(57)【要約】【課題】この発明は、簡易な構成で、簡便にして容易に高精度な焦点検出を実現し得るようにすることにある。【解決手段】測定光を、それぞれ光軸に対して略平行で、光軸中心から離間される光軸周りの異なる位置に出射する光源１３１、１４１と光位置検出器１３２、１４２を備える第１及び第２のセンサ１３、１４を配し、この第１及び第２のセンサ１３、１４の少なくとも一方を選択的に駆動して、その光源１３１、１４１から測定光を対物レンズ１１を用いて上記被測定物１０上に投光し、その反射光を対物レンズ１１を介して光位置検出器１３２、１４２に結像させて焦点ずれ量を検出して被測定物１０の高さを測定するように構成し、所期の目的を達成した。【選択図】　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸上に配される被測定物と、
複数の測定光を、それぞれ前記光軸に対して略平行で、光軸中心から離間される光軸周りの異なる位置に出射する光出射手段と、
この光出射手段で出射された複数の測定光の前記被測定物で反射された反射光の光位置を検出する光位置検出手段と、
前記光出射手段からの複数の測定光を前記被測定物上に投光し、該被測定物で反射された反射光を前記光位置検出手段に結像する結像光学系と、
前記光位置検出手段で検出される反射光の光位置に基づいて前記結像光学系を移動制御して焦点を前記被測定物上に合わせる制御手段と
を具備することを特徴とする焦点検出装置。
【請求項２】
さらに、前記光軸上に、前記被測定物の測定位置を観察する観察系を配したことを特徴とする請求項１記載の焦点検出装置。
【請求項３】
前記光出射手段は、複数の光源を備え、前記光位置検出手段は、前記複数の光源と対を構成する複数の光位置検出器を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の焦点検出装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば顕微鏡に係り、特にそのプラスチック成型品、金型、リードフレーム、ボールグリッドアレイ（ＢＧＡ）等の微小高さ寸法を有する被測定物の高さ測定に用いるのに好適する焦点検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、この種の焦点検出装置としては、特開昭６３―１６３３１３号公報に開示される技術が知られている。即ち、この公報には、図４に示すように光源１から出射された測定光を、ミラー２で反射させて、対物レンズ３の光軸（Ｚ軸）中心から所定の間隔、離れた位置に入射させ、対物レンズ３を介して例えばＸ―Ｙステージ４上に載置された被測定物１０上に投光する。この被測定物１０で反射された反射光は、対物レンズ３の光軸中心から所定の間隔だけ離れた位置に導かれて上記ミラー２を介して光位置検出器５に結像される。
【０００３】
光位置検出器５は、反射光の結像位置の中心位置からのずれ量を検出して制御部６に出力する。制御部６は、入力したずれ量を、Ｚ軸の光軸中心の焦点ずれ量として対物レンズ３を光軸方向に移動制御して、該焦点ずれ量を「ゼロ」に設定する。
【０００４】
同時に、制御部６は、上記Ｘ―Ｙステージ４を移動制御して、該Ｘ―Ｙステージ４の各移動位置において、焦点ずれ量が「ゼロ」になるように上記対物レンズ３の光軸方向の移動制御を繰り返し実行して、該対物レンズ３の移動量に基づく被測定物１０の各部位の高さ寸法を測定する。
【０００５】
ところが、上記焦点検出装置にあっては、その測定光の配置がＸ―Ｙステージ４の例えばＹ軸方向に設定され、該Ｘ―Ｙステージ４により被測定物１０を二次元的に移動制御しながら各位置における焦点ずれ量が「ゼロ」となるように対物レンズ３を移動制御して被測定物１０の高さ寸法が測定される。
【０００６】
このため、例えば図５に示すように被測定物１０に方向性を持つ凸部１０１が存在すると、測定光の配置に対応して、例えば凸部１０１のＹ軸方向の境界部位に測定光を投光するのが困難な非投光領域Ｄが存在し、その領域Ｄの測定が困難となる。
【０００７】
そこで、この領域Ｄを測定する手段として、被測定物１０を、測定光の配置に対応してＸ―Ｙステージ４上で回転させて載置したり、あるいは予め、図示しない回転機構を備えておいて、この回転機構を駆動して被測定物１０の載置方向を変えることにより、測定光を凸部１０１のＹ軸方向の境界部位の非投光領域Ｄに投光し、その境界部位を測定する方法が採られている。
【０００８】
しかしながら、上記測定手段では、前者の場合、その測定に多くの時間を費やすと共に、その測定精度の低下を招くという問題を有する。また、後者の場合には、構成が複雑となるという問題を有する。
【０００９】
【特許文献１】
特開昭６３―１６３３１３号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
以上述べたように、従来の焦点検出装置では、被測定物の方向性に応じて測定精度の低下を招くと共に、その測定に多くの時間を費やすものであったり、構成が複雑となるという問題を有する。
【００１１】
この発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、簡易な構成で、且つ、簡便にして容易に高精度な焦点制御を実現し得るようにした焦点検出装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明は、光軸上に配される被測定物と、複数の測定光を、それぞれ前記光軸に対して略平行で、光軸中心から離間される光軸周りの異なる位置に出射する光出射手段と、この光出射手段で出射された複数の測定光の前記被測定物で反射された反射光の光位置を検出する光位置検出手段と、前記光出射手段からの複数の測定光を前記被測定物上に投光し、該被測定物で反射された反射光を前記光位置検出手段に結像する結像光学系と、前記光位置検出手段で検出される反射光の光位置に基づいて前記結像光学系を移動制御して焦点を前記被測定物上に合わせる制御手段とを備えて焦点検出装置を構成した。
【００１３】
上記構成によれば、被測定物の方向性に応じて光軸周りの異なる測定光を選択し、その測定光を結像光学系を介して被測定物上に投光して、その反射光を結像光学系を介して光位置検出手段に結像して光位置を検出することにより、測定光を被測定物の凸形状部の周囲の全領域に投光することが可能となる。従って、簡易な構成を確保したうえで、各種方向性を持つ被測定物の高精度な焦点制御を、迅速にして容易に行うことが可能となる。
【００１４】
また、この発明は、光軸上に、被測定物の測定位置を観察する観察系を配して構成した。これによれば、被測定物の測定位置を、観察系を通して確認することにより、測定位置の確実な把握ができることで、測定の信頼性の向上を図ることができる。
【００１５】
また、この発明は、前記光出射手段を、複数の光源を備えて形成し、前記光位置検出手段を、前記複数の光源と対を構成する複数の光位置検出器を備えて形成した。これによれば、対を構成する光源からの測定光の反射光の光位置ををそれぞれ光位置検出器で検出し、各光位置情報を平均化して、その平均化した光位置情報に基づいて焦点検出を行うことにより、焦点制御の高精度化の促進を図ることが可能となる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１７】
図１は、この発明の一実施の形態に係る焦点検出装置を示すもので、図１（ａ）が光軸（Ｚ軸）に対して直交するＹ軸方向から見た状態を示し、同図（ｂ）が光軸及びＹ軸に対して直交するＸ軸方向から見た状態を示す。
【００１８】
即ち、結像光学系を構成する対物レンズ１１の光軸上には、Ｘ―Ｙステージ１２が二次元的に移動調整自在に配され、このＸ―Ｙステージ１２上には、上記被測定物１０が載置される。
【００１９】
また、対物レンズ１１の光軸上には、Ｙ軸方向測定用の第１のセンサ１３と、Ｘ軸方向測定用の第２のセンサ１４が、例えば光軸に対してＸ軸及びＹ軸に対応して略９０°の配置間隔を採って配される。このうち第１のセンサ１３は、光出射手段を構成する光源１３１及び光検出手段を構成する光位置検出器１３２を備え、この光源１３１及び光位置検出器１３２が光軸中心を挟んでＸ軸方向に所定の間隔を有して配される。他方の第２のセンサ１４は、光出射手段を構成する光源１４１及び光位置検出手段を構成する光位置検出器１４２を備え、この光源１４１及び光位置検出器１４２が光軸中心を挟んでＹ軸方向に所定の間隔を有して配される。
【００２０】
上記第１及び第２のセンサ１３、１４は、それぞれ制御部１５に接続され、この制御部１５を介して例えば各光源１３１、１４１及び光位置検出器１３２、１４２の少なくとも一方が選択的に動作制御されて被測定物１０の高さ測定に供される。上記第１及び第２のセンサ１３、１４は、その光源１３１、１４１が駆動されると、測定光を光軸と略平行に出射して対物レンズ１１を通してＸ―Ｙステージ１２に載置される被測定物１０上に投光する。
【００２１】
この投光された測定光は、被測定物１０で反射され、反射光として、再び対物レンズ１１に導かれ、該対物レンズ１１で光位置検出器１３２、１４２に導かれて結像される。この光位置検出器１３２、１４２は、反射光の結像位置と中心位置とのずれ量を、対物レンズ１１の焦点ずれ量として検出し、その焦点ずれ量を上記制御部１５に出力する。
【００２２】
また、制御部１５には、上記対物レンズ１１及びＸ―Ｙステージ１２の図示しない駆動部が接続される。制御部１５は、上記光位置検出器１３２、１４２からの焦点ずれ量に基づいて対物レンズ１１を光軸方向に移動制御して焦点を制御する。そして、制御部１５は、図示しない指令信号に応動してＸ―Ｙステージ１２の駆動部（図示しない）を駆動して、該Ｘ―Ｙステージ１２を二次元的に移動制御して測定位置を可変設定する。
【００２３】
また、上記対物レンズ１１の光軸上には、観察系１６が配され、この観察系１６で、Ｘ―Ｙステージ１２上に載置された被測定物１０の測定位置の観察行われる。
【００２４】
上記構成により、被測定物１０の高さ寸法を測定する場合には、先ず、被測定物１０をＸ―Ｙステージ１２上に載置し、例えば該被測定物１０の測定部位の方向性（凸部形状のＸ軸あるいはＹ軸方向の何れを測定するか）を考慮して第１及び第２のセンサ１３、１４の一方を選択して駆動する。例えば、上記図５に示す被測定物１０の凸部１０１のＹ軸方向を測定する場合には、第１のセンサ１３の光源１３１を駆動してＸ軸方向に配列される測定光を発光させる。この測定光は、光軸と略平行に対物レンズ１１に導かれて該対物レンズ１１を介してＸ―Ｙステージ１２の被測定物１０上に投光される。
【００２５】
この投光された測定光は、被測定物１０で反射され、反射光として、再び対物レンズ１１に導かれ、該対物レンズ１１で第１のセンサ１３の光位置検出器１３２に導かれて結像される。この第１のセンサ１３の光位置検出器１３２は、反射光の結像位置と中心位置とのずれ量を、対物レンズ１１の焦点ずれ量として検出し、そのずれ量を上記制御部１５に出力する。制御部１５は、入力したずれ量に基づいて対物レンズ１１を光軸方向に移動制御して焦点のずれを補正制御し、この補正量に基づいて被測定物１０の高さ寸法を求める。
【００２６】
そして、制御部１５は、Ｘ―Ｙステージ１２を移動制御し、その移動位置で上述したように第１のセンサ１３の光源１３１を駆動して測定光を発光させる。ここで、測定光は、被測定物１０の異なる位置に同様に投光されて反射され、その反射光が光位置検出器１３２に結像させてずれ量がそれぞれ検出される。このずれ量に基づいて制御部１５は、対物レンズ１１を光軸方向に移動制御して焦点のずれを補正制御する。このように第１のセンサ１３を用いて上記図５の被測定物１０の測定を行うことにより、測定光を、その非投光領域Ｄに投光することができて、該領域Ｄの高さ測定が行われる。
【００２７】
また、例えば図５の被測定物１０の凸部１０１の周囲のＸ軸方向の測定を実行する場合には、第１のセンサ１３に代えて、第２のセンサ１４が駆動される。すると、第２のセンサ１４は、その光源１４１よりＹ軸方向に配列される測定光が発光される。この発光された測定光は、対物レンズ１１を介して被測定物１０上に投光され、その反射光が、再び対物レンズ１１に導かれ、該対物レンズ１１で第２のセンサ１４の光位置検出器１４２に導かれて結像される。この第２のセンサ１４の光位置検出器１４２は、同様に反射光の結像位置と中心位置とのずれ量を検出し、そのずれ量を制御部１５に出力する。
【００２８】
ここで、制御部１５は、入力したずれ量を、対物レンズ１１の焦点ずれ量として対物レンズ１１を光軸方向に移動制御して焦点のずれを補正制御し、この補正量に基づいて被測定物１０の高さ寸法を求める。
【００２９】
そして、制御部１５は、同様にＸ―Ｙステージ１２を移動制御し、その移動位置で上述したように第２のセンサ１４の光源１４１を駆動して測定光を発光させる。ここで、測定光は、被測定物１０の異なる位置に同様に投光されて反射され、その反射光が光位置検出器１４２に結像されてずれ量がそれぞれ検出される。このずれ量に基づいて制御部１５は、対物レンズ１１を光軸方向に移動制御して焦点のずれを補正制御し、各部位における高さを測定する。
【００３０】
また、上記第１及び第２のセンサ１３、１４は、測定形態として、例えば双方が同時に駆動されて、被測定物１０の高さ測定に供される。この測定形態において、第１及び第２のセンサ１３、１４は、同時に駆動されると、それぞれが上述したように対物レンズ１１の結像位置のずれ量を検出して、それぞれで検出したずれ量を制御部１５に出力する。制御部１５は、第１及び第２のセンサ１３、１４の光位置検出器１３２、１４２で検出されるずれ量を平均化処理して、その平均化した値を焦点ずれ量として対物レンズ１１を移動制御して同様に被測定物１０の高さを測定する。
【００３１】
この測定形態においては、第１及び第２のセンサ１３、１４の光位置検出器１３２、１４２の出力を平均化処理して高さ測定を行うことにより、Ｘ軸方向及びＹ軸方向等の複数方向に方向性を有する反射率の低い被測定物１０の高さ測定においても、高精度な測定が可能となり、さらに測定の信頼性の向上を図ることが可能となる。
【００３２】
この測定形態においても、同様にＸ―Ｙステージ１２が二次元的に移動制御されて被測定物１０の全面の高さ測定が行われる。
【００３３】
上記各測定時において、ユーザにより観察系１６を通してＸ―Ｙステージ１２に載置された被測定物１０の測定位置が、選択的に観察される。これにより、ユーザが被測定物１０の高さ測定位置の確実な把握が可能となり、測定の信頼性が得られる。
【００３４】
このように、上記焦点検出装置は、測定光を、それぞれ光軸に対して略平行で、光軸中心から離間される光軸周りの異なる位置に出射する光源１３１、１４１と光位置検出器１３２、１４２を備える第１及び第２のセンサ１３、１４を配し、この第１及び第２のセンサ１３、１４の少なくとも一方を選択的に駆動して、その光源１３１、１４１から測定光を対物レンズ１１を用いて上記被測定物１０上に投光し、その反射光を対物レンズ１１を介して光位置検出器１３２、１４２に結像させて焦点ずれ量を検出して被測定物１０の高さを測定するように構成した。
【００３５】
これによれば、被測定物１０の方向性に応じて第１及び第２のセンサ１３、１４の少なくとも一方を選択して、その光源１３１、１４１からの測定光を対物レンズ１１を介してＸ―Ｙステージ１２の被測定物１０上に投光して、その反射光を対物レンズ１１を介して光位置検出器１３２、１４２に結像して光位置を検出していることにより、被測定物１０の方向性に制約を受けることなく、該被測定物１０上の全領域の高さ測定が可能となる。この結果、簡易な構成を確保したうえで、複雑な方向性を持つ被測定物１０の高精度な焦点制御を、迅速にして容易に行うことが可能となる。
【００３６】
また、この発明は、上記実施の形態に限ることなく、その他、図２及び図３に示すように構成することも可能である。これら図２及び図３は、各図（ａ）が光軸（Ｚ軸）に対して直交するＹ軸方向から見た状態を示し、各図（ｂ）が光軸及びＹ軸に対して直交するＸ軸方向から見た状態を示す。
【００３７】
但し、この図２及び図３に示す実施の形態においては、便宜上、上記図１と同一部分について、同一符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００３８】
図２の実施の形態においては、Ｙ軸方向測定用の第１のセンサ２０と、Ｘ軸方向測定用の第２のセンサ２１を光軸上に積重状に配して構成したものである。即ち、第１及び第２のセンサ２０、２１には、それぞれミラー２０１、２１１が配され、このミラー２０１、２１１の一方の光路上には、光源２０２、２１２及び光位置検出器２０３、２１３の光路が対向されて配される。
【００３９】
このうち、第１のセンサ２０は、その光源２０２及び光位置検出器２０３の各光路が光軸を挟んでＸ軸方向に所定の間隔だけ離間された状態で、そのミラー２０１の一方の光路が対物レンズ１１に対向するように配置される。他方、第２のセンサ２１は、その光源２１２及び光位置検出器２１３の各光路が光軸を挟んでＹ軸方向に所定の間隔だけ離間された状態で、そのミラー２１１の一方の光路が対物レンズ１１に対向するように配置される。ここで、この第２のセンサ２１のミラー２１１は、第１のセンサ２０のミラー２０１の光路を遮断することなく、光軸に対してＹ軸方向の光路が確保される。
【００４０】
上記構成において、Ｙ軸方向の測定を実行する場合には、第１のセンサ２０の光源２０２が駆動される。すると、第１のセンサ２０の光源２０２は、Ｘ軸方向に配列される測定光を発し、該測定光がミラー２０１で反射された後、対物レンズ１１に導かれ、対物レンズ１１でＸ―Ｙステージ１２の被測定物１０上に投光される。そして、この被測定物１０上に投光された測定光は、被測定物１０上で反射され、その反射光が、再び対物レンズ１１、ミラー２０１に導かれて該ミラー２０１で反射された後、第１のセンサ２０の光位置検出器２０３に導かれ、結像される。
【００４１】
光位置検出器２０３は、その中心に対する反射光の結像位置のずれ量を検出して、該ずれ量を、同様に制御部１５に出力する。ここで、制御部１５は、同様に入力したずれ量に基づいて対物レンズ１１を光軸方向に移動制御して焦点が「ゼロ」になるように制御し、被測定物１０の高さを求める。
【００４２】
上記第１のセンサ２０の駆動による測定状態においても、同様にＸ―Ｙステージ１２が二次元的に駆動されて該Ｘ―Ｙステージ１２上の被測定物１０の全面の高さ測定が行われる。
【００４３】
また、Ｘ軸方向の測定を実行する場合には、第１のセンサ２０に代えて第２のセンサ２１が駆動される。すると、第２のセンサ２１は、その光源２１２からＹ軸方向に配列される測定光が出射される。この光源２１２で発光された測定光は、ミラー２１１で反射されて、対物レンズ１１に導かれ、該対物レンズ１１でＸ―Ｙステージ１２の被測定物１０上に投光される。この被測定物１０上に投光された測定光は、該被測定物１０上で反射され、その反射光が、再び対物レンズ１１に導かれた後、ミラー２１１で反射されて光位置検出器２１３に導かれ、結像される。
【００４４】
光位置検出器２１３は、その中心に対する結像位置のずれ量を、同様に制御部１５に出力する。ここで、制御部１５は、同様に入力したずれ量に基づいて対物レンズ１１を光軸方向に移動制御して焦点が「ゼロ」になるように制御し、被測定物１０の高さを求める。
【００４５】
上記第２のセンサ２１の駆動による測定状態においても、同様にＸ―Ｙステージ１２が二次元的に駆動されて該Ｘ―Ｙステージ１２上の被測定物１０の全面の高さ測定が行われる。
【００４６】
また、上記第１及び第２のセンサ２０、２１は、その測定形態として、双方が同時に駆動されて、被測定物１０の高さ測定に供される。この測定形態において、第１及び第２のセンサ２０、２１は、同時に駆動されると、それぞれが上述したように対物レンズ１１の結像位置のずれ量を検出して、それぞれで検出したずれ量を制御部１５に出力する。
【００４７】
ここで、制御部１５は、第１及び第２のセンサ２０、２１の光位置検出器２０３、２１３からのずれ量を平均化処理して、その平均化した値に基づいて対物レンズ１１の移動量を求めて同様に被測定物１０の高さを測定する。これによれば、上記実施の形態と同様に、Ｘ軸及びＹ軸方向等の複雑な方向性を有する反射率の低い被測定物１０の高さ測定においても、迅速にして、高精度に測定することが可能となる。
【００４８】
この測定形態においても、同様にＸ―Ｙステージ１２が二次元的に移動制御されて被測定物１０の全面の高さ測定が行われる。
【００４９】
この実施の形態においても、同様に上記各測定時において、ユーザにより観察系１６を通してＸ―Ｙステージ１２に載置された被測定物１０の測定位置が、選択的に観察される。これにより、ユーザが被測定物１０の高さ測定位置の確実な把握が可能となり、測定の信頼性が得られる。
【００５０】
また、図３の実施の形態は、上記図２の実施の形態において説明した第１及び第２のセンサ２０、２１の各ミラー２０１、２１１に観察光量取込用の透孔２０４、２１４を、上記光軸上に配した観察系１６に対応して設け、この各ミラー２０１、２１１の透孔２０４、２１４を通して観察系１６で、Ｘ―Ｙステージ１２に載置された被測定物１０の測定位置を観察するように構成した。この透孔２０４、２１４は、それぞれミラー２０１、２１１の光軸中心に対応して設けられて、該ミラー２０１、２１１による測定光及び反射光の反射機能に支障を来すことがないように形成される。但し、この図３に示す実施の形態においては、その他が上記図２の実施の形態と同様に構成されることで、ここでは、上記図２と同一部分について、同一符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００５１】
上記構成によれば、観察系１６による測定観察時、光量をミラー２０１、２１１の透孔２０４、２１４を通して効率的に取り込むことが可能となることにより、さらに反射率の低い被測定物１０においても、測定位置の観察を確実に実現することが可能となる。この結果、複雑な方向性を有する反射率の低い被測定物１０の高さ測定を、迅速にして、高精度に実現したうえで、観察系１６による正確な測定位置の観察が実現され、さらに測定位置の確実な把握が可能となり、測定の信頼性の促進が図れる。
【００５２】
なお、図２及び図３の実施の形態では、ミラー２０１、２１１を第１及び第２のセンサ２０、２１内に配するように構成した場合で説明したが、ミラー２０１、２１１を、光軸上に別体に配するように構成することも可能である。
【００５３】
また、上記各実施の形態においては、第１及び第２のセンサ１３、１４（２０、２１）を光軸周りに約９０°の角度間隔を有して配し、直交するＸ軸方向及びＹ軸方向の方向性を有する被測定物１０の高さ測定を実現するように構成した場合で説明したが、この配置角度に限ることなく、これら第１及び第２のセンサ１３、１４（２０、２１）を光軸周りに９０°以外の角度を有して分離配置するように構成することも可能で、略同様の効果が期待される。
【００５４】
上記光軸周りに配置するセンサの数としては、上記各実施の形態の如く、２個を配置する構成に限ることなく、その他、２個以上のセンサを光軸周りに分離させて配するように構成することも可能である。これによると、さらに複雑な方向性を持つ被測定物１０の高さ測定を迅速にして、高精度に測定することが可能となる。
【００５５】
また、上記各実施の形態では、対を構成する光源及び光位置検出器を配した複数のセンサを形成して、この複数のセンサを、光軸周りに分離配置するセンサ構造を採用して構成した場合を代表して説明したが、これに限ることなく、これら対を構成する光源及び光位置検出器を、センサ構造を採ることなく、光軸周りに独立に分離配置するように構成することも可能である。
【００５６】
さらに、上記各実施の形態においては、対物レンズ１１を光軸上に移動制御して被測定物１０に対する焦点制御を行うように構成した場合で説明したが、これに限ることなく、装置全体を移動制御して被測定物１０に対する対物レンズ１１の焦点位置を制御するように構成することも可能である。
【００５７】
よって、この発明は、上記各実施の形態に限ることなく、その他、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々の変形を実施し得ることが可能である。さらに、上記各実施形態には、種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組合せにより種々の発明が抽出され得る。
【００５８】
例えば各実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
【００５９】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、簡易な構成で、且つ、簡便にして容易に高精度な焦点検出を実現し得るようにした焦点検出装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態に係る焦点検出装置の配置構成を概念的に示した構成図である。
【図２】この発明の他の実施の形態に係る焦点検出装置の配置構成を概念的に示した構成図である。
【図３】この発明の他の実施の形態に係る焦点検出装置の配置構成を概念的に示した構成図である。
【図４】従来の焦点検出装置の構成を示した構成図である。
【図５】図４の従来の焦点検出装置の問題点を説明するために示した概念図である。
【符号の説明】
１０　…　被測定物
１０１　…　凸部
１１　…　対物レンズ
１２　…　Ｘ―Ｙステージ
１３　…　第１のセンサ
１３１　…　光源
１３２　…　光位置検出器
１４　…　第２のセンサ
１４１　…　光源
１４２　…　光位置検出器
１５　…　制御部
１６　…　観察系
２０　…　第１のセンサ
２０１　…　ミラー
２０２　…　光源
２０３　…　光位置検出器
２０４　…　透孔
２１　…　第２のセンサ
２１１　…　ミラー
２１２　…　光源
２１３　…　光位置検出器
２１４　…　透孔
【図１】
2004126365.tif 000003
【図２】
2004126365.tif 000004
【図３】
2004126365.tif 000005
【図４】
2004126365.tif 000006
【図５】
2004126365.tif 000007