(57)【要約】      （修正有）【課題】建物または土木建造物の内部表面または様々な設備、備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法およびシステムを提供する。【解決手段】建物もしくは土木建造物の内部表面、また設備、備品の表面を恒常的にまたは間欠的に加温して、表面近傍の雰囲気の相対湿度を、カビを発育させない相対湿度まで恒常的にまたは間欠的に低下させるために、表面を加温または加熱するための手段１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・、表面近傍の温度を測定するための温度センサ−１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，・・・、表面近傍の湿度を測定するための湿度センサ−１６、およびこれらのセンサ−でそれぞれ測定された温度および湿度を処理して、加熱するための手段によって加表面の温度を制御するための制御用コンピュ−タ−１４を備えているシステム１１。【選択図】  図４
2004300808.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、前記表面を加温して、前記表面近傍の雰囲気の相対湿度を、カビを発育させない相対湿度まで恒常的に低下させることを特徴とする、前記防止方法。
【請求項２】
建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、前記表面を間欠的に加温して、前記表面近傍の雰囲気の相対湿度を、カビを発育させない相対湿度まで間欠的に低下させることによって、発育段階にあるカビの発育を中断させることを特徴とする、前記防止方法。
【請求項３】
建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、カビを発育させない温度まで前記表面を間欠的に加熱することによって、発育段階にあるカビの発育を中断させることを特徴とする、前記防止方法。
【請求項４】
建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、前記表面を加温して、前記表面近傍の表面雰囲気の相対湿度を、好湿性のカビを発育させない相対湿度まで恒常的に低下させるとともに、前記表面を間欠的に加温して、前記表面近傍の雰囲気の相対湿度を、カビを発育させない相対湿度まで間欠的に低下させることによって、発育段階にあるカビの発育を中断させることを特徴とする、前記防止方法。
【請求項５】
前記の加温または加熱が面発熱体によって遂行される請求項１ないし４のいずれかに記載された防止方法。
【請求項６】
前記面発熱体の発熱部分が、導電性塗料の発熱性塗膜またはプラスチック発熱体によって構成されている、請求項５記載の防止方法。
【請求項７】
建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止するシステムであって、前記表面を加温または加熱するための手段、前記表面近傍の雰囲気の温度を測定するための温度センサ−、前記表面近傍の雰囲気の湿度を測定するための湿度センサ−、およびこれらのセンサ−でそれぞれ測定された温度および湿度を処理して、前記加温または加熱するための手段によって加温または加熱される前記表面の温度を制御するための制御用コンピュ−タ−を具えていることを特徴とする前記防止システム。
【請求項８】
前記加温または加熱するための手段が面発熱体である、請求項７記載の防止システム。
【請求項９】
前記面発熱体の発熱部分が、導電性塗料の発熱性塗膜またはプラスチック発熱体によって構成されている、請求項８記載の防止システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、建物または土木建造物の内部表面でカビが生え易い様々な場所の表面または建物または土木建造物の中に置かれた様々な設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法およびシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
建物および、例えば地下通路のような土木建造物の中は一般に湿気が籠もり易い上に、これらの建物または土木建造物の中では温度および湿度の変動が屋外よりも小さくて、屋外よりもカビが生育し易い環境にあるため、この建物または土木建造物の内部の様々な表面および建物または土木建造物の中に置かれた種々の設備や備品の表面は、その表面の温度およびこの表面を囲む雰囲気の温度および相対湿度に依存して、一般にカビが生え易い環境にある。
【０００３】
なかでも、多量の水や水蒸気が発生したり、あるいは大量の水、お湯または水蒸気を扱う場所、例えば、食品を製造または加工する食品工場、酒、ビ−ル、ワイン、味噌、醤油等の醸造製品を製造する醸造工場、化粧品工場、製薬工場、製紙工場、染色工場、室内プ−ル、公衆浴場、温泉施設、調理場の壁面や天井、およびこれらの場所に設置された機器類等の様々な設備や備品は、カビの生育を促す環境に曝されるため、それらの表面はカビで汚染され易い。
【０００４】
このような工場または施設等の建物内は元々水分が豊富であるために、空調で室内の相対湿度を下げることによって、それらの壁面、天井または建物内の設備や備品の表面でカビが発生するのを防ぐことは困難であり、これらの壁面、天井または表面を結露しないような環境にすれば、これらの壁面や天井等がカビで汚染されるのは防止できると考えられていた場合が従来多かったけれども、結露の防止だけではカビの発生を防ぐことはできない。
【０００５】
このような建物内でカビの繁殖を防止する従来の方法として、紫外線の照射、殺菌消毒剤の散布および清掃と防カビ剤入り塗料の塗布がある。このうち、紫外線の照射は、それが直接当たらない場所には効果がなく、殺菌消毒剤の散布では、この消毒剤に毒性があるために、その取扱や残留毒性等について煩わしさや安全性に問題があり、また清掃と防カビ剤入り塗料の塗布は、人手に頼るために人件費が嵩むという問題がある。
【０００６】
また、建物が様々な物品を保管するのに利用される倉庫である場合には、それが空調のない常温倉庫であると、外気湿度が高い時期では好乾性のカビや耐乾性のカビ（貯蔵カビ）がこの倉庫内で徐々に発育を続けていくことによって、例えば、その壁面がこれらのカビで汚染されている場合には、倉庫内の保管物が入れ代わるごとに、その保管物に対してカビによる二次汚染が起こる。
【０００７】
地下室や地下通路のような土木建造物においても、その内部の様々な場所でカビが発生する場合があって、特に夏季はその内部雰囲気の温度が外気よりも低温になるため、絶対湿度の高い外気がその内部に侵入すると、その地下室や地下通路の、例えば内部壁面近傍の雰囲気の相対湿度が上昇し、また、これらの地下室や地下通路の内部が冷房されていると、前記壁面の温度は一層下がって外気との温度差が大きくなる結果、これらの内部に外気が侵入すると、壁面近傍の雰囲気の相対湿度が更に上昇して、この壁面でカビが発生し易くなる。
【０００８】
オフィスビルのような大きな建物では大型の空調設備が備えられて、その空調設備に設けられているフィルタ−は大きいなゴミは除去できても、カビの微細な胞子は除去できない。そのため、この胞子は建物内部に侵入して壁面に付着し、そこの壁面が冬季に冷たい外気の影響を受けて温度が低下したり、あるいは片寄った空調のために壁面の一部の温度が低下することによって、これらの壁面近傍の雰囲気で相対湿度の上昇があると、前記壁面に付着した胞子が発育を始めるので、この壁面はカビで汚染され易い状況になる。
【０００９】
一般住宅では防カビ剤入りの壁紙やホルムアルデヒドを含浸させた建材を壁面等に用いて、その壁面でカビが発生するのを防止しているが、このホルムアルデヒドや防カビ剤および建材や内装で用いられている揮発性の有機物質が居住者の健康を害して、これらの化学物質に起因する過敏症が近年では顕著になってきている。
【００１０】
そのため、化学物質を用いるカビの防止は避けられる傾向にあって、現在では室内の除湿によるカビの防止の方に関心が向いている。しかし、この除湿でも、壁から離れた場所では、その場所の雰囲気の相対湿度を低く抑えることはできても、壁に近い隅々の雰囲気までその相対湿度を十分に低くすることは建物の種類、構造または季節等の条件によっては容易でない場合がある。したがって一般住宅の壁面がカビで汚染されるのを防止するためには、除湿は必ずしも有効とは言えず、特に冬季ではそれの防止効果は期待できない。
【００１１】
常に多量のお湯や水蒸気に曝される住宅の浴室で高頻度で発見されるエクソフィアラ（Ｅｘｏｐｈｉａｌａ  ｓｐｐ．）等の病原性のカビは清掃によって除去され、また、浴室でカビが発生するのを防止するために、浴室用の乾燥機を用いることもあるが、浴室の隅々や排水口近くまでは乾燥が十分に行き届かない上に、清掃してもカビが残留し易いので、このような場所でカビの発生を防ぐのは困難である。
【００１２】
水に曝される洗濯機の洗濯槽はクラドスポリウム（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ  ｓｐｐ．）、エクソフィアラ（Ｅｘｏｐｈｉａｌａ  ｓｐｐ．）またはフィアロフォラ（Ｐｈｉａｌｏｐｈｏｒａ  ｓｐｐ．）等によって汚染されることが知られており、これらのカビがアトピ−性皮膚炎と関連していることが示唆されている。これらのカビの汚染に気づいた時にはクリ−ナ−等を使用してカビの除去が図られるけれども、この汚染は洗濯槽の裏側のような見え難い部分に多く、気付かれないまま放置される場合が多い。
【００１３】
様々な場所で生鮮食品を保管するために使われる冷蔵庫や冷凍庫では、これらの扉が開かれる度に、その冷蔵庫や冷凍庫の中に外気が侵入して、外気の絶対湿度が高くなる夏季には、扉付近の壁面は外気中の水分の影響を受けてカビが発生し易い環境となり、特に大型の冷蔵倉庫や冷凍倉庫ではこのような環境が顕著に生じて、出入口付近の壁面におけるカビの汚染が問題になる。
【００１４】
冷房期間中に空調機の内部がカビで汚染されることは一般に知られるようになったため、近年では冷房が終わった後で、その内部の乾燥が行われるようになってきたが、ドレン水が流入する水受け皿のような場所までは乾燥が行き届かないため、このような場所においてはカビの汚染を防ぐことができず、増殖したカビによって排水口が詰まって水漏れが起こる場合もある。
【００１５】
空調用のダクトが配管されている場合は、夏季の冷房時にそのダクトの内部でカビが繁殖し易く、そしてそれの熱交換器付近では好湿性のカビが繁殖し易く、熱交換器から離れた所では好乾性のカビが繁殖し易い。
【００１６】
カビが発生し易い空調用のダクト内部壁面でカビの繁殖を防止するには、この壁面に紫外線を照射するという方法があるけれども、この紫外線が直接当たらない場所に対してはこの照射は効果がない。空調機の空気流入口にフィルタ−を設けても、このフィルタ−ではカビの胞子は除去されないで、この胞子はダクトの中に侵入する。
【００１７】
上記のダクト内部壁面でカビが繁殖するのを防止するために、このダクト内部壁面を定期的に清掃するのが精々最良の方法であって、この壁面でカビの発生を完全に抑制する方法はない。このダクトは定期的に清掃されない場合もあり、また、清掃できない場合もあって、ダクトの内部はカビで汚染され易い状況に曝されている。クリ−ンル−ムではダクトの内部にホルムアルデヒドガスのような殺菌性のガスを流してその内部のカビを滅菌することができるが、オフィスビル、学校、病院等の人が居る場所に対してはこのような有毒ガスによる滅菌方法を採用することはできない。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、上記のようなカビが繁殖し易い様々な場所がカビで汚染されるのを有効に防止できる便利な方法およびシステムの開発が望まれていた。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような問題に鑑みて発明されたもので、
１．建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、前記表面を加温して、前記表面近傍の雰囲気の相対湿度を、カビを発育させない相対湿度まで恒常的に低下させることを特徴とする、前記防止方法、
２．建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、前記表面を間欠的に加温して、前記表面近傍の雰囲気の相対湿度を、カビを発育させない相対湿度まで間欠的に低下させることによって、発育段階にあるカビの発育を中断させることを特徴とする、前記防止方法、
３．建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、カビを発育させない温度まで前記表面を間欠的に加熱することによって、発育段階にあるカビの発育を中断させることを特徴とする、前記防止方法、
４．建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止する方法であって、前記表面を加温して、前記表面近傍の表面雰囲気の相対湿度を、好湿性のカビを発育させない相対湿度まで恒常的に低下させるとともに、前記表面を間欠的に加温して、前記表面近傍の雰囲気の相対湿度を、カビを発育させない相対湿度まで間欠的に低下させることによって、発育段階にあるカビの発育を中断させることを特徴とする、前記防止方法、および
５．建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを防止するシステムであって、前記表面を加温または加熱するための手段、前記表面近傍の雰囲気の温度を測定するための温度センサ−、前記表面近傍の雰囲気の湿度を測定するための湿度センサ−、およびこれらのセンサ−でそれぞれ測定された温度および湿度を処理して、前記加温または加熱するための手段によって加温または加熱される前記表面の温度を制御するための制御用コンピュ−タ−を具えていることを特徴とする前記防止システム、
を提供するものである。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明は、特許請求の範囲で規定されている場所、すなわち、建物もしくは土木建造物の壁面や天井等の内部表面およびこの建物もしくは土木建造物内に置かれた空調設備、冷蔵庫または冷凍庫のような設備および様々な機器や書庫、ロッカ−、机等の備品の表面を包含する、建物もしくは土木建造物内のあらゆる表面（以下、これらの表面を総称して、単に表面ともいい、また、これらの表面近傍の雰囲気を単に表面雰囲気ともいう。）に対して適用される。
【００２１】
なお、上記の「表面近傍の雰囲気」、すなわち「表面雰囲気」とは、表面に付着したカビの胞子に接触しているか、またはこの胞子から発芽して空気中に立ち上がっている気中菌糸に接触している空気環境を意味している。
【００２２】
カビが発育するのは、そのカビが何かに付着している場合であって、空中に浮遊している場合ではないので、カビによる汚染は上記の表面で生じ、したがって本発明におけるようなカビの汚染を扱う場合には、前記表面から離れた場所の空気環境は問題とはならないで、カビの胞子や菌糸と直接接触する上記のような空気環境が問題となる。
【００２３】
前記１の防止方法、すなわち請求項１に係わる防止方法は、前記表面雰囲気の相対湿度を下記のような種々の好湿性、中湿性および好乾性のカビを包含する全てのカビが発育しない相対湿度にすることによってカビの汚染を防止する方法であって、表面雰囲気の相対湿度をこのような相対湿度にするために、適宜の加温手段でこの表面雰囲気を連続的に加温する。
【００２４】
アルタナリア（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｓｐｐ．）、大部分のクラドスポリウム（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍｓｐｐ．）  、フザリウム（Ｆｕｓａｒｉｕｍ  ｓｐｐ．）、リゾ−プス（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ  ｓｐｐ．）、ムコ−ル（Ｍｕｃｏｒ  ｓｐｐ．）  、グリオクラディウム（Ｇｌｉｏｃｌａｄｉｕｍ  ｓｐｐ．）  、トリコデルマ（Ｔｒｉｃｈｏｄｅｒｍａ  ｓｐｐ．）  およびミロセシウム（Ｍｙｒｏｔｈｅｃｕｉｕｍ  ｓｐｐ．）のような好湿性のカビは一般に相対湿度８８％以上の雰囲気で発育し、大部分のアスペルギルス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｓｐｐ．）  、大部分のペニシリウム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ  ｓｐｐ．）  および一部のクラドスポリウム（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ  ｓｐｐ．）  のような中湿性のカビは一般に相対湿度７８％以上の雰囲気で発育し、そして一部のアスペルギルス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｓｐｐ．）  、一部のペニシリウム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ  ｓｐｐ．）  、ユ−ロチウム（Ｅｕｒｏｔｉｕｍ  ｓｐｐ．  ）およびワレミア（Ｗａｌｌｅｍｉａ  ｓｐｐ．）のような好乾性のカビは一般に相対湿度６８％以上の雰囲気で発育する。
【００２５】
したがって、好湿性のカビだけを発育させない相対湿度としては８５％以下、好湿性のカビと中湿性のカビを発育させない相対湿度としては７５％以下、そして全てのカビを発育させない相対湿度としては、一般に６５％以下の相対湿度が推奨される。
【００２６】
なお、本発明においては、便宜上、それぞれ、相対湿度８８％以上の雰囲気で発育するカビを好湿性のカビ、相対湿度７８％以上の雰囲気で発育するカビを中湿性のカビ、そして相対湿度６８％以上の雰囲気で発育するカビを好乾性のカビと称することにする。
【００２７】
前記表面雰囲気の相対湿度を６５％以下にするためには、その表面雰囲気における温度上昇幅は一般に８℃以下でよく、例えば、温度５℃・相対湿度１００％の雰囲気は、表面雰囲気の温度を６．３℃上昇させれば、その雰囲気の相対湿度は６５％になり、また、２５℃・相対湿度１００％の雰囲気は、表面雰囲気の温度を７．４℃上昇させれば、その雰囲気の相対湿度は６５％になることは、湿り空気の性質に関する計算式から算出され、また、既に一般に知られている湿り空気線図から読み取ることもできる。
【００２８】
前記２の防止方法、すなわち請求項２に係わる防止方法は、適宜の加温手段で表面雰囲気を間欠的に温めて、それの相対湿度をカビの発育が停止する相対湿度まで間欠的に低下させることによってカビの汚染を防止する方法であって、好湿性、中湿性または好乾性のいずれのカビであっても、発育を開始している胞子や発育途中の菌糸の発育は止まって、カビの生活史が中断するという考え方に基づいている。
【００２９】
カビの生活史が中断された場合、この生活史の中断は、その中断後の発育状態によって、次の１）  〜３）  の３つのタイプ、すなわち、
１）  胞子または菌糸の発育が一時的に停止して、表面雰囲気がカビの発育可能な雰囲気に戻ったときに、その胞子または菌糸が発育を再開する状態になる、生活史の中断、
２）  胞子の発育が停止して、この胞子が発育開始前の状態に戻り、そしてその戻った最初の状態から発育を開始する、胞子発育がリセットされる生活史の中断、および
３）  一切の発育が再開しないでカビが枯死した状態になる、生活史の中断、
に分けることができる。
【００３０】
前記２の防止方法によってもたらされる生活史の中断が上記３つのタイプのどれに帰着するかは、この方法が実施されるまでにカビが発育可能であった雰囲気の相対湿度と、この方法が実施されることによって達成される、カビの発育が不可能になる相対湿度、すなわち処理湿度がそれぞれどの程度であるかということによって左右されるが、一般にこの処理湿度が低いほどカビは枯死し易く、処理湿度が余り低くないと、発育が一時停止する状態になり易い。また、好乾性のカビの場合は、カビが発育していた雰囲気の相対湿度が高ければ高いほど、カビは上記の低湿度処理によって益々枯死し易くなる。
【００３１】
生活史が中断されて発育がリセットされる場合は、その中断前の発育は、それ以後のカビの繁殖にとって役に立たなくなるので、このリセットが繰り返されると、結局胞子の発芽と、それに続く菌糸の伸長は阻止される。
【００３２】
上記の枯死は多くの場合、５０％以下の処理湿度で起こるが、これよりも処理湿度が高くても、カビの種類によっては枯死する。
【００３３】
下記の表１は、培養温度２５℃および培養相対湿度９３．６％または９９．２％において生育状態にある菌糸に対して、６時間にわたり相対湿度をそれぞれ６１．８％、４３．２％および２２．５％とする低湿度処理を施した場合に得られた、菌糸の生存状況を示したものである。
【００３４】
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2004300808.tif 000004
2004300808.tif 000005
表１に示されるように、多くのカビ菌糸は相対湿度６１．８％〜２２．５％に至るような相対湿度低減処理によって枯死し、また、このような相対湿度低減処理で枯死し難いアルタナリアやクラドスポリウムは、相対湿度７８％未満の雰囲気中では枯死しなくても発育はしない。一方、相対湿度７８％未満の雰囲気中でも発育する大部分のカビの菌糸はこの相対湿度低減処理ですべて枯死して、そのカビの胞子の着生も止むので、このような大部分のカビによる汚染は、表面雰囲気の相対湿度を間欠的に低下させるという請求項２の方法によって防止することができる。
【００３５】
また、上記のアルタナリアやクラドスポリウムのようなカビでは、その胞子が休眠状態にあれば相対湿度低減処理は無効であるけれども、その胞子が休眠状態を脱して発育を開始していれば、この胞子内部における発芽に至る前の発育は上記の相対湿度低減処理に出会う度に止められて発育がリセットされ、この相対湿度低減処理が高頻度で繰り返されると、その胞子が発芽して菌糸を生ずるという事態は避けられるので、これらのカビによる汚染も請求項２の方法によってかなり抑えることができる。
【００３６】
菌糸を枯死させるのに必要な相対湿度まで表面雰囲気の相対湿度を低下させるための相対湿度の幅は、放置された雰囲気の相対湿度により左右されて、一般に２０〜５０％になるが、それに応じて上昇させるべき壁面温度の幅が５〜１３℃になるなることは前記の湿り空気線図から読み取ることができる。
【００３７】
上記の相対湿度低減処理の持続期間は、この処理中に達成されている相対湿度が、例えば５％のように低い場合には一般に１５分間で十分であり、また、達成されている相対湿度が６０％のように余り低くない場合には一般に６時間程度が必要になる。
【００３８】
或る相対湿度低減処理とその次の相対湿度低減処理との間の放置期間は、その処理前のカビの発育期間中に曝されていた前記表面雰囲気の相対湿度およびこの処理期間中に達成されている相対湿度に依存して異なってくるが、一般に３時間ないし１か月が適当である。
【００３９】
表面雰囲気の相対湿度を、カビを生育させない相対湿度まで間欠的に低下させる相対湿度低減処理においても、この表面雰囲気の温度を上昇させるには、下記に述べるような適宜の加温手段が利用される。
【００４０】
前記３の防止方法、すなわち請求項３に係わる防止方法は、壁面をカビが熱で死滅するほどの温度まで適宜の加熱手段で間欠的に加熱することによって、その壁面がカビで汚染されることを防止する方法であって、カビが好湿性、中湿性または好乾性のいずれであっても、殆どのカビは発育段階の時期に６０℃以上という高温に曝されると、そのカビの菌糸も胞子も死滅して、カビの生活史が中断されるという事実を利用している。
【００４１】
したがって、表面の温度を間欠的に加熱する請求項３の方法を用いれば、放置期間中に表面に付いたカビが菌糸を伸ばしたり、あるいはその菌糸に胞子を着生しても、これらの菌糸および胞子は上記の間欠的な加熱処理に出会うことによって熱死するので、この間欠的な加熱処理を繰り返す請求項３の方法は、カビによる壁面の汚染を防止することができる。
【００４２】
上記の加熱処理の持続期間は、その処理によってもたらされる温度およびカビの種類によって左右されるが、例えば、前記の高温が１２０℃である場合には一般に１分間で十分であり、またこの高温が６０℃のように低い場合には一般に３０分間程度になる。
【００４３】
或る加熱処理とその次の加熱処理との間の放置期間は、前記表面雰囲気の相対湿度によって異なるが、一般に３時間ないし１か月間が適当である。
【００４４】
前記４の防止方法、すなわち請求項４に係わる防止方法は、前記１の方法と前記２の方法とを組み合わせた方法に類似している。
【００４５】
すなわち、この防止方法においでは、適宜の加温手段で表面を温めて、その表面雰囲気の相対湿度を、全てのカビではなく、好湿性のカビだけを発育させない相対湿度、例えば８５％以下の相対湿度まで低下させるという相対湿度低減処理を常に持続させながら、適宜の加温手段による表面の加温で、その表面雰囲気の相対湿度を、中湿性および好湿性のカビを発育させない相対湿度まで間欠的に低下させるという相対湿度低減処理を遂行する。
【００４６】
したがって、この方法によれば、好湿性のカビだけを発育させない前者の恒常的な相対湿度低減処理においては、後者の間欠的な相対湿度低減処理では枯死し難いアルタナリアやクラドスポリウムのような好湿性のカビの発育が抑制され、また、後者の相対湿度低減処理においては、この好湿性のカビ以外のカビの発育が阻止されるので、前記４の防止方法は、カビの汚染に対して前記２の方法よりも徹底した防止効果を発揮することができる。
【００４７】
前記の好湿性のカビを発育させない相対湿度にある表面雰囲気の環境では菌糸の伸長速度は遅くなるので、相対湿度低減処理は通常週に一度組み込めばよく、その期間は一般に１〜６時間で十分である。
【００４８】
以上の防止方法においては、壁面を加温または加熱するためには、例えば、面発熱体、熱線等の放射線を壁面に当てる輻射による加熱手段、熱風、電熱線または熱交換器のような加熱体による直接または間接的な加熱手段のような適宜の加熱手段を採用することができ、好ましくは面発熱体が用いられる。
【００４９】
この面発熱体としては、例えば、導電性塗料の発熱性塗膜や、プラスチック発熱体のシ−トを、絶縁性塗料の塗膜や絶縁性のシ−トで覆うことによって構成される面発熱体が好ましく利用され、また、既に市販されているこのような面発熱体を利用することもできる。
【００５０】
前記５の防止システム、すなわち請求項７に係わる防止システムを図解して示すと、例えば、添付図面の図１の通りである。
【００５１】
図１に示される防止システム１では、壁面に取り付けられている面発熱体２の上下に通電用の電極２ａ，２ａが組み込まれており、そして下方の電極２ａに近い面発熱体２の上には前記壁面の温度を測定するための温度センサ−と前記表面雰囲気の相対湿度を測定するための湿度センサ−とが組み合わされた温湿度センサ−３が設けられている。
【００５２】
温湿度センサ−３でそれぞれ測定された温度および湿度をそれぞれ処理して、面発熱体２により加熱される前記壁面の温度を制御するための制御用コンピュ−タ−４が導線５によって温湿度センサ−３に接続しており、また、電極２ａ，２ａを介して前記壁面の温度を所定の温度に加熱するための電気を通す導線６が、電極２ａ，２ａと制御用コンピュ−タ−４とを接続している。
【００５３】
制御用コンピュ−タ−４および電極２ａ，２ａに電力を供給するための電源７は導線８によって制御用コンピュ−タ−４に接続しており、この電源７によって制御用コンピュ−タ−４に供給された電気の一部は、導線５および導線６を通してそれぞれ温湿度センサ−３および電極２ａ，２ａに流される。
【００５４】
図２は、図１のＳ−Ｓ線を含む垂直な平面で、図１に示されるＡの部分を切断した切断面を拡大して示す断面図であって、前記の面発熱体２が壁９に取り付けられている状態を示している。
【００５５】
面発熱体２は、通電膜２ｂの全面が絶縁膜２ｃで覆われることによって構成されている。この通電膜２ｂとしては、導電性塗料の発熱性塗膜または導電性の発熱性プラスチックシ−トのような、通電によって発熱する膜状ないしシ−ト状の材料が利用できる。
【００５６】
図３は、図１のＳ−Ｓ線を含む垂直な平面で、図１に示されるＢの部分を切断した切断面を拡大して示す断面図であって、この図３では、面発熱体２の上に温湿度センサ−３が取り付けられている状態が示されている。
【００５７】
図４は、本発明による防止システムのもう一つの例として、複数個（ここでは１２個）に分けられた面発熱体１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・が壁面１０に取り付けられる防止システム１１を示している。
【００５８】
防止システム１１においては、個々の面発熱体１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・毎にそれぞれ温度センサ−１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，・・・が取り付けられ、そしてこれらの温度センサ−と切り離された温湿度センサ−１６が別個に室内の適当な場所に設置される。このように、温湿度センサ−は、表面雰囲気中またはこの表面雰囲気に直接接触するような表面や表面雰囲気近くの場所に必ずしも設ける必要はなく、表面雰囲気の相対湿度が湿り空気の温湿度計算から推定できる場所であれば、この表面や表面雰囲気から離れた適当な場所に設置してもよい。
【００５９】
表面雰囲気の温度および湿度をそれぞれ測定するための温度センサ−および湿度センサ−は、ここに例示したように、これらを組み合わせて一つに纏めた温湿度センサ−として、これにより測定された温度および湿度から表面雰囲気の絶対湿度を算出し、そしてこの絶対湿度と、温度センサ−１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，・・・で測定される表面温度とから、面発熱体１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・近傍の雰囲気、すなわちそれぞれの表面雰囲気の相対湿度を算出してもよい。
【００６０】
この防止システム１１においては、温湿度センサ−１６が導線１５によって制御用コンピュ−タ−１４に接続しており、個々の電極、これらの電極と制御用コンピュ−タ−１４とを結ぶ導線および温度センサ−１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，・・・と制御用コンピュ−タ−１４とを結ぶ導線は、図４では図示することが省略されている。上記電極および導線、温度センサ−１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，・・・、温湿度センサ−１６および制御用コンピュ−タ−１４と、これらに電力を供給するための電源１７との関係は、図１に示される前記の防止システム１と同様である。
【００６１】
以上に説明された防止システム１および１１においては、壁面を加温または加熱するために、２または１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・のような面発熱体が採用されているが、壁面を加温または加熱するためには、このような面発熱体以外の、例えば、前述のようなうな適宜の加温または加熱を利用することができる。
【００６２】
カビが発育するのに最適な温度は一般に２０〜４０℃であって、その発育が可能な最高温度は一般的には４０〜４５℃であり（昭和５５年１１月５日技報堂出版株式会社発行「生活微生物学」第２８６頁）、そして建物内で発生するような一般的なカビでは、比較的高温で発育する種類のカビでも発育できる温度は高々５５℃である。
【００６３】
したがって、カビが発育する雰囲気中で表面温度を常に６０℃以上に保てば、カビの発育はその高い温度そのものによって阻止されるけれども、６０℃以上のような比較的高い表面温度を常時維持すると、そのために使われるエネルギ−が多くなるばかりでなく、この表面以外の周囲の環境が受ける影響も大きくなる。このような点から見て、表面温度を常に高温に保つのは不利であり、また、敢えてこの高温を常に保たなくても、表面を比較的低い温度に温め続けて、その表面の雰囲気の相対湿度をカビが発育しない相対湿度に保てば（請求項１の方法）、表面温度がカビの発育に適した温度領域にあっても、カビの繁殖は抑えられる。
【００６４】
また、表面雰囲気を間欠的に温めることによる間欠的な相対湿度低減処理（請求項２の方法）や、表面雰囲気の間欠的な高温処理（請求項３の方法）でカビの発育を停止させることによっても、カビの繁殖は抑えられ、これらの処理は間欠的であるため、使用エネルギ−は少なくて済み、表面周辺の環境に対する影響も比較的軽微なものとなる。
【００６５】
表面雰囲気の相対湿度を、好湿性のカビが発育する相対湿度から、この好湿性のカビが発育しない相対湿度に変えるのに必要な、表面雰囲気の温度上昇幅は一般に１〜２℃程度であるので、週に１回の頻度で相対湿度低減処理を重ねても（請求項４の方法）、全てのカビが発育しない表面雰囲気の温度を達成するのに必要な７〜８℃という温度上昇幅を維持するのに必要なエネルギ−に比べれば、使用エネルギ−は少なくて済む。
【００６６】
カビによる汚染を防止すべき表面について、その表面雰囲気を間欠的に加温または加熱する場合、必ずしもその全てを同時に加温または加熱する必要はなく、この表面雰囲気を複数個の区域に区切って、それらの区域のうちから順次選ばれる幾つかの区域について、タイミングをずらして加温または加熱してもよく、このような加温または加熱によっても、エネルギ−消費を低減することも、また、この表面周辺の環境に対する影響を少なくすることもできる。
【００６７】
【実施例】
ついで、実施例を参照して本発明を説明するが、本発明は勿論この実施例によって限定されない。
【００６８】
実施例１
この実施例でカビの発育状態を調べるために下記のような試験片を作製し、また、この試験片に接種されているカビが曝される種々の雰囲気を用意するために次のような密閉容器を作製した。また、この密閉容器内に様々な条件の雰囲気を形成させて、それを保持するために、所望の一定温度に保たれているインキュベ−タ−を使用した。
【００６９】
図５は、密閉容器２０の中に試験片３０が収められている状態を示す平面図であり、そして図６は、図５のＡ−Ａ線を含む垂直な平面に沿って、これらの密閉容器２０および試験片３０の断面を示している側面図である。
【００７０】
密閉容器２０として直径９ｃｍのシャ−レ２１を使用し、このシャ−レ２１の底、すなわち下側容器２１ｂの底の上に、プラスチック製の角形容器４０をグリ−スで固定し、この角形容器４０の上にプラスチック製のネット５０を置いて、これらの角形容器４０およびネット５０は、試験片３０をグリセリン水溶液６０に触れないないように空中、すなわち雰囲気７０中に保持するための支持体として使用された。
【００７１】
シャ−レ２１には、雰囲気７０の相対湿度を所望の相対湿度に保つためのグリセリン水溶液６０を入れ、そして、このシャ−レ２１の蓋２１ａと下側容器２１ｂとの間に空気が通る隙間ができないように、この両者をビニルテ−プ８０で貼り合わせることによって、密閉容器２０を形成させた。
【００７２】
このような密閉容器２０は、或る特定濃度のグリセリン水溶液が入れられている密閉空間内の雰囲気が、或る温度では、その温度に対応した或る特定の相対湿度に保たれるという事実（ＡＳＴＭ  Ｅ：１０４−５１  Ｒｅａｐｐｒｏｖｅｄ１９７１）を利用して、このような所定の雰囲気を形成させるために作製され、そして、このグリセリン水溶液の２５℃における屈折率が分かっていれば、この屈折率と密閉容器内の温度から、密閉容器内の雰囲気の相対湿度が算出できるという事実を利用して、上記雰囲気の相対湿度を求めた。したがって、グリセリン水溶液について記載された下記の屈折率は全て２５℃で測定された値である。また、密閉容器内の雰囲気の絶対湿度は、その雰囲気の温度と相対湿度から算出することができる。
【００７３】
試験片３０としては、図７の平面図および図８の側面図で示されるように、供試菌の胞子を分散させた培地３１を、幅１ｃｍ×長さ７ｃｍ×厚さ０．４ｍｍの硬質塩化ビニル板３２の上に固着させたものを使用した。
【００７４】
本発明を適用する対象として絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気にある中温倉庫室を想定した。この雰囲気に対して、請求項１記載の発明を適用した場合を想定して、次のような実験を実施した。
【００７５】
ゼラチン０．５重量％とグルコ−ス０．５重量％を含有する培地に、この培地１マイクロリットル当たり、好乾性のＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株の胞子１０３  個が含まれている胞子懸濁培地３マイクロリットルを、上記の硬質塩化ビニル板上に接種して風乾させたものを試験片とした。
【００７６】
屈折率が１．３７８１であるグリセリン水溶液が入っている密閉容器に、上記のように作製された試験片を封入し、そして、この密閉容器を１５℃に保たれているインキュベ−タ−に入れることによって、密閉容器中には、絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気が形成されて、上記の試験片はこの雰囲気に曝された。
【００７７】
上記の雰囲気中では、供試菌のＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株の胞子は発芽して、その菌糸は３日間で３００μｍの伸長を示した。
【００７８】
また、屈折率が１．４２５８のグリセリン水溶液が入っている密閉容器に前記と同じ試験片を封入し、そしてこの密閉容器を、２０℃に保たれているインキュベ−タ−に入れることによって、密閉容器中には、絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度２０℃および相対湿度６５．２％の雰囲気が形成され、上記の試験片はこの雰囲気に曝された。
【００７９】
この雰囲気中では、３日後でも胞子の発芽は認められなかった。
【００８０】
上記の密閉容器と同様な構造を有し、そして屈折率が１．４２５８である上記のグリセリン水溶液と同じグリセリン水溶液が入れられて、上記の密閉容器の場合と同様に、絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度２０℃および相対湿度６５．２％の雰囲気に保たれている大型の密閉容器内に、上記と同様な試験片が封入された上記と同様な密閉容器を入れ、そして、上記のインキュベ−タ−を使用して、上記の試験片を二重の密閉容器、すなわち二重の湿室で囲むことによって、試験片を囲む雰囲気の変動を極力抑えて、この試験片における胞子の変化を更に観察したが、１年経過した後でも胞子の発芽は認められなかった。
【００８１】
このような結果から、絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気にある室内では、表面雰囲気の温度を５℃高めて２０℃とし、その相対湿度を６５．２％に変えれば、好乾性のＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株による表面の汚染は防止できることが判明した。
【００８２】
実施例２
絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度８９．４％にある室内雰囲気に、請求項２の発明を適用した場合を想定して、間欠的に、すなわち４８時間毎に３時間３０℃に温める相対湿度低減処理を施した場合のカビの汚染状態を想定するために、次の実験を遂行した。
【００８３】
屈折率１．４５６３のグリセリン水溶液が入っている密閉容器を３０℃に保たれているインキュベ−タ−に入れることによって、絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度３０℃および相対湿度３５．９％の雰囲気を形成させ、また、実施例１と同じやり方で絶対湿度０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気を形成させた。
【００８４】
供試菌として前記のＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株を使用して、実施例１と同様に作製した試験片を上記の各密閉容器の中に入れて、この試験片を
（１）  温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気に２日間曝すことによって胞子を発芽させた後、
（２）  温度３０℃および相対湿度３５．９％の雰囲気に３時間曝し、そしてこの雰囲気から再び温度１５℃および相対湿度８９．４％の環境に戻して、２日間（（１）  と合わせて４日間）培養した後、
（３）  温度３０℃および相対湿度３５．９％の雰囲気に３時間曝し、そしてこの雰囲気から再び温度１５℃および相対湿度８９．４％の環境に戻して、３日間（（１）  および（２）  と合わせて７日間）培養した。
【００８５】
上記の（１）  では、すなわち、温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気に２日間曝すと、Ｅｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株の胞子は発芽して、その菌糸は約１００μｍの伸長を示したが、その後の上記（２）  では、すなわち、温度３０℃および相対湿度３５．９％の雰囲気に３時間曝した後、再び温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気に戻して、この雰囲気に２日間曝すと、既に発育していた菌糸の長さは変化しないで、未だ発芽しないまま残っていた胞子は発芽したものの、その菌糸は約１００μｍの長さまで伸びたままであった。
【００８６】
更に、その後の上記３）  では、すなわち、温度３０℃および相対湿度３５．９％の雰囲気に３時間曝した後、再び温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気に戻して、この雰囲気に３日間曝すと、既に発育していた菌糸の長さは約１００μｍのまま変化しないで、新たな胞子の発芽も認められなかった。
【００８７】
また、比較のため、上記のような間欠的な相対湿度低減処理を行わずに、試験片を温度１５℃および相対湿度８９．４％の雰囲気に７日間曝した場合には、胞子から伸長した菌糸の長さは１３５０μｍになった。したがって、０．００９５０ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．という同じ絶対湿度のまま温度を１５℃上昇させて、温度３０℃および・相対湿度３５．９％の雰囲気に３時間保持する相対湿度低減処理によってＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株の菌糸が枯死し、この相対湿度低減処理が間欠的に施されることによってカビの増殖、すなわちカビによる汚染が抑えられることが分かった。
【００８８】
実施例３
本発明を適用する対象として、絶対湿度０．０１０１４ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を想定し、この雰囲気にある表面に対して請求項３記載の発明を適用した場合のカビの発生状態を予測するために、次のような実験を実施した。
【００８９】
供試菌として好湿性のＡｌｔｅｒｎａｒｉａ  ａｌｔｅｒｎａｔａ  Ｓ−７８  株および好乾性のＥｕｒｏｔｉｕｍｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株を使用して、これらの胞子を、それぞれゼラチン０．５重量％とグルコ−ス０．５重量％とを含有する培地に、この培地１マイクロリットル当たりそれぞれ１０３  個懸濁させた胞子懸濁培地各３マイクロリットルを、幅１ｃｍ×長さ７ｃｍ×厚さ０．４ｍｍの硬質塩化ビニル板上に接種して風乾させたもの試験片とした。
【００９０】
温度１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気にある湿室は、前記と同じ構造および寸法を有する密閉容器に、グリセリン水溶液の代わりにＫＮＯ３  の結晶とその飽和水溶液を入れ、そしてこの密閉容器を、１５℃に保持されているインキュベ−タ−に入れることによって形成させた。
【００９１】
温度１５℃および相対湿度９３．６％の雰囲気にある室内の表面雰囲気を間欠的に、すなわち、２４時間毎に３０分間７０℃に加熱処理した場合を想定して、７０℃に加熱されているオ−ブンを用意した。
【００９２】
上記の試験片について次の（１）  〜（３）  の実験を実施した。
【００９３】
（１）  温度１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を有する上記の湿室中で試験片を２４時間曝すことによって供試菌を培養した。
【００９４】
（２）  温度１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を有する上記の湿室中で試験片を２４時間曝す供試菌の培養の後、密閉容器から取り出した試験片を７０℃のオ−ブンに入れて、このオ−ブン内の雰囲気で３０分間の加熱処理を施し、ついで再び温度１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を有する上記湿室に戻して供試菌を培養した後、再び密閉容器から取り出した試験片を７０℃のオ−ブンに入れて３０分間の加熱処理を施し、更に再び温度１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を有する上記の湿室に戻して供試菌を培養した。すなわち、温度１５℃および相対湿度９５．４％における計３回の２４時間の培養の間に、７０℃に３０分間加熱する加熱処理を計２回挿入した。
【００９５】
（３）  比較のため、１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を有する湿室中で上記と同様な試験片を３日間培養した。
【００９６】
胞子が発育して現れた菌糸の長さについては、培養後に写真撮影された菌糸を写真に撮影して、胞子から菌糸の先端までの長さが１番長いものから５番目までの長さまでの菌糸の長さを測定し、そのうちの２、３および４番目に長い菌糸の長さの平均値を菌糸の長さとした。実験はそれぞれ３回繰り返して、それぞれ３枚の写真によって菌糸長の平均値と標準偏差を求めた。
【００９７】
Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ａｌｔｅｒｎａｔａ  Ｓ−７８  株について胞子が発芽して現れた菌糸の長さは、上記（１）  の場合２７±１０μｍとなり、上記（３）  の場合５５１±６２μｍとなり、そして上記（２）  の場合２９±９μｍであった。
【００９８】
Ｅｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株について胞子が発芽して現れた菌糸の長さは、上記（１）  の場合７６±８μｍとなり、上記（３）  の場合１０９８±６６μｍとなり、そして上記（２）  の場合７３±４μｍであった。
【００９９】
以上の結果から、７０℃に３０分間加熱する加熱処理により、上記いずれの菌糸も熱死して、この一時的な加熱処理でこれらのカビの増殖が抑えられることが分かった。
【０１００】
実施例４
実施例３で用いた条件、すなわち、絶対湿度０．０１０１４ｋｇ／ｋｇ    Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度９５．４％の条件の雰囲気は、好湿性のカビＡｌｔｅｒｎａｒｉａ  ａｌｔｅｒｎａｔａ  Ｓ−７８  株も、また好乾性のカビＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株も発育する雰囲気である。絶対湿度が０．０１０１４ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．で、温度が１５℃であるこの状態から温度を１℃上げると、すなわち１５℃から１６℃に加温すると、この場合の相対湿度は８９．５％になり、更にこの状態から温度を３０℃に上昇させると、相対湿度は３８．３％になることが湿り空気の温湿度計算から分かる。
【０１０１】
前の実施例の場合と同様にして、屈折率１．３７７９のグリセリン水溶液が入れられた密閉容器を１６℃の温度に保たれたインキュベ−タ−に入れることによって、絶対湿度０．０１０１４ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１６℃および相対湿度８９．５％の雰囲気を形成させ、また、屈折率１．４５４５のグリセリン水溶液が入れられた密閉容器を３０℃の温度に保たれたインキュベ−タ−に入れることによって、絶対湿度０．０１０１４ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度３０℃および相対湿度３８．３％の雰囲気を形成させ、更に、実施例３と同じやり方で絶対湿度０．０１０１４ｋｇ／ｋｇ  Ｄ．Ａ．、温度１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を形成させた。
【０１０２】
これらの雰囲気が形成される密閉容器中に、実施例３で用いたのと同じ好湿性のカビおよび好乾性のカビを付着させた試験片を入れて、次の（１）  〜（４）  の実験を実施した。
【０１０３】
（１）  温度１６℃および相対湿度８９．５％の雰囲気を有する上記の湿室中に試験片を入れて２４時間培養した。
【０１０４】
（２）  温度１６℃および相対湿度８９．５％の雰囲気を有する上記湿室中に試験片を入れて２４時間培養した後、試験片を温度３０℃および相対湿度３８．３％の雰囲気を有する上記湿室中に移して３時間培養し、再び温度１６℃および相対湿度８９．５％の湿室中に試験片を戻して２４時間培養した後、再び温度３０℃および相対湿度３８．３％の湿室に移して３時間培養し、更に再び温度１６℃および相対湿度８９．５％の湿室中に試験片を戻して２４時間培養した。すなわち、温度１６℃および相対湿度８９．５％における計３回の２４時間の培養の間に、温度３０℃に３時間保持する培養を計２回挿入した。
【０１０５】
（３）  比較のため、温度を３０℃に保持する培養期間は挿入しないで、１６℃および相対湿度８９．５％の雰囲気を有する上記湿室中で試験片を３日間培養した。
【０１０６】
（４）  更に、本発明を適用しない場合におけるカビの発育を比較とするため、１５℃および相対湿度９５．４％の雰囲気を有する上記湿室中で試験片を３日間培養した。
【０１０７】
実験はそれぞれ３回繰り返し、胞子が発芽して菌糸が伸長した場合には、この菌糸の長さは実施例３と同様な方法で測定した。
【０１０８】
好湿性のＡｌｔｅｒｎａｒｉａ  ａｌｔｅｒｎａｔａ  Ｓ−７８  株は上記（１）  〜（３）  のどの場合でも全く発育を示さなかった。好乾性のＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株では、上記（３）  の場合菌糸の伸長は約４００μｍとなったが、上記（１）  および（２）  の場合、胞子は発芽しなかった。上記（４）  の場合の菌糸の長さは、実施例３の（３）  と同様で、Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ａｌｔｅｒｎａｔａ  Ｓ−７８  株では約６００μｍになり、そしてＥｕｒｏｔｉｕｍ  ｈｅｒｕｂａｒｉｏｒｕｍ  Ｊ−１８３  株では約１０００μｍになった。
【０１０９】
以上の結果から、０．０１０１４ｋｇ／ｋｇ    Ｄ．Ａ．の絶対湿度を有する空気で満たされた室内の表面温度を１５℃から１℃上昇させて１６℃にし、それに伴って表面相対湿度を９５．４％から８９．５％に変えることによって、この室内の表面雰囲気を好湿性のカビが発育しない環境に変えることができ、また、この状態で表面温度を間欠的に３０℃に上昇させることによって、好乾性のカビの発育も阻止できることが分かった。
【０１１０】
ここで、以上の実施例１、２および４で用いられた各雰囲気の絶対湿度、温度、相対湿度、これらの各雰囲気が示されている実施例、これらの各雰囲気を形成させるために用いられたグリセリン水溶液の屈折率、および環境を調節するために用いられたＫＮＯ３  の間の関係を下記の表１に示す。
【０１１１】
2004300808.tif 000006
【０１１２】
【発明の効果】
以上述べた説明から明らかなように、本発明の方法によれば、便利で安全、かつ簡単な方法により、建物もしくは土木建造物の内部表面またはこの建物もしくは土木建造物内に置かれた設備または備品の表面がカビで汚染されるのを効果的に防止することができ、また、本発明のシステムによれば、このような汚染防止に便利で有効な管理が達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による防止システムの一例を示す正面図である。
【図２】図１のＳ−Ｓ線を含む垂直な平面で図１のＡの部分を切断した切断面を拡大して示す断面図である。
【図３】図１のＳ−Ｓ線を含む垂直な平面で図１のＢの部分を切断した切断面を拡大して示す断面図である。
【図４】本発明による防止システムの別の一例を示す正面図である。
【図５】密閉容器の中に試験片が収められている状態を示す平面図である。
【図６】図５のＡ−Ａ線を含む垂直な平面に沿って図５のＡの部分を切断した切断面を拡大して示す断面図である。
【図７】本発明で使用される試験片の一例を示す平面図である。
【図８】図７の試験片の側面図である。
【符号の説明】
１                      ・・・・・・・・・防止システム
２                      ・・・・・・・・・面発熱体
２ａ                    ・・・・・・・・・電極
２ｂ                    ・・・・・・・・・通電膜
２ｃ                    ・・・・・・・・・絶縁膜
３                      ・・・・・・・・・温湿度センサ−
４                      ・・・・・・・・・制御用コンピュ−タ−
５                      ・・・・・・・・・導線
６                      ・・・・・・・・・導線
７                      ・・・・・・・・・電源
８                      ・・・・・・・・・導線
９                      ・・・・・・・・・壁
１０                      ・・・・・・・・・壁面
１１                      ・・・・・・・・・防止システム
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・，・，    ・・・・面発熱体
１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，・，・，    ・・・・温度センサ−
１４                      ・・・・・・・・・制御用コンピュ−タ─
１５                      ・・・・・・・・・導線
１６                      ・・・・・・・・・湿度センサ−
１７                      ・・・・・・・・・電源
２０                      ・・・・・・・・・密閉容器
２１                      ・・・・・・・・・シャ−レ
２１ａ                    ・・・・・・・・・シャ−レの蓋
２１ｂ                    ・・・・・・・・・シャ−レの下側容器
３０                      ・・・・・・・・・試験片
３１                      ・・・・・・・・・胞子が分散している培地
３２                      ・・・・・・・・・硬質塩化ビニル板
４０                      ・・・・・・・・・角形容器
５０                      ・・・・・・・・・ネット
６０                      ・・・・・・・・・グリセリン水溶液
【図１】
2004300808.tif 000007
【図２】
2004300808.tif 000008
【図３】
2004300808.tif 000009
【図４】
2004300808.tif 000010
【図５】
2004300808.tif 000011
【図６】
2004300808.tif 000012
【図７】
2004300808.tif 000013
【図８】
2004300808.tif 000014