(57)【要約】【課題】初期特性が良好であるとともに、記録情報を長期にわたって良好な状態で保存可能な追記型の光記録媒体を提供する。【解決手段】基板１１と、基板１１上に設けられた記録層１４を少なくとも備え、記録層１４は、チタン（Ｔｉ）を主成分として含む第１の反応層２１と、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）及び銅（Ｃｕ）からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第２の反応層２２とを含んでいる。第１の反応層２１にはアルミニウム（Ａｌ）が添加されていることが好ましく、その添加量は２５ａｔｍ％以上、５０ａｔｍ％未満であることがより好ましい。これによれば、ジッタをより低く抑えることができるとともに高い変調度を得ることが可能となる。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に設けられた記録層を少なくとも備え、前記記録層は、チタン（Ｔｉ）を主成分として含む第１の反応層と、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）及び銅（Ｃｕ）からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第２の反応層とを含んでいることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記第１の反応層にアルミニウム（Ａｌ）が添加されていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記アルミニウム（Ａｌ）の添加量が２５ａｔｍ％以上、５０ａｔｍ％未満であることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記記録層を挟むように設けられた第１及び第２の誘電体層をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記記録層から見て前記基板とは反対側に設けられた光透過層をさらに備え、前記光透過層の厚さが１０〜３００μｍに設定されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項６】
波長が３８０ｎｍ〜４５０ｎｍであるレーザビームの照射によりデータの記録が可能であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項７】
基板と、前記基板上に設けられた複数の情報層とを備え、前記複数の情報層のうち光透過層から最も遠い情報層とは異なる所定の情報層に含まれる記録層が、チタン（Ｔｉ）を主成分として含む第１の反応層と、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）及び銅（Ｃｕ）からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第２の反応層とを含んでいることを特徴とする光記録媒体。
【請求項８】
前記第１の反応層にアルミニウム（Ａｌ）が添加されていることを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光記録媒体に関し、特に追記型の光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのようにデータの追記や書き換えができないタイプの光記録媒体（ＲＯＭ型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのようにデータの追記はできるがデータの書き換えができないタイプの光記録媒体（追記型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのようにデータの書き換えが可能なタイプの光記録媒体（書き換え型光記録媒体）とに大別することができる。
【０００３】
ＲＯＭ型光記録媒体においては、製造時において予め基板に形成されるピット列によりデータが記録されることが一般的であり、書き換え型光記録媒体においては、記録層の材料として例えば相変化材料が用られ、その相状態の変化に基づく光学特性の変化を利用してデータが記録されることが一般的である。
【０００４】
これに対し、追記型光記録媒体においては、記録層の材料としてシアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素等の有機色素が用いられ、その化学的変化（場合によっては化学的変化に加えて物理的変形を伴うことがある）に基づく光学特性の変化を利用してデータが記録されることが一般的である。追記型光記録媒体は書き換え型光記録媒体とは違い、一旦データを記録した場合これを消去したり書き換えたりすることができないが、このことはデータの改竄ができないことを意味するため、データの改竄防止が求められる用途において重要な役割を果たしている。
【０００５】
しかしながら、有機色素は日光等の照射によって劣化することから、追記型光記録媒体において長期間の保存に対する信頼性をさらに高めるためには、記録層を有機色素以外の材料によって構成することが望ましい。
【０００６】
記録層を有機色素以外の材料によって構成した例としては、特許文献１に記載されているように、無機材料からなる２層の反応層を積層しこれを記録層として用いる技術が知られている。
【０００７】
【特許文献１】特開昭６２−２０４４４２号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１に記載の追記型光記録媒体は、記録層に記録した初期の記録情報を長期にわたって良好な状態で保持することが困難であるとともに、記録層の表面性が必ずしも良好ではないことから初期の記録特性についても良好でないケースがあった。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、初期特性が良好であるとともに、記録情報を長期にわたって良好な状態で保存可能な追記型の光記録媒体を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面による光記録媒体は、基板と、前記基板上に設けられた記録層を少なくとも備え、前記記録層は、チタン（Ｔｉ）を主成分として含む第１の反応層と、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）及び銅（Ｃｕ）からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第２の反応層とを含んでいることを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、良好な初期特性が得られるとともに、長期にわたる保存信頼性を高めることが可能となる。また、第１の反応層にはアルミニウム（Ａｌ）が添加されていることが好ましく、その添加量は２５ａｔｍ％以上、５０ａｔｍ％未満であることがより好ましい。これによれば、ジッタをより低く抑えることができるとともに高い変調度を得ることが可能となる。
【００１１】
また、前記記録層を挟むように設けられた第１及び第２の誘電体層をさらに備えることが好ましく、前記記録層から見て前記基板とは反対側に設けられた光透過層をさらに備え、前記光透過層の厚さが１０〜３００μｍに設定されていることが好ましい。このような薄い光透過層を有する構造は、いわゆる次世代型の光記録媒体であり、光透過層側から記録再生のためのレーザビームが照射される。また、前記レーザビームの波長は３８０ｎｍ〜４５０ｎｍであることが好ましい。これは、波長が３８０ｎｍ〜４５０ｎｍであるレーザビームを用いて記録すると、特に高い変調度を得ることができるからである。
【００１２】
本発明の他の側面による光記録媒体は、基板と、前記基板上に設けられた複数の情報層とを備え、前記複数の情報層のうち光透過層から最も遠い情報層とは異なる所定の情報層に含まれる記録層が、チタン（Ｔｉ）を主成分として含む第１の反応層と、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）及び銅（Ｃｕ）からなる群より選ばれた一つの元素を主成分として含む第２の反応層とを含んでいることを特徴とする。
【００１３】
本発明によれば、上述した効果に加え、該所定の情報層の光透過率が高いことから、所定の情報層から見て光透過層とは反対側に位置する情報層に対するデータの記録及び／又は再生を妨げることがない。また、第１の反応層にはアルミニウム（Ａｌ）が添加されていることが好ましく、その添加量は２５ａｔｍ％以上、５０ａｔｍ％未満であることがより好ましい。その理由は上述の通りである。
【００１４】
また、該所定の情報層から見て光入射面とは反対側に位置する情報層は、波長が３８０ｎｍ〜４５０ｎｍのレーザビームを照射することによってデータの記録及び／又は再生が可能な情報層であることが好ましい。該所定の情報層は、記録マークが形成されている部分の光透過率とそれ以外の部分の光透過率との差が上記波長領域において非常に小さいことから、所定の情報層から見て光入射面とは反対側に位置する情報層に対するデータの記録及び／又は再生を安定的に行うことが可能となる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【００１６】
図１（ａ）は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
【００１７】
図１（ａ），（ｂ）に示す光記録媒体１０は、外径が約１２０ｍｍ、厚みが約１．２ｍｍである円盤状の光記録媒体であり、図１（ｂ）に示すように、本発明における基板である支持基板１１と、反射層１２と、誘電体層１３，１５と、記録層１４と、光透過層１６とを備えて構成されている。本実施態様にかかる光記録媒体１０は、波長λが例えば３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、好ましくは約４０５ｎｍであるレーザビームＬを光透過層１６の表面である光入射面１６ａより記録層１４に照射することによって、データの記録及び再生を行うことが可能な追記型の光記録媒体である。光記録媒体１０に対するデータの記録及び再生においては、開口数が例えば０．７以上、好ましくは０．８５程度の対物レンズが用いられ、これによって、記録層１４上におけるレーザビームＬのビームスポットは約０．４μｍ程度まで絞られる。
【００１８】
支持基板１１は、光記録媒体１０に求められる厚み（約１．２ｍｍ）を確保するために用いられる厚さ約１．１ｍｍの円盤状の基板であり、その一方の面には、その中心部近傍から外縁部又は外縁部から中心部近傍に向けて、レーザビームＬをガイドするためのグルーブ１１ａ及びランド１１ｂが螺旋状に形成されている。特に限定されるものではないが、グルーブ１１ａの深さとしては１０ｎｍ〜４０ｎｍに設定することが好ましく、グルーブ１１ａのピッチとしては０．２μｍ〜０．４μｍに設定することが好ましい。支持基板１１の材料としては種々の材料を用いることが可能であり、例えば、ガラス、セラミックス、あるいは樹脂を用いることができる。これらのうち、成形の容易性の観点から樹脂が好ましい。このような樹脂としてはポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。中でも、加工性などの点からポリカーボネート樹脂やオレフィン樹脂が特に好ましい。但し、支持基板１１は、レーザビームＬの光路とはならないことから、高い光透過性を有している必要はない。
【００１９】
支持基板１１の作製は、スタンパを用いた射出成形法を用いることが好ましいが、フォトポリマー（２Ｐ）法等、他の方法によってこれを作製することも可能である。
【００２０】
反射層１２は、光透過層１６側から入射されるレーザビームＬを反射し、再び光透過層１６から出射させる役割を果たす。反射層１２の材料はレーザビームＬを反射可能である限り特に制限されず、例えば、マグネシウム（Ｍｇ），アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ），鉄（Ｆｅ），コバルト（Ｃｏ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），亜鉛（Ｚｎ），ゲルマニウム（Ｇｅ），銀（Ａｇ），白金（Ｐｔ），金（Ａｕ）等を用いることができる。これらのうち、高い反射率を有することから、アルミニウム（Ａｌ），金（Ａｕ），銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ）又はこれらの合金（ＡｇとＣｕとの合金等）などの金属材料を用いることが好ましい。本発明において、光記録媒体に反射層１２を設けることは必須でないが、これを設ければ、光記録後において多重干渉効果により高い再生信号（Ｃ／Ｎ比）が得られやすくなる。また、反射層１２の腐食防止を目的として、支持基板１１と反射層１２との間に誘電体からなる防湿層を介在させても構わない。
【００２１】
反射層１２の厚さとしては、５〜３００ｎｍに設定することが好ましく、２０〜２００ｎｍに設定することが特に好ましい。これは、反射層１２の厚さが５ｎｍ未満であると反射層１２による上記効果を十分に得ることができない一方、反射層１２の厚さが３００ｎｍ超であると、反射層１２の表面性が低くなるばかりでなく、成膜時間が長くなり生産性が低下してしまうからである。これに対し、反射層１２の厚さを５〜３００ｎｍ、特に２０〜２００ｎｍに設定すれば、反射層１２による上記効果を十分に得ることができるとともに、その表面性を高く維持することができ、さらに、生産性の低下を防止することが可能となる。
【００２２】
誘電体層１３，１５は、これらの間に設けられる記録層１４を物理的及び化学的に保護する役割を果たし、記録層１４はこれら誘電体層１３，１５に挟持されることによって、光記録後、長期間にわたって記録情報の劣化が効果的に防止される。
【００２３】
誘電体層１３，１５を構成する材料は、使用されるレーザビームＬの波長領域において透明な誘電体であれば特に限定されず、例えば、酸化物、硫化物、窒化物又はこれらの組み合わせを主成分として用いることができるが、支持基板１１等の熱変形防止、並びに、記録層１４に対する保護特性の観点から、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＧｅＮ、ＧｅＣｒＮ、ＣｅＯ２、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＣ、Ｌａ２Ｏ３、ＴａＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＡｌＯＮ（ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｓｉ３Ｎ４及びＡｌＮの混合物）及びＬａＳｉＯＮ（Ｌａ２Ｏ３，ＳｉＯ２及びＳｉ３Ｎ４の混合物）等、アルミニウム（Ａｌ）、シリコン（Ｓｉ）、セリウム（Ｃｅ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、タンタル（Ｔａ）等の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物あるいはそれらの混合物を用いることが好ましく、特に、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を用いることがより好ましい。この場合、ＺｎＳとＳｉＯ２のモル比は、８０：２０程度に設定することが特に好ましい。誘電体層１３と誘電体層１５は互いに同じ材料で構成されてもよいが、異なる材料で構成されてもよい。さらに、誘電体層１３，１５の少なくとも一方が複数の誘電体層からなる多層構造であっても構わない。
【００２４】
また、誘電体層１３，１５の層厚は特に限定されないが、いずれも３〜２００ｎｍに設定することが好ましい。これは、層厚が３ｎｍ未満であると上述した効果が得られにくくなる一方、層厚が２００ｎｍを超えると、成膜時間が長くなり生産性が低下するおそれがあるとともに、誘電体層１３，１５のもつ応力によってクラックが発生するおそれがあるからである。
【００２５】
また、誘電体層１３，１５は、記録の前後における光学特性の差を拡大する役割をも果たし、これを達成するためには、使用されるレーザビームＬの波長領域において高い屈折率（ｎ）を有する材料を選択することが好ましい。さらに、レーザビームＬを照射した場合に、誘電体層１３，１５に吸収されるエネルギーが大きいと記録感度が低下することから、これを防止するためには、使用されるレーザビームＬの波長領域において低い消衰係数（ｋ）を有する材料を選択することが好ましい。
【００２６】
記録層１４は不可逆的な記録マークが形成される層であり、図２に示すように、支持基板１１側に位置する反応層２１と光透過層１６側に位置する反応層２２が積層された構造を有している。記録層１４のうち未記録状態である領域は、図２に示すように反応層２１と反応層２２が積層された状態となっているが、所定以上のパワーを持つレーザビームＬが照射されると、その熱によって、図３に示すように反応層２１を構成する元素及び反応層２２を構成する元素がそれぞれ部分的又は全体的に混合されて記録マークＭとなる。このとき、記録層において記録マークＭの形成された混合部分とそれ以外の部分（ブランク領域）とではレーザビームＬに対する反射率が大きく異なるため、これを利用してデータの記録・再生を行うことができる。記録されるデータは、記録マークＭの長さ（記録マークＭの前縁から後縁までの長さ）及びブランク領域の長さ（記録マークＭの後縁から次の記録マークＭの前縁までの長さ）によって表現される。記録マークＭ及びブランク領域の長さは、基準となるクロックの１周期に相当する長さをＴとした場合、Ｔの整数倍に設定される。具体的には、１，７ＲＬＬ変調方式においては、２Ｔ〜８Ｔの長さを持つ記録マークＭ及びブランク領域が使用される。
【００２７】
反応層２１及び反応層２２の一方（好ましくは反応層２１）は、チタン（Ｔｉ）を主成分とする材料によって構成される。ここで、反応層の「主成分」とは、当該反応層中において含有率（ａｔｍ％）が最も大きい元素を指す。したがって、「反応層がチタン（Ｔｉ）を主成分とする材料からなる」とは、当該反応層中におけるチタン（Ｔｉ）の含有率が５０ａｔｍ％以上であることを意味する。当該反応層には、主成分であるチタン（Ｔｉ）にアルミニウム（Ａｌ）が添加されていることが非常に好ましく、これによりジッタを低く抑えることが可能となる。アルミニウム（Ａｌ）の添加量としては、２５ａｔｍ％以上、５０ａｔｍ％未満に設定することが好ましい。これによれば、ジッタをより低く抑えるとともに高い変調度を得ることが可能となる。尚、反応層２１及び反応層２２の一方にはチタン（Ｔｉ）及びアルミニウム（Ａｌ）以外の元素が実質的に含まれていないことが好ましい。
【００２８】
また、反応層２１及び反応層２２の他方（好ましくは反応層２２）は、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）又は銅（Ｃｕ）を主成分とする。当該反応層には、記録感度を高める観点から、主成分となるシリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）又は銅（Ｃｕ）の他に、マグネシウム（Ｍｇ）、銅（Ｃｕ）（銅（Ｃｕ）が主成分である場合を除く）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）（金（Ａｕ）が主成分である場合を除く）等が添加されていてもよい。当該反応層の主成分は、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）又は錫（Ｓｎ）であることが好ましく、シリコン（Ｓｉ）であることが最も好ましい。
【００２９】
以上を総合すれば、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）にアルミニウム（Ａｌ）が２５ａｔｍ％以上、５０ａｔｍ％未満添加された材料を用い、反応層２２の材料としてシリコン（Ｓｉ）を用いることが最も好ましい。このような材料によって反応層２１及び反応層２２を構成すれば、環境負荷を抑制しつつ、長期間の保存に対する高い信頼性を確保することができるとともに、高い記録感度と低いジッタを得ることが可能となる。
【００３０】
記録層１４の層厚は、厚くなればなるほどレーザビームＬのビームスポットが照射される反応層２２の表面２２ａの平坦性が悪化し、これに伴って再生信号のノイズレベルが高くなるとともに、記録感度も低下する。この点を考慮すれば、反応層２２の表面２２ａの平坦性を高めることによって再生信号のノイズレベルを抑制するとともに記録感度を高めるためには、記録層１４の層厚を薄く設定することが有効であるが、薄くしすぎると記録前後における光学定数の差が少なくなり、再生時に高いレベルの再生信号（Ｃ／Ｎ比）を得ることができなくなる。また、記録層１４の層厚を極端に薄く設定すると、成膜時における層厚制御が困難となる。以上を考慮すれば、記録層１４の層厚は２〜４０ｎｍに設定することが好ましく、２〜２０ｎｍであることがより好ましく、２〜１５ｎｍであることがさらに好ましい。
【００３１】
反応層２１及び反応層２２それぞれの層厚は特に限定されないが、再生信号のノイズレベルを充分に抑制し、充分な記録感度を確保し、さらに、記録前後の反射率の変化を充分に大きくするためには、いずれも１〜３０ｎｍであることが好ましく、反応層２１の層厚と反応層２２の層厚との比（反応層２１の層厚／反応層２２の層厚）は、０．２〜５．０であることが好ましい。
【００３２】
尚、上記反射層１２、誘電体層１３、記録層１４（反応層２１，２２）及び誘電体層１５の形成方法としては、これらの構成元素を含む化学種を用いた気相成長法、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法を用いることができ、中でも、スパッタリング法を用いることが好ましい。
【００３３】
光透過層１６は、レーザビームＬの入射面を構成するとともにレーザビームＬの光路となる層であり、その厚さとしては１０〜３００μｍに設定することが好ましく、５０〜１５０μｍに設定することが特に好ましい。光透過層１６の材料としては、使用されるレーザビームＬの波長領域において光透過率が十分に高い材料である限り特に限定されないが、アクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、紫外線硬化性樹脂を硬化させてなる膜のかわりに、光透過性樹脂からなる光透過性シートと各種接着剤や粘着剤を用いて光透過層１６を形成してもよい。
【００３４】
以上が本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体１０の構造である。
【００３５】
次に、光記録媒体１０に対するデータの記録原理について説明する。
【００３６】
上記光記録媒体１０に対してデータを記録する場合、図１に示すように、光記録媒体１０に対して強度変調されたレーザビームＬを光入射面１６ａから入射し記録層１４に照射する。このとき、レーザビームＬを集束するための対物レンズの開口数（ＮＡ）は例えば０．７以上、レーザビームＬの波長λは例えば３８０ｎｍ〜４５０ｎｍに設定され、好ましくは、対物レンズの開口数（ＮＡ）は０．８５程度、レーザビームＬの波長λは４０５ｎｍ程度に設定される。
【００３７】
このようなレーザビームＬが記録層１４に照射されると、記録層１４が加熱され、反応層２１を構成する元素及び反応層２２を構成する元素が混合される。かかる混合部分は、図３に示すように記録マークＭとなり、その反射率はそれ以外の部分（ブランク領域）の反射率と異なった値となることから、これを利用してデータの記録・再生を行うことが可能となる。しかも、本実施態様においては、反応層２１及び反応層２２が上述した材料によって構成されていることから、十分な保存信頼性を確保しつつ、高い記録感度と低いジッタを得ることが可能となる。また、反応層２１，２２を構成する上記材料は地球上においてありふれた材料であることから、環境負荷を抑制することも可能となる。
【００３８】
図４は、光記録媒体１０に対してデータを記録するためのレーザビームＬのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、（ａ）は２Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｂ）は３Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｃ）は４Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｄ）は５Ｔ信号〜８Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【００３９】
図４（ａ）〜（ｄ）に示すように、本パルス列パターンにおいては、レーザビームＬの設定強度は記録パワーＰｗ１及び基底パワーＰｂ１（＜Ｐｗ１）からなる２つの強度（２値）に変調される。
【００４０】
記録パワーＰｗ１としては、照射によって記録層１４を構成する反応層２１，２２が溶融・混合するような高いレベルに設定され、基底パワーＰｂ１としては、照射されても加熱状態にある記録層１４が冷却されるような極めて低いレベルに設定される。
【００４１】
図４（ａ）に示すように、２Ｔ信号を形成する場合、レーザビームＬの記録パルス数は「１」に設定される。レーザビームＬの記録パルス数とは、レーザビームＬの強度が記録パワーＰｗ１（又はＰｗ２（Ｐｗ２については後述する））まで高められた回数によって定義される。より具体的には、レーザビームＬの強度は、タイミングｔ１１以前においては基底パワーＰｂ１に設定され、タイミングｔ１１からタイミングｔ１２までの期間（ｔｔｏｐ）においては記録パワーＰｗ１に設定され、タイミングｔ１２以降においては再び基底パワーＰｂ１に設定される。
【００４２】
また、図４（ｂ）に示すように、３Ｔ信号を形成する場合、レーザビームＬの記録パルス数は「２」に設定される。つまり、レーザビームＬの強度は、タイミングｔ２１からタイミングｔ２２までの期間（ｔｔｏｐ）及びタイミングｔ２３からタイミングｔ２４までの期間（ｔｌｐ）においては記録パワーＰｗ１に設定され、その他の期間においては基底パワーＰｂ１に設定される。
【００４３】
さらに、図４（ｃ）に示すように、４Ｔ信号を形成する場合、レーザビームの記録パルス数は「３」に設定される。つまり、レーザビームＬの強度は、タイミングｔ３１からタイミングｔ３２までの期間（ｔｔｏｐ）、タイミングｔ３３からタイミングｔ３４までの期間（ｔｍｐ）及びタイミングｔ３５からタイミングｔ３６までの期間（ｔｌｐ）においては記録パワーＰｗ１に設定され、その他の期間においては基底パワーＰｂ１に設定される。
【００４４】
そして、図４（ｄ）に示すように、５Ｔ信号〜８Ｔ信号を形成する場合、レーザビームＬの記録パルス数はそれぞれ「４」〜「７」に設定される。この場合も、レーザビームＬの強度は、ｔｔｏｐ（タイミングｔ４１からタイミングｔ４２までの期間）、ｔｍｐ（タイミングｔ４３からタイミングｔ４４までの期間、タイミングｔ４５からタイミングｔ４６までの期間等）及びｔｌｐの期間（タイミングｔ４７からタイミングｔ４８までの期間）においては記録パワーＰｗ１に設定され、その他の期間においては基底パワーＰｂ１に設定される。
【００４５】
以上により、記録信号（２Ｔ信号〜８Ｔ信号）を形成すべき領域においては、記録パワーＰｗ１をもつレーザビームＬの照射によって、記録層１４を構成する反応層２１，２２が溶解・混合し記録マークＭが形成される。
【００４６】
尚、上記実施態様において用いた記録層１４は高い光透過率を有しているとともに、特に３８０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域のレーザビームに対しては、記録マークＭが形成された部分とそれ以外の部分との光透過率差が非常に小さいという特徴を有している。この点に着目すれば、上記実施態様において用いた記録層１４は、複数の情報層が積層された光記録媒体用の記録層として好適であると考えられる。以下、本発明を複数の情報層が積層された光記録媒体に適用した実施態様について説明する。
【００４７】
図５は、本発明の好ましい他の実施態様にかかる光記録媒体３０の部分断面図である。本実施態様にかかる光記録媒体３０の外観は、図１（ａ）に示した光記録媒体１０と同様、外径が約１２０ｍｍ、厚みが約１．２ｍｍである円盤状の光記録媒体であり、図５にはそのＡ部を拡大した状態が示されている。
【００４８】
図５に示すように、本実施態様にかかる光記録媒体３０は、支持基体３１と、透明中間層３２と、光透過層３３と、支持基体３１と透明中間層３２との間に設けられた情報層Ｌ０と、透明中間層３２と光透過層３３との間に設けられた情報層Ｌ１とを備え、情報層Ｌ０は光入射面３３ａから遠い側の情報層を構成し、情報層Ｌ１は光入射面３３ａから近い側の情報層を構成する。このように、本実施態様にかかる光記録媒体３０は、積層された２層の情報層を有している。
【００４９】
情報層Ｌ０に対してデータの記録／再生を行う場合、光入射面３３ａから近い側の情報層Ｌ１を介してレーザビームＬが照射されることになるため、情報層Ｌ１は十分な光透過率を有している必要がある。具体的には、データの記録／再生に用いられるレーザビームＬの波長において、４０％以上の光透過率を有していることが好ましく、５０％以上の光透過率を有していることが特に好ましい。
【００５０】
支持基体３１は、図１に示した光記録媒体１０の支持基体１１に対応する要素であり、支持基体１１と同様の材料を用いて同様の厚さに設定すればよい。支持基体３１の表面にはグルーブ３１ａ及びランド３１ｂが設けられており、これらグルーブ３１ａ及び／又はランド３１ｂは、情報層Ｌ０に対してデータの記録／再生を行う場合におけるレーザビームＬのガイドトラックとしての役割を果たす。
【００５１】
透明中間層３２は、情報層Ｌ０と情報層Ｌ１とを物理的及び光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たし、その表面にはグルーブ３２ａ及びランド３２ｂが設けられている。これらグルーブ３２ａ及び／又はランド３２ｂは、情報層Ｌ１に対してデータの記録／再生を行う場合におけるレーザビームＬのガイドトラックとしての役割を果たす。透明中間層３２の材料としては特に限定されるものではないが、紫外線硬化性アクリル樹脂を用いることが好ましい。透明中間層３２は、情報層Ｌ０に対してデータの記録／再生を行う場合にレーザビームＬの光路となることから、十分に高い光透過性を有している必要がある。
【００５２】
光透過層３３は、図１に示した光記録媒体１０の光透過層１６に対応する要素であり、その材料としては光透過層１６と同様の材料を用いることができ、その厚さとしては透明中間層３２との合計膜厚が光透過層１６と同様の厚さとなるよう設定すればよい。
【００５３】
情報層Ｌ１は、図６に示すように、上記光記録媒体３０の支持基板３１と光透過層３３との間に設けられた各機能層から反射層１２を削除した構成を有している。すなわち、反応層２１，２２からなる記録層１４と、これを挟むように設けられた２つの誘電体層１３，１５によって構成される。上記実施態様による光記録媒体１０と同様、記録層１４のうち未記録状態である領域は、図６に示すように反応層２１と反応層２２が積層された状態となっているが、所定以上のパワーを持つレーザビームＬが照射されると、その熱によって、図７に示すように反応層２１を構成する元素及び反応層２２を構成する元素がそれぞれ部分的又は全体的に混合されて記録マークＭとなる。これにより、情報層Ｌ１に所望のデータを記録することが可能となる。尚、情報層Ｌ１の光透過率が十分に確保される限度において、情報層Ｌ１に薄い反射層１２を設けても構わない。
【００５４】
誘電体層１３，１５や、反応層２１，２２の材料については上述の通りである。つまり、反応層２１及び反応層２２の一方（好ましくは反応層２１）はチタン（Ｔｉ）を主成分とする材料からなり、他方（好ましくは反応層２２）はシリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、炭素（Ｃ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）又は銅（Ｃｕ）を主成分とする材料からなる。特に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）にアルミニウム（Ａｌ）が２５ａｔｍ％以上、５０ａｔｍ％未満添加された材料を用い、反応層２２の材料としてシリコン（Ｓｉ）を用いることが好ましい。以上の構成により、情報層Ｌ１は高い記録感度を有し、記録されたデータのジッタは十分に低くなる。また、高い保存信頼性も確保される。
【００５５】
しかも、情報層Ｌ１は、記録層１４が上記材料からなることから高い光透過率、具体的には５０％以上の光透過率を確保することができる。このため、情報層Ｌ０に対するデータの記録においてその感度を高めることが可能となる。
【００５６】
さらに、情報層Ｌ１は、記録層１４が上記材料からなることから、特に３８０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域のレーザビームに対し、積層状態である部分（記録マークＭ以外の部分）の光透過率と、混合状態である部分（記録マークＭが形成された部分）の光透過率との差が非常に小さい。具体的には、レーザビームＬの波長λが３８０ｎｍ〜４５０ｎｍである場合において、積層部分と混合部分との光透過率差を２％以下とすることができ、特に、次世代型の光記録媒体に用いられる波長λ＝約４０５ｎｍのレーザビームに対しては、積層部分と混合部分との光透過率差を１．６％以下とすることができる。これにより、情報層Ｌ０に対してデータの記録／再生を行う場合に、情報層Ｌ１上に形成されるビームスポット内が未記録領域（記録マークＭが存在しない領域）であるか記録領域（多数の記録マークＭが形成された領域）であるか、さらにはその境界線が存在するかによって、情報層Ｌ０に到達するレーザビームＬの強度がほとんど変わらないことから、情報層Ｌ０に対する記録／再生を安定して行うことが可能となる。
【００５７】
尚、情報層Ｌ０の構成については特に限定されないが、上記光記録媒体１０の支持基板１１と光透過層１６との間の構成と同様の構成（図２参照）とすることができる。また、情報層Ｌ０は追記型の情報層である必要はなく、例えば、記録層を備えない再生専用の情報層であっても構わない。この場合、支持基体３１上に螺旋状のプリピットが設けられ、かかるプリピットによって情報層Ｌ０に情報が保持される。
【００５８】
図８は、光記録媒体３０の情報層Ｌ１に対してデータを記録するためのレーザビームＬのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、（ａ）は２Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｂ）は３Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｃ）は４Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｄ）は５Ｔ信号〜８Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【００５９】
図８（ａ）〜（ｄ）に示すように、本パルス列パターンにおいては、レーザビームＬの強度は記録パワーＰｗ２、中間パワーＰｍ２及び基底パワーＰｂ２からなる３つの設定強度（３値）に変調される。
【００６０】
これら記録パワーＰｗ２、中間パワーＰｍ２及び基底パワーＰｂ２の関係については、
Ｐｗ２＞Ｐｍ２＞Ｐｂ２
に設定される。記録パワーＰｗ２としては、照射によって情報層Ｌ１に含まれる反応層２１，２２が溶融混合するような高いレベルに設定され、中間パワーＰｍ２及び基底パワーＰｂ２としては、照射されても情報層Ｌ１に含まれる反応層２１，２２が溶融混合しないような低いレベルに設定される。特に、基底パワーＰｂ２は、照射によって反応層２１，２２に与える熱的な影響がほとんどなく、記録パワーＰｗ２を持つレーザビームＬの照射により加熱された反応層２１，２２が冷却されるような極めて低いレベルに設定される。
【００６１】
図８（ａ）に示すように、２Ｔ信号を形成する場合、レーザビームＬの記録パルス数は「１」に設定され、その後、冷却期間ｔｃｌが挿入される。すなわち、レーザビームＬの強度はタイミングｔ５１以前においては中間パワーＰｍ２に設定され、タイミングｔ５１からタイミングｔ５２までの期間（ｔｔｏｐ）においては記録パワーＰｗ２に設定され、タイミングｔ５２からタイミングｔ５３までの期間ｔｃｌにおいては基底パワーＰｂ２に設定され、タイミングｔ５３以降においては再び中間パワーＰｍ２に設定される。
【００６２】
また、図８（ｂ）に示すように、３Ｔ信号を形成する場合、レーザビームＬの記録パルス数は「２」に設定され、その後、冷却期間ｔｃｌが挿入される。すなわち、レーザビームＬの強度はタイミングｔ６１以前においては中間パワーＰｍ２に設定され、タイミングｔ６１からタイミングｔ６２までの期間（ｔｔｏｐ）及びタイミングｔ６３からタイミングｔ６４までの期間（ｔｌｐ）においては記録パワーＰｗ２に設定され、タイミングｔ６２からタイミングｔ６３までの期間（ｔｏｆｆ）及びタイミングｔ６４からタイミングｔ６５までの期間（ｔｃｌ）においては基底パワーＰｂ２に設定され、タイミングｔ６５以降においては再び中間パワーＰｍ２に設定される。
【００６３】
さらに、図８（ｃ）に示すように、４Ｔ信号を形成する場合、レーザビームの記録パルス数は「３」に設定され、その後、冷却期間ｔｃｌが挿入される。すなわち、レーザビームＬの強度はタイミングｔ７１以前においては中間パワーＰｍ２に設定され、タイミングｔ７１からタイミングｔ７２までの期間（ｔｔｏｐ）、タイミングｔ７３からタイミングｔ７４までの期間（ｔｍｐ）及びタイミングｔ７５からタイミングｔ７６までの期間（ｔｌｐ）においては記録パワーＰｗ２に設定され、タイミングｔ７２からタイミングｔ７３までの期間（ｔｏｆｆ）、タイミングｔ７４からタイミングｔ７５までの期間（ｔｏｆｆ）及びタイミングｔ７６からタイミングｔ７７までの期間（ｔｃｌ）においては基底パワーＰｂ２に設定され、タイミングｔ７７以降においては再び中間パワーＰｍ２に設定される。
【００６４】
そして、図８（ｄ）に示すように、５Ｔ信号〜８Ｔ信号を形成する場合、レーザビームＬの記録パルス数はそれぞれ「４」〜「７」に設定され、その後、冷却期間ｔｃｌが挿入される。したがって、マルチパルスの数は５Ｔ信号〜８Ｔ信号を形成する場合それぞれ「２」〜「５」に設定される。この場合も、レーザビームＬの強度は、ｔｔｏｐ（タイミングｔ８１からタイミングｔ８２までの期間）、ｔｍｐ（タイミングｔ８３からタイミングｔ８４までの期間、タイミングｔ８５からタイミングｔ８６までの期間等）及びｔｌｐの期間（タイミングｔ８７からタイミングｔ８８までの期間）においては記録パワーＰｗ２に設定され、オフ期間ｔｏｆｆ（タイミングｔ８２からタイミングｔ８３までの期間、タイミングｔ８６からタイミングｔ８７までの期間等）及び冷却期間ｔｃｌ（タイミングｔ８８からタイミングｔ８９までの期間）においては基底パワーＰｂ２に設定され、その他の期間においては中間パワーＰｍ２に設定される。
【００６５】
以上により、記録信号（２Ｔ信号〜８Ｔ信号）を形成すべき領域においては、記録パワーＰｗ２をもつレーザビームＬの照射によって、情報層Ｌ１に含まれる反応層２１，２２が溶融混合し、所望の長さを持った記録マークＭが形成される。
【００６６】
情報層Ｌ１に対するデータの記録において、図８に示したパルス列パターンを用いることが好ましい理由は次の通りである。
【００６７】
すなわち、上述したように情報層Ｌ１には反射層が含まれていないため（或いは、非常に薄い反射層しか設けられないため）、反射層による放熱効果が全く（或いは十分に）得られない。このため、図４に示したパルス列パターンでは、レーザビームＬによる熱が十分に放熱されず、これが信号特性を悪化させるおそれが生じる。しかしながら、情報層Ｌ１に対するデータの記録において図８に示したパルス列パターンを用いれば、記録パルスの直後においてレーザビームＬの強度が基底パワーＰｂ２に設定されるので、熱が過剰に蓄積されることが無く、その結果、良好な信号特性を得ることが可能となるのである。
【００６８】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【００６９】
例えば、上記各実施態様にかかる光記録媒体１０、３０は、いずれも非常に薄い光透過層を介してレーザビームが照射されるいわゆる次世代型の光記録媒体であるが、本発明の適用が可能な光記録媒体がこれに限定されるものではなく、ＤＶＤ型の光記録媒体やＣＤ型の光記録媒体に本発明を適用することも可能である。
【００７０】
また、上記各実施態様にかかる光記録媒体１０、３０では、記録層１４が２つの反応層２１，２２のみによって構成されているが、記録層に他の層、例えば第３の反応層や誘電体層が含まれていても構わない。
【００７１】
さらに、上述した光記録媒体３０は積層された２つの情報層（Ｌ０，Ｌ１）を備えているが、積層された３層以上の情報層（Ｌ０，Ｌ１，Ｌ２・・・）を備える光記録媒体に本発明を適用することも可能である。この場合、より光入射面に近い情報層に含まれる記録層を上記の構成とすれば、下層の情報層に対するデータの記録／再生を安定的に行うことが可能となる。
【００７２】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明について更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００７３】
［サンプルの作製１］
以下の方法により、図１及び図２に示す光記録媒体１０と同じ構成を有する光記録媒体サンプルを作製した。
【００７４】
まず、射出成型法により、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍであり、表面にグルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成されたポリカーボネートからなるディスク状の支持基板１１を作製した。
【００７５】
次に、この支持基板１１をスパッタリング装置にセットし、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成されている側の表面に銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）及び銅（Ｃｕ）の合金からなる厚さ１００ｎｍの反射層１２、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合物（モル比＝８０：２０）からなる厚さ２６ｎｍの誘電体層１３、チタン（Ｔｉ）を主成分としこれにアルミニウム（Ａｌ）が４３ａｔｍ％添加された材料からなる厚さ５ｎｍの反応層２１、シリコン（Ｓｉ）からなる厚さ５ｎｍの反応層２２、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合物（モル比＝８０：２０）からなる厚さ３０ｎｍの誘電体層１５を順次スパッタ法により形成した。
【００７６】
次に、誘電体層１５上に、アクリル系紫外線硬化性樹脂をスピンコート法によりコーティングし、これに紫外線を照射して厚さ１００μｍの光透過層１６を形成した。これにより実施例１の光記録媒体サンプルが完成した。
【００７７】
次に、反応層２１の材料として、銅（Ｃｕ）を主成分としこれにアルミニウム（Ａｌ）及び金（Ａｕ）がそれぞれ２３ａｔｍ％、１３ａｔｍ％添加された材料を用いた他は、実施例１と同様にして比較例１の光記録媒体サンプルを作製した。
【００７８】
［サンプルの評価１］
実施例１及び比較例１の光記録媒体サンプルを温度が８０℃、湿度が８５％の環境下に保存し、０時間後（上記環境下に保存前の状態）、１００時間後、２００時間後及び３００時間後における反射率及びジッタを測定することによって、保存信頼性の試験（保存試験）を行った。
【００７９】
反射率及びジッタの測定は次の条件下で行った。
【００８０】
まず、各保存段階（０時間、１００時間、２００時間、３００時間）における実施例１及び比較例１の光記録媒体サンプルを光記録媒体評価装置（商品名：ＤＤＵ１０００、パルステック社製）にセットし、４．９ｍ／ｓｅｃの線速度で回転させながら、開口数が０．８５である対物レンズを介して波長が４０５ｎｍであるレーザビームを記録層１４（反応層２１，２２）に照射し、図４に示すパルス列パターンを用いて２Ｔ〜８Ｔからなる混合信号を記録した。パルス幅としては、ｔｔｏｐを０．７Ｔに設定し、ｔｍｐを０．５Ｔに設定し、ｔｌｐを０．５Ｔに設定した。また、レーザビームＬの記録パワーＰｗ１は、実施例１の光記録媒体サンプルに対しては４．４ｍＷ、比較例１の光記録媒体サンプルに対しては４．８ｍＷに設定した。基底パワーＰｂ１については、いずれも１．０ｍＷに設定した。
【００８１】
次に、０時間後に記録した混合信号及び当該保存段階において記録した混合信号を再生してジッタを測定するとともに、記録マーク間（ブランク領域）の反射率を測定した。ここでいう「ジッタ」とはクロックジッタを指し、タイムインターバルアナライザにより再生信号の「ゆらぎ（σ）」を求め、σ／Ｔｗ（Ｔｗ：クロックの１周期）により算出した。
【００８２】
反射率についての測定結果を図９に、ジッタについての測定結果を図１０に示す。図９及び図１０において、０時間後に記録した混合信号の反射率及びジッタは「Ａｒｃｈｉｖａｌ」と表記され、当該保存段階において記録した混合信号の反射率及びジッタは「Ｓｈｅｌｆ」と表記されている。
【００８３】
図９に示すように、比較例１の光記録媒体サンプルにおいては、保存試験が進むにつれて反射率が徐々に低下したが、実施例１の光記録媒体サンプルでは保存試験による反射率の低下はほとんど見られなかった。また、図１０に示すように、比較例１の光記録媒体サンプルにおいては、保存試験が進むにつれてジッタが高くなったが、実施例１の光記録媒体サンプルでは保存試験によるジッタの上昇は見られなかった。
【００８４】
以上より、実施例１の光記録媒体サンプルは保存信頼性が非常に高いことが確認された。
【００８５】
［サンプルの作製２］
以下の方法により、図１及び図２に示す光記録媒体１０から反射層１２を削除した構造を有する光記録媒体サンプルを作製した。
【００８６】
まず、射出成型法により、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍであり、表面にグルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成されたポリカーボネートからなるディスク状の支持基板１１を作製した。
【００８７】
次に、この支持基板１１をスパッタリング装置にセットし、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成されている側の表面にＺｎＳとＳｉＯ２の混合物（モル比＝８０：２０）からなる厚さ２５ｎｍの誘電体層１３、チタン（Ｔｉ）からなる厚さ５ｎｍの反応層２１、シリコン（Ｓｉ）からなる厚さ４ｎｍの反応層２２、ＴｉＯ２からなる厚さ３３ｎｍの誘電体層１５を順次スパッタ法により形成した。
【００８８】
次に、誘電体層１５上に、アクリル系紫外線硬化性樹脂をスピンコート法によりコーティングし、これに紫外線を照射して厚さ１００μｍの光透過層１６を形成した。これにより実施例２−１の光記録媒体サンプルが完成した。かかる光記録媒体サンプルは、図５及び図６に示す光記録媒体３０から情報層Ｌ０を省略した構造、つまり、情報層Ｌ１のみからなる構造と考えることもできる。
【００８９】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝８５．０ａｔｍ％、Ａｌ＝１５．０ａｔｍ％）を用いた他は、実施例２−１と同様にして実施例２−２の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９０】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝７３．６ａｔｍ％、Ａｌ＝２６．４ａｔｍ％）を用いた他は、実施例２−１と同様にして実施例２−３の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９１】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝６５．７ａｔｍ％、Ａｌ＝３４．３ａｔｍ％）を用いた他は、実施例２−１と同様にして実施例２−４の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９２】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝５７．３ａｔｍ％、Ａｌ＝４２．７ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして実施例２−５の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９３】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝４７．７ａｔｍ％、Ａｌ＝５２．３ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして比較例２−１の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９４】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝４１．２ａｔｍ％、Ａｌ＝５８．８ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして比較例２−２の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９５】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝３１．９ａｔｍ％、Ａｌ＝６８．１ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして比較例２−３の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９６】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝２６．４ａｔｍ％、Ａｌ＝７３．６ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして比較例２−４の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９７】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝１７．８ａｔｍ％、Ａｌ＝８２．２ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして比較例２−５の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９８】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝９．４ａｔｍ％、Ａｌ＝９０．６ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして比較例２−６の光記録媒体サンプルを作製した。
【００９９】
次に、反応層２１の材料としてチタン（Ｔｉ）とアルミニウム（Ａｌ）の合金（Ｔｉ＝１．１ａｔｍ％、Ａｌ＝９８．９ａｔｍ％）を用い、誘電体層１５の膜厚を３０ｎｍに設定した他は、実施例２−１と同様にして比較例２−７の光記録媒体サンプルを作製した。
【０１００】
尚、光記録媒体サンプルごとに誘電体層１５の膜厚が異なっているのは、各光記録媒体サンプルの反射率をほぼ一致させるためである。
【０１０１】
［サンプルの評価２］
次に、実施例２−１〜２−５及び比較例２−１〜２−７の光記録媒体サンプルを上記光記録媒体評価装置にそれぞれセットし、５．３ｍ／ｓｅｃの線速度で回転させながら、開口数が０．８５である対物レンズを介して波長が４０５ｎｍであるレーザビームを記録層１４（反応層２１，２２）に照射し、図８に示すパルス列パターンを用いて２Ｔ〜８Ｔからなる混合信号を記録した。パルス幅としては、ｔｔｏｐを０．５Ｔに設定し、ｔｍｐ及びｔｌｐを０．４Ｔに設定し、ｔｃｌを１．２Ｔに設定した。また、記録パワーＰｗ２については、ジッタが最も低くなるレベル（各光記録媒体サンプルによって異なる）に設定するとともに、中間パワーＰｍ２を１．６ｍＷ〜２．４ｍＷの範囲で最適化し、基底パワーＰｂ２を０．１ｍＷに固定した。
【０１０２】
そして、記録された混合信号を再生することによりジッタを測定し、反応層２１に添加されたアルミニウム（Ａｌ）の量とジッタとの関係を調べた。結果を図１１に示す。
【０１０３】
図１１に示すように、ジッタは比較例２−６，２−７の光記録媒体サンプルでは高かったが、その他の光記録媒体サンプルでは７％未満となり、良好な結果が得られた。特に、実施例２−３〜２−５及び比較例２−１〜２−４の光記録媒体サンプルにおけるジッタは６％程度となり、非常に良好な結果が得られた。以上より、アルミニウム（Ａｌ）の添加量を０〜８３ａｔｍ％程度に設定すると良好なジッタが得られ、２５〜７５ａｔｍ％程度に設定すると特に良好なジッタが得られることが確認された。
【０１０４】
次に、混合信号が記録された各光記録媒体サンプルについて、記録マークの反射率Ｒｂと記録マーク間（ブランク領域）の反射率Ｒｔを測定し、
（Ｒｔ−Ｒｂ）／Ｒｔ×１００
より、変調度を算出した。結果を図１２に示す。
【０１０５】
図１２に示すように、変調度は比較例２−１〜２−３の光記録媒体サンプルでは低かったが、その他の光記録媒体サンプルでは５０％以上となり、良好な結果が得られた。特に、実施例２−１，２−３〜２−５及び比較例２−５〜２−７の光記録媒体サンプルにおける変調度は６０％以上となり、非常に良好な結果が得られた。以上より、アルミニウム（Ａｌ）の添加量を５０ａｔｍ％以下又は８０ａｔｍ％以上に設定すると高い変調度が得られることが確認された。
【０１０６】
以上の結果から、反応層２１へのアルミニウム（Ａｌ）の添加量を０〜５０ａｔｍ％程度に設定すればジッタ及び変調度が良好となり、２５〜５０ａｔｍ％程度に設定すればジッタ及び変調度が特に良好となることが分かった。
【０１０７】
次に、各光記録媒体サンプルに対して波長が４０５ｎｍであるレーザビームを照射し、その光透過率を測定した。結果を図１３に示す。
【０１０８】
図１３に示すように、光透過率は比較例２−３〜２−６の光記録媒体サンプルでは低かったが、その他の光記録媒体サンプルでは５０％程度となり、特に、実施例２−３〜２−５及び比較例２−１の光記録媒体サンプルにおける光透過率は５０％以上となった。以上より、アルミニウム（Ａｌ）の添加量を２５〜５５ａｔｍ％程度に設定すると特に高い光透過率が得られることが確認された。
【０１０９】
以上の結果から、反応層２１へのアルミニウム（Ａｌ）の添加量を０〜５０ａｔｍ％程度、特に、２５〜５０ａｔｍ％程度に設定すれば、記録層Ｌ１用の反応膜２１として好適であることが分かった。
【０１１０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、初期特性が良好であるとともに、記録情報を長期にわたって良好な状態で保存可能な追記型の光記録媒体を提供することが可能となる。しかも、本発明の光記録媒体に含まれる記録層は光透過率が高いことから、複数の情報層を備えるタイプの光記録媒体において光入射面に近い情報層にこれを用いれば、下層の情報層に対する記録／再生特性を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図であり、（ｂ）は（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
【図２】光記録媒体１０の主要部を拡大して示す略断面図である。
【図３】記録マークＭが形成された領域を拡大して示す略断面図である。
【図４】光記録媒体１０に対してデータを記録するためのレーザビームＬのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、（ａ）は２Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｂ）は３Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｃ）は４Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｄ）は５Ｔ信号〜８Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【図５】本発明の好ましい他の実施態様にかかる光記録媒体３０の部分断面図である。
【図６】情報層Ｌ１を拡大して示す略断面図である。
【図７】情報層Ｌ１のうち記録マークＭが形成された領域を拡大して示す略断面図である。
【図８】光記録媒体３０の情報層Ｌ１に対してデータを記録するためのレーザビームＬのパルス列パターンの好ましい一例を示す図であり、（ａ）は２Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｂ）は３Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｃ）は４Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示し、（ｄ）は５Ｔ信号〜８Ｔ信号を形成する場合のパルス列パターンを示している。
【図９】保存試験の進行に伴う反射率の変化を示すグラフである。
【図１０】保存試験の進行に伴うジッタの変化を示すグラフである。
【図１１】反応層２１に添加されたアルミニウム（Ａｌ）の量とジッタとの関係を示すグラフである。
【図１２】反応層２１に添加されたアルミニウム（Ａｌ）の量と変調度との関係を示すグラフである。
【図１３】反応層２１に添加されたアルミニウム（Ａｌ）の量と光透過率との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１０，３０  光記録媒体
１１，３１  支持基板
１１ａ，３１ａ，３２ａ  グルーブ
１１ｂ，３１ｂ，３２ｂ  ランド
１２  反射層
１３，１５  誘電体層
１４  記録層
１６，３３  光透過層
１６ａ，３３ａ  光入射面
２１，２２  反応層
３２  透明中間層
Ｌ  レーザビーム
Ｌ０，Ｌ１  情報層
【図１】
2004291599.tif 000003
【図２】
2004291599.tif 000004
【図３】
2004291599.tif 000005
【図４】
2004291599.tif 000006
【図５】
2004291599.tif 000007
【図６】
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【図７】
2004291599.tif 000009
【図８】
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【図９】
2004291599.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
2004291599.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2004291599.tif 000015