(57)【要約】【課題】ゾルゲル法によって作製されたウェットゲルを処理液中に浸漬した状態で屈折率に寄与する成分の濃度分布を付与するガラスの製造装置であって、数多くのウェットゲルに対して均一な処理を行い、生産性を向上させる。【解決手段】ウェットゲル１６が入った複数の保持用筒状体４と、複数の保持用筒状体４を複数の同心円の円周上に沿って支持する保持板５と、保持板５が内部に配置されると共に処理液が供給されることによりウェットゲル１６への処理を行う処理容器１と、複数の小孔が均等なピッチで板厚方向に貫通し処理容器１内における処理液の供給側に配置される多孔板３，７と、処理容器１に対して処理液を循環させながら供給する循環供給装置１０，１１とを備える。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゾルゲル法によって作製されたウェットゲルを処理液中に浸漬した状態で屈折率に寄与する成分の濃度分布を付与するガラスの製造装置において、
前記ウェットゲルが入った複数の保持用筒状体と、複数の保持用筒状体を複数の同心円の円周上に沿って支持する保持板と、保持板が内部に配置されると共に前記処理液が供給されることによりウェットゲルへの処理を行う処理容器と、複数の小孔が均等なピッチで板厚方向に貫通し前記処理容器内における処理液の供給側に配置される多孔板と、処理容器に対して処理液を循環させながら供給する循環供給装置とを備えていることを特徴とするガラスの製造装置。
【請求項２】
前記多孔板は、処理液の供給側に間隔を有して複数が配置されていることを特徴とする請求項１記載のガラスの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ゾルゲル法によるガラスの製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図４及び図５は、ゾルゲル法を用いてガラスを製造するため、特開２０００−２６４６４４号公報に開示された製造装置を示す。
【０００３】
図４はウェットゲル１０２を入れた複数の保持用筒状体１０３を浸漬槽１０１に配置した状態を示し、ウェットゲル１０２は下部保持体１０４と上部保持体１０５とによって保持用筒状体１０３の中心に保持されている。
【０００４】
ウェットゲル１０２を保持した保持用筒状体１０３は、中心部に流路制限用筒状体１０７が配置されている整流用筒状体１０６の内部に、同一の円周上となるように複数が配列される。また、保持用筒状体１０３の間には、保持用筒状体１０３の上面よりもさらに上まで延びる整流板１０８が設けられている。これらが収まった整流用筒状体１０６は、浸漬槽１０１の内部にセットされる。
【０００５】
整流用筒状体１０６の底部には、フィン１０９が設けられており、このフィン１０９が浸漬槽１０１の底部に設けられた位置調整部材１１１に支持されている。位置調整部材１１１は液体の流通を妨げない構造となっていると共に、フィン１０９が当接することにより、浸漬槽１０１の底部に設けた撹拌子１１０が回転した際に整流用筒状体１０６が接触することを防止している。浸漬槽１０１には、所定の液面１１２となるまでウェットゲルを処理するための揮発性のある浸漬液が満たされている。
【０００６】
図５は複数の保持用筒状体１０３が配置された整流用筒状体１０６を浸漬槽１０１に配置した浸漬装置を示す。浸漬槽１０１は水槽１２０内の水１２１中に浸漬されており、温度調節装置１２２によって所定の温度に保持されている。また、水槽１２０の底部には、電磁式攪拌装置１２７が設けられており、上述した攪拌子１１０を回転させることにより浸漬液を攪拌するようになっている。
【０００７】
このような構造における浸漬槽１０１内部のウェットゲル１０２近傍の浸漬液の流れについて説明する。電磁式攪拌装置１２７によって与えられた回転運動が浸漬槽１０１内に配した攪拌子１１０に磁力によって伝達され、撹拌子１１０が回転する。攪拌子１１０の回転によって浸漬液は浸漬槽１０１と整流用筒状体１０６の間を通って回転しながら液面上面に上昇する。
【０００８】
浸漬液は液面１１２に到着した後、保持用筒状体１０３間に配した整流板１０８と、保持用筒状体１０３の上端より高い位置まで延びるように設けた整流板と、中心部の流路制限用筒状体１０７とによって、上昇時の整流用筒状体１０６外壁に沿った回転運動が抑制され、浸漬液の流れが下降方向のみになるように整流される。整流された流れは、各保持用筒状体１０３に入ってウェットゲル１０２近傍を整然と下方に流れ、ウェットゲル１０２に対して所定の処理を施す。そして、ウェットゲル１０２近傍を下方向に通過した浸漬液は、保持用筒状体１０３の下部から攪拌子１１０などによって再び攪拌されて整流用筒状体１０６の外周からの上昇流となって循環する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のガラスの製造装置では、保持用筒状体１０３が整流用筒状体１０６内の円周上に一重に配置されているため、一度に処理できるウェットゲルの数が制限される。このため、生産性が低い問題点を有している。
【００１０】
本発明は、このような従来技術おける問題点を考慮してなされたものであり、数多くのウェットゲルに対して一度に所定の処理を施すことができ、生産性を向上させることが可能なガラスの製造装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明のガラス製造装置は、ゾルゲル法によって作製されたウェットゲルを処理液中に浸漬した状態で屈折率に寄与する成分の濃度分布を付与するガラスの製造装置において、前記ウェットゲルが入った複数の保持用筒状体と、複数の保持用筒状体を複数の同心円の円周上に沿って支持する保持板と、保持板が内部に配置されると共に前記処理液が供給されることによりウェットゲルへの処理を行う処理容器と、複数の小孔が均等なピッチで板厚方向に貫通し前記処理容器内における処理液の供給側に配置される多孔板と、処理容器に対して処理液を循環させながら供給する循環供給装置とを備えていることを特徴とする。
【００１２】
この発明では、ウェットゲルが入った保持用筒状体が複数の同心円の円周上に沿って保持板に支持されることにより、ウェットゲルが２重、３重となって配置される。また、循環供給装置の駆動によって処理液が処理容器に供給されるが、処理液は多孔板を通過することによって一様な乱流となる。乱流となった処理液は、保持板に二重、三重に支持された各保持用筒状体の中に入ってウェットゲル近傍を流れることにより、各ウェットゲルに対して均一な所定の処理を施すことができる。
【００１３】
このような構造では、数多くのウェットゲルに対して一度に所定の処理を施すことができ、生産性を向上させることが可能となる。
【００１４】
請求項２の発明は、請求項１記載のガラスの製造装置であって、前記多孔板は、処理液の供給側に間隔を有して複数が配置されていることを特徴とする。
【００１５】
このように間隔を有して複数の多孔板を配置することにより、処理容器内での処理液の流れを均一とすることができるため、それぞれの保持用筒状体に対する処理液の供給を均等にすることができる。このため、多数のウェットゲルに対する処理を均一にすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図１〜図３は、本発明の一実施の形態であり、図１はこの実施の形態の製造装置の全体を、図２は保持用筒状体の配置状態を、図３は保持板による保持用筒状体の支持状態をそれぞれ示す。
【００１７】
図１において、浸漬槽１は本発明の処理容器となっており、有底の円筒状に成形されている。浸漬槽１の側壁の底部側には配管１１が連結されており、ポンプ１０が駆動することにより配管１１から処理液が矢印方向に沿って浸漬槽１に供給される。従って、この実施の形態では、処理液は底部側から浸漬槽１に供給されるようになっている。
【００１８】
浸漬槽１の内側壁には、Ｌ字形のブラケット２ａと２ｂが円周方向に数カ所溶接によって固定されている。ブラケット２ａは下部側、ブラケット２ｂは上部側に間隔を有して配置されており、下部側のブラケット２ａには多孔板３がねじ止めによって固定され、上部側のブラケット２ｂには、断面円筒状のブロック６がねじ止めによって固定され、このブロック６に多孔板７が支持されている。
【００１９】
これらの多孔板３，７は、いずれも複数の小孔が均等なピッチで板厚方向に貫通した板構造となっている。このような多孔板３，７としては、パンチングメタル、厚みのあるネット、その他のものを使用することができる。また、それぞれの多孔板３，７がブラケット２ａ、２ｂに固定されることにより、２枚の多孔板３，７は間隔を有した状態で浸漬槽１内に配置されている。さらに、多孔板３，７は後述する保持用筒状体４の下方に位置しており、これにより、いずれの多孔板３，７も処理液の供給側に設けられている。
【００２０】
この場合、多孔板７はその外周部分がブロック６の中間部分に支持されている。このブロック６の上部には保持板５が支持される。保持板５は後述する保持用筒状体４の複数本を保持するものであり、外周部分がブロック６に係合することにより固定状態となってブロック６に支持されている。かかる係合は、保持板５の外周部分下面に嵌合孔を形成し、対応したブロック６の上面に嵌合突起６ａを形成することにより行われるが、これに限定されるものではない。なお、ブロック６と浸漬槽１の間には、図示を省略したが、液が漏れないようにパッキンを施してある。
【００２１】
保持用筒状体４はウェットゲル１６がそれぞれ挿入されるものであり、上下端面が開口されていると共にその内部に下部支え４ａ及び上部支え１７を有している。そして、下部支え４ａ及び上部支え１７の間でウェットゲル１６を保持することにより、芯出し状態でのウェットゲル１６の保持が可能となっている。
【００２２】
保持板５への保持用筒状体４の保持は、図１及び図３に示すように、保持板５に差し込み孔５ａを形成し、それぞれの差し込み孔５ａに保持用筒状体４を差し込むことにより行われる。この差し込みにより、保持用筒状体４は略直立状態となって保持板５に支持される。
【００２３】
差し込み孔５ａは保持板５を板厚方向に貫通しているが、段付き孔構造となっており、これにより、保持用筒状体４が落下することがないと共に、処理液がその下端開口から保持用筒状体４の内部に侵入することが可能となっている。また、差し込み孔５ａ内には、Ｏリング１５が設けられており、保持用筒状体４はＯリング１５に保持されることにより保持板５に直立状に支持される。
【００２４】
図２は、保持板５に対する保持用筒状体４の配置を示す。保持板５は平面から見て円板状となっており、保持用筒状体４は保持板５の中心を中心として描かれる複数の同心円２０，２１，２２…の円周上に一定ピッチで配置される。このため、保持用筒状体４が差し込まれる差し込み孔５ａが同心円２０，２１，２２の円周上に一定ピッチで形成されるものである。
【００２５】
浸漬槽１の外周側には、浸漬槽１からオーバーフローした処理液を受け取る予備槽８が溶接によって取り付けられている。そして、予備槽８の底部から配管９を介してポンプ１０が設けられ、ポンプ１０と浸漬槽１とが上述した配管１１によって連結されている。このような連結構造では、予備槽８にオーバーフローした処理液がポンプ１０の駆動によって浸漬槽１の底部側に供給されるため、処理液を浸漬槽１に循環供給する循環供給装置が構成されている。
【００２６】
なお、浸漬槽１及び予備槽８は、低温度の水等が貯留された恒温槽１２内に設けられており、恒温槽１２が配管ホース１４を介して温度制御槽１３に連結されることにより、浸漬槽１及び予備槽８の内部が一定の温度に保たれるようになっている。
【００２７】
この実施の形態において、処理液はポンプ１０により配管１１を通って浸漬槽１の下部に送られる。浸漬槽１内に勢いよく送られた液は多孔板３、７を通過することにより均等な乱流状態になる。その後、処理液は保持板５に保持されている保持用筒状体４内を上昇し、同筒状体４内のウェットゲル１６近傍を通り、各ウェットゲルに対して均一な所定の処理を施す。この処理液は保持用筒状体４の上部から溢れ出て、再び浸漬槽１内に貯まり、浸漬槽１からオーバーフローした液は予備槽８へ流れ、配管９を通りポンプ１０に戻って循環する。また、恒温槽１２内は水が貯められ、温度制御槽１３の温度設定により恒温槽１２の温度を調整することができる。なお、図示しないが、浸漬槽１及び予備槽８の上部には揮発防止のカバーが適宜、設けられるものである。
【００２８】
このような実施の形態では、保持用筒状体４を二重、三重に多数設けても処理液の均一な流れを確保することが可能なため、数多くのウェットゲルに対して一度に所定の処理を施すことができ、生産性を向上させることができる。特に、この実施の形態では、多孔板３，７を処理液の供給側に間隔を有して複数配置しているため、浸漬槽１内での処理液の流れをさらに均一とすることが可能となっている。
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ウェットゲルが入った保持用筒状体を２重、３重となって多数配置しても、各ウェットゲルに対して均一な所定の処理を施すことができるため、数多くのウェットゲルに対して一度に所定の処理を施すことができ、生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態の製造装置の全体断面図である。
【図２】保持用筒状体の配置を示す平面図である。
【図３】保持板の部分破断側面図である。
【図４】従来における保持用筒状体の浸漬槽への配置を示し、（Ａ）は側面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は斜視図である。
【図５】従来における処理構造を示す斜視図である。
【符号の説明】
１　浸漬槽
３，７　多孔板
４　保持用筒状体
５　保持板
８　予備槽
９，１１　配管
１０　ポンプ
１６　ウェットゲル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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