(57)【要約】【課題】多層の情報記録層間の偏芯によるトラッキングエラーを改善でき、高密度のいわゆる次世代多層光ディスクにおいても確実に記録再生を行うことができる多層光ディスクを得る。【解決手段】中間層５１に対する、情報部を構成する凹凸パターンの形成工程を、互いに内径が相違するセンターホール４１、４２を有する、光情報記録層が積層されるディスク基板１と、転写凹凸パターンを有する転写基板３とを用意し、これらの位置設定を行う。この位置設定は、外周に円錐状テーパ部５Ｔを有するセンターピン５上に、ディスク基板１と転写基板３とを、その大なる内径のセンターホールを有する基板、小なる内径のセンターホールを有する基板の順に、中間層を介在させて対向させてセンターピンに嵌挿し、センターピン５を、その軸心方向に沿って移動させ、その移動途上において、内径が大のセンターホールを有する一方の基板を、基板載置台６に衝合させ、これに対して他方の基板を、を押圧して、上述した中間層に対する凹凸パターンの形成を行い、積層情報記録層の偏芯の低減化を図る。【選択図】　　　　図５
2004145984.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光情報記録層が積層されて成り、少なくとも１層の光情報記録層が、情報部を構成する凹凸パターンの形成された中間層を有する多層光ディスクの製造方法であって、
互いに内径が相違するセンターホールを有する、上記光情報記録層が積層されるディスク基板と、上記凹凸パターンを形成する転写凹凸パターンを有する転写基板とを、上記中間層を介して押圧して、上記転写凹凸パターンの反転パターンを上記中間層に転写して情報部を構成する凹凸パターンを形成する凹凸パターンの形成工程を有し、
該凹凸パターンの形成工程に先立って、
外周に円錐状テーパ部を有するセンターピン上に、上記ディスク基板と上記転写基板を、その大なる内径のセンターホールを有する基板、小なる内径のセンターホールを有する基板の順に、かつ上記ディスク基板の光情報記録層を積層形成する面と上記転写基板の上記転写凹凸パターンを有する面とを、これら面間に中間層を介在させて対向させるように、上記センターピンの小径側から嵌挿し、上記両基板の各センターホールの内径と上記センターピンの外径とがそれぞれ一致する位置で両基板を、上記センターピンの軸心に沿う各位置に、それぞれ設定させる工程と、
上記センターピンを、上記両基板を相互に回転させることなく軸心方向に沿って大径側に移動させ、該移動途上において、上記内径が大のセンターホールを有する一方の基板を、基板載置台に衝合させて設定する工程と、
更に、上記センターピンの移動によって、上記中間層の介在のもとに、上記内径が小のセンターホールを有する他方の基板を、上記一方の基板に近接対向ないしは対接させる工程とを行うことを特徴とする多層光ディスクの製造方法。
【請求項２】
複数の光情報記録層が積層されて成り、少なくとも１層の光情報記録層が、情報部を構成する凹凸パターンの形成された中間層を有する多層光ディスクの製造装置であって、
互いに内径が相違するセンターホールを有する上記光情報記録層が積層されるディスク基板と上記凹凸パターンを形成する転写凹凸パターンを有する転写基板とが用いられ、
外周に先端側に向かって小径をなす円錐状テーパ部を有し、軸心に沿って可動構成とされたセンターピンと、
該センターピンの上記円錐状テーパ部の大径側への移動途上に配置された基板載置台とを有し、
上記センターピンは、該センターピンの先端側から、上記両基板のうち、大なる内径のセンターホールを有する基板、小なる内径のセンターホールを有する基板の順に、嵌挿することによって、上記両基板の各センターホールの内径と上記センターピンの外径とがそれぞれ一致する位置で両基板を、上記センターピンの軸心に沿う各位置に、それぞれ設定させる構成を有し、
上記センターピンにおける上記両基板の設定を、上記光情報記録層を積層形成する面と上記転写凹凸パターンとが、中間層を介在させて対向させた状態で設定し、
この設定状態で、上記センターピンを大径方向に移動させ、該移動途上において、上記大なる内径のセンターホールを有する上記基板を上記基板載置台上に載置し、続くセンターピンの上記大径方向の移動位置において、他方の基板を上記基板載置台上に載置された基板上に配置し、
上記基板間を上記中間層の介在のもとで押圧し、上記中間層に上記転写パターンの凹凸パターンを転写形成することを特徴とする多層光ディスクの製造装置。
【請求項３】
請求項２に記載の多層光ディスクの製造装置にあって、
上記基板載置台上に配置された上記両基板間の押圧を、上記両基板を挟んで上記載置台とは反対側から押圧する押圧手段を有することを特徴とする多層光ディスクの製造装置。
【請求項４】
請求項２に記載の多層光ディスクの製造装置にあって、
上記センターピンの円錐状テーパ部が、同一軸心を有する該複数の円錐状テーパ部を有し、先端側に位置する円錐状テーパ部が、基部側に位置する円錐状テーパより小なる外径を有することを特徴とする多層光ディスクの製造装置。
【請求項５】
請求項２に記載の多層光ディスクの製造装置にあって、
上記基板載置台が、これに載置される基板を吸着固定する吸着手段を具備することを特徴とする多層光ディスクの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）　型または／およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）　型または／およびＲ型（Ｗｒｉｔｅ　Ｏｎｃｅ）型の複数の光情報記録層が積層されて成る多層光ディスクの製造方法および多層光ディスクの製造装置に係わる。
【０００２】
【従来の技術】
大記録容量の光ディスクとして、複数の光情報記録層が積層された構成による多層光ディスクの提供がなされている（例えば特許文献１参照）。
多層光ディスクにおいて、光情報記録層が高記録密度化されるに伴い、各光情報記録層に対する記録または／および再生（以下、単に記録再生と呼称する）がなされる記録再生装置のピックアップ装置による照射光は、記録トラック位置に対する追従、すなわちトラッキングに高い精度が要求される。したがって、高記録密度多層光ディスクにおいて安定した記録再生を行うには、各光情報記録層の偏芯は、より厳しく制限される。
【０００３】
通常、この多層光ディスクの製造においては、各光情報記録層を構成する基板の中心孔すなわちセンターホールを、基準センターピンに嵌合させることによって一致させて積層合体させるものであるが、実際には、センターホールの穿設の位置精度、このセンターホールの軸心と、光情報記録層の有効情報記録領域との位置関係の精度に依存し、必ずしも歩留り良く、しかも充分高い精度をもって偏心量の低減化を図ることができない。
【０００４】
この偏芯量の規定は、この多層光ディスクの記録再生装置におけるディスク駆動のディスク保持機構によって異なる。例えば２層の情報記録層を有する光ディスクの場合、ディスク中心に穿設されたセンターホールで位置設定がなされて回転する駆動態様による場合、各情報記録層の偏芯は、センターホールの中心からの偏芯量である場合が代表的である。すなわち、図１１に示すように、センターホール１００Ｃと同芯の円１００に対し、例えば下層および上層の情報記録層が左および右に破線１０１および１０２で示すように、変位している場合、下層情報記録層のピーク・トゥ・ピーク（以下ＰＰと記す）の偏芯量は、ａ１　＋ａ１　’であり、上層情報記録層の偏芯量（ＰＰ）は、ａ２　＋ａ２　’である。
これに対し、光ディスク上にチャッキングプレートを搭載する保持機構によるときは、情報記録層間の偏芯が問題となるものであり、両層間の偏芯量（ＰＰ）は、ａ１　＋ａ２　となる。
【０００５】
ところで、通常の、多層光ディスク、例えば第１および第２の２層の光情報記録層が積層された光情報記録ディスクの製造方法としては、それぞれ例えば射出成形によってセンターホールが形成されると共に、その各一主面の情報部に、所要の凹凸、例えば記録ピットや、案内溝等のグルーブ等を構成する凹凸パターンが形成された第１および第２のディスク基板が用意される。
これらディスク基板の第１および第２の光情報記録層は、それぞれ凹凸パターンの形成面に、反射膜や、例えば相変化材料層等を蒸着、スパッタ、スピンコート等によって形成されることによって情報の記録層が構成される。
【０００６】
そして、第１の基板のセンターホールに、センターピンを挿入させることによって、この基板を所定位置に設定し、この基板の、第１の光情報記録層を有する主面上にスピンコートによって例えば紫外線硬化樹脂による中間層を塗布する。
この状態で第２の基板を、その光情報記録層の形成面を中間層側として、第１の基板上に、第２の基板をそのセンターホールに、同様のセンターピンに挿入し、第２の基板を、第１の基板側、すなわち中間層側に押圧して、中間層によって第１および第２の両基板を接合一体化する。
このようにして、２層の光情報記録層が積層された光情報記録ディスクを作製する。
【０００７】
このような方法によって作製した、多層光ディスクは、第１および第２の両基板間の実質的偏芯量は、極めて大となる。
すなわち、この方法による場合、第１の光情報記録層を構成する基板における、そのセンターホールに対する第１の光情報記録層の信号部の偏芯量をα１　とし、第２の光情報記録層を構成する基板における、そのセンターホールに対する第２の光情報記録層の信号部の偏芯量をα２　とし、第１および第２の基板とこれらを保持するセンターピンの遊びすなわちクリアランスをそれぞれβ１　およびβ２　とするとき、上述したセンターピンを基準とする第１および第２のディスクの貼合わせによる製造方法によって得た多層光情報記録層ディスクにおける偏芯量は、上側の第２の基板における第２の光情報記録層の偏芯量は、最大α２　＋β１　＋β２　となる。したがって、いま、α１　およびα２　の偏芯量が３０μｍ、β１　およびβ２　の偏芯量（ＰＰ）が２０μｍであるとすると、上述した方法による場合、上層の第１の光情報記録層の偏芯量は、最大７０μｍとなる。
また、例えば一方、例えば第１の情報記録層の信号部を偏芯基準としたとき、第２の情報記録層の信号部の偏芯量は、最大α１　＋α２　＋β１　＋β２　となり、極めて大きな偏芯量となる。
【０００８】
因みに、例えばＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ　Ｄｉｓｃ）の規格書によれば、２層ＤＶＤにおける偏芯量は、ＰＰで１００μｍと規定されている。このＤＶＤに比し、より高密度化が図られている例えば照射光が４０５ｎｍ、対物レンズの開口数Ｎ．Ａ．が０．８５による高密度のいわゆる次世代光ディスクにおいては、より小さい偏芯量の、ＰＰで７５μｍ以下の偏芯量が要求される。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２６０３０７号公報（第５０頁、段落番号〔００７５〕から〔００７７〕）。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高密度記録による複数の光情報記録層が積層されてなる多層光ディスクにおいて、その各光情報記録層のそれぞれの偏芯量の改善、および複数の光情報記録層間相互の偏芯量の低減化を図り、更に複数の光情報層の積層形成において、信号等観察をすることなく、短時間で、偏芯量の小さいる多層光ディスクを得ることができるようにした多層光ディスクの製造方法および多層光ディスクの製造装置を提供するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、複数の光情報記録層が積層されて成り、少なくとも１層の光情報記録層が、情報部を構成する凹凸パターンの形成された中間層を有する多層光ディスクの製造方法であり、中間層に、情報部を構成する凹凸パターンの反転による転写凹凸パターンを有する転写基板を押圧して、転写凹凸パターンの転写いよって情報部を構成する凹凸パターンを形成する凹凸パターンの形成工程を有する。
この凹凸パターンの形成工程は、互いに内径が相違するセンターホールを有する、光情報記録層が積層されるディスク基板と、転写凹凸パターンを有する転写基板とを用意し、更に、凹凸パターンの形成工程に先立って、ディスク基板と転写基板の両基板の位置関係を設定する位置設定工程が採られる。
【００１２】
この位置設定工程は、外周に円錐状テーパ部を有するセンターピン上に、ディスク基板と転写基板とを、その大なる内径のセンターホールを有する基板、小なる内径のセンターホールを有する基板の順に、かつディスク基板の光情報記録層を積層形成する面と転写基板の転写凹凸パターンを有する面とを、これら面間に中間層を介在させて対向させるように、センターピンの小径側から嵌挿し、両基板の各センターホールの内径とセンターピンの外径とがそれぞれ一致する位置で両基板を、センターピンの軸心に沿う各位置で設定させる。
【００１３】
そして、センターピンを、両基板を相互に回転させることなく軸心方向に沿って大径側に移動させ、その移動途上において、内径が大のセンターホールを有する一方の基板を、基板載置台に衝合させて設定する工程と、更に、センターピンの移動によって、中間層の介在のもとに、内径が小のセンターホールを有する他方の基板を、先の一方の基板に近接対向ないしは対接させる工程とを経る。
その後、両基板を押圧して、上述した中間層に対する凹凸パターンの形成を行う。
【００１４】
また、本発明は、複数の光情報記録層が積層されて成り、少なくとも１層の光情報記録層が、情報部を構成する凹凸パターンの形成された中間層を有する多層光ディスクの製造装置であり、それぞれセンターホールが形成され、その内径が互いに相違する、光情報記録層が積層されるディスク基板と、凹凸パターンを形成する転写凹凸パターンを有する転写基板とが用いられる。
そして、本発明装置においては、外周に先端側に向かって小径をなす円錐状テーパ部を有し、軸心に沿って大径側に移動可能とされたセンターピンと、このセンターピンの円錐状テーパ部の大径側への移動途上に配置された基板載置台とを有して成る。
【００１５】
センターピンは、このセンターピンの先端側から、両基板のうち、大なる内径のセンターホールを有する基板、小なる内径のセンターホールを有する基板の順に、嵌挿することによって、両基板の各センターホールの内径とセンターピンの外径とがそれぞれ一致する位置で両基板を、センターピンの軸心に沿う各位置に、それぞれ設定させる構成を有し、センターピンにおける両基板の設定を、光情報記録層を積層形成する面と転写凹凸パターンとが、中間層を介在させて対向させた状態で設定するようになされる。
【００１６】
そして、この設定状態で、センターピンを大径方向に移動させ、その移動途上において、大なる内径のセンターホール有する基板を基板載置台上に載置し、続くセンターピンの大径方向への移動位置において、他方の基板を、基板載置台上に載置された基板上に配置する。
このようにして、両基板間を中間層の介在のもとで押圧し、この中間層に転写パターンの凹凸パターンを転写形成するものである。
【００１７】
上述した本発明製造方法および本発明装置によれば、光情報記録層を積層形成するディスク基板と、凹凸パターンを形成する転写基板とに互いに異なる内径を有するセンターピンを形成し、これら基板を円錐状テーパ部を有する共通のセンターピンに嵌挿して、それぞれのセンターピンの内径と、円錐状テーパ部の外径とが一致する位置に、両基板を設定するものであるが、この円錐状テーパの加工精度は高精度に行うことができることによって、両基板を高精度をもって、同一軸心上に配置される。
そして、この状態で、センターピンを軸方向移動させるものであるが、この場合、上述したセンターホールの内径と、センターピンの外径とが一致した状態での移動であることから、両基板は、その軸心位置が一致された状態で、移動される。したがって、センターピンの移動によって一方の基板を基板載置台に設定し、続いて、他方の基板を、これに接近させるものであるが、両者は、その軸心位置が正確に一致された状態を保持することができる。
したがって、転写基板とディスク基板の押圧によって、両者間に介在させた中間層に対する情報部を構成する凹凸パターンを高精度をもって形成することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明による多層光ディスクの製造方法および製造装置は、ディスク基板上に形成した第１の光情報記録層上に、更に、光情報記録層を積層形成するものであるが、この上層すなわち第２の光情報記録層を構成する記録ピットや、例えばトラッキング案内溝等の凹凸パターンを、ディスク基板上の第１の光情報記録層上に形成された中間層に対して転写基板を押圧して、この転写基板の転写凹凸パターンを中間層に転写することによって形成する。そして、これら積層を高い精度をもって行い、多層光情報記録層の相互の偏芯量を効果的に低減させるものである。
【００１９】
本発明製造方法の一実施形態を説明する。
まず、その理解を容易にするために、本発明方法において、その偏芯量についての考慮を導入しない場合での、多層光ディスクの製造方法の基本的方法を、図１の多層光ディスクの一例の要部の概略断面図と図２および図３の工程図を参照して説明する。しかしながら、本発明は、その基本的方法においても、この例に限定されるものではない。
【００２０】
図１に示される多層光ディスクにおいては、第１および第２の光情報記録層１１および１２を有して成る。
この例では、ディスク基板１の一主面に第１の光情報記録層１１が形成されている。
この第１の情報記録層１１は、図２に示すように、ディスク基板１を例えば射出成形によって形成し、その成形時に、第１の情報記録層１１を構成する第１の凹凸パターン、例えばトラッキング用のグルーブや、情報ピットによる凹凸パターン２１がディスク基板１の成形と同時に成形される。
この凹凸パターンは、このような射出成形によらず、例えばディスク基板１上に、紫外線硬化樹脂層等を形成し、いわゆる２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ　法）　によって第１の情報記録層を構成する凹凸パターンを形成することもできる。
そして、この凹凸パターン上に反射膜や情報記録層の例えば相変化材料層等の第１の材料層３１が被着形成されて第１の情報記録層１１が形成される。
【００２１】
そして、この第１の情報記録層１１上に、第１の中間層５１を堆積する。
この第１の中間層５１の表面に、図３Ａに示すように、第２の情報記録層１２を構成するグルーブや、情報ピットによる第２の凹凸パターン２２を形成する。
この第２の凹凸パターン２２の形成は、図２に示すように、第１の中間層５１に形成すべき凹凸パターン２２が反転した転写凹凸パターン２を有する転写基板３を、第１の中間層５１に対して押圧することによって形成する。
【００２２】
図３Ｂに示すように、第２の凹凸パターン２２上に、反射膜や光情報記録層の例えば相変化材料層等の第２の材料層３２が被着形成されて第２の情報記録層１２が形成される。
そして、この最上層の第２の光情報記録層１２上に、光透過性の保護層４を形成する。
【００２３】
上述した例では、第１および第２の光情報記録層１１および１２の２層による多層光ディスクであるが、２層以上の例えば図４にその一例の概略断面図を示すように、３層の光情報記録層１１〜１３が形成された多層光ディスクを構成する場合等に適用できる。この場合においては、図２および図３で説明した工程の後に、この第２の光情報記録層１２上に、更に第２の中間層５２が形成される。
そして、この第２の中間層２２に対して、第３の光情報記録層１３を構成する第３の凹凸パターンが反転した転写凹凸パターンを有する転写基板（図示せず）によって第２の中間層２２に対してその転写凹凸パターンを押圧することによって第３の光情報記録層を構成する凹凸パターン２３を形成し、これに反射膜や光情報記録層の例えば相変化材料層等の第３の材料層３３を形成することによって第３の光情報記録層１３を形成し、この上に、光透過性の保護層４を形成する。
【００２４】
本発明による多層光ディスクの製造方法で適用される方法の基本的方法では、上述したように、中間層に対する各情報記録層を構成する凹凸パターンの形成を、これら凹凸パターンの反転凹凸パターンによる転写凹凸パターンを有する転写基板、いわゆるスタンパの押圧によって形成する方法が適用される。
【００２５】
これら中間層５１および５２は、光透過性を有する材料層によって構成される。これら中間層５１および５２は、紫外線硬化樹脂の塗布、紫外線硬化フィルムの堆積、紫外線硬化粘着材の塗着等によってディスク基板１上に配置もしくは被着される。しかしながら、これら中間層は、これら中間層に対する押圧転写がなされる転写基板３の転写凹凸パターン２側に、配置して置くこともできる。
そして、転写基板の押圧工程の後に、中間層に対して例えば紫外線照射等による硬化処理を行う。この中間層は、固体、液体、ゲル状を問わない。
その後、転写基板を、各硬化処理後に、各中間層から剥離する。すなわち、中間層は、転写基板の転写凹凸パターンからの剥離性が、ディスク基板上に形成されている光情報記録層に対する剥離性に比して充分高い。
【００２６】
これら中間層５１、５２に対する硬化処理の紫外線照射は、ディスク基板１もしくは上述した各転写基板の例えば一方を、例えばプラスチックによる光透過性とし、これらディスク基板１もしくは転写基板を通じて行うことができる。
この場合、転写基板が光透過性を必要としない場合は、金属スタンパとすることができる。
【００２７】
また、この中間層５１および５２は、上述したように、押圧工程および硬化処理の後において、転写基板を中間層５１および５２から、容易に、かつ各中間層５１および５２の表面性を阻害することなく剥離することができるように、転写基板に対して剥離性に富む材料によって構成する。
【００２８】
このような剥離性を得る方法としては、上述した紫外線硬化性フィルムによる中間層２１、２２に対して接着性に劣る、すなわち剥離性を有する例えば環状ポリオレフィンによって転写基板を構成するとか、その転写凹凸パターン表面に形成する。あるいは中間層２１、２２を構成する上述した紫外線硬化性フィルムや紫外線硬化性粘着材との接着性を低下させる方法が採られる。具体的には、紫外線これらの分子量を高める、すなわち硬度を上げることによって接着性を下げるなどの方法を採ることができる。
しかしながら、この場合、第１および第２の中間層の、第１および第２の情報記録層に対する被着強度が低下するおそれがある場合においては、これら中間層を２層構造とし、下層側に、第１および第２の情報記録層に対して接着性の高い例えば紫外線硬化フィルムを配置し、転写基板との剥離性が良い紫外線硬化フィルムを配置する。
この場合、一方の紫外線フィルムのみを硬化した状態で貼り合わせることによって両者の接着力を高めることができる。
【００２９】
転写基板は、上述した環状ポリオレフィンに限られるものではなく、例えばポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、鎖状ポリオレフィン樹脂、変成アクリル樹脂等によって構成することができる。
【００３０】
また、保護層４は、紫外線硬化樹脂をディスク基板１の最上層に直接スピンコートし、紫外線照射によって形成することができる。
あるいはポリカーボネート（ＰＣ）樹脂等のプラスティックフィルムをディスク基板１の最上層に貼り付けることによって保護層４の形成を行うことができる。このプラスティックフィルムの貼り付け方法としては、紫外線硬化樹脂層を介して貼着し、この紫外線硬化樹脂層を紫外線照射によって硬化する方法、あるいはプラスティックフィルムを粘着剤を介して貼着する方法、または紫外線硬化フィルムを貼合わせ、これ自体紫外線照射によって硬化することによって保護層４とするなどの方法によることがある。
【００３１】
この多層光ディスクの、各情報記録層に対する記録再生は、図１、図４に、矢印Ｌをもって模式的に示すように、保護層４側からの光照射、例えば３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、例えば４０５ｎｍのレーザ光の照射を、各情報記録層に対して所要の集光がなされるように、対物レンズ（図示せず）の焦点位置の選定によって行う。
すなわち、保護層４および中間層２１、２２は、照射光Ｌに対し光透過性とされ、この光照射方向に関して最も深い位置にある第１の情報記録層１１以外の情報記録層１２、１３は、例えば所要の反射率および透過率を有する構成とし、例えば第１の情報記録１１は十分高い反射率を有する構成とすることができる。
【００３２】
ところで、実際の光ディスクの記録再生装置では、光ディスク上の記録情報を読み出す、すなわち再生するには、光ディスク上に渦巻状に記録された記録トラック上に沿って光ピックアップによる再生光を走査して、記録トラック上の記録情報を再生する。このとき、渦巻状に記録された情報は、隣合う信号間の距離が極めて小さく、およそ１μｍ以下であるため、隣り合う記録トラックは、ほぼ同心円とみなすことができる。光ピックアップのトラッキング性能等には、限界があることから、特に高密度記録による多層光ディスクにおいては、各情報記録層ごとの情報記録トラックは、上述した同心円からのずれ、すなわち、偏芯量ができるだけ小さいことが必要となる。
【００３３】
そこで、本発明製造方法においては、上述した各中間層に対して凹凸パターンを形成する転写基板の押圧工程における各転写基板とディスク基板との位置関係の設定において、両基板の偏芯量に基く、上述したディスク基板１上に形成されている例えば第１の光情報記録層１１と、その後、転写基板によって転写形成される第２の光情報記録層１２以降とを、最小の偏芯量にとどめることができるようにする。
【００３４】
すなわち、本発明製造方法においては、光情報記録層を形成するディスク基板と転写基板とを、同一軸心の円錐テーパ部を外周に形成したセンターピンを、両基板のいわば保持治具とするものであり、このようにすることにより両基板を同一軸心上に配置する。ディスク基板の、光情報記録層を形成する側の面あるいは転写基板の転写凹凸パターンを有する面、もしくはその両面に、転写凹凸パターンの押圧によって凹凸パターンの転写を行うことができる中間層を塗布もしくは配置する。そして、この状態を維持したままディスク基板と転写基板とを、押圧して、両基板間の中間層に凹凸パターンの転写を行うものであり、このようにすることによって、各光情報記録層間の偏芯量を低減することをを基本原理とするものである。
【００３５】
本発明装置の一例を、図５に示す一部を断面とする構成図を参照して説明する。
本発明装置は、互いに内径が相違するセンターホール４１および４２を有するディスク基板１と、凹凸パターンを形成する転写凹凸パターン２を有する転写基板３とが用いられる。
一方、センターピン５が例えば垂直方向に配置される。このセンターピン５は、その軸心方向すなわちこの例では垂直方向に移動できる可動センターピン構成とする。
このセンターピン５は、その外周にセンターピン５の先端に向かって小径をなす円錐状テーパ部５Ｔが形成され、更に、大径側にこの大径と同一外径を有する円筒面状部５Ｃが形成される。
このセンターピン５は、図６Ａで拡大して示すように、その円錐状テーパ部５Ｔが、小径の第１の円錐状テーパ部５Ｔ１　と、この第１の円錐状テーパ部５Ｔ１　の大径端より更に大径の第２の円錐状テーパ部５Ｔ２　とが同軸心に一体に形成された構成とした場合である。
因みに、同軸心をもって形成される円錐状テーパ部５Ｔ、すなわち第１および第２の円錐状テーパ部５Ｔ１　および５Ｔ２　の外周面は、全体として高精度をもって軸心に対して無限対称に、すなわち各部一様に同一軸心として加工形成することができる。
【００３６】
そして、このセンターピン５の大径側への移動途上に、水平方向に基板の際し面６Ｓを有する基板載置台６が配置される。この基板載置台６の中心には、この基板載置台６の基板載置面と直交するすなわち垂直方向に延びるセンターピン５の案内孔７が穿設され、この案内孔７内にセンターピン５が挿通されて、センターピン５がこの案内孔７内に沿って、すなわちその軸心方向に沿って移動可能に構成される。
基板載置台６には、その基板載置面には、基板を吸着固定する吸着手段９、例えば真空ポンプによって排気される複数の細孔が配列され手成る吸着手段、静電的もしくは磁気的吸着手段が配置される。
【００３７】
一方、ディスク基板１と転写基板３との押圧を行う押圧手段７を設ける。この押圧手段７は、例えば円盤状の押圧パッド等の弾性押圧体７Ｐが、その支持体７Ｓによって支持され、かつ所要の押圧力をもって下方に移動するように構成される。
弾性押圧体７Ｐは、シリコンゴム、ウレタンゴム、ゲルなどの弾性パッド、あるいはローラーによって構成される。
そして、基板載置台６は、この押圧手段７の押圧パッド７Ｐ下に移動することができる移動台構成とされる。
【００３８】
次に、図７を参照して、この本発明装置によって、ディスク基板１上に、情報記録層を積層形成する方法と同時に、本発明装置の各部の変形例とについて説明する。
【００３９】
この例では、センターピン５に対するディスク基板１と、転写基板３との設定を、基板載置台６側にディスク基板１を配置し、この上に転写基板３が配置されるようにした場合である。したがって、この場合、ディスク基板１のセンターホール４１の内径が、転写基板３のセンターホール４２の内径より大に選定される。
ディスク基板１には、例えば図３Ａで説明したように、第１の光情報記録層１１が形成されている。そして、この例では、このディスク１の第１の光情報記録層１１上に、前述した材料および構成による中間層５１が配置されている。
【００４０】
まず、図７Ａに示すように、第２の大径の円錐状テーパ部５Ｔ２　に、ディスク基板１を、そのセンターホール４１にセンターピン５を嵌挿して配置する。このとき、円錐状テーパ部５Ｔ２　の外径と、センターホール４１の内径が一致する位置で保持される。すなわちディスク基板１の中心軸と、センターピン５の軸心とが正確に一致した状態で、ディスク基板１の板面がセンターピン５と直交する水平面に配置保持される。
【００４１】
しかしながら、この場合、基板１が、センターピン５に対して垂直に即座に設定されるように、図８に示すように、基板載置面６Ｓに水平保持治具８を、複数個例えば３個センターピン５を中心に等角間隔をもって基板載置面６Ｓから突出および後退するように出没可能に配置することができる。
この水平保持治具８は、後述するセンターピン５の大径部側移動による基板載置台６内への移動と同時に基板載置面６Ｓから後退もしくは後退排除させるか、あるいは基板載置面６Ｓ上に例えばディスク基板１が載置される直前等に後退排除させる。
【００４２】
次に、図７Ｂに示すように、転写基板３をセンターピン５に、転写基板３のセンターホール４２内に、径の第１の円錐状テーパ部５Ｔ１　を嵌挿させて配置する。このときにおいても、第１の大径の円錐状テーパ部５Ｔ１　の外径と、転写基板３のセンターホール４２の内径が一致する位置で、転写基板３が保持される。すなわちディスク基板１の中心軸と、センターピン５の軸心とが正確に一致した状態で、ディスク基板１の板面がセンターピン５と直交する水平面に配置保持される。
この場合においても、図示しないが、転写基板３の板面が即座にセンターピン５の軸心と直交する、水平面上に配置する水平保持軸を配置することができる。
【００４３】
このようにして、ディスク基板１および転写基板３は、センターピン５のテーパー部５Ｔによって、それぞれセンターピン５の軸心と一致され、したがって、両基板１および３は相互にその中心軸が一致される。
【００４４】
このように、ディスク基板１および転写基板３の中心軸の一致が図られて後、図７Ｃに示すように、センターピン５を、その軸心に沿って後退、基板載置台６に沈み込ませる。このようにすると、ディスク基板１および転写基板３も同時に基台載置台６に近付き、先に大径の第２の円錐状テーパ部５Ｔ２　で保持されているディスク基板１が、先に基台載置台６の基台載置面６Ｓ上に衝合して停止する。この状態で、ディスク基板１は、転写基板３およびセンターピン５との中心が一致した状態のまま、基台載置台６の基板載置面６Ｓに、例えば吸着手段９によって保持される。
その後、もしくはその前に、基板載置台６を例えば図５で示した押圧手段７の弾性押圧体７Ｐ下に移動させる。
【００４５】
そして、図７Ｄに示すように、この弾性押圧体７Ｐを降下して、転写基板３を基台載置台６上のディスク基板１に向かって押圧して、中間層５１に、転写基板３の転写凹凸パターン２を転写し、情報記録層を構成する凹凸パターンを転写形成する。
このとき、転写基板３は、センターピン５によって、その軸心位置が保持された状態で、すなわちセンターピン５の軸心と一致し、これによってディスク基板１の軸心と一致した状態で、ディスク基板１上の中間層５１に押圧されるように、センターピン５と共に降下させる。
【００４６】
このように、センターピン５は、ディスク基板１および転写基板３と共に移動、すなわち降下させることが必要となる。このセンターピン５の移動降下は、弾性押圧体７Ｐが、転写基板３に衝合してこれを押圧する動作によって、センターピン５の先端に直接的衝合させるか、あるいは転写基板３を介してセンターピン５に伝達して、センターピン５を強制的に転写基板３と共に降下させるようにすることができる。
あるいは、例えば弾性押圧体７Ｐの降下の動きを、例えば図９に示すように、センターピン７Ｐに連結したレバー１０に伝達させてセンターピン７Ｐの降下動作を行うようにすることができる。
【００４７】
尚、中間層として液体状の材料を扱う際は、転写基板３中間層５１に押し当てた後に、中間層５１の粘度により転写基板３が動かないうちに中間層５１を硬化する必要がある。そのために、弾性押圧体７Ｐによって転写基板３を押圧した後、ディスク基板１を、基板載置面６Ｓに保持したままで直ちに紫外線を照射して、更に転写基板３に、関してその位置を設定維持することができる機構を付加することによって、中間層５１と転写基板３間のずれを防ぐ。
【００４８】
このようにして、ディスク基板１と転写基板の中心を一致させたままで、転写基板３の記録情報に基く転写凹凸パターンの信号を中間層５１に転写することができる。すなわち、層間偏芯を効果的に小さくすることができる。
【００４９】
例えば２層の情報記録層による光ディスクを作製する場合、ディスク基板１に存在するセンターホール４１に対する信号部の偏芯量をα１、転写基板３に存在するセンターホール４２に対する信号部の偏芯量をα２、センターピン５に対するディスク基板１および転写基板３の各センターホール４１および４２のそれぞれのクリアランスをβ１およびβ２とすると、上述の本発明方法および本発明発明装置によるときは、センターピン５のテーパ部とセンターホール４１および４２の一致による保持によることから、β１およびβ２は０とみなすことができる。
また、ディスク基板１と転写基板３の中心位置は一致しているため、完成した２層ディスクのセンターホールに対する各層の偏芯量は、各々のセンターホールに対する偏芯量がそのまま維持される。
【００５０】
すなわち、多層ディスクを作製した状態でも、下の層の持つ、多層ディスクのセンターホールに対する偏芯量はα１のままであり、上の層の持つ多層ディスクのセンターホールに対する偏芯量はα２となる。
【００５１】
上述した例では、ディスク基板１と転写基板３との配置関係を、ディスク基板１が、下側、すなわち基板載置台６側となるように配置した場合であるが、これとは逆の配置関係とすることもできる。この場合は、ディスク基板１のセンターホールの内径が、転写基板３のセンターホールの内径より小に選定される。
【００５２】
本発明は、２層以上の多層ディスクを作製する場合においても、各層の偏芯量は、その層を形成するための転写基板の偏芯量のみがそのまま転写され、他の要因で偏芯量が増えることがない。そのため何層積層しても偏芯量が大きくなることが無く、多層ディスクの作製に有利である。
【００５３】
本発明では、信号を観察して位置合わせを行うという複雑なプロセスが無いことから、容易に多層ディスクを製造することができる。そのため、多層ディスクの製造に要する時間の短縮化が図られ、例えば５秒以下で転写作業を行うことができる。
【００５４】
尚、センターピン５のテーパー５Ｔの形状は、ディスク基板１および転写基板３を水平に保持するために、ディスク基板１および転写基板３に形成した内径が異なるセンターホールに応じて、形成されるが、センターピンの外径およびおよび基板の厚さには制約はなく、信号、すなわち記録情報に基く凹凸パターンを転写することができれば、どのようなサイズでもよい。
また、図５および図７で示した例においては、前述した図６Ａで示したように、その円錐状テーパ部５Ｔを、小径の第１の円錐状テーパ部５Ｔ１　と、この第１の円錐状テーパ部５Ｔ１　の大径端より更に大径の第２の円錐状テーパ部５Ｔ２　とが同軸心に一体に形成された構成とした場合であるが、図６Ｂで示すように、単一の円錐状テーパによって構成することもできる。
あるいは図示しないが、第１および第２の円錐状テーパ部の一方のみとし、他方をクリアランスの存在するセンターピン形状としても偏芯を抑制する効果がある。このときには、片側のクリアランス分だけ偏芯量の誤差が現れるが、ディスクに要求される偏芯量が小さい場合にはこのような構成とすることができる。
【００５５】
〔実施例１〕
この実施例における製造装置の要部の構成を図９に示す。
この実施例では、基板載置台６の基板載置面６Ｓに臨んでリング状の真空吸着孔を配置した構成とした。
センターピン５は、基板載置台６の中心に配置した案内孔に沿って案内移行する構成とした。
基台載置台６内部には、ばねおよび固定機構が内蔵されていて、センターピン５を基台載置台６内部に押し込んだ後ロックされて固定され、ロックを解除することによりセンターピン５が上部へせり出す構造とした。
【００５６】
ディスク基板１は、内径１５ｍｍのセンターホール４１が穿設され、厚さ１．２ｍｍ、外径１２０ｍｍのポリカーボネート製ディスク基板とした。
ディスク基板１は、その一主面に、溝状の凹凸が形成され、この上に、厚さ１００ｎｍ程度の相変化記録材料が形成された第１の情報記録層１１を形成した。そして、この上に厚さ２５μｍ程度の紫外線硬化型粘着剤による中間層５１を形成した。この中間層に転写基板３を押し当てることによりその転写凹凸の転写すなわち信号転写が可能な状態となっている。
【００５７】
転写基板３は、内径８．５ｍｍ、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの形状を有し、ポリオレフィン材料によって形成した。
この転写基板３は、その一方の面に、ディスク基板１上に、記録情報に基く凹凸パターンを転写するための、転写凹凸パターンが形成されている。
【００５８】
センターピン５は、先端側に先端に向かって小径とされた第１のテーパー部５Ｔ１　を有し、その大径側に、大径の第２のテーパー部５Ｔ２　が形成された２段構造とした。
テーパー部は、高さ４ｍｍで、第１のテーパー部５Ｔ１　は、高さ２ｍｍで、先端径が８．４、下部径が８．６、第２のテーパー部５Ｔ２　は、その小径側の径が１４．９ｍｍ、下側の径が１５．１ｍｍとした。
このセンターピン５には、レバー１０が連結され、これによって上下移動される構成とされている。
弾性押圧体７Ｐは、シリコンゴムよりなる底面の直径が２１０ｍｍ、高さ１００ｍｍとした。
【００５９】
この本実施例での具体的な手順は、次の通りとした。
まず、ディスク基板１をセンターピン５の第２のテーパー部５Ｔ２　に、情報記録層の転写がなされる側の面を基板載置台６とは反対側に配置した。このとき、センターピン５の第２のテーパー部５Ｔ２　の外径が、ディスク基板１のセンターホール４１の内径と一致したところで保持される。その後、基板載置台６とディスク基板１が平行になるように軽く押す。
ディスク基板１が基板載置台６と平行になった状態で固定されれば、ディスク基板１のセンターホール４１の中心軸と、センターピン５の中心軸が一致した状態となる。
【００６０】
次に、転写基板３をセンターピン５の上端の第１のテーパー部５Ｔ１　に保持させる。このとき、転写基板３は、その転写凹凸パターンを有する側を、ディスク基板１と対向る側に配置する。この転写基板３に関しても、センターピン５の第１のテーパー部５Ｔ１　の外径が、ディスク基板１のセンターホール４２の内径と一致したところで保持される。その後、基板載置台６とディスク基板１が平行になるように軽く押すことにより、センターホール４２の中心軸と、センターピン５の中心軸が一致した状態とすることができる。
【００６１】
その後、センターピン５をレバー１０により基板載置台６内に降下させる。このときに、ディスク基板１が真空吸着により基台載置台６に固定される。吸着されたディスク基板１は、センターピン５に対して中心軸が一致している状態のまま基板載置台６に保持される。
【００６２】
センターピン５をそのまま降下させて行く。転写基板３がセンターピン５に対して中心出しがなされた状態のままでディスク基板１上の紫外線硬化型粘着剤に接する。このとき、転写基板３は、紫外線硬化型粘着剤による中間層５１によりディスク基板１と接着され、センターピン５中心軸と転写基板３の中心軸が一致した状態のままで保持される。
【００６３】
その後、押圧手段の押圧体７Ｐのパッドを転写基板３の背面から押し当てることにより、転写基板３を中間層５１に押し当てる。これにより、転写基板３の構造を中間層５１の全面に押し当てる。
【００６４】
押圧体７Ｐにより転写基板３を紫外線硬化型粘着剤による中間層５１に十分押し当てた後、押圧体７Ｐを剥離する。このようにして転写基板３の押圧を完了する。
【００６５】
その後は、転写基板３を押圧した状態のディスク基板１に紫外線を照射することにより、紫外線硬化型粘着剤の中間層５１に転写基板３の転写凹凸パターンを転写し、転写基板を剥離することにより転写を完了する。
【００６６】
この実施例１による２層光ディスクを作製したときの、各層の偏芯量を測定した結果を、表１に示す。表１は、ディスク基板１のセンターホール４１に対するディスク基板１側に形成されている第１の情報記録層（以下Ｌ０と称す）、この上に積層された第２の情報記録層（以下Ｌ１と称す）の各偏芯量の測定結果を示している。また、表１には、従来のスピンコーティングによる２層ディスク作成法による偏芯量を併記してある。
【００６７】
【表１】
2004145984.tif 000003
【００６８】
表１に示すように、実施例１による２層光ディスクは、従来方法による２層光ディスクと比較してＬ１層の偏芯量が小さくなり、本発明の効果が示された。
【００６９】
〔実施例２〕
この実施例では、実施例１と同様の製造装置およびディスク基板１を用いた。
この実施例においては、先ず、ディスク基板１と転写基板３に存在する、センターホールに対する記録信号部の偏芯量を測定した。この測定により、各基板１および３について、信号が周内方向のどちらに偏っているが分かる。その後、層間の偏芯量が最小になるように各基板をセンターピンに配置した。具体的には、ディスク基板１および転写基板３の偏っている方向が一致するようにセンターピン５にディスク基板１および転写基板３を設置した。
【００７０】
その後の転写過程は、実施例１と同様に行った。
表２に、この実施例２により作製した２層光ディスクの、各偏芯量の測定結果を示す。
【００７１】
【表２】
2004145984.tif 000004
【００７２】
この実施例により、層間の偏芯を１０μｍという小さい値にできることが分かった。また、この実施例は、実施例１と同様の方法で２層光ディスクを作製したことから、各層のディスク基板１センターホールに対する偏芯量も、実施例１に示されるように小さい。
【００７３】
〔実施例３〕
この実施例で用いた装置の基本構造は、図１０に示すように、実施例１に、ディスク基板１を基板載置台６の基板載置面６Ｓと平行に保つ治具８を設けた場合である。
【００７４】
この実施例では、リング形状の水平保持治具８を、基板載置台６上に配置した。この水平保持治具８は、基板載置台６内に沈む構造を持つ。また、リング状の水平保持治具８は、センターピンを中心に、内径の異なる２組が配置されていて、それぞれディスク基板１および転写基板３の平行を出すために用いられる。
【００７５】
この実施例では、２つの水平保持治具８を用いるために、ディスク基板１および転写基板３の外形を変えている。具体的には、ディスク基板１の外径を１２０ｍｍ、転写基板３の外径を１２８ｍｍとした。
そのほかは、実施例１と同様とした。
【００７６】
すなわち、ディスク基板１として、内径１５ｍｍのセンターホールが穿設された、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート製ディスク基板１を用いた。ディスク基板１の一主面に、溝状の凹凸が形成され、この凹凸面上に、１００ｎｍ程度の相変化記録材料が形成された第１の情報記録層１１を形成した。そして、この上に厚さ２５μｍ程度の紫外線硬化型粘着剤による中間層５１を形成した。この中間層に転写基板３を押し当てることによりその転写凹凸の転写。すなわち信号転写が可能な状態となっている。
【００７７】
転写基板３は、内径８．５ｍｍ、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの形状を有し、ポリオレフィン材料によって形成した。
この転写基板３は、その一方の面に、ディスク基板１上に、記録情報に基く凹凸パターンを転写するための、転写凹凸パターンが形成されている。
また、押圧体７Ｐも実施例１と同様の構成とした。
【００７８】
次に、この実施例において行った製造手順を説明する。
まず、ディスク基板１を、センターピン５の下側の第２のテーパー部５Ｔ２　に置く。このディスク基板１をの設置は、その情報記録層を有する側を基板載置面６Ｓとは反対側に向けて配置した。
この場合、前述したと同様に、ディスク基板１のセンターホールの内径とテーパーの外径が一致したところで止まる。このとき、平行治具すなわち水平保持治具８がディスク基板１に接触することにより、ディスク基板１が水平状態に保たれる。ディスク基板１が基台載置台６と平行になった状態で固定されれば、ディスク基板１センターホール中心軸とセンターピン５の中心軸が一致した状態となる。
【００７９】
次に、転写基板３をセンターピン５の第１のテーパー部あ５Ｔ１　で保持させる。転写基板３は、転写信号が存在する面すなわち転写凹凸を有する面をディスク基板１と対向させて配置する。
このときも、ディスク基板１の設置時と同様に、転写基板３と基板載置台６が平行になるように平行治具すなわち水平保持治具８に転写基板３を接触させる。
【００８０】
その後、センターピン５をレバー１０により基板載置台６内に降下させる。このとき、水平保持治具８も基板載置台６内に降下する。この働きにより、ディスク基板１および転写基板３が平行を保ったままで基板載置台６上に近づく。
【００８１】
センターピン５が、基板載置台６に降下すると、先ずディスク基板１が真空吸着により基台載置台６に吸着固定される。このとき、ディスク基板１は、センターピン５に対して軸心が一致している状態で基板載置台６に保持される。
【００８２】
センターピン５をそのまま降下させてゆくと、転写基板３がセンターピン５に対して中心出しされた状態のままでディスク基板１上の紫外線硬化型粘着剤すなわち中間層にに接する。このとき、転写基板３は中間層によりディスク基板１と接着され、センターピン５中心軸と転写基板３の中心軸とが一致した状態のままで保持される。
【００８３】
その後、押圧体７Ｐを転写基板３に押し当てることにより、転写基板３を中間層の紫外線硬化型粘着剤に押し当てる。これにより、転写基板３の転写凹凸パターンが中間層に転写されこれに凹凸パターンすなわち信号部が形成される。
【００８４】
押圧体７Ｐを十分押し当てた後、押圧体７Ｐを剥離して転写基板３の押し当てが完了する。
その後は、転写基板が押し当てられた状態のディスク基板１に紫外線を照射することにより、第２の情報記録層を構成する凹凸パターンの転写が完了する。
【００８５】
この実施例３によって２層光ディスクを作製したときの、各層の偏芯量を測定した結果を表３に示す。従来のスピンコーティングによる２層光ディスク作製法による偏芯量を併記した。
【００８６】
【表３】
2004145984.tif 000005
【００８７】
表３に示すように、この実施例においても、従来方法による場合に比しＬ１層の偏芯量が小さくなり、本発明の効果が示された。
【００８８】
このように、本発明方法およびこれを実施する本発明装置によれば、ディスク基板のセンターホールに対する上層の情報記録層の偏芯量の低減化を図ることができる。更に、転写基板３とディスク基板１の回転方向の規定によって、積層された光情報記録層相互の情報部間の偏芯についてもその改善が図られる。
【００８９】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば、ディスク基板のセンターホールに対する上層の情報記録層の偏芯量の低減化を図ることができ、更に、転写基板３とディスク基板１の回転方向の規定によって、積層された光情報記録層相互の情報部間の偏芯についてもその改善が図られることから、記録再生装置が、ディスクのセンターホールを中心とする回転駆動による場合でも、チャッキングプレートが搭載される駆動態様が採られる場合のいずれにおいても、偏芯によるトラッキングエラーを改善でき、高密度のいわゆる次世代多層光ディスクにおいても確実に記録再生を行うことができる多層光ディスクを提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明製造方法および装置によって得る多層光ディスクの一例の要部の概略断面図である。
【図２】本発明製造方法の一例の一工程における概略断面図である。
【図３】ＡおよびＢは、それぞれ本発明製造方法の一例の一工程における概略断面図である。
【図４】本発明製造方法および装置によって得る多層光ディスクの他の一例の要部の概略断面図である。
【図５】本発明装置の一例の概略断面図である。
【図６】ＡおよびＢは、本発明装置のセンターピンの各例の側面図である。
【図７】Ａ〜Ｄは、本発明装置の動作図である。
【図８】本発明装置の他の例の概略断面図である。
【図９】本発明装置の更に他の例の概略断面図である。
【図１０】本発明装置の更に他の例の概略断面図である。
【図１１】光ディスクの偏芯状態の説明図である。
【符号の説明】
１・・・ディスク基板、２・・・転写凹凸パターン、３・・・転写基板、４・・・保護層、５・・・センターピン、５Ｔ１　・・・第１のテーパー部、５Ｔ２　・・・第２のテーパー部、６・・・基板載置台、６Ｓ・・・基板載置面、７・・・押圧手段、７Ｐ・・・押圧体、８・・・水平保持治具、９・・・吸着手段、１０・・・レバー、１１・・・第１の情報記録層、１２・・・第２の情報記録層、１３・・・第３の情報記録層、２１・・・第１の凹凸パターン、２２・・・第２の凹凸パターン、２３・・・第３の凹凸パターン、３１・・・第１の材料層、３２・・・第２の材料層、３３・・・第３の材料層
【図１】
2004145984.tif 000006
【図２】
2004145984.tif 000007
【図３】
2004145984.tif 000008
【図４】
2004145984.tif 000009
【図５】
2004145984.tif 000010
【図６】
2004145984.tif 000011
【図７】
2004145984.tif 000012
【図８】
2004145984.tif 000013
【図９】
2004145984.tif 000014
【図１０】
2004145984.tif 000015
【図１１】
2004145984.tif 000016