(57)【要約】【課題】サブミクロンサイズの異物等が存在してもウエハチャックを傷つけることなく確実に除去することができ、スループットを低下させる事なくウエハの平面度を高精度に確保することができる異物除去方法を提供すること。【解決手段】ＸＹステージ上にウエハを吸着するウエハチャックと、このウエハ接触面に付着した異物に向かって洗浄液を吐出する洗浄ユニットを有し、この洗浄ユニットは異物検査をする顕微鏡とマルチノズルピエゾポンプ、この顕微鏡とマルチノズルピエゾポンプを駆動する機構部とを備え、この機構部はＸＹステージ及びマスクステージ空調空間外部に配置し、異物除去作業による空調環境への影響を排除する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＸＹステージ上に設けられた被洗浄物のウエハチャックのウエハ接触面に付着した異物を除去する異物除去方法であって、前記ウエハチャックに付着した前記異物に向かって洗浄液を吐出するマルチノズルポンプとマルチノズルポンプが移動自在な機構部とを備え、この機構部はＸＹステージ空調空間外部に配置され、その機構部の配置位置から前記ウエハチャックのウエハ接触面へ前記マルチノズルポンプを接近させ、機構部の配置位置へ前記マルチノズルポンプを退去させる事を特徴とする異物除去方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスクに形成されたパターンを露光転写する工程に使用される露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年の半導体デバイスの集積度向上により光リソグラフィのさらなる微細化は必要不可欠のものとなっている。従来、光の波長により微細加工限界が制限される光リソグラフィ装置に対して、光の波長以下の微細加工を可能とする手段としてエバネッセント光を用いて光マスク前面をレジスト全面に密着させ一括露光させる方法が考えられる。この為、マスク面とレジスト面との間隔を常に１００ｎｍ以下に要求され、ウエハに対する平面度が厳しくなるのは避けられない。しかしながら、ウエハを保持するウエハチャックとウエハとの間にゴミやレジスト破片等の異物が挟み込まれるとその異物によりウエハの露光面の平面度が悪化する。その露光面の平面度の悪化は、露光パターンのむらやマスクパターン部材のマスク母材からの剥がれがおこり歩留まりの低下となる要因となる。このような異物をウエハチャック上から除去するのに、従来は一定間隔で装置を停止して露光作業を中断し、例えば砥石や無塵布を用いて異物を除去する方法や、ウエハチャックを装置より取り外しブラシ等を用いて表面を洗浄し異物を除去する方法を用いていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のように例えば砥石を用いてウエハチャックの全面を研磨するクリーニングの場合、クリーニングの繰り返しによるウエハチャック面の磨耗での平面度の低下がおき、ブラシ等による洗浄の場合、作業の煩雑とブラシ等との物理的接触によってチャックプレートの吸着面に傷がつきやすかった。これらの異物除去作業は露光工程を中断し、３０分から１時間程度の時間を要し実際の露光を行える時間が短縮されてスループットが低下するという不都合があった。更に、クリーニング手段によりウエハチャックから除去した異物がクリーニング部材から剥がれて、飛散したり、再付着を起こすという問題もある。また、ブラシ等の洗浄でウエハチャック上に部分的な拭きムラが残る可能性や、クリーニング動作に起因した２次的な発塵も問題となっていた。
【０００４】
かかる問題点を改善すべく、ウエハチャックの自動清掃機構が様々な形で提案されてきた。しかしながら、エバネッセント光一括露光では、従来では問題とされなかったサブミクロンサイズの異物の存在までが問題となるほどウエハの平面度が要求される。しかし、自動清掃機構でのサブミクロンサイズの異物の除去は容易なことではない。
【０００５】
本発明の目的は、以上の問題を解消するもので、サブミクロンサイズの異物等が存在してもウエハチャックを傷つけることなく確実に除去することができ、スループットを低下させる事なくウエハの平面度を高精度に確保することができる異物除去方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決する為になされたものであり、ＸＹステージ上にウエハを吸着するウエハチャックと、このウエハ接触面に付着した異物に向かって洗浄液を吐出する洗浄ユニットを有し、この洗浄ユニットは異物検査をする顕微鏡とマルチノズルピエゾポンプ、この顕微鏡とマルチノズルピエゾポンプを駆動する機構部とを備え、この機構部はＸＹステージ及びマスクステージ空調空間外部に配置し、異物除去作業による空調環境への影響は排除される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に異物除去方法の一実施形態について、添付の図１、図２、図３を参照して説明する。ウエハはＸＹステージ５に載せられたウエハチャック４に真空吸引される。所望位置へＸＹステージ５を移してマスクのパターン転写を行う。洗浄ユニット１１はＸＹステージ空調空間外部を待機位置にする。洗浄ユニット１１は、顕微鏡２とピエゾマルチノズルポンプ１からなる。ピエゾマルチノズルポンプ１は洗浄用ノズルとリンス用のノズルを具備する。異物をウエハチャック４から除去するのは液体であり、液体として、イソプロピルアルコールやアセトン、水とエチルアルコール混合液等を使用し、リンス用として水を使用する。ウエハチャック４は、ウエハチャック４上面に複数本の環状溝１０が同心円状に形成されている。ウエハチャックのウエハ吸着面は撥水性であり、各環状溝１０と排出管８はそれぞれ吸引孔７によって連結されている。
【０００８】
（実施例）
以下に、添付図を参照して本発明の実施例を説明する。図中１０はウエハチャック４の異物除去を行う洗浄ユニットであり、１２は洗浄ユニット１１の支持部材、１３はこの支持部材１２を案内する直線ガイドであって、これらが水平駆動機構部を構成する。異物除去は、露光装置制御部の指令により機構部の駆動系により、ステージ空調空間外部の待機位置から洗浄をおこなう位置に洗浄ユニット１１を送り込む。一方、ＸＹステージ５はあらかじめ決められた洗浄位置で静止し、待機している。図１（Ａ）に示すようにＸＹステージ５を水平に移動させながら顕微鏡２でウエハチャック４上の異物を検査する。検査中にウエハチャック４上のレジスト片などの異物を発見すると図１（Ｂ）に示すように顕微鏡２の対物レンズを上方向に移動させマルチノズルピエゾポンプを異物３に接近させる。図１（Ｃ）に示すようにピエゾマルチポンプノズルから洗浄液を異物３に向けて吐出する。ウエハ吸着面３に洗浄液を供給した場合、吸着面の持つ撥水性に起因して洗浄液は弾かれる。このため、表面張力によって洗浄液は環状溝１０に流れる。また、吐出時には液体吸引機構による吸引がおこなわれる。すると、同洗浄液がウエハチャックプレートの環状溝１０及び吸引孔７、排出管８を介して液体吸引手段に吸引される。その際、ウエハ吸着面６に付着した異物も洗浄液とともに吸引され、結果としてウエハ吸着面６から異物３が除去される。
【０００９】
【発明の効果】
本発明により露光装置にあるウエハチャック上のサブミクロンサイズの異物をウエハチャックを傷つけることなく除除でき、露光装置内でのクリーニングを実施できるため露光装置の非稼働時間を短縮できる。除去された異物は、洗浄液とともに吸引機機構に搬送されるのでクリーンルーム内を汚染することもなく、除去した異物がウエハチャックに再付着するおそれもない。またクリーニング手段の存在が露光装置に対して温度環境を悪化させたり、汚染を導入するなどのおそれはない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を説明する図である。
【図２】ウエハチャックの吸引孔部破断面の側面図である。
【図３】露光装置のステージ空間の平面図である。
【符号の説明】
１  ピエゾマルチノズルポンプ
２  顕微鏡
３  異物
４  ウエハチャック
５  移動ステージ
６  ウエハ吸着面
７  吸引孔
８  排出管
９  ウエハ
１０  環状溝
１１  洗浄ユニット
１２  支持部材
１３  直線ガイド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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