(57)【要約】      （修正有）【課題】リンギングによる漏れ光を防止して高精度なレーザ加工を実現する。【解決手段】レーザ発振器２１から出射されるレーザ光の偏波面を制御信号により制御する第１の電気光学素子２２と、前記レーザ光の偏光状態からレーザ光路を分岐する偏光ビームスプリッタ２３とを介して、加工対象物にレーザ光を照射して加工を行うレーザ加工装置において、前記第１の電気光学素子に対して印加する電圧パルス波形の立ち上がり及び立ち下がりを所定の時間間隔内で調整して印加させる電圧波形調整部２８と、前記電圧波形調整部における電圧の印加、及び前記レーザ発振器におけるレーザ光の照射を制御する制御部２９とを有する。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ発振器から出射されるレーザ光の偏波面を制御信号により制御する第１の電気光学素子と、前記レーザ光の偏光状態からレーザ光路を分岐する偏光ビームスプリッタとを介して、加工対象物にレーザ光を照射して加工を行うレーザ加工装置において、
前記第１の電気光学素子に対して印加する電圧パルス波形の立ち上がり及び立ち下がりを所定の時間間隔内で調整して印加させる電圧波形調整部と、
前記電圧波形調整部における電圧の印加、及び前記レーザ発振器におけるレーザ光の照射を制御する制御部とを有することを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項２】
前記レーザ発振器は、
立ち上がり及び立ち下がりの電圧が調整されたパルス波形が印加される第２の電気光学素子を有するＱスイッチレーザであることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項３】
レーザ発振器から出射されるレーザ光の偏波面を制御信号により制御する第１の電気光学素子と、前記レーザ光の偏光状態からレーザ光路を分岐する偏光ビームスプリッタとを介して、加工対象物にレーザ光を照射して加工を行うレーザ加工方法において、
前記第１の電気光学素子に対して印加する電圧パルス波形の立ち上がり及び立ち下がりを所定の時間間隔内で調整して印加させる電圧波形調整段階と、
前記電圧波形調整段階における電圧の印加、及び前記レーザ発振器におけるレーザ光の照射を制御する制御段階とを有することを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項４】
前記レーザ発振器は第２の電気光学素子を有するＱスイッチレーザであり、前記第２の電気光学素子に立ち上がり及び立ち下がりの電圧が調整されたパルス波形を印加することを特徴とする請求項３に記載のレーザ加工方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ加工装置及びレーザ加工方法に係り、特に、レーザ光の偏光に用いられる電気光学素子の寿命を長くし、レーザ加工装置の稼働率を向上させることができるレーザ加工装置及びレーザ加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、レーザ加工において、加工の精度、処理効率を向上させる１つの手段として、レーザ発振器から出射されるレーザ光を光変調器のＯＮ／ＯＦＦにより分岐させて処理を行う加工処理方法がある（例えば、特許文献１参照。）。これにより、レーザ照射系は１つしかない場合にも複数の加工地点への加工処理が可能になり処理効率を向上させることができる。
【０００３】
また、分岐手段としては、レーザ光が出射されてから加工対象物に照射されるまでの光路にハーフミラーやマスクモジュール等を設置し分岐を行うものや、電気光学素子を用いたＥＯＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｏｐｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ；電気光学変調器）、又は音響光学素子を用いたＡＯＭ（Ａｃｏｕｓｔ  Ｏｐｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ；音響光学変調器）等の光学変調器による分岐も行っている。
【０００４】
特にＥＯＭの場合は、電圧が印加されるとその領域の配列が変化し、透過する光の振動方向を変える。ＥＯＭは、特定の振動方向の光だけを透過させるので、ＥＯＭを通過する光の振動方向の違いが透過率の差として認識される。つまり、特定の偏光面を有するレーザ光を取得する場合に、ＥＯＭに電圧を印加するだけでよいため、瞬時にレーザ光の偏波面の変更が可能であり、高い処理効率を実現することができる。
【０００５】
ここで、上述の内容を示す一例としてＥＯＭを用いた分岐の仕組みをレーザ光の偏光の様子と共に、図を用いて説明する。
【０００６】
図１は、ＥＯＭを用いた分岐の様子を示す一例の図である。なお、図１（ａ）は、ＥＯＭに電圧をかけていない場合（ＥＯＭがＯＦＦ）を示し、図１（ｂ）は、ＥＯＭに電圧を掛けている場合（ＥＯＭがＯＮ）の場合を示している。また、どちらの場合もＥＯＭ１１と偏光面が縦偏光のレーザ光を通過させ、偏光面が横偏光のレーザ光を反射させる偏光ビームスプリッタ１２による分岐を行うものとし、説明を容易にするため、ＥＯＭへ入射するレーザ光を縦偏光レーザ光とする。
【０００７】
図１（ａ）の場合は（ＥＯＭがＯＦＦ）、ＥＯＭ１１に入射されたレーザ光は、縦偏光のまま出力される。出力されたレーザ光は、偏光ビームスプリッタ１２に入力され、偏光ビームスプリッタ１２は、縦偏光のレーザビームは通過させるため、入射したレーザ光は、図１（ａ）に示すように、そのまま通過する。
【０００８】
一方、図１（ｂ）の場合は（ＥＯＦがＯＮ）、ＥＯＭ１１により縦偏光で入射されたレーザ光が横偏光として出力される。また、偏光面が横偏光のレーザ光が偏光ビームスプリッタ１２に入力されると、偏光ビームスプリッタ１２は、レーザ光を通過させずに反射させる。図１（ａ）、（ｂ）により、ＥＯＭに対する負荷電圧を与えるか否かにより、容易で且つ迅速にレーザ光の分岐を行うことができる。
【０００９】
現在では、ＥＯＭはレーザ加工処理におけるレーザ光の分岐モジュールとして構成されるだけでなく、各種表示装置やコンピュータ端末、光シャッター等広い分野で使われるようになっている。
【００１０】
また、電気光学素子に対して立ち上がり、立ち下がりの速い矩形波電圧を印加する電気光学素子の駆動方法に関する技術がある（例えば、特許文献２参照。）。
【００１１】
【特許文献１】
特開平８−２１５８７５号公報
【００１２】
【特許文献２】
特開平１０−２４７７５５号公報
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、一般にＥＯＭは、元々素子にかかる電界強度に比例して屈折率が変化する現象（一次電気光学効果）を利用したものであるが、屈折率の変化は電歪によって発生する。その影響によりステップパルス入力によるＥＯＭのステップ応答でＥＯＭにリンギングが発生する。
【００１４】
ここで、リンギングの様子を図を用いて説明する。図２は、リンギングの様子の一例を示す図である。なお、図２（ａ）は、ＥＯＭに印加した電圧ＯＮ／ＯＦＦにより制御された電圧パルス波形を示す図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の電圧パルス波形に対応したＥＯＭを通過するレーザパルスのレーザ強度の様子を示す図である。
【００１５】
ＥＯＭに図２（ａ）に示すような電圧パルス波形を印加することで、図２（ｂ）に示すようにリンギングが発生すると、ＥＯＭに入力するレーザ光の偏光状態はリンギングに同期して乱れを発生する。その結果、レーザ光は偏光ビームスプリッタで正しく分岐されず、望まないレーザ光が漏れてしまう。
【００１６】
また、多軸レーザ加工機の場合、加工していない軸へレーザ光が届くため、加工対象に不用な打痕を付けてしまう。
【００１７】
本発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであり、特に、電気光学素子のリンギングによる漏れ光を低減し、高精度なレーザ加工を行うためのレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本件発明は、以下の特徴を有する課題を解決するための手段を採用している。
【００１９】
請求項１に記載された発明は、レーザ発振器から出射されるレーザ光の偏波面を制御信号により制御する第１の電気光学素子と、前記レーザ光の偏光状態からレーザ光路を分岐する偏光ビームスプリッタとを介して、加工対象物にレーザ光を照射して加工を行うレーザ加工装置において、前記第１の電気光学素子に対して印加する電圧パルス波形の立ち上がり及び立ち下がりを所定の時間間隔内で調整して印加させる電圧波形調整部と、前記電圧波形調整部における電圧の印加、及び前記レーザ発振器におけるレーザ光の照射を制御する制御部とを有することを特徴とする。
【００２０】
請求項１記載の発明によれば、電気光学素子への電圧パルスの印加によるスイッチングに対するリンギングにより発生する漏れ光を防止することができる。これにより、高精度なレーザ加工を実現することができる。
【００２１】
請求項２に記載された発明は、前記レーザ発振器は、立ち上がり及び立ち下がりの電圧が調整されたパルス波形が印加される第２の電気光学素子を有するＱスイッチレーザであることを特徴とする。
【００２２】
請求項２記載の発明によれば、レーザ発振器内に設けられた電気光学素子についてもリンキングを防止し、高精度なレーザ光の出射を行うことができる。これにより、レーザ加工の加工精度を向上させることができる。
【００２３】
請求項３に記載された発明は、レーザ発振器から出射されるレーザ光の偏波面を制御信号により制御する第１の電気光学素子と、前記レーザ光の偏光状態からレーザ光路を分岐する偏光ビームスプリッタとを介して、加工対象物にレーザ光を照射して加工を行うレーザ加工方法において、前記第１の電気光学素子に対して印加する電圧パルス波形の立ち上がり及び立ち下がりを所定の時間間隔内で調整して印加させる電圧波形調整段階と、前記電圧波形調整段階における電圧の印加、及び前記レーザ発振器におけるレーザ光の照射を制御する制御段階とを有することを特徴とする。
【００２４】
請求項３記載の発明によれば、電気光学素子への電圧パルスの印加によるスイッチングに対するリンギングにより発生する漏れ光を防止することができる。これにより、高精度なレーザ加工を実現することができる。
【００２５】
請求項４に記載された発明は、前記レーザ発振器は第２の電気光学素子を有するＱスイッチレーザであり、前記第２の電気光学素子に立ち上がり及び立ち下がりの電圧が調整されたパルス波形を印加することを特徴とする。
【００２６】
請求項４記載の発明によれば、レーザ発振器内に設けられた電気光学素子についてもリンキングを防止し、高精度なレーザ光の出射を行うことができる。これにより、レーザ加工の加工精度を向上させることができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
本発明は、レーザ光の分岐に用いられる偏波面を制御するために電気光学素子（第１の電気光学素子）に印加される電圧に対して、ＥＯＭ制御電圧波形の立ち上がり、立ち下がりを適切にコントロールすることにより、リンギングを最小限にすることが可能となる。リンギングを最小とする事で、不必要な漏れ光を削減でき、加工物の品質を向上させることができる。
【００２８】
また、レーザ光を出射するレーザ発振器を電気光学素子（第２の電気光学素子）を用いたＱスイッチレーザとした場合にも、第２の電気光学素子に印加する電圧を調整されたパルス波形の電圧とすることによりリンギングを防止し、漏れ光を出射させることなくレーザ発振器の精度を向上させることができる。
【００２９】
なお、電気光学素子（第１及び第２の電気光学素子）には、ＫＤＰ（ＫＨ２ＰＯ４）、ＫＤ＊Ｐ（ＫＤ２ＰＯ４）、ＡＤＰ（ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４）、又はＡＤ＊Ｐ（ＮＨ４Ｄ２ＰＯ４）等の重水素単一結晶等を含む水素結合型誘電体を用いてもよく、水素結合でないもの、例えばＢＢＯ（ベータバリウムボライト）等を用いることもできる。
【００３０】
次に、本発明における実施の形態について図を用いて説明する。なお、ここでは、電気光学変調器によるレーザ光の分岐の様子の説明を容易にするため、ＥＯＭを用いた２軸分岐型のレーザ加工装置を用いて説明する。
【００３１】
図３は、本発明におけるレーザ加工装置の一実施例を示す図である。図３のレーザ加工装置２０は、レーザ発振器２１と、ＥＯＭ２２と、偏光ビームスプリッタ２３と、全反射ミラー２４と、レーザ光の夫々の光路に対応した集光レンズ２５と、ステージ２６と、電源部２７と、電圧波形調整部２８と、制御部２９とを有するよう構成されている。また、ステージ２６には加工対象物３０が載置されている。
【００３２】
制御部２９は、レーザ発振器２１からのレーザの出射タイミングと、電源部２７におけるＥＯＭ２２へ供給する電圧の供給タイミングと、電圧波形調整部２８におけるパルス波形を生成するための変換タイミングと、ステージ２６の移動タイミングの制御を行う。
【００３３】
次に、動作について説明する。レーザ発振器２１は、制御部２９からの制御信号によりレーザ光を出射する。ＥＯＭ２２は、電圧波形調整部２８からの電圧制御信号に対して入力されたレーザ光を偏光する。偏光ビームスプリッタ２３は、レーザ光の偏光状態に基づいて反射又は通過を行い、全反射ミラー２４は入射光を加工対象物３０側へ反射させる。
【００３４】
集光レンズ２５−１及び集光レンズ２５−２は、所望する形状にレーザ光を集光して加工対象物３０の加工を行う。つまり、偏光ビームスプリッタ２３により、レーザ光路が図３のＫ１及びＫ２に分岐されるため、２軸でのレーザ加工を実現し、これにより、作業効率を向上させることができる。
【００３５】
ステージ２６は、制御部２９からの制御信号により載置された加工対象物３０の移動を行い、所望の加工地点の加工を可能にする。なお、ステージ２６は、ＸＹＺθテーブルであり、集光レンズ２５に対して前後左右方向（Ｘ、Ｙ方向）及び上下方向（Ｚ方向）への移動が可能であり、且つステージ２６を照射軸に対して傾斜角θ分傾かせることもできる。このようにステージ２６を移動させることで多種の加工形状を形成することが可能となる。
【００３６】
電源部２７は、制御部２９からの制御信号により電源部２７から電圧を出力し、電圧波形調整部２８は、制御部２９からの制御信号により入力された電圧信号をパルス状の電圧波形信号を生成してＥＯＭ２２に出力する。
【００３７】
なお、ＥＯＭ２２に印加する電圧のパルス波形の立ち上がり及び立ち下がりを調整することで、スイッチングにより発生するリンギングを防止し、ＥＯＭ２２から漏れ光が出力されることを防止して高精度なレーザ加工を防止することができる。
【００３８】
ここで、ＥＯＭ２２に対して電圧０Ｖ時の偏波面を０°として＋９０°に偏波面が偏向されるよう電圧値を印加することにより、電圧値により偏光されたレーザ光は、偏光ビームスプリッタ２３において夫々の光路（Ｋ１、Ｋ２）へ分岐される。
【００３９】
ここで、電源部２７と、電圧波形調整部２８とにおける電圧波形とレーザ加工装置の分岐の具体的な例について説明する。
【００４０】
図４は、ＥＯＭにおける入力と出力に伴うレーザ光路の分岐の様子を示す図である。なお、図４（ａ）は、図３におけるＥＯＭ２２に入力されるレーザパルスの出射周期の例を示し、図４（ｂ）は、ＥＯＭ２２にて偏光されず、偏光ビームスプリッタ２３をそのまま通過し、光路Ｋ２にて加工対象物にレーザ光が照射されて加工を行う場合のレーザパルス周期の例を示し、図４（ｃ）は、ＥＯＭ２２にて偏光され、偏光ビームスプリッタ２３にて光路を偏光されて、光路Ｋ１にて加工対象物にレーザ光を照射されて加工を行う場合のレーザパルス周期の例を示すものである。また、図４（ａ）〜（ｃ）におけて横軸は時間を示し、縦軸はレーザパルスのレーザ強度を示す図である。
【００４１】
図４（ａ）に示すレーザパルスにおいて、レーザが通過するＥＯＭ２２にて周期的な電圧をかけることにより図４（ｂ）、図４（ｃ）に示すようなレーザパルスの分岐を行うことができ、２軸レーザ加工を実現する。
【００４２】
次に、図４に基づいてＥＯＭ２２に印加する電圧の例について図を用いて説明する。図５は、印加する電圧例を示す図である。なお、図５（ａ）は従来における直流電圧の印加例を示す図であり、図５（ｂ）は、本発明おける立ち上がり及び立ち下がりの印加電圧を調整した電圧波形を示す図であり、図５（ｃ）は、図５（ｂ）に示す波形の他の立ち上がり及び立ち下がりの電圧波形を調整した例を示す図である。また、図５（ａ）、図５（ｂ）、及び図５（ｃ）の横軸は時間を示し、縦軸は電圧値を示している。
【００４３】
ここで、電圧を印加していない状態でレーザ光が入力された場合は（Ｔ０〜Ｔ１，Ｔ２〜Ｔ３，Ｔ４〜Ｔ５，Ｔ６〜：電圧ＯＦＦ時）、偏光ビームスプリッタ２３ではレーザ光がそのまま通過するため、光路Ｋ２を通って加工対象物３０に加工が行われる。また、電圧を印加した状態でレーザ光が入力された場合は（Ｔ１〜Ｔ２，Ｔ３〜Ｔ４，Ｔ５〜Ｔ６：電圧ＯＮ時）、偏光ビームスプリッタ２３により偏光され、光路Ｋ１を通って加工対象物３０へ加工が行われる。
【００４４】
このとき、図５（ａ）に示す電圧の印加方法では、電圧ＯＮの状態において偏波面を９０°に偏光するようにパルス波形の電圧を印加しているが、このような電圧波形はスイッチングによりオーバーシュートが発生し、リンギングが発生する。これにより、レーザ光の漏れ光が発生して加工対象物に漏れ光による加工を行ってしまうため、高精度なレーザ加工を行うことができない。そこで、ＥＯＭ２２に印加する電圧のパルス波形の立ち上がり、及び立ち下がりの波形を電圧波形調整部で調整することにより、ＥＯＭ２２に入力されるレーザ光の偏波面を９０°偏光させ、更にリンギングを防止することができる。
【００４５】
図５（ｂ）では、ΔＴ１の時間間隔内において、時間に比例して直線的に印加電圧を増加し、ΔＴ２の時間間隔内において、時間に比例して直線的に減少していくよう印加電圧波形の調整を行っており、図５（ｃ）は、図５（ｂ）と比べて直線的な増加及び減少ではなく、いわゆるＳ字型の曲線的な増加及び減少を行っている。図５（ｂ）、図５（ｃ）に示すように印加電圧の立ち上がり及び立ち下がりの電圧波形を増加、減少させたパルス電圧波形を印加させることによりリンギングを発生させないようにすることで漏れ光を防止し、より高精度なレーザ加工を実現することができる。
なお、立ち上がりにおける順次電圧印加時間間隔ΔＴ１及び立ち下がりにおける順次電圧印加時間間隔ΔＴ２は２０μｓ以下で調整することが好ましい。また、ΔＴ１及びΔＴ２は、同一の時間でもよく、異なる時間間隔であってもよい。
【００４６】
図５においては、時間Ｔ１〜Ｔ２、Ｔ３〜Ｔ４、Ｔ５〜Ｔ６の場合は、制御部２９の制御により電圧波形調整部２８により電圧を調整し、入力される電圧を変形させてＥＯＭ２２に印加する。これにより、スイッチングによるリンギングが発生することなく漏れ光を防止して高精度なレーザ加工を実現することができる。
【００４７】
また、立ち上がり及び立ち下がりの電圧の印加のタイミングは、レーザ発振器２１から出射されるレーザパルスの出力間であればよい。図６は、本発明における電圧波形の印加のタイミングの一例を示す図である。
【００４８】
ここで、図６（ａ）、図６（ｃ）、及び図６（ｄ）は、レーザ発振器２１からのレーザパルスの出射におけるレーザ光路の分岐の様子を示し、図６（ｂ）は、レーザ光路の分岐を行うための印加電圧のパルス波形を示している。また、図６（ｂ）におけるＥＯＭ２２に印加する電圧のパルス波形は、図５（ｂ）のパルス波形を用いている。図６では、時間ｔ１、ｔ２、ｔ３、ｔ４、ｔ５のタイミングにより図６（ｃ）、図６（ｄ）に示すようにレーザ光路を分岐させている。
【００４９】
つまり、図６に示すように本発明における電圧の立ち上がり及び立ち下がりの開始及び終了は、レーザパルスの出射間隔内で行うようにする。これにより、ＥＯＭ２２のスイッチングはレーザパルスの出射間隔内で完了することになり、高精度なレーザ光路の分岐を可能にする。
【００５０】
ここで、本発明におけるＥＯＭの素子については、上述したようにＫＤＰ、ＫＤ＊Ｐ、ＡＤＰ、又はＡＤ＊Ｐ等の重水素単一結晶等を含む水素結合型誘電体を使用することができるが、例えばＢＢＯ等でも実施することができる。
【００５１】
また、レーザ発振器２１については、レーザパルスを発振可能なパルスＹＡＧレーザは、エキシマレーザを用いることができる。このとき、出射されるレーザ光について、ジャイアントパルスと呼ばれる大出力パルスを出射する場合に、Ｑスイッチが設けられるが、このとき、電気光学結晶によりＱスイッチングを行う場合がある。この場合には、上述したように電気光学素子（第２の電気光学素子）に立ち上がり及び立ち下がりが調整された電圧波形を印加することにより、スイッチングによるリンギングが発生することなく漏れ光を防止して高精度なレーザ加工を実現することができる。
【００５２】
ここで、上述した内容を図を用いて説明する。図７は、本発明におけるＱスイッチレーザ発振器の一構成例を示す図である。図７のレーザ発振器５０は、全反射ミラー５１と、ＥＯＭ５２と、偏光子５３と、集光器５４と、出力ミラー５５と、電源部５６と、電圧波形調整部５７とを有するよう構成されている。また、集光器５４内には、レーザロッド６１と、フラッシュランプからなる励起用光源６２と、励起用光源６２を起動させる起動部６３とを有するよう構成されている。集光器５４は、レーザロッド６１と、励起用光源６２とを内部に有し励起用光源６２を点灯してその光を効率よくレーザロッド６１に照射する。
【００５３】
レーザロッド６１及び励起用光源６２により集光器５４で生成されたレーザ光は、偏光子５３を通過してＥＯＭ５２に入力され、更に全反射ミラー５１により反射して再びＥＯＭ５２に入力され、偏光子５３及び集光器５４を通過して出力ミラー５５より出力される。このとき、上述したレーザ加工装置２０における実施例と同様に電源部５６、及び電圧波形調整部５７を用いて図５（ｂ）、又は図５（ｃ）に示すようなパルス波形電圧をＥＯＭ５２に印加することにより、レーザ発振器５０から出射されるレーザ光を偏光させることができる。
【００５４】
この場合、ＥＯＭ５２に電圧が印加されていない状態（電圧ＯＦＦ時）の場合は、共振器間のエネルギーが短時間で爆発的に発振するため、大出力レーザを発振させることができ、電圧が印加されている状態（電圧ＯＮ時）の場合は、全反射ミラー５１からのレーザ光の偏光面を変更し偏光子５３にて角度が変更されて出力されるため、出力ミラー５５からレーザ光が出力されない。
【００５５】
上述した処理の繰り返しにより、大出力レーザパルスをレーザ発振器５０から出射することができる。また、上述したようにレーザ発振器のＱスイッチに用いられる電気光学素子（第２の電気光学素子）に電圧が調整されたパルス電圧を印加することにより、電気光学素子のリンギングを防止し、更にＥＯＭからの漏れ光を防止し所望するレーザパルスの出射を高精度に行うことができる。このレーザ発振器５０を用いることにより、高精度なレーザ加工を実現することができる。
【００５６】
なお、起動部６３、電源部５６、電圧波形調整部５７の夫々の稼動タイミングは、制御手段（図示せず）により制御が行われるが、ここでの制御は、レーザ加工装置の制御部を用いてもよく、また、レーザ発振器内に制御部を設けてもよい。
【００５７】
上述したように、本発明によれば、レーザ光の分岐に用いられる偏波面を制御するために電気光学素子（第１の電気光学素子）に印加される電圧の立ち上がり、及び立ち下がりの印加電圧波形を調整することにより、電気光学結晶のスイッチングによるリンギングが発生することなく漏れ光を防止して高精度なレーザ加工を実現することができる。
【００５８】
また、レーザ発振器に電気光学素子（第２の電気光学素子）が設けられている場合には、その電気光学素子に印加するパルス波形の立ち上がり及び立ち下がりのパルス波形を制御することにより電気光学結晶のスイッチングによるリンギングが発生することなく漏れ光を防止して高精度なレーザ発振器の出射精度を向上させ、高精度なレーザ加工を実現することができる。また、Ｑスイッチにより大出力パルスを出射することができる。
【００５９】
以上本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。
【００６０】
【発明の効果】
上述の如く本発明によれば、電気光学素子のリンギングによる漏れ光を防止し、高精度なレーザ加工を行うためのレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＥＯＭを用いた分岐の様子を示す一例の図である。
【図２】リンギングの様子の一例を示す図である。
【図３】本発明におけるレーザ加工装置の一実施例を示す図である。
【図４】ＥＯＭにおける入力と出力に伴うレーザ光路の分岐の様子を示す図である。
【図５】印加する電圧例を示す図である。
【図６】本発明における電圧波形の印加のタイミングの一例を示す図である。
【図７】本発明におけるＱスイッチレーザ発振器の一構成例を示す図である。
【符号の説明】
１１，２２，５２  ＥＯＭ
１２，２３  偏光ビームスプリッタ
２１，５０  レーザ発振器
２４，５１  全反射ミラー
２５  集光レンズ
２６  ステージ
２７，５６  電源部
２８，５７  電圧波形調整部
２９  制御部
３０  加工対象物
５３  偏光子
５４  集光器
５５  出力ミラー
６１  レーザロッド
６２  励起用光源
６３  起動部
【図１】
2004317861.tif 000003
【図２】
2004317861.tif 000004
【図３】
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【図４】
2004317861.tif 000006
【図５】
2004317861.tif 000007
【図６】
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【図７】
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