(57)【要約】【課題】フォトブリーチング法において、特定のフォトブリーチング性色素を用いることによって、高性能の光部品を、低コストで提供することを目的とする。さらに、本発明の他の目的は、このような光部品の容易かつ安価な製造方法を提供することである。【解決手段】少なくともドーパント剤とマトリックス剤とから構成される構造体に、パターンを有する外部エネルギーが供給され、該外部エネルギーが供給された部分の前記ドーパント剤が化学変化し屈折率変化を起こすことによって、前記パターンに応じた屈折率変調が付与された構造体を含む光部品であって、前記ドーパント剤が、下記一般式（１）で示される有機化合物であることを特徴とする光部品である。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともドーパント剤とマトリックス剤とから構成される構造体に、パターンを有する外部エネルギーが供給され、該外部エネルギーが供給された部分の前記ドーパント剤が化学変化し屈折率変化を起こすことによって、前記パターンに応じた屈折率変調が付与された構造体を含む光部品であって、前記ドーパント剤が、下記一般式（１）で示される有機化合物であることを特徴とする光部品。
【化１】
2004246229.tif 000006
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、互いに独立に置換もしくは未置換の芳香族基を表し、Ｌは環構造を有してもよいπ共役系連結基を表す。Ａｒ１及び／またはＡｒ２が置換基を有する場合、該置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子からなる群より選択される１または２以上の置換基である。）
【請求項２】
前記π共役系連結基が、−ＣＲ１＝ＣＲ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲ３＝Ｎ−、−ＮＡｒ３−よりなる群から選択される１の連結基、または２以上が連結した連結基であることを特徴とする請求項１に記載の光部品。
（上記連結基中、Ｒ１〜Ｒ３は互いに独立に炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａｒ３は置換または未置換の芳香族基を表す。また、Ｒ１〜Ｒ３、Ａｒ３は環構造の一部をなしてもよい。）
【請求項３】
前記マトリックス剤が、有機高分子化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光部品。
【請求項４】
前記有機高分子化合物が、分子鎖中に芳香族基を含まないことを特徴とする請求項３に記載の光部品。
【請求項５】
屈折率変調がパターンとして付与された構造体を含む光部品の製造方法であって、
少なくとも上記一般式（１）に記載のドーパント剤とマトリックス剤とから構成される構造体に、パターンを有する外部エネルギーを供給し、該外部エネルギーによって前記ドーパント剤を化学変化させ屈折率変化を誘起させることによって、前記構造体にパターンに応じた屈折率変調を付与することを特徴とする光部品の製造方法。
【請求項６】
前記外部エネルギーが、紫外光であることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報処理分野、情報通信分野等において活用される光部品に関するものであり、より具体的には、導波路、導波路型素子、回折格子、ホログラム素子、レンズ等の、パターンとして屈折率変調を有することを特徴とする光部品並びにその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
情報技術の中核をなす情報処理分野並びに情報通信分野においては、情報量の増大、情報処理／伝送の高速化、ノイズの低減等の要請により、従来の電子デバイスから光デバイスへの移行が進んでおり、光デバイスを構成する要素光部品の研究開発が活発に行われている。その中でも特に、光導波路は、光インターコネクションを担う基本部品であるばかりでなく、光スイッチ、光変調器、波長フィルター等の機能性光部品の基本構成要素でもあり、最も重要な基本要素と位置付けられている。
【０００３】
従来、光導波路を形成する材料としては、ガラス、半導体等の無機材料が一般的であったが、近年、低コスト、高生産性、軽量、フレキシブル、等の利点を有する有機高分子材料への関心が高まってきている。
【０００４】
光導波路は、基本的には光ファイバーと同じ構成になっており、屈折率の高いコア部と呼ばれる部分が屈折率の低いクラッド部と呼ばれる部分に覆われ、光はコア／クラッド界面で全反射を繰り返しながらコア部内部に閉じ込められ導波される。前記コア部とクラッド部との屈折率差やコアの寸法により光の閉じ込めの状況は変化し、伝播する光のモード数により、光導波路はシングルモードとマルチモードとに大別される。また、光導波路はその構造により、スラブ型、リッジ型、チャネル型等に分類されるが、光の閉じ込め効率が高い、理論設計が容易、等の利点から、チャネル型が主流となっている。
【０００５】
チャネル型光導波路の作製方法としては、半導体微細加工技術、すなわちフォトリソグラフィー技術とドライエッチング技術とを利用する方法が一般的である。上記方法は、殆どの材料に適用可能であり非常に汎用性が高く、かつ、高い寸法精度が得られると云う利点を有するが、高額な装置を必要とし、また多くの工程が必要であるため、コスト、生産性等の点で、必ずしも最良の方法とはいえない。
【０００６】
光デバイスの本格的な普及に向けては、特に低コスト化は重要な課題であり、低コスト、高生産性のポテンシャルを秘める有機高分子材料への期待は高く、光導波路においても、その特性を発揮し得る有機高分子材料に特徴的な新規な作製方法が模索され、これまでにフォトブリーチング法、射出成形法、光硬化性高分子を用いる方法、等が提案されている。
【０００７】
それらの中でもフォトブリーチング法は、有機材料がフォトブリーチング反応により屈折率変化を起こすと云う特性を活用するものであり、非常に簡便かつ低コストであるため、量産化に適した方法として注目されている。
【０００８】
フォトブリーチング法では、一般的に、光照射による分解反応等により屈折率低下が起こる、フォトブリーチング性の色素を高分子材料中に分散させたものをコア材料とし、チャネル形状に応じたコア以外の部分に光照射を行うことにより該部分の屈折率を低下させることによって、所定の屈折率差を有するチャネル形状を形成する。
【０００９】
上記フォトブリーチング性の色素としては、強い電子供与性基を有するπ電子系と、強い電子吸引性基を有するπ電子系とを、π共役基で連結したプッシュプル型π電子構造を基本骨格とする化合物が一般的であり、発達したπ電子構造により高い屈折率を有する。これらの色素においては、紫外光の照射により屈折率の低下が誘起される。屈折率低下の原因は必ずしも明らかではないが、光反応によりπ共役連結基が切断されることによるものと推定されている。
【００１０】
例えば、フォトブリーチング性色素として、強い電子供与性基としてアミノ基を、強い電子吸引性基としてシアノ基を持ち、プッシュプル型π電子構造を有する、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピランを用い、フォトブリーチング法により光導波路を形成する方法が開示されている（例えば、非特許文献１参照）。
【００１１】
しかしながら、プッシュプル型π電子構造を有するフォトブリーチング性色素は、分子双極子モーメントが大きく会合し易いため、マトリックスとなる高分子材料との相溶性が低く、相分離を起こし、伝播損失の増大を引き起こすという問題があった。また、プッシュプル型π電子構造を有するフォトブリーチング性色素は、溶剤への溶解性も低く、塗布溶剤として特殊な高極性溶剤を用いなければならないと云う制約もあった。これらの高極性溶剤は、毒性が高いものが多く、また沸点が高く、塗布後の乾燥工程が困難になるという問題もあった。さらに、プッシュプル型π電子構造を有するフォトブリーチング性色素は、可視域に強い電荷移動吸収を有するが、この吸収は長波長側へ大きくテーリングしており、通信波長領域でも有意な吸収を示すため、伝播損失の増大を引き起こすという問題もあった。
【００１２】
上述の色素とマトリックス高分子材料との相溶性の問題を解決する方策として、色素骨格を高分子の側鎖に結合する方策が検討されている。例えば、強い電子供与性基としてアミノ基を、強い電子吸引性基としてニトロ基を持ち、プッシュプル型π電子構造を有するｐ−ニトロ−ｐ’−アミノ−アゾベンゼン骨格を、ウレタン−ウレア共重合体の側鎖に導入した高分子材料を用い、フォトブリーチング法により光導波路を作製した例が報告されている（例えば、非特許文献２参照）。しかしながら、複雑な色素骨格を導入した高分子の合成並びに精製は、非常に困難であり、材料コストの増大は避けられない。
【００１３】
また、フォトブリーチング性を有する高分子材料としてポリシランが知られており、ポリシランを用いてフォトブリーチング法により導波路を作製する方法の開示もある（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、ポリシランのフォトブリーチングでは、主鎖の切断反応を伴うことが知られており、分子量低下により膜強度が低下する、等の問題を抱える。また、ポリシランは非常に高価であり、低コストの光部品用途には適さない。
【００１４】
このように、フォトブリーチング法は、有機材料の持つ低コスト性、高生産性といった利点を、最大限に発揮し得るポテンシャルを有するが、有機材料を用いた光導波路に代表される屈折率変調を特徴とする光部品の製造方法として用いる場合には、未だに多くの改善の余地がある。
【００１５】
【特許文献１】
特開平６−２２２２３４号公報
【非特許文献１】
Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｏｐｔｉｃｓ，Ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１８，ｐ．３８９３−３９０３（１９９９）
【非特許文献２】
豊田中央研究所Ｒ＆Ｄレビュー，Ｖｏｌ．３４，Ｎｏ．１，ｐ．３１−３９（１９９９）
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来技術の問題点を解決することを目的とする。
すなわち本発明は、フォトブリーチング法において、特定のフォトブリーチング性色素を用いることによって、高性能の光部品を、低コストで提供することを目的とする。さらに、本発明の他の目的は、このような光部品の容易かつ安価な製造方法を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、屈折率変調を特徴とする光部品の簡便な製造方法であるフォトブリーチング法に関する上述の諸問題を解決すべく、フォトブリーチング色素に関して鋭意検討を行った結果、特定のフォトブリーチング色素を用いることによってそれらの諸問題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１８】
すなわち、本発明は、
＜１＞  少なくともドーパント剤とマトリックス剤とから構成される構造体に、パターンを有する外部エネルギーが供給され、該外部エネルギーが供給された部分の前記ドーパント剤が化学変化し屈折率変化を起こすことによって、前記パターンに応じた屈折率変調が付与された構造体を含む光部品であって、前記ドーパント剤が、下記一般式（１）で示される有機化合物であることを特徴とする光部品である。
【００１９】
【化２】
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【００２０】
上記式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、互いに独立に置換もしくは未置換の芳香族基を表し、Ｌは環構造を有してもよいπ共役系連結基を表す。Ａｒ１及び／またはＡｒ２が置換基を有する場合、該置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子からなる群より選択される１または２以上の置換基である。
【００２１】
一般式（１）に示されるフォトブリーチング性色素（ドーパント剤）は、発達したπ電子構造を有するものの強い電子吸引性基は持たないため、従来のプッシュプル型π電子構造を有する色素に比べ、▲１▼双極子モーメントが小さく会合性が低く、マトリックス材料との高い相溶性を示す、▲２▼汎用の塗布溶剤への溶解性が高い、▲３▼吸収領域が短波長にあり、通信波長領域での吸収が小さい、等の利点を有し、このフォトブリーチング性色素を用いることによって低コストで高性能の光部品を提供することができる。
【００２２】
＜２＞  前記π共役系連結基が、−ＣＲ１＝ＣＲ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲ３＝Ｎ−、−ＮＡｒ３−よりなる群から選択される１の連結基、または２以上が連結した連結基であることを特徴とする＜１＞に記載の光部品である。
【００２３】
上記連結基中、Ｒ１〜Ｒ３は互いに独立に炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａｒ３は置換または未置換の芳香族基を表す。また、Ｒ１〜Ｒ３、Ａｒ３は環構造の一部をなしてもよい。
【００２４】
連結基をこのような構造とすることによって、フォトブリーチングによる大きな屈折率変化が保証される。
【００２５】
＜３＞  前記マトリックス剤が、有機高分子化合物であることを特徴とする＜１＞に記載の光部品である。
【００２６】
＜４＞  前記有機高分子化合物が、分子鎖中に芳香族基を含まないことを特徴とする＜３＞に記載の光部品である。
【００２７】
マトリックス剤をこのような構造にすることによっても、フォトブリーチングによる大きな屈折率変化を生起することができる。
【００２８】
＜５＞  屈折率変調がパターンとして付与された構造体を含む光部品の製造方法であって、少なくとも上記一般式（１）に記載のドーパント剤とマトリックス剤とから構成される構造体に、パターンを有する外部エネルギーを供給し、該外部エネルギーによって前記ドーパント剤を化学変化させ屈折率変化を誘起させることによって、前記構造体にパターンに応じた屈折率変調を付与することを特徴とする光部品の製造方法である。
【００２９】
＜６＞  前記外部エネルギーが、紫外光であることを特徴とする＜５＞に記載の製造方法である。
【００３０】
外部エネルギーとして紫外光を用いることによって、高い生産性、高いパターニング精度が低コストにて実現される。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
図１は本発明を用いたチャネル型光導波路の作製工程の概略図である。この作製工程は、図１の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の３つのステップよりなる。
【００３２】
（ａ）ステップ１：まず、基板１の表面にクラッド層２とコア層３とを順次、塗布する。
（ｂ）ステップ２：次に、チャネル形状に応じたパターンを有するマスク４を介して、コア部となる以外の部分６に光５（外部エネルギー）を照射することにより、光照射部の屈折率を低下させ、前記パターンに応じた屈折率変調（屈折率の高い部分及び低い部分のパターン）を付与する。
（ｃ）ステップ３：最後に、上層クラッド層７を塗布し、チャネル型光導波路とする。
【００３３】
尚、上層クラッド層７のフォトブリーチング用の光５に対する透明性が十分に高ければ、上記ステップ１にて、上層クラッド層７まで塗布した後、上記ステップ２を行い、同様のチャネル型光導波路を形成することもできる。
【００３４】
前記基板１としては、任意の形状のものが使用可能であり、その材料としては、Ｓｉ等の半導体材料；ガラス、アルミナ等のセラミックス材料；プラスチック材料；等が用いられる。
【００３５】
前記下層クラッド層２は、コア層３よりも屈折率が小さく、伝播光に対する透明性が高ければ如何なる材料を用いて形成されても構わないが、コスト、上層塗布耐性等の点で、ＵＶ硬化系樹脂等の硬化系樹脂を用いることが好ましい。尚、基板１がこれらの条件を満たす場合、下層クラッド層２は省略することも可能である。
【００３６】
下層クラッド層２の形成方法としては、スピンコート法、浸漬塗布法、ブレードコート法、インクジェット法等の湿式塗布法が、コスト、量産性等の観点から、好ましい例として挙げられる。尚、基板１と下層クラッド層２との間には、基板表面の荒れを平滑化する、基板１と下層クラッド層２との接着性を改善する、基板側からの不要な紫外光の入射を阻止する、等の目的により中間層を設けてもよい。
【００３７】
下層クラッド層２の膜厚は、一概には規定できないが、一般的に導波させる光の波長程度以上であることが望ましい。
【００３８】
前記コア層３は、本発明の特徴を為すものであり、  少なくとも下記一般式（１）で示されるフォトブリーチング性化合物（ドーパント剤）とマトリックス剤とから構成される。
【００３９】
【化３】
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【００４０】
上記式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、互いに独立に置換もしくは未置換の芳香族基を表し、Ｌは環構造を有してもよいπ共役系連結基を表す。Ａｒ１及び／またはＡｒ２が置換基を有する場合、該置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン原子からなる群より選択される１または２以上の置換基である。
【００４１】
前記π共役系連結基としては、フォトブリーチング反応の感度、フォトブリーチングによる屈折率変化量等の点で、−ＣＲ１＝ＣＲ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲ３＝Ｎ−、−ＮＡｒ３−よりなる群から選択される１の連結基、または２以上が連結した連結基であることが特に好ましい。尚、上記連結基中、Ｒ１〜Ｒ３は互いに独立に炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａｒ３は置換または未置換の芳香族基を表す。また、Ｒ１〜Ｒ３、Ａｒ３は環構造の一部をなしてもよい。
【００４２】
一般式（１）で示される化合物は、強い電子吸引性基を持たない特定の構造を有するため、従来のプッシュプル型化合物に比べ吸収波長帯が大きく短波長側にシフトしており、通信波長域での伝播損失が小さい。さらに、プッシュプル型化合物に比べ分子間の会合性が著しく低減されており、塗布溶剤の選択肢が広がる、マトリックス剤との相溶性が高い、等の好ましい効果が発現される。
【００４３】
一般式（１）で表される化合物の具体例（例示化合物）としては、下式（１−１）〜（１−５）で示されるものが挙げられる。なお、下式において、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を表す。
【００４４】
【化４】
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【００４５】
前記マトリックス剤は、一般式（１）で表されるフォトブリーチング性化合物を内抱し、成膜性と機械的強度を与えるものであり、その機能を発揮するものであれば如何なるものでも構わないが、相溶性、コスト等の点で有機高分子化合物が好ましい。
【００４６】
好適に用いられる有機高分子化合物としては、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂、等の透明性樹脂が挙げられる。これらの中でも、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂等の芳香族基を含まない高分子化合物をマトリックス剤として用いると、マトリックス剤の紫外光に対する透明性が高いため、紫外光によるドーパント剤のフォトブリーチの実効効率が上がる、マトリックス剤の屈折率が小さいためフォトブリーチによる屈折率変化を大きく取れる、等の好ましい効果が発揮されるため好ましい。
【００４７】
ドーパント剤となるフォトブリーチング性化合物とマトリックス剤との質量比（ドーパント剤の質量／フォトブリーチング剤の質量）は、目的、用途等によって、その適当な範囲が異なるため一概には規定できないが、概ね１／９９〜９０／１０の範囲内であり、より好ましくは５／９５〜５０／５０の範囲である。
【００４８】
ドーパント剤の割合が減少するに連れ、フォトブリーチングで生起される屈折率の変化量も低下するため、目的、用途に応じ必要とされる屈折率変化量が決まれば、ドーパント剤の必要最少量が決まることになる。一方、ドーパントの割合が増大すると、膜のガラス転移点が低下し、熱安定性、機械的強度等が、低下する傾向にあり、一般的にドーパント剤が９０質量％を超えると、膜強度等が十分でなくなる。
【００４９】
コア層３の膜厚、およびチャネル導波路とする場合のコア部の幅は、コア部／クラッド部の屈折率、構造等によって最適値が異なるため一概に規定できないが、シングルモードでは、一般に数μｍ程度、マルチモードでは数十μｍ〜数百μｍの範囲内であることが好ましい。
【００５０】
コア層３の形成方法としては、スピンコート法、浸漬塗布法、ブレードコート法、インクジェット法等の湿式塗布法が、コスト、量産性等の観点から、好ましい例として挙げられる。
【００５１】
前記上層クラッド層７は、省略することも可能であるが、設けることによりコア層３の汚れや傷つき防止等の好ましい効果を発揮し得る。上部クラッド層７の材料としては、前記下部クラッド層２に用いたものと同様の材料を用いることができる。また、コスト、生産性等の点から、上層クラッド層７も上述の湿式塗布法により形成することが好ましい。
【００５２】
しかしながら、この場合、下層のコア層３にダメージを与えないように注意を払うことが必要である。コア層３の材料によって異なるため一概に規定することはできないが、熱硬化系のエポキシ樹脂を用いることによって、コア層３へダメージを与えることなく、上層クラッド層７を湿式塗布法にて形成できるケースが多い。
【００５３】
なお、下部クラッド層２、コア層３、及び上層クラッド層７を湿式法により形成する場合、用いる溶剤としては特に制限はないが、前記のように下層にダメージを与えないことが好ましく、この観点から、適当な材料、塗布溶剤、塗布法を選定する必要がある。
【００５４】
コア層３とクラッド層との屈折率差は、一般的にシングルモードの場合で０．１〜１％の範囲程度、マルチモードの場合は１％程度以上であることが好ましい。
【００５５】
本発明で用いるコア層３のパターニング法は、上述のコア層３にパターンを有する外部エネルギーを供給し、該外部エネルギーが供給された部分のドーパント剤に化学変化、屈折率変化を誘起させることによって、前記パターンに応じた屈折率変調（屈折率の高い部分及び低い部分のパターン）を付与することを特徴とする。
【００５６】
上記外部エネルギーとしては、熱、電子線、紫外光等が挙げられるが、照射装置の簡便性、パターニング精度等の点で、特に、紫外光が好ましい。コア部のパターンを形成するに当たって、フォトブリーチによって生起させる屈折率変化量は、一般的に、シングルモードの場合で０．１〜１％の範囲程度、マルチモードの場合は１％程度以上である。
【００５７】
照射する光（外部エネルギー）の強度としては、特に制限はないが、あまりに強すぎると材料劣化が起こってしまう場合があるため、１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、５００ｍＷ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【００５８】
また、前記パターニング（パターンを有する外部エネルギー供給）は、前記図１で説明したように、例えばマスク４を用いて、コア層３表面を全面照射して行ってもよいし、レーザ光などによりコア層３の表面にパターンをそのまま描いてもよい。
【００５９】
図２に、一般式（１）で表される化合物の一つである前記例示化合物（１−１）を、環状オレフィン樹脂の一種であるＡｒｔｏｎ樹脂（ＪＳＲ製）に３０質量％の濃度で分散させた膜に対し、高圧水銀灯（ウシオ電機社製）により紫外光（光量：約１００ｍＷ／ｃｍ２）を照射した時に観測される吸収スペクトルの時間変化を示す。図２に示すように、４００ｎｍ付近に吸収極大を持つピークが、紫外光の照射によって時間と共に消失していくフォトブリーチング挙動が確認された。
【００６０】
図３には、上記図２のフォトブリーチングに伴い生起される屈折率変化の測定結果を示した。紫外光の照射時間に応じ、屈折率が徐々に低下し、４００分間照射で２．６％以上の屈折率変化が達成できることがわかる。この大きな屈折率変化は、マルチモード導波路を形成するにも十分な変化量であり、また照射量、あるいはドーパント剤／マトリックス剤質量比を制御することによって、それ以下の任意の屈折率変化値を得ることも可能でありシングルモードへの対応も可能である。
なお、上記屈折率の測定は、６３３ｎｍ光に対してプリズムカップリング法により行った。
【００６１】
本発明の光部品は、以上のような材料、方法により作製される光導波路等の構造体を含む光部品である。すなわち、本発明の屈折率変調がパターンとして付与された構造体を含む本発明の光部品は、上述の光導波路以外にも、多層薄膜フィルター、グレーティング、レンズ等としても好適に活用され得るものであり、本発明の製造方法によれば、それらを容易かつ安価に製造することができる。
【００６２】
【実施例】
以下実施例により、本発明をより具体的に説明する。
（実施例１）
Ｓｉウエハ基板（径：５インチ、厚さ：４００μｍ）の表面に、下層クラッド層として、ＵＶ硬化型エポキシ樹脂（エポキシテクノロジー社製）をスピンコート法により塗布し、高圧水銀灯（ウシオ電機社製）から発せられる紫外光（約１００ｍＷ／ｃｍ２）を１０分間照射し硬化させた。この下層クラッド層の膜厚は３μｍ、６３３ｎｍでの屈折率は１．４１であった。
【００６３】
次に、シクロヘキサノン６００質量部に、前記例示化合物（１−１）を３０質量部と、環状オレフィン樹脂であるＡｒｔｏｎ樹脂（ＪＳＲ製）７０質量部とを溶解させ塗布液とし、該塗布液を上記下層クラッド表面にスピンコート法により塗布し、１５０℃にて１時間加熱乾燥させ、膜厚２μｍ、屈折率１．６２のコア層を形成した。
【００６４】
このコア層に、幅２μｍのストライプ状の金属マスクを介して高圧水銀灯（ウシオ電機社製）から発せられる紫外光（約１００ｍＷ／ｃｍ２）を４００分間照射し、マスクに対応するストライプ以外の部分の屈折率を１．５８まで低下させた。
【００６５】
次に、上層クラッド層として２液タイプの熱硬化型エポキシ樹脂（三井化学社製）を、上記コア層表面にスピンコート法により塗布し、１５０℃にて３０分間加熱硬化させ、図１に示すようなチャネル型光導波路（構造体）を作製した。
【００６６】
以上のように作製したチャネル型光導波路を、ダイヤモンドソーによって端面がコア部と垂直になるように２ｃｍの長さで切り出し、この一方の端面からファイバーを経由して６３３ｎｍのレーザー光を導入し、導波路中の伝播の様子を目視にて確認したところ、チャネル部の反対端から強い光の放射が視認でき、光がチャネル部に閉じ込められ導波しており、本実施例にて作製した構造体が、光導波路として有効に機能していることが確認できた。
【００６７】
【発明の効果】
本発明は、特定のフォトブリーチング性化合物をドーパント剤として用いることを特徴としており、該化合物の持つ、汎用の塗布溶剤への高い溶解性、マトリックス剤への高い相溶性、高いフォトブリーチング感度、等の好ましい特性によって、屈折率の空間変調を特徴とする光導波路等の光部品を、低コストで、簡便に作製することができるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】フォトブチーチング法によるチャネル型光導波路の作製工程を示す概略図である。
【図２】本発明に用いた化合物をドーパント剤とした膜のフォトブリーチングによる吸収スペクトル変化の一例を示す図である。
【図３】本発明に用いた化合物をドーパント剤とした膜のフォトブリーチングによる屈折率変化の一例を示す図である。
【符号の説明】
１  基板
２  下層クラッド層（クラッド部）
３  コア層（コア部）
４  マスク
５  照射光（外部エネルギー）
６  フォトブリーチ部（外部エネルギー供給部）
７  上層クラッド層（クラッド部）
【図１】
2004246229.tif 000007
【図２】
2004246229.tif 000008
【図３】
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