(57)【要約】【課題】超臨界流体の回収率を高めた超臨界反応装置を提供すること。【解決手段】本発明に係る超臨界反応装置１００は、圧力タンク１０から供給される超臨界流体を導く管Ｌ２に接続された洗浄容器１４と、洗浄容器１４における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離部２０と、この流入物を、洗浄容器１４における反応期間のうち所定時点以後、気液分離部２０を介さず、管Ｌ４を介して圧力タンク１０に導く切替部３０とを有する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
超臨界流体を供給する流体供給手段と、
前記流体供給手段から供給される超臨界流体の反応対象物を設置する反応容器と、
前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離手段と、
前記気液分離手段により分離された気体を、前記流体供給手段に導く第１導通手段と、
前記反応容器から流入する流入物を、該反応容器における反応処理期間のうち所定時点以後、前記第１導通手段を介さずに、前記流体供給手段に導く第２導通手段と
を有することを特徴とする超臨界反応装置。
【請求項２】
超臨界流体を供給する流体供給手段と、
前記流体供給手段から供給される超臨界流体の反応対象物を設置する反応容器と、
前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離手段と、
前記気液分離手段と前記流体供給手段との間に接続され、前記気液分離手段により分離された気体を保持する保持手段と、
前記保持手段の圧力が第１所定値以上か、または前記第１所定値より小さい第２所定値以下かを判定する判定手段と、
前記判定手段により前記第１所定値以上の圧力にあると判定されたならば、前記保持手段の圧力を解放することで降圧し、また、前記第２所定値以下にあると判定されたならば、前記流体供給手段から加圧された気体を導くことで前記保持手段の圧力を昇圧する変圧手段と
を有することを特徴とする超臨界反応装置。
【請求項３】
超臨界流体を供給する流体供給手段と、
前記流体供給手段から供給される超臨界流体を反応させる反応対象物を設置する反応容器と、
前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離手段と、
前記気液分離手段と前記流体供給手段とを接続し、前記気液分離手段により分離された気体を前記流体供給手段に導く第１管と、
一端が前記第１管に接続された第２管と、
前記第２管の他端に接続され、気体を保持する保持手段と、
前記第２管を開閉する第１弁と、
前記第１管の圧力が第１所定値以上か否かを判定する第１判定手段と、
前記第１判定手段により前記第１所定値以上にあると判定されたならば、前記第１弁を開く制御手段と
を有することを特徴とする超臨界反応装置。
【請求項４】
請求項３に記載の超臨界反応装置において、
前記第１管と前記保持手段とを接続し、前記保持手段に保持された気体を前記第１管に導く第３管と、
前記第３管を開閉する第２弁とを有し、
前記制御手段は、前記保持手段に気体が保持され、かつ前記第１判定手段により前記第１所定値より小さい第２所定値以下にあると判定されたならば、前記第２弁を開くことを特徴とする超臨界反応装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の超臨界反応装置において、
前記流体供給手段から供給される超臨界流体は、超臨界二酸化炭素であり、
前記反応容器内における反応対象物は電気光学パネルであり、
前記反応容器内では前記反応対象物は前記超臨界流体により洗浄されることを特徴とする超臨界反応装置。
【請求項６】
超臨界流体を供給する流体供給手段により供給される超臨界流体の気体が、反応対象物が設置された反応容器内における反応対象物の反応処理の完了後に、前記反応容器から流入する超臨界流体を含む流入物を降圧することで気体および液体に分離する気液分離手段を介して、前記流体供給手段に回収される超臨界流体の回収方法において、
前記反応容器における反応処理の完了に伴って、該反応容器から流入する超臨界流体を含む流入物を、該反応容器における反応処理期間のうち所定時点以後、前記気液分離手段を介さずに、前記流体供給手段に導くことを特徴とする超臨界流体の回収方法。
【請求項７】
超臨界流体を供給する流体供給手段により供給される超臨界流体の気体が、反応対象物が設置された反応容器内における反応対象物の反応処理の完了後に回収される超臨界流体の回収方法において、
前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離し、
該分離した気体が前記流体供給手段に導かれる管に直結して接続され、気体を保持する保持手段における圧力が第１所定値以上か、または前記第１所定値より小さい第２所定値以下にあるかを判定し、
該判定により前記第１所定値以上の圧力にあると判定されたならば、前記保持手段の圧力を解放することで降圧し、また、前記前記第２所定値以下の圧力にあると判定されたならば、前記流体供給手段から加圧された気体を導くことで前記保持手段の圧力を昇圧することを特徴とする超臨界流体の回収方法。
【請求項８】
超臨界流体を供給する流体供給手段により供給される超臨界流体の気体が、反応対象物が設置された反応容器内における反応対象物の反応処理の完了後に回収される超臨界流体の回収方法において、
前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離しする第１ステップと、
該分離した気体が前記流体供給手段に導かれる第１管における圧力が第１所定値以上か否かを判定する第２ステップと、
該判定により前記第１所定値以上の圧力にあると判定されたならば、一端が前記第１管に他端が気体を保持する保持手段に接続された第２管に設けられた第１開閉弁を開け、前記第１管内の気体を前記保持手段に導く第３ステップとを有することを特徴とする超臨界流体の回収方法。
【請求項９】
請求項８に記載の超臨界流体の回収方法において、
前記第２ステップにより前記第１所定値より小さい第２所定値以下の圧力にあると判定されたならば、一端が前記第１管に他端が前記保持手段に接続された第３管に設けられた第２開閉弁を開け、前記保持手段に保持された気体を前記第１管に導くことを特徴とする超臨界流体の回収方法。
【請求項１０】
請求項６乃至９のいずれかに記載の超臨界流体の回収方法において、
前記反応容器内における反応対象物は電気光学パネルであり、
前記反応容器内では前記反応対象物は前記超臨界流体により洗浄されることを特徴とする超臨界流体の回収方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の超臨界流体の回収方法を用いたことを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、超臨界反応装置、超臨界流体の回収方法、およびこれを用いた電気光学パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、工業用に超臨界流体による洗浄、液体分離または液体分解などの各種反応装置（以下、超臨界反応装置と称する）が用いられている。この超臨界流体としては、二酸化炭素、水、亜酸化窒素、アンモニア、またはエタノール等が用いられる。この中で、例えば、二酸化炭素は３１℃かつ７．４ＭＰａ、また、水は３７４℃かつ２２ＭＰａにそれぞれすることで、超臨界の状態へと変化させることができる。
このような超臨界反応装置では、従来、超臨界流体を反応させる反応槽内に溜まった超臨界流体や分離された気液などの混合物を、低圧状態に保った気液分離槽で、気体および液体へと分離する。超臨界反応装置では、この分離した気体を、超臨界流体を生成する流体供給部に供給する。これにより、超臨界流体における二酸化炭素や水などを、再利用することができる（例えば、特許文献１など）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−９４７６７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来のこのような超臨界反応装置における流体回収機構においては、低圧にした気液分離槽で超臨界流体を気体へと変化させ、流体供給部でこの気体を再び超臨界流体へと変化させることで再利用していた。このような回収機構では、気液分離槽で分離された気体は、その全てを回収することは容易ではなく、気体の再利用率（回収率）はそれほど高いものではなかった。さらには、ある程度の気体の再利用は図れても、超臨界反応装置全体として超臨界流体自体の有効利用という点においては、必ずしも効率的ではなかった。
【０００５】
本発明は上述した課題に鑑みてなされ、その目的は、超臨界流体の回収率を高めた超臨界反応装置、超臨界流体の回収方法、およびこれを用いた電気光学パネルの製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
（１）上述課題を解決するため、本発明の超臨界反応装置は、超臨界流体を供給する流体供給手段と、前記流体供給手段から供給される超臨界流体の反応対象物を設置する反応容器と、前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離手段と、前記気液分離手段により分離された気体を、前記流体供給手段に導く第１導通手段と、前記反応容器から流入する流入物を、該反応容器における反応処理期間のうち所定時点以後、前記第１導通手段を介さずに、前記流体供給手段に導く第２導通手段とを有することを特徴とする。
これにより、気体を再利用する場合に比して、超臨界流体をそのまま回収し、再利用することができるようになる。
【０００７】
（２）また、別の形態にかかる本発明の超臨界反応装置は、超臨界流体を供給する流体供給手段と、前記流体供給手段から供給される超臨界流体の反応対象物を設置する反応容器と、前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離手段と、前記気液分離手段と前記流体供給手段との間に接続され、前記気液分離手段により分離された気体を保持する保持手段と、前記保持手段の圧力が第１所定値以上か、または前記第１所定値より小さい第２所定値以下かを判定する判定手段と、前記判定手段により前記第１所定値以上の圧力にあると判定されたならば、前記保持手段の圧力を解放することで降圧し、また、前記第２所定値以下にあると判定されたならば、前記流体供給手段から加圧された気体を導くことで前記保持手段の圧力を昇圧する変圧手段とを有することを特徴とする。
これにより、保持手段内の圧力を気圧分離手段に比して所定の低圧状態に保持することができ、気液分離手段で分離した気体を漏れなく回収することができりょうになる。
【０００８】
（３）また、別の形態にかかる本発明の超臨界反応装置は、超臨界流体を供給する流体供給手段と、前記流体供給手段から供給される超臨界流体を反応させる反応対象物を設置する反応容器と、前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離する気液分離手段と、前記気液分離手段と前記流体供給手段とを接続し、前記気液分離手段により分離された気体を前記流体供給手段に導く第１管と、一端が前記第１管に接続された第２管と、前記第２管の他端に接続され、気体を保持する保持手段と、前記第２管を開閉する第１弁と、前記第１管の圧力が第１所定値以上か否かを判定する第１判定手段と、前記第１判定手段により前記第１所定値以上にあると判定されたならば、前記第１弁を開く制御手段とを有することを特徴とする。
これにより、分離後の気体を流体供給手段に導くための管内の圧力を降圧し、気液分離部２０に比して所定の低圧状態に保持することができる。
【０００９】
（４）また、本発明は、上記（３）に記載の超臨界反応装置において、前記第１管と前記保持手段とを接続し、前記保持手段に保持された気体を前記第１管に導く第３管と、前記第３管を開閉する第２弁とを有し、前記制御手段は、前記保持手段に気体が保持され、かつ前記第１判定手段により前記第１所定値より小さい第２所定値以下にあると判定されたならば、前記第２弁を開くことを特徴とする。
これにより、分離後の気体を流体供給手段に導くための管内の圧力を所定の低圧状態にまで昇圧し、気液分離部２０に比して一定の圧力を保った低圧状態に保持することができる。
【００１０】
（５）また、本発明は、上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の超臨界反応装置において、前記流体供給手段から供給される超臨界流体は、超臨界二酸化炭素であり、前記反応容器内における反応対象物は電気光学パネルであり、前記反応容器内では前記反応対象物は前記超臨界流体により洗浄されることを特徴とする。
このように、本発明の超臨界反応装置は、電気光学パネルの洗浄装置として用いた場合、反応容器内で洗浄に用いられた超臨界流体の一部をそのまま回収することができる。
【００１１】
（６）また、本発明は、超臨界流体を供給する流体供給手段により供給される超臨界流体の気体が、反応対象物が設置された反応容器内における反応対象物の反応処理の完了後に、前記反応容器から流入する超臨界流体を含む流入物を降圧することで気体および液体に分離する気液分離手段を介して、前記流体供給手段に回収される超臨界流体の回収方法において、前記反応容器における反応処理の完了に伴って、該反応容器から流入する超臨界流体を含む流入物を、該反応容器における反応処理期間のうち所定時点以後、前記気液分離手段を介さずに、前記流体供給手段に導くことを特徴とする。
【００１２】
（７）また、別の形態の本発明は、超臨界流体を供給する流体供給手段により供給される超臨界流体の気体が、反応対象物が設置された反応容器内における反応対象物の反応処理の完了後に回収される超臨界流体の回収方法において、前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離し、該分離した気体が前記流体供給手段に導かれる管に直結して接続され、気体を保持する保持手段における圧力が第１所定値以上か、または前記第１所定値より小さい第２所定値以下にあるかを判定し、該判定により前記第１所定値以上の圧力にあると判定されたならば、前記保持手段の圧力を解放することで降圧し、また、前記前記第２所定値以下の圧力にあると判定されたならば、前記流体供給手段から加圧された気体を導くことで前記保持手段の圧力を昇圧することを特徴とする。
【００１３】
（８）また、別の形態の本発明は、超臨界流体を供給する流体供給手段により供給される超臨界流体の気体が、反応対象物が設置された反応容器内における反応対象物の反応処理の完了後に回収される超臨界流体の回収方法において、前記反応容器における反応処理の完了に伴って流入する超臨界流体を含む流入物を降圧し、気体および液体に分離しする第１ステップと、該分離した気体が前記流体供給手段に導かれる第１管における圧力が第１所定値以上か否かを判定する第２ステップと、該判定により前記第１所定値以上の圧力にあると判定されたならば、一端が前記第１管に他端が気体を保持する保持手段に接続された第２管に設けられた第１開閉弁を開け、前記第１管内の気体を前記保持手段に導く第３ステップとを有することを特徴とする。
【００１４】
（９）また、本発明は、上記（８）に記載の超臨界流体の回収方法において、前記第２ステップにより前記第１所定値より小さい第２所定値以下の圧力にあると判定されたならば、一端が前記第１管に他端が前記保持手段に接続された第３管に設けられた第２開閉弁を開け、前記保持手段に保持された気体を前記第１管に導くことを特徴とする。
【００１５】
（１０）また、本発明は、上記（６）乃至（９）のいずれかに記載の超臨界流体の回収方法において、前記反応容器内における反応対象物は電気光学パネルであり、前記反応容器内では前記反応対象物は前記超臨界流体により洗浄されることを特徴とする。
【００１６】
（１１）また、本発明は、上記（１０）に記載の超臨界流体の回収方法を用いて電気光学パネルを製造することを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１８】
＜第１の実施形態＞
図１を用いて、本発明にかかる超臨界反応装置１００について説明する。
超臨界反応装置１００の圧力タンク１０は、液化二酸化炭素を臨界圧力以上に昇圧し、さらに臨界温度以上に加熱することで超臨界二酸化炭素を生成する。超臨界反応装置１００は、この圧力タンク１０で生成した超臨界二酸化炭素を、管Ｌ１、および、ポンプ１２を介した管Ｌ２により、洗浄容器１４内の各洗浄槽１４−１〜１４−３に供給する。この各洗浄槽１４−１〜１４−３には、例えば、液晶装置の製造工程における洗浄工程において、液晶が封止された一対のガラス基板を有する液晶パネルが洗浄対象として設置されており、この液晶パネルに付着した液晶が、超臨界二酸化炭素により分離される。
【００１９】
超臨界反応装置１００は、この液晶パネルを洗浄槽１４−１〜１４−３で順次洗浄する。例えば、洗浄槽１４−１で洗浄処理が行われる場合、圧力タンク１０からの超臨界二酸化炭素の供給に伴い、弁Ｖ１が閉じられる。洗浄槽１４−１内での洗浄処理が完了すると、弁Ｖ１が開かれると共に、圧力タンク１０から供給されている超臨界二酸化炭素の勢いで、液晶パネルの洗浄で用いられた超臨界二酸化炭素や液晶付着物を含む混合物が、管Ｌ３に導かれる。
【００２０】
切替部３０は、この弁Ｖ１の開放により発信される開放信号を接続線Ｐを介して受信する。これにより、切替部３０は、管Ｌ３を通る混合物を、気液分離部２０に導くように管の経路を切替える。
気液分離部２０は、内部を５ＭＰａに保ち、この混合物を気体の二酸化炭素と、液晶付着物との相に分離する。この分離された二酸化炭素は、管Ｌ５を介してポンプ２２に導かれる。ポンプ２２は、この二酸化炭素を管Ｌ６を介して圧力タンク１０へと送り出す。
【００２１】
ここで、切替部３０は、先の開放信号を受信した時点から所定時間（例えば１０分間）経過した時点において、管Ｌ３を通過する超臨界二酸化炭素が導かれる先を、管Ｌ４へと切替える。これにより、超臨界二酸化炭素は、管Ｌ４および管Ｌ６を介して圧力タンク１０へと導かれる。
【００２２】
このように、本形態の超臨界反応装置１００は、洗浄容器１４における洗浄後の混合物の分離処理に伴って、洗浄容器１４を通過する超臨界二酸化炭素を圧力タンクで再利用できる。このため、従来、気体の二酸化炭素を再利用する場合に比して、超臨界反応装置１００は、汚れを流出させた後に供給される超臨界二酸化炭素をそのまま回収することができ、圧力タンクで生成した超臨界二酸化炭素をその状態を気体などに変化させることなく、再利用することができる。
【００２３】
＜第２の実施形態＞
次に、図２を用いて、本発明にかかる超臨界反応装置２００について説明する。なお、この図２およびこれ以降の図において、図１の超臨界反応装置１００で用いた符号と同符号のものについては以下説明を省略する。
【００２４】
本形態の超臨界反応装置２００は、気液分離部２０で分離した二酸化炭素をポンプ２２に導くまでの管に直結して、緩衝タンク５０が設けられている。気液分離部２０で分離された二酸化炭素は、管Ｌ５−１を介して緩衝タンク５０に保持される。
【００２５】
判定部５２は、緩衝タンク５０内の圧力を随時測定し、緩衝タンク５０内の圧力が下限所定値と上限所定値とを定めた所定範囲（例えば、１ＭＰａ〜２ＭＰａ）において、上限所定値以上か、または下限所定値以下かを判定する。
【００２６】
制御部５４は、判定部５２から、所定範囲内、上限所定値以上または下限所定値以下のいずれかの判定信号を受信する。制御部５４は、上限所定値以上を示す判定信号を受信したならば、弁Ｖ１２を開制御する。これにより、管Ｌ１２から緩衝タンク５０内部の圧力を解放させる。そして、制御部５４は、判定部５２から上記所定範囲内にあることを示す判定信号を受信したならば、この弁Ｖ１２を閉制御する。
また、制御部５４は、下限所定値以下を示す判定信号を受信したならば、弁Ｖ１１の開制御を行う。これにより、圧力タンク１０から管Ｌ１１を介して圧力を得る。なお、圧力タンク１０に代えて、ポンプ２２から管Ｌ６を介して圧力タンク１０に導かれる気体の圧力を得るようにしてもよい。そして、制御部５４は、判定部５２から上記所定範囲内にあることを示す判定信号を受信したならば、この弁Ｖ１１を閉制御する。
【００２７】
このように、本形態の超臨界反応装置２００は、洗浄容器１４における洗浄後の混合物の分離処理に伴い、気液分離部２０から分離した二酸化炭素を漏れなく得るために、緩衝タンク５０を設け、この緩衝タンク５０内の圧力を気液分離部２０に比して低圧状態に保持する。このため、本形態の超臨界反応装置２００を用いることで、従来、気液分離部２０で分離した二酸化炭素を十分に回収できずに無駄になってしまうといった問題を解決することができる。
【００２８】
＜第３の実施形態＞
次に、図３を用いて、本発明にかかる超臨界反応装置３００について説明する。
本形態の超臨界反応装置３００は、気液分離部２０とポンプ２２との間の管Ｌ５に対して接続された管Ｌ２１，Ｌ２２の各他端に緩衝タンク７０が設けられている。また、この緩衝タンク７０には、他端が外気に通じる管Ｌ２３が接続されている。管２１には弁Ｖ２１、管Ｌ２２には弁Ｖ２２、管Ｌ２３には弁Ｖ２３がそれぞれ設けられている。
【００２９】
判定部７２は、管Ｌ５内の圧力を随時測定し、管Ｌ５内の圧力が下限所定値と上限所定値とを定めた所定範囲（例えば、１ＭＰａ〜２ＭＰａ）において、上限所定値以上か、または下限所定値以下かを判定する。
【００３０】
制御部７４は、判定部７２から上限所定値以上を示す判定信号を受信したならば、弁Ｖ２３を開制御し、緩衝タンク７０内を降圧した後にこの弁Ｖ２３を閉制御し、次に弁Ｖ２１を開制御する。これにより、管Ｌ５内の二酸化炭素が、管Ｌ２１を介して降圧した緩衝タンク７０に導かれる。そして、制御部７４は、判定部７２から管Ｌ５内の圧力が上記所定範囲内にあることを示す判定信号を受信したならば、この弁Ｖ２１を閉制御する。
また、制御部７４は、判定部７２から下限所定値以下を示す判定信号を受信したならば、弁Ｖ２２を開制御する。これにより、緩衝タンク７０内に保持された二酸化炭素が、管Ｌ２２を介して管Ｌ５内に導かれる。そして、制御部７４は、判定部７２から上記所定範囲内にあることを示す判定信号を受信したならば、この弁Ｖ２２を閉制御する。
【００３１】
このように本形態の超臨界反応装置３００は、洗浄容器１４における洗浄後の混合物の分離処理に伴い、気液分離部２０から分離した二酸化炭素を漏れなく得るために、緩衝タンク７０を設け、二酸化炭素を導くための管Ｌ５内の圧力を、気液分離部２０に比して所定の低圧状態に保持する。この緩衝タンク７０を設けることで、管Ｌ５内の圧力をより早く所定範囲内へと変化させることができるようになる。本形態の超臨界反応装置３００を用いることで、従来、気液分離部２０で分離した二酸化炭素を十分に回収できずに無駄になってしまうといった問題を解決することができる。
【００３２】
＜本発明が適用される様々な形態＞
なお、上述の実施形態で説明した第１〜３の実施形態における超臨界反応装置は一例であり、本発明は、その趣旨から逸脱しない範囲で様々な形態を採ることが可能である。
上述の第２の実施形態では、弁Ｖ１１，Ｖ１２はその開閉のみが制御されるとして説明を進めたが、本発明は、制御部５４により、その開閉量が制御されるようにすればさらに細かな圧力調整ができるようになる。
これは、第３の実施形態についても同様である。
【００３３】
また、上述の第１〜３の実施形態では、超臨界流体として、超臨界二酸化炭素を用いて説明したが、本発明は、他に、水、亜酸化窒素、アンモニア、またはエタノール等の流体を用いることもできる。
【００３４】
また、上述の第１〜３の実施形態では、超臨界反応装置として、具体的に液晶が封止された一対のガラス基板を有する液晶パネルを洗浄する装置として説明を進めたが、本発明は、この他、例えばＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などの電気光学装置の製造工程においても適用することができる。さらに、本発明は、超臨界流体を用いて行われる、排水中の汚染物質の抽出や除去、汚泥の分解、石炭や石油などの分解処理、廃プラスチックの分解、動植物原料からの油脂類、香料、薬効成分の分離精製、人参などの食品エキス中の農薬除去、ポリマーからの未反応モノマーの除去などを行う反応装置にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態における超臨界反応装置のブロック図である。
【図２】第２実施形態における超臨界反応装置のブロック図である。
【図３】第３実施形態における超臨界反応装置のブロック図である。
【符号の説明】
１０…圧力タンク、１２…ポンプ、１４…洗浄容器、２０…気液分離部、３０…切替部、５０，７０…緩衝タンク、５２，７２…判定部、５４，７４…制御部、Ｌ１〜Ｌ６，Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ２１〜Ｌ２３…管、Ｖ１〜Ｖ３，Ｖ１１，Ｖ１２，Ｖ２１〜Ｖ２３…弁、１００，２００，３００…超臨界反応装置。
【図１】
2004249220.tif 000003
【図２】
2004249220.tif 000004
【図３】
2004249220.tif 000005