(57)【要約】【課題】ガラス基板表面に微細な凹凸形状が形成された光ディスク用ガラスマスタを簡便に製造する方法を提供すること。【解決手段】密閉チャンバー内に、ｏ−キノンジアジド系感光性樹脂層を形成したガラス基板と、ヘキサメチルジシラザン１０ｍｌを入れたシャーレとを収納し、２３℃、１気圧にて５時間１５分間、この感光性樹脂層の表面にヘキサメチルジシラザンの飽和蒸気による暴露処理を施し、次に、８０℃で１０分間加熱した後、ＮＡ０．９の対物レンズにて絞った波長４１３ｎｍのＫｒレーザービームスポットを照射し、その後、超純水で２５秒間リンスし、アルカリ現像液で１８秒間パドル現像した後、超純水で３０秒間リンスし、１分間のスピン振り切りを行い、ホットプレートにて８０℃で１０分間加熱して水分を乾燥させる。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に感光性樹脂層を設ける工程と、
前記感光性樹脂層の表面と反応性有機珪素化合物とを接触させる工程と、
前記感光性樹脂層にレーザ光を照射して潜像を形成する工程と、
前記潜像を現像する工程と、を含み、
前記基板上に凹凸形状を形成する、ことを特徴とする光ディスク用ガラスマスタの製造方法。
【請求項２】
前記感光性樹脂層の表面と前記反応性有機珪素化合物とを接触させる工程が、当該感光性樹脂層の表面を当該反応性有機珪素化合物の蒸気による暴露処理を行う工程である、ことを特徴とする請求項１記載の光ディスク用ガラスマスタの製造方法。
【請求項３】
基板上に感光性樹脂層を設け、
前記感光性樹脂層上に疎水性表面層を形成し、
前記感光性樹脂層及び疎水性表面層にレーザビームスポットを照射して潜像を形成し、
前記潜像を現像することによって、前記基板上に凹凸形状を形成する、ことを特徴とする光ディスク用ガラスマスタの製造方法。
【請求項４】
前記疎水性表面層は、前記感光性樹脂層の表面に、反応性有機珪素化合物が吸着し、浸潤し又は化学結合することにより形成される、ことを特徴とする請求項３記載の光ディスク用ガラスマスタの製造方法。
【請求項５】
前記基板上に形成される凹凸形状の凹部の幅は、前記レーザビームスポットの径の５０％以下である、ことを特徴とする請求項１乃至４いずれか１項記載の光ディスク用ガラスマスタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光ディスク用ガラスマスタの製造方法に関し、詳しくは、実際に照射されたビームスポットの大きさよりもはるかに小さくかつ矩形性の良い情報記録ピットまたは案内溝等が形成された光ディスク用ガラスマスタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクは、一般に、プラスチック等の基板上に凹凸形状の情報記録ピットまたは案内溝等が形成され、この上に、再生専用光ディスクの場合には反射膜と保護膜、追記用光ディスクの場合には色素等の記録膜と反射膜及び保護膜という所定の機能を持つ薄膜が形成されている。この基板上に形成される情報記録ピットまたは案内溝等は、まず、円形ガラス盤上に凹凸形状が形成されたガラスマスタが作製され、次に、このガラスマスタ上にニッケル薄膜を形成し電鋳を施すことにより凹凸形状がニッケル製スタンパーに転写され、さらにこのニッケル製スタンパーを鋳型としてポリカーボネート等のプラスチックを射出成型することにより、プラスチック等の基板上に凹凸形状の情報記録ピットまたは案内溝等が形成されることが多い。尚、射出成型の代わりに紫外線硬化樹脂を用いた成型方法が採られることもある。
【０００３】
このような凹凸形状の情報記録ピットまたは案内溝等が形成された光ディスク用ガラスマスタは、通常、次のように作製される。図４は、従来から行われている光ディスク用ガラスマスタの製造方法を説明するための模式図である。表面を研磨したガラス基板４１の表面にプライマーを塗布した後、例えば、スピンコート法によりノボラック樹脂と感光剤等から成る感光性樹脂層４２を形成する。次に、このガラス基板４１を回転させながら、光変調器で所望の変調をかけたレーザービームスポット４４を、所定のレンズで絞り、情報記録ピット又は案内溝等の凹部の配列パターンに従ってレーザー露光して感光性樹脂層４２に潜像４３を形成し、次いで、アルカリ性現像液によって現像する。潜像４３の部分は現像液に対し可溶化しており、現像液によってエッチングされ、凹部４５が形成され、次いで、加熱硬化処理（ベーク）し感光性樹脂層４２を硬化させ、光ディスク用ガラスマスタ（原盤）となる。
【０００４】
図示しないが、通常、この原盤に対しＮｉ（ニッケル）をスパッタリングして表面を導体化した後、Ｎｉメッキ（例えば電解メッキ）し、例えば厚さ３００μｍ程度のメッキ層を形成する。次いで、スパッタ層及びメッキ層と原盤とを分離し、所定の大きさに打ち抜いてスタンパを得る。分離した後の原盤は、再利用工程に送られる。このスタンパを射出成形用の金型にセットし、ポリカーボネート等を射出して光ディスク用基板を成形する。
【０００５】
この光ディスク用ガラスマスタの情報記録ピットまたは案内溝等の深さ及び幅は、それぞれ、感光性樹脂層の厚さ及び照射するビームスポット径により規定されるが、実際に形成される情報記録ピットまたは案内溝等の深さ及び幅は、現像時間を抑える等の手法により、ビームスポット径よりもやや狭いものが得られている。例えば、ビームスポット径は約λ／ＮＡとなることが知られているが、現在汎用されているＫｒガスレーザーの波長４１３ｎｍのビームを使用し、ノボラック系感光性樹脂層にＮＡが０．９の対物レンズで絞り照射すると、情報記録ピットまたは案内溝の最小幅は３００ｎｍ程度になる。
【０００６】
このようなガラスマスタ上に形成される情報記録ピットまたは案内溝等を、さらに微細な形状にする手法として近年報告されているものは、例えば、Ｄｅｅｐ−ＵＶ（ＤＵＶ）領域の波長、例えばＮｄ−ＹＡＧレーザーの４倍高調波である２６６ｎｍの光を用いたレーザービームスポットにより露光を行い、幅１５０ｎｍ程度の情報記録ピットまたは案内溝等を形成する方法、光の回折限界を回避でき、数十ｎｍ程度の幅を持つ情報記録ピットまたは案内溝等を形成することが可能な電子線リソグラフィー、あるいは、レーザー露光前に感光性樹脂層に現像処理を施して表面難溶化層を形成し、かつ露光光学系に超解像光学系を用いることにより、感光性樹脂層に形成される凹凸形状のコントラストを向上させ、レーザービームスポット径よりもやや狭い幅を持つ凹凸形状を得る方法（特許文献１）等が挙げられる。
【０００７】
【特許文献１】
特開平６−３６３５６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、前述した情報記録ピットまたは案内溝等を、さらに微細な形状にする手法には、以下のような問題がある。例えば、ＤＵＶ領域の光を用いる方法では、▲１▼光の波長が短いために光学結晶や光学部品がやけ易く寿命が短くなる、▲２▼光学部品自体に良好な光透過特性が要求されるため高価になり、運転コストが増大する、▲３▼感光性樹脂としてＤＵＶ透過特性に優れる化学増幅系感光性樹脂を用いると、同系樹脂の特性上、環境中の微量アミンを取り除く化学フィルターを必要とする等の環境管理上のコストが増大する。
【０００９】
また、電子線リソグラフィーの場合は、▲１▼出力の大きな電子発生源が得難いので、化学増幅系感光性樹脂の利用が必須となり、さらに露光に長時間を要する、▲２▼高真空下での回転及び並進機構が必須であり、装置が大がかりでかつ非常に高価になる。
【００１０】
さらに、露光前現像処理と超解像光学系とを併用する方法では、▲１▼超解像光学系はビームを部分的に遮蔽又は位相を部分的にずらすことにより達成されるので、光軸の微妙なずれによりビームスポット径及びビームスポット光量が大きく変動し、光学系の調整が困難である、▲２▼露光光量が変動し易い、▲３▼光ディスクの製造においてしばしば必要とされる溝のウォブリングの形成に必要な、ビームの偏向等が原理的に不可能である。
【００１１】
このように、例えば、１００〜１５０ｎｍ程度の幅の情報記録ピットまたは案内溝等が形成された光ディスク用ガラスマスタを、簡便且つ低コストで製造する方法は未だ報告されていない。本発明は、このような微細な形状の情報記録ピットまたは案内溝等が形成された光ディスク用ガラスマスタの製造方法を検討する際の問題を解決すべくなされたものであり、本発明の目的は、ガラス基板表面に微細な凹凸形状が形成された光ディスク用ガラスマスタを簡便に製造する方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
かくして本発明は、ガラス基板上に形成した感光性樹脂層の表面と反応性有機珪素化合物とを接触させる方法を採用している。すなわち、本発明の光ディスク用ガラスマスタの製造方法は、基板上に感光性樹脂層を設ける工程と、この感光性樹脂層の表面と反応性有機珪素化合物とを接触させる工程と、感光性樹脂層にレーザ光を照射して潜像を形成する工程と、この潜像を現像する工程と、を含み、基板上に凹凸形状を形成することを特徴とするものである。
【００１３】
具体的には、本発明の光ディスク用ガラスマスタの製造方法における感光性樹脂層の表面と反応性有機珪素化合物とを接触させる工程は、感光性樹脂層の表面を反応性有機珪素化合物の蒸気による暴露処理を行う工程であることを特徴としている。この暴露処理は、密閉チャンバー内において、感光性樹脂層の表面を反応性有機珪素化合物の飽和蒸気の雰囲気中に保持する処理であることが好ましく、そして、この反応性有機珪素化合物は、オルガノシラザン化合物、シリル化剤及びシランカップリング剤から選ばれる有機珪素化合物であることが好ましい。
【００１４】
一方、本発明の光ディスク用ガラスマスタの製造方法は、基板上に感光性樹脂層を設け、この感光性樹脂層上に疎水性表面層を形成し、感光性樹脂層及び疎水性表面層にレーザビームスポットを照射して潜像を形成し、この潜像を現像することによって、基板上に凹凸形状を形成する、ことを特徴とするものとして捉えることができる。
【００１５】
また、このような疎水性表面層は、感光性樹脂層の表面に、反応性有機珪素化合物が吸着し、浸潤し又は化学結合することにより形成される、ことを特徴とするものである。さらに、本発明の光ディスク用ガラスマスタの製造方法において、基板上に形成される凹凸形状の凹部の幅は、レーザビームスポットの径の５０％以下であることを特徴としている。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいて、本実施の形態が適用される光ディスク用ガラスマスタの製造方法について説明する。
図１は、本実施の形態が適用される光ディスク用ガラスマスタの製造方法を説明するための図である。まず、研磨処理された清浄かつ平坦な円形ガラス盤からなるガラス基板１１上に感光性樹脂をスピンコート法により塗布して、約２０〜２００ｎｍ程度の均一な厚みをもつ感光性樹脂層１２を形成する。このように形成された感光性樹脂層１２は、感光性樹脂を塗布した時に使用した溶媒を蒸発除去させるために、必要に応じて約８０℃程度の温度で一定時間乾燥させることが行われる。
【００１７】
感光性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ｏ−キノンジアジドをアルカリ可溶性ノボラック樹脂に混合するか、又は、官能基として樹脂に直接導入された構造を有するｏ−キノンジアジド系感光性樹脂等が挙げられる。また、感光性樹脂を溶解する溶媒としては、例えば、乳酸エチル等が挙げられる。
【００１８】
次に、感光性樹脂層１２の表面を、反応性有機珪素化合物と接触させ、感光性樹脂層１２の上に、疎水性表面層１３を形成する。この疎水性表面層１３の厚さは、使用する反応性有機珪素化合物の種類、使用量、接触時間、接触温度、接触圧力等により適宜決定され、特に限定されないが、通常、０．１ｎｍ以上、１ｎｍ以下程度であると考えられる。この疎水性表面層１３の厚さが上記範囲以上であれば、疎水性表面層１３が十分に形成されるため、現像時に感光性樹脂層１２が溶解し難くなり、本実施の形態における効果を十分に発揮し易くなる。また、疎水性表面層１３の厚さが上記範囲以下であれば、疎水性表面層１３が形成されていても、潜像部分が容易に現像されてしまうおそれがあるので好ましくない。
【００１９】
尚、感光性樹脂層１２の表面と反応性有機珪素化合物とを接触させる方法としては、感光性樹脂層１２を設けたガラス基板１１を反応性有機珪素化合物の液中に浸漬する方法、シャワー等を用いて反応性有機珪素化合物を感光性樹脂層１２の表面に振り掛ける方法、反応性有機珪素化合物の蒸気で感光性樹脂層１２の表面を暴露処理する方法等が挙げられる。本実施の形態においては、これらのなかでも、反応性有機珪素化合物の蒸気で感光性樹脂層１２の表面を暴露処理する方法が簡便で好ましい。
【００２０】
次に、図示しない原盤露光装置を用いて、疎水性表面層１３が形成された感光性樹脂層１２を露光する。疎水性表面層１３及び感光性樹脂層１２が形成されたガラス基板１１を、ターンテーブル上に固定して回転させながら、疎水性表面層１３及び感光性樹脂層１２上に、図示しない対物レンズ等の光学系で微小に絞ったレーザービームスポット１６を照射し、所望の微細パターンに相当する潜像１５（露光領域）を形成する。
【００２１】
次に、このように潜像１５が形成された疎水性表面層１３及び感光性樹脂層１２は、アルカリ性現像液を施し現像されることにより、感光された部分が選択的に除去され、所望の微細な凹部１７が表面に形成された光ディスク用ガラスマスタが作成される。この光ディスク用ガラスマスタの表面を、原子間力顕微鏡で観察すると、現像後に疎水性表面層１３及び感光性樹脂層１２に形成される凹部１７の幅は、実際に照射されたレーザビームスポット１６の大きさよりもはるかに小さくかつ矩形性の良い情報記録ピットまたは案内溝等が形成されることが観測される。尚、このとき微細な凹部１７の深さ（又は高さ）の最大値は、疎水性表面層１３及び感光性樹脂層１２の厚さによって規定される。
【００２２】
ここで、疎水性表面層１３及び感光性樹脂層１２を感光させるために用いるレーザー光は、通常、青色から紫外域（波長が５００〜２００ｎｍ）である。また、感光性樹脂層１２は、現像後、加熱乾燥（ベーク）し、次いで紫外線照射し硬化し、さらなる感光がされないようにするのが好ましい。
【００２３】
本実施の形態において、感光性樹脂層１２の上に疎水性表面層１３を形成するために使用する反応性有機珪素化合物は、その分子が、感光性樹脂層１２の表面に吸着し、浸潤し又は化学結合する等して、その結果、感光性樹脂層１２の上に、疎水性表面層１３を形成する有機珪素化合物であれば、特に限定されないが、例えば、オルガノシラザン化合物、シリル化剤、シランカップリング剤等が挙げられる。
【００２４】
具体的には、オルガノシラザン化合物としては、例えば、トリエチルシラザン、トリプロピルシラザン、トリフェニルシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン、ヘキサフェニルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘキサエチルシクロトリシラザン、ヘキサフェニルシクロトリシラザン等が挙げられる。
【００２５】
シリル化剤としては、例えば、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）ウレア、Ｎ−トリメチルシリルジエチルアミン、Ｎ−トリメチルシリルイミダゾール、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン等が挙げられる。
【００２６】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）トリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００２７】
これらの反応性有機珪素化合物のなかでも、オルガノシラザン化合物が好ましく、ヘキサメチルジシラザンが特に好ましい。なお、本実施の形態においては、反応性有機珪素化合物は、１種または２種以上を併用することができる。
【００２８】
本実施の形態においては、感光性樹脂層を塗布した基板は、適当な容積を有するチャンバー内に収納されて、感光性樹脂層の表面を反応性有機珪素化合物の蒸気で暴露処理される。図２（ａ）及び（ｂ）は、反応性有機珪素化合物の蒸気で暴露処理する工程を説明するための図である。図２（ａ）には、気密チャンバー２４内に、感光性樹脂層を塗布した基板２１と、例えば、液状の反応性有機珪素化合物２３を入れたシャーレ２２とが同時に収納された状態が示されている。シャーレ２２内の液状の反応性有機珪素化合物２３は、気密チャンバー２４内で飽和蒸気圧に達するまで、開放された液面から蒸発し、感光性樹脂層の表面は、気密チャンバー２４内の反応性有機珪素化合物２３の蒸気２５により暴露処理される。なお、気密チャンバー２４内には、複数枚の感光性樹脂層を塗布した基板２１を同時に収納し、１枚あたりの処理時間を短縮することができる。
【００２９】
本実施の形態では、感光性樹脂層の表面を、気密チャンバー２４内の反応性有機珪素化合物２３の蒸気２５により暴露処理する時間は、特に限定されないが、通常、１時間以上、１０時間以下、好ましくは３時間以上、７時間以下である。この範囲であれば、感光性樹脂層の上に十分に疎水性表面層を形成でき、効率的である。暴露処理するための温度は、特に限定されないが、通常、１０℃以上、１００℃以下、好ましくは１５℃以上、８０℃以下である。この範囲であれば、感光性樹脂が変性を起こすことなく安定して処理でき、また、反応性有機珪素化合物２３の蒸気圧が適度に得られる。この場合、円形ガラス盤の加熱が可能な気密チャンバーを用いることもできる。尚、感光性樹脂の感光特性の劣化を避けるために、暴露処理のための温度は、感光性樹脂層の溶融温度以下とすることが望ましい。
【００３０】
暴露処理するための圧力は、特に限定されないが、通常、８０ＫＰａ以上、１１０ｋＰａ以下（大気圧程度）、好ましくは８５以上、１００ｋＰａ以下である。この範囲の圧力であれば、大がかりな設備を使用する必要がなく、効果的に反応性有機珪素化合物２３を蒸発させることが出来る。尚、反応性有機珪素化合物２３の蒸気２５による暴露処理の時間を短縮するために、加圧が可能な気密チャンバーを用いることもできる。
【００３１】
また、反応性有機珪素化合物２３の使用量は、感光性樹脂層の上に形成する疎水性表面層の厚さ、表面積、気密チャンバー２４の容積等に応じて適宜決定され、特に限定されないが、暴露処理中に、気密チャンバー２４内における反応性有機珪素化合物２３の飽和蒸気圧を維持できる最低量が目安とされ、通常、１０ミリモル以上、１００ミリモル以下程度である。
【００３２】
気密チャンバー２４の容積は、感光性樹脂層を塗布した基板２１の枚数等により適宜決定され、特に限定されないが、通常、２リッター以上、３０リッター以下程度である。
【００３３】
次に、図２（ｂ）には、気体状の反応性有機珪素化合物３２が導入されたチャンバー内に、感光性樹脂層を塗布した基板が収納された状態が示されている。気体状の反応性有機珪素化合物３２は、チャンバー３５の気体導入口３３からチャンバー３５内に導入され、一定の圧力及び滞留時間を保持して、気体排出口３４から、チャンバー３５外に排出される。チャンバー３５内に収納された感光性樹脂層の表面は、チャンバー３５内に滞留する気体状の反応性有機珪素化合物３２で暴露処理される。気体状の反応性有機珪素化合物３２の滞留時間は、特に限定されないが、通常、１分以上、６０分以下程度である。
【００３４】
このように、本実施の形態では、円形ガラス基板上に形成された感光性樹脂層の表面を、例えば、ヘキサメチルジシラザンのような反応性有機珪素化合物の蒸気による暴露処理を施すことによって、現像後に感光性樹脂層に形成される凹凸形状の断面が非常にシャープになる効果が得られる。このような効果が得られる理由は明確ではないが、以下のように考えることができる。即ち、感光性樹脂層の表面には、ある一定の割合で、その樹脂分子中の親水性の水酸基が露出している。この感光性樹脂層の表面を、例えば、ヘキサメチルジシラザン蒸気により暴露処理を施すと、感光性樹脂層の表面にヘキサメチルジシラザンの分子が吸着し、浸潤しあるいは化学結合し、その結果、感光性樹脂層の表面近傍の疎水性が増大し、さらに現像液に対する溶解性が低下して強力な疎水性表面層が感光性樹脂層の上に形成されると考えられる。
【００３５】
このような処理を行った感光性樹脂層にレーザービームスポットを照射して潜像を形成したのちに現像を行うと、潜像部分の現像液に対する溶解速度は、感光性樹脂層に比較して疎水性表面層において大きく低下するため、ヘキサメチルジシラザン蒸気の暴露処理を行わない場合と比較して、現像後に形成される凹凸形状の断面が非常にシャープになる効果が現れ、実際に照射されたレーザビームスポットの大きさよりもはるかに小さくかつ矩形性の良い情報記録ピットまたは案内溝等を形成することができる。
【００３６】
このような効果は、例えば、前述したレーザー露光前に感光性樹脂層に現像処理を施して表面難溶化層を形成する方法（特許文献１）と比較して、はるかに大きい効果であるため、さらに超解像光学系等の他の手段を用いること無く、照射レーザビームスポット径よりも十分狭い幅の情報記録ピットまたは案内溝等を形成することが可能である。尚、本実施の形態において、矩形性が良好な凹凸形状を形成することができるという効果を利用することにより、従来は形成することが困難であった、凸部の幅が１００ｎｍ程度の凹凸形状を形成することもできる。
【００３７】
さらに、本実施の形態では、反応性有機珪素化合物の蒸気の暴露処理は簡易なチャンバーを用いて行うため、特殊で高価な装置を用いず、常温常圧下でも行うことができるので極めて簡便である。
【００３８】
尚、本実施の形態では、感光性樹脂層にレーザービームスポットを照射した直後の現像時に、（１）パドル現像法を採用する、（２）現像液を超純水でリンスする際のリンス時間を短く抑える、（３）現像直前に加熱処理（Ｐｏｓｔ　Ｅｘｐｏｓｕｒｅ　Ｂａｋｅ）を実施する、（４）界面活性剤の含まれた現像液を用いる、等の方法を採用することが好ましい。このような方法を採用すると、現像液により溶出された疎水性表面層の残渣が、感光性樹脂層の表面を流れる際に、その表面に再付着して欠陥となることを防止することができる。
【００３９】
【実施例】
以下に、実施例に基づき本実施の形態をさらに詳細に説明する。なお、本実施の形態は実施例に限定されるものではない。
（実施例１、比較例１）
直径２００ｍｍ、厚さ６ｍｍの円形ガラス盤を研磨して平坦化したのち洗浄し、この円形ガラス盤上にスピンコート法にて密着剤（商品名アンカーコート）及び感光性樹脂（商品名ＭＣＰＲ２２００Ｘ）を塗布し、ホットプレートにて８０℃で１０分間加熱して溶媒を乾燥させ、円形ガラス盤上に膜厚８０ｎｍの感光性樹脂層を形成した。
【００４０】
次に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）１０ｍｌを入れたシャーレと前記感光性樹脂層を形成した円形ガラス盤とを気密チャンバーに収納し、２３℃、１気圧にて、５時間１５分間、感光性樹脂層の表面をＨＭＤＳ蒸気で暴露処理した。続いて、この円形ガラス盤をホットプレートにて８０℃で１０分間加熱した後、ＮＡ０．９の対物レンズにて絞った波長４１３ｎｍのＫｒレーザービームスポットを、潜像がトラックピッチ０．５５μｍの螺旋状の溝となるように照射した。尚、Ｋｒレーザービームスポットの走査線速度は３．５ｍ／ｓ、照射光パワーは２ｍＷであり、レーザビームスポットは４６０ｎｍである。
【００４１】
次に、このように潜像を形成した円形ガラス盤を、現像機にて、以下の手順で現像した。まず、円形ガラス盤を超純水で２５秒間リンスし、続いて、アルカリ現像液（商品名マイクロポジットデベロッパーの３倍希釈液）で１８秒間パドル現像した後、さらに、超純水で３０秒間リンスし、１分間のスピン振り切りを行い、最後に、ホットプレートにて８０℃で１０分間加熱して水分を乾燥させて、光ディスク用ガラスマスタを調製した。
【００４２】
以上のように調製した光ディスク用ガラスマスタを、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて観察した結果を図３に示す。図３から、円形ガラス盤上に形成された螺旋状の情報記録ピット又は案内溝の幅が約１５０ｎｍであり、ビームスポット径（４６０ｎｍ）の約３２％に細径化されていることが分かる。さらに、現像後に形成された凹凸形状の断面形状は、凸部の矩形性が良好であり非常にシャープであることが観察された。尚、図３の横軸は、ガラスマスタの水平方向の距離であり、縦軸は、ガラスマスタの垂直方向の距離である。
【００４３】
尚、比較として、感光性樹脂層の表面をヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）蒸気で暴露処理しないことを除き、実施例１と同様な処理を行って光ディスク用ガラスマスタを調製し、この光ディスク用ガラスマスタについても原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて観察した。図示しないが、円形ガラス盤上に形成された螺旋状の情報記録ピット又は案内溝の幅は約２５０ｎｍであり、ビームスポット径（４６０ｎｍ）の５４％程度であった。また、現像後に形成された凹凸形状は、凸部の上部が丸みを有し、矩形性が低下していることが観察された。
【００４４】
【発明の効果】
かくして本発明によれば、感光性樹脂層表面に微細な凹凸形状の情報記録ピット又は案内溝が形成された光ディスク用ガラスマスタを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による光ディスク用ガラスマスタの製造方法を説明する図である。
【図２】反応性有機珪素化合物の蒸気で暴露処理する工程を説明するための図である。
【図３】実施例において調製した光ディスク用ガラスマスタのＡＦＭによる測定結果を示す図である。
【図４】従来から行われている光ディスク用ガラスマスタの製造方法を説明するための図である。
【符号の説明】
１１，４１…ガラス基板、１２，４２…感光性樹脂層、１３…疎水性表面層、１４…反応性有機珪素化合物の蒸気、１５，４３…潜像、１６，４４…レーザービームスポット、１７，４５…凹部、２１，３１…感光性樹脂層を塗布した基板、２２…シャーレ、２３…反応性有機珪素化合物、２４…気密チャンバー、２５…反応性有機珪素化合物の蒸気、３２…気体状反応性有機珪素化合物、３３…気体導入口、３４…気体排出口、３５…チャンバー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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