(57)【要約】【課題】ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物とから、特定の安価な脱水縮合触媒を用いることにより１工程で、そのうえ、従来よりも更に優れた高収率で、ハロゲン化水素の発生なしに、簡易化、低公害化して、特定のチオエーテル化合物を合成する方法を提供する。【解決手段】下記一般式（１）で表されるヒドロキシ化合物と、下記一般式（２）で表されるメルカプト化合物を、２〜５０ｍｏｌ％のスルホン酸類の存在下にて脱水縮合反応させることを特徴とする下記一般式（３）で表されるチオエーテル化合物の製造方法。【化１】2004262792.tif 000017【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるヒドロキシ化合物と、下記一般式（２）で表されるメルカプト化合物を、２〜５０ｍｏｌ％のスルホン酸類の存在下にて脱水縮合反応させることを特徴とする下記一般式（３）で表されるチオエーテル化合物の製造方法。
【化１】
2004262792.tif 000012
（一般式（１）〜（３）中、Ｒ１は複素環基を表し、ＲａおよびＲｂは各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ２は芳香族基、複素環基または脂肪族基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）で表されるヒドロキシ化合物が、下記一般式（４）で表されるヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項１に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【化２】
2004262792.tif 000013
（式中、Ｒ４は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。Ｒ５は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基または−ＣＯＲ３を表し、Ｒ６は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、または−ＣＯＲ３を表し、ＲａおよびＲｂは各々、水素原子または置換基を表す。Ｒ３は芳香族基、複素環基、脂肪族基、アルコキシ基、アミノ基またはアリールオキシ基を表す。）
【請求項３】
前記一般式（１）で表されるヒドロキシ化合物が、下記一般式（５）で表されるヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【化３】
2004262792.tif 000014
（式中、Ｒ４は一般式（４）のＲ４と同様の基を表し、Ｒ５は一般式（４）のＲ５と同様の基を表し、Ｒ７は脂肪族基または芳香族基を表し、Ｒｃは水素原子または置換基を表す。）
【請求項４】
前記一般式（２）で表されるメルカプト化合物が、下記一般式（６）または（７）で表されるメルカプト化合物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【化４】
2004262792.tif 000015
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ８は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基または−ＣＯＲ３を表す。Ｒ３は一般式（４）のＲ６の−ＣＯＲ３のＲ３と同様の基を表す。）
【化５】
2004262792.tif 000016
（式中、Ｒ９は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。）
【請求項５】
脱水縮合反応させる際の反応温度が、１０〜４０℃であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はチオエーテル化合物の製造方法に関するものであり、詳しくは、特定の、ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物を、スルホン酸類の存在下にて脱水縮合反応させるチオエーテル化合物の製造方法に関するものである。更に詳しくは、ハロゲン化銀感光材料用のＤＩＲカプラーとして有用なチオエーテル化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、チオエーテル誘導体の合成方法としてよく知られているものとしては、
▲１▼．塩酸、塩化チオニル、臭化水素水等のハロゲン化剤により、ヒドロキシ化合物をハロゲン化した後、アルカリ条件でメルカプト化合物とカップリングする方法「ケミカル  アンド  ファーマセウシカル  ブリティン：３７巻１０号１９８９年１８８９項（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．；ＥＮ；３７；１０；１９８９；１８８９）」（非特許文献１）、「ケミカル  アンド  ファーマセウシカル  ブリティン：３８巻１０号１９９０年２８５３項（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．；ＥＮ；３８；１０；１９９０；２８５３）」（非特許文献２）、「ジャーナル  オブ  メディカル  ケミストリー：２６巻２号１９８３年２１８項（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．；ＥＮ；２６；２；１９８３；２１８）」（非特許文献３）；
▲２▼．ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物を、トリフェニルホスフィンとジイソプロピルアゾジカルボキシレートを用いて、脱水縮合させる方法「ケミカル  アンド  ファーマセウシカル  ブリティン：３９巻３号１９９１年６６３項  （Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．；ＥＮ；３９；３；１９９１；６６３）」、「シンセシス  コミュニケーション：２０巻１１号１９９０年１６３１項（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．；ＥＮ；２０；１１；１９９０；１６３１）」；
▲３▼．また、ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物を酢酸中加温することで脱水縮合させる方法「シンセシス  コミュニケーション：１８巻１３号１９８８年１５８１項（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍ．；ＥＮ；１８；１３；１９８８；１５８１）」がある。
【０００３】
しかしながら、上記▲２▼の、「ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物を、トリフェニルホスフィンとジイソプロピルアゾジカルボキシレートを用いて、脱水縮合させる方法」の場合には、高価な試薬を使用するためコスト的に不利であることや、収率が良くないという問題があった。
【０００４】
また、上記▲３▼の、「ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物を酢酸中加温することで脱水縮合させる方法」の場合には、比較的高い温度で反応させないと反応が進行せず、そのため、副製生物が多くなり収率が良くないという問題があった。
【０００５】
一方、上記▲１▼の、「塩酸、塩化チオニル、臭化水素水等のハロゲン化剤により、ヒドロキシ化合物をハロゲン化した後、アルカリ条件でメルカプト化合物とカップリングする方法」は、ハロゲン化剤を用いた合成方法で、よく用いられるハロゲン化剤は塩酸、塩化チオニル、臭化水素であり、これらは安価な試薬であるため、コスト的に有利である。且つ、反応率も高く収率が比較的良いことからよく用いられており、工業的な製造方法としても汎用されてきた。しかしながら、反応が２工程となってしまい煩雑であり、また、反応において塩酸ガスが発生してしまい環境保全上好ましくないという問題があった。また、収率の更なる向上も要望されていた。
【０００６】
【非特許文献１】
ケミカル  アンド  ファーマセウシカル  ブリティン：３７巻１０号１９８９年１８８９項
【０００７】
【非特許文献２】
ケミカル  アンド  ファーマセウシカル  ブリティン：３８巻１０号１９９０年２８５３項
【０００８】
【非特許文献３】
ジャーナル  オブ  メディカル  ケミストリー：２６巻２号１９８３年２１８項
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物とから、特定の安価な脱水縮合触媒を用いることにより１工程で、そのうえ、従来よりも更に優れた高収率で、ハロゲン化水素の発生なしに、簡易化、低公害化して、特定のチオエーテル化合物を合成する製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物を、スルホン酸類（脱水縮合触媒）の存在下にて脱水縮合することにより、優れた結果が得られ、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
本発明の上記目的は、下記構成により達成される。
１．前記一般式（１）で表されるヒドロキシ化合物と、前記一般式（２）で表されるメルカプト化合物を、２〜５０ｍｏｌ％のスルホン酸類の存在下にて脱水縮合反応させることを特徴とする前記一般式（３）で表されるチオエーテル化合物の製造方法。
【００１２】
２．前記一般式（１）で表されるヒドロキシ化合物が、前記一般式（４）で表されるヒドロキシ化合物であることを特徴とする前記１に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【００１３】
３．前記一般式（１）で表されるヒドロキシ化合物が、前記一般式（５）で表されるヒドロキシ化合物であることを特徴とする前記１または２に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【００１４】
４．前記一般式（２）で表されるメルカプト化合物が、前記一般式（６）または（７）で表されるメルカプト化合物であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【００１５】
５．脱水縮合反応させる際の反応温度が、１０〜４０℃であることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のチオエーテル化合物の製造方法。
【００１６】
以下、本発明を詳細に説明する。
前記一般式（１）、（３）において、Ｒ１で表される複素環基としては、例えば、ピロリル基、インドリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドリジニル基、キノリニル基、カルバゾリル基、インドリニル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、チアジアジニル基、オキサジアゾリル基、ベンゾキノリニル基、チアジアゾリル基、ピロロチアゾリル基、ピロロピリダジニル基、テトラゾリル基、オキサゾリル基、クロマニル基等を挙げることができ、これらの基はそれぞれ置換基を有していてもよい。
【００１７】
一般式（１）、（３）、（４）において、ＲａおよびＲｂは各々、水素原子または置換基を表すが、該置換基としては、例えば、脂肪族基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、芳香族基、複素環基等の基が挙げられ、脂肪族基としては例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、芳香族基としては例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては例えば、ピロリル基、インドリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、カルバゾリル基、インドリニル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、チアジアジニル基、オキサジアゾリル基、ベンゾキノリニル基等が挙げられ、これらのうちで好ましいものは水素原子である。
【００１８】
前記一般式（２）、（３）においてＲ２で表される芳香族基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、それぞれ置換基を有していてもよい。複素環基としてはＲ１で挙げた例が挙げられ、脂肪族基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、２−エチル−ヘキシル基、オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基等を挙げることができ、それぞれ置換基を有していてもよい。
【００１９】
前記一般式（４）、（５）において、Ｒ４で表される脂肪族基、芳香族基の例としてはＲ２の脂肪族基、芳香族基で挙げた例が挙げられ、複素環基の例としてはＲ１の複素環基で挙げた例が挙げられ、これらのうちで好ましいものはフェニル基である。
【００２０】
一般式（４）、（５）において、Ｒ５で表される脂肪族基、芳香族基の例としてはＲ２の脂肪族基、芳香族基で挙げた例が挙げられ、複素環基の例としてはＲ１の複素環基で挙げた例が挙げられ、アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等を挙げることができ、それぞれ置換基を有していてもよい。アミノ基の例としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メトキシエトキシアミノ基、ジフェニルアミノ基等を挙げることができ、それぞれ置換基を有していてもよい。アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等を挙げることができ、それぞれ置換基を有していてもよい。ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子を挙げることができる。−ＣＯＲ３におけるＲ３は芳香族基、複素環基、脂肪族基、アルコキシ基、アミノ基またはアリールオキシ基を表し、芳香族基、脂肪族基の例としてはＲ２の芳香族基、脂肪族基で挙げた例が挙げられ、複素環基の例としてはＲ１の複素環基で挙げた例が挙げられ、アルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基の例としてはＲ５のアルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基で挙げた例が挙げられ、これらのうちで好ましいものは、炭素数１〜１６の脂肪族基、総炭素数１〜１６のエステル基であり、更に好ましいのはメチル基、エチルエステル基である。
【００２１】
一般式（４）においてＲ６で表される脂肪族基、芳香族基の例としてはＲ２の脂肪族基、芳香族基で挙げた例が挙げられ、複素環基の例としてはＲ１の複素環基で挙げた例が挙げられ、アルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子の例としてはＲ５のアルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子で挙げた例が挙げられ、これらのうちで好ましいのはナフトキシ基である。
【００２２】
前記一般式（５）において、Ｒ７で表される脂肪族基、芳香族基の例としてはＲ２の脂肪族基、芳香族基で挙げた例が挙げられ、複素環の例としてはＲ１の複素環で挙げた例を挙げられる。
【００２３】
一般式（５）において、Ｒｃは水素原子または置換基を表すが、該置換基の例としてはＲａが置換基である場合に挙げた例を挙げられる。これらのうちで好ましいのは水素原子である。
【００２４】
前記一般式（６）において、Ｒ８で表される脂肪族基、芳香族基の例としてはＲ２の脂肪族基、芳香族基で挙げた例が挙げられ、複素環基の例としてはＲ１の複素環基で挙げた例が挙げられ、アルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子の例としてはＲ５のアルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子で挙げた例が挙げられ、アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、２−メトキシエチルチオ基等が挙げられ、これらのうちで好ましいのはメチル基、エチル基である。
【００２５】
前記一般式（７）において、Ｒ９は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表すが、Ｒ９で表される脂肪族基、芳香族基の例としてはＲ２の脂肪族基、芳香族基で挙げた例が挙げられ、複素環基の例としてはＲ１の複素環基で挙げた例が挙げられる。これらのうちで好ましいのはフェニル基である。
【００２６】
以下に、一般式（１）、（４）、（５）で表されるヒドロキシ化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２７】
【化６】
2004262792.tif 000002
【００２８】
【化７】
2004262792.tif 000003
【００２９】
【化８】
2004262792.tif 000004
【００３０】
以下に、一般式（２）、（６）、（７）で表されるメルカプト化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３１】
【化９】
2004262792.tif 000005
【００３２】
以下に、一般式（３）で表されるチオエーテル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３３】
【化１０】
2004262792.tif 000006
【００３４】
【化１１】
2004262792.tif 000007
【００３５】
【化１２】
2004262792.tif 000008
【００３６】
本発明に係るスルホン酸類について説明する。
本発明の反応において脱水縮合触媒として好適に用いられるスルホン酸類としては、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等が挙げられ、それぞれの水和物、ナトリウム塩、カリウム塩も含まれる。これらのうちで好ましいものはメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物である。本発明に係るスルホン酸類の使用量としては、ヒドロキシ化合物に対して、２〜５０％モルであり、好ましくは、５〜３０％モルである。２％モル未満では反応進行が遅くなることがある。また、５０％モルを越えると副生成物が生成してきて収率が低下することがある。
【００３７】
本発明の反応において用いる有機溶媒として特に制限はないが、好ましい例としては、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。
【００３８】
本発明の反応における反応温度としては、好ましくは０〜１００℃であり、更に好ましくは１０〜４０℃である。０℃よりも低くなると反応進行が遅くなってしまうことがある。また、１００℃よりも高くなると副生成物が生成してきて収率が低下することがある。
【００３９】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００４０】
実施例１
《合成例１（本発明）》
（例示化合物３−１の合成）
合成経路
【００４１】
【化１３】
2004262792.tif 000009
【００４２】
１−１．（例示化合物３−１の合成）
３００ｍｌの３口フラスコに、トルエン１００ｍｌ、例示化合物１−１５  １５ｇ、例示化合物２−１  ８．７ｇをいれておき、室温にて、メタンスルホン酸１．３ｇを加え、その後５時間攪拌した。反応液を分液ろうとに移し、１０％Ｋ２ＣＯ３水溶液８０ｍｌにて洗った。更に、有機層を水１５０ｍｌにて３回洗った。トルエン層を減圧下にて留去した後、残渣に酢酸エチル１５ｍｌとアセトニトリル４５ｍｌを加え、熱溶解後、再結晶を行ったところ例示化合物３−１を１８．４ｇ（収率８８％）得た。
【００４３】
得られた例示化合物３−１は１Ｈ−ＮＭＲとＭａｓｓにて構造を確認した。
《合成例２（本発明）》
（例示化合物３−１７の合成）
合成経路
【００４４】
【化１４】
2004262792.tif 000010
【００４５】
２−１．（例示化合物３−１７の合成）
５００ｍｌの３口フラスコに、酢酸エチル１５０ｍｌ、例示化合物１−１８  ３０．０ｇ、例示化合物２−７  ５．０５ｇをいれておき、室温にて、メタンスルホン酸０．４３ｇを加え、その後５時間攪拌した。反応液を分液ろうとに移し、１０％Ｋ２ＣＯ３水溶液５０ｍｌにて洗った。更に、有機層を水１００ｍｌにて３回洗った。酢酸エチル層を減圧下にて留去した後、残渣に酢酸エチル６８ｍｌとアセトニトリル６８ｍｌを加え、熱溶解後、再結晶を行ったところ例示化合物３−１７を２７．５ｇ（収率８０％）得た。
【００４６】
得られた例示化合物化３−１７は１Ｈ−ＮＭＲとＭａｓｓにて構造を確認した。
【００４７】
《合成例３（比較）》
（例示化合物３−１の合成）
合成経路
【００４８】
【化１５】
2004262792.tif 000011
【００４９】
３−１．（１−１５−Ｃｌの合成）
３００ｍｌの３口フラスコに、トルエン１００ｍｌ、例示化合物１−１５  １５ｇをいれておき、氷冷下、塩化チオニル１７．５ｇを３０分かけて滴下した。３０分氷冷下で攪拌後、室温に戻し１時間攪拌した。後、まずロータリーエバポレーターにて、減圧下塩酸ガスを排出させた後、トルエンを留去すると、１−１５−Ｃｌが得られた。
【００５０】
３−２．（例示化合物３−１の合成）
上記の１−１５−Ｃｌに、酢酸エチル１００ｍｌ、例示化合物２−１  ８．７ｇ、炭酸カリウム２２．２ｇを加えて、室温にて３時間攪拌した。反応液を分液ろうとに移し、１０％Ｋ２ＣＯ３水溶液８０ｍｌにて洗った。更に、有機層を水１５０ｍｌにて３回洗った。トルエン層を減圧下にて留去した後、残渣に酢酸エチル１５ｍｌとアセトニトリル４５ｍｌを加え、熱溶解後、再結晶を行ったところ例示化合物３−１を１５．９ｇ（収率７１％）得た。
【００５１】
得られた例示化合物３−１は１Ｈ−ＮＭＲとＭａｓｓにて構造を確認した。
以上の経過および結果から、
合成例１（本発明）、合成例２（本発明）と合成例３（比較）とを比較、特に、合成例１（本発明）と合成例３（比較）とを比較すれば、明らかなように、本発明の合成方法（製造方法）の場合には、チオエーテル化合物をヒドロキシ化合物とメルカプト化合物から１工程で、そのうえ、従来よりも更に優れた高収率で、簡易に、チオエーテル化合物を合成製造できることがわかる。
【００５２】
更には、塩酸ガスの発生（公害）もないという効果も発揮し得た。従って本発明は、チオエーテル化合物の製造方法に極めて有効である。
【００５３】
【発明の効果】
本発明により、ヒドロキシ化合物とメルカプト化合物とから、特定の安価な脱水縮合触媒を用いることにより１工程で、そのうえ、従来よりも更に優れた高収率で、ハロゲン化水素の発生なしに、簡易化、低公害化して、特定のチオエーテル化合物を合成する製造方法を提供できた。