(57)【要約】【課題】磁気転写時に磁気転写用マスター担体との密着性を充分なものとして信号抜けを低減し信号品位を向上させることが可能な、かつ、密着されたマスター担体との剥離が容易な磁気転写用スレーブ媒体を提供する。【解決手段】予め一方向に初期磁化されたスレーブ媒体２と、転写すべき情報に応じたパターンを有するマスター担体を密着させて、初期磁化と逆向きの方向に転写用磁界を印加する磁気転写方法に用いるスレーブ媒体２であって、支持体２１上に、脂環式環状構造を有しかつ１分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する放射線硬化型樹脂により形成された下塗り層２２を有し、その上に、実質的に非磁性である下地層２３と、強磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層２４を、この順に設けてなり、磁性層２４の表面が、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される高さが１００ｎｍ以上の突起が磁性層表面１００μｍ２当たり５個以下、高さが２０ｎｍ以上である突起数が、磁性層表面１００μｍ２当たり５個以上、１００個以下である表面性状を得る。【選択図】          図１
2004241030.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め一方向に初期磁化されたスレーブ媒体と、転写すべき情報に応じたパターンを有するマスター担体を密着させて、前記初期磁化と逆向きの方向に転写用磁界を印加する磁気転写方法に用いる磁気転写用スレーブ媒体であって、
支持体上に、脂環式環状構造を有し、かつ１分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する放射線硬化型樹脂により形成された下塗り層を有し、その上に、実質的に非磁性である下地層と、強磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を、この順に設けてなり、
前記磁性層の表面が、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される高さが１００ｎｍ以上の突起が磁性層表面１００μｍ２当たり５個以下であり、高さが２０ｎｍ以上である突起数が、磁性層表面１００μｍ２当たり５個以上、１００個以下であるであることを特徴とする磁気転写用スレーブ媒体。
【請求項２】
前記下塗り層の厚さが０．０１〜０．５μｍ、前記下地層の厚さが０．２〜５μｍ、前記磁性層の厚さが０．０１〜０．５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気転写用スレーブ媒体。
【請求項３】
前記放射線硬化型樹脂が、脂肪族ジオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気転写用スレーブ媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、予め一方向に初期磁化されたスレーブ媒体と、転写すべき情報に応じたパターンを有するマスター担体を密着させて、前記初期磁化と逆向きの方向に転写用磁界を印加する磁気転写方法に用いる磁気転写用スレーブ媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
高容量テープや高容量フレキシブルディスク等の磁気記録媒体では、トラッキング用サーボ信号等のプリフォーマット信号が記録される。このプリフォーマット信号は、サーボ記録装置等を用いて記録されるが、サーボ記録装置は高価で、記録に時間がかかるため、磁気転写方による方法が提案されている。
【０００３】
その一例としては、転写すべき情報に応じた凹凸パターンが表面に形成されてなる基板と、該基板の凸部表面に形成された磁性層とを備えてなる磁気転写用マスター担体（パターンドマスター）を形成し、スレーブ媒体の磁気記録部（磁性層）を予め一方向へ直流磁化させた後、マスター担体とスレーブ媒体と密着させた状態でスレーブ媒体の初期直流磁化方向と略反対方向に転写用磁界を印加することにより、磁気パターンを転写する磁気転写方法がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平２００１−１４６６７号
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記磁気転写における転写品質を高めるためには、マスター担体とスレーブ媒体の面間隔を一様なものとする必要があり、全面に亘って一様な距離を保つのが困難であるために両者を密着させるようにするのが一般的である。なお、この密着時にも全面に亘っていかに一様に密着させるかが重要である。つまり一部にでも密着不良な部分があると、その周囲の転写磁界に不均一な強度分布が生じ、磁化遷移領域および磁化均一領域において磁化不均一性を生じる原因となる。その結果として転写信号の品位が低下し、記録した信号がサーボ信号の場合にはトラッキング機能が十分に得られずに信頼性が低下するという問題が生じる。
【０００６】
一方で、磁気転写終了後には、マスター担体とスレーブ媒体との密着を解除して両者を剥離させるが、マスター担体とスレーブ媒体の密着度が大きすぎると、この剥離時にマスター担体やスレーブ媒体に負担がかかり、場合によっては損傷することがある。
【０００７】
したがって、磁気転写用マスター担体としては、スレーブ媒体において良好な転写パターンを得るために、転写時には十分な密着性を達成することができ、かつ、転写後の剥離時には容易に剥離できるものであることが望まれる。
【０００８】
一般に、スレーブ媒体としての磁気記録媒体は、支持体上に磁性層が形成されてなるが、磁性層の表面には支持体の表面の凹凸形状がそのまま反映されて凹凸形状が形成され、この凹凸形状の突起が大きいと前述の磁気転写用マスター担体と密着された際に、密着性を阻害する原因となる。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、磁気転写時に磁気転写用マスター担体との密着性を充分なものとして信号抜けを低減し信号品位を向上させることが可能な、かつ、密着されたマスター担体との剥離が容易な磁気転写用スレーブ媒体を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気転写用スレーブ媒体は、予め一方向に初期磁化されたスレーブ媒体と、転写すべき情報に応じたパターンを有するマスター担体を密着させて、前記初期磁化と逆向きの方向に転写用磁界を印加する磁気転写方法に用いる磁気転写用スレーブ媒体であって、
支持体上に、脂環式環状構造を有し、かつ１分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する放射線硬化型樹脂により形成された下塗り層を有し、その上に、実質的に非磁性である下地層と、強磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を、この順に設けてなり、
前記磁性層の表面が、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される高さが１００ｎｍ以上の突起が磁性層表面１００μｍ２当たり５個以下であり、高さが２０ｎｍ以上である突起数が、磁性層表面１００μｍ２当たり５個以上、１００個以下であるであることを特徴とするものである。
【００１１】
前記下塗り層の厚さが０．０１〜０．５μｍ、前記下地層の厚さが０．２〜５μｍ、前記磁性層の厚さが０．０１〜０．５μｍであるものが好適である。
【００１２】
また、前記放射線硬化型樹脂は、脂肪族ジオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いることが好ましい。
【００１３】
【発明の効果】
本発明の磁気転写用スレーブ媒体は、支持体上に、脂環式環状構造を有し、かつ１分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する放射線硬化型樹脂により形成された下塗り層を有し、その上に、実質的に非磁性である下地層と、強磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を、この順に設けてなり、前記磁性層の表面が、高さが１００ｎｍ以上の突起が磁性層表面１００μｍ２当たり５個以下であり、高さが２０ｎｍ以上である突起数が、磁性層表面１００μｍ２当たり５個以上、１００個以下であることにより、マスター担体と接触する部分に突起がない場合と比較して、スレーブ媒体との密着時に、エアが抜きやすくなり、空気だまりが発生しにくくなると共に、突起によるスペーシングロスによる密着不良を生じることなく密着性を向上させることができる。この密着性の向上により、信号抜けの発生を防止して転写信号の記録品質を高めることができる。
【００１４】
また、マスター担体と密着させて転写した後、マスター担体と剥離する際に剥離しにくくなるとマスター担体もしくはスレーブ媒体に余計な力を加える必要が生じ、これが破損の原因になることもあるが、本発明のようにある程度の突起により真実接触面積が小さくなって剥離しやすくなり、破損の一因を排除することができる。
【００１５】
つまり、マスター担体と接触する磁性層表面に、高さが２０ｎｍ以上の突起が１００μｍ２当たり１００個より多い場合、または高さが１００ｎｍを越える突起が１００μｍ２当たり５個を越えると、マスター担体との密着時に、突起によるスペーシングロスが大きくなり、密着不良による信号品位の低下を招く場合が諸生じる。一方、高さが２０ｎｍ以上の突起が１００μｍ２当たり５個未満、または突起の高さが２０ｎｍ未満であると、マスター担体と密着させて磁気転写を行った後、該マスター担体と剥離させる際、両者の密着度が大きすぎて、剥離に大きな力が必要となり、マスター担体および／またはスレーブ媒体が損傷する場合がある。
【００１６】
特に、前述の下塗り層が放射線硬化型樹脂により形成されたために、そのモノマーを支持体に塗設する際の粘性が低く、支持体表面の凹凸の間への浸透性が高く、良好な平滑化が得られ、さらに、非磁性の下地層を磁性層の下層に有するために、支持体のうねるような表面凹凸の平坦化が得られ、両層の形成に伴い、磁気転写用スレーブ媒体として前述のような最適な表面性状を得ることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に沿って説明する。図１は一実施形態の磁気転写用スレーブ媒体の層構成を示す図、図２は一実施形態の磁気転写方法の基本工程を示す図である。
【００１８】
図１に示すように、本発明の磁気転写用スレーブ媒体２の基本構成は、ベースフィルムなどの支持体２１と、該支持体２１上に塗設され脂環式環状構造を有しかつ１分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する放射線硬化型樹脂による下塗り層２２と、該下塗り層２２上に塗設された実質的に非磁性である下地層２３と、該下地層２３上に塗設された強磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層２４とを備えてなる。
【００１９】
なお、図示の場合には、支持体２１の片面に下塗り層２２、下地層２３、磁性層２４を設けた場合を示しているが、支持体２１の両面に下塗り層２２、下地層２３、磁性層２４を設けて、両面に磁気転写を行うようにしてもよい。
【００２０】
そして、上記層構成により、磁性層２４の表面、すなわち後述の磁気転写時にマスター担体３の凹凸パターン面と密着される表面が、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定される高さが１００ｎｍ以上の突起が磁性層表面１００μｍ２当たり５個以下であり、高さが２０ｎｍ以上である突起数が、磁性層表面１００μｍ２当たり５個以上、１００個以下である平坦面に構成されてなる。
【００２１】
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定される高さとは、原子間力顕微鏡にて求められる中心面（平面と磁性層表面の粗さ曲面で囲まれた体積が平面に対し上下で等しくかつ最小になる平均面）を基準面とした高さと定義する。そして、磁性層表面１００μｍ２当たりの高さが２０ｎｍ以上の突起数とは、この基準面以上の高さが２０ｎｍ以上である突起の１０μｍ角当りの総数で突起密度を示す。
【００２２】
続いて、本発明の磁気転写用スレーブ媒体２に、磁気転写用マスター担体を利用してプリフォーマット信号を磁気転写によって記録する面内記録の場合の原理を図２（ａ）〜（ｃ）に基づき説明する。
【００２３】
まず、図２（ａ）に示すように、予めスレーブ媒体２に初期磁界Ｈｉｎをトラック方向の一方向に印加してスレーブ媒体の磁性層の磁化を該一方向に初期磁化させる。その後、図２（ｂ）に示すように、このスレーブ媒体２の磁気記録面とマスター担体３の凹凸パターンが形成されている情報担持面とを密着させ、スレーブ媒体２のトラック方向に前記初期磁界Ｈｉｎとは逆方向に転写用磁界Ｈｄｕを印加して磁気転写を行う。その結果、図２（ｃ）に示すように、スレーブ媒体２の磁気記録面にはマスター担体３の情報担持面の凹凸形成パターンに応じた情報（例えばサーボ信号）が磁気的に転写記録される。
【００２４】
なお、スレーブ媒体２の上下記録面への磁気転写は同時に行ってもよいし、片面ずつ順次なされてもよい。また、マスター担体３の凹凸パターンが図２のポジパターンと逆の凹凸形状のネガパターンの場合であっても、初期磁界Ｈｉｎの方向および転写用磁界Ｈｄｕの方向を上記と逆方向にすることによって同様の情報を磁気的に転写記録することができる。なお、初期磁界および転写用磁界は、スレーブ媒体の保磁力、マスター担体およびスレーブ媒体の比透磁率を勘案して定められた値を採用する必要がある。
【００２５】
さらに、垂直記録方式においても、同様のマスター担体３を使用して行うことが可能である。この垂直記録の場合には、スレーブ媒体２の磁性層２４に対して垂直方向に転写用磁界を印加するもので、スレーブ媒体２は予め垂直方向の一方向に初期磁化しておき、マスター担体を密着させた磁気転写時はこれと逆方向に垂直磁界を印加する。磁性層２４は面内記録方式もしくは垂直記録方式に応じた磁気磁気異方性を有している。
【００２６】
次に、マスター担体３は、ニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、合金、セラミックス、合成樹脂等による基板で構成される。パターンの形成は、スタンパ法、フォトリソグラフィー技術等を用いて行われる。
【００２７】
まず、スタンパ法を用いた場合は、表面が平滑なガラス板（または石英板）の上にスピンコート等でフォトレジストを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号等の転写信号に対応して変調したレーザー光または電子ビームを照射し、フォトレジスト全面に所定のパターンを描画露光し、その後、現像処理し、フォトレジストによる凹凸形状を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターンをもとに、この表面にメッキ（電鋳）を施し、パターンを有するＮｉ基板を作成し、原盤から剥離する。この基板をそのままマスター担体とするか、またはパターン上に必要に応じて磁性層、保護膜を被覆してマスター担体とする。
【００２８】
また、前記原盤にメッキを施して第２の原盤を作成し、この第２の原盤を使用してメッキを行い、パターンを有する基板を作成してもよい。さらに、第２の原盤にメッキを行うか樹脂液を押し付けて硬化を行って第３の原盤を作成し、第３の原盤にメッキを行い、基板を作成してもよい。なお、前記ガラス板にフォトレジストによるパターンを形成した後、エッチングしてガラス板に穴を形成し、フォトレジストを除去した原盤を得て、以下前記と同様に基板を形成するようにしてもよい。
【００２９】
金属による基板の材料としては、ＮｉもしくはＮｉ合金を使用することができ、この基板を作成する前記メッキは、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法が適用できる。基板の凹凸パターンの深さは、５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは８０ｎｍ〜６００ｎｍである。
【００３０】
基板がＮｉなどによる強磁性体の場合はこの基板のみで磁気転写は可能であるが、転写特性の良い磁性層を設けることでより良好な磁気転写を行うことができる。また、基板が非磁性体の場合は磁性層を設ける必要がある。
【００３１】
磁性層としては、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜形成する。磁性層の具体的な磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）等が挙げられる。特に好ましいものはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。磁性層の厚みは、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１５０ｎｍ〜４００ｎｍである。なお、磁性層の上にさらに５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護膜を設けることが好ましく、さらに潤滑剤を設けてもよい。
【００３２】
また、スタンパー法を用いることなく、フォトリソグラフィー技術を用い、例えば、基板にフォトレジストを塗布し、転写信号に応じた露光、現像処理によりパターンを形成し、次いで、エッチングを行い、磁性層の厚さに相当する深さの溝（凹部）を形成し、レジストを除去したものを基板とし、磁性層を被膜してマスター担体を得ることもできる。
【００３３】
次に、本発明の磁気転写用スレーブ媒体２の各層の具体的な説明を行う。
【００３４】
［支持体］
本発明に用いられる非磁性支持体２１は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが挙げられる。これらの支持体２１にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理等を行ってもよい。
【００３５】
［下塗り層］
下塗り層２２は、放射線硬化型樹脂により形成され、そのモノマーを支持体２１に塗設する際の粘性が低く、支持体２１表面の凹凸の間への浸透性が高く、その凹凸の平滑化を得るために設置されている。この下塗り層２２と下地層２３とにより、前述のような表面性状を得るものである。
【００３６】
（放射線硬化型樹脂）
この下塗り層２２の放射線硬化型樹脂は、脂環式環状構造を有しかつ１分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する化合物であり、例えば、放射線官能性二重結合を有する化合物であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などが挙げられる。この中でも、２官能のアクリレート化合物およびメタクリレート化合物が好ましい。
【００３７】
これら放射線硬化型樹脂の具体例としては、脂肪族ジオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたもの、例えば、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等が挙げられる。また、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレート、シクロヘキサンジメタノールのジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールのジメタクリレート、水素化ビスフェノールＡのジアクリレート、水素化ビスフェノールＡのジメタクリレート、水素化ビスフェノールＦのジアクリレート、水素化ビスフェノールＦのジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジメタクリレート、など脂環族ジオールのアクリレート化合物、メタクリレート化合物。ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、などポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルポリオールにアクリル酸あるいはメタクリル酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレートを挙げることができる。
【００３８】
また、公知の二塩基酸、グリコールから得られたポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートも用いることができる。公知のポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを用いてもよい。
【００３９】
また、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものや、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジメタアクリレートなども用いることができる。
【００４０】
３官能の化合物としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリアクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ヒドロキシビバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリメタクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ヒドロキシビバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリメタクリレートなどを用いることができる。
【００４１】
さらに、４官能以上としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサアクリレートなどの化合物を用いることができる。
【００４２】
官能基数が多過ぎるかあるいは官能基濃度が高過ぎると硬化収縮が大きく、支持体との密着力が低下し好ましくない。分子量は２０００以下の比較的低分子のものが好ましい。さらに好ましくは分子量１０００以下である。分子量が低い方が、粘度が低くレベリングが高いので平滑性が向上する。最も好ましいものは、分子量２００〜６００の２官能のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
【００４３】
このような放射線硬化型樹脂として、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、水素化ビスフェノールＡのジアクリレート、水素化ビスフェノールＡのジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジメタクリレート、５−エチル−２−（２−ヒドロキシ−１，１’−ジメチルエチル）−５−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサンジアクリレートなどを挙げることができる。
【００４４】
これらの放射線硬化型樹脂は、任意の割合で混合して使用することができる。また、「低エネルギー電子線照射の応用技術（２０００年  シーエムシー社発行）」、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術（１９８２年  総合技術センター社発行）」などに記載されている公知の１官能アクリレートまたはメタクリレート化合物を反応性希釈剤として併用してもよい。反応性希釈剤は放射線硬化型樹脂（下塗り塗料）の物性や硬化反応を調整する機能を有する。
【００４５】
反応性希釈剤としては、脂環式炭化水素骨格を持つアクリレート化合物が好ましい。具体的な例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートが挙げられる。反応性希釈剤の配合量は、前記の２官能以上の放射線硬化型樹脂に対して１０重量％〜９０重量％が好ましい。
【００４６】
上記の放射線硬化型樹脂を含む下塗り塗料は、必要により溶媒に溶解されている。下塗り塗料の２５℃における粘度は、１０００ｍＰａ・ｓｅｃ以下が好ましい。さらに好ましくは５〜７００ｍＰａ・ｓｅｃ、最も好ましくは５〜５００ｍＰａ・ｓｅｃである。１０００ｍＰａ・ｓｅｃよりも粘度が高いと十分な平滑性が得られない。上記範囲内の粘度であれば、塗布後のレベリング効果により、支持体２１の突起を遮断して、平滑な磁性層を得ることができる。溶媒としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノール、エタノール、トルエン等が好ましい。
【００４７】
［硬化処理］
下塗り塗料は、支持体２１上に塗布、乾燥後に放射線照射され、硬化し、下塗り層２２となる。この下塗り層２２の硬化に使用される放射線としては、電子線や紫外線を用いることができるが、紫外線を使用する場合には、前記の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となり、電子線硬化の場合は重合開始剤が不要であり、透過深さも深いので好ましい。
【００４８】
電子線加速器としては、スキャニング方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が通常、３０〜１０００ｋＶ、好ましくは５０〜３００ｋＶであり、吸収線量として通常、０．５〜２０Ｍｒａｄ、好ましくは２〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が３０ｋＶ未満の場合はエネルギーの透過量が不足し、３００ｋＶを超えると重合に使われるエネルギーの効率が低下し経済的でない。電子線を照射する雰囲気は、窒素パージにより酸素濃度を２００ｐｐｍ以下にすることが好ましい。酸素濃度が高いと表面近傍の架橋、硬化反応が阻害される。
【００４９】
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は２０〜２４０Ｗ／ｃｍのランプを用い、速度０．３ｍ／分〜２０ｍ／分で使用される。支持体２１と水銀灯との距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。紫外線硬化に用いる光重合開始剤として、光ラジカル重合開始剤が用いられる。詳細は例えば「新高分子実験学第２巻第６章光・放射線重合」（共立出版１９９５年発行、高分子学会編）に記載されているものを使用できる。具体例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、などがある。
【００５０】
光重合開始剤の混合比率は、放射線硬化型化合物樹脂１００質量部に対し通常、０．５〜２０質量部、好ましくは２〜１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。
【００５１】
放射線硬化装置、条件などについては前述の「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」や「低エネルギー電子線照射の応用技術」などの文献に記載されている公知のものを用いることができる。
【００５２】
［磁性層］
磁性層２４の抗磁力Ｈｃは、１４３ｋＡ／ｍ（１８００Ｏｅ）以上が好ましく、より好ましくは１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）以上であり、さらには１８３〜２７９ｋＡ／ｍ（２３００〜３５００Ｏｅ）の範囲であることが好ましい。１４３ｋＡ／ｍ以上とすることにより、高記録密度をより良好に達成することが可能になる。
【００５３】
（磁性材料）
上層磁性層２４に使用する磁性材料としては、強磁性金属粉末または六方晶フェライト粉末が好ましく用いられる。強磁性金属粉末としては、長軸長が１５０ｎｍ以下のものが好ましい。また、六方晶フェライト粉末としては、３５ｎｍ以下のものが好ましい。
【００５４】
強磁性金属粉末は、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｓｒ，Ｂなどの原子を含んでもよい。特に、Ａｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｙ，Ｂａ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ，Ｙ，Ａｌ，Ｎｄ，Ｓｍの少なくとも１つを含むことがより好ましい。Ｃｏの含有量は、Ｆｅに対し４０原子％以下であることが好ましく、より好ましくは１５〜３５原子％、さらには２０〜３５原子％の範囲であることが好ましい。Ｙの含有量は、Ｆｅに対して１．５〜１２原子％であることが好ましく、より好ましくは３〜１０原子％、さらには４〜９原子％の範囲であることが好ましい。Ａｌの含有量は、Ｆｅに対して１．５〜３０原子％であることが好ましく、より好ましくは５〜２０原子％、さらには８〜１５原子％の範囲であることが好ましい。また、これらの強磁性金属微粉末には、分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもよい。
【００５５】
強磁性六方晶フェライトとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこれらの各種の各置換体、Ｃｏ置換体等が例示される。具体的には、マグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部スピネル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト等が挙げられる。その他、所定の原子以外に、Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｎｂ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｂ、Ｇｅなどの原子を含んでもよい。一般には、Ｃｏ−Ｚｎ，Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ，Ｓｎ−Ｚｎ−Ｃｏ，Ｓｎ−Ｃｏ−Ｔｉ，Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加したものを使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。粉体サイズは六角板径で好ましくは平均板径が１０〜３５ｎｍである。
【００５６】
磁性層２４に含有される強磁性金属微粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば、通常４５〜８０ｍ２／ｇである。強磁性金属粉末の結晶子サイズは、通常８〜１８ｎｍの範囲であり、１０〜１８ｎｍの範囲であることが好ましく、１１〜１７．５ｎｍの範囲であることがより好ましい。強磁性金属粉末の平均長軸長は、３０〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましく、３０〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましい。強磁性金属粉末の針状比は、３〜１５の範囲であることが好ましく、５〜１２の範囲であることがより好ましい。強磁性金属微粉末の飽和磁化σｓ  は、通常１００〜２００Ａ・ｍ２／ｋｇ（１００〜２００ｅｍｕ／ｇ）の範囲であり、１２０〜１８０Ａ・ｍ２／ｋｇ（１２０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）の範囲であることがより好ましい。六方晶フェライトの板状比は、通常２〜２０の範囲であり、２〜５の範囲であることがより好ましい。その飽和磁化σｓ  は、通常３０〜７０Ａ・ｍ２／ｋｇ（３０〜７０ｅｍｕ／ｇ）の範囲であり、４０〜６０Ａ・ｍ２／ｋｇ（４０〜６０ｅｍｕ／ｇ）の範囲であることがより好ましい。強磁性金属微粉末は必要に応じ、Ａｌ，Ｓｉ，Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもよい。
【００５７】
強磁性金属微粉末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下が好ましい。すなわち強磁性金属微粉末のＨｃの分布を小さくすることが好ましい。特にＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくする方法としては、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの方法がある。
【００５８】
（磁性層に配合されるカーボンブラック）
磁性層２４には、カーボンブラックを加えてもよい。好ましいカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等が例示される。比表面積は５〜５００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、平均粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌの範囲のものが好ましい。カーボンブラックを使用する場合は、強磁性体量に対して０．１〜３０重量％の範囲で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層２４の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。
【００５９】
［下地層］
下地層２３は、実質的に非磁性であればその構成は制限されるべきものではないが、通常少なくとも樹脂からなり、好ましくは粉体、例えば無機粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、好ましくは非磁性粉末であるが、下地層２３が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用することができる。下地層２３が実質的に非磁性であるとは、上層の磁性層２４の電磁変換特性を実質的に低下させない範囲で下地層２３が磁性を有することを許容するという意味である。
【００６０】
（非磁性粉末）
非磁性粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などの無機化合物から適宜選択することが可能である。中でも、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いことなどから、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムが好ましく、二酸化チタン、α−酸化鉄がより好ましい。これら非磁性粉末の平均粒子サイズは、０．００５〜２μｍの範囲が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして、同様の効果を持たせることができる。
【００６１】
これらの非磁性粉末の表面には、表面処理が施されてＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＯが存在することが好ましい。特に分散性に好ましいものはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２であり、更に好ましいものはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２である。これらは組合せて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００６２】
（下地層に配合されるカーボンブラック等）
下地層２３にカーボンブラックを混合させることにより、公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができると共に、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。また、下地層２３にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類は、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。
【００６３】
［結合剤］
前記磁性層２４および下地層２３に用いられる結合剤の種類、量に関しては従来の公知技術が利用できる。結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
【００６４】
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のものが用いられる。具体的には塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、エチレン、スチレン、ブタジエン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテルなどの単量体から導かれる構成単位を含む重合体や共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂などを挙げることができる。
【００６５】
また、熱硬化性樹脂や反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物などを挙げることができる。
【００６６】
以上の樹脂は単独でまたは適宜組み合わせて使用することができるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。これらの結合剤には、より優れた分散性と耐久性を得るため必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−ＯＨ、−ＮＲ２、−Ｎ＋Ｒ３、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい（特性基において、Ｍは水素原子またはアルカリ金属塩基を、Ｒは炭化水素基をそれぞれ示す）。このような特性基の量は、１０−１〜１０−８モル／ｇの範囲であることが好ましく、１０−２〜１０−６モル／ｇの範囲であることがより好ましい。
【００６７】
前記下地層２３、磁性層２４に用いられる結合剤は、下地層２３にあっては非磁性粉末、磁性層２４にあっては強磁性金属粉末に対し、それぞれ５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いられる。
【００６８】
なお、下地層２３および磁性層２４の少なくとも一方を複層化してもよい。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層２４を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ各層で変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層構成に関する公知技術を利用することができる。例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層２４表面の擦傷を減らすためには磁性層２４の結合剤量を増量すること、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには下地層２３の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることなどが挙げられるが、適用に際しては、本発明の効果が発揮させる範囲で最適化することが好ましい。
【００６９】
下地層２３および磁性層２４の少なくとも一方には、ポリイソシアネートを添加して各層を硬化させることが耐久性を向上させる上で好ましい。具体的には、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００７０】
［添加剤］
磁性層２４と下地層２３には、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などを有する各種の添加剤を加えてもよい。添加剤としては、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキルリン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでいても、また分岐していてもよい）および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでいても、また分岐していてもよい）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでいても、また分岐していてもよい）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでいても、また分岐していてもよい）のいずれか１つとからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪酸アミンなどを用いることができる。
【００７１】
また、これらの添加剤の全てまたはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と有機溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層２４を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダ処理（カレンダロールによる加熱加圧処理）した後、またはスリット終了後、磁性層２４表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００７２】
［層構成］
スレーブ媒体２の層構成について説明する。支持体２１の厚みは、２〜１００μｍの範囲であることが好ましく、２〜８０μｍの範囲であることがより好ましい。支持体２１と下地層２３との間に平坦化および密着性向上のために設けた前述の下塗り層２２の厚みは、０．０１〜０．５μｍの範囲であることが好ましく、０．０２〜０．５μｍの範囲であることがより好ましい。０．０１μｍ以上であれば、十分な平滑性を得ることができ、０．５μｍ以下であれば、塗膜が乾燥し易く、粘着故障を起こすことがない。
【００７３】
磁性層２４の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものである。この磁性層２４の厚みは、０．０１〜０．５μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．３μｍ、さらには０．０３〜０．１０μｍの範囲であることがより好ましい。磁性層２４を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が利用できる。
【００７４】
下地層２３の厚みは、０．２〜５μｍの範囲であり、好ましくは０．３〜３μｍの範囲、さらには１〜２．５μｍの範囲であることがより好ましい。なお、下地層２３は実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明と実質的に同一の構成と見なすことができることは既に述べた。具体的には、例えば下地層２３の残留磁束密度が０．０１テスラ（１００ガウス）以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるような場合であり、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことである。
【００７５】
磁気転写用スレーブ媒体２は、支持体２１両面に下塗り層２２と下地層２３と磁性層２４を設けてなる両面磁性層のものであっても、片面のみにそれらを設けた片面磁性層のものであってもよい。後者の場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すために磁性層側と反対側にバックコート層を設けてもよい。この厚みは、０．１〜４μｍの範囲であることが好ましく、０．３〜２．０μｍの範囲であることがより好ましい。このバックコート層は公知のものが使用できる。
【００７６】
［スレーブ媒体の製法］
スレーブ媒体２の製造方法は、各層２２〜２４を形成するための塗布液の調整、支持体２１への塗布液の塗布、配向処理、乾燥、冷却、カレンダ処理、打抜処理、後硬化、研磨処理、組み立て等の工程からなる。
【００７７】
磁性塗料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分けて行ってもよい。使用する磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。
【００７８】
磁性塗料、非磁性塗料の混練分散に当たっては、各種の混練機が使用される。例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）アトライター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機などを用いることができる。
【００７９】
塗布液の塗布方法は特に制限されないが、下地層２３が湿潤状態にある内に、その上に磁性塗料を塗布（即ち、ウエット・オン・ウエット塗布）し、次いで乾燥を行い、さらに表面成形処理を施すことにより製造することが、磁性層２４の厚さを均一かつピンホール等の塗布欠陥を防止して歩留りよく生産し、かつ下地層２３と磁性層２４との密着性を高めて磁性層２４の剥離を防止する上でも好ましい。ウエット・オン・ウエット塗布方式は、非磁性塗料の塗布層が湿潤状態であれば、磁性塗料の塗布は非磁性塗料の塗布と同時でも逐次でもかまわない。
【００８０】
下地層２３、磁性層２４をウエット・オン・ウエット塗布方式で作成する場合には、塗布液を塗布した後、徐乾燥することが好ましい。この徐乾燥条件としては、具体的には、連続または断続した温度環境下に所定時間さらすことが挙げられる。具体的には、２０〜１２０℃の温度に搬送速度５０〜８００ｍ／分で３〜１２０秒通すことが挙げられる。
【００８１】
表面成形処理としては、カレンダー処理が挙げられ、カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールが使用される。カレンダーの圧力条件としては、線圧５０〜５００ｋｇ／ｃｍ、好ましくは１００〜４００ｋｇ／ｃｍ、温度２０〜１３０℃、好ましくは４０〜１２０℃の範囲を挙げることができる。
【００８２】
【実施例】
次に本発明を実施例により具体的に説明する。なお、実施例中、「部」との表示は「重量部」を表す。
【００８３】
［磁気転写用スレーブ媒体の作製］
下塗り層の材料、磁性層形成用の塗料（磁性塗料）および下地層形成用の塗料（非磁性塗料）の材料として、それぞれ下記のものを用意した。
【００８４】
＜下塗り層材料Ａ＞
トリプロピレングリコールジアクリレート
＜下塗り層材料Ｂ＞
トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
＜下塗り層材料Ｃ＞
５−エチル−２−（２−ヒドロキシ−１，１’−ジメチルエチル）−５−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサンジアクリレート
【００８５】
2004241030.tif 000003
【００８６】
2004241030.tif 000004
【００８７】
2004241030.tif 000005
【００８８】
［サンプル１］……比較例１
上記磁性塗料Ａと非磁性塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを非磁性塗料には１３部、磁性塗料Ａには４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性塗料および磁性塗料をそれぞれ調整した。
【００８９】
次いで、厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さが５ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に、得られた非磁性層塗料を、乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗布し、乾燥後、その上に磁性塗料Ａを乾燥後の厚さが０．１μｍとなるように、逐次重層塗布を行い下地層と磁性層を形成し、乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、３．７インチ径に打ち抜き、表面研磨処理を施し、磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。なお、このサンプル１では下塗り層は形成されていない。
【００９０】
［サンプル２］……実施例１
前記下塗り材料Ａの化合物（トリプロピレングリコールジアクリレート）を、３０質量％メチルエチルケトン溶液に調整した塗布液を、厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さが５ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に、塗布後の乾燥厚さが０．５μｍになるようにコイルバーを用いて塗布した後乾燥させ、塗膜表面に加速電圧１７５ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで、吸収線量が５Ｍｒａｄになるように電子線を照射し、下塗り層を形成した。
【００９１】
次いで、上記下塗り層の上に、サンプル１と同様に調整した非磁性塗料を、乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗布し、乾燥後、その上に磁性塗料Ａを乾燥後の厚さが０．１μｍとなるように、逐次重層塗布を行い下地層と磁性層を形成し、乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、３．７インチ径に打ち抜き、表面研磨処理を施し、磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。
【００９２】
［サンプル３］……比較例２
下塗り材料Ａの化合物を、３０質量％メチルエチルケトン溶液に調整した塗布液を、厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さが５ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に、塗布後の乾燥厚さが０．５μｍになるようにコイルバーを用いて塗布した後乾燥させ、塗膜表面に加速電圧１７５ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで、吸収線量が５Ｍｒａｄになるように電子線を照射し、サンプル２と同様の下塗り層を形成した。
【００９３】
次いで、上記下塗り層の上に、サンプル１と同様に調整した、磁性塗料Ａのみを乾燥後の厚さが０．１μｍとなるように塗布を行い、磁性層を形成し、乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、３．７インチ径に打ち抜き、表面研磨処理を施し、磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。なお、このサンプル３では下地層は形成されていない。
【００９４】
［サンプル４］……実施例２
下塗り材料Ａの代わりに下塗り材料Ｂの化合物（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を使用した以外は、サンプル２と同様に、支持体上に下塗り層、下地層、磁性層を順に有する磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。
【００９５】
［サンプル５］……実施例３
下塗り材料Ａの代わりに下塗り材料Ｃの化合物（５−エチル−２−（２−ヒドロキシ−１，１’−ジメチルエチル）−５−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサンジアクリレート）を使用した以外は、サンプル２と同様に、支持体上に下塗り層、下地層、磁性層を順に有する磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。
【００９６】
［サンプル６］……比較例３
磁性材料Ａの代わりに磁性塗料Ｂを使用した以外は、サンプル１と同様に、支持体上に下地層、磁性層を順に有する磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。このサンプル６は下塗り層を有していない。
【００９７】
［サンプル７］……実施例４
磁性材料Ａの代わりに磁性塗料Ｂを使用した以外は、サンプル２と同様に、支持体上に下塗り層、下地層、磁性層を順に有する磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。
【００９８】
［サンプル８］……比較例４
磁性材料Ａの代わりに磁性塗料Ｂを使用した以外は、サンプル３と同様に、支持体上に下塗り層、磁性層を順に有する磁気転写用スレーブ媒体の試料を作製した。このサンプル８は下地層を有していない。
【００９９】
上記のようにして作製した磁気転写用スレーブ媒体の各試料の特性を評価した。評価は、磁性層表面の微小突起数を測定するとともに、後述のマスター担体と密着させて転写用磁界を印加して信号を磁気転写により記録し、再生信号のＳ／Ｎの測定およびエラーレートの測定を行った。下記に評価方法を説明するとともに、評価結果を下記表１に示す。
【０１００】
［マスター担体の作製］
マスター担体の基板は、スタンパー法により作製したＮｉ基板を用いた。具体的には、円盤中心から半径方向２０〜４０ｍｍの範囲に、幅０．５μｍの放射状ラインで、ライン間隔が円盤中心から半径方向２０ｍｍの最内周位置で０．３μｍ間隔の凹凸パターンを有する円盤状のＮｉ基板を用いた。Ｎｉ基板上に磁性層ＦｅＣｏ３０ａｔ％層を２５℃で形成した。磁性層の層厚は２００ｎｍとし、スパッタリングによる成膜時のＡｒスパッタ圧は、１．５×１０−４Ｐａ（１．０８ｍＴｏｒｒ）、投入電力を２．８０Ｗ／ｃｍ２とした。
【０１０１】
［微小突起数の測定］
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：デジタル・インストルメント社製ナノスコープＩＩＩ）を用い、稜角７０゜の四角錐のＳｉＮ探針を使って、９０μｍ平方中の微小突起高さが１００ｎｍまで１０ｎｍごとに突起数を測定し、高さ２０ｎｍ以上の突起数を前記方法により得た。同様な方法で合計１０視野の解析を行い、平均を算出し、１００μｍ２当たりの突起数を算出した。
【０１０２】
［Ｓ／Ｎの測定］
得られたサンプル１〜８のスレーブ媒体に対し、上記マスター担体を用いて、ビット長０．３μｍの信号を磁気転写した。磁気転写後のスレーブ媒体を、米ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１００１型ディスク評価装置および協同電子システム社製スピンスタンドＬＳ−９０にて、トラック幅０．５μｍのＭＲヘッドを用いて信号を再生し、Ｓ／Ｎ値を求めた。
【０１０３】
［エラーレートの測定］
得られたサンプル１〜８のスレーブ媒体に対し、上記マスター担体を用いて、ビット長０．３μｍの信号を磁気転写した。磁気転写後のスレーブ媒体を、米ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１００１型ディスク評価装置および協同電子システム社製スピンスタンドＬＳ−９０にて、トラック幅０．５μｍのＭＲヘッドを用いて信号を再生し、スレッシュホールドを平均出力の８０％として、エラーレートを測定した。
【０１０４】
［評価結果］
表１の結果、下塗り層を有さないサンプル１および６では、磁性層表面の突起数が多く、また、これより少ないが、下地層を有さないサンプル３および８では、磁性層表面の突起数が多く、これに伴い、磁気転写時の密着不良による転写品位の低下が発生し、Ｓ／Ｎ特性およびエラーレートが劣化した。これに対して、放射線硬化型の下塗り層および非磁性下地層を有する、本発明の実施例となるサンプル２，４，５，７では、磁性層表面の突起数が所定範囲の少ない値となり、表面の平坦化が得られ、磁気転写時のスペーシングロスが小さく、Ｓ／Ｎ特性およびエラーレートが向上し、良好な磁気転写によって転写品位が確保できた。
【０１０５】
【表１】
2004241030.tif 000006
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の磁気転写用スレーブ媒体の層構成を示す図
【図２】一実施形態の磁気転写方法の基本工程を示す図
【符号の説明】
２    磁気転写用スレーブ媒体
２１    支持体
２２    下塗り層
２３    下地層
２４    磁性層
３    マスター担体
【図１】
2004241030.tif 000007
【図２】
2004241030.tif 000008