(57)【要約】【課題】研磨ローラ−に研磨テープを巻回させた研磨機を用いてａ−Ｓｉ感光体の表面を研磨する際に、研磨むらを抑制し、安定して高品位の画像を実現する感光体を製造する。【解決手段】原子間力顕微鏡による１０μｍ×１０μｍの視野で測定される算術平均粗さを（Ｒａ）とし、少なくとも２本の研磨ローラ−に巻回させた連続の研摩テープを加圧当接させながら給送し、該感光体の最表面を算術平均粗さ（Ｒａ）で２５ｎｍ以下に研磨する方法において、該感光体を保持機構により保持回転させ、連続の研磨テープを感光体の表面に少なくとも２本の弾性ローラーにより加圧当接させながら給送し、感光体の最表面を研磨する。【選択図】　図１
2004126217.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子間力顕微鏡による１０μｍ×１０μｍの視野で測定される算術平均粗さをＲａとし、導電性基体上にプラズマ化学気相成長法によりシリコン原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層及び非単結晶材料で構成された表面層を逐次積層させた電子写真用感光体の最表面を該算術平均粗さ（Ｒａ）で２５ｎｍ以下に研磨する方法において、
該感光体を保持機構により保持回転させ、
連続の研磨テープを該感光体の表面に少なくとも２本の弾性ローラーにより加圧当接させながら給送し、該感光体の最表面を研磨する
ことを特徴とする電子写真用感光体の後処理方法。
【請求項２】
前記２本の弾性ローラーの間に中間ローラーを設置することを特徴とする請求項１に記載の電子写真用感光体の後処理方法。
【請求項３】
前記中間ローラーにクリーナー機構を設けたことを特徴とする請求項２に記載の電子写真用感光体の後処理方法。
【請求項４】
導電性基体上にプラズマ化学気相成長法によりシリコン原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層及び非単結晶材料で構成された表面層を逐次積層させた電子写真用感光体の表面を研磨するに際し、
該感光体を保持機構により保持回転させ、
１本の弾性ローラーに巻回させた研磨テープを該感光体の表面に加圧当接させながら給送する研磨処理ユニットを少なくとも２ユニット用い、
該感光体の最表面を研磨する
ことを特徴とする電子写真用感光体の後処理方法。
【請求項５】
前記弾性ローラーの当接圧力が、９．８〜９８０ｋＰａの範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真用感光体の後処理方法。
【請求項６】
導電性基体上にプラズマ化学気相成長法によりシリコン原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層及び非単結晶材料で構成された表面層を逐次積層させた電子写真用感光体を保持機構により保持回転させる手段と、少なくとも２本の弾性ローラーに巻回させた研磨テープを加圧当接させながら給送する手段とを備えることを特徴とする電子写真用感光体の研磨装置。
【請求項７】
前記２本の弾性ローラーの間に中間ローラーが設置されていることを特徴とする請求項６に記載の電子写真用感光体の研磨装置。
【請求項８】
前記中間ローラーがクリーナー機構を有することを特徴とする請求項７に記載の電子写真用感光体の研磨装置。
【請求項９】
導電性基体上にプラズマ化学気相成長法によりシリコン原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層及び非単結晶材料で構成された表面層を逐次積層させた電子写真用感光体を保持機構により保持回転させる手段と、１本の弾性ローラーに巻回させた研磨テープを加圧当接させながら給送する手段が少なくとも２セット備えることを特徴とする電子写真用感光体の研磨装置。
【請求項１０】
前記弾性ローラーの当接圧力が、９．８〜９８０ｋＰａの範囲である請求項６〜９のいずれか１項に記載の電子写真用感光体の研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真用感光体（単に「感光体」とも言う）の最表面の平坦化処理に関し、詳しくは、研磨処理後の感光体による画像欠陥の発生を軽減する処理方法及びその研磨装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アモルファスシリコン系（ａ−Ｓｉとも略記する）感光体が実用化されて１０数年が経過した今日、ａ−Ｓｉ感光体の耐磨耗性、耐熱性、光感度特性、無公害性など優れた性能は、ますます向上してきている。
【０００３】
ａ−Ｓｉ感光体の表面処理としては、感光体表面を研磨テープ等の研磨部材で研磨する方法が知られており、感光体表面を研磨することにより、ゴミや現像剤の融着に起因する画像欠陥を抑制できる。
【０００４】
例えば、特許文献１には、ａ−Ｓｉ感光体の表面に存在する突起状の成膜欠陥を研磨手段により研磨して平坦化した後、コロナ放電を用いて平坦化面を酸化処理する技術が記載されている。
【０００５】
また、特許文献２には、座標測定走査電子顕微鏡と断面測定装置により測定した表面の中心線平均粗さが９０Å以下に平坦化したａ−Ｓｉ電子写真感光体が記載されている。
【０００６】
さらに、特許文献３には、表面に非単結晶シリコン炭素層を有する電子写真感光体の研磨装置が記載されている。
また、社会的要請から地球資源の保全や環境負荷の低減が強く求められ、具体的には機械製品の長寿命化による、廃棄物の低減や二酸化炭層排出量の低減などが求められている。この様な社会的要請のもと、上述の様にａ−Ｓｉ感光体は高い耐久性を有しており、電子写真装置本体の長寿命設計に対応して、ますますそのニーズが高まってきている。
【０００７】
具体的には、従来であれば１００万〜５００万枚程度の複写寿命で満足されていたが、長寿命化の要請により印刷機寿命に比較される様な６００万〜１０００万枚といったレベルの複写寿命が求められている。
【０００８】
この様な要求を満足するためには、部品交換および清掃などのサービスメンテナンスの頻度を最小限度に抑えた状態で、長期にわたり安定で高品質な画質の画像を実現できる感光体が必要である。
【０００９】
【特許文献１】
特開平７−６４３１２号公報
【特許文献２】
特公平７−８９２３１号公報
【特許文献３】
特公平７−７７７０２号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従来、感光体の研磨は、図３に示されるような研磨機によって行われていた。研磨機の構成について説明すると、ａ−Ｓｉ感光体３００は、弾性支持機構３２０で保持され、弾性支持機構３２０は移動ステージ３４０上の移動範囲３４１の所定位置に固定されている。弾性支持機構３２０は具体的には空気圧ホルダーである。研磨ローラー３３０は研磨テープ３３１を巻回して、ａ−Ｓｉ感光体３００に押圧している。一方、研磨テープ３３１は送り出しロール３３２に巻物として保持されており、研磨ローラー３３０を経て、定量送りだしロール３３４とキャプスタンローラ３３５に挟持され、巻き取りロール３３３に至る。
【００１１】
研磨する手順を簡単に説明する。
【００１２】
まず、ａ−Ｓｉ感光体３００を弾性支持機構３２０に取り付け、移動ステージ３４０によって、所定位置に固定される。そして、研磨テープ３３１を巻回させた研磨ローラー３３０を一定速度で回しながら、ａ−Ｓｉ感光体３００を回転させながら押圧させて、研磨を行う。
【００１３】
しかしながら、従来のａ−Ｓｉ感光体の場合、以下の様な不具合が生じることがあった。
【００１４】
第１に、プラズマ化学気相成長法（ＰＣＶＤ法）で製造されたａ−Ｓｉ感光体は、通常数μｍから数十μｍの高さを持つ成膜欠陥突起部があり、このａ−Ｓｉ感光体をそのまま電子写真装置に組み込むと該突起部によるクリーニングブレードなどを損傷し、この損傷部分からトナーのすり抜けが発生し易く、得られる画像に黒スジが生じることがあった。
【００１５】
第２に、成膜欠陥による突起部がない場合も、ａ−Ｓｉ感光体がＰＣＶＤで製造されたままのものでは、クリーニングブレードとの滑りが良すぎるため、ａ−Ｓｉ感光体とクリーニングブレードとの間に浮きが生じ、この部分からトナーのすり抜けが発生し、画像に黒スジが生じることがあった。
【００１６】
この様な第２の不具合は、クリーニングブレードの材質、当接圧力、現像剤の組成などを注意深く設定し、例えば、初期にクリーニングブレード圧を高め、除々に低くしてゆくなどの対応で低減することができる。しかし、上述の様に感光体を長期にわたって使用し、画像の品位を長期間維持するためには、クリーニングブレード圧などを頻繁に調節しなおす必要があるため、メンテナンスが煩雑であり、装置の稼働率を十分向上することができず、部品点数が増加するなどの新たな不具合が発生する。
【００１７】
このようなメンテナンスの煩雑さは、ａ−Ｓｉ感光体の最表面を研磨機によって、最表面を原子間力顕微鏡による１０μｍ×１０μｍの視野で算術平均粗さ（Ｒａ）を２５ｎｍ以下に研摩することで解消可能となり、電子写真装置の内部に配置されているクリーニングブレードから滑りがよすぎるための現像剤のすり抜けがなくなっている。
【００１８】
しかし、ａ−Ｓｉ感光体の表面全体を更に算術平均粗さ（Ｒａ）を２５ｎｍ以下に研磨する場合、弾性ローラーが感光体最表面に均一に当らず、研磨むらを生じるという別の不具合が発生した。
【００１９】
この研磨むらによって、特にハーフトーン画像に画像むらとなってしまうことがある。
【００２０】
以上の様な状況に鑑み、本発明においては、ａ−Ｓｉ感光体の最表面を研磨し所定の表面状態として、長期にわたり安定して高品位の画像を形成することが可能な電子写真感光体の後処理方法及び研磨装置を提供することを課題とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、
原子間力顕微鏡による１０μｍ×１０μｍの視野で測定される算術平均粗さを（Ｒａ）とし、導電性基体上にプラズマ化学気相成長法によりシリコン原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層及び非単結晶材料で構成された表面層を逐次積層させた電子写真用感光体の最表面を算術平均粗さ（Ｒａ）で２５ｎｍ以下にする研磨する方法において、
感光体を保持機構により保持回転させ、
連続の研磨テープを該感光体の表面に少なくとも２本の弾性ローラーにより加圧当接させながら給送し、感光体の最表面を研磨する
ことを特徴とする構成により、上記課題を達成することが可能になる。
【００２２】
これにより、長期にわたり安定して高品位の画像を形成する電子写真感光体を供給することができる。
【００２３】
具体的には、２本の弾性ローラーの圧力を同一または、夫々変えた状態で巻回させた研磨テープを加圧当接させながら給送し、感光体の最表面の研磨処理することによって、感光体表面上に残った研磨むらを完全に除去することが可能になり、画像濃度むらの発生を防ぐことが可能になる。
【００２４】
また、１本の弾性ローラーに巻回させた研磨テープを加圧当接させながら給送する少なくても２セットの研磨処理ユニットによる場合でも夫々の弾性ローラーの圧力を同一または、変えることで感光体最表面に残った研磨むらを完全に除去することが可能になり、画像濃度むらの発生を防ぐことが可能になる。
【００２５】
また、後者は、弾性ローラーの圧力を強くすれば、研磨テープのスピードを遅くしても、十分にむらなく研磨ができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
【００２７】
本発明の感光体の後処理方法および研磨装置によれば、ａ−Ｓｉ感光体の表面を、２本の弾性ローラーに巻回させた連続の研磨テープを加圧当接させながら給送して、感光体の最表面を研磨処理することで、感光体表面全体の研磨むらをなくすことが可能になり、研磨むらによる画像欠陥などの発生を防止することで更なる品質信頼性の向上が図られる。
【００２８】
また、１本の弾性ローラーに巻回させた研磨テープを加圧当接させながら給送した少なくても２セット以上の研磨処理ユニットによっても、感光体の最表面を研磨処理することでも同様な効果が得られる。
【００２９】
画像濃度むらの原因は、おおよそ以下に述べるメカニズムで発生すると考えられる。
【００３０】
まず、成膜装置によって作製されたａ−Ｓｉ感光体の表面は、研磨前では、凹凸の多い図４（ａ）に示すような断面構造となっている。そして、従来、ａ−Ｓｉ感光体の表面については、１本の弾性ローラーを搭載した研磨装置を用いて異常成長欠陥のみを研磨し平坦化してきた。
【００３１】
しかし、研磨装置を長時間使用していると弾性ローラーの加圧具合によっては、研磨テープが感光体軸方向に均等して圧力が掛からず、研磨むらが生じてしまう場合があった。
【００３２】
その結果、図４（ｂ）に示すように、ａ−Ｓｉ感光体の表面において、微細な凹凸は平坦化されず残存していた。この様な表面状態の感光体を電子写真装置に配置すると、装置内の電子感光体と他の部品の装着状態によっては、使用開始の初期段階で画像濃度むらが発生する。特にハーフトーン画像などにむらが発生してしまう。
【００３３】
以上のような考察より、本発明者らは、画像濃度むらの原因の１つは、研磨むらによって生じたことに起因するとの結論に達した。
【００３４】
なお、表面層は、一般にａ−Ｓｉを母体として形成され、具体的にはアモルファスシリコンカーバイド（ａ−ＳｉＣ）、アモルファスシリコンオキサイド（ａ−ＳｉＯ）、アモルファスシリコンナイトライド（ａ−ＳｉＮ）等が挙げられ、また、アモルファスカーボン（ａ−Ｃ）を母体としてもよい。
【００３５】
また、連続の研摩テープを使用して感光体の最表面の研摩平坦化処理を行う場合、２本の弾性ローラーでも１本の弾性ローラーの場合に比べて研磨むらを少なくできるが、２本の弾性ローラーの圧力を共に強くすることで研磨テープ全体の送りスピードを遅くしても、感光体表面上の研磨むらを更に少なくできる。また、付加的な効果として、キズが良化する。
【００３６】
また、１本の弾性ローラーに巻回させた研磨テープを加圧当接させながら給送する手段を少なくとも２セット用いることによって感光体の最表面の研磨平坦化処理を行う場合でも１本の弾性ローラーの場合に比べて研磨むらをなくせるが、感光体の表面状態によっては、２本の弾性ローラーの圧力を共に強くすることで１セット目の弾性ローラーのスピードは、２セット目の弾性ローラーのスピードより遅くしても同様にむらのない研磨とテープの節約ができる。
【００３７】
また、連続の研摩テープを使用して感光体の最表面の研摩平坦化処理を行う場合、２本の弾性ローラーの間に中間ローラーを設けることで、研磨テープのたわみを防止できる。
【００３８】
また、中間ローラーにクリーナーの機構を設けることで研磨テープ上に残った研磨カスを除去することができ、２本目の弾性ローラーで残りの研磨むらを研磨することが可能になる。
【００３９】
また、最初の弾性ローラーと中間ローラーの間にテープクリーナーを設置することでも同様に研磨テープ上に残った研磨カスを除去することができる。
【００４０】
弾性ローラーの圧力は、９．８〜９８０ｋＰａの範囲が好ましい。圧力があまりに小さすぎると研磨が不十分になりやすく、また、圧力があまりに大き過ぎると、接触時の衝撃や、研磨中に感光体の最表面にキズが入ってしまうことがあり、好ましくない。
【００４１】
以下、図面を用いて、本発明を更に詳細に説明する。
【００４２】
（電子写真装置）
図５は、電子写真プロセスを利用した画像形成装置（複写機）の構成図を示す。電子写真用感光体５１１１は、画像担持体として繰返し使用される回転ドラムであり、矢印の方向（時計回り）に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。
【００４３】
電子写真用感光体５１１１は回転過程で、所望により前露光光源５１０９による前露光により残存電位が消去された後、一次帯電器５１０２により正極性・電位に一様に帯電処理され、次いで画像露光手段による画像露光を受けることにより目的の画像に対応した静電潜像が形成される。
【００４４】
画像露光手段は、原稿台ランプ５１１０で原稿５１１２に照射した光の反射光を第１〜第３ミラー５１１３〜５１１５、レンズ５１１８を介してＣＣＤ５１１７で検知し、各種電子回路（図示せず）を経由した信号によりレーザーユニット５１０１から発信駆動され、第４ミラー５１１６を介して感光体５１１１上に画像を形成するものである。
【００４５】
次いで、その静電潜像が現像器５１０４により現像される。そして、トナー画像の転写を終えた電子写真用感光体５１１１の表面は、マグローラー５１０７とクリーナーブレード５１２１を備えたクリーニング装置により清掃される。
【００４６】
（研磨装置）
研磨装置の概要を図１、図２を用いて説明する。
【００４７】
図１は、研磨テープを被研磨感光体に２回当接させる研磨装置の例を示す概要図である。
【００４８】
ａ−Ｓｉ感光体１００を弾性支持機構１２０にとりつけ、該弾性支持機構１２０は移動ステージ１４０上の移動範囲１４１の所定位置に固定されている。ここで、弾性支持機構１２０は具体的には空気圧ホルダーであり、例えば、ブリジストン社製空気圧式ホルダー（商品名：エアーピック、型番：ＰＯ４５ＴＣＡ＊８２０）を使用することができる。
【００４９】
研磨テープ１３１は研磨ローラー１３０、中間ローラー１３６及び第２の研磨ローラー１３０に巻回まわされて、各研磨ローラー１３０、１３０によってａ−Ｓｉ感光体１００に押圧させられる。研磨テープ１３１は送り出しロール１３２に保持され、研磨ローラー１３０、中間ローラー１３６及び第２の研磨ローラー１３０を経て、定量送りだしロール１３４とキャプスタンローラ１３５に挟持され定量的に引き出され、巻き取りロール１３３に研磨処理済みテープとして巻き取られる。
【００５０】
研磨テープは通常ラッピングテープと呼ばれるものが好ましく用いられ、砥粒としてはＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３などが好ましい。市販品として、富士フィルム社製ラッピングテープＬＴ−Ｃ２０００があり，本発明では好ましく用いることができる。
【００５１】
図２は、研磨テープユニットを２個有する研磨装置の例を示す概要図である。
【００５２】
ａ−Ｓｉ感光体２００を弾性支持機構２２０にとりつけ、該弾性支持機構２２０は移動ステージ２４０上の移動範囲２４１の所定位置に固定されている。ここで、弾性支持機構１２０は具体的には空気圧ホルダーである。
【００５３】
研磨テープ２３１ａ（２３１ｂ）は研磨ローラー２３０ａ（２３０ｂ）に回まわされてａ−Ｓｉ感光体２００に押圧させられる。研磨テープ２３１ａ（２３１ｂ）は送り出しロール２３２ａ（２３２ｂ）に保持され、研磨ローラー２３０ａ（２３０ｂ）を経て、定量送りだしロール２３４ａ（２３４ｂ）とキャプスタンローラ２３５ａ（２３５ｂ）で定量的に引き出され、巻き取りロール２３３ａ（２３３ｂ）に研磨処理済みテープとして巻き取られる。
【００５４】
研磨テープは通常ラッピングテープと呼ばれるものが好ましく用いられ、砥粒としてはＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３などが好ましい。市販品として、富士フィルム社製ラッピングテープＬＴ−Ｃ２０００があり，本発明では好ましく用いることができる。
【００５５】
研磨テープの感光体への押し圧は、通常、９．８〜９８０ｋＰａが好ましい。なお、２つの研磨ローラーでの押し圧は同一でも異なっていてもよい。
【００５６】
弾性支持方式としては、すぼめた状態で空気圧式ホルダーを感光体に挿入し、次いで、１９６ｋＰａ〜７８４ｋＰａ（２〜８ｋｇｆ／ｃｍ２）の空気を送り込み、ホルダーを膨らまして支持する。
【００５７】
感光体を保持したホルダーを回転させ、感光体を回転させる。ガイドとして、嵌めあいの緩い、潤滑性に富み、弾性を有するガイドフランジを設けても良い。ガイドフランジの材質としては、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等の樹脂が好ましい。
【００５８】
感光体の弾性は空気圧式ホルダーへの空気圧で制御され、研磨時のビビリ、突入ショックなどの微少振動は空気圧式ホルダーのゴムにより吸収緩和される。
【００５９】
研磨時の感光体の線速度は１０〜４０ｃｍ／ｓｅｃが適当であり、研磨テープの送り速度は１〜２０ｃｍ／ｍｉｎが適当である．なお、研磨ユニットを２個有する場合は研磨テープの送り速度をそれぞれ個別にコントロールすることができ、個別にコントロールすることが好ましい。
【００６０】
（感光体層構成）
図６は、本発明に用いる電子写真感光体の好適な層構成の例を説明するための模式的構成図である。
【００６１】
図６（ａ）に示す電子写真用感光体６００は、光受容部材用の支持体６０１の上に、電荷注入阻止層６０２と、光受容層６０６とが設けられて成るものである。この光受容層６０６は、例えば水素原子及びハロゲン原子の少なくともいずれか一方とシリコン原子を含有する非単結晶材料の一つであるａ−Ｓｉ（Ｈ，Ｘ）で構成され光導電性を有する光導電層６０３と、ａ−ＳｉＣから成る表面保護層６０４とを有する。
【００６２】
図６（ｂ）に示す電子写真感光体６００は、光受容部材用の支持体６０１の上に、電荷注入阻止層６０２と、光受容層６０６とが設けられて成るものである。この光受容層６０６は、例えばａ−Ｓｉ（Ｈ，Ｘ）で構成され光導電性を有する光導電層６０３と、ａ−ＳｉＣ系からなるバッファ層６０５と、ａ−Ｃ系表面保護層６０７とを有する。
【００６３】
【実施例】
以下、本発明の電子写真感光体の後処理方法及び研磨装置を実施例に基づいて詳細に説明する。
【００６４】
実施例１
直径８０ｍｍ、長さ３５８ｍｍ、肉厚３ｍｍのアルミニウム筒状基体表面に鏡面加工を施して洗浄した後、プラズマ化学気相成長（ＰＣＶＤ）装置（図示せず）にて厚み３μｍの阻止層と厚み３０μｍのａ−Ｓｉ光導電層を、更にＳｉＨ４、ＣＨ４を用いて厚み０．５μｍのａ−ＳｉＣ表面保護層を積層し、ａ−Ｓｉ感光体を８本作製した。これらの感光体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は２９〜３１ｎｍであった。
【００６５】
そして、感光体の表面を図２に示した２つの研磨ユニット方式の研磨機を用いて表１の条件で研磨した。ここで、研磨テープとして、幅３６０ｍｍの富士フィルムラッピングテープＬＴ―Ｃ２０００を用い、感光体を線速度２０ｃｍ／ｓｅｃで回転させた。
【００６６】
研磨後の感光体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を測定した。その結果を表１に示した。
【００６７】
本発明では、算術平均粗さ（Ｒａ）の測定は、原子間力顕微鏡ＡＦＭ（ＱＵＥＳＡＮＴ社製ＱｓｃｏｐｅＴＭ２５０）を用いて測定した。
【００６８】
研磨後の感光体を複写機（キヤノン製ＮＰ６２５０）をテスト用に改造した実機にセットし、ベタハーフトーン画像による画像濃度むらの評価を行い、次に示す基準で判定を行った。
×：画像全体に画像濃度むらがあるので実用不可である。
△：画像全体に若干の画像濃度むらがあるが実用可である。
○：画像の一部分に画像濃度むらがあるが良好である。
◎：画像全体にまったく画像濃度むらがない。
【００６９】
感光体表面に外添剤のすり抜けが発生しているかどうか画像出し直後に確認を行い、次に示す基準で判定を行った。
×：感光体表面上全体にすり抜けがあるので実用不可である。
△：感光体表面上全体に若干のすり抜けがあるが実用可である。
○：感光体表面上の一部分にすり抜けがあるが良好である。
◎：感光体表面上全体にまったくすり抜けがない。
【００７０】
研磨後の感光体表面に傷が発生しているかどうか顕微鏡確認を行い、次に示す基準で判定を行った。
×：感光体表面上全体に傷があるので実用不可である。
△：感光体表面上全体に若干の傷があるが実用可である。
○：感光体表面上の一部分に傷があるが良好である。
◎：感光体表面上全体にまったく傷がない。
【００７１】
比較例１
実施例１と同様の条件で作製した４本の感光体（算術平均粗さ（Ｒａ）：２９〜３１ｎｍ）を図３に示す研磨ローラーを用い、表１に示す条件で、実施例１と同様な方法を用いて研磨し、研磨後の感光体の評価を行った。結果を表１に示した。
【００７２】
【表１】
2004126217.tif 000003
【００７３】
実施例１と比較例１の結果から、感光体最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を２５ｎｍ以下にして、かつ２つの研磨ユニットを用いた研磨機による研磨した事で１本の研磨ローラーによる研磨よりも早くかつ画像濃度むらとすり抜けとキズが良化することがわかった。また、２つの研磨テープのスピードを、一方を早く、他方を遅くした事で、同じ算術平均粗さ（Ｒａ）にするための研磨テープの使用量が少なくなることがわかった。
【００７４】
実施例２
実施例１と同様な条件で作製した８本のａ−Ｓｉ感光体（算術平均粗さ（Ｒａ）：２９〜３１ｎｍ）を用い、その表面を図１に示した２本の研磨ローラ−に巻回させた連続の研磨テープを加圧当接する研磨機を用いて表２の条件で研磨した。評価は、実施例１と同様な方法で行った。その結果を表２に示した。
【００７５】
【表２】
2004126217.tif 000004
【００７６】
実施例２と比較例１の結果から、感光体最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を２５ｎｍ以下にして、かつ２本の研磨ローラーを用いた研磨機による研磨した事で１本の研磨ローラーによる研磨よりも早くかつ画像濃度むらとすり抜けが良化することがわかった。
【００７７】
２本の研磨ローラーの押し圧を両者とも低くした場合、あるいは、最初のローラーの圧力を低く、かつ２本目のローラーの圧力を高くした事でキズが良化する効果が得られることが分かった。
【００７８】
押し圧を、９．８〜９８０ｋＰａの範囲で研磨する事で、画像濃度むらとすり抜けが良化することがわかった。
【００７９】
実施例３
実施例２と同様の条件で作製した１本の感光体（算術平均粗さ（Ｒａ）：３０ｎｍ）を用い、表２に示す条件で、実施例２と同様な方法を用いて研磨し、研磨後の感光体の評価を行った。結果を表２に示した。なお、研磨機の中間ローラーにはクリーナー機構を付けたものを用いた。
【００８０】
実施例３と実施例２の結果から、クリーナー機構のついた中間ローラーを設置した事で、クリーナー機構がない中間ローラーと比較してキズが更に良化することがわかった。
【００８１】
実施例４
実施例２において、表面保護層をＣＨ４を用いて作成し、厚み０．５μｍのａ−Ｃの表面保護層とする以外は、実施例２と同様に３本の感光体（算術平均粗さ（Ｒａ）：２９〜３１ｎｍ）を作製した。以下、表２に示す条件で、実施例２と同様にこれら感光体を研磨した．実施例２と同様に画像濃度むら、すり抜け、キズなどの評価を行った。結果を表２に示した。
【００８２】
比較例２
実施例４と同様の条件で作製した１本の感光体（算術平均粗さ（Ｒａ）：２９ｎｍ）を図３に示す１本の研磨ローラーを用いた以外は、実施例４と同様な方法を用いて研磨と評価を行った。
実施例４と比較例２の結果から、感光体最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を２５ｎｍ以下にして、かつ２本の研磨ローラーを用いた研磨機による研磨した事で１本の研磨ローラーによる研磨よりも早くかつ画像濃度むらとすり抜けが良化することがわかった。
【００８３】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の電子写真感光体の後処理方法及び研磨装置によれば、ａ−Ｓｉ感光体の最表面を少なくても２本の研磨ローラーに巻回させた連続の研磨テープを加圧当接させながら給送、又は、１本の研磨ローラーの巻回させた研磨テープを持った少なくとも２つの研磨処理ユニットを加圧当接させながら給送して感光体の最表面の研磨平坦化処理を行うことで研磨むらによる画像濃度むらの発生を防止する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の２本の研磨ローラ−に連続の研磨テープを巻回させた方式の研磨機の模式図である。
【図２】本発明の２つの研磨ローラ−ユニットを備えた方式の研磨機の模式図である。
【図３】従来の１本の研磨ローラーに研磨テープを巻回させた方式の研磨機の模式図である。
【図４】感光体表面が研磨される様子を説明するための模式的断面図である。
（ａ）未研磨の状況。
（ｂ）従来研磨後の状況。
【図５】電子写真装置を説明するための模式的断面図である。
【図６】電子写真感光体の層構成を説明するための模式的断面図である。
【符号の説明】
１００、２００、３００・・・ａ−Ｓｉ感光体
１２０、２２０、３２０・・・弾性支持機構
１３０、２３０ａ、２３０ｂ、３３０・・・研磨ローラー
１３１、２３１ａ、２３１ｂ、３３１・・・研磨テープ
１３２、２３２ａ、２３２ｂ、３３２・・・送り出しロール
１３３、２３３ａ、２３３ｂ、３３３・・・巻き取りロール
１３４、２３４ａ、２３４ｂ、３３４・・・定量送りだしロール
１３５、２３５ａ、２３５ｂ、３３５・・・キャプスタンローラ
１３６・・・中間ローラー
１４０、２４０、３４０・・・移動ステージ
１４１、２４１、３４１・・・移動範囲
６００・・・電子写真感光体
６０１・・・導電性支持体（Ａｌシリンダー）
６０２・・・電荷注入阻止層
６０３・・・光導電層
６０４・・・ａ−ＳｉＣ表面保護層
６０５・・・ａ−ＳｉＣバッファ層
６０６・・・光受容層
６０７・・・ａ−Ｃ表面保護層
５１００・・電子写真装置
５１０１・・レーザーユニット
５１０２・・一次帯電器
５１０３・・防塵ガラス
５１０４・・現像器
５１０５・・給紙部分
５１０６・・転写帯電器
５１０７・・マグローラー
５１０８・・搬送部
５１０９・・前露光光源
５１１０・・原稿台ランプ
５１１１・・電子写真用感光体
５１１２・・原稿台
５１１３・・第１ミラー
５１１４・・第２ミラー
５１１５・・第３ミラー
５１１６・・第４ミラー
５１１７・・ＣＣＤ
５１１８・・レンズ
５１２１・・クリーナーブレード
５１２２・・縦
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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