(57)【要約】【課題】小型の装置で、Ｒ液晶パネル及びＬ液晶パネル用の液晶基板のバイアスラビングを可能にする。【解決手段】液晶基板１０１を搬送する第１の搬送手段と、前記第１の搬送手段と協働して前記液晶基板１０１と回転軸を中心に回転するラビングロール１０３との相対移動方向が、前記ラビングロール１０３の回転軸１０４方向の成分を含むように、前記ラビングロール１０３の回転軸１０４を平行に搬送して、前記ラビングロール１０３による前記液晶基板１０１のラビングを可能にする第２の搬送手段とを具備したことを特徴とする。【選択図】      図１
2004309845.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶基板を移動させる基板移動手段と、
前記基板移動手段と協働して、前記液晶基板と回転軸を中心に回転するラビングロールとの相対移動方向が、前記ラビングロールの回転軸方向に９０°以外の角度で交わる方向となるように前記ラビングロールを移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にするロール移動手段とを具備したことを特徴とするラビング装置。
【請求項２】
回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動手段と、
単独で又は前記ロール移動手段と協働して液晶基板と前記ラビングロールとを相対的に移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動手段とを具備したことを特徴とするラビング装置。
【請求項３】
回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動手段と、
液晶基板を移動させて前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動手段とを具備したことを特徴とするラビング装置。
【請求項４】
前記基板移動手段は、前記ラビングロールの回転軸方向に垂直な方向に前記液晶基板を移動させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のラビング装置。
【請求項５】
前記基板移動手段は、前記ラビングロールの回転軸方向に対する前記液晶基板の向きを可変であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載のラビング装置。
【請求項６】
前記ロール移動手段又は前記基板移動手段は、前記液晶基板及びラビングロールの少なくとも一方の移動方向を逆転させることが可能であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１つに記載のラビング装置。
【請求項７】
前記ロール移動手段又は前記基板移動手段は、前記液晶基板及びラビングロールの少なくとも一方を上下に移動させる手段を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１つに記載のラビング装置。
【請求項８】
液晶基板を移動させる基板移動工程と、
前記基板移動工程と協働して前記液晶基板と回転軸を中心に回転するラビングロールとの相対移動方向が、前記ラビングロールの回転軸方向に９０°以外の角度で交わる方向となるように、前記ラビングロールを移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にするロール移動工程とを具備したことを特徴とするラビング方法。
【請求項９】
回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動工程と、
単独で又は前記ロール移動工程と協働して液晶基板と前記ラビングロールとを相対的に移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動工程とを具備したことを特徴とするラビング方法。
【請求項１０】
回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動工程と、
液晶基板を移動させて前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動工程とを具備したことを特徴とするラビング方法。
【請求項１１】
前記基板移動工程は、前記ラビングロールの回転軸方向に垂直な方向に前記液晶基板を移動させることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載のラビング方法。
【請求項１２】
液晶基板上に形成した配向膜をラビングする工程を有する液晶表示装置の製造方法において、
前記液晶基板を移動させる基板移動工程と、
前記基板移動工程と協働して前記液晶基板と回転軸を中心に回転するラビングロールとの相対移動方向が、前記ラビングロールの回転軸方向に９０°以外の角度で交わる方向となるように、前記ラビングロールを移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にするロール移動工程とを有するラビング方法により、
前記配向膜をラビングすることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ラビングロールの回転軸方向と液晶基板の進行方向とを傾斜させることなくバイアスラビングを可能にしたラビング装置、ラビング方法及び液晶装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に電気光学装置、例えば、電気光学物質に液晶を用いて所定の表示を行う液晶装置は、一対の基板間に液晶が挟持された構成となっている。このうち、ＴＦＴ駆動、ＴＦＤ駆動等によるアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置等の電気光学装置においては、縦横に夫々配列された多数の走査線（ゲート線）及びデータ線（ソース線）の各交点に対応して、画素電極及びスイッチング素子を基板（アクティブマトリクス基板）上に設けて構成される。
【０００３】
ＴＦＴ素子等のスイッチング素子は、ゲート線に供給されるオン信号によってオンとなり、ソース線を介して供給される画像信号を画素電極（透明電極（ＩＴＯ））に書込む。これにより、画素電極と対向電極相互間の液晶層に画像信号に基づく電圧を印加して、液晶分子の配列を変化させる。こうして、画素の透過率を変化させ、画素電極及び液晶層を通過する光を画像信号に応じて変化させて画像表示を行う。電圧無印加時の液晶分子の配列を規定するために、一方の基板（アクティブマトリクス基板）及び他方の基板（対向基板）の液晶層に接する面上に配向膜を形成し、配向膜にラビング処理を施す。
【０００４】
即ち、配向膜は、例えばポリイミド等の有機膜を約数十ナノメーターの厚さで両基板の面上に形成したものであり、配向膜によって液晶分子を基板面に沿って配向処理することができる。更に、配向膜表面にラビング処理を施すことで、配向膜を配向異方性の膜にして液晶分子の配列を規定する。
【０００５】
ラビング工程では、ラビング装置の載置台上にポリイミド膜を有する基板をポリイミド膜を上にして配置する。次に、ローラの周りにラビング布が取り付けられたラビングロールをポリイミド膜と接するように配置し、ラビングロールを高速で回転させて基板上のポリイミド膜をラビングロールで擦る。これにより、配向膜を形成する高分子側鎖の方向を揃えて、配向異方性の膜を形成する。
【０００６】
ところで、ラビングロールの周面のラビングクロス材の摩耗等により、配向膜にラビングの延伸むら（スジむら）が生じることがある。そこで、このようなスジむらの発生を防止するために、ラビングロールの回転方向と液晶基板が載置されたステージの進行方向とをずらすバイアスラビングが採用されることがある。
【０００７】
図８は従来のラビング装置において採用されているバイアスラビングを説明するための説明図である。
【０００８】
バイアスラビングを行うラビング装置２００は、ステージ上に基板２０１を載置して搬送する図示しない搬送部と回転軸２０２を中心に回転するラビングロール２０３とを有する。搬送部は、ラビングロール２０３の回転軸２０２に直交する方向に対して所定角度傾斜した方向に基板２０１を搬送するようになっている。この場合でも、基板２０１の進行速度に対してラビングロール２０３の回転速度が極めて大きいことから、ラビング方向は略ラビングロール２０３の回転方向に支配される。
【０００９】
図８の装置では、ラビングロール２０３の回転方向と基板２０１の搬送方向とが傾斜していることから、ラビングローラ２０３の表面に例えば異物が付着している場合でも、この異物による配向膜の影響は拡散され、基板２０１は比較的均一な配向状態を得ることができる。これにより、画面表示の劣化を抑制して、高画質化を図ることができる。
【００１０】
なお、バイアスラビングを行う装置としては、特許文献１に記載のものがある。
【００１１】
【特許文献１】
特開平１０−１７０９４１号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ツィストネマティック方式の液晶装置では、ＴＦＴ基板側と対向基板側とで、ラビング方向を９０度変化させ、ＴＦＴ基板側の液晶分子の配向方向と対向基板側の液晶分子の配向方向とを相互に９０度ずらすようになっている。このような液晶分子のねじれ方向は、ＴＦＴ基板及び対向基板に対するラビング方向の設定によって制御することができる。
【００１３】
いま、液晶分子の対向基板側のラビング方向を基準として、ＴＦＴ基板のラビング方向を９０度左（反時計方向に）回転させた場合の液晶分子のねじれを左（Ｌ）ねじれとし、ＴＦＴ基板のラビング方向を９０度右（時計方向に）回転させた場合の液晶分子のねじれを右（Ｒ）ねじれとする。
【００１４】
ラビング方向に配向した液晶分子は、ラビング方向の始端側が基板面に近く、終端側が基板面から離間するチルト角を有した状態で配列される。ラビング方向がソース線方向に一致している場合には、一般的な液晶基板ではソース線に沿って液晶基板の表面は凸形状を有することから、ソース近傍の液晶分子は凸形状によって一方方向のねじれが阻害される。例えば、ＴＦＴ基板について画面上端から下端側に対応する方向にラビングが行われている場合には、液晶分子は画面上端側が基板面に近接しており、対向基板側（以下、パネル表面側という）から見て凸形状の右側では液晶分子の反時計方向のねじれ（即ち、対向基板を基準にすると右ねじれ）が阻害され、パネル表面側から見て凸形状の左側では液晶分子の時計方向のねじれ（即ち、対向基板を基準にすると左ねじれ）が阻害される。
【００１５】
これに対し、バイアスラビングにおいては、ソース線による段差に対して斜めからラビングクロスが進行する。例えば、図８の実線の例では、パネル表面側から見て、ソース線による凸形状の左側については段差の下側から上側に向かってラビングクロスが進行する。従って、凸形状の左側における液晶分子のねじれを若干容易にし、この部分の配向障害を軽減する。従って、図８の実線の状態でＴＦＴ基板をラビングすると、液晶分子を左ねじれに設定した液晶パネル（以下、Ｌ液晶パネルという）に有利である。逆に、図８の破線の状態でＴＦＴ基板をラビングすると、液晶分子を右ねじれに設定した液晶パネル（以下、Ｒ液晶パネルという）に有利である。
【００１６】
ところが、ＴＦＴ基板をＲ液晶パネル用又はＬ液晶パネル用としてラビングするためには、図８の実線及び破線に示すように、ラビングロールを回転させる必要があり、装置が大型化してしまうという問題点があった。
【００１７】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、ラビングロールの回転軸を平行移動させることにより、スジむらの発生を防止すると共に、Ｒ液晶パネル及びＬ液晶パネル用の基板を比較的小型の装置で且つ簡単な制御によって製造することができるラビング装置、ラビング方法及び液晶装置を提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るラビング装置は、液晶基板を移動させる基板移動手段と、前記基板移動手段と協働して、前記液晶基板と回転軸を中心に回転するラビングロールとの相対移動方向が、前記ラビングロールの回転軸方向に９０°以外の角度で交わる方向となるように前記ラビングロールを移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にするロール移動手段とを具備したことを特徴とする。
【００１９】
このような構成によれば、液晶基板は基板移動手段によって移動される。一方、ロール移動手段は、ラビングロールによる液晶基板のラビングを可能にするように、基板移動手段と協働して液晶基板とラビングロールとを相対的に移動させる。この場合には、ロール移動手段は、相対移動方向がラビングロールの回転軸方向に斜めに交わるようにする。これにより、液晶基板に対して斜めにラビングすることになり、ラビングロールのある所定部分に対する液晶基板のラビングされる領域が広範囲となる。従って、ラビングロールに傷又は付着物等があってもその影響が拡散され、スジむらが生じることを防止することができる。また、相対移動方向がラビングロールの回転軸方向に斜めに交わることから、ラビングロールはラビング方向に対して液晶基板を斜めに移動する。これにより、液晶基板表面の段部分の一方向を効果的にラビングすることができ、この部分の配向障害を抑制することができる。また、相対移動方向がラビングロールの回転軸方向に対して逆向きの斜め方向にすることによって、液晶基板表面の段部分の他方向を効果的にラビングすることができ、この部分の配向障害を抑制することができる。即ち、相対移動方向のラビングロールの回転軸方向の成分を一方方向と他方方向とで切換えることによって、Ｒ液晶パネル用及びＬ液晶パネル用の液晶基板を容易に製造することができる。相対移動方向に含まれるラビングロールの回転軸方向の成分を一方方向と他方方向とで切換えるために、ラビングロールを回転させる機構は不要であり、装置を小型化すると共に、移動制御を簡単なものにすることができる。
【００２０】
また、本発明に係るラビング装置は、回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動手段と、単独で又は前記ロール移動手段と協働して液晶基板と前記ラビングロールとを相対的に移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動手段とを具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、ラビングロールはロール移動手段によって、回転軸方向に移動される。従って、液晶基板とラビングロールとの相対移動方向は、ラビングロールの回転軸方向を斜めに交わる方向となる。これにより、ラビングロールの傷及び付着物等の影響を拡散してスジむらが生じることを防止することができると共に、液晶基板の段部分における配向障害を抑制することができる。また、ラビングロールを軸方向に移動させるという、比較的簡単な制御を行えばよく、装置の小型化が可能である。
【００２１】
また、本発明に係るラビング装置は、回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動手段と、液晶基板を移動させて前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動手段とを具備したことを特徴とする。
【００２２】
このような構成によれば、ラビングロールはロール移動手段によって、回転軸方向に移動される。従って、液晶基板とラビングロールとの相対移動方向は、ラビングロールの回転軸方向を斜めに交わる方向となる。これにより、ラビングロールの傷及び付着物等の影響を拡散してスジむらが生じることを防止することができると共に、液晶基板の段部分における配向障害を抑制することができる。
【００２３】
また、前記基板移動手段は、前記基板移動手段は、前記ラビングロールの回転軸方向に垂直な方向に前記液晶基板を移動させることを特徴とする。
【００２４】
このような構成によれば、ラビングロール及び液晶基板を１次元に移動させればよく、極めて簡単な装置で、ラビングロールの傷及び付着物等の影響を拡散してスジむらが生じることを防止すると共に、液晶基板の段部分における配向障害を抑制することができる。
【００２５】
また、前記基板移動手段は、前記基板移動手段は、前記ラビングロールの回転軸方向に対する前記液晶基板の向きを可変であることを特徴とする。
【００２６】
このような構成によれば、液晶基板のラビング方向を容易に変更可能である。
【００２７】
また、前記ロール移動手段又は前記基板移動手段は、前記液晶基板及びラビングロールの少なくとも一方の移動方向を逆転させることが可能であることを特徴とする。
【００２８】
このような構成によれば、ラビング作業の自由度が増大する。
【００２９】
また、前記ロール移動手段又は前記基板移動手段は、前記液晶基板及びラビングロールの少なくとも一方を上下に移動させる手段を含むことを特徴とする。
【００３０】
このような構成によれば、同一液晶基板に対して連続的なラビングが可能である。
【００３１】
また、本発明に係るラビング方法は、液晶基板を移動させる基板移動工程と、前記基板移動工程と協働して前記液晶基板と回転軸を中心に回転するラビングロールとの相対移動方向が、前記ラビングロールの回転軸方向に９０°以外の角度で交わる方向となるように、前記ラビングロールを移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にするロール移動工程とを具備したことを特徴とする。
【００３２】
このような構成によれば、基板移動工程によって、液晶基板が移動される。ロール移動工程によって、ラビングロールによる液晶基板のラビングを可能にするように、基板移動工程と協働して液晶基板とラビングロールとが相対的に移動する。この場合には、ロール移動工程は、相対移動方向がラビングロールの回転軸方向に斜めに交わる方向となるようにする。これにより、ラビングロールの傷及び付着物等の影響は拡散され、スジむらが生じることを防止することができ、また、液晶基板表面の段部分を効果的にラビングすることができる。そして、これらの移動処理には、ラビングロールを回転させる処理を含む必要はなく、装置を小型化すると共に、移動制御を簡単なものにすることができる。
【００３３】
また、本発明に係るラビング方法は、回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動工程と、単独で又は前記ロール移動工程と協働して液晶基板と前記ラビングロールとを相対的に移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動工程とを具備したことを特徴とする。
【００３４】
このような構成によれば、ラビングロールはロール移動工程によって、回転軸方向に移動される。従って、液晶基板とラビングロールとの相対移動方向は、ラビングロールの回転軸方向に斜めに交わる方向となる。これにより、ラビングロールの傷及び付着物等の影響を拡散してスジむらが生じることを防止することができると共に、液晶基板の段部分における配向障害を抑制することができる。また、ラビングロールを軸方向に移動させるという、比較的簡単な制御を行えばよく、装置の小型化が可能である。
【００３５】
また、本発明に係るラビング方法は、回転軸を中心に回転するラビングロールを前記回転軸方向に移動させるロール移動工程と、液晶基板を移動させて前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にする基板移動工程とを具備したことを特徴とする。
【００３６】
このような構成によれば、ラビングロールはロール移動工程によって、回転軸方向に移動される。従って、液晶基板とラビングロールとの相対移動方向は、ラビングロールの回転軸方向に斜めに交わる方向となる。これにより、ラビングロールの傷及び付着物等の影響を拡散してスジむらが生じることを防止することができると共に、液晶基板の段部分における配向障害を抑制することができる。
【００３７】
また、前記基板移動工程は、前記ラビングロールの回転軸方向に垂直な方向に前記液晶基板を移動させることを特徴とする。
【００３８】
このような構成によれば、ラビングロール及び液晶基板を１次元に移動させればよく、極めて簡単な装置で、ラビングロールの傷及び付着物等の影響を拡散してスジむらが生じることを防止すると共に、液晶基板の段部分における配向障害を抑制することができる。
【００３９】
また、本発明に係る液晶装置の製造方法は、液晶基板上に形成した配向膜をラビングする工程を有する液晶表示装置の製造方法において、前記液晶基板を移動させる基板移動工程と、前記基板移動工程と協働して前記液晶基板と回転軸を中心に回転するラビングロールとの相対移動方向が、前記ラビングロールの回転軸方向に９０°以外の角度で交わる方向となるように、前記ラビングロールを移動させて、前記ラビングロールによる前記液晶基板のラビングを可能にするロール移動工程とを有するラビング方法により、前記配向膜をラビングすることを特徴とする。
【００４０】
このような構成によれば、ラビングのスジむらの発生が防止されると共に、配向障害を抑制することができることから、表示性能に優れている。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施の形態であるラビング装置を説明するための説明図である。図２は本実施の形態のラビング装置を用いて製造した液晶装置を構成するＴＦＴ基板（素子基板）をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図であり、図３はＴＦＴ基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図２のＨ−Ｈ’線の位置で切断して示す断面図である。図４は液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【００４２】
本実施の形態においては、ラビングロールを回転軸の軸方向に移動させると共に、液晶基板をラビングロールの回転軸に垂直な方向に進行させることによってバイアスラビングを実現して、スジむらの発生を防止した液晶装置を製造すると共に、比較的小型の装置によって、Ｒ液晶パネル及びＬ液晶パネルの製造を可能にしたものである。
【００４３】
先ず、図２乃至図４を参照して本実施の形態において製造する液晶装置の全体構成について説明する。
液晶装置は、図２及び図３に示すように、素子基板であるＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に液晶５０を封入して構成される。ＴＦＴ基板１０は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板からなり、ＴＦＴ基板１０上には画素を構成するＴＦＴ素子（図示省略）及び画素電極９ａ等がマトリクス状に配置される。また、対向基板２０は、例えばガラス基板や石英基板からなり、対向基板２０上には全面に対向電極２１が設けられる。画素電極９ａ及び対向電極２１は、例えばＩＴＯ膜等の透明導電性膜からなる。
【００４４】
図４は画素を構成するＴＦＴ基板１０上の素子の等価回路を示している。
図４に示すように、画素領域においては、複数本の走査線１１ａと複数本のデータ線６ａとが交差するように配線され、走査線１１ａとデータ線６ａとで区画された領域に画素電極９ａがマトリクス状に配置される。そして、走査線１１ａとデータ線６ａの各交差部分に対応してＴＦＴ３０が設けられ、このＴＦＴ３０に画素電極９ａが接続される。
【００４５】
ＴＦＴ３０は走査線１１ａのＯＮ信号によってオンとなり、これにより、データ線６ａに供給された画像信号が画素電極９ａに供給される。この画素電極９ａと対向基板２０に設けられた対向電極２１との間の電圧が液晶５０に印加される。また、画素電極９ａと並列に蓄積容量７０が設けられており、蓄積容量７０によって、画素電極９ａの電圧はソース電圧が印加された時間よりも例えば３桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積容量７０によって、電圧保持特性が改善され、コントラスト比の高い画像表示が可能となる。
【００４６】
ＴＦＴ基板１０の画素電極９ａ上には、ラビング処理が施された配向膜（図示省略）が設けられている。一方、対向基板２０上の全面に渡って形成された対向電極２１上にも、ラビング処理が施された配向膜（図示省略）が設けられている。各配向膜は、例えば、ポリイミド膜等の透明な有機膜からなる。ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０に形成された配向膜は、図１の装置を用いてラビング処理が施されている。
【００４７】
図２及び図３に示すように、対向基板２０には表示領域を区画する額縁としての遮光膜５３が設けられている。遮光膜５３の外側の領域には液晶を封入するシール材５２が、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０間に形成されている。シール材５２は対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０を相互に固着する。
【００４８】
このように対向配置されたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０間には、シール材５２により囲まれた空間に液晶等の電気光学物質が封入され、液晶層５０が形成される。液晶層５０は、画素電極９ａからの電界が印加されていない状態で配向膜により所定の配向状態をとる。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した電気光学物質からなる。シール材５２は、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０をそれらの周辺で貼り合わせるための、例えば光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤である。
【００４９】
シール材５２は、ＴＦＴ基板１０の１辺の一部において欠落しており、貼り合わされたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０相互の間隙には、液晶５０を注入するための液晶注入口１０８が形成される。液晶注入口１０８より液晶が注入された後、液晶注入口１０８を封止材１０９で封止するようになっている。
【００５０】
シール材５２の外側の領域には、データ線６ａに画像信号を所定のタイミングで供給することにより該データ線６ａを駆動するデータ線駆動回路１０１及び外部回路との接続のための外部接続端子１０２がＴＦＴ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に隣接する二辺に沿って、走査線１１ａに走査信号を所定のタイミングで供給することにより走査線１１ａを駆動する走査線駆動回路１０４が設けられている。走査線駆動回路１０４は、シール材５２の内側の遮光膜５３に対向する位置においてＴＦＴ基板１０上に形成される。また、ＴＦＴ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、外部接続端子１０２及び上下導通端子１０７を接続する配線１０５が、遮光膜５３の３辺に対向して設けられている。
【００５１】
上下導通端子１０７は、シール材５２のコーナー部の４箇所のＴＦＴ基板１０上に形成される。そして、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０相互間には、下端が上下導通端子１０７に接触し、上端が対向電極２１に接触する上下導通材１０６が設けられており、上下導通材１０６によって、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通がとられている。
【００５２】
次に、パネル組立工程について説明する。ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とは、別々に製造される。夫々用意されたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０に対して、配向膜となるポリイミド（ＰＩ）が塗布される。次に、ＴＦＴ基板１０表面の配向膜及び対向基板２０表面の配向膜に対して、ラビング処理を施す。上述したように、本実施の形態においては、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０のラビング処理は図１の装置を用いて行われる。
【００５３】
次に、シール材５２を形成する。シール材５２はディスペンス塗布等によって形成する。このようなシール材５２を形成した後、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着し、シール材５２を硬化させる。最後に、シール材５２の一部に設けた切り欠き１０８から液晶を封入し、切り欠き１０８を塞いで液晶を封止する。
【００５４】
図１において、ラビング装置１００は図示しないステージを有しており、ラビング時には液晶基板１０１をステージ上に配置するようになっている。液晶基板１０１は上述したＴＦＴ基板１０又は対向基板２０であり、配向膜形成が行われものである。液晶基板１０１はステージの移動に伴って水平及び垂直方向に移動する。なお、丸基板である液晶基板１０１には、アライメントのための位置マーク（切り欠き）が設けられており、この位置マークを外形基準として用いて配置精度を得る。更に、液晶基板１０１には図示しない製造プロセス中でアライメントマークを形成するようになっており、このアライメントマークを光学手法によって検出することで、高精度の位置合わせを行うようになっている。
【００５５】
通常、液晶基板の各素子は、位置マークに沿った方向に形成されており、例えば、ソース線は、位置マークの直線方向（以下、基板の左右方向という）に垂直な方向（以下、基板の上下方向という）に沿って形成されている。
【００５６】
また、液晶装置の製造工程中の組立工程においては、生産性及び貼り合わせ精度の点から、ＴＦＴ基板についてはウェハ基板上に複数形成した状態（以下、ウェハ状態という）で投入し、対向基板についてはウェハ基板を分断して各セル単位で投入された状態（以下、チップ状態という）で投入するチップマウント方式を採用することがある。即ち、チップマウント方式においては、ＴＦＴ基板についてはウェハ状態でラビング処理を行い、対向基板についてはチップ状態でラビングを行う。図１の例はこのようなウェハ状態のＴＦＴ基板のラビング処理についてのものである。
【００５７】
ラビングロール１０３は、円柱形状に構成され、その長さは、例えば、２０〜６００ｍｍであり、回転軸１０４を中心に周方向に回動自在である。ラビングロール１０３の周面には、例えばレーヨンで形成されたラビング布が取り付けられている。ラビング布の表面からはレーヨンの毛先が伸びている。ラビングロール１０３と液晶基板１０１とは、ラビング布による液晶基板１０１へのラビング圧が所定値になるように、垂直方向の位置決めが行われている。また、ロール本体はＳＵＳやアルミ等の金属材料から形成されており、ラビング布としてはレーヨン以外にナイロンを用いても良い。
【００５８】
液晶基板１０１とラビングロール１０３とは相対的に移動自在であり、図１では、例えば、液晶基板１０１がラビングロール１０３に対して矢印にて示す水平方向に相対的に移動することを示している。ラビングロール１０３を、例えば、回転速度１００〜１０００ｒｐｍで回転させながら液晶基板１０１を水平方向に移動させて、液晶基板１０１をラビングロール１０３の周面の下方側に移動させ、ラビングロール１０３の回転及び液晶基板１０１の移動によって、周面のラビング布で液晶基板１０１の全面を擦ってラビングを行う。ラビングロール１０３が液晶基板１０１を押し付ける強さは、例えば、ラビング布が液晶基板１０１に接触してから０．２〜１．０ｍｍ押込む強さである。なお、図１の破線で示すラビングロール１０３′及び液晶基板１０１′は、移動前を示し、実線で示すラビングロール１０３及び液晶基板１０１は、移動後を示している。
【００５９】
本実施の形態においては、ラビングロール１０３は、矢印に示すように、回転軸１０４の軸方向に、例えば、１０〜１００ｍｍ／ｓｅｃで進行しながら、回転するようになっている。これに対して、液晶基板１０１は、矢印にて示すように、ステージの移動に伴って、ラビングロール１０３の回転軸に垂直な方向、即ち、液晶基板１０１の上下方向の下端側（位置マーク側）から上端側に向かう方向に、例えば、５〜１００ｍｍ／ｓｅｃで進行する。なお、液晶基板１０１のバイアス角度は例えば５〜６０度である。また、上記各数値範囲は１２ｉｎｃｈの液晶基板を想定したものであり、液晶基板のサイズにより適宜変更するものである。
【００６０】
ラビングロール１０３の回転速度は液晶基板１０１の進行速度及びラビングロール１０３の進行速度よりも十分に大きく設定されている。従って、ラビング方向は液晶基板１０１の向きとラビングロール１０３の回転方向との関係で略決定される。例えば、図１の例では、ラビング方向は、液晶基板１０１の上端から下端（位置マーク側）に向かう方向（基板進行方向と逆方向）となる。
【００６１】
なお、厳密には、ラビング方向は、ラビングロール１０３の回転速度、ラビングロール１０３の進行速度及び液晶基板１０１の進行速度の合成ベクトルで与えられる。
【００６２】
また、ラビングロール１０３は回転すると同時に軸方向に進行しており、ラビングロール１０３の軸方向の所定位置におけるラビング布部分で、液晶基板１０１の左右方向の所定幅の領域がラビングされる。従って、ラビングロール１０３のクロス材の所定部分において傷が生じている場合や異物が付着している場合であっても、これらの傷や異物によるラビングの影響は、液晶基板１０１表面の広い領域に拡散され、スジ状のラビングムラが生じることはない。
【００６３】
ラビングロール１０３は軸方向に進行しながら回転して、周面のラビング布の毛先で基板１０１上の配向膜を擦っている。図１の楕円矢印にて示すように、ラビングロール１０３は、周面のラビング布の毛先によって、下方を通過する液晶基板１０１を、下側から上側に擦り上げている。そして、液晶基板１０１に対して、液晶基板１０１の進行速度とラビングロール１０３の進行速度の合成ベクトルに基づく方向にラビングクロスが進行する。従って、ソース線（図示せず）が液晶基板１０１の基板上下方向に形成されるものとすると、ラビング布の毛先は、ソース線等の段差に対して斜め方向で且つ下側から上側に向かって配向膜を擦り上げることになる。これにより、図１の例では、液晶基板１０１のパネル表面側から見て、ソース線等による凸形状の右側の段差が効果的にラビングされて、この部分の配向障害が軽減される。即ち、図１の例は、Ｒ液晶パネルに有利な基板を製造することができる。
【００６４】
そして、本実施の形態においては、ラビングロール１０３の進行方向のみを図１とは逆向きにすることによって、液晶基板１０１のパネル表面側から見て、ソース線等による凸形状の左側の段差を効果的にラビングさせて、この部分の配向障害を軽減させることができる。即ち、この場合には、図１の装置は、Ｌ液晶パネルに有利な基板を製造することができる。
【００６５】
このように本実施の形態においては、ラビングロールを回転させると同時に回転軸の方向に進行させ、液晶基板をラビングロールの進行方向に直交する方向に進行させてラビング処理を行っていることから、ラビング布の傷や異物等の影響を拡散してスジむらの発生を防止すると共に、ラビングロールの進行方向を反転させるだけで、Ｌ液晶パネル及びＲ液晶パネル用の液晶基板のラビング処理が可能である。従って、Ｌ液晶パネル及びＲ液晶パネル用の液晶基板の製造に際してラビングロールを平面内で回転させる機構を設ける必要がなく、装置を小型化することができる。また、ラビングロール及び液晶基板の進行方向は直交しており、ラビングロール及び液晶基板を２次元の方向に移動させる必要はなく、極めて簡単な１次元の移動制御のみを行えばよく、制御が容易である。
【００６６】
なお、ラビングロール及び液晶基板の少なくとも一方の移動方向を逆向きにすることも可能である。また、ラビングロール及び液晶基板の少なくとも一方を上下動させることによって、連続的なラビング処理が可能である。
【００６７】
図５は本発明の第２の実施の形態を説明するための説明図である。図５において図１と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
【００６８】
本実施の形態は液晶基板１０１の向きが異なるのみであり、ラビングロール１０３の回転方向、進行方向及び回転速度、進行速度並びに液晶基板１０１の進行方向及び速度は図１と同様である。
【００６９】
図５の例はラビング方向が図１の例と異なるのみである。図５の例においては、ラビング方向は液晶基板１０１の上下方向に４５度傾斜している。
【００７０】
他の作用は第１の実施の形態と同様である。
【００７１】
なお、図１及び図５のラビング装置１００は、図示しないステージに回転機構を設けることによって、容易にラビング方向を変更可能であることは明らかである。
【００７２】
図６は本発明の第３の実施の形態を説明するための説明図である。図６において図１と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
【００７３】
第１及び第２の実施の形態においては、ラビングロール１０３は回転軸方向に進行し、液晶基板１０１はラビングロール１０３の回転軸に垂直な方向に進行した。しかし、ラビング布の傷や付着した異物による影響を液晶基板１０１の広範囲に拡散させる共に、ラビングロール１０３を水平面内で回転させることなく、Ｌ液晶パネル及びＲ液晶パネル用の基板のラビングを可能にするためには、ラビングロール１０３と液晶基板１０１との平面内における相対的な進行方向が、ラビングロール１０３の回転軸方向の成分を含むようにすればよい。
【００７４】
第３の実施の形態におけるラビング装置１１０は、図１のラビング装置１００で採用したステージ（図示せず）とは異なるステージを採用して、液晶基板１０１をラビングロール１０３の進行方向に直交する方向から所定角度傾斜した方向に移動させるようにしたものである。なお、ラビングロール１０３の回転方向、進行方向及び回転速度、進行速度は図１の例と同様である。
【００７５】
また、ラビングロール１０３の回転方向に対する液晶基板１０１の向きは、図１の例と同じであり、ラビング方向は図１と同様に、液晶基板１０１の上端から下端側に向かう基板の上下方向である。また、液晶基板１０１の進行速度も図１の例と略同様である。
【００７６】
図６の例においても、ラビング布の傷や付着した異物による影響を液晶基板１０１の広範囲に拡散させることができる。拡散する範囲は、ラビングロール１０３と液晶基板１０１との平面内における相対的な進行方向に含まれる、ラビングロール１０３の回転軸方向の成分の大きさによって決定される。ラビングロール１０３の進行速度及び液晶基板１０１の進行速度が図１の例と同じであるものとすると、図６の例では図１の例よりもラビング布の傷や付着した異物による影響の低減効果が大きい。また、図６の例は図１の例よりも、ソース線等による凸形状の段差におけるラビングの効果を大きくすることができる。
【００７７】
他の作用は第１及び第２の実施の形態と同様である。例えば、第２の実施の形態に適用して、ラビングロール１０３の回転方向に対する液晶基板１０１の向きを変化させ、ラビング方向を自由に設定することも可能である。
【００７８】
なお、第２の実施の形態においても、ステージの進行方向を固定しても良い場合には、液晶基板１０１を１次元制御で移動させることができる。
【００７９】
図７は本発明の第４の実施の形態を説明するための説明図である。図７において図１と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
【００８０】
第４の実施の形態におけるラビング装置１２０は、ラビングロール１０３の図示しない移動機構を図１のラビング装置１００で採用した移動機構（図示せず）とは異なるものを採用して、ラビングロール１０３を、回転軸が平行移動するように進行させたものである。なお、ラビングロール１０３の回転方向及び速度並びに液晶基板１０１の進行方向及び速度は、図１の例と同様である。
【００８１】
即ち、図７の例では、ラビングロール１０３の回転方向に対する液晶基板１０１の向きの関係が図１と同じであり、ラビング方向は、液晶基板１０１の上端から下端側に向かう基板の上下方向である。
【００８２】
図７の例においても、ラビング布の傷や付着した異物による影響を液晶基板１０１の広範囲に拡散させることができると共に、ソース線等による凸形状の段差におけるラビングの効果を大きくすることができることは明らかである。
【００８３】
上記各実施の形態においては、ＴＦＴ基板に対するラビング処理について説明したが、対向基板についても同様に適用可能であり、更に、ＴＦＤ基板等の各種液晶基板のラビングに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態であるラビング装置を説明するための説明図。
【図２】本実施の形態のラビング装置を用いて製造した液晶装置を構成するＴＦＴ基板（素子基板）をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。
【図３】ＴＦＴ基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図２のＨ−Ｈ’線の位置で切断して示す断面図。
【図４】液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図。
【図５】本発明の第２の実施の形態を説明するための説明図。
【図６】本発明の第３の実施の形態を説明するための説明図。
【図７】本発明の第４の実施の形態を説明するための説明図。
【図８】従来のラビング装置において採用されているバイアスラビングを説明するための説明図。
【符号の説明】
１００…ラビング装置、１０１，１０１′…液晶基板、１０３，１０３′…ラビングロール、１０４…回転軸。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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