(57)【要約】【課題】  無樹脂層且つ極めて細微な粗面を具えた超微型反射板構造とその製造方法の提供。【解決手段】  反射板構造は、反射板金属層、粗面を具えた散乱手段、及び一層のＩＴＯを具え、この粗面が起伏する複数の超微小凸塊を具え、反射型或いは半透過型液晶ディスプレイに組み合わされて最適化を達成し、光源の散乱角度を更に広く更に均一とする。ディスプレイの液晶セルギャップの変化を大幅に減らし、反射光効率を設計最適値の状況に保持する。この反射板構造は比較的大きな散乱角度と緩やかにする効果を有し、良好な防眩効果を有する。この反射板の製造方法は簡単で、粗面の材料が安価であり、並びに無機薄膜工程を利用するため有機材料の反射装置よりも高温に耐えられる。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイの反射板構造において、
反射板金属層と、粗面を具えた散乱手段と、一層のＩＴＯとを具え、
該粗面を具えた散乱手段が該反射板金属層の下方に形成され、該粗面が起伏する複数の超微小凸塊を具え、各超微小凸塊が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具え、該ＩＴＯが該散乱手段の下方に形成され、該反射板構造が反射型或いは半透過型の液晶ディスプレイに組み合わされることを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造。
【請求項２】
請求項１記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、粗面を具えた散乱手段が粗面を具えた薄膜を具え、その粗面が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造。
【請求項３】
請求項１記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、粗面を具えた散乱手段が複数の起伏斜面を具えたパターン層と粗面を具えた薄膜とを具え、該パターン層がＩＴＯの上方に形成され、該薄膜が該パターン層の上方に形成されて該起伏斜面の傾斜度に伴い変化することを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造。
【請求項４】
請求項１記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、粗面を具えた散乱手段が複数の起伏する平滑面を具えたパターン層と粗面を具えた薄膜とを具え、該パターン層がＩＴＯの上方に形成され、該粗面を具えた薄膜が該パターン層の上方に形成されて該起伏する平滑面の傾斜度に伴い変化することを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造。
【請求項５】
請求項３記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、反射板構造が半透過型液晶ディスプレイに組み合わされ、パターン層が半透過エリアと反射エリア内の金属層に設計され、且つ半透過エリア内に少なくとも一つの開口が設けられたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造。
【請求項６】
請求項３記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、反射板構造が半透過型液晶ディスプレイに組み合わされ、パターン層が半透過エリア内の金属層に設計され、並びに半透過エリア内にあって相互に分離されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造。
【請求項７】
請求項３記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、反射板構造が半透過型液晶ディスプレイに組み合わされ、ＩＴＯを具えた半透過エリアにあって、パターン層が少なくとも一つの開口を具え、並びに該パターン層が半透過エリア内で相互に分離されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造。
【請求項８】
液晶ディスプレイの反射板製造方法において、
（ａ）基板を準備し、基板の上にＩＴＯを成長させるステップ、
（ｂ）無機薄膜工程を利用し、ＩＴＯの面上に粗面を具えた薄膜を成長させ、並びに該粗面の上に起伏する複数の超微小凸塊を具備させ、各超微小凸塊に０．１μｍより大きいサイズと１０ｎｍより大きな高さを具備させるステップ、
（ｃ）該薄膜の粗面の上に反射板金属層を形成するステップ、
を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法。
【請求項９】
請求項８記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、
（ｂ）のステップの無機薄膜工程が、
（ｂ１）堆積或いはスパッタで膜を形成するステップ、
（ｂ２）堆積或いはスパッタの工程パラメータを改変し、シリコンベースの薄膜をＩＴＯの上に堆積或いはスパッタで形成し、粗面を形成するステップ、
を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、
（ｂ２）のステップの工程パラメータが、少なくとも膜堆積温度、ガス流量、反応圧力、及び反応時間を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、薄膜がＰＥＣＶＤで形成され、その工程パラメータがＲＦパワーを具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法。
【請求項１２】
請求項８記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、薄膜の材料がシリコンベースの無機材料とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法。
【請求項１３】
請求項８記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、反射板金属層の材料がアルミニウム或いは銀或いはその合金とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法。
【請求項１４】
反射型液晶ディスプレイにおいて、該反射型液晶ディスプレイは反射板構造を具え、該反射板構造が、反射板金属層と、粗面を具えた散乱手段と、一層のＩＴＯとを具え、
該粗面を具えた散乱手段が該反射板金属層の下方に形成され、該粗面が起伏する複数の超微小凸塊を具え、各超微小凸塊が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具え、該ＩＴＯが該散乱手段の下方に形成されたことを特徴とする、反射型液晶ディスプレイ。
【請求項１５】
半透過型液晶ディスプレイにおいて、該半透過型液晶ディスプレイは反射板構造を具え、該反射板構造が、反射板金属層と、粗面を具えた散乱手段と、一層のＩＴＯとを具え、  該粗面を具えた散乱手段が該反射板金属層の下方に形成され、該粗面が起伏する複数の超微小凸塊を具え、各超微小凸塊が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具え、該ＩＴＯが該散乱手段の下方に形成されたことを特徴とする、半透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶ディスプレイ（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）及び反射板（ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）の構造に関するものであり、特に、超微型反射板（Ｕｌｔｒａ−Ｍｉｃｒｏ−Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ；ＵＭＲ）の構造、及びこの超微型反射板構造を具えた反射型（ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ）と半透過型（ｐａｒｔｉａｌｌｙ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ）液晶ディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在の反射型或いは半透過型ＴＦＴ液晶ディスプレイ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）の多くは散乱式（ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）内層反射板を採用しており、このような反射板は有機樹脂工程（ｏｒｇａｎｉｃ  ｒｅｓｉｎ  ｐｒｏｃｅｓｓ）を使用して粗面を具えた樹脂層を形成することで反射の効果を達成している。これには例えばシャープ株式会社の特許がある。図１は現在の粗面を具えた樹脂層の反射板にあって、散乱式粗面１０１の高低落差が直接２枚の基板１０３と１０５の間の液晶セル（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｃｅｌｌ）１０７の△ｎｄ設計値の偏差量に影響を与える状態を示す。例えば図１では最大偏差量△ｎｄj −△ｎｄi を有することを示している。そのうち、△ｎは液晶屈折率変化値を、ｄは液晶セルギャップを、ｄi とｄj はそれぞれ粗面１０１の液晶セルの異なるギャップ値を示す。
【０００３】
このような散乱式の粗面は以下のような欠点を有している。（１）材料価格が高い。（２）粗面の高低落差が非常に大きく、約０．５μｍ〜１．５μｍであり、液晶分子の配列に影響を与え、並びに不良な液晶光学品質を形成する。さらに、液晶セルギャップの変化８ｖａｒｉａｔｉｏｎ）、起伏過大の粗面はその反射光効率を低くし、理想的な１００％から６０％〜８５％に下げる。（３）有機樹脂の耐熱性は不良で、摂氏２５０度以下であり、高温の過程で変質を発生しやすい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上述の伝統的な反射型或いは半透過型液晶ディスプレイの欠点を克服する。その主要な目的は、超微型反射板構造を提供することにあり、この超微型反射板構造は反射型或いは半透過型液晶ディスプレイに組合せ可能である。本発明中の超微型反射板構造は、上から下に、反射板金属層（ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ−ｍｅｔａｌ）、粗面を具えた散乱手段（ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ  ｅｌｅｍｅｎｔ）、一層のＩＴＯを具え、この粗面は起伏する複数の超微小凸塊（ｍｉｃｒｏ  ｂｕｍｐ）を具え、各超微小凸塊が約０．１μｍのサイズと１０ｎｍより大きな高さを具えている。
【０００５】
本発明によると、この散乱手段は無樹脂層で、シリコンベース（Ｓｉ−ｂａｓｅｄ）の無機材料（例えば、酸化シリコン、窒化シリコン）がＩＴＯ材料上に堆積されて形成され、並びにその粗面の起伏は極めて細微である。超微小凸塊の高さと製造工程のパラメータは関係があり、実際の必要により工程のパラメータを調整できる。この散乱手段の製造は堆積方式の直接形成とされ、このため底層断面（ｐｒｏｆｉｌｅ）パターン及びリソグラフィー工程の影響を植えず、底層基板の異なるモデルにより、異なる組み合わせ結果が得られる。例えば、三つの好ましい実施例のモデルは以下のようである。（ａ）粗面を具えたシリコンベース薄膜を平坦基板上に形成する。（ｂ）起伏斜面を具えたパターン層（ａ  ｌａｙｅｒ  ｗｉｔｈ  ｔａｐｅｒ−ｓｈａｐｅｄ  ｐａｔｔｅｒｎ）、及び粗面を具えたシリコンベースの薄膜。（ｃ）起伏する平滑面を具えたパターン層（ａ  ｌａｙｅｒ  ｗｉｔｈ  ｓｍｏｏｔｈ−ｓｕｒｆａｃｅ  ｐａｔｔｅｒｎ）、及び粗面を具えたシリコンベースの薄膜。
【０００６】
本発明のもう一つの目的は、この超微型反射板構造の製造方法を提供することにある。この製造方法は、（ａ）無機薄膜工程を利用し、ＩＴＯの面上に粗面を具えた薄膜を形成し、並びに該粗面の上に起伏する複数の超微小凸塊を具備させ、各超微小凸塊に０．１μｍより大きいサイズと１０ｎｍより大きな高さを具備させるステップ、（ｂ）該薄膜の粗面の上に反射板金属層を形成するステップ、を具えたものとする。
【０００７】
本発明によると、この無機薄膜工程はＰＥＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ
Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）或いはスパッタで膜の堆積を行なう。本発明の製造方法は簡単で、並びに無機薄膜工程を利用するため、本発明による反射板は一般の有機材料の反射板に較べて高温に耐える。
【０００８】
本発明のまた別の目的は、この超微型反射板構造を具えた反射型或いは半透過型液晶ディスプレイを提供することにより、この液晶ディスプレイの最適化を達成することにある。
【０００９】
本発明により光の反射の散乱角度が広く、均一となる。ディスプレイの液晶セルギャップの変化も大幅に減り、その反射光効率が設計最適値状況に保持される。散乱効果方面では、本発明の超微型反射板構造は比較的大きな散乱角度（ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ  ａｎｇｌｅ）と緩やかな効果を有し、非常に良好な防眩（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ）効果を有する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明は、液晶ディスプレイの反射板構造において、
反射板金属層と、粗面を具えた散乱手段と、一層のＩＴＯとを具え、
該粗面を具えた散乱手段が該反射板金属層の下方に形成され、該粗面が起伏する複数の超微小凸塊を具え、各超微小凸塊が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具え、該ＩＴＯが該散乱手段の下方に形成され、該反射板構造が反射型或いは半透過型の液晶ディスプレイに組み合わされることを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造としている。
請求項２の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、粗面を具えた散乱手段が粗面を具えた薄膜を具え、その粗面が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造としている。
請求項３の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、粗面を具えた散乱手段が複数の起伏斜面を具えたパターン層と粗面を具えた薄膜とを具え、該パターン層がＩＴＯの上方に形成され、該薄膜が該パターン層の上方に形成されて該起伏斜面の傾斜度に伴い変化することを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造としている。
請求項４の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、粗面を具えた散乱手段が複数の起伏する平滑面を具えたパターン層と粗面を具えた薄膜とを具え、該パターン層がＩＴＯの上方に形成され、該粗面を具えた薄膜が該パターン層の上方に形成されて該起伏する平滑面の傾斜度に伴い変化することを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造としている。
請求項５の発明は、請求項３記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、反射板構造が半透過型液晶ディスプレイに組み合わされ、パターン層が半透過エリアと反射エリア内の金属層に設計され、且つ半透過エリア内に少なくとも一つの開口が設けられたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造としている。
請求項６の発明は、請求項３記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、反射板構造が半透過型液晶ディスプレイに組み合わされ、パターン層が半透過エリア内の金属層に設計され、並びに半透過エリア内にあって相互に分離されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造としている。
請求項７の発明は、請求項３記載の液晶ディスプレイの反射板構造において、反射板構造が半透過型液晶ディスプレイに組み合わされ、ＩＴＯを具えた半透過エリアにあって、パターン層が少なくとも一つの開口を具え、並びに該パターン層が半透過エリア内で相互に分離されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板構造としている。
請求項８の発明は、液晶ディスプレイの反射板製造方法において、
（ａ）基板を準備し、基板の上にＩＴＯを成長させるステップ、
（ｂ）無機薄膜工程を利用し、ＩＴＯの面上に粗面を具えた薄膜を成長させ、並びに該粗面の上に起伏する複数の超微小凸塊を具備させ、各超微小凸塊に０．１μｍより大きいサイズと１０ｎｍより大きな高さを具備させるステップ、
（ｃ）該薄膜の粗面の上に反射板金属層を形成するステップ、
を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法としている。
請求項９の発明は、請求項８記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、
（ｂ）のステップの無機薄膜工程が、
（ｂ１）堆積或いはスパッタで膜を形成するステップ、
（ｂ２）堆積或いはスパッタの工程パラメータを改変し、シリコンベースの薄膜をＩＴＯの上に堆積或いはスパッタで形成し、粗面を形成するステップ、
を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法としている。
請求項１０の発明は、請求項９記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、
（ｂ２）のステップの工程パラメータが、少なくとも膜堆積温度、ガス流量、反応圧力、及び反応時間を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法としている。
請求項１１の発明は、請求項１０記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、薄膜がＰＥＣＶＤで形成され、その工程パラメータがＲＦパワーを具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法としている。
請求項１２の発明は、請求項８記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、薄膜の材料がシリコンベースの無機材料とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法としている。
請求項１３の発明は、請求項８記載の液晶ディスプレイの反射板製造方法において、反射板金属層の材料がアルミニウム或いは銀或いはその合金とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの反射板製造方法としている。
請求項１４の発明は、反射型液晶ディスプレイにおいて、該反射型液晶ディスプレイは反射板構造を具え、該反射板構造が、反射板金属層と、粗面を具えた散乱手段と、一層のＩＴＯとを具え、
該粗面を具えた散乱手段が該反射板金属層の下方に形成され、該粗面が起伏する複数の超微小凸塊を具え、各超微小凸塊が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具え、該ＩＴＯが該散乱手段の下方に形成されたことを特徴とする、反射型液晶ディスプレイとしている。
請求項１５の発明は、半透過型液晶ディスプレイにおいて、該半透過型液晶ディスプレイは反射板構造を具え、該反射板構造が、反射板金属層と、粗面を具えた散乱手段と、一層のＩＴＯとを具え、
該粗面を具えた散乱手段が該反射板金属層の下方に形成され、該粗面が起伏する複数の超微小凸塊を具え、各超微小凸塊が０．１μｍより大きなサイズと１０ｎｍより大きな高さを具え、該ＩＴＯが該散乱手段の下方に形成されたことを特徴とする、半透過型液晶ディスプレイとしている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は無樹脂層で極めて細微な粗面を具えた超微型反射板構造及びその製造方法を提供している。その材料は安価で耐熱性が良好な製造方法で粗面を形成できる。好ましい実施例において、シリコンベースの薄膜をＰＥＣＶＤ或いはスパッタで膜を形成でき、製造方法が簡単である。反射型或いは半透過型液晶ディスプレイに応用されて最適化を達成でき、光の反射の散乱角度を広く、均一とすることができる。ディスプレイの液晶セルギャップの変化を大幅に減らすことができ、反射効率を設計された最良値状況に保持できる。散乱効果方面では、この超微型反射板構造は大きな散乱角度と緩やかな効果を有し、非常に良好な防眩効果を有する。
【００１２】
以下の実施例は本発明の実施範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図２は本発明の超微型反射板構造の断面構造表示図であり、この超微型反射板構造は、反射型或いは反射板金属層２０１、粗面を具えた散乱手段２０３、及び一層のＩＴＯ２０５を具えている。粗面は、起伏する複数の超微小凸塊２０７を具え、並びに各超微小凸塊２０７は０．１μｍより大きなサイズｗと１０ｎｍより高い高度ｈを具え、図３に示される超微小凸塊２０７の拡大図に示されるとおりである。この超微型反射板構造は１枚の基板、例えばガラス基板２０９の上方に設計される。
【００１４】
この散乱手段２０３は無樹脂層で、並びに各超微小凸塊は極めて細緻であり、高さがｎｍレベルであるため、粗面の起伏は極めて細緻である。前述したように、これらの超微小凸塊の高度は製造工程のパラメータと関係があり、実際の必要により工程のパラメータが調整される。
【００１５】
散乱手段は多種類の実施モデルがあり、また反射型或いは半透過型の設計に組み合わされ得る。以下に好ましい三種類の散乱手段の実施モデルと二種類の半透過型と組み合わせた設計パターンを説明する。
【００１６】
図４にあって、散乱手段は粗面を具えた薄膜３０１を具えている。図５にあって、散乱手段は複数の起伏斜面を具えたパターン層３１１と、粗面を具えた薄膜３１３を具えている。パターン層３１１はＩＴＯ２０５の上方に形成され、この薄膜３１３はパターン層３１１の上方に形成され、並びにこれらの起伏斜面３１１ａ〜３１１ｃの傾斜度に伴い変化する。これらの起伏斜面３１１ａ〜３１１ｃの傾斜度は反射効果を特定方向に制御するのに用いられる。
【００１７】
図６にあって、散乱手段は起伏する複数の平滑面３２１ａ〜３２１ｂを具えたパターン層３２１と、粗面を具えた薄膜３２３を具えている。パターン層３２１はＩＴＯ２０５の上方に形成され、この薄膜３２３はパターン層３２１の上方に形成されている。図６中、特に、起伏する複数の平滑面３２１ａ〜３２１ｂを具えたパターン層３２１は伝統的な樹脂層とされるほか、無機の材質層とすることもでき、薄膜の粗面の起伏落差もｎｍレベルにまで大幅に減らすことができ、ゆえに極めて良好な光学品質と効果を有する。
【００１８】
上述の三種類の散乱手段の実施モデルはいずれも反射型或いは半透過型の設計に組み合わせ可能である。図５の散乱手段の実施モデルを半透過型の設計に組み合わせて図７及び図８のパターンを形成できる。そのうち空白エリアはＩＴＯを具えた透過エリア（ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ  ａｒｅａ）Ｔとされ、二種類のタイプの変化を有し得るか、或いは総合した設計とされうる。
【００１９】
図７のパターンでは、複数の起伏斜面を具えたパターン層３１１が一層の連続するＩＴＯ透明電極層の上方に形成され、並びに半透過エリア（ｐａｒｔｉａｌ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ  ａｒｅａ）ＰＲ内の金属層４０１に設計され、これらの金属パターン層４０１は半透過エリア内で相互間が分離している。図８のパターンでは、複数の起伏斜面を具えたパターン層４１１は半透過エリアＰＲと反射エリアＲ内の金属層に設計されている。図８中、ＩＴＯを具えた透過エリアは分離され、言い換えると、これらのパターン層４１１は半透過エリアにあって複数の開口（ｏｐｅｎｉｎｇｓ）を具えている。
【００２０】
本発明の超微型反射板構造の製造方法は簡単であり、（ａ）無機薄膜工程を利用し、ＩＴＯの面上に粗面を具えた薄膜を形成し、並びに該粗面の上に起伏する複数の超微小凸塊を具備させ、各超微小凸塊に０．１μｍより大きいサイズと１０ｎｍより大きな高さを具備させるステップ、（ｂ）該薄膜の粗面の上に反射板金属層を形成し、これにより細緻な反射面を形成するステップ、を具えたものとする。
【００２１】
本発明によると、この無機薄膜工程ではＰＥＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）或いはスパッタで膜の堆積を行ない、ＰＥＣＶＤ或いはスパッタの工程パラメータ、例えばＲＦパワー、堆積温度、ガス流量、反応圧力、反応時間等のパラメータを改変して、シリコンベース（例えば窒化シリコン、酸化シリコン）薄膜を堆積するか或いはＩＴＯ上にスパッタすることにより、粗面を形成し、上述の工程パラメータの調整により異なるサイズの粗面を形成することができる。本発明の製造方法は簡単で粗面の材料は安価であり、並びに無機薄膜工程を利用するため、本発明による反射板は一般の有機材料（耐熱信頼度＜摂氏２５０度）の反射装置よりも更に高温に耐え、摂氏３００度以上に耐える。反射層の材料はアルミニウム或いは銀或いはその合金とされる。薄膜の材料はシリコンベースの無機材料、例えばシリコン窒化物（ＳｉＮx ）或いはシリコン酸化物（ＳｉＯx ）とされる。
【００２２】
散乱効果光方面では、本発明の超微型反射板構造は比較的大きな散乱角度（ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ  ａｎｇｌｅ）と緩やかな効果を有する。言い換えると、反射率が視角に伴い激烈に変化しない。図９は本発明の超微型反射板構造と伝統的な散乱式内層反射板の散乱効果の比較図であり、そのうち、縦軸は反射率、横軸は散乱角度である。曲線ＵＭＲは本発明の超微型反射板構造の散乱効果を示し、曲線ｒｅｓｉｎ  ＩＤＲは伝統的な樹脂層を具えた散乱式内層反射板の散乱効果を示す。図９に示されるように、本発明の超微型反射板構造の反射率は視角に伴って激烈に変化しない。
【００２３】
図１０は本発明の超微型反射板構造の反射率が視角に伴い激烈に変化せず、良好な防眩（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ）効果を有することを説明する。そのうち、縦軸は反射率（ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ  ｒａｔｉｏ）、横軸は視角の角度とされる。図１０に示されるように、曲線Ｈは視角が水平方向にある時の反射率で、曲線Ｖは視角が垂直方向にある時の反射率である。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】周知の粗面を具えた樹脂層の反射板中、散乱式粗面の工程落差が形成する△ｎｄ変異を示す図である。
【図２】本発明の超微型反射板構造の断面構造表示図である。
【図３】本発明の超微小凸塊のサイズと高度表示図である。
【図４】本発明の散乱手段の第１種の実施モデル表示図である。
【図５】本発明の散乱手段の第２種の実施モデル表示図である。
【図６】本発明の散乱手段の第３種の実施モデル表示図である。
【図７】図５の散乱手段の実施モデルに半透過型設計を組み合わせて形成する第１種のパターン表示図である。
【図８】図５の散乱手段の実施モデルに半透過型設計を組み合わせて形成する第２種のパターン表示図である。
【図９】本発明の超微型反射板構造と周知の散乱式内層反射板の散乱効果比較図である。
【図１０】本発明の超微型反射板構造の防眩効果表示図である。
【符号の説明】
【００２５】
１０１  粗面              １０３、１０５  基板
１０７  液晶セル
２０１  反射板金属層      ２０３  散乱手段
２０５  ＩＴＯ
２０７  超微小凸塊        ｗ  サイズ
ｈ  高さ                  ２０９  ガラス基板
３０１  薄膜              ３１１  パターン層
３１３  薄膜
３１１ａ〜３１１ｃ  起伏斜面
３２１  パターン層        ３２１ａ〜３２１ｂ  平滑面
３２３  薄膜
Ｔ  透過エリア            ＰＲ  半透過エリア      Ｒ  反射エリア
４０１、４１１  金属パターン層
【図１】
2004341472.tif 000003
【図２】
2004341472.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004341472.tif 000009
【図８】
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【図９】
2004341472.tif 000011
【図１０】
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