(57)【要約】【課題】ボトムゲート構造の薄膜デバイスにおいて、レーザアニーリングにより非晶質シリコンを結晶質シリコンに改質する際に、ゲート線上の領域とその外の領域とにおける結晶化の差を小さくして、高歩留り、高性能化を実現する。【解決手段】基板１０１上の絶縁層１０３上に形成されたゲート線１０４上にゲート絶縁膜１０５を介して活性層となるシリコン層１０６が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタであって、シリコン層１０６は光照射により結晶化されたものからなり、シリコン層１０６が形成される前に、基板１０１と絶縁層１０３との間で基板１０１上の全面または一部に、ゲート線１０４の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層１０２を形成するものである。【選択図】        図１
2004327872.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタであって、
前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、
前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成する
ことを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項２】
前記高熱伝導層は、前記ゲート線下にある前記高熱伝導層よりも、前記ゲート線下以外の部分にある前記高熱伝導層の方が厚く形成されているものからなる
ことを特徴とする請求項１記載の薄膜トランジスタ。
【請求項３】
前記高熱伝導層は、前記ゲート線下にある前記高熱伝導層よりも、前記ゲート線下以外の部分にある前記高熱伝導層の方が高い熱伝導率を有するものからなる
ことを特徴とする請求項１記載の薄膜トランジスタ。
【請求項４】
前記高熱伝導層は、前記シリコン層を結晶化する工程を行った後の工程で除去される
ことを特徴とする請求項１記載の薄膜トランジスタ。
【請求項５】
基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されるボトムゲート型の薄膜トランジスタであって、
前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、
前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の前記ゲート線の未形成領域に、前記ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成する
ことを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項６】
基板上にゲート線を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線を被覆するゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線および前記ゲート絶縁膜を介して光照射により結晶化されるもので活性層となるシリコン層を形成する工程とを備えたボトムゲート型の薄膜トランジスタの製造方法において、
前記ゲート線を形成する前に、前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成する工程
を備えたことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項７】
前記高熱伝導層は、前記ゲート線下の前記高熱伝導層よりも、前記ゲート線下以外の前記高熱伝導層が厚く形成される
ことを特徴とする請求項６記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項８】
前記高熱伝導層は、前記ゲート線下の前記高熱伝導層よりも、前記ゲート線下以外の前記高熱伝導層の方が、熱伝導率の高いもので形成される
ことを特徴とする請求項６記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項９】
前記高熱伝導層は、前記シリコン層を結晶化する工程を行った後の工程で除去される
ことを特徴とする請求項６記載の薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１０】
基板上にゲート線を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線を被覆するゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線および前記ゲート絶縁膜を介して光照射により結晶化されるもので活性層となるシリコン層を形成する工程とを備えたボトムゲート型の薄膜トランジスタの製造方法において、
前記薄膜トランジスタのゲート線を形成するとともに、前記基板上の前記ゲート線の非形成領域に前記ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成する
ことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１１】
基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタを備えた表示装置であって、
前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、
前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタを備えた表示装置であって、
前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、
前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタを備えた表示装置の製造方法において、
前記薄膜トランジスタの製造工程は、
前記基板上にゲート線を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線を被覆するゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線および前記ゲート絶縁膜を介して光照射により結晶化されるもので活性層となるシリコン層を形成する工程とを備え、
前記ゲート線を形成する前に、前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成する工程
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１４】
基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタを備えた表示装置の製造方法において、
前記薄膜トランジスタの製造工程は、
基板上にゲート線を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線を被覆するゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート線および前記ゲート絶縁膜を介して光照射により結晶化されるもので活性層となるシリコン層を形成する工程とを備え、
前記ゲート線を形成すると同時に、前記基板上に前記ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成する工程
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜トランジスタおよびその製造方法、薄膜トランジスタを用いた表示装置およびその製造方法に関し、詳しくは非晶質半導体を結晶化させる技術を用いた薄膜トランジスタおよびその製造方法、その薄膜トランジスタを用いた液晶パネル、エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと略記する）表示パネルなどの表示装置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話や携帯用情報端末などに用いられる液晶表示装置または有機ＥＬ表示装置には、スイッチング素子として一部にシリコンを利用したものが使われている。液晶デバイスとしては、シリコンを薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと略記する）として利用し、ＴＦＴによって制御された電圧を、基板とその対向基板との間に封止された液晶にかけることによって画像を表示している。このＴＦＴを構成しているシリコンには、非晶質シリコンと結晶シリコンがあり、結晶シリコンは、高開口率、低消費電力、小型化、回路内蔵などが実現できるため、注目を集めている。
【０００３】
一般的に、結晶シリコンによりスイッチング素子を作製するためには、ガラス上に非晶質シリコンを形成した後にこの非晶質シリコンにレーザ光を照射する熱処理を行って非晶質シリコンを結晶化する方法、石英基板上に非晶質シリコンを形成した後に高温（例えば６００℃）の熱処理を行うことによって非晶質シリコンを結晶化する方法、単結晶シリコンを利用する方法などがある。この中で携帯機器に搭載されているものは、大面積での作製が可能なガラス上に非晶質シリコンを形成した後、レーザ光照射により結晶化する方法が一般的に用いられている（例えば、特許文献１参照。）。レーザ光としては、短波長で大出力が得られるエキシマレーザ光が主に用いられているが、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザ光などの固体レーザ光の高調波なども一部で用いられている。
【０００４】
薄膜トランジスタには、チャネル層下（基板側）にゲート線が配置されているボトムゲート型構造と、チャネル層上にゲート線が配置されているトップゲート型構造が存在する。ゲート線は通常、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属、またはこれらを組み合わせたものが用いられる。これらの金属は、ガラス基板よりも熱伝導率が高い。一般に、結晶化を行うためのレーザ光は、薄膜デバイス側から照射され、照射されたレーザ光は非晶質シリコンに吸収されて熱エネルギーとなり、非晶質シリコンを融解させる。非晶質シリコンが融解した後、非晶質シリコン中の熱は基板側に逃げるために非晶質シリコンの温度が下がり、その過程で非晶質シリコンは多結晶シリコンとなる。この際、結晶化に必要なレーザ光エネルギーは、低すぎると十分に融解せず結晶化が不十分となり、結晶化された部分の結晶の大きさとしては、０．１μｍ以下のものができる。逆に結晶化に必要なレーザ光エネルギーが高すぎる場合には、微小結晶領域（０．１μｍ以下）が出現する。したがって、その間に最適なエネルギー範囲が存在する。結晶が大きくなるほど、トランジスタの移動度が大きくなり、高速な回路を形成することができるため、なるべく大きい結晶が望ましい。
【０００５】
上記結晶化レーザニーリング工程では、ゲート線上にシリコン層が形成されているボトムゲート構造では下地にゲート線のある領域（チャネル部分）と無い領域（ＬＤＤ領域、ソース領域、ドレイン領域）が存在し、ゲート線があるために下地の熱伝導率が異なる。このため、熱拡散の過程が異なり、ゲート線のある領域と無い領域とでは結晶化に最適なレーザ光エネルギー密度が異なるという問題がある。ゲート線が１００ｎｍの厚さのモリブデンからなり、ゲート絶縁膜が１００ｎｍの厚さの酸化シリコン（ＳｉＯ）からなり、シリコン層の厚さが５０ｎｍの場合におけるレーザ光エネルギー密度（横軸）と結晶粒径（縦軸）との関係を図１１に示す。
【０００６】
図１１に示すように、ゲート線上の領域の非晶質シリコン層に、結晶化に最適なエネルギー値を合わせた場合には、ゲート線上以外の領域の非晶質シリコン層ではエネルギーが大きすぎて微結晶ができる可能性がある。一方、ゲート線上以外の領域の非晶質シリコン層に、結晶化に最適なエネルギー値を合わせた場合には、ゲート線上の領域の非晶質シリコン層にとってはエネルギーが足りずに結晶が大きく成長しない（例えば、特許文献２参照。）。
【０００７】
上記課題を解決すべく、ゲート電極（ゲート線）を２層の導電材料を重ねた積層構造とし、結晶化される半導体薄膜に近い上層の導電材料はガラス基板に近い下層の導電材料に比較して熱伝導度が低い材料で形成するゲート電極を備えた薄膜トランジスタが提案されている（例えば、特許文献３参照。）。この構造では、上層の導電材料の熱伝導度がガラス基板に近くなるため、ゲート電極上にゲート絶縁膜を介して形成される半導体薄膜のゲート領域と非ゲート領域とでレーザニーリング時の熱的な条件が近くなることから、両領域にわたってレーザニーリングのプロセス条件を最適化できるものである。
【０００８】
【特許文献１】
特開平７−２３５４９０号公報（第４−５頁、第３−４図）
【特許文献２】
特開２００１−３２００５６号公報（第４−５頁、図１（ｃ））
【特許文献３】
特開２００２−２３１９５９号公報（第４−５頁、図１（ｃ））
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ボトムゲート構造の薄膜トランジスタでは、ゲート電極を一層で形成する現状のプロセスでは、その中間のエネルギーでレーザ光を照射しているが、どちらも最適なエネルギーでないため、結晶粒が小さくなる。また最適なエネルギー値の範囲が狭いため、レーザ光出力が安定しない場合には歩留まりを下げる原因となっている。
【００１０】
また、ゲート電極を２層に形成する薄膜トランジスタでは、ゲート電極を形成するにあたり、２度のパターニング工程（例えばリソグラフィー工程とエッチング工程）を経なければならず、このため製造工程が複雑になり、それが歩留りを低下させる要因となる。また製造コストもかかる。
【００１１】
また、液晶表示パネル、ＥＬ表示パネル等はモバイル機器などに多く搭載され、低消費電力化が求められており、その一環としてゲート線の低抵抗化が要求されている。低抵抗化を実現するためにゲート線の厚さを厚くすることが考えられるが、ゲート線が厚くなるほど、ゲート線上とそれ以外の領域とで結晶化に必要な最適なレーザ光エネルギー密度の差が大きくなるため、結晶化にばらつきを生じるという問題が発生する。その差があまり大きくなると、一方が結晶化できなくなる。そのため、ゲート線はある一定以上の厚さにできないという制約が発生している。
【００１２】
本発明は、ボトムゲート構造の薄膜デバイスにおいて、レーザアニーリングにより非晶質シリコンを結晶質シリコンに改質する際に、ゲート線上の領域とゲート線上以外の領域とにおける非晶質シリコンの結晶化に必要なエネルギーの差を小さくするとともに、高歩留まり、高性能を実現することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされた薄膜トランジスタ、その製造方法および薄膜トランジスタを用いた表示装置、その製造方法である。
【００１４】
本発明の薄膜トランジスタは、基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタであって、前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成するものからなる。または、前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の前記ゲート線の未形成領域に、前記ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成するものからなる。
【００１５】
上記薄膜トランジスタでは、基板と絶縁層との間で基板上の全面または一部に、ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成することから、シリコン層を光照射によって結晶化する際に、シリコン層が加熱されても、その熱は高熱伝導層によって均一な温度になるようにすばやく伝導される。これにより、ゲート線が存在する部分と存在しない部分とにおける熱伝導の相違が少なくなり、シリコン層に均一に熱が伝導されるようになる。または、基板上のゲート線の未形成領域に、ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層が形成されていることから、その上面にゲート絶縁膜を介して形成されるシリコン層を光照射によって結晶化する際に、シリコン層が加熱されても、ゲート線上および熱伝導層上の熱伝導の相違がなくなり、シリコン層に均一に熱が伝導されるようになる。したがって、いずれの構成においても、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコンを結晶化させる際に問題となるゲート線の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和される。
【００１６】
本発明の薄膜トランジスタの製造方法は、基板上にゲート線を形成する工程と、前記基板上に前記ゲート線を被覆するゲート絶縁膜を形成する工程と、前記基板上に前記ゲート線および前記ゲート絶縁膜を介して光照射により結晶化されるもので活性層となるシリコン層を形成する工程とを備えたボトムゲート型の薄膜トランジスタの製造方法において、前記ゲート線を形成する前に、前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成する工程を備えている。前記薄膜トランジスタのゲート線を形成するとともに、前記基板上の前記ゲート線の非形成領域に前記ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成する。または、前記薄膜トランジスタのゲート線を形成するとともに、前記基板上の前記ゲート線の非形成領域に前記ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成する。
【００１７】
上記薄膜トランジスタの製造方法では、基板上の全面または一部に、ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成することから、シリコン層を光照射によって結晶化する際に、シリコン層が加熱されても、その熱は高熱伝導層によって均一な温度になるようにすばやく伝導される。これにより、ゲート線が存在する部分と存在しない部分とにおける熱伝導の相違が少なくなり、シリコン層には均一に熱伝導される。または、基板上のゲート線の未形成領域に、ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成することから、その上面にゲート絶縁膜を介して形成されるシリコン層を光照射によって結晶化する際に、シリコン層が加熱されても、ゲート線上および熱伝導層上の熱伝導の相違がなくなり、シリコン層に均一に熱が伝導されるようになる。したがって、いずれの製造方法においても、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコンを結晶化させる際に問題となるゲート線の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和される。
【００１８】
本発明の表示装置は、基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタを備えた表示装置であって、前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成するものである。または、前記シリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、前記シリコン層が形成される前に、前記基板と前記絶縁層との間で前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成するものである。
【００１９】
上記表示装置では、本発明の薄膜トランジスタを備えていることから、本発明の薄膜トランジスタと同様なる作用、効果が得られる。
【００２０】
本発明の表示装置の製造方法は、基板上の絶縁層上に形成されたゲート線上にゲート絶縁膜を介して活性層となるシリコン層が形成されたボトムゲート型の薄膜トランジスタを備えた表示装置の製造方法において、前記薄膜トランジスタの製造工程は、前記基板上にゲート線を形成する工程と、前記基板上に前記ゲート線を被覆するゲート絶縁膜を形成する工程と、前記基板上に前記ゲート線および前記ゲート絶縁膜を介して光照射により結晶化されるもので活性層となるシリコン層を形成する工程とを備え、前記ゲート線を形成する前に、前記基板上の全面または一部に、前記ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成する工程を備えている。または、前記薄膜トランジスタの製造工程は、基板上にゲート線を形成する工程と、前記基板上に前記ゲート線を被覆するゲート絶縁膜を形成する工程と、前記基板上に前記ゲート線および前記ゲート絶縁膜を介して光照射により結晶化されるもので活性層となるシリコン層を形成する工程とを備え、前記ゲート線を形成すると同時に、前記基板上に前記ゲート線の熱伝導率と同等の熱伝導率を有する物質からなる熱伝導層を形成する工程を備えている。
【００２１】
上記表示装置の製造方法では、本発明の薄膜トランジスタの製造方法を備えていることから、本発明の薄膜トランジスタの製造方法と同様なる作用、効果が得られる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第１実施の形態を、図１および図２の概略構成断面図によって説明する。この第１実施の形態では、一例として、反射型液晶パネル用のアクティブマトリックス基板を説明する。
【００２３】
図１（１）に示すように、まず、第１基板１０１上に高熱伝導層１０２を形成する。上記第１基板１０１には、例えば厚さ０．７ｎｍのガラス基板を用いた。上記高熱伝導層１０２は、ダイヤモンドライクカーボン（以下ＤＬＣと略記する）で形成した。このＤＬＣは、例えばプラズマＣＶＤ法にて成膜される。このプラズマＣＶＤ法では、例えば、原料ガスにＣＨ４（メタン）を用い、基板温度を例えば２００℃とし、例えば３００ｎｍの厚さにＤＬＣを成膜した。ＤＬＣの熱伝導率は、膜質によっても変わるが、５Ｗ／ｃｍＫ〜１５Ｗ／ｃｍＫ程度である。また、ガラス基板の熱伝導率は、０．０１Ｗ／ｃｍＫ程度である。今回は、ＤＬＣを用いたが、タングステン、モリブデン、マグネシウム、銅などの金属、または窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）、窒化ホウ素（ＢＮ）などの絶縁物でも、高熱伝導のものならば、どれを用いてもよい。ただし、それぞれの熱伝導率にあわせて、膜厚を設定する必要がある。熱伝導が高い膜ほど薄く形成することができる。
【００２４】
さらに、高熱伝導層１０２上に絶縁層１０３を形成する。この絶縁層１０３は、例えばプラズマＣＶＤ法により酸化シリコン（ＳｉＯ２）を例えば２００ｎｍの厚さに堆積して形成した。この絶縁層１０３は、第１基板１０１や高熱伝導層１０２からの後に形成される薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴと略記する）層への不純物の拡散を防ぐためである。また、高熱伝導層１０２が金属で形成される場合は、高熱伝導層１０２と後に形成するゲート線のモリブデンとを絶縁するためのものとのなる。絶縁層１０３の厚さは、今回は２００ｎｍとしたが、あまり厚すぎると熱拡散の効果が少なくなってしまい、薄すぎると不純物のバリアとしての役目を果たさず、また高熱伝導層が金属の場合はゲートとの容量が強くなってしまうため、３０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。
【００２５】
その後は、一般的な低温ポリシリコン技術、例えば「２００３ＦＰＤテクノロジー大全」（電子ジャーナル２００３年３月２５日発行、ｐ．１６６−１８３およびｐ．１９８−２０１）、「’９９最新液晶プロセス技術」（プレスジャーナル１９９８年発行、ｐ．５３−５９）、「フラットパネル・ディスプレイ１９９９」（日経ＢＰ社、１９９８年発行、ｐ．１３２−１３９）等に記載されているような低温ポリシリコンを用いたボトムゲート型の薄膜トランジスタ（以下薄膜トランジスタをＴＦＴと記す）プロセスでＴＦＴを含む薄膜デバイス層を形成した。薄膜デバイス層の形成方法の一例を以下に説明する。
【００２６】
図１（２）に示すように、上記絶縁層１０３上にゲート線（ゲート電極も含む）１０４を形成した。このゲート線１０４は、一層の導電層（金属層）、例えばモリブデン層で形成され、その厚さは例えば１００ｎｍとした。モリブデンの熱伝導率は、１．３Ｗ／ｃｍＫである。上記ゲート線１０４は一例として以下のように形成される。スパッタリング法により、上記絶縁層１０３上にモリブデン膜を１００ｎｍの厚さに形成した。その後、一般的なフォトリソグラフィー技術とエッチング技術とによってゲート電極形状のパターニングして形成した。
【００２７】
次いで、上記絶縁層１０３上に上記ゲート線１０４を被覆するようにゲート絶縁膜１０５を形成した。ゲート絶縁膜１０５は、例えばプラズマＣＶＤ法によって、酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層、または酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層と窒化珪素（ＳｉＮｘ  ）層との積層体で形成した。さらに連続的にプラズマＣＶＤ法により、上記ゲート絶縁膜１０５上に非晶質シリコン層１０６ａを、例えば５０ｎｍの厚さに形成した。この非晶質シリコン層１０６ａは、例えば厚さ３０ｎｍ〜１００ｎｍで形成することが好ましい。
【００２８】
次いで、図１（３）に示すように、光照射により上記非晶質シリコン層１０６ａ〔前記図１の（２）参照〕」を熔融再結晶化し結晶シリコン（ポリシリコン）層１０６を作製した。光照射には、一例として波長３０８ｎｍのＸｅＣｌエキシマレーザパルスを用いた。ここでは、波長が３０８ｎｍのエキシマレーザ光を用いたが、波長が２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光、ＹＡＧレーザ光の高調波などを用いてもよい。
【００２９】
ここで、走査型電子顕微鏡によりポリシリコン層１０６を観察した。その結果、下地にモリブデン製のゲート線１０４が存在する位置と存在しない位置では、ポリシリコン層１０６の結晶の大きさに違いがなかった。レーザパワー密度３００ｍＪ／ｃｍ２で、約０．５μｍの大きさであった。本実施の形態では、ＤＬＣを高熱伝導層１０２として形成したため、モリブデンからなるゲート線１０４が存在しない部分でも熱拡散が効率よく起こるため、モリブデンからなるゲート線１０４の存在する位置と存在しない位置とで、結晶のでき方に差ができなかった。
【００３０】
図２（４）に示すように、ゲート線（ゲート電極）１０４上のポリシリコン層１０６をチャネル形成領域とし、このチャネル形成領域の両側にｎ−  型ドープ領域からなるポリシリコン層１０７、ｎ＋  型ドープ領域からなるポリシリコン層１０８を形成した。これらのポリシリコン層１０７、１０８の形成には、例えば、イオン注入法を用いることができる。その際、チャネル形成領域となるポリシリコン層１０６上には、ｎ−型のリンイオン打込み時にチャネルを保護するためのストッパー層１０９を形成した。このストッパー層１０９は、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ２  ）層で形成した。このようにして、アクティブ領域は高いオン電流と低いオフ電流を両立するためのＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造とした。
【００３１】
さらに、プラズマＣＶＤ法によって、酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層、または酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層と窒化珪素（ＳｉＮｘ  ）層との積層体からなるパッシベーション膜１１０を形成した。このパッシベーション膜１１０上に、各ポリシリコン層１０８に接続するソース電極１１１およびドレイン電極１１２を形成した。各ソース電極１１１およびドレイン電極１１２は例えばアルミニウムで形成した。
【００３２】
このようにして形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、第１基板１０１と絶縁層１０３との間で第１基板１０１上の全面または一部に、ゲート線１０４の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層１０２を形成することから、非晶質シリコン層１０６ａ〔前記図１の（２）参照〕を光照射によって結晶化する際に、非晶質シリコン層１０６ａが加熱されても、その熱は高熱伝導層１０２によって均一な温度になるようにすばやく伝導される。これにより、ゲート線１０４が存在する部分と存在しない部分とにおける熱伝導の相違が少なくなり、非晶質シリコン層１０６ａに均一に熱が伝導されるようになる。したがって、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコンを結晶化させる際に問題となるゲート線１０４の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和される。よって、ポリシリコン層１０６は全域にわたって結晶粒径の大きい結晶性に優れたものとなる。
【００３３】
次に、素子を保護するためと平坦化を行うために保護膜１１３を形成した。保護膜１１３は例えばポリメチルメタクリル酸樹脂系の樹脂により形成した。また保護膜１１３には、次工程で形成される反射電極に凹凸がつくように、保護層１１３表面に凹凸を形成し、さらにソース電極１１１と液晶駆動用電極とが接続されるようにコンタクトホール１１３Ｃを形成した。その後、ソース電極１１１に接続する反射電極１１４を形成した。この反射電極１１４は、例えば、銀（Ａｇ）で形成され、その形成方法としてはスパッタリング法が用いられる。このようにして、絶縁層１０３上に薄膜トランジスタを含む薄膜デバイス層が形成された。
【００３４】
以上の工程により、ボトムゲート構造のＴＦＴを備えたものであってもゲート線１０４上の領域とそれ以外の領域とでシリコン結晶の質がほぼ同じポリシリコン層１０６が形成されるアクティブマトリックス基板を作製することができた。
【００３５】
その後の工程は、一般的に知られている液晶パネルの製造工程により、液晶表示装置を製造することができる。なお、反射型の液晶表示装置を形成する場合、上記高熱伝導層１０２は除去されなくともよい。
【００３６】
上記第１実施の形態に係る薄膜トランジスタおよびその製造方法では、第１基板１０１上の全面に、ゲート線１０４の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質（ここではＤＬＣ）からなる高熱伝導層１０２が形成されることから、その上面に絶縁層１０３、ゲート線１０４、ゲート絶縁膜１０５を介して形成される非晶質シリコン層１０６ａを光照射によって結晶化する際に、非晶質シリコン層１０６ａが加熱されても、その熱は高熱伝導層１０２によって均一な温度になるようにすばやく伝導される。これにより、ゲート線１０４が存在する部分上と存在しない部分上とにおける非晶質シリコン層１０６ａの熱伝導の相違が少なくなり、非晶質シリコン層１０６ａは均一に加熱される。したがって、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコン１０６ａを結晶化させる際に問題となるゲート線１０４の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和され、ほぼ均質な結晶性を有するポリシリコン層１０６を全域にわたって形成することができる。
【００３７】
次に、本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第２実施の形態を、図３および図４の概略構成断面図によって説明する。この第２実施の形態では、一例として、透過型液晶パネル用のアクティブマトリックス基板を説明する。
【００３８】
図３（１）に示すように、まず、第１基板２０１上に高熱伝導層２０２を形成する。上記第１基板２０１には、例えば厚さ０．７ｎｍのガラス基板を用いる。上記高熱伝導層２０２は、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）で形成した。この窒化アルミニウムは、例えばスパッタリング法にて成膜される。このスパッタリング法では、例えば５００ｎｍの厚さに窒化アルミニウムを成膜した。窒化アルミニウムの熱伝導率は、３．２Ｗ／ｃｍＫである。また、ガラス基板の熱伝導率は、０．０１Ｗ／ｃｍＫ程度である。今回は、窒化アルミニウムを用いたが、タングステン、モリブデン、マグネシウム、銅などの金属、またはＤＬＣ、炭化シリコン（ＳｉＣ）、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）、窒化ホウ素（ＢＮ）などの絶縁物でも、高熱伝導のものならば、どれを用いても問題はない。ただし、それぞれの熱伝導率にあわせて、膜厚を設定する必要がある。熱伝導が高い膜ほど薄く形成することができる。ただし、第１実施の形態と違い、第２実施の形態は透過型液晶パネルのアクティブマトリックス基板であるので、光を通すもので無ければならないが、光を透過しないもしくは透過しにくいもので形成されている場合には、後の工程で除去することも可能である。また、窒化アルミニウム以外の場合は、それぞれの熱伝導率にあわせて、膜厚を変更する必要がある。
【００３９】
次いで、高熱伝導層２０２上に絶縁層２０３を形成する。この絶縁層２０３は、例えばプラズマＣＶＤ法により酸化シリコン（ＳｉＯ２）を例えば２００ｎｍの厚さに堆積して形成した。この絶縁層２０３は、第１基板２０１や高熱伝導層２０２からの後に形成される薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴと略記する）層への不純物の拡散を防ぐためである。また、高熱伝導層２０２が金属で形成される場合は、高熱伝導層２０２と後に形成するゲート線のモリブデンとを絶縁するためのものとのなる。絶縁層２０３の厚さは、今回は２００ｎｍとしたが、あまり厚すぎると熱拡散の効果が少なくなってしまい、薄すぎると不純物のバリアとしての役目を果たさず、また高熱伝導層が金属の場合はゲートとの容量が強くなってしまうため、３０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。
【００４０】
その後は、一般的な低温ポリシリコン技術、例えば「２００３ＦＰＤテクノロジー大全」（電子ジャーナル２００３年３月２５日発行、ｐ．１６６−１８３およびｐ．１９８−２０１）、「’９９最新液晶プロセス技術」（プレスジャーナル１９９８年発行、ｐ．５３−５９）、「フラットパネル・ディスプレイ１９９９」（日経ＢＰ社、１９９８年発行、ｐ．１３２−１３９）等に記載されているような低温ポリシリコンを用いたボトムゲート型の薄膜トランジスタ（以下薄膜トランジスタをＴＦＴと記す）プロセスでＴＦＴを含む薄膜デバイス層を形成した。薄膜デバイス層の形成方法の一例を以下に説明する。
【００４１】
図３（２）に示すように、上記絶縁層２０３上にゲート線（ゲート電極も含む）２０４を形成した。このゲート線２０４は、一層の導電層（金属層）、例えばモリブデン層で形成され、その厚さは例えば１００ｎｍとした。モリブデンの熱伝導率は、１．３Ｗ／ｃｍＫである。上記ゲート線２０４は一例として以下のように形成される。スパッタリング法により、上記絶縁層２０３上にモリブデン膜を１００ｎｍの厚さに形成した。その後、一般的なフォトリソグラフィー技術とエッチング技術とによってゲート電極形状のパターニングして形成した。
【００４２】
次いで、上記絶縁層２０３上に上記ゲート線２０４を被覆するようにゲート絶縁膜２０５を形成した。ゲート絶縁膜２０５は、例えばプラズマＣＶＤ法によって、酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層、または酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層と窒化珪素（ＳｉＮｘ  ）層との積層体で形成した。さらに連続的にプラズマＣＶＤ法により、上記ゲート絶縁膜２０５上に非晶質シリコン層２０６ａを、例えば５０ｎｍの厚さに形成した。この非晶質シリコン層２０６ａは、例えば厚さ３０ｎｍ〜１００ｎｍで形成することが好ましい。
【００４３】
次いで、図３（３）に示すように、光照射により上記非晶質シリコン層２０６ａ〔前記図３の（２）参照〕を熔融再結晶化し結晶シリコン（ポリシリコン）層２０６を作製した。光照射には、一例として波長３０８ｎｍのＸｅＣｌエキシマレーザパルスを用いた。ここでは、波長が３０８ｎｍのエキシマレーザ光を用いたが、波長が２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光、ＹＡＧレーザ光の高調波などを用いてもよい。
【００４４】
ここで、走査型電子顕微鏡によりポリシリコン層２０６を観察した。その結果、下地にモリブデン製のゲート線２０４が存在する位置と存在しない位置では、ポリシリコン層２０６の結晶の大きさに違いがなかった。レーザパワー密度３００ｍＪ／ｃｍ２で、約０．５μｍの大きさであった。本実施の形態では、高熱伝導層２０２として窒化アルミニウム膜を形成したため、モリブデンからなるゲート線２０４が存在しない部分でも熱拡散が効率よく起こるため、モリブデンからなるゲート線２０４の存在する位置と存在しない位置とで、結晶のでき方に差ができなかった。
【００４５】
その後図４（４）に示すように、ゲート線（ゲート電極）２０４上のポリシリコン層２０６をチャネル形成領域とし、このチャネル形成領域の両側にｎ−  型ドープ領域からなるポリシリコン層２０７、ｎ＋  型ドープ領域からなるポリシリコン層２０８を形成した。これらのポリシリコン層２０７、２０８の形成には、例えば、イオン注入法を用いることができる。その際、チャネル形成領域となるポリシリコン層２０６上には、ｎ−型のリンイオン打込み時にチャネルを保護するためのストッパー層２０９を形成した。このストッパー層２０９は、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ２  ）層で形成した。このようにして、アクティブ領域は高いオン電流と低いオフ電流を両立するためのＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造とした。
【００４６】
さらに、パッシベーション膜２１０を形成した。このパッシベーション膜２１０上に、各ポリシリコン層２０８に接続するソース電極２１１およびドレイン電極２１２を形成した。各ソース電極２１１およびドレイン電極２１２は例えばアルミニウムで形成した。
【００４７】
このように薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成するに際し、第１基板２０１と絶縁層２０３との間で第１基板２０１上の全面に、ゲート線２０４の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層２０２を形成することから、非晶質シリコン層２０６ａを光照射によって結晶化する際に、非晶質シリコン層２０６ａが加熱されても、その熱は高熱伝導層２０２によって均一な温度になるようにすばやく伝導される。これにより、ゲート線２０４が存在する部分と存在しない部分とにおける熱伝導の相違が少なくなり、非晶質シリコン層２０６ａに均一に熱が伝導されるようになる。したがって、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコンを結晶化させる際に問題となるゲート線２０４の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和される。よって、ポリシリコン層２０６は全域にわたって結晶粒径の大きい結晶性に優れたものとなる。
【００４８】
次に、素子を保護するためと平坦化を行うために保護膜２１３を形成した。保護膜２１３は例えばポリメチルメタクリル酸樹脂系の樹脂により形成した。さらにソース電極２１１と液晶駆動用電極とが接続されるようにコンタクトホール２１３Ｃを形成した。その後、ソース電極２１１に接続する画素電極２１４を形成した。この画素電極２１４は、例えば、銀（Ａｇ）で形成され、その形成方法としてはスパッタリング法が用いられる。このようにして、絶縁層２０３上に薄膜デバイス層が形成された。
【００４９】
以上の工程により、ボトムゲート構造のＴＦＴを備えたものであってもゲート線２０４上の領域とそれ以外の領域とでシリコン結晶の質がほぼ同じポリシリコン層２０６が形成される透過型液晶パネルのアクティブマトリックス基板を作製できた。なお、透過型液晶パネルのアクティブマトリックス基板では、上記高熱伝導層２０２は透明性を有していなければ除去されなければならない。上記高熱伝導層２０２の除去方法については、後に詳述する。
【００５０】
その後の工程は、一般的に知られている液晶パネルの製造工程により、液晶表示装置を製造することができる。
【００５１】
上記第２実施の形態に係る薄膜トランジスタおよびその製造方法では、第１基板２０１上の全面に、ゲート線２０４の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質（ここでは窒化アルミニウム）からなる高熱伝導層２０２が形成されることから、前記第１実施の形態と同様に、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコン２０６ａを結晶化させる際に問題となるゲート線２０４の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和され、ほぼ均質な結晶性を有するポリシリコン層２０６が全域にわたって形成される。
【００５２】
次に、本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第３実施の形態を、図５および図６の概略構成断面図によって説明する。この第３実施の形態では、一例として、透過型液晶パネル用のアクティブマトリックス基板を説明する。
【００５３】
図５（１）に示すように、まず、第１基板３０１上に高熱伝導層３０２を形成する。上記第１基板３０１には、例えば厚さ０．７ｎｍのガラス基板を用いる。上記高熱伝導層３０２は、モリブデンで形成した。このモリブデンは、例えばスパッタリング法にて成膜される。このスパッタリング法では、例えば２００ｎｍの厚さにモリブデンを成膜した。モリブデンの熱伝導率は、１．３Ｗ／ｃｍＫである。また、ガラス基板の熱伝導率は、０．０１Ｗ／ｃｍＫ程度である。今回は、モリブデンを用いたが、タングステン、マグネシウム、銅などの金属、またはＤＬＣ、窒化アルミニウム、炭化シリコン（ＳｉＣ）、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）、窒化ホウ素（ＢＮ）などの絶縁物でも、高熱伝導のものならば、どれを用いても問題はない。ただし、それぞれの熱伝導率にあわせて、膜厚を設定する必要がある。熱伝導が高い膜ほど薄く形成することができる。ただし、この第３実施の形態は透過型液晶パネルのアクティブマトリックス基板であるので、光を通すもので無ければならないが、光を透過しないもしくは透過しにくいもので形成されている場合には、後の工程で除去することも可能である。また、モリブデン以外の場合は、それぞれの熱伝導率にあわせて、膜厚を変更する必要がある。
【００５４】
その後、既存のフォトリソグラフィー技術を用いて、高熱伝導層３０２上に、後に形成するゲート線領域上に開口部を設けたレジスト膜（図示せず）を形成した。次に、エッチング技術により、モリブデンからなる高熱伝導層３０２の上層を除去した。このエッチングは、ウエットエッチングで行うことができ、そのエッチング液には、例えば混酸〔リン酸（Ｈ３ＰＯ４）７２ｗｔ％、硝酸（ＨＮＯ３  ）３ｗｔ％および酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ）１０ｗｔ％〕を用いることができる。このエッチング液に上記高熱伝導層３０２を浸漬させることで、高熱伝導層３０２を約１００ｎｍの深さにエッチングした。その後、レジスト膜を剥離した。
【００５５】
次いで、高熱伝導層３０２上に絶縁層３０３を形成する。この絶縁層３０３は、例えばプラズマＣＶＤ法により酸化シリコン（ＳｉＯ２）を例えば２００ｎｍの厚さに堆積して形成した。この絶縁層３０３は、第１基板３０１や高熱伝導層３０２からの後に形成される薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴと略記する）層への不純物の拡散を防ぐためである。また、高熱伝導層３０２が金属で形成される場合は、高熱伝導層３０２と後に形成するゲート線のモリブデンとを絶縁するためのものとのなる。絶縁層３０３の厚さは、今回は２００ｎｍとしたが、あまり厚すぎると熱拡散の効果が少なくなってしまい、薄すぎると不純物のバリアとしての役目を果たさず、また高熱伝導層が金属の場合はゲートとの容量が強くなってしまうため、３０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。
【００５６】
その後は、一般的な低温ポリシリコン技術、例えば「２００３ＦＰＤテクノロジー大全」（電子ジャーナル２００３年３月２５日発行、ｐ．１６６−１８３およびｐ．１９８−２０１）、「’９９最新液晶プロセス技術」（プレスジャーナル１９９８年発行、ｐ．５３−５９）、「フラットパネル・ディスプレイ１９９９」（日経ＢＰ社、１９９８年発行、ｐ．１３２−１３９）等に記載されているような低温ポリシリコンを用いたボトムゲート型の薄膜トランジスタ（以下薄膜トランジスタをＴＦＴと記す）プロセスでＴＦＴを含む薄膜デバイス層を形成した。薄膜デバイス層の形成方法の一例を以下に説明する。
【００５７】
図５（２）に示すように、上記高熱伝導層３０２のエッチングした領域上における上記絶縁層３０３上にゲート線（ゲート電極も含む）３０４を形成した。このゲート線３０４は、一層の導電層（金属層）、例えばモリブデン層で形成され、その厚さは例えば１００ｎｍとした。モリブデンの熱伝導率は、１．３Ｗ／ｃｍＫである。上記ゲート線３０４は一例として以下のように形成される。スパッタリング法により、上記絶縁層３０３上にモリブデン膜を１００ｎｍの厚さに形成した。その後、一般的なフォトリソグラフィー技術とエッチング技術とによってゲート電極形状のパターニングして形成した。
【００５８】
次いで、上記絶縁層３０３上に上記ゲート線３０４を被覆するようにゲート絶縁膜３０５を形成した。ゲート絶縁膜３０５は、例えばプラズマＣＶＤ法によって、酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層、または酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層と窒化珪素（ＳｉＮｘ  ）層との積層体で形成した。さらに連続的にプラズマＣＶＤ法により、上記ゲート絶縁膜３０５上に非晶質シリコン層３０６ａを、例えば５０ｎｍの厚さに形成した。この非晶質シリコン層３０６ａは、例えば厚さ３０ｎｍ〜１００ｎｍで形成することが好ましい。
【００５９】
次いで、図５（３）に示すように、光照射により上記非晶質シリコン層３０６ａ〔前記図５の（２）参照〕を熔融再結晶化し結晶シリコン（ポリシリコン）層３０６を作製した。光照射には、一例として波長３０８ｎｍのＸｅＣｌエキシマレーザパルスを用いた。ここでは、波長が３０８ｎｍのエキシマレーザ光を用いたが、波長が２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光、ＹＡＧレーザ光の高調波などを用いてもよい。
【００６０】
ここで、走査型電子顕微鏡によりポリシリコン層３０６を観察した。その結果、下地にモリブデン製のゲート線３０４が存在する位置と存在しない位置では、ポリシリコン層３０６の結晶の大きさに違いがなかった。レーザパワー密度３００ｍＪ／ｃｍ２で、約０．５μｍの大きさであった。本実施の形態では、モリブデンからなる高熱伝導層３０２とモリブデンからなるゲート線３０４とを足し合わせた厚さがゲート線３０４が形成されていない領域の高熱伝導層３０２の厚さと同じになるため、ゲート線３０４が存在する領域上と存在しない領域上とで同じように熱拡散が起こる。そのため、モリブデンからなるゲート線３０４の存在する領域上と存在しない領域上とで、結晶のでき方に差ができなかったといえる。
【００６１】
その後図６（４）に示すように、ゲート線（ゲート電極）３０４上のポリシリコン層３０６をチャネル形成領域とし、このチャネル形成領域の両側にｎ−  型ドープ領域からなるポリシリコン層３０７、ｎ＋  型ドープ領域からなるポリシリコン層３０８を形成した。これらのポリシリコン層３０７、３０８の形成には、例えば、イオン注入法を用いることができる。その際、チャネル形成領域となるポリシリコン層３０６上には、ｎ−型のリンイオン打込み時にチャネルを保護するためのストッパー層３０９を形成した。このストッパー層３０９は、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ２  ）層で形成した。このようにして、アクティブ領域は高いオン電流と低いオフ電流を両立するためのＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造とした。
【００６２】
さらに、パッシベーション膜３１０を形成した。このパッシベーション膜３１０上に、各ポリシリコン層３０８に接続するソース電極３１１およびドレイン電極３１２を形成した。各ソース電極３１１およびドレイン電極３１２は例えばアルミニウムで形成した。
【００６３】
このようにして形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、第１基板３０１と絶縁層３０３との間で第１基板３０１上の全面に、ゲート線３０４の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層３０２を、ゲート線３０４とを足し合わせた領域の全域にわたって熱伝導率（ゲート線３０４と高熱伝導層３０２とが同種の材料で形成されている場合には膜厚とすることができる）が同等になるように形成することから、非晶質シリコン層３０６ａを光照射によって結晶化する際に、非晶質シリコン層３０６ａが加熱されても、全域にわたって均一な温度となる。これにより、ゲート線３０４が存在する部分と存在しない部分とにおける熱伝導の相違が少なくなり、非晶質シリコン層３０６ａに均一に熱が伝導されるようになる。したがって、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコンを結晶化させる際に問題となるゲート線３０４の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和される。よって、ポリシリコン層３０６は全域にわたって結晶粒径の大きい結晶性に優れたものとなる。
【００６４】
次に、素子を保護するためと平坦化を行うために保護膜３１３を形成した。保護膜３１３は例えばポリメチルメタクリル酸樹脂系の樹脂により形成した。さらにソース電極３１１と液晶駆動用電極とが接続されるようにコンタクトホール３１３Ｃを形成した。その後、ソース電極３１１に接続する画素電極３１４を形成した。この画素電極３１４は、例えば、銀（Ａｇ）で形成され、その形成方法としてはスパッタリング法が用いられる。このようにして、絶縁層３０３上に薄膜デバイス層が形成される。
【００６５】
以上の工程により、ボトムゲート構造のＴＦＴを備えたものであってもゲート線３０４上の領域とそれ以外の領域とでシリコン結晶の質がほぼ同じポリシリコン層３０６が形成される透過型液晶パネルのアクティブマトリックス基板を作製できた。なお、透過型液晶パネルのアクティブマトリックス基板では、上記高熱伝導層３０２は透明性を有していなければ除去されなければならない。上記高熱伝導層３０２の除去方法については、後に詳述する。
【００６６】
その後の工程は、一般的に知られている液晶パネルの製造工程により、液晶表示装置を製造することができる。
【００６７】
上記第３実施の形態に係る薄膜トランジスタおよびその製造方法では、第１基板３０１上の全面に、ゲート線３０４の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質（ここではモリブデン）からなる高熱伝導層３０２が形成されることから、前記第１実施の形態と同様に、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコン３０６ａを結晶化させる際に問題となるゲート線３０４の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和され、ほぼ均質な結晶性を有するポリシリコン層３０６が形成される。
【００６８】
次に、第１基板３０１上の薄膜層３２０をプラスチック基板上に移載する工程を、図７の製造工程図によって説明する。この第１基板をプラスチック基板上に移載する工程は、前記第１実施の形態および第２実施の形態で形成したアクティブマトリックス基板についても同様に行うことができる。
【００６９】
図７（１）に示すように、第１基板３０１上に高熱伝導層３０２、絶縁層３０３、薄膜デバイス層３２０を形成したものをホットプレート（図示せず）で８０℃〜１４０℃に加熱しながら、第１接着剤３２１を厚さ１ｍｍ程度に塗布し、第２基板３２２を上に載せ、加圧しながら、室温まで冷却した。第２基板３２２には、例えば厚さ１ｍｍのモリブデン基板を用いた。または、第２基板３２２にガラス基板を用いてもよい。または、第２基板３２２上に第１接着剤１２１を塗布して、その上に高熱伝導層３０２から薄膜デバイス層３２０が形成された第１基板３０１の薄膜デバイス層３２０側を載せてもよい。上記第１接着剤１２１には、例えばホットメルト接着剤を用いた。
【００７０】
次に、第２基板３２２を貼り付けた基板をフッ化水素酸（ＨＦ）（図示せず）に浸漬して、第１基板３０１のエッチングを行った。このエッチングは、高熱伝導層３０２であるモリブデン層がフッ化水素酸にエッチングされないため、このエッチングは高熱伝導層１０２で自動的に停止する。ここで用いたフッ化水素酸は、一例として、重量濃度が５０％のもので、このエッチング時間は３．５時間とした。フッ化水素酸の濃度とエッチング時間は、第１基板３０１のガラスを完全にエッチングすることができるならば、変更しても問題はない。
【００７１】
上記フッ化水素酸によるエッチングの結果、第１基板３０１が完全にエッチングされ、高熱伝導層３０２が露出される。
【００７２】
次に、混酸〔例えば、リン酸（Ｈ３  ＰＯ４  ）７２ｗｔ％と硝酸（ＨＮＯ３  ）３ｗｔ％と酢酸（ＣＨ３  ＣＯＯＨ）１０ｗｔ％〕により、高熱伝導層３０２のみをエッチングした。これは、透過型の液晶パネルを作製するために、不透明なモリブデン層があると光の透過に問題となるためである。上記混酸で５００ｎｍの厚さのモリブデン層をエッチングするのに必要な時間は約１分である。このエッチングの結果、図７（２）に示すように、この混酸（図示せず）は絶縁層３０３である酸化珪素をエッチングしないため、絶縁層３０３で自動的にエッチングが停止する。上記エッチングは、高熱伝導層３０２がモリブデンで形成されている場合に適用される。高熱伝導層がモリブデン以外の材料で形成されている場合には、その形成材料に合わせたエッチングにより除去すればよい。
【００７３】
次に、図７（３）に示すように、上記エッチング後に、薄膜デバイス層３２０の裏面側、すなわち絶縁層３０３表面に、第２接着層３２３を形成した。この第２接着層３２３は、例えば回転塗布技術により例えば紫外線硬化接着剤を塗布して形成した。
【００７４】
次に、第２接着層３２３に第３基板３２４を貼り付けた。この第３基板３２４にはプラスチック基板を用いた。このプラスチック基板には、例えば厚さが０．２ｍｍのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線を照射して、紫外線硬化接着剤からなる第２接着層３２３を硬化させた。ここではプラスチック基板にポリカーボネートを用いたが、ポリカーボネートに限らず、他のプラスチックを用いてもよい。例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート等の他の光学用フィルムを用いることができる。また、ここでは、絶縁層３０３側に第２接着層３２３を塗布形成したが、第３基板３２４に第２接着層３２３を塗布形成して貼り合わせてよい。
【００７５】
次に、上記基板をアルコール（図示せず）中に浸漬し、ホットメルト接着剤からなる第１接着層３２１〔前記図７（１）参照〕を溶かして第２基板３２２〔前記図７（１）参照〕を外し、プラスチック基板からなる第３基板３２４上に第２接着層３２３、絶縁層３０３を介して薄膜デバイス層３２０が載ったアクティブ基板を得た。
【００７６】
その後の工程は、一般的に知られている液晶パネルの製造工程により、液晶表示装置を製造することができる。
【００７７】
例えば、上記アクティブ基板と、プラスチック基板に透明電極膜を全面に成膜した対向基板（図示せず）とに配向膜（ポリイミド）を塗布し、ラビング処理を行って、配向処理を行った。その後、シール剤を用いて、アクティブ基板と対向基板とを所定の間隔を保持して張り合わせる。次いで、個々の液晶パネルに切断した後、アクティブ基板と対向基板との間に液晶を注入して封止することにより、液晶表示装置が完成される。
【００７８】
次に、本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第４実施の形態を、図８および図９の概略構成断面図によって説明する。この第４実施の形態では、一例として、トップエミッション型有機ＥＬパネル用アクティブマトリックス基板を説明する。
【００７９】
図８（１）に示すように、まず、第１基板４０１上に高熱伝導層４０２を形成する。上記第１基板４０１には、例えば厚さ０．７ｎｍのガラス基板を用いる。上記高熱伝導層４０２は、ゲート線下をタングステン層４０２１で形成するとともにそれ以外の領域をモリブデン層４０２２で形成した。
【００８０】
まず、例えばスパッタリング法にて、タングステン層４０２１を成膜する。このタングステン層４０２１は、例えば５００ｎｍの厚さに形成した。タングステンの熱伝導率は、１．７Ｗ／ｃｍＫである。また、上記ガラス基板の熱伝導率は、０．０１Ｗ／ｃｍＫ程度である。
【００８１】
次に、既存のフォトリソグラフィー技術を用いて、タングステン層４０２１上で後にゲート線が形成される領域にレジスト膜（図示せず）を形成した。次いで、エッチング技術により、上記レジスト膜に被覆されている部分を残し、それ以外のタングステン層４０２１を除去した。このエッチングは、ウエットエッチングで行うことができ、そのエッチング液には、例えば混酸〔リン酸（Ｈ３ＰＯ４）７２ｗｔ％、硝酸（ＨＮＯ３  ）３ｗｔ％および酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ）１０ｗｔ％〕を用いることができる。このエッチング液に上記タングステン層４０２１を浸漬させることで、タングステン層４０２１がエッチングされる。その後、レジスト膜を剥離した。
【００８２】
その後、例えばスパッタリング法にて、モリブデン層４０２２を成膜する。このモリブデン層４０２２は、例えば５００ｎｍの厚さに形成した。モリブデンの熱伝導率は、１．３Ｗ／ｃｍＫである。次に、既存のフォトリソグラフィー技術を用いて、モリブデン層４０２２上で後にゲート線が形成される領域に開口部を設けたレジスト膜（図示せず）を形成した。次いで、エッチング技術により、上記レジスト膜に被覆されている部分を残し、それ以外のモリブデン層４０２２を除去した。このエッチングは、ウエットエッチングで行うことができ、そのエッチング液には、例えば混酸〔リン酸（Ｈ３ＰＯ４）７２ｗｔ％、硝酸（ＨＮＯ３  ）３ｗｔ％および酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ）１０ｗｔ％〕を用いることができる。このエッチング液に上記モリブデン層４０２２を浸漬させることで、モリブデン層４０２２がエッチングされる。その後、レジスト膜を剥離した。以上の工程により、ゲート線が形成される領域下にはタングステン層４０２１が存在し、それ以外の領域にはモリブデン層４０２２が形成される高熱伝導層４０２が形成される。
【００８３】
今回は、タングステンとモリブデンを用いたが、ゲート線下をそれ以外の領域よりも高い熱伝導率を有する材料で形成するならば、例えば、タングステン、モリブデン、マグネシウム、銅などの金属、またはＤＬＣ、窒化アルミニウム、炭化シリコン（ＳｉＣ）、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）、窒化ホウ素（ＢＮ）などの絶縁物を用いても問題はない。ただし、それぞれの熱伝導率にあわせて、膜厚を設定する必要がある。熱伝導が高い膜ほど薄く形成することができる。
【００８４】
次いで、高熱伝導層４０２上に絶縁層４０４を形成する。この絶縁層４０４は、例えばプラズマＣＶＤ法により酸化シリコン（ＳｉＯ２）を例えば２００ｎｍの厚さに堆積して形成した。この絶縁層４０４は、第１基板４０１や高熱伝導層４０２からの後に形成される薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴと略記する）層への不純物の拡散を防ぐためである。また、高熱伝導層４０２が金属で形成される場合は、高熱伝導層４０２と後に形成するゲート線のモリブデンとを絶縁するためのものとのなる。絶縁層４０４の厚さは、今回は２００ｎｍとしたが、あまり厚すぎると熱拡散の効果が少なくなってしまい、薄すぎると不純物のバリアとしての役目を果たさず、また高熱伝導層が金属の場合はゲートとの容量が強くなってしまうため、３０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。
【００８５】
その後は、一般的な低温ポリシリコン技術、例えば「２００３ＦＰＤテクノロジー大全」（電子ジャーナル２００３年３月２５日発行、ｐ．１６６−１８３およびｐ．１９８−２０１）、「’９９最新液晶プロセス技術」（プレスジャーナル１９９８年発行、ｐ．５３−５９）、「フラットパネル・ディスプレイ１９９９」（日経ＢＰ社、１９９８年発行、ｐ．１３２−１３９）等に記載されているような低温ポリシリコンを用いたボトムゲート型の薄膜トランジスタ（以下薄膜トランジスタをＴＦＴと記す）プロセスでＴＦＴを含む薄膜デバイス層を形成した。薄膜デバイス層の形成方法の一例を以下に説明する。
【００８６】
図８（２）に示すように、上記絶縁層４０４上にゲート線（ゲート電極も含む）４０５を形成した。このゲート線４０５は、一層の導電層（金属層）、例えばモリブデン層で形成され、その厚さは例えば１００ｎｍとした。モリブデンの熱伝導率は、１．３Ｗ／ｃｍＫである。上記ゲート線４０５は一例として以下のように形成される。スパッタリング法により、上記絶縁層４０４上にモリブデン膜を１００ｎｍの厚さに形成した。その後、一般的なフォトリソグラフィー技術とエッチング技術とによってゲート電極形状のパターニングして形成した。
【００８７】
次いで、上記絶縁層４０４上に上記ゲート線４０５を被覆するようにゲート絶縁膜４０６を形成した。ゲート絶縁膜４０６は、例えばプラズマＣＶＤ法によって、酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層、または酸化珪素（ＳｉＯ２  ）層と窒化珪素（ＳｉＮｘ  ）層との積層体で形成した。さらに連続的にプラズマＣＶＤ法により、上記ゲート絶縁膜４０６上に非晶質シリコン層４０７ａを、例えば５０ｎｍの厚さに形成した。この非晶質シリコン層４０７ａは、例えば厚さ３０ｎｍ〜１００ｎｍで形成することが好ましい。
【００８８】
次いで、図８（３）に示すように、光照射により上記非晶質シリコン層４０７ａ〔前記図８の（２）参照〕を熔融再結晶化し結晶シリコン（ポリシリコン）層４０７を作製した。光照射には、一例として波長３０８ｎｍのＸｅＣｌエキシマレーザパルスを用いた。ここでは、波長が３０８ｎｍのエキシマレーザ光を用いたが、波長が２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光、ＹＡＧレーザ光の高調波などを用いてもよい。
【００８９】
ここで、走査型電子顕微鏡によりポリシリコン層４０７を観察した。その結果、下地にモリブデン製のゲート線４０５が存在する位置上と存在しない位置上とで、ポリシリコン層４０７の結晶の大きさに違いがなかった。本実施の形態では、タングステンとモリブデンの熱伝導率の差は大きくないため、高熱伝導層４０２は５００ｎｍと厚くしなければならない。レーザパワー密度３００ｍＪ／ｃｍ２で、結晶の大きさは約０．５μｍの大きさであった。
【００９０】
その後図９（４）に示すように、ゲート線（ゲート電極）４０５上のポリシリコン層４０７をチャネル形成領域とし、このチャネル形成領域の両側にｎ−  型ドープ領域からなるポリシリコン層４０８、ｎ＋  型ドープ領域からなるポリシリコン層４０９を形成した。これらのポリシリコン層４０８、４０９の形成には、例えば、イオン注入法を用いることができる。その際、チャネル形成領域となるポリシリコン層４０７上には、ｎ−型のリンイオン打込み時にチャネルを保護するためのストッパー層４１０を形成した。このストッパー層４１０は、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ２  ）層で形成した。このようにして、アクティブ領域は高いオン電流と低いオフ電流を両立するためのＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造とした。
【００９１】
さらに、パッシベーション膜４１１を形成した。このパッシベーション膜４１１上に、各ポリシリコン層４０９に接続するソース電極４１２およびドレイン電極４１３を形成した。各ソース電極４１２およびドレイン電極４１３は例えばアルミニウムで形成した。
【００９２】
このようにして形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、第１基板４０１と絶縁層４０４との間で第１基板４０１上の全面に、ゲート線４０５の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層４０２を形成することから、非晶質シリコン層４０７ａ〔前記図８の（２）参照〕を光照射によって結晶化する際に、非晶質シリコン層４０７ａが加熱されても、全域にわたって均一な温度となる。これにより、ゲート線４０５が存在する部分上と存在しない部分上とにおける熱伝導の相違が少なくなり、非晶質シリコン層４０７ａに均一に熱が伝導されるようになる。したがって、光照射（例えばレーザ光照射）により非晶質シリコンを結晶化させる際に問題となるゲート線４０５の有無による結晶化エネルギーの違いが緩和される。よって、ポリシリコン層４０７は全域にわたって結晶粒径の大きい結晶性に優れたものとなる。
【００９３】
次に、素子を保護するためと平坦化を行うために保護膜４１４を形成した。保護膜４１４は例えばポリメチルメタクリル酸樹脂系の樹脂により形成した。さらにソース電極４１２に接続される有機ＥＬ素子のアノード電極が形成される領域の保護層４１４を除去した。
【００９４】
次に、有機ＥＬ素子を形成した。この有機ＥＬ素子は、アノード電極４１５と有機層（有機正孔輸送層４１６、有機発光層４１７等）とカソード電極４１８で形成される。まず、各ＴＦＴのソース電極４１２に接続するアノード電極４１５をパッシベーション膜４１１上に形成した。このアノード電極４１５は、例えば、アルミニウムで形成され、その堆積方法としてはスパッタリング法が用いられる。これにより、各ＴＦＴのソース電極４１２に、個別に電流を流せるようになっている。上記有機層は、有機正孔輸送層４１６と有機発光層４１７を積層させた構造となっている。上記有機正孔輸送層４１６は、例えば蒸着法により、例えば、銅フタロシアニンを３０ｎｍの厚さに堆積して形成することができる。発光層のうち緑色層として、Ａｌｑ３［ｔｒｉｓ（８−ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｏ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ（ＩＩＩ）］を例えば５０ｎｍの厚さに形成し、青色層として、バソクプロイン（Ｂａｔｈｏｃｕｐｒｏｉｎｅ：２，９−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−４，７−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−１，１０ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ）を例えば１４ｎｍの厚さに形成し、赤色層としてＢＳＢ−ＢＣＮ［２，５−ｂｉｓ｛４−（Ｎ−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌ−Ｎ−ｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｓｔｙｒｙｌ｝ｂｅｎｚｅｎｅ−１，４−ｄｉｃａｒｂｏｎｉｔｒｉｌｅ］を例えば３０ｎｍの厚さに形成した。上記カソード電極４１８には、インジウムスズオキサイド（ＩＴＯ）を使用した。
【００９５】
今回は、有機ＥＬ素子として、上記構造を用いたが、電極に、電子輸送層、正孔輸送層、電子注入層、正孔注入層、電子阻止層、正孔阻止層、発光層を組み合わせた公知の構造を用いてもよい。
【００９６】
次に、上記保護層４１１上に上記カソード電極４１８を被覆するパッシベーション膜４１９を形成した。上記パッシベーション膜４１９は、例えば窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）膜で形成し、その厚さを例えば２００ｎｍとした。また、パッシベーション膜４１９の成膜方法には、例えばスパッタリング法を用いた。このパッシベーション膜４１９は、窒化シリコンの他に、酸化シリコン（ＳｉＯ２）や有機膜、またはこれらの積層体などで形成することもできる。また、成膜方法はスパッタリング法に限定されず、ＣＶＤ法、蒸着法などでもよい。
【００９７】
以上の工程により、トップエミッション型有機ＥＬパネル用アクティブマトリックス基板が作製できた。その後は、実装などの標準的な工程を行い、有機ＥＬ表示装置を完成させればよい。
【００９８】
上記第１実施の形態では反射型液晶パネル用のアクティブマトリックス基板について、第２、第３実施の形態では透過型液晶パネル用のアクティブマトリックス基板について、第４実施の形態ではトップエミッション型有機ＥＬパネル用アクティブマトリックス基板について説明したが、いずれの高熱伝導層の構成も各アクティブマトリックス基板に適用することができる。その際、透過型のアクティブマトリックス基板に適用する場合で高熱伝導層を残す場合には、透明材料で高熱伝導層を形成する必要がある。
【００９９】
次に、本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第５実施の形態を、図１０の概略構成断面図によって説明する。この第５実施の形態では、一例として、反射型液晶表示装置用アクティブマトリックス基板を説明する。
【０１００】
図１０（１）に示すように、まず、第１基板５０１上にゲート線形成膜も兼ねる高熱伝導層５０２を形成する。上記第１基板５０１には、例えば厚さ０．７ｎｍのガラス基板を用いる。上記高熱伝導層５０２は、モリブデンで形成した。このモリブデンは、例えばスパッタリング法にて成膜される。このスパッタリング法では、例えば１００ｎｍの厚さにモリブデンを成膜した。モリブデンの熱伝導率は、１．３Ｗ／ｃｍＫである。また、ガラス基板の熱伝導率は、０．０１Ｗ／ｃｍＫ程度である。今回は、モリブデンを用いたが、タングステン、銅などのゲート線となりうる金属を用いることもできる。その後、既存のフォトリソグラフィー技術を用いて、高熱伝導層５０２上に、後に形成するゲート線とその他の領域とを分離する溝を形成したレジスト膜（図示せず）を形成した。次に、エッチング技術により、モリブデンからなる高熱伝導層５０２をエッチングし、ゲート線５０３とそれ以外の部分の高熱伝導層５０２とを分離する溝５０４を形成した。この溝５０４の幅は、例えば２μｍとした。その後、レジスト膜を剥離した。
【０１０１】
その後、図示はしないが、前記第１実施の形態と同様に、ゲート絶縁膜を形成する以降の工程を行えばよい。
【０１０２】
本第５実施の形態では、ゲート線５０３以外の部分に同じ厚さの高熱伝導層５０２が形成されているため、ゲート線５０３および高熱伝導層５０２上にゲート絶縁膜を介して形成した非晶質シリコン層を光照射により結晶化した際に、ゲート線５０３上部の非晶質シリコン層とそれ以外の部分の非晶質シリコン層とで、結晶化された結晶に、差は生じなかった。またモリブデン層のない溝５０４を形成した部分は、その幅が２μｍと小さいため、熱が横方向に拡散し、モリブデン層のある領域とない領域とでほとんど変わらなかった。結晶化された結晶の大きさは、レーザパワー密度３００ｍＪ／ｃｍ２で、約０．５μｍの大きさであった。
【０１０３】
上記各実施の形態で説明した表示装置（液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等）は、本発明の薄膜トランジスタを用いて形成されるものである。したがって、上記説明したのと同様なる薄膜トランジスタによりもたらされる作用、効果が得られる。
【０１０４】
上記各実施の形態で説明した表示装置（液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等）の製造方法は、薄膜トランジスタを形成する際に本発明の薄膜トランジスタの製造方法を用いている。したがって、上記説明したのと同様なる薄膜トランジスタの製造方法によりもたらされる作用、効果が得られる。
【０１０５】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明の薄膜トランジスタによれば、ゲート絶縁膜上に形成される活性層となるシリコン層は光照射により結晶化されたものからなり、そのシリコン層が形成される前に、基板とゲート線が形成される絶縁層との間で基板上の全面または一部に、ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成しているので、光照射により非晶質シリコンを加熱溶融して結晶化して活性層となるシリコンを形成する際に、ゲート線の有無による結晶化エネルギーの違いが高熱伝導層によって緩和される。このため、結晶化されたシリコン層の結晶は、例えば結晶粒径がほぼ均一に形成されたものとなる。よって、薄膜トランジスタの高性能化を実現することができるとともに、高歩留りに製造することができる薄膜トランジスタとすることができる。
【０１０６】
本発明の薄膜トランジスタの製造方法によれば、基板と絶縁層との間で基板上の全面または一部に、ゲート線の熱伝導率以上の熱伝導率を有する物質からなる高熱伝導層を形成し、ゲート絶縁膜上に形成される非晶質シリコンを光照射により加熱溶融して結晶化されたシリコン層を形成する際に、ゲート線の有無による結晶化エネルギーの違いを緩和することができる。このため、結晶化の差、例えば結晶粒径の差を小さくすることができ、ほぼ均一な結晶粒径の結晶を得ることができる。よって、薄膜トランジスタを高歩留りに製造することができる。それとともに、高性能な薄膜トランジスタを製造することができる。例えば、薄膜トランジスタのモビリティーの向上が得られる。
【０１０７】
本発明の表示装置によれば、本発明の薄膜トランジスタを用いて形成されるものであるから、本発明の薄膜トランジスタによりもたらされる効果が得られる。
【０１０８】
本発明の表示装置の製造方法によれば、薄膜トランジスタを形成する際に本発明の薄膜トランジスタの製造方法を用いているので、本発明の薄膜トランジスタの製造方法によりもたらされる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第１実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図２】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第１実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図３】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第２実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図４】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第２実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図５】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第３実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図６】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第３実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図７】第１基板上の薄膜層をプラスチック基板上に移載する工程を示す製造工程図である。
【図８】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第４実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図９】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第４実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図１０】本発明の薄膜トランジスタおよびその製造方法に係る第５実施の形態を示す概略構成断面図である。
【図１１】レーザ光エネルギー密度と結晶粒径との関係図である。
【符号の説明】
１０１…基板、１０２高熱伝導層、１０３…絶縁層、１０４…ゲート線、１０５…ゲート絶縁膜、１０６…結晶シリコン（ポリシリコン）層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2004327872.tif 000010
【図９】
2004327872.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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