(57)【要約】【課題】非ニュートン性の塗布液の使用可能な塗布条件範囲を広げ、長時間の塗布でも塗布故障の発生が無く、塗布性が安定した塗布装置の提供。【解決手段】バックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された前記塗布液流路につながり、且つ気液界面を有する液溜まり部とを有し、前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記塗布流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。【選択図】        図１
2004202362.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された前記塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記塗布液供給部材と塗布液流路形成部材とは、その間に塗布液供給路を形成し、該塗布液供給路はバックロール上の前記帯状支持体と塗布液流路形成部材とで形成する塗布液流路につながることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記塗布液供給部材は、少なくとも２部材で構成され、且つ該２部材間に塗布液供給路を有し、該塗布液供給路はバックロール上の前記帯状支持体と塗布液流路形成部材とで形成する塗布液流路につながることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布液供給部材は、塗布液供給口と塗布液供給部材の幅方向に設けられた塗布液供給用のポケット部とを有していることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布液供給部材と塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路は、ポケット部につながり、塗布液供給部材の幅方向に沿って塗布液流路形成部材と０．１〜０．５ｍｍの間隙で設けられていることを特徴とする請求項２又は４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記塗布液供給部材を構成する少なくとも２部材の間に形成された塗布液供給路はポケット部につながり、塗布液供給部材の幅方向に沿って０．１〜０．５ｍｍの間隙で設けられていることを特徴とする請求項３又は４に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記塗布液流路の一部を形成する塗布液流路形成部材とバックロール上の帯状支持体とで形成される塗布液流路は、長さ１０〜８０ｍｍ、高さ０．５〜５ｍｍで設けられていることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記液溜まり部は、制御手段により気液界面の高さレベルを保持していることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記制御手段は、液溜まり部に配設された液面高さ監視手段と、塗布液の送液手段と、液溜まり部の塗布液の排出手段と、制御部とを有していることを特徴とする請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記塗布液供給部材は、先端部の幅方向に片側が塗布液供給部材に固定され、他の片側がバックロール周上の帯状支持体に接触する可撓性部材を有していることを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記塗布液供給部材は、下部面の幅方向に減圧手段を有していることを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１２】
前記塗布液は、粘性指数が０．２〜０．９であることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１３】
前記液溜まり部は、塗布液の抜き取り手段を有していることを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、連続走行するバックロールに支持された帯状支持体に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より連続走行する帯状支持体に塗布液を塗布する方法としては、塗布装置から押し出された塗布液がビードを形成して支持体に塗布するエクストルージョン塗布方法、スライド塗布方法、塗布装置から押し出された塗布液が膜を形成し、自然落下で支持体に塗布するカーテン塗布方法及び塗布装置から塗布液を噴出させ、膜を形成し支持体に塗布する方法、支持体上に過剰に塗布された塗布液をバックロール上にあるナイフ（膜厚規制部材）により一定の膜厚にして塗布するナイフ塗布方法等が知られている。
【０００３】
エクストルージョン塗布方法にはエクストルージョン型塗布装置、スライド塗布方法にはスライド型塗布装置、カーテン塗布方法にはエクストルージョン型塗布装置、又はスライド型塗布装置、ナイフ塗布方法にはナイフ型塗布装置、バー塗布方法にはバー型塗布装置が使用されている。
【０００４】
これら、エクストルージョン型塗布装置、スライド型塗布装置は前計量型塗布装置と呼ばれ、一方、ナイフ型塗布装置又はバー型塗布装置は後計量型塗布装置と呼ばれている。これらの塗布装置は使用する塗布液の物性及び塗布膜厚により使い分けがされている。例えば、一般的に粘度が０．０５〜１００Ｐａ・ｓの塗布液で塗布膜厚が１０〜５００μｍの場合にはエクストルージョン型塗布装置が使用され、粘度が０．００１〜０．０３Ｐａ・ｓの塗布液で塗布膜厚が４０μｍ以上の場合にはスライド型塗布装置が使用され、粘度が０．０２３〜０．１Ｐａ・ｓの塗布液で塗布膜厚が２〜１５０μｍの場合にはバー型塗布装置が使用されている。又、１〜３００Ｐａ・ｓの高粘度の塗布液で塗布膜厚が２０μｍ以上の場合にはナイフ型塗布装置が使用されている。
【０００５】
本発明に係る非ニュートン性の液体とは、その液体の粘度がズリ速度と時間に依存する液体で、例えばポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等のポリマーを含有している塗布液や、シリカ、アルミナ、磁性粉、酸化ガドリニウム、硫化ガドリニウム、ポリメチルメタクリレート、輝尽性蛍光体等の分散物を含有している塗布液が挙げられる。
【０００６】
近年、医療業界では輝尽性蛍光体を利用した放射線画像変換パネルにより放射線像を画像化する方法が用いられるようになってきた。これは、例えば、米国特許第３，８５９，５２７号及び特開昭５５−１２１４４号等に開示された様に支持体上に輝尽性蛍光体層を形成した放射線画像変換パネルを使用するものである。この放射線画像変換パネルから可視画像を得るには、輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線を当てて、被写体各部の放射線透過度に対応する放射線エネルギーを輝尽性蛍光体層に蓄積させて潜像（蓄積像）を形成し、この輝尽性蛍光体層を輝尽励起光（レーザ光が用いられる）で走査することによって各部に蓄積された放射線エネルギーを放射させて光に変換し、この光の強弱を読み取り、ＣＲＴ等各種のディスプレイ上に、又ハードコピーとして再生する方法が挙げられる。支持体上に輝尽性蛍光体層を塗布するのにこれらの塗布液の粘度、塗布膜厚からナイフ型塗布装置が使用されている。
【０００７】
このように高粘度、厚膜塗布に適しているナイフ型塗布装置が多く使用される様になっている。ナイフ型塗布装置では、例えば、送液ポンプにより送られてきた塗布液がナイフ型塗布装置とバックロール上の支持体とで形成されたダムと称する液溜め部に一旦溜められ、溜められた塗布液はバックロール上にあるナイフ（膜厚規制部材）により規制されて一定の膜厚に塗布される。
【０００８】
このようなナイフ型塗布装置としては、特開昭６３−６９５６８号、同６３−６９５６６号、同６２−２８９２６６号に記載されており、塗布液の供給は一般的には塗布液ダムの上から、又は、塗布液ダムの壁面の所定の位置からパイプにて供給されることが多い。
【０００９】
これら記載されているナイフ型塗布装置の欠点としては、塗布液を供給する時の流速により塗布液ダム内で、流動ムラが生じて膜厚が不均一になったり、また塗布液が固体粒子を分散した分散液である場合、塗布液ダム内で粒子の沈殿・凝集および流動ムラによる粘度の変化が発生して塗膜の組成が不均一になったり、塗布筋の問題が起こり易いことが知られている。
【００１０】
こうした塗布液ダムでの流動ムラや沈殿の発生問題を解決するため、塗布液ダム内に、帯状支持体の幅方向に往復運動可能な攪拌パドルや塗布液溜め内の塗布液を前記帯状支持体の幅方向に均一に攪拌する為に回転体を設け、塗布液溜まりを攪拌できるような塗布装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。これらのナイフ型塗布装置の一例を図９で説明する。
【００１１】
図９はナイフ型塗布装置を使用した塗布方式の概略図である。
図中、１はナイフ型塗布装置の内のコンマ型の塗布装置を示す。コンマ型の塗布装置１は、コンマ型のナイフ１０１とバックプレート１０２とサイドプレート１０３とバックロール２とを有している。１０４はコンマ型のナイフ１０１とバックプレート１０２とサイドプレート１０３とバックロール２に保持された帯状支持体３により囲まれた塗布液を溜める塗布液ダムを示す。１０１ａはコンマ型のナイフの先端部を示す。塗布液は、バックプレート１０２の幅手中央部分に形成されている塗布液供給口１０５から塗布液ダム１０４に供給される。
【００１２】
塗布液ダム１０４に溜められた塗布液はコンマ型のナイフ１０１とバックロール２に保持された帯状支持体３との間隙により、塗布量が規制され、帯状支持体３に塗布される。３０１は塗布膜層を示す。１０６は塗布液ダム１０４に溜められた塗布液の沈殿を防止するために塗布液を撹拌するための回転ロールを示す。４は塗布液供給部を示し、塗布液容器４０１と、送液ポンプ４０２と、送液管４０３とを有している。
【００１３】
しかしながら、ある種の非ニュートン性の塗布液においては回転体を円筒形に近づけると攪拌力が低下する為効果がなくなる場合があるし、回転数を早めると円筒近傍と周辺液溜まり部での剪断性の大きな変化が伴い筋の発生が見られる場合がある。又、回転体を羽根等の攪拌性の高い形状にした場合、羽根の周期の段ムラが発生し易いという欠点を有し、攪拌性の低い形状では塗布液ダムでの流動ムラや沈殿の発生する場合があり、使用する塗布液を予備実験をして適正を有しているか否かを確認してから使用しなければならず使用する塗布液に制限があった。
【００１４】
【特許文献１】
特開２００１−７０８６６号公報
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、その目的としては、非ニュートン性の塗布液の使用可能な塗布条件範囲を広げ、長時間の塗布でも塗布故障の発生が無く、塗布性が安定した塗布装置を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、下記の構成により達成された。
【００１７】
１）上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された前記塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
【００１８】
２）前記塗布液供給部材と塗布液流路形成部材とは、その間に塗布液供給路を形成し、該塗布液供給路はバックロール上の前記帯状支持体と塗布液流路形成部材とで形成する塗布液流路につながることを特徴とする１）に記載の塗布装置。
【００１９】
３）前記塗布液供給部材は、少なくとも２部材で構成され、且つ該２部材間に塗布液供給路を有し、該塗布液供給路はバックロール上の前記帯状支持体と塗布液流路形成部材とで形成する塗布液流路につながることを特徴とする１）に記載の塗布装置。
【００２０】
４）前記塗布液供給部材は、塗布液供給口と塗布液供給部材の幅方向に設けられた塗布液供給用のポケット部とを有していることを特徴とする１）〜３）の何れか１項に記載の塗布装置。
【００２１】
５）前記塗布液供給部材と塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路は、ポケット部につながり、塗布液供給部材の幅方向に沿って塗布液流路形成部材と０．１〜０．５ｍｍの間隙で設けられていることを特徴とする２）又は４）に記載の塗布装置。
【００２２】
６）前記塗布液供給部材を構成する少なくとも２部材の間に形成された塗布液供給路はポケット部につながり、塗布液供給部材の幅方向に沿って０．１〜０．５ｍｍの間隙で設けられていることを特徴とする３）又は４）に記載の塗布装置。
【００２３】
７）前記塗布液流路の一部を形成する塗布液流路形成部材とバックロール上の帯状支持体とで形成される塗布液流路は、長さ１０〜８０ｍｍ、高さ０．５〜５ｍｍで設けられていることを特徴とする１）〜６）の何れか１項に記載の塗布装置。
【００２４】
８）前記液溜まり部は、制御手段により気液界面の高さレベルを保持していることを特徴とする１）〜７）の何れか１項に記載の塗布装置。
【００２５】
９）前記制御手段は、液溜まり部に配設された液面高さ監視手段と、塗布液の送液手段と、液溜まり部の塗布液の排出手段と、制御部とを有していることを特徴とする８）に記載の塗布装置。
【００２６】
１０）前記塗布液供給部材は、先端部の幅方向に片側が塗布液供給部材に固定され、他の片側がバックロール周上の帯状支持体に接触する可撓性部材を有していることを特徴とする１）〜８）の何れか１項に記載の塗布装置。
【００２７】
１１）前記塗布液供給部材は、下部面の幅方向に減圧手段を有していることを特徴とする１）〜８）の何れか１項に記載の塗布装置。
【００２８】
１２）前記塗布液は、粘性指数が０．２〜０．９であることを特徴とする１）〜１１）の何れか１項に記載の塗布装置。
【００２９】
１３）前記液溜まり部は、塗布液の抜き取り手段を有していることを特徴とする１）〜１２）の何れか１項に記載の塗布装置。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図１〜図８を参照しながら説明を行うが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３１】
図１は本発明の塗布装置を用いた塗布方式の概略図である。図１（ａ）は本発明の塗布装置を用いた塗布方式の概略斜視図である。図１（ｂ）は図１（ａ）の塗布装置を構成する各部材の関係を示す概略のブロック図である。
【００３２】
図中、５はバックロール６に支持され上流から下流に向かって（図中の矢印方向）連続搬送される帯状支持体７に塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置を示す。塗布装置５は膜厚規制部材５０１と、塗布液供給部材５０２と、２枚のサイドプレート５０３ａ、５０３ｂと、塗布液流路形成部材５０４とを有している。５０５は塗布液流路形成部材と該膜厚規制部材との間に形成された塗布液流路５０７（図２を参照）につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部を示す。
【００３３】
８は塗布液供給部を示し、塗布液供給部８は調製容器（貯蔵容器）８０１と、調製容器（貯蔵容器）８０１内の塗布液を塗布装置５の塗布液供給部材５０２に送液する制御手段の一つである送液手段８０２と送液管８０３とを有している。送液手段８０２としては特に限定はなく、例えばポンプ送液、加圧送液、ヘッド送液等が挙げられる。本図ではポンプ送液の場合を示している。９は塗布装置５の液溜まり部の液面の高さを監視する制御手段の一つである液面高さ監視手段（以下、単に監視手段ともいう）を示す。
【００３４】
５０６は長時間の塗布を行う時、液溜まり部５０５に溜められた液の分散物が沈殿する可能性がある場合、液溜まり部５０５の下部の塗布液の一部を排出するための排出管を示す。５０７ａ、５０７ｂは排出管５０６の途中に配設されている排出手段の一つである電磁弁を示し、電磁弁５０７ａ、５０７ｂの開閉により塗布液の一部を排出することが可能となっている。排出管を配設する位置は特に限定は無く、例えばＴ字形状にしてＴ字を逆さにした状態で液溜まり部５０５の上部より沈めてよいし、両側のサイドプレートに配設してもかまわない。本図では両側のサイドプレートに配設した場合を示している。
【００３５】
１０は、監視手段９と、送液手段８０２と、排出手段５０７ａ、５０７ｂとを制御する制御部を示す。尚、塗布液の排出管がサイドプレートに配設されている場合は、塗布液の排出は排出管の途中に配設されている排出手段の一つである電磁弁５０７ａ、５０７ｂを定期的に開放しする様に制御部１０で制御し行うことが好ましい。塗布液の排出管がＴ字型を逆さにした状態で液溜まり部５０５の上部より沈められている場合は、制御手段の一つである排出手段（不図示）を定期的に稼働する様に制御部１０で制御し塗布液の排出を行うことが好ましい。排出手段としては特に限定はなく、例えば吸引ポンプ等が挙げられる。一定期間で液溜まり部５０５の下部の塗布液の一部を排出することで沈殿物に伴う塗布故障が減少した安定した塗布が可能となる。
【００３６】
塗布装置を構成している各部材の関係に付き図１（ｂ）を用いて説明する。
液溜まり部に配設された監視手段９は液面の高さを監視し、監視手段９からの情報は制御部１０のＣＰＵ１０ａに入力される。入力された情報に従い、予め液溜まり部の液面の高さと送液量の関係が記憶されているメモリ１０ｂにより送液量が決定され、ＣＰＵ１０ａを介して送液手段８０２による送液量が制御される様になっている。液溜まり部の塗布液の排出は、排出管の途中に配設されている電磁弁５０７ａ、５０７ｂの定期的な開閉により行われ、電磁弁５０７ａ、５０７ｂの定期的な開閉は予め使用する塗布液の停滞時間と沈殿物の量の関係が記憶されているメモリ１０ｂにより決定され、制御部１０により制御されている。本図に示される様に排出管がサイドプレートに配設されている場合は、電磁弁５０７ａ、５０７ｂが開くことで塗布液が排出される。
【００３７】
又、塗布液の排出管がＴ字型を逆さにした状態で液溜まり部５０５の上部より沈められている場合の排液手段（不図示）の定期的な稼働は、電磁弁の制御と同じように制御部１０により制御されている。
【００３８】
塗布液を排出することにより低下する液溜まり部５０５の液面は、監視手段９により監視され、得られた情報は制御部１０で処理され、送液手段８０２により塗布液の送液量を多くすることで液溜まり部５０５の気液界面の高さを一定に制御することが可能となっている。
【００３９】
制御手段により液溜まり部の気液界面の高さを一定に制御する効果として、膜厚規制部材と帯状支持体との間隙に形成されている塗布液流路に掛かる液圧を一定にし塗布膜厚を安定にすることが挙げられる。
【００４０】
本発明に係る制御手段は、監視手段９と、制御部１０と、送液手段８０２と、排液手段と、これらの各手段を制御する制御部とを有している。
【００４１】
尚、使用する監視手段の種類は特に限定はなく、例えば、接触式、非接触式センサが挙げられる。接触式センサとしては、例えばフロート式、圧力センサ、光学センサ、電極式センサ等が挙げられる。非接触式センサとしては、例えばレーザーセンサ、静電容量センサ、超音波センサ等が挙げられる。監視手段９を配設する位置は使用する監視手段の種類により異なっており、例えば接触式センサの場合は塗布液ダム面に接触するように塗布液流路形成部材又は膜厚規制部材に配設してもよく、レーザーセンサの場合は液溜まり部の上部に配設することが好ましい。本図の場合は塗布装置のフレーム（不図示）に配設した場合を示している。
【００４２】
図２は図１のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。図２の（ａ）は断面形状が角形のポケット部を有する塗布液供給部材を用いた場合の概略断面図である。図２の（ｂ）は断面形状が円形のポケット部を有する塗布液供給部材を用いた場合の概略断面図である。
【００４３】
図中、５０７は塗布液供給部材５０２と、塗布液流路形成部材５０４と、膜厚規制部材５０１とバックロール６上の帯状支持体７とで形成された塗布液流路を示す。５０２ａは送液管８０３で送られてくる塗布液の供給口を示し、５０２ｂは塗布液供給部材５０２に設けられた断面形状が角形のポケット部を示す。５０２ｂ１は塗布液供給部材５０２に設けられた断面形状が円形のポケット部を示す。ポケット部５０２ｂ、５０２ｂ１は送液管８０３より送られてくる塗布液を塗布装置の幅方向に均一に供給するために塗布液供給部材５０２の幅方向に溝で設けられている。溝の形状は特に限定はなく、例えば半円であっても良い。本図では断面の形状が角形と円形の場合を示している。
【００４４】
５０２ｃは塗布液供給部材５０２と塗布液流路形成部材５０４との間に形成された塗布液供給路を示し塗布液供給部材５０２の幅方向に設けられており、塗布液流路５０７につながっている。
【００４５】
５０２ｄはポケット部５０２ｂ１に設けられたスリットを示し、塗布液供給路５０２ｃにつながっている。スリット５０２ｄを設けることで塗布液を更に均一に塗布液供給路５０２ｃに供給することが可能となる。
【００４６】
送液管８０３から送られてくる塗布液は、塗布液供給部材５０２の幅方向に設けられているポケット部５０２ｂ、５０２ｂ１から塗布液供給路５０２ｃを介して塗布液流路５０７に供給され、一部は液溜まり部５０５に溜められ、他は膜厚規制部材５０１により、塗布量が規制され、帯状支持体７上に塗布膜７０１を形成する。膜厚規制部材５０１は、塗布装置５のサイドプレートに上下移動（図中の矢印方向）が可能に配設されていることが好ましい。５０２ｅは塗布液供給部材５０２の先端部を示す。５０２ｆは塗布液供給部材５０２の下部面を示す。他の符号は図１と同義である。
【００４７】
図３は図２に示す塗布液供給部材に変えて他の方式の塗布液供給部材を用いた場合の概略断面図である。
【００４８】
図中、５０８は塗布液供給部材を示し、塗布液供給部材５０８は少なくとも２つの部材５０８ａ、５０８ｂより構成されている。５０８ｃは送液管８０３で送られてくる塗布液の供給口を示し、５０８ｄは塗布液供給部材５０８に設けられた断面形状が円形のポケット部を示す。５０８ｅは塗布液供給部材５０８を構成している２つの部材５０８ａ、５０８ｂにより形成された塗布液供給路を示し、塗布液供給部材５０８の幅方向に設けられており、塗布液流路５０７につながっている。ポケット部５０８ｄは送液管８０３より送られてくる塗布液を塗布装置の幅方向に均一に供給するために塗布液供給部材５０８の幅方向に溝で設けられている。溝の形状は特に限定はなく、例えば半円、角形であっても良い。本図では断面の形状が円形の場合を示している。他の符号は図１、図２と同義である。
【００４９】
図４は図２の（ａ）のＥで示される部分の拡大概略図である。
図中、５０２ｇは塗布液供給路５０２ｃからの塗布液の吐出口を示す。５０１ａは膜厚規制部材５０１のバックロール６と対向する先端面を示す。５０７ａは吐出口５０２ｇから吐出された塗布液の塗布液流路５０７への塗布液供給部を示し、塗布液流路５０７の一部を形成している。
【００５０】
５０７ｂは塗布液流動均質化部を示す。塗布液流動均質化部５０７ｂは塗布液流路形成部材５０４のバックロール６と対向する先端面５０４ａとバックロール６上の帯状支持体７との間に形成された間隙で構成され、塗布液流路５０７の一部を形成している。塗布液流動均質化部５０７ｂ内にある塗布液は帯状支持体７の搬送（図中の矢印方向）に伴い、剪断力が掛けられることで流動の均質化及び流動を促進されるため停滞することが無くなり、塗布液中の分散物が沈殿することを防止する機能を有している。先端面５０４ａは流路中の塗布液の流れを安定にするためにバックロールの曲率と同じ曲率を有していることが好ましい。
【００５１】
５０５ａは塗布液流路形成部材５０４と膜厚規制部材５０１との間に形成された液溜まり部５０５の下部の間隙を示し、塗布液流路５０７につながっている。
【００５２】
５０７ｃは塗布液流路５０７の一部を形成している塗布液緩衝部を示す。塗布液緩衝部５０７ｃは、塗布液の送液で発生する脈動、帯状支持体７の搬送時に生じる搬送ムラにより塗布液が揺れることで発生する液圧の変動を間隙５０５ａを介して液溜まり部５０５に逃がすことで緩和する機能を有している。
【００５３】
５０７ｄは塗布膜厚規制部を示す。塗布膜厚規制部５０７ｄはバックロール６上の前記帯状支持体７と膜厚規制部材５０１の先端面５０１ａとで形成された間隙で構成され、塗布液流路５０７の一部を形成している。塗布膜厚規制部５０７ｄの高さにより塗布量が規制される。
【００５４】
５０２ｈは塗布液供給部材５０２の先端部５０２ｅとバックロール６上の帯状支持体７との間隙を示す。
【００５５】
本図で示される塗布液流路５０７は塗布液供給部５０７ａと、塗布液流動均質化部５０７ｂと、塗布液緩衝部５０７ｃと、塗布膜厚規制部５０７ｄとを有している。
【００５６】
図５は図２の（ａ）のＥで示される部分の各部の寸法を示す拡大概略図である。
【００５７】
図中、Ｈは塗布液供給部材５０２の先端部５０２ｅとバックロール６上の帯状支持体７の間隙５０２ｈの高さを示す。高さＨは０．０５〜１ｍｍが好ましい。０．０５ｍｍ未満の場合は、塗布装置の設置状態によっては支持体へ接触する危険があり、塗布スジや擦れによる異物発生に伴う故障が発生する場合がある。１ｍｍを超えた場合は塗布液の種類によっては間隙５０２ｈより塗布液が漏れ、塗布装置の周辺を汚す場合がある。
【００５８】
Ｉは塗布液供給路５０２ｃの間隔を示す。間隔Ｉは０．１〜０．５ｍｍが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合は、塗布液供給部材と塗布液流路形成部材の材質によっては加工が困難になり、塗布液供給路の幅方向に対して均一性を保持することが困難となる場合がある。０．５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては塗布液供給路の幅方向に対して均一な供給が不良になり、塗布膜厚が不均一になる場合がある。
【００５９】
Ｊは塗布液流動均質化部５０７ｂの幅を示す。長さＪは１０〜８０ｍｍが好ましく、更に好ましくは２０〜４０ｍｍである。１０ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては流動均質化が不良になり、塗布スジが発生する場合がある。８０ｍｍを超えた場合は、塗布液流路形成部材の材質によっては加工精度を保つことが困難になり、塗布液の種類によっては塗布膜厚が安定しなくなる場合がある。
【００６０】
Ｋは、塗布液流動均質化部５０７ｂの高さを示す。高さＫは０．５〜５ｍｍが好ましく、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｍである。０．５ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては液圧が高くなり、サイドプレートから塗布液が漏れる場合がある。２．５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては流動均質化が不良になり、沈殿が発生し塗布スジが発生する場合がある。
【００６１】
Ｌは間隙５０５ａの幅を示す。間隙Ｌは３〜１５ｍｍが好ましい。３ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては液溜まり部への緩衝効果が低下するため、塗布膜厚規制部５０７ｄにかかる液圧が変動し塗布ムラが発生する場合がある。１５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては間隙５０５ａ内で停滞部が発生し、長時間の塗布を行った場合塗布液中に沈殿が生じ、塗布スジ故障となる場合がある。
【００６２】
Ｍは塗布膜厚規制部５０７ｄの長さを示す。長さＭは１〜５ｍｍが好ましい。１ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては、間隙に掛かる液圧を均一化することが困難になり、塗布膜厚が不安定となる場合がある。５ｍｍを超えた場合は、膜厚規制部材の材質によっては、バックロールの表面の曲率に合わせた設置精度を得ることが困難となり、塗布膜厚が不安定となる場合がある。
【００６３】
Ｎは塗布膜厚規制部５０７ｄの高さを示す。高さＮは帯状支持体上に形成される塗布膜の厚さにより適宜変更することが好ましい。
【００６４】
図６は図３のＦで示される部分の拡大概略図である。
図中、５０８ｆは塗布液供給路５０８ｅからの塗布液の吐出口を示す。５０８ｇは塗布液供給部材５０８を構成する部材５０８ａのバックロール６上の帯状支持体７と対向する先端面を示す。５０８ｈは先端面５０８ｇとバックロール６上の帯状支持体７の間隙を示す。５０８ｉは塗布液供給部材５０８を構成する部材５０８ｂのバックロール６上の帯状支持体７と対向する先端面を示す。
【００６５】
５０７ｅは吐出口５０８ｆから吐出された塗布液の塗布液流路５０７への塗布液供給部を示し、塗布液供給部材５０８を構成している片方の部材５０８ｂの底面５０８ｉとバックロール６上の帯状支持体７との間に形成された間隙で構成され、塗布液流路５０７の一部を形成している。本図で示される塗布液流路５０７は塗布液供給部５０７ｅと、塗布液流動均質化部５０７ｂと、塗布液緩衝部５０７ｃと、塗布膜厚規制部５０７ｄとを有している。他の符号は図４と同義である。
【００６６】
図７は図３のＦで示される部分の各部の寸法を示す拡大概略図である。
Ｏは塗布液供給路５０８ｅの間隔の幅を示す。幅Ｏは０．１〜０．５ｍｍが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合は、塗布液供給部材の材質によっては加工が困難になり、塗布液供給路の幅方向に対して均一性を保持することが困難となる場合がある。０．５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては塗布液供給路の幅方向に対して均一な供給が不良になり、塗布膜厚が不均一になる場合がある。
【００６７】
Ｐは塗布液供給部５０７ｅの高さを示す。高さＰは０．１〜０．７ｍｍが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合は、塗布装置の設置状態によっては支持体へ接触する危険があり、塗布スジやこすれによる異物発生に伴う故障が発生する場合がある。０．７ｍｍを超えた場合は塗布液の種類によっては、漏れ塗布装置の周辺を汚す場合がある。
【００６８】
Ｑは塗布液供給部５０７ｅの長さを示す。長さＱは５ｍｍ以内が好ましい。５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては塗布液の流動に伴う圧損抵抗が大きくとなり、塗布液供給部材５０８を構成している部材５０８ａの先端面５０８ｇとバックロール６上の帯状支持体７との間に形成された間隙より塗布液が漏れる場合がある。他の符号は図６と同義である。
【００６９】
図１〜図７に示す塗布装置を用いて塗布液の供給から塗布終了までの概略の段階を以下に説明する。
【００７０】
第１段階：塗布量に対して大過剰の塗布液を送液管より塗布液供給部材に供給する。塗布液の供給に合わせ帯状支持体の搬送が開始される。又、監視手段による液溜まり部の監視が開始される。
【００７１】
第２段階：供給された塗布液は、ポケット部より塗布液供給路を介し吐出口より塗布液流路の一部を形成している塗布液供給部に供給され、一部は塗布膜厚規制部より膜厚が規制され帯状支持体上に塗布膜が形成され、他は液溜まり部に溜められる。
【００７２】
第３段階：監視手段により液溜まり部の規定の高さに塗布液が達した時点で、制御部により送液量の調整が行われ、塗布が開始される。
【００７３】
第４段階：塗布が終了まで監視手段による液溜まり部の塗布液の高さの監視が行われ、高さを一定に保つ様に送液手段（送液ポンプ）の制御を行い送液量を制御する。尚、塗布が長時間の場合、塗布への沈殿物の混入を避けるために液溜まり部に設けられた塗布液の排出管の電磁弁を一定時間毎に開き塗布液を排出する様に制御部により制御することが好ましい。塗布液を排出することで低下する液溜まり部の塗布液の高さは監視手段により監視され、制御部により送液手段（送液ポンプ）を制御し、送液量を増加し液溜まり部を規定の高さを維持するように制御される。塗布を行っている間、液溜まり部を規定の高さに維持することで塗布膜厚規制部に掛かる液圧が安定し、膜厚が安定した塗布が行われる。
【００７４】
塗布液流路形成部材の底面とバックロール上の帯状支持体との間に形成された塗布液流動均質化部の効果を以下に示す。
【００７５】
１）塗布液流動均質化部内にある塗布液は帯状支持体の搬送に伴い、剪断力が掛けられることで流動の均質化及び流動が促進されるため停滞することが無くなり、塗布液中の分散物が沈殿することなく安定した状態を保持し塗布を行うことが可能となる。
【００７６】
２）常に塗布量に合った塗布液が供給されるため停滞に伴う塗布液中の分散物が沈殿することなく安定した状態を保持し塗布を行うことが可能となる。
【００７７】
塗布液流路形成部材と該膜厚規制部材との間に形成された気液界面を有する液溜まり部の効果を以下に示す。
【００７８】
１）塗布膜厚規制部に掛かる液圧を一定にする機能を有し、塗布膜厚を安定にする。
【００７９】
２）液溜まり部には底部に近い箇所に塗布液の排出管を配設してあるため、長時間の塗布の場合は塗布液を一部排出することで沈殿物を除去することができ、沈殿物による塗布故障を防止することができ安定した塗布が可能となる。
【００８０】
３）塗布液の送液で発生し易い脈動を緩和し、塗布の段ムラをなくし安定した塗布が可能となる。
【００８１】
４）帯状支持体の搬送時に生じる搬送ムラにより塗布液が揺れることで発生する塗布膜厚規制部に掛かる液圧の変動を緩和することで塗布の段ムラをなくし安定した塗布が可能となる。
【００８２】
図８は図１に示す塗布装置の他の一例の塗布装置の概略断面図である。図８の（ａ）は塗布液供給部材の先端部の幅方向に可撓性部材を取り付けた塗布装置の概略断面図である。図８の（ｂ）は塗布液供給部材の下部面の幅方向に減圧部としての減圧装置を取り付けた塗布装置の概略断面図である。
【００８３】
図中、５０２ｉは塗布液供給部材５０２の下部面５０２ｆの幅方向に配設された可撓性部材を示す。可撓性部材５０２ｉは片方を下部面５０２ｆに固定し、他の片方はバックロール６上の帯状支持体７の表面に接触するように下部面５０２ｆの幅方向に配設されている。可撓性部材５０２ｉの配設する場所は塗布液供給部材５０２の塗布液流路を形成している面であってもかまわない。この可撓性部材５０２ｉにより、塗布液供給部材５０２の先端部とバックロール６上の帯状支持体７との間隙からの塗布液の漏れ、及び塗布速度を上げた時でも空気の入り込みを防止することが可能となるため、塗布速度の下限と上限を広げることが可能となる。使用する可撓性部材としては、厚さが２０〜１００μｍのポリエチレンテレフタレートのフィルムが好ましい。
【００８４】
１１は下部面５０２ｆの幅方向に配設された減圧手段の減圧装置を示す。１１ａは減圧装置１１の側壁を示し、１１ｂは吸引管を示す。減圧装置１１により塗布液供給部材５０２の先端部とバックロール６の帯状支持体７との間隙の近傍を減圧することで、塗布速度を上げた時でも間隙からの空気の入り込みを防止することが可能となる。これにより、入り込んだ空気による泡故障の発生を防止することで安定した塗布、及び塗布速度を上げることが可能となる。減圧装置による減圧度は使用する塗布液及び塗布条件により適宜決設定して使用することが可能である。他の符号は図１と同義である。
【００８５】
本発明に係る塗布液は、非ニュートン性塗布液であれば特に限定はなく、例えばセラミックスシートのセラミックス層、感光材料における感光層、下塗層、保護層、バックコート層等の塗布液、磁気記録媒体における磁性層、下塗層、潤滑層、保護層、バックコート層等の塗布液、放射線画像変換パネルの輝尽蛍光体層用の塗布液、アブレーション感光材料の画像形成層と受像シートとを接着する接着層、看板壁装飾、ノート、アルバム等に画像を貼り付けるシールプリントの支持体裏面の接着層、熱現像感光材料の画像保存用の粘着シートの接着層等の塗布液が挙げられる。
【００８６】
これらの非ニュートン性塗布液の中でも特に粘性指数が０．２〜０．９である非ニュートン性塗布液が好ましく、更に特に固体粒子分散液の場合が特に好ましい。固体粒子分散液に分散されている固体粒子としては、例えばシリカ、アルミナ、磁性粉、酸化ガドリニウム、硫化ガドリニウム、輝尽性蛍光体等が挙げられる。
【００８７】
又、本発明の塗布装置で粘性指数が０．２〜０．９である非ニュートン性塗布液を塗布する場合は、塗布時の膜厚として１００〜７００μｍの高膜厚に塗布する場合に効果が発現し、塗布膜厚が均一で、平滑な塗布液面状を得ることが可能である。
【００８８】
粘性指数は式１）で表すことができる。
式１）ｎ＝（ｌｏｇη／μ）／（ｌｏｇＤ）＋１
式中、ｎ：粘性指数
η：塗布液の粘度
Ｄ：剪断速度
μ：粘性係数
本発明に係る塗布液を、図１〜図３に示される塗布装置を使用して塗布する場合の塗布速度は０．３〜１．０ｍ／分が好ましい。０．３ｍ／分未満の場合は、塗布液の種類によっては、塗布液供給部材の底面とバックロール上の帯状支持体との間隙より塗布液の漏れが発生する場合がある。１．０ｍ／分を超えた場合は、塗布液の種類によっては、塗布液供給部材の底面とバックロール上の帯状支持体との間隙より空気が入り込み泡故障を発生させる場合がある。
【００８９】
又、図８の（ａ）で示される塗布装置を使用して塗布する場合、塗布液供給部材の先端に配設された可撓性部材により、塗布液供給部材の先端塗とバックロール上の帯状支持体との間隙からの塗布液の漏れが防止されること及び空気の吸い込みが防止されるので塗布速度の範囲を０．１〜５．０ｍ／分と広げることが可能となった。
【００９０】
図８の（ｂ）で示される塗布装置を使用して塗布する場合、減圧装置により塗布液供給部材の先端塗とバックロール上の帯状支持体との間隙近傍を減圧することで、図８の（ａ）の塗布装置よりも高速塗布における間隙からの空気の吸い込みが更に防止されるので塗布速度の範囲を０．３〜１０ｍ／分と広げることが可能となった。
【００９１】
勿論、図８の（ａ）に示される塗布装置に図８の（ｂ）に示される減圧装置を配設することも可能である。
【００９２】
本発明に使用される帯状支持体としては、紙、プラスチックフィルム、金属、レジンコーテッド紙、合成紙等がある。プラスチックフィルムの材質は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンなどのビニル重合体、６，６−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルロースアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が使用される。また、レジンコーテッド紙に用いる樹脂としては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィンが代表的であるが、必ずしもこれに限定されない。また、金属帯状支持体としては、例えばアルミニウム帯状支持体がある。
【００９３】
【実施例】
以下、本発明の効果を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９４】
実施例１
《輝尽性蛍光体シートの作製》
〈支持体〉
幅６００ｍｍ、厚さ１８８μｍの発泡ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製  １８８Ｅ６０Ｌ）を使用。
【００９５】
〈蛍光体の合成〉
ユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、ＢａＩ2水溶液（３．６ｍｏｌ／Ｌ）２７８０ｍｌとＥｕＩ3水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）２７ｍｌを反応器に入れた。この反応器中の反応母液を撹拌しながら８３℃で保温した。弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／Ｌ）３２２ｍｌを反応母液中にローラーポンプを用いて注入し、沈澱物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続けて沈澱物の熟成を行なった。次に沈澱物をろ別後、エタノールにより洗浄した後真空乾燥させてユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの結晶を得た。焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するために、アルミナの超微粒子粉体を０．２質量％添加し、ミキサーで充分に撹拌を行い、結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着させた。これを石英ボートに充填して、チューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、８５０℃で２時間焼成してユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体粒子を得た。次に上記蛍光体粒子を分級することにより平均粒径７μｍの粒子を得た。
（輝尽性蛍光体層塗布液の調製）
上記調製したユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体４２７ｇを、ポリウレタン樹脂（住友バイエルウレタン社製、デスモラック４１２５）１５．８ｇ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂２．０ｇをメチルエチルケトン−トルエン（１：１）混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、２５℃におけるみかけ粘度が３．０Ｐａ・Ｓ、粘度指数が０．５、液比重が２．５である塗布液を調製した。
【００９６】
尚、みかけ粘度とは、東京精密（株）製のＢ型粘度計にてＮｏ．４ロータを使用し、回転数６０ｒｐｍで測定した剪断域における粘度とした。粘度指数は、ＴＡインスツルメント社製のレオメータにより、角度２度のコーンプレートを使用し最大シエアレート５０／Ｓ、到達時間１０分でシエアに対する粘度を測定し、得られた結果よりシエアレート２／Ｓ〜５０／Ｓを直線近似し粘度指数を算出した値である。
【００９７】
〈輝尽性蛍光体層塗布液の塗布〉
上記の塗布液を脱気脱泡後、図１に示される塗布装置を用いて、上記支持体２００ｍに、表１に示す様に塗布条件を変え、乾燥後の膜厚が１８０μｍとなるように塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成して輝尽性蛍光体シートを作製し試料１０１〜１０７とした。
【００９８】
尚、各試料１０１〜１０７を作製するときの塗布速度は０．７ｍ／分とし、塗布開始１時間後に液溜まり部から排出管より５０ｍｌの塗布液を排出し、塗布を行っている間は液溜まり部の気液界面の高さを一定になるように監視手段と制御部とによる制御を行った。膜厚規制部材の先端とバックロール上の帯状支持体との間隙の高さは０．４ｍｍとした。塗布液供給部材の先端とバックロール６上の帯状支持体との間隙の幅を０．２ｍｍとした。塗布液流路形成部材と膜厚規制部材とで形成され塗布液流路につながる間隙の幅を５．０ｍｍとした。
【００９９】
（評価）
作製した各試料１０１〜１０７の塗布開始から１５０ｍまでについて、塗布膜の厚さの分布測定及び目視によるスジ故障の有無を下記の評価ランクに従い評価した結果を表１に示す。
【０１００】
膜厚の厚さの分布はアンリツ（株）製のフィルムシックネステスタを用い、塗布幅手５００ｍｍ間を５ｍｍ間隔で測定し、以下の計算式より求めた。
【０１０１】
膜厚の厚さの分布（％）＝最大値−最小値／平均値×１００
膜厚の厚さの分布の評価ランク
○：膜厚の厚さの分布４％未満
△：膜厚の厚さの分布４〜６％
×：膜厚の厚さの分布６％を超える
スジ故障の評価ランク
○：塗布開始から１５０ｍまでにスジ故障なし
△：塗布開始から５０ｍでスジ故障が認められる
×：塗布開始から５０ｍ未満でスジ故障が認められる
【０１０２】
【表１】
2004202362.tif 000003
【０１０３】
実施例２
図８の（ａ）に示す塗布装置を使用し、実施例１の試料Ｎｏ．１０３を作製した条件で塗布速度を表２に示す様に変化した以外は全て同じ条件で塗布を行い、輝尽性蛍光体シートを作製し試料２０１〜２０５とした。
【０１０４】
（評価）
作製した各試料２０１〜２０５の塗布開始から１５０ｍまでについて、泡付着故障の有無を下記の評価ランクに従い評価した結果を表２に示す。尚、使用した可撓性部材は、厚さ５０μｍ、塗布装置と同じ幅のポリエチレンテレフタレート製のフィルムを使用した。
【０１０５】
泡付着故障の評価ランク
○：泡付着故障が認められない
△：１０ｍあたり３個以内の泡付着故障が認められる
×：１０ｍあたり３個を超える泡付着故障が認められる
【０１０６】
【表２】
2004202362.tif 000004
【０１０７】
実施例３
図８の（ｂ）に示す塗布装置を使用し、実施例１の試料Ｎｏ．１０３を作製した条件で塗布速度を表３に示す様に変化した以外は全て同じ条件で塗布を行い、輝尽性蛍光体シートを作製し試料３０１〜３０５とした。作製した各試料３０１〜３０５につき、実施例２と同じ評価方法及び同じ評価ランクで評価を行った結果を表３に示す。減圧度は３９０Ｐａとした。尚、ここで用いられる減圧度とは大気圧よりマイナスした圧力を示す。
【０１０８】
【表３】
2004202362.tif 000005
【０１０９】
実施例４
実施例１の試料Ｎｏ．１０２を作製した条件で塗布液の粘度指数を表３に示す様に変化した以外は全て同じ条件で塗布を行い、輝尽性蛍光体シートを作製し試料４０１〜４０５とした。作製した各試料４０１〜４０５につき、実施例１と同じ評価方法及び同じ評価ランクで評価を行った結果を表４に示す。
【０１１０】
粘度指数の変化は結合剤としてポリウレタン樹脂（住友バイエルウレタン社製、デスモラック４１２５）を使用し、添加量を調整して行った。又、各粘度指数の異なる塗布液に合わせ、膜厚規制部材の先端とバックロール上の帯状支持体との間隙の高さを変えることで乾燥後の膜厚が１８０μｍとした。
【０１１１】
【表４】
2004202362.tif 000006
【０１１２】
実施例５
実施例１の試料Ｎｏ．１０２を作製する時に、ポリエチレン製の送液管を使用し、送液管を１００回／分で押圧することで送液する塗布液に脈動を与え、塗布液流路形成部材と膜厚規制部材とで形成され塗布液流路につながる間隙の幅を表５に示す様に変化させた以外は全て同じ条件で塗布を行い、輝尽性蛍光体シートを作製し試料５０１〜５０４とした。
【０１１３】
（評価）
作製した各試料５０１〜５０５につき、塗布開始から塗布終了までの幅手に発生する塗布ムラの発生の有無を目視で観察し下記の評価ランクで評価を行った結果を表５に示す。
【０１１４】
塗布ムラの評価ランク
○：塗布ムラの発生なし
△：部分的に塗布ムラの発生が認められる
×：塗布液の脈動の間隔に合わせて塗布ムラの発生が認められる
【０１１５】
【表５】
2004202362.tif 000007
【０１１６】
【発明の効果】
非ニュートン性の塗布液の使用できる塗布条件範囲を広げ、長時間の塗布でも塗布故障の発生が無く、塗布性が安定した塗布装置を提供することができ、製品の歩留まりが向上した。又、塗布液の改良が容易になり製品の性能改良の期間が短縮された。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の塗布装置を用いた塗布方式の概略図である。
【図２】図１のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。
【図３】図２に示す塗布液供給部材に変えて他の方式の塗布液供給部材を用いた場合の概略断面図である。
【図４】図２の（ａ）のＥで示される部分の拡大概略図である。
【図５】図２の（ａ）のＥで示される部分の各部の寸法を示す拡大概略図である。
【図６】図３のＦで示される部分の拡大概略図である。
【図７】図３のＦで示される部分の各部の寸法を示す拡大概略図である。
【図８】図１に示す塗布装置の他の一例の塗布装置の概略断面図である。
【図９】ナイフ型塗布装置を使用した塗布方式の概略図である。
【符号の説明】
１、５  塗布装置
１０１  ナイフ
１０２  バックプレート
１０３、５０３ａ、５０３ｂ  サイドプレート
１０４  塗布液ダム
２、６  バックロール
３、７  帯状支持体
４、８  塗布液供給部
５０１  膜厚規制部材
５０２、５０８  塗布液供給部材
５０２ｂ、５０８ｄ  ポケット部
５０２ｃ、５０８ｅ  塗布液供給路
５０２ｇ  可撓性部材
５０４  塗布液流路形成部材
５０５  液溜まり部
５０６  排出管
５０７  塗布液流路
５０７ａ  塗布液供給部
５０７ｂ  塗布液流動均質化部
５０７ｃ  塗布液緩衝部
５０７ｄ  塗布膜厚規制部
９  液面高さ監視手段（監視手段）
１０  制御部
９  減圧装置
【図１】
2004202362.tif 000008
【図２】
2004202362.tif 000009
【図３】
2004202362.tif 000010
【図４】
2004202362.tif 000011
【図５】
2004202362.tif 000012
【図６】
2004202362.tif 000013
【図７】
2004202362.tif 000014
【図８】
2004202362.tif 000015
【図９】
2004202362.tif 000016