(57)【要約】　　　（修正有）【課題】高密度記録による複数の光情報記録層が積層されてなる多層光ディスクにおいて、その各光情報記録層のそれぞれの偏芯量の改善、および複数の光情報記録層間相互の偏芯量の低減化を図る。【解決手段】複数の光情報記録層が積層されて成る多層光ディスクの製造方法であって、基板を基準軸に対して偏芯調整して該基準軸に対して位置設定する第１の位置設定工程と、他方の基板を、前記基準軸に対して位置設定する第２の位置設定工程と、これら設定された中間層が堆積された基板と、転写基板とを、前記基準軸に沿う方向に相対的に移行させて転写基板の転写凹凸パターンと前記基板に形成されたの中間層とを押圧して転写凹凸パターンを、中間層に転写して中間層に光情報記録層の凹凸パターンを形成する押圧工程と、転写基板を中間層から剥離する剥離工程とを少なくとも有し、両基板の偏芯を従来に比し、格段に改善することができるようにする。【選択図】　　　　図５
2004145983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光情報記録層が積層されて成り、少なくとも１層の光情報記録層が、情報部を構成する凹凸パターンの形成された中間層を有する多層光ディスクの製造方法であって、
前記光情報記録層が積層されるディスク基板と、前記凹凸パターンを形成する転写凹凸パターンを有する転写基板とのいずれか一方の基板を、基準軸に対して偏芯調整して該基準軸に対して位置設定する第１の位置設定工程と、
他方の基板を、前記基準軸に対して位置設定する第２の位置設定工程と、
これら位置設定されたディスク基板と、転写基板とを、これら間に前記中間層を介在させて前記基準軸の軸心方向に沿って相対的に移行させ、前記転写凹凸パターンを前記中間層に押圧して、該中間層に前記転写凹凸パターンの転写による凹凸パターンを形成する押圧工程と、
前記転写基板を前記中間層から剥離する剥離工程とを少なくとも有することを特徴とする多層光ディスクの製造方法。
【請求項２】
前記基準軸に対する前記第１の位置設定工程において、前記ディスク基板自体および前記転写基板自体の偏芯量を予め測定した結果に基いて基準軸に対するディスク基板あるいは転写基板の位置設定を行うことを特徴とする請求項１に記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項３】
前記押圧工程における前記転写基板と前記基板との相対的回転方向位置を所定の位置関係に設定した状態で、軸心方向に沿って相対的に移行させて、前記転写凹凸パターンと前記中間層との押圧を行うことを特徴とする請求項１に記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項４】
前記基準軸に対する前記ディスク基板と前記転写基板の第１および第２の位置設定を、センターピンと、前記ディスク基板と前記転写基板とにそれぞれ穿設したセンターホールとの位置合せによって行うことを特徴とする請求項１に記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記基準軸に対するディスク基板または転写基板の前記第１の位置設定を、該ディスク基板の情報部または転写基板の転写凹凸パターンの外周部もしくは内周部に存在する信号境界部近傍を観察する１以上の第１の撮像素子によって前記ディスク基板または転写基板の位置を観察して行うことを特徴とする請求項１に記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記基準軸に対するディスク基板または転写基板の前記第１の位置設定を、該ディスク基板の情報部または転写基板の転写凹凸パターンの中心部を観察する第２の撮像素子によって前記ディスク基板または転写基板の位置を観察して行うことを特徴とする請求項５に記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記基準軸に対するディスク基板または転写基板の前記第１の位置設定を、該ディスク基板の情報部または転写基板に存在するセンターホール近傍を観察する１以上の第１の撮像素子によって前記ディスク基板または転写基板の位置を観察して行うことを特徴とする請求項１に記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項８】
前記ディスク基板あるいは転写基板の少なくとも一方に、前記情報部または前記転写凹凸パターンの外周もしくは内周に位置検出のマークが付されてなることを特徴とする請求項１に記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項９】
複数の光情報記録層が積層されて成り、少なくとも１層の光情報記録層が、情報部を構成する凹凸パターンの形成された中間層を有する多層光ディスクの製造装置であって、
前記光情報記録層が積層されるディスク基板と、前記凹凸パターンを形成する転写凹凸パターンを有する転写基板とのいずれか一方の基板を、基準軸に対して偏芯調整して該基準軸に対して位置設定する第１の位置設定手段と、
他方の基板を、前記基準軸に対して位置設定する第２の位置設定手段と、
これら位置設定されたディスク基板と、転写基板とを、これら間に前記中間層を介在させて前記基準軸の軸心方向に沿って相対的に移行させ、前記転写凹凸パターンを前記中間層に押圧して、該中間層に前記転写凹凸パターンの転写による凹凸パターンを形成する押圧手段とを有することを特徴とする多層光ディスクの製造装置。
【請求項１０】
前記基準軸は、センターピンから成り、前記ディスク基板と、前記転写基板とは、前記センターピンが挿入されるセンターホールを有することを特徴とする請求項９に記載の多層光ディスクの製造装置。
【請求項１１】
前記ディスク基板の情報部または転写基板の転写凹凸パターンの外周部近傍を観察する１以上の第１の撮像素子を具備することを特徴とする請求項９に記載の多層光ディスクの製造装置。
【請求項１２】
前記ディスク基板の情報部または転写基板の転写凹凸パターンの中心部を観察する第２の撮像素子前記ディスク基板と、前記転写基板との前記基準軸の調整を観察する撮像素子を具備することを特徴とする請求項９に記載の多層光ディスクの製造装置。
【請求項１３】
前記第１の位置設定手段は、前記ディスク基板あるいは前記転写基板を、前記基準軸と直交する面に沿って互いに交叉する２方向に移動調整する可動調整機構を有することを特徴とする請求項９に記載の多層光ディスクの製造装置。
【請求項１４】
前記可動調整機構は、前記互いに交叉する２方向と、前記載置面に沿う面内で回転調整とがなされる可動調整機構であることを特徴とする請求項９に記載の多層光ディスクの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）　型または／およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）　型または／およびＲ型（Ｗｒｉｔｅ　Ｏｎｃｅ）型の複数の光情報記録層が積層されて成る多層光ディスクの製造方法および多層光ディスクの製造装置に係わる。
【０００２】
【従来の技術】
大記録容量の光情報記録ディスクとして、複数の光情報記録層が積層された構成による多層光ディスクの提供がなされている（例えば特許文献１参照）。
多層光ディスクにおいて、光情報記録層が高記録密度化されるに伴い、各光情報記録層に対する記録または／および再生（以下、単に記録再生と呼称する）がなされる記録再生装置のピックアップ装置による照射光は、記録トラック位置に対する追従、すなわちトラッキングに高い精度が要求される。したがって、高記録密度多層光ディスクにおいては、各光情報記録層の偏心は、より厳しく制限される。
【０００３】
通常、この多層光ディスクの製造においては、各光情報記録層を構成する基板の中心孔すなわちセンターホールを、基準センターピンに嵌合させることによって一致させて積層合体させるものであるが、実際には、センターホールの穿設の位置精度、このセンターホールの軸心と、光情報記録層の有効情報記録領域との位置関係の精度に依存し、必ずしも歩留り良く、しかも充分高い精度をもって偏心量の低減化を図ることができない。
【０００４】
この偏芯量の規定は、この多層光ディスクに対する記録再生装置の駆動態様によって異なる。すなわち、記録再生装置においてディスクが、そのセンターホールを中心とする回転駆動によって、光ピックアップの照射光が、ディスクの周方向に沿って走査される態様が採られる場合は、偏芯量の規定は、ディスクのセンターホールの中心線からの偏芯が問題となる。
これに対して、光ディスク上に、チャッキングプレートが搭載される駆動態様が採られる場合は、各光情報記録層間の偏芯が問題となる。
【０００５】
ところで、通常の、多層光ディスク、例えば第１および第２の２層の光情報記録層が積層された光情報記録ディスクの製造方法としては、それぞれ例えば射出成形によってセンターホールが形成されると共に、その各一主面の情報部に、所要の凹凸、例えば記録ピットや、案内溝等のグルーブ等を構成する凹凸パターンが形成された第１および第２のディスク基板が用意される。
これらディスク基板の第１および第２の光情報記録層は、それぞれ凹凸パターンの形成面に、反射膜や、例えば相変化材料層等を蒸着、スパッタ、スピンコート等によって形成されることによって情報の記録層が構成される。
【０００６】
そして、第１の基板のセンターホールに、センターピンを挿入させることによって、この基板を所定位置に設定し、この基板の、第１の光情報記録層を有する主面上にスピンコートによって例えば紫外線硬化樹脂による中間層を塗布する。この状態で第２の基板を、その光情報記録層の形成面を中間層側として、第１の基板上に、第２の基板をそのセンターホールに、同様のセンターピンに挿入し、第２の基板を、第１の基板側、すなわち中間層側に押圧して、中間層によって第１および第２の両基板を接合一体化する。
このようにして、２層の光情報記録層が積層された光情報記録ディスクを作製する。
【０００７】
このような方法によって作製した、多層光ディスクは、第１および第２の両基板間の実質的偏芯量は、極めて大となる。
すなわち、この方法による場合、第１の光情報記録層を構成する基板における、そのセンターホールに対する第１の光情報記録層の信号部の偏芯量をα１　とし、第２の光情報記録層を構成する基板における、そのセンターホールに対する第２の光情報記録層の信号部の偏芯量をα２　とし、第１および第２の基板とこれらを保持するセンターピンの遊びすなわちクリアランスをそれぞれβ１　およびβ２　とするとき、上述したセンターピンを基準とする第１および第２のディスクの貼合わせによる製造方法によって得た多層光情報記録層ディスクにおける偏芯量は、上側の第２の基板における第２の光情報記録層の偏芯量は、最大α２　＋β１　＋β２　となる。したがって、いま、α１　およびα２　の偏芯量が４０μｍ、β１　およびβ２　の偏芯量が２０μｍであるとすると、上述した方法による場合、上層の第１の光情報記録層の偏芯量は、最大８０μｍにも及ぶ。
【０００８】
因みに、例えばＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ　Ｄｉｓｃ）の規格書によれば、２層ＤＶＤにおける偏芯量は、ピーク・トゥ・ピークで１００μｍと規定されている。このＤＶＤに比し、より高密度化が図られている例えば照射光が４０５ｎｍ、対物レンズの開口数Ｎ．Ａ．が０．８５による高密度のいわゆる次世代光ディスクにおいては、より小さい偏芯量の、ピーク・トゥ・ピークで７５μｍ以下の偏芯量が要求される。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２６０３０７号公報、段落番号（〔００７５〕〜〔００７７〕）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高密度記録による複数の光情報記録層が積層されてなる多層光ディスクにおいて、その各光情報記録層のそれぞれの偏芯量の改善、および複数の光情報記録層間相互の偏芯量の低減化を図る多層光ディスクの製造方法およびその製造装置を提供するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明による多層光ディスクの製造方法は、その少なくとも１層の光情報記録層が、その情報部にトラッキング案内溝、記録ピット等の凹凸パターンが形成される中間層を有する多層光ディスクを作製する多層光ディスクの製造方法である。
本発明製造方法は、少なくとも次の各製造工程を有する。すなわち、本発明製造方法においては、光情報記録層が積層されるディスク基板と、光情報記録層の情報部に凹凸パターンを転写形成するための転写凹凸パターンを有する転写基板とのいずれか一方の基板を、例えばセンターピン、あるいは仮想的基準軸による基準軸に対して偏芯調整してこの基準軸に対して位置設定する第１の位置設定工程を有する。
また、この第１の位置設定工程によって設定していない、他方の転写基板あるいはディスク基板を、前記基準軸に対して位置設定する第２の位置設定工程を有する。
【００１２】
更に、これら位置設定されたディスク基板と、転写基板とを、これら間に上述した凹凸パターンを形成する中間層を介在させて基準軸の軸心方向に沿って相対的に移行させ、転写凹凸パターンを中間層に押圧して、この中間層に転写凹凸パターンの転写による凹凸パターンを形成する押圧工程と、転写基板を中間層から剥離する剥離工程とを少なくとも有する。
【００１３】
この製造方法において、第１の位置設定工程で、予め測定したディスク基板の偏芯量と、転写基板の偏芯量とに基いて、両基板の偏芯量を勘案した位置設定を行うことにより、第１および第２の位置設定工程によって、両基板は、基準軸例えばセンターピンを介して、両者の偏芯量が補正されて相互の位置関係が設定されるものである。
したがって、ディスク基板上にすでに形成された光情報記録層と、その上に転写基板によって形成する光情報記録層との位置関係を、第２の位置設定における基準軸に対する転写基板あるいはディスク基板の設定における誤差ないしは最小限必要とするトーレランスのみによる最小限のずれにとどめることができる。
すなわち、冒頭に述べたβ２　に相当する偏芯量にとどめることができる。すなわち冒頭に述べたように、ディスク基板のセンターホールを基準とするとき、上層の情報部の偏芯量は、従来８０μｍに及ぶものが２０μｍとなる。
【００１４】
そして、本発明による多層光ディスクの製造装置は、上述した本発明製造方法を実施するための多層光ディスクの製造装置である。
この本発明装置においては、光情報記録層が積層されるディスク基板と、凹凸パターンを形成する転写凹凸パターンを有する転写基板とのいずれか一方の基板を、基準軸に対して偏芯調整してこの基準軸に対して位置設定する第１の位置設定手段と、ディスク基板と転写基板のうちのいずれか他方の基板を、基準軸に対して位置設定する第２の位置設定手段と、これら位置設定されたディスク基板と、転写基板とを、これら間に上述した凹凸パターンを形成する中間層を介在させて基準軸の軸心方向に沿って相対的に移行させ、転写凹凸パターンを中間層に押圧して、この中間層に転写凹凸パターンの転写による凹凸パターンを形成する押圧手段とを少なくとも有して成る。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明による多層光ディスクの製造方法および製造装置は、ディスク基板上に形成した光情報記録層上に、更に、光情報記録層を積層形成するものであるが、この上層の光情報記録層を構成する記録ピットや、例えばトラッキング案内溝等の凹凸パターンを、中間層に対する転写基板を押圧して、この転写基板の転写凹凸パターンを中間層に転写することによって形成するものであり、これら積層された多層光情報記録層の相互の偏芯量の補正を高い精度をもって行うことができるようにするものである。
【００１６】
本発明製造方法の一実施形態を説明する。
まず、その理解を容易にするために、本発明方法において、その偏芯量についての考慮を導入しない場合での、多層光ディスクの製造方法の基本的方法を、図１の多層光ディスクの一例の要部の概略断面図と図２および図３の工程図を参照して説明する。しかしながら、本発明は、その基本的方法においても、この例に限定されるものではない。
【００１７】
図１に示される多層光ディスクにおいては、第１および第２の光情報記録層１１および１２を有して成る。
この例では、ディスク基板１の一主面に第１の光情報記録層１１が形成されている。
この第１の情報記録層１１は、図２に示すように、ディスク基板１を例えば射出成形によって形成し、その成形時に、第１の情報記録層１１を構成する第１の凹凸パターン、例えばトラッキング用のグルーブや、情報ピットによる凹凸パターン２１がディスク基板１の成形と同時に成形される。
この凹凸パターンは、このような射出成形によらず、例えばディスク基板１上に、紫外線硬化樹脂層等を形成し、いわゆる２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ　法）　によって第１の情報記録層を構成する凹凸パターンを形成することもできる。
そして、この凹凸パターン上に反射膜や情報記録層の例えば相変化材料層等の第１の材料層３１が被着形成されて第１の情報記録層１１が形成される。
【００１８】
そして、この第１の情報記録層１１上に、第１の中間層５１を堆積する。
この第１の中間層５１の表面に、図３Ａに示すように、第２の情報記録層１２を構成するグルーブや、情報ピットによる第２の凹凸パターン２２を形成する。この第２の凹凸パターン２２の形成は、図２に示すように、第１の中間層５１に形成すべき凹凸パターン２２が反転した転写凹凸パターン２を有する転写基板３を、第１の中間層５１に対して押圧することによって形成する。
【００１９】
図３Ｂに示すように、第２の凹凸パターン２２上に、反射膜や光情報記録層の例えば相変化材料層等の第２の材料層３２が被着形成されて第２の情報記録層１２が形成される。
そして、この最上層の第２の光情報記録層１２上に、光透過性の保護層４を形成する。
【００２０】
上述した例では、第１および第２の光情報記録層１１および１２の２層による多層光ディスクであるが、２層以上の例えば図４にその一例の概略断面図を示すように、３層の光情報記録層１１〜１３が形成された多層光ディスクを構成する場合等に適用できる。この場合においては、図２および図３で説明した工程の後に、この第２の光情報記録層１２上に、更に第２の中間層５２が形成される。
そして、この第２の中間層２２に対して、第３の光情報記録層１３を構成する第３の凹凸パターンが反転した転写凹凸パターンを有する転写基板（図示せず）によって第２の中間層２２に対してその転写凹凸パターンを押圧することによって第３の光情報記録層を構成する凹凸パターン２３を形成し、これに反射膜や光情報記録層の例えば相変化材料層等の第３の材料層３３を形成することによって第３の光情報記録層１３を形成し、この上に、光透過性の保護層４を形成する。
【００２１】
本発明による多層光ディスクの製造方法で適用される方法の基本的方法では、上述したように、中間層に対する各情報記録層を構成する凹凸パターンの形成を、これら凹凸パターンの反転凹凸パターンによる転写凹凸パターンを有する転写基板、いわゆるスタンパの押圧によって形成する方法が適用される。
【００２２】
これら中間層５１および５２は、光透過性を有する材料層によって構成される。これら中間層５１および５２は、紫外線硬化樹脂の塗布、紫外線硬化フィルムの堆積、紫外線硬化粘着材の塗着等によってディスク基板１上に配置もしくは被着される。しかしながら、これら中間層は、これら中間層に対する押圧転写がなされる転写基板３の転写凹凸パターン２側に、配置して置くこともできる。
そして、転写基板の押圧工程の後に、中間層に対して例えば紫外線照射等による硬化処理を行う。
その後、転写基板を、各硬化処理後に、各中間層から剥離する。すなわち、中間層は、転写基板の転写凹凸パターンからの剥離性が、ディスク基板上に形成されている光情報記録層に対する剥離性に比して充分高い。
【００２３】
これら中間層５１、５２に対する硬化処理の紫外線照射は、ディスク基板１もしくは上述した各転写基板の例えば一方を、例えばプラスチックによる光透過性とし、これらディスク基板１もしくは転写基板を通じて行うことができる。
この場合、転写基板が光透過性を必要としない場合は、金属スタンパとすることができる。
【００２４】
また、この中間層５１および５２は、上述したように、押圧工程および硬化処理の後において、転写基板を中間層５１および５２から、容易に、かつ各中間層５１および５２の表面性を阻害することなく剥離することができるように、転写基板に対して剥離性に富む材料によって構成する。
【００２５】
このような剥離性を得る方法としては、上述した紫外線硬化性フィルムによる中間層５１、５２に対して接着性に劣る、すなわち剥離性を有する例えば環状ポリオレフィンによって転写基板を構成するとか、その転写凹凸パターン表面に形成する。あるいは中間層２１、２２を構成する上述した紫外線硬化性フィルムや紫外線硬化性粘着材との接着性を低下させる方法が採られる。具体的には、紫外線これらの分子量を高める、すなわち硬度を上げることによって接着性を下げるなどの方法を採ることができる。
しかしながら、この場合、第１および第２の中間層の、第１および第２の情報記録層に対する被着強度が低下するおそれがある場合においては、これら中間層を２層構造とし、下層側に、第１および第２の情報記録層に対して接着性の高い例えば紫外線硬化フィルムを配置し、転写基板との剥離性が良い紫外線硬化フィルムを配置する。
この場合、一方の紫外線フィルムのみを硬化した状態で貼り合わせることによって両者の接着力を高めることができる。
【００２６】
転写基板は、上述した環状ポリオレフィンに限られるものではなく、例えばポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、鎖状ポリオレフィン樹脂、変成アクリル樹脂等によって構成することができる。
【００２７】
また、保護層４は、紫外線硬化樹脂をディスク基板１の最上層に直接スピンコートし、紫外線照射によって形成することができる。
あるいはポリカーボネート（ＰＣ）樹脂等のプラスティックフィルムをディスク基板１の最上層に貼り付けることによって保護層４の形成を行うことができる。このプラスティックフィルムの貼り付け方法としては、紫外線硬化樹脂層を介して貼着し、この紫外線硬化樹脂層を紫外線照射によって硬化する方法、あるいはプラスティックフィルムを粘着剤を介して貼着する方法、または紫外線硬化フィルムを貼合わせ、これ自体紫外線照射によって硬化することによって保護層４とするなどの方法によることがある。
【００２８】
この多層光ディスクの、各情報記録層に対する記録再生は、図１、図４に、矢印Ｌをもって模式的に示すように、保護層４側からの光照射、例えば３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、例えば４０５ｎｍのレーザ光の照射を、各情報記録層に対して所要の集光がなされるように、対物レンズ（図示せず）の焦点位置の選定によって行う。
すなわち、保護層４および中間層２１、２２は、照射光Ｌに対し光透過性とされ、この光照射方向に関して最も深い位置にある第１の情報記録層１１以外の情報記録層１２、１３は、例えば所要の反射率および透過率を有する構成とし、例えば第１の情報記録１１は十分高い反射率を有する構成とすることができる。
【００２９】
ところで、実際の光ディスクの記録再生装置では、光ディスク上の記録情報を読み出す、すなわち再生するには、光ディスク上に渦巻状に記録された記録トラック上に沿って光ピックアップによる再生光を走査して、記録トラック上の記録情報を再生する。このとき、渦巻状に記録された情報は、隣合う信号間の距離が極めて小さく、およそ１μｍ以下であるため、隣り合う記録トラックは、ほぼ同心円とみなすことができる。光ピックアップのトラッキング性能等には、限界があることから、特に高密度記録による多層光ディスクにおいては、各情報記録層ごとの情報記録トラックは、上述した同心円からのずれ、すなわち、偏芯量ができるだけ小さいことが必要となる。
【００３０】
そこで、本発明製造方法においては、上述した各中間層に対して凹凸パターンを形成する転写基板の押圧工程における各転写基板とディスク基板との位置関係の設定において、両基板の偏芯量に基く、偏芯の調整を基準軸に対して行うことによって最終的に、上述したディスク基板１上に形成されている例えば第１の光情報記録層１１と、その後、転写基板によって転写形成される第２の光情報記録層１２以降とを、最小の偏芯量にとどめることができるようにする。
【００３１】
すなわち、本発明製造方法においては、例えば図２で説明したように、ディスク基板１上の中間層５１に対し、転写凹凸パターン２を有する転写基板３を押圧するに当たり、
ディスク基板１あるいは転写基板３のいずれか一方の基板を、基準軸に対して偏芯調整して位置設定する第１の位置設定工程を有し、更に、これら基板のうちの他方の基板を、同様の基準軸に対して位置設定する第２の位置設定工程がなされる。
【００３２】
このようにして位置設定を行って後に、ディスク基板１と、転写基板３とを、基準軸の軸心方向に沿って相対的に移行させて転写基板の転写凹凸パターンと中間層５１とを押圧して中間層５１に、光情報記録層の凹凸パターンを形成する。その後、例えば中間層５１の硬化処理を行い、転写基板を中間層５１から剥離する剥離工程がなされる。
【００３３】
このようにして凹凸パターンが転写形成された中間層５１上に、図３Ａで説明した反射膜や相変化材料膜等の第２の材料層１２を形成して第２の光情報記録層を形成する。
【００３４】
次に、このようにして、ディスク基板上に形成された第２の光情報記録層上に、更に第２の中間層５２を形成し、上述したと同様の作業を繰り返すことによって、図４で示したような、３層以上の光情報記録層を形成することができる。
【００３５】
このような中間層に対する凹凸パターンの転写形成における上述したディスク基板１や転写基板３の位置設定は、後述するように撮像素子による観察によって行うことができる。この観察は、例えばディスク基板１において、その情報記録層の凹凸パターンの形成部、すなわち情報部自体の外周縁を位置検出部、すなわち偏芯調整用の観察マーカとして用いるとか、情報部を形成する転写基板３における情報転写凹凸パターンの外周縁を、位置検出の観察マーカとして用いることができる。しかしながら、より明確な観察を行うことができるように、例えばディスク基板１や、転写基板３において各凹凸パターンや、転写凹凸パターンの形成と同時にこれらパターンの形成部外の外周もしくは内周に、例えば円形状もしくは円弧状に凹部、もしくは凸部によるマーカを形成することができる。
更に、その観察において、可視光における回折効率を高める構造とするなど、凹凸や溝の、高さや間隔を選定してマーカ機能を高めることができる。
【００３６】
また、転写作業が、繰り返し行われて例えば３層以上の情報記録層を形成する場合、層間の距離が近接し、更に情報部の境界縁が各層で近くなる場合、この境界縁をマークとして撮像素子によって観察するに際し、層間の干渉や、観察時の焦点深度により、この境界縁が鮮明に観察できなくなるおそれが生じる。この場合は、マーカの配置位置をずらすことによって、各層のマーカを容易に分離して観察することができる。
【００３７】
次に、上述した本発明方法を実施することのできる、本発明による多層光ディスクの製造装置の一実施形態の一例を、その概略構成を断面として示した図５を参照して説明する。
図５の例では、基準軸として、断面正円の固定されたセンターピン６０が設けられた場合である。
また、この例では、このセンターピン６０に対して、図２で説明した中間層５１が堆積されたディスク基板１を、偏芯調整して設定する第１の位置設定手段６１を設けた。
【００３８】
この第１の位置設定手段６１は、センターピン６０の軸心方向と直交する面内で、互いに直交するｘおよびｙ方向に移動可能とされた可動調整機構としての可動ステージ６２と、ディスク基板１を載置保持する基板載置台６３とを有して成る。
可動ステージすなわち可動調整機構６２は、センターピン６０が植立された基台８０の基台面８０ｓに対して多層光ディスクｘ，ｙの各一方向に移動可能とされた第１および第２の各一方向可動ステージ６２ｘおよび６２ｙによって構成される。すなわち、これら第１および第２の可動ステージ６２ｘおよび６２ｙは、それぞれにセンターピン６０が貫通され、このセンターピン６０の外径より所要の裕度を有するようにその径が大とされた内径のセンターホール６４ｙおよび６４ｘを有し、それぞれ上述したｘ方向とｙ方向の各一方向に微小移動できる構成とされる。このようにして、可動ステージ６２が全体として、ｘおよびｙ方向に移動可能に構成される。
【００３９】
そして、この可動ステージ６３上に、基板載置台６３が可動ステージ６３と一体にｘおよびｙ方向に移動するように、固定載置される。
すなわち、基板載置台６３においても、センターピン６０に対して所要の裕度を有する内径のセンターホール６５を有し、このセンターホール６５内に、センターピン６０を貫通させて、可動ステージ６２上に載置固定されて可動ステージ６２のｘおよびｙ方向の移動に応じてこれと一体に移動するようになされる。
【００４０】
この基板載置台６３は、その上面が、センターピン６０の軸心方向と直交する基板載置面とされ、この面に開口して多数の吸気孔を有する。これら吸気孔は、排気手段６９すなわち真空ポンプに連結されて吸気がなされ、この上に載置するディスク基板１を吸着保持するようになされる。このようにして、ディスク基板１は、可動ステージと一体に、ｘおよびｙ方向に可動するようになされる。
【００４１】
一方、転写基板３を保持する第２の位置設定手段６２が設けられる。この第２の位置設定手段６２は、センターピン６０をもって構成することができる。
この場合、転写基板３には、センターピン６０の外径に対応するクリアランス程度の内径を有するセンターホール６６が穿設される。センターピン６０は、例えばその先端部に、先端に向かって小径とされテーパ部を形成することができる。
【００４２】
転写基板３は、図５で示されるように、その転写凹凸パターン２が、基板載置台６３上に載置したディスク基板１に対向するように、センターホール６６内に、センターピン６０の先端テーパ部を挿入したセンターピン６０上に設置する。このとき、転写基板３は、センターピン６０のテーパ部の基部で、停止し、これより下方に自重によって落下することがないように、センターピン６０の外径と、転写基板３のセンターホール６６の内径の選定がなされる。しかしながら、このとき、センターピン６０の外径と、転写基板３のセンターホール６６の内径との関係は、転写基板３を強制的に、基板載置台６３上に載置したディスク基板１に向かって押圧するとき、センターピン６０に沿って転写基板３が移動させて転写凹凸パターンを、ディスク基板１上の中間層例えば第１の中間層５１に向かって押圧して、この転写凹凸パターン２を中間層５１に凹凸パターンとして転写することができるようになされる。
【００４３】
また、転写基板３の押圧を行う押圧手段６７が設けられる。この押圧手段６７は、例えばゴムパッドによる弾性の押圧体６７Ｐを有し、この押圧体６７Ｐが、例えばセンターピン６０の軸心方向に移動押圧することができる構成とされる。そして、ディスク基板１と転写基板３が所定の位置関係に設定された状態で、基台８０を、押圧手段６７の押圧体６７Ｐ下に移動させ、この押圧体６７Ｐによって、転写基板３を、ディスク基板１に向かって降下し、転写基板３を強制的にディスク基板１に向かって押圧するようになされている。
この場合、弾性パッドの中心部には、センターピン６２を逃がす凹部もしくは透孔６８が形成され、センターピン６２が、この凹部もしくは透孔６８内に入り込むようになされて、その押下が阻害されないようになされる。
【００４４】
また、基板載置台６３上に設置されたディスク基板１の情報外周縁を観察する第１の撮像素子７１と、センターピン６０を観察する第２の撮像素子７２とを、例えばそれぞれ転写基板３の背部上方に設ける。
また、第１および第２の撮像素子７１および７２は、例えば図６ＡおよびＢにこれらの視野領域を７１Ａおよび７２Ａとして、その平面的配置を模式的に示すように、第１の撮像素子７１は、同一円上に２個以上配置することができる。
これら撮像素子７１および７２は、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｄｅｖｉｃｅ）カメラ、一次元ラインセンサ、位置検出ダイオードなど位置信号を検出することのできる撮像素子によって構成することができる。そして、その光学的前方、すなわち撮像素子と、被撮像部との間に、適宜拡大鏡、顕微鏡、拡大レンズ等の光学系を配置することができる。
【００４５】
そして、この装置は、図５にその駆動制御系の概略ブロック図を付加して示すように、例えばタッチパネル等の操作部からの信号を入出力系１００に導入し、これよりの信号によって制御系１０１に入力し、この制御系１０１からの制御信号によって排気手段６９の駆動、可動ステージの駆動をそれぞれ行う駆動系１０２および１０３を制御する。一方、撮像素子７１および７２の信号検出系１０４を制御して、その駆動および撮像素子７１および７２の駆動を行う。
撮像素子７１および７２にからの出力は、信号検出系１０４に導入されて信号処理がなされ、制御系１０１に導入され、入出力系１００から検出出力信号の導出を行うと共に、駆動系１０２および１０３の調整制御等がなされる。
【００４６】
このような、本発明装置を用いて、転写基板３と、これによって光情報記録層を構成するディスク基板１との位置関係の設定を、最小の偏芯量をもって行うこのできる本発明による多層光ディスクの製造方法を実現することができる。
【００４７】
次に、この本発明方法と本発明装置の実施例を説明する。
〔実施例１〕
この例では、第１の光情報記録層１１を有するディスク基板１に、第１の中間層５１を形成し、これに凹凸パターンを形成して第２の光情報記録層１２を形成する２層構造の多層光ディスクを作製する場合である。
【００４８】
そして、上述の本発明装置において、第１および第２の撮像素子７１および７２は、ＣＣＤカメラを用い、これに望遠用の倍率１．５倍のマクロレンズを取り付けた。ＣＣＤカメラの位置関係は、後述するように、これらを設置する際、センターピンの位置を基準点（基準軸）として、これらＣＣＤカメラの位置関係が常に一定となるように構成した。
この例では、ＣＣＤカメラの視野が、基準点から同心円上に範囲に存在し、更に、撮像素子７１のＣＣＤカメラの視野が、ディスク基板上の情報部の外周縁を偏芯調整用の観察マーカとしてこれを観察できるような位置に設置したが、これの実現には、例えば距離が、所定の基準点から一定になるような、同心円状構造が配置されている円盤状原器を用意し、これを観察しながらＣＣＤ位置を微調整し、ＣＣＤカメラの装置への取り付けに当たり、事前調整した。
このようにして、偏芯調整用の観察マーカの観察により、ＣＣＤカメラが設置してある部位、すなわち基準点からの観察マーカの部位のずれ、すなわち偏芯量が分かる。これにより、センターホール５の偏芯量、したがって、ディスク基板を設置した際の基板偏芯量が分かる。
【００４９】
ディスク基板１は、内径１５ｍｍのセンターホール５を有し、外径１２０ｍｍの円盤状に、ポリカーボネート樹脂の射出成形基板によって構成した。このディスク基板１には、その成形時に第１の光情報記録層１１の情報部を構成する凹凸パターン２１として、０．４μｍ程度のピッチで、高さ（深さ）３０ｎｍ程度のグルーブをディスク基板１の成形と同時に形成し、更にこれと同時に、ディスク基板１の外周部の直径１１６ｍｍから直径１１８ｍｍまでの領域に、偏芯調整用のマーカーを同心円状に形成した。
そして、この凹凸パターン２１上に、２００ｎｍ以下の厚さで相変化記録材料を積層して第１の光情報記録層１１を形成した。
この上に、中間層５１として厚さ２５μｍの紫外線硬化型粘着材を貼り合わせた。
【００５０】
転写基板３は、内径１５ｍｍのセンターホール６６を有し、外径１２８ｍｍの円盤状の光学的に透明な環状ポリオレフィン基板によって構成した。これに転写凹凸パターン２として、基板の情報部を構成する領域に０．４μｍ程度のピッチで、高さ３０ｎｍ程度のグルーブを形成した。
【００５１】
まず、図８にその作業フロー図を示すように、予め、ディスク基板１および転写基板３に関してそれぞれの偏芯量を測定しておく（作業Ａ）。
これらディスク基板１および転写基板３の偏芯量の測定は、例えば回転と、この回転面に沿う互いに直交するｘおよびｙ方向に移動可能とされた測定用の可動ステージが用意され、この測定用可動ステージの軸心上に、偏芯量の測定を行う例えばディスク基板１を同心的に配置し、その上方に配置した顕微鏡による観察によって行う。
【００５２】
この場合、まず、この測定用可動ステージ上のディスク基板１のセンターホール５を、観察できる位置に顕微鏡を配置し、測定用可動ステージを回転させてセンターホール５の観察を行う。
次に、この観察位置に顕微鏡を設定した状態で、測定用可動ステージを、ディスク基板１の半径方向に移動して、その外周部の偏芯調整用のマーカーを、顕微鏡で観察できる位置に持ち来たし、測定用可動ステージを回転し、このマーカーを観察して、そのセンターホール５に対するぶれを観察することによって情報部の偏芯量を測定する。
同様の方法によって、転写基板についても、そのセンターホール６６と、転写凹凸パターンによるディスク基板１の情報部を形成する情報形成部との偏芯量を測定する。
【００５３】
次に、上述した本発明による多層光ディスクの製造装置において、先ず、第１および第２の撮像素子７１および７２の位置基準としてのセンターピン６０の所定のゼロ点（原点）からのずれを観察測定する。この測定は、第２の撮像素子７２によってセンターピン６０を観察することにより、センターピンの中心位置から同心円状に配置された撮像素子７１および７２の群のずれ量が分かる。このずれ量と、後述するような画像素子上で観察される基板上の凹凸パターンのずれ位置により偏芯観察を行う（作業Ｂ）。
【００５４】
次に、可動ステージ６２の基板載置台６３上に、上述したディスク基板１を、そのセンターホール５内に、センターピン６０を貫通させて配置し、ディスク基板１を基板載置台６３に吸引保持する。すなわち、ディスク基板１を可動ステージ６２に機械的に固定する（作業Ｃ）。
【００５５】
この状態で、２個の第１の撮像素子７１により、ディスク基板１に形成されている偏芯調整用の観察マーカーを観察する。すなわち、ディスク基板１の凹凸パターンによる情報部の、センターピン６０に対する偏芯量を測定する（作業Ｄ）。
そして、この観察に対して、先に観察した原点からのずれのデータによって、ディスク基板１における凹凸パターンによる情報部のセンターピン６０に対するずれの量を知ることができる。
更に、先の偏芯量の測定によりディスク１のセンターホールの位置も推定できる。
【００５６】
これらのデータと、更に、予め測定した転写基板３における同様の偏芯量のデータとに基き、基準軸とするセンターピン６０に転写基板３を設置したとき、この転写基板３と、ディスク基板１との各情報部の偏芯量が補正されて相互の位置関係、すなわちディスク基板１の第１の光情報記録層の情報部の中心と、転写基板３の、第２の光情報記録層の情報部を形成する転写凹凸パターンの形成による情報部の中心とが一致して設定されるように、第２の撮像素子７２によってセンターピン６０を観察し、これに対するディスク基板１の情報部の位置を、この例では２個の第１の撮像素子７１によって観察して、可動ステージの移動によって調整する（作業Ｅ）。
【００５７】
次に、転写基板３を、その転写凹凸パターン２を有する側を、可動ステージ６２側に向けてセンターピン６０、この例では先端のテーパ部を、転写基板３のセンターピン６６に挿入させることによって、センターピン６０上に転写基板３を保持する（作業Ｆ）。この転写基板３の回転方向位置は、常に一定に固定して置く。
【００５８】
その後、押圧手段６７のパッドを、転写基板３上に持ち来たし、降下させ、転写基板３をセンターピン６０に沿って押し下げ、その転写凹凸パターン２を、基板１上の中間層５１に押圧して、中間層５１に、転写凹凸パターン２が転写されて形成された例えば図３Ａで示した凹凸パターン２２を形成する（作業Ｇ）。
【００５９】
本発明装置は、基板を装置に設置した後の偏芯量検査に、基板上に存在する偏芯調整用信号部を観察したが、もちろんセンターホールを直接観察することによっても、基準位置であるセンターピンからのセンターホールのずれ量を観察することができる。この方法は、本発明の実施例のすべての場合にも成り立つ。
【００６０】
このようにして、ディスク基板１に対して、転写基板３が押圧された状態で、ディスク基板１を装置から取り外し、例えば光透過性の転写基板３側から紫外線照射を２０秒間行って中間層５１を硬化した（作業Ｈ）。このように、転写基板３が押圧された状態で、中間層５１の紫外線硬化型粘着材が硬化されたことにより、例えば図３Ａで示した第２の光情報記録層１２を構成する凹凸パターン２２を形成することができる。
【００６１】
その後、転写基板２を、中間層５１から剥離した（作業Ｉ）。この剥離は、転写基板を構成する材料が、硬化後の中間層の構成材料との剥離性に富んでいることか、例えば人の手によっても容易に剥離することができる。
【００６２】
このようにして第１の光情報記録層の情報部と、この上に形成された中間層５１の、転写基板３による転写によって形成された凹凸パターン２２による第２の光情報記録層を構成する情報部との２層の情報部の偏芯量を顕微鏡によって観察した。
【００６３】
その後、凹凸パターン２２が形成された中間層５１上に、相変化記録層による第２の材料層３２を成膜して第２の光情報記録層１２を形成し、その上に粘着材を用いてポリカーボネート（ＰＣ）樹脂シートを貼合わせて、図１に示す２層の光情報記録ディスクを作製した。
【００６４】
この実施例１における前述した第１および第２の光情報記録層１１および１２の情報部のセンターホールに対する偏芯量の測定結果（Ｐ−Ｐ：ピーク・トゥ・ピーク値）を表１に示す。
【００６５】
【表１】
2004145983.tif 000003
【００６６】
また、上述した実施例１においては、可動ステージ上の基板載置台６３上に、基板１を配置した場合であるが、可動ステージ上の基板載置台６３上に、転写基板３を配置する方法によることもできる。
この場合の実施例を説明する。
〔実施例２〕
この実施例においても、実施例１と同様の作業Ａおよび作業Ｂを行う。
その後、この例では、作業Ｃで、載置台６３に、転写基板３を、その転写凹凸パターン２側を、載置台６３とは反対側にして吸引設置する。
【００６７】
そして、実施例１における作業Ｄと同様の作業を、転写基板３について行う。すなわちこの転写基板３に形成されているマーカーを観察し、センターピン６０にディスク１が設置されたときにおいて、センターピン６０を介して、両基板３および１の各情報部の中心が一致するように、可動ステージ６２を動作させる作業Ｅを行った。
【００６８】
次に、ディスク基板１を、その第１の光情報記録層１１と中間層５１を有する側を転写基板３の配置側に向けてセンターピン６０の上端に保持した。
この方法による場合、ディスク基板１のセンターホール５に対する転写基板３の偏芯量は、ディスク基板１を保持するセンターピン６０とディスク基板１のセンターホール５とはクリアランス程度に抑える。
【００６９】
その後、ディスク基板１を押圧手段６７の弾性パッドを基板１の背面より押圧してディスク基板１を、中間層５１の紫外線硬化型粘着材に押し当てて、中間層５１に転写基板３の転写凹凸パターン２を転写して凹凸パターン２２を転写形成する。
その後は、実施例１と同様に硬化処理を行い、実施例１と同様の方法によって第２の光情報記録層１２を形成した。
この場合の同様の第１および第２の光情報記録層１１および１２の偏芯量の測定結果を、表２に示す。
【００７０】
【表２】
2004145983.tif 000004
【００７１】
上述した実施例においては、外周部の同一円上に、２個の第１の撮像素子７１を配置した場合であるが、可動ステージ６２を、回転できる構造とすることによって第１の撮像素子７１を１個とすることができる。
この場合の一実施例を説明する。
【００７２】
〔実施例３〕
この実施例に用いる本発明装置は、その概略断面図を図７に示すように、可動ステージ６２に回転可能の機能を有するようにするために、回転ステージ６２Ｒを設け、この上に、これに対して上述したｘ，ｙの各一方向に可動な可動ステージ６２ｘおよび６２ｙを設けた構造とすることができる。図７において、図６と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
【００７３】
この実施例においても、実施例１および２と同様の方法によることができるが、この例においては、実施例１および２における可動ステージ上のディスク基板１あるいは転写基板３における情報部の偏芯量の観察において、可動ステージ６２が回転することのできる構造としたことによって、第１の撮像素子は、１つの撮像素子７１によってその偏芯量の測定ができる。すなわちその偏芯量に応じて、撮像素子の出力が変化する。これによって偏芯量を観察することができるものである。
【００７４】
この場合の、同様の第１および第２の光情報記録層１１および１２の偏芯量の測定結果を、表３に示す。
【００７５】
【表３】
2004145983.tif 000005
【００７６】
表１〜３から分かるように、本発明によれば、２層の多層光ディスクにおいて、第２の光情報記録層における情報部の偏芯量を、センターピンに対する転写基板３あるいはディスク基板とクリアランス程度の小さい偏芯量にとどめることができることから、２層間の偏芯量を、ピ−ク・トゥ・ピークで前述した目的の７５μｍ以下とすることができることが分かる。
【００７７】
上述した各例では、偏芯調整用の観察マーカとして、ディスク基板１の情報部の外周縁を用いた場合であるが、図６Ｂに示すように、内周縁を用いることもできる。
【００７８】
また、上述した各例では、固定のセンターピン６０を基準軸とした場合であるが、基準軸は、このように機械的に実存する基準軸に限られるものではなく、例えばセンターピンに変えて、ディスク基板１および転写基板に穿設したセンターホール内において外側に例えば弾性的に広がってこれらディスク基板１および転写基板３をセンターホールで保持することができるようにされた治具によって、あるいは各ディスク基板１および転写基板３を、それぞれその周面から押圧保持できるようになされたする治具によって、所定の基準軸、いわば仮想軸に対して位置設定がなされる構成とすることもできる。
【００７９】
また、上述した各例では、センターピン６０が固定された構成とした場合であるが、例えば図８に示すように、センターピン６０を可動ステージに植立させ、基板載置台６３を固定にすることもできる。この場合においても、センターピン６０と、載置台上６３に配置するディスク基板１あるいは転写基板３との相対的移動により、上述した各実施例と同様の効果を奏することができる。
尚、図８において、図５と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
【００８０】
また、ディスク基板１もしくは転写基板３の基板載置台６３への設置および／または保持は、下記構成により行うこともできる。例えば図１０に、概略断面図を示すように、保持機構として、弾性を有するキャップ９０によって保持する構成とすることができる。このキャップ９０は、センターピン６０の外径より大なる内径の貫通孔９１を中心に有し、基板載置台６３上に載置されるディスク基板１もしくは転写基板３のセンターホールと基板載置台６３のセンターホールとに差し渡ってそれぞれの内径に対応する外径を有する断面凹字状に形成される。そして、このキャップ９０を、基板載置台５３上に載置されるディスク基板１もしくは転写基板３のセンターホールと基板載置台５３のセンターホールとに差し渡って嵌め込むことによって、基板載置台６３上に載置されるディスク基板１もしくは転写基板３を設置および／または保持する。
キャップ９０の高さは、図１０に示すように、基板上面より低い位置としている。しかし、キャップ９０の高さは、一方の基板を保持して後、他方の基板と接触しない限りにおいては、その高さを問わない。
【００８１】
図１１ＡおよびＢは、キャップ９０の他の例の断面図を示し、これらにおいては、その外周形状を、基部側に向かって基板載置台６３上に載置されるディスク基板１もしくは転写基板３のセンターホールと基板載置台６３のセンターホールとに差し渡って嵌め込まれる外周面を、円錐状テーパとした場合である。このように、外周面形状を円錐状テーパとすることにより、ディスク基板１もしくは転写基板３のセンターホールと基板載置台６３のセンターホールの内径が変動した場合においても同一のキャップ９０によって、各センターホール内に圧入することによって、ディスク基板１もしくは転写基板３の設置保持を確実に行うことができる。
そして、図１１Ａの例では、基板１もしくは転写基板３のセンターホールと基板載置台６３のセンターホールとに差し渡って連続する円錐状テーパ面とした場合であり、図１１Ｂは、各センターホールについてそれぞれ異なる円錐状テーパ面を形成した場合である。
【００８２】
図１２は、ディスク基板１もしくは転写基板３の基板載置台６３への保持機構の他の一例の概略断面図を示すものであり、この例では、図１３にその概略平面図を示すように、基板１もしくは３の周面に衝合する位置に、複数例えば３個のの保持突起９２を、基板載置台６３の中心軸に対して等間隔に設けた構成とすることができる。
【００８３】
この構成では、３個の保持突起９２を、円状に設置した構成としたが、保持突起９２の個数は３個以上設けることもできるし、保持突起９２自体が円状のリングとすることもできる。また、この例では、保持突起９２の形状を、正方形とした場合であるが、基板１（または３）と接触して保持を行う種々の形状に選定することができる。
【００８４】
本発明によれば、第１および第２の光情報記録層のセンターホールからの偏芯の低減と共に、転写基板とディスク基板とを回転位置を設定した状態で押圧するときは、各光情報記録層の実際の記録がなされる情報部相互の偏芯も低減することができる。
【００８５】
尚、上述した実施例では、２層構造の多層光ディスクについて説明したが、作業Ｂ〜Ｉを繰り返す事で、３層以上の多層光ディスクを構成することができる。また、上述した実施例では、各情報記録層が、相変化型のＲＡＭ型構成とした場合であるが、他の記録層材料を用いたＲＡＭ型、ＲＯＭ型、Ｒ型構成とすることもできるなど種々の構成による多層光ディスクとすることができる。
【００８６】
【発明の効果】
上述したように、本発明による多層光ディスクの製造方法および製造装置によれば、ディスク基板のセンターホールに対する上層の偏芯量の低減化を図ることができるが、更に、転写基板とディスク基板の回転方向の規定によって、光情報記録層相互の情報部間の偏芯についてもその改善が図られる。
したがって、記録再生装置が、ディスクのセンターホールを中心とする回転駆動による場合でも、チャッキングプレートが搭載される駆動態様が採られる場合のいずれにおいても偏芯によるトラッキングエラーを改善でき、高密度のいわゆる次世代多層光ディスクにおいても確実に記録再生を行うことができる多層光ディスクを提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明製造方法および装置によって得る多層光ディスクの一例の要部の概略断面図である。
【図２】本発明製造方法の一例の一工程における概略断面図である。
【図３】ＡおよびＢは、それぞれ本発明製造方法の一例の一工程における概略断面図である。
【図４】本発明製造方法および装置によって得る多層光ディスクの他の一例の要部の概略断面図である。
【図５】本発明装置の一例の概略断面図である。
【図６】ＡおよびＢは、それぞれ本発明装置の撮像素子の配置を示す平面図である。
【図７】本発明装置の他の例の概略断面図である。
【図８】本発明装置の更に他の例の概略断面図である。
【図９】本発明製造方法のフロー図である。
【図１０】本発明装置の基板載置台に対する基板の保持部の一例を示す断面図である。
【図１１】ＡおよびＢは、それぞれ本発明装置の基板載置台に対する基板の保持機構を構成するキャップの例を示す断面図である。
【図１２】本発明装置の基板載置台に対する基板の保持機構の一例を示す断面図である。
【図１３】図１２に示した基板の保持機構の平面図である。
【符号の説明】
１・・・ディスク基板、２・・・転写凹凸パターン、３・・・転写基板、４・・・保護層、５・・・センターホール、１１〜１３・・・第１〜第３・・・光情報記録層、２１，２２・・・第１，第２の凹凸パターン、３１〜３３・・・第１〜第３の材料層、５１，５２・・・第１，第２の中間層、６０・・・センターピン、６１・・・第１の位置設定手段、６２・・・可動ステージ、６２ｘ，６２ｙ・・・第１および第２の一方向可動ステージ、６３・・・基板載置台、６４ｘ，６４ｙ，６５，６６・・・センターホール、６７・・・押圧手段、６８・・・凹部もしくは透孔、６９・・・排気手段、７１，７２・・・第１および第２の撮像素子、８０・・・基台、８０ｓ・・・基台面、９０・・・キャップ、９１・・・貫通孔、９２・・・基板保持の突起
【図１】
2004145983.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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