(57)【要約】【課題】耐久性、耐アルカリ性に優れるタッチパネル用透明導電性積層体を提供する。【解決手段】基材（Ａ）上に透明導電層（Ｂ）、および珪素酸化物からなる層（Ｃ）をこの順で積層させ、耐アルカリ性および耐湿熱性を両立させたタッチパネル用透明導電性積層体。前記層（Ｃ）の膜厚は５〜５０Åが望ましい。前記耐アルカリ性は、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液に、２５℃で５分浸した前後の表面抵抗値変化が１．１倍以下、前記耐湿熱性は湿熱処理（８５℃８５％ＲＨ、５００時間）を施した前後の表面抵抗値変化が０．９％以上１．１％以下であることが好ましい。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材（Ａ）上に透明導電層（Ｂ）、および珪素酸化物からなる層（Ｃ）をこの順で積層させ、耐アルカリ性および耐湿熱性を両立させたタッチパネル用透明導電性積層体。
【請求項２】
前記耐アルカリ性が、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液に、２５℃で５分浸した前後の表面抵抗値変化が１．１倍以下である、請求項１記載のタッチパネル用透明導電性積層体。
【請求項３】
前記耐湿熱性が湿熱処理（８５℃８５％ＲＨ、５００時間）を施した前後の表面抵抗値変化が０．９％以上１．１％以下である請求項１または２記載のタッチパネル用透明導電性積層体。
【請求項４】
前記層（Ｃ）の膜厚が５〜５０Åである請求項１〜３何れか一項記載のタッチパネル用透明導電性積層体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、タッチパネル用電極に好適な透明導電性積層体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に、タッチパネル等に使用されている透明導電層としては、特許文献１のように、インジウム・スズ酸化物（以下、ＩＴＯと記述）薄膜を基材上に成膜したものが用いられている。
ＩＴＯ
は、薄膜である為に傷が入りやすく、また酸やアルカリに侵されやすい。レジストを電極上に塗布して配線を印刷した後にアルカリ液等でレジストを洗浄する工程がある場合、洗浄に用いる洗浄液に侵されてクラックや剥離が起こらない薄膜が必要とされる。特に高い抵抗値が必要とされるタッチパネル用電極では、ＩＴＯ膜厚が薄くなり薬品に対して弱くなってしまう。また、耐湿熱性もタッチパネルの様々な使用環境を考えると、その耐久性の指標として重要であることから、耐アルカリ性および耐湿性を併せ持つ透明導電性積層体の開発が望まれていた。
【０００３】
【特許文献１】
特開昭６１−７９６４７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、耐久性、耐アルカリ性に優れるタッチパネル用透明導電性積層体を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、
（１）基材（Ａ）上に透明導電層（Ｂ）、および珪素酸化物からなる層（Ｃ）をこの順で積層させ、耐アルカリ性および耐湿熱性を両立させたタッチパネル用透明導電性積層体。
（２）前記耐アルカリ性が、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液に、２５℃で５分浸した前後の表面抵抗値変化が１．１倍以下である、（１）のタッチパネル用透明導電性積層体。
（３）前記耐湿熱性が湿熱処理（８５℃８５％ＲＨ、５００時間）を施した前後の表面抵抗値変化が０．９％以上１．１％以下である（１）、（２）のタッチパネル用透明導電性積層体。
（４）前記層（Ｃ）の膜厚が５〜５０Åである（１）〜（３）のタッチパネル用透明導電性積層体。
である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明は、基材（Ａ）上に透明導電層（Ｂ）、および珪素酸化物からなる層（Ｃ）をこの順で積層させ、耐アルカリ性および耐湿熱性を両立させたタッチパネル用透明導電性積層体である。前記層（Ｃ）の膜厚は５〜５０Åが望ましい。前記耐アルカリ性は、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液に、２５℃で５分浸した前後の表面抵抗値変化が１．１倍以下、前記耐湿熱性は湿熱処理（８５℃８５％ＲＨ、５００時間）を施した前後の表面抵抗値変化が０．９％以上１．１％以下であることが好ましい。
本発明に用いられる基材（Ａ）は、例えばポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレート、アクリレート等があるが、特に限定はしない。
【０００７】
上記基材（Ａ）は、押出成型またはキャスティング等の方法でシート化することができる。更に透明導電層（Ｂ）との密着性を向上させる為に、成形した基材（Ａ）の上にキャスティング、コーティングあるいは各種印刷手法、積層手法等により、樹脂組成物を積層した構造であっても良い。また、基材（Ａ）上に酸化珪素等の金属酸化物または金属の薄膜が積層されていてもよい。金属酸化物または金属薄膜の積層方法は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、コーティング等の方法があるが特に限定しない。また基材（Ａ）上に樹脂組成物と金属薄膜の両方が積層されていてもよい。
【０００８】
透明導電層を成膜する際に、基材（Ａ）との密着性を上げる為に、基材に対して前処理として、加熱処理、コロナ処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理等の処理を行ってもよい。
【０００９】
基材上に透明導電層を積層させる方法としては、ここでは主にスパッタリング法を用いているが、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の方法にも適用可能であり、成膜方法については特に限定はしない。
【００１０】
透明導電層の上に酸化珪素層を積層させた基材と、透明導電層単層の基材を比較すると、表面に高硬度の酸化珪素層が保護層となり優れた耐ペン摺動性を得ることができる。また、耐薬品性に優れる酸化珪素層を上に積層させることで耐薬品性に優れた透明導電性積層体を得られる。さらに、酸化珪素は水蒸気等にガスバリア性に優れるため、耐熱性、耐湿熱性等の耐候性に優れる透明導電性積層体を得ることが可能である。前記耐湿熱性は湿熱処理（８５℃８５％ＲＨ、５００時間）を施した前後の表面抵抗値変化が０．９％以上１．１％以下である。
【００１１】
ところが、透明導電層上に積層させる酸化珪素層の厚みも厚すぎると接触抵抗値が高くなり、安定した導電性が得られなくなる恐れがあるため、５０Å以下が望ましく、好ましくは２５Å以下、さらに好ましくは１０Å以下が望ましい。
【００１２】
また、好ましくは、透明導電層の膜質は結晶性が高い方がより耐久性に優れた膜となる。例えば結晶性の高いＩＴＯ薄膜を得るためには、基材を高い温度に加熱した状態でＩＴＯを成膜する事が望ましく、用いる基材の耐熱性にもよるが好ましくは１００℃以上より好ましくは１８０℃以上が良い。
【００１３】
成膜時に基材を加熱する方法としては、基材を赤外線で加熱、またはロール・トゥ・ロール方式では基材の巻き付いたロールを加熱することで基材を加熱する等の方法があるが特に限定はしない。
【００１４】
また、本発明は枚葉方式、ロール・トゥ・ロール方式等の成膜方式にはとらわれず、様々な方式に適用できる。
【００１５】
【実施例】
以下、本発明の実施例の説明を行う。実施例中の特性値は次の方法により測定した。
【００１６】
＜耐アルカリ性＞
積層体を５ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液の５分間浸す前後の表面抵抗値変化（Ｒ／Ｒ０）を測定した。
【００１７】
＜耐湿熱性＞
積層体を８５℃８５％ＲＨにセットした恒温高湿槽で５００時間処理する前後の表面抵抗値変化（Ｒ／Ｒ０）を測定した。
【００１８】
＜接触抵抗値＞
図２の様に、３００Ω／□の透明導電層を積層させたガラス板と本発明の積層体を導電層を内側になるように対向させて配置し、定電流源と電圧計を接続した上で定電圧源により１０ｍＡ（Ｉ）の電流を流し、対向させたガラス板と導電積層体を接触させ、電圧計により電圧値（Ｖ）を読みとる。接触抵抗値：ＲはＲ＝Ｖ／Ｉに式より算出した。また、表１中の接触抵抗は、比較例１の接触抵抗値との比の形式で掲載した。
【００１９】
（実施例１）
ポリエーテルサルフォンフィルムシート（厚み２００μｍ）を巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。まず、樹脂組成物としてエポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子製、ＶＲ−６０）１００重量部、酢酸ブチル３００重量部，セロソルブアセテート１００重量部，ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌して均一な分散液としたものをコーター部のグラビヤロールコーターを用いて乾燥前膜厚５μｍで塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の樹脂組成物はペースト状の軟化状態であった。続いて８０ｗ／ｃｍの紫外線を照射して樹脂組成物を硬化させ、巻取装置で巻き取ってフィルムシートを連続的に得た。紫外線の照射時間は１０秒間であった。
【００２０】
上記のようにして得られた基材上にＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０−４Ｐａに引き、放電ガスとしてアルゴンを５０ｃｃｍ、反応ガスとして酸素を２ｃｃｍ導入し、放電電源をＯＮして反応性スパッタリングにより、Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるインジウム・錫酸化物からなる厚さ３００Åの導電層を得た。
【００２１】
次いで連続的に、この導電層上にＳｉターゲットを用いてＤＣマグネトロン法により、放電ガスとしてアルゴンを３０ｃｃｍ、反応ガスとして酸素を１３ｃｃｍ導入し、放電電源をＯＮして反応性スパッタリングにより、厚さ５０Åの酸化珪素からなる層を成膜し、図１のような構造の透明導電性積層体を得た。
【００２２】
（実施例２）
酸化珪素からなる層の厚みを２５Åに変えた以外は実施例１と同様の条件で透明導電性積層体を得た。
【００２３】
（実施例３）
酸化珪素からなる層の厚みを１０Åに変えた以外は実施例１と同様の条件で透明導電性積層体を得た。
【００２４】
（比較例１）
酸化珪素からなる層を省いた以外は、実施例１と同じ条件で厚さ３００Åのインジウム・錫酸化物の導電層を積層させた透明導電性積層体を得た。
【００２５】
【表１】
2004126708.tif 000002
【００２６】
【発明の効果】
以上のように、本発明により基材（Ａ）上に透明導電層（Ｂ）、および珪素酸化物からなる層（Ｃ）をこの順で積層させることにより、高い耐アルカリ性、耐湿熱性を有するタッチパネル用透明導電性積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の透明導電性積層体の断面図である。
【図２】接触抵抗値測定方法の概略図である。
【符号の説明】
１　基材
２　透明導電層
３　珪素酸化物層
１１　本発明の透明導電性積層体
１２　３００Ω／□の透明導電膜を積層させたガラス板
１３　定電流源
１４　電圧計
【図１】
2004126708.tif 000003
【図２】
2004126708.tif 000004