(57)【要約】【課題】記録媒体に複数の描画領域が設けられている場合でも、描画領域の増加に伴って記録媒体に対する画像形成時間が増加することを防止する。【解決手段】レーザー露光装置１００では、走査方向とは反対の方向へ移動する露光ステージ１０８上に載置された基板材料１０２のアライメントマークを、支持ゲート１２２に搭載されたＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により読み取った後、レーザースキャナからのレーザービームによりアライメントマークにより位置が判断された描画領域を露光する。このとき、走査方向Ｓに沿ったＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８からレーザースキャナ１３４までの測定距離が基板材料１０２における描画領域の先端及び後端にそれぞれ対応して設けられたアライメントマークのピッチ以上の長さとされている。【選択図】  図１
2004163814.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体を所定の走査方向へ相対的に移動させつつ、該記録媒体における所定の描画領域を画像情報に基づき変調された光ビームにより露光して該描画領域に画像情報に対応する画像を形成する露光装置であって、
前記走査方向へ相対的に移動する記録媒体に対向する読取位置で、該記録媒体から描画領域に対応して設けられたアライメントマークを読み取る読取部と、
前記読取部からの読取情報に基づいて記録媒体における描画領域の位置を判断すると共に、該描画領域の位置に応じて画像情報に対する位置変換処理を行う情報処理部と、
前記走査方向に沿って前記読取部の下流側に配置され、前記走査方向へ相対的に移動する記録媒体に対向する露光位置で、該記録媒体の描画領域を前記情報処理部からの画像情報に基づき変調された光ビームにより露光して該描画領域に画像を形成する露光部とを有し、
前記走査方向に沿った前記読取部から前記露光部までの距離を、該露光部により露光される描画領域の先端及び後端又は、該描画領域が前記走査方向に沿って区画された小領域の先端及び後端にそれぞれ対応して設けられたアライメントマークのピッチ以上の長さとしたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
記録媒体が載置される露光ステージと、
前記読取部によるアライメントマークの読取時及び前記露光部による描画領域への露光時に、前記露光ステージを前記走査方向に沿って移動させて、前記露光ステージ上に載置された記録媒体を前記走査方向へ前記露光部による露光速度で移動させるステージ駆動手段と、
を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記走査方向に沿った前記読取部から前記露光部までの距離を、前記情報処理部により位置が判断される描画領域に対応したアライメントマークのピッチに応じて変化させる露光位置調整手段を有することを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
記録媒体における所定の描画領域を画像情報に従って変調された光ビームにより露光して前記描画領域に画像情報に対応する画像を形成する露光装置であって、
記録媒体が載置される露光ステージと、
所定の走査方向へ移動しつつ、前記露光ステージ上の記録媒体に対向する読取位置で該記録媒体から描画領域に対応して設けられたアライメントマークを読み取る読取部と、
前記読取部からの読取情報に基づいて記録媒体における描画領域の位置を判断すると共に、該描画領域の位置に応じて画像情報に対する位置変換処理を行う情報処理部と、
前記走査方向に沿って前記読取部の下流側に配置され、前記走査方向へ移動しつつ、前記露光ステージ上の記録媒体に対向する露光位置で、該記録媒体の描画領域を前記情報処理部からの画像情報に基づき変調された光ビームにより露光して該描画領域に画像を形成する露光部と、
前記情報処理部により位置が判断された描画領域に対する露光時に、前記露光部を前記走査方向へ該描画領域に対する画像形成速度で移動させる露光部駆動手段と、
前記露光部による描画領域に対する露光開始前に、該露光部により露光される描画領域の先端及び後端又は、該描画領域が前記走査方向に沿って区画された小領域の先端及び後端に対応して設けられたアライメントマークの前記読取位置を前記読取部が通過しているように、前記読取部を前記走査方向に沿って移動させる読取部駆動手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像情報に応じて変調された光ビームによりプリント配線基板等の記録媒体における描画領域を露光して画像を形成する露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プリント配線基板等の配線パターンを形成するためのレーザー露光装置としては、例えば、特許文献１に記載されているものが知られている。特許文献１に記載された走査式描画装置では、基板搬送用テーブル上に載置されたプリント配線基板の四隅にそれぞれ設けられた位置合せ穴（アライメントマーク）を、テーブルと共に副走査方向に沿って待機位置からＣＣＤカメラによる測定位置へ移動させ、このＣＣＤカメラによりプリント配線基板における各位置合せ穴を撮像し、この撮像に得られたプリント配線基板の位置に合わせて描画座標系中の描画対象領域をシフト（座標変換）することにより、描画情報に対するアライメント処理を実行すると共に、テーブルを待機位置に復帰させた後、このテーブルを副走査へ所定の画像形成速度で移動させつつ、レーザービームによる露光位置にて、描画情報に基づいて変調され、ポリゴンミラーにより主走査方向へ偏向されたレーザービームによりプリント配線基板を走査、露光することにより、プリント配線基板における所定の領域（描画領域）に配線パターンに対応する潜像を形成する。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−２７５８６３公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１に記載されているようなレーザー露光装置では、プリント配線基板における１個の描画領域に対する画像形成を行う際には、プリント配線基板を待機位置からアライメントマークの測定位置へ移動させ、プリント配線基板のアライメントマークの位置を測定した後、このプリント配線基板を待機位置に復帰させてからでなければ、プリント配線基板の描画領域に対する露光を開始できない。
【０００５】
またプリント配線基板には、生産性及び描画精度の向上のため、それぞれ独立して配線パターンが形成される複数の描画領域及び、これら複数の描画領域にそれぞれ対応する複数組のアライメントマークが設けられるものがある。このようなプリント配線基板における複数の描画領域に、上記特許文献１に記載されているようなレーザー露光装置によりそれぞれ配線パターンを形成する場合には、１個の描画領域に対する露光が完了する毎に、プリント配線基板を露光位置から待機位置へ一旦復帰させ、１組のアライメントマークに対する位置測定を完了した後でなければ、プリント配線基板における次の１個の描画領域に対する露光を開始できない。このため、このようなレーザー露光装置では、プリント配線基板に設けられた描画領域の個数が増加するに伴って、アライメントマークの位置測定に要する時間が増加し、１枚のプリント配線基板全体に対する画像形成時間が著しく増加してしまう。
【０００６】
本発明の目的は、上記事実を考慮して、記録媒体に複数の描画領域が設けられている場合でも、描画領域の増加に伴って記録媒体に対する画像形成時間が増加することを防止できる露光装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る請求項１記載の露光装置は、記録媒体を所定の走査方向へ相対的に移動させつつ、該記録媒体における所定の描画領域を画像情報に基づき変調された光ビームにより露光して該描画領域に画像情報に対応する画像を形成する露光装置であって、前記走査方向へ相対的に移動する記録媒体に対向する読取位置で、該記録媒体から描画領域に対応して設けられたアライメントマークを読み取る読取部と、前記読取部からの読取情報に基づいて記録媒体における描画領域の位置を判断すると共に、該描画領域の位置に応じて画像情報に対する位置変換処理を行う情報処理部と、前記走査方向に沿って前記読取部の下流側に配置され、前記走査方向へ相対的に移動する記録媒体に対向する露光位置で、該記録媒体の描画領域を前記情報処理部からの画像情報に基づき変調された光ビームにより露光して該描画領域に画像を形成する露光部とを有し、前記走査方向に沿った前記読取部から前記露光部までの距離を、該露光部により露光される描画領域の先端及び後端又は、該描画領域が前記走査方向に沿って区画された小領域の先端及び後端にそれぞれ対応して設けられたアライメントマークのピッチ以上の長さとしたことを特徴とする。
【０００８】
上記請求項１記載の露光装置では、走査方向に沿った読取部から露光部までの距離を、描画領域に対応して設けられたアライメントマークの最長ピッチ以上の長さとしたことことにより、記録媒体における任意の描画領域を露光部からの光ビームにより露光する際に、この描画領域の先端に対応するアライメントマークが露光位置に達した時点で、この描画領域の後端又は描画領域が区画された小領域に対応するアライメントマークが必ず読取位置を通過し、読取部により描画領域又は小領域の先端及び後端にそれぞれ対応するアライメントマークが既に読み取られているので、アライメントマークを読み取るために記録媒体を停止させ、又は記録媒体を走査方向とは反対の方向へ戻すことなく、任意の描画領域又はに対する露光開始から終了まで、記録媒体の走査方向への相対移動を継続させつつ、描画領域の位置及び傾きを判断して画像情報に対する変換処理を実行した後、レーザースキャナが露光対象となる描画領域を画像情報に基づき変調された光ビームにより露光できる。この結果、記録媒体に複数の描画領域が設けられている場合でも、描画領域の増加に伴う記録媒体に対する画像形成時間の増加を防止できる。
【０００９】
本発明に係る請求項４記載の露光装置は、記録媒体における所定の描画領域を画像情報に従って変調された光ビームにより露光して前記描画領域に画像情報に対応する画像を形成する露光装置であって、記録媒体が載置される露光ステージと、所定の走査方向へ移動しつつ、前記露光ステージ上の記録媒体に対向する読取位置で該記録媒体から描画領域に対応して設けられたアライメントマークを読み取る読取部と、前記読取部からの読取情報に基づいて記録媒体における描画領域の位置を判断すると共に、該描画領域の位置に応じて画像情報に対する位置変換処理を行う情報処理部と、前記走査方向に沿って前記読取部の下流側に配置され、前記走査方向へ移動しつつ、前記露光ステージ上の記録媒体に対向する露光位置で、該記録媒体の描画領域を前記情報処理部からの画像情報に基づき変調された光ビームにより露光して該描画領域に画像を形成する露光部と、前記情報処理部により位置が判断された描画領域に対する露光時に、前記露光部を前記走査方向へ該描画領域に対する画像形成速度で移動させる露光部駆動手段と、前記露光部による描画領域に対する露光開始前に、該露光部により露光される描画領域の先端及び後端又は、該描画領域が前記走査方向に沿って区画された小領域の先端及び後端に対応して設けられたアライメントマークの前記読取位置を前記読取部が通過しているように、前記読取部を部前記走査方向に沿って移動させる読取部駆動手段と、を有することを特徴とする。
【００１０】
上記請求項４記載の露光装置では、露光駆動手段が、情報処理部により位置が判断された描画領域に対する露光時に、露光部を走査方向へ描画領域に対する画像形成速度で移動させると共に、読取部駆動手段が、露光部による描画領域に対する露光開始前に、この露光部により露光される描画領域の先端及び後端又は、この描画領域が走査方向に沿って区画された小領域の先端及び後端に対応して設けられたアライメントマークの読取位置を読取部が通過しているように、読取部を走査方向に沿って移動させることにより、記録媒体における任意の描画領域又は小領域を露光部からの光ビームにより露光開始する時点、すなわち、露光部が露光対象となる描画領域又は小領域の先端に達した時点で、この描画領域又は小領域の先端及び後端に対応するアライメントマーク上を読取部がそれぞれ通過し、読取部により描画領域の先端及び後端又は小領域の先端及び後端にそれぞれ対応するアライメントマークが既に読み取られているので、読取部によりアライメントマークが読み取られるのを待つために露光部を停止させることなく、記録媒体に対する露光開始から終了まで、露光部を所定の露光速度で移動させたまま、描画領域又は小領域の位置及び傾きを判断して画像情報に対する変換処理を実行した後、露光部により露光対象となる描画領域又は小領域を露光できる。この結果、記録媒体に複数の描画領域が設けられている場合でも、描画領域の増加に伴う記録媒体に対する画像形成時間の増加を防止できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１２】
（第１の実施形態）
［レーザー露光装置の構成］
図１及び図２には、本発明の第１の実施形態に係るレーザー露光装置が示されている。このレーザー露光装置１００は、プリント配線基板の材料となる薄肉プレート状の基板材料１０２を画像情報により変調されたレーザービームＢにより露光し、この基板材料１０２にプリント配線基板の配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するものである。
【００１３】
図１に示されるように、レーザー露光装置１００には、肉厚プレート状に形成された支持基台１０４が設けられている。支持基台１０４は、その面形状が基板材料１０２に対する走査方向（矢印Ｓ方向）を長手方向とする略長方形とされており、支持基台１０４の上面部には、走査方向と平行なステージ移動方向（矢印Ｍ方向）へ直線的に延在する一対のガイドレール１０６が取り付けられると共に、これら一対のガイドレール１０６を介してプレート状の露光ステージ１０８が配置されている。露光ステージ１０８は、一対のガイドレール１０６によりステージ移動方向に沿って所定の搬入位置（図１にて実線で示される位置）と搬出位置（図１にて２点鎖線で示される位置）との間でスライド可能に支持されている。
【００１４】
図２に示されるように、支持基台１０４の上面部には、一対のガイドレール１０６間にリニアモータ１１０が配置されている。リニアモータ１１０には、ステージ移動方向に沿って細長いマグネット１１２及び、このマグネット１１２によりステージ移動方向に沿ってスライド可能に支持されたプレート状のコイル１１４が設けられている。ここで、コイル１１４は、露光ステージ１０８の下面部に取り付けられ、露光ステージ１０８と一体となってステージ移動方向に沿って移動する。リニアモータ１１０は、後述する搬送制御部１９４（図２０参照）によりコイル１１２に駆動電流及び駆動パルスが供給されると、マグネット１１２がコイル１１４に対して電磁気的な駆動力を作用させ、コイル１１４及び露光ステージ１０８をステージ移動方向に沿って移動（前進又は後進）させる。またリニアモータ１１０には、リニアエンコーダ１１６が付設されており、このリニアエンコーダ１１６は、コイル１１４のステージ移動方向に沿って移動方向に対応する極性のパルス信号を移動量に比例するパルス数だけ搬送制御部１９４へ出力する。
【００１５】
図１に示されるように、露光ステージ１０８の上面部は、基板材料１０２が載置される平面状の載置面１１８とされている。この載置面１１８には、基板材料１０２を負圧により吸着するための吸着溝（図示省略）が開口しており、この吸着溝には、載置面１１８上への基板材料１０２の載置時に真空ポンプ等の真空発生装置から負圧が供給される。これにより、載置面１１８上に載置された基板材料１０２が吸着溝内の負圧の作用により載置面１１８上に密着状態で固定される。ここで、基板材料１０２の上面部は、感光材料により薄膜状の感光性塗膜が成膜された被露光面１２０とされている。この被露光面１２０には、レーザー露光装置１００による潜像形成後に、現像、エッチング等の所定の処理を受けることにより潜像に対応する配線パターンが形成される。
【００１６】
また露光ステージ１０８の上面部には、中央部付近に一対のガイドレール１０６を跨ぐように、下方へ向って開いた略コ字状に形成された支持ゲート１２２が設置され、この支持ゲート１２２と支持基台１０４との間には露光ステージ１０８が通過可能な空間が形成されている。支持ゲート１２２には、搬入位置側の側端部に複数台（本実施形態では３台）のＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８が配置されており、これらのＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８は、それぞれ受光素子が基板材料１０２の幅方向に沿って直線的に配列されている。またＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８は、撮像時の光源として１回の発光時間が極めて短いストロボ１３０（図２０参照）を備えており、このストロボ１３０の発光時のみ撮像が可能となるように、各ＣＣＤの受光感度が設定されている。
【００１７】
ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８は、その真下の撮像位置ＰＩ（図２参照）を露光ステージ１０８が通過する際に、所定のタイミングでストロボ１３０を発光させ、このストロボからの光の反射光を受光することにより、基板材料１０２におけるアライメントマーク１３２（図３参照）を含む撮像範囲をそれぞれ撮像する。ここで、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８は、基板材料１０２の幅方向（矢印Ｗ方向）に沿ってそれぞれ異なる領域を撮像範囲としている。各ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８は、撮像対象となる基板材料１０２に形成されたアライメントマーク１３２（図３参照）の位置等に応じて幅方向に沿った位置調整が可能とされている。
【００１８】
図１に示されるように、支持ゲート１２２には、ステージ移動方向に沿ってＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８の上流側（図１では左側）にレーザースキャナ１３４が配置されている。図２に示されるように、レーザースキャナ１３４は、露光ヘッド１６６等を収容するケーシングを備えており、その真下の露光位置ＰＥ（図２参照）を基板材料１０２が通過する時に、画像情報に基づいて変調された複数本のレーザービームＢ（図２参照）を基板材料１０２の被露光面１２０へ照射し、基板材料１０２の被露光面１２０にプリント配線基板の配線パターンに対応する画像（潜像）を形成する。
【００１９】
ここで、レーザースキャナ１３４は支持ゲート１２２により走査方向に沿って位置調整可能に支持されている。これにより、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８による撮像位置ＰＩとレーザースキャナ１３４による露光位置ＰＥとの距離である測定間隔ＬＭは、所定の範囲内で調整可能となっている。具体的には、測定間隔ＬＭは、基板材料１０２の走査方向に沿った長さと略一致する最大値から基板材料１０２に形成されたアライメントマーク１３２の走査方向に沿った最小ピッチと略一致する最小値の範囲内で調整可能とされている。
【００２０】
図１に示されるように、レーザー露光装置１００には、走査方向に沿って支持基台１０４の下流側（図１では右側）に平板状のプリアライメントテーブル１３６が設置されている。このプリアライメントテーブル１３６は、その上面部が平面状の載置面１３８とされており、この載置面１３８には、基板材料１０２をステージ移動方向及び幅方向に沿って所定の載置位置に位置決めするための位置決め突起１３９が設けられている。レーザー露光装置１００では、画像形成完了後に露光ステージ１０８が搬出位置から搬入位置に復帰すると、１枚の基板材料１０２がその先端及び片側の側端が位置決め突起１３９にそれぞれ当接するようにプリアライメントテーブル１３６の載置面１３８上に載置される。これにより、基板材料１０２が載置面１３８における載置位置に一定の位置決め精度で位置決めされる。
【００２１】
レーザー露光装置１００には、プリアライメントテーブル１３６上に載置された基板材料１０２を搬入位置にある露光ステージ１０８上へ搬送するための搬入リフタ１４０が設けられている。搬入リフタ１４０は、本体部１４２及び、この本体部１４２によりステージ移動方向及び上下方向（矢印Ｈ方向）に沿って移動可能に支持されたアーム部１４４を備えており、このアーム部１４４の下面は、複数の吸着穴（図示省略）が開口した基板材料１０２の吸着面とされており、アーム部１４４の吸着穴には、真空ポンプ等の真空発生装置が接続されている。
【００２２】
搬入リフタ１４０は、プリアライメントテーブル１３６上に基板材料１０２が載置されると、この基板材料１０２をアーム部１４４により吸着してプリアライメントテーブル１３６上から露光ステージ１０８上へ搬送し、基板材料１０２を露光ステージ１０８の載置面１１８上に載置する。このとき、搬入リフタ１４０は、被露光面１２０の中心と載置面１１８の中心とが一致し、かつ基板材料１０２がステージ移動方向に対して傾きが生じないように、基板材料１０２を載置面１１８における所定の基準位置に載置する。但し、基板材料１０２をプリアライメントテーブル１３６上に載置した際の位置決め誤差、露光ステージ１０８の搬入位置へ停止させる際の位置決め誤差等の影響により、基準位置に対して基板材料１０２には若干の位置決め誤差が不可避的に生じる。
【００２３】
図１に示されるように、レーザー露光装置１００には、走査方向に沿って支持基台１０４の上流側（図１では左側）にローラコンベア１４６が設置されている。このローラコンベア１４６は、ステージ移動方向に沿って配列された複数本の搬送ローラ１４８及び、これらの搬送ローラ１４８を回転させる駆動部（図示省略）を備えている。ローラコンベア１４６は、基板材料１０２が支持基台１０４側の端部に載置されると、複数本の搬送ローラ１４８により基板材料１０２を支持基台１０４から離間する搬出方向へ搬送し、この基板材料１０２を一時保管用のスタック台等へ搬送する。
【００２４】
またレーザー露光装置１００には、搬出位置にある露光ステージ１０８上に載置された基板材料１０２をローラコンベア１４６上へ搬送するための搬出リフタ１５０が設けられている。搬出リフタ１５０は、搬入リフタ１４０と同様に、本体部１５２及び、この本体部１５２によりステージ移動方向及び上下方向（矢印Ｈ方向）に沿って移動可能に支持されたアーム部１５４を備えており、このアーム部１５４の下面は、複数の吸着穴（図示省略）が開口した基板材料１０２の吸着面とされており、アーム部１５４の吸着穴には、真空ポンプ等の真空発生装置が接続されている。搬出リフタ１５０は、基板材料１０２の載置された露光ステージ１０８が搬出位置に達すると、露光ステージ１０８上の基板材料１０２をアーム部１５４により吸着して露光ステージ１０８上からローラコンベア１４６上へ搬送し、基板材料１０２をローラコンベア１４６の端部上に載置する。これに連動し、ローラコンベア１４６は基板材料１０２を搬出方向へ搬送開始する。
【００２５】
図３それぞれに示されるように、基板材料１０２には、その被露光面１２０に予め配線パターンに対応する潜像が形成される複数の描画領域１３１が設定されると共に、これら複数の描画領域１３１にそれぞれ対応する複数組のアライメントマーク１３２が形成されている。図３（Ａ）に示される基板材料１０２には、１枚の基板材料１０２から、８枚の比較的小面積のプリント配線基板を製造する場合の描画領域１３１及びアライメントマーク１３２の配置が示されている。この図３（Ａ）に示される基板材料１０２では、１枚のプリント配線基板にそれぞれ１対１で対応する描画領域１３１が幅方向に沿って２行、走査方向に沿って４列設定されており、描画領域１３１のコーナ部の外側に所定の間隔を空けてアライメントマーク１３２が形成されている。
【００２６】
また図３（Ｂ）に示される基板材料１０２には、１枚の基板材料１０２から、２枚の比較的大面積のプリント配線基板を製造する場合の描画領域１３１及びアライメントマーク１３２の配置が示されている。この図３（Ｂ）に示される基板材料１０２では、１枚のプリント配線基板にそれぞれ１対１で対応する描画領域１３１が幅方向に沿って１行、走査方向に沿って２列設定されており、描画領域１３１の各コーナ部の外側に所定の間隔を空けてアライメントマーク１３２が形成されると共に、描画領域１３１の走査方向に沿った辺部中心点の外側に所定の間隔を空けてアライメントマーク１３２が形成されている。
【００２７】
ここで、図３（Ｂ）に示される描画領域１３１は、描画領域１３１の辺部の外側に形成されたアライメントマーク１３２の位置を基準とし、走査方向に沿って２個の小領域１３１Ａ，１３１Ｂに区画されている。なお、本実施形態のアライメントマーク１３２は、基板材料１０２の被露光面１２０に円形の貫通穴又は凹部を設けることにより形成されているが、被露光面１２０に予め形成されたランド等をアライメントマークとしても良い。
【００２８】
次に、本実施形態に係るレーザー露光装置１００に用いられるレーザースキャナ１３４について詳細に説明する。レーザースキャナ１３４は、図７及び図８（Ｂ）に示されるように、ｍ行ｎ列（例えば、３行５列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば、１４個）の露光ヘッド１６６を備えている。この例では、基板材料１０２の幅との関係で、３行目には４個の露光ヘッド１６６を配置した。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド１６６ｍｎと表記する。
【００２９】
露光ヘッド１６６による露光エリア１６８は、走査方向（矢印）を短辺とする矩形状とされている。これにより、露光ステージ１０８がステージ移動方向に沿って前進（矢印Ｍ１方向へ移動）し、基板材料１０２が相対的に走査方向へ移動するに従って、基板材料１０２には露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア１６８ｍｎと表記する。
【００３０】
また、図８（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、帯状の露光済み領域１７０が副走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア１６８１１と露光エリア１６８１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア１６８２１と３行目の露光エリア１６８３１とにより露光することができる。
【００３１】
露光ヘッド１６６１１〜１６６ｍｎ各々は、図９、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、入射された光ビームを画像情報に応じて各画素毎に変調する空間変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５０を備えている。
【００３２】
図２０に示されるように、レーザースキャナ１３４を駆動制御するスキャナ制御部１９２には、画像情報処理部とミラー駆動制御部とが組み込まれており、画像情報処理部では、コントローラ１９０から入力された画像情報に基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。なお、制御すべき領域については後述する。また、ミラー駆動制御部では、画像情報処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の各マイクロミラーの角度を制御する。なお、反射面の角度の制御に付いては後述する。
【００３３】
図９及び図１０示されるように、ＤＭＤ５０の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア１６８の長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザー出射部を備えたファイバアレイ光源６６、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光を補正してＤＭＤ５０上に集光させるレンズ系６７、レンズ系６７を透過したレーザー光をＤＭＤ５０に向けて反射するミラー６９が順に配置されている。
【００３４】
レンズ系６７は、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光を平行光化する１対の組合せレンズ７１、平行光化されたレーザー光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ７３、及び光量分布が補正されたレーザー光をＤＭＤ上に集光する集光レンズ７５で構成されている。組合せレンズ７３は、レーザー出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ且つ光軸から離れた部分は光束を縮め、且つこの配列方向と直交する方向に対しては光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザー光を補正する。
【００３５】
また、ＤＭＤ５０の光反射側には、ＤＭＤ５０で反射されたレーザー光を基板材料１０２の被露光面１２０上に結像するレンズ系５４、５８が配置されている。レンズ系５４及び５８は、ＤＭＤ５０と被露光面５６とが共役な関係となるように配置されている。
【００３６】
ＤＭＤ５０は、図１１に示されるように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６０上に、微小ミラー（マイクロミラー）６２が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、６００個×８００個）の微小ミラーを格子状に配列して構成されたミラーデバイスである。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー６２が設けられており、マイクロミラー６２の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、マイクロミラー６２の反射率は９０％以上である。また、マイクロミラー６２の直下には、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル６０が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００３７】
ＤＭＤ５０のＳＲＡＭセル６０にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー６２が、対角線を中心としてＤＭＤ５０が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図１２（Ａ）は、マイクロミラー６２がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図１２（Ｂ）は、マイクロミラー６２がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じて、ＤＭＤ５０の各ピクセルにおけるマイクロミラー６２の傾きを、図１１に示されるように制御することによって、ＤＭＤ５０に入射された光はそれぞれのマイクロミラー６２の傾き方向へ反射される。
【００３８】
なお、図１１には、ＤＭＤ５０の一部を拡大し、マイクロミラー６２が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー６２のオンオフ制御は、コントローラ１９０からの指令を受けてスキャナ制御部１９２により行われる。なお、オフ状態のマイクロミラー６２により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【００３９】
また、ＤＭＤ５０は、短辺が副走査方向と所定角度θ（例えば、１°〜５°）を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図１３（Ａ）はＤＭＤ５０を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像（露光ビーム）５３の走査軌跡を示し、図１３（Ｂ）はＤＭＤ５０を傾斜させた場合の露光ビーム５３の走査軌跡を示している。
【００４０】
ＤＭＤ５０には、長手方向にマイクロミラーが多数個（例えば、８００個）配列されたマイクロミラー列が、短手方向に多数組（例えば、６００組）配列されているが、図１３（Ｂ）に示されるように、ＤＭＤ５０を傾斜させることにより、各マイクロミラーによる露光ビーム５３の走査軌跡（走査線）のピッチＰ２が、ＤＭＤ５０を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ１より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、ＤＭＤ５０の傾斜角は微小であるので、ＤＭＤ５０を傾斜させた場合の走査幅Ｗ２と、ＤＭＤ５０を傾斜させない場合の走査幅Ｗ１とは略同一である。
【００４１】
また、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上に略が重ねて露光されることになる。このように、重ねて露光されることで、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、主走査方向に配列された複数の露光ヘッド間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。
【００４２】
なお、ＤＭＤ５０を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を副走査方向と直交する方向に所定間隔ずらして千鳥状に配置しても、同様の効果を得ることができる。
【００４３】
ファイバアレイ光源６６は、図１４（Ａ）に示されるように、複数（例えば、６個）のレーザーモジュール６４を備えており、各レーザーモジュール６４には、マルチモード光ファイバ３０の一端が結合されている。マルチモード光ファイバ３０の他端には、コア径がマルチモード光ファイバ３０と同一で且つクラッド径がマルチモード光ファイバ３０より小さい光ファイバ３１が結合され、図１４（Ｃ）に示されるように、光ファイバ３１の出射端部（発光点）が副走査方向と直交する主走査方向に沿って１列に配列されてレーザー出射部６８が構成されている。なお、図１４（Ｄ）に示されるように、発光点を主走査方向に沿って２列に配列することもできる。
【００４４】
光ファイバ３１の出射端部は、図１４（Ｂ）に示されるように、表面が平坦な２枚の支持板６５に挟み込まれて固定されている。また、光ファイバ３１の光出射側には、光ファイバ３１の端面を保護するために、ガラス等の透明な保護板６３が配置されている。保護板６３は、光ファイバ３１の端面と密着させて配置してもよく、光ファイバ３１の端面が密封されるように配置してもよい。光ファイバ３１の出射端部は、光密度が高く集塵し易く劣化し易いが、保護板６３を配置することにより端面への塵埃の付着を防止することができると共に劣化を遅らせることができる。
【００４５】
この例では、クラッド径が小さい光ファイバ３１の出射端を隙間無く１列に配列するために、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバ３０の間にマルチモード光ファイバ３０を積み重ね、積み重ねられたマルチモード光ファイバ３０に結合された光ファイバ３１の出射端が、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバ３０に結合された２本の光ファイバ３１の出射端間に挟まれるように配列されている。
【００４６】
このような光ファイバは、例えば、図１５に示されるように、クラッド径が大きいマルチモード光ファイバ３０のレーザー光出射側の先端部分に、長さ１〜３０ｃｍのクラッド径が小さい光ファイバ３１を同軸的に結合することにより得ることができる。２本の光ファイバは、光ファイバ３１の入射端面が、マルチモード光ファイバ３０の出射端面に、両光ファイバの中心軸が一致するように融着されて結合されている。上述した通り、光ファイバ３１のコア３１ａの径は、マルチモード光ファイバ３０のコア３０ａの径と同じ大きさである。
【００４７】
また、長さが短くクラッド径が大きい光ファイバにクラッド径が小さい光ファイバを融着させた短尺光ファイバを、フェルールや光コネクタ等を介してマルチモード光ファイバ３０の出射端に結合してもよい。コネクタ等を用いて着脱可能に結合することで、クラッド径が小さい光ファイバが破損した場合等に先端部分の交換が容易になり、露光ヘッドのメンテナンスに要するコストを低減できる。なお、以下では、光ファイバ３１を、マルチモード光ファイバ３０の出射端部と称する場合がある。
【００４８】
マルチモード光ファイバ３０及び光ファイバ３１としては、ステップインデックス型光ファイバ、グレーテッドインデックス型光ファイバ、及び複合型光ファイバの何れでもよい。例えば、三菱電線工業株式会社製のステップインデックス型光ファイバを用いることができる。本実施形態では、マルチモード光ファイバ３０及び光ファイバ３１は、ステップインデックス型光ファイバであり、マルチモード光ファイバ３０は、クラッド径＝１２５μｍ、コア径＝２５μｍ、ＮＡ＝０．２、入射端面コートの透過率＝９９．５％以上であり、光ファイバ３１は、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝２５μｍ、ＮＡ＝０．２である。
【００４９】
レーザーモジュール６４は、図１６に示される合波レーザー光源（ファイバ光源）によって構成されている。この合波レーザー光源は、ヒートブロック１０上に配列固定された複数（例えば、７個）のチップ状の横マルチモード又はシングルモードのＵＶ系半導体レーザーＬＤ１，ＬＤ２，ＬＤ３，ＬＤ４，ＬＤ５，ＬＤ６，及びＬＤ７と、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメータレンズ１１，１２，１３，１４，１５，１６，及び１７と、１つの集光レンズ２０と、１本のマルチモード光ファイバ３０と、から構成されている。ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、発振波長及び最大出力が総て同じである。なお、半導体レーザーの個数は７個には限定されない。
【００５０】
上記の合波レーザー光源は、図１７及び図１８に示されるように、他の光学要素と共に、上方が開口した箱状のパッケージ４０内に収納されている。パッケージ４０は、開口を閉じるよう作製されたパッケージ蓋４１を備えており、脱気処理後に封止ガスを導入し、パッケージ４０の開口をパッケージ蓋４１で閉じることにより、パッケージ４０とパッケージ蓋４１とにより形成される閉空間（封止空間）内に上記合波レーザー光源が気密封止されている。
【００５１】
パッケージ４０の底面にはベース板４２が固定されており、このベース板４２の上面には、前記ヒートブロック１０と、集光レンズ２０を保持する集光レンズホルダー４５と、マルチモード光ファイバ３０の入射端部を保持するファイバホルダー４６とが取り付けられている。マルチモード光ファイバ３０の出射端部は、パッケージ４０の壁面に形成された開口からパッケージ外に引き出されている。
【００５２】
また、ヒートブロック１０の側面にはコリメータレンズホルダー４４が取り付けられており、コリメータレンズ１１〜１７が保持されている。パッケージ４０の横壁面には開口が形成され、この開口を通してＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７に駆動電流を供給する配線４７がパッケージ外に引き出されている。
【００５３】
なお、図１８においては、図の煩雑化を避けるために、複数のＵＶ系半導体レーザーのうちＵＶ系半導体レーザーＬＤ７にのみ番号を付し、複数のコリメータレンズのうちコリメータレンズ１７にのみ番号を付している。
【００５４】
図１９は、上記コリメータレンズ１１〜１７の取り付け部分の正面形状を示すものである。コリメータレンズ１１〜１７の各々は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取った形状に形成されている。この細長形状のコリメータレンズは、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することによって形成することができる。コリメータレンズ１１〜１７は、長さ方向がＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の発光点の配列方向（図１９の左右方向）と直交するように、上記発光点の配列方向に密接配置されている。
【００５５】
一方、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７としては、発光幅が２μｍの活性層を備え、活性層と平行な方向、直角な方向の拡がり角が各々例えば１０°、３０°の状態で各々レーザービームＢ１〜Ｂ７を発するレーザーが用いられている。これらＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、活性層と平行な方向に発光点が１列に並ぶように配設されている。
【００５６】
従って、各発光点から発せられたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、上述のように細長形状の各コリメータレンズ１１〜１７に対して、拡がり角度が大きい方向が長さ方向と一致し、拡がり角度が小さい方向が幅方向（長さ方向と直交する方向）と一致する状態で入射することになる。つまり、各コリメータレンズ１１〜１７の幅が１．１ｍｍ、長さが４．６ｍｍであり、それらに入射するレーザービームＢ１〜Ｂ７の水平方向、垂直方向のビーム径は各々０．９ｍｍ、２．６ｍｍである。また、コリメータレンズ１１〜１７の各々は、焦点距離ｆ１＝３ｍｍ、ＮＡ＝０．６、レンズ配置ピッチ＝１．２５ｍｍである。
【００５７】
集光レンズ２０は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取って、コリメータレンズ１１〜１７の配列方向、つまり水平方向に長く、それと直角な方向に短い形状に形成されている。この集光レンズ２０は、焦点距離ｆ２＝２３ｍｍ、ＮＡ＝０．２である。この集光レンズ２０も、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することにより形成される。
【００５８】
次に、レーザー露光装置１００における制御系の構成について説明する。図２０に示されるように、レーザー露光装置１００は、装置全体を制御するためのコントローラ１９０を備えており、このコントローラ１９０には、搬送制御部１９４、画像処理部１９４及びスキャナ制御部１９２がそれぞれ接続されている。
【００５９】
ここで、搬送制御部１９４は、露光ステージ１０８に連結されたリニアモータ１１０及びリニアエンコーダ１１６に接続され、露光ステージ１０８の移動時にリニアモータ１１０に駆動パルス信号を出力する。このとき、搬送制御部１９４は、リニアエンコーダ１１６からのパルス信号に基づいてリニアモータ１１０をフィードバック制御する。画像処理部１９４は、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８からの画像信号を処理し、各ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により撮像範囲されたアライメントマーク１３２の位置に対応する位置情報をコントローラ１９０へ出力する。またスキャナ制御部１９２は、コントローラ１９０からのスキャナ駆動信号及び、配線パターンに対応する画像信号に基づいてレーザースキャナ１３４を制御する。
【００６０】
次に、上記のように構成された本実施形態に係るレーザー露光装置１００の動作について説明する。
【００６１】
レーザースキャナ１３４の各露光ヘッド１６６において、図１６及び図１７に示されるように、ファイバアレイ光源６６の合波レーザー光源を構成するＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々から発散光状態で出射したレーザービームＢ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４，Ｂ５，Ｂ６，及びＢ７の各々は、対応するコリメータレンズ１１〜１７によって平行光化される。平行光化されたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、集光レンズ２０によって集光され、マルチモード光ファイバ３０のコア３０ａの入射端面に収束する。
【００６２】
本実施形態では、コリメータレンズ１１〜１７及び集光レンズ２０によって集光光学系が構成され、その集光光学系とマルチモード光ファイバ３０とによって合波光学系が構成されている。即ち、集光レンズ２０によって上述のように集光されたレーザービームＢ１〜Ｂ７が、このマルチモード光ファイバ３０のコア３０ａに入射して光ファイバ内を伝搬し、１本のレーザービームＢに合波されてマルチモード光ファイバ３０の出射端部に結合された光ファイバ３１から出射する。
【００６３】
各レーザーモジュールにおいて、レーザービームＢ１〜Ｂ７のマルチモード光ファイバ３０への結合効率が０．８５で、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各出力が３０ｍＷの場合には、アレイ状に配列された光ファイバ３１の各々について、出力１８０ｍＷ（＝３０ｍＷ×０．８５×７）の合波レーザービームＢを得ることができる。従って、６本の光ファイバ３１がアレイ状に配列されたレーザー出射部６８での出力は約１Ｗ（＝１８０ｍＷ×６）である。
【００６４】
ファイバアレイ光源６６のレーザー出射部６８には、高輝度の発光点が主走査方向に沿って一列に配列されている。単一の半導体レーザーからのレーザー光を１本の光ファイバに結合させる従来のファイバ光源は低出力であるため、多数列配列しなければ所望の出力を得ることができなかったが、本実施形態で使用する合波レーザー光源は高出力であるため、少数列、例えば１列でも所望の出力を得ることができる。
【００６５】
配線パターンに応じた画像情報がコントローラ１９０に入力されると、コントローラ１９０内のフレームメモリに一旦記憶される。この画像情報は、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。
【００６６】
レーザー露光装置１００では、搬入リフタ１４０により基板材料１０２がプリアライメントテーブル１３６上から露光ステージ１０８上に搬送されると、リニアモータ１１０により露光ステージ１０８が搬入位置から搬出位置側へ移動開始する。このとき、搬送制御部１９４は、露光ステージ１０８がレーザースキャナ１３４による露光速度で精度良く移動するようにリニアモータ１１０をフィードバック制御する。またレーザー露光装置１００では、露光開始前に、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８とレーザースキャナ１３４との測定間隔ＬＭが描画領域１３１の先端及び後端にそれぞれ対応するアライメントマーク１３２のピッチＰＴに応じて調整されている。具体的には、測定間隔ＬＭは、描画領域１３１の先端及び後端にそれぞれ対応するアライメントマーク１３２のピッチＰＴ（図３参照）に１０ｍｍ〜５０ｍｍ程度を加算した値に調整されている。
【００６７】
コントローラ１９０は、リニアエンコーダ１１６からのパルス信号により露光ステージ１０８上の基板材料１０２の位置を判断すると共に、画像情報に基づいて基板材料１０２における各アライメントマーク１３２の位置を判断し、アライメントマーク１３２がＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８の撮像位置ＰＩに達すると、ストロボ１３０を発光させてＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により被露光面１２０におけるアライメントマーク１３２を含む撮像領域を撮像させる。このとき、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により得られた撮像情報は画像処理部１９４へ出力される。画像処理部１９４は、撮像情報をアライメントマーク１３２の走査方向及び幅方向に沿った位置に対応する位置情報に変換し、この位置情報をコントローラ１９０へ出力する。
【００６８】
コントローラ１９０は、画像処理部１９４からのアライメントマーク１３２の位置情報に基づき、１個の描画領域１３１に対応して設けられた複数個のアライメントマーク１３２の位置をそれぞれ判断し、これらのアライメントマーク１３２の位置から描画領域１３１の走査方向及び幅方向に沿った位置及び描画領域１３１の走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。
【００６９】
この後、コントローラ１９０は、描画領域１３１の走査方向に沿った位置に基づいて描画領域１３１に対する露光開始のタイミングを算出すると共に、描画領域１３１の幅方向に沿った位置及び走査方向に対する傾き量に基づいて配線パターンに対応する画像情報に対する変換処理を実行し、変換処理した画像情報をフレームメモリ内に格納する。ここで、変換処理の内容としては、座標原点を中心として画像情報を回転させる座標変換処理、幅方向に対応する座標軸に沿って画像情報を平行移動させる座標変換処理が含まれる。更に必要に応じて、コントローラ１９０は、描画領域１３１の幅方向及び走査方向に沿った伸長量及び縮長量に対応させて画像情報を伸長又は縮長させる変換処理を実行する。
【００７０】
また、図３（Ｂ）に示されるように描画領域１３１がアライメントマーク１３２により走査方向に沿って複数の少領域１３１Ａ，１３１Ｂに分割されている場合には、コントローラ１９０は、各小領域１３１Ａ，１３１Ｂ毎に位置及び傾きを判断し、それぞれの小領域１３１Ａ，１３１Ｂに対応する画像情報毎に上記の変換処理を実行する。
【００７１】
コントローラ１９０は、描画領域１３１の後端に対応するアライメントマーク１３２が撮像位置を通過した後、描画領域１３１の先端が露光位置ＰＥに達するタイミングに同期し、露光開始信号をスキャナ制御部１９２へ出力する。これにより、スキャナ制御部１９２は、フレームメモリに記憶された画像情報を複数ライン分ずつ順次読み出し、データ処理部により読み出した画像情報に基づいて各露光ヘッド１６６毎に制御信号を生成すると共に、ミラー駆動制御部により生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０のマイクロミラーの各々がオンオフ制御する。
【００７２】
ファイバアレイ光源６６からＤＭＤ５０にレーザー光が照射されると、ＤＭＤ５０のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザー光は、レンズ系５４、５８により基板材料１０２の被露光面５６上に結像される。このようにして、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光が画素毎にオンオフされて、基板材料１０２の描画領域１３１がＤＭＤ５０の使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア１６８）で露光される。また、基板材料１０２（基板材料１０２）が露光ステージ１０８と共に一定速度で移動されることにより、基板材料１０２がレーザースキャナ１３４によりステージ移動方向と反対の方向に副走査され、各露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０（図７及び図８参照）が形成される。
【００７３】
図２１（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、本実施形態では、ＤＭＤ５０には、主走査方向にマイクロミラーが８００個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に６００組配列されているが、本実施形態では、コントローラにより一部のマイクロミラー列（例えば、８００個×１００列）だけが駆動されるように制御する。
【００７４】
図２１（Ａ）に示されるように、ＤＭＤ５０の中央部に配置されたマイクロミラー列を使用してもよく、図２１（Ｂ）に示されるように、ＤＭＤ５０の端部に配置されたマイクロミラー列を使用してもよい。また、一部のマイクロミラーに欠陥が発生した場合は、欠陥が発生していないマイクロミラー列を使用するなど、状況に応じて使用するマイクロミラー列を適宜変更してもよい。
【００７５】
ＤＭＤ５０のデータ処理速度には限界があり、使用する画素数に比例して１ライン当りの変調速度が決定されるので、一部のマイクロミラー列だけを使用することで１ライン当りの変調速度が速くなる。一方、連続的に露光ヘッドを露光面に対して相対移動させる露光方式の場合には、副走査方向の画素を全部使用する必要はない。
【００７６】
例えば、６００組のマイクロミラー列の内、３００組だけ使用する場合には、６００組全部使用する場合と比較すると１ライン当り２倍速く変調することができる。また、６００組のマイクロミラー列の内、２００組だけ使用する場合には、６００組全部使用する場合と比較すると１ライン当り３倍速く変調することができる。即ち、副走査方向に５００ｍｍの領域を１７秒で露光できる。更に、１００組だけ使用する場合には、１ライン当り６倍速く変調することができる。即ち、副走査方向に５００ｍｍの領域を９秒で露光できる。
【００７７】
使用するマイクロミラー列の数、即ち、副走査方向に配列されたマイクロミラーの個数は、１０以上で且つ２００以下が好ましく、１０以上で且つ１００以下がより好ましい。１画素に相当するマイクロミラー１個当りの面積は１５μｍ×１５μｍであるから、ＤＭＤ５０の使用領域に換算すると、１２ｍｍ×１５０μｍ以上で且つ１２ｍｍ×３ｍｍ以下の領域が好ましく、１２ｍｍ×１５０μｍ以上で且つ１２ｍｍ×１．５ｍｍ以下の領域がより好ましい。
【００７８】
コントローラ１９０は、基板材料１０２の最先端に位置する描画領域１３１に対する露光を完了すると、この最先端の描画領域１３１に対する場合と同様に、２番目の描画領域１３１に対応して設けられたアライメントマーク１３２を撮像位置ＰＩにて撮像し、この撮像により得られた撮像情報に基づいて２番目の描画領域１３１の位置及び傾きを判断した後、この位置及び傾きに基づいて変換処理された画像情報に基づいて２番目の描画領域１３１に対する露光を実行し、この動作を最後端に位置する描画領域１３１に対する露光が完了するまで繰り返す。
【００７９】
コントローラ１９０は、基板材料１０２の全ての描画領域１３１に対する露光完了後、露光ステージ１０８が搬出位置に達すると、リニアモータ１１０により露光ステージ１０８を搬出位置に停止させ、搬出リフタ１５０により基板材料１０２を露光ステージ１０８上からローラコンベア１４６上へ搬送する。またコントローラ１９０は、搬出リフタ１５０により基板材料１０２が露光ステージ１０８上から持ち上げられると、リニアモータ１１０により露光ステージ１０８を搬入位置側へ露光速度よりも高速（露光速度の１０倍〜２０倍程度）で移動開始させ、露光ステージ１０８を搬入位置に復帰させる。
【００８０】
次いで、コントローラ１９０は、搬入リフタ１４０により基板材料１０２をプリアライメントテーブル１３６上から露光ステージ１０８上へ搬送する。このとき、露光ステージ１０８が搬入位置に復帰する前に、予めアーム部１４４により基板材料１０２を吸着し、このアーム部１４４を搬入位置の上方で待機させておくことにより、基板材料１０２を露光ステージ１０８上へ搬送するために所要時間を短くできる。レーザー露光装置１００では、搬入位置にある露光ステージ１０８上に載置された基板材料１０２を順次、ステージ移動方向に沿って搬出位置側へ移動させつつ、基板材料１０２における描画領域１３１をレーザー光により露光し、描画領域１３１に配線パターンに対応する潜像を形成する。但し、コントローラ１９０は、画像情報が更新された場合には、この画像情報から判断されるアライメントマーク１３２のピッチＰＴに応じてＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８とレーザースキャナ１３４との測定間隔ＬＭが調整された後に、基板材料１０２に対する露光動作を開始させる。
【００８１】
以上説明した本実施形態のレーザー露光装置１００では、走査方向に沿ったＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８からレーザースキャナ１３４までの測定距離ＬＭを描画領域１３１の先端及び後端にそれぞれ対応して設けられたアライメントマーク１３２のピッチＰＴ以上の長さとしたことことにより、基板材料１０２における任意の描画領域１３１をレーザースキャナ１３４からのレーザービームＢにより露光する際に、この描画領域１３１の先端に対応するアライメントマーク１３２が露光位置に達した時点で、この描画領域１３１の後端に対応するアライメントマーク１３２が必ず撮像位置ＰＩを通過し、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により描画領域１３１の先端及び後端にそれぞれ対応するアライメントマーク１３２が既に読み取られているので、アライメントマーク１３２を読み取るために基板材料１０２を停止させ、又は基板材料１０２を走査方向とは反対の方向へ相対的に戻すことなく、任意の描画領域１３１に対する露光開始から終了まで、基板材料１０２の走査方向への相対移動を継続させつつ、描画領域１３１の位置及び傾きを判断した後、レーザースキャナ１３４が露光対象となる描画領域１３１を画像情報に基づき変調された光ビームにより露光できる。この結果、１枚の基板材料１０２に複数の描画領域１３１が設けられている場合でも、描画領域１３１の増加に伴う基板材料１０２に対する露光（画像形成）時間の増加を防止できる。
【００８２】
（第２の実施形態）
図４〜図６には、本発明の第２の実施形態に係るレーザー露光装置が示されている。このレーザー露光装置２００は、第１の実施形態に係るレーザー露光装置１００と同様に、基板材料１０２を画像情報により変調されたレーザービームＢにより露光し、この基板材料１０２にプリント配線基板の配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するものである。なお、この第２の実施形態に係るレーザー露光装置２００では、第１の実施形態に係るレーザー露光装置１００と共通の部分には同一符合を付して説明を省略する。
【００８３】
図４に示されるように、レーザー露光装置２００には、肉厚プレート状に形成された支持基台２０２が設けられている。支持基台２０２は、その面形状が基板材料１０２に対する走査方向（矢印Ｓ方向）を長手方向とする略長方形とされており、支持基台２０２の上面両端部には、それぞれ走査方向と平行なステージ移動方向（矢印Ｍ方向）へ直線的に延在する一対のガイド溝２０４が形成されている。支持基台２０２上には、ステージ移動方向の中央付近であって、幅方向（矢印Ｗ方向）へは一対のガイド溝２０４の間にプレート状の露光ステージ２０６が配置されている。
【００８４】
支持基台２０２上には、露光ステージ２０６を跨ぐように下方へ向って開いた略コ字状に形成された支持ゲート２０８及び支持ゲート２１０が設置されている。これらの支持ゲート２０８，２１０は、その両側の下端部がそれぞれガイド溝２０４に挿入されており、このガイド溝２０４を通して支持基台２０２内に配置されたリニアモータ２１２，２１０（図２３参照）に連結されている。これらのリニアモータ２１２，２１０は、支持ゲート２０８，２１０をそれぞれステージ移動方向に沿って駆動する。
【００８５】
ここで、複数台（本実施形態では３台）のＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８が搭載され、また上流側（図４では右側）に配置された支持ゲート２１０には、レーザースキャナ１３４が搭載されている。走査方向に沿って下流側（図４では左側）に配置された支持ゲート２０８には、複数台（本実施形態では３台）のＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８が搭載され、また上流側（図４では右側）に配置された支持ゲート２１０には、レーザースキャナ１３４が搭載されている。ここで、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８及びレーザースキャナ１３４は、それぞれ第１の実施形態のレーザー露光装置１００にて用いられているものと構造が共通化されている。
【００８６】
図５に示されるように、露光ステージ２０６の上面部は、基板材料１０２が載置される平面状の載置面２１６とされている。この載置面２１６には、基板材料１０２を負圧により吸着するための吸着溝（図示省略）が開口しており、この吸着溝には、載置面２１６上への基板材料１０２の載置時に真空ポンプ等の真空発生装置から負圧が供給される。これにより、載置面２１６上に載置された基板材料１０２が吸着溝内の負圧の作用により載置面２１６上に密着状態で固定される。ここで、図５及び図６に示されるように、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８が搭載された支持ゲート２０８は、露光ステージ２０６に対して走査方向上側の撮像待機位置から走査方向下流側の撮像完了位置までの範囲で移動可能とされ、またレーザースキャナ１３４が搭載された支持ゲート２１０も、露光ステージ２０６に対して走査方向上側の露光待機位置から走査方向下流側の露光完了位置までの範囲で移動可能とされている。
【００８７】
図４に示されるように、レーザー露光装置２００には、走査方向に沿って支持基台１０４の上流側（図４では右側）に平板状のプリアライメントテーブル２１８が設置されている。このプリアライメントテーブル２１８は、その上面部が平面状の載置面２２０とされており、この載置面２２０には、基板材料１０２をステージ移動方向及び幅方向に沿って所定の載置位置に位置決めするための位置決め突起２２１が設けられている。レーザー露光装置２００では、画像形成完了後に露光ステージ１０８が搬出位置から搬入位置に復帰すると、１枚の基板材料１０２がその先端及び片側の側端が位置決め突起１３９にそれぞれ当接するようにプリアライメントテーブル２１８の載置面２２０上に載置される。これにより、基板材料１０２が載置面１３８における載置位置に一定の位置決め精度で位置決めされる。
【００８８】
レーザー露光装置２００には、プリアライメントテーブル２１８上に載置された基板材料１０２を搬入位置にある露光ステージ１０８上へ搬送するための搬入リフタ１４０が設けられている。搬入リフタ１４０は、プリアライメントテーブル２１８の上流側に配置された本体部（図示省略）から走査方向に沿って下流側へ延出し、かつ本体部によりステージ移動方向及び上下方向（矢印Ｈ方向）に沿って移動可能に支持された一対のアーム部２２４を備えており、このアーム部２２４の先端側の下面は、複数の吸着穴（図示省略）が開口した基板材料１０２の吸着面とされており、アーム部２２４の吸着穴には、真空ポンプ等の真空発生装置が接続されている。
【００８９】
搬入リフタ２２２は、プリアライメントテーブル２１８上に基板材料１０２が載置されると、この基板材料１０２をアーム部２２４により吸着してプリアライメントテーブル２１８上から露光ステージ２０６上へ搬送し、基板材料１０２を露光ステージ２０６の載置面２１６上に載置する。このとき、搬入リフタ２２２は、被露光面１２０の中心と載置面２１６の中心とが一致し、かつ基板材料１０２がステージ移動方向に対して傾きが生じないように、基板材料１０２を載置面２１６における所定の基準位置に載置する。但し、基板材料１０２をプリアライメントテーブル２１８上に載置した際の位置決め誤差、アーム部２２４を露光ステージ２０６上に停止させる際の位置決め誤差等の影響により、基準位置に対して基板材料１０２には若干の位置決め誤差が不可避的に生じる。
【００９０】
図４に示されるように、レーザー露光装置２００には、走査方向に沿って支持基台２０２の下流側（図４では左側）にローラコンベア２２６が設置されている。このローラコンベア２２６は、ステージ移動方向に沿って配列された複数本の搬送ローラ２２８及び、これらの搬送ローラ２２８を回転させる駆動部（図示省略）を備えている。ローラコンベア２２６は、基板材料１０２が支持基台２０２側の端部に載置されると、複数本の搬送ローラ２２８により基板材料１０２を支持基台２０２から離間する搬出方向へ搬送し、この基板材料１０２を一時保管用のスタック台等へ搬送する。
【００９１】
またレーザー露光装置２００には、搬出位置にある露光ステージ２０６上に載置された基板材料１０２をローラコンベア２２６上へ搬送するための搬出リフタ２３０が設けられている。搬出リフタ２３０は、ローラコンベア２２６の走査方向下流側に配置された本体部（図示省略）から走査方向に沿って上流側へ延出し、かつ本体部によりステージ移動方向及び上下方向（矢印Ｈ方向）に沿って移動可能に支持された一対のアーム部２３２を備えており、このアーム部２３２の先端側の下面は、複数の吸着穴（図示省略）が開口した基板材料１０２の吸着面とされており、アーム部２３２の吸着穴には、真空ポンプ等の真空発生装置が接続されている。
【００９２】
搬出リフタ２３０は、露光ステージ２０６上の基板材料１０２に対する露光が完了すると、露光ステージ２０６上の基板材料１０２をアーム部２３２により吸着して露光ステージ２０６上からローラコンベア２２６上へ搬送し、基板材料１０２をローラコンベア２２６の端部上に載置する。これに連動し、ローラコンベア２２６は基板材料１０２を搬出方向へ搬送開始する。
【００９３】
次に、レーザー露光装置２００における制御系の構成について説明する。図２３に示されるように、レーザー露光装置２００は、装置全体を制御するためのコントローラ２３４を備えており、このコントローラ２３４には、搬送制御部２３６、画像処理部１９４及びスキャナ制御部１９２がそれぞれ接続されている。
【００９４】
ここで、搬送制御部２３６は、支持ゲート２０８に連結されたリニアモータ２１２及びリニアエンコーダ２１３に接続され、支持ゲート２０８の移動時にリニアモータ２１２に駆動パルス信号を出力してリニアモータ２１２の駆動を制御する。このとき、搬送制御部２３６は、リニアエンコーダ２１３からのパルス信号に基づいてリニアモータ２１２をフィードバック制御する。また搬送制御部２３６は、支持ゲート２１０に連結されたリニアモータ２１４及びリニアエンコーダ２１５に接続され、支持ゲート２１０の移動時にリニアモータ２１４に駆動パルス信号を出力してリニアモータ２１４の駆動を制御する。このとき、搬送制御部２３６は、リニアエンコーダ２１５からのパルス信号に基づいてリニアモータ２１４をフィードバック制御する。
【００９５】
次に、上記のように構成された本実施形態に係るレーザー露光装置２００の動作について説明する。
【００９６】
レーザー露光装置２００では、搬入リフタ２２２により基板材料１０２がプリアライメントテーブル１３６上から露光ステージ１０８上に搬送されると、リニアモータ２１２により支持ゲート２０８が撮像待機位置から撮像完了位置側へ移動開始する。このとき、搬送制御部２３６は、支持ゲート２０８に搭載されたＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８が基板材料１０２のアライメントマーク１３２に対する撮像位置ＰＩで一時停止するように支持ゲート２０８を間欠的に移動させ、この時の支持ゲート２０８、すなわちＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８の走査方向への平均的な移動速度がレーザースキャナ１３４による露光速度より高速となるように撮像位置ＰＩ間における移動速度を設定する。
【００９７】
なお、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８は、露光速度より高速であるならば、アライメントマーク１３２上で停止させることなく一定速度で走査方向へ移動させても良く、また、レーザースキャナ１３４から常に所定の間隔を空けておくことが可能な場合には、第１の実施形態に係るレーザー露光装置１００の場合と同様に、露光速度と等速度で走査方向へ移動させても良い。
コントローラ１９０は、支持ゲート２０８によりＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８がアライメントマーク１３２に対する撮像位置ＰＩに停止すると、ストロボ１３０を発光させてＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により基板材料１０２におけるアライメントマーク１３２を含む撮像領域を撮像させる。このとき、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により得られた撮像情報は画像処理部１９４へ出力される。画像処理部１９４は、撮像情報をアライメントマーク１３２の走査方向及び幅方向に沿った位置に対応する位置情報に変換し、この位置情報をコントローラ２３４へ出力する。
コントローラ２３４は、画像処理部１９４からのアライメントマーク１３２の位置情報に基づき、１個の描画領域１３１に対応して設けられた複数個のアライメントマーク１３２の位置をそれぞれ判断し、これらのアライメントマーク１３２の位置から描画領域１３１の走査方向及び幅方向に沿った位置及び描画領域１３１の走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。
【００９８】
コントローラ２３４は、少なくとも支持ゲート２０８が最上流側に位置する描画領域１３１の後端に対応するアライメントマーク１３２上を通過した後、リニアモータ２１４により支持ゲート２１０を露光待機位置から露光完了位置側へ移動開始させる。このとき、搬送制御部２３６は、支持ゲート２１０が正確にレーザースキャナ１３４による露光速度で移動するように、リニアエンコーダ２１５からのパルス信号に基づいてリニアモータ２１４を駆動制御する。
【００９９】
コントローラ２３４は、描画領域１３１の位置に基づいて描画領域１３１に対する露光開始のタイミングを算出すると共に、描画領域１３１の幅方向に沿った位置及び走査方向に対する傾き量に基づいて配線パターンに対応する画像情報に対する変換処理を実行し、変換処理した画像情報をフレームメモリ内に格納する。ここで、変換処理の内容としては、座標原点を中心として画像情報を回転させる座標変換処理、幅方向に対応する座標軸に沿って画像情報を平行移動させる座標変換処理が含まれる。更に必要に応じて、コントローラ２３４は、描画領域１３１の幅方向及び走査方向に沿った伸長量及び縮長量に対応させて画像情報を伸長又は縮長させる変換処理を実行する。
【０１００】
また、図３（Ｂ）に示されるように描画領域１３１がアライメントマーク１３２により走査方向に沿って複数の少領域１３１Ａ，１３１Ｂに分割されている場合には、コントローラ１９０は、各小領域１３１Ａ，１３１Ｂ毎に位置及び傾きを判断し、それぞれの小領域１３１Ａ，１３１Ｂに対応する画像情報毎に上記の変換処理を実行する。
【０１０１】
コントローラ２３４は、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８による撮像位置ＰＩが描画領域１３１の後端に対応するアライメントマーク１３２を通過した後、レーザースキャナ１３４による露光位置が描画領域１３１の先端が露光位置ＰＥに達するタイミングに同期し、露光開始信号をスキャナ制御部１９２へ出力する。これにより、スキャナ制御部１９２は、フレームメモリに記憶された画像情報を複数ライン分ずつ順次読み出し、データ処理部により読み出した画像情報に基づいて各露光ヘッド１６６毎に制御信号を生成すると共に、ミラー駆動制御部により生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０のマイクロミラーの各々がオンオフ制御する。これにより、基板材料１０２の最先端に位置する描画領域１３１に対する露光が行われて行く。
【０１０２】
このとき、支持ゲート２０８に搭載されたＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８の平均的な移動速度が、レーザースキャナ１３４の露光速度よりも高速であることから、最先端の描画領域１３１に対する露光完了時には、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により２番目に位置する描画領域１３１に対応する全てのアライメントマーク１３２の撮像が完了し、コントローラ２３４により２番目の描画領域１３１の位置及び傾きがそれぞれ判断されている。コントローラ２３４は、基板材料１０２の最先端に位置する描画領域１３１に対する露光を完了すると、２番目の描画領域１３１の位置及び傾き基づいて変換処理された画像情報に基づいて２番目の描画領域１３１に対する露光を実行し、この動作を最後端に位置する描画領域１３１に対する露光が完了するまで繰り返す。
【０１０３】
コントローラ２３４は、支持ゲート２０８が図６に示される撮像完了位置に達した後、支持ゲート２１０が図６に示される露光完了位置に達すると、支持ゲート２０８，２１０をそれぞれ走査方向上流側へ移動させて撮像開始位置及び露光開始位置へ復帰させると共に、搬出リフタ２３０により基板材料１０２を露光ステージ２０６上からローラコンベア２２６上へ搬送する。このとき、コントローラ２３４は、支持ゲート２０８，２１０を露光速度よりも高速（露光速度の１０倍〜２０倍程度）で移動させる走査方向上流側へ移動させる。
【０１０４】
次いで、コントローラ２３４は、搬入リフタ２２２により基板材料１０２をプリアライメントテーブル２１８上から露光ステージ２０６上へ搬送する。レーザー露光装置２００では、露光ステージ２０６上に基板材料１０２が載置されると、支持ゲート２０８，２１０を走査方向へ移動させつつ、基板材料１０２における描画領域１３１をレーザー光により露光し、描画領域１３１に配線パターンに対応する潜像を形成する。但し、コントローラ２３４は、画像情報が更新された場合には、この画像情報から判断されるアライメントマーク１３２のピッチＰＴに応じて支持ゲート２０８の停止位置を再設定する。
【０１０５】
以上説明した本実施形態のレーザー露光装置２００では、コントローラ２３４が、画像処理部１９４により位置が判断された描画領域１３１に対する露光時に、レーザースキャナ１３４を走査方向へ描画領域１３１に対する露光速度で移動させると共に、レーザースキャナによる描画領域１３１に対する露光開始前に、このレーザースキャナ１３４により露光される描画領域１３１の先端及び後端にそれぞれ対応するアライメントマーク１３２上をＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８が通過しているように、ＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８を走査方向に沿って移動させることにより、基板材料１０２における任意の描画領域１３１をレーザースキャナ１３４からのレーザービームＢにより露光開始する時点、すなわち、露光対象となる描画領域１３１の先端が露光位置に達した時点で、この描画領域の先端及び後端に対応するアライメントマークがそれぞれ読取位置を通過し、読取部により描画領域の先端及び後端にそれぞれ対応するアライメントマークが既に読み取られているので、アライメントマークを読み取るために露光部を停止させることなく、記録媒体に対する露光開始から終了まで、露光部を所定の露光速度で移動させたまま、露光部が露光対象となる描画領域を情報処理部からの画像情報に変調された光ビームにより露光できる。この結果、記録媒体に複数の描画領域が設けられている場合でも、描画領域の増加に伴う記録媒体に対する画像形成時間の増加を防止できる。
【０１０６】
なお、以上説明の第１及び第２の実施形態に係る説明では、レーザー露光装置１００，２００によりプリント配線基板の素材となる基板材料１０２を露光する場合のみついて説明したが、本発明に係る構成を有する露光装置は、基板材料１０２以外にもＰＳ板、ＣＴ刷板等の感光性印刷板、感光紙等の感光材料に対する直接露光に用いることでき、これらを露光するための光ビームとしては、レーザービーム以外にも可視光線、Ｘ線等も用いることができる。
【０１０７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明に係る露光装置によれば、記録媒体に複数の描画領域が設けられている場合でも、描画領域の増加に伴って記録媒体に対する画像形成時間が増加することを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るレーザー露光装置の外観を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係るレーザー露光装置の外観を示す側面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係るレーザー露光装置の外観を示す側面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係るレーザー露光装置の外観を示す斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係るレーザー露光装置の外観を示す側面図である。
【図６】本発明の第２の実施形態に係るレーザー露光装置の外観を示す側面図である。
【図７】本発明の一実施の形態に係る露光装置のスキャナの構成を示す斜視図である。
【図８】（Ａ）は感光材料に形成される露光済み領域を示す平面図であり、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す図である。
【図９】本発明の実施形態に係るレーザー露光装置の露光ヘッドの概略構成を示す斜視図である。
【図１０】（Ａ）は図４に示す露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の断面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の側面図である。
【図１１】デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図である。
【図１２】（Ａ）及び（Ｂ）はＤＭＤの動作を説明するための説明図である。
【図１３】（Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤを傾斜配置しない場合と傾斜配置する場合とで、露光ビームの配置及び走査線を比較して示す平面図である。
【図１４】（Ａ）はファイバアレイ光源の構成を示す斜視図であり、（Ｂ）は（Ａの部分拡大図であり、（Ｃ）及び（Ｄ）はレーザー出射部における発光点の配列を示す平面図である。
【図１５】マルチモード光ファイバの構成を示す図である。
【図１６】合波レーザー光源の構成を示す平面図である。
【図１７】レーザーモジュールの構成を示す平面図である。
【図１８】図１２に示すレーザーモジュールの構成を示す側面図である。
【図１９】図１２に示すレーザーモジュールの構成を示す部分側面図である。
【図２０】本発明の第１の実施形態に係るレーザー露光装置における制御系の概略構成を示すブロックである。
【図２１】（Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤの使用領域の例を示す図である。
【図２２】（Ａ）はＤＭＤの使用領域が適正である場合の側面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の光軸に沿った副走査方向の断面図である。
【図２３】本発明の第２の実施形態に係るレーザー露光装置における制御系の概略構成を示すブロックである。
【符号の説明】
１００    レーザー露光装置（露光装置）
１０２    基板材料（記録媒体）
１０８    露光ステージ
１１０    リニアモータ（ステージ駆動手段）
１２４、１２６、１２８    ＣＣＤカメラ（読取部）
１３１    描画領域
１３１Ａ，１３１Ｂ    小領域（描画領域）
１３２    アライメントマーク
１３４    レーザースキャナ（露光部）
１９０    コントローラ（ステージ駆動手段）
１９４    搬送制御部（ステージ駆動手段）
２００    レーザー露光装置
２０６    露光ステージ
２１２    リニアモータ（読取部駆動手段）
２１４    リニアモータ（露光部駆動手段）
２３４  コントローラ（読取部駆動手段、露光部駆動手段）
２３６    搬送制御部（読取部駆動手段、露光部駆動手段）
Ｂ        レーザービーム
【図１】
2004163814.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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