(57)【要約】【課題】着色がなく可視光に対する透過率が高く、十分な耐溶剤性を有する透明膜を形成し得て、また放射線に対する感度が高い感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を有さない）から導かれる構成単位を含む共重合体、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）一般式（１）で表されるＮ−ヒドロキシスクシンイミドのスルホン酸エステルを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。2004029535.tif 000012（式中、Ｒは炭素数１〜２０の置換されていてもよいアルキル基または炭素数６〜２０の置換されていてもよいアリール基を表わす。）【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位を含む共重合体、
（Ｂ）キノンジアジド化合物、
（Ｃ）一般式（１）で表されるＮ−ヒドロキシスクシンイミドのスルホン酸エステルを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
2004029535.tif 000011
（式中、Ｒは炭素数１〜２０の置換されていてもよいアルキル基または炭素数６〜２０の置換されていてもよいアリール基を表わす。）
【請求項２】
（Ａ）の共重合体がさらに、カルボン酸エステルから導かれる構成単位、芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位およびシアン化ビニル化合物から導かれる構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｃ）一般式（１）で表されるＮ−ヒドロキシスクシンイミドのスルホン酸エステルが、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミドである請求項１または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位を含む共重合体の含有量が、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で３０％以上９０％以下であり、（Ｂ）キノンジアジド化合物の含有量が、前記の固形分に対して、質量分率で５％以上４０％以下であり、（Ｃ）Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドのスルホン酸エステルの含有量が、前記の固形分に対して、質量分率で０．０１％以上１０％以下である請求項１〜３のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物により形成された透明膜。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物からなる層を基板の上に形成し、前記の層を露光したのち現像してパターンを形成することを特徴とする透明膜の製造方法。
【請求項７】
現像後、形成されたパターンの全面に亙って放射線を照射する請求項６に記載の透明膜の製造方法。
【請求項８】
全面に亙って放射線を照射した後、加熱する請求項７に記載の透明膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感放射線性樹脂組成物および前記の感放射線性樹脂組成物を用いて形成された透明膜とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
感放射線性樹脂組成物は、例えば、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと省略することがある。）型液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置に使用されるＴＦＴの絶縁膜などをはじめとする透明膜を形成するための材料として有用である。ここでＴＦＴの絶縁膜などには、より明るい表示画像を得るために、可視光に対する高い透過率が求められている。また、ＴＦＴ基板の生産性の点で、高い耐溶剤性も求められている。さらに、感放射線性樹脂組成物には、ＴＦＴ基板の生産性の点で、絶縁膜の形成に使用される放射線に対する高い感度が求められている。
【０００３】
感光性樹脂組成物としては、バインダー樹脂、感光剤、光重合開始剤を含むものが知られている。そして、バインダー樹脂としては、アクリレート系共重合体やオキセタン類を用いた共重合体が開発されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
バインダー樹脂を構成する成分として、オキセタン類を用いた感放射線性樹脂組成物が開発されている。オキセタン類はカチオン重合することが知られており、その重合に用いるカチオン重合開始剤としては、一般的にスルホニウム塩化合物が知られていることも知られている。しかし、前記のスルホニウム塩化合物を用いると、感放射線性樹脂組成物を用いて形成した透明膜が熱処理により着色するという問題点があった。
本発明の目的は、着色がなく可視光に対する透過率が高く、十分な耐溶剤性を有する透明膜を形成し得て、また放射線に対する感度が高い感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、本発明に至った。
すなわち、本発明は、（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位を含む共重合体、（Ｂ）キノンジアジド化合物、並びに（Ｃ）Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドのスルホン酸エステルを含有する感放射線性樹脂組成物、前記の感放射線性樹脂組成物により形成された透明膜および前記の感放射線性樹脂組成物からなる層を基板の上に形成し、前記の層を露光したのち現像してパターンを形成することを特徴とする透明膜の製造方法を提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位を含む共重合体は、不飽和カルボン酸およびオキセタニル基を有する高分子化合物である。
オキセタニル基とは、オキセタン（トリメチレンオキシド）環を有する基を意味する。
【０００７】
ここで、（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位としては、例えば、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸などのような、分子中に１個または２個以上のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸などが挙げられ、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などが挙げられる。前記のカルボキシル基から導かれる構成単位としては、保存安定性が不良になる傾向が高いことから、エポキシ基を有さない構成単位が好ましい。
【０００８】
（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位としては、例えば、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンなどが挙げられる。
【０００９】
他のモノマーとしては、例えば、重合性の炭素−炭素不飽和結合から導かれる構成単位が挙げられ、具体的には、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物；
メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル；
アミノエチルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル；
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロニトリルなどのシアン化ビニル化合物などが挙げられる。このような他のモノマーは、それぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いられる。
【００１０】
（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位を含む共重合体において、（ａ１）は、構成単位全体に対し、通常５〜５０モル％、好ましくは１５〜４０モル％の範囲で用いられ、（ａ２）は、構成単位全体に対し、通常９５〜５０モル％、好ましくは８５〜６０モル％の範囲で用いられる。
前記の共重合体において、（ａ１）および（ａ２）の構成比率が、前記の範囲にあると、現像液に対して適正な溶解速度をもちながら、高い硬化性も示す傾向にあり、好ましい。
【００１１】
（Ａ）（ａ１）および（ａ２）を含む共重合体は、（ａ１）と（ａ２）の他に、任意成分としてその他の構成単位を含んでもよい。（Ａ）共重合体が任意成分としてその他の構成単位を含む場合には、（ａ１）は、前記の共重合体の構成単位全体に対し、通常５〜５０モル％、好ましくは１５〜４０モル％の範囲で用いられ、（ａ２）、前記の共重合体の構成単位に対し、通常９５〜５モル％、好ましくは８５〜１５モル％の範囲で用いられ、その他の共重合体の構成単位は、通常０〜９０モル％、好ましくは０〜８０モル％で用いられる。
【００１２】
（Ａ）前記の（ａ１）および（ａ２）含む共重合体としては、例えば、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルメタクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ｔ−ブチルメタクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／イソボルニルメタクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ベンジルアクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルアクリレート、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／イソボルニルアクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ｔ−ブチルアクリレート共重合体などが挙げられる。
【００１３】
（Ａ）前記の（ａ１）および（ａ２）を含む共重合体は、ポリスチレンを標準としてゲルパーミェーションクロマトグラフィーで求められる重量平均分子量が、通常２，０００〜４００，０００の範囲、好ましくは２，０００〜１００，０００の範囲、さらに好ましくは３，０００〜５０，０００の範囲で用いられる。前記の重量平均分子量が２，０００〜４００，０００の範囲であると、現像時の残膜率を保持しながら高い現像速度が得られる傾向があり、好ましい。
本発明の感放射線性樹脂組成物における（Ａ）（ａ１）および（ａ２）を含む共重合体の含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で通常５〜９０％、好ましくは３０〜９０％である。
【００１４】
（Ｂ）キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類などが挙げられる。
【００１５】
具体的には、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのトリヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのテトラヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのペンタヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのヘキサヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどの（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどが挙げられる。
【００１６】
前記のキノンジアジド化合物は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。本発明の感放射線性樹脂組成物における（Ｂ）キノンジアジド化合物の含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で通常２〜５０％、好ましくは５〜４０％である。キノンジアジド化合物の含有量が２〜５０％であると、未露光部と露光部の溶解速度差が高くなることにより、現像残膜率が高く保持できる傾向があり、好ましい。
【００１７】
（Ｃ）Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドのスルホン酸エステルは、一般式（１）で示されるエステルである。
【００１８】
2004029535.tif 000002
【００１９】
（式中、Ｒは、炭素数１〜２０の置換されていてもよいアルキル基または炭素数６〜２０の置換されていてもよいアリール基を表わす。）
【００２０】
Ｒで表わされる置換されていてもよいアルキル基としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基が挙げられ、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。アルキル基の好ましい置換基としてはハロゲン原子もしくは炭素数１〜６のアルコキシ基等が挙げられる。Ｒとして、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基、メトキシブチル基、メトキシシクロヘキシル基、エトキシエチル基、エトキシシクロヘキシル基、ヘキシルオキシヘキシル基、シクロヘキシルオキシヘキシル基、シクロヘキシルオキシシクロヘキシル基、イソボルニル基、１０−カンファニル基などが挙げられる。中でも１０−カンファニル基が好ましい。
Ｒで表わされる置換されていてもよいアリール基としては、炭素数６〜２０のアリール基が好ましい。具体的には、フェニル基、トルイル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、シクロヘキシロキシフェニル基、クロロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、パーフルオロフェニル基、ナフチル基が挙げられる。
好適な一般式（１）で示されるエステルとしては、例えば、Ｎ−（メタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（エタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（ｎ−プロパンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（イソプロパンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（ブタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（シクロヘキサンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（オクタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トルエンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（パーフルオロオクタンスルホニルオキシ）スクシンイミドなどが挙げられる。好ましくはＮ−ヒドロキシスクシンイミドのアルカンスルホン酸エステルで、特に好ましくはＮ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミドが挙げられる。
一般式（Ｉ）で示されるエステルは、例えば、Ｇ．Ｆ．Ｊａｕｂｅｒｔ著、Ｂｅｒ．，２８，３６０（１８９５）、Ｄ．Ｅ．Ａｍｅｓら著、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３５１５（１９５５）、またはＭ．Ａ．Ｓｔｏｌｂｅｒｇら著、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７９　２６１５（１９５７）等に記載の方法により製造される一般式（２）
【００２１】
2004029535.tif 000003
【００２２】
で示されるＮ−ヒドロキシスクシンイミドと、式（３）
【００２３】
2004029535.tif 000004
【００２４】
（式中、Ｒは前記と同じ意味を表わす。）で示されるスルホン酸クロリドとを、塩基性条件下に、例えば、Ｌ．Ｂａｕｅｒら著、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２４　１２９３（１９５９）等に記載の方法に従い、製造することができる。
一般式（Ｉ）で示されるエステルは単独で、または２種以上混合して用いられる。
本発明の感放射線性樹脂組成物における（Ｃ）Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド化合物のスルホン酸エステルの含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で通常０．０１〜１０％、好ましくは０．１〜５％である。Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド化合物のスルホン酸エステルの含有量が、前記の基準で０．０１〜１０％であると、得られる膜の硬化度が増大し、耐薬品性の性能が向上するので好ましい。
【００２５】
その他の成分として、本発明の感放射線性樹脂組成物においては、（Ａ）（ａ１）および（ａ２）を含む共重合体、（Ｂ）キノンジアジド化合物、ならびに（Ｃ）一般式（１）で表されるＮ−ヒドロキシスクシンイミドのスルホン酸エステル（Ｃ）
【００２６】
2004029535.tif 000005
【００２７】
（式中、Ｒは、前記と同じ意味を表わす。）の他に、必要に応じて、（Ｄ）多価フェノール化合物、（Ｅ）架橋剤、（Ｆ）重合性モノマーを含有させることができる。
【００２８】
（Ｄ）多価フェノール化合物は、分子中に２個以上のフェノール性水酸基を有する化合物である。前記の多価フェノール化合物は、例えば、キノンジアジド化合物において記載したと同様のトリヒドロキシベンゾフェノン類、テトラヒドロキシベンゾフェノン類、ペンタヒドロキシベンゾフェノン類、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類などの多価フェノール類などが挙げられる。
【００２９】
また、（Ｄ）多価フェノール化合物として、少なくともヒドロキシスチレンを原料モノマーとする重合体が挙げられる。（Ｄ）多価フェノール化合物として、具体的にはポリヒドロキシスチレン、ヒドロキシスチレン／メチルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン／スチレン共重合体、ヒドロキシスチレン／アルコキシスチレン共重合体などのヒドロキシスチレンを重合した樹脂が挙げられる。さらに、フェノール類、クレゾール類およびカテコール類からなる群から選ばれる１以上の化合物とアルデヒド類およびケトン類からなる群から選ばれる１以上の化合物とを縮重合して得られるノボラック樹脂なども挙げられる。
【００３０】
本発明の感放射線性樹脂組成物において、（Ｄ）多価フェノール化合物の添加量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で好ましくは０．１〜４０％、より好ましくは１〜２５％である。多価フェノール化合物の含有量が４０％以下では、得られる膜の可視光透過率が増大し、透明膜としての性能が向上するので好ましい。
【００３１】
（Ｅ）架橋剤としては、メチロール化合物等が挙げられる。
【００３２】
メチロール化合物としては、アルコキシメチル化メラミン樹脂、アルコキシメチル化尿素樹脂などのアルコキシメチル化アミノ樹脂なども挙げられる。ここで、アルコキシメチル化メラミン樹脂としては、メトキシメチル化メラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、プロポキシメチル化メラミン樹脂、ブトキシメチル化メラミン樹脂などが、アルコキシメチル化尿素樹脂としては、例えばメトキシメチル化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素樹脂、プロポキシメチル化尿素樹脂、ブトキシメチル化尿素樹脂などが挙げられる。前記の架橋剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００３３】
本発明の感放射線性樹脂組成物における架橋剤の添加量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で３０％以下であることが好ましい。
【００３４】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、（Ｆ）重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーを含有することによって、より硬度の高い絶縁膜などを形成することができる。重合性モノマーとしては、例えば、加熱されることによってラジカル重合し得る重合性モノマー、カチオン重合し得る重合性モノマーなどが用いられる。
【００３５】
ラジカル重合し得る重合性モノマーとしては、例えば、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられ、単官能の重合性モノマーであってもよいし、２官能の重合性モノマーまたは３官能以上の重合性モノマーなど、多官能の重合性モノマーであってもよい。
【００３６】
単官能の重合性モノマーとしては、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、ノニルフェニルカルビトールメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールメタアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。
【００３７】
２官能の重合性モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジアクリレート、３−メチルペンタンジオールジメタクリレートなどが挙げられる。
【００３８】
また、３官能以上の重合性モノマーとしては、例えば、トリメチルロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートなどが挙げられる。前記の重合性モノマーの中でも、２官能または３官能以上の重合性モノマーが好ましく用いられる。具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートがより好ましい。また、２官能または３官能以上の重合性モノマーと、単官能の重合性モノマーとを組み合わせて用いてもよい。
【００３９】
カチオン重合し得る重合性モノマーとしては、例えば、ビニルエーテル基、プロペニルエーテル基などのカチオン重合性の官能基を有する重合性モノマーが挙げられ、具体的には、例えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、４−（１−プロペニルオキシメチル）−１，３−ジオキソラン−２−オン（プロペニルエーテルプロピオンカーボネートとの化合物名でＩＳＰインベストメント社より商品名「ＲＡＰＩ−ＣＵＲＥ　ＰＥＰＣ」として市販されている。）などが挙げられる。
【００４０】
前記の重合性モノマーを用いる場合、これはそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられ、本発明の感放射線性樹脂組成物における前記の重合性モノマーの添加量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で３０％以下であることが好ましい。
【００４１】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、通常、（Ｇ）溶剤と混合され、希釈された状態で使用される。溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類；
２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、乳酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類；
γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。好ましい溶剤としは、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチルなどが挙げられ、中でも２−ヒドロキシイソブタン酸メチルが好ましい。
前記の溶剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組合わせて用いられ、その使用量は感放射線性樹脂組成物の合計量に対して、質量分率で通常５０〜９５％、好ましくは６０〜９０％である。
【００４２】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、必要に応じてさらに他の成分、例えば、界面活性剤、酸化防止剤、溶解抑止剤、増感剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、電子供与体など、各種の添加物を含有することもできる。
【００４３】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、例えば、（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および（ａ２）オキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位を含む共重合体を（Ｇ）溶剤に溶解した溶液、（Ｂ）キノンジアジド化合物を（Ｇ）溶剤に溶解した溶液、および（Ｃ）Ｎ−ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルを（Ｇ）溶剤に溶解した溶液に溶解した溶液を混合する方法により製造することができる。
多価フェノール化合物、架橋剤、重合性モノマー、添加剤などを用いる場合には、さらに多価フェノール化合物、架橋剤、重合性モノマー、添加剤などを加えてもよい。また、混合後、さらに（Ｇ）溶剤を加えてもよい。混合後、濾過して固形物を取り除くことが好ましく、例えば、孔径３μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以上２μｍ以下程度のフィルターを用いて濾過することが好ましい。前記の各成分に対して用いる溶剤は、同一でもよいし、相溶するものであれば、異なっていてもよい。
【００４４】
本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて透明膜を形成するには、例えば、本発明の感放射線性樹脂組成物からなる層（１）を基板（２）の上に形成し（図１（ａ））、ポジマスク（３）を介して該層（１）に放射線（４）を照射して露光した後（図１（ｂ））、現像すればよい（図１（ｃ））。
【００４５】
基板（２）としては、例えば、透明なガラス板などが挙げられる。前記の基板には、ＴＦＴの回路、カラーフィルターなどが、予め形成されていてもよい。
【００４６】
感放射線性樹脂組成物からなる層（１）は、通常の方法、例えば、本発明の感放射線性樹脂組成物を基板（２）の上に塗布する方法によって形成することができる。塗布は、例えば、スピンコートにより行なわれる。塗布後、加熱乾燥（プリベーク）して溶剤を揮発させることによって、感放射線性樹脂組成物層（１）が形成されるが、溶剤を揮発させた後の感放射線性樹脂組成物層（１）は、感放射線性樹脂組成物の固形分からなり、揮発成分をほとんど含まない。また、この感放射線性樹脂組成物層の厚みは、例えば、１．５〜５μｍ程度である。
【００４７】
次いで、感放射線性樹脂組成物層（１）に、ポジマスク（３）を介して放射線（４）を照射する。ポジマスク（３）のパターンは、透明膜の目的とするパターンに応じて適宜選択される。放射線としては、例えば、ｇ線、ｉ線などの光線が用いられる。放射線は、感放射線性樹脂組成物層の全面に亙って平行となって照射されうるように、例えば、マスクアライナーやステッパ（図示せず）などを用いて照射されることが好ましい。このように放射線が照射され得ることによって、ポジマスクと感放射線性樹脂組成物層との位置合わせを正確に行なうことができる。
【００４８】
このように露光した後、現像する。現像は、露光後の感放射線性樹脂組成物層（１）を、例えば、現像液に接触させる方法によって行なうことができる。現像液としては、通常と同様に、アルカリ水溶液が用いられる。アルカリ水溶液としては、通常と同様に、アルカリ性化合物の水溶液が用いられ、アルカリ性化合物は、無機アルカリ性化合物であってもよいし、有機アルカリ性化合物であってもよい。
【００４９】
無機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが挙げられる。
【００５０】
有機アルカリ性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどが挙げられる。前記のアルカリ性化合物は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。現像液は、現像液１００質量部あたりアルカリ性化合物を通常０．０１〜１０質量部、好ましくは０．１〜５質量部含有する。
【００５１】
現像液は、界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤などが挙げられる。
【００５２】
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルなどのポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロック共重合体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
【００５３】
カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩などのアミン塩、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
【００５４】
アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム、オレイルアルコール硫酸エステルナトリウムなどの高級アルコール硫酸エステル塩、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウムなどのあるキル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのあるキルアリールスルホン酸塩などが挙げられる。これらの界面活性剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００５５】
また、現像液は、有機溶剤を含有していてもよい。前記の有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールなどの水溶性の有機溶剤などが挙げられる。
【００５６】
感放射線性樹脂組成物層（１）を現像液に接触させるには、例えば、感放射線性樹脂組成物層（１）が形成された基板（２）を現像液に浸漬すればよい。現像によって、感放射線性樹脂組成物層（１）のうちの、先の露光において放射線が照射された放射線照射領域（１２）が現像液に溶解し、放射線が照射されなかった放射線未照射領域（１１）が現像液に溶解することなく残って、パターン（５）を形成する。
【００５７】
本発明の感放射線性組成物は、（Ｂ）キノンジアジド化合物を含有するので、感放射線性樹脂組成物層（１）を現像液と接触させる時間が短くても、放射線照射領域（１１）は容易に溶解して、除去される。また、（Ｂ）キノンジアジド化合物を含有するので、感放射線性樹脂組成物層（１）を現像液に接触させる時間が長くなっても、放射線未照射領域（１２）が現像液に溶解して消失することがない。
【００５８】
現像後、通常は水洗し、乾燥する。乾燥ののち、さらに得られたパターン（５）の全面に亙って放射線を照射することが、より透明な透明膜を形成し得る点で、好ましい。ここで照射する放射線の単位面積あたりの照射量は通常、先の露光における照射量よりも多い。
【００５９】
このようにして形成されたパターン（５）は、さらに加熱処理（ポストベーク）されることが、透明膜の耐熱性、耐溶剤性などが向上する点で、好ましい。加熱は、全面に亙って放射線を照射した後の基板をホットプレート、クリーンオーブンなどの加熱装置で加熱する方法により行なわれる。加熱温度は、通常１５０℃〜２５０℃、好ましくは１８０℃〜２４０℃程度、加熱時間は通常５分〜１２０分、好ましくは１５分〜９０分程度である。加熱することによって、パターンが硬化して、透明膜が形成される。
【００６０】
このようにして形成された透明膜は、本発明の感放射線性樹脂組成物が硬化されてなるものであり、例えばＴＦＴ基板を構成する透明膜として有用である。
【００６１】
【実施例】
上記において、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００６２】
合成例１
撹拌機、冷却管及び温度計を装着した２００ｍＬの四つ口フラスコに、以下の原料を仕込んで、窒素気流下、四つ口フラスコを油浴に浸し、フラスコ内温を８５〜９５℃に保ちながら３時間撹拌して反応を行い、樹脂Ａ１を得た。この樹脂Ａ１のポリスチレン換算重量平均分子量は１５，０００であった。
メタクリル酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．６ｇ
シクロヘキシルメタクリレート　　　　　　　　　　　　　１１．４ｇ
３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン　　　　１７．８ｇ
α−ヒドロキシイソブタン酸メチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８３．３ｇ
アゾビスイソブチロニトリル　　　　　　　　　　　　　　　０．９ｇ
【００６３】
合成例２
撹拌機、冷却管及び温度計を装着した２００ｍＬの四つ口フラスコに、以下の原料を仕込んで、窒素気流下、四つ口フラスコを油浴に浸し、フラスコ内温を８０〜９０℃に保ちながら３時間撹拌して反応を行い、樹脂Ａ２を得た。この樹脂Ａ２のポリスチレン換算重量平均分子量は１０，０００であった。
メタクリル酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．９ｇ
３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン　　　　４４．５ｇ
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　　　　　９５．４ｇ
アゾビスイソブチロニトリル　　　　　　　　　　　　　　　３．２ｇ
【００６４】
実施例１
（Ａ）樹脂Ａ１（７０質量部）、
（Ｂ）式（４）
【００６５】
2004029535.tif 000006
【００６６】
（式中、Ｑ４は、式（４−１）で示される置換基を示す。）
【００６７】
2004029535.tif 000007
【００６８】
で示される化合物（２５質量部）、
ｐ−ヒドロキシスチレン／スチレン（９５／５）共重合体（ポリスチレン換算重量平均分子量１５，０００）（３０質量部）、
（Ｃ）Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド（１質量部）、
（Ｇ）α−ヒドロキシイソブタン酸メチル（４７４質量部）を、約２３℃で混合したのち、孔径１．５μｍのカートリッジフィルターを通して加圧濾過して、感放射線性樹脂組成物を濾液として得た。
【００６９】
大きさが５．０８ｃｍ×５．０８ｃｍの透明ガラス基板〔コーニング社製、「＃７０５９」〕（２）を中性洗剤で洗浄した後、水で洗浄し、イソプロピルアルコールで洗浄して乾燥した後、その表面上に、上記で得た感放射線性樹脂組成物をスピンコートし、クリーンオーブン中１００℃で２分間加熱（プリベーク）して感放射線性樹脂組成物層（１）を膜厚が３．５μｍ〔（株）ＵＬＶＡＣ製、「ＤＥＫＴＡＫ３」で測定〕になるように形成した（図１（ａ））。
【００７０】
その後、この感放射線性樹脂組成物層（１）に、マスクアライナー〔ミカサ（株）製、「Ｍ−２Ｌｉ型」〕を用いて、ポジマスク（３）を介して放射線（４）を照射して、露光した（図１（ｂ））。ポジマスク（３）としては、線幅１０μｍのラインアンドスペースパターンを透明膜に間隔１０μｍで形成するためのポジマスクを用いた。放射線（４）は、波長３６５ｎｍ基準での強度が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射した。
【００７１】
露光後、２３℃のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（１００質量部中にテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを０．７質量部含有する）に７０秒間現像したのち、超純水で洗浄し、乾燥した。乾燥後、超高圧水銀ランプを用いて全面に亙って放射線（波長３６５ｎｍ基準での強度は３００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、クリーンオーブン中２２０℃で３０分間加熱して、透明膜（５）を形成した（図１（ｃ））。
【００７２】
得られた透明膜（５）は、間隔１０μｍで平行に並んだ線状のパターン（幅１０μｍ）の厚み（Ｔ１）を、膜厚計を用いて測定したところ、３μｍであった。
【００７３】
得られた透明膜１μｍあたりの、波長４００〜７５０ｎｍにおける光線平均透過率を顕微分光光度計〔オリンパス光学工業（株）製、「ＯＳＰ−２００」〕を用いて測定したところ９９．２％と高い透明性を示し、着色はみられなかった。また、透明膜が形成された基板をメチルエチルケトンまたはＮ−メチルピロリドン（２３℃）に３０分間浸漬して耐溶剤性試験を行なった結果、いずれも浸漬前後で変化は見られなかった。
【００７４】
実施例２
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミドの含有量を１質量部から１０質量部へ代える以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
【００７５】
実施例１と同様の操作を行い基板の上に透明膜を形成した。１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で１０μｍ線状パターンを解像し、実施例１と同様に操作して測定した光線透過率は９９．４％と高い透明性を示し、着色はみられなかった。実施例１と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
【００７６】
実施例３
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド（１質量部）をＮ−イソプロパンスルホニルオキシスクシンイミド（１質量部）へ代える以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
【００７７】
実施例１と同様の操作を行い基板の上に透明膜を形成した。１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で１０μｍ線状パターンを解像し、実施例１と同様に操作して測定した光線透過率は９９．１％と高い透明性を示し、着色はみられなかった。実施例１と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
【００７８】
実施例４
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド（１質量部）をＮ−ｎ−ブタンスルホニルオキシスクシンイミド（１質量部）へ代える以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
【００７９】
実施例１と同様の操作を行い基板の上に透明膜を形成した。１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で１０μｍ線状パターンを解像し、実施例１と同様に操作して測定した光線透過率は９９．２％と高い透明性を示し、着色はみられなかった。実施例１と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
【００８０】
実施例５
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド（１質量部）をＮ−ベンゼンスルホニルオキシスクシンイミド（１質量部）へ代える以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
【００８１】
実施例１と同様の操作を行い基板の上に透明膜を形成した。１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で１０μｍ線状パターンを解像し、実施例１と同様に操作して測定した光線透過率は９９．０％と高い透明性を示し、着色はみられなかった。実施例１と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
【００８２】
実施例６
（Ａ）樹脂Ａ２（７０質量部）、
（Ｂ）式（４）
【００８３】
2004029535.tif 000008
【００８４】
（式中、Ｑ４は、式（４−１）で示される置換基を示す。）
【００８５】
2004029535.tif 000009
【００８６】
で示される化合物（２５質量部）、
ｐ−ヒドロキシスチレン／スチレン（９５／５）共重合体（ポリスチレン換算重量平均分子量１５，０００）（３０質量部）、
（Ｃ）Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド（１質量部）、
（Ｇ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（２４８質量部）を実施例１と同様の方法にて混合し感放射線性樹脂組成物を得た。
実施例１と同様の操作を行い基板の上に透明膜を形成した。１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で１０μｍ線状パターンを解像し、実施例１と同様に操作して測定した光線透過率は９９．１％と高い透明性を示し、着色はみられなかった。実施例１と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
【００８７】
比較例１
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド（１質量部）をトリフェニルスルホニウム　トリフラート（１０質量部）へ代える以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
【００８８】
実施例１と同様の操作を行い基板の上に透明膜を形成した。１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量では、１０μｍのパターンを形成することができず、感度は低かった。さらに、実施例１と同様に操作して測定した光線透過率９２．８％と透明性が低下し、着色が見られた。耐溶剤性試験では浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
【００８９】
比較例２
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド（１質量部）を式（５）で示される化合物［フォトイニシエータ２０７４（ローディア社製）］（１０質量部）へ代える以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
【００９０】
2004029535.tif 000010
【００９１】
実施例１と同様の操作を行い基板の上に透明膜を形成した。１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量では、１０μｍのパターンを形成することができず、感度は低かった。さらに、実施例１と同様に操作して測定した光線透過率９３．６％と透明性が低下し、着色が見られた。耐溶剤性試験では浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
【００９２】
【発明の効果】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、露光時の放射線に対する感度が高い。また、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて形成した透明膜は、可視光に対する透明性に優れ、耐溶剤性も優れている。さらに、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いることで、ＴＦＴ基板の生産性にも優れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて透明膜を形成する工程を示す模式図である。
【符号の説明】
１：感放射線性樹脂組成物層　　　　　１１：放射線未照射領域
１２：放射線照射領域
２：基板
３：ポジマスク
４：放射線
５：透明膜
【図１】
2004029535.tif 000013