(57)【要約】【課題】磁気テープ等に汎用されている高分子フィルム上にγ−Ｆｅ２Ｏ３酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層を備えた磁気記録媒体を作製する。【解決手段】高分子フィルムよりなる基体１上に、Ｆｅ３Ｏ４主成分とする薄膜を形成し、次に１５０℃〜２５０℃で、酸素圧比率が２５％以上の、酸素過剰ガス雰囲気下において加熱酸化処理を行い、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする磁性層２を形成する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子フィルムよりなる基体上に、Ｆｅ３Ｏ４を主成分とする薄膜を形成する工程と、
上記Ｆｅ３Ｏ４を主成分とする薄膜に対して、酸素圧比率が２５％以上の酸素ガス雰囲気下において、１５０℃〜２５０℃で、加熱酸化処理を行い、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする磁性薄膜を形成する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
上記Ｆｅ３Ｏ４を主成分とする薄膜が、Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜型の磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、特に耐食性や硬度が高く、磁気特性に優れた高記録密度のテープ状の磁気記録媒体を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年においては多くの情報がデジタル化されており、これら大容量のデータを長期に亘って保存することが必要となっているが、それに伴いテープあるいはハードディスク記録システムによるバックアップが非常に重要なものとなっている。
【０００３】
従来においては、このようなデータのバックアップ用の磁気記録媒体として、いわゆる塗布型の磁気記録媒体が適用されていたが、記録密度の大容量化、高速化、および装置の小型化等の要請から、記録層をスパッタ等の気相成膜法により形成した、いわゆる磁性薄膜型の磁気記録媒体が用いられるようになってきた。
【０００４】
上記磁性薄膜型の磁気記録媒体としては、例えば基体上にＣｏ層、Ｃｒ層、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属磁性層、カーボンからなる保護層、および潤滑剤層を順次形成した構成のものが一般的に知られている。
しかしこのような薄膜磁性層は、耐食性や硬度の点において充分な信頼性が確保できないという問題を有していた。
【０００５】
これに対して、酸化鉄を主成分とした薄膜磁性層は、酸化鉄が化学的に安定なため、耐蝕性に優れ、かつ充分高い硬度を有しているという利点を有している。
このような酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層としては、γ−Ｆｅ２Ｏ３、あるいはＣｏを含有するγ−Ｆｅ２Ｏ３等が挙げられ、これらはスパッタ法等により先ずＦｅ３Ｏ４を形成し、その後加熱酸化処理工程を経て形成することができる。
【０００６】
このような加熱酸化処理方法としては、大気中で２５０〜４００℃の温度範囲で処理する方法、いわゆる大気中加熱処理（例えば、下記特許文献１参照。）、酸素ガスまたは酸素を含む混合ガスによってプラズマ処理をする方法、いわゆる酸素ガス導入プラズマ処理（例えば特許文献２参照。）等が知られている。
【０００７】
【特許文献１】
特開平７−３０７０２２号公報
【特許文献２】
特開２００１−２５０２１６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記大気中加熱処理においては２５０℃以上の加熱温度が必要であるため、磁気ディスクのように基体として無機ガラスや金属材料等、耐熱性を有する材料を適用している媒体の場合には好適な方法であるが、磁気テープ等、基体として高分子フィルムを適用する媒体の場合には、適用可能な材料が耐熱性の高い材料に限られてしまうという問題がある。
例えば、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアラミドフィルムは、ガラス転移点（Ｔｇ）が低いため、２５０℃以上の温度に加熱すると塑性変形を生じる。また、ポリイミドフィルムはＴｇが３００℃程度であるため、３００℃程度の加熱処理にも耐えられるが、磁気テープの基体としては材料が高価であるため、コスト高を招来するという問題がある。
【０００９】
一方、上記酸素ガス導入プラズマ処理は、２５０℃以下の比較的低温においても酸化処理が可能な方法であるため、ガラス転移点が低い材料にも好適な方法であると言えるが、使用する装置や処理条件によって、形成される磁性層の磁気特性にばらつきが生じるという技術的な課題を有している。
【００１０】
そこで本発明においては、上記のような種々の問題点に鑑みて、比較的低温にであっても充分な加熱酸化効果が得られ、従来のテープ記録システムに用いられている高分子フィルムを基体として適用することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供することとした。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気記録媒体の製造方法においては、先ず高分子フィルムよりなる基体上にＦｅ３Ｏ４を主成分とする薄膜を形成し、次に、このＦｅ３Ｏ４を主成分とする薄膜に対して、酸素圧比率が２５％以上の酸素過剰雰囲気下において、１５０℃〜２５０℃で加熱酸化処理を行い、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする磁性薄膜を形成するものとする。
【００１２】
本発明方法によれば、磁性層形成工程における加熱酸化処理を酸素過剰雰囲気下において行うこととしたため、充分に酸化が促進され、比較的低温で行うことが可能となり、従来の磁気テープにおいて汎用されている高分子フィルムを基体として適用することができる。これによって、高分子フィルム上にγ−Ｆｅ２Ｏ３酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層を備え、耐蝕性に優れ、高い保磁力を有し、磁気特性に優れた磁気記録媒体が低コストで作製できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の磁気記録媒体の製造方法について、具体的な実施形態を図を参照して説明する。なお、以下においては、主としてテープ記録システムの磁気記録媒体として構成される磁気テープに適用する例について説明するが、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、以下の例に限定されるものではなく、基体上に少なくともγ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする薄膜磁性層を有するあらゆる磁気記録媒体に対しても適用可能である。
【００１４】
本発明の磁気記録媒体の一例の概略断面図を図１に示す。
磁気記録媒体１０は、高分子フィルムよりなる基体１上に、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする薄膜磁性層２、保護層３、および潤滑剤層４が順次形成された構成を有している。
【００１５】
基体１は、磁気記録媒体を磁気テープとして適用するときには、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアラミドフィルム、ポリイミドフィルム等、従来磁気テープ用の基体として用いられている材料をいずれも適用することができる。
また、磁気記録媒体をディスク媒体とする場合には、無機材料のガラス、Ａｌ等の金属材料、あるいは樹脂材料を適用できる。樹脂材料としては、例えばポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィン、エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００１６】
上記基体１上には、層構成に応じて必要により、所定の下地層あるいは中間層（図示せず）を設けてもよい。例えば基体１と薄膜磁性層２、あるいは他の層間の結合（付着力）を強固にする接着層、応力を緩和する機能層、あるいは表面に平滑性を与える層、磁気特性を向上させるための層等を設けてもよい。
【００１７】
磁性層２は、γ−Ｆｅ２Ｏ３、あるいはＣｏを含有するγ−Ｆｅ２Ｏ３等、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする磁性薄膜からなるものとする。
磁性層２の形成方法を以下に説明する。
先ず、従来公知の薄膜形成装置を用いて、スパッタ法等によって基体上にＦｅ３Ｏ４膜を形成する。Ｆｅ３Ｏ４膜は、例えばターゲットとしてＦｅ３Ｏ４、またはα−Ｆｅ２Ｏ３、あるいはＦｅを用い、雰囲気ガスとして、それぞれＡｒガス、または水素ガス、あるいは酸素ガスとＡｒガスとの混合ガスを用いてスパッタリングを行うことにより形成される。
次に、上述のようにして形成したＦｅ３Ｏ４膜に対し、酸素過剰雰囲気下で加熱酸化処理を行う。具体的には酸素圧比率が２５％以上の酸素過剰ガス雰囲気下において、温度１５０℃〜２５０℃の範囲として加熱酸化し、γ−Ｆｅ２Ｏ３薄膜磁性層を形成する。
【００１８】
上記加熱酸化処理工程において温度が２５０℃よりも高い場合には、基体に使用できる材料のガラス転移点（Ｔｇ）の関係から、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアラミドフィルム等の耐熱性が比較的低い材料が使用できなくなる。一方、１５０℃よりも低い場合には、酸化が促進されず、充分な磁気特性が得られなくなる。
酸素濃度についても、酸素含有割合が２５％未満とすると、磁性層の酸化が充分促進されず目的の磁気特性が得られなくなる。
【００１９】
また、磁性層２には必要に応じて、Ｃｏ等の他の元素が添加されていてもよい。
なお、Ｃｏを添加すると保磁力Ｈｃ等の磁気特性が向上するが、Ｃｏを過剰に添加すると時間経過に伴う特性安定性が低下するので、適切な量を選択して添加する。
【００２０】
なお、Ｆｅ３Ｏ４膜の形成工程においては、各種スパッタリング法（スパッタ法）が適用でき、例えばマグネトロンスパッタ法、高周波スパッタ法、ＤＣスパッタ法、ＥＣＲスパッタ法等が挙げられる。特にマグネトロンスパッタ法は高速成膜が可能である。また、スパッタ装置としては、特に制限はなく従来汎用されている装置をいずれも使用できる。
【００２１】
保護層３は、記録用、再生用の磁気ヘッドの摺動による磨耗や損傷等、外部からのストレスに対して磁性層２を保護するために設けられる。保護層３形成用材料としては、通常の薄膜磁性記録媒体用として使用されている材料をいずれも適用できるが、例えば高硬度のカーボン（Ｃ）等を主体とする薄膜材料が好適である。但し、本発明方法により作製される磁気記録媒体１０は磁性層２が酸化鉄を主成分する材料により形成されており、充分に高い硬度を有しているため、保護層３を形成しなくても実用上の強度は確保することができる。
【００２２】
保護層３上に潤滑剤層４を形成することにより磁気記録媒体の表面の摩擦係数を低減し、走行性や耐久性を向上させることができる。潤滑剤としては、通常の薄膜磁性記録媒体用として使用されているものをいずれも適用できるが、特にパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤が好適である。
【００２３】
基体１の磁性層形成面とは反対の面にはバックコート層（図示せず）を設けても良い。バックコート層はカーボンを主成分とするもので、ウエットプロセスあるいはドライプロセスなど既知の方法により形成することができる。
【００２４】
【実施例】
以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法について、具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００２５】
〔実施例１〕
基体１としてポリアラミドフィルムを用意した。
基体１上にマグネトロンスパッタ法により、Ｃｏを含有するＦｅ３Ｏ４からなる薄膜を厚さ５０ｎｍに形成した。
次に、上記において形成したＣｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜に対して、酸素含有割合が９０％のガス雰囲気下で、２５０℃１２０分の加熱酸化処理を施してＣｏ含有γ−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性層２を形成した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００２６】
〔実施例２〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理における温度を、２００℃とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００２７】
〔実施例３〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理における温度を、１５０℃とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００２８】
〔実施例４〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理におけるガス雰囲気の酸素含有割合を７０％とし、加熱処理温度を１５０℃とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００２９】
〔実施例５〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理におけるガス雰囲気の酸素含有割合を４０％とし、加熱処理温度を１５０℃とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３０】
〔実施例６〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理におけるガス雰囲気の酸素含有割合を１００％とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３１】
〔実施例７〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理におけるガス雰囲気の酸素含有割合を２５％とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３２】
〔実施例８〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理工程の処理時間を、３０分とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３３】
〔実施例９〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理工程における処理時間を２４０分とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３４】
〔実施例１０〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜の保磁力Ｈｃの値が、２５０Ｏｅ（１９７５０Ａ／ｍ）であるものとした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３５】
〔実施例１１〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜の保磁力Ｈｃの値が、５００Ｏｅ（３９５００Ａ／ｍ）であるものとした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３６】
〔比較例１〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理におけるガス雰囲気を、大気雰囲気にした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３７】
〔比較例２〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理におけるガス雰囲気を、大気雰囲気にし、加熱酸化処理時間を２４０分とした。
その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３８】
〔比較例３〕
Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を形成した後の加熱酸化処理における処理温度を、１３０℃とした。その他の条件は実施例１と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００３９】
上述した〔実施例１〜１１〕および〔比較例１〜３〕において作製された加熱酸化処理前（処理前）および加熱酸化処理後（処理後）での評価用磁気記録媒体サンプルの保磁力ＨｃをＶＳＭ（振動試料型磁力計）で測定した。
測定結果を、磁性層の加熱酸化処理条件（ガス雰囲気、加熱温度、処理時間）と併せて下記表１に示す。
【００４０】
【表１】
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【００４１】
上記表１に示すように、酸素含有割合が２５％のガス雰囲気下で、加熱温度を１５０℃〜２５０℃としてＣｏ含有Ｆｅ３Ｏ４膜の加熱酸化処理を行い、
Ｃｏ含有γ−Ｆｅ２Ｏ３膜を形成した実施例１〜１１の磁気記録媒体においては、いずれも３０００Ｏｅ（２３７０００Ａ／ｍ）以上の高い保磁力Ｈｃが得られ、充分な酸化効果が認められた。
【００４２】
一方、比較例１、２のサンプルは、処理雰囲気中の酸素含有割合が低いため、充分な酸化処理効果が得られず、加熱酸化処理後の保磁力Ｈｃは１０００〜１４００Ｏｅ（７９０００〜１１０６００Ａ／ｍ）程度の低い値となった。
また、比較例３のサンプルは、加熱処理温度が低く、充分な酸化処理効果が認められず、加熱酸化処理後の保磁力Ｈｃは１４００Ｏｅ（１１０６００Ａ／ｍ）程度の低い値となった。
【００４３】
なお、上述した〔実施例１〜１１〕および〔比較例１〜３〕においては、Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を加熱酸化処理し、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性層２を形成する工程を常圧下で行ったが、本発明方法はこれらの例に限定されるものではなく、減圧下あるいは加圧下であっても、酸素圧比率が２５％以上のガス雰囲気下において加熱酸化処理を行うことにより、１５０℃〜２５０℃の比較的低い温度においても充分に酸化が促進され、高い保磁力Ｈｃを有する磁気記録媒体が作製された。
【００４４】
〔実施例１２〕
基体１上にＦｅ３Ｏ４薄膜（Ｃｏを含まない）を成膜した。
次に、Ｆｅ３Ｏ４薄膜に対して、酸素含有割合が９０％のガス雰囲気下で、２５０℃１２０分の加熱酸化処理を施してγ−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性層２を形成した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００４５】
〔実施例１３〕
基体１上にＦｅ３Ｏ４薄膜（Ｃｏを含まない）を成膜し、その後の加熱酸化処理におけるガス雰囲気を、酸素含有割合が２５％であるものとした。
その他の条件は上記実施例１２と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００４６】
〔実施例１４〕
基体１上にＦｅ３Ｏ４薄膜（Ｃｏを含まない）を成膜し、その後の酸化処理工程における加熱温度を１５０℃とした。
その他の条件は実施例１２と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００４７】
〔比較例４〕
基体１上にＦｅ３Ｏ４薄膜（Ｃｏを含まない）を成膜し、その後の酸化処理工程におけるガス雰囲気を大気中とした。
その他の条件は実施例１２と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００４８】
〔比較例５〕
基体１上にＦｅ３Ｏ４薄膜（Ｃｏを含まない）を成膜し、その後の酸化処理工程における加熱温度を１３０℃にした。
その他の条件は実施例１２と同様として磁気記録媒体を作製した。
加熱酸化処理前（処理前）と、加熱酸化処理後（処理後）で得られた磁気記録媒体をそれぞれ以下の評価用サンプルとした。
【００４９】
上記〔実施例１２〜１４〕および〔比較例４、５〕において作製した加熱酸化処理前（処理前）および加熱酸化処理後（処理後）での評価用の磁気記録媒体サンプルの保磁力ＨｃをＶＳＭ（振動試料型磁力計）で測定した。
測定結果を、磁性層の加熱酸化処理条件（ガス雰囲気、加熱温度、処理時間）と併せて下記表２に示す。
【００５０】
【表２】
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【００５１】
上記表２に示すように、基体１上にＦｅ３Ｏ４薄膜（Ｃｏを含まない）を成膜し、酸素含有割合が２５％のガス雰囲気下で、１５０℃〜２５０℃で加熱酸化処理をし、γ−Ｆｅ２Ｏ３薄膜を形成した実施例１２〜１４の評価サンプルは、いずれも１５００Ｏｅ（１１８５００Ａ／ｍ）以上の、実用上高い保磁力Ｈｃが得られ、充分な酸化効果が認められた。
【００５２】
一方、比較例４においては、加熱酸化処理におけるガス雰囲気中の酸素含有割合が低いため、充分な酸化処理効果が得られず、保磁力Ｈｃの値は１０００Ｏｅ以下となった。
また、比較例５においては、加熱酸化処理における加熱温度が低いため、充分な酸化処理効果が得られず、保磁力Ｈｃの値は１０００Ｏｅ以下となった。
【００５３】
上述した〔実施例１２〜１４〕および〔比較例４、５〕においては、Ｆｅ３Ｏ４薄膜（Ｃｏを含まない）を加熱酸化処理し、γ−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性層２を形成する工程を常圧下で行ったが、本発明方法はこれらの例に限定されるものではなく、減圧下、あるいは加圧下であっても、酸素含有割合が２５％以上のガス雰囲気下において加熱酸化処理を行うことにより、１５０℃〜２５０℃の比較的低い温度においても充分に酸化が促進され、高い保磁力Ｈｃを有する磁気記録媒体が作製された。
【００５４】
次に、上記〔実施例１〕において作製した磁気記録媒体サンプル、下記〔参考例〕、および〔比較例６〕の磁気記録媒体サンプルを、それぞれ１０個ずつ用意した。
【００５５】
〔参考例〕
耐熱性を有するポリイミドフィルムを基体１とし、この基体１上にＣｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を成膜した。次に、Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜に対して、大気中で３００℃１２０分の条件下、加熱酸化処理を施してＣｏ含有γ−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性層２を形成した。
【００５６】
〔比較例６〕
基体１上にＣｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜を成膜した。
次に、Ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ４薄膜に対して、酸素プラズマ処理を施してＣｏ含有γ−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性層２を形成した。
【００５７】
上記〔実施例１〕、〔参考例〕、および〔比較例６〕において作製した１０個の各サンプルの保磁力Ｈｃを、それぞれＶＳＭ（振動試料型磁力計）で測定した。測定結果の分布を図２に示す。
図２に示すように、〔実施例１〕においては、すべてのサンプルが高い保磁力Ｈｃを有し、かつ保磁力のばらつきも少なく、高品質の磁気記録媒体が作製された。また、耐熱性材料よりなる基体を適用して、加熱酸化処理工程を高温下で行った〔参考例〕と比較しても、同等以上の磁気特性を有する磁性薄膜が、より低温の加熱酸化処理工程において得られることが解った。
【００５８】
一方、加熱酸化処理工程を酸素プラズマ処理により行った〔比較例６〕においては、酸化処理自体は短時間で行うことが可能であるが、磁性薄膜の保磁力Ｈｃのばらつきが多く、磁気特性が安定せず、品質的に劣ったものとなった。
【００５９】
【発明の効果】
本発明によれば、磁性層の加熱酸化処理を、従来工程よりも低温で行うことが可能となり、従来の磁気テープにおいて汎用されている高分子フィルムを基体として適用することが可能となった。
【００６０】
また、本発明によれば、高分子フィルム上にγ―Ｆｅ２Ｏ３酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層を備え、耐蝕性に優れ、高く安定した保磁力を有する、磁気特性に優れた磁気記録媒体を低コストで作製することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の概略断面図を示す。
【図２】加熱酸化処理条件を変化させたときの磁気記録媒体の保磁力Ｈｃの分布を示す。
【符号の説明】
１……基体、２……磁性層、３……保護層、４……潤滑剤層、１０……磁気記録媒体
【図１】
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【図２】
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