(57)【要約】【課題】加工ヘッド１１の移動速度を速くしても、ローラ４９，５１がジャバラガイド３９におけ支持プレート４１の支持面Ｆに引っ掛かることをほぼなくす。【解決手段】加工ヘッド９の光軸方向の移動に追従して伸縮する光路ジャバラ３５と、ジャバラガイド３９と、第１アーム４５と第２アーム４７をそれぞれ備えた複数のぶら下がり板４３と、複数の第１アーム４７の先端部にそれぞれ設けられてあってジャバラガイド３９における支持面Ｆ上を光軸方向へ転動する複数の第１ローラ４９と、複数の第２アーム４７の先端部にそれぞれ設けられてあってジャバラガイド３５における支持面Ｆ上を光軸方向へ転動する複数の第２ローラ５１とを具備する。【選択図】　　　図１
2004009121.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ加工機におけるレーザ発振器から出力されたレーザ光を保護するジャバラ式のレーザ光保護装置において、
内部にレーザ光が通過可能なレーザ光路を有し、前記レーザ加工機における加工ヘッドの光軸方向（前記レーザ光の光軸方向）の移動に追従して前記光軸方向へ伸縮する光路ジャバラと、
前記光路ジャバラの上方に設けられ、前記光軸方向へ延びてあって、水平な支持面を有するジャバラガイドと、
前記光路ジャバラに下方向から保持するようにそれぞれ設けられ、前記光路ジャバラの一肩部に対して上方向へ突出した第１アームと前記光路ジャバラの他肩部に対して上方向へ突出した第２アームをそれぞれ備えた複数のぶら下がり板と、
前記複数のぶら下がり板が前記ジャバラガイドにぶら下がるようにするために前記複数のぶら下がり板における前記第１アームの先端部に回転可能にそれぞれ設けられ、前記ジャバラガイドにおける前記支持面上を前記光軸方向へ転動する複数の第１ローラと、
前記複数のぶら下がり板が前記ジャバラガイドにぶら下がるようにするために前記複数のぶら下がり板における前記第２アームの先端部に回転可能にそれぞれ設けられ、前記ジャバラガイドにおける前記支持面上を前記光軸方向へ転動する複数の第２ローラとを具備することを特徴とするジャバラ式のレーザ光保護装置。
【請求項２】
各第１ローラの外周部及び他側部をＲ形状にそれぞれ構成し、各第２ローラの外周部及び一側部をＲ形状にそれぞれ構成してなることを特徴とする請求項１に記載のジャバラ式のレーザ光保護装置。
【請求項３】
前記複数の第１ローラ及び前記複数の第２ローラを上方向から見たときに、前記複数の第１ローラ及び前記複数の第２ローラは千鳥状に配置されるように構成してなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のジャバラ式のレーザ光保護装置。
【請求項４】
前記ジャバラガイドの一側に鉛直な第１側面を有する共に、前記ジャバラガイドの他側に鉛直な第２側面を有してあって、
前記複数の第１アームの基部付近にそれぞれ設けられ、摩擦係数の低い材料によりそれぞれ構成されて、一方向から前記第１側面に接触する複数の第１接触部材と、
前記複数の第２アームの基部付近にそれぞれ設けられ、摩擦係数の低い材料によりそれぞれ構成されて、他方向から前記第２接触面に接触する複数の第２接触部材とを具備してなることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載のジャバラ式のレーザ光保護装置。
【請求項５】
各第１ローラと前記ジャバラガイドにおける天井面の高さ間隔及び各第２ローラと前記ジャバラガイドにおける前記天井面の高さ間隔を、前記光路ジャバラと前記ジャバラガイドの最下部の高さ間隔よりも短くなるようにそれぞれ構成してなることを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれかの請求項に記載のジャバラ式のレーザ光保護装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ加工機におけるレーザ発振器から出力されたレーザ光を保護するジャバラ式のレーザ光保護装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図４は、従来のジャバラ式のレーザ光保護装置の斜視図であって、図５は、従来のレーザ光保護装置（関連の装置等を含む）の側面図である。
【０００３】
ここで、「前」は、図４において左斜め下，図５において左のことをいい、「後」は、図４において右斜め上，図５において右のことをいい、「左」は、図４において左，図５において紙面に向かって裏のことをいい、「右」は、図４において右，図５において紙面に向かって表のことをいい、「上」は、図４及び図５において上のことをいい、「下」は、図４及び図５において下のことをいう。
【０００４】
図４及び図５に示すように、ジャバラ式のレーザ光保護装置１は、レーザ加工機におけるレーザ発振器３から出力されたレーザ光を保護する装置であって、以下、レーザ光保護装置１及び関連の装置等を説明する。
【０００５】
レーザ光保護装置１は光路ジャバラ５をベースとしており、この光路ジャバラ５の内部にはレーザ光が通過可能なレーザ光路７を有している。光路ジャバラ５がレーザ加工機における加工ヘッド９の光軸方向（前記レーザ光の光軸方向、従来技術において左右方向）ＡＬの移動に追従して光軸方向ＡＬへ伸縮するように、光路ジャバラ５の前端は前記レーザ加工機におけるキャレッジ１１に接続されてあって、光路ジャバラ５の後端は前記レーザ加工機における光中継部材１３に接続されている。
【０００６】
ここで、キャレッジ１１は、前記レーザ加工機における固定フレーム１５に設けられた一対のキャレッジガイド１７によって光軸方向ＡＬへ移動可能に支持されてあって、モータ（図示省略）の駆動により光軸方向ＡＬへ移動するものであり、キャレッジ１１の内部にはレーザ光を反射する反射ミラー（図示省略）が設けられている。また、加工ヘッド９は、キャレッジ１１に上下方向へ移動可能に設けられてあって、ワークＷに対してレーザ光を照射するものである。更に、光中継部材１３の内部には反射ミラー（図示省略）が設けられてあって、光中継部材１３はレーザ発振器３に光学的に接続してある。
【０００７】
固定フレーム１５における光路ジャバラ５の上方には光軸方向ＡＬへ延びたジャバラガイド１９が設けられており、このジャバラガイド１９の下部に支持プレート２１が備えてあって、この支持プレート２１は水平な支持面Ｆを有している。また、光路ジャバラ５には複数のぶら下がり板２３が下方向から保持するようにそれぞれ設けられており、各ぶら下がり板２３は、Ｕ字又はコ字形状を呈してあって、光路ジャバラ５の左肩部に対して上方向へ突出した第１アーム２５及び光路ジャバラ５の右肩部に対して上方向へ突出した第２アーム２７をそれぞれ備えている。更に、複数のぶら下がり板２３がジャバラガイド１９にぶら下がるようにするため、複数のぶら下がり板２３における第１アーム２５の先端部にはジャバラガイド１９における支持面Ｆ上を面接触の状態で摺動する第１摺動ブロック２９がそれぞれ設けられていると共に、複数のぶら下がり板２３における第２アーム３１の先端部にはジャバラガイド１９における支持面Ｆ上を面接触の状態で摺動する第２摺動ブロック３１がそれぞれ設けられている。
【０００８】
従って、光路ジャバラが加工ヘッドの光軸方向ＡＬの移動に追従して光軸方向ＡＬへ伸縮することにより、複数の第１摺動ブロック２９及び複数の第２摺動ブロック３１がジャバラガイド１９における支持プレート２１の支持面Ｆ上を光軸方向ＡＬに沿って面接触の状態の下で摺動しつつ、複数のぶら下がり板２３が光軸方向ＡＬへ移動する。換言すれば、光路ジャバラ５が複数のぶら下がり板２３を介してジャバラガイド１９に案内されつつ、光軸方向ＡＬへ安定して伸縮する。これによって、加工ヘッド９が光軸方向ＡＬへ移動しても、レーザ発振器３から出力させた前記レーザ光は光路ジャバラ５のレーザ光路７を通過して、前記レーザ光を外部から保護することができ、ワークＷに対して安定したレーザ加工を行うことができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述の従来のジャバラ式のレーザ光保護装置１においては、複数の第１摺動ブロック２９及び複数の第２摺動ブロック３１がジャバラガイド１９における支持プレート２１の支持面Ｆ上を光軸方向ＡＬに沿って面接触の状態の下で摺動するため、摺動ブロック２９，３１とジャバラガイド１９における支持プレート２１の支持面Ｆとの摩擦が大きくなって、摺動ブロック２９，３１がジャバラガイド１９におけ支持プレート２１の支持面Ｆに引っ掛かることがある。そのため、加工ヘッド９の光軸方向ＡＬの移動動作に対して光路ジャバラ５の伸縮動作の追従性が低くなって、加工ヘッド９の高速移動による高速レーザ加工を行うことが困難になる。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明にあっては、レーザ加工機におけるレーザ発振器から出力されたレーザ光を外部から保護するジャバラ式のレーザ光保護装置において、内部にレーザ光が通過可能なレーザ光路を有し、前記レーザ加工機における加工ヘッドの光軸方向（前記レーザ光の光軸方向）の移動に追従して前記光軸方向へ伸縮する光路ジャバラと、
前記光路ジャバラの上方に設けられ、前記光軸方向へ延びてあって、水平な支持面を有するジャバラガイドと、
前記光路ジャバラに下方向から保持するようにそれぞれ設けられ、前記光路ジャバラの一肩部に対して上方向へ突出した第１アームと前記光路ジャバラの他肩部に対して上方向へ突出した第２アームをそれぞれ備えた複数のぶら下がり板と、
前記複数のぶら下がり板が前記ジャバラガイドにぶら下がるようにするために前記複数のぶら下がり板における前記第１アームの先端部に回転可能にそれぞれ設けられ、前記ジャバラガイドにおける前記支持面上を前記光軸方向へ転動する複数の第１ローラと、
前記複数のぶら下がり板が前記ジャバラガイドにぶら下がるようにするために前記複数のぶら下がり板における前記第２アームの先端部に回転可能にそれぞれ設けられ、前記ジャバラガイドにおける前記支持面上を前記光軸方向へ転動する複数の第２ローラとを具備することを特徴とする。
【００１１】
請求項１に記載の発明特定事項によると、前記光路ジャバラが前記加工ヘッドの前記光軸方向の移動に追従して前記光軸方向へ伸縮することにより、前記複数の第１ローラ及び前記複数の第２ローラが前記ジャバラガイドにおける前記支持面上を前記光軸方向に沿って転動しつつ、前記複数のぶら下がり板が前記光軸方向へ移動する。換言すれば、前記光路ジャバラが前記複数のぶら下がり板を介して前記ジャバラガイドに案内されつつ、前記光軸方向へ安定して伸縮する。これによって、前記加工ヘッドが前記光軸方向へ移動しても、前記レーザ発振器から出力させた前記レーザ光は前記光路ジャバラのレーザ光路を通過して、前記レーザ光を外部から保護することができ、安定したレーザ加工を行うことができる。
【００１２】
ここで、前記複数の第１ローラ及び前記複数の第２ローラが前記ジャバラガイドにおける前記支持面上を前記光軸方向に沿って転動するため、ローラ（前記第１ローラ及び前記第２ローラ）と前記ジャバラガイドにおける前記支持面との摩擦が小さくなって、前記ローラが前記ジャバラガイドにおけ前記支持面に引っ掛かることがほぼなくなる。
【００１３】
請求項２に記載の発明にあっては、請求項１に記載の発明特定事項の他に、各第１ローラの外周部及び他側部をＲ形状にそれぞれ構成し、各第２ローラの外周部及び一側部をＲ形状にそれぞれ構成してなることを特徴とする。
【００１４】
請求項２に記載の発明特定事項によると、請求項１に記載の発明特定事項による作用の他に、各第１ローラの外周部及び他側部がＲ形状であって、各第２ローラの外周部及び一側部がＲ形状であるため、前記ローラと前記ジャバラガイドにおける前記支持面との摩擦がより小さくなる。
【００１５】
請求項３に記載の発明にあっては、請求項１又は請求項２に記載の発明特定事項の他に、前記複数の第１ローラ及び前記複数の第２ローラを上方向から見たときに、前記複数の第１ローラ及び前記複数の第２ローラは千鳥状に配置されるように構成してなることを特徴とする。
【００１６】
請求項３に記載の発明特定事項によると、請求項１又は請求項２に記載の発明特定事項による作用の他に、前記複数の第１ローラ及び前記複数の第２ローラは千鳥状に配置したため、前記光路ジャバラが前記光軸方向へ伸縮する際に、各ぶら下がり板に対応する前記第１ローラと前記第２ローラのうちのいずれかのローラが前記ジャバラガイドにおける前記支持面から浮き上がろうとしても、各ぶら下がり板に対応する前記第１ローラと前記第２ローラのうち別のローラが前記ジャバラガイドにおける前記支持面に押し付けられる。
【００１７】
請求項４に記載の発明にあっては、請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の発明特定事項の他に、前記ジャバラガイドの一側に鉛直な第１側面を有する共に、前記ジャバラガイドの他側に鉛直な第２側面を有してあって、前記複数の第１アームの基部付近にそれぞれ設けられ、摩擦係数の低い材質からなって、一方向から前記第１側面に接触する複数の第１接触部材と、
前記複数の第２アームの基部付近にそれぞれ設けられ、摩擦係数の低い材質からなって、他方向から前記第２接触面に接触する複数の第２接触面とを具備してなることを特徴とする。
【００１８】
請求項４に記載の発明にあっては、請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の発明特定事項による作用の他に、前記光路ジャバラが前記光軸方向へ伸縮する際に、前記第１接触部材が一方向から前記ジャバラガイドにおける前記第１側面に接触したり、前記第２接触部材が他方向から前記ジャバラガイドにおける前記第２側面に接触したりする。
【００１９】
また、接触部材（前記第１接触部材及び前記第２接触部材）が摩擦係数の低い材料により構成されているため、前記接触部材が前記ジャバラガイドにおけ側面（前記一側面及び前記他側面）に引っ掛かることがない。
【００２０】
請求項５に記載の発明にあっては、請求項４に記載の発明特定事項の他に、各第１ローラと前記ジャバラガイドにおける天井面の高さ間隔及び各第２ローラと前記ジャバラガイドにおける前記天井面の高さ間隔を、前記光路ジャバラと前記ジャバラガイドの最下部の高さ間隔よりも短くなるようにそれぞれ構成してなることを特徴とする。
【００２１】
請求項５に記載の発明特定事項の他に、請求項４に記載の発明特定事項による作用の他に、各第１ローラと前記ジャバラガイドにおける前記天井面の高さ間隔及び各第２ローラと前記ジャバラガイドにおける前記天井面の高さ間隔が、前記光路ジャバラと前記ジャバラガイドの最下部の高さ間隔よりも短いために、前記光路ジャバラが前記光軸方向へ伸縮するときに、前記光路ジャバラに部分的に起き上がり現象が生じても、前記光路ジャバラの最上部が前記ジャバラガイドに接触することはない。
【００２２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の形態に係わるジャバラ式のレーザ光保護装置の斜視図であって、図２は、本発明の実施の形態に係わるジャバラ式のレーザ光保護装置（関連の装置等を含む）の側面図であって、図３は、図２におけるＩ−Ｉ線に沿った図である。
【００２３】
ここで、「前」は、図１において左斜め下，図２及び図３において左のことをいい、「後」は、図１において右斜め上，図２及び図３において右のことをいい、「左」は、図１において左，図２において紙面に向かって裏，図３において上のことをいい、「右」は、図１において右，図２において紙面に向かって表，図３において下のことをいい、「上」は、図１及び図２において上，図３において紙面向かって表のことをいい、「下」は、図１及び図２において下，図３において紙面に向かって裏のことをいう。
【００２４】
ジャバラ式のレーザ光保護装置３３は、レーザ加工機におけるレーザ発振器３から出力されたレーザ光を保護する装置であって、以下、レーザ光保護装置３３及び関連の装置等を説明する。なお、本発明の実施の形態に係わる前記関連の装置等（レーザ発振器３、加工ヘッド９、キャレッジ１１等）は、従来技術に係わる前記関連の装置等と同様の構成であるため、図中において同一番号を付して、本発明の実施の形態に係わる前記関連の装置等の構成の詳細を省略する。
【００２５】
レーザ光保護装置３３は光路ジャバラ３５をベースとしており、この光路ジャバラ３５の内部にはレーザ光が通過可能なレーザ光路３７を有している。光路ジャバラ３５がレーザ加工機における加工ヘッド９の光軸方向（前記レーザ光の光軸方向、本発明の実施の形態において左右方向）ＡＬの移動に追従して光軸方向ＡＬへ伸縮するように、光路ジャバラ３５の前端は前記レーザ加工機におけるキャレッジ１１に接続されてあって、光路ジャバラ３５の後端は前記レーザ加工機における光中継部材１３に接続されている。
【００２６】
固定フレーム１５における光路ジャバラ３５の上方には前記光軸方向へ延びたジャバラガイド３９が設けられており、このジャバラガイド３９の下部には支持プレート４１が備えてあって、この支持プレートはＳＵＳ材により構成されている。また、支持プレート４１は水平な支持面Ｆを有してあって、支持プレート４１における支持面Ｆの左右両側には鉛直な左側面Ｖ１と右側面Ｖ２を有している。
【００２７】
また、光路ジャバラ３５には複数のぶら下がり板４３が下方向から保持するようにそれぞれ設けられており、各ぶら下がり板４３はアルミ材又は難燃性のプレスチック材によりそれぞれ構成されている。各ぶら下がり板４３は、Ｕ字又はコ字形状を呈してあって、光路ジャバラ３５の左肩部に対して上方向へ突出した第１アーム４５及び光路ジャバラ３５の右肩部に対して上方向へ突出した第２アーム４７をそれぞれ備えている。
【００２８】
複数のぶら下がり板４３がジャバラガイド３９にぶら下がるようにするため、複数のぶら下がり板４３における第１アーム４５の先端部にはジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆ上を転動する第１ローラ４９がベアリング（図示省略）を介して回転可能にそれぞれ設けられていると共に、複数のぶら下がり板４３における第２アーム４７の先端部にはジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆ上を転動する第２ローラ５１がベアリング（図示省略）を介して回転可能にそれぞれ設けられている。
【００２９】
ここで、各第１ローラ４９の外周部、左側部及び右側部はＲ形状にそれぞれ構成してあって、各第２ローラ５１の外周部、左側部及び右側部はＲ形状にそれぞれ構成してある。また、図３に示すように、複数の第１ローラ４９及び複数の第２ローラ５１を上方向から見たときに、複数の第１ローラ４９及び複数の第２ローラ５１は千鳥状に配置されるように構成してある。更に、図１に示すように、各第１ローラ４９とジャバラガイド３９における天井面３９ａの高さ間隔ｍ及び各第２ローラ５１とジャバラガイド３９における天井面３９ａの高さ間隔ｍは、光路ジャバラ３５とジャバラガイド３９の最下部の高さ間隔ｓよりも短くなるようにそれぞれ構成しある。
【００３０】
また、複数の第１アーム４５の基部付近には左方向から支持プレート４１の左側面Ｖ１に接触する第１接触布５３がそれぞれ設けられてあり、各第１接触布５３は、摩擦係数の低いテフロン（登録商標）材からそれぞれ構成されている。同様に、複数の第２アーム４７の基部付近には左方向から支持プレート４１の左側面Ｖ２に接触する第２接触布５５がそれぞれ設けられてあり、各第２接触布５５は、摩擦係数の低いテフロン（登録商標）材からそれぞれ構成されている。
【００３１】
次に、本発明の実施の形態のメインの作用について説明する。
【００３２】
光路ジャバラ３５が加工ヘッド９の光軸方向ＡＬの移動に追従して光軸方向ＡＬへ伸縮することにより、複数の第１ローラ４９及び複数の第２ローラ５１がジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆ上を光軸方向ＡＬに沿って転動しつつ、複数のぶら下がり板４３が光軸方向ＡＬへ移動する。換言すれば、光路ジャバラ３５が複数のぶら下がり板４３を介してジャバラガイド３９に案内されつつ、光軸方向ＡＬへ安定して伸縮する。これによって、加工ヘッド９が光軸方向ＡＬへ移動しても、レーザ発振器３から出力させた前記レーザ光は光路ジャバラ３９のレーザ光路３７を通過して、前記レーザ光を外部から保護することができ、ワークＷに対して安定したレーザ加工を行うことができる。
【００３３】
ここで、複数の第１ローラ４９及び複数の第２ローラ５１がジャバラガイド３９における支持プレート４１支持面Ｆ上を前記光軸方向に沿って転動するため、ローラ４９，５１とジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆとの摩擦が小さくなって、ローラ４９，５１がジャバラガイド３９におけ支持プレート４１の支持面Ｆに引っ掛かることがほぼなくなる。特に、各第１ローラ４９の外周部、左側部及び右側部がＲ形状であって、各第２ローラ５１の外周部、左側部及び右側部がＲ形状であるため、ローラ４９，５１がジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆに引っ掛かることをより抑制できる。
【００３４】
本発明の実施の形態にあっては前記メインの作用の他に、次のような作用も奏する。
【００３５】
即ち、複数の第１ローラ４９及び複数の第２ローラ５１は千鳥状に配置したため、光路ジャバラ３５が前記光軸方向へ伸縮する際に、各ぶら下がり板４３に対応する第１ローラ４９と第２ローラ５１のうちのいずれかのローラ４９（又は５１）がジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆから浮き上がろうとしても、各ぶら下がり板４３に対応する第１ローラ４９と第２ローラ５１のうち別のローラ５１（又は４９）がジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆに押し付けられる。
【００３６】
また、光路ジャバラ３５が光軸方向ＡＬへ伸縮する際に、第１接触布５３が左方向からジャバラガイド３９における支持プレート４１の第１側面Ｖ１に接触したり、第２接触布５５が左方向からジャバラガイド３９における支持プレート４１の第２側面Ｖ２に接触したりする。そして、接触布５３，５５が摩擦係数の低いテフロン（登録商標）材により構成されているため、加工ヘッド９の移動速度を速くしても、接触布５３，５５がジャバラガイド３９における支持プレート４１の側面Ｖ１，Ｖ２に引っ掛かることがない。
【００３７】
更に、各第１ローラ４９とジャバラガイド３９における天井面３９ａの高さ間隔ｍ及び各第２ローラ５３とジャバラガイド３９における天井面３９ａの高さ間隔ｍが、光路ジャバラ３５とジャバラガイド３９の最下部の高さ間隔ｓよりも短いために、光路ジャバラ３５が光軸方向ＡＬへ伸縮するときに、光路ジャバラ３５に部分的に起き上がり現象が生じても、光路ジャバラ３５の最上部がジャバラガイド３９に接触することはない。
【００３８】
以上の如き、本発明の実施の形態によれば、ローラ４９，５１とジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆとの摩擦が小さくなって、ローラ４９，５３がジャバラガイド３９におけ支持プレート４１の支持面Ｆに引っ掛かることがほぼなくなるため、加工ヘッド９の光軸方向ＡＬの移動動作に対する光路ジャバラ３５の伸縮動作の追従性が向上して、加工ヘッド９の高速移動による高速レーザ加工を容易に行うことができる。
【００３９】
また、光路ジャバラ３５が光軸方向ＡＬへ伸縮する際に、各ぶら下がり板４３に対応する第１ローラ４９と第２ローラ５１のうちのいずれかのローラ４９（又は５１）がジャバラガイド３９における支持プレート４１の支持面Ｆから浮き上がろうとしても、各ぶら下がり板４３に対応する第１ローラ４９と第２ローラ５１のうち別のローラ５１（又は４９）がジャバラガイド３５における支持プレート４１の支持面Ｆに押し付けられるため、光路ジャバラ３５の起き上がり現象を抑制して、加工ヘッド９の光軸方向ＡＬの移動動作に対する光路ジャバラ３５の伸縮動作の良好な追従性を維持できる。特に、光路ジャバラ３５に部分的に起き上がり現象が生じた場合であっても、光路ジャバラ３５の最上部がジャバラガイド３９に接触することはないため、上記効果はより向上する。
【００４０】
更に、光路ジャバラ３５が光軸方向ＡＬへ伸縮する際に、第１接触布５３が左方向からジャバラガイド３９における支持プレート４１の第１側面Ｖ１に接触したり、第２接触布５５が右方向からジャバラガイド３９における支持プレート４１の第２側面Ｖ２に接触したりするため、光路ジャバラ３５の左右の横揺れ現象を抑制して、加工ヘッド９の光軸方向ＡＬの移動動作に対する光路ジャバラ３５の伸縮動作の良好な追従性を維持できる。
【００４１】
なお、本発明は、前述の発明の実施の形態の説明に限るものではなく、適宜の変更を行うことにより、その他種々の態様で実施可能である。
【００４２】
【発明の効果】
請求項１から請求項５のうちのいずれかの請求項に記載の発明によれば、前記ローラと前記ジャバラガイドにおける前記支持面との摩擦が小さくなって、前記ローラが前記ジャバラガイドにおけ前記支持面に引っ掛かることがほぼなくなるため、前記加工ヘッドの前記光軸方向の移動動作に対する前記光路ジャバラの伸縮動作の追従性が向上して、前記加工ヘッドの高速移動による高速レーザ加工を容易に行うことができる。特に、請求項２から請求項５のうちのいずれかの請求項に記載の発明によれば、前記ローラと前記ジャバラガイドにおける前記支持面との摩擦がより小さくなるため、上記効果がより高まる。
【００４３】
請求項３から請求項５のうちのいずれかの請求項に記載の発明によれば、前記光路ジャバラが前記光軸方向へ伸縮する際に、各ぶら下がり板に対応する前記第１ローラと前記第２ローラのうちのいずれかのローラが前記ジャバラガイドにおける前記支持面から浮き上がろうとしても、各ぶら下がり板に対応する前記第１ローラと前記第２ローラのうち別のローラが前記ジャバラガイドにおける前記支持面に押し付けられるため、前記光路ジャバラの起き上がり現象を抑制して、前記加工ヘッドの前記光軸方向の移動動作に対する前記光路ジャバラの伸縮動作の良好な追従性を維持できる。特に、請求項５に記載の発明によれば、前記光路ジャバラに部分的に起き上がり現象が生じた場合であっても、前記光路ジャバラの最上部が前記ジャバラガイドに接触することはないため、上記効果はより向上する。
【００４４】
請求項４又は請求項５に記載の発明によれば、前記光路ジャバラが前記光軸方向へ伸縮する際に、前記第１接触部材が一方向から前記ジャバラガイドにおける前記第１側面に接触したり、前記第２接触部材が他方向から前記ジャバラガイドにおける前記第２側面に接触したりするため、前記光路ジャバラの横揺れ現象を抑制して、前記加工ヘッドの前記光軸方向の移動動作に対する前記光路ジャバラの伸縮動作の良好な追従性を維持できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係わるジャバラ式のレーザ光保護装置の斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態に係わるジャバラ式のレーザ光保護装置（関連の装置等を含む）の側面図である。
【図３】図２におけるＩ−Ｉ線に沿った図である。
【図４】従来のジャバラ式のレーザ光保護装置の斜視図である。
【図５】従来のジャバラ式のレーザ光保護装置（関連の装置等を含む）の側面図である。
【符号の説明】
３　レーザ発信器
９　加工ヘッド
３３　レーザ光保護装置
３５　光路ジャバラ
３７　レーザ光路
３９　ジャバラガイド
４３　ぶら下がり板
４５　第１アーム
４７　第２アーム
４９　第１ローラ
５１　第２ローラ
５３　第１接触布
５５　第２接触布
【図１】
2004009121.tif 000003
【図２】
2004009121.tif 000004
【図３】
2004009121.tif 000005
【図４】
2004009121.tif 000006
【図５】
2004009121.tif 000007