(57)【要約】【課題】  凸型樹脂構造を製造する際、露光装置におけるパネルの反射によって異常なパターンの発生を防止し、又、露光時間も短縮できる反射型液晶ディスプレイの反射板及びその製造方法を提供する。【解決手段】  ガラス基板の表面に薄膜トランジスタを製造した後、凸型樹脂構造の製造前、金属層（１２）を形成することにより、露光装置からの光反射を断絶し、全反射式反射板を製造する場合では、透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを備え、半反射式反射板を製造する場合では、透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを備え、金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを行うことにより、金属層（１２）に光透過可能な領域（１５）を形成することを特徴とする。【選択図】        図１
2004163938.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の表面に薄膜トランジスタを製造した後、凸型樹脂構造の製造前、金属層を形成することにより、露光装置からの光反射を断絶することを特徴とする反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項２】
透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを備える全反射式反射板を製造する反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法であって、
透明電極を設置する工程は薄膜トランジスタのガラス基板に透明電極を鍍金することにより、ガラス基板と透明電極との間に絶縁層と保護層を順に設け、
金属層を設置する工程は透明電極の表面に金属層を鍍金することにより、露光装置からの光反射を断絶し、
パターンを形成する工程はフォトレジストの塗布、露光、現像及びエッチング方法によって透明電極及び金属層にパターンを形成し、
露光現像工程は露光装置によって露光して、現像することにより、パターン以外の樹脂を除去し、
金属反射層を設置する工程は残留したフォトレジストの表面に金属反射層を鍍金することを特徴とする請求項1に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項３】
透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを備える半反射式反射板を製造する反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法であって、
透明電極を設置する工程は薄膜トランジスタのガラス基板に透明電極を鍍金することにより、ガラス基板と透明電極との間に絶縁層と保護層を順に設け、
金属層を設置する工程は透明電極の表面に金属層を鍍金することにより、露光装置からの光反射を断絶し、
パターンを形成する工程はフォトレジストの塗布、露光、現像及びエッチング方法によって透明電極及び金属層にパターンを形成し、
露光現像工程は露光装置によって露光して、現像することにより、パターン以外の樹脂を除去し、
金属反射層を設置する工程は残留したフォトレジストの表面に金属反射層を鍍金し、
金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを行うことにより、金属層に光透過可能な領域を形成することを特徴とする請求項1に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項４】
ガラス基板の上に薄膜トランジスタと、透明電極と、凸型樹脂構造とを設置すると共に、透明電極と凸型樹脂構造との間に金属層を有することを特徴とする反射型液晶ディスプレイの反射板。
【請求項５】
金属層と凸型樹脂構造との間に光透過可能な領域が形成されることを特徴とする請求項４に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板。
【請求項６】
薄膜トランジスタを製造すると同時に金属層を鍍金することにより、露光装置からの光反射が断絶されることを特徴とする反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項７】
薄膜トランジスタを製造すると同時にゲート電極の金属層を利用すると共に、パターンを形成することにより、金属層となり、ガラス基板に薄膜トランジスタを製造した後、その表面とゲート絶縁層との間にゲート電極と共に形成する金属層を有することを特徴とする請求項６に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項８】
ソース/ドレイン電極の金属層にパターンを設置することより、同時にソース/ドレイン電極及び金属層が形成され、ガラス基板に薄膜トランジスタを製造した後、ゲート絶縁層と保護層の間にゲート電極と共に形成する金属層を有することを特徴とする請求項６に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項９】
ガラス基板は透明電極を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程によって全反射式反射板を製造することを特徴とする請求項７又は８に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項１０】
ガラス基板は透明電極を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを行い、金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを行うことにより、金属層に光透過可能な領域が形成されることを特徴とする請求項７又は８に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法。
【請求項１１】
ガラス基板上に薄膜トランジスタと、透明電極と、凸型樹脂構造とを設置すると共に、薄膜トランジスタの内部に金属層が設けられることを特徴とする反射型液晶ディスプレイの反射板。
【請求項１２】
金属層とゲート電極は同一であることを特徴とする請求項１１に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板。
【請求項１３】
金属層とソース/ドレイン電極は同一であることを特徴とする請求項１１に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板。
【請求項１４】
ガラス基板における凸型樹脂構造との間に光透過可能な領域が形成されることを特徴とする請求項１１又は１２又は１３に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に凸型樹脂構造を製造する際、露光装置におけるパネルの反射によって異常なパターンの発生を防止し、又、露光時間も短縮できる反射型液晶ディスプレイの反射板及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
反射型液晶ディスプレイは外部光源（外光）によってディスプレイ効果を達成するものであり、大量のエネルギーを消費するバックソースを使用しないので、携帯式製品に用いられている。
【０００３】
この反射型液晶ディスプレイは全反射式及び半反射式の二種類を有し、全反射式液晶ディスプレイはフロントソースによって外部光源（外光）の不足時に必要な輝度を提供し、半反射式液晶ディスプレイはバックソースによって外部光源の不足時に必要な輝度を提供する。
【０００４】
全反射式液晶ディスプレイは外部光源の不足時に、フロントソースからの光線を全反射の反射板によって反射することにより照明の補助効果を達成できるが、フロントソースの技術が未熟であるため、半反射式液晶ディスプレイが開発された。その半反射式液晶ディスプレイにおける反射板の特性は、一部の光線のみ反射板を透過し、他の光線が反射板によって反射されるので、バックソースによって外部光源の不足時に、必要な輝度を提供することができる。又、この特性を達成するために、反射板は凸型樹脂構造を成している。
【０００５】
図７Aに示すように、半反射式液晶ディスプレイの反射板の製造例は、先ず薄膜トランジスタ（TFT）のガラス基板（７０）に透明電極（ITO）（７１）を鍍金することにより、ガラス基板（７０）と透明電極（７１）との間に絶縁層（７０１）と保護層（７０２）を順に設け、図７Bに示すように、透明電極（７１）の表面に樹脂（RESIN）のフォトレジスト（７２）を設け、露光装置によってパターン以外のフォトレジスト（７２）を除去すると共に、図７Cに示すように、残留したフォトレジスト（７２）の表面に単層又は多層の金属反射層（７３）を鍍金し、エッチングによってパターン以外の金属反射層（７３）とフォトレジスト（７２）を除去することにより、光透過可能な領域（７４）を形成し、反射板に凸型樹脂構造を構成させる。尚、金属反射層（７３）が例えば三層構造である場合は、その材質は順にモリブテン合金、アルミニウム、モリブテン合金の構成である。
【０００６】
又、図８A乃至図８Cに示すように、全反射式液晶ディスプレイの反射板の製造例は、半反射式の反射板の製造例と殆ど等しく、異なる点としては全反射式の反射板に光透過可能な領域を形成する必要がないことである。
又、前記従来の反射型液晶ディスプレイの反射板及びその製造方法に関する特許文献は台湾特許公告第５２６６１５号に開示される。
【特許文献１】台湾特許公告第５２６６１５号。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記反射板の製造方法の何れかはガラス基板（７０）を露光装置のステージ上に配置して、確実に位置決めるために、ステージにおける真空パッドによってガラス基板の底部（７０）を吸着し、ガラス基板（７０）にフォトレジストを設ける際、ステージにおける真空パッド及びピンが光反射を発生させるため、フォトレジストの露光量が不均一となり、フォトレジストの表面に所望と異なるパターンを形成して、これらのパターンは金属反射層（７３）を設けた後も、残った状態となる。即ち、反射板における金属反射層（７３）の表面に真空パッド及びピンの形状と等しいパターンを形成してしまうので、反射板の品質に悪影響を与えることになる。
【０００８】
そこで、出願されたのが本発明であって、凸型樹脂構造を製造する際、露光装置におけるパネルの反射によって異常なパターンの発生を防止し、又、露光時間も短縮できる液晶ディスプレイの反射板及びその製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願の請求項１の発明は、ガラス基板の表面に薄膜トランジスタを製造した後、凸型樹脂構造の製造前、金属層（１２）を形成することにより、露光装置からの光反射を断絶することを特徴とする液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項２の発明は、透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを備える全反射式反射板を製造する反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法であって、透明電極を設置する工程は薄膜トランジスタのガラス基板（１０）に透明電極（１１）を鍍金することにより、ガラス基板（１０）と透明電極（１１）との間に絶縁層（１０１）と保護層（１０２）を順に設け、金属層を設置する工程は透明電極（１１）の表面に金属層（１２）を鍍金することにより、露光装置からの光反射を断絶し、パターンを形成する工程はフォトレジストの塗布、露光、現像及びエッチング方法によって透明電極及び金属層にパターンを形成し、露光現像工程は露光装置によって露光して、現像することにより、パターン以外の樹脂を除去し、金属反射層を設置する工程は残留したフォトレジスト（１３）の表面に金属反射層（１４）を鍍金することを特徴とする請求項1に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項３の発明は、透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを備える半反射式反射板を製造する反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法であって、透明電極を設置する工程は薄膜トランジスタのガラス基板（１０）に透明電極（１１）を鍍金することにより、ガラス基板（１０）と透明電極（１１）との間に絶縁層（１０１）と保護層（１０２）を順に設け、
金属層を設置する工程は透明電極（１１）の表面に金属層（１２）を鍍金することにより、露光装置からの光反射を断絶し、パターンを形成する工程はフォトレジストの塗布、露光、現像及びエッチング方法によって透明電極及び金属層にパターンを形成し、露光現像工程は露光装置によって露光して、現像することにより、パターン以外の樹脂を除去し、金属反射層を設置する工程は残留したフォトレジスト（１３）の表面に金属反射層（１４）を鍍金し、金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを行うことにより、金属層（１２）に光透過可能な領域（１５）を形成することを特徴とする請求項1に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項４の発明は、ガラス基板（１０）の上に薄膜トランジスタと、透明電極（１１）と、凸型樹脂構造とを設置すると共に、透明電極（１１）と凸型樹脂構造との間に金属層（１２）を有することを特徴とする反射型液晶ディスプレイの反射板及び、本願の請求項５の発明は、金属層（１２）と凸型樹脂構造との間に光透過可能な領域（１５）が形成されることを特徴とする請求項４に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板及び、本願の請求項６の発明は、薄膜トランジスタを製造すると同時に金属層（１２）を鍍金することにより、露光装置からの光反射が断絶されることを特徴とする反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項７の発明は、薄膜トランジスタを製造すると同時にゲート電極の金属層を利用すると共に、パターンを形成することにより、金属層（１２）となり、ガラス基板（１０）に薄膜トランジスタを製造した後、その表面とゲート絶縁層（１０１）との間にゲート電極と共に形成する金属層（１２）を有することを特徴とする請求項６に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項８の発明は、ソース/ドレイン電極の金属層にパターンを設置することより、同時にソース/ドレイン電極及び金属層（１２）が形成され、ガラス基板（１０）に薄膜トランジスタを製造した後、ゲート絶縁層（１０１）と保護層（１０２）の間にゲート電極と共に形成する金属層（１２）を有することを特徴とする請求項６に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項９の発明は、ガラス基板（１０）は透明電極を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程によって全反射式反射板を製造することを特徴とする請求項７又は８に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項１０の発明は、ガラス基板（１０）は透明電極を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを行い、金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを行うことにより、金属層（１２）に光透過可能な領域（１５）が形成されることを特徴とする請求項７又は８に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板の製造方法及び、本願の請求項１１の発明は、ガラス基板（１０）上に薄膜トランジスタと、透明電極（１１）と、凸型樹脂構造とを設置すると共に、薄膜トランジスタの内部に金属層（１２）が設けられることを特徴とする反射型液晶ディスプレイの反射板及び、本願の請求項１２の発明は、金属層（１２）とゲート電極は同一であることを特徴とする請求項１１に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板及び、本願の請求項１３の発明は、金属層（１２）とソース/ドレイン電極は同一であることを特徴とする請求項１１に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板及び、本願の請求項１４の発明は、ガラス基板（１０）における凸型樹脂構造との間に光透過可能な領域（１５）が形成されることを特徴とする請求項１１又は１２又は１３に記載の反射型液晶ディスプレイの反射板、を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は上記の課題を解決するものであり、次のような効果を得ることができる。
凸型樹脂構造の製造前、金属層を鍍金して、更にフォトレジストの設置、露光、多層金属層の設置、エッチングを施すことにより、露光装置からの光反射を断絶すると共に、露光量の不均一及び所望と異なるパターンの発生を防止する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【００１２】
図１A〜Dは本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第一製造実施例を示す参考図であり、図２A〜Dは本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第二製造実施例を示す参考図であり、図３A〜Cは本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第三製造実施例を示す参考図であり、図４A〜Cは本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第四製造実施例を示す参考図であり、図５A〜Cは本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第五製造実施例を示す参考図であり、図６A〜Cは本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第六製造実施例を示す参考図である。
【００１３】
本発明は、凸型樹脂構造の製造前に、金属層を鍍金して、更にフォトレジストの設置、露光、多層金属層の設置、エッチングを行ことにより、露光装置からの光反射を断絶し、露光量の不均一及び所望と異なるパターンの発生を防止するものであり、透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを、備える。
【００１４】
図１Aに示すように、全反射式の反射板を製造する第一実施例において、透明電極を設置する工程では、薄膜トランジスタのガラス基板（１０）に透明電極（１１）を鍍金することにより、ガラス基板（１０）と透明電極（１１）との間に絶縁層（１０１）と保護層（１０２）を順に設ける。
【００１５】
図１Bに示すように、金属層を設置する工程では、透明電極（１１）の表面に金属層（１２）を鍍金することにより、露光装置からの光反射を断絶する。尚、本実施例において用いる金属はMoCrである。
【００１６】
パターンを形成する工程では、フォトレジストの塗布、露光、現像及びエッチングを施すことによって透明電極及び金属層にパターンが形成される。
【００１７】
図１Cに示すように、露光現像工程では、露光装置により露光及び現像施すことにより、パターン以外の樹脂を除去する。
【００１８】
図１Dに示すように、金属反射層を設置する工程では、残留したフォトレジスト（１３）の表面に単層又は多層の金属反射層（１４）を鍍金する。又、金属反射層（１４）が例えば三層構造である場合、その材質は順にモリブテン合金とアルミニウムとモリブテン合金である。
【００１９】
図２に示すように、半反射式の反射板を製造する第二実施例では、第一実施例と殆ど等しく、透明電極を設置する工程と、金属層を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程とを備え、異なる点としては一部の光透過を達成するために、金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを行う。更に、図２Dに示すように、金属層（１２）にエッチングによって光透過可能な領域（１５）を形成する。
【００２０】
本発明の方法によれば、以下に示す優れた効果を達成できる。
１．凸型樹脂構造の製造前に、金属層（１２）を鍍金することにより、露光現像工程を行う際、金属層（１２）によって露光装置の真空パッド及びピンからの光反射を断絶すると共に、露光量の不均一及び所望と異なるパターンの発生を防止できるので、反射板の品質を向上できる。
【００２１】
２．反射板の凸型樹脂構造は高感光時間の樹脂（RESIN）を採用すると共に、露光時間を短縮できる。
【００２２】
図３に示すように、本発明の第三実施例は薄膜トランジスタを製造すると同時に金属層（１２）を鍍金することにより、露光装置からの光反射を断絶する。ガラス基板（１０）に薄膜トランジスタを製造するため、ガラス基板（１０）に順にゲート電極、ゲート絶縁層、保護層を形成する。又、本発明ではゲート電極の金属層を利用して、パターンを形成することにより、金属層（１２）となる。図３Aに示すように、ガラス基板（１０）に薄膜トランジスタを製造した後、その表面とゲート絶縁層（１０１）との間にゲート電極と共に形成する金属層（１２）を有し、その後、図３A乃至図３Cに示すように、ガラス基板（１０）は透明電極を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程によって全反射式の反射板を製造する。
【００２３】
図４に示すように、本発明の第四実施例では、第三実施例と殆ど等しく、異なる所としては金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを施すことにより、金属層（１２）に光透過可能な領域（１５）を形成する点である。
【００２４】
図５に示すように、本発明の第五実施例では、第三及び第四実施例と殆ど等しく、異なる所としては、ソース/ドレイン電極の金属層にパターンを形成することより、ソース/ドレイン電極及び金属層（１２）を形成する点である。又、図５Aに示すように、ガラス基板（１０）に薄膜トランジスタを製造した後、ゲート絶縁層（１０１）と保護層（１０２）の間にゲート電極と共に形成する金属層（１２）を有し、その後、図５A乃至図５Cに示すように、ガラス基板（１０）は透明電極を設置する工程と、パターンを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、露光現像工程と、金属反射層を設置する工程によって全反射式の反射板を製造する。
【００２５】
図６に示すように、本発明の第六実施例では、第五実施例と殆ど等しく、異なる所としては金属反射層を設置する工程の後に、再びエッチングを施すことにより、金属層（１２）に光透過可能な領域（１５）を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第一製造実施例を示す参考図である。
【図２】本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第二製造実施例を示す参考図である。
【図３】本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第三製造実施例を示す参考図である。
【図４】本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第四製造実施例を示す参考図である。
【図５】本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第五製造実施例を示す参考図である。
【図６】本発明に係わる反射型液晶ディスプレイの反射板の第六製造実施例を示す参考図である。
【図７】従来の半反射式液晶ディスプレイの反射板の製造例を示す参考図である。
【図８】従来の全反射式液晶ディスプレイの反射板の製造例を示す参考図である。
【符号の説明】
【００２７】
１０        ガラス基板
１０１      絶縁層
１０２      保護層
１１        透明電極
１２        金属層
１３        フォトレジスト
１４        金属反射層
１５        光透過可能な領域
７０        ガラス基板
７１        透明電極
７０１      絶縁層
７０２      保護層
７２        フォトレジスト
７３        金属反射層
７４        光透過可能な領域
【図１】
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【図２】
2004163938.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2004163938.tif 000007
【図６】
2004163938.tif 000008
【図７】
2004163938.tif 000009
【図８】
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