(57)【要約】【課題】液滴が広がってしまい細幅パターンの描画ができないという問題を撥液処理を行う工程を追加することなく解決する。【解決手段】基板１上に形成した透明電極２ａ上に、黒色層１２及び主電極層１３からなる２層構造のバス電極２ｂを形成したディスプレイパネルを製造するにあたり、バス電極形成工程の第１工程で、透明電極２ａ上に撥水作用を有する黒色材料層（黒色層１２）をパターン形成して乾燥させ、第２工程で、乾燥した黒色材料層上に主電極材料層（主電極層１３）をインクジェット法によりパターン形成し、第３工程で、黒色材料層及び主電極材料層を同時焼成する。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成した透明電極上に、黒色層及び主電極層からなる２層構造のバス電極を形成するバス電極形成工程を含むディスプレイパネルの製造方法において、
前記バス電極形成工程は、前記透明電極上に撥水作用を有する黒色材料層をパターン形成して乾燥する第１工程と、
当該第１工程にて乾燥した前記黒色材料層上に主電極材料層をインクジェット法によりパターン形成する第２工程と、を含むことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記バス電極形成工程は、さらに、前記黒色材料層及び主電極材料層を同時焼成する第３工程を含むことを特徴とする請求項１記載のディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記黒色材料層が、黒色顔料と焼成除去可能な樹脂成分とを少なくとも含むことを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記主電極材料層が、平均粒径が５０ｎｍ以下の導電微粒子と水系の溶剤とを少なくとも含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル等のディスプレイパネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
まず、ディスプレイパネルの一例として、一般的なプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の構造（例えば、特許文献１参照）について以下説明する。図１はＰＤＰの内部構造を示す分解斜視図であり、図２は、ＰＤＰの行電極対２（Ｘ，Ｙ）の構造を模式的に示す平面図である。
【０００３】
図１において、表示面側となる前面基板１の内面側には、複数の行電極対２（Ｘ，Ｙ）、行電極対２（Ｘ，Ｙ）を被覆する誘電体層３、誘電体層３を被覆するＭｇＯからなる保護層４が順に形成されている。行電極対２は、幅の広いＩＴＯ等の透明導電膜からなる透明電極２ａと、透明電極２ａの導電性を補う幅の狭い金属膜からなる金属電極（バス電極）２ｂとから構成されている。
【０００４】
一方、放電空間８を介して対向配置される背面側の背面ガラス基板５には、行電極対２（Ｘ，Ｙ）と直交する方向に配列され、各交差部にて表示セルを形成する列電極６、６間に、帯状に設けられると共に放電空間８を区画する隔壁９、列電極６及び隔壁９の側面を放電空間８に対して被覆するように設けられた３原色の蛍光体層７Ｒ，７Ｇ，７Ｂが形成されている。放電空間８内には、希ガスが注入封入されている。
【０００５】
各行電極対２（Ｘ，Ｙ）は、図２に示されるように、マトリクス表示の１ライン（行）Ｌに対応し、各ラインＬにおいて放電ギャップＧを挟んで隣接するように列方向に交互に配列されている。各ラインＬでは、各行電極対２（Ｘ，Ｙ）によって単位発光領域Ｅに表示セル（放電セル）が画定される。
【０００６】
次に、上記のＰＤＰにおけるディスプレイの表示動作を説明する。
まず、図２に示す列電極６と行電極対２（Ｘ，Ｙ）との間の選択的放電によるアドレス操作によって、点灯セル（壁電荷が形成されたセル）及び消灯セル（壁電荷が形成されなかったセル）が選択される。アドレス操作の後、全ラインＬに一斉に、行電極対Ｘ，Ｙに対して交互に放電維持パルスを印加することにより、点灯セルにおいて放電維持パルスが印加される毎に面放電が生じる。この面放電で生じた紫外線によって蛍光体層７Ｒ，７Ｇ，７Ｂを励起し、可視光を発光させている。
【０００７】
【特許文献１】
特開平１１−１４９８３７号公報（第２頁、第７、８図）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のＰＤＰなどのディスプレイパネルを製造する場合、バス電極２ｂや列電極６の形成については、フォトリソグラフィ法を用いて一括形成するのが一般的である。
【０００９】
しかし、フォトリソグラフィによる電極形成は、材料利用効率の悪さや多量の水を使うなどの問題があるため、最近ではそれを解決する別の手法として、微粒化金属粉を分散したペーストをインクジェット法により、基板上に直接パターン形成する射出塗布方法が提案されている。
【００１０】
しかしながら、インクジェット法により、例えばバス電極を基板に直接形成する場合には、インクジェット法に適する微細金属粒（５０ｎｍ程度のサイズ）を含有するペーストは数ｃＰ程度の極めて低粘度のペーストになる。
このような低粘度のペーストをガラス基板の表面に塗布した場合、基板に何らかの撥液処理を施さないと液滴が広がってしまい、細幅パターンの描画ができないという問題が生じる。
【００１１】
このため、従来のインクジェット法を用いた基板上に直接パターン形成する射出塗布方法は、撥液処理を行う工程が必要なため、工程が煩雑化する問題があった。
【００１２】
本発明が解決しようとする課題としては、上述した従来技術において生じている液滴が広がってしまい細幅パターンの描画ができないという問題を撥液処理を行う工程を追加することなく解決することが一例として挙げられる。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板上に形成した透明電極上に、黒色層及び主電極層からなる２層構造のバス電極を形成するバス電極形成工程を含むディスプレイパネルの製造方法において、前記バス電極形成工程は、前記透明電極上に撥水作用を有する黒色材料層をパターン形成して乾燥する第１工程と、当該第１工程にて乾燥した前記黒色材料層上に主電極材料層をインクジェット法によりパターン形成する第２工程と、を含むことを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
最初に、以下に述べる各実施の形態の製造方法において製造されるディスプレイパネルの要部の断面構造について図３のパネルの表示面側の要部断面図を用いて説明する。
【００１５】
図３において、基板１は表示面側となる前面基板であり、複数の行電極対２（Ｘ，Ｙ）、行電極対２を被覆する誘電体層３が形成されている。
行電極対２は、幅の広いＩＴＯ等の透明導電膜からなる透明電極２ａと、その導電性を補う幅の狭い金属膜からなる２層構造のバス電極２ｂとから構成されている。２層構造のバス電極２ｂは、透明電極２ａ上に順に積層された黒色層（外光反射防止層）１２及び主電極層１３からなる。
【００１６】
次に、本発明に係る実施の形態のディスプレイパネルの製造方法について説明する。透明電極２ａの形成から誘電体層３の形成までの製造工程を図３及び図４を用いて説明する。図４は、第１の実施の形態における製造工程のフローを示す図である。
【００１７】
図４に工程順を示すように、まず第１のステップＳ１で、基板１上に透明電極２ａを形成する。
次に、第２のステップＳ２で、黒色層（外光反射防止層）１２及び主電極層１３よりなる２層構造のバス電極２ｂを形成する（バス電極形成工程）。
そして、第３のステップＳ３で誘電体層３を形成し、これにより、図３の断面構造を持つパネルを完成させる。
【００１８】
さらに詳細に説明すると、上記第２のステップＳ２のバス電極形成工程では、以下の第１工程〜第３工程を経てバス電極２ａが形成される。
第１工程Ｓ２−１では、透明電極２ａ上に撥水作用を有する黒色材料層をパターン形成して乾燥する。
次に、第２工程Ｓ２−２では、乾燥した黒色材料層上に主電極材料層をインクジェット法によりパターン形成する。
次に、第３工程Ｓ２−３では、黒色材料層及び主電極材料層を同時焼成する。
【００１９】
上記の黒色材料層は、その形成材料として、例えば無機黒色顔料、銀粉末、ガラス粉末、焼成除去可能な樹脂、溶剤を混合した黒色ペーストを用い、これをスクリーン印刷またはオフセット印刷することでパターン形成する。
【００２０】
また、主電極材料層は、その形成材料として、例えば平均粒径５０ｎｍ以下の銀粉末、ガラス粉末、焼成除去可能な樹脂、水系の溶剤を混合した導体ペースト（１０ｃＰ以下の粘度を有する導体インク）を用い、これをインクジェット法によりパターン形成する。
【００２１】
ここで、低粘度の導体インクを用いてインクジェット法により主電極材料層をパターン形成する際に、先に印刷してある未焼成の黒色材料層が樹脂成分を含むことにより撥水作用を有するため、導体インクの拡がりを防止することができ、滲みのない細幅の主電極材料層パターンの形成が可能となる。
すなわち、インクジェット法による滲み防止のための撥液効果を、バス電極２ｂの下層の黒色層（外光反射防止層）１２に持たせている。
【００２２】
（実施例）
以下に、外光反射防止層として利用する黒色材料層が十分な撥水作用を有していることを確認した実施例について簡単に述べる。
【００２３】
実施例Ａ：
シリコン系撥水処理済みの基板に、平均粒径５０ｎｍ以下の銀粉末、ガラス粉末、焼成除去可能な樹脂、水系の溶剤を混合した導体ペーストを塗布した。
この基板に対して水の接触角θを測定した。接触角θとは、図５に示すように、基板の平面に対して水滴の表面のなす角度であり、ＣＣＤカメラなどで撮像した画像から測定される。
【００２４】
実施例Ｂ：
黒色顔料を含有したガラスペーストを印刷・乾燥させた基板（未焼成）に、平均粒径５０ｎｍ以下の銀粉末、ガラス粉末、焼成除去可能な樹脂、水系の溶剤を混合した導体ペーストを塗布した。
この基板に対して水の接触角θを測定した。接触角θとは、図５に示すように、基板の平面に対して水滴の表面のなす角度であり、ＣＣＤカメラなどで撮像した画像から測定される。
【００２５】
上記実施例Ａ、Ｂの測定結果は、両者とも水の接触角θが１００度前後であり、十分な撥水レベルを示すことが確認された。
【００２６】
ところで、印刷・乾燥した黒色顔料を含有したガラスペーストが撥水作用を持っているのは、樹脂成分を含有していること、シリコンを含有していること（ペーストの種類によるが、ペースト改質材として添加される場合がある）、ペースト乾燥膜が適度な表面粗度を有していること等が考えられる。
上記実施例Ａ、Ｂの撥水効果は、他のＰＤＰ材料、例えばＡｇフィルム、誘電体フィルムにおいても確認できるものであることから考察するに、樹脂成分を含有していることが一番の理由であると考えられる。
【００２７】
以上のように、本実施の形態に係るディスプレイパネルの製造方法は、基板１上に形成した透明電極２ａ上に、黒色層１２及び主電極層１３からなる２層構造のバス電極２ｂを形成するバス電極形成工程Ｓ２を含むディスプレイパネルの製造方法において、バス電極形成工程Ｓ２は、透明電極２ａ上に撥水作用を有する黒色材料層をパターン形成して乾燥する第１工程Ｓ２−１と、第１工程Ｓ２−１にて乾燥した黒色材料層上に主電極材料層をインクジェット法によりパターン形成する第２工程Ｓ２−２と、を含むものである。
これにより、元々パネルに必須となる外光反射防止層（黒色層）の撥水作用を利用するため、新たに撥液処理工程を追加する必要がない。
【００２８】
さらに、本実施の形態のディスプレイパネルの製造方法は、黒色材料層及び主電極材料層を同時焼成する第３工程を含むことにより、撥水作用を発揮する樹脂成分は、焼成により取り除かれるので、特別な除去工程は必要ない。
よって、液滴が広がってしまい細幅パターンの描画ができないという問題を撥液処理を行う工程を追加することなく解決することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一般的なＰＤＰの内部構造を示す分解斜視図である。
【図２】図１のＰＤＰにおける行電極対の構造を模式的に示す平面図である。
【図３】本発明に係る実施の形態の製造方法において製造されるディスプレイパネルの表示面側の要素の部分断面図である。
【図４】本発明に係る実施の形態の製造方法におけるパネル形成工程の説明図である。
【図５】実施例Ａ、Ｂにおける水の接触角θの説明図である。
【符号の説明】
１    基板（前面基板）
２ａ  透明電極
２ｂ  バス電極
１２  黒色層
１３  主電極層
【図１】
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【図２】
2004186115.tif 000004
【図３】
2004186115.tif 000005
【図４】
2004186115.tif 000006
【図５】
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