(57)【要約】【課題】被露光基板の外観の悪化を防止することができて解像度を向上し易い紫外域用反射ミラーを提供する。【解決手段】基材１１アルミニウムからなる金属反射膜１３が積層されるとともに、金属反射膜１３より入射面側に誘電体膜１５が積層されてなる紫外域用反射ミラー１０において、誘電体膜１５の成膜により生じた引張又は圧縮の残留応力に対し、逆方向の応力を生じさせる応力緩和層１６が、金属反射膜１３より入射面側に積層され、応力緩和層１６の光学膜厚が実質的に不在層となる厚さにした。【選択図】  図１
2004260080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に金属反射膜が積層されるとともに、該金属反射膜の入射面側に誘電体膜が積層されてなる紫外域用反射ミラーにおいて、
前記誘電体膜の成膜により生じた引張又は圧縮の残留応力に対し、逆方向の応力を生じさせる応力緩和層が、前記金属反射膜より前記入射面側に積層され、
該応力緩和層の光学膜厚が実質的に不在層となる厚さであることを特徴とする紫外域用反射ミラー。
【請求項２】
前記応力緩和層の光学膜厚が、０．５λ以上０．７λ以下（λは照射光の波長を示す。）であることを特徴とする請求項１に記載の紫外域用反射ミラー。
【請求項３】
前記誘電体膜が高屈折率誘電体層及び低屈折率誘電体層とから構成され、該誘電体膜が複数積層されるとともに、該複数の誘電体膜の間に前記応力緩和層が配置されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の紫外域用反射ミラー。
【請求項４】
前記誘電体膜が合計６対以下となるように積層されたことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一つに記載の紫外域用反射ミラー。
【請求項５】
前記誘電体膜が成膜によって引張応力を生じるものであって、前記応力緩和層が酸化ケイ素、フッ化ストロンチウム、及びフッ化カルシウムからなる群から選ばれる１種以上からなり、圧縮応力を生じるものであることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一つに記載の紫外域用反射ミラー。
【請求項６】
真空紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターン像を被露光基板上に形成する投影光学系とを有する投影露光装置であって、請求項１乃至５の何れか一つに記載の紫外域用反射ミラーが前記照明光学系及び／又は前記投影光学系に配置されていることを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、紫外線や真空紫外線等、紫外域波長の照射光を反射可能な紫外域用反射ミラー及びその紫外域用反射ミラーを用いた投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体素子の集積度を増すために、半導体製造用縮小露光装置（ステッパー）の高解像度化の要求が高まっている。このステッパーによるフォトリソグラフィーの解像度を挙げる一つの方法として、光源波長の単波長化が挙げられる。最近では、水銀ランプより短波長の光を発振でき、かつ高出力なエキシマレーザーを光源としたステッパーの実用化が始まっている。このステッパーの光学系は、レンズや反射ミラーなどの各種の光学素子を組合せて構成されている。
【０００３】
水銀ランプなどの波長の比較的大きな照射光に用いる反射ミラーでは、偏光を抑えるために、折り曲げ用の反射ミラーに誘電体多層膜が形成されているものが知られている（下記特許文献１参照。）。
【０００４】
しかし、エキシマレーザを光源としたステッパーでは、広い角度帯域を有し、非偏光状態の高反射特性を有する反射ミラーが要求される。そのため、紫外域用反射ミラーとしては、広い角度帯域を有する金属層と優れた偏光性能を有する誘電体層を組合せることにより、広帯域で非偏光の高反射特性が得られる反射ミラーが用いられている。
【０００５】
図５に、このような従来の紫外域用反射ミラーを示す。
【０００６】
この紫外域用反射ミラー４０は、合成石英ガラス又はフッ化物単結晶からなる基材４１に、アルミニウムからなる金属反射膜４３が積層され、この金属反射膜４３に低屈折率誘電体層４４ａと高屈折率誘電体層４４ｂとからなる誘電体膜４５が多数積層された構成を有していた。この誘電体層４４ａ、４４ｂの膜厚は、通常、要求される光学特性から一義的に決定され、更に、光学特性を向上するために、多数層積層されている。
【０００７】
また、誘電体膜４５を構成する誘電体層４４ａ、４４ｂの材質は、紫外域用反射ミラー４０に要求される光学特性に応じて選択されるが、エキシマレーザなど、１９３ｎｍのＡｒＦ光より波長が短い光源を用いる場合には、フッ化物誘電体が用いられている。
【０００８】
このような誘電体膜４５を成膜するには、真空蒸着法などが利用される。成膜に際しては、機械的強度や光学性能を得るために基材４１が加熱される。通常、成膜時のプロセス温度が高温である程、光学特性が得やすいことが知られている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平６−１８６４０３号。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の紫外域用反射ミラー４０では、投影露光装置の光学系に用いた場合、露光後の被露光基板に多数のピンホールが発生して外観が悪化し、解像度が低下することがあった。この被露光基板のピンホールを調べたところ、紫外域用反射ミラー４０のアルミニウムからなる金属反射膜４３に多数のピンホールが存在し、この金属反射膜４３のピンホールが被露光基板に転写されるという問題点が明らかになった。
【００１１】
そこで、この発明では、アルミニウムからなる金属反射膜のピンホールの発生を抑制することができ、これにより被露光基板の外観の悪化を防止することができて解像度を向上し易い紫外域用反射ミラー及びそれを用いた投影露光装置を提供することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明の発明者は、アルミニウムからなる金属反射膜にピンホールが発生するのは、金属反射膜に積層された誘電体膜のクラックが原因であることを見出した。
【００１３】
即ち、誘電体膜は誘電体材料や基材を加熱した状態で成膜されるが、基材と誘電体材料との線膨張係数が異なるため、成膜後の冷却において収縮量に差が生じ、これにより残留応力が生じていた。誘電体材料の多くは基材より収縮が多いため、通常、この残留応力として、基材を誘電体膜側に引張る方向の引張応力が生じる。そして、誘電体材料を多数積層すると、この引張応力が累積され、誘電体膜全体として大きな引張応力を生じる。
【００１４】
ところが、紫外域用反射ミラーでは、使用される波長が短いため各層の膜厚が薄く、累積された残留応力を解放する際、クラックが発生し易い。そして、このクラックが起点になり、アルミニウムからなる金属反射膜にピンホールが発生していたのである。
【００１５】
そこで、このような点を解決し、上記課題を達成する請求項１に記載の発明は、基材にアルミニウムからなる金属反射膜が積層されるとともに、該金属反射膜の入射面側に誘電体膜が積層されてなる紫外域用反射ミラーにおいて、前記誘電体膜の成膜により生じた引張又は圧縮の残留応力に対し、逆方向の応力を生じさせる応力緩和層が、前記金属反射膜より前記入射面側に積層され、該応力緩和層の光学膜厚が実質的に不在層となる厚さであることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記応力緩和層の光学膜厚が、０．５λ以上０．７λ以下（λは照射光の波長を示す。）であることを特徴とする。
【００１７】
更に、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の構成に加え、前記誘電体膜が高屈折率誘電体層及び低屈折率誘電体層とから構成され、該誘電体膜が複数積層されるとともに、該複数の誘電体膜の間に前記応力緩和層が配置されたことを特徴とする。
【００１８】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３の何れか一つに記載の構成に加え、前記誘電体膜が合計６層以下となるように積層されたことを特徴とする。
【００１９】
更に、請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４の何れか一つに記載の構成に加え、前記誘電体膜が成膜によって引張応力を生じるものであって、前記応力緩和層が酸化ケイ素、フッ化ストロンチウム、及びフッ化カルシウムからなる群から選ばれる１種以上からなり、圧縮応力を生じるものであることを特徴とする。
【００２０】
そして、請求項６に記載の発明は、真空紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターン像を被露光基板上に形成する投影光学系とを有する投影露光装置であって、請求項１乃至５の何れか一つに記載の紫外域用反射ミラーが前記照明光学系及び／又は前記投影光学系に配置されていることを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を説明する。
【００２２】
図１はこの実施の形態の紫外域用反射ミラーを示す。
【００２３】
図において、符号１０は紫外域用反射ミラーである。この紫外域用反射ミラー１０は、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２レーザ等の短波長の照射光、特に、波長１４０〜３００ｎｍの照射光を反射させるために好適なミラーである。
【００２４】
この紫外域用反射ミラー１０では、基材１１にアルミニウムからなる金属反射膜１３が積層され、金属反射膜１３の入射面側に低屈折率誘電体層１４ａと高屈折率誘電体層１４ｂとからなる誘電体膜１５が多数積層され、この誘電体膜１５の間に応力緩和層１６が積層されている。
【００２５】
基材１１は、予め形成された板材であり、前記のような短波長の照射光が透過可能で、照射により損傷し難い材料からなる。このような材料としては、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等のフッ化物結晶、合成石英ガラスなどを例示できる。
【００２６】
金属反射膜１３は、基材１１の照射面側に積層されたアルミニウムからなる薄膜である。一般に真空蒸着などにより形成される。
【００２７】
誘電体膜１５は、低屈折率誘電体材料から形成された低屈折率誘電体層１４ａと、高屈折率誘電体材料から形成された高屈折率誘電体層１４ｂとを積層して構成されており、金属反射膜１３より入射面側に配設されている。
【００２８】
高屈折率誘電体材料としては、例えば、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化ガドリニウム（ＧｄＦ３）、フッ化ディスプロシウム（ＤｙＦ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化鉛（ＰｂＦ２）、フッ化ハフニウム（ＨｆＯ２）、これらの混合物、及びこれらの化合物からなる群から選ばれる１種又は２種以上の成分からなる誘電体材料が挙げられる。
【００２９】
低屈折率誘電体材料としては、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、クリオライト（Ｎａ３ＡｌＦ３）、チオライト（Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４）、これらの混合物、及びこれらの化合物からなる群から選ばれる１種又は２種以上の成分からなる誘電体材料が挙げられる。
【００３０】
これらの高屈折率誘電体材料及び低屈折率誘電体材料は、フッ化カルシウム、フッ化ストロンチウムを除き、全て基材１１の材料のフッ化物結晶又は合成石英ガラスより小さい線膨張係数を有している。
【００３１】
このような誘電体膜１５は、低屈折率誘電体層１４ａ及び高屈折率誘電体層１４ｂを真空蒸着等の方法で順次積層することにより成膜することができる。この成膜時には、基材１１及び各誘電体層１４ａ、１４ｂが加熱された状態で成膜されるため、成膜後の冷却において、各材料の線膨張係数の差から誘電体層１４ａと金属反射膜１３との間の界面、各誘電体層１４ａ、１４ｂ間の界面毎に引張又は圧縮の残留応力が生じる。この残留応力は、各誘電体層１４ａ、１４ｂを積層することにより累積され、多数の誘電体膜１５を積層した状態では全体として引張応力又は圧縮応力を有する。紫外域用反射ミラー１０に使用される誘電体材料は殆どが基板１１より小さい線膨張係数を有して、引張応力を生じる材料であるため、通常、多数積層された誘電体膜１５には全体として引張応力が生じている。
【００３２】
応力緩和層１６は、このように累積された残留応力を緩和する層であり、この実施の形態では、誘電体膜１５の間に配置されている。この応力緩和層１６は、成膜による残留応力に対して逆方向の応力を生じる材料から形成されている。即ち、累積された残留応力が引張応力である場合、応力緩和層１６としては、成膜により圧縮応力を生じる材料が使用される。
【００３３】
この応力緩和層１６の圧縮応力を生じる材料としては、基材１１の線膨張係数より大きい線膨張係数を有する材料を用いることができ、具体的には、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、これらの混合物、及びこれらの化合物からなる群から選ばれる１種又は２種以上の成分からなるものが例示できる。
【００３４】
また、引張応力を生じる材料としては、基材１１の線膨張係数より小さい線膨張係数を有する材料を用いることができる。
【００３５】
そして、この発明では、応力緩和層１６を、所定の膜厚に形成することにより不在層とする必要がある。
【００３６】
具体的には、この応力緩和層を下記式（１）を満足する光学膜厚に形成するのが最も好ましい。
【００３７】
【数１】
ｎｄ＝０．５λ／ｃｏｓ｛ｓｉｎ−１（ｓｉｎθ／ｎ）｝・・・（１）
（式（１）中、ｄが応力緩和層１６の膜厚であり、ｎは応力緩和層１６の屈折率、λは照射光の波長、θは入射角度を示す。）
しかし、波長４００ｎｍの照射光を用いる投影露光装置では、実用上不在層として作用できる範囲であればよく、下記式（２）を満足する光学膜厚とすることが可能である。
【００３８】
【数２】
０．５λ  ≦  ｎｄ  ≦  ０．７λ    ・・・（２）
この式（１）又は（２）を満足する光学膜厚であれば、実用される入射角度帯域０°〜７０°の範囲で、応力緩和層１６を不在層とすることが可能である。
【００３９】
このように上記式（１）又は（２）を満足する光学膜厚にすることにより、応力緩和層１６を不在層とすれば、紫外域用反射ミラー１０の光学特性を低下させることなく、誘電体膜１５に生じる残留応力を緩和することが可能となるのである。
【００４０】
このような応力緩和層１６を誘電体膜１５とともに基材１１に積層するための膜構成は、適宜選択できるが、例えば下記（３）式に示すように構成することができる。
【００４１】
【数３】
基材／アルミニウム膜／（Ｌ／Ｈ）ｘ／応力緩和層／（Ｌ／Ｈ）ｙ・・（３）
（（３）中、Ｌは低屈折率誘電体層１４ａ、Ｈは高屈折率誘電体層１４ｂ、／は隣接する層の界面、（Ｌ／Ｈ）は誘電体膜１５を示す。
【００４２】
この式（３）では、指数ｘ及びｙは積層数を示すが、ｘ＋ｙが６以下であって、それぞれが１乃至５の整数とするのが好ましい。
【００４３】
即ち、誘電体膜１５の積層数は、まず、ｘ＋ｙが６以下であるので、誘電体膜１５として６対以下、低屈折率誘電体層１４ａ及び高屈折率誘電体層１４ｂの合計の積層数として１２層以下とするのが好ましい。積層数が多すぎる場合、得られる光学的特性への影響が少ないにも拘わらず、誘電体の損失が大きくなるとともに、積層数分の残留応力が増加することになるからである。
【００４４】
次に、ｘ及びｙがそれぞれ１乃至５の整数であるので、複数の誘電体膜１５を積層した状態で応力緩和層１６を誘電体膜１５の間に配置するのが好ましい。
【００４５】
応力緩和層１６による誘電体膜１５の応力緩和効果は、応力緩和層１６をできるだけ金属反射膜１５から離れた位置、即ち、照射面側に積層するほど大きくなるが、照射面に露出させると、光学特性が低下する可能性がある。一方、金属反射膜１３に隣接して積層した場合には、誘電体膜１５の十分な応力緩和効果が小さくなり易い。従って、特に好ましくはｘ＝ｙ、即ち、多数の誘電体膜１５の中央部分となる位置に積層するのが好適である。
【００４６】
以上のような構成の紫外域用反射ミラーによれば、誘電体膜１５の成膜により生じた引張又は圧縮の残留応力に対し、逆方向の応力を生じさせる応力緩和層１６が積層されているため、誘電体膜１５の成膜時に誘電体膜１５と基材１１との線膨張係数の差により生じる引張或いは圧縮の残留応力を、応力緩和層１６により緩和することができる。またこの応力緩和層１６の光学膜厚が実質的に不在層となる厚さであるので、紫外域用反射ミラー１０の光学特性を低下させることがない。
【００４７】
そのため、所望の光学特性が得られる誘電体膜１５のクラックの発生を抑制でき、アルミニウムからなる金属反射膜１３のピンホールの発生を抑制することが可能である。
【００４８】
次に、この紫外域用反射ミラー１０を用いた投影露光装置３０について説明する。
【００４９】
図２は、この投影露光装置の基本構造を示し、ウェハー上にレチクルのパターンのイメージを投影するための、ステッパと呼ばれるような投影露光装置に特に応用される。
【００５０】
この投影露光装置３０は少なくとも、表面に感光剤を塗布した被露光基板Ｗを置くことのできるウェハーステージ３１，露光光としての真空紫外光を照射し、被露光基板Ｗ上にレチクルＲのパターンを転写するための照明光学系３２，照明光学系３２に露光光を供給するための光源３３，被露光基板Ｗ上にレチクルＲのパターンのイメージを投影するための投影光学系３４とを含む。投影光学系３４はレチクルＲが配された最初の表面Ｐ１（物体面）と被露光基板Ｗの表面と一致させた二番目の表面Ｐ２（像面）との間に配置されている。
【００５１】
ウェハーステージ３１はステージ制御系３５により位置が制御される。照明光学系３２は、レチクルＲと被露光基板Ｗとの間の相対位置を調節するための、アライメント光学系３６を含んでいる。レチクルＲはウェハーステージ３１の表面に対して平行に動くことのできるレチクルステージ３７に配置されている。レチクル交換系３８は、レチクルステージ３７にセットされたレチクルＲを交換し運搬する。レチクル交換系３８はウェハーステージ３１の表面に対してレチクルステージ３７を平行に動かすためのステージドライバーを含んでいる。投影光学系３４は、スキャンタイプの露光装置に応用されるアライメント光学系を持っている。更に、光源３３、ステージ制御系３５、アライメント光学系３６、レチクル交換系３８は主制御部３９によって制御されている。
【００５２】
この投影露光装置３０では、前記のような紫外域用反射ミラー１０が、詳細な図示は省略されているが、照明光学系３２及び／又は投影光学系３４に使用されている。即ち、照明光学系３２及び／又は投影光学系３４において、光路を折り曲げるために紫外域用反射ミラー１０が配置されている。
【００５３】
以上のような構成の投影露光装置３０では、前記のような紫外域反射ミラー１０を用いているため、紫外域用反射ミラー１０にピンホールが従来より少なく、被露光基板Ｗにピンホールが転写されることによる外観の悪化を抑制することができ、これにより光学系の解像度を向上することが可能である。
【００５４】
なお、上記の実施の形態では、誘電体膜１５が成膜により引張応力を生じる例について説明したが、誘電体膜１５が圧縮応力を生じるものであっても、この発明を同様に適用することができる。その場合、応力緩和層１６として成膜により引張応力を生じる材料を用いる必要がある。
【００５５】
また、上記では、誘電体膜１５を構成する低屈折率誘電体層１４ａと高屈折率誘電体層１４ｂとが、成膜により共に引張応力を生じる誘電体材料を用いたが、一方が引張応力を生じ、他方が圧縮応力を生じる誘電体材料であってもよい。その場合、応力緩和層１６としては、誘電体膜１５全体として生じる引張又は圧縮の残留応力に対し、成膜により、逆方向の残留応力を生じる材料を選択する必要がある。
【００５６】
更に、上記では、一層の応力緩和層１６を設けたが、応力緩和層１６を複数積層することも可能である。その場合、各応力緩和層１６の光学膜厚を不在層とする必要がある。
【００５７】
また、上記では、金属反射膜１３、誘電体膜１５、及び応力緩和層１６を真空蒸着法により成膜したが、成膜時に基材１１の加熱を必要とする成膜手段であれば、この発明を適用することにより効果を得ることができる。
【００５８】
【実施例】
以下、この発明の実施例について説明する。
【００５９】
実施例
基材１１として石英ガラスを用いるとともに、低屈折率誘電体層１４ａとしてフッ化マグネシウム、高屈折率誘電体層１４ｂとしてフッ化ランタン、応力緩和層１６として酸化ケイ素を用い、表１に示す膜構成で、図１に示すようなＡｒＦエキシマレーザ用の広入射高反射率を有する紫外域用反射ミラー１０を製造した。
【００６０】
この製造においては、金属反射膜１３、低屈折率誘電体層１４ａ、高屈折率誘電体層１４ｂは抵抗加熱による真空蒸着法にて、また、応力緩和層１６は電子銃加熱による真空蒸着法にて成膜した。
【００６１】
【表１】
2004260080.tif 000003
【００６２】
比較例
二酸化ケイ素からなる応力緩和層１６を積層しない他は、実施例１と同様にして図５に示すような紫外域用反射ミラー４０を製造した。膜構成を表２に示す。
【００６３】
【表２】
2004260080.tif 000004
【００６４】
測  定
まず、実施例及び比較例により得られた紫外域用反射ミラーの角度反射特性を測定した。結果を図３及び図４に示す。図中、ｓはｓ偏光に対する反射率特性、ｐはｐ偏光に対する反射率特性、Ｒａは平均の反射率特性を示す。
【００６５】
図３及び図４を比較して明らかなように、実施例品と比較例品とは、光学特性にほぼ差がない。従って、実施例品では応力緩和層１６が不在層となり、応力緩和層１６による光学特性の低下を防止できていた。
【００６６】
次に、実施例品及び比較例品の内部応力を測定した。
【００６７】
その結果、実施例品の内部応力は２００ＭＰａ、比較例品の内部応力は９００ＭＰａであった。従って、実施例品は比較例品に比べて内部応力が１／４以下と小さく、応力緩和層１６により残留応力が緩和されていることが確認できた。
【００６８】
更に、実施例品及び比較例品の照射面を微分干渉顕微鏡にて３００倍で観察したところ、比較例品は実施例品に比べてクラックが多く発生していることが確認できた。
【００６９】
そして、このような実施例品及び比較例品を用いて、図２に示すような投影露光装置３０で被露光基板Ｗを製作し、この被露光基板Ｗの同一位置の外観検査を行ったところ、実施例品は比較例品に比べてクラックの発生が少なくなることが確認できた。
【００７０】
【発明の効果】
以上詳述の通り、この発明によれば、誘電体膜の成膜により生じた引張又は圧縮の残留応力に対し、逆方向の応力を生じさせる応力緩和層が積層され、この応力緩和層の光学膜厚を実質的に不在層となる厚さにしたので、光学特性を低下させることなく、誘電体膜と基材との線膨張係数の差により誘電体膜の成膜時に生じる引張或いは圧縮の残留応力を、応力緩和層により緩和することができる。そのため、誘電体膜の成膜による残留応力に起因して生じるクラックを抑制でき、金属反射膜のピンホールの発生を抑制することが可能となり、被露光物の外観の悪化を抑えて解像度を向上し易い紫外域用反射ミラーが得られる。
【００７１】
また、請求項２に記載の発明によれば、応力緩和層の光学膜厚が、０．５λ以上０．７λ以下であるので、投影露光装置で使用される入射角帯域において実用上使用可能な不在層を容易に得ることができる。
【００７２】
さらに、請求項３及び４に記載の発明によれば、誘電体膜が高屈折率誘電体層及び低屈折率誘電体層から構成され、この誘電体膜が複数積層されて、その間に応力緩和層が配置されているので、光学的特性の低下を抑制する効果と誘電体膜の残留応力を緩和する効果の両方を得易くすることができる。
【００７３】
また、請求項５に記載の発明によれば、応力緩和層が酸化ケイ素、フッ化ストロンチウム、及びフッ化カルシウムからなる群から選ばれる１種以上からなり、圧縮応力を生じさせるものであるので、紫外域用反射ミラーで一般に用いられる誘電体膜に生じている引張応力を、確実に応力緩和層により緩和することができる。
【００７４】
更に、請求項６に記載の発明によれば、請求項１乃至５の何れか一つに記載の紫外域用反射ミラーが照明光学系及び／又は投影光学系に配置されているので、金属反射膜のピンホールが従来より低減された紫外域反射ミラーにより、被露光物に生じるピンホールを抑制することができ、被露光物の外観の悪化を防止して解像度を向上することができる投影露光装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態の紫外域反射用ミラーの断面図である。
【図２】図１の紫外域用反射ミラーを用いた投影露光装置の基本構成を示す構成図である。
【図３】実施例の角度反射特性の測定結果を示すグラフである。
【図４】比較例の角度反射特性の測定結果を示すグラフである。
【図５】従来の紫外域反射用ミラーの断面図である。
【符号の説明】
１０  紫外域用反射ミラー
１１  基材
１３  金属反射膜
１４ａ  低屈折率誘電体層
１４ｂ  高屈折率誘電体層
１５  誘電体膜
１６  応力緩和層
３０  投影露光装置
【図１】
2004260080.tif 000005
【図２】
2004260080.tif 000006
【図３】
2004260080.tif 000007
【図４】
2004260080.tif 000008
【図５】
2004260080.tif 000009