(57)【要約】【課題】密着性の高い反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材の少なくとも片面にハードコート層を備え、かつ透明基材側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に配置された反射防止層を備え、中屈折率層が電離放射線硬化型樹脂からなり、高屈折率層がスパッタリング法により形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも片面にハードコート層を備え、かつ透明基材側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に配置された反射防止層を備え、中屈折率層が電離放射線硬化型樹脂からなり、高屈折率層がスパッタリング法により形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
中屈折率層が、チタン、ジルコニウム、インジウム、錫、セリウムおよびイットリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物の微粒子を含有する、請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
高屈折率層が、チタン、ジルコニウム、インジウムおよび錫からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなる、請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
最表層に防汚染層が設けられている、請求項１記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止フィルムに関し、ＣＲＴ画面、ＬＣＤ画面、ＰＤＰ画面などのディスプレー、ガラスやプラステックからなるウインドウの表面で外光の反射を防止する反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、ディスプレーを使用する場所の多くは蛍光灯や太陽光等の外光がディスプレイ表面で反射する場所にあり、ディスプレイが本来表示している画面が見にくくなる。近年、このような環境下でのディスプレー表示画質の向上が要求され、この要求に対して、可視光の広範囲において反射防止の効果をもつ薄膜を積層した反射防止フィルムをディスプレーの表面に貼り付けることが行われている。反射防止フィルムとして、例えば特願２００１−２０４４７２号が出願されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
反射防止層の薄膜を積層する際に各層の密着性が必要である。本発明は、反射防止の薄膜を積層することができる高い密着性を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、透明基材の少なくとも片面にハードコート層を備え、かつ透明基材側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に配置された反射防止層を備え、中屈折率層が電離放射線硬化型樹脂からなり、高屈折率層がスパッタリング法により形成されていることを特徴とする反射防止フィルムである。
【０００５】
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００６】
［透明基材］
透明基材としてはプラスチックフィルムが用いられる。プラスチックはいかなるものであっても良い。例えば、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロースのフィルム、ポリカーボネートが挙げられる。透明基材の厚みは、加工性やフレキシビリティの点から１０μｍ〜５００μｍが好ましい。
【０００７】
［ハードコート層］
ハードコート層は、その硬さは好ましくは２Ｈ以上、さらに好ましくは３Ｈ以上であり、さらに光学特性も考慮されていることが望ましい。このハードコート層を施すことによって、画面上に使用される場合であってもキズがつき難くなるなどの効果を付与することができる。
【０００８】
なお、ハードコート層は透明基材の反射防止層が設けられる側の面に設けられてもよく、その反対側の面に設けられてもよい。
【０００９】
ハードコード層は、通常、電離放射線硬化型樹脂または光重合性ポリマーからなる。電離放射線硬化型樹脂は、少なくとも電子線あるいは紫外線照射により硬化される樹脂を含有する塗料から形成される。具体的には、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有し、更に必要に応じて増感剤、非反応性樹脂、レベリング剤等の添加剤、溶剤を含有する。電離放射線硬化型塗料を硬化させるには、電子線あるいは紫外線を照射する。電子線を照射する場合、走査型あるいはカーテン型の電子線加速器を用い、加速電圧１０００ｋｅＶ以下、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有し、１００ｎｍ以下の波長領域の電子線を照射して行うことができる。紫外線を照射する場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプ等を用い、１００〜４００ｎｍ、好ましくは２００〜４００ｎｍの波長領域で、５０〜３００ｋｃａｌ／ｍｏｌのエネルギーを有する紫外線を照射する。
【００１０】
光重合性プレポリマーは、その構造、分子量が電離放射線硬化型塗料の硬化に関係し、電離放射線硬化型樹脂の接着性、硬度、耐クラック性等の特性を定めるものである。光重合性プレポリマーは骨格中に導入されたアクリロイル基が電離放射線照射されることにより、ラジカル重合する。ラジカル重合により硬化するものは硬化速度が速く、樹脂設計の自由度も大きいため、特に好ましい。
【００１１】
光重合性プレポリマーとしては、アクリロイル基を有するアクリル系プレポリマーが特に好ましく、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、３次元網目構造となるものである。アクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が使用できる。
【００１２】
光重合性モノマーは、高粘度の光重合性プレポリマーを希釈し、粘度を低下させ、作業性を向上させるために、また、架橋剤として塗膜強度を付与するために使用される。光重合性モノマーとしては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマー、１、６−ヘキサジオールアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシパビリン酸エステルネオペンチルグリコールアクリレート等の２官能アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の多官能アクリルモノマー等の１種若しくは２種以上が使用される。
【００１３】
また、光重合性モノマーの混合量が多くなると塗膜は必要以上に硬くなるため、所望の硬度、あるいは所望の可撓性が得られるよう、混合割合は適宜選択するとよい。例えば、本発明の透明ハードコートフィルムを曲げる用途に使用する場合は、可撓性に優れた熱硬化性、熱可塑性アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の非反応性樹脂を混合することにより、硬度を調節することができる。
【００１４】
光重合開始剤は、電離放射線の照射によりアクリロイル基の反応を短時間で開始させ、反応を促進させるために添加され、触媒的な作用を有するものである。光重合開始剤は、特に紫外線照射により硬化を行なう場合に必要とされ、高いエネルギーの電子線を照射する時には必要としない場合もある。光重合開始剤の種類としては、開裂することによりラジカル重合させるもの、水素を引き抜くことによりラジカル重合させるもの、あるいはイオンを発生させることによりカチオン重合させるものがある。
【００１５】
光重合開始剤としては、適宜選択できる。例えば、ベンゾインエーテル系、ケタール系、アセトフェノン系、チオキサントン系等のラジカル型光重合開始剤、ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等や複合系のカチオン型光重合開始剤が挙げられる。これらは１種で用いてもよく、あるいは２種以上を併せて使用してもよい。光重合開始剤は樹脂固型分に対して２〜１０重量％、好ましくは３〜６重量％混合して使用する。
【００１６】
［反射防止層］
本発明において反射防止層を構成する中屈折率層、高屈折率、低屈折率は、相対的な屈折率の高低による分類である。、中屈折率層は屈折率１．５〜１．９、高屈折率層は屈折率１．８〜２．５、低屈折率は屈折率１．３５〜１．５の範囲である。各層の厚みは通常１５〜１５０ｎｍであり、反射スペクトルの調整のために適宜調整される。
【００１７】
［中屈折率層］
中屈折率層は、電離放射線硬化型樹脂からなり、この中屈折率層は、好ましくは、チタン、ジルコニウム、インジウム、錫、セリウムおよびイットリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物の微粒子を含有する。この酸化物の微粒子は、光の散乱を起こさないようにする観点から、好ましくは粒径が５〜５００ｎｍ、さらに好ましくは粒径が１０〜１００ｎｍのものを用いるとよい。
【００１８】
［高屈折率層］
高屈折率層はスパッタリング法を用いて形成する。高屈折率層は、好ましくは、チタン、ジルコニウム、インジウムおよび錫からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなる。金属酸化物層を形成するスパッタリングの方法としては、金属酸化物をターゲットとした方法の他、金属ターゲットを用い、酸素を導入しながら行う反応性スパッタリングの方法を用いることもできる。
【００１９】
［低屈折率層］
低屈折率層には、たとえば、含フッ素化合物または酸化ケイ素等の無機化合物を用いる。含フッ素化合物の架橋物は、好ましくは架橋性の含フッ素高分子化合物を加熱または電離放射線照射により形成される架橋物である。酸化ケイ素等の無機化合物も用いる場合、最表層にフッ素ポリマーを非常に薄く形成し、防汚染性を付与することが好ましい。
【００２０】
【実施例】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明する。
評価は次の方法による。
【００２１】
［密着性］
密着性は、ＪＩＳ５４００に定められる方法で評価した。８点以上が◎、４〜７点が△、３点以下が×である。
【００２２】
［反射率］
反射率は、裏面に黒色のビニールテープを貼り、裏面反射の影響を除いてから、絶対反射率を測定し、その反射スペクトルから、３刺激値のＹを求めた。
【００２３】
［実施例１］
１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人（株）製、ＯＰＦＷ）に、紫外線硬化型ハードコート剤（大日本インキ化学（株）製、）をバーコーターで塗布、８０Ｗの高圧水銀灯を照射、硬化し厚さ５μｍのハードコート層を設け、この上にジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）７５ｇ、平均粒径５０ｎｍのＩＴＯ粒子（シーアイ化成（株）製）１００ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン（５０％／５０％）混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー（株）製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えたものをバーコーターで塗工硬化し、中屈折率層を１００ｎｍとなるように形成した。更に、高屈折率層としてスパッタリングにより酸化チタンを２０ｎｍ形成した。この上に熱架橋性含フッ素ポリマー（オプスターＪＮ７２２８、ＪＳＲ（株）製）を塗布硬化し、１００ｎｍの低屈折率層を形成した。
評価結果を表１に示す。
【００２４】
【表１】
2004309898.tif 000002
【００２５】
［比較例１］
高屈折率層を真空蒸着法で形成した以外は実施例１と同様に行った。電離放射線硬化型塗料を硬化させるためには紫外線を照射した。紫外線の照射は、８０Ｗの高圧水銀灯を用いて紫外線を照射した。
評価結果を表１に示す。
【００２６】
【発明の効果】
本発明によれば、電離放射線硬化型樹脂からなる中屈折率層の上に、高屈折率層をスパッタリング法により積層することにより、密着性の高い反射防止フィルムを提供することができる。