(57)【要約】【課題】Ｘ線透過膜を容易に交換できるＸ線透過ユニットを提供すること。【解決手段】Ｘ線露光装置１００は、Ｘ線を発生させる機構を有する光源チャンバ１０と、互いに異なるＸ線透過特性を有する複数のＸ線透過膜が固定されたＸ線透過ユニット１１と、Ｘ線透過ユニット１１を駆動する駆動装置１４と、を備える。駆動装置１４は、光源チャンバ１０で発生したＸ線が、複数種類のＸ線透過膜のいずれかに照射されるように、Ｘ線透過ユニット１１を移動させる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を透過させる複数のＸ線透過膜と、
前記複数のＸ線透過膜が固定されたプレートと、
を備えることを特徴とするＸ線透過ユニット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般的にＸ線透過ユニットに関し、より詳細には、Ｘ線を光源として原版のパターンを基板へ露光することに関する。
【０００２】
【従来の技術】
マスク等の原版とウエハ等の基板とを微小間隔で接近させて露光を行うプロキシミティ方式の露光装置としてＸ線露光装置がある。Ｘ線露光装置では、真空中を透過したＸ線を、真空とは異なる雰囲気中に取り出すためにＸ線透過膜（Ｘ線窓）が用いられている（例えば、特許文献１参照。）。図７は、Ｘ線透過膜を有する従来のＸ線露光装置の構成の一部を示す概念図である。Ｘ線透過膜１１１としては、例えばベリリウムなどのＸ線透過材が用いられ、接着などによって外枠１２０に固定されている。外枠１２０は、ボルト１２３やナット１２４によってＩＣＦフランジ等のフランジ１２１が締め付けられ、シールエッジ１２２によって真空封止される構造となっている。
【０００３】
この構造体の一方にＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ  Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）等の光源を接続し、もう一方に露光装置本体に接続することによって、マスク等の原版のパターンをウエハ等の基板へ露光することができる。従来のＸ線露光装置では、例えば、ＳＲ側を超高真空、露光装置本体側を例えば２０ｋＰａといった減圧雰囲気として、真空隔壁の一部をＸ線透過膜で構成することができる。
【０００４】
【特許文献１】
特開平４−３６３７００号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のＸ線透過膜は、Ｘ線の長波長成分をカットする機能もあるが、従来の技術では、Ｘ線透過膜を１種類しか設けることができないため、Ｘ線透過膜を透過したときのＸ線の波長が常に一定となる。そのため、従来のＸ線露光装置では、回路パターンの構造に応じて露光波長を可変とし、露光波長をコントロールすることができない。
【０００６】
従来のＸ線露光装置において、Ｘ線透過膜を透過したＸ線の波長を変えるためには、その都度フランジを外して厚さの異なるＸ線透過膜と交換し、フランジを元に戻してＸ線透過膜を固定するという作業が発生する。これによって、露光装置の運転時間が減少し、デバイスの生産性が低下する。また、作業者による作業が増えるだけでなく、作業に伴うミスも発生しやすくなる。さらに、例えば、Ｘ線透過膜から空気等の雰囲気がリークして装置内に混入し、露光転写精度が低下してデバイスの歩留まりが低下するという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、例えば、Ｘ線透過膜を容易に交換できるＸ線透過ユニットを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、Ｘ線透過ユニットに係り、Ｘ線を透過させる複数のＸ線透過膜と、前記複数のＸ線透過膜が固定されたプレートと、を備えることを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【００１０】
［第１の実施形態］
以下、本発明の第１の実施形態に係るＸ線透過ユニットが設置されたＸ線露光装置について説明する。図１は、本発明の好適な第１の実施形態に係るＸ線露光装置１００の構成を示す概念図である。本実施形態のＸ線露光装置は、Ｘ線を発生するためのＸ線発生装置１０１と、Ｘ線を基板に照射してパターンを転写するためのＸ線露光装置本体１０２と、で構成される。
【００１１】
図１において、パターンが描かれたマスクメンブレンを有する原版としてのマスク１が、マスクステージベース２上に搭載されたマスクステージのマスクチャック（不図示）に保持され、Ｘ線の経路上に位置決めされている。そして、基板としてのウエハ３が、ウエハチャック４に保持されて、マスク１に対向して微小間隔まで接近して配置される。ウエハチャック４は、マスク１とウエハ３との位置合わせに用いられるウエハステージ５上に搭載されている。ウエハステージ５は、ステージ定盤６によって案内される。マスクステージベース２とステージ定盤６とは、本体定盤７と呼ばれる装置全体の剛性を高める定盤に固定されている。コリメータ８は、発散角を含む露光光を平行光にする働きがある。Ｘ線露光装置本体１０２の各要素は、本体チャンバ９に収められている。本体チャンバ９には、不図示の排気ポンプが接続されたガスパージラインによって、ヘリウムガス等のガスがパージされて、例えば２０ｋＰａ程度の減圧雰囲気にされている。
【００１２】
Ｘ線露光装置本体１０２の本体チャンバ９の上方には、光源チャンバ１０が配置され、この中でＸ線を発生させる。光源チャンバ１０内の雰囲気は、不図示の排気ポンプによって、例えば１００Ｐａ程度の真空雰囲気にされている。
【００１３】
ベローズ１２と本体チャンバ９との間、及びベローズ１２と光源チャンバ１０との間には、それぞれゲートバルブ１５が配置されている。ゲートバルブ１５は、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７を交換する時に、本体チャンバ９ならびに光源チャンバ１０内を大気開放することを防止するために設けられている。ゲーバルブ１５は、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７を交換するときには閉められ、露光時には開かれる。
【００１４】
なお、光源チャンバ１０の容積が十分に小さく、短時間で例えば１００Ｐａ程度の真空雰囲気にすることができるのであれば、ベローズ１２と光源チャンバ１０との間にゲートバルブ１５を設けなくてもよい。ゲートバルブ１５としては、エアオペレイト方式のものを採用してもよいし、モータを内蔵するもの等を採用してもよい。
【００１５】
また、Ｘ線発生装置１０１及びＸ線露光装置本体１０２は、ゲートバルブ１５に接続された伸縮自在のベローズ１２と、ベローズ１２の先端に接続されたフランジ１２’と、フランジ１２’をベローズ１２の伸縮方向に駆動するＺ駆動装置１３と、を備えるのが好ましい。
【００１６】
本体チャンバ９の雰囲気と光源チャンバ１０の雰囲気は、Ｘ線透過ユニット１１によって遮断される。Ｘ線透過ユニット１１は、例えばベリリウム箔等で形成されたＸ線透過膜（窓部）１７をステンレス等のプレート（窓枠）１８に搭載した構造を有する。Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７の材料は、ベリリウムに限られず、例えばＳｉＣ等を用いてもよい。Ｘ線透過ユニット１１とベローズ１２のフランジ１２’とをシールするシール部材１６としては、例えばＯリング１６を用いることが望ましい。
【００１７】
Ｚ駆動装置１３は、ベローズ１２の先端に接続されたフランジ１２’をその伸縮方向に駆動して、Ｘ線透過ユニット１１から引き離すことができる。また、駆動装置１４は、Ｘ線透過ユニット１１を駆動して、Ｘ線透過膜１７を交換することができる。
【００１８】
制御部１０３は、所定の制御プログラムのプログラムコードを読み出し、実行することによって、Ｘ線露光装置内の各装置を制御することができる。制御部１０３は、所望の露光波長に対するＸ線透過膜１７の厚さを算出し、駆動装置１４を制御して適当なＸ線透過膜１７に交換することができる。
【００１９】
次に、図２及び図３を用いて、Ｘ線透過ユニット１１の構造について説明する。図２（ａ）は、Ｘ線透過ユニット１１の上面図であり、図２（ｂ）は、Ｘ線透過ユニット１１を図２（ａ）のＡ−Ａ’で切った断面図である。
【００２０】
Ｘ線透過ユニット１１は、複数のＸ線透過膜（窓部）１７がステンレスなどのプレート１８に固定された構造を有する。Ｘ線透過膜１７は、互いに異なるＸ線透過特性を有することが望ましい。また、Ｘ線透過膜１７は、プレート１８に形成された開口部２５に固定されていることが好ましい。Ｘ線透過膜１７としては、例えば、ベリリウム箔を用いることができる。Ｘ線透過膜１７としての複数のベリリウム箔は、互いに異なるＸ線透過特性を持たせるために、互いに異なる厚さであることが望ましい。ベリリウム箔１７の厚さとしては、光源の特性によっても異なるため、特に限定しないが、一般的に１０μｍ〜３０μｍの厚さであることが望ましい。この厚さの範囲内で、何種類かの厚さのＸ線透過膜１７をＸ線透過ユニット１１に固定する。Ｘ線透過膜１７としては、ベリリウム箔に限定されず、例えば、ＳｉＣ膜やダイヤモンド膜等を用いてもよいし、複数の材質のＸ線透過膜１７をＸ線透過ユニット１１に固定してもよい。なお、Ｘ線透過膜１７の固定の方法としては、例えば、Ｘ線透過膜１７を直接プレート１８に接着すればよい。また、プレート１８側には接着剤が漏れ出すことを防止するために、接着面の周りに溝を設けてもよい。
【００２１】
図２では、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７を一列に配置したが、これに限定されず、二次元に配置してもよい。ただし、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７の配置が一列の場合には、図１の駆動装置１４は、Ｘ線透過ユニット１１をＸもしくはＹ方向に駆動すれば十分であるが、Ｘ線透過膜１７の配置が二次元の場合には、Ｘ線透過ユニット１１をＸＹ平面に駆動する必要がある。また、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７を図３に示すように同一円周上に配置した場合には、駆動装置１４の駆動軸をＺ軸まわり（θ）として、これらの配置を組み合わせて、駆動装置１４の駆動軸をＸＹθとしてもよい。なお、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７の数は、図示の通りに限定されず、任意であってよく、形状も円形だけでなく多角形など任意の形状を含んでよい。
【００２２】
次に、図４及び図５を用いて、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７を交換する工程を説明する。図４はＸ線透過膜１７を交換する工程のフローチャートを示し、図５（ａ）〜（ｃ）は本実施形態に係るＸ線装置の各部を示す概念図である。
【００２３】
まず、図４のステップＳ１では、ユーザがＸ線装置に接続されたコンソールに、Ｘ線の露光波長等の露光波長情報を入力する。
【００２４】
ステップＳ２では、制御部１０３が、入力された露光波長情報に基づいて、所望のＸ線透過膜１７を選択し交換する工程を開始する。その際、制御部１０３は、Ｘ線透過ユニット１１のどのＸ線透過膜１７を選択すれば所望の露光波長が得られるか決定する。この決定に際して、露光波長は平均波長とするのが好ましい。また、Ｘ線透過膜（ベリリウム箔）１７は、厚いほど長波長成分をカットし、平均波長を短波長化することができるため、制御部１０３は、平均波長とＸ線透過膜（ベリリウム箔）１７の厚さとの関係を示す数式又はテーブル等を予め用意し、各々のＸ線透過膜１７の厚さが予め分かるようにおくことによって、所望のＸ線透過膜１７へと容易に交換することができる。なお、Ｘ線透過膜１７としてＳｉＣ膜やダイヤモンド膜を用いる場合には、さらに、平均波長とＸ線透過膜１７の材質及び厚さとの関係を示す数式又はテーブル等を予め用意し、各々のＸ線透過膜１７の材質と厚さが予め分かるようにおくことによって、所望のＸ線透過膜１７へと容易に交換することができる。
【００２５】
ステップＳ３では、ゲートバルブ１５を閉じて、図１の本体チャンバ９及び光源チャンバ１０の各々の雰囲気を維持する。
【００２６】
ステップＳ４では、ゲートバルブ１５が閉じた後に、Ｚ駆動装置１３がフランジ１２’を駆動して、Ｘ線透過ユニット１１とベローズ１２のフランジ１２’とを引き離す（図５（ａ）に対応）。
【００２７】
ステップＳ５では、駆動装置１４が、ステップＳ２で選択したＸ線透過膜１７が図１の光源チャンバ１０で発生するＸ線の経路に配置されるように、Ｘ線透過ユニット１１を駆動させて、Ｘ線透過膜１７を交換する（図５（ｂ）に対応）。
【００２８】
ステップＳ６では、Ｚ駆動装置１３がフランジ１２’を駆動して、Ｘ線透過ユニット１１とベローズ１２のフランジ１２’（シール部材１６）とを接触させる（図５（ｃ）に対応）。
【００２９】
ステップＳ７では、ゲートバルブ１５を開けた後に、図１の光源チャンバ１０内でＸ線を発生させて、Ｘ線を基板に照射してパターンを転写する。
【００３０】
本実施形態では、露光波長は、露光波長情報をコンソールから入力したが、これに限定されず、例えば、別途制御部（例えば、制御部１０３等）を設けて、この制御部が、所定の記憶媒体に格納された露光波長のデータを自動的に読み出すように構成されてもよい。
【００３１】
また、図１及び図４では、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜（窓部）１７が、プレート１８の光源チャンバ１０側に設置される構造を示したが、これに限定されず、例えば、本体チャンバ９側に設置されてもよい。
【００３２】
また、図１では、Ｘ線の光源としてプラズマＸ線源を用いた場合を例として示したが、他の光源を用いてもよく、例えば、シンクロトロン放射光（ＳＲ）を光源として用いてもよい。ここで、ＳＲを光源とする場合には、Ｘ線透過ユニット１１、ベローズ１２、フランジ１２’、Ｚ駆動装置１３、駆動装置１４、及びゲートバルブ１５を、ＳＲのビームラインと本体チャンバ９の間に配置すればよい。
【００３３】
以上の構成によれば、厚さの異なるＸ線透過膜（窓部）を容易に交換することができる。これによって、Ｘ線の所望の長波長成分を容易にカットすることができ、回路パターンの解像度が向上する。また、Ｘ線透過膜（窓部）の交換に要する時間が短時間で済むため、Ｘ線露光装置の運転時間を伸ばすことができる。さらに、作業者による作業を減らすことができる。
【００３４】
［第２の実施形態］
本発明の好適な第２の実施の形態に係るＸ線露光装置は、概略的には、第１の実施の形態に係るＸ線露光装置に新たに別の構成を追加したものである。即ち、第２の実施の形態に係るＸ線露光装置は、図６に示すように、Ｘ線チャンバ１９を更に備え、Ｘ窓ユニット１１、ベローズ１２、フランジ１２’、Ｚ駆動装置１３、駆動装置１４、及びゲートバルブ１５等を、Ｘ線チャンバ１９内に配置したものである。Ｘ線チャンバ１９内の雰囲気は、高いクリーン度に保たれているため、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７を交換する際に、ベローズ１２やゲートバルブ１５等の中に異物が混入することを防止することができる、これらの異物が本体チャンバ９又は光源チャンバ１０の中に混入することを防止することができる。
【００３５】
以下、図６を参照して本発明の好適な実施の形態に係るＸ線装置の動作を説明する。なお、図６では第１の実施形態で説明した本体チャンバ９と光源チャンバ１０の装置構成については、概略的には同様であるため、Ｘ線チャンバ１９について図示する。
【００３６】
Ｘ線透過ユニット１１は、プレート１８にＸ線透過膜１７が固定された構造を有し、ベローズ１２のフランジ１２’との間はＯリング等のシール部材１６によってシールされている。フランジ１２’に接続されたベローズ１２は、ゲートバルブ１５に接続されている。Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜（窓部）１７を交換する時には、ゲートバルブ１５を閉じて、Ｚ駆動装置１３によってフランジ１２’を駆動して、フランジ１２’とＸ線透過ユニット１１とを引き離し、駆動装置１４によってＸ線透過ユニット１１を駆動する。これらはＸ線チャンバ１９の中に収められている。
【００３７】
Ｘ線チャンバ１９内の圧力は陽圧であるのが好ましく、例えば、大気圧に対して１００Ｐａ程度高い圧力であるのが好ましい。この環境を作るためには、例えば、クリーンエアボンベ２０から供給されたクリーンエアをレギュレータ２１で所定の圧力に減圧して、フィルタ２２でパーティクルやオイルミストなどの異物が除去した後に、エアパージライン２３を通してＸ線チャンバ１９に導入するよう構成すればよい。Ｘ線チャンバ１９には、Ｘ線チャンバ１９の膨張、破裂を防ぐために、安全弁となる逆止弁２４を設けるのが望ましい。また、Ｘ線チャンバ１９内の圧力を制御するために、バルブや圧力センサ、マスフローコントローラなどを設けることが望ましい。
【００３８】
なお、図６ではＸ線チャンバ１９へパージするガスとしてクリーンエアを用いたが、これに限定されず、例えば、ヘリウム等のガスを用いてもよい。例えば、ヘリウムガスをガスパージする場合には、クリーンエアボンベ２０に代えて、ヘリウムボンベをつなげればよい。また、クリーンエアボンベ２０に代えて、コンプレッサを用いて圧縮空気を流してもよいが、その場合には、コンプレッサとレギュレータ２１との間にフィルタ２２を配置することが望ましい。
【００３９】
本実施形態において、Ｘ線透過膜１７を交換する工程は、概略的には、第１の実施の形態において、Ｘ線透過膜１７を交換する工程と同様であるため、その説明を省略し、Ｘ線透過ユニット１１の老朽化などの要因によって、Ｘ線透過ユニット１１自体を交換する場合の方法について以下に説明する。
【００４０】
Ｘ線透過ユニット１１自体を交換するには、まず、作業者又は作業用ロボットが、Ｘ線チャンバ１９の不図示の扉を開けて、Ｚ駆動装置１３によってフランジ１２’を駆動し、Ｘ線透過ユニット１１とフランジ１２’とを引き離す。次に、作業者又は作業用ロボットが、Ｘ線透過ユニット１１を駆動装置１４から取り外して、新しいＸ線透過ユニット１１を駆動装置１４に取り付ける。次に、Ｚ駆動装置１３が、フランジ１２’を駆動し、Ｘ線透過ユニット１１とフランジ１２’（シール部材１６）とを接触させる。この後に、作業者又は作業用ロボットが、Ｘ線チャンバ１９の扉を閉じて、Ｘ線透過ユニット１１自体の交換が終了する。
【００４１】
なお、Ｘ線チャンバ１９の扉の開閉とＺ駆動装置１３の駆動の順序とは、逆であってもよい。また、Ｘ線透過ユニット１１を自動で交換する装置を配置し、Ｘ線チャンバ１９の扉の開閉を自動化して、作業者又は作業用ロボットが、自動交換装置から使用済みのＸ線透過ユニット１１を新しいＸ線透過ユニット１１に交換するだけで済むように構成してもよい。
【００４２】
図６において、予めＸ線チャンバ１９を所望のクリーン度に保っておけば、その後は、Ｘ線チャンバ１９内が陽圧に保たれるため、Ｘ線チャンバ１９の外側から異物が混入することがない。また、Ｘ線透過ユニット１１自体を交換する場合であっても、Ｘ線チャンバ１９の不図示の扉を開けたときに、Ｘ線チャンバ１９内へ異物が混入することがないため、Ｘ線透過ユニット１１のＸ線透過膜１７を交換する時に、ベローズ１２やゲートバルブ１５の中に異物が混入することを防止し、その異物が本体チャンバ９あるいは光源チャンバ１０の中に混入することを防止することができる構成となっている。
【００４３】
以上説明したように、本発明によれば、複数種類のＸ線透過膜（窓部）を容易に交換することができる。これによって、Ｘ線の所望の長波長成分を容易にカットすることができ、回路パターンの解像度が向上する。また、その交換に要する時間が短時間で済むため、Ｘ線露光装置の運転時間を伸ばすことができる。さらに、作業者による作業が新たに発生することがないため、作業に伴うミスを防止することができる。さらに、Ｘ線透過膜（窓部）の交換時に、Ｘ線露光装置内あるいは光源に異物が混入することもないため、各々のクリーン度が向上し、デバイス生産の歩留まりが向上すると共に、他のプロセス機器を汚染することを防止することができる。
【００４４】
［他の実施形態］
次に、上記のＸ線露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図８は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記のＸ線露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ５によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ７でこれを出荷する。
【００４５】
上記ステップ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記のＸ線露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【００４６】
以下、本発明の実施態様を列挙する。
【００４７】
［実施態様１］  Ｘ線を透過させる複数のＸ線透過膜と、
前記複数のＸ線透過膜が固定されたプレートと、
を備えることを特徴とするＸ線透過ユニット。
【００４８】
［実施態様２］  前記Ｘ線透過膜は、互いに異なるＸ線透過特性を有することを特徴とする実施態様１に記載のＸ線透過ユニット。
【００４９】
［実施態様３］  前記Ｘ線透過膜は、前記プレートに形成された開口部に固定されていることを特徴とする実施態様１又は実施態様２に記載のＸ線透過ユニット。
【００５０】
［実施態様４］  前記Ｘ線透過膜は、ベリリウムを含むことを特徴とする実施態様１乃至実施態様３のいずれか１項に記載のＸ線透過ユニット。
【００５１】
［実施態様５］  Ｘ線を発生するＸ線源と、
実施態様１乃至実施態様４のいずれか１項に記載のＸ線透過ユニットと、
前記Ｘ線源が発生するＸ線の経路に前記複数のＸ線透過膜のいずれかを選択的に配置するための機構と、
前記Ｘ線が照射される原版に形成されたパターンを基板に投影するための光学系と、
を備えることを特徴とするＸ線装置。
【００５２】
［実施態様６］  前記機構は、
伸縮自在のベローズと、
前記ベローズの先端に接続されたフランジと、
前記フランジを前記ベローズの伸縮方向に駆動する第１駆動装置と、
前記Ｘ線透過ユニットを駆動する第２駆動装置と
を備えることを特徴とする実施態様５に記載のＸ線装置。
【００５３】
［実施態様７］  前記機構を収納するためのチャンバを有することを特徴とする実施態様６に記載のＸ線装置。
【００５４】
［実施態様８］  互いに異なるＸ線透過特性を有する複数のＸ線透過膜が固定されたＸ線透過ユニットの中から所望のＸ線透過膜を選択する工程と、
前記選択されたＸ線透過膜を、Ｘ線源から発生されたＸ線の経路に配置する工程と、
を含むことを特徴とするＸ線透過膜の交換方法。
【００５５】
［実施態様９］  半導体デバイスの製造方法であって、
基板に感光材を塗布する塗布工程と、
実施態様５乃至実施態様７のいずれか１項に記載のＸ線装置を利用して、前記感光材が塗布された前記基板に対しＸ線を照射してパターンを転写する露光工程と、
前記パターンが転写された前記基板の前記感光材を現像する現像工程と、
を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、例えば、Ｘ線透過膜を容易に交換できるＸ線透過ユニットを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好適な第１の実施形態に係るＸ線装置の構成を示す概念図である。
【図２】Ｘ線透過ユニットの構造を示す概念図である。
【図３】Ｘ線透過ユニットの構造を示す概念図である。
【図４】Ｘ線透過ユニットのＸ線透過膜を交換する工程のフローチャートである。
【図５】本発明の好適な第１の実施形態に係るＸ線装置の各部を示す概念図である。
【図６】本発明の好適な第２の実施形態に係るＸ線装置の構成の一部を示す概念図である。
【図７】Ｘ線透過膜を有する従来のＸ線露光装置の構成の一部を示す概念図である。
【図８】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【符号の説明】
１：マスク  ２：マスクステージベース  ３：ウエハ  ４：ウエハチャック  ５：ウエハステージ  ６：ステージ定盤  ７：本体定盤  ８：コリメータ  ９：本体チャンバ  １０：光源チャンバ  １１：Ｘ線透過ユニット  １２：ベローズ  １３：Ｚ駆動装置  １４：駆動装置  １５：ゲートバルブ  １６：シール部材  １７：Ｘ線透過膜（窓部）  １８：プレート  １９：Ｘ線チャンバ  ２０：クリーンエアボンベ  ２１：レギュレータ  ２２：フィルタ  ２３：エアパージライン  ２４：逆止弁
【図１】
2004327500.tif 000003
【図２】
2004327500.tif 000004
【図３】
2004327500.tif 000005
【図４】
2004327500.tif 000006
【図５】
2004327500.tif 000007
【図６】
2004327500.tif 000008
【図７】
2004327500.tif 000009
【図８】
2004327500.tif 000010