(57)【要約】【課題】透明導電基板のエッチング方法では、アルカリ溶液に漬けてレジストを除去する工程で残渣が発生した。この残渣を低減することを主な目的とするエッチング方法と、該エッチング方法による透明パターニング基板を提供すること。【解決手段】パターンニング間隔が２００μｍ以上のとき、前記エッチング用レジストインキのアルカリ溶解物を９４ｗｔ％以上にてエッチング方法。また該エッチング方法で導電パターンを設けた透明パターニング基板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも片面に導電面を有する透明基板の、パターンニング間隔が２００μｍ以上のエッチング方法において、前記エッチング用レジストインキの体質顔料が２〜６ｗｔ％であることを特徴とするエッチング方法。
【請求項２】
体質顔料が２〜６ｗｔ％以上のレジストインキでエッチングされ、パターンニング間隔が２００μｍ以上でパターニングされたことを特徴とする透明パターニング基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明導電基板のエッチング方法、及び該エッチング方法にてパターニングされた透明パターニング基板に関する。透明パターニング基板は透明タッチパネルや透明ヒーター、エレクトロルミネセント（ＥＬ）等の表示装置にも用いられる。
【０００２】
【従来の技術】
透明導電基板のエッチング方法として、次の様な方法（工程）がある。
（１）透明導電基板に樹脂（レジスト）をスクリーン印刷等により所望のパターンに塗布する。
（２）レジストを熱、光、紫外線等によって硬化させる。
（３）透明導電基板を酸性液（エッチング液）に漬けて、レジストで被覆されていない部分を腐食（エッチング）除去し、透明導電基板に前記パターンを形成する。
（４）透明導電基板をアルカリ溶液に漬けて前記レジストを除去する。
【０００３】
アルカリ水溶液剥離型のエッチングは、プリント基板に幅広く利用されており、（例えば、特許文献１参照。）、透明導電基板にも利用されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平５−１８８５９２号公報
【特許文献２】
特開２００２−１６４３３２号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし前記した従来のエッチング方法では、アルカリ溶液に漬けてレジストを除去する工程で残渣が発生した。この残渣を低減することを主な目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の特徴は、少なくとも片面に導電面を有する透明基板の、パターンニング間隔が２００μｍ以上のエッチング方法において、前記エッチング用レジストインキの体質顔料が２〜６ｗｔ％であるエッチング方法であり、エッチングによりパターニングされた透明パターニング基板である。
【０００７】
【発明の実施の態様】
以下、本発明について、具体的に説明する。
【０００８】
透明基板
前記透明基板に何を選択するかは、種々の用途に応じ適宜設定することができるが、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、更に好ましくは９０％以上であるものがよい。また、耐熱性、耐侯性、非収縮性、そして機械的強度、耐薬品性等に優れるものが好ましい。
【０００９】
プラスチック基板としては、ポリエステル（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネイト（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアクリル（ＰＡＣ）、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などのフィルム、あるいはそれらフィルムの積層体などが使用される。プラスチック基板の厚さは、通常０．０５〜５ｍｍ程度、好ましくは、０．１〜０．３ｍｍ程度である。
【００１０】
ガラス基板としては、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどが好適である。ガラス基板の厚さは、通常０．０５〜５ｍｍ程度、好ましくは、０．１〜０．３ｍｍ程度である。
【００１１】
導電膜
導電膜の形成材は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ／酸化インジウム錫）膜が多く用いられ、スズ酸化膜、銅、アルミニウム、ニッケル、クロムなどが考えられる。またこれらの合金であってもよいし、異なる形成材が重ねて形成されてもよい。また透明導電膜を形成する前に、透明性や密着性等を向上させるためのアンダーコート層を設けてもよい。透明な導電膜を形成する方法は、形成する導電膜の種類に応じてスパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法、あるいは、ＣＶＤ法、塗装法、印刷法などの方法が適宜選択される。
【００１２】
導電パターン印刷
次に、フォトレジスト法やスクリーン印刷法により透明導電膜を形成した透明基板に、導電パターンとして残すところにレジストインクでマスクを形成する。図２はマトリクス型タッチパネル等に用いられるパターンで、短冊パターンが多数並んでいる。図３はアナログ型タッチパネル等に用いられるパターンで、透明基板の周囲の導電膜を除去することとなる。この他櫛型パターンなどもある。
【００１３】
レジストインク
光硬化インクを用いたレジストインクでは、反応性ベース樹脂及び増粘用の体質顔料を有するが、必要に応じて表面平滑剤、溶媒等の添加物を加えても良い。ここで反応性ベース樹脂はアクリル系樹脂、また体質顔料としては珪素系が用いられる。体質顔料はレジストインクを上記パターン状に保持させ易くするものである。ここでエッチング用レジストインキの体質顔料は、反応性ベース樹脂に対し２〜６ｗｔ％であることが好ましい。
【００１４】
６ｗｔ％を超えると、アルカリ液によりレジストインキ溶解剥離を行なう時、一度除去されたレジストインキの体質顔料の一部が、偶発的に基板に再付着する場合があり、問題となる。２ｗｔ％に満たないと、印刷時ににじみなどの問題がある。
【００１５】
印刷されたレジストインクは紫外線照射により硬化される。硬化具合は、硬化されたインクに接触した時に、タック性はあるが転写しない状態である。体質顔料が２〜６ｗｔ％でのレジストインクで、印刷後６時間放置した時、印刷パターンのにじみは各辺略５０μｍである。よってパターン間隔は２００μｍ以上が好ましい。放置時間の短い方がにじみが少ないので、印刷からエッチングまでは連続ラインが好ましい。
【００１６】
エッチング
次に酸性のエッチング液を使用してマスク以外の個所の導電膜を除去する。エッチング液は塩酸や塩化第二鉄等の水溶液が用いられる。酸性水溶液でのエッチングが終わると、水洗浄を行い、酸性水溶液の付着分を洗い流す。
【００１７】
次にアルカリ液によりレジストインキの溶解剥離を行なうが、アルカリ液は水酸化ナトリウム等の水溶液が用いられる。アルカリ水溶液によりレジストインキ溶解剥離が終わると、洗浄を行いアルカリ水溶液の付着分を洗い流す。
【００１８】
洗浄は薬品水溶液、有機溶剤、界面活性剤、洗浄剤溶液、イオン水、オゾン水、水などの液体の洗浄液を使用しておこなう。洗浄効果を高めるために、物理的な洗浄方法と組み合わせて使用する場合もある。物理的な洗浄方法としてはブラシ洗浄、スポンジ洗浄、ジェットスプレー洗浄、超音波洗浄などの洗浄方法がある。しかし特にフィルムの透明導電基板の場合、キズ発生の可能性があり、接触式洗浄は不適である。洗浄後、水切り乾燥し、外観検査をする。
【００１９】
図１に実施の一例の工程を示す。透明導電基板は、スクリーン印刷機２０でレジストインキを印刷し、搬送設備２３で露光装置２１を経て、エッチング・インク剥離・洗浄装置２２へ連続的に流れる。フィルムからなる透明導電基板は、毎葉物でなくて連続した長尺物であってもよい。
【００２０】
以下に本発明を実施例と共に説明する。
【００２１】
【実施例１】
厚さ１８８μｍのポリエステルフィルム（ＰＥＴ）に、スパッタリングにより３００Ω／□のＩＴＯ膜を形成した。次に、ポリエステルフィルム（ＰＥＴ）を３００×３００ｍｍの大きさにカットし、図２のパターンでレジストインクをスクリーン印刷機で塗布した。図２で短冊間は５００μｍ、スクリーン版は３００メッシュのポリエステル版を用いた。
レジストインクはアクリル系のベース樹脂に、体質顔料２ｗｔ％を加えたものを使用した。
【００２２】
印刷後、水銀灯を光源として、紫外線による露光を行って、パターン部分を光硬化した。その後、塩酸２２．５ｗｔ％、３５℃のエッチング液でエッチングを行ない、エッチング後水洗した。その後、水酸化ナトリウム１．９ｗｔ％、４０℃のアルカリ液でレジストインキの溶解剥離を行ない、水洗浄した。
【００２３】
レジストインクのスクリーン印刷から、アルカリ液によりレジストインキ溶解剥離までは分速２ｍの連続搬送で行った。目視により汚れを検査したが、汚れは殆ど無かった。短冊間の印刷にじみは、各辺とも５０μｍ以下で良好であった。
【００２４】
【実施例２】
実施例１において、エッチング用レジストインキの体質顔料を５ｗｔ％にし、他は全て同様にして、透明導電基板のエッチングを行なった。パターニングされた基板を目視により汚れを検査したが、汚れは殆ど無かった。短冊間の印刷にじみは、各辺とも５０μｍ以下で良好であった。
【００２５】
【比較例１】
実施例１において、エッチング用レジストインキの体質顔料を７ｗｔ％にし、他は全て同様にして、透明導電基板のエッチングを行なった。パターニングされた基板を目視により汚れを検査したが、一部分に汚れが見られた。短冊間の印刷にじみは、各辺とも５０μｍ以下で良好であった。
【００２６】
【比較例２】
実施例１において、エッチング用レジストインキの体質顔料を１０ｗｔ％にし、他は全て同様にして、透明導電基板のエッチングを行なった。パターニングされた基板を目視により汚れを検査したが、汚れのある部分が全体に広がった。
【００２７】
【比較例３】
実施例１において、エッチング用レジストインキの体質顔料を１ｗｔ％にし、他は全て同様にして、透明導電基板のエッチングを行なった。パターニングされた基板を目視により汚れを検査したが、汚れは殆ど無かった。短冊間の印刷にじみは、５０μｍを越え不適であった。
【００２８】
【発明の効果】
本発明は透明導電基板パターニングの製造において、アルカリ溶液によるレジスト除去工程での残渣を低減する効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一連の工程の一例を示す説明図
【図２】パターニングされた透明導電基板の一例を示す説明図
【図３】パターニングされた透明導電基板の他の一例を示す説明図
【符号の説明】
１０  導電部
１１  非導電部
２０  スクリーン印刷機
２１  露光装置
２２  エッチング・インク剥離・洗浄装置
２３  搬送設備
【図１】
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【図２】
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【図３】
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