(57)【要約】【課題】ディスクのスピンコーティング時に用いるマスクに関して、洗浄時における当該マスクの破損等を防止し得るスピンコーティング装置を提供する。【解決手段】スピンナー上に載置されたディスク体上にマスクを載置し、スピンコーティングを行った後、ディスク体上から除去された単独のマスクに対して、直ちに洗浄、リンス、および乾燥の処理を連続的に行い、さらに当該処理後のマスクを連続的に次なるスピンコーティングプロセスに供給する構成とする。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク体の中央付近に液状材料を供給し、ディスク体を回転させて遠心力により該液状材料を展延させ、ディスク体上に前記液状材料の塗膜を形成するスピンコーティングを行うための装置であって、
ディスク体を保持して回転するスピンナー機構と、
前記スピンナー機構において前記ディスク体が回転される際に前記ディスク体の中心およびその近傍を覆うマスクをディスク体上に供給し、且つ前記ディスク体の回転終了後に前記ディスク体上から前記マスク取り去るためのマスク供給排除機構と、
前記スピンナー機構において前記ディスク体およびマスクが保持され回転される際に、前記ディスク体およびマスクの少なくとも一方の上面に前記液状材料を供給するディスペンサ機構と、
前記マスク供給排除機構から、前記液状材料が付着したマスクを受け取り、前記受け取ったマスクに付着した液状材料を洗浄除去し、前記洗浄済みのマスクを前記マスク供給排除機構に受け渡す洗浄機構とを有することを特徴とするスピンコーティング装置。
【請求項２】
前記マスク供給排除機構は、前記マスクを把持および解放するチャック機構を有するマスク供給アームと、前記マスク供給アームとの間で前記マスクの授受を行うと共に間欠的に所定角度づつ回転するマスクテーブルとを有することを特徴とする請求項１記載のスピンコーティング装置。
【請求項３】
前記洗浄機構は、前記マスクを洗浄するための洗浄剤を有する少なくとも一つの洗浄部、前記マスクに付着した前記洗浄剤をリンスするためのリンス部、およびリンス後の前記マスクを乾燥するための乾燥部、および前記マスクを把持し前記洗浄部、リンス部および乾燥部に対して前記マスクを挿入する搬送アームを有することを特徴とする請求項１記載のスピンコーティング装置。
【請求項４】
前記洗浄部、リンス部および乾燥部は、所定の半径を有する略円周上に所定角度おきに配置され、前記搬送アームは前記円周の中心を回転中心として前記所定角度づつ間欠的に回転すると共に回転停止時において前記マスクを前記洗浄部、リンス部および乾燥部に挿入することを特徴とする請求項３記載のスピンコーティング装置。
【請求項５】
請求項１乃至４何れかに記載のスピンコーティング装置を用いてコーティングが施されたディスク体。
【請求項６】
ディスク体上に少なくともスピンコーティングにより塗膜を形成し、ディスク状記録媒体を製造する方法であって、
特定軸を中心として回転可能なスピンナー上に前記ディスク体を載置し、
マスクの供給および受け取り用位置と少なくとも一つのマスクの待機位置とを有するマスクテーブル上から前記マスクを前記ディスク体上の略中央部に載置し、
前記ディスク体およびマスクの少なくとも一方の上面への前記コーティング材を供給し、前記スピンナーを回転させ、前記コーティング剤を展延させて前記塗膜を形成し、
前記マスクを前記ディスク体上からの除去して前記マスクテーブルの供給および受け取り用位置に前記マスクを戻し、
前記ディスク体上の前記コーティング剤を固化させる工程を有し、
前記ディスク体上から除去されて前記マスクテーブル上に移された前記マスクに対しては、前記マスクテーブルと共にその位置が回転移動され、回転移動後の位置より前記マスク上に付着した前記コーティング剤の洗浄を行う少なくとも一つの洗浄部への挿入、前記マスクに付着した洗浄剤のリンスを行うリンス部への挿入、および前記マスクの乾燥を行う乾燥部への挿入の各処理が順次行われ、前記各処理を経たマスクが、順次更なるディスク体上に載置されることを特徴とするディスク状記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、略円板形状からなるディスク体上に、スピンコーティング法を用いて塗膜を形成する装置に関する。より詳細には、ＣＤ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷなどのＣＤ系ディスクやＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭなどのＤＶＤ系ディスクあるいは近年開発が進んでいるブルーレーザー対応ディスクなどの光ディスク、あるいはＭＯ、ＭＤなどの光磁気ディスクを製造する際において、スピンコーティング法を用いて成膜を行う際に用いるマスクを供給・排出および洗浄する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
スピンコーティングはディスク体の中心付近に液状材料を供給し、ディスク体を回転させて回転による遠心力で該液状材料を展延し、ディスク体表面に該液状材料の被膜を形成するという技術である。スピンコーティングは例えばコンパクトディスク、ＤＶＤ系ディスクなどの保護層の形成等に広く利用されている。
【０００３】
これらのディスクでは、ディスクドライブ装置への装着の際の芯だしのための穴（例えば１５φ）が形成されており、また射出成形時においてスタンパを保持するための溝などがあるため、ディスク基板の中心部には膜（層）を形成しない。そのためこれらのディスクにスピンコーティングの手法を用いて膜形成（塗膜）を行う際には、上記溝などよりも外周部分からコーティングを行う。より均一な塗膜が要求される場合は、ディスク基板の中心部をカバーするマスクを設けて、その上からコーティング剤を供給して塗膜を形成することにより、基板中心部にはコーティングが施されないようにする。
【０００４】
ディスクのスピンコーティング装置におけるマスクの使用例を図６に示す。図６はスピンコーティング装置のスピンナー上に設置されたディスクとその上に置かれたマスクとを示す断面図である。図示しないモータに接続されて回転駆動されるスピンナーシャフト２００上にスピンナーテーブル２０２が固定されている。スピンナーテーブル２０２の上にはスペーサ２０３が固定されており、その上にディスク２０４が置かれている。ディスク２０４は図示しない手段によりスペーサ２０３に真空吸着される。ディスク２０４の上にディスクの中心部をカバーするマスク２０６が置かれている。このとき、スピンナーテーブル２０２の上面中央部付近に設けられた輪状突起２０５とマスク２０６の輪状溝２０６ａが嵌合している。スピンコーティング時には、経路２１０を介してスピンナーテーブル２０２の中央部の空間２１２を真空とすることにより、マスク２０６を吸着保持する。
【０００５】
コーティングに際しては、マスクの中央部付近に上から液状のコーティング材料を供給する。その後ターンテーブルを高速で回転し、マスク上に供給されたコーティング材料を回転の遠心力によってディスク上のマスクでカバーされていない部分全面に展延する。これによりディスクの上記部分全体にほぼ均一な厚さでコーティング材料の膜（層）が形成される。以上の、スピンコーティングプロセスが終わると、マスクの真空吸着を解除してマスクが取り外される。
【０００６】
以上のように、ディスク上に膜形成を行った後、当該膜を硬化させるために、ディスク表面に対しての紫外線照射あるいはディスクの加熱等の処理が行われる。なお、近年開発が進められているブルーレーザ対応のＤＶＲディスク等においては、波長の短いブルーレーザを情報の読み出し等に用いることから、より均一の厚さでのコーティング材の塗布が求められる。本出願人は、このようなＤＶＲディスク等を製造するための装置として、ディスク上にコーティング材を高い均一性を保ちながら塗布し、さらに塗膜の硬化までを略連続的に行う方式を提案している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このような方式にいては、通常は多数個のマスクが予め用意されており、個々のディスクにこれらマスクを順次供給しながら膜形成工程が行われている。マスクは、その表面にコーティング材料が残存した場合、その表面に更なるコーティング材料を供給した場合にはディスク上で均一な塗膜を得る条件が異なる恐れがある。また、マスク２０６とディスク２０４の境界部（図６においてＡで示される部分。）にコーティング材料が残ると、ディスク２０４からマスク２０６を引き剥がした際に、マスク２０６裏面を汚染してしまう。同じマスクを連続で使用する場合には、この汚染によって、次にこのマスクを用いて塗膜が形成されるディスクに関しても、これを汚染してしまう恐れもある。このため、個々の膜形成工程を終えた後にマスクを廃棄する、あるいはその表面上に存在するコーティング材料を除去する必要があり、通常はコーティング材付着後のマスクがある程度以上の数量となった段階で、これらを洗浄溶剤等にまとめて浸漬し、コーティング材を除去する処理が行われる。
【０００８】
先にも述べたように、コーティング材料の塗布時において、マスク２０６とディスク２０４との境界部分（図６に符号Ａで示す部分）もコーティング材料で覆われる。この境界部分には通常マスク２０６端部による段差が存在する。しかし、塗膜の均一部分をこの境界部分に極力近づけようとした場合、マスク２０６端部は極力その厚さを薄くすると共にディスク１０４表面に確実に密着するように充分な平面度を有している必要がある。すなわち、マスク２０６の周囲先端は、薄く且つ先の尖った形状に加工されている。
【０００９】
しかしながら、上述のように多数のマスクをまとめて洗浄する場合、これらを互いに接触させてしまうこと等により、この先端部を破損し、次なる工程において使用し得ないマスクを生じさせる恐れがある。従って、このようなマスクを洗浄し、乾燥等させる工程は非常な手間を要するものであり、ディスク作成におけるコスト削減、製品管理等の観点から、改善する余地が多大にあると認められる。
【００１０】
本発明は上記課題に鑑みて為されたものであり、マスクの破損を生じさせる恐れを無くしてマスクの洗浄等を行う方法および装置を提供することを目的とするものである。更に本発明は、十分にその状態が管理されたマスクを繰り返し使用して連続的にディスク等の生産を行うことが可能となる、スピンコーティング装置および磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明に係るスピンコーティング装置は、ディスク体の中央付近に液状材料を供給し、ディスク体を回転させて遠心力により該液状材料を展延させ、ディスク体上に液状材料の塗膜を形成するスピンコーティングを行うための装置であって、ディスク体を保持して回転するスピンナー機構と、スピンナー機構においてディスク体が回転される際にディスク体の中心およびその近傍を覆うマスクをディスク体上に供給し、且つディスクの回転終了後にディスク体上からマスク取り去るためのマスク供給排除機構と、スピンナー機構においてディスク体およびマスクが保持され回転される際に、ディスク体および／またはマスク上に前記液状材料を供給するディスペンサ機構と、マスク供給排除機構から、液状材料が付着したマスクを受け取り、受け取ったマスクに付着した液状材料を洗浄除去し、洗浄済みのマスクをマスク供給排除機構に受け渡す洗浄機構とを有することを特徴としている。
【００１２】
なお、前述のスピンコーティング装置においては、マスク供給排除機構は、マスクを把持および解放するチャック機構を有するマスク供給アームと、マスク供給アームとの間でマスクの授受を行うと共に間欠的に所定角度づつ回転するマスクテーブルとを有することが好ましい。
【００１３】
また、洗浄機構は、マスクを洗浄するための洗浄剤を有する少なくとも一つの洗浄部、マスクに付着した洗浄剤をリンスするためのリンス部、およびリンス後のマスクを乾燥するための乾燥部、およびマスクを把持し洗浄部、リンス部および乾燥部に対して前記マスクを挿入する搬送アームを有することが好ましい。さらに、洗浄部、リンス部および乾燥部は、所定の半径を有する略円周上に所定角度おきに配置され、搬送アームは円周の中心を回転中心として所定角度づつ間欠的に回転すると共に回転停止時においてマスクを洗浄部、リンス部および乾燥部に挿入することが好ましい。
【００１４】
さらに、本発明は、前述のスピンコーティング装置を用いてコーティングが施されたディスク体を提供することをも目的としている。
【００１５】
さらに、上記課題を解決するために、本発明に係る製造方法は、ディスク体上に少なくともスピンコーティングによって塗膜を形成し、ディスク状記録媒体を製造する方法であって、特定軸を中心として回転可能なスピンナー上に前記ディスク体を載置し、マスクの供給および受け取り用位置と少なくとも一つのマスクの待機位置とを有するマスクテーブル上からマスクをディスク体上の略中央部に載置し、ディスク体およびマスク上へのコーティング材を供給し、スピンナーを回転させた後に、マスクをディスク体上から除去してマスクテーブルの供給および受け取り用位置にマスクを戻し、ディスク体上のコーティング剤を固化させる工程からなり、ディスク体上から除去されたマスクに対しては、直ちに、マスク上に付着したコーティング剤の洗浄を行う少なくとも一つの洗浄部への挿入、マスクに付着した洗浄剤のリンスを行うリンス部への挿入、およびマスクの乾燥を行う乾燥部への挿入の各処理が順次行われ、各処理を経たマスクが、順次更なるディスク体上に載置されることを特徴としている。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下において、図面を参照して本発明の好適な実施形態を説明する。図１は、本発明の実施形態としてのスピンコーティング装置における、スピンコーターおよびマスク供給部等の本発明に係る要部の構成を示す概略平面図である。不図示の基板は、スピンナー機構の一部を構成するスピンナー４０の中央部において保持され、基板の回転およびコーティング材の塗布が行われる。マスク供給排除機構であるマスク供給排出部５０は、マスクテーブル５５、マスク移動アーム５１、およびアーム駆動機構５２から構成される。
【００１７】
マスクテーブル５５は、軸Ａを中心として図中の５５ａ〜５５ｄの４位置に応じた所定角度毎に所定時間停止するように、図中矢印Ｄで示される方向に、間欠的に回転動作を行っている。
【００１８】
図２に、マスク移動アーム５１等を、位置５５ｃ方向から見た場合における側面の概略構成を示す。マスクテーブル５５上の位置５５ａ上に、上部突起５６ｂを有するマスク５６が載置されている。マスク移動アーム５１は、アーム駆動機構５２に配置されたエアシリンダー５７を介して上下駆動される。マスク移動アーム５１の先端部に配置されたチャック機構５３は、エアシリンダー５７によりアーム５１と共に上部突起５６ｂを把持可能な高さまで降下する。さらに、外部からチャック機構５２に駆動用エア等を供給してチャックを閉じ、上部突起５６ｂを把持する。その後、マスク移動アーム５１は、マスク５６を保持したチャック機構５３と共に所定高さまで上昇し、アーム駆動機構５２によって当該マスク５６がスピンナー４０の中央直上に位置するまで駆動される。当該位置において、マスク移動アーム等の降下、チャック機構５３によるマスク上部突起５６ｂの把持解放がなされ、基板上へのマスクの載置が完了する。
【００１９】
コーティング材付着後のマスク５６は、マスク移動アーム５１およびチャック機構５３が、先に述べたマスク５６載置とは逆の動作を行うことによって、不図示の基板上から取り除かれる。さらに、当該マスク５６は、チャック機構等によりマスクテーブル５５上の位置５５ａにまで戻され、マスクテーブル５５上に載置される。当該マスク５６は、マスクテーブル５５の軸Ａを中心とする間欠的な回転に伴って、位置５５ｂに運ばれて停止し、この位置にて図１に示すマスク洗浄部１２０に運ばれる。マスク洗浄部１２０は、マスク洗浄機構を構成する。
【００２０】
マスク洗浄部１２０は、第１および第２の洗浄部１２１、１２２、リンス部１２３、および乾燥部１２４、の各処理部と、これら各処理部およびマスク取り出し供給位置となる位置５５ｂにマスクを搬送する搬送アーム１２５等から構成されている。当該搬送アーム１２５は、各処理部および位置５５ｂ各々に応じた所定角度（この場合６０度）毎に所定時間停止するように、その中央部である軸Ｂを中心として図中矢印Ｃで示される方向に、間欠的に回転動作を行っている。さらに、搬送アーム１２５は、不図示の上下駆動機構により、所定時間停止時において、一定量の下降、一定時間の下降位置での停止、および通常位置への上昇の各動作を行う。また、搬送アーム１２５は、軸Ｂを中心として、前述の所定角度おきに放射状に設けられた複数のアーム部１２５ａ〜１２５ｆを有しており、かつその先端部に洗浄部チャック機構１２６が配置されている。
【００２１】
位置５５ｂにおいて、マスク５６の上部突起５６ｂを保持した状態の洗浄部チャック機構１２６を側面から見た状態の概略構成を図３に示す。当該チャック機構１２６には、通常は把持状態となっており外部操作によってチャック部の開閉を行う形式のものを用いている。本実施例においては、外部操作機構としてエアシリンダを用いることし、不図示の駆動機構によって上下駆動可能な洗浄部用のエアシリンダ１３１が、位置５５ｂの直上に配置されている。搬送アーム１２５が降下して、位置５５ｂに存在するマスクの上部突起５６ｂがチャック機構１２６によって把持可能となった時、あるいは突起５６ｂを把持したチャック機構１２６が降下して位置５５ｂ上にマスクを載置した状態の時に、洗浄部用エアシリンダ１３１が降下してチャック機構１２６と接続され、チャック機構１２６に把持あるいは解放の各動作を行わせる。
【００２２】
以下、第１および第２の洗浄部におけるマスクの洗浄処理、および乾燥部におけるマスクの乾燥処理の概略を各々示す図３、４および５を参照し、洗浄処理等の手順について詳述する。位置５５ｂにおいてマスクを把持したチャック機構１２６は、搬送アーム１２５の上昇動作に伴って、通常位置に上昇した後、軸Ｂを中心として所定角度回転され、停止、下降、一定時間の停止、上昇させられ後、さらに所定角度回転される。マスク５６は、この下降操作によって、各処理部へ挿入される。本実施の形態においては、マスク洗浄部１２０の配置の関係上このような実際の洗浄処理とは関係のない、マスクおよびチャック機構１２６の上下動等が存在するが、処理部の配置等によってこの動作も洗浄処理に寄与させることとしても良い。
【００２３】
チャック機構１２６は、さらに所定角度回転され、第１の洗浄部１２１上にて停止される。第１の洗浄部１２１は、槽内に洗浄溶剤１２１ａが蓄えられた超音波洗浄槽から構成されている。当該停止位置にて下降されることにより、チャック機構１２６におけるマスクを把持した部分およびマスク５６は、超音波領域の振動が加えられた洗浄溶剤１２１ａ内に浸漬され、その表面に付着したコーティング材の溶解等の処理が為されることとなる。マスク５６は、この状態で一定時間保持された後、搬送アーム１２５に伴われて上昇し、続いて第２の洗浄部上まで回転移動され、停止される。
【００２４】
第２の洗浄部１２２は、槽内に洗浄溶剤１２１ａと同様の成分からなる洗浄溶剤１２２ａが蓄えられた超音波洗浄槽から構成されており、基本的構成は第１の洗浄部１２１と同様となっている。当該洗浄溶剤１２２ａを用いて、再度マスク５６表面を超音波洗浄することにより、表面上のコーティング材の残滓を完全に溶解、除去することが可能となる。マスク５６は、一定時間第２の洗浄部１２２に保持された後に、第１の洗浄部１２１の場合と同様に当該洗浄槽内より取り出され、搬送アームの次の停止位置に配置されたリンス部１２３内に浸漬される。
【００２５】
リンス部１２３は、槽内にリンス剤１２３ａが蓄えられた超音波洗浄槽から構成されており、基本的構成は第１の洗浄部１２１と同様となっている。当該リンス剤１２３ａ内にてマスク５６のリンスを行うことによって、マスク表面に残存する洗浄溶剤１２２ａ等を除去することが可能となる。従って、リンス剤１２３ａとしては、洗浄剤１２１ａ等と装用する材料が好ましく、さらには洗浄剤１２１ａ等よりも蒸発しやすい材料が好ましい。マスク５６は、一定時間当該リンス部１２３内に保持された後に、第１の洗浄部１２１の場合と同様に当該洗浄槽内より取り出され、搬送アームの次の停止位置に配置された乾燥部１２４内に移送される。
【００２６】
乾燥部１２４は、マスク表面に付着したリンス剤１２３ａを吹き飛ばすための乾燥用気体を供給するノズル１２７、吹き飛ばされたリンス剤１２３ａの周辺への飛散を防止するカバー１２８、カバー１２８内にたまったリンス剤を排出するためのドレン１２９、およびカバー内で気化したリンス剤１２４ａを排気するための吸気ダクト１２８ａから構成される。乾燥部１２５において、マスク５６等の表面上に付着しているリンス剤１２４はａ、ノズル１２７から導入された高清浄な乾燥窒素等の乾燥用気体を吹き付けることによって除去され、マスク５６の表面上が清浄な状態で乾燥される。
【００２７】
一定時間の乾燥用気体の吹き付けが終了し、マスク５６表面の乾燥が終了すると、当該マスク５６は乾燥部１２４からこれまでと同じ手順にて取り出され、位置５５ｂまで、回転搬送される。乾燥終了後のマスクは、位置５５ｂにてマスクテーブル５５に受け渡され、位置５５ｃおよび５５ｄを経て位置５５ａに達する。当該位置５５ａにて、洗浄、乾燥後のマスク５６は再度基板に対する成膜工程に用いられるべく、マスク５６はこれを把持するチャック機構５３等と共に、アーム移動機構５２によってスピナー４０中央直上まで駆動される。以下、上述の操作が繰り返し実行される。
【００２８】
以上に述べたマスク洗浄部１２０をスピンコーティング装置に付加し、基板に対するコーティング材の塗布毎にマスク洗浄を行う構成とすることにより、マスクの破損を危惧することなく、スピンコーティングを行うことが可能となる。また、マスクを個々に取り扱いながら洗浄する構成とすることにより、スピンコーティングと同時にマスク管理も同時に行うことが可能となる。従って、必要最小数のマスクを用いてスピンコーティングを行うことが可能となり、精度の高い加工工程および確実な管理を要求されるマスクを削減し、スピンコーティングにおける作業コスト等の削減も可能となる。
【００２９】
なお、本実施の形態においては、マスクテーブルの停止位置は４位置また、洗浄部における搬送アームは６系統としているが、本発明はこれに限定されず、基板各々に対して要求される処理時間等あるいは、より効率的な洗浄処理手順等を勘案して適宜変更されることが望ましい。すなわち、基板一枚に対するコーティング時間が、短い場合にはマスクテーブルの停止位置を増やすことでこれに対応しても良い。また、洗浄工程においてより多くの溶剤等が必要となる場合には搬送アームおよび洗浄部の数を増加させることが好ましい。
【００３０】
また、本実施例においては、洗浄剤１２１ａと１２２ａとを同一成分からなるものとしているが、洗浄の条件等に応じてこれらを異なる成分からなるものとすることも可能である。洗浄部各々については、超音波洗浄は必須では無く、これを除くこととしても良い。逆に、周波数の異なる超音波による振動を、同一洗浄部に時間を変えて加えることとしても良く、同一の洗浄溶剤等を用いた異なる洗浄部にて各々独立に加えることとしても良い。また、コーティング剤を溶解させる薬剤は洗浄溶剤に限定されず、有機溶剤、無機溶剤、酸、アルカリ等、種々の薬剤を用いることが可能である。
【００３１】
また、本実施の形態においては、洗浄溶剤等の温度に関しては特に言及していないが、洗浄溶剤等の温度は一定に保持されることが好ましい。また、処理時間等を勘案して、その沸点以下の所定の恒温度下に保持することとしても良い。この場合、超音波槽等には、温度調節可能なヒータおよび気化した洗浄溶剤を周囲に蔓延させないためのカバーおよび吸気ダクト等を付加することが望ましい。
【００３２】
さらに、チャック機構は外部操作型のものを用いることとしているが、より簡便な構造を有するものであれば、本形式に限られず、また駆動機構も本実施の形態に示したエアシリンダ等に限られない。アーム移動機構に関しては、種々の形式のものを用いることが可能であるため特に言及していないが、停止精度および簡便性等からボールネジ等により構成されるものを用いることが好ましい。
【００３３】
以上に述べた本発明に係るマスク洗浄部は、スピンナー４０を主たる構成とするスピンコーティング装置に付加されるために案出されたものである。従って、付加対象となるスピンコーティング装置として、特にその形式等を限定することを要さず、当該マスク洗浄部を付加し得るスペース等が確保可能であれば、種々の形式のスピンコーティング装置にて対して付加することが可能である。
【００３４】
【発明の効果】
本発明によれば、以上に述べたマスク洗浄部１２０をスピンコーティング装置に付加し、基板に対するコーティング材の塗布毎にマスク洗浄を行う構成とすることにより、マスクの破損を危惧することなく、スピンコーティングを行うことが可能となる。また、マスクを個々に取り扱いながら洗浄する構成とすることにより、スピンコーティングと同時にマスク管理も同時に行うことが可能となる。従って、必要最小数のマスクを用いてスピンコーティングを行うことが可能となり、精度の高い加工工程および確実な管理を要求されるマスクを削減し、スピンコーティングにおける作業コスト等の削減も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るスピンコーティング装置における要部であるマスク洗浄部等の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１に示したマスク供給排出部（５５ａ）を側面から見た状態の概略構成を示す図である。
【図３】図１に示したマスク供給排出部（５５ｂ）を側面から見た状態の概略構成を示す図である。
【図４】図１に示した洗浄部等を側面から見た状態の概略構成を示す図である。
【図５】図１に示した乾燥部等を側面から見た状態の概略構成を示す図である。
【図６】従来のスピンコーティング装置におけるマスクの使用例を説明する図であって、スピンナー上に置かれたディスクとマスクの断面図である。
【符号の説明】
４０　スピンナー部
５０　マスク供給排出部
５１　マスク移動アーム
５５　マスクテーブル
５４　チャック機構
５６　マスク
１２０　マスク洗浄部
１２１、１２２　洗浄部
１２３　乾燥部
１２４　リンス部
１２５　搬送アーム
１２６　洗浄部用チャック機構
１２７　ノズル
１２８　カバー
１２９　ドレン
１３１　洗浄部用エアシリンダ
２００　スピンナーシャフト
２０２　スピンナーテーブル
２０３　スペーサ
２０４　ディスク
２０５　輪状突起
２０６　マスク
２１０　経路
２１２　空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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