(57)【要約】      （修正有）【課題】コレステリック液晶層の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる検査方法を提供する。【解決手段】検査装置１０は、照明光Ｌを投射する照明光源１１と、照明光源１１から投射された照明光Ｌを透過させる第１の吸収型直線偏光層１２及び第２の吸収型直線偏光層１３とを備えている。照明光源１１により第１の吸収型直線偏光層１２側から照明光Ｌを投射すると、照明光Ｌは、第１の吸収型直線偏光層１２、コレステリック液晶層２０及び第２の吸収型直線偏光層１３を順次通過する。検査対象となるコレステリック液晶層２０に欠陥がある場合には、コレステリック液晶層２０の平面のうち欠陥が存在する箇所で光の偏光状態に異常が生じるので、第２の吸収型直線偏光層１３から出射した照明光Ｌに明暗の差（面内分布）が生じる。このため、コレステリック液晶層２０の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コレステリック液晶層の欠陥を検査する検査方法において、
第１の吸収型直線偏光層と第２の吸収型直線偏光層との間に検査対象となるコレステリック液晶層を配置する第１の工程と、
前記第１の吸収型直線偏光層側から照明光を投射し、前記第１の吸収型直線偏光層、前記コレステリック液晶層及び前記第２の吸収型直線偏光層の順で通過した照明光を観察する第２の工程とを含むことを特徴とする、コレステリック液晶層の検査方法。
【請求項２】
前記第２の工程において、前記第１の吸収型直線偏光層、前記コレステリック液晶層及び前記第２の吸収型直線偏光層の順で通過した照明光のうち、前記コレステリック液晶層の平面に対して斜め方向から出射した光を観察することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記コレステリック液晶層の平面を０°としたとき、５〜７５°の範囲の方向から出射した光を観察することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の工程において、前記第１の吸収型直線偏光層の吸収軸と前記第２の吸収型直線偏光層の吸収軸とが互いに直交した状態となるよう、前記第１の吸収型直線偏光層及び前記第２の吸収型直線偏光層を配置することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記第１の工程において、前記第１の吸収型直線偏光層の吸収軸と前記第２の吸収型直線偏光層の吸収軸とが互いに平行な状態となるよう、前記第１の吸収型直線偏光層及び前記第２の吸収型直線偏光層を配置することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記第２の工程で投射される前記照明光は面光源から出射された光であることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
コレステリック液晶層の欠陥を検査する検査装置において、
照明光を投射する照明光源と、
前記照明光源から投射された照明光を透過させる第１の吸収型直線偏光層と、
前記第１の吸収型直線偏光層で透過された照明光を透過させる第２の吸収型直線偏光層であって、当該第２の吸収型直線偏光層と前記第１の吸収型直線偏光層との間に検査対象となるコレステリック液晶層が配置される第２の吸収型直線偏光層とを備えたことを特徴とする、コレステリック液晶層の検査装置。
【請求項８】
前記第１の吸収型直線偏光層の吸収軸と前記第２の吸収型直線偏光層の吸収軸とが互いに直交した状態となるよう、前記第１の吸収型直線偏光層及び前記第２の吸収型直線偏光層が配置されていることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記第１の吸収型直線偏光層の吸収軸と前記第２の吸収型直線偏光層の吸収軸とが互いに平行な状態となるよう、前記第１の吸収型直線偏光層及び前記第２の吸収型直線偏光層が配置されていることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記照明光源は面光源であることを特徴とする、請求項７乃至９のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
基板上にコレステリック液晶の塗布液を塗布する塗布工程と、
塗布された前記コレステリック液晶の塗布液を乾燥させ、コレステリック構造を有するコレステリック液晶層を形成する乾燥工程と、
コレステリック構造を有するコレステリック液晶層を硬化させる硬化工程と、
前記乾燥工程又は前記硬化工程が行われた後のコレステリック液晶層の欠陥を検査する検査工程とを含み、
前記検査工程において、請求項１乃至６のいずれかに記載の検査方法により前記コレステリック液晶層の欠陥を検査することを特徴とする、コレステリック液晶層の製造方法。
【請求項１２】
前記検査工程において、前記コレステリック液晶層の欠陥が０．０８個／ｃｍ２以下となるものを良品として抽出することを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記検査工程において、前記コレステリック液晶層の欠陥のうち直径０．５ｍｍ以上の点状欠陥が０．０８個／ｃｍ２以下となるものを良品として抽出することを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コレステリック液晶層の検査方法に係り、とりわけ、コレステリック液晶層の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる検査方法、その検査装置及びコレステリック液晶層の製造方法に関する。なお、本明細書中において「液晶層」という用語は、光学的に液晶の性質を有する層という意味で用い、層の状態としては、流動性のある液晶相の状態の他、液晶相の持つ分子配列を保って固化された状態を含む。
【０００２】
【従来の技術】
円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、輝度向上や偏光分離のための光学素子、カラーフィルターなどの光学素子として、液晶表示装置などに組み込まれて用いられている（特許文献１及び２参照）。
【０００３】
このような光学素子に欠陥（異物欠陥や膜厚ムラ）があると、通過した光の偏光状態に異常が生じることとなるので、光学素子が組み込まれる液晶表示装置の光学特性（明暗表示）にも影響が生じる。特に、光学素子がコレステリック構造（螺旋構造）を有するコレステリック液晶層からなる場合には、表面分子の分子軸方向の違いによって、通過した光の偏光状態が大きく異なることとなるので、通常の光学素子に比べて欠陥の影響が強調されて出やすい。このため、このような光学素子を構成するコレステリック液晶層の欠陥を簡易にかつ精密に検査する方法が強く望まれていた。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−１２２０５９号公報
【特許文献２】
特開２００１−２０９０４６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような背景の下でなされたものであり、コレステリック液晶層の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる検査方法、その検査装置及びコレステリック液晶層の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第１の解決手段として、コレステリック液晶層の欠陥を検査する検査方法において、第１の吸収型直線偏光層と第２の吸収型直線偏光層との間に検査対象となるコレステリック液晶層を配置する第１の工程と、前記第１の吸収型直線偏光層側から照明光を投射し、前記第１の吸収型直線偏光層、前記コレステリック液晶層及び前記第２の吸収型直線偏光層の順で通過した照明光を観察する第２の工程とを含むことを特徴とする、コレステリック液晶層の検査方法を提供する。
【０００７】
なお、上述した第１の解決手段においては、前記第２の工程において、前記第１の吸収型直線偏光層、前記コレステリック液晶層及び前記第２の吸収型直線偏光層の順で通過した照明光のうち、前記コレステリック液晶層の平面に対して斜め方向（好ましくは、前記コレステリック液晶層の平面を０°としたとき、５〜７５°の範囲の方向）から出射した光を観察することが好ましい。
【０００８】
また、上述した第１の解決手段においては、前記第１の工程において、前記第１の吸収型直線偏光層の吸収軸と前記第２の吸収型直線偏光層の吸収軸とが互いに直交した状態又は平行な状態となるよう、前記第１の吸収型直線偏光層及び前記第２の吸収型直線偏光層を配置することが好ましい。
【０００９】
さらに、上述した第１の解決手段において、前記第２の工程で投射される前記照明光は面光源から出射された光であることが好ましい。
【００１０】
本発明は、第２の解決手段として、コレステリック液晶層の欠陥を検査する検査装置において、照明光を投射する照明光源と、前記照明光源から投射された照明光を透過させる第１の吸収型直線偏光層と、前記第１の吸収型直線偏光層で透過された照明光を透過させる第２の吸収型直線偏光層であって、当該第２の吸収型直線偏光層と前記第１の吸収型直線偏光層との間に検査対象となるコレステリック液晶層が配置される第２の吸収型直線偏光層とを備えたことを特徴とする、コレステリック液晶層の検査装置を提供する。
【００１１】
なお、上述した第２の解決手段においては、前記第１の吸収型直線偏光層の吸収軸と前記第２の吸収型直線偏光層の吸収軸とが互いに直交した状態又は平行な状態となるよう、前記第１の吸収型直線偏光層及び前記第２の吸収型直線偏光層が配置されていることが好ましい。
【００１２】
また、上述した第２の解決手段において、前記照明光源は面光源であることが好ましい。
【００１３】
本発明は、第３の解決手段として、基板上にコレステリック液晶の塗布液を塗布する塗布工程と、塗布された前記コレステリック液晶の塗布液を乾燥させ、コレステリック構造を有するコレステリック液晶層を形成する乾燥工程と、コレステリック構造を有するコレステリック液晶層を硬化させる硬化工程と、前記乾燥工程又は前記硬化工程が行われた後のコレステリック液晶層の欠陥を検査する検査工程とを含み、前記検査工程において、上述した第１の解決手段に係る検査方法により前記コレステリック液晶層の欠陥を検査することを特徴とする、コレステリック液晶層の製造方法を提供する。
【００１４】
なお、上述した第３の解決手段においては、前記検査工程において、前記コレステリック液晶層の欠陥（好ましくは、直径０．５ｍｍ以上の点状欠陥）が０．０８個／ｃｍ２以下となるものを良品として抽出することが好ましい。
【００１５】
本発明によれば、第１の吸収型直線偏光層と第２の吸収型直線偏光層との間に検査対象となるコレステリック液晶層を配置し、第１の吸収型直線偏光層側から照明光を投射するようにしているので、照明光は、第１の吸収型直線偏光層、コレステリック液晶層及び第２の吸収型直線偏光層を順次通過する。検査対象となるコレステリック液晶層に欠陥（異物欠陥や膜厚ムラ）がある場合には、コレステリック液晶層の平面のうち欠陥が存在する箇所で光の偏光状態に異常が生じるので、第２の吸収型直線偏光層から出射した照明光に明暗の差（面内分布）が生じる。このため、このような照明光の明暗の差（面内分布）を観察することにより、コレステリック液晶層の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる。特に、本発明によれば、コレステリック液晶層を通過する光が円偏光やそれに準じるものではなく直線偏光であるので、コレステリック液晶層の欠陥に伴う光学軸のずれが顕著な差（大きなコントラスト差）として現れることとなり、コレステリック液晶層の微小な欠陥をきわめて容易に視認することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００１７】
［コレステリック液晶層の検査方法及び検査装置］
まず、図１により、コレステリック液晶層の欠陥を検査する検査装置の構成について説明する。
【００１８】
図１に示すように、検査装置１０は、照明光Ｌを投射する照明光源１１と、照明光源１１から投射された照明光Ｌを透過させる第１の吸収型直線偏光層１２及び第２の吸収型直線偏光層１３とを備えている。ここで、検査対象となるコレステリック液晶層２０は、第１の吸収型直線偏光層１２と第２の吸収型直線偏光層１３との間に配置されるようになっている。なお、照明光源１１は面光源であることが好ましい。
【００１９】
このような検査装置１０において、照明光源１１により第１の吸収型直線偏光層１２側から照明光Ｌを投射すると、照明光Ｌは、第１の吸収型直線偏光層１２、コレステリック液晶層２０及び第２の吸収型直線偏光層１３を順次通過する。検査対象となるコレステリック液晶層２０に欠陥（異物欠陥や膜厚ムラ）がある場合には、コレステリック液晶層２０の平面のうち欠陥が存在する箇所で光の偏光状態に異常が生じるので、第２の吸収型直線偏光層１３から出射した照明光Ｌに明暗の差（面内分布）が生じる。このため、このような照明光Ｌの明暗の差（面内分布）を観察することにより、コレステリック液晶層２０の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる。
【００２０】
ここで、第１の吸収型直線偏光層１２、コレステリック液晶層２０及び第２の吸収型直線偏光層１３の順で通過した照明光Ｌのうち、コレステリック液晶層２０の平面に対して角度θの斜め方向（コレステリック液晶層２０の平面を０°としたとき、θ＝５〜７５°の範囲の方向）から出射した光を観察することが好ましい。これにより、偏光状態の相違に起因した照明光Ｌの明暗の差（面内分布）をより明確に視認することができる。
【００２１】
なお、このような検査装置１０において、第１の吸収型直線偏光層１２及び第２の吸収型直線偏光層１３は、照明光Ｌの明暗の差（面内分布）が明確に視認することができるよう、それらの吸収軸の関係を任意に設定することができる。第１の吸収型直線偏光層１２の吸収軸と第２の吸収型直線偏光層１３の吸収軸との関係はどのような関係でもよいが、例えば両者が互いに直行した状態又は互いに平行な状態となるようにするとよい。
【００２２】
ここで、コレステリック液晶層２０の欠陥として最も生じやすいゴミ等の異物欠陥の場合を例に挙げると、図２（ａ）に示すように、第１の吸収型直線偏光層１２の吸収軸と第２の吸収型直線偏光層１３の吸収軸とが互いに直交した状態にある場合には、第１の吸収型直線偏光層１２を通過した照明光Ｌのうちコレステリック液晶層２０の欠陥がない部分を通過した光（直線偏光）がほぼその偏光状態を維持したまま第２の吸収型直線偏光層１３に入射し、その大半の光が出射されないで吸収される。一方、コレステリック液晶層２０の欠陥がある部分を通過した光は散乱光（無偏光）となり、第２の吸収型直線偏光層１３において、その約半分の光が出射される。このため、この場合には、欠陥がない部分が暗くなり、欠陥がある部分では明るくなるので、このような明るさの差に基づいて、欠陥の存在を視認することができる。
【００２３】
これに対し、図２（ｂ）に示すように、第１の吸収型直線偏光層１２の吸収軸と第２の吸収型直線偏光層１３の吸収軸とが互いに平行な状態にある場合には、第１の吸収型直線偏光層１２を通過した照明光Ｌのうちコレステリック液晶層２０の欠陥がない部分を通過した光（直線偏光）はほぼその偏光状態を維持したまま第２の吸収型直線偏光層１３に入射し、その大半の光が出射される。一方、第１の吸収型直線偏光層１２を通過した照明光Ｌのうちコレステリック液晶層２０の欠陥がある部分を通過した光は散乱光（無偏光）となり、第２の吸収型直線偏光層１３において、その約半分の光が出射される。このため、この場合には、欠陥がない部分および欠陥がある部分が異なる強度で明るくなるので、このような明るさの差に基づいて、欠陥の存在を視認することができる。
【００２４】
上述した場合には、視認性を重視するという観点から見ると、暗い全面に対して欠陥がある部分が明るく見える態様（すなわち、第１の吸収型直線偏光層１２の吸収軸と第２の吸収型直線偏光層１３の吸収軸とが互いに直交した状態となる態様）が好ましい。
【００２５】
なお、上述したような検査装置１０において、照明光Ｌとしては、視認可能な波長を持つものであれば、コレステリック液晶層２０の特性等によらず限定はされない。ただし、コレステリック液晶層２０の選択反射という光学的な特性上、選択反射波長域の波長を含むことが好ましい。特に、液晶表示装置等において白色反射板として用いられるコレステリック液晶層は広帯域化されており、例えば４００〜７００ｎｍの広い反射帯域を有するので、照明光Ｌとしては白色光を用いることが好ましい。具体的には、照明光源１１として、白色蛍光灯やハロゲン光源、キセノン光源等を用いることが好ましい。
【００２６】
また、上述した検査装置１０においては、コレステリック液晶層２０の欠陥を観察者の目視により検出することができるが、一定の基準で良品および不良品を分別するためには、画像処理システム等を用いて自動的に判別することが好ましい。例えば、第２の吸収型直線偏光層１３を通過した照明光ＬをＣＣＤカメラ等の撮像装置で取り込み、既存の任意の画像処理手法により欠陥を検出する方法等を用いることができる。ＣＣＤカメラ等の撮像装置による撮像方法は任意でよく、第２の吸収型直線偏光層１３（コレステリック液晶層２０）の全体の画像をラインスキャンにより取り込むようにするとよい。
【００２７】
［コレステリック液晶層の製造方法］
次に、図３により、上述したコレステリック液晶層の検査方法を用いた、コレステリック液晶層の製造方法について説明する。
【００２８】
（塗布工程）
図３に示すように、まず、配向膜付きの基板上にコレステリック液晶の塗布液を塗布（プレコート及びスピンコート）する（工程１０１及び１０２）。なお、ここで用いられるコレステリック液晶の塗布液としては、コレステリック液晶を溶媒に溶解したものを用いるとよい。
【００２９】
ここで、工程１０１のプレコートは、工程１０２のスピンコートを行う前に、配向膜付きの基板の全面にあらかじめコレステリック液晶の塗布液を塗布する工程であり、塗布液の塗布ムラの軽減や塗布液の省液化、歩留まりの向上などを図るためのものである。具体的な手法としては、スリットコートやダイコート、ブレードコート、フレキソ印刷などを用いることが可能であるが、特に制限はない。なお、配向膜付きの基板の配向能を損なわないようにするため、配向膜付きの基板に対してコレステリック液晶の塗布液を非接触の状態で塗布することが好ましい。
【００３０】
工程１０２のスピンコートは、配向膜付きの基板上にコレステリック液晶の塗布液を滴下し、基板を回転することによってその全面にコレステリック液晶の塗布液を均一に精度良く塗布する工程である。なお、このようなスピンコートには密閉カップ型装置を用いることが好ましく、これにより、塗布膜の均一性をより向上させることができる。なお、上述したとおり、工程１０１のプレコートを行うことにより、コレステリック液晶の塗布液の滴下時の偏りによって塗布膜に膜厚ムラが生じることをより効果的に抑えることができる。
【００３１】
ここで、上述した工程１０１のプレコート及び工程１０２のスピンコートは必ずしも両方行う必要はなく、工程１０２のスピンコートのみでコレステリック液晶の塗布液を均一に精度良く塗布することができる場合には、工程１０１のプレコートは省略することができる。逆に、工程１０１のプレコートのみでコレステリック液晶の塗布液を均一に精度良く塗布することができる場合には、工程１０２のスピンコートは省略することができる。
【００３２】
（乾燥工程）
次に、配向膜付きの基板上に塗布されたコレステリック液晶の塗布液を乾燥（減圧乾燥及び加熱乾燥）させ、コレステリック液晶層を形成する（工程１０３及び１０４）。すなわち、コレステリック液晶の塗布液として、コレステリック液晶を溶媒に溶解したものが用いられる場合に、その溶媒を減圧乾燥及び加熱乾燥により蒸発させて除去する。
【００３３】
ここで、工程１０３の減圧乾燥は、工程１０４の加熱乾燥を行う前に、コレステリック液晶層を減圧雰囲気で乾燥させる工程であり、コレステリック液晶層の乾燥ムラの軽減などを図るためのものである。具体的には、コレステリック液晶の塗布液が塗布された配向膜付きの基板をチャンバー内にセットし、真空ポンプで減圧する。ここで、このような減圧乾燥における減圧プロファイルとしては、一気に真空度をあげる方法や、ゆっくりと徐々に真空度を上げる方法といった幾つかの方法を用いることができ、塗布されたコレステリック液晶の塗布液の種類や性質によって適宜選択することが好ましい。なお、コレステリック液晶の塗布液の突沸を防ぐため、最初はゆっくりと真空度を上げる方法をとることが好ましい。また、最終的に到達する真空度は、コレステリック液晶の材料にもよるが、０．１〜０．５Ｐａ程度とすることが好ましい。
【００３４】
工程１０４の加熱乾燥は、コレステリック液晶の塗布液を加熱して乾燥させる工程である。なお、このような加熱乾燥には温度の均一性の高い（±３％、好ましくは±１％）ホットプレートを用いることが好ましく、これにより、コレステリック液晶層の乾燥ムラをより効果的に軽減することができる。なお、コレステリック液晶の塗布液が塗布された配向膜付きの基板は、ホットプレートの載置面上に直接配置する他、プロキシピン等を用いて載置面から浮かせた状態で配置することができる。なお、後者の場合には、基板とホットプレートの載置面との間のギャップは０．１〜５ｍｍ程度とすることが好ましい。なお、ホットプレートを用いる場合には、基板の表面（ホットプレートの載置面と反対側の面）の温度が設定値より低くなることを防止するため、基板をカバーで覆うようにすることが好ましい。
【００３５】
ここで、上述した工程１０３の減圧乾燥及び工程１０４の加熱乾燥は必ずしも両方行う必要はなく、工程１０４の加熱乾燥のみでコレステリック液晶層を十分にかつ均一に乾燥することができる場合には、工程１０３の減圧乾燥は省略することができる。逆に、工程１０３の減圧乾燥のみでコレステリック液晶の塗布液を十分にかつ均一に乾燥することができる場合には、工程１０４の加熱乾燥は省略することができる。また、コレステリック液晶を溶媒に溶解することなく直接塗布液として用いる場合には、工程１０３の減圧乾燥及び工程１０４の加熱乾燥のいずれも省略することができる。
【００３６】
なお、上述した工程１０３の減圧乾燥及び工程１０４の加熱乾燥により、配向膜付きの基板の配向能によりコレステリック液晶層中の液晶分子が配向し、コレステリック構造が同時に形成される場合が多いが、液晶分子の配向が不十分な場合には、さらに加熱処理を行うとよい。なお、このような加熱処理の温度はコレステリック液晶の材料によって決まり、通常、コレステリック液晶がコレステリック相を示す温度範囲で加熱される。このような加熱処理にはホットプレートを用いるのが一般的であるが、コレステリック液晶層が形成された配向膜付きの基板の温度を上昇することができればよく、例えばオーブンのようなものを用いることも可能である。なお、それに続く次の工程で、コレステリック液晶層が形成された配向膜付きの基板の温度を下げる必要がある場合には、クーリングプレートを用いるようにするとよい。
【００３７】
（硬化工程）
次に、配向膜付きの基板上に形成されたコレステリック液晶層に、紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させる（工程１０５）。この硬化工程では、紫外線露光機を用いる。具体的には例えば、コレステリック液晶層のパターニングを行う場合には、マスク露光となるので、アライメントができるアライナーを用いる。これに対し、パターニングを行う必要がなく全面露光する場合には、通常の紫外線照射装置を用いることができる。なお、いずれの場合にも、コレステリック液晶層の光学特性を均一にするため、照度分布が均一な露光機を用いることが好ましい。ここで、紫外線の照射（露光）時に加熱処理を行う場合には、ホットプレート上で露光を行うことも可能である。また、窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気で露光を行う場合には、チャンバー内で露光を行うとよい。さらに、酸素阻害を防ぐため、減圧雰囲気で露光を行うようにしてもよい。
【００３８】
（検査工程）
最後に、工程１０５の硬化工程が行われた後のコレステリック液晶層の欠陥を検査する（工程１０６）。なお、この検査工程では、図１に示す検査装置１０を用い、上述した検査方法により、コレステリック液晶層の欠陥を検査する。なお、この検査方法によれば、コレステリック液晶層の欠陥に伴う光学軸のずれが顕著な差（大きなコントラスト差）となって現れるので、コレステリック液晶層の微小な欠陥をきわめて容易に視認することができ、例えば、直径０．５ｍｍ以上の点状欠陥が０．０８個／ｃｍ２以下となるものを良品として抽出するような検査を行うことも可能である。
【００３９】
以上により、欠陥が所望の範囲に抑えられたコレステリック液晶層が製造される。
【００４０】
なお、上述した図３に示すコレステリック液晶層の製造方法では、工程１０５の硬化工程を行った後に工程１０６の検査工程を行っているが、検査工程自体は、コレステリック液晶層中の液晶分子が配向してコレステリック構造が形成された後に行えばよく、例えば図４に示すように、工程１０４の乾燥工程と工程１０５の硬化工程との間で行うようにしてもよい（工程１０６′参照）。このようにして工程１０５の硬化工程の前に検査工程（工程１０６′）を行う場合には、コレステリック液晶層の欠陥の程度がひどくて不良品となる場合でも、基板からコレステリック液晶層を容易に除去して基板を再生させることが可能となる。
【００４１】
（その他の工程）
なお、上述した図３及び図４に示すコレステリック液晶層の製造方法においては、製造装置やラック、アーム等の汚染を防ぐため、基板の端面や裏面を洗浄する工程を追加するようにしてもよい。なお、このような洗浄工程は、工程１０１〜１０５までの間の任意のタイミングで行うことができるが、乾燥工程（工程１０３及び１０４）の後に行うことが好ましい。ここで、基板の端面の洗浄は基板の縁部の塗布膜等を除去する工程であり、また基板の裏面の洗浄は基板の裏側に回ってしまったコレステリック液晶の塗布液を洗い流す工程である。
【００４２】
このように本実施の形態によれば、第１の吸収型直線偏光層１２と第２の吸収型直線偏光層１３との間に検査対象となるコレステリック液晶層２０を配置し、照明光源１１により第１の吸収型直線偏光層１２側から照明光Ｌを投射するようにしているので、照明光Ｌは、第１の吸収型直線偏光層１２、コレステリック液晶層２０及び第２の吸収型直線偏光層１３を順次通過する。検査対象となるコレステリック液晶層２０に欠陥（異物欠陥や膜厚ムラ）がある場合には、コレステリック液晶層２０の平面のうち欠陥が存在する箇所で光の偏光状態に異常が生じるので、第２の吸収型直線偏光層１３から出射した照明光Ｌに明暗の差（面内分布）が生じる。このため、このような照明光Ｌの明暗の差（面内分布）を観察することにより、コレステリック液晶層２０の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる。特に、本実施の形態によれば、コレステリック液晶層２０を通過する光が円偏光やそれに準じるものではなく直線偏光であるので、コレステリック液晶層２０の欠陥に伴う光学軸のずれが顕著な差（大きなコントラスト差）として現れることとなり、コレステリック液晶層２０の微小な欠陥をきわめて容易に視認することができる。
【００４３】
なお、上述した実施の形態においては、配向膜付きの基板上に単層のコレステリック液晶層を形成する場合を例に挙げて説明しているが、これに限らず、複数のコレステリック液晶層を積層することも可能である。この場合には、図３及び図４に示すコレステリック液晶層の製造方法を繰り返し適用することとなるが、本実施の形態に係るコレステリック液晶層の製造方法によれば、コレステリック液晶層の欠陥の検査を観察者の目視により簡易に行うことができるので、各層のコレステリック液晶層を成膜する過程で適宜検査を行うことが可能である。このため、多層構成のコレステリック液晶層を製造する場合でもコレステリック液晶層の良否を早い段階で把握することができ、製品品質や製造効率等を格段に向上させることができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、コレステリック液晶層の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係るコレステリック液晶層の検査装置を示す図。
【図２】図１に示す検査装置を用いた検査の一例を説明するための概念図。
【図３】本発明の一実施の形態に係るコレステリック液晶層の製造方法の一例を説明するためのフローチャート。
【図４】図３に示すコレステリック液晶層の製造方法の他の例を説明するためのフローチャート。
【符号の説明】
１０  検査装置
１１  照明光源
１２，１３  吸収型直線偏光層
２０  コレステリック液晶層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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