(57)【要約】【課題】放射線像読取装置において、励起光の遮断性能の低下を抑制しつつ励起光カットフィルタの厚さを薄くする。【解決手段】励起光を吸収する２枚の色ガラス板４１Ｂおよび４４Ｂと、これらの色ガラス板４１Ｂおよび４４Ｂの表面にそれぞれ形成された励起光反射膜４３Ｂおよび４５Ｂとから構成され、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタ４０Ｂを、放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出するラインセンサとこの放射線像変換パネルとの間に挿入する。【選択図】          図３
2004163895.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線像変換パネルと励起光の照射により前記放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出する検出手段との間に挿入され、前記輝尽発光光を透過させ前記励起光を遮断する励起光カットフィルタであって、
前記励起光を吸収する光学部材と、前記励起光を反射する反射層とから構成されていることを特徴とする励起光カットフィルタ。
【請求項２】
放射線像変換パネルと励起光の照射により前記放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出する検出手段との間に挿入され、前記輝尽発光光を透過させ前記励起光を遮断する励起光カットフィルタであって、
前記励起光を吸収する複数の光学部材と、少なくとも１つの前記励起光を反射する反射層とから構成されていることを特徴とする励起光カットフィルタ。
【請求項３】
前記複数の光学部材が前記反射層を介して互いに接合されていることを特徴とする請求項２記載の励起光カットフィルタ。
【請求項４】
前記反射層が、前記励起光カットフィルタ中の前記輝尽発光光が入射される最初の前記光学部材の表面より後の該輝尽発光光の伝播光路中に配置されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の励起光カットフィルタ。
【請求項５】
前記励起光カットフィルタ中の、前記輝尽発光光が前記励起光カットフィルタに入射してから前記反射層に最初に入射するまでの間の透過率が１０％以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の励起光カットフィルタ。
【請求項６】
前記励起光カットフィルタが複数の前記反射層を備えている場合において、前記励起光カットフィルタ中の、前記輝尽発光光が前記励起光カットフィルタに入射してから前記反射層に最初に入射するまでの間の透過率が１０％以下であり、かつ、互いに隣り合う前記反射層の間の透過率が全て１０％以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の励起光カットフィルタ。
【請求項７】
線状の励起光の照射を受けて放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を結像光学系を通して検出する検出手段を備え、前記放射線像変換パネルに記録された放射線像を読み取る放射線像読取装置であって、
前記放射線像変換パネルと前記検出手段との間に、前記励起光を吸収する光学部材と前記励起光を反射する反射層とから構成された、前記輝尽発光光を透過させ前記励起光を遮断する励起光カットフィルタを備えていることを特徴とする放射線像読取装置。
【請求項８】
線状の励起光の照射を受けて放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を結像光学系を通して検出する検出手段を備え、前記放射線像変換パネルに記録された放射線像を読み取る放射線像読取装置であって、
前記放射線像変換パネルと前記検出手段との間に、前記励起光を吸収する複数の光学部材と、少なくとも１つの前記励起光を反射する反射層とから構成された、前記輝尽発光光を透過させ前記励起光を遮断する励起光カットフィルタを備えていることを特徴とする放射線像読取装置。
【請求項９】
前記複数の光学部材が前記反射層を介して互いに接合されていることを特徴とする請求項８記載の放射線像読取装置。
【請求項１０】
前記反射層が、前記励起光カットフィルタ中の前記輝尽発光光が入射される最初の前記光学部材の表面より後の該輝尽発光光の伝播光路中に配置されていることを特徴とする請求項７から９のいずれか１項記載の放射線像読取装置。
【請求項１１】
前記励起光カットフィルタ中の、前記輝尽発光光が前記励起光カットフィルタに入射してから前記反射層に最初に入射するまでの間の透過率が１０％以下であることを特徴とする請求項７から１０のいずれか１項記載の放射線像読取装置。
【請求項１２】
前記励起光カットフィルタが複数の前記反射層を備えている場合において、前記励起光カットフィルタ中の、前記輝尽発光光が前記励起光カットフィルタに入射してから前記反射層に最初に入射するまでの間の透過率が１０％以下であり、かつ、互いに隣り合う前記反射層の間の透過率が全て１０％以下であることを特徴とする請求項７から１１のいずれか１項記載の放射線像読取装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、励起光カットフィルタに関し、詳しくは、励起光の照射により放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタ、およびこの励起光カットフィルタを用いた放射線像読取装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、Ｘ線等の放射線を照射するとこの放射線エネルギの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光を照射すると蓄積された放射線エネルギに応じて輝尽発光を示す蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）を利用して、人体等の被写体の放射線像を蓄積性蛍光体層に一旦潜像として記録し、この蓄積性蛍光体層にレーザ光等の励起光を照射して輝尽発光光を生じせしめ、この輝尽発光光を光電的に検出して被写体の放射線像を表す画像信号を取得する放射線像記録装置および放射線像読取装置等からなる放射線像記録再生システムがＣＲ（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ  Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）としてが知られている。また、この放射線像記録再生システムに使用される記録媒体としては、基板上に蓄積性蛍光体層を積層して作成した放射線像変換パネルが知られている。
【０００３】
上記放射線像読取装置としては、主走査方向に延びる線状の励起光の照射を受けて放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出する検出手段を備え、放射線像変換パネルと検出手段との間に、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する色ガラス材からなる励起光カットフィルタ（例えば、特許文献１参照）を配置した装置が知られている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−０７４８９９号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、装置サイズの小型化のために放射線像変換パネルと検出手段との間の間隔を短くしたいという要請がある。特に結像光学系を通して輝尽発光光を検出する検出手段を備えた装置の場合には、検出手段を放射線像変換パネルに接近させて結像光学系の開口数（ＮＡ）を大きくすることにより解像力を高めることができ、そのようにするために、放射線像変換パネルと検出手段との間に配置される励起光カットフィルタを薄くすることが考えられる。
【０００６】
しかしながら、励起光カットフィルタを構成している光学部材である色ガラス板の材質を改良して、この色ガラス板の励起光を遮断する特性を高めることにより励起光カットフィルタの厚さを薄くすることが難しいという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、励起光の遮断性能の低下を抑制しつつ自身の厚さを薄くすることができる励起光カットフィルタおよびこの励起光カットフィルタを用いた放射線像読取装置を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の励起光カットフィルタは、放射線像変換パネルと励起光の照射によりこの放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出する検出手段との間に挿入され、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタであって、励起光を吸収する光学部材と、前記励起光を反射する反射層とから構成されていることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の第２の励起光カットフィルタは、放射線像変換パネルと励起光の照射によりこの放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出する検出手段との間に挿入され、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタであって、励起光を吸収する複数の光学部材と、少なくとも１つの励起光を反射する反射層とから構成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
前記複数の光学部材は、反射層を介して互いに接合されているものとすることができる。
【００１１】
前記反射層は、励起光カットフィルタ中の輝尽発光光が入射される最初の光学部材の表面より後の輝尽発光光の伝播光路中に少なくとも１つ以上配置することが好ましい。
【００１２】
前記励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率は１０％以下であることが好ましい。
【００１３】
また、前記励起光カットフィルタが複数の反射層を備えている場合において、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率は１０％以下であり、かつ、互いに隣り合う反射層の間の透過率は全て１０％以下であることがより好ましい。
【００１４】
本発明の第１の放射線像読取装置は、線状の励起光の照射を受けて放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を結像光学系を通して検出する検出手段を備え、放射線像変換パネルに記録された放射線像を読み取る放射線像読取装置であって、放射線像変換パネルと検出手段との間に、励起光を吸収する光学部材と励起光を反射する反射層とから構成された、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタを備えていることを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の第２の放射線像読取装置は、線状の励起光の照射を受けて放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を結像光学系を通して検出する検出手段を備え、放射線像変換パネルに記録された放射線像を読み取る放射線像読取装置であって、放射線像変換パネルと検出手段との間に、励起光を吸収する複数の光学部材と、少なくとも１つの前記励起光を反射する反射層とから構成された、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタを備えていることを特徴とするものである。
【００１６】
前記複数の光学部材は、反射層を介して互いに接合されているものとすることができる。
【００１７】
前記反射層は、励起光カットフィルタ中の輝尽発光光が入射される最初の光学部材の表面より後の輝尽発光光の伝播光路中に配置することが好ましい。
【００１８】
前記励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率は１０％以下であることが好ましい。
【００１９】
また、前記励起光カットフィルタが複数の反射層を備えている場合において、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率は１０％以下であり、かつ、互いに隣り合う反射層の間の透過率は全て１０％以下であることがより好ましい。
【００２０】
【発明の効果】
本発明の第１の励起光カットフィルタによれば、励起光を吸収する光学部材と、励起光を反射する反射層とから構成されているので、従来、光学部材のみで実施していた励起光の遮断を、光学部材と反射層との組み合わせにより実施することができ、ここで反射層は非常に薄いので、励起光の遮断性能の低下を抑制しつつ自身の厚さを薄くすることができる。これにより、この励起光カットフィルタを、放射線像変換パネルとこの放射線像変換パネルから発生する輝尽発光光を検出する検出手段との間隔を短くした装置に適用することができる。
【００２１】
本発明の第２の励起光カットフィルタによれば、励起光を吸収する複数の光学部材と、少なくとも１つの励起光を反射する反射層とから構成されているので、従来、光学部材のみで実施していた励起光の遮断を、反射層と複数の光学部材との組み合わせにより実施することができ、ここで反射層は非常に薄いので、励起光の遮断性能の低下を抑制しつつ自身の厚さを薄くすることができる。これにより、この励起光カットフィルタを、放射線像変換パネルとこの放射線像変換パネルから発生する輝尽発光光を検出する検出手段との間隔を短くした装置に適用することができる。
【００２２】
また、複数の光学部材を反射層を介して互いに接合されているものとすれば、励起光カットフィルタの厚さをさらに薄くすることができる。
【００２３】
ここで、反射層を、励起光カットフィルタ中の前記輝尽発光光が入射される最初の光学部材の表面より後の輝尽発光光の伝播光路中に配置されているものとすれば、輝尽発光光が最初に入射される表面での励起光の反射を少なくすることができ、励起光の放射線像変換パネルへの再入射を抑制することができる。
【００２４】
また、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率を１０％以下とすれば、励起光カットフィルタの厚さを確実に薄くすることができる。さらに、励起光カットフィルタが複数の反射層を備えている場合において、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率を１０％以下とし、かつ、互いに隣り合う反射層の間の透過率が全て１０％以下とすれば、励起光カットフィルタの厚さをより確実に薄くすることができる。
【００２５】
本発明の第１の放射線像読取装置は、線状の励起光の照射を受けて放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を結像光学系を通して検出する検出手段を備え、放射線像変換パネルに記録された放射線像を読み取る放射線像読取装置であって、放射線像変換パネルと検出手段との間に、励起光を吸収する光学部材と励起光を反射する反射層とから構成された、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタを備えているので、従来、光学部材のみで実施していた励起光の遮断を、光学部材と反射層との組み合わせにより実施することができ、ここで反射層は非常に薄いので、励起光の遮断性能の低下を抑制しつつ自身の厚さを薄くすることができる。これにより、結像光学系を放射線像変換パネルに接近させることができ、開口数が大きい結像光学系を配置することが可能となるので放射線像変換パネルから発生する輝尽発光光をより高い解像力で結像させることができるので、放射線像変換パネルから読み取られる放射線像の品質を高めることができる。
【００２６】
本発明の第２の放射線像読取装置は、線状の励起光の照射を受けて放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を結像光学系を通して検出する検出手段を備え、放射線像変換パネルに記録された放射線像を読み取る放射線像読取装置であって、放射線像変換パネルと検出手段との間に、励起光を吸収する複数の光学部材と、少なくとも１つの前記励起光を反射する反射層とから構成された、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する励起光カットフィルタを備えているので、従来、光学部材のみで実施していた励起光の遮断を、光学部材と反射層との組み合わせにより実施することができ、ここで反射層は非常に薄いので、励起光の遮断性能の低下を抑制しつつ自身の厚さを薄くすることができる。これにより、結像光学系を放射線像変換パネルに接近させることができ、開口数が大きい結像光学系を配置することが可能となるので放射線像変換パネルから発生する輝尽発光光をより高い解像力で結像させることができるので、放射線像変換パネルから読み取られる放射線像の品質を高めることができる。
【００２７】
また、複数の光学部材を反射層を介して互いに接合されているものとすれば、励起光カットフィルタの厚さをさらに薄くすることができる。
【００２８】
ここで、反射層を、励起光カットフィルタ中の輝尽発光光が入射される最初の光学部材の表面より後の輝尽発光光の伝播光路中に配置されているものとすれば、輝尽発光光が最初に入射される表面での励起光の反射を少なくすることができ、励起光の放射線像変換パネルへの再入射を抑制することができる。
【００２９】
また、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率を１０％以下とすれば、励起光カットフィルタの厚さを確実に薄くすることができる。さらに、励起光カットフィルタが複数の反射層を備えている場合において、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率を１０％以下とし、かつ、互いに隣り合う反射層の間の透過率が全て１０％以下とすれば、励起光カットフィルタの厚さをより確実に薄くすることができる。
【００３０】
なお、励起光カットフィルタによる励起光の遮断を、上記のように励起光を吸収する複数の光学部材と励起光を反射する反射層との組み合わせによって実施する場合には、励起光カットフィルタの厚さを薄くする顕著な効果を奏することができる。以下、この理由について図６を参照して具体的に説明する。
【００３１】
励起光カットフィルタ５０が、励起光を吸収する光学部材５１、この光学部材５１の励起光の入射側の表面に形成された励起光透過層５２、光学部材５１の励起光の射出側（以後、励起光射出側という）の表面に形成された励起光を反射する反射層５３、反射層５３を介して光学部材５１の励起光射出側に接合された光学部材５４、および光学部材５４の励起光射出側の表面に形成された反射層５５から構成されているものとする。
【００３２】
ここで、光学部材５１および光学部材５４の励起光に対する透過率をＤ、光学部材５１および光学部材５４の表面にそれぞれ形成された反射層５３および反射層５５の励起光に対する透過率をＴ、および励起光透過層５２の励起光に対する透過率を１（１００％）とし、励起光透過層５２の側から励起光が入射するものとする。励起光透過層５２に入射する励起光の光強度をＬｉｎとし反射層５５Ｂから射出される励起光の光強度をＬｏｕｔとする。
【００３３】
透過率Ｄ≠１のとき（透過率Ｄが１００％ではないとき）、光強度Ｌｉｎと光強度Ｌｏｕｔとの関係は以下の式で示される。
【００３４】
Ｌｏｕｔ／Ｌｉｎ＝｛Ｄ２×Ｔ２＋（Ｄ２×Ｔ２）×Ｄ２（１−Ｔ）２
＋（Ｄ２×Ｔ２）×Ｄ４（１−Ｔ）４＋…｝
＝｛Ｄ２×Ｔ２／｛１−｛Ｄ２（１−Ｔ）２｝２｝
ここで、Ｄ（１−Ｔ）＜＜１とすると
Ｌｏｕｔ／Ｌｉｎ≒Ｄ２×Ｔ２  （ＤとＴの加算則が成立する）
ここで、透過率Ｔ＝０．０１（透過率Ｔが１％）とすると、
Ｌｏｕｔ／Ｌｉｎ≒Ｄ２×０．０００１となり、Ｄ＜１なので励起光カットフィルタの透過率が０.０１％未満となる。
【００３５】
これに対して透過率Ｄ＝１（透過率Ｄが１００％）のとき、光強度Ｌｉｎと光強度Ｌｏｕｔとの関係は以下の式で示される。
【００３６】
Ｌｏｕｔ／Ｌｉｎ＝｛Ｔ２＋Ｔ２（１−Ｔ）２＋Ｔ２（１−Ｔ）４＋…｝
＝｛Ｔ２／｛１−（１−Ｔ）２｝
＝｛Ｔ／（２−Ｔ）｝
ここで、透過率Ｔ＝０．０１（透過率Ｔが１％）とすると、
Ｌｏｕｔ／Ｌｉｎ＝０．００５０２５となり、励起光カットフィルタの透過率が０，５０２５％となり、上記の場合（透過率が０.０１％未満）より励起光の遮断性能が低下する。
【００３７】
すなわち、透過率Ｄの値が小さいとき、例えば透過率Ｄが１０％以下のときに、反射層と複数の光学部材との組み合わせによって励起光カットフィルタを構成すると、上記透過率Ｄと透過率Ｔとの加算則が成立し、励起光カットフィルタの透過率を極めて小さくすることができ、これにより、励起光の遮断性能の低下を抑制しつつ励起光カットフィルタの厚さを薄くする顕著な効果を奏することができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について、図面を用いて説明する。図１は本発明の実施の形態による放射線像読取装置の概略構成を示す斜視図、図２は励起光照射部およびラインセンサの概略構成を示す拡大側面図、図３は励起光カットフィルタの概略構成を示す側面図である。
【００３９】
図１および図２に示すように、本発明の実施の形態による放射線像読取装置１００は、放射線像変換パネル１０に対して主走査Ｘ方向（図中矢印Ｘ方向）に延びる線状の励起光Ｌｅを照射する励起光照射部２０と、この線状の励起光Ｌｅの照射を受けた放射線像変換パネル１０から発生した輝尽発光光を検出する受光部３０と、受光部３０を放射線像変換パネル１０に対して主走査Ｘ方向と交わる副走査Ｙ方向（図中矢印Ｙ方向）に相対的に移動させる搬送手段（図示は省略）とを備えている。
【００４０】
励起光照射部２０は、励起光を射出する半導体レーザであるブロードエリアレーザ２１、ブロードエリアレーザ２１から射出された線状の励起光を後述する反射ミラーを介して放射線像変換パネル１０上の主走査Ｘ方向に線状に集光させるトーリックレンズ等からなる集光光学系２２、および上記励起光を光路の途中で反射して光路を放射線像変換パネル１０に向かう方向に変更させる反射ミラー２３等によって構成されており、線状の励起光を放射線像変換パネル１０上に照射する。なお、上記励起光としては、波長５００ｎｍから波長９００ｎｍ程度のものが使用される。本実施の形態では６００ｎｍ帯の半導体レーザを励起光源としている。
【００４１】
受光部３０は、結像レンズ３１、検出手段である主走査方向に並べられた多数のＣＣＤ素子からなるラインセンサ３２、および励起光カットフィルタ４０を備えている。結像レンズ３１は上記主走査Ｘ方向に並んだ多数のレンズからなり、励起光Ｌｅが照射された放射線像変換パネル１０上の線状の領域Ｆの正立等倍像をラインセンサ３２上に結像させる。励起光カットフィルタ４０は、結像レンズ３１とラインセンサ３２との間に挿入され、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する。
【００４２】
この励起光カットフィルタ４０は、励起光を吸収する光学部材である１枚の色ガラス板と、この色ガラス板の表面に形成された励起光を反射する反射層である励起光反射膜とから構成したり、あるいは、励起光を吸収する光学部材である複数の色ガラス板と、少なくとも１つの色ガラス板の表面に形成された励起光を反射する反射層である励起光反射膜とから構成したりすることができる。
【００４３】
また、励起光照射部２０と受光部３０とは一体化されており上記搬送手段によって副走査方向に同時に搬送される。
【００４４】
次に、上記実施の形態における作用について説明する。
【００４５】
励起光照射部２０から射出された励起光Ｌｅは放射線像変換パネル１０上の主走査方向に延びる線状の領域Ｆに集光される。この線状の励起光Ｌｅの照射によって線状の領域Ｆから発生した輝尽発光光は結像レンズ３１および励起光カットフィルタ４０を通してラインセンサ３２上に結像され光電変換された後、電気的な画像信号として出力される。上記励起光Ｌｅの照射と輝尽発光光の検出を実行しながら、一体化された励起光照射部２０と受光部３０とが搬送手段によって副走査Ｙ方向へ搬送され、放射線像変換パネル１０に記録された放射線像が読み取られる。
【００４６】
ここで、励起光の遮断性能を低下させることなく励起光カットフィルタの厚さを薄くする場合について、図３（ａ）から図３（ｃ）を参照して説明する。
【００４７】
ここでは、励起光カットフィルタが励起光の強度を１×１０−１０すなわち１０桁減衰させるものとし、色ガラス板の励起光に対する透過率（以後、励起光透過率という）は厚さ１ｍｍ当り１０％、色ガラス板の表面に形成された励起光反射膜の励起光透過率を１×１０−２とする。したがって、色ガラス板だけで励起光カットフィルタを構成する場合には、厚さ１０ｍｍの色ガラス板を用いる必要がある。
【００４８】
実施例１：
図３（ａ）に示すように、実施例１の励起光カットフィルタ４０Ａは、色ガラス板４１Ａ、この色ガラス板４１Ａの励起光Ｌｅの入射側（以後、励起光入射側という）の表面に形成され励起光を略１００％透過させる励起光透過膜４２Ａ、および色ガラス板４１Ａの励起光射出側の表面に形成された励起光反射膜４３Ａから構成されている。
【００４９】
ここで、色ガラス板４１Ａの表面に形成された励起光反射膜４３Ａの励起光透過率が１×１０−２なので、色ガラス板４１Ａの厚さｔ１を８ｍｍとしてこの色ガラス板４１Ａの励起光透過率を１×１０−８とすることで、励起光カットフィルタ４０Ａの励起光透過率を所望の１×１０−１０とすることができる。
【００５０】
これにより、励起光の遮断性能を低下させることなく励起光カットフィルタの厚さを薄くすることができ、色ガラス板だけで励起光カットフィルタを構成した場合に比して厚さを２０％薄くする（厚さを１０ｍｍから８ｍｍにする）ことができる。
【００５１】
実施例２：
図３（ｂ）に示すように、実施例２の励起光カットフィルタ４０Ｂは、色ガラス板４１Ｂ、この色ガラス板４１Ｂの励起光入射側の表面に形成され励起光を略１００％透過させる励起光透過膜４２Ｂ、色ガラス板４１Ｂの励起光射出側の表面に形成された励起光反射膜４３Ｂ、励起光反射膜４３Ｂを介して色ガラス板４１Ｂの励起光射出側に接合された色ガラス板４４Ｂ、および色ガラス板４４Ｂの励起光射出側の表面に形成された励起光反射膜４５Ｂから構成されている。
【００５２】
ここで、色ガラス板４１Ｂおよび４４Ｂの表面に形成された励起光反射膜４３Ｂおよび４５Ｂの励起光透過率がそれぞれ１×１０−２（２つを合わせて励起光透過率が１×１０−４）なので、色ガラス板４１Ｂおよび色ガラス板４４Ｂの２枚を合わせた厚さｔ２を６ｍｍにしてこれら２枚を合わせた励起光透過率を１×１０−６とすることで、励起光カットフィルタ４０Ｂの励起光透過率を所望の１×１０−１０とすることができる。
【００５３】
これにより、励起光の遮断性能を低下させることなく励起光カットフィルタの厚さをより薄くすることができ、色ガラス板だけで励起光カットフィルタを構成した場合に比して厚さを４０％薄く（厚さを１０ｍｍから６ｍｍに）することができる。
【００５４】
実施例３：
図３（ｃ）に示すように、実施例３の励起光カットフィルタ４０Ｃは、色ガラス板４１Ｃ、この色ガラス板４１Ｃの励起光入射側の表面に形成された励起光を略１００％透過させる励起光透過膜４２Ｃ、色ガラス板４１Ｃの励起光射出側の表面に形成された励起光反射膜４３Ｃ、励起光反射膜４３Ｃを介して色ガラス板４１Ｃの励起光射出側に接合された色ガラス板４４Ｃ、色ガラス板４４Ｃの励起光射出側の表面に形成された励起光反射膜４５Ｃ、励起光反射膜４５Ｃを介して色ガラス板４４Ｃの励起光射出側に接合された色ガラス板４６Ｃ、および色ガラス板４６Ｃの励起光射出側の表面に形成された励起光反射膜４７Ｃから構成されている。
【００５５】
ここで、色ガラス板４１Ｃ、４４Ｃおよび４６Ｃの表面に形成された励起光反射膜４３Ｃ、４５Ｃおよび４７Ｃの励起光透過率がそれぞれ１×１０−２（３つを合わせて励起光透過率が１×１０−６）なので、色ガラス板４１Ｃ、４４Ｃおよび４６Ｃの３枚を合わせた厚さｔ３を４ｍｍにしてこれら３枚を合わせた励起光透過率を１×１０−４とすることで、励起光カットフィルタ４０Ｃの励起光透過率を所望の１×１０−１０とすることができる。
【００５６】
これにより、励起光の遮断性能を低下させることなく励起光カットフィルタの厚さをさらに薄くすることができ、色ガラス板だけで励起光カットフィルタを構成した場合に比して厚さを６０％薄く（厚さを１０ｍｍから４ｍｍに）することができる。
【００５７】
なお、複数の色ガラス板で励起光カットフィルタを構成する場合には、色ガラス板が互いに接合されている場合に限らず空気層を介して色ガラス板を並べて励起光カットフィルタを構成するようにしてもよい。
【００５８】
また、励起光透過膜を色ガラス板の表面に形成しない場合であっても上記と概略同様の効果を得ることができる。
【００５９】
なお、色ガラス板の励起光に対する透過率は、厚さ１ｍｍ当りの透過率が１０％の場合に限らない。このような場合であっても、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率を１０％以下としたり、さらに、励起光カットフィルタが複数の反射層を備えている場合において、励起光カットフィルタ中の、輝尽発光光が励起光カットフィルタに入射してから反射層に最初に入射するまでの間の透過率を１０％以下とし、かつ、互いに隣り合う反射層の間の透過率が全て１０％以下とすることにより、励起光カットフィルタの厚さをより確実に薄くする効果を得ることができる。
【００６０】
なお、上記本発明の励起光カットフィルタを、上記とは構成が異なる受光部に採用した例を以下に示す。図４は上記とは構成が異なる受光部を搭載した放射線像読取装置の概略構成を示す図、図５は上記装置の励起光照射部およびラインセンサの概略構成を示す拡大側面図である。
【００６１】
図４および図５に示す受光部３０′は、励起光照射部２０から射出され放射線像変換パネル１０に入射する励起光Ｌｅの光路の両側において、放射線像変換パネル１０から発生した輝尽発光光を検出するものであり、この受光部３０′は、主走査Ｘ方向に並べられた多数のＣＣＤ素子からなる５つの個別のラインセンサ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ、６２Ｄ、６２Ｅ（以後、まとめてラインセンサ６２ともいう）と、主走査Ｘ方向に並べられた多数の屈折率分布型レンズからなる５つの個別の結像レンズ６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ、６１Ｅ（以後、まとめて結像レンズ６１ともいう）と、輝尽発光光を透過させ励起光を遮断する５つの個別の励起光カットフィルタ８０Ａ、８０Ｂ、８０Ｃ、８０Ｄ、８０Ｅ（以後、まとめて励起光カットフィルタ８０ともいう）とから構成されている。ここで、各ラインセンサ６２、各結像レンズ６１、および各励起光カットフィルタ８０は、上記既に説明済みのラインセンサ３２、各結像レンズ３１、および励起光カットフィルタ４０、４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ等と同様の構造のものを採用することができる。
【００６２】
上記ラインセンサ６２は、励起光照射部２０により励起光Ｌｅが照射された放射線像変換パネル１０上の線状の領域Ｆの図中矢印−Ｙ方向の側に配置されたラインセンサ６２Ａ、６２Ｃ、６２Ｅ、と上記領域Ｆの図中矢印＋Ｙ方向の側に配置されたラインセンサ６２Ｂ、６２Ｄとで構成されている。すなわち、上記線状の励起光Ｌｅが放射線像変換パネル１０へ入射する光路を間に挟んで、ラインセンサ６２Ａ、６２Ｃ、６２Ｅと、ラインセンサ６２Ｂ、６２Ｄとが千鳥状に向い合うように配置されており、各ラインセンサ６２は上記線状の領域Ｆから発せられ各結像レンズ６１を通して結像された輝尽発光光を検出する。
【００６３】
上記各結像レンズ６１は、各ラインセンサ６２に対応して配置されており、上記線状の励起光Ｌｅの光路を間に挟んで千鳥状に向い合うように配置された結像レンズ６１Ａ、６１Ｃ、６１Ｅ、と結像レンズ６１Ｂ、６１Ｄとで構成されている。各結像レンズ６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ，６１Ｅは、上記線状の領域Ｆ中の部分領域Ｆａ、Ｆｂ，Ｆｃ、Ｆｄ、Ｆｅの各像を各ラインセンサ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ、６２Ｄ、６２Ｅの受光面上にそれぞれ結像される。
【００６４】
上記各励起光カットフィルタ８０は、上記各ラインセンサ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ、６２Ｄ、６２Ｅと各結像レンズ６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ，６１Ｅとの間にそれぞれ挿入され、上記線状の励起光Ｌｅが放射線像変換パネル１０に入射する光路を間に挟んで励起光カットフィルタ８０Ａ、８０Ｃ、８０Ｅと励起光カットフィルタ８０Ｂ、８０Ｄとが千鳥状に向い合うように配置されており、各結像レンズ６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ，６１Ｅによって結像される上記部分領域Ｆａ、Ｆｂ，Ｆｃ、Ｆｄ、Ｆｅの各像は、各励起光カットフィルタ８０Ａ、８０Ｂ、８０Ｃ、８０Ｄ、８０Ｅを通して各ラインセンサ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ、６２Ｄ、６２Ｅにそれぞれ結像される。
【００６５】
このように構成された受光部３０′を用いることにより、上記と同様に輝尽発光光の検出を行なうことができる。
【００６６】
また、本発明の励起光カットフィルタは、ラインセンサで放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出する装置に適用する場合に限らず、集光ガイドとフォトマルを使用して放射線像変換パネルから発生した輝尽発光光を検出する装置等にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による放射線像読取装置の概略構成を示す斜視図
【図２】励起光照射部およびラインセンサの概略構成を示す拡大側面図
【図３】複数種類の励起光カットフィルタの概略構成を示す側面図
【図４】構成が異なる受光部を搭載した放射線像読取装置の概略構成を示す図
【図５】構成が異なる受光部の励起光照射部およびラインセンサの概略構成を示す拡大側面図
【図６】励起光カットフィルタの概略構成を示す側面図
【符号の説明】
１０    放射線像変換パネル
２０    励起光照射部
３０    受光部
４０    励起光カットフィルタ
１００    放射線像読取装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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