(57)【要約】【課題】反射透過型の液晶表示装置の高開口率及び高輝度を実現する。【解決手段】反射部と透過部とで構成される画素領域の一側に構成されるデータ配線を、各々第１ライン及び第２ラインに分けて、接する画素領域の反射部に構成し、前記第１ラインと第２ラインの離隔領域を透過部として使用する。このような構成は、データ配線に対応して形成していたブラックマトリックスを除去できるだけではなく、この領域を透過領域として使用できるために、高開口率及び高輝度の実現ができる。また、前述したように構成されたアレイ基板の上部に、直接カラーフィルターを形成して、従来のように別途のカラーフィルターを合着する工程で発生する工程誤差を防げるために、開口率を最大に確保できる長所がある。【選択図】図４
2004341499.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と；
前記基板の上部に形成されたゲート配線と；
前記ゲート配線と交差して透過部と反射部とで構成された画素領域を定義し、互いに離隔して設けられ、互いに接する画素領域の反射部に各々配置される第１ラインと第２ラインとで構成されたデータ配線と；
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと；
前記反射部に対応し、前記第１ライン及び第２ラインを覆う反射電極と；
前記透過部に対応し、前記反射電極に連結される透明電極と
を含む液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項２】
前記第１ラインの幅は、前記第２ラインの幅と実質的に同一である
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項３】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されるゲート電極と、アクティブ層と、前記データ配線に連結されるソース電極と、前記反射電極に連結されるドレイン電極とを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項４】
前記アクティブ層は、純粋非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）で構成される
ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項５】
前記反射電極は、銀、アルミニウム、アルミニウム合金を含む反射率の優れた導電性金属グループのうちから選択された一つで構成される
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項６】
前記反射電極は、凹凸形状を含む
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項７】
前記透明電極は、インジウム−スズ−オキサイド（ＩＴＯ）とインジウム−ジンク−オキサイド（ＩＺＯ）を含む透明導電性金属グループのうちから選択された一つで構成される
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項８】
前記第１ラインと前記第２ラインの離隔区間は、前記透過部に対応する
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項９】
前記透明電極と前記反射電極の間に、保護膜がさらに構成される
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項１０】
前記保護膜は、前記透過部に対応するエッチング溝を含む
ことを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項１１】
前記反射電極の上部に、カラーフィルター層がさらに構成される
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項１２】
前記カラーフィルター層は、前記画素領域に各々対応する赤色、緑色、青色のサブカラーフィルターで構成される
ことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項１３】
前記カラーフィルター層は、前記透過部で第１厚さを有し、前記反射部で第２厚さを有し、前記第１厚さは、実質的に前記第２厚さの２倍である
ことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項１４】
前記透明電極と前記反射電極の間に、保護膜がさらに構成される
ことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【請求項１５】
前記保護膜は、前記透過部に対応するエッチング溝を含む
ことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置用アレイ基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に、反射モードと透過モードを選択的に使用でき、高開口率及び高輝度を実現する反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、反射透過型の液晶表示装置は、透過型の液晶表示装置と反射型の液晶表示装置の機能を同時に有し、バックライトの光として外部の自然光または人造光源を利用できるので、周辺環境の制約を受けなく、電力消費を減らせる長所がある。
【０００３】
以下、図１を参照して、反射透過型の液晶表示装置の構成と動作を説明する。
図１は、一般的な反射透過型の液晶表示装置を示した分解斜視図である。
図示したように、一般的な反射透過型の液晶表示装置１１は、透過部Ａと反射部Ｃとで構成された多数の画素領域Ｐが定義された第１基板２１と第２基板１５が液晶層２３を介在して離隔して構成される。
【０００４】
前記第２基板１５の一面には、前記画素領域に順に対応して赤色、緑色、青色のサブカラーフィルターを含むカラーフィルター層１７と、前記サブカラーフィルターの間に設けられるブラックマトリックス１６が構成され、前記サブカラーフィルターとブラックマトリックス１６の下部には、透明な共通電極１３が構成される。
【０００５】
前記第１基板２１の一面には、前記透過部Ａ及び反射部Ｃに半透過画素電極４０、４６が構成され、半透過画素電極４０、４６は、透過部Ａに対応して位置した透明電極４６と、反射部Ｃに対応して位置した反射電極４０とで構成される。
【０００６】
また、前記画素領域Ｐの一側と他側へと各々ゲート配線２５とデータ配線２７が相互交差して構成され、前記ゲート配線２５とデータ配線２７の交差地点には、スイッチング素子である薄膜トランジスタＴがマトリックス状に配置される。
【０００７】
前述した構成で、前記ブラックマトリックス１６は、ゲート配線２５、データ配線２７、薄膜トランジスタＴに対応する領域に構成されるが、前記第１基板２１と第２基板１５の合着誤差を勘案して、アラインマージン（Align Margin）を有して設計するようになる。
【０００８】
結果的に、前記ブラックマトリックスが占める面積が大きくなる。
これに関して、図２と図３の断面図を参照して説明する。
図２は、図１のII-II線に沿って切断した反射透過型の液晶表示装置の断面図であって、図３は、図２のＥ領域を拡大した断面図である。
【０００９】
図示したように、第１基板２１には、画素領域Ｐ１、Ｐ２の一側にゲート電極８、アクティブ層３０、オーミックコンタクト層３２、ソース電極３４、ドレイン電極３６を含む薄膜トランジスタＴが構成される。
【００１０】
前記画素領域Ｐ１、Ｐ２は、透過部Ａと反射部Ｃとに定義されて、前記透過部Ａに対応して透明電極４６が構成され、前記反射部Ｃに対応して反射電極４０が構成される。一般的には、前記透明電極４６を画素領域Ｐ１、Ｐ２の全面に構成し、前記反射部Ｃに対応して反射電極４０を構成する。
【００１１】
前述した構成で、データ配線２７は、画素領域Ｐ１、Ｐ２の離隔された間に設けられ、ゲート配線（図示せず）は、前記データ配線２７と垂直な方向に設けられる。
【００１２】
前記第１基板２１と向かい合う第２基板１５には、前記画素領域Ｐ１、Ｐ２に対応してサブカラーフィルター１７ａ，１７ｂ、１７ｃを含むカラーフィルター層１７が構成され、前記データ配線２７に対応してブラックマトリックス１６が構成される。
【００１３】
ここで、前記データ配線２７の上部で、反射電極４０間の間隔がａであって、前記データ配線２７の両側と重なる反射電極４０の各幅がｂだとすると、前記ブラックマトリックス１６の幅は、ａ＋２ｂの幅で構成しなければならない。
【００１４】
ａの幅に対応して位置する液晶（図示せず）は、反射電極の上部に対応する液晶とは違って、均一な電場が充分に印加されないので、ノーマリホワイトモード（Normally White Mode）で、画素領域がブラック状態を見せる電圧を印加したとしても、この部分は、光漏れ領域として作用するようになる。従って、この部分は、必ず、前記ブラックマトリックス１６で遮る部分であって、前記２ｂは、第１基板２１と第２基板１５の合着誤差を念頭に置いたアラインマージン値である。
【００１５】
前述したように、前記ブラックマトリックス１６が占める部分が大きく、このため、反射部での有効反射面積が小さくなり、それによる開口率の減少と共に、輝度の低下をもたらす問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、前述した問題を解決するためのものであって、ブラックマトリックスの省略による表示面積の増加を通じて高品質の液晶表示装置用アレイ基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
前述した目的を達成するための本発明による液晶表示装置用アレイ基板は、基板と、前記基板の上部に形成されたゲート配線と、前記ゲート配線と交差して透過部と反射部とで構成された画素領域を定義し、互いに離隔され、互いに接する画素領域の反射部に各々配置される第１ラインと第２ラインとで構成されたデータ配線と、前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと、前記反射部に対応され、前記第１ライン及び第２ラインを覆う反射電極と、前記透過部に対応し、前記反射電極に連結される透明電極を含む。
【発明の効果】
【００１８】
本発明による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板は、前述したように、前記データ配線を第１ライン及び第２ラインに分けて、各々接する画素領域の反射部を通るように形成して、前記第１ライン及び第２ラインの離隔領域を透過部として活用して、従来のブラックマトリックスが構成されていた領域を開口部として活用できるために、高開口率及び高輝度を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の実施の形態１では、ブラックマトリックスとデータ配線が重なることにより、反射部での有効反射面積が小さくなるのを改善するため、データ配線の形状を変形して、ブラックマトリックスを除去し、ブラックマトリックスが除去された領域を透過部として使用することを特徴とする。
【００２０】
図４は、本発明の実施の形態１による反射型の液晶表示装置の概略的な構成を示した断面図である。
図示したように、第１基板１００と第２基板２００が所定間隔離隔して構成され、前記第２基板２００と向かい合う第１基板１００の一面には、ゲート電極１０２、アクティブ層１１０、ソース電極１１４、ドレイン電極１１６を含む薄膜トランジスタＴと、前記ソース電極１１４と接触し、基板の一端で第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂとで分岐されたデータ配線１１８と、前記ゲート電極１０２に連結されるゲート配線（図示せず）が構成される。前記データ配線１１８と前記ゲート配線は交差して多数の画素領域Ｐ１，Ｐ２を定義する。
【００２１】
前記薄膜トランジスタＴとデータ配線１１８が構成された基板１００の全面には、第１保護膜１２０が構成され、前記第１保護膜１２０の上部には、前記分岐されたデータ配線１１８ａ，１１８ｂの間の領域Ｄに対応して透明電極１２２を構成される。前記透明電極１２２の上部には、第２保護膜１２４が構成され、前記第２保護膜１２４の上部には、前記ドレイン電極１１６及び前記透明電極１２２と接触する反射電極１３２を構成される。ここで、前記反射電極１３２は、輝度を高めるため、凹凸形状で構成することができる。このような凹凸形状は、前記第２保護膜１２４の表面を凹凸形状Ｆで構成し、これを通じて間接的に凹凸形状を表現する方法が一般的である。
【００２２】
前述した構成において、前記分岐されたデータ配線１１８の第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂは、互いに接する画素領域Ｐ１，Ｐ２に各々位置する反射電極１３２の下部に構成される。前記データ配線１１８の第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂの間の領域Ｄに対応する部分には、透明電極１２２が構成され、この部分で、下部のバックライト（図示せず）の光が外部へと透過される。このようにして、前記画素領域Ｐは透過部Ａと反射部Ｃとで構成される。
【００２３】
ここで、前記透過部Ａに対応する部分の前記第２保護膜１２４をエッチングし、エッチング溝１３０を形成し、透過部Ａと反射部Ｃに対応するセルギャップ（詳しくは、後続工程により形成される液晶層の厚さ）比を大略ｄ：２ｄで構成することができる。このように、前記透過部Ａと反射部Ｃに対応するセルギャップを異ならせて構成するのは、透過部Ａと反射部Ｃの偏光の特性を同一にするためであって、これにより、透過部Ａと反射部Ｃで同一な光学的効率を得る。
【００２４】
前記第１基板１００と向かい合う第２基板２００の一面には、前記各画素領域に対応して、赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター２０２ａ，２０２ｂ，２０２ｃを含むカラーフィルター層２０２を構成し、前記カラーフィルター層２０２の上部には、透明な共通電極２０４を構成する。
【００２５】
前述した反射透過型の液晶表示装置の構成において、前記データ配線１１８を、互いに接する画素領域Ｐ１，Ｐ２に構成された反射部Ｃの下部に構成して、従来とは異なり、前記データ配線１１８に対応する部分にブラックマトリックスを形成しなくても良い。また、前述した構成は、前記データ配線１１８の第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂの間の離隔領域Ｄを調整し、この部分を透過領域Ａとして使用して、基板全体に対する開口率をさらに確保できる構造である。
【００２６】
以下、図５を参照して、本発明による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の平面的な構成を詳しく説明する。
図５は、本発明による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一部を拡大した拡大平面図である。
図示したように、基板１００上に、垂直に交差し、透過部Ａと反射部Ｃとで構成された画素領域Ｐ１、Ｐ２を定義するゲート配線１０６とデータ配線１１８が構成される。ここで、前記データ配線１１８は、基板１００の一端で、第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂとに分岐して構成する。
【００２７】
前記データ配線１１８と前記ゲート配線１０６が交差する部分に、前記ゲート配線１０６に連結されるゲート電極１０２、アクティブ層１１０と、前記データ配線１１８に連結されるソース電極１１４と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極１１６を含む薄膜トランジスタＴを構成する。
【００２８】
前記画素領域Ｐ１、Ｐ２には、透過部Ａに対応して透明電極１２２を構成し、前記反射部Ｃに対応して前記ドレイン電極１１６、前記透明電極１２２、ドレインコンタクトホール１２６及び透明電極コンタクトホール１２８を通じて、同時に接触する凹凸形状の反射電極１３２を構成する。（便宜上、図面に凹凸は表現してない。）
ここで、前記データ配線１１８の第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂは、各々接する反射電極１３２の下部へと延長された形状でなる。
【００２９】
前述した構成で、前記第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂの幅の和は、ラインの抵抗を考えて、従来のデータ配線の幅と同じでなければならない。ここで、前記第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂは、前記ゲート配線１０６を通る部分で、少なくとも一度は連結して構成し、このような連結部位は、ゲート配線１０６と重なるように構成する。
【００３０】
前述した構成は、従来とは異なり、前記データ配線１１８に対応してブラックマトリックスを形成しないだけではなく、この部分を透過領域Ａとして使用するために、従来と比べて表示領域を最大に活用する構造であって、それにより、高輝度を実現できる長所がある。
【００３１】
以下、図６Ａないし図６Ｄを参照して、本発明による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を説明する。
図６Ａないし図６Ｄは、図５のVI-VI線に沿って切断して、本発明の工程順序により示した工程断面図である。
まず、図６Ａに示したように、基板１００上にゲート電極１０２を含むゲート配線（図５の１０６）を形成する。ゲート物質は、液晶表示装置の動作に重要であるため、ＲＣディレー（delay）を少なくするために、抵抗の小さいアルミニウムＡｌを用いたのが主流であってが、純粋アルミニウムは、化学的に耐食性が弱く、後続の高温工程でヒロック（Hillock）形成による配線の欠陥問題を起こすので、アルミニウム配線の場合は、アルミニウム配線を含んだ積層構造（Ａ／Ｍｏ）が適用されたりする。
【００３２】
前記ゲート電極１０２等が形成された基板１００の全面に、窒化シリコン（SｉNＸ）と酸化シリコン（SｉO２）等が含まれた無機絶縁物質グループのうちから選択された一つを蒸着して、ゲート絶縁膜１０８を形成する。
前記ゲート電極１０２の上部のゲート絶縁膜１０８上に、アイランド状で積層された非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）であるアクティブ層１１０と、不純物が含まれた非晶質シリコン（ｎ＋ａ−Ｓｉ：Ｈ）であるオーミックコンタクト層１１２を形成する。
【００３３】
図６Ｂに示したように、前記オーミックコンタクト層１１２の上部にクロムCr、モリブデンMo、アンチモンSb、チタンTi等を含む導電性金属グループのうちから選択された一つを蒸着した後、パターニングして、ソース電極１１４、ドレイン電極１１６、および前記ソース電極１１４に連結され、前記ゲート配線（図示せず）とは垂直に交差して、透過部Ａと反射部Ｃとで構成された画素領域Ｐ１，Ｐ２を定義するデータ配線１１８を形成する。
【００３４】
前記データ配線１１８は、基板１００の一側の一端で、第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂとに分かれて構成され、水平に接する画素領域Ｐ１、Ｐ２の反射部Ｃを通るように垂直に延長形成する。この時、前記ゲート配線（図示せず）と交差する部分で、少なくとも一度は連結して構成し、このような連結部位は、ゲート配線と重なるように構成する。
【００３５】
前記ソース電極１１４及びドレイン電極１１６と、データ配線１１８が形成された基板１００の全面に、ベンゾシクロブテンＢＣＢとアクリル系樹脂を含む有機絶縁物質を塗布して第１保護膜１２０を形成する。そして、前記第１保護膜１２０の全面に、インジウム−スズ−オキサイド（ＩＴＯ）及びインジウム−ジンク−オキサイド（ＩＺＯ）を含む透明導電性金属物質を塗布してパターニングし、前記データ配線１１８の第１ライン１１８ａと第２ライン１１８ｂの間の領域、すなわち、透過部Ａに対応して透明電極１２２を形成する。この時、前記透明電極１２２の一側は、反射部Ｃへと延長して構成する。
【００３６】
図６Ｃに示したように、前記透明電極１２２が形成された基板１００の全面に、前述したような有機絶縁物質グループのうちから選択された一つを塗布して第２保護膜１２４を形成する。この時、前記反射部Ｃに対応する第２保護膜１２４の表面を凹凸Ｆで形成する。前記凹凸Ｆは、多様な方法で形成できる。最も代表的な方法は、感光性樹脂を塗布し、これを四角形状（断面の形状）である凹部と凸部にパターニングした後、熱を利用して半円状に形成することである。
【００３７】
前記第２保護膜１２４と、その下部の第１保護膜１２０をエッチングして、前記ドレイン電極１１６の一部を露出するドレインコンタクトホール１２６と、前記反射部Ｃへと延長された透明電極１２２の一部を露出する透明電極コンタクトホール１２８と、前記透過部Ａに対応する透明電極１２２の全面を露出するエッチング溝１３０を形成する。この時、前記透過部Ａに対応してエッチング溝１３０を形成すると、透過部Ａに対応したセルギャップ（図４の２ｄ）を反射部に対応したセルギャップ（図４のｄ）の約２倍に形成し、透過部Ａと反射部Ｃでの偏光の特性は同一になり、二つの領域での色の差が縮まる。
【００３８】
図６Ｄに示したように、基板１００の全面にアルミニウムAlと銀Agのような反射率の優れた不透明導電性金属を蒸着してパターンし、前記ドレイン電極１１６及び透明電極１２２と接触しながら反射部Ｃに対応して、反射電極１３２を形成する。この時、反射電極１３２は、前記保護膜１２４の凹凸により間接的に凹凸形状になる。従って、高反射率が実現できる。
【００３９】
前述した構成で、前記第１ライン１１８ａ及び前記第２ライン１１８ｂの離隔領域の面積（透過部の面積）は、必要に応じて調節し透過部と反射部の面積比を望むように設計することができる。
前述したような工程を行って、本発明の実施の形態１による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板を制作できる。
【００４０】
以下、本発明の実施の形態２を通じて、前記実施の形態１の変形例を説明する。
実施の形態２
本発明の実施の形態２の特徴は、上部基板に構成したカラーフィルター層を下部基板に構成することを特徴とする。
図７は、本発明の実施の形態２による反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。
図示したように、第１基板３００と第２基板４００が所定間隔離隔して構成され、前記第２基板４００と向かい合う第１基板３００の一面には、ゲート電極３０２、アクティブ層３１０、ソース電極３１４、ドレイン電極３１６を含む薄膜トランジスタＴと、前記ソース電極３１４と接触し、基板３００の一端で第１ライン３１８ａと第２ライン３１８ｂとで分岐されたデータ配線３１８と、前記ゲート電極３０２に連結されるゲート配線（図示せず）が構成される。前記データ配線３１８と前記ゲート配線は交差して多数の画素領域Ｐ１，Ｐ２を定義する。
【００４１】
前記薄膜トランジスタＴとデータ配線３１８が構成された基板３００の全面には、第１保護膜３２０が構成され、前記第１保護膜３２０の上部には、前記分岐されたデータ配線３１８ａ，３１８ｂの間の領域Ｄに対応して透明電極３２２を構成する。
【００４２】
前記透明電極３２２の上部には、第２保護膜３２４が構成され、前記第２保護膜３２４の上部には、前記ドレイン電極３１６及び前記透明電極３２２と接触する反射電極３３２を構成する。この時、前記反射電極３３２は、輝度を高めるため、凹凸形状で構成することができる。もちろん、前記第２保護膜１２４の表面を凹凸形状Ｆで構成して、これを通じて間接的に凹凸形状を表現する方法が一般的である。
【００４３】
前述した構成において、前記分岐されたデータ配線３１８の第１ライン３１８ａと第２ライン３１８ｂは、反射電極３３２の下部に構成する。前記データ配線３１８の第１ライン３１８ａと第２ライン３１８ｂの間の領域Ｄに対応する部分には、透明電極３２２が構成され、下部のバックライト（図示せず）の光を透過するようにして、前記画素領域Ｐは透過部Ａと反射部Ｃとで構成される。
【００４４】
前記反射板３３２と前記透過部Ａに対応して露出された第２保護膜３２４の上部に、カラーフィルター層３３６を形成する。この時、前記カラーフィルター層３３６は、赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター３３６ａ，３３６ｂ，３３６ｃを含み、各サブカラーフィルター３３６ａ，３３６ｂ，３３６ｃは、画素Ｐ１、Ｐ２・・・に対応して順に形成される。
【００４５】
このようにすると、前記カラーフィルター層３３６を別途の基板４００に構成して、合着する工程で発生する工程誤差が発生しなくなり、前記工程誤差を考えたブラックマトリックスを形成する必要がないため、開口率を最大に拡大できる長所がある。
【００４６】
前記赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター３３６ａ，３３６ｂ，３３６ｃを含む、カラーフィルター層３３６が形成された第１基板３００と向かい合う第２基板４００の一面には、透明な共通電極４０２を構成する。
【００４７】
前述した構成で、前記透過部と反射部の色の純度の特性を同一にする方法として、前記透過部と反射部に対応するカラーフィルター層３３６の厚さを異ならせた構成を、以下、図８で提案する（図７の構成と同一な構成は、同一な番号を使用する）。
図示したように、第１基板３００と第２基板４００が所定間隔離隔して構成され、前記第２基板４００と向かい合う第１基板３００の一面には、ゲート電極３０２、アクティブ層３１０、ソース電極３１４、ドレイン電極３１６を含む薄膜トランジスタＴを構成し、前記ソース電極３１４と接触しながら、一方向へと延長されたデータ配線３１８と、これとは垂直に交差して、画素領域Ｐ１，Ｐ２を定義するゲート配線（図示せず）を形成する。この時、前記データ配線３１８は、第１ライン３１８ａと第２ライン３１８ｂとに分岐して構成する。
【００４８】
前記薄膜トランジスタＴとデータ配線３１８が構成された基板３００の全面には、第１保護膜３２０が構成され、前記第１保護膜３２０の上部には、前記分岐されたデータ配線３１８ａ，３１８ｂの間の領域Ｄに対応して透明電極３２２を構成する。
【００４９】
前記透明電極３２２の上部には、第２保護膜３２４が構成され、前記第２保護膜３２４の上部には、前記ドレイン電極３１６及び前記透明電極３２２と接触する反射電極３３２を構成する。この時、前記反射電極３３２は、輝度を高めるため、凹凸形状で構成することができる。もちろん、前記第２保護膜１２４の表面を凹凸形状Ｆで構成して、これを通じて間接的に凹凸形状を表現する方法が一般的である。
【００５０】
前述した構成において、前記分岐されたデータ配線３１８の第１ライン３１８ａと第２ライン３１８ｂは、反射電極３３２の下部に構成する。前記データ配線３１８の第１ライン３１８ａと第２ライン３１８ｂの間の領域Ｄに対応する部分には、透明電極３２２が構成され、下部のバックライト（図示せず）の光を透過するようにして、前記画素領域Ｐは透過部Ａと反射部Ｃとで構成される。この時、前記透過部Ａに対応する部分の前記第２保護膜１２４の一部をエッチングしたエッチング溝３２６を形成する。
【００５１】
前記反射板３３２と前記透過部Ａに対応して露出された第２保護膜３２４の上部にカラーフィルター層３３６を形成する。前記カラーフィルター層３３６は、赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター３３６ａ，３３６ｂ，３３６ｃとで構成され、各サブカラーフィルター３３６ａ，３３６ｂ，３３６ｃは、各画素Ｐ１、Ｐ２・・・に対応して順に形成される。この時、前記カラーフィルター層は、コーティングされる際に、前記透過部Ａに形成したエッチング溝３２６に充填されて、反射部Ｃと比べて約２倍の厚さ２ｔになるようにする。このようにすると、前記透過部Ａと前記反射部Ｃの色の純度の特性を同一にできるために、高画質の液晶表示装置を制作できる。
前記カラーフィルター層３３６が形成された第１基板３００と向かい合う第２基板４００の一面には、透明な共通電極４０２を構成する。
【００５２】
前述した図７と図８の反射透過型の液晶表示装置の構成において、前記データ配線３１８を、接する画素領域Ｐ１，Ｐ２に構成された反射部Ｃの下部に構成して、従来とは異なり、前記データ配線３１８に対応する部分にブラックマトリックスを形成しなくても良い。
【００５３】
また、前述した構成は、前記データ配線の第１ライン３１８ａと第２ライン３１８ｂの間の離隔領域Ｄを調整し、この部分を透明領域Ａとして使用して、基板全体に対する開口率をさらに確保できる構造である。
【００５４】
同時に、前記薄膜トランジスタのアレイ配線が形成された第１基板に、カラーフィルター層を形成して、前記カラーフィルター層が別途に形成された基板をアレイ基板と合着する工程時、発生する工程誤差が発生しないので、開口率を最大に確保できる長所がある。
【００５５】
また、透過部と反射部に対応し、カラーフィルター層の厚さを２：１の比率で構成して、透過部と反射部の色の純度の特性を同一にする高画質の液晶表示装置を制作できる長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】一般的な反射透過型の液晶表示装置の構成を示した分解斜視図である。
【図２】図１のII-II線に沿って切断した従来による反射透過型の液晶表示装置の断面図である。
【図３】図２のＥ領域を拡大した拡大断面図である。
【図４】本発明による液晶表示装置の一画素を拡大した拡大断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１による液晶表示装置用アレイ基板の一部を拡大した拡大断面図である。
【図６Ａ】図５のVI-VI線に沿って切断して、本発明の工程順序により示した工程断面図である。
【図６Ｂ】図６Ａに続く製造工程を示す断面図である。
【図６Ｃ】図６Ｂに続く製造工程を示す断面図である。
【図６Ｄ】図６Ｃに続く製造工程を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態２による液晶表示装置の一部を拡大した拡大断面図である。
【図８】図７の変形例であって、液晶表示装置の一部を拡大した拡大断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１００：第１基板                 １０２：ゲート配線
１１０：アクティブ層             １１４：ソース電極
１１６：ドレイン電極             １１８：データ配線
１２０：第１保護膜               １２２：透明電極
１２４：第２保護膜               １３２：反射電極
２００：第２基板                 ２０２：カラーフィルター層
２０４：共通電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図７】
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【図８】
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