(57)【要約】【課題】顔面トリートメント用の低周波発生プローブにおいて、公知（特許文献２）のものでは、２つの低周波発生電極をプローブ本体のヘッド部の定位置に取付けているので、該各電極を顔面の部位（例えば、目尻部分や頬部分）に適した間隔で使用することができなかった。【解決手段】プローブ本体１のヘッド部１１に低周波パルスを発生させる２つの電極２，３を設けるとともに、２つの電極２，３のうち、少なくとも一方の電極を他方の電極に対して近接・離間方向に移動可能に設けることにより、両電極を顔面のトリートメントすべき部位（例えば、目尻部分や頬部分）に適した間隔をもたせて使用できるようにした。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プローブ本体（１）のヘッド部（１１）に低周波パルスを発生させる２つの電極（２，３）を設けるとともに、
前記２つの電極（２，３）のうち、少なくとも一方の電極（２又は３）を他方の電極（３又は２）に対して近接・離間方向に移動可能に設けている、
ことを特徴とする低周波発生プローブ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、プローブヘッド部から低周波パルスを発生させるようにした低周波発生プローブに関し、特に顔面のトリートメントに適したハンディタイプの低周波発生プローブに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
低周波パルスを肌面に与えてマッサージ機能を発生させるようにした低周波治療器は、多数出回っている。この種の一般的な低周波治療器としては、治療器本体（低周波発生器）にそれぞれリード線を介して２つの低周波発生電極を接続したものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この特許文献１の低周波治療器では、各低周波発生電極がそれぞれリード線を介して治療器本体に接続されているので、両電極間の間隔に自由度があり、身体肌面におけるかなり離間した２位置を同時にマッサージするのに適している。
【０００４】
又、公知の低周波治療器の中には、顔面のような比較的狭い範囲のトリートメントを対象にしたハンディタイプの低周波発生プローブもある（例えば、特許文献２）。尚、この種の顔面用の低周波発生プローブは、顔の表情筋に低周波パルスを与えることにより、表情筋を刺激して該表情筋に弾力を与え、顔肌のたるみをとる（ハリのある肌にする）機能を有するものである。
【０００５】
そして、この特許文献２の低周波発生プローブ（発明の名称は生体刺激装置）では、プローブ本体のヘッド部における、比較的小間隔をもった定位置に２つの低周波発生電極（パルス伝達導子）を取付けている。尚、この２つの低周波発生電極の間隔は、不変である。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−２１２２４９号公報
【特許文献２】
特開平１１−８９９４５号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、特許文献１（特開２００１−２１２２４９号公報）のように、リード線を介して各低周波発生電極を接続した低周波治療器では、各電極の接触位置に自由度があって離れた２位置を同時にマッサージできるが、各リード線が絡み合ったり邪魔になるという問題があった。又、このように、各リード線の先に各電極を接続させたものでは、例えば顔面のような狭い範囲をトリートメント（マッサージ）する場合には適さないものである。
【０００８】
ところで、顔面を低周波パルスでトリートメント（マッサージ）する場合、例えば目尻付近のように小面積範囲を集中してトリートメントするには２つの電極を近接させる（例えば２ｃｍ程度の間隔にする）方がトリートメント効果が高くなり、他方、頬や額などの広面積部分をトリートメントするには２つの電極を離間させて（例えば４〜７ｃｍ程度の間隔）行う方が広範囲の面積を短時間でトリートメントできる。
【０００９】
ところが、特許文献２（特開平１１−８９９４５号公報）に示す低周波発生プローブでは、２つの低周波発生電極をプローブ本体のヘッド部の定位置に（間隔不変状態で）取付けているので、該各電極を顔面の部位（例えば、目尻部分や頬部分）に適した間隔で使用することができなかった。
【００１０】
本願発明は、主として顔面のトリートメントを行う低周波発生プローブにおいて、２つの電極を顔面の部位に適した間隔で使用し得るようにすることを目的としてなされたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、上記課題を解決するための手段として次の構成を有している。尚、本願発明は、主として顔面のトリートメントを行う低周波発生プローブを対象にしている。
【００１２】
そして、本願発明の低周波発生プローブは、プローブ本体のヘッド部に低周波パルスを発生させる２つの電極を設けるとともに、該２つの電極のうち、少なくとも一方の電極を他方の電極に対して近接・離間方向に移動可能に設けていることを特徴としている。
【００１３】
２つの電極（低周波発生電極）は、何れか一方のみを移動可能にしてもよく、あるいは両方を移動可能にしてもよい。尚、２つの電極を最近接させた状態では、両電極間（中心間）の間隔が２ｃｍ程度になり、最離間させた状態では両電極間の間隔が５〜８ｃｍ程度になるようにするとよい。
【００１４】
可動側の電極は、例えばプローブ本体に対して揺動自在なアームの先端部に取付けて、該アームを揺動させることによって、他方の電極との間隔を変更させ得るようにするとよい。尚、この場合、電極を取付けるアームは、プローブ本体に対して適度の摩擦抵抗がある状態で取付け、トリートメント時に可動側電極が不用意に移動しないようにする。
【００１５】
低周波パルスの発生源（低周波パルス発生器）は、プローブ本体内に内蔵したものでも、外部接続形式のものでもよい。又、低周波パルス発生器のほかに充電式のバッテリーをプローブ本体内に内蔵すると、商業電源の無い場所でも使用できる。
【００１６】
本願の低周波発生プローブは、例えば顔面の目尻付近をトリートメントする場合は、２つの電極を最近接（例えば間隔が２ｃｍ程度）させた状態で行い、他方、頬や額部分をトリートメントする場合には、両電極を所望間隔（例えば４〜８ｃｍの範囲の所定間隔）まで離間させた状態で行う。そして、両電極を近接させた状態で顔肌（例えば目尻付近）に接触させると、顔肌の小面積範囲に低周波パルスを集中して与えることができ、他方、両電極を離間させた状態で顔肌（例えば頬部分）に接触させると、該各電極が接触する離間した２位置に低周波パルスを与えることができる。尚、顔肌全面をトリートメントする場合は、各電極を接触させる位置を順次移動させていく。
【００１７】
【発明の効果】
このように、本願発明の低周波発生プローブによれば、プローブ本体のヘッド部に設けた２つの低周波発生電極間の間隔を自由に調整できる。従って、両電極を近接させた状態では、顔肌の小面積範囲（例えば目尻付近）を集中して低周波パルスによるトリートメントが行えるので、表情筋の弾力化（顔肌のたるみとり）を効率よく（短時間で）達成でき、他方、両電極を離間させた状態では、頬や額部分のように比較的広面積部分の全域を短時間でトリートメントすることができる、という効果がある。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図１〜図５を参照して本願実施形態を説明すると、図１〜図３には本願第１実施形態の低周波発生プローブを示し、図４には第１実施形態の低周波発生プローブの使用方法を示し、図５には本願第２実施形態の低周波発生プローブを示している。
【００１９】
図１〜図３に示す第１実施形態の低周波発生プローブは、ハンディタイプのプローブ本体１のヘッド部１１に低周波パルスを発生させる２つの電極２，３を設けている。この実施形態の低周波発生プローブは、プローブ本体１内に低周波パルス発生器８とバッテリー９を内蔵した携帯式に構成している。尚、プローブ本体１の後端部には充電コード接続口４が形成されている。プローブ本体１の上面部には、電源スイッチ５と、出力（強弱）切換スイッチ６と、低周波のパルスモード（３種類）の切換スイッチ７が設けられている。
【００２０】
２つの低周波発生電極２，３は、一方の電極をヘッド部１１に対して不動状態で固定した固定側電極２とし、他方の電極を固定側電極２に対して近接・離間方向に移動可能な可動側電極３としている。即ち、この第１実施形態では、固定側電極２は、プローブ本体ヘッド部１１に固定された固定アーム２０の先端部に取付けており、可動側電極３は、プローブ本体ヘッド部１１に対して揺動自在に取付けた可動アーム３０の先端部に取付けている。尚、図２及び図３に示すように、固定側電極２は固定アーム２０の先端部に設けた電極取付台２１の下面に露出させており、可動側電極３は可動アーム３０の先端部に設けた電極取付台３１の下面に露出させている。
【００２１】
可動アーム３０の基端側は、ヘッド部１１の下面側に設けたアーム取付台１２（図２参照）にピン１３で枢支しており、該可動アーム３０が図１及び図３に示すように、実線図示位置と鎖線図示位置（符号３０′）の間の角度ａ（ａ＝約９０°）の範囲で揺動し得るようにしている。尚、可動アーム３０の基端部とアーム取付台１２との間には、図２に示すようにゴムブッシュ１４を介在させており、該可動アーム３０がプローブ本体ヘッド部１１に対して適度の摩擦抵抗がある状態で取付けている。従って、可動アーム３０は強制的に（少し強く）揺動させないと移動しないようになっている。
【００２２】
可動アーム３０を固定アーム２０に近接させると（各電極取付台２１，３１の外面同士が接合する）、可動側電極３が固定側電極２に対して近接し（図示例のものでは各電極２，３の中心間隔Ｌ１が約２ｃｍとなる）、可動アーム３０を鎖線図示位置（符号３０′の位置）まで揺動させると、可動側電極３′が固定側電極２に対して大きく離間する（図示例のものでは各電極２，３′の中心間隔Ｌ２が約５ｃｍとなる）。尚、可動アーム３０の長さを長くしたり、あるいは可動アームの揺動角度ａを大きくすることによって、両電極２，３′間の最大離間間隔Ｌ２をさらに大きくすることができる。
【００２３】
この第１実施形態の低周波発生プローブは、図４に示すようにして使用される。即ち、例えば顔面の目尻付近をトリートメントする場合は、図４に実線図示するように、２つの電極２，３を最近接（例えば間隔が２ｃｍ程度）させた状態で行い、他方、頬や額部分をトリートメントする場合には、鎖線図示するように、両電極２，３を所望間隔（例えば最大間隔）まで離間させた状態で行う。そして、両電極２，３を近接させた状態（実線図示状態）で顔肌に接触させると、各電極２，３から顔肌の小面積範囲に低周波パルスを集中して与えることができ、他方、両電極２，３を離間させた状態（鎖線図示状態）で顔肌に接触させると、該各電極２，３が接触する離間した２位置に低周波パルスを与えることができる。尚、顔肌全面をトリートメントする場合は、各電極２，３を接触させる位置を順次移動させていく。
【００２４】
このように、この実施形態の低周波発生プローブを使用すると、プローブ本体１のヘッド部１１に設けた２つの低周波発生電極２，３間の間隔を自由に調整できる。そして、両電極２，３を近接させた状態では、顔肌の小面積範囲（例えば目尻付近）を集中して低周波パルスによるトリートメントが行え（表情筋の弾力化を効率よく達成できる）、他方、両電極２，３を離間させた状態では、頬や額部分のように比較的広面積部分の全域を短時間でトリートメントすることができる。
【００２５】
図５に示す第２実施形態の低周波発生プローブは、２つの電極２，３ともに、相互に近接・離間方向に移動自在としている。即ち、各電極２，３は、それぞれヘッド部１１に対して揺動自在な可動アーム３０，３０の先端部（各電極取付台２１，３１の下面）に取付けており、各可動アーム３０，３０を実線図示位置と鎖線図示位置（符号３０′，３０′の位置）との間の角度約９０°の範囲で揺動させることにより、各電極２，３を近接状態と離間状態に変位させ得るようになっている。この場合、可動アーム３０の長さを第１実施形態のものと同じにしたものであっても、両電極２′，３′間の最大離間間隔Ｌ３を８ｃｍ程度まで拡大できる。
【００２６】
尚、この第２実施形態の低周波発生プローブのその他の構成は、第１実施形態のものと同じであり、その説明は第１実施形態のものを援用する。
【００２７】
上記各実施形態では、低周波パルス発生器８をプローブ本体１に内蔵したものを採用しているが、該低周波パルス発生器８は、外部接続するものを使用してもよい。又、電源は、バッテリー９に代えて商業電源を使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願第１実施形態の低周波発生プローブの平面図である。
【図２】図１の右側面図である。
【図３】図１の底面図である。
【図４】図１の低周波発生プローブの使用方法説明図である。
【図５】本願第２実施形態の低周波発生プローブの平面図である。
【符号の説明】
１はプローブ本体、２，３は電極、１１はヘッド部、２０は固定アーム、３０は可動アームである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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