(57)【要約】【課題】本発明は、透明性に優れ且つ金属箔並みの高度なガスバリア性を持つと共に、製袋加工や成形加工等の後加工が施された後もガスバリア性の劣化が少なくなるようにした、極めて実用性の高い包装用の積層体の提供を目的とする。【解決手段】プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、炭素を含む第１酸化珪素薄膜層と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤を塗布して得られる中間層と、炭素を含む第２酸化珪素薄膜層を順次積層する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、炭素を含む第１酸化珪素薄膜層と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤を塗布して得られた中間層と、炭素を含む第２酸化珪素薄膜層が順次積層されていることを特徴とする積層体。
【請求項２】
前記中間層が、水溶性高分子と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物または、（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布して得られた層であること特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項３】
前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウムの少なくともどちらかを含んでいることを特徴とする請求項２記載の積層体。
【請求項４】
前記水溶性高分子が、ポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項１または２記載の積層体。
【請求項５】
前記炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層は、炭素の含有量が５〜４０ａｔ％の範囲内にあることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項６】
前記炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層が、有機珪素化合物系ガス及び酸素ガスを主原料とする化学反応蒸着法によって得られた層であることを特徴とする請求項１または５記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食品や非食品及び医薬品等の包装に用いられる包装用材料に関し、特に透明性に優れ且つ金属箔並の高度なガスバリア性を有すると共に、製袋加工や成形加工等の後加工の後もガスバリア性の劣化が少ないようにした包装用の積層体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、食品や非食品及び医薬品等の包装に用いられる包装材料は、内容物の変質を抑制しそれらの機能や性質を保持するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体（ガス）による影響を防止する必要があり、これらの気体を遮断するガスバリア性を備えることが求められている。そのため従来から、温度や湿度等による影響が少ないアルミニウム等の金属からなる金属箔や金属蒸着薄膜層、或いはポリビニルアルコールやエチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂フィルムやこれらの樹脂からなるコーティング層をガスバリア層として有する包装材料が一般的に用いられてきた。
【０００３】
ところが、アルミニウム等の金属からなる金属箔や金属蒸着薄膜層をその一部に設けてなる包装材料は、ガスバリア性には優れるが、収納された内容物を確認することができず、また使用後の廃棄の際は不燃物として処理しなければならず、しかも検査の際に金属探知器が使用できない等、種々の欠点を有しており、問題があった。またガスバリア性樹脂フィルムやガスバリア性樹脂からなるコーティング層を有する包装材料も、温湿度依存性が大きく高度なガスバリア性を維持できず、さらにはポリ塩化ビニリデンやポリアクリロニトリル等をその一部に有する包装材料は廃棄・焼却の際に有害物質の原料となりうる可能性がある等、種々の問題を抱えていた。
【０００４】
そこで、これらの欠点を克服した包装材料として、例えば特許文献１や特許文献２に記載されているような、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等の無機酸化物からなる蒸着薄膜を真空蒸着法やスパッタリング法等の薄膜形成手段によりプラスチックフィルム上に成膜してなる蒸着フィルムが提案されており、一般に広く使われている。これらの蒸着フィルムは透明性及び酸素、水蒸気等に対するガスバリア性を有していることが知られ、金属箔等では得ることのできない透明性とガスバリア性を共に有する包装材料として好適とされている。
【０００５】
【特許文献１】
米国特許第３４４２６８６号明細書
【特許文献２】
特公昭６３−２８０１７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、包装容器や包装袋等の一般的な包装体は、上述したような構成の蒸着フィルム単体で作製されることはほとんどなく、その表面に文字・絵柄等を印刷したり、他のフィルム等を貼り合わせ、さらには包装体の形状に成形したりと、種々の後工程を経て作製されている。そのため、種々の包装体へ汎用的に利用できる構成とするためには、蒸着フィルム特有の透明性やガスバリア性を有していると共に、印刷やフィルム貼り合わせなどの後加工に対する後加工適性と、後加工後にガスバリア性の劣化が生じないような特性も有していることが必要とされている。
【０００７】
ところが、透明性やガスバリア性に優れる上述の如き蒸着フィルム等を用いて包装体を作製すべく、シーラントフィルムと貼り合わせ、その段階で酸素透過率や水蒸気透過率等のバリア性を測定したところ、高分子ガスバリア性フィルムと同等以上のガスバリア性は示すものの、金属箔並のガスバリア性を達成することはできなかった。また、ガセット方式製袋機による製袋加工や、さらには紙等と貼り合わせてから容器成形加工を施した後、酸素透過率や水蒸気透過率を測定したところ、製袋後と成形後の値が共に悪くなることが判明した。
【０００８】
すなわち、上述したようなガスバリア性フィルムは、包装材料としてより有効に機能するには、内容物を直接透視することが可能なだけの透明性と、内容物に対して影響を与える気体や水蒸気等を遮断する金属箔並みの高いガスバリア性を共に保持しているだけでなく、製袋加工や成形加工等の後加工の後でもガスバリア性が劣化しないような可撓性を有することが求められているのである。しかし、現在のところこれらを満足する包装材料は見いだされていない。
【０００９】
本発明は以上ような状況に鑑みなされたものであり、その課題とするところは、透明性に優れ且つ金属箔並みの高度なガスバリア性を持つと共に、製袋加工や成形加工等の後加工の後もガスバリア性の劣化が少なくなるようにした、極めて実用性の高い包装用の積層体の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成すべくなされ、請求項１に記載の発明は、プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、炭素を含む第１酸化珪素薄膜層と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤を塗布して得られた中間層と、炭素を含む第２酸化珪素薄膜層が順次積層されていることを特徴とする積層体である。
【００１１】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１記載の積層体において、前記中間層が、水溶性高分子と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物または、（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布して得られた層であること特徴とする。
【００１２】
さらにまた、請求項３に記載の発明は、請求項２記載の積層体において、前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物であることを特徴とする。
【００１３】
さらにまた、請求項４に記載の発明は、請求項１または２記載の積層体において、前記水溶性高分子が、ポリビニルアルコールであることを特徴とする。
【００１４】
さらにまた、請求項５に係る発明は、請求項１記載の積層体において、炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層は、炭素の含有量が５〜４０ａｔ％の範囲内にあることを特徴とする。
【００１５】
さらにまた、請求項６に記載の発明は、請求項１または５記載の積層体において、前記炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層が、有機珪素化合物系及び酸素ガスを主原料とする化学蒸着法によって得られた層であることを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面を用いてさらに詳細に説明する。図１は、本発明の積層体の一例を示す概略断面説明図である。
【００１７】
図１に示すこの積層体１は、プラスチック材料からなる基材２の少なくとも片面に、炭素を含む第１酸化珪素薄膜層３と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤を塗布して得られた中間層４と、炭素を含む第２酸化珪素薄膜層５が順次積層されている。
【００１８】
本発明で用いられる基材２は、プラスチック材料からなり、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等からなるポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等からなるポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等を用いることができる。これらは、機械的強度や寸法安定性を有するものであれば、延伸されたものでも未延伸のものでも構わない。この中では、特に耐熱性等の観点から二軸方向に任意に延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムやナイロンフィルムが好ましく用いられる。またこの基材２の第１酸化珪素薄膜層３が設けられる面と反対側の表面に、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤等を塗布しておいても良い。また、第１酸化珪素薄膜層３との密着性を良くするため、基材２の積層面側にコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、薬品処理、溶剤処理等の前処理を施しておいても良い。
【００１９】
基材２の厚さは特に制限を受けるものではなく、また、包装材料としての適性を考慮して、その構成も単体フィルムのみからなる単層構成であっても、異なる性質の他のフィルムを積層した複層構成のものであっても良い。なお、そこに炭素を含む第１酸化珪素薄膜層３や炭素を含む第２酸化珪素第薄膜層５や、中間層４を形成する場合の加工性を考慮すると、実用的には３〜２００μｍの範囲が好ましく、特に６〜３０μｍとすることがより好ましい。
【００２０】
また、量産性を考慮すれば、連続的に前記各層を形成できるように長尺の連続フィルムであることが望ましい。
【００２１】
本発明の積層体は、高ガスバリア性と可撓性を持たせるために、鋭意検討の結果、前記基材２上に、炭素を含む第１酸化珪素薄膜層３と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤を塗布して得られる中間層４と、炭素を含む第２酸化珪素第薄膜層５の３層が順次積層した構成である必要がある。特にこれらの３層の積層順序が重要で、中間層４は炭素を含む第１酸化珪素薄膜層３と炭素を含む第２酸化珪素薄膜層５で挟まれている必要がある。
以下、これらの各層についてさらに詳細に説明する。
【００２２】
まず、中間層４を説明する。この中間層４は、鋭意検討の結果、少なくとも水溶性高分子成分を含むコーティング剤を塗布して得られた層である必要がある。コーティング剤の水溶性高分子として使用できるものは、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性高分子である。その中では特にポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略す）をコーティング剤の水溶性高分子成分として用いると優れたガスバリア性を発現することができるのでより好ましい。中間層４は、これを溶液にしてコーティング剤とし、後述する炭素を含む第１酸化珪素薄膜層３上にコーティングした後、加熱乾燥して形成される。
ここでいうＰＶＡは、一般にポリ酢酸ビニルをけん化して得られるものであり、例えば、酢酸基が数十％残存している、いわゆる部分けん化ＰＶＡから酢酸基が数％しか残存していない完全ＰＶＡ等を含み、特にその種類には限定されない。
【００２３】
さらに、この中間層４としては、水溶性高分子と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド及び加水分解物または、（ｂ）塩化錫、の少なくとも一方を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布して得られる層がより好適に使用できる。このような中間層４は、例えば、水溶性高分子と塩化錫を水系（水或いは水／アルコール混合）溶媒で溶解させた溶液、或いはこれに金属アルコキシドを直接、或いは予め加水分解させるなどの処理を行ったものを混合した溶液を調整してなるコーティング剤を塗布し、乾燥して得られる。ここで用いられる水溶性高分子は上述したものと同様なものが使用可能である。
【００２４】
また、上記コーティング剤に使用される塩化錫は、塩化第一錫（ＳｎＣｌ2）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ4）、或いはそれらの混合物であってもよい。またこれらの塩化錫は、無水物でも水和物でもあってもよい。
【００２５】
さらに金属アルコキシドとは、一般式、Ｍ（ＯＲ）n  （Ｍ：Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等の金属、Ｒ：ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5等のアルキル基）で表せる化合物であり、具体的にはテトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Ａｌ（Ｏ−２’−Ｃ3Ｈ7）3〕等である。中でもテトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムが加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。
【００２６】
また、コーティング剤にはガスバリア性を損なわない範囲で、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、或いは分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えることができる。
【００２７】
例えばコーティング剤に加えられるイソシアネート化合物としては、その分子中に２個以上のイソシアネート基を有するものが好ましい。具体的には、トリレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート等のモノマー類と、これらの重合体、誘導体等が挙げられる。
【００２８】
コーティング剤の塗布方法としては、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法などの従来公知の塗布方法が採用できる。
【００２９】
中間層４の厚さは、コーティング剤の種類や加工機や加工条件によって最適条件が異なる。但し乾燥後の厚さが、０．０１μｍ以下の場合は、均一な層が得られなく十分なガスバリア性を得られない場合があるので好ましくない。また厚さが５０μｍを超える場合は層中にクラックが生じ易くなるため問題がある。好ましくは０．０１〜５０μｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍの範囲にあることである。
【００３０】
次いで、基材２上に順次積層する前記３層の内、炭素を含む第１酸化珪素薄膜層３と炭素を含む第２酸化珪素薄膜層５を説明する。これらの層は、薄膜層中にその成膜過程で有機成分である炭素を含有させることにより、一般のセラミックス薄膜層よりも優れた可撓性を有するように設ける層であり、本発明の積層体に製袋加工或いは成形加工等の後加工を施した後に、ガスバリア性の劣化を来さないようにすることができる。またこれらの薄膜層で中間層４を挟み、３層を一体化することにより、アルミニウム箔並のガスバリア性を発現することが可能となる。
【００３１】
炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層３、５の形成方法は、特に制限されないが、一般的には有機珪素化合物系ガス及び酸素ガスを主原料ガスとする化学蒸着（以下ＣＶＤと略）法を用いることが好ましい。すなわち、成膜条件（原料ガス、排気量、プラズマパワー等）を適宜選択することによって、原料ガス中の炭素や炭化水素が形成しようとする薄膜層中に取り込まれるようにすることが好ましい。ＣＶＤ法の中ではプラズマを併用するプラズマＣＶＤ（以下ＰＥＣＤＶと略）法が、成膜安定性に優れるので好ましい。この際のプラズマ励起源としては、高周波（ＨＦ）、ラジオ波（ＲＦ：１３．５６ＭＨｚ）、マイクロ波（ＭＷ：２．４５ＧＨｚ）等が用いられる。
【００３２】
ここで言う有機珪素化合物系ガスとは、例えばテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、ヘキサメチルジシラン、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン等の比較的低分子量のものであり、これらを単独または任意に配合したものを用いる。
【００３３】
これらの薄膜層中に含まれる炭素の形態としては、炭素単独でも炭化水素としてでも構わない。しかし、その量としては５〜４０ａｔ％の範囲内にあることが好ましい。この炭素を含む酸化珪素薄膜層は、含まれる炭素割合が増加すると共に着色度合が増し、可撓性も大きくなる。含有量が５ａｔ％未満であると十分な可撓性が発揮されず、逆に含有量が４０ａｔ％を越える場合は着色濃度が増大するので好ましくない。
【００３４】
また、炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層３、５の厚さは、用いられる原料ガスの種類や層の形成条件によって最適条件が異なるが、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、この範囲内で適宜選択される。ただし厚さが５ｎｍ未満であると均一な層が得られないことや厚さが十分ではないことがあり、ガスバリア材料としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また厚さが３００ｎｍを越える場合は炭素成分を含んでいても可撓性が劣るので好ましくない。好ましくは、１０〜１００ｎｍの範囲内にあることである。
【００３５】
炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層３、５は、その構成材料や層厚が同じものでも違うものでも構わなく、発現させようとするガスバリア性及び可撓性をクリアできればその組み合わせに特段の限定はない。
【００３６】
さらに、本発明においては、炭素を含む第２酸化珪素薄膜層５上に他の層を積層することも可能である。他の層とは、例えば印刷層、介在フィルム層、ヒートシール層等である。
【００３７】
印刷層は包装用の積層包装材料として実用に供されるように形成されるものである。例えば、ウレタン系、アクリル系、ニトロセルロース系、ゴム系等の従来から用いられているインキバインダー樹脂に各種顔料、体質顔料及び可塑剤、乾燥剤、安定剤等の添加剤等が添加されてなるインキにより構成される文字や絵柄等である。形成方法としては、例えばオフセット印刷法、グラビア印刷法、シルクスクリーン印刷法等の周知の印刷方式や、ロールコート、ナイフエッジコート、グラビアーコート等の周知の塗布方式を用いることができる。印刷層の乾燥層厚（固形分）は０．１〜２．０μｍ程度で良い。
【００３８】
また介在フィルム層は、本発明の積層体のガスバリア層とヒートシール層の間に設ける層で、袋状包装材料としての破袋強度や突き刺し強度を高めるために設けられる層である。この層は、機械強度及び熱安定性の面から二軸延伸ナイロンフィルム、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの内から選ばれる一種のフィルムにより構成されることが好ましい。また、その厚さは、材質や要求品質に応じて決められるが、一般的には１０〜３０μｍの範囲である。上記した介在フィルム層は、２液硬化型ウレタン系樹脂等の接着剤を用いて貼り合わせるドライラミネート法等の公知の方法により積層できる。
【００３９】
さらにヒートシール層は袋状包装体等を形成する際に接着層となるように設けられるものである。例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体及びそれらの金属架橋物等の樹脂により形成される。厚さは目的に応じて決められるが、一般的には１５〜２００μｍの範囲である。形成方法としては、上記樹脂からなるフィルム状のものを２液硬化型ウレタン樹脂などの接着剤を用いて貼り合わせるドライラミネート法を用いることが一般的であるが、それ以外の公知の方法により積層することも可能である。
【００４０】
【実施例】
以下、本発明の積層体を具体的な実施例を挙げて更に説明する。
【００４１】
〈実施例１〉
基材２として、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用い、まずこの片面に、ＴＭＤＳＯ及び酸素ガスを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ法により厚さ１５ｎｍの炭素を含む第１酸化珪素薄膜層を形成した。この炭素を含む第１酸化珪素薄膜層をＸ線光電子分光法によって組成分析した結果、約２５ａｔ％の炭素成分が含まれていた。次いで、下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により第１酸化珪素薄膜層上に塗布し、その後１２０℃で１分間乾燥させ、厚さ４００ｎｍの中間層を形成した。さらにこの中間層上にＴＭＤＳＯ及び酸素ガスを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ法により厚さ１５ｎｍの炭素を含む第２酸化珪素薄膜層を形成し、実施例１に係るの積層体を得た。この炭素を含む第２酸化珪素薄膜層をＸ線光電子分光法によって組成分析した結果、約２５ａｔ％の炭素成分が含まれていた。
【００４２】
＜コーティング剤の調合＞
下記Ａ液とＢ液を配合比（ｗｔ％）で６０／４０に混合し、コーティング剤を調合した。
＜Ａ液＞
テトラエトキシシラン１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間撹拌し加水分解させた固形分３ｗｔ％（ＳｉＯ2換算）の加水分解溶液。
＜Ｂ液＞
ポリビニルアルコールの３ｗｔ％水／イソプロピルアルコール溶液（水とイソプロピルアルコールは重量比で９０：１０）。
【００４３】
次に、第１および第２酸化珪素薄膜層の形成条件を示す。
・成膜圧力；０．００２５ｔｏｒｒ
・ＴＭＤＳＯのガス流量；２０ｓｃｃｍ、Ｏ2ガス流量；１００ｓｃｃｍ
・投入電力；５００Ｗ、周波数；１３．５６ＭＨｚ
【００４４】
〈実施例２〉
炭素を含む第１酸化珪素薄膜層の厚さを４０ｎｍとした以外は実施例１と同様の条件とし、実施例２に係る積層体を得た。
【００４５】
〈実施例３〉
炭素を含む第２酸化珪素蒸着薄膜層の形成条件を下記のように設定し、第２酸化珪素蒸着薄膜層中の炭素含有量を３５ａｔ％とした以外は実施例１と同様の条件とし、実施例３に係る積層体を得た。
【００４６】
＜炭素を含む第２酸化珪素薄膜層の形成条件＞
ＴＭＤＳＯのガス流量を２０ｓｃｃｍとし、その他は実施例１と同様の条件とした。
【００４７】
〈実施例４〉
炭素を含む第１酸化珪素薄膜層の形成条件を下記のように設定し、炭素を含む第１酸化珪素薄膜層中の炭素含有量を１０ａｔ％とした以外は実施例１と同様の条件とし、実施例４に係る積層体を得た。
【００４８】
＜第１酸化珪素薄膜層の形成条件＞
ＴＭＤＳＯのガス流量を１０ｓｃｃｍとし、その他は実施例１と同様の条件とした。
【００４９】
〈比較例１〉
炭素を含む第１と第２酸化珪素薄膜層の替わりに、抵抗加熱方式による真空蒸着装置により厚さ４０ｎｍの酸化珪素薄膜層を設けた以外は実施例１と同様の条件とし、比較例１に係る積層体を得た。この層をＸ線光電子分光法によって組成分析した結果、炭素成分が含まれていなかった。
【００５０】
〈比較例２〉
炭素を含む第２酸化珪素薄膜層を設けなかった以外は実施例１と同様の条件とし、比較例２に係る積層体を得た。
【００５１】
〈比較例３〉
中間層を設けなかった以外は実施例１と同様の条件とし、比較例３に係る積層体を得た。
【００５２】
〈評価〉
実施例及び比較例の積層体について、ガスバリア性の指標となる水蒸気透過率（ｇｒ／ｍ2・ｄａｙ ）を測定した。その結果を表１に示す。水蒸気透過率は、モコン法を用いて測定した。その時の測定条件は４０℃−９０％ＲＨであった。また可撓性の指標となる引っ張り（テンシロン引っ張り試験機使用。引っ張り速度１０ｍｍ／ｍｉｍでＭＤ方向へ２％。）後の水蒸気透過率（ｇｒ／ｍ2・ｄａｙ）も測定した。その結果も併せて表１に示す。
【００５３】
【表１】
2004202819.tif 000003
【００５４】
実施例１〜４に係る積層体は、包装材料として用いられるための条件とされる、内容物に対して影響を与える気体等を遮断する金属箔並みの高度なガスバリア性を有していると共に、製袋加工及び成形加工後のガスバリア性の劣化を防止するに足る可撓性を有するものであったが、比較例１〜２に係る積層体はそれらを満たしているといえるものではなく、引っ張り試験後にガスバリア性の劣化が認められた。
【００５５】
【発明の効果】
以上に述べたように、本発明によれば、優れた透明性と、金属箔並の高度なガスバリア性を有し、且つ製袋加工や成形加工後においてもガスバリア性の劣化が少ない、種々の包装分野に汎用的に利用可能な包材用の積層体を提供することができ、包装分野、電子機器部材分野において巾広い使用が期待されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の積層体の概略断面説明図である。
【符号の説明】
１…  積層体
２…  プラスチック基材
３…  炭素を含む第１酸化珪素薄膜層
４…  中間層
５…  炭素を含む第２酸化珪素薄膜層
【図１】
2004202819.tif 000004