(57)【要約】【課題】配線電極の段切れを防止する構造を有するＭｅｍｂｒａｎｅ構造の波面収差補正ミラーおよびその製造方法を提供する。【解決手段】ミラー基板のミラー面の形状が可変であって、ミラー基板の裏面の一部がエッチングにより薄く形成されて段差部を有している波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点の角を落とした構造を有していることを特徴としている。【選択図】      図４
2004151631.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミラー基板のミラー面の形状が可変であって、ミラー基板の裏面の一部がエッチングにより薄く形成されて段差部を有している波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点の角を落とした構造を有していることを特徴とする波面収差補正ミラー。
【請求項２】
請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点に曲率を持たせたことを特徴とする波面収差補正ミラー。
【請求項３】
請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部のテーパー角を２段階に変化させたことを特徴とする波面収差補正ミラー。
【請求項４】
請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点を凹状にしたことを特徴とする波面収差補正ミラー。
【請求項５】
ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部を形成するとき、該段差部の頂点をドライエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことを特徴とする波面収差補正ミラーの製造方法。
【請求項６】
ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部を形成するとき、該段差部の頂点をウエットエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことを特徴とする波面収差補正ミラーの製造方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６記載の波面収差補正ミラーの製造方法において、エッチングマスクは、ネガレジストをスピンナー塗布によりセルフアライメントで作製することを特徴とする波面収差補正ミラーの製造方法。
【請求項８】
請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載の波面収差補正ミラーの製造方法において、Ａｌパターニング時は、粘度４５ｃｐ〜８００ｃｐのネガレジストを用いて、スピンナーの回転数を３００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍにすることを特徴とする波面収差補正ミラーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、波面収差補正ミラーおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に光ディスクを用いた情報記憶装置として、ＣＤやＤＶＤなどがある。ＤＶＤなどは、ＣＤに比べ記録密度が高いため、情報を読み書きするときの条件が厳しくなっている。
【０００３】
例えば、光ピックアップの光軸とディスク面は垂直であることが理想であるが、実際にはディスクが樹脂製のため、かなりうねりを持っていて、これを回転させると、光ピックアップの光軸とディスク面は常に垂直ではなくなる（これを以降、チルトと表現する）。また、ディスクは、記録層が樹脂層を介しているため、ディスク面が垂直でなくなると光路が曲げられディスク上に正しくスポットを絞れなくなり、コマ収差が発生する。この収差が許容される量よりも大きくなると、正しく読み書きが出来なくなるという不具合が生じる。
【０００４】
チルトを光学的に補正するため、液晶を用いたり（例えば、特許文献１参照。）、透明圧電素子を用いたり（例えば、特許文献２参照。）、可変ミラーを用いたりする（例えば、特許文献３参照。）ことが提案されている。
【０００５】
具体的に、特許文献１では、液晶板を用いて位相制御することによりコマ収差を補正している。しかし、この方法では、レーザーが液晶板を通過するために光量が減衰し、書き込みに必要なエネルギーを得ることが困難であり、また液晶の特性から、特にタンジェンシャルチルト制御に要求される高周波動作に使用するのは困難であると思われる。
【０００６】
また、特許文献２では、実際に透明圧電素子単体で必要な変位量を得るためには高電圧が必要となり、光ピックアップなどに用いるには現実的ではない。
【０００７】
また、特許文献３は、ミラー自体を積層型圧電素子で変形させ位相制御するようにしている。しかし、光ピックアップなどの小さい部品に用いるには配線などの考慮がされておらず、複雑になりかつ組み付けコストも高くなる。また、配線などの問題が解決できたとしても、積層型圧電素子をかなり小さくしなければならなくなるため、技術的にもコスト的にもなかなか困難である。
【０００８】
このように情報を読み書きするときに不具合を生じさせるチルトの影響を、圧電素子を使用したユニモルフまたはバイモルフ形状の波面収差補正ミラーで波面収差を補正する方法が、低電圧で小型化にも有利であると考えられる。
【０００９】
図１（ａ），（ｂ）は波面収差補正ミラーの一例を示す図である。なお、図１（ａ）は断面図、図１（ｂ）は平面図である。図１（ａ），（ｂ）の波面収差補正ミラーは、基板をエッチングしてミラー部を薄く形成し、圧電素子を使用した波面収差補正ミラーであり、このタイプの波面収差補正ミラーを以後、Ｍｅｍｂｒａｎｅ構造という。このタイプの波面収差補正ミラーは、ミラーを取り囲む厚い部分，すなわち梁の部分１４で、ベース基板（８）に取り付けられる。このタイプの波面収差補正ミラーは、ミラー部分が薄く形成されているので、少ない電圧で駆動することができる。ミラー基板（６）の裏側がエッチングにより薄く形成され、配線電極（４ｂ，５ｂ）がそれぞれ形成されており、圧電素子（２）がミラー基板（６）の裏面に接着されている。この波面収差補正ミラーでは、圧電素子（２）に電位を加えることで、変位を発生させ、ミラー基板（６）の表面を変位させることができる。このとき、圧電素子電極（５ａ）は、中心から左右に分割されているので、極性や電圧を変えることで、別々の変位を発生できる。
【００１０】
ミラー基板（６）は電圧がかかっても伸び縮みしないが、圧電素子（２）は電圧がかかれば伸び縮みするため、個別電極（５ａ）にプラスの電圧を加えた場合にその部分の圧電素子（２）が縮むとすると、個別電極（５ａ）にマイナスの電圧を加えた場合にはその部分の圧電素子（２）は伸びることになる。従って、個別電極（５ａ）にプラスの電圧を加えた場合にはミラー基板（６）の面，すなわち反射膜（１）の面は凸になり、個別電極（５ａ）にマイナスの電圧を加えた場合にはミラー基板（６）の面，すなわち反射膜（１）の面は凹になる。
【００１１】
【特許文献１】
特開平１０−７９１３５号公報
【００１２】
【特許文献２】
特開平５−１４４０５６号公報
【００１３】
【特許文献３】
特開平５−３３３２７４号公報
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このミラーは、圧電素子（２）に電圧を印加するために、配線電極（４ｂ，５ｂ）は、ミラー基板（６）の裏面からエッチングされた側壁を伝って梁（１４）の部分で、ベース基板（８）の電極（４ｃ，５ｃ）と電気的に接続されている。
【００１５】
ここで、配線電極（４ｂ，５ｂ）は、主にＡｌスパッタ膜で作製され、ミラー基板（６）の裏面全面に成膜された後、フォトリソグラフィ法によりパターニングされている。
【００１６】
しかし、パターニングの際には、図２（ｂ）に示すように、ミラー基板（６）の裏面の段差部の頂点部分でレジスト（１３）が段切れし、Ａｌエッチングによりこの部分のＡｌが除去され電気的な接続が不可能になるという問題があった。
【００１７】
すなわち、レジスト塗布直後は、図２（ａ）に示すように、ミラー基板（６）の裏面の段差部の頂点部分でレジスト（１３）の段切れは発生していないが、レジスト（１３）が乾燥するに従い、レジスト（１３）は段差部の頂点から１〜２μｍ後退し、これによって、レジスト（１３）が段切れすると考えられる。
【００１８】
本発明は、配線電極の段切れを防止する構造を有するＭｅｍｂｒａｎｅ構造の波面収差補正ミラーおよびその製造方法を提供することを目的としている。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明は、ミラー基板のミラー面の形状が可変であって、ミラー基板の裏面の一部がエッチングにより薄く形成されて段差部を有している波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点の角を落とした構造を有していることを特徴としている。
【００２０】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点に曲率を持たせたことを特徴としている。
【００２１】
また、請求項３記載の発明は、請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部のテーパー角を２段階に変化させたことを特徴としている。
【００２２】
また、請求項４記載の発明は、請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点を凹状にしたことを特徴としている。
【００２３】
また、請求項５記載の発明は、ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部を形成するとき、該段差部の頂点をドライエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことを特徴としている。
【００２４】
また、請求項６記載の発明は、ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部を形成するとき、該段差部の頂点をウエットエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことを特徴としている。
【００２５】
また、請求項７記載の発明は、請求項５または請求項６記載の波面収差補正ミラーの製造方法において、エッチングマスクは、ネガレジストをスピンナー塗布によりセルフアライメントで作製することを特徴としている。
【００２６】
また、請求項８記載の発明は、請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載の波面収差補正ミラーの製造方法において、Ａｌパターニング時は、粘度４５ｃｐ〜８００ｃｐのネガレジストを用いて、スピンナーの回転数を３００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍにすることを特徴としている。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２８】
異方性エッチングでＭｅｍｂｒａｎｅ構造の波面収差補正ミラーを作製すると、図２（ａ）に示すように、ミラー基板（６）の裏面の段差部の頂点角度は約１２６°となり、この頂点がレジストの段切れの原因となっていると考えられる。本願の発明者は、この頂点に曲率を持たせたり角度を大きくすることで、レジストの表面張力が保たれ、段切れを抑えることができることを見出した。また、この頂点を凹状にし、凹部にレジストの溜りを設けることによっても表面張力を保つ効果を望むことができることを見出した。
【００２９】
これにより、本発明は、ミラー基板のミラー面の形状が可変であって、ミラー基板の裏面の一部がエッチングにより薄く形成されて段差部を有している波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点の角を落とした構造を有していることを特徴としている。
【００３０】
具体的に、第１の例として、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点に曲率を持たせた波面収差補正ミラーを構成できる。
【００３１】
また、第２の例として、ミラー基板の裏面の前記段差部のテーパー角を２段階に変化させた波面収差補正ミラーを構成できる。
【００３２】
また、第３の例として、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点を凹状にした波面収差補正ミラーを構成できる。
【００３３】
また、本発明では、ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部を形成するとき、該段差部の頂点をドライエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことができる。
【００３４】
また、ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部を形成するとき、該段差部の頂点をウエットエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことができる。
【００３５】
また、上述した波面収差補正ミラーの製造方法において、エッチングマスクは、ネガレジストをスピンナー塗布によりセルフアライメントで作製することができる。
【００３６】
また、上述した波面収差補正ミラーの製造方法において、Ａｌパターニング時は、粘度４５ｃｐ〜８００ｃｐのネガレジストを用いて、スピンナーの回転数を３００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍにすることができる。
【００３７】
このように、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点の加工に、ドライエッチングまたはウエットエッチングのそれぞれの特性を生かした加工を施すことで、容易に前記形状を作製することができる。
【００３８】
さらに、フォトマスクの作製はレジストの粘度や塗布条件を選択すれば、セルフアラインで作製することが可能となる。
【００３９】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。
【００４０】
（実施例１）
異方性エッチングによりミラー基板を薄く作製すると、図２（ａ）のように段差部の頂点に角ができる。すなわち、エッチング面（ミラー基板の裏面となる部分）からエッチングを開始すると、図２（ａ）のようにエッチング面からおよそ１２６°の角度をもつ＜１１１＞面が現れ、その頂点には角ができる。この角度は結晶方位で決定されるもので、頂点の角は結晶粒径レベルで鋭くなっている。異方性エッチング時には、ミラー基板とマスク材（ＳｉＯ２）の密着度が良いため、この角はエッチングされることなく最後まで残る。
【００４１】
本発明は、段差部の頂点の角を落とした構造とすることで、配線電極の段切れの問題を改善するものであり、実施例１では、段差部の頂点に曲率を持たせた構造とすることで、段切れを防止するようにしている。ここで、曲率は、数μｍ程あれば良く、この部分を丸めることでレジストの表面張力で段切れすることがなくなる。曲率を大きくすれば、それだけ安全率が高くなるが、最大でも数十μｍ程度あれば問題はない。
【００４２】
配線電極をＡｌスパッタで成膜する場合には、段差部の頂点があると、その部分の膜厚が薄くなり、この部分の抵抗値が高くなっている。この実施例１のように段差部の頂点に曲率を設けることで、この部分のＡｌ膜厚を厚くできて、段切れ防止と低抵抗化の効果が期待できる。
【００４３】
図３（ａ）乃至（ｄ）は、Ｍｅｍｂｒａｎｅ構造の波面収差補正ミラーの作製工程例を示す図である。この作製工程例では、先ず、酸化膜（７ａ）付ウエハ６に対し異方性エッチング用の窓開けを行う（図３（ａ））。次いで、異方性エッチングを行ない、しかる後、酸化膜７ａを除去する（図３（ｂ））。次いで、異方性エッチングによってできた段差部の頂点の曲率化を行ない、しかる後、酸化により酸化膜７ｂを形成する（図３（ｃ））。次いで、Ａｌを成膜しパターニングを行い、配線電極（４ｂ，５ｂ）を形成する（図３（ｄ））。図３（ａ）乃至（ｄ）の作製工程により、ミラー基板部が完成する。このミラー基板の表面側に反射膜を形成すると共に、裏面に圧電素子（ＰＺＴ）を接着・配線することで、波面収差補正ミラーが完成する。
【００４４】
上記作製工程例において、頂点の曲率化には、ウエットエッチングが有効であり、ミラー面の保護膜（レジスト）を形成し、ミラー基板全体をエッチングすることで曲率化できる。
【００４５】
この実施例１では、硝酸：１００ｃｃ＋酢酸：５ｃｃ＋フッ酸：２ｃｃの混合液をエッチング液として、室温で約３０秒間のエッチングを行った結果、およそ２μｍの曲率を得ることが出来た。このミラー基板を酸化して絶縁膜を形成した後に、Ａｌスパッタを行い膜厚０．３μｍのＡｌ膜を形成し、フォトリソ後、Ａｌエッチングしたが、Ａｌの段切れは発生しなかった。
【００４６】
（実施例２）
実施例２では、ミラー基板の段差部のテーパー角を２段階に変化させた構造とし、頂点の角度を大きくしたものである。すなわち、異方性エッチングで作製されたテーパーは基板の面方位＜１１１＞で作製される角度約５４°となるため、段差部の頂点部にもう一段の角度をつけるような構造とするものである。これにより、頂点の角度を大きくできて、この部分の段切れを防止できる。
【００４７】
ミラー基板の段差部の頂点のエッチングにはドライエッチング法を用いることができる。図４（ａ）に示すような段差部の頂点に対し、このドライエッチング法よって、ガス種，パワーをコントロールすることで、図４（ｂ）に示すような構造（段差部のテーパー角を２段階に変化させた構造）が得られる。なお、図４（ａ），（ｂ）において、符号１３はレジストマスクであり、詳細は、後述の実施例４に記載されている。
【００４８】
この実施例２では、具体的には、ＲＩＥによるエッチングを行っている。ガス種はＳＦ６＋Ｈ２の混合ガスを用いている。ＳＦ６にＨ２を混合させることで、テーパー角の浅いエッチングが実現できると共に、パワーを小さくすることで基板にかかるセルフバイアスを小さくできるため、等方性に近いエッチングが可能（図４（ａ）に示す矢印の方向からのエッチングが可能）となるので、２段階のテーパー形状の構造を作りこむことができる。
【００４９】
このような構造では、頂点の角度が浅くなるので、レジストの表面張力が優り、段切れを防止することが可能となる。
【００５０】
（実施例３）
実施例３では、ミラー基板の段差部の頂点を凹状の構造にしたものである。段差部の頂点を凹状にすることで、レジストの溜りを形成し、段切れを防止することができる。
【００５１】
ここで、頂点のエッチングには、実施例１に示したようにウエットエッチングを用いているが、実施例３では、実施例１と異なり、レジストマスクを施してからエッチングを行い、実施例１よりもエッチング時間を長く行っている。
【００５２】
レジストマスクの形成は実施例４で詳しく説明するが、図４（ａ）に示すような形状となり、ウエットエッチングを２分間行うことで、図５（ａ）に示すような形状が得られる。図５（ｂ）はレジストを塗布したときの断面図を模式的に表したものである。
【００５３】
レジストをスピンナーで塗布した場合には、図２（ａ）に示すように頂点部分のレジストは他より薄くしか塗布できず、乾燥が進むにつれて後退していくと考えられる。この実施例３のように段差部の頂点に凹形状を形成することによって、スピンナーでレジストを塗布した場合に頂点の凹部にレジストが溜ることでレジスト膜厚が薄くなることを防止でき、段切れを防止することができる。
【００５４】
（実施例４）
実施例４は、段差部の頂点をエッチングする際のレジストマスクを作製する方法に関するものである。
【００５５】
図３において、異方性エッチングが終了し、酸化膜７ａを除去した状態（図３（ｂ）の状態）からの工程を説明する。
【００５６】
この実施例４では、ミラー基板の裏側にレジストを適量滴下し、スピンナーにて余分なレジストを除去する。ここで、レジストにはネガレジスト（商品名：ＯＭＲ）で粘度が４５ｃｐのものを使用しているが、これよりも粘度が高いものでも使用可能である。また、スピンナーの回転数は３００ｒｐｍ〜５００ｒｐｍで〜１０秒程度回転させる。次に、室温で１時間乾燥させ、次いで、オーブンで９０℃−１時間乾燥させる。次に、ミラー面保護のためにレジストをミラー面に塗布することで、エッチングマスクが完成する。
【００５７】
スピンナーから取り出した状態では、図２（ａ）の状態であるが、室温乾燥・オーブン乾燥することで、図２（ｂ）の状態になり、セルフアラインで作製できる。
【００５８】
エッチングマスクの形状は、図２（ｂ）のようになるのが望ましく、頂点からマスク材までは１〜５μｍが望ましい。なお、ポジレジストはネガに比べて乾燥前後の後退量が大きくなるので不適当である。また、粘度が低いレジストでは、スピンナーの中心と外周では遠心力のかかり方が違うため面内バラツキが大きくなるという不具合が発生する。
【００５９】
この実施例４のように、ネガ型レジストを用いてスピンナーの回転数と乾燥時間及び乾燥温度をコントロールすることで、ミラー基板の段差部の頂点のエッチングマスクをセルフアラインで作製することが可能となる。
【００６０】
（実施例５）
実施例５では、実施例１〜実施例４のいずれかで作製した段切れ対策したもの（ミラー基板）にＡｌをスパッタしてパターニングする場合のレジストマスク作製に関するものである。
【００６１】
この実施例５では、Ａｌスパッタ後のウエハにネガレジストを適量滴下し、スピンナーで余分なレジストを除去する。このとき、レジストの粘度は４５ｃｐ〜８００ｃｐのものを用いて、スピンナー条件は３００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍの範囲で行う。すなわち、粘度が低い場合には、頂点の形状を改善しても部分的に段切れする場所が発生する場合があり、歩留まり低下につながり、また、粘度が高い場合には乾燥時間が長くなったり、膜厚が部分的に厚くなり（特に異方性エッチングで掘り込んだ場所等）露光時の現像不良が発生するので、レジストの粘度は上記の範囲で行なうことが重要である。スピンナー回転数も、同じような理由により、上記の範囲で行うことが重要である。
【００６２】
次に、室温で１時間自然乾燥させ、オーブンで９０℃−１時間乾燥した後、露光量１００〜２００ｍＪ／ｃｍ２（膜厚により調整）でＡｌパターンを転写する。
【００６３】
次に、現像・リンスを行い、最後に１３０℃−２０分間のベークを行い、マスクが完成する。
【００６４】
この実施例５で作製されたエッチングマスクは、膜厚がおよそ３〜１０μｍであり、段差部分は綺麗にマスキングされており、Ａｌエッチングを行っても段切れは発生していなかった。
【００６５】
【発明の効果】
以上に説明したように、請求項１乃至請求項４記載の発明によれば、ミラー基板のミラー面の形状が可変であって、ミラー基板の裏面の一部がエッチングにより薄く形成されて段差部を有している波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点の角を落とした構造を有しており、段差部頂点部分を段切れが発生しない構造としたことで、配線電極の段切れがなく、歩留まりを向上させることができる。
【００６６】
特に、請求項２記載の発明では、請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点に曲率を持たせたので、レジストの段切れがなく、配線電極を確実に作製することができる。
【００６７】
また、請求項３記載の発明では、請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部のテーパー角を２段階に変化させたので、レジストの段切れがなく、配線電極を確実に作製することができる。
【００６８】
また、請求項４記載の発明では、請求項１記載の波面収差補正ミラーにおいて、ミラー基板の裏面の前記段差部の頂点を凹状にしたので、レジストの溜りができ、レジストの段切れがなく、配線電極を確実に作製することができる。
【００６９】
また、請求項５記載の発明によれば、ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部が形成されるとき、該段差部の頂点をドライエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことで、ミラー基板の段差部に２段階のテーパー角を実現することができる。
【００７０】
また、請求項６記載の発明によれば、ミラー基板のミラー面の形状が可変な波面収差補正ミラーの製造方法において、ミラー基板の裏面の一部をエッチングにより薄く形成することで段差部が形成されるとき、該段差部の頂点をウエットエッチングにより加工して、段差部の頂点の角を落とすことで、ミラー基板の段差部の頂点を凹形状にすることができる。
【００７１】
また、請求項７記載の発明によれば、請求項５または請求項６記載の波面収差補正ミラーの製造方法において、エッチングマスクは、ネガレジストをスピンナー塗布によりセルフアライメントで作製するので（すなわち、請求項５または請求項６におけるレジストマスク作製をネガレジストでセルフアライメントで作製できるため）、工程の簡略化を図ることかできる。
【００７２】
また、請求項８記載の発明によれば、請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載の発明において、Ａｌパターニング時は、粘度４５ｃｐ〜８００ｃｐのネガレジストを用いて、スピンナーの回転数を３００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍにするので、Ａｌパターニング時のレジストマスクを確実に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】波面収差補正ミラーの一例を示す図である。
【図２】ミラー基板（６）の裏面の段差部の頂点部分でレジスト（１３）が段切れする様子を示す図である。
【図３】Ｍｅｍｂｒａｎｅ構造の波面収差補正ミラーの作製工程例を示す図である。
【図４】ミラー基板の段差部の頂点のエッチングを説明するため図である。
【図５】ミラー基板の段差部の頂点のエッチングをウェットエッチングで行なう場合を示す図である。
【符号の説明】
６          ウエハ
７ａ，７ｂ          酸化膜
４ｂ，５ｂ          配線電極
１３        レジストマスク
【図１】
2004151631.tif 000003
【図２】
2004151631.tif 000004
【図３】
2004151631.tif 000005
【図４】
2004151631.tif 000006
【図５】
2004151631.tif 000007