(57)【要約】【課題】光輝材料の含有量が少なくて済み、光輝材料を含んだ光輝性層を厚く形成する必要がなく、優れた光輝性を発揮する光輝性表面模様構造を提供する。【解決手段】光輝性粒子Ｘを含む光輝性模様形成樹脂を基材１上に積層して光輝性模様形成樹脂層を形成してなる光輝性表面模様構造において、光輝性模様形成樹脂層の表面に凹凸４を形成し、当該凹凸４の凹部４Ａ断面における光輝性粒子Ｘの粒子数よりも凸部４Ｂ断面における粒子数を多くして模様表面の光輝性を高めるようにした。表面を凹凸にすることにより凸部断面における粒子数を多くしてこの部分の光輝性を集中的に高め、同じ量の光輝性粒子を含み、表面平坦な光輝性模様形成樹脂層に比べ、模様表面の光輝性を高めることができる。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光輝性粒子を含む光輝性模様形成樹脂を基材上に積層して光輝性模様形成樹脂層を形成してなる光輝性表面模様構造において、
光輝性模様形成樹脂層の表面に凹凸を形成することにより、当該凹凸の凹部断面における光輝性粒子の粒子数よりも凸部断面における粒子数を多くして模様表面の光輝性を高めることを特徴とする光輝性表面模様構造。
【請求項２】
基材表面上に下地形成樹脂が積層して下地形成樹脂積層を形成し、当該下地形成樹脂積層上に、光輝性粒子を含み、かつ下地形成樹脂よりも表面張力が高い光輝性模様形成樹脂が積層して光輝性模様形成樹脂層を形成し、当該光輝性模様形成樹脂層の表面は微細凹凸したエンボス面部とされてなる構成を備えた光輝性表面模様構造。
【請求項３】
基材表面上に下地形成樹脂が部分的に積層し、当該基材表面上に下地形成樹脂積層部と、平面に見てこの下地形成樹脂積層部に囲まれるか或いは挟まれるかしてなる下地形成樹脂非積層部とを形成し、
下地形成樹脂積層部及び下地形成樹脂非積層部上に、光輝性粒子を含み、かつ下地形成樹脂よりも表面張力が高い光輝性模様形成樹脂が積層して光輝性模様形成樹脂層を形成し、下地形成樹脂積層部上に積層した光輝性模様形成樹脂層表面は凹凸したエンボス面部とされ、下地形成樹脂非積層部上に積層した光輝性模様形成樹脂層表面は断面が円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部とされてなる構成を備えた光輝性表面模様構造。
【請求項４】
基材表面上に下地形成樹脂を積層させて下地形成樹脂積層部を形成し、当該下地形成樹脂積層部上に、光輝性粒子を含み、かつ下地形成樹脂よりも表面張力が高い光輝性模様形成樹脂をほぼ均一に塗布し、必要に応じて光輝性模様形成樹脂に対する硬化処理を行うことによって、光輝性模様形成樹脂層を形成すると共にその表面を凹凸させてエンボス面部とすることを特徴とする光輝性表面模様構造の製造方法。
【請求項５】
基材表面上に下地形成樹脂を、積層しない部分を平面に見て囲むか或いは挟むかするように部分的に積層し、これら下地形成樹脂積層部及び下地形成樹脂非積層部上に、下地形成樹脂よりも表面張力が高く、かつ光輝性粒子を含む光輝性模様形成樹脂をほぼ均一に塗布し、必要に応じて光輝性模様形成樹脂に対する硬化処理を行うことにより、下地形成樹脂積層部上に積層する光輝性模様形成樹脂層の表面を凹凸させてエンボス面部とすると共に、下地形成樹脂積層部上の光輝性模様形成樹脂の一部を下地形成樹脂非積層部に移動させて集めて下地形成樹脂非積層部上に積層する光輝性模様形成樹脂層表面を断面が円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部とすることを特徴とする光輝性表面模様構造の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基材表面に付与する表面模様構造に関し、詳しくは、光輝性を備えた表面模様構造及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光輝性を付与してなる表面模様構造或いはそのための樹脂組成物としては、例えば特許文献１（特公昭５９―４４２５５号公報）には、装飾層にパール顔料を所定量混入した変性ポリオレフィン樹脂を用い、着色層に着色したポリオレフィン樹脂を用い、被覆層に透明な熱可塑性樹脂を用いてなる多層構造成形品が開示されている。
【０００３】
特許文献２（特開昭５８−３７０４５号公報）には、ＡＢＳ樹脂とＡＳ樹脂の混合物１００重量部に、金属粉を０．５〜３０重量部添加混合することによって一様なメタリック調を付与した樹脂組成物が開示されている。
【０００４】
特許文献３（特開平６―１７１６３９号公報）には、樹脂製容器の容器壁で、その容器壁が外層および内層、または前記外層と前記内層を接着する中間層からなる多層構造の前記外層あるいは前記中間層のいずれか一層に粒径の小さな真珠光沢顔料を混入せしめたパール着色層を有する多層容器が開示されている。
【０００５】
特許文献４（特開２００１−３４１２４０）には、樹脂からなる第１層、および、光沢顔料を含む樹脂からなる第２層を有する多層構造樹脂成形品において、前記光沢顔料が、フレーク状ガラスの表面を、金属の層、または該フレーク状ガラスの屈折率よりも高い屈折率を有する金属酸化物の層で被覆してなる鱗片状粒子である光沢性外観を有する多層構造樹脂成形品が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】
特公昭５９―４４２５５号公報
【特許文献２】
特開昭５８−３７０４５号公報
【特許文献３】
特開平６―１７１６３９号公報
【特許文献４】
特開２００１−３４１２４０号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
基材表面に光輝性を付与するには、金属粉やパール顔料などの光輝材料を含む樹脂を基材表面等に塗工し、光輝性を備えた光輝性層を形成する必要がある。この際、好ましいメタリック感やパール感を得るためには、光輝材料の含有量を高めるか、或いは光輝性層を厚く塗る必要があった。
【０００８】
しかし、金属粉やパール顔料などの光輝材料はそれ自体価格が高いため、光輝材料の含有量を高めたり、光輝性層を厚く形成したりすることは、いずれも製造コストが高くなることを意味する。また、光輝材料を多く含有させると、塗工した樹脂の乾燥が悪くなり、ひっかき強度が低下するという問題も生じる。また、光輝性層を厚く塗るためには、シルク印刷等の印刷速度の遅い印刷方法で厚く塗工しなければならず、作業効率が低下するといった問題も発生する。
【０００９】
そこで本発明は、光輝性を備えた表面模様構造において、光輝材料の含有量が少なくて済み、しかも光輝材料を含んだ光輝性層を厚く形成する必要がなく、それでいて優れた光輝性を発揮する光輝性表面模様構造及びその製造方法を提供せんとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光輝性粒子を含む光輝性模様形成樹脂を基材上に積層して光輝性模様形成樹脂層を形成してなる光輝性表面模様構造において、光輝性模様形成樹脂層の表面に凹凸を形成することにより、当該凹凸の凹部断面における光輝性粒子の粒子数よりも凸部断面における粒子数を多くして模様表面の光輝性を高めることを特徴とする光輝性表面模様構造を提案する。
【００１１】
光輝性模様形成樹脂層の光輝性は、断面における光輝性粒子の数に比例して高まるものと考えられる。本発明の光輝性表面模様構造では、光輝性粒子（光輝性材料を含む）の含有量が少なくても、また、光輝性粒子を含む光輝性模様形成樹脂層の平均厚さが小さくても、凸部断面における粒子数が多くなるからこの部分の光輝性を集中的に高めることができ、模様表面全体の光輝性を高めることができる。言い換えれば、同じ量の光輝性粒子を含み、表面平坦な光輝性模様形成樹脂層に比べ、模様表面の光輝性を高めることができる。
【００１２】
なお、本発明において、光輝性模様形成樹脂層表面の凹凸の程度は、微細凹凸したエンボス状程度であってもよい。ＪＩＳ−Ｂ０６５１に規定の触針式表面粗さ測定器を用い、触針２μｍ、荷重７０ｍｇ、測定長８ｍｍで測定した場合の値において、平均表面粗さ（Ｒａ）０．５以上、十点平均粗さ（Ｒｚ）０．５以上、最大高さ（Ｒｍａｘ）２μｍ以上のいずれかであるのが好ましい。これ以上に凹凸の程度が大きい場合、言い換えれば凸部の高さが大きい場合であればより一層好ましい光輝性を得ることができる。
【００１３】
上記構成を備えた光輝性表面模様構造としては、例えば、基材表面上に下地形成樹脂が積層して下地形成樹脂積層を形成し、当該下地形成樹脂積層上に、光輝性粒子を含み、かつ下地形成樹脂よりも表面張力が高い光輝性模様形成樹脂が積層して光輝性模様形成樹脂層を形成し、当該光輝性模様形成樹脂層の表面は微細凹凸したエンボス面部とされてなる構成を備えた光輝性表面模様構造を挙げることができる。
このような光輝性表面模様構造であれば、エンボス面部の微細凹凸における凸部断面の光輝性粒子の粒子数を多くすることができ、模様表面全体の光輝性を増大させることができる。
【００１４】
また、基材表面上に下地形成樹脂が部分的に積層し、当該基材表面上に下地形成樹脂積層部と、平面に見てこの下地形成樹脂積層部に囲まれるか或いは挟まれるかしてなる下地形成樹脂非積層部とを形成し、下地形成樹脂積層部及び下地形成樹脂非積層部上に、光輝性粒子を含み、かつ下地形成樹脂よりも表面張力が高い光輝性模様形成樹脂が積層して光輝性模様形成樹脂層を形成し、下地形成樹脂積層部に積層した光輝性模様形成樹脂層表面は凹凸したエンボス面部とされ、下地形成樹脂非積層部上に積層した光輝性模様形成樹脂層表面は断面が円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部とされてなる構成を備えた光輝性表面模様構造を挙げることができる。
このような光輝性表面模様構造では、エンボス面部の凸部並びに丸凸部乃至丸凸条部における断面の光輝性粒子の粒子数が、その他の部分における断面の粒子数よりも多くなり、模様表面全体の光輝性を増大させることができる。しかも、丸凸部乃至丸凸条部は、エンボス面部とも、単なる透明面部とも異なる異質の外観とすることができるから、丸凸部乃至丸凸条部、言い換えれば下地形成樹脂非積層部の大きさ、形状、配置等を各種変更することによって新たなデザインを基材表面に与えることができる。
【００１５】
上記の光輝性表面模様構造において、光輝性模様形成樹脂層の表面をエンボス面部とする方法としては、下地形成樹脂と光輝性模様形成樹脂とのハジキ現象を利用して樹脂表面を凹凸とする方法、下地形成樹脂と光輝性模様形成樹脂との表面張力の差を利用して樹脂表面を凹凸とする方法、光輝性模様形成樹脂にちぢみインキを用いる方法、複数種類の下地形成樹脂と光輝性模様形成樹脂との濡れ易さの違いにより凹凸を形成する方法、表面に凹凸面を備えた賦型フィルム、メッキ板或いはエンボスロールを基材表面に加圧して樹脂表面に凹凸を付する方法など、従来公知の各種方法を採用することが可能であり、また、下地形成樹脂非積層部の光輝性模様形成樹脂表面を丸凸部乃至丸凸条部とする方法も特に制限するものではないが、本発明は、下地形成樹脂と光輝性模様形成樹脂との表面張力差によって基材表面上にエンボス面部及び丸凸部乃至丸凸条部（レンズ状凸部乃至レンズ状凸条部）を形成する方法をより好ましいと考え、次のような製造方法を提案する。
【００１６】
即ち、本発明は、基材表面上に下地形成樹脂を積層させて下地形成樹脂積層部を形成し、当該下地形成樹脂積層部上に、光輝性粒子を含み、かつ下地形成樹脂よりも表面張力が高い光輝性模様形成樹脂をほぼ均一に塗布し、必要に応じて光輝性模様形成樹脂に対する硬化処理を行うことによって、光輝性模様形成樹脂層を形成すると共にその表面を凹凸させてエンボス面部とすることを特徴とする光輝性表面模様構造の製造方法を提案する。
【００１７】
また、基材表面上に下地形成樹脂を、積層しない部分を平面に見て囲むか或いは挟むかするように部分的に積層し、これら下地形成樹脂積層部及び下地形成樹脂非積層部上に、下地形成樹脂よりも表面張力が高く、かつ光輝性粒子を含む光輝性模様形成樹脂をほぼ均一に塗布し、必要に応じて光輝性模様形成樹脂に対する硬化処理を行うことにより、下地形成樹脂積層部上に積層する光輝性模様形成樹脂層の表面を凹凸させてエンボス面部とすると共に、下地形成樹脂積層部上の光輝性模様形成樹脂の一部を下地形成樹脂非積層部に移動させて集めて下地形成樹脂非積層部上に積層する光輝性模様形成樹脂層表面を断面が円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部とすることを特徴とする光輝性表面模様構造の製造方法提案する。
このような製造方法によれば、所定形状の下地形成樹脂非積層部を部分的に残して下地形成樹脂を基材表面上に積層し、光輝性模様形成樹脂をほぼ均一に塗布し、必要に応じて硬化処理を行うだけで、下地形成樹脂積層部上の光輝性模様形成樹脂層の表面をエンボス面部とし、かつ、下地形成樹脂非積層部上の光輝性模様形成樹脂層の表面を円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部とすることができ、基材表面上に光輝性を備えたエンボス面部と丸凸部乃至丸凸条部とを形成することができる。
しかも、下地形成樹脂非積層部（すなわち下地形成樹脂を積層しないで残す部分）の形状を変化させることで基材表面の模様を自在にデザインすることができ、また、下地形成樹脂と光輝性模様形成樹脂との表面張力差を種々変化させることでエンボス面部の凹凸の大きさ及び形状は勿論、丸凸部乃至丸凸条部の大きさ及び形状も自在に変えることができる。
【００１８】
なお、本発明において「透明樹脂」とは、無色透明及び有色透明の樹脂をいずれも包含する意であり、「表面が凹凸」とは、表面が平坦でなく、多数の凹部又は凸部を備えているという意味であり、微細な凹凸からなるエンボス面、多数の丸凸部乃至丸凸条部を備えた面などの状態を包含する。また、「光輝性粒子」とは、樹脂に配合することで当該樹脂に光輝性を当たることができる粒子全般を意味している。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
なお、本実施形態では、基材１表面上にエンボス面部４と丸凸部乃至丸凸条部５とを備えた構造について説明するが、本発明の光輝性表面模様構造がこのような実施形態に制限されるものではない。例えば、エンボス面部４、丸凸部乃至丸凸条部５のいずれかを備えた構造も、本発明の光輝性表面模様構造に含まれる。
【００２０】
光輝性表面模様構造１０は、図１に示すように、基材１の表面上に下地形成樹脂２を部分的に（すなわち、基材１の全面ではない部分内に、部分的に非積層部２Ｂを残して）積層し、下地形成樹脂積層部２Ａ及び下地形成樹脂非積層部２Ｂ（この２Ｂ部分は基材１が露出している）上に、光輝性粒子Ｘを含む光輝性模様形成樹脂３を積層して光輝性模様形成樹脂層を形成し、この光輝性模様形成樹脂層の表面のうち、下地形成樹脂積層部２Ａ上の表面を微細凹凸したエンボス面部４とし、下地形成樹脂非積層部２Ｂ上の表面を断面が円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部５とし、基材１全体で見ると、基材１の表面上にエンボス面部４、丸凸部乃至丸凸条部５及び基材残存面６（基材１の表面のまま残した面部）を形成してある。
【００２１】
上記の構成において、微細凹凸したエンボス面部４を断面で見ると、図２（Ａ）に示すように、微細凹凸を構成する凹部４Ａより凸部４Ｂの方が厚いから、一定の密度で光輝性粒子Ｘが含んでいれば、凹部４Ａの断面における一定幅Ｌ内の光輝性粒子Ｘの粒子数よりも凸部４Ｂの断面における一定幅Ｌ内の光輝性粒子Ｘの粒子数の方が多くなっている。
また、仮に、図２（Ｂ）に示すように、同じ密度で光輝性粒子Ｘを含み、かつエンボス面部４における光輝性模様形成樹脂層の平均厚さと同じ厚さを備えた平坦な樹脂層３０を想定すると、平坦な樹脂層３０の断面における一定幅Ｌ内の光輝性粒子Ｘの粒子数よりも、凸部４Ｂの断面における一定幅Ｌ内の光輝性粒子Ｘの粒子数の方が多くなる。
さらにまた、丸凸部乃至丸凸条部５の断面における一定幅Ｌ内の光輝性粒子Ｘの粒子数が更に多くなることは明らかである。
光輝性粒子Ｘを含む光輝性模様形成樹脂層の光輝性は、断面における光輝性粒子Ｘの粒子数が多くなれば高まるから、光輝性模様形成樹脂層の表面に凸部４Ｂ或いは丸凸部乃至丸凸条部５を形成することによって、この部分で集中的に光輝性を高めて模様表面全体の光輝性を高めることができる。よって、光輝性粒子Ｘの含有量が少なくても、また、光輝性模様形成樹脂層の平均厚さが小さくても、模様表面全体の光輝性を高めることができる。
【００２２】
また、光輝性表面模様構造１０は、平面に見ると丸凸部乃至丸凸条部５がエンボス面部４に囲まれるか或いは挟まれるかの状態に形成されており、そのデザインは、下地形成樹脂２をどのように積層するか、言い換えれば、下地形成樹脂２を積層しないで残す部分、すなわち下地形成樹脂非積層部２Ｂの形状をどのようにデザインするかによって任意の模様を表現することができる。例えば、図３（Ａ）の如く、エンボス面部４内に適宜間隔をおいて球面状凸部を形成するようにしたり、図３（Ｂ）の如く、適宜間隔をおいて六角形状の凸部を蜂の巣状に形成し、凸部間をエンボス面部として形成するようにしたり、図３（Ｃ）の如く、エンボス面部４内に帯状の凸条部を適宜間隔をおいて形成すようにしたり、図３（Ｄ）の如く、エンボス面部４内に特殊デザイン（図では星形）の凸部乃至凸条部を形成するようにしたり、その他任意にデザインすることができる。
【００２３】
この光輝性表面模様構造１０において、エンボス面部４の平均表面粗さ（Ｒａ）は０．５〜５０μｍ（１０点の実測値１．９〜３．５μｍ）が好ましく、十点平均粗さ（Ｒｚ）は０．５〜５０μｍ（１０点の実測値１２〜２２μｍ）が好ましく、最大高さ（Ｒｍａｘ）は２〜５０μｍ（１０点の実測値１４〜２７．５μｍ）が好ましく、山数（Ｐｃ）は２〜５０μｍ（１０点の実測値１６〜３２μｍ）が好ましい（以上の数値は、いずれも触針２μｍ、荷重７０ｍｇにて測定した場合の値）。
また、エンボス面部４のＪＩＳ  Ｋ−７１０５による鏡面光沢度（６０°×６０°）は１〜８０（１０点の実測値１４〜５９）が好ましく、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５による４５°光線反射率（全反射）は１〜５０％（１０点の実測値６．２〜２１．０％）が好ましく、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５による４５°光線反射率（拡散反射）は１〜５０％（１０点の実測値４．９〜１７．８％）が好ましく、ＪＩＳＫ−７１０５による光線透過率（全透過）は５〜９８％（１０点の実測値１６．５〜９０．４％）が好ましく、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５による光線透過率（拡散透過）は１〜８０％（１０点の実測値７．０〜３５．７％）が好ましく、ＪＩＳＫ−７１０５によるヘーズは１０〜９０％（１０点の実測値２５．６〜４３．０％）が好ましい。
【００２４】
なお、エンボス面部４、丸凸部乃至丸凸条部５及び基材残存面６上に保護層などその他の層を積層することも任意であるし、また、基材１の裏面の構造は任意である。
【００２５】
基材１は、その材質を制限するものではなく、例えば樹脂（プラスチック）、金属、紙、木材、ガラス、石材その他の材質を用いることが可能であるが、アート紙、コート紙、上質紙、ＯＣＲ紙、合成紙などの紙や、各種樹脂シート乃至フィルム等が好適である。中でも透明樹脂シート乃至フィルムは、意匠性の高い包装資材を提供できる点で特に好ましい。
【００２６】
透明樹脂シート乃至フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリル酸エステル、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリスチレン、ポリエーテル、ポリ乳酸、その他の非晶質樹脂からなるシート乃至フィルムを挙げることができる。中でも、成形性や耐折性などの点を考慮すると、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレンなどが好ましく、その中でも特に透明性及び剛性等の点からポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、例えばアモルファスＰＥＴ（「Ａ−ＰＥＴ」とも言う。）などが好ましい。
【００２７】
基材１の表面は、フレーム処理、コロナ放電処理、薬品処理、プライマー処理等の表面処理を行い、下地形成樹脂２や光輝性模様形成樹脂３との付着性を高めるようにしてもよい。
【００２８】
下地形成樹脂２及び光輝性模様形成樹脂３は、両者のＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力の差が１０μＮ／ｃｍ以上、好ましくは２０μＮ／ｃｍ以上、中でも特に４０μＮ／ｃｍ以上とするのが好ましい。この際の上限値は、現在の技術水準においては現実的には４００μＮ／ｃｍ程度が上限であるが、理論的には上限値を定めるものではない。
表面張力差が１０μＮ／ｃｍ以上であれば、下地形成樹脂２上に模様形成樹脂３を均一に塗布するだけで自然にその表面を好適なエンボス面とすることができ、同時に自然に下地形成樹脂非積層部２Ｂ上に集めて円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部５を形成することができる。
【００２９】
下地形成樹脂２のＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力は、３２０μＮ／ｃｍ以下、中でも３００μＮ／ｃｍ以下であるのが好ましい。この際の下限値は、現在の技術水準においては現実的には２００μＮ／ｃｍ程度が下限であるが、理論的には下限値を定めるものではない。
また、下地形成樹脂２の接触角は７０〜９０°、中でも特に７５〜９０°であるのが好ましい。
【００３０】
下地形成樹脂２としては、基材１に付着可能であればその種類を限定するものではないが、透明樹脂を用いるのが好ましい。例えば、アクリル酸及びそのエステル，メタアクリル酸及びそのエステル，スチレン，エチレン，酢酸ビニール，塩化ビニール等のモノマーの少なくとも一種類以上を重合した樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂，塩化ゴム，飽和ポリエステル樹脂を単独又は２〜４種類混合したものをトルエン，キシレン，酢酸エチル，酢酸メチル，酢酸ｎプロピル，酢酸イソプロピル，酢酸ブチル，酢酸イソブチル，アセトン，キシレン，酢酸メチル，イソプロピルアルコール，エタノール等の溶剤に溶解した樹脂（ワニス）、水及びアルコールを単独又は混合した溶媒に溶解又は分散した樹脂（ワニス）に炭化水素化合物，シリコーン化合物，フッ素化合物等の撥油剤を添加した樹脂などを挙げることができる。中でも、基材表面に光沢を付与したり、耐磨耗性を向上させたりする等の目的で一般的に使用されているオーバープリントニス（ＯＰニス）が好ましい。
【００３１】
下地形成樹脂積層部２Ａにおける下地形成樹脂２の厚さは、特に制限するものではないが、一般的には０．２〜２０μｍとするのが好ましい。
【００３２】
他方、光輝性模様形成樹脂３は、上記下地形成樹脂２よりも表面張力が大きい樹脂を主材とし、光輝性粒子を含んでいる必要がある。
【００３３】
光輝性粒子は、光輝度反射性、光干渉性、虹彩性、ホログラム性、金属光沢性、真珠光沢性等の光学的性状を示す粒子であればよい。
その屈折率は１．５以上であるのが好ましい。ちなみに、ガラスの屈折率は通常１．５〜１．６程度、アナターゼ型二酸化チタンの屈折率は約２．５、ルチル型二酸化チタンの屈折率は約２．７である。
具体的には、マイカ（雲母）粒子やガラス粒子などの鉱物粒子、鱗片状アルミニウムなどの金属粒子、二酸化チタンなどの酸化金属、又はこれらを金属或いは金属酸化物で被覆した粒子など、パール顔料、フレーク顔料、アルミニウム顔料、ブロンズ顔料などの光輝性顔料に含める光輝性粒子などを用いることができる。
粒子形状は、球形状、だ円球形状、角柱状、丸柱状、フレーク状、鱗片状、不定形状など、所定の光学的性状を示せば任意である。また、粒径も任意であり、塗布性や流動性あるいは組成物中での均一分散性などを勘案して適宜選択するのが好ましい。
光輝性粒子の含有量は、特に制限するものはないが、主材となる樹脂に対して０．１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％とすればよい。ただし、上述のように本発明によれば、光輝性粒子の含有量を減らしても好適な光輝性を付与することができる。
【００３４】
光輝性模様形成樹脂３の表面張力は、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力が、２４０μＮ／ｃｍ以上、中でも３００μＮ／ｃｍ以上であるのが好ましい。この際の上限値は、現在の技術水準においては現実的には２００μＮ／ｃｍ程度が下限であるが、理論的には上限値を定めるものではない。
また、光輝性模様形成樹脂３の接触角は１０〜８５°、中でも特に３０〜８０°であるのが好ましい。
なお、表面張力の調整は、シリコン系やアクリル系などの表面調整剤を使うこによっても行なうことができる。
光輝性模様形成樹脂３の厚さは、特に制限するものではないが、一般的には０．２〜２０μｍとするのが好ましい。
【００３５】
光輝性模様形成樹脂３の主材として用いる樹脂は、上記の表面張力を備えたものであれば適宜採用可能ではあるが、製造効率などの点からエネルギー線硬化型樹脂、すなわち、分子を重合乃至架橋し得るエネルギー量子を有する電磁波又は荷電粒子線、例えば可視光線、紫外線（近紫外線、真空紫外線等）Ｘ線、電子線、イオン線等の照射によって硬化し得る樹脂を好ましく用いることができる。
【００３６】
下地形成樹脂２及び模様形成樹脂３ともに、本発明の目的を阻害しない限り、通常使用されるその他の各種添加剤を配合することは任意である。
【００３７】
（製造方法）
以下、光輝性表面模様構造１０の製造方法について説明する。
【００３８】
先ず、基材１の表面内に、積層しない部分（非積層部２Ｂ）を残すように部分的に下地形成樹脂２を積層する。この際、基材１の表面全面若しくは所定の部分に、下地形成樹脂２を積層しない部分（非積層部２Ｂ）を下地形成樹脂積層部２Ａで囲むか或いは挟むかするように部分的に下地形成樹脂２を積層する。
【００３９】
次に、下地形成樹脂積層部２Ａ及び下地形成樹脂非積層部２Ｂ（この部分は基材１が露出している）上に、光輝性粒子を含む光輝性模様形成樹脂３をほぼ均一に塗布し、所定時間経過後必要に応じて光輝性模様形成樹脂硬化処理を行う。
これによって下地形成樹脂積層部２Ａ上の光輝性模様形成樹脂層表面は凹凸したエンボス面部４となり、同時に下地形成樹脂積層部２Ａ上の光輝性模様形成樹脂３の一部が自然に下地形成樹脂非積層部２Ｂに移動して集まり、下地形成樹脂非積層部２Ｂ上の光輝性模様形成樹脂層表面は断面が円弧状に盛り上がった丸凸部乃至丸凸条部５となる。よって、基材１の表面上には、エンボス面部４、丸凸部乃至丸凸条部５及び基材残存面６（基材１の表面のまま残した面部）が形成する。
【００４０】
下地形成樹脂２を基材１上に積層する方法としては、それぞれを押出成形する方法、下地形成樹脂２からなるフィルムを圧着ラミネートする方法、下地形成樹脂２を塗工する方法など様々な方法を採用することができるが、所定の非積層部２Ｂを残しながら下地形成樹脂２を積層する点を考慮すると、下地形成樹脂２を塗工する方法が好適である。具体的には、グラビアコート、グラビアリバースコート、グラビアオフセットコート、メイヤーバーコート、エアーナイフコート、スピンナーコート、ロールコート、リバースロールコート、キスコート、ホイラーコート、シルクスクリーンによるベタコート、フローコート、スプレーコート等の公知の塗工手段を用いることができ、中でも、所定形状の転写部を備えたロールを用いて樹脂を塗工する方法が好適である。
【００４１】
また、光輝性模様形成樹脂３を塗布する方法としては、下地形成樹脂２の塗工方法として挙げられた方法を採用することができる。この際、光輝性模様形成樹脂３は０．２〜２０μｍの厚さに塗布するのが好ましい。
【００４２】
なお、光輝性模様形成樹脂３は、下地形成樹脂２を充分に乾燥させた後塗布するようにしてもよいし、また、乾燥しないうちに塗布するようにしてもよい。
下地形成樹脂積層部２Ａの光輝性模様形成樹脂３の一部が自然に下地形成樹脂非積層部２Ｂに移動して集まるようにするには、光輝性模様形成樹脂を加温するか、又は紫外線照射するまでの時間をできるだけ長くする、すなわち、下地形成樹脂積層部２Ａの光輝性模様形成樹脂３の一部が自然に下地形成樹脂非積層部２Ｂに移動して集まる時間をおいて紫外線照射するようにするのが好ましい。
【００４３】
必要に応じて行う光輝性模様形成樹脂硬化処理は、光輝性模様形成樹脂３としてエネルギー線硬化型樹脂を用いる場合は、紫外線、γ線などのエネルギー線を照射可能な装置を用いてそれらを照射するようにすればよい。
【００４４】
このような方法によって光輝性表面模様構造を製造すれば、基材１上に非積層部２Ｂを残しながら下地形成樹脂２を積層し、光輝性模様形成樹脂３をほぼ均一に塗布し、必要に応じて光輝性模様形成樹脂硬化処理を行うだけで、下地形成樹脂積層部２Ａ上の光輝性模様形成樹脂層表面を凹凸したエンボス面部４とする一方、下地形成樹脂非積層部２Ｂ上の光輝性模様形成樹脂層表面を丸凸部乃至丸凸条部５とすることができる。そして、下地形成樹脂積層部２Ａ或いは下地形成樹脂非積層部２Ｂの形状を変化させることで自在にデザインすることができ、また、下地形成樹脂２と光輝性模様形成樹脂３の表面張力差を種々変化させることでエンボス面部４の凹凸の大きさ及び形状を変化させてその風合い等を変化させることができるし、更には丸凸部乃至丸凸条部５の大きさ及び形状を自在に変化させることができる。例えば、下地形成樹脂２と光輝性模様形成樹脂３の表面張力差を小さくすることにより、丸凸部乃至丸凸条部５の一つの大きさをより大きくすることができる。
【００４５】
（実施例１）
厚さ０．３ｍｍのアモルファスＰＥＴ（「Ａ−ＰＥＴ」ヘーズ０．８％）の表面に、図１及び図３（Ａ）に示すように、直径０．５ｍｍΦの円をピッチ０．７５ｍｍで残すように（すなわち非積層部２Ｂを形成するように）、下地形成樹脂としてＯＰニス（アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有するＯＰニス；大日本インキ化学工業製  ダイキュアＲＴ−８、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力３００μＮ／ｃｍ以下、接触角８５°）を厚さ１μｍで塗工し、下地形成樹脂積層部２Ａ及び下地形成樹脂非積層部２Ｂ上に光輝性模様形成樹脂を略均一に厚さ３μｍに塗布し、塗布後２０ｍｍＳＥＣ後に紫外線照射装置で紫外線照射して模様付シートを得た。
この際、光輝性模様形成樹脂には、紫外線硬化樹脂インキ（アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有する紫外線硬化樹脂インキ；大日本インキ化学工業製「ダイキュアクリア  ＵＶ−１６０１ＥＭ」、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力３４０μＮ／ｃｍ、接触角７４°）に、メルク社製「イリオジン１５３（雲母）」を２０重量％配合したものを使用した。
【００４６】
得られた模様付シートの表面は、図３（Ａ）の如く、エンボス面部４内に適宜間隔をおいてレンズの如き球面状凸部５が形成され、パール感良好な模様付シートが得られた。
なお、エンボス面部４は、平均表面粗さＲａ３．５μｍ、光沢度（６０°）２４、表面の６０°グロス値２４、光線透過率１６．５％、ヘーズ４２．３％、光線反射率６．２％であった。
【００４７】
（実施例２）
厚さ０．３ｍｍのアモルファスＰＥＴ（「Ａ−ＰＥＴ」ヘーズ０．８％）の表面に、図１及び図３（Ａ）に示すように、直径０．５ｍｍΦの円をピッチ０．７５ｍｍで残すように（すなわち非積層部２Ｂを形成するように）、下地形成樹脂としてＯＰニス（アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有するＯＰニス；大日本インキ化学工業製  ダイキュアＲＴ−８、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力３００μＮ／ｃｍ以下、接触角８５°）を厚さ１μｍで塗工し、下地形成樹脂積層部２Ａ及び下地形成樹脂非積層部２Ｂ上に光輝性模様形成樹脂を略均一に厚さ３μｍに塗布し、塗布後２０ｍｍＳＥＣ後に紫外線照射装置で紫外線照射して模様付シートを得た。
この際、光輝性模様形成樹脂には、紫外線硬化樹脂インキ（アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有する紫外線硬化樹脂インキ；大日本インキ化学工業製「ダイキュアクリア  ＵＶ−１６０１ＥＭ」、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力３４０μＮ／ｃｍ、接触角７４°）に、東洋インキ製シルバーペーストを１０重量％配合したものを使用した。
【００４８】
得られた模様付シートの表面は、実施例１同様、エンボス面部４内に適宜間隔をおいてレンズの如き球面状凸部５が形成され、メタリック感良好な模様付シートが得られた。
【００４９】
（実施例３）
厚さ０．３ｍｍのアモルファスＰＥＴ（「Ａ−ＰＥＴ」ヘーズ０．８％）の表面に、図１及び図３（Ａ）に示すように、直径０．５ｍｍΦの円をピッチ０．７５ｍｍで残すように（すなわち非積層部２Ｂを形成するように）、下地形成樹脂としてＯＰニス（アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有するＯＰニス；大日本インキ化学工業製  ダイキュアＲＴ−８、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力３００μＮ／ｃｍ以下、接触角８５°）を厚さ１μｍで塗工し、下地形成樹脂積層部２Ａ及び下地形成樹脂非積層部２Ｂ上に光輝性模様形成樹脂を略均一に厚さ３μｍに塗布し、塗布後２０ｍｍＳＥＣ後に紫外線照射装置で紫外線照射して模様付シートを得た。
この際、光輝性模様形成樹脂には、紫外線硬化樹脂インキ（アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有する紫外線硬化樹脂インキ；大日本インキ化学工業製「ダイキュアクリア  ＵＶ−１６０１ＥＭ」、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力３４０μＮ／ｃｍ、接触角７４°）に、メルク社製「シラリックＴ６０−１０  ＷＮＴ  クリスタルシルバー」を２０重量％配合したものを使用した。
【００５０】
得られた模様付シートの表面は、実施例１同様、エンボス面部４内に適宜間隔をおいてレンズの如き球面状凸部５が形成され、パール感良好な模様付シートが得られた。
【００５１】
（比較例１）
厚さ０．３ｍｍのアモルファスＰＥＴ（「Ａ−ＰＥＴ」ヘーズ０．８％）の表面に、下地形成樹脂を塗工せず、光輝性模様形成樹脂を略均一に厚さ３μｍに塗布し、塗布後２０ｍｍＳＥＣ後に紫外線照射装置で紫外線照射して模様付シートを得た。
この際、光輝性模様形成樹脂には、紫外線硬化樹脂インキ（アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有する紫外線硬化樹脂インキ；大日本インキ化学工業製「ダイキュアクリア  ＵＶ−１６０１ＥＭ」、ＪＩＳ  Ｋ−６７６８による表面張力３４０μＮ／ｃｍ、接触角７４°）に、東洋インキ製「シルバーペースト」を１０重量％配合したものを使用した。
【００５２】
得られた模様付シートの表面は、平坦で凹凸がなく、メタリック感が乏しく、灰色に見えた。
【００５３】
なお、本発明（実施例含む）において、鏡面光沢度は、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に従い、デジタル変角光度計（光源：標準光Ｃ）を用いて、標準光をワークの入射角６０°の方向から照射し、反射角６０°の方向で首記装置で反射した光を測定した値である。
本発明（実施例含む）において、表面粗さ（Ｒａ、Ｒｚ、Ｒｍａｘ及びＰｃ）は、ＪＩＳ−Ｂ０６５１に規定の触針式表面粗さ測定器を用い、触針２μｍ、荷重７０ｍｇ、測定長８ｍｍで測定した場合の値である。
本発明（実施例含む）において、接触角は、接触角計を使用し、試験液として蒸留水を用いて、滴下後３０秒後の値を測定した値である。
本発明（実施例含む）において、光線透過率（全透過、拡散透過及びヘーズ）は、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に従い、ヘーズメータを使用して測定した値である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る光輝性表面模様構造を備えたシート体の一例を示した断面図である。
【図２】本発明の光輝性表面模様構造における光輝性模様形成樹脂の表面状態を説明するための要部拡大断面図であり、（Ａ）は本発明の光輝性模様形成樹脂の表面状態、（Ｂ）は仮想の模様形成樹脂の表面状態である。
【図３】（Ａ）〜（Ｄ）のいずれも、本発明の光輝性表面模様構造のデザイン例を示した斜視図である。
【符号の説明】
１    基材
２    下地形成樹脂
２Ａ    下地形成樹脂積層部
２Ｂ    下地形成樹脂非積層部
３      光輝性模様形成樹脂
４      エンボス面部
５      丸凸部乃至丸凸条部
６      基材残存面
１０    光輝性表面模様構造
【図１】
2004249676.tif 000003
【図２】
2004249676.tif 000004
【図３】
2004249676.tif 000005