(57)【要約】【課題】蒸着装置に配設して使用される基板支持装置において、基板への蒸着を妨げることなく、基板の撓みをより小さく抑えてこの基板を支持する。【解決手段】蒸着装置に配設して使用される基板支持装置１００の基板支持手段２０に、厚さＴｍｍの蒸着用の基板１０を、基板１０の側面からこの基板１０の内側に向かって（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる支持領域Ｈで下面から支持するように配置する。【選択図】　　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着装置に配設して使用される、蒸着用の基板の周縁部を該基板の下面から支持する基板支持手段を備えた基板支持装置であって、
前記基板支持手段が、前記基板の側面から該基板の内側に向かって（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる支持領域で前記基板を支持するものであることを特徴とする基板支持装置。
ただし、
Ｔ：基板の厚さ（ｍｍ）
【請求項２】
前記基板が、弾性率１０ＧＰａ以上、かつ密度６ｇ／ｃｍ３以下の物性を有するものであることを特徴とする請求項１記載の基板支持装置。
【請求項３】
前記基板支持手段が、前記支持領域を基板の側面に投影して得られる投影長の総和が前記基板の側面の全周の長さの１０パーセント以上となるように、前記基板を支持するものであることを特徴とする請求項１または２記載の基板支持装置。
【請求項４】
前記基板がガラス製あるいはアルミニウム合金製であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の基板支持装置。
【請求項５】
前記基板が、蓄積性蛍光体が蒸着される、蓄積性蛍光体パネル用の基板であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の基板支持装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板支持装置に関し、詳しくは、蒸着装置に配設して使用される基板支持装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、Ｘ線等の放射線を照射するとこの放射線エネルギの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光を照射すると蓄積された放射線エネルギに応じて輝尽発光を示す蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）を利用して、人体等の被写体の放射線像を蓄積性蛍光体層に一旦潜像として記録し、この蓄積性蛍光体層にレーザ光等の励起光を照射して輝尽発光光を生じせしめ、この輝尽発光光を光電的に検出して被写体の放射線像を示す画像信号を取得する放射線画像記録装置および放射線画像読取装置等からなる放射線画像記録再生システムがＣＲ（ＣｏｍｐｕｔｅｄＲａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）としてが知られている。
【０００３】
上記放射線画像記録再生システムに使用される記録媒体として、基板上に蓄積性蛍光体層を形成した蓄積性蛍光体パネルが知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記蓄積性蛍光体パネルには、放射線像を高い解像力で記録再生したいという要求があり、これに対して、蓄積性蛍光体を密度高く充填した蓄積性蛍光体層は放射線像を高い解像力で記録再生できることが知られている。そこで、基板の周縁部を下面側から支持してこの基板の下面上に蒸着を施すことにより、蓄積性蛍光体が密度高く充填された蓄積性蛍光体層を基板上の中央部分に形成して上記蓄積性蛍光体パネルを作成する検討が行なわれている。
【０００５】
しかしながら、一般に蓄積性蛍光体パネルの作成に使用される基板は基板面の面積が大きく（例えば基板の大きさが３００ｍｍ×３００ｍｍ以上）、これに対して基板の厚さが薄いので、蒸着の際、基板自身の自重によりこの基板の中央部が下方に大きく撓んでしまう。そのため、後述する理由により、蓄積性蛍光体層が基板から剥離したり、蓄積性蛍光体層中にひび割れが生じたりする虞があるという問題がある。
【０００６】
すなわち、蒸着装置内での基板への蒸着に際し、この基板の中央部が下方に撓んだまま蒸着が施されて基板上に蓄積性蛍光体層が形成されると、この撓んだ基板を所定の平板形状に戻したときに、蓄積性蛍光体層と基板との間にせん断応力が生じて基板から蓄積性蛍光体層が剥離したり、蓄積性蛍光体層内に生じた内部応力によって蓄積性蛍光体層にひび割れが生じることがある。特に、この蓄積性蛍光体層は通常より厚い層として形成されるので（例えば厚さ５００μｍ）、上記撓んだ形状を平板状に戻すときに通常の蒸着層（例えば厚さ数μｍ）に比してより大きな上記せん断応力や内部応力が発生する。
【０００７】
なお、上記問題は、蒸着により基板上へ蓄積性蛍光体層を形成する場合に限らず、蒸着により基板上へ蒸着層を形成する際に一般に考慮しておかねばならない問題である。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基板への蒸着を妨げることなく、基板の撓みをより小さく抑えてこの基板を支持することができる基板支持装置を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板支持装置は、蒸着装置に配設して使用される、蒸着用の基板の周縁部をこの基板の下面から支持する基板支持手段を備えた基板支持装置であって、基板支持手段が、基板の側面からこの基板の内側に向かって、（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる支持領域で上記基板を支持するものである。
【００１０】
なお、「基板の側面からこの基板の内側に向かう」とは、基板の側面で示される基板の輪郭からこの基板輪郭に対する法線方向に、かつ、この基板の内側に向かうことを意味するものである。また、「基板の側面から該基板の内側に向かって（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる」とは、支持領域が上記基板の側面からこの基板の内側に向かって５０ｍｍを越える範囲には存在しないように、この支持領域を延ばすことを意味するものである。
【００１１】
前記基板は、弾性率１０ＧＰａ以上、かつ密度６ｇ／ｃｍ３以下の物性を有するものとすることができ、また、前記基板は、ガラス製あるいはアルミニウム合金製とすることができる。また、基板は、蓄積性蛍光体が蒸着される、蓄積性蛍光体パネル用の基板とすることができる。
【００１２】
なお、基板支持手段で蒸着用の基板の周縁部をこの基板の下面から支持する態様は、基板の下面のみを支持する場合に限らず、この基板の周縁部をこの基板の表裏両側から狭持して支持するようにしてもよい。ここで、基板の周縁部を、材料力学で言うところの固定端となるように支持することがより好ましい。
【００１３】
前記基板支持手段は、支持領域を基板の側面に投影して得られる投影長の総和が基板の側面の全周の長さの１０パーセント以上となるように、基板を支持するものとすることができる。ここで、支持領域を基板の側面に投影して得られる投影長とは、以下に説明する長さを意味するものである。
【００１４】
すなわち、基板の側面の特定の点からこの基板の内側に向かう（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲の領域中に上記支持領域が存在するときに、この側面の特定の点を有効投影点と称し、この有効投影点が基板の側面に沿って連続する領域を有効投影領域とし、この有効投影領域の基板の側面に沿った長さが上記投影長となる。例えば、図４に示すように、基板１０の側面１３中の各点Ｐから、この基板の内側、かつ上記側面１３で表される基板輪郭の法線方向へ延ばした線状領域Ｅ中の（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる範囲の領域Ｅ１に、支持領域Ｈ（図４中斜線を施した領域）が存在するときに、この点を有効投影点Ｔとし、連続する有効投影点Ｔによって形成される領域が有効投影領域Ｊとなる。そして、基板１０の側面１３中の各有効投影領域Ｊの基板１０の側面に沿った長さが投影長Ｌとなる。
【００１５】
【発明の効果】
本発明者は上記課題に対して、基板を支持する支持領域の範囲に注目し種々検討した結果、支持領域が基板の側面からこの基板の内側に向かって延びる距離が小さくなると、基板の撓み量が増大し、これに伴い蓄積性蛍光体層の基板からの剥離や、蓄積性蛍光体層中のひび割れの発生が多くなるという現象を見出した。そして、上記剥離やひび割れを許容範囲内に抑え、かつ、基板への蒸着を妨げることがない支持領域を定めることができるとの知見を得、すなわち、上記剥離やひび割れの発生を許容範囲内に抑えるのに必要な上記支持領域を延ばすべき最低限の距離、および、基板への蒸着を妨げることなく上記支持領域を延ばすことができる最大限の距離を定めることができるとの知見を得、かかる知見に基づいて本発明に至ったものである。
【００１６】
本発明の基板支持装置によれば、基板の側面からこの基板の内側に向かって５０ｍｍ以下の範囲に延びる支持領域で上記基板を支持するようにしたので、基板への蒸着を妨げることがなく、かつ、基板の側面からこの基板の内側に向かって（１０／Ｔ）ｍｍ以上の範囲に延びる支持領域で上記基板を支持するようにしたので、基板の撓みをより小さく抑えてこの基板を支持することができる。したがって、上記せん断応力や内部応力の発生が抑制されるように基板への蒸着を実施することができる。これにより、上記基板上に形成された蒸着層の基板からの剥離やひび割れを抑制することができる。
【００１７】
また、基板を、弾性率１０ＧＰａ以上、かつ密度６ｇ／ｃｍ３以下の物性を有するものとしたり、基板をガラス製あるいはアルミニウム合金製とすれば、基板の撓みをより確実に小さく抑えることができる。
【００１８】
また、基板支持手段を、上記支持領域を基板の側面に投影して得られる投影長の総和が基板の側面の全周の長さの１０パーセント以上となるように、基板を支持するものとすれば、基板の撓みをさらに小さく抑えることができる。
【００１９】
ここで、蓄積性蛍光体パネル用の基板上には、蒸着によって蓄積性蛍光体層が特に厚く形成されるので、蒸着が施された後、この基板を所定の平板形状に戻したときに基板と蒸着層との間に生じるせん断応力、および蒸着層内に生じる内部応力が特に大きくなる。そのため、基板が蓄積性蛍光体パネル用の基板の場合には、上記基板上に形成された蒸着層の剥離やひび割れを抑制する顕著な効果を期待することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。図１は本発明の実施の形態による基板支持装置の概略構成を示す図であり、図１（ａ）は側面断面図、図１（ｂ）は底面図である。図２は基板支持装置に基板等を配置する順序を示す側面図、図３は基板支持装置に基板等を配置する順序を示す斜視図、図４は支持領域を基板の側面に投影して得られる投影長を示す図、図５は投影長の総和および基板の全周の長さを示す図、図６は支持領域が三角形状となった場合の有効投影領域および投影長を示す図、図７は蒸着装置内に配置された基板支持装置を示す図、図８は蒸着層の品質検討に使用される基板とこの基板が支持される支持領域を示す図、図９は基板を支持する他の態様を示す側面図である。
【００２１】
図１（ａ）、および図１（ｂ）に示すように（図１（ａ）は図１（ｂ）の１ａ−１ａ断面を示す）、本発明の第１の実施の形態による蒸着装置に配設して使用される基板支持装置１００は、蒸着用の基板１０の周縁部をこの基板１０の下面から支持する基板支持手段２０を備えている。基板支持手段２０は、基板１０の側面からこの基板１０の内側に向かって（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる支持領域Ｈで、すなわち、支持領域Ｈが延びる先端が（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に存在するようにして、基板１０を支持するものである。ただし、Ｔは基板の厚さである。なお、図１の側面図における基板支持手段２０の断面は、図１の底面図の９−９線による断面を示すものである。
【００２２】
基板１０は、蓄積性蛍光体が蒸着される蓄積性蛍光体パネル用の基板であり、ガラス製あるいはアルミニウム合金製で、厚さ２ｍｍ、弾性率１０ＧＰａ以上、密度６ｇ／ｃｍ３以下の物性を有するものである。
【００２３】
上記基板支持装置１００は、基板１０の下面１１を支持する基板支持手段２０と、基板１０の上面１２を上から押圧するために基板１０上に配置される平行平板からなる上面押圧板３０と、基板支持手段２０を支持する一対の側板４６を有する基台４０と、上面押圧板３０を基板支持手段２０に向けて押圧する力を付与する押圧手段５０とを備えている。
【００２４】
基板支持手段２０は、開口部２２を有し、一対の側板４６に上面２９を介して接続された外枠部２３と、基板１０の下面１１の周縁部の支持領域Ｈを支持する、外枠部２３から延びる下面支持部２６とからなる。また、この外枠部２３は、開口部２２の内周に、基板１０の側面１３を嵌合させる第１の内側面２４および上面押圧板３０の側面３１を嵌合させる第２の内側面２５を有している。下面支持部２６は、第１の内側面２４の下側の開口部２２の内周の全周に亘って外枠部２３から開口部２２内に向けて概略等間隔で短冊状に延びる多数の支持片２７からなる。
【００２５】
基台４０は、台座４５と、この台座４５の下面４１に互いに水平方向に対向して配設され、それぞれ基板支持手段２０の外枠部２３の上面２９に接続される上記側板４６とを備えている。なお、この基板支持手段２０は基台４０の上面４２を介して蒸着装置内に固定されるものである。
【００２６】
押圧手段５０は、上面押圧板３０を下方に向けて（基板支持手段２０の下面支持部２６に向けて）押圧する押圧板５１と、一端が押圧板５１の上面に支持され、他端が台座４５の下面４１に支持されて、押圧板５１を介して上面押圧板３０を押圧する力を発生するバネ５２とを備えている。
【００２７】
基板１０を、この基板支持装置１００に配置するときには（図２および図３参照）、バネ５２の押圧力に抗して押圧板５１を上昇させ、基板支持手段２０の第１の内側面２４に基板１０の側面１３を勘合させてこの基板１０を下面支持部２６上に配置し、次に、基板支持手段２０の第２の内側面２５に上面押圧板３０の側面３１を嵌合させてこの上面押圧板３０を基板１０の上に配置する。さらに、押圧板５１を介したバネ５２の押圧力で上面押圧板３０を押圧し、基板１０を下面支持部２６と上面押圧板３０との間に挟み込んで、基板１０を基板支持装置１００へ配置する。これにより、基板１０中の下面支持部２６と上面押圧板３０との間に挟み込まれて上下から所定の力で狭持された部分が材料力学で言うところの固定端となってこの基板１０が支持される。
【００２８】
なお、下面支持部２６を形成している支持片２７が、基板１０の側面からこの基板１０の内側に向かって（１０／Ｔ）ｍｍ＝５ｍｍ（ここでＴ＝２ｍｍ）以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる支持領域Ｈで基板１０を支持し、支持領域Ｈを基板１０の側面に投影して得られる投影長の総和がこの基板１０の側面１３の全周の長さの１０パーセント以上となっている。
【００２９】
以下、基板支持手段２０による基板１０の支持について詳しく説明する。
【００３０】
図４に示すように、基板１０の側面１３中の各点Ｐから、上記側面１３で示される基板の輪郭の法線方向に、かつ、この基板の内側に向けて延ばした線状領域Ｅ中の、側面１３から５ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲の領域Ｅ１中に、上記支持領域Ｈが存在するときに、この点を有効投影点Ｐ（Ｔ）とし、領域Ｅ１中に上記支持領域Ｈが存在しないときに、この点を無効投影点Ｐ（Ｆ）とする。さらに、連続する有効投影点Ｐ（Ｔ）によって形成される領域を有効投影領域Ｊとする。そして、基板１０の側面１３中の各有効投影領域Ｊの基板１０の側面に沿った長さがそれぞれ投影長Ｌとなる。
【００３１】
すなわち、図５に示すように、基板１０の側面１３中の各有効投影領域Ｊ１、Ｊ２、Ｊ３、…、それぞれの投影長がＬ１、Ｌ２、Ｌ３、…となり、基板１０の４辺の長さがそれぞれＫ１、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ４であるので、投影長の総和ＬＬ＝Ｌ１＋Ｌ２＋Ｌ３＋…、基板の全周の長さＫＫ＝Ｋ１＋Ｋ２＋Ｋ３＋Ｋ４となり、投影長の総和ＬＬ≧（１／１０）×基板の全周の長さＫＫとなっている。
【００３２】
なお、支持領域は、例えば、上記支持片を三角形状とすることにより、図６に示すようにな三角形状の支持領域Ｈ′とすることもでき、このような場合においても有効投影領域Ｊ′および投影長をＬ′を上記と同様に設定することができ、投影長の総和≧（１／１０）×基板の全周の長さとなるように支持領域Ｈ′を設定すればよい。
【００３３】
基板１０の取り付けが完了した基板支持手段２０を蒸着装置９０に配設した後、図７に示すように、蒸着装置９０内の蒸着材料載置台９１に配置された蒸着材料９２を加熱して蒸発させ、この蒸発された蒸着材料の蒸発成分を基板１０の下面１１に蒸着して、この基板１０の下面１１に蓄積性蛍光体層９５が形成される。
【００３４】
以下、基板を支持する支持領域の数を変更し、支持領域の数の変更毎に実施された蒸着によって基板上に形成された蓄積性蛍光体層の品質を比較検討した結果を示す。なお、基板としては、弾性率１０ＧＰａ以上、かつ密度６ｇ／ｃｍ３以下の物性を有するガラス製の基板を使用した。
【００３５】
図８に示すように、基板の寸法を４４０ｍｍ（図中Ｍ１、Ｍ３の寸法）×４１０ｍｍ（図中Ｍ２、Ｍ４の寸法）×２ｍｍ（厚さ）とし、各支持領域を同一寸法の長方形状とし、すなわち、投影長Ｒ＝１０ｍｍ、基板の側面で示される基板の輪郭からこの基板輪郭に対する法線方向に、かつ、この基板の内側に向かって各支持領域が伸びる長さである支持深さＤ＝６ｍｍとし、基板を支持する支持領域Ｈの数を１６、２０、２４と変えて、すなわち、各１辺（Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ４）当りの支持領域の数を４、５、６と変えて）、支持領域の数の変更毎に基板上に蒸着を行なって蓄積性蛍光体層を形成した。ここで、支持深さＤ＝６ｍｍは、上記予め定められている、（１０／Ｔ）ｍｍ＝５ｍｍ（ここでＴ＝２ｍｍ）以上、５０ｍｍ以下とする支持領域の範囲の条件を満足している。
【００３６】
ここで、
基板の全周の長さＭＭ＝２×４４０（ｍｍ）＋２×４１０（ｍｍ）＝１７００ｍｍ
であり、
一辺当りの支持領域の数が４の場合の投影長の総和ＲＲ＝４×１０（ｍｍ）×４（辺）＝１６０ｍｍ
一辺当りの支持領域の数が５の場合の投影長の総和ＲＲ＝５×１０（ｍｍ）×４（辺）＝２００ｍｍ
一辺当りの支持領域の数が６の場合の投影長の総和ＲＲ＝６×１０（ｍｍ）×４（辺）＝２４０ｍｍ
であるので、
投影長の総和ＲＲ／基板の全周の長さＭＭを支持比率Ｚとすると、
一辺当りの支持領域の数が４の場合の支持比率Ｚ＝１６０ｍｍ／１７００ｍｍ＝９．４１％
一辺当りの支持領域の数が５の場合の支持比率Ｚ＝２００ｍｍ／１７００ｍｍ＝１１．７６％
一辺当りの支持領域の数が６の場合の支持比率Ｚ＝２４０ｍｍ／１７００ｍｍ＝１４．１１％
となる。
【００３７】
上記条件で基板を支持して蒸着が施された基板上の蓄積性蛍光体層を品質検査した結果を以下に示す。品質検査の項目は、蓄積性蛍光体層の基板からの剥離と、蓄積性蛍光体層のひび割れの発生である。
【００３８】
【表１】
2004059976.tif 000003
表１からわかるように、支持比率が１０％以上であれば蓄積性蛍光体層の品質に問題が生じないことがわかる。
【００３９】
なお、基板支持手段には必ずしも上面押圧板と押圧手段とを備える必要はなく、図９に示すように、基板支持手段２０のみで基板１０を支持するようにしてもよい。
【００４０】
また、基板は、必ずしも蓄積性蛍光体が蒸着される基板でなくてもよい。さらに、この基板は材質、物性（例えば弾性率、密度）および寸法等の制約を受けることなく蒸着用の基板であればどのような基板を用いてもよい。
【００４１】
また、基板支持手段が、必ずしも上記投影長の総和が基板の側面の全周の長さの１０パーセント以上となるように、この基板を支持する必要はない。
【００４２】
また、上記「基板の側面から該基板の内側に向かって（１０／Ｔ）ｍｍ以上、５０ｍｍ以下の範囲に延びる支持領域で基板を支持する」という条件を満足すれば、支持領域の形状は長方形や三角形に限らずどのような形状であってもよく、さらに、支持領域は基板の周縁に均等に配置される必要もない。例えば、四角形状の基板の対向する２辺のそれぞれの側の周縁にのみ支持領域が配置されるようにしてもよい。
【００４３】
なお、基板支持手段２０の下面支持部２６の短冊状の支持片２７の替わりに、図１０（図１０（ａ）は側面図、図１０（ｂ）は底面図）に示すように、第１の内側面２４の下側の開口部２２の内周の全周に亘って外枠部２３から開口部２２内に向けて凹凸なく均一に延びるように支持片２７′を形成し、この支持片２７′で基板１０の周縁の全周を隙間なく支持するようにしてもよい。
【００４４】
さらに、図１１の側面図に示すように、基板支持手段２０の下面支持部２６の支持片２７′上に基板１０と上面押圧板３０とをこの順に載置し、中央に開口部４９を有する台座４５′に、上記基板１０と上面押圧板３０とが載置された基板支持手段２０をネジ７１を使用して直接ネジ止めすることにより、基板１０を上面押圧板３０と支持片２７′との間に狭持するようにしてもよい。
【００４５】
また、図１２の側面図に示すように、台座４５′の下面の対向する位置に紙面に垂直方向に延びる一対のアングル部材７２、７３を配置し、基板支持手段２０の下面支持部２６の支持片２７′上に基板１０と上面押圧板３０とをこの順に載置して構成される基板ユニット７５を、上記台座４５′と一対のアングル部材７２、７３とで囲まれる空間に、紙面に垂直な方向からにスライドさせて挿入しこの基板１０を所定の態様で配置するようにしてもよい。
【００４６】
なお、上記図１１および図１２で示される態様においては、上面押圧板３０が必ずしも必要ではなく、この上面押圧板を取り除いた態様とすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による基板支持装置の概略構成を示す側面断面図および底面図
【図２】基板支持装置に基板を配置する順序を示す側面図
【図３】基板支持装置に基板を配置する順序を示す斜視図
【図４】支持領域を基板の側面に投影して得られる投影長を示す図
【図５】投影長の総和および基板の全周の長さを示す図
【図６】支持領域が三角形状となった場合の有効投影領域および投影長を示す図
【図７】蒸着装置内に配置された基板支持装置を示す図
【図８】蒸着層の品質検討に使用される基板とこの基板が支持される支持領域を示す図
【図９】基板を支持する他の態様を示す側面図
【図１０】外枠部から開口部に向けて凹凸なく均一に延びるように形成した支持片を示す側面図および底面図
【図１１】台座に基板支持手段２０をネジ止めして基板１０を上面押圧板と支持片との間に狭持する態様を示す側面図
【図１２】台座と一対のアングル部材とで囲まれる空間に基板を載置した基板支持手段を配置するように構成した態様を示す側面図
【符号の説明】
１０　　基板
２０　　基板支持手段
３０　　上面押圧板
４０　　基台
５０　　押圧手段
１００　　基板支持装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2004059976.tif 000011
【図９】
2004059976.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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