(57)【要約】【課題】ＭＴＪセルと連結層を同時にパターニングすることにより工程を単純化させ、感光膜パターンに代えて絶縁膜スペーサ及びハードマスク層をマスクにエッチング工程を行って金属性ポリマー等の発生を防ぎ、素子の特性及び信頼性を向上させること。【解決手段】ＭＴＪセルマスクを利用した写真エッチング工程でハードマスク層及び自由磁化層をエッチングして前記トンネル障壁層を露出させる段階、絶縁膜を異方性エッチングして前記ハードマスク層及び自由磁化層の側壁に絶縁膜スペーサを形成する段階、及び前記絶縁膜スペーサ及びハードマスク層をマスクに前記トンネル障壁層、固定磁化層及び連結層用金属層をエッチングし、ＭＴＪセル及び連結層を形成する段階を含むことを特徴とする。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部絶縁層を介して半導体基板に接続される連結層用金属層を形成する段階、前記連結層用金属層上に固定磁化層、トンネル障壁層及び自由磁化層を積層する段階、
自由磁化層の上部にハードマスク層を形成する段階、
ＭＴＪセルマスクを利用した写真エッチング工程で前記ハードマスク層及び自由磁化層をエッチングして前記トンネル障壁層を露出させる段階、
全体表面の上部に障壁層及び絶縁膜を順次形成する段階、
前記絶縁膜を異方性エッチングして前記ハードマスク層及び自由磁化層の側壁に絶縁膜スペーサを形成する段階、及び
前記絶縁膜スペーサ及びハードマスク層をマスクで前記トンネル障壁層、固定磁化層及び連結層用金属層をエッチングしてＭＴＪセル及び連結層を形成する段階を含むことを特徴とするマグネチックラムの形成方法。
【請求項２】
前記障壁層はＴｉＮ、ＴｉＯＮ又はＴａで形成することを特徴とする請求項１に記載のマグネチックラムの形成方法。
【請求項３】
前記絶縁膜は、酸化膜又は窒化膜であることを特徴とする請求項１に記載のマグネチックラムの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マグネチックラム（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ＲＡＭ；以下、「ＭＲＡＭ」と記す）の形成方法に関し、特に、ＭＴＪセルと連結層を同時にパターニングすることにより工程を単純化させ、感光膜に代えて絶縁膜スペーサ及びハードマスク層をマスクにエッチング工程を行って金属性ポリマー等の発生を防止し、素子の特性及び信頼性を向上させることができるようにするマグネチックラムの形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
大部分の半導体メモリ製造会社等は、次世代記憶素子の１つに強磁性体物質を利用するＭＲＡＭの開発を進めている。
【０００３】
前記ＭＲＡＭは、強磁性薄膜を多層に形成して各薄膜の磁化方向に伴う電流変化を感知することにより情報をリード及びライトすることができる記憶素子であり、磁性薄膜固有の特性により高速、低電力及び高集積化を可能にするだけでなく、フラッシュメモリのように非揮発性メモリ動作が可能な素子である。
【０００４】
前記ＭＲＡＭは、スピンが電子の伝達現象に多大な影響を及ぼすため発生する巨大磁気抵抗（Ｇｉａｎｔ  Ｍａｇｎｅｔｏ−Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ、ＧＭＲ）現象や、スピン偏極磁気透過現象を利用してメモリ素子を具現する方法がある。
【０００５】
前記巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）現象を利用したＭＲＡＭは、非磁性層を挟んだ２つの磁性層のスピン方向が同じ場合より、異なる場合の抵抗が大きく異なる現象を利用してＧＭＲ磁気メモリ素子を具現するものである。
【０００６】
前記スピン偏極磁気透過現象を利用したＭＲＡＭは、絶縁層を挟んだ２つの磁性層でスピン方向の同じ場合が、異なる場合より電流透過が遥かによく発生するという現象を利用して磁気透過接合メモリ素子を具現するものである。
【０００７】
前記ＭＲＡＭは、１つのトランジスタと１つのＭＴＪセルで形成する。
【０００８】
図５〜図１１は、従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【０００９】
図５に示されているように、半導体基板（図示省略）上部に下部絶縁層１１を形成する。下部絶縁層１１は、半導体基板に素子分離膜（図示省略）、リードライン（ｒｅａｄ  ｌｉｎｅ）の第１のワードラインとソース／ドレインを備えたトランジスタ（図示省略）、グラウンドライン（図示省略）及び導電層（図示省略）ライトライン（ｗｒｉｔｅ  ｌｉｎｅ）の第２のワードライン（図示省略）を形成し、全体表面の上部を平坦化する絶縁膜で形成したものである。
【００１０】
次に、前記導電層に接続される連結層用金属層１３を形成する。連結層用金属層１３は、好ましくはＷ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｉｒ、Ｒｕ等のように通常の半導体素子に用いられる金属で形成する。
【００１１】
その次に、連結層用金属層１３の上部にＭＴＪ物質層１２を蒸着する。ＭＴＪ物質層１２は固定磁化層（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｐｉｎｎｅｄ  ｌａｙｅｒｓ）１５、トンネル障壁層（ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ  ｂａｒｒｉｅｒ  ｌａｙｅｒｓ）１７及び自由磁化層（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｆｒｅｅ  ｌａｙｅｒｓ）１９を順次積層して形成する。固定磁化層１５及び自由磁化層１９はＣＯ、Ｆｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅ、ＰｔＭｎ、ＩｒＭｎ等のような磁性物質で形成するのが好ましい。
次に、ＭＴＪ物質層１２の上部に第１のハードマスク層２１を形成する。
【００１２】
図６に示されているように、第１のハードマスク層２１の上部にＭＴＪセルマスク（図示省略）を利用した露光及び現像工程で第１の感光膜パターン２３を形成する。
【００１３】
図７に示されているように、第１の感光膜パターン２３をマスクに前記第１のハードマスク層２１と自由磁化層１９をエッチングする。前記エッチング工程で、自由磁化層１９と第１のハードマスク層２１の側壁にポリマー２５が付着することになる。
【００１４】
図８及び図９に示されているように、第１の感光膜パターン２３を除去して全体表面上部に第２のハードマスク層２７を形成する。
【００１５】
図１０及び図１１に示されているように、第２のハードマスク層２７の上部に連結層マスク（図示省略）を利用した露光及び現像工程で第２の感光膜パターン２９を形成した後、第２の感光膜パターン２９をマスクにトンネル障壁層１７、固定磁化層１５及び連結層用金属層１３をパターニングして連結層用金属層１３パターン及びＭＴＪセルを形成する。
【００１６】
図１１及び図１２に示されているように、前記パターニング工程では固定磁化層１５と連結層用金属層１３、すなわち、異種物質を同時にエッチングするので磁性物質のエッチング時に非揮発性反応生成物３１が発生し、第２の感光膜パターン２９の上部及び被エッチング対象層等の上部に積層されることによりエッチングを困難にし、第１のハードマスク層２１、第２のハードマスク層２７及び下部絶縁層１１の上部及び側壁に金属性ポリマー３３が積層されることになり、洗浄工程で反応生成物３３を完全に除去する場合はＡのようなアンダーカットが発生することになる。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
このようなエッチング工程で発生する金属性ポリマー３３のような副産物は、素子の電気的特定及び信頼性を低下させるという問題点がある。さらに、連結層用金属層１３のアンダーカットは微細化した素子において金属層が剥離され、素子の収率及び生産性を低下させるという問題点がある。
【００１８】
本発明は、前記の従来の技術の問題点を解決するためになされたもので、ＭＴＪセルと連結層を同時にパターニングすることにより工程を単純化させ、感光膜に代えて絶縁膜スペーサ及びハードマスク層をマスクにエッチング工程を行って金属性ポリマー等の発生を防止し、素子の特性及び信頼性を向上させることにその目的がある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため請求項１に係る発明は、
下部絶縁層を介して半導体基板に接続される連結層用金属層を形成する段階、前記連結層用金属層上に固定磁化層、トンネル障壁層及び自由磁化層を積層する段階、
自由磁化層の上部にハードマスク層を形成する段階、
ＭＴＪセルマスクを利用した写真エッチング工程で前記ハードマスク層及び自由磁化層をエッチングして前記トンネル障壁層を露出させる段階、
全体表面の上部に障壁層及び絶縁膜を順次形成する段階、
前記絶縁膜を異方性エッチングして前記ハードマスク層及び自由磁化層の側壁に絶縁膜スペーサを形成する段階、及び
前記絶縁膜スペーサ及びハードマスク層をマスクで前記トンネル障壁層、固定磁化層及び連結層用金属層をエッチングしてＭＴＪセル及び連結層を形成する段階を含むことを特徴とする。
【００２０】
請求項２に係る発明は、請求項１において、前記障壁層はＴｉＮ、ＴｉＯＮ又はＴａで形成することを特徴とする。
【００２１】
請求項３に係る発明は、請求項１において、前記絶縁膜は、酸化膜又は窒化膜であることを特徴とする。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。
図１〜図４は、本発明に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【００２３】
図１に示されているように、半導体基板（図示省略）上部に下部絶縁層４１を形成する。下部絶縁層４１は、半導体基板に素子分離膜（図示省略）、リードライン（ｒｅａｄ  ｌｉｎｅ）の第１のワードラインとソース／ドレインを備えたトランジスタ（図示省略）、グラウンドライン（図示省略）及び導電層（図示省略）、ライトライン（ｗｒｉｔｅ  ｌｉｎｅ）の第２のワードライン（図示省略）を形成した後、全体表面の上部を平坦化する絶縁膜で形成したものである。
【００２４】
次に、前記導電層に接続する連結層用金属層４３を形成する。連結層用金属層４３は、好ましくはＷ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｉｒ、Ｒｕ等のように通常の半導体素子に用いられる金属で形成する。
【００２５】
その次に、連結層用金属層４３の上部にＭＴＪ物質層４４を蒸着する。ＭＴＪ物質層４４は固定磁化層４５、トンネル障壁層４７及び自由磁化層４９を順次積層して形成する。固定磁化層４５及び自由磁化層４９はＣＯ、Ｆｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅ、ＰｔＭｎ、ＩｒＭｎ等のような磁性物質で形成するのが好ましく、トンネリング障壁層４７はデータセンシング（ｄａｔａ  ｓｅｎｓｉｎｇ）に必要な最小限の厚さである２ｎｍ以下の厚さで形成するのが好ましい。
次に、ＭＴＪ物質層１２の上部に第１のハードマスク層２１を形成する。
【００２６】
図２に示されているように、第１のハードマスク層５１の上部にＭＴＪセルマスク（図示省略）を利用した露光及び現像工程で第１の感光膜パターン５３を形成する。
【００２７】
図３に示されているように、第１の感光膜パターン５３をマスクに前記第１のハードマスク層５１と自由磁化層４９をエッチングする。前記エッチング工程でポリマーが発生する場合はこれを除去する。
【００２８】
次に、第１の感光膜パターン５３を除去して全体表面の上部に障壁層５５を形成する。障壁層５５はＴｉＮ、ＴａＡｌＮ又はＴｉＯＮ等で形成するのが好ましい。
【００２９】
その次に、全体表面上部に酸化膜又は窒化膜（図示省略）を一定厚さで蒸着し、これを異方性エッチングして絶縁膜スペーサ５７を形成する。
【００３０】
図４に示されているように、ハードマスク層５１と絶縁膜スペーサ５７をマスクにしてトンネル障壁層４７、固定磁化層４５及び連結層用金属層４３をエッチングし、ＭＴＪセルを形成すると共に連結層用金属層をパターニングする。
【００３１】
【発明の効果】
前述のように、本発明に係るマグネチックラムの形成方法は、ＭＴＪセルと連結層を同時にパターニングすることにより工程を単純化させ、感光膜に代えて絶縁膜スペーサ及びハードマスク層をマスクにエッチング工程を行って金属性ポリマー等の発生を防ぎ、素子の特性及び信頼性を向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図５】従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図６】従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図７】従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図８】従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図９】従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図１０】従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図１１】従来の技術に係るマグネチックラムの形成方法を示す断面図である。
【図１２】従来の技術に基づき形成されたマグネチックラムのＳＥＭ写真である。
【符号の説明】
４１  半導体基板
４３  連結層用金属層
４５  固定磁化層
４７  トンネル障壁層
４９  自由磁化層
５１  ハードマスク層
５５  障壁層
５７  絶縁膜スペーサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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