(57)【要約】【課題】ペリクル面積が１，０００ｃｍ２以上の大型ペリクル膜を製造する際に用いられる大型の成膜基板及び仮枠は、短辺側の最大巾が１ｍ以上あるので、これをハンドリングするためには、作業者が仮枠及び大型ペリクル膜に近接して操作しなければならないので、作業性が悪い上に大型ペリクル膜に塵埃が付着し易い問題があった。【解決手段】大型ペリクル膜４を製造する際に使用される短辺側の最大巾が１，１００ｍｍの成膜基板１に於て、該成膜基板の右下隅にコーナーカットＣを施すことによって、短辺側の巾Ｗ２を９００ｍｍに形成して構成した大型ペリクル膜用成膜基板である。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
大型ペリクル膜を製造する際に使用される短辺側の最大巾が１ｍ以上の成膜基板に於て、該成膜基板の少なくとも１辺にコーナーカットを設けて構成したことを特徴とした大型ペリクル用成膜基板。
【請求項２】
前記コーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成したことを特徴とした請求項１の大型ペリクル用成膜基板。
【請求項３】
少なくとも１辺にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形した後、該大型ペリクル用成膜基板と同じく少なくとも１辺にコーナーカットが施されて辺の長さが１ｍ以下に形成された仮枠を前記ペリクル膜上に粘着固定し、さらに該仮枠の１ｍ以下に形成された辺を両手で保持しながら前記ペリクル膜を大型ペリクル用成膜基板より剥離して製造することを特徴とした大型ペリクル膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大型ペリクル膜を製造する際に用いられる短辺側の最大巾が１ｍ以上の成膜基板とこの成膜基板を用いて大型ペリクル膜を製造する大型ペリクル膜の製造方法に係り、特に大型ペリクル膜を製造する際の作業性を良くすると共に、大型ペリクル膜に発塵が付着し難くした大型ペリクル用成膜基板及び大型ペリクル膜の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のペリクル膜を製造する方法或はペリクル膜の製造に使用される成膜基板に関する技術としては、例えば後述の特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４等が知られている。
【０００３】
後述の特許文献１には、回転塗布方法を用いて表面が平滑なガラス、プラスチック等の基材上に水溶性のゾル−ゲル変換が可能な材料をゾル状態で塗布しゲル化させてなる分離膜上に、さらに回転塗布方法を用いてフォトマスク用保護膜材料を所望の膜厚となるように塗布した後、該分離膜材料のゲル化温度以上の温水中に浸漬することにより該分離膜のゾル−ゲル変換を促し、最上部のフォトマスク用保護膜を温水中に浮上させ、次いで所望の形状及び厚みを有するフレームにより該フォトマスク用保護膜を温水中からすくい上げ、加熱、乾燥することにより良好な被膜を形成することを特徴とする高精度パターン板用保護膜の製造方法が詳細に記載されている。
【０００４】
また、後記特許文献２には、溶液キャスト法によりニトロセルロース薄膜を平滑板上に形成せしめ、該薄膜にフレームを接着せしめた後、水中に浸して薄膜を剥離し、次いで乾燥することを特徴とするフォトマスク用防塵カバーの製造方法が記載されている。
【０００５】
かつ、後記特許文献３には、ベースポリマー層に異種のポリマー薄膜にを固着させ、該ポリマー薄膜に枠を接着した後、該薄膜を溶解せず、ベースポリマーを溶解する溶剤を用いて、ベースポリマー層を溶解、除去することを特徴とする枠に接着固定されたポリマー薄膜の製造方法が記載されている。
【０００６】
後記特許文献４には、ペリクル膜を製造するに当っては、ペリクル膜の製膜する基板の表側成膜面にクロム又はクロム合金をコーティングすることによって、基板の表面に極めて平滑な面を形成し、その平滑面に成膜したペリクルの薄膜を抵抗を少なくスムーズに剥離することが出来るようにし、ペリクル膜にのび、しわ、きず、破れ等が発生することを防止するようにした技術が記載されている。
【０００７】
さらに、後記特許文献５には、特にペリクル膜の成膜用基板に、シリコンまたはＳｉＣ−Ｓｉを使用し、体積抵抗率が１０５Ω・ｃｍ以上のような体積抵抗率の高いペリクル膜を成膜する際に用いる成膜用基板を、体積抵抗率が１０３Ω・ｃｍ以下のものとし、これによって基板上に成膜された膜を剥離する際に基板と膜との間で発生する静電気を低く抑えることができ、膜が基板に引きつけられる力を弱くし、したがって膜を剥離するときの膜のしわ、破れが発生することを防止するようにした技術である。
【０００８】
【特許文献１】
特開昭５９−１８２７３０号公報
【特許文献２】
特開昭６０−３５７３３号公報
【特許文献３】
特開昭６０−３８１３０号公報
【特許文献４】
特開平２−１３４６３４号公報
【特許文献５】
特許第２９３８７０９号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
前述の特許文献１乃至特許文献５等の技術によって使用されるペリクル膜の成膜基板は、一般的にペリクル面積が１，０００ｃｍ２以下のペリクル膜を製造することを目的としていたので、その成膜基板は、短辺側の最大巾が１ｍ以下の寸法を有するものが使用されていた。
【００１０】
このように１ｍ以下の最大巾を有する成膜基盤では、ペリクル膜を製造する際にペリクル膜を該成膜基板から剥離するための仮枠も、１ｍ以下の最大巾を有する仮枠が使用出来るので、人が両手で持って比較的離れた場所で容易に操作することが出来る状態であった。
【００１１】
しかし、例えば図５に示す如く、ペリクル面積が１，０００ｃｍ２以上の大型ペリクル膜を製造することを目的とする大型ペリクル膜用成膜用基板５１では、その短辺側の最大巾が１ｍ以上となり、従って、この大型ペリクル膜用成膜用基板５１から大型ペリクル膜５２を剥離する際に使用される仮枠５３も短辺側の最大巾が１ｍ以上となるので、作業者５４が両手５４ａ、５４ｂで持って操作するためには、作業者５４が仮枠５３に極めて接近した距離Ｄ１で、両手５４ａ、５４ｂを大きく広げて保持しなければならず、ハンドリングの操作性が悪くなるので剥離中に大型ペリクル膜５２が破損する恐れがあると共に、作業者５４の接近による発塵が大型ペリクル膜５２に付着して大型ペリクル膜５２の品質を低下し易くなる問題があった。図中５５は、仮枠５３の下面に塗着された粘着材である。
【００１２】
本発明は、前述の問題点に鑑み開発された全く新規な発明であって、特に大型ペリクル膜用成膜基板の少なくとも１辺にコーナーカットを設けることによって、該大型ペリクル膜用成膜用基板の辺の長さを短くすると共に、大型ペリクル膜用成膜基板に用いられる仮枠の辺の長さも同様に短くし、これによって大型ペリクル膜用成膜基板で成膜される大型ペリクル膜の剥離操作を容易にすると共に、該大型ペリクル膜に発塵が付着して品質を低下せしめることを防止するようにした大型ペリクル用成膜基板及び大型ペリクル膜の製造方法の技術を提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る大型ペリクル用成膜基板は、前述の従来の問題点を根本的に改善した発明であって、その第１発明の要旨は、大型ペリクル膜を製造する際に使用される短辺側の最大巾が１ｍ以上の成膜基板に於て、該成膜基板の少なくとも１辺にコーナーカットを設けて構成したことを特徴とした大型ペリクル用成膜基板である。
【００１４】
前述の第１発明に係る大型ペリクル用成膜基板に於ては、大型ペリクル膜を製造する際に用いられる短辺側の最大巾が１ｍ以上の大型成膜基板の少なくとも１辺にコーナーカットを設けたので、辺の長さを短くすることが出来る。
【００１５】
従って、この大型ペリクル用成膜基板上で成膜された大型ペリクル膜を剥離するために用いられる仮枠も、同様なコーナーカットを施して辺の長さを短くすることが出来、これによって作業者が近よらずに仮枠を両手で持って作業することが出来る。そのために大型ペリクル膜の剥離するための操作性を向上させると共に、大型ペリクル膜への塵埃の付着による品質の低下を防止することが出来る。
【００１６】
本発明に係る大型ペリクル用成膜基板の第２発明の要旨は、前記コーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成したことを特徴とした請求項１の大型ペリクル用成膜基板である。
【００１７】
前述の第２発明に於ては、大型ペリクル用成膜基板にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成したので、この大型ペリクル用成膜基板に用いられる仮枠にもコーナーカットを設けて辺の長さを１ｍ以下に構成し、作業者が近寄らずに仮枠を簡単にかつ均一に力を入れながら操作することが可能になる。
【００１８】
本発明に係る大型ペリクル膜の製造方法も、前述の従来の問題点を根本的に改善した発明であって、その発明の要旨は、少なくとも１辺にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形した後、該大型ペリクル用成膜基板と同じく少なくとも１辺にコーナーカットが施されて辺の長さが１ｍ以下に形成された仮枠を前記ペリクル膜上に粘着固定し、さらに該仮枠の１ｍ以下に形成された辺を作業者が両手で保持しながら前記ペリクル膜を大型ペリクル用成膜基板より剥離して製造することを特徴とした大型ペリクル膜の製造方法である。
【００１９】
本発明の大型ペリクル膜の製造方法に於ては、少なくとも１辺にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形し、同様にコーナーカットが施されて辺の長さが１ｍ以下に形成された仮枠をペリクル膜に粘着固定した後で、該仮枠の１ｍ以下に形成された辺を作業者が両手で保持するので、作業者は該仮枠及びペリクル膜に近接せずに、仮枠を操作して仮枠と共にペリクル膜を大型ペリクル用成膜基板より剥離して製造することが出来る。従って、大型のペリクル膜の剥離を簡単かつ確実にすると共に、作業者が近接することによって生ずるペリクル膜への発塵を防止することが出来る。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係る大型ペリクル用成膜基板及び大型ペリクル膜の製造方法についてその一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に係る第１実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図、図２（ａ）、（ｂ）は夫々本発明の第２実施例及び第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図、図３（ａ）〜（ｃ）は本発明の第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の表面に大型ペリクル膜を成膜する状態を示す説明図、図４（ａ）〜（ｃ）は図３の大型ペリクル膜を剥離する工程を示す説明図である。
【００２１】
図１に於て、１はペリクル面積が１，０００ｃｍ２以上の大型ペリクル膜を製造することが出来る大型ペリクル用成膜基板（以下単に成膜基板という）であって、その短辺側の巾Ｗ１が１，１００ｍｍに形成されている。前記成膜基板１の右下隅にはコーナーカットＣが施されており、このコーナーカットＣが施された短辺側の巾Ｗ２は９００ｍｍに形成されている。
【００２２】
前述の実施例に於ては、成膜基板１の１個所の隅にコーナーカットＣを施して構成したが、図２（ａ）に示す如く、成膜基板の左右の下２隅にコーナーカットＣを施すことによって、成膜基板２を形成することも可能である。この実施例の場合には、成膜基板２の短辺側の巾Ｗ１が１，２００ｍｍであるのに対し、両側にコーナーカットＣが施された短辺側の巾Ｗ３は８００ｍｍに形成されている。
【００２３】
さらに、図２（ｂ）に示す如く、成膜基板の４隅全部にコーナーカットＣを施すことによって、成膜基板３を形成することも可能である。この実施例の場合は、前述の成膜基板２と同様に、成膜基板３の短辺側の巾Ｗ１が１，２００ｍｍであるのに対し、両側がコーナーカットＣされた短辺側の巾Ｗ３を８００ｍｍに形成することが出来る。
【００２４】
本発明の大型ペリクル膜の製造方法について、前述の成膜基板３を用いて大型ペリクル膜を製造する方法を説明すると、図３（ａ）〜（ｃ）に示す通りである。
【００２５】
即ち、図に於て、成膜基板３を用いて、その表面にニトロセルロース等の膜材料を塗布して大型ペリクル膜４を成膜する。続いて、図４（ａ）〜（ｃ）に示す如く、成膜基板３と同様に４隅部にコーナーカットＣが施された成膜基板３と同寸の仮枠５を大型ペリクル膜４上に載置すると共に、該仮枠５の下面に塗着された粘着材６を介して仮枠５を大型ペリクル膜４に粘着固定する。
【００２６】
次に、特に図４（ｂ）に示す如く、作業者７が両手７ａ、７ｂを広げながら、前述の如く短辺側の巾Ｗ３が８００ｍｍとなった両端部をハンドリングし、仮枠５を手前側から徐々に上昇させることによって、大型ペリクル膜４を成膜基板３より剥離させることが出来る。
【００２７】
前述の成膜基板３は、短辺側の巾Ｗ３が８００ｍｍに形成されているので、図に示す如く、作業者７は両手７ａ、７ｂを大きく広げることなく、成膜基板３の両端部を簡単にかつ均一に力を入れながら、ハンドリングしながら、仮枠５を上昇させて大型ペリクル膜４をスムーズに剥離することが出来る。また、作業者７は両手７ａ、７ｂを大きく広げる必要がないので、前述の図５に示す従来例の如く、仮枠５及び大型ペリクル膜４に近接する必要がなく、大型ペリクル膜４より遠く離れた距離Ｄ２で作業をすることが出来る。
【００２８】
従って、作業者７が仮枠５及び大型ペリクル膜４に近接する必要がないので、従来例の如く、作業者７が大型ペリクル膜４に近接する場合に発生する大型ペリクル膜４の発塵を無くし、塵埃の付着による大型ペリクル膜４の品質の低下を防止することが出来る。
【００２９】
前述の成膜基板１〜３の材料としては、ガラス基板等が使用出来る。また、前述の実施例に於ては、ペリクル膜の膜材料としてニトロセルロースを使用したが、その他にポリビニルプロビオナール、ポリビニルブチラール、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、バリレン、ポリメチルメタクリレー等が夫々使用することが出来る。これ等の膜材料は、スピンコータ等を用いて回転塗布することによって、ガラス板の表面に所望の肉厚に成膜することが出来る。
【００３０】
【発明の効果】
本発明に係る大型ペリクル用成膜基板に於ては、大型ペリクル膜を製造する際に用いられる短辺側の最大巾が１ｍ以上の大型成膜基板の少なくとも１辺にコーナーカットを設けたので、辺の長さを短くすることが出来る効果を有している。
【００３１】
従って、この大型ペリクル用成膜基板上で成膜された大型ペリクル膜を剥離するために用いられる仮枠も、同様なコーナーカットを施して辺の長さを短くすることが出来る効果があり、これによって作業者が近よらずに仮枠を両手で持って作業することが出来る効果を有している。そのために大型ペリクル膜の剥離するための操作性を向上させると共に、大型ペリクル膜への塵埃の付着による品質の低下を防止することが出来る効果を有している。
【００３２】
また本発明に於いて、大型ペリクル用成膜基板にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した場合には、この大型ペリクル用成膜基板に用いられる仮枠にもコーナーカットを設けて辺の長さを１ｍ以下に構成し、作業者が近よらずに仮枠を簡単にかつ均一に力を入れながら操作することが出来る可能性をより確実にすることが出来る効果を有している。
【００３３】
本発明に係る大型ペリクル膜の製造方法に於ては、少なくとも１辺にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形し、同様にコーナーカットが施されて辺の長さが１ｍ以下に形成された仮枠をペリクル膜に粘着固定した後で、該仮枠の１ｍ以下に形成された辺を作業者が両手で保持するので、作業者は該仮枠及びペリクル膜に近接せずに、仮枠を操作して仮枠と共にペリクル膜を大型ペリクル用成膜基板より剥離して製造することが出来る効果を有している。従って、大型のペリクル膜の剥離を簡単かつ確実にすると共に、作業者が近接することによって生ずるペリクル膜への発塵を防止することが出来る効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図である。
【図２】本発明の第２実施例及び第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図である。
【図３】本発明の第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の表面に大型ペリクル膜を成膜する状態を示す説明図である。
【図４】図３の大型ペリクル膜を剥離する工程を示す説明図である。
【図５】従来の大型ペリクル膜を製造する際に使用される大型の成膜基板及び大型ペリクル膜の製造方法を示す説明図である。
【符号の説明】
１      …大型ペリクル用成膜基板（成膜基板）
２      …大型ペリクル用成膜基板（成膜基板）
３      …大型ペリクル用成膜基板（成膜基板）
４      …大型ペリクル膜
５      …仮枠
６      …粘着材
７      …作業者７は７ａ、
７ａ    …両手
７ｂ    …両手
５１    …大型ペリクル膜用成膜用基板
５２    …大型ペリクル膜
５３    …仮枠
５４    …作業者
５４ａ  …両手
５４ｂ  …両手
Ｃ      …コーナーカット
Ｄ１    …距離
Ｄ２    …距離
Ｗ１    …１，１００ｍｍ
Ｗ２    …９００ｍｍ
Ｗ３    …８００ｍｍ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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