(57)【要約】【課題】高い生産性で作製可能で、且つ画像表示装置に適用した場合に、視野角の拡大に寄与する新規な光学補償シートを提供する。【解決手段】光学異方性層を有する光学補償シートであって、光学異方性層に、下記一般式（Ｉ）（式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なってもよい。Ｃｙはヘテロ環基または芳香環を表し、複数のＣｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ただし、Ｃｙの少なくとも１つはヘテロ環基を表す）で表される化合物の少なくとも１種を含有する光学補償シートである。一般式（Ｉ）【化１】2004317703.tif 000041【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学異方性層を有する光学補償シートであって、光学異方性層に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１種を含有する光学補償シート。
一般式（Ｉ）
【化１】
2004317703.tif 000035
（式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なってもよい。Ｃｙはヘテロ環基または芳香環を表し、複数のＣｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ただし、Ｃｙの少なくとも１つはヘテロ環基を表す。）
【請求項２】
前記光学異方性層が、液晶性化合物と前記一般式（Ｉ）で表される化合物とを含有し、かつ前記光学異方性層において前記液晶性化合物が配向状態をとっている請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される請求項１または２に記載の光学補償シート。
一般式（ＩＩ）
【化２】
2004317703.tif 000036
（式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なっていてもよい。ＲおよびＲ’はそれぞれ独立に置換基を表し、複数のＲおよびＲ’はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。）
【請求項４】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される請求項３に記載の光学補償シート。
一般式（ＩＩＩ）
【化３】
2004317703.tif 000037
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ｚ１は二価の連結基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に置換基を表す。）
【請求項５】
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＶ）で表される請求項４に記載の光学補償シート。
一般式（ＩＶ）
【化４】
2004317703.tif 000038
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表す。ｎは０以上の整数を表し、複数のＡ２は同じでも異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に置換基を表す。）
【請求項６】
前記一般式（ＩＶ）で表される化合物が、下記一般式（Ｖ）で表される請求項５に記載の光学補償シート。
一般式（Ｖ）
【化５】
2004317703.tif 000039
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立に置換基を表し、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ｎは０以上の整数を表し、複数のＡ２は同じでも異なっていてもよい。ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４が２以上のとき複数のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。但し、上記の一般式（Ｖ）の分子内には、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、またはアゾ基を含有しない。ここでＭは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはピリジニウムを表す。）
【請求項７】
前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶である請求項２〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
【請求項９】
下記一般式（Ｖ）で表される化合物。
一般式（Ｖ）
【化６】
2004317703.tif 000040
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立に置換基を表し、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ｎは０以上の整数を表し、複数のＡ２は同じでも異なっていてもよい。ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４が２以上のとき複数のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。但し、上記の一般式（Ｖ）の分子内には、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、またはアゾ基を含有しない。ここでＭは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはピリジニウムを表す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な光学補償シートの技術分野に属する。更には、光学異方性層等の作製に有用な新規な１，３，５−トリアジン化合物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。従来、光学補償シートとしては、延伸複屈折フィルムが使用さている。また、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、透明支持体上にディスコティック液晶分子からなる光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。この光学異方性層は、通常、ディスコティック液晶分子を含むディスコティック液晶組成物を配向膜の上に塗布し、配向温度よりも高い温度で加熱してディスコティック液晶分子を配向させ、その配向状態を固定することにより形成される。
【０００３】
一般に、ディスコティック液晶分子は、大きな複屈折率を有するとともに、多様な配向形態がある。ディスコティック液晶分子を用いることで、従来の延伸複屈折フィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。一方、ディスコティック液晶分子は、多様な配向形態があるため、所望の光学特性を発現させるためには、光学異方性層におけるディスコティック液晶分子の配向を制御する必要があり、ディスコティック液晶分子にセルロース低級脂肪酸エステル、含フッ素界面活性剤または１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加することにより、ディスコティック液晶分子を平均傾斜角が５度未満の水平状態に配向制御している（特許文献１参照）。また、疎水性排除体積効果化合物を光学異方性層に併用して、液晶分子の配向を制御しているものもある（特許文献２参照）。また、円盤状化合物をセルロースエステルフィルム用レターデーション上昇剤として使用しているものもある（特許文献３参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１１−３５２３２８号公報
【特許文献２】
特開２００２−２０３６３号公報
【特許文献３】
特開２００１−１６６１４４号公報
【０００５】
液晶分子の配向を制御する他の方法として、配向膜（界面処理）を用いる方法が知られている。しかし配向膜の規制力だけでは、液晶分子を配向膜界面から空気界面まで均一に配向（モノドメイン配向）させることが難しく、シュリーレンなどの欠陥が残りやすい。特に、生産性を向上させるために熟成時間を短縮すると、シュリーレン欠陥の発生が顕著になる。光学異方性層にシュリーレン欠陥が生じると光散乱が起こり、光学特性を損なうという問題がある。
【０００６】
また、液晶分子の配向状態を固定する際の条件により配向状態変化が起こりうるため、配向状態を安定に維持することが好ましい。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、シュリーレン欠陥などの欠陥の少ないハイブリッド配向の光学異方性層を、迅速に作製可能な技術を提供することを課題とする。また本発明は、画像表示装置に適用した場合に、視野角の拡大に寄与し得る新規な光学補償シート、および視野角が改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。また、本発明は液晶性化合物の配向を促進し、光学異方性層等の作製に有用な新規な化合物を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
［１］  光学異方性層を有する光学補償シートであって、光学異方性層に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１種を含有する光学補償シート。
【０００９】
一般式（Ｉ）
【化７】
2004317703.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なってもよい。Ｃｙはヘテロ環基または芳香環を表し、複数のＣｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ただし、Ｃｙの少なくとも１つはヘテロ環基を表す。）
【００１１】
［２］  前記光学異方性層が、液晶性化合物と前記一般式（Ｉ）で表される化合物とを含有し、かつ前記光学異方性層において前記液晶性化合物が配向状態をとっている［１］の光学補償シート。
［３］  前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される［１］または［２］に記載の光学補償シート。
【００１２】
一般式（ＩＩ）
【化８】
2004317703.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なっていてもよい。ＲおよびＲ’はそれぞれ独立に置換基を表し、複数のＲおよびＲ’はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。）
【００１４】
［４］  前記一般式（ＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される［３］に記載の光学補償シート。
【００１５】
一般式（ＩＩＩ）
【化９】
2004317703.tif 000004
【００１６】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ｚ１は二価の連結基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に置換基を表す。）
【００１７】
［５］  前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＶ）で表される［４］の光学補償シート。
【００１８】
一般式（ＩＶ）
【化１０】
2004317703.tif 000005
【００１９】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表す。ｎは０以上の整数を表し、複数のＡ２は同じでも異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に置換基を表す。）
【００２０】
［６］  前記一般式（ＩＶ）で表される化合物が、下記一般式（Ｖ）で表される［５］の光学補償シート。
［７］  前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶である［２］〜［６］のいずれかの光学補償シート。
［８］  ［１］〜［７］のいずれかの光学補償シートを有する液晶表示装置。
［９］  下記一般式（Ｖ）で表される化合物。
【００２１】
一般式（Ｖ）
【化１１】
2004317703.tif 000006
【００２２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立に置換基を表し、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ｎは０以上の整数を表し、複数のＡ２は同じでも異なっていてもよい。ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４が２以上のとき複数のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。但し、上記の一般式（Ｖ）の分子内には、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、またはアゾ基を含有しない。ここでＭは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはピリジニウムを表す。）
【００２３】
【発明の実施の形態】
［光学補償シート］
本発明の光学補償シートの一実施形態は、透明支持体と、液晶性化合物および下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する光学異方性層とを有する。ただし、本明細書において、「前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する」には、熱、光等により前記一般式（Ｉ）で表される化合物間で重合しまたは該化合物と他の化合物とが重合し、多量化した状態で含有する態様も含むものとする。以下、本明細書において特別な表記がない限りは同様に扱う。
【００２４】
一般式（Ｉ）
【化１２】
2004317703.tif 000007
【００２５】
式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なってもよい。Ｃｙはヘテロ環基または芳香環を表し、複数のＣｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ただし、Ｃｙの少なくとも１つはヘテロ環基を表す。
【００２６】
前記一般式（Ｉ）において、Ｚはｍ価の連結基を表し、好ましくはＺは芳香環以外の連結基である。ｍは２以上の整数を表し、２〜６９であるのが好ましく、２または３であるのがより好ましい。
【００２７】
前記一般式（Ｉ）において、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なってもよい。Ｒａが表すアルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよく、炭素原子数１〜３０であるのが好ましく、１〜１２であるのがより好ましい。Ｒａが表すアリール基は炭素原子数６〜６０であるのが好ましく、６〜３０であるのがより好ましい。Ｒａは水素原子であるのが好ましい。
【００２８】
前記一般式（Ｉ）において、Ｃｙはヘテロ環基または芳香環を表し、複数のＣｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ただし、Ｃｙの少なくとも１つはヘテロ環基を表す。ヘテロ環基の例としては、５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香性もしくは非芳香性、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選択され、且つ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。芳香環の例としては、６〜３０員の置換もしくは無置換の芳香環基であり、好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の芳香環基であり、さらに好ましくは、ヘテロ環の芳香環である。
【００２９】
Ｃｙが有してもよい置換基としては、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ドデシル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル、２‐へキシルデシル、２−オクチルドデシル、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルが挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【００３０】
アルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、やトリシクロアルケニル基、単環のシクロアルケニル基が得に好ましい。）アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
【００３１】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【００３２】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ、１Ｈ、１Ｈ、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ、２−パーフルオロヘキシルエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェノキシ、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
【００３３】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００３４】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ、３−ドデシルオキシプロピルアミノ、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、２−メチルオキシアニリノ、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、
【００３５】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、
【００３６】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、
【００３７】
アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
【００３８】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、
【００３９】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
【００４０】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００４１】
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
また、置換基によっては、分子が連結し、一般式（Ｉ）が多量体（例えば二量体、三量体等）であってもよい。
【００４２】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００４３】
一般式（ＩＩ）
【化１３】
2004317703.tif 000008
【００４４】
式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なっていてもよい。ＲおよびＲ’はそれぞれ独立に置換基を表し、複数のＲおよびＲ’はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
Ｚおよびｍについては、前記一般式（Ｉ）中のそれぞれと同義であり、好ましい例も同様である。
【００４５】
前記一般式（ＩＩ）において、ＲおよびＲ’で表される置換基としては、下記一般式（Ｉ）でＣｙが有してもよい置換基の例をあげることができる。
また、ＲおよびＲ’の置換基の例として、下記一般式（ＶＩ）で表される基も含むものとする。つまり、一般式（ＩＩ）で表される化合物には、多量体（例えば二量体、三量体等）も含まれる。
【００４６】
一般式（ＶＩ）
【化１４】
2004317703.tif 000009
【００４７】
式中、Ｚはｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表し、ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、複数のＸは同じでも異なってもよい。ＲおよびＲ’はそれぞれ独立に置換基を表し、複数のＲおよびＲ’はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
【００４８】
一般式（ＶＩ）において、Ｚ、ｍ、Ｘ、ＲおよびＲ’については、前述の一般式（ＩＩ）中のそれぞれと同義であり、好ましい例も同様である。
【００４９】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の中でも、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００５０】
一般式（ＩＩＩ）
【化１５】
2004317703.tif 000010
【００５１】
式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ｚ１は二価の連結基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に置換基を表す。
【００５２】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｚ１で表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
一般式（ＩＩＩ）において、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立に、ＮＲａであるのが好ましい。Ｒａについては、前記一般式（Ｉ）中のＲａと同義であり、好ましい例も同様である。
【００５３】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４で各々表される置換基の例としては、前述の一般式（ＩＩ）におけるＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。
【００５４】
好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、置換基を有してもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基であり、さらに好ましくは置換基を有してもよいアルキルアミノ基［例えばメチルアミノ、ジメチルアミノ、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ、３−ドデシルオキシプロピルアミノ、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ］、アリールアミノ基［例えばアニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、２−メチルオキシアニリノ、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ］である。有してもよい置換基としては、前述のＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。
【００５５】
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の中でも、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物が好ましい。
【００５６】
一般式（ＩＶ）
【化１６】
2004317703.tif 000011
【００５７】
式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ｎは０以上の整数を表し、複数のＡ２は同じでも異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に置換基を表す。
【００５８】
一般式（ＩＶ）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は一般式（ＩＩＩ）で示したものと同じものであり、好ましい範囲も同様である。
【００５９】
一般式（ＩＶ）において、Ａ１、Ａ２およびＡ３は２価の連結基であり、例えばアルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。より好ましくはアルキレン基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキレン基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキレン基であり、例えば−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）４−）であり、さらに好ましくは、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−（ＣＨ２）４−である。
【００６０】
前述のアルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基および二価のヘテロ環残基は、可能であれば置換基を有してもよく、有してもよい置換基としては前述のＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。
【００６１】
一般式（ＩＶ）で表される化合物の中でも、下記一般式（Ｖ）で表される化合物が好ましい。
【００６２】
一般式（Ｖ）
【化１７】
2004317703.tif 000012
【００６３】
式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立に置換基を表し、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ｎは０以上の整数を表し、複数のＡ２は同じでも異なっていてもよい。ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４が２以上のとき複数のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。但し、上記の一般式（Ｖ）の分子内には、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、またはアゾ基を含有しない。ここでＭは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはピリジニウムを表す。
【００６４】
一般式（Ｖ）において、Ｘ１およびＸ２は前述の一般式（ＩＶ）で示したものと同義であり、好ましい例も同様である。
【００６５】
一般式（Ｖ）において、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４はそれぞれ独立に、ＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、ＯまたはＳを表す。好ましくは、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４はＮＨ、ＯまたはＳであり、かつＬ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４の少なくとも２つは同じものをあらわすことが好ましい。Ｒａは前記一般式（Ｉ）中のＲａと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００６６】
一般式（Ｖ）において、Ａ１、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に２価の連結基を表す。Ａ１、Ａ２およびＡ３は前記一般式（ＩＶ）中のそれぞれと同義であり、好ましい例も同様である。ｎは０以上の整数を表し、好ましくはｎは０〜８の整数である。
【００６７】
一般式（Ｖ）において、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４は独立に０〜５の整数を表す。好ましくは１、２または３である。
【００６８】
一般式（Ｖ）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４で各々表される置換基の例としては、前述の一般式（ＩＩ）におけるＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。好ましくは置換基を有してもよいアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基である。さらに好ましくは置換基を有してもよいアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ、１Ｈ、１Ｈ、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ、２−パーフルオロヘキシルエトキシ、３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ、２−パーフルオロブチルエチルオキシ、６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）である。
【００６９】
一般式（Ｖ）において、（Ｒ１１）ｊ１、（Ｒ１２）ｊ２、（Ｒ１３）ｊ３および（Ｒ１４）ｊ４のベンゼン環上での置換位置は特に制限されない。
【００７０】
前記一般式（Ｖ）において、
（１）Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３およびＬ１４がＮＨ、
（２）Ｘ１およびＸ２がＮＨ、ＯまたはＳ、
（３）Ａ１、Ａ２およびＡ３がアルキレン基、
（４）Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４が置換基を有してもよいアルコキシまたはアリールオキシ基、
を同時に組み合わせた化合物が最も好ましい。
【００７１】
なお、前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物は、配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有してもよい。重合性基としては、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基等が挙げられる。
【００７２】
前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかで表される化合物の好ましい具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。以下、例示化合物（ｘ）（ｘは整数）として示す。
【００７３】
【化１８】
2004317703.tif 000013
【００７４】
【化１９】
2004317703.tif 000014
【００７５】
【化２０】
2004317703.tif 000015
【００７６】
【化２１】
2004317703.tif 000016
【００７７】
【化２２】
2004317703.tif 000017
【００７８】
前記化合物は、単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。前記化合物の添加量としては、液晶性化合物の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．０５〜５質量％が最も好ましい。
【００７９】
本発明において、光学異方性層に用いる液晶性化合物は、棒状液晶性化合物およびディスコティック液晶性化合物のいずれでもよく、また、高分子液晶および低分子液晶のいずれでもよい。さらに光学異方性層中で、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。本発明に用いる液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物が好ましい。
【００８０】
本発明において液晶分子の配向状態は特に制限されない。好ましくは、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向である。
【００８１】
本明細書で示す「ハイブリッド配向」とは、実態とは必ずしも一致しないが、模式的に表現すると、液晶分子の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶分子の場合はコアの円盤面）と液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）とのなす角度（以下、「傾斜角」という）が、液晶層の厚さ方向に変化する配向をいう。本明細書では、傾斜角の変化の態様には、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、および増加および減少を含む間欠的変化などのいずれも含まれるものとする。また、「水平配向」とは、実態とは必ずしも一致しないが模式的に表現すると、液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）に対して液晶分子の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶分子の場合、コアの円盤面）が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、液晶分子の長軸方向と水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。また、「垂直配向」とは、実態とは必ずしも一致しないが模式的に表現すると、液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）に対して液晶分子の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶分子の場合、コアの円盤面）が垂直であることをいうが、厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、液晶分子の長軸方向と水平面とのなす傾斜角が６０度以上の配向を意味するものとする。
【００８２】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体の液晶性化合物も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章がある。棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。棒状液晶性化合物についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号５０頁７行〜５７頁末行に記載されている。
【００８３】
ディスコティック（ディスコティック）液晶性化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。さらに、ディスコティック液晶性化合物としては、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、液晶性を示す。
【００８４】
また、光学異方性層が最終的に形成された際に、液晶性化合物はもはや液晶性化合物である必要はない。例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８２７２８４号公報に記載があり、本発明にも適用することができる。
【００８５】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定する方法の一例として、ディスコティック液晶性化合物として、ディスコティックコアに置換基として重合性基が結合した液晶性化合物を用い、ハイブリッド配向させた後、前記液晶性化合物を重合させて固定する方法がある。但し、ディスコティックコアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる傾向にある。そこで、ディスコティックコアと重合性基との間に、連結基を導入することが好ましい。重合性基を有する好ましいディスコティック液晶性化合物としては、下記式（ＶＩＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
【００８６】
一般式（ＶＩＩ）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
式中、Ｄはディスコティックコアを表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｐは重合性基を表し、ｎは２〜１２のいずれかの整数を表す。前記ディスコティック液晶性化合物の具体例としては、国際公開ＷＯ０１／８８５７４号公報の５８頁６行〜６５頁８行に記載されている。
【００８７】
ディスコティック液晶性化合物とともに使用する可塑剤、界面活性剤および重合性モノマーとしては、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、また配向を阻害しない限りどのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して、一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを混合して用いることで配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。
【００８８】
ディスコティック液晶性化合物とともに使用するポリマーとしては、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有する限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００８９】
本発明では、ハイブリッド配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定するのが好ましい。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号明細書、米国特許２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号明細書、米国特許２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（米国特許３５４９３６７号明細書、米国特許４２３９８５０号明細書）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書）が含まれる。
【００９０】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００９１】
本実施の形態の光学補償シートは、液晶性化合物、前記一般式（Ｉ）で表される化合物、および所望により他の添加剤を溶媒に溶解し、塗布液を調製し、該塗布液を塗布して層を形成することによって作製することができる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。中でも、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００９２】
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００９３】
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００９４】
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましいポリマーであり、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。
【００９５】
本実施の形態では、前記光学異方性層と透明支持体との間に、配向膜を設けることが好ましい。配向膜上で光学異方性層を形成した後、前記光学異方性層を偏光膜などに転写して本発明の光学補償シートを作製することも可能である。さらに、透明支持体の光学異方性層とは反対の面にマット層（バック層）を設けてもよく、また、前記光学異方性層の上方に保護層を設けてもよい。
【００９６】
本発明に使用可能な透明支持体は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。材料については特に制限されないが、ポリマーフィルムが特に好ましい。前記ポリマーフィルムの具体例には、セルロースエステル（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレートのフィルムが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン、ゼオネックス）を用いてもよい。このうちセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。脂肪酸の炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５号明細書に記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
【００９７】
ポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【００９８】
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下でアシル基で置換されていることが好ましく、さらには３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【００９９】
透明支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアセテートフィルムのレターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【０１００】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好しい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。
芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【０１０１】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１、ＷＯ００／２６１９Ａ１、特開２０００−１１１９１４号公報、特開２０００−２７５４３４号公報、特願２００２−７０００９号明細書に記載されている。前記レターデーション上昇剤として、前記一般式（Ｉ）で表される化合物を用いることができる。
【０１０２】
セルロースアセテートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号明細書、米国特許２３６７６０３号明細書、米国特許２４９２０７８号明細書、米国特許２４９２９７７号明細書、米国特許２４９２９７８号明細書、米国特許２６０７７０４号明細書、米国特許２７３９０６９号明細書、米国特許２７３９０７０号明細書、英国特許６４０７３１号明細書、米国特許７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号公報、特公昭４９−５６１４号公報、特開昭６０−１７６８３４号公報、特開昭６０−２０３４３０号公報、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【０１０３】
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１０４】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号公報、特開平１−１２２４１９号公報、特開平１１−１９８２８５号公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号公報、特開昭６１−９４７２４号公報、特開昭６１−９４７２４５号公報、特開昭６１−１０４８１３号公報、特開昭６１−１５８４１３号公報、特開平６−１３４９３３号公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。
【０１０５】
セルロースアセテートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明のセルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【０１０６】
セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１０７】
セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号公報、特開平５−１９０７０７３号公報、特開平５−１９４７８９号公報、特開平５−２７１４７１号公報、特開平６−１０７８５４号公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【０１０８】
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０１０９】
セルロースアセテートフィルムの表面処理は、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１１０】
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【０１１１】
セルロースアセテートフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常５〜５００μｍの範囲であり、さらに２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１８０μｍの範囲が最も好ましい。なお、光学用途としては３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【０１１２】
本発明の光学補償シートは、偏光膜と組合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。
【０１１３】
本発明では、ポリマー基材のＲｅレターデーション値を２０〜７０ｎｍの範囲に調節することが好ましい。
【０１１４】
以下に、本発明の光学補償シートを利用した楕円偏光板および液晶表示装置について説明する。
【０１１５】
［楕円偏光板］
本発明の光学補償シートと偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【０１１６】
偏光膜は前記光学補償シートの光学異方性層側に積層する。偏光膜の光学補償シートを積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０１１７】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートを利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号明細書、米国特許５６４６７０３号明細書、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートは、米国特許５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートは、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。
【０１１８】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用光学補償シートを作製することができる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードなど、種々のモードで駆動される液晶セルと組合わせて液晶表示装置に適用できる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードの液晶表示装置において特に効果がある。
【０１１９】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
【０１２０】
合成例１：例示化合物（５）の合成
例示化合物（５）は、下記に示すルートにより合成した。
【０１２１】
【化２３】
2004317703.tif 000018
【０１２２】
塩化シアヌル１４．８ｇ、アセトン１００ｍｌ、水３００ｍｌの混合溶液（スラリー）に５℃以下にて、１，２−ジ（２−アミノエトキシ）エタン５．９２ｇのアセトン４０ｍｌ溶液と、水酸化ナトリウム３．５２ｇの水溶液４０ｍｌを２時間かけて同時に滴下した。滴下後、５℃以下に温度を保ちながらさらに２時間撹拌し、ろ過を行った。水、冷エタノール、ヘキサンかけ洗いを行い乾燥させ１２．０ｇの（Ａ−１）を得た。
【０１２３】
２−パーフルオロヘキシルエタノール３６．４ｇのＴＨＦ溶液３００ｍｌに、氷冷下水素化ナトリウム（６０％）を４．８ｇを分割投入し、３０分撹拌した。２−フルオロ二トロベンゼン１４．１ｇのＴＨＦ溶液１００ｍｌを滴下し、室温に戻して２時間撹拌した。酢酸エチル、水を加えて分液し、有機層を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し化合物（Ａ−２）の粗製物を得た。
【０１２４】
還元鉄５５．９ｇ、塩化アンモニウム５．４ｇをイソプロパノール３００ｍｌ、水６０ｍｌに分散し、１時間加熱還流した。これに化合物（Ａ−２）の粗製物を少量ずつ撹拌しながら添加した。さらに１時間加熱還流した後、セライトを通して吸引ろ過した。濾液に酢酸エチル、水を加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒から晶析して３６．８ｇの化合物（Ａ−３）を得た。
【０１２５】
化合物（Ａ−１）１．７８ｇ、化合物（Ａ−３）９．１２ｇのキシレン溶液１２０ｍｌを加熱還流下、２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製し、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒から晶析して７．２ｇの例示化合物（５）を得た。ＭＳ（ＦＡＢ），ｍ／ｚ：２１１８（Ｍ＋）
【０１２６】
合成例２：例示化合物（９）の合成
例示化合物（９）は、下記に示すルートにより合成した。
【０１２７】
【化２４】
2004317703.tif 000019
【０１２８】
化合物（Ａ−１）０．８８ｇ、３−（２−オクチルドデシルオキシ）プロピルアミン３．５６ｇのキシレン溶液３０ｍｌを加熱還流下、５時間撹拌した。溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製し、２．８ｇの例示化合物（９）を得た。
【０１２９】
合成例３：例示化合物（１０）の合成
例示化合物（１０）は、下記に示すルートにより合成した。
【０１３０】
【化２５】
2004317703.tif 000020
【０１３１】
化合物（Ａ−１）０．８８ｇ、３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミン２．９ｇ、炭酸カリウム２．１ｇのメチルエチルケトン溶液４０ｍｌを加熱還流下、５時間撹拌した。室温まで冷却し、反応混合物を水に流し込みろ取した。乾燥することにより１．６ｇの例示化合物（１０）を得た。
【０１３２】
合成例４：例示化合物（１２）の合成
例示化合物（１２）は、下記に示すルートにより合成した。
【０１３３】
【化２６】
2004317703.tif 000021
【０１３４】
水素化ナトリウム（６０％）０．３２ｇのＴＨＦ溶液２０ｍｌに２−パーフルオロオクチルエタノール３．７ｇを氷冷下にて加えた。３０分撹拌した後、化合物（Ａ−１）０．８８ｇのＴＨＦ５ｍｌ溶液を滴下した。室温まで昇温し１時間撹拌し、反応混合物を水に流し込みろ取した。乾燥することにより３．５ｇの例示化合物（１２）を得た。
【０１３５】
合成例５：例示化合物（１３）の合成
例示化合物（１３）は、下記に示すルートにより合成した。
【０１３６】
【化２７】
2004317703.tif 000022
【０１３７】
化合物（Ａ−１）０．４４ｇ、２−テトラデカオキシアニリン１．５２ｇのキシレン溶液３０ｍｌを加熱還流下、３時間撹拌した。溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製し、１．３ｇの例示化合物（１３）を得た。
ＭＳ（ＦＡＢ），ｍ／ｚ：１５１９（Ｍ＋）
【０１３８】
合成例６：例示化合物（１４）の合成
例示化合物（１４）は、下記に示すルートにより合成した。
【０１３９】
【化２８】
2004317703.tif 000023
【０１４０】
例示化合物（１０）０．９５ｇ、アニリン０．５ｇのキシレン溶液２０ｍｌを加熱還流下、２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製し、１．０ｇの例示化合物（１４）を得た。
【０１４１】
合成例７：例示化合物（３５）の合成
例示化合物（３５）は、下記に示すルートにより合成した。
【０１４２】
【化２９】
2004317703.tif 000024
【０１４３】
塩化シアヌル２０．１ｇ、１，２−ビス（ヒドロキシメトキシ）メタン７．８ｇのトルエン溶液を８〜１０℃に保ち、コリジン１２．８ｇのトルエン溶液２８ｍｌを４０分かけて滴下した。そのまま室温に昇温し、一晩撹拌した。固形成分をろ過して除き、トルエン１０ｍｌでかけ洗いを２度行った。ろ液にヘキサン１６８ｍｌ加え７時間放置後固形成分をろ過して取り除いた。溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製し、３４．２ｇの化合物（Ｂ−２）を得た。
【０１４４】
化合物（Ｂ−１）４．５ｇ、化合物（Ａ−３）２２．７ｇのキシレン溶液３００ｍｌを加熱還流下、２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製し、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒から晶析して１０．２ｇの例示化合物（３５）を得た。ＭＳ（ＦＡＢ），ｍ／ｚ：２１２０（Ｍ＋）
１，２−ビス（ヒドロキシエトキシ）エタンを１，２−ビス（メルカプトエトキシ）エタンに代えることで同様に例示化合物（３８）が製造できる。また、１，２−ビス（ヒドロキシエトキシ）エタンを１，２−ビス（Ｎ−ブチルアミノエトキシ）エタンに代えることで同様に例示化合物（４０）が製造できる。
【０１４５】
［実施例１］
厚さ１００μｍ、サイズ２７０ｍｍ×１００ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（フジタック、富士写真フィルム（株）製）を透明支持体として用いた。
透明支持体上にアルキル変性ポリビニルアルコール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）を０．５μｍの厚さに塗布、乾燥し、その表面をラビング処理して、配向膜を形成した。配向膜の上に、以下の組成の塗布液をバーコーターを用いて塗布した。
【０１４６】
光学異方性層塗布液
例示化合物（５）                                    ０．１０質量部
下記のレターデーション制御剤（Ａ）                  ０．１０質量部
下記のディスコティック液晶性化合物（Ｂ）              １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                  ９．９０質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製        ３．３０質量部
メチルエチルケトン                                    ３００質量部
【０１４７】
レターデーション制御剤（Ａ）
【化３０】
2004317703.tif 000025
【０１４８】
ディスコティック液晶性化合物（Ｂ）
【化３１】
2004317703.tif 000026
【０１４９】
次に、上記塗布層を約１５秒間で７０℃まで加熱した。次いで約１５秒間で１２５℃まで加熱し、同温度にて更に約２０秒間熟成した後、２Ｊ／ｍ２の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償シートを作製した。
【０１５０】
（光学補償シートの評価）
エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（製））を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定した。測定波長は６３２．８ｎｍであり、結果を第１表に示す。
【０１５１】
［比較例１］
例示化合物（５）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第１表に示す。
［比較例２］
例示化合物（５）、レターデーション制御剤（Ａ）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第１表に示す。
【０１５２】
［比較例３および４］
例示化合物（５）に代えて、特開２００１−１６６１４４号公報に記載の例示化合物（４１６）、特開２００２−２０３６３号公報に記載の例示化合物（１８）をそれぞれ同量用いた以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第１表に示す。
【０１５３】
【化３２】
2004317703.tif 000027
【０１５４】
【化３３】
2004317703.tif 000028
【０１５５】
［実施例２および３］
例示化合物（５）に代えて、例示化合物（７）および（１６）をそれぞれ同量用いた以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第１表に示す。
【０１５６】
【表１】
2004317703.tif 000029
【０１５７】
本発明の例示化合物を含有しない光学補償シートでは、配向速度が遅いため多数のシュリーレン欠陥が存在し、測定不可であった（比較例１、２、３）。また特開２００２−２０３６３号公報に記載の例示化合物（１８）を用いた場合、配向速度は速いものの好ましいレターデーション値ではなかった（比較例４）。本発明の例示化合物を光学異方性層に含有する光学補償シートでは、配向速度が速く、また好ましいレターデーションが実現できる。
【０１５８】
［実施例４］
実施例１で作製した塗布層を約３０秒間で１２５℃まで加熱した。同温度にて更に約２５秒間熟成した後、同温度にて２Ｊ／ｍ２の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定し、光学補償シート（１２５℃での配向固定化シート）を作製した。同様に実施例１で作製した塗布層を約３０秒間で１２５℃まで加熱した。同温度にて更に約２５秒間熟成した後次いで約２０秒間で８０℃まで冷却した後同温度にて２Ｊ／ｍ２の紫外線を照射して、光学異方性層の配向状態を固定し、光学補償シート（８０℃での配向固定化シート）を作製した。
【０１５９】
（光学補償シートの評価）
エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（製））を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定した。測定波長は６３２．８ｎｍであり、結果を第２表に示す。
［比較例５］
例示化合物（５）を添加しなかった以外は、実施例４と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第２表に示す。
［比較例６］
例示化合物（５）、レターデーション制御剤（Ａ）を添加しなかった以外は、実施例４と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第２表に示す。
【０１６０】
［比較例７および８］
例示化合物（５）に代えて、特開２００１−１６６１４４号公報に記載の例示化合物（４１６）、特開２００２−２０３６３号公報に記載の例示化合物（１８）をそれぞれ同量用いた以外は、実施例４と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第２表に示す。
【０１６１】
［実施例５および６］
例示化合物（５）に代えて、例示化合物（７）および（１６）をそれぞれ同量用いた以外は、実施例４と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第２表に示す。
【０１６２】
【表２】
2004317703.tif 000030
【０１６３】
上記第２表に示した結果から、本発明の例示化合物を含有しない光学補償シートでは、配向速度が遅いため多数のシュリーレン欠陥が存在し、測定不可であった（比較例５、６、７）。特開２００２−２０３６３号公報に記載の例示化合物（１８）を用いた場合、レターデーション値が小さいため好ましくなく、また１２５℃での配向固定化シートに比較して８０℃での配向固定化シートではレターデーション値が小さく、温度による変化があることがわかり好ましくない（比較例８）。本発明の例示化合物を光学異方性層に含有する光学補償シートでは、配向速度が速くまた温度によるレターデーション値変化がほとんどなく好ましい。
【０１６４】
次に、液晶表示装置としての応用例を示す。
［実施例７］
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
【０１６５】
セルロースアセテート溶液組成
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルホスフェート                                ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                        ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１）                      ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２）                      ０．２質量部
メチレンクロライド                                ３１０．２５質量部
メタノール                                          ５４．７５質量部
１−ブタノール                                      １０．９５質量部
【０１６６】
レターデーション上昇剤（１）
【化３４】
2004317703.tif 000031
【０１６７】
レターデーション上昇剤（２）
【化３５】
2004317703.tif 000032
【０１６８】
得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、（剥ぎ取り時に機械方向に４％延伸することを考慮して）幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーションを波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーションが４０ｎｍ、面内のレターデーションが４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体として用いた。
【０１６９】
（第１下塗り層の形成）
透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍｌ／ｍ２塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
第１下塗り層塗布液組成
ゼラチン                                            ５．４２質量部
ホルムアルデヒド                                    １．３６質量部
サリチル酸                                          １．６０質量部
アセトン                                              ３９１質量部
メタノール                                            １５８質量部
メチレンクロライド                                    ４０６質量部
水                                                      １２質量部
【０１７０】
（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍｌ／ｍ２塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。
第２下塗り層塗布液組成
下記のアニオン性ポリマー                            ０．７９質量部
クエン酸モノエチルエステル                          １０．１質量部
アセトン                                              ２００質量部
メタノール                                            ８７７質量部
水                                                  ４０．５質量部
【０１７１】
アニオン性ポリマー
【化３６】
2004317703.tif 000033
【０１７２】
（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍｌ／ｍ２塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
バック層塗布液組成
酢化度５５％のセルロースジアセテート                ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ）          ０．６５質量部
アセトン                                              ６７９質量部
メタノール                                            １０４質量部
【０１７３】
（配向膜の形成）
第２下塗り層の上に、長鎖アルキル変性ポリビニルアルコールの水溶液を塗布し、６０℃の温風で９０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い配向膜を形成した。配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。
【０１７４】
（光学異方性層の形成）
配向膜の上に、前記実施例１で用いた光学異方性層塗布液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布した。形成した光学異方性層の厚さは１．７４μｍであった。
【０１７５】
塗布層を１３０℃の恒温槽中で３０秒間かけて膜面温度１２５℃まで加熱した後、さらに３０秒間かけて８０℃まで冷却しディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線を照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定した。室温まで放冷して、光学補償シートを作製した。
【０１７６】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶分子（ＺＬ４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。棒状液晶分子のΔｎは０．０９６９であった。以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した光学補償シート二枚を光学異方性層が液晶セルの基板と対面するように貼り付けた。さらにそれらの外側に、偏光板二枚を貼り付けて液晶表示装置を作製した。光学補償シートの配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。また、偏光板の吸収軸と、液晶セルのラビング方向とは平行になるように配置した。液晶表示装置の液晶セルに電圧を印加し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示との透過率をコントラスト比として、上下左右でコントラスト比１０、かつ階調反転のない領域を視野角として測定した。結果を第３表に示す。
【０１７７】
［比較例９］
実施例７で用いた例示化合物（５）を添加しなかった以外は、実施例７と同様にして液晶表示装置を作製した。結果を第３表に示す。
【０１７８】
［比較例１０］
実施例７で用いた例示化合物（５）、レターデーション制御剤（Ａ）を添加しなかった以外は、実施例７と同様にして液晶表示装置を作製した。結果を第３表に示す。
【０１７９】
［参考例１］
比較例９において配向方法を以下の如く変更した以外は、実施例７と同様にして液晶表示装置を作製した。塗布層を１３０℃の恒温槽中で３分間加熱してディスコティック液晶性化合物を配向させたのち、１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線を照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定した。結果を第３表に示す。
【０１８０】
【表３】
2004317703.tif 000034
【０１８１】
上記表３の結果から、ハイブリッド配向の光学異方性層を有する実施例７の光学補償シートは、液晶表示装置の視野角を拡大させる効果を有することがわかる。さらに、実施例７の光学補償シートの光学異方性層には、比較例９および比較例１０にみられるシュリーレン欠陥がなく、モノドメインなハイブリッド配向が実現できたことがわかる。参考例１と比較して、迅速にハイブリッド配向が実現できたことがわかる。
【０１８２】
【発明の効果】
本発明によれば、一般式（Ｉ）で表される化合物を用いることで、液晶性化合物の配向熟成時間をより短くでき、また温度変化によるレターデーション変化が小さいため効率よく製造可能な光学補償シートを提供できる。即ち、本発明によれば、迅速に製造可能な光学異方性層の製造技術を提供できる。また、本発明によれば、画像表示装置に適用した場合に、視野角の拡大に寄与する新規な光学補償シートおよびを視野角が改善された画像表示装置を提供できる。さらに、本発明によれば、液晶性化合物の配向促進機能を有する新規な１，３，５−トリアジン化合物を提供できる。