(57)【要約】【課題】耐熱性に優れた反射シートを用いたランプリフレクターの製造方法を提供することにある。【解決手段】粘着剤中の酸性基含有量が０．０５重量モル濃度以下の表面保護粘着シートを用いることにより、反射層表面の透明酸化膜に全く影響することなく、耐熱性に優れたランプリフレクターを製造することができる。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも高分子フィルム（Ａ）に下地層（Ｂ）、銀を主体とする金属層（Ｃ）及び透明酸化物層（Ｄ）をこの順に積層した反射シートの透明酸化物層（Ｄ）に貼合せる表面保護粘着シートであって、前記表面保護粘着シートの粘着剤の酸性基含有量が、０．０５重量モル濃度以下であることを特徴とする表面保護粘着シート。
【請求項２】
表面保護粘着シートの粘着剤がスチレン、イソプレン、ブタジエン、イソブチレン、ブチレン、プロピレン、エチレンから選ばれる炭化水素モノマーの単独重合体或いは共重合体からなることを特徴とする請求項１に記載の表面保護粘着シート。
【請求項３】
表面保護粘着シートの粘着剤がスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブテン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の表面保護粘着シート。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、銀を高分子フィルム上に積層して構成する反射シートを用いたランプリフレクターの製造に用いる表面保護粘着シートに関する。さらに詳しくは、耐熱性に優れた、銀を主体とする多層の構成からなる反射シートを用いたランプリフレクターの製造に用いる表面保護粘着シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、反射層として銀を用いた反射体が、液晶表示装置のバックライト部のリフレクターを中心に用いられている。これらはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀薄膜層／接着層／アルミ板からなるのが一般的である。近年、液晶表示装置の薄型化、輝度向上対応によるランプ能力の向上等により、バックライト部がより高温に曝されるため、反射シートの耐熱性の向上が要求されている。この要求に対し、高分子フィルム上に、下地層、銀を主体とする金属層、透明酸化物層の３層を順に構成した反射シートを、高分子フィルム側を接着面として、支持板と貼り合わせたリフレクターが提案されている。このリフレクターは、１００℃の高温下でも、反射率が低下しないことが示されている。一方、これらのリフレクターを製造する際、打ち抜き、曲げ加工時における反射面の損傷防止のために、表面保護粘着シートにより、反射層表面を保護することが必須である。しかしながら、透明酸化物層を表面に有する、耐熱性を向上した反射シートに対して、従来の表面保護粘着シートを使用した場合、表面保護粘着シートを剥離する際、透明酸化物層も同時に剥離してしまうという重大な問題が発生し、実用上大きな障害となっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、耐熱性に優れた反射シートを用いたランプリフレクターの製造に用いる表面保護粘着シートを提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、表面保護粘着シートの粘着剤中の酸性基含有量を０．０５重量モル濃度以下にすることにより上記の課題を解決できることを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、
少なくとも高分子フィルム（Ａ）に下地層（Ｂ）、銀を主体とする金属層（Ｃ）及び透明酸化物層（Ｄ）をこの順に積層した反射シートの透明酸化物層（Ｄ）に貼合せる表面保護粘着シートであって、前記表面保護粘着シートの粘着剤の酸性基含有量が、０．０５重量モル濃度以下であることを特徴とする表面保護粘着シート。
に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明における表面保護粘着シートは、粘着剤中の酸性基含有量が、０．０５重量モル濃度以下である必要がある。好ましくは、０．０３重量モル濃度以下であり、より好ましくは、実質的に酸性基を含有しないことである。酸性基の含有量が０．０５重量濃度を超えると最表面の透明酸化物層との相互作用が大きくなり、表面保護粘着シートの剥離時に透明酸化物層も同時に剥離してしまうという問題が発生する。酸性基の重量モル濃度とは、粘着剤１０００ｇ中の酸性基のモル数のことである。粘着剤中の酸性基とは、カルボン酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基等が挙げられる。
【０００６】
使用される粘着剤は、酸性基の含有量が０．０５重量モル濃度以下であればよく、特に限定されるものではないが、酸性基を実質的に含有せずに、表面保護粘着シートとして好ましい粘着特性を発現する粘着ポリマーとしては、スチレン、イソプレン、ブタジエン、イソブチレン、ブチレン、プロピレン、エチレン等の炭化水素モノマーの単独或いは共重合体があり、イソブチレンの単独重合体、イソブチレンとイソプレンの共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブテン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体等が挙げられる。
なお、粘着剤には、これら粘着ポリマーに加えて必要に応じて例えば粘着付与剤、充填剤、安定剤などの種々の配合剤を本発明の効果を損なわない範囲内で添加してもよい。粘着付与剤としては、ロジン系樹脂、エポキシ系樹脂、石油系樹脂等が、充填剤としては、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、シリカ、酸化亜鉛等が、安定剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。
本発明における表面保護粘着シートは、上記粘着剤を支持基材上に設けたものであるが、その加工方法は特に限定されるものではない。例えば粘着剤の溶液、加熱溶融液等を支持基材に塗布する方法や、支持基材と同時に溶融成形する方法等が挙げられる。
本発明における表面保護粘着シートの支持基材は、特に限定されるものではなく、ポリプロピレン系やポリエチレン系、それらのブレンド系等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル類やポリエステル類等のプラスチックからなるフィルムや紙や不織布、織布や金属箔等が挙げられるが、ランプリフレクターへの加工性より、ポリオレフィン類のフィルムが好ましい。
また、支持基材の粘着剤層を設ける面には、必要に応じて例えばコロナ処理や下塗り処理等の表面処理を施すこともできる。さらに支持基材には必要に応じスリップ剤や帯電防止剤、酸化防止剤などを配合することもできる。
本発明における表面保護粘着シートは、厚さ５〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの支持基材に、厚さ１〜２００μｍ、好ましくは１〜５０μｍの粘着剤層を設けたものが用いられるが特に限定されるものではない。
本発明における表面保護粘着シートの粘着力は、１８０度ピール強度で測定して、好ましくは０．０５〜１０Ｎ／２５ｍｍ、より好ましくは、０．１〜５Ｎ／２５ｍｍである。粘着力が低い場合は、打ち抜き加工、曲げ加工の際に表面保護粘着シートが剥離し、表面保護シートの役割が果たせない。また、粘着力が高い場合は、加工終了後、表面保護粘着シートの剥離ができなかったり、糊残りが発生する等して、作業性が著しく低下する。
【０００７】
本発明における反射シートにおける高分子フィルム（Ａ）は、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからなるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではなく、ある程度常用耐熱温度が高いものであれば使用できる。
使用される高分子フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１０〜１５０μｍ程度が好ましく用いられる。
【０００８】
本発明の反射シートにおける反射層は高分子フィルム上に形成される３層からなるものである。高分子フィルム側からの第１層は下地層（Ｂ）、第２層は銀を主体とする金属層（Ｃ）、第３層は透明酸化物層（Ｄ）である。
【０００９】
第１層の下地層（Ｂ）には、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどの金属単体、または、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０重量％以下ドープされた酸化亜鉛、もしくはインジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）などの透明酸化物が好ましく用いられる。
【００１０】
第２層の銀を主体とする金属層（Ｃ）には、銀単体或いは、銀を主体とした、銅やパラジウムあるいは白金等の合金が好ましく用いられる。また、これら銀、銀を主体とした合金の純度は１００％であることが好ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどを不純物としてを含有してもよい。
【００１１】
第３層の透明酸化物層（Ｄ）には、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛や、ガリウムが１０重量％以下ドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、珪素酸化物等が好ましく用いられる。
金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
【００１２】
真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなどのガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしても良い。
【００１３】
スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用しうる。スパッタ法においては、原材料は金属の板状のターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用しうるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガスを用いて行うこともある。
【００１４】
ここで、第１層である下地層（Ｂ）において、金属層を用いた場合、その厚みは、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。該層の厚みが５ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の銀層に凝集を発生させる場合がある。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の銀層に凝集を発生させる場合がある。また、２０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。
【００１５】
第２層である銀を主体とする金属層の厚みは、７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である。かかる層の厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成が出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来ない場合がある。また、４００ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化が無い。
【００１６】
第３層である透明酸化物層の厚みは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の銀層に凝集を発生させる場合がある。また、２０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無く、反射率も低下するため、好ましくない。
【００１７】
前記各層の膜厚の測定方法としては、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。
【００１８】
また、反射層を透明高分子フィルム上に設ける際に、該高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理等を行うことが反射層と高分子フィルムの密着性を向上させる効果があることは当業者の技術的常識の範囲であろう。
【００１９】
このようにして作製された反射シートの、金属反射層側から測定される反射率は典型的には、５５０ｎｍの波長の光に対して９０％以上であり、より詳しくは９２％以上であり、さらに好ましくは９４％以上である。
【００２０】
本発明における反射シートの耐熱性の評価は光熱劣化促進試験にて行う。光熱劣化促進試験の照射光としては、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ２の擬似太陽光を用いる。さらに加熱は試料を保持したアルミ板の下に板状ヒーターを設置し、このヒーターを温調機（温度コントローラー）で制御し、１００℃に加熱する。
本発明におけるランプリフレクターは、反射シートを、接着層を介して支持板に固定したものである。用いられる接着層は、シリコン系、ポリエステル系、エポキシ系、シアノアクリレート系、アクリル系など一般的な接着剤或いは粘着剤を用いることができる。これらの接着方法として熱硬化型、ホットメルト型、粘着型が、連続生産が可能であるため好ましい。どの接着層を用いた場合でもその厚みは、０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。
【００２１】
また、本発明においては反射シートの高分子フィルム面を接着力向上のために表面処理してもよい。例えばマット処理、コロナ処理、エッチング処理、プライマー処理等が挙げられる。
反射シートと支持板との接着は、一般的に反射シートの高分子フィルム側への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーによる支持体とのラミネート、の手順により行われる。接着剤のコーティング方法は、基材や接着剤の種類によって多くの方法があるが、広く使用されているのは、グラビアコーター方式、ロールコーター方式、ダイコーター方式等がある。また、セパレーターフィルム上に接着剤層を設けて、反射シートフィルムに転写する方式を用いることもできる。
【００２２】
反射シートと支持板との接着強度は、１８０度ピール強度で測定して３Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましい。この接着強度に達しない場合には、打ち抜き加工、曲げ加工の際、反射シートが支持板からの剥離等が生じ、変形等を引き起こす可能性があるため好ましくない場合がある。
【００２３】
支持板には、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等の金属板が一般的に使用される。これらの金属にはそれぞれ長所があり、次のように使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発光によって反射体が加熱されるＬＣＤ用バックライトに好適に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が高い。ステンレス鋼は機械的強度が適度にあり、また耐蝕性に優れている。鋼亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮は、機械的強度の高いことに加え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく用いられる。
【００２４】
またプラスチックのシート　を用いることも可能である。用いられる材質としては、二軸延伸ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタラート（ＰＢＴ）、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアレリート、ポリエーテルイミド、ポリイミドなどのホモポリマーまたは、コポリマーがあげられる。特に好ましくは、ポリエチレンテレフタラートフィルムであり、該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白色のものが好まれる。支持板としてのプラスチックの厚みは、コスト低減及び、曲げやすさから、薄い方が好ましく、反射シートとのラミネートする際の取扱い（ハンドリング）性及び、形状保持性からは、厚い方が好まれる。好ましいフィルムの厚みは、１０μｍ以上５００μｍ以下である。
【００２５】
本発明におけるランプリフレクターは反射シートを支持板に積層したものを形状加工することにより得られる。形状加工の際には、反射面の損傷防止のために、表面保護粘着シートにより反射層表面を保護する必要がある。反射面への表面保護粘着シートの貼合は、反射シートの製造後、反射シートの支持板への積層後、形状加工の直前等何れでもよい。
【００２６】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
（反射シート及び支持板との積層体の作成）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）上に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ２Ｏ３がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化アルミニウムが２％ドープされた酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲットととし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍになるように成形した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、２％のＡｌ２Ｏ３がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化アルミニウムが２％ドープされた酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成し、反射シートを作成した。
続いてこの反射シートをホットメルト型接着材（ＳＫダイン５２７３）を用いて、厚さ２ｍｍの真鍮板に、１００℃に加熱したラミネーターロールを通すことで接着、積層した。接着後、１８０度ピール強度で測定したところ５Ｎ／２５ｍｍであった。
作成した積層品を日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９６．３％であった。続いて、この積層品の光熱劣化試験を行った。光源には山下電装（株）のソーラシミュレータ型式ＹＳＳ−５０５Ｈを用い、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ２の擬似太陽光下で行い、加熱条件は１００℃で実施した。この条件下で３００時間経過した後、反射率を測定したところ、９５．５％であった。
実施例及び比較例の試料については、表面保護粘着シートの粘着剤表面に移行した酸化亜鉛膜の厚みの測定及び上記同様、反射シートと支持板の積層品の光熱劣化試験を行い、反射率の測定を行った。
移行した酸化亜鉛膜の厚みの測定は、島津製作所製　ＬＡＢ　ＣＥＮＴＥＲ　ＸＲＦ−１７００を用いて真空中、Ｘ線管球がＲｈ　４０ｋＶ　９５ｍＡ、絞り面積が２０ｍｍφ、で測定し、Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌ　Ｐａｒａｍｅｔｅｒ法により定量化した。
【００２７】
実施例１
酸性基を含まない粘着ポリマーであるブチルゴム（ＪＳＲ社製　Ｂｕｔｙｌ２６８、イソブチレンとイソプレンの共重合体）９０重量部と重量平均分子量１０万のポリイソブチレン単独重合体１０重量部の混合物の１０重量％ヘプタン溶液を、支持基材であるコロナ処理した厚み４０μｍのポリエチレンフィルムに塗布、乾燥し、粘着剤層の厚みが１０μｍである表面保護粘着シートを作成した。得られた表面保護粘着シートの粘着力は０．７Ｎ／２５ｍｍであった。この表面保護粘着シートを、支持板に積層した反射シートの表面に貼合し、３０日間、常温で放置した後、表面保護粘着シートを剥離し、評価用試料とした。
評価結果は、表面保護粘着シートの粘着剤表面には酸化亜鉛は認められず、反射シートの積層品の反射率は、９５．１％と良好であった。
【００２８】
実施例２
酸性基を含まない粘着ポリマーであるスチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体（シェルジャパン社製　クレイトンＧ１６５７）１００重量部、粘着付与樹脂（トーネックス社製　エスコレッツ５３００　石油系樹脂）５０重量部、酸化防止剤（チバガイギー社製　イルガノックス１０１０）０．５重量部からなる混合物をポリエチレンと２層共押し出し法にて製膜し、支持基材が厚み４０μｍのポリエチレン、粘着剤層が１０μｍである表面保護粘着シートを作成した。得られた表面保護粘着シートの粘着力は０．９Ｎ／２５ｍｍであった。この表面保護粘着シートを支持板に積層した反射シートの表面に貼合し、３０日間、常温で放置した後、表面保護粘着シートを剥離し、評価用試料とした。
評価結果は、表面保護粘着シートの粘着剤表面には酸化亜鉛は認められず、反射シートの積層品の反射率は、９４．８％と良好であった。
【００２９】
比較例１
重量平均分子量が３０万であるアクリル酸ブチル８３重量部、メタクリル酸メチル１０重量部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル５重量部、アクリル酸２重量部の共重合体とウレタン系硬化剤（日本ポリウレタン工業社製　コロネートＬ）３重量部の混合物の３０重量％酢酸エチル溶液を支持基材であるコロナ処理した厚み４０μｍのポリエチレンフィルムに塗布、乾燥し、粘着剤層の厚みが１０μｍである表面保護粘着シートを作成した。この粘着剤中の酸性基含有量は、０．２７重量モル濃度である。得られた表面保護粘着シートの粘着力は１．５Ｎ／２５ｍｍであった。この表面保護粘着シートを支持板に積層した反射シートの表面に貼合し、３０日間、常温で放置した後、表面保護粘着シートを剥離し、評価用試料とした。
評価結果は、表面保護粘着シートの粘着剤表面に４．３ｎｍの酸化亜鉛膜が移行し、反射シートの積層品の反射率は、４０．８％に低下した。
【００３０】
比較例２
重量平均分子量が２０万であるアクリル酸２−エチルヘキシル３５重量部、アクリル酸ブチル４５重量部、メタクリル酸メチル１５部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル５重量部の共重合体とメラミン系硬化剤（住友化学工業製　スミマールＭ−４０Ｓ）５重量部、硬化促進剤としてパラトルエンスルホン酸２重量部の混合物の３０重量％酢酸エチル溶液を支持基材であるコロナ処理した厚み４０μｍのポリエチレンフィルムに塗布、乾燥し、粘着剤層の厚みが１０μｍである表面保護粘着シートを作成した。この粘着剤中の酸性基含有量は、０．１１重量モル濃度である。得られた表面保護粘着シートの粘着力は０．５Ｎ／２５ｍｍであった。この表面保護粘着シートを支持板に積層した反射シートの表面に貼合し、３０日間、常温で放置した後、表面保護粘着シートを剥離し、評価用試料とした。
評価結果は、表面保護粘着シートの粘着剤表面に３．８ｎｍの酸化亜鉛膜が移行し、反射シートの積層品の反射率は、８０．３％に低下した。
【００３１】
【発明の効果】
本発明の製造方法を用いることで、長時間の過酷な使用においても反射率が低下しない、耐熱性に優れたランプリフレクターを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射シートの積層品の一例を示す断面図
【符号の説明】
１０　透明酸化物層
２０　銀を主体とする合金層
３０　下地層
４０　高分子フィルム
５０　　接着層
６０　　支持板
【図１】
2004059838.tif 000002