(57)【要約】【課題】下地要素の上に形成される機能性膜について、これを平坦で均一な厚さにし、これにより機能性膜の機能向上を図ったデバイスとその製造方法、及び電子機器に関する。【解決手段】基板２３、２４上に下地要素を形成した基体の下地要素上に、機能性膜３６、３８、４０を形成したデバイス２０である。下地要素上に、機能性膜３６、３８、４０を形成するための液状形成材料に対して親液性を有する親液膜１５、１６、１７が設けられ、これら親液膜１５、１６、１７上に機能性膜３６、３８、４０が設けられている。【選択図】　　　図１
2004145092.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に下地要素を形成した基体の前記下地要素上に、機能性膜を形成したデバイスにおいて、
前記下地要素上に、前記機能性膜を形成するための液状形成材料に対して親液性を有する親液膜が設けられ、該親液膜上に機能性膜が設けられていることを特徴とするデバイス。
【請求項２】
前記親液膜は、親液膜形成材料が大気圧下あるいは減圧下でプラズマ処理されたことによって形成されたものであることを特徴とする請求項１記載のデバイス。
【請求項３】
前記親液膜は、親液膜形成材料が大気圧下あるいは減圧下で電磁波の照射を受けたことによって形成されたものであることを特徴とする請求項１記載のデバイス。
【請求項４】
前記電磁波は紫外線であることを特徴とする請求項３記載のデバイス。
【請求項５】
基板上に下地要素を形成した基体の前記下地要素上に、機能性膜を形成したデバイスの製造方法において、
前記下地要素上に、前記機能性膜を形成するための液状形成材料に対して親液性を有する親液膜を形成し、
該親液膜上に機能性膜を設けることを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項６】
前記親液膜を、親液膜形成材料を大気圧下あるいは減圧下でプラズマ処理することによって形成することを特徴とする請求項５記載のデバイスの製造方法。
【請求項７】
前記親液膜を、親液膜形成材料を大気圧下あるいは減圧下で電磁波を照射することによって形成することを特徴とする請求項５記載のデバイスの製造方法。
【請求項８】
前記電磁波は紫外線であることを特徴とする請求項７記載のデバイスの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれかに記載のデバイスを備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に下地要素を形成し、さらにその上に機能性膜を形成したデバイスとその製造方法、及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話、携帯型パーソナルコンピューター等の電子機器に液晶表示装置などの表示デバイスが広く用いられるようになってきている。
このような表示デバイスに用いられるカラーフィルタ基板として、従来、例えば図１１に示すような構造のものが知られている。図１１において符号２０１は基板であり、この基板２０１上には、カラーフィルタを構成するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のそれぞれの色絵素２０２Ｒ、２０２Ｇ、２０２Ｂが所定の配列、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等に形成され、さらにその上には保護膜２０３が形成されている。
【０００３】
ここで、色絵素２０２Ｒ、２０２Ｇ、２０２Ｂ上に保護膜（オーバーコート膜）２０３を形成するのは、保護膜２０３に以下の機能を発揮させるためである。第１には、保護膜２０３の形成によってカラーフィルタ基板の表面を平坦化することにより、このカラーフィルタ基板の表面に形成する電極の断線を防止するためである。
第２には、断線を防止することによって電極の薄膜化・低抵抗化を可能にし、これにより画素間のコントラスト比を向上させるためである。
第３には、保護膜２０３形成後に続いて行われる工程において、カラーフィルタ基板内の画素（色絵素２０２Ｒ、２０２Ｇ、２０２Ｂ）が傷付くことを防止してこれを保護するためである。
第４には、カラーフィルタ基板が液晶表示装置に用いられる場合、セルギャップ内に液晶が封入された後、カラーフィルタ基板から液晶に不純物が拡散することを防止するためである。
【０００４】
このような機能を有する保護膜２０３は、従来、基板２０１上のブラックマトリクス２０４によって区画された所定領域に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、又はＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等の複数の色絵素２０２Ｒ、２０２Ｇ、２０２Ｂが形成された後、その上、すなわちブラックマトリクス２０４及び色絵素２０２Ｒ、２０２Ｇ、２０２Ｂの全表面上に、例えばレジスト等の液状の透明性樹脂がスピンコート法等によって均一な厚さに塗布されることで形成されていた。
また、このような保護２０３層の形成に先立つ色絵素２０２Ｒ、２０２Ｇ、２０２Ｂの形成方法としては、フォトリソグラフィー法を用いて各色毎に製膜した色絵素材料をパターニングする、といった方法が採用されている。
【０００５】
ところが、このようにフォトリソグラフィー法を用いてパターニングを行い、各色絵素を形成するのでは、工程が複雑であることや各色絵素材料及びフォトレジスト等を多量に消費することなどから、コストが高くなるといった問題があった。
そこで、このような問題を解消するため、液滴吐出法（インクジェット法）によってフィルタ材料（色絵素材料）等をドット状に吐出し、色絵素などの構成要素をドット状に配列・形成する方法が提案された。
【０００６】
すなわち、図１２（ａ）に示すように、まず、基板２上に所定の高さのバンク状の区画材６を形成する。この区画材６については、液滴吐出法により吐出される液状のフィルタ材料５（図１２（ｂ）参照）に対し、撥液性を有する樹脂材料等から形成する。あるいは、形成後、撥液性を発揮するようにその表面に撥液膜を形成する。すると、区画材６がフィルタ材料５に対して撥液性を有することから、図１２（ｂ）に示すように、互いに隣り合うフィルタ材料５どうしが区画材６を介することによって混じり合うことがなく、それぞれが独立して色絵素を形成するようになる。
【０００７】
このようにして、図１２（ｃ）に示すように色絵素３（３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ）からなるカラーフィルタを、液滴吐出法によって形成することができる。また、これら色絵素３（３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ）の上に、前述したようにして図１２（ｄ）に示すように保護膜４を形成することにより、カラーフィルタ基板を作製することができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１２に示した方法では、区画材６が撥液性を有していることから、その上に塗布される保護膜４の液状材料に対しても撥液性を発揮してしまい、結果として区画材６の表面上にて液状材料の塗布ムラが起こってしまう。すると、保護膜４に膜厚ムラが生じてしまうことから、前述したような保護膜の４つの機能が十分に発揮し得なくなり、したがってこれを用いた液晶表示装置等のデバイスにあっては、その表示品位が低下するなどの不都合が生じてしまう。
【０００９】
また、このような保護膜（オーバーコート膜）以外にも、基板上に形成される各種の下地要素の上に設けられる膜や層、例えば平坦化膜や層間絶縁膜、さらには液晶表示装置で用いられる配向膜なども、その要求される機能を発揮するうえで、下地要素による凹凸に影響されることなく平坦で均一な膜（層）であることが望まれている。
【００１０】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、下地要素の上に形成される機能性膜について、これを平坦で均一な厚さにし、これにより機能性膜の機能向上を図ったデバイスとその製造方法、及び電子機器を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記した目的を達成するために本発明のデバイスでは、基板上に下地要素を形成した基体の前記下地要素上に、機能性膜を形成したデバイスにおいて、前記下地要素上に、前記機能性膜を形成するための液状形成材料に対して親液性を有する親液膜が設けられ、該親液膜上に機能性膜が設けられていることを特徴としている。
下地要素上に親液膜が設けられ、この親液膜上に機能性膜が設けられた構成となっているので、機能性膜を形成するための液状形成材料を親液膜に塗布した際、該液状形成材料が親液膜に対し濡れ性がよいことによりこの親液膜上にて良好広がり、これによって平坦化するとともに、均一に広がることによって膜厚が均一化する。したがって、このデバイスによれば、機能性膜が平坦で均一な厚さに形成されていることにより、機能性膜の機能特性が良好なものとなる。
【００１２】
また、前記デバイスにおいては、前記親液膜が、親液膜形成材料が大気圧下あるいは減圧下でプラズマ処理されたことによって形成されたものであるのが好ましい。
このようにすれば、親液膜が、機能性膜を形成するための液状形成材料に対してより良好な親液性を有するものとなることから、機能性膜の平坦化、膜厚均一化が顕著となり、したがって機能性膜の機能特性がより向上する。
【００１３】
また、前記デバイスにおいては、前記親液膜が、親液膜形成材料が大気圧下あるいは減圧下で電磁波の照射を受けたことによって形成されたものであるのが好ましい。なお、この場合、前記電磁波は紫外線であるのが好ましい。
このようにすれば、親液膜形成のための電磁波照射装置がプラズマ装置などに比べて簡易で安価なものとなり、したがって製造コストの低減化が可能となる。特に、電磁波として紫外線が用いられた場合、その照射装置がより安価となることから、製造コストがより低減化する。
【００１４】
本発明のデバイスの製造方法では、基板上に下地要素を形成した基体の前記下地要素上に、機能性膜を形成したデバイスの製造方法において、前記下地要素上に、前記機能性膜を形成するための液状形成材料に対して親液性を有する親液膜を形成し、該親液膜上に機能性膜を設けることを特徴としている。
このデバイスの製造方法によれば、下地要素上に親液膜を形成し、この親液膜上に機能性膜を設けることから、機能性膜を形成するための液状形成材料を親液膜に塗布した際、該液状形成材料が親液膜に対し濡れ性がよいことから該液状形成材料を親液膜上にて良好広げることができ、これによって機能性膜を平坦化することができるとともに、均一に広げてその膜厚を均一化することができる。したがって、機能性膜を平坦で均一な厚さに形成することができることにより、機能性膜の機能特性を良好にすることができ、これにより製品の良品率を上げることができるとともに、製膜時間の短縮化を図ることもできる。
【００１５】
また、前記製造方法においては、前記親液膜を、親液膜形成材料を大気圧下あるいは減圧下でプラズマ処理することによって形成するのが好ましい。
このようにすれば、親液膜が、機能性膜を形成するための液状形成材料に対してより良好な親液性を有するものとなることから、機能性膜の平坦化、膜厚均一化が顕著となり、したがって機能性膜の機能特性をより向上することができる。
【００１６】
また、前記製造方法においては、前記親液膜を、親液膜形成材料を大気圧下あるいは減圧下で電磁波を照射することによって形成するのが好ましい。なお、この場合、前記電磁波は紫外線であるのが好ましい。
このようにすれば、親液膜形成のための電磁波照射装置がプラズマ装置などに比べて簡易で安価なものとなり、したがって製造コストの低減化が可能となる。特に、電磁波として紫外線が用いられた場合、その照射装置がより安価となることから、製造コストをより低減化することができる。
【００１７】
本発明の電子機器では、前記のデバイスを備えたことを特徴としてる。
この電子機器によれば、機能性膜の機能特性が良好なデバイスを備えていることにより、例えば表示特性などの各種の機能が良好なものとなる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
本実施形態では、本発明のデバイスを、カラーフィルタを覆う保護膜や配向膜を備えた、表示デバイスとしての液晶表示装置を例にして説明する。
図１は表示デバイスとしての液晶表示装置であり、この図において符号２０は半透過反射型のカラー液晶表示装置である。なお、以下の図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００１９】
この液晶表示装置２０は、液晶セル２１とバックライト２２（照明装置）とを備えたものである。液晶セル２１は、下基板２３と上基板２４とが対向配置されてなるもので、これら上基板２４と下基板２３との間に、位相差を例えばλ／２に設定したネマチック液晶などからなる液晶層２６を挟持したものである。液晶セル２１の後面側（下基板２３の外面側）にはバックライト２２が配置されており、バックライト２２は、ＬＥＤ（発光ダイオード）等からなる光源２７、導光板２８、反射板２９などを備えて構成されている。
【００２０】
ガラス等の透光性材料からなる下基板２３の内面側には半透過反射層３３が形成されている。下基板２３は、ガラス等の透光性基板から構成されたものであり、半透過反射層３３は、所定の回転方向を持つ円偏光のうちの一部を反射させ、一部を透過させるものである。
下基板２３の内面側の半透過反射層３３の上方には、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる下部電極３７がストライプ状に形成され、その上には親液膜１５を介してポリイミド等の樹脂からなる配向膜３８（液晶層２６の液晶分子を配向させる配向膜）が形成されている。親液膜１５は、下地要素となる下部電極３７に対して、機能膜である配向膜３８が平坦かつ均一となるようにするため設けられたもので、配向膜３８を形成するための液状形成材料に対して親液性を有する材質、例えばポリエチレン膜などの炭化水素系重合膜によって形成されたものである。
【００２１】
一方、上基板２４の内面側には、例えばＲ、Ｇ、Ｂの異なる色の顔料を含む色絵素３４ｒ、３４ｇ、３４ｂが区画材６で区画された領域内にそれぞれ設けられており、これらによってカラーフィルター層３５が形成されている。なお、区画材６は、前述したようにカラーフィルター層３５の形成材料に対して撥液性を有する樹脂材料等から形成され、あるいは形成後、撥液性を発揮するようにその表面に撥液膜が形成されている。
【００２２】
これら区画材６及びカラーフィルター層３５（色絵素３４ｒ、３４ｇ、３４ｂ）の上には、親液膜１６を介して保護膜（オーバーコート層）３６が形成されている。親液膜１６は、前記親液膜１５と同様の目的で形成されたもので、下地要素となる区画材６及びカラーフィルター層３５に対して、機能膜である保護膜３６が平坦かつ均一となるようにするため設けられたものである。なお、この親液膜１６も、保護膜３６を形成するための液状形成材料に対して親液性を有する材質、例えばポリエチレン膜などの炭化水素系重合膜によって形成されたものである。
【００２３】
さらに、保護膜３６の内面側には、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる上部電極３９がストライプ状に形成され、その上には親液膜１７を介してポリイミド等の樹脂からなる配向膜４０（液晶層２６の液晶分子を配向させる配向膜）が形成されている。親液膜１７は、前記親液膜１５と同様に下地要素となる上部電極３９に対して、機能膜である配向膜４０が平坦かつ均一となるようにするため設けられたもので、ポリエチレン膜などの炭化水素系重合膜によって形成されたものである。
【００２４】
なお、下部電極３７、上部電極３９からなる電極構成には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、薄膜ダイオード（ＴＦＤ）等のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式、パッシブマトリクス方式のいずれが採用されている。
上基板２４の外面側には、上位相差板４２と上偏光板４３（双方で上基板側円偏光入射手段を構成する）とが基板側からこの順に設けられている。一方、下基板２３の外面側には、下１／４波長板（下位相差板）４４と下偏光板４５（双方で下基板側円偏光入射手段を構成する）とが基板側からこの順に設けられている。これら位相差板４２、４４と偏光板４３、４５は、液晶層２６に対して所定の回転方向を持つ円偏光を入射させるためのものである。ただし、特に上基板２４側に設ける位相差板に色補償の機能も持たせたい場合には必ずしも１／４波長板を用いることはなく、任意の位相差を持つ位相差板を選択すればよい。
【００２５】
次に、このような構成からなる液晶表示装置２０の製造方法として、特に親液膜１５（１６、１７）とこれの上に配置する機能膜（保護膜３６、配向膜３８、４０）の形成について説明する。
図２は親液膜形成装置の一例を示す概念図であり、この親液膜形成装置は、ｎ−デカンを含むヘリウム（Ｈｅ）ガスを大気圧（あるいは減圧下）でプラズマ化し、そのプラズマを基体Ｓに照射することで、基体Ｓの表面に親液膜を形成するものである。ここで、基体Ｓとは、基板２３（２４）上に下地要素としてカラーフィルタ層３５や電極（下部電極３７、上部電極３９）などを形成した状態のものをいう。
【００２６】
この親液膜形成装置では、ヘリウムガス５１が流量１００［ｓｃｃｍ］で容器５２の中に貯留されたｎ−デカン溶液の中に導入され、バブリングされる。このバブリングによってｎ−デカンを含んだヘリウムガスは、容器５２から第１電極５４に送られる。なお、この第１電極５４には、ヘリウムガス３３が流量１０［ｓｌｍ］で供給される。
【００２７】
さらに、第１電極５４には高周波電源５６から周波数１３．５６［ＭＨｚ］の高周波電圧が印加される。ここで、高周波電源５６から第１電極５４に供給される電力は、例えば４００［Ｗ］とする。第１電極３４に対向する位置には、第２電極として機能するステージ５８が配置されている。
ステージ５８は、被処理物である基体Ｓを載置固定するもので、第１電極５４の下端と所定の間隔を保ちながら水平方向に移動可能に構成されたものである。第１電極５４とステージ（第２電極）５８上に載置された基体Ｓとの間隔（ギャップ）は、例えば１［ｍｍ］とされる。ステージ３８の移動速度すなわち基体Ｓの搬送速度は、例えば０．４６［ｍｍ／ｓｅｃ］とされる。
【００２８】
このような構成のもとに、第１電極３４に導入されたヘリウムガス５５中のｎ−デカン蒸気は、高周波電圧が印加されたその電極５４とステージ（第２電極）５８との間で生成したプラズマ５７中にて高活性状態に励起され、さらに重合反応させられる。すると、重合反応によってポリエチレンなどの炭化水素系重合膜となり、基体Ｓの上面にて下地要素を覆った状態に膜化し、親液膜１５（１６、１７）となる。なお、基体Ｓはステージ５８とともに水平方向に移動するので、基体Ｓの上面全体に親液膜１５（１６、１７）が形成されることになる。
ここで、このような親液膜１５（１６、１７）の膜厚については、その機能が親液性を発揮するだけでよいことから、特に厚くする必要はなく、例えば１ｎｍ〜１００ｎｍ程度の薄厚に形成すればよい。
【００２９】
このようにして親液膜１５（１６、１７）を形成したら、該親液膜１５（１６、１７）の上に機能性膜、すなわち保護膜３６あるいは配向膜３８（４０）を形成する。保護膜３６については、その形成材料として、例えばアクリル系樹脂やエポキシ系樹脂、イミド系樹脂、フッ素系樹脂などから選択された樹脂をグリコール系などの溶媒に溶解しあるいは分散媒に分散させた液状材料を用い、これをスピンコート法や液滴吐出法、キャップコート等によって塗布し、その後乾燥・焼成を行うことによって形成する。配向膜３８（４０）については、その形成材料として、例えばポリイミド樹脂を溶媒に溶解しあるいは分散媒に分散させた液状材料を用い、これをスピンコート法や液滴吐出法、キャップコート等によって塗布し、その後乾燥・焼成を行うことによって形成する。
【００３０】
このようにして下地要素上に親液膜１５（１６、１７）を形成し、さらにこれの上に機能性膜として保護膜３６や配向膜３８（４０）を形成すると、機能性膜の形成材料を親液膜１５（１６、１７）に塗布した際、該形成材料が親液膜１５（１６、１７）に対し濡れ性がよいことから該形成材料が親液膜１５（１６、１７）上にて良好に広がり、これによって下地要素による凹凸の影響をあまり受けずに該形成材料が十分良好に平坦化する。また、濡れ性がよく良好に広がることから、下地面が同じレベルであれば同じ膜厚、すなわち均一な膜厚に形成されるようになる。
【００３１】
したがって、保護膜３６は区画材６及びカラーフィルタ層３５上に親液膜１６を介して設けられていることにより、該保護膜３６は下地要素である区画材６及びカラーフィルタ層３５の凹凸の影響を受けることなく、また区画材６が撥液性を発揮してもこれの上を親液膜１６が覆っていることにより区画材６の撥液性の影響を受けることもなく、十分に平坦化し、これにより保護膜３６上に形成される上部電極３９の断線などを防止するなど、前述した保護膜としての４つの機能を良好に発揮するものとなる。
【００３２】
また、配向膜３８（４０）はストライプ状の電極３７（３９）上に親液膜１５（１７）を介して設けられていることにより、該配向膜３８（４０）は下地要素である電極３７（３９）の有無による凹凸や材質の違いによる影響を受けることなく、十分に平坦化し、これにより配向膜３８（４０）のラビング処理が容易になるとともにその処理が均一化し、液晶に対する特性も均一化して表示特性を向上することができる。
よって、親液膜１５（１６、１７）を介して機能性膜としての保護膜３６や配向膜３８（４０）を形成したことにより、前記液晶表示装置２０は保護膜３６や配向膜３８（４０）の機能特性を良好にすることができ、これにより製品の良品率を上げることができるとともに、製膜時間の短縮化を図ることもできる。
【００３３】
なお、前記例では親液膜１５（１６、１７）の形成に図２に示した親液膜形成装置を用いたが、本発明はこれに限定されることなく種々の製膜装置、例えば電磁波照射装置を親液膜の形成に用いることができる。図３は、電磁波処理装置としての紫外線照射装置を示す図であり、図３中符号１５０は紫外線照射装置である。
【００３４】
この紫外線照射装置１５０は、局所排気フード１５１、この局所排気フード１５１内の上方に配設されたランプハウス１５２と、ランプハウス１５２内に配置されたＵＶ光源１５３と、ランプハウス１５２の底面に配設された合成石英（石英ガラス）１５４とを備えて構成されたものである。ここで、ＵＶ光源１５３としては、例えば照射する紫外線の波長を１７２［ｎｍ］とするキセノン（Ｘｅ）ランプが好適に用いられる。なお、ランプハウス１５２内には、窒素源１５５から流量計１５６を介して窒素が供給されるようになっており、またこのランプハウス内１５２からはスクラバー排気がなされるようになっている。
【００３５】
また、局所排気フード１５１内において、合成石英１５４の下方にはホルダ１５５が配設されている。ホルダ１５７は箱状に形成されたもので、その上部開口部に合成石英（石英ガラス）１５８が着脱可能に取り付けられるようになっている。このような構成のもとに、このホルダ１５７の内部には基体Ｓが出し入れ可能に納められるようになっており、また基体Ｓを納めた状態で上部開口部が封止されるようになっている。
【００３６】
また、前記紫外線照射装置１５０には雰囲気生成装置１６０が接続されている。この雰囲気生成装置１６０は、紫外線照射装置１５０のホルダ１５７に主配管１６１を介して接続されたもので、ホルダ１５７内に雰囲気形成ガスを供給するためのものである。この雰囲気生成装置１６０は、ガスボンベ等からなる窒素供給源１６２と、親液膜形成材料を入れた容器１６３と、大気圧プラズマ装置１６４とを備えて構成されたものである。窒素供給源１６２は、配管１６５を介して前記主配管１６１に接続されるとともに、分岐管１６６を介して前記容器１６３に接続されたものである。
【００３７】
容器１６３は、親液膜形成材料として例えばｎ−デカンを貯留した密閉容器であり、その内部には前記分岐管１６６がｎ−デカンの液面より下にまで延びて配置されている。このような構成のもとに、前記分岐管１６６によって供給された窒素はｎ−デカンの液中をバブリングするようになっている。なお、親液膜形成材料としてとしては、ｎ−デカン等の直鎖状の飽和炭化水素以外にも、エーテル類やアルコール類、ケトン類、アミン類、さらにはニトロ基を有する有機化合物など種々のものが使用可能である。また、この容器１６３には配管１６７が接続されており、この配管１６７は分岐して一方が前記大気圧プラズマ装置１６４に、他方が前記主配管１６１に接続している。
【００３８】
大気圧プラズマ装置１６４は、図４（ａ）に示すように高周波電源１７０、および絶縁体１７１を挟んだ一対の高周波電極１７２、１７２を備えたもので、図４（ｂ）に示すように高周波電極１７２、１７２間に、容器１６３から供給されるガス（親液膜形成材料）の流れ方向に沿って区画された多数の反応室１７３…を有して構成されたものである。このような構成のもとに大気圧プラズマ装置１６４は、高周波電極１７２、１７２間、すなわち反応室１７２…内にてプラズマを生成させ、これによりこれら反応室１７３…内を通るガス（親液膜形成材料）を高活性状態に励起させるものとなっている。
【００３９】
また、この大気圧プラズマ装置１６４は、そのガスの出口側が前記主配管１６１に接続している。なお、前記主配管１６１、配管１６５、分岐管１６６、配管１６７には、それぞれの管中を流れるガスの流量を調整する流量調整弁１７４が設けられている。
【００４０】
このような大気圧プラズマ装置１６４によって基体Ｓの下地要素上に親液膜１５（１６、１７）を形成するには、まず、雰囲気生成装置１６０により、基体Ｓを設置したホルダ１５７内の雰囲気を親液膜形成雰囲気に変える。
雰囲気生成装置１６０によって親液膜形成雰囲気を作り出すには、雰囲気生成装置１６０の各流量調整弁を調整して窒素供給源１６２からの窒素で容器１６３内の親液膜形成材料（ｎ−デカン）をバブリングし、この親液膜形成材料の蒸気を含有した窒素を大気圧プラズマ装置１６４に例えば５０ｓｃｃｍの流量で導入する。そして、この大気圧プラズマ装置１６４内で窒素中の親液膜形成材料を高活性状態に励起させ、その状態でこの親液膜形成材料の蒸気を含有する窒素をホルダ１５７内に導入する。ここで、大気圧プラズマ装置１６４によるプラズマ生成条件としては、例えば高周波電源１７０による放電電力を５０Ｗとし、周波数を２３ｋＨｚとして行う。
【００４１】
このようにしてホルダ１５７内の雰囲気を親液膜形成雰囲気、すなわち親液膜形成材料が高活性状態に励起した状態にある雰囲気としたら、ＵＶ光源１５３より紫外線を照射する。すると、紫外線が親液膜形成雰囲気を通過することにより、この雰囲気中の高活性状態に励起した状態にある親液膜形成材料はさらにエネルギーを受けて重合し、例えばポリエチレンとなって基体Ｓ上に親液膜１５（１６、１７）を形成する。このような親液膜１５（１６、１７）の形成を所定時間行い、必要とする厚さの親液膜１５（１６、１７）を形成したら、親液膜形成材料の蒸気を含有する窒素の導入を停止するとともに、紫外線の照射も停止する。
【００４２】
このようにして紫外線照射装置１５０により親液膜１５（１６、１７）を形成するようにすれば、紫外線照射装置１５０はプラズマ装置などに比べて簡易で安価なものとなることから、装置コストを低減して製造コストの低減化を図ることができる。また、特にマザー基板のような大型の基板を処理する場合、プラズマ装置では装置コストが高いためその大型化が困難であり、したがって対応が難しいものの、電磁波照射装置、特に紫外線照射装置１５０は構成が簡易であることなどからその大型化が容易であり、したがって大型基板への対応が容易になって生産性の向上を可能にすることができる。
【００４３】
なお、前記例では電磁波照射装置として紫外線照射装置１５０を用いたが、本発明はこれに限定されることなく種々の装置を使用することができ、例えばレーザー光線を照射するレーザー光源を備えたレーザー装置、あるいは電子ビームを照射する電子ビーム装置を電磁波照射装置として用いることができる。
このようなレーザー装置や電子ビーム装置を用いた場合、レーザー光線や電子ビームの照射エネルギーを調整することにより、親液膜の形成材料が種類や状態に対応して種々の親液膜を形成することが可能になる。
【００４４】
また、前記雰囲気生成装置１６０では、親液膜形成材料の蒸気を高活性状態に励起させるために大気圧プラズマ装置１６４を備えているが、本発明では必ずしも大気圧プラズマ装置１６４を備える必要はなく、減圧プラズマ装置を用いてもよいのはもちろん、これら以外にも親液膜形成材料の蒸気を高活性状態に励起させることのできる装置であればいずれの装置も使用可能である。
【００４５】
また、前記例では本発明のデバイスとして液晶表示装置を挙げ、機能性膜として保護膜と配向膜とを形成するようにしたが、本発明はこれに限定されることなく種々のデバイス、例えば有機ＥＬ装置や電気泳動装置、プラズマディスプレイ装置、さらには抵抗、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、半導体レーザなどを有する各種の光学素子や半導体素子を備えてなるデバイスにも、その機能性膜を形成する場合に好適に適用される。または、例えば半導体基板上の所定箇所に、インクジェット法により配線材料（金属微粒子を含む液状体）を吐出して金属配線を形成する際にも適用が可能であることは言うまでもない。
【００４６】
図５、図６は本発明のデバイスを、有機ＥＬ装置によって形成されるアクティブマトリクス型のディスプレイに適用した場合の一例を示すもので、これらの図において符号１はディスプレイである。
【００４７】
図５に本例のディスプレイ１の配線構造の平面模式図を示し、図６には本例のディスプレイ１の平面模式図及び断面模式図を示す。
図５に示すように、本例のディスプレイ１は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近に、画素領域Ａが設けられている。
【００４８】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路１０４が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。
さらに、画素領域Ａの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給される第１の薄膜トランジスタ１２２と、この第１の薄膜トランジスタ１２２を介して信号線１０２から共有される画素信号を保持する保持容量ｃａｐと、該保持容量ｃａｐによって保持された画素信号がゲート電極に供給される第２の薄膜トランジスタ１２３と、この第２の薄膜トランジスタ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに該電源線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極（電極）１１１と、この画素電極１１１と陰極（対向電極）１２との間に挟み込まれた発光部１１０とが設けられている。これら画素電極１１１と対向電極１２、および発光部１１０により、本発明における発光素子が構成されている。
【００４９】
このような構成によれば、走査線１０１が駆動されて第１の薄膜トランジスタ１２２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐに状態に応じて、第２の薄膜トランジスタ１２３のオン・オフ状態が決まる。そして、第２の薄膜トランジスタ１２３のチャネルを介して、電源線１０３から画素電極１１１に電流が流れ、さらに発光部１１０を介して陰極１２に電流が流れる。発光部１１０は、これを流れる電流量に応じて発光する。
【００５０】
次に、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、本例のディスプレイ１は、ガラス等からなる透明な基板２と、マトリックス状に配置された発光素子（有機ＥＬ素子）と、封止基板とを具備している。基板２上に形成された発光素子は、前述したように画素電極１１１と、発光部１１０と、陰極１２とによって構成されている。
基板２は、例えばガラス等の透明基板であり、基板２の中央に位置する表示領域２ａと、基板２の周縁に位置して表示領域２ａの外側に配置された非表示領域２ｂとに区画されている。
表示領域２ａは、マトリックス状に配置された発光素子によって形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、表示領域の外側に非表示領域２ｂが形成されている。そして、非表示領域２ｂには、表示領域２ａに隣接するダミー表示領域２ｄが形成されている。
【００５１】
また、図６（ｂ）に示すように、発光素子及びバンク部からなる発光素子部１１と基板２との間には回路素子部１４が備えられ、この回路素子部１４に前述の走査線、信号線、保持容量、第１の薄膜トランジスタ、第２の薄膜トランジスタ１２３等が備えられている。
また、陰極１２は、その端部が基板２上に形成された陰極用配線１２ａに接続しており、この配線の端部がフレキシブル基板５上の配線５ａに接続されている。また、配線５ａは、フレキシブル基板５上に備えられた駆動ＩＣ６（駆動回路）に接続されている。
【００５２】
また、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、回路素子部１４の非表示領域２ｂには、前述の電源線１０３（１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂ）が配設されている。
また、表示領域２ａの図６（ａ）中両側には、前述の走査側駆動回路１０５、１０５が配置されている。この走査側駆動回路１０５、１０５はダミー領域２ｄの下側の回路素子部１４内に設けられている。さらに回路素子部１４内には、走査側駆動回路１０５、１０５に接続される駆動回路用制御信号配線１０５ａと駆動回路用電源配線１０５ｂとが設けられている。
さらに表示領域２ａの図６（ａ）中上側には検査回路１０６が配置されている。この検査回路１０６により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができる。
【００５３】
また、図６（ｂ）に示すように、発光素子部１１上には封止部３が備えられている。この封止部３は、基板２に塗布された封止樹脂６０３と、封止基板６０４とから構成されている。封止樹脂６０３は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特にエポキシ樹脂が好適とされる。
この封止樹脂６０３は、基板２の周囲に環状に塗布されており、例えばマイクロディスペンサ等により塗布されたものである。この封止樹脂６０３は、基板２と封止基板６０４を接合するもので、基板２と封止基板６０４との間から封止基板６０４内部への水又は酸素の侵入を防いで、陰極１２または発光素子部１１内に形成された発光層（図示せず）の酸化を防止する。
封止基板６０４は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂６０３を介して基板２に接合されており、その内側には表示素子１０を収納する凹部６０４ａが設けられている。また、凹部６０４ａには水、酸素等を吸収するゲッター剤６０５が貼り付けられており、缶封止基板６０４の内部に侵入した水又は酸素を吸収できるようになっている。なお、このゲッター剤６０５は省略しても良い。
【００５４】
次に、図７に、ディスプレイ１における表示領域の断面構造を拡大した図を示す。この図７には３つの画素領域Ａを示している。ディスプレイ１は、基板２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部１４と、発光部１１０が形成された発光素子部１１とが順次積層されて構成されている。
このディスプレイ１においては、発光部１１０から基板２側に発した光が、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるとともに、発光部１１０から基板２の反対側に発した光が陰極１２により反射されて、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるようになっている。
なお、陰極１２として透明な材料を用いることにより、この陰極１２側から光を出射させることも可能である。
【００５５】
回路素子部１４には、基板２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜２ｃが形成され、この下地保護膜２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜１４１が形成されている。なお、半導体膜１４１には、ソース領域１４１ａ及びドレイン領域１４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域１４１ｃとなっている。
さらに、回路素子部１４には、下地保護膜２ｃ及び半導体膜１４１を覆う透明なゲート絶縁膜１４２が形成され、ゲート絶縁膜１４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極１４３（走査線１０１）が形成され、ゲート電極１４３及びゲート絶縁膜１４２上には親液膜１８を介して透明な層間絶縁膜１４４が平坦化膜を兼ねて形成されている。
【００５６】
ここで、層間絶縁膜１４４は、その下に予め親液膜１８が形成されていることにより、ゲート電極１４３等の下地要素の凹凸にあまり影響されずに平坦化するようになり、したがって層全体に亘って均一な絶縁性を発揮して良好な絶縁性を発揮するとともに、平坦化膜としても機能するようになる。よって、層間絶縁膜１４４と平坦化膜とを両方形成する場合に比べ、全体の薄厚化が可能になっている。なお、この層間絶縁膜１４４については、二層を積層することによって構成し、図７に示したようにこれら二層間に電源線１０３を配するようにしてもよい。また、このような層間絶縁膜の形成材料としては、ＴＥＯＳ（テトラエポキシシラン）や各種の低誘電材料、例えばポーラスシリカやポリイミド、フルオロカーボンなどが用いられる。また、親液膜１８の形成方法としては、前述した装置による方法がそのまま採用される。
【００５７】
また、層間絶縁膜１４４を貫通して、半導体膜１４１のソース・ドレイン領域１４１ａ、１４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール１４５、１４６が形成されている。
そして、層間絶縁膜１４４上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極１１１が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール１４５がこの画素電極１１１に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール１４６が電源線１０３に接続されている。このようにして、回路素子部１４には、各画素電極１１１に接続された第２の薄膜トランジスタ１２３が形成されている。
なお、回路素子部１４には、前述した保持容量ｃａｐ及び第１の薄膜トランジスタ１２２も形成されているが、図７ではこれらの図示を省略している。
【００５８】
発光素子部１１は、複数の画素電極１１１…上の各々に積層された発光部１１０と、各画素電極１１１及び発光部１１０の間に備えられて各発光部１１０を区画するバンク部１１２と、発光部１１０上に形成された陰極１２とを主体として構成されている。
ここで、画素電極１１１は、例えばＩＴＯにより形成されてなり、平面視略矩形にパターニングされて形成されたものである。この画素電極１１１の厚さは、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍ程度がよい。この各画素電極１１１…の間にバンク部１１２が設けられている。
【００５９】
バンク部１１２は、基板２側に位置する無機物バンク層１１２ａ（第１バンク層）と、基板２から離れて位置する有機物バンク層１１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されたものである。
無機物バンク層、有機物バンク層（１１２ａ、１１２ｂ）は、画素電極１１１の周縁部上に乗上げるように形成されている。平面的には、画素電極１１１の周囲と無機物バンク層１１２ａとが平面的に重なるように配置された構造となっている。また、有機物バンク層１１２ｂも同様であり、画素電極１１１の一部と平面的に重なるように配置されている。また、無機物バンク層１１２ａは、有機物バンク層１１２ｂよりも画素電極１１１の中央側にさらに形成されている。このようにして、無機物バンク層１１２ａの各第１積層部１１２ｅが画素電極１１１の内側に形成されることにより、画素電極１１１の形成位置に対応する下部開口部１１２ｃが形成されている。
【００６０】
また、有機物バンク層１１２ｂには、上部開口部１１２ｄが形成されている。この上部開口部１１２ｄは、画素電極１１１の形成位置及び下部開口部１１２ｃに対応するように設けられている。上部開口部１１２ｄは、図７に示すように、下部開口部１１２ｃより広く、画素電極１１１より狭く形成されている。また、上部開口部１１２ｄの上部の位置と、画素電極１１１の端部とがほぼ同じ位置になるように形成される場合もある。この場合は、図７に示すように、有機物バンク層１１２ｂの上部開口部１１２ｄの断面が傾斜する形状となる。
そしてバンク部１１２には、下部開口部１１２ｃ及び上部開口部１１２ｄが連通することにより、無機物バンク層１１２ａ及び有機物バンク層１１２ｂを貫通する開口部１１２ｇが形成されている。
【００６１】
また、無機物バンク層１１２ａは、例えば、ＳｉＯ２　、ＴｉＯ２　等の無機材料からなることが好ましい。この無機物バンク層１１２ａの膜厚は、５０〜２００ｎｍの範囲とするのが好ましく、特に１５０ｎｍとするのが望ましい。膜厚が５０ｎｍ未満では、無機物バンク層１１２ａが後述する正孔注入層より薄くなり、正孔注入層の平坦性を確保できなくなるおそれがあるからである。また、膜厚が２００ｎｍを越えると、下部開口部１１２ｃによる段差が大きくなり、正孔注入層上に積層する後述の発光層の平坦性が確保できなくなるおそれがあるからである。
【００６２】
有機物バンク層１１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料から形成されている。この有機物バンク層１１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入層及び発光層の合計厚より有機物バンク層１１２ｂが薄くなり、発光層が上部開口部１１２ｄから溢れるおそれがあるからである。また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部１１２ｄによる段差が大きくなり、有機物バンク層１１２ｂ上に形成する陰極１２のステップガバレッジが確保できなくおそれがあるからである。また、有機物バンク層１１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、第２の薄膜トランジスタ１２３との絶縁を高めることができる点でより好ましい。
【００６３】
また、バンク部１１２には、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とが形成されている。
親液性を示す領域は、無機物バンク層１１２ａの第１積層部１１２ｅ及び画素電極１１１の電極面１１１ａであり、これらの領域は、酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理されている。また、撥液性を示す領域は、上部開口部１１２ｄの壁面及び有機物バンク層１１２の上面１１２ｆであり、これらの領域は、テトラフルオロメタン等を処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）されている。なお、有機物バンク層は、フッ素ポリマーを含有する材料により形成してもよい。
【００６４】
発光部１１０は、本例においては赤の画素Ｒと緑の画素Ｇとが、画素電極１１１上に積層された正孔注入層と、この正孔注入層上に形成された発光層とから構成されたものとなっている。また、青の画素Ｂは、画素電極１１１上に積層された正孔注入層と、正孔注入層上に形成された正孔輸送層と、正孔輸送層上に形成された発光層と、発光層上に形成された電子輸送層とから構成されたものとなっている。すなわち、本例においては、特に赤の画素Ｒ及び緑の画素Ｇにおける発光層が後述するように高分子材料によって形成されており、青の画素Ｂにおける発光層が低分子材料によって形成されている。なお、画素Ｒや緑の画素Ｇにおいても、発光層に隣接して電子注入輸送層などを形成しても良い。
正孔注入層や正孔輸送層は、正孔を発光層に注入する機能を有し、また正孔をその内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入層や正孔輸送層を画素電極１１１と発光層との間に設けることにより、発光層の発光効率、寿命等の素子特性を向上させることができる。また、発光層では、正孔注入層や正孔輸送層から注入された正孔と、陰極１２から注入される電子とが再結合し、発光がなされるようになっている。
【００６５】
発光層は、正孔注入層や正孔輸送層上に形成されたものである。このような発光層は、前述したように赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層、緑色（Ｇ）に発光する緑色発光層、及び青色（Ｂ）に発光する青色発光層の３種類からなっており、各色の発光層が例えばストライプ配置されたものとなっている。
ここで、画素電極１１１の電極面１１１ａ及び無機物バンク層の第１積層部１１２ｅが親液性を有しているので、発光部１１０が画素電極１１１及び無機物バンク層１１２ａに均一に密着し、無機物バンク１１２ａ上で発光部１１０が極端に薄くならず、したがって画素電極１１１と陰極１２との短絡が防止されている。
また、有機物バンク層１１２ｂの上面１１２ｆ及び上部開口部１１２ｄ壁面が撥液性を有しているので、発光部１１０と有機物バンク層１１２ｂとの密着性が低くなり、発光部１１０が開口部１１２ｇから溢れて形成されることが防止されている。
【００６６】
陰極１２は、本例においては発光素子部１１の全面に形成されており、画素電極１１１と対になって発光部１１０に電流を流す役割を果たす。この陰極１２は、本例ではＬｉＦ／Ａｌ（ＬｉＦとＡｌとの積層膜）やＭｇＡｇ、あるいはにＬｉＦ／Ｃａ／Ａｌ（ＬｉＦとＣａとＡｌとの積層膜）によって形成されている。なお、このような陰極１２上に、ＳｉＯ、ＳｉＯ２　、ＳｉＮ等からなる酸化防止用の保護層を設けても良い。
そして、このように形成した発光素子上に封止基板６０４が配置され、さらに図６（ｂ）に示したように封止基板６０４が封止樹脂６０３によって接着されたことにより、ディスプレイ１が構成されている。
【００６７】
このようなディスプレイ１にあっては、親液膜１８を介して層間絶縁膜１４４が形成されていることにより、層間絶縁膜１４４が層全体に亘って均一な絶縁性を発揮して良好な絶縁性を発揮するとともに、平坦化膜としても機能するようになることから、良好な表示特性を有し、これにより製品の良品率が上がるなどの効果を奏するものとなる。
【００６８】
なお、この例では本発明における機能性膜を、平坦化膜を兼ねる層間絶縁膜に適用した場合について説明したが、層間絶縁膜として、あるいは平坦化膜としての機能性膜の下地に、親液膜を形成するようにしてもよいのはもちろんである。
【００６９】
（電子機器）
前記実施形態のデバイスを備えた電子機器の例について説明する。
図８は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は前記のデバイスからなる表示部を示している。
【００７０】
図９は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図９において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は前記のデバイスからなる表示部を示している。
【００７１】
図１０は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１０において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は前記のデバイスからなる表示部を示している。
【００７２】
図８から図１０に示した電子機器は、前記実施形態のデバイスを備えているので、良好な表示特性を有し、また製品の良品率が上がることなどから生産性も向上したものとなる。また、他の電子機器の例として、液晶装置、電子手帳、ページャ、ＰＯＳ端末、ＩＣカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プロジェクタ、およびエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファイダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装置、時計、ゲーム機器、電気泳動装置など様々な電子機器が挙げられる。
【００７３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、下地要素上に親液膜を形成し、この親液膜上に機能性膜を設けるようにしたので、機能性膜を平坦化することができるとともに、均一に広げてその膜厚を均一化することができ、したがって機能性膜を平坦で均一な厚さに形成することができることにより、機能性膜の機能特性を良好にすることができる。よって、製品の良品率を上げることができるとともに、製膜時間の短縮化を図ることもできるなどの優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のデバイスを液晶表示装置に適用した場合の一例を示す側断面図である。
【図２】親液膜形成装置の一例を示す概念図である。
【図３】電磁波処理装置としての紫外線照射装置の一例を示す概念図である。
【図４】大気圧プラズマ装置の概略構成を示す図であり、（ａ）は側断面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図である。
【図５】本発明のデバイスをディスプレイに適用した場合の一例の配線構造を示す平面模式図である。
【図６】本発明のデバイスをディスプレイに適用した場合の一例を示す図であって、（ａ）はディスプレイの平面図、（ｂ）は（ａ）のＡＢ線矢視断面図である。
【図７】図５、図６に示したディスプレイの要部側断面図である。
【図８】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図である。
【図９】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図である。
【図１０】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図である。
【図１１】従来のカラーフィルタ基板の一例を示す要部側断面図である。
【図１２】（ａ）〜（ｄ）は、カラーフィルタ基板の製造方法の一例を工程順に説明するための要部側断面図である。
【符号の説明】
Ｓ…基体、６…区画材、１５、１６、１７、１８…親液膜、
２０…液晶表示装置（デバイス）、２３…下基板（基板）、
２４…上基板（基板）、３５…カラーフィルタ層、
３６…保護膜（機能性膜）、３７…下部電極、３９…上部電極、
３８、４０…配向膜（機能性膜）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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