(57)【要約】【課題】銀薄膜の白化を抑制し、高温高湿環境下でも高い耐久性を示すディスプレイ用光学フィルタおよびプラズマディスプレイ装置を提供する。【解決手段】ディスプレイ用光学フィルタは、透明な板状基板（Ａ）と、透明な高分子フィルム（Ｂ）と、少なくとも銀を主成分とする薄膜が１層以上形成されてなる導電層（Ｃ）と、導電層側に透明な粘着層が付与された保護フィルム（Ｄ）がＡＢＣＤの順で積層されて構成され、粘着層は透明なシリコン系樹脂で形成される。【選択図】　　　図１
2004017491.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な板状基板（Ａ）と、
透明な高分子フィルム（Ｂ）と、
少なくとも銀を主成分とする薄膜が１層以上形成されてなる導電層（Ｃ）と、
導電層側に透明な粘着層が付与された保護フィルム（Ｄ）とを備え、
ＡＢＣＤの順で積層されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
導電層（Ｃ）が、高屈折率透明薄膜（ａ）と銀を主成分とする薄膜（ｂ）との組み合わせ（ａ）／（ｂ）／（ａ）を繰り返し単位として２回以上６回以下繰り返した積層構成を有し、シート抵抗値が０．４〜１０Ω／□の範囲であることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項３】
保護フィルム（Ｄ）に付与された粘着層が、透明なシリコン系樹脂で形成されることを特徴とする請求項１または２記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項４】
粘着層を形成するシリコン系樹脂の塩素イオン含有量が、０．１μｇ／ｍｌ以下であることを特徴とする請求項３記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項５】
保護フィルム（Ｄ）に付与された粘着層の厚さが、２５〜７５μｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
画像を表示するためのプラズマディスプレイと、
プラズマディスプレイ画面に設置され、請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルタとを備えることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイの画面上に設置され、電磁波シールド性、赤外シールド性、表示画像の色調補正などの機能を付与できるディスプレイ用光学フィルタに関し、特に湿熱環境下における耐久性を高めたディスプレイ用光学フィルタに関する。また本発明は、該フィルタを用いたプラズマディスプレイ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、社会が高度化するにしたがって、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置用等としてめざましく普及しつつある。その中でも、ディスプレイの大型化および薄型化に対する市場要求は高まる一方である。
【０００３】
最近、大型かつ薄型化を実現することが可能であるディスプレイとしてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ：　Ｐｌａｓｍａ　Ｄｉｓｐｌａｙ　Ｐａｎｅｌ）が、注目されている。しかし、ＰＤＰはその構造原理上、強い電磁波を装置外に放出することが知られている。漏洩電磁波は、周辺の計器に障害を及ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体にも障害が及ぼす可能性もあるとの報告もされている。このため、電磁波放出に関しては、法的に規制されるようになってきている。たとえば、現在日本では、ＶＣＣＩ（Ｖｏｌｕｎｔａｒｙ　Ｃｏｎｔｒｏｌ　Ｃｏｕｎｃｉｌ　ｆｏｒ　Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ　ｂｙｄａｔａ　ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　ｏｆｆｉｃｅ　ｍａｃｈｉｎｅ）による規制があり、米国では、ＦＣＣ（Ｆｅｄｅｒａｌ　Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ　Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ）による規制がある。
【０００４】
上述したように、ＰＤＰを使用する際には、ＰＤＰから環境中に放出される電磁波を低減することが必要であり、そのため、ＰＤＰの表示画面上に電磁波シールド性を有するフィルタを取り付けることが検討されている。当然のことながら、このフィルタは波長が３８０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線に対して透過性を有することが必要であり、さらに高画質な画像を得るために低反射性を有することが望ましい。
【０００５】
電磁波を低減するには、ディスプレイの表示表面を導電性の大きな物体でおおう必要がある。可視光波長領域に対して透過性を有し、電磁波を低減させるための導電性をも有するフィルタは大きく分けて２つタイプのものが開発され、現在実用化されている。１つは、金属メッシュタイプと呼ばれているものであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させたものである。これは、優れた電磁波遮断能力を持つが、透明性が優れずモワレ像が生じることからディスプレイ用フィルタとしては、あまり好ましくない。
【０００６】
もう１つは、透明薄膜タイプと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を全面にわたって配置したものである。薄膜の材料としては導電率の高いものが好ましく、銀や金が適当な材料として挙げられる。なかでも銀は高い導電性と優れた光学特性を併せ持つため、適当な厚みに設計された銀薄膜を配置すれば、電磁波遮断機能に優れた光学フィルタを得ることができる。実際には銀薄膜と高い屈折率を有する薄膜とを交互に積層することにより、可視光線領域の光学特性を制御した電磁波遮断機能付き透明導電性フィルム、およびそれを用いたディスプレイ用光学フィルタが開発されている。このタイプは金属メッシュタイプと異なりモワレ像が生じることはなく、ディスプレイの映像性能を落とすことがない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
電磁波遮蔽機能に優れ、ディスプレイ用光学フィルタとして優れた光学特性を有する、銀を主成分とした薄膜を用いた透明導電性フィルムではあるが、高温高湿環境下において銀が凝集して白くなる、いわゆる白化現象が局部的に生じ、可視領域において透明性が部分的に損なわれることがある。
【０００８】
本発明の目的は、銀薄膜の白化を抑制し、高温高湿環境下でも高い耐久性を示すディスプレイ用光学フィルタおよびプラズマディスプレイ装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、銀薄膜を用いた透明導電性フィルムにおける銀薄膜の白化現象は、異物の混入やひび割れが原因で生じた局部的な欠陥を核として発生することことを突き止めた。
【００１０】
さらに本発明者らは、この銀薄膜の白化現象を抑制する手法を鋭意研究した結果、驚くべきことに、少なくとも銀薄膜が１層以上形成されてなる導電層の上に、透明な樹脂層を付与した保護フィルムを貼合することがきわめて有効な手段であることを見いだし、本発明に到達した。
【００１１】
［１］本発明は、透明な板状基板（Ａ）と、
透明な高分子フィルム（Ｂ）と、
少なくとも銀を主成分とする薄膜が１層以上形成されてなる導電層（Ｃ）と、
導電層側に透明な粘着層が付与された保護フィルム（Ｄ）とを備え、
ＡＢＣＤの順で積層されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタである。
【００１２】
［２］また本発明は、導電層（Ｃ）が、高屈折率透明薄膜（ａ）と銀を主成分とする薄膜（ｂ）との組み合わせ（ａ）／（ｂ）／（ａ）を繰り返し単位として２回以上６回以下繰り返した積層構成を有し、シート抵抗値が０．４〜１０Ω／□の範囲であることが好ましい。
【００１３】
［３］また本発明は、保護フィルム（Ｄ）に付与された粘着層が、透明なシリコン系樹脂で形成されることが好ましい。
【００１４】
［４］また本発明は、粘着層を形成するシリコン系樹脂の塩素イオン含有量が、０．１μｇ／ｍｌ以下であることが好ましい。
【００１５】
［５］また本発明は、保護フィルム（Ｄ）に付与された粘着層の厚さが、２５〜７５μｍの範囲であることが好ましい。
【００１６】
［６］また本発明は、画像を表示するためのプラズマディスプレイと、
プラズマディスプレイ画面に設置され、上記のディスプレイ用光学フィルタとを備えることを特徴とするプラズマディスプレイ装置である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明は、透明な板状基板（Ａ）の一方の主面上に、透明な高分子フィルム（Ｂ）、少なくとも銀を主成分とする薄膜が１層以上形成されてなる導電層（Ｃ）、粘着層を付与した保護フィルム（Ｄ）が、ＡＢＣＤの順で積層されたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタであり、さらに好ましくは、導電層（Ｂ）が、高屈折率透明薄膜（ｄ）と銀を主成分とする薄膜（ｂ）との組み合わせ（ｄ）／（ｂ）／（ｄ）を繰り返し単位として２回以上６回以下繰り返して積層された積層構成を有し、シート抵抗値が０．４〜１０Ω／□の範囲であり、より好ましくは３Ω／□以下である。
【００１８】
ここで本発明を図面で説明する。図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの一例を断面から示した図である。熱強化ガラス板等の透明な板状基板（Ａ）３０の一方の主面上に、透明導電性フィルム１０を貼り合わせ、さらにその上に透明な粘着層を付与した保護フィルム（Ｄ）４１を貼り合わせて、ディスプレイ用光学フィルタが構成される。
【００１９】
透明導電性フィルム１０は、透明な高分子フィルム（Ｂ）１００の主面上に、高屈折率酸化物薄膜（ａ）１１１、銀を主成分とする薄膜（ｂ）１１２、高屈折率酸化物薄膜（ａ）１１３、銀を主成分とする薄膜（ｂ）１１４、高屈折率透明薄膜（ｄ）１１５を順次積層した導電層１１０を有する。
【００２０】
なお図１に示した例では、（ａ）／（ｂ）／（ａ）を繰り返し単位としたときの繰り返し回数は２回であり、高屈折率透明薄膜１１３は、１回目の（ａ）／（ｂ）／（ａ）の上の（ａ）と、２回目の（ａ）／（ｂ）／（ａ）の下の（ａ）とを兼用している。
【００２１】
以下に本発明を構成する各材料、および形成方法を説明する。
高分子フィルム（Ｂ）の材料は、透明であって、その主面上に薄膜形成が支障なく実施できる材料を使用すれば良く、ガラスまたは高分子成形体が好ましい。高分子材料を具体的に例示するとポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。
【００２２】
本発明においては、透明な高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に、電磁波遮蔽機能を付加させるために、少なくとも銀を主成分とする薄膜が１層以上形成されてなる導電層（Ｂ）を形成する。電磁波遮蔽能を表す遮蔽効果は、電磁波エネルギーをどの程度減衰させるかを表し、その大きさはデシベル（ｄＢ）で表される。遮蔽効果は、次に示す式（１）で表される相対評価であり、この数値が大きいほど遮蔽効果があるといえる。Ｅｉは入射電界強度、Ｅｔは伝送電界強度つまり電磁波遮蔽体を透過した電磁波の電界強度を示し、いずれも単位はＶ／ｍである。
ＳＥ＝２０ｌｏｇ（Ｅｉ／Ｅｔ）　　　　　　　　　　　　　…（１）
【００２３】
漏洩電磁界の規制値は、絶対値である放射電界強度で示され、その単位はｄＢμＶ／ｍである。測定対象物から３ｍ離れた規制値は、工業用途を対象とする場合は、５０ｄＢμＶ／ｍであり、家庭用途を対象とする場合には、４０ｄＢμＶ／ｍである。プラズマディスプレイの放射電界強度は、２０〜１００ＭＨｚ帯域内で５０ｄＢμＶ／ｍを超えているため、このままでは使用することができないため、電磁波遮蔽体を必要とするのである。
【００２４】
プラズマディスプレイに対する充分なシールド効果を達成するためには、シート抵抗が１０Ω／□以下の導電層を有していればよく、さらには５Ω／□以下、よりさらには３Ω／□以下が好ましい。シート抵抗が１０Ω／□であり、なおかつ透明性を有する透明導電性フィルムを得るために、銀を主成分とする薄膜が１層以上形成されてなる導電層（Ｃ）を形成する。導電性に優れた材料としては、金、銀等が挙げられるが、金は着色するため透明導電性フィルムの導電層材料としては好ましくない。一方、銀は薄膜として形成した場合、可視光領域にほとんど着色のないことから最も好適に使用される材料である。
【００２５】
ディスプレイ用光学フィルタに使用する透明導電性積層体としては、可視光領域における光線透過率はできるだけ高くすることが望まれる。電磁波遮断能の増強を目指して銀薄膜の厚さを増せば、銀の可視光領域における吸収により光線透過率が低下し光学フィルタとして使いものにならなくなる。したがって、銀薄膜を用いたディスプレイ用光学フィルタを製造する際には、銀薄膜の厚さを電磁波遮断能が充分に確保できるシート抵抗値を有し、さらにディスプレイの画質を損なわないだけの可視光透過率が確保できる範囲としなければならないのである。銀薄膜の具体的な厚さとしては、５ｎｍ〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲である。銀薄膜を繰り返し積層する場合においては、そのトータルの厚さが上記の範囲であることが好ましい。
【００２６】
一方、光学フィルタの電磁波遮断性能を高めるためには、積層膜のシート抵抗値をできるだけ低くすることが必要であり、１０Ω／□以下とすることが好ましい。銀薄膜のシート抵抗値は膜厚に反比例しており、膜厚を２倍にすればシート抵抗値は０．５倍になる。実際に必要とされる電磁波遮断能はディスプレイの種類、大きさによっても異なるが、電磁波放射の大きいプラズマディスプレイパネルの場合にはシート抵抗が１０Ω／□以下、サイズが４２型以上と大きくなると２Ω／□以下であることが必要とされている。銀薄膜の厚さを増しシート抵抗値を小さくするほど、電磁波遮断能が増し信頼性に優れた光学フィルタを得ることができる。
【００２７】
ただし、電磁波遮蔽能を増すために銀薄膜の厚さを増すといっても、その範囲はディスプレイの画質を損なわないだけの可視光透過率が確保できる範囲でなければならない。そのために、積層膜のシート抵抗値の下限は０．４Ω／□とする必要がある。シート抵抗値を０．４Ω／□以下とするには銀薄膜の厚さを相当厚くしなければならず、ディスプレイの光学フィルタとして必要な可視光透過率が得られなくなる。すなわち、透明性、および電磁波遮蔽能の両方を満足した透明導電性フィルムを得るために、銀を主成分とする導電層のシート抵抗は、０．４〜１０Ω／□の範囲としなければならないのである。
【００２８】
可視光透過率を高めることは銀薄膜銀薄膜と高屈折率酸化物薄膜とを交互に繰り返し積層した積層体を用いることにより可能となる。たとえば、銀薄膜を１層のみ形成したとすると、可視光領域において金属特有のギラギラとした反射が発生し、透過する光線が少なくなる。すなわち光線透過率が低下し、さらに可視光線反射率が高いためにディスプレイに映り込みが発生して、その画面が著しく見づらくなってしまう。高屈折率の酸化物薄膜を積層させるとその反射が抑制でき、画質の低下を防ぐことができるのである。具体的には１層の銀薄膜を、適当な厚みで酸化物／銀／酸化物／銀／酸化物と、酸化物を介して２層とすることで可視光透過率が５％以上上昇させることが可能である。銀を２層と分割してもトータルの厚さを変えなければシート抵抗値はほとんど変化しない。また、積層数を多くするほど所望の光学特性に近い光学フィルタを設計しやすくなる。
【００２９】
銀薄膜には、純度９９％以上、さらに好ましくは純度９９．９％以上の銀を使用するのがよい。銀は、近赤外線を反射すること、導電性に優れること、の２点において本発明の積層体を構成する薄膜材料として最適なものである。純度が低下すると、可視光線の吸収が増加し光学フィルタの可視光透過率が低下するのに加え、導電率も低下する。導電率の低下は、光学フィルタに電磁波シールド機能を付随させたいときに不利になる。以上の欠点が含まれることを考慮した上で、あえて１〜１０重量％程度の貴金属をドープさせてもよい。具体的には、金、パラジウム、白金、銅等の貴金属のドープにより可視光線透過率、および導電率の低下はするが、耐久性を向上させる効果がある。
【００３０】
銀薄膜および酸化物薄膜の成膜は真空蒸着法やスパッタリング法といった従来からよく知られている手法により行えばよい。真空蒸着法では、所望の材料を蒸着源として使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱蒸着させることで、簡単に薄膜を形成することができる。また、スパッタリング法を用いる場合は、ターゲットに所望の材料を用いて、スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッタリング法や高周波スパッタリング法を用いて薄膜を形成することができる。酸化物薄膜を成膜する場合にはスパッタリングガス中に酸素を混合し酸素と反応させながら成膜してもよい。成膜速度を上昇させるために、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンスパッタリング法が用いられることも多い。スパッタリング法によれば、蒸着法に比べて基材との密着力に優れた薄膜を得ることができるため、より好適に使用できる。
【００３１】
銀薄膜と酸化物薄膜とを交互に積層する場合には１つの真空室の中に複数の成膜室を設置しておき、積層される順番に基材を移動させて順次薄膜を形成してもよい。この手法によれば、複数の薄膜を有する積層体が、１つの真空設備で経済的に得ることができる。
【００３２】
図２は、この手法の概念を模式的に示したものである。真空室７０の中に主成分が銀からなるスパッタリングターゲット７０２，７０４、および高屈折率酸化物からなるスパッタリングターゲット７０１，７０３，７０５を積層する順番に配置し、高分子フィルム基材１００の主面上に、薄膜を成膜しながら矢印７１１の方向に移動させ巻き取っていく。そうすると、配置されたターゲットの順に薄膜が形成され、基材の面上に酸化物／銀／酸化物／銀／酸化物と５層構成を有する積層体が一度に製造できるのである。
【００３３】
また、銀薄膜と屈折率の異なる材料を交互に繰り返し積層させることにより可視光透過率の波長分散を制御できることが知られている。屈折率の異なる材料としては、波長５５０ｎｍの光線に対する屈折率が１．４以上、かつ可視光領域での吸収が小さく波長が４００ｎｍ〜７００ｎｍの光線に対する透過率が６０％以上の材料が好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、酸化アンチモン、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化亜鉛等の酸化物が挙げられる。なかでも酸化スズをドープした酸化インジウム、酸化アルミニウムを酸化亜鉛、酸化アンチモンをドープした酸化スズは屈折率が２．０以上と大きいのに加え、導電性も有しているので最適な材料である。
【００３４】
本発明においては、銀を主成分とする薄膜が、導電層として少なくとも１層以上形成されたその上に、銀薄膜の白化現象を抑制する目的で、透明な樹脂層を湿式塗布法により形成しなければならない。先に、銀薄膜の白化現象は、異物の混入やひび割れが原因で生じた局部的な欠陥を核として発生することを述べた。
【００３５】
光学フィルタを電磁波遮断に使用する場合、ディスプレイの画面上に光学フィルタを設置するときに、銀薄膜をディスプレイのアースと電気的に接続すればディスプレイの画面から放射される電磁波を減衰させることができる。また銀薄膜とアース線との間の接触抵抗を小さくするために、アースとの接続部分の銀薄膜上には導電ペーストを塗布して電極を形成するのが好ましい。その際には、ディスプレイの周辺部に導電ペーストを塗布することとし、該ペーストが有効画像エリアの中に見えてしまわないようにすれば、画像への影響もない。
【００３６】
積層体を用いたディスプレイ用光学フィルタの形状は、充分な機械的強度を有し、ディスプレイの画面上に設置できる形状であれば良く、厚さが１〜１０ｍｍの板状が最も好ましい。したがって薄膜形成に使用する基材も板状の成形体が好ましいが、銀薄膜および酸化物薄膜の成膜手法である蒸着法やスパッタリング法は真空室を必要とする手法であるため、大きなサイズの成形体に全面にわたって均質な薄膜を直接成膜することが困難である。そのような場合には巻き取り可能なフィルム状の高分子成形体にロール・ツ・ロールで薄膜を形成した後、これを充分な強度を有する板状成形体に貼り合わせればよい。本発明においては、銀薄膜と酸化物薄膜とを交互に繰り返し積層するので、その方法は薄膜形成の大量加工に適している点で有利である。光学フィルタをより軽量とした場合には、板状形成体に高分子成形体を、より寸法の安定性を高める場合にはガラスを使用すればよく、要求される性能に応じて使い分ければよい。
【００３７】
図３は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの一例を断面から示した図であり、図１に示した透明導電性フィルム１０の、導電層を形成した面とは逆側の面を、粘着材２０によって、透明な基板３０に貼り合わせて、ディスプレイ用光学フィルタ５０を示している。
【００３８】
図４は、本発明のプラズマディスプレイ装置の一例を断面で示した図であり、プラズマディスプレイパネル６０の表示画面６０１上に、ディスプレイ用光学フィルタ５０を、導電層と、ディスプレイの周囲に配置されたアース電極６０２とが接触するように設置することにより、ディスプレイの画面から放射される電磁波をディスプレイ用光学フィルタが遮断する。なお、ここで図面により説明したディスプレイ用光学フィルタには、導電層として形成された銀薄膜の上に高屈折率酸化物薄膜層が形成されており、該高屈折率酸化物薄膜層を介してアース電極との導通を図ることになるが、該高屈折酸化物薄膜層は薄い膜であるため、高周波に対して低インピーダンスとなり、導通がとれないといった障害はないことを付記しておく。
【００３９】
板状成形体と基体に高分子フィルムを使用したフィルム状の積層体とを貼り合わせるのに用いられる粘着材は、できるだけ透明なものが好ましい。使用可能な粘着剤を例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着材、ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）等である。中でもアクリル系粘着材は、透明性および耐熱性に優れるために特に好適に用いられる。また、フィルムまたはシート状の誘電体を光学フィルタに貼り合わせる場合にも同じ粘着剤を使用することができる。
【００４０】
粘着材の形態は、大きく分けてシート状のものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通常、感圧型であり、貼り付け後に各部材をラミネートすることによって貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布貼り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるものであり、粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選定される。粘着材層の厚みに特に制限はないが、０．５〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍである。粘着材を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせたときに入り込んだ気泡を脱法させたり、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条件下にて養生を行うことが好ましい。このとき、加圧条件としては、一般的に数気圧〜２０気圧程度であり、加温条件としては、各部材の耐熱性にもよるが、一般的には室温以上、８０℃以下である。
【００４１】
本発明において粘着剤を使用した貼り合わせ方法に特に制限はない。通常は、高分子フィルムに粘着材を貼り付け、その上を離型フィルムで覆ったものをロール状態で予め用意しておき、ロールから高分子成形フィルムを繰り出しながら、離型フィルムをはがしていき、高分子成形体基板上へ貼り付け、ロールで押さえつけながら貼り付けていく。貼り合わせられたフィルム上に重ねて貼り合わせる場合も同様である。
【００４２】
光学フィルタの表面には、硬度を増す等の理由でハードコート層が設けられることが多い。ハードコート層材料としては、アクリレート樹脂またはメタクリレート樹脂が用いられる場合が多いが、特に限定されるわけではない。またハードコート層の形成方法は、紫外線硬化法または重合転写法が用いられる場合が多いが、特にこれに限定されるわけではない。重合転写法は、対象となる材料が、メタクリレート樹脂等セルキャスト重合ものに限定されるが、連続製版方式によって非常に生産性良く、ハードコート層を形成することができる。このため、重合転写法によるメタクリレート樹脂層形成は、最も好適に用いられるハードコート層形成手法である。
【００４３】
また、光学特性を向上させる目的で、反射防止処理すなわちアンチリフレクション機能を付与させることや防眩処理すなわちアンチグレア機能を付与させる施してもよい。これらの処理は、適当な材料をコーティングしたり、市販されているアンチリフレクションフィルム、アンチグレアフィルム等を貼り合わせることにより実施できる。これらのフィルムは先の光学的な処理以外にも該導電層（Ｃ）を保護する役割もある。該透明な粘着層を付与した保護フィルム（Ｄ）は先に述べたいずれかにあたり、透明な粘着層にシリコン系粘着材を使用すれば、外部由来の水、水蒸気、さらにはイオン成分の侵入を防御でき、白化現象の元になる局部的な欠陥を透明な樹脂層で覆ってしまって、白化するのを抑制する目的で形成する。局部的な欠陥部分を透明な樹脂層でしっかり覆うために、該透明な粘着層を付与した保護フィルム（Ｄ）をラミネート等の手法で形成する。
【００４４】
積層体の層構成は、断面の光学顕微鏡観察、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察により調べることができる。また、各層の材料の特定は、積層体の表面からドライエッチングしながら、オージェ電子分光等の表面組成分析を実施することで行うことができる。
【００４５】
［実施例］
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。
【００４６】
［導電層の形成］
無色透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）の一方の面を酸素グロー放電に曝した後、ターゲットに錫（Ｓｎ）を１０重量％含有したインジウム（Ｉｎ）を、スパッタガスにアルゴン・酸素・水素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧８０ｍＰａ、水素分圧１３ｍＰａ）を用いて酸化錫を含有した酸化インジウム薄膜をターゲットに純度９９．９％の銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜をマグネトロン直流スパッタリング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜８０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜８５ｎｍ、銀薄膜１８ｎｍ、酸化インジウム薄膜８０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜８０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍの順に積層し、銀薄膜が３層、酸化物薄膜が４層交互に繰り返し形成された７層構成の透明導電性フィルムを作成した。
【００４７】
次に、透明導電性フィルムの薄膜を形成した面とは逆側の面に、セパレートフィルムが付随しているシート状のアクリル系透明粘着剤をラミネートし、粘着剤付き透明導電性フィルムを得た。
【００４８】
次にディスプレイ用光学フィルタの製造方法について説明する。
まず、透明な板状基板の一方の面に粘着剤付き透明導電性フィルムを加圧式ラミネータによって一定加圧の下で貼り合わせた。さらにその上に、同じラミネート方法で、
（実施例１〜３）
シリコン系透明粘着材付き保護フィルム（寺岡製作所社製）を貼り合わせてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【００４９】
（比較例１〜３）
アクリル系透明粘着材付き保護フィルム（リンテック社製）を貼り合わせてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【００５０】
（比較例４〜６）
アクリル系透明粘着材付き保護フィルム（日東電工社製）を貼り合わせてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【００５１】
その後、ラミネート時の混入する気泡を脱泡する目的で、加圧処理を４５℃、０．８ＭＰａの空気で２時間実施した。
【００５２】
以上により得られたディスプレイ用光学フィルタを温度６０℃、相対湿度９０％の湿熱環境下に５００時間放置した後の外観状態を目視により観察し、加工後の気泡および銀薄膜に白化現象によるφ０．４ｍｍ以上の反射性欠陥の数を調査した。その結果を表１に示す。また、ディスプレイ用光学フィルタを、信号発生器により全面緑色に発光させたプラズマディスプレイパネルの画面の前に５ｍｍ離して設置して、視野角−８０°〜＋８０°の範囲から映像の見え方を観察した。その結果を表２に示す。
【００５３】
【表１】
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【００５４】
表１によると、導電層の上に、貼合した透明なシリコン系粘着層を付与した保護フィルムより、適当な厚さで積層したディスプレイ用光学フィルタは、湿熱環境下において白化が発生せず、反射性欠陥の少ない、湿熱耐久性に優れたものであることが判る。
【００５５】
また、粘着層中の塩素イオン濃度が低いことも白化抑制に作用していると考えられる。同様な粘着層の厚さと塩素イオン濃度であっても、保護フィルムに付与した粘着層がアクリル系であると、外部由来の水分、塩素イオンに導電層が侵され、白化を進行させている。シリコン系粘着層を使用すれば、導電層の白化を抑制するだけではなく、外部由来の水分や塩素イオンを侵入させることはない。さらに粘着層の厚みが厚い方が、外部由来の水分や塩素イオンを侵入させにくい。加圧処理後の気泡については、粘着層の厚みが薄いと存在していた。
【００５６】
【表２】
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【００５７】
表２を参照するとアクリル系樹脂層がラミネートにより形成された場合、該フィルタの白化による欠陥の発生数はいずれも１０個以上存在し、白化の抑制に効果のなかったことが判る。
【００５８】
一方、シリコン系粘着層が付与された保護フィルムを使用すると、ディスプレイ用光学フィルタは、湿熱環境下において白化が発生しない湿熱耐久性に優れたものであり、画像の見え方も良好なものであることが判る。
【００５９】
【発明の効果】
以上詳説したように本発明によれば、ディスプレイ用光学フィルタを湿熱環境下においた場合でも導電層に白化現象が発生しなくなり、優れた湿熱耐久性を達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルタの一例を示す断面図である。
【図２】導電層の順次形成手法の一例を示す図である。
【図３】本発明のディスプレイ用光学フィルタの一例を示す断面図である。
【図４】本発明のプラズマディスプレイ装置の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１０　透明導電性フィルム
１００　透明な高分子フィルム
１１０　導電層
１１１　高屈折率酸化物層
１１２　銀を主成分とする導電層
１１３　高屈折率酸化物層
１１４　銀を主成分とする導電層
１１５　高屈折率酸化物層
２０　粘着層
３０　透明基板
４０　粘着層
４１　保護フィルム
５０　ディスプレイ用光学フィルタ
６０　プラズマディスプレイパネル
６０１　表示画面
６０２　アース接続用電極
７０　真空容器
７０１　高屈折率酸化物のスパッタリングターゲット
７０２　主成分が銀のスパッタリングターゲット
７０３　高屈折率酸化物のスパッタリングターゲット
７０４　主成分が銀のスパッタリングターゲット
７０５　高屈折率酸化物のスパッタリングターゲット
７１１　高分子フィルムの巻き取り方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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