(57)【要約】【課題】フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置を再現性よく校正することのできる標準試料および欠陥検査装置の校正方法を提供すること。【解決手段】光を透過または散乱させるための開口１３を形成した遮光膜１２が基板１１の一方の面上に形成されるとともに、前記開口１３を、校正対象である、フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置の分解能に比して十分小さく形成した。【選択図】　　　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を透過または散乱させるための開口を形成した遮光膜が基板の一方の面上に形成されるとともに、前記開口を、校正対象である、フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置の分解能に比して十分小さく形成してあることを特徴とするフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置を校正するための標準試料。
【請求項２】
開口が遮光膜に複数形成されており、その各々が異なる光の透過率を有してなる請求項１に記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置を校正するための標準試料。
【請求項３】
請求項１または２に記載の標準試料の一方の面から一様に照明し、その光の透過光強度を欠陥検査装置によって測定することを特徴とするフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置の校正方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば、カラー表示用の液晶表示ディスプレイ（以下、ＬＣＤという）やプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）などのフラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤという）における欠陥検査装置を校正するのに用いられる標準試料およびこの標準試料を用いる欠陥検査装置の校正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、各種の電子機器の表示装置として、ＬＣＤやＰＤＰなどのＦＰＤが用いられるようになってきており、とりわけカラー表示するものが多く用いられている。これに伴って、ＦＰＤの製造工程のより早い時期にその表示パネルの輝度分布や画像欠陥や異物の混入などの欠陥を検出することが求められており、また、精細化に伴って、ＦＰＤの出荷検査段階においてより精細かつ確実な検査が必要となっている。この検査工程を自動的に行うため、ＦＰＤの欠陥を検査する装置（以下、単に欠陥検査装置という）が開発され、特許出願されるに至っている（例えば、特開平６−１１４５５号公報、特開２０００−１１１７５号公報など）。
【０００３】
ところで、前記欠陥検査装置によって例えばＬＣＤの欠陥検査を精度よく行うには、当該欠陥検査装置の校正を、その検査作業に入る前または定期的に行う必要がある。従来は、検査対象であるＬＣＤまたは同等の表示能力を持つとされる別のＬＣＤを精密に制御して、種々の欠陥の疑似表示を行い、これによって欠陥検査装置の校正を行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従来の校正方法では、基準となるＬＣＤ自体がばらつきを持つことは避けられず、前記基準にするＬＣＤが表示する全ての点において、所期の性能を維持しているか否かを評価すること自体困難であり、評価しようとするＬＣＤと同程度の精細さでしか表示できないといった欠点がある。このため、欠陥検査装置が本来備えている性能を正確に評価できるとは限らず、その結果、欠陥検査装置による検査結果の変化について、当該欠陥検査装置の変化に由来するものであるか否かを十分知ることが困難であった。また、上記従来の手法では、同一の校正基準での比較を行うことができなかった。さらに、機械によるＬＣＤの外観検査などは一般的ではなかったので、校正基準自体が曖昧であった。
【０００５】
この発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的は、欠陥検査装置を再現性よく校正することのできる標準試料および欠陥検査装置の校正方法（以下、単に校正方法という）を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明の標準試料は、光を透過または散乱させるための開口を形成した遮光膜が基板の一方の面上に形成されるとともに、前記開口が、校正対象である、フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置の分解能に比して十分小さく形成してあることを特徴としている（請求項１）。
この場合、開口が遮光膜に複数形成されており、その各々が異なる光の透過率を有するようにしてもよい（請求項２）。
【０００７】
具体的には、欠陥検査装置が一度に測定することのできる最小の領域（例えばアレイセンサを測定系に用いている欠陥検査装置では、その一つのセンサ素子が担当する標準試料上の領域のことをいい、一つのセンサで全面検査する欠陥検査装置では、その測定することのできる最小領域のことをいう。以下、単に最小測定領域という）ごとに、開口の数を変えておくことにより、この最小測定領域ごとに光透過率を設定することができ、複数の開口を基板全体に、評価しようとする状態を模擬的に再現するように分布させておくのである。そして、評価目的（内容）によって開口の大きさや配列を適宜設定する。
特に、上記標準試料においては、遮光膜に形成される開口を、校正対象の欠陥検査装置の分解能よりも十分に小さく形成されているので、この開口の形状などの影響を受けることなく、最小測定領域内の平均透過率を容易に設定することができる。
【０００８】
そして、この発明の校正方法は、請求項１または２に記載の標準試料の一方の面から一様に照明し、その光の透過光強度を欠陥検査装置によって測定することを特徴としている（請求項３）。
【０００９】
上記校正方法においては、基本となる開口の密度と配列などを適宜選択することにより、各種の基本性能を評価するための輝度パターンや実欠陥に似せた模擬欠陥を創り出し、これを欠陥検査装置によって検出する。
【００１０】
したがって、欠陥検査装置の光源の発光量や光量分布を制御するだけで、欠陥検査装置が検出することのできる光量差や、光量に対する出力の線型性などを常に同じ基準で評価することができ、欠陥検査装置の調整基準とすることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の詳細を、図を参照しながら説明する。まず、図１は、この発明の校正方法の対象である欠陥検査装置の測定系１の構成を概略的に示すもので、図示例では、４つのカメラ２がその筒体２ａを垂直方向に向け、矢印Ｘで示す水平方向に一直線状に保持部材（図示していない）によって、測定対象（ＬＣＤや後述する標準試料１０）を載置する載置台３の上方に保持されているとともに、前記Ｘ方向と直交するＹ方向に直線的に移動できるように構成されている。
【００１２】
前記４つのカメラ２は、互いに同じ構成からなり、筒体２ａの上方にアレイセンサとしてのラインセンサ４（後述する）を備えるとともに、下方に検出視野を拡大するためのレンズを備えている。これらのカメラ２は、常に、検査対象である例えばＬＣＤの同じ位置（同じ深さ）を検出できるように、筒体２ａの長さやレンズの焦点距離が設定されている。
【００１３】
そして、前記ラインセンサ４は、図２に示すように、例えば７μｍ角の大きさのモノクロの例えば７５００個のセンサ素子４ａを一直線状に配置してなるものであり、各カメラ２におけるラインセンサ４は、前記レンズを通して液晶セルなどの検査対象を観察した場合、個々のセンサ素子４ａが縦横の寸法が例えば１２μｍ×１２μｍの検出視野を有するように構成されている。このようなラインセンサ４は、４つのカメラ２において、複数の受光素子３ａの配列方向がＸ方向と一致するようにして一直線状に並設されている。
【００１４】
なお、上記構成の測定系１は、載置台３に載置された標準試料１０（後述する）とラインセンサ４との間の距離を適宜設定できるように、載置台３を上下方向に適宜位置調整できるようにしてあるとともに、載置台３の下方から標準試料１０に対して一様に光を照射できるようにしてある。また、前記測定系１は、情報処理装置としてのパソコン（図示していない）によってその動作が制御されるとともに、測定系１による検出信号（輝度データ）は、前記パソコンに入力されて適宜処理される。
【００１５】
次に、上記欠陥検査装置の校正を行うために用いる標準試料についての説明を行うと、例えば、ＬＣＤにおいては、周囲の表示点に比較して十分に暗くならない輝点や十分明るくならない滅点、これらが線状に並ぶ／明るさが一定にならない／最高の明るさが暗い／最低の明るさが明るい／位置によって明るい角度が異なるなど、様々な表示上の問題が考えられる。
【００１６】
しかしながら、上記明るさ等の測定は、ＬＣＤの一つの表示単位（Ｒ，Ｇ，Ｂの各素子）からの光量と隣り合う他の表示単位からの光量との比（コントラスト）の測定に帰属する。どれだけの低光量までを正しく測定することができるか、検知できるコントラストの限度はどれ位か、測定することのできる最高光量はどれ位かなどといった測定性能から、実際の欠陥検出能力を推定することができる。また、以下において述べるような模擬欠陥を構成することで、欠陥検査装置の検査性能を再現することができる。
【００１７】
そこで、欠陥検査装置の校正を行うために用いる標準試料としては、適宜の基板の一方の面に遮光膜を形成し、この遮光膜に欠陥検査装置の分解能よりも小さくかつ光を透過または散乱させるための開口を複数個形成したものが用いられる。図３（Ａ），（Ｂ）は、前記標準試料の断面形状を概略的に示すもので、同図（Ａ）が透過型ＬＣＤの欠陥検査装置校正用の標準試料１０であり、同図（Ｂ）が反射型ＬＣＤの欠陥検査装置校正用の標準試料２０である。
【００１８】
すなわち、前記透過型ＬＣＤの欠陥検査装置校正用の標準試料１０は、図３（Ａ）に示すように、ガラスなど分光透過特性を有する基板１１の一方の面に、ＣｒやＡｌなどの金属または金属化合物よりなる遮光膜１２を形成し、この遮光膜１２に、欠陥検査装置の分解能よりも小さくかつ光を透過させるための開口１３を複数個（多数）形成してなるもので、この開口１３の形成パターンは、以下に述べるように、欠陥検査装置の評価目的に応じて種々設定される。なお、１４は遮光膜１２における開口１３以外の遮光部を示している。
【００１９】
前記標準試料１０において、基板１１としてガラス基板を用いる場合、温度特性やヤケ等を考慮して、合成石英よりなるものが好ましく、無色のものであってもよい。そして、遮光膜１２は、ミラーやレティクルマスクの要領で形成するのがよく、評価目的によってはエマルジョンマスクでもよい。また、開口１３は、エッチングなど公知の微細加工技術を用いて形成することができる。
【００２０】
また、前記反射型ＬＣＤの欠陥検査装置校正用の標準試料２０は、基本的には、前記透過型ＬＣＤの欠陥検査装置校正用の標準試料１０と同様の構成であるが、図３（Ｂ）に示すように、基板２１としては、オパールガラスを用い、例えばその一方の面にＣｒＯ２　層２２ａ、Ｃｒ層２２ｂよりなる遮光膜２２を形成し、遮光膜２２の表面の反射率を低くする。そして、この遮光膜２２に、欠陥検査装置の分解能よりも小さくかつ光を透過させるための開口２３を複数個（多数）形成してなるもので、この開口２３の形成パターンは、前記標準試料１０と同様に、欠陥検査装置の評価目的に応じて種々設定される。なお、２４は遮光膜２２における開口２３以外の遮光部を示している。
【００２１】
そして、いずれの標準試料１０、２０においても、基板１１，２１は耐候性を有するとともに適宜の強度を備えたものが好ましい。また、遮光膜１２，２２は、光入射側２５の向きに低反射であり、その裏面側２６は高反射、低透過率で、両面ともに鏡面に形成するのが好ましい。
【００２２】
次に、欠陥検査装置の基本的性能を評価するための校正に用いる標準試料として標準試料１０を種々例にとって、その評価目的別に、各種のパターンについて、図４〜図７を参照しながら説明する。
【００２３】
（Ａ）測定系１の焦点深度、測定系１の各センサ素子４ａの位置による感度分布を評価するため
この評価に用いる標準試料１０Ａは、平面視において、図４に示すように構成されている。すなわち、測定光学系（センサを含む）を介して一つのセンサ素子４ａと対応する最小測定領域より小さい、例えば平面視正方形の開口１３を、相隣り合う開口１３からの光を検出しないように、適宜離れた状態で形成した標準試料１０Ａを作成する。
【００２４】
より具体的には、図４におけるＸ方向は、ラインセンサ４におけるセンサ素子４ａの配列方向を示しているが、このＸ方向において、隣り合う二つの開口１３は、相互に他方の光を検出しない距離ｘ１　だけ離間して配置される。また、図中のＹ方向は、ラインセンサ４の走査方向を示しているが、このＹ方向において、隣り合う二つの開口１３は、一回の測定信号の採取を行うのに支障をきたさない（測定信号が重ならない）距離ｙ１　だけ離間して配置される。この離間距離ｙ１　は、ラインセンサ４の走査速度などに基づいて設定される。
【００２５】
さらに、ラインセンサ４の移動方向（Ｙ方向）に、ラインセンサ４の一回に測定する範囲を十分超えて、前記開口１３がそのＸ方向の長さの数分の１ずつ（例えば１／５ずつ）Ｘ方向にずれるように配置する。すなわち、図中の符号４１，４２，４３は、それぞれ複数の開口１３を、Ｘ方向においては、距離ｘ１　だけ間隔をおいて、また、Ｙ方向においては、距離ｙ１　だけ間隔をおいて配列してなる開口列を示しているが、開口列４１と次の開口列４２とにおいては、それぞれ対応する開口１３の位置が、Ｘ方向において、開口１３のＸ方向の長さの１／５だけ右方向にずれている。開口列４２とその次の開口列４３においても、開口列４１と次の開口列４２との配置関係と同様に、開口１３のＸ方向の長さの１／５だけ右方向にずれている。以下、このようにして全ての開口１３を形成配置する。
【００２６】
そして、測定系１の焦点深度、測定系１の各センサ素子４ａの位置による感度分布を評価するには、前記標準試料１０Ａを載置台３上に載せて、この標準試料１０Ａの背面から一様に照明し、そのときの透過光強度を欠陥検査装置によって測定するのである。この場合、測定系１におけるラインセンサ４と標準試料１０Ａとの距離を適宜変えて測定し、測定系１の焦点深度を求める。ここでいう焦点深度とは、一つのセンサ素子４ａにおける信号強度変化が５％以内の領域などというように、目的の測定に応じて定義した焦点深度のことであって、一般に言われるものとは必ずしも同じではない。そして、個々のセンサ素子４ａごとやラインセンサ４の位置（以下、単にセンサ位置という）によって差が有るのか、センサ位置と焦点深度の深さがどのような関係にあるのかなどを評価する。
【００２７】
ところで、実際の測定では、上記焦点深度の測定とは若干異なった特性となる。全面が明るい標準試料１０Ａを測定し、部分的に明るさの異なる測定点ごとのコントラストなどを測定しようとすると、欠陥検査装置の分解能や測定光学系の収差のため、本来対応しない測定点からの光を受けることとなる。このため、独立した光点を測定する場合と比較した場合、特徴のより曖昧な結果となる。したがって、後述するＬ＆Ｓ（Ｌｉｎｅ　＆　Ｓｐａｃｅ）パターンの測定において、標準試料１０Ａにおける測定面と測定系１との距離を変えて、焦点深度を求めるのが最も実用的である。この場合の焦点深度は、通常のＭＴＦ（Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）の定義などと同様の考え方で、信号の明暗の比が元から一定の割合にまで低下する範囲などとすればよい。
【００２８】
（Ｂ）測定系１の検出強度のダイナミックレンジ／明るさと信号出力との関係を評価するため
この評価に用いる標準試料１０Ｂは、最小測定領域中に、測定系１の分解能よりも小さい開口を適宜配置することで、遮光部の光透過率と最小測定領域の開口率とから、最小測定領域内の平均透過率を目的の透過率となるように構成される。この場合、前記開口を、校正対象の欠陥検査装置の分解能よりも十分に小さく形成することにより、この開口の形状などの影響を受けることなく、最小測定領域内の平均透過率を容易に設定することができる。
【００２９】
より具体的には、図５（Ａ）に示すように、基板１１の一方の面に、異なる光透過率を有する複数の光透過帯５１を完全遮光帯５２を介して、矢印Ｙで示す移動方向Ｙに設けるのである。各光透過帯５１は、同図（Ｂ）で示すように、複数の小さい光透過体ブロック５３からなり、この例では、Ｙ方向に３段の光透過体ブロック５３がＸ方向に複数列配置されている。そして、各小光透過体ブロック５３は、小さい遮光部５４と、この中に形成される複数の小さい開口５５とからなり、この開口５５と遮光部５４との比率を適宜設定することにより、最小測定領域中に、測定系１の分解能よりも小さい開口を適宜配置することで、遮光部５４の光透過率と最小測定領域の開口率とから、最小測定領域内の平均透過率を目的の透過率となるように構成されている。また、完全遮光帯５２は、Ｙ方向において隣接する光透過帯５１の光の影響を互いに受けないようにするものである。
【００３０】
上記図５に示した標準試料１０Ｂにおいては、その全面における遮光部の透過率をＡ％とし、遮光部の比率をａ、開口率をｂ、開口の透過率をＢ％とすると、総合の透過率は、（ｂＢ＋ａＡ）％となる。
【００３１】
そして、光量と個々のセンサ素子４ａの出力との関係がセンサ素子４ａごとにどの程度ばらついているかなどの評価では、図５（Ａ）に示した標準試料１０Ｂを載置台３上に載せて、この標準試料１０Ｂの背面から一様に照明し、そのときの透過光強度を欠陥検査装置によって測定するのである。この場合、標準試料１０Ｂには、透過率の異なる複数の光透過帯５１を完全遮光帯５２を介して配置してあるので、それら透過率の異なる光透過帯５１のセンサ素子４ａにおける信号強度を各別に測定し、その測定結果を記録するのである。また、予め、完全遮光体５２において０レベルとなり、全面開口部（遮光部５４が全く形成されてない部分）において信号飽和レベルとなるように、光源強度を調整しておくのが好ましい。
【００３２】
（Ｃ）測定系１の強度の分解能（コントラスト）の検出限界を評価するため
この評価に用いる標準試料１０Ｃは、図６に示すように、ＭＴＦの測定に用いられるようなＬ＆Ｓ配置の遮光部１４と開口１３とを交互に配列したＬ＆Ｓ帯体６１を、完全遮光帯６２を介して複数形成する。このＬ＆Ｓ帯体６１における測定系１の移動方向Ｙにおける幅６１ｙと完全遮光帯６２における前記移動方向Ｙにおける幅６２ｙは、１回の測定範囲（走査長さ）よりも長く設定されている。また、前記Ｙ方向において隣接するＬ＆Ｓ帯体６１における遮光部１４（開口１３）の位置は、その幅の数分の１、例えば１／５ずつ右方向にずれている。以下、このようにして全ての遮光部１４（開口１３）が形成配置されている。これによって、ラインセンサ４の一つのセンサ素子４ａに相当する領域が一つの遮光部１４に丁度含まれる場合や、一部蹴られる場合などを創り出し、一つのセンサ素子４ａと一つの遮光部１４とがどのような対応関係にあっても、分解能の評価を行うことができる。
【００３３】
なお、光学的な分解能が高くない場合、図４に示した標準試料１０Ａを用いた測定系１の各センサ素子４ａの位置による感度分布と、図６に示した標準試料１０Ｃを用いた測定系１の各センサ素子４ａの位置による感度分布との間に差が現れるので、測定系１自体の評価ではなく、測定性能としての評価では、標準試料１０Ｃによる測定の方が好ましい。
【００３４】
そして、前記完全遮光帯６２のＹ方向の幅６２ｙが１回測定分の長さ以上に設定されていることにより、Ｙ方向に隣接するＬ＆Ｓ帯体６１における相互の影響を除外されるとともに、測定していないＬ＆Ｓ帯体６１から発せられる回折光が標準試料１０の基板１１内で反射するなどして、測定中のＬ＆Ｓ帯体６１方向に照射される可能性が可及的に抑制されるといった効果が得られる。
【００３５】
（Ｄ）欠陥検査装置の実測定能力を模擬的に評価するため、すなわち、欠陥検査装置の実際に検出したい問題点の検出性能を評価するため
例えば、ＬＣＤの点欠陥を測定するには、周囲との明るさ／色合い（以下、単に明るさという）の差または比の程度と一つのサンプル中の個数が注目されるので、明るさの差または比を模擬的に再現できればよい。以下、色合いを考えるときは、ラインセンサ４の分光感度をも勘案して透過率を決める。
【００３６】
上述のように、周囲とのコントラストが問題となるので、図７（Ｂ）に示すように、実際に測定対象となるＬＣＤ素子（Ｒ，Ｇ，Ｂ素子）の１区画（以下、単に区画という）に相当する部分を遮光帯７１で囲み、この内部の遮光部７２に欠陥検査装置の分解能よりも小さくかつ光を透過させるための開口７３を複数個形成して、透過率を適宜設定し、周囲とのコントラストを模擬的に再現した模擬欠陥７０を形成する。この模擬欠陥７０の周囲の遮光帯７１は、ＬＣＤ素子の１区画の周囲のブラックマトリックス部分と同じ大きさにするのが好ましい。
【００３７】
そして、上記模擬欠陥７０を、図７（Ａ）に示すように、適宜の間隔をおいて縦横に配置して標準試料１０Ｄとするが、この場合、図４に示した標準試料１０Ａと同様に、移動方向Ｙにいくにしたがって、模擬欠陥７０のＸ方向の幅（長さ）分だけずれるように配置する。このように構成された標準試料１０Ｄによれば、測定領域全幅での測定性能を評価することができる。なお、欠陥検出の限度を評価するだけなら、検出限界の模擬欠陥を場合のみを図４に示すように配置すればよい。
【００３８】
なお、輝点系の点欠陥では、模擬欠陥の周囲は、上記図７（Ａ）に示したように、全て遮光部とするが、滅点系の点欠陥では、模擬欠陥の周囲は全開口とする。また、中間性能をも含めて評価する場合には、模擬欠陥およびその周辺ともに種々の透過率の組み合わせとなる。例えば、模擬欠陥と周辺の透過率との比を一定にして明るさのレベルを変化させたり、模擬欠陥と周辺の透過率の差を一定にして明るさのレベルを変化させたりする。さらに、実際の測定を考えた場合、図４に示した標準試料１０Ａではなく、図７に示した標準試料１０Ｄのように、模擬欠陥の大きさ（Ｘ方向の長さ）分だけずらした方がよい。
【００３９】
ところで、ＬＣＤにおいては、線状欠陥や面状欠陥が生ずることがある。これらの欠陥の評価に用いる標準試料について、以下に、簡単に説明する。
【００４０】
まず、線状欠陥の評価に用いる標準試料について
線状欠陥は、周囲との明るさ／色合いの差、比などの程度が注目される。周囲との明るさ／色合いの差または比、さらには、線状に並ぶ欠陥の長さや線状の欠陥中の明るさ／色合い分布などを模擬的に再現することができるものであればよく、最も単純には、点模擬欠陥を一列に並べた標準試料がよい。また、部分的に欠陥を間引いた場合や、点模擬欠陥にばらつきや位置による透過率の傾きをもたせるようにしてもよい。
【００４１】
次に、面状欠陥の評価に用いる標準試料について
この面状欠陥は、光量／色合い変化の大きさと変化率、変化のある領域の大きさが注目される。したがって、標準試料としては、光量／色合いの変化量と変化率を模擬的に再現することができるものであればよい。例えば、相隣り合う区画ごとに透過率を一定の差や比で変化させながら、一点から放射状に透過率を低くするかまたは周辺へ向けて透過率を高くする。また、このとき、位置による透過率の平均は、一定の差や比で変化させながらもこれに一定のばらつきを加えることも重要である。これは、実際の測定対象には区画ごとのばらつきが存在するからである。
【００４２】
図８は、面状欠陥の評価に用いる標準試料におけるパターンの例を示すものである。そして、透過率分布のパターンのほか、制御要素として、最大透過率と最小透過率との差または比、透過率の中央値などがある。
【００４３】
また、切換え模様のある場合には、切換え部の明るさの差または比、繰り返し領域の中での最大差と最大比、変化の向きと形などがある。例えば、図８に示したようなパターンを全面の数分の１ごとに繰り返す（図９（Ａ）参照）。
【００４４】
そして、実際には、図９（Ｂ）にように、異なるパターンで変化するものが、例えばＬＣＤ基板のなかに存在することが少ないと考えられるので、単に、切換え部の有無の検出を評価すらためなら、図９（Ｃ）に示すように、一様で明るさの異なる標準試料を作成してもよい。
【００４５】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明の標準試料は、光を透過または散乱させるための開口を形成した遮光膜が基板の一方の面上に形成されるとともに、前記開口を、校正対象である、フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置の分解能に比して十分小さく形成してあるので、最小測定領域ごとに光透過率を容易に設定することができ、欠陥検査装置における種々の表示状態を、誰もが簡単に創り出すことができ、欠陥検査装置の種々の基本的性能を再現性よく評価し、校正することができる。
【００４６】
したがって、この発明によれば、欠陥検査装置の評価基準や調整基準を確立することができ、欠陥検査装置の性能の均一化とその維持を合理的に行うことができ、欠陥検査装置の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】欠陥検査装置の測定系の構成例を概略的に示す図である。
【図２】前記測定系に組み込まれるラインセンサを模式的に示す図である。
【図３】この発明の標準試料の断面構成を概略的に示すもので、（Ａ）は透過型ＬＣＤの欠陥検査装置校正用の標準試料であり、（Ｂ）は反射型ＬＣＤの欠陥検査装置校正用の標準試料である。
【図４】標準試料におけるパターンの一例を示す図である。
【図５】標準試料におけるパターンの他の例を示す図で、（Ａ）は全体構成図、（Ｂ）は部分拡大図である。
【図６】標準試料におけるパターンのさらに他の例を示す図である。
【図７】標準試料におけるパターンの他の例を示す図で、（Ａ）は全体構成図、（Ｂ）は部分拡大図である。
【図８】面状欠陥を評価するための種々のパターンの例を示す図である。
【図９】切換え模様のある面状欠陥を評価するための種々のパターンの例を示す図である。
【符号の説明】１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ…標準試料、１１…基板、１２…遮光膜、１３…開口、２０…標準試料、２１…基板、２２…遮光膜、２３…開口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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