(57)【要約】【課題】現像性が良好で、消泡性に優れ、操作温度範囲は広く、残渣を生じさせず、毒性が低く、環境汚染が少なく、金属イオン含量は低く、且つ感光樹脂組成物の分散性に優れている現像液組成物を提供すること。【解決手段】（Ａ）水と、（Ｂ）特定の有機アミン類化合物０．０１〜５重量％と、（Ｃ）特定の非イオン性界面活性剤０．０５〜１０重量％とを含有し、現像液組成物の中の金属イオン濃度が５　ｐｐｍ以下である現像液組成物。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性樹脂露光後パターン形成時に用いられる現像液組成物であって、（Ａ）水と、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される有機アミン類化合物０．０１〜５重量％と、（Ｃ）下記一般式（ＩＩ）で表わされる非イオン性界面活性剤０．０５〜１０重量％とを含有し、金属イオン濃度が５　ｐｐｍ以下である現像液組成物。
【化１】
2004126271.tif 000015
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ水素原子、炭化水素基またはヒドロキシアルキル基であり、その中の少なくとも一つはヒドロキシアルキル基である。］
【化２】
2004126271.tif 000016
［式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基またはハロゲン原子であり、その中の少なくとも一つはアラルキル基またはアリール基である。Ｒ９はエチレン基、プロピレン基またはブチレン基であり、Ｒ１０は水素原子、アセチル基、アルキル基またはアリール基であり、ｎは６〜２３の整数である。］
【請求項２】
一般式（Ｉ）中のＲ１、Ｒ２およびＲ３は、その内の一つがヒドロキシアルキル基であり、その他の二つは水素原子である請求項１記載の現像液組成物。
【請求項３】
一般式（ＩＩ）中のＲ５およびＲ７は、それぞれアラルキル基またはアリール基である請求項１または２記載の現像液組成物。
【請求項４】
一般式（ＩＩ）中のＲ４、Ｒ６およびＲ８は、それぞれアラルキル基またはアリール基である請求項１〜３の何れか一項記載の現像液組成物。
【請求項５】
薄膜トランジスター（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上に着色感光性樹脂組成物を塗布し、マスクにて露光後に、請求項１記載の現像液組成物を用いて現像する現像方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性樹脂露光後パターン形成時に用いられる現像液組成物およびこれを用いた現像方法に関する。詳しくは、例えば集積回路、プリント基板またはカラー液晶表示装置に使用されるカラーフィルターなどの分野に応用される現像液組成物およびこれを用いた現像方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般にカラーフィルターを製造する場合、基板上に染色法、印刷法、電着法および顔料分散法などの手法を用いて感光性樹脂組成物を塗布する。この内、顔料分散法にてカラーフィルターを製造する場合は、先ずは顔料分散液、溶剤、感光性樹脂および関連の添加剤を混合してカラー感光性樹脂組成物を作製し、当該感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、且つプリベークを行い、それからマスクにて露光後に、現像液を用いて未露光部分を除去することにより、所望のカラーパターンを得ることができる。未露光部分を除去するための現像方式としては浸漬現像、揺動現像、スプレー現像、パドル（ｐｕｄｄｌｅ）現像などが挙げられる。
【０００３】
従来の現像技術では、感光性樹脂組成物は基板上に膜塗布され、プリベークと露光を行った後に、アルカリ性現像液によって未露光の不要な塗膜部分が溶解除去されるが、現像の際に未露光部分に粒子または未溶解物が残存しやすく、現像後に適正なパターンを形成できない場合が多い。現像性を改善するために、特許文献１には、水とアルカリ性化合物と陰イオン界面活性剤とからなる現像液を用いることによって、残渣が無く現像性が良いなどの効果が得られることが開示されているが、その現像液の消泡性や、着色感光性樹脂組成物の分散安定性が悪く、更に操作の温度範囲が狭くて、使用上あまり好ましくない。
【０００４】
最新の液晶平面ディスプレーを製作する工程においては、更なる高精細化、鮮やかな色表現を出すために、カラーフィルターを、薄膜トランジスター画素が形成されたアレー基板の上に結合させること〔所謂カラーフィルタオンアレイ　（ＣＦｏｎ　ａｒｒａｙ）、以下はＣＯＡと称する〕が行われている。一般的な着色感光性樹脂組成物の現像液を上記の工程へ応用する場合は、依然として残渣または金属イオンなどの残留があり、上記最新の製品の効果を引き出すに到っていない。例えば本発明者による特許文献２では、アルカリ金属またはアルカリ土類金属化合物を主成分としたカラーフィルター用の現像液を提案しているが、これは金属イオンの含量が高いため、上記に述べたような最新工程には応用できない。
【０００５】
また、現像工程後に得られたＣＯＡ上のコンタクトホール（Ｃｏｎｔａｃｔ　ｈｏｌｅ）の形状の精度不良や、基板におけパターンの線幅が不完全で、ささくれがあることは当業界において解決が待たれる課題であった。
【０００６】
したがって、従来の感光性樹脂組成物用の現像液は、現像性、消泡性、着色感光性樹脂組成物の分散安定性および広い操作温度範囲などの要求を同時にカバーすることができない。
【０００７】
【特許文献１】
特開平１０−１０７４９号公報
【０００８】
【特許文献２】
台湾特許第４６０７５７号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、現像性が良好であり、消泡性に優れ、操作温度範囲は広く、しかも残渣を生じさせず、毒性が低く、環境汚染が少なく、金属イオン含量は低く、且つ感光樹脂組成物の分散性に優れているといった特徴を有する、感光性樹脂露光後パターン形成時に利用できる現像液組成物、およびこれを用いた現像方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、感光性樹脂露光後パターン形成時に用いられる現像液組成物であって、（Ａ）水と、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される有機アミン類化合物０．０１〜５重量％と、（Ｃ）下記一般式（ＩＩ）で表わされる非イオン性界面活性剤０．０５〜１０重量％とを含有し、金属イオン濃度が５　ｐｐｍ以下である現像液組成物に関する。
【００１１】
【化３】
2004126271.tif 000002
【００１２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ水素原子、炭化水素基またはヒドロキシアルキル基であり、その中の少なくとも一つはヒドロキシアルキル基である。］
【００１３】
【化４】
2004126271.tif 000003
【００１４】
［式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基またはハロゲン原子であり、その中の少なくとも一つはアラルキル基またはアリール基である。Ｒ９はエチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）、プロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）またはブチレン基（−Ｃ４Ｈ８−）であり、Ｒ１０は水素原子、アセチル基、アルキル基またはアリール基であり、ｎは６〜２３の整数である。］。
【００１５】
また本発明は、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上に着色感光性樹脂組成物を塗布し、マスクにて露光後に、上記本発明の現像液組成物を用いて現像する現像方法に関する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明に使用される各成分（Ａ）〜（Ｃ）について詳しく説明する。
【００１７】
＜（Ａ）水＞
一般には、現像液は水を分散媒体とする。水を分散媒体とする現像液は毒性が少なく、着火性がなく、管理が容易、廃液処理が簡単で且つ低コストなどの点で優れている。本発明に使用される水は、水質に関して特に制限されるものでは無いが、例えばＴＦＴ方式カラー液晶表示装置の駆動用基板の製作工程では、全金属イオン濃度は好ましくは５０００　ｐｐｂ（質量基準、以下同じ）以下、更に好ましくは５００　ｐｐｂ以下、最も好ましくは１００　ｐｐｂ以下のものが使用される。また電気抵抗値（体積抵抗値）に着目すれば、好ましくは０．０５　ＭΩ・ｃｍ以上、更に好ましくは０．５　ＭΩ・ｃｍ以上、最も好ましくは２　ＭΩ・ｃｍ以上のものが使用される。
【００１８】
＜（Ｂ）有機アミン類化合物＞
本発明に使用される有機アミン類化合物の有機アルカリ性化合物は下記の一般式（Ｉ）で表わされる。
【００１９】
【化５】
2004126271.tif 000004
【００２０】
式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ水素原子、炭化水素基またはヒドロキシアルキル基であり、その中の少なくとも一つはヒドロキシアルキル基である。
【００２１】
（Ｂ）成分の有機アミン類化合物としては、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミンおよびＮ−ブチルエタノールアミンなどの化合物の少なくとも１種、または２種以上の混合物などが挙げられる。本発明に使用される有機アミン類化合物は特に制限されるものでは無いが、例えばＴＦＴ方式カラー液晶表示装置の駆動用基板の製作工程で使用する場合、全金属イオン濃度は、好ましくは２０　ｐｐｍ以下、更に好ましくは５　ｐｐｍ以下、最も好ましくは２　ｐｐｍ以下である。
【００２２】
特に感光性樹脂のバインダーとしてアクリル系樹脂が使用されている場合には、本発明の有機アミン類化合物を使って調製した現像液が好ましく使用され、中でもモノエタノールアミン、ジエタノールアミンおよびトリエタノールアミンのものがより一層好ましく使用される。
【００２３】
本発明の現像液組成物において、前記有機アミン類化合物（Ｂ）の使用量は０．０１〜５重量％であり、好ましくは０．０５〜３重量％、更に好ましくは０．５〜１．５重量である。
【００２４】
＜（Ｃ）非イオン性界面活性剤＞
本発明に使用される非イオン性界面活性剤（Ｃ）は下記の一般式（ＩＩ）で表わされる。
【００２５】
【化６】
2004126271.tif 000005
【００２６】
式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基またはハロゲン原子であり、その中の少なくとも一つはアラルキル基またはアリール基である。またＲ９は、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）、プロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）またはブチレン基（−Ｃ４Ｈ８−）であり、Ｒ１０は、水素原子、アセチル基、アルキル基またはアリール基である。ｎは６〜２３の整数で、好ましくは６〜１８、最も好ましくは６〜１４である。ｎの値が６〜２３の範囲にあると、当該非イオン性界面活性剤（Ｃ）は水（Ａ）への分散安定性に優れ、現像効果が良好であり、残渣を生じなく、且つ現像液の操作温度範囲が広くなる。また、一般式（ＩＩ）において、Ｒ４〜Ｒ８中にアラルキル基またはアリール基を含んでいない場合、その組成物はカラーレジストの分散安定性が悪くなり、残渣が増加する等の傾向がある。
【００２７】
本発明に使用される非イオン性界面活性剤（Ｃ）はＴＦＴ方式カラー液晶表示装置の駆動用基板へ応用する場合に、カラーレジストの現像効果は特に優れ、現像後の残渣が少なく且つ現像液自身の消泡性、分散安定性は良好である。
【００２８】
本発明に用いられる非イオン性界面活性剤（Ｃ）は、特に制限されるものでは無いが、例えばＴＦＴ方式カラー液晶表示装置の駆動用基板の製作工程で使用する場合、全金属イオン濃度は好ましくは１０００　ｐｐｍ以下、更に好ましくは３００　ｐｐｍ以下、最も好ましくは１００　ｐｐｍ以下である。本発明の非イオン性界面活性剤（Ｃ）としては、例えば以下のものが挙げられる。
１）ポリオキシエチレン−４−モノ（１−フェニルエチル）フェニルエーテル〔エチレンオキシド（以下エチレンオキシドをＥＯと表記する）９モル付加物〕。一般式（ＩＩ）中のｎ値が９のものであり、その構造式を下記に示す。
【００２９】
【化７】
2004126271.tif 000006
【００３０】
２）ポリオキシエチレン−４−モノ（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ１２モル付加物）。一般式（ＩＩ）中のｎ値が１２のものであり、その構造式を下記に示す。
【００３１】
【化８】
2004126271.tif 000007
【００３２】
３）ポリオキシエチレン−３，５−ビス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物）。一般式（ＩＩ）中のｎ値が９のものであり、その構造式を下記に示す。
【００３３】
【化９】
2004126271.tif 000008
【００３４】
４）ポリオキシエチレン−３，５−ビス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ１２モル付加物）。一般式（ＩＩ）中のｎ値が１２のものであり、その構造式を下記に示す。
【００３５】
【化１０】
2004126271.tif 000009
【００３６】
５）ポリオキシエチレン−２，４，６−トリス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物）。一般式（ＩＩ）中のｎ値が９のものであり、その構造式を下記に示す。
【００３７】
【化１１】
2004126271.tif 000010
【００３８】
６）ポリオキシエチレン−２，４，６−トリス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ１２モル付加物）。一般式（ＩＩ）中のｎ値が１２のものであり、その構造式を下記に示す。
【００３９】
【化１２】
2004126271.tif 000011
【００４０】
本発明の現像液組成物において、非イオン性界面活性剤（Ｃ）の比率は０．０５〜１０重量％であり、好ましくは０．２〜６重量％、最も好ましくは０．３〜３重量％である。
【００４１】
また本発明では、一般式（ＩＩ）で表わされる非イオン性界面活性剤のほかに、必要に応じて他の界面活性剤も適量で使用できる。かかる界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチレンフェノールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミドなどの化合物またはその混合物が挙げられる。
【００４２】
本発明の現像液組成物を、ＴＦＴ方式カラー液晶表示装置の駆動用基板の製作工程に使用する場合、有機アミン類化合物（Ｂ）の比率が０．０１重量％未満および／または非イオン性界面活性剤（Ｃ）の比率が０．０５重量％未満であると、着色感光性樹脂組成物の分散安定性が劣り、残渣が生じやすく、現像効果が悪くなる。一方上記の有機アミン類化合物（Ｂ）の比率が５重量％を超えおよび／または非イオン性界面活性剤（Ｃ）の比率が１０重量％を超えると、消泡性が悪くなり、現像の作業性に悪影響を及ぼす。
【００４３】
本発明の現像液組成物においては、各成分の金属イオン濃度を抑えたり、現像液組成物を濾過または吸着処理する等によって、現像液組成物中のナトリウムイオン、カリウムイオン、鉄イオン、マグネシウムイオン、亜鉛イオンなどの合計、即ち全金属イオン濃度を５　ｐｐｍ以下、好ましくは３　ｐｐｍ以下、最も好ましくは１ｐｐｍ以下に抑える。本発明の現像液組成物の全金属イオン濃度が５　ｐｐｍ以下で、且つ有機アミン類化合物（Ｂ）の使用量が０．０１〜５重量％、および非イオン性界面活性剤（Ｃ）の使用量が０．０５〜１０重量％の範囲にある時、これを使用して製作された駆動用基板を用いたＴＦＴ方式カラー液晶表示装置は、ＬＣＤの表示効果が良好であり、残影の発生を大幅に減少することができる。
【００４４】
本発明の現像液組成物は、特に着色剤を含有する着色感光性樹脂に適用することができる。本発明の現像液組成物を使用し得る感光性樹脂は特に制限されるものでは無く、ネガ型又はポジ型双方の感光性樹脂組成物に利用可能である。着色感光性樹脂組成物の配合は有機または無機の顔料（着色剤）、アルカリ性の可溶性バインダー樹脂、感光性化合物と溶剤などからなる。
【００４５】
前記アルカリ性の可溶性バインダー樹脂は、ノボラック樹脂、アクリル系樹脂、無水マレイン酸またはその半エステルのポリマー、又はポリヒドロキシスチレンなどが挙げられる。なかでもアクリル系樹脂が一番好ましく、例えばメタクリレートおよび／またはメタクリル酸を主成分とするものが挙げられる。具体的には下記のようなものが挙げられる。
（１）メチルメタクリレート／ヒドロキシスチレン／スチレン／メタクリル酸共重合体。
（２）ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体。
（３）メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体。
（４）ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／ポリスチレンマクロモノマー共重合体。
（５）メチルメタクリレート／メタクリル酸／ポリスチレンマクロモノマー共重合体。
（６）メチルメタクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体。
（７）メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体。
（８）メタクリル酸／ベンジルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体。
【００４６】
【実施例】
〔実施例１〕
表１に示すように、９９．２重量％の超純水（トータル金属イオン濃度は２．４　ｐｐｂ、電気抵抗値は１０　ＭΩ・ｃｍ）と、０．７重量％のモノエタノールアミン（トータル金属イオン濃度は１．５４　ｐｐｍ）と０．１重量％のポリオキシエチレン−３，５−ビス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物で、全金属イオン濃度は５６　ｐｐｍ。表１中、界面活性剤（１）と示す。）が含まれている現像液組成物を調製した。この現像液組成物の全金属イオン濃度をＩＣＰ−ＭＳ　ＨＰ７５００（アジレント社製）で定量測定したところ、０．１７１　ｐｐｍであった。
【００４７】
そしてこの現像液組成物を用いて、以下に示す方法によりガラス基板上にカラーパターンを作成してＣＯＡ基板を製作した。
【００４８】
（ＣＯＡ基板の製作）
４インチの薄膜トランジスターおよび画素電極が形成されたＴＦＴガラス基板上に、表２に示す成分を攪拌機によって混合して得た感光性樹脂組成物をスピンコーターによって塗布し、１０−２ｔｏｒｒ（約０．０１３ｋＰａ）の真空下にて１０秒間乾燥してベース基材を得た。このベース基材を所定パターンにマスクした状態で露光してから、前記現像液組成物中に２分間浸漬して未露光部分（即ちマスクした部分）を除去し、それから２００℃にて６０分間焼き付けて、ガラス基材にカラーパターンを形成し、ＣＯＡ基板を製作した。
【００４９】
そして以下に示す方法により、現像液組成物について消泡性、操作温度、全金属イオン濃度及び分散性を評価し、またＣＯＡ基板について現像性、残渣及び残影を評価した。この評価結果を表３に示す。
【００５０】
その結果、本実施例に係る現像液組成物は、現像液自身の消泡性、操作温度範囲および分散安定性はすべて良好であり、またこの現像液組成物を用いて形成したＣＯＡ基板は現像性が良く、残渣が生じない結果となった。
【００５１】
（評価方法）
（１）現像性
得られたＣＯＡ基板についてそのコンタクトホールの形状精度を検視してから５０倍の顕微鏡で基板におけるパターンの線幅の状態を観察し、以下の基準で評価した。
○：コンタクトホールの形状精度に優れ、またはパターンの線幅が完璧。
×：コンタクトホールの形状の精度不良、またはパターンの線幅が不完全で、ささくれがある。
【００５２】
（２）残渣
２５０倍の顕微鏡によって、得られたＯＡ基板における非パターン部分（ガラス基板が現れている部分）に残渣があるかを観察すし、以下の基準で評価した。
○：残渣がない。
△：残渣が少ない。
×：残渣が多い。
【００５３】
（３）消泡性
１００　ｍｌの計量容器に、得られた現像液組成物２０　ｃｃを入れ、垂直式振動機によって所定の周波数で３０分間振動させ、その後３０分間静置後に泡の高さを測る。以下の基準に従って泡の高さを評価する。
○：泡の高さが１．５　ｃｍ未満。
×：泡の高さが１．５　ｃｍ以上。
【００５４】
（４）操作温度範囲
１００　ｍｌの計量容器に、得られた現像液組成物２０　ｃｃを入れると共に、水銀温度計を挿入し、その後、水の入ったガラスビーカーに置き、水の表面を現像液面より高くなるようにする。徐々に加熱し、現像液組成物が濁った時の温度を記録し、それから室温で冷却させ、現像液組成物が再び澄んだ時の温度を記録し、前記混濁温度と前記清澄温度の平均値を取り、以下の基準に従って評価を行う。
○：４５℃以上、操作温度範囲が広いことを表わす。
△：３８以上４５℃未満、操作温度範囲は中位レベルと表わす。
×：３８℃未満、操作温度範囲は狭いことを表わす。
【００５５】
（５）分散性
得られた現像液組成物２５０　ｇに前記着色感光性樹脂組成物１ｇを加えて混合後、５μｍの濾紙で濾過を行い、濾紙を１０５℃にて１時間乾燥し、濾紙上に残存した濾過残渣の重さを量る。その重さによって下記のような基準に従って評価を行う。
○：濾過残渣の重量が０．０４ｇ未満
×：濾過残渣の重量は０．０４ｇ以上
（６）残影
得られたＣＯＡ基板を用いてＬＣＤを組み立て、ライトアップしてその影像変化を評価する。
○：残影無し。
△：残影が少ない。
×：残影有り。
【００５６】
〔実施例２〜７、比較例１〜１１〕
表１に示す成分及び配合量（質量％）でそれぞれの現像液組成物を調製すると共に、各現像液組成物を用いた以外は実施例１と同じ操作方法でＣＯＡ基板を製作した。表１中の界面活性剤（１）〜（８）はそれぞれ次のものを示す。
【００５７】
界面活性剤（１）　：　ポリオキシエチレン−３，５−ビス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物で、全金属イオン濃度は５６　ｐｐｍ）。即ち、一般式（ＩＩ）中のＲ４，Ｒ６，Ｒ８が水素原子、Ｒ５，Ｒ７がフェニルエチル基，Ｒ９がエチレン基，ｎ＝９のもの。
【００５８】
界面活性剤（２）　：　ポリオキシエチレン−２，４，６−トリス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物で、全金属イオン濃度は９８ｐｐｍ）。即ち、一般式（ＩＩ）中のＲ５，Ｒ７が水素原子，Ｒ４，Ｒ６，Ｒ８がフェニルエチル基，Ｒ９がエチレン基，ｎ＝９のもの。
【００５９】
界面活性剤（３）　：　ポリオキシエチレン−４−モノ（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物で、全金属イオン濃度は８４ｐｐｍ）。即ち、一般式（ＩＩ）中のＲ４，Ｒ５，Ｒ７，Ｒ８が水素原子，Ｒ６がフェニルエチル基，Ｒ９がエチレン基，ｎ＝９のもの。
【００６０】
界面活性剤（４）　：　ポリオキシエチレンフェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物で、全金属イオン濃度は７３ｐｐｍ）。即ち、一般式（ＩＩ）中のＲ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８が水素原子，ｎ＝９のもの。
【００６１】
界面活性剤（５）　：　脂肪酸ポリオキシエチレンソルビタンエーテル（ＥＯ２０モル付加物で、全金属イオン濃度は１３７０ｐｐｍ）。
界面活性剤（６）　：　オクタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム〔アニオン界面活性剤であり、金属イオン（ナトリウムイオン）濃度は極めて高い。〕
界面活性剤（７）　：　ポリオキシエチレンオレイルセチルエーテル（ＥＯ９モル付加物で、全金属イオン濃度は２０４ｐｐｍ）
界面活性剤（８）　：　ポリオキシエチレン−３，５−ビス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ２５モル付加物で、全金属イオン濃度は１３９ｐｐｍ）。即ち、一般式（ＩＩ）中のＲ４，Ｒ６，Ｒ８が水素原子，Ｒ５，Ｒ７がフェニルエチル基，Ｒ９がエチレン基，ｎ＝２５のもの。
【００６２】
そして実施例１と同じように現像液組成物およびＣＯＡ基板を評価した。その結果を表３に示す。
【００６３】
〔実施例８〕
９８．９重量％の超純水、０．７重量％のモノエタノールアミン、および０．４重量％のポリオキシエチレン−３，５−ビス（１−フェニルエチル）フェニルエーテル（ＥＯ９モル付加物）（全金属イオン含量は１３２６　ｐｐｍ）を含有する現像液組成物を調製し、これをＣｕｎｏ社の８インチＯ型環状フィルターで濾過処理した。この現像液組成物の全金属イオン含量は０．８６４　ｐｐｍとなった。
【００６４】
そして実施例１と同じように製作したベース基材を現像液組成物中に２分間浸漬し、それから２００℃にて６０分間焼き付けて、ガラス基材にカラーパターンを形成し、ＣＯＡ基板を製作した。
【００６５】
この現像液組成物と、ＣＯＡ基板については、実施例１と同じ方法で評価を行った。その結果を表３に示すが、本実施例に係る現像液組成物は、現像液自身の消泡性、操作温度範囲および分散安定性はすべて良好であり、またこの現像液組成物を用いて形成したＣＯＡ基板は現像性が良く、残渣が生じない結果となった。
【００６６】
【表１】
2004126271.tif 000012
【００６７】
各成分の（　）は金属イオン濃度を示す。
【００６８】
【表２】
2004126271.tif 000013
【００６９】
【表３】
2004126271.tif 000014