(57)【要約】【課題】電子光学パネル基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置すること。【解決手段】まず、配向膜を基板１０ａ上に形成する（ステップＳ１０１）。次に、紫外線ランプ及びマスクを用いてスペーサー配置部に紫外線ＵＶを照射して（ステップＳ１０２）、スペーサー配置部とスペーサー分散用溶剤との接触角を、スペーサー配置部の周辺よりも小さくする表面改質処理を施す。この表面改質処理後、スペーサー配置部に、液滴吐出法を用いてスペーサーを配置する（ステップＳ１０３）。基板上のスペーサー配置部にスペーサー分散液を付着させたら、　加熱手段によって基板を所定温度で加熱することによりスペーサー分散用溶剤を蒸発させて（ステップＳ１０４）、スペーサーの配置が完了する。【選択図】　　　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペーサー分散用溶剤にスペーサーを分散させたスペーサー分散液を電子光学パネルの基板上へ付着させて、この基板上の所定位置に前記スペーサーを配置するにあたり、
前記基板上の所定位置の表面を改質し、当該所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、前記所定位置の周辺部よりも低くする表面改質工程と、
表面改質された前記所定位置に前記スペーサー分散液を付着させる工程と、
を含むことを特徴とする電子光学パネルの製造方法。
【請求項２】
上記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角と、上記所定位置以外のスペーサー分散用溶剤に対する接触角との差は８度以上であることを特徴とする請求項１に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項３】
上記表面改質工程は、上記所定位置に紫外線を照射することによって、上記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、上記所定位置の周辺部よりも低くすることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項４】
上記表面改質工程は、上記所定位置に表面改質剤を付着させることによって、上記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、上記所定位置の周辺部よりも低くすることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項５】
上記表面改質剤は、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤又はアルミニウム系カップリング剤であることを特徴とする請求項４に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項６】
上記表面改質剤は液滴吐出法を用いて上記基板上に吐出されることを特徴とする請求項４又は５に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項７】
上記所定位置における配向膜を除去して露出させた上記基板表面に上記スペーサー分散液を付着させることによって、上記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、上記所定位置の周辺部よりも低くすることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項８】
上記表面改質工程においては、上記基板上の上記所定位置を点状に改質することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項９】
上記スペーサー分散液の液滴は、表面が改質された上記所定位置からはみ出るように付着されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項１０】
上記所定位置は画素間であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項１１】
上記スペーサー分散液は、液滴吐出法を用いて上記基板上の上記所定位置に吐出されて付着していることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電子光学パネルの製造方法。
【請求項１２】
対向配置される配向処理された一対の基板と、
スペーサー分散用溶剤に分散されて前記基板上に付着されることにより、前記基板上の所定位置に配置されるスペーサーと、
対向配置される前記基板の間に保持される液晶と、を有し、
前記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角は、前記所定位置の周辺部よりも低いことを特徴とする電子光学パネル。
【請求項１３】
請求項１２に記載の電子光学パネルを備えた電子光学装置。
【請求項１４】
請求項１２に記載の電子光学パネルを備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板上の所定位置にスペーサーを配置する電子光学パネルに関し、さらに詳しくは、基板上の所定位置に精度よくスペーサーを配置できる電子光学パネルの製造方法及び電子光学パネル、並びにこの電子光学パネルを備えた電子光学装置及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置を構成する電子光学パネルは、基板同士の間隔を一定に保つため、基板間に球状や繊維状のスペーサーを配置している。そして、電子光学パネルの表示品質を向上させるためには、セルギャップを精度よく制御することが必要であり、このためにはスペーサーを基板上の所定位置に精度よく配置することが必要である。この目的のために、特許文献１には、基板表面のスペーサーを配置する部分にスペーサーを収容する凹部を設ける構造が開示されている。この構造によれば、凹部にスペーサーが収容されるので、基板上の所定位置にスペーサーを配置することができる。
【０００３】
また、従来はスペーサーを溶媒に分散させて霧吹きのようなスペーサー散布装置によって基板上に散布する方法や、スペーサーに静電気を帯びさせてスペーサーの凝集を防止しながら基板上に散布する方法によってスペーサーを基板上に配置していた。これらの方法では、スペーサーの凝集や散布ムラを生じやすく、表示ムラを招きやすいという問題があった。また、基板上の所定位置にスペーサーを配置することは困難であった。これらの問題を解決するために、スクリーン印刷やフレキソ印刷のような印刷手段によって、スペーサーを基板上に配置する方法も提案されている。
【０００４】
しかし、このような印刷手段では、配向処理をした基板に直接スクリーン等が触れるため、配向不良を生じやすいという問題があった。そこで、近年はこれらの方法に代えて、インクジェット（液滴吐出）法によって、スペーサーを分散させた溶剤を非接触で基板上にスペーサーを配置する方法が提案されている。この方法によれば、非接触で基板上にスペーサーを配置でき、また、基板上の所定の位置にスペーサーを配置することも容易である。
【０００５】
このようなインクジェット（液滴吐出）法を用いたスペーサー配置方法は、例えば特許文献２には、常温における表面張力が３５〜５０ｄｙｎ／ｃｍのインクを使用するインクジェット（液滴吐出）法を用いたスペーサー配置方向が開示されている。これは、インクジェット（液滴吐出）ノズル周辺での乾燥を少なくし、また、ノズル周辺にスペーサーが付着することを防止し、さらには吐出方向のズレを低減させるためである。
【０００６】
【特許文献１】
特開平７−１９１３３２号公報
【特許文献２】
特開平１１−２８１９８５号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記インクジェット（液滴吐出）法を用いるスペーサー配置方法では、ノズルの乾燥を抑制し、吐出精度を向上させるためにインクの表面張力を規定しても、基板に接した後の液滴を安定して配置させなければ、スペーサーを所定の位置に配置させることはできない。また、基板にスペーサーを収容する凹部を設ける構造では、凹部に収容されたスペーサーはその部分で固定され、その場所から出ることはない。しかし、凹部に収納されないスペーサーがあると、このスペーサーによってセルギャップが大きくなり、電子光学パネルの不良を引き起こしてしまう。
【０００８】
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、インクジェット（液滴吐出）ヘッドのノズルから吐出されたスペーサーを含む溶剤が基板に接した後、精度よく基板上の所定位置にスペーサーを配置することのできる電子光学パネルの製造方法及び電子光学パネル、並びにこの電子光学パネルを備えた電子光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、本発明に係る電子光学パネルの製造方法は、スペーサー分散用溶剤にスペーサーを分散させたスペーサー分散液を電子光学パネルの基板上へ付着させて、この基板上の所定位置に前記スペーサーを配置するにあたり、前記基板上の所定位置の表面を改質し、当該所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、前記所定位置の周辺部よりも低くする表面改質工程と、表面改質された前記所定位置に前記スペーサー分散液を付着させる工程とを含むことを特徴とする。
【００１０】
この電子光学パネルの製造方法においては、基板上におけるスペーサー配置部の表面を改質することにより、スペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、その周辺部よりも小さくしてある。したがって、スペーサー分散液は濡れ性の高いスペーサー配置部に引き寄せられて、スペーサー配置部へ確実に配置される。これによって、スペーサー分散用溶剤の乾燥工程においては、乾燥が完了するまでスペーサー分散液はスペーサー配置部からその周辺部へはみ出すことはない。その結果、基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置でき、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。なお、スペーサーは基板上における任意の所定位置に配置されるものであり、上記スペーサー配置部は、基板上の特定位置を意味するものではない（以下同様）。
【００１１】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角と、上記所定位置以外のスペーサー分散用溶剤に対する接触角との差は８度以上であることを特徴とする。スペーサー配置部におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角と、スペーサー配置部以外のスペーサー分散用溶剤に対する接触角との差が小さいと、スペーサー分散用溶剤が画素間へ引き寄せられる力が小さくなるため、画素内にスペーサーが配置されることがある。しかし、このように、前記接触角の差が８度以上であれば、確実に画素間へスペーサーを配置することができるので、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。
【００１２】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記表面改質工程は、上記所定位置に紫外線を照射することによって、上記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、上記所定位置の周辺部よりも低くすることを特徴とする。紫外線照射によれば、紫外線の照射量を制御することによってスペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角の大きさを制御できるので、接触角の大きさに対する制御が容易である。また、配向膜に対するラビング処理は、紫外線の照射前でも後でも構わない。したがって、電子光学パネルの製造における工程の自由度を高くできる。
【００１３】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記表面改質工程は、上記所定位置に表面改質剤を付着させることによって、上記所定位置におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、上記所定位置の周辺部よりも低くすることを特徴とする。この製造方法では表面改質剤を使用するので、表面改質剤の選択によってスペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を大きく変化させることができる。これにより、一回の処理で十分な大きさの接触角を得ることができるので、電子光学パネルの製造時間を短縮できる。ここで、表面改質剤とは、スペーサー分散用溶剤に対する接触角を小さくする作用を持つものである。
【００１４】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記表面改質剤は、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤又はアルミニウム系カップリング剤であることを特徴とする。このような表面改質剤を使用すれば、スペーサー配置部に対するスペーサー分散用溶剤の接触角を下げることができるので、スペーサー配置部にスペーサー分散液を集中させることができる。その結果、基板上の所定位置に、安定して精度よくスペーサーを配置できる。
【００１５】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記表面改質剤は液滴吐出法を用いて上記基板上に吐出されることを特徴とする。このように、表面改質剤の付着に際して液滴吐出法を使用すれば、スペーサー配置部が細かくなっても精度よく容易に表面改質剤を基板表面上の所定位置に付着できる。これによって、電子光学パネルが高密度化しても、基板上の所定位置にスペーサーを配置することができる。また、液滴吐出法によれば、付着パターンの自由度が比較的高いので、付着パターンに変更があっても新たなマスク等を製造する必要がない。これにより、異なる製品を製造する場合であっても容易に対応でき、製造時間を短縮できる。
【００１６】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記所定位置における配向膜を除去して露出させた上記基板表面に上記スペーサー分散液を付着させることによって、上記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、上記所定位置の周辺部よりも低くすることを特徴とする。表面改質剤を付着させる方法では、配向膜に対するラビング処理の後に表面改質剤を付着させる必要があるが、本発明に係る製造方法では、ラビング処理は配向膜の除去前でも後でも構わない。したがって、電子光学パネルの製造における工程の自由度を高くできる。
【００１７】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記表面改質工程においては、上記基板上の上記所定位置を点状に改質することを特徴とする。このように、スペーサー配置部を点状に改質するため、画素間の交点も改質することができる。この場合、円形に表面を改質すれば、画素の間にスペーサーを配置する場合よりも表面改質部の面積を大きくすることができるので、より安定してスペーサーを配置することができる。さらに、スペーサーを配置する部分の表面だけを改質するので、表面改質剤を使用する場合にはその使用量を少なくできる。なお、点状に表面を改質する部分の形状はスペーサー分散液がスペーサー配置部に接触する部分を含んでいればよく、この条件を満たせば、円形、四角形や楕円形でもよい。
【００１８】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記スペーサー分散液の液滴は、表面が改質された上記所定位置からはみ出るように付着されることを特徴とする。このように、スペーサー分散液がスペーサー配置部をはみ出るように付着されれば、スペーサー分散用溶剤が蒸発する過程において、濡れ性の高いスペーサー配置部へスペーサーが引き寄せられる。これによって、基板上の所定位置へ精度よくスペーサーを配置できる。また、スペーサー分散液はスペーサー配置部からはみ出していてもよいので、液滴吐出法によってスペーサー分散液を付着させる場合には、吐出精度が多少低くてもスペーサーを基板上の所定位置に配置できる。
【００１９】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記所定位置は画素間であることを特徴とする。このように、画素間にスペーサーを配置するので、スペーサーが画素上に位置して表示不良を起こすことはない。また、本発明によれば画素間にスペーサーを精度よく配置できるので、スペーサーが画素上に位置することもない。
【００２０】
また、次の発明に係る電子光学パネルの製造方法は、上記電子光学パネルの製造方法において、上記スペーサー分散液は、液滴吐出法を用いて上記基板上の上記所定位置に吐出されて付着していることを特徴とする。このように液滴吐出法を使用すれば、スペーサー配置部が細かくなっても精度よく容易に表面改質剤を基板表面上の所定位置に付着できる。これによって、電子光学パネルが高密度化しても、基板上の所定位置にスペーサーを配置することができる。
【００２１】
また、次の発明に係る電子光学パネルは、対向配置される配向処理された一対の基板と、スペーサー分散用溶剤に分散されて前記基板上に付着されることにより、前記基板上の所定位置に配置されるスペーサーと、対向配置される前記基板の間に保持される液晶と、を有し、前記所定位置のスペーサー分散用溶剤に対する接触角は、前記所定位置の周辺部よりも低いことを特徴とする。
【００２２】
この電子光学パネルにおいては、基板上におけるスペーサー配置部の表面を改質することにより、スペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、その周辺部よりも小さくしてある。したがって、液滴吐出法によって基板上に付着させるスペーサー分散液は、濡れ性の高いスペーサー配置部に引き寄せられる。そして、スペーサー分散用溶剤の蒸発過程においては、スペーサーがスペーサー配置部に引き寄せられながらスペーサー配置部へ確実に配置されるので、スペーサー配置部の周辺部へはみ出すことはない。その結果、基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置でき、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。
【００２３】
なお、スペーサー分散液を基板上の所定位置に付着させるためには液滴吐出法を使用することが好ましい。液滴吐出法を使用すれば、スペーサー配置部が細かくなっても精度よく容易に表面改質剤を基板表面上の所定位置に付着できる。これによって、電子光学パネルが高密度化しても、基板上の所定位置にスペーサーを配置することができる。
【００２４】
また、基板上におけるスペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角と、スペーサー配置部以外のスペーサー分散用溶剤に対する接触角との差は８度以上であることが好ましい。このようにすれば、スペーサー分散用溶剤が画素間へ引き寄せられる力を十分に大きくできるので、確実に画素間へスペーサーを配置することができ、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。
【００２５】
また、スペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角をスペーサー配置部の周辺部よりも低くする表面改質処理には、スペーサー配置部に紫外線を照射する、表面改質剤を付着させる、あるいはスペーサー配置部における配向膜を除去する手段がある。いずれの表面改質処理手段でもよいが、紫外線照射、配向膜除去手段によれば、配向膜に対するラビング処理は表面改質処理の前後を問わないので、電子光学パネルの製造における工程の自由度を高くできる。また、表面改質剤の付着によれば、表面改質剤の選択によってスペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を大きく変化させることができるので、一回の処理で十分な接触角を得ることができる。これにより、電子光学パネルの製造時間を短縮できる。ここで、表面改質剤にはシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤又はアルミニウム系カップリング剤を使用することができる。
【００２６】
また、次の発明に係る電子光学装置は、上記電子光学パネルを備えたことを特徴とする。このため、電子光学パネル基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置してセルギャップ不良を低減した電子光学パネルを備えるので、表示不良を低減した高品質な電子光学装置を得ることができる。
【００２７】
また、次の発明に係る電子機器は、上記電子光学パネルを備えたことを特徴とする。このため、電子光学パネル基板上の所定位置に安定してスペーサーを配置してセルギャップ不良を低減した電子光学パネルを備えるので、表示不良を低減した高品質な電子機器を得ることができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの或いは実質的に同一のものが含まれる。なお、本発明に係る電子光学パネルとしては、例えば液晶表示パネルが挙げられる。
【００２９】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る電子光学パネルの構造を示す説明図である。この電子光学パネル１００は、インクジェット（液滴吐出）法によって基板１０ａ上にスペーサーを配置するにあたり、スペーサーを配置する場所における基板１０ａの表面とスペーサー分散用溶剤との接触角を、スペーサーを配置する場所の周辺部における基板１０ａの表面とスペーサー分散用溶剤との接触角よりも小さくした点に特徴がある。
【００３０】
図１に示すように、この電子光学パネル１００は、配向膜１２ａを表面に形成した基板１０ａと、配向膜１２ｂを表面に形成した基板１０ｂとの間にスペーサー２０を配置して構成してある。また、この電子光学パネル１００は画素３０の間にスペーサー２０を配置するものであり、この部分がスペーサー配置部１５となる。そして、スペーサー配置部１５における基板１０ａの表面とスペーサー分散用溶剤との接触角を、その周辺部よりも小さくするために、スペーサー配置部１５には紫外線が照射される。
【００３１】
図２は、実施の形態１に係る電子光学パネルの製造方法を示す説明図である。
図３は、実施の形態１に係る製造方法を示すフローチャートである。次に、図２、３を用いて、この発明の実施の形態１に係る電子光学パネルの製造方法について説明する。なお、実施の形態１では、カラーフィルタがないモノクロの電子光学パネルを製造する場合を説明するが、本発明の適用対象はこれに限られるものではなく、カラーフィルタを用いたカラー電子光学パネルに対しても適用できる。
【００３２】
この電子光学パネル１００は、電極ピッチＰ１は２００μｍで、画素間ピッチＰ２は１５μｍである。配向膜は日産化学製のＳＥ３１４０を使用し、配向膜の厚さは５００Åとする。まず、配向膜１２ａを基板１０ａ上に形成する（ステップＳ１０１）。次に、紫外線ランプ６２及びマスク６０を用いてスペーサー配置部１５に紫外線ＵＶを照射して（ステップＳ１０２）、スペーサー配置部１５における基板１０ａの表面とスペーサー分散用溶剤との接触角を小さくする表面改質処理を施す。
【００３３】
ここで、図２（ｂ）に示すように、マスク６０の開口幅は１０μｍであり、ピッチは電極ピッチＰ１と同じ２００μｍである。配向膜１２ａとマスク６０との間隔は１０μｍである。紫外線は波長が２９４ｎｍで出力は１０ｍＷ／ｃｍ２である。照射する紫外線の量を変化させることによって、スペーサー配置部１５における基板１０ａの表面とスペーサー分散用溶剤との接触角の大きさを調整する。なお、紫外線の照射は、配向膜１２ａにラビング処理をする前でも後でもよい。図４は、基板上の所定位置に表面改質処理を施した状態を示す説明図である。
図４に示すように、基板１０ａ上のスペーサー配置部１５上、すなわち画素３０間の表面が線状に改質される。
【００３４】
図４は、スペーサー配置用の液滴吐出装置を示す説明図である。上記表面改質処理後、スペーサー配置部１５へ液滴吐出装置５０を用いてスペーサーを配置する（ステップＳ１０３）。基板１０ａは、ベッド５３に固定されている。液滴吐出装置５０は、ピエゾ素子を利用した表面改質剤付着用のスペーサー用液滴吐出ヘッド５２を備えている。図２（ｂ）に示すように、スペーサー用液滴吐出ヘッド５２は、スペーサー配置部１５の間隔で直線状に並んだノズル５２ｎを備えている。また、スペーサー用液滴吐出ヘッド５２は、ノズル５２ｎの配列方向と垂直方向に対して移動できるようになっている。そして、ノズル５２ｎから表面改質剤を吐出させながらスペーサー用液滴吐出ヘッド５２を移動させることにより、基板１０ａ上のスペーサー配置部１５、すなわち画素３０間へ線状に表面改質剤を付着させることができる。
【００３５】
スペーサー用液滴吐出ヘッド５２のノズル径は２５μｍであり、また吐出量は２０ｐｌである。スペーサー２０には直径３．７５μｍの積水化学製ＳＰ−２０３７５を使用する。スペーサー分散用溶剤として２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテル溶液を用い、これに上記スペーサー２０を分散させて、スペーサー分散液を作製する。このスペーサー分散液は、上記液滴吐出装置５０に備えられたスペーサー用液滴吐出ヘッド５２から吐出される。
【００３６】
基板１０ａ上のスペーサー配置部１５にスペーサー分散液を付着させたら、ベッド５３上に取り付けられたヒータ５３ｈによって基板１０ａを１３０℃で５分間加熱してスペーサー分散用溶剤を蒸発させて（ステップＳ１０４）、スペーサー２０の配置が完了する。なお、基板１０ａは、基板１０ａの裏面に配置したヒータ５３ｈによって加熱されるが、基板１０ａをオーブン（図示せず）に入れて加熱してもよい。
【００３７】
スペーサー分散用溶剤としては、２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテルの他、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ドデカノール、１，２−エタンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２−メチル−２，４−ペンタジオール、フェノール、２−ピロリドン、２−フェノキシエタノール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール等を使用することができる。スペーサー分散用溶剤としてこれらの溶剤を使用すれば、インクジェット（液滴吐出）法を用いた場合にスペーサー分散液の吐出性が安定するので好ましい。
【００３８】
図５は、スペーサー分散液の付着状態を示す説明図である。ここで、スペーサー分散液をスペーサー配置部１５に付着させた状態を説明する。図５は、スペーサー配置部１５上に吐出されたスペーサー分散液の液滴を上から見た状態を示している。そして、図５（ｂ）は、スペーサー配置部１５のスペーサー分散用溶剤に対する接触角と、スペーサー配置部１５の周囲におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角との差が小さい場合を示している。この場合には、スペーサー分散液は次第に広がってスペーサー配置部１５上からはみ出してしまうので、スペーサー配置部１５上へ安定してスペーサー２０を配置できない。
【００３９】
一方、本発明においては、スペーサー配置部１５のスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、スペーサー配置部１５の周囲におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角よりも所定値以上小さくしてある。したがって、スペーサー分散液は濡れ性の高いスペーサー配置部１５に引き寄せられるので、スペーサー２０はスペーサー配置部１５へ確実に位置する（図５（ａ））。これによって、スペーサー分散用溶剤の乾燥工程においては、乾燥が完了するまでスペーサー分散液はスペーサー配置部１５からその周辺部へはみ出すことはない。その結果、スペーサー配置部１５に安定してスペーサー２０を配置でき、電子光学パネル１００のセルギャップ不良を低減できる。
【００４０】
また、表面改質処理をした濡れ性の高いスペーサー配置部１５にスペーサー分散液が吐出されていれば、スペーサー分散用溶剤の蒸発過程において濡れ性の高いスペーサー配置部１５にスペーサー２０が配置される。したがって、スペーサー配置部１５からスペーサー分散液がはみ出ていても精度よく所定位置にスペーサー２０を配置できるので、液滴吐出ヘッド５２の吐出精度が多少悪くとも安定して所定位置にスペーサーを配置できる。
【００４１】
次に、スペーサー配置部１５とスペーサー分散用溶剤との接触角の大きさについて説明する。表１には、スペーサー配置部１５とスペーサー分散用溶剤との接触角の大きさを変化させた場合におけるスペーサーの配置状態を評価した結果を示してある。スペーサー２０の配置状態は、スペーサー配置部１５の外側に配置されたスペーサー２０が存在する場合には×とした。表１からわかるように、スペーサー配置部１５におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角βと、スペーサー配置部１５の周辺部におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角αとの差δ＝α−βが８度以上であれば、確実に画素間へスペーサー２０を配置することができる。一方、δが８度未満である場合には、スペーサー分散用溶剤が画素間へ引き寄せられる力が小さくなるため、スペーサー配置部１５外へスペーサー２０が配置されることがある。したがって、前記接触角の差δは８度以上が好ましい。なお、接触角の差δが大きくなりすぎると、スペーサー分散液が画素間に流れ込み、隣接する液滴とつながってしまい、その結果、スペーサー密度のばらつきやそれに伴うセルギャップの不良等が発生するおそれがある。このような不良を抑制するため、接触角の差δは最大５０度程度が好ましい。また、後述するように、点状に基板表面を改質する場合には、δは最大７０度〜８０度が好ましい。
【００４２】
【表１】
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【００４３】
（実施の形態２）
図６は、実施の形態２に係る電子光学パネルの構造を示す説明図である。この電子光学パネル１０１は、実施の形態１に係る電子光学パネル１００と略同様の構成である。しかし、スペーサー配置部に表面改質剤を付着させることによって、スペーサー配置部におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角を、スペーサー配置部周辺におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角よりも小さくする点が異なる。
【００４４】
図６に示すように、この電子光学パネル１０１においては、画素３０の間にスペーサー２０を配置する。この電子光学パネル１０１では、画素３０の間にブラックマトリックス１４が形成されているので、ここがスペーサー配置部となる。
ブラックマトリックス１４には、スペーサー分散用溶剤とブラックマトリックス１４との接触角をブラックマトリックス１４の周辺部よりも小さくするために、予め表面改質剤をブラックマトリックス１４上に付着させる。
【００４５】
表面改質剤としてはシランカップリング剤を使用することができる。この例においては、シランカップリング剤として信越化学工業（株）製のＫＢＭ−６０３（Ｎ−２（アミノエチル３）−アミノプロピルトリメトキシシラン）を用いる。
実際にブラックマトリックス１４上へシランカップリング剤を付着させる場合には、ＫＢＭ−６０３をエタノールによって濃度０．１％に希釈したものを使用する。なお、シランカップリング剤の他に、表面改質剤としてチタネート系カップリング剤やアルミニウム系カップリング剤を使用することができる。
【００４６】
シランカップリング剤としては、本実施の形態で使用しているＫＢＭ−６０３：Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシランの他に、ＫＢＭ−６０２：Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、ＫＢＥ−６０３：Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ＫＢＭ−９０３：３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ＫＢＥ−９０３：３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ＫＢＥ−９１０３：３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、ＫＢＭ−７０３：３−クロロプロピルトリメトキシシラン、ＫＢＭ−８０２：３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ＫＢＭ−８０３：３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ＫＢＥ−８４６：ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド等が挙げられる。なお、これらのシランカップリング剤は、いずれも信越化学工業株式会社製である。
【００４７】
また、チタネート系カップリング剤としては、ＫＲ　ＴＴＳ、ＫＲ　４６Ｂ、ＫＲ　５５、ＫＲ　４１Ｂ、ＫＲ　３８Ｓ、ＫＲ　１３８Ｓ、ＫＲ　２３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ−４４、ＫＲ　９ＳＡ等が挙げられる。これらのチタネート系カップリング剤は、いずれも味の素株式会社製である。また、アルミニウム系カップリング剤としては、ＡＬ−Ｍ：アセトアルコキシアルミニウムジイゾプロピレート（味の素株式会社製）が挙げられる。
【００４８】
図７は、実施の形態２に係る液滴吐出装置を示す説明図である。また、図８は、実施の形態２に係る製造方法を示すフローチャートである。図７、８を用いて、この発明の実施の形態２に係る電子光学パネルの製造方法について説明する。
なお、ここでは、カラーフィルタを備えた電子光学パネルを製造する場合を説明するが、本発明の適用対象はこれに限られるものではない。
【００４９】
この電子光学パネル１０１は、電極ピッチＰ１は８０μｍで、画素間ピッチＰ２は１５μｍである。配向膜は日産化学製のＳＥ３１４０を使用し、配向膜の厚さは５００Åとする。また、基板１０ａ’上には、カラーフィルタ１３が形成されており、その上に配向膜１２ａが形成されている（なお、ＩＴＯについては図示省略）。
【００５０】
次に、スペーサー２０の配置手順について説明する。まず、基板１０ａ’のブラックマトリックス１４上（画素３０の間）に液滴吐出装置５０を用いて上記表面改質剤を付着させる（ステップＳ２０１）。ここで、基板１０ａ’は、ヒータ５３ｈを介してベッド５３に固定されている。液滴吐出装置５０は、ピエゾ素子を利用した表面改質剤付着用液滴吐出ヘッド５１を備えている。
【００５１】
図７（ｂ）に示すように、表面改質剤付着用液滴吐出ヘッド５１は、ブラックマトリックス１４が形成されている間隔で配列される複数のノズル５１ｎを備えている。また、表面改質剤付着用液滴吐出ヘッド５１は、ノズル５１ｎの配列方向に対して垂直な方向に移動できるようになっている。そして、ノズル５１ｎから表面改質剤を吐出させながら表面改質剤付着用液滴吐出ヘッド５１を移動させることにより、基板１０ａ’のブラックマトリックス１４上に表面改質剤を付着させることができる。図９は、基板上に表面改質剤を付着させた状態を示す説明図である。図９に示すように、表面改質剤は基板１０ａ’上のブラックマトリックス１４上、すなわち画素３０の間へ線状に付着する。なお、インクジェット（液滴吐出）法以外にも、フレキソ印刷法等の印刷手段によっても、上記表面改質剤をブラックマトリックス１４上に付着させることができる。
【００５２】
ブラックマトリックス１４上に表面改質剤を付着させたら、基板１０ａ’を６０℃で３分間加熱して、表面改質剤の溶剤であるアルコールを蒸発させる（ステップＳ２０２）。基板１０ａ’の加熱には、ベッド５３上に取り付けられたヒータ５３ｈにより、直接基板１０ａ’を加熱する。基板１０ａ’の温度は赤外線温度センサ５４によって測定される。
【００５３】
次に、基板１０ａ’のブラックマトリックス１４上に、スペーサー用液滴吐出ヘッド５２を用いてスペーサーを配置する（ステップＳ２０３）。スペーサー用液滴吐出ヘッド５２のノズル径は２５μｍであり、また吐出量は２０ｐｌである。スペーサー２０には直径３．７５μｍの積水化学製ＳＰ−２０３７５を使用する。スペーサー分散用溶剤として２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテル溶液を用い、これに上記スペーサー２０を分散させて、スペーサー分散液を作製する。このスペーサー分散液は、上記液滴吐出装置５０に備えられたスペーサー用液滴吐出ヘッド５２から吐出される。ブラックマトリックス１４上にスペーサー２０を配置したら、基板１０ａ’を１３０℃で５分間加熱する。そしてスペーサー分散用溶剤を蒸発させて（ステップＳ２０４）、スペーサー２０の配置が完了する。
【００５４】
スペーサー分散用溶剤としては、２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテルの他、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ドデカノール、１，２−エタンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２−メチル−２，４−ペンタジオール、フェノール、２−ピロリドン、２−フェノキシエタノール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール等を使用することができる。
【００５５】
上記手順によって表面改質剤をブラックマトリックス１４上に付着させたところ、ブラックマトリックス１４上における基板１０ａ’とスペーサー分散用溶剤（２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテル溶液）との接触角は、ブラックマトリックス１４外よりも１４度小さくなっていた。実施の形態１で説明したように、スペーサー配置部のスペーサー分散用溶剤に対する接触角と、スペーサー配置部周辺部におけるスペーサー分散用溶剤に対する接触角との差δが８度以上であれば、スペーサー２０はブラックマトリックス１４の外にはみ出すことなく、安定して精度よくブラックマトリックス１４上に配置される。その結果、電子光学パネルのセルギャップ不良を低減できる。
【００５６】
（実施の形態３）
図１０は、実施の形態３に係る表面改質剤の付着状態を示す説明図である。この電子光学パネルの基板は、画素間４０におけるスペーサーを配置する所定位置に、当該所定位置を中心として表面改質剤を点状に付着させる点に特徴がある。
この例においては、カラーフィルタを使用せず、電極ピッチＰ１は２００μｍ、画素間ピッチＰ２は１５μｍとした。その他は実施の形態２と同様の条件でスペーサー２０を配置した。なお、カラーフィルタを用いる電子光学パネルに対しても同様に適用できる。
【００５７】
実施の形態３においては、点の形状を円形とする。表面改質剤４２は実施の形態２で使用したものと同じものを用いる。表面改質剤４２はインクジェット（液滴吐出）法によって径が１５μｍの円状に付着させた後、ヒータやオーブン等の加熱手段によって溶剤であるアルコールを蒸発させる。すると、図１０（ａ）に示すように点状に表面改質剤４２が付着される。なお、表面改質剤４２はフレキソ印刷によって付着させてもよい。この場合には、点状の凸部を有するマスクを使用すればよい。また、実施の形態１で説明した紫外線照射によって、点状に表面改質処理をしてもよい。
【００５８】
次にインクジェット（液滴吐出）法によってスペーサー分散液を表面改質剤４２上に吐出してから、スペーサー分散液の溶剤成分を蒸発させて、スペーサー２０をスペーサー配置部１５に配置する。ここで用いる液滴吐出ヘッドは、ノズル径が２５μｍで、吐出量は２０ｐｌである。スペーサー分散液も、実施の形態１及び２で説明したものと同様のものを使用する。
【００５９】
表面改質剤４２が付着した部分は、当該部分とスペーサー分散液との接触角は、表面改質剤４２が付着した部分の周辺部よりも小さいので、スペーサー分散液は表面改質剤４２が付着した部分に引き寄せられる。これによってスペーサー分散液の溶媒成分が蒸発する過程においてスペーサー分散液の液滴の中心位置がずれても、最終的にスペーサー２０は表面改質剤４２が付着した部分に集まり、所定の位置にスペーサー２０を配置することができた。
【００６０】
実施の形態３に係る電子光学パネルでは、表面改質剤４２を点状に付着するため、画素３０間の交点に表面改質剤４２を付着させることができる。このとき、円形で表面改質剤４２を付着すれば、線状に表面改質剤４２を付着させる場合よりも径を大きくすることができる。これによって、より安定してスペーサーを配置することができる。さらに、スペーサー２０を配置する部分だけに表面改質剤４２を付着するので、表面改質剤４２の使用量を少なくできる。なお、実施の形態３においては表面改質剤４２を円状に付着させたが、表面改質剤４２の形状はこれに限られるものではない。すなわち、スペーサー分散溶剤の液滴がスペーサー配置部１５に接触する部分を含んでいればよく、この条件を満たせば、四角形や楕円形でもよい。
【００６１】
（実施の形態４）
実施の形態４においては、表面改質剤をフレキソ印刷によって基板上に付着させる。実施の形態４では、電極ピッチＰ１が２５５μｍで、画素間ピッチＰ２は３０μｍとする。配向膜は日産化学製のＳＥ３１４０を使用し、配向膜の厚さは５００Åとする。なお、スペーサー配置部１５、電極ピッチＰ１、画素間ピッチＰ２等については、図１を参照されたい。表面改質剤は、実施の形態２で説明したものと同じシランカップリング剤を用いる。表面改質剤はフレキソ印刷によって、基板１０ａの画素間に付着させる。その後、６０℃で３分間加熱して、表面改質剤の溶剤成分を蒸発させる。
【００６２】
次に、基板１０ａのスペーサー配置部１５に、インクジェット（液滴吐出）法を用いてスペーサーを配置する。液滴吐出装置に備えられた液滴吐出ヘッドのノズル径は３５μｍであり、また吐出量は４０ｐｌである。スペーサー２０には直径６μｍの積水化学製ＳＰ−２０６を使用する。スペーサー分散用溶剤は２，２’−ジヒドロキシジエチルエーテル溶液を用い、これに上記スペーサー２０を分散させて、スペーサー分散液を作製する。このスペーサー分散液は、液滴吐出装置に備えられたスペーサー分散液付着用の液滴吐出ヘッドから吐出される。スペーサー配置部１５にスペーサー２０を配置したら、基板１０ａを１３０℃で５分間加熱して溶剤を蒸発させて、スペーサー２０の配置が完了する。このスペーサー配置方法によっても、スペーサー配置部１５にスペーサーを安定して配置することができた。
【００６３】
（実施の形態５）
図１１は、実施の形態５に係る電子光学パネルの製造方法を示す説明図である。図１２は、実施の形態５に係る製造方法を示すフローチャートである。実施の形態５に係る電子光学パネルの製造方法は、実施の形態１に係る電子光学パネルの製造方法と略同様であるが次の点で異なる。すなわち、基板１０ａ上のスペーサー配置部だけ、基板１０ａ上に形成された配向膜を除去することによりガラス表面を露出させて、その部分にスペーサー分散液を付着させる点である。なお、次の説明ではモノクロの電子光学パネルを製造する場合について説明するが、実施の形態５に係る製造方法は、カラーフィルタを有する電子光学パネルの製造にも適用できることはいうまでもない。
【００６４】
この電子光学パネルの基板１０ａは、電極ピッチＰ１が１２０μｍで、画素間ピッチＰ２は１０μｍである。配向膜は日産化学製のＳＥ３１４０を使用し、配向膜の厚さは５００Åとする。まず、基板１０ａ上に配向膜１２ａを形成した後、この配向膜１２ａ前面にレジスト１７を付着させる（ステップＳ３０１）。次に、画素３０の間、すなわちスペーサー配置部のみを開口させたマスク６０によって露光し、現像する（ステップＳ３０２）。これにより、画素３０の間における配向膜１２ａを露出させる（ステップＳ３０３）。そして、プラズマ処理によって画素３０間の配向膜１２ａを除去し（ステップＳ３０４）、画素３０上のレジスト１７も除去する（ステップＳ３０５）。なお、配向膜１２ａはＫＯＨ等の薬剤によって除去してもよい。また、実施の形態３で説明したように、画素３０の間におけるスペーサー２０を配置する所定位置に、当該所定位置を中心として配向膜１２ａを点状に除去してもよい。
【００６５】
この処理によって、スペーサー２０が配置される画素３０の間に基板１０ａの表面が露出したら、インクジェット（液滴吐出）法によって画素３０の間にスペーサー分散液を付着させる（ステップＳ３０６）。ここで、液滴吐出ヘッドのノズル径は２０μｍであり吐出量は４ｐｌである。また、スペーサー２０を分散させるスペーサー分散用溶剤は、実施の形態１で説明したものが使用できる。スペーサー分散液を画素３０間に付着させた後は、実施の形態１、２で説明したと同様な溶剤蒸発工程（ステップＳ３０７）を経て、スペーサー２０が画素３０の間へ配置される。
【００６６】
スペーサー２０が配置される基板１０ａはガラスであるので、スペーサー分散用溶剤に対する接触角はポリイミド等の樹脂である配向膜１２ａよりも小さい。
このため、画素３０の間に吐出されるスペーサー分散液は、スペーサー分散用溶剤が蒸発する過程で画素３０間に集まって、周囲の画素３０へ流れ出すことはない。これによって、安定してスペーサー２０を基板１０ａ上の画素３０間に配置することができる。
【００６７】
なお、配向膜１２ａに対してはラビング処理が必要であるが、ラビング処理はレジスト付着前でもよく、また、スペーサー２０を配置する場所の配向膜１２ａを除去した後でもよい。また、スペーサー配置分部（ここでは画素３０の間）を除いた基板１０ａ上に、インクジェット（液滴吐出）法によって配向膜１２ａを形成してから、スペーサー配置部にスペーサー分散液を付着させてもよい。このようにしても、スペーサー２０を配置する場所における基板１０ａとスペーサー分散用溶剤との接触角を、スペーサー２０を配置する場所の外側における前記接触角よりも小さくすることができる。また、配向膜１２ａの除去が不要なので、その分工程を少なくできる。
【００６８】
（本発明の適用対象）
本発明に係る電子光学パネルが適用できる電子機器としては、携帯電話機の他に、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である電子光学パネルを用いる機器が挙げられる。
したがって、これらの電子機器における電気的接続構造であっても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。
【００６９】
また、この電子光学パネルは、透過型又は反射型の電子光学パネルであり、図示しない照明装置をバックライトとして用いる。なお、アクティブマトリックス型のカラー電子光学パネルであっても同様である。例えば、以上説明した各実施形態においては、いずれもパッシブマトリクス型の電子光学パネルを例示してきたが、本発明の電子光学装置としては、アクティブマトリクス型の電子光学パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた電子光学パネル）にも同様に適用することができる。また、電子光学パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電子光学装置においても本発明を同様に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１に係る電子光学パネルの構造を示す説明図。
【図２】実施の形態１に係る電子光学パネルの製造方法を示す説明図。
【図３】実施の形態１に係る製造方法を示すフローチャート。
【図４】スペーサー配置用の液滴吐出装置を示す説明図。
【図５】スペーサー分散液の付着状態を示す説明図。
【図６】実施の形態２に係る電子光学パネルの構造を示す説明図。
【図７】実施の形態２に係る液滴吐出装置を示す説明図。
【図８】実施の形態２に係る製造方法を示すフローチャート。
【図９】基板上に表面改質剤を付着させた状態を示す説明図。
【図１０】実施の形態３に係る表面改質剤の付着状態を示す説明図。
【図１１】実施の形態５に係る電子光学パネルの製造方法を示す説明図。
【図１２】実施の形態５に係る製造方法を示すフローチャート。
【符号の説明】
１０ａ　基板
１２ａ　配向膜
１４　ブラックマトリックス
１５　スペーサー配置部
１７　レジスト
２０　スペーサー
３０　画素
６０　マスク
１００、１０１　電子光学パネル
【図１】
2004145227.tif 000004
【図２】
2004145227.tif 000005
【図３】
2004145227.tif 000006
【図４】
2004145227.tif 000007
【図５】
2004145227.tif 000008
【図６】
2004145227.tif 000009
【図７】
2004145227.tif 000010
【図８】
2004145227.tif 000011
【図９】
2004145227.tif 000012
【図１０】
2004145227.tif 000013
【図１１】
2004145227.tif 000014
【図１２】
2004145227.tif 000015