(57)【要約】【課題】ランドプリピット信号の強度とアパーチャレシオを両立可能なフォトレジスト原盤のカッティング方法を提供する。【解決手段】フォトレジスト原盤１２０にグルーブ形成用レーザビーム１０１ａを連続的に照射することにより露光領域間の幅が局所的に広い螺旋状の露光領域を形成するとともに、フォトレジスト原盤１２０にランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂを断続的に照射することにより露光領域間のうち局所的に幅が広い領域に部分的な露光領域を形成する。これによれば、最終的に作製される光記録媒体において、ランドプリピットが形成されている部分のランド幅が局所的に広くなることから、ランドプリピットとグルーブとの境界に存在するランドの壁面の高さが低くなりにくい。このため、ランドプリピット信号の強度とアパーチャレシオを両立させることが可能となる。【選択図】          図１
2004185693.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光記録媒体用原盤を作製するために用いるフォトレジスト原盤のカッティング方法であって、前記フォトレジスト原盤に第１のレーザビームを連続的に照射することにより露光領域間の幅が局所的に広い螺旋状の露光領域を形成するとともに、前記フォトレジスト原盤に第２のレーザビームを断続的に照射することにより前記露光領域間のうち局所的に幅が広い領域に部分的な露光領域を形成することを特徴とするフォトレジスト原盤のカッティング方法。
【請求項２】
前記第１のレーザビームのビームスポットを前記第２のレーザビームの照射に連動して局所的に蛇行させることによって、前記露光領域間の幅を局所的に広げることを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト原盤のカッティング方法。
【請求項３】
前記第１のレーザビームの強度を前記第２のレーザビームの照射に連動して局所的に変動させることによって、前記露光領域間の幅を局所的に広げることを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト原盤のカッティング方法。
【請求項４】
前記第１及び第２のレーザビームを共通の対物レンズによって集光することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のフォトレジスト原盤のカッティング方法。
【請求項５】
前記第１のレーザビームはグルーブ形成用のレーザビームであり、前記第２のレーザビームはランドプリピット形成用のレーザビームであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のフォトレジスト原盤のカッティング方法。
【請求項６】
光記録媒体用原盤を作製するために用いるフォトレジスト原盤をカッティングするカッティングマシンであって、グルーブ形成用レーザビームの光路上に設けられ、そのビームスポットを移動させる偏向ユニットと、ランドプリピット形成用レーザビームの光路上に設けられ、これをパルス状に変調させる光変調ユニットと、前記偏向ユニット及び前記光変調ユニットを制御するコントローラとを備え、前記コントローラは、前記光変調ユニットへの制御による前記ランドプリピット形成用レーザビームの照射に連動して、前記偏向ユニットへの制御により、前記グルーブ形成用レーザビームを局所的に蛇行させることを特徴とするカッティングマシン。
【請求項７】
グルーブ及びランドプリピットが形成された基板を有する光記録媒体の製造方法であって、レーザビームを照射することによりフォトレジスト原盤を露光する第１の工程と、露光によって前記フォトレジスト原盤に形成されたパターンを転写することにより光記録媒体用原盤を作製する第２の工程と、前記光記録媒体用原盤に形成されたパターンを転写することにより前記基板を作製する第３の工程とを備え、前記第１の工程では、前記フォトレジスト原盤にグルーブ形成用のレーザビームを連続的に照射することにより露光領域間の幅が局所的に広い螺旋状の露光領域を形成するとともに、前記フォトレジスト原盤にランドプリピット形成用のレーザビームを断続的に照射することにより前記露光領域間のうち局所的に幅が広い領域に部分的な露光領域を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記第１の工程では、前記グルーブ形成用のレーザビームのビームスポットを前記ランドプリピット形成用のレーザビームの照射に連動して局所的に蛇行させることによって、前記露光領域間の幅を局所的に広げることを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項９】
螺旋状に設けられたグルーブ及びランドと、前記ランドの所定の部分に設けられたランドプリピットとを有する基板を少なくとも備え、前記ランドプリピットが設けられている部分において前記ランドの幅が局所的に広いことを特徴とする光記録媒体。
【請求項１０】
前記ランドプリピットに隣接する部分において前記グルーブが局所的に蛇行していることを特徴とする請求項９に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はフォトレジスト原盤のカッティング方法及びカッティングマシンに関し、特に、ランドプリピット（ＬＰＰ）を備える光記録媒体用の原盤の製造に用いるフォトレジスト原盤のカッティング方法及びカッティングマシンに関する。
【０００２】
また、本発明は光記録媒体及びその製造方法に関し、特に、ランドプリピットを備える光記録媒体及びその製造方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】
従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのようにデータの追記や書き換えができないタイプの光記録媒体（ＲＯＭ型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのようにデータの追記はできるがデータの書き換えができないタイプの光記録媒体（追記型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのようにデータの書き換えが可能なタイプの光記録媒体（書き換え型光記録媒体）とに大別することができる。
【０００４】
ＲＯＭ型光記録媒体においては、一般に、製造時において予め基板上に設けられたピット列によりデータが保持される。かかるピット列は基板上において螺旋状に配列されており、これに沿ってレーザビームを照射してその反射光量を検出することにより、保持されたデータを再生することができる。
【０００５】
これに対し、追記型光記録媒体や書き換え型光記録媒体においては、基板上に有機色素や相変化材料等からなる記録層が設けられており、データを記録する場合には、製造時において予め基板上に設けられた螺旋状のグルーブに沿って強度変調されたレーザビームを記録層に照射することにより、記録層に含まれる有機色素や相変化材料等を局所的に化学的変化及び／又は物理的変化させ、これにより多数のピット（記録マーク）を形成する。記録されたデータを再生する場合には、ＲＯＭ型光記録媒体と同様、螺旋状に配列されたピット列に沿ってレーザビームを照射し、その反射光量を検出する。
【０００６】
追記型光記録媒体や書き換え型光記録媒体の基板に設けられるグルーブは、光記録媒体の径方向に所定の周期をもって蛇行（ウォブリング）している。したがって、データの記録時においては、検出されたウォブル信号（ＷＯ信号）に基づいてスピンドルモータの回転サーボ用の同期信号を生成することによって、光記録媒体の径方向における記録位置に関わらず線速度を一定に保つことが可能となる。
【０００７】
さらに、隣り合うグルーブ間に存在するランド領域には、製造時において予めランドプリピット（ＬＰＰ）と呼ばれる多数のピットが形成されており、データの記録時においては、ランドプリピットより得られるランドプリピット信号（ＬＰＰ信号）に基づいて、記録エリアのアドレスが特定される。ランドプリピットは、一般にその内周側に位置するグルーブのアドレスを保持しており、当該グルーブがウォブリングにより最も外周側に蛇行した位置（変曲点）の外周側に設けられる。したがって、データの記録時においては、ビームスポットの中心から見て外周側に位置するランドプリピットに起因したランドプリピット信号を抽出すれば、現在ビームスポットが照射されているグルーブのアドレスを特定することが可能となる。
【０００８】
上述したウォブル信号及びランドプリピット信号は、反射光を検出するフォトディテクタの出力に基づき生成されるプッシュプル信号（ＰＰ信号）から抽出される。
【０００９】
図１２は、フォトディテクタの出力に基づいてプッシュプル信号を生成する方法を概念的に示す模式図である。図１２に示すように、光記録媒体１０から光ヘッド１１へ入射する反射光１２は、ビームスポットの中心をグルーブの延在方向に沿って２分割した場合、中心から見て外周側に属する成分を検出するフォトディテクタ１３ａと、中心から見て内周側に属する成分を検出するフォトディテクタ１３ｂによってその光量が検出される。このようにして得られた２つの検出信号Ａ及び検出信号Ｂは、加算器１４によって加算されるとともに減算器１５によって減算され、加算された信号（Ａ＋Ｂ）はＨＦ信号（再生信号）として用いられ、減算された信号（Ａ−Ｂ）はプッシュプル信号として用いられる。
【００１０】
図１３は、グルーブに沿ってレーザビームを照射した場合に得られるプッシュプル信号の波形図である。上述のとおり、プッシュプル信号は光記録媒体より得られる反射光を、外周側に属する成分（Ａ）と内周側に属する成分（Ｂ）に２分割した場合におけるこれら成分の差（Ａ−Ｂ）を示している。ウォブルの周波数は、トラッキングサーボ帯域よりも十分に高く設定されているため、トラッキング時にビームスポットがウォブルに追従することはなく、その結果、プッシュプル信号にはウォブル信号が現れる。
【００１１】
図１３に示すように、プッシュプル信号の主成分はウォブルの周期に一致しており、所定のタイミングにおいてランドプリピットに起因するパルス１８が現れる。したがって、ローパスフィルタ等を用いてこれらパルス１８を除去すれば、ウォブル信号を得ることが可能となる。
【００１２】
ここで、パルス１８のうち負方向（−）へ振れるパルス１８ａは、ビームスポットの中心から見て外周側に位置するランドプリピットに起因したパルスである。上述のとおり、ランドプリピットは当該グルーブがウォブリングにより最も外周側に蛇行した位置（変曲点）に外周側に設けられていることから、負方向（−）へ振れるパルス１８ａは、図１３に示すように、プッシュプル信号に含まれるウォブル成分が負のピークとなった位置において現れる。一方、パルス１８のうち正方向（＋）へ振れるパルス１８ｂは、ビームスポットの中心から見て内周側に位置するランドプリピットに起因したパルスである。したがって、正方向（＋）へ振れるパルス１８ｂは、プッシュプル信号に含まれるウォブル成分とは実質的に無関係な位置に出現する。したがって、図１３に示すようにプッシュプル信号に所定の負のしきい値を設定すれば、ビームスポットの中心から見て外周側に位置するランドプリピットに起因したパルス１８ａのみを抽出することができる。このようにして抽出されたパルス１８ａがランドプリピット信号として用いられる。尚、負方向（−）へ振れるパルス１８ａと正方向（＋）へ振れるパルス１８ｂとがほぼ同時に出現するのを防ぐため、ランドプリピットが径方向に並ばないよう位置調整される。
【００１３】
図１４は、ランドプリピットが形成された基板表面の形状を概略的に示す斜視図である。図１４においては、図面の見やすさを考慮してグルーブがウォブリングしている様子は省略され、直線的に描かれている。
【００１４】
図１４に示すように、基板２０の表面には、径方向に延在するグルーブ２１及びランド２２が設けられており、ランド２２の所定の部分には、ランドプリピット２３が配置される。ここで、ランドプリピット２３に起因するパルス１８ａ（ランドプリピット信号）は、レーザビームのビームスポットが符号２５ａに示す位置にある場合（ビームスポットの中心から見てランドプリピット２３が外周側に位置する場合）において出現するため、上述のようにしてこれを抽出すれば、現在のアドレスを特定することが可能となる。また、レーザビームのビームスポットが符号２５ｂに示す位置にある場合においても同じランドプリピット２３に起因したパルス１８ｂが得られることになるが、この場合、ランドプリピット２３はビームスポットの中心から見て内周側に位置することから、かかるパルス１８ｂはアドレスの特定には用いられない。
【００１５】
このような基板２０の製造に用いる光記録媒体用原盤は、グルーブ２１を形成するためのレーザビームとは別に、ランドプリピット２３を形成するためのレーザビームを用いてカッティングされたフォトレジスト原盤の転写によって作製される。このように、グルーブ形成用のレーザビームとランドプリピット形成用のレーザビームの２つのレーザビームを用いてフォトレジスト原盤をカッティングし、光記録媒体用原盤を作製する方法は「２ビームカッティング法」と呼ばれることがある。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
ランドプリピット信号の強度を高めるためには、フォトレジスト原盤のカッティング時において、ランドプリピット形成用のレーザビームの照射時間を長く設定する等により、ランドプリピット２３の平面形状を大きくすればよい。しかしながら、ランドプリピット２３の平面形状を大きくすると、ランドプリピット２３とグルーブ２１との境界に存在するランド２２の壁面２２ａの高さが低くなり、これによって、ランドプリピット信号が劣化しやすくなるという問題があった。ランドプリピット信号の劣化の度合いは、「アパーチャレシオ（ＡＲ）」と呼ばれるパラメータによって評価され、一旦データを記録した後に得られるランドプリピット信号の最小値及び最大値をそれぞれＬＰＰａ及びＬＰＰｂとした場合、
ＡＲ（％）＝１００×ＬＰＰａ／ＬＰＰｂ
によって定義される。
【００１７】
図１５は、ランドプリピット２３の平面形状を大きくしたことによって、ランド２２の壁面２２ａの高さが低くなった状態を概略的に示す斜視図である。図１５に示すように、ランドプリピット２３は一般にすり鉢状であることから、その平面形状を所定の大きさ以上に設定すると、ランドプリピット２３の外周部分がランド２２の上面を越えてグルーブ２１との境界部分に達してしまい、その結果、ランドプリピット２３とグルーブ２１との境界に存在するランド２２の壁面２２ａの高さが本来の高さ（＝ランド２２の高さ）よりも低くなってしまう。
【００１８】
ランド２２の壁面２２ａの高さが本来の高さよりも低くなると、グルーブ２１にデータを記録した場合に記録層の変化がランドプリピット２３にまで及び、これがランドプリピット信号を劣化させる原因となる。
【００１９】
したがって、本発明の目的は、高い強度のランドプリピット信号を得ることができるとともに、高いアパーチャレシオを得ることが可能なフォトレジスト原盤のカッティング方法及びカッティングマシンを提供することである。
【００２０】
また、本発明の他の目的は、高い強度のランドプリピット信号を得ることができるとともに、高いアパーチャレシオを得ることが可能な光記録媒体及びその製造方法を提供することである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明によるフォトレジスト原盤のカッティング方法は、光記録媒体用原盤を作製するために用いるフォトレジスト原盤のカッティング方法であって、前記フォトレジスト原盤に第１のレーザビームを連続的に照射することにより露光領域間の幅が局所的に広い螺旋状の露光領域を形成するとともに、前記フォトレジスト原盤に第２のレーザビームを断続的に照射することにより前記露光領域間のうち局所的に幅が広い領域に部分的な露光領域を形成することを特徴とする。
【００２２】
本発明の好ましい実施態様においては、前記第１のレーザビームのビームスポットを前記第２のレーザビームの照射に連動して局所的に蛇行させることによって前記露光領域間の幅を局所的に広げ、本発明の好ましい他の実施態様においては、前記第１のレーザビームの強度を前記第２のレーザビームの照射に連動して局所的に変動させることによって前記露光領域間の幅を局所的に広げる。
【００２３】
また、前記第１及び第２のレーザビームを共通の対物レンズによって集光することが好ましく、前記第１のレーザビームはグルーブ形成用のレーザビームであり、前記第２のレーザビームはランドプリピット形成用のレーザビームであることが好ましい。
【００２４】
また、本発明によるカッティングマシンは、光記録媒体用原盤を作製するために用いるフォトレジスト原盤をカッティングするカッティングマシンであって、グルーブ形成用レーザビームの光路上に設けられ、そのビームスポットを移動させる偏向ユニットと、ランドプリピット形成用レーザビームの光路上に設けられ、これをパルス状に変調させる光変調ユニットと、前記偏向ユニット及び前記光変調ユニットを制御するコントローラとを備え、前記コントローラは、前記光変調ユニットへの制御による前記ランドプリピット形成用レーザビームの照射に連動して、前記偏向ユニットへの制御により、前記グルーブ形成用レーザビームを局所的に蛇行させることを特徴とする。
【００２５】
また、本発明による光記録媒体の製造方法は、グルーブ及びランドプリピットが形成された基板を有する光記録媒体の製造方法であって、レーザビームを照射することによりフォトレジスト原盤を露光する第１の工程と、露光によって前記フォトレジスト原盤に形成されたパターンを転写することにより光記録媒体用原盤を作製する第２の工程と、前記光記録媒体用原盤に形成されたパターンを転写することにより前記基板を作製する第３の工程とを備え、前記第１の工程では、前記フォトレジスト原盤にグルーブ形成用のレーザビームを連続的に照射することにより露光領域間の幅が局所的に広い螺旋状の露光領域を形成するとともに、前記フォトレジスト原盤にランドプリピット形成用のレーザビームを断続的に照射することにより前記露光領域間のうち局所的に幅が広い領域に部分的な露光領域を形成することを特徴とする。
【００２６】
この場合、前記第１の工程では、前記グルーブ形成用のレーザビームのビームスポットを前記ランドプリピット形成用のレーザビームの照射に連動して局所的に蛇行させることによって、前記露光領域間の幅を局所的に広げることが好ましい。
【００２７】
以上の本発明によれば、最終的に作製される光記録媒体において、ランドプリピットが形成されている部分のランド幅が局所的に広くなることから、ランドプリピットの平面形状が大きい場合であっても、ランドプリピットとグルーブとの境界に存在するランドの壁面の高さが低くなりにくい。このため、ランドプリピット信号の強度とアパーチャレシオを両立させることが可能となる。
【００２８】
また、本発明による光記録媒体は、螺旋状に設けられたグルーブ及びランドと、前記ランドの所定の部分に設けられたランドプリピットとを有する基板を少なくとも備え、前記ランドプリピットが設けられている部分において前記ランドの幅が局所的に広いことを特徴とする。
【００２９】
この場合、前記ランドプリピットに隣接する部分において前記グルーブが局所的に蛇行していることが好ましい。
【００３０】
本発明によれば、ランドプリピットが形成されている部分のランド幅が局所的に広いことから、上述の通り、ランドプリピットとグルーブとの境界に存在するランドの壁面の高さが低くなりにくく、このためランドプリピット信号の強度とアパーチャレシオを両立させることが可能となる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施態様について詳細に説明する。
【００３２】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体用原盤製造装置（カッティングマシン）１００を示す概略構成図である。
【００３３】
図１に示すように、本実施態様にかかるカッティングマシン１００は、フォトレジスト原盤１２０をカッティングするための装置であり、レーザビーム１０１を発生するレーザ発生装置１０２と、レーザビーム１０１を露光に適したパワーに設定するＥＯＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｏｐｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ：電気光学効果を用いた変調器）１０３と、レーザビーム１０１をグルーブ形成用レーザビーム１０１ａ及びランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂに分光するハーフミラー１０４と、ランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂを反射するミラー１０５と、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａをウォブリングさせる偏向ユニット１１６と、ランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂをパルス状に変調する光変調ユニット１０７と、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａを反射するミラー１０８と、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａとランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂとを合成し、合成レーザビーム１０１ｃを生成するハーフミラー１０９と、合成レーザビーム１０１ｃをフォトレジスト原盤１２０に照射する光学ヘッド１１０と、光学ヘッド１１０をフォトレジスト原盤１２０の径方向に移動させるトラバースモータ１１１と、フォトレジスト原盤１２０を載置するターンテーブル１１２と、ターンテーブル１１２を回転させるスピンドルモータ１１３と、光変調ユニット１０７、トラバースモータ１１１及びスピンドルモータ１１３を制御するコントローラ１１４とを備えている。特に限定されるものではないが、フォトレジスト原盤１２０は、ガラス基板１２０ａとこの上に形成された厚さ２０〜２００ｎｍの感光性材料層１２０ｂによって構成されている。
【００３４】
光変調ユニット１０７は、レンズ１０７ａ、光変調器１０７ｂ及びレンズ１０７ｃからなり、コントローラ１１４より光変調器１０７ｂに供給される制御信号１１４ｂに基づいて、ランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂをパルス状に変調する。特に限定されるものではないが、本実施態様において光変調器１０７ｂは、制御信号１１４ｂがハイレベルである場合にはランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂをそのまま通過させ、制御信号１１４ｂがローレベルである場合にはランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂを遮断する。
【００３５】
偏向ユニット１１６は、シリンドリカルレンズ１１６ａ、偏向器１１６ｂ及びシリンドリカルレンズ１１６ｃからなり、コントローラ１１４より偏向器１１６ｂに供給される制御信号１１４ａに基づいて、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａをウォブリングさせる。
【００３６】
光学ヘッド１１０は、少なくとも対物レンズ１１０ａを備え、ハーフミラー１０９より入射する合成レーザビーム１０１ｃをフォトレジスト原盤１２０の感光性材料層１２０ｂ上に集光する。また、光学ヘッド１１０は、コントローラ１１４からの制御信号１１４ｃにより制御されるトラバースモータ１１１によって、フォトレジスト原盤１２０の径方向への移動が可能に構成されている。
【００３７】
また、スピンドルモータ１１３は、コントローラ１１４からの制御信号１１４ｄに基づいて、ターンテーブル１１２を回転させることができる。
【００３８】
図２は、対物レンズ１１０ａを通過する合成レーザビーム１０１ｃの光路をより詳細に示す図である。
【００３９】
図２に示すように、対物レンズ１１０ａを通過する前の合成レーザビーム１０１ｃは、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａの光軸とランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂの光軸とが一致するように合成されたレーザビームではなく、両者の光軸が所定のずれを持って合成されている。このため、対物レンズ１１０ａを通過し、感光性材料層１２０ｂ上に形成されるビームスポットについても、グルーブ形成用ビームスポット１１５ａとランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂとは、所定のずれを持って形成されることになる。ここで、グルーブ形成用ビームスポット１１５ａが形成される位置とランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂが形成される位置とは、フォトレジスト原盤１２０の径方向にずれており、内周側にグルーブ形成用ビームスポット１１５ａが位置し、外周側にランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂが位置している。
【００４０】
次に、カッティングマシン１００の動作について説明する。
【００４１】
カッティングマシン１００を用いてフォトレジスト原盤１２０をカッティングする場合、まず、コントローラ１１４は、制御信号１１４ｃによりトラバースモータを制御して光学ヘッド１１０をフォトレジスト原盤１２０の内周部分に移動させるとともに、制御信号１１４ｄによりスピンドルモータ１１３を制御してターンテーブル１１２を回転させる。
【００４２】
この状態において、レーザ発生装置１０２によってレーザビーム１０１を発生させると、かかるレーザビーム１０１は、ＥＯＭ１０３によって露光に適したパワーに設定された後、ハーフミラー１０４によってグルーブ形成用レーザビーム１０１ａ及びランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂに分光される。このうち、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａは偏向ユニット１１６を通過し、ミラー１０８によって反射した後、ハーフミラー１０９に入射する。一方、ランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂは、ミラー１０５によって反射し、光変調ユニット１０７を通過した後、ハーフミラー１０９に入射する。グルーブ形成用レーザビーム１０１ａ及びランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂは、ハーフミラー１０９によって合成されて合成レーザビーム１０１ｃとされた後、光学ヘッド１１０に備えられた対物レンズ１１０ａによって、フォトレジスト原盤１２０に含まれる感光性材料層１２０ｂ上に集光される。
【００４３】
そして、コントローラ１１４は、制御信号１１４ｄによりスピンドルモータ１１３を制御してターンテーブル１１２を回転させるとともに、制御信号１１４ｃによってトラバースモータ１１１を制御して光学ヘッド１１０を徐々に外周側に移動させながら、制御信号１１４ｂによって光変調ユニット１０７を制御してランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂをパルス状に変調するとともに、制御信号１１４ａによって偏向ユニット１１６を制御し、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａをウォブリングさせる。これにより、感光性材料層１２０ｂ上に形成されるグルーブ形成用ビームスポット１１５ａ及びランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂは、感光性材料層１２０ｂの内周部分から外周部分へと螺旋状の軌跡を描く。
【００４４】
ここで、コントローラ１１４により供給される制御信号１１４ａは、通常のウォブル周期に対応して変化するのみならず、制御信号１１４ｂに連動して局所的に変化する。
【００４５】
図３は、光変調ユニット１０７及び偏向ユニット１１６にそれぞれ供給される制御信号１１４ｂ，１１４ａの波形、並びに、感光性材料層１２０ｂの露光領域１３０の形状を示す図であり、（ａ）は光変調ユニット１０７に供給される制御信号１１４ｂの波形を示し、（ｂ）は偏向ユニット１１６に供給される制御信号１１４ａの波形を示し、（ｃ）はグルーブ形成用ビームスポット１１５ａにより露光される露光領域１３０ａとランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂにより露光される露光領域１３０ｂの形状を示している。
【００４６】
図３（ａ）に示すように、光変調ユニット１０７に供給される制御信号１１４ｂは、ランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂがランドプリピットを形成すべき位置となった所定のタイミングにおいてハイレベルとされ、その他の期間においてはローレベルとされる。
【００４７】
また、図３（ｂ）に示すように、偏向ユニット１１６に供給される制御信号１１４ａは、ウォブルに合わせてグルーブ形成用ビームスポット１１５ａが蛇行するようそのレベルが周期的に変化するとともに、グルーブ形成用ビームスポット１１５ａが最も外周側に蛇行した際、その外周部分にランドプリピットが形成される場合（制御信号１１４ｂがハイレベルとされる場合）には、グルーブ形成用ビームスポット１１５ａが局所的に内周側へ蛇行するよう制御する。一方、このようなランドプリピットが形成されない場合（制御信号１１４ｂがローレベルのままとされる場合）には、制御信号１１４ａは上述した局所的な変化を伴うことなく通常のウォブルの周期で変化する（図３（ｂ）の破線１１４ａ’がこれに対応する）。
【００４８】
特に限定されるものではないが、本実施態様においては、制御信号１１４ａが局所的に変化するタイミングｔ０は制御信号１１４ｂがハイレベルとなるタイミングｔ１以前に設定されており、制御信号１１４ａの局所的な変化が終了するタイミングｔ３は制御信号１１４ｂがローレベルとなるタイミングｔ２以降に設定されている。
【００４９】
これにより感光性材料層１２０ｂには、図３（ｃ）に示すように、グルーブ形成用ビームスポット１１５ａにより露光される露光領域１３０ａとランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂにより露光される露光領域１３０ｂが形成される。露光領域１３０ａはグルーブに、露光領域１３０ｂはランドプリピットに相当し、露光領域１３０ｂの内周側に隣接する露光領域１３０ａは局所的に内周側へ蛇行した形状となる。このため、露光領域１３０ｂの面積が大きい場合であっても、露光領域１３０ａとその外周側に位置する露光領域１３０ｂとの間隔を十分に確保することができる。
【００５０】
また、露光領域１３０ｂの位置としては、図４に示すように、内周側に隣接する露光領域１３０ａとの距離Ｄ１と外周側に隣接する露光領域１３０ａとの距離Ｄ２とがほぼ等しくなるような位置に設定することが好ましい。
【００５１】
図５（ａ）〜（ｆ）は、光記録媒体用原盤の製造工程を示す工程図である。上述のとおり、フォトレジスト原盤１２０はガラス基板１２０ａと、ガラス基板１２０ａ上に形成された厚さ２０〜２００ｎｍの感光性材料層１２０ｂとを有している（図５（ａ））。また図示を省略するが、ガラス基板１２０ａと感光性材料層１２０ｂとの間には、接着性を高めるための接着層（プライマー）を有してもよい。
【００５２】
次に、合成レーザビーム１０１ｃを、対物レンズ１１０ａによってフォトレジスト原盤１２０の感光性材料層１２０ｂ上に集光させると、その照射部分が露光される（図５（ｂ））。これにより、グルーブ及びランドプリピットに対応した露光領域１３０が螺旋状に形成される。上述の通り、露光領域１３０のうちグルーブに対応した部分（露光領域１３０ａ）は、所定の周期でウォブリングするとともに、ランドプリピットに位置において局所的に内周側に蛇行している。その後、露光したフォトレジスト原盤１２０に水酸化ナトリウム溶液等の現像液をスプレーし、露光領域１３０に対応する凹パターン１４１を現像する（図５（ｃ））。
【００５３】
次に、現像した感光性材料層１２０ｂ上に、無電解メッキや蒸着法によりニッケル等の金属薄膜１４２を形成する（図５（ｄ））。さらに、金属薄膜１４２の表面を陰極とし、陽極をニッケル等として厚膜メッキを行い、厚さ約０．３ｍｍの金属厚膜１４３を形成する（図５（ｅ））。
【００５４】
そして、金属薄膜１４２からレジスト面を剥離し、洗浄及び内外径加工を施すことにより、光記録媒体用原盤（スタンパ）１５０が完成する（図５（ｆ））。これにより、光記録媒体用原盤１５０には、凹パターン１４１の転写パターンである凸パターン１５１が形成されるので、以下に説明するように、この光記録媒体用原盤１５０を用いて射出成形法や２Ｐ法等によりパタ−ンの転写を行うことにより、螺旋状のグルーブを有する光透過性基板を量産することができる。
【００５５】
次に、このようにして作製されたスタンパ１５０を用いた光記録媒体の製造方法について、追記型光記録媒体の製造方法を例に図６（ａ）乃至（ｃ）及び図７（ａ）乃至（ｃ）を参照しながら説明する。
【００５６】
まず、上述の方法により作製したスタンパ１５０を射出成型器１６０にセットし、射出成形法（インジェクション法）によって、直径が約１２０ｍｍ、厚さが約０．６ｍｍであり、中心部分に孔が設けられた円盤状の光透過性基板２０１を射出成形する。これにより、スタンパ１５０の表面に形成された螺旋状の凸パターン１５１が転写された光透過性基板２０１が作製される（図６（ａ））。形成された凹部はグルーブとなり、その一部である局所的蛇行部分はランドプリピットとなる。尚、光透過性基板２０１の材料としては、使用されるレーザビームの波長領域において光透過率が十分に高い材料であれば特に限定されないが、ポリカーボネート樹脂やオレフィン樹脂を用いることが好ましい。また、スタンパ１５０を用いた光透過性基板２０１の作製は、光硬化法（２Ｐ法）を用いても構わない。
【００５７】
次に、光透過性基板２０１のグルーブが形成されている側の表面に、グルーブ部における厚さが３０〜３００ｎｍの記録層２０２を形成する（図６（ｂ））。記録層２０２は、記録時に照射されるレーザビームの照射により記録マークが形成される層であり、その材料としては、シアニン、メロシアニン、メチン系色素およびその誘導体、ベンゼンチオール金属錯体、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、アゾ色素などの有機色素を用いることができる。記録層２０２の形成方法としては、スピンコート法を用いることが好ましい。尚、図６（ｂ）において、２０１ａは光透過性基板２０１の中心部分に設けられた孔であり、２０１ｂは凸パターン１５１が転写されて成るグルーブである（以下に説明する図６（ｃ）、図７（ａ）〜図７（ｃ）においても同様）。
【００５８】
次に、記録層２０２の表面に厚さが５０〜２００ｎｍの反射層２０３を形成する（図６（ｃ））。反射層２０３は、再生時に照射されるレーザビームを反射するための層であり、その材料としては、レーザビームを反射可能である限り特に制限されず、例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ等を用いることができる。これらのうち、高い反射率を有することから、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ又はこれらの合金（ＡｌとＴｉとの合金等）などの金属材料を用いることが好ましい。反射層２０３の形成には、例えば反射層２０３の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることができる。このような気相成長法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法等が挙げられる。
【００５９】
次に、反射層２０３上に厚さが０．５〜１００μｍの保護層２０４を形成する（図７（ａ））。保護層２０３は、光透過性基板２０１上に設けられた記録層２０２及び反射層２０３を物理的・化学的に保護するための層であり、その材料としてはアクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂を用いることができる。保護層２０４は、例えば、粘度調整されたアクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂をスピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等により皮膜させ、紫外線を照射して硬化する等の方法により形成することができる。
【００６０】
次に、保護層２０４上に厚さが１０〜２００μｍの接着層２０５を形成する（図７（ｂ））。接着層２０５は、光透過性基板２０１、記録層２０２、反射層２０３及び保護層２０４からなる積層体と、後述するダミー基板とを接着するための層であり、特に限定されるものではないが、紫外線硬化性接着剤を用いることが好ましい。接着層２０５の形成においても、スピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等を用いることができる。
【００６１】
一方、射出成型法により、厚さが約０．６ｍｍであり、直径が約１２０ｍｍのダミー基板２０６を別途作製し、これを上記積層体のうち接着層２０６が形成された面に貼り合わせた後、紫外線を照射することによって上記積層体とダミー基板２０６とを接着する（図７（ｃ））。ダミー基板２０６は、作製すべき追記型光記録媒体に求められる厚み（約１．２ｍｍ）を確保するために用いられる円盤状の基板であり、その厚さは光透過性基板２０１と同様、約０．６ｍｍに設定される。ダミー基板２０６の材料については、ガラス、セラミックス、樹脂等、種々の材料を用いることが可能であるが、ダミー基板２０６は、光透過性基板２０１とは異なりレーザビームの光路とはならないことから、高い光透過性を有している必要はない。しかしながら、加工性などの点から、ダミー基板２０６についてもポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。
【００６２】
以上により、追記型光記録媒体の製造が完了する。
【００６３】
図８は、上述の工程により作製された追記型光記録媒体２００の構造を示す図であり、（ａ）は外観を示す図、（ｂ）は（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
【００６４】
図８に示すように、上述の工程により作製された追記型光記録媒体２００の光透過性基板２０１には、スタンパ１５０の表面に形成された凸パターン１５１の転写により、螺旋状のグルーブ２０１ｂが形成されているとともに、ランド２０１ｃの所定の部分にはランドプリピット２０１ｄが形成されている。また、グルーブ２０１ｂは、外周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分において局所的に内周側へ蛇行している。尚、図８（ｂ）においては、図面の見やすさを考慮してグルーブ２０１ｂがウォブリングしている様子は省略され、局所的蛇行部分を除き、直線的に描かれている。
【００６５】
このような構造を有する追記型光記録媒体２００に対しては、光透過性基板２０１側からレーザビームが照射され、これによってデータの記録及び再生を行うことができる。つまり、データを記録する場合には、グルーブ２０１ｂに沿って、記録パワーＰｗから基底パワーＰｂまでの振幅を有するパルス状のレーザビームを記録層２０２に照射することにより、記録層２０２に含まれる有機色素を局所的に化学的変化及び／又は物理的変化させ、多数のピット（記録マーク）を形成する。これにより、所望のデータを記録することができる。一方、記録されたデータを再生する場合には、再生パワーＰｒに設定されたレーザビームをグルーブ２０１ｂに沿って照射し、その反射光量を検出することにより、形成された記録マークの内容を読み出す。これにより、記録されたデータを再生することができる。
【００６６】
ここで、データの記録時及び再生時においては、グルーブ２０１ｂのウォブリングによって得られるウォブル信号の周波数が基準クロックの周波数と一致するようドライブのスピンドルモータに対して回転制御が行われ、これによって、追記型光記録媒体２００の径方向における記録／再生位置に関わらず線速度を一定に保つことが可能となる。
【００６７】
さらに、データの記録時においては、ランド２０１ｃの所定の部分に設けられたランドプリピット２０１ｄによって得られるランドプリピット信号に基づいて、記録エリアのアドレスが特定される。上述のとおり、ランドプリピット２０１ｄは、その内周側に位置するグルーブ２０１ｂのアドレスを保持しており、したがって、データの記録時においては、ビームスポットの中心から見て外周側に位置するランドプリピット２０１ｄに起因したランドプリピット信号を抽出すれば、現在ビームスポットが照射されているグルーブ２０１ｂのアドレスを特定することが可能となる。
【００６８】
そして、本実施態様にかかる方法により作製された追記型光記録媒体２００においては、外周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分においてグルーブ２０１ｂが局所的に内周側へ蛇行していることから、ランドプリピット２０１ｄが形成されている部分におけるランド２０１ｃの幅が拡大されている。このため、ランドプリピット２０１ｄの平面形状を大きく設定した場合であっても、ランドプリピット２０１ｄとグルーブ２０１ｂの間に十分な距離が確保されるので、ランドプリピット２０１ｄとグルーブ２０１ｂとの境界に存在するランド２０１ｃの壁面２０１ｅの高さが低くなりにくく、このため、高いアパーチャレシオを得ることが可能となる。
【００６９】
特に、露光領域１３０ａと露光領域１３０ｂとの位置関係を図４に示すように設定すれば、ランドプリピット２０１ｄとその外周側に位置するグルーブ２０１ｂとの間隔のみならず、ランドプリピット２０１ｄとその内周側に位置するグルーブ２０１ｂとの間隔を十分に確保することができるので、ランドプリピット２０１ｄから見て内周側に位置する壁面２０１ｅの高さ及びランドプリピット２０１ｄから見て外周側に位置する壁面２０１ｅの高さの両方を十分に確保することが可能となる。
【００７０】
次に、本発明の好ましい他の実施態様について説明する。
【００７１】
図９は、本発明の好ましい他の実施態様にかかる光記録媒体用原盤製造装置（カッティングマシン）１００’を示す概略構成図である。図９に示すように、本実施態様にかかるカッティングマシン１００’は、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａのパワーを調整するパワー調整器１０６が追加されているとともに、コントローラ１１４が制御信号１１４ｅを用いてパワー調整器１０６を制御可能に構成されている点において図１に示すカッティングマシン１００と異なる。その他の部分については図１に示すカッティングマシン１００と同様の構成を有していることから、重複する説明は省略する。
【００７２】
カッティングマシン１００’の基本的な動作は上述したカッティングマシン１００の動作と同様である。つまり、コントローラ１１４は、制御信号１１４ｂによって光変調ユニット１０７を制御することにより、ランドプリピット形成用レーザビーム１０１ｂをランドプリピットに対応してパルス状に変調するとともに、制御信号１１４ａによって偏向ユニット１１６を制御することにより、グルーブ形成用レーザビーム１０１ａをウォブリングさせる。これにより、感光性材料層１２０ｂ上に形成されるグルーブ形成用ビームスポット１１５ａ及びランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂは、感光性材料層１２０ｂの内周部分から外周部分へと螺旋状の軌跡を描く。
【００７３】
しかしながら、コントローラ１１４により供給される制御信号１１４ａは、図１に示すカッティングマシン１００とは異なり、制御信号１１４ｂに連動して局所的に変化することなく、通常のウォブル周期に対応した変化のみを行う。したがって、上記実施態様のように露光領域１３０ａが局所的に内周側に蛇行することはないが、その代わりに、コントローラ１１４は制御信号１１４ｂに連動して制御信号１１４ｅを局所的に変化させる。
【００７４】
図１０は、光変調ユニット１０７及びパワー調整器１０６にそれぞれ供給される制御信号１１４ｂ，１１４ｅの波形、並びに、感光性材料層１２０ｂ上の露光領域１３０の形状を示す図であり、（ａ）は光変調ユニット１０７に供給される制御信号１１４ｂの波形を示し、（ｂ）はパワー調整器１０６に供給される制御信号１１４ｅの波形を示し、（ｃ）はグルーブ形成用ビームスポット１１５ａにより露光される露光領域１３０ａとランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂにより露光される露光領域１３０ｂの形状を示している。
【００７５】
図１０（ａ）に示すように、光変調ユニット１０７に供給される制御信号１１４ｂは、ランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂがランドプリピットを形成すべき位置となった所定のタイミングにおいてハイレベルとされ、その他の期間においてはローレベルとされる。
【００７６】
また、図１０（ｂ）に示すように、制御信号１１４ｅは、制御信号１１４ｂがハイレベルとされる場合にはグルーブ形成用レーザビーム１０１ａのパワーが局所的に減衰するようパワー調整器１０６を制御する。一方、制御信号１１４ｂがローレベルのままとされる場合には、制御信号１１４ｅによる減衰量は実質的にゼロに維持される（図１０（ｂ）の破線１１４ｅ’がこれに対応する）。
【００７７】
特に限定されるものではないが、本実施態様においては、制御信号１１４ｅが局所的に変化するタイミングｔ１０は制御信号１１４ｂがハイレベルとなるタイミングｔ１１以前に設定されており、制御信号１１４ｅの局所的な変化が終了するタイミングｔ１３は制御信号１１４ｂがローレベルとなるタイミングｔ１２以降に設定されている。
【００７８】
これにより、図１０（ｃ）に示すように、露光領域１３０ａの形状は、その外周側に露光領域１３０ｂが存在する部分において幅が局所的に狭くなる形状となる。このため、露光領域１３０ｂの面積が大きい場合であっても、露光領域１３０ａとその外周側に位置する露光領域１３０ｂとの間隔を十分に確保することができる。
【００７９】
また、露光領域１３０ｂの位置としては、図１１に示すように、内周側に隣接する露光領域１３０ａとの距離Ｄ３と外周側に隣接する露光領域１３０ａとの距離Ｄ４とがほぼ等しくなるような位置に設定することが好ましい。
【００８０】
このようにしてカッティングされたフォトレジスト原盤１２０を用いて光記録媒体用原盤を製造する方法は、図５乃至図７を用いて説明した通りであり、これにより作製された追記型光記録媒体２００においては、外周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分においてグルーブ２０１ｂの幅が局所的に狭くなることから、上記実施態様と同様、ランドプリピット２０１ｄの平面形状を大きく設定した場合であっても、ランドプリピット２０１ｄとグルーブ２０１ｂの間に十分な距離が確保される。これにより、ランドプリピット２０１ｄとグルーブ２０１ｂとの境界に存在するランド２０１ｃの壁面２０１ｅの高さが低くなりにくく、このため、高いアパーチャレシオを得ることが可能となる。
【００８１】
特に、露光領域１３０ａと露光領域１３０ｂとの位置関係を図１１に示すように設定すれば、ランドプリピット２０１ｄとその外周側に位置するグルーブ２０１ｂとの間隔のみならず、ランドプリピット２０１ｄとその内周側に位置するグルーブ２０１ｂとの間隔を十分に確保することができるので、ランドプリピット２０１ｄから見て内周側に位置する壁面２０１ｅの高さ及びランドプリピット２０１ｄから見て外周側に位置する壁面２０１ｅの高さの両方を十分に確保することが可能となる。
【００８２】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【００８３】
例えば、上記いずれの実施態様においても、ランドプリピットがその内周側に位置するグルーブのアドレスを保持している場合を例に説明したが、ランドプリピットがその外周側に位置するグルーブのアドレスを保持する場合であっても、本発明を適用可能であることは言うまでもない。この場合、グルーブ形成用ビームスポット１１５ａとランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂとの位置関係は図２に示す関係とは逆に、グルーブ形成用ビームスポット１１５ａが外周側に位置し、ランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂが内周側に位置するよう光軸が調整されることから、内周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分においてグルーブ２０１ｂを局所的に外周側へ蛇行させ、或いは、内周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分においてグルーブ２０１ｂの幅を局所的に狭くすればよい。
【００８４】
また、前者の実施態様においては、外周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分においてグルーブ２０１ｂを局所的に内周側へ蛇行させ、後者の実施態様においては、外周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分においてグルーブ２０１ｂの幅を局所的に狭くしているが、これらを同時に適用し、外周側にランドプリピット２０１ｄが存在する部分においてグルーブ２０１ｂを局所的に内周側へ蛇行させるとともに、その幅を局所的に狭くすることも可能である。
【００８５】
さらに、前者の実施態様においては、制御信号１１４ａが局所的に変化するタイミングｔ０を制御信号１１４ｂがハイレベルとなるタイミングｔ１以前に設定し、制御信号１１４ａの局所的な変化が終了するタイミングｔ３を制御信号１１４ｂがローレベルとなるタイミングｔ２以降に設定しているが（図３参照）、露光領域１３０ｂが存在する部分において隣接する露光領域１３０ａ間の距離（最終的にはランド２０１ｃの幅）が広く設定される限り、制御信号１１４ａ，１１４ｂの波形をどのように設定しても構わない。
【００８６】
同様に、後者の実施態様においては、制御信号１１４ｅが局所的に変化するタイミングｔ１０を制御信号１１４ｂがハイレベルとなるタイミングｔ１１以前に設定し、制御信号１１４ｅの局所的な変化が終了するタイミングｔ１３を制御信号１１４ｂがローレベルとなるタイミングｔ１２以降に設定しているが（図１０参照）、露光領域１３０ｂが存在する部分において隣接する露光領域１３０ａ間の距離（最終的にはランド２０１ｃの幅）が広く設定される限り、制御信号１１４ｅ，１１４ｂの波形をどのように設定しても構わない。
【００８７】
また、上記各実施態様においては、スタンパ１０５を用いて最終的に追記型光記録媒体２００を製造した例を説明したが、ランドプリピットが設けられる光記録媒体であれば、他の光記録媒体、例えば書き換え型光記録媒体用を製造することも可能である。書き換え型光記録媒体は、同じランドプリピットが繰り返し使用される可能性があるため、本発明による効果をより顕著に享受することができる。
【００８８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ランドプリピット信号の強度を高めるためにランドプリピットの平面形状を大きく設定した場合であっても、ランドプリピットとグルーブとの境界に存在するランドの壁面の高さが低くなりにくいので、ランドプリピット信号の強度とアパーチャレシオを両立させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体用原盤製造装置（カッティングマシン）１００を示す概略構成図である
【図２】対物レンズ１１０ａを通過する合成レーザビーム１０１ｃの光路をより詳細に示す図である。
【図３】（ａ）は光変調ユニット１０７に供給される制御信号１１４ｂの波形を示す波形図であり、（ｂ）は偏向ユニット１１６に供給される制御信号１１４ａの波形を示す波形図であり、（ｃ）はグルーブ形成用ビームスポット１１５ａにより露光される露光領域１３０ａとランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂにより露光される露光領域１３０ｂの形状を模式的に示す平面図である。
【図４】露光領域１３０ｂとその両側に位置する露光領域１３０ａとの位置関係を模式的に示す平面図である。
【図５】（ａ）〜（ｆ）は、光記録媒体用原盤の製造工程を示す工程図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、スタンパ１５０を用いた追記型光記録媒体の製造工程の一部を示す工程図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、スタンパ１５０を用いた追記型光記録媒体の製造工程の残りの部分を示す工程図である。
【図８】追記型光記録媒体２００の構造を示す図であり、（ａ）は外観を示す図、（ｂ）は（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
【図９】本発明の好ましい他の実施態様にかかる光記録媒体用原盤製造装置（カッティングマシン）１００’を示す概略構成図である
【図１０】（ａ）は光変調ユニット１０７に供給される制御信号１１４ｂの波形を示す波形図であり、（ｂ）はパワー調整器１０６に供給される制御信号１１４ｅの波形を示す波形図であり、（ｃ）はグルーブ形成用ビームスポット１１５ａにより露光される露光領域１３０ａとランドプリピット形成用ビームスポット１１５ｂにより露光される露光領域１３０ｂの形状を模式的に示す平面図である。
【図１１】露光領域１３０ｂとその両側に位置する露光領域１３０ａとの位置関係を模式的に示す平面図である。
【図１２】フォトディテクタの出力に基づいてプッシュプル信号を生成する方法を概念的に示す模式図である。
【図１３】グルーブに沿ってレーザビームを照射した場合に得られるプッシュプル信号の波形図である。
【図１４】ランドプリピット２３が形成された基板表面の形状を概略的に示す斜視図である。
【図１５】ランドプリピット２３の平面形状を大きくしたことによって、ランド２２の壁面２２ａの高さが低くなった状態を概略的に示す斜視図である。
【符号の説明】
１００，１０１’  光記録媒体用原盤製造装置（カッティングマシン）
１０１  レーザビーム
１０１ａ  グルーブ形成用レーザビーム
１０１ｂ  ランドプリピット形成用レーザビーム
１０１ｃ  合成レーザビーム
１０２  レーザ発生装置
１０３  ＥＯＭ
１０４，１０９  ハーフミラー
１０５，１０８  ミラー
１０６  パワー調整器
１０７光変調ユニット
１０７ａ，１０７ｃ  レンズ
１０７ｂ  光変調器
１１０  光学ヘッド
１１０ａ  対物レンズ
１１１  トラバースモータ
１１２  ターンテーブル
１１３  スピンドルモータ
１１４  コントローラ
１１４ａ〜１１４ｅ，１１４ａ’，１１４ｅ’  制御信号
１１５ａ  グルーブ形成用ビームスポット
１１５ｂ  ランドプリピット形成用ビームスポット
１１６  偏向ユニット
１１６ａ，１１６ｃ  シリンドリカルレンズ
１１６ｂ  偏向器
１２０  フォトレジスト原盤
１２０ａ  ガラス基板
１２０ｂ  感光性材料層
１３０  露光領域
１４１  凹パターン
１４２  金属薄膜
１４３  金属厚膜
１５０  光記録媒体用原盤（スタンパ）
１５１  凸パターン
１６０  射出成型器
２００  追記型光記録媒体
２０１  光透過性基板
２０１ａ  孔
２０１ｂ  グルーブ
２０１ｃ  ランド
２０１ｄ  ランドプリピット
２０１ｅ  ランドプリピット２０１ｄとグルーブ２０１ｂとの境界に存在するランド２０１ｃの壁面
２０２  記録層
２０３  反射層
２０４  保護層
２０５  接着層
２０６  ダミー基板
【図１】
2004185693.tif 000003
【図２】
2004185693.tif 000004
【図３】
2004185693.tif 000005
【図４】
2004185693.tif 000006
【図５】
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【図６】
2004185693.tif 000008
【図７】
2004185693.tif 000009
【図８】
2004185693.tif 000010
【図９】
2004185693.tif 000011
【図１０】
2004185693.tif 000012
【図１１】
2004185693.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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