(57)【要約】【課題】光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネル及びその製造方法の提供。【解決手段】先にカソードを形成し、更に発光層を蒸着形成し、さらにアノードをスパッタ形成し、さらに複数層の干渉層を蒸着形成し、さらに保護層を塗布し、最後にパッケージ完成し並びにデバイス試験を行い有機ＥＬフルカラーパネルを完成する。また、マスク蒸着技術を利用し、マイクロキャビティー効果を有するフルカラーＯＬＥＤパネルを製造し、並びに干渉層の間の距離により形成されるマイクロキャビティーの発光波長を調整し、特定光波をこのマイクロキャビティー内で強化集中させ、これにより超高強度の単一波長を射出できるようにし、これによりフルカラーパネルに必要な高い飽和度の特定光色を得られるようにする。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、
ａ１．カソード（１０）の上にスペーサ（１０１）を形成する工程、
ｂ２．カソード（１０）の一側にマスク技術で特定厚さの赤、緑、青の三色の発光層（１１）を蒸着する工程、
ｃ３．発光層（１１）の一側にアノード（１２）をスパッタで形成し、並びに全体厚さを制御する工程、
ｄ４．アノード（１２）の発光面に蒸着技術で二種類の屈折率物質を反復蒸着して複数層の干渉層（１２０）を形成し、並びに干渉層（１２０）との間に単一のマイクロキャビティー（１３）を形成し、そのうち、各単一のマイクロキャビティー（１３）の蒸着時に必ず赤、緑、青の異なる光色の波長により、それぞれ異なる厚さを蒸着し、これにより異なる光色波長に共振、干渉効果を形成させる工程、
ｅ５．半透膜の上に保護層（１４）を形成する工程、
以上の工程を具えたことを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、発光層（１１）は赤光の波長により、０．３％Ｒｕｂに０．８％のＤＣＪＴＢを加えたものを蒸着して形成し、その厚さを４００Åとすることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、発光層（１１）は緑光の波長により、１．５％のＣ５４５Ｔを蒸着して形成し、その厚さを６００Åとすることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、発光層（１１）は青光の波長により、Ｉｄｅ−１２０に２．５％Ｉｄｅ１２０を加えたものを蒸着して形成し、その厚さを３００Åとすることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、干渉層（１２０）は、赤、緑、青の異なる光色の光色の波長により、それぞれ厚さ１３７２．３９Å、１５４７Å、２８９４．７１Åを蒸着することを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法。
【請求項６】
光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルにおいて、
カソード（１０）と、
該カソード（１０）の上に位置する発光層（１１）と、
該発光層（１１）の上に位置するアノード（１２）と、
該アノード（１２）の上に位置する干渉層（１２０）と、
半透膜の上に位置するのに位置する保護層（１４）と、
を具え、該干渉層（１２０）がアノード（１２）とカソード（１０）の間で共振区間を形成し、光波がこの区間内で反復共振干渉する時、特定光波がマイクロキャビティー（１３）内で強化され及び集中させられ、超高強度の単一波長を得られることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネル及びその製造方法に係り、さらに詳しくは、堆積工程によりフルカラーパネルを形成し、並びにマイクロキャビティーの利用により光源使用効率と光色飽和度を高めた、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネル及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  Ｄｉｓｐｌａｙ）は、駆動方式の違いによりパッシブマトリックスＯＬＥＤとアクティブマトリックスＯＬＥＤに分けられ、電流により有機薄膜を駆動して発光させるが、サイズが大きいパネルに対しては、パネルの輝度の均一性を維持するために、比較的大きな電流を注入しなければならず、これは装置の効率及び寿命を大幅に低下させるほか、電力消耗量を大幅に高める。
１９８７年コダック社がＯＬＥＤの技術研究に対する発表を行ってから今日まで、ＯＬＥＤ技術は既に大幅に進展し、単色製品の発光効率も大幅に高まっているが、最終目標はフルカラー化にある。しかし現在、フルカラーＯＬＥＤの技術は開発段階にあり、フルカラーＯＬＥＤは赤、緑、青（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の三原色光の重複する画素で組成され、画素サイズが精細となるほど、解析度は高まる。現在、比較的普及しているフルカラー開発技術は、以下の三種類に分けられる。第１種は、白光ＯＬＥＤパネルにカラーフィルタを加える技術、第２種は、赤、緑、青の三色の独立発光、第３種は、青光を光源として使用し、一枚の光色変換膜により、赤、青、緑の三つの光色となす光色変換法である。
三色発光層法の技術の重点は、発光材料の光色純度と効率の掌握度にあり、その最大のネックは赤色材料の純度、効率と寿命である。白光ＯＬＥＤパネルにカラーフィルタを加えてフルカラー化を達成する技術のネックは、白色発光材料の光色と赤、緑、青の三色発光波長の均衡である。しかしこのフルカラー化技術の最大の長所は、直接ＬＣＤのカラーフィルタを応用できることである。しかし、透光率と程度の面では、赤、緑、青の三色の独立発光よりも劣る。光色変換法の現在の技術的ネックは、赤色応用材料の欠乏と、フルカラー表示の中間層物質を加える必要があり、このため発光効率が低くなることである。
一般に、有機材料の輝度と寿命は反比例し、このため、両者の間で一つの平衡点を取得する必要があり、寿命、顔色純度及び発光効率の三つの要件を共に考慮するならば、現発展段階は、未だ実用化の段階には至っていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ゆえに、上述の従来の技術の欠点の存在を鑑み、本発明は、一種の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネル及びその製造方法を提供することを目的とし、本発明は光干渉の原理を利用し光波を共振させ、透明導電層ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の一側にあって、中間層を交互に重畳させ、それとカソードの間に共振区間を形成し、該カソードをフルカラー反射の一端として利用する。その原理はレーザー共振と類似し、光波をこの区間内で反復共振干渉させ、特定光波をこのマイクロキャビティー内で強化集中させ、超高強度の単一波長を得て、これにより発光効率と電力消耗量を減らし、並びに半透鏡の干渉層とカソードの間の距離の違いにより共振により異なる光色を得られるようにし、これによりフルカラーパネルの光色調整を行う。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、
ａ１．カソード（１０）の上にスペーサ（１０１）を形成する工程、
ｂ２．カソード（１０）の一側にマスク技術で特定厚さの赤、緑、青の三色の発光層（１１）を蒸着する工程、
ｃ３．発光層（１１）の一側にアノード（１２）をスパッタで形成し、並びに全体厚さを制御する工程、
ｄ４．アノード（１２）の発光面に蒸着技術で二種類の屈折率物質を反復蒸着して複数層の干渉層（１２０）を形成し、並びに干渉層（１２０）との間に単一のマイクロキャビティー（１３）を形成し、そのうち、各単一のマイクロキャビティー（１３）の蒸着時に必ず赤、緑、青の異なる光色の波長により、それぞれ異なる厚さを蒸着し、これにより異なる光色波長に共振、干渉効果を形成させる工程、
ｅ５．半透膜の上に保護層（１４）を形成する工程、
以上の工程を具えたことを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法としている。
請求項２の発明は、請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、発光層（１１）は赤光の波長により、０．３％Ｒｕｂに０．８％のＤＣＪＴＢを加えたものを蒸着して形成し、その厚さを４００Åとすることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法としている。
請求項３の発明は、請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、発光層（１１）は緑光の波長により、１．５％のＣ５４５Ｔを蒸着して形成し、その厚さを６００Åとすることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法としている。
請求項４の発明は、請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、発光層（１１）は青光の波長により、Ｉｄｅ−１２０に２．５％Ｉｄｅ１２０を加えたものを蒸着して形成し、その厚さを３００Åとすることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法としている。
請求項５の発明は、請求項１記載の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法において、干渉層（１２０）は、赤、緑、青の異なる光色の光色の波長により、それぞれ厚さ１３７２．３９Å、１５４７Å、２８９４．７１Åを蒸着することを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法としている。
請求項６の発明は、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルにおいて、
カソード（１０）と、
該カソード（１０）の上に位置する発光層（１１）と、
該発光層（１１）の上に位置するアノード（１２）と、
該アノード（１２）の上に位置する干渉層（１２０）と、
半透膜の上に位置するのに位置する保護層（１４）と、
を具え、該干渉層（１２０）がアノード（１２）とカソード（１０）の間で共振区間を形成し、光波がこの区間内で反復共振干渉する時、特定光波がマイクロキャビティー（１３）内で強化され及び集中させられ、超高強度の単一波長を得られることを特徴とする、光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルとしている。
【０００５】
【発明の実施の形態】
図１及び図２は、本発明の製造フローチャート及び本発明のＯＬＥＤ単一画素断面構造表示図である。図示されるように、本発明の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルは、カソード（１０）、該カソード（１０）の上に位置する発光層（１１）（Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）、該発光層（１１）の上に位置するアノード（１２）、該アノード（１２）の上に位置する干渉層（１２０）（Ｈａｌｆ  ｍｉｒｒｏｒ）、該干渉層（１２０）の上に位置する保護層（１４）（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）を具えている。
上述の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルの製造方法は、
ａ１．マグネシウム、銀、カルシウム、アルミニウム、リチウム等の金属材料で形成されたカソード（１０）の上にスペーサ（１０１）を形成する工程、
ｂ２．カソード（１０）の一側にマスク技術で赤、緑、青の三色小分子の発光材料を蒸着し、フルカラーパネルの発光層（１１）を形成し、該発光層（１１）の蒸着時に相対高度を考慮する工程、
ｃ３．発光層（１１）の一側にアノード（１２）をスパッタで形成し、該アノード（１２）をＩＴＯ導電ガラス膜とし、且つアノード（１２）をスパッタする時にも全体厚さを考慮する工程、
ｄ４．アノード（１２）の発光面に蒸着技術で二種類の屈折率物質を反復蒸着して複数層の干渉層（１２０）を形成する工程、そのうち、該複数の干渉層（１２０）は、図３に示されるように、透明導電層ＩＴＯの一側に交互に重畳する中間層を形成してなるものとし、該干渉層（１２０）は２１層となし得て、且つ各一層の厚さを赤、緑、青の異なる光色の波長により、それぞれ以下の表１のようにし、また、該干渉層（１２０）とカソード（１０）の間に単一のマイクロキャビティー（１３）を形成し、光波がマイクロキャビティー（１３）内で反復共振干渉する時、特定光波がこのマイクロキャビティー（１３）内で強化集中されるようにし、そのうち、各単一マイクロキャビティー（１３）は蒸着時に必ず赤、緑、青の異なる波長により異なる厚さに蒸着され（マイクロキャビティー（１３）長さと波長の関係は、２ｄ＝ｎλ，ｄはマイクロキャビティー長さ、λは波長、ｎは整数をそれぞれ代表する）、これにより異なる光色波長に共振、干渉効果を形成させる（図２に示されるように、赤光の波長は緑、青より長く、このため赤光上に蒸着されるマイクロキャビティー（１３）の厚さもまた、緑、青より厚く、これによりフルカラーパネルの機能を達成する）。
【表１】
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マイクロキャビティー（１３）の厚さはカソード（１０）、発光層（１１）、及びアノード（１２）を包括し、これによりマイクロキャビティー（１３）は、赤光、緑光、青光の厚さを蒸着する時、その各層構造と厚さ（単位：Å）が以下のようになる。
赤光：  ＩＴＯ（アノード）（１５００Å）／ＣｕＰｃ（正孔注入材料であり、銅ジシアン染料とされる）（３５０Å）／ＮＰＢ（正孔輸送材料であり、アニリン類とされる）（４００Å）／Ａｌｑ（電子輸送材料とされ、キニンのアルミニウム錯体とされる）＋０．３％Ｒｕｂ（一種の橙色ドープ発光材料）＋０．８％ＤＣＪＴＢ（一種の赤色ドープ発光材料）（４００Å）／Ａｌｑ（電子輸送材料とされ、キニンのアルミニウム錯体とされる）（３５０Å）／ＬｉＦ（電子注入層、フッ化リチウム）（７Å）／Ａｌ（カソード）（１５００Å）
緑光：  ＩＴＯ（アノード）（１５００Å）／ＮＰＢ（正孔輸送材料であり、アニリン類とされる）（４００Å）／Ａｌｑ（電子輸送材料とされ、キニンのアルミニウム錯体とされる）＋１．５％Ｃ５４５Ｔ（一種の緑色ドープ発光材料）（６００Å）／Ａｌｑ（電子輸送材料とされ、キニンのアルミニウム錯体とされる）（３００Å）／ＬｉＦ（電子注入層、フッ化リチウム）（５Å）／Ａｌ（１５００Å）／Ａｌ（カソード）（１５００Å）
青光：  ＩＴＯ（アノード）（１５００Å）／ＣｕＰｃ（正孔注入材料であり、銅ジシアン染料とされる）（３００Å）／ＮＰＢ（正孔輸送材料であり、アニリン類とされる）（５００Å）／Ｉｄｅ−１２０（一種の青色ドープ発光材料）＋２．５％Ｉｄｅ１２０（一種の青色ドープ発光材料）（３００Å）／Ａｌｑ（電子輸送材料とされ、キニンのアルミニウム錯体とされる）（２００Å）／ＬｉＦ（電子注入層、フッ化リチウム）（７Å）／Ａｌ（カソード）（１５００Å）。
最後にパッケージ完成し並びにデバイス試験を行ない、本発明の光色純度調整可能な有機ＥＬフルカラーパネルを得る。
【０００６】
【発明の効果】
有機ＥＬフルカラーパネルは未来の潜力を有していることを鑑み、本発明は逆方向の堆積ステップで製造する。則ち、本発明は、先にカソード（１０）を形成し、更に発光層（１１）を蒸着形成し、さらにアノード（１２）をスパッタ形成し、さらに複数層の干渉層（１２０）を蒸着形成し、さらに保護層（１４）を塗布し、最後にパッケージ完成し並びにデバイス試験を行う）。そのうち、本発明のもう一つの技術の重点は、マスク蒸着技術を利用し、マイクロキャビティー効果を有するフルカラーＯＬＥＤパネルを製造し、並びに干渉層（１２０）の間の距離により形成されるマイクロキャビティー（１３）の発光波長を調整し、特定光波をこのマイクロキャビティー（１３）内で強化集中させ、これにより超高強度の単一波長を射出できるようにし、これによりフルカラーパネルに必要な高い飽和度の特定光色を得られるようにする。
以上は本発明の好ましい実施例の説明に過ぎず、本発明の実施範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造フローチャートである。
【図２】本発明のＯＬＥＤ単一画素断面構造表示図である。
【図３】本発明の干渉層蒸着の構造表示図である。
【図４】本発明の反復共振干渉後に得られる超高強度の単一波長射出表示図である。
【符号の説明】
１０  カソード
１０１  スペーサ
１１  発光層
１２  アノード
１２０  干渉層
１３  マイクロキャビティー
１４  保護層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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