(57)【要約】【課題】廉価な一般伝送用光ファイバを材料とし、大量生産性にすぐれ、低コストで、所望の光減衰器を容易に作製できる製造装置【解決手段】水素を加圧して光ファイバ１３の内部に拡散（Ｐ１）しておき、水素が拡散された光ファイバ１３にエキシマランプ３１からのインコヒーレントな紫外光を照射（Ｐ２）し、この光ファイバ１３内にＯＨ基を増加させた後、光ファイバ１３を高温加熱（Ｐ３）して残留した水素を外部に放出し、光ファイバ１３内に増加したＯＨ基に透過光を吸収させて減衰させる。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素を加圧して石英系光導波路の内部に拡散する拡散工程と、
前記拡散工程により水素が拡散された石英系光導波路に光源からのインコヒーレントな紫外光を照射し、該石英系光導波路内にＯＨ基を増加させる照射工程と、
前記照射工程の後、前記石英系光導波路を加熱して残留した水素を外部に放出する加熱工程とを有し、
前記石英系光導波路内に増加したＯＨ基に信号光を吸収させて減衰させることを特徴とする光減衰器の製造方法。
【請求項２】
重水素を加圧して石英系光導波路の内部に拡散する拡散工程と、
前記拡散工程により重水素が拡散された石英系光導波路に光源からのインコヒーレントな紫外光を照射し、該石英系光導波路内にＯＤ基を増加させる照射工程と、
前記照射工程の後、前記石英系光導波路を加熱して残留した重水素を外部に放出する加熱工程とを有し、
前記石英系光導波路内に増加したＯＤ基に信号光を吸収させて減衰させることを特徴とする光減衰器の製造方法。
【請求項３】
前記光源は、
１７２ｎｍの波長を有する紫外光を発光するエキシマランプからなることを特徴とする請求項１または２記載の光減衰器の製造方法。
【請求項４】
前記光源は、
２２２ｎｍの波長を有する紫外光を発光するエキシマランプからなることを特徴とする請求項１または２記載の光減衰器の製造方法。
【請求項５】
前記石英系光導波路は、
信号光の吸収を増大させるための添加物質として、少なくともゲルマニウム、リン、ボロンの何れか１つを含むことを特徴とする請求項１又は３記載の光減衰器の製造方法。
【請求項６】
前記光源と前記石英系光導波路の間に、
紫外光の強度を調整するフィルタを挿入する調光工程を有することを特徴とする請求項１又は３記載の光減衰器の製造方法。
【請求項７】
入射光信号を透過して所定の減衰特性を与えて出射する石英系光導波路からなる光部品であって、
前記石英系光導波路の内部に含まれるＯＨ基による透過光の吸収により１３９０ｎｍの波長において透過損失が最大になり、１５３０〜１５７０ｎｍの範囲及び／又は１５７０〜１６１０ｎｍの範囲で左肩上がりの損失傾斜特性を有することを特徴とする光部品。
【請求項８】
入射光信号を透過して所定の減衰特性を与えて出射する石英系光導波路からなる光部品であって、
前記石英系光導波路の内部に含まれるＯＤ基による透過光の吸収により１８７０ｎｍの波長において透過損失が最大になり、１５３０〜１５７０ｎｍの範囲及び／又は１５７０〜１６１０ｎｍの範囲で右肩上がりの損失傾斜特性を有することを特徴とする光部品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバ内に増加したＯＨ基又はＯＤ基に透過光を吸収させて減衰させる光減衰器の製造方法および光部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
石英系の材料は、光透過性に優れていることから光通信の導波路や光学レンズなど多方面で使用されている。とりわけ光通信線路である光ファイバの材料が石英系であることから、その線路中で光の波長選択性フィルタ、分岐合流器、分波合波器、減衰器などの機能性光部品を作成するにあたって、光ファイバとの結合性として屈折率、コア径、融着接続の際の融点などを考慮すると、石英系材料からこれらの機能性光部品を作製することには優位性が存在する。
【０００３】
光通信線路の信号光や、光測定器の光源、あるいは光センシングシステムにおいて、その目的に比して、光強度が必要以上に過大な時、適当な方法を用いて、光強度を低減させる光減衰器が必要である。
【０００４】
光減衰器の使用目的としては、伝送される信号光強度が高いまま受光素子であるフォトダイオード（ＰＤ：  Ｐｈｏｔｏ  Ｄｉｏｄｅ  ）やアバランシェダイオード（ＡＰＤ：  Ａｖａｌａｎｃｈｅ  Ｐｈｏｔｏ  Ｄｉｏｄｅ）に信号光を入射させると、単位面積あたりの光強度が高いので、これらの受光素子が破壊される危険性があるため、信号光強度を低減させる必要がある。
【０００５】
光減衰器の別の目的としては、高密度波長多重伝送（ＤＷＤＭ：  Ｄｅｎｓｅ  Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ  Ｄｉｖｉｓｉｏｎ  Ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ、以下ＤＷＤＭと略す）においては、光送信機および中継器からの数十にもなる異なる波長の信号光出射時、波長毎の信号光強度を、等しくする（等化）必要があるからである。
【０００６】
一般に光減衰器は、（１）減衰量の値が固定している固定減衰器と、（２）減衰量の値を変えることが可能な可変減衰器に大分類できる。さらに、固定減衰器の中でも、主たる機能光部品が、（１−Ａ）光ファイバを材料としたファイバ型光減衰器と、（１−Ｂ）レンズやプリズムなどの微小光学を採用したマイクロオプティクス型光減衰器に中分類できる。
【０００７】
ここでは、主として（１）固定光減衰器のうち、（１−Ａ）ファイバ型光減衰器に関して以下に説明する。
【０００８】
ファイバ型の光減衰器を作製する方法としては、図８（ａ）に示すように、光ファイバのコア１０１に金属イオン（例：コバルトイオン）を添加して、入射された信号光１１５を吸収させる方法が特許文献１に報告されている。
【０００９】
また、図８（ｂ）に示すように、光ファイバをスリッタで切断し、金属薄膜１０９を挿入することで入射された信号光１０７を金属薄膜１０９に吸収させる方法が知られている。
【００１０】
さらに、図８（ｃ）に示すように、光ファイバの一部を高温加熱し、ある長さに渡ってコア１１３ｂの径を拡大することによって入射された信号光１１７を散乱させる方法が特許文献２に報告されている。
【００１１】
また、図８（ｄ）に示すように、光ファイバのコア１２１にファイバ・ブラッグ・グレーティング（Ｆｉｂｅｒ  Ｂｒａｇｇ  Ｇｒａｔｉｎｇ  ：以下ＦＢＧと呼ぶ）１２５を形成し、特定波長の信号光１２７を反射させ透過光１２９を減衰する方法が特許文献３に報告されている。
【００１２】
図８（ｄ）に示すＦＢＧ１２５のＤＷＤＭシステムにおける応用分野として、図９に示すように、光増幅器の利得等化（あるいは平坦化）フィルタとしての応用例がある。ＤＷＤＭ長距離幹線系光通信線路において、光増幅器の波長範囲λ１〜λ２（Ｃ−Ｂａｎｄの例では、１５３０〜１５６５ｎｍ）で、通常は、光増幅後の利得が、波長に大きく依存して、その最大利得と最小利得の差（以下、利得平坦度と呼ぶ）が数ｄＢ  にもなるが、利得等化フィルタとしてのＦＢＧ１２５を使用するこで、利得平坦度を０．５ｄＢ  程度に抑えることができる。
【００１３】
しかしながら、１万ｋｍにも及ぶ太平洋横断光海底ケーブルのような場合、光増幅器の波長範囲λ１〜λ２で、個々の光増幅器段階では、無視できるほど小さかった利得の傾斜が、その中継器段数が約２００段にも達すると、利得傾斜は累積され、図１１に示すように多段中継後は波長λ１とλ２との間でのαｄＢの利得傾斜が生じるといった問題が顕在化してくる。
【００１４】
この傾斜を補償するために、多段中継後の累積された利得傾斜に等しい損失傾斜を有する光減衰器（図１１参照）を使用することで、図１２に示すように、利得が平坦な特性を得ることができる。ここで、図１０に示すように、常に、多段中継後の光増幅器利得が、短波長側で高く、長波長側で低くなるとは限らず、逆の場合もある。
【００１５】
【特許文献１】
特開平９−２３５１３２９
【００１６】
【特許文献２】
特開平１０−２６８１５３
【００１７】
【特許文献３】
特開２００２−２６７８４８
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図８（ａ）に示すように、光ファイバのコアに金属イオンを添加する特殊ファイバを作製する方法では、特殊ファイバ紡糸するために、まずその母材（プリフォーム）を作製しなければならなかった。
【００１９】
大規模生産している一般伝送用光ファイバの市場規模に比して、ファイバ型光減衰器の一つである金属イオンを添加した特殊ファイバの市場規模は、はるかに小さく、従って、小量ロットを余儀なくされ、その結果、小型母材から特殊ファイバを紡糸すると、非常に高価なものになるといった問題があった。
【００２０】
一方、大規模生産している一般伝送用光ファイバを用いた図８（ｂ）〜（ｄ）に示す方法に関しては、光ファイバ自体は低廉価格で入手は容易であるが、いずれの場合においても、光を減衰させるために精密な加工を必要としているので、その結果、高価なものとなるといった問題があった。
【００２１】
さらに、図８（ｄ）に示すように、ＦＢＧ形成による光の反射を原理とする方法では、コヒーレントな紫外光を発光するエキシマレーザなどを必要としている。このエキシマレーザは、製造設備として高額な投資を必要とするといった問題があった。
【００２２】
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的としては、材料として、少量生産を余儀なくされ高価になる特殊ファイバを一切使用せず、大量生産している廉価な一般伝送用光ファイバを材料とし、かつ精密加工を必要とせず、高額な設備投資も不要で、容易に大量生産可能な製造方法と製造装置を提供することにある。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、上記課題を解決するため、水素を加圧して石英系光導波路の内部に拡散する拡散工程と、前記拡散工程により水素が拡散された石英系光導波路に光源からのインコヒーレントな紫外光を照射し、該石英系光導波路内にＯＨ基を増加させる照射工程と、前記照射工程の後、前記石英系光導波路を加熱して残留した水素を外部に放出する加熱工程とを有し、前記石英系光導波路内に増加したＯＨ基に信号光を吸収させて減衰させることを要旨とする。
【００２４】
請求項２記載の発明は、上記課題を解決するため、重水素を加圧して石英系光導波路の内部に拡散する拡散工程と、前記拡散工程により重水素が拡散された石英系光導波路に光源からのインコヒーレントな紫外光を照射し、該石英系光導波路内にＯＤ基を増加させる照射工程と、前記照射工程の後、前記石英系光導波路を加熱して残留した重水素を外部に放出する加熱工程とを有し、前記石英系光導波路内に増加したＯＤ基に信号光を吸収させて減衰させることを要旨とする。
【００２５】
請求項３記載の発明は、上記課題を解決するため、前記光源は、１７２ｎｍの波長を有する紫外光を発光するエキシマランプからなることを要旨とする。
【００２６】
請求項４記載の発明は、上記課題を解決するため、前記光源は、２２２ｎｍの波長を有する紫外光を発光するエキシマランプからなることを要旨とする。
【００２７】
請求項５記載の発明は、上記課題を解決するため、前記石英系光導波路は、信号光の吸収を増大させるための添加物質として、少なくともゲルマニウム、リン、ボロンの何れか１つを含むことを要旨とする。
【００２８】
請求項６記載の発明は、上記課題を解決するため、前記光源と前記石英系光導波路の間に、紫外光の強度を調整するフィルタを挿入する調光工程を有することを要旨とする。
【００２９】
請求項７記載の発明は、上記課題を解決するため、入射光信号を透過して所定の減衰特性を与えて出射する石英系光導波路からなる光部品であって、前記石英系光導波路の内部に含まれるＯＨ基による透過光の吸収により１３９０ｎｍの波長において透過損失が最大になり、１５３０〜１５７０ｎｍの範囲及び／又は１５７０〜１６１０ｎｍの範囲で左肩上がりの損失傾斜特性を有することを要旨とする。
【００３０】
請求項８記載の発明は、上記課題を解決するため、入射光信号を透過して所定の減衰特性を与えて出射する石英系光導波路からなる光部品であって、前記石英系光導波路の内部に含まれるＯＤ基による透過光の吸収により１８７０ｎｍの波長において透過損失が最大になり、１５３０〜１５７０ｎｍの範囲及び／又は１５７０〜１６１０ｎｍの範囲で右肩上がりの損失傾斜特性を有することを要旨とする。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００３２】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明に係る光部品の製造方法により製造されたファイバ型の光減衰器１１の構成を説明するための図である。
【００３３】
光減衰器１１は、光ファイバ１３を数メートルに切断加工して中間部の被覆を除去したものであり、入射光信号を透過して所定の減衰特性を与えて出射するものである。
【００３４】
次に、図２〜図４に示す製造工程フローおよび各工程の説明図を参照して、光減衰器１１の製造方法について説明する。
【００３５】
図２に示す工程Ｐ１では、図３に示すように、高圧容器２１内に光ファイバ１３を収納する。この時の光ファイバ１３の形状としては、キロメートルを超すリール巻きされた被覆付き光ファイバ、あるいは数メートルから数百メートルに切断加工した被覆付き光ファイバでも良い。
【００３６】
次に、水素（Ｈ２）または重水素（Ｄ２）を充填、１００気圧に加圧した状態で、温度を５５℃に保って、１週間放置して、水素あるいは重水素を光ファイバ１３のクラッドを通過してコアに至るまで拡散させる。この目的としては、光ファイバのコア内に水素あるいは重水素が拡散している状態の場合、図４に示す工程Ｐ２においてインコヒーレント紫外光（ＵＶ：Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ、以下ＵＶ光と呼ぶ）であるエキシマランプ光３３を照射した時に、水素（Ｈ２）と石英（ＳｉＯ２）あるいは二酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）内の酸素が結合し、水酸（ＯＨ）基の濃度を高めることができるからである。重水素をコア中に拡散した場合では、石英中のＯＤ基の濃度を高めることになる。
【００３７】
図２に示す工程Ｐ２では、図４に示すように、エキシマランプ光３３のような５００ｍｍ×８０ｍｍもの広い面積を照射可能なエキシマランプ３１を用いて、強度調整フィルタ３５を介して、水素（Ｈ２）あるいは重水素（Ｄ２）を拡散させた多数本数の光ファイバ１３に照射する。
【００３８】
この時、この強度調整フィルタ３５は、エキシマランプ光３３の光強度が強すぎる場合に使用するもので、エキシマランプ光３３の光強度が適度な時には、強度調整フィルタ３５は使用しない。エキシマランプ光３３の照射により、ＯＨ基が増加したコア２７部分で、１３９０ｎｍをピークとする信号光の吸収が生じて、光減衰器となる。
【００３９】
光減衰器を作製するために必要なエキシマランプ光３３の波長は、添加する増感物質にもよるが、通常２８０ｎｍ以下である必要がある。それは、２８０ｎｍ以上のインコヒーレントＵＶ光では光感受性が非常に小さく所望の光減衰量変化を得ることが困難だからである。一方、１５０ｎｍ以下のエキシマランプ光では、増感物質を添加しない純粋石英でのエキシマランプ光の吸収が非常に大きく、エキシマランプ光がコア中心まで、達しないため、照射波長は１５０ｎｍ以上である必要がある。
【００４０】
ここで、光感受性を高める増感物質としては、ゲルマニウム、リン、ボロンなどが挙げられる。通常、光ファイバのコア２５および２７には屈折率を高めるためゲルマニウムが添加されているので、特別に増感物質を追加添加する必要はない。
【００４１】
また、ここで示したインコヒーレントＵＶ光を発光するエキシマランプ３１の代わりとして、コヒーレントＵＶ光を発光するエキシマレーザでも同様な現象を生じる。しかし、廉価で広い面積を照射可能、かつ取り扱いが容易なエキシマランプ３１に比べて、エキシマレーザは非常に高価で、照射面積が狭く、取り扱い性が悪いという欠点がある。
【００４２】
さらに、エキシマレーザはパルスレーザであり瞬間的に大きなエネルギーが照射されるため、光ファイバ表面に損傷を与え光ファイバ強度を劣化させる場合があるが、ランプを使用した場合、エネルギー密度がレーザに比べ１０００分の１程度であるため、強度劣化が生じないという利点もある。
【００４３】
また、紫外光域において細いスペクトル線幅で発光するエキシマランプの様な光源を用いる事で光エネルギーを効率良く導波路での吸収増加にする事が可能になる。
【００４４】
次に、図２に示す工程Ｐ３では、図５に示すように、オーブン４１内に光ファイバ１３を多数本数収納し、高温加熱した状態で、ある時間放置することにより、光ファイバ１３中に拡散した水素（Ｈ２）４３あるいは重水素（Ｄ２）をオーブン内へ放出させることができる。この後、光ファイバ１３中の水素（Ｈ２）あるいは重水素（Ｄ２）の残留濃度は十分低減しているので、長時間保管しても特性の変化を殆ど生じない。
【００４５】
このような方法により作製された光減衰器１１は、上述した工程Ｐ１で水素（Ｈ２）を内部に拡散させた光ファイバ１３の場合、増加したＯＨ基によって、波長１３９０ｎｍで信号光損失のピークが生じる。一方、上述した工程Ｐ１で重水素（Ｄ２）を拡散させた光ファイバの場合、増加したＯＤ基によって、波長１８７０ｎｍで信号光損失のピークが生じる。
【００４６】
ＯＨ基による光吸収ピーク波長１３９０ｎｍ、ＯＤ基による光吸収ピーク波長１３９０ｎｍの両ピーク波長以外の波長においても、ピーク波長ほどではないにしても、ある程度の信号光の減衰が生じる。所望の信号光波長で、より大きな減衰量を得るためには、コア中のＯＨ基またはＯＤ基を増加させれば良く、その方法としては、上述した工程Ｐ２において、長時間に渡りエキシマランプ光３３を照射することで、大きな減衰量を得ることができる。その他の方法としては、光ファイバの長さ方向に、ＯＨ基またはＯＤ基を増加させたコアの長さが、長ければ長いほど、その長さに比例して、大きな損失を有する光減衰器１１が得られる。
【００４７】
（実施例）
ここで実際に、図２に示す製造工程と光部品製造装置を用いて光減衰器を作製した結果について説明する。
【００４８】
光導波路としては、広く使用されてい１３００ｎｍで零分散となる一般伝送用石英系シングルモード光ファイバを用いた。シングルモード光ファイバのコアには約３．５Ｗｔ％の二酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）が添加されており、コア２５の直径は約１０ミクロン、コア２５とクラッド２９の比屈折率差は０．３５％である。
【００４９】
工程Ｐ１において、この光ファイバ１３を５５℃、１００気圧の水素雰囲気中に１週間放置し、コア２５の中まで水素（Ｈ２）を拡散させた。次いで、工程Ｐ２において、エキシマランプ３１からのインコヒーレントＵＶ光であるエキシマランプ光３３を照射した。ここで、照射したエキシマランプ光３３の波長は１７２ｎｍである。光ファイバの被覆が存在すると、エキシマランプ光３３が十分にコア２５の中心まで達しないので、被覆１５は除去した。
【００５０】
上述したように、コア２５の中まで水素拡散させ、被覆除去した光ファイバ１３に、パワー密度１５ｍＷ／ｃｍ２のエキシマランプ３１からのエキシマランプ光３３を１０分間照射した後、光ファイバ１３の透過損失変化を測定した。図６に、その結果としての波長損失特性を示す。図６に示すように、波長１３９０ｎｍで、ＯＨ基による光吸収ピークが確認できた。
【００５１】
次に、図７に、同じ照射条件で照射時間を変えた時の１３９０ｎｍにおける透過損失との関係を示す。これからわかるように、エキシマランプ３１のエキシマランプ光３３の照射時間が長いほど、コア２７中のＯＨ基が増加し、光損失が大きくなる。従って、照射時間を変えることで、所望の損失が得られる。
【００５２】
図示していないが、重水素（Ｄ２）をコア２７中まで拡散させた光ファイバでは、波長１８７０ｎｍに、ＯＤ基の光吸収ピークが存在する。
【００５３】
ＤＷＤＭ幹線系光通信網で使用されている主たる波長帯は、現在のところＣ−Ｂａｎｄ（１５３０〜１５７０ｎｍ）やＬ−Ｂａｎｄ（１５７０〜１６１０ｎｍ）である。Ｃ−ＢａｎｄおよびＬ−Ｂａｎｄを用いたＤＷＤＭシステムにおいて、図１０に示すように多段中継後の光増幅器の利得特性で、短波長λ１［ｎｍ］の利得の方が、長波長λ２［ｎｍ］の利得より、α［ｄＢ］高い左肩上がりの傾斜傾斜の時、この利得傾斜を補償するためには、同じＣ−Ｂａｎｄの波長域で、短波長λ１［ｎｍ］の損失が、長波長λ２［ｎｍ］の損失に比べて、α［ｄＢ］大きい左肩上がりの損失傾斜を有する光減衰器が必要である。
【００５４】
水素（Ｈ２）を拡散させた光ファイバでＯＨ基を増加させた光減衰器１１は、図６に示すように、１３９０ｎｍに光吸収ピークが存在し、その裾野のＣ−Ｂａｎｄ（１５３０〜１５７０ｎｍ）およびＬ−Ｂａｎｄ（１５７０〜１６１０ｎｍ）では、左肩上がりの損失傾斜特性を有するので、この目的にかなっている。
【００５５】
一方、図１０に示す場合とは逆に、多段中継後の光増幅器の長波長側の利得が、短波長側の利得より高い右肩上がりの利得傾斜の場合、この利得傾斜を補償するためには、右肩上がりの損失傾斜特性を有する光減衰器が必要である。そのためには、重水素（Ｄ２）をコアに拡散してＯＤ基を増加させた光減衰器では、１８７０ｎｍに光吸収ピークが存在し、その裾野のＣ−Ｂａｎｄ（１５３０〜１５７０ｎｍ）およびＬ−Ｂａｎｄ（１５７０〜１６１０ｎｍ）では、右肩上がりの損失傾斜となっており、この目的にかなっている。
【００５６】
また、測定結果を図示していないが、エキシマランプ３１のインコヒーレントＵＶ光であるエキシマランプ光３３の波長を、上述のように１７２ｎｍではなくて、２２２ｎｍにした時も、同様な光減衰の結果を得た。
【００５７】
以上のことから、石英系光導波路に、水素（Ｈ２）または重水素（Ｄ２）を拡散させた上で、エキシマランプ３１からのエキシマランプ光３３を照射することで、光導波路の信号光吸収特性が増大し、光減衰器として使用できることが確認された。
【００５８】
【発明の効果】
請求項１の本発明によれば、水素を加圧して石英系光導波路の内部に拡散しておき、水素が拡散された石英系光導波路に光源からのインコヒーレントな紫外光を照射し、この石英系光導波路内にＯＨ基を増加させた後、石英系光導波路を加熱して残留した水素を外部に放出し、石英系光導波路内に増加したＯＨ基に透過光を吸収させて減衰させることで、信号光を減衰することができる光減衰器の製造に寄与することができ、容易に大量生産が可能になる。
【００５９】
請求項２記載の本発明によれば、重水素を加圧して石英系光導波路の内部に拡散しておき、重水素が拡散された石英系光導波路に光源からのインコヒーレントな紫外光を照射し、この石英系光導波路内にＯＤ基を増加させた後に、石英系光導波路を加熱して残留した重水素を外部に放出し、石英系光導波路内に増加したＯＤ基に透過光を吸収させて減衰させることで、信号光を減衰することができる光減衰器の製造に寄与することができ、容易に大量生産が可能になる。
【００６０】
請求項３の本発明によれば、光源は、１７２ｎｍの波長を有する紫外光を発光するエキシマランプからなるので、市販品で入手可能な波長のエキシマランプを用いることができ、容易に大量生産が可能になる。
【００６１】
請求項４記載の本発明によれば、光源は、２２２ｎｍの波長を有する紫外光を発光するエキシマランプからなるので、市販品で入手可能な波長のエキシマランプを用いることができ、容易に大量生産が可能になる。
【００６２】
請求項５記載の本発明によれば、石英系光導波路は、信号光の吸収を増大させるための添加物質として、少なくともゲルマニウム、リン、ボロンの何れか１つを含むことで、信号光の吸収を増大することができる。
【００６３】
請求項６記載の本発明によれば、光源から出射された紫外光の強度がフィルタにより調整されて石英系光導波路に到達するので、石英系光導波路内で紫外光の強度に応じてＯＨ基又はＯＤ基の増加度合いを調整することができる。
【００６４】
請求項７記載の本発明によれば、光部品は、石英系光導波路の内部に含まれるＯＨ基による透過光の吸収により１３９０ｎｍの波長において透過損失が最大になり、１５３０〜１５７０ｎｍの範囲及び／又は１５７０〜１６１０ｎｍの範囲で左肩上がりの損失傾斜特性を有するので、Ｃ−Ｂａｎｄ及び／又はＬ−Ｂａｎｄを用いたＤＷＤＭシステムのフィルタとして利用することができる。
【００６５】
請求項８記載の本発明によれば、光部品は、石英系光導波路の内部に含まれるＯＤ基による透過光の吸収により１８７０ｎｍの波長において透過損失が最大になり、１５３０〜１５７０ｎｍの範囲及び／又は１５７０〜１６１０ｎｍの範囲で右肩上がりの損失傾斜特性を有するので、Ｃ−Ｂａｎｄ及び／又はＬ−Ｂａｎｄを用いたＤＷＤＭシステムのフィルタとして利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光部品の製造方法により製造されたファイバ型の光減衰器１１の構成を説明するための図である。
【図２】光減衰器１１の製造工程フローである。
【図３】光減衰器１１を製造するための工程Ｐ１の説明図である。
【図４】光減衰器１１を製造するための工程Ｐ２の説明図である。
【図５】光減衰器１１を製造するための工程Ｐ３の説明図である。
【図６】エキシマランプ光を１０分間照射した後の光ファイバ１３の波長損失特性を示すグラフである。
【図７】エキシマランプ光の照射時間と光ファイバ１３の透過損失特性を示すグラフである。
【図８】従来の技術として、（ａ）は光ファイバのコアに金属イオンを添加して信号光を吸収させる方法を示す図であり、（ｂ）は光ファイバを切断した箇所に金属薄膜を挿入して信号光を吸収させる方法を示す図であり、（ｃ）は光ファイバの一部を高温加熱してコア径を拡大し信号光を散乱させる方法を示す図であり、（ｄ）は光ファイバのコアにＦＢＧを形成し特定波長の信号光を反射させて透過光を減衰させる方法を示す図である。
【図９】従来の光部品を光増幅器の利得等化フィルタに応用した場合の利得特性を示すグラフである。
【図１０】多段中継後の光増幅器の利得特性を示すグラフである。
【図１１】多段中継後の光減衰器の損失特性を示すグラフである。
【図１２】多段中継後の累積された利得傾斜に等しい損失傾斜を有する光減衰器を使用して利得が平坦な特性を得るたことを示すグラフである。
【符号の説明】
１１  光減衰器
１３  光ファイバ
１５ａ，１５ｂ  被覆
２１  高圧容器
２７  コア
２９ａ，２９ｂ  クラッド
３１  エキシマランプ
３３  エキシマランプ光
３５  強度調整フィルタ
４１  オーブン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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