(57)【要約】   【課題】  ボイドが発生しないように液晶ドットを形成する。  【解決手段】  第１基板に密封材を形成する段階と、第１基板に液晶を滴下する段階と、液晶が滴下された第１基板を第２基板と結合する段階を含む。第１基板にＲ、Ｇ、Ｂピクセルが交互に形成される方向を連続ピクセル方向（Ｘ方向）、それぞれのＲ、Ｇ、Ｂピクセルが連結される方向を単位ピクセル方向（Ｙ方向）、活性領域で連続ピクセル方向に沿って移動しながら滴下される液晶ドット間の距離をＡ、活性領域で単位ピクセル方向に沿って移動しながら形成される液晶ドット間の距離をＢとする時、第１基板に液晶を滴下する段階ではＡ≦Ｂになるように、前記密封材に囲まれた活性領域に液晶を滴下して液晶ドットを形成する。  【選択図】      図９
2004185015.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板に密封材を形成する段階と、
前記第１基板に液晶を滴下する段階と、
前記液晶が滴下された第１基板を第２基板と結合する段階を含み、
前記第１基板にＲ、Ｇ、Ｂピクセルが交互に形成される方向を連続ピクセル方向、それぞれのＲ、Ｇ、Ｂピクセルが連結される方向を単位ピクセル方向、前記密封材で囲まれた領域である活性領域に滴下される液晶ドット間の前記連続ピクセル方向の距離をＡ、前記活性領域に滴下される液晶ドット間の前記単位ピクセル方向の距離をＢとすると、前記第１基板に液晶を滴下する段階でＡ≦Ｂになるように前記密封材に囲まれた活性領域に液晶を滴下して液晶ドットを形成する液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記Ａ及びＢは５乃至４０ｍｍである請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記液晶ドットを形成するための１回の液晶滴下量は１乃至１５ｍｇである請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１基板上に形成される液晶ドットは同一直線上に位置する請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１基板上に形成される液晶ドットは、前記単位ピクセル方向軸及び連続ピクセル方向軸が交差して位置する請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記液晶がネマチック液晶である場合、前記密封材に最も近い液晶ドットまでの距離をＣとする時Ｃ≦Ａ≦Ｂである請求項４または請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記液晶がスメチック液晶である場合、前記密封材に最も近い液晶ドットまでの距離をＣとする時、Ａ≦Ｂ≦Ｃである請求項４または請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記活性領域の隅部に複数個の隅領域液晶ドットを形成する、請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記活性領域の中央領域以外の領域である外郭領域に複数個の外郭領域液晶ドットを形成する、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記外郭領域の液晶ドットの大きさは、前記中央領域の液晶ドットの大きさより小さい、請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
単位ピクセル方向に形成された複数個の前記外郭領域液晶ドットと前記密封材に最も近い液晶ドットまでの距離をＤ、連続ピクセル方向に形成された複数個の前記外郭領域液晶ドットと前記密封材に最も近い液晶ドットまでの距離をＥとする時、Ａ≦Ｂ≦Ｄ≦Ｅである請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記互いに張り合わせられた第１基板と第２基板との間の密封材を硬化する段階をさらに含む、請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記密封材を硬化する段階で前記密封材を紫外線硬化した後、さらに前記密封材を熱硬化する、請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置は電極が形成されている上下部基板及びその間に注入されている液晶物質を含み、上下部基板は周縁に形成されて液晶物質を閉じ込める密封材によって結合され、上下部基板の間に散布されているスペーサによって支持されている。このような液晶表示装置は、二つの基板間に注入されている誘電率異方性を有する液晶物質に電極を利用して電界を印加し、この電界の強さを調節して透過する光の量を調節することによって画像を表示する。
【０００３】
液晶表示装置を製造するための液晶注入方法としては液晶滴下方法が使用される。これは、密封材を使用して所定の閉殻状の枠組に定義された活性領域に液晶を滴下した後、真空状態でアセンブリーして密封材を硬化する方法である。液晶滴下方法の重要な点は、薄膜トランジスタ表示板の活性領域内にボイド（Ｖｏｉｄ）なしに均一に液晶を充填して均一なセルギャップを形成することである。
【０００４】
このような均一なセルギャップを形成するためには、活性領域内に必要な量の液晶を均一に塗布することが大事である。セルギャップの均一度の向上及び活性領域内のボイドを除去、そして製造ラインにおけるインライン速度を合せるためにはできるだけタクトタイム（Ｔａｃｔ  Ｔｉｍｅ）を速やかにする必要がある。このために、液晶滴下の時にワンドロップ（Ｏｎｅ  ｄｒｏｐ）方式を適用する。正確な量を滴下するためにはできるだけ滴下数を減らすことが滴下量の均一度向上のために有利であるためである。１回の液晶滴下の際に微細な滴下量の誤差が生じ滴下回数が多くなるにつれて滴下量の誤差も大きくなり、全体的な滴下量の誤差は大きくなる。従って、一定のセルギャップを維持することが難しくなる。一定のセルギャップを維持するために液晶滴下量が正確で再現性のあるワンドロップ方式が有用である。
【０００５】
しかし、ワンドロップ方式が液晶滴下量の誤差を減少させることには有利であるが、セル内部のボイド制御には不利である。薄膜トランジスタ表示板上に液晶を滴下し、カラーフィルター基板と薄膜トランジスタ表示板を位置合わせしプレスして液晶を活性領域内に拡散する時、液体である液晶の特性上滴下位置において同一間隔の液晶拡散が行われる。ここで、薄膜トランジスタ表示板が四角形であるため滴下された液晶が拡散する時に拡散距離の差が生ずる。つまり、滴下された液晶と活性領域の隅領域までの対角線拡散距離が最も長く、滴下された液晶と活性領域の角領域までの直線拡散距離は短くなる。従って、隅領域では液晶の拡散が不充分でボイドが発生しやすい。
【０００６】
また、液晶が拡散される薄膜トランジスタ表示板や色フィルター表示板の面が平たい面であったり材質が同一であれば液晶の拡散距離が同じになるが、ピクセル毎に凹凸構造が存在し、配向膜またはスペーサなどの材質もそれぞれ異なるため拡散距離の均一化は容易ではない。従って、部分的に活性領域内や密封材との境界面に液晶が注入されずボイドが発生する。
【０００７】
また、液晶の性質によってもボイドの発生に差が生ずる。つまり、ＴＮモード、ＩＰＳモード及びＯＣＢモードの液晶は、液晶がツイスト配向、つまり水平配向であるため液晶滴下後の拡散が比較的に容易であるが、ＶＡモードの液晶は液晶が垂直配向であるため活性領域内の凹凸構造が液晶の拡散に大きく影響を与えて、活性領域及び密封材との境界面でボイドが発生する可能性が大きくなる。このように活性領域に発生するボイドをＡＵＡ（Ａｃｔｉｖｅ  ｕｎｆｉｌｌｅｄ  ａｒｅａ）、密封材との境界面で発生するボイドをＳＵＡ（Ｓｕｒｆａｃｅ  ｕｎｆｉｌｌｅｄ  ａｒｅａ）と称する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前記問題点を解決するためのもので、ボイドが発生しないように液晶ドットを形成する液晶表示装置の製造方法を提供することがその目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明は前記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置の製造方法では、第１基板に密封材を形成する段階と、前記第１基板に液晶を滴下する段階と、前記液晶が滴下された第１基板と第２基板とを張り合わせる段階を含む。前記第１基板にＲ、Ｇ、Ｂピクセルが交互に形成される方向を連続ピクセル方向、それぞれのＲ、Ｇ、Ｂピクセルが連結される方向を単位ピクセル方向、前記密封材で囲まれた領域である活性領域に滴下される液晶ドット間の前記連続ピクセル方向の距離をＡ、前記活性領域に滴下される液晶ドット間の前記単位ピクセル方向の距離をＢとすれば、前記第１基板に液晶を滴下する段階では、Ａ≦Ｂになるように前記密封材で囲まれた活性領域に液晶を滴下して液晶ドットを形成することが好ましい。
【００１０】
前記Ａ及びＢは５乃至４０ｍｍであることが好ましく、前記液晶ドットを形成するための１回の液晶滴下量は１乃至１５ｍｇであることが好ましい。また、前記第１基板上に形成される液晶ドットは同一な直線上に位置することが好ましい。つまり、正方形または長方形からなる概ね碁盤目の頂点に位置するように、液晶ドットを配置する。前記第１基板上に形成される液晶ドットは前記単位ピクセル方向軸及び連続ピクセル方向軸が交差して位置していてもよい。つまり、液晶ドットがジグザグに配置されていても良い。
【００１１】
前記液晶がネマチック液晶である場合、前記密封材から最も近い液晶ドットまでの距離をＣとする時、Ｃ≦Ａ≦Ｂであることが好ましく、前記液晶がスメチック液晶である場合は、前記密封材から最も近い液晶ドットまでの距離をＣとする時、Ａ≦Ｂ≦Ｃであることが好ましい。
【００１２】
そして、前記活性領域の隅部に複数個の隅領域液晶ドットを形成することが好ましく、前記活性領域の中央部分外側の外郭領域に複数個の外郭領域液晶ドットを形成することが好ましい。前記外郭領域の液晶ドットは、前記中央領域の液晶ドットより小さいことが好ましい。
【００１３】
単位ピクセル方向に形成された複数個の前記外郭領域液晶ドットと前記密封材から最も近い液晶ドットまでの距離をＤ、連続ピクセル方向に形成された複数個の前記外郭領域液晶ドットと前記密封材から最も近い液晶ドットまでの距離をＥとする時、Ａ≦Ｂ≦Ｄ≦Ｅであることが好ましい。
【００１４】
また、前記互いに張り合わせられた第１基板と第２基板との間の密封材を硬化することが好ましい。前記密封材を硬化する段階では前記密封材をＵＶ硬化した後、熱硬化することが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明による液晶表示装置の製造方法は、液晶ドットのパターン及び液晶滴下量を調節することによってボイドの発生を防止できる長所がある。また、ボイドの発生を防止することにより均一なセルギャップを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、添付した図面を参照して本発明による好ましい一実施例を詳細に説明する。
【００１７】
図１は本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造段階を示している。図１に示すように、第１基板１００に密封材３１０を形成する。前記第１基板１００には薄膜トランジスタが形成されているので、薄膜トランジスタ表示板１００と称する。密封材３１０は薄膜トランジスタ表示板１００上に付着される第２基板２００である色フィルター表示板２００を結合させ、密封材３１０の内側に滴下される液晶を閉じ込める役割をする。前記密封材３１０は色フィルター表示板２００の周縁に一致するように薄膜トランジスタ表示板１００上に形成される。このように密封材３１０に囲まれた領域を活性領域（Ｐ）という。
【００１８】
次に、図２のように薄膜トランジスタ表示板１００上の活性領域（Ｐ）に液晶を滴下して液晶ドット３３０を形成する。液晶ドット３３０は、活性領域Ｐの中央領域だけでなく外郭領域にも形成することが好ましい。ここで、外郭領域とは、活性領域Ｐと密封材３１０との境界の内側に沿った領域をいい、好ましくは境界から５乃至４０ｍｍの領域である。外郭領域は、中央領域の外側に位置し、中央領域を囲んでいる。
【００１９】
図３のように、液晶表示装置の色フィルター表示板２００にはＲ、Ｇ、Ｂピクセル２３１、２３２、２３３が形成されている。Ｘ方向にはＲ、Ｇ、Ｂピクセル２３１、２３２、２３３が交互に形成されている。例えば、Ｒピクセル２３１の右側にブラックマトリックス２２０が形成され、ブラックマトリックス２２０右側にＧピクセル２３２が形成されている。そして、Ｇピクセル２３２の右側にブラックマトリックス２２０が形成され、ブラックマトリックス２２０右側にＢピクセル２３３が形成されている。また、Ｂピクセル２３３の右側にブラックマトリックス２２０が形成され、その右側に再びＲピクセル２３１が形成されている。
【００２０】
そして、Ｙ方向にはそれぞれのＲ、Ｇ、Ｂピクセルが連結されて形成されている。例えば、Ｙ方向の第１列にはＲピクセル２３１がブラックマトリックス２２０を介して連続して形成され、第２列にはＧピクセルら２３２が連続して形成され、第３列にはＢピクセル２３３が連続して形成されている。このようなＸ方向を連続ピクセル方向といい、Ｙ方向を単位ピクセル方向という。
【００２１】
図４（ａ）には、密封材３１０内に液晶が滴下されて形成された液晶ドットの第１のパターンを示している。図４（ａ）のように、Ｘ方向及びＹ方向に液晶が滴下されて液晶ドット３３０ａが形成されている。このような液晶ドット３３０ａはＸ方向への液晶ドット３３０ａ間の間隔が一定で、Ｙ方向への液晶ドット３３０ａ間の間隔が一定に形成されている。
【００２２】
活性領域Ｐ内にＸ方向に形成される液晶ドット３３０ａ間の距離をＡ、Ｙ方向に形成される液晶ドット３３０ｂ間の距離をＢとする時、Ａ≦Ｂになるように液晶ドット３３０ａを形成する。これは、Ｘ方向にはＲ、Ｇ、Ｂピクセルとブラックマトリックス２２０が連続して形成されて、液晶の拡散面の材質が異なり凹凸が多いため液晶の拡散距離が短く、Ｙ方向にはそれぞれのＲ、Ｇ、Ｂピクセルとブラックマトリックス２２０のみが存在して、液晶の拡散面の材質が同じで、Ｙ方向に比べて凹凸が少ないため液晶の拡散距離が長いためである。つまり、拡散距離が短いＸ方向には液晶ドット間の距離Ａを短くし、拡散距離が長いＹ方向には液晶ドット間の距離Ｂを長くすることによって液晶が充分に拡散できるようにしてボイドの発生を防止する。
【００２３】
このようなＡ及びＢは５乃至４０ｍｍであることが好ましい。これは５ｍｍ以下の間隔で液晶ドット３３０ａを形成すればインラインで構成されている液晶表示装置製造ラインの工程速度に合せられず、４０ｍｍ以上の間隔で液晶ドット３３０ｂを形成すればＡＵＡ制御が難しいためである。そして、このような条件はＴＮモード（Ｔｗｉｓｔｅｄ  ｎｅｍａｔｉｃ  ｍｏｄｅ）、ＩＰＳモード（Ｉｎｐｌａｉｎ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ  ｍｏｄｅ）、ＯＣＢモード（Ｏｐｔｉｃａｌ  ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  ｂｅｎｄ  ｍｏｄｅ）及びＶＡモード（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｅｄ  ｍｏｄｅ）に同様に適用される。
【００２４】
また、液晶ドットを形成するための１回の液晶滴下量は１乃至１５ｍｇであることが好ましい。つまり、活性領域に一定の間隔で液晶を滴下する場合、１回の滴下量が少ない時は液晶ドットの数が多くなるため工程のタクトタイムが長くなる。そして、１回の滴下量が多い時は液晶滴下量の誤差も大きくなってＡＵＡ及びＳＵＡの発生が多くなりセルギャップの制御が難しいので１回の液晶滴下量は１乃至１５ｍｇであることが好ましい。そして、このような条件はＴＮ、ＩＰＳ、ＯＣＢ及びＶＡモードにも同様に適用される。
【００２５】
次に、図４（ａ）に示すように、薄膜トランジスタ表示板１００上に複数個の液晶ドット３３０ａを同一直線上に位置するように形成する。つまり、複数個の液晶ドット３３０ａはＸ方向に沿う複数の直線状に位置し、Ｙ方向に沿う複数の直線状に位置するように薄膜トランジスタ表示板１００上に形成する。言い換えれば、液晶ドット３００ａを、概ね碁盤目状に形成する。この場合、薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００を互いにプレスし、液晶ドット３３０ａが拡散されていく時、拡散距離が同一であるので活性領域内のＡＵＡが除去できる。
【００２６】
また、図４（ｂ）に示すように、薄膜トランジスタ表示板１００上の複数個の液晶ドット３３０ａはＸ方向軸及びＹ方向軸が交差して位置するように形成することもできる。つまり、液晶ドット３３０ａを、複数のＸ方向軸及びＹ方向軸上に配置するときに、互い違いに配置する。これは、拡散する面の表面張力が小さい場合液晶の表面張力が相対的に大きくなるので液晶の拡散性が低くなる。ここで、複数個の液晶ドット３３０ａを同一直線上に配置すれば、対角線方向に位置した液晶ドット３３０ｂ間ではＡＵＡが発生する可能性が生ずる。しかし、液晶ドット３３０ａをジグザグに配置すれば、全ての液晶ドット３３０ａ間の間隔が均一化するのでこのようなＡＵＡを効果的に除去することができる。
【００２７】
次に、図５に示すように、液晶が滴下された薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００を張り合わせる。そして、互いに付着された薄膜トランジスタ表示板１００と色フィルター表示板２００との間の密封材３１０を紫外線で硬化する。さらに、密封材３１０を再び熱硬化する工程を含むことができる。この時、スメチック液晶はネマチック液晶に変化されて拡散性が向上する。熱硬化は１２０℃で５０分程加熱することが好ましい。
【００２８】
本発明の第２実施例による液晶表示装置の製造方法における液晶ドットの第２のパターンが図６（ａ）に示されている。ここで、先に示した図面と同一な符号は同じ機能をする同一な部材を示す。
【００２９】
薄膜トランジスタ表示板１００の活性領域Ｐ内には、同一形状の液晶ドット３３０ａが連続的に配置されるので、ＡＵＡを制御するためには液晶ドット３３０ａ間の間隔が互いに同一であることが好ましい。しかし、活性領域Ｐが密封材３１０と接触する部分では密封材３１０と液晶ドット３３０ａとの相互作用によって液晶ドット３３０ａの拡散性が低い。従って、密封材３１０との境界面での液晶ドット形成密度を制御しなければならない。この場合、液晶の性質毎に液晶ドットの形成密度を異なるようにすることによってＡＵＡ及びＳＵＡを効果的に制御することができる。これは、液晶の性質によって液晶の拡散度及び密封材３１０と液晶間との相互親和力が変わるためである。ネマチック液晶の場合、液晶は薄膜トランジスタ表示板１００に横たわっている形状で水平配向である。従って、薄膜トランジスタ表示板１００及び色フィルター表示板２００の圧着による液晶の拡散度が高い。しかし、スメチック液晶の場合、液晶は薄膜トランジスタ表示板１００に対して直立している形状で垂直配向である。従って、薄膜トランジスタ表示板１００及び色フィルター表示板２００の圧着による液晶の拡散度が低い。
【００３０】
ネマチック液晶の場合は、一般にＴＮモード、ＩＰＳモード及びＯＣＢモードに適用される。ここで、液晶と密封材３１０との境界面においては液晶と密封材３１０の相互親和力を考慮して液晶ドットの形成密度を高くする。
【００３１】
図６（ａ）に示すように、密封材３１０から最も近い液晶ドット３３０ａまでの距離をＣとする時、Ｃ≦Ａ≦Ｂになるように液晶ドット３３０ａを形成する。つまり、液晶ドット３３０ａと密封材３１０の境界面での液晶ドット３３０ａの形成密度が他の部分での液晶ドット３３０ａの形成密度より高くなるように液晶ドット３３０ａを形成する。液晶ドット３３０ａの形成密度が高い場合、液晶の拡散が容易であるために密封材３１０との境界面を含む全ての部分に液晶が拡散してＡＵＡ及びＳＵＡが容易に制御できる。この場合にも、図６（ｂ）のように、薄膜トランジスタ表示板１００上に活性領域の液晶ドット３３０ａをＸ方向軸及びＹ方向軸が交差して位置するように形成することができる。
【００３２】
本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法における液晶ドットの第３のパターンが図７（ａ）に示されている。ここで、先に示した図面と同一な符号は同じ機能をする同一な部材を示す。
【００３３】
スメチック液晶の場合は、一般にＶＡモードに適用される。ＶＡモードの場合には液晶が垂直配向をして、拡散される時ＴＮモードに比べて液晶の拡散が遅く拡散が容易ではない。この場合、ＴＮモードと同様に密封材３１０周辺の液晶ドット３３０ａの形成密度を高くするためには、薄膜トランジスタ表示板１００及び色フィルター表示板２００の圧着時密封材３１０周辺の圧着強度を高める必要がある。ここで、密封材３１０に無理な圧力が加わって密封材３１０が破損する問題が発生することもある。従って、ＶＡモードの場合には密封材３１０周辺の液晶ドット３３０ａの形成密度を小さくすることが好ましい。
【００３４】
従って、図７（ａ）に示されるように、Ａ≦Ｂ≦Ｃになるように液晶ドットを形成することが好ましい。この場合にも、図７（ｂ）のように、薄膜トランジスタ表示板１００上に液晶ドット３３０ａをＸ方向軸及びＹ方向軸が交差して位置するように形成することができる。
【００３５】
本発明の第４実施例による液晶表示装置の製造方法における液晶ドットの第４のパターンが図８（ａ）に示されている。ここで、先に示した図面と同一な符号は同じ機能をする同一な部材を示す。
【００３６】
図８（ａ）に示すように、密封材３１０周辺の液晶ドット３３０ａの形成密度を小さくし、密封材３１０内側の隅部に複数個の隅領域液晶ドット３３０ｂを形成する。これは、ＶＡモードの場合、液晶の拡散性が低いため隅部にはＳＵＡが発生する確率が高く、隅部以外にも密封材３１０周辺に沿ってＳＵＡが発生する確率が高いので、これを制御するために隅部に複数個の隅領域液晶ドット３３０ｂを形成するものである。
【００３７】
従って、活性領域Ｐの隅部に別個の隅領域液晶ドット３３０ｂを形成することによってＳＵＡの発生を防止する。隅部は、活性領域Ｐの中央部分を除く外郭領域の角部分である。このような隅領域液晶ドット３３０ｂは、中央領域の液晶ドット３３０ａの大きさより大きくても小さくても同じであっても構わない。ここでも、図８（ｂ）に示すように、薄膜トランジスタ表示板１００上に中央領域の液晶ドット３３０ａをＸ方向軸及びＹ方向軸が交差して位置するように形成することができる。
【００３８】
本発明の第５実施例による液晶表示装置の製造方法における液晶ドットの第５のパターンが図９（ａ）に示されている。ここで、先に示した図面と同一な符号は同じ機能をする同一な部材を示す。
【００３９】
図９（ａ）に示すように、密封材３１０内側部に複数個の外郭領域液晶ドット３３０ｃを形成する。つまり、外郭領域に複数個の外郭領域液晶ドット３３０ｃを形成する。外郭領域液晶ドット３３０ｃの大きさは中央領域の液晶ドット３３０ａの大きさより小さいことが好ましい。外郭領域とは、活性領域Ｐ中の中央領域を除く部分をいい、活性領域Ｐと密封材３１０との境界の内側の領域である。外郭領域は、密封材３１０の内側境界面から５乃至４０ｍｍの範囲が好ましい。
【００４０】
Ｙ方向に形成された複数個の外郭領域液晶ドット３３０ｃと密封材３１０から最も近い中央領域の液晶ドット３３０ａまでの距離をＤ、Ｘ方向に形成された複数個の外郭領域液晶ドット３３０ｃと密封材３１０から最も近い中央領域の液晶ドット３３０ａまでの距離をＥとする時、Ａ≦Ｂ≦Ｄ≦Ｅになるように外郭領域液晶ドット３３０ｃを形成する。
【００４１】
つまり、中央領域の液晶ドット３３０ａのうち密封材３１０に最も近く位置した中央領域の液晶ドット３３０ａとＹ方向に一列に配列された複数個の外郭領域液晶ドット３３０ｃ間の間隔（Ｄ）が、中央領域の液晶ドット３３０ａのＸ方向の間隔（Ａ）より大きくなるように形成する。これは、密封材３１０の損失なしに薄膜トランジスタ表示板１００及び色フィルター表示板２００をプレスすると共にＳＵＡの発生を防止するためである。同様に、中央領域の液晶ドット３３０ａのうち密封材３１０に最も近く位置した中央領域の液晶ドット３３０ａとＸ方向に一列に配列された複数個の外郭領域液晶ドット３３０ｃ間の間隔（Ｅ）が、中央領域の液晶ドット３３０ａ間のＹ方向の間隔（Ｂ）より大きくなるように形成する。これは、密封材３１０の損失なしに薄膜トランジスタ表示板１００及び色フィルター表示板２００をプレスすると共にＳＵＡの発生を防止するためである。
【００４２】
さらに、ＥがＤより大きくなるように外郭領域液晶ドット３３０ｃを形成するのは、Ｘ方向にはＲ、Ｇ、Ｂピクセルとブラックマトリックス２２０が連続して形成されて、材質が異なり凹凸が多いので液晶の拡散距離が短く、Ｙ方向にはそれぞれのＲ、Ｇ、Ｂピクセルとブラックマトリックス２２０のみが存在して、材質が同じでＸ方向に比べて凹凸が少ないので液晶の拡散距離が長いためである。この場合にも、図９（ｂ）のように、薄膜トランジスタ表示板１００上に活性領域の中央領域の液晶ドット３３０ａをＸ方向及びＹ方向に互い違いに位置するように形成することができる。
【００４３】
本発明について添付した図面と一つの実施例に基づいて説明したが、本発明の例示的なものであり、本技術分野の通常の知識を有する者であればこれによる様々な変形及び均等な他の実施例が可能であることが理解できるであろう。よって、本発明の真の技術的保護範囲は添付された特許請求の範囲の技術的思想によって決まらなければならない。  
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示すもので、第１基板に密封材を形成することを示している。
【図２】図１の次の段階として第１基板に液晶ドットを形成することを示している。
【図３】本発明の第１実施例による液晶表示装置の色フィルター表示板に形成されたＲ、Ｇ、Ｂピクセルを概略的に示すものである。
【図４】（ａ）本発明の第１実施例による液晶ドットの第１のパターンを示すものである（碁盤目状）。  （ｂ）本発明の第１実施例による液晶ドットの第１のパターンを示すものである（互い違い）。
【図５】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示すもので、第１基板に第２基板を張り合わせることを示すものである。
【図６】（ａ）本発明の第２実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（碁盤目状）。  （ｂ）本発明の第２実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（互い違い）。
【図７】（ａ）本発明の第３実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（碁盤目状）。  （ｂ）本発明の第３実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（互い違い）。
【図８】（ａ）本発明の第４実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（碁盤目状）。  （ｂ）本発明の第４実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（互い違い）。
【図９】（ａ）本発明の第５実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（碁盤目状）。  （ｂ）本発明の第５実施例による液晶ドットの第２のパターンを示すものである（互い違い）。
【符号の説明】
【００４５】
１００    薄膜トランジスタ表示板
２００    色フィルター表示板
３１０    密封材
３３０ａ  液晶ドット
３３０ｂ  隅領域液晶ドット
３３０ｃ  外郭領域液晶ドット
Ｘ    連続ピクセル方向
Ｙ    単位ピクセル方向    
【図１】
2004185015.tif 000003
【図２】
2004185015.tif 000004
【図３】
2004185015.tif 000005
【図４】
2004185015.tif 000006
【図５】
2004185015.tif 000007
【図６】
2004185015.tif 000008
【図７】
2004185015.tif 000009
【図８】
2004185015.tif 000010
【図９】
2004185015.tif 000011