(57)【要約】【課題】デッキ走行系においてテープに衝撃が加えられても補強層でクラックが発生しない、実用信頼性の高い磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性基板１と、非磁性基板１の一方の面に形成された磁性層２と、非磁性基板１の他方の面に形成された金属薄膜である補強層５とを有する磁気記録媒体であって、補強層５の厚さおよび平均粒子径をそれぞれｔおよびｄとしたときに、ｄ／ｔが５以下である。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板と、非磁性基板の一方の面に形成された磁性層と、非磁性基板の他方の面に形成された金属薄膜である補強層とを有する磁気記録媒体であって、補強層の厚さおよび平均粒子径をそれぞれｔおよびｄとしたときに、前記補強層としてｄ／ｔが５以下であるものを採用することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
ｔが１０〜５００ｎｍである請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
ｄが５ｎｍ以上である請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
金属薄膜が蒸着法によって形成されたものである請求項１から請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、金属を非磁性基板の表面に蒸着させることにより補強層を形成することを含むことを特徴とする磁気記録媒体製造方法。
【請求項６】
冷却回転支持体の温度が−５℃以下である請求項５に記載の磁気記録媒体製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、非磁性基板と、非磁性基板の一方の面に形成された磁性層と、非磁性基板の他方の面に形成された金属薄膜である補強層とを有する磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録方式を利用した電子・電気機器の高性能化および小型化を図るため、より多くの情報を記録し得る、より小型のテープ状の磁気記録媒体（例えば磁気テープ、以下、単に磁気テープとも言うものとする）に対する要求が高まっている。このような要求に応える１つの方法として、所定寸法のパッケージに対してより多くの磁気テープを収納し得るように、磁気テープ自体をより薄くする方法がある。具体的には、磁気テープにおいて一般的に最も多くの厚さを占める非磁性基板をより薄くすると共に、非磁性基板の薄膜化に伴う磁気テープのスティフネス（より詳細には曲げスティフネス、以下も同様とする）の低下を補償するために、非磁性基板の、磁性層が形成されている面とは反対側の面に金属薄膜である補強層を設けたタイプの磁気テープが開発されている。このような構成によれば、磁気テープのスティフネスを確保しつつ、全体として磁気テープの厚さを減少させることができる。
【０００３】
以下、非磁性基板の一方の面に磁性層が、他方の面に補強層が形成された高記録密度用磁気テープの１つの例について図面を参照しながら説明する。
【０００４】
図１に示すように、磁気テープ１０においては、非磁性基板１の一方の面（または片面）に磁性層２、保護層３および潤滑剤層４が順次積層されている。この非磁性基板１には、一般的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートまたはポリアミドなどから成るポリマーフィルムが用いられる。磁性層２は強磁性金属薄膜であり、例えば蒸着法により形成されたＣｏ、ＮｉもしくはＦｅまたはこれらを主成分とする合金から成る。保護層３はダイヤモンドライクカーボンのような硬質の物質から成る。潤滑剤層４は例えばフッ素系潤滑剤から成る。
【０００５】
また、非磁性基板１の磁性層２が形成された面と反対側の面（この面を裏面とも言う）には補強層５およびバックコート層６が順次積層されている。補強層５には種々の材料を用い得るが、例えば特開平１１−２８３２３４号公報および特開２０００−１９５０３５号公報などには、蒸着法により形成された金属薄膜（場合により酸素を含む）を補強層とすることが記載されている。また、バックコート層６は、磁気テープ１０の裏面側の走行性を向上させるために設けられるものであり、例えばポリウレタン樹脂をバインダーとし、これにカーボン粒子およびバリウムフェライトを分散させて成る。尚、図１には、バックコート層６を補強層５とを別の層として示しているが、補強層５がバックコート層としても機能する場合には、このような別の層６は必ずしも必要ではない。
【０００６】
このような構成によれば、磁気テープ１０は、金属薄膜である補強層５と、磁性層２とにより非磁性基板１が挟まれたサンドイッチ構造を有する。金属薄膜のヤング率は一般的に比較的高いので、このようなサンドイッチ構造により磁気テープ１０全体のスティフネスが増強される。
【０００７】
このように、上記の構成の磁気テープ１０によれば、非磁性基板１をより薄くすると共に非磁性基板１の裏面に補強層５を設けて、磁気テープ１０全体の厚さを減少しつつ、磁気テープ１０全体のスティフネスを確保できる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上述のような磁気テープによれば、磁気テープ全体のスティフネスを確保するために金属薄膜から成る補強層が設けられ、これにより磁気テープの耐久性の向上が図られている。しかし、従来の磁気テープは依然として補強層にクラックが発生しやすいものである。
【０００９】
クラックはデッキ走行系でテープが衝撃を受けたときに発生しやすい。テープは、例えばモード移行時等にデッキ走行系で衝撃を受け、特に巻き戻しモード中の始端検出時に大きな衝撃を受ける。
【００１０】
そして、補強層に生じたクラックが大きくなると、補強層においてクラックが生じた部分で磁気テープのスティフネスが局所的に低下する。その結果、クラックが生じた部分で磁気テープと磁気ヘッドとの接触状態が不良になり、エンベロープ不良が生じる。そして、エンベロープ不良は、再生信号の品質低下をもたらす。
【００１１】
このように、従来の磁気テープは、補強層により全体のスティフネスが向上されたものではあるが、実用上、無視し得ないクラックの発生という問題を依然として有している。
【００１２】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、非磁性基板の一方の面に磁性層を、他方の面に補強層を有して成る磁気記録媒体であって、全体として適当なスティフネスを有し、かつ補強層におけるクラックの発生が有効に抑制された、実用信頼性の高い高密度磁気記録媒体、特に磁気テープを提供すること、およびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため検討した結果、補強層の厚さおよび平均粒子径がクラックの発生に大きく影響することを見出した。さらに、本発明者らは、補強層の厚さおよび平均粒子径が特定の関係を満たす場合に、補強層におけるクラック発生を有効に抑制し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１４】
上記課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と、非磁性基板の一方の面に形成された磁性層と、非磁性基板の他方の面に形成された金属薄膜である補強層とを有する磁気記録媒体であって、補強層の厚さおよび平均粒子径をそれぞれｔおよびｄとしたときに、前記補強層としてｄ／ｔが５以下であるものを採用することを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、金属を非磁性基板の表面に蒸着させることにより補強層を形成することを含む方法である。
【００１６】
【作用】
補強層の厚さおよび平均粒子径ｔとｄが上記の関係を満たすと、補強層におけるクラックの発生が有効に抑制される。したがって、本発明の磁気記録媒体は、デッキ走行系で媒体に衝撃が加えられても補強層にクラックが生じにくく、繰り返しの使用に十分に耐え得る。
【００１７】
また、金属を非磁性基板の表面に蒸着させることにより補強層を形成することによって磁気記録媒体を製造する場合には、補強層の厚さおよび平均粒子径ｔとｄが上記の関係を満たすようにすることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明の１つの実施形態について以下に詳述する。尚、本実施形態において得られる磁気記録媒体は、特に断りのない限り、図１を参照しながら上述した磁気テープと実質的に同様の構成を有するので、本実施形態の説明においても同図を参照する。以下、本実施形態の磁気記録媒体を単に磁気テープと言うものとする。
【００１９】
以下の説明を含む本明細書において、磁気記録媒体の構成に関して、磁気記録媒体を構成する各層の「表面」とは、各層が形成されたときに露出している面、即ち、各層の非磁性基板から遠い側の面を意味する。磁気記録媒体の構成に関して、磁気記録媒体を構成する各層の「上」というときもまた、特に断りのない限り、各層の非磁性基板から遠い側の面を意味し、反対に、各層の「下」というときは各層の非磁性基板に近い側の面を意味する。したがって、例えば、「補強層の上に」というときは、「補強層の非磁性基板から遠い側の面に隣接する位置に」を意味し、「補強層の下に」というときは、「補強層の非磁性基板に近い側の面に隣接する位置に」を意味する。
【００２０】
磁気記録媒体の「磁性層側表面」および「補強層側表面」とは、それぞれ非磁性基板の２つの面を基準としたときに磁性層および補強層が形成された側の磁気記録媒体の露出表面をいう。したがって、例えば、非磁性基板の一方の面に形成された磁性層の上に炭素膜および潤滑剤層が形成されている場合には、潤滑剤層の露出表面が「磁性層側表面」に相当する。非磁性基板の他方の面に形成された補強層の上に別の層（例えばバックコート層）が形成されているときは、その別の層の露出表面が「補強層側表面」に相当する。
【００２１】
本発明の磁気記録媒体は、補強層の厚さおよび平均粒子径をそれぞれｔおよびｄとしたときに、前記補強層としてｄ／ｔが５以下であるものを採用することを特徴とする。かかる特徴により、例えばデッキ走行系で磁気テープが衝撃を受けても、補強層におけるクラック発生を大幅に抑制できることになる。
【００２２】
補強層の厚さｔは走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察して求め、平均粒子径ｄは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により観察して求めることができる。粒子径は補強層表面１μｍ２に含まれる金属粒子の直径を測定し、平均化して求めることができる。
【００２３】
磁気テープの補強層表面にバックコート層が形成されている場合は、バックコート層をメチルエチルケトンなどの有機溶媒を用いて取り除くことにより、補強層の厚みおよび金属粒子サイズを得ることができる。
【００２４】
ｄ／ｔが５よりも大きい場合には、補強層にクラックが発生しやすくなる。そして、補強層にクラックが発生すると、エンベロープ不良を招き、好ましくない。
なお、図３（ａ）、（ｂ）に、補強層の形状の一例を示す。
【００２５】
補強層の厚さｔは１０〜５００ｎｍであることがより好ましい。補強層の厚さｔが１０ｎｍ未満では、補強層が磁気テープ全体のスティフネスを十分に向上させることができないため好ましくない。また、補強層の厚さｔが５００ｎｍを越えると、補強層の厚みで磁気テープ全体の厚さが大きくなりすぎるため好ましくない。
【００２６】
平均粒子径ｄは５ｎｍ以上であることがより好ましい。平均粒子径ｄが５ｎｍ未満では、補強層表面にバックコート層を設けない場合、補強層の表面性が良すぎて走行耐久性が悪化する。
【００２７】
平均粒子径ｄは、補強層の材料、形成方法および補強層の厚さ等を適宜調節することによって変化させ得る。例えば、後述するように補強層である金属薄膜を蒸着により形成する場合、粒子を基板面に対して斜めに成長させる斜方蒸着法により金属薄膜を形成してもよい。あるいは、金属薄膜は、粒子を基板面に対して垂直に成長させるように蒸着することにより形成してもよい。蒸着により金属薄膜を形成する場合、冷却回転支持体の冷媒温度を変えることによって補強層の平均粒子径ｄを変化させることができる。温度が低いほど、平均粒子径は小さくなる傾向にある。
【００２８】
金属薄膜である補強層は、磁性層の磁性に悪影響を及ぼさないよう、非磁性の金属からなるものであることが好ましい。したがって、金属薄膜としては、例えば、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、ＰｂおよびＡｇからなる群から選択される１種またはそれ以上の金属を含んで成るものが採用される。なお、Ｆｅ、ＮｉおよびＣｏは磁性体であるから、これらを使用する場合には、酸化して非磁性体にした状態で補強層中に存在させることが好ましい。金属薄膜は、単層膜の形態であってもよく、あるいは多層膜の形態であってもよい。
【００２９】
また、コスト、付着速度、および金属薄膜層を形成する金属が酸化された場合の酸化後の安定性を考慮すれば、金属薄膜は、Ｃｕ、Ａｌ、あるいはＣｕまたはＡｌを主成分として好ましくは５０原子％以上含むＣｕ系合金またはＡｌ系合金を用いて形成されることが最も好ましい。
【００３０】
金属薄膜は、スパッタ法、真空蒸着法、またはイオンプレーティング法等によって、非磁性基板の磁性層が位置する面とは反対側の面（以下バック面とも呼ぶ）に形成される。
【００３１】
図２に、補強層を形成するのに適した真空蒸着装置の一例を示す。この装置は、図示しない真空排気装置に接続された真空室の中にあり、図中の矢印方向に回転する冷却回転支持体１３、送り出しロール１１および巻き取りロール１４を有し、送り出しロール１１から巻き取りロール１４に向かって、補強層を形成すべき非磁性基板１が走行するように形成されている。図２に示す装置では、冷却回転支持体１３としてキャン状回転支持体が使用されているが、冷却回転支持体はベルト状支持体であってもよい。
【００３２】
冷却回転支持体１３の下方には坩堝（耐火容器）１６が設けられ、この坩堝１６に補強層を形成する金属材料１７が充填される。図２中、１８は、金属材料１７を蒸発させるための電子銃である。坩堝１６の配置場所は図２に示す位置に限られず、例えば、図２に示す位置よりも右または左に設置してもよい。
【００３３】
本発明の磁気記録媒体は、補強層以外の構成は特に限定されない。したがって、上記において説明した補強層以外の要素、例えば、非磁性基板、磁性層、保護層および潤滑剤層は既知の材料および方法で構成することができる。以下、それらの要素を図面を参照して説明する。
【００３４】
磁気記録媒体１０（図１参照）は、非磁性基板１の上に、磁性層２、保護層３および潤滑剤層４がこの順に積層され、非磁性基板１の磁性層が形２成された面とは反対側の面に補強層５、バックコート層６がこの順に積層されている。
【００３５】
非磁性基板１としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートまたはポリアミド等から成るフィルムを用いることができる。
【００３６】
非磁性基板１の磁性層２が形成される面（即ち、磁性層２と接する側の面）には、磁気記録媒体の磁性層側表面の走行性を向上させるために、ＳｉＯ２、ＺｎＯ等の無機物質またはイミド等の有機物質から成る直径５〜５０ｎｍの超微粒子が１μｍ２につき３〜１５０個、分散・固着して、微細な突起が存在することが望ましい。超微粒子は、非磁性基板１のバック面にも分散・固着していてもよい。あるいは、そのような微粒子を含む高分子材料でフィルムを製造することによっても、表面に微細な突起を有する非磁性基板が得られる。表面に突起を有する非磁性基板の例は、特開平９−１６４６４４号公報および特開平１０−２６１２１５号公報等に開示されている。非磁性基板１の厚さは、例えば約２〜７μｍであり得る。
【００３７】
磁性層２としては、例えば、Ｆｅ系金属、Ｃｏ系金属、およびＮｉ系金属が例示できる。ここで、「Ｃｏ系金属」とは、コバルト、およびコバルトを主成分として好ましくは５０原子％以上含む合金をいう。「Ｆｅ系金属」および「Ｎｉ系金属」も同様である。
【００３８】
磁性層２は、具体的には、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉ、ならびにＦｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ−ＣｒおよびＦｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の合金から選択される１つまたは複数の材料で形成される。磁性層２は単層膜の形態であってもよく、あるいは多層膜の形態であってもよい。また、磁性層２は記録に関与しない下地層を有していてよい。磁性層２の厚さは、例えば２０〜３００ｎｍであり得る。しかし、これらはあくまでも例示であり、当該技術分野において既知の種々の材料から成る適切な厚さの非磁性基板または磁性層が利用可能である。
【００３９】
保護層３は、例えば、スパッタリングもしくはプラズマＣＶＤ等の方法で得られる、アモルファス状、グラファイト状もしくはダイヤモンド状の炭素からなるカーボン薄膜、あるいはそれらの炭素を混合および／または積層して形成したカーボン薄膜を用いて形成することができる。本発明では特にダイヤモンド状の炭素、すなわちダイヤモンドライクカーボンで保護層３を形成することが好ましい。ダイヤモンドライクカーボンは適度な硬度を有し、磁気記録媒体の損傷を抑制するとともに磁気ヘッドの損傷をも抑制することができることから、最も好ましい材料である。いずれの材料を用いて薄膜を形成する場合も、保護層３の厚さは１〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００４０】
また、潤滑剤層４は、例えばフッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤またはシリコーン系潤滑剤などから成ることができ、一般的には、潤滑剤を適当な溶媒に溶解および／または分散させた塗布液を塗布した後、乾燥して溶媒を蒸発させることによって形成できる。潤滑剤層４の厚さは通常０．０５〜５０ｎｍであり得る。
【００４１】
補強層５上にバックコート層６を形成してもよい。その場合、バックコート層の露出表面が磁気記録媒体の補強層側表面となる。このような構成において、補強層５は磁気記録媒体のスティフネスを向上させる役割を果たし、バックコート層６はバックコート層側表面の走行性を確保する役割を果たす。
【００４２】
バックコート層６は、例えば、カーボン粒子、バリウムフェライト、およびそれらのバインダーとしてポリウレタン樹脂を含み得る。カーボン粒子はバックコート層に強度を付与し、バリウムフェライトはバックコート層のヤング率を調節し、ポリウレタン樹脂はカーボン粒子およびバリウムフェライトを結合するバインダーとしての役割を果たす。カーボン粒子に代えて、あるいはカーボン粒子とともに、金属粒子、金属酸化物粒子および金属窒化物粒子から選択される１または複数種の粒子を用いてよい。また、ポリウレタン樹脂に代えて、あるいはポリウレタン樹脂とともに、ニトロセルロース樹脂を用いてもよい。このようなバックコート層６は、カーボン粒子、バリウムフェライトおよびポリウレタン樹脂を、適当な溶媒（例えば、トルエンとメチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解しおよび／または分散させた塗布液を、補強層の上に塗布した後、乾燥して溶媒を蒸発させることにより形成できる。バックコート層の厚さは０．２〜０．６μｍであり得る。尚、補強層５がバックコート層６として機能する場合もあり、このような場合にはバックコート層６を補強層５とは別の層として設ける必要はない。
【００４３】
以上のようにして、磁気テープ（磁気記録媒体）１０が製造される。また、これら非磁性基板、磁性層、保護層、潤滑剤層およびバックコート層には本実施形態にて上述した以外にも、その他の任意の適切な材料を用い得る。
【００４４】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。本実施例において、各試料のバックコート層をメチルエチルケトンで取り除き、補強層の厚さｔを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察して求め、平均粒子径ｄは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により観察して求めた。粒子径は補強層表面１μｍ２に含まれる金属粒子の直径を測定し、平均化して求めた。
【００４５】
（実施例１〜６の作製）
図１に示す態様の磁気記録媒体を以下の手順で作成した。まず、非磁性基板１として、厚さ４．５μｍ、幅１５０ｍｍ、長さ２０００ｍｍのＰＥＴフィルムを用意した。このフィルムの磁性層側面には、ＳｉＯ２から成る直径１１ｎｍの微粒子が１μｍ２当り６５個分散し、固着していた。
【００４６】
この非磁性基板（ＰＥＴフィルム）１の微粒子が存在する側の面に、磁性層２を斜方蒸着法により形成した。磁性層２は、真空槽内を２ｘ１０−２Ｐａの圧力の空気雰囲気とし、非磁性基板１を冷却回転支持体であるベルト状支持体に沿って５５ｍ／分で走行させながら、電子銃（出力１５ｋＷ）により坩堝内のＣｏを蒸発させることにより形成した。蒸着は、非磁性基板に向けて酸素を１．６Ｌ（リットル）／分の流量で供給する酸素雰囲気中で実施した。磁性層２の厚さは１８０ｎｍとした。
【００４７】
次に、磁性層２の上に、ダイヤモンドライクカーボンから成る厚さ１０ｎｍの保護層３を形成した。保護層３はメタンをイオン化するプラズマＣＶＤ法により形成した。保護膜層３は、具体的には真空真空容器中にメタンガスとアルゴンガスとを４：１の比（圧力比）で混合したガスを導入し、全圧を約１０Ｐａに保ちながら、放電管内の電極に電圧を印加することにより形成した。
【００４８】
次に、非磁性基板１のバック面に、Ｃｕを用いて蒸着法により金属薄膜層を補強層５として形成した。補強層５は、真空槽内を２ｘ１０−２Ｐａの圧力の空気雰囲気とし、非磁性基板１をキャン状支持体に沿って１０ｍ／分で走行させながら、電子銃（出力７．０ｋＷ）により坩堝内のＣｕを蒸発させることにより、形成した。
【００４９】
補強層の粒子径を制御するため、補強層の厚さを５〜３６０ｎｍの範囲で試料ごとに変えて、さらに、冷却回転支持体の冷媒冷却温度を−２０〜−１０℃の範囲で試料ごとに変えて、試料ごとに厚さおよび粒子径の異なる補強層を形成した。
【００５０】
その後、以上のように形成された積層体の補強層の上に、約４５０ｎｍの厚さのバックコート層６を湿式塗布法により形成した。塗布液には、溶媒としてトルエンとメチルエチルケトンをそれぞれ５００重量部、バインダーとしてポリウレタンを１００重量部、カーボンを２０重量部、およびバリウムフェライトを６０重量部混合したものを用いた。
【００５１】
続いて、上記積層体の保護層３の上に、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤を有機溶媒に溶かした溶液を塗布した後、乾燥させて、厚さ４ｎｍの潤滑剤層４を形成した。そして、これを１／４インチ幅にスリットしてテープ状の磁気記録媒体を得た。
【００５２】
（比較例１および２の作製）
補強層の粒子径を制御するため、補強層の厚さを３０ｎｍ、７０ｎｍと試料ごとに変えて、さらに、冷却回転支持体の冷媒冷却温度を０℃、−５℃と試料ごとに変えて、試料ごとに厚さおよび粒子径の異なる補強層を形成したこと以外は実施例１〜６と同様の条件でテープ状の磁気記録媒体を得た。
実施例１〜６、比較例１、２で得られた磁気テープ状試料について、それぞれ下記の評価試験（ａ）および（ｂ）を行った。
【００５３】
（ａ）クラック
１／４インチ幅の各試料をＤＶフォーマットのカセットに入れ、市販ＤＶＣ（松下電器産業（株）製、商品名：ＮＶ−ＤＪ１）を改造したものを用いて、１００パス繰り返し再生を行ったときの補強層におけるクラックの状態を目視及び微分干渉顕微鏡で観察し、３段階で評価した。評価基準は次のとおりである。
【００５４】
○：クラックが発生せず、実用上全く問題ない。
△：微小なクラックが発生し、改善が必要である。
ｘ：大小のクラックが多数発生し、実用性は殆どない。
【００５５】
（ｂ）エンベロープ
１／４インチ幅の各試料をＤＶフォーマットのカセットに入れ、市販ＤＶＣ（松下電器産業（株）製、商品名：ＮＶ−ＤＪ１）を改造したものを用いて、ＲＦ信号入力後、その出力波形をオシロスコープにより観察し、エンベロープ平坦率を測定した。エンベロープ平坦率は、各サンプルにおけるエンベロープ幅の最大値を１００％としたときの最小値を％で示したものであり、１００％に近いほど磁気記録媒体の性能が良いことを示している。
【００５６】
得られた試験結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
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【００５８】
表１から明らかなように、ｄ／ｔが５以下である実施例２〜６において、クラックは全く生じず、エンベロープ特性も良好であった。したがって、補強層におけるクラック発生は、補強層の厚さおよび粒子径をそれぞれｔおよびｄしたときにｄ／ｔを５以下にすることによって有効に抑制されているといえる。また、このときの製造条件から、冷却回転支持体の冷媒温度は−５℃以下であることが好ましいと考えられる。
【００５９】
また、実施例１では、クラックが発生しなかったものの、エンベロープ特性の低下が見られた。これは、補強層の強度が不足していたために磁気テープ全体のスティフネスが弱くなったためだと考えられる。よって、実施例２〜６のようにｔは１０ｎｍ以上あった方が好ましいと考えられる。
【００６０】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体は、例えばテープ状である場合にデッキ走行系でテープが衝撃を受けても補強層においてクラックが発生しにくい。そのため、本発明の磁気記録媒体は、繰り返し走行させた場合でも補強層にクラックが生じず、クラックの発生に起因してスティフネスが低下することもない。したがって、本発明の磁気記録媒体は、繰り返し走行させても、磁気ヘッドと良好に接触してエンベロープ不良が生じにくく、高品質の再生信号を与え続ける。このように、本発明によれば、薄手であっても優れた特性を有する寿命の長い磁気記録媒体を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施態様の概略断面図である。
【図２】本発明の磁気記録媒体を製造するために用いられる補強層製造装置の概略断面図である。
【図３】（ａ）は補強層の平面図であり、（ｂ）は非磁性基板及び補強層の立面断面図である。
【符号の説明】
１　非磁性基板
２　磁性層（強磁性金属薄膜）
５　補強層
【図１】
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【図２】
2004005833.tif 000005
【図３】
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