(57)【要約】【課題】高純度のエナミン類の製造方法を提供する。【解決手段】アルデヒド又はケトンと、アミンとを反応させる工程、及び、得られた反応混合物を０℃乃至３０℃で酸性水を用いて処理する工程を含有する、高純度のエナミン類の製造方法。【選択図】なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2004051638.tif 000006
（式中、Ｒ1及びＲ2は、同一若しくは異なって、それぞれ水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、又は、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基を示すか、或いは、Ｒ1及びＲ2は、一緒になってＣ1−Ｃ6アルキレン基を示し、置換基群αは水酸基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基、及びジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ基からなり、置換基群βはＣ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、及び、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基からなる。）を有する化合物と一般式（２）
Ｒ3−（ＮＨ）−Ｒ4　（２）
（式中、Ｒ3及びＲ4は、同一若しくは異なって、それぞれＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基又はＣ3−Ｃ6シクロアルキル基を示す。）を有する化合物を反応させる工程、及び、
当該工程により得られた反応混合物を０℃乃至３０℃で酸性水を用いて処理する工程を含有する、高純度の一般式（３）
【化２】
2004051638.tif 000007
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同意義を示す。）を有する化合物の製造方法。
【請求項２】
Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基又は置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基であるか、或いは、Ｒ1がＲ2と一緒になってＣ1−Ｃ6アルキレン基を形成している、請求項１に記載された方法。
【請求項３】
Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基又は置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基である、請求項１に記載された方法。
【請求項４】
Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ4アルキル基；水酸基、フッ素原子、塩素原子、メトキシ若しくはフェニルで置換されたＣ1−Ｃ4アルキル基；フェニル；ナフチル；又はフッ素原子、塩素原子、メチル若しくはメトキシで置換されたフェニルである、請求項１に記載された方法。
【請求項５】
Ｒ1が、メチル、プロピル又はベンジルである、請求項１に記載された方法。
【請求項６】
Ｒ2が、水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基又は置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基である、請求項１乃至５から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項７】
Ｒ2が、水素原子又はＣ1−Ｃ4アルキル基である、請求項１乃至５から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項８】
Ｒ2が、水素原子である、請求項１乃至５から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項９】
Ｒ3及びＲ4が、同一若しくは異なって、それぞれＣ2−Ｃ5アルキル基、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ基で置換されたＣ2−Ｃ5アルキル基、又はＣ4−Ｃ6シクロアルキル基である、請求項１乃至８から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項１０】
Ｒ3及びＲ4が、同一若しくは異なって、それぞれイソプロピル、イソブチル、イソペンチル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、２−エトキシエチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである、請求項１乃至８から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項１１】
Ｒ3及びＲ4がそれぞれイソブチルである、請求項１乃至８から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項１２】
酸性水のｐＨが２乃至６である、請求項１乃至１１から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項１３】
酸性水が希硫酸、希塩酸及び希硝酸から選択されるのような希薄な鉱酸の水溶液、又は、酢酸水溶液、蓚酸、炭酸、クエン酸及びリン酸水溶液から選択される有機酸の水溶液である請求項１乃至１１から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項１４】
酸性水が希硫酸又は酢酸水溶液である、請求項１３に記載された方法。
【請求項１５】
鉱酸の水溶液の濃度が１乃至１５ｗ／ｖ％であり、有機酸の水溶液の濃度が３乃至２０ｗ／ｖ％である、請求項１３又は１４に記載された方法。
【請求項１６】
鉱酸の水溶液の濃度が５乃至１０ｗ／ｖ％であり、有機酸の水溶液の濃度が５乃至１５ｗ／ｖ％である、請求項１３又は１４に記載された方法。
【請求項１７】
鉱酸の水溶液の濃度が６乃至８ｗ／ｖ％であり、有機酸の水溶液の濃度が８乃至１０ｗ／ｖ％である、請求項１３又は１４に記載された方法。
【請求項１８】
酸性水で処理するときの温度が０℃乃至１５℃である、請求項１乃至１７から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項１９】
酸性水で処理するときの温度が０℃乃至５℃である、請求項１乃至１７から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項２０】
一般式（１）を有する化合物と一般式（２）とを反応させる工程において脱水剤を用い、反応終了後、酸性水で処理する前に、０℃乃至３０℃で水を用いて処理することを特徴とする、請求項１乃至１９から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項２１】
脱水剤が硫酸マグネシウム、炭酸カリウム又は塩化カルシウムである、請求項２０に記載された方法。
【請求項２２】
水で処理する温度が０℃乃至１５℃である、請求項２０に記載された方法。
【請求項２３】
水で処理する温度が０℃乃至５℃である、請求項２０に記載された方法。
【請求項２４】
酸性水による処理に次いで、塩基性水による処理を行うことを特徴とする、請求項１乃至２３から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項２５】
塩基性水のｐＨが１３乃至１４である、請求項２４に記載された方法。
【請求項２６】
塩基性水が０．１乃至１０ｗ／ｖ％のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルカリ土類金属水酸化物の水溶液又は炭酸塩の水溶液である、請求項２４に記載された方法。
【請求項２７】
塩基性水が０．３乃至５ｗ／ｖ％のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルカリ土類金属水酸化物の水溶液又は炭酸塩の水溶液である、請求項２６に記載された方法。
【請求項２８】
塩基性水が０．５乃至３ｗ／ｖ％のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルカリ土類金属水酸化物の水溶液又は炭酸塩の水溶液である、請求項２６に記載された方法。
【請求項２９】
アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであり、アルカリ土類金属水酸化物が水酸化カルシウム又は水酸化バリウムであり、炭酸塩が炭酸水素ナトリウム又は炭酸カルシウムである、請求項２６乃至２８から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項３０】
塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至３０℃である、請求項２４乃至２９から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項３１】
塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至１５℃である、請求項２４乃至２９から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項３２】
塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至５℃である、請求項２４乃至２９から選択されるいずれか１項に記載された方法。
【請求項３３】
一般式（１）
【化３】
2004051638.tif 000008
（式中、Ｒ1及びＲ2は、同一若しくは異なって、それぞれ水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、又は、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基を示すか、或いは、Ｒ1及びＲ2は、一緒になってＣ1−Ｃ6アルキレン基を示し、置換基群αは水酸基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基、及びジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ基からなり、置換基群βはＣ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、及び、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基からなる。）を有する化合物と一般式（２）
Ｒ3−（ＮＨ）−Ｒ4　（２）
（式中、Ｒ3及びＲ4は、同一若しくは異なって、それぞれＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基又はＣ3−Ｃ6シクロアルキル基を示す。）を有する化合物を脱水剤の存在下に反応させる工程、及び、
当該工程により得られた反応混合物を０℃乃至３０℃で水を用いて処理する工程を含有する、高純度の一般式（３）
【化４】
2004051638.tif 000009
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同意義を示す。）を有する化合物の製造方法。
【請求項３４】
塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至３０℃である、請求項３３に記載された方法。
【請求項３５】
塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至１５℃である、請求項３３に記載された方法。
【請求項３６】
塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至５℃である、請求項３３に記載された方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、高純度のエナミン化合物を簡便に製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　エナミンは、αβ−不飽和アミンの総称であり、有機合成化学上きわめて有用な化合物である。一般的には、アルデヒド又はケトンと第二級アミンとの脱水縮合反応によって合成される。エナミンを合成する場合、アルデヒド又はケトン１当量と第二級アミン１当量を反応させるよりも、アルデヒド又はケトン１当量に対して１当量以上の第二級アミンを用いた方が反応が進みやすいことが一般的に知られている。このように、過剰量の第二級アミンを用いて反応させた場合、反応終了後に、目的物であるエナミンの他に第二級アミン残存する結果となる。こうして得られたエナミンは、精製されることなく、別の反応に供することができるが、例えば、エナミンとハロゲン化アルキルとの縮合反応を行う場合には、第二級アミンが反応を阻害するので、エナミンを精製する必要がある。エナミンを精製するための操作としては分留が一般的に知られているが、大量生産を意図した場合、分留のための設備が大掛かりになったり、高温で分留するとエナミンが分解されてしまうという欠点が存在する。
【０００３】
　また、エナミンは一般的に水に対する安定が乏しいことが知られており（例えば非特許文献１参照）、各種エナミンの加水分解速度（メカニズム）についても報告がある（非特許文献２、非特許文献３、及び非特許文献４参照）。
【非特許文献１】Barton S. D.; Ollis W. D. Comprehensive Organic Chemistry; Sutherland I.O. Ed.; Pergamon: New York, 1979; Vol. 2, Part 6
【非特許文献２】Journal of Organic Chemistry, 32, p.1111(1967)
【非特許文献３】Journal of Organic Chemistry, vol. 40, No. 5, p.607-614(1975)
【非特許文献４】Journal of the American Chemical Society, 82, p.4261-4270(1970)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
　本発明者等は、高純度のエナミンを製造する方法について鋭意研究を行った結果、特定の第二級アミンを採用して得られるエナミンが予想外に水に対して安定であることを見出し、更に、水（酸性水）を用いて処理するという簡便な操作で高純度のエナミンを製造することができることを見出して本発明を完成した。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
　本発明は、
（１）　一般式（１）
【０００６】
【化１】
2004051638.tif 000002
（式中、Ｒ1及びＲ2は、同一若しくは異なって、それぞれ水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、又は、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基を示すか、或いは、Ｒ1及びＲ2は、一緒になってＣ1−Ｃ6アルキレン基を示し、置換基群αは水酸基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基、及びジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ基からなり、置換基群βはＣ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、及び、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基からなる。）を有する化合物と一般式（２）
Ｒ3−（ＮＨ）−Ｒ4　（２）
（式中、Ｒ3及びＲ4は、同一若しくは異なって、それぞれＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基又はＣ3−Ｃ6シクロアルキル基を示す。）を有する化合物を反応させる工程、及び、
当該工程により得られた反応混合物を０℃乃至３０℃で酸性水を用いて処理する工程を含有する、高純度の一般式（３）
【０００７】
【化２】
2004051638.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同意義を示す。）を有する化合物の製造方法に関する。
【０００８】
　上記のうち、好適な方法は、
（２）Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基又は置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基であるか、或いは、Ｒ1がＲ2と一緒になってＣ1−Ｃ6アルキレン基を形成している方法、
（３）Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基又は置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基である方法、
（４）Ｒ1が、Ｃ1−Ｃ4アルキル基；水酸基、フッ素原子、塩素原子、メトキシ若しくはフェニルで置換されたＣ1−Ｃ4アルキル基；フェニル；ナフチル；又はフッ素原子、塩素原子、メチル若しくはメトキシで置換されたフェニルである方法、
（５）Ｒ1が、メチル、プロピル又はベンジルである方法、
（６）Ｒ2が、水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基又は置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基である方法、
（７）Ｒ2が、水素原子又はＣ1−Ｃ4アルキル基である方法、
（８）Ｒ2が、水素原子である方法、
（９）Ｒ3及びＲ4が、同一若しくは異なって、それぞれＣ2−Ｃ5アルキル基、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ基で置換されたＣ2−Ｃ5アルキル基、又はＣ4−Ｃ6シクロアルキル基である方法、
（１０）Ｒ3及びＲ4が、同一若しくは異なって、それぞれイソプロピル、イソブチル、イソペンチル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、２−エトキシエチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである方法、
（１１）Ｒ3及びＲ4がそれぞれイソブチルである方法、
（１２）酸性水のｐＨが２乃至６である方法、
（１３）酸性水が希硫酸、希塩酸及び希硝酸から選択されるのような希薄な鉱酸の水溶液、又は、酢酸水溶液、蓚酸、炭酸、クエン酸及びリン酸水溶液から選択される有機酸の水溶液である方法、
（１４）酸性水が希硫酸又は酢酸水溶液である方法。
（１５）鉱酸の水溶液の濃度が１乃至１５ｗ／ｖ％であり、有機酸の水溶液の濃度が３乃至２０ｗ／ｖ％である方法、
（１６）鉱酸の水溶液の濃度が５乃至１０ｗ／ｖ％であり、有機酸の水溶液の濃度が５乃至１５ｗ／ｖ％である方法、
（１７）鉱酸の水溶液の濃度が６乃至８ｗ／ｖ％であり、有機酸の水溶液の濃度が８乃至１０ｗ／ｖ％である方法、
（１８）酸性水で処理するときの温度が０℃乃至１５℃である方法、
（１９）酸性水で処理するときの温度が０℃乃至５℃である方法、
（２０）一般式（１）を有する化合物と一般式（２）とを反応させる工程において脱水剤を用い、反応終了後、酸性水で処理する前に、０℃乃至３０℃で水を用いて処理することを特徴とする方法、
（２１）脱水剤が硫酸マグネシウム、炭酸カリウム又は塩化カルシウムである方法、
（２２）水で処理する温度が０℃乃至１５℃である方法、
（２３）水で処理する温度が０℃乃至５℃である方法、
（２４）酸性水による処理に次いで、塩基性水による処理を行うことを特徴とする方法、
（２５）塩基性水のｐＨが１３乃至１４である方法、
（２６）塩基性水が０．１乃至１０ｗ／ｖ％のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルカリ土類金属水酸化物の水溶液又は炭酸塩の水溶液である方法、
（２７）塩基性水が０．３乃至５ｗ／ｖ％のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルカリ土類金属水酸化物の水溶液又は炭酸塩の水溶液である方法、
（２８）塩基性水が０．５乃至３ｗ／ｖ％のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルカリ土類金属水酸化物の水溶液又は炭酸塩の水溶液である方法、
（２９）アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであり、アルカリ土類金属水酸化物が水酸化カルシウム又は水酸化バリウムであり、炭酸塩が炭酸水素ナトリウム又は炭酸カルシウムである方法、
（３０）塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至３０℃である方法、
（３１）塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至１５℃である方法、及び
（３２）塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至５℃である方法
である。
【０００９】
　更に本発明は、
（３３）　一般式（１）
【００１０】
【化３】
2004051638.tif 000004
（式中、Ｒ1及びＲ2は、同一若しくは異なって、それぞれ水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、又は、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基を示すか、或いは、Ｒ1及びＲ2は、一緒になってＣ1−Ｃ6アルキレン基を示し、置換基群αは水酸基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基、及びジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ基からなり、置換基群βはＣ6−Ｃ14アリール基、置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基、及び、置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基からなる。）を有する化合物と一般式（２）
Ｒ3−（ＮＨ）−Ｒ4　（２）
（式中、Ｒ3及びＲ4は、同一若しくは異なって、それぞれＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基又はＣ3−Ｃ6シクロアルキル基を示す。）を有する化合物を脱水剤の存在下に反応させる工程、及び、
当該工程により得られた反応混合物を０℃乃至３０℃で水を用いて処理する工程を含有する、高純度の一般式（３）
【００１１】
【化４】
2004051638.tif 000005
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同意義を示す。）を有する化合物の製造方法に関する。
【００１２】
　上記のうち、好適な方法は、
（３４）塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至３０℃である方法、
（３５）塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至１５℃である方法、及び
（３６）塩基性水で処理するときの温度が０℃乃至５℃である方法
である。
　一般式（１）、（２）及び（３）において、
　Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及び置換基群αの定義における「Ｃ1−Ｃ6アルキル基」；Ｒ1及びＲ2の定義における「置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基」のアルキル部分；置換基群αの定義における「ジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ基」のアルキル部分；及び、Ｒ3及びＲ4の定義における「Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基」のアルキル部分は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル又は２−エチルブチルのような直鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり得、Ｒ1、Ｒ2、置換基群α、Ｒa及びＲbとしては、好適には、Ｃ1−Ｃ4直鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、更に好適には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル又はブチルであり、特に好適には、メチル、エチル又はプロピルであり、最適には、メチル又はプロピルである。Ｒ3及びＲ4としては、好適には、Ｃ3−Ｃ5直鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、更に好適には、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はイソペンチルであり、特に好適には、イソプロピル、イソブチル又はイソペンチルであり、最適には、イソブチルである。
【００１３】
　Ｒ1及びＲ2の定義における、「置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基」は、好適には、置換基群α及び置換基群βから選択される１乃至５個の基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基であり、更に好適には、置換基群α及び置換基群βから選択される１乃至３個の基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基である。
　Ｒ1、Ｒ2及び置換基群βの定義における「Ｃ6−Ｃ14アリール基」及び「置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基」のアリール部分は、例えば、フェニル、ナフチル、フェナンスリル又はアントラセニルであり得、好適には、フェニル又はナフチルであり、最適にはフェニルである。
【００１４】
　尚、上記「Ｃ6−Ｃ14アリール基」は、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル基（好適には、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキル基）と縮環していてもよく、そのような基としては、例えば、５−インダニルなどを挙げることができる。
【００１５】
　Ｒ1、Ｒ2及び置換基群βの定義における、「置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基」は、好適には、置換基群αから選択される１乃至４個の基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基であり、更に好適には、置換基群αから選択される１乃至３個の基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基であり、より更に好適には、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ及びエトキシからなる群から選択される１乃至３個の基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基である。
　Ｒ1、Ｒ2及び置換基群βの定義における「硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基」及び「置換基群αから選択される基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基」の「硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基」部分は、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル又はアゼピニルであり得、好適には、フリル、チエニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル又はピラジニルのような、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１若しくは２個含む５乃至６員ヘテロアリール基であり、更に好適には、ピリジル又はピリミジニルである。
【００１６】
　尚、上記「硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基」は、他の環式基［例えば、Ｃ6−Ｃ14アリール基（好適には、Ｃ6−Ｃ10アリール基）又はＣ3−Ｃ10シクロアルキル基（好適には、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキル基）］と縮環していてもよく、そのような基は、例えば、インドリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、キナゾリニル、テトラヒドロキノリル、又はテトラヒドロイソキノリルであり得る。
【００１７】
　Ｒ1、Ｒ2及び置換基群βの定義における、「置換基群αから選択される基で置換された、硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基」は、好適には、置換基群αから選択される１乃至３個の基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基であり、更に好適には、置換基群αから選択される１乃至２個の基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基であり、より更に好適には、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ及びエトキシからなる群から選択される１乃至２個の基で置換された硫黄原子、酸素原子及び／又は窒素原子を１乃至３個含む５乃至７員ヘテロアリール基である。
【００１８】
　Ｒ1及びＲ2が一緒になって示す「Ｃ1−Ｃ6アルキレン基」は、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメチレン、１，１−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、１，１−ジメチルトリメチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、１，２−ジメチルトリメチレン又はヘキサメチレンのような直鎖若しくは分枝鎖アルキレン基であり得、好適には、Ｃ2−Ｃ5直鎖若しくは分枝鎖アルキレン基であり、更に好適には、Ｃ3−Ｃ4直鎖アルキレン基であり、より更に好適にはトリメチレン又はテトラメチレンであり、最も好適にはテトラメチレンである。
【００１９】
　置換基群αの定義における「Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基」、及び、Ｒ3及びＲ4の定義における「Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基」のアルコキシ部分は、上記「Ｃ1−Ｃ6アルキル基」に酸素原子が結合した基であり、好適には、Ｃ1−Ｃ4直鎖若しくは分枝鎖アルコキシ基であり、更に好適には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ又はブトキシであり、特に好適には、メトキシ、エトキシ又はプロポキシである。
【００２０】
　Ｒ3及びＲ4の定義における「Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基」とは、好適には、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ基で置換されたＣ2−Ｃ5アルキル基であり、更に好適には、メトキシ、エトキシ若しくはプロポキシで置換されたエチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル若しくはイソペンチルであり、より更に好適には２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル又は２−エトキシエチルである。
【００２１】
　Ｒ3及びＲ4の定義における「Ｃ3−Ｃ6シクロアルキル基」とは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルであり得、好適には、Ｃ4−Ｃ6シクロアルキル基であり、更に好適には、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
　置換基群αの定義における「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好適には、フッ素原子又は塩素原子である。
【００２２】
　置換基群αの定義における「Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基」は、上記「Ｃ1−Ｃ6アルキル基」に硫黄原子が結合した基であり、好適には、Ｃ1−Ｃ4直鎖若しくは分枝鎖アルキルチオ基であり、更に好適には、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ又はブチルチオであり、特に好適には、メチルチオ、エチルチオ又はプロピルチオである。
　Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒa及びＲbのうち、好適な基は以下の通りである。
【００２３】
　Ｒ1は、好適には、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ6−Ｃ14アリール基又は置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基であるか、或いは、Ｒ1はＲ2と一緒になってＣ1−Ｃ6アルキレン基を形成し、更に好適には、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基であり、より更に好適には、Ｃ1−Ｃ4アルキル基；水酸基、フッ素原子、塩素原子、メトキシ若しくはフェニルで置換されたＣ1−Ｃ4アルキル基；フェニル；ナフチル；又はフッ素原子、塩素原子、メチル若しくはメトキシで置換されたフェニルであり、特に好適にはメチル、プロピル又はベンジルである。
【００２４】
　Ｒ2は、好適には、水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基又は置換基群α及び置換基群βから選択される基で置換されたＣ1−Ｃ6アルキル基であり、更に好適には、水素原子又はＣ1−Ｃ4アルキル基であり、特に好適には水素原子である。
【００２５】
　Ｒ3及びＲ4は、好適には、同一若しくは異なって、それぞれＣ2−Ｃ5アルキル基、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ基で置換されたＣ2−Ｃ5アルキル基、又はＣ4−Ｃ6シクロアルキル基であり、更に好適には、それぞれイソプロピル、イソブチル、イソペンチル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、２−エトキシエチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルであり、特に好適には、それぞれイソブチルである。
【００２６】
　置換基群αは、好適には、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル基、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ基、Ｃ1−Ｃ4アルキルチオ基及びジ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）アミノ基からなり、更に好適には、水酸基、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ及びジメチルアミノからなり、特に好適には、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ及びエトキシからなる。
【００２７】
　置換基群βは、好適には、Ｃ6−Ｃ14アリール基、及び置換基群αから選択される基で置換されたＣ6−Ｃ14アリール基からなり、更に好適にはＣ6−Ｃ10アリール基、及び置換基群αから選択される１乃至３個の基で置換されたＣ6−Ｃ10アリール基からなり、更に好適には、フェニル、及び、フッ素原子、塩素原子、メチル、エチル、メトキシ及びエトキシからなる群から選択される１乃至３個の基で置換されたフェニルからなる。
【００２８】
　本発明において「高純度の」とは、その純度が８０％以上（好適には、９０％以上、更に好適には、９５％以上）であることを意味し、例えば、ガスクロマトグラフィーを用いてピークエリア比をもとめることにより純度を確認することができる。
　一般式（１）の化合物と一般式（２）の化合物を反応させて一般式（３）の化合物を製造する反応は、エナミンを製造する周知の方法に準じて行われる［例えば、USP 3,481,939; Can.J.Chem. Vol. 68, 127-152(1990); 及びJ.Chem.Soc., Perkin Trans. 1, 3389-3396(2000)等］。
＜反応混合物から過剰のアミン（一般式（２）の化合物）を除去する方法＞
　１当量の上記一般式（１）の化合物に対して１当量以上の上記一般式（２）の化合物を反応させた場合には、反応混合物中には上記一般式（３）の化合物と一般式（２）の化合物が存在している。この反応混合物を酸性水で処理すること、即ち、この反応混合物に酸性水を加え、振盪又は５分間乃至2時間撹拌した後、水層を除去することにより、簡便に残存する一般式（２）の化合物を除去することができる。
【００２９】
　使用される酸性水は、例えば、希硫酸、希塩酸又は希硝酸のような希薄な鉱酸の水溶液、或いは、酢酸水溶液、蓚酸、炭酸、クエン酸又はリン酸水溶液のような有機酸の水溶液であり得、好適には、希硫酸又は酢酸水溶液である。具体的には、鉱酸の水溶液の場合は、１乃至１５ｗ／ｖ％（好適には、５乃至１０ｗ／ｖ％、更に好適には、6乃至８ｗ／ｖ％）の水溶液を用いることができ、有機酸の水溶液の場合は、３乃至２０ｗ／ｖ％（好適には、５乃至１５ｗ／ｖ％、更に好適には、８乃至１０ｗ／ｖ％）の水溶液を用いることができる。また、一般的に、ｐＨ１乃至７（好適には、２乃至６）の酸性水を用いることができる。
【００３０】
　酸性水の添加、及び、振盪又は撹拌は、０℃乃至３０℃（好適には０℃乃至１５℃、更に好適には０℃乃至５℃）で行われる。
【００３１】
　尚、エナミンの分子量が大きい場合、処理を行う温度において、エナミンが固体であったり、流動性が低い場合がある。そのような場合は、処理前に、反応混合物にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン又はヘキサンのような非水溶性非プロトン性溶媒を加えることにより、処理を行うことができる。
　上記のように反応混合物を酸性水で処理した後、所望により、塩基性水で処理することができる。
【００３２】
　使用される塩基性水は、エナミンを分解しないものであれば限定はないが、例えば、希水酸化ナトリウム水溶液又は希水酸化カリウム水溶液のような希薄なアルカリ金属水酸化物の水溶液、希水酸化カルシウム水溶液のような希薄なアルカリ土類金属水酸化物の水溶液、或いは、炭酸水素ナトリウム又は炭酸カルシウムのような炭酸塩の水溶液であり得、好適には希水酸化ナトリウム水溶液又は希水酸化カリウム水溶液である。具体的には、０．１乃至１０ｗ／ｖ％（好適には、０．３乃至５ｗ／ｖ％、更に好適には、０．５乃至３ｗ／ｖ％）の水溶液を用いることができる。また、一般的に、ｐＨ７乃至１４（好適には、１３乃至１４）の塩基性水を用いることができる。
【００３３】
　「塩基性水で処理」とは、塩基性水を添加し、振盪又は５分間乃至２時間撹拌することを意味し、０℃乃至３０℃（好適には、０℃乃至１５℃、更に好適には、０℃乃至５℃）で実施される。
【００３４】
　尚、エナミンの分子量が大きい場合、処理を行う温度において、エナミンが固体であったり、流動性が低い場合がある。そのような場合は、処理前に、反応混合物にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン又はヘキサンのような非水溶性非プロトン性溶媒を加えることにより、処理を行うことができる。
＜反応混合物から脱水剤を除去する方法＞
　上記一般式（１）の化合物と上記一般式（２）の化合物とを脱水剤の存在下に反応させ、反応終了後に反応混合物から脱水剤を除去する場合には、反応混合物を水で処理すること、即ち、反応混合物に、脱水剤を溶解するのに十分な量の水（又は氷水）を加え、振盪又は５分間乃至２時間撹拌した後、水層を除去することにより、簡便に脱水剤を除去することができる。
【００３５】
　この場合に使用される脱水剤は、エナミンの製造の際に通常脱水剤として使われ、水に溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム又は塩化カルシウムであり得、好適には硫酸マグネシウムである。
【００３６】
　水（又は氷水）の添加、及び、振盪又は撹拌は、０℃乃至３０℃（好適には０℃乃至１５℃、更に好適には０℃乃至５℃）で行われる。
【００３７】
　尚、エナミンの分子量が大きい場合、処理を行う温度において、エナミンが固体であったり、流動性が低い場合がある。そのような場合は、処理前に、反応混合物にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン又はヘキサンのような非水溶性非プロトン性溶媒を加えることにより、処理を行うことができる。
【発明の効果】
【００３８】
　本発明により、高純度のエナミンを容易に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
　以下に実施例をあげて本発明をより詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００４０】
[実施例１]
【００４１】
　Ｎ，Ｎ−ビス（２−メチルプロピル）−１−プロペニルアミン
　窒素気流下、硫酸マグネシウム１５．１ｇのジイソブチルアミン１０７．３ｇ懸濁液に、０−１０℃で、プロピオンアルデヒド２４．８ｇを滴下し、１０−１５℃で１．５時間攪拌した。氷冷後、水９０ｍＬを加えて撹拌し硫酸マグネシウムを溶解させた。水層を除去し、得られた有機層に、０−５℃で、８（ｗ／ｖ）％硫酸水溶液３００ｍＬを加え、１０分間撹拌した。水層を除去し、得られた有機層に、０−５℃で、０．５（ｗ／ｖ）％水酸化ナトリウム水溶液９０ｍＬを加え、１０分間撹拌した。水層を除去し、目的化合物を無色油状物として５７．０ｇ（収率７６％、純度９６．７％）得た。
Ｈ1−核磁気共鳴スペクトル（400MHz、CDCl3）δppm：0.84 (d, J=6.6Hz, 12H), 1.61 (d, J=6.3Hz, 3H), 1.83-1.93 (m, 2H), 2.67 (d, J=7.3Hz, 4H), 3.92-4.00 (m, 1H), 5.90 (d, J=13.8Hz, 1H)。
[実施例２]
【００４２】
　Ｎ，Ｎ−ビス（２−メチルプロピル）−１−プロペニルアミン
　窒素気流下、硫酸マグネシウム１０．１ｇのジイソブチルアミン７２．２ｇ懸濁液に、０−１０℃で、プロピオンアルデヒド１６．４ｇを滴下し、１０−１５℃で１．５時間攪拌した。氷冷後、水６０ｍＬを加えて撹拌し硫酸マグネシウムを溶解させた。水層を除去し、得られた有機層に、０−５℃で、９（ｗ／ｖ）％酢酸水溶液２００ｍＬを加え、１０分間撹拌した。水層を除去し、得られた有機層に、０−５℃で、０．５（ｗ／ｖ）％水酸化ナトリウム水溶液６０ｍＬを加え、５分間撹拌した。水層を除去し、目的化合物を無色油状物として４２．５ｇ（収率８１％、純度９５．３％）得た。
【００４３】
　得られた化合物のＨ1−核磁気共鳴スペクトルは、実施例１のものと実質的に同じ結果であった。
[実施例３]
【００４４】
　Ｎ，Ｎ−ビス（２−メチルプロピル）−１−ペンタニルアミン
　窒素気流下、硫酸マグネシウム１０．１ｇのジイソブチルアミン７２．０ｇ懸濁液に、０−５℃で、吉草酸アルデヒド２４．６ｇを滴下し、１０−１５℃で１時間攪拌した。氷冷後、水６０ｍＬを加えて撹拌し硫酸マグネシウムを溶解させた。水層を除去し、得られた有機層に、０−５℃で、９（ｗ／ｖ）％酢酸水溶液２００ｍＬを加え、５分間撹拌した。水層を除去し、得られた有機層に、０−５℃で、０．５（ｗ／ｖ）％水酸化ナトリウム水溶液６０ｍＬを加え、５分間撹拌した。水層を除去し、目的化合物を無色油状物として５１．３ｇ（収率８０％、純度９３．８％）得た。
Ｈ1−核磁気共鳴スペクトル（400MHz、CDCl3）δppm：0.84 (d, J=6.6Hz, 12H), 0.86 (t, J=7.3Hz, 3H), 1.26-1.35 (m, 2H), 1.83-1.94 (m, 2H), 2.68 (d, J=7.3Hz, 4H), 3.93-4.00 (m, 1H), 5.88 (d, J=13.7Hz, 1H)。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
　本発明により、高純度のエナミンを容易に製造することができる。