(57)【要約】【課題】電子光学パネルの基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置すること。【解決手段】まず、電子光学パネルの基板に形成されたブラックマトリックス（画素の間）上に、液滴吐出装置を用いて表面改質剤を付着させる（ステップＳ１０１）。表面改質剤はフッ素を含むシランカップリング剤を使用する。ブラックマトリックス上に表面改質剤を付着させたら基板を所定温度で加熱して、表面改質剤の溶剤であるアルコールを蒸発させる（ステップＳ１０２）。次に、スペーサー分散用溶剤にスペーサーを分散させたスペーサー分散液を液滴吐出装置で吐出することにより、基板のブラックマトリックス上へスペーサー分散液を付着させる（ステップＳ１０３）。そして、スペーサー分散用溶剤を蒸発させて（ステップＳ１０４）、スペーサー２０の配置が完了する。【選択図】　　　図３
2004145093.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペーサー分散用溶剤にスペーサーを分散させたスペーサー分散液を液滴吐出法により電子光学パネルの基板上へ付着させて、この基板上の所定位置に前記スペーサーを配置するにあたり、
前記基板上の所定位置に表面改質剤を付着させ、前記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、前記所定位置の周辺部よりも高くする工程と、
表面改質剤を付着させた前記所定位置へ前記スペーサー分散液を付着させる工程と、
を含むことを特徴とする電子光学パネルの製造方法。
【請求項２】
上記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角は７０度以上であることを特徴とする請求項１に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項３】
上記スペーサー分散液の液適量は４ｐｌ以上３０ｐｌ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項４】
上記表面改質剤は上記所定位置へ点状に付着されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項５】
上記表面改質剤はフッ素を含むシランカップリング剤であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項６】
上記表面改質剤は液滴吐出法を用いて上記基板上に付着されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項７】
上記所定位置は画素間であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項８】
対向配置される配向処理された一対の基板と、
スペーサー分散用溶剤に分散されて液滴吐出法によって前記基板上の所定位置に配置されるスペーサーと、
対向配置される前記基板の間に保持される液晶と、を有し、
前記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角は、前記所定位置の周辺部よりも高いことを特徴とする電子光学パネル。
【請求項９】
対向配置される配向処理された一対の基板と、
スペーサー分散用溶剤に分散されて液滴吐出法によって前記基板上の所定位置に配置されるスペーサーと、
対向配置される前記基板の間に保持される液晶と、を有し、
前記所定位置にはフッ素を含むシランカップリング剤を付着させ、前記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角はスペーサーを配置部の周辺部よりも高くすることを特徴とする電子光学パネル。
【請求項１０】
さらに、上記所定位置は、周辺部よりも高く形成されることを特徴とする請求項８又は９に記載の電子光学パネル。
【請求項１１】
さらに、上記所定位置は、周辺部よりも５００Å以上高く形成されることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の電子光学パネル。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか１項に記載の電子光学パネルを備えた電子光学装置。
【請求項１３】
請求項８〜１１のいずれか１項に記載の電子光学パネルを備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板上の所定位置にスペーサーを配置する電子光学パネルに関し、さらに詳しくは、基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置できる電子光学パネルの製造方法及び電子光学パネル、並びにこの電子光学パネルを備えた電子光学装置及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置を構成する液晶表示パネルのような電子光学パネルは、基板同士の間隔を一定に保つため、基板間に球状や繊維状のスペーサーを配置している。そして、電子光学パネルの表示品質を向上させるためには、セルギャップを精度よく制御することが必要であり、このためにはスペーサーを基板上の所定位置に精度よく配置することが必要である。この目的のために、特許文献１には、基板表面のスペーサーを配置する部分にスペーサーを収容する凹部を設ける構造が開示されている。この構造によれば、凹部にスペーサーが収容されるので、基板上の所定位置にスペーサーを配置することができる。
【０００３】
また、従来はスペーサーを溶媒に分散させて霧吹きのようなスペーサー散布装置によって基板上に散布する方法や、スペーサーに静電気を帯びさせてスペーサーの凝集を防止しながら基板上に散布する方法によってスペーサーを基板上に配置していた。これらの方法では、スペーサーの凝集や散布ムラを生じやすく、表示ムラを招きやすいという問題があった。また、基板上の所定位置にスペーサーを配置することは困難であった。これらの問題を解決するために、スクリーン印刷やフレキソ印刷のような印刷手段によって、スペーサーを基板上に配置する方法も提案されている。
【０００４】
しかし、このような印刷手段では、配向処理をした基板に直接スクリーン等が触れるため、配向不良を生じやすいという問題があった。そこで、近年はこれらの方法に代えて、インクジェット（液滴吐出）法によって、スペーサーを分散させた溶剤を非接触で基板上にスペーサーを配置する方法が提案されている。この方法によれば、非接触で基板上にスペーサーを配置でき、また、基板上の所定の位置にスペーサーを配置することも容易である。
【０００５】
このようなインクジェット（液滴吐出）法を用いたスペーサー配置方法は、例えば特許文献２には、常温における表面張力が３５〜５０ｄｙｎ／ｃｍのインクを使用するインクジェット法を用いたスペーサー配置方向が開示されている。これは、インクジェットノズル周辺での乾燥を少なくし、また、ノズル周辺にスペーサーが付着することを防止し、さらには吐出方向のズレを低減させるためである。
【０００６】
【特許文献１】
特開平７−１９１３３２号公報
【特許文献２】
特開平１１−２８１９８５号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記インクジェット（液滴吐出）法を用いるスペーサー配置方法では、ノズルの乾燥を抑制し、吐出精度を向上させるためにインクの表面張力を規定しても、基板に接した後の液滴を安定して配置させなければ、スペーサーを所定の位置に配置させることはできない。また、基板にスペーサーを収容する凹部を設ける構造では、凹部に収容されたスペーサーはその部分で固定され、その場所から出ることはない。しかし、凹部に収納されないスペーサーがあると、このスペーサーによってセルギャップが大きくなり、電子光学パネルの不良を引き起こしてしまう。
【０００８】
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、インクジェットのノズルから吐出されたスペーサーを含む溶剤が基板に接した後、精度よく基板上の所定位置にスペーサーを配置することのできる電子光学パネルの製造方法及び電子光学パネル、並びにこの電子光学パネルを備えた電子光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、この発明に係る電子光学パネルの製造方法は、スペーサー分散用溶剤にスペーサーを分散させたスペーサー分散液を液滴吐出法により電子光学パネルの基板上へ付着させて、この基板上の所定位置に前記スペーサーを配置するにあたり、前記基板上の所定位置に表面改質剤を付着させ、前記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、前記所定位置の周辺部よりも高くする工程と、表面改質剤を付着させた前記所定位置へ前記スペーサー分散液を付着させる工程とを含むことを特徴とする。
【００１０】
この電子光学パネルの製造方法においては、表面改質剤が付着した部分のスペーサー分散用溶剤に対する接触角は、表面改質剤が付着していない部分のスペーサー分散用溶剤に対する接触角よりも大きくなっている。したがって、表面改質剤が付着した部分に吐出されたスペーサー分散液の広がりが抑制されるので、スペーサー分散液は表面改質剤が付着した部分から周辺部へはみ出すことはない。その結果、電子光学パネル基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置できるので、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。
【００１１】
なお、スペーサー分散用溶剤としては、２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテルの他、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ドデカノール、１，２−エタンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２−メチル−２，４−ペンタジオール、フェノール、２−ピロリドン、２−フェノキシエタノール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール等を使用することができる。スペーサー分散用溶剤としてこれらの溶剤を使用すれば、インクジェット法を用いた場合にスペーサー分散液の吐出性が安定するので好ましい。
【００１２】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角は７０度以上であることを特徴とする。このようにすれば、スペーサー分散用溶剤の蒸発過程において、スペーサー配置部の周辺部にスペーサー分散液が広がることなく、安定して基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置できる。
【００１３】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記スペーサー分散液の液適量は４ｐｌ以上３０ｐｌ以下であることを特徴とする。液滴吐出法を用いた場合、液滴の吐出量が１ｐｌのときにはスペーサー分散液の吐出が不安定となり、場合によってはノズルの詰まりが発生してしまう。一方、スペーサー分散液の吐出量が４０ｐｌとなると、スペーサー分散液の液滴が大きくなりすぎて当該液滴が広がりやすくなり、スペーサーの配置不良を招いてしまう。この発明においては、スペーサー分散液の液適量は４ｐｌ以上３０ｐｌ以下としているので、安定してスペーサー分散液を吐出でき、かつ、安定して基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置できる。
【００１４】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記表面改質剤は上記所定位置へ点状に付着されることを特徴とする。このため、スペーサー分散用溶剤の蒸発過程において、スペーサー配置部の周辺部にスペーサー分散液が広がることなく、安定して基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置できる。また、表面改質剤を点状に付着するため、画素間の交点にも表面改質剤を付着することができる。この場合に円形で表面改質剤を付着すれば、画素の間にスペーサーを配置する場合よりも表面改質剤の面積を大きくすることができるので、より安定してスペーサーを配置することができる。さらに、スペーサーを配置する部分だけに表面改質剤を付着させるので、表面改質剤の使用量を少なくできる。なお、表面改質剤の形状はスペーサー分散液がスペーサー配置部に接触する部分を含んでいればよく、この条件を満たせば、円形、四角形や楕円形でもよい。
【００１５】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記表面改質剤はフッ素を含むシランカップリング剤であることを特徴とする。このように、フッ素を含むシランカップリング剤を基板上のスペーサー配置部に付着させるので、スペーサー配置部とスペーサー分散用溶剤との接触角をスペーサー配置部の周辺部よりも高くできる。その結果、基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置して、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。また、フッ素を含むシランカップリング剤を付着させるだけなので、容易にスペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角をスペーサー配置部の周辺部よりも高くできる。フッ素を含むシランカップリング剤は液滴吐出法やフレキソ印刷等によって基板上の所定位置に付着できる。
【００１６】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記表面改質剤は液滴吐出法を用いて上記基板上に付着させることを特徴とする。このように、表面改質剤の付着に液滴吐出法を使用すれば、スペーサー配置部が細かくなっても精度よく容易に表面改質剤を基板表面上の所定位置に付着できる。これによって、電子光学パネルが高密度化しても、基板上の所定位置にスペーサーを配置することができる。
【００１７】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記所定位置は画素間であることを特徴とする。このように、画素間にスペーサーを配置するので、スペーサーが画素上に位置して表示不良を起こすことはない。また、本発明によれば画素間にスペーサーを精度よく配置できるので、スペーサーが画素上に位置することもない。
【００１８】
また、次の発明に係る電子光学パネルは、対向配置される配向処理された一対の基板と、スペーサー分散用溶剤に分散されて液滴吐出法によって前記基板上の所定位置に配置されるスペーサーと、対向配置される前記基板の間に保持される液晶とを有し、前記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角は、前記所定位置の周辺部よりも高いことを特徴とする。
【００１９】
この電子光学パネルにおいては、スペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角は、スペーサー配置部周辺よりも大きくした基板を備える。したがって、スペーサー配置部に付着したスペーサー分散液の広がりが抑制されるので、スペーサー分散液はスペーサー配置部から周辺部へはみ出すことはない。その結果、電子光学パネル基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置できるので、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。
【００２０】
また、次の発明に係る電子光学パネルは、対向配置される配向処理された一対の基板と、スペーサー分散用溶剤に分散されて液滴吐出法によって前記基板上の所定位置に配置されるスペーサーと、対向配置される前記基板の間に保持される液晶とを有し、前記所定位置にはフッ素を含むシランカップリング剤を付着させ、前記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角はスペーサーを配置部の周辺部よりも高くすることを特徴とする。
【００２１】
この電子光学パネルは、フッ素を含むシランカップリング剤をスペーサー配置部に付着させることによって、スペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、スペーサー配置部の周辺部よりも高くする。したがって、フッ素を含むシランカップリング剤が付着した部分に吐出させるスペーサー分散液の広がりが抑制される。これによって、スペーサー分散液は表面改質剤が付着した部分から周辺部へはみ出すことはないので、電子光学パネル基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置できる。また、フッ素を含むシランカップリング剤を付着させるだけなので、容易にスペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、スペーサー配置部の周辺部よりも高くできる。フッ素を含むシランカップリング剤は液滴吐出法やフレキソ印刷等によって基板上の所定位置に付着させることができる。
【００２２】
また、次の発明に係る電子光学パネルは、上記電子光学パネルにおいて、さらに、上記所定位置は、周辺部よりも高く形成されることを特徴とする。このように、スペーサー配置部を周辺部よりも高くすると、安定してスペーサー配置部に精度よくスペーサーを配置できる。また、スペーサー配置部を周辺部よりも高くすると、画素部における基板間隔はセルギャップよりも大きくなる。したがって、スペーサーを配置する工程中に万一スペーサーが画素部に流れ出しても、セルギャップ不良は発生しない。基板上の上記所定位置の高さは、次の発明に係る電子光学パネルのように、周辺部よりも５００Å以上高く形成されるようにすることが好ましい。このようにすれば、スペーサー配置部の周囲にスペーサーが配置されることなく、基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置できる。
【００２３】
また、次の発明に係る電子光学装置は、上記電子光学パネルを備えたことを特徴とする。このため、電子光学パネル基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置してセルギャップ不良を低減した電子光学パネルを備えるので、表示不良を低減した高品質な電子光学装置を得ることができる。また、次の発明に係る電子機器は、上記電子光学パネルを備えたことを特徴とする。このため、電子光学パネル基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置してセルギャップ不良を低減した電子光学パネルを備えるので、表示不良を低減した高品質な電子機器を得ることができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの或いは実質的に同一のものが含まれる。なお、本発明に係る電子光学パネルとしては、例えば液晶表示パネルが挙げられる。
【００２５】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る電子光学パネルの構造を示す一部断面図である。この電子光学パネル１００は、インクジェット（液滴吐出）法によって基板１０ａ上にスペーサーを配置するにあたり、スペーサーを配置する部分における基板１０ａの表面とスペーサーを分散させるスペーサー分散用溶剤との接触角を、スペーサーを配置しない部分における基板１０ａの表面とスペーサー分散用溶剤との接触角よりも大きくした点に特徴がある。
【００２６】
図１に示すように、この電子光学パネル１００は、配向膜１２ａを表面に形成した基板１０ａと、配向膜１２ｂを表面に形成した基板１０ｂとの間にスペーサー２０を配置して構成してある。また、この電子光学パネル１００のスペーサー配置部は画素３０の間であり、この実施の形態においてはブラックマトリックス１４上である。なお、実施の形態１においてブラックマトリックス１４の高さｈは、周辺部よりも２０００Å大きく形成されている。
【００２７】
ブラックマトリックス１４上には、スペーサー分散用溶剤とブラックマトリックス１４との接触角を、スペーサー２０を配置しないブラックマトリックス１４の周辺部よりも大きくするために、表面改質剤をブラックマトリックス１４上に付着させてある。本発明においては表面改質剤としてフッ素を含むシランカップリング剤を使用する。本実施の形態では、表面改質剤としてトリフロロプロピルトリクロロシランを用い、エタノールを溶剤としてこれを濃度０．１％に希釈したものをブラックマトリックス１４上に付着する。なお、トリフロロプロピルトリクロロシランの他にも、ヘプタデカフロロデシルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシラン等のフッ素を含むシランカップリング剤を表面改質剤として使用することができる。
【００２８】
図２は、実施の形態１に係る液滴吐出装置を示す説明図である。また、図３は、実施の形態１に係る製造方法を示すフローチャートである。図２、３を用いて、この発明の実施の形態１に係る電子光学パネルの製造方法について説明する。なお、ここでは、カラーフィルタがある電子光学パネル１００を製造する場合を説明するが、本発明の適用対象はこれに限られるものではない。
【００２９】
この電子光学パネル１００は、電極ピッチＰ１は２００μｍで、画素間ピッチＰ２は１５μｍである（電極ピッチＰ１及び画素間ピッチＰ２については図１参照）。配向膜は日産化学製のＳＥ３１４０を使用し、配向膜の厚さは５００Åとする。まず、配向膜を基板１０ａ上に形成して配向膜１２ａをラビング処理した後、基板１０ａのブラックマトリックス１４上（画素３０の間）に液滴吐出装置５０を用いて上記表面改質剤を付着させる（ステップＳ１０１）。
【００３０】
表面改質剤の付着対象である基板１０ａは、ベッド５３に固定されている。液滴吐出装置５０は、ピエゾ素子を利用した表面改質剤付着用の第一液滴吐出ヘッド５１を備えている。図２（ｂ）に示すように、第一液滴吐出ヘッド５１はブラックマトリックス１４の間隔でノズル５１ｎが直線状に並んでいる。第一液滴吐出ヘッド５１は、ノズル５１ｎの配列方向に対して垂直な方向に移動できるようになっている。そして、ノズル５１ｎから表面改質剤を吐出させながら第一液滴吐出ヘッド５１を移動させることにより、基板１０ａ上のブラックマトリックス１４上に表面改質剤を付着させることができる。なお、インクジェット（液滴吐出）法の他にも、フレキソ印刷法等の印刷手段によって、上記表面改質剤をブラックマトリックス１４上に付着させることができる。
【００３１】
図４は、基板上に表面改質剤を付着させた状態を示す説明図である。図４に示すように、表面改質剤（図４中斜線で示す部分）は基板１０ａのブラックマトリックス１４上、すなわち画素３０間へ線状に付着する。ブラックマトリックス１４上に表面改質剤を付着させたら、基板１０ａを６０℃で３分間加熱して、表面改質剤の溶剤であるアルコールを蒸発させる（ステップＳ１０２）。基板１０ａの加熱には、ベッド５３上に取り付けられたヒータ５３ｈにより、直接基板１０ａを加熱する。基板１０ａの温度は赤外線温度センサ５４によって測定される。なお、ヒータ５３ｈを使用しない場合には、表面改質剤を付着させた基板１０ａをオーブン（図示せず）等によって加熱してもよい。
【００３２】
次に、基板１０ａのブラックマトリックス１４上に、第二液滴吐出ヘッド５２を用いてスペーサーを配置する（ステップＳ１０３）。第二液滴吐出ヘッド５２のノズル５２ｎ径は２５μｍであり、また吐出量は２０ｐｌである。ノズル５２ｎの配列は、第一液滴吐出ヘッド５１と同様である（図２（ｂ）参照）。スペーサー２０には直径３．７５ミクロンの積水化学製ＳＰ−２０３７５を使用する。スペーサー分散用溶剤としては２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテル溶液を用い、これに上記スペーサー２０を分散させて、スペーサー分散液を作製する。
【００３３】
このスペーサー分散液は、上記液滴吐出装置５０に備えられたスペーサー分散液付着用の第二液滴吐出ヘッド５２に供給されて、ノズル５２ｎから吐出される。ブラックマトリックス１４上にスペーサー分散液を付着させたら、ベッド５３上に取り付けられたヒータ５３ｈにより基板１０ａを１３０℃で５分間加熱する。そして、スペーサー分散用溶剤を蒸発させて（ステップＳ１０４）、スペーサー２０の配置が完了する。なお、基板１０ａは、基板１０ａの裏面に配置したヒータ５３ｈによって加熱されるが、基板１０ａをオーブン（図示せず）に入れて加熱してもよい。
【００３４】
スペーサー分散用溶剤としては、２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテルの他、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ドデカノール、１，２−エタンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２−メチル−２，４−ペンタジオール、フェノール、２−ピロリドン、２−フェノキシエタノール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール等を使用することができる。スペーサー分散用溶剤としてこれらの溶剤を使用すれば、インクジェット（液滴吐出）法を用いた場合にスペーサー分散液の吐出性が安定するので好ましい。
【００３５】
図５は、スペーサー分散液を所定位置に吐出した状態を示す説明図である。図５を用いて、スペーサー分散液をブラックマトリックス上に吐出した状態を説明する。図５（ｂ）、（ｃ）は、ブラックマトリックス１４上に吐出されたスペーサー分散液の液滴を上から見た状態を示している。また、図５（ｃ）は、スペーサー分散用溶剤とブラックマトリックス１４との接触角が小さい場合を示している。この場合には、スペーサー分散液は次第に広がってブラックマトリックス１４上からはみ出してしまうので、ブラックマトリックス１４上へ安定してスペーサー２０を配置できない（図５（ｃ））。
【００３６】
一方、本発明においては、スペーサー配置部であるブラックマトリックス上のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、その周辺部のスペーサー分散液に対する接触角よりも大きくしてある。したがって、スペーサー分散液がブラックマトリックス１４と接している部分（図５（ｂ）の点線Ａで示す部分）の広がりが抑制される。これによって、スペーサー分散用溶剤の蒸発工程においては、蒸発が完了するまでスペーサー分散液はブラックマトリックス１４上から周辺部へはみ出すことはない。その結果、ブラックマトリックス１４上へ安定してスペーサー２０を配置でき、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。
【００３７】
表１には、ブラックマトリックスとスペーサー分散用溶剤との接触角の大きさを変化させた場合におけるスペーサーの配置状態を評価した結果を示してある。表１を用いて、ブラックマトリックス１４とスペーサー分散用溶剤との接触角の大きさについて説明する。スペーサー２０の配置状態は、ブラックマトリックス１４外に配置されたスペーサー２０が存在する場合には×とした。この表からわかるように、ブラックマトリックス１４とスペーサー分散用溶剤との接触角が７０度を下回るとブラックマトリックス１４上に吐出された液滴が広がってしまい、ブラックマトリックス１４外にスペーサー２０が配置されることがある。したがって、ブラックマトリックス１４とスペーサー分散用溶剤との接触角は７０度以上が好ましい。
【００３８】
なお、前記スペーサー配置部であるブラックマトリックス１４とスペーサー分散用溶剤との接触角が大きくなりすぎると、基板１０ａの僅かな傾きや振動によってスペーサー分散液がブラックマトリックス１４外へ移動することがある。したがって、これを防止するためには、ブラックマトリックス１４とスペーサー分散用溶剤との接触角は１５０度以下が好ましく、より好ましくは１２０度以下である。
【００３９】
【表１】
2004145093.tif 000003
【００４０】
（実施の形態２）
図６は、画素とブラックマトリックスとの関係を示した説明図である。実施の形態２では、ブラックマトリックス１４の高さとスペーサー２０の配置状態との関係について説明する。スペーサー配置部であるブラックマトリックス１４の高さを変化させてスペーサー２０の配置状態を評価した結果を表２に示す。ここで、表２の段差ｈとは、画素３０（カラーフィルタ部）に対するブラックマトリックス１４の高さである。段差ｈが負である場合には、ブラックマトリックス１４の方が画素３０よりも低くなり（図６（ａ））、段差ｈが正である場合には、ブラックマトリックス１４の方が画素３０よりも高くなる（図６（ｂ））。スペーサー２０の配置状態は、ブラックマトリックス１４外に配置されたスペーサー２０が存在する場合には×とした。なお、ブラックマトリックスの高さを変化させた以外は実施の形態１と同様の条件でスペーサー２０を配置した。
【００４１】
【表２】
2004145093.tif 000004
【００４２】
表２からわかるように、段差ｈが０Åのときは、スペーサー２０がブラックマトリックス１４上からはみ出てしまう。段差ｈが５００Åを超えると、ブラックマトリックス１４からはみ出るスペーサー２０はなく、良好な配置状態を示す。この評価結果から、画素３０に対するブラックマトリックス１４の高さは５００Å以上の可能な範囲で大きくすることが好ましい。また、このようにブラックマトリックス１４を周辺部よりも高くすると、画素３０の部分における基板間隔はセルギャップｔ（図１参照）よりも大きくなる。したがって、スペーサー２０を配置する工程中に万一スペーサー２０が画素３０の部分に流れ出しても、セルギャップ不良は発生しない。
【００４３】
（実施の形態３）
実施の形態３では、スペーサー分散液の吐出量とスペーサー２０の配置状態との関係について説明する。スペーサー分散液の吐出量は、液滴吐出ヘッドのノズル径を変化させることによって変化させた。また、スペーサー配置部であるブラックマトリックス１４は周辺の画素よりも２０００Å高くなっている。電極ピッチＰ１は２５５μｍ、画素間ピッチＰ２は３０μｍとした。その他は実施の形態１と同様の条件でスペーサー２０を配置した。表３に、評価結果を示す。なお、スペーサー２０の配置状態は、ブラックマトリックス１４外に配置されたスペーサー２０が存在する場合、及びスペーサー２０の配置が不可能である場合を×とした。
【００４４】
【表３】
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【００４５】
インクジェット（液滴吐出）法によってでスペーサー２０を配置する場合には、一般的には、スペーサー分散液１滴につき平均して１〜２個のスペーサー２０が吐出される。そして、多い場合には一箇所につき平均して５個以上のスペーサー２０が吐出される。表１に示すように、スペーサー分散液１滴につき５個以上のスペーサー２０が存在すると、吐出量が１ｐｌの場合にはスペーサー分散液の吐出が不安定となり、場合によってはノズルの詰まりが発生してしまう。この場合にはスペーサー分散液の吐出が不可能となり、ブラックマトリックス１４上へスペーサー２０を配置できなくなってしまう。
【００４６】
吐出量が４０ｐｌとなると、スペーサー分散液の液滴が大きくなりすぎてしまい、当該液滴が広がりやすくなる。その結果、スペーサー分散液の液滴がブラックマトリックス１４上からスペーサー２０を配置しない画素３０上へはみ出すことがある。そして、一旦スペーサー分散液の液滴がブラックマトリックス１４上からはみ出すと、その部分からスペーサー分散液がさらに広がってしまう。その結果、画素３０上へスペーサー２０が配置されることがあり、スペーサー２０の配置不良を招いてしまう。一方、表３の評価結果から、スペーサー分散液の吐出量が４ｐｌ以上３０ｐｌ以下の場合には、スペーサーの配置状態は良好である。これらの結果から、スペーサー分散液の吐出量は４ｐｌ以上３０ｐｌ以下が好ましい。
【００４７】
（実施の形態４）
図７は、実施の形態４に係る表面改質剤の付着状態を示す説明図である。実施の形態４に係る電子光学パネルの基板においては、実施の形態１に係る電子光学パネルの基板と略同様に表面改質剤を付着させるが、画素間４０にスペーサーを配置する場所を中心として表面改質剤４２を点状に付着させる点に特徴がある。他の構成要素は実施の形態１と略同様であるのでその説明を省略し、同じ構成要素には同一の符号を付す。画素間４０は周辺の画素よりも５００Å高くなっており、電極ピッチＰ１は２４０μｍ、画素間ピッチＰ２は２５μｍとした。その他は実施の形態１と同様の条件でスペーサー２０を配置した。
【００４８】
実施の形態４においては、表面改質材４２の形状を円形とする。表面改質剤４２はインクジェット（液滴吐出）法によって径が２０μｍの円状に付着される。その後、ヒータ等の加熱手段によって溶剤であるアルコールを蒸発させる。すると、図７（ａ）に示すように点状に表面改質剤４２が付着する。次にインクジェット（液滴吐出）法によってスペーサー分散液を表面改質剤上に吐出してから、スペーサー分散液の溶剤成分を蒸発させて、スペーサー２０を画素間４０上に配置する。なお、表面改質剤はフレキソ印刷によって付着させてもよい。
【００４９】
表面改質剤４２が付着した部分は、当該部分とスペーサー分散液との接触角は、表面改質剤４２が付着した部分の周辺部よりも大きい。したがって、図７（ｂ）に示すように、スペーサー分散液の溶剤成分が蒸発する過程においてスペーサー分散液が周辺部へ流れ出ることはない。また、表面改質剤４２が点状に付着するため、画素３０間の交点に表面改質剤４２を付着させることができる。このとき、円形で表面改質剤４２を付着させれば、線状に表面改質剤４２を付着させる場合よりも径を大きくすることができる。これによって、より安定してスペーサーを配置することができる。
【００５０】
さらに、スペーサー２０を配置する部分だけに表面改質剤を付着させるので、表面改質剤の使用量を少なくできる。なお、実施の形態４においては表面改質剤を円状に付着させたが、表面改質剤の形状はこれに限られるものではない。すなわち、スペーサー分散液が画素間４０に接触する部分を含んでいればよく、この条件を満たせば、四角形や楕円形でもよい。
【００５１】
（本発明の適用対象）
本発明に係る電子光学パネルが適用できる電子機器としては、携帯電話機の他に、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である電子光学パネルを用いる機器が挙げられる。したがって、これらの電子機器における電気的接続構造であっても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。
【００５２】
また、この電子光学パネルは、透過型又は反射型の電子光学パネルであり、図示しない照明装置をバックライトとして用いる。なお、アクティブマトリックス型のカラー電子光学パネルであっても同様である。例えば、以上説明した各実施形態においては、いずれもパッシブマトリクス型の電子光学パネルを例示してきたが、本発明の電子光学装置としては、アクティブマトリクス型の電子光学パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた電子光学パネル）にも同様に適用することができる。また、電子光学パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電子光学装置においても本発明を同様に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１に係る電子光学パネルの構造を示す一部断面図。
【図２】実施の形態１に係る液滴吐出装置を示す説明図。
【図３】実施の形態１に係る製造方法を示すフローチャート。
【図４】基板上に表面改質剤を付着させた状態を示す説明図。
【図５】スペーサー分散液を所定位置に吐出した状態を示す説明図。
【図６】画素とブラックマトリックスとの関係を示した説明図。
【図７】実施の形態４に係る表面改質剤の付着状態を示す説明図。
【符号の説明】
１０ａ　基板、１２ａ　配向膜、１４　ブラックマトリックス、２０　スペーサー、３０　画素、４０　画素間、４２　表面改質剤、５０　液滴吐出装置、１００　電子光学パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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