(57)【要約】【課題】露光処理に必要なマスクの自動搬送を行うと共に露光処理に必要なマスクの管理を行うことができる露光システムを提供する。【解決手段】露光処理に用いるマスクを収容するマスクストッカ１と、マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置と、マスクストッカに収容されているマスクを露光装置に搬送する搬送装置５と、マスクストッカ、露光装置及び搬送装置の制御を行うホストコンピュータ６とを備える露光システムにおいて、露光装置は、露光処理に用いるマスクを受け入れ可能かどうかの空き情報を含むマスク管理情報を記憶する記憶部を備えると共に、ホストコンピュータと接続された第１通信部を介して該マスク管理情報を必要に応じホストコンピュータに通信し、ホストコンピュータは、第１通信部を介してマスク管理情報を受信し、露光装置に対して露光処理に用いるマスクのマスク情報及び露光条件情報を通信すると共に、マスクストッカ及び搬送装置に対して接続された第２通信部を介してマスク情報を送信する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光処理に用いるマスクを収容するマスクストッカと、
前記マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置と、
前記マスクストッカに収容されている前記マスクを前記露光装置に搬送する搬送装置と、
前記マスクストッカ、前記露光装置及び前記搬送装置の制御を行うホストコンピュータと
を備える露光システムにおいて、
前記露光装置は、前記露光処理に用いるマスクを受け入れ可能かどうかの空き情報を含むマスク管理情報を記憶する記憶部を備えると共に、前記ホストコンピュータと接続された第１通信部を介して該マスク管理情報を必要に応じ前記ホストコンピュータに通信し、
前記ホストコンピュータは、前記第１通信部を介して前記マスク管理情報を受信し、前記露光装置に対して前記露光処理に用いるマスクのマスク情報及び露光条件情報を通信すると共に、前記マスクストッカ及び前記搬送装置に対して接続された第２通信部を介して前記マスク情報を送信することを特徴とする露光システム。
【請求項２】
前記マスク管理情報は、前記露光装置内に存在するマスクの使用情報、検査情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光システム。
【請求項３】
前記ホストコンピュータは、前記マスク管理情報に基づいて、前記露光装置に対して前記露光処理に用いるマスクの搬送、又は前記露光装置に不要なマスクの回収を判断する搬送判断部を備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光システム。
【請求項４】
前記露光装置は、前記マスク管理情報に基づき、該マスク管理情報に含まれるマスクが前記露光処理に使用できるか否かを判断するマスク判断部を備え、前記マスク判断部により使用不可能と判断された場合、使用不可能なマスクの回収又は代替マスクの要求を前記ホストコンピュータに通信することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項５】
ホストコンピュータに接続されて運用を管理され、マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置において、
前記露光処理に用いるマスクを受け入れ可能かどうかの空き情報を含むマスク管理情報を記憶する記憶部と、
該マスク管理情報を必要に応じて通信するための前記ホストコンピュータと接続された通信部を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記マスク管理情報は、前記露光装置内に存在するマスクの使用情報、検査情報を含むことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記マスク管理情報に基づき、該マスク管理情報に含まれるマスクが前記露光処理に使用できるマスクかどうかを判断するマスク判断部を備えることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記マスク管理情報に含まれた前記検査情報に基づき、前記ホストコンピュータに対して検査結果ＮＧのマスクの回収を通信することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド、その他のマイクロデバイスの製造工程において用いられる露光システム及び露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
マイクロデバイスの一つである液晶表示素子は、通常、ガラス基板（プレート）上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターニングして、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のスイッチング素子及び電極配線を形成して製造される。このフォトリソグラフィの手法を用いた製造工程では、マスク上に形成された原画となるパターンを、投影光学系を介してフォトレジスト等の感光剤が塗布されたプレート上に投影露光する投影露光装置が用いられている。
【０００３】
従来は、マスクとプレートとの相対的な位置合わせを行った後で、マスクに形成されたパターンをプレート上に設定された１つのショット領域に一括して転写し、転写後にプレートをステップ移動させて他のショット領域の露光を行う、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（所謂、ステッパー）が多用されていた。
【０００４】
近年、液晶表示素子の大面積化が要求されており、これに伴ってフォトリソグラフィ工程において用いられる投影露光装置は露光領域の拡大が望まれている。投影露光装置の露光領域を拡大するためには投影光学系を大型化する必要があるが、残存収差が極力低減された大型の投影光学系を設計及び製造するにはコスト高となってしまう。そこで、投影光学系の大型化を極力避けるために、投影光学系の物体面側（マスク側）における投影光学系の有効径と同程度に長手方向の長さが設定されたスリット状の照明光をマスクに照射し、マスクを介したスリット状の光が投影光学系を介してプレートに照射されている状態で、マスクとプレートとを投影光学系に対して相対的に移動させて走査し、マスクに形成されたパターンの一部を順次プレートに設定された１つのショットに転写し、転写後にプレートをステップ移動させて他のショット領域に対する露光を同様にして行う、所謂ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置が案出されている（例えば特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平５−５７９８６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のような露光装置においては、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド、その他のマイクロデバイスの製造において、複数種類のマスクが用いられることから、複数枚のマスクを収容することができるマスクライブラリが設けられており、このマスクライブラリへのマスクの搬入出は、オペレータが台車等を用いて、露光装置に対して搬入又は搬出することにより行われていた。
【０００７】
しかしながら、近年のマスクサイズの大型化及びマスクサイズの大型化に伴うマスクの高価格化により、オペレータによるマスクライブラリへのマスクの搬入出作業は、オペレータに大きな負荷を課することになっていた。
【０００８】
この発明の課題は、露光処理に必要なマスクの自動搬送を行うと共に露光処理に必要なマスクの管理を行うことができる露光システム及び該露光システムに用いられる露光装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の露光システムは、露光処理に用いるマスクを収容するマスクストッカと、前記マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置と、前記マスクストッカに収容されている前記マスクを前記露光装置に搬送する搬送装置と、前記マスクストッカ、前記露光装置及び前記搬送装置の制御を行うホストコンピュータとを備える露光システムにおいて、前記露光装置が前記露光処理に用いるマスクを受け入れ可能かどうかの空き情報を含むマスク管理情報を記憶する記憶部を備えると共に、前記ホストコンピュータと接続された第１通信部を介して該マスク管理情報を必要に応じ前記ホストコンピュータに通信し、前記ホストコンピュータは、前記第１通信部を介して前記マスク管理情報を受信し、前記露光装置に対して前記露光処理に用いるマスクのマスク情報及び露光条件情報を通信すると共に、前記マスクストッカ及び前記搬送装置に対して接続された第２通信部を介して前記マスク情報を送信することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項２に記載の露光システムは、前記マスク管理情報が前記露光装置内に存在するマスクの使用情報、検査情報を含むことを特徴とする。
【００１１】
この請求項１及び請求項２記載の露光システムによれば、ホストコンピュータが露光装置の記憶部に記憶されているマスク管理情報を受信し、露光装置に対して、露光処理に用いるマスクのマスク情報及び露光条件情報を送信すると共に、マスクストッカ及び搬送装置に対して、露光処理に用いるマスクのマスク情報を送信するため、ホストコンピュータの管理の下、露光装置における露光処理で必要となるマスクを、搬送装置によりマスクストッカから露光装置に予め自動搬送することができる。従って、露光装置におけるマスク準備処理のための時間的ロスを減少させ露光装置における生産性を向上させることができる。また、マスク搬送処理におけるオペレータの負担を軽減することができる。
【００１２】
また、請求項３に記載の露光システムは、前記ホストコンピュータが前記マスク管理情報に基づいて、前記露光装置に対して前記露光処理に用いるマスクの搬送、又は前記露光装置に不要なマスクの回収を判断する搬送判断部を備えることを特徴とする。
【００１３】
この請求項３記載の露光システムによれば、ホストコンピュータにより露光装置における露光処理で必要なマスク及び不必要なマスクを判断することができるため、ホストコンピュータの管理の下、露光装置に対して露光処理に用いるマスクの搬送、又は露光装置に不要なマスクの回収を行うことができ、オペレータの負担を軽減することができる。
【００１４】
また、請求項４に記載の露光システムは、前記露光装置が前記マスク管理情報に基づき、該マスク管理情報に含まれるマスクが前記露光処理に使用できるか否かを判断するマスク判断部を備え、前記マスク判断部により使用不可能と判断された場合、使用不可能なマスクの回収又は代替マスクの要求を前記ホストコンピュータに通信することを特徴とする。
【００１５】
この請求項４記載の露光システムによれば、露光装置のマスク判断部により、マスクが露光処理に使用できるか否かを判断し、使用不可能と判断された場合には、使用不可能なマスクの回収又は代替マスクの要求をホストコンピュータに通信するため、ホストコンピュータの管理の下、露光装置から使用不可能なマスクの回収を行うことができ、又は代替マスクを露光装置に対して搬送することができる。
【００１６】
また、請求項５に記載の露光装置は、ホストコンピュータに接続されて運用を管理され、マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置において、前記露光処理に用いるマスクを受け入れ可能かどうかの空き情報を含むマスク管理情報を記憶する記憶部と、該マスク管理情報を必要に応じて通信するための前記ホストコンピュータと接続された通信部を備えることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項６に記載の露光装置は、前記マスク管理情報が前記露光装置内に存在するマスクの使用情報、検査情報を含むことを特徴とする。
【００１８】
この請求項５及び請求項６記載の露光装置によれば、露光処理に用いるマスクを受け入れ可能かどうかの空き情報を含むマスク管理情報を通信部を介してホストコンピュータに通信することができるため、ホストコンピュータの管理の下、露光処理において必要になるマスクを受け入れることができる。
【００１９】
また、請求項７に記載の露光装置は、該マスク管理情報に含まれるマスクが前記マスク管理情報に基づき、前記露光処理に使用できるマスクかどうかを判断するマスク判断部を備えることを特徴とする。
【００２０】
また、請求項８に記載の露光装置は、前記マスク管理情報に含まれた前記検査情報に基づき、前記ホストコンピュータに対して検査結果ＮＧのマスクの回収を通信することを特徴とする。
【００２１】
この請求項７及び請求項８記載の露光装置によれば、マスク管理情報に基づき露光処理に使用できるマスクかどうかを判断するため、マスクの検査等により露光処理に使用できないマスクの回収をホストコンピュータに対して要求することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態にかかる露光システムについて説明する。図１は、この発明の実施の形態にかかる露光システムの概略構成を示す図である。
【００２３】
この実施の形態にかかる露光システムは、この露光システムにおける露光処理に用いるマスクを複数枚収容するマスクストッカ１と、マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置Ａ，露光装置Ｂ，露光装置Ｃと、マスクストッカ１に収容されているマスクを露光装置Ａ，露光装置Ｂ，露光装置Ｃに搬送するマスク搬送装置５と、マスクストッカ１、露光装置Ａ，露光装置Ｂ，露光装置Ｃ及びマスク搬送装置５とネットワークを介して接続され、マスクストッカ１、露光装置Ａ，露光装置Ｂ，露光装置Ｃ及びマスク搬送装置５の制御を行うホストコンピュータ６とを備えている。
【００２４】
この露光システムおいては、マスクストッカ１からマスク搬送装置５により各露光装置に搬送されたマスクを各露光装置に設けられているエレベータ２，３，４により、各露光装置のマスクライブラリ２９（図２参照）まで上昇させ、各露光装置２，３，４のマスクライブラリに収容する。
図２は、この発明の実施の形態にかかる露光装置Ａの概略構成を示す図である。この露光装置Ａは、マスクのパターン像を感光性基板（プレート）Ｐ上に走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置である。なお、露光装置Ｂ，露光装置Ｃの構成は、露光装置Ａの構成と同一であるため、露光装置Ａの構成に代表させて説明を行う。また、以下の説明においては、図２中に示すＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＺ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Ｙ軸が紙面に対して垂直となる方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。
【００２５】
光源１０は後述する主制御系４２から露光光出射を指示する制御信号が出力された場合に、ほぼ均一の照度を有する露光光ＥＬを出射する。ここで露光光ＥＬの光軸はＺ軸方向に対して平行に設定されている。露光光ＥＬとしては、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１９３ｎｍ）が用いられる。光源１０から出射された露光光ＥＬは、照明光学系１２に入射する。この照明光学系１２は、露光光ＥＬの光軸をＸ軸方向に対して平行な方向に折り曲げる反射板１４、露光光ＥＬの照度を均一にすると共に、通過する光量を制御して整形する光学系１６、及び露光光ＥＬの光軸をＺ軸方向に対して平行な方向に折り曲げる反射板１８を備えて構成されている。なお、照明光学系１２を通過する光量は主制御系４２によって制御されている。
【００２６】
照明光学系１２から出射された露光光ＥＬはマスクホルダ２２上に保持されたマスク２０を照射する。マスク２０は、フォトレジストが塗布されたプレートＰ上に転写するための微細なパターンを有し、露光処理が行われていないときにはマスクケース２４に格納されるか、又は再度使用することが予定されているときは、破線で示すマスク２０ａの如く待機位置で待機する。
【００２７】
マスク２０を搬送する搬送アーム２５は、図中Ｘ，Ｙ，Ｚ方向に往復運動が可能な構成であり、その動作は、主制御系４２が搬送制御装置２６に制御信号を出力することにより制御される。搬送アーム２５はマスク２０をマスクホルダ２２に載置するためのロードアームや、マスクホルダ２２から取りはずすアンロードアーム等を備えている。また、複数のマスクケース２４を保管するマスクライブラリ２９に対して、マスク２０を格納するマスクケース２４を搬入出するアーム、マスク２０に付着している異物の検査を行うマスク異物検査装置３１にマスク２０を搬入出するアームも有する。
【００２８】
この露光装置には、マスク２０に設けられたバーコードＢＣを読み取るバーコードリーダ２７が設けられており、このバーコード情報は主制御系４２に送られる。バーコードＢＣにはマスクの識別情報（名称）及びマスクのパターン情報や露光条件等が記録されている。
【００２９】
マスクホルダ２２上に保持されたマスク２０に露光光ＥＬが照射されると、マスク２０のパターン像が投影光学系２８を介してプレートＰ上に投影される。投影光学系２８は複数のレンズ等の光学素子を有し、その光学素子の硝材としては露光光ＥＬの波長に応じて石英、蛍石等の光学材料から選択される。プレートＰはプレートホルダ３０を介してＺステージ３２に載置されている。Ｚステージ３２は、プレートＰのＺ軸方向の位置を微調整させるステージである。また、Ｚステージ３２はＸＹステージ３４上に載置されている。ＸＹステージ３４は、ＸＹ平面内にプレートＰを移動させるステージである。
【００３０】
プレートホルダ３０の上面の一端にはＬ字型の移動鏡３６が取り付けられ、移動鏡３６の鏡面に対向した位置にレーザ干渉計３８が配置されている。レーザ干渉計３８により計測されたＸ座標、Ｙ座標及び回転角の情報はステージ駆動系４０に供給される。これらの情報は位置情報としてステージ駆動系４０から主制御系４２へ出力される、主制御系４２は、供給された位置情報をモニターしつつステージ駆動系４０を介して、プレートホルダ３０の位置決め動作を制御する。なお、図２には示していないが、マスクホルダ２２にもプレートホルダ３０に設けられた移動鏡及びレーザ干渉計と同様のものが設けられており、マスクホルダ２２のＸＹＺ位置等の情報が主制御系４２に入力される。
【００３１】
投影光学系２８の側方にはオフ・アクシスのアライメントセンサ４４が設けられている。このアライメントセンサ４４は、例えばＦＩＡ（Ｆｉｅｌｄ  Ｉｍａｇｅ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式に適用した場合のアライメント装置であり、プレートＰに形成されたアライメントマークの位置及びプレートＰ表面のＺ軸方向の位置が計測される。計測されたアライメントマークの位置及びプレートＰ表面のＺ軸方向の位置を示す信号は主制御系４２へ出力される。プレート搬送装置４８は、主制御系４２の制御の下、不図示のプリアライメント装置で粗く位置調整されたプレートＰをプレートホルダ３０上に搬送するものである。
【００３２】
主制御系４２は、アライメント信号処理系４６、プレート搬送装置４８、ステージ駆動系４０、及び搬送制御装置２６の内部にそれぞれ設けられた制御ユニット６０（図３参照）から出力される信号等に基づき露光装置の全体動作を制御する。また、主制御系４２には、記憶装置５０が接続されている。この記憶装置５０は、露光装置の電源を遮断しても記憶内容を保持する不揮発性の記憶装置であり、例えば、ハードディスク等の外部記憶装置やＣＭＯＳ等の不揮発性半導体メモリである。
【００３３】
記憶装置５０には露光装置の動作を制御するプログラムが格納されている。また、露光処理に用いるマスクを受け入れ可能か否かを示すマスクライブラリの空き情報、マスクの使用情報及びマスクの検査情報等がマスク管理情報として記憶されている。即ち、マスクライブラリの空き情報として、マスクライブラリの空きスロット番号が記憶されている。また、マスクの使用情報として、マスクライブラリの各スロットにマスクケースが存在するか否か、マスクケース内にマスクが存在するか否か、露光装置内におけるマスクの存在位置、マスクが露光装置内に搬入された時間、搬入以降のマスク使用回数及びマスク使用時間等が記憶されている。また、マスクの検査情報として、マスクの検査時間、マスクの検査結果等が記憶されている。更に、マスクに表示されているバーコード情報も記憶されている。
【００３４】
次に、主制御系４２について詳細に説明する。図３は、主制御系４２の構成の詳細を示した図である。図３に示したように、主制御系４２は、ＲＯＭ５２、ＲＡＭ５４、タイマ５６、ＣＰＵ（中央処理装置）５８、通信制御装置６２を備えている。露光装置の動作を制御するプログラムはＲＯＭ５２に格納されていても良い。ＲＡＭ５４は、ＣＰＵ５８がプログラムを実行する上で必要となる作業領域を確保する。タイマ５６は、計時信号を出力し、ＣＰＵ５８が計時を行う際に用いられる。
【００３５】
制御ユニット６０は、図２中のアライメント信号処理系４６、プレート搬送装置４８、ステージ駆動系４０、及び搬送制御装置２６内に設けられ、ＣＰＵ５８から送られる制御コマンドの下、搬送制御装置２６、ステージ駆動系４０、プレート搬送装置４８等の各ユニットを制御する。通信制御装置６２は、ネットワークを介して接続されたホストコンピュータ６との間で行われる通信を制御すると共に、ネットワークを介して接続されたマスクストッカ１及びマスク搬送装置５との間で行われる通信を制御する。なお、通信制御装置６２は、ホストコンピュータ６との間で行われる通信を制御する場合には、第１通信部として機能する。
【００３６】
また、ＣＰＵ５８にはキーボード６４及びマウス６６等の入力装置、及びＣＲＴ６８等の表示装置が接続されている。更に、ＣＰＵ５８には不揮発性の記憶装置５０やバーコードリーダ２７が接続されている。
【００３７】
この露光システムにおいては、露光装置Ａがマスク搬送装置５からマスク２０を受け取った場合には、マスクライブラリ２９のスロット毎にマスク２０の状態を管理する。即ち、マスク管理情報を記憶装置５０に記憶する。露光装置Ｂ又は露光装置Ｃがマスク搬送装置５からマスク２０を受け取った場合にも、露光装置Ａがマスク搬送装置５からマスク２０を受け取った場合と同様に、マスクライブラリ２９のスロット毎にマスク２０の状態を管理する。即ち、マスク管理情報を記憶装置５０に記憶する。
【００３８】
なお、露光装置Ａ、露光装置Ｂ、露光装置Ｃの記憶装置５０に記憶されているマスク管理情報は、露光装置内でマスク管理情報が更新された時、又はホストコンピュータ６から要求があったときに、通信制御装置６２（第１通信部）を介してホストコンピュータ６に送信される。
【００３９】
また、ホストコンピュータ６は、露光装置Ａ、露光装置Ｂ、露光装置Ｃの記憶装置５０に記憶されているマスク管理情報を参照することができる。即ち、ホストコンピュータ６は、露光装置Ａ、露光装置Ｂ、露光装置Ｃの通信制御装置６２を介して、記憶装置５０に記憶されているマスク管理情報を取得することができる。従って、露光処理に必要なマスク２０が存在する露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃに、その露光処理工程を割り当て、露光処理を実行させることができる。この場合には、ホストコンピュータ６は、ホストコンピュータ６内に存在する通信部（第２通信部）を介して、露光処理工程を割り当てた露光装置に対して露光処理に用いるマスク２０のマスク情報及び露光条件情報（レシピ）を送信する。
【００４０】
また、この露光システムにおいてホストコンピュータ６は、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃにマスク２０が搬入が可能か否かを問い合わせることができる。図４に示すように、例えば、ホストコンピュータ６は、露光装置Ａに対して、マスク２０の搬入が可能か否かを問い合わせる。露光装置Ａは、記憶装置５０のマスク管理情報を参照し、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬入が可能である場合には、スロット１にマスク２０の搬入が可能である旨をホストコンピュータ６に対して通知する。
【００４１】
ホストコンピュータ６は、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬入を行う旨を露光装置Ａに対して通知すると共に、露光装置Ａのマスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬入を要求する旨をマスク搬送装置５に対して通知する。マスク搬送装置５は、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬入を行った後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の搬入が完了した旨を通知する。また、露光装置Ａは、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬入がされた後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の搬入が完了した旨を通知する。
【００４２】
また、この露光システムにおいては、ホストコンピュータ６が露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃにマスク２０の搬入が可能か否かを問い合わせた場合であってマスク２０の受け入れができない場合には、ホストコンピュータ６に対してその理由を通知する。図５に示すように、例えば、ホストコンピュータ６は、露光装置Ａに対して、マスク２０の搬入が可能か否かを問い合わせる。露光装置Ａは、記憶装置５０のマスク管理情報を参照し、マスク２０の受け入れができない場合には、マスクライブラリ２９に空きが無い等の理由をホストコンピュータ６に対して通知する。
【００４３】
また、この露光システムにおいてホストコンピュータ６は、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃから通知されたマスク２０の状態に基づいて、露光装置Ａ、露光装置Ｂ及び露光装置Ｃで露光処理に必要なマスク２０及び不用なマスク２０を判別する搬送判別部を備える。そして、その判別結果に基づいて、露光処理に必要なマスク２０の搬送を、搬送が必要な露光装置及びマスク搬送装置５に通知する。また、不用なマスク２０が存在する露光装置及びマスク搬送装置５にマスク２０の回収指示を通知する。図６に示すように、例えば、ホストコンピュータ６は、露光装置Ａに対して、マスク２０の搬入が可能か否かを問い合わせる。露光装置Ａは、記憶装置５０のマスク管理情報を参照し、マスク２０の搬送が不可能な場合には、その旨をホストコンピュータ６に通知する。ホストコンピュータ６は、マスク管理情報に基づいて、露光装置Ａで不用なマスクを判別する。ここでマスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０が不用と判断された場合には、スロット１のマスク２０の回収を行う旨を露光装置Ａに通知する。また、露光装置Ａのマスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の回収を要求する旨をマスク搬送装置５に対して通知する。マスク搬送装置５は、マスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の回収を行った後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の回収が完了した旨を通知する。また、露光装置Ａは、マスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の回収が行われた後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の回収が完了した旨を通知する。
【００４４】
また、この露光システムにおいて、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃは、ホストコンピュータ６に対して、マスク異物検査装置３１によるマスク検査の結果がＮＧとなったマスク２０の回収を要求することができる。図７に示すように、例えば、露光装置Ａにおいて、マスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の検査を行う場合には、その旨をホストコンピュータ６に対して通知すると共に、検査が終了した場合には、その旨及び検査結果をホストコンピュータ６に対して通知する。更に、マスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の検査の結果がＮＧの場合には、ホストコンピュータ６に対してマスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の回収を要求する。
【００４５】
マスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の回収の要求を受けたホストコンピュータ６は、露光装置Ａに対してスロット１のマスク２０の回収を行う旨を通知する。また、露光装置Ａのマスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の回収を要求する旨をマスク搬送装置５に対して通知する。マスク搬送装置５は、マスクライブラリ２９のスロット１のマスク２０の回収を行った後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の回収が完了した旨を通知する。また、露光装置Ａは、マスクライブラリ２９のスロット１のマスクの回収がされた後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の回収が完了した旨を通知する。
【００４６】
また、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃは、ホストコンピュータ６に対して、回収可能なマスクを通知することができる。露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃは、記憶装置５０に記憶されているマスク管理情報に基づいて、マスク判断部において回収可能なマスク２０の判別を行い、回収可能なマスク２０をホストコンピュータ６に対して通知する。ここで回収可能と判断されるマスク２０は、露光装置に搬入された後の使用頻度の低いマスク、マスク異物検査装置３１による検査により検査結果がＮＧとされたマスク２０などである。また、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃは、ホストコンピュータ６からマスク２０の搬入要求があった場合であってマスクライブラリ２９に空きスロットが無い場合には、その旨をホストコンピュータ６に通知する。
【００４７】
また、この露光システムにおいて、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃは、マスク異物検査装置３１によるマスク検査の結果がＮＧとなったマスク２０の再検査をホストコンピュータ６に対して要求することができる。更に、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃは、マスク検査の結果がＮＧとなったマスク２０の代替マスク（コピーマスク）の搬送をホストコンピュータ６に対して要求することができる。この場合には、マスク２０に付されているバーコードを指定して代替マスク（コピーマスク）の搬送を要求する。
【００４８】
また、あるマスクのパターンを所定の複数のプレートに対して露光するロット処理の際に、露光前にそのマスクの検査を行う。その検査結果がＮＧとなった場合、そのマスクがマスクブロー処理等を行うための回収のため、ホストコンピュータ６の要求により、露光装置外に搬出される。この際、露光装置は、回収されたマスクが再搬入されるまで待機する。ところが回収されたマスクが、何らかの原因、例えば、マスクの搬送を行う搬送装置の異常、あるいはマスクブロー処理にてマスク上のゴミを取り除くことができなかった場合に、一定の時間経過後もマスクが露光装置に戻らないことになる。このように一定の時間経過しても所望のマスクが露光装置に戻らない場合、ホストコンピュータ６は、露光装置に対してそのマスクを使用するロット処理をキャンセルすることになる。具体的には、露光装置などに対してロット処理のレシピをキャンセルしたり、既にロット処理を行うプレートが搬入されている場合には、それらのプレートを露光装置外に搬出するリジェクト処理を行う。
【００４９】
また、この露光システムにおいて、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃは、露光処理で必要なマスク２０が露光装置内に存在しない場合に、そのマスク２０の搬送をホストコンピュータ６に対して要求することができる。図８に示すように、例えば、露光装置Ａにおいて、割り当てられた露光処理に「ａｂｃ」というマスクが必要な場合に、露光装置Ａに「ａｂｃ」というマスクが存在しない場合には、「ａｂｃ」というマスクが存在しない旨をホストコンピュータ６に対して通知すると共に、「ａｂｃ」というマスクの搬送を要求する。ホストコンピュータ６は、搬送要求されたマスク２０を露光装置Ａのマスクライブラリ２９のスロット１に搬送する場合には、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬送が可能か否かを露光装置Ａに対して問い合わせる。マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬送が可能な場合には、露光装置Ａは、ホストコンピュータ６に対してその旨を通知する。
【００５０】
ホストコンピュータ６は、露光装置Ａに対して、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬送を行う旨を通知すると共に、マスク搬送装置５に対して、露光装置Ａのマスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬送を要求する旨を通知する。マスク搬送装置５は、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬送を行った後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の搬送が完了した旨を通知する。また、露光装置Ａは、マスクライブラリ２９のスロット１にマスク２０の搬送がされた後に、ホストコンピュータ６に対して、マスク２０の搬送が完了した旨を通知する。
【００５１】
この実施の形態にかかる露光システムによれば、ホストコンピュータ６が露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃの記憶装置５０に記憶されているマスク管理情報を受信し、露光装置Ａ、露光装置Ｂ又は露光装置Ｃに対して、露光処理に用いるマスク２０のマスク情報及び露光条件情報を送信すると共に、マスクストッカ１及びマスク搬送装置５に対して、露光処理に用いるマスク２０のマスク情報を送信するため、ホストコンピュータ６の管理の下、露光処理で必要となるマスク２０を、マスク搬送装置５によりマスクストッカ１から露光装置に予め自動搬送することができる。従って、露光装置におけるマスク準備処理のための時間的ロスを減少させ露光装置における生産性を向上させることができる。また、マスク搬送処理におけるオペレータの負担を軽減することができる。また、ホストコンピュータ６の管理の下、生産計画に基づいて各露光装置に、露光処理に必要なマスクの搬送を行うことができる。
【００５２】
また、ホストコンピュータ６により露光装置における露光処理で必要なマスク２０及び不必要なマスク２０を判断することができるため、ホストコンピュータ６の管理の下、露光装置に対して露光処理に用いるマスクの搬送、又は露光装置に不用なマスクの回収を行うことができ、オペレータの負担を軽減することができる。
【００５３】
また、露光装置のマスク判断部により、マスク２０が露光処理に使用できるか否かを判断し、使用不可能と判断された場合には、使用不可能なマスク２０の回収又は代替マスクの要求をホストコンピュータ６に通信するため、ホストコンピュータ６の管理の下、露光装置から使用不可能なマスク２０の回収を行うことができ、又は代替マスクを露光装置に対して搬送することができる。
【００５４】
また、この露光システムの露光装置によれば、マスク管理情報に基づき露光処理に使用できるマスク２０かどうかを判断するため、マスク２０の検査等により露光処理に使用できないマスク２０の回収をホストコンピュータ６に対して要求することができる。
【００５５】
【発明の効果】
この発明の露光システムによれば、ホストコンピュータが露光装置の記憶部に記憶されているマスク管理情報を受信し、露光装置に対して、露光処理に用いるマスクのマスク情報及び露光条件情報を送信すると共に、マスクストッカ及び搬送装置に対して、露光処理に用いるマスクのマスク情報を送信するため、ホストコンピュータの制御の下、露光装置における露光処理で必要となるマスクを、搬送装置によりマスクストッカから露光装置に予め自動搬送することができる。従って、露光装置におけるマスク準備処理のための時間的ロスを減少させ露光装置における生産性を向上させることができる。また、マスク搬送処理におけるオペレータの負担を軽減することができる。
【００５６】
また、この発明の露光装置によれば、露光処理に用いるマスクを受け入れ可能かどうかの空き情報を含むマスク管理情報を通信部を介してホストコンピュータに通信することができるため、ホストコンピュータの管理の下、露光処理において必要になるマスクを受け入れることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態にかかる露光システムの概略構成を示す図である。
【図２】この発明の実施の形態にかかる露光装置の概略構成を示す図である。
【図３】この発明の実施の形態にかかる露光装置の主制御系を示すブロック図である。
【図４】この発明の実施の形態にかかるホストコンピュータ、露光装置及びマスク搬送装置間の通信を説明するための図である。
【図５】この発明の実施の形態にかかるホストコンピュータ及び露光装置間の通信を説明するための図である。
【図６】この発明の実施の形態にかかるホストコンピュータ、露光装置及びマスク搬送装置間の通信を説明するための図である。
【図７】この発明の実施の形態にかかるホストコンピュータ、露光装置及びマスク搬送装置間の通信を説明するための図である。
【図８】この発明の実施の形態にかかるホストコンピュータ、露光装置及びマスク搬送装置間の通信を説明するための図である。
【符号の説明】
１      マスクストッカ、
５      マスク搬送装置
６      ホストコンピュータ
１０    光源
１２    照明光学系
２０    マスク
２４    マスクケース
２８    投影光学系
２９    マスクライブラリ
３１    マスク異物検査装置
５０    記憶装置
６２    通信制御装置
Ｐ      プレート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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