(57)【要約】【課題】製造工程上の煩雑さを招くことなく、隔壁の端部からの剥離を確実に防止可能な手段を講じた有機ＥＬディスプレイ用基板もしくは有機ＥＬディスプレイを提供することを課題とする。【解決手段】透明基材２上に、第１電極層３、絶縁層４、隔壁群５が順に積層され、第１電極層３は、複数の帯状電極が間隔をあけて配列したものであり、隔壁群５は、複数の帯状隔壁が第１電極層３と交差し、間隔をあけて配列したものであると共に、各端部において、隣接する帯状隔壁との間に隔壁と同等の高さの連結部を有して連結したものとして課題を解決することができた。【選択図】  図１
2004186001.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に第１電極層、絶縁層、および隔壁群が順に積層したものであって、前記第１電極層は、複数の帯状電極が間隔をあけて配列して構成されたものであり、前記隔壁群は、前記複数の帯状電極と交差する複数の帯状隔壁が間隔をあけて配列して構成されると共に、各帯状隔壁が端部において、隣接する帯状隔壁との間に隔壁と同等の高さの連結部を有して連結したものであり、前記絶縁層は、前記各帯状電極と前記各帯状隔壁とで区画された各画素部分を少なくとも除き、前記第１電極層を構成する各帯状電極と前記隔壁との間を被覆するものであることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板。
【請求項２】
前記連結部の幅が前記隔壁の幅よりも広いことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬディスプレイ用基板。
【請求項３】
前記透明基材と前記第１電極層との間に、前記各画素部分に応じたカラーフィルター層、もしくは前記各画素部分に応じた色変換層を有することを特徴とする請求項１または請求項２記載の有機ＥＬディスプレイ用基板。
【請求項４】
前記透明基材と前記第１電極層との間に、前記透明基材側より、前記各画素部分に応じたカラーフィルター層、および前記各画素部分に応じた色変換層を有することを特徴とする請求項１または請求項２記載の有機ＥＬディスプレイ用基板。
【請求項５】
前記透明基材が、前記各画素間に相当する位置に、ブラックマトリックスを伴なっているものであることを特徴とする請求項３または請求項４記載の有機ＥＬディスプレイ用基板。
【請求項６】
請求項１〜請求項５いずれかの有機ＥＬディスプレイ用基板の前記各画素部分に対応して、前記第１電極層側より、有機ＥＬ発光層、および第２電極層が順に積層されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アノード電極層の密着性を向上した有機ＥＬディスプレイ、特にパッシブマトリックス駆動型の有機ＥＬディスプレイ、もしくはそのための有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ素子は、原理的には、陰極（カソード）と陽極（アノード）との間に有機ＥＬ発光層をはさんだ構造を有するものであるが、有機ＥＬディスプレイとするには、陰極と陽極とを、いずれも多数の帯状部分の集合体として、互いに直交させて形成し、陰極側を走査し、走査に同期させて陽極側に表示信号を与えることにより、選択された電極どうしの交差点において発光を行なわせて、文字や複雑な画像を表示させている。
【０００３】
従って、有機ＥＬディスプレイを形成する際には、陰極を所定のストライプ状等に形成しなければならないが、このとき、これらの層を形成する区域の両側に、予め隔壁を形成しておけば、蒸着等の手法によっても、陰極層を所定のストライプ状等に形成することが可能になる。
【０００４】
具体的には、従来の有機ディスプレイ用基板１１においては、図５に示すように、透明基材２上に、透明基材２の端部側に補助電極３ｂが積層された縦長の帯状の透明電極３ａが等間隔で横方向に配列して、第１電極層（陽極）３を構成しており、透明基材２の図中の左側の透明基材２の余白部分には、透明基材２上に補助電極６ｂが積層された横長で、長さの短い透明電極６ａが等間隔で縦方向に配列して、第２電極引出線を構成している。そして、第１電極層３の各透明電極３ａ上には、絶縁層４を介して、これらとは直角に交差する、各々は図中の横方向をなす帯状の隔壁５が、縦方向に等間隔で配列している。
【０００５】
ここで、絶縁層４は、第１電極層３を構成する各透明電極３ａと、隔壁５との間を被覆するもので、隔壁５の下部を隔壁５よりも多少広く被覆し、また、隔壁と各透明電極３ａとで区画された区域が発光部分となることから、この部分を開孔部として形成されたものであり、この開孔部上に有機ＥＬ発光層（有機蛍光体層）、および第２電極層を構成する各電極を順次積層し、第１電極層、有機ＥＬ発光層、および第２電極層との接触を確保する。
【０００６】
ここで、隔壁５は第２電極層を構成する各電極をパターン状に形成する上で不可欠であるが、隔壁５自体が微細である上に、パターン化を確実に行なうために、透明基材２側が狭い幅を有し、透明基材２から離れるほど幅が広くなる、いわゆる、オーバーハング部分を有する構造であることが多い。図５においては、図５の左側の部分のものをＡ−Ａ’線上において、矢印方向に見た断面を、図５の右側に示してあり、隔壁５の断面を逆台形状に示してある。このようなオーバーハング部を有する隔壁５は、下層の透明基材２との接着面積が小さくなるため、充分な接着力を持って下層と接着させることが難しく、隔壁５を形成する際や、有機ＥＬ発光層を形成するに先立っての洗浄の際に、隔壁５の剥離が起こりやすく、この傾向は、有機ＥＬディスプレイが高精細化するほど、起きやすい。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明においては、製造工程上の煩雑さを招くことなく、隔壁の剥離を確実に防止可能な手段を講じた有機ＥＬディスプレイ用基板もしくは有機ＥＬディスプレイを提供することを課題とするものである。
【０００８】
【課題を解決する手段】
発明者の検討により、間隔をあけて形成される複数の隔壁からなる隔壁群を、各隔壁の端部において、隔壁と同等の高さの連結部で連結させることにより、上記の課題を解決することができた。
【０００９】
第１の発明は、透明基材上に第１電極層、絶縁層、および隔壁群が順に積層したものであって、前記第１電極層は、複数の帯状電極が間隔をあけて配列して構成されたものであり、前記隔壁群は、前記複数の帯状電極と交差する複数の帯状隔壁が間隔をあけて配列して構成されると共に、各帯状隔壁が端部において、隣接する帯状隔壁との間に隔壁と同等の高さの連結部を有して連結したものであり、前記絶縁層は、前記各帯状電極と前記各帯状隔壁とで区画された各画素部分を少なくとも除き、前記第１電極層を構成する各帯状電極と前記隔壁との間を被覆するものであることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１０】
第２の発明は、第１の発明において、前記連結部の幅が前記隔壁の幅よりも広いことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１１】
第３の発明は、第１または第２の発明において、前記透明基材と前記第１電極層との間に、前記各画素部分に応じたカラーフィルター層、もしくは前記各画素部分に応じた色変換層を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１２】
第４の発明は、第１または第２の発明において、前記透明基材と前記第１電極層との間に、前記透明基材側より、前記各画素部分に応じたカラーフィルター層、および前記各画素部分に応じた色変換層を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１３】
第５の発明は、第３または第４の発明において、前記透明基材が、前記各画素間に相当する位置に、ブラックマトリックスを伴なっているものであることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１４】
第６の発明は、第１〜第５いずれかの発明の有機ＥＬディスプレイ用基板の前記各画素部分に対応して、前記第１電極層側より、有機ＥＬ発光層、および第２電極層が順に積層されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイに関するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１〜図４は、本発明の実施例の有機ＥＬディスプレイ用基板を示すものであり、図５は、従来の有機ＥＬディスプレイ用基板を示すものである。なお、図１〜図５は、いずれも有機ＥＬディスプレイ用基板の一部を示していて、図４は、有機ＥＬディスプレイ用基板の断面の向かって左端の端部から始まる一部を描いたものであり、そのほかの図は、有機ＥＬディスプレイ用基板もしくは、その製作途上の半製品を平面に置いた際の、向かって左側の奥側の隅から始まる一部を描いたものである。
【００１６】
図１に示すように、本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板１は、透明基材２上に、透明基材２の端部側に補助電極３ｂが積層された縦長の帯状の透明電極３ａが等間隔で横方向に配列して、第１電極層３を構成しており、透明基材２の図中の左側の第１電極層３の無い余白部分には、透明基材２上に補助電極６ｂが積層された横長で、長さの短い透明電極６ａが等間隔で縦方向に配列し、全体としては、第１電極層と若干離れて積層され、第２電極引出線を構成している。なお、図１の有機ＥＬディスプレイ用基板１を構成する第１電極層および第２電極引出線６のみを透明基材２上に積層した様子を図２に示す。
【００１７】
第１電極層３の各透明電極３ａ上には、絶縁層４を介して、これらとは直角に交差する、各々は図中の横方向をなす帯状の隔壁５が、縦方向に等間隔で配列して隔壁群を構成している。隔壁５は、従来技術においても挙げたように、種々の形状のものであってよいが、断面形状がオーバーハング状のものであることが好ましい。
【００１８】
本発明においては、各隔壁５の間が、端部において、図中、縦方向の幅広い連結部５ａにより連結されている点が特徴である。図１では、隔壁５の左側の端部のみが連結部５ａで連結されていることしか現われてないが、右側の端部においても、各隔壁５の間が、連結部５ａで連結されていることが好ましい。また、左右両側の端部における、すべての隔壁５の間が連結部５ａにより連結されていることが最も好ましいが、これに限るものではない。例えば、１行目と２行目については、隔壁５間が左側においてのみ連結部５ａにより連結され、２行目と３行目の隔壁５間は右側においてのみ連結部５ａにより連結され、３行目と４行目の隔壁５が、再び、左側において連結部５ａにより連結されるというように、互い違いの側において、連結部５ａにより連結される方式でもよい。
【００１９】
あるいは、１行目〜５行目までの隔壁、および、６行目〜１０行目までの隔壁のいずれの隔壁間も、左右両側において連結部５ａにより連結され、ただし、５行目と６行目との間は、連結されないというように、複数の隔壁５が互いに連結部５ａにより連結されて強化された隔壁５の小グループが、小グループどうしの間は連結部により連結されずに複数配列したものであってもよい。
【００２０】
隔壁５は、有機ＥＬディスプレイ用基板の平坦さ、ひいては、有機ＥＬディスプレイの平坦さを確保する意味で、いずれもが同じ高さ（透明基板に対して垂直方向に測ったときの厚みである。）であることが好ましい。隔壁５の高さとしては、３μｍ〜２０μｍ程度である。
【００２１】
連結部５ａの幅も重要である。もともと隔壁５自体が微細なものであるので、基本的には、連結部５ａの幅も、隔壁５の幅以下では、隔壁５を強化し、隔壁５の端部の接着力を高めるには充分とは言えない。その意味で、連結部５ａの幅は隔壁５の幅よりも大きい方が、隔壁５の端部の接着力を高める効果が高く、好ましい。連結部５ａの幅は、次の段落に述べるような上限も自ずとあるが、隔壁５の幅の２倍以上であることが好ましい。
【００２２】
隔壁５の強化、および隔壁５の端部の接着力の向上の観点からは連結部５ａの幅が大きいほど好ましいものの、連結部５の高さにおいて述べたように、有機ＥＬディスプレイ用基板のフレキシビリティーを損なうからである。また、この種の基板においては、画面サイズを確保する意味で、透明基板２の余白を極力小さくするので、連結部５ａの幅を広げると、隔壁５も延長され、透明基板２の余白を狭めることにもなり、補助電極３ｂもしくは６ｂの露出部分を形成するための面積の確保が難しくなる。従って、連結部５ａの幅は、露出している部分の第２電極引出線６の長さよりも短いものであることが好ましい。一般的には、連結部５ａの幅は、幅の絶対値が２０μｍ〜２００μｍ程度である。
【００２３】
また、連結部５ａの断面形状は、種々の形状であり得るが、隔壁５と同様、断面形状がオーバーハング状のものであることが好ましい。
【００２４】
絶縁層４は、本来的には、各透明電極および陰極の端を覆うことにより、電極の端における電解集中による有機ＥＬ発光層の絶縁破壊を防止するものであるが、実際には、隔壁５の下部を隔壁５よりも多少広く被覆し、また、隔壁と各透明電極３ａとで区画された区域が発光部分となることから、この部分を開孔部として形成し、開孔部上に有機ＥＬ発光層（有機蛍光体層）、および第２電極層を構成する各電極を順次積層したときに、第１電極層、有機ＥＬ発光層、および第２電極層の各層間の接触を確保する。図１に示す絶縁層４は、隔壁５の下部（連結部５ａの下部を含む。）を隔壁５の幅よりも広く被覆し、および、第１電極層３を構成する各透明電極３ａの間を被覆している。また、第２電極引出線の長さの半分程度までも含めて連続的に被覆している。図３に、第１電極層および第２電極引出線６のみを透明基材２上に積層したもの（図２に示すものである。）の上に、開孔部４ａを有した絶縁層４を積層した状態を示す。
【００２５】
本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板１は、各隔壁５間に、有機ＥＬ発光層、および第２電極層を積層することにより、有機ＥＬ素子とすることができる。
【００２６】
図４（ａ）は、図１の左側の部分のものをＢ−Ｂ’線上において、矢印方向に見た断面を、示したもので、透明基材２の右側に幾つかの透明電極３ａが絶縁層４により互いに絶縁されて積層され、各透明電極３ａは、図１の左側の図の上方まで延長されていて、補助電極３ｂを介して電源と接続することができる。各透明電極３ａ上のそれぞれには、発光層、および第２電極層を積層することができ、第２電極層を、左側の補助電極６ｂの連結部５ａの右側まで延長して積層することにより、第２電極引出線を介して電源と接続することができる。
【００２７】
上記のように、有機ＥＬ発光層および２電極層を積層することにより構成した構成でも、有機ＥＬディスプレイを構成し得るが、フルカラー表示を行なわせる目的で、有機ディスプレイ基板には、種々の要素が付加されていてもよい。
【００２８】
図４（ｂ）に示すように、有機ＥＬストライプ用基板１’は、透明基材２と、透明電極３ａとの間に、透明基材２側よりブラックマトリックス７、カラーフィルター層８、および色変換層９等を伴なうことができる。なお、ブラックマトリックス７は省くこともできるが、設けることにより、観察側（図４で言えば、下側である。）から、画像もしくは映像を見たときに、外光の反射を抑制できるの利点がある。また、カラーフィルター層８、および色変換層９は、いずれか一方のみを、設けることもできる。
【００２９】
色変換層９は、有機ＥＬディスプレイのおけるフルカラー表示の一つの方式であるＣＣＭ方式（色変換方式）において用いられ、エネルギーの高い入射光を、それぞれ、蛍光物質により色変換して、青色光、緑色光、および赤色光の各色光を作り出すための層である。入射光が青色光である場合には、緑色光および赤色光に変換するための緑色変換層および赤色変換層の二種類の層と、青色光に関しては入射光をそのまま使用するので、ダミー層としての透明層の、合計、三種類の層からなる。
【００３０】
カラーフィルター層８は、有機ＥＬ素子からの出射光を色補正するための層であり、色変換層の緑色変換層に対応する緑色用カラーフィルター層、赤色変換層に対応する赤色用カラーフィルター層、および青色光に関する透明層に対応する青色用カラーフィルター層との三種類からなる。色補正が不要な場合には、いずれか一種類もしくは二種類以上を省くこともできる。
【００３１】
以上のように、必要に応じてブラックマトリックス７を有し、さらにカラーフィルター層８、色変換層９のいずれかもしくは両方が積層された透明基材２上には、これらの層を被覆するオーバーコート層１０を設け、各色の色変換層間の段差を緩和し、表面を平滑化させる。
【００３２】
フルカラー表示を行なわせる目的で、以上のような種々の要素が付加された有機ディスプレイ基板１’上にも、各隔壁５間に、有機ＥＬ発光層、および第２電極層を積層することにより、有機ＥＬ素子とすることができる。
【００３３】
本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板１の各部分を構成する素材、および形成方法を以降に示す。
【００３４】
透明基材２としてアルカリガラス、ソーダライムガラス、ＳｉＯ２基板、透明なプラスチックフィルム等を用いることができる。ガラスは、フレキシブルなシート状のものも含む。透明基材２の厚みとしては、０．５ｍｍ〜３．０ｍｍ程度である。
【００３５】
第１電極層３の透明電極３ａは、透明性と導電性を有する素材で構成され、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、もしくはＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の導電性のある金属の酸化物をスパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、もしくはＣＶＤ法（化学的気相成長法）等の方法により成膜し、フォトレジストを用いたエッチングにより、所定のパターンとする。
【００３６】
また、補助電極３ｂは、クロム、ニッケル、モリブデン、もしくはアルミニウム等の金属の薄膜で構成され、これらの金属をスパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、もしくはめっきにより成膜し、やはり、フォトレジストを用いたエッチングにより、所定のパターンとする。
【００３７】
上記の透明電極３ａおよび補助電極３ｂの積層順は、いずれが先でも差し支えない。また、透明電極３ａおよび補助電極３ｂの厚みは、いずれも、５０ｎｍ〜３００ｎｍ程度である。
【００３８】
絶縁層４は、絶縁性の高い有機物質もしくは無機物質の層として構成することができるが、フォトリソグラフィー法によるパターン化が容易である点で、感光性樹脂で構成することが好ましく、感光性樹脂としては、ポリイミド系、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸系、環化ゴム系、もしくはノボラック樹脂系等の樹脂を挙げることができる。これらの感光性樹脂を、適宜なコーティング方法、例えば、スピンコーティング法、ロールコーティング法、もしくはバーコーティング法等により、コーティングして塗膜を形成し、得られた塗膜を所定のフォトマスクを介して露光し、その後、現像液を用いて現像することにより、不要部分を除去してパターン状の絶縁層４とすることができる。絶縁層４の厚みとしては、通常、０．５μｍ〜２μｍ程度である。
【００３９】
隔壁群を構成する各隔壁５は、フォトリソグラフィー法が適用可能な感光性樹脂を用いて構成することができ、上記の絶縁層４を構成するものとして挙げた感光性樹脂、例えば、ポリイミド樹脂を用いることができる。絶縁層４を形成するのと同様、コーティングによる塗膜の形成、フォトマスクを介しての露光、および現像を経て、所定の形状の隔壁５を形成することができる。隔壁５の厚みは、通常、３μｍ〜２０μｍであり、断面が逆テーパー状、例えば、透明基材２側の幅が狭い逆台形状等の形状になるよう形成することが好ましい。
【００４０】
ブラックマトリックス７は、クロム、ニッケル、モリブデン、もしくはアルミニウム等の金属の薄膜、または、これら金属と酸化物の積層薄膜で構成され、これらの薄膜は、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法等により成膜し、やはり、フォトレジストを用いたエッチングにより、所定のパターンとして形成することができる。また黒色顔料を分散した感光性レジストを基板全体にコーティングしてフォトマスクを介して露光し、現像液を使用して不要部分を除去して形成することもできる。ブラックマトリックス７の厚みは、１０００〜１００００Å程度である。
【００４１】
カラーフィルター層８は、透明樹脂に染料もしくは顔料微粒子からなる着色剤を溶解もしくは分散させたものである。一例として、ポジ型もしくはネガ型の感光性樹脂（市販のフォトレジストを利用可能である。）に顔料微粒子を分散させたものを、対象となる面に塗布し、得られた塗膜を所定のフォトマスクを介して露光し、その後、現像液を用いて現像することにより、不要部分を除去してパターン状のカラーフィルター層８とすることができ、必要に応じ、これらの工程を繰り返して行なうことにより、二種類もしくは三種類のカラーフィルター層を形成することができる。
【００４２】
色変換層９は、例えば、緑色変換層および赤色変換層の二種類の層と、透明層の三種類から構成される。緑色変換層および赤色変換層は、有機蛍光体が透明なバインダ樹脂中に溶解もしくは分散したものから構成される。
【００４３】
青色の入射光を緑色に変換する有機蛍光体としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフロルメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（以降、クマリン６と言う。）、もしくは３−（２’−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１、または、ソルベントイエロ−１１、もしくはソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等の一種もしくは二種以上を用いることができる。
【００４４】
また、青色の入射光を橙色〜赤色に変換する有機蛍光体としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル）−ピリジニウム−パークロレート等のピリジン系色素、ローダミンＢ、もしくはローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、または、オキサジン系等の一種もしくは二種以上を用いることができる。
【００４５】
色変換層９を構成する透明なバインダ樹脂としては、透明（可視光の透過率が５０％以上である）であり、フォトリソグラフィー法によるパターン化が容易である点で、感光性樹脂で構成することが好ましく、感光性樹脂としては、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環化ゴム系等の反応性ビニル基を有するものを挙げることができ、市販のフォトレジストの中から選択して利用可能である。
【００４６】
上記の有機蛍光体を、これらの透明なバインダ樹脂中に溶解もしくは分散させて、得られたコーティング用組成物を、適宜なコーティング方法、例えば、スピンコーティング法、ロールコーティング法、バーコーティング法、もしくはキャスト法等により、適用して塗膜を形成し、得られた塗膜を所定のフォトマスクを介して露光し、その後、現像液を用いて現像することにより、不要部分を除去して、所定の箇所に、所定の色変換の可能な色変換層９を形成することができる。必要に応じ、これらの工程を繰り返して行なうことにより、二種類もしくは三種類の色変換層を形成することができる。色変換層９の厚みとしては、有機ＥＬ素子の発光を十分に吸収でき、蛍光を発光する機能を妨げない限り、制限はなく、通常は、１０μｍ〜５０μｍ程度である。
【００４７】
また、青色変換層に代えて設ける透明層は、上記の有機蛍光体を含有させて形成した色変換層と、同様に、ただし、有機蛍光体を含まないで調製したコーティング用組成物を用いて、他の色用の色変換層の場合と同様にして形成することができる。
【００４８】
オーバーコート層１０は、上記の透明層と同様にして、形成することができ、その厚みは、下層の凹凸をならして、表面を平坦化できる程度であればよく、通常、５μｍ〜１０μｍ程度である。
【００４９】
有機ＥＬ発光層は、原則的には有機蛍光体を含有する有機蛍光体層単独で構成し得るが、透明電極層側に正孔注入層を設ける、または／および背面電極層側に電子注入層を設ける等の種々の構造のものがあり得るが、上記のような青色光等の発光が得られる限り、これら以外の構造のものでも有り得る。
【００５０】
例えば、青色から青緑色の発光を得ることが可能な有機蛍光体としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（略称；ＤＰＶＢｉ）等のジスチリルピラジン誘導体、もしくは芳香族ジメチリディン系化合等物を例示することができる。
【００５１】
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、例えば、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（略称；ＮＰＤ）、もしくは４，４’，４”−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（略称；ＭＴＤＡＴＡ）等のポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、もしくはスチリルアミン化合物等を例示することができる。
【００５２】
電子注入層を構成する電子注入材料としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）等の８−キノリノール誘導体の金属錯体を例示することができる。
【００５３】
第２電極層は、仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、もしくはそれらの混合物から構成されることが好ましく、より好ましくは、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、もしくはリチウム／アルミニウム混合物から構成される。第２電極層は、シート抵抗が数百Ω／ｃｍ以下であることが好ましく、厚みとしては、１０ｎｍ〜１μｍ程度であり、より好ましくは、５０〜２００ｎｍ程度である。
【００５４】
【実施例】
（実施例１）
大きさ；３００ｍｍ×４００ｍｍ、板厚；０．７ｍｍのソーダライムガラス基板上に、スパッタリング法により厚み；０．１５μｍのＩＴＯ薄膜を成膜し、引続き、厚み；０．２μｍのクロム薄膜を成膜した後、クロム薄膜上にフォトレジスト（東京応化工業（株）製、商品名；「ＯＦＰＲ−８００」）を厚み；０．６μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、フォトレジストの塗膜上から、補助電極パターンを形成したフォトマスクを介して露光し、露光後、現像して、レジストパターンを形成し、形成されたレジストパターンを利用してエッチングを行ない、図２中の符号３および６ｂで示すパターンのクロムの補助電極を形成した。
【００５５】
補助電極形成後、再度、フォトレジスト（東京応化工業（株）製、商品名；「ＯＦＰＲ−８００」）を厚み；０．６μｍになるよう塗布して、プリベークを行なった。プリベーク後、フォトレジストの塗膜上から、透明電極パターンを形成したフォトマスクを介して露光し、現像してレジストパターンを形成し、エッチングを行なった後、レジストパターンの剥離、洗浄、および乾燥の各工程を経て図２中の符号３ａおよび６ａで示す透明電極パターンを形成した。
【００５６】
透明電極パターンを形成した後、全面に感光性ポリイミド樹脂を厚み；１μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、感光性ポリイミド樹脂の塗膜上から、絶縁層パターンを形成したフォトマスクを介して露光し、現像した後、焼成を行なって、図３中、符号４で示す絶縁層パターンを形成した。
【００５７】
絶縁層パターンが形成された上に、全面に、感光性ポリイミド樹脂を厚み；５μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、図１中５で示す隔壁のパターン、および、図１中５ａで示す各隔壁の両端どうしの間をつなぐ連結部のパターンを形成したフォトマスクを介して露光し、逆テーパー形状が形成されるような条件で現像を行ない、連結部５ａを伴なった隔壁５のパターンを形成した。
【００５８】
得られた隔壁５の断面を観察したところ、隔壁５の上部では幅；２０μｍであり、下部（底部）では、幅；１０μｍの逆テーパー形状であったが、現像中の隔壁パターンの剥離は生じなかった。なお、連結部５ａの幅は、１００μｍであった。また、次の工程に備えて、純水中で１５分間の超音波洗浄を行ったが、この超音波洗浄中にも、隔壁パターンの剥離は生じなかった。
【００５９】
超音波洗浄後、真空蒸着装置内に、隔壁パターンまで形成した基板をセットした後、正孔注入材料、有機ＥＬ発光材料、および電子注入材料の順に蒸着を行った。正孔注入材料としてはＭＴＤＡＴＡおよびＮＰＤを順次蒸着し、有機ＥＬ発光材料としてはＤＰＶＢｉ、電子注入材料としてはＡｌｑを蒸着し、さらにカソード電極として、銀とマグネシウムを同時に蒸着して有機ＥＬディスプレイとしたところ、蒸着後の隣接ライン間での短絡は無く、また引出線とカソード電極との接触も十分に得られた。
【００６０】
（実施例２）
実施例１で用いたのと同じガラス基板上に、まず、厚み；０．２μｍの酸化クロム／クロムの積層構造からなる薄膜を成膜した後、さらにフォトレジスト（東京応化工業（株）製、商品名；「ＯＦＰＲ−８００」）を厚み；０．６μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、フォトレジストの塗膜上から、ブラックマトリックスパターンを形成したフォトマスクを介して露光し、露光後、現像して、レジストパターンを形成し、形成されたレジストパターンを利用して、酸化クロム／クロム薄膜のエッチングを行ない、その後、レジストパターンの剥離、洗浄、および乾燥の各工程を経て、ブラックマトリックスを形成した。
【００６１】
ブラックマトリックスが形成された基板上に、市販の各色用感光性樹脂組成物（富士フィルムオーリン（株）製、商品名；「ＣＲ−２０００」（赤色用）、「ＣＧ−２０００」（緑色用）、および「ＣＢ−２０００」（青色用）を用い、まず、赤色用感光性樹脂組成物を用いて、スピンコーティング法により塗布して、プリベーク（温度；９０℃、時間；３分間）を行なった。プリベーク後、カラーフィルター層形成用のフォトマスクを介して露光し、露光後、現像液（富士フィルムオーリン（株）製、商品名；「ＣＤ」）を用いて現像し、その後、ポストベーク（温度；２００℃、時間；３０分間）を行なって、ブラックマトリックスの所定の位置の開孔部に対応させて、厚み；１．３μｍの赤色カラーフィルター層を形成した。続いて、緑色用、青色用の各組成物を逐次用いて、同様に行ない、いずれの場合も、厚み；１．３μｍの緑色および青色の各色カラーフィルター層を形成し、三色のカラーフィルター層とした。
【００６２】
クマリン６をアクリル系の光硬化型レジスト（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＪＮＰＣ０６」）の固形分１Ｋｇに対し、０．０３モルになるよう配合し、分散して得た緑色変換層形成用組成物を、上記のようにして、各色カラーフィルター層が形成された基板上に、スピンコーティング法により塗布して、温度；８０℃でプリベークを行なった。プリベーク後、色変換層形成用のフォトマスクを介して、３００ｍＪ／ｃｍ２の照射量になるよう露光し、露光後、１％（質量基準）炭酸ナトリウム水溶液を用いて室温にて現像し、未露光部を除去後、温度；２００℃でポストベークを行なって、緑色のカラーフィルター層上に対応させて、厚み；約１０μｍの緑色変換層を形成した。
【００６３】
クマリン６、蛍光顔料Ａ、およびアクリル系の光硬化型レジスト（前段落のものと同じである。）を準備した。蛍光顔料Ａは、ベンゾグアナミン樹脂１００に対し、４％（質量基準）のローダミン６Ｇ、および４％（質量基準）のローダミンＢを含むものである。これらを、クマリン６の配合量を、蛍光顔料Ａおよびアクリル系の光硬化型レジストの固形分との合計１Ｋｇに対し、０．０３モル、蛍光顔料の配合量を３０％（質量基準）、並びに、アクリル系の光硬化型レジストの固形分の配合量を７０％（質量基準）となるように配合して、赤色変換層形成用組成物を調製した。この赤色変換層形成用組成物を用い、上記と同様にして、各色カラーフィルター層が形成された基板上に、スピンコーティング法により塗布して、温度；８０℃でプリベークを行なった。プリベーク後、色変換層形成用のフォトマスクを介して、６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量になるよう露光し、露光後、１％（質量基準）炭酸ナトリウム水溶液を用いて室温にて現像し、未露光部を除去後、温度；２００℃でポストベークを行なって、赤色のカラーフィルター層上に対応させて、厚み；約１０μｍの赤色変換層を形成した。
【００６４】
透明層形成用組成物は、上記の緑色および赤色変換層形成用組成物で用いたのと同じアクリル系の光硬化型レジストに、熱硬化型樹脂（新日鉄化学（株）製、商品名；「Ｖ２５９ＰＡ」）を添加したものを用い、緑色および赤色変換層を形成したのと同様に、ただし、露光光の照射量；３００ｍＪ／ｃｍ２、ポストベークの温度；１８０℃の条件で行ない、青色のカラーフィルター層上に対応させて、厚み；約１０μｍの透明層を形成した。
【００６５】
緑色および色色変換層並びに透明層が形成された基板上に、上記の透明層形成用組成物と同じ組成物を再び用い、全面にスピンコーティング法により塗布し、温度；８０℃でプリベークを行なった後、透明層を含む色変換層全体を覆うためのパターンが形成されたフォトマスクを介して、３００ｍＪ／ｃｍ２の照射量になるよう露光し、露光後、１％（質量基準）炭酸ナトリウム水溶液を用いて室温にて現像し、未露光部を除去後、温度；１８０℃でポストベークを行なって、厚み；約５μｍ、表面凹凸が０．５μｍ以下の平坦化層（オーバーコート層）を形成した。
【００６６】
平坦化層の形成後、平坦化層上に、実施例１において、ソーダライムガラス基板上に行ったのと同じ各工程を行ない、透明層を含む各色変換層上に対応させて、有機ＥＬ素子を形成し、実施例１におけるのと同様、連結部を伴なった隔壁の形成も行なって、有機ＥＬディスプレイを形成した。
【００６７】
実施例２においても、隔壁の形成の際の現像中の隔壁パターンの剥離は生じなかった。また、隔壁の形成後、純水中で１５分間の超音波洗浄を行っても、隔壁パターンの剥離は生じなかった。また、得られた有機ＥＬディスプレイにおいても、蒸着後の隣接ライン間での短絡は無く、また引出線とカソード電極との接触も十分に得られ、フルカラーの表示が支障なく行なえた。
【００６８】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、隔壁の端部どうしを連結部により連結したことにより、隔壁の形成時や洗浄時における隔壁の剥離が防止された有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００６９】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明の効果に加え、連結部の幅を隔壁の幅よりも広くすることにより、隔壁の端部からの剥離の防止がより一層確実な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７０】
第３の発明によれば、第１または第２の発明の効果に加え、有機ＥＬ素子と組合せたときに、各画素に対応して、入射光を色補正するか、もしくは色変換することが可能な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７１】
第４の発明によれば、第１または第２の発明の効果に加え、有機ＥＬ素子と組合せたときに、各画素に対応して、入射光を色変換し、色変換後、色補正することが可能な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７２】
第５の発明によれば、第１から第４いずれかの発明の効果に加え、透明基材がブラックマトリックスを伴なっているので、透明基材側から観察したときに、外光の反射防止可能な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７３】
第６の発明によれば、第１〜第５いずれかの発明の有機ＥＬディスプレイ用基板の効果が発揮された有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板を示す図である。
【図２】透明基板に第１電極層を形成した様子を示す図である。
【図３】透明基板に第１電極層、および絶縁層を形成した様子を示す図である。
【図４】有機ＥＬディスプレイ用基板の断面構造を示す図である。
【図５】従来の有機ＥＬディスプレイ用基板を示す図である。
【符号の説明】
１    有機ＥＬディスプレイ用基板
２    透明基材
３    第１電極層（３ａ；透明電極、３ｂ；補助電極）
４    絶縁層（４ａ；絶縁層開孔部）
５    隔壁（５ａ；連結部）
６    第２電極引出線（６ａ；透明電極、６ｂ；補助電極）
７    ブラックマトリックス
８    カラーフィルター層
９    色変換層
１０    オーバーコート層
【図１】
2004186001.tif 000003
【図２】
2004186001.tif 000004
【図３】
2004186001.tif 000005
【図４】
2004186001.tif 000006
【図５】
2004186001.tif 000007