(57)【要約】【課題】平坦な基板の周縁部あるいは端面に付着した汚れを、基板表面の中央部に形成された形成層を破壊することなく洗浄可能な基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。【解決手段】支持機構３０により平坦な基板１１を支持し、基板表面の周縁部あるいは基板の端面に洗浄部材２４ａ、５６を押付ける。この状態で、基板と洗浄部材とを、駆動機構３４により基板の周縁部に沿って相対的に移動させ、基板表面の周縁部あるいは基板端面に付着した汚れを洗浄部材によって除去する【選択図】    図４
2004174385.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面中央部に形成層が形成された平坦な基板を支持し、
上記支持された基板の上記表面周縁部あるいは上記基板の端面に洗浄部材を押し当て、
上記基板と上記押し当てられた洗浄部材とを上記基板の周縁部に沿って相対的に移動させ、上記基板の表面周縁部および基板端面に付着した汚れを上記洗浄部材により除去することを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項２】
上記洗浄部材を回転させながら上記基板の表面周縁部あるいは基板端面に押し当てることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項３】
上記洗浄部材として、洗浄薬剤が染み込んだスポンジを用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板洗浄方法。
【請求項４】
上記形成層が形成された表面を上に向けて上記基板をほぼ水平に支持し、
複数の洗浄部材により上記基板表面の周縁部を基板の両面側から挟み込んだ状態で、上記基板と洗浄部材とを相対的に移動させることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項５】
上記基板表面の周縁部に押付けられた洗浄部材として、洗浄薬剤が染み込んだ洗浄部材と水を含有した洗浄部材とを上記移動方向に沿って並べて配置することを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄方法。
【請求項６】
平坦な基板を支持する支持機構と、
洗浄部材と、上記支持機構に支持された基板の表面周縁部あるいは上記基板の端面に上記洗浄部材を押し当てる機構と、を有した洗浄ユニットと、
上記基板および洗浄部材を上記基板の周縁部に沿って相対的に移動させ上記表面周縁部あるいは基板端面に付着した汚れを上記洗浄部材により除去する駆動機構と、
を備えた基板洗浄装置。
【請求項７】
平坦な基板を支持する支持機構と、
複数の洗浄部材と、上記支持機構に支持された基板の表面周縁部を基板の両面側から挟持する洗浄位置と上記基板から離間する後退位置との間で上記洗浄部材を移動させる開閉機構と、を有した洗浄ユニットと、
上記基板および洗浄部材を上記基板の周縁部に沿って相対的に移動させて上記表面周縁部に付着した汚れを上記洗浄部材により除去する駆動機構と、
を備えた基板洗浄装置。
【請求項８】
平坦な基板を支持する支持機構と、
複数の洗浄部材と、上記洗浄部材を、上記支持機構に支持された基板の端面に押し当たる洗浄位置と上記基板から離間する後退位置との間で移動させる移動機構機構と、を有した洗浄ユニットと、
上記基板および洗浄部材を上記基板の周縁部に沿って相対的に移動させて上記基板の端面に付着した汚れを上記洗浄部材により除去する駆動機構と、
を備えた基板洗浄装置。
【請求項９】
上記洗浄部材はスポンジを有していることを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
上記洗浄部材は回転自在に設けられたスポンジを有し、上記洗浄ユニットは、上記スポンジを回転させる回転駆動部を有していることを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
上記洗浄部材は、洗浄薬液が染み込んだ薬液スポンジ、水が染み込んだ含水スポンジ、および給水スポンジを有し、上記薬液スポンジ、含水スポンジ、および給水スポンジは、上記移動方向に沿って上記移動方向上流側から順番に一列に配置されていることを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】
上記洗浄ユニットは、上記洗浄部材の移動方向上流側に設けられ、上記基板の表面周縁部に洗浄薬液および水の少なくとも一方を滴下するディスペンサを有していることを特徴とする請求項７に記載の基板洗浄装置。
【請求項１３】
上記洗浄部材は回転自在に設けられたブラシを有し、上記洗浄ユニットは、上記ブラシを回転させる回転駆動部を有していることを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１４】
上記支持機構は、上記基板が載置される載置面を有した吸着テーブルと、互いに異なる径を有し、上記載置面の周縁に沿って２重に配置された第１および第２シールリングと、上記載置された基板と上記第１および第２シールリングとの間に規定された空間を真空排気して上記基板を吸着する真空排気機構と、を備えていることを特徴とする請求項６ないし１３のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１５】
上記支持機構は、上記吸着テーブルを回転自在に支持しているとともに上記吸着テーブルに吸着された上記基板の任意の辺が上記基板と洗浄部材との相対移動方向と一致するように上記吸着テーブルを回動させる回転機構を備えていること特徴とする請求項１４に記載の基板洗浄装置。
【請求項１６】
上記駆動機構は、上記基板の辺と平行な方向に沿って移動自在に設けられた可動台を有し、上記洗浄ヘッドは上記可動台上に支持されていることを特徴とする請求項６ないし１５のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、平面形画像表示装置のスクリーン形成工程において、基板に付着した塗布液等の汚れを除去する基板洗浄装置に関し、特に、基板周縁あるいは基板端面に付着した汚れを除去する基板洗浄方法および基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、陰極線管（以下、ＣＲＴと称する）に代わる次世代の軽量、薄型の表示装置として様々な平面型の画像表示装置が注目されている。例えば、放電現象による蛍光体の発光を利用したプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）や、主として電界による電子放出を利用したフィールド・エミッション・ディスプレイ（以下、ＦＥＤと称する）が知られている。
【０００３】
例えば、ＣＲＴは、内面に蛍光体スクリーンが形成されたパネルと、パネルのスカート部端面に封着されたファンネルと、を有している。通常、蛍光体スクリーンは、パネル内面に蛍光材料を塗布した後、これを露光、現像するとともに、ブラックマトリックスとなる黒色遮光材料を塗布し、露光、現像することにより形成されている。そして、蛍光体スクリーンの形成後、パネルとファンネルとを封着する際、シール面となるパネルスカート部の端面を洗浄し、シール面に残った塗布液や遮光材料を除去する。
【０００４】
例えば特許文献１に開示された方法によれば、シール面の洗浄は以下の工程により行われる。まず、回転駆動機構により駆動された洗浄、搬送ローラによりパネルのシール面を支持し、洗浄、搬送ローラの回転により、酸洗浄槽の上部を通ってパネルを移動される。この際、洗浄、搬送ローラの表面に付着した酸洗浄液がパネルのシール面に付着し、酸洗浄液の作用によりパネルのシール面は浸蝕溶解されて汚れが除去される。ついで、パネルは水洗浄槽に移動し、洗浄水が酸洗浄槽の場合と同様に、洗浄、搬送ローラを介してパネルのシール面に接触し、酸洗浄液を除去する。
【０００５】
一方、ＦＥＤは、通常、対向配置された前面基板および背面基板を有し、これらの基板は側壁を介して周縁部同士が封着されている。また、前面基板の内面には蛍光体層が形成され、背面基板の内面には、蛍光体を励起する電子放出源である電子放出素子が各画素に対応して配列されている。
【０００６】
封着シール部にあたる前面基板表面の周縁部に塗布液等の汚れが残っていると、側壁を介して前面基板および背面基板の周縁部同士を封着する際、側壁と前面基板とを確実に封着することが困難となる。そのため、封着部の気密性が劣化し、真空外囲器内部を高真空度に維持することができなくなる。また、前面基板の端面に塗布液等が残っていると、後工程でこの端面に接触した装置が汚れ、その汚れが後続の前面基板をさらに汚してしまう可能性がある。上述の理由により、基板周縁部と端面に付着した塗布液等の汚れを拭き取る工程が必要となる。
【０００７】
【特許文献１】
特公平２−２２５６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ＣＲＴのパネルのように蛍光体スクリーンと封着シール面との位置が充分に離れている場合、シール面付近に付着した洗浄薬液がスクリーン面に流れ込むことがないため、上記のような洗浄方法を用いてシール面の残留塗布液等を洗浄することができる。しかし、ＦＥＤの場合、蛍光体スクリーンが形成された基板の周縁部をシール面としているため、上記のような洗浄方法をそのまま適応することは出来ない。また、ＦＥＤにおいて、基板は平坦ガラスを切断して形成され、その端面は、切断後、研磨されている。そのため、基板端面は表面粗さは粗く、そこに塗布液が入り込むと表面以上に落ちにくくなる。
【０００９】
そこで、従来、人手により酸性の薬液を染み込ませたコットンで基板周縁部を擦った後、含水コットンですぐに酸性の薬液を拭き取るという作業を行っていた。しかしながら、人手で拭き取ると基板のスクリーン面を誤って拭き取ってしまったり、あるいは、人により拭き取の程度にばらつきが発生したり等の問題が発生していた。また、洗浄に要する時間も多くかかるだけでなく、上記の理由による歩留まりの低下も大きな問題となる。
【００１０】
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、平坦な基板の周縁部あるいは端面に付着した汚れを、上記基板表面の中央部に形成された形成層を破壊することなく洗浄可能な基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明の形態に係る基板洗浄方法は、表面中央部に形成層が形成された平坦な基板を支持し、上記支持された基板の上記表面周縁部あるいは上記基板の端面に洗浄部材を押し当て、上記基板と上記押し当てられた洗浄部材とを上記基板の周縁部に沿って相対的に移動させ、上記基板の表面周縁部および基板端面に付着した汚れを上記洗浄部材により除去することを特徴としている。
【００１２】
この発明の他の形態に係る基板洗浄装置は、平坦な基板を支持する支持機構と、洗浄部材と、上記支持機構に支持された基板の表面周縁部あるいは上記基板の端面に上記洗浄部材を押し当てる機構と、を有した洗浄ユニットと、上記基板および洗浄部材を上記基板の周縁部に沿って相対的に移動させ上記表面周縁部あるいは基板端面に付着した汚れを上記洗浄部材により除去する駆動機構と、を備えたことを特徴としている。
【００１３】
上記のように構成された基板洗浄方法および基板洗浄装置によれば、基板の表面周縁部あるいは基板端面に洗浄部材を押し付けながら、基板と洗浄部材とを相対的に移動させることにより、基板に付着した汚れを洗浄部材によって除去することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照しながら、この発明の実施の形態に係る基板洗浄方法および基板洗浄装置について詳細に説明する。
まず、本実施の形態に係る基板洗浄方法および基板洗浄装置によって洗浄される基板を備えた画像表示装置の一例としてＦＥＤの構成を説明する。
【００１５】
図１および図２に示すように、ＦＥＤは、絶縁基板としてそれぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板１１、および背面基板１２を備え、これらの基板は１〜２ｍｍの隙間を置いて対向配置されている。そして、前面基板１１および背面基板１２は、矩形枠状の側壁１３を介して周縁部同士が接合され、内部が真空状態に維持された扁平な矩形状の真空外囲器１０を構成している。接合部材として機能する側壁１３は、例えば低融点ガラスからなるフリットガラス、低融点金属等の封着材１９により、背面基板１２の周縁部および前面基板１１の周縁部に封着されている。
【００１６】
真空外囲器１０の内部には、前面基板１１および背面基板１２に加わる大気圧荷重を支えるため、複数のスペーサ１４が設けられている。スペーサ１４としては、板状あるいは柱状のスペーサ等を用いることができる。
【００１７】
前面基板１１内面の画像表示領域には、蛍光面として、赤、緑、青の蛍光体層１６とマトリクス状の遮光層１７とを有した蛍光体スクリーン１５が形成されている。これらの蛍光体層１６はストライプ状あるいはドット状に形成されている。蛍光体スクリーン１５上には、アルミニウム膜等からなるメタルバック２０が形成され、更に、メタルバックに重ねてゲッター膜８が形成されている。なお、蛍光体スクリーン１５は、この発明における基板上の形成層を構成している。
【００１８】
背面基板１２の内面上には、蛍光体スクリーン１５の蛍光体層１６を励起する励起手段として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子１８が設けられている。電子放出素子１８は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子１８は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。また、背面基板１２の内面には電子放出素子１８に電位を供給する多数本の配線７がマトリック状に設けられ、その端部は真空外囲器１０の外部に引出されている。
【００１９】
このようなＦＥＤでは、画像を表示する場合、蛍光体スクリーン１５およびメタルバック２０にアノード電圧を印加し、電子放出素子１８から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーンへ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン１５の蛍光体層１６が励起されて発光し、カラー画像を表示する。
【００２０】
次に、基板洗浄方法および基板洗浄装置について詳細に説明する。図３ないし図５に示すように、基板洗浄装置は、基板を支持する支持機構３０、基板の周縁部および端面を洗浄する洗浄ユニット３２、および基板に対して洗浄ユニットを相対的に移動させる駆動機構３４を備えている。
【００２１】
支持機構３０は、設置面３６に敷設された一対のガイドレール３７に沿って直線的に往復移動自在な直動台２７と、図示しないモータを内蔵し直動台２７上に設けられた回転機構２６と、この回転機構２６により回転自在にかつ水平に支持された吸着テーブル２２と、を備えている。吸着テーブル２２は、処理対象となる基板、例えば、前面基板１１、よりも小さな寸法の矩形板状に形成されている。そして、吸着テーブル２２は、回転機構２６により、その中心の周りで回動自在に支持されている。
【００２２】
載置面となる吸着テーブル２２の上面には、その周縁に沿って、それぞれ矩形状の第１および第２シールリング２３ａ、２３ｂが設置されている。第１および第２シールリング２３ａ、２３ｂは、例えば、断面が円形のゴムシールによって形成されている。また、第１および第２シールリング２３ａ、２３ｂは異なる径を有し、所定の隙間を置いて平行に並んで配置されている。第１および第２シールリング２３ａ、２３ｂ間の空間は、吸着テーブル２２内部に形成された吸気路３５を介して、図示しない排気装置に連通している。
【００２３】
そして、前面基板１１は、蛍光体スクリーン１５の形成された面を上にした状態で吸着テーブル２２上に載置され、前面基板１１の裏面と２本の第１および第２シールリング２３ａ、２３ｂとの間にできた空間を真空引することにより、裏面側が吸着された状態で吸着テーブル上に支持される。
【００２４】
洗浄ユニット３２は、支持ポスト３８と、この支持台に支持された２組の第１洗浄ヘッド４０および２組の第２洗浄ヘッド４２と、を備えている。また、駆動機構３４は、支持機構３０の近傍で設置面３６上に敷設されたガイドレール４４と、このガイドレールに沿って直線的に往復移動自在な可動台４５と、を備えている。ガイドレール４４は、支持機構３０によって支持された前面基板１１の１辺と平行な方向に延びている。そして、支持ポスト３８は可動台４５上に立設されている。これにより、洗浄ユニット３２全体は、可動台４５と共に、前面基板１１の１辺に沿って移動可能となっている。
【００２５】
各第１洗浄ヘッド４０は、垂直方向に並んで設けられた一対の支持ロッド２４と、これらの支持ロッドを垂直方向に沿って開閉する開閉機構４６とを有している。開閉機構４６は、それぞれ水平方向に延びているとともに垂直方向に離間して設けられた一対の支持アーム４８と、これら支持アームの基端部間に設けられ、支持アームを互いに接近する方向および互いに離間する方向へ開閉駆動するエアシリンダ５０と、を有している。
【００２６】
一対の支持ロッド２４は、支持アーム４８の延出端部に取り付けられ、互いに整列した状態で垂直方向に延びているとともに、支持アームから互いに接近する方向に延出している。支持ロッド２４の延出端には、洗浄部材としてそれぞれ円盤状のスポンジ２４ａが取り付けられ、互いに対向している。そして、エアシリンダ５０によって一対の支持アーム４８を互いに接近する方向に移動させることにより、一対のスポンジ２４ａは互いに接近し、これらのスポンジ間に前面基板１１の周縁部を挟持可能な洗浄位置に移動される。また、エアシリンダ５０によって一対の支持アーム４８を互いに離間する方向へ開くことにより、一対のスポンジ２４ａは前面基板１１の周縁部から離間する退避位置に移動される。
【００２７】
エアシリンダ５０は、ブラケット４７を介して支持ポスト３８に支持されている。ブラケット４７は、支持ロッド５１により垂直方向に移動自在に支持されている。また、支持ポスト３８とブラケット４７との間には引っ張りばね３０が架設されている。これにより、ブラケット４７を含む第１洗浄ヘッド４０全体は、前面基板１１の周縁部の高さ位置に応じて、垂直方向に変位自在となっている。なお、２組の第１洗浄ヘッド４０は、洗浄ユニット３２の移動方向に沿って並んで設けられている。
【００２８】
一方、各第２洗浄ヘッド４２は、図３および図４に示すように、水平方向に延びた支持ロッド５２を有し、この支持ロッドはブラケット５４を介してエアシリンダ２９に取り付けられ、更に、エアシリンダは支持ポスト３８に支持されている。支持ロッド５２の延出端には、洗浄部材として機能する円盤状のスポンジ５６が取り付けられている。そして、支持ロッド５２は、スポンジ５６が前面基板１１の端面に押し当てられる洗浄位置と、端面から離間する退避位置との間を、エアシリンダ２９によって水平方向に駆動される。そして、２組の第２洗浄ヘッド４２は、洗浄ユニット３２の移動方向に沿って並んで設けられている。
【００２９】
上記のように構成された基板洗浄装置により前面基板１１の表面周縁部および端面を洗浄する場合、まず、蛍光体スクリーン１５の形成された面を上にした状態で前面基板１１を吸着テーブル２２上に載置し、前面基板１１の周縁部が吸着テーブルから全周に渡って均一に突出するように位置決めする。位置決め後、前面基板１１の裏面側を吸着して吸着テーブル２２上に固定支持する。
【００３０】
続いて、支持機構３０の直動台２７を駆動し、吸着テーブル２２を洗浄ユニット３２に接近した所定位置に移動させる。また、回転機構２６により吸着テーブル２２を回動させ、例えば、支持された前面基板１１の長辺がガイドレール４４と平行に位置するように、前面基板１１を位置決めする。
【００３１】
この状態で駆動機構３４の可動台４５をガイドレール４４に沿って矢印方向に移動させ、洗浄ユニット３２を図３および図４に示す洗浄開始位置まで移動させる。この際、各第１洗浄ヘッド４０の一対のスポンジ２４ａは互いに隙間をおいて対向した退避位置に保持され、また、各第２洗浄ヘッド４２のスポンジ５６も退避位置に後退されている。なお、一対の第１洗浄ヘッド４０の内、洗浄ユニット３２の移動方向上流側に位置した第１洗浄ヘッド４０の上側のスポンジ２４ａには、予め洗浄薬液を染み込ませておく。同様に、一対の第２洗浄ヘッド４２の内、洗浄ユニット３２の移動方向上流側に位置した第２洗浄ヘッド４２のスポンジ５６には、予め洗浄薬液を染み込ませておく。
【００３２】
移動方向上流側の第１洗浄ヘッド４０が洗浄開始位置まで移動した時点で、エアシリンダ５０を作動させて一対のスポンジ２４ａを洗浄位置に移動させ、図６（ａ）に示すように、一対のスポンジ２４ａで前面基板１１の周縁部を両面側から挟持する。また、他方の第１洗浄ヘッド４０が洗浄開始位置まで移動した時点で、エアシリンダ５０を作動させて一対のスポンジ２４ａを洗浄位置に移動させ、一対のスポンジ２４ａで前面基板１１の表面周縁部を両面側から挟持する。更に、順次、第２洗浄ヘッド４２が洗浄位置まで移動した時点で、エアシリンダ２９を作動させてスポンジ５６を洗浄位置に前進させ、図６（ｂ）に示すように、前面基板１１の端面に押し当てる。
【００３３】
このようにスポンジ２４ａおよび５６を前面基板１１の表面周縁部および端面に押し付けた状態で、洗浄ユニット３２を前面基板１１の長辺に沿ってその一端から他端まで移動させる。この間、移動方向上流側に位置した第１洗浄ヘッド４０の上側のスポンジ２４ａにより前面基板１１の周縁部上面を擦り、ここに付着している蛍光材料の塗布液、黒色遮光層の塗布液等を洗浄薬液で溶かしながら拭き取る。続けて、移動方向下流側に第１洗浄ヘッド４０の上側のスポンジ２４ａにより前面基板１１の周縁部上面を擦り、残っている塗布液、洗浄薬液を拭き取る。
【００３４】
同様に、移動方向上流側に位置した第２洗浄ヘッド４２のスポンジ５６により前面基板１１の端面を擦り、ここに付着している蛍光材料の塗布液、黒色遮光層の塗布液等を洗浄薬液で溶かしながら拭き取る。続けて、移動方向下流側の第２洗浄ヘッド４２のスポンジ５６により前面基板１１の端面を擦り、残っている塗布液、洗浄薬液を拭き取る。
【００３５】
そして、洗浄ユニット３２が終点位置、つまり、前面基板１１の長辺他端まで進んだ時点で第１洗浄ヘッド４０のスポンジ２４ａをエアシリンダ５０により順次退避位置に移動させ前面基板１１から逃がしてやる。同様に、第２洗浄ヘッド４２のスポンジ５６をエアシリンダ２９により後退位置に移動させ、前面基板１１の端面から離間させる。
【００３６】
以上の洗浄動作を前面基板１１の１辺につき１往復あるいは複数回繰り返す。前面基板１１の長辺と短辺の切り替えは、支持機構３０の回転機構２６および直動台２７により行う。すなわち、直動台２７を駆動して前面基板１１を洗浄ユニット３２から離間させた後、回転機構２６によって前面基板１１を回転させ、再び直動台２７により所定位置まで前面基板１１を移動させる。
【００３７】
以上の工程により、前面基板１１の蛍光体スクリーン側表面周縁部および前面基板端面の洗浄が終了する。なお、上記洗浄作業が終了した後、図示しないカメラ等により前面基板１１の周縁部および端面を撮像し、その画像を画像処理して洗浄状態を確認する。そして、塗布液等の拭き残しがある場合には、その部分を上記工程により再度洗浄してもよい。
【００３８】
以上のように構成された基板洗浄装置および基板洗浄方法によれば、基板周縁部については、スポンジ等の洗浄部材により基板周縁部を挟み込んで、また、基板端面については、洗浄部材を押し付けながら、基板と洗浄部材とを相対的に移動させることによって、基板表面の中央部に形成された蛍光体スクリーン等の形成層を破壊することなく、表面周縁部および端面に付着した塗布液等の汚れを拭き取ることができる。従って、人手による場合に比較して、洗浄度合いにばらつきがなく、かつ、短時間で安定した基板洗浄を実現することができる。これにより、製品の歩留まりが向上し、安定した品位の基板を提供することができる。
【００３９】
また、上記実施の形態において、第１洗浄ヘッド４０は、引っ張りばね３０により垂直方向に変位自在に支持されているため、支持機構３０に支持された前面基板１１の高さ位置にばらつきがある場合でも、第１洗浄ヘッド４０は前面基板の高さに合わせて自動的に変位することができる。そのため、前面基板１１に不要な負荷を作用させることなく、一対のスポンジ２４ａによって基板周縁部を挟持することができる。
【００４０】
また、第１洗浄ヘッド４０のスポンジ２４ａは、前面基板１１のスクリーン面側だけでなく、基板の反対面側にも設けられ、一対のスポンジで前面基板１１を周縁部を挟むように構成されている。そのため、前面基板１１の片面側だけに負荷を作用させることがなく、洗浄工程における基板周縁部の損傷を確実に防止することができる。同時に、前面基板１１の反対面側に位置したスポンジ２４ａにより、前面基板１１裏側に洗浄薬液が流れ込むのことを防止できる。
【００４１】
一方、上述した洗浄方法は物理的な洗浄方法であり、洗浄時、前面基板１１には、基板表面と平行な方向の力が作用する。そして、この力は、前面基板１１を支持している吸着テーブル２２の吸着方向と直交するせん断方向に作用する。本実施の形態において、支持機構３０の吸着テーブル２２は、２重に配置された第１および第２シールリング２３ａ、２３ｂを有し、前面基板１１の裏面と２本の第１および第２シールリング２３ａ、２３ｂとの間にできた空間を真空引することにより、前面基板を吸着保持している。そのため、吸着テーブル２２は、前面基板１１を傷つ付けることなく保持できるとともに、上記のせん断力が作用した場合でも前面基板１１の位置ずれを生じることなく確実に支持することができる。
【００４２】
次に、この発明の他の実施の形態について説明する。
図７に示す第２の実施の形態によれば、洗浄ユニットは、水平方向に並んで設けられた３つの第１洗浄ヘッド４０を有している。各第１洗浄ヘッド４０は、上記実施の形態と同様に構成されている。洗浄ユニットの移動方向において、最上流側に位置した第１洗浄ヘッド４０の上側のスポンジは、洗浄薬液が染み込んだ薬液スポンジ３１ａとして構成されている。２番目に位置した第１洗浄ヘッド４０の上側スポンジは、水が染み込んだ含水スポンジ３１ｂとして構成されている。更に、３番目に位置した第１洗浄ヘッド４０の上側のスポンジは、吸水スポンジ３１ｃとして構成されている。
そして、第２の実施の形態によれば、前面基板１１の表面周縁部を洗浄する際、まず、薬液スポンジ３１ａで前面基板１１の周縁部を拭いた後、含水スポンジ３１ｂで薬液を拭き取り、最後に吸水スポンジ３１ｃで水分を拭き取る。
【００４３】
また、図８に示す第３の実施の形態によれば、洗浄ユニットの移動方向上流側に位置した第１洗浄ヘッド４０の更に上流側には、前面基板１１の蛍光体スクリーン側表面の周縁部に洗浄薬液６０を滴下するディスペンサ６２ａが配設されている。また、他方の第１洗浄ヘッド４０の上流側には、前面基板１１の蛍光体スクリーン側表面の周縁部に水６１を滴下するディスペンサ６２ｂが配設されている。
【００４４】
そして、前面基板１１の周縁部を洗浄する際、ディスペンサ６２ａ、６２ｂから規定量の洗浄薬液６０および水６１を規定量滴下しながら支持ロッド２４で基板周縁部を拭き取る。
【００４５】
上記のように構成された第２および第３の実施の形態においても、洗浄度合いにばらつきがなく、かつ、短時間で安定した基板洗浄を実現することができる。これにより、製品の歩留まりが向上し、安定した品位の基板を提供することができる。
なお、第２および第３の実施の形態において、他の構成は前述した第１の実施の形態と同一であり、同一の部分には同一の参照符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００４６】
その他、この発明は上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、図９に示すように、支持ロッド２４をスポンジ２４ａ部分が回転自在な構成とし、このスポンジを回転する回転駆動部６４を設けることにより、スポンジ２４ａを回転させながら、基板の表面周縁部あるいは端面を拭き取る構成としてもよい。
【００４７】
また、図１０に示すように、洗浄部材として、スポンジの代わりに、支持ロッド２４に回転自在に支持されたブラシ６６を設け、更に、このブラシを回転する回転駆動部６７を設けることにより、ブラシを回転させながら、基板の表面周縁部あるいは端面に付着した塗布液等を掻き出すようにしてもよい。この場合、掻き出した塗布液等が蛍光体スクリーン面を汚さないように、バキュームノズル６８で吸い取る構成とする。
【００４８】
上述した実施の形態では、基板の１辺づつを順番に洗浄する構成としたが、洗浄ヘッドおよび１軸構造の駆動機構を２組設け、基板の長辺同士あるいは短辺同士を同時に洗浄する構成としてもよい。また、基板の全周に渡って連続的に移動可能な多間接構造の洗浄ヘッドおよび駆動機構を設け、基板を回転させることなく一度に基板全周を洗浄する構成とすることも可能である。あるいは、多間接構造の洗浄ヘッドおよび駆動機構を２組設け、基板の半周ずつを同時に洗浄する構成としていもよい。
【００４９】
上述した実施の形態では、基板の周縁部および端面を同時に洗浄する構成としたが、表面周縁部および端面のいずれか一方のみを洗浄する構成としてもよい。
また、洗浄部材は、上述したスポンジ、ブラシに限定されることなく、処理対象となる基板、汚れの種類に応じて適宜変更可能である。更に、洗浄対象となる基板は、ＦＥＤの基板に限定されることなく、液晶表示パネルの基板、ＰＤＰの基板等、種々の基板洗浄に適用することができる。
【００５０】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、平坦な基板の周縁部あるいは端面に付着した汚れを、上記基板表面の中央部に形成された形成層を破壊することなく洗浄可能な基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄対象となる基板を備えたＦＥＤを示す斜視図。
【図２】図１の線Ａ−Ａに沿った上記ＦＥＤの断面図。
【図３】この発明の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す平面図。
【図４】上記基板洗浄装置を示す側面図。
【図５】上記基板洗浄装置における洗浄ユニットを拡大して示す側面図。
【図６】上記基板洗浄装置の洗浄工程をそれぞれ示す図。
【図７】この発明の第２の実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄ヘッドを概略的に示す正面図。
【図８】この発明の第３の実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄ヘッドを概略的に示す正面図。
【図９】上記基板洗浄装置の変形例を示す斜視図。
【図１０】上記基板洗浄装置の他の変形例を示す斜視図。
【符号の説明】
１０…真空外囲器
１１…前面基板
１２…背面基板
１３…側壁
１５…蛍光体スクリ−ン
２２…吸着プレート
２３ａ、２３ｂ…第１および第２シールリング
２４…支持ロッド
２４ａ、５６…スポンジ
２６…回転機構
２７…直動台
３２…洗浄ユニット
３４…駆動機構
４０…第１洗浄ヘッド
４２…第２洗浄ヘッド
４６…開閉機構
【図１】
2004174385.tif 000003
【図２】
2004174385.tif 000004
【図３】
2004174385.tif 000005
【図４】
2004174385.tif 000006
【図５】
2004174385.tif 000007
【図６】
2004174385.tif 000008
【図７】
2004174385.tif 000009
【図８】
2004174385.tif 000010
【図９】
2004174385.tif 000011
【図１０】
2004174385.tif 000012