(57)【要約】【課題】平坦な表面や裏面を得ることが可能な光ディスクの製造方法を提供すること。【解決手段】反射層５が形成された第１基板３を多孔質セラミックスからなる第１多孔質板３１で真空吸着により保持し、光透過性を有する第２基板９をガラスからなる第２多孔質板３５で真空吸着により保持する。この状態で第２基板９を第１基板３に押し付けることにより、ホログラム記録材料６３を、第１基板３と第２基板９との間に薄く伸ばす。光源２９から光をホルダー３７、第２多孔質板３５および第２基板９を介して、ホログラム記録材料６３に照射してゲル状にすることにより、第１基板３と第２基板９との間に記録層を形成する。【選択図】  図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲル状のホログラム記録材料を含む記録層を第１基板と第２基板とで挟んで保持した構造を有する光情報記録媒体の製造方法であって、
前記第１基板を第１多孔質板で保持すると共に前記第１多孔質板を通して真空吸着し、かつ、前記第２基板を第２多孔質板で保持すると共に前記第２多孔質板を通して真空吸着する保持工程と、
前記第１多孔質板で保持された前記第１基板と前記第２多孔質板で保持された前記第２基板との間に、ゲル化前の前記ホログラム記録材料を配置する配置工程と、
前記ホログラム記録材料をゲル化することにより、前記第１基板と前記第２基板との間に前記記録層を形成する形成工程と、
を備えたことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記保持工程は、前記第１多孔質板によって反射層を有する前記第１基板を保持すると共に光透過性を有する前記第２多孔質板によって光透過性を有する前記第２基板を保持し、
前記形成工程は、前記第２多孔質板および前記第２基板を介して、前記ホログラム記録材料に光を照射することによりゲル化させることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記形成工程は、前記ホログラム記録材料を熱および光のうち少なくともいずれかによりゲル化させることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
ゲル化したホログラム記録材料を含む記録層を第１基板と第２基板とで挟んで保持した構造を有する光情報記録媒体を製造する装置であって、
反射層を有する前記第１基板を真空吸着により保持する第１多孔質板と、
前記第１多孔質板と対向配置されており、光透過性を有する前記第２基板を真空吸着により保持する光透過性を有する第２多孔質板と、
前記第１多孔質板で保持された前記第１基板と前記第２多孔質板で保持された前記第２基板との間に配置された前記ホログラム記録材料をゲル化するために、前記第２多孔質板および前記第２基板を介して前記ホログラム記録材料に光を照射する光照射手段と、
を備えたことを特徴とする光情報記録媒体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報がホログラフィにより記録される光情報記録媒体の製造方法およびその製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、ホログラフィによって情報をイメージ情報の形で光ディスクのような光情報記録媒体に高密度で記録する方式が知られている。このような光ディスクは、反射層、第１透明基板、ゲル状のホログラム記録材料を含む記録層、第２透明基板を積層した構造をしている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
国際公開第ＷＯ９９／４４１９５号パンフレット（第３９図、第４０図）
【０００４】
上記方式におけるイメージ情報の記録は、イメージ情報を担持する情報光と記録用参照光をレーザ光により生成し、これらの光を第２透明基板側から光ディスクに照射し、記録用参照光と反射層で反射された情報光とを記録層において重ね合わせ、これらの光の干渉により生じる干渉縞を記録層に記録することにより実現される。記録層のうち、干渉縞が記録された領域がホログラムとなる。一方、再生照明光を第２透明基板側から干渉縞が記録された記録層に照射すると、この光が干渉縞によって回折されることにより再生光が生成され、第２透明基板を透過した再生光を基にしてイメージ情報が再生される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
さて、上記光ディスクの表面や裏面が平坦でないと、例えば、光ディスク内において記録層の厚みにバラツキが発生したり、光ディスクの表面においてレーザ光の光路に振れが生じたりする。これらはいずれもノイズの原因となる。
【０００６】
上記光ディスクに備えられる第１および第２透明基板は薄いので剛性が小さい。また、第１透明基板と第２透明基板とで挟んで保持される記録層はゲル状である。したがって、表面や裏面が平坦である光ディスクを如何にして作製するかが問題となる。
【０００７】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、平坦な面を有する光情報記録媒体の製造方法およびその製造装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、ゲル状のホログラム記録材料を含む記録層を第１基板と第２基板とで挟んで保持した構造を有する光情報記録媒体の製造方法であって、第１基板を第１多孔質板で保持すると共に第１多孔質板を通して真空吸着し、かつ、第２基板を第２多孔質板で保持すると共に第２多孔質板を通して真空吸着する保持工程と、第１多孔質板で保持された第１基板と第２多孔質板で保持された第２基板との間に、ゲル化前のホログラム記録材料を配置する配置工程と、ホログラム記録材料をゲル化することにより、第１基板と第２基板との間に記録層を形成する形成工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る光情報記録媒体の製造方法によれば、真空吸着により、第１多孔質板で第１基板を、第２多孔質板で第２基板をそれぞれ保持している。第１（第２）多孔質板に設けられた無数の孔を利用して第１（第２）基板を真空吸着するので、吸着の際、第１（第２）基板の面の一部に吸着力が集中するのではなく、第１（第２）基板の面の全部に均一に作用させることができる。したがって、平坦な第１（第２）基板についてはそれを保持した状態で、平坦でないものについては平坦に矯正した状態で、記録層を形成することができる。
【００１０】
本発明に係る光情報記録媒体の製造方法において、保持工程は、第１多孔質板によって反射層を有する第１基板を保持すると共に光透過性を有する第２多孔質板によって光透過性を有する第２基板を保持し、形成工程は、第２多孔質板および第２基板を介して、ホログラム記録材料に光を照射することによりゲル化させる、ようにすることができる。これによれば、ホログラム記録材料を光によりゲル化させて記録層を形成することができる。
【００１１】
本発明に係る光情報記録媒体の製造方法において、形成工程は、ホログラム記録材料を熱および光のうち少なくともいずれかによりゲル化させる、ようにしてもよい。これによれば、ホログラム記録材料の性質に応じて、三つの種類（熱のみ、光のみ、熱と光の両方）のいずれかを選択してゲル化することができる。
【００１２】
本発明に係る光情報記録媒体の製造装置は、ゲル化したホログラム記録材料を含む記録層を第１基板と第２基板とで挟んで保持した構造を有する光情報記録媒体を製造する装置であって、反射層を有する第１基板を真空吸着により保持する第１多孔質板と、第１多孔質板と対向配置されており、光透過性を有する第２基板を真空吸着により保持する光透過性を有する第２多孔質板と、第１多孔質板で保持された第１基板と第２多孔質板で保持された第２基板との間に配置されたホログラム記録材料をゲル化するために、第２多孔質板および第２基板を介してホログラム記録材料に光を照射する光照射手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る光情報記録媒体の製造装置によれば、真空吸着により第１多孔質板で第１基板を保持し、かつ真空吸着により第２多孔質板で第２基板を保持している。したがって、吸着の際、これらの基板の面に均一に吸着力を作用させることができるので、平坦な第１（第２）基板についてはそれを保持した状態で、平坦でないものについては矯正した状態で、記録層を形成することができる。また、第２多孔質板が光透過性を有するので、光によりホログラム記録材料をゲル状に硬化させて記録層にすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態に係る光ディスク（光情報記録媒体の一例）の製造方法およびその製造装置について説明する。まず、この方法を用いて作製される光ディスクの構造について簡単に説明する。図１はこの光ディスクの断面図である。光ディスク１は、光透過性を有する第１基板３、反射層５、記録層７および光透過性を有する第２基板９が積層され、中央部に貫通穴１１が形成された構造を有する。ホログラム記録材料を含む記録層７はゲル状に硬化しており、第１基板３と第２基板９とで挟んで保持されている。ホログラムの記録再生に用いるレーザ光Ｌは第２基板９側から光ディスク１に照射される。よって、第２基板９が光ディスク１の表面１９となり、第１基板３が光ディスク１の裏面２１となる。貫通穴１１に光ディスクを記録・再生する装置のスピンドルが固定される。
【００１５】
本発明の実施形態に係る光ディスク製造装置の構成は以下の通りである。図２は、この光ディスク製造装置２３の断面図である。光ディスク製造装置２３において、真空チャック２５は下側に配置され、真空チャック２７はこれと対向するように上側に配置され、真空チャック２７の上方には、光硬化用の光線を発生する光源２９（光照射手段の一例）が設置されている。光源２９の具体例としては、高圧紫外線ランプ、低圧紫外線ランプ、ブラックライトである。
【００１６】
真空チャック２５は、反射層５を有する第１基板３を真空吸着により保持する第１多孔質板３１およびこれを支持するホルダー３３を備える。一方、真空チャック２７は、第２基板９を真空吸着により保持する第２多孔質板３５およびこれを支持するホルダー３７を備える。第１多孔質板３１と第２多孔質板３５とは互いに対向配置されている。図３は真空チャック２５の平面図である。ホルダー３３は第１多孔質板３１より大きい円盤状をし、第１多孔質板３１は図１の基板３，９より大きい円盤状をしている。真空チャック２７の平面構成は真空チャック２５と同様である。
【００１７】
図２に示すように、光源２９からの光は真空チャック２７側から照射されるので、真空チャック２７の第２多孔質板３５やホルダー３７はガラスやプラスチックのような透明材質からできている。これに対して、真空チャック２５の第１多孔質板３１やホルダー３３は光透過性を有していなくてもよいので、第１多孔質板３１は例えば多孔質ステンレスやセラミックスであり、ホルダー３３の材料は例えば、ステンレスやセラミックスである。なお、真空チャック２５側からも光硬化用の光を照射する場合は、第１多孔質板３１やホルダー３３の材料を第２多孔質板３５やホルダー３７と同じにする。
【００１８】
ホルダー３３，３７は、その側面部３９，４１が表面部４３，４５から立ち上がった構造をしている。ホルダー３３，３７の中央部には、それぞれ、真空ポンプと接続される排気口４７，４９が設けられている。多孔質板３１，３５はそれぞれ、シリコンラバーのようなシールド材（図示せず）により、側面部３９，４１と固定されている。多孔質板３１，３５の厚みが例えば３ｃｍの場合、多孔質板３１と表面部４３の距離および多孔質板３５と表面部４５との距離は、例えば、０．５ｍｍである。なお、接着剤で固定することもできる。さらに、Ｏリングによるパッキング、つまり、表面部４３，４５に、それぞれ側面部３９，４１に沿ってＯリングを配置し、Ｏリング上に多孔質板３１，３５を配置するようにしてもよい。
【００１９】
次に、光透過性を有する第２多孔質板３５の構造の詳細を説明する。図４は第２多孔質板３５の一部を拡大した断面図である。第２多孔質板３５は、多数のガラス繊維５５を束ねて、この束ねた物の隙間５７を利用して排気することにより、図１の第２基板９を真空吸着する。光は主にガラス繊維５５を通る。
【００２０】
第２多孔質板３５の作製方法は、例えば、以下の通りである。ガラス繊維とポリメチルメタクリレート繊維とを混ぜた束および直径が１５ｃｍの円筒を用意する。なお、ポリメチルメタクリレート繊維の換わりにポリスチレン繊維でもよい。これらの繊維の長手方向が円筒の軸方向に沿うように、これらの繊維の束を円筒内に隙間なく入れる。次に、この円筒を加熱炉に入れ、ポリメチルメタクリレート繊維の全部または一部をガス化させて除去することにより、これらの繊維の束を固める。この円筒を軸方向に沿って３．５ｃｍ切り出し、切り出し面およびこれと対向する面を平滑研磨する。これにより、厚さ３．５ｃｍの第２多孔質板３５が作製される。なお、平滑研磨は上記二つの面のうち、第２基板９の吸着面となる面のみでもよい。第２多孔質板３５の厚み方向における第２多孔質板３５の透過率は、光硬化に利用する波長５３２ｎｍの光に対して約９５％であった。したがって、第２多孔質板３５は優れた光透過性を有することが分かる。
【００２１】
なお、光透過性の第２多孔質板３５は、ガラス繊維を束ねて接着した態様に限られず、ガラス管を束ねた態様でもよいし、図５に示すような多孔質ガラス５９でもよい。多孔質ガラス５９には、無数の細孔６１が形成されており、これらの細孔６１を介して第２基板９を吸着する。また、図６に示すように、光透過性の第２多孔質板３５は、透明粒子（プラスチック粒子、ガラス粒子）５１を半溶融固化したものでもよい。透明粒子５１の間隙を介して第２基板９を吸着する。なお、第１多孔質板３１の作製方法については第２実施形態で説明する。以上が光ディスク製造装置２３の構造である。
【００２２】
第１実施形態に係る光ディスクの製造方法は以下の通りである。図７および図８は図１の断面と対応する断面図である。まず、図７に示すように、平滑なガラス基板１２の上に樹脂を塗布し、図示しないスタンパを用いてピット１３を有するプリフォーマット層１４を形成することにより、第１基板３を作製する。これにより、サーボ情報およびセクターマークやトラックのアドレス情報などが、ピット１３を用いて予めプリフォーマットされる。第１基板３の厚みは例えば５〜１２００μｍである。ガラス基板１２の替わりに、水晶基板やダイヤモンド基板を利用することもできる。また、プリフォーマット層１４を有しない第１基板３も可能である。すなわち、ポリカーボネートなどの樹脂を用いて射出成形により、ピット１３付きの第１基板３を作製するのである。図１に示す第２基板９の厚みや材料は第１基板３と同様である。但し、第１基板３は光透過性を有していなくてもよいので、透明でない材料を選択することも可能である。
【００２３】
次に、図８に示すように、第１基板３のピット１３が形成された面に、蒸着やスパッタリングなどによってアルミニウムからなる反射層５を形成する。反射層５の厚みは例えば３０〜５００ｎｍである。反射層５はレーザ光Ｌを反射する性質を有する金属であればよく、アルミニウムの他に銀なども用いることができる。
【００２４】
第１基板３の縁部に反射層５を介して、リング状のスペーサ１５，１７を接着する。スペーサ１５，１７の材料は、例えば、ステンレス、セラミックス、プラスチックであり、その厚みの大きさは記録層７の厚みの大きさに相当する。
【００２５】
次に、図２に示す光ディスク製造装置２３を用いて、図８に示す第１基板３を含む構造体と第２基板９とを対向して配置し、その間に記録層７を形成する。詳細に説明すると、図９に示すように、真空チャック２７において、第２多孔質板３５と表面部４５との隙間の空気を真空ポンプにより排気口４９を介して排気することにより、第２多孔質板３５に第２基板９を真空吸着させる。真空チャック２５でも同様にして、図８に示す構造体の第１基板３を第１多孔質板３１に真空吸着させる。以上により、第１多孔質板３１で第１基板３を保持し、第２多孔質板３５で第２基板９を保持する（保持工程）。多孔質板３１，３５には無数の孔が形成されており、これらの孔を利用して基板３，９が真空吸着される。したがって、吸着の際、基板３，９の面の一部に吸着力が集中することはなく、基板３，９の面に均一に作用させることができるので、平坦（平滑）な基板３，９についてはそれを保持することができ、平坦（平滑）でないものについては平坦（平滑）に矯正することができる。
【００２６】
次に、ゲル化前のホログラム記録材料を準備する。この材料は、情報光や参照光となるレーザ光Ｌが記録層７に所定時間照射されたとき、レーザ光Ｌの強度に応じて照射箇所の光学特性（屈折率、吸収率、透過度、蛍光発光性、反射率など）が変化するものである。この材料は、例えば、レーザ光Ｌに感光して重合する光重合性有機物であり、具体的には、例えば、デュポン（Ｄｕｐｏｎｔ）社製のフォトポリマー（Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｓ）ＨＲＦ−６００（製品名）である。
【００２７】
ゲル化前のホログラム記録材料６３を第１基板３上に反射層５を介して塗布した後、図１０に示すように、真空チャック２５と真空チャック２７との距離を近づけることにより、第２基板９を第１基板３側に押し付ける。これにより、第１基板３と第２基板９の間にホログラム記録材料６３が薄く伸ばされる（配置工程）。そして、光源２９からの光をホルダー３７、第２多孔質板３５および第２基板９を介して、ホログラム記録材料６３に照射してゲル状に硬化（プレキュア）させることにより、厚さが例えば１０〜２００μｍの記録層７を形成する（形成工程）。以上により図１に示す光ディスク１が完成する。
【００２８】
上記実施形態によれば、図９に示すように第１基板３と第２基板９との間に記録層を形成する際に、第１基板３を第１多孔質板３１で、第２基板９を第２多孔質板３５でそれぞれ吸着保持している。したがって、平坦な基板３，９についてはそれを保持した状態で、平坦でないものについては平坦に矯正した状態で、記録層７を形成することができる。よって、基板３，９の厚みが極めて薄い（例えば５〜１２００μｍ）ために、基板３，９の剛性が小さくても、表面１９や裏面２１が平坦な光ディスク１（図１）を製造することができる。
【００２９】
また、第１多孔質板３５およびホルダー３７が光透過性を有するので、これらを介してゲル化前のホログラム記録材料６３に光を照射することができる。したがって、光によりホログラム記録材料６３をゲル化させることができる。
【００３０】
また、第１基板３と第２基板９の間にホログラム記録材料６３を薄く伸ばすために、第２基板９を第１基板３側に押し付けた際に、多孔質板３１，３５が変形すれば、光ディスク１の表面１９および裏面２１の平坦性（平滑性）が失われる。よって、多孔質板３１，３５は変形しにくい、つまり剛性が高いことが要求される。第１実施形態では、多孔質板３１，３５の寸法（厚さ３．５ｃｍ）とヤング係数から算出された多孔質板３１，３５の剛性が、基板３，９の寸法（厚さ０．６ｍｍ）とヤング係数から算出された基板３，９の剛性の１０倍以上となる。よって、多孔質板３１，３５は高い剛性を有するので、第２基板９を第１基板３側に押し付けても、多孔質板３１，３５が変形することはない。
【００３１】
次に、第２実施形態に係る光ディスクの製造方法を説明する。第２実施形態ではホログラム記録材料を熱および光のうち少なくともいずれかによりゲル状に硬化させて記録層を形成している。図１１は第２実施形態で利用する光ディスク製造装置６５の断面図である。図２中の符号が示す要素と同一要素については同一符号を付すことにより説明を省略する。光ディスク製造装置６５には、ホルダー３３の表面部４３にシート状のヒータ６７が取り付けられている。なお、この実施形態ではホルダー３７の表面部４５にはヒータを配置していないが、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ）からなる透明なヒータであれば配置することもできる。このようにすれば、上下方向からホログラム記録材料を加熱することができる。
【００３２】
真空チャック２７の第２多孔質板７１は透明性を有する多孔質セラミックス（例えば、酸化アルミニウムや酸化ケイ素）である。
【００３３】
多孔質セラミックスである多孔質板３１，７１は、例えば、次のようにして作製することができる。酸化アルミニウムのようなセラミックスまたはステンレスの微粒子に多孔質を形成するための不純物を添加し焼結することにより、円柱状の多孔質セラミックスを形成する。この側面にエポキシ系接着剤を塗布して側面を真空シールした後、厚さ３．５ｃｍに切り出し、表面（基板３，９が吸着される面）を平滑に研磨することにより、多孔質板３１，７１が出来上がる。以上が光ディスク製造装置６５の構造である。
【００３４】
第２実施形態に係る光ディスクの製造方法によれば、ホログラム記録材料６３のゲル化に、▲１▼熱、▲２▼光、▲３▼熱と光、の三種類を選択することができる。よって、ホログラム記録材料６３の性質に応じて、上記三種類のいずれかを選択することにより、最適なゲル化を実現することができる。
【００３５】
第２実施形態に係る光ディスクの製造方法は、図１２に示すように、ヒータ６７によりホログラム記録材料６３を加熱してゲル状に硬化させて記録層７を形成することができる。したがって、ホログラム記録材料６３を均一に加熱するために、第１多孔質板３１や第２多孔質板７１には高熱伝導性が要求される。また、ホログラム記録材料６３をフォトポリマーとした場合、フォトポリマーのゲル化反応の温度以上の温度でホログラム記録材料６３を加熱しなければならないので、多孔質板３１，７１には耐熱性が要求される。これらの特性は多孔質板３１，７１の材料をセラミックスやステンレスとすることにより得ることができる。
【００３６】
なお、第２実施形態において、第１多孔質板３１および第２多孔質板７１の替わりに透明な多孔質板３５を利用することもできる。
【００３７】
ここで、光源２９側に位置する真空チャック２７の変形例である真空チャック６９を説明する。図１３は真空チャック６９の断面図である。真空チャック６９では、排気口４９が側面部４１に設けられている。これにより、ホログラム記録材料をゲル化する際に、排気口４９が光照射の妨げとなるのを防止できる。
【００３８】
最後に、第１および第２実施形態で製造される光ディスク１について説明する。図１４は光ディスク１の平面図である。光ディスク１は円盤状をしており、ホログラフィによりデジタル情報が記録される。光ディスク１には、その内周から外周にかけて連続する螺旋状のトラック７３が形成されている。トラックは同心円状であってもよい。トラック７３は、記録領域とプリフォーマット領域とが交互に並んで構成されている。記録領域にはデジタル情報がホログラムの形で記録される。プリフォーマット領域には、サーボ情報やアドレス情報などが、ピット１３（図１）を用いて光ディスク１の製造時に予め記録されている。
【００３９】
ホログラフィの一つの態様であるボリュームホログラフィを利用して、光ディスク１に情報を記録再生する方式として、例えば、以下の三方式がある。図１５は第１方式、図１６は第２方式、図１７は第３方式を説明するための図である。図１５〜図１７は光ディスク１の一部を拡大した図である。図１５〜図１７において、図１中の符号が示す要素と同一の要素については同一符号を付している。上記記録によれば、光ディスク１の記録層７に干渉縞パターンを三次元的に書込むことができ、記録密度を増加させることができる。
【００４０】
第１方式はいわゆる反射型と呼ばれる方式である。図１５に示すように、光ヘッドのレンズ７５で集束されたレーザ光Ｌには情報光と記録用参照光が含まれ、記録用参照光ＬＲと反射層５で反射された情報光ＬＩとを記録層７内において干渉させ、これにより発生する干渉縞パターンをホログラムＨとして記録層７に記録する。図１８はホログラム群の一部の平面図である。光ディスク１を僅かに回転させて、先ほど形成されたホログラムＨ（例えばホログラムＨ１とする）と平面的に一部が重なる新たなホログラムＨ（この場合はホログラムＨ２となる）を記録層７に形成する。これを繰り返すことにより、記録層７に干渉縞パターンを多重記録する。
【００４１】
一方、レンズ７５を介して再生照明光であるレーザ光ＬをホログラムＨに照射すると、この光はホログラムＨにより回折され、再生光が生成される。レンズ７５を介して光ヘッドで検出された再生光を基にしてイメージ情報が再生される。
【００４２】
第２方式はいわゆる透過型と呼ばれる方式である。図１６に示すように、光ヘッドのレンズ７５Ａおよびレンズ７５Ｂは第２基板９側に配置されている。レンズ７５Ａで集束された情報光ＬＩと、レンズ７５Ｂで集束された記録用参照光ＬＲと、を記録層７で交差させ、この部分に形成されたホログラムＨを記録層７に書込む。この方式において、反射層５はホログラムＨの形成に利用されない。反射層５は、フォーカシング、トラッキング、アドレッシングなどに利用される。レンズ７５Ｂを介して再生照明光をホログラムＨに照射することにより、再生光が生成される。
【００４３】
第３方式もいわゆる透過型と呼ばれる方式である。この方式では、図１６のレンズ７５Ｂを設けずに、図１７に示すように、第１基板３側に配置された図示しないレンズ系により形成された平行光束が記録層７に照射されるようにしている。レンズ７５Ａで集束された情報光ＬＩと、上記レンズ系で平行光束された記録用参照光ＬＲと、を記録層７で交差させ、この部分に形成されたホログラムＨを記録層７に書込む。そして、上記レンズ系で形成された平行光束の再生照明光をホログラムＨに照射することにより、再生光が生成される。この方式では、反射層５を記録用参照光ＬＲや再生照明光が通過しなければならないので、反射層５は例えば、金やシリコンから構成され、光反射率が約１５パーセントにされている。この方式においても、反射層５はホログラムＨの形成に利用されず、フォーカシング、トラッキング、アドレッシングなどに利用される。なお、情報光ＬＩを第１基板３側から照射し、記録用参照光ＬＲや再生照明光を第２基板９側から照射してもよい。また、図１６に示す第２方式においても第３方式と同様に、記録用参照光ＬＲや再生照明光を平行光束にすることができる。
【００４４】
なお、第１および第２実施形態に係る製造方法で作製される光ディスクは記憶領域が円盤状であればよく、光ディスクの外形には無関係である。例えば、三角形、四角形や六角形等であり、大きさが名刺程度のカード形状に円盤状の記録領域を有する光ディスクの製造についてもこれらの実施形態を適用することができる。
【００４５】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法およびその製造装置によれば、平坦な第１（第２）基板についてはそれを保持した状態で、平坦でないものについては平坦に矯正した状態で、記録層を形成することができる。よって、平坦な面を有する光情報記録媒体を製造することができる。
【００４６】
また、本発明に係る光情報記録媒体の製造装置によれば、光透過性の第２基板を保持する第２多孔質板が光透過性を有するので、光によりホログラム記録材料をゲル状に硬化させて記録層にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る製造方法で作製される光ディスクの断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る光ディスク製造装置の断面図である。
【図３】図２の光ディスク製造装置に備えられる真空チャックの平面図である。
【図４】図２の光ディスク製造装置に備えられる第２多孔質板の一部を拡大した断面図である。
【図５】図２の光ディスク製造装置に備えられる第２多孔質板の第１変形例の一部を拡大した断面図である。
【図６】図２の光ディスク製造装置に備えられる第２多孔質板の第２変形例の一部を拡大した断面図である。
【図７】第１実施形態に係る製造方法の第１工程を説明するための第１基板の断面図である。
【図８】第１実施形態に係る製造方法の第２工程を説明するための第１基板の断面図である。
【図９】第１実施形態に係る製造方法の第３工程を説明するための光ディスク製造装置の断面図である。
【図１０】第１実施形態に係る製造方法の第４工程を説明するための光ディスク製造装置の断面図である。
【図１１】第２実施形態に係る製造方法で利用する光ディスク製造装置の断面図である。
【図１２】第２実施形態に係る製造方法を説明するための光ディスク製造装置の断面図である。
【図１３】光源側に位置する真空チャックの変形例の断面図である。
【図１４】図１の光ディスクの平面図である。
【図１５】本発明の実施形態に係る光ディスクを記録再生する第１方式を説明するものであり、図１の光ディスクの一部分を拡大した模式的断面図である。
【図１６】本発明の実施形態に係る光ディスクを記録再生する第２方式を説明するものであり、図１の光ディスクの一部分を拡大した模式的断面図である。
【図１７】本発明の実施形態に係る光ディスクを記録再生する第３方式を説明するものであり、図１の光ディスクの一部分を拡大した模式的断面図である。
【図１８】図１の光ディスクの記録層に形成されたホログラム群の一部の平面図である。
【符号の説明】
１・・・光ディスク、３・・・第１基板、５・・・反射層、７・・・記録層、９・・・第２基板、１１・・・貫通穴、１２・・・ガラス基板、１３・・・ピット、１４・・・プリフォーマット層、１５，１７・・・スペーサ、１９・・・表面、２１・・・裏面、２３・・・光ディスク製造装置、２５，２７・・・真空チャック、２９・・・光源、３１・・・第１多孔質板、３３・・・ホルダー、３５・・・第２多孔質板、３７・・・ホルダー、３９，４１・・・側面部、４３，４５・・・表面部、４７，４９・・・排気口、５１・・・透明粒子、５５・・・ガラス繊維、５７・・・隙間、５９・・・多孔質ガラス、６１・・・細孔、６３・・・ホログラム記録材料、６５・・・光ディスク製造装置、６７・・・ヒータ、６９・・・真空チャック、７１・・・第２多孔質板、７３・・・トラック、７５・・・レンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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