(57)【要約】【課題】安価かつ毒性の低い原料を用いて、簡便な方法にて１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類を合成する合成方法を提供すること。【解決手段】１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類を、１，１−ジアルキルヒドラジン類と炭酸ジフェニル類を原料として用いて合成する合成方法。【選択図】  なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類を、１，１−ジアルキルヒドラジン類と炭酸ジフェニル類を原料として用いて合成する合成方法。
【請求項２】
非水溶性の有機溶媒を反応溶媒として用いる事を特徴とする請求項１に記載の１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類の合成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェット出力画像の画像保存剤、あるいはポリウレタンの劣化防止剤などとして有用な１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類の合成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類は、インクジェット出力画像に対して極めて高い効果を発揮する画像保存剤として特開２００２−３２１４４７号（特許文献１）に記載されている。また特開昭６１−１９９８０１号（特許文献２）、同昭６１−２０３１４４号（特許文献３）などには、ポリウレタン樹脂の劣化防止剤としても記載がある。
【０００３】
しかしながら、これら先行技術の中には１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類の具体的な合成例は示されていない。
【０００４】
一方、１，１，５，５−テトラメチルカルボヒドラジドの合成方法に関しては、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３２，１２７９（１９６７）にホスゲンを用いる方法（非特許文献１）が、またＪ．ｆｕｒ．Ｐｒａｋｔｉｓｃｈｅ  Ｃｈｅｍ．，３１３，６２６（１９７１）には１，３−ベンゾジオキソラン−２−オンを用いる方法（非特許文献２）が記載されている。しかし、ホスゲンを用いる場合はホスゲンそのものの毒性や副生する塩酸の中和に問題が、また１，３−ベンゾジオキソラン−２−オンを用いる場合には、この原料自体を合成しなければならない問題があった。以上のように、１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類の合成方法に関しては、これまでに工業化が容易な安価かつ毒性の低い原料を用いた簡便な合成方法は開示されていなかった。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−３２１４４７号公報（２〜５頁）
【特許文献２】
特開昭６１−１９９８０１号公報（１〜４頁）
【特許文献３】
特開昭６１−２０３１４４号公報（１〜３頁）
【非特許文献１】
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３２，１２７９（１９６７）（１２８３頁）
【非特許文献２】
Ｊ．ｆｕｒ．Ｐｒａｋｔｉｓｃｈｅ  Ｃｈｅｍ．，３１３，６２６（１９７１）（６３１頁）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、安価かつ毒性の低い原料を用いて、簡便な方法にて１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類を合成する合成方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
（１）１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類を、１，１−ジアルキルヒドラジン類と炭酸ジフェニル類を原料として用いて合成する合成方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類の合成方法においては、原料となる１，１−ジアルキルヒドラジン類と炭酸ジフェニル類とを無溶媒あるいは適当な有機溶媒に溶解して加温することにより、より好ましくは、上記両原料を非水溶性の有機溶媒中に溶解して約７０〜８０℃の浴温で加温することにより目的物を合成する。この方法により、安価で低毒性の原料から高収率かつ簡便に目的物を合成することができる。
【０００９】
本発明の１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類において、それぞれのアルキル基はさらに公知の置換基を有していても良く、また１位同士、５位同士が互いに連結して複素環（例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン環など）を形成していても良い。うち好ましい化合物は、１，１，５，５−テトラメチルカルボヒドラジドである。
【００１０】
従って原料となる１，１−ジアルキルヒドラジン類においても、該アルキル基上に公知の置換基を有していてもよく、また２つの基が互いに連結して複素環状となっていても良いが、好ましいものは１，１−ジメチルヒドラジンである。一方もう一つの原料である炭酸ジフェニル類においても、該ベンゼン環上に公知の置換基を有していても良いが、好ましいものは、無置換の炭酸ジフェニルである。また反応溶媒として好ましいものは、酢酸ブチル、トルエン、キシレンなどの沸点８０℃以上の非水溶性かつ非プロトン性の有機溶媒である。沸点が低い（６０℃以下）溶媒や、アルコール類などのプロトン性溶媒では反応速度が遅くなるため、またアセトニトリルやジメチルホルムアミドなどの水溶性溶媒では後処理工程が煩雑となるため、それぞれ好ましくない。
【００１１】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
１，１，５，５−テトラメチルカルボヒドラジド（化１）の合成
【００１２】
【化１】
2004224771.tif 000002
【００１３】
１，１−ジメチルヒドラジン２４０ｇとキシレン２４０ｍｌとを混合し、室温攪拌下に炭酸ジフェニル４３７ｇを加えた。そして、室温下に１時間、浴温７５℃にて４時間攪拌後、この反応液中に酢酸エチル２．４ｌを加えた。ついで目的物を水にて抽出（８００ｍｌ×４）し、この抽出液をエバポレートした。残査に酢酸エチル６００ｍｌを加え、浴温５０℃で２０分間攪拌した。冷後、結晶を濾取し、酢酸エチルにて洗浄後乾燥して、２５２ｇの目的物を得た。
単離収率８６％、融点１５２．５〜１５３℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．５５ｐｐｍ（ｓｉｎｇｌｅｔ，６Ｈ）
５．４〜６．６ｐｐｍ（ｂｒｏａｄ，２Ｈ）
【００１４】
以上より、本発明の合成方法によれば、目的の化合物が高収率かつ簡便に得られることがわかる。
【００１５】
実施例２
化２の合成
【００１６】
【化２】
2004224771.tif 000003
【００１７】
Ｎ−アミノモルホリン６１ｇと炭酸ジフェニル６４ｇから、実施例１と同様の方法にて、４８ｇの目的物を得た。
単離収率７０％、融点２４６〜２４７℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：２．６７〜２．７２ｐｐｍ（ｍｕｌｔｉ．，８Ｈ）
３．５８〜３．６３ｐｐｍ（ｍｕｌｔｉ．，８Ｈ）
７．３８ｐｐｍ（ｓｉｎｇｌｅｔ，２Ｈ）
【００１８】
実施例３
化３の合成
【００１９】
【化３】
2004224771.tif 000004
【００２０】
１−アミノ−４−メチルピペラジン６９ｇと炭酸ジフェニル６４ｇから、実施例１と同様の方法にて、５５ｇの目的物を得た。
単離収率７２％、融点２５１〜２５２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：２．１５ｐｐｍ（ｓｉｎｇｌｅｔ，６Ｈ）
２．２８〜２．４４ｐｐｍ（ｍｕｌｔｉ．，８Ｈ）
２．６２〜２．７８ｐｐｍ（ｍｕｌｔｉ．，８Ｈ）
７．１４ｐｐｍ（ｓｉｎｇｌｅｔ，２Ｈ）
【００２１】
【発明の効果】
本発明によりインクジェット出力画像の画像保存剤、あるいはポリウレタンの劣化防止剤などとして有用な１，１，５，５−テトラアルキルカルボヒドラジド類を、安価で低毒性の原料から高収率かつ簡便に合成することが可能となる。