(57)【要約】【課題】光学部品からなる被検体の表面状態を測定する干渉計装置において、表面状態の測定精度を保持しつつ、光学部品の製造効率向上を図ることができるようにする。【解決手段】干渉計本体３と、該干渉計本体３の上部３ａに設けられ、該干渉計本体３に対して上下方向に固定した位置に光学部品からなる被検体２を載置する載置部４３を有する設置台５とを備え、前記干渉計本体３が、前記被検体２の被検面２ａにレーザ光を入射するレーザ光学系と、前記被検体２の下方側に配され、前記レーザ光の一部を反射して参照光を生成する参照面９ａを有する参照光学系と、該参照光および前記被検面２ａにおいて反射する被検光により生じる干渉縞を観察する観察部とを備え、前記設置台５が、前記レーザ光の光軸に直交する方向に前記被検体２を移動させるステージ部４１を備えていることを特徴とする干渉計装置を提供する。【選択図】      図２
2004163258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉計本体と、該干渉計本体の上部に設けられ、該干渉計本体に対して上下方向の所定位置に保持可能に光学部品からなる被検体を載置する載置部を有する設置台とを備え、
前記干渉計本体が、前記被検体の被検面にレーザ光を入射するレーザ光学系と、前記被検体の下方側に配され、前記レーザ光の一部を反射して参照光を生成する参照面を有する参照光学系と、該参照光および前記被検面において反射する被検光により生じる干渉縞を観察する観察部とを備え、
前記設置台が、前記レーザ光の光軸に直交する方向に前記被検体を移動させるステージ部を備えていることを特徴とする干渉計装置。
【請求項２】
前記載置部が、前記ステージ部の所定位置に着脱自在に固定されることを特徴とする請求項１に記載の干渉計装置。
【請求項３】
前記ステージ部が、前記レーザ光の光軸回りに回転可能な回転部を備え、
該回転部の回転のみに連動して、前記干渉計本体に対して前記被検面を前記レーザ光の光軸方向に移動させる位置調整機構が設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の干渉計装置。
【請求項４】
前記ステージ部が、前記干渉計本体に固定される固定部と、該固定部の上部に設けられ、該固定部に対して前記光軸に直交する方向に移動可能な移動部とを備え、
これら固定部および移動部の少なくとも一方が磁性体からなり、該他方に磁性体を吸引するマグネットが設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の干渉計装置。
【請求項５】
前記ステージ部が、前記干渉計本体に固定される固定部と、該固定部の上部に設けられ、該固定部に対して前記光軸に直交する一方向に移動可能な第１の移動部と、該第１の移動部の上部に設けられ、該第１の移動部に対して前記光軸および前記一方向に直交する方向に移動可能な第２の移動部とを備え、
これら第１、第２の移動部の少なくとも一方が磁性体からなり、該他方に磁性体を吸引するマグネットが設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の干渉計装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、干渉縞の観察により、レンズ、フィルター等の光学部品の表面精度、曲率精度等の表面状態を測定するための干渉計装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光学部品からなる被検レンズ（被検体）の表面状態を測定する干渉計装置としては、例えば、図７に示すように、レーザ光源６１と、レーザ光源６１から発振されたレーザ光を平行光とするコリメータレンズ６３と、参照レンズ６５と、参照レンズ６５および被検レンズ６７からの反射光により生成される干渉縞を観察するためのＣＣＤカメラ７１と、参照レンズ６５の上方に配され、レーザ光を被検レンズ６７に到達させるための観察孔７３ａを有する設置台７３とを備えている。
【０００３】
この干渉計装置による被検レンズ６７の被検面６７ａの表面状態を測定する際には、被検レンズ６７を設置台７３に載置した状態で、平行光としたレーザ光を参照レンズ６５の下方から入射し、このレーザ光の一部を参照レンズ６５の参照面６５ａにおいて反射させると共に、残りのレーザ光を透過させて被検レンズ６７の被検面６７ａにおいて反射させる。そして、これら反射光により生じる干渉縞を観察することにより行われる。
【０００４】
このような干渉計装置では、レーザ光源６１、コリメータレンズ６３、参照レンズ６５、集光レンズ６９およびＣＣＤカメラ７１は、干渉計本体８１に固定されている。
一方、設置台７３は、干渉計本体８１に対して移動可能となっている。すなわち、被検レンズ６７の光軸を参照レンズ６５の光軸７５に一致させるアライメントを行うため、光軸７５に直交する方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）に移動可能となっている。なお、ここでＸ軸方向およびＹ軸方向は、互いに直交する方向を示している。また、設置台７３は、この干渉計装置を様々な曲率を有する被検レンズの測定に対応させるため、光軸７５に沿う方向（Ｚ軸方向）に移動可能となっている。
また、従来の干渉計装置としては、上記のものの他に、例えば、特許文献１に示すように、測定のためのレーザ光を基準体の上方から被検体に入射させるものがある。
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−８３６０９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、この干渉計装置は、光学部品の製造効率および品質の向上を目的として、光学部品の製造ラインに組み込むことが検討されている。
しかしながら、上記従来の干渉計装置においては、被検レンズ６７を設置台７３に載置する際には、設置台７３がＺ軸方向下方に移動する虞があるため、被検レンズ６７の交換作業が面倒となり、被検レンズ６７の表面状態の測定の効率が低くなるという問題があった。したがって、この干渉計装置を製造ラインに組み込んだ場合には、光学部品の製造効率が低くなるという問題があった。
【０００７】
また、特許文献１に示すように、光学部品からなる被検体を置く支持台がＺ軸方向に移動しないものもあるが、この場合には、測定のためのレーザ光を基準体の上方から入射する構成となっている。このため、被検体および基準体の光軸を一致させるアライメントを行う際には、干渉計本体を移動させる必要がある。したがって、干渉計装置の占有面積が大きくなり、干渉計装置の製造ラインへの組み込みが困難になるという問題があった。
【０００８】
この発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、光学部品の表面状態を測定する干渉計装置において、被検体の測定精度を保持しつつ、被検体である光学部品の製造効率向上を図ることができる干渉計装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項１に係る発明は、干渉計本体と、該干渉計本体の上部に設けられ、該干渉計本体に対して上下方向の所定位置に保持可能に光学部品からなる被検体を載置する載置部を有する設置台とを備え、前記干渉計本体が、前記被検体の被検面にレーザ光を入射するレーザ光学系と、前記被検体の下方側に配され、前記レーザ光の一部を反射して参照光を生成する参照面を有する参照光学系と、該参照光および前記被検面において反射する被検光により生じる干渉縞を観察する観察部とを備え、前記設置台が、前記レーザ光の光軸に直交する方向に前記被検体を移動させるステージ部を備えていることを特徴とする干渉計装置を提案している。
【００１０】
この発明に係る干渉計装置において、被検体の被検面の表面状態を測定する際には、はじめに、被検体を設置台の載置部に載置する。この際には、設置台が干渉計本体に対して上下方向に移動することがないため、被検面と参照面との相対的な距離が変化しない。
【００１１】
被検体を載置部に載置した後には、レーザ光学系により参照光学系および被検体にレーザ光を入射し、参照光および被検光により生じる干渉縞を観察部において観察しながら、ステージ部を移動させる。これにより、被検面の光軸をレーザ光学系および参照面の光軸に一致させることができるため、被検体の表面精度、曲率精度等の表面状態を精度よく測定することができる。
また、干渉計本体を移動させることなく、被検面および参照面の光軸を一致させることができるため、干渉計装置の専有面積の増加を防ぐことができる。
【００１２】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の干渉計装置において、前記載置部が、前記ステージ部の所定位置に着脱自在に固定されることを特徴とする干渉計装置を提案している。
この発明に係る干渉計装置によれば、被検体の種類に合わせて高さ寸法の異なる載置部を予め用意してくことにより、載置部を交換して被検面と参照面との相対的な距離を容易に変化させることができるため、複数種類の被検体の被検面について容易に測定できる。
また、載置部がステージ部の所定位置に固定される構成であるため、載置部を交換した場合であっても、被検面の光軸と参照面の光軸とのずれを小さくすることができる。したがって、両者の光軸を一致させる調整量を少なくできると共に、この調整を容易に行うことができる。
【００１３】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の干渉計装置において、前記ステージ部が、前記レーザ光の光軸回りに回転可能な回転部を備え、該回転部の回転のみに連動して、前記干渉計本体に対して前記被検面を前記レーザ光の光軸方向に移動させる位置調整機構が設けられていることを特徴とする干渉計装置を提案している。
【００１４】
この発明に係る干渉計装置によれば、回転部を回転させることにより被検体を光軸方向に移動させて、被検面と参照面との相対的な距離を容易に調整することができる。また、回転部が光軸回りに回転しない限り、設置台が干渉計本体に対して上下方向に移動しないため、設置台に上下方向の外力が加えられても、設置台が干渉計本体に対して移動することがない。したがって、被検体を設置台に載置しても、被検面と参照面との相対的な距離を確実に保持できる。
【００１５】
請求項４に係る発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の干渉計装置において、前記ステージ部が、前記干渉計本体に固定される固定部と、該固定部の上部に設けられ、該固定部に対して前記光軸に直交する方向に移動可能な移動部とを備え、これら固定部および移動部の少なくとも一方が磁性体からなり、該他方に磁性体を吸引するマグネットが設けられていることを特徴とする干渉計装置を提案している。
【００１６】
請求項５に係る発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の干渉計装置において、前記ステージ部が、前記干渉計本体に固定される固定部と、該固定部の上部に設けられ、該固定部に対して前記光軸に直交する一方向に移動可能な第１の移動部と、該第１の移動部の上部に設けられ、該第１の移動部に対して前記光軸および前記一方向に直交する方向に移動可能な第２の移動部とを備え、これら第１、第２の移動部の少なくとも一方が磁性体からなり、該他方に磁性体を吸引するマグネットが設けられていることを特徴とする干渉計装置を提案している。
【００１７】
この発明に係る干渉計装置によれば、固定部および各移動部が互いに磁力により吸着するため、設置台に振動や衝撃を与えても各移動部が不意に移動することを抑制して、被検面の光軸が参照面の光軸からずれることを防止できる。したがって、例えば、被検体の交換作業をさらに容易に行うことができる。また、この移動を抑制する機構が、磁性体およびマグネットを使用した単純な構成からなるため、参照光、被検光を干渉計本体の内部に通過させるステージ部の開口寸法を大きくとりながらも干渉計装置の小型化を図ることができると共に、干渉計装置の製造コストの増加を抑制できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１から図６はこの発明に係る一実施形態を示す。この実施の形態に係る干渉計装置１は、光学部品からなる被検レンズ（被検体）２の表面状態を測定するためのものであり、図１に示すように、干渉計本体３と、干渉計本体３の上部３ａに設けられ、被検レンズ２を載置するための設置台５とを備えている。
干渉計本体３は、被検レンズ２の被検面２ａにレーザ光を入射するレーザ光学系７と、被検レンズ２の下方側に配され、レーザ光の一部を参照面９ａにおいて反射して参照光を生成する参照光学系９と、参照光および被検面２ａにおいて反射する被検光により生じる干渉縞を観察する観察部１１とを備えている。
【００１９】
レーザ光学系７は、レーザ光源１３、コリメータレンズ１５およびビームスプリッタ１７を備えており、それぞれ干渉計本体３内部の所定位置に固定されている。このため、レーザ光源１３から参照光学系９までの光路は、各部材の光軸に正確に一致した状態に保持されている。レーザ光源１３から発振されたレーザ光は、コリメータレンズ１５において平行光とされ、この平行光は、ビームスプリッタ１７により干渉計本体３の上部３ａに設置された参照光学系９および被検レンズ２に向けて入射される。
【００２０】
観察部１１は、レーザ光学系７のビームスプリッタ１７の下方に配されており、集光レンズ１９およびＣＣＤカメラ２１から構成されている。これら集光レンズ１９およびＣＣＤカメラ２１は、それぞれ干渉計本体３の内部の所定位置に固定されているため、参照光学系９からＣＣＤカメラ２１までの光路は、各部材の光軸に正確に一致した状態に保持されている。
集光レンズ１９は、参照光および被検光を集光してＣＣＤカメラ２１の撮像面に結像させるものであり、ＣＣＤカメラ２１は、これら参照光および被検光により生じる干渉縞を記録するためのものである。
【００２１】
参照光学系９は、図２に示すように、被検レンズ２のリファレンスとなる参照レンズ２３と、参照レンズ２３の下方側に設けられた２枚の収差補正レンズ２５とから構成されている。参照レンズ２３は、その上面が参照面９ａとなっている。収差補正レンズ２５は、参照レンズ２３の収差を補正するものである。これら参照レンズ２３および収差補正レンズ２５は、略円筒状に形成されたホルダー３１に固定されており、この状態においては、参照レンズ２３および収差補正レンズ２５の光軸とホルダー３１の中心軸線とが略一致する。
【００２２】
ホルダー３１は、略円筒状に形成された干渉計本体３の上部３ａに対して着脱自在に取り付けられている。すなわち、ホルダー３１は、その上端部が半径方向外方に突出する突出部３１ａに形成されており、その下端部が干渉計本体３の上方から上部３ａの中心軸線に沿って挿入されている。この状態においては、ホルダー３１の突出部３１ａが干渉計本体３上部３ａの上端面３ｂに当接しており、これら上部３ａおよびホルダー３１の中心軸線が正確に一致する。
なお、干渉計本体３の上部３ａには、このホルダー３１をレーザ光の光軸方向に直交する方向に傾斜させる傾斜調整機構（図示せず）が設けられている。この傾斜調整機構により、参照光学系９の参照面９ａの光軸をレーザ光学系７により生成される平行光の光軸に正確に一致させることができる。
【００２３】
設置台５は、図２に示すように、干渉計本体３の上部３ａに設けられるステージ部４１と、ステージ部４１の上部に対して着脱自在に固定され、被検レンズ２を載置する載置部材（載置部）４３とから構成されている。
ステージ部４１は、干渉計本体３の上部３ａに固定される固定部４５と、固定部４５の上部に設けられ、固定部４５に対して移動可能な移動部４７とから構成されている。
【００２４】
固定部４５は、略円筒状に形成されており、その上端部には、半径方向内方に突出する突出部４５ａが形成されている。この固定部４５は、その下端部を干渉計本体３の上方から上部３ａの中心軸線に沿ってスライド可能に挿入されている。この状態では、突出部４５ａが干渉計本体３の段部３ｃに当接している。
また、固定部４５の外周面には、半径方向内方に貫通するネジ穴４５ｂが形成されている。そして、このネジ穴４５ｂに止めネジ４４が螺合され、干渉計本体３の外周面３ｄに突き当たっている。これにより、固定部４５が、干渉計本体３に対して固定される。なお、この状態において、干渉計本体３上部３ａおよび固定部４５の中心軸線は、互いに正確に一致している。
また、図３〜５に示すように、固定部４５の上面４５ｃ側には、複数のマグネット４６が設けられており、これらマグネット４６の上面４６ａは、固定部４５の上面４５ｃと共に同一平面を形成している。このマグネット４６は、後述する移動部４７のＸステージを磁力により吸着させ、このＸステージが不意に移動することを防止している。
【００２５】
移動部４７は、Ｚ軸方向に直交する一方向（Ｘ軸方向）に移動可能なＸステージ（第１の移動部）４９と、Ｘステージ４９の上部に設けられ、Ｚ軸方向およびＸ軸方向に直交する方向（Ｙ軸方向）に移動可能なＹステージ（第２の移動部）５１と、Ｙステージ５１の上部に設けられ、Ｚ軸回りに回転可能な回転部５３とから構成されている。
【００２６】
Ｘステージ４９は、略円筒状に形成された磁性体からなり、その側面に形成されたネジ穴４９ａには、固定部４５に設けられた移動用ネジ部４５ｄが螺合している。また、Ｘステージ４９には、Ｘステージ４９を固定部４５に対してＸ軸方向のみに移動させるためのレール４９ｂが形成されている。したがって、この移動用ネジ部４５ｄを回転させることにより、Ｘステージ４９が、Ｙステージ５１および回転部５３と共に、固定部４５に対してレール４９ｂに沿って移動する。また、Ｘステージ４９の上面４９ｃ側には、複数のマグネット５０が設けられており、これらマグネット５０の上面５０ａは、Ｘステージ４９の上面４９ｃと共に同一平面を形成している。このマグネット５０は、マグネット４６と同様に、Ｘステージ４９にＹステージ５１を磁力により吸着させて、Ｙステージ５１が不意に移動することを防止している。
【００２７】
Ｙステージ５１は、略円筒状に形成された磁性体からなり、その側面に形成されたネジ穴５１ａには、Ｘステージ４９に設けられた移動用ネジ部４９ｄが螺合している。また、Ｙステージ５１には、Ｙステージ５１をＸステージ４９に対してＹ軸方向のみに移動させるためのレール５１ｂが形成されている。したがって、この移動用ネジ部４９ｄを回転させることにより、Ｙステージ５１が、回転部５３と共に、固定部４５およびＸステージ４９に対してレール５１ｂに沿って移動する。また、Ｙステージ５１の内周面には、回転部５３を螺合させるための雌ネジ部５１ｅが形成されている。
【００２８】
回転部５３は、略円筒状に形成されており、その下端部の外周面には、Ｙステージ５１の雌ネジ部５１ｅに螺合する雄ネジ部５３ａが形成されている。このため、回転部５３は、その中心軸線回りに回転することにより、Ｙステージ５１に対して中心軸線方向（Ｚ軸方向）に移動可能となっている。これらＹステージ５１の雌ネジ部５１ｅ、および回転部５３の雄ネジ部５３ａにより位置調整機構１０１が構成されている。
また、回転部５３の上端部には、半径方向外方に突出する突出部５３ｂが形成されている。回転部５３をＹステージ５１に取り付けた状態においては、この突出部５３ｂが、Ｙステージ５１の周縁部からＺ軸方向に突出する突出部５１ｄの内周面に接触している。このため、Ｙステージ５１および回転部５３の中心軸線は互いに正確に一致している。
【００２９】
載置部材４３は、図２に示すように、有底略円筒状に形成されており、その開口部４３ａを下方に向けた状態で、回転部５３の上部に固定されている。すなわち、開口部４３ａは、回転部５３の穴５３ｂにスライド可能に挿入されると共に、半径方向に貫通させて形成された回転部５３のネジ穴５３ｃに、止めネジ５５を螺合させて開口部４３ａに突き当てている。この状態において、載置部材４３の中心軸線は、回転部５３の中心軸線に正確に一致している。
また、載置部材４３の底部４３ｂには、載置部材４３の中心軸線を中心とする断面円形状の観察孔４３ｃが形成されている。さらに、この底部４３ｂには、観察孔４３ｃの周縁部にわたって、Ｚ軸方向上方に突出する突出部４３ｄが形成されており、この突出部４３ｄの先端に被検レンズ２が載置される。
なお、載置部材４３のＺ軸方向の寸法は、測定される被検レンズ２の被検面２ａの曲率中心を参照面９ａの曲率中心に略一致させる長さとなっている。
【００３０】
以上のように構成された干渉計装置１を用いて被検レンズ２の表面状態の観察方法について以下に説明する。
はじめに、図２に示すように、測定対象となる被検レンズ２の曲率中心が参照面９ａの曲率中心に略一致する載置部材４３を選択して、回転部５３の上部に固定する。次いで、凸レンズである被検レンズ２の被検面２ａを参照レンズ２３の参照面９ａに対向させた状態にて突出部４３ｄの先端に載置する。
【００３１】
この状態で、レーザ光源１３からレーザ光を発振し、参照面９ａおよび被検面２ａに入射する。そして、被検面２ａおよび参照面９ａにおいて反射した被検光および参照光により生じる干渉縞をＣＣＤカメラ２１において観察しながら、Ｘステージ４９、およびＹステージ５１を移動させる。これにより、被検面２ａを移動させ、その光軸をレーザ光学系および参照面９ａの光軸に一致させる。なお、載置部材４３を回転部５３に固定した状態では、観察孔４３ｃの中心軸線がステージ部４１の中心軸線と略一致しているため、Ｘステージ４９、Ｙステージ５１による調整量が微小となる。
【００３２】
また、回転部５３をＹステージ５１に対して中心軸線回りに回転させることにより、被検面２ａと参照面９ａとの相対距離の微小な調整を行い、被検面２ａの曲率中心を参照面９ａの曲率中心に正確に一致させる。以上のように、被検面２ａと参照面９ａとの相対位置を調整した後に、参照光および被検光により生じる干渉縞を観察することで、被検面の曲率精度および表面精度の測定が行われる。
【００３３】
なお、被検レンズ２を載置する際には、被検面２ａと参照面９ａとの相対位置がずれることはない。すなわち、載置部材４３に載置された被検レンズ２の上下方向の移動は、回転部５３の回転のみに限られている。したがって、設置台５に上下方向の外力が加えられても、設置台５が干渉計本体に対して上下方向に移動することがないため、被検面２ａと参照面９ａとの相対的な距離が変化しない。また、Ｘステージ４９およびＹステージ５１は、それぞれの移動用ネジ部４５ｄ，４９ｄにより移動される構成であるため機械的な遊びが存在するが、マグネット４６，５０により固定部４５、Ｘステージ４９およびＹステージ５１を互いに吸着させることにより、Ｘステージ４９およびＹステージ５１を調整した位置に保持できる。したがって、被検面２ａと参照面９ａとの光軸が正確に一致した状態に保持できる。
したがって、連続的に同じ形状の被検レンズ２について測定を行う場合は、上述したステージ部４１の移動は不要となる。
【００３４】
また、異なる形状の被検レンズ２について測定を行う場合には、載置部材を交換する。例えば、測定対象となる被検レンズ２を凸レンズから凹レンズに変更する場合には、図６に示すように、載置部材４３とは異なる高さ寸法を有する載置部材４２を回転部５３に固定して、凹レンズである被検レンズ２の被検面２ａを参照面９ａの曲率中心ｃ１および光軸Ｌ１に略一致させる。その後は、前述と同様に、ステージ部４１を移動させて、被検レンズ２の被検面２ａをこれら曲率中心ｃ１および光軸Ｌ１に正確に一致させる。
また、参照レンズ２３を交換する場合には、ホルダー３１ごと干渉計本体３から取り外し、異なる参照レンズ２３が固定された別のホルダー３１を干渉計本体３に取り付ける。
【００３５】
上記のように、この干渉計装置１によれば、被検レンズ２を載置部材４２，４３に載置した際に、被検面２ａと参照面９ａとの相対的な距離が変化しない構成となっている。また、固定部４５、Ｘステージ４９およびＹステージ５１が磁力により互いに吸着するため、被検レンズ２の光軸が、交換作業の際に発生する振動、衝撃等により参照面の光軸からずれることを防止している。したがって、被検レンズ２の交換作業を容易に行うことができる。
【００３６】
さらに、被検面２ａの光軸を参照面９ａの光軸に一致させるステージ部４１が干渉計本体３の上部３ａに設けられているため、被検面２ａの表面状態を精度よく測定できる。また、載置部材４２，４３がステージ部４１の所定位置に固定される構成であるため、被検面２ａおよび参照面９ａの光軸を互いに一致させる調整量を少なくできると共に、この調整を容易に行うことができる。以上のことから、被検レンズ２の表面状態の測定の効率化を図ることができる。
したがって、この干渉計装置１を光学部品の製造ラインに組み込むことにより被検レンズ２である光学部品の製造効率の向上を図ることができる。
【００３７】
また、製造ラインにおいて、一定の規格の光学部品のみを製造する場合には、干渉計装置１において参照面９ａと光学部品の被検面２ａとの相対距離を、従来の干渉計装置のように連続的に変化させる必要はない。したがって、この相対距離は、載置部材４２，４３を交換すると共に、回転部５３を回転させて調整すれば必要かつ十分であり、干渉計装置１をこのように構成することで、干渉計装置１の製造コスト削減を図ることができる。
【００３８】
さらに、ステージ部４１が被検レンズ２を移動させる構成であるため、従来の干渉計装置のように干渉計本体を移動させることがなく、干渉計装置１の専有面積の増加を防ぐことができる。したがって、干渉計装置１の製造ラインへの組み込みを容易にできる。
また、被検レンズ２の種類に応じた高さ寸法を有する載置部材４２，４３に交換するだけで、様々な曲率中心を有する被検面２について容易に測定できる。
【００３９】
また、Ｘステージ４９およびＹステージ５１の移動を抑制する機構が、磁性体およびマグネット４６，５０を使用した単純な構成からなる。このため、参照光、被検光を干渉計本体３の内部に通過させるステージ部４１の開口寸法を大きくしながらも干渉計装置１の小型化を図ることができると共に、干渉計装置１の製造コストの増加を抑制できる。
【００４０】
なお、上記の実施の形態において、表面状態を観察する対象は、凸レンズ、凹レンズである被検レンズ２としたが、これに限ることはなく、例えば、被検面２ａが平面である被検体であってもよい。
この場合には、参照面９ａが平面である参照光学系７を予め用意すると共に、レーザ光の光軸方向およびこの光軸に直交する方向に移動するステージ部４１に替えて、被検体を光軸に対して自在に傾斜させる傾斜ステージ部（図示せず）を用いる。この傾斜ステージ部により、被検面２ａおよび参照面９ａを相互に平行とする調整を容易に行うことができる。また、前述の傾斜ステージ部に、ステージ部４１の機能、すなわち被検体を光軸方向およびこの光軸に直交する方向に移動させる機能が備わっているとしてもよい。
また、載置部材４３は、回転部５３に対して着脱自在としたが、これに限ることはなく、例えば、回転部５３と一体に形成されるとしてもよい。
【００４１】
さらに、固定部４５およびＸステージ４９には、それぞれマグネット４６，５０を設けるとしたが、これに限ることはなく、固定部４５とＸステージ４９、およびＸステージ４９とＹステージ５１とが、それぞれ磁力により吸着していればよい。したがって、例えば、Ｘステージ４９にのみマグネットを設けるとしてもよい。ただし、この場合には、固定部４５およびＹステージ５１を磁性体から形成する必要がある。
【００４２】
また、ホルダー３１を傾斜させる傾斜調整機構が、ホルダー３１と共に設置台５を傾斜させる構成としてもよい。ただし、この構成においては、設置台５が前述した傾斜ステージ部を備える場合を除いて、被検面２ａおよび参照面９ａの光軸を互いに平行とする必要がある。
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る発明によれば、被検体を載置部に載置した際に、被検面と参照面との相対的な距離が変化しないため、被検体の交換作業を容易に行うことができる。
また、被検面の光軸を参照面の光軸に一致させるステージ部が干渉計本体の上部に設けられているため、被検体の表面状態を精度よく測定できる。以上のことから、被検体の表面状態の測定の効率化を図ることができる。また、この干渉計装置を被検体の製造ラインに組み込むことにより被検体である光学部品の製造効率の向上を図ることができる。
さらに、このステージ部が被検体を移動させる構成であるため、従来の干渉計装置のように干渉計本体を移動させることがなく、干渉計装置の専有面積の増加を防ぐことができる。したがって、干渉計装置の製造ラインへの組み込みを容易にできる。
【００４４】
また、請求項２に係る発明によれば、被検体の種類に合致した高さ寸法を有する載置部に交換するだけで、複数種類の被検面について容易に測定できる。
さらに、載置部がステージ部の所定位置に固定される構成であるため、被検面および参照面の光軸を互いに一致させる調整量を少なくできると共に、この調整を容易に行うことができる。したがって、被検体の測定の効率化をさらに図ることができる。
【００４５】
また、請求項３に係る発明によれば、位置調整機構により、被検面と参照面との相対的な距離を容易に調整できると共に、設置台に上下方向の外力が加えられても被検面と参照面との相対的な距離を確実に保持できるため、被検面の表面状態をさらに容易に、かつ精度よく測定できる。
【００４６】
また、請求項４および請求項５に係る発明によれば、固定部および各移動部が互いに磁力により吸着するため、被検面の光軸が参照面の光軸からずれることを防ぎ、被検体の交換作業をさらに容易に行うことができる。また、この移動を抑制する機構が、磁性体およびマグネットを使用した単純な構成からなるため、干渉計装置の製造コストの増加を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態に係る干渉計装置の全体構成を示す説明図である。
【図２】干渉計本体に対する参照レンズおよび被検レンズの設置位置を示す断面図である。
【図３】ステージ部から回転部を除いた状態を示す平面図である。
【図４】図３のＤ−Ｄ矢視断面図に回転部を加えた図である。
【図５】図３のＥ−Ｅ矢視断面図に回転部を加えた図である。
【図６】被検レンズが凹レンズである場合に使用する載置部材を示す断面図である。
【図７】従来の干渉計装置の一例の全体構成を示す説明図である。
【符号の説明】
１  干渉計装置
２  被検レンズ（被検体）
２ａ  被検面
３  干渉計本体
３ａ  上部
５  設置台
７  レーザ光学系
９  参照光学系
９ａ  参照面
１１  観察部
４１  ステージ部
４３  載置部材（載置部）
４５  固定部
４６，５０  マグネット
４７  移動部
４９  Ｘステージ（第１の移動部）
５１  Ｙステージ（第２の移動部）
５３  回転部
１０１  位置調整機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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