(57)【要約】【課題】薄膜の縁部（塗布終了位置）での盛上りを解消し、基板に均一な厚さのフラットな薄膜を形成できる薄膜形成装置、薄膜形成方法及び薄膜形成体を提供すること。【解決手段】塗布部２０を基板１０の表面に沿って相対的に移動させることにより、塗布液２６を塗布する。塗布終了位置において、モータ３２を駆動して塗布部２０を徐々に下降させる。望ましくは、この下降の際に超音波振動器３３で塗布部２０に水平振動を付与する。すると塗布終了位置に盛上り部や肉厚部を生じることなく本体２１の上端部（スリット２２の上端開孔部）は基板１０の下面に塗布された塗布液２６からきれいに分離される。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、基板の表面に沿って相対的に移動しながら塗布液を吐出する塗布部と、塗布終了位置において前記塗布部を基板に対して相対的に下降させる下降手段とを備えたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
前記塗布部に振動を付与する振動付与手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の薄膜形成装置。
【請求項３】
基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、基板の表面に沿って相対的に移動しながら塗布液を吐出する塗布部と、塗布終了位置において前記塗布部に振動を付与する振動付与手段を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項４】
基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、基板の表面に沿って相対的に移動しながら塗布液を吐出する塗布部と、塗布終了位置において前記塗布部の塗布液を吸引する塗布液吸引手段を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項５】
前記塗布部に振動を付与する振動付与手段を備えたことを特徴とする請求項４記載の薄膜形成装置。
【請求項６】
前記塗布液吸引手段で塗布液を吸引するときに前記塗布部を基板に対して相対的に上昇させ、次いで下降させる上下動手段を備えたことを特徴とする請求項４又は５記載の薄膜形成装置。
【請求項７】
基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、基板の表面に沿って相対的に移動しながら塗布液を吐出する塗布部と、塗布終了位置において前記塗布部を基板に対して相対的に下降させる下降手段と、この下降時に塗布液を吸引する塗布液吸引手段を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項８】
基板の表面に沿って塗布液の塗布部を相対的に移動させて基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、塗布終了位置において前記塗布部を徐々に下降させるようにしたことを特徴とする薄膜形成方法。
【請求項９】
前記下降の際に、前記塗布部に振動付与手段により振動を付与するようにしたことを特徴とする請求項８記載の薄膜形成方法。
【請求項１０】
基板の表面に沿って塗布液の塗布部を相対的に移動させて基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、塗布終了位置において前記塗布部の塗布液を吸引手段により吸引するようにし、且つこの吸引をするときに前記塗布部を基板に対して相対的に上昇させ、次いで下降させるようにしたことを特徴とする薄膜形成方法。
【請求項１１】
基板の表面に沿って塗布液の塗布部を相対的に移動させて基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、塗布終了位置において前記塗布部の塗布液を吸引手段により吸引するようにしたことを特徴とする薄膜形成方法。
【請求項１２】
前記吸引の際に、前記塗布部に振動付与手段により振動を付与するようにしたことを特徴とする請求項１０または１１記載の薄膜形成方法。
【請求項１３】
請求項８〜１２の何れかの方法により薄膜が形成されたことを特徴とする薄膜形成体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬなどの表示パネル等の薄膜形成装置、薄膜形成方法及び薄膜形成体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば有機ＥＬなどの表示パネルは、ガラス基板などの基板の表面に発光層や注入層などの高分子有機材料から成る薄膜を形成して製造される。かかる薄膜は、一般に、ノズルなどの塗布部から塗布液（高分子有機材料液）を吐出しながら、塗布部を基板の表面に沿って相対的に水平移動させることにより塗布して形成される。塗布液は、一般に、溶質と溶媒の混合液または溶質が溶媒に溶けている溶液（以下、混合液という）であり、溶媒が蒸発することにより基板の表面で固化する（例えば、（特許文献１）参照。）。
【０００３】
図６は、従来方法により基板に塗布液を塗布して薄膜を形成した薄膜形成体の平面図である。薄膜形成体１は、塗布部を基板２の表面に沿って相対的に移動させて基板２の表面に塗布液を薄く塗布し、これを固化させて薄膜３が形成されている。基板に塗布された塗布液は、一般に、ホットプレートで加熱したり、赤外線を照射したり、超音波を付与するなどして溶媒の蒸発が促進され、固化して薄膜となる。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−６２３７０号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来方法では、塗布部が塗布開始位置ａから塗布終了位置ｂまで相対的に移動して塗布動作が終了し、そこで塗布部を下降させて基板から分離する際に、塗布終了位置ｂで薄膜（塗布液）の盛上り部３ａ（図６でハッチングを付した部分）が生じやすく、特にその中央部分にスポット的に更なる肉厚部３ａ’を生じやすいという問題点があった。このように薄膜が縁部（塗布終了位置ｂ）で局部的に盛上ると輝度ムラや色度ムラなどの発光ムラが発生しやすく、また薄膜の劣化寿命も縁部でばらついてしまうという問題点があった。
【０００６】
そこで本発明は、薄膜の縁部（塗布終了位置）での盛上りを解消し、基板に均一な厚さのフラットな薄膜を形成できる薄膜形成装置、薄膜形成方法及び薄膜形成体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の薄膜形成装置は、基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、基板の表面に沿って相対的に移動しながら塗布液を吐出する塗布部と、塗布終了位置において前記塗布部を基板に対して相対的に下降させる下降手段とを備えた。
【０００８】
また本発明は、基板の表面に沿って塗布液の塗布部を相対的に移動させて基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、塗布終了位置において前記塗布部を徐々に下降させるようにした。
【０００９】
本発明によれば、薄膜の縁部（塗布終了位置）での盛上りを解消し、基板に均一な厚さのフラットな薄膜を形成できる薄膜形成装置、薄膜形成方法及び薄膜形成体を実現できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１における薄膜形成装置の側面図、図２は本発明の実施の形態１における薄膜形成装置の塗布部の斜視図、図３は本発明の実施の形態１における薄膜形成装置の塗布部の部分拡大断面図、図４（ａ）は本発明の実施の形態１における薄膜形成体の平面図、図４（ｂ）は本発明の実施の形態１における薄膜形成体の断面図である。
【００１１】
図１において、１０はガラス基板などの基板であり、保持体１１に保持されて塗布部２０の上方に位置している。保持体１１は、真空吸着手段（図示せず）などの保持手段により、その下面に基板１０を水平な姿勢で吸着保持している。保持体１１の上面にはナット１２が装着されており、ナット１２には水平な送りねじ１３が螺入されている。送りねじ１３はモータ１４に駆動されて回転する。
【００１２】
モータ１４の駆動により送りねじ１３が回転すると、基板１０を保持する保持体１０は送りねじ１３に沿って水平方向へ移動し（矢印Ａ）、基板１０も同方向へ移動する。すなわち、保持体１１、ナット１２、送りねじ１３、モータ１４は、塗布部２０を基板１０の表面に沿って相対的に水平方向に移動させる移動手段となっている。なお静止した基板１０に対して塗布部２０を水平方向に移動させてもよい。
【００１３】
次に、図１〜図３を参照して塗布部２０を説明する。塗布部２０の本体２１にはスリット２２が形成されている。スリット２２は本体２１の上下に貫通するように形成されており、その下部はジョイント２３、管路２４を通じて貯溜部２５に接続されている。貯溜部２５に貯溜された塗布液（高分子有機材料液）２６は、管路２４に設けられた塗布液供給・吸引手段であるポンプ２７によりスリット２２へ送られる。
【００１４】
本体２１にはナット３０が装着されており、ナット３０には垂直な送りねじ３１が螺入されている。モータ３２により送りねじ３１が正逆回転すると、本体２１は上下動する（矢印Ｂ）。すなわちナット３０、送りねじ３１、モータ３２は、塗布部２０を基板１０に対して相対的に上下動させる上下動手段となっている。なお塗布部２０に対し、基板１０を上下動させてもよい。また本体２１には、振動付与手段としての超音波振動器３３が装着されている。超音波振動器３３が駆動すると、本体２１は水平方向へ振動する（矢印Ｃ）。
【００１５】
この薄膜形成装置は上記のような構成より成り、次にその動作を説明する。図１において、基板１０の下面を塗布部２０の上面に近接させ、モータ１４を駆動して基板１０を塗布部２０に対して塗布開始位置ａから塗布終了位置ｂまで水平方向に移動させる（矢印Ａ）。このとき、ポンプ２７を駆動して貯溜部２５の塗布液２６をスリット２２へ送り、スリット２２の上端から吐出させて基板１０の下面に塗布する。
【００１６】
本体２１が塗布終了位置ｂまできたならば（図３（ａ））、ポンプ２７による塗布液２６の送給を停止し、モータ３２を駆動して送りねじ３１を回転させ、塗布部２０を徐々にゆっくり下降させる（矢印Ｂ）。すなわち、ナット３０、送りねじ３１、モータ３２は、塗布部２０を基板１０に対して相対的に下降させる下降手段となっている。すると上記従来方法のように塗布終了位置ｂに盛上り部や肉厚部を生じることなく本体２１の上端部（スリット２２の上端開孔部）は基板１０の下面に塗布された塗布液２６からきれいに分離される（図３（ｂ））。望ましくは、この下降の際、超音波振動器３３を駆動し、本体２１を横方向Ｃへ振動させることにより、塗布液２６の糸引きを防止し、塗布部２０の下降とともに塗布液２６が下方へ垂れ下るのを防止する。以上のようにして基板１０に塗布された塗布液２６には、赤外線ランプなどの固化手段（図外）により溶剤の蒸発が促進されて固化される。図３は、このようにして製造された薄膜形成体９を示している。なお一般に、基板には薄膜は多層に形成されるので、上記した薄膜の形成作業は複数回繰り返される。
【００１７】
（実施の形態２）
図５は本発明の実施の形態２における薄膜形成装置の塗布部の部分拡大断面図である。実施の形態２は、塗布終了位置における塗布部の基板に対する相対的な上下動作が相違しており、装置の構成は実施の形態１と同じである。
【００１８】
塗布部２０が塗布終了位置ｂまで相対的に移動してきたならば（図５（ａ））、モータ３２をわずかに逆回転させて塗布部２０を基板１０に対してわずかに相対的に上昇させ（矢印Ｄ）、そこで塗布液吸引手段であるポンプ２７を逆駆動して塗布終了位置ｂに塗布された塗布液２６をわずかに吸い込み（図５（ｂ））、次いで塗布部２０を下降させて基板１０から分離する。この場合も、望ましくは、この下降の際に超音波振動器３３を駆動し、本体２１を横方向Ｃへ振動させる。すると上記従来方法のように塗布終了位置ｂに盛上り部や肉厚部を生じることなく本体２１の上端部（スリット２２の上端開孔部）は基板１０の下面に塗布された塗布液２６からきれいに分離され（図５（ｃ））、図４に示す薄膜形成体９が得られる。
【００１９】
【発明の効果】
本発明によれば、薄膜の縁部（塗布終了位置）での盛上りを解消し、基板に均一な厚さのフラットな薄膜を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１における薄膜形成装置の側面図
【図２】本発明の実施の形態１における薄膜形成装置の塗布部の斜視図
【図３】本発明の実施の形態１における薄膜形成装置の塗布部の部分拡大断面図
【図４】（ａ）本発明の実施の形態１における薄膜形成体の平面図
（ｂ）本発明の実施の形態１における薄膜形成体の断面図
【図５】本発明の実施の形態２における薄膜形成装置の塗布部の部分拡大断面図
【図６】従来方法により基板に塗布液を塗布して薄膜を形成した薄膜形成体の平面図
【符号の説明】
１０　基板
２０　塗布部
２５　貯溜部
２６　塗布液
３０　ナット
３１　送りねじ
３２　モータ
３３　超音波振動器
Ｐ　ポンプ
【図１】
2004130277.tif 000003
【図２】
2004130277.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2004130277.tif 000007
【図６】
2004130277.tif 000008