(57)【要約】【課題】それ自体では凹凸のない平面を保持することができない厚さ数１００μｍ以下のＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートに対し、高エネルギー線を用いた高精度微細加工を可能とする。【解決手段】薄膜シート１の面方向に引張り力を加えて展張させた状態にして、この薄膜シートと同系列の材料からなり平坦な試料台２の表面に位置づけた後、加熱状態で加圧することで、試料台２の表面に倣って平面度高く有効な粘着力で薄膜シート１を貼り付ける。同系列の材料同士の貼り付けであるため、温度変化が起こっても接触面の応力変化が発生しないので変形やはがれも発生せず、従って高エネルギー線の照射に対する影や放射光の回折の影響を受けない、精度の高い加工が可能となる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
それ自体では凹凸のない平面を保持することができない厚さのＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートの加工方法であって、
前記薄膜シートの面方向に引張り力を加えて展張させ、
当該展張された薄膜シートを、前記薄膜シートと同系列の材料からなり実質的に平坦な試料台の表面に位置づけ、加熱状態で加圧することで、前記試料台の表面に倣って貼り付け、
当該貼り付いた薄膜シートに対して高エネルギー線照射によるパタン形成を行う、
ことを特徴とするＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートの加工方法。
【請求項２】
前記試料台は、実質的に平坦な表面を有する基板と、該基板の表面に形成された前記薄膜シートと同系列の材料からなる膜とを有し、加熱処理を行うことで前記基板と密着性を高めた前記膜の表面を前記薄膜シートが位置づけられる表面として用いることを特徴とする請求項１に記載のＴＦＥ系ポリマー薄膜シートの加工方法。
【請求項３】
前記展張および前記加熱状態での加圧を繰り返しながら複数の前記薄膜シートを前記試料台上に積層した後、上層部の薄膜シートに高エネルギー線照射によるパタン形成を行い、当該パタンが形成された薄膜シートを前記試料台上から取り外した後、再度上層部の薄膜シートに高エネルギー線照射によるパタン形成を繰り返すことを特徴とする請求項１または２に記載のＴＦＥ系ポリマー薄膜シートの加工方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとヘサフルオロプロピレンとの共重合体（ＦＥＰ）、およびテトラフルオロエチレンとペルフルオロビニルエーテルとの共重合体（ＰＦＡ）などの系列からなる総称ＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートの微細加工技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
これらの系列の材料の代表的なものはテフロン（登録商標）として一般に知られている。ＴＦＥ系ポリマーは、耐熱性、耐腐食性、耐薬品性が高く、表面摩擦が小さいため、今後、生化学分野を始めとする広い分野で利用される可能性が高い。これらの応用のためには、ＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートヘの加工技術の開発が要望されている。
【０００３】
ＴＦＥ系ポリマーは、融点以上に加熱してもプラスチックのような流動性が得られないために、一般の成型加工が困難である。また、機械的に柔らかい性質を有することや電気絶縁性の点から、微細な機械加工や放電加工にも不向きである。このため真空紫外レーザや極短パルスレーザなどの高エネルギー線を選択的に照射してアブレーションを起こさせてパタン加工を施す技術が開発されている（非特許文献１および２）。また、放射光を利用した加工技術としては特許文献１に開示されたものがある。
【０００４】
これら従来技術における高エネルギー線によるＴＦＥ系ポリマーの加工対象は、厚板やブロックなどのように形状の安定したものであった。
【０００５】
【特許文献１】
特許第２９２２１３６号
【０００６】
【非特許文献１】
Ｋｕｐｅｒ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５４．ｐ．４−６（１９８９）
【０００７】
【非特許文献２】
Ｗａｄａ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６２．ｐ．２１１−２１３（１９９３）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＴＦＥ系ポリマーは厚さが数１００μｍ以下のような薄膜シートとなると、それ自体では凹凸のない表面を保持することができないため、これを加工しようとする場合には入射する高エネルギー線に対して垂直になるように保持することが重要な課題となる。加工すべき薄膜シートに凹凸、弛み、しわなどが発生すると、入射するエネルギー線に対して傾きが生じ、加工精度が低下するためである。例えば、放射光を利用した加工の場合、放射光を透過する領域と放射光を遮断する領域からなるマスクパタンを有するマスクを通して放射光を薄膜シートに照射して、マスクパタンに対応した加工パタンを得るが、薄膜シートが放射光に対して垂直に保持されていないと、放射光に対して影ができたり、放射光の回折の影響で転写パタンが劣化するとともに、寸法がばらついたりする問題が生じる。シートの厚さがさらに薄くなり、数１０μｍ以下になると、重力だけでなく静電気や風などの外乱によっても簡単に平面歪が発生するため、上記問題はより深刻となる。
【０００９】
このため、厚板にパタンを加工した後に薄膜シートに切り出すことも考えられるが、先に述べたようにＴＦＥ系ポリマーは機械加工が極めて困難であるため、現実的な解決策ではない。
【００１０】
そこで、薄膜シートを平面性の良好な試料台に取り付けて加工することが考えられる。その取り付けの方法としては、まず薄膜シートを平面度の高い試料台に貼り付ける方法が考えられるが、先に述べたように、ＴＦＥ系ポリマーは表面摩擦が小さいため、通常の接着剤やテープなどにより安定に貼り付けることは困難である。例えば光硬化型接着剤などの特殊な接着プロモーターを利用することも可能であるが、この場合はパタン加工後に薄膜シートを試料台から変形や破損なく適切にはがすことができなくなる。さらに、高エネルギー線照射による加工中に試料温度を上げることによりＴＦＥ系ポリマーの加工速度が増すことが知られているが、接着剤やテープなどによりポリマーの薄膜シートを接着した状態で温度を上げると、接着面が外れたり、薄膜シートと接着剤との性質が異なるため内部応力が発生し、薄膜シートの歪みが発生するなどの問題が起こる。
【００１１】
他の貼り付け方法としては、一般的に用いられている真空チャックを利用することも考えられるが、真空吸引口部分でシートの歪みが発生したり、特に薄膜シートに対し貫通穴加工を施す場合においては真空もれも生じるために有効ではない。
【００１２】
本発明は、以上の問題に鑑みてなされたもので、その目的は、それ自体では凹凸のない平面を安定して保持できないＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートに対する高エネルギー線を用いた微細加工、とりわけ貫通穴の高精度加工を可能とする加工技術を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
そのために、本発明は、それ自体では凹凸のない平面を保持することができない厚さのＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートの加工方法であって、前記薄膜シートの面方向に引張り力を加えて展張させ、当該展張された薄膜シートを、前記薄膜シートと同系列の材料からなり実質的に平坦な試料台の表面に位置づけ、加熱状態で加圧することで、前記試料台の表面に倣って貼り付け、当該貼り付いた薄膜シートに対して高エネルギー線照射によるパタン形成を行う、ことを特徴とする。
【００１４】
ここで、前記試料台は、実質的に平坦な表面を有する基板と、該基板の表面に形成された前記薄膜シートと同系列の材料からなる膜とを有し、加熱処理を行うことで前記基板と密着性を高めた前記膜の表面を、前記薄膜シートが位置づけられる表面として用いることができる。
【００１５】
また、前記展張および前記加熱状態での加圧を繰り返しながら複数の前記薄膜シートを前記試料台上に積層した後、上層部の薄膜シートに高エネルギー線照射によるパタン形成を行い、当該パタンが形成された薄膜シートを前記試料台上から取り外した後、再度上層部の薄膜シートに高エネルギー線照射によるパタン形成を繰り返すことができる。
【００１６】
以上によれば、薄膜シートが平面度の高い試料台に貼り付いた状態にすることにより高い平面度を得ることが可能となるとともに、薄膜シートの扱いが簡単になる。薄膜シートをプレスする試料台の少なくともその表面材料を加工対象の薄膜シートと同系列のＴＦＥ系ポリマー材料とすることにより、異種材料間では通常粘着性のないＴＦＥポリマーを、加熱と加圧とによって凹凸なく平面度高く有効な粘着力で貼り付けることが可能となる。同系列の材料同士の貼り付けであるため、温度変化が起こっても膨張率の差異による接触面の応力変化が発生しないので、応力変化に起因した薄膜シートの変形やはがれが発生しない。
【００１７】
さらに、高エネルギー線の照射によるパタン形成加工や、それに先立って薄膜シートが貼り付けられた試料台を加工時の加熱温度にて予めアニールしておく処理に対しても、安定な貼着状態を保つことが可能となり、高エネルギー線照射による良好な掘り込み加工や貫通穴あけ加工が可能となる。
【００１８】
また、パタン加工後においては弱い力で簡単に試料台からの取り外しが可能であるので、形成したパタンに変形や破損が生じることなく、良好な加工物を得ることができる。
【００１９】
なお、本明細書において、薄膜シートやこれが倣う試料台の「平面」とは、厳密な意味での２次元平面だけでなく、高エネルギー線の照射角度に対して実質的に垂直な方向の面を有するもの、すなわち放射光に対する影や放射光の回折の影響を受けない実質的に平坦な表面を有するものを言う。
【００２０】
また、それ自体では凹凸のない平面を保持することができないＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートの厚みは、加工対象の材質にもよるが、一般には数１００μｍ以下であり、本発明では厚さ数１０μｍ以下の薄膜シートに対しても良好な加工を行い得るものである。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。
【００２２】
（第１の実施形態）
図１は、ＴＦＥ系列のポリマー薄膜シートを、同系列の材料からなる試料台へ貼り付けるための工程の説明図である。なお、本実施形態においては、ＴＦＥ系列のポリマー薄膜シートおよび試料台として、ＰＦＡポリマー（商品名テフロン（登録商標）ＰＦＡ、デュポン株式会社製）を用いた。
【００２３】
同図において、１は厚さ１０μｍのＰＦＡポリマー薄膜シート（以下、単に薄膜シートともいう）、２はＰＦＡポリマーの厚板からなる試料台である。３および４は試料台２の両側部から薄膜シート１を引っ張るためのローラ形状の巻き取り機である。５は電熱線５ｈを内蔵した加圧ローラであり、薄膜シート１を試料台２の上面に加熱プレスするのに用いられる。
【００２４】
貼り付けに際しては、まず、十分な長さの薄膜シート１を巻き取り機３と４とに取り付け、図中の矢印で示すように、巻き取り機３を反時計方向、巻き取り機４を時計方向に回動させ、薄膜シート１に弛みが無くなるまで引っ張り力を作用させて展張させた。その後、巻き取り機３および４を下方に変位させるか、あるいは試料台２を上方に変位させることで、薄膜シート１が試料台２の上面に置かれた状態とした。
【００２５】
一方、加圧ローラ５を電熱線５ｈに通電することにより１５０℃の温度に加熱しておき、薄膜シート１の上から試料台２に向けて、図中の矢印で示すように加圧ローラ５により０．５ＭＰａの圧力を作用させ、その圧力を保ったまま加圧ローラ５を試料台２の平面内で左右に移動させる操作を数回繰り返した。
【００２６】
巻き取り機３および４に向き合う試料台２の両縁部はテーパを付けた形状とし、そのテーパ面にも薄膜シート１を密着させることにより、薄膜シート１は試料台２の上面に、その平面度に倣い凹凸なく高い平面性をもって、かつはがれが生じることなく貼り付いた。
【００２７】
次に、試料台２のテーパ面上において薄膜シート１を裁断し、薄膜シート１が試料台２に貼り付いている状態でベーク炉内に置き、次工程の高エネルギー線照射によるパタン形成時の温度と同等の温度、例えば１５０℃において、アニール処理を行った。このようなアニール処理を行った後も、薄膜シート１は試料台２に平面度良く貼り付いた状態が保たれていた。
【００２８】
以上のように、薄膜シート１と、これをプレスする試料台２の少なくとも表面材料とを同系列のＴＦＥ系ポリマー材料とすることにより、異種材料間では通常粘着性のないＴＦＥポリマーを、加熱と加圧とによって凹凸なく有効な粘着力をもって貼り付けることが可能となった。さらに、同系列の材料同士の貼り付けであるため、温度変化が起こっても膨張率の差異による接触面の応力変化が発生しないので、応力変化に起因した薄膜シートの変形やはがれが発生しなかった。
【００２９】
引き続き、図２（ａ）および（ｂ）を用いて試料台２に貼り付けた薄膜シート１へのパタン形成方法について説明する。
【００３０】
図２（ａ）において、６は高エネルギー線であり、ここではシンクロトロン放射光を用いた。７はＸ線マスクであり、Ｘ線透過性を有する膜厚２μｍのＳｉＮでなるメンブレン上に、吸収によってＸ線不透過性を呈する厚み０．８μｍのＴａでなるマスクパタン９が形成されているものを用いた。１０は光学マスク７のマスクパタン９が形成されていない領域８（光学マスク７のＸ線透過領域）からのＸ線透過光、１１は薄膜シート１上の加工パタンである。
【００３１】
露光は、Ｘ線マスク７と薄膜シート１との間隙が１００μｍになるように試料台２またはＸ線マスク７をセットし、シンクロトロン放射光６を３０分間照射して行った。光学マスク７のＸ線透過領域を透過したＸ線透過光１０により、薄膜シート１に選択的にアブレーションを生じさせ、薄膜シート１に対しこれを貫通する加工パタン１１を形成することができた。
【００３２】
その後、試料台２から薄膜シート１に対し矢印１２で示す方向に外力を加えて試料台２からはがし、図２（ｂ）に示す加工シート１３が完成した。このときに作用する外力は、本実施形態では接着剤による貼り付けを行ったものではないので、貼り付け圧力より小さい値で十分であり、取り外しに際して加工パタン１１に損傷などの欠陥が発生することはなかった。
【００３３】
以上のように、本実施形態によれば、ＰＦＡポリマーの厚み１０μｍの薄膜シートに対しても、高エネルギー線照射による良好な掘り込み加工や貫通穴あけ加工が可能となった。また、パタン加工後においては弱い力で簡単に試料台からの取り外しが可能であるので、形成したパタンに変形や破損が生じることなく、良好な加工物を得ることができた。
【００３４】
なお、上例では、加圧ローラ５の温度を１５０℃としたが、５０〜２５０℃でも貼り付け可能であり、同等の効果が得られた。また加圧ローラ５による加圧力を０．５ＭＰａとしたが、０．０１〜１０Ｍ．Ｐａの範囲の圧力でも貼り付け可能であった。これらの温度や圧力の条件は、高エネルギー線照射による加工温度、加工パタンの形状や寸法、加工対象の材料、厚さなどの諸元に応じて最適な値を定めることができる。
【００３５】
また、上例では電熱線５ｈを内蔵した加圧ローラ５を用いたが、適切な加熱および加熱が可能な手段であれば、ローラ形状のものでなくてもよい。さらに、圧着加熱手段と加圧手段とを別体のものとしてもよく、例えば、試料台２側から加熱を行うようにしてもよい。
【００３６】
さらに、薄膜シートの加工対象部分を試料台２上に位置づけて加圧ローラ５で貼り付けた後に加圧ローラを退避させ、加工を施してから、試料台から加工済みのシート部分を外し、巻き取り機で当該加工シート部分を巻き取り、未加工部分を試料台に上記の方法で貼り付け、再び加工することを繰り返すことで、ウェブ状の薄膜シートに対し効率良く連続加工処理を施すこともできる。この場合、巻き取られたウェブから必要に応じて加工シート部分を裁断して用いることができる。
【００３７】
またこの場合、高エネルギー線の照射に先立ってアニール処理が望まれるのであれば、例えば、ウェブの供給および排出と、加圧ローラ５の動作と、シート部分の貼り付けおよび取り外しを行うための試料台２の昇降と、を許容する筐体で試料台周囲空間を覆い、その内部においてアニールに適した雰囲気温度が得られるようにすることができる。
【００３８】
または、有効であれば、試料台側から加熱する手段を設けることでアニールが行われるようにしてもよく、この場合は当該加熱手段を貼り付けおよびアニールの両工程にも兼用できる。
【００３９】
加えて、本実施形態ではＰＦＡポリマー薄膜シートを加工対象として説明したが、ＰＴＦＥやＦＥＰなど、その他のＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートに対しても同様の同様の効果がある。これは、以下の実施形態でも同様である。
【００４０】
（第２の実施形態）
次に、ＴＦＥ系ポリマー薄膜シートの平面度をより向上するための実施形態について説明する。
【００４１】
本実施形態でも、ＴＦＥ系ポリマー薄膜シートとして第１の実施形態と同等のＰＦＡポリマー薄膜シートを用いた。また、試料台には、シリコンウエハをベースとし、その上にスピンコート法を用いてＰＦＡポリマーの塗布膜を形成したものを用いた。その形成工程では、シリコンウエハをスピンコータのチャック台に載置し、シリコンウエハの中心にＰＦＡポリマー溶液を滴下して、２０００ｒｐｍの回転数で４０秒間回転させることでシリコンウエハ上に平坦で均一な厚みの塗布膜を得た。さらに塗布後に２５０℃の加熱により塗布膜とシリコンウエハのベースとの密着性を高める処理を施し、このＰＦＡポリマー膜付きウエハを試料台として利用した。
【００４２】
図３は、かかる工程を経て得られた試料台２にＰＦＡポリマー薄膜シートを貼り付ける工程の説明図である。
【００４３】
同図において、１４はシリコンウエハ、１５は上記塗布により形成したＰＦＡポリマー膜、１６は厚さ５μｍのＰＦＡポリマー薄膜シートである。１７はシリコンウエハ１４を例えば真空チャッキングするとともに、図の上下方向に昇降可能なウエハステージであり、内部に設けた電熱線１７ｈにより試料台２を加熱することができる。１８および１９はＰＦＡポリマー薄膜シート１６の側部を挟み込んで固定保持しするための固定台、２０は電熱線２０ｈを内蔵したプレス機である。
【００４４】
まず、予め１５０℃に加熱したウエハステージ１７に試料台２を真空チャックさせ、十分に試料台２を加熱する。その上にＰＦＡポリマー薄膜シート１６を置き、ＰＦＡポリマー薄膜シート１６の両側部を固定台１８および１９のそれぞれで挟み込んだ状態で固定保持させる。
【００４５】
次に、不図示の昇降機構によりウエハステージ１７を上昇させることで、ＰＦＡポリマー薄膜シート１６が凹凸や弛みのない状態で試料台２の上面に倣うようになるまで押し上げ、その状態で１５０℃に加熱したプレス機２０をＰＦＡポリマー薄膜シート１６の上に位置づけてプレスした。プレス終了後、ウエハステージ１７を下降させ、試料台２からはみ出した部分でＰＦＡポリマー薄膜シート１６を切り取り、プレス機２０を上方に戻した。
【００４６】
以上の工程により、シリコンウエハ１４の平面度に倣い、面内ばらつき５μｍ以下のＰＦＡポリマー薄膜シートの貼り付け工程が完成した。
【００４７】
本実施形態では、試料台２のべースにシリコンウエハを用いたため、入射する放射光に対し薄膜シートを垂直に保持することができ、より高い精度の加工パタンを有する良好な加工物を得ることができた。
【００４８】
なお、本実施形態において、ベースとなるシリコンウェハに対してはスピンコートによりＰＦＡポリマーを塗布することで膜形成を行うものとしたが、その他、スプレー法によりＰＦＡポリマー溶液を吹き付けたり、ＰＦＡポリマーを蒸着させるなどによるコーティングを行うことによっても、ＰＦＡポリマーの膜形成を行うことができるのは勿論である。
【００４９】
また、本実施形態に対し、固定台１８，１９およびプレス機２０に代えて第１実施形態と同様の巻き取り機３，４および加圧ローラ５を用いることもできる。さらに、第１の実施形態に関連して述べたように、ウェブ状のものに対して連続加工を行う装置に本実施形態の構成を適用することも可能である。
【００５０】
（第３の実施形態）
次に、薄膜シートの生産性を向上するための実施形態について説明する。本実施形態でも第１の実施形態と同様、ＰＦＡポリマー薄膜シートを加工対象とし、同様の構成を用いるものとする。
【００５１】
本実施形態は、第１の実施形態で説明したＰＦＡポリマー薄膜シートの貼り付け方法によりＰＦＡポリマー薄膜シートを試料台２に貼り付けた後、新たな薄膜シートを同様の手順を繰り返し、同じ試料台に複数枚の薄膜シートを貼り付け、加工を行うものである。
【００５２】
図４（ａ）および（ｂ）は、試料台２に４枚のＰＦＡ系ポリマー薄膜シートを貼り付け、最上部のシートから加工していく工程の説明図である。
【００５３】
まず、ＰＦＡポリマー薄膜シート２２，２３，２４，２５を同系列の材料からなる試料台２の上に順次貼り付けた。次に、第１の実施形態で説明した方法にてＸ線透過光１０を照射し、薄膜シート２５に加工パタン２６を形成した。図示の例では、上から２枚目の薄膜シート２４にも加工が進んでいる。次に薄膜シート２５および２４を取り外し、所望の貫通穴が形成された加工薄膜シート２５と途中まで加工の進んだ加工薄膜シート２４を得た。
【００５４】
続いて、試料台２上に残った薄膜シート２３，２２にＸ線透過光１０を再度照射し、所望の貫通穴が形成された加工薄膜シート２３と途中までの加工薄膜シート２２とを得た。試料台２は薄膜シート２２が保護膜としての働きをするためにＸ線透過光１０により損傷を受けず、試料台２を再活用することができ、経済性が向上する。
【００５５】
試料台への薄膜シートの貼り付け枚数を増やすことにより、加工を短時問に繰り返し行うことが可能となったため生産性が著しく向上した。
【００５６】
本実施形態では、２枚のシートを一組として、Ｘ線が照射される上から２枚目のものを保護膜としての機能を果たさせている。試料台２の高エネルギー線１０に対する位置合わせ精度を向上すれば、最上部の薄膜シート２５のみを取り外した後に再度薄膜シート２４に対して貫通穴加工を行うことで、その薄膜シート２４も良品として使用できる。また、２枚目のものに対しては掘り込み加工で十分であれば、そのまま良品として使用できる。ただし、試料台２上に直接置かれる１枚目の薄膜シート２２だけは、試料台２の保護膜としての機能を果たすものであるので、良品としては使用しないことが望ましい。
【００５７】
なお、試料台２上に貼りつける薄膜シートの枚数は、ここに例示した４枚に限られることなく、他の枚数とすることもできる。また高エネルギー線の照射によって掘り下げ可能な深さとの関連から、３枚以上の薄膜シートを一組として加工を施すこともできる。
【００５８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、それ自体では凹凸のない平面を安定して保持できないＴＦＥ系ポリマーの薄膜シートヘの高エネルギー線照射による掘り込み加工および貫通穴あけ加工が可能となる。すなわち、薄膜シートを貼り付ける試料台に平面度の高いもの用いることで、加工時の薄膜シートの平面度が高くなり加工精度が向上し、微細パタン形成への発展性が高まる。また、同材質間の貼り付け技術を利用しているから、温度などの環境変化に対する影響が抑えられ、再現性のある加工が可能となる。
【００５９】
さらに、接着剤を用いた貼り付けを行うものではないので、加工後の薄膜シートの取り外しが簡単であり、形成したパタンに損傷を与えないために歩留まりが向上する。
【００６０】
加えて、試料台への薄膜シート貼り付け枚数をふやすことにより、加工を短時間に繰り返し行うことも可能となり、生産性も向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係り、加工対象であるＰＦＡポリマー薄膜シートを、同系列の材料からなる試料台へ貼り付ける工程の説明図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ、図１の貼り付け工程の後に行われる薄膜シートの加工工程およびその工程を経て得られた加工物を説明するための説明図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係り、シリコンウエハを用いて作成した試料台に、加工対象であるＰＦＡポリマー薄膜シートを貼り付ける工程の説明図である。
【図４】（ａ）および（ｂ）は本発明の第３の実施形態に係り、試料台に複数枚のＰＦＡ系ポリマー薄膜シートを貼り付け、最上部シートから加工を行う工程の説明図である。
【符号の説明】
１  ＰＦＡポリマー薄膜シート
２  試料台
３，４  薄膜シートの巻き取り機
５  加圧ローラ
６  シンクロトロン放射光
７  Ｘ線マスク
８  Ｘ線透過領域
９  Ｘ線不透過領域
１０  Ｘ線透過光
１１  加工パタン
１２  薄膜シートに加える外力
１３  加工薄膜シート
１４  シリコンウエハ
１５  塗布により形成したＰＦＡ膜
１６  ＰＦＡ薄膜シート
１７  ウエハステージ
１８，１９  薄膜シート取り付け台
２０  プレス機
２２、２３、２４、２５  薄膜シート
２６  加工パタン
【図１】
2004314512.tif 000003
【図２】
2004314512.tif 000004
【図３】
2004314512.tif 000005
【図４】
2004314512.tif 000006