(57)【要約】【課題】被処理基板を回転させずに省スペースの下で、洗浄液及び乾燥用流体等の使用量を低減すると共に、洗浄液やミスト等の飛散物の低減を達成しながら、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行えるようにすること。【解決手段】ウエハＷの表面に現像液を供給して、ウエハ表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成されたウエハＷと平板２０とで形成された隙間３０の一側端から他側端に向かって、リンスノズル７０を移動（スキャン）しつつ隙間３０内に純水を供給して洗浄し、その後、乾燥ノズル８０を移動（スキャン）しつつ隙間３０内に空気Ａを噴射してウエハＷに付着する処理に供された現像液及び純水を除去する。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項２】
被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項３】
被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引・乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項４】
被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項５】
被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項６】
被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引・乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項７】
被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された洗浄液を吸引する第二の吸引工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された洗浄液を除去する乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項８】
被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引・乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の現像処理方法において、
上記洗浄工程において、上記洗浄ノズルを往復移動する、ことを特徴とする現像処理方法。
【請求項１０】
請求項１、２、４、５又は７に記載の現像処理方法において、
上記乾燥工程において、上記乾燥ノズルを往復移動する、ことを特徴とする現像処理方法。
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれかに記載の現像処理方法において、
上記洗浄工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出する、ことを特徴とする現像処理方法。
【請求項１２】
請求項１、２、４、５、７又は１０に記載の現像処理方法において、
上記乾燥工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する、ことを特徴とする現像処理方法。
【請求項１３】
請求項３、６又は８に記載の現像処理方法において、
上記吸引・乾燥工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する、ことを特徴とする現像処理方法。
【請求項１４】
請求項１、２、５、７、９ないし１２のいずれかに記載の現像処理方法において、
上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズル体にて形成し、上記ノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、洗浄工程において、上記切換手段により上記洗浄液供給源から洗浄液を上記ノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、上記切換手段により上記乾燥流体供給源から乾燥流体を上記ノズル体に供給して乾燥する、ことを特徴とする現像処理方法。
【請求項１５】
被処理基板を載置するステージと、
上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズルと、
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項１６】
被処理基板を載置するステージと、
上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引する吸引ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズルと、
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項１７】
被処理基板を載置するステージと、
上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥ノズルと、
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項１８】
被処理基板を載置するステージと、
上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引する第二の吸引ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズルと、
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項１９】
被処理基板を載置するステージと、
上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥ノズルと、
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項２０】
請求項１５ないし１９のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記ステージの外側及び下部を包囲すると共に、上記平板に接離する昇降可能なカップを更に具備し、
上記カップの下部に排出口を設けてなる、
ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２１】
請求項１５ないし１９のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記現像ノズルは、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体を具備する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２２】
１５ないし１９のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記洗浄ノズルは、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体を具備する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２３】
請求項１６、１８又は１９に記載の現像処理装置において、
上記吸引ノズルは、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体を具備する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２４】
請求項１７又は１９に記載の現像処理装置において、
上記吸引・乾燥ノズルは、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔と、ノズルの移動方向と反対側に開口する軸方向に沿う空気吸引孔とを具備する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２５】
請求項１５、１６又は１８に記載の現像処理装置において、
上記乾燥ノズルは、少なくとも被処理基板及び平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体を具備する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２６】
請求項１５、２１又は２２に記載の現像処理装置において、
上記現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２７】
請求項１６、１８又は２３に記載の現像処理装置において、
上記現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２８】
請求項１７、１９又は２４に記載の現像処理装置において、
上記現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引・乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は吸引・乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２９】
請求項１５、１６、１８、２０、２２、２５ないし２７のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通の管状ノズル体にて形成し、上記管状ノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、上記切換手段の切換操作によって、上記洗浄液供給源から上記管状ノズル体への洗浄液の供給、又は、上記乾燥流体供給源から上記管状ノズルへの乾燥流体の供給を選択的に行えるように形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば半導体ウエハやＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板やフォトマスク基板（レチクル）等の基板に現像液を供給して基板表面を現像処理する現像処理方法及び現像処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハやＦＰＤ用ガラス基板等（以下にウエハ等という）の表面に例えばレジスト液を塗布し、ステッパー等の露光装置を用いて回路パターンを縮小してレジスト膜を露光し、露光後のウエハ表面に、回転式塗布処理装置を用いて現像液を塗布（供給）して現像処理を行うフォトリソグラフィー技術が用いられている。
【０００３】
上記現像処理工程においては、一般にウエハ等の表面のレジストに現像液を噴霧するスプレー方式やウエハ等の表面に現像液を盛るパドル方式等が知られている。また、別の方式として、現像すべき一対のウエハ等を所定の隙間をあけて互いに対向させ、毛管現象を利用して隙間内を現像液で満たして、ウエハ等の表面に現像液の液膜を形成し、現像処理後に洗浄する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−２４４０９７号公報（段落番号００１５，００１６，００１７、図７，図８）
上記特開平６−２４４０９７号公報記載の現像処理方式によれば、スプレー方式やパドル方式に比べて、現像液の消費量を少なくすることができる上、現像液の液盛り時の液の移動（流動）を抑制して線幅等のパターン寸法の均一性を向上させることができる。また、現像処理後のウエハの洗浄を同一のウエハ支持機構で行うことができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、現像処理後にウエハ等の洗浄、乾燥が必要になるが、ウエハ等を別々に洗浄、乾燥すると、洗浄液や乾燥用流体等の消費量の増加を招くばかりでなく、洗浄・乾燥に伴う洗浄液やミスト等の飛散物の捕集スペースの増加が生じるという問題があった。また、ウエハ等の洗浄及び乾燥の際、回転を行うと、回転力の影響で、ウエハ等の中心部と外周部とで、洗浄・乾燥の不均一が生じるという問題もあった。
【０００６】
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、被処理基板を回転させずに省スペースの下で、洗浄液及び乾燥用流体等の使用量を低減すると共に、洗浄液やミスト等の飛散物の低減を達成しながら、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行えるようにした現像処理方法及び現像処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の現像処理方法は、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、
上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載の現像処理方法は、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、  上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
請求項３記載の現像処理方法は、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、  上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引・乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１０】
請求項４記載の現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１１】
請求項５記載の現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１２】
請求項６記載の現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引・乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
請求項７記載の現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された洗浄液を吸引する第二の吸引工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された洗浄液を除去する乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１４】
請求項８記載の現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引・乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１５】
この発明の現像処理方法において、上記洗浄工程において、上記洗浄ノズルを往復移動するようにしてもよい（請求項９）。また、上記乾燥工程において、上記乾燥ノズルを往復移動するようにしてもよい（請求項１０）。
【００１６】
また、上記洗浄工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出する方が好ましい（請求項１１）。また、上記乾燥工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する方が好ましい（請求項１２）。また、上記吸引・乾燥工程においても、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する方が好ましい（請求項１３）。
【００１７】
また、上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズル体にて形成し、上記ノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、洗浄工程において、上記切換手段により上記洗浄液供給源から洗浄液を上記ノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、上記切換手段により上記乾燥流体供給源から乾燥流体を上記ノズル体に供給して乾燥することも可能である（請求項１４）。
【００１８】
また、請求項１５記載の現像処理装置は、請求項１，４記載の現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージと、  上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズルと、を具備することを特徴とする。
【００１９】
請求項１６記載の現像処理装置は、請求項２，５記載の現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージと、  上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引する吸引ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズルと、を具備することを特徴とする。
【００２０】
請求項１７記載の現像処理装置は、請求項３，６記載の現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージと、  上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥ノズルと、を具備することを特徴とする。
【００２１】
請求項１８記載の現像処理装置は、請求項７記載の現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージと、  上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引する第二の吸引ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した洗浄液を除去する乾燥ノズルと、を具備することを特徴とする。
【００２２】
請求項１９記載の現像処理装置は、請求項８記載の現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージと、  上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、
上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、  上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥ノズルと、を具備することを特徴とする。
【００２３】
この発明の現像処理装置において、上記ステージの外側及び下部を包囲すると共に、上記平板に接離する昇降可能なカップを更に具備し、上記カップの下部に排出口を設ける方が好ましい（請求項２０）。
【００２４】
また、上記現像ノズルを、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成することができる（請求項２１）。また、上記洗浄ノズルを、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成することができる（請求項２２）。また、上記吸引ノズルを、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体にて形成することができる（請求項２３）。また、上記吸引・乾燥ノズルを、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔と、ノズルの移動方向と反対側（移動方向の後方側）に開口する軸方向に沿う空気吸引孔とを具備するノズル体にて形成することができる（請求項２４）。また、上記乾燥ノズルを、上記洗浄ノズルと同様に、少なくとも被処理基板及び平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体にて形成することができる（請求項２５）。この場合、上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通の管状ノズル体にて形成し、上記管状ノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、上記切換手段の切換操作によって、上記洗浄液供給源から上記管状ノズル体への洗浄液の供給、又は、上記乾燥流体供給源から上記管状ノズルへの乾燥流体の供給を選択的に行えるように形成する方が好ましい（請求項２９）。
【００２５】
また、上記現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降するか（請求項２６）、あるいは、上記現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する方が好ましい（請求項２７）。また、現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引・乾燥ノズルを用いる場合において、現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引・乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は吸引・乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する方が好ましい（請求項２８）。
【００２６】
請求項１，１５記載の発明によれば、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成された被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行うことができると共に、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。
【００２７】
請求項２，１６記載の発明によれば、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成された被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次いで、吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。
【００２８】
請求項３記載の発明によれば、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成された被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次いで、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引すると同時に、乾燥を行うことができる。
【００２９】
請求項４，１５記載の発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成し、次に、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。
【００３０】
請求項５，１６記載の発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次に、吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行い、次に、吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。
【００３１】
請求項６，１７記載の発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次に、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行い、その後、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引すると同時に、乾燥を行うことができる。
【００３２】
請求項７，１８記載の発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を吸引し、次に、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次いで、（第二の）吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ洗浄液｛具体的には現像液と洗浄液の混合液｝を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、（第二の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。
【００３３】
請求項８，１９記載の発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を吸引し、次に、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液｛具体的には、現像液と洗浄液の混合液｝を吸引すると同時に、乾燥を行うことができる。
【００３４】
請求項９記載の発明によれば、洗浄工程において、洗浄ノズルを往復移動しつつ洗浄液を供給することにより、更に洗浄効率の向上を図ることができる。
【００３５】
請求項１０記載の発明によれば、乾燥工程において、乾燥ノズルを往復移動しつつ乾燥用流体を噴射することにより、更に乾燥効率の向上を図ることができる。
【００３６】
請求項１１，１２，１３，２０記載の発明によれば、洗浄工程、乾燥工程又は吸引・乾燥工程において、カップにより液膜形成用の隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出することにより、洗浄処理又は乾燥処理中に飛散された洗浄液やミスト等の飛散物が被処理基板に付着するのを防止することができる。
【００３７】
請求項１４，２９記載の発明によれば、洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズル体にて形成し、このノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、洗浄工程において、切換手段により洗浄液供給源から洗浄液をノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、切換手段により乾燥流体供給源から乾燥流体をノズル体に供給して乾燥することにより、洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通化して、更に構成部材の削減及び装置の小型化を図ることができる。
【００３８】
請求項２１記載の発明によれば、現像ノズルが、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、被処理基板の表面に現像液を均一に供給することができる。
【００３９】
請求項２２記載の発明によれば、洗浄ノズルが、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、被処理基板の表面に洗浄液を均一に供給することができる。
【００４０】
請求項２３記載の発明によれば、吸引ノズルが、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、処理に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率良く吸引することができる。
【００４１】
請求項２４記載の発明によれば、吸引・乾燥ノズルが、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔と、ノズルの移動方向と反対側（移動後方側）に開口する軸方向に沿う空気吸引孔とを具備するので、処理に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率良く吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥することができる。
【００４２】
請求項２５記載の発明によれば、乾燥ノズルが、少なくとも被処理基板及び平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、被処理基板の表面に乾燥用流体を均一に噴射（供給）することができる。
【００４３】
請求項２６記載の発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することにより、現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができる。
【００４４】
請求項２７記載の発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することにより、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができる。
【００４５】
請求項２８記載の発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引・乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は吸引・乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引・乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができる。
【００４６】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る現像処理装置を半導体ウエハ（以下にウエハという）の現像処理に適用した場合について説明する。
【００４７】
◎第一実施形態
図１は、この発明に係る現像処理装置の第一実施形態を示す概略平面図、図２は、第一実施形態の現像処理装置の概略側面図である。
【００４８】
上記現像処理装置は、被処理基板であるウエハＷを載置し、図３に示すバキューム装置ＶによってウエハＷを吸着保持する載置台であるステージ１０と、このステージ１０の上方に配設される液膜形成用の平板２０とを具備している。この場合、ステージ１０は回転機構を持たない固定式に形成されている。なお、ステージ１０には、吸引孔１０ａと、後述する支持ピン１１を貫挿する貫通孔１０ｂが設けられている。また、ステージ１０に載置されたウエハＷと、平板２０とは互いに平行に所定の隙間３０をあけて対向して配設されており、この隙間３０によって現像液の液膜形成領域が形成される。なお、隙間３０（液膜形成領域）の寸法は現像液の種類や形成される液膜の膜厚等によって異なるが、例えば約２〜５ｍｍ程度に設定される。
【００４９】
また、ステージ１０には、図示しないウエハ搬送アームとの間でウエハＷの受け渡しを行う３本の支持ピン１１が昇降可能に設けられている。これら支持ピン１１は、ステージ１０に設けられた貫通孔（１０ｂ）を摺動可能に貫挿しており、ステージ１０の下方に突出する下端部同士が支持部材１２に立設され、支持部材１２に連結する昇降手段例えば昇降シリンダ１３によって各支持ピン１１がステージ１０の載置面に出没し得るように形成されている。また、液膜形成用平板２０は、例えばボールねじにて構成される昇降機構２１に連結されており、この昇降機構２１の駆動によってステージ１０に対して進退移動可能に形成されて、隙間３０の間隔が調整される。
【００５０】
また、現像処理装置は、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔４１を有する管状の現像液供給用の現像ノズル４０を具備している。この現像ノズル４０は、ステージ１０を挟んで両側に配設された一対のガイドレール５０に移動自在に架設されると共に、移動・昇降機構６０（移動・昇降手段）に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０（液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。
【００５１】
この場合、現像ノズル４０は、図４及び図５に示すように、例えば外径約１〜４ｍｍ、内径約０．５〜３．５ｍｍの例えばステンレスやエポキシ樹脂製の管状部材にて形成されるノズル体４２の軸方向に沿って等間隔に穿設される複数の小孔４１を具備しており、ノズル体４２の中空部４２ａの両端部に供給管路４３を介して現像液供給源である現像液貯留タンク４４が接続されている。この供給管路４３の一部は、現像ノズル４０の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、供給管路４３には現像液の流量調整可能な開閉手段例えばエアオペレーションバルブ４５と圧送手段例えばポンプ４６が介設されている。なお、小孔４１は、ノズル体４２の端部側から中心側に向かって小孔４１の開口面積が漸次増大されている。このように小孔４１の開口面積を、ノズル体４２の端部側から中心側に向かって漸次増大させることにより、両端側からノズル体４２の中空部４２ａ内に供給される現像液を各小孔４１から均等に吐出（供給）することができる。なお、小孔４１の開口径や間隔は、ウエハＷのサイズや現像液の種類等によって適宜設定される。
【００５２】
ここでは、複数の小孔４１を等間隔に設けて、小孔４１の開口面積を、ノズル体４２の端部側から中心側に向かって漸次増大させる場合について説明したが、各小孔４１の開口面積を同一にして、ノズル体４２の端部側から中心側に向かって間隔を漸次小さくするようにしてもよい。また、小孔４１をノズル体４２の複数列、例えばノズル体４２の下端側と上端側の２列に同様に設けてもよく、あるいは、任意の複数列に同様に設けてもよい。また、全周に多数の小孔を有する多孔質の管状部材にて現像ノズル４０を形成してもよい。
【００５３】
また、上記ガイドレール５０には、現像ノズル４０の他に、それぞれ現像ノズル４０と同様に管状に形成される、洗浄ノズル７０（以下にリンスノズル７０という）と、乾燥ノズル８０が、昇降及び摺動可能に装着されている。
【００５４】
この場合、リンスノズル７０は、図６及び図７に示すように、現像ノズル４０と同様の長さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体７１を具備し、ノズル体７１における少なくともウエハＷ側及び平板２０側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔７２が設けられている。ノズル体７１の中空部７１ａの両端部に供給管路７３を介して洗浄液であるリンス液例えば純水の供給源７４が接続されている。この供給管路７３の一部は、リンスノズル７０の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、供給管路７３には開閉弁７５が介設されている。なお、供給孔７２は、現像ノズル４０と同様に、ノズル体７１の端部側から中心側に向かって供給孔７２の開口面積が漸次増大されている。このように供給孔７２の開口面積を、ノズル体７１の端部側から中心側に向かって漸次増大させることにより、両端側からノズル体７１の中空部７１ａ内に供給される純水を各供給孔７２から均等に吐出（供給）することができる。
【００５５】
一方、乾燥ノズル８０は、図８及び図９に示すように、現像ノズル４０及びリンスノズル７０と同様の長さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体８１を具備し、リンスノズル７０と同様に、ノズル体８１における少なくともウエハＷ側及び平板２０側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔８２が設けられている。ノズル体８１の中空部８１ａの両端部に供給管路８３を介して乾燥用流体例えば空気の供給源８４が接続されている。この供給管路８３の一部は、乾燥ノズル８０の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、供給管路８３には開閉弁８５が介設されている。なお、噴射孔８２は、現像ノズル４０及びリンスノズル７０と同様に、ノズル体８１の端部側から中心側に向かって噴射孔８２の開口面積が漸次増大される方が望ましい。その理由は、両端側からノズル体８１の中空部８１ａ内に供給される空気を各噴射孔８２から均等に噴射（供給）することができるからである。
【００５６】
上記リンスノズル７０及び乾燥ノズル８０も、現像ノズル４０と同様に、上記移動・昇降機構６０に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。なお、上記ノズル４０，７０，８０の待機位置（ホームポジション）には、ノズル洗浄バス１００が配設されている。
【００５７】
次に、第一実施形態の現像処理方法について、図１，図２，図６及び図８と図１０のフローチャートを参照して説明する。
【００５８】
まず、図示しないウエハ搬送アームがウエハＷを保持して現像処理装置内に進入すると、支持ピン１１が上昇してウエハＷを受け取る。ウエハＷを受け渡したウエハ搬送アームは現像処理装置内から後退する。ウエハＷを受け取った支持ピン１１が下降してウエハＷがステージ１０に載置されると、バキューム装置Ｖの駆動によってウエハＷが吸着保持される。その後、昇降機構２１によって液膜形成用平板２０を鉛直方向に移動（昇降）して、ステージ１０に載置されるウエハＷの表面に形成（液盛り）される現像液の液膜の膜厚に対応した間隔となるように調節して隙間３０（液膜形成領域）を設定する。
【００５９】
ウエハＷがステージ１０上に載置されて固定された状態で、図４に示すように、現像ノズル４０を、隙間３０（液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔４１から隙間３０（液膜形成領域）内に現像液Ｄを吐出（供給）すると、現像液Ｄが隙間３０（液膜形成領域）内に充満されてウエハＷの表面に現像液Ｄの液膜が形成される（現像工程）。この際、現像ノズル４０の移動速度を、例えば５０〜１５０ｍｍ／ｓｅｃとし、現像液の吐出量（供給量）を、例えば５〜５０ｍｌ／ｓｅｃとする。
【００６０】
これにより、現像中の現像液Ｄの動きを現像開始から終了まで、極めて静的に保って隙間３０（液膜形成領域）内に現像液Ｄを充満させた状態でウエハＷの表面に現像液Ｄの液膜を形成することができる。したがって、レジストＲの疎水度に影響を受けずに現像液Ｄの液膜を均一に形成することができる。また、狭い隙間３０（液膜形成領域）の分の現像液で済むため、現像液の消費量を低減することができる。
【００６１】
図６に示すように、現像ノズル４０が隙間３０内を移動（スキャン）してから所定時間をおいて、リンスノズル７０が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ供給孔７２からウエハＷ側及び平板２０側に向かって純水ＤＩＷを吐出（供給）して、現像液とレジストの溶解反応を停止すると共に、ウエハＷ及び平板２０に付着する処理済みの現像液Ｄを純水に置換して洗浄する（洗浄工程）。この洗浄工程において、リンスノズル７０を往復移動しつつ供給孔７２から純水を吐出（供給）してもよい。このように、リンスノズル７０を往復移動しつつ洗浄処理を行うことにより、純水ＤＩＷの使用量を少なくでき、更に洗浄効率の向上が図れる。また、ここでは、図示しないが、後述するように、洗浄工程において、ステージ１０の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板２０に当接させて隙間３０を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながらリンスノズル７０を移動（スキャン）させて、洗浄を行うようにする方が好ましい。また、現像液の置換に応じて隙間３０の距離を変えてもよい。
【００６２】
次に、リンスノズル７０が隙間３０内を移動（スキャン）した後、図８に示すように、乾燥ノズル８０が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ噴射孔８２からウエハＷ側及び平板２０側に向かって乾燥用の空気Ａを噴射（供給）して、ウエハＷ及び平板２０に付着する処理済みの現像液Ｄ及び純水ＤＩＷを吹き飛ばして乾燥する（乾燥工程）。このように空間が規制された隙間３０に空気Ａを流すので、効率的な乾燥ができる。この乾燥工程において、乾燥ノズル８０を往復移動しつつ噴射孔８２から空気Ａを噴射（供給）してもよい。このように、乾燥ノズル８０を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、更に乾燥効率の向上が図れる。また、後述するように、乾燥工程において、ステージ１０の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板２０に当接させて隙間３０を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら乾燥ノズル８０を移動（スキャン）させて、乾燥を行うようにする方が、ミストの飛散防止が図れる点で好ましい。また、現像液の置換に応じて隙間３０の距離を変えてもよい。
【００６３】
以上のようにして、ウエハＷの現像、洗浄（リンス）及び乾燥を行った後、現像ノズル４０、リンスノズル７０及び乾燥ノズル８０はホームポジションに戻って、次の処理まで待機する。その後、ステージ１０の吸着状態を解除し、支持ピン１１を上昇させて、隙間３０内に進入するウエハ搬送アーム（図示せず）にウエハＷを受け渡してウエハＷを搬出する。以下、上記と同様の操作を繰り返してウエハＷの現像、洗浄（リンス）及び乾燥を行う。
【００６４】
第一実施形態の処理方法によれば、ウエハＷを回転させずに、隙間３０内の一側端から他側端に向かって現像ノズル４０を移動（スキャン）しつつ小孔４１から現像液を吐出（供給）して現像液Ｄの液膜を形成し、次いで、隙間３０内に同様にリンスノズル７０を移動（スキャン）しつつ供給孔７２から純水を吐出（供給）して現像の停止及び洗浄を行った後、隙間３０内に同様に乾燥ノズル８０を移動（スキャン）しつつ噴射孔８２からウエハＷ及び平板２０側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給）して乾燥を行うことができる。したがって、必要最小限の薄い隙間３０の分の現像液、純水及び空気の供給で済むため、現像液の消費量の低減が図れると共に、純水及び空気の消費量の低減が図れ、かつ、現像液の液膜を均一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができ、洗浄効率及び乾燥効率の向上を図ることができる。
【００６５】
◎第二実施形態
図１１は、この発明に係る現像処理装置の第二実施形態を示す概略平面図、図１２は、第二実施形態の現像処理装置の概略側面図である。
【００６６】
第二実施形態は、第一実施形態の現像処理に現像液及び洗浄液の吸引工程を更に付加して、更に乾燥効率の向上を図れるようにした場合である。すなわち、現像処理装置は、第一実施形態と同様に、現像ノズル４０、リンスノズル７０及び乾燥ノズル８０を具備する他に、吸引ノズル９０を具備している。
【００６７】
吸引ノズル９０は、図１３及び図１４に示すように、現像ノズル４０、リンスノズル７０及び乾燥ノズル８０と同様の長さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体９１を具備し、ノズル体９１における移動（スキャン）方向側に開口する軸方向に沿うスリット状の吸引孔８２が設けられている。ノズル体９１の中空部９１ａの両端部に吸引管路９３を介して吸引手段例えば真空ポンプ装置９４が接続されている。この吸引管路９３の一部は、吸引ノズル９０の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、吸引管路９３には開閉弁９５が介設されている。
【００６８】
上記吸引ノズル９０も、現像ノズル４０、リンスノズル７０及び乾燥ノズル８０と同様に、上記移動・昇降機構６０に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。
【００６９】
なお、第二実施形態において、その他の部分は第一実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００７０】
次に、第二実施形態の現像処理方法について、図４，図６，図８及び図１３と図１５のフローチャートを参照して説明する。
【００７１】
第一実施形態と同様に、ウエハＷをステージ１０に載置し、ウエハＷと液膜形成用平板２０とで隙間３０（液膜形成領域）を設定する。この状態で、図４に示すように、現像ノズル４０を、隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔４１から隙間３０内に現像液Ｄを吐出してウエハＷの表面に現像液Ｄの液膜を形成する（現像工程）。次いで、リンスノズル７０を隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ供給孔７２から純水ＤＩＷを吐出（供給）して、現像液とレジストの溶解反応を停止すると共に、ウエハＷ及び平版２０に付着する処理済みの現像液Ｄを純水に置換して洗浄する（洗浄工程）。
【００７２】
次に、リンスノズル７０が隙間３０内を移動（スキャン）してから所定時間が経過した後、図１３に示すように、吸引ノズル９０が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ真空ポンプ装置９４の駆動により吸引ノズル９０のノズル体９１の中空部９１ａ内が例えば７００〜４００Ｔｏｒｒの負圧状態となり、吸引孔９２から処理に供された現像液Ｄ及び純水ＤＩＷが吸引される（吸引工程）。この吸引工程においても、ステージ１０の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板２０に当接させて隙間３０を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら吸引ノズル９０を移動（スキャン）させて、現像液Ｄ及び純水ＤＩＷの吸引を行うようにする方が好ましい。
【００７３】
吸引ノズル９０が移動（スキャン）して現像液Ｄ及び純水ＤＩＷの吸引が行われた後、図８に示すように、乾燥ノズル８０が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ噴射孔８２からウエハＷ側及び平板２０側に向かって乾燥用の空気Ａを噴射（供給）して、ウエハＷ及び平板２０に付着する処理済みの現像液Ｄ及び純水ＤＩＷを吹き飛ばして乾燥する（乾燥工程）。この乾燥工程において、乾燥ノズル８０を往復移動しつつ噴射孔８２から空気Ａを噴射（供給）してもよい。このように、乾燥ノズル８０を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、更に乾燥効率の向上が図れる。また、乾燥工程においても、後述するように、ステージ１０の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板２０に当接させて隙間３０を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら乾燥ノズル８０を移動（スキャン）させて、乾燥を行うようにする方が、ミストの飛散防止が図れる点で好ましい。
【００７４】
以上のようにして、ウエハＷの現像、洗浄（リンス）、吸引及び乾燥を行った後、現像ノズル４０、リンスノズル７０、吸引ノズル９０及び乾燥ノズル８０はホームポジションに戻って、次の処理まで待機する。その後、ステージ１０の吸着状態を解除し、支持ピン１１を上昇させて、隙間３０内に進入するウエハ搬送アーム（図示せず）にウエハＷを受け渡してウエハＷを搬出する。以下、上記と同様の操作を繰り返してウエハＷの現像、洗浄（リンス）、吸引及び乾燥を行う。
【００７５】
第二実施形態の処理方法によれば、ウエハＷを回転させずに、隙間３０内の一側端から他側端に向かって現像ノズル４０を移動（スキャン）しつつ小孔４１から現像液を吐出（供給）して現像液Ｄの液膜を形成し、次いで、隙間３０内に同様にリンスノズル７０を移動（スキャン）しつつ供給孔７２から純水を吐出（供給）して現像の停止及び洗浄を行い、次いで、隙間３０内に同様に吸引ノズル９０を移動（スキャン）しつつ吸引孔９２から処理済みの現像液及び純水を吸引した後、隙間３０内に同様に乾燥ノズル８０を移動（スキャン）しつつ噴射孔８２からウエハＷ及び平板２０側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給）して乾燥を行うことができる。したがって、第一実施形態の処理方法に比べて更に乾燥効率の向上を図ることができる。
【００７６】
◎第三実施形態
図１６は、この発明に係る現像処理装置の第三実施形態を示す概略平面図、図１７は、第三実施形態の現像処理装置の概略側面図である。
【００７７】
第三実施形態は、第一実施形態の現像処理に現像液の吸引工程（第一の吸引工程）と洗浄液の吸引工程（第二の吸引工程）を更に付加して、更に乾燥効率の向上を図れるようにした場合である。すなわち、現像処理装置は、第一実施形態と同様に、現像ノズル４０、リンスノズル７０及び乾燥ノズル８０を具備する他に、第一の吸引ノズル９６と第二の吸引ノズル９７を具備している。
【００７８】
第一及び第二の吸引ノズル９６，９７は、吸引ノズル９０と同様の構造を有している。すなわち、図１３及び図１４に示すように、現像ノズル４０、リンスノズル７０及び乾燥ノズル８０と同様の長さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体９１を具備し、ノズル体９１における移動（スキャン）方向側に開口する軸方向に沿うスリット状の吸引孔８２が設けられている。ノズル体９１の中空部９１ａの両端部に吸引管路９３を介して吸引手段例えば真空ポンプ装置９４が接続されている。この吸引管路９３の一部は、第一及び第二の吸引ノズル９６，９７の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、吸引管路９３には開閉弁９５が介設されている。
【００７９】
上記第一及び第二の吸引ノズル９６，９７も、現像ノズル４０、リンスノズル７０、乾燥ノズル８０及び吸引ノズル９０と同様に、上記移動・昇降機構６０に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。
【００８０】
なお、第三実施形態において、その他の部分は第一、第二実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００８１】
次に、第三実施形態の現像処理方法について、図４，図６，図８及び図１３と図１８のフローチャートを参照して説明する。
【００８２】
第一実施形態と同様に、ウエハＷをステージ１０に載置し、ウエハＷと液膜形成用平板２０とで隙間３０（液膜形成領域）を設定する。この状態で、図４に示すように、現像ノズル４０を、隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔４０から隙間３０内に現像液Ｄを吐出してウエハＷの表面に現像液Ｄの液膜を形成する（現像工程）。
【００８３】
現像ノズル４０が隙間３０内を移動（スキャン）してから所定時間をおいて、第一の吸引ノズル９６が隙間３０内を移動（スキャン）しつつ真空ポンプ装置９４の駆動により第一の吸引ノズル９６のノズル体９１の中空部９１ａ内が負圧状態となり、吸引孔９２から現像液Ｄを吸引する（第一の吸引工程）。
【００８４】
第一の吸引ノズル９６が隙間３０内を移動（スキャン）してから所定時間をおいて、図６に示すように、リンスノズル７０が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ供給孔７２からウエハＷ側及び平板２０側に向かって純水ＤＩＷを吐出（供給）して、ウエハＷ及び平板２０に付着する処理済みの現像液Ｄを純水に置換して洗浄する（洗浄工程）。この洗浄工程において、純水ＤＩＷの使用量の低減と洗浄効率の向上を図るためにリンスノズル７０を往復移動しつつ供給孔７２から純水を吐出（供給）してもよい。また、ここでは、図示しないが、後述するように、洗浄工程において、ステージ１０の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板２０に当接させて隙間３０を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながらリンスノズル７０を移動（スキャン）させて、洗浄を行うようにする方が好ましい。
【００８５】
次に、リンスノズル７０が隙間３０内を移動（スキャン）した後、第二の吸引ノズル９７が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ真空ポンプ装置９４の駆動により吸引ノズル９０のノズル体９１の中空部９１ａ内が負圧状態となり、吸引孔９２から処理に供された純水ＤＩＷ｛具体的には、現像液Ｄと純水ＤＩＷの混合液｝が吸引される（第二の吸引工程）。この第二の吸引工程においても、ステージ１０の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板２０に当接させて隙間３０を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら吸引ノズル９０を移動（スキャン）させて、現像液Ｄ及び純水ＤＩＷの吸引を行うようにする方が好ましい。
【００８６】
第二の吸引ノズル９７が移動（スキャン）して純水ＤＩＷの吸引が行われた後、図８に示すように、乾燥ノズル８０が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ噴射孔８２からウエハＷ側及び平板２０側に向かって乾燥用の空気Ａを噴射（供給）して、ウエハＷ及び平板２０に付着する処理済みの現像液Ｄ及び純水ＤＩＷを吹き飛ばして乾燥する（乾燥工程）。この乾燥工程において、乾燥ノズル８０を往復移動しつつ噴射孔８２から空気Ａを噴射（供給）してもよい。このように、乾燥ノズル８０を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、更に乾燥効率の向上が図れる。また、乾燥工程においても、後述するように、ステージ１０の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板２０に当接させて隙間３０を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら乾燥ノズル８０を移動（スキャン）させて、乾燥を行うようにする方が、ミストの飛散防止が図れる点で好ましい。
【００８７】
以上のようにして、ウエハＷの現像、現像液の吸引、洗浄（リンス）、洗浄液の吸引及び乾燥を行った後、現像ノズル４０、リンスノズル７０、第一及び第二の吸引ノズル９６，９７及び乾燥ノズル８０はホームポジションに戻って、次の処理まで待機する。その後、ステージ１０の吸着状態を解除し、支持ピン１１を上昇させて、隙間３０内に進入するウエハ搬送アーム（図示せず）にウエハＷを受け渡してウエハＷを搬出する。以下、上記と同様の操作を繰り返してウエハＷの現像、洗浄（リンス）、吸引及び乾燥を行う。
【００８８】
第三実施形態の処理方法によれば、ウエハＷを回転させずに、隙間３０内の一側端から他側端に向かって現像ノズル４０を移動（スキャン）しつつ小孔４１から現像液を吐出（供給）して現像液Ｄの液膜を形成し、次いで、隙間３０内に第一の吸引ノズル９６を移動（スキャン）しつつ現像液を吸引した後、隙間３０内に同様にリンスノズル７０を移動（スキャン）しつつ供給孔７２から純水を吐出（供給）して洗浄を行い、次いで、隙間３０内に第二の吸引ノズル９７を移動（スキャン）しつつ洗浄液を吸引した後、隙間３０内に同様に乾燥ノズル８０を移動（スキャン）しつつ噴射孔８２からウエハＷ及び平板２０側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給）して乾燥を行うことができる。したがって、第一、第二実施形態の処理方法に比べて更に乾燥効率の向上を図ることができると共に、乾燥効率の向上を図ることができる。
【００８９】
◎第四実施形態
図１９は、この発明に係る現像処理装置の第四実施形態を示す概略平面図、図２０は、第四実施形態の現像処理装置の概略側面図である。
【００９０】
第四実施形態の現像処理装置は、第一ないし第三実施形態と同様に、ウエハＷを載置し、バキューム装置Ｖ（図３）によってウエハＷを吸着保持するステージ１０と、このステージ１０の上方に配設されて、ウエハＷとの間に隙間３０（液膜形成領域）を形成するステージ１０より大面積の平板２０とを具備し、更にステージ１０の外側及び下部を包囲すると共に、平板２０に接離する昇降可能なシャッタ部であるカップ２００を具備している。この場合、カップ２００は、カップ昇降手段３００によって鉛直方向に昇降され、上昇状態において平板２０の下面に当接して、隙間３０を外部から遮断するシャッタのように構成されている。また、カップ２００の下部にか排出口２０１が設けられており、この排出口２０１に、図示しない気液分離装置を介して排気装置（図示せず）が接続されている。
【００９１】
また、第四実施形態の現像処理装置は、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔４１を有する管状の現像液供給用の現像ノズル４０と、洗浄と乾燥を兼用する洗浄・乾燥ノズル４００とを具備している。なお、吸引ノズル９０を更に具備してもよい。
【００９２】
現像ノズル４０は、第一実施形態で説明した構造と同じであるので、ここでは説明は省略する。現像ノズル４０は、ステージ１０及びカップ２００を挟んで両側に配設された一対のガイドレール５０ａに移動自在に架設されると共に、移動・昇降機構６０Ａに連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０（液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。
【００９３】
洗浄・乾燥ノズル４００は、図２１に示すように、現像ノズル４０と同様の長さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体４０１を具備し、ノズル体４０１における少なくともウエハＷ側及び平板２０側に開口する軸方向に沿う複数の小孔４０２が設けられている。なお、小孔４０２は、現像ノズル４０と同様に、ノズル体４０１の端部側から中心側に向かって小孔４０２の開口面積が漸次増大されている。このように小孔４０２の開口面積を、ノズル体４０１の端部側から中心側に向かって漸次増大させることにより、両端側からノズル体４０１の中空部４０１ａ内に供給される純水又は空気を各小孔４０２から均等に吐出（供給）することができる。
【００９４】
ノズル体４０１の中空部４０１ａの両端部には主供給管路４０３が接続されており、主供給管路４０３は、切換手段である３ポート３位置切換弁５００（以下に切換弁５００という）の二次側（下流側）の第１ポート５００ａに接続されている。また、切換弁５００の一次側（上流側）の第２ポート５００ｂには洗浄液供給管路４０４を介して洗浄液であるリンス液例えば純水の供給源７４が接続されており、切換弁５００の一次側（上流側）の第３ポート５００ｃには乾燥流体供給管路４０５を介して乾燥用流体である空気の供給源８４が接続されている。このように構成することにより、切換弁５００の切換操作によって洗浄・乾燥ノズル４００のノズル体４０１に洗浄（リンス）用の純水又は乾燥用の空気が選択的に供給することができる。なお、主供給管路４０３の一部は、洗浄・乾燥ノズル４００の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。
【００９５】
上記洗浄・乾燥ノズル４００は、カップ２００内に位置し、ステージ１０を挟んで両側に配設された一対のガイドレール５０ｂに移動自在に架設されると共に、移動手段と昇降手段を兼用する移動・昇降機構６０Ｂに連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０（液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。
【００９６】
なお、吸引ノズル９０は、ステージ１０及びカップ２００を挟んで両側に配設された一対のガイドレール５０ｃに移動自在に架設されると共に、移動・昇降機構６０Ｃに連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０（液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。
【００９７】
なお、第四実施形態において、その他の部分は第一実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００９８】
次に、第四実施形態の現像処理方法の一例について、図１９〜図２８と図２９のフローチャートを参照して説明する。
【００９９】
まず、図示しないウエハ搬送アームがウエハＷを保持して現像処理装置内に進入すると、支持ピン１１が上昇してウエハＷを受け取る（図２２（ａ）参照）。ウエハＷを受け渡したウエハ搬送アームは現像処理装置内から後退する。ウエハＷを受け取った支持ピン１１が下降してウエハＷがステージ１０に載置されると、バキューム装置Ｖ（図３）の駆動によってウエハＷが吸着保持される。その後、昇降機構（図示せず）によって液膜形成用平板２０を鉛直方向に移動（昇降）して、ステージ１０に載置されるウエハＷの表面に形成（液盛り）される現像液の液膜の膜厚に対応した間隔となるように調節して隙間３０（液膜形成領域）を設定する（図２２（ｂ）参照）｛ウエハ搬入工程｝。
【０１００】
ウエハＷがステージ１０上に載置されて固定された状態で、図２３に示すように、現像ノズル４０を上昇させた後、隙間３０（液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔４１から隙間３０（液膜形成領域）内に現像液Ｄを吐出（供給）すると、現像液Ｄが隙間３０（液膜形成領域）内に充満されてウエハＷの表面に現像液Ｄの液膜が形成される｛現像工程｝。これにより、現像中の現像液Ｄの動きを現像開始から終了まで、極めて静的に保って隙間３０（液膜形成領域）内に現像液Ｄを充満させた状態でウエハＷの表面に現像液Ｄの液膜を形成することができるので、レジストＲの疎水度に影響を受けずに現像液Ｄの液膜を均一に形成することができる。また、薄い隙間３０（液膜形成領域）の分の現像液で済むため、現像液の消費量を低減することができる。
【０１０１】
現像ノズル４０が隙間３０内を移動（スキャン）して隙間３０内に現像液Ｄを充満させて液膜を形成した後、カップ昇降手段３００の駆動によりカップ２００が平板２０の下面に当接されて隙間３０を外部と遮断して、処理空間６００を形成する。この状態で、切換弁５００の切換操作によって純水供給源７４側に切り換えて、図２４に示すように、洗浄・乾燥ノズル４００が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔４０２からウエハＷ側及び平板２０側に向かって純水ＤＩＷを吐出（供給）して、現像を停止すると共に、ウエハＷ及び平板２０に付着する処理済みの現像液Ｄを純水に置換して洗浄する｛洗浄工程｝。この際、排気装置（図示せず）の駆動によって処理空間６００内を排気する。この洗浄工程において、洗浄・乾燥ノズル４００を往復移動しつつ小孔４０２から純水を吐出（供給）してもよい。このように、洗浄・乾燥ノズル４００を往復移動しつつ洗浄処理を行うことにより、純水ＤＩＷの使用量の低減が図れ、更に洗浄効率の向上が図れる。
【０１０２】
次に、洗浄・乾燥ノズル４００が隙間３０内を移動（スキャン）して洗浄を行った後、切換弁５００の切換操作によって空気供給源８４側に切り換えて、図２５に示すように、洗浄・乾燥ノズル４００が隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔４０２からウエハＷ側及び平板２０側に向かって空気Ａを噴射（供給）して、ウエハＷ及び平板２０に付着する処理済みの現像液及び純水を吹き飛ばして乾燥する｛乾燥工程｝。この乾燥工程においても、排気装置（図示せず）の駆動によって処理空間６００内が排気される。また、乾燥工程において、洗浄・乾燥ノズル４００を往復移動しつつ小孔４０２から空気を噴射（供給）してもよい。このように、洗浄・乾燥ノズル４００を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、更に乾燥効率の向上が図れる。
【０１０３】
乾燥処理を行った後、排気装置（図示せず）の駆動が停止し、排気が停止される（図２６参照）。これと同時に、カップ昇降手段３００が駆動してカップ２００が下降する。
【０１０４】
次に、現像ノズル４０及び洗浄・乾燥ノズル４００がホームポジションに戻り、次の処理まで待機する（図２７参照）。
【０１０５】
その後、図２８に示すように、ステージ１０の吸着状態を解除し、支持ピン１１を上昇させて、隙間３０内に進入するウエハ搬送アーム（図示せず）にウエハＷを受け渡してウエハＷを搬出する｛ウエハ搬出工程｝。
【０１０６】
以下、上記と同様の操作を繰り返してウエハＷの現像、洗浄（リンス）及び乾燥を行う。
【０１０７】
第四実施形態の処理方法によれば、ウエハＷを回転させずに、隙間３０内の一側端から他側端に向かって現像ノズル４０を移動（スキャン）しつつ小孔４１から現像液を吐出（供給）して現像液Ｄの液膜を形成した後、カップ２００を上昇させて隙間３０を外部から遮断し、排出口２０１から排気した状態で、隙間３０内に同様に洗浄・乾燥ノズル４００を移動（スキャン）しつつ小孔４０２から純水を吐出（供給）して洗浄を行い、次いで、隙間３０内に同様に洗浄・乾燥ノズル４００を移動（スキャン）しつつ小孔４０２からウエハＷ及び平板２０側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給）して乾燥を行うことができる。したがって、第一〜第三実施形態の処理方法と同様に、必要最小限の狭い隙間３０の分の現像液、純水及び空気の供給で済むため、現像液、純水及び空気の消費量を低減することができる。また、現像液の液膜を均一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる上、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行うことができる。また、洗浄処理又は乾燥処理中に飛散された洗浄液やミスト等の飛散物が被処理基板に付着するのを防止することができる。更には、洗浄と乾燥を共通の洗浄・乾燥ノズル４００によって行うことができるので、構成部材の削減が図れると共に、更に装置の小型化が図れる。
【０１０８】
なお、上記説明では、現像工程の後に洗浄工程と乾燥工程を行う場合について説明したが、吸引ノズル９０を用いて、洗浄工程の後、隙間３０内に同様に吸引ノズル９０を移動（スキャン）しつつ吸引孔から処理に供された現像液及び純水を吸引し、その後に乾燥工程を行うようにしてもよい。また、別の処理方法として、現像工程の後、隙間３０内に同様に吸引ノズル９０を移動（スキャン）しつつ吸引孔から処理に供された現像液を吸引し、その後、洗浄工程を行った後、再び隙間３０内に同様に吸引ノズル９０を移動（スキャン）しつつ吸引孔から洗浄液を吸引し、その後に乾燥工程を行うようにしてもよい。このように、吸引工程を加えることによって更に洗浄効率及び乾燥効率の向上を図ることができる。
【０１０９】
◎その他の実施形態
（１）上記実施形態では、ステージ１０と平板２０とで形成された液膜形成用の隙間３０内に、現像ノズル４０を移動（スキャン）しつつ現像液を吐出（供給）して液膜を形成する場合について説明したが、別の方法でウエハＷ表面に現像液の液膜を形成した後、上述した洗浄工程、乾燥工程あるいは洗浄工程、吸引工程、乾燥工程を行うようにしてもよい。
【０１１０】
（２）上記実施形態では、乾燥用流体に空気を使用する場合について説明したが、乾燥用流体は必ずしも空気である必要はなく、空気以外の乾燥気体例えば窒素（Ｎ２）ガスあるいは揮発性液体例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等を用いてもよい。
【０１１１】
（３）上記実施形態では、乾燥工程において、乾燥ノズル８０（洗浄・乾燥ノズル４００）から乾燥用流体を噴射して乾燥を行う場合について説明したが、後述するように、吸引ノズルに乾燥機能を持たせた吸引・乾燥ノズル７００を用いて吸引工程と乾燥工程とを同時に行うことも可能である。
【０１１２】
すなわち、現像工程と洗浄工程を行った後、隙間３０の一側端から他側端に向かって吸引・乾燥ノズル７００を移動しつつ処理に供された現像液Ｄ及び純水ＤＩＷを吸引すると共に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができる。
【０１１３】
この場合、吸引・乾燥ノズル７００は、図３０及び図３１に示すように、断面略楕円形状の棒状部材にて形成されると共に、互いに平行な軸方向に延びる第１及び第２の中空部７０１，７０３を具備している。また、第１の中空部７０１に、軸方向に沿うスリット状の液吸引孔７０２が連通され、第２の中空部７０３には、軸方向に沿うスリット状の空気吸引孔７０４が連通されている。この場合、液吸引孔７０２は、吸引・乾燥ノズル７００の移動（スキャン）方向側の中心部に設けられている。また、空気吸引孔７０４は、吸引・乾燥ノズル７００の移動方向と反対側すなわち移動後方側に設けられると共に、下方のウエハＷ側に開口するように形成されている。
【０１１４】
また、図３１に示すように、吸引・乾燥ノズル７００の第１の中空部７０１の両端部に、開閉弁９５Ａを介設した吸引管路９３Ａを介して吸引手段である真空ポンプ装置９４Ａが接続されている。また、第２の中空部７０３の両端部には、開閉弁９５Ｂを介設した吸引管路９３Ｂを介して吸引手段である真空ポンプ装置９４Ｂが接続されている。この場合、吸引管路９３Ａ，９３Ｂの一部は、吸引・乾燥ノズル７００の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。
【０１１５】
上記のように形成される吸引・乾燥ノズル７００は、現像ノズル４０及びリンスノズル７０と同様の長さに形成されている。そして、液吸引孔７０２が移動方向側に位置する状態で、図３２に示すように、現像ノズル４０及びリンスノズル７０と同様に、上記移動・昇降機構６０に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。
【０１１６】
次に、吸引・乾燥ノズル７００を用いた現像処理方法の一例について図３０及び図３２を参照して説明する。
【０１１７】
上記第一実施形態と同様の手順で、現像工程と洗浄工程を行った後、図３０に示すように、吸引・乾燥ノズル７００を隙間３０の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）して、処理に供した現像液Ｄ及び純水ＤＩＷを吸引すると共に、周囲の空気を吸引してウエハＷに付着した現像液Ｄ及び純水ＤＩＷを除去して乾燥する｛吸引・乾燥工程｝。この際、吸引・乾燥ノズル７００の移動速度を例えば５ｍｍ／ｓｅｃとし、吸引圧（負圧）を例えば５００Ｔｏｒｒに設定して、移動（スキャン）すると、移動速度が遅いので、液吸引孔７０２で現像液Ｄ及び純水ＤＩＷを吸引した後も、その周囲の空気を空気吸引孔７０４によって吸引することができ、ウエハ表面の乾燥が実現できる。
【０１１８】
このように吸引・乾燥ノズル７００を移動（スキャン）させて処理に供した現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引してウエハＷに付着する現像液及び洗浄液を除去する吸引・乾燥工程を用いることにより、吸引と乾燥が同時にできるので、処理効率の向上が図れると共に、装置の小型化が図れる。
【０１１９】
上記説明では、第一実施形態における乾燥ノズル８０、第二実施形態における吸引ノズル９０と乾燥ノズル８０に代えて吸引・乾燥ノズル７００を用いた場合について説明したが、第三実施形態における第二の吸引ノズル９７と乾燥ノズル８０に代えて吸引・乾燥ノズル７００を用いてもよい。第三実施形態に吸引・乾燥ノズル７００を用いて行う場合は、現像工程→第一の吸引工程→洗浄工程→吸引・乾燥工程の順で処理を行うことができる。
【０１２０】
（４）上記実施形態では、被処理基板がウエハＷである場合について説明したが、ウエハ以外の例えばＦＰＤ用ガラス基板やマスク基板（レチクル）等においても同様に、非回転プロセスで現像処理できることは勿論である。
【０１２１】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【０１２２】
１）請求項１，１５記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行うことができると共に、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、必要最小限の省スペースの下で、洗浄液及び乾燥用流体の使用量を低減すると共に、洗浄液やミスト等の飛散物の低減を達成しながら、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行うことができる。
【０１２３】
２）請求項２，１６記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、上記１）に加えて更に乾燥効率の向上を図ることができる。
【０１２４】
３）請求項３記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができるので、上記１）に加えて更に処理効率の向上を図ることができる。
【０１２５】
４）請求項４，１５記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行い、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、上記１）に加えて、更に現像液の消費量を低減することができ、また、現像液の液膜を均一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる。
【０１２６】
５）請求項５，１６記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、上記２）に加えて、更に現像液の消費量を低減することができ、また、現像液の液膜を均一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる。
【０１２７】
６）請求項６，１７記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができるので、上記２）に加えて更に処理効率の向上を図ることができると共に、装置の小型化が図れる。
【０１２８】
７）請求項７，１８記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、（第二の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて洗浄液｛具体的には、現像液と洗浄液の混合液｝を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、上記１），２），４），５）に加えて、更に洗浄効率の向上及び乾燥効率の向上を図ることができる。
【０１２９】
８）請求項８，１９記載の発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引・乾燥ノズルを移動（スキャン）させて洗浄液｛具体的には、現像液と洗浄液の混合液｝を吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができるので、上記６）に加えて更に処理効率の向上を図ることができると共に、装置の小型化が図れる。
【０１３０】
９）請求項９記載の発明によれば、洗浄工程において、洗浄ノズルを往復移動しつつ洗浄液を供給するので、上記１）〜８）に加えて、更に洗浄効率の向上を図ることができる。
【０１３１】
１０）請求項１０記載の発明によれば、乾燥工程において、乾燥ノズルを往復移動しつつ乾燥用流体を噴射するので、上記１）〜９）に加えて、更に乾燥効率の向上を図ることができる。
【０１３２】
１１）請求項１１，１２，１３，２０記載の発明によれば、洗浄工程又は乾燥工程において、カップにより液膜形成用の隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出することができるので、上記１）〜１０）に加えて、更に洗浄処理又は乾燥処理中に飛散された洗浄液やミスト等の飛散物が被処理基板に付着するのを防止することができる。
【０１３３】
１２）請求項１４，２９記載の発明によれば、洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズル体にて形成し、このノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、洗浄工程において、切換手段により洗浄液供給源から洗浄液をノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、切換手段により乾燥流体供給源から乾燥流体をノズル体に供給して乾燥することができるので、上記１）〜１１）に加えて、更に洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通化して、更に構成部材の削減及び装置の小型化を図ることができる。
【０１３４】
１３）請求項２１記載の発明によれば、現像ノズルが、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、上記１）〜１２）に加えて、更に被処理基板の表面に現像液を均一に供給することができ、面内の線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる。
【０１３５】
１４）請求項２２記載の発明によれば、洗浄ノズルが、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、上記１〜１３）に加えて、更に被処理基板の表面に洗浄液を均一に供給することができ、洗浄効率の向上を図ることができる。
【０１３６】
１５）請求項２３記載の発明によれば、吸引ノズルが、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、更に処理に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率良く吸引することができ、洗浄及び乾燥効率の向上を図ることができる。
【０１３７】
１６）請求項２４記載の発明によれば、吸引・乾燥ノズルが、ノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔と、ノズルの移動方向と反対側に開口する軸方向に沿う空気吸引孔とを具備するので、処理に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率よく吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥することができる。
【０１３８】
１７）請求項２５記載の発明によれば、乾燥ノズルが、少なくとも被処理基板及び平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、更に被処理基板の表面に乾燥用流体を均一に噴射（供給）することができ、乾燥効率の向上を図ることができる。
【０１３９】
１８）請求項２６記載の発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することができるので、更に現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができ、処理効率の向上を図ることができる。
【０１４０】
１９）請求項２７記載の発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することができるので、更に現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができ、処理効率の向上を図ることができる。
【０１４１】
２０）請求項２８記載の発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引・乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル又は吸引・乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することができるので、更に現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引・乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができ、処理効率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る現像処理装置の第一実施形態を示す概略平面図である。
【図２】第一実施形態の現像処理装置の概略側面図である。
【図３】この発明におけるステージの一例を示す概略平面図（ａ）及び概略側面図（ｂ）である。
【図４】この発明における現像工程を示す拡大断面図である。
【図５】この発明における現像ノズルの一例を示す概略断面図である。
【図６】この発明における洗浄工程を示す拡大断面図である。
【図７】この発明における洗浄ノズルの一例を示す概略断面図である。
【図８】この発明における乾燥工程を示す拡大断面図である。
【図９】この発明における乾燥ノズルの一例を示す概略側面図である。
【図１０】第一実施形態の現像処理工程を示すフローチャートである。
【図１１】この発明に係る現像処理装置の第二実施形態を示す概略平面図である。
【図１２】第二実施形態の現像処理装置の概略側面図である。
【図１３】この発明における吸引工程を示す拡大断面図である。
【図１４】この発明における吸引ノズルの一例を示す概略側面図である。
【図１５】第二実施形態の現像処理工程を示すフローチャートである。
【図１６】この発明に係る現像処理装置の第三実施形態を示す概略平面図である。
【図１７】第三実施形態の現像処理装置の概略側面図である。
【図１８】第三実施形態の現像処理工程を示すフローチャートである。
【図１９】この発明に係る現像処理装置の第四実施形態を示す概略平面図である。
【図２０】第四実施形態の現像処理装置の概略断面図である。
【図２１】この発明における洗浄・乾燥ノズルを示す概略側面図である。
【図２２】第四実施形態におけるウエハの搬入工程を示す概略断面図である。
【図２３】第四実施形態における現像工程を示す概略断面図である。
【図２４】第四実施形態における洗浄工程を示す概略断面図である。
【図２５】第四実施形態における乾燥工程を示す概略断面図である。
【図２６】第四実施形態における排気停止状態を示す概略断面図である。
【図２７】第四実施形態におけるノズルのホームポジションへの戻り状態を示す概略断面図である。
【図２８】第四実施形態におけるウエハの搬出工程を示す概略断面図である。
【図２９】第四実施形態の現像処理工程を示すフローチャートである。
【図３０】この発明における吸引・乾燥ノズルによる吸引・乾燥工程を示す拡大断面図である。
【図３１】上記吸引・乾燥ノズルの概略斜視図である。
【図３２】上記吸引・乾燥ノズルを備えた現像処理装置の一例を示す概略平面図である。
【符号の説明】
２０  液膜形成用平板
３０  隙間（液膜形成領域）
４０  現像ノズル
４１  小孔
４２  管状ノズル体
６０，６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｃ  移動・昇降機構
７０  リンスノズル（洗浄ノズル）
７１  管状ノズル体
７２  供給孔
８０  乾燥ノズル
８１  管状ノズル体
８２  噴射孔
９０  吸引ノズル
９１  管状ノズル体
９２  吸引孔
９６  第一の吸引ノズル
９７  第二の吸引ノズル
２００  カップ
２０１  排出口
３００  カップ昇降手段
４００  洗浄・乾燥ノズル
４０１  管状ノズル体
４０２  小孔
５００  切換弁（切換手段）
６００  処理空間
７００  吸引・乾燥ノズル
７０２  液吸引孔
７０４  空気吸引孔
Ｗ  半導体ウエハ（被処理基板）
Ｄ  現像液
ＤＩＷ  純水
Ａ  空気（乾燥用流体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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