(57)【要約】      （修正有）【課題】板状物のワークピースを負圧で吸着するときに該ワークピースの表面に吸着痕を残さない、タワミが生ずることなく歪みを発生させない吸着パッドを提供する。【解決手段】真空吸引穴５を有する円盤体４、該円盤体４の片面に複数の突起体１，２及び／または突起リングを起立させ並びに該突起体１，２及び／または該突起リングの周りを囲うリング３を形成した吸着パッド。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空吸引穴を有する円盤体、該円盤体の片面に複数の突起体及び／または突起リングを起立させ並びに該突起体及び／または該突起リングの周りを囲うリングを形成したことを特徴とする吸着パッド。
【請求項２】
前記突起体及び／または突起リングの側から放射線による表面処理を施したことを特徴とする請求項１に記載の吸着パッド。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、板状の物を真空により吸着搬送するための吸着パッドに関する。
【０００２】
【従来技術】
従来技術においては、ゴム製のヒダ（スカート状のもの）が形成された吸盤状の吸着パッドが使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ヒダが形成されその中心部がフリーな吸着パッドにおいては、負圧で板状の物（ワークピース）を吸着すると中心部が板状の物に近づきヒダの部分がやや開く状態で板状の物の表面を滑りその表面に吸着痕を残す問題点、板状の物を吸着するとタワミが生じて板状の物に歪みが生ずる問題点、等があった。負圧で板状物のワークピースを吸着するときにワークピースの表面に吸着痕を残さない、タワミが生ずることなく歪みを発生させない吸着パッドを提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
真空吸引穴を有する円盤体、該円盤体の片面に複数の突起体及び／または突起リングを起立させ並びに該突起体及び／または該突起リングの周りを囲うリングを形成したものであり、板状の被吸着物を吸着するときに該被吸着物の表面に吸着痕を残さない、タワミが生ずることなく歪みを発生させない吸着パッドを提供することが出来る。また、前記突起体及び／または突起リングの側から放射線（電子線、紫外線、等）による表面処理を施したものであり、表面が改質されて吸着痕をより残さない吸着パッドを提供することが出来る。
【０００５】
本発明に係る吸着パッドは、以下の詳細な説明のようである。尚、本発明に係る吸着パッドは、以下の説明に限定されるものでない。
【０００６】
吸着パッドの材料、寸法、等を特に限定するものでなく、形状が被吸着物に対応した形状であり基本的に円盤体４の形状により決まる。該円盤体は、円盤の表現をしているものの円形に限定することなく三角形、四角形、等の多角形でもよいが、好ましくは、円形であり厚みを持つものである。該円盤体の材料は、樹脂、金属、セラミック、等でもよいが、好ましくは、金型で成形することができる樹脂である。樹脂は、シリコンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ウレタンゴム、クロロプロピレンゴム、天然ゴムが好ましい。更に好ましくは、シリコンゴム、フッ素ゴムである。該円盤体の寸法径は、１．０ｍｍ〜３００ｍｍであることが好ましい。
【０００７】
吸着パッドの前記円盤体の片面には、複数の突起体１、２及び／または複数の突起リング６、９が起立されて形成されていて、材料、形状、寸法、数、形状の種類、等を限定するものでない。材料においては、円盤体と同じものが成形のうえで好ましいが樹脂による材料の場合には円盤体と異なることも好ましい。形状においては、根本の部分より先端部が細い、狭い、等の円柱状、角柱状、矢倉状、円形状、円錐状、角錐状、等が好ましい。寸法においては、先端の部分が丸みを有することである。好ましくは、アールが０．１〜３．０ｍｍであることである。更に好ましくは、アールが０．１〜２．０ｍｍであることである。形状の種類は、色々な形状の突起体、突起リングが混在していても良い。
【０００８】
円盤体には、負圧吸引のための真空誘導路７、真空吸引穴５、真空口８、１０が形成されていて形状、寸法、等を限定するものでない。該円盤体、被吸着物、等のサイズにより決定すればよい。
【０００９】
このような成形された樹脂製の吸着パッドにおいては、該吸着パッドの表面に電子線、紫外線、ガンマー線、等の放射線を照射して表面処理を行うことにより低摩擦化、非粘着化、等がなされて表面が改質され吸着痕が残りにくくなる。
【００１０】
このような吸着パッドは、真空などの負圧で被吸着物を吸引して搬送することが容易にできることと、被吸着物（特にＬＣＤ、ＰＤＰ等に用いられる板状のガラス）に吸着痕が残らない、タワミ、歪みが生じない。
【００１１】
【実施例】
本発明に係る吸着パッドの実施例を以下に説明する。尚、以下の実施例は、実施態様例を示すものであり以下の実施例に限定されるものでない。また、図面は、概念を示すものであり、寸法、比率、縮尺が相似形を示すものでない。
【００１２】
（実施例１）
例えば図１に示すような吸着パッドは、周りを連続したリング３で囲い複数の大小サイズの円柱形で先端部分が丸みを帯びた突起体１、２を華道で使用されている剣山の如くにシリコンゴムを成形したものである。更に、該突起体１、２の方面より電子線を照射してシリコンゴム表面を（特に該突起体の先端部分）低摩擦化、非粘着化、等の表面処理をする。各部の寸法は、概ね以下のようである。小さいサイズの突起体２は、根本部の外径が１ｍｍで先端部の外径が０．５ｍｍで形成されている。また、大きいサイズの突起体１は、根本部の外径が３ｍｍで先端部の外径が１．０ｍｍで形成されている。該突起体の高さが３ｍｍである。突起体の根本部分は、厚みが１０ｍｍのシリコンゴム製の円盤体４であり、中心部に６ｍｍの真空吸引穴５が形成されている。該突起体を取り巻く外周に高さが３ｍｍで先端部が０．５ｍｍであり該円盤体より立ち上がり延びる連続したリング３が形成されている。
【００１３】
このように成形され、更に電子線照射による表面処理されて製作された吸着パッドは、突起体１、２及びリング３の先端部分に板状のワークピースを接して真空吸引穴５から負圧で引くことにより該ワークピースを吸着吸引してハンドリングすることが出来る。アールの形状を有する突起体及びリングがワークピースに接し、複数の該突起体及び外周に連続した該リングが力を均一に分散して受け、該突起体及び該リングが該ワークピース上を滑ることなく吸着吸引するため吸着痕が残ることがない。また、タワミが発生しなく歪みが残ることない。
【００１４】
（実施例２）
例えば図２に示すような吸着パッドは、円盤体４の中心に真空吸引穴５を形成しており、該円盤体の片面に周りを連続したリング３で囲い、複数の不連続である突起リング６を同心円状にし及び不連続部分に真空誘導路７を金型によりシリコンゴムで成形したものである。更に、電子線を照射して表面処理を行った。各部の寸法は、概ね以下のようであった。該リング３の先端部が０．５ｍｍアール、該突起リング６の先端部が０．２ｍｍアール、該真空誘導路７の溝幅２〜５ｍｍ、リングの高さ３ｍｍ、該円盤体４の厚み１０ｍｍ、該真空吸引穴５径６ｍｍであった。
【００１５】
このように成形され、電子線照射による表面処理がなされた吸着パッドは、真空吸着により被吸着物をリング３及び突起リング６のアールが付いた先端部で保持して搬送することが出来る。被吸着部との接触面積が小さく、力が均一に分散され、吸着パッドのリング３及び突起リング６並びに被吸着物との吸着ズレがなく、該吸着パッドが該被吸着物の表面に吸着痕を残すことがない。また、タワミが生ずることなく歪みが発生しない。
【００１６】
（実施例３）
例えば図３に示すような吸着パッドは、周りを連続したリング３で囲い、複数の連続した突起リング９を同心円状にし、該突起リングの間の谷間及びパッドの中心部分に真空口８、１０の穴を形成するフッ素ゴムによる成形体を作成し、更に、リング側から電子線照射してフッ素ゴム表面を低摩擦化、非粘着化、等の表面処理し、リングの形成と反対面に真空吸引穴５を形成した円盤体４を貼り付けたものである。各部の寸法は、概ね以下の如くであった。リング及び突起リングの高さが３ｍｍ、該リング３の先端部が０．５ｍｍアール、該突起リング９の先端部が０．２ｍｍアール、真空口８が２．０ｍｍ及び真空口１０が４．０ｍｍの穴、円盤体４の厚み１０ｍｍ、真空吸引穴５が６ｍｍの穴等であった。
【００１７】
このように製作された電子線照射による表面処理がなされた吸着パッドは、真空吸着により被吸着物をリング３及び突起リング９のアールが付いた先端部で保持して搬送することが出来る。被吸着部との接触面積が小さく、力が均一に分散され、吸着パッドのリング３及び突起リング９並びに被吸着物との吸着ズレがなく、該吸着パッドが該被吸着物の表面に吸着痕を残すことがない。また、タワミが発生することなく歪みが生じない。
【００１８】
【発明の効果】
本発明に係る吸着パッドは、真空吸引穴を有する円盤体、該円盤体の片面に複数の突起体及び／または突起リングを起立させ並びに該突起体及び／または該突起リングの周りを囲うリングを形成し、また、前記突起体及び／または突起リングの側から放射線による表面処理を施したものである。このような吸着パッドは、被吸着物（特にＬＣＤ、ＰＤＰ等に使用される板状のガラス）を吸着して搬送するにおいて該被吸着物に吸着痕を残さない、タワミが発生することなく歪みが生じないものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る吸着パッドの一実施態様を示す図である。（ｂ）は、（ａ）図の一点鎖線部の断面図である。
【図２】本発明に係る吸着パッドの一実施態様を示す図である。（ｂ）は、（ａ）図の一点鎖線部の断面図である。
【図３】本発明に係る吸着パッドの一実施態様を示す図である。（ｂ）は、（ａ）図の一点鎖線部の断面図である。
【符号の説明】
１、２  突起体
３  リング
４  円盤体
５  真空吸引穴
６、９  突起リング
７  真空誘導路
８、１０  真空口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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