(57)【要約】【課題】液晶ディスプレイの視野角拡大を図るための光学補償フィルムとして用いることの出来るレタデーション値の高い（透明で光学異方性の大きな）光学補償樹脂フィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】異方性磁化率χａが、２．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）＜χａ＜１０．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）を満たす樹脂を用いたことを特徴とする光学補償樹脂フィルム。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
異方性磁化率χａが、２．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）＜χａ＜１０．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）を満たす樹脂を用いたことを特徴とする光学補償樹脂フィルム。
【請求項２】
溶媒に樹脂を溶解または分散させ、磁場を印加することにより配向を制御して作製する光学補償樹脂フィルムの製造方法において、該樹脂の異方性磁化率が請求項１の範囲を満たし、レタデーション値の液晶セルと光学補償樹脂フィルムの差を５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下にすることを特徴とする光学補償樹脂フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記溶媒は溶解または分散している樹脂よりも磁化率が低いことを特徴とする請求項２に記載の光学補償樹脂フィルムの製造方法。
【請求項４】
溶媒を用いずに樹脂を融解し、磁場を印加することにより配向を制御して作製する光学補償樹脂フィルムの製造方法において、該樹脂の異方性磁化率が請求項１の範囲を満たし、レタデーション値の液晶セルと光学補償樹脂フィルムの差を５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下にすることを特徴とする光学補償樹脂フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイ等の視野角補償を行うことの出来る光学補償フィルムとして用いることの出来る新規な光学異方性材料を用いた光学補償樹脂フィルムとその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
デスクトップ型パーソナルコンピューター及びワードプロセッサー等のＯＡ機器の表示装置としては、ＣＲＴがこれまで主に使用されてきた。
【０００３】
しかし、近年、液晶表示素子（以下、液晶ディスプレイともいう）が、薄型で軽量、又消費電力が小さいことからＣＲＴに代わり広く使用されてきている。しかし、液晶ディスプレイは、異方性をもつ液晶材料や偏光板を使用するために正面から見た場合には良好な表示が得られるが、斜めから見ると表示性能が低下するという、視野角の問題があり、性能向上のために視野角補償板が必要となる。
【０００４】
視野角補償板としては、先ず、この異方性を相殺出来るもの、いわゆる光学異方性をもつものが有効である。この様な観点から視野角補償を行うことが可能な補償板として、面内にレタデーションをもちつつ、且つ、厚み方向の屈折率が面内の屈折率より小さいという、２軸性の延伸フィルムの使用が提案されている。しかしながら、セル中の液晶のダイレクターが膜厚方向で連続的に変化しているために旋光分散が生じてしまい、ある方位からみたときには良好な視野角補償が行われるものの、別の方位からみたときには充分な補償が達成されなかった。又、該２軸性延伸フィルムは厚み方向で屈折率の変化がないため、旋光分散の影響をこのような２軸性延伸フィルムでは完全にうち消すことが出来ないという問題点も有していた。
【０００５】
液晶ディスプレイに対し、充分な視野角補償を行うためには、面内のレタデーションを持つこと、厚み方向の屈折率が面内の屈折率より小さいという条件の他に、厚み方向で屈折率が連続的に変化するという要件をも満たさなければならないと考えられる。しかし、それを具体的にいかに行うかの方策は見いだせていなかった（下記特許文献１又は２）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平７−３３３４３０号公報
【０００７】
【特許文献２】
特開２００１−１３９９５０号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者等は、屈折率を３次元的に任意に制御できる製造技術が必要であることを突き止め、その要求を満たすことの出来る技術の開発に努めた。
【０００９】
すなわち、発明の目的は、液晶ディスプレイの視野角拡大を図るための光学補償フィルムとして用いることの出来るレタデーション値の高い（透明で光学異方性の大きな）光学補償樹脂フィルムおよびその製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、鋭意検討した結果、光学補償樹脂フィルムに用いる樹脂素材の異方性磁化率が特定範囲であることが必要であり、また、液晶セルと光学補償樹脂フィルムのレタデーション値を特定範囲にすることも重要であることを見出し、本発明をなすに至った。
【００１１】
本発明の目的は、下記構成のいずれかを採ることにより達成される。
〔１〕  異方性磁化率χａが、２．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）＜χａ＜１０．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）を満たす樹脂を用いたことを特徴とする光学補償樹脂フィルム。
【００１２】
〔２〕  溶媒に樹脂を溶解または分散させ、磁場を印加することにより配向を制御して作製する光学補償樹脂フィルムの製造方法において、該樹脂の異方性磁化率が〔１〕の範囲を満たし、レタデーション値の液晶セルと光学補償樹脂フィルムの差を５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下にすることを特徴とする光学補償樹脂フィルムの製造方法。
【００１３】
〔３〕  前記溶媒は溶解または分散している樹脂よりも磁化率が低いことを特徴とする〔２〕に記載の光学補償樹脂フィルムの製造方法。
【００１４】
〔４〕  溶媒を用いずに樹脂を融解し、磁場を印加することにより配向を制御して作製する光学補償樹脂フィルムの製造方法において、該樹脂の異方性磁化率が〔１〕の範囲を満たし、レタデーション値の液晶セルと光学補償樹脂フィルムの差を５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下にすることを特徴とする光学補償樹脂フィルムの製造方法。
【００１５】
好ましい光学補償効果を有するフィルムは、用途に応じた配向を有することで、高いレタデーション値を示すフィルムである。レタデーションは樹脂の配向性に依存し、配向性は樹脂の有する磁化率に依存することが知られている。外部から磁場を加えた場合、磁場とポリマー鎖のなす角度をθとするとポリマー鎖の角度変化の時間依存性は、
ｔａｎθ＝ｔａｎθ（０）ｅｘｐ（−ｔ／τ）・・・・（１）
で表される。
【００１６】
ここで、ｔは時間、τは配向時定数と呼ばれ以下のように表される。
１／τ＝３Ｄ［−２Ｄ√（Ｄ２−１）＋（１−２Ｄ２）ｆ］／［４（Ｄ４−１）√（Ｄ２−１）］×［−χａ×μ０／（６η）×Ｈ２］
ｆ＝２×ｌｎ［Ｄ−√（Ｄ２−１）］
ここでポリマー鎖は楕円体と仮定しており、Ｄは楕円の長軸／短軸の比、χａはフィルム製造時に使用する樹脂（形態はオリゴマー、ポリマー、溶融状態等いろいろあり得る）に外部磁場を加えて測定した際の、磁場方向に現れる磁化率（以下、異方性磁化率と記す）、ηは媒体の粘度、μ０は真空中の透磁率、Ｈは磁場強度を示す。
【００１７】
従って、樹脂とその媒体による定数Ａを用いて、
（１）式は、
ｔａｎθ＝ｔａｎθ（０）ｅｘｐ（−ｔ×Ａ×Ｈ２）・・・（２）
と表される。
【００１８】
（２）式は磁場とポリマー鎖のなす角度が磁場の強度と印加した時間によることを意味する。
【００１９】
即ち、ある異方性磁化率を有するフィルム原料（オリゴマーまたはポリマー）を選べば、適当な媒質中である強度の磁場をある時間印加することにより、そのポリマーを用途に応じて任意に３次元的に配向制御することが出来、好ましいレタデーション値を有する透明樹脂フィルムを容易に作製することが出来る。
【００２０】
まず磁場配向の効果について説明すると、磁場配向は物質内部の磁化率の異方性が大きいほど起こりやすい。しかし、一般に分子量の小さい有機物は反磁性物質であり、磁気的異方性も非常に小さいので、磁場配向は起こりにくいと予想される。また、磁気的な安定化エネルギーの大きさは熱エネルギーに比べて非常に小さいために、実際には殆どの物質について数テスラの強磁場を印加したとしても磁場配向は観測されない。
【００２１】
ところがオリゴマーやポリマーになると液晶と似た性質を示し、分子鎖が集合してドメインを作りやすくなる。物質の磁性は加生成則が成り立つため、熱エネルギーに打ち勝つのに十分な大きさのドメインが出来ると磁場による配向制御が可能となる。また磁場による配向制御は３次元的に任意の方向で行えるため、光学補償フィルムの厚み方向に対する屈折率を、配向制御によって任意に変化させることが出来る。
【００２２】
一般的に磁場配向で得られたフィルムは、引張り強度、弾性率、破断歪み、熱膨張率などの物性が、機械的延伸により得られた同じ配向度の試料の物性値とは異なることが知られている。特に熱膨張率・弾性率ついては、機械的配向試料に比べて、磁場配向試料の方が異方性が小さいという結果が得られている。また、破断面の電子顕微鏡写真から、機械的に配向させた試料については切れた微小繊維が収縮しているのが見られるのに対し、磁場配向試料では収縮していない様子が示されている。これらの現象は、同じ配向度の試料でも磁場配向試料と機械的配向試料では内部の高次構造が異なることを意味する。
【００２３】
すなわち、磁場配向試料は分子鎖が集合したドメインが形成され、それらが配向しているのに対し、機械的配向試料は、延伸時に強く引き伸ばされることでドメインが破壊され、個々の微小繊維が延伸方向に配列していると考えられ、磁場配向によるフィルムの方が物性的に優れている。また、磁場配向による配向は延伸などによる配向と異なり、分子鎖をフィルムの厚さ方向に配向させることが容易にできる。
【００２４】
フィルムの製造に用いる樹脂の異方性磁化率の測定は、原料がポリマーまたはオリゴマーならば適当な溶媒中に溶解するか分散させた状態で行うのが好ましく、または媒質を使わず溶融状態で測定してもよい。
【００２５】
請求項１の異方性磁化率χａとは、樹脂フィルム原料について溶解状態または溶融状態で強磁場をかけた時にその磁場方向に観測される磁化率のことで、測定の際、樹脂フィルム原料の形態はオリゴマー、またはポリマーである。
【００２６】
また、本発明における異方性磁化率は、数テスラの強磁場を印加したときに現れる質量磁化率に等しく、質量磁化率は温度に依存し濃度に依存しないので、χａは２０℃で測定された質量磁化率とする。微弱な磁化率の測定方法としては，高感度な超伝導量子干渉計（ＳＱＵＩＤ磁力計）を用いるのが好ましい。しかし、それ以外の方法でもよく、例えばグーイの天秤法，共鳴法などを用いてもよい。
【００２７】
用途に合わせた配向制御が容易に可能なのは、χａが２．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）＜χａ＜１０．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）を満たす樹脂原料に、適正な磁場を適正な時間印加して製造した透明樹脂フィルムであり、より好ましくは、χａが５．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）＜χａ＜８．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）を満たす樹脂原料を用いて製造した透明樹脂フィルムである。
【００２８】
なお、透明樹脂フィルムに使用可能な常磁性を有する樹脂の殆どは、その異方性磁化率が１０．０×１０−６（ｃｍ３／ｇ）未満である。
【００２９】
磁場強度としては２〜１０テスラが好ましく、磁場の印加時間は５分〜６０分であることが好ましいが、必ずしもその範囲に入らなくても良い。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について更に詳しく説明する。
【００３１】
まず、本発明に係わる光学異方性材料について説明する。
本発明の光学異方性材料は光学補償フィルムとして用いる事ができ、光学補償フィルムとは、液晶表示素子の視野角補償を行うためのフィルムであり、好ましくはダイレクターがフィルムの上面と、下面とで異なる。更に好ましくはフィルム厚み方向で徐々に変化したハイブリッド配向を形成しており、光軸は存在しない。
【００３２】
本発明において、ＴＮ型液晶セルの視野角特性を大幅に改善する条件としては、光軸はフィルム面の法線方向から５〜５０度傾いていることが好ましく、１０〜４０度がより好ましい。更にフィルムの膜厚をｄ、仮に液晶のダイレクターが一方向を向くように一軸に配向せしめた時に得られるダイレクター方向の屈折率ｎｚと、それに垂直な方向の屈折率ｎｘ，ｎｙとの差をΔｎとしたとき、この積Δｎ×ｄは、レタデーション値で定義されるが、液晶セルと光学補償フィルムに対し通常５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下である。
【００３３】
尚、視野角補償のためには、液晶の複屈折と膜厚との積の絶対値が、液晶セルと光学異方性材料とでほぼ等しいことがより好ましい。
【００３４】
本発明に用いる事のできる樹脂としては、フィルムにする前の原料段階での磁化率が異方性を有するものなら何でもよく、原料段階で流動性を示すもの、または溶融可能なものならばオリゴマー、ポリマーいずれでも構わない。より望ましくは、極性官能基を有するもので、具体的には次のような化合物である。ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、その他のセルロース系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂など。
【００３５】
本発明の光学補償フィルムは、１枚又は複数枚で使用することにより液晶ディスプレイの視野角改善に絶大な効果を発揮する。又、従来の光学フィルム、例えば負の１軸性屈折率構造をもつ光学フィルム、正の１軸性屈折率構造をもつ光学フィルム、又は２軸性の屈折率構造をもつ光学フィルムなどと組み合わせて使用することも可能である。但し、補償に対して決定的な役割を果たすのは本発明の光学補償フィルムであり、従来のフィルムで本発明のフィルムのように３次元的に任意に配向制御が行えるフィルムはなく、また、従来の光学フィルムのみを如何様に組み合わせて用いたとしても、本発明の光学補償フィルムの如き優れた補償効果を発現させることは不可能である。
【００３６】
以上のように、本発明の光学補償フィルムを組み込んだ液晶表示装置は、従来得られなかった広い視野角を得ることが可能となる。
【００３７】
又、従来液晶セルは、なるべく広い視野角を得るために、液晶セルのパラメーターの設定範囲に制限があった。しかし、本発明の光学補償フィルムは配向形態の制御が容易であり、いかなる液晶セルの配向形態に対してもほぼ完全に補償することが可能である。その為液晶セルのパラメーター設定の自由度が広がり、液晶セルの工業的な製造上の観点からも本発明の光学補償フィルムは価値が高いものである。
【００３８】
【実施例】
以下に実施例により本発明を説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。
【００３９】
以下、本発明の光学補償フィルムの作製方法とその物性について説明する。
実施例１
異方性磁化率を有する原料を用い、磁場配向により作製した光学異方性材料
（フィルム（１）の作製）
ポリエーテルスルホンの１００μｍ厚のフィルム（住友ベークライト社製ＦＳ−１３００、サイズ１００ｍｍ×１００ｍｍ）を基板とし、０．１μｍのゼラチン下引き層を設け、その上に「化１」に示す高分子化合物（分子量分布５０００〜１００００）をメチルエチルケトン中に２０質量％で溶解させたものを展開して、超伝導磁石中で６テスラの磁場を３０分間印加し続けた。
【００４０】
【化１】
2004151318.tif 000002
【００４１】
さらに溶媒のメチルエチルケトンが磁場印加終了時に９８％以上揮発するように、６０℃に加熱し磁場印加を続けた。その後溶媒を完全に揮発させフィルム（１）を得た。
【００４２】
こうして得られたフィルムは赤外吸収測定により分子が配向していることが示された。また、このときの配向度をＸ線回折測定により算出すると、８０％以上に達した。このシートを偏光顕微鏡観察したところ、モノドメインの配向状態をとっていることが観察された。
【００４３】
更にエリプソメトリーの測定によって、光軸傾斜角度βは２５度でΔｎ×ｄ＝１３１ｎｍであった。
【００４４】
測定には、島津製作所社製エリプソメーター（ＡＥＰ−１００）を透過モードにしてレタデーションの角度依存性を求め、その値から最適な３軸方向屈折率と光軸の方向を計算によって求めた。
【００４５】
原料として用いた化合物「化１」の２０質量％メチルエチルケトン溶液中の「化１」の異方性磁化率をカンタムデザイン社製磁気特性測定装置、ＰＭＰＳ  ＳＵＱＵＩＤシステムを用いて６０℃で測定したところ、６．５×１０−６（ｃｍ３／ｇ）の値を得た。なおこの値は、メチルエチルケトンのみの異方性磁化率を同様の方法で求め、溶液の異方性磁化率の値から差し引いたものである。
【００４６】
（フィルム（２）の作製）
フィルム（１）の作製で用いた「化１」のメチルエチルケトン溶液をポリスチレン（分子量分布５０００〜１００００）の２０質量％テトラヒドロフラン溶液に変えた以外はフィルム（１）の作製と同様の操作でフィルム（２）を得た。
【００４７】
こうして得られたフィルムは赤外吸収測定により、配向していることが示され、このシートを偏光顕微鏡観察したところ、モノドメインの配向状態をとっていることが観察された。
【００４８】
更にエリプソメトリーの測定によって、光軸傾斜角度βは３０度でΔｎ×ｄ＝１４３ｎｍであった。原料の異方性磁化率をフィルム（１）と同様に測定したところ、６．２×１０−６（ｃｍ３／ｇ）であった。
【００４９】
（フィルム（３）の作製）
フィルム（１）の作製で用いた「化１」のメチルエチルケトン溶液をＴＡＣ（トリアセチルセルロース、分子量分布５０００〜１００００）の２０質量％メチルエチルケトン溶液に変えた以外はフィルム（１）の作製と同様の操作でフィルム（２）を得た。
【００５０】
こうして得られたフィルムは赤外吸収測定により，配向していることが示され、このシートを偏光顕微鏡観察したところ、モノドメインの配向状態をとっていることが観察された。
【００５１】
更にエリプソメトリーの測定によって、光軸傾斜角度βは２０度でΔｎ×ｄ＝１３９ｎｍであった。原料の異方性磁化率をフィルム（１）と同様に測定したところ、５．２×１０−６（ｃｍ３／ｇ）であった。
【００５２】
（フィルム（４）の作製）
ポリエーテルスルホンの１００μｍ厚のフィルム（住友ベークライト社製ＦＳ−１３００、サイズ１００ｍｍ×１００ｍｍ）を基板とし、０．１μｍのゼラチン下引き層を設け、その上に１２０℃で溶融させたポリエチレンテレフタレートを展開し、１２０℃に加熱しながら６テスラの磁場を３０分間印加した。その後６テスラの磁場を印加したまま１０分間で常温に冷却し、フィルム（４）を得た。
【００５３】
ポリエチレンテレフタレートは完全な等方的溶融体になる以前の融点近傍域の溶融体に秩序構造が存在することが知られている。こうして得られたフィルムは赤外吸収測定により、配向していることが示され、このシートを偏光顕微鏡観察したところ、モノドメインの配向状態をとっていることが観察された。
【００５４】
更にエリプソメトリーの測定によって、光軸傾斜角度βは１５度でΔｎ×ｄ＝１４３ｎｍであった。原料の異方性磁化率は原料が１２０度で溶融した状態でフィルム（１）と同様にして測定され、５．９×１０−６（ｃｍ３／ｇ）であった。
【００５５】
（フィルム（５）の作製）
フィルム（１）の作製で用いた「化１」のメチルエチルケトン溶液をポリスチレン（分子量分布１０００〜３０００）の２０質量％テトラヒドロフラン溶液に変えた以外はフィルム（１）の作製と同様の操作でフィルム（５）を得た。
【００５６】
原料の異方性磁化率をフィルム（１）と同様に測定したところ、１．９×１０−６（ｃｍ３／ｇ）であった。こうして得られたフィルムは赤外吸収測定により配向が確認されなかった。
【００５７】
異方性磁化率が本発明の範囲より小さい場合には磁場で配向させることが容易でないためである。
【００５８】
実施例２
ＴＮ型液晶表示素子の視野角拡大を目的とした性能評価
（フィルム（Ａ）を設けた液晶表示素子の作製）
ＴＡＣの１２７μｍ厚フィルム（サイズ１００ｍｍ×１００ｍｍ）を基板とし、０．１μｍのゼラチン下引き層を設け、その上に「化１」に示す化合物（分子量分布５０００〜１００００）をメチルエチルケトン中に２０質量％で溶解させたものを展開して、超伝導磁石中で６テスラの磁場を３０分間印加し続けた。さらに溶媒のメチルエチルケトンが磁場印加終了時に９８％以上揮発するように、６０℃に加熱を続けた。
【００５９】
その後溶媒を完全に揮発させフィルム（Ａ）を得た。最大方向とその直角方向の光の屈折率の差と液晶セルのギャップサイズ（厚さ）の積が４４０ｎｍで、ねじれ角が９０度のＴＮ型液晶セルに上記のフィルム（Ａ）を装着し、液晶セルに対して０．５Ｖ、３０ＭＨｚ矩形波におけるコントラストの角度依存性を大塚電子社製ＬＣＤ−５０００によって測定した。コントラスト１０の位置を視野角と定義し、上下左右の視野角を求めた。
【００６０】
又、以下に示すようにフィルムの原料を変えて液晶表示素子を作製した。
（フィルム（Ｂ）を設けた液晶表示素子の作製）
フィルム（Ａ）を設けた液晶表示素子の作製で用いた「化１」のメチルエチルケトン溶液をポリスチレン（分子量分布５０００〜１００００）の２０質量％テトラヒドロフラン溶液に変えた以外は同様の操作でフィルム（Ｂ）を作製し、これを用いて同様に液晶表示素子を作製して、液晶セルに対して０．５Ｖ、３０Ｈｚ矩形波におけるコントラストの角度依存性を大塚電子社製ＬＣＤ−５０００によって測定し、上下左右の視野角を求めた。
【００６１】
（フィルム（Ｃ）を設けた液晶表示素子の作製）
フィルム（Ａ）を設けた液晶表示素子の作製で用いた「化１」のメチルエチルケトン溶液をＴＡＣ（分子量分布５０００〜１００００）の２０質量％メチルエチルケトン溶液に変えた以外は同様の操作でフィルム（Ｃ）を作製し、これを用いて同様に液晶表示素子を作製し、液晶セルに対して０．５Ｖ、３０Ｈｚ矩形波におけるコントラストの角度依存性を大塚電子社製ＬＣＤ−５０００によって測定し、上下左右の視野角を求めた。
【００６２】
（フィルム（Ｄ）を設けた液晶表示素子の作製）
ＴＡＣの１２７μｍ厚フィルム（サイズ１００ｍｍ×１００ｍｍ）を基板とし、０．１μｍのゼラチン下引き層を設け、その上に１２０℃で溶融させたポリエチレンテレフタレートを展開し、１２０℃に加熱しながら６テスラの磁場を３０分間印加した。その後６テスラの磁場を印加したまま１０分間で常温に冷却し、フィルム（Ｄ）を得た。これを用いてフィルム（Ａ）と同様に液晶表示素子を作製し、液晶セルに対して０．５Ｖ、３０Ｈｚ矩形波におけるコントラストの角度依存性を大塚電子製ＬＣＤ−５０００によって測定し、上下左右の視野角を求めた。
【００６３】
下記の表にフィルム（Ａ）〜（Ｄ）を視野角補償フィルムとして用いた液晶表示素子及び、比較として、光学補償フィルムを用いない液晶表示素子の上下左右の視野角を記す。（単位は度）
【００６４】
【表１】
2004151318.tif 000003
【００６５】
表１より本発明のフィルム（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）を設けた液晶表示素子は、光学補償フィルムを用いなかった比較例と比較して優れた視野角補償を示すことが明らかである。
【００６６】
【発明の効果】
本発明により、液晶ディスプレイの視野角拡大を図るための光学補償フィルムとして用いることの出来るレタデーション値の高い（透明で光学異方性の大きな）光学補償樹脂フィルムおよびその製造方法を提供することができる。