(57)【要約】【課題】液晶表示装置に適用した場合に、コントラスト比および視野角特性に優れる、大きな複屈折率を有する積層位相差板を提供する。【解決手段】０＜Δｎ≦０．５、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ、０．１≦厚み（μｍ）≦２０の全ての条件を満たす光学補償層を二層以上積層して積層位相差板を形成する。前記光学補償層の形成材料としては、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一種のポリマーを含むことが好ましい。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記数式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全ての条件を満たす光学補償層を二層以上含むことを特徴とする積層位相差板。
０＜　Δｎ　≦　０．５　　　　　　　　　　・・・（Ｉ）
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ　　　　　　　　　　　　　・・・（ＩＩ）
０．１≦光学補償層の厚み（μｍ）≦２０　　・・・（ＩＩＩ）
前記各数式において、Δｎは、前記光学補償層の複屈折率を示し下記式（ＩＶ）で表され、前記式（ＩＩ）および下記式（ＩＶ）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記光学補償層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸方向とは、前記光学補償層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸方向は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
Δｎ　＝　［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ　　・・・（ＩＶ）
【請求項２】
光学補償層の形成材料が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一種のポリマーを含む請求項１記載の積層位相差板。
【請求項３】
前記数式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満たす、同じ光学補償層を２層以上含む請求項１または２記載の積層位相差板。
【請求項４】
前記数式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満たす、異なる光学補償層を２層以上含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層位相差板。
【請求項５】
ｎｘ’＞ｎｙ’＞ｎｚ’を満たす光学補償層が積層された請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層位相差板。
ｎｘ’、ｎｙ’およびｎｚ’は、前記積層位相差板におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸方向とは、前記積層位相差板の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸方向は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
【請求項６】
積層位相差板の屈折率が、ｎｘ’＞ｎｙ’＞ｎｚ’の関係を満たす請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層位相差板。
ｎｘ’、ｎｙ’およびｎｚ’は、前記積層位相差板におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸方向とは、前記積層位相差板の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸方向は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
【請求項７】
各光学補償層が、それぞれ直接積層されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の積層位相差板。
【請求項８】
各光学補償層が、接着剤または粘着剤を介して積層されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の積層位相差板。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の積層位相差板を含む積層偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の積層位相差板および請求項９記載の積層偏光板の少なくとも一方が、液晶セルの少なくとも一方の表面に積層された液晶パネル。
【請求項１１】
請求項１０記載の液晶パネルを含む液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の積層位相差板および請求項９記載の積層偏光板の少なくとも一方を含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、画像表示装置におけるコントラスト比および視野角特性の改善に使用する位相差板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
各種液晶動作モードを利用した薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）により駆動する液晶表示装置は、例えば、斜めから見た場合にコントラスト比が低下したり、黒表示部で階調反転が生じる等の視野角特性上の問題があり、これらを改善するために、光学補償層を有する各種複屈折フィルム（位相差フィルム）が使用されている。
【０００３】
具体的には、例えば、ノーマリーホワイト型ねじれネマチック（ＴＮ）液晶表示装置の視野角特性を改善するために、分子骨格の直線性と剛直性によって、光学特性を制御できるポリイミドを用いた一軸性の負の複屈性位相差フィルムや（例えば、特許文献１参照）、同じく一軸性の負の複屈折性位相差フィルムとして、フルオレン骨格を有するポリイミド製の層を利用した液晶表示装置が、それぞれ開示されている（例えば、特許文献２参照）。さらに、ポリイミド等を形成材料とした光学的に負の一軸性であるフィルムを延伸することによって、二軸性の光学フィルムを製造する方法も開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００４】
【特許文献１】
米国特許第５，３４４，９１６号
【特許文献２】
米国特許第６，０７４，７０９号
【特許文献３】
特開２０００−１９０３８５号
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そして、近年においては、例えば、液晶表示装置等の各種画像表示装置に使用した際に、コントラスト比が大きくなり、かつ視野角特性が向上できるとできることから、複屈折率（Δｎ）が大きい、すなわち、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が大きい、位相差フィルムが求められている。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、複屈折率が大きく、例えば、液晶表示装置等に適用した際に、コントラスト比が大きく、かつ視野角特性により一層優れる積層位相差板の提供である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明の積層位相差板は、下記数式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全ての条件を満たす光学補償層を二層以上含むことを特徴とする。
０＜　Δｎ　≦　０．５　　　　　　　　　　・・・（Ｉ）
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ　　　　　　　　　　　　　・・・（ＩＩ）
０．１≦光学補償層の厚み（μｍ）≦２０　　・・・（ＩＩＩ）
前記各数式において、Δｎは、前記光学補償層の複屈折率を示し下記式（ＩＶ）で表され、前記式（ＩＩ）および下記式（ＩＶ）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記光学補償層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸方向とは、前記光学補償層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸方向は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
Δｎ　＝　［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ　　・・・（ＩＶ）
【０００８】
通常、位相差フィルムの位相差値を大きく設定するには、位相差フィルムの膜厚を厚くすればよいことが知られている。しかしながら、本発明者らは、相対的に膜厚が薄い範囲（例えば、０を超え１０μｍ未満程度）においては、膜厚の増加に伴って複屈折率も増加するが、ある程度の膜厚（例えば、１０μｍ以上）になると、それ以上複屈折率が増加しないとの知見を得た。つまり、単層の位相差フィルムでは、得られる位相差値に限界があるということである。そこで、本発明者らは、鋭意研究の結果、膜厚を増加させるのではなく、前記数式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の条件を満たす光学補償層を積層することによって、大きな複屈折率を実現できることを見出し、本発明に至ったのである。具体的には、全体の膜厚を同じ厚みに設定した場合、光学補償層の積層体である本発明の積層位相差板と、単層の位相差フィルムとでは、前記積層位相差板の方が大きな複屈折率を実現できるということである。したがって、本発明の積層位相差板によれば、従来の単層位相差フィルムのように、膜厚を増加しても複屈折率の増加が見られなくなるという問題が起らず、単層の位相差フィルムでは得られなかった複屈折率も実現できる。このように、本発明の積層位相差板によれば、大きな複屈折率が得られるため、例えば、液晶表示装置等に適用した際に、コントラスト比や視野角特性のさらなる向上を実現でき非常に有用であるといえる。
【０００９】
具体的には、例えば、全体厚みが共に９μｍの場合、単層位相差フィルムに比べて、厚み３μｍの光学補償層を三層積層した積層位相差板によれば、得られる位相差値は約２倍程度となる。また、厚み４５μｍの光学補償層を二層積層した積層位相差板によれば、得られる位相差値は約１．５倍程度になる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の積層位相差板において、前記光学補償層の複屈折率（Δｎ）は、前記数式（Ｉ）に示すように、０を超え０．５以下である。前記複屈折率が０の場合、位相差が生じないため、積層しても位相差フィルムとして機能しないという問題があり、一方、０．５を越える場合は、位相差の制御も困難であるという問題がある。前記複屈折率は、好ましくは０．０００５〜０．５の範囲であり、例えば、生産性や厚みの点から、より好ましくは０．００１〜０．２の範囲であり、特に好ましくは０．００２〜０．１５の範囲である。
【００１１】
本発明の積層位相差板において、前記光学補償層の屈折率は、前記数式（ＩＩ）で表され、Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸における屈折率が「ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ」の関係を満たしてもよいし、「ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」を満たしてもよい。積層する光学補償層の具体的な組み合わせとしては、例えば、「ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ」を示す光学補償層同士の組み合わせ、「ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」を示す光学補償層同士の組み合わせ、「ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ」を示す光学補償層と「ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」を示す光学補償層との組み合わせのいずれであってもよいが、特に、広視野角において良好なコントラストが得られることから、「ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」を満たす光学補償層同士を積層することが好ましい。
【００１２】
本発明の積層位相差板において、前記光学補償層の厚みは、前記数式（ＩＩＩ）に示すように、０．１μｍ以上２０μｍ以下である。なお、前記数式（ＩＩＩ）においける厚みは、単層の光学補償層の厚みをいう。単層の光学補償層の厚みが０．１μｍより小さいと、位相差値が出にくいという問題があり、２０μｍより大きいと薄型、軽量化の点で問題がある。前記厚みは、好ましくは０．５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは１〜１０μｍの範囲である。
【００１３】
本発明の積層位相差板は、前記条件（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満たす、同じ光学補償層を２層以上含んでもよいし、前記条件（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満たす、異なる光学補償層を２層以上含んでもよい。異なる光学補償層とは、例えば、厚みのみが異なるものでもよいし、形成材料が異なるもの、位相差値が異なるもの等があげられる。また、異なる光学補償層を積層する場合、その積層順序は限定されない。
【００１４】
本発明の積層位相差板において、前記光学補償層の積層数は二層以上であれば特に制限されないが、例えば、より高い位相差値が得られるという点から、例えば、３層以上であることが好ましい。
【００１５】
また、本発明の積層位相差板の厚みは、使用する光学補償層の厚みや、積層数等によって異なるが、例えば、高い位相差値が得られ、光透過率にも優れることから、例えば、５〜５０μｍであり、好ましくは５〜２０μｍであり、より好ましくは５〜１５μｍである。
【００１６】
本発明の積層位相差板において、下記式で表される面内位相差（Δｎｄ’）は、例えば、３０〜９０ｎｍであり、好ましくは４０〜８０ｎｍであり、より好ましくは５０〜８０ｎｍである。また、下記式で表される厚み方向位相差（Ｒｔｈ’）は、例えば、７５〜３００ｎｍであり、好ましくは７５〜２００ｎｍである。
【００１７】
Δｎｄ’＝（ｎｘ’−ｎｙ’）・ｄ’
Ｒｔｈ’＝［［（ｎｘ’−ｎｙ’）／２］−ｎｚ’］・ｄ’
前記両式において、ｎｘ’、ｎｙ’およびｎｚ’は、前記積層位相差板におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示す。具体的に、図１の概略図に積層位相差板１における屈折率（ｎｘ’、ｎｙ’およびｎｚ’）の軸方向の一例を矢印で示す。屈折率ｎｘ’、ｎｙ’およびｎｚ’は、前述のように、それぞれＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、図示のように、前記Ｘ軸方向とは面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸方向は、前記面内において前記Ｘ軸方向に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を示し、ｄ’は前記積層位相差板の厚みを示す。
【００１８】
具体的には、例えば、面内位相差（Δｎｄ）が１０〜３０ｎｍ、厚み５〜１５μｍ、その光学特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである光学補償層を３層積層すれば、面内位相差（Δｎｄ’）３０〜９０ｎｍの積層位相差板が得られる。なお、この積層位相差板と同じ厚みの単層位相差フィルムの場合、面内位相差（Δｎｄ）は前記積層位相差板よりも低い値となり、例えば、Δｎｄ　１０〜５０ｎｍ程度しか実現されない。また、例えば、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が２５〜１００ｎｍ、厚み５〜１５μｍ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである光学補償層を３層積層すれば、厚み方向位相差（Ｒｔｈ’）７５〜３００ｎｍの積層位相差板が得られる。なお、この積層位相差板と同じ厚みの単層位相差フィルムの場合、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）は前記積層位相差板より低い値となり、例えば、Ｒｔｈ　５０〜１２０ｎｍ程度しか実現されない。
【００１９】
なお、前記ΔｎｄおよびＲｔｈは、それぞれ単層光学補償層の面内位相差および厚み方向位相差であり、Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ、　Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ−ｎｙ）／２｝−ｎｚ］・ｄ　で表され、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは前述のとおりであり、ｄは単層光学補償層の厚みを示す。
【００２０】
本発明の積層位相差板は、屈折率が「ｎｘ’＝ｎｙ’＞ｎｚ’」の関係を満たしてもよいし、「ｎｘ’＞ｎｙ’＞ｎｚ’」を満たしてもよいが、広視野角において良好なコントラストが得られることから、「ｎｘ’＞ｎｙ’＞ｎｚ’」を示す光学補償層を積層することによって「ｎｘ’＞ｎｙ’＞ｎｚ’」を示すことが好ましい。
【００２１】
本発明の積層位相差板において、前記光学補償層の形成材料は、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド及び、ポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一種の非液晶性ポリマーであることが好ましい。このようなポリマーから光学補償層を形成することによって、前記条件（Ｉ）〜（ＩＩＩ）を満たす光学補償層を得ることができる。
【００２２】
これらのポリマーは、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことからも好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高い複屈折性が得られることから、ポリイミド等が好ましい。このように高い複屈折性を示すと、大きい複屈折値が得られるため、例えば、同程度の補償効果を、他のポリマーと比較して薄層で達成できるからである。これらのポリマーとしては、特に制限されないが、例えば、米国特許第５，３４４，９１６号、同第５，３９５，９１８号、同第５，４８０，９６４号、同第５，５８０，９５０号、同第５，６９４，１８７号、同第５，７５０，６４１号、同第６，０７４，７０９号等に開示されたものが使用できる。
【００２３】
前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。
【００２４】
前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物、具体的には、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００２５】
【化１】
2004046097.tif 000002
前記式（１）中、Ｒ３〜Ｒ６は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ３〜Ｒ６は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００２６】
前記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。
【００２７】
【化２】
2004046097.tif 000003
前記式（２）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ７）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、または、ＮＲ８基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ７は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ９）３である。Ｒ８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ６〜２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ９は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。
【００２８】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。
【００２９】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００３０】
【化３】
2004046097.tif 000004
【化４】
2004046097.tif 000005
【化５】
2004046097.tif 000006
【００３１】
前記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＦ３）２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基、および、Ｎ（ＣＨ３）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００３２】
前記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。
【００３３】
前記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００３４】
前記式（４）中、Ｒ１０およびＲ１１は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００３５】
前記式（５）中、Ｍ１およびＭ２は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。
【００３６】
前記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等があげられる。
【化６】
2004046097.tif 000007
【００３７】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。
【００３８】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２′−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００３９】
前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３′，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２′，３，３′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記２，２′−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２′−ジブロモ−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２′−ジクロロ−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２′−ビス（トリフルオロメチル）−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００４０】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４′−（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４′−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、（３，３′，４，４′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物）、４，４′−［４，４′−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等があげられる。
【００４１】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２′−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２′−ビス（トリハロメチル）−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２′−ビス（トリフルオロメチル）−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００４２】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。
【００４３】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２′−ジアミノベンゾフェノン、および３，３′−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等があげられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等があげられる。
【００４４】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４′−ジアミノビフェニル、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４′−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４′−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４′−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４′−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。
【００４５】
前記光学補償層の形成材料である前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。
【００４６】
【化７】
2004046097.tif 000008
前記式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
【００４７】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。
【００４８】
前記式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
【００４９】
また、前記式（７）中、Ｒ１は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
【００５０】
【化８】
2004046097.tif 000009
前記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記式（７）におけるＸと同様である。前記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
【００５１】
前記式（８）中、Ｒ２は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ２としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００５２】
【化９】
2004046097.tif 000010
【００５３】
前記式（７）中、前記Ｒ１としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ２およびｐは前記式（８）と同義である。
【００５４】
【化１０】
2004046097.tif 000011
【００５５】
さらに、前記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００５６】
さらに、前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００５７】
【化１１】
2004046097.tif 000012
【００５８】
前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００５９】
【化１２】
2004046097.tif 000013
【化１３】
2004046097.tif 000014
【化１４】
2004046097.tif 000015
【化１５】
2004046097.tif 000016
【００６０】
また、これらの他に、前記光学補償層の形成材料である前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。
【００６１】
【化１６】
2004046097.tif 000017
前記式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ２アルキレン基、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｒ）２基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。
【００６２】
また、前記（２２）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。
【００６３】
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記ｔは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。
【００６４】
前記式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。
【００６５】
【化１７】
2004046097.tif 000018
前記式（２３）中、Ａ、Ａ’およびＹは、前記式（２２）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。
【００６６】
つぎに、本発明の積層位相差板は、例えば、以下のようにして製造できる。
【００６７】
まず、前記光学補償層を準備する。この光学補償層は、前述のように、複屈折率Δｎが０．１を超え０．５以下であり、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ、厚みが０．１μｍ以上２０μｍ以下であれば、特に制限されないが、例えば、以下のようにして調製することができる。
【００６８】
前記光学補償層は、例えば、基板上に、前記非液晶性ポリマーを塗工して塗工膜を形成し、前記塗工膜における前記非液晶性ポリマーを固化させることによって、前記基板上に形成できる。ポリイミドのような前記非液晶性ポリマーは、その性質上、前記基板の配向の有無に関わらず、ｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚ（ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ）の光学特性を示す。このため、光学的一軸性、つまり、厚み方向にのみ位相差を示す光学補償層が形成できるのである。なお、前記光学補償層は、前記基材から剥離して使用してもよいし、基材上に形成した状態で使用してもよい。
【００６９】
前記基材としては、各種樹脂フィルムが使用でき、その材質は特に制限されないが、例えば、透明性に優れる樹脂等が好ましい。このように透明性に優れる樹脂であれば、例えば、前記基材上に形成した光学補償層に、後述するように、さらに光学補償層を積層して、基材を含む積層体を本発明の積層位相差板として使用することもでき、積層構造の位相差板の製造がより一層簡便になる。また、後述するような延伸処理に適していることから熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセテート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリノルボルネン樹脂、セルロース樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアクリル樹脂や、これらの混合物等があげられる。また、液晶ポリマー等も使用できる。さらに、例えば、特開平２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ　０１／３７００７号）に記載されているような、側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とニトリル基とを有する熱可塑性樹脂との混合物等も使用できる。具体例としては、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物等である。これらの形成材料の中でも、例えば、前述の側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とニトリル基とを有する熱可塑性樹脂との混合物が好ましい。
【００７０】
また、前述のように、前記非液晶性ポリマーは光学的一軸性を示す性質を有することから、基材の配向性を利用する必要がない。このため、前記基材としては、配向性基板、非配向性基板の両方が使用できる。また、例えば、複屈折による位相差を生じるものでもよいし、複屈折による位相差を生じないものでもよい。前記複屈折による位相差を生じる透明基板としては、例えば、延伸フィルム等があげられ、厚み方向の屈折率が制御されたもの等も使用できる。前記屈折率の制御は、例えば、ポリマーフィルムを熱収縮性フィルムと接着し、さらに加熱延伸する方法等によって行うことができる。
【００７１】
前記基材上に、前記非液晶性ポリマーを塗工する方法としては、特に限定されないが、例えば、前述のような非液晶性ポリマーを加熱溶融して塗工する方法や、前記非液晶性ポリマーを溶媒に溶解させたポリマー溶液を塗工する方法等があげられる。その中でも、作業性に優れることから、前記ポリマー溶液を塗工する方法が好ましい。
【００７２】
前記ポリマー溶液におけるポリマー濃度は、特に制限されないが、例えば、塗工が容易な粘度となることから、溶媒１００重量部に対して、例えば、前記非液晶性ポリマー５〜５０重量部であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０重量部である。
【００７３】
前記ポリマー溶液の溶媒としては、前記非液晶性ポリマー等の形成材料を溶解できれば特に制限されず、前記形成材料の種類に応じて適宜決定できる。具体例としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等があげられる。これらの溶媒は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００７４】
前記ポリマー溶液は、例えば、必要に応じて、さらに、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤を配合してもよい。
【００７５】
また、前記ポリマー溶液は、例えば、前記形成材料の配向性等が著しく低下しない範囲で、異なる他の樹脂を含有してもよい。前記他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等があげられる。
【００７６】
前記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等があげられる。前記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等があげられる。前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等があげられる。前記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等があげられる。
【００７７】
このように、前記他の樹脂等を前記ポリマー溶液に配合する場合、その配合量は、例えば、前記ポリマー材料に対して、例えば、０〜５０重量％であり、好ましくは、０〜３０重量％である。
【００７８】
前記ポリマー溶液の塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等があげられる。また、塗工に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用できる。
【００７９】
前記塗工膜を形成する非液晶性ポリマーの固化は、例えば、前記塗工膜を乾燥することによって行うことができる。前記乾燥の方法としては、特に制限されず、例えば、自然乾燥や加熱乾燥があげられる。その条件も、例えば、前記非液晶性ポリマーの種類や、前記溶媒の種類等に応じて適宜決定できるが、例えば、温度は、通常、４０℃〜３００℃であり、好ましくは５０℃〜２５０℃であり、さらに好ましくは６０℃〜２００℃である。なお、塗工膜の乾燥は、一定温度で行っても良いし、段階的に温度を上昇または下降させながら行っても良い。乾燥時間も特に制限されないが、通常、１０秒〜３０分、好ましくは３０秒〜２５分、さらに好ましくは１分〜２０分以下である。
【００８０】
なお、前記光学補償層中に残存する前記ポリマー溶液の溶媒は、その量に比例して積層位相差板の光学特性を経時的に変化させるおそれがあるため、その残存量は、例えば、５％以下が好ましく、より好ましくは２％以下であり、さらに好ましくは０．２％以下である。
【００８１】
また、前記基材として、面内において一方向に収縮性を示す基材を使用することによって、光学的二軸性、つまり「ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」を示す光学補償層を調製することもできる。具体的に説明すると、例えば、前述と同様にして、前記収縮性を有する基材上に、直接、前記非液晶性ポリマーを塗工して塗工膜を形成した後、前記基板を収縮させる。前記基材が収縮すれば、これに伴って前記基材上の塗工膜も共に面方向において収縮するため、前記塗工膜は、さらに面内において屈折差が生じ、光学的二軸性（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）を示すようになるのである。そして、この塗工膜を形成する非液晶性ポリマーを固化することによって、前記二軸性の光学補償層が形成されるのである。
【００８２】
前記基材は、面内において一方向に収縮性を持たせるため、例えば、面内のいずれか一方向において、延伸しておくことが好ましい。このように、予め延伸しておくことによって、前記延伸方向と反対方向に収縮力が発生する。この基材の面内の収縮差を利用して、塗工膜の非液晶性ポリマーに面内の屈折率差を付与するのである。延伸前の前記基材の厚みは、特に制限されないが、例えば、１０〜２００μｍの範囲であり、好ましくは２０〜１５０μｍの範囲であり、特に好ましくは３０〜１００μｍの範囲である。そして、延伸倍率に関しては特に限定されない。
【００８３】
前記基材の収縮は、例えば、前述と同様にして前記基材上に塗工膜を形成した後、加熱処理を施すことによって行うことができる。前記加熱処理の条件としては、特に制限されず、例えば、基材の材料の種類等によって適宜決定できるが、例えば、加熱温度は、２５〜３００℃の範囲であり、好ましくは５０〜２００℃の範囲であり、特に好ましくは６０〜１８０℃の範囲である。前記収縮の程度は特に制限されないが、収縮前の基材の長さを１００％として、例えば、０を越え１０％以下の収縮割合があげられる。
【００８４】
一方、前述と同様に基材上に塗工膜を形成し、前記透明基板と前記塗工膜とを共に延伸することによって、光学的二軸性、つまりｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを示す光学補償層を基材上に形成することもできる。この方法によれば、前記基材と前記塗工膜との積層体を、面内の一方向に共に延伸することによって、前記塗工膜は、さらに面内において屈折差を生じ、光学的二軸性（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）を示すようになるのである。
【００８５】
前記基材と塗工膜との積層体の延伸方法は、特に制限されないが、例えば、長手方向に一軸延伸する自由端縦延伸、フィルムの長手方向を固定した状態で、幅方向に一軸延伸する固定端横延伸、長手方向および幅方向の両方に延伸を行う逐次または同時二軸延伸等の方法があげられる。
【００８６】
そして、前記積層体の延伸は、例えば、前記基材と前記塗工膜との両方を共に引っ張ることによって行ってもよいが、例えば、以下の理由から、前記基材のみを延伸することが好ましい。前記基材のみを延伸した場合、この延伸により前記基材に発生する張力によって、前記基材上の前記塗工膜が間接的に延伸される。そして、積層体を延伸するよりも、単層体を延伸する方が、通常、均一な延伸となるため、前述のように透明基板のみを均一に延伸すれば、これに伴って、前記基材上の前記塗工膜も均一に延伸できるためである。
【００８７】
延伸の条件としては、特に制限されず、例えば、基材や前記非液晶性ポリマーの種類等に応じて適宜決定できる。また、延伸時の加熱温度は、例えば、前記基材や非液晶性ポリマーの種類、それらのガラス転移点（Ｔｇ）、添加物の種類等に応じて適宜決定できるが、例えば、８０〜２５０℃であり、好ましくは１２０〜２２０℃、特に好ましくは１４０〜２００℃である。特に前記基材の材料のＴｇ付近またはそれ以上の温度であることが好ましい。
【００８８】
以上のようにして、条件（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の条件を満たす光学補償層が得られる。そして、二つ以上の光学補償層を、例えば、粘着剤や接着剤を介して積層することによって、本発明の積層位相差板を形成することができる。また、前述のような基材上に形成した前記光学補償層を、粘着剤等を介して他の光学補償層に接着し、その後、前記基材を剥離する、いわゆる転写方法によって積層を順次行ってもよい。
【００８９】
前記接着剤または粘着剤としては、特に制限されず、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等の透明な感圧接着剤や粘着剤等、従来公知のものが使用できる。これらの中でも、積層位相差体の光学特性の変化を防止する点から、硬化や乾燥の際に高温のプロセスを要しないものが好ましく、具体的には、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないアクリル系粘着剤が望ましい。
【００９０】
また、このような接着方法には限られず、例えば、光学補償層の上に、さらに前述の塗工方法等により光学補償層を形成することによって、前記両者を直接積層し、本発明の積層位相差板を形成してもよい。このような形態であれば、例えば、前述のような粘着剤層や接着剤層が不要になるため積層数を軽減でき、より一層の薄型化が実現できるからである。また、このような積層体を、前述と同様にさらに延伸することによって、光学特性を変化させることもできる。
【００９１】
以上のような本発明の積層位相差板の具体例を図２および図３に示す。図２は、光学補償層を接着層を介して積層した積層位相差板の断面図であり、前記積層位相差板２は、３つの光学補償層を有し、これらの光学補償層１１が、接着層１２を介してそれぞれ積層された構造である。なお、前記接着層は、接着剤でも粘着剤でもよい。また、図３は、本発明の積層位相差板の他の例を示す断面図であって、前記積層位相差板３は、光学補償層１１がそれぞれ直接積層された構造である。
【００９２】
本発明の積層位相差板は、さらに、その最外層に、粘着剤層または接着剤層を有することが好ましい。これによって、本発明の積層位相差板と、他の光学層や液晶セル等の他部材との接着が容易になるとともに、本発明の積層位相差板の剥離を防止することができるからである。なお、前記粘着剤は、積層位相差板の一方の最外層でもよいし、両方の最外層に積層されてもよい。
【００９３】
前記粘着剤層の材料としては、特に制限されず、アクリル系ポリマー等の従来公知の材料が使用でき、特に、吸湿による発泡や剥離の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や、液晶セルに使用した際の液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性等の点より、例えば、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着剤層となることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層等でもよい。前記積層位相差板表面への前記粘着剤層の形成は、例えば、各種粘着材料の溶液または溶融液を、流延や塗工等の展開方式により、前記偏光板の所定の面に直接添加して層を形成する方式や、同様にして後述するライナー上に粘着剤層を形成させて、それを前記積層位相差板の所定面に移着する方式等によって行うことができる。
【００９４】
このように積層位相差板に設けた粘着剤層等の表面が露出する場合は、前記粘着層を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的として、ライナーによって前記表面をカバーすることが好ましい。このライナーは、透明フィルム等のような適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを一層以上設ける方法等によって形成できる。
【００９５】
前記粘着剤層等は、例えば、単層体でもよいし、積層体でもよい。前記積層体としては、例えば、異なる組成や異なる種類の単層を組合せた積層体を使用することもできる。また、前記積層位相差板の両面に配置する場合は、例えば、それぞれ同じ粘着剤層でもよいし、異なる組成や異なる種類の粘着剤層であってもよい。
【００９６】
前記粘着剤層の厚みは、例えば、偏光板の構成等に応じて適宜に決定でき、特に制限されないが、例えば１ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００９７】
前記粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等があげられる。
【００９８】
前記粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、前記粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
【００９９】
本発明の積層位相差板は、前述のように、単独で使用してもよいし、必要に応じて他の光学部材と組合せて積層体として、各種光学用途に供することができる。具体的には、光学補償用部材として有用である。前記他の光学部材としては、特に制限されないが、例えば、以下に示す偏光板等があげられる。
【０１００】
次に、本発明の積層偏光板は、前記本発明の積層位相差板を含むことを特徴とする。したがって、本発明の積層偏光板の構成は、前記本発明の積層位相差板と偏光板とを有していれば、特に制限されないが、例えば、以下に示すようなものが例示できる。なお、前記積層偏光板は、以下の構成に限定されるものではなく、さらに他の光学部材等を含んでいてもよいし、他の構成要件が省略されてもよい。
【０１０１】
前記積層偏光板の一例としては、例えば、本発明の積層位相差板および偏光板を含み、前記両者が接着層層を介して積層された形態である。前記偏光板としては、例えば、偏光子のみでもよいし、前記偏光子と透明保護層との積層体であってもよい。前記偏光子の両面に透明保護層を積層する場合には、例えば、同じ種類の透明保護層を使用しても、異なる種類の透明保護層を使用してもよい。前記各層の接着方法は、特に制限されず、接着層として、粘着剤や接着剤を使用してもよいし、直接積層が可能な場合は、前記接着層を介さなくてもよい。
【０１０２】
前記偏光子の片面のみに透明保護層が積層されている積層偏光板としては、例えば、以下のような形態があげられる。すなわち、前記本発明の積層位相差板、偏光子および透明保護層を有し、偏光子の一方の面に接着層を介して透明保護層が積層され、前記偏光子の他方の面に、接着層を介して前記積層位相差板が積層された形態である。この形態においては、例えば、積層位相差板として前記基材上に形成された積層位相差板を使用し、前記基材が偏光子と向き合うように前記積層位相差板を積層すれば、前記基材を透明保護層として兼用できるからである。すなわち、偏光子の両面に透明保護層を積層する代わりに、前記偏光子の一方の面には透明保護層を積層し、他方の面には、前記基材が面するように積層位相差板を積層することによって、前記基材が、偏光子の他方の透明保護層の役割も果たすのである。このため、より一層薄型化された偏光板を得ることができる。
【０１０３】
このような本発明の積層偏光板の具体例を図４〜６の断面図に示す。図４において、積層偏光板４は、本発明の積層位相差板１、偏光子２１、透明保護層２２を含み、偏光子２１の一方の表面に透明保護層２２が配置され、前記偏光子２１の他方の表面には、接着層１２を介して積層位相差板１が積層された構成である。図５において、積層偏光板５は、本発明の積層位相差板１、偏光子２１、２つの透明保護層２２を含み、偏光子２１の両面に透明保護層２２がそれぞれ配置され、一方の透明保護層２２に、接着層１２を介して積層位相差板１が積層された構成である。さらに図６において、積層偏光板６は、基材２０上に形成された本発明の積層位相差板１、偏光子２１、透明保護層２２を含み、偏光子２１の一方の面に透明保護層２２が配置され、前記偏光子２１の他方の面に、前記基材２０が向き合うように、前記基材上に形成された積層位相差板が積層された構成である。このように基材上に積層位相差板を形成した場合、前記基材と偏光子とを接着することによって、前記基材が偏光子に対する透明保護層の役割を果たす。なお、偏光子と透明保護層は、例えば、前述のような接着層を介して積層されてもよい。
【０１０４】
さらにその他の形態としては、前記偏光子上に、本発明の積層位相差板が積層された形態があげられる。この場合、前記偏光子を基材として使用し、前記偏光子（基材）上に、直接、前述と同様にして光学補償層を順次積層することによって形成できる。なお、偏光子の他方の面には、透明保護層が積層すればよい。このような積層偏光板の具体例を図７の断面図に示す。同図において、積層偏光板７は、積層位相差板１、偏光子２１および透明保護層２２を備え、前記偏光子２１の表面に、前記積層位相差板１が直接積層され、偏光子２１の他方の表面に透明保護層２２が積層された構成である。
【０１０５】
前記偏光子としては、特に制限されず、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光フィルムの厚みは、通常、１〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。
【０１０６】
前記保護層としては、特に制限されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護層の材質の具体例としては、トリアセチルセルロール等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等があげられる。また、前記アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等もあげられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。
【０１０７】
また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムがあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。なお、前記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であってもよい。
【０１０８】
また、前記保護層は、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、下記式で表されるフィルム厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。前記位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）を解消できる。なお、下記式において、ｎｘ，ｎｙ，ｎｚは、前述と同様であり、ｄは、その膜厚を示す。
Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］・ｄ
【０１０９】
また、前記透明保護層は、さらに光学補償機能を有するものでもよい。このように光学補償機能を有する透明保護層としては、例えば、液晶セルにおける位相差に基づく視認角の変化が原因である、着色等の防止や、良視認の視野角の拡大等を目的とした公知のものが使用できる。具体的には、例えば、前述した透明樹脂を一軸延伸または二軸延伸した各種延伸フィルムや、液晶ポリマー等の配向フィルム、透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を配置した積層体等があげられる。これらの中でも、良視認の広い視野角を達成できることから、前記液晶ポリマーの配向フィルムが好ましく、特に、ディスコティック系やネマチック系の液晶ポリマーの傾斜配向層から構成される光学補償層を、前述のトリアセチルセルロースフィルム等で支持した光学補償位相差板が好ましい。このような光学補償位相差板としては、例えば、富士写真フィルム株式会社製「ＷＶフィルム」等の市販品があげられる。なお、前記光学補償位相差板は、前記位相差フィルムやトリアセチルセルロースフィルム等のフィルム支持体を２層以上積層させることによって、位相差等の光学特性を制御したもの等でもよい。
【０１１０】
前記透明保護層の厚みは、特に制限されず、例えば、位相差や保護強度等に応じて適宜決定できるが、通常、５００μｍ以下であり、好ましくは５〜３００μｍ、より好ましくは５〜１５０μｍの範囲である
【０１１１】
前記透明保護層は、例えば、偏光フィルムに前記各種透明樹脂を塗布する方法、前記偏光フィルムに前記透明樹脂製フィルムや前記光学補償位相差板等を積層する方法等の従来公知の方法によって適宜形成でき、また市販品を使用することもできる。
【０１１２】
また、前記透明保護層は、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護層の表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。
【０１１３】
前記アンチグレア処理とは、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護層の表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して前記透明保護層を形成する方式等があげられる。
【０１１４】
前記透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。前記透明微粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．５〜２０μｍの範囲である。また、前記透明微粒子の配合割合は、特に制限されないが、一般に、前述のような透明樹脂１００質量部あたり２〜７０質量部の範囲が好ましく、より好ましくは５〜５０質量部の範囲である。
【０１１５】
前記透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、透明保護層そのものとして使用することもでき、また、透明保護層表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、前記アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。
【０１１６】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、前記透明保護層とは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として、偏光板に積層してもよい。
【０１１７】
各構成物同士（積層位相差板、偏光子、透明保護層等）の積層方法は、特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、前述と同様の粘着剤や接着剤等が使用でき、その種類は、前記各構成物の材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等があげられる。前述のような粘着剤、接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。具体的には、前記偏光子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光子や透明保護層の表面に塗布してもよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。なお、前記接着剤を塗布する場合は、例えば、前記接着剤水溶液に、さらに、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。このような接着層の厚みは、特に制限されないが、例えば、１μｍ〜５００μｍであり、好ましくは１０〜３００μｍであり、より好ましくは２０〜１００μｍである。特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー等の接着剤等を使用した従来公知の方法が採用できる。また、湿度や熱等によっても剥がれにくく、光透過率や偏光度に優れる偏光板を形成できることから、さらに、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のＰＶＡ系ポリマーの水溶性架橋剤を含む接着剤が好ましい。これらの接着剤は、例えば、その水溶液を前記各構成物表面に塗工し、乾燥すること等によって使用できる。前記水溶液には、例えば、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合できる。これらの中でも、前記接着剤としては、ＰＶＡフィルムとの接着性に優れる点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。
【０１１８】
また、本発明の積層位相差板は、前述のような偏光子の他にも、例えば、さらにその他の各種位相差板、拡散制御フィルム、輝度向上フィルム等、従来公知の光学部材と組合せて使用することもできる。前記位相差板としては、例えば、ポリマーフィルムを一軸延伸または二軸延伸したもの、Ｚ軸配向処理したもの、液晶性高分子の塗工膜等があげられる。前記拡散制御フィルムとしては、例えば、拡散、散乱、屈折を利用したフィルムがあげられ、これらは、例えば、視野角の制御や、解像度に関わるギラツキや散乱光の制御等に使用することができる。前記輝度向上フィルムとしては、例えば、コレステリック液晶の選択反射と１／４波長板（λ／４板）とを用いた輝度向上フィルムや、偏光方向による異方性散乱を利用した散乱フィルム等が使用できる。また、前記光学フィルムは、例えば、ワイヤーグリッド型偏光子と組合せることもできる。
【０１１９】
前記積層偏光板は、実用に際して、前記本発明の積層位相差板および偏光子の他に、さらに他の光学層を含んでもよい。前記光学層としては、例えば、以下に示すような偏光板、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム等、液晶表示装置等の形成に使用される、従来公知の各種光学層があげられる。これらの光学層は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよく、また、一層でもよいし、二層以上を積層してもよい。このような光学層をさらに含む積層偏光板は、例えば、光学補償機能を有する一体型偏光板として使用することが好ましく、例えば、液晶セル表面に配置する等、各種画像表示装置への使用に適している。
【０１２０】
以下に、このような一体型偏光板について説明する。
【０１２１】
まず、反射型偏光板または半透過反射型偏光板の一例について説明する。前記反射型偏光板は、本発明の積層偏光板にさらに反射板が、前記半透過反射型偏光板は、本発明の積層偏光板にさらに半透過反射板が、それぞれ積層されている。
【０１２２】
前記反射型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等に使用できる。このような反射型偏光板は、例えば、バックライト等の光源の内蔵を省略できるため、液晶表示装置の薄型化を可能にする等の利点を有する。
【０１２３】
前記反射型偏光板は、例えば、前記弾性率を示す偏光板の片面に、金属等から構成される反射板を形成する方法等、従来公知の方法によって作製できる。具体的には、例えば、前記偏光板における透明保護層の片面（露出面）を、必要に応じてマット処理し、前記面に、アルミニウム等の反射性金属からなる金属箔や蒸着膜を反射板として形成した反射型偏光板等があげられる。
【０１２４】
また、前述のように各種透明樹脂に微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射板を形成した、反射型偏光板等もあげられる。その表面が微細凹凸構造である反射板は、例えば、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制できるという利点を有する。このような反射板は、例えば、前記透明保護層の凹凸表面に、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、従来公知の方法により、直接、前記金属箔や金属蒸着膜として形成することができる。
【０１２５】
また、前述のように偏光板の透明保護層に前記反射板を直接形成する方式に代えて、反射板として、前記透明保護フィルムのような適当なフィルムに反射層を設けた反射シート等を使用してもよい。前記反射板における前記反射層は、通常、金属から構成されるため、例えば、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続や、透明保護層の別途形成を回避する点等から、その使用形態は、前記反射層の反射面が前記フィルムや偏光板等で被覆された状態であることが好ましい。
【０１２６】
一方、前記半透過型偏光板は、前記反射型偏光板において、反射板に代えて、半透過型の反射板を有するものである。前記半透過型反射板としては、例えば、反射層で光を反射し、かつ、光を透過するハーフミラー等があげられる。
【０１２７】
前記半透過型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射して画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等に使用できる。すなわち、前記半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、一方、比較的暗い雰囲気下においても、前記内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。
【０１２８】
つぎに、前記積層偏光板に、さらに輝度向上フィルムが積層された偏光板の一例を説明する。
【０１２９】
前記輝度向上フィルムとしては、特に限定されず、例えば、誘電体の多層薄膜や、屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体のような、所定偏光軸の直線偏光を透過して、他の光は反射する特性を示すもの等が使用できる。このような輝度向上フィルムとしては、例えば、３Ｍ社製の商品名「Ｄ−ＢＥＦ」等があげられる。また、コレステリック液晶層、特にコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムや、その配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの等が使用できる。これらは、左右一方の円偏光を反射して、他の光は透過する特性を示すものであり、例えば、日東電工社製の商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」等があげられる。
【０１３０】
このように２層以上の光学層を積層した光学部材は、例えば、液晶表示装置等の製造過程において、順次別個に積層する方式によっても形成できるが、予め積層した光学部材として使用すれば、例えば、品質の安定性や組立作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上できるという利点がある。なお、積層には、前述と同様に、粘着層等の各種接着手段を用いることができる。
【０１３１】
前述のような各種偏光板は、例えば、液晶セル等の他の部材への積層が容易になることから、さらに粘着剤層や接着剤層を有していることが好ましく、これらは、前記偏光板の片面または両面に配置することができる。前記粘着層の材料としては、特に制限されず、前述と同様のものが使用できる。なお、このような層は、偏光板のいずれの表面に形成してもよく、例えば、偏光板における前記位相差板の露出面に形成してもよい。また、このように積層偏光板に設けた粘着剤層等の表面が露出する場合は、前述と同様にライナーによって前記表面をカバーすることが好ましい。
【０１３２】
以上のような本発明の積層位相差板や積層偏光板、各種光学部材（光学層をさらに積層した各種偏光板）を形成する偏光フィルム、透明保護層、光学層、粘着剤層等の各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で適宜処理することによって、紫外線吸収能を持たせたものでもよい。
【０１３３】
本発明の積層位相差板や、これを備える前記積層偏光板は、前述のように、液晶表示装置等の各種装置の形成に使用することが好ましく、例えば、本発明の積層位相差板や前記積層偏光板を液晶セルの片側または両側に配置して液晶パネルとし、反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。なお、本発明の液晶パネルは、本発明の積層位相差板または積層偏光板を使用する以外は、従来と同様であって、その構成は制限されない。
【０１３４】
本発明の液晶パネルの一例を、図８を用いて説明する。図８は、本発明の液晶パネルの一例を示す断面図である。同図において、液晶パネル８は、液晶セル４０、本発明の積層位相差板１、偏光子２１および透明保護層２２を有しており、液晶セル４０の一方の面に積層位相差板１が積層されており、前記積層位相差板１の他方の面に、偏光子２１および透明保護層２２が、この順序で積層されている。前記液晶セルは、二枚の液晶セル基板の間に、液晶が保持された構成となっている（図示せず）。
【０１３５】
液晶表示装置を形成する前記液晶セルの種類は、任意で選択でき、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等、種々のタイプの液晶セルが使用できる。これらの中でも、本発明の光学フィルムや偏光板は、特にＶＡ（垂直配向；Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）セルの光学補償に非常に優れているので、ＶＡモードの液晶表示装置用の視角補償フィルムとして非常に有用である。
【０１３６】
また、前記液晶セルは、通常、対向する液晶セル基板の間隙に液晶が注入された構造であって、前記液晶セル基板としては、特に制限されず、例えば、ガラス基板やプラスチック基板が使用できる。なお、前記プラスチック基板の材質としては、特に制限されず、従来公知の材料があげられる。
【０１３７】
また、液晶セルの両面に偏光板や光学部材を設ける場合、少なくとも一方の面に本発明の積層位相差板や積層偏光板を配置すればよく、それらは同じ種類のものでもよいし、異なっていてもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適当な部品を、適当な位置に１層または２層以上配置することができる。
【０１３８】
さらに、本発明の液晶表示装置は、液晶パネルを含み、前記液晶パネルとして、本発明の液晶パネルを使用する以外は、特に制限されない。光源を含む場合、特に制限されないが、例えば、光のエネルギーが有効に使用できることから、例えば、偏光を出射する平面光源であることが好ましい。
【０１３９】
本発明の液晶表示装置は、視認側の光学フィルム（積層偏光板）の上に、例えば、さらに拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層や保護板を配置したり、または液晶パネルにおける液晶セルと偏光板との間に補償用位相差板等を適宜配置することもできる。
【０１４０】
なお、本発明の積層位相差板やこれを備える前記積層偏光板は、前述のような液晶表示装置には限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）およびＦＥＤ（電界放出ディスプレイ：Ｆｉｅｌｄ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｄｉｓｐｌａｙ）等の自発光型表示装置にも使用できる。自発光型フラットディスプレイに使用する場合は、例えば、本発明の積層位相差板や前記積層偏光板の面内位相差値Δｎｄをλ／４にすることで、円偏光を得ることができるため、反射防止フィルターとして利用できる。なお、本発明の積層位相差板または積層偏光板を使用する以外は、特に制限されず、従来と同様の構成である。
【０１４１】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。
【０１４２】
（実施例１）
４，４’−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエーテルおよび２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンから合成された含フッ素アリールエーテルケトン重合体を、１５重量部となるようにメチルイソブチルケトン溶媒に溶解して、含フッ素アリールエーテルケトン重合体溶液を調製した。この溶液を、厚み約８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材上に塗布し、１３０℃で１分間加熱乾燥した。これによって、前記ＴＡＣ基材上に、厚み約３μｍの負の複屈折性を示す複屈折フィルムが形成された。前記ＴＡＣ基板上の前記複屈折フィルムを、アクリル系粘着剤によってガラス基板（厚み１．３ｍｍ）に接着し、前記ＴＡＣ基板を除去した。前記ガラス基板上の前記複屈折フィルム上に、さらに同様にして製造した複屈折フィルムとＴＡＣ基板との積層体を、複屈折フィルム同士が対向するように、前記アクリル系粘着剤によって接着し、前記ＴＡＣ基板を除去した。このような操作を繰り返し、前記複屈折フィルムが３層積層された積層位相差フィルム（厚み約９μｍ）を前記ガラス基板上に形成し、これをサンプルとした。
【０１４３】
（実施例２）
単層の複屈折フィルムの厚みを約４．５μｍとした以外は、前記実施例１と同様の方法で、ＴＡＣ基板と単層複屈折フィルムとの積層体を作製した。前記ＴＡＣ基板上の前記複屈折フィルムを、アクリル系粘着剤によってガラス基板（厚み１．３ｍｍ）に接着し、前記ＴＡＣ基板を除去した。前記ガラス基板上の前記複屈折フィルム上に、さらに同様にして製造した複屈折フィルムとＴＡＣ基板との積層体を、複屈折フィルム同士が対向するように、前記アクリル系粘着剤によって接着し、前記ＴＡＣ基板を除去した。このようにして前記複屈折フィルムが２層積層された積層位相差フィルム（厚み約９μｍ）を前記ガラス基板上に形成し、これをサンプルとした。
【０１４４】
（実施例３）
４，４’−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエーテルおよび９，９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＨＦ）から合成された含フッ素アリールエーテルケトン重合体を、１５重量部となるようにメチルイソブチルケトン溶媒に溶解して、含フッ素アリールエーテルケトン重合体溶液を調製した。実施例１で使用した重合体溶液に代えてこの溶液を使用した以外は、前記実施例１と同様にして、厚み約３μｍの複屈折フィルムを調製し、ガラス基板と、３層の複屈折フィルムからなる積層位相差フィルム（厚み約９μｍ）との積層体を作製し、これをサンプルとした。
【０１４５】
（実施例４）
単層の複屈折フィルムの厚みを約３．３μｍとした以外は、前記実施例１と同様の方法で、ＴＡＣ基板と単層複屈折フィルムとの積層体を作製した。この積層体（前記ＴＡＣ基材と複屈折フィルムとを共に）について、１５０℃で自由端一軸延伸を行った。延伸倍率は、延伸方向における、未延伸の前記積層体の長さに対して１．１倍とした。また、延伸後の積層体における複屈折フィルムの厚みは、約３μｍであった。この延伸後の積層体を用いて、前記実施例１と同様にして、ガラス基板と、３層の延伸済み複屈折フィルムからなる積層位相差フィルム（厚み約９μｍ）との積層体を作製し、これをサンプルとした。
【０１４６】
（実施例５）
単層の複屈折フィルムの厚みを約３．３μｍとした以外は、前記実施例３と同様の方法で、ＴＡＣ基板と単層複屈折フィルムとの積層体を作製した。この積層体を前記実施例４と同様に自由端一軸延伸を行い、この延伸後の積層体を用いて、前記実施例４と同様にして、ガラス基板と、３層の延伸済み複屈折フィルムからなる積層位相差フィルム（厚み約９μｍ）との積層体を作製し、これをサンプルとした。なお、延伸後の積層体における前記延伸済みの複屈折フィルムの厚みは、約３μｍであった。
【０１４７】
（比較例１）
複屈折フィルムの厚みを約９μｍとした以外は前記実施例１と同様の方法によって、ＴＡＣ基板上に単層の複屈折フィルム（厚み約９μｍ）を形成した。このＴＡＣ基板上の複屈折フィルムを、前記アクリル系粘着剤によってガラス基板（厚み１．３ｍｍ）に接着し、前記ＴＡＣ基板を除去した。このガラス基板と複屈折フィルムとの積層体を、サンプルとした。
【０１４８】
（比較例２）
複屈折フィルムの厚みを約９μｍとした以外は前記実施例３と同様の方法によって、ＴＡＣ基板上に単層の複屈折フィルム（厚み約９μｍ）を形成した。そして、比較例１と同様にして、ガラス基板と前記複屈折フィルムとの積層体を調製し、これをサンプルとした。
【０１４９】
（比較例３）
延伸後の複屈折フィルムの厚みを約９μｍとした以外は、前記実施例４と同様の方法によって、ＴＡＣ基板上に単層の延伸済み複屈折フィルム（厚み約９μｍ）を形成した。そして、この延伸済み積層体を用いて、前記比較例１と同様にして、ガラス基板と前記延伸済み複屈折フィルムとの積層体を調製し、これをサンプルとした。
【０１５０】
（比較例４）
延伸後の複屈折フィルムの厚みを約９μｍとした以外は、前記実施例５と同様の方法によって、ＴＡＣ基板上に単層の延伸済み複屈折フィルム（厚み約９μｍ）を形成した。そして、前記比較例３と同様にして、ガラス基板と前記延伸済み複屈折フィルムとの積層体を調製し、これをサンプルとした。
【０１５１】
以上のようにして得られた実施例１〜５、比較例１〜４のサンプルについて、以下の方法によって面内位相差および厚み方向位相差の測定を行った。
【０１５２】
（位相差の測定方法）
サンプルの面内位相差Δｎｄ、および厚み方向位相差Ｒｔｈは、それぞれ自動複屈折計（王子計測機器製：商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ）により、５９０ｎｍにおける位相差として測定した。これらの結果を下記表１に示す。なお、下記表において、実施例１〜５の面内位相差および厚み方向位相差は、積層位相差フィルムとガラス板との積層体に関する面内位相差（Δｎｄ’）、厚み方向位相差（Ｒｔｈ’）を示す。
【０１５３】
（表１）
2004046097.tif 000019
【０１５４】
（光学特性の評価）
表１に示すように、実施例の積層位相差板によれば、同じ厚みの単層位相差フィルム（比較例）に比べて、大きな厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が得られた。また、実施例１および２からわかるように、単層の複屈折層を二層積層した実施例２は、比較例１に対して約１．４倍の厚み方向位相差が得られ、三層積層した実施例１によれば、比較例１に対して約１．７倍の厚み方向位相差が得られた。なお、実施例４および５に示すように、延伸フィルムを積層することによって、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）だけでなく、面内位相差（Δｎｄ）の向上も実現できた。
【０１５５】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、前記条件（Ｉ）〜（ＩＩＩ）を満たす光学補償層を二層以上積層することによって、薄型であり、かつ、厚み方向の位相差の大きい積層位相差板を得ることができる。このような積層位相差板は、例えば、液晶表示装置等のコントラスト比や視野角特性の改善に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の積層位相差板における屈折率を示す軸方向の概略を示す図である。
【図２】本発明の積層位相差板の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の積層位相差板の他の一例を示す断面図である。
【図４】本発明の積層偏光板の一例を示す断面図である。
【図５】本発明の積層偏光板の他の一例を示す断面図である。
【図６】本発明の積層偏光板のさらに他の一例を示す断面図である。
【図７】本発明の積層偏光板のさらに他の一例を示す断面図である。
【図８】本発明の液晶パネルの一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１、２、３　積層位相差板
４、５、６、７　積層偏光板
８　液晶パネル
１１　光学補償層
１２　接着層
２０　基材
２１　偏光子
２２　透明保護層
４０　液晶セル
【図１】
2004046097.tif 000020
【図２】
2004046097.tif 000021
【図３】
2004046097.tif 000022
【図４】
2004046097.tif 000023
【図５】
2004046097.tif 000024
【図６】
2004046097.tif 000025
【図７】
2004046097.tif 000026
【図８】
2004046097.tif 000027