(57)【要約】【課題】雰囲気温度の変化による画像劣化を防止することが可能な高品質の走査光学装置を提供する。【解決手段】ビーム合成プリズム３は、レーザ光源１ａ，１ｂとコリメータレンズ２ａ，２ｂとを保持する中間ホルダ５に回動可能に支持されている。【選択図】　図１
2004145043.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光束を発する光源手段と、
前記光源手段から出射したレーザ光束を偏向する偏向手段と、
前記偏向手段によって偏向されたレーザ光束を被走査面上に結像する結像手段と、を備えた走査光学装置において、
前記光源手段は、レーザ光源と、該レーザ光源から出射したレーザ光束が入射するレンズとの組を複数有すると共に、該複数のレンズから出射した複数の光束を略同一方向に出射するように合成するビーム合成手段と、少なくとも前記レーザ光源と前記レンズと保持する枠体とを有し、
前記ビーム合成手段は、前記枠体に回動可能に支持されていることを特徴とする走査光学装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シート等の記録媒体上に画像を形成する機能を備えた、例えば、複写機、プリンタ、あるいは、ファクシミリ装置などの画像形成装置に備えられる走査光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
レーザプリンタやデジタル複写機の高速化の要求に対応する為、近年、複数の走査線を同時に感光体上に走査させるマルチビーム走査光学装置が実現されている。それに搭載されているマルチビーム光源装置は、例えば特開平１１−９５１３９号公報に開示されているような物である。その概要を図１３を用いて説明する。
【０００３】
同図において、１０１，１０２はレーザ光源、１０３，１０４はコリメータレンズ、１０５２はビーム合成プリズム、６１はベースである。
【０００４】
ここで、レーザ光源１０１，１０２から出射したレーザ光束はコリメータレンズ１０３，１０４によって平行光束に変換され、ビーム合成プリズム１０５２に入射して略同一方向に出射される。
【０００５】
また、ビーム合成プリズム１０５２は、ベース６１から突出した板状基部６２に接着固定されている。また、コリメータレンズ１０３，１０４は、取付け孔６３，６４に取り付けられたレーザ光源１０１，１０２との位置調整がなされた後、板状基部６２に接着固定される。
【０００６】
また、このマルチビーム光源装置は、これが搭載される不図示のマルチビーム走査光学装置上で、図のＸ軸回りに回転可能になっており、この回転によって不図示の感光体上の走査線の間隔を調整している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような従来技術の場合には、下記のような問題が生じていた。
【０００８】
熱変形によってベース６１が変形すると、板状基部６２が倒れ、ビーム合成プリズムがその長手方向に平行な軸回りに回転するように動いてしまう。すると、走査線の間隔が狂ってしまう。
【０００９】
本発明は上記の従来技術の課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、雰囲気温度の変化による画像劣化を防止することが可能な高品質の走査光学装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明にあっては、
レーザ光束を発する光源手段と、
前記光源手段から出射したレーザ光束を偏向する偏向手段と、
前記偏向手段によって偏向されたレーザ光束を被走査面上に結像する結像手段と、を備えた走査光学装置において、
前記光源手段は、レーザ光源と、該レーザ光源から出射したレーザ光束が入射するレンズとの組を複数有すると共に、該複数のレンズから出射した複数の光束を略同一方向に出射するように合成するビーム合成手段と、少なくとも前記レーザ光源と前記レンズと保持する枠体とを有し、
前記ビーム合成手段は、前記枠体に回動可能に支持されていることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、この発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状それらの相対配置などは、発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるべきものであり、この発明の範囲を以下の実施の形態に限定する趣旨のものではない。
【００１２】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態に係る光源手段としてのマルチビーム光源装置を示す分解斜視図である。
【００１３】
同図において、１ａ，１ｂはレーザ光源、２ａ，２ｂはコリメータレンズ、３はビーム合成手段としてのビーム合成プリズム、４は光源ホルダ、５は枠体としての中間ホルダ、６はプリズムホルダ（支持部材）であり、ビーム合成プリズム３が接着などによって固定されている。
【００１４】
７ａ，７ｂは押えバネ（付勢部材）、８は調整ネジ、９は本マルチビーム光源装置が搭載されるマルチビーム走査光学装置の筐体である。
【００１５】
ここで、プリズムホルダ６は略円筒状をしており、両端に回転軸（軸部）６ａが突出している。中間ホルダ５は、コリメータレンズ２ａ，２ｂの光軸方向（図１のＸ方向）下流側に開いた略Ｖ字形状をしたＶ溝軸受け（軸受け部）５ａを持つと共に、その近傍に光軸と略直交方向に延びた取り付け面５ｂを持ち、本マルチビーム光源装置が搭載されるマルチビーム走査光学装置の筐体９の側壁９ａに取り付いている。
【００１６】
図２に本実施の形態に係るマルチビーム光源装置の概略断面図を示す。
【００１７】
ここで、レーザ光源１ａから出射したレーザ光束Ｌａはコリメータレンズ２ａを通り、収束又は発散した光束に変換され、ビーム合成プリズム３に入射する。ビーム合成プリズム３は反射面３ａとハーフミラー面３ｂを持っており、レーザ光束Ｌａは反射面３ａ、ハーフミラー面３ｂで方向を変えられ、レーザ光束Ｌａ’として装置外に出射される。
【００１８】
一方、レーザ光源１ｂから出射したレーザ光束Ｌｂは、コリメータレンズ２ｂを通り、収束又は発散した光束に変換され、ビーム合成プリズム３に入射し、ハーフミラー面３ｂを透過して、レーザ光束Ｌａ’と略同一方向の光束Ｌｂ’として装置外に出射される。
【００１９】
図３は、本実施の形態に係る走査光学装置として、本マルチビーム光源装置が搭載されるマルチビーム走査光学装置を示す。
【００２０】
同図において、３１は本実施の形態に係るマルチビーム光源装置、３２はシリンドリカルレンズ、３３は偏向手段としてのポリゴンミラー、３４は１つ又は複数で構成される結像手段としての走査レンズ、３５は反射鏡、３６は同期検知レンズ、３７は同期検知センサ、３８は被走査面であって、画像形成装置に備えられる像担持体としての感光体ドラムである。
【００２１】
ここで、マルチビーム光源装置３１から出射したレーザ光束Ｌａ’，Ｌｂ’はシリンドリカルレンズ３２によってポリゴンミラー３３の反射面上に横に長い線像として結像される。ポリゴンミラー３３はスキャナモータ３３ａによって回転駆動されてレーザ光束Ｌａ’，Ｌｂ’を走査し、走査されたレーザ光束Ｌａ’，Ｌｂ’は走査レンズ３４によって感光体ドラム３８上にそれぞれ走査線Ｓａ，Ｓｂを形成する。
【００２２】
ここで、走査線Ｓａ，Ｓｂの間隔ｄは、本マルチビーム走査光学装置が搭載される画像形成装置の出力解像度によって決定され、例えば６００ｄｐｉであれば４２．３μｍである必要がある。そこで、本実施の形態のマルチビーム光源装置３１では、ビーム合成プリズム３を主走査方向に平行な軸回りに回転させることによって走査線Ｓａ，Ｓｂの間隔ｄを調整している。ここで、主走査方向とは、図３の矢印Ｍｓｄ方向のことである。
【００２３】
以下にこの調整の原理を示す。
【００２４】
尚、以下の説明ではコリメータレンズ２ａ，２ｂから出射したレーザ光束を収束光として説明するが、発散光でも基本的に同じである。
【００２５】
本調整は、シリンドリカルレンズ３２へ入射するレーザ光束の高さを各々で変えることによって感光体ドラム３８上の走査線Ｓａ，Ｓｂの間隔ｄが変わるのを利用している。
【００２６】
それについて図４を用いて説明する。
【００２７】
図４（ａ），（ｂ）は副走査断面の図であり、同図において、Ｒはコリメータレンズ２ａ（乃至２ｂ）から出射された収束光束を示し、この光束Ｒは図４（ａ）に示す様に、シリンドリカルレンズ３２から距離Ｓｄの位置に結像するような収束光束となっている。シリンドリカルレンズ３２の副走査方向の焦点距離をｆｓとすると、シリンドリカルレンズ３２に入射した収束光束Ｒはシリンドリカルレンズ３２から距離Ｓｋの位置に結像する（ここがポリゴンミラー３３の反射面になる）。
【００２８】
ここで、Ｓｄ，ｆｓ，Ｓｋの間には、
【数１】
2004145043.tif 000003
なる関係が成り立つ。
【００２９】
ここで、図４（ｂ）の様にシリンドリカルレンズ３２に入射する光束Ｒが副走査方向にδＺ１だけずれて入射した場合、その光束の距離Ｓｋにおける副走査方向の結像点位置δＺ２は、図から明らかに、
【数２】
2004145043.tif 000004
の関係が成り立っているから、
【数３】
2004145043.tif 000005
だけずれることになる。
【００３０】
このとき、走査レンズ３４の副走査方向の倍率をβとすると、感光体ドラム３８上では、β×δＺ２だけずれることになるので、これが所望の値（６００ｄｐｉであれば４２．３μｍ）になる様に一方のレーザ光源から出射したレーザ光束のシリンドリカルレンズ３２に入射する高さを変えてやればよい。
【００３１】
本実施の形態では、シリンドリカルレンズ３２に入射する光束の高さを変えるのをビーム合成プリズム３の主走査方向に平行な軸回りの回転によって行っている。その原理を図５を用いて説明する。
【００３２】
図５はマルチビーム光源装置の光学部品のみを取り出して描いており、（ａ）は主走査方向断面を、（ｂ），（ｃ）は副走査方向の断面を示している。また、（ｂ）はビーム合成プリズム３を回転させない状態を、（ｃ）は主走査方向に平行な軸回りに角度θだけ回転させた状態を示している。尚、３３ｂはポリゴンミラー３３の反射面を示す。
【００３３】
図５（ｂ）の状態では、レーザ光源１ａ，１ｂ各々から発したレーザ光束は重なっており、ポリゴンミラー３３の反射面３３ｂ上に、副走査方向は同じ位置に結像する。
【００３４】
一方、図５（ｃ）のようにビーム合成プリズム３が回転した場合には、レーザ光源１ｂから発し、コリメータレンズ２ｂによって収束光とされたレーザ光束はビーム合成プリズム３の屈折作用により下方に出射してシリンドリカルレンズ３２に入射し、反射面３３ｂ上のδＺｂだけずれた位置３９ｂに結像する。
【００３５】
一方、レーザ光源１ａから出射しコリメータレンズ２ａによって収束光とされたレーザ光束は、ビーム合成プリズム３の入射面３ｃの屈折作用によって下方に折り曲げられる。次に、反射面３ａによって上方に反射される。更にハーフミラー面３ｂによって下方に反射され、最後に出射面３ｄにより屈折されて最終的にビーム合成プリズム３に入射した時と同じ角度で出射される。
【００３６】
この時、ビーム合成プリズム３の反射面３ａからハーフミラー面３ｂまでの距離が長いために、ビーム合成プリズム３から出射されるレーザ光束は上方にずれて出射し、反射面３３ｂ上ではδＺａだけ上にずれた位置３９ａに結像する。
【００３７】
すると、２本の収束光束は副走査方向にδＺ＝δＺｂ＋δＺａだけ相対的にずれることになる。また、このずれ量δＺは、ビーム合成プリズム３の回転角θによって変化し、同時に感光体ドラム３８上の走査線の間隔ｄも変化する。
【００３８】
そこで、感光体ドラム３８上の走査線Ｓａ，Ｓｂの間隔ｄが所望の値になるようにビーム合成プリズム３を回転させて調整を行う。
【００３９】
次に、ビーム合成プリズム３の調整方法について述べる。
【００４０】
図６は、本マルチビーム光源装置を横から見た図である。
【００４１】
同図の様に、プリズムホルダ６の回転軸６ａは、中間ホルダ５のＶ溝軸受け５ａに設置され、押えバネ７ａ，７ｂでＶ溝軸受け５ａ方向に付勢されて支持されており、回転軸６ａの中心（図のＣ）を中心として矢印Ａ方向（走査線の間隔調整可能な方向）に回転可能とされている。
【００４２】
また、プリズムホルダ６からは、突起部６ｂが突出しており、ここに調整ネジ８の先端が当っており、また押えバネ７ａには図７に示す様にアーム７ｃが突出しており、調整ネジ８とアーム７ｃによってプリズムホルダ６の突起部６ｂを挟み込んでいる。
【００４３】
そして、調整ネジ８を回転させることによって、プリズムホルダ６は矢印Ａ方向に回転し、これに固定されたビーム合成プリズム３も一体に回転して、走査線の間隔調整がなされる。
【００４４】
ここで、本実施の形態の特徴は、ビーム合成プリズム３は、レーザ光源１ａ，１ｂとコリメータレンズ２ａ，２ｂとを保持する中間ホルダ５に回動可能に支持されていることである。
【００４５】
そして、中間ホルダ６のＶ溝軸受け５ａがコリメータレンズ２ａ，２ｂの光軸方向（下流側）に開いており、少なくともポリゴンミラー（偏向手段）３３と走査レンズ（結像手段）３４とを内包するマルチビーム走査光学装置の筐体９に固定される取り付け面５ｂが、Ｖ溝軸受け５ａの近傍に、コリメータレンズ２ａ，２ｂの光軸方向と略直交して設けられていることである。
【００４６】
これにより、ビーム合成プリズム３の位置決め部分を高剛性にすることが出来、例えば周囲の雰囲気温度が変わって、筐体９の側壁９ａが図８に示す様に（ａ）の状態から（ｂ）の様に倒れても、マルチビーム光源装置３１は一体で倒れるだけであり、走査線の間隔が変化することは無い。
【００４７】
従って、雰囲気温度の変化による画像劣化を防止することが可能となる。
【００４８】
また、本実施の形態のもう一つの特徴は、ビーム合成プリズム（ビーム合成手段）３は、両端に略円筒形状の回転軸（軸部）６ａを有するプリズムホルダ（支持部材）６に固定され、回転軸６ａは、中間ホルダ（枠体）５に設けられたＶ溝軸受け５ａに回動可能に、コリメータレンズ２ａ，２ｂの光軸方向に付勢されている。
【００４９】
このように、プリズムホルダを略円筒形状としたことによって、ビーム合成プリズム３の左右の回転軸６ａの同軸度を高精度にすることが出来る。
【００５０】
これにより、ビーム合成プリズム３を回転させる時に１軸回転のみに保ち、余計な運動をすることを防ぎ、簡易な方法で精度良く走査線の間隔調整を行うことが出来る。
【００５１】
図９は、本実施の形態の変形例である。
【００５２】
この例では、少なくともポリゴンミラー（偏向手段）３３と走査レンズ（結像手段）３４とを内包するマルチビーム走査光学装置の筐体８１が、マルチビーム光源装置の中間ホルダ（枠体）５を兼ねるものである。
【００５３】
図に示すように、マルチビーム走査光学装置の筐体８１の側壁８１ｂからＶ溝軸受け８１ａが突出している。尚、Ｖ溝軸受け８１ａは前述と同様コリメータレンズ２ａ，２ｂの光軸方向に開いている。
【００５４】
また、光源ホルダ４は、筐体８１の側壁８１ｂに、Ｖ溝軸受け８１ａと反対側から取り付けられている。
【００５５】
また、プリズムホルダ６の回転軸６ａが押えバネ８２によってＶ溝軸受け８１ａに回転可能に付勢されている。８３はプリズムホルダ６の突起部６ｂを調整ネジ８に付勢する為のコイルバネである。その他の構成や、ビーム合成プリズム３の調整方法については前述した実施の形態と同様である。
【００５６】
この変形例においては、前述の効果に加えて、中間ホルダが無くて済む為に、コストダウンが図れるという利点がある。
【００５７】
（第２の実施の形態）
図１０は、本発明の第２の実施の形態を表す分解斜視図である。同図において、９１ａ，９１ｂはレーザ光源であって複数のレーザ発光点を持つ（レーザ光束を出射する発光点を複数個有する）マルチビーム光源、９２はレーザ基台、９３は光源ホルダである。その他の構成については第１の実施の形態と同様であり、同様の構成部分については同一の符号を付して、その説明は省略する。
【００５８】
ここで、レーザ基台９２はマルチビーム光源９１ａ，９１ｂが圧入される圧入穴９２ａと、圧入穴９２ａと同軸に設けられた嵌合軸９２ｂを持っており、光源ホルダ９３は嵌合軸９２ｂが嵌合される嵌合穴９３ａを持っている。また、嵌合穴９３は、コリメータレンズ２ａ乃至２ｂの光軸上に設けられている。
【００５９】
そして、レーザ基台９２はマルチビーム光源９１ａ，９１ｂを予め圧入した状態で、嵌合軸を中心に（つまりコリメータレンズの光軸を中心に）回動調整され、光源ホルダ９３にネジ９４で固定される。
【００６０】
すなわち、マルチビーム光源（レーザ光源）９１ａ，９１ｂは、レーザ光束を出射する発光点を複数個有するものであって、コリメータレンズ２，２ｂの光軸を中心に回動可能となっており、レーザ基台９２がマルチビーム光源（レーザ光源）９１ａ，９１ｂを回動可能に支持している。
【００６１】
この回転調整の理由について説明する。
【００６２】
図１１はマルチビーム光源９１ａ，９１ｂをレーザの出射側から見た図であり、同図において、１１１はレーザチップであり、１１２ａ，１１２ｂはレーザチップ１１１上に設けられた発光点であり、ここからレーザ光束を発する。
【００６３】
ここで、発光点１１２ａ，１１２ｂの間隔Ｄは、一般的に１００μｍ程度以上必要である。これは、間隔Ｄが狭すぎると隣の一方の発光点の発光による発熱が他方の発光点に影響を及ぼし、発光光量のふらつき、所謂熱的クロストークを生じるからである。
【００６４】
そこで、この発光点の間隔を維持しつつ、各発光点１１２ａ，１１２ｂから発するレーザ光束によって感光体ドラム３８上に走査する走査線の間隔を所望の値（６００ｄｐｉであれば４２．３μｍ）にする為に、レーザチップを主走査方向に傾けて配置する。
【００６５】
本実施の形態においては、マルチビーム光源９１ａ，９１ｂをレーザ基台９２ごと、コリメータレンズ２ａ，２ｂの光軸を中心に回転させ（図の矢印Ｘ方向）、感光体ドラム３８上の走査線の間隔が所望の値になるように調整を行っている。
【００６６】
尚、この回転角θは、発光点１１２ａ、１１２ｂの間隔をＤ、感光体３８上の走査線の間隔をｈ、マルチビーム走査光学装置の副走査方向の倍率をβ’とすると、
【数４】
2004145043.tif 000006
で与えられる。
【００６７】
次に、本実施の形態の走査線の間隔調整の手順について図１２を用いて説明する。
【００６８】
同図は、感光体３８上の各発光点からのレーザ光束によって形成されるビームスポットを示し、１２１ａ，１２１ｂがマルチビーム光源９１ａ、１２２ａ，１２２ｂがマルチビーム光源９１ｂからのレーザ光束によるビームスポットである。１２３は理想的な走査線を表し、ｈはその間隔である。
【００６９】
ここで、図１２（ａ）は、調整前の状態を示す。
【００７０】
まず、図１２（ａ）の状態から、レーザ基台９２を回転させ、ビームスポットの副走査方向の間隔ｈ１，ｈ２が２×ｈになるように調整を行い、レーザ基台９２をネジ９４で光源ホルダ９３に固定する。図１２（ｂ）のがその状態である。
【００７１】
次に、調整ねじ８を回し、ビーム合成プリズム３を回転させる。すると、ビームスポット１２１ａ，１２１ｂは共に図の上方向に、１２２ａ，１２２ｂは共に下方向に移動し、最終的に図１２（ｃ）の様に、全てのビームスポットが理想的な走査線１２３上に載るようにして、調整を終わる。
【００７２】
上記の様に、マルチビーム光源を複数個用いて多ビーム化を行う場合、走査線の間隔調整をビーム合成プリズム３の回転のみで行おうとすると、図１２の（ａ）から（ｂ）に示した調整が行えない為、完全に調整することが出来ない。
【００７３】
また、この代わりに１本のレーザ光束しか発しないレーザ光源を多数用いて多ビーム化を行おうとすると、ビーム合成プリズム３が複数必要であり、装置の大型化と大幅なコストアップが生じる。
【００７４】
このように、マルチビーム光源装置全体を回転させることによる走査線の間隔調整は個々のレーザ光源から出射するビームが一本ずつなら可能だが、各レーザ光源として、複数本のビームが出射できるマルチビーム光源を用い、更なる多ビーム化を行った場合には、個々のマルチビーム光源の発光点間隔誤差などによる走査線の間隔ずれが残り、完全な走査線の間隔調整が出来ない。
【００７５】
しかし、本実施の形態によれば、マルチビーム光源各々で走査線の間隔調整を行い、かつビーム合成プリズム３の回転によってマルチビーム光源間の走査線の間隔調整を行うので、非常に高精度でかつコンパクトな多ビーム光源装置が実現出来る。
【００７６】
また、第１の実施の形態に示した変形例と同様に本実施の形態においても、中間ホルダ５を廃し、Ｖ溝軸受けをマルチビーム走査光学装置の筐体に設けても良い。
【００７７】
以下に、本発明の実施態様を示す。
（実施態様１）
レーザ光束を発する光源手段（マルチビーム光源装置３１）と、
前記光源手段から出射したレーザ光束を偏向する偏向手段（ポリゴンミラー３３）と、
前記偏向手段によって偏向されたレーザ光束を被走査面（感光体ドラム３８）上に結像する結像手段（走査レンズ３４）と、を備えた走査光学装置において、
前記光源手段は、レーザ光源と、該レーザ光源から出射したレーザ光束が入射するレンズとの組を複数有すると共に、該複数のレンズから出射した複数の光束を略同一方向に出射するように合成するビーム合成手段（ビーム合成プリズム３）と、少なくとも前記レーザ光源と前記レンズと保持する枠体（中間ホルダ５）とを有し、
前記ビーム合成手段は、前記枠体に回動可能に支持されていることを特徴とする走査光学装置。
【００７８】
（実施態様２）
前記ビーム合成手段は、両端に軸部（回転軸６ａ）を有する略円筒形状の支持部材（プリズムホルダ６）に固定され、該軸部は、前記枠体に設けられた軸受け部（Ｖ溝軸受け５ａ）に、前記レンズの光軸に直角な方向に回転可能に付勢されていることを特徴とする実施態様１に記載の走査光学装置。
【００７９】
（実施態様３）
前記走査光学装置が、少なくとも前記偏向手段と、前記走査レンズとを内包する筐体８１を有し、前記光源手段は、前記軸受け部の近傍に設けられ前記レンズの光軸に直角方向に延びた取り付け面５ｂによって前記走査光学装置の筐体８１に固定されていることを特徴とする実施態様１または２に記載の走査光学装置。
【００８０】
（実施態様４）
前記光源手段の枠体が、少なくとも前記偏向手段と、前記走査レンズとを内包する走査光学装置の筐体を兼ねていることを特徴とする実施態様１または２に記載の走査光学装置。
【００８１】
（実施態様５）
前記レーザ光源は、レーザ光束を出射する発光点を複数個有するものであって、前記レーザ光源は前記レンズの光軸回りに回転可能であることを特徴とする実施態様１，２，３または４に記載の走査光学装置。
【００８２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、雰囲気温度の変化による画像劣化を防止することが可能な高品質の走査光学装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るマルチビーム光源装置を説明する分解斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係るマルチビーム光源装置を説明する断面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係るマルチビーム光源装置が搭載されるマルチビーム走査光学装置を説明する斜視図である。
【図４】走査線間隔の調整原理を説明する図である。
【図５】走査線間隔の調整原理を説明する図である。
【図６】走査線間隔の調整方法を説明する図である。
【図７】走査線間隔の調整方法を説明する図である。
【図８】熱変形の様子を説明する図である。
【図９】第１の実施の形態に係るマルチビーム走査光学装置の変形例を説明する斜視図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態に係るマルチビーム光源装置を説明する分解斜視図である。
【図１１】マルチビーム光源を説明する図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態の走査線間隔調整方法を説明する図である。
【図１３】従来例を説明する図である。
【符号の説明】
１ａ，１ｂ　レーザ光源
２ａ，２ｂ　コリメータレンズ
３　ビーム合成プリズム
３ａ　反射面
３ｂ　ハーフミラー面
４　光源ホルダ
５　中間ホルダ
５ａ　Ｖ溝軸受け
５ｂ　取り付け面
６　プリズムホルダ
６ａ　回転軸
６ｂ　突起部
７ａ，７ｂ　押えバネ
７ｃ　アーム
８　調整ネジ
９　筐体
９ａ　側壁
３１　マルチビーム光源装置
３２　シリンドリカルレンズ
３３　ポリゴンミラー
３４　走査レンズ
３５　反射鏡
３６　同期検知レンズ
３７　同期検知センサ
３８　感光体ドラム
９１ａ，９１ｂ　マルチビーム光源
９２　レーザ基台
９２ａ　圧入穴
９２ｂ　嵌合軸
９３　光源ホルダ
９３ａ　嵌合穴
【図１】
2004145043.tif 000007
【図２】
2004145043.tif 000008
【図３】
2004145043.tif 000009
【図４】
2004145043.tif 000010
【図５】
2004145043.tif 000011
【図６】
2004145043.tif 000012
【図７】
2004145043.tif 000013
【図８】
2004145043.tif 000014
【図９】
2004145043.tif 000015
【図１０】
2004145043.tif 000016
【図１１】
2004145043.tif 000017
【図１２】
2004145043.tif 000018
【図１３】
2004145043.tif 000019