(57)【要約】【課題】半透過反射型の液晶装置において反射表示時及び透過表示時の両方について常に平面的に均一な色表示を行うことができるようにする。【解決手段】液晶Ｌを挟持する一対の基板３ａ，３ｂの一方３ａに形成された光反射膜９と、光反射膜９の上に形成されたカラーフィルタ１１とを有する液晶装置１である。カラーフィルタ１１は、基板３ａの表面を複数の領域に区画する区画材１４と、それらの区画領域内に形成された色絵素１６とを有する。光反射膜９は、色絵素１６の最大膜厚部分に対応して開口１８を有したり、複数の区画領域の中心部に対応して開口１８を有したり、複数の長方形状の区画領域の長手方向に沿って長い開口１８を有したり、あるいは、色絵素１６の厚さに対応した形状に形成された開口１８を有したりする。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
前記光反射膜は前記色絵素の最大膜厚部分に対応して開口を有する
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
前記光反射膜は前記複数の領域の中心部に対応して開口を有する
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の長方形領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
前記光反射膜は前記複数の長方形領域の長手方向に沿って長い開口を有する
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
前記光反射膜は前記色絵素の厚さに対応した形状に形成された開口を有する
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
請求項１において、前記開口の角には面取りが施されることを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
請求項１において、前記開口は平面形状が長方形状、長円形状又は楕円形状であることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
請求項１において、前記開口の面積は前記複数の領域の１つの面積の５％以上３０％以下であることを特徴とする液晶装置。
【請求項８】
少なくとも一方がカラーフィルタを有する一対の基板によって液晶を挟持して成る液晶装置の製造方法において、
一方の基板に光反射膜を形成する反射膜形成工程と、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材を形成する区画材形成工程と、区画された前記複数の領域内に色絵素を形成する色絵素形成工程とを有し、
前記色絵素形成工程では、色絵素材料をノズルから滴状に吐出して前記複数の領域内へ供給し、
前記反射膜形成工程では、前記複数の領域に対応して前記光反射膜に開口を形成する
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８において、前記反射膜形成工程では前記色絵素の最大膜厚部分に対応して光反射膜に開口が形成されることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項８において、前記反射膜形成工程では前記複数の領域の中心部に対応して光反射膜に開口が形成されることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項８において、前記区画材形成工程では前記基板の表面が複数の長方形領域に区画され、前記反射膜形成工程では前記複数の長方形領域の長手方向に沿って長い開口を光反射膜に形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項８において、前記反射膜形成工程では前記色絵素の厚さに対応した形状の開口を光反射膜に形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項８において、前記反射膜形成工程では角部に面取りが施された開口を光反射膜に形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項８において、前記反射膜形成工程では平面形状が長方形状、長円形状又は楕円形状である開口を光反射膜に形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項８において、前記反射膜形成工程では面積が前記複数の領域の１つの面積の５％以上３０％以下である開口を光反射膜に形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１において、前記色絵素は中央部分が盛り上がる断面山形形状であることを特徴とする液晶装置。
【請求項１７】
請求項８において、前記色絵素は中央部分が盛り上がる断面山形状であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１８】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、
前記光反射膜は前記色絵素の最大膜厚部分に対応して開口を有する
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項１９】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、
前記光反射膜は前記複数の領域の周辺部に対応して部分的又は全域に開口を有する
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項２０】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の長方形領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、
前記光反射膜は、前記複数の長方形領域の周辺部の長手方向に沿って又は短手方向に沿って設けられた開口を有する
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項２１】
液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、
前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、
該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、
前記光反射膜は、前記色絵素の厚さに対応した形状に形成された開口を有することを特徴とする液晶装置。
【請求項２２】
請求項８において、
前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素が形成され、前記反射膜形成工程では、前記色絵素の最大膜厚部分に対応して光反射膜に開口が形成される
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２３】
請求項８において、
前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素が形成され、前記反射膜形成工程では、前記複数の領域の周辺部に対応して部分的又は全域に前記光反射膜に開口を形成する
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２４】
請求項８において、
前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素が形成され、
前記反射膜形成工程では、前記複数の長方形領域の周辺部の長手方向に沿って又は短手方向に沿って開口を前記光反射膜に形成する
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２５】
請求項８において、
前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素が形成され、前記反射膜形成工程では、前記色絵素の厚さに対応した形状に形成された開口を前記光反射膜に形成する
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２６】
液晶装置と、該液晶装置を収容する筐体とを有する電子機器において、前記液晶装置は、請求項１から請求項７のいずれか１つ、請求項１６又は請求項１８から請求項２１のいずれか１つに記載した構成の液晶装置によって構成されることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶層を通過した後に反射する反射光を用いた反射型表示及び液晶層を透過する透過光を用いた透過型表示の両方を行うことのできる、いわゆる半透過反射型の液晶装置であって、さらに光の通過経路上にカラーフィルタを介在させることによりカラー表示を行う液晶装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュータ等といった電子機器に液晶装置が広く用いられるようになってきている。この液晶装置の１つとして、液晶層に関して観察側と反対側の基板の内面又は外面に光反射膜を設け、観察側から入射した光をその光反射膜で反射させ、その反射光を表示用の光源として用いる構造の、いわゆる反射型表示の液晶装置が知られている。
【０００３】
また、液晶層に関して観察側の反対側に照明装置、いわゆるバックライトを配設し、この照明装置を表示用の光源として用いる構造の、いわゆる透過型表示の液晶装置も知られている。また、光反射膜に部分的に開口を設け、光反射膜の開口以外の光反射領域を用いて反射型表示を行うと共に、光反射膜の開口領域を通過する光を用いて透過型表示を行うことができる、いわゆる半透過反射型表示の液晶装置も知られている。
【０００４】
他方、近年の液晶装置では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）や、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等といった色絵素を有するカラーフィルタを液晶装置の表示領域内に設けることにより、カラー表示を行うことが多くなっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
光反射膜に開口を設けて半透過反射表示を行う場合であって、カラーフィルタを用いてカラー表示を行うとき、従来は、表示領域内において平面的に均一な色表示を行うことができなかった。本発明者は、その原因を求めて種々の実験を行い、その結果、光反射膜に設ける開口とカラーフィルタを構成するＲ，Ｇ，Ｂ等といった各色絵素との位置的関係及び形状的関係が整合しないと均一な色表示ができないことを知見した。
【０００６】
本発明は、上記の知見に基づいて成されたものであって、半透過反射型の液晶装置において反射表示時及び透過表示時の両方について常に平面的に均一な色表示を行うことができるようにすることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
（１）上記の目的を達成するため、本発明に係る第１の液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、前記光反射膜は前記色絵素の最大膜厚部分に対応して開口を有することを特徴とする。
【０００８】
前記区画材は、例えば、周知の成膜法例えばスピンコート法を用いて撥インク性の樹脂によって均一な厚さの膜を形成し、その後、周知のパターニング法例えばフォトリソグラフィー法によって所定のパターンに形成される。また、前記色絵素は、例えば、区画材によって区画された各領域内へ、インクジェット法を用いることによって、すなわちインクジェットヘッドのノズルからインクすなわち色絵素材料を液滴として吐出することによって、形成される。
【０００９】
上記第１の液晶装置によれば、例えば図５に示すように、光反射膜９の開口１８が色絵素１６の最大膜厚部分に対応して形成されているので、反射表示時には矢印Ｘ０のように色絵素１６の最大膜厚部分以外の領域を往復して通過する光によってカラー表示が行われ、一方、透過表示時には色絵素１６の最大膜厚部分を通過した光によってカラー表示が行われる。
【００１０】
このように、透過表示時には色絵素１６の最大膜厚部分を１回通過する光によって表示が行われ、反射表示時には膜厚の薄い部分を往復通過すなわち２回通過する光によって表示が行われることになるので、反射表示時と透過表示時との間で光学的膜厚をほぼ等しく又は互いに近づけることができ、それ故、両者間で均一な色表示を行うことができる。
【００１１】
（２）次に、本発明に係る第２の液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、前記光反射膜は前記複数の領域の中心部に対応して開口を有することを特徴とする。
【００１２】
前記区画材は、例えば、周知の成膜法例えばスピンコート法を用いて撥インク性の樹脂によって均一な厚さの膜を形成し、その後、周知のパターニング法例えばフォトリソグラフィー法によって所定のパターンに形成される。また、前記色絵素は、例えば、区画材によって区画された各領域内へ、インクジェット法を用いることによって、すなわちインクジェットヘッドのノズルからインクすなわち色絵素材料を液滴として吐出することによって、形成される。
【００１３】
インクジェット法を用いて色絵素を形成すると、その色絵素は図５（ａ）及び図５（ｃ）に符号１６で示すように、区画材１４によって区画される領域の中心部が盛り上がる傾向にある。従って、この中心部に対応して光反射膜９に開口１８を設ければ、反射表示時と透過表示時との間で光学的膜厚をほぼ等しく又は互いに近づけることができ、それ故、両者間で均一な色表示を行うことができる。
【００１４】
（３）次に、本発明に係る第３の液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の長方形領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、前記光反射膜は前記複数の長方形領域の長手方向に沿って長い開口を有することを特徴とする。
【００１５】
前記区画材は、例えば、周知の成膜法例えばスピンコート法を用いて撥インク性の樹脂によって均一な厚さの膜を形成し、その後、周知のパターニング法例えばフォトリソグラフィー法によって所定のパターンに形成される。また、前記色絵素は、例えば、区画材によって区画された各領域内へ、インクジェット法を用いることによって、すなわちインクジェットヘッドのノズルからインクすなわち色絵素材料を液滴として吐出することによって、形成される。
【００１６】
一般に、カラー表示、特にフルカラー表示を行う場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の各ドットのまとまりを１つのユニットとして１画素を形成し、その１画素をどの色で発色させるかによってフルカラー表示を行っている。そして、Ｒ，Ｇ，Ｂの個々のドットは長方形状に形成されることが多い。この場合には、図５（ｂ）に示すように、区画材１４によって区画される領域は長方形領域となり、その長方形領域内に１色の色絵素１６が形成される。
【００１７】
このように色絵素１６が平面的に長方形状に形成される場合には、光反射膜に形成する開口１８も色絵素１６の長手方向に沿って長く形成することが望ましい。こうすれば、透過表示時に色絵素１６の長手方向に均一で十分な光を供給することができるようになり、それ故、均一な色表示を行うことができる。
【００１８】
（４）次に、本発明に係る第４の液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、前記光反射膜は前記色絵素の厚さに対応した形状に形成された開口を有することを特徴とする。
【００１９】
前記区画材は、例えば、周知の成膜法例えばスピンコート法を用いて撥インク性の樹脂によって均一な厚さの膜を形成し、その後、周知のパターニング法例えばフォトリソグラフィー法によって所定のパターンに形成される。また、前記色絵素は、例えば、区画材によって区画された各領域内へ、インクジェット法を用いることによって、すなわちインクジェットヘッドのノズルからインクすなわち色絵素材料を液滴として吐出することによって、形成される。
【００２０】
インクジェット法に基づいて区画領域内にインクすなわち色絵素材料を供給して色絵素を形成したとき、その色絵素の厚さは必ずしも平面内で一定になるとは限らない。例えば、図５（ａ）及び図５（ｃ）に示すように、山形状すなわちドーム状に盛り上がった形状となることがある。このように色絵素１６の厚さが平面内で不均一になるときには、例えば、色絵素１６の厚さが基準値Ｔ０よりも高くなる部分に対応する光反射膜９の領域だけに開口１８を形成することが望ましい。こうすれば、反射表示時と透過表示時との間の色表示をより一層均一にできる。
【００２１】
なお、光反射膜に設ける開口の形状を色絵素の厚さに対応して形成する際、光学的な干渉縞を利用して開口形状を決定することが有効である。具体的に説明すれば、図８（ａ）に示すように色絵素１６に自然光Ｒ０を照射して光反射膜９からの反射光をカメラ３０によって撮影し、その撮影像をディスプレイ等の画面に表示すれば、図８（ｂ）に模式的に示すように色絵素１６の厚さの違いに応じて干渉縞Ｆが確認できる。この干渉縞Ｆは、いわば色絵素１６の表面の等高線を表すものと考えられる。よって、干渉縞Ｆの中の希望の１つを選択してその干渉縞Ｆに合わせて光反射膜に開口を形成すれば、色絵素の厚さに正確に合致した開口を形成することができる。
【００２２】
（５）以上の第１〜第４の液晶装置において、光反射膜に設ける開口を平面的に見た場合、その開口の角部には面取りを施すことが望ましい。例えば、図６（ｂ）に示すように直線的な面取りＭ１を付けたり、図７（ｂ）に示すように曲線的な面取りＭ２を付けたりすることができる。
【００２３】
一般に、区画領域内に形成された色絵素は中央部分が盛り上がって区画材に近い部分が低くなる形状になることが多い。また、区画領域の対角線に沿った部分の色絵素の表面は３次元的に湾曲する形状となる場合がある。このような場合、光反射膜に形成する開口の角部が鋭角形状、例えば角度９０°に設定されていると、その角部に対応する部分で色が不均一になることがある。これに対し、上記のように開口の角部に面取りを施しておけば、色分布を均一にすることができる。
【００２４】
（６）また、以上の第１〜第４の液晶装置において、光反射膜に形成する前記開口はその平面形状を、例えば長方形状、長円形状又は楕円形状にすることができる。楕円形状は長方形状の角部を湾曲させていったときの特定の図形であると考えられる。長円形状は、長方形状の角部を湾曲させることによって形成される図形のうち楕円形状以外の図形である。開口を以上の形状にすれば、開口を単に正方形状に形成した場合に比べて、均一な色表示を行うことができる。
【００２５】
（７）また、以上の第１〜第４の液晶装置において、前記開口の面積はそれが含まれる１つの区画領域の面積の５％以上３０以下、望ましくは２０％前後であることが望ましい。開口率が上記範囲内であれば、反射表示時と透過表示時の双方において共に良好な視認性を得ることができる。開口率が上記範囲の上限から外れると、反射光が十分に得られないために表示が不鮮明になり、開口率が上記範囲の下限から外れると照明装置による照明効果が十分に得られないために表示が不鮮明になる。
【００２６】
（８）次に、本発明に係る第１の液晶装置の製造方法は、少なくとも一方がカラーフィルタを有する一対の基板によって液晶を挟持して成る液晶装置の製造方法において、一方の基板に光反射膜を形成する反射膜形成工程と、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材を形成する区画材形成工程と、区画された前記複数の領域内に色絵素を形成する色絵素形成工程とを有し、前記色絵素形成工程では色絵素材料をノズルから滴状に吐出して前記複数の領域内へ供給し、前記反射膜形成工程では前記複数の領域に対応して前記光反射膜に開口を形成することを特徴とする。
【００２７】
この第１の液晶装置の製造方法によれば、個々の色絵素がインクジェット法によって形成されるので、光反射膜に設ける開口と色絵素との関係を個別に調節でき、よって、表示色の調節を各色絵素ごとに細かく調節でき、その結果、表示色を平面内で均一にすることができる。
【００２８】
（９）また、上記第１の液晶装置の製造方法において、前記反射膜形成工程では前記色絵素の最大膜厚部分に対応して開口を有する光反射膜を形成することが望ましい。この製法によって製造された液晶装置によれば、透過表示時には色絵素の最大膜厚部分を１回通過する光によって表示が行われ、反射表示時には膜厚の薄い部分を往復通過すなわち２回通過する光によって表示が行われることになるので、反射表示時と透過表示時との間で光学的膜厚をほぼ等しく又は互いに近づけることができ、それ故、両者間で均一な色表示を行うことができる。
【００２９】
（１０）また、上記第１の液晶装置の製造方法において、前記反射膜形成工程では前記複数の領域の中心部に対応して光反射膜に開口を形成することが望ましい。インクジェット法を用いて色絵素を形成すると、その色絵素は図５（ａ）及び図５（ｃ）に符号１６で示すように、区画材１４によって区画される領域の中心部が盛り上がる傾向にある。従って、この中心部に対応して光反射膜９に開口１８を設ければ、反射表示時と透過表示時との間で光学的膜厚をほぼ等しく又は互いに近づけることができ、それ故、両者間で均一な色表示を行うことができる。
【００３０】
（１１）また、上記第１の液晶装置の製造方法において、前記区画材形成工程では前記基板の表面を複数の長方形領域に区画することができ、その場合、前記反射膜形成工程では前記複数の長方形領域の長手方向に沿って長い開口を光反射膜に形成することが望ましい。こうすれば、透過表示時に色絵素の長手方向に均一で十分な光を供給することができるようになり、それ故、均一な色表示を行うことができる。
【００３１】
（１２）また、上記第１の液晶装置の製造方法において、前記反射膜形成工程では前記色絵素の厚さに対応した形状の開口を光反射膜に形成することが望ましい。カラー表示を観察したとき色の濃さは色絵素の厚さに強く影響される。従って、光反射膜の開口が色絵素の厚さと無関係に形成されると、表示された色の濃さに不均一が発生する可能性が高い。これに対し、開口の形状を色絵素の厚さに対応して決定しておけば、均一な色表示を達成できる。
【００３２】
（１３）また、上記第１の液晶装置の製造方法において、前記反射膜形成工程では角部に面取りが施された開口を光反射膜に形成することが望ましい。一般に、区画領域内に形成された色絵素は中央部分が盛り上がって区画材に近い部分が低くなる形状になることが多い。また、区画領域の対角線に沿った部分の色絵素の表面は３次元的に湾曲する形状となる場合がある。このような場合、光反射膜に形成する開口の角部が鋭角形状、例えば角度９０°に設定されていると、その角部に対応する部分で色が不均一になることがある。これに対し、上記のように開口の角部に面取りを施しておけば、色分布を均一にすることができる。
【００３３】
（１４）また、上記第１の液晶装置の製造方法において、前記反射膜形成工程では平面形状が長方形状、長円形状又は楕円形状である開口を光反射膜に形成することが望ましい。ここで、楕円形状は長方形状の角部を湾曲させていったときの特定の図形であると考えられる。長円形状は、長方形状の角部を湾曲させることによって形成される図形のうち楕円形状以外の図形である。光反射膜に形成する開口を以上の形状にすれば、開口を単に正方形状に形成した場合に比べて、均一な色表示を行うことができる。
【００３４】
（１５）また、上記第１の液晶装置の製造方法において、前記反射膜形成工程では面積が前記複数の領域の１つの面積の５％以上３０％以下、望ましくは２０％前後である開口を光反射膜に形成することが望ましい。開口率が上記範囲内であれば、反射表示時と透過表示時の双方において共に良好な視認性を得ることができる。開口率が上記範囲の上限から外れると、反射光が十分に得られないために表示が不鮮明になり、開口率が上記範囲の下限から外れると照明装置による照明効果が十分に得られないために表示が不鮮明になる。
【００３５】
（１６）次に、本発明に係る液晶装置において、前記色絵素は中央部分が盛り上がる断面山形形状、いわゆるドーム形状とすることができる。
【００３６】
（１７）次に、本発明に係る液晶装置の製造方法において、前記色絵素は中央部分が盛り上がる断面山形状とすることができる。
【００３７】
（１８）次に、本発明に係る液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、前記光反射膜は前記色絵素の最大膜厚部分に対応して開口を有することを特徴とする。
【００３８】
（１９）次に、本発明に係る液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、前記光反射膜は前記複数の領域の周辺部に対応して部分的又は全域に開口を有することを特徴とする。
【００３９】
（２０）次に、本発明に係る液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の長方形領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、前記光反射膜は、前記複数の長方形領域の周辺部の長手方向に沿って又は短手方向に沿って設けられた開口を有することを特徴とする。
【００４０】
（２１）次に、本発明に係る液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、該一対の基板の少なくとも一方に形成された光反射膜と、該光反射膜の上に形成されたカラーフィルタとを有し、前記カラーフィルタは、前記基板の表面を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域内に形成された色絵素とを有し、該色絵素は中央部分が窪んだ断面谷形状であり、前記光反射膜は、前記色絵素の厚さに対応した形状に形成された開口を有することを特徴とする。
【００４１】
（２２）次に、本発明に係る液晶装置の製造方法において、前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素を形成でき、前記反射膜形成工程では、前記色絵素の最大膜厚部分に対応して光反射膜に開口を形成することができる。
【００４２】
（２３）次に、本発明に係る液晶装置の製造方法において、前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素を形成でき、前記反射膜形成工程では、前記複数の領域の周辺部に対応して部分的又は全域に前記光反射膜に開口を形成することができる。
【００４３】
（２４）次に、本発明に係る液晶装置の製造方法において、前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素を形成でき、前記反射膜形成工程では、前記複数の長方形領域の周辺部の長手方向に沿って又は短手方向に沿って開口を前記光反射膜に形成することができる。
【００４４】
（２５）次に、本発明に係る液晶装置の製造方法において、前記色絵素形成工程では、中央部分が窪んだ断面谷形状の色絵素を形成でき、前記反射膜形成工程では、前記色絵素の厚さに対応した形状に形成された開口を前記光反射膜に形成することができる。
【００４５】
（２６）次に、本発明に係る電子機器は、液晶装置と、該液晶装置を収容する筐体とを有する電子機器において、前記液晶装置は、以上に記載した構成の液晶装置によって構成されることを特徴とする。
【００４６】
【発明の実施の形態】
（液晶装置の第１実施形態）
以下、本発明を実施形態に基づいて説明する。図１は本発明に係る液晶装置の一実施形態を分解状態で示している。また、図２は図１におけるＩ−Ｉ線に従った液晶装置の断面構造を示している。本実施形態で例示する液晶装置１は、アクティブ素子として２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｄｉｏｄｅ）素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置であって、反射型表示及び透過型表示の両表示機能を併せて有する半透過反射型の液晶装置であって、さらに、基板上にＩＣチップを直接に実装する構造のＣＯＧ（Ｃｈｉｐ　Ｏｎ　Ｇｌａｓｓ）方式の液晶装置である。
【００４７】
図１において、液晶装置１は、第１基板３ａと第２基板３ｂとを環状のシール材４によって貼り合わせて液晶パネル２を形成し、両基板の間に形成される間隙、いわゆるセルギャップ内に液晶Ｌを封入し、第１基板３ａ及び第２基板３ｂに、それぞれ、液晶駆動用ＩＣ６ａ及び６ｂを実装し、さらに観察側と反対側、本実施形態では第１基板３ａの外側に照明装置７をバックライトとして配設することによって形成される。
【００４８】
液晶駆動用ＩＣ６ａ及び６ｂの実装は、例えばＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ　Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ　Ｆｉｌｍ）を用いて行われる。また、液晶Ｌのセルギャップへの封入はシール材４の適所に設けた液晶注入用開口４ａを通して行われ、その開口４ａは液晶注入後に樹脂等によって封止される。
【００４９】
第１基板３ａは、図２に示すように、ガラス、プラスチック等によって形成された矢印Ｂ方向から見て方形状の第１基材８ａを有し、その第１基材８ａの内側（図２の上側）表面には、該表面側から順に、光反射膜９、カラーフィルタ１１、第１電極１２ａ及び配向膜１３ａが形成される。また、第１基材８ａの外側表面には、偏光板１９ａが貼着等によって装着されている。
【００５０】
カラーフィルタ１１は、図５（ａ）に示すように、光反射膜９の上に形成された矢印Ｃ方向から見て格子状のパターンに形成された区画材としてのバンク１４と、バンク１４によって区画された複数の格子穴領域内に形成された複数の色絵素１６と、それらの色絵素１６の上に形成された保護膜１７とを有する。本実施形態では色絵素１６及び保護膜１７の両方とも、後述のように、インクジェット法を用いて形成される。
【００５１】
なお、図５は複数の色絵素１６のうちの数個、主に３個、を拡大して示しており、カラーフィルタ１１はこれらの色絵素１６を矢印Ｃ方向から見て縦横に多数、マトリクス状に配列することによって形成されている。また、複数の色絵素１６は１つずつが独立して色表示可能なドットを構成し、Ｒ色絵素１６Ｒ、Ｇ色絵素１６Ｇ，Ｂ色絵素１６Ｂの３色の色絵素が１つのユニットとして１画素を構成している。
【００５２】
各色絵素１６は、図５（ａ）及び図５（ｃ）にその断面構造を示すように、中心部Ｐが最も高い山形形状すなわちドーム形状に形成される。これは、色絵素１６をインクジェット法を用いて形成したときに、すなわちインクジェットヘッドからインクすなわち色絵素材料を各区画領域内へ液滴状に吐出したときに、普通に形成される形状であると考えられる。
【００５３】
色絵素１６は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の各色絵素１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂを配列することによって形成される。各色の平面内での配列形態としては、例えば、図４（ａ）に示すストライプ配列、図４（ｂ）に示すモザイク配列、図４（ｃ）に示すデルタ配列等が考えられる。ここで、ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の３つの色絵素がＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、色絵素の配置を段違いにし、任意の隣接する３つの色絵素がＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。
【００５４】
図５（ａ）において、バンク１４は、本実施形態の場合、非透光性の樹脂を任意のコート法、例えばスピンコート法等によって塗布した後、任意のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によってパターニングすることによって形成される。非透光性樹脂によって形成されたバンク１４は、カラーフィルタ１１から光が漏れ出ることを防止するブラックマスクとしても機能する。もちろん、バンク１４の下層に別途、ブラックマスクをパターニングしても良い。
【００５５】
保護膜１７は、通常は透明な樹脂材料によって形成され、例えば、次のように機能する。第１に、保護膜の形成によってカラーフィルタ基板の表面を平坦化することにより、そのカラーフィルタ基板の表面に電極が形成される際、その電極が切れることを防止する。第２に、保護膜上の電極の低抵抗化によって画素間のコントラスト比を向上させる。第３に、保護膜形成後に続いて行われる工程においてカラーフィルタ基板内の画素が傷付くことを防止すること、すなわち保護機能を果たす。第４に、カラーフィルタ基板が液晶装置に用いられる場合にセルギャップ内へ液晶が封入された後、カラーフィルタ基板から液晶へ不純物が拡散することを防止する。
【００５６】
図１において、光反射膜９は、例えばＡｌ、Ａｇ等或いはそれらを含む合金といった光反射性の金属材料を任意の成膜法、例えばスパッタリング法によって一様な厚さに形成した後、任意のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によってパターニングすることによって形成される。そして、そのパターニングの際に各色絵素１６の形成領域、すなわちバンク１４によって区画された個々の区画領域、に対応して開口１８が形成される。
【００５７】
これらの開口１８は、本実施形態の場合、図５（ａ）〜（ｃ）に示すように、バンク１４によって区画される各区画領域内の中心部Ｐに対応して、すなわち各区画領域内に形成される色絵素１６の最大膜厚部分に対応して、形成されている。また、開口１８は、図５（ｂ）に示すように、長方形状に形成された各区画領域の長手方向に沿って、すなわち各色絵素１６の長手方向に沿って長い形状、本実施形態では長方形状、に形成されている。
【００５８】
図２において、第１電極１２ａは矢印Ｂ方向から見てストライプ状に形成される。なお、図１及び図２では、第１電極１２ａのパターンを理解し易く示すために、それらを広い間隔且つ少ない本数で模式的に描いてあるが、実際には、非常に狭い間隔で多数本が形成されている。第１電極１２ａは、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）を任意の成膜法、例えばスパッタリング法によって一様な厚さで成膜した後、任意のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によって希望形状、例えばストライプ状にパターニングすることによって形成されている。
【００５９】
図１において、第１電極１２ａはシール材４を越えるように配線されることにより液晶駆動用ＩＣ６ａの出力バンプ、すなわち出力端子に導電接続される。液晶駆動用ＩＣ６ａは第１電極１２ａに走査信号又はデータ信号を供給する。
【００６０】
配向膜１３ａは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成することによって形成される。この配向膜１３ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、液晶Ｌ内の液晶分子の第１基板３ａの表面近傍における配向が決定される。
【００６１】
図１において、第２基板３ｂは、ガラス、プラスチック等によって形成された方形状の第２基材８ｂを有し、その第２基材８ｂの内側（図１の下側）表面には、複数のドット状の第２電極１２ｂをマトリクス状に配列してなるパターンが形成されている。図１では理解し易くするために第２電極１２ｂのドットを大きく示してあるが、実際には微細で多数の第２電極１２ｂが形成される。
【００６２】
第２基板３ｂの矢印Ｄで示す部分を拡大して示すと図３に示す通りである。図３に示す通り、第２基材８ｂの内側表面には、ライン配線２１と、ライン配線２１から延びるスイッチング素子としてのＴＦＤ素子２２と、ＴＦＤ素子２２を介してライン配線２１に接続された第２電極１２ｂとが設けられる。複数の第２電極１２ｂが図１においてドットマトリクス状に配列されることは既述の通りである。
【００６３】
上記の各要素は、例えば次のようにして形成される。すなわち、例えばＴａ（タンタル）をスパッタリング法によって一様に成膜した後パターニングしてライン配線２１の第１層２１ａ及びＴＦＤ素子２２の第１金属膜２２ａを形成する。次に、陽極酸化処理を行ってライン配線２１の第１層２１ａの上に第２層２１ｂを形成し、さらにＴＦＤ素子２２の第１金属膜２２ａの上に絶縁膜２２ｂを形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）をスパッタリング法によって一様に成膜した後、パターニングしてライン配線２１の第２層２１ｂの上に第３層２１ｃを形成し、さらにＴＦＤ素子２２の絶縁膜２２ｂの上にライン配線２１から延びる第２金属膜２２ｃ及び絶縁膜２２ｂと第２電極１２ｂとを接続する第２金属膜２２ｃを形成する。
【００６４】
以上により、ＴＦＤ素子２２は、ライン配線２１に近い側に第１ＴＦＤ要素２３ａ及び第２電極１２ｂに近い側に第２ＴＦＤ要素２３ｂを有することになる。そして、第１ＴＦＤ要素２３ａは、ライン配線２１側から見て、第２金属膜２２ｃ／絶縁膜２２ｂ／第１金属膜２２ａの層構造、すなわちＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ）構造を有する。また、第２ＴＦＤ要素２３ｂは、ライン配線２１側から見て、第１金属膜２２ａ／絶縁膜２２ｂ／第２金属膜２２ｃの層構造、すなわちＭＩＭ構造を有する。
【００６５】
このＴＦＤ構造は、２つのＴＦＤ要素を電気的に逆向きに直列接続して成るバック・ツー・バック（Ｂａｃｋ　Ｔｏ　Ｂａｃｋ）構造と呼ばれるものであり、これはＭＩＭ素子のスイッチング特性を安定化させるために採用される構造である。スイッチング特性に関してそれ程高い安定性を必要としない場合には、バック・ツー・バック構造に代えて、１個のＴＦＤ要素だけから成るシングル構造のＴＦＤ素子を用いることもできる。
【００６６】
第２ＴＦＤ要素２３ｂの第２金属膜２２ｃに接続される第２電極１２ｂは、例えばＩＴＯを任意の成膜法、例えばスパッタリング法によって一様に成膜した後、任意のパターニング法例えばフォトリソグラフィー法によってパターニングを行うことによって形成される。図１において第２基板３ｂに対向する第１基板３ａに形成される第１電極１２ａは図３において、ライン配線２１と交差する方向、例えば直角方向に配置される。
【００６７】
図２において、第２電極１２ｂの上に配向膜１３ｂが形成される。なお、図２では理解し易くするために第２電極１２ｂを大きく模式的に描いてあるが、実際には、第２電極１２ｂは非常に微細なものが多数形成される。配向膜１３ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成することによって形成される。この配向膜１３ｂには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、液晶Ｌ内の液晶分子の第２基板３ｂの表面近傍における配向が決定される。
【００６８】
第２基材８ｂの外側表面には偏光板１９ｂが貼付等によって装着される。この偏光板１９ｂは、その偏光軸が第１基板３ａ側の偏光板１９ａの偏光軸に対して所定の角度だけずれるように、第２基材８ｂに装着される。
【００６９】
図１において、第２基板３ｂ上のライン配線２１はシール材４を越えるように配線されることにより液晶駆動用ＩＣ６ｂの出力バンプ、すなわち出力端子に導電接続される。液晶駆動用ＩＣ６ｂは、走査信号又はデータ信号のうち第１電極１２ａに供給される信号と別の信号をライン配線２１従ってスイッチング素子２２の１ラインに供給する。
【００７０】
図１において、第１基板３ａすなわち観察側と反対側の基板の裏面に配設された照明装置７は、第１基板３ａとほぼ同じ面積の導光体２４と、その導光体２４の一側面である光取込み口２４ａに対向して配置された複数、例えば３個の発光源としてのＬＥＤ２６とを有する。導光体２４は、例えばアクリル樹脂、ポリカーバイト系樹脂、ガラスによって形成され、光取込み口２４ａから内部へ取り込んだ光を伝播しつつ、液晶パネル２に面した光出射面２４ｂから面状に出射して液晶パネル２へ供給する。
【００７１】
図２において、第１基板３ａと第２基板３ｂとは、シール材４によって貼り合わされると共に、いずれかの基板上に分散された粒子状のスペーサ２７によってセルギャップが維持され、そのセルギャップ内に液晶Ｌが封入されている。液晶Ｌとしては、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶が用いられる。
【００７２】
本実施形態に係る液晶装置１は以上のように構成されているので、反射型液晶装置として機能する場合には、図２において観察側の第１基板３ｂの外側から取り込まれた太陽光、室内光等といった外部光が液晶Ｌを通過した後、光反射膜９で反射し、再び液晶Ｌへ供給される。
【００７３】
他方、透過型液晶装置として機能する場合には、照明装置７を構成するＬＥＤ２６が発光し、その光が導光体２４の光取込み面２４ａから取り込まれ、さらに光出射面２４ｂから平面内で均一に出射され、その出射光が光反射膜９に形成した開口１８を通して液晶Ｌへ供給される。
【００７４】
反射型表示及び透過型表示のいずれの場合でも、液晶Ｌを挟持する第１電極１２ａとそれに対向する第２電極１２ｂとの間にスイッチング素子２２のスイッチング動作に応じた電圧が印加され、これにより、液晶Ｌ内の液晶分子の配向が制御される。そして、この配向制御により、液晶Ｌに供給された光が変調され、この変調光が偏光板１９ｂに到達し、この偏光板１９ｂを通過する偏光と通過しない偏光とによって観察側に像が表示される。このとき、カラーフィルタ１１のうちのＲ，Ｇ，Ｂのいずれを通った反射光を選択するかによって希望する色を表示する。
【００７５】
本実施形態では、図５（ａ）〜（ｃ）に示したように、光反射膜９の開口１８が色絵素１６の最大膜厚部分に対応して形成されているので、反射表示時には矢印Ｘ０のように色絵素１６の最大膜厚部分以外の領域を往復して通過する光によってカラー表示が行われ、一方、透過表示時には矢印Ｘ１のように色絵素１６の最大膜厚部分を通過した光によってカラー表示が行われる。
【００７６】
このように、透過表示時には色絵素１６の最大膜厚部分を１回通過する光によって表示が行われ、反射表示時には膜厚の薄い部分を往復通過すなわち２回通過する光によって表示が行われることになるので、反射表示時と透過表示時との間で光学的膜厚をほぼ等しく又は互いに近づけることができ、それ故、両者間で均一な色表示を行うことができる。
【００７７】
ところで、本実施形態のようにインクジェット法を用いて色絵素を形成すると（詳しくは後述する）、その色絵素１６は図５（ａ）及び図５（ｃ）に示すように、バンク１４によって区画される領域の中心部が盛り上がる傾向にある。従って、本実施形態のようにこの中心部に対応して光反射膜９に開口１８を設ければ、反射表示時と透過表示時との間で光学的膜厚をほぼ等しく又は互いに近づけることができ、それ故、両者間で均一な色表示を行うことができる。
【００７８】
さらに、本実施形態では、図５（ａ）〜（ｃ）に示すように、バンク１４によって複数の長方形領域が区画され、それらの長方形領域に色絵素１６が形成された。そして、光反射膜９の開口１８は、長方形の区画領域の長手方向に沿って長い長方形状に形成されている。この構成により、透過表示時に色絵素１６の長手方向に均一で十分な光を供給することができるようになり、それ故、均一な色表示を行うことができる。
【００７９】
（変形例）
図６は光反射膜９に形成する開口１８の改変例を示している。ここに示す開口１８が図５に示した先の実施形態に係る開口１８と異なる点は、開口１８の４つの角部に直線状の面取りＭ１を形成したことである。その他の点に関しては図５に示した実施形態の場合と同じである。開口１８の角部に直線状の面取りＭ１を形成する方法は、例えば、光反射膜９を任意のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によってパターニングする際に、上記のような面取りＭ１を持った露光用開口パターンを備えたフォトマスクを用いてパターニングを行うことによって実現できる。
【００８０】
上記のような面取りＭ１を開口１８の角部に設けることにより、バンク１４によって区画された領域内の対角線に沿って現れる色絵素１６の３次元的な湾曲に対応させて光を供給することが可能となり、その結果、均一な色表示を行うことが可能となる。
【００８１】
図７は光反射膜９に形成する開口１８の他の改変例を示している。ここに示す開口１８が図５に示した先の実施形態に係る開口１８と異なる点は、開口１８の４つの角部に曲線的な面取りＭ２を形成したことである。その他の点に関しては図５に示した実施形態の場合と同じである。開口１８の角部に曲線的な面取りＭ２を形成する方法は、図６に示した実施形態の場合と同様に、例えば、光反射膜９を任意のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によってパターニングする際に、上記のような面取りＭ２を持った露光用開口パターンを備えたフォトマスクを用いてパターニングを行うことによって実現できる。
【００８２】
上記のような面取りＭ２を開口１８の角部に設ければ、図６に示した実施形態の場合と同様に、バンク１４によって区画された領域内の対角線に沿って現れる色絵素１６の３次元的な湾曲に対応させて光を供給することが可能となり、その結果、均一な色表示を行うことが可能となる。
【００８３】
なお、各色絵素１６に対応させて光反射膜９に形成する開口１８の平面形状は、図５（ｂ）に示す長方形状や、図６（ｂ）に示すような直線状の面取りＭ１を持った長方形状や、図７（ｂ）に示すような曲線状の面取りＭ２を持った長方形状等以外に、図７（ｂ）に示した面取りＭ２の面取り寸法の大きさを種々に変化させることによって得られる長円形状に設定したり、あるいは、楕円形状に設定したりすることができる。
【００８４】
図８は、図５に示した開口１８の平面形状を決定するための方法の他の一例を説明するための図である。以下、これについて説明する。
【００８５】
本実施形態のように、バンク１４によって区画される領域内にインクジェット法に基づいてインクすなわち色絵素材料を供給して色絵素を形成する場合、その色絵素の厚さは必ずしも平面内で一定になるとは限らない。例えば、図５（ａ）及び図５（ｃ）に示すように、山形状すなわちドーム状に盛り上がった形状となることがある。このように色絵素１６の厚さが平面内で不均一になるときには、例えば、色絵素１６の厚さが基準値Ｔ０よりも高くなる部分に対応する光反射膜９の領域だけに開口１８を形成することが望ましい。こうすれば、反射表示時と透過表示時との間の色表示をより一層均一にできる。
【００８６】
このように光反射膜９に設ける開口１８の形状を色絵素１６の厚さに対応して形成する際、光学的な干渉縞を利用して開口形状を決定することが有効である。具体的に説明すれば、図８（ａ）に示すように色絵素１６に自然光Ｒ０を照射して光反射膜９からの反射光をカメラ３０によって撮影し、その撮影像をディスプレイ等の画面に表示すれば、図８（ｂ）に模式的に示すように色絵素１６の厚さの違いに応じて干渉縞Ｆが確認できる。この干渉縞Ｆは、いわば色絵素１６の表面の等高線を表すものと考えられる。よって、干渉縞Ｆの中の希望の１つを選択してその干渉縞Ｆに合わせて光反射膜９に開口を形成すれば、色絵素１６の厚さに正確に合致した開口１８を形成することができる。
【００８７】
なお、以上に説明した種々の開口１８に関しては、その開口率を５〜３０％、望ましくは２０％に設定する。ここで、開口率とは、バンク１４によって区画される領域の面積、すなわち個々の色絵素１６の平面的な面積に対する開口１８の面積の比のことである。
【００８８】
開口率が上記範囲内であれば、反射表示時と透過表示時の双方において共に良好な視認性を得ることができる。開口率が上記範囲の上限から外れると、反射光が十分に得られないために表示が不鮮明になり、開口率が上記範囲の下限から外れると照明装置による照明効果が十分に得られないために表示が不鮮明になる。
【００８９】
（液晶装置の製造方法の実施形態）
図９は、図１に示した液晶装置１の製造方法の一実施形態を示している。この製造方法において、工程Ｐ１〜工程Ｐ７の一連の工程が第１基板３ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４の一連の工程が第２基板３ｂを形成する工程である。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、それぞれが独自に行われる。なお、本実施形態では、第１基板３ａ及び第２基板３ｂは図１に示す大きさのものが直接に形成されるのではなく、図１０（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１基板３ａの複数個分の大きさを有する第１マザー基板３３ａ及び第２基板３ｂの複数個分の大きさを有する第２マザー基板３３ｂを形成し、最終的にそれらのマザー基板３３ａ及び３３ｂを切断することにより、個々の第１基板３ａ及び第２基板３ｂを作製する。
【００９０】
図９において、まず、第１基板形成工程について説明すれば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積の第１マザー基材３８ａ（図１０（ａ）参照）の表面に液晶パネル２の複数個分の光反射膜９をフォトリソグラフィー法等を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、後で詳述するようにインクジェット法等を用いて光反射膜９上にカラーフィルタ１１を形成し（工程Ｐ２）、さらに、フォトリソグラフィー法等を用いて第１電極１２ａを形成する（工程Ｐ３）。
【００９１】
次に、第１電極１２ａの上に塗布、印刷等によって配向膜１３ａを形成し（工程Ｐ４）、さらにその配向膜１３ａに対して配向処理、例えばラビング処理を施すことにより液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ５）。次に、例えばスクリーン印刷等によってシール材４を各液晶パネル領域の周辺部に環状に形成し（工程Ｐ６）、さらにその上に球状のスペーサ２７を分散する（工程Ｐ７）。以上により、液晶パネル２の第１基板３ａ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第１基板３３ａ（図１０（ａ）参照）が形成される。
【００９２】
以上の第１基板形成工程とは別に、第２基板形成工程（図９の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施する。具体的には、まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積の第２マザー基材３８ｂ（図１０（ｂ）参照）を用意し、図３に示すライン配線２１及びスイッチング素子２２を液晶パネル２の複数個分、その第２マザー基材３８ｂの表面に形成し（工程Ｐ１１）、さらに、ドット状の第２電極１２ｂをフォトリソグラフィー法等を用いてＩＴＯ等によって形成する（工程Ｐ１２）。
【００９３】
次に、塗布、印刷等によって配向膜１３ｂ（図２参照）が形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１３ｂに対して配向処理、例えばラビング処理が施されて液晶の初期配向が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル２の第２基板３ｂ上のパネルパターンを複数個分有する大面積の第２マザー基板３３ｂが形成される。
【００９４】
以上により大面積の第１マザー基板３３ａ及び第２マザー基板３３ｂが形成された後、それらのマザー基板をシール材４を間に挟んでアライメント、すなわち位置合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。これにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでいて未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体が形成される。
【００９５】
次に、完成した空のパネル構造体をブレイク、すなわち切断して、各液晶パネル部分のシール材４の液晶注入用開口４ａ（図１参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短冊状の空のパネル構造体を形成する（工程Ｐ２２）。その後、露出した液晶注入用開口４ａを通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さらに各液晶注入用開口４ａを樹脂等によって封止する（工程Ｐ２３）。
【００９６】
通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャンバーを大気圧に開放することによって行われる。このとき、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわりには液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネルは工程Ｐ２４において洗浄処理を受ける。
【００９７】
その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の短冊状のマザーパネルに対して再びスクライブ処理、すなわち切断処理を施すことにより、複数個の液晶パネルを個々に切り出す（工程Ｐ２５）。こうして作製された個々の液晶パネル２に対して図１に示すように、液晶駆動用ＩＣ６ａ及び６ｂを実装し、さらに、照明装置７をバックライトとして装着する（工程Ｐ２６）。さらに、第１基板３ａの外側表面に偏光板１９ａを装着し、第２基板３ｂの外側表面に偏光板１９ｂを装着する（工程Ｐ２７）。これにより、目標とする液晶装置１が完成する。
【００９８】
図９の第１基板形成工程におけるカラーフィルタ形成工程Ｐ２を詳細に説明すれば、次の通りである。
【００９９】
図１１はカラーフィルタ１１の製造方法を工程順に模式的に示している。まず、ガラス、プラスチック等によって形成されたマザー基材３８ａであって、光反射膜９が形成されているものの表面に、透光性のない樹脂材料によってバンク１４を矢印Ｂ方向から見て格子状パターンに形成する（工程Ｐ３１）。格子状パターンの格子穴の部分２８は色絵素１６が形成される領域、すなわち色絵素形成領域である。
【０１００】
このバンク１４によって形成される個々の色絵素形成領域２８の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。また、バンク１４は、望ましくは撥インク性の樹脂を任意の成膜手法、例えばスピンコート法を用いて所定の厚さで一様に形成して、さらに適宜のパターニング手法例えばフォトリソグラフィー法を用いて所定の格子状に形成される。
【０１０１】
その後、工程Ｐ３２において、バンク１４によって区画された各領域内にインクジェット法を用いてＲ，Ｇ，Ｂの色絵素１６を形成する。具体的には、インクジェットヘッド５２によってマザー基材３８ａの表面を走査しながら、インクジェットヘッド５２に設けたノズル５７から色絵素材料Ｍ６を図４のいずれかに示す配列パターンに対応した所定のタイミングでインク滴として吐出してマザー基材３８ａ上に付着させる。そして、焼成処理又は紫外線照射処理により色絵素材料Ｍ６を固化して色絵素１６を形成する。この処理を各色絵素１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂごとに繰り返すことによって希望の配列の色絵素パターンを形成する。
【０１０２】
その後、工程Ｐ３３において、バンク１４によって区画された各領域内であって色絵素１６の上にインクジェット法を用いて保護膜１７を形成する。具体的には、色絵素１６の場合と同様にして、インクジェットヘッド５２によってマザー基材３８ａの表面を走査しながら、インクジェットヘッド５２に設けたノズル５７から保護膜材料Ｍ７を図４のいずれかに示す配列パターンに対応した所定のタイミングでインク滴として吐出してマザー基材３８ａ上の各色絵素１６の上に付着させる。そしてその後、例えば２００℃、３０分〜６０分程度の焼成処理により保護膜材料Ｍ７を固化して保護膜１７を成膜する。
【０１０３】
なお、色絵素形成工程Ｐ３２におけるインクジェット処理では、色絵素１６のＲ，Ｇ，Ｂ各色ごとにインクジェットヘッド５２の走査を繰り返して色絵素を形成するか、あるいは、１つのインクジェットヘッド５２にＲ，Ｇ，Ｂ３色のノズルを設備しておいて１回の走査によってＲ，Ｇ，Ｂ３色を同時に形成することもできる。
【０１０４】
一方、保護膜形成工程Ｐ３３におけるインクジェット処理では、バンク１４によって形成される複数の格子状穴の全てへインクジェットヘッド５２の１回の走査期間中に所定量のインク滴を供給する。但し、格子状穴の中に形成されている色絵素１６の厚さがＲ，Ｇ，Ｂの色ごとに異なっている場合には、ノズル５７から吐出するインクの吐出量も色ごとに適量に調節する。
【０１０５】
色絵素形成工程Ｐ３２で用いるインクジェットヘッド５２と保護膜形成工程Ｐ３３で用いるインクジェットヘッド５２は同一のインクジェット装置に交換して装着することにしても良いし、あるいは、それぞれを別個のインクジェット装置に装着しておいてそれらのインクジェット装置を個別に使用することにしても良い。また、場合によっては、インクジェットヘッド５２及びそれを装着するインクジェット装置として同じものを使用し、その同一のインクジェットヘッド５２へ供給するインクを色絵素材料と保護膜材料との間で交換するような方法も採用できる。
【０１０６】
なお、色絵素形成工程Ｐ３２及び保護膜形成工程Ｐ３３におけるインクジェットヘッド５２によるマザー基材３８ａの走査方法は特別な方法に限定されるものでなく種々に考えられる。例えば、複数のノズル５７をマザー基材３８ａの一辺とほぼ同じ長さに並べてノズル列を構成し、１回の走査によってマザー基材３８ａの全面に絵素材料Ｍ６や保護膜材料Ｍ７を供給する方法や、マザー基材３８ａの一辺よりも短い長さのノズル列を有するインクジェットヘッド５２に関してインクを吐出するための主走査及び主走査位置をずらせるための副走査を繰り返して行うことによってマザー基材３８ａの全面にインクを供給する方法等が考えられる。
【０１０７】
図１２は、図１１の色絵素形成工程Ｐ３２及び保護膜形成工程Ｐ３３を実施するための装置の一例であるインクジェット装置の一実施形態を示している。このインクジェット装置４６は色絵素材料又は保護膜材料をインクの液滴として、マザー基材３８ａ（図１０（ａ）参照）上の各基板領域３ａ内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。
【０１０８】
図１２において、インクジェット装置４６は、インクジェットヘッド５２を備えたヘッドユニット５６と、インクジェットヘッド５２の位置を制御するヘッド位置制御装置４７と、マザー基材３８ａの位置を制御する基板位置制御装置４８と、インクジェットヘッド５２をマザー基材３８ａに対して主走査移動させる主走査駆動装置４９と、インクジェットヘッド５２をマザー基材３８ａに対して副走査移動させる副走査駆動装置５１と、マザー基材３８ａをインクジェット装置４６内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置５３と、そしてインクジェット装置４６の全般の制御を司るコントロール装置５４とを有する。
【０１０９】
ヘッド位置制御装置４７、基板位置制御装置４８、主走査駆動装置４９、そして副走査駆動装置５１の各装置はベース３９の上に設置される。また、それらの各装置は必要に応じてカバー３４によって覆われる。
【０１１０】
インクジェットヘッド５２は、例えば図１４に示すように、複数、本実施形態では６個のヘッド部５０と、それらのヘッド部５０を並べて支持する支持手段としてのキャリッジ５５とを有する。キャリッジ５５は、ヘッド部５０を支持すべき位置にヘッド部５０よりも少し大きい穴すなわち凹部を有し、各ヘッド部５０はそれらの穴の中に入れられ、さらにネジ、接着剤その他の締結手段によって固定される。また、キャリッジ５５に対するヘッド部５０の位置が正確に決められる場合には、特別な締結手段を用いることなく、単なる圧入によってヘッド部５０を固定しても良い。
【０１１１】
ヘッド部５０は、図１４（ｂ）に示すように、複数のノズル５７を列状に並べることによって形成されたノズル列５８を有する。ノズル５７の数は例えば１８０個であり、ノズル５７の穴径は例えば２８μｍであり、ノズル５７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。図１４（ａ）において符号Ｘはインクジェットヘッド５２の主走査方向を示し、符号Ｙは副走査方向を示している。
【０１１２】
インクジェットヘッド５２はＸ方向へ平行移動することによりマザー基材３８ａを主走査するが、この主走査の間にインクとしての色絵素材料又は保護膜材料を各ヘッド部５０内の複数のノズル５７から選択的に吐出することにより、マザー基材３８ａ内の所定位置に色絵素材料又は保護膜材料を付着させる。また、インクジェットヘッド５２は副走査方向Ｙへ所定距離、例えばノズル列５８の１列分の長さＬ０又はその整数倍だけ平行移動することにより、インクジェットヘッド５２による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【０１１３】
各ヘッド部５０のノズル列５８は、各ヘッド部５０がキャリッジ５５に取り付けられたときに一直線Ｚに載るように設定される。また、隣り合う各ヘッド部５０の間隔Ｄは、隣り合う一対のヘッド部５０のそれぞれに属する最端位置のノズル５７同士間の距離が個々のヘッド部５０内のノズル列５８の長さＬ０に等しくなるように設定される。ノズル列５８に関するこのような配置はインクジェットヘッド５２に関するＸ方向の主走査制御及びＹ方向に関する副走査制御を簡単にするための措置であり、ノズル列５８の配置形態すなわちヘッド部５０のキャリッジ５５に対する配列形態は上記以外に任意に設定可能である。
【０１１４】
個々のヘッド部５０は、例えば、図１６（ａ）及び図１６（ｂ）に示す内部構造を有する。具体的には、ヘッド部５０は、例えばステンレス製のノズルプレート５９と、それに対向する振動板６１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材６２とを有する。ノズルプレート５９と振動板６１との間には、仕切部材６２によって複数のインク室６３と液溜り６４とが形成される。複数のインク室６３と液溜り６４とは通路６８を介して互いに連通している。
【０１１５】
振動板６１の適所にはインク供給穴６６が形成され、このインク供給穴６６にインク供給装置６７が接続される。このインク供給装置６７は色絵素材料Ｍ又は保護膜材料Ｍをインク供給穴６６へ供給する。供給された色絵素材料Ｍ又は保護膜材料Ｍは液溜り６４に充満し、さらに通路６８を通ってインク室６３に充満する。色絵素材料Ｍに関しては、インク供給装置６７から供給されるものはＲ，Ｇ，Ｂのいずれか１色であり、個々の色に対してそれぞれ異なったヘッド部５０が準備される。
【０１１６】
なお、色絵素材料ＭはＲ，Ｇ，Ｂの各色色材を溶媒に分散させることによって形成される。また、保護膜材料Ｍは、透光性を有する熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂であって、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド系樹脂又はフッ素系樹脂の少なくとも１つを含んで形成できる。また、保護膜材料Ｍの粘度は望ましくは４ｃｐｓ〜５０ｃｐｓに設定される。これは、４ｃｐｓ未満では流動性が高過ぎて特定形状に形成することが難しくなること及び５０ｃｐｓを超える場合にはノズル５７から一定量を吐出することが難しくなるからである。
【０１１７】
ノズルプレート５９には、インク室６３から色絵素材料Ｍ又は保護膜材料Ｍをジェット状に噴射するためのノズル５７が設けられている。また、振動板６１のインク室６３を形成する面の裏面には、該インク室６３に対応させてインク加圧体６９が取り付けられている。このインク加圧体６９は、図１６（ｂ）に示すように、圧電素子７１並びにこれを挟持する一対の電極７２ａ及び７２ｂを有する。圧電素子７１は電極７２ａ及び７２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これによりインク室６３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当する色絵素材料Ｍ又は保護膜材料Ｍが液溜り６４から通路６８を通ってインク室６３へ流入する。
【０１１８】
次に、圧電素子７１への通電を解除すると、該圧電素子７１と振動板６１は共に元の形状へ戻る。これにより、インク室６３も元の容積に戻るためインク室６３の内部にある色絵素材料Ｍ又は保護膜材料Ｍの圧力が上昇し、ノズル５７からマザー基材３８ａ（図１０（ａ）参照）へ向けて色絵素材料Ｍ又は保護膜材料Ｍが液滴Ｍ６，Ｍ７となって噴出する。なお、ノズル５７の周辺部には、液滴Ｍ６，Ｍ７の飛行曲がりやノズル５７の穴詰まり等を防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層から成る撥インク層７３が設けられる。
【０１１９】
図１３において、ヘッド位置制御装置４７は、インクジェットヘッド５２を面内回転させるαモータ７４と、インクジェットヘッド５２を副走査方向Ｙと平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ７６と、インクジェットヘッド５２を主走査方向Ｘと平行な軸線回りに揺動回転させるγモータ７７と、そしてインクジェットヘッド５２を上下方向へ平行移動させるＺモータ７８とを有する。
【０１２０】
図１２に示した基板位置制御装置４８は、図１３において、マザー基材３８ａを載せるテーブル７９と、そのテーブル７９を矢印θのように面内回転させるθモータ８１とを有する。また、図１２に示した主走査駆動装置４９は、図１３に示すように、主走査方向Ｘへ延びるガイドレール８２と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ８３とを有する。スライダ８３は内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール８２に沿って主走査方向へ平行移動する。
【０１２１】
また、図１２に示した副走査駆動装置５１は、図１３に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイドレール８４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ８６とを有する。スライダ８６は内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール８４に沿って副走査方向Ｙへ平行移動する。
【０１２２】
スライダ８３やスライダ８６内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、スライダ８３に支持されたインクジェットヘッド５２の主走査方向Ｘ上の位置やテーブル７９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。なお、インクジェットヘッド５２やテーブル７９の位置制御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。
【０１２３】
図１２に示した基板供給装置５３は、マザー基材３８ａを収容する基板収容部８７と、マザー基材３８ａを搬送するロボット８８とを有する。ロボット８８は、床、地面等といった設置面に置かれる基台８９と、基台８９に対して昇降移動する昇降軸９１と、昇降軸９１を中心として回転する第１アーム９２と、第１アーム９２に対して回転する第２アーム９３と、第２アーム９３の先端下面に設けられた吸着パッド９４とを有する。吸着パッド９４は空気吸引等によってマザー基材３８ａを吸着できる。
【０１２４】
図１２において、主走査駆動装置４９によって駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド５２の軌跡下であって副走査駆動装置５１の一方の脇位置に、キャッピング装置１０６及びクリーニング装置１０７が配設される。また、他方の脇位置に電子天秤１０８が配設される。クリーニング装置１０７はインクジェットヘッド５２を洗浄するための装置である。電子天秤１０８はインクジェットヘッド５２内の個々のノズル５７から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに測定する機器である。そして、キャッピング装置１０６はインクジェットヘッド５２が待機状態にあるときにノズル５７の乾燥を防止するための装置である。
【０１２５】
インクジェットヘッド５２の近傍には、そのインクジェットヘッド５２と一体に移動する関係でヘッド用カメラ１１１が配設される。また、ベース３９上に設けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ１１２がマザー基材３８ａを撮影できる位置に配置される。
【０１２６】
図１２に示したコントロール装置５４は、プロセッサを収容したコンピュータ本体部９６と、入力装置としてのキーボード９７と、表示装置としてのＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ　Ｒａｙ　Ｔｕｂｅ）ディスプレイ９８とを有する。上記プロセッサは、図１７に示すように、演算処理を行うＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）９９と、各種情報を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体１０１とを有する。
【０１２７】
図１２に示したヘッド位置制御装置４７、基板位置制御装置４８、主走査駆動装置４９、副走査駆動装置５１、そして、インクジェットヘッド５２内の圧電素子７１（図１６（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回路１０２の各機器は、図１７において、入出力インターフェース１０３及びバス１０４を介してＣＰＵ９９に接続される。また、基板供給装置５３、入力装置９７、ディスプレイ９８、電子天秤１０８、クリーニング装置１０７及びキャッピング装置１０６の各機器も入出力インターフェース１０３及びバス１０４を介してＣＰＵ９９に接続される。
【０１２８】
メモリ１０１は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）等といった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概念であり、機能的には、インクジェット装置４６の動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、図１３における主走査方向Ｘへのスライダ８３の主走査移動量及び副走査方向Ｙへのマザー基材３８ａの副走査移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ９９のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。
【０１２９】
本実施形態の液晶装置の製造方法、特にカラーフィルタの製造装置では、図１１の色絵素形成工程Ｐ３２及び保護膜形成工程Ｐ３３の両方でインクジェット装置４６が用いられる。これらの工程で用いられるインクジェット装置４６は機構的にはほとんど同じ装置を用いることができる。
【０１３０】
また、色絵素形成工程Ｐ３２で使用されるインクジェット装置４６に備えられる図１７のメモリ１０１には、色絵素形成の全般の手順を規制するプログラムソフトと、図４の希望する色絵素配列を実現するＲ，Ｇ，Ｂ形成位置データと、Ｒ，Ｇ，Ｂの各位置に各色材料をどのくらいの量で供給するかを規定するＲ，Ｇ，Ｂ付着量データ等が記憶される。このＲ，Ｇ，Ｂ付着量データは、色別で規定することもできるし、マザー基材３８ａ上の座標位置との関連で規定することもできる。
【０１３１】
色絵素形成用のインクジェット装置４６に関するＣＰＵ９９は、Ｒ，Ｇ，Ｂ形成位置データ及びＲ，Ｇ，Ｂ付着量データに基づいて、インクジェットヘッド５２の主走査中に複数のノズル５７のいずれから、いずれのタイミングでインク、すなわち色絵素材料を吐出するかを演算する。
【０１３２】
他方、保護膜形成工程Ｐ３３で使用されるインクジェット装置４６に備えられる図１７のメモリ１０１には、色絵素形成工程Ｐ３２で使用されるインクジェット装置４６の場合と同様に、保護膜形成の全般の手順を規制するプログラムソフトと、図４の希望する色絵素配列を実現するＲ，Ｇ，Ｂ形成位置データと、Ｒ，Ｇ，Ｂの各位置に各色材料をどのくらいの量で供給するかを規定するＲ，Ｇ，Ｂ付着量データ等が記憶される。
【０１３３】
保護膜形成用のインクジェット装置４６に関するＣＰＵ９９は、Ｒ，Ｇ，Ｂ形成位置データ及びＲ，Ｇ，Ｂ付着量データに基づいて、インクジェットヘッド５２の主走査中に複数のノズル５７のいずれから、いずれのタイミングでインク、すなわち保護膜材料を吐出するかを演算する。例えば、図５（ａ）に示すように、保護膜１７の頂面とバンク１４の頂面とをほぼ等しくするように保護膜材料の吐出量を決める場合を考えれば、ＣＰＵ９９はバンク１４によって形成される格子状穴の容積から色絵素１６の容積を減算した容積を保護膜材料の吐出量として算出する。
【０１３４】
もちろん、保護膜形成用のインクジェット装置４６のためのメモリ１０１として、Ｒ，Ｇ，Ｂ付着量データを記憶しておくことに代えて、Ｒ，Ｇ，Ｂの個々の色絵素に対応させて具体的にどのくらいの量の保護膜を吐出するかを直接的に記憶しておくことも可能である。
【０１３５】
図１７のＣＰＵ９９は、メモリ１０１内に記憶されたプログラムソフトに従って、マザー基材３８ａの表面の所定位置にインク、すなわち色絵素材料又は保護膜材料を吐出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現部として、クリーニング処理を実現するための演算を行うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現するためのキャッピング演算部と、電子天秤１０８（図１２参照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部と、インクジェットによって色絵素材料又は保護膜材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有する。
【０１３６】
また、描画演算部を詳しく分割すれば、インクジェットヘッド５２を描画のための初期位置へセットするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド５２を主走査方向Ｘへ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基材３８ａを副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェットヘッド５２内の複数のノズル５７のうちのいずれを、どのタイミングで作動させてインクすなわち色絵素材料又は保護膜材料を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部等といった各種の機能演算部を有する。
【０１３７】
なお、本実施形態では、上記の各機能をＣＰＵ９９を用いてソフト的に実現することにしたが、上記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【０１３８】
以下、上記構成から成るインクジェット装置４６の動作を図１８に示すフローチャートに基づいて説明する。
【０１３９】
オペレータによる電源投入によってインクジェット装置４６が作動すると、まず、ステップＳ１において初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニット５６や基板供給装置５３やコントロール装置５４等が予め決められた初期状態にセットされる。
【０１４０】
次に、重量測定タイミングが到来すれば（ステップＳ２でＹＥＳ）、図１３のヘッドユニット５６を主走査駆動装置４９によって図１２の電子天秤１０８の所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル５７から吐出されるインクの量を電子天秤１０８を用いて測定する（ステップＳ４）。そして、ノズル５７のインク吐出特性に合わせて、各ノズル５７に対応する圧電素子７１に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。
【０１４１】
次に、クリーニングタイミングが到来すれば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット５６を主走査駆動装置４９によってクリーニング装置１０７の所まで移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置１０７によってインクジェットヘッド５２をクリーニングする（ステップＳ８）。
【０１４２】
重量測定タイミングやクリーニングタイミングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮＯ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステップＳ９において、図１２の基板供給装置５３を作動させてマザー基材３８ａをテーブル７９へ供給する。具体的には、基板収容部８７内のマザー基材３８ａを吸着パッド９４によって吸引保持し、次に、昇降軸９１、第１アーム９２及び第２アーム９３を移動させてマザー基材３８ａをテーブル７９まで搬送し、さらにテーブル７９の適所に予め設けてある位置決めピン８０（図１３参照）に押し付ける。なお、テーブル７９上におけるマザー基材３８ａの位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマザー基材３８ａをテーブル７９に固定することが望ましい。
【０１４３】
次に、図１２の基板用カメラ１１２によってマザー基材３８ａを観察しながら、図１３のθモータ８１の出力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル７９を微小角度単位で面内回転させてマザー基材３８ａを位置決めする（ステップＳ１０）。次に、図１２のヘッド用カメラ１１１によってマザー基材３８ａを観察しながらインクジェットヘッド５２によって描画を開始する位置を演算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走査駆動装置４９及び副走査駆動装置５１を適宜に作動させてインクジェットヘッド５２を描画開始位置へ移動する（ステップＳ１２）。このとき、インクジェットヘッド５２は、図１９に示すように、各ヘッド部５０のノズル列５８の延在方向Ｚが主走査方向Ｘと直角の方向となるようにセットされる。
【０１４４】
図１８のステップＳ１２でインクジェットヘッド５２が描画開始位置に置かれると、その後、ステップＳ１３でＸ方向への主走査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体的には、図１３の主走査駆動装置４９が作動してインクジェットヘッド５２が図１９の主走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移動し、その移動中、色絵素材料又は保護膜材料を吐出すべき領域にノズル５７が到達したときにそのノズル５７からインクすなわち色絵素材料又は保護膜材料が吐出されて該領域が埋められる。図１９（ｂ）は色絵素材料Ｍ又は保護膜材料Ｍがバンク１４によって区画される領域へ滴状すなわちドット状に吐出する状態を模式的に示している。
【０１４５】
図１９（ａ）において、インクジェットヘッド５２がマザー基材３８ａに対する１回の主走査を終了すると（ステップＳ１４でＹＥＳ）、そのインクジェットヘッド５２は反転移動して初期位置へ復帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘッド５２は、副走査駆動装置５１によって駆動されて副走査方向Ｙへ予め決められた副走査量、例えば、１個のヘッド部５０に属するノズル列５８の１列分の長さ又はその整数倍だけ移動する（ステップＳ１６）。そして次に、主走査及びインク吐出が繰り返して行われて、未だ色絵素１６又は保護膜１７が形成されていない領域に色絵素１６又は保護膜１７が形成される（ステップＳ１３）。
【０１４６】
なお、ステップＳ１５の復帰移動を省略して、１回の主走査の終了後、直ちに副走査移動を行い、その副走査移動の終了後、前回の主走査方向と反対方向へ主走査をこない、その主走査中にインクすなわち色絵素材料や保護膜材料の吐出を行うという吐出制御を行うこともできる。つまり、この場合には、インクジェットヘッド５２の往復移動の往動時及び復動時の両方でインク吐出のための主走査を実行することになる。
【０１４７】
以上のようなインクジェットヘッド５２による色絵素１６又は保護膜１７の描画作業がマザー基材３８ａの全領域に対して完了すると（ステップＳ１７でＹＥＳ）、ステップＳ１８で基板供給装置５３によって又は別の搬送機器によって、処理後のマザー基材３８ａが外部へ排出される。その後、オペレータによって処理終了の指示がなされない限り（ステップＳ１９でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基材３８ａに対する色絵素材料等の吐着作業を繰り返して行う。
【０１４８】
オペレータから作業終了の指示があると（ステップＳ１９でＹＥＳ）、ＣＰＵ９９は図１２においてインクジェットヘッド５２をキャッピング装置１０６の所まで搬送して、そのキャッピング装置１０６によってインクジェットヘッド５２に対してキャッピング処理を施す（ステップＳ２０）。以上により、カラーフィルタ１１を構成する各色絵素１６についてのパターニング又は保護膜１７についてのパターニングが終了する。この後は、図９の工程Ｐ３において既に説明した第１電極形成工程が実行される。
【０１４９】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、図１１において個々の色絵素１６がインクジェット法によって形成されるので、光反射膜９に設ける開口１８と色絵素１６との関係を個別に調節でき、よって、表示色の調節を各色絵素１６ごとに細かく調節でき、その結果、表示色を平面内で均一にすることができる。
【０１５０】
図１５は、図１４（ｂ）に示すヘッド部５０の改変例を示している。図１４（ｂ）に示したヘッド部５０においては、ノズル列５８が主走査方向Ｘに関して１列だけ設けられた。これに代えて、図１５に示すヘッド部５０ではノズル列５８が主走査方向Ｘに関して複数列、本実施形態では２列設けられている。このヘッド部５０を用いれば、図１４（ａ）のキャリッジ５５がＸ方向へ主走査するときに、その主走査方向Ｘに並んだ２個のノズル５７によってインクを吐出できるので、色絵素材料及び保護膜材料の吐出量の制御の仕方を多用化できる。
【０１５１】
図２０は本発明に係る液晶装置の製造方法、特にカラーフィルタ形成工程の他の実施形態の主要工程を示しており、この工程は既に説明した先の実施形態における図１９で示した工程に代えて行われる。なお、本実施形態に係る製造方法によって製造するカラーフィルタは図５に符号“１１”で示すカラーフィルタとすることができる。また、カラーフィルタ１１は、図１０（ａ）に示すマザー基材３８ａ上に複数の液晶パネル分を同時に形成できる。
【０１５２】
また、カラーフィルタ１１に形成する色絵素の配列は図４に示すストライプ配列等のような各種配列とすることができる。また、カラーフィルタ１１を形成するための工程は、図１１に工程Ｐ３１〜Ｐ３３で示す工程を採用できる。また、色絵素形成工程Ｐ３２及び保護膜形成工程Ｐ３３において使用するインクジェット装置は図１２に示す構造の装置を採用できる。
【０１５３】
図２０に示す実施形態が先の実施形態と異なる点は、図１９と比較すれば明らかなように、インクジェットヘッド５２をマザー基材３８ａに対する初期位置すなわち主走査開始位置に置いたとき、キャリッジ５５の全体が副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜することにより、６個のノズル列５８の延在方向Ｚが副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜することである。
【０１５４】
本実施形態の構成によれば、各ヘッド部５０は副走査方向Ｙに対して角度θの傾斜状態でＸ方向へ主走査を行うので、各ヘッド部５０に属する複数のノズル５７のノズル間ピッチをマザー基材３８ａ上の色絵素形成領域の間隔及び保護膜形成領域の間隔、すなわちエレメント間ピッチに一致させることができる。このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾何学的に一致させれば、ノズル列５８を副走査方向Ｙに関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。図２１は本発明に係る液晶装置の製造方法、特にカラーフィルタ形成工程のさらに他の実施形態の主要工程を示しており、この工程も既に説明した先の実施形態における図１９で示した工程に代えて行われる。なお、本実施形態に係る製造方法によって製造するカラーフィルタ基板は図５に符号“１１”で示すカラーフィルタとすることができる。また、カラーフィルタ１１は、図１０（ａ）に示すマザー基材３８ａ上に複数の液晶パネル分を同時に形成できる。
【０１５５】
また、カラーフィルタ１１に形成する色絵素の配列は図４に示すストライプ配列等のような各種配列とすることができる。また、カラーフィルタ１１を形成するための工程は、図１１に工程Ｐ３１〜Ｐ３３で示す工程を採用できる。また、色絵素形成工程Ｐ３２及び保護膜形成工程Ｐ３３において使用するインクジェット装置は図１２に示す構造の装置を採用できる。
【０１５６】
図２１に示す実施形態が先の実施形態と異なる点は、図１９と比較すれば明らかなように、インクジェットヘッド５２をマザー基材３８ａに対する初期位置すなわち主走査開始位置に置いたとき、キャリッジ５５の全体は副走査方向Ｙに対して傾斜することはないが、６個のヘッド部５０が個々に副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜することにより、各ノズル列５８の延在方向Ｚが副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜することである。
【０１５７】
本実施形態の構成によれば、各ノズル列５８は副走査方向Ｙに対して角度θの傾斜状態でＸ方向へ主走査を行うので、各ノズル列５８に属する複数のノズル５７のノズル間ピッチをマザー基材３８ａ上の色絵素形成領域の間隔及び保護膜形成領域の間隔、すなわちエレメント間ピッチに一致させることができる。このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾何学的に一致させれば、ノズル列５８を副走査方向Ｙに関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。また、本実施形態では図２０のようにキャリッジ５５の全体を傾斜させるのではなくて、個々のヘッド部５０を傾斜させるようにしてあるので、吐出対象物であるマザー基材３８ａに最も近いノズル５７から最も遠いノズル５７までの距離が図２０の場合に比べて著しく小さくでき、それ故、Ｘ方向への主走査の時間を短縮化できる。これにより、カラーフィルタ基板の製造時間を短縮できる。
【０１５８】
（液晶装置の第２実施形態）
図５、図６、図７及び図８に示した実施形態では、色絵素１６は、バンク１４によって囲まれた領域内で、その中央部分が盛り上がった断面山形状、すなわちドーム形状に形成されていた。この形状は、例えばインクジェット方式で滴下した色絵素材料を低温度でゆっくりと乾燥、例えば４０℃で１０分間程度、乾燥することにより実現される。
【０１５９】
このような色絵素１６の形状に代えて、図２２に示すように、各色絵素１６の形状を中央部分が窪んだ断面谷形状に形成することもできる。この形状は、例えばインクジェット方式で滴下した色絵素材料を高温度で速く乾燥、例えば１００℃で１分間、乾燥することによって実現できる。このような高温度による乾燥作業は、低温度による乾燥作業に比べて、比較的広い範囲で温度誤差が許容されるので温度制御が簡便であり、しかも、作業を短時間で終了できるという長所を有している。
【０１６０】
このように色絵素１６を断面谷形状に形成する場合には、光反射膜９に設ける開口１８は、図２２に示すように、バンク１４によって囲まれる領域の周辺部、すなわち色絵素１６の膜厚が厚い部分、の全域に環状に設けることができる。これにより、反射表示時と透過表示時との間において色絵素１６を通過する光の光路長を近付け又は等しくすることができ、それ故、両表示間での色表示を均一にできる。
【０１６１】
なお、本実施形態の場合も開口１８の角部に、図６（ｂ）に示すように直線的な面取りＭ１を付けたり、図７（ｂ）に示すように曲線的な面取りＭ２を付けたりすることができる。また、図８（ｂ）の場合と同様に、色絵素１６の厚さの違いに応じて生じる干渉縞Ｆに合わせて光反射膜に開口を形成することもできる。なお、図２２において、図５の実施形態の場合と同じ部材は同じ符号を用いて示すことにしてそれらの部材の説明は省略することにする。
【０１６２】
（変形例）
図２３は光反射膜９に形成する開口１８の改変例を示している。ここに示す開口１８が図２２に示した先の実施形態に係る開口１８と異なる点は、バンク１４によって囲まれた長方形領域の長手方向（すなわち、図２３（ｂ）の上下方向）の周辺部に沿って開口１８を形成したことである。その他の点に関しては図２２に示した実施形態の場合と同じである。
【０１６３】
図２４は光反射膜９に形成する開口１８の他の改変例を示している。ここに示す開口１８が図２２に示した先の実施形態に係る開口１８と異なる点は、バンク１４によって囲まれた長方形領域の短手方向（すなわち、図２４（ｂ）の左右方向）の周辺部に沿って開口１８を形成したことである。その他の点に関しては図２２に示した実施形態の場合と同じである。
【０１６４】
図２５は、光反射膜９に形成する開口１８のさらに他の改変例を示している。ここに示す開口１８が図２２に示した先の実施形態に係る開口１８と異なる点は、バンク１４によって囲まれた長方形領域の４つの角部に対応して円柱状、すなわち断面円形状の開口１８を形成したことである。その他の点に関しては図２２に示した実施形態の場合と同じである。
【０１６５】
（電子機器の実施形態）
図２６は、本発明に係る電子機器の一例である携帯電話機の一実施形態を示している。この携帯電話機１２０は、液晶装置によって構成された表示部１２１と、アンテナ１２２と、スピーカ１２３と、キースイッチ群１２４と、マイクロホン１２５とを有する。表示部としての液晶装置１２１は、例えば、図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。
【０１６６】
図２７は、本発明に係る電子機器の一例である腕時計の一実施形態を示している。この腕時計１３０は表示部として液晶装置１３１を有しており、この液晶装置１３１は、例えば、図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。
【０１６７】
図２８は、本発明に係る電子機器の一例である携帯型情報処理装置の一実施形態を示している。この携帯型情報処理装置１４０は、例えば、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等として提供されるものである。ここに示す携帯型情報処理装置１４０は、本体１４１の表面に設けられたキーボード等といった入力装置１４２と、表示部としての液晶装置１４３とを有する。本体１４１の内部に配設されたプロセッサの処理により、キーボード１４２を通して入力された情報や、その情報に基づく何等かの演算処理が表示部１４３に表示される。
【０１６８】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１６９】
例えば、以上の説明では色絵素としてＲ，Ｇ，Ｂを用いたが、Ｒ，Ｇ，Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂの色絵素材料に代えて、Ｃ，Ｍ，Ｙの色を有する色絵素材料を用いれば良い。
【０１７０】
また、以上に説明した実施形態では、図１４等に示すようにインクジェットヘッド５２の中に６個のヘッド部５０を設けたが、ヘッド部５０の数はより少なく又はより多くすることができる。
【０１７１】
また、図１０（ａ）及び（ｂ）に示した実施形態では、マザー基材３８ａ及び３８ｂの中に複数列の液晶パネル形成領域３ａ及び３ｂが設定される場合を例示したが、マザー基材３８ａ及び３８ｂの中に１列の液晶パネル形成領域３ａが設定される場合にも本発明を適用できる。また、マザー基板３８ａ及び３８ｂとほぼ同じ大きさの又はそれよりもかなり小さい１個の液晶パネル形成領域３ａ及び３ｂだけがそのマザー基材３８ａ及び３８ｂの中に設定される場合にも本発明を適用できる。
【０１７２】
また、図１２及び図１３に示したインクジェット装置４６では、インクジェットヘッド５２をＸ方向へ移動させて基材３８ａを主走査し、基材３８ａを副走査駆動装置５１によってＹ方向へ移動させることによりインクジェットヘッド５２によって基材３８ａを副走査することにしたが、これとは逆に、基材３８ａのＹ方向への移動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド５２のＸ方向への移動によって副走査を実行することもできる。
【０１７３】
また、上記実施形態では、圧電素子の撓み変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェットヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッドを用いることもできる。
【０１７４】
尚、保護膜の形成にあっては、インクジェットに限らず、スピンコート、ロールコート、印刷等、任意の方法を用いることができる。
【０１７５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る液晶装置及びその製造方法によれば、光反射膜の開口が色絵素の最大膜厚部分に対応して形成されるので、また、光反射膜の開口が色絵素の中心部に対応して形成されるので、また、光反射膜の開口が色絵素の長手方向に沿って長い形状形成されるので、透過表示時に色ムラのない均一な色表示を行うことができると共に、透過表示時と反射表示時との間で均一な色表示を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態の分解斜視図である。
【図２】図１におけるＩ−Ｉ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図３】図１において矢印Ｄで示す部分を拡大して示す図である。
【図４】カラーフィルタにおける複数種類の色絵素の配列形態の例を示す図である。
【図５】カラーフィルタの一例の１画素部分の構造を示し、（ａ）は色絵素の短手方向の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は色絵素の長手方向の断面図を示している。
【図６】カラーフィルタの他の一例の１画素部分の構造を示し、（ａ）は色絵素の短手方向の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は色絵素の長手方向の断面図を示している。
【図７】カラーフィルタのさらに他の一例の１画素部分の構造を示し、（ａ）は色絵素の短手方向の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は色絵素の長手方向の断面図を示している。
【図８】カラーフィルタのさらに他の形成方法を説明するための図であり、（ａ）は干渉縞の測定系の一例を示し、（ｂ）はその測定系によって得られる干渉縞を模式的に示している。
【図９】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１０】図９の製造方法の一工程で得られるマザー基板を模式的に示す平面図である。
【図１１】図９の製造方法の一工程であるカラーフィルタ形成工程の一実施形態を示す工程図である。
【図１２】図１１に示す製造方法の一工程で用いられるインクジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図１３】図１２の装置の主要部を拡大して示す斜視図である。
【図１４】図１２の装置で用いられるインクジェットヘッドの一実施形態及びそのインクジェットヘッドに用いられるヘッド部の一実施形態を示す斜視図である。
【図１５】インクジェットヘッドのヘッド部の改変例を示す斜視図である。
【図１６】インクジェットヘッドのヘッド部の内部構造を示す図であって、（ａ）は一部破断斜視図を示し、（ｂ）は（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す。
【図１７】図１２のインクジェット装置に用いられる電気制御系を示すブロック図である。
【図１８】図１７の制御系によって実行される制御の流れを示すフローチャートである。
【図１９】本発明に係る液晶装置の製造方法の主要工程であるカラーフィルタ形成工程の一実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図２０】本発明に係る液晶装置の製造方法の主要工程であるカラーフィルタ形成工程の他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図２１】本発明に係る液晶装置の製造方法の主要工程であるカラーフィルタ形成工程のさらに他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図２２】カラーフィルタのさらに他の一例の１画素部分の構造を示し、（ａ）は色絵素の短手方向の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は色絵素の長手方向の断面図を示している。
【図２３】カラーフィルタのさらに他の一例の１画素部分の構造を示し、（ａ）は色絵素の短手方向の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は色絵素の長手方向の断面図を示している。
【図２４】カラーフィルタのさらに他の一例の１画素部分の構造を示し、（ａ）は色絵素の短手方向の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は色絵素の長手方向の断面図を示している。
【図２５】カラーフィルタのさらに他の一例の１画素部分の構造を示し、（ａ）は色絵素の短手方向の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は色絵素の長手方向の断面図を示している。
【図２６】本発明に係る電子機器の一実施形態を示す斜視図である。
【図２７】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【図２８】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す正面図である。
【符号の説明】
１　　　　　　液晶装置
２　　　　　　液晶パネル
３ａ，３ｂ　　基板
４　　　　　　シール材
８ａ，８ｂ　　基材
９　　　　　　光反射膜
１１　　　　　　カラーフィルタ
１２ａ，１２ｂ　電極
１４　　　　　　バンク（区画材）
１６　　　　　　色絵素
１７　　　　　　保護膜
１８　　　　　　開口
２２　　　　　　スイッチング素子
２８　　　　　　格子穴（色絵素形成領域）
３３ａ，３３ｂ　マザー基板
３８ａ，３８ｂ　マザー基材
４６　　　　　　インクジェット装置
５２　　　　　　インクジェットヘッド
５７　　　　　　ノズル
５８　　　　　　ノズル列
６９　　　　　　インク加圧体
７１　　　　　　圧電素子
Ｆ　　　　　　干渉縞
Ｌ　　　　　　液晶
Ｍ１，Ｍ２　　面取り
Ｍ６，Ｍ７　　材料
Ｐ　　　　　　区画領域の中心部
Ｒ０　　　　　自然光
Ｔ０　　　　　基準値
Ｘ　　　　　　主走査方向
Ｙ　　　　　　副走査方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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