(57)【要約】【課題】可視光線領域の吸収が小さく、選択的に近赤外線領域の波長光を吸収する近赤外線吸収剤及び該近赤外線吸収剤を含有する光学フィルターを提供すること。【解決手段】ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］金属錯体；金属元素がニッケル、パラジウム、白金から選ばれる；からなる光学フィルター用近赤外線吸収剤。【選択図】　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］金属錯体；金属元素がニッケル、パラジウム、白金から選ばれる；からなる光学フィルター用近赤外線吸収剤。
【請求項２】
上記金属元素がニッケルである請求項１に記載の光学フィルター用近赤外線吸収剤。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学フィルター用近赤外線吸収剤を含有することを特徴とする光学フィルター。
【請求項４】
画像表示装置に用いられる請求項３に記載の光学フィルター。
【請求項５】
上記画像表示装置がプラズマディスプレイパネルである請求項４に記載の光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学フィルター用近赤外線吸収剤及びこれを含有する光学フィルターに関し、詳しくは、画像表示装置、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に好適である特定のニッケル化合物等からなる光学フィルター用近赤外線吸収剤及びこれを含有する光学フィルターに関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
近年、多種の画像表示装置（ディスプレイ）例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの開発とこれらを組み込んだ機器が実用化されている。これらの各種画像表示装置の中でも、ハイビジョン用大型壁掛けテレビ、マルチメディア用大画面ディスプレイとしてカラープラズマディスプレイ（ＰＤＰ）が注目を浴びている。
【０００３】
これらの画像表示装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組合せでカラー画像を表示する。しかし、表示装置からは不必要な波長の光も発せられており、周辺電子機器の誤作動や、表示画像の高品質化に問題があった。特にプラズマディスプレーは、８００〜１０５０ｎｍのネオンガスの輝線を発しており、近赤外線リモコンを用いた機器の誤作動を招くという問題がある。
【０００４】
上記問題に対し、特定の光を吸収する光吸収剤を含有した光学フィルターが使用されており、例えば、近赤外線を吸収する光学フィルターは、特開平９−２３０１３４号公報、特開平１１−７３１１５号公報、特開平１１−１２４２５号公報、特開２０００−２０６３２２号公報、特開２０００−２１２５４６号公報等に芳香族ジチオールニッケル化合物を光吸収剤として用いた光学フィルターが報告されている。
【０００５】
光学フィルター用近赤外線吸収剤としては、近赤外線領域の波長光を選択的に吸収し、可視光線領域の光を透過するものが求められている。しかし、従来の光吸収剤は可視光線領域にも吸収を有しており、光学フィルター用の光吸収剤としては適するものではなかった。
【０００６】
従って、本発明の目的は、可視光線領域の吸収が小さく、選択的に近赤外線領域の波長光を吸収する近赤外線吸収剤及び該近赤外線吸収剤を含有する光学フィルターを提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、検討を重ねた結果、特定の構造を有する金属錯体が、上記課題を解決し得ることを知見し、本発明に到達した。
【０００８】
本発明は、ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］金属錯体；金属はニッケル、パラジウム、白金から選ばれる；からなる光学フィルター用近赤外線吸収剤及び該近赤外線吸収剤を含有する光学フィルターに関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１０】
本発明に係るビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］金属錯体とは、ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケル、ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］パラジウム、ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］白金から選ばれるものである。これらは、近赤外線領域の光を吸収する特性があり、これらの中でも、ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケルが、コストも安く、吸光係数も大きいので光学フィルター用の近赤外線吸収剤として最も適している。
【００１１】
上記のビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケルについては、特開昭６３−８２７８９号公報、特開昭６３−３０４４４２号公報に光学記録媒体への応用が、特開平７−２４７４５４号公報、特表平７−５０９５０７号公報にインクやマーカーへの応用が報告されていが、光学フィルターへの応用例は報告がない。
【００１２】
ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケルのクロロホルム溶液の光吸収スペクトルは２つの吸収ピークを示し、低波長側のピークはλｍａｘ３０４ｎｍであり、高波長側のピークはλｍａｘ７８９ｎｍである。低波長側の吸収は急峻なものであり、この吸収は３８０ｎｍ以上の可視光線領域にはかからない。３８０ｎｍのモル吸光係数εは１．７１×１０３であり、４００ｎｍのεは、１．９２×１０３である。また、高波長側の吸収は、８００ｎｍ付近の近赤外線吸収剤として充分な近赤外線吸収能力を有していることを表している。例えば、λｍａｘである７８９ｎｍのεは、２．５０×１０４であり、８００ｎｍのεは２．４５×１０４である。
【００１３】
これに対し、芳香族ジチオールニッケル化合物は、３００ｎｍ近辺にλｍａｘを有する吸収がブロードであり、吸収端が可視光線領域にかかるものである。例えば、ビス［１，２−ジフェニルエテン−１，２−ジチオラト］ニッケルの低波長側のピークは、λｍａｘ３１６ｎｍであり、３８０ｎｍのεは１．０８×１０４であり、４００ｎｍのεは７．０３×１０３である。
【００１４】
また、ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケルは、樹脂や有機溶媒等の有機物に対する溶解性及び／又は相溶性が良好である特徴を有している。
【００１５】
本発明に係る上記のビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケルは、一般に下記式（１）又は（２）で表される構造異性体があり、光学フィルター用としては、区別されず用いることができ、どちらかの一種類でもよく、（１）と（２）の混合物でもよい。また、（１）、（２）それぞれの配位子成分について（Ｒ，Ｒ）（Ｓ，Ｓ）（Ｒ，Ｓ）の光学異性体があるが、これも区別されずに一種類又は二種類以上の混合物を用いることができる。
【００１６】
【化１】
2004010822.tif 000002
【００１７】
また、本発明に係る上記のビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケルの製造方法としては、カンファーキノンと五硫化二燐とを反応させ得られたチオホスフェート中間体を合成し、これとハロゲン化ニッケル等のニッケル塩を反応させて得る方法が挙げられる。
【００１８】
本発明の光学フィルター用近赤外線光吸収剤の使用量は、光学フィルターの単位面積当たり、１〜１０００ｍｇ／ｍ２、好ましくは、５〜１００ｍｇ／ｍ２であり、１ｍｇ／ｍ２未満の使用量では、光吸収効果を十分に発揮することができず、１０００ｍｇ／ｍ２を超えて使用した場合には、フィルターの色目が強くなりすぎて表示品質等を低下させるおそれがあり、さらには、明度が低下するおそれもあるため好ましくない。
【００１９】
本発明の光学フィルターは、上記のビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］金属錯体からなる近赤外線吸収剤を含有するものであれば、その用途、構成等により特に制限を受けることはない。また、本発明の近赤外線吸収剤の他に補助的に他の光吸収性色素等や各種安定剤を使用することもできる。
【００２０】
本発明の光学フィルターに用いられる上記の他の光吸収性色素としては、例えば、シアニン系、キノリン系、クマリン系、チアゾール系、オキソノール系、アズレン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、アゾ系、ベンジリデン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ジチオール金属錯体系化合物等が挙げられる。
【００２１】
また、本発明の近赤外線吸収剤や上記色素の光あるいは熱に対する安定化を図る目的で使用される各種安定化剤としては、例えば、ハイドロキノン誘導体（米国特許３９３５０１６号公報、米国特許３９８２９４４号公報）、ハイドロキノンジエーテル誘導体（米国特許４２５４２１６号公報）、フェノール誘導体（特開昭５４−２１００４号公報）、スピロインダン又はメチレンジオキシベンゼンの誘導体（英国特許公開２０７７４５５号公報、英国特許２０６２８８８号公報）、クロマン、スピロクロマン又はクマランの誘導体（米国特許３４３２３００号公報、米国特許３５７３０５０号公報、米国特許３５７４６２７号公報、米国特許３７６４３３７号公報、特開昭５２−１５２２２５号公報、特開昭５３−２０３２７号公報、特開昭５３−１７７２９号公報、特開昭６１−９０１５６号公報）、ハイドロキノンモノエーテル又はパラアミノフェノールの誘導体（英国特許１３４７５５６号公報、英国特許２０６６９７５号公報）、特公昭５４−１２３３７号公報、特開昭５５−６３２１号公報）、ビスフェノール誘導体（米国特許３７００４５５号公報、特公昭４８−３１６２５号公報）、金属錯体（米国特許４２４５０１８号公報、特開昭６０−９７３５３号公報）、ニトロソ化合物（特開平２−３００２８８号公報）、ジインモニウム化合物（米国特許４６５６１２号公報）、ニッケル錯体（特開平４−１４６１８９号公報）、酸化防止剤（欧州特許８２００５７号公報）が挙げられる。また、一重項酸素等のクエンチャーとして芳香族ニトロソ化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、遷移金属キレート化合物等を含有してもよく、本発明の近赤外線吸収剤の効果を阻害しない範囲において、ビスチオラート金属錯体アニオン等のクエンチャーアニオンを用いてもよい。
【００２２】
本発明の光学フィルターの用途としては、主に画像表示装置用の光学フィルターが挙げられる。該光学フィルターには、例えば、表示品質向上のために不必要な波長の光を除くもの、リモコンの誤作動等を防止するもの、カラー表示のために用いられるもの（カラーフィルター）があり、画像表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置が挙げられる。本発明の近赤外線吸収剤を含有してなる光学フィルターは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の近赤外線用フィルターとして特に好適なものである。
【００２３】
光学フィルターは、ディスプレイの前面に配置される。例えば、光学フィルターをディスプレイの表面に直接貼り付ける、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）又は裏側（ディスプレイ側）に光学フィルターを貼り付ける方法がある。
【００２４】
本発明の光学フィルターの代表的な構成としては、透明支持体に必要に応じて、下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層等の各層を設けたものが挙げられ、本発明の光学フィルター用近赤外線吸収剤、上記の色素化合物や各種安定剤の使用方法としては、例えば、透明支持体又は任意の各層に含有させる方法、透明支持体又は任意の各層にコーティングする方法、各層間の接着剤に混入させる方法又は別に近赤外線吸収剤等を含有する近赤外線吸収層を設ける方法等が挙げられる。本発明の光学フィルター用近赤外線吸収剤は、各層間のポリマーバインダーや接着剤に混入させる方法及び近赤外線吸収層を設ける方法に好適である。
【００２５】
上記透明支持体の材料としては、例えば、ガラス等の無機材料；あるいは、例えば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルイミド；ポリオキシエチレン等の高分子材料が挙げられる。透明支持体の透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましい。
【００２６】
これらの透明支持体中には、光吸収性色素、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、無機微粒子を添加したり、各種の表面処理を施すことができる。
【００２７】
上記の無機微粒子としては、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン等の無機微粒子が挙げられる。
【００２８】
上記各種表面処理としては、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理等が挙げられる。
【００２９】
下塗り層は、別に近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収層を設ける場合に、透明支持体と光吸収層との間に用いる層である。下塗り層は、ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む層、光吸収層側の表面が粗面である層又は近赤外線吸収層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成する。なお、近赤外線吸収層が設けられていない透明支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体とその上に設けられる層（例えば、反射防止層、ハードコート層）との接着力を改善するのために設けてもよく、また、下塗り層は、光学フィルターと画像形成装置とを接着するための接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。下塗り層の厚みは、２ｎｍ〜２０μｍが好ましく、５ｎｍ〜５μｍがより好ましく、２０ｎｍ〜２μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ〜１μｍがさらにまた好ましく、８０〜３００ｎｍが最も好ましい。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル又はメチルビニルエーテルの重合又は共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、５０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であることがより好ましく、３０℃以下であることがさらに好ましく、２５℃以下であることがさらにまた好ましく、２０℃以下であることが最も好ましい。下塗り層の２５℃における弾性率は、１〜１０００ＭＰａであることが好ましく、５〜８００ＭＰａであることがさらに好ましく、１０〜５００ＭＰａであることが最も好ましい。表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成することで、透明支持体とフィルター層とを接着する。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径は、０．０２〜３μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。フィルター層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーの例には、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイロン及び高分子ラテックスが含まれる。二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよい。
【００３０】
反射防止層としては、低屈折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３１３７０２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、同６−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各公報記載）、あるいは微粒子含む層（特公昭６０−５９２５０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７８号、同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各公報に記載）として形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、３〜５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５〜３５体積％の空隙率を有することがさらに好ましい。
【００３１】
広い波長領域の反射を防止するためには、低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．５５〜１．７０であることがさらに好ましい。中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状（脂環式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。
【００３２】
さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物又は硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は硫化物の例には、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム及び硫化亜鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することもできる。
【００３３】
反射防止層は、表面をアンチグレア機能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能）を付与することができる。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そしてその表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を得ることができる。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３〜３０％のヘイズを有する。
【００３４】
ハードコート層は、透明支持体の硬度よりも高い硬度を有する。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー又はモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）を用いて形成することができる。シリカ系材料からハードコート層を形成することもできる。
【００３５】
反射防止層（低屈折率層）の表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例、シリコンオイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤又はその誘導体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍであることが好ましい。
【００３６】
別に近赤外線吸収層を設ける場合は、本発明の近赤外線吸収剤をそのまま使用することもでき、バインダーを使用することもできる。これらバインダーとしては、例えば、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料あるいは、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド等の合成高分子材料が用いられる。
【００３７】
上記の下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、近赤外線吸収層等は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法及びホッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）が含まれる。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載されている。
【００３８】
【実施例】
以下、製造例及び実施例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。
【００３９】
［製造例］
＜ビス［１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２，３−ジチオラト（２−）−κＳ，κＳ’］ニッケルの製造＞
反応フラスコに（＋−）カンファーキノン３３．６ｇ、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１３４ｇを仕込み、これに五硫化二リン６３．０ｇを加え、１００℃、６０分撹拌した。これを７０℃まで冷却した後、水５０ｇに二塩化ニッケル六水和物２８．８ｇを溶かした水溶液を滴下し、滴下後、９５℃で９０分撹拌した。２５℃まで冷却後、固相を濾取し、これを水、メタノール、クロロホルムの順で洗浄して、黒色結晶を１４．８ｇ（収率３２％）得た。得られた固体について下記の分析を行った。また、このようにして得られたニッケル化合物を以下の実施例で近赤外線吸収剤として用いた。
【００４０】
（分析結果）
▲１▼純度：ＨＰＬＣ測定；９９．９％
▲２▼構造解析：１Ｈ−ＮＭＲ測定
（ケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．６７；ｓ；６）（０．９７；ｓ；６）（１．２３〜１．３１；ｍ；４）（１．４２；ｓ；６）（１．７８〜１．８８；ｍ；２）（２．０２〜２．１３；ｍ；２）（３．０９〜３．１４；ｍ；２）
▲３▼構造解析：ＩＲ測定（ｃｍ−１）
２９８５、２９５８、２８７１、１４７３、１４４８、１２８８、１３７６、１３６７、１３４４、１２８４、１２４９、１２０９、１１８２、１１６０、１１０８、１０７２、９６０、９３５、８１３、６８８、６６９、５６６、４４３
▲４▼光学的特性：クロロホルム溶媒でのＵＶスペクトル測定
λｍａｘ；３０４ｎｍ、ε；３．８１×１０４
λｍａｘ；７８９ｎｍ、ε；２．５０×１０４
▲５▼５０％質量減少温度：窒素気流中、１０℃／分昇温での示差熱分析
３３６℃
【００４１】
［実施例１］
下記の配合１にてＵＶワニスを作成し、これを易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコーター＃９を塗布し、８０℃、３０秒乾燥した。その後、赤外線カットフィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を１００ｍＪ照射し、硬化膜厚約５ミクロンのフィルムを得た。
得られたフィルムについて（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０でλｍａｘを測定した結果、λｍａｘは、７９１ｎｍであった。
【００４２】
（配合１）
アデカオプトマーＫＲＸ−５７１−６５　　　　　　　　　１００ｇ
（旭電化工業（株）製ＵＶ硬化樹脂、樹脂分８０重量％）
近赤外線吸収剤（製造例で調製）　　　　　　　　　　　　２．０ｇ
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０ｇ
【００４３】
［実施例２］
下記の配合２をプラストミルで２６０℃、５分間溶融紺練した。混練後直径６ｍｍのノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレットを得た。このペレットを電気プレスを用いて２５０℃で０．２５ｍｍ厚の薄板に成形した。
これを実施例１と同様にＵ−３０１０でλｍａｘを測定した結果、λｍａｘは、７９２ｎｍであった。
【００４４】
（配合２）
ユーピロンＳ−３０００　　　　　　　　　　　　　　　　１００ｇ
（三菱瓦斯化学（株）製；ポリカーボネート樹脂）
近赤外線吸収剤（製造例で調製）　　　　　　　　　　　　０．５ｇ
【００４５】
［実施例３］
下記の配合３及び４にてバインダー組成物を作成し、これを易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにバーコーター＃９を塗布し、８０℃、３０秒乾燥した。その後、このフィルムを０．９ｍｍ厚アルカリガラス板に１００℃で熱圧着し、ガラス板とＰＥＴフィルムの間のバインダー層に光吸収剤を含有するＰＥＴ保護ガラス板を作成した。
これを実施例１と同様にＵ−３０１０でλｍａｘを測定した結果、λｍａｘは、配合３では７９２ｎｍ、配合４では７９１ｎｍであった。
【００４６】
（配合３）
アデカアークルズＲ−１０３　　　　　　　　　　　　　　　１００ｇ
（旭電化工業（株）製アクリル樹脂系バインダー、樹脂分５０重量％）
近赤外線吸収剤（製造例で調製）　　　　　　　　　　　　０．０５ｇ
【００４７】
（配合４）
アデカアークルズＲ−１０３　　　　　　　　　　　　　　　１００ｇ
（旭電化工業（株）製アクリル樹脂系バインダー、樹脂分５０重量％）
近赤外線吸収剤（製造例で調製）　　　　　　　　　　　　０．０５ｇ
【００４８】
【発明の効果】
本発明によって、可視光線領域の吸収が小さく、選択的に近赤外線領域の波長光を吸収する近赤外線吸収剤及び該近赤外線吸収剤を含有する光学フィルターを提供できる。