(57)【要約】【課題】洗浄工程において基板の外周部（主に記録層の外周縁部付近）を効率よく乾燥させて、タクトタイムを短縮し、記録層の変質を防ぐことが可能な光情報記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に記録層を形成する記録層形成工程と、前記記録層を形成した後に前記基板の外周部に溶剤を吐出して、外周部における記録層を除去する洗浄工程と、を含む光情報記録媒体の製造方法であって、前記洗浄工程における吐出後の前記溶剤を振りきる過程において、前記基板を回転させることで施される乾燥処理と、前記基板と離間して設けられた１以上の乾燥手段と、を併用して、前記外周部に乾燥処理を施すことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に記録層を形成する記録層形成工程と、
前記記録層を形成した後に前記基板の外周部に溶剤を吐出して、外周部における記録層を除去する洗浄工程と、を含む光情報記録媒体の製造方法であって、
前記洗浄工程における吐出後の前記溶剤を振りきる過程において、前記基板を回転させることで施される乾燥処理と、前記基板と離間して設けられた１以上の乾燥手段と、を併用して、前記外周部に乾燥処理を施すことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記乾燥手段が、送風処理を行う送風手段であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光を用いて情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ等として広く知られる追記型の光情報記録媒体には、記録領域として色素を含有する記録層が形成されている。この記録層は、色素含有溶液を基板表面にスピンコートして乾燥することにより形成される。スピンコートに使用されるスピンコータは、その特性上、基板の内周側ではある程度限定した位置から塗布を開始することができるが、外周側の塗布範囲を制御することは難しい。このため、記録層を一度基板の全面に形成し、その外周縁部に洗浄液を吹き付けて除去する（洗浄工程）ことにより、塗布範囲を制限している。
また、当該洗浄工程で、記録層の外周縁部（エッジ部）を有機溶剤で洗浄することで、記録層の経時劣化を防ぐことができる。
【０００３】
ここで、確実な洗浄を行うために、洗浄工程において多量の洗浄液を吐出する洗浄方法が考えられる。しかし、この場合、溶剤を十分に乾燥させることができないと、外周部に残留した溶剤が記録層内部に含浸していったり、含浸した溶剤が膨潤などを引き起こし、湿熱保存後に基板上に形成された記録層の外周部が変色（変質）しやすいという問題が生じる。変色が生じると情報の記録が不可能となり情報の再生ができなくなるという問題が生じてしまう。
逆に、乾燥優先で洗浄液の吐出量を制限すると、洗浄不良が発生し反射層による記録層の被覆（保護機能）が不十分になって変色の原因となる。
【０００４】
また、十分に洗浄を行い、残留分の問題が生じない程度に乾燥させるようにすると、当該乾燥に要する時間が長くなり、タクトタイム（媒体１枚を処理するのに要する時間）を一定以下とすることが困難となる。
上記洗浄方法としては、記録層形成後の基板上部から、基板の外周に向けて洗浄液を噴霧する方法（例えば、特許文献１参照）が提案されているが、タクトタイムの短縮には、必ずしも十分ではなかった。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−３３１３８７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上から、本発明の目的は、洗浄工程において基板の外周部（主に記録層の外周縁部付近）を効率よく乾燥させて、タクトタイムを短縮し、記録層の変質を防ぐことが可能な光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、下記本発明により解決することができる。
すなわち、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に記録層を形成する記録層形成工程と、
前記記録層を形成した後に前記基板の外周部に溶剤を吐出して、外周部における記録層を除去する洗浄工程と、を含む光情報記録媒体の製造方法であって、
前記洗浄工程における吐出後の前記溶剤を振りきる過程において、前記基板を回転させることで施される乾燥処理と、前記基板と離間して設けられた１以上の乾燥手段と、を併用して、前記外周部に乾燥処理を施すことを特徴とする。
前記乾燥手段は、送風処理を行う送風手段であることが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に記録層を形成する記録層形成工程と、前記記録層を形成した後に前記基板の外周部に溶剤を吐出して、外周部における記録層を除去する洗浄工程と、を含む。
洗浄工程では、当該工程の後半（吐出後の前記溶剤を振りきる過程）において、前記基板を回転させることで施される乾燥処理とともに、前記基板と離間して設けられた乾燥手段により基板の外周部に乾燥処理を施す。
なお、上記工程の前後に公知の工程が適宜設けられている。
以下、本発明の光情報記録媒体の製造方法を、図１〜図７を参照しながら説明する。
【０００９】
図１に、本発明の製造方法に係る光情報記録媒体の製造システム１０を示す。製造システム１０は、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂと、記録層形成工程に供される塗布設備１４と、洗浄工程および乾燥処理工程に供される後処理設備１６と、を有して構成されている。
【００１０】
第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０から取り出された基板を冷却する冷却部２２と、冷却後の基板を段積みして保管するためのスタックポール２４が複数本設置された集積部２６（スタックポール回転台）とを有する。
【００１１】
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【００１２】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が成形機２０により形成される。
ＤＶＤ−Ｒの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることがさらに好ましい。
３００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、９００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましい。
１００ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１６０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
さらに、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３９０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３８０ｎｍとすることがさらに好ましい。
２００ｎｍ未満では、成形時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、４００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００１３】
ＣＤ−Ｒの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、１．０〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．１〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．１〜１．６５μｍとすることがさらに好ましい。
プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることがさらに好ましい。
プリグルーブの半値幅は、２００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２５０〜６００ｎｍとすることがより好ましい。
なお、上記プリグルーブの数値範囲の臨界的意義については、前記ＤＶＤ−Ｒの場合と同様である。
【００１４】
成型された基板は、塗布設備１４に搬送される。塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送されたスタックポール２４を収容するためのスタックポール収容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容されたスタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う静電ブロー機構４４とを有する。
【００１５】
第２の処理部３２は、第１の処理部３０において静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によって搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液を塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた基板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０とを有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート装置５２を有して構成されている。
【００１６】
第２の処理部３２に搬送された基板には、スピンコート装置５２により色素塗布液（以下、「塗布液」ということがある）が全面に塗布される。
スピンコート装置５２により塗布する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
なお、温度や雰囲気等の制御は、空調システム３００により行うことができる。
【００１７】
塗布液中に含有される色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、シアニン色素が好ましい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【００１８】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質（色素）の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００１９】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００２０】
また、記録層は単層でも重層でもよく、その層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは４０〜２００ｎｍの範囲にある。
【００２１】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２２】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２３】
第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構５０にて搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送する第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６によって搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番号付与機構５８と、ロット番号等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第５の搬送機構６０と、該第５の搬送機構６０によって搬送された基板に対して欠陥の有無並びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構６２と、該検査機構６２での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール６４あるいはＮＧ用のスタックポール６６に選別する選別機構６８とを有する。
【００２４】
第１の処理部３０と第２の処理部３２との間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と第３の処理部３４にも同様の第２の仕切板７２が設置されている。第１の仕切板７０の下部には、第２の搬送機構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部には、第３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成されている。
【００２５】
基板上に記録層が形成され、裏面洗浄等が施された基板は、後処理設備１６に搬送される。
後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送された正常品用のスタックポール６４を収容するためのスタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部８０に収容されたスタックポール６４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によって搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリングにて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタリングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された基板の周縁（エッジ部分）を洗浄し、洗浄後の基板の外周部を乾燥するエッジ洗浄乾燥機構９２とを有する。
【００２６】
まず、スパッタ機構８８により光反射層が形成される。光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００２７】
このエッジ洗浄機構９２では、例えば、図２〜図４に示すように、基板２０２を保持して、洗浄中も回転される回転軸６００と、該回転軸６００を一方向に回転させる駆動モータ６０２とを有する回転駆動装置６０４と、１本の吐出ノズル６０６が設けられたノズルユニット６０８と、該ノズルユニット６０８を支持するアーム６１０と、ノズルユニット６０８を初期位置Ｐ１から規定の吐出位置Ｐ２（図３参照）に移動させるアーム駆動装置６１２とを有して構成されている。
【００２８】
吐出ノズル６０６は、図４に示すように、鉛直線ｍに対して約４５°の角度θに維持されている。吐出ノズル６０６の配管途中には、濾過フィルタが装着されている。
【００２９】
前記ノズルユニット６０８が規定の吐出位置Ｐ２にきたとき、図４及び図５に示すように、吐出ノズル６０６からの溶剤６２０が吐出されることになるが、この場合、溶剤６２０は、反射層２０８が形成された基板２０２の内方における上方から基板２０２の周縁部２０６に向けて吐出され、この溶剤６２０の吐出によって基板２０２の周縁部２０６における記録層２０４が除去されることになる。
【００３０】
溶剤（洗浄液）６２０としては、特に制限はないが、例えば、ジアセトンアルコール、ジブチルエーテル、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノールを挙げることができ、特にジアセトンアルコールが好ましい。これらの溶剤は、特にシアニン系色素記録層を洗浄する場合に効果的であり、またこれらの溶剤で洗浄後、長期間保存しても基板を傷めにくいとの利点がある。
【００３１】
記録層を除去した後、もしくは溶剤６２０の吐出を終了した箇所から順次、基板２０２の外周部（主に記録層の外周縁部付近）に、残留溶剤を除去する乾燥処理を施す。乾燥処理は、主に基板２０２の回転により行われるが、本発明の製造方法では、基板２０２の回転と共に、基板２０２と離間して設けられた１以上の乾燥手段が併用される。当該乾燥手段を併用することにより、乾燥処理を効率的に行うことができる。
【００３２】
図６に、乾燥処理に供する乾燥手段の例を示す。当該乾燥手段は、基板２０２から離間した状態で、送風ノズル７０２の先端から基板２０２外周部へ送風することにより、残留溶媒を揮発させて乾燥処理を行うものである。送風は、基板２０２の内側から外側、もしくは基板２０２の上方から行うことが好ましい。
【００３３】
送風する気体の温度は、２０〜５０℃であることが好ましい。風速は、エッジの洗浄溶剤の種類や上記温度等の条件により適宜調整することが好ましい。また、送風する気体としては、特に限定されず、空気等を使用することができる。
乾燥手段により乾燥処理を施す際には、残留溶剤を振りきる目的で、基板は回転されている。
ノズル先端から基板までの距離は、１〜５ｃｍとすることが好ましい。
【００３４】
乾燥手段の他の例としては、図７に示すように、赤外線ヒータ等の熱源７０４を基板２０２から離間した状態で設置し、基板２０２を回転させながらその外周部の温度を制御してもよい。熱源７０４から基板２０２までの距離は、１〜５ｃｍとすることが好ましい。熱源７０４の温度は、３０〜７０℃とすることが好ましい。
【００３５】
他の乾燥手段としては、例えば、基板の回転に伴って外周部の風速が速くなるような整流機能を設けたカップ形状、整流板等のような洗浄溶剤の揮発、乾燥を促進する手段であれば、上記に限定されることはない。
これら乾燥手段は、エッジ洗浄機構９２に付設されていることが好ましい。
【００３６】
以上のように、乾燥処理として、基板２０２を回転させながら乾燥手段を併用することで乾燥時間を短縮することが可能となり、乾燥効率を向上させながら、記録層の変質を防ぐことができる。
【００３７】
乾燥処理を施した基板２０２は、その後、静電気の除去を行う第２の静電ブロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板２０２の一主面に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構９６と、ＵＶ硬化液の塗布を終えた基板２０２を高速に回転させて基板２０２上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構９８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板２０２に対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化させて基板２０２の一主面に保護層２１０を形成するＵＶ照射機構１００と、前記基板２０２を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬化液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１００にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ照射された基板２０２を次工程に搬送する第１０の搬送機構１０４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された基板２０２に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠陥検査機構１０６と、基板２０２に形成されたグルーブによる信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、これら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検査結果に応じて基板２０２を正常品用のスタックポール１１０あるいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別する選別機構１１４と、を順次経て、光情報記録媒体とされる。
【００３８】
ここで、ＵＶ硬化液塗布機構９６からＵＶ照射機構１００によって保護層を形成する際のスピンコートの回転数は、均一な層形成および記録層へのダメージの防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
【００３９】
保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−３１８」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業社製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００４０】
なお、ＤＶＤ−Ｒの場合は、保護層に代わって、紫外線効果樹脂等からなる接着層および保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層してもよい。また、記録層および反射層が形成された２枚の積層体を、記録層が内側になるようにして貼り合わせて、光情報記録媒体を作製してもよい。
【００４１】
以上のようにして、基板上に記録層、光反射層、保護層または接着層を介した保護基板（ダミー基板）、等が設けられた積層体からなる光情報記録媒体が作製される。
【００４２】
なお、この発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
例えば、乾燥処理を含む洗浄工程を、記録層形成工程を経た後であって、光反射層を形成する前に設けてもよい。具体的には、図１において、裏面洗浄機構５４の前にエッジ洗浄機構９２を設ける構成（図８に示す製造システム１１参照）としてもよく、あるいは、図１に示される裏面洗浄機構５４と同じ位置に洗浄工程設けて、基板２０２裏面とそのエッジ（外周部）を同時に洗浄してもよい。
【００４３】
【実施例】
以下に示す実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４４】
〔実施例〕
図１に示す裏面洗浄機構５４と同じ位置に送風による乾燥手段を設けた製造システム１１を使用して光情報記録媒体を作製した。
具体的には、まず、射出成形により表面にスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：７４０ｎｍ、プリグルーブ幅：３００ｎｍ、プリグルーブの深さ：１５０ｎｍ）が形成された透明のポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を作製した。
【００４５】
下記化学式（１）で示される色素（Ａ）０．２５ｇと下記化学式（２）で示される色素（Ｂ）０．０６ｇとを、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール３０ｇに、超音波振動機（１８００Ｗ）を用いて１時間かけて溶解し、記録層形成用の塗布液を調製した。
【００４６】
【化１】
2004185777.tif 000002
【００４７】
【化２】
2004185777.tif 000003
【００４８】
この塗布液を、上記基板のプリグルーブ側の面に、回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコートにより塗布し、乾燥して、記録層（ランド部と溝部との平均厚み：９０ｎｍ）を形成した（記録層形成工程）。
記録層の形成条件としては、雰囲気の温度および湿度は３０℃５０％ＲＨ、とし、塗布液の温度は２３℃とした。
【００４９】
その後、図４に示す洗浄装置を使用して、記録層の周縁に洗浄液（溶剤）を吐出して、周縁部の記録層を除去し、基板外周から１ｍｍの領域を記録層非形成領域とした（洗浄工程）。なお、洗浄液としてはジアセトンプロパノールを用いた。洗浄時間は２．５秒とした。
洗浄の溶剤吐出終了後に、図６に示すように、送風ノズル７０２を基板から３０ｍｍ離間して設け、基板が載置されたターンテーブルを５０００ｒｐｍで回転させながら、風速８リットル／ｍｉｎで空気を基板外周部に送風し乾燥処理を行った。乾燥時間は３．５秒間とした。
【００５０】
次に、記録層上に、Ａｇをスパッタリングして膜厚１５０ｎｍの反射層を形成した。
更に、反射層上に、ＵＶ接着剤（商品名：ＳＤ６４０、大日本インキ化学工業（株）製）を低速で回転させながらスピンコートし、その後、回転を止めて対向基板（厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板）を設置し、高速回転を行ってＵＶ接着剤を全体に広げた。この基板を別のターンテーブルに移し、ターンテーブルごと紫外光を照射してＵＶ接着剤を硬化させて、これらを貼り合わせた。
【００５１】
以上の工程により、基板、色素記録層、光反射層及び対向基板からなるＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を作製した。
【００５２】
〔比較例１〕
洗浄処理時に、ターンテーブルを回転させたが、送風による乾燥処理を施さなかった以外は、実施例と同様にして光情報記録媒体を作製した（洗浄および乾燥時間は、実施例と同様）。
【００５３】
〔比較例２〕
洗浄処理時間（洗浄液吐出時間）を比較例１の場合の１／３とし、その分ターンテーブルの回転時間を長くした以外は、比較例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００５４】
〔比較例３〕
洗浄処理の時間を２．５秒とし、ターンテーブルの回転時間を７．５秒とした以外は、比較例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００５５】
実施例および比較例１〜３で作製した光情報記録媒体について、洗浄および乾燥直後の基板のエッジ（基板外周部）の状態を触手にて確認した。また、６０℃、９０ＲＨで２００時間保存した後の記録層外周部の変色の有無を目視にて確認した。そして、上記評価結果をもとに総合的な評価を行った。結果を下記表１に示す。
【００５６】
【表１】
2004185777.tif 000004
【００５７】
表１より、実施例ではエッジの状態も良好で、記録層の変色も見られず、総合的な評価も最も高かった。
一方、比較例１では、送風による乾燥を行わなかったため、実質的な乾燥が不十分となり、記録層の変色が見られた。比較例２では、洗浄時間を短縮したため、洗浄不十分に起因する記録層の変色が見られた。また、比較例３では、エッジの状態もよく記録層の変色も見られなかったため、実用に供することができるが、生産性の面からは、タクトタイムが大きくなってしまうため、好ましくない。
【００５８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法によれば、洗浄工程において基板の外周部（主に記録層の外周縁部付近）を効率よく乾燥させて、タクトタイムを短縮し、記録層の変質を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す構成図である。
【図２】エッジ洗浄機構を一部破断して示す正面図である。
【図３】エッジ洗浄機構を示す平面図である。
【図４】エッジ洗浄機構において、ノズルユニットを規定の吐出位置に位置させた場合を示す側面図である。
【図５】基板のエッジ部分を洗浄した状態を示す工程図である。
【図６】乾燥手段の一例を一部破断して示す正面図である。
【図７】乾燥手段の他の例を一部破断して示す正面図である。
【図８】本実施の形態に係る製造システムの他の例を示す構成図である。
【符号の説明】
１０…製造システム
１４…塗布設備
４８…色素塗布機構
５４…裏面洗浄機構
９２…エッジ洗浄機構
２０２…基板
２０４…色素記録層
２０６…周縁部（エッジ部分）
２０８…光反射層
２１０…保護層
３００…空調システム
６０６…吐出ノズル
６０８…ノズルユニット
６２０…溶剤
７０２…送風ノズル
７０４…熱源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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