(57)【要約】【課題】小型化できる露光装置を提供する。【解決手段】基板９はプラテン４上に載置され、移動装置５によりＸＹＺ及びθ方向に移動であり、回路パターンが描かれたフォトマスク３０は基板９に対向して設けられ、フォトマスク３０と基板９とを密着させて、露光光源１からの露光光により回路パターンを基板９に焼き付ける。露光光源１とフォトマスク３０の間には退避可能にカメラ６が設けられており、露光に際してフォトマスク３０と基板９の位置合わせのために用いられる。露光光源１は、平面光源であり、所定数のレーザダイオード（ＬＤ）１０がマトリックス状に配列されており、複数の点光源から形成される平面光源を構成している。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光対象物を載置する基台と、
該基台上の露光対象物に露光すべきパターンを備えたフォトマスクと、
該フォトマスクのパターンを露光対象物上に照射するための露光を照射する露光光源と、を備え、
前記露光光源が、平面光源である、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記露光光源が、複数の点光源を有する平面光源である、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光光源が、複数のレーザダイオードからなる点光源を有する平面光源である、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光光源が、複数の発光ダイオードからなる点光源を有する平面光源である、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記平面光源をフォトマスク方向に接近／離間させる光源移動装置を更に備えた、
請求項１又は２又は３又は４の露光装置。
【請求項６】
前記平面光源が前記フォトマスクに密着可能であり、該平面光源をフォトマスクに密着させ、且つフォトマスクを露光対象物に密着させる、
請求項１又は２又は３又は４の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
この露光装置において、パターン原画が描かれた原版として樹脂フィルムマスクやガラスマスク等のフォトマスクが用いられている。フォトマスクと基板は離間させた状態で露光する方法と、フォトマスクと基板とを近接或いは密着させる方法があるが、露光光源は露光の均一性を高めるため、フォトマスクから離して設置している。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−６２６６２号公報
特開２０００−２９２９４２号公報
特開２０００−２５０２２７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように、従来の露光装置では、露光光源は紫外線ランプなどを使用した点光源であり、プリント基板全体に露光光を均等に照射するためには、点光源からの光束を広げるための距離が必要であり、露光光源と露光対象物との間に所定の距離が必要である。そのため、従来の露光装置は小型化に限界があり、また露光対象物が大型化するとそれに伴い光束を広げるための距離が必要になるため、露光装置自体も更に大型化する問題があった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の露光装置は、露光対象物を載置する基台と、該基台上の露光対象物に露光すべきパターンを備えたフォトマスクと、該フォトマスクのパターンを露光対象物上に照射するための露光を照射する露光光源とを備え、前記露光光源が平面光源であることを特徴とする。
以上の構成において、露光光源を平面光源とすることにより光束を広げるための空間をとる必要がなく、露光光源とフォトマスク及び露光対象物とを近接或いは密着させることが可能になる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施された基板９はプラテン４上に載置され、移動装置５によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。
【０００７】
回路パターンが描かれたフォトマスク３０はフォトツール３に支持され、基板９に対向して設けられており、露光の際にはフォトツール３と基板９とを密着又は近接させて、露光光源１からの露光光により回路パターンを基板９に焼き付けるようなっている。
なお、図１ではフォトツール３と基板９は上下方向に配設されているが、これに限定されるものではなく、逆であっても良いし、或いはフォトツール３と基板９を垂直に立てて配設する構造も可能である。
また、プラテン４を移動させるのではなくフォトツール３を移動させることも可能であり、更に両者を移動させるように構成することも可能である。
【０００８】
露光光源１とフォトツール３の間には退避可能にカメラ６が設けられており、露光に際してフォトツール３と基板９の位置合わせのために用いられる。カメラ６はカメラＸＹテーブル６０によりＸＹ方向に移動可能であり、また露光の際には露光照射範囲から退避するように構成されている。
【０００９】
露光光源１は、平面光源であり、この実施形態ではレーザダイオード（ＬＤ）１０を用いている。図２に示すようにレーザダイオード１０は所定数がマトリックス状に配列されており、複数の点光源から形成される平面光源を構成している。
【００１０】
なお、レーザダイオード１０に変えて発光ダイオード（ＬＥＤ）を用いても良い。
【００１１】
この実施形態では、露光光源１は光源移動装置２に支持され、フォトツール３方向に接近及び離間させることが出来るようになっている。また、露光光源１をフォトマスク３０に密着させることもできるようになっている。更に、露光光源１によりフォトツール３のフォトマスク３０を基板９に対して押し付けるように構成しても良い。露光光源１は基本的に固体素子であるレーザダイオード１０或いは発光ダイオードから構成されるため、フォトマスク３０を押圧する押圧装置として構成することも容易である。
ＬＤを用いた場合、レーザ光は指向性が高いため、フォトツール３から離間させて用いることも可能であり、光源移動装置２は必ずしも用いなくても良い。
【００１２】
以上の構成において、前工程から送られてきた基板９はプラテン４上に置かれ、カメラ６によりフォトマスク３０と基板９の位置合わせが行われる。
位置合わせが終了したら、図３に示すようにカメラ６が退避し、移動装置５がプラテン４を上昇させ基板９を下側からフォトマスク３０に密着させる。
同時に、露光光源１を下降させ、露光光源１を上からフォトマスク３０に密着させ、更にフォトマスク３０を基板９に押圧する。これによりフォトマスク３０と基板９の密着が高まる。
そして、露光光源１から露光光を照射して、露光を行う。この露光光の照射は多数のレーザダイオード１０により行われるため、指向性が高く且つ均一な照射となる。
【００１３】
なお、上記実施形態では基板９の一面側からのみ露光を行っているが、露光光源１とフォトツール３を基板９の両面側に設けて、基板９の表裏面を同時に露光するように構成することも可能である。
【００１４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の露光装置によれば、装置を小型化できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態のレーザダイオード１０の配列例を示す概略図。
【図３】本発明の一実施形態の動作説明図。
【符号の説明】
１：露光光源、２：光源移動装置、３：フォトツール、４：プラテン、５：移動装置、６：カメラ、９：基板、１０：レーザダイオード、３０：フォトマスク、６０：カメラＸＹテーブル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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