(57)【要約】【課題】レーザ光発生装置において、振動や経年変化に対する安定性を高め、温度変化による共振器への影響を低減する。【解決手段】連続波の励起光を発生させる励起光源２と、励起位置での発熱による熱レンズ効果を利用した固体レーザ共振器４を備えたレーザ光発生装置１において、固体レーザ共振器が、レーザ媒質４ａ、可飽和吸収体４ｂ、中間媒質４ｃ、反射手段４ｄを構成要素として備えている。レーザ媒質４ａの基板と、可飽和吸収体４ｂの基板とを結合して一体化させることで振動の影響を低減する。そして、温度変化を利用した動作点の選択方法を必要とせずに、熱的な影響を受け難い構成を採用するとともに、励起光学系と共振器との位置関係について、両者間の相対的な移動により、共振器光路長を調整して安定な動作点を選べるように構成した。【選択図】　　　　　図１
2004128139.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続波の励起光を発生させる励起光源と、レーザ媒質における励起位置での熱レンズ効果を利用した固体レーザ共振器を有するレーザ光発生装置において、
上記固体レーザ共振器の各構成要素が設けられた基板同士が結合されることで一体化され、該固体レーザ共振器の反射手段又は可飽和吸収体と上記レーザ媒質とが中間媒質を介して対向した構造を有するとともに、
上記固体レーザ共振器の構成要素が、上記励起光の光軸に直交する平面に対して傾いた界面を有し、上記励起光の光軸に対して平行な方向における上記固体レーザ共振器の光路長が上記励起位置の設定に応じて異なる
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
上記固体レーザ共振器が、上記励起光を吸収するレーザ媒質と、可飽和吸収体と、レーザ媒質と可飽和吸収体との間の光路上に設けられる中間媒質と、共振器を形成する反射手段を構成要素として備えていること、
上記レーザ媒質が設けられた基板と、上記可飽和吸収体が設けられた基板とが結合されることで一体化され、上記レーザ媒質と可飽和吸収体とが上記中間媒質を介して対向した構造を有すること、
上記固体レーザ共振器の構成要素における１つ又は複数の要素が、上記励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面を有するか、又は上記励起光の光軸に対して平行な方向における上記レーザ媒質若しくは可飽和吸収体若しくは中間媒質の厚みが、該光軸に対して直交する方向において異なっており、上記励起光の光軸に直交する方向における上記励起位置に応じて共振器の光路長が規定されること
を特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項３】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
上記励起光源と上記固体レーザ共振器との間に、ほぼ等倍率又は縮小倍率の光学系が配置されている
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項４】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
出力波長が７００ナノメートル以上であって１６００ナノメートル以下である
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項５】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
上記固体レーザ共振器に係る周回光路長が５ミリメートル以下である
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項６】
請求項２に記載したレーザ光発生装置において、
半導体可飽和吸収体を用いた
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項７】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
希土類をドープした固体レーザ媒質を用いた
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項８】
請求項７に記載したレーザ光発生装置において、
固体レーザ媒質としてＮｄをドープしたＹＶＯ４を用いた
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項９】
請求項４に記載したレーザ光発生装置において、
上記固体レーザ共振器の構成要素のうち、上記励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した界面を備えた構成要素の、該平面に対する傾き角度が、０．０７ミリラジアン以上、２ミリラジアン以下である
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１０】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
上記中間媒質として屈折率がほぼ１の気体層を用いた
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載したレーザ光発生装置において、
上記中間媒質として空気層を用いた
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１２】
請求項４に記載したレーザ光発生装置において、
上記励起光の光軸に対して平行な方向における上記中間媒質の厚みが、該光軸に対して直交する方向に沿って変化するとともに、該中間媒質とレーザ媒質又は可飽和吸収体との境界面が、上記励起光の光軸に直交する平面に対してなす傾き角度が０．０７ミリラジアン以上、２ミリラジアン以下である
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１３】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
上記固体レーザ共振器に係る共振器光路長に関して、上記励起位置に応じて規定される場合の該光路長変化が、レーザ発振波長の２分の１以上である
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１４】
請求項２に記載したレーザ光発生装置において、
上記レーザ媒質が設けられた基板及び上記可飽和吸収体が設けられた基板が、光学系の基台上に配置されるとともに、
上記レーザ媒質と上記中間媒質との境界面の法線及び上記可飽和吸収体と上記中間媒質との境界面の法線を含む平面が、上記光学系の基台面に対してほぼ平行となるように、該レーザ媒質及び可飽和吸収体が光学系の基台面上を移動し得る構成を備えている
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１５】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
上記レーザ媒質とその基板との間の熱膨張係数の差、又は上記可飽和吸収体とその基板との間の熱膨張係数の差が、±５×１０−６［／Ｋ］以内の範囲に収まっている
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１６】
請求項１に記載したレーザ光発生装置において、
上記レーザ媒質の基板又は上記可飽和吸収体の基板について、その熱伝導係数の値が１５０［Ｗ／（ｍ・Ｋ）］以上である
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１７】
請求項２に記載したレーザ光発生装置において、
上記レーザ媒質と上記可飽和吸収体の基板とを固定するための接着剤に係る熱膨張方向と、上記可飽和吸収体をその基板に固定するための接着剤に係る熱膨張方向とが同一方向とされている
ことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項１８】
連続波の励起光を発生させる励起光源と、レーザ媒質における励起位置での発熱による熱レンズ効果を利用した固体レーザ共振器を有するレーザ光発生装置の製造方法において、
上記固体レーザ共振器の各構成要素が設けられた基板同士を結合するとともに、レーザ媒質と共振器の反射手段又は可飽和吸収体との間に中間媒質を介在させた配置とし、
上記固体レーザ共振器の構成要素のいずれかが上記励起光の光軸に直交する平面に対して傾いた界面を有するように形成し、上記励起光の光軸に直交する方向における上記励起位置を変化させ、該変化に応じて共振器の光路長をレーザ発振波長以下の精度で調整する
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載したレーザ光発生装置の製造方法において、
上記固体レーザ共振器を構成するレーザ媒質、可飽和吸収体がそれぞれに設けられた基板同士を結合するとともに、レーザ媒質と可飽和吸収体との間に中間媒質を介在させた配置とし、
上記レーザ媒質若しくはその基板又は可飽和吸収体若しくはその基板又は上記固体レーザ共振器を構成する反射手段に、上記励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面を形成するか、又は上記励起光の光軸に対して平行な方向における上記レーザ媒質若しくは可飽和吸収体若しくは中間媒質の厚みを、該光軸に対して直交する方向に沿って変化させることにより、上記励起光の光軸に直交する方向における上記励起位置を変化させ、該変化に応じて共振器の光路長をレーザ発振波長以下の精度で調整する
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１８に記載したレーザ光発生装置の製造方法において、
レーザ光発生装置の出力するパワー又はパルス繰り返し周波数の変化を監視しながら上記励起位置を励起光軸に直交する方向に沿って変化させていき、該パワー又はパルス繰り返し周波数がその目標値若しくは極大値に達したとき又は目標値若しくは極大値を含む許容範囲に入ったときに、共振器の光路長に係る調整を終了させる
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【請求項２１】
請求項１８に記載したレーザ光発生装置の製造方法において、
上記励起光源及び上記固体レーザ共振器の間に配置されている光学系と、上記固体レーザ共振器との間の相対的な位置関係を変化させることにより、上記励起位置を変化させて共振器の光路長を調整する
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【請求項２２】
請求項１８に記載したレーザ光発生装置の製造方法において、
上記励起位置を変化させることにより、上記固体レーザ共振器に係る共振器光路長を、レーザ発振波長の２分の１以上変化させるようにした
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載したレーザ光発生装置の製造方法において、
上記励起光の光軸に対して平行な方向における上記中間媒質の厚みを、該光軸に対して直交する方向に沿って変化させることにより、該中間媒質と上記レーザ媒質又は可飽和吸収体との境界面を、上記励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜させるとともに、その傾き角度を０．０７ミリラジアン以上、２ミリラジアン以下に規定した
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【請求項２４】
請求項１９に記載したレーザ光発生装置の製造方法において、
上記レーザ媒質が設けられた基板及び上記可飽和吸収体が設けられた基板を、光学系の基台上に配置するとともに、
共振器の光路長を調整する際には、上記レーザ媒質又は可飽和吸収体のうち、上記励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面の法線を含む平面が、光学系の基台面に対してほぼ平行な状態で、上記両基板を含む固体レーザ共振器を移動させる
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【請求項２５】
請求項１９に記載したレーザ光発生装置の製造方法において、
上記可飽和吸収体をその基板に接着で固定するとともに、上記レーザ媒質を上記可飽和吸収体の基板に接着で固定するに際して、上記レーザ媒質を上記可飽和吸収体の基板に固定するための接着剤に係る熱膨張方向と、上記可飽和吸収体をその基板に固定するための接着剤に係る熱膨張方向とを同一方向にした
ことを特徴とするレーザ光発生装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ媒質を含む固体レーザ共振器を備えたレーザ光発生装置において、組立時の微調整を容易にし、また、特性の安定化及び耐振性の向上を図り、環境や経年変化の影響を受け難くするための技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
連続波励起の受動Ｑスイッチ又はモードロックパルス光源については、レーザ媒質（Ｎｄ：ＹＶ０４等）と、可飽和吸収体（Ｓａｔｕｒａｂｌｅ　ａｂｓｏｒｂｅｒ）を含む構成を備えている。特に短パルスを必要とする場合や繰り返し周波数を高めたい場合には、共振器長を短くするために、両者を互いに密着させて用いる場合が多い（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
レーザ媒質と可飽和吸収体からなる小型のパルスレーザを例にすると、共振器長を短くして安定化を図るために、半導体の可飽和吸収体、例えば、ＳＥＳＡＭ（ＳＥｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｓａｔｕｒａｂｌｅ　Ａｂｓｏｒｂｅｒ　Ｍｉｒｒｏｒ）やＳＢＲ（Ｓａｔｕｒａｂｌｅ　Ｂｒａｇｇ　Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）等を用いて素子の厚みを薄くすることができるので、高い繰り返し周波数を得たいときや短パルス化にとって好適である。この種のレーザの共振器は、曲率ゼロの平面ミラー対を用いて構成され、レーザ媒質内での熱レンズ効果を利用して安定共振器を形成するのが常である。
【０００４】
図８は、熱レンズ効果によるレンズ焦点距離の励起光パワー依存性について例示したグラフ図であり、横軸に入力パワー「Ｐｉｎ」（単位：Ｗ）をとり、縦軸に焦点距離「ｆ」（単位：ｍｍ）をとって両者の関係を示している。
【０００５】
図示のように、Ｐｉｎの増加に伴ってｆが小さくなっていく傾向が認められる。
【０００６】
レーザ媒質において、励起光の照射領域での励起光吸収の副産物として、非発振エネルギーのフォノンへの変換や光の再吸収のために、励起中心付近で温度上昇が起きることを利用して、屈折率の温度依存性による熱レンズ効果を用いて共振器を形成することができる。
【０００７】
図９は、励起光による、レーザ媒質（Ｎｄ：ＹＶＯ４）の半径方向における昇温の様子を例示したグラフ図であり、横軸には励起中心位置を基準とした半径「ｒ」（単位：ｍｍ）をとり、縦軸には、ｒ＝０での温度を基準とする相対的な温度変化「ΔＴ」（単位：Ｋ）をとって両者の関係を示している（励起中心部から周辺部にいくにつれて温度が低くなっていく。）。
【０００８】
レーザ媒質に集光された約１Ｗの励起光により、励起中心部（ｒ＝０）で２００Ｋ程度の温度上昇が認められる。
【０００９】
このような温度上昇により、レーザ媒質に対して密着された可飽和吸収体の温度が上昇し、その性能が変化する虞があり、その結果として、出力を大きくすることが難しい。即ち、レーザ媒質で発生する熱や高温部が可飽和吸収体に与える影響が問題となる。
【００１０】
これを回避するためには、レーザ媒質と可飽和吸収体との間に空気層や中間膜を介在させる形態（例えば、特許文献２、特許文献３、特許文献４参照。）が知られており、レーザ媒質の温度上昇が可飽和吸収体に及ぼす熱的影響（熱伝導の度合い）を低減することが可能である。
【００１１】
図１０はそのような構成例ａを概略的に示したものであり、レーザ媒質と可飽和吸収体とを分離した構成となっている。
【００１２】
励起光源ｂから発した励起光は、光学系ｃを介して基板ｄに入射されてレーザ媒質ｅに照射される。
【００１３】
レーザ媒質ｅに対向する可飽和吸収体ｆは基板ｇ上に形成されており、レーザ媒質ｅと可飽和吸収体ｆとの間には空隙ｈが形成され、空気層が存在する。そして、レーザ媒質ｅと可飽和吸収体ｆとの対向面同士が平行な状態とされており、空隙ｈの長さを調整することで共振器長（光路長）を変えることができる。
【００１４】
【特許文献１】
特開２００１−１８５７９４号公報（第４−７頁、図１、図７）
【特許文献２】
特開２０００−１０１１７５号公報（第７−８頁、図４）
【特許文献３】
特開２００１−３５８３９４号公報（第３−５頁、図１、図３−図５）
【特許文献４】
特開平１１−２６１１３６号公報（第６−８頁、図１、図２）
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した構成では、振動や経時変化によって、安定性が阻害されてしまうことが問題である。
【００１６】
レーザ媒質や可飽和吸収体がそれぞれ独立した基板上に固定された構造では、例えば、振動や、温度変化に伴う接着剤の膨張等によって、共振器長が発振波長の４分の１程度変化すると、発振波長とゲインスペクトラムの相対位置の変化により、実効ゲインが変化するため、出力やパルス繰り返し周波数等の特性が大きく変化してしまう。また、機械的な振動の影響を受け易くなり、ジッターが増加することや、経年変化により共振器長が僅かに変化しただけで出力やパルス繰り返し周波数等の動作点が大きく変化してしまうといった不都合（安定性の低下）を伴う。
【００１７】
また、レーザ媒質や可飽和吸収体の間にスペーサやシム等の中間物を介在させる構成形態の場合、レーザ媒質から可飽和吸収体への、直接的な熱伝導はないが、中間物を介して可飽和吸収体に熱が伝達されるため、一般に熱伝導率の低いレーザ媒質や可飽和吸収体の温度が上昇してしまうという問題が残る。また、薄いスペーサを用いる必要があるため、接着の際には、接着剤の表面張力による問題（しみ込み等）が生じ、製造上の困難性を伴う。
【００１８】
本発明は、レーザ光発生装置において、振動や経年変化に対する安定性を高めること及び温度変化による共振器への影響を低減することを課題とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記した課題を解決するために、連続波の励起光源と、レーザ媒質における励起位置での発熱による熱レンズ効果を利用した固体レーザ共振器を有するレーザ光発生装置において、下記に示す事項を備えたものである。
【００２０】
・固体レーザ共振器の各構成要素が設けられた基板同士が結合されることで一体化され、共振器の反射手段又は可飽和吸収体とレーザ媒質とが中間媒質を介して対向した構造を有すること。
【００２１】
・固体レーザ共振器の構成要素が、励起光の光軸に直交する平面に対して傾いた界面を有し、励起光の光軸に対して平行な方向における固体レーザ共振器の光路長が励起位置に応じて異なること。即ち、励起光の光軸に直交する方向における励起位置の設定に応じて共振器の光路長を規定し又は調整することができること。
【００２２】
従って、本発明によれば、固体レーザ共振器の各構成要素がそれぞれに設けられた基板が分離された状態で別個に保持される構造に比べて、振動等の影響による共振器光路長の変化を受け難い。そして、レーザ媒質における励起位置を変えて共振器光路長を調整することで、特性上の安定な動作点を選択することが可能となる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明は、連続波の励起光照射による熱レンズ効果を利用した固体レーザ共振器及び該共振器を備えたレーザ光発生装置に関するものであり、各種の光源、例えば、ＧＬＶ（Ｇｒａｔｉｎｇ　Ｌｉｇｈｔ　Ｖａｌｖｅ）等を１次元光変調素子として用いたディスプレイ装置（２次元画像表示装置）の光源に用いることができる。
【００２４】
図１は、本発明に係るレーザ光発生装置の基本構成例について説明するための概略図であり、受動Ｑスイッチレーザへの適用を想定したものである。
【００２５】
レーザ光発生装置１は、連続波の励起光を発生させる励起光源２を備えており、該励起光源２による励起光は、光学系３（図には単レンズで簡略化して示す。）を介して固体レーザ共振器４に照射される。尚、励起光源２としては、例えば、装置の小型化に好適な半導体レーザ（レーザダイオード）が用いられる。また、励起光源２と固体レーザ共振器４との間に配置された光学系（集光光学系）３は、ほぼ等倍率の光学系とされるか、あるいは励起光源２からの光を絞り込むために縮小倍率の光学系とされる。
【００２６】
固体レーザ共振器４は、励起光源２からの光を吸収するレーザ媒質４ａと、可飽和吸収体４ｂを備えており、レーザ媒質４ａにおける励起位置での発熱による熱レンズ効果を利用して共振器が形成される。
【００２７】
尚、レーザ媒質４ａと、可飽和吸収体４ｂとの間の光路上には中間媒質４ｃが設けられており、屈折率がほぼ１の気体層（空気層等）とされる。中間媒質４ｃを固体とする場合には、レーザ媒質４ａと可飽和吸収体４ｂとの間にスペーサを介在させる形態と同様の問題（熱伝達の影響等）を伴うこと、また、液体では取り扱いが容易でないので、中間媒質４ｃとしては気体が好ましく、また、屈折の影響や構成の簡素化等を考慮すると空気が望ましい。
【００２８】
共振器（光共振器）を形成するための反射手段４ｄとしては、レーザ媒質４ａや可飽和吸収体４ｂに形成される反射面又はコーティング膜等が用いられる。
【００２９】
共振器から出力されるパルス光については、例えば、固体レーザの典型的な発振波長範囲を考慮して、その波長「λ」の範囲が、「７００≦λ≦１６００」（単位ｎｍ：ナノメートル）とされる。但し、本発明の適用範囲がこの波長範囲のみに限定されるものではない。
【００３０】
尚、励起光源や共振器に対する温度調整手段として、ペルチェ素子等の温度制御用素子を用いた電子温度調節器を設ける構成形態と、そのような手段を用いないことでコスト低減を図るようにした構成形態が挙げられる。
【００３１】
この他、連続波のレーザ出力を得るには、図１において可飽和吸収体４ｂを設けることなく、レーザ媒質４ａと、これに対向する反射手段４ｄとの間に中間媒質４ｃを介在させた構成を用いれば良い。また、図１の可飽和吸収体４ｂを非線形光学結晶に置き換えることで高調波発生等が可能である。
【００３２】
本発明では、後述するように、励起光軸に平行な方向における共振器の光路長が一定でなく、励起光軸に直交する方向に沿って共振器光路長が変化するので、該光路長の調整により安定な動作点の選択及び設定が可能である。
【００３３】
レーザ媒質４ａと可飽和吸収体４ｂをそれぞれ別個の基板上に設けて、各基板を個々に保持する形態では振動等の影響を受け易いので、本発明では、レーザ媒質４ａが設けられた基板と、上記可飽和吸収体４ｂ（又は反射手段４ｄ）が設けられた基板とを結合させることで両者を一体化し、レーザ媒質と可飽和吸収体とが中間媒質を介して対向した構造を有している。例えば、下記に示す形態が挙げられる。
【００３４】
（Ｉ）可飽和吸収体の基板を、レーザ媒質の基板に対して該レーザ媒質の部分において接着により結合させる形態
（ＩＩ）可飽和吸収体の基板を、レーザ媒質の基板に対して該レーザ媒質の形成されていない部分において接着により結合させる形態。
【００３５】
図２及び図３は、形態（Ｉ）について固体レーザ共振器４の構成例を示したものである。
【００３６】
図２では、共振器の断面構造を中央に示し、光軸方向から見た図（可飽和吸収体側から見た図）を右側に示している。
【００３７】
基板５は、平板状をしたレーザ媒質４ａの支持基板であり、その一方の面（励起光の入射面とは反対側の面）にレーザ媒質４ａが設けられている。
【００３８】
また、基板６は可飽和吸収体４ｂの支持基板であり、凹部６ａを有する矩形板状に形成されている。そして、凹部６ａ内に可飽和吸収体４ｂが受け入れられた状態で接着により固定されている。また、基板６の中央部には、凹部６ａに連通する孔（本例では円孔）６ｂが形成されているが、このような孔を設けない構成も可能である。
【００３９】
基板５、６には、透明基材（石英やサファイア等）が用いられ、レーザ媒質や可飽和吸収体に比べて熱伝導性の良い材料が好ましい。基板５、６は図示しない支持部材に固定されて使用されるので、当該部材への取付面（あるいは固定面）が伝熱面とされ、レーザ媒質や可飽和吸収体の熱放散に有効である（排熱を容易に行えるため。）。
【００４０】
図３は、共振器の断面構造について要部を概略的に示したものである（層厚等を誇張して示す。）。
【００４１】
基板５に設けられるレーザ媒質４ａには、例えば、希土類をドープ（注入）した固体レーザ媒質（ネオジウムＮｄ３＋をドープしたＮｄ：ＹＶＯ４や、Ｎｄ：ＹＡＧ（Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２）等）が用いられ、その入射面側には、誘電体多層膜等によるミラー７が形成されるとともに、該ミラー７とは反対側（可飽和吸収体側）の面には全反射（ＡＲ）コートが施されている。
【００４２】
可飽和吸収体４ｂについては、その周縁寄りの部分が、凹部６ａの底面（図のα部参照）に接着されることで基板６に取り付けられる。
【００４３】
レーザ媒質４ａを含む基板５の、基板６への取り付けは接着により行われ、レーザ媒質４ａの周縁寄りの部分と、凹部６ａの開口縁の周囲部分とが接着される（図のβ部参照）。
【００４４】
こうして一体化された固体レーザ共振器（あるいは共振器アセンブリ）４において、レーザ媒質４ａと可飽和吸収体４ｂとの間には、屈折率がほぼ１の気体層、好ましくは、空気層が介在される。
【００４５】
小型化等の観点からは、可飽和吸収体４ｂとして、半導体可飽和吸収体（ＳＥＳＡＭ、ＳＢＲ等）が好ましい。また、可飽和吸収体４ｂにおける反射面は、例えば、ブラッグ反射鏡（Ｂｒａｇｇ　Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）上に量子井戸構造を形成したＳＢＲ（Ｓａｔｕｒａｂｌｅ　Ｂｒａｇｇ　Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）の場合、ＤＢＲ（Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ　Ｂｒａｇｇ　Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）として形成される。尚、ＳＢＲでは、励起光によって共振器内に蓄えられた光を量子井戸のポテンシャルに取り込むために、未飽和の状態では共振器ロスとして機能し、ある一定量の光が量子井戸に取り込まれると飽和して、急速にロスが小さくなり、過渡的に共振器ゲインスイッチとして機能する。
【００４６】
励起光源２からの励起光が基板５の一方の面からミラー７を透過してレーザ媒質４ａに照射されると、図８において説明した熱レンズ効果により熱レンズが形成されて、レーザ媒質及び可飽和吸収体を含む共振器が形成される。そして、共振器からパルス光が出力されることになるが、この出力光については、励起光に係る入射の向き（図３の右方）に対して反対向き（図３の左方）に出射される形態（例えば、出力光は、ダイクロイックミラー等による反射で光路変更を受けて取り出される。）と、可飽和吸収体を透過して励起光の入射の向きと同じ向きに出射される形態が挙げられる。
【００４７】
本発明において、固体レーザ共振器の光路長は、励起光の光軸に対して直交する方向に沿って連続的に変化する分布を有する。尚、ここで、「光路長」は、レーザ発振波長λでの屈折率に物理長（幾何学長）を乗じた量の和として定義され、以下では、共振器の光路長を「Ｌ」と記し、その変化量を「ΔＬ」と記すことにする。
【００４８】
図３に示す例では、励起光の光軸に沿って配置される、ミラー７、レーザ媒質４ａにおける励起位置（励起光の照射により発熱する位置）の領域、中間媒質４ｃ（空気層）、可飽和吸収体４ｂによって共振器が形成されることになるが、共振器の光路長については、光軸に対して直交する方向（矢印「Ａ」で示す。）に沿って変化する。つまり、励起光の光軸を矢印Ａの方向において相対的にずらすと、その励起位置の変化に伴って共振器の光路長が変化することになる。
【００４９】
図４は、光路長Ｌの変化について概念的に説明するための図であり、台形状をした部分が共振器（断面形状）を表している。
【００５０】
図中に示す光路長Ｌは、励起光の光軸（実線で示す。）上での光路長を示しているが、光軸に対して直交する方向（矢印「Ａ」で示す。）において、例えば、光軸を図の上方にずらせば、光路長Ｌが短くなり（ΔＬ＜０）、逆に、光軸を図の下方にずらせば、光路長Ｌが長くなる（ΔＬ＞０）。尚、このような位置の調整や設定を行うには、励起光と共振器との間の相対的な位置関係を変化させれば良い。
【００５１】
固体レーザ共振器の構成要素としては、レーザ媒質、可飽和吸収体、中間媒質、反射手段が挙げられるので、それらのうちの１つ又は複数のものについて、傾斜をつけたり、厚みを変化させることによって、共振器の光路長について連続的な変化をもたせることが可能である。
【００５２】
例えば、以下に示す形態が挙げられる。
【００５３】
（Ａ）レーザ媒質４ａやその基板５が、励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面を有する形態
（Ｂ）可飽和吸収体４ｂやその基板６が、励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面を有する形態
（Ｃ）レーザ媒質４ａ又は可飽和吸収体４ｂに付設される反射手段４ｄが、励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面を有する形態
（Ｄ）励起光の光軸に対して平行な方向におけるレーザ媒質４ａ、可飽和吸収体４ｂ、中間媒質４ｃのいずれかの厚みが、該光軸に対して直交する方向において異なる形態。
【００５４】
先ず、上記（Ａ）や（Ｂ）については、例えば、基板等の固定面や基板自身について、僅かな傾きを設けることで、共振器を形成するミラー間で相対的な傾斜面を形成すれば良い。上記したようにレーザ共振器は、熱レンズ効果を利用して形成されるので、励起光の光軸に対して共振器を相対的に移動させることによって、共振器の光路長を調整して動作点を選択することが可能である。
【００５５】
また、上記（Ｃ）では、反射手段自身に傾きを付与するために、製造上の精度を必要とする。
【００５６】
上記（Ｄ）では、例えば、レーザ媒質等、共振器内の部品の厚みに変化をつけることで、中間媒質との屈折率の差に基いて光路長差を変化させる。あるいは、中間媒質の厚みに変化をつけることで、共振器の光路長を変化させれば良い。尚、後者の場合には、レーザ媒質や可飽和吸収体において、中間媒質との境界面に傾斜をつけたり、厚み変化を付与することが必須の条件とは限らない。例えば、図３の構成例では、基板６の一部（凹部６ａの開口周辺部）が、レーザ媒質４ａに接着されるので、該接着の際に、基板６をレーザ媒質４ａに対して均等な力で押し付けずに、不均等な押付力を基板６に加えた上でレーザ媒質４ａに固定すれば良い。これにより、押付力の強い部分と弱い部分とでは、中間媒質４ｃの厚みに差異が生じ（押付力の強い部分で厚みが小さい）、結果として光路長Ｌに変化が生じることになる。
【００５７】
この他には、上記のいずれか２つ以上を組み合わせた形態が挙げられる。尚、図１では、上記のうち、中間媒質４ｃの厚み「δ」を矢印Ａで示す方向において連続的に変化させる形態を示しており、厚み「δ」の変化については、境界面の傾きを誇張して示している（後述のように、実際の傾き角は、せいぜい数ミリラジアンのオーダーである。）。
【００５８】
このように、共振器については、上記の形態あるいは各形態の組み合わせを採用することで、励起光の光軸を含む面で切断した場合の断面形状が楔（ウェッジ）形の構成を有している。共振器の光路長については、連続的な変化を予め付与する方法と、段階的な変化を予め付与する方法が挙げられるが、後者の場合には、調整範囲が限られてしまうことや加工精度等が問題になるので、励起光の光軸に直交する方向において、励起位置の設定あるいは選択に応じて共振器の光路長を規定するためには、前者の方法が好ましい。
【００５９】
共振器の光路長に係る調整方法としては、例えば、下記に示す方法が挙げられる。
【００６０】
（１）励起光に対して共振器を移動させる方法
（２）共振器に対して励起光を移動させる方法
（３）　（１）と（２）とを組み合わせた方法。
【００６１】
上記方法（１）は、励起光源２や光学系３の位置を固定したままで、共振器だけを光軸に直交する方向に移動させる方法である。
【００６２】
図５は、共振器を移動させる場合の構成について説明するための概略図である。
【００６３】
レーザ媒質の基板５及び可飽和吸収体の基板６は、光学系の基台（ベース）８上に配置されて該基台上で移動し得るようになっている。尚、基板を搭載した支持部材が基台上で移動できるようにした構成も考えられるが、図では、簡単化のため、基板５、６が基台８上で移動されるものとしている。また、説明の便宜上、各基板が分離された状態で示されているが、上記したように両基板は一体化されているので、一緒に移動する。
【００６４】
図中の「ｎ１」、「ｎ２」はいずれも法線ベクトルを示しており、「ｎ１」がレーザ媒質と中間媒質との界面の法線ベクトル、「ｎ２」が可飽和吸収体と中間媒質との界面の法線ベクトルをそれぞれ示している。
【００６５】
尚、光学系の「基台面」は図５の紙面に平行な面である。
【００６６】
「φ」は、法線ベクトルｎ１の界面と、法線ベクトルｎ２の界面とがなす角度であり、両者間の相対的な傾きを示す（φ値が大きいほど、移動量に対する光路長変化ΔＬが大きい。）。
【００６７】
光路長Ｌの調整においては、励起光軸に直交する方向（矢印Ａで示す）に沿って、両基板５、６を基台８上で移動させる。その際には、ｎ１及びｎ２を含む平面が、基台面に対してほぼ平行な関係を保つようにすれば良いので、調整は容易である。つまり、法線ベクトルｎ１とｎ２の外積が、基台面に対して垂直又はほぼ垂直な方向を向くので、該方向に沿って両基板を動かしたのでは、光路長Ｌは変化しない。勿論、外積の方向に対して一定の角度をなす方向に沿って両基板を斜めに動かしても良いが（移動量に対する光路長変化ΔＬが小さくなる。）、調整機構が複雑化することや、調整後の位置固定方法等について配慮する必要がある。
【００６８】
上記方法（２）では、共振器の位置を固定したままで、励起光の光軸を移動させる方法であり、励起光源２又は光学系３の一方について移動させる方法と、励起光源２及び光学系３を移動させる方法が挙げられる。また、光学系３を移動させる場合には、その全体を移動させるか、あるいは収束レンズ等の構成部品だけを移動させる方法が挙げられる。
【００６９】
上記方法（３）では、方法（１）や（２）を、例えば、粗調整、微調整に応じて使い分ける方法、あるいは、方法（１）や（２）を時間的に区分して適用する方法等が挙げられる。
【００７０】
要は、励起光源２や光学系３と、固体レーザ共振器４との間の相対的な位置関係について変化させることにより、共振器の光路長を調整することができる。
【００７１】
その際、固体レーザ共振器に係る周回光路長については、５ｍｍ（ミリメートル）以下であることが好ましい。この値は、熱レンズ効果を利用した共振器の発振限界に基くものである。
【００７２】
また、前記した固体レーザ共振器の構成要素のうち、励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面を備えた構成要素については、その傾き角度が、０．０７ミリラジアン以上、２ミリラジアン以下であることが好ましい。
【００７３】
同様に、励起光の光軸に対して平行な方向における中間媒質（空気層等）の厚みが、該光軸に対して直交する方向に沿って変化するように規定されている場合には、中間媒質とレーザ媒質又は可飽和吸収体との界面が、励起光の光軸に直交する平面に対してなす傾き角度が、０．０７ミリラジアン以上、２ミリラジアン以下であることが好ましい。
【００７４】
傾き角０．０７ミリラジアン（下限値）については、素子サイズから制約を受ける。例えば、チップサイズをＤ（ｍｍ）角（正方形状）として、共振器構成要素の界面を傾けることで出力波長（λ）の半分以上の光路長差が得られるならば、どんな共振器長であっても調整可能であるから、そのときの角度θを計算すれば良い。つまり、正接関数「ｔａｎ」を用いた不等式「ｔａｎθ≧λ／（２・Ｄ）」において、一次近似「ｔａｎθ≒θ」を用いて、「θ≧λ／（２・Ｄ）」により与えられる。５ｍｍ×５ｍｍのチップサイズで、最短波長７００ｎｍの場合に、λ／２＝０．３５μｍより、「０．３５μｍ／５ｍｍ＝０．０７ｍｒａｄ」と計算されるので、励起光軸に対する共振器構成要素の界面の傾き角は、０．０７ｍｒａｄ以上が好ましい。
【００７５】
また、傾き角２ミリラジアン（上限値）は、特性上の限界（レーザの横モード発生や、パワー減少）から与えられる。例えば、熱レンズで共振器を形成するレーザの場合、およそ１Ｗの励起でレーザ媒質（Ｎｄ：ＹＶＯ４）には焦点距離ｆ＝５ｍｍ前後の熱レンズが発生すると計算される。共振器長が約０．５ｍｍ程度の場合、モード直径は約５０μｍ程度になる。モード直径の２０％のずれ、すなわち１０μｍのずれが励起光と発振モードの間で生じたときに横モードが発生したり、パワーが減少するものとして見積もれば、２ｍｒａｄ以下にする必要がある。
【００７６】
尚、固体レーザ共振器に係る共振器の光路長Ｌに関して、励起位置の選択に応じて規定される光路長変化ΔＬは、レーザ発振波長λの２分の１以上であることが望ましい（つまり、「ΔＬ≧λ／２」）が、これは、共振器縦モードがレーザ発振周波数付近で共振器長λ／２ごとに繰り返すため、レーザ発振波長が必ずゲインの中心波長付近に位置するための条件となり、安定な動作点を選択するために必要とされる。
【００７７】
以上の説明では、共振器光路長の調整において、温度の影響を無視してきたが、図９に示したように、励起中心位置を基準とした半径方向の温度分布については、２００Ｋ程度の温度変化が発生し、熱の影響が問題となる。
【００７８】
そこで、熱ストレスを軽減するためには、基板５、６に係る熱膨張係数の値が、レーザ媒質や可飽和吸収体の熱膨張係数に近い値であることが好ましい。例えば、レーザ媒質４ａと基板５との間の熱膨張係数の差、あるいは、可飽和吸収体４ｂと基板６との間の熱膨張係数の差が、±５×１０−６［／Ｋ］以内の範囲に収まるように設計することが望ましい。この許容範囲は実用上好ましいとされるものであり、基板材料の選定時には、レーザ媒質や可飽和吸収体に対する熱膨張係数の差がこの範囲を超えないようにする。このようなレーザは、オフとオンの場合で、およそ常温と２００゜Ｃの温度変化を繰り返し受ける。貼り合せた２つの物質の熱膨張係数の差が±５×１０−６［／Ｋ］以内であれば、およそ２００゜Ｃの温度変化により、最大０．１％の長さの伸縮しか生じず、ストレスによる破壊や劣化を抑制することが出来る。
【００７９】
また、基板５や基板６については、その熱伝導係数の値が１５０［Ｗ／（ｍ・Ｋ）］以上であることが好ましい。これは温度変化の影響を受け難くするためである。つまり、放熱性が低い場合には、レーザ媒質や可飽和吸収体の温度上昇が問題となり、特性や寿命等に悪影響を及ぼすからである。尚、１５０［Ｗ／（ｍ・Ｋ）］以上という値は、およそ１．５Ｗの熱が、１ｍｍ×５ｍｍの断面を５ｍｍの長さに亘って伝導したときに、温度差が１０゜Ｃ以下になるための条件である。基板による更なる温度上昇の許容限界を１０゜Ｃとしたときに、現実的な素子のサイズ、発熱量から算出される必要な熱伝導係数として算出している。
【００８０】
図２、図３に示した例では、レーザ媒質４ａの熱が、基板５や基板６を介して放熱されるようになっており、また、中間媒質４ｃの介在により、レーザ媒質から他の部分への熱的影響が少ない。このように、レーザ媒質４ａや可飽和吸収体４ｂについて、基板等の部材を用いて保持する場合には、光軸方向から見てレーザ媒質４ａや可飽和吸収体４ｂを、それぞれ異なる面に取り付けて固定することが有効である。
【００８１】
また、本例では、基板６の一部とレーザ媒質４ａとが接着剤で固定されており、可飽和吸収体４ｂが基板６の凹部６ａに接着剤で固定されているが、これは、接着剤（一般的に熱膨張率が大きい）の熱膨張に起因する、共振器長の変化を抑制するためである。つまり、レーザ媒質４ａと基板６との固定用接着剤について、その温度変化に伴う膨張方向（図３のβ部の矢印参照）と、可飽和吸収体４ｂと基板６との固定用接着剤について、その温度変化に伴う膨張方向（図３のα部の矢印参照）とが同一方向とされる。従って、例えば、各接着剤の熱膨張量が同程度の場合には、それぞれ膨張量による共振器長の変化が、ほぼ打ち消し合うことになる。また、各接着剤の熱膨張量が同程度でない場合でも、共振器長の変化について、その差が縮まることになる（共振器長の変化量は、熱膨張量の差に比例する。）。
【００８２】
このように、温度変化に対する共振器長の変化が小さくなると、温度変化を積極的に利用して動作点を選ぶという従来の方法を使えなくなるが、上記したように、共振器の光路長Ｌを一定とせずに、光軸に直交する方向において光路長Ｌに変化をもたせるとともに、励起位置の変更に応じた光路長の調整により安定な動作点を選ぶことができる（換言すれば、温度変化等の影響を低減するための構成を採用した結果、温度制御以外の方法で共振器長を調整するための構成が必要となるので、共振器に楔形の構成を採用している。）。
【００８３】
次に、前記した形態（ＩＩ）について説明する。
【００８４】
図６は上記形態（ＩＩ）について構成例を示す図であり、共振器の断面構造を示す。
【００８５】
本例に示す固体レーザ共振器４Ａでは、レーザ媒質４ａが基板６に接着されることなく、基板５のうち、レーザ媒質４ａが形成されていない部分が基板６に接着されている。従って、レーザ媒質４ａが基板６に対して接着されないので、両者間の接着部分においてレーザ媒質４ａにかかる熱ストレスの心配がない。
【００８６】
そして、レーザ媒質４ａにおいて、ミラーが形成された方の側が基板５に接着されており、基板５と基板６とが結合された状態では、レーザ媒質４ａが凹部６ａ内に収容される。また、可飽和吸収体４ｂについては、図３の場合と同様に凹部６ａの底面の段差部に接着剤で固定されている。
【００８７】
尚、励起光の光軸と共振器との相対的な位置関係において、矢印Ａで示す方向に沿って励起光学系又は共振器を移動させることにより、共振器の光路長Ｌを調整して動作点を選ぶことができるように、共振器の構成要素について、面の傾斜や厚みの変化が付与されることで楔形の構造を有している。
【００８８】
本例では、レーザ媒質４ａを基板５に固定する接着剤の熱膨張方向と、可飽和吸収体４ｂを基板６に固定する接着剤の熱膨張方向とが互いに反対方向とされるため、熱膨張による共振器長の変化が打ち消し合う関係になっていない（共振器長が短くなる方向に変化する）が、基板５と基板６との固定用接着剤に係る熱膨張方向と、可飽和吸収体４ｂと基板６との固定用接着剤に係る熱膨張方向とが同一方向とされるので、各接着剤の熱膨張量が同程度の場合には、それぞれ膨張量による共振器長の変化が、ほぼ打ち消し合うことになる（又は、各接着剤の熱膨張量が同程度でない場合でも、共振器長の変化について、その差が縮まる。）。
【００８９】
図７は上記形態（ＩＩ）について別の構成例を示す図であり、共振器の断面構造を示す。
【００９０】
図６に示す構成との相違点は、可飽和吸収体４ｂが小基板９に固定されており、該小基板が基板６の凹部６ａに形成された段差部に接着で固定されていることである。
【００９１】
本例に示す固体レーザ共振器４Ｂでは、可飽和吸収体４ｂを基板６に対して直接的に固定していないので、熱膨張によるストレスが小さくて済むという利点がある。また、小基板９のサイズ等が小さく、熱伝導性の良い材料を使えば、可飽和吸収体４ｂ等への熱ストレスがそれ程大きくはならない。
【００９２】
尚、励起光の光軸と共振器との相対的な位置関係において、矢印Ａで示す方向に沿って励起光学系又は共振器を移動させることにより、共振器の光路長Ｌを調整して動作点を選ぶことができるように、共振器の構成要素について、面の傾斜や厚みの変化が付与されることで楔形の構造を有している。
【００９３】
また、基板５と基板６との固定用接着剤に係る熱膨張方向と、小基板９と基板６との固定用接着剤に係る熱膨張方向とが同一方向とされるので、各接着剤の熱膨張量が同程度の場合には、それぞれ膨張量による共振器長の変化が、ほぼ打ち消し合うことになる（又は、各接着剤の熱膨張量が同程度でない場合でも、共振器長の変化について、その差が縮まる。）。
【００９４】
最後に、レーザ光発生装置の製造方法について説明する。
【００９５】
主要な工程は、下記の通りである。
【００９６】
（ｉ）固体レーザ共振器の製造工程
（ｉｉ）励起光学系と固体レーザ共振器とのアラインメント及び共振器の光路長Ｌの調整工程
先ず、工程（ｉ）では、固体レーザ共振器（アセンブリ）を構成するレーザ媒質、可飽和吸収体がそれぞれに設けられた基板同士を結合する。これにより、レーザ媒質と可飽和吸収体との間に、中間媒質を介在させた配置とし、上記したように、共振器の構成要素について、励起光の光軸に直交する平面に対して傾斜した面を形成するか、又は励起光の光軸に対して平行な方向における構成要素の厚みを、該光軸に対して直交する方向に沿って変化させた構造とする。
【００９７】
工程（ｉｉ）では、励起光源２や光学系３を含む励起光学系と、工程（ｉ）で製造された固体レーザ共振器について、光学的な位置合わせを行う。その際には、励起光の光軸に直交する方向において励起位置を変化させ、該変化に応じて共振器の光路長を、レーザ発振波長以下の精度で調整することにより、安定な動作点を選択する（所望の特性を安定性良く得ることができる。）。
【００９８】
そのためには、例えば、下記の方法を用いる。
【００９９】
（１）レーザパワー又はパルス繰り返し周波数の変化についてモニタリングするための光検出手段（フォトディテクタ等）を設ける。
【０１００】
（２）光検出手段の検出信号を監視しながら共振器における励起位置を徐々に変化させていく。
【０１０１】
（３）レーザパワー又はパルス繰り返し周波数が、その目標値又は極大値に達したとき、あるいは目標値や極大値又はそれらの近傍を含む許容範囲に入ったときに、共振器の光路長に係る調整を終了させるが、そうでない場合には（２）に戻って調整を続ける。
【０１０２】
上記したように、励起光学系と固体レーザ共振器との間の相対的な位置関係を変化させるに当たっては各種の形態が挙げられるが、例えば、図５で説明したように、光学系の基台上で固体レーザ共振器を移動させれば良い（基台面上でレーザ媒質及び可飽和吸収体を含む共振器を基台面に平行な方向に移動させる構成が簡単である。）。
【０１０３】
しかして、上記の構成によれば、下記に示す利点が得られる。
【０１０４】
・共振器がサブアセンブリとして、一体化された基板に固定された構成を用いることで、振動に起因する不具合（パルスジッターの増加等）を抑制できる。
【０１０５】
・共振器の光路長について、長期的に変化し難い構造を採用することで、耐振性が良好となり、また、長時間動作において動作点の移動や変動が起こり難い。
【０１０６】
・楔形構造を有する共振器により、組み立て時に波長以下の高い精度を要することなく、容易に動作点を選んで装置を製造することが可能となる。
【０１０７】
【発明の効果】
以上に記載したところから明らかなように、請求項１、１８に係る発明によれば、振動や経年変化の影響によって共振器光路長が変化を受け難いので、動作的に安定である（例えば、パルスジッターが少ない。）。そして、レーザ媒質における励起位置を変えて共振器光路長を調整することにより、特性上の安定な動作点を選択することができ、温度変化を利用した動作点の選択方法が要らなくなる。結果として、温度変化による共振器長の変化を小さくすること（あるいは熱の影響を受け難い構造の採用）が可能となる。
【０１０８】
請求項２、１９に係る発明によれば、受動Ｑスイッチレーザへの適用において安定した動作を保証することができる。
【０１０９】
請求項３に係る発明によれば、光学系を介して励起光を所望の位置に照射することができる。
【０１１０】
請求項４に係る発明によれば、固体レーザの出力波長域でのレーザ光を得ることができる。
【０１１１】
請求項５に係る発明によれば、レーザ媒質における熱レンズ効果を利用して共振器を形成する場合に、発振動作の確実性を高めることができる。
【０１１２】
請求項６に係る発明によれば、装置の小型化に有利である。
【０１１３】
請求項７、８に係る発明によれば、製法の特殊な材料や、高価な材料を必要とせずに、比較的入手し易い材料を用いて共振器を構成することができる。
【０１１４】
請求項９、１２、１３、２２、２３に係る発明によれば、調整上必要な共振器長を確保するとともに、レーザの横モードの発生や出力の減少に起因する弊害を排除することができる。
【０１１５】
請求項１０、１１に係る発明によれば、製造が容易であり、また構成の簡素化が可能である。
【０１１６】
請求項１４、２４に係る発明によれば、共振器の光路長が調整し易く、また、調整のための構成が簡単である。
【０１１７】
請求項１５に係る発明によれば、熱ストレスの影響を低減することができる。
【０１１８】
請求項１６に係る発明によれば、放熱性を高めることができる。
【０１１９】
請求項１７、２５に係る発明によれば、熱膨張による共振器長の変化を抑えることができる。
【０１２０】
請求項２０に係る発明によれば、共振器光路長を精度良く調整することができる。
【０１２１】
請求項２１に係る発明によれば、共振器光路長の調整方法が比較的簡単であり、複雑な調整機構を必要としない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るレーザ光発生装置の基本構成例を示す概略図である。
【図２】図３とともに、レーザ光発生装置の構成例を示す図であり、本図は励起光学系及び固体レーザ共振器を示す図である。
【図３】固体レーザ共振器の構成例を概略的に示す図である。
【図４】共振器の光路長について説明するための図である。
【図５】光学基台上で共振器を移動させることによる動作点の選択を示す説明図である。
【図６】固体レーザ共振器について別の構成例を示す図である。
【図７】固体レーザ共振器についてさらに別の構成例を示す図である。
【図８】熱レンズ効果によるレンズ焦点距離の励起光パワー依存性について例示したグラフ図である。
【図９】励起中心位置を基準とした相対的な温度分布の一例を示したグラフ図である。
【図１０】従来のレーザ光発生装置の構成例を示す図である。
【符号の説明】
１…レーザ光発生装置、２…励起光源、３…光学系、４、４Ａ、４Ｂ…固体レーザ共振器、４ａ…レーザ媒質、４ｂ…可飽和吸収体、４ｃ…中間媒質、４ｄ…反射手段、５、６…基板、８…基台
【図１】
2004128139.tif 000003
【図２】
2004128139.tif 000004
【図３】
2004128139.tif 000005
【図４】
2004128139.tif 000006
【図５】
2004128139.tif 000007
【図６】
2004128139.tif 000008
【図７】
2004128139.tif 000009
【図８】
2004128139.tif 000010
【図９】
2004128139.tif 000011
【図１０】
2004128139.tif 000012