(57)【要約】【課題】  液晶装置等といった電気光学装置の基板上に形成される複数の配線の個々の抵抗を小さくする。【解決手段】  基材１６ｂと、基材１６ｂ上に形成された複数の配線３９ａとを有する電気光学装置用基板１２である。配線３９ａの少なくとも１つは、基材１６ｂの第１辺１６ｃから第２辺１６ｆへ向けてその線幅Ｗ０が徐々に広くなる部分を配線３９ａの折れ曲がり部分４９ｂの所に有する。線幅Ｗ０の広い部分を設けることにより、配線３９ａの配線抵抗を下げることができ、電気光学装置の表示領域にクロストークが発生することを防止できる。【選択図】        図９
2004246330.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
該基材上に形成された複数の配線とを有し、
該配線の少なくとも１つは、前記基材の第１辺から該第１辺と対向する第２辺へ向けてその幅が徐々に広くなる部分を有する
ことを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置用基板において、前記配線の少なくとも１つの線幅は連続的に徐々に広くなることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置用基板において、前記第１辺から前記第２辺へ向けて延びる前記複数の配線に関して、前記第２辺側まで延びる配線ほどその線幅を広くすることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の電気光学装置用基板において、前記複数の配線は、それぞれ、折れ曲がり部分を有し、該折れ曲がり部分の線幅が折れ曲がり部分以外の部分の線幅よりも広いことを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つに記載の電気光学装置用基板において、前記複数の配線間の間隔は、全ての配線に関してほぼ一定であることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の電気光学装置用基板において、前記複数の配線は電極へ信号を伝送するための引回し配線であることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つに記載の電気光学装置用基板において、前記複数の配線は導通用パッドを有し、該導通用パッドは導通材によって他の基板上の電極に導通することを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１つに記載の電気光学装置用基板において、前記配線はＣｒ単体、もしくはＣｒ及びＴａ又はＩＴＯ、Ｃｒ及びＴａの積層によって形成されることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１つに記載の電気光学装置用基板と、該電気光学装置用基板上に設けられた電気光学物質層とを有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の電気光学装置において、
前記電気光学装置用基板の１辺は配線基板が接続される辺であり、
前記複数の配線は前記１辺に隣接する２つの辺の辺縁に近い領域に設けられると共に各辺縁に沿って延びる
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載の電気光学装置において、前記電気光学装置用基板に対向する対向基板を有し、前記配線は前記対向基板上に設けた電極に導通材によって接続されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電気光学装置おいて、前記電気光学物質は液晶であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項９から請求項１２のいずれか１つに記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
請求項１から請求項８のいずれか１つに記載の電気光学装置用基板おいて、
前記複数の配線は、前記第１辺から前記第２辺にかけての長さが長いほど、その全域の配線幅が広いことを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１５】
請求項１１又は請求項１２記載の電気光学装置において、
前記対向基板は複数の電極及びそれらの電極につながる電極配線を有し、
該複数の電極配線は、それぞれ、導通材によって前記電気光学装置用基板上の前記複数の配線に接続し、
前記複数の電極配線のそれぞれの幅は、前記電気光学装置用基板上の対応する配線の長さが長いほど、広いことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の電気光学装置において、
前記電気光学装置用基板上の前記複数の配線のうち長さの長い配線と長さの短い配線との間で配線抵抗が均一になるように、長さの短い配線に対応する前記対向基板上の前記電極配線の線幅を細くすることを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、ＥＬ装置等といった電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板、その電気光学装置用基板を用いた電気光学装置、及びその電気光学装置を用いた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器において、液晶装置、ＥＬ装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として電気光学装置が用いられている。この電気光学装置において、電気光学物質として液晶を用いた装置、すなわち液晶装置が知られている。また、電気光学物質としてＥＬ（Electro Luminescence）を用いたＥＬ装置も知られている。
【０００３】
液晶装置は、一般に、それぞれが電極を備えた一対の基板間に液晶層を介在させた構造を有する。液晶層に光を供給すると共に、該液晶層に印加される電圧を表示ドットごとに制御することにより、液晶層内の液晶分子の配向を表示ドットごとに制御する。液晶層へ供給された光は液晶分子の配向状態に従って変調され、この変調された偏光が偏光板を通過するか、あるいは通過しないかに応じて、外部に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【０００４】
この液晶装置においては、各電極に信号を伝送するために、一対の基板の一方又は両方に複数の配線が形成される。現状では、セグメント電極×コモン電極＝１８０本×２２０本程度の解像度が採用されることがある。この場合には、それらの電極本数に対応した数の配線が基板上に設けられる必要がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
液晶装置は、一般に、文字等といった像が表示される領域である表示領域と、その表示領域の回りに形成される表示に寄与しない領域、いわゆる額縁領域とが存在する。上記複数の配線は、通常、上記の額縁領域に設けられることが多い（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２２９００９号公報（第４頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の液晶装置において、最近では、表示に寄与しない額縁領域をできる限り小さくしたいという要求が強い。すなわち、狭額縁化の要求が強い。この場合には、その額縁領域の中に収められる複数の配線に関して、その配線幅及び配線間隔を狭くしなければならない。
【０００８】
また、最近では、高解像度の表示が要求されるようになってきており、それを実現するためには、線幅の細い複数の配線を基板上に形成しなければならない。例えば、セグメント電極×コモン電極＝２４０本×３２０本のＱＶＧＡタイプの表示を実現する場合には、例えば、配線幅が３μｍで、配線間のスペース間隔が３μｍ程度、すなわちピッチが３＋３＝６μｍ程度の寸法で複数の配線を形成する必要がある。
【０００９】
上記のように配線スペースの狭小化や配線本数の増加に伴って配線幅及び配線間隔を小さくすると、配線抵抗が大きくなり、その結果、クロストークが発生して表示像が乱れるおそれがある。
【００１０】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、基板上に形成される複数の配線の個々の抵抗を小さくすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置用基板は、基材と、該基材上に形成された複数の配線とを有し、該配線の少なくとも１つは前記基材の第１辺から第２辺へ向けてその幅が徐々に広くなる部分を有することを特徴とする。
【００１２】
この基板によれば、配線の線幅を広くすることにより、配線抵抗を小さくできる。また、配線の全ての線幅を広くするのではなく、広くするのは部分的であり、しかも広げ方は徐々に広くするというものなので、複数の配線を形成すべき領域の面積はそれ程大きく広げる必要が無い。従って、狭額縁化の要求に反することもない。
【００１３】
上記構成の電気光学装置用基板において、前記配線の少なくとも１つの線幅は連続的に徐々に広くなることが望ましい。配線の線幅の広げ方としては、連続的に徐々に広げる方法以外に、段階的に徐々に広げる方法も考えられる。各配線間での配線抵抗を均一にすることを考えれば、段階的に広げることより、連続的に広げることの方が望ましいと考えられる。
【００１４】
記構成の電気光学装置用基板において、前記複数の配線に関しては、遠くまで延びる配線ほどその配線幅を広くすることが望ましい。一般に、配線はその長さが長くなるほど配線抵抗が大きくなる傾向にある。しかしながら、上記のように遠くまで延びる配線ほどその配線幅を広くすれば、長さが長くなる配線の抵抗を低く抑えることができる。
【００１５】
上記構成の電気光学装置用基板において、前記複数の配線は、それぞれ、折れ曲がり部分を有するように形成できる。そして、その場合には、その折れ曲がり部分の配線幅を広くすることが望ましい。このように配線の折れ曲がり部分を利用して線幅を広げるようにすれば、基板上における複数の配線を形成すべき領域の面積をほとんど広げることなく、個々の配線の合計の面積を広げることができる。なお、利用すべき配線の折れ曲がり部分は、ほぼ９０°の角度の折れ曲がり部分であることが望ましい。
【００１６】
上記構成の電気光学装置用基板において、前記複数の配線間の間隔は全ての配線に関してほぼ一定であることが望ましい。こうすれば、クロストークの発生を確実に防止でき、しかも各配線の線幅を可能な限り広くできる。
【００１７】
上記構成において、前記複数の配線は電極へ信号を伝送するための引回し配線であることが望ましい。この種の引回し配線は、一般に、その長さが長くなることが多いので、配線抵抗が大きくなる傾向にある。従って、この配線に対して本発明を適用すれば、配線抵抗を下げることに関して非常に有効である。
【００１８】
上記構成の電気光学装置用基板において、前記複数の配線は導通用パッドを有し、該導通用パッドは導通材によって他の基板上の電極に導通することが望ましい。このように導通材によって他の電気要素に接続される配線は、その配線抵抗が大きくなる傾向にある。従って、この配線に対して本発明を適用すれば、配線抵抗を下げることに関して非常に有効である。
【００１９】
上記構成の電気光学装置用基板において、前記配線はＣｒ、Ｃｒ／Ｔａ又はＩＴＯ／Ｃｒ／Ｔａによって形成されることが望ましい。ここで、Ｃｒ／Ｔａは、第１層のＴａの上に第２層のＣｒを積層する構造である。また、ＩＴＯ／Ｃｒ／Ｔａは、第１層のＴａの上に第２層のＣｒを積層し、さらに第２層のＣｒの上に第３層のＩＴＯを積層する構造である。
【００２０】
Ｃｒ、Ｔａ、ＩＴＯ等といった素材は、２端子素子を形成する材料であり、従来から導電用の素材として用いられている素材である。これらの素材で形成される配線に対して本発明を適用すれば、工程を増やすことなく配線抵抗を下げることができる。
【００２１】
次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成の電気光学装置用基板と、該電気光学装置用基板上に設けられた電気光学物質層とを有することを特徴とする。この電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板に関しては、その上に設けられる複数の配線の配線抵抗が小さいので、配線本数を増加して表示容量を増大させた場合でも、額縁領域を狭く形成でき、しかもクロストークのない鮮明な表示が得られる。
【００２２】
上記構成の電気光学装置において、前記電気光学装置用基板の１辺は配線基板が接続される辺であり、前記複数の配線は前記１辺に隣接する２つの辺の辺縁に近い領域のそれぞれに設けられると共に各辺縁に沿って延びることが望ましい。この構成の場合、配線は上記２つの辺に沿って長く設けられるので、その配線抵抗が大きくなる傾向にある。従って、このような構成の電気光学装置に本発明を適用すれば、配線抵抗を下げることに関して非常に有効である。
【００２３】
上記構成の電気光学装置は、前記電気光学装置用基板に対向する対向基板を有することができ、さらに、前記配線は前記対向基板上に設けた電極に導通材によって接続されることができる。この構成の配線は電気光学装置内で長く引き延ばされる傾向にあり、従って、配線抵抗が大きくなる傾向にある。よって、このような構成の電気光学装置に本発明を適用すれば、配線抵抗を下げることに関して非常に有効である。
【００２４】
対向基板を有する上記の電気光学装置において、前記電気光学物質は液晶であることが望ましい。この電気光学装置は、いわゆる液晶装置である。この液晶装置に対して本発明を適用すれば、液晶層に電界を印加するための電極に通じる配線の配線抵抗を小さく維持できるので、クロストークのない良好な表示を得ることができる。
【００２５】
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。この電子機器に含まれる電気光学装置は額縁領域が狭いにも関わらず、クロストークのない鮮明な表示が得られるので、この電子機器においては、電気光学装置を設置すべきスペースが狭くて済み、しかも、電子機器に関する情報を鮮明に表示できる。
【００２６】
さらに、本発明に係る電気光学装置用基板おいて、前記複数の配線は、前記第１辺から前記第２辺にかけての長さが長いほど、その全域の配線幅が広いことが望ましい。こうすれば、各配線の配線抵抗を下げることができると共に、各配線間の抵抗を均一化できる。それ故、この電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造したとき、その電気光学装置による表示において表示ムラを低減できる。
【００２７】
さらに、本発明に係る電気光学装置においては、電気光学装置用基板に対向して対向基板を設けることができ、その対向基板には複数の電極及びそれらの電極につながる電極配線を設けることができる。この複数の電極配線は、それぞれ、導通材によって前記電気光学装置用基板上の前記複数の配線に接続される。この構成の電気光学装置において、前記複数の電極配線のそれぞれの幅は、前記電気光学装置用基板上の対応する配線の長さが長いほど、広いことが望ましい。こうすれば、対向基板上の各電極につながる配線の配線抵抗を均一化できる。
【００２８】
上記構成の電気光学装置において、前記電気光学装置上の前記複数の配線のうち相対的に短い１つ又は複数の配線に対応する、前記対向基板上の前記電極配線の幅は、相対的に長い配線に対応するものに比べて細くすることが望ましい。電気光学装置上の配線の長さが短い場合には、その配線の配線抵抗は低くなる。こうなると長さの長い配線との間で配線抵抗にバラツキが生じて表示ムラの原因となる。これを防止するため、長さの短い配線の配線幅を細くして配線抵抗を高くすることが考えられるが、細くするのにも限界がある。このことに対し、上記のように対向基板上の電極配線の幅を細くすれば、電気光学装置用基板側の配線に手を加えることなく、電気光学装置用基板と対向電極との両方にわたって設けられる複数の配線間の配線抵抗を均一化できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
(電気光学装置用基板及び電気光学装置の第１実施形態)
以下、本発明を電気光学装置の一例である液晶装置に適用した場合を例に挙げて説明する。なお、これ以降に説明する実施形態は本発明の一例であって、本発明を限定するものではない。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素を分かり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示している。
【００３０】
図１は、本発明に係る電気光学装置をその一例である液晶装置に適用した場合の一実施形態を示している。また、ここに挙げられた液晶装置は、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を用いたアクティブマトリクス方式であって、電気光学装置用基板として素子基板を用いた、半透過反射型の液晶装置である。また、図１は、本発明に係る電気光学装置用基板を液晶装置に適用した場合の実施形態も示している。
【００３１】
図１において、液晶装置１は、液晶パネル２と、この液晶パネル２に実装された駆動用ＩＣ３と、照明装置４とを有する。照明装置４は、観察側（すなわち、図の上側）から見て液晶パネル２の背面側に配設されてバックライトとして機能する。照明装置４は、液晶パネル２の観察側に配設してフロントライトとして機能させても良い。
【００３２】
照明装置４は、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった点状光源や、冷陰極管等といった線状光源等によって構成された光源６と、透光性の樹脂によって形成された導光体７とを有する。観察側から見て導光体７の背面側には、必要に応じて、反射層８が設けられる。また、導光体７の観察側には、必要に応じて、拡散層９が設けられる。導光体７の光導入口７ａは図１の紙面垂直方向に延びており、光源６から発生した光はこの光導入口７ａを通して導光体７の内部へ導入される。
【００３３】
液晶パネル２は、電気光学装置用基板としての素子基板１２と、それに対向する対向基板としてのカラーフィルタ基板１１と、それらの基板を貼り合わせている矢印Ａ方向から見て正方形又は長方形の枠状のシール材１３とを有する。基板１１と、基板１２と、シール材１３とによって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内に液晶１４が封入されて液晶層を構成している。
【００３４】
カラーフィルタ基板１１は、矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形の第１基材１６ａを有し、その第１基材１６ａの内側表面には、凹凸すなわち凹部と非凹部との組み合わせを有する樹脂層１７が形成され、その上に反射層１８が形成され、その上に着色層１９及び遮光層２１が形成され、その上にオーバーコート層２２が形成され、その上に紙面垂直方向へ直線的に延びる電極２３ａが形成され、さらに、その上に配向膜２４ａが形成される。
【００３５】
配向膜２４ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、第１基材１６ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材１６ａの外側表面には、位相差板２６ａ及び偏光板２７ａが貼着等によって装着される。第１基材１６ａは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。
【００３６】
図２は、図１における１つの表示ドット近傍を拡大して示している。図２において、樹脂層１７は、第１層１７ａ及び第２層１７ｂから成る２層構造によって形成されており、第２層１７ｂの表面には、細かい凹凸、すなわち細かい凹部及び非凹部、が形成されている。反射層１８は、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等によって形成される。この反射層１８の表面は、その下地層である樹脂層１７に着けられた凹凸に対応して凹凸形状となっている。この凹凸形状により、反射層１８で反射する光は拡散する。
【００３７】
図４は、図２を矢印Ａ方向から見た平面構造を示している。着色層１９は、例えば図４に示すように、１つ１つが長方形のドット状に形成され、１つの着色層１９は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色のいずれか１つを呈する。これら各色の着色層１９は、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列、その他適宜の配列となるように並べられている。図４では、ストライプ配列が例示されている。なお、着色層１９は、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３原色によって形成することもできる。また、図２は、図４におけるＸ−Ｘ線に従った断面図である。
【００３８】
図１において遮光層２１は、例えばＣｒ（クロム）等といった遮光性の材料によって、複数の着色層１９の間を埋める状態に形成される。この遮光層２１は、ブラックマトリクスとして機能して着色層１９を透過した光によって表示される像のコントラストを向上させる。なお、遮光層２１は、Ｃｒ等といった特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色層１９を構成するＲ，Ｇ，Ｂの各着色層を重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００３９】
オーバーコート層２２は、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性の樹脂によって形成される。また、このオーバーコート層２２の適所には、図２に示すように、着色層１９の表面に達する貫通穴２８が形成されている。なお、この貫通穴２８に代えて、着色層１９の表面に達することなくオーバーコート層２２の途中までの深さの有底穴すなわち凹部をオーバーコート層２２に形成することもできる。
【００４０】
図２の紙面垂直方向に線状に延びる電極２３ａは、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった金属酸化物によって形成され、その中央の一部が貫通穴２８の中へ落ち込んでいる。また、その上に形成された配向膜２４ａは、例えばポリイミド等によって形成され、この配向膜２４ａに関しても、貫通穴２８に対応する部分が、その貫通穴２８の中に落ち込んでいる。つまり、矢印Ａ方向から平面的に見ると、電極２３ａ及び配向膜２４ａには複数の窪みが形成されている。
【００４１】
図１において、カラーフィルタ基板１１に対向する素子基板１２は第２基材１６ｂを有する。この第２基材１６ｂは、張出し部２９が形成される１辺が第１基材１６ａの外側へ張り出している。この第２基材１６ｂの内側表面には、スイッチング素子としての複数のＴＦＤ３１が形成され、それらのＴＦＤ３１に接続するように複数のドット電極２３ｂが形成され、それらの上に配向膜２４ｂが形成される。配向膜２４ｂには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、第２基材１６ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。第２基材１６ｂの外側表面には、位相差板２６ｂ及び偏光板２７ｂが貼着等によって装着される。
【００４２】
第２基材１６ｂは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。また、ドット電極２３ｂはＩＴＯ等といった金属酸化物によって形成される。また、配向膜２４ｂは、例えばポリイミド等によって形成される。
【００４３】
図３は、図２のＺ−Ｚ線に従った断面図を示している。個々のＴＦＤ３１は、図３に示すように、カラーフィルタ基板１１側の遮光層２１に対応する位置に設けられ、さらに、図５に示すように、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとを直列に接続することによって形成されている。なお、図３は、図４のＹ−Ｙ線に従った断面図である。
【００４４】
図５において、ＴＦＤ３１は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線３３の第１層３４ａ及びＴＦＤ３１の第１金属３６を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線３３の第２層３４ｂ及びＴＦＤ３１の絶縁膜３７を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線３３の第３層３４ｃ及びＴＦＤ素子３１の第２金属３８を形成する。
【００４５】
図３において、カラーフィルタ基板１１上に形成された線状電極２３ａは、紙面の左右方向に延びている。また、素子基板１２上に形成された上記のライン配線３３は、線状電極２３ａに対して直角方向、すなわち図の紙面垂直方向に延びている。
【００４６】
図５において、第１ＴＦＤ要素３２ａの第２金属３８はライン配線３３の第３層３４ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素３２ｂの第２金属３８の先端に重なるように、ドット電極２３ｂが形成される。ライン配線３３からドット電極２３ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に従って、第１ＴＦＤ要素３２ａでは第２電極３８→絶縁膜３７→第１金属３６の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素３２ｂでは第１金属３６→絶縁膜３７→第２金属３８の順に電気信号が流れる。
【００４７】
つまり、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。なお、第１金属３６等の第２基材１６ｂからの剥れを防止したり、第２基材１６ｂから第１金属３６等へ不純物が拡散しないようにする等のために、ＴＦＤ３１と基材１６ｂとの間及びライン配線３３と基材１６ｂとの間に下地層（図示せず）を設けることもできる。
【００４８】
図６は、図１の矢印Ａに従って液晶装置１の平面構造を示している。なお、図６は、主に、電極及び配線を示しており、それ以外の要素は図示を省略している。また、図６では、素子基板１２を構成する第２基材１６ｂは仮想線で示している。
【００４９】
素子基板１２には、図７に示すように、複数の直線状のライン配線３３が全体としてストライプ状に設けられている。また、個々のライン配線３３に適宜の間隔をおいて複数のＴＦＤ３１が接続され、それらのＴＦＤ３１にドット電極２３ｂが接続されている。図７では、ライン配線３３を少ない本数で模式的に描いてあるが、実際には多数本、例えば２４０本程度が形成される。また、ＴＦＤ３１及びドット電極２３ｂはシール材１３の四隅部分に対応するものだけを部分的に示してあるが、実際には、シール材１３によって囲まれる領域内の全域に設けられる。また、ＴＦＤ３１及びドット電極２３ｂは、模式的に大きく描かれているため、数が少ないように描かれているが、実際には図７の縦方向、すなわち上下方向の１列に、それぞれ、例えば３２０個程度形成されている。つまり、ドット電極２３ｂは、例えば、縦×横＝３２０×２４０個の数だけ設けられている。
【００５０】
素子基板１２に対向するカラーフィルタ基板１１には、図８に示すように、複数の線状電極２３ａが全体としてストライプ状に形成されている。これらの電極２３ａは、カラーフィルタ基板１１と素子基板１２とをシール材１３によって図６に示すように貼り合わせたとき、ライン配線３３と直角の方向に延び、さらに、横列を成す複数のドット電極２３ｂに平面的に重なり合う。
【００５１】
このように、線状電極２３ａとドット電極２３ｂとが重なり合う領域が、表示の最小単位である表示ドットを構成する。この表示ドットは図１から図４において符号Ｄで示す領域である。複数の表示ドットＤが縦方向及び横方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が表示領域Ｖである。この表示領域Ｖに文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００５２】
図７において、素子基板１２を構成する第２基材１６ｂの張出し部２９上に実装される駆動用ＩＣ３は、走査信号を出力する駆動用ＩＣ３ａと、データ信号を出力する駆動用ＩＣ３ｂとによって構成されている。第２基材１６ｂの第１辺１６ｃすなわち入力側の辺には外部接続用端子４４が形成され、これらの端子４４は駆動用ＩＣ３ａ及び３ｂの入力用端子、例えば入力用バンプにつながる。
【００５３】
また、この第１辺１６ｃに隣接する２つの辺１６ｄ及び１６ｅの近傍にそれらの辺の辺縁に沿って複数の配線３９ａが形成されている。これらの配線３９ａは、駆動用ＩＣ３ａ及び３ｂの出力用端子、例えば出力用バンプから、第１辺１６ｃに対向する第２辺１６ｆへ向かって延びている。各配線３９ａは、２つの辺１６ｄ及び１６ｅのそれぞれに平行な本線部分４９ａと、それに対してほぼ９０°で折れ曲がる部分４９ｂとによって構成されている。
【００５４】
図９は、図７において矢印Ｂで示す部分の配線３９ａを拡大して示している。図９に示すように、配線３９ａの折れ曲がり部４９ｂの先端には導通用パッド４８が形成されている。配線３９ａの本線部分４９ａの線幅Ｗ０は４μｍ程度であり、配線間の間隔δは３μｍ程度である。配線３９ａの本線部分４９ａでは線幅Ｗ０及び配線間隔δが一定である。他方、本線部分４９ａが終わる所Ｃから折れ曲がり部４９ｂの先端にかけては、配線３９ａの線幅Ｗ０が本線部分４９ａから遠ざかるに従って徐々に連続的に広くなっている。これにより、配線３９ａの配線抵抗を低く抑えている。
【００５５】
また、配線３９ａの線幅Ｗ０は、本線部分４９ａに対して遠くまで延びる配線ほどその線幅Ｗ０が広くなっている。これにより、配線抵抗が小さくなる程度が大きい配線ほどその線幅Ｗ０が広くなるようになっている。このため、長さの短い配線３９ａから長さの長い配線３９ａの全てにわたって配線抵抗を均一にできる。なお、互いに隣り合う配線３９ａ間の間隔については、線幅Ｗ０が広くなる部分においても、本線部分４９ａと同様にδ＝３μｍ程度で一定になっている。
【００５６】
図６において、シール材１３の内部には、球形又は円筒形の導通材４２が不規則な分散状態で含まれている。図７に示す素子基板１２と図８に示すカラーフィルタ基板１１とを図６に示すように貼り合わせたとき、素子基板１２側の配線３９ａの折れ曲がり部４９ｂのパッド４８（図９参照）と、カラーフィルタ基板１１側の線状電極２３ａの端部とが導通材４２によって導通される。これにより、カラーフィルタ基板１１側の電極２３ａが素子基板１２側の配線３９ａを通して駆動用ＩＣ３ａに電気的に接続される。
【００５７】
なお、線状電極２３ａと配線３９ａとの導通は、図６の左辺側と右辺側との間で交互に実現されている。しかしながら、これに代えて、表示領域Ｖの上半分に関しては左辺側又は右辺側の一方で導通を行い、表示領域Ｖの下半分に関しては左辺側又は右辺側の他方で導通を行うという駆動方法を採用することもできる。
【００５８】
図７において、素子基板１２上に形成されたライン配線３３は、同じく素子基板１２上に形成された配線３９ｂを通して駆動用ＩＣ３ｂの出力端子、例えば出力バンプに接続される。配線３９ａ及び３９ｂはＣｒ単体や、Ｃｒ／Ｔａ（すなわち、第１層がＴａで第２層がＣｒの積層構造）や、ＩＴＯ／Ｃｒ／Ｔａ（すなわち、第１層がＴａで、第２層がＣｒで、第３層がＩＴＯの積層構造）等によって形成される。これらの配線３９ａ及び３９ｂは、素子基板１２上にＴＦＤ３１やドット電極２３ｂを形成する際に、同時に形成することができる。
【００５９】
なお、図１の素子基板１２の張出し部２９上において、駆動用ＩＣ３はＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）４３によって実装されている。ＡＣＦ４３は、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂の内部に導電粒子を分散することによって形成されている。駆動用ＩＣ３の本体部分は熱硬化性樹脂等によって基板の張出し部２９上に固着される。また、駆動用ＩＣ３の出力バンプと配線３９ａ，３９ｂとが、さらには、駆動用ＩＣ３の入力バンプと外部接続用端子４４とが、ＡＣＦ４３に含まれる導電粒子によって導電接続される。
【００６０】
外部接続端子４４には、図示しない配線基板、例えば可撓性配線基板が、ハンダ付け、ＡＣＦ、ヒートシール等といった導電接続手法によって接続される。この配線基板を介して、電子機器、例えば携帯電話機、携帯情報端末機から液晶装置１へ信号、電力等が供給される。
【００６１】
図４において、個々の表示ドットＤは、ほぼ、ドット電極２３ｂと同じ大きさの面積となっている。また、鎖線で示すドット電極２３ｂは、実線で示す着色層１９よりも少し大きく描いてあるが、これは構造を分かり易く示すためであり、それらの平面形状は、実際には、ほとんど同じ形状で、互いに重なり合っている。また、ドット状の個々の着色層１９は、個々の表示ドットＤに対応して形成される。
【００６２】
図２及び図３において、反射層１８には個々の表示ドットＤに対応して開口４６が設けられる。これらの開口４６は、図４に示すように、平面的に見て長方形状に形成されている。なお、図４では破線で示す開口４６が、実線で示すオーバーコート層２２の貫通穴２８よりも少し大きく描いてあるが、平面的に見たときの両者の周縁は、ほぼ一致する。
【００６３】
本実施形態のように、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色から成る着色層１９を用いてカラー表示を行う場合は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する３つの着色層１９に対応する３つの表示ドットＤによって１つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の１色でモノカラー表示を行う場合は、１つの表示ドットＤによって１つの画素が形成される。
【００６４】
図２及び図３において、個々の表示ドットＤの中で反射層１８が設けられた部分Ｒが反射部であり、開口４６が形成された部分Ｔが透過部である。観察側から入射した外部光、すなわち素子基板１２側から入射した外部光Ｌ０（図２参照）は、反射部Ｒで反射する。一方、図１の照明装置４の導光体７から出射した光Ｌ１（図２参照）は、透過部Ｔを透過する。
【００６５】
以上の構成から成る本実施形態によれば、太陽光、室内光等といった外部光が強い場合は、外部光Ｌ０が反射部Ｒで反射して液晶層１４へ供給される。これにより、反射型表示が行われる。一方、図１の照明装置４が点灯した場合は、導光体７から出射する平面状の光が、図２の透過部Ｔを通して液晶層１４へ供給される。これにより、透過型表示が行われる。このような反射型表示及び透過型表示を希望に応じて選択して実行することにより、半透過反射型の表示が行われる。
【００６６】
液晶層１４を挟持する線状電極２３ａ及びドット電極２３ｂの一方、本実施形態では線状電極２３ａに走査信号が印加される。一方、線状電極２３ａ及びドット電極２３ｂの他方、本実施形態ではドット電極２３ｂにデータ信号が印加される。走査信号とデータ信号が印加された表示ドットＤに付属するＴＦＤ３１はＯＮ状態となり、当該表示ドットＤにおける液晶分子の配向状態が該表示ドットＤを通過する光を変調するように維持される。そして、この変調された光が図１の偏光板２７ｂを通過するか、しないかによって、素子基板１２の外側に、文字、数字、図形等といった希望の像が表示される。外部光Ｌ０を用いて表示が行われる場合が反射型表示であり、透過光Ｌ１を用いて表示が行われる場合が透過型表示である。
【００６７】
反射型表示が行われるとき、反射光Ｌ０は液晶層１４を２回通過する。また、透過型表示が行われるとき、透過光Ｌ１は液晶層１４を１回だけ通過する。このため、仮に、液晶層１４の層厚が反射部Ｒと透過部Ｔとにわたって均一であると、反射光Ｌ０を用いた反射型表示と透過光Ｌ１を用いた透過型表示との間で、液晶層１４を通過する距離に違いが生じ、反射型表示と透過型表示との間で表示品質が異なるという問題が生じるおそれがある。
【００６８】
このことに関し、本実施形態では、オーバーコート層２２に貫通穴２８を設けることにより、透過部Ｔでの液晶層１４の層厚Ｅを厚く、反射部Ｒでの層厚Ｆを薄くしているので、反射型表示と透過型表示との間で均一な表示品質を得られるようになっている。
【００６９】
本実施形態では、図７に示したように、素子基板１２を構成する第２基材１６ｂの辺１６ｄ及び１６ｅに沿って配線３９ａが長い距離で引き回されている。配線３９ａがこのように長い距離にわたって引き回されると、配線抵抗が大きくなってクロストークが発生して表示が乱れるおそれがある。これに対して本実施形態では、図９に示したように、配線３９ａに線幅Ｗ０が徐々に広くなる部分を設けたので、配線３９ａの配線抵抗を小さくできる。従って、本実施形態のように表示ドットＤの数が３２０×２４０のように高精細になる場合でも、クロストークの発生を防止でき、乱れのない表示を行うことができる。
【００７０】
（変形例）
上記の実施形態では、図９に示した配線３９ａを用いた。この配線３９ａは、折れ曲がり部分４９ａの所に線幅が広くなる部分を形成した。しかしながら、線幅が広くなる部分は折れ曲がり部分４９ｂ以外の所に設けることもできる。
【００７１】
また、図９の実施形態では、配線３９ａの線幅Ｗ０が折れ曲がり部分４９ｂの所で連続的に徐々に広がるようになっている。この構成に代え、配線３９ａは、その線幅Ｗ０が図１０に示すように折れ曲がり部分４９ｂの所で段階的に徐々に広がるように形成することもできる。
【００７２】
上記の実施形態では、素子基板１２上に形成される配線３９ａに対して本発明を適用した。しかしながら、必要があれば図７の配線３９ｂに対して本発明を適用することもできる。但し、配線３９ｂの長さは短いので、わざわざ本発明を適用してその配線抵抗を小さくする必要がないかもしれない。
【００７３】
上記の実施形態では、素子基板１２上に形成される配線３９ａに対して本発明を適用した。しかしながら、カラーフィルタ基板１１上に何等かの配線が形成される場合には、そのカラーフィルタ基板側の配線に対して本発明を適用することもできる。つまり、カラーフィルタ基板１１が本発明に係る電気光学装置用基板となる場合もある。
【００７４】
また、上記実施形態では、ＴＦＤを用いた液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、ＴＦＤ以外の２端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。
【００７５】
また、本発明は、液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、無機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ：Plasma Display）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥＤ：Field Emission Display：電界放出表示装置）にも適用できる。
【００７６】
（電子機器の実施形態）
次に、本発明に係る電子機器の実施形態を図面を用いて説明する。図１１は、電子機器の一実施形態のブロック図を示している。ここに示す電子機器は、液晶装置１と、これを制御する制御手段８０とを有する。液晶装置１は、液晶パネル８１と、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路８２とを有する。また、制御手段８０は、表示情報出力源８３と、表示情報処理回路８４と、電源回路８６と、タイミングジェネレータ８７とを有する。
【００７７】
表示情報出力源８３は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等から成るメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等から成るストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを有する。タイミングジェネレータ８７によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路８４に供給するように構成されている。
【００７８】
表示情報処理回路８４は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路８２へ供給する。駆動回路８２は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路８６は、上記の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００７９】
図１２は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機７０は、本体部７１と、これに開閉可能に設けられた表示体部７２とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置７３は、表示体部７２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部７２にて表示画面７４によって視認できる。本体部７１の前面には操作ボタン７６が配列して設けられる。
【００８０】
表示体部７２の一端部からアンテナ７７が出没自在に取付けられている。受話部７８の内部にはスピーカが配置され、送話部７９の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置７３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部７１又は表示体部７２の内部に格納される。
【００８１】
図１３は、電子機器の他の一例である携帯情報機器に本発明を適用した場合の実施形態を示している。ここに示す携帯情報機器９０は、タッチパネルを備えた情報機器であり、電気光学装置としての液晶装置９１を搭載している。この情報機器９０は、液晶装置９１の表示面によって構成される表示領域Ｖと、その表示領域Ｖの下方に位置する第１入力領域Ｗ１とを有する。第１入力領域Ｗ１には入力用シート９２が配置されている。
【００８２】
液晶装置９１は、長方形状又は正方形状の液晶パネルと、同じく長方形状又は正方形状のタッチパネルとが平面的に重なり合う構造を有する。タッチパネルは入力用パネルとして機能する。タッチパネルは、液晶パネルよりも大きく、この液晶パネルの一端部から突き出した形状となっている。
【００８３】
表示領域Ｖ及び第１入力領域Ｗ１にはタッチパネルが配置されており、表示領域Ｖに対応する領域も、第１入力領域Ｗ１と同様に入力操作可能な第２入力領域Ｗ２として機能する。タッチパネルは、液晶パネル側に位置する第２面とこれと対向する第１面とを有しており、第１面の第１入力領域Ｗ１に相当する位置に入力用シート９２が貼られている。
【００８４】
入力用シート９２にはアイコン９３及び手書き文字認識領域Ｗ３を識別するための枠が印刷されている。第１入力領域Ｗ１においては、入力用シート９２を介してタッチパネルの第１面に指やペン等といった入力手段で荷重をかけることにより、アイコン９３の選択や文字認識領域Ｗ３での文字入力等といったデータ入力を行うことができる。
【００８５】
一方、第２入力領域Ｗ２においては、液晶パネルの像を観察することができるほか、液晶パネルに例えば入力モード画面を表示させ、タッチパネルの第１面に指やペンで荷重をかけることにより、その入力モード画面内の適宜の位置を指定することができ、これにより、データ入力等を行うことができる。
【００８６】
（変形例）
本発明に係る電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や携帯情報機器の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、デジタルスチルカメラ、腕時計、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、その他各種の機器が考えられる。
【００８７】
(電気光学装置用基板及び電気光学装置の第２実施形態)
以下、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を説明する。この実施形態は、電気光学装置の一例である液晶装置に本発明を適用したものである。図１４は、本発明の実施形態である液晶装置１０１の平面構造を示している。図１５は、図１４の液晶装置１０１で用いられる素子基板１１２の平面構造を示している。素子基板１１２に対向する対向基板１１１の構成は、基本的には図８に示した先の実施形態のものと同じであるが、後述のように線状電極２３ａの先端の構成が少し異なっている。なお、図１４及び図１５において、図６に示した先の実施形態の場合と同じ部材は同じ符号を付することにして、その説明は省略する。
【００８８】
図１４から明らかなように、液晶装置１０１では、素子基板１１２上に設けられる複数の配線３９ａの全体がシール材１３によって囲まれる領域の中に入っている。そして、対向基板であるカラーフィルタ基板１１１上に設けた線状電極２３ａから延びる電極配線２５の先端が、シール材１３に含まれる導通材４２によって、素子基板１１２側の配線３９ａの先端、すなわち折れ曲がり部分４９ｂの先端に電気的に接続されている。
【００８９】
図１６は、図１４における矢印Ｃの領域を拡大して示している。図１６から分かるように、電極配線２５は、線状電極２３ａから表示領域Ｖの外側へ延びる配線である。図１７は、図１４における矢印Ｄの領域を拡大して示している。つまり、図１７は、図１６に示した配線構造の他端側の構造を示している。図１７に示すように、複数の配線３９ａのそれぞれの他端には端子４０が形成され、これらの端子４０が駆動用ＩＣ３ａの出力バンプ（図示せず）にＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）、あるいはその他の導電接続材によって接続される。
【００９０】
本実施形態では、図９に示した実施形態と同様に、図１６に示すように、配線３９ａの折れ曲がり部分４９ｂにおいて、配線幅が徐々に広がっている。また、その徐々に広がる領域において、配線の長さが長くなるほど、配線の広がりの面積が大きくなっている。これにより、長い配線の高抵抗化を防止して、複数の配線３９ａの間の配線抵抗の均一化を達成している。
【００９１】
さらに、本実施形態では、図１５の第１辺１６ｃから第２辺１６ｆにかけての配線３９ａの長さが長いほど、それらの配線３９ａの全域の配線幅を広く設定している。詳しく説明すれば、図１５において左辺１６ｅ側に形成された複数の配線３９ａを見たとき、それらの配線３９ａの長さは、左側のものが最も短く、右側のものが最も長い。図１６及び図１７において、最も左側の配線３９ａの線幅をｄ１とし、最も右側の配線３９ａの線幅をｄｎ（ここで、ｎは配線３９ａの本数）としたとき、
ｄ１≦ｄ２≦ｄ３≦・・・≦ｄｎ−１≦ｄｎ
に設定している。この構成は、図１５の右辺１６ｄ側に形成された複数の配線３９ａについても同様である。このように、複数の配線３９ａの長さ方向の全域に関して配線幅を配長さに対応して変化させたので、複数の配線３９ａ間で配線抵抗を、より一層均一化できる。
【００９２】
次に、本実施形態においては、図１４に示す対向基板１１に複数の線状電極２３ａがストライプ状に形成される。そして、図１６に示すように、それらの電極２３ａから電極配線２５が延びている。これらの電極配線２５は、それぞれ、図１４のシール材１３の中に分散された導通材４２によって、素子基板上の複数の配線３９ａの先端、すなわち、パッド４８に電気的に接続する。そして、複数の電極配線２５のそれぞれの幅Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、・・・・、Ｗｎ−２、Ｗｎ−１、Ｗｎ（ここで、ｎは配線３９ａの本数）は、配線３９ａの長さが長いほど、広くなるように形成されている。これにより、図１４において、駆動用ＩＣ３ａから線状電極２３ａに至るまでの配線３９ａ及び電極配線２５の全体の配線抵抗を、複数の電極２３ａ間で均一にすることができる。
【００９３】
ところで、図１４に矢印Ｅで示す領域を考えると、この領域では配線３９ａの長さが非常に短く、その抵抗値が低い。この抵抗値を高くしようとしても限界がある。従って、素子基板側の配線３９ａの線幅だけの調整を行うだけでは、図１８に符号Ｆで示すように、配線の長さが短い領域、すなわち、配線幅方向Ｘの値が小さい領域で配線抵抗が小さくなってしまい、均一でなくなる。この現象を解消するため、本実施形態では、配線抵抗値が小さくなると考えられる、図１８の配線幅領域、すなわち配線幅が０〜４０μｍの領域において、対向基板側の電極配線２５の線幅（図１６のＷ１〜Ｗｎに相当する）を細くして抵抗値を上げることにより、符号Ｇで示すように、全ての配線３９ａについて配線抵抗が均一になるように設定した。これにより、ムラの無いきれいな表示が可能となった。
【００９４】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【実施例１】
【００９５】
次の３種類の液晶装置を用意した。
（１）図６の液晶装置１であって、配線３９ａの長さに関わりなく全ての配線３９ａの線幅が一定に揃っている液晶装置（以下、従来品という）。
（２）図６の液晶装置１であって、複数の配線３９ａの線幅が図９に示すように、本線部分４９ａでは一定で、折れ曲がり部分４９ｂでは徐々に広くなる液晶装置（以下、発明Ａ製品という）。
（３）図１４の液晶装置１０１であって、（ａ）複数の配線３９ａの線幅が図１６に示すように折れ曲がり部分４９ｂで徐々に広くなり、（ｂ）図１６及び図１７に示すように、配線３９ａの長さが長くなるほど本線部分も含めた配線３９ａの全体の配線幅ｄｎを広くし、（ｃ）図１４の矢印Ｅで示す領域にある長さの短い配線３９ａに対して、対向基板側の配線電極２５の幅を細く調整する処理を行わない液晶装置（以下、発明Ｂ製品という）。
なお、上記（ｂ）の配線幅の調整は、図１９（ａ）で示す通りに行った。具体的には、配線幅方向Ｘの小さい側（すなわち、配線長さの短い側）を最小の幅“３μｍ”に設定し、配線幅を徐々に広げていって、最大で“７．６”まで広げた。
【００９６】
以上の３種類の液晶装置に対して、図６及び図１４における駆動用ＩＣ３ａから線状電極２３ａに至るまでの配線抵抗を測定した。その結果、図１９（ｂ）に示す結果が得られた。図１９（ｂ）において、符号Ｈは従来品の配線抵抗を示し、符号Ｉは発明Ａ製品の配線抵抗を示し、符号Ｊは発明Ｂ製品の配線抵抗を示している。図１９（ｂ）から分かるように、配線３９ａの線幅を徐々に広げれば（特性Ｉ）、配線抵抗をかなり均一化できる。また、配線３９ａの線幅を徐々に広げると共に、配線３９ａの全体の線幅も配線長さに応じて変化させれば（特性Ｊ）、配線抵抗をさらに均一化できる。
【００９７】
なお。図１９（ｂ）の特性Ｊにおいて、配線幅方向Ｘの小さい側における配線抵抗の低い領域については、図１８に関連して説明したように、対向基板側の電極配線２５の線幅を細くすることにより、配線抵抗をさらに一層均一化できる。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本発明に係る電気光学装置用基板は、液晶装置、有機ＥＬ装置等の基板として好適に用いられる。また、本発明に係る電気光学装置は、液晶装置、有機ＥＬ装置等においてムラのない均一な表示を実現する際に好適に用いられる。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等においてムラのない均一な表示を実現する際に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００９９】
【図１】本発明に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置のそれぞれの一実施形態を示す断面図である。
【図２】図１の要部を拡大して示す断面図であって、図４のＸ−Ｘ線に従った断面図である。
【図３】図２に示す構造の断面図であって、図４のＹ−Ｙ線に従った断面図である。
【図４】図１に示す構造の主要部の平面構造を示す平面図である。
【図５】図１の装置で用いられるスイッチング素子の一例を示す斜視図である。
【図６】図１の矢印Ａに従った液晶装置１の平面図である。
【図７】図１の矢印Ａに従って素子基板を示す平面図である。
【図８】図１の矢印Ａに従ってカラーフィルタ基板を示す平面図である。
【図９】図７の矢印Ｂで示す部分を拡大して示す平面図である。
【図１０】図９に示す構造の変形例を示す図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１２】本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図１３】本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯情報端末機を示す斜視図である。
【図１４】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を示す平面図である。
【図１５】図１４に示す電気光学装置の要部である素子基板を示す斜視図である。
【図１６】図１４の矢印Ｃで示す部分を拡大して示す平面図である。
【図１７】図１４の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す平面図である。
【図１８】図１４の矢印Ｅで示す部分の電極配線の線幅を決めるためのデータを示すグラフである。
【図１９】実験結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１００】
１：液晶装置（電気光学装置）、  ２：液晶パネル、  ３：駆動用ＩＣ、
４：照明装置、  １１：カラーフィルタ基板（対向基板）、
１２：素子基板（電気光学装置用基板）、  １３：シール材、  １４：液晶層、
１６ａ，１６ｂ：基材、  １６ｃ：第１辺、  １６ｄ，１６ｅ：隣辺、
１６ｆ：第２辺、  １７：樹脂層、  １７ａ：第１層、  １７ｂ：第２層、
１８：反射層、  １９：着色層、  ２１：遮光層、  ２２：オーバーコート層、
２３ａ，２３ｂ：電極、  ２４ａ，２４ｂ：配向膜、  ２５．電極配線、
２８：貫通穴、  ３１：ＴＦＤ、  ３９ａ，３９ｂ：配線、  ４０．端子、
４２．導通材、  ４６：反射層の開口、  ４８：導通用パッド、  ４９ａ：本線部分、
４９ｂ：折れ曲がり部、  ７０：携帯電話機（電子機器）、  ９０：携帯情報機器（電子機器）、  １０１．液晶装置（電気光学装置）、
１１２．素子基板（電気光学装置用基板）、  Ｄ：表示ドット、
Ｅ：液晶層の厚い部分、  Ｆ：液晶装置の薄い部分、  Ｌ０：外部光、  Ｌ１：照明光、Ｒ：反射部、  Ｔ：透過部、  Ｖ：表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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