(57)【要約】【課題】本発明は、スペーサ定点配置装置、液晶装置の製造方法、液晶装置、およびこの液晶装置を備えた電子機器に関し、高精度なノズルヘッドを用いることなくスペーサを微細に配置できるようにし、更には、ノズルヘッドを交換することなく様々な密度でスペーサを配置できるようにことを目的とする。【解決手段】所定の走査方向に沿って走査しながら、スペーサ１５を溶媒中に分散させたスペーサ分散溶液１７を複数のノズル孔３７から吐出する際、ノズル孔３７の配列方向を、走査方向に垂直な方向に対して所定の角度で交差させる。【選択図】　図９
2004145101.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の走査方向に沿って走査しながら、スペーサを溶媒中に分散させたスペーサ分散溶液を複数のノズル孔から吐出するノズルヘッドを備え、
前記複数のノズル孔が前記走査方向に垂直な方向に対して所定の角度をもって配列されたことを特徴とする、スペーサ定点配置装置。
【請求項２】
所定の走査方向に沿って走査しながら、スペーサを溶媒中に分散させたスペーサ分散溶液を複数のノズル孔から吐出するノズルヘッドを備え、
前記複数のノズル孔の配列方向が前記走査方向に垂直な方向に対して所定の角度を有するように、前記ノズルヘッドが回転可能に構成されたことを特徴とする、スペーサ定点配置装置。
【請求項３】
一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶およびスペーサが封入されてなる液晶装置の製造方法であって、
請求項１又は２記載のスペーサ定点配置装置における前記ノズルの配列方向が前記走査方向と垂直な方向に対して所定の角度を有した状態で、前記ノズルヘッドにより前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板上を前記走査方向に沿って走査しながら、前記ノズル孔から前記スペーサ分散溶液を前記一方の基板上に間欠的に吐出する工程を備えたことを特徴とする、液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記スペーサ分散溶液を間欠的に吐出する工程において、前記液滴の吐出間隔が、前記基板上に吐出された液滴の直径よりも大きいことを特徴とする、請求項３に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶およびスペーサが封入されてなる液晶装置であって、
一方の基板は、配列して設けられた複数の画素領域と、前記各画素領域の周辺に設けられた非画素領域とを有し、
前記スペーサは、平面視で前記画素領域の配列方向に対して所定の角度をもって配列して配置されていることを特徴とする、液晶装置。
【請求項６】
前記スペーサが単体と凝集体とが混在した状態で存在し、前記スペーサの配置密度が５０〜３００個／ｍｍ２であり、かつ、前記状態で存在する１点あたりに前記スペーサが平均で０．２〜３個存在することを特徴とする、請求項５記載の液晶装置。
【請求項７】
前記スペーサが非画素領域に配置されていることを特徴とする、請求項５又は６記載の液晶装置。
【請求項８】
前記スペーサが配置される非画素領域に対応して遮光層が設けられていることを特徴とする、請求項７記載の液晶装置。
【請求項９】
前記スペーサが着色されていることを特徴とする、請求項５ないし８のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１０】
前記スペーサの表面に、前記液晶の配向を規制する処理が施されていることを特徴とする、請求項５ないし９のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１１】
前記スペーサの表面に、スペーサ自身が基板上に固着されるための固着層が設けられていることを特徴とする、請求項５ないし１０のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１２】
請求項５ないし１１のいずれか一項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする、電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スペーサ定点配置装置、液晶装置の製造方法、液晶装置、およびこの液晶装置を備えた電子機器に関し、特に、一対の基板間にスペーサを配設する技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一対の基板間に液晶層を挟持して構成される液晶装置では、そのギャップを一定に保持するために、基板間に樹脂ボール、ガラスボール、もしくは樹脂で形成された柱状体等からなるスペーサが配されている。
【０００３】
このような液晶装置は、通常、以下のような工程を経て製造される。まず、下基板、上基板のそれぞれに電極や配向膜等を積層形成した後、例えば下基板の周縁部に液晶注入口となる開口部を形成した形で未硬化のシール材を印刷し、同じ基板もしくはもう一方の基板の表面上にスペーサを配置する。そして、下基板と上基板とを貼り合わせた後シール材を硬化させて空の液晶セルを作製する。次に、このように作製した空の液晶セル内に真空注入法等により液晶を注入し、封止材によって注入口を封止する。最後に、下基板および上基板の外面に位相差板や偏光板等の光学フィルムを貼り合わせて液晶装置が製造される。
【０００４】
上記の製造工程のうち、スペーサの配置工程については、インクジェット法を用いて液晶セル内の特定の領域にスペーサを配置する方法が、特許文献１に開示されている。図２３は従来のインクジェット装置の概略構成を示す模式図であり、このインクジェット装置には、複数のノズル孔３７０を有するノズルヘッド２６０が向きを固定した状態で取り付けられている。ノズル孔３７０は、画素領域１９の特定の一辺に平行な方向（Ｘ軸方向）に配されており、ノズルヘッド２６０がノズル３７０の配列方向に垂直な方向（Ｙ方向）に走査される際に、スペーサ分散液を基板上に一定の間隔ｂで吐出するようになっている。そして、スペーサ分散液中の分散媒が蒸発することで、基板上にスペーサ１５が配置されるようになっている。
なお、図２３では、ヘッド走査中のノズル孔３７０の移動軌跡を仮想的に破線Ｌ（第１仮想線）で示しており、スペーサ１５はこの第１仮想線Ｌに略沿うように一定間隔ｂで配置される。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−１８８２３５号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、スペーサは基板間隔を均一に保持する役目を果たす一方、画素領域に配置された場合には光抜けの原因や液晶の配向不良の原因となるため、スペーサを非画素領域１８にのみ配置することが望ましい。このため、ノズル孔３７０の配置間隔（ノズル間隔）を画素領域１９の配置間隔（画素間隔）ａと等しくし、ノズル孔３７０が非表示領域１８上に配置されるようにしている。
【０００７】
しかしながら、上述の方法では、液晶装置が高精細化された場合、それに応じてノズル間隔を狭くしなければならず、ノズルヘッド２６０には高い製造精度が要求されることになる。
また、画素構造や画素サイズの異なる液晶装置を製造する場合、画素間隔ａに応じてノズル間隔の異なるノズルヘッド２６０を新たに製作しなければならず、開発時間がかかる上、高コストともなる。
【０００８】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、高精度なノズルヘッドを用いることなくスペーサを微細に配置できるようにし、更には、ノズルヘッドを交換することなく様々な密度でスペーサを配置できるようにした、スペーサ定点配置装置を提供することを目的とする。また、本発明は、このようなスペーサ定点配置装置を用いた液晶装置の製造方法、及び、液晶装置、並びに、この液晶装置を備える電子機器を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のスペーサ定点配置装置は、所定の走査方向に沿って走査しながら、スペーサを溶媒中に分散させたスペーサ分散溶液を複数のノズル孔から吐出するノズルヘッドを備え、前記複数のノズル孔が前記走査方向に垂直な方向に対して所定の角度をもって配列されたことを特徴とする。
【００１０】
スペーサはノズル孔の走査軌跡に沿ってライン状に配置される。また、スペーサの配置されるラインはノズル孔の数に応じて複数形成され、隣接するラインの間隔は、ノズル孔の間隔やノズルヘッドの走査方向に対する傾き角に応じて決まる。この際、本構成では、ノズル孔が走査方向に垂直な方向に対して所定の角度をなして配列しているため、隣接するラインの間隔をノズル孔の間隔より狭くすることができる。このため、ノズル孔の間隔の広く高い製造精度を必要としないノズルヘッドを用いてスペーサを微細に配置することができる。これにより、スペーサの配置密度と液滴１点あたりに存在するスペーサ個数を最適化して、セル厚ムラやスペーサによる光抜け等に起因する表示不良を効果的に抑制することができ、表示品位の向上を図ることができる。
【００１１】
また、本発明のスペーサ定点配置装置は、所定の走査方向に沿って走査しながら、スペーサを溶媒中に分散させたスペーサ分散溶液を複数のノズル孔から吐出するノズルヘッドを備え、前記複数のノズル孔の配列方向が前記走査方向に垂直な方向に対して所定の角度を有するように、前記ノズルヘッドが回転可能に構成されたことを特徴とする。
【００１２】
本構成によれば、ノズルヘッドの回転量によってノズル孔の配列方向と走査方向との交差角度を調節することで、走査方向に沿ってライン状に配置されるスペーサのライン間隔を任意に調節することができる。これにより、ノズル孔の間隔の固定されたノズルヘッドを用いて、スペーサを様々な密度、或いは、様々なライン間隔で配置することができる。例えば、画素領域がマトリクス状に配置された液晶装置において、ノズルヘッドを画素領域の配列方向に沿って走査し、ノズル孔を画素配列方向に平行に延びる非画素領域にのみ配置した場合、液晶装置のコントラストを高めることができる。また、上述のように本構成では、走査方向に沿ってライン状に配置されるスペーサのライン間隔を容易に変更できるので、高精細化等により走査方向に沿ってライン状に延びる非画素領域のラインの間隔が狭くなった場合でも、ノズルヘッドを交換することなく共通のノズルヘッドを用いてスペーサを非画素領域にのみ配置することができる。
【００１３】
本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶およびスペーサが封入されてなる液晶装置の製造方法であって、上述のスペーサ定点配置装置における前記ノズルの配列方向が前記走査方向と垂直な方向に対して所定の角度を有した状態で、前記ノズルヘッドにより前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板上を前記走査方向に沿って走査しながら、前記ノズル孔から前記スペーサ分散溶液を前記一方の基板上に間欠的に吐出する工程を備えたことを特徴とする。
【００１４】
本製造方法によれば、基板上にライン状に配置されるスペーサのライン間隔をノズル孔の間隔よりも狭くすることができる。このため、ノズル孔の間隔の広く高い製造精度を必要としないノズルヘッドを用いてスペーサを微細に配置でき、セル厚の均一性等の観点からスペーサの配置密度等を最適化することができる。
【００１５】
なお、スペーサ分散溶液を間欠的に吐出する工程において、前記液滴の吐出間隔を前記基板上に吐出された液滴の直径よりも大きくすることが望ましい。
基板上に吐出されたスペーサ分散溶液中のスペーサは、溶液周辺部の溶媒が蒸発するのに伴って液滴中央部に集められ、走査方向に沿ってライン状に配置されるため、基板上に吐出された液滴は個々に独立して存在していることが重要である。仮に複数の液滴がつながってしまうと、スペーサの位置は不確定になり、必ずしも各液滴の中心に位置しなくなってしまうが、本製造方法のように、スペーサ分散溶液の吐出間隔を液滴の直径よりも大きくすることで、スペーサの位置を液滴中央部に確定することができる。
【００１６】
また、本発明の液晶装置は、一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶およびスペーサが封入されてなる液晶装置であって、一方の基板は、配列して設けられた複数の画素領域と、前記各画素領域の周辺に設けられた非画素領域とを有し、前記スペーサは、平面視で前記画素領域の配列方向に対して所定の角度をもって配列して配置されていることを特徴とする。
【００１７】
本構成によれば、スペーサを画素の配列方向に対して所定の角度をもって配置できるので、上述のようにインクジェットヘッド等のスペーサ定点配置装置によってスペーサを定点に配置する場合に、そのノズルヘッドのノズル孔の構成等をフレキシブルに設計したとしても、非画素領域のみにスペーサを配置し、かつスペーサの配置密度を最適に設定でき、表示品質の高い表示をえることができる。
【００１８】
このとき、前記スペーサが単体と凝集体とが混在した状態で存在し、前記スペーサの配置密度が５０〜３００個／ｍｍ２であり、かつ、前記状態で存在する１点あたりに前記スペーサが平均で０．２〜３個存在することが望ましい。
本発明者らは、最適なスペーサの配置個数（配置密度）について鋭意検討した結果、以下のような結果を得た。すなわち、スペーサの配置密度を５０〜３００個／ｍｍ２とし、かつ、単体もしくは凝集体もしくはこれら単体と凝集体とが混在した状態で存在する１点あたりにスペーサが平均で０．２〜３個存在する配置とすれば、スペーサによる表示品位の低下を充分に抑制し、表示品位を向上することができる。
【００１９】
例えば、スペーサの配置密度が５０個／ｍｍ２よりも小さくなると、スペーサによって基板間隔が充分に保持されず、セル厚ムラが顕著になって表示品位が著しく低下する。また、スペーサの配置密度が３００個／ｍｍ２よりも大きくなると、低温時に液晶中に気泡が発生する。これは真空気泡と呼ばれる不良となる。その原因はスペーサに比べて液晶は熱膨張率が大きいため、低温状態では液晶層中に真空状態となる箇所が局所的に発生するが、スペーサが多すぎると、基板が内側に凹むように追従できず、真空状態の箇所が残ってしまうからである。
【００２０】
また、スペーサが単体もしくは凝集体の状態で存在する１点あたりの平均が０．２個より少ないと、１点中にスペーサが存在しない点が多くなり過ぎてスペーサの配置にバラツキが生じ、セル厚ムラが顕著になることで表示品位が著しく低下する。また、１点あたりの平均が３個より多いと、スペーサが凝集体の形で存在するものが多くなり過ぎ、セル厚ムラの原因になるとともに光抜けが多く生じるようになり、表示品位が著しく低下する。
【００２１】
前記スペーサは、非画素領域に配置されることが望ましい。
スペーサが表示領域内に存在していると、液晶の配向不良や光抜け等を引き起こし、表示品位を大きく低下させるため、表示に直接寄与しない非画素領域に配置することによって表示品位を飛躍的に向上させることができる。
上述したように、スペーサを非画素領域に配置することで表示品位が向上するが、その非画素領域に対応して遮光層を設けることによって、より確実に光抜け等の表示不良を防止することができる。
【００２２】
また、スペーサは着色されたものであってもよい。
例えば当該液晶装置を表示装置として用いた場合、黒表示（暗表示）を行う際に、配設されたスペーサから光が抜け、その部分が白表示（明表示）となってしまう場合があるが、上記のようにスペーサに対して着色を施すことで、特に黒に着色したスペーサを用いることで黒表示（暗表示）を確実に行うことが可能となる。
【００２３】
また、スペーサの表面に、液晶の配向を規制する処理を施してもよい。
すなわち、スペーサの表面付近においては液晶の配向乱れが生じ、コントラストの低下が生じる場合があるが、このようにスペーサの表面に配向規制手段を具備させることで、スペーサ表面付近においても液晶を配向させることが可能となる。その結果、光抜けの発生を防止し、ひいてはコントラスト低下等の不具合の生じ難い液晶装置を提供することができる。なお、配向規制手段としては、例えばシランカップリング剤等を用いて、スペーサ表面に長鎖のアルキル基を付与したもの等を例示することができる。
【００２４】
さらに、スペーサの表面に、スペーサ自身が基板上に固着されるための固着層を設けてもよい。固着層の材料の一例としては、熱硬化型樹脂を用いることができる。
このように熱硬化型樹脂をスペーサの表面に形成し、例えば基板間の所定位置にスペーサを配設した後に熱処理を施すことにより、基板に対しスペーサを安定して固着させることが可能となる。これにより、例えばスペーサが浮遊して所定位置からズレてギャップの均一性が損なわれたり、スペーサがずれて配向膜が傷ついたりする等の不具合の発生を防止することが可能となる。
【００２５】
本発明の電子機器は、上記本発明の液晶装置を例えば表示装置として備えることを特徴とする。本発明の液晶装置を備えることにより、ギャップむら等の少ない表示品位に優れた表示部を有する電子機器を提供することができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しつつ説明する。
［液晶装置］
以下に示す本実施の形態の液晶装置は、スイッチング素子としてＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子を用いたアクティブマトリクスタイプの透過型液晶装置である。図１は本実施形態の透過型液晶装置のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図２はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す要部平面図である。図３は図２のＡ−Ａ’線断面図で、図４は本実施形態の透過型液晶装置全体の平面構造について示す全体平面図である。なお、図３においては、図示上側が光入射側、図示下側が視認側（観察者側）である場合について図示している。また、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００２７】
本実施の形態の液晶装置において、図１に示すように、マトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極９と当該画素電極９への通電制御を行うためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子３０とがそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ素子３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給される。
【００２８】
また、走査線３ａがＴＦＴ素子３０のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極９はＴＦＴ素子３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ素子３０を一定期間だけオンすることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００２９】
画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述する共通電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークすることを防止するために、画素電極９と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。
【００３０】
次に、図２に基づいて、本実施形態の液晶装置の要部の平面構造について説明する。図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板上に、インジウム錫酸化物（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ　Ｏｘｉｄｅ，　以下、ＩＴＯと略記する）等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極９（点線部９Ａにより輪郭を示す）が複数、マトリクス状に設けられており、画素電極９の縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａ、走査線３ａおよび容量線３ｂが設けられている。各画素電極９は、走査線３ａとデータ線６ａとの各交差部に対応して設けられたＴＦＴ素子３０に電気的に接続されおり、各画素毎に表示を行うことが可能な構造になっている。
なお、本明細書では、画素電極９の形成された領域を「画素」或いは「画素領域」といい、データ線６ａ，走査線３ａ，容量線３ｂ等の配線やＴＦＴ素子３０が形成されて実質的に表示が行われない領域（即ち、画素領域以外の領域）を「非画素領域」という。
【００３１】
データ線６ａは、ＴＦＴ素子３０を構成する例えばポリシリコン膜からなる半導体層１ａのうち、後述のソース領域にコンタクトホール５を介して電気的に接続されており、画素電極９は、半導体層１ａのうち、後述のドレイン領域にコンタクトホール８を介して電気的に接続されている。また、半導体層１ａのうち、後述のチャネル領域（図中左上がりの斜線の領域）に対向するように走査線３ａが配置されており、走査線３ａはチャネル領域に対向する部分でゲート電極として機能する。
【００３２】
容量線３ｂは、走査線３ａに沿って略直線状に伸びる本線部（すなわち、平面的に見て、走査線３ａに沿って形成された第１領域）と、データ線６ａと交差する箇所からデータ線６ａに沿って前段側（図中上向き）に突出した突出部（すなわち、平面的に見て、データ線６ａに沿って延設された第２領域）とを有する。
なお、非画素領域の内、斜線で示す一部領域には、第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００３３】
次に、図３に基づいて、本実施の形態の液晶装置の断面構造について説明する。図３は上述した通り、図２のＡ−Ａ’線断面図であり、ＴＦＴ素子３０が形成された領域の構成について示す断面図である。本実施の形態の液晶装置においては、ＴＦＴアレイ基板１０と、これに対向配置される対向基板２０との間に液晶層５０が挟持されている。
【００３４】
ＴＦＴアレイ基板１０は、石英等の透光性材料からなる基板本体１０Ａとその液晶層５０側表面に形成されたＴＦＴ素子３０、画素電極９、配向膜４０を主体として構成されており、対向基板２０はガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体２０Ａとその液晶層５０側表面に形成された共通電極２１と配向膜６０とを主体として構成されている。そして、各基板１０，２０は、スペーサ１５を介して所定の基板間隔（ギャップ）が保持されている。図３においては、データ線６ａの上方に単体で存在しているスペーサ１５を図示しているが、本実施の形態ではこのようにスペーサ１５が非画素領域に単体と凝集体とが混在した状態で配置されている。
【００３５】
ＴＦＴアレイ基板１０において、基板本体１０Ａの液晶層５０側表面には画素電極９が設けられ、各画素電極９に隣接する位置に、各画素電極９をスイッチング制御する画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が設けられている。画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０は、ＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ　Ｄｏｐｅｄ　Ｄｒａｉｎ）構造を有しており、走査線３ａ、当該走査線３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体層１ａのチャネル領域１ａ’、走査線３ａと半導体層１ａとを絶縁するゲート絶縁膜２、データ線６ａ、半導体層１ａの低濃度ソース領域１ｂおよび低濃度ドレイン領域１ｃ、半導体層１ａの高濃度ソース領域１ｄおよび高濃度ドレイン領域１ｅを備えている。
【００３６】
上記走査線３ａ上、ゲート絶縁膜２上を含む基板本体１０Ａ上には、高濃度ソース領域１ｄへ通じるコンタクトホール５、及び高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第２層間絶縁膜４が形成されている。つまり、データ線６ａは、第２層間絶縁膜４を貫通するコンタクトホール５を介して高濃度ソース領域１ｄに電気的に接続されている。
【００３７】
さらに、データ線６ａ上および第２層間絶縁膜４上には、高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第３層間絶縁膜７が形成されている。すなわち、高濃度ドレイン領域１ｅは、第２層間絶縁膜４および第３層間絶縁膜７を貫通するコンタクトホール８を介して画素電極９に電気的に接続されている。
【００３８】
本実施の形態では、ゲート絶縁膜２を走査線３ａに対向する位置から延設して誘電体膜として用い、半導体膜１ａを延設して第１蓄積容量電極１ｆとし、更にこれらに対向する容量線３ｂの一部を第２蓄積容量電極とすることにより、蓄積容量７０が構成されている。
【００３９】
また、ＴＦＴアレイ基板１０の基板本体１０Ａの液晶層５０側表面において、各画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が形成された領域には、ＴＦＴアレイ基板１０を透過し、ＴＦＴアレイ基板１０の図示下面（ＴＦＴアレイ基板１０と空気との界面）で反射されて、液晶層５０側に戻る戻り光が、少なくとも半導体層１ａのチャネル領域１ａ’および低濃度ソース、ドレイン領域１ｂ、１ｃに入射することを防止するための第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００４０】
また、第１遮光膜１１ａと画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０との間には、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０を構成する半導体層１ａを第１遮光膜１１ａから電気的に絶縁するための第１層間絶縁膜１２が形成されている。さらに、図２に示したように、ＴＦＴアレイ基板１０に第１遮光膜１１ａを設けるのに加えて、コンタクトホール１３を介して第１遮光膜１１ａは、前段あるいは後段の容量線３ｂに電気的に接続するように構成されている。
【００４１】
さらに、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち、画素電極９および第３層間絶縁膜７上には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜４０が形成されている。したがって、このようなＴＦＴ素子３０を具備する領域においては、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち液晶層５０の挟持面には複数の凹凸ないし段差が形成された構成となっている。
【００４２】
他方、対向基板２０には、基板本体２０Ａの液晶層５０側表面であって、データ線６ａ、走査線３ａ、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の形成領域（非画素領域）に対向する領域に、入射光が画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の半導体層１ａのチャネル領域１ａ’や低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃに侵入することを防止するための第２遮光膜２３が設けられている。さらに、第２遮光膜２３が形成された基板本体２０Ａの液晶層５０側には、その略全面にわたって、ＩＴＯ等からなる共通電極２１が形成され、その液晶層５０側には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜６０が形成されている。
【００４３】
図４は、本実施の形態の液晶装置１００の全体構成について一例の概略を示す平面模式図である。図４に示すように、本実施形態の液晶装置１００では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０の間には、閉環状のシール材９３により封止された領域に液晶が充填されて液晶層５０が形成されている。すなわち、本実施形態では、液晶を基板間に充填する方法として所謂液晶滴下方法を採用しており、基板上に液晶を滴下した後、両基板１０，２０を貼り合わせることで液晶層５０を形成している。
【００４４】
ところで、上述したように、基板１０，２０間の非画素領域にはギャップを保持するためにスペーサ１５が配置されている。このスペーサ１５は単体もしくは凝集体の状態で存在しており、図４に示すシール材９３の内側の領域において、その配置密度が５０〜３００個／ｍｍ２で、かつ、上記状態で存在する１点あたりに平均で０．２〜３個存在することが望ましい。
【００４５】
これは、例えば、スペーサ１５の配置密度が５０個／ｍｍ２よりも小さくなると、基板間隔がスペーサ１５によって充分に保持されず、セル厚ムラが顕著になることで表示品位が著しく低下する。逆に、スペーサ１５の配置密度が３００個／ｍｍ２よりも大きくなると、低温時に真空気泡と呼ばれる不良が発生する。また、液滴１点あたりの平均個数が０．２個より少ないと、１点中にスペーサ１５が存在しない点が多くなり過ぎてスペーサ１５の配置にバラツキが生じ、セル厚ムラが顕著になることで表示品位が著しく低下する。逆に、１点あたりの平均個数が３個より多いと、例えば図１２に示すように、スペーサ１５が凝集体の形で存在するものが多くなりすぎ、巨大なスペーサ凝集体１５Ａが非画素領域１８からはみ出して画素領域１９に位置する場合がある。その結果、セル厚ムラの原因になるばかりでなく、光抜けや配向不良の度合がひどくなり、表示品位が著しく低下してしまう。
【００４６】
図５は基板面内におけるスペーサ１５の配置を示す図であって、スペーサ１５を溶媒中に分散させたスペーサ分散溶液を基板上に吐出した際に、１点あたりの液滴１７に平均で２個のスペーサが存在しているイメージを示している。また、図５（ａ）は吐出直後、図５（ｂ）はスペーサ分散溶液中の溶媒を蒸発させた後の状態である。
【００４７】
図５に示すように、スペーサ１５は、後述するスペーサ定点配置装置を用いて配置されるので全く不規則に配置されることはなく、矩形の画素領域１９の各端辺がＸ軸又はＹ軸に沿って配列する液晶装置の非画素領域において、図５中に仮想的に設けられた第１仮想線Ｌ及び第２仮想線Ｋに沿うように配置されている。この第１仮想線Ｌは後述のスペーサ定点配置装置のノズルヘッドをＹ軸方向に走査した際のノズル孔の移動軌跡を示しており、第２仮想線Ｋはスペーサ分散溶液を吐出する際のノズル孔の配列方向を示している。すなわち、スペーサ１５は、Ｙ軸に平行な走査方向に沿って（即ち、第１仮想線Ｌに沿って）一定間隔ｂで配置されるとともに、走査方向に垂直な方向に対して所定の角度を有する（即ち、Ｘ軸と所定の角度θを有する）第２仮想線Ｋに沿って一定間隔ｃで配置されている。なお、上述のθは任意の値に設定することができ、液滴一点当たりのスペーサの平均個数やスペーサ１５の配置間隔ｂ，ｃが一定の場合、θを変えることでスペーサ１５の面内での配置密度を変化させることができる。
【００４８】
なお、スペーサが液滴１点あたりに平均で０．２個存在しているとは、つまり、任意の液滴１０点に対して１個のスペーサが含まれている液滴が２点あり、残りの８点の液滴にはスペーサが含まれていないことを意味する。また、図５からも明らかなように、１点毎の液滴１７に含まれるスペーサ１５の数は制御できず、例えば平均２個といっても全ての液滴に２個ずつのスペーサ１５が含まれるわけではない。そして、液滴１点中のスペーサ１５は、単体もしくは凝集体もしくはこれら単体と凝集体とが混在した状態で存在している。
【００４９】
ここで、スペーサ定点配置装置としてのインクジェット装置のノズルヘッド２６の構造の一例を図６および図７に示す。当該ノズルヘッド２６は、図６に示すように、例えばステンレス製のノズルプレート３１と振動板３２とを備え、両者は仕切部材（リザーバプレート）３３を介して接合されている。
【００５０】
ノズルプレート３１と振動板３２との間には、一定の間隔ｃで配された複数の仕切部材３３によって複数の空間３４と液溜まり３５とが形成されている。各空間３４と液溜まり３５の内部はスペーサ分散溶液で満たされており、各空間３４と液溜まり３５とは供給口３６を介して連通している。また、ノズルプレート３１には、空間３４からスペーサ分散溶液を噴射するためのノズル孔３７が形成されている。このノズル孔３７は、各空間３４内にそれぞれ一つずつ設けられており、ノズルヘッド２６には平面視でこのようなノズル孔３７が長手方向に平行に一定の間隔ｃで複数配列されている。
【００５１】
一方、振動板３２には液溜まり３５にスペーサ分散溶液を供給するための孔３８が形成され、空間３４内の容積変化に応じて外部からスペーサ分散溶液が供給されるようになっている。
【００５２】
また、図７に示すように、振動板３２の空間３４に対向する面と反対側の面上には圧電素子３９が接合されている。この圧電素子３９は一対の電極４１の間に位置し、通電すると圧電素子３９が外側に突出するように撓曲し、同時に圧電素子３９が接合されている振動板３２も一体となって外側に撓曲する。これによって空間３４の容積が増大する。したがって、空間３４内に増大した容積分に相当するスペーサ分散溶液が液溜まり３５から供給口３６を介して流入する。次に、圧電素子３９への通電を解除すると、圧電素子３９と振動板３２はともに元の形状に戻る。これにより、空間３４も元の容積に戻るため、空間３４内部のスペーサ分散溶液の圧力が上昇し、ノズル孔３７から基板に向けてスペーサ分散溶液の液滴２７が吐出される。
【００５３】
さらに、図８に示すように、ノズルヘッド２６は基板に水平な面内で回転可能に構成されており、ノズル孔３７の配列方向とＸ軸との交差角度θを連続的或いは複数段階で調整できるようになっている。例えば、図９に示すように、ノズルヘッド２６をＹ軸方向に走査しながらノズル孔３７から所定間隔ｂでスペーサ分散溶液を基板上に間欠的に吐出した場合、基板上にはスペーサ１５がＹ軸に平行な第１仮想線Ｌに沿って一定間隔ｂでライン状に配置されるとともに、Ｘ軸に角度θで交差する（即ち、ノズル孔３７の配列方向に平行な）第２仮想線Ｋに沿って一定間隔ｃ（すなわち、ノズル孔３７の配置間隔）でライン状に配置されることになる。
【００５４】
このようにノズル孔３７の配列方向がＸ軸方向（即ち、ノズルヘッド２６の走査方向に垂直な方向）に対して所定の角度θだけ傾いた場合、隣接する第１仮想線Ｌの間隔はｃ・ｃｏｓθで表される。このため、高精細化等により走査方向に垂直な方向（Ｘ軸方向）の画素ピッチａがノズル孔３７の配置間隔ｃよりも小さくなった場合に、ノズルヘッド２６の回転角度θを調節することで、ノズル孔３７を非画素領域１８に確実に配置することができる。これにより、スペーサ１５は非画素領域１８にのみ配置され、コントラストの高い高品質な表示が得られる。
【００５５】
なお、スペーサ分散溶液の吐出間隔ｂは、基板上に吐出された液滴１７の直径よりも大きくなるように設定することが望ましい。基板上に吐出されたスペーサ分散溶液中のスペーサ１５は、溶液周辺部の溶媒が蒸発するのに伴って液滴１７の中央部に集められ、第１仮想線Ｌ及び第２仮想線Ｋに沿って配置されるため、基板上に吐出された液滴１７は個々に独立して存在していることが重要である。仮に液滴１７の直径よりも小さな間隔で液滴１７を吐出し、図２０（ａ）に示すように、隣り合う液滴１７同士がつながってしまうと、スペーサ１５は必ずしも各液滴１７の中心に位置しなくなり、図２０（ｂ）に示すように、画素領域１９に配置されるものも生じる。これに対して、上述のように液滴１７の吐出間隔を液滴１７の直径よりも大きくした場合、隣接する液滴１７同士がつながることが防止され、スペーサ１５の位置が液滴中央部に確定される。これにより、スペーサ１５を非画素領域１８にのみ配置することができるのである。
【００５６】
図１０及び図１１は、画素ピッチａに対してノズル孔３７が２ａの間隔で配置されたノズルヘッド２６を用いて、第１仮想線Ｌに沿うように一定間隔ｂでスペーサ１５を定点配置した場合のスペーサ１５の配置状態を示している。
【００５７】
図１０はＸ軸に対する第２仮想線Ｋの交差角度を０°（即ち、ノズル３７の配列方向をＸ軸に平行に配した状態）としてスペーサ１５をＹ軸方向に一定間隔ｂで配置した状態を示している。図１０では、スペーサ１５は非画素領域１８を一本ずつ飛ばした状態で配置された状態となっている。また、スペーサ１５は非画素領域１８にのみ配置され、スペーサ１５が表示に与える影響が極力排除されるようになっている。
【００５８】
これに対して、図１１はＸ軸に対する第２仮想線Ｋの交差角度θを６０°（即ち、ノズル３７の配列方向をＸ軸に対して６０°傾けた状態）としてスペーサ１５をＹ軸方向に一定間隔ｂで配置した状態を示している。図１１では、スペーサ１５はＹ軸方向にライン状に延びる非画素領域１８のそれぞれに配置されており、スペーサ１５の配置密度は図１０のものの二倍となっている。この場合にも、スペーサ１５は非画素領域１８にのみ配置され、画素領域にスペーサ１５に起因した光抜け等が生じないようになっている他、スペーサ１５の配置密度が大きくなり、セル厚の均一性が高まるようになっている。
【００５９】
したがって、本発明のスペーサ定点配置装置によれば、ノズル孔３７の配列方向をＸ軸に交差させた状態でヘッドを走査することにより、隣接する第１仮想線Ｌの間隔をノズル孔３７の配置間隔（ノズル間隔）ｃよりも狭くすることができる。このため、高い製造精度が要求されるノズルヘッド２６を用いることなくスペーサ１５を微細に配置できる。
【００６０】
また、ノズルヘッド２６を基板に水平な面内で回転してノズル孔３７の配列方向とＸ軸との交差角度θを調節することで、第１仮想線Ｌに沿ってライン状に配置されるスペーサ１５のライン間隔を調節することができる。このため、製造する液晶装置の精細度等が変わっても、ノズルヘッド２６を交換することなく、ノズル間隔が固定された共通のノズルヘッド２６により、スペーサ１５を非画素領域１８上にのみ確実に配置することができる。
【００６１】
また、本実施の形態の液晶装置では、第２仮想線Ｋがノズルヘッド２６の走査方向に垂直なＸ軸方向に対して所定の角度をもって配置できるので、上述のようなノズルヘッド２６を用いてスペーサ１５を定点に配置する場合に、そのノズルヘッド２６のノズル孔３７の構成をフレキシブルに設計したとしても、スペーサ１５を非画素領域１８にのみ配置し、かつスペーサ１５の配置密度を最適に設定でき、表示品質の高い表示を得ることができる。例えば、スペーサ１５の配置密度を５０〜３００個／ｍｍ２とし、且つ、液滴１点あたりに平均で０．２〜３個のスペーサ１５を配置することで、スペーサ１５による光抜けによるコントラスト低下などの不具合が充分に抑制され、表示品位を向上させることができる。
【００６２】
なお、本実施の形態では白黒表示を前提とした構成としているが、カラー表示を行うべく、カラーフィルタ層を形成することもできる。すなわち、上基板（対向基板）２０の内面に、着色層と遮光層（ブラックマトリクス）とを備えたカラーフィルタ層を設け、カラーフィルタ層を保護する保護層を順次形成し、さらに保護層上に共通電極２１を形成することができる。表示領域においては、各々異なる色、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層を備えており、したがって、各色の表示領域により画素が構成され、画素毎にカラー表示が可能となる。また、本実施の形態ではアクティブマトリクスタイプの液晶装置を例示したが、例えば単純マトリクスタイプの液晶装置にも本発明に係る構成を採用することも可能である。
【００６３】
次に、本実施の形態の液晶装置に用いるスペーサ１５の構成について説明する。スペーサ１５は、例えば二酸化珪素やポリスチレン等からなる球状部材にて構成することができる。スペーサ１５の直径は、液晶装置に封入される液晶層５０の厚み（セル厚、すなわち基板間のギャップ）に合わせて設定され、例えば２〜１０μｍの範囲内から選択される。
【００６４】
スペーサ１５としては、図１３に示すように、表面に熱硬化性樹脂層１５０が付与された構成のものを採用することができる。この場合、熱硬化性樹脂の硬化によりスペーサ１５が下基板（ＴＦＴアレイ基板）１０と上基板（対向基板）２０に対して確実に固着されるようになる。例えば、当該液晶装置の製造工程において、液晶を滴下した基板（例えばＴＦＴアレイ基板１０）とは異なる基板（対向基板２０）上にスペーサ１５を散布した後に熱処理を行い、熱硬化性樹脂を硬化させることにより、対向基板２０に対してスペーサ１５を固着させることができる。
【００６５】
また、スペーサ１５の表面には、例えば図１４のように、長鎖のアルキル基を付与した表面処理層１５１を設けることができる。長鎖のアルキル基を付与した表面処理層１５１を設ける手段としては、例えばシランカップリング剤を用いて表面処理を行うことが挙げられる。図１６（ａ）に示すように、表面処理層１５１の設けられていないスペーサ１５を用いた場合、スペーサ１５表面付近において液晶分子の配向が乱れ、その部分において光漏れが生じる場合がある。一方、図１６（ｂ）に示すように、表面処理層１５１の設けられたスペーサ１５ａを用いた場合には、スペーサ１５ａ表面付近において液晶分子を所定の方向に配向（本実施の形態の場合は垂直配向）することが可能となり、その部分において光漏れが生じ難いものとなる。
【００６６】
さらに、スペーサには着色を施すことが可能で、図１５に示したスペーサ１５ｂは、黒色に着色されたスペーサの一例を示している。例えば図１７（ａ）に示すように、無着色スペーサ１５を用いると、黒表示（暗表示）時にスペーサに対応して白色の点表示が発生することとなり、場合によってはコントラスト低下の一因となる場合がある。これに対して、図１７（ｂ）に示すように、図１５に示したような着色スペーサ１５ｂを用いることで、黒表示（暗表示）時にスペーサに対応する白色の点表示が発生しないものとなる。なお、白表示（明表示）時にスペーサに対応する黒色の点表示が発生することとなるが、黒表示（暗表示）時の白色の点表示発生に比してコントラスト低下に対する影響は小さいものとなる。
【００６７】
［液晶装置の製造方法］
次に、本実施の形態に示した液晶装置の製造方法について、その一例を図１８を参照しつつ説明する。
まず、図１８のステップＳ１に示すように、ガラス等からなる下側の基板本体１０Ａ上に遮光膜１１ａ、第１層間絶縁膜１２、半導体層１ａ、チャネル領域１ａ’、低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃ、高濃度ソース領域１ｄ、高濃度ドレイン領域１ｅ、蓄積容量電極１ｆ、走査線３ａ、容量線３ｂ、第２層間絶縁膜４、データ線６ａ、第３層間絶縁膜７、コンタクトホール８、画素電極９、配向膜４０を形成し、下基板（ＴＦＴアレイ基板）１０を作成する。また、これと並行して、上側の基板本体２０Ａ上にも遮光膜２３、対向電極２１、配向膜６０を形成し、上基板（対向基板）２０を作成する。
【００６８】
次に、ステップＳ２において、下基板（ＴＦＴアレイ基板）１０上に、当該液晶装置のギャップに見合った所定量の液晶を滴下し、ステップＳ３において、上基板２０上にシール材９３を液晶注入口を有しない閉口枠形状に印刷する。
【００６９】
次に、ステップＳ４で、ノズル孔３７が非画素領域１８に配置されるように、ノズルヘッド２６を基板に水平な面内で回転する。そして、ステップＳ５で、ノズルヘッド２６を上基板２０上に走査させながら、液滴１点あたりに平均で０．２〜３個のスペーサ１５が存在するように濃度調整の行われたスペーサ分散溶液を、ノズル孔３７から上基板上に所定間隔ｂで間欠的に吐出する。この際、上記所定間隔ｂは、スペーサ１５の配置密度が５０〜３００個／ｍｍ２となり、且つ、上記間隔ｂが基板上に吐出された液滴１７の直径よりも大きくなるように設定する。そして、このように上基板２０上に吐出されたスペーサ分散溶液の溶媒は自然に又は所定の乾燥手段により蒸発し、スペーサ１５が非画素領域１８上に配置される。
【００７０】
次に、ステップＳ５において、これら下基板１０と上基板２０とを貼り合わせ、さらに下基板１０および上基板２０の外側に図示しない位相差板、偏光板等の光学フィルムを貼り合わせて、図３に示したセル構造を備える液晶装置を製造する。
【００７１】
一方、製造方法の異なる例として、図１９に示すような工程によって上記実施の形態の液晶装置を得ることもできる。
まず、ステップＳ１１に示すように、上述したステップＳ１と同様、ガラス等からなる下側の基板本体１０Ａ上に配向膜４０等を形成し、下基板（ＴＦＴアレイ基板）１０を作成する。また、これと並行して、上側の基板本体２０Ａ上にも配向膜６０等を形成し、上基板（対向基板）２０を作成する。
【００７２】
次に、ステップＳ１２において、下基板（ＴＦＴアレイ基板）１０上に上記同様、液晶注入口を有しない閉口枠形状のシール材９３を印刷し、更に、ステップＳ１３において、閉口枠形状のシール材９３の内側に所定量の液晶を滴下する。
【００７３】
次に、ステップＳ１４において、ノズル孔３７が非画素領域１８に配置されるように、ノズルヘッド２６を基板に水平な面内で回転し、ステップＳ１５において、ノズルヘッド２６を上側基板２０上で走査させながら、液滴１点あたりに平均で０．２〜３個のスペーサ１５が存在するように濃度調整の行われたスペーサ分散溶液をノズル孔３７から上基板２０上に間欠的に吐出する。この場合も、上記所定間隔ｂは、スペーサ１５の配置密度が５０〜３００個／ｍｍ２となり、且つ、上記間隔ｂが基板上に吐出された液滴１７の直径よりも大きくなるように設定する。そして、このように上基板２０上に吐出されたスペーサ分散溶液の溶媒は自然に又は所定の乾燥手段により蒸発し、スペーサ１５が非画素領域１８上に配置される。
【００７４】
そして、ステップＳ１６において、これら下基板１０と上基板２０とを貼り合わせ、さらに下基板１０および上基板２０の外側に図示しない位相差板や偏光板等の光学フィルムを貼り合わせ、図３に示したセル構造を備える液晶装置を製造する。
【００７５】
したがって、本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、上述のスペーサ定点配置装置を用いてスペーサ１５を定点配置しているため、共通のノズルヘッド２６を用いてスペーサ１５の密度や配置を様々に変えることができ、セル厚の均一性等の観点からスペーサ１５が最適に配置された液晶装置を製造することができる。また、画素ピッチａがノズル間隔ｃよりも狭い液晶装置に対してもスペーサ１５を非画素領域１８上に確実に配置することができるため、光り抜け等の少ない表示品質の高い液晶装置を製造することができる。
【００７６】
［電子機器］
次に、上記実施形態で示した液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図２２（ａ）は携帯電話の一例を示した斜視図である。図２２（ａ）において、符号５００は携帯電話本体を示し、符号５０１は上記実施の形態の液晶装置を備えた液晶表示部を示している。
【００７７】
図２２（ｂ）はワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図２２（ｂ）において、符号６００は情報処理装置、符号６０１はキーボードなどの入力部、符号６０３は情報処理本体、符号６０２は上記実施の形態の液晶装置を備えた液晶表示部を示している。
【００７８】
図２２（ｃ）は腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図２２（ｃ）において、符号７００は時計本体を示し、符号７０１は上記実施の形態の液晶装置を備えた液晶表示部を示している。
【００７９】
このように、図２２（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、上記実施形態の液晶装置のいずれかを備えたものであるので、表示品位に優れた表示部を有する電子機器となる。
【００８０】
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【００８１】
例えば、上述の実施形態のスペーサ定点配置装置では、ノズル孔３７はノズルヘッド２６の長手方向に平行に配列して設けられているが、図２１に示すように、ノズル孔３７′をノズルヘッド２６′の長手方向に対して斜めに配列して設け、このノズル孔３７′の配列方向とＸ軸とが所定の角度θで交差するようにしてもよい。上述の構成において、ノズルヘッド２６′の長手方向をＸ軸に平行に配した状態で、ノズルヘッド２６′をＹ軸方向に走査し、ノズル孔３７′から一定間隔ｂでスペーサ分散溶液を基板上に吐出した場合には、上記実施形態と同様に、基板上にはスペーサ１５が第１仮想線Ｌに沿って一定間隔ｂで配置されるとともに、Ｘ軸に角度θで交差する方向に延在する第２仮想線Ｋに沿って一定間隔ｃで配置されることになる。したがって、この場合でも、画素間隔ａがノズル間隔ｃよりも狭い液晶装置に対して、スペーサ１５を非画素領域１８上に確実に配置することができる。
【００８２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ノズル孔が走査方向に垂直な方向に対して所定の角度をなして配列しているため、走査方向に沿ってライン状に配置されるスペーサの隣接するラインの間隔をノズル孔の間隔より狭くすることができる。このため、ノズル孔の間隔の広く高い製造精度を必要としないノズルヘッドを用いてスペーサを微細に配置することができ、スペーサの配置密度と液滴１点あたりに存在するスペーサ個数を最適化して、セル厚ムラやスペーサによる光抜け等に起因する表示不良を効果的に抑制することができる。
また、ノズルヘッドを基板に水平な面内で回転可能に構成した場合、ノズル孔の配列方向とノズルヘッドの走査方向との交差角度を調節することで、走査方向に沿ってライン状に配置されるスペーサのライン間隔を任意に調節することができる。このため、ノズル孔の間隔の固定されたノズルヘッドを用いて様々な密度、或いは、様々なライン間隔でスペーサを配置することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の液晶装置におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。
【図２】同、液晶装置におけるＴＦＴアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す平面図である。
【図３】同、液晶装置において、その非画素領域における構造を示す断面図である。
【図４】同、液晶装置において、全体構成の概略を示す全体平面模式図である。
【図５】同、液晶装置のスペーサ配置工程において、液滴１点あたりの平均で２個のスペーサが存在している状態の一例を示す平面図であって、図５（ａ）は吐出直後、図５（ｂ）は溶媒を蒸発させた後の状態を示している。
【図６】同、スペーサ配置工程で用いるインクジェット装置のヘッドの構成を示す斜視図である。
【図７】同、インクジェット装置のヘッドの断面図である。
【図８】同、インクジェット装置のヘッドの平面図である。
【図９】同、インクジェット装置のヘッドの作用を説明するための図である。
【図１０】同、インクジェット装置のヘッドによるスペーサの配置例を示す図である。
【図１１】同、インクジェット装置のヘッドによるスペーサの配置例を示す図である。
【図１２】同、液晶装置のスペーサ配置工程において、スペーサ凝集体が形成された状態を示す平面図である。
【図１３】同、スペーサの構成を示す模式図である。
【図１４】同、スペーサに表面処理層を設けた場合の構成を示す模式図である。
【図１５】スペーサに着色を施した場合の構成を示す模式図である。
【図１６】図１４のスペーサを用いた場合の効果を説明するための図であり、（ａ）はスペーサに配向機成膜を設けない例、（ｂ）はスペーサに配向規制膜を設けた例を示す図である。
【図１７】図１５のスペーサを用いた場合の効果を説明するための図であり、（ａ）は透明なスペーサを用いた例、（ｂ）は着色スペーサを用いた例を示す図である。
【図１８】同、液晶装置の製造方法の一例を示す工程説明図（フローチャート）である。
【図１９】同、製造方法の一変形例を示す工程説明図（フローチャート）である。
【図２０】同、スペーサ配置工程において、液滴の直径よりも小さな寸法間隔で液滴を吐出した状態を示す模式図であり、（ａ）はスペーサ分散溶液を吐出した直後の様子を示す図であり、（ｂ）は溶媒乾燥後のスペーサの配置を示す図である。
【図２１】同、インクジェット装置のヘッドの他の構成及びその作用を説明するための平面図である。
【図２２】本発明に係る電子機器の幾つかの例を示す斜視図である。
【図２３】従来のインクジェット装置のヘッドの構成及びその作用を説明するための平面図である。
【符号の説明】
１０　下側基板（ＴＦＴアレイ基板）
１５　スペーサ
１８　非画素領域
１９　画素領域
２０　上側基板（対向基板）
２６　ノズルヘッド
３７　ノズル孔
５０　液晶層
９３　シール材
Ｋ　第２仮想線
Ｌ　第１仮想線
【図１】
2004145101.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2004145101.tif 000015
【図１４】
2004145101.tif 000016
【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2004145101.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2004145101.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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