(57)【要約】【課題】仮形成されたパターンに照射される光の強度分布の均一性を向上し、基板上に均一なパターンをより確実に形成するパターン形成装置を提供する。【解決手段】パターン形成装置１は、基板９を保持するステージ３、基板９に向けて光硬化性樹脂を含むパターン形成材料を吐出してパターンを仮形成する吐出部５２、仮形成されたパターンに向けて紫外線を照射する光出射部５３、および、紫外線を拡散する拡散板５５を有する。光出射部５３の底面には複数の光ファイバ５３１の端面が配列されており、各端面からの紫外線の照射領域は拡散板５５によって拡大する。これにより隣接する端面からの紫外線の照射領域が大きく重なり合い、紫外線の強度分布の均一性が向上する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、
仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、
前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の少なくとも前記第１の方向に対する強度分布の均一性を向上する光学要素と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成装置であって、
前記光出射部が、前記第１の方向に配列された複数の光ファイバを有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、
前記光学要素が拡散板であることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、
前記光学要素が、前記第１の方向に微小レンズが配列されたレンズアレイであることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項５】
基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、
仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、
前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の照射位置を少なくとも前記第１の方向に対して移動する照射位置移動機構と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項６】
請求項５に記載のパターン形成装置であって、
前記照射位置移動機構が、
前記光出射部からの光を屈折する光学部材と、
前記光学部材を所定の軸を中心に回転する回転機構と、
を有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記形成部が、パターン形成材料を基板に向けて吐出する複数の吐出口を有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記パターン形成材料により平面表示装置用の隔壁パターンが形成されることを特徴とするパターン形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上にパターンを形成する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、プラズマ表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いられるパネルに隔壁のパターンを形成する方法として、サンドブラスト法（フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。）、スクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。しかしながら、これらの方法は煩雑であり、生産コストを増加させる要因となっている。そこで、近年、特許文献１に開示されているように、微細な吐出口を有するノズルから光硬化性樹脂を含むペースト状のパターン形成材料を基板上に吐出してパターンを仮形成した後に、紫外線の照射によりパターン形成材料を硬化させてパターンを形成する手法が提案されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１８４３０３号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記手法により基板上にパターンを形成する場合、パターン形成材料に照射される紫外線の強度分布が不均一であると、パターン形成材料に含まれる光硬化性樹脂の硬化状態にばらつきが生じ、パターンの形状（具体的には、直線状の複数のパターン要素の断面形状）が不揃いになる恐れがある。パターンの不揃いは、基板がプラズマ表示装置等の製品に使用された際に、表示される映像にムラが生じる原因となる。特に互いに隣接する複数のパターン要素の形状が異なるとパターン要素の配列方向に対してムラが生じ易くなる。
【０００５】
例えば、複数の光ファイバを用いて紫外線を仮形成されたパターンに照射する場合、各光ファイバから出射される紫外線の強弱によりパターン形成材料に照射される紫外線の強度分布が不均一になる可能性がある。また、一部の光ファイバの断線や出射端面の汚損等によって紫外線の強度分布が不均一になることも考えられる。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に均一なパターンをより確実に形成することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の少なくとも前記第１の方向に対する強度分布の均一性を向上する光学要素とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターン形成装置であって、前記光出射部が、前記第１の方向に配列された複数の光ファイバを有する。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、前記光学要素が拡散板である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、前記光学要素が、前記第１の方向に微小レンズが配列されたレンズアレイである。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の照射位置を少なくとも前記第１の方向に対して移動する照射位置移動機構とを備える。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のパターン形成装置であって、前記照射位置移動機構が、前記光出射部からの光を屈折する光学部材と、前記光学部材を所定の軸を中心に回転する回転機構とを有する。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記形成部が、パターン形成材料を基板に向けて吐出する複数の吐出口を有する。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記パターン形成材料により平面表示装置用の隔壁パターンが形成される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の第１の実施の形態に係るパターン形成装置１の構成を示す図である。パターン形成装置１は、プラズマ表示装置用のガラス基板（以下、「基板」という。）９上に複数の隔壁に相当するパターンを形成する装置であり、パターンが形成された基板９は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル（通常、リアパネル）となる。
【００１６】
パターン形成装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、ステージ移動機構２により基板９を保持するステージ３が基板９の主面に沿って図１中に示すＸ方向に移動可能とされる。基台１１にはステージ３を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはヘッド部５が取り付けられる。
【００１７】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージ３に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージ３がガイドレール２４に沿ってＸ方向に滑らかに移動する。
【００１８】
ヘッド部５は、基板９に向けてペースト状のパターン形成材料を吐出する吐出部５２、基板９に向けて紫外線を出射する光出射部５３、および、光出射部５３から出射される紫外線を拡散する磨りガラスである拡散板５５を有する。吐出部５２および光出射部５３はフレーム１２に固定されたベース５１の下部に取り付けられており、また、拡散板５５は光出射部５３と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、支持ガイドを介して光出射部５３に取り付けられる。
【００１９】
吐出部５２はＹ方向に配列された複数の吐出口が形成されたノズル５４を有する。吐出部５２には逆止弁５２１を有する供給管５２２が接続され、途中で２つに分岐し、一方がパターン形成材料のノズル５４からの吐出を制御するためのポンプ５２３に接続され、他方が制御弁５２４を介してパターン形成材料を貯溜する材料タンク５２５に接続される。なお、パターン形成材料は低軟化点ガラスフリット、光硬化性樹脂（本実施の形態では紫外線硬化性樹脂）、その他、溶剤や添加剤等を含んでいる。
【００２０】
光出射部５３は吐出部５２の（−Ｘ）側（パターン形成時の吐出部５２の基板９に対する相対移動の後側）において基板９に向けて紫外線を出射し、基板９上のノズル５４の（−Ｘ）側に紫外線を照射する。光出射部５３は複数の光ファイバ５３１の束を介して紫外線を発生する光源ユニット５３２に接続される。
【００２１】
モータ２１、ポンプ５２３、制御弁５２４および光源ユニット５３２は制御部６に接続され、これらの構成が制御部６により制御されることにより、パターン形成装置１による基板９上へのパターンの形成が行われる。
【００２２】
パターン形成装置１にて基板９上にパターンが形成される際には、制御部６の制御によりステージ移動機構２がステージ３を図１中に矢印３１にて示す方向（複数の吐出口の配列に垂直な方向）へと移動しつつノズル５４の複数の吐出口からパターン形成材料の吐出が行われる。
【００２３】
ノズル５４からのパターン形成材料の吐出は、逆止弁５２１、ポンプ５２３および制御弁５２４により行われる。まず、制御部６の制御により制御弁５２４が開放された状態でポンプ５２３が吸引動作を行う。このとき、逆止弁５２１によりパターン形成材料の逆流が阻止されるため、材料タンク５２５からポンプ５２３へとパターン形成材料が引き込まれる。次に、制御部６の制御により制御弁５２４が閉じられ、ポンプ５２３が押出動作を行うことにより、ノズル５４から連続的にパターン形成材料が吐出される。
【００２４】
これにより、基板９の主面に沿ってＹ方向に配列される複数のパターン要素が基板９の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側に向かって順次仮形成される。なお、吐出部５２の相対移動方向は複数の吐出口の配列に垂直な方向に対して多少傾斜していてもよい。
【００２５】
図２は光出射部５３の底面図である。光出射部５３は複数の光ファイバ５３１を有し、光ファイバ５３１の端面５３３は光出射部５３の底面に配列される。光ファイバ５３１の端面５３３は、Ｘ方向（すなわち、基板９の相対移動方向）に対して所定の幅であり、Ｙ方向（すなわち、吐出口５４１の配列方向）に対して吐出口５４１の配列の長さよりも長い領域内に配列される。
【００２６】
吐出部５２および光出射部５３を基板９に対して相対的に（＋Ｘ）方向に移動しつつ既述のように連続的にパターン形成材料を吐出することにより、図２に示す光出射部５３から出射された紫外線が、各吐出口５４１から吐出されて仮形成された直後のパターン形成材料（すなわち、吐出直後の全てのパターン要素）に照射されることとなる。その結果、光硬化性樹脂を含むパターン形成材料が順次硬化し、複数の線状の隔壁のパターンが順次形成される。
【００２７】
なお、複数の光ファイバ５３１をＹ方向に配列することにより、順次仮形成される全てのパターン要素に紫外線を照射するＹ方向に長い線状光（光束断面が線状の光）を容易に生成することができる。また、後述するようにパターン形成装置１では拡散板５５により紫外線の照射を均一に行うことが実現されるが、端面５３３の配列を工夫することによってパターンに照射される紫外線の強度分布の均一性をさらに向上することも実現される。なお、（光出射部５３からの）紫外線の強度分布とは、パターン近傍において基板９に平行な仮想的な面に照射される紫外線の単位面積当たりの強度分布（すなわち、照度分布）を指すものとする。
【００２８】
図３は、図１におけるヘッド部５の下部の拡大側面図であり、図４は、ノズル５４側からの光出射部５３の下部および基板９の様子を示す拡大図である。図３および図４に示すように、端面５３３から開口数（＝ＮＡ）約０．２の広がりをもって基板９に向けて出射された紫外線は拡散板５５によって拡散され、ノズル５４の先端に形成された複数の吐出口５４１から基板９に向けて吐出された複数のパターン要素９１に照射される。
【００２９】
図３および図４では、拡散板５５と基板９との間において拡散された光のおよその広がりの様子を便宜上実線５５１にて示しており、拡散しない場合の仮想的な紫外線の広がりを破線５５２にて示している。このように、拡散板５５を設けることにより、各端面５３３から出射される紫外線はＸ方向およびＹ方向に広げられ、拡散板５５が設けられない場合よりも基板９上のより広範な領域に照射される。その結果、隣接する端面５３３からの紫外線の基板９上の照射領域が大きく重なり合い、紫外線の強度分布の均一性が向上される。なお、拡散板５５は寸法や形状を厳密に設計する必要がないため、Ｘ方向およびＹ方向に対する紫外線の強度分布の均一性を容易かつ安価に向上することができる。
【００３０】
また、紫外線の拡散により、例えば、図４に示す１つのパターン要素９１ａに注目した場合、拡散板５５が設置されていない場合は端面５３３ｂおよび端面５３３ｃからの紫外線のみが照射されるが、拡散板５５が設置されている場合は端面５３３ａ，５３３ｂ，５３３ｃ，５３３ｄからの紫外線が照射される。さらに、図２および図３に示すように端面５３３はＸ方向にも配列されているため、他の端面５３３からの紫外線もパターン要素９１ａに照射される。
【００３１】
これにより、一部の光ファイバ５３１が断線等により紫外線を出射することができない、あるいは、光ファイバ５３１の異常な湾曲や端面５３３の汚損等により出射光量が低下したとしても、周囲の光ファイバ５３１からの紫外線が不具合を有する光ファイバ５３１の照射領域に照射されるため、紫外線の強度分布のばらつきを緩和することができる。すなわち、拡散板５５を設置することにより紫外線の強度分布の均一性の向上のみならず、光出射部５３の出射異常の影響を緩和することも実現される。
【００３２】
なお、パターン要素９１に照射される紫外線の強度は拡散板５５による拡散によって若干弱められるが、拡散板５５とパターン要素９１とは数ｍｍ程度まで近接しているため仮形成されたパターンの硬化に影響を与えるほどには弱められない。
【００３３】
以上のように、第１の実施の形態に係るパターン形成装置１では、拡散板５５により光出射部５３からの紫外線が拡散されることによって、仮形成直後のパターン形成材料に照射される紫外線のＸ方向およびＹ方向に対する強度分布の均一性が向上される結果、基板９上の複数のパターン要素９１が均等に硬化され、拡散板５５を設けない場合よりも均一なパターンをより確実に形成することができる。また、光出射部５３の不具合の影響も緩和されるため、歩留まりの向上による生産コストの低減を図ることができる。
【００３４】
図５は本発明の第２の実施の形態に係るパターン形成装置１の光出射部５３の下部および基板９の拡大図であり、第１の実施の形態における図４に対応する。第２の実施の形態に係るパターン形成装置１では、拡散板５５に代えてＸ方向に伸びる微小なシリンドリカルレンズをＹ方向（すなわち、パターン要素９１の配列方向）に配列したレンチキュラーレンズ５６が用いられる。パターン形成装置１の他の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００３５】
すなわち、図５に示すように、レンチキュラーレンズ５６は光出射部５３と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、支持ガイドを介して光出射部５３に取り付けられており、光ファイバ５３１の端面５３３から出射された紫外線はレンチキュラーレンズ５６を通過する際に複雑に屈折してパターン要素９１に照射される。なお、図５では２つの端面５３３からの紫外線の発散の様子のみを平行斜線を付して例示している。
【００３６】
レンチキュラーレンズ５６と基板９とは紫外線の屈折の度合いに対して十分に離れており、各端面５３３からの紫外線はレンチキュラーレンズ５６が設置されていない場合（図５中に破線５５２にて図示）より発散する（あるいは、分散しつつ発散する）。その結果、各端面５３３からの紫外線はレンチキュラーレンズ５６の設置によって基板９上のより広範な領域に照射される。レンチキュラーレンズ５６は磨りガラスである拡散板５５よりも紫外線の透過率が高く、拡散板５５と異なり、Ｙ方向にのみ紫外線を発散するため、拡散板５５を設置する場合に比べてパターンに照射される紫外線の強度低下を抑制することができる。
【００３７】
このように、レンチキュラーレンズ５６により複数の端面５３３からの紫外線の照射領域が複雑に重なり合うことによって、仮形成直後のパターン要素９１に照射される紫外線のＹ方向に対する強度分布の均一性の向上を図りつつ、効率よく紫外線を照射することができる。その結果、レンチキュラーレンズ５６を設けない場合に比べて基板９上に均一なパターンをより確実に形成することができる。また、第１の実施の形態と同様に、光出射部５３の異常に起因する紫外線の強度分布のばらつきの緩和も実現され、歩留まりの向上による生産コストの低減を図ることができる。
【００３８】
図６は本発明の第３の実施の形態に係るパターン形成装置１のヘッド部５の下部の拡大側面図である。第３の実施の形態に係るパターン形成装置１では、光出射部５３と仮形成されたパターン形成材料（すなわち、複数のパターン要素９１）との間に照射位置移動機構５７が設けられる。パターン形成装置１の他の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００３９】
照射位置移動機構５７は光出射部５３からの紫外線を屈折するウェッジプリズム５７ａと、ウェッジプリズム５７ａを基板９の主面に垂直な回転軸５７ｂを中心に回転する回転機構５７０とを有する。ウェッジプリズム５７ａの外周はホルダ５７１に保持され、ホルダ５７１は円環状のガイド５７２に沿って案内される。ホルダ５７１の側面には回転子５７３が当接し、回転子５７３がモータ５７４により回転することにより、ウェッジプリズム５７ａがガイド５７２に案内されつつ回転軸５７ｂを中心に回転する。
【００４０】
図７はパターン形成装置１の光出射部５３の下部および基板９を吐出部５２側からみた様子を拡大図であり、ウェッジプリズム５７ａの回転によって紫外線の照射領域の位置（例えば、照射領域の中心の位置であり、以下、「照射位置」という。）が移動する様子を示している。ただし、ウェッジプリズム５７ａと基板９との間では１つの光ファイバ５３１の端面５３３から出射された紫外線の様子のみを図示している。図７において２点差線にて示すウェッジプリズム５７ａは、実線にて示すウェッジプリズム５７ａが１８０°回転した後の状態を示し、これにより、１つの端面５３３から出射された実線５７５にて示す紫外線は２点差線５７５ａにて示すように屈折により向きを変える。
【００４１】
図８はウェッジプリズム５７ａの回転により基板９上の紫外線の照射位置がノズル５４近傍にて移動する様子を示す図である。１つの光ファイバ５３１の端面５３３からの照射領域５７７（図８中に平行斜線を付す領域）の中心である照射位置５７６は、ウェッジプリズム５７ａの回転に伴い、矢印５７８にて示すように回転移動する。これにより、符号５７９を付す範囲に照射領域が実質的に拡大され、光ファイバ５３１の隣接する端面５３３からの紫外線の照射領域が実質的に大きく重なることとなる。その結果、基板９上において紫外線の強度分布の均一性を向上することができる。
【００４２】
ウェッジプリズム５７ａは拡散板５５に比べて紫外線の透過率が高く、各端面５３３から出射される紫外線が不要な箇所へと散乱することもないため、効率よく紫外線の強度分布の均一性を向上することができる。また、紫外線の照射位置の移動を振動の発生が少ない回転運動によって実現しているため、駆動関係の機構がパターン形状に影響を及ぼすことも抑制される。
【００４３】
以上のように、第３の実施の形態では、ウェッジプリズム５７ａの回転により基板９上の仮形成直後のパターンに照射される紫外線の照射位置が移動してパターン要素９１の配列方向（Ｙ方向）に対する紫外線の強度分布の均一性が向上されるため、ウェッジプリズム５７ａが介在しない場合に比べて基板９上に均一なパターンをより確実に形成することができる。また、光出射部５３の不具合の影響も緩和され、歩留まりの向上による生産コストの低減を図ることができる。
【００４４】
以上、本発明の実施の形態について説明を行ってきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００４５】
紫外線を拡散させる光学部材として、磨りガラスである拡散板５５に代えて、例えば、フッ素系樹脂板が用いられてもよい。テフロン（登録商標）を用いる場合、パーフロロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）をはじめ種々の樹脂が適用可能であるが、紫外線透過率という点ではフッ化ビニリデン樹脂（ＰＶｄＦ）が好ましい。
【００４６】
少なくともパターン要素９１の配列方向（Ｙ方向）に関して紫外線の強度分布の均一性を向上させる光学部材として、例えば、マイクロレンズアレイの一種であるマイクロフライアイレンズが用いられてもよく、Ｙ方向に微小レンズが配列された他のレンズアレイが用いられてもよい。さらには、ロッドレンズの全反射を利用したオプティカル・インテグレータ、あるいはホモジナイザが用いられてもよい。
【００４７】
また、紫外線の均一性を実現する光学要素は拡散板やレンズアレイのように部材として存在するものには限定されず、例えば、光ファイバ５３１の端面５３３に凹凸や傷の加工を施して少なくともＹ方向に対して紫外線を拡散させることにより実現されてもよい。この場合、光ファイバ５３１の端面が光学要素としての役割を果たすことになる。
【００４８】
第３の実施の形態において、ウェッジプリズム５７ａに代えて透明な平板を傾斜姿勢にて配置し、平板を基板９の主面に垂直な軸を中心に回転させてもよい。このような手法でも屈折を利用して各光ファイバ５３１の端面５３３からの紫外線の照射位置を移動することができる。なお、ウェッジプリズム５７ａや平板等の光学部材の回転は、例えば、Ｚ方向を向く回転軸に光学部材を直接取り付けることにより行われてもよい。
【００４９】
上記実施の形態では、複数の吐出口５４１からパターン形成材料を基板９に向けて吐出することによってパターンの仮形成を容易に実現しているが、パターンを仮形成しつつ順次紫外線を照射してパターンを形成する他の様々な手法に上記実施の形態にて説明した紫外線を均一に照射する技術を利用することができる。例えば、基板９上に一様に塗布されたパターン形成材料を櫛歯状の形成部材を用いて掻き取ることにより、基板９上に所定のパターンが順次仮形成される場合にも上記実施の形態にて説明した手法にて紫外線を均一に照射することにより、均一なパターンの形成が実現される。
【００５０】
また、ヘッド部５は基板９に対して相対移動すればよく、例えば、ステージ３が固定されてヘッド部５に移動機構が設けられてもよい。
【００５１】
パターン形成装置１は、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の他の種類の平面表示装置（フラットパネルディスプレイ）における隔壁、配線、電極、蛍光体等のパターンの形成に利用されてもよい。また、基板もガラス基板には限定されず、樹脂基板、半導体基板等であってもよい。パターン形成材料もガラスフリットを含むものには限定されず、例えば、電極が形成される場合には、銀等の金属粒子および（紫外線硬化性）樹脂を含むものが利用される。さらに、パターン形成材料に含まれる光硬化性樹脂は必ずしも紫外線により硬化する樹脂である必要はなく、光により硬化する樹脂であれば容易に利用することができる。この場合、光出射部５３からは光硬化性樹脂の特性に応じた光が出射されることとなる。
【００５２】
【発明の効果】
請求項１ないし８の発明では、仮形成直後のパターンに照射される光の強度分布の均一性を向上することにより、均一なパターンをより確実に形成することができる。
【００５３】
請求項２の発明では、線状光を容易に生成することができる。
【００５４】
請求項３の発明では、光の強度分布の均一性を容易かつ安価に向上することができる。
【００５５】
請求項４および請求項６の発明では、光の強度分布の均一性を効率よく向上することができ、請求項６の発明では、振動の発生を抑制しつつ光の照射位置を移動することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態に係るパターン形成装置の構成を示す図である。
【図２】光出射部の底面図である。
【図３】ヘッド部の下部の拡大側面図である。
【図４】吐出部側からの光出射部の下部および基板の様子を示す図である。
【図５】第２の実施の形態に係るパターン形成装置の光出射部の下部の拡大図である。
【図６】第３の実施の形態に係るパターン形成装置のヘッド部の下部の拡大側面図である。
【図７】吐出部側からの光出射部の下部および基板の様子を示す図である。
【図８】ノズル先端部と紫外線の照射領域を示す平面図である。
【符号の説明】
１  パターン形成装置
２  ステージ移動機構
９  基板
５２  吐出部
５３  光出射部
５４  ノズル
５５  拡散板
５３１  光ファイバ
５４１  吐出口
９１  パターン
５６  レンチキュラーレンズ
５７  照射位置移動機構
５７ａ  ウェッジレンズ
５７ｂ  回転軸
５７０  回転機構
【図１】
2004309744.tif 000003
【図２】
2004309744.tif 000004
【図３】
2004309744.tif 000005
【図４】
2004309744.tif 000006
【図５】
2004309744.tif 000007
【図６】
2004309744.tif 000008
【図７】
2004309744.tif 000009
【図８】
2004309744.tif 000010