(57)【要約】【課題】防振性に優れ、より高精度なステージの位置決めができる露光装置を提供する。【解決手段】Ｙ方向に延びる固定ガイド４は、その両端を２つのガイド固定台３を介して、定盤２上に固定されている。固定ガイド４の中央部には、気体軸受を介して、スライダ５が嵌合されている。固定ガイド４とスライダ５とは、エアシリンダを構成しており、スライダ５はＹ軸上を駆動される。固定ガイド４の図の左右の両端部には、Ｙ方向に延びる細い副ガイド８が延出されている。副ガイド８には、気体軸受を介して、ボックス状をしたカウンタマス１２が嵌合されている。カウンタマス１２の上下部には、カウンタマス１２をＹ軸上で駆動するスプール弁１３が設けられている。【選択図】      図１
2004158597.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望のパターンが形成されたレチクルを載置するレチクルステージと、
前記レチクルにエネルギ線照明を当てる照明光学系と、
前記パターンを転写する感応基板を載置する感応基板ステージと、
前記レチクルを通過したエネルギ線を前記感応基板上に投影結像させる投影光学系と、
を具備する露光装置であって；
前記レチクルステージ又は感応基板ステージが、
固定ガイドと、
該固定ガイドに沿って案内・駆動されるスライダと、
該固定ガイド又はその端部から延出する副ガイドに沿って、前記スライダとは逆方向に案内・駆動されるカウンタマスと、
を具備し、
前記スライダと前記固定ガイド間の駆動反力が、前記副ガイドと前記カウンタマス間の駆動反力により相殺可能なことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
所望のパターンが形成されたレチクルを載置するレチクルステージと、
前記レチクルにエネルギ線照明を当てる照明光学系と、
前記パターンを転写する感応基板を載置する感応基板ステージと、
前記レチクルを通過したエネルギ線を前記感応基板上に投影結像させる投影光学系と、
を具備する露光装置であって；
前記レチクルステージ又は感応基板ステージが、
固定ガイドと、
該固定ガイドに沿って案内・駆動されるスライダと、
該固定ガイド内を、前記スライダとは逆方向に案内・駆動されるカウンタマスと、
を具備し、
前記スライダと前記固定ガイド間の駆動反力が、前記固定ガイドとカウンタマス間の駆動反力により相殺可能なことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
前記カウンタマスが、エアガイドを介して、前記固定ガイド内又は前記副ガイド上で非接触支持されており、
前記カウンタマスと、前記固定ガイド又は副ガイドとでエアシリンダを構成することを特徴とする請求項２又は３記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レチクル（原版）上に形成されたパターンを感応基板（ウェハ等）上に転写露光する露光装置に関する。特には、防振性に優れ、より高精度なステージの位置決めによる高精度のパターン形成を行うことができる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図８は、半導体デバイスパターンのリソグラフィーにおいて現在用いられている露光装置の全体構成を模式的に示す図である。
図８に示す露光装置２００は、床面２０２上に設置されている。床面２０２上には、防振台（エアマウント、ＬＰＦ、ローパスフィルタ）２０１を介して、ボディ２０３が固定されている。ボディ２０３は門型の構造体であって、両側の柱部２０３ｂと、両柱部２０３ｂの上にまたがる梁部２０３ａとからなる。ボディ２０３の梁部２０３ａの下面には、ボックス状をしたウェハチャンバ２０５が吊り下げて固定されている。ウェハチャンバ２０５の底面２０５ａ上には、リニアガイド２０６が固定されている。リニアガイド２０６上には、ウェハの移動・位置決めを行うウェハステージ２０７が載置されている。
【０００３】
ボディ２０３の梁部２０３ａの中央部の上には、投影光学鏡筒２０８が設置されている。この投影光学鏡筒２０８の外側のボディ２０３の梁部２０３ａの上面には、レチクルステージ固定台２１０が設置されている。レチクルステージ固定台２１０上には、リニアガイド２１１が固定されている。リニアガイド２１１上には、レチクルの移動・位置決めを行うレチクルステージ２１２が載置されている。
【０００４】
ボディ２０３の梁部２０３ａの上面の外側の部分には、大きなボックス状をしたレチクルチャンバ２１３が固定されている。レチクルチャンバ２１３は、レチクル２１２等を覆うと共に、その上部構造体の中央部には、光学鏡筒（照明光学系）２１４が固定されている。
【０００５】
上述のリニアガイド２０６及びリニアガイド２１１の側方は、ばね及びダンパからなり水平に延びる緩衝部材（アクティブ防振台）２２１及び２２２を介して、ＲＦＣ（Ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｆｏｒｃｅ  Ｃａｎｃｅｌｌｅｒ）２２３に支持されている。ＲＦＣ２２３は、太い柱のような構造体であって、その基端は床面２０２上に固定されている。
【０００６】
上述のウェハステージ２０７及びレチクルステージ２１２の一例としては、可動スライダと固定ガイドで構成される非接触静圧気体軸受支持された１軸ステージ装置が挙げられる。
このステージ装置においては、駆動手段の移動子は可動スライダ（ステージ２０７、２１２）に取り付けられ、駆動手段の固定子（図示されず）はリニアガイド２１１、２０６を介してステージ定盤（図示せず）に鉛直支持されている。固定子の駆動反力はリニアガイド２１１、２０６、及び、ばね及びダンパからなる緩衝部材２２２、２２１を介してＲＦＣ２２３により水平支持される。
【０００７】
上述の装置においては、ＬＰＦ（ローパスフィルタ）として作用する防振台（エアマウント）２０１経由でステージ反力の高域振動周波数成分を除去し、露光装置本体に設置されたアクティブ防振台によりＲＦＣ２２３から床に振動伝達された低域振動周波数成分を振動絶縁する。
【０００８】
続いて、上述の露光装置の防振効果について説明する。
図９は、従来の露光装置の防振効果を示す図である。
図９の横軸は振動周波数を示し、縦軸はゲインを示している。
図９には、防振処理を施さなかった場合における露光時に発生する床振動２３１が実線で示されている。床振動２３１のゲインは、１０−１〜１［ｒａｄ／ｓ］程の低域振動周波数領域では７０［ｄＢ］程度であり、１０〜１０２［ｒａｄ／ｓ］程の高域振動周波数領域では２０［ｄＢ］程度である。
【０００９】
破線２３２は、図８の防振台（エアマウント）２０１のみを用いた場合の床振動を示す。この場合には、低域振動周波数領域では露光時に発生する床振動２３１とほぼ変わりない大きさの振動が生じているが、高域振動周波数領域では周波数が大きくなるほど大きくゲインが小さく、振動が抑えられている。
【００１０】
一点鎖線２３３は、図８の防振台（エアマウント）２０１、及び、緩衝部材２２１及び２２２、ＲＦＣ２２３を用いて極力振動を抑えた場合の床振動を示す。この場合には、高域振動周波数領域では防振台２０１のみを用いた場合の床振動２３２とほぼ同様に振動が抑えられている。また、低域振動周波数領域でもゲインが１０−１〜１［ｄＢ］程度と、露光時に発生する床振動２３１と比べてゲインが小さく、振動が抑えられている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
露光装置本体に設置されたアクティブ防振台は、床振動の高域振動周波数成分除去用にエアマウント、低域振動周波数成分除去用に電磁アクチュエータ等を用いている。しかし、これらのステージ緩衝部材のばね及びダンパ仕様、ステージ駆動パターンの如何によっては、床振動の抑制とステージ反力の除去が十分に行えない場合がある。例えばエアシリンダのように駆動反力を受ける固定部が固定ガイドと結合・一体化している場合には、固定ガイドに反力が生じることでステージの高精度非接触案内が困難となる。
【００１２】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであって、防振性に優れ、より高精度なステージの位置決めによる高精度のパターン形成を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明の第１の露光装置は、  所望のパターンが形成されたレチクルを載置するレチクルステージと、  前記レチクルにエネルギ線照明を当てる照明光学系と、  前記パターンを転写する感応基板を載置する感応基板ステージと、  前記レチクルを通過したエネルギ線を前記感応基板上に投影結像させる投影光学系と、  を具備する露光装置であって；  前記レチクルステージ又は感応基板ステージが、  固定ガイドと、  該固定ガイドに沿って案内・駆動されるスライダと、  該固定ガイド又はその端部から延出する副ガイドに沿って、前記スライダとは逆方向に案内・駆動されるカウンタマスと、  を具備し、  前記スライダと前記固定ガイド間の駆動反力が、前記副ガイドと前記カウンタマス間の駆動反力により相殺可能なことを特徴とする。
【００１４】
可動スライダと駆動反力を受ける固定ガイドで構成されるステージ装置を備える露光装置において、可動スライダの駆動方向と逆方向に駆動するカウンタマスを固定ガイド軸部に延出する副ガイドに設けることで、ステージ反力をステージ装置内部で閉じることができる。
【００１５】
従来の技術で述べたステージ反力を露光装置全体の基礎（床など）に逃がす方式では、ランダム振動を発生する床振動の除去には振動計測手段による帰還が必要である。一方、指令通りに駆動力が与えられるステージ移動による反力は予測できるので、ゲイン・位相調整されたステージ反力打消し用駆動力を、ステージ駆動方向とは逆方向に無帰還で発生させることで、ステージ反力を打消すことができる。
【００１６】
ステージ装置単体で反力を閉じることができるため、剛な支持構造体を露光装置周囲に配置する必要がなく、装置床面積を小さくすることができる。また、装置本体の防振台は床振動絶縁のみを目的にすることができる。
【００１７】
本発明の第２の露光装置は、  所望のパターンが形成されたレチクルを載置するレチクルステージと、  前記レチクルにエネルギ線照明を当てる照明光学系と、  前記パターンを転写する感応基板を載置する感応基板ステージと、  前記レチクルを通過したエネルギ線を前記感応基板上に投影結像させる投影光学系と、を具備する露光装置であって；  前記レチクルステージ又は感応基板ステージが、  固定ガイドと、  該固定ガイドに沿って案内・駆動されるスライダと、  該固定ガイド内を、前記スライダとは逆方向に案内・駆動されるカウンタマスと、  を具備し、  前記スライダと前記固定ガイド間の駆動反力が、前記固定ガイドとカウンタマス間の駆動反力により相殺可能なことを特徴とする。
【００１８】
カウンタマスが固定ガイド内を動くように配置されるので、固定ガイドから別のものが突出するようなことがなく、装置が小型にできる。
【００１９】
前記露光装置においては、  前記カウンタマスが、エアガイドを介して、前記固定ガイド内又は前記副ガイド上で非接触支持されており、  前記カウンタマスと、前記固定ガイド又は副ガイドとでエアシリンダを構成することが好ましい。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
まず、図５を参照しつつ露光装置の例として電子線露光装置について説明する。
図５は、電子線露光装置の全体構成例を模式的に示す図である。
図５には、電子線露光装置１００が模式的に示されている。電子線露光装置１００の上部には、光学鏡筒（真空チャンバ）１０１が示されている。光学鏡筒１０１には真空ポンプ１０２が接続されており、光学鏡筒１０１内を真空排気している。
【００２１】
光学鏡筒１０１の上部には、電子銃１０３が配置されており、下方に向けて電子線を放射する。電子銃１０３の下方には、コンデンサレンズ１０４ａや電子線偏向器１０４ｂ等を含む照明光学系１０４、及びレチクル（マスク）Ｒが配置されている。
【００２２】
電子銃１０３から放射された電子線は、コンデンサレンズ１０４ａによって収束される。そして、偏向器１０４ｂにより図の横方向に順次走査（スキャン）され、光学系１０４の視野内にあるレチクルＲの各小領域（サブフィールド）の照明が行われる。なお、図ではコンデンサレンズ１０４ａは一段であるが、実際の照明光学系には、数段のレンズやビーム成形開口、ブランキング開口等が設けられている。
【００２３】
レチクルＲは、レチクルステージ１１１の上部に設けられたチャック１１０に静電吸着等により固定されている。レチクルステージ１１１は、定盤１１６に載置されている。
【００２４】
レチクルステージ１１１には、図の左方に示す駆動装置１１２が接続されている。なお、実際には、図１等に示すように駆動装置１１２はステージ１１１に組み込まれている。駆動装置１１２は、ドライバ１１４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、レチクルステージ１１１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１１３が設置されている。レーザ干渉計１１３は、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１１３で計測されたレチクルステージ１１１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。レチクルステージ１１１の位置を目標位置とすべく、制御装置１１５からドライバ１１４に指令が送出され、駆動装置１１２が駆動される。その結果、レチクルステージ１１１の位置をリアルタイムで正確にフィードバック制御することができる。
【００２５】
定盤１１６の下方には、ウェハチャンバ（真空チャンバ）１２１が示されている。ウェハチャンバ１２１の側方（図の右側）には、真空ポンプ１２２が接続されており、ウェハチャンバ１２１内を真空排気している。
ウェハチャンバ１２１内（実際にはチャンバ内の光学鏡筒内）には、コンデンサレンズ（投影レンズ）１２４ａや偏向器１２４ｂ等を含む投影光学系１２４が配置されている。また、ウェハチャンバ１２１内の下部には、ウェハ（感応基板）Ｗが配置されている。
【００２６】
レチクルＲを通過した電子線は、コンデンサレンズ１２４ａにより収束される。コンデンサレンズ１２４ａを通過した電子線は、偏向器１２４ｂにより偏向され、ウェハＷ上の所定の位置にレチクルＲの像が結像される。なお、図ではコンデンサレンズ１２４ａは一段であるが、実際には、投影光学系中には複数段のレンズや収差補正用のレンズやコイルが設けられている。
【００２７】
ウェハＷは、ウェハステージ１３１の上部に設けられたチャック１３０に静電吸着等により固定されている。ウェハステージ１３１は、定盤１３６に載置されている。
【００２８】
ウェハステージ１３１には、図の左方に示す駆動装置１３２が接続されている。なお、実際には、図１等に示すように駆動装置１３２はステージ１３１に組み込まれている。駆動装置１３２は、ドライバ１３４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、ウェハステージ１３１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１３３が設置されている。レーザ干渉計１３３は、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１３３で計測されたウェハステージ１３１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。ウェハステージ１３１の位置を目標位置とすべく、制御装置１１５からドライバ１３４に指令が送出され、駆動装置１３２が駆動される。その結果、ウェハステージ１３１の位置をリアルタイムで正確にフィードバック制御することができる。
【００２９】
次に、本発明の実施の形態に係る露光装置に用いるステージ装置について説明する。
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る露光装置のステージ装置の構成を示す側面図である。
図１には、１軸のステージ装置１が示されている。このステージ装置１は、図５におけるレチクルステージ１１１にあたる。なお、スライダ５上に移動ガイドと自走テーブルを載せれば、Ｉ型やＨ型の２軸のステージ装置となる。
【００３０】
図１には、Ｙ方向に延びるバー状の固定ガイド４が示されている。固定ガイド４は、その両端を２つのガイド固定台３を介して、定盤２上に固定されている。固定ガイド４の中央部には、気体軸受（図２参照、詳細後述）を介して、スライダ５が嵌合されている。固定ガイド４とスライダ５とは、エアシリンダ（図２参照、詳細後述）を構成しており、スライダ５はＹ軸上を駆動される。
【００３１】
固定ガイド４の図の左右の両端部には、Ｙ方向に延びる細いバー状の副ガイド８が延出している。副ガイド８には、気体軸受（図３参照）を介して、ボックス状をしたカウンタマス１２が嵌合されている。カウンタマス１２の上下部には、カウンタマス１２をＹ軸上での駆動を制御するスプール弁１３（図３参照）が設けられている。
【００３２】
次に、図２を参照しつつ、エアシリンダの構成について説明する。
図２は、固定ガイドとスライダとからなるエアシリンダの構成を示す側面断面図である。
図２には、図１に示したスライダ５及び固定ガイド４とで構成されるエアシリンダが示されている。
【００３３】
スライダ５はブロック状のものであって、その内部の中央部には、気体室３３がくりぬかれるように設けられている。各気体室３３の側方には、ガイド４との摺動内孔が形成されており、同内孔面には、エアパッド５１が設けられている。エアパッド５１の外側には、順に大気開放ガードリング５２、低真空排気ガードリング５３、高真空排気ガードリング５５が設けられている。これらのガードリングから、エアパッド及び気体室のエアを排気することにより、高真空に保たれているチャンバ内にエアがあまり洩れ出さないようになっている。
【００３４】
スライダ５には、固定ガイド４が嵌合されている。固定ガイド４の中央部の上下には、しきり板３１が示されている。しきり板３１は、ある厚さを有するＸＺ平面に拡がる板状をしており、気体室３３にある間隔を持って嵌合されている。各気体室３３は、しきり板３１によって、２つの気体室３３ａ、３３ｂに仕切られている。
【００３５】
固定ガイド４内には、４本のＹ方向に長く延びた気体通路３５が破線で示されている。各通路３５の一方の端部は、それぞれしきり板３１の側方のスライダ５の気体室３３ａ、３３ｂに気体を供給するように配置されている。通路３５の他方の端部には、外部装置から気体が供給される。気体室３３ａ、３３ｂに供給する気体の圧力を調整することにより、スライダ５を固定ガイド４上でＹ方向に駆動することができる。なお、固定ガイド４内には、図示はしないが、エアパッド５１に気体を供給し、ガードリング５２、５３、５５から気体を回収・排気するための通路も形成されている。
【００３６】
次に、図３を参照しつつ、カウンタマス１２の構成について説明する。
図３は、カウンタマス１２の構成を示す側面断面図である。
図３には、副ガイド８に嵌合されたカウンタマス１２が示されている。カウンタマス１２の上下部には、スプール弁１３が設けられている。
カウンタマス１２はブロック状のものであって、その内部の中央部には、気体室４３がくりぬかれるように設けられている。カウンタマス１２内には、気体室４３の端部からスプール弁１３にかけて、２本の気体通路４４ａ、４４ｂが設けられている。スプール弁１３には、気体を供給するための供給用配管４５ａと気体を排気するための排気用配管４５ｂ、４５ｃが接続されている。
【００３７】
カウンタマス１２の気体室４３の側方には、側方には、副ガイド８との摺動内孔が形成されており、同内孔面には、エアパッド５１が設けられている。エアパッド５１の外側には、順に大気開放ガードリング５２、低真空排気ガードリング５３、高真空排気ガードリング５５が設けられている。これらのガードリングから、エアパッド及び気体室のエアを排気することにより、高真空に保たれているチャンバ内にエアがあまり洩れ出さないようになっている。
【００３８】
カウンタマス１２に嵌合された副ガイド８の中央付近の上下の端面には、しきり板４６が示されている。しきり板４６は、ある厚さを有するＸＺ平面に拡がる板状をしており、気体室４３にある間隔を持って嵌合されている。各気体室４３は、しきり板４６によって、２つの気体室４３ａ、４３ｂに仕切られている。スプール弁１３を制御して、気体室４３ａ、４３ｂに供給する気体の圧力を調整することにより、カウンタマス１２をＹ方向に駆動することができる。
【００３９】
次に、図を参照しつつ、第１の実施の形態に係るステージ装置のステージ駆動時の様子について説明する。
図４は、第１の実施の形態に係るステージ装置を駆動するときの様子を示す側面図である。図４（Ａ）はスライダ５を図の右方に駆動する状態を示し、図４（Ｂ）はスライダ５を図の左方に駆動する状態を示す図である。
【００４０】
図４（Ａ）に示すように、スライダ５を図の右方に駆動する場合には、スプール弁１３を制御して２つのカウンタマス１２を図の左方に移動させる。この時、カウンタマス１２は、スライダ５の駆動パターンと同一振幅・周期でスライダ５の駆動方向と逆方向に駆動される。ここで、例えばカウンタマス１２のストロークがスライダ５のよりも短くしたい場合には、運動量保存則に従い、カウンタマス１２の質量をスライダ５よりも重くしておく必要がある。
【００４１】
スライダ５が右方に駆動する時には、固定ガイド４及び副ガイド８に左向きの反力がかかる。一方、カウンタマス１２を左方に駆動する時には、固定ガイド４及び副ガイド８に右向きの反力がかかる。この両者の反力を相殺するように制御することにより、ステージ反力をステージ装置内部で閉じることができる。
【００４２】
図４（Ｂ）に示すように、スライダ５を図の左方に駆動した場合には、スプール弁１３を制御して２つのカウンタマス１２を図の右方に移動させる。
スライダ５が左方に駆動した場合には、固定ガイド４及び副ガイド８に右向きの反力がかかる。一方、カウンタマス１２を右方に駆動した場合には、固定ガイド４及び副ガイド８に左向きの反力がかかる。この両者の反力を相殺するように制御することにより、ステージ反力をステージ装置内部で閉じることができる。
【００４３】
次に、本発明の他の実施の形態に係る露光装置に用いるステージ装置について説明する。
図６は、本発明の第２の実施の形態に係る露光装置のステージ装置の構成を示す側面断面図である。
図６には、Ｙ方向に延びるバー状の固定ガイド４′が示されている。固定ガイド４′は、その両端を２つのガイド固定台３を介して、定盤２上に固定されている。固定ガイド４′の中央部には、気体軸受（図２参照）を介して、スライダ５が嵌合されている。固定ガイド４′とスライダ５とは、エアシリンダ（図２参照）を構成しており、スライダ５はＹ軸上を駆動される。なお、スライダ５の気体室にエアを供給する配管等は図示省略してある。
【００４４】
固定ガイド４′の内部には、Ｙ方向に延びる気体室４３′がくりぬかれるように設けられている。固定ガイド４′の図の左側面には、スプール弁１３′が設けられている。固定ガイド４′には、気体室４３′の両端部からスプール弁１３′にかけて、２本の気体通路４４ａ′、４４ｂ′が設けられている。スプール弁１３′には、気体を供給するための供給用配管４５ａと気体を排気するための排気用配管４５ｂ、４５ｃが接続されている。
【００４５】
気体室４３′には、カウンタマス１２′がＹ方向にスライド可能に嵌合されている。カウンタマス１２′は、気体室４３′と同様の断面形状を有し、気体室４３′にある間隔を持って嵌合されている。気体室４３′は、カウンタマス１２′によって、２つの気体室４３ａ′、４３ｂ′に仕切られている。スプール弁１３′を制御して、気体室４３ａ′、４３ｂ′に供給する気体の圧力を調整することにより、カウンタマス１２′をＹ方向に駆動することができる。
【００４６】
次に、図を参照しつつ、第２の実施の形態に係るステージ装置のステージ駆動時の様子について説明する。
図７は、第２の実施の形態に係るステージ装置を駆動するときの様子を示す部分側面断面図である。図７（Ａ）はスライダ５を図の右方に駆動する状態を示し、図７（Ｂ）はスライダ５を図の左方に駆動する状態を示す図である。
【００４７】
図７（Ａ）に示すように、スライダ５を図の右方に駆動する場合には、スプール弁１３′を制御してカウンタマス１２′を図の左方に移動させる。この時、カウンタマス１２′は、スライダ５の駆動パターンと同一振幅・周期でスライダ５の駆動方向と逆方向に駆動される。
【００４８】
スライダ５が右方に駆動する時には、固定ガイド４′に左向きの反力がかかる。一方、カウンタマス１２′を左方に駆動する時には、固定ガイド４′に右向きの反力がかかる。この両者の反力を相殺するように制御することにより、ステージ反力をステージ装置内部で閉じることができる。
【００４９】
図７（Ｂ）に示すように、スライダ５を図の左方に駆動する時には、スプール弁１３′を制御してカウンタマス１２′を図の右方に移動させる。
スライダ５が左方に駆動する時には、固定ガイド４′に右向きの反力がかかる。一方、カウンタマス１２′を右方に駆動する時には、固定ガイド４′に左向きの反力がかかる。この両者の反力を相殺するように制御することにより、ステージ反力をステージ装置内部で閉じることができる。
【００５０】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、可動スライダと駆動反力を受ける固定ガイドで構成されるステージ装置を備える露光装置において、可動スライダの駆動方向と逆方向に駆動するカウンタマスを固定ガイド軸部に延出する副ガイドに設けることで、ステージ反力をステージ装置内部で閉じることができる。
【００５１】
従来の技術で述べたステージ反力を露光装置全体の基礎（床など）に逃がす方式では、ランダム振動を発生する床振動の除去には振動計測手段による帰還が必要である。一方、指令通りに駆動力が与えられるステージ移動による反力は予測できるので、ゲイン・位相調整されたステージ反力打消し用駆動力を、ステージ駆動方向とは逆方向に無帰還で発生させることで、ステージ反力を打消すことができる。
【００５２】
ステージ装置単体で反力を閉じることができるため、剛な支持構造体を露光装置周囲に配置する必要がなく、装置床面積を小さくすることができる。また、装置本体の防振台は床振動絶縁のみを目的にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る露光装置のステージ装置の構成を示す側面図である。
【図２】エアシリンダの構成を示す側面断面図である。
【図３】カウンタマス１２の構成を示す側面断面図である。
【図４】第１の実施の形態に係るステージ装置を駆動するときの様子を示す側面図である。図４（Ａ）はスライダ５を図の右方に駆動する状態を示し、図４（Ｂ）はスライダ５を図の左方に駆動する状態を示す図である。
【図５】電子線露光装置の全体構成例を模式的に示す図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る露光装置のステージ装置の構成を示す側面断面図である。
【図７】第２の実施の形態に係るステージ装置を駆動するときの様子を示す部分側面断面図である。図７（Ａ）はスライダ５を図の右方に駆動する状態を示し、図７（Ｂ）はスライダ５を図の左方に駆動する状態を示す図である。
【図８】半導体デバイスパターンのリソグラフィーにおいて現在一般的に用いられている露光機の全体構成を模式的に示す図である。
【図９】従来の露光装置の防振効果を示す図である。
【符号の説明】
１  ステージ装置
２  定盤
３  ガイド固定台
４  固定ガイド
５  スライダ
８  副ガイド
１２  カウンタマス
１３  スプール弁
【図１】
2004158597.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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