(57)【要約】【課題】原版の微細な凹凸を高精度、低コスト、かつ安定的に複製できる微細な凹凸の製造方法を提供する。【解決手段】（ａ）表面に微細な凹凸を有する原版（スタンパ）を用意する工程と、（ｂ）前記スタンパ又は基材の略全面へ液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、（ｃ）前記スタンパと基材の間へ液状の紫外線硬化性樹脂を充填する工程と、（ｄ）紫外線を照射して樹脂を硬化させる工程と、（ｅ）前記スタンパを剥がす工程と、からなる微細な凹凸の製造方法を特徴とする。【選択図】　図１
2004130557.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）表面に微細な凹凸を有する原版（スタンパ）を用意する工程と、（ｂ）前記スタンパ又は基材へ液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、（ｃ）前記スタンパと基材の間へ液状の紫外線硬化性樹脂を充填する工程と、（ｄ）紫外線を照射して樹脂を硬化させる工程と、（ｅ）前記スタンパを剥がす工程と、によって、前記紫外線硬化樹脂の表面へ微細な凹凸を複製する微細な凹凸の製造方法において、液状の紫外線硬化性樹脂を、前記スタンパ又は基材の略全面へ塗布することを特徴とする微細な凹凸の製造方法。
【請求項２】
上記（ｂ）前記スタンパ又は基材へ液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程の次に、（ｂ’）エージングする工程を行うことを特徴とする請求項１記載の微細な凹凸の製造方法。
【請求項３】
上記液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する方法が、スクリーン印刷法であることを特徴とする請求項１〜２いずれかに記載の微細な凹凸の製造方法。
【請求項４】
上記液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する方法が、ダイコーティング法であることを特徴とする請求項１〜２いずれかに記載の微細な凹凸の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、微細な凹凸の製造方法に関し、さらに詳しくは、基材へ液状樹脂を略全面に塗布し、原版の微細な凹凸を低コストかつ安定に複製する微細な凹凸の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
（技術の背景）
一般に、光ディスクや光カード等の光記録媒体は、基材上に微細な凹凸として、光情報記録パターン（ピット、トラック）が形成され、また、回折格子や、反射防止用のモスアイ構造の微細な凹凸を設けることによって、光学機能を発揮させている。このような微細な凹凸の製造方法としては、特に大量製造（複製）する場合には、従来から幾つかがあるが、微細な凹凸の複製精度が極めて高く設備投資も少なくて済む、いわゆる「２Ｐ法」が主に採用されている。
２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ　Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法とは、表面に凹凸を有する原版（スタンパ）を用意し、該スタンパと基材との間に液状の紫外線硬化性樹脂を充填し、紫外線を照射して樹脂を硬化させせた後、スタンパを剥がすことによって、基材へ凹凸を製造（複製）するものである。
【０００３】
（先行技術）従来、２Ｐ法において、一般的な平板によるプレスでは、紫外線硬化樹脂中への気泡混入が、完全に回避できないという問題があるので、液状の紫外線硬化性樹脂を滴下した原版の上に、基材をセットする場合、下に凸になるように基材を湾曲させた状態とし、樹脂との接触面積が小さくなるように樹脂上に重ね合わせプレスした後に、紫外線を照射し、原版を剥離するようにしたものが知られている（例えば、特許文献１参照。）。また、液状の樹脂を線状に滴下した原版の上に、基材の接縁側から、相対移動可能なニップローラで押し付けてプレスした後に、紫外線を照射し、原版を剥離するようにしたものが知られている（例えば、特許文献２参照。）。さらに、液状の紫外線硬化性樹脂を線状に滴下した第２の基材（本発明の原版に相当する）の上に、第１の基材（同基材に相当する）側から、弾性押圧体を押し付けてプレスした後に、紫外線を照射し、原版を剥離するようにしたものが知られている（例えば、特許文献３参照。）。
上記のいずれも、液状の紫外線硬化性樹脂をスタンパの中央付近、又は縁部に沿って線状に滴下して、該樹脂を基材を介して、工夫したプレス方法で押し広げている。従って、滴下した液状の紫外線硬化性樹脂の形状、基材をセットした後の紫外線硬化性樹脂の形状、プレス用のニップローラや弾性押圧体の表面性や均一性、プレスの条件、樹脂の塗出量などにバラツキが有った場合には、複製後の紫外線硬化樹脂の形状の均一性が悪いという欠点がある。特に、量産に対応すべく、微細な凹凸を有する媒体の面付け数を増やし、大面積で複製し製造する場合には、複製後の紫外線硬化樹脂の形状が不均一となりやすいという問題点もある。この問題を解決するため、スタンパと基材の面積を微細な凹凸を有する媒体の面積よりも十分大きくして、紫外線硬化性樹脂の滴下量を多くする方法があるが、この場合、樹脂の必要量が増大するため、コストが高くなってしまう。
【０００４】
【特許文献１】
特開平２−１１８９３２号公報
【特許文献２】
特開２０００−３２６３５０号公報
【特許文献３】
特開平９−１２８８２０号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、基材又は原版へ液状樹脂を略全面に塗布する２Ｐ法で、原版の微細な凹凸を高精度、低コスト、かつ安定的に複製できる微細な凹凸の製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わる微細な凹凸の製造方法は、（ａ）表面に微細な凹凸を有する原版（スタンパ）を用意する工程と、（ｂ）前記スタンパ又は基材へ液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、（ｃ）前記スタンパと基材の間へ液状の紫外線硬化性樹脂を充填する工程と、（ｄ）紫外線を照射して樹脂を硬化させる工程と、（ｅ）前記スタンパを剥がす工程と、によって、前記紫外線硬化樹脂の表面へ微細な凹凸を複製する微細な凹凸の製造方法において、液状の紫外線硬化性樹脂を、前記スタンパ又は基材の略全面へ塗布するように、また、請求項２の発明に係わる微細な凹凸の製造方法は、上記（ｂ）前記スタンパ又は基材へ液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する工程の次に、（ｂ’）エージングする工程を行うように、したものである。本発明によれば、原版の微細な凹凸を高精度で複製できる微細な凹凸の製造方法が提供される。
請求項３の発明に係わる微細な凹凸の製造方法は、上記液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する方法が、スクリーン印刷法であるように、また、請求項４の発明に係わる微細な凹凸の製造方法は、上記液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する方法が、ダイコーティング法であるように、したものである。本発明によれば、既存の設備で安定的に複製できて、かつ、少ない原材料で廃棄物も少なく、低コストな微細な凹凸の製造方法が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施態様について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の製造方法で製造された微細な凹凸を有する媒体の断面図である。
（基本の構成）本発明の製造方法で製造された微細な凹凸を有する媒体１は、図１に示すように、基材１１と紫外線硬化樹脂層１３とからなり、該紫外線硬化樹脂層１３の表面には微細な凹凸１５が賦型されている。
【０００８】
図２は、本発明の製造方法を示すフロー図である。
（発明のポイント）本発明の製造方法は、図２に示すように、（ａ）表面に微細な凹凸を有する原版（スタンパ）２１を用意する工程、（ｂ）前記スタンパ２１又は基材１１へ液状の紫外線硬化性樹脂１３を塗布する工程、必要に応じて（ｂ’）エージングする工程、（ｃ）前記スタンパ２１と基材１１の間へ液状の紫外線硬化性樹脂１３を充填する工程、（ｄ）紫外線を照射して樹脂を硬化させる工程、（ｅ）前記スタンパを剥がす工程からなる、所謂２Ｐ法であるが、従来技術で述べた欠点を解消したものである。
本発明によれば、微細な凹凸を有する媒体１が、（ｂ）前記スタンパ２１又は基材１１へ液状の紫外線硬化性樹脂１３を塗布する工程で、液状の紫外線硬化性樹脂１３をスタンパ２１又は基材１１の略全面へ塗布するで、原版の微細な凹凸を高精度、低コスト、かつ安定的に複製することができる。
【０００９】
（従来の製造方法）まず、従来法について説明する。
なお、液状の紫外線硬化性樹脂１３の塗布は、スタンパ２１又は基材１１のいずれの面でもよく、本明細書では基材１１への塗布で説明するが、スタンパ２１へ塗布する場合には、スタンパ２１と基材１１とを読替えればよい。
図３は、従来の製造方法の１例を示す模式的な断面図及び平面図である。
図４は、従来の製造方法の１例を示す模式的な断面図及び平面図である。
図５は、従来の製造方法の１例を示す模式的な断面図である。
図３は、従来法の１例で、図３（Ａ）は塗布と充填（充填する手段がプレスであり、以降、プレスとも表現する）を説明する断面図で、図３（Ｂ）はプレス後の状態を示す平面図である。図３（Ａ）に示すように、液状の紫外線硬化性樹脂１３を基材１１の略中央部へディスペンサーでポッテング滴下し、該紫外線硬化性樹脂上へ下が凸になるようにスタンパ２１を湾曲させた状態として、樹脂との接触面積が小さくなるように重ね合わせプレスし充填した後に、紫外線を照射し、原版を剥離するようにしたものである。
【００１０】
図３（Ｂ）に示すように、液状の紫外線硬化性樹脂１３はプレスによって略円形に展延し、基材１１上へ塗布された部分は有効部分１３Ａとなるが、それ以外は無駄部分１３Ｂとなってしまう。特に微細な凹凸を精度よく複製するには、有効部分が３０〜４０％しかとれず、高コストであった。また、溢れた液状の紫外線硬化性樹脂１３はその処置に困るので、略円形に展延した紫外線硬化性樹脂１３（有効部分１３Ａと無駄部分１３Ｂ）の形状を覆うように基材１１を設けると、さらに基材１１にも多くの無駄部分が発生し、高コストとなる。溢れた液状の紫外線硬化性樹脂１３を廃棄すれば、さらに環境へも負荷を与えてしまう欠点もある。
【００１１】
図４は、従来法の１例で、図４（Ａ）は塗布と充填（プレス）を説明する断面図で、図４（Ｂ）はプレス後の断面図で、図４（Ｃ）はプレス後の状態を示す平面図である。図４（Ａ）に示すように、液状の紫外線硬化性樹脂を、基材１１の図面前後方向へ線状に滴下し、スタンパ２１を重ねて、基材の接縁側から、相対移動可能なニップローラ３１を押し付けてプレスし充填した後に、紫外線を照射し、スタンパ２１を剥離する。
【００１２】
図４（Ｂ）に示すように、プレスし充填状態の紫外線硬化性樹脂の厚さ精度は、プレス展延の形状、基材１１上へ滴下された紫外線硬化性樹脂の形状、プレス用のニップローラの表面性や均一性、プレスの条件などの条件によって、バラツキが発生しやすく、複製後の紫外線硬化樹脂の形状の均一性が悪い。また、液状の紫外線硬化性樹脂１３はプレスによって、基材１１に沿って矩形に展延せず、通常、図４（Ｃ）に示すように、初期は過剰な液状の紫外線硬化性樹脂１３が左右方向へはみ出し、その後徐々に狭くなり、最後は液量が不足して幅が急速に狭ばる。基材１１上へ塗布された部分は有効部分１３Ａとなるが、それ以外は無駄部分１３Ｂとなってしまう。特に微細な凹凸を精度よく複製するには、プレス条件を厳密に制御しても、有効部分が６０〜７０％しかとれず、高コストであった。
【００１３】
図５は、従来法の１例で、塗布と充填（プレス）を説明する断面図で、図５に示すように、液状の紫外線硬化性樹脂１３を、基材１１上へ円形に滴下し、スタンパ２１を重ねて、弾性押圧体３３を押し付けてプレスした後に、紫外線を照射し、スタンパ２１原版を剥離する。
液状の紫外線硬化性樹脂１３を円形又はドーナツ状に塗布し充填する場合には適するが、基材１１又はスタンパ２１が矩形の場合には、有効部分が少なくなる。さらに、プレスし充填状態の紫外線硬化性樹脂の厚さ精度は、プレス展延の形状、基材１１上へ滴下された紫外線硬化性樹脂の形状、プレス用の弾性押圧体３３の表面性や均一性、プレスの条件などの条件によって、バラツキが発生しやすく、複製後の紫外線硬化樹脂の形状の均一性が悪い。
【００１４】
（本発明の製造方法）上記の従来の製造方法に対して本発明の製造方法は、次の工程からなり工程順に、使用する材料も含めて説明して行く。
図６は、本発明の製造方法を示す断面図及び平面図である。
図６（Ａ）は基材１１又はスタンパ２１の略全面へ、液状の紫外線硬化性樹脂１３を塗布した状態で、図６（Ｂ）はスタンパ２１又は基材１１を重ねてプレスし充填している状況で、図６（Ｃ）は製造された微細な凹凸１５を有する媒体１である。
【００１５】
（ａ）表面に微細な凹凸を有する原版（スタンパ）２１を用意する工程
微細な凹凸１５は、特に限定されるものではなく、例えば、ホログラム、回折格子、反射防止用のモスアイ構造、光記録媒体用のデータピットやトラック、万線状の凹凸、干渉パターン、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、フーリエ変換レンズなどがあげられる。これらを単独又は組合わせて用いる。
【００１６】
微細な凹凸１５を有する原版（スタンパ）は、それぞれの微細な凹凸１５に対応する方法で作成し用意すればよい。ホログラム、回折格子、及びモスアイ構造はレーザ光の干渉縞を記録する方法が、回折格子、データピット、及びフーリエ変換レンズは電子線を用いた描画法が、万線状の凹凸、干渉パターン、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、及びプリズムレンズは、精密旋盤などによる精密彫刻法などの公知の方法が適用できる。
【００１７】
スタンパ２１としては、原版をそのまま用いるか、または、原版から公知のメッキ法や２Ｐ法で複製した複製版をスタンパとしてもよい。スタンパ２１は樹脂版でも、金属版でもよい。
【００１８】
（ｂ）前記スタンパ２１又は基材１１へ液状の紫外線硬化性樹脂１３を塗布する工程
基材１１としては、機械的強度があり、製造及び使用時に耐える機械的強度、耐熱性、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−トなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィン樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリアリレ−ト、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエ−テル、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルファイトなどのエンジニアリング樹脂、ポリカ−ボネ−ト、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂などのスチレン系樹脂などが適用できる。好ましくは、光学特性に優れるアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、又は環状ポリオレフィン樹脂などであり、さらに好ましくは、アクリル樹脂、又はポリカーボネート樹脂が好適である。基材１１の厚さとしては、特に限定はされず、０．１〜１０ｍｍ程度、好ましくは０．２〜５ｍｍである。
【００１９】
紫外線硬化樹脂１３としては、紫外線や電子線などの活性エネルギー線の照射によって活性エネルギー線硬化性樹脂を架橋硬化させたものが適用でき、好ましくは紫外線硬化樹脂である。また、硬化後の紫外線硬化樹脂の硬さは硬いほどよいが、ＪＩＳ−Ｋ５４００で示す鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。なお、本明細書では、硬化前の前駆体を硬化性樹脂、紫外線の照射による硬化後の樹脂を硬化樹脂という。
【００２０】
紫外線硬化性樹脂組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。紫外線硬化性樹脂組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。
【００２１】
紫外線硬化性樹脂組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等が挙げられる。
【００２２】
通常、紫外線硬化性樹脂組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しくは２種以上を混合して用いるが、紫外線硬化性樹脂組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５質量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５質量％以下とするのが好ましい。
【００２３】
紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用するとよい。紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使う等、紫外線硬化性樹脂組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙げられる。
【００２４】
紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、紫外線硬化性樹脂組成物に、紫外線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。
【００２５】
（光重合開始剤）一般的な紫外線硬化性樹脂組成物には、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、一般的には、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の配合量は、紫外線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部である。
【００２６】
（塗布方法）以上のような紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、ダイコーティングなどの印刷及びコーティング法により、基材１１又はスタンパ２１上に塗布する。好ましくはスクリーン印刷法、ダイコーティング法である。塗布の形状は、図６（Ａ）、及び図６（Ｃ）のように、略全面に塗布する。略全面にわたって均一に塗布することは、従来のディスペンサーを用いた塗布方法では極めて困難であり、スクリーン印刷法、ダイコーティング法などで可能となる。
【００２７】
グラビア印刷は版面の凹部にインキを充填して被印刷体に押圧によりインキを転移させ、グラビアオフセット印刷は凹版を用いた平版印刷で版面の凹部にインキを充填して、ブランケットを介して印刷する。スクリーン印刷は、画像部が貫通孔、非画像部が非貫通となった版を被印刷物の上に置き、版の上からインキを押し出し貫通孔からインキを被印刷物に転移させ、フレキソ印刷は、凸版印刷の１種で、ゴム製の凸版を用いる印刷法である。いずれの印刷法も公知であり、基材１１又はスタンパ２１の略全面に相当する面積を印刷画像として、印刷（塗布）すればよい。
【００２８】
ダイコーティング法は、Ｔ型ダイスを用いて、紫外線硬化性樹脂１３を基材１１又はスタンパ２１の略全幅に広げて流下させて、略長さで停止させる間歇塗布で、略全面に塗布すればよい。
【００２９】
スクリーン印刷時の紫外線硬化性樹脂１３の粘度は、５００〜５０００センチポアズ（２５℃）程度、好ましくは２０００〜４０００センチポアズ（２５℃）である。ダイコーティング時の紫外線硬化性樹脂１３の粘度は、１〜２０００センチポアズ（２５℃）程度、好ましくは１０〜１０００センチポアズ（２５℃）である。紫外線硬化性樹脂１３の厚みは、好ましくは１〜３０μｍ、より好ましくは３〜１０μｍである。また、紫外線硬化性樹脂１３には、消泡剤、脱泡剤、レベリング剤を含有させてもよい。また、基材１１へ公知のプライマ層を設けた後に、紫外線硬化性樹脂１３を塗布してもよい。
【００３０】
（ｂ’）必要に応じてエージングする工程、
基材１１へ紫外線硬化性樹脂１３を塗布した場合には、必要に応じてエージングする。エージングは、加温又は加温しないクリーンオーブン中に放置しておく。好ましくは温度３０〜１００℃程度、さらに好ましくは５０〜８０℃で、数分〜数時間放置しておく。該エージングにより、基材１１と紫外線硬化樹脂１３とが馴染み濡れ性が向上し、また、相互の官能基が相対することで、密着強度が増加し、微細な凹凸を有する媒体１としての耐久性が向上できる。また、エージングにより、塗布表面がレベリングしてスクリーン目や畝状のムラ解消できる。このエージングは、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）などのメタアクリル系樹脂の場合に、特に密着性の向上に有効である。
【００３１】
（ｃ）前記スタンパ２１と基材１１の間へ液状の紫外線硬化性樹脂１３を充填する工程
充填する手段としては、公知のプレス法でよく、自由回転又は回転しない、弾性又は剛性の、ロール状又は棒状のニップ材でプレスすればよい。図６（Ｂ）では、平面の定盤３５とニップロール３１でのプレスを図示しているが、これに限定されず、ロール／ロールでもよい。好ましくは、図６（Ｂ）のように、紫外線硬化性樹脂１３面へスタンパ２１を重ねて、ニップロール加圧しながら回転させて、気泡が残存しないようにプレスすればよい。この場合、基材１１とスタンパ２１のなす角度は鋭角がよく、５〜３０度程度が好ましい。該プレスにより、スタンパ２１と基材１１の間へ液状の紫外線硬化性樹脂１３が充填され、スタンパ２１の表面にある微細な凹凸１５にも容易に充填される。
【００３２】
このように、単にプレスしても、紫外線硬化性樹脂１３の厚さは塗布法により精度がでているので、基板１１の厚さむらやうねりによらず、均一な厚さが得られる。また、紫外線硬化性樹脂１３は展延しないので、従来法のプレス展延の形状、基材１１上へ滴下された紫外線硬化性樹脂の形状、プレス用の弾性押圧体３３の表面性や均一性、プレスの条件などの条件によっても、バラツキが発生しにくく、一様に押圧すれば、より均一な厚さにできる。均一な厚さであれば、微細な凹凸１５の賦型精度も向上できる。
【００３３】
即ち、紫外線硬化性樹脂の厚さ精度は、プレスによって均一性を出すのではなく、塗布方法で既に得られているので、複製後の微細な凹凸１５を有する媒体１の紫外線硬化樹脂１３層の形状及び微細な凹凸１５は均一性がよい。微細な凹凸１５が発揮する回折、反射防止、ピット情報などの光学機能にエラーの発生が少なく、不良品を回避できて歩留まりがよく生産効率が高い。
【００３４】
さらに、量産に対応すべく、微細な凹凸１５を有する媒体１の面付け数を増やし、大面積で複製し製造する場合には、特に好適である。複数面付け数で、大面積で複製しても、塗布段階で厚さ精度が出ているので、紫外線硬化樹脂１３の形状及び凹凸の賦型精度がよく、効率よく生産することができる。
【００３５】
（ｄ）紫外線を照射して樹脂を硬化させる工程、
スタンパ２１と基材１１の間へ液状の紫外線硬化性樹脂１３が充填され、スタンパ２１の表面にある微細な凹凸１５にも充填されている状態で、紫外線を照射して硬化させる。照射する紫外線装置としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が使用される。波長２００〜４００ｎｍの紫外線を用い、照射量としては積算エネルギーが０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２となる程度とすることが好ましい。また、紫外線硬化の場合は、紫外線硬化性樹脂１３へ光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加したもので、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないでもよい。また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。
【００３６】
（ｅ）前記スタンパを剥がす工程
紫外線を照射して硬化させた後に、スタンパ２１を剥離すると、図６（Ｃ）のように、基材に硬化した紫外線硬化樹脂１３が密着し、該紫外線硬化樹脂１３の表面に微細な凹凸１５が賦型された微細な凹凸を有する媒体１が得られる。
【００３７】
【実施例】
（実施例１）
（微細な凹凸の作成）厚さが３．５ｍｍの両面に２次研磨を施したソーダガラス板へポジ型レジスト（シプレイ社製、商品名フォトレジストｓ１８０５）１μｍ塗布して縦横１０×１０ｃｍ角のレジスト原版とし、非レジスト面へ屈折率１．５１５の屈折率標準液を滴下して、黒色ガラスを密着させた。該レジスト原版へ、レーザ光としてアルゴンイオンレーザの波長４５７．９ｎｍ（青色）を用い、該レーザ光を２分割した後に、それぞれの光束を、左方向と右方向から、それぞれ６０度の角度でレジスト原版のレジスト面へ１３０ｍＪ露光した。さらにレジスト原版を同一面で９０度回転させた後に、同様に露光し、現像して、原版を得た。該原版は大きさ８×８ｃｍ角のモスアイ構造を有し、周囲に２ｃｍのドブがあり、反射防止の光学機能を有する。
（スタンパの用意）上記で得た原版から２Ｐ法で複製版材（マスタ版Ｍ１）とし、該複製版材（マスタ版Ｍ１）から２Ｐ法で複製版材（マスタ版Ｍ２）とし、該複製版材（マスタ版Ｍ２）へ再度２Ｐ法で厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートへ複製し、剥がして樹脂製のスタンパを得た。該スタンパは８×８ｃｍ角の有効分とその周囲に２ｃｍのドブを持っている。
なお、ドブとは当業者の用語で、製造や取り付けに使用する有効部分の周囲にある付随した部分のことである。
（塗布、エージング）基材として厚さが１ｍｍで９×９ｃｍ角の大きさのアクリライトＬ−１００（三菱レイヨン社製、アクリルシート商品名）上へ、３００メッシュのポリエチレンテレフタレート紗からなるスクリーン版を用いて、粘度２０００センチポアズのＵＶ−ＰＡＬ（定刻インキ製造社製、紫外線硬化性樹脂商品名）を、厚さ８μｍで大きさが８．５ｃｍ角のスクリーン印刷法で印刷した。該印刷物を、８０℃のクリーンオーブン内で１０分間エージングした。
（充填、ＵＶ照射）エージングした印刷物上へ、上記で得たスタンパを重ねて、２本のニップロール間を６０Ｎ／ｃｍ２の圧力下で通過させて、プレスし、スタンパの表面にある微細な凹凸へ紫外線硬化性樹脂を充填させた。この状態で、超高圧水銀ランプの３６５ｎｍ輝線をスタンパ側から１５０ｍＪ／ｃｍ２照射し、紫外線硬化性樹脂を硬化させた。
（スタンパを剥離）スタンパを剥離し、基材へ密着した紫外線硬化樹脂層が得られた。その表面には微細な凹凸が賦型された微細な凹凸を有する媒体１が得られた。該微細な凹凸を有する媒体１は、可視光線領域の波長において、反射率１％以下の反射防止機能が得られ、この微細な凹凸は、スタンパ形状の９５％以上の精度で転写されていると推測される。
【００３８】
（実施例２）複製版材（マスタ版Ｍ１）を４枚作り、各複製版材（マスタ版Ｍ１）を半導体用マイクロカッターを用いて、有効８×８ｍｍと周囲のドブ５ｍｍからなる大きさが８．５×８．５ｍｍ角に切断し、この４枚を当接状態として、２Ｐ法で複製版材（マスタ版Ｍ２）とし、該複製版材（マスタ版Ｍ２）へ再度２Ｐ法で厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートへ複製し、剥がして樹脂製のスタンパを得た。該スタンパは４面付けで、さらにその周囲に２ｃｍのドブを設けた。厚さが１ｍｍで１８×１８ｃｍ角の大きさのアクリルシート上へ、厚さ１０μｍで大きさが１７．５×１７．５ｃｍ角にスクリーン印刷する以外は、実施例１と同様にして、４面付けの微細な凹凸を有する媒体が得られ、４面毎に切り分けて、４枚の微細な凹凸を有する媒体１が得られた。該微細な凹凸を有する媒体１は、実施例１と同様な反射防止機能を有していた。
【００３９】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、紫外線硬化性樹脂１３の厚さは塗布法により精度がでているので、基板１１の厚さむらやうねりによらず、また、紫外線硬化性樹脂１３を展延しないので、プレスの条件などの条件によってもバラツキが発生しにくく、一様に押圧すれば、より均一な厚さにできる。均一な厚さであれば、微細な凹凸１５の賦型精度も向上できる。微細な凹凸１５が発揮する回折、反射防止、ピット情報などの光学機能にエラーの発生が少なく、不良品を回避できて歩留まりがよく生産効率が高い。
【００４０】
さらに、量産に対応すべく、微細な凹凸１５を有する媒体１の面付け数を増やし、大面積で複製し製造する場合には、特に好適である。複数面付け数で、大面積で複製しても、塗布段階で厚さ精度が出ているので、紫外線硬化樹脂１３の形状及び凹凸の賦型精度がよく、効率よく生産することができる。
また、本発明では、従来方法と比較して有効部分が多く、使用する紫外線硬化性樹脂１３量が少量で済みので、低コストである。さらに、溢れた液状の紫外線硬化性樹脂１３も少なく、廃棄が減少して環境への負荷も少ない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法で製造された微細な凹凸を有する媒体の断面図である。
【図２】本発明の製造方法を示すフロー図である。
【図３】従来の製造方法の１例を示す模式的な断面図及び平面図である。
【図４】従来の製造方法の１例を示す模式的な断面図及び平面図である。
【図５】従来の製造方法の１例を示す模式的な断面図である。
【図６】本発明の製造方法を示す断面図及び平面図である。
【符号の説明】
１　微細な凹凸を有する媒体
１１　基材
１３　紫外線硬化樹脂層
１３Ａ　有効部分
１３Ｂ　無駄部分
１５　微細な凹凸
２１　スタンパ
３１　ニップロール
３３　弾性押圧材
３５　定盤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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