎ−１Ｓｎ−０．０５Ｐ）、Ｃ４６７００（Ｃｕ−３９Ｚｎ−０．８Ｓｎ−０．０５Ｐ）などが挙げられるが、楽器用、船舶用、雑貨品用などの用途としての板、棒、管などの製品があるだけであり、コネクタ用の展伸材料、特に条材としては利用されていない。また、これらの材料の特性についても、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下であり、且つプレス性や耐応力腐食割れ性などのコネクタ材に必要な特性の全てを満たすことはできない。特に、上記の諸特性を維持するためには、一定量以上のＺｎとＳｎを含有する必要がある。しかし、Ｚｎ量とＳｎ量が増加すると、熱間割れを生じ易く、歩留まりの低下によるコストアップの問題がある。
【０００９】
このような現状に鑑み、適量のＺｎとＳｎを含有させ、あるいはさらにＳｉなどを含有させ、適切な製造方法を採ることにより、優れた特性を有する銅合金を得ることが提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【００１０】
【特許文献１】
特開２００１−２９４９５７号公報（段落番号００１４）
【特許文献２】
特開２００２−８８４２８号公報（段落番号００１４）
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これらの従来の方法では、熱間圧延条件の制御が非常に厳しく、また、微細なひび割れによる歩留まりの低下を生じる場合があるため、熱間圧延性にも優れた銅合金を提供することが望まれている。
【００１２】
したがって、本発明は、このような従来の問題点に鑑み、エレクトロニクスの発達に伴ってコネクタなどの電気電子部品用材料に要求される上記のような諸特性を兼備した銅合金、すなわち、０．２％耐力、引張強さ、導電率、ヤング率、耐応力緩和特性、プレス性、熱間加工性およびコストに優れた銅合金およびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、２０〜４６重量％のＺｎと、０．１〜５．０重量％のＳｎと、０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなる銅合金材料に、粒径５μｍ以下のＢ酸化物を含有させることによって、鋳造結晶粒微細化と動的再結晶促進効果による熱間加工性に優れ、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下である銅合金を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
すなわち、本発明による銅合金は、２０〜４６重量％のＺｎと、０．１〜５．０重量％のＳｎと、０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなり、粒径５μｍ以下のＢ酸化物を含有することまたはＢ酸化物を含有し且つＢ酸化物の粒径が５μｍ以下であることを特徴とする。
【００１５】
この銅合金において、粒径１μｍ未満のＢ酸化物を含有し且つ粒径１〜５μｍのＢ酸化物を含有するのが好ましい。また、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下であるのが好ましい。また、この銅合金が、さらに０．０１〜３重量％のＦｅと、０．０１〜５重量％のＮｉと、０．０１〜３重量％のＣｏと、０．０１〜３重量％のＴｉと、０．０１〜２重量％のＭｇと、０．０１〜２重量％のＺｒと、０．０１〜１重量％のＣａと、０．０１〜３重量％のＳｉと、０．０１〜１０重量％のＭｎと、０．０１〜３重量％のＣｄと、０．０１〜５重量％のＡｌと、０．０１〜３重量％のＰｂと、０．０１〜３重量％のＢｉと、０．０１〜３重量％のＢｅと、０．０１〜１重量％のＴｅと、０．０１〜３重量％のＹと、０．０１〜３重量％のＬａと、０．０１〜３重量％のＣｒと、０．０１〜３重量％のＣｅと、０．０１〜１重量％のＶと、０．０１〜１重量％のＢａと、０．０１〜５重量％のＡｕと、０．０１〜５重量％のＡｇと、０．００５〜０．５重量％のＰのうち少なくとも１種以上の元素を、その総量が０．０１〜５重量％になるように含んでもよい。
【００１６】
また、本発明による銅合金の製造方法は、２０〜４６重量％のＺｎと、０．１〜５．０重量％のＳｎと、０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなる銅合金の製造方法において、銅合金の原料を溶解し、液相線温度から６００℃までの温度域において５０℃／分以上の冷却速度で冷却して鋳塊を得た後、９００℃以下の温度で熱間圧延を行い、次いで冷間圧延と３００〜６５０℃の温度域における焼鈍を繰り返すことによって焼鈍後の結晶粒径を２５μｍ以下にし、次いで３０％以上の加工率の冷間圧延と４５０℃以下の低温焼鈍を行うことを特徴とする。
【００１７】
この銅合金の製造方法において、熱間圧延に際して、１パス目の熱間圧延における圧下率を５〜３０％とし、次のパスの熱間圧延における圧下率を５〜４０％とし、最終パス目の熱間圧延における圧下率を２５％以上とするのが好ましく、１パス目の熱間圧延における圧下率を１０〜２０％とするのがさらに好ましい。また、焼鈍後の結晶粒径を１５μｍ以下とするのが好ましく、３０％以上の加工率の冷間圧延の加工率を６０％以上とするのが好ましい。また、銅合金が、粒径５μｍ以下のＢ酸化物を含有するのが好ましく、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下であるのが好ましい。
【００１８】
この銅合金の製造方法によれば、銅より安価な成分を添加することにより低コスト化を図りつつ、コネクタなどの電気電子部品用材料に要求される諸特性を兼備した銅合金、すなわち、０．２％耐力、引張強さ、導電率、ヤング率、耐応力緩和特性、プレス性、熱間加工性およびコストなどに優れたコネクタ用銅合金を提供することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明による銅合金の実施の形態は、２０〜４６重量％のＺｎと、０．１〜５．０重量％のＳｎと、０．００１〜０．５重量％のＢとを含有し、残部がＣｕおよび不可避的不純物からなり、粒径５μｍ以下のＢ酸化物を含有することを特徴とする。このように銅合金の成分の量の限定した理由は以下の通りである。
【００２０】
銅合金にＺｎを添加すると、銅合金の強度やばね性が向上し、また、ＺｎはＣｕより安価であるため、Ｚｎを多量に添加することが望ましい。しかし、Ｚｎ量が４６重量％を超えると、Ｓｎとの共存下で粒界偏析が激しくなり、銅合金の熱間加工性が著しく低下する。また、銅合金の冷間加工性、耐食性および耐応力腐食割れ性も低下する。さらに、湿気や加熱によるめっき性やはんだ付け性も低下する。一方、Ｚｎ量が２０重量％より少ないと、銅合金の０．２％耐力や引張強さなどの強度やばね性が不足し、ヤング率が大きくなり、さらに、Ｓｎを表面処理したスクラップを原料とする場合には、銅合金の溶解時の水素ガス吸蔵が多くなり、インゴットのブロ−ホ−ルが発生し易くなる。また、安価なＺｎの量が少なく、経済的にも不利になる。したがって、Ｚｎ量は、好ましくは２０〜４６重量％の範囲、さらに好ましくは２４〜３７重量％の範囲である。
【００２１】
Ｓｎは、微量でも銅合金のヤング率を大きくすることなく０．２％耐力や引張強さなどの強度や弾性などの機械的特性を向上させる効果を有する。また、ＳｎめっきなどのＳｎで表面処理した材料の再利用の点からも、銅合金が添加元素としてＳｎを含有するのが好ましい。しかし、Ｓｎ含有量が増加すると、銅合金の導電率が急激に低下し、また、Ｚｎとの共存下で粒界偏析が激しくなり、熱間加工性が著しく低下する。熱間加工性を確保するためには、Ｓｎ含有量は５．０重量％を超えない範囲でなければならない。一方、Ｓｎ含有量が０．１重量％より少ないと、銅合金の機械的特性の向上の効果が少なく、また、Ｓｎめっきなどを施したプレスくずなどを原料として利用し難くなる。したがって、Ｓｎ含有量は、好ましくは０．１〜５．０重量％の範囲、さらに好ましくは０．５〜１．８重量％の範囲である。
【００２２】
Ｂは、本発明による銅合金の主成分であるＣｕ、ＺｎおよびＳｎよりも酸素との親和力が大きいため、Ｃｕ、ＺｎおよびＳｎの酸化防止効果を有する。
【００２３】
また、Ｂは、ＣａやＭｇなどの強脱酸剤ではなく、添加過程中のロスが少なく、生成される酸化物がクラスタ化し難い。
【００２４】
さらに、Ｂは、溶湯または凝固過程で酸素と反応させることができ、粒径が数十ｎｍから数μｍの粒状酸化物を得ることができる。この酸化物は、結晶粒の核として鋳造結晶粒を微細化し、また、粒成長を阻止する効果を有する。特に、約１〜５μｍの粒状酸化物が動的再結晶を促進して、さらに１μｍ以下の酸化物が再結晶粒成長を阻止することより、動的再結晶による熱間加工性の向上と再結晶粒微細化とを両立させることができる。これらの相乗効果により、熱間加工性を大幅に向上させることができる。Ｂ酸化物の粒径が５μｍより大きい場合には、圧延中に粒子付近の応力集中によって割れが発生し易くなる。一方、粒径が１μｍ未満のＢ酸化物は、動的再結晶の発生と再結晶粒成長の両方を抑制する効果を有し、約１〜５μｍの粒状酸化物は、動的再結晶の発生を促進する効果を有する。したがって、動的再結晶の発生を促進すると同時に再結晶粒成長を抑制するためには、粒径５μｍ以下の（すなわち、最大粒径が５μｍで微細粒も含む）Ｂ酸化物を含有することが必要であり、粒径１μｍ未満のＢ酸化物を含有し且つ粒径１〜５μｍのＢ酸化物を含有するのが好ましい。なお、Ｂ酸化物の同定は電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）によって行い、その粒径は走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって確認することができる。但し、簡易的には、光学顕微鏡などによってＢ酸化物のおおよその粒径を知ることができ、参考にすることができる。
【００２５】
また、Ｂは、分散強化効果を有するので、最終製品の軟化温度および耐応力緩和特性を向上させる効果も有する。
【００２６】
Ｂの量が０．００１重量％より少ないと、上記のような熱間加工性の向上効果がなくなる。一方、Ｂの量が０．５重量％を超えると、生成される第２相のサイズが大きくなり、逆に熱間加工性を著しく低下させ、コスト面でも不利となる。したがって、Ｂの量は、好ましくは０．００１〜０．５重量％の範囲、さらに好ましくは０．００２〜０．０５重量％の範囲である。
【００２７】
また、以上のように限定された成分であれば、鋳造や熱間圧延などの高温時に粒界に析出するＳｎ酸化物の形成を抑制することができ、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下であり、さらにコネクタ材として必要な諸特性、具体的には、耐食性、耐応力腐食割れ性（アンモニア蒸気中での割れ寿命が黄銅一種の３倍以上）、耐応力緩和特性（１５０℃における緩和率が黄銅一種の半分以下でりん青銅並）、プレス打ち抜き性などを満足する銅合金を作成することができる。
【００２８】
さらに、銅合金が、第３添加元素として、０．０１〜３重量％のＦｅと、０．０１〜５重量％のＮｉと、０．０１〜３重量％のＣｏと、０．０１〜３重量％のＴｉと、０．０１〜２重量％のＭｇと、０．０１〜２重量％のＺｒと、０．０１〜１重量％のＣａと、０．０１〜３重量％のＳｉと、０．０１〜１０重量％のＭｎと、０．０１〜３重量％のＣｄと、０．０１〜５重量％のＡｌと、０．０１〜３重量％のＰｂと、０．０１〜３重量％のＢｉと、０．０１〜３重量％のＢｅと、０．０１〜１重量％のＴｅと、０．０１〜３重量％のＹと、０．０１〜３重量％のＬａと、０．０１〜３重量％のＣｒと、０．０１〜３重量％のＣｅと、０．０１〜１重量％のＶと、０．０１〜１重量％のＢａと、０．０１〜５重量％のＡｕと、０．０１〜５重量％のＡｇと、０．００５〜０．５重量％のＰのうち少なくとも１種以上の元素を、その総量が０．０１〜５重量％になるように含んでも良い。
【００２９】
これらの元素は、導電率、ヤング率および成形加工性を大きく損なうことなく、強度を向上させることができる。また、各元素の含有範囲からはずれると、所望の効果を得られないか、熱間加工性、冷間加工性、プレス性、導電率、ヤング率およびコスト面などにおいて不利になる。
【００３０】
次に、本発明による銅合金の製造方法の実施の形態を説明する。
【００３１】
まず最初に、本発明による銅合金の原料を溶解して鋳造する。原料を溶解するに際して、Ｂ粉末またはＣｕ−Ｂ、Ｎｉ−ＢあるいはＦｅ−Ｂなどの母合金により、Ｂを添加することができる。ただし、原料の半分程度が溶解したときにＢを投入するのが望ましい。Ｂの投入時期が早すぎると、Ｂの酸化によるロスが多い。また、雰囲気は大気雰囲気で十分であるが、不活性ガスでシ−ルした方が酸化防止の面から好ましい。ただし、還元ガス雰囲気では、高温になると水分の分解による水素の吸収や拡散によって不利になる。
【００３２】
次に、原料の溶解後、インゴットを連続鋳造によって鋳造するのが望ましい。この連続鋳造は、縦型と横型のいずれでも構わない。ただし、液相線温度から６００℃まで温度域において５０℃／分以上の冷却速度で冷却する。冷却速度が５０℃／分未満では、粒界にＳｎの偏析が生じ、Ｂ酸化粒子がクラスタ（凝集）し易く、その後の熱間加工性を悪化させ、歩留まりの低下を引き起こす。冷却速度を規定する温度域は、液相線温度から６００℃までの温度域で良い。液相線以上の温度域を規定しても効果がなく、一方、６００℃以下では、鋳造時の冷却工程の時間程度では粒界へのＳｎの過度な偏析を生じないので、冷却速度を規定する温度域は、液相線温度から６００℃までの温度域とする。
【００３３】
溶解鋳造後に熱間圧延を行う。熱間圧延の加熱温度は９００℃以下とする。９００℃を超える温度では、Ｓｎの粒界への偏析による熱間割れが生じ、歩留まりが低下する。９００℃以下の温度で１パス目の熱間圧延を行う際の圧下率を５〜３０％とする。圧下率が３０％を超えると、鋳造結晶粒界に沿って割れが発生し易い。一方、圧下率が５％未満であると、動的再結晶またはパス間の静的再結晶が発生し難く、２パス目の圧延時に熱間割れが発生する場合もある。また、圧延パス回数が多くなり、効率的ではない。２〜３パス後に動的再結晶することによって、鋳造時のミクロな偏析および鋳造組織の消失により、本発明による銅合金の組成のＺｎ量およびＳｎ量を含んでも、組織的に均質な材料を得ることができる。さらに好ましくは１パス目の圧下率を１０〜２０％とする。次のパスでは、圧下率が５〜４０％で良く、熱間割れの発生を防止し、続いて効率良く圧延することができる。さらに、最終パス目の圧下率が出来るだけ大きくなることが好ましく、具体的には圧下率２５％以上が好ましい。これにより、熱間圧延後の結晶粒径を３５μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下に制御することができる。熱間圧延後の結晶粒径が３５μｍを越えると、その後の冷間加工率や焼鈍条件の管理幅が狭く、少しでも逸脱すると、結晶粒が混粒になり易く、特性が劣化する。
【００３４】
熱間圧延後に必要に応じて表面を面削する。その後、冷間圧延と３００〜６５０℃の温度域における焼鈍を繰り返し、焼鈍後の結晶粒径を２５μｍ以下とする。３００℃未満の温度では、結晶粒の制御に要する時間が長くなって不経済であり、６５０℃を越えると、短時間で結晶粒が粗大化する。焼鈍後の結晶粒径が２５μｍを越えると、０．２％耐力などの機械特性や加工性が低下する。焼鈍後の結晶粒径は、好ましくは１５μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以下である。
【００３５】
このようにして得られた焼鈍材を、３０％以上の加工率による冷間圧延と４５０℃以下の低温焼鈍によって、展伸方向の０．２％耐力が６００Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが６５０Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１２０ｋＮ／ｍｍ２以下、導電率が２０％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が２０％以下であり、展伸方向に対して直角方向の０．２％耐力が６５０Ｎ／ｍｍ２以上、引張強さが７００Ｎ／ｍｍ２以上、ヤング率が１３０ｋＮ／ｍｍ２以下である銅合金とする。冷間加工率が３０％未満では、加工硬化による強度の向上が不十分であり、機械特性の向上が不十分である。さらに好ましくは６０％以上の加工率とする。低温焼鈍は、０．２％耐力、引張強さ、ばね限界値および耐応力緩和特性をさらに向上させるために必要である。４５０℃を越える温度では、与える熱容量が大き過ぎて短時間で軟化し、また、バッチ式と連続式のいずれの場合でもワ−ク内における特性ばらつきが発生し易くなる。したがって、低温焼鈍の温度条件を４５０℃以下とする。
【００３６】
このようにして得られた材料を端子にプレスした後に、１００〜２８０℃の温度で１〜１８０分間熱処理しても良い。この熱処理によって、プレス加工によって低下したばね限界値や耐応力緩和特性が改善され、さらに、ウイスカ対策を実現することができる。１００℃未満の温度では、このような効果が十分でなく、２８０℃を超えると、拡散や酸化により、接触抵抗、はんだ付け性および加工性が低下する。また、熱処理時間が１分未満では、効果が十分でなく、１８０分を超えると、拡散や酸化による前述の特性の低下が起こり、また経済的でもない。
【００３７】
【実施例】
以下、本発明による銅合金およびその製造方法の実施例について詳細に説明する。
【００３８】
［実施例１〜６、比較例１〜６］
表１に化学成分（重量％）を示す各銅合金を、液相線温度より７０℃高い温度で溶解した後、縦型の小型連続鋳造機を用いて、３０×７０×１０００（ｍｍ）の鋳塊に鋳造した。ただし、鋳型による一次冷却と水シャワ−による二次冷却を調整することにより、液相線から６００℃までの冷却速度は５０℃／分を大きく上回る条件であった。
【００３９】
また、Ｂを含有する実施例１〜６および比較例２の銅合金について、電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）によってＢ酸化物を同定し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によってＢ酸化物の粒径を確認したところ、実施例１〜６の銅合金には粒径０．０２〜１μｍのＢ酸化物と粒径１〜３μｍのＢ酸化物が分布していたが、比較例２の銅合金には粒径が５μｍより大きいＢ酸化物が確認された。
【００４０】
その後、各鋳塊を８００〜８４０℃に加熱した後、厚さ５ｍｍまで熱間圧延し、表面やエッジの割れによって熱間加工性を評価した。但し、熱間圧延は１０パス行い、１パス当たりの圧下率を１５％として、最終パスの圧下率を２５％とした。酸洗後に５０倍の光学顕微鏡により割れが全く確認されないものを◎、割れ深さが０．３ｍｍ以下（すなわち、片面０．３ｍｍで面削またはミ−リングした後に割れが全く確認されない）のものを○、割れ深さが０．３ｍｍ以上のものを×とした。さらに、熱間圧延終了温度を約６００℃とし、熱間圧延後の急冷によって結晶粒径が約２０μｍになるように制御した。
【００４１】
次に、冷間圧延によって厚さ１ｍｍまで圧延し、４５０〜５２０℃の温度で熱処理し、結晶粒径が約１０μｍになるように調整した。酸洗後に、厚さ０．２５ｍｍまで冷間圧延し、最終工程で２３０℃の低温焼鈍を施した。このようにして得られた条材から試験片を採取した。
【００４２】
以上のようにして得られた条材を用いて、０．２％耐力、引張強さ、ヤング率、導電率、応力緩和率および応力腐食割れ寿命の測定を行った。０．２％耐力、引張強さおよびヤング率の測定はＪＩＳ−Ｚ−２２４１、導電率はＪＩＳ−Ｈ−０５０５に従って行った。ただし、圧延方向に対して直角方向の０．２％耐力、引張強さおよびヤング率は、長さ７０ｍｍの小型の試験片を用いて測定した。応力緩和試験は、試料表面に０．２％耐力の８０％に当たる曲げ応力を加え、１５０℃で５００時間保持し、曲げぐせを測定することによって行った。また、応力緩和率は下記の式によって計算した。
【００４３】
応力緩和率（％）＝［（Ｌ１−Ｌ２）／（Ｌ１−Ｌ０）］×１００
［Ｌ０：治具の長さ（ｍｍ）  、Ｌ１：開始時の試料の長さ（ｍｍ）、Ｌ２：処理後の試料端間の水平距離（ｍｍ）］
【００４４】
応力腐食割れ試験は、０．２％耐力の８０％に当たる曲げ応力を加え、１２．５％のアンモニア水を入れたデシケ−タ内に保持することによって行った。暴露時間は、１０分単位とし、１５０分まで試験した。暴露後に各時間の試験片を取り出し、必要に応じて皮膜を酸洗除去し、光学顕微鏡で１００倍の倍率で割れを観察した。そして、割れを確認した１０分前の時間を応力腐食割れ寿命とした。
【００４５】
これらの結果を表１に示す。
【００４６】
【表１】
2004225060.tif 000002
【００４７】
表１に示す結果から、実施例１〜６の銅合金は、熱間加工性に優れ、製造面でも有利であり、且つ０．２％耐力、引張強さ、ヤング率および導電率のバランスに優れ、また、耐応力緩和特性および耐応力腐食割れ性も良好である。したがって、実施例１〜６の銅合金は、コネクタなどの電気電子用材料として極めて優れた特性を有する銅合金である。
【００４８】
これに対して、Ｂを添加しない比較例１の銅合金およびＢの添加量が多い比較例２の銅合金は、実施例１の銅合金とほぼ同等の量のＺｎとＳｎを含有して同等の特性を有するが、熱間加工性に劣っており、歩留まり低下によるコストアップの問題がある。
【００４９】
また、Ｓｎ含有量が少ない比較例３の銅合金およびＺｎ含有量が少ない比較例４の銅合金は、熱間加工性に特に劣っていないが、０．２％耐力、引張強さおよび耐応力緩和特性に劣っている。また、比較例３の銅合金はヤング率も劣っている。
【００５０】
さらに、Ｂを添加せずにＣａまたはＭｇを単独で添加した比較例５および６の銅合金は、熱間圧延の途中で割れが入り、その後の冷間加工との兼ね合いで最終板厚まで歩留まり良く製造することができなかった。
【００５１】
［実施例７、比較例７、８］
表１に示す実施例１の銅合金と同じ銅合金（実施例７）と、市販の黄銅１種（Ｃ２６０００−Ｈ０８）（比較例７）と、ばね用りん青銅（Ｃ５２１００−Ｈ０８）（比較例８）について、実施例１〜６と同様の方法により、０．２％耐力、引張強さ、ヤング率、導電率、応力緩和率および応力腐食割れ寿命を測定した。これらの結果を表２に示す。なお、これらの市販の材料は、質別がＨ０８（ばね材用）であり、同一成分の中でも高強度な質別である。
【００５２】
【表２】
2004225060.tif 000003
【００５３】
表２に示す結果から、実施例７の銅合金は、従来の代表的なコネクタなどの電気電子用材料である黄銅（比較例７）と比較して、０．２％耐力、引張強さ、耐応力緩和特性、耐応力腐食割れ性などが向上していることがわかる。また、ばね用りん青銅（比較例８）と比較しても、ヤング率および導電率に優れている。また、ばね用りん青銅は、高価なＳｎを８％も含有し、原料費が高騰し易く、且つ熱間圧延できないため、製法が限定され、製造費を含めたト−タルコスト面で劣っている。したがって、実施例７の銅合金は、従来の黄銅やりん青銅と比較して十分に優れているといえる。
【００５４】
［実施例８、比較例９］
表１に示す実施例１の銅合金を、一次と二次の冷却条件と引き抜き速度を変えることによって、冷却速度を変化させて連続鋳造した。冷却速度は、熱電対を一緒に鋳込みながら測定した。この銅合金の液相線は約９５０℃であり、この温度から６００℃までの平均冷却速度を求めた。
【００５５】
その後、８４０℃に加熱して、１パス当たり約１５％の圧下率で熱間圧延を１０パス行い、表面とエッジの割れを観察した。この結果、５０℃／分以上の平均冷却速度で鋳造した鋳片（実施例８）には、熱間割れが全く生じなかった。特に、８０℃／分以上の平均冷却速度の鋳片は、熱間圧延温度をさらに上げても、圧下率を上げても対応することができ、条件範囲に余裕がある。これに対し、５０℃／分未満の冷却速度（比較例９）では、熱間割れが発生し、適切な成分範囲であっても、鋳造時の平均冷却速度によっては熱間割れを生じることがあり、歩留まり低下をもたらす場合があることがわかった。
【００５６】
［実施例９、比較例１０、１１］
表１に示す実施例１と同じ組成の銅合金を８４０℃に加熱し、熱間圧延を２パス行った。各パスの圧延直後に水冷したサンプルをリン酸と蒸留水（１：１）の溶液中で電解研磨して腐食させた後、光学顕微鏡により３００倍の倍率で結晶粒組織を観察した。但し、１パス目の圧下率をそれぞれ１５％（実施例９）、５％（比較例９）、３５％（比較例１０）として、２パス目の圧下率をいずれも２５％とした。
【００５７】
実施例９の銅合金の組織では、１パス目の圧延後にすべての結晶粒界に沿って動的再結晶粒が生じ、２パス目の圧延後にほぼ全域にわたって動的再結晶粒組織が観察された。これに対し、比較例９の組織では、１パス目の圧延後に動的再結晶粒がほとんど観察されず、２パス目の圧延後に一部の結晶粒界に沿ってクラックが観察された。また、比較例１０の組織では、１パス目の圧延後に動的再結晶粒が不均一に分布して、一部の結晶粒界に沿ってクラックが観察され、２パス目の圧延後にこれらのクラックがさらに拡大した。したがって、１パス目の圧下率によっては熱延割れを生じることがあり、歩留まり低下をもたらす場合があることがわかった。
【００５８】
［実施例１０〜１１、比較例１２〜１３］
表１に示す実施例１および比較例１と同じ組成の銅合金の鋳塊の断面中央部の鋳造組織（実施例１０および比較例１２）と、これらの銅合金を８４０℃に加熱して圧下率１５％で熱間圧延を１パス行った後に水冷したサンプルの断面中央部の組織（実施例１１および比較例１３）を、リン酸と蒸留水（１：１）の溶液中で電解研磨して腐食させた後、光学顕微鏡により３００倍の倍率で結晶粒組織を観察した。これらの光学顕微鏡写真をそれぞれ図１〜図４に示す。
【００５９】
図１に示すように、実施例１０の銅合金の鋳造組織では、結晶粒界と粒内のいずれにおいても第２相粒子が観察された（この第２相粒子は、ＥＰＭＡとＳＩＭＳで同定した結果、Ｂの酸化物であると判定された）。また、粒子の結晶粒成長に対する阻止効果による粒界が凹凸化していることがわかる。これに対し、図２に示すように、比較例１２の銅合金の鋳造組織では、第２相粒子がほとんど観察されず、結晶粒界が滑らかで、粒径も大きくなっている。
【００６０】
また、図３に示すように、実施例１１の銅合金の組織では、結晶粒界だけではなく、粒内においても第２相粒子のまわりに動的再結晶粒が観察された。これに対し、図４に示すように、比較例１３の銅合金の組織では、動的再結晶粒がほとんど観察されず、一部の結晶粒界に沿ってクラックが観察された。
【００６１】
したがって、本発明による銅合金は、Ｂ酸化物の鋳造組織の微細化および動的再結晶促進効果により、熱間加工性を向上することがわかった。
【００６２】
【発明の効果】
上述したように、本発明による銅合金は、従来の黄銅やりん青銅などと比較して、０．２％耐力、引張強さ、導電率およびヤング率のバランスや、耐応力緩和率特性、耐応力腐食割れ性およびプレス性などに優れ、さらに熱間加工性が良く、安価に製造できるため、黄銅やりん青銅に代わるコネクタなどの電気電子部品用材料として最適なものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１０の銅合金の鋳造組織の光学顕微鏡写真。
【図２】比較例１２の銅合金の鋳造組織の光学顕微鏡写真。
【図３】実施例１１の銅合金の鋳造組織の光学顕微鏡写真。
【図４】比較例１３の銅合金の鋳造組織の光学顕微鏡写真。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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