(57)【要約】【課題】内部が汚染されるのを防止できる二層ガラス基板の構造およびその製作方法を提供する。【解決手段】複数の液晶チップ(ｃｈｉｐ)が内部に形成された二層ガラス基板において、液晶を注入するための液晶注入口を残すように前記液晶チップの周囲に沿って第１シールパターンを塗布するステップと、前記液晶チップを保護し、汚染されるのを避けるために、前記二層ガラス基板の外周に第２シールパターンを形成させるステップとを含むことを特徴とする液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることができる方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の液晶チップ(ｃｈｉｐ)が内部に形成された二層ガラス基板において、液晶を注入するための液晶注入口を残すように前記液晶チップの周囲に沿って第１シールパターンを塗布するステップと、前記液晶チップを保護し、汚染されるのを避けるために、前記二層ガラス基板の外周に第２シールパターンを形成させるステップとを含むことを特徴とする液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることができる方法。
【請求項２】
前記第２シールパターンは、前記二層ガラス基板の外周に沿うように形成され、前記二層ガラス基板の内部と外部の空間が隔離している請求項１に記載の液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることのできる方法。
【請求項３】
前記第２シールパターンは、開口部分を残して前記二層ガラス基板に形成する請求項１または２に記載の液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることのできる方法。
【請求項４】
前記開口の方向は、前記液晶チップの液晶注入口に対して平行、或いは垂直である請求項１乃至３のいずれかに記載の液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることのできる方法。
【請求項５】
前記二層ガラス基板は、前記開口の外部からの汚染を阻止するための第３シールパターンが形成される請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることのできる方法。
【請求項６】
前記第３シールパターンはストライプ状であり、前記開口に対して平行である請求項５に記載の液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることのできる方法。
【請求項７】
複数の液晶チップ(ｃｈｉｐ)が内部に形成され、液晶注入口を残して前記液晶チップの周囲に沿って第１シールパターンが塗布された二層ガラス基板と、前記液晶チップを保護し、汚染されるのを避けるために、前記二層ガラス基板の外周に形成される第２シールパターンとを有することを特徴とする二層ガラス基板。
【請求項８】
前記第２シールパターンは、前記二層ガラス基板の外周に沿うように形成され、前記二層ガラス基板の内部と外部とを隔絶し密閉する請求項７に記載の二層ガラス基板。
【請求項９】
前記第２シールパターンは、開口部分を残して前記二層ガラス基板の外周に沿って形成する請求項７または８に記載の二層ガラス基板。
【請求項１０】
前記開口の方向は、前記液晶チップの液晶注入口に対して平行、或いは垂直である請求項９に記載の二層ガラス基板の構造。
【請求項１１】
前記二層ガラス基板は、前記開口の外部からの汚染を阻止するための第３シールパターンが形成される請求項９に記載の二層ガラス基板の構造。
【請求項１２】
前記第３シールパターンはストライプ状であり、前記開口に対して平行である請求項１１に記載の二層ガラス基板の構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、液晶パネルの構造およびその製造方法に関し、特に、二層ガラス基板の内部が汚染されるのを避けることのできる構造、およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
　液晶パネルは二枚のガラス基板を貼合せることによって形成される二層のガラス基板ユニットであり、その中間には液晶を注入する隙間を残している。一般の製造プロセスでは、まず二枚のガラス基板上にそれぞれカラーフィルタと薄膜トランジスタを製造し、その後、真空室の中で二枚のガラス基板の貼合せを行う。貼合せのプロセスでは、液晶チップにスペーサ(ｓｐａｃｅｒ)を散布することによって、二層のガラス基板の中の隙間を固定強化し、その後注入される液晶の厚さを均一に分散させることができるようにする。液晶チップの周囲には、強化後の上・下層のガラス基板を粘着させるためのシールパターンが形成され、二層ガラス基板の間の隙間を支える力が提供される。
【０００３】
　上下のガラス基板の貼合せ後、シールの硬化、粘着を経て、各液晶チップ内部を分割し、それぞれに独立した二層ガラス基板ユニットにし、液晶を流し込める注入口を二層ガラス基板の間に残す。その後、分断プロセス(ｂｒｅａｋ)を行い、貼合せた二枚のガラス基板をそれぞれ独立した二層ガラス基板ユニットにカットし、液晶を注入して封印後、液晶パネルの製造が完了したことになる。
【０００４】
　現段階の液晶パネルの製造プロセスでは、二層ガラス基板の内部が汚染され、歩留りが低下するのを避けるために、一般の貼合せから切断・分断のプロセスまで全部単一の製造所内のクリーンルームで製作が行われる。しかしながら、自動化製造の切断・分断装置の機械は占有スペースがかなり大きく、またクリーンルームの提供とそのメンテナンスに関する製造コストを考慮した場合、貼合せとカット分断プロセスを分けて行うことが製造コストの低減化を図れる方法だと考えられる。
【０００５】
　しかし、仮に上述の方法を行う場合、貼合せとカット分断のステップ間は、二層ガラス基板を貼合せするプロセスから切断・分断プロセスを行う所までの運搬プロセスを行わなければならず、運搬の途中、避けられない外部の汚染源との接触によって、汚染される機会が高まり、製造収率が低減するリスクを生じさせることになる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　これに鑑みて、上述の問題を解決するため、本発明の目的は、内部が汚染されるのを避ける二層ガラス基板の構造およびその製作方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
　上述した目的を達成するために、本発明は、その内部に複数の液晶チップ(ｃｈｉｐ)が形成され、液晶注入口を残して液晶チップの周囲に沿ってそれぞれに第１シールパターンが塗布された二層ガラス基板、および液晶チップを保護し、汚染されるのを避けるために、二層ガラス基板の外周に形成される第２シールパターンを有する液晶パネルの製造プロセスにおいて内部汚染を避けることのできる二層ガラス基板の構造によって達成される。
【０００８】
　また、本発明は、その内部に複数の液晶チップ(ｃｈｉｐ)が形成された二層ガラス基板を提供し、液晶注入口を残すように液晶チップの周囲に沿って第１シールパターンをそれぞれ塗布するステップ、および液晶チップを保護し、汚染されるのを避けるために、第２シールパターンを二層ガラス基板の外周に形成させるステップを含む液晶パネルの製造プロセスにおいて二層ガラス基板の内部汚染を避けることのできる方法によって達成される。
【０００９】
　上述の方法において、二層ガラス基板の外周の第２シールパターンは密閉した構造であるため、二層ガラス基板の内部と外部は完全に隔離されるため、二層ガラス基板の内部は密閉で独立した空間が形成され、外部の汚染源の進入を完全に防ぐことができる。
【００１０】
　更に上述の方法において、二層ガラス基板の内部に密閉した独立の空間を形成することによって、外部の汚染源の進入を顧慮する必要がなくなり、よってこの外周一回りに第２シールパターンの二層ガラス基板を形成し、更にガラス基板の薄型化製造と統合させることが可能になる。
　薄型化の製造は、例えば、研磨或いはエッチングの方法によって行い、上下層のガラス基板の厚さを薄くし、ガラス基板の厚さを低減することによって、全体的なガラス基板の厚さを減少させることができ、現在のディスプレイパネルが追求している軽量、薄型、小型の傾向に合うようになる。本発明の提供する上述の方法によって、既にガラス基板の内部と外部が隔離されているため、研磨或いはエッチングの製造中に、エッチング液などの汚染を受ける心配がない。
【００１１】
　本発明は更に液晶パネルの製造プロセスにおける二層ガラス基板の内部汚染を避ける方法を提供し、その二層ガラス基板の外側の第２シールは密閉パターンになっておらず、開口のシールパターンを有している。この開口は通気口用に作られたもので、その意図は、二層ガラス基板の外周のシールが完全に密閉された後、分断が困難になる可能性があることからそれを避けるために作られたものである。
【００１２】
　上述の開口した部分を有する第２シールパターンによって、二層ガラス基板の内部を保護する方法において、シールパターンの開口はガラス基板のどちら側でもよいが、より良い通気の効果を得るために、内部のガラス基板、つまり第１シールパターンの液晶注入口の開口と同じ方向である方が好ましい。
【００１３】
　本発明は更に、液晶パネルの製造プロセスにおける二層ガラス基板の内部汚染を避ける方法の提供で、外部からの汚染源を阻止するために、第２シールパターンの開口部分の内側に第３シールパターンを形成する。その第３シールパターンはストライプ状であり、開口部分に対して平行に形成されている。
【００１４】
　本発明の使用している上述の第１シールパターン、第２シールパターン、第３シールパターンの材質は低浸透性のシーラントで、その材質は同じでも、異なっても良い。
【発明の効果】
【００１５】
　本発明の液晶パネルの製造プロセスにおける内部汚染を避ける二層ガラス基板の構造およびその製作方法によれば、二層ガラス基板の外周にシールパターンを形成することによって、二層ガラス基板の内部と外部を隔絶させることができ、運搬の途中に外部からの汚染源が進入する可能性を低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
　図１〜図５を参考に本発明の液晶パネルの製造プロセスにおける二層ガラス基板内部の汚染を避ける方法を以下に実施例を例示し説明をする。第１シールパターン、第２シールパターン、第３シールパターンの材質は低浸透性のシーラントで、その材質は同じでも、異なっても良く、UV硬化型シーラント(ＵＶ　ｃｕｒａｂｌｅ)或いは、サーモプラスチックシーラント(ｔｈｅｒｍｏｃｕｒａｂｌｅ　ｓｅａｌａｎｔ)で、例えばエポキシ樹脂或いは、ポリアクリレート(ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ)で行うことができる。
【実施例１】
【００１７】
　図１および図２に見られるように、図１は二層ガラス基板の貼合せ後の外観を示しており、図２は本発明の実施例１のシール塗布を示す図である。まず、図１を参照に説明する。二層ガラス基板０の組み立ては真空室の中で行われ、使用されている２枚のガラス基板の上には既にカラーフィルター或いは、薄膜トランジスタ(未表示)の液晶チップ１０(図２を参照)が形成されている。その中の１枚のガラス基板に、例えばカラーフィルターのガラス基板１の上に形成し、液晶チップ１０の外周に第１シールパターン１００が形成されている。この第１シールパターン１００は、開口している部分（液晶注入口１００’）を有しており、且つ各液晶チップ１０の液晶注入口１００’の開口の方向は全て同じである。
【００１８】
　次に、ガラス基板１と２の貼合せを行う。二層ガラス基板０の外周を貼合せ後、更に、シーラントによって二層ガラス基板０の外側に沿って第２シールパターン２００の周りを塗布して密閉し、二層ガラス基板０の内部と外部の隔離することによって、内部が汚染されるのを避ける目的を達成することができる。その後更に、第１シールパターン１００と第２シールパターン２００の硬化を行い、その強度およびサポート力を増進させる。
【実施例２】
【００１９】
　図１および図３に見られるように、図１は二層ガラス基板の貼合せ後の外観を示しており、図３は本発明の実施例２のシール塗布を示す図である。まず、図１を参照に説明する。二層ガラス基板０の組み立ては真空室の中で行われ、使用されている２枚のガラス基板の上には既にカラーフィルター或いは、薄膜トランジスタ(未表示)の液晶チップ１０(図３を参照)が形成されている。その中の１枚のガラス基板は、例えばカラーフィルターのガラス基板１の上に形成し、液晶チップ１０の外周に第１シールパターン１００が形成されている。この第１シールパターン１００は、開口している部分（液晶注入口１００’）を有しており、各液晶チップ１０の液晶注入口１００’の開口の方向は全て同じである。
【００２０】
　次に、ガラス基板１と２の貼合せを行う。二層ガラス基板０の外周を貼合せ後、更に、シーラントを二層ガラス基板０の外側に沿って第２シールパターン２００に塗布する。この第２シールパターンは通気口として開口２００’を有しており、この開口の方向はどの位置にあってもよく液晶注入口１００’の開口の方向と垂直方向の場合が好ましいが、液晶注入口１００’の開口方向と平行方向の場合がより好ましい。
【００２１】
　この形式の第２シールパターン２００は、二層ガラス基板０内部の大部分の液晶チップを保護することができ、汚染源の進入を阻止することができる。且つ、通気口２００’の形成によって、二層ガラス基板０のカット分断プロセスを更にスムーズに行うことができるようになる。その後更に、第１シール１００と第２シール２００の硬化を行い、その強度およびサポート力を増進させる。
【実施例３】
【００２２】
　図１および図４に見られるように、図１は二層ガラス基板の貼合せ後の外観を示しており、図４は本発明の実施例３のシール塗布を示す図である。まず、図１を参照に説明する。二層ガラス基板０の組み立ては真空室の中で行われ、使用されている２枚のガラス基板の上には既にカラーフィルター或いは、薄膜トランジスタ(未表示)の液晶チップ１０(図４を参照)が形成されている。その中の１枚のガラス基板は、例えばカラーフィルターのガラス基板１の上に形成し、液晶チップ１０の外周に第１シールパターン１００が形成されている。この第１シールパターン１００は、開口している部分（液晶注入口１００’）を有しており、各液晶チップ１０の液晶注入口１００’の開口の方向は全て同じである。
【００２３】
　次に、液晶注入口１００’の開口方向の反対側に、ガラス基板１の側辺に平行になるように第３シールパターン３００を形成し、ガラス基板１、２の貼合せを行う。二層ガラス基板０の外周を貼合せた後、更に、シーラントで二層ガラス基板０の周囲に沿って第２シールパターン２００を塗布する。なお、第２シールパターン２００は、第３シールパターン３００が形成されている側は塗布しない。従って、第３シールパターン３００と第２シールパターン２００間に２つの開孔３０１と３０２が通気口として形成される。
【００２４】
　この第２シールパターン２００は、二層ガラス基板０内部の大部分の液晶チップを保護することができ、汚染源の進入を阻止することができる。且つ、開孔３０１、３０２の形成によって、二層ガラス基板０のカット切断プロセスを更にスムーズに行うことができるようになる。その後更に、第１シールパターン１００、第２シールパターン２００と第３シールパターン３００の硬化を行い、その強度およびサポート力を増進させる。
【実施例４】
【００２５】
　図１および図５に見られるように、図１は二層ガラス基板の貼合せ後の外観を示しており、図５は本発明の実施例４のシール塗布を示す図である。まず、図１を参照に説明すると、二層ガラス基板０の組み立ては真空室の中で行われ、使用されている２枚のガラス基板の上には既にカラーフィルター或いは、薄膜トランジスタ(未表示)の液晶チップ１０(図５を参照)が形成されている。その中の１枚のガラス基板は、例えばカラーフィルターのガラス基板１の上に形成し、液晶チップ１０の外周に第１シールパターン１００が形成されている。この第１シールパターン１００は、開口している部分（液晶注入口１００’）を有しており、各液晶チップ１０の液晶注入口１００’の開口の方向は全て同じである。
【００２６】
　次に、液晶注入口１００’の開口方向と同じ側に、ガラス基板１の側辺に平行になるように第３シールパターン３００を形成し、ガラス基板１と２の貼合せを行う。二層ガラス基板０の外周を貼合せた後、更に、シーラントで二層ガラス基板０の周囲に沿って第２シールパターン２００を塗布する。この第２シールパターン２００は、二層ガラス基板０に沿って形成し、通気のために第３シールパターン３００と同じ側は開口している。従って、第２シールパターン２００と第３シールパターン３００との間に２つの開孔３０１と３０２が通気口として形成されている。
【００２７】
　この第２シールパターン２００は、二層ガラス基板０内部の大部分の液晶チップを保護することができ、汚染源の進入を阻止することができる。且つ、開孔３０１、３０２の形成によって、二層ガラス基板０のカット切断プロセスを更にスムーズに行うことができるようになる。その後更に、第１シールパターン１００、第２シールパターン２００と第３シールパターン３００の硬化を行い、その強度およびサポート力を増進させる。
【００２８】
　以上、本発明の好適な実施例を例示したが、これは本発明を限定するものではなく、本発明の精神及び範囲を逸脱しない限りにおいては、当業者であれば行い得る少々の変更や修飾を付加することは可能である。従って、本発明が保護を請求する範囲は、特許請求の範囲を基準とする。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】二層ガラス基板の貼合せ後を示す図である。
【図２】本発明の実施例１のシール塗布を示す図である。
【図３】本発明の実施例２のシール塗布を示す図である。
【図４】本発明の実施例３のシール塗布を示す図である。
【図５】本発明の実施例４のシール塗布を示す図である。
【符号の説明】
【００３０】
０　　　　二層ガラス基板
１、２　　ガラス基板
１０　　　液晶チップ
１００　　第１シールパターン
１００’　液晶注入口
２００　　第２シールパターン
２００’　開口 
３００　　第３シールパターン
３０１、３０２　開孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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