(57)【要約】【課題】　本発明は、引き出し電極部と操作領域との間、かつ、それぞれの引き出し電極部間を、絶縁膜を設けなくても、確実で簡単に絶縁することができる座標入力装置を提供すること。【解決手段】　それぞれの引き出し電極部７、８は、周辺領域Ｓを経由して基板２の一辺まで形成され、引き出し電極部７と操作領域６との間、かつ、それぞれの引き出し電極部７、８間に、連続する溝９を形成し、この溝９は、一端が基板２の一辺まで延設されると共に、深さが導電膜であるＩＴＯ膜３を貫通して基板２の一部まで達して形成されている。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方の面に形成された導電膜と、該導電膜上に間隔を置いて形成された一対の電極と、該一対の電極間で形成された操作領域と、前記一対の電極のそれぞれに接続されて前記導電膜上に形成された引き出し電極部を形成した周辺領域とを備え、前記それぞれの引き出し電極は、前記周辺領域を経由して前記基板の一辺まで形成され、前記引き出し電極部と前記操作領域との間、かつ、それぞれの前記引き出し電極部間に、連続する溝を形成し、前記溝は、一端が前記基板の前記一辺まで延設されると共に、深さが前記導電膜を貫通して前記基板の一部まで達していることを特徴とする座標入力装置。
【請求項２】
前記基板は、前記導電膜が形成された第１基板と、この第１基板に接着膜を介して第２基板を接着した二層からなり、前記溝の深さは、前記第１基板を貫通して前記接着膜近傍まで達していることを特徴とする請求項１記載の座標入力装置。
【請求項３】
基板の一方の面に形成した導電膜上に、間隔を置いて形成した一対の電極間に操作領域を形成し、前記一対の電極のそれぞれに接続された引き出し電極部を前記導電膜上に形成した周辺領域を有し、前記それぞれの周辺引き出し電極部は、前記周辺領域を経由して前記基板の一辺まで形成され、前記引き出し電極部と前記操作領域との間、かつ、それぞれの前記引き出し電極部間に、連続する溝を形成し、前記溝は、レーザー照射により、一端が前記基板の前記一辺まで延設され、深さが前記導電膜を貫通して前記基板の一部まで達するように形成したことを特徴とする座標入力装置の製造方法。
　
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、操作領域を入力ペン、或いは指等により操作してデータ入力を行う座標入力装置、及びその座標入力装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　従来における操作領域を入力ペン等によって操作する座標入力装置を図６〜図９に基づいて説明する。
　図６は、従来の座標入力装置の側面図、図７は従来に係わる下部の透明基板部材の平面図、図８は従来に係わる上部の透明基板部材の裏面図、図９は図７のＢ−Ｂ断面図である。
　そして、従来の座標入力装置において、下部の透明基板部材２０は、透明なガラスから成る透明基板２１と、この透明基板２１の上面全面に形成されたＩＴＯ膜（酸化インジウムから成る透明抵抗膜）２２と、このＩＴＯ膜２２上に間隔を置いて平行に形成された銀等から成る電極２３、２４と、この電極２３と２４との間で形成される操作領域２５と、この操作領域２５から外れた位置の操作領域２５の側部において、ＩＴＯ膜２２上に形成された絶縁膜２６と、電極２３、２４の一端から引き出され、絶縁膜２６上に形成された引き出し電極部２７、２８とで構成されている。
【０００３】
　また、上部の透明基板部材３０は、透明なポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂から成る透明基板３１と、この透明基板３１の下面全面に形成されたＩＴＯ膜３２と、このＩＴＯ膜３２上に間隔を置いて平行に形成された銀等から成る電極３３、３４と、この電極３３と３４との間で形成される操作領域３５と、この操作領域３５から外れた位置の操作領域３５の側部において、ＩＴＯ膜３２上に形成された絶縁膜３６と、操作領域３５から外れた位置の電極３４の側部において、前記絶縁膜３６に繋がってＩＴＯ膜３２上に形成された絶縁膜３７と、電極３３の一端から引き出され、絶縁膜３６、３７上に形成された引き出し電極部３８と、電極３４の外側から引き出され、絶縁膜３７上に形成された引き出し電極部３９とで構成されている。
【０００４】
　そして、このような構成を有する上部の透明基板部材３０は、そのＩＴＯ膜３２を、下部の透明基板部材２０のＩＴＯ膜２２に対向させ、且つ、平行な電極３３、３４を、下部の電極２３、２４が存在しない側部に位置させて配置し、絶縁スペーサ４０によって、図６に示すように、上下の透明基板部材３０、２０とが組み合わされた構成となっている。
【０００５】
　そして、入力ペン（図示せず）で透明基板３１を押し圧すると、透明基板３１が変形して、上部のＩＴＯ膜３２と下部のＩＴＯ膜２２が接触する。
　すると、この接触点とそれぞれの電極３３、３４間の抵抗比、及び接触点とそれぞれの電極２３、２４間の抵抗比を引き出し電極部３８、３９及び２７、２８を通して導出し、座標入力を行うようになっている。
【０００６】
　また、電極２３、２４における引き出し電極部２７と２８の端部、及び電極３３、３４における引き出し電極部３８と３９の端部は、外部接続、例えばコネクタ等により導出が可能にできるため、互いに近接した位置に形成されている。
　このため、下部の透明基板部材２０における電極２３から引き出される引き出し電極部２７は、ＩＴＯ膜２２と、もう一方の引き出し電極部２８との絶縁を図るために、絶縁膜２６上に形成されており、また、上部の透明基板部材３０における電極３３から引き出される引き出し電極部３８は、ＩＴＯ膜３２と、もう一方の電極３４と、引き出し電極部３９との絶縁を図るために、絶縁膜３６、３７上に形成されている。
【特許文献１】特開昭６３−２８４６３０号公報
【特許文献２】特開平６−２１４７０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
　  従来の座標入力装置においては、引き出し電極部２７を、操作領域２５と引き出し電極部２８とから絶縁させるために絶縁膜２６を形成し、また、引き出し電極部３８を、操作領域３５と電極３４と引き出し電極部３９とから絶縁するために絶縁膜３６、３７を形成するため、絶縁膜２６、３６、３７の形成作業と、その材料費によって、コスト高に成るという問題がある。
　また、絶縁膜２６、３６、３７を形成時にピンホールが発生すると、このピンホールによって、引き出し電極部２７がＩＴＯ膜２２に、また、引き出し電極部３８がＩＴＯ膜３２に導通して、絶縁不良が発生するという問題がある。
　更に、ＩＴＯ膜と絶縁膜との間には段部があり、引き出し電極部を印刷で形成した時、この段部で引き出し電極部が切断、或いは極細となり、不良品を招くという問題がある。
　本発明は、前述のような課題を解決するために、引き出し電極部と操作領域との間、かつ、それぞれの引き出し電極部間を、絶縁膜を設けなくても、確実で簡単に絶縁することができる座標入力装置を提供することを目的とする。　
【課題を解決するための手段】
【０００８】
　上記課題を解決するための第１の解決手段として本発明の座標入力装置は、基板の一方の面に形成された導電膜と、該導電膜上に間隔を置いて形成された一対の電極と、該一対の電極間で形成された操作領域と、前記一対の電極のそれぞれに接続されて前記導電膜上に形成された引き出し電極部を形成した周辺領域とを備え、前記それぞれの引き出し電極は、前記周辺領域を経由して前記基板の一辺まで形成され、前記引き出し電極部と前記操作領域との間、かつ、それぞれの前記引き出し電極部間に、連続する溝を形成し、前記溝は、一端が前記基板の前記一辺まで延設されると共に、深さが前記導電膜を貫通して前記基板の一部まで達していることを特徴とする。
　また、第２の解決手段として、前記基板は、前記導電膜が形成された第１基板と、この第１基板に接着膜を介して第２基板を接着した二層からなり、前記溝の深さは、前記第１基板を貫通して前記接着膜近傍まで達していることを特徴とする。
【０００９】
　また、第３の解決手段として本発明の製造方法は、基板の一方の面に形成した導電膜上に、間隔を置いて形成した一対の電極間に操作領域を形成し、前記一対の電極のそれぞれに接続された引き出し電極部を前記導電膜上に形成した周辺領域を有し、前記それぞれの周辺引き出し電極部は、前記周辺領域を経由して前記基板の一辺まで形成され、前記引き出し電極部と前記操作領域との間、かつ、それぞれの前記引き出し電極部間に、連続する溝を形成し、前記溝は、レーザー照射により、一端が前記基板の前記一辺まで延設され、深さが前記導電膜を貫通して前記基板の一部まで達するように形成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
　本発明によれば、引き出し電極部と操作領域との間、かつ、それぞれの引き出し電極部間に、連続する溝を形成し、前記溝は、一端が基板の一辺まで延設されると共に、深さが導電膜を貫通して基板の一部まで達しているので、従来の技術で説明したような絶縁膜が無くても、安価で、且つ、ピンホール、断線等がなく、これらによる不良品のない座標入力装置を提供できる。
【００１１】
　また、本発明の製造方法で形成した溝は、レーザー照射により、一端が基板の一辺まで延設され、深さが導電膜を貫通して基板の一部まで達するように形成したので、それぞれの引き出し電極間等を確実に絶縁することができると共に、溝の形成が容易である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
　本発明における座標入力装置、及びその製造方法の一実施例を図１〜図４に基づいて説明する。
　図１は本発明の座標入力装置の側面図、図２は本発明に係わる下部の透明基板部材の平面図、図３は本発明に係わる上部の透明基板部材の裏面図、図４は図２のＡ−Ａ断面図である。
【００１３】
　そして、本発明の座標入力装置において、下部の透明基板部材１は、透明なガラス、或いは透明なポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂から成る透明基板２が配設され、この透明基板２の一面全面には、導電膜であるＩＴＯ膜（酸化インジウムから成る透明抵抗膜）３が所定厚さで形成されている。
　前記ＩＴＯ膜３上には、間隔を置いて平行に形成された銀等から成る一対の電極４、５が形成され、この電極４と５との間には操作領域６が形成されている。
　また、操作領域６から外れた位置で、操作領域６の側部に形成された周辺領域ＣのＩＴＯ膜３上には、一方の電極４に接続されて引き出された引き出し電極部７と、他方の電極５に接続されて引き出さた引き出し電極部８とが、周辺領域Ｃを経由して透明基板２の、図示上端である一辺まで延びて形成されている。
　前記引き出し電極部７と操作領域６との間、及びそれぞれの引き出し電極部７、８間には、連続して形成された、深さがＩＴＯ膜３を貫通して透明基板２の一部まで達する切り溝９が形成されている。
　そして、切り溝９によって、ＩＴＯ膜３上に形成された引き出し電極部７が、操作領域６と引き出し電極部８とから絶縁された状態となっている。
【００１４】
　また、図３に示す上部の透明基板部材１０は、透明なポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂から成る透明基板１１と、この透明基板１１の一面全面に導電膜であるＩＴＯ膜１２が所定厚さで形成されている。
　前記ＩＴＯ膜１２上には、間隔を置いて平行に形成された銀等から成る一対の電極１３、１４が形成され、この電極１３と１４との間に操作領域１５が形成されている。
　また、操作領域１５から外れた位置で、操作領域１５の図示右側の側部と他方の電極１４の側部とに形成された周辺領域ＤのＩＴＯ膜１２上には、一方の電極１３に接続されて引き出された引き出し電極部１６と、この引き出し電極部１６に近い位置で他方の電極１４に接続されて引き出された引き出し電極部１７とが、周辺領域Ｄを経由して、透明基板１１の図示上端である一辺まで延びて形成されている。
　また、引き出し電極部１６と操作領域１５との間、及び引き出し電極部１６と電極１４との間、更に引き出し電極部１６と引き出し電極部１７との間には、連続して形成された、深さがＩＴＯ膜１２を貫通して透明基板１１の一部まで達する切り溝１８が形成されている。
　そして、切り溝１８によって、ＩＴＯ膜３上に形成された引き出し電極部１６が、操作領域１５と他方の電極１４と他方の引き出し電極部１７とから絶縁された状態となっている。
【００１５】
　また、それぞれの切り溝９、１８は、レーザー照射加工によって形成することができる。
　前記透明基板２がガラスから成る場合、レーザーはガラスを透過するので、従ってこの場合、ＩＴＯ膜３のみに切り溝９を形成することが出来、深さをバラツキなく形成することが出来る。
　このようなレーザー照射加工で形成した切り溝９は、幅寸法を小さくすることができるので、図２に示すように、引き出し電極部７の下まで延出形成された延出部９ａを有するときは、引き出し電極部７を印刷形成の際に、延出部９ａによって引き出し電極部７が断線することはない。
　前記上部の透明基板部材１０は、そのＩＴＯ膜１２を、下部の透明基板部材１のＩＴＯ膜３に対向させ、且つ、平行な電極１３、１４を、下部の電極４、５が存在しない側部に位置させて配置し、絶縁スペーサ４０によって、図１に示すように、上下の透明基板部材１０、１が互いに対向して組み合わされた構成となっている。
【００１６】
　そして、入力ペン（図示せず）で上部の透明基板１１の操作領域１５部分を押圧すると、透明基板１１が変形して、操作領域６、１５において上部のＩＴＯ膜１２と下部のＩＴＯ膜３が接触する。
　すると、この接触点とそれぞれの電極１３、１４間の抵抗比、及び接触点とそれぞれの電極４、５間の抵抗比を引き出し電極部１６、１７及び７、８を通して導出し、座標入力を行うようになっている。
【００１７】
　また、図５は本発明における上部の透明基板部材１０の他の実施例を示し、この実施例においては、透明基板１１上に、透明な接着膜１９を介してもう一つの透明基板１１ａを接着し、二層の透明基板にすることによって、入力ペンによる透明基板の磨耗による寿命を延ばすと共に、透明基板１１とＩＴＯ膜１２の切り溝１８をより深く形成できるようにして、引き出し電極部１６の絶縁性の向上を図ったものである。　　　
　即ち、基板である透明基板部材１０は、導電膜であるＩＴＯ膜１２が形成された第１基板１１と、この第１基板１１に接着膜１９を介して第２基板１１ａを接着した二層からなり、溝１８の深さは、第１基板１１を貫通して接着膜１９近傍まで達しているものである。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の座標入力装置の側面図。
【図２】本発明に係わる下部の透明基板部材の平面図。
【図３】本発明に係わる上部の透明基板部材の裏面図。
【図４】図２のＡ−Ａ線における断面図。
【図５】本発明の他の実施例を示す上部の透明基板部材の要部断面図。
【図６】従来の座標入力装置の側面図。
【図７】従来に係わる下部の透明基板部材の平面図。
【図８】従来に係わる上部の透明基板部材の裏面図。
【図９】図７のＢ−Ｂ線における断面図。
【符号の説明】
【００１９】
　１：透明基板部材
　２：透明基板
　３：ＩＴＯ膜
　４：電極
　５：電極
　６：操作領域
　Ｃ：周辺領域
７：引き出し電極部
　８：引き出し電極部
　９：切り溝
　１０：透明基板部材
　１１：透明基板
　１２：ＩＴＯ膜
　１３：電極
　１４：電極
　１５：操作領域
　１６：引き出し電極部　　　
　１７：引き出し電極部
　１８：切り溝
　１９：接着膜
　４０：絶縁スペーサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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