(57)【要約】【課題】レーザビームの広がりを修正するための装置および方法を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態による装置は、所定値を上回る光束を有するレーザビーム１０６を発生するよう動作可能なレーザ光源１０１と、このビーム１０６を修正して、所定のアパーチャ１１５を通るビーム１０６の光束が所定値を超えないよう動作可能な光学系列１０７とを備える。光学系列１０７には、合焦レンズ、回折合焦渦巻きレンズ、ビーム分割装置、あるいは回折格子を含むことができる。【選択図】図１
2004246360.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定値を上回る光束を有するレーザビームを発生するよう動作可能なレーザ光源と、
所定のアパーチャを通過する前記ビームの光束が前記所定値を超えないよう前記ビームを修正すべく動作可能な光学系列と、
を備えている装置。
【請求項２】
前記レーザ光源と前記光学系列とが配置されたハウジングであって、前記修正レーザビームが通過、伝搬する窓部を有する前記ハウジング、
をさらに備え、
前記所定のアパーチャは、７ｍｍの直径を有し、前記窓部から１４ｍｍの半径距離に位置する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記光学系列が合焦レンズを備え、該合焦レンズは、前記所定のアパーチャよりも該合焦レンズに近い焦点に前記レーザビームを集束させるよう動作可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記光学系列が、前記レーザビームを環状放射照度分布パターンへ回折するよう動作可能な回折合焦渦巻きレンズを備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記光学系列が、前記レーザビームを、他のビームとはそれぞれ非零角度だけ離れた２つ以上のレーザビームへ分割するよう動作可能なビーム分割素子を備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
所定値を上回る光束を有するレーザビームを発生するステップと、
所定のアパーチャを通過する前記ビームの光束が、前記所定値を超えないように前記ビームを修正するステップと、
を含む方法。
【請求項７】
前記ビームを修正するステップが、前記レーザビームの光源と前記所定のアパーチャとの間に位置する平面内に前記ビームを集束させ、該集束ビームの一部だけが前記所定のアパーチャと交差するようにするステップを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ビームを修正するステップが、前記ビームを環状放射照度分布パターンへ回折させ、前記所定のアパーチャと交差する前記環状放射照度分布パターンのどの部分も前記所定値を超える生成光束をもたないようにするステップを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記ビームを修正するステップが、前記ビームをビームのアレイへ回折させ、前記所定のアパーチャと交差するどの組のビームも前記所定値を超える生成光束をもたないようにするステップを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
第１の時点でターゲットから反射される第１の小斑点パターンを検出するステップと、
第２の時点でターゲットから反射される第２の小斑点パターンを検出するステップと、
前記第１の小斑点パターンと前記第２の小斑点パターンとの差に基づいて、前記ターゲットに対する前記レーザビームの位置の変化を割り出すステップと、
をさらに含む、請求項６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般にレーザに関し、特に、レーザビームの広がりの修正に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日の装置の多くは、様々な機能を実装するのにレーザを用いている。例えば、光学式マウスやレーザポインタはそれらの個々の動作にレーザを用いる。さらに、多くの光ファイバ通信装置は信号発生源としてレーザを用いている。
これらのレーザは、時として人の眼に損傷を与えるに十分強力な光を発生し得る光ビームを発生する。例えば、レーザ光学系ポインティング装置は通常、その使用意図に合わせ、レーザビームを合焦（focus）あるいは平行化するよう設計された、レーザと光学的にアライメントがとられたビーム変更装置を含む。それ故、人がレーザビームを覗き込んだ場合、ビームは裸眼の眼を傷つけ、たとえレーザビームが損傷を与えるほど出力が十分でないとしても、人は拡大レンズや他の装置を用いてレーザビームをさらに集束させ、それにより絞り込まれたビームが眼に損傷を及ぼすことがあり得る。
【０００３】
レーザ装置を含む製品は眼に対し潜在的に危険であるため、それらは従ってそれらの潜在的な危険レベルにより分類される。この種の分類要綱の一つが、レーザ製品の安全に関する国際規格（ＩＳＳＬＰ；Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ  ｆｏｒ  Ｔｈｅ  Ｓａｆｅｔｙ  ｏｆ  Ｌａｓｅｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）である。ＩＳＳＬＰが分類する最も危険の少ないレーザは、第１分類のレーザ装置である。この範疇のレーザは、内部ビーム視認用に拡大レンズなどの光学機器の使用を含む当然予測可能な操作条件下で安全であると規定されている。レーザ及びレーザ製品の次に危険の最も少ない範疇の分類は、第１Ｍ分類である、この分類は、当然予測可能な操作条件下で安全ではあるが、ユーザが内部視認用の光学装置、すなわち拡大レンズを用いた場合に危険となり得るレーザからなる。
【０００４】
ＩＳＳＬＰによれば、最大許容パワー、すなわち通常用いられる単一モード８５０ｎｍ波長の第１分類レーザに関する許容放出光（ＡＥＬ）レベルは、ＩＳＳＬＰが規定する規格により計測したときに０．７８ミリワットとなる。規定の規格は、レーザビームが装置を出る箇所の点から１４ｍｍの所にある半径平面内の７ミリメートル（ｍｍ）アパーチャを通過する光束量（単位面積当たりのパワー）である。かくして、７ｍｍアパーチャ孔を通過するレーザビームの光束が０．７８ミリワット未満である場合、そのとき、レーザは第１分類の安全と見なされる。
【０００５】
光学式マウス内で用いられ得る、小斑点に基づくモーションセンサは、レーザをその機能性のために用いる装置である。小斑点に基づくモーションセンサでは、レーザビームは表面へ案内され、レーザビームの反射が小斑点パターンと呼ぶ複雑な回折パターンを生成する。レーザビームが表面に対し移動すると、そのとき、小斑点パターンが変わる。反射された小斑点パターンを受光する検出器はそこで小斑点パターン内の相対的な変化を割り出し、これらの変化を変換してレーザビーム光源の相対的な横方向の動きを割り出すことができる。しかしながら、許容可能な動作に関しては、小斑点に基づくモーションセンサ内のレーザは、第１分類等級に関する最大の許容可能なＡＥＬを超える出力レベルで通常動作する。すなわち、出力を第１分類要件まで減らした場合、小斑点に基づくモーションセンサは許容可能なレベルで動作することはできない。
【発明の開示】
【０００６】
本発明の一実施形態は、所定値を上回る光束を有するレーザビームを発生するよう動作可能なレーザ光源と、このビームを修正して、所定のアパーチャを通るビームの光束が所定値を超えないよう動作可能な光学系列とを備える。光学系列には、合焦レンズ、回折合焦渦巻きレンズ、ビーム分割装置、あるいは二次元回折格子を含むことができる。
【０００７】
レーザビーム内の光束の幾らかを発散（分岐）あるいは回折させることで、より強力なレーザを装置内で使用し、なおかつＩＳＳＬＰ第１分類等級を遵守することができる。この種の装置および方法は、光学式マウスのような、より強力なレーザを必要としながら依然として第１分類等級内にあることを必要とする装置内で用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
添付図面を併せ以下の詳細な説明を参照することで本発明をより良く理解するにつれて、本発明の前述の態様と多くの付随する利点がより容易に理解されよう。
【０００９】
以下の説明は、当事者に本発明を製作し使用できるよう提示するものである。本願明細書に記載する一般原理は、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、以下に詳述するもの以外の実施形態や応用に適用することができる。本発明は、図示の実施形態に限定するのではなく、本願明細書に開示あるいは示唆した原理ならびに特徴と一貫する最大幅の範囲に一致させることを意図するものである。
【００１０】
図１は、本発明の一実施形態による光学式マウス内で使用するレーザビームを修正する装置を示す図である。本実施形態では、垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）１０１が光軸１０２に沿って８５０ｎｍ波長のレーザビームを放射する。一般のＶＣＳＥＬ１０１は、レーザビームの個別光線がＶＣＳＥＬ１０１から出射する箇所での最大幅角度の目安である対応拡がり角１２５をもつことになる。一般に、拡がり角１２５はレーザビームの光学的強度（単位面積当たりの出力）がピークすなわち軸上値の半分に落ちる角度として規定される。一般的なレーザビームは、約２０度までの拡がり角１２５をもとう。すなわち、レーザビームの個別光線は光軸１０２から最大で１０度の角度でもって全方向的に拡がりを持って出射する。しかしながら、対レーザ視覚安全の目的から、拡がり角１２５が１２度である最悪の筋書きを考察する。
【００１１】
ＶＣＳＥＬ１０１の光軸１０２は、ＶＣＳＥＬ１０１から約１．５ｍｍの距離１２０に位置するコリメートレンズ１０５とアライメントがとられている（aligned）。コリメートレンズ１０５は発散レーザビーム１０３を屈折し、光軸１０２とアライメントがとられた平行化レーザビーム１０６を生成する。発散レーザビーム１０３がコリメートレンズ１０５へ入射する前に１２度の拡がり角１２５を与えると、平行化レーザビーム１０６の直径は０．６２ｍｍとなる。かくして、さらなる調整なしで平行化レーザビーム１０６全体がテストアパーチャ１１５を簡単に通過することになる。ＶＣＳＥＬ１０１が発する出力は、それ故に０．７８ｍＷのＡＥＬに制限され、これでは小斑点に基づくモーションセンサ内での使用に適切な信号レベルを生み出すことはできない。それ故、平行化レーザビーム１０６は、以下に説明する如く、本発明の様々な実施形態に従うレンズ、プリズム、または回折格子のような別のビーム修正媒体１０７を通過させられる。
【００１２】
図２に示した実施形態では、ビーム修正媒体１０７は屈折合焦レンズ（refractive focusing lens）１０７である。平行化レーザビーム１０６は、光軸１０２に沿ってコリメートレンズ１０５から約１ｍｍ離間１２１させた合焦レンズ１０７を通過する。コリメートレンズ１０５と合焦レンズ１０７との間のこの１ｍｍの距離は通常、レンズ１０５，１０７を所定位置に保持するのに用いる光学基板の肉厚に等しい。合焦レンズ１０７は、光軸１０２に沿って合焦レンズ１０７から約１ｍｍの距離１２２離間した点１０８に平行化レーザビーム１０６を集束させる。集束させたレーザビーム１０９がターゲット１１０などの被写体を叩いたと仮定するならば、その反射は検出手段１１１により検出し得る小斑点パターンを生成する筈である。光学式マウスは通常マウスパッドや他の平坦面上に配置されるため、マウスパッドや面が適切なターゲット１１０として機能し、反射された小斑点パターンは光学式マウス内の検出手段１１１により検出することができる。
【００１３】
ターゲット１１０を取り除いた場合、すなわち光学式マウスポインティング装置を反射面から取り除いた場合、そのとき、集束レーザビーム１０９は焦点１０８を過ぎて横断し、続いて前へ発散することになる。仮に合焦レンズ１０７から約１４ｍｍの距離１２３にある点（対レーザ視覚安全規格に関するＡＥＬレベルを決めるＩＳＳＰＬが規定する人的アクセス最近接点）にてここでの発散レーザビーム１１３の光束を計測したとすると、発散レーザビーム１１３の一部だけが７ｍｍアパーチャ１１５を通過することになることが見出されよう。
【００１４】
図１に示した実施形態では、発散レーザビーム１１３の約２５％だけがアパーチャ１１５を通過する。アパーチャ１１５が光軸１０２に対し異なる角度へ移動（それは異なる角度から合焦レンズ１０７を覗き込むことに似ている）したとしても、概ね発散レーザビーム１１３の２５％だけがアパーチャ１１５を通過する最大量となろう。かくして、この特別な例では、ＶＣＳＥＬ１０１のＡＥＬレベルは３．０ミリワットほどに高くし得、しかも７ｍｍアパーチャ１１５を介して０．７５ミリワット（第１分類等級未満）の光束しか生成しない。
【００１５】
修正媒体を異ならしめ得る他の実施形態を熟慮する。例えば、図１の実施形態の場合のように合焦レンズ１０７を用いる代わりに、修正媒体１０７を回折合焦渦巻きレンズ（図１に図示せず）とすることができる。図２は、本発明の一実施形態による回析合焦渦巻きレンズ２００の平面図を示す。回折合焦渦巻きレンズ２００を用いて回析光を生成する幾つかの既知の方法が存在する。図２の回析合焦渦巻きレンズ２００は、同心エッジ微細構造レンズ２０１に半径方向エッジ微細構造レンズ２０２を重畳させることで生成してある。光、すなわち重畳されたレンズ２０１，２０２を通過した平行化レーザビーム１０６に対して生ずる効果により、光は「捩れ」て、光軸１０２に沿って回折合焦渦巻きレンズ２００から離れる。
【００１６】
回折合焦渦巻きレンズ２００を通過する光の捩れ特性が、光軸１０２に直交する平面３１５内のドーナツすなわち環状放射照度（ring-shaped irradiance）分布パターン３００の形成を生む。「円錐」に見えるこの現象が、図３に示してある。適切に設計した場合、すなわち念頭にある第１分類等級で設計した場合、アパーチャ１１５位置に対応する１４ｍｍ点における環状放射照度分布パターン３００の「円錐」の直径は、直径７ｍｍのアパーチャ１１５よりも若干大となろう。かくして、アパーチャ１１５を光軸１０２上に心合わせした場合、光は殆どあるいは全くそれを通過することはない。
【００１７】
しかしながら、人は必ずしも光軸１０２を直接覗くとは限らない。かくして、環状放射照度分布パターン３００の部分が眼に入ることがある。人が見る角度（光軸１０２からの変位として測定）によっては、光束量もまた変化しよう。図４は、光軸１０２からミリメートル半径内にある変位４０２の関数としてアパーチャ１１５を通過する光束の百分率４０１をプロットしたグラフを示す。最悪の場合の箇所４１０は、光軸１０２に対し垂直な方向にアパーチャ１１５を５ｍｍ変位させたときに発生する。しかしながら、任意の所与の箇所でアパーチャを通過する最大光束は２０％である。かくして、第１分類内に収まるようＶＣＳＥＬ１０１は最大４ミリワットまでのＡＥＬレベルをもたせることができる。
【００１８】
図５に示す別の実施形態では、修正媒体はビーム分割素子５００である。１つ以上のプリズムを含むビーム分割素子５００は、レーザビームの一部を異なる方向へ屈折させることで任意の所与の視角について７ｍｍアパーチャ１１５を通過する光束量を低減するよう用いられる。平行化レーザビーム１０６がビーム分割素子５００へ入射すると、平行化ビーム１０６は第１組の平行化レーザ光線５０１と第２組の平行化レーザ光線５０２へ分割される。本実施形態における適当な設計を用いることで二組の平行化レーザ光線５０１，５０２は十分大きな角度５１０で分岐し、平行化レーザ光線５０１，５０２の一方の組だけが任意の所与の視角において１４ｍｍ離間した７ｍｍアパーチャを通過することができる。かくして、任意の二組の平行化レーザ光線５０１，５０２の間の最小角度５１０は約２４．２度となる。このことで、ＶＣＳＥＬ１０１が見込むＡＥＬレベルを効果的に倍化し、依然として第１分類等級内にあるようにする。
【００１９】
ビーム分割素子５００は、平行化ビーム１０６を２つ以上の組の平行化レーザビームへ分割することができる。平行化レーザビーム１０６をｎ個の平行化レーザビームへ分割した場合、最大の許容ＡＥＬレベルはｎ倍される。図５に示した例では、ＡＥＬレベルは２×０．７８ミリワットすなわち１．５６ミリワットの最大ＶＣＳＥＬ出力に等しくなるよう計算される。他の可能なビーム分割装置５００には、回折素子やホログラフィック素子あるいは複屈折レンズが含まれる。
【００２０】
さらに別の実施形態では、修正媒体は図６Ａに図示した回折格子６００とすることができる。回折格子６００は、ガラス基板上のフォトレジスト層の二重露光、すなわちｘ方向露光６０１とｙ方向露光６０２を含む二次元回折素子である。二つの平行化ＵＶレーザビームが既知の角度でフォトレジスト面に入射する周知のホログラフィック露光法を、二次元回折格子６００の生成に用いる。本方法では、二つの等出力平行化紫外線（ＵＶ）レーザビームの干渉がビーム間の角度に依存する周期をもった正弦波強度パターンを生成する。角度が大きくなればなるほど、この周期はより小さくなる。第１の露光６０１が、ｘ方向に沿って正弦波位相回折格子の潜像を生成する。基板を９０度回転させた後、第２の露光６０２がｙ方向に沿って回折格子を生成する。最終結果は、フォトレジスト層パターンがｘ及びｙ方向にほぼ正弦波状溝形状をなす表面レリーフ回折格子となる二次元回折格子６００である。
【００２１】
平行化レーザビーム１０６がこの種の二次元回折格子６００を通過する際、平行化レーザビーム１０６は発散レーザビーム６１５のアレイへ回折され、これらのビームが様々な角度で二次元回折格子６００から出射する。仮に発散レーザビーム６１５を視認用の遠隔壁に表示したとするならば、光スポット６１６のアレイが図６Ｂに示したものの如く見られる筈である。この説明目的に合わせ、スポット６１６は（０，０）における非回折レーザビーム６２０からのスポットから始まる単純なｘ−ｙ軸でもって標識付けしてある。右側に対する第１の発散レーザビーム６２１からの点は、（１，０）などである。ディスプレイ壁とレーザ光源との間の距離がより大きくなるにつれ、スポット間の距離もまたより大きくなる。
【００２２】
発散レーザビーム６１５間の角度は、二次元回折格子６００の周期により決まる。角度分離はｘ方向におよそλ／Λxであり、ここでΛxはｘ回折格子６０１の周期、λはレーザの波長である。ｙ回折格子６０２に対する回折角度についても、同じことが言える。
【００２３】
一例として、Λが１５ミクロンであり、平行化ビーム１０６の波長が８５０ｎｍである場合、そのときは回折格子次数間の角度は５６．７ミリラジアンすなわち約３．２５度である。図６Ｂは、等しいｘ回折格子６０１とｙ回折格子６０２の周期に関する回折パターンを示す。より高次の光束６５０は回折次数とともに次第に減少し、より高次の光束６５０は二次元回折格子６００の法線から９０度近く外れて延びる。（ｐ，ｑ）次に回折される部分出力は、下記式に示すことができる（Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｍａｎ著、Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｔｏ  Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｏｐｔｉｃｓ（フーリエ光学序説）、マグローヒル（ＭｃＧｒａｗ  Ｈｉｌｌ）、１９６８年参照）。
【００２４】
【数１】
2004246360.tif 000003
【００２５】
ここで、Ｊは次数ｐ又はｑの第１種ベッセル関数であり、ｍは溝の深さに比例する二次元回折格子６００のピーク・ツゥ・ピーク位相遅延である。本実施形態では、ｘ回折格子６０１とｙ回折格子６０２の溝の深さは同じであるが、他の実施形態ではそれらを異ならしめることができる。ｍ＝８ラジアンの場合、そのときは零次レーザビーム中の最大光束（非回折レーザビーム６２０）は平行化レーザビーム１０６の光束の約２．５％となる。次数（０，１），（１，０），（０，−１），（−１，０）中の光束６２１は、平行化レーザビーム１０６の光束の約０．０７％となる。次数（１，１），（１，−１），（−１，１），（−１，−１）では、光束は平行化レーザビーム１０６の光束の約０．００１９％となる。深い溝は、光束を多くのより高い次数のレーザビーム６５０に拡散させる。二次元回折格子６００をより浅く製作した場合、すなわちｍを減らした場合、そのときはより低次の光束が生起しよう。例えば、ｍを２に減らすことで、零次レーザビーム６２０の光束は平行化レーザビーム１０６の３４％へ増大する。
【００２６】
図１のシステム内の修正媒体として二次元回折格子６００を用いる利点は、発散レーザビーム６１５間の角度が十分であるよう空間周波数を設計することで、通常は数次の回折のうちの一つだけが７ｍｍアパーチャ１１５を通過できる点にある。それ故、二次元回折格子６００から１４ｍｍ離間する７ｍｍのアパーチャにとって、発散レーザビーム６１５間の角度は概ね２４．２度よりも大である。たとえ発散レーザビーム６１５間の角度が２４．２度未満であって、複数の発散レーザビーム６１５が７ｍｍのアパーチャ内に進入したとしても、発散レーザビーム６１５が人の眼に損傷を与えることは依然として有りえないであろう。その理由は、発散レーザビーム６１５が網膜上の単一スポットではなく、スポット６１６のアレイ上に合焦するからである。眼の損傷は通常網膜の局部加熱により引き起こされるため、光線をスポット６１６のアレイへ拡散することで眼の損傷可能性を低減し、かくしてＶＣＳＥＬ１０１に関する最大の許容可能ＡＥＬレベルが増すことになる。
【００２７】
発散レーザビーム６１５の一つだけが任意の入射角度でアパーチャ１１５を通過するため、最も強力な発散レーザビーム６１５（非回折レーザビーム６２０（０，０））を視覚安全規格について考慮する必要があり、何故なら他の全ての発散レーザビーム６１５はより低い大きさを有するからである。かくして、ｍ＝８の回折格子変調については、非回折レーザビーム６２０の光束は前述の如く平行化レーザビーム１０６の光束の約２．５％である。それ故、本実施形態におけるＶＣＳＥＬ１０１に関する許容可能ＡＥＬレベルは、第１分類等級の４０倍であってよい。たとえｍ＝２であっても、ＶＣＳＥＬ１０１に関するＡＥＬレベルは第１分類等級の約３倍であってよい。
【００２８】
図７は、本発明の一実施形態による図１の装置を組み込んだ光学式マウス７４２を含む汎用コンピュータシステム７２０のブロック図である。コンピュータシステム７２０（例えば、パーソナルあるいはサーバ）は、１つ以上の処理装置７２１とシステムメモリ７２２とシステムバス７２３を含む。システムバス７２３は、システムメモリ７２２を含む様々なシステム構成要素を処理装置７２１へ結合している。システムバス７２３は、様々なバス技術のいずれかを用いた、メモリバス、周辺バス、およびローカルバスを含む幾つかの種類のバスのうちのいずれかとすることができる。システムメモリ７２２には通常、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）７２４およびランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）７２５が含まれる。コンピュータシステム７２０内の構成要素間で情報を伝達するのに役立つ基本ルーチンを含むファームウェア７２６もまた、システムメモリ７２２内に収容してある。コンピュータシステム７２０にはさらに、同様にシステムバス７２３に接続されるハードディスクドライブシステム７２７を含めることができる。その上、光ドライブ（図示せず）やＣＤ−ＲＯＭドライブ（図示せず）やフレキシブルディスクドライブ（図示せず）も同様に、個々のドライブコントローラ（図示せず）を介してシステムバス７２３に接続することができる。
【００２９】
ユーザは、キーボード７４０や光学式マウス７４２といった入力装置を介してコンピュータシステム７２０へコマンドや情報を入力することができる。図示していない他の装置と同様、これらの入力装置は通常、シリアルポートインタフェース７４６を介してシステムバス７２３に接続される。他のインタフェース（図示せず）は、ユニバーサルシリアルバス（ＵＳＢ）やパラレルポート７４８を含む。モニタ７４７や他種のディスプレイ装置を、グラフィックスカード７８９などのインタフェースを介してシステムバス７２３に接続することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の一実施形態による合焦レンズを用いたレーザビーム修正装置を示す図である。
【図２】本発明の一実施形態による、回折合焦渦巻きレンズ、あるいは図１の装置内での使用を示す平面図である。
【図３】本発明の一実施形態による図２の回析合焦渦巻きレンズを用いたレーザビームの修正から得られる環状放射照度分布パターンの直交図である。
【図４】本発明の一実施形態による図２の回析合焦渦巻きレンズの使用時にアパーチャを通過する光束のアパーチャ変位に対する百分率のグラフ図である。
【図５】本発明の一実施形態によるビーム分割装置を用いたレーザビーム修正装置を示す図である。
【図６Ａ】本発明の一実施形態による図１の装置に用いる二次元回析格子の平面図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態による図６Ａの二次元回析格子を通過するレーザビームから生じる発散レーザビームアレイのプロット図である。
【図７】本発明の一実施形態による図１の装置を組み込んだ光学式マウスを含む汎用コンピュータシステムのブロック図である。
【符号の説明】
【００３１】
１０１：垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）
１０５：コリメートレンズ
１０７：ビーム修正媒体
１１０：ターゲット
１１１：検出手段
１１５：アパーチャ
【図１】
2004246360.tif 000004
【図２】
2004246360.tif 000005
【図３】
2004246360.tif 000006
【図４】
2004246360.tif 000007
【図５】
2004246360.tif 000008
【図６Ａ】
2004246360.tif 000009
【図６Ｂ】
2004246360.tif 000010
【図７】
2004246360.tif 000011