(57)【要約】【課題】絶縁性だけでなく高い反射特性を有したＰＤＰに使用される部材と、該部材を用いた隔壁及び背面板と、ＰＤＰ用部材の製造方法を提供する。【解決手段】金属基板に酸化物層を形成してなるプラズマディスプレイ用部材において、金属基板の表面に形成される酸化物層は、少なくとも一部が結晶化した酸化物層であり、該酸化物層の組成がＳｉＯ２を主成分とするプラズマディスプレイ用部材であり、上記のプラズマディスプレイ用部材の製造方法としては、金属基板表面に非結晶の酸化物層を形成した後、４００〜７００℃の加熱処理によって、酸化物層の少なくとも一部を結晶化させるプラズマディスプレイ用部材の製造方法である。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基板に酸化物層を形成してなるプラズマディスプレイ用部材において、金属基板の表面に形成される酸化物層は、少なくとも一部が結晶化した酸化物層であり、該酸化物層の組成がＳｉＯ２を主成分とすることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材。
【請求項２】
酸化物層の組成がＳｉＯ２を主成分としてＬｉ２Ｏを７〜２５質量％含有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ用部材。
【請求項３】
酸化物層の厚みが０．１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイ用部材。
【請求項４】
酸化物層は、波長４００〜７００ｎｍの可視光の少なくとも一部に対して５０％を超える反射率を有することを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載のプラズマディスプレイ用部材。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載のプラズマディスプレイ用部材はプラズマディスプレイ用金属隔壁であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材。
【請求項６】
請求項１乃至４の何れかに記載のプラズマディスプレイ用部材はプラズマディスプレイ用背面板であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れかに記載のプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、金属基板表面に非結晶の酸化物層を形成した後、４００〜７００℃の加熱処理によって、酸化物層の少なくとも一部を結晶化させることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項８】
金属基板に酸化物層を形成してなるプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、隔壁用金属基板の表面或いは／更に背面板用金属基板の表面に、ＳｉＯ２を主成分とした酸化物層を形成し、４００〜７００℃の加熱処理を行い、前記酸化物層を介して隔壁用金属基板と背面板用金属基板とを接合すると同時に酸化物層の少なくとも一部を結晶化させることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと略記する）に使用される部材と、該部材を用いた隔壁及び背面板と、ＰＤＰ用部材の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰ等のガス放電型画像表示装置においては、一つの放電空間を形成し、隣接したセル間の色の干渉を防止するための仕切りとして、絶縁性隔壁が必要となる。ＰＤＰの前面板や背面板には熱膨張係数（２０〜５００℃）が８〜９×１０−６／℃程度のソーダライムガラスや高歪点ガラスが主として用いられる。
このＰＤＰ用の部材の一つである隔壁には主に鉛を含むガラスが素材として使用され、背面板上に塗布した後、主にサンドブラスト法により孔を形成して製造されているが、このような隔壁の製造法は工程が煩雑であることと、隔壁に欠けが発生し易く歩留りが悪いことから、生産性が悪くコストが高くなるばかりか、製造された隔壁及びサンドブラスト法によって除去されたガラス粉には有害な鉛が多く含まれるため、環境上好ましくないものである。
【０００３】
また、ＰＤＰの性能においては、隔壁の構造に依存するところが大きく、特に、高精細化と高輝度化のためには、セルを隔てる隔壁の幅を小さくして開口率を高めるとともに、高い隔壁を形成して放電空間を広げて蛍光体塗布面積を増加させることが必要であるが、ガラス隔壁は脆いため、セル同士を隔てる隔壁の幅を小さく加工することや高い隔壁を形成することが困難である。
【０００４】
上述の問題を解決するため、電着法によってガラスを含む誘電体を表面に形成した金属隔壁が、例えば特開平３−２０５７３８号（特許文献１参照）に提案されており、また、本発明者もＡｌ２Ｏ３を蒸着法により表面に形成した金属隔壁を特開２０００−６４０２７号（特許文献２参照）として提案している。
これらの金属製の隔壁では、金属基板に所定の貫通孔をエッチング加工によって形成し、背面板と貼り合わせることでセルを形成することができる。従って、貫通孔形成も容易であり、有害な鉛を排出することもなく、また、エッチング加工条件を変更することで、厚みの厚い材料を素材としてＰＤＰ用の金属隔壁とすることができ、隔壁を高くできるという利点がある。
【０００５】
また、ＰＤＰ用の部材の一つである背面板として金属を用いる方法として、背面板の金属をガラス等の絶縁層で被覆し、補助放電電極として用いる方法が、例えば特開平６−１６８６６９号（特許文献３参照）に開示され、熱膨張係数を前面板ガラスに合わせるためにＴｉを選択し、グリーンセラミックテープをケガキもしくはエンボスによって隔壁に加工する方法が、例えば特表２００１−５２６８２２号（特許文献４参照）として開示されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平３−２０５７３８号公報
【特許文献２】
特開２０００−６４０２７号公報
【特許文献３】
特開平６−１６８６６９公報
【特許文献４】
特表２００１−５２６８２２号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来技術について本発明者等が検討した結果、上述の特許文献１や特許文献２に開示された組成や構造の絶縁膜では、上記利点は有しているものの光に対する反射率が低いため、これらの組成・構造から成る絶縁膜を有する金属隔壁を使用して、ＰＤＰを作製すると輝度が大幅に低下することが判明した。
また、上述の特許文献４に開示された金属背面板は、素材として高価なＴｉを用いているため、コストアップにつながる。更には上記の特許文献３や特許文献４に開示された表示装置において、その絶縁層について反射率を向上させる手段がなんら講じられておらず、表示装置の輝度や発光効率には問題点が残る。
本発明の目的は、絶縁性だけでなく高い反射特性を有したＰＤＰに使用される部材と、該部材を用いた隔壁及び背面板と、ＰＤＰ用部材の製造方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者はＰＤＰ用部材のうち、特に隔壁及び背面板に使用可能な部材において、輝度及び発光効率を向上させるため、種々の検討を行った。その結果、従来の金属基板を用いてなるＰＤＰ用の金属隔壁あるいは背面板の表層に形成される酸化物層を特定組成にし、且つ少なくともその一部を結晶化させることでこの問題を解決できることを見出し、本発明に到達した。
即ち本発明は、金属基板に酸化物層を形成してなるプラズマディスプレイ用部材において、金属基板の表面に形成される酸化物層は、少なくとも一部が結晶化した酸化物層であり、該酸化物層の組成がＳｉＯ２を主成分とするプラズマディスプレイ用部材である。
【０００９】
好ましくは、酸化物層の組成がＳｉＯ２を主成分としてＬｉ２Ｏを７〜２５質量％含有するプラズマディスプレイ用部材である。
更に好ましくは、上記の酸化物層の厚みが０．１〜１０μｍであるプラズマディスプレイ用部材である。
更に好ましくは、上記の酸化物層は、波長４００〜７００ｎｍの可視光の少なくとも一部に対して５０％を超える反射率を有するプラズマディスプレイ用部材である。
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用部材はプラズマディスプレイ用金属隔であるか、若しくはプラズマディスプレイ用背面板であるプラズマディスプレイ用部材である。
【００１０】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、金属基板表面に非結晶の酸化物層を形成した後、４００〜７００℃の加熱処理によって、酸化物層の少なくとも一部を結晶化させるプラズマディスプレイ用部材の製造方法である。
更に本発明は、金属基板に酸化物層を形成してなるプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、隔壁用金属基板の表面或いは／更に背面板用金属基板の表面に、ＳｉＯ２を主成分とした酸化物層を形成し、４００〜７００℃の加熱処理を行い、前記酸化物層を介して隔壁用金属基板と背面板用金属基板とを接合すると同時に酸化物層の少なくとも一部を結晶化させるプラズマディスプレイ用部材の製造方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の重要な特徴は、ＰＤＰ用の隔壁や背面板等の部材となる金属基板上に、結晶化した酸化物層を形成することによって、反射特性を向上させたことにある。
以下に本発明を詳しく説明する。
ＰＤＰ用の隔壁や背面板には絶縁性が要求されるため、金属基板の表面に絶縁層を形成して使用される。また、ＰＤＰの輝度を向上させるためには、絶縁性だけでなく反射特性が要求されるため、本発明においては、絶縁性と反射特性を兼備する層として、結晶化した酸化物層を利用する。
結晶化した酸化物層としてはＳｉＯ２系酸化物やＡｌ２Ｏ３系酸化物等を挙げることができるが、このうち、ＰＤＰ用部材としては前面板ガラスに用いられるソーダライムガラスや高歪点ガラスと熱膨張係数を合わせ易いという理由で、本発明においてはＳｉＯ２系酸化物を使用する。この時、ＳｉＯ２に異種酸化物を添加することも可能であるが、過度に異種酸化物を添加させると熱膨張係数が大きく変化する場合があるのでＳｉＯ２を主成分（５０質量％以上）とする必要がある。
【００１２】
そして、本発明ではこのＳｉＯ２を主成分とした酸化物に結晶化を行う。結晶化の方法は後に詳しく述べるが、例えば物理蒸着法（以下ＰＶＤ法と称す）、化学気相蒸着法（以下ＣＶＤ法と称す）、スパッタリング等の気相成長法や、ゾルゲル等の液相成長法で、ＳｉＯ２を主成分とした酸化物を金属基板にコーティングした後、特別な熱処理を施すと、非結晶の酸化物層中に結晶が析出し、透明な膜の中に濁ったように乳白色の着色が生じるため、光の反射特性を向上させることができる。
結晶化とは微視的には非晶質の酸化物の原子配列が、部分的にまたは全体が規則的な配列に変化することを言い、結晶化は主として金属基板若しくは下地膜との界面や酸化物の表層から起こったり、酸化物内部に含有した核生成を起こし易い特殊な酸化物から起こったり、酸化物中のピンホールや不純物から起こるものもある。
【００１３】
本発明において、十分な反射特性が得られれば、上述の酸化物層の一部のみを結晶化させてもよいが、酸化物の成分によっては酸化物層全てを結晶化させることもできる。
なお、本発明において少なくとも一部を結晶化させて優れた反射特性の確保を行うが、この時、一部を結晶化させるとは、酸化物層を断面で見た時、層状に結晶化させても良いし、分散した形態した形態でも良く、例えば、島状や網状に結晶化させて金属基板のほぼ全面を覆うようにするのが反射特性の向上の点から言うと好ましい。なお、前記した島状とは非結晶のＳｉＯ２を主成分とする酸化物中に結晶化した酸化物が部分的に析出した状態を言い、具体的な一例を示すと図１や図２に示すような状態を言う。
【００１４】
そして本発明では、上述のＳｉＯ２を主成分とした酸化物に核生成を起こし易い酸化物を添加できる。具体的には、ＣａＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ、ＢａＯ、Ａｌ２Ｏ３を添加することにより、例えばＳｉＯ２（石英）、ＣａＯ・ＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ・ＳｉＯ２、Ｌｉ２Ｏ・ＳｉＯ２、Ｌｉ２Ｏ・２ＳｉＯ２、ＢａＯ・２ＳｉＯ２、ＣａＯ・Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２等の組成の結晶が非結晶のＳｉＯ２を主成分とする酸化物中に析出させることができるため、反射層として好適である。
なお、多成分系になるほど、コーティング時の成分制御が難しくなるため、２〜３成分とするのが好ましい。
【００１５】
上述した中でも特に、低温で結晶の析出を起こし易いものとしてＬｉ２Ｏを添加したＳｉＯ２酸化物があり、Ｌｉ２Ｏを適量添加したＳｉＯ２を主成分とする酸化物の適用が特に好ましい。この場合、ＳｉＯ２（石英）、Ｌｉ２Ｏ・ＳｉＯ２または、Ｌｉ２Ｏ・２ＳｉＯ２が析出する。
Ｌｉ２Ｏの添加量としては、７〜２５質量％の範囲に調整すると良く、添加量７質量％未満では結晶の析出量が少なく、十分な反射特性が得られ難く、また、添加量が２５質量％を越えると酸化物層の熱膨張係数が大きくなり過ぎて、金属基板の熱膨張係数との差が大きくなるため、パネルの組立てや蛍光体の焼成に必須である熱プロセスにおいて、膜に亀裂が入り易くなり、絶縁性が損なわれる恐れがあるためである。
従って、本発明で最も好ましい組成は、Ｌｉ２Ｏを７〜２５質量％含有し、残部が不可避的不純物とＳｉＯ２でなる組成である。
【００１６】
また、上述した酸化物層の厚みは０．１〜１０μｍとすることが好ましい。この理由は、酸化物層の厚みが０．１μｍ未満では、結晶化させても十分な反射特性が得られない場合がある。また、１０μｍを越えるとセルの開口率の低下につながり、例えば本発明のＰＤＰ用部材をＰＤＰ用金属隔壁に適用した場合、開口率向上の効果を減じる上に、酸化物層と金属基板との熱膨張係数の差異が少しであっても亀裂や剥離を生じ易くなるからである。好ましい酸化物層の厚さは５μｍ以下であり、更に好ましい酸化物層の厚みは０．２〜３μｍの範囲である。
【００１７】
また、金属隔壁上に形成する酸化物層は、その反射特性として、波長４００〜７００ｎｍの可視光に対して高い反射率を有することが望ましく、特に現状のＰＤＰにおいては青色蛍光体の発光強度が弱いため、低波長の光に対する反射率が高いことが特に重要である。
そのための好ましい酸化物層は、波長４００〜７００ｎｍの可視光の少なくとも一部に対して５０％を超える反射率を有する酸化物層である。
酸化物を結晶化させない酸化物層は、通常、透明であるため、下地の金属隔壁の金属色に反射率を依存することになるが、その場合の波長４００〜７００ｎｍの可視光の少なくとも一部に対しての反射率は４０〜５０％程度と低く、輝度の低下を招くため、発光効率が低下する。そのため、本発明では５０％を超えると規定した。より望ましい範囲は６０％以上であり、６０％以上であれば反射率としては十分である。
以上、説明するＰＤＰ用部材は、優れた反射特性と絶縁性を併せ持ち、ＰＤＰの隔壁や背面板用の部材として特に好適である。
【００１８】
次に、本発明の隔壁や背面板用の部材として特に好適なＰＤＰ部材の製造方法について説明を行う。
隔壁や背面板となる金属基板には、予め例えば貫通孔をエッチング処理等を行っておく。そして、その金属基板上に上述のＳｉＯ２を主成分としてＬｉ２Ｏを７〜２５質量％含有する非結晶の酸化物層を形成し、結晶化のための加熱処理を施す。
結晶化の条件は４００〜７００℃とする。この理由は、４００℃未満では結晶の析出に時間がかかり過ぎ、生産性が低下する。また、７００℃を越える高温熱処理では、金属基板が軟化してしまって変形する恐れがあるためであり、４００℃〜７００℃の範囲であれば、生産性を落とさず、しかも金属基板の軟化を防止しながら、酸化物層の少なくとも一部か或いは酸化物層の全部を結晶化することができる。
特に、一部を結晶化しようとした場合、上記の温度範囲で加熱処理を行うと、部分的に結晶化した個所が図１や図２に示すように均一に分散できる。
なお、上述の金属基板の表面に酸化物層を形成する手法としては、緻密で均一な成膜が可能で、生産性の高い、気相成長法が好ましく、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法等を適宜適用すると良い。
【００１９】
なお、本発明においては酸化物層は一層であってもよく、また、複数層としても良い。
例えば、複数層とする場合には、少なくとも最表層には本発明の酸化物層を用いる。本発明の酸化物層が結晶化熱処理によって軟化する際に、下地側に形成された絶縁層のピンホールを埋める効果が期待され、絶縁性が向上できるからである。
【００２０】
ところで、本発明では、隔壁と背面板とを同時に形成することも可能である。例えば貫通孔をエッチング処理した隔壁用金属基板の表面或いは／更に背面板用金属基板の表面に、ＳｉＯ２を主成分とした酸化物層を形成する。
酸化物層の形成は、隔壁用金属基板表面側、背面基板表面側の何れか若しくは両方の、何れでも良い。また、上記のＳｉＯ２を主成分とした酸化物層の好ましい形態としては、Ｌｉ２Ｏを７〜２５質量％含んだ酸化物である。
そして、４００〜７００℃の加熱処理を行う。これは、４００℃未満では接合が不十分となる恐れがあると同時に、結晶の析出に時間がかかり過ぎるためであり、７００℃を越える高温熱処理では、金属基板が軟化してしまって変形する恐れがあるためである。
この方法を用いれば、前記酸化物層を介して隔壁用金属基板と背面板用金属基板とを接合すると同時に、酸化物層の少なくとも一部を結晶化させることができ、生産性を更に向上させることが可能である。
なお、結晶化熱処理したものを加熱して接合することも可能であることは言うまでもない。
【００２１】
なお、本発明のＰＤＰ用部材のうち、隔壁及び背面板用の部材に用いる金属基板は、ＰＤＰの前面板ガラスのソーダライムガラスや高歪点ガラスの熱膨張係数（２０〜５００℃：８〜９×１０−６／℃程度）に近似させることが可能な素材とするのが良く、具体的には、Ｎｉを４０〜５５質量％の範囲で含み、残部が実質的にＦｅからなるＦｅ−Ｎｉ系合金を用いると良い。このうちＮｉが４５〜５２質量％の範囲であるＦｅ−Ｎｉ系合金が特に好ましい。
これらのＦｅ−Ｎｉ系合金は、上述した通り、熱膨張係数を上記ガラスに近似させることができるため、金属隔壁及び金属背面板の素材として適している。更に、エッチング法により微細な貫通孔を容易に形成できることから、金属隔壁用の素材として好適である。更に、比較的安価であり、入手もし易いという利点も兼ね備えている。
【００２２】
上述のＦｅ−Ｎｉ系合金の代表的なものとしては、４２％Ｎｉ−Ｆｅ合金、４７％Ｎｉ−Ｆｅ合金、５０％Ｎｉ−Ｆｅ合金等があるが、４２％Ｎｉ−６％Ｃｒ−Ｆｅ合金等の、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ系合金、或いはＮｉの一部を１０質量％以下のＣｏで置換したＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金、更には、これらの合金に強度を向上させる元素を適宜添加した合金を金属基板の素材として用いても良い。
【００２３】
以上の説明で明らかなように、本発明の酸化物層は、有害な鉛を本質的に含まなようにすることが可能である。従って、本発明は環境上の問題も発生しないという効果も併せ持っている。
また、本発明のＰＤＰ用部材の好適なものとして、隔壁と背面板とを挙げて説明を行ってきたが、上記のように、絶縁性と、ＰＤＰに用いられるガラスとの熱膨張係数の整合性を兼ね備えることも可能であり、隔壁や背面板以外の部材としても用いることが可能である。
【００２４】
【実施例】
（実施例１）
以下、本発明を更に詳細に実施例を用いて説明する。
隔壁用素材及び背面板用素材には熱膨張係数８．３×１０−６／℃のＦｅ−４７質量％Ｎｉ合金の薄板（厚み：０．２ｍｍ）を用い、ＰＤＰ用隔壁の形状とすべく、ＦｅＣｌ３水溶液をノズルから噴射するスプレー式の湿式エッチング法で、多数の貫通孔を形成し、隔壁用の金属基板とした。背面板用としたものには、長方形状に切出した金属背面板用素材（厚み：０．３ｍｍ）の一隅に、貫通孔を１箇所設けた。
この貫通孔を有する金属基板上に、スパッタリング法によって表１に示すＳｉＯ２を主成分としたＳｉＯ２系の酸化物層となる膜を金属基板表面に形成した。表面に形成された膜厚も表１に合わせて示した。比較例としては、結晶化のための加熱処理を低温と高温としたものに加えて、白色誘電体層を形成したガラス隔壁及びガラス背面板、更に結晶化処理を施していないＡｌ２Ｏ３酸化物層を形成した金属隔壁を用意した。
【００２５】
更にこのＰＤＰ用部材の金属基板に、非結晶の酸化物を結晶化させるべく大気中において３００〜８００℃で１時間の加熱処理を施した後、反射特性を評価した。
次に、加熱処理後のＰＤＰ用部材を分光測色計を用いて、４００〜７００ｎｍの波長領域における反射率を測定した。パネルの組み立てや蛍光体の焼成に相当する大気中での５００℃×１時間の熱サイクルテストによって酸化物層のクラック発生の有無と併せて結果を表１に示す。
なお、表１中のＮｏ．１〜Ｎｏ．３及びＮｏ．５〜Ｎｏ．８は金属隔壁用ＰＤＰ用部材、Ｎｏ．４及びＮｏ．９は背面板用ＰＤＰ用部材である。
なお、加熱処理の温度が８００℃としたＮｏ．６は、金属基板が軟化による変形を生じ、隔壁用ＰＤＰ部材には適用不能となったが、反射率測定可能な平坦度が残る部分だけを切り出して反射率を測定し、熱サイクルテストを行った。
【００２６】
【表１】
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【００２７】
表１の結果より、本発明の製造方法を適用したＮｏ．１〜Ｎｏ．４では、４００〜７００ｎｍの波長領域の少なくとも一部に対して、７０％以上の反射特性が得られた。反射特性は、ガラス隔壁（Ｎｏ．８）及びガラス背面板（Ｎｏ．９）とは同等以上、Ａｌ２Ｏ３酸化物層を形成したの金属隔壁と比べると、大きく反射特性が向上した結果が得られた。
４００℃以上で加熱処理を施したＰＤＰ用部材では、加熱処理によって乳白色の着色が見られ、エックス線回折によっても結晶化の進行が確認できた。これらの試料から断面観察用試験片を切出して、走査型電子顕微鏡で観察及び分析を行って、酸化物層の一部が結晶化していることを確認した。本発明のＮｏ．３の平面の断面顕微鏡写真を図１に、Ｎｏ．４の平面の断面顕微鏡写真を図２として示す。図１の球状（島状）や図２の網状（島状）の個所が結晶化した粒子である。
【００２８】
そして、結晶化のための加熱処理によっても変形を生じなかったことから、このＰＤＰ用部材を金属隔壁としてＰＤＰのパネルに組み立てて駆動させたところ、絶縁性においても問題はなく、表示装置として正常に作動することを確認した。
また比較例のＮｏ．５については、熱処理温度が低過ぎ、結晶化が起こっていなかったため、十分な反射特性が得られなかった。また、Ｎｏ．８については、８００℃の熱処理によって金属基板が変形してしまい、反射特性自体は良好であるけれども、ＰＤＰ用の金属隔壁として用いる部材には不適となった。
【００２９】
（実施例２）
実施例１と同様に、壁用素材及び背面板用素材には熱膨張係数８．３×１０−６／℃のＦｅ−４７質量％Ｎｉ合金の薄板（厚み：０．２ｍｍ）を用い、ＰＤＰ用隔壁の形状とすべく、ＦｅＣｌ３水溶液をノズルから噴射するスプレー式の湿式エッチング法で、多数の貫通孔を形成し、隔壁用の金属基板とした。背面板用としたものには、長方形状に切出した金属背面板用素材（厚み：０．３ｍｍ）の一隅に、貫通孔を１箇所設けた。
この貫通孔を有する隔壁及び背面板用の金属基板上に、スパッタリング法によって表１に示すＳｉＯ２を主成分としたＳｉＯ２−１４％Ｌｉ２Ｏの酸化物層となる膜を金属基板の表面に２．０μｍの厚みで形成した。その後、背面板用の金属基板表面上に、隔壁用金属基板を積層し、大気中で６００℃×１時間の加熱処理を施し、ＳｉＯ２−１４％Ｌｉ２Ｏ酸化物層を介して隔壁用金属基板と背面板用金属基板とを接合すると同時に酸化物層の少なくとも一部を結晶化させた。
この時の模式図を図３に示す。
背面板用金属基板（４）表面上に酸化物層（３）が形成され、隔壁用金属基板（１）の表裏面及び側面に酸化物層（２）が形成され、酸化物層（２）及び酸化物層（３）を介して隔壁用金属基板（１）と背面板用金属基板（４）とが接合された状態となっている。
【００３０】
この背面板と隔壁とを接合させたＰＤＰ用部材の結晶化は、目視及びエックス線回折で確認を行い、加熱処理によって乳白色の着色が見られ、エックス線回折によっても結晶化の進行が確認でき、走査型電子顕微鏡観察により、一部が結晶化していることも確認した。
次に、背面板と隔壁とを接合させたＰＤＰ用部材の平坦部においてを分光測色計を用いて、４００〜７００ｎｍの波長領域における反射率を測定した。パネルの組み立てや蛍光体の焼成に相当する大気中での５００℃×１時間の熱サイクルテストによって酸化物層のクラック発生の有無と併せて、結果を表２に示す。
【００３１】
【表２】
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【００３２】
表２の結果から、４００〜７００ｎｍの波長領域の少なくとも一部に対して、７０％以上の反射特性が得られたことが分かる。そして、結晶化のための加熱処理によっても変形を生じなかったことから、このＰＤＰ用部材を金属隔壁としてＰＤＰのパネルに組み立てて駆動させたところ、絶縁性においても問題はなく、表示装置として正常に作動することを確認した。
【００３３】
以上の結果から、本発明の製造方法を適用すれば、酸化物層の絶縁性を損なうことなく、反射特性を兼備する隔壁や背面板に代表されるＰＤＰ部材が得られることが可能であることが分かった。
【００３４】
【発明の効果】
本発明によれば、絶縁性が高く、反射特性にも優れた、安価な画像表示装置用金属隔壁及び金属背面板を提供すること、また、そのための有効なプロセス（ＰＤＰ用金属隔壁及び金属背面板の製造方法）を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＰＤＰ用部材の酸化物層の一例を示す平面の断面顕微鏡写真である。
【図２】本発明のＰＤＰ用部材の酸化物層の一例を示す平面の断面顕微鏡写真である。
【図３】本発明の隔壁用ＰＤＰ用部材及び背面板用ＰＤＰ部材を利用した画像表示装置の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１．隔壁用金属基板、２．酸化物層、３．酸化物層、４．背面板用金属基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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