(57)【要約】【課題】ＤＶＤ−ＲＯＭ並に大記録容量で記録線速が３．５ｍ／ｓから３５ｍ／ｓの広範囲かつ高速においても、十分な変調度を確保しオーバライトの繰り返し特性が良好で保存信頼性の高い相変化型光記録媒体を提供する。【解決手段】相変化型光記録媒体の構成層として、例えば基板１上に（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０からなる第一耐熱保護層２、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｂ、ＲｈおよびＳｎを含む合金の相変化記録材料からなる記録層３、（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０からなる第二耐熱保護層４、Ａｇ合金からなる反射放熱層５およびアクリル樹脂からなる環境保護層６を順次設ける。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に構成層として少なくとも相変化記録材料からなる記録層を設け、該記録層に電磁波を照射して可逆的相変化を起生し、情報の記録、再生、消去、書き換えを行う相変化型光記録媒体において、前記相変化記録材料が、Ｇａと、Ｉｎと、Ｓｂと、Ｒｈと、Ｓｎとを含む合金であることを特徴とする相変化型光記録媒体。
【請求項２】
前記相変化記録材料の組成式をＧａαＩｎβＳｂγＲｈδＳｎε（但し、α＋β＋γ＋δ＋ε＝１００（原子％）である。）とするとき、各元素の組成比α、β、γ、δ、εがそれぞれ；６≦α≦３５、５≦β≦４６、４５≦γ≦８５、１≦δ≦５、１≦ε≦６の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の相変化型光記録媒体。
【請求項３】
前記相変化記録材料が更にＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を含有する合金であることを特徴とする請求項１または２に記載の相変化型光記録媒体。
【請求項４】
前記Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を含有する合金の組成式をＧａαＩｎβＳｂγＲｈδＳｎεＸκ（但し、式中のＸはＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を表し、α＋β＋γ＋δ＋ε＋κ＝１００（原子％）である。）とするとき、各元素の組成比α、β、γ、δ、ε、κがそれぞれ；６≦α≦３５、５≦β≦４６、４５≦γ≦８５、１≦δ≦５、１≦ε≦６、１≦κ≦５の範囲にあることを特徴とする請求項３に記載の相変化型光記録媒体。
【請求項５】
前記構成層として、基板上に相変化記録材料からなる記録層と反射放熱層とが順に備えられ、該基板と該記録層との間および／または該記録層と該反射放熱層との間に耐熱保護層を順次設けたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の相変化型光記録媒体。
【請求項６】
前記反射放熱層の表面に環境保護層を設けたことを特徴とする請求項５に記載の相変化型光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電磁波、特にレーザ光を照射することにより、記録層材料に光学的な変化を生じさせて、情報の記録、再生、消去および書き換えが可能な、高速で大容量の高密度記録に応用される相変化型光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電磁波、特にレーザ光等の光ビームの照射により、情報の記録、再生、消去を行い書き換えるオーバーライトが可能な光記録媒体の一つとして、結晶−非結晶相間、または結晶−結晶相間の相転移を利用する、いわゆる相変化型光ディスクが知られている。この相変化型光ディスクは、単一ビームによるオーバライトが可能であり、しかもドライブ側装置の光学系が単純なために、コンピュータやＡＶ関連の記録媒体として使用されている。
【０００３】
このような相変化型光ディスクの記録材料としては、これまでＧｅ−Ｔｅ、Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｅ、Ｉｎ−Ｓｂ、Ｇａ−Ｓｂ、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ等の相変化記録材料が用いられている。
特に、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅは、高感度で、記録マークを形成するアモルファス部の輪郭が明確であるという特徴を有し、マークエッジ記録用材料として有用であることが知られている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照。）。そして、既にマークエッジ記録用材料として使用されている。また、類系のＡｇ−Ｓｂ−Ｔｅ系の記録用材料に関しても開示されている（例えば、特許文献４、特許文献５参照。）。
【０００４】
しかし、上記記録材料は、ＣＤ−ＲＷ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｋ−Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）等の比較的低い記録密度を有する記録媒体として用いられるものであり、例えばＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ）ＲＡＭやＤＶＤ−ＲＷ等に適用する場合には、記録線速が３．５ｍ／ｓ（１倍速）程度の低速ではオーバライトは可能であるが、２倍速以上になるとオーバライト特性が劣化するという問題が発生する。
この劣化の原因は、上記相変化記録材料からなる記録材料の結晶化速度が遅いため、高記録線速下でのオーバライトが困難になるためである。
この対策として相変化記録材料中の組成分であるＳｂの組成量（組成比）を増加して結晶化速度を速くすることもできるが、この場合にはＳｂ量の増加によって結晶化温度が低下してしまい、記録媒体の保存時における特性劣化が大きくなるという問題がある。
【０００５】
上記保存時における特性劣化の問題を解決する方法として、Ａｇ−Ｉｎ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系相変化合金からなる記録材料を用いることが開示されている（例えば、特許文献６参照、特許文献７参照。）。しかし、この記録材料は、記録線速が３．０ｍ／ｓから２０ｍ／ｓの範囲ではオーバライトが可能なものであるが、更に高記録線速の場合、例えば２０ｍ／ｓよりも高速の場合には対応することができない。
【０００６】
一方、高記録線速化用の材料としてＧａ−Ｓｂ系相変化記録材料が報告されている（例えば、非特許文献１参照）。しかし、このＧａ−Ｓｂ系は、結晶化速度が極めて速いと報告されているが、結晶化温度が３５０℃と非常に高いため、記録材料を未記録状態とするための初期化工程における初期結晶化が困難であるという難点がある。
【０００７】
更に、ＧａＳｂ系相変化記録材料にＭｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ａｓ、Ｂｉ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ等を添加し、特性の向上を試みたものが開示されている（例えば、特許文献８、特許文献９参照）。しかし、これらの組成からなる相変化化合物は、高速記録におけるオーバライト特性、変調度、そして保存信頼性を同時に満足するものではない。
【０００８】
上記のように種々の相変化記録材料が報告されているが、いずれも書き換え可能な相変化型光記録媒体として要求される特性を全て満足し得るものとは云えなかった。特に、ＤＶＤ−ＲＯＭと同様な高密度記録容量であり、しかも記録線速が更に高速化（〜３５ｍ／ｓ）された場合に対応でき、オーバライト特性、変調度、そして保存信頼性を同時に満足するような書き換え可能な相変化型光記録媒体の開発が課題となっている。
【０００９】
上記３５ｍ／ｓの高記録線速下でもオーバライトを可能とするためには、非晶相と結晶相との間の相転移を利用する記録媒体においては、レーザビーム径が１μｍφとすると、レーザビームが３５ｍ／ｓの線速で回転するディスク（Ｄｉｓｋ）上の一点を横切る速度は約２９ｎｓｅｃであり、このことから相変化記録媒体に要求される結晶化時間は２９ｎｓｅｃ程度であることが計算から求められる。更に高密度記録のＤＶＤでは、使用する光学系のレーザ波長が６５０ｎｍと従来の７８０ｎｍより短くなるために、そのビーム径も１μｍφより小さくなり、レーザビームが３５ｍ／ｓの線速で回転するディスク上の一点を横切る速度は２９ｎｓｅｃより更に短くなる。例えば、ビーム径を０．７μｍφとすると、一点を横切る時間は約２０ｎｓｅｃとなり、このような短時間でオーバライト、即ち古いマークを消去（結晶化）して新しいマークを書き換えることが要求される。
前述の従来技術であるＡｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｇａ−Ｓｂ系、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系においてもこの時間内での高速結晶化は可能であるが、保存信頼性や初期結晶化に問題があり、３５ｍ／ｓの線速で特性を全て満足できるような記録材料は無かった。
【００１０】
【特許文献１】
特開平３−２３１８８９号公報
【特許文献２】
特開平４−１９１０８９号公報
【特許文献３】
特開平４−２３２７７９号公報
【特許文献４】
特開平４−２６７１９２号公報
【特許文献５】
特開平５−３４５４７８号公報
【特許文献６】
特開２０００−３２２７４０号公報
【特許文献７】
特開２００２−１０３８１０号公報
【特許文献８】
米国特許第４８１８６６６号明細書
【特許文献９】
米国特許第５０７２４２３号明細書
【非特許文献１】
デー・ジェー・ガベスティン（Ｄ．Ｊ．Ｇａｖｅｓｔｉｊｎ）、外４名、「フェイズ−チェンジ  オプティカル  データ  ストレージ  イン  ガリウムアンチモナイド（Ｐｈａｓｅ−ｃｈａｎｇｅ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｄａｔａ  ｓｔｏｒａｇｅ  ｉｎ  ＧａＡｓ）」、（米国）、アプライド  オプティックス（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｏｐｔｉｃｓ）、Ｖｏｌ．２６、Ｎｏ．２２１１５、Ｎｏｖｅｍｂｅｒ、１９８７
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたもので、その目的はＤＶＤ−ＲＯＭ並に大記録容量で、記録線速が３．５ｍ／ｓから３５ｍ／ｓの広範囲、かつ高速においても十分な変調度を確保し、オーバライトの繰り返し特性が良好で保存信頼性の高い相変化型光記録媒体を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために記録媒体の記録層を構成する材料に着目して鋭意研究を重ねた結果、相変化記録材料としてＧａと、Ｉｎと、Ｓｂと、Ｒｈと、Ｓｎとを含む相変化合金を用いたときに上記課題を解決することができるとともに、該相変化合金に加えて、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を添加することにより、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅの場合には保存信頼性を、そしてＩの場合には高速結晶化が更に向上することを見出し、これらの知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【００１３】
即ち、記録層を構成する材料として本発明では、ＧａＳｂ合金の有する高速結晶化と、ＩｎＳｂ合金の有する比較的低い結晶化温度に注目し、Ｇａと、Ｉｎと、Ｓｂとを構成元素とすることにより、高速結晶化の課題とともに、ＧａＳｂ合金における高い結晶化温度に基づく初期結晶化の困難さを解消した。
また、上記Ｇａ−Ｉｎ−ＳｂにＳｎを構成元素として加えることにより、２５ｍ／ｓ以上の高線速下でのオーバーライトを容易にする更なる高速結晶化と、十分に高い変調度を獲得することができた。更に、Ｇａ−Ｉｎ−Ｓｂ−ＳｎにＲｈを添加することにより、保存信頼性とオーバーライトによる繰り返し特性の向上を実現することができた。
【００１４】
上記のようなＧａと、Ｉｎと、Ｓｂと、Ｒｈと、Ｓｎとを含む相変化記録材料（相変化合金）の高速結晶化、高い変調度、良好なオーバライトと保存特性の達成理由は、次ぎのように想定される。先ず、高速結晶化については、前述のようにＧａＳｂがその機能を担っていると考えられる。即ち、ＧａＳｂ化合物の最隣接原子間距離は、結晶と非結晶の間でほぼ同じであるため、わずかな原子の移動でアモルファス相から結晶相に転移ができるものと考えられる。
また、Ｉｎは、Ｇａと同族の元素であるため、ＧａＳｂと同様にＩｎＳｂも高速結晶化が可能であると同時に、結晶化温度が１３０℃前後と低い。このため、Ｉｎを加えることによってＧａＳｂの結晶化温度（３００℃以上）を低下させることができる。更に、Ｓｎの添加により、Ｇａ−Ｉｎ−Ｓｂ系記録材料の結晶化速度を一層向上させ、同時に高い変調度を得ることができる。Ｓｎ添加により高速結晶化が発現する原因は明確ではないが、Ｓｎの原子半径が比較的大きいことによるものと思われる。また、Ｓｎの添加により変調が度向上する理由については、今のところ詳細は不明である。
一方、Ｒｈの添加により、保存信頼性とオーバーライト特性が向上するが、この保存信頼性向上の理由としては、Ｒｈの添加によって不動態を形成し、これによって酸化反応が抑制されるためであると考えられる。また、オーバーライト特性の向上に関しては、Ｒｈの融点が高く、これによってオーバーライト時における物質流動が抑止されるためであると考えられる。
以下、上記相変化記録材料を記録層に用いた本発明について具体的に説明する。
【００１５】
請求項１の発明は、基板上に構成層として少なくとも相変化記録材料からなる記録層を設け、該記録層に電磁波を照射して可逆的相変化を起生し、情報の記録、再生、消去、書き換えを行う相変化型光記録媒体において、前記相変化記録材料が、Ｇａと、Ｉｎと、Ｓｂと、Ｒｈと、Ｓｎとを含む合金であることを特徴とする相変化型光記録媒体である。
【００１６】
請求項１の構成によれば、ＤＶＤ−ＲＯＭ並に大記録容量で記録線速が３．５ｍ／ｓから３５ｍ／ｓの広範囲、かつ高速においても十分な変調度特性と良好なオーバライト、およびその繰り返し特性を示し、高い保存信頼性を有する相変化型光記録媒体の提供が可能となる。
【００１７】
請求項２の発明は、前記相変化記録材料の組成式をＧａαＩｎβＳｂγＲｈδＳｎε（但し、α＋β＋γ＋δ＋ε＝１００（原子％）である。）とするとき、各元素の組成比α、β、γ、δ、εがそれぞれ；６≦α≦３５、５≦β≦４６、４５≦γ≦８５、１≦δ≦５、１≦ε≦６の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の相変化型光記録媒体である。
【００１８】
請求項２の構成によれば、大容量、高記録線速への対応と、十分な変調度特性、良好なオーバライトとその繰り返し特性、高い保存信頼性とを両立した相変化型光記録媒体の提供が可能となる。
【００１９】
請求項３の発明は、前記相変化記録材料が更にＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を含有する合金であることを特徴とする請求項１または２に記載の相変化型光記録媒体である。
【００２０】
請求項４の発明は、前記Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を含有する合金の組成式をＧａαＩｎβＳｂγＲｈδＳｎεＸκ（但し、式中のＸはＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を表し、α＋β＋γ＋δ＋ε＋κ＝１００（原子％）である。）とするとき、各元素の組成比α、β、γ、δ、ε、κがそれぞれ；６≦α≦３５、５≦β≦４６、４５≦γ≦８５、１≦δ≦５、１≦ε≦６、１≦κ≦５の範囲にあることを特徴とする請求項３に記載の相変化型光記録媒体である。
【００２１】
請求項３および４の構成によれば、ＸがＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅの場合には保存信頼性が一層向上し、そしてＩの場合には高速結晶化が一層向上させた相変化型光記録媒体の提供が可能となる。
【００２２】
請求項５の発明は、前記構成層として、基板上に相変化記録材料からなる記録層と反射放熱層とが順に備えられ、該基板と該記録層との間および／または該記録層と該反射放熱層との間に耐熱保護層を順次設けたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の相変化型光記録媒体である。
【００２３】
請求項６の発明は、前記反射放熱層の表面に環境保護層を設けたことを特徴とする請求項５に記載の相変化型光記録媒体である。
【００２４】
請求項５および６の構成によれば、大容量、高記録線速下における、変調度確保、オーバライトの繰り返し特性維持、保存信頼性保持が達成された相変化型光記録媒体の提供が可能となる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明の相変化型光記録媒体においては、基板上に構成層として記録層の他、耐熱保護層、反射層、環境保護層等を設けることができ、目的や要求特性に応じて構成層の形態が選ばれる。本発明の相変化型光記録媒体を図面を参考にして説明する。
本発明の相変化型光記録媒体は、例えば図１〜図４に示したような構成を有するものである。すなわち、基板１上に第一耐熱保護層２、記録層３、第二耐熱保護層４、反射放熱層５が順次設けられた構成（図１）とするか、あるいは図１の構成の反射放熱層５上に、更に環境保護層６が設けられた構成（図２）とすることができる。また、耐熱保護層は必ずしも記録層３の両側に設ける必要はないが、基板１がポリカーボネート樹脂のように耐熱性が低い材料の場合には、図３、図４に示すように、基板１と記録層３との間に第一耐熱保護層２を設け、記録層３と反射放熱層５との間の構成層（図１、図２における第二耐熱保護層４）を省いた構成とすることもできる。なお、これらの構成は実施の形態を説明するための例であって他の構成でもよいが、通常図２に示す構成形態が好ましい。
以下に各構成層について説明する。
【００２６】
基板１に用いられる材料としては、一般にガラス、セラミックスまたは樹脂が用いられるが、樹脂製基板が、成形性、コストの点から望ましい。
樹脂の代表例としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられるが、加工性、光学特性等の点からポリカーボネート樹脂が好ましい。また、基板１の形状は、ディスク状、カード状またはシート状のいずれであってもよい。
【００２７】
耐熱保護層（第一耐熱保護層２または第二耐熱保護層４）に用いられる材料としては、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２等の金属酸化物、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ等の窒化物、ＺｎＳ、Ｉｎ２Ｓ３、ＴａＳ３等の硫化物、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ等の炭化物等が挙げられる。また、耐熱保護層の形成には、各種気相成膜法（真空蒸着、スパッタリング、プラズマ、光ＣＶＤ、イオンプレーティング等）が用いられる。例えば、（ＺｎＳ）・（ＳｉＯ２）を用いてスパッタリング法により膜形成を行うことにより耐熱保護層、すなわち誘電体層が形成される。
この誘電体層は、耐熱保護層としての機能と、光干渉層としての機能を有することから、これらの機能が最大限に発揮されるように層形成することが必要である。そのためには、膜厚を２００〜３０００Å、特に３５０〜２０００Åとすることが好ましい。２００Å未満の場合には耐熱保護層としての機能が失われ、一方３０００Åを超えると界面剥離が生じやすくなるので好ましくない。
【００２８】
記録層３に用いられる本発明の相変化記録材料は、前記のように組成式をＧａαＩｎβＳｂγＲｈδＳｎε（但し、α＋β＋γ＋δ＋ε＝１００（原子％）である。）とするとき、各元素の組成比α、β、γ、δ、εがそれぞれ；６≦α≦３５、５≦β≦４６、４５≦γ≦８５、１≦δ≦５、１≦ε≦６の範囲である。
【００２９】
ここで実験によれば、αが６原子％より少ない場合、あるいはγが４５原子％より少ない場合には、結晶化速度が低下し、３５ｍ／ｓの記録線速下でオーバライトが困難となる。一方、αが３５原子％よりも多い場合、あるいはγが８５原子％よりも多い場合には、オーバライトの繰り返し回数が低下する。また、βが５原子％より少ないと結晶化温度が低くならず初期結晶化が困難となり、４６原子％よりも多いと保存信頼性が低下する。更に、δが１原子％より少ないと保存信頼性とオーバライト特性が低下し、５原子％より多いと反射率が低下する。そして、εが１原子％より少ないと高速結晶化に余裕がなくなり、更に変調度の確保が困難となる。εが６原子％より多くなると極めて結晶化しやすくなり保存信頼性が低下する。
【００３０】
また、本発明では、Ｇａと、Ｉｎと、Ｓｂと、Ｒｈと、Ｓｎとからなる相変化合金に、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を加えることで、更なる保存信頼性の向上あるいは結晶化速度の向上が達成される。即ち、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅを加えた場合には、更なる保存信頼性の向上が図られ、Ｉを加えた場合には、結晶化速度を更に向上させて３５ｍ／ｓでの高線速下でも余裕のあるオーバライトが可能となる。
上記Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を含有する合金の組成式をＧａαＩｎβＳｂγＲｈδＳｎεＸκ（但し、式中のＸはＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉの中から選ばれる一つの元素を表し、α＋β＋γ＋δ＋ε＋κ＝１００（原子％）である。）とするとき、各元素の組成比α、β、γ、δ、ε、κは、それぞれ；６≦α≦３５、５≦β≦４６、４５≦γ≦８５、１≦δ≦５、１≦ε≦６、１≦κ≦５の範囲である。
この組成式において、κが１原子％より少ないと、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅの場合には更なる保存特性の向上は望めず、Ｉの場合には更なる高速の結晶化は難しい。また、κが５原子％より多いと、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅの場合には記録感度が低下し、またＩの場合には保存信頼性が大きく低下する。
【００３１】
また、本発明の前記相変化化合物を含有する記録層３は、前記気相成膜法、例えばスパッタリング法により膜形成が行われ、その膜厚は、１００〜１０００Å、好ましくは２００〜３５０Åである。１００Åより薄いと光吸収能が低下し、記録層としての機能を失い、１０００Åより厚いと透過光が少なくなるため、干渉効果が期待できなくなる。
【００３２】
反射放熱層５に用いられる材料としては、高速記録に対応できる高熱伝導性のＡｇ、Ａｕ、Ｃｕ等の金属や合金、中でも例えばＡｇ合金が用いられ、その膜形成は前記各種気相成膜法、例えばスパッタリング法により行うことができる。膜厚は、５００Å〜２０００Å、好ましくは７００Å〜１５００Åである。
【００３３】
環境保護層６に用いられる材料としては、作業性が良く、均一な薄膜形成が可能であり、記録媒体用としての機能を満足する耐環境性の優れた材料であれば制約はないが、スピンコート等の手法によって薄膜が形成できるエポキシ樹脂やアクリル樹脂等の樹脂材料が好ましい。
【００３４】
前記のように、本発明の相変化記録材料からなる記録層は、電磁波を照射することによって可逆的相変化を起生し、この相変化に伴う光学定数の変化を利用して情報の記録、再生、消去、書き換えを行うことができる。このような本発明の相変化型光記録媒体の記録、再生、消去、書き換えに用いる電磁波として、可視光、紫外線、赤外線、電子線等が使用できるが、光学系の搭載性、小型化などから特に半導体レーザ光等の光ビームが好適である。
【００３５】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、これら実施例によって、本発明は何ら限定されるものではない。
実施例１
前記図２に示す層構成と同じにして、トラックピッチ０．７μｍ、溝深さ４００Å、厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍφのポリカーボネート製基板１上に、第一耐熱保護層２、記録層３、第二耐熱保護層４、反射放熱層５をスパッタリング法により順次設けた。更に、反射放熱層５の上には、スピンコート法によりアクリル樹脂からなる環境保護層６を設けた。
即ち、第一耐熱保護層２として（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０を厚さ７００Åに、記録層３としてＧａ８Ｉｎ９Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ２を厚さ１５０Åに、第二耐熱保護層４として（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０を厚さ３００Åに、反射放熱層５としてＡｇ合金を厚さ９５０Åにそれぞれ制御してスパッタリング法により各層を積層した。得られた積層構成最上層の反射放熱層５上にアクリル樹脂をスピンコートして環境保護層６を設け、評価用相変化型光記録媒体を作製した。表１に上記実施例１で作製した評価用相変化型光記録媒体の各構成層の材料組成と膜厚をまとめて示す。
【００３６】
実施例２〜８
実施例１において、記録層３として用いたＧａ８Ｉｎ９Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ２に代えて、Ｇａ２４Ｉｎ８Ｓｂ６４Ｒｈ２Ｓｎ２（実施例２）、Ｇａ７Ｉｎ２５Ｓｂ６４Ｒｈ２Ｓｎ２（実施例３）、Ｇａ８Ｉｎ８Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ２Ａｇ１（実施例４）、Ｇａ８Ｉｎ８Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ２Ｃｕ１（実施例５）、Ｇａ８Ｉｎ８Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ２Ｚｎ１（実施例６）、Ｇａ８Ｉｎ８Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ３Ｇｅ１（実施例７）、Ｇａ８Ｉｎ８Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ２Ｉ１（実施例８）とした以外は、各構成層の材料組成と膜厚を実施例１とまったく同じにしてそれぞれの評価用相変化型光記録媒体を作製した。
表１に上記実施例２〜８で作製した評価用相変化型光記録媒体それぞれの各構成層の材料組成と膜厚をまとめて示す。
【００３７】
【表１】
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【００３８】
比較例１〜８
実施例１において、記録層３として用いたＧａ８Ｉｎ９Ｓｂ７８Ｒｈ３Ｓｎ２に代えて、Ｇａ５０Ｓｂ５０（比較例１）、Ｉｎ５０Ｓｂ５０（比較例２）、Ｇａ１２Ｓｂ８８（比較例３）、Ｉｎ３２Ｓｂ６８（比較例４）、Ｇａ１０Ｉｎ１５Ｓｂ７５（比較例５）、Ｇａ９Ｉｎ１４Ｓｂ７４Ｒｈ３（比較例６）、Ｇａ９Ｉｎ１４Ｓｂ７５Ｓｎ２（比較例７）、Ａｇ１Ｉｎ３Ｇｅ２Ｓｂ７８Ｔｅ１６（比較例８）とした以外は各構成層の材料組成を実施例１と同様にしてそれぞれの評価用相変化型光記録媒体を作製した。なお、記録層３、第二耐熱保護層４および反射放熱層５の膜厚は比較例により異なる。
表２に比較例１〜８で作製した評価用相変化型光記録媒体それぞれの各構成層の材料組成と膜厚をまとめて示す。
【００３９】
【表２】
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【００４０】
上記実施例１〜８および比較例１〜８で得られた評価用相変化型光記録媒体は非晶質であり、評価に際して記録媒体を初期結晶化して未記録状態とした。なお、実施例１〜８および比較例２、４、５、６、７、８の各評価用相変化型光記録媒体については、高出力半導体レーザを用い、出力７００ｍＷで初期結晶化（初期化）した。比較例１および３の場合には、同レーザによる出力７００ｍＷでは初期化はうまく行かず、そのため１１００ｍＷの条件で初期化した。、
初期化の後、各評価用相変化型光記録媒体の再生信号特性、保存特性を下記により評価した。
【００４１】
評価に際しては、記録線速、記録パワーをそれぞれ３．５ｍ／ｓ（１０ｍＷ）、１５ｍ／ｓ（１６ｍＷ）、２５ｍ／ｓ（２６ｍＷ）、３５ｍ／ｓ（３６ｍＷ）に設定して行った。また、記録用レーザの波長を６５０ｎｍとし、ＥＦＭ（Ｅｉｇｈｔ  Ｆｏｕｒｔｅｅｎ  Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）ランダムパターンでオーバライトの繰り返しを行い、再生信号特性の評価は３Ｔ信号のジッタ値と、１４Ｔ信号の変調度で行った。また、保存特性は１０００回オーバライトした記録媒体を８０℃、８５％の温湿下で３００時間保持した後の、オーバライト１０００回目における３Ｔ信号のジッタ値と１４Ｔ信号の変調度で評価した。実施例１〜８の評価結果を表３に、比較例１〜８の評価結果を表４にそれぞれ示す。
【００４２】
【表３】
2004249603.tif 000005
【００４３】
【表４】
2004249603.tif 000006
【００４４】
表３、４から明らかなように、本発明の相変化記録材料であるＧａ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｒｈ−Ｓｎ系相変化合金を用いた実施例１、２および３は、いずれもオーバライト特性が良好で十分な変調度を維持し、しかも保存信頼性に優れ、初期結晶化も容易に行うことができる。このＧａ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｒｈ−Ｓｎの相変化記録材料に、それぞれＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅを加えた実施例４、５、６、７は、実施例１、２および３に比較して更に保存信頼性が向上している。また、Ｇａ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｒｈ−Ｓｎ相変化記録材料に、Ｉを加えた実施例８は、３．５ｍ／ｓから３５ｍ／ｓの広い範囲の記録速度で、極めて良好なジッタ値を有し、高線速下での相変化がうまく機能していることを示している。
【００４５】
上記本発明に対して、従来技術である比較例の場合、すなわち、Ｇａ５０Ｓｂ５０（比較例１）と、Ｉｎ５０Ｓｂ５０（比較例２）の化合物組成、あるいはＧａ１２Ｓｂ８８（比較例３）、Ｉｎ３２Ｓｂ６８（比較例４）の共晶組成を記録材料として用いた記録媒体は、３．５ｍ／ｓから３５ｍ／ｓの記録速度下でのオーバライトは可能であるが、本発明の記録媒体と比較して、ジッタ値、変調度、保存信頼性、そしてオーバライト特性が劣っている。また、ＧａＳｂ系は、初期結晶化が難しい。
Ｇａ−Ｉｎ−Ｓｂ系（比較例５）は、Ｇａ−Ｓｂ系の短所である初期結晶化の難しさと、Ｉｎ−Ｓｂ系の短所である保存信頼性を向上させるが、本発明の相変化記録材料と比較すると、全ての特性で劣っている。
また、Ｇａ−Ｉｎ−Ｓｂ系にＲｈを添加した系（比較例６）は、オーバライト特性、保存信頼性が大きく改善されるが、高記録速度下でのジッタ値と、変調度に問題がある。
更に、Ｇａ−Ｉｎ−Ｓｂ系にＳｎを添加した系（比較例７）は、高記録速度下でのジッタ値および変調度が大幅に改善されているが、オーバライト特性と保存信頼性が劣っている。また、Ｓｎを加えることによって初期結晶化は極めて容易となる。
一方、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系（比較例８）は、記録線速が２５ｍ／ｓ、３５ｍ／ｓにおいて、オーバライトが不可能であった。
【００４６】
更に、比較例としては示していないが、ＧａＳｂ系およびＩｎＳｂ系に、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｖ、Ｚｒを加えた系についても実験し、その再生信号評価および保存信頼性評価を行ったが、本発明の相変化記録材料のように記録線速が、３．５ｍ／ｓから３５ｍ／ｓの広い範囲で、良好な信号特性と優れた保存信頼性を両立した相変化記録材料を見出すことはできなかった。
【００４７】
【発明の効果】
基板上に構成層として少なくとも相変化記録材料からなる記録層を設け、該記録層に電磁波を照射して可逆的相変化を起生し、該相変化に伴う光学定数の変化を利用して情報の記録、再生、消去、書き換えを行う相変化型光記録媒体の該相変化記録材料として、Ｇａと、Ｉｎと、Ｓｂと、Ｒｈと、Ｓｎとを含む合金を用いることにより、ＤＶＤ−ＲＯＭ並みに大記録容量で、かつ記録線速が３．５ｍ／ｓから３５ｍ／ｓの広範囲にあり、しかも高速記録においても十分な変調度を確保し、オーバライトの繰り返し特性が良好で、保存信頼性に優れた相変化型光記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態における本発明の相変化型光記録媒体を説明するための構成層例を示す概略断面図である。
【図２】実施の形態における本発明の相変化型光記録媒体を説明するための他の構成層例を示す概略断面図である。
【図３】実施の形態における本発明の相変化型光記録媒体を説明するための別の構成層例を示す概略断面図である。
【図４】実施の形態における本発明の相変化型光記録媒体を説明するための更に別の構成層例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１    基板
２    第一耐熱保護層
３    記録層
４    第二耐熱保護層
５    反射放熱層
６    環境保護層
【図１】
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【図２】
2004249603.tif 000008
【図３】
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【図４】
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