(57)【要約】　　【課題】有機電界発光表示装置や液晶表示装置の遮光性セパレーターやブラックマトリクスの形成に適した、ポジ型感光性樹脂組成物を提供する。　　【解決手段】本発明は、（ａ）アルカリ可溶性耐熱性樹脂と、（ｂ）エステル化したキノンジアジド化合物と、（ｃ）（ｃ１）染料、（ｃ２）無機顔料、（ｃ３）有機顔料から選ばれる少なくとも１種の着色剤、を必須成分とすることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）アルカリ可溶性耐熱性樹脂と、（ｂ）エステル化したキノンジアジド化合物と、（ｃ）（ｃ１）染料、（ｃ２）無機顔料、（ｃ３）有機顔料から選ばれる少なくとも１種の着色剤、を必須成分とすることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１記載の（ａ）成分が、一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位を主成分とすることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性樹脂前駆体組成物。
【化１】
2004145320.tif 000018
　(式中Ｒ1は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ3は水素、または炭素数１から２０までの有機基、Ｒ4は２価の有機基、Ｘはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基、不飽和炭化水素基を少なくとも１つ以上含有する炭素数１から１０までの炭化水素基、ニトロ基、メチロール基、エステル基、ヒドロキシアルキニル基より少なくとも一つ選ばれる基を有する２価から６価の有機基を示す。ｎは１０から１０００００までの整数、ｍは０から１０までの整数、ｐ、ｑは０から４までの整数、ｒは０から２までの整数を示す。ｐ+ｑ＞０である。）
【請求項３】
請求項１記載の（ａ）成分が、一般式（３）および／または一般式（４）で表される構造単位を主成分とすることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化２】
2004145320.tif 000019
(式中Ｒ1は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ3は水素、または炭素数１から２０までの有機基、Ｒ4は２価の有機基、Ｙはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基、不飽和炭化水素基を少なくとも１つ以上含有する炭素数１から１０までの炭化水素基、ニトロ基、メチロール基、エステル基、ヒドロキシアルキニル基より少なくとも一つ選ばれる基を有する２価から６価の有機基を示す。ｎは１０から１０００００までの整数、ｍは０から１０までの整数、ｐ、ｑは０から４までの整数、ｒは０から２までの整数を示す。ｐ+ｑ＞０である。）
【請求項４】
（ｃ１）成分が、フタロシアニン系および／または含金属錯塩系の骨格構造を有する染料であることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物を支持基板に塗布し乾燥する工程、露光する工程、アルカリ現像液を用いて現像する工程及び加熱処理をする工程を含むパターンの製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の製造法により得られるパターンを有する有機電界発光表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、フラットパネルディスプレイである有機電界発光表示装置や液晶表示装置の遮光性セパレーターやブラックマトリクスの形成に適した、紫外線で露光した部分がアルカリ水溶液に溶解するポジ型感光性樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
　フラットパネルディスプレイとして非発光型である液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が普及しているが、自発光型ディスプレイとして有機電界発光表示装置は高輝度が得られ、フルカラーディスプレイが可能なことで研究開発が盛んである。
【０００３】
　この有機電界発光素子は、対向する第一電極と第二電極との間に電圧を印加することで、あるいは、電流を流すことで動作するものである。この際、曲率半径の小さい電極のエッジ部分には電界が集中しやすいため、エッジ部分では絶縁破壊やリーク電流の発生など、望ましくない現象が起きやすい。
【０００４】
　これら現像を抑制するために、第一電極のエッジ部分を絶縁層（セパレーターとも言う）で覆うことが知られている（例えば特許文献１参照）。これにより、電極のエッジ部分における電界集中を緩和することが可能となる。またさらに、絶縁層の形成後に成膜される有機絶縁層や第二電極がスムーズに堆積されるように、絶縁層が第一電極を露出せしめる境界部分における絶縁層の厚さを、境界から離れるに従って徐々に厚くする、すなわち断面を順テーパー形状にすることにより、電極のエッジ部分における電界集中を抑制することが可能となる。最近は、有機電界発光表示装置におけるコントラストを高める目的で、非感光性ポリイミド樹脂にカーボンブラックを添加することで絶縁膜および／または素子分離構造体に遮光性を持たせる試みがなされている（例えば特許文献２参照）。
【０００５】
　一般に、絶縁層としてはポリイミド、ノボラック、アクリル樹脂等が用いられる。これらの樹脂には非感光性、ネガ型感光性、ポジ型感光性が知られているが、電極のエッジ部分における電界集中を抑制するためには絶縁層はポジ型感光性樹脂が好ましい。
【０００６】
　絶縁層に非感光性樹脂を用いる場合、絶縁層のパターニングには、基板上への非感光性樹脂の塗布、非感光性樹脂のプリベーク（乾燥もしくはセミキュアともいう）、非感光性樹脂の上へのフォトレジストの塗布、フォトレジストのベーク（乾燥もしくはプリベークとも言う）、フォトレジストの露光、フォトレジストの現像、非感光性樹脂のエッチング、フォトレジストの除去、非感光性樹脂のキュア（ポストベークとも言う）という、多くのフォトリソ工程を必要とする。そのため工程が煩雑になり、歩留まりも悪いという問題があった。さらに、絶縁層の断面を順テーパー形状にするためには、フォトレジストの現像条件や非感光性樹脂のエッチング条件など多くのパラメーターを最適化する必要があり、条件設定も煩雑であるという問題があった。
【０００７】
　絶縁層に感光性樹脂を使用するとフォトレジストを使用することなく絶縁層のパターニングができるため、工程の煩雑さ、歩留まりの悪さも解消する事が出来る。しかし、ネガ型感光性樹脂では、露光部の塗膜内部の硬化反応は表面から底部に向かって次第に不十分となりやすい。パターニング後のネガ型感光性樹脂の断面形状は逆テーパー形状もしくは矩形になりやすいためエッジ部分において電界集中がおこりやすく、また基板への密着性が不十分となり、剥がれ、欠損等を生じる問題がある。また、ネガ型感光性レジストにおいて、パターン形状を順テーパー形状にし、密着性を上げるために現像後ベークを行うと、パターンのライオン幅および形状の制御はむしろ困難になりやすい。
【０００８】
　これに対し、絶縁層にポジ型感光性樹脂を用いると、露光部の塗膜内部への放射線有効強度が、塗膜の表面から底部に向かって次第に小さくなっても、露光部が溶解するためにネガ型感光性樹脂に生じるようなパターンの断面が逆テーパー形状や矩形になりやすかったり、あるいは基板への密着性が低下して現像後のパターンに剥がれ、欠落、欠損等が発生したりする問題は生じにくい。
【０００９】
　ブラックマトリクス用ポジ型感光性樹脂組成物としては、ノボラック樹脂および／またはビニル重合体からなるアルカリ可溶性樹脂にキノンジアジド化合物と黒色顔料を添加する方法（例えば特許文献３参照）、ジアゾキノン−ノボラック樹脂系のポジ型レジストに発色材と顕色材を添加する方法（例えば特許文献４参照）が提案されている。また有機ＥＬ素子の遮光性絶縁膜としては、ノボラック樹脂および／またはラジカル重合性モノマーの重合体からなるアルカリ可溶性樹脂にキノンジアジド化合物と着色剤を添加する方法（例えば特許文献５参照）が提案されている。
【００１０】
　しかしながら上記のポジ型レジスト類に着色剤を添加して調製された遮光性ポジ型感光性樹脂を用いて絶縁層を形成し、有機電界発光表示装置を作製して発光の耐久試験を行うと、発光領域がその外周（絶縁層との境界部分）から徐々に非発光部（ダークエリア）が進行していくという問題がある。ポジ型レジストに一般に用いられるノボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂はパターニング後の形状がほとんどの場合矩形になりやすく、所望の順テーパー形状を得にくいため、有機材料および金属材料を蒸着により積層する際、十分な層厚を得ることが困難になる。そのため有機層の厚い部分に比べ十分な発光輝度が得られないという問題や、また絶縁層の縁部付近においては、金属電極の層が薄いことから、他の部分に比べて水分が進入しやすくなり、ダークエリアが進行しやすい。しかも、ポジ型レジストに一般に用いられるノボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂は、パターニング後に施す熱処理工程において、２００℃以上の温度での耐熱性に問題があり、樹脂の劣化が起こりやすい。これにより添加物である着色剤成分、樹脂劣化成分およびその他有機物等が絶縁膜から発光エリアに拡散しダークエリアの拡大を進行させやすい。また、着色剤に発色材を用いると、発色材そのものが高温で不安定であるため、その劣化物が絶縁膜から発光エリアに拡散しダークエリアの拡大を進行させやすい。
【００１１】
　アルカリ可溶性樹脂に耐熱性樹脂を用いたポジ型感光性樹脂組成物において、絶縁層を黒色化する思想（例えば特許文献６参照）が開示されているが、黒色化するための具体的方法や手段については記載がなされていない。
【特許文献１】特開平１１−９７１８２号公報（第１−３頁）
【特許文献２】特開平１１−２７３８７０号公報（第１−３頁）
【特許文献３】特開平６−２３０２１５号公報（第１−２頁）
【特許文献４】特開平１０−１７０７１５号公報（第２−４頁）
【特許文献５】特開２００２−１１６５３６号公報（第１−３頁）
【特許文献６】国際公開第０２／００１９２２号パンフレット（５〜６頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
　本発明の課題は、上記した問題点に鑑み、有機電界発光表示装置や液晶表示装置の遮光性セパレーターやブラックマトリクスの形成に適した、ポジ型感光性樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
　すなわち本発明は、（ａ）アルカリ可溶性耐熱性樹脂前駆体と、（ｂ）エステル化したキノンジアジド化合物と、（ｃ）（ｃ１）染料、（ｃ２）無機顔料、（ｃ３）有機顔料から選ばれる少なくとも１種の着色剤、を必須成分とすることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物である。
【発明の効果】
【００１４】
　本発明によれば、有機電界発光表示装置や液晶表示装置の遮光性セパレーターやブラックマトリクスの形成に適した、紫外線で露光した部分がアルカリ水溶液に溶解するポジ型感光性樹脂組成物を供給することができる。また本発明の感光性樹脂組成物を用いると、高品質な有機電界発光表示装置や液晶表示装置を供給することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
　本発明における（ａ）成分は、現像液として用いられるアルカリ水溶液に可溶性であることが必要であるが、これは、従来公知のアルカリ可溶性耐熱性樹脂とキノンジアジド基を含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物で用いられているアルカリ可溶性樹脂であればいずれのものでも良い。アルカリ可溶性耐熱性樹脂としては、具体的には、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール前駆体から選択されるポリマーである。そのために前記ポリマーは分子中にアルカリ可溶性基を有することが望ましい。本発明におけるポリマーの種類は耐熱性に優れ、有機電界発光素子のセパレーターとして優れた特性を示すため、熱処理後、２３０℃以上の高温下における脱ガス量が少ないものが好ましく、具体的にはポリイミド、ポリヒドロキシアミド、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステル等のポリイミド前駆体またはポリベンゾオキサゾール前駆体である。
【００１６】
　上記アルカリ可溶性基としてはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基等が挙げられる。
【００１７】
【化１】
2004145320.tif 000002
　式中Ｒ1は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ3は水素、または炭素数１から２０までの有機基、Ｒ4は２価の有機基、Ｘはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基、不飽和炭化水素基を少なくとも１つ以上含有する炭素数１から１０までの炭化水素基、ニトロ基、メチロール基、エステル基、ヒドロキシアルキニル基より少なくとも一つ選ばれる基を有する２価から６価の有機基を示す。ｎは１０から１０００００までの整数、ｍは０から１０までの整数、ｐ、ｑは０から４までの整数、ｒは０から２までの整数を示す。ｐ+ｑ＞０である。
【００１８】
【化２】
2004145320.tif 000003
　式中Ｒ1は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ3は水素、または炭素数１から２０までの有機基、Ｒ4は２価の有機基、Ｙはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基、不飽和炭化水素基を少なくとも１つ以上含有する炭素数１から１０までの炭化水素基、ニトロ基、メチロール基、エステル基、ヒドロキシアルキニル基より少なくとも一つ選ばれる基を有する２価から６価の有機基を示す。ｎは１０から１０００００までの整数、ｍは０から１０までの整数、ｐ、ｑは０から４までの整数、ｒは０から２までの整数を示す。ｐ+ｑ＞０である。
【００１９】
　上記一般式（１）〜（４）は、水酸基を有したポリアミド酸を表しており、この水酸基の存在のために、アルカリ水溶液に対する溶解性が水酸基を有さないポリアミド酸よりも良好になる。特に、水酸基の中でもフェノール性の水酸基がアルカリ水溶液に対する溶解性より好ましい。また、フッ素原子を一般式（１）〜（４）中の各々に１０重量％以上有することで、アルカリ水溶液で現像する際に、膜の界面に撥水性が適度に出るために、界面のしみこみなどが抑えられる。しかしながら、フッ素原子含有量が２０重量％を越えると、アルカリ水溶液に対する溶解性が低下すること、熱処理により環状構造にしたポリマーの耐有機溶媒性が低下すること、発煙硝酸に対する溶解性が低下するために好ましくない。このように、フッ素原子は１０重量％以上２０重量％以下含まれることが好ましい。
【００２０】
　上記一般式（１）〜（４）のジカルボン酸単位に含まれるＲ1は酸二無水物の構造成分を表しており、少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基を示し、この酸二無水物は芳香族環または脂肪族環を含有し、かつ、水酸基を０個〜２個有した、炭素数６〜３０の３価または４価の有機基であることが好ましい。
【００２１】
　具体的な酸二無水物は、水酸基を有しない場合、ピロメリット酸二無水物、３，３’、４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３、３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’、３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’、４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパンニ無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパンニ無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタンニ無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタンニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホンニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテルニ無水物、２，２−ビス（４−（４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンニ無水物、２，２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ビフェニル二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物や、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５，６−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボンサン無水物、及び「ＴＤＡ１００、リカレジンＴＭＥＧ」（以上、商品名、新日本理化（株）製）などの脂肪族のテトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらのうち、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’、４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパンニ無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパンニ無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタンニ無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタンニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホンニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテルニ無水物、２，２−ビス（４−（４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンニ無水物、２，２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ビフェニル二無水物が好ましい。
【００２２】
　水酸基を有する場合、好ましい化合物を例示すると下記に示したような構造のものが挙げられるが、これらに限定されない。
【００２３】
【化３】
2004145320.tif 000004
　これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００２４】
　上記一般式（１）〜（４）のジアミン単位に含まれるＲ2は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基を示し、好ましい例としては、得られるポリマーの耐熱性より芳香族を有するものが好ましい。水酸基を有しないジアミンの具体的な例としては、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルヒド、４，４’−ジアミノジフェニルスルヒド、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ベンジン、ｍ−フェニレンジアミン、Ｐ−フェニレンジアミン、３，５−ジアミノ安息香酸、１，５−ナフタレンジアミン、２，６−ナフタレンジアミン、ビス（４−アミノフェノキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノフェノキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス｛４−（４−アミノフェノキシ）フェニル｝エーテル、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジエチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジエチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，３，３’−テトラメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’，４，４’−テトラメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジ（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、あるいはこれらの芳香族環にアルキル基やハロゲン原子で置換した化合物や、脂肪族のシクロヘキシルジアミン、メチレンビスシクロヘキシルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されない。上記化合物は単独種であっても良いし、２種以上の混合であっても良い。
【００２５】
　水酸基を有する場合、フッ素原子を有した、２，２−ビス〔４−（アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス〔４−（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、フッ素原子を有さない、ジアミノジヒドロキシピリミジン、ジアミノジヒドロキシピリジン、ヒドロキシ−ジアミノ−ピリミジン、ジアミノフェノール、ジヒドロキシベンチジン及び「ＡＢＣＨ」、「ＡＢＰＳ」（商品名、日本化薬（株）製）などの化合物や一般式（１）〜（４）のＲ2が下記に示したような構造のものが挙げられるがこれらに限定されない。
【００２６】
【化４】
2004145320.tif 000005
【００２７】
【化５】
2004145320.tif 000006
　これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００２８】
　本発明の一般式（１）〜（４）で表される耐熱性樹脂前駆体は、公知の方法を利用して合成される。例えば、低温中でテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物を反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後ジアミンを添加し、その後、縮合剤を加えて反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後残りのジカルボン酸を酸クロリド化し、ジアミンを添加し、反応させる方法などの方法を利用して合成することができる。
【００２９】
　一般式（１）〜（４）のＲ3は水素、または炭素数１〜２０の有機基を表している。得られるポジ型感光性樹脂溶液の安定性からは、Ｒ3は有機基が好ましいが、アルカリ水溶液の溶解性より見ると水素が好ましい。本発明においては、水素原子とアルキル基を混在させることができる。このＲ3の水素と有機基の量を制御することで、アルカリ水溶液に対する溶解速度が変化するので、この調整により適度な溶解速度を有したポジ型感光性樹脂組成物を得ることができる。好ましい範囲は、Ｒ3の１０％〜９０％が水素原子であることである。Ｒ3の炭素数が２０を越えるとアルカリ水溶液に溶解しなくなる。以上よりＲ3は、炭素数１〜１６までの炭化水素基を少なくとも１つ以上含有し、その他は水素原子であることが好ましい。
【００３０】
　一般式（１）及び一般式（２）内の構造成分である−ＮＨ−（Ｒ4）m−Ｘは、下記一般式（５）で示され、これらは、末端封止剤である１級モノアミンに由来する成分である。
【００３１】
【化６】
2004145320.tif 000007
　また、一般式（３）及び一般式（４）内の構造成分である−ＣＯ−（Ｒ4）m−Ｙは、下記一般式（６）および／または下記一般式（７）で示され、これらは、末端封止剤である酸無水物、モノカルボン酸、モノ酸クロリド化合物、モノ活性エステル化合物から選ばれるものに由来する成分である。
【００３２】
【化７】
2004145320.tif 000008
　一般式（５）〜（７）にあるＲ4は、−ＣＲ8Ｒ9−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＳＯ2−より選ばれる２価の基を示し、Ｒ8、Ｒ9は水素原子、水酸基、カルボキシル基、炭素数１から１０までの炭化水素基より選ばれる１価の基を示す。Ｒ7は水素原子、炭素数１から１０までの炭化水素基より選ばれる１価の基を示す。なかでも水素原子、炭素数１から４の炭化水素基が好ましく、特に好ましくは水素原子、メチル基、ｔ−ブチル基である。Ｒ8、Ｒ9は、水素原子、炭素数１から４までの炭化水素基より選ばれる１価の基あるいは、Ｒ8とＲ9が直接結合することを示す０価の基を示す。また、Ｒ5、Ｒ6は水素原子、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、チオール基、不飽和炭化水素基を少なくとも１つ以上含有する炭素数１から１０までの炭化水素基、ニトロ基、メチロール基、エステル基、ヒドロキシアルキニル基、炭素数１から１０までの炭化水素基より選ばれる。Ａ、Ｂ、Ｇは炭素原子または、窒素原子である。ｍは０から１０までの整数であり、好ましくは０から４の整数である。ｌは０または１であり、好ましくは０である。ｉは０または１であり、好ましくは０である。ｊは１〜３までの整数であり、好ましくは１及び２である。ｋ、ｔ、ｕは０または１である。
【００３３】
　一般式（５）に関する１級モノアミンとは、具体的には、５−アミノ−８−ヒドロキシキノリン、４−アミノ−８−ヒドロキシキノリン、１−ヒドロキシ−８−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−７−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−６−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−５−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−４−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−３−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−２−アミノナフタレン、１−アミノ−７−ヒドロキシナフタレン、２−ヒドロキシ−７−アミノナフタレン、２−ヒドロキシ−６−アミノナフタレン、２−ヒドロキシ−５−アミノナフタレン、２−ヒドロキシ−４−アミノナフタレン、２−ヒドロキシ−３−アミノナフタレン、１−アミノ−２−ヒドロキシナフタレン、１−カルボキシ−８−アミノナフタレン、１−カルボキシ−７−アミノナフタレン、１−カルボキシ−６−アミノナフタレン、１−カルボキシ−５−アミノナフタレン、１−カルボキシ−４−アミノナフタレン、１−カルボキシ−３−アミノナフタレン、１−カルボキシ−２−アミノナフタレン、１−アミノ−７−カルボキシナフタレン、２−カルボキシ−７−アミノナフタレン、２−カルボキシ−６−アミノナフタレン、２−カルボキシ−５−アミノナフタレン、２−カルボキシ−４−アミノナフタレン、２−カルボキシ−３−アミノナフタレン、１−アミノ−２−カルボキシナフタレン、２−アミノニコチン酸、４−アミノニコチン酸、５−アミノニコチン酸、６−アミノニコチン酸、４−アミノサリチル酸、５−アミノサリチル酸、６−アミノサリチル酸、３−アミノ−Ｏ−トルイック酸、アメライド、２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸、４−アミノ安息香酸、２−アミノベンゼンスルホン酸、３−アミノベンゼンスルホン酸、４−アミノベンゼンスルホン酸、３−アミノ−４，６−ジヒドロキシピリミジン、２−アミノフェノール、３−アミノフェノール、４−アミノフェノール、５−アミノ−８−メルカプトキノリン、４−アミノ−８−メルカプトキノリン、１−メルカプト−８−アミノナフタレン、１−メルカプト−７−アミノナフタレン、１−メルカプト−６−アミノナフタレン、１−メルカプト−５−アミノナフタレン、１−メルカプト−４−アミノナフタレン、１−メルカプト−３−アミノナフタレン、１−メルカプト−２−アミノナフタレン、１−アミノ−７−メルカプトナフタレン、２−メルカプト−７−アミノナフタレン、２−メルカプト−６−アミノナフタレン、２−メルカプト−５−アミノナフタレン、２−メルカプト−４−アミノナフタレン、２−メルカプト−３−アミノナフタレン、１−アミノ−２−メルカプトナフタレン、３−アミノ−４，６−ジメルカプトピリミジン、２−アミノチオフェノール、３−アミノチオフェノール、４−アミノチオフェノール、２−エチニルアニリン、３−エチニルアニリン、４−エチニルアニリン、２，４−ジエチニルアニリン、２，５−ジエチニルアニリン、２，６−ジエチニルアニリン、３，４−ジエチニルアニリン、３，５−ジエチニルアニリン、１−エチニル−２−アミノナフタレン、１−エチニル−３−アミノナフタレン、１−エチニル−４−アミノナフタレン、１−エチニル−５−アミノナフタレン、１−エチニル−６−アミノナフタレン、１−エチニル−７−アミノナフタレン、１−エチニル−８−アミノナフタレン、２−エチニル−１−アミノナフタレン、２−エチニル−３−アミノナフタレン、２−エチニル−４−アミノナフタレン、２−エチニル−５−アミノナフタレン、２−エチニル−６−アミノナフタレン、２−エチニル−７−アミノナフタレン、２−エチニル−８−アミノナフタレン、３，５−ジエチニル−１−アミノナフタレン、３，５−ジエチニル−２−アミノナフタレン、３，６−ジエチニル−１−アミノナフタレン、３，６−ジエチニル−２−アミノナフタレン、３，７−ジエチニル−１−アミノナフタレン、３，７−ジエチニル−２−アミノナフタレン、４，８−ジエチニル−１−アミノナフタレン、４，８−ジエチニル−２−アミノナフタレン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】
　これらのうち、５−アミノ−８−ヒドロキシキノリン、１−ヒドロキシ−７−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−６−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−５−アミノナフタレン、１−ヒドロキシ−４−アミノナフタレン、２−ヒドロキシ−７−アミノナフタレン、２−ヒドロキシ−６−アミノナフタレン、２−ヒドロキシ−５−アミノナフタレン、１−カルボキシ−７−アミノナフタレン、１−カルボキシ−６−アミノナフタレン、１−カルボキシ−５−アミノナフタレン、２−カルボキシ−７−アミノナフタレン、２−カルボキシ−６−アミノナフタレン、２−カルボキシ−５−アミノナフタレン、２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸、４−アミノ安息香酸、４−アミノサリチル酸、５−アミノサリチル酸、６−アミノサリチル酸、２−アミノベンゼンスルホン酸、３−アミノベンゼンスルホン酸、４−アミノベンゼンスルホン酸、３−アミノ−４，６−ジヒドロキシピリミジン、２−アミノフェノール、３−アミノフェノール、４−アミノフェノール、２−アミノチオフェノール、３−アミノチオフェノール、４−アミノチオフェノール、３−エチニルアニリン、４−エチニルアニリン、３，４−ジエチニルアニリン、３，５−ジエチニルアニリン等が好ましい。
【００３５】
　一般式（６）及び一般式（７）に関する酸無水物、モノカルボン酸、モノ酸クロリド化合物、モノ活性エステル化合物から選ばれるものとは、具体的には、無水フタル酸、無水マレイン酸、ナジック酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、３−ヒドロキシフタル酸無水物等の酸無水物、２−カルボキシフェノール、３−カルボキシフェノール、４−カルボキシフェノール、２−カルボキシチオフェノール、３−カルボキシチオフェノール、４−カルボキシチオフェノール、１−ヒドロキシ−８−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−７−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−６−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−５−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−４−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−３−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−２−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−８−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−７−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−６−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−５−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−４−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−３−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−２−カルボキシナフタレン、２−カルボキシベンゼンスルホン酸、３−カルボキシベンゼンスルホン酸、４−カルボキシベンゼンスルホン酸、２−エチニル安息香酸、３−エチニル安息香酸、４−エチニル安息香酸、２，４−ジエチニル安息香酸、２，５−ジエチニル安息香酸、２，６−ジエチニル安息香酸、３，４−ジエチニル安息香酸、３，５−ジエチニル安息香酸、２−エチニル−１−ナフトエ酸、３−エチニル−１−ナフトエ酸、４−エチニル−１−ナフトエ酸、５−エチニル−１−ナフトエ酸、、６−エチニル−１−ナフトエ酸、７−エチニル−１−ナフトエ酸、８−エチニル−１−ナフトエ酸、２−エチニル−２−ナフトエ酸、３−エチニル−２−ナフトエ酸、４−エチニル−２−ナフトエ酸、５−エチニル−２−ナフトエ酸、６−エチニル−２−ナフトエ酸、７−エチニル−２−ナフトエ酸、８−エチニル−２−ナフトエ酸等のモノカルボン酸類及びこれらのカルボキシル基が酸クロリド化したモノ酸クロリド化合物及び、テレフタル酸、フタル酸、マレイン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、３−ヒドロキシフタル酸、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、１，２−ジカルボキシナフタレン、１，３−ジカルボキシナフタレン、１，４−ジカルボキシナフタレン、１，５−ジカルボキシナフタレン、１，６−ジカルボキシナフタレン、１，７−ジカルボキシナフタレン、１，８−ジカルボキシナフタレン、２，３−ジカルボキシナフタレン、２，６−ジカルボキシナフタレン、２，７−ジカルボキシナフタレン等のジカルボン酸類のモノカルボキシル基だけが酸クロリド化したモノ酸クロリド化合物、モノ酸クロリド化合物とＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾールやＮ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドとの反応により得られる活性エステル化合物、が挙げられる。
【００３６】
　これらのうち、無水フタル酸、無水マレイン酸、ナジック酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、３−ヒドロキシフタル酸無水物等の酸無水物、３−カルボキシフェノール、４−カルボキシフェノール、３−カルボキシチオフェノール、４−カルボキシチオフェノール、１−ヒドロキシ−７−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−６−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−５−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−７−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−６−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−５−カルボキシナフタレン、３−カルボキシベンゼンスルホン酸、４−カルボキシベンゼンスルホン酸、３−エチニル安息香酸、４−エチニル安息香酸、３，４−ジエチニル安息香酸、３，５−ジエチニル安息香酸等のモノカルボン酸類及びこれらのカルボキシル基が酸クロリド化したモノ酸クロリド化合物及びテレフタル酸、フタル酸、マレイン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、１，５−ジカルボキシナフタレン、１，６−ジカルボキシナフタレン、１，７−ジカルボキシナフタレン、２，６−ジカルボキシナフタレン等のジカルボン酸類のモノカルボキシル基だけが酸クロリド化したモノ酸クロリド化合物、モノ酸クロリド化合物とＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾールやＮ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドとの反応により得られる活性エステル化合物等が好ましい。
【００３７】
　一般式（５）で表される成分の導入割合は、全アミン成分に対して、０．１〜６０モル％の範囲が好ましく、特に好ましくは５〜５０モル％である。
【００３８】
　一般式（６）及び一般式（７）で表される成分の導入割合は、ジアミン成分に対して、０．１〜１００モル％の範囲が好ましく、特に好ましくは５〜９０モル％である。
【００３９】
　一般式（１）〜（４）のｎは本発明のポリマーの構造単位の繰り返し数を示しており、１０〜１０００００の範囲であることが好ましい。
【００４０】
　さらに、基板との接着性を向上させるために、耐熱性を低下させない範囲で　Ｒ1、Ｒ2にシロキサン構造を有する脂肪族の基を共重合してもよい。具体的には、ジアミン成分として、ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、ビス（ｐ−アミノ−フェニル）オクタメチルペンタシロキサンなどを１〜１０モル％共重合したものなどがあげられる。
【００４１】
　本発明の一般式（１）〜（４）で表されるアルカリ可溶性耐熱性樹脂前駆体は、ジアミンの一部をモノアミンである末端封止剤に置き換えてまたは、酸二無水物を、モノカルボン酸、酸無水物、モノ酸クロリド化合物、モノ活性エステル化合物である末端封止剤に置き換えて、公知の方法を利用して合成される。例えば、低温中でテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物（一部をモノアミンである末端封止剤に置換）を反応させる方法、低温中でテトラカルボン酸二無水物（一部を酸無水物またはモノ酸クロリド化合物あるいはモノ活性エステル化合物である末端封止剤に置換）とジアミン化合物を反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後ジアミン（一部をモノアミンである末端封止剤に置換）と縮合剤の存在下で反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後残りのジカルボン酸を酸クロリド化し、ジアミン（一部をモノアミンである末端封止剤に置換）と反応させる方法などの方法を利用して合成することができる。
【００４２】
　また、ポリマー中に導入された、本発明に使用の末端封止剤は、以下の方法で容易に検出できる。例えば、末端封止剤が導入されたポリマーを、酸性溶液に溶解し、ポリマーの構成単位であるアミン成分と酸無水成分に分解、これをガスクロマトグラフィー（ＧＣ）や、ＮＭＲ測定することにより、本発明に使用の末端封止剤を容易に検出できる。これとは別に、末端封止剤が導入されたポリマー成分を直接、熱分解ガスクロクロマトグラフ（ＰＧＣ）や赤外スペクトル及びＣ１３ＮＭＲスペクトル測定でも、容易に検出可能である。
【００４３】
　本発明のポジ型感光性樹脂組成物は一般式（１）〜（４）で表される各々の構造単位のみからなるものであっても良いし、一般式（１）〜（４）で表される各々の構造単位と他の構造単位との共重合体あるいはブレンド体であっても良い。その際、一般式（１）〜（４）で表される各々の構造単位を５０モル％以上含有していることが好ましい。共重合あるいはブレンドに用いられる構造単位の種類および量は最終加熱処理によって得られるポリイミド系ポリマの耐熱性を損なわない範囲で選択することが好ましい。
【００４４】
　本発明に添加される（ｂ）のエステル化したキノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物にナフトキノンジアジドのスルホン酸がエステルで結合した化合物が好ましい。ここで用いられるフェノール性水酸基を有する化合物としては、Ｂｉｓ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＥＺ、ＴｅｋＰ−４ＨＢＰＡ、ＴｒｉｓＰ−ＨＡＰ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ、ＢｉｓＯＣＨＰ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＭＺ、ＢｉｓＰ−ＰＺ、ＢｉｓＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＯＣＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＰ−ＣＰ、ＢｉｓＲＳ−２Ｐ、ＢｉｓＲＳ−３Ｐ、ＢｉｓＰ−ＯＣＨＰ、メチレントリス−ｐ−ＣＲ、メチレンテトラ−ｐ−ＣＲ、ＢｉｓＲＳ−２６Ｘ、Ｂｉｓ−ＰＦＰ−ＰＣ（以上商品名、本州化学工業（株）製）、ＢＩＲ−ＯＣ、ＢＩＰ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＴＢＰ、ＢＩＲ−ＰＣＨＰ、ＢＩＰ−ＢＩＯＣ−Ｆ、４ＰＣ、ＢＩＲ−ＢＩＰＣ−Ｆ、ＴＥＰ−ＢＩＰ−Ａ（以上、商品名、旭有機材工業（株）製）、ナフトール、テトラヒドロキシベンゾフェノン、没食子酸メチルエステル、ビスフェノールＡ、メチレンビスフェノール、ＢｉｓＰ−ＡＰ（商品名、本州化学工業（株）製）などの化合物に４−ナフトキノンジアジドスルホン酸あるいは５−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル結合で導入したものが好ましいものとして例示することが出来るが、これ以外の化合物を使用することもできる。
【００４５】
　また、本発明で用いるナフトキノンジアジド化合物の分子量が１０００以上になると、その後の熱処理においてナフトキノンジアジド化合物が十分に熱分解しないために、得られる膜の耐熱性が低下する、機械特性が低下する、接着性が低下するなどの問題が生じる可能性がある。このような観点より見ると、好ましいナフトキノンジアジド化合物の分子量は３００から１０００である。さらに好ましくは、３５０から８００である。このようなナフトキノンジアジド化合物の添加量としては、ポリマー１００重量部に対して、好ましくは１から５０重量部である。
【００４６】
　また、必要に応じて感光性耐熱性前駆体組成物のアルカリ現像性を補う目的で、上記フェノール性水酸基を有する化合物をナフトキノンジアジドでエステル化せずそのまま用いても構わない。このフェノール性水酸基を有する化合物を添加することで、得られる樹脂組成物は、露光前はアルカリ現像液にほとんど溶解せず、露光すると容易にアルカリ現像液に溶解するために、現像による膜減りが少なく、かつ短時間で現像が容易になる。この場合、フェノール性水酸基を有する化合物の添加量としては、ポリマー１００重量部に対して、好ましくは１から５０重量部であり、さらに好ましくは３から４０重量部の範囲である。
【００４７】
　本発明に添加される（ｃ）成分の着色剤としては、（ｃ１）染料、（ｃ２）有機顔料、（ｃ３）無機顔料から選ばれる少なくとも１種以上の着色剤を使用することが好ましい。着色剤は有機電界発光表示装置や液晶表示装置の遮光性セパレーターまたはブラックマトリクスとしての機能を発現するため、赤外から紫外まで幅広い吸収を安定して示す必要がある。着色方法としては、１種以上の黒色染料または黒色顔料を用いる方法、黒色以外の染料または顔料を２種以上組み合わせて用いる方法、１種以上の黒色染料または黒色顔料と１種以上の黒色以外の染料または顔料を組み合わせて用いる方法等が挙げられる。
【００４８】
　（ｃ１）の染料としては前記（a）アルカリ可溶性耐熱性樹脂を溶解する有機溶剤に可溶でかつ樹脂と相溶するものが好ましい。これら染料としては例えば油溶性染料、分散染料、反応性染料、酸性染料もしくは直接染料等が挙げられる。染料の骨格構造としては、アントラキノン系、アゾ系、フタロシアニン系、メチン系、オキサジン系さらにはこれら各染料の含金属錯塩系を用いることができ、その中でもフタロシアニン系、および含金属錯塩系のものが耐熱性、耐光性に優れより好ましい。具体的には、Sumilan、 Lanyl染料（住友化学工業（株）製）、Orasol、 Oracet、 Filamid、 Irgasperse染料（チバスペシャリティ・ケミカルズ（株）製）Zapon、 Neozapon、 Neptune、 Acidol染料（BASF（株）製）Kayaset、 Kayakalan染料（日本化薬（株）製）、Valifast colors染料（オリエント化学工業（株）製）Savinyl、 Sandoplast、 Polysynthren, Lanasyn染料（クラリアントジャパン（株）製）、Aizen Spilon染料（保土谷化学工業（株）製）等が挙げられる。これらの染料は単独でもしくは混合して用いられる。
【００４９】
　（ｃ２）の有機顔料としては、耐熱性の高い顔料が好ましく、特にカーボンブラックおよび／または２種以上の有機顔料組み合わせが好ましい。上記カーボンブラックとしては、例えば、ＨＣＦ、ＭＣＦ、ＬＦＦ、ＲＣＦ、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＸＣＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦ等のファーネスブラック、ＦＴ、ＭＴ等のサーマルブラック、チャンネルブラック、およびアセチレンブラック等を挙げることができる。これらのカーボンブラックは単独でまたは２種以上混合して用いることができる。
【００５０】
　本発明に用いる有機顔料としては、耐熱性に優れた物が好ましい。代表的な顔料の具体的な例をカラーインデックス（ＣＩ）ナンバーで示す。黄色顔料の例としては、ピグメントイエロー１２、１３、１４、１７、２０、２４、３１、５５、８３、８６、９３、９４、１０９、１１０、１１７、１２５、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５４、１５５、１６６、１６８、１７３、１８０、１８５などが挙げられる。橙色顔料の例としては、ピグメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５、７１などが挙げられる。赤色顔料の例としては、ピグメントレッド９、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７６、１７７、１８０、１９０、１９２、２０９、２１５、２１６、２２４、２４２、２５４などが挙げられる。紫色顔料の例としては、ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３２、３３、３６、３７、３８などが挙げられる。青色顔料の例としてはピグメントブルー１５（１５：３、１５：４、１５：６など）、２１、２２、６０、６４などが挙げられる。緑色顔料の例としてはピグメントグリーン７、１０、３６、４７、などが挙げられる。
【００５１】
　（ｃ３）の無機顔料としては、絶縁性金属化合物が好ましい。電気絶縁性に乏しい無機顔料を用いると、有機電界発光表示装置の絶縁層としての機能が不十分となり発光素子を作製した場合、電気的短絡等を招き重大な問題を生じる。絶縁性金属化合物としては、マンガン酸化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物、クロム酸化物、バナジウム酸化物、鉄酸化物、コバルト酸化物もしくはニオブ酸化物等が挙げられる。特にマンガン酸化物とチタン酸窒化物は本発明において好適に用いられる。マンガン酸化物は、一般にＭｎxＯy（１＜ｙ＜ｘ≦２）の組成からなる。具体的にはγ−ＭｎＯ2、β−ＭｎＯ2、α−ＭｎＯ2、Ｍｎ2Ｏ3、Ｍｎ3Ｏ4などであり、さらには、非晶性のＭｎxＯy（１＜ｙ＜ｘ≦２）も用いられる。マンガン酸化物粉末の一時粒子径１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは６０ｎｍ以下である。なお一次粒子径は電子顕微鏡による算術平均により求めることが出来る。
【００５２】
　本発明において好適に用いられるチタン酸窒化物は一般にＴｉＮαＯβ（０＜α＜２．０、０．１＜β＜２．０）の組成からなる。チタン酸窒化物の一次粒子径は、マンガン酸化物と同様に１００ｎｍ以下、より好ましくは６０ｎｍ以下が好ましい。
【００５３】
　本発明で用いる（ｃ）着色剤の使用量は、（ａ）アルカリ可溶性耐熱性樹脂前駆体１００重量部に対して、１〜３００重量部が好ましく、特に１０〜２００重量部の使用が好ましい。（ａ）アルカリ可溶性耐熱性樹脂１００重量部に対する（ｃ）着色剤の使用量が３００重量部より大きくなると、樹脂比率が少なすぎるため、感光性樹脂皮膜と基板の密着強度が低下するという問題がある。
【００５４】
　本発明において、前記有機顔料および無機顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基処理、塩基性基処理などの表面処理が施されているものを使用してもよい。また、場合より分散剤とともに使用することができる。分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、非イオン系、両性、シリコーン系、フッ素系の界面活性剤を揚げることができる。
【００５５】
　また、必要に応じて上記、ポジ型感光性樹脂組成物と基板との塗れ性を向上させる目的で界面活性剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテートなどのエステル類、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノールなどのアルコール類、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類を混合して用いても良い。また、２酸化ケイ素、２酸化チタンなどの無機粒子、あるいはポリイミドの粉末などを添加することもできる。
【００５６】
　さらにシリコンウエハやＩＴＯ基板、ＳｉＯ2などの下地基板との接着性を高めるために、シランカップリング剤、チタンキレート剤などを感光性樹脂組成物のワニスに０．００５から１０重量％添加したり、下地基板をこのような薬液で前処理したりすることもできる。
【００５７】
　ワニスに添加する場合、メチルメタクリロキシジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、などのシランカップリング剤、チタンキレート剤、アルミキレート剤をワニス中のポリマーに対して０．５から１０重量％添加する。
【００５８】
　基板を処理する場合、上記で述べたカップリング剤をイソプロパノール、エタノール、メタノール、水、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、アジピン酸ジエチルなどの溶媒に０．５から２０重量％溶解させた溶液をスピンコート、スリットダイコート、バーコート、ディップコート、スプレーコート、蒸気処理などで表面処理をする。場合によっては、その後５０℃から３００℃までの温度をかけることで、基板と上記カップリング剤との反応を進行させる。
【００５９】
　次に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて耐熱性樹脂パターンを形成する方法について説明する。
【００６０】
　感光性樹脂組成物を基板上に塗布する。基板としてはシリコンウエハ、セラミックス類、ガリウムヒ素、ソーダ硝子、石英硝子などが用いられるが、これらに限定されない。塗布方法はスリットダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、バーコート法などの方法があり、これらの手法を組み合わせて塗布してもかまわないが、本発明のポジ型感光性樹脂組成物が最も効果を奏するのはスリットダイコート法である。また、塗布膜厚は、塗布手法、組成物の固形分濃度、粘度などによって異なるが通常、乾燥後の膜厚が、０．１から１００μｍになるように塗布される。
【００６１】
　次に感光性樹脂組成物を塗布した基板を乾燥して、感光性樹脂組成物皮膜を得る。乾燥はホットプレート、オーブン、赤外線、真空チャンバーなどを使用する。
【００６２】
　ホットプレートを用いる場合、プレート上に直接、もしくは、プレート上に設置したプロキシピン等の治具上に被加熱体を保持して加熱する。プロキシピンの材質としては、アルミニウムやステレンレス等の金属材料、あるいはポリイミド樹脂やテフロン（登録商標）等の合成樹脂があり、いずれの材質のプロキシピンを用いてもかまわない。プロキシピンの高さは、基板のサイズ、被加熱体である樹脂層の種類、加熱の目的等により様々であるが、例えば３００×３５０ｍｍ×０．７ｍｍ3のガラス基板上に塗布した樹脂層を加熱する場合、プロキシピンの高さは２〜１２ｍｍ程度が好ましい。
【００６３】
　加熱温度は被加熱体の種類や目的により様々であり、室温から１８０℃の範囲で１分から数時間行うのが好ましい。
【００６４】
　次に、この感光性樹脂組成物皮膜上に所望のパターンを有するマスクを通して化学線を照射し、露光する。露光に用いられる化学線としては紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線などがあるが、本発明では水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を用いるのが好ましい。
【００６５】
　耐熱性樹脂のパターンを形成するには、露光後、現像液を用いて露光部を除去することによって達成される。現像液としては、テトラメチルアンモニウムの水溶液、ジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、酢酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。また場合によっては、これらのアルカリ水溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクロン、ジメチルアクリルアミドなどの極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などを単独あるいは数種を組み合わせたものを添加してもよい。現像後は水にてリンス処理をする。ここでもエタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類などを水に加えてリンス処理をしても良い。
【００６６】
　現像後、１３０℃から４００℃の温度を加えて耐熱性樹脂皮膜に変換する。この加熱処理は温度を選び、段階的に昇温するか、ある温度範囲を選び連続的に昇温しながら５分から５時間実施する。一例としては、１３０℃、２００℃、３５０℃で各３０分づつ熱処理する。あるいは室温より２５０℃まで２時間かけてまたは、４００℃まで２時間かけて直線的に昇温するなどの方法が挙げられる。
【００６７】
　本発明によるポジ型感光性前駆体組成物により形成した耐熱性黒色樹脂皮膜は、有機電界発光表示装置や液晶表示装置の遮光性セパレーターやブラックマトリクス、半導体のパッシベーション膜、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜などの用途に用いられる。
【００６８】
　本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、それを加熱処理して変換した耐熱性黒色樹脂被膜が、厚さ１．０μｍにおける光学密度（Ｏ．Ｄ値）が、０．１以上、より好ましくは０．５以上であることが好ましい。光学密度が０．１より小さいと、有機電界発光表示装置や液晶表示装置の遮光性セパレーターやブラックマトリクスとしての機能を得ることが難しい。
【００６９】
　本発明では、図１に示すように、絶縁層が第一電極を露光せしめる境界においける絶縁層の断面が順テーパー形状であることが好ましい。ここでテーパー形状とは図中の角度θが９０°未満であることに対応する。絶縁層の断面形状は６０°以下、より好ましくは４５°以下、さらに３０°以下であることが好ましい。断面形状が６０°より大きくなると、絶縁層の境界部分では薄膜層や第二電極層が薄くなる傾向にあり、発光領域内で輝度ムラが発生しやすい。また、電極のエッジ部分においては電界集中が起こりやすく、絶縁破壊やリーク電流の発生など望ましくない現象が起きやすい。
【実施例】
【００７０】
　以下実施例および技術をあげて本発明を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。なお、実施例中の光学濃度の評価、断面形状、発光の耐久性評価は以下の方法により行った。
【００７１】
　（１）光学濃度の評価
　光学濃度（Ｏ．Ｄ）は顕微分光器（大塚電子（株）製「ＭＣＰＤ２０００」）を用いて、波長４３０〜６４０ｎｍの可視領域における入射光強度をＩ0、透過光強度をＩとして次式により求めた。
【００７２】
　Ｏ．Ｄ＝ｌｏｇ10（Ｉ0／Ｉ）。
【００７３】
　（２）断面形状の評価
　加熱処理により得られた耐熱性黒色樹脂被膜の２０μｍパターンラインについて、断面形状を走査型電子顕微鏡（日立製作所（株）製、「Ｓ−２３００型」）を用いて観察し、図１におけるθ値を計測した。
【００７４】
　（３）発光の耐久性評価
　単純マトリクス型有機電解発光表示装置を作製し、有効発光領域面積をＳ1とし、８５℃で２５０時間保持した耐久性試験後の発光領域面積をＳ2とし、耐久性試験後の有効発光面積率をＳとして次式により求めた。
【００７５】
　　Ｓ（％）＝（Ｓ2／Ｓ1）×１００。
【００７６】
　合成例１　水酸基含有酸無水物（ａ）の合成
　乾燥窒素気流下、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（ＢＡＨＦ）１８．３ｇ（０．０５モル）とアリルグリシジルエーテル３４．２ｇ（０．３モル）をガンマブチロラクトン１００ｇに溶解させ、−１５℃に冷却した。ここにガンマブチロラクトン５０ｇに溶解させた無水トリメリット酸クロリド２２．１ｇ（０．１１モル）を反応液の温度が０℃を越えないように滴下した。滴下終了後、０℃で４時間反応させた。この溶液をロータリーエバポレーターで濃縮して、トルエン１ｌに投入して酸無水物（ａ）を得た。
【００７７】
【化８】
2004145320.tif 000009
　合成例２　水酸基含有ジアミン化合物（ｂ）の合成
　２−アミノ−４−ニトロフェノール１５．４ｇ（０．１モル）をアセトン５０ｍｌ、プロピレンオキシド３０ｇ（０．３４モル）に溶解させ、−１５℃に冷却した。ここに２，２ビス−（４−ベンゾイルクロリド）プロパン１７．８ｇ（０．０５５モル）をアセトン６０ｍｌに溶解させた溶液を徐々に滴下した。滴下終了後、−１５℃で４時間反応させた。その後、室温に戻して生成している沈殿をろ過で集めた。
【００７８】
　この沈殿をγ−ブチロラクトン２００ｍｌに溶解させて、５％パラジウム−炭素３ｇを加えて、激しく攪拌した。ここに水素ガスを入れた風船を取り付け、室温で水素ガスの風船がこれ以上縮まない状態になるまで攪拌を続け、さらに２時間水素ガスの風船を取り付けた状態で攪拌した。攪拌終了後、ろ過でパラジウム化合物を除き、溶液をロータリーエバポレーターで半量になるまで濃縮した。ここにエタノールを加えて、再結晶を行い、目的の化合物の結晶を得た。
【００７９】
【化９】
2004145320.tif 000010
　合成例３　水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）の合成
　ＢＡＨＦ１８．３ｇ（０．０５モル）をアセトン１００ｍｌ、プロピレンオキシド１７．４ｇ（０．３モル）に溶解させ、−１５℃に冷却した。ここに４−ニトロベンゾイルクロリド２０．４ｇ（０．１１モル）をアセトン１００ｍｌに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、−１５℃で４時間反応させ、その後室温に戻した。析出した白色固体をろ別し、５０℃で真空乾燥した。
【００８０】
　固体３０ｇを３００ｍｌのステンレスオートクレーブに入れ、メチルセルソルブ２５０ｍｌに分散させ、５％パラジウム−炭素を２ｇ加えた。ここに水素を風船で導入して、還元反応を室温で行った。約２時間後、風船がこれ以上しぼまないことを確認して反応を終了させた。反応終了後、ろ過して触媒であるパラジウム化合物を除き、ロータリーエバポレーターで濃縮し、ジアミン化合物（ｃ）を得た。得られた固体をそのまま反応に使用した。
【００８１】
【化１０】
2004145320.tif 000011
　合成例４　水酸基含有ジアミン化合物（ｄ）の合成
　２−アミノ−４−ニトロフェノール１５．４ｇ（０．１モル）をアセトン１００ｍｌ、プロピレンオキシド１７．４ｇ（０．３モル）に溶解させ、−１５℃に冷却した。ここに４−ニトロベンゾイルクロリド２０．４ｇ（０．１１モル）をアセトン１００ｍｌに溶解させた溶液を徐々に滴下した。滴下終了後、−１５℃で４時間反応させた。その後、室温に戻して生成している沈殿をろ過で集めた。この後、合成例２と同様にして目的の化合物の結晶を得た。
【００８２】
【化１１】
2004145320.tif 000012
　合成例５　３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸ジｎ−ブチルエステルジクロリド溶液（ｅ）の合成
　乾燥窒素気流下、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物２４．８２ｇ（０．０８モル）、ｎ−ブチルアルコール５９．３ｇ（０．８モル）を９５℃で６時間攪拌反応させた。余剰のｎ−ブチルアルコールを減圧下、留去して、ピロメリット酸ジエチルエステルを得た。ついで塩化チオニルを９５．１７ｇ（０．８モル）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）７０ｇを仕込み４０℃で３時間反応させた。つづいて、Ｎ−メチルピロリドン２００ｇを添加し、減圧により、余剰の塩化チオニル及びＴＨＦを除去し、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸ジｎ−ブチルエステルジクロリド溶液（ｅ）２３９．６ｇ（０．０８モル）を得た。
【００８３】
　合成例６　キノンジアジド化合物（ｆ）の合成
　乾燥窒素気流下、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ（商品名、本州化学工業（株）製）２１．２３ｇ（０．０５モル）と５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド３３．５８ｇ（０．１２５モル）を１，４−ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４−ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン１２．６５ｇ（０．１２５モル）を系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、ろ液を水に投入させた。その後、析出した沈殿をろ過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、キノンジアジド化合物（ｆ）を得た。
【００８４】
【化１２】
2004145320.tif 000013
　合成例７　キノンジアジド化合物（ｇ）の合成
　乾燥窒素気流下、４−イソプロピルフェノール６．８１ｇ（０．０５モル）と５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド１３．４３ｇ（０．０５モル）を１，４−ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４−ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン５．０６ｇを用い、合成例６と同様にしてを用い、キノンジアジド化合物（ｇ）を得た。
【００８５】
【化１３】
2004145320.tif 000014
　合成例８　キノンジアジド化合物（ｈ）の合成
　乾燥窒素気流下、ビスフェノールＡ　１１．４１ｇ（０．０５モル）と５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド２６．８６ｇ（０．１モル）を１，４−ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４−ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン１０．１２ｇを用い、合成例６と同様にしてキノンジアジド化合物（ｈ）を得た。
【００８６】
【化１４】
2004145320.tif 000015
　合成例９　活性エステル化合物（ｉ）の合成
　乾燥窒素気流下、４−カルボキシ安息香酸クロリド１８．５ｇ（０．１モル）とヒドロキシベンゾトリアゾール１３．５ｇ（０．１モル）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１００ｇに溶解させ、−１５℃に冷却した。ここにＴＨＦ５０ｇに溶解させたトリエチルアミン１０．０ｇ（０．１モル）を反応液の温度が０℃を越えないように滴下した。滴下終了後、２５℃で４時間反応させた。この溶液をロータリーエバポレーターで濃縮して、活性エステル化合物（ｉ）を得た。
【００８７】
【化１５】
2004145320.tif 000016
　合成例１０　アルカリ可溶性ポリマー（Ａ）の合成
　乾燥窒素気流下、合成例１で得られた水酸基含有酸無水物（ａ）１２．０１ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１００ｇに溶解させた。ここに合成例２で得られた水酸基含有ジアミン（ｂ）９．６ｇ（０．０１６モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。次に４−アミノフェノール０．８７ｇ（０．００８モル）を加え５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ１０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を８０℃の真空乾燥機で４０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）を得た。
【００８８】
　合成例１１　アルカリ可溶性ポリマー（Ｂ）の合成
　乾燥窒素気流下、合成例１で得られた水酸基含有酸無水物（ａ）１２．０１ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１００ｇに溶解させた。ここに合成例３で得られた水酸基含有ジアミン（ｃ）４．８４ｇ（０．００８モル）と合成例４で得られた水酸基含有ジアミン（ｄ）１．９４ｇ（０．００８モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。次に４−エチニルアニリン０．９４ｇ（０．００８モル）を加え５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を８０℃の真空乾燥機で４０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ｂ）を得た。
【００８９】
　合成例１２　アルカリ可溶性ポリマー（Ｃ）の合成
　乾燥窒素気流下、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル１０．８９ｇ（０．０５４モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１．８６ｇ（０．００７５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）２０ｇに溶解させた。ここに合成例１で得られた水酸基含有酸二無水物（ａ）３０．０２ｇ（０．０５モル）をＮＭＰ１５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。反応後、末端封止剤として無水マレイン酸２．２５ｇ（０．０２３モル）を加えさらに５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール１５．１９ｇ（０．１２７モル）をＮＭＰ４ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ｃ）を得た。
【００９０】
　合成例１３　アルカリ可溶性ポリマー（Ｄ）の合成
　乾燥窒素気流下、合成例３で得られた水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）９．６７（０．０１６モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１．８６ｇ（０．００７５モル）、末端封止剤として３−アミノフェノール０．８７ｇ（０．００８モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここにビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物６．２ｇ（０．０２モル）をＮＭＰ１４ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で４時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ｄ）を得た。
【００９１】
　合成例１４　アルカリ可溶性ポリマー（Ｅ）の合成
　乾燥窒素気流下、合成例３で得られた水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）９．６７（０．０１６モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１．８６ｇ（０．００７５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここにビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物６．２ｇ（０．０２モル）をＮＭＰ１４ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。次に末端封止剤として４−エチニルアニリン０．９４ｇ（０．００８モル）を加えさらに５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール４．７７ｇ（０．０４モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ｅ）を得た。
【００９２】
　合成例１５　アルカリ可溶性ポリマー（Ｆ）の合成
　乾燥窒素気流下、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物６．２ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここに末端封止剤として３−アミノフェノール１．０９ｇ（０．０１モル）を加えて、４０℃で１時間反応させた。次いで合成例３で得られた水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）３．０２ｇ（０．００５モル）、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル１ｇ（０．００５モル）をＮＭＰ１０ｇと加えてさらに４０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール５．９６ｇ（０．０５モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ｆ）を得た。
【００９３】
　合成例１６　アルカリ可溶性ポリマー（Ｇ）の合成
　乾燥窒素気流下、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン１８．６８ｇ（０．０５１モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１．８６ｇ（０．００７５モル）、末端封止剤として活性エステル化合物（ｉ）９．６２ｇ（０．０３４モル）ピリジン１１．９３ｇ（０．１５１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここに、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸ジｎ−ブチルエステルジクロリド溶液（ｅ）２３９．６ｇ（０．０８モル）を、系内が１０℃以上にならないように滴下した。滴下後、室温で６時間攪拌した。反応終了後、溶液を水２ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ｇ）を得た。
【００９４】
　合成例１７　アルカリ可溶性ポリマー（Ｈ）の合成
　乾燥窒素気流下、３，５−ジアミノ安息香酸７．７５ｇ（０．０５１モル）、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル４ｇ（０．０２モル）、末端封止剤として３−アミノフェノール１．９６ｇ（０．０１８モル）、ピリジン１２．６６ｇ（０．１６モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここに、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸ジｎ−ブチルエステルジクロリド溶液（ｅ）２３９．６ｇ（０．０８モル）を、系内が１０℃以上にならないように滴下した。滴下後、室温で６時間攪拌した。反応終了後、溶液を水２ｌに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。ポリマー固体を８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥した。こうしてアルカリ可溶性ポリマー（Ｈ）を得た。
【００９５】
　実施例１
　着色剤であるピグメントレッド１７７（アントラキノンレッド）１．８ｇ、ピグメントグリーン７（フタロシアニングリーン）１．８ｇ、ピグメントブルー１５（フタロシアニンブルー）１．４ｇを、γ−ブチロラクトン４０ｇ、ブチルセロソルブ５ｇ、ガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、有機顔料濃度１０重量％の分散液を得た。有機顔料分散液３２ｇに合成例１０で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）５ｇ、合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）２ｇ、乳酸エチル１１ｇの混合溶液を添加してポジ型感光性樹脂組成物のワニスＡを得た。
【００９６】
　３００×３５０×０．７ｍｍ3の無アルカリガラス（コーニングジャパン（株）製、＃１７３７）表面にスパッタリング蒸着法によって厚さ１３０ｎｍのＩＴＯ透明電極膜が形成された３００×３５０ｍｍのガラス基板を用意した。ＩＴＯ基板上にフォトレジストをスピナー塗布して、通常のフォトリソグラフィ法による露光・現像によってパターニングした。ＩＴＯの不要部分をエッチングして除去した後、フォトレジストを除去することで、ＩＴＯ膜を長さ９０ｍｍ、幅８０μｍのストライプ形状にパターニングした。このストライプ状第一電極は１００μｍピッチである。
【００９７】
　このＩＴＯをパターニングしたガラス基板上にワニスＡをスリットダイコーティング法を用いてソフトベーク後の膜厚が１．５μｍとなるように塗布した。塗布速度は３ｍ／分とした。スピンコート法を用いた場合、ソフトベーク後の膜厚が１．５μｍとなるように回転数を調整して塗布した。その後ホットプレ−ト（中央理研（株）製ＥＡ−４３３１）を用いて、プロキシピンでガラス基板をホットプレートから高さ５．０ｍｍに保持して１２０℃で１０分間加熱することにより、ポジ型感光性樹脂塗布膜を得た。このワニスＡの塗布膜にフォトマスクを介してＵＶ露光（８００ｍＪ／ｃｍ2）した後、２．３８％ＴＭＡＨ水溶液で９０秒間露光部分のみを溶解させることで現像し、純水でリンスした。得られたポリイミド前駆体樹脂パターンをクリーンオーブン中の窒素雰囲下で２５０℃で６０分間加熱してキュアし、絶縁層を第一電極のエッジを覆うように形成した。絶縁層の厚さは約１μｍであった。このようにして、幅７０μｍ、長さ２５０μｍの開口部が第一電極の中央部を露出せしめ、しかも、第一電極の端部を覆うような形状の感光性ポリイミド樹脂からなる遮光性絶縁層を形成した。絶縁層のＯ．Ｄは２．６であった。絶縁層の境界部分の断面は図１に示したような順テーパー形状であり、テーパー角度θは約４５°であった。
【００９８】
　次に、絶縁層を形成した基板を用いて有機電界発光表示装置の作製を行った。発光層を含む薄膜層は、抵抗線加熱方式による真空蒸着法によって形成した。基板有効エリア全面に蒸着して正孔輸送層を形成し、シャドーマスクを用いて発光層、第二電極のアルミニウムを形成した。
【００９９】
　得られた上記基板を蒸着機から取り出し、基板と封止用ガラス板とを紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。このようにしてＩＴＯストライプ状第一電極上に、パターニングされた発光層が形成され、第一電極と直交するようにストライプ状第二電極が配置された単純マトリクス型カラー有機電界発光表示装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、良好な表示特性を得ることができた。絶縁層の境界部分で薄膜層や第二電極が、薄くなったり段切れを起こすようなこともなく、スムーズに成膜されたので、発光領域内での輝度ムラは認められず、安定な発光が得られた。また、耐久性試験後の有効発光面積率Ｓは１００％であり、高い信頼性を示した。
【０１００】
　実施例２
　着色剤であるカーボンブラック「ＭＡ１００」（三菱化学（株）製）１０ｇに合成例１０で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）１０ｇ、γ−ブチロラクトン１１４．５ｇ、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート６０ｇをガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去した。ここに合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）５ｇ、ビニルメトキシシラン０．５ｇを添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＢを得た。ワニスＢを用いた以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０１】
　実施例３
　合成例１１で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｂ）１０ｇ、合成例７で得られたキノンジアジド化合物（ｇ）１．７ｇ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ１ｇ、ビニルメトキシシラン０．３ｇをγ−ブチロラクトン２０ｇと乳酸エチル１２ｇの混合溶媒に加え、ここに着色剤としてアゾ系染料のＮｅｐｔｕｎ　Ｂｌａｃｋ　Ｘ６０（ソルベントブラック３、ＢＡＳＦ（株）製）５ｇを添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＣを得た。ワニスＣを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で２３０℃で３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０２】
　実施例４
　着色剤であるマンガン酸化物粉末（東ソー（株）製電解二酸化マンガン：γ−ＭｎＯ2）１５ｇに合成例１１で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｂ）１０ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１００ｇ、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート６７．５ｇをガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去した。ここに合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）７．５ｇを添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＤを得た。ワニスＤを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で１７０℃で３０分加熱し続けて３２０℃３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０３】
　実施例５
　着色剤として、フタロシアニン系染料のＯｒａｓｏｌ　Ｂｌｕｅ　ＧＮ（ソルベントブルー６７、チバスペシャリティ・ケミカルズ（株）製）１．４ｇ、ピグメントレッド１７７（アントラキノンレッド）１．８ｇ、ピグメントグリーン７（フタロシアニングリーン）１．８ｇをγ−ブチロラクトン４０ｇ、ブチルセロソルブ５ｇ、ガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、染料・有機顔量濃度１０重量％の分散液を得た。染料・顔料分散液２９ｇに合成例１２で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｃ）５ｇ、合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）２ｇ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ１ｇ，γ−ブチロラクトン１３ｇの混合溶液を添加してポジ型感光性樹脂組成物のワニスＥを得た。ワニスＥを用い、キュア条件をクリーンオーブン中大気雰囲気下で２００℃で６０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０４】
　実施例６
　着色剤であるマンガン酸化物粉末（東ソー（株）製電解二酸化マンガン：γ−ＭｎＯ2）１０ｇに合成例１３で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｄ）１０ｇ、合成例７で得られたキノンジアジド化合物（ｇ）６．５ｇ、γ−ブチロラクトン１００ｇ、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート７３．５ｇをガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去した。こうしてポジ型感光性樹脂組成物のワニスＦを得た。ワニスＦを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で１７０℃で３０分加熱し続けて３２０℃３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０５】
　実施例７
　着色剤であるカーボンブラック「ＭＡ１００」（三菱化学（株）製）１．８ｇ、ピグメントレッド１７７（アントラキノンレッド）１．８ｇ、ピグメントブルー１５（フタロシアニンブルー）１．４ｇを、γ−ブチロラクトン４０ｇ、ブチルセロソルブ５ｇ、ガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、有機顔料濃度１０重量％の分散液を得た。有機顔料分散液３０ｇに合成例１３で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｄ）７ｇ、合成例７で得られたキノンジアジド化合物（ｇ）４ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル９ｇの混合溶液を添加してポジ型感光性樹脂組成物のワニスＧを得た。ワニスＧを用い、キュア条件をクリーンオーブン中大気雰囲気下で２８０℃で６０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０６】
　実施例８
　合成例１４で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｅ）１０ｇ、合成例６で得られたキノンジアジド化合物（ｆ）２．８ｇ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ２．２ｇ、ビニルメトキシシラン０．１ｇをγ−ブチロラクトン１５ｇと乳酸エチル１５ｇの混合溶媒に加え、ここに着色剤としてアゾクロム錯塩系染料のＶａｌｉｆａｓｔ　Ｂｌａｃｋ１８０７　２．８ｇ、フタロシアニン系染料のＶａｌｉｆａｓｔ　Ｂｌｕｅ２６２０　２．１ｇ（オリエント化学工業（株）製、２００２．２版カタログ記載）を添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＨを得た。ワニスＨを用い、キュア条件をクリーンオーブン中大気雰囲気下で２３０℃で３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０７】
　実施例９
　着色剤であるマンガン酸化物粉末（東ソー（株）製電解二酸化マンガン：γ−ＭｎＯ2）５ｇ、フタロシアニン系染料のＶａｌｉｆａｓｔ　Ｂｌｕｅ２６２０　２．５ｇ（オリエント化学工業（株）製、２００２．２版カタログ記載）を、γ−ブチロラクトン４２．５ｇ、ガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、染料・無機顔料濃度１０重量％の分散液を得た。染料・顔料分散液２７ｇに、合成例１４で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｅ）４ｇ、合成例６で得られたキノンジアジド化合物（ｆ）２ｇ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ１．２ｇ、乳酸エチル１５．８ｇの混合溶液を添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＩを得た。ワニスＩを用い、キュア条件をクリーンオーブン中大気雰囲気下で２５０℃で３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０８】
　実施例１０
　着色剤であるカーボンブラック「ＭＡ１００」３ｇ（三菱化学（株）製）、マンガン酸化物粉末Ｍｎ2Ｏ3　２．５ｇ（アルドリッチ化学（株）製）を、合成例１５で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｆ）１０ｇ、γ−ブチロラクトン６０ｇ、ガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去した。そこに合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）３．３ｇ、γ−ブチロラクトン３１．２ｇの混合溶液を添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＪを得た。ワニスＪを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で２８０℃で３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１０９】
　実施例１１
　着色剤であるカーボンブラック「ＭＡ１００」（三菱化学（株）製）１０ｇに合成例１６で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｇ）１８ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１１７．５ｇ、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート５０ｇをガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去した。ここに合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）４．５ｇを添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＫを得た。ワニスＫを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で１７０℃で３０分加熱し続けて３２０℃６０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１１０】
　実施例１２
　着色剤であるピグメントレッド１２２（キナクリドンレッドマゼンタ）１．８ｇ、ピグメントブルー１５：６（フタロシアニンブルーＥ）３．２ｇを、γ−ブチロラクトン３０ｇ、ブチルセロソルブ１５ｇ、ガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、有機顔料濃度１０重量％の分散液を得た。有機顔料分散液２６ｇに、合成例１６で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｇ）５ｇ、合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）１．３ｇ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ０．７ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１７ｇの混合溶液を添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＬを得た。ワニスＬを用い、キュア条件をクリーンオーブン中大気雰囲気下で２８０℃で３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１１１】
　実施例１３
　着色剤であるマンガン酸化物粉末Ｍｎ3Ｏ4　４．２ｇ（アルドリッチ化学（株）製）を、合成例１６で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｇ）１０ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン６０ｇ、ガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去した。ここに合成例７で得られたキノンジアジド化合物（ｇ）２．６ｇ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ１．７ｇ、ビニルシラン０．４ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２１．１ｇの混合溶液を添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＭを得た。ワニスＭを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で２００℃で３０分加熱し続けて３５０℃で３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１１２】
　実施例１４
　着色剤であるカーボンブラック「ＭＡ１００」（三菱化学（株）製）１０ｇに合成例１７で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｈ）２０ｇ、γ−ブチロラクトン１００．５ｇ、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート５０ｇをガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用いて、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去した。ここに合成例８で得られたキノンジアジド化合物（ｈ）４．５ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１５ｇの混合溶液をを添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＮを得た。ワニスＮを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で３００℃で６０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１１３】
　実施例１５
　合成例１７で得られたアルカリ可溶性ポリマー（Ｈ）１０ｇ、合成例６で得られたキノンジアジド化合物（ｆ）３．４ｇ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ１．９ｇ、ビニルメトキシシラン０．２ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン３０ｇに加え、ここに着色剤としてアゾ系染料のＮｅｐｔｕｎ　Ｂｌａｃｋ　Ｘ６０（ソルベントブラック３、ＢＡＳＦ（株）製）４．５ｇを添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＯを得た。ワニスＯを用い、キュア条件をクリーンオーブン中窒素雰囲気下で２００℃で３０分加熱した以外は実施例１と同様に表示装置を作成した。
【０１１４】
　比較例１
　ネガ型感光性ポリイミド前駆体ワニス（東レ（株）製、ＵＲ−３１００）１００ｇに着色剤として、アゾ系染料のＮｅｐｔｕｎ　Ｂｌａｃｋ　Ｘ６０（ソルベントブラック３、ＢＡＳＦ（株）製）１０ｇ添加して、ネガ型感光性樹脂組成物のワニスＰを得た。このワニスＰを用い、スピンコート法により第一電極を形成した基板上に塗布し、ホットプレート上で８０℃・１時間プリベークした。この塗布膜にフォトマスクを介して１５０ｍＪ／ｃｍ2ＵＶ露光した後、現像液（東レ（株）製、ＤＶ−５０５）で４０秒間非露光部のみを溶解させることで現像し、純粋でリンスした。その後クリーンオーブン中の窒素雰囲気下で１８０℃で３０分、さらに２２０℃で３０分加熱して絶縁層を形成した。得られた遮光性絶縁層のＯ．Ｄは０．４であった。絶縁層の境界部分の断面は矩形形状であり、テーパー角度θは約９０°であった。
【０１１５】
　その後は実施例１と同様にして単純マトリクス型有機電界発光表示装置を作成した。本表示装置を線順次駆動したところ、絶縁層の断面が矩形形状であることから、絶縁層の境界部分で薄膜層や第二電極層が薄くなり、発光領域内で輝度ムラが認められた。耐久性試験後の有効発光面積率Ｓは７０％となった。
【０１１６】
　比較例２
　乾燥窒素気流下、γ−ブチロラクトン（２７４ｇ）溶媒中で、ピロメリット酸二無水物１０．７ｇ（０．０４９モル）、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物１６．１ｇ（０．０５モル）、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン６．２ｇ（０．０２５モル）、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル１４ｇ（０．０７モル）、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロキサン１．２ｇ（０．００５モル）を６０℃、３時間反応させた後、無水マレイン酸０．２ｇ（０．００２モル）を添加し、更に６０℃１時間反応させることによって、前駆体であるポリアミック酸溶液Ｂ（ポリマー濃度１５重量％）を得た。
【０１１７】
　着色剤であるマンガン酸化物粉末（東ソー（株）製電解二酸化マンガン：γ−ＭｎＯ2）１１．２ｇ、前記ポリアミック酸溶液Ｂ８．７ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５７．２ｇ、３−メチル−３−メトキシアセテート１２．９ｇをガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、顔料濃度１４重量％の顔料分散液を得た。顔料分散液２７．５ｇに前記ポリアミック酸溶液Ｂ３．７ｇ、γ−ブチロラクトン１ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン６ｇ、ソルフィットアセテート１．８ｇを添加混合し、非感光性樹脂組成物のワニスＱを得た。
【０１１８】
　ワニスＱを用いて前記基板上に塗布後、１４５℃でプリベークを行い、ポリイミド前駆体膜を形成した。塗布膜の上にポジ型フォトレジストを塗布して、９０℃で加熱乾燥してフォトレジスト被膜を形成した。この被膜にフォトマスクを介して紫外線露光した後、アルカリ現像に浸漬し、フォトレジスト被膜の現像、ポリイミド前駆体膜のエッチングを同時に行い、開口部を形成した。エッチング後、不要となったフォトレジスト被膜をメチルセルソルブアセテートにて剥離した。エッチングされたポリイミド前駆体膜を２９０℃６０分加熱してポリイミド絶縁層を形成した。得られた遮光性絶縁層のＯ．Ｄは２．８であった。絶縁層の境界部分の断面は順テーパー形状であり、テーパー角度θは約７０°であった。
【０１１９】
　その後は実施例１と同様にして単純マトリクス型有機電界発光表示装置を作成した。本表示装置を線順次駆動したところ、絶縁層の断面がテーパー角度約７０°の順テーパー形状であることから、絶縁層の境界部分で薄膜層や第二電極層が薄くなる傾向にあり、発光領域内で輝度ムラが認められた。耐久性試験後の有効発光面積率Ｓは８０％となった。
【０１２０】
　比較例３
　ｔ−ブトキシスチレン１７６ｇ（０．１モル）およびアゾビスイソブチロニトリル５．８ｇ（０．０４モル）をプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０ｍｌに加えて溶解させ、７５℃で４時間反応させた。得られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５重量％硫酸水溶液５０ｇを混合して、１００℃で３時間加水分解反応を行った。反応生成物を脱イオン水１０００ｍｌで３回洗浄し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００ｍｌを加えて溶剤置換を行い、アルカリ可溶性樹脂（ポリヒドロキシスチレン）溶液を得た。
【０１２１】
　このアルカリ可溶性樹脂溶液（ポリヒドロキシスチレン１００重量部（固形分）に相当）と、４，４’−[１−[４−[１−[４−ヒドロキシフェニル]−１−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール（１モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２モル）との縮合物３０重量部、カーボンブラック１０重量部、さらにウレタン系分散剤（商品名Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２）を２重量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５重量部、サイメル３００（三井サイアナミッド（株）製）３０重量部を混合し、固形分濃度が２５重量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、ポジ型感放射線性樹脂組成物のワニスＲを得た。
【０１２２】
　このワニスＲを用いて前記基板上にスピンナーを用いて塗布した後、９０℃３分間ホットプレート上でプレベークして膜厚５μｍの塗膜を形成した。この塗布膜にフォトマスクを介して３００ｍＪ／ｃｍ2ＵＶ露光した後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で９０秒間現像し、純水リンスした。その後クリーンオーブン中の大気雰囲気下で２２０℃で６０分加熱して膜厚４．５μｍの絶縁層を形成した。得られた遮光性絶縁層のＯ．Ｄは１．１であった。絶縁層の境界部分の断面は矩形形状であり、テーパー角度θは約９０°であった。
【０１２３】
　その後は実施例１と同様にして単純マトリクス型有機電界発光表示装置を作成した。本表示装置を線順次駆動したところ、絶縁層の断面が矩形形状であることから、絶縁層の境界部分で薄膜層や第二電極層が薄くなり、発光領域内で輝度ムラが認められた。耐久性試験後の有効発光面積率Ｓは７０％となった。
【０１２４】
　比較例４
　メタクレゾール５７ｇ（０．６モル）、パラクレゾール３８ｇ（０．４モル）、３７重量％ホルムアルデヒド水溶液７５．５ｇ（ホルムアルデヒド０．９３モル）、シュウサン二水和物０．６３ｇ（０．００５モル）をメチルイソブチルケトン２６４ｇに溶解させ、反応液を還流させながら攪拌下４時間重縮合を行った。ついで３時間かけて昇温し、その後に、フラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇまで減圧し、揮発分を除去し、溶融している樹脂分を室温まで冷却して回収した。この樹脂を酢酸エチルに樹脂成分が３０％になるように溶解した後、溶液重量の１．３倍量のメタノールと、０．９倍量の水を加えて、攪拌放置した。ついで２層に分離した下層を取り出し、濃縮し、乾燥して、Ｍｗ８０００のノボラック樹脂を得た。
【０１２５】
　このノボラック樹脂１００重量部に４，４’−[１−[４−[１−[４−ヒドロキシフェニル]−１−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール（１モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２モル）との縮合物３０重量部、カーボンブラック１０重量部、さらにウレタン系分散剤（商品名Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２）を２重量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５重量部、サイメル３００（三井サイアナミッド（株）製）３０重量部を混合し、固形分濃度が２５重量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、ポジ型感放射線性樹脂組成物のワニスＳを得た。
【０１２６】
　このワニスＳを用いて、比較例３と同様に行い絶縁層を形成した。得られた遮光性絶縁層のＯ．Ｄは１．０であった。絶縁層の境界部分の断面は矩形形状であり、テーパー角度θは約９０°であった。
【０１２７】
　その後は実施例１と同様にして単純マトリクス型有機電界発光表示装置を作成した。本表示装置を線順次駆動したところ、絶縁層の断面が矩形形状であることから、絶縁層の境界部分で薄膜層や第二電極層が薄くなり、発光領域内で輝度ムラが認められた。耐久性試験後の有効発光面積率Ｓは５０％となった。
【０１２８】
　比較例５
　２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部に溶かした溶液に、スチレン１０重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部および、ジシクロペンタニルメタクリレート２５重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の温度を５時間保持しアクリル樹脂溶液を得た。
【０１２９】
　このアクリル樹脂溶液（アクリル樹脂１００重量部（固形分）に相当）と、４，４’−[１−[４−[１−[４−ヒドロキシフェニル]−１−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール（１モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２モル）との縮合物３０重量部、カーボンブラック１０重量部、さらにウレタン系分散剤（商品名Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２）を２重量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５重量部、サイメル３００（三井サイアナミッド（株）製）３０重量部を混合し、固形分濃度が２５重量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、ポジ型感放射線性樹脂組成物のワニスＴを得た。
【０１３０】
　このワニスＴを用いて、比較例３と同様に行い絶縁層を形成した。得られた遮光性絶縁層のＯ．Ｄは１．０であった。絶縁層の境界部分の断面は順テーパー形状であり、テーパー角度θは約８５°であった。
【０１３１】
　その後は実施例１と同様にして単純マトリクス型有機電界発光表示装置を作成した。本表示装置を線順次駆動したところ、絶縁層の断面がテーパー角度約８５°の順テーパー形状であることから、絶縁層の境界部分で薄膜層や第二電極層が薄くなり、発光領域内で輝度ムラが認められた。耐久性試験後の有効発光面積率Ｓは７０％となった。
【０１３２】
　比較例６
　実施例３の着色剤であるアゾ系染料のＮｅｐｔｕｎ　Ｂｌａｃｋ　Ｘ６０（ソルベントブラック３、ＢＡＳＦ（株）製）５ｇの代わりに、発色材であるクリスタルバイオレットラクトン５ｇを添加して、ポジ型感光性樹脂組成物のワニスＵを得た。
【０１３３】
　このワニスＵを用いて、実施例１と同様に行い絶縁層を形成した。得られた遮光性絶縁層のＯ．Ｄは０．７であった。絶縁層の境界部分の断面は順テーパー形状であり、テーパー角度θは約６０°であった。
【０１３４】
　その後は実施例１と同様にして単純マトリクス型有機電界発光表示装置を作成した。本表示装置を線順次駆動したところ、絶縁層の境界部分で薄膜層や第二電極が、薄くなったり段切れを起こすようなこともなく、スムーズに成膜されたので良好な表示特性を得ることができた。耐久性試験後の有効発光面積率Ｓは７０％となった。
【０１３５】
　実施例１〜１５、比較例１〜６の評価結果については表１に示した。
【０１３６】
【表１】
2004145320.tif 000017
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】絶縁層の境界部分を示す図
【符号の説明】
【０１３８】
　１　基板
　２　第一電極
　３　絶縁層
【図１】
2004145320.tif 000020