(57)【要約】【課題】各種電子機器の照明等に用いられるＥＬ素子に関し、絶縁性に優れ、輝度の高いものを提供することを目的とする。【解決手段】光透過性の基材１上に光透過性電極層２、発光体層３、誘電体層４及び背面電極層５を順次重ねて形成すると共に、光透過性電極層２と発光体層３の間に樹脂層１０を形成することによって、光透過性電極層２が樹脂層１０で覆われて確実な絶縁性が得られると共に、発光体層３中の合成樹脂３Ａの量を少なくできるため、高輝度な発光のＥＬ素子を得ることができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性の基材上に光透過性電極層、発光体層、誘電体層及び背面電極層を順次重ねて形成すると共に、上記光透過性電極層と上記発光体層の間に樹脂層を設けたＥＬ素子。
【請求項２】
樹脂層をフッ素ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シアノエチル樹脂、エポキシ樹脂の少なくとも一つから形成した請求項１記載のＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種電子機器の表示部や操作部の照明等に用いられるＥＬ素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、各種電子機器、特に携帯電話等の小型携帯端末機器の普及に伴い、周囲が暗い場合でも識別や操作が可能なように、ＥＬ素子等の発光素子を用いてＬＣＤ等の表示部や操作用押釦等の操作部の照光を行うものが増えており、これらのＥＬ素子等にも、高輝度でかつ低消費電力のものが求められている。
【０００３】
このような従来のＥＬ素子について、図２を用いて説明する。
【０００４】
図２は従来のＥＬ素子の断面図であり、同図において、１はガラスやフィルム等の基材で、この上面に蒸着やスパッタリング等によって、酸化インジウム錫等の光透過性電極層２が形成されている。
【０００５】
そして、この上に、エポキシ樹脂やフッ素ゴム等の合成樹脂３Ａ内に硫化亜鉛等の蛍光体３Ｂを分散させた発光体層３や、同じく合成樹脂内にチタン酸バリウム等を分散させた誘電体層４、樹脂に銀やカーボンを分散させた背面電極層５、熱可塑性樹脂等の絶縁層６がスクリーン印刷等によって、順次重ねて印刷形成されてＥＬ素子が構成されている。
【０００６】
以上の構成において、このようなＥＬ素子を電子機器に装着し、電子機器の回路（図示せず）から光透過性電極層２と背面電極層５の間に交流電圧を印加すると、発光体層３中の蛍光体３Ｂが発光し、この光が電子機器の表示部や操作部等を後方から照光するように構成されている。
【０００７】
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献１が知られている。
【０００８】
【特許文献１】
特開平９−２８３２７８号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のＥＬ素子においては、発光体層３を印刷形成する際に合成樹脂３Ａと蛍光体３Ｂ間に隙間が生じ、気泡等のピンホールが発生すると、光透過性電極層２と背面電極層５に電圧を印加した場合の絶縁性が低下してしまうため、合成樹脂３Ａの量を多くして印刷を行う必要があった。
【００１０】
このため、発光体層３が厚くなり、電圧を印加した際に合成樹脂３Ａに加わる電圧が増えて、発光体である蛍光体３Ｂに加わる電圧が低下するため、結果として、全体の輝度が低下するという課題があった。
【００１１】
本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、絶縁性に優れ、輝度の高いＥＬ素子を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、以下の構成を有するものである。
【００１３】
本発明の請求項１に記載の発明は、光透過性の基材上に光透過性電極層、発光体層、誘電体層及び背面電極層を順次重ねて形成すると共に、光透過性電極層と発光体層の間に樹脂層を設けてＥＬ素子を構成したものであり、光透過性電極層上を樹脂層で覆うことにより、確実な絶縁性が得られると共に、これによって、発光体層中の合成樹脂の量を少なくして発光体層を印刷形成できるため、高輝度な発光のＥＬ素子を得ることができるという作用を有する。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の発明において、樹脂層をフッ素ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シアノエチル樹脂、エポキシ樹脂の少なくとも一つから形成したものであり、これら誘電率の高いものを用いて樹脂層を形成することによって、ＥＬ素子の輝度をさらに高めることができるという作用を有する。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図１を用いて説明する。
【００１６】
なお、従来の技術の項で説明した構成と同一構成の部分には同一符号を付して、詳細な説明を簡略化する。
【００１７】
（実施の形態１）
図１は本発明の一実施の形態によるＥＬ素子の断面図であり、同図において、１はガラスやフィルム、合成樹脂等の光透過性の基材で、この上面に蒸着やスパッタリング等によって、或いは、酸化インジウム錫等を分散した光透過性合成樹脂や、導電性樹脂であるポリエチレンジオキシチオフェン等を印刷して、光透過性電極層２が形成されている。
【００１８】
そして、この上に、フッ素ゴムやネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シアノエチル樹脂、エポキシ樹脂の少なくとも一つの合成樹脂内に、メラミンやエポキシ、フェノキシ等の有機合成樹脂系のフィラーを分散させた樹脂層１０が印刷形成されている。
【００１９】
さらに、この上に、フッ素ゴム等の合成樹脂３Ａ内に、硫化亜鉛等を酸化アルミニウム、窒化アルミニウム等で防湿被覆した蛍光体３Ｂを分散させた発光体層３や、同じくフッ素ゴム等の合成樹脂内にチタン酸バリウム等の誘電性材料を分散させた誘電体層４、樹脂に銀やカーボンを分散させた背面電極層５、熱可塑性樹脂等の絶縁層６がスクリーン印刷等によって、順次重ねて印刷形成されてＥＬ素子が構成されている。
【００２０】
以上の構成において、このようなＥＬ素子を電子機器に装着し、電子機器の回路（図示せず）から光透過性電極層２と背面電極層５の間に交流電圧を印加すると、発光体層３中の蛍光体３Ｂが発光し、この光が電子機器の表示部や操作部等を後方から照光するように構成されている。
【００２１】
次に、このようなＥＬ素子の具体的な製作方法と、その特性について説明する。
【００２２】
先ず、光透過性で厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの基材１上面に酸化インジウム錫を真空中でスパッタリングし、厚さ３００Åの光透過性電極層２を形成した。
【００２３】
次に、この光透過性電極層２に重ねて、２エトキシエトキシエタノールにメラミン粒子（日本触媒株式会社製エポスタＳ６）７０重量％と、フッ素ゴム（デュポン社製バイトンＡ）３０重量％を溶解した樹脂層ペーストを、所定パターンの２００メッシュステンレススクリーンで印刷し、１００℃で３０分間乾燥して、厚さ８μｍの樹脂層１０を形成した。
【００２４】
さらに、この樹脂層１０の上に、２エトキシエトキシエタノールに合成樹脂３Ａとしてのフッ素ゴム（デュポン社製バイトンＡ）２２重量％と、窒化アルミニウムで被覆された硫化亜鉛の蛍光体３Ｂ（デュレル社製１ＰＨＳ００１ＡＡ）７８重量％を溶解した発光体ペーストを、所定パターンの２５０メッシュステンレススクリーンで印刷し、１００℃で３０分間乾燥して、厚さ３０μｍの発光体層３を形成した。
【００２５】
そして、この上に、２エトキシエトキシエタノールにチタン酸バリウム粉末（堺化学株式会社製ＢＴ−０５）７８重量％と、フッ素ゴム（デュポン社製バイトンＡ）２２重量％を溶解した誘電体ペーストを、所定パターンの１００メッシュステンレススクリーンで印刷し、１００℃で３０分間乾燥して誘電体層４を形成した。
【００２６】
続いて、この上に、樹脂にカーボンを分散させたカーボンペースト（東洋紡株式会社製ＤＷ−２５０Ｈ）を、所定パターンの２００メッシュステンレススクリーンで印刷し、１５５℃で３０分間乾燥して背面電極層５を形成した。
【００２７】
最後に、この上に、熱可塑性樹脂の絶縁レジスト（株式会社アサヒ化学研究所製ＣＲ−１８Ｇ−ＫＴ１）を、所定パターンの２００メッシュステンレススクリーンで印刷し、１５５℃で３０分間乾燥して絶縁層６を形成してＥＬ素子を製作し、（表１）に示すように、これをＮｏ．１とした。
【００２８】
【表１】
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【００２９】
さらに、本実施の形態との比較用として、光透過性電極層２上に、フッ素ゴム３０重量％と硫化亜鉛７０重量％を溶解した発光体ペーストを用いて、厚さ５０μｍの発光体層を形成した後、この上に、誘電体層、背面電極層、絶縁層を順次形成して、従来の技術と同様のＥＬ素子を製作し、これをＮｏ．０とした。
【００３０】
そして、以上のように製作したＮｏ．０と１のＥＬ素子について、（表１）に示すように、先ず、周波数４００Ｈｚ、電圧１００Ｖｒｍｓの交流駆動電源により発光させ、その初期輝度（ｃｄ／ｍ２）を常温常湿中で測定した。
【００３１】
この結果、（表１）から明らかなように、発光体層の厚さが５０μｍであるＮｏ．０の輝度が９７ｃｄ／ｍ２であるのに対し、厚さ８μｍの樹脂層を設け、この上に厚さ３０μｍの発光体層を形成した、本実施の形態のＮｏ．１の輝度は１１７ｃｄ／ｍ２となっている。
【００３２】
つまり、樹脂層と発光体層を加算した厚さが３８μｍと、従来のものの約３／４の厚さとすることによって、本実施の形態のＮｏ．１においては約１．２倍の高輝度が得られた。
【００３３】
次に、電源の周波数を６０Ｈｚ一定とし、電圧を徐々に上げて印加して、光透過性電極層と背面電極層の上下の電極が短絡する電圧を測定し、この絶縁性が劣化する耐電圧値（Ｖｒｍｓ）を測定した。
【００３４】
この結果、（表１）から明らかなように、比較例のＮｏ．０が４１０Ｖｒｍｓで絶縁性が劣化し短絡したのに対し、光透過性電極層上に樹脂層を形成した本実施の形態のＮｏ．１は、全体の厚さは薄いにもかかわらず７１０Ｖｒｍｓと、約１．７倍の絶縁性を示している。
【００３５】
このように本実施の形態によれば、光透過性電極層２と発光体層３の間に樹脂層１０を形成することによって、光透過性電極層２が樹脂層１０で覆われて確実な絶縁性が得られると共に、発光体層３中の合成樹脂３Ａの量を少なくできるため、高輝度な発光のＥＬ素子を得ることができるものである。
【００３６】
また、樹脂層１０をフッ素ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シアノエチル樹脂、エポキシ樹脂の少なくとも一つとし、これら誘電率が１５〜２５と高いものを用いて樹脂層を形成することによって、誘電率が５程度のポリエステルやポリウレタン等を用いる場合に比べ、ＥＬ素子の輝度をさらに高いものとすることができる。
【００３７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、絶縁性に優れ、高輝度のＥＬ素子を得ることができるという有利な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態によるＥＬ素子の断面図
【図２】従来のＥＬ素子の断面図
【符号の説明】
１  基材
２  光透過性電極層
３  発光体層
３Ａ  合成樹脂
３Ｂ  蛍光体
４  誘電体層
５  背面電極層
６  絶縁層
１０  樹脂層
【図１】
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【図２】
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