(57)【要約】【課題】人間の眼の網膜の感度に合わせた分光透過率を有する赤外カットフィルタを提供する。【解決手段】誘電体多層膜で構成され、人間の網膜の感度が最も良い５５０ｎｍ近傍の５００〜６００ｎｍの波長領域で９０％以上の平均透過率、半値が６００〜７００ｎｍ、カットすべき近赤外領域の７５０〜１０００ｎｍの波長領域で１０％以下の平均透過率、透過率が９０％から１０％へ減少するときの波長幅が４０ｎｍ以上の分光透過率を備える赤外カットフィルタとする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体多層膜で構成され、５００〜６００ｎｍの波長領域で９０％以上の平均透過率、半値が６００〜７００ｎｍ、７５０〜１０００ｎｍの波長領域で１０％以下の平均透過率、透過率が９０％から１０％へ減少するときの波長幅が４０ｎｍ以上の分光透過率を備えることを特徴とする赤外カットフィルタ。
【請求項２】
請求項１記載の赤外カットフィルタを光透過性基材の少なくとも一部の面に有することを特徴とする光学製品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、赤外線をカットし、可視光を透過する赤外カットフィルタ及びその赤外カットフィルタを有する光学製品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ビデオカメラやデジタルカメラ等の撮像素子として、ＣＣＤ（Charge CoupledDevice、電荷結合素子）が多く用いられている。ＣＣＤは比較的広い波長の光に感度があり、可視光領域のみならず近赤外領域（７５０〜２５００ｎｍ）の光にも感度が良好である。しかし、通常のカメラの用途では、人間の眼に見えない赤外領域は不要であり、近赤外線が撮像素子に入射すると解像度の低下や画像のムラなどの不都合を引き起こす。そのため、ビデオカメラ等の光学系には色ガラスなどの赤外カットフィルタが挿入され、入射する光の中の近赤外線をカットするようになっている。
【０００３】
ところで、近年のカメラの小型化の要請から、光学系を小型化することが求められている。色ガラスの赤外カットフィルタは独立した部品であり、それだけ光学系の小型化の妨げになっている。そのため、特許文献１では、誘電体多層膜で構成される赤外カットフィルタをレンズやローパスフィルタと一体化し、部品としての赤外線カットフィルタを廃止して光学系の小型化を図ることが提案されている。
【０００４】
従来の誘電体多層膜で構成される赤外カットフィルタは、有害な近赤外線をほぼ完全にカットすると共に、できる限り可視光領域（約４００〜７５０ｎｍ）の光を透過できるように、透過波長域から不透過波長域へ変化する傾斜が急峻な分光透過率を備えるものが望まれていた。
【０００５】
【特許文献１】
特開平５−２０７３５０号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、赤外カットフィルタを用いて近赤外線をカットして可視光領域の光のみを通すようにしても、人間の眼の網膜は５５０ｎｍ付近が一番感度が良く、ＣＣＤの感度とは一致していない。そのため、ＣＣＤを用いるカメラでは、ＣＣＤで受光した画像の電気信号の分光分布を人間の眼の感度に近い分光分布に変換する画像処理を行っている。この画像処理がカメラのコスト高を招くと共に、画像処理速度が低下する原因となっている。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、人間の眼の網膜の感度に合わせた分光透過率を有する赤外カットフィルタを提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明は、この赤外カットフィルタを有する光学製品を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、誘電体多層膜で構成される赤外カットフィルタの設計を見直し、透過波長域から不透過波長域への変化を示す半値を赤外領域に近接した可視光領域の６００〜７００ｎｍの範囲とすると共に、透過波長域から不透過波長域へ変化する傾斜を緩やかな分光透過率とすることにより、有害な近赤外線をカットする機能はそのままで可視光領域で人間の眼の網膜の感度に近い分光透過率を赤外カットフィルタに与えることができることを見い出した。
【００１０】
従って、請求項１記載の発明は、誘電体多層膜で構成され、５００〜６００ｎｍの波長領域で９０％以上の平均透過率、半値が６００〜７００ｎｍ、７５０〜１０００ｎｍの波長領域で１０％以下の平均透過率、透過率が９０％から１０％へ減少するときの波長幅が４０ｎｍ以上の分光透過率を備えることを特徴とする赤外カットフィルタを提供する。
【００１１】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の赤外カットフィルタを光透過性基材の少なくとも一部の面に有することを特徴とする光学製品を提供する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の赤外カットフィルタ及び光学製品の実施の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。
【００１３】
本発明の赤外カットフィルタは、赤外領域の光を反射し、可視光領域の光を透過する赤外線遮断誘電体多層膜であり、透過波長域から不透過波長域への変化を示す半値が赤外領域に近接した可視光領域の６００〜７００ｎｍの範囲であり、透過波長域から不透過波長域へ変化する傾斜を緩やかにした分光透過率を備える。
【００１４】
具体的には、本発明の赤外カットフィルタの分光透過率は、人間の網膜の感度が最も良い５５０ｎｍ近傍の５００〜６００ｎｍの波長領域で９０％以上、好ましくは９５％以上の平均透過率、半値が６００〜７００ｎｍ、好ましくは６２０〜６８０ｎｍの範囲、カットすべき近赤外線領域である７５０〜１０００ｎｍの波長領域で１０％以下、好ましくは５％以下の平均透過率を有する。なお、半値とは、最大透過率の半分の透過率のところの波長である。
【００１５】
図１に本発明の赤外カットフィルタと従来の赤外カットフィルタの分光透過率を比較して示す。実線Ａは本発明の赤外カットフィルタの分光透過率の一例、破線Ｂは従来の赤外カットフィルタの分光透過率の一例を示す。
【００１６】
本発明の赤外カットフィルタの分光透過率Ａと従来の赤外カットフィルタの分光透過率Ｂは、４００〜６００ｎｍの可視光領域ではほぼ９５％以上の透過率を示し、半値がほぼ６５０ｎｍで、７５０〜１０００ｎｍの赤外領域ではほとんど遮断できる共通点を有する。
【００１７】
しかし、本発明の赤外カットフィルタの分光透過率Ａは、６５０ｎｍ近傍の立ち下がり特性が従来のものより傾斜が緩くなっている。具体的には、透過率が９０％から１０％へ減少するときの波長幅が４０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以上、最も好ましくは６０ｎｍ以上の緩やかな傾斜の立ち下がり特性を備える。
【００１８】
破線Ｂで示す従来の赤外カットフィルタの立ち下がり特性は、透過率が９０％から１０％へ減少するときの波長幅が約１０ｎｍであり、急峻である。
【００１９】
本発明の赤外カットフィルタは、半値近傍における透過波長域から不透過波長域へ変化する立ち下がり特性を緩くしたもので、可視光の長波長側を弱くして、実際の眼の感度を示す視感スペクトル感度に近い分光透過率を有する。そのため、本発明の赤外カットフィルタは、ＣＣＤ等の近赤外線にも感度を有する撮像素子を用いるビデオカメラやデジタルカメラの光学系に挿入し、撮像素子に入射する光線から近赤外線をカットすると共に、可視光の長波長側を弱くして、実際の眼の感度を示す視感スペクトル感度に近い光線を撮像素子に入射させる用途に用いることが好適である。これにより、従来の赤外カットフィルタに変えて本発明の赤外カットフィルタを用いるだけでＣＣＤ等で受光した画像信号の分光分布を人間の眼の感度に近い分光分布に変換することを行っている画像処理を簡略化でき、低コストとすることができると共に画像処理速度を高速化することができる。
【００２０】
図１に示す分光透過率では、可視光領域の長波長側の立ち下がり特性を緩やかにし、短波長側は４００ｎｍ以下の紫外線領域をカットできるように３５０〜４００ｎｍの波長範囲で急峻な立ち上がり特性となっているが、更に眼の網膜に近い分光透過率にするために、４００〜５００ｎｍの短波長側を緩やかな立ち上がり特性としても良い。
【００２１】
本発明の誘電体多層膜で構成される赤外カットフィルタは、ビデオカメラやデジタルカメラ等の光学系を構成する部品等の光透過性基材に設けて光学製品として用いることができる。例えば、図２（ａ）に示すように、赤外線をカットする独立した部品としての光学フィルタとして用いることができる。この光学フィルタ１０は、ガラス板やプラスチック板等の光透過性基板１０１の一面側に本発明の赤外カットフィルタ１が設けられ、光透過性基板１０１の反対面には反射防止膜２が設けられている。
【００２２】
また、図２（ｂ）に示すように、光学レンズに用いて赤外カットフィルタ付レンズとして用いることができる。この赤外カットフィルタ付レンズ１１は、平凸レンズ１０２の平坦か平坦に近い光学面に本発明の赤外カットフィルタ１が設けられ、レンズ１０２の他面側の曲率の大きな光学面には反射防止膜２が設けられている構造を有する。この赤外カットフィルタ付光学レンズ１１は、レンズ１０２の光線束を収束又は発散させる機能に赤外カットの機能が付加されたものである。
【００２３】
図２（ｂ）に示す赤外カットフィルタ付レンズ１１は、平面か平面に近い屈折表面に赤外カットフィルタ１を設けている。赤外カットフィルタ１は層間の多重干渉を利用してフィルタ作用を行うため、入射角依存性が大きく、入射角が大きくなると赤外線遮断効率が悪くなる。斜光線が入射したときに、凸面であれば、凸面の法線に対する光線の入射角は凸面の部位によって極めて大きくなり、極端には接線に近くなる場合もある。ところが、斜光線が入射したときに、平面であれば、入射角は部位によらず一定である。そのため、平面か平面に近い屈折表面に赤外カットフィルタ１を設けることにより、赤外カットフィルタ１の入射角依存性を最小限にすることができる。
【００２４】
また、曲率の大きな曲面に対しては赤外カットフィルタ１の均一な成膜は一般に困難である。図２（ｂ）に示す赤外カットフィルタ付レンズ１１では、平面か平面に近い光学面に赤外カットフィルタ１を設けているため、特性に優れた赤外カットフィルタ１を形成することができる。
【００２５】
なお、平凸レンズは両凸レンズと比較して集光力が劣るので、集光力を高めるために、凸面の屈折表面を非球面とすることが好ましい。また、凹レンズでも同様に赤外カットフィルタ付レンズとすることができる。
【００２６】
また、本発明の赤外カットフィルタは、図２（ｃ）に示すように、ローパスフィルタに用いて赤外カットフィルタ付ローパスフィルタとして用いることができる。ローパスフィルタは、光学像の空間周波数の高域成分を抑制して撮像素子にモアレが発生することを抑制する機能を有する。この赤外カットフィルタ付ローパスフィルタ１２は、ローパスフィルタ１０３の一面側に本発明の赤外カットフィルタ１が設けられ、他面側に反射防止膜２が設けられている。ローパスフィルタ１０３は、例えば水晶板の単板又は単板を２枚若しくは３枚組み合わせたものや、図２（ｃ）に示すような２枚の水晶板１０５，１０６の間に１／４波長板１０７を挟んだ構造のものなどがある。１／４波長板としては、例えば一軸延伸したプラスチックフィルムが用いられる。赤外カットフィルタ付ローパスフィルタ１２は、光学像の空間周波数の高域成分を抑制する機能に赤外カットの機能が付加されたものである。
【００２７】
本発明の赤外カットフィルタは、ＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5等の高屈折率の誘電体からなる高屈折率層とＳｉＯ2、ＭｇＦ2等の低屈折率の誘電体層からなる低屈折率層が交互に数層から数十層積層されている構造を有する。
【００２８】
膜厚の基本的な設計として、高屈折率層と低屈折率層とが交互にそれぞれ同じ光学的膜厚で繰り返し積層された繰り返し交互層を有するのが一般的である。繰り返し交互層は、（１Ｈ、１Ｌ）Ｓのように表される。ここで、カットしたい波長の中心近くの波長を設計波長λとして、高屈折率層（Ｈ）の膜厚を光学的膜厚ｎｄ＝１／４λの値を１Ｈとして表記し、低屈折率層（Ｌ）を同様に１Ｌとする。Ｓはスタック数と呼ばれる繰り返しの回数で、括弧内の構成を周期的に繰り返すことを表している。この繰り返し交互層によって、カットされる特定の波長が決定される。Ｓの値が大きくなると吸収−透過へ変化する立ち下がり特性（急峻さ）が急になるため、本発明の赤外カットフィルタにおいては、立ち下がり特性を緩やかにするため、Ｓの値としては２から７程度の範囲から選定され、また、通常の基本設計の繰り返し交互層を少しずつ厚さを変えて積層することが好ましい。
【００２９】
透過帯域の透過率を高くし、リップルと呼ばれる光透過率の凹凸をフラットな特性にするためには、繰り返し交互層の基板近くと、媒質近くの数層ずつの膜厚を変化させて最適設計を行う。そのため、基板｜０．５Ｌ、１Ｈ・・・ＨＬ（ＨＬ）ｓＨＬ・・・Ｈ、０．５Ｌのように表記される。また、高屈折率層にＴｉＯ2などを使う場合、最外層を高屈折率層で終わらせるよりも、より耐環境特性にすぐれたＳｉＯ2を最外層に追加して設計を行うことが多い。基板に接する層もＴｉＯ2が基板と反応して特性が劣化することがあるので、化学的に安定なＳｉＯ2を第１層に追加することもある。このような多層膜カットフィルタの設計は市販のソフトウエアを用いて理論的に行うことができる（参考文献：ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ誌  １９９９  Ｎｏ．５  ｐ．１７５−１９０）。
【００３０】
本発明の赤外カットフィルタの具体的な構造を示すと、低屈折率層としてＳｉＯ2（ｎ＝１．４６）、高屈折率層としてＴａ2Ｏ5（ｎ＝２．１）を選定し、設計波長λを７５５ｎｍとした場合、次のような４０層の積層構造を例示することができる。
【００３１】
１．１７Ｈ、１．１３Ｌ、（０．９５Ｈ、０．９９Ｌ）４、（１．０５Ｈ、１．１Ｌ）４、（１．１８Ｈ、１．２２Ｌ）２、（１．２５Ｈ、１．２８Ｌ）３、（１．３３Ｈ、１．３４Ｌ）５、１．１６Ｈ、０．５９Ｌ。
【００３２】
高屈折率層と低屈折率層とを交互に基板上に成膜するには、物理的成膜法が一般的であり、通常の真空蒸着法でも可能であるが、膜の屈折率の安定した制御が可能で、保管・仕様環境変化による分光特性の経時変化が少ない膜を作成できるイオンアシスト蒸着やイオンプレーティング法、スパッタリング法が望ましい。
【００３３】
真空蒸着法は、高真空中で薄膜材料を加熱蒸発させ、この蒸発粒子を基板上に堆積させて薄膜を形成する方法である。イオンアシスト蒸着は、真空蒸着装置の中にイオンビーム発生装置とニュートライザーを備え、薄膜材料を気化させ、イオンビーム発生装置で不活性ガス又は酸素ガスをイオン化及び加速してイオンビームを基板に向けて出射すると共にニュートライザーでイオンビームを無帯電気体化しながら気化した薄膜材料を加速したり、基板上に付着した薄膜材料を撹拌（ミキシング）することにより活性化して蒸着させる方法である。イオンプレーティング法は、蒸着粒子をイオン化し、電界により加速して基板に付着させたり、ガスイオンで基板上を活性化させながら成膜する方法であり、ＡＰＳ（Advanced Plasma Source）、ＥＢＥＰ（Electron Beam Excited Plasma）法、ＲＦ（Radio Frequency）直接基板印加法（成膜室内に高周波ガスプラズマを発生させた状態で反応性の真空蒸着を行う方法）などの方式がある。スパッタリング法は、電界により加速したイオンを薄膜材料に衝突させて薄膜材料を叩き出すスパッタリングにより薄膜材料を蒸発させ、蒸発粒子を基板上に堆積させる薄膜形成方法である。成膜される層の屈折率等の光学定数は、成膜方法、成膜条件等で異なってくるので、製造前に成膜される層の光学定数を正確に測定する必要がある。
【００３４】
成膜の対象となる光透過性基材が、ガラスのように耐熱性が良好な素材とプラスチックのように耐熱性が低い素材とでは、成膜方法が異なる。
【００３５】
ガラス基板への真空蒸着では内部に設置された加熱用のヒーターで、積極的に基板を２００℃〜３００℃に加熱することが広く行われている。基板温度を上げると基板上で活性な状態で蒸着膜が形成されるため、膜の酸化を促進する効果や、緻密で耐環境性に優れた膜をつくることができる。
【００３６】
ところが樹脂部品へ直接成膜する場合、殆どの樹脂の耐熱温度は１００℃台であるため、成膜温度について１００℃程度を上限に押さえる必要がある。成膜面はガラスであっても裏面や内部に樹脂が貼り合わされているローパスフィルタのような場合はもう少し高温での成膜が可能となるが、それでも１５０℃程度が上限となる低温成膜を行う。
【００３７】
低温成膜では、成膜時にイオンビームアシスト蒸着やイオンプレーティングを行うことで結晶が緻密で耐環境性に優れた膜を成膜することができる。材料によっては基板を加熱しない場合でも通常の蒸着（低温での）より優れた膜の強度や光学特性が得られるため、いずれかの方法を必要に応じて採用する。実際にＴａ2Ｏ5，ＴｉＯ2については、低温での蒸着では膜が酸素不足状態となり光の吸収が生じてしまう問題があるので、酸素ガスによるイオンビームアシスト蒸着やイオンプレーティングを行うことが好ましい。低温成膜では、イオンビーム照射やプラズマにより基板の温度上昇が生じるため、必要最小限のパワーで済ませることが好ましい。
【００３８】
Ｔａ2Ｏ5，ＴｉＯ2のイオンビームアシスト条件に関しては、酸素ガスをチャンバに導入して１×１０-3Ｐａ程度の真空度として、イオン電流密度２０μＡ／ｃｍ2以下、加速電圧３００Ｖ以下にする。通常の条件は、３０μＡ／ｃｍ2以上、加速電圧も５００Ｖ以上に設定する。
【００３９】
同じくイオンプレーティングに関しては酸素ガスを使ったＲＦプラズマ方式において、１ＫＷ以下のＲＦ出力とすることが好ましい。通常の条件では数ＫＷかける。
【００４０】
１×１０-3Ｐａ程度の真空度で０．５〜０．７５ＫＷのＲＦ印加をすると膜の強度が実用上問題なく、吸収も少ない膜が得られる。成膜速度に関しては急速に成膜することにより、プラズマやイオンビームの作用が薄れて吸収が生じたりしないように０．１ｎｍ／ｓ〜０．５ｎｍ／ｓの範囲で調節することが好ましい。
【００４１】
蒸着時に、蒸発源からの輻射熱によって表面温度が上昇する問題もある。蒸発源と成膜面の距離を離すのが好ましい。
【００４２】
一方、ＳｉＯ2に関しては、プラスチック眼鏡レンズの蒸着に古くから使われているように、１００℃以下の低温での通常蒸着でも実用上十分な膜強度と光学特性が得られるため通常の蒸着で成膜できる。
【００４３】
なお、多層膜の熱応力と膜の応力は殆どの場合、膜が圧縮された圧縮応力であり、膜面凸となるそりが発生する。１００℃以下の低温で成膜することで熱応力を減らすことができる。
【００４４】
本発明の赤外カットフィルタと共に形成される反射防止膜は、無機被膜、有機被膜の単層または多層で構成される。無機被膜と有機被膜との多層構造であってもよい。無機被膜の材質としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3等の無機物が挙げられ、これらを単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。また、多層膜構成とした場合は、最外層はＳｉＯ2とすることが好ましい。
【００４５】
無機被膜の多層膜としては、基材側からＺｒＯ2層とＳｉＯ2層の合計光学膜厚がλ／４，ＺｒＯ2層の光学的膜厚がλ／４、最上層のＳｉＯ2層の光学的膜厚がλ／４の４層構造を例示することができる。ここで、λは設計波長であり、通常５２０ｎｍが用いられる。
【００４６】
無機被膜の成膜方法は、例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、飽和溶液中での化学反応により析出させる方法等を採用することができる。
【００４７】
有機被膜の材質は、例えばＦＦＰ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ（エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体）等を挙げることができ、基材の屈折率を考慮して選定される。成膜方法は、真空蒸着法の他、スピンコート法、ディップコート法などの量産性に優れた塗装方法で成膜することができる。
【００４８】
【実施例】
＜実施例＞
光透過性基板材料はＢＫ７（ｎ＝１．５２の白板ガラス）を用いた。使用する膜の材料は、高屈折率層（Ｈ）がＴａ2Ｏ5、低屈折率層（Ｌ）がＳｉＯ2、成膜方法はＲＦイオンプレーティング装置（昭和真空（株）製）を用いた。
【００４９】
膜厚構成は、λ＝７５５ｎｍ、基板側から１．１７Ｈ、１．１３Ｌ、１．０１Ｈ、１．０５Ｌ、（０．９５Ｈ、０．９９Ｌ）４、１．０２Ｈ、１．１１Ｌ、１．１１Ｈ、１．１２Ｌ、１．０４Ｈ、１．０５Ｌ、１．０３Ｈ、１．１２Ｌ、（１．１８Ｈ、１．２２Ｌ）２、（１．２５Ｈ、１．２８Ｌ）２、１．２９Ｈ、（１．３４Ｌ、１．３３Ｈ）３、１．３３Ｌ、１．２８Ｈ、１．２４Ｌ、１．１６Ｈ、０．５９Ｌの４０層とした。
【００５０】
得られた赤外カットフィルタの分光透過率は、図１の実線Ａで示される。
＜比較例＞
光透過性基板材料はＢＫ７（ｎ＝１．５２の白板ガラス）を用いた。使用する膜の材料は、高屈折率層（Ｈ）がＴａ2Ｏ5、低屈折率層（Ｌ）がＳｉＯ2、成膜方法はＲＦイオンプレーティング装置（昭和真空（株）製）を用いた。
【００５１】
膜厚構成は、λ＝７５５ｎｍ、基板側から１．１４１Ｈ、１．０８８Ｌ、１．０３Ｈ、１．０１Ｌ、（０．９９４Ｈ、０．９９４Ｌ）６、１．０２４Ｈ、１．０７７Ｌ、１．３０９Ｈ、０．１７５Ｌ、１．３６８Ｈ、１．２４１Ｌ、１．２７３Ｈ、１．２７７Ｌ、（１．２７５Ｈ、１．２７６Ｌ）６、１．２５７Ｈ、１．２７８Ｌ、１．２５４Ｈ、０．６２６Ｌの４０層とした。
【００５２】
得られた赤外カットフィルタの分光透過率は、図１の破線Ｂで示される。
【００５３】
【発明の効果】
本発明の赤外カットフィルタは、赤外線をカットできると共に、可視光領域では人間の眼の網膜の感度に合わせた分光透過率を有する。
【００５４】
また、本発明の光学製品は、赤外線をカットできると共に、可視光領域では人間の眼の網膜の感度に合わせた分光透過率の赤外カットフィルタを有するため、撮像素子に結像するための光学系に用いて、画像処理の負荷を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の赤外カットフィルタと従来の赤外カットフィルタの分光透過率の一例を示すグラフである。
【図２】本発明の赤外カットフィルタを種々の光透過性基材に設けた例を示すもので、（ａ）は光透過性基板に、（ｂ）は光学レンズに、（ｃ）はローパスフィルタに赤外カットフィルタを設けた例を示す。
【符号の説明】
１：赤外カットフィルタ
２：反射防止膜
１０：光学フィルタ
１１：光学レンズ
１２：ローパスフィルタ
【図１】
2004163869.tif 000003
【図２】
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