(57)【要約】【課題】薄板状のワークの位置ズレを修正する際に、ワークに傷がつくことを防止し得るワークの位置修正装置を得る。【解決手段】支持本体２のワーク支持面４側に複数の多孔質体７を配置し、その多孔質体７から加圧空気を噴出させる。これにより、ワーク支持面４上に至るワークＷは加圧気体によって非接触支持される。そして、その非接触状態を維持しながら周辺に配置された位置修正部材３によってワークの位置ズレを修正する。かかる構成によれば、ワークＷの位置ズレの修正がワーク支持面４と非接触の状態で行われることから、修正時にワークＷとワーク支持面４とが擦れてしまうことがない。これにより、ワークに傷がつくことを防止できる。【選択図】      図１
2004241465.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持本体によって支持された薄板状のワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置において、
前記支持本体のワーク支持部側に加圧気体の噴出部を設け、その噴出部から噴出される加圧気体によってワークを支持本体で非接触支持し、その非接触状態を維持しながらワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置。
【請求項２】
位置決めされた薄板状のワークに対して処理を行う処理装置へワークを供給する前に、当該ワークを支持本体によって支持してワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置において、
前記支持本体のワーク支持部側に加圧気体の噴出部を設け、その噴出部から噴出される加圧気体によってワークを支持本体で非接触支持し、その非接触状態を維持しながらワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置。
【請求項３】
前記噴出部を多孔質体によって構成し、その多孔質体の上面から加圧気体を噴出させる通路を支持本体に設けた請求項１又は２に記載のワークの位置修正装置。
【請求項４】
前記多孔質体を、表面絞り層を有する多孔質体によって構成した請求項３に記載のワークの位置修正装置。
【請求項５】
支持本体のカセット支持部側に加圧気体の噴出部を設け、その噴出部から噴出される加圧気体によって薄板状のワークを複数枚収容するカセットを支持本体で非接触支持し、その非接触状態を維持しながら当該カセットを搬送するカセットの搬送装置。
【請求項６】
前記噴出部を複数設け、各噴出部を少なくともカセット搬送方向両端部に配置したことを特徴とする請求項５に記載のカセットの搬送装置。
【請求項７】
前記噴出部を多孔質体によって構成し、その多孔質体の上面から加圧気体を噴出させる通路を支持本体に設けた請求項５又は６に記載のカセットの搬送装置。
【請求項８】
前記多孔質体を、表面絞り層を有する多孔質体により構成した請求項７に記載のカセットの搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワークの位置修正装置及びカセットの搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
［従来の技術１］
液晶表示パネルや半導体デバイスの製造工程においては、例えば露光工程や貼合せ工程のように液晶ガラス（液晶基板）やウェハなどの薄板状のワークを処理する際に、ワークの正確な位置決めが要求される処理工程がある。かかる処理工程では、処理装置での処理の前にまずワークの位置決めが行われる。すなわち、前の処理工程から当該処理工程を構成する処理装置までワークが搬送される際に生じた位置ズレが修正される。これはアライメントと呼ばれる。
【０００３】
従来、このような位置ズレの修正は複数本の樹脂ピンでワークを支持し、その状態でローラ等の当接部材を当接させることで行っていた。
【０００４】
［従来の技術２］
液晶表示パネルの製造ラインでは、各製造工程間の搬送や製造タイミングの調整のため、液晶ガラスを一時的に収容するカセットが利用されている。かかるカセットは、開口部を有するカセットケースを備えており、同カセットケース内には複数の支持部材が設けられている。そして、開口部を介してカセットケース内に挿入された液晶ガラスが支持部材に載置され、カセットケース内に複数枚の液晶ガラスが一定の間隔を隔てた状態で収容される（特許文献１参照）。
【０００５】
液晶ガラスが所定の工程を終了した後、次の工程へ移る際には、このカセットにその所定の工程を終了した複数枚の液晶ガラスが収容される。そして、このカセットが次の工程へ搬送されることになる。その搬送はカセットを搬送車に載置したり、搬送ライン上にボールベアリングを設けそのボールベアリング上を滑らせたりして行われている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１０−３４０９４９号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の技術１では、ワークが樹脂ピンで支持された状態で位置ズレが修正されるため、その修正時にワークと樹脂ピンとが接触している箇所で両者は擦れることになる。これにより、ワークの接触面を傷つけてしまうという問題があった。
このような問題は液晶ガラスやウェハといったものに限らず、傷を嫌う精密加工の必要な薄板状のワークであれば同様に生じる。
【０００８】
また、上記従来の技術２では、カセットの搬送を搬送車やボールベアリングを用いて行っているため、その搬送時にはどうしても振動が生じる。そして、この振動によってカセットに複数枚収容されている液晶ガラスは共振することになる。このような共振は液晶ガラスと同液晶ガラスを支持する支持部材との衝突や、液晶ガラス同士の衝突の原因となる。このため、液晶ガラスが共振によって傷ついたり、破損したりしてしまうという問題があった。
このような問題も液晶ガラスの搬送に限らず、破損や傷を嫌う薄板状のワークをカセットに複数枚収容しそのカセットを搬送する場合であれば同様に生じる。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、薄板状ワークの製造過程において当該ワークに傷や破損が生じないように取り扱うことのできるワークの位置修正装置及びカセットの搬送装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
以下に、上記課題を解決し得る手段等について項を分けて列挙する。なお、必要に応じてその作用、効果、具体的手段等についても付記する。
【００１１】
手段１．支持本体によって支持された薄板状のワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置において、
前記支持本体のワーク支持部側に加圧気体の噴出部を設け、その噴出部から噴出される加圧気体によってワークを支持本体で非接触支持し、その非接触状態を維持しながらワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置。
【００１２】
手段１によれば、薄板状のワークが支持本体に非接触支持された状態でワークの位置ズレが修正される。かかる位置ズレの修正は修正手段によって行われる。このため、ワークが接触支持されていた従来技術と異なり、ワークの位置ズレ修正時にワークと支持本体のワーク支持部とが擦れてしまうことがない。これにより、位置修正時の擦れによってワークに傷がつくことを防止できる。
【００１３】
手段２．位置決めされた薄板状のワークに対して処理を行う処理装置へワークを供給する前に、当該ワークを支持本体によって支持してワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置において、
前記支持本体のワーク支持部側に加圧気体の噴出部を設け、その噴出部から噴出される加圧気体によってワークを支持本体で非接触支持し、その非接触状態を維持しながらワークの位置ズレを修正するワークの位置修正装置。
【００１４】
手段２によれば、位置決めされた薄板状のワークに対して処理を行う処理装置では、その処理を行う際にワークが位置ズレしていると当該ワークに対して適切な処理を行うことができない。そこで、かかる処理装置ではその処理前にワークの位置ズレを修正しておく必要がある。この点、手段２ではそのワークが支持本体に非接触支持された状態でワークの位置ズレが修正される。かかる位置ズレの修正は修正手段によって行われる。このため、ワークが接触支持されていた従来技術と異なり、ワークの位置ズレ修正時にワークと支持本体のワーク支持部とが擦れてしまうことがない。これにより、位置修正時の擦れによってワークに傷がつくことを防止できる。
【００１５】
製造ライン上の処理装置であれば、前の処理工程からワークが搬送手段によって搬送されることから、その際、ワークにはどうしても位置ズレが生じてしまう。このため、前述したワークの位置ズレ修正が必要となる。従って、ワークを非接触支持するこの位置修正装置は、製造ライン上の処理装置に用いられる場合に特に有効なものとなる。
【００１６】
なお、手段１又は２において、修正手段は、薄板状のワークの周縁に接触して位置ズレを修正するものであることが好ましい。これにより、薄板状のワークの表面及び裏面に一切傷等がつかない。また、手段１又は２において、噴出部は複数（より好ましくは多数）設けることが好ましく、さらに各噴出部をワーク支持部の全域に亘って均等に配置することが好ましい。
【００１７】
手段３．前記噴出部を多孔質体によって構成し、その多孔質体の上面から加圧気体を噴出させる通路を支持本体に設けた手段１又は２に記載のワークの位置修正装置。
【００１８】
手段３によれば、噴出部が多孔質体によって構成されているため、加圧気体が多孔質体を通過する際にその加圧気体の流通が絞られることで、好適に静圧を発生させることができる。しかも、単なる絞り通路よりも均等に静圧を相手側（ワークの底面）との間に発生させることができる。これにより、安定した状態でワークを非接触支持することができる。
【００１９】
また、手段３において、前記通路と連通するポートを支持本体の外面に設けた構成とすれば、そのポート、通路を介して多孔質体への加圧気体の供給される。逆に、ポート、通路を介して多孔質体に真空圧を作用させると、ワーク支持部にワークを吸着させることができる。これにより、位置ズレ修正が適切に行われたかを撮像手段で確認するなど、位置ズレ修正以外の処理を行うことができる。
【００２０】
手段４．前記多孔質体を、表面絞り層を有する多孔質体によって構成した手段３に記載のワークの位置修正装置。
【００２１】
手段４によれば、ワークの重量が重い場合でも安定してワークを非接触支持することができる。すなわち、表面絞り層を有していない通常の多孔質体の場合、ワークの重量が重くなるとニューマチックハンマー現象によって浮上当初からワークに振動が発生し、安定してワークを非接触支持することができなくなる。この点、手段４では表面絞り層を有する多孔質体が用いられているため、いったん流通が絞られた加圧気体が表面絞り層を通過する際にさらにその流通が絞られることになる。このような二重の絞りにより、振動が発生してしまうような重量のワークであっても、振動の発生を防止でき安定した状態で非接触支持することができる。
【００２２】
手段５．支持本体のカセット支持部側に加圧気体の噴出部を設け、その噴出部から噴出される加圧気体によって薄板状のワークを複数枚収容するカセットを支持本体で非接触支持し、その非接触状態を維持しながら当該カセットを搬送するカセットの搬送装置。
【００２３】
手段５によれば、カセットが支持本体に非接触支持された状態で、カセットが搬送される。このため、カセットが接触支持されていた従来技術と異なり、カセットを搬送する際に支持本体との接触によって振動が生じることがない。これにより、カセットに収容されている薄板状のワークが振動を原因として共振することもなく、ワークを支持する支持体との衝突や、ワーク同士の衝突によってワークが傷ついたり、破損したりすることを防止できる。なお、カセットは薄板状のワークを１枚又は複数枚収容し得る剛体とすることができる。
【００２４】
手段６．前記噴出部を複数設け、各噴出部を少なくともカセット搬送方向両端部に配置したことを特徴とする手段５に記載のカセットの搬送装置。
【００２５】
手段６によれば、カセットが搬送される際、ぐらつき難くなり、安定した状態でカセットを搬送することができる。勿論、噴出部はカセット搬送方向両端部以外にも配置することは可能である。さらに、噴出部はカセット搬送方向にほぼ等間隔に配置されることが好ましい。
【００２６】
手段７．前記噴出部を多孔質体によって構成し、その多孔質体の上面から加圧気体を噴出させる通路を支持本体に設けた手段５又は６に記載のカセットの搬送装置。
【００２７】
手段７によれば、噴出部が多孔質体によって構成されているため、加圧気体が多孔質体を通過する際にその加圧気体の流通が絞られることで、好適に静圧を発生させることができる。しかも、単なる絞り通路よりも均等に静圧を相手側（カセットの底面）との間に発生させることができる。これにより、安定した状態でカセットを非接触支持することができる。
【００２８】
また、前記通路と連通するポートを支持本体の外面に設けた構成とすれば、そのポート、通路を介して多孔質体への加圧気体の供給される。逆に、ポート、通路を介して多孔質体に真空圧を作用させると、カセット支持部にカセットを吸着させることができる。このため、所定の位置でカセットの搬送を停止させる必要があればその位置でカセットを吸着し確実に固定することができる。
【００２９】
手段８．前記多孔質体を、表面絞り層を有する多孔質体により構成した手段７に記載のカセットの搬送装置。
【００３０】
手段８によれば、カセットの重量が重い場合でも安定してカセットを非接触支持することができる。すなわち、表面絞り層を有していない通常の多孔質体の場合、例えば液晶ガラスを収容するカセットのようにカセットの重量が重くなると、ニューマチックハンマー現象によって浮上当初からカセットに振動が発生してしまい振動防止という課題を解決できない。この点、手段７では表面絞り層を有する多孔質体が用いられているため、いったん流通が絞られた加圧気体が表面絞り層を通過する際にさらにその流通が絞られることになる。このような二重の絞りにより、振動が発生してしまうような重量のカセットであっても、振動の発生を防止でき安定した状態で非接触支持することができる。
【００３１】
なお、通常であれば、前記多孔質体はカセットの搬送方向の幅よりも短い間隔で、その搬送方向に沿って複数設けられる。また、カセットの大きさに合わせて、そのような複数の多孔質体が複数列設けられる。カセットが搬送される間、カセット底面への静圧作用が途切れるのを防止するためである。
【００３２】
【発明の実施の形態】
［第１の実施形態］
以下に、第１の実施形態について図１乃至図４を参照しつつ説明する。図１は位置修正装置の平面図であり、図２はワークを非接触支持した状態における図１のＡ−Ａ線断面の一部拡大図であり、図３はワークの位置ズレが修正される過程を示す概略図であり、図４は供給圧力と浮上量との関係を示すグラフである。なお、図３では説明の便宜上ワークの位置ズレが強調されている。
【００３３】
位置修正装置１は、液晶ガラスやウェハなど、精密加工が必要で傷を嫌う薄板状のワークＷを処理する際に、その位置決めが要求される工程で用いられる。
【００３４】
図１及び図２に示すように、位置修正装置１はワークＷを非接触支持するための支持本体２と、支持本体２に非接触支持されたワークＷの位置ズレを修正する位置修正部材３（修正手段）とを備えている。支持本体２は本実施の形態では四角板状をなしている。支持本体２の底面には図示しない脚が設けられ、この脚によって支持本体２は設置面に対して所定の距離を隔てて設置される。なお、支持本体２の形状は四角板形状に限られず、円盤形状など任意の形状を選択することも可能である。但し、少なくともワークＷを支持するワーク支持面４（ワーク支持部）は平面であることが好ましい。また、支持本体２は直接設置面に設置する構成を採用することも可能である。
【００３５】
支持本体２の底面には多数のポート５が形成されている。各ポート５は支持本体２の底面全域に亘るように格子状に配置されている。ポート５は、例えば配管が接続されるための雌ねじが形成された雌ねじ孔として形成したり、ワンタッチ継手を設けたりする等、各種形態が考えられる。本明細書でこれ以降説明する各ポートについても同様である。位置修正装置１の使用時においてポート５には図示しない圧力供給源からの配管が接続される。なお、ポート５は支持本体２の外周面に設けることも可能である。
【００３６】
支持本体２の上面であるワーク支持面４には同支持面４全域にわたり、平面視において円形状をなす収容溝６が多数形成されている。各収容溝６は前記各ポート５に１対１で対応して形成され、格子状に配置されている。各収容溝６には円盤状の多孔質体７がワーク支持面４から突出した状態で収容され、その状態で固定されている。その固定は、例えば接着剤によって収容溝６を形成する面に接着されることによって行われる。
【００３７】
なお、収容溝６及び多孔質体７の形状は平面視において円形状であることに限られず、四角形状など任意の形状を選択することができる。但し、両者の形状は相互に共通していることが好ましい。また、各収容溝６及び多孔質体７の配置構成は千鳥状など他の任意の構成を採用することができるが、ワーク支持面４の全域に均等に配置されることが好ましい。
【００３８】
多孔質体７は、例えば焼結アルミニウム、焼結銅、焼結ステンレス等の金属材料によって構成することができるが、それ以外にも、焼結三フッ化樹脂、焼結四フッ化樹脂、焼結ナイロン樹脂、焼結ポリアセタール樹脂等の合成樹脂材料や、焼結カーボン、焼結セラミックスなどによって構成することもできる。また、多孔質体７は気孔率４０％程度、その内部に形成された微細孔の径は０．１ｍｍ程度のものであるが、これ以外の気孔率や微細孔の径を有する多孔質体を用いることも可能である。そして、多孔質体７にはその外周縁部にシール層８が形成されており、後述するように多孔質体７に加圧エアが供給された際には、その加圧エアが多孔質体７の外周面から漏れないようになっている。シール層８は外周面に合成樹脂を塗布したり、注入したりするなどして形成される。以上の点は、本明細書でこれ以降説明する多孔質体についても同様である。
【００３９】
各収容溝６の底面には各々の収容溝６に連通する流通溝９がそれぞれ形成されている。前記各ポート５と各流通溝９の底面とは支持本体２に形成された通路１０によって連通されている。そして、図示しない圧力供給源から加圧気体（例えば、エア）が供給されると、かかる加圧エアが各ポート５、各通路１０、各流通溝９を介して各多孔質体７の表面、すなわち上面から噴出される。
【００４０】
なお、通路１０としてはその経路の途中で共通通路を設けることも可能であり、こうすればいくつかの又は全てのポート５を共通化することが可能となる。また、多孔質体７を支持本体２に直接取り付けるのではなく、多孔質体を備えた多孔質ユニットを支持本体２のワーク支持側に設ける構成も採用できる。
【００４１】
図１、図３に示すように、前記位置修正部材３は横方向の側面に設けられた一対のＸ軸修正部材１３と、縦方向の側面に設けられた一対のＹ軸修正部材１４とを備えている。なお、ここでいう縦横とは図１の支持本体２における縦横をいう。各修正部材１３，１４は支持部材１５と、支持部材１５に支持され支持本体２の側面の両端部でその側面と当接するローラ１６とを備えている。Ｘ軸修正部材１３に関しては、ローラ１６は各端部ごとに一対ずつ設けられている。図２に示すように、各ローラ１６は支持本体２のワーク支持面４から上方へ突出し、支持本体２の側面だけでなく支持本体２にワークＷが支持された場合において、そのワークＷの側面とも当接しうるように構成されている。なお、ローラ１６の代わりに、ワークＷに傷を付けないようなゴム素材や合成樹脂素材などの当接部材を採用することも可能である。
【００４２】
位置修正部材３は図示しない駆動手段によって、全てのローラ１６が支持本体２の側面と当接した位置（第１位置）と、支持本体２の外側面に沿ってその側面から離れた位置（第２位置）との間を移動可能に構成されている（図１では第１位置に位置する）。また、両Ｘ軸修正部材１３及び両Ｙ軸修正部材１４はそれぞれが互いに反対方向へ同期して移動するように構成されている。図示しない駆動手段による位置修正部材３の制御は次のように行われる。すなわち、ワーク支持面４上へワークＷを搬送する際には各修正部材１３，１４を第２位置に移動させておく。ワークＷの搬送が終了して支持本体２によりワークＷが支持された状態となると、各修正部材１３，１４を第２位置から第１位置へ移動させる。
【００４３】
以上のように構成された位置修正装置１では、まず、図示しない圧力供給源の作動によって、加圧エアが各ポート５、各通路１０、各流通溝９を介して各多孔質体７の上面全体から噴出する。また、図３（ａ）に示すように、図示しない駆動手段により一対のＸ軸修正部材１３と一対のＹ軸修正部材１４とをそれぞれ第２位置に移動させる。この状態で、図示しない搬送装置が駆動されることでワークＷが支持本体２のワーク支持面４上に載置される。このとき、ワーク支持面４側では多孔質体７から加圧エアが噴出しているため、ワークＷはワーク支持面４に対し浮上した状態（非接触状態）で支持されることになる。すなわち、多孔質体７の上面とワークＷの底面（ワーク支持面４側の面）との間に圧力エア層が形成され、静圧がもたらされる。これにより、ワークＷは支持本体２に非接触支持される。なお、このワークＷはワーク支持面４と同一形状をなすものとする。
【００４４】
この段階でのワークＷは、図３（ａ）に示すように、搬送時の位置ズレが生じたままの状態にある。そこで、次に位置修正部材３によるワークＷの位置ズレ修正を行うため、図示しない駆動装置により各Ｘ軸修正部材１３と各Ｙ軸修正部材１４をそれぞれ第１位置に向けて移動させる。図３（ｂ）に示すように、各修正部材１３，１４が第１位置へ移動する途中で、ローラ１６が支持本体２の側面からはみ出しているワークＷの側面に当接する。その後さらに各修正部材１３，１４を移動させると、ローラ１６は支持本体２の側面と当接したまま移動することから、図３（ｃ）に示すように、ワークＷは強制的に位置が修正されていくことになる。そして、最終的に各修正部材１３，１４が第１位置に配置された時点で、ワークＷがワーク支持面４上に載置された際に生じていた位置ズレが完全に修正されることになる。
【００４５】
このように、本実施の形態の位置修正装置１においては、ワークＷが支持本体２に非接触支持された状態でワークＷの搬送時に生じた位置ズレの修正が行われる。このため、位置ズレが修正される際にワークＷとワーク支持面４とが擦れてしまうことはなく、両者の擦れによってワークＷの表面又は裏面が傷つくことを防止できる。
【００４６】
また、この位置修正装置１のようにワークＷを非接触支持した状態で位置ズレを修正することは、次の（ア）〜（オ）のような利点もある。
【００４７】
（ア）ワークＷとその支持部分との擦れによって塵が発生することがない。このため、クリーンルーム等、塵埃の発生を嫌う環境での利用に適している。また、ワークＷとその支持部分が擦れる場合には、スティックスリップ、ころがりによる振動がワークＷに生じてしまうが、そのような振動が生じることもない。
【００４８】
（イ）ワークＷは非接触支持されていることから、位置ズレを修正する際に摺動抵抗が生じることはなく、位置ズレ修正に必要な位置修正部材３の駆動力は小さくて済む。これにより、位置修正部材３の駆動機構を小型化することができる。また、ローラ１６等の当接部材ではなく、非接触支持されたワークＷの周囲にエアノズルを設け、このエアノズルからの噴射エアによってワークＷの位置ズレを修正することも可能となる。
【００４９】
（ウ）各多孔質体７に供給される加圧エアの供給圧力を一律ではなく個々に調整することで、ワークＷを傾けた状態で支持することも可能となる。このため、ワークＷをそのような状態で支持することが要求される処理にも対応できる。
【００５０】
（エ）非接触支持されたワークＷに対して何らかの外力が加わったとしても、加圧エア層がクッションの役割を果たすことから、その外力によるワークＷへの影響を少なくすることができる。
【００５１】
（オ）各ポート５に接続される配管に切換弁を設け、この切換弁の動作によって各ポートが圧力供給源又は真空装置と切換接続されるように構成すれば、ワークＷを支持本体２のワーク支持面４に吸着させることも可能となる。すなわち、多孔質体７の上面から加圧エアを噴出させてワークＷを非接触支持している状態から徐々に供給圧力を低下させ、ワークＷをワーク支持面４に接触させる。その後、制御装置によって切換弁を駆動し各ポート５と真空装置とを接続する。これにより、ワーク支持面４にワークＷを吸着させることができる。このようにワークＷを吸着させることができると、位置ズレを修正した後にワークＷを吸着させて位置を固定し、位置ズレ修正が適切に行われたかをカメラで確認することなど、位置ズレ修正以外の処理を行うことができる。また、そのワーク支持面４上でワークＷに対し処理を行うことも可能となる。
【００５２】
ところで、例えば支持本体２のワーク支持面４の寸法を１２００ｍｍ×１０００ｍｍとし、それと同一形状で厚さ０．７ｍｍの液晶ガラスをワークＷとした場合、前述した構成により、加圧エアの供給圧力を調整することで安定かつ適切な浮上量を得ることが可能である。
【００５３】
図４のグラフには、１００ｍｍ角の多孔質体、同じく１００ｍｍ角のサンプルを用いた場合において、多孔質体への供給圧力とサンプルの浮上量との関係が示されている。サンプル重量２ｋｇとしたときの曲線で示されているように、高い供給圧力とすれば浮上量を大きくすることができる。しかしながら、１３０μｍ程度より浮上量を大きくしてしまうと、ワークＷに振動が発生してしまい不安定な状態となる。他方、浮上量が小さすぎると多孔質体の上面を高精度に仕上げる必要がある。多孔質体の上面の仕上げ精度が低いと多孔質体上面とワークＷとが部分的に接触してしまうおそれがあるためである。このような仕上げ処理は製造コストの増加につながってしまう。このため、ワークＷの浮上量としては５０μｍ程度となるように供給圧力を調整することが好ましい。この程度の浮上量であれば、振動が発生しない安定した状態でワークＷを浮上させることができ、しかも、多孔質体上面を高精度に仕上げる特別な処理を必要としないため適切な浮上量となる。
【００５４】
もっとも、ワークＷの重量が重くなると、前述した構成で利用した多孔質体７ではニューマチックハンマー現象が生じることになり、加圧エアを供給してワークＷが浮上し始めた当初からワークＷに振動が発生し、安定してワークＷを非接触支持することができなくなる。例えば、図４のグラフにデータは示されていないが、サンプル重量２０ｋｇ、３５ｋｇ、６０ｋｇの場合には、このような現象が生じる。
【００５５】
そこで、このような現象が生じるほどワークＷの重量が重い場合には、安定かつ適切な浮上量を得るために多孔質体としては表面絞りを施したものを用いることが好ましい。表面絞りを施した多孔質体は、その表面部分の微細孔が他の部分の微細孔よりも小さくなっている。表面絞りは、合成樹脂などを焼結させて得られる通常の多孔質体の表面部分に対し、メッキ、合成樹脂含浸、溶射、合成樹脂や金属のコーティング、表面圧縮などの処理を施すことで行われる。表面絞りを施した多孔質体を用いることで、ニューマチックハンマー現象によるワークＷの振動発生を防止でき、安定した状態でワークＷを非接触支持することができる。
【００５６】
図４のグラフには、表面絞りを施した多孔質体を用いた場合において、サンプル重量２０ｋｇ、３５ｋｇ、６０ｋｇにおける供給圧力とサンプルの浮上量との関係が示されている。同グラフに示したように、振動発生を防止しながら適切な浮上量を得ることができる。
【００５７】
なお、第１の実施形態は以下のように構成することも可能である。
位置修正部材３の駆動構成は前述した構成に限られず、様々な構成が考えられる。例えば、位置修正装置１へその横方向からワークＷを搬送供給するような場合、Ｘ軸修正部材１３を固定した状態としておけば、ワークＷを搬送供給しながら縦方向の位置修正が行われる。そして、ワークＷ全体が支持本体２に支持された状態となったときに、Ｙ軸修正部材１４を第２位置から第１位置へと移動させれば横方向の位置修正を行うことができる。
【００５８】
また、ワークＷによってはワーク支持面４よりも大きいものもある。この場合、各修正部材１３，１４をワークＷの大きさに合わせて支持本体２の側面から離間した位置に配置した構成とする。
【００５９】
さらに、第１位置にある各修正部材１３，１４を予め支持本体２の側面から離した位置に待機させておき、搬送装置によってワークＷが支持本体２上に搬送供給された後で、各修正部材１３，１４を同期させながら支持本体２の側面に当接する方向へ移動させる。その移動によってワークＷの位置ズレを修正する構成とする。かかる構成であれば、ワーク支持面４よりも大きいワークＷにも対応できる。また、実際に生じるワークＷの位置ズレは図３に示したような大げさなものではなくわずかなズレであるから、このような構成であれば位置修正装置１のコンパクト化が図れる。
【００６０】
その他、ワークＷによってはワーク支持面４より小さいものもある。この場合は、支持本体２を板状に形成せず、各多孔質体７間に隙間を設け、その隙間に前記Ｘ軸修正部材１３及びＹ軸修正部材１４が侵入するように構成する。このような構成によれば、ワーク支持面４の範囲内において各修正部材１３，１４が移動可能となるため、ワーク支持面４でワークＷが非接触支持された状態で各修正部材１３，１４をワークＷ側へ移動させることにより、位置ズレの修正が可能となる。
【００６１】
［第２の実施形態］
次に、第２の実施形態について図５及び図６を参照しつつ説明する。図５はカセット支持装置の平面図であり、図６はカセットを非接触支持した状態における図５のＢ−Ｂ線断面の一部拡大図である。
【００６２】
カセット支持装置２１は、液晶表示パネル等、破損や傷を嫌う薄板状のワークＷをカセットＫに複数枚収容し、そのカセットＫを搬送する装置において用いられるものである。
【００６３】
図５及び図６に示すように、カセット支持装置２１はカセットＫを非接触支持するための支持本体２２を備えている。支持本体２２は本実施の形態では四角板状をなしている。支持本体２２の底面には図示しない脚が設けられ、この脚によって支持本体２２は設置面に対して所定の距離を隔てて設置される。なお、支持本体２２の形状は四角板形状に限られず、円盤形状など任意の形状を選択することも可能である。但し、少なくともカセットＫを支持するカセット支持面２３（上面）は平面であることが好ましい。また、支持本体２２は直接設置面に設置する構成を採用することもできる。
【００６４】
支持本体２２の底面のカセットＫ搬送方向に向かって両側部には、複数のポート２４（本実施形態では３個）が搬送方向に沿って形成されている。カセット支持装置２１の使用時においてポート２４には図示しない圧力供給源からの配管が接続される。なお、ポート２４は支持本体２２の外周面に設けることも可能である。
【００６５】
支持本体２２のカセット支持面２３には、平面視において円形状をなす収容溝２５が前記各ポート２４の１つ１つにそれぞれ対応して複数形成されている。各収容溝２５には円盤状の多孔質体２６がその上面とカセット支持面２３とが面一となるように収容され、その状態で固定されている。その固定は、例えば接着剤によって収容溝２５を形成する面に接着されることによって行われる。各多孔質体２６は、支持本体２２のカセット支持面２３側においてカセットＫ搬送方向にみて両端部に配置され、かつ各端部においてカセットＫ搬送方向に等間隔に配置されている。そして、第１の実施形態とは異なり、多孔質体２６はカセット支持面２３と面一となるように設けられているため、外周部にシール層を設けていない多孔質体が用いられている。
【００６６】
なお、収容溝２５及び多孔質体２６の形状は平面視において円形状であることに限られず、四角形状など任意の形状を選択することができる。但し、両者の形状は相互に共通していることが好ましい。また、シール層を設けた多孔質体を用いてもよいし、多孔質体２６の配置構成は格子状など他の任意の構成を採用することも可能である。
【００６７】
ここで、例えば液晶表示パネルの製造工程で用いられるカセットＫは、液晶ガラスを多数枚収容すると、その重量は約２００ｋｇにも及ぶ。カセットＫの重量がこの程度まで重くなると、第１の実施形態において説明したように、合成樹脂などを焼結させただけの通常の多孔質体ではニューマチックハンマー現象が生じることになる。このため、加圧エアを供給しカセットＫが浮上し始めた当初からカセットＫに振動が発生してしまい、安定してカセットＫを非接触支持することができなくなる。そこで、このカセット支持装置２１では安定かつ適切な浮上量を得るため、表面絞り処理が施され、表面絞り層２７を備えた多孔質体２６が用いられている。表面絞りに関しては第１の実施形態で説明したとおりである。なお、ワークＷを収容してもカセットＫの重量が軽くニューマチックハンマー現象が生じないような場合であれば、表面絞り層のない通常の多孔質体を用いることも可能である。
【００６８】
各収容溝２５の底面には各々の収容溝２５に連通する流通溝２８がそれぞれ形成されている。前記各ポート２４と各流通溝２８の底面とは支持本体２２に形成された通路２９によって連通されている。そして、図示しない圧力供給源から加圧気体（例えば、エア）が供給されると、かかる加圧エアが各ポート２４、各通路２９、各流通溝２８を介し、さらに表面絞り層２７を介して各多孔質体２６の表面、すなわち上面から噴出される。なお、通路２９としてはその経路の途中で共通通路を設けることも可能であり、こうすればいくつかの又は全てのポート２４を共通化することが可能となる。
【００６９】
以上のように構成されたカセット支持装置２１を用いたカセット搬送装置では、通常、カセット支持装置２１をカセットＫ搬送方向に複数設置することになる。なお、搬送距離が短い場合にはカセット支持装置２１が１つだけ設置されることもありうる。
【００７０】
かかるカセット搬送装置では、図示しない圧力供給源の作動によって、加圧エアがカセット支持装置２１の各ポート２４、各通路２９、各流通溝２８、表面絞り層２７を介して各多孔質体２６の上面全体から噴出する。これにより、他から搬送されてきたカセットＫはカセット支持装置２１のカセット支持面２３に対し浮上した状態（非接触状態）で支持されることになる。すなわち、多孔質体２６の上面とカセットＫの底面（カセット支持面２３側の面）との間に圧力エア層が形成され、静圧がもたらされる。これにより、カセットＫは支持本体２２に非接触支持される。薄板状のワークＷを搭載リブ３０に載置して多数枚収容したカセットＫであれば、図６に示すようになる。このカセットＫが非接触支持された状態が維持されながら、図示しない駆動装置によりカセットＫが搬送方向へさらに搬送されることになる。
【００７１】
このように本実施の形態のカセット支持装置２１を用いたカセット搬送装置では、カセットＫが非接触支持された状態で搬送可能となるから、カセットＫの搬送時に振動が生じること、それによりカセットＫに収容されている薄板状のワークＷが共振することを防止できる。これにより、カセットＫの搬送時に生じていたワークＷの傷や破損を防止することができる。
【００７２】
また、このカセット搬送装置のようにカセットＫを非接触支持した状態で搬送することは、次の（ア）〜（ウ）のような利点もある。
【００７３】
（ア）カセットＫの搬送時にカセットＫとその支持部分との接触によって塵が発生することがない。このため、クリーンルーム等、塵埃の発生を嫌う環境での利用に適している。
【００７４】
（イ）カセットＫは非接触支持されていることから、カセットＫの搬送時に摺動抵抗が生じることはなく、カセットＫを搬送させるのに必要な駆動装置の駆動力は小さくて済む。これにより、駆動装置を小型化することができるし、カセットＫの周囲にその搬送方向に向けたエアノズルを設け、このエアノズルからの噴射エアによってカセットＫを搬送することも可能となる。
【００７５】
（ウ）第１の実施形態と同様、各ポート２４が圧力供給源又は真空装置と切換接続されるように構成すれば、カセットＫを支持本体２２のカセット支持面２３に吸着させることも可能となる。これにより、製造工程間の製造タイミングを調整する場合や、カセットＫが所定の製造工程に到達した場合など、カセットＫの搬送を停止させる必要があれば、所定の位置でカセットＫを吸着し、その位置で確実に固定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】位置修正装置の平面図。
【図２】ワークを非接触支持した状態における図１のＡ−Ａ線断面の一部拡大図。
【図３】ワークが位置修正される様子を示す概略図。
【図４】供給圧力と浮上量との関係を示すグラフ。
【図５】カセット支持装置の平面図。
【図６】カセットを非接触支持した状態における図５のＢ−Ｂ線断面の一部拡大図。
【符号の説明】
１…位置修正装置、２…支持本体、３…修正手段としての位置修正部材、４…ワーク支持部としてのワーク支持面、７…噴出部としての多孔質体、２１…カセット支持装置、２２…支持本体、２３…カセット支持面、２６…噴出部としての多孔質体、２７…表面絞り層、Ｗ…ワーク、Ｋ…カセット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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