(57)【要約】【課題】製造工程を単純化させ、製造原価を減少させた液晶表示装置を提供する。【解決手段】  画素電極を有する第１基板と第１基板の画素電極と向き合い共通電極が形成された第２基板との間に絶縁体及び前記第１基板に印加された共通電圧を共通電極に印加するための絶縁体を被覆する導電体が介在される。絶縁体は第１基板及び第２基板のうちいずれかで形成されるカラーフィルターを形成する過程中共に形成するか、第１基板と第２基板のせるギャップを保持するための柱形スペーサ１９２として使用することができる。これによって、金スペーサなどを用いて第１基板から第２基板に共通電圧を印加することより製造工程が簡単であり、第１基板から第２基板に共通電圧を印加するための製造費用を大幅に短縮させることができる長所を有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１透明基板に画素電圧が印加される画素電極を有する画素を含む第１表示領域及び前記第１表示領域を囲む第１周辺領域が形成された第１基板と、
第２透明基板に前記第１表示領域と向き合う共通電極が形成された第２表示領域及び第２表示領域を囲む第２周辺領域が形成された第２基板と、
前記第１周辺領域と前記第２周辺領域との間に介在する絶縁体と、
前記第１周辺領域に印加された共通電圧を前記共通電極に印加するための導電体とを含む共通電圧印加部材と、
前記第１基板と第２基板との間に配置された液晶と、を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記絶縁体は前記第２基板の前記第２周辺領域に形成され、前記導電体は前記共通電極と連結されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記導電体及び前記共通電極はＩＴＯパターンまたはＩＺＯパターンであることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記絶縁体は前記第２周辺領域のカラーフィルターと同一の物質からなる薄膜であり、
前記第２基板は、前記第２透明基板の前記第２表示領域と前記共通電極との間に、前記各画素電極と向き合うように配置されたカラーフィルターをさらに含むことを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記カラーフィルターはレッドカラーフィルター、グリーンカラーフィルター及びブルーカラーフィルターを含み、
前記絶縁体は前記レッドカラーフィルター、前記グリーンカラーフィルター及び前記ブルーカラーフィルターと同一の物質からなる薄膜であることを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第２基板は前記カラーフィルターと前記共通電極との間に配置されて前記共通電極を平坦化するための平坦化膜をさらに含むことを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２基板は前記導電体と前記絶縁体との間に配置され、そして前記カラーフィルターと前記共通電極との間に配置されて前記共通電極を平坦化するための平坦化膜をさらに含むことを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第２基板は前記第２透明基板に配置された格子形状のブラックマトリックスをさらに含むことを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１周辺領域には外部から前記共通電圧の印加を受けるための共通電圧印加ラインが形成され、前記導電体は前記共通電圧印加ラインと連結されたことを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記絶縁体は前記第１周辺領域に形成され、前記導電体は前記共通電極には連結され前記画素電極とは絶縁されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記導電体及び前記画素電極はＩＴＯパターンまたはＩＺＯパターンからなることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示装置。  
【請求項１２】
前記第１基板は前記第１透明基板と前記画素電極との間に配置されたカラーフィルターを含み、
前記絶縁体は前記カラーフィルターと同一な物質からなる薄膜であることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記カラーフィルターはレッドカラーフィルター、グリーンカラーフィルター及びブルーカラーフィルターを含み、前記絶縁体は前記第１周辺領域に前記レッドカラーフィルター、前記グリーンカラーフィルター及び前記ブルーカラーフィルターと同一な物質からなる薄膜であることを特徴とする請求項１２記載の液晶表示装置。      
【請求項１４】
前記第１基板は前記カラーフィルターと前記画素電極との間に配置された平坦化膜をさらに含むことを特徴とする請求項１２記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第１基板は前記導電体と前記絶縁体及び前記カラーフィルターと前記画素電極との間に配置された平坦化膜をさらに含むことを特徴とする請求項１２記載の液晶表示装置。  
【請求項１６】
前記第１周辺領域には外部から前記共通電圧の印加を受けるための共通電圧印加ラインが形成され、前記導電体は前記共通電圧印加ラインと連結されたことを特徴とする請求項１０記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記第２基板は前記共通電極と前記第２透明基板との間に配置され前記画素電極に対応する部分に開口が形成された格子形状のブラックマトリックスをさらに含むことを特徴とする請求項１０記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第２基板は前記共通電極の上面に配置されて前記画素電極及び前記導電体に対応する部分に開口が形成されたブラックマトリックスをさらに含むことを特徴とする請求項１０記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記導電体のうち前記共通電極と向き合うところには第１凸凹部が形成され、前記共通電極のうち前記導電体と向き合うところには第１凹凸部と向き合う第２凹凸部が形成されることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記絶縁体は前記共通電極と画素電極との間のセルギャップを保持するための柱形状を有するスペーサであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記第１基板は第１表示領域の前記画素電極に画素電圧を印加するためにマトリックス状に配置された薄膜トランジスタ、前記薄膜トランジスタに連結されたゲートバスライン及びデータバスラインを含む複数個の画素をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記共通電極は前記第２周辺領域の一部に延伸され、前記導電体は前記共通電極のうち延伸された部分と接触することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関し、特に製造工程を単純化及び生産費用を減少させた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置は液晶で映像を表示する。映像を表示するために、液晶表示装置は液晶表示パネルまたは液晶表示パネルに光を供給するバックライトアセンブリを必要とする。液晶表示パネルは第１基板、第２基板及び第１基板と第２基板との間に介在された液晶を含む。
【０００３】
第１基板には複数個からなる第１電極が配置され、第２基板には第１電極と向き合う第２電極が配置される。第１電極には互いに異なるレベルを有する画素電圧が印加され、第２電極には一定のレベルを有する共通電圧が印加される。液晶は第１電極と第２電極との間に形成された電界の差異により互いに異なって配列される。
【０００４】
このとき、画素電圧及び共通電圧は第１基板に共に印加される。これらのうち画素電圧は第１電極に印加され、基板に印加された共通電圧は第１基板と第２基板とを連結する導電性スペーサにより第１基板から第２基板に印加される。導電性スペーサは金が含まれたペースト形態で第１基板の複数のところに塗布される。
【０００５】
しかし、このように導電性スペーサを使用して第１基板から第２基板に共通電圧を印加する場合、導電性スペーサの塗布に多くの時間が所要され、導電性スペーサが広がり液晶表示装置を頻繁に汚染させる。また、金が含まれた導電性スペーサによる液晶表示装置の生産費用が大きく増加される問題点も有する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明はこのような従来の問題点を勘案してもので、本発明の目的は液晶表示パネルの第１基板に印加された共通電圧を第２基板の共通電極に印加する構造を変更して液晶表示パネルの汚染防止、生産費用及び製作時間を大きく減少させる液晶表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような本発明の目的を具現するために本願第１発明による液晶表示装置は、以下の要素を含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
・第１透明基板に画素電圧が印加される画素電極を有する画素を含む第１表示領域及び第１表示領域を囲む第１周辺領域が形成された第１基板、
・第２透明基板に前記第１表示領域と向き合う共通電極が形成された第２表示領域及び第２表示領域を囲む第２周辺領域が形成された第２基板、
・前記第１周辺領域と前記第２周辺領域との間に介在された絶縁体及び前記絶縁体を媒介として前記第１周辺領域に印加された共通電圧を共通電極に印加するための導電体を含む共通電圧印加部材と、
・前記第１基板と第２基板との間に配置された液晶。
【０００８】
本発明によると、液晶表示装置の第１基板に印加された共通電圧を、絶縁体及び絶縁体を囲む導電体を含む共通電圧印加部材を用いて共通電極に印加する構成を取ることにより、液晶表示装置を製造する工程を単純化させ、液晶表示装置の生産費用を減少させることができる。また、高価な金のスペーサを形成する必要をなくすことができる。
【０００９】
本願第２発明は、前記第１発明において、前記絶縁体は前記第２基板の前記第２周辺領域に形成され、前記導電体は前記共通電極と連結されることを特徴とする液晶表示装置を提供する。共通電極の製作工程で導電体を形成することにより、液晶表示装置の製造工程を単純化させることができる。
【００１０】
本願第３発明は、前記第２発明において、前記導電体及び前記共通電極はＩＴＯパターンまたはＩＺＯパターンであることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１１】
本願第４発明は、前記第２発明において、
・前記絶縁体は前記第２周辺領域のカラーフィルターと同一の物質からなる薄膜であり、
・前記第２基板は、前記第２透明基板の前記第２表示領域と前記共通電極との間に、前記各画素電極と向き合うように配置されたカラーフィルターをさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１２】
絶縁体をカラーフィルタと同一の物質で同一の工程において形成することにより、液晶表示装置の製造工程を単純化させることができる。
【００１３】
本願第５発明は、前記第４発明において、
・前記カラーフィルターはレッドカラーフィルター、グリーンカラーフィルター及びブルーカラーフィルターを含み、
・前記絶縁体は前記レッドカラーフィルター、前記グリーンカラーフィルター及び前記ブルーカラーフィルターと同一の物質からなる薄膜であることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１４】
本願第６発明は、前記第４発明において、
・前記第２基板は、前記カラーフィルターと前記共通電極との間に配置されて、前記共通電極を平坦化するための平坦化膜をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。平坦化膜上に共通電極を配置することにより、共通電極の形成が容易になる。
【００１５】
本願第７発明は、前記第４発明において、
・前記第２基板は、前記導電体と前記絶縁体との間に配置され、そして前記カラーフィルターと前記共通電極との間に配置されて前記共通電極を平坦化するための平坦化膜をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。絶縁体の高さが第１基板と第２基板との間のセルギャップよりも小さい場合であっても、その高さを平坦化膜で補うことにより、共通電圧を第１基板から第２基板に伝達することができる。
【００１６】
本願第８発明は前記第４発明において、前記第２基板が前記第２透明基板に配置された格子形状のブラックマトリックスをさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１７】
本願第９発明は、前記第２発明において、前記第１周辺領域には外部から前記共通電圧の印加を受けるための共通電圧印加ラインが形成され、前記導電体は前記共通電圧印加ラインと連結されたことを特徴とする液晶表示装置を提供する。共通電圧印加ラインを通じて導電体に印加した電圧を、第２基板に伝達することができる。
【００１８】
第１０発明は、前記第１発明において、前記絶縁体は前記第１周辺領域に形成され、前記導電体は前記共通電極に連結され前記画素電極とは絶縁されていることを特徴とする液晶表示装置を提供する。画素電極の形成工程で導電体を形成することにより、液晶表示装置の製造工程を単純化することができる。また、高価なスペーサを用いずにすむ利点がある。
【００１９】
第１１発明は、前記導電体及び前記画素電極はＩＴＯパターンまたはＩＺＯパターンからなることを特徴とする、液晶表示装置を提供する。
【００２０】
第１２発明は、前記第１０発明において、
・前記第１基板は、前記第１透明基板と前記画素電極との間に配置されたカラーフィルターを含み、
・前記絶縁体は、前記カラーフィルターと同一な物質からなる薄膜であることを特徴とする液晶表示装置を提供する。カラーフィルターと同一な物質で絶縁体を形成することにより、全体の製造工程を簡略化することができる。
【００２１】
本願第１３発明は、前記第１２発明において、
・前記カラーフィルターはレッドカラーフィルター、グリーンカラーフィルター及びブルーカラーフィルターを含み、
・前記絶縁体は、前記レッドカラーフィルター、前記グリーンカラーフィルター及び前記ブルーカラーフィルターと同一な物質からなる薄膜であることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００２２】
本願第１４発明は、前記第１２発明において、前記第１基板が前記カラーフィルターと前記画素電極との間に配置された平坦化膜をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。画素電極のステップカバリッジの不良を防止し、映像の品質を高めることができる。
【００２３】
本願第１５発明は、前記第１２発明において、前記第１基板は前記導電体と前記絶縁体及び前記カラーフィルターと前記画素電極との間に配置された平坦化膜をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。絶縁体の高さが第１基板と第２基板との間のセルギャップより小さい場合でも、それを補って共通電圧を第１基板から第２基板に伝達することができる。
【００２４】
本願第１６発明は、前記第１０発明において、前記第１周辺領域には外部から前記共通電圧の印加を受けるための共通電圧印加ラインが形成され、前記導電体は前記共通電圧印加ラインと連結されていることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００２５】
本願第１７発明は、前記第１０発明において、前記第２基板は、前記共通電極と前記第２透明基板との間に配置され、前記画素電極に対応する部分に開口が形成された格子形状のブラックマトリックスをさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。ブラックマトリックスにより発生する周辺電界のために映像の品質が低下することを防止できる。
【００２６】
本願第１８発明は、前記第１０発明において、前記第２基板は前記共通電極の上面に配置されて前記画素電極及び前記導電体に対応する部分に開口が形成されたブラックマトリックスをさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。ブラックマトリックスにより発生する周辺電解のために映像の品質が低下することを防止できる。
【００２７】
本願第１９発明は、前記第１０発明において、前記導電体のうち前記共通電極と向き合うところには第１凸凹部が形成され、前記共通電極のうち前記導電体と向き合うところには第１凹凸部と向き合う第２凹凸部が形成されることを特徴とする液晶表示装置を提供する。第１基板と第１基板との間隔及び導電体と絶縁体とを合わせた高さとが異なっても、導電体と共通電極とを接触状態に置くことができる。
【００２８】
本願第２０発明は、前記第１発明において、前記絶縁体は前記共通電極と画素電極との間のセルギャップを保持するための柱形状を有するスペーサであることを特徴とする液晶表示装置を提供する。柱形状スペーサを絶縁体として利用し、柱形状スペーサ上に導電体を形成することで、液晶表示装置の製造工程を単純化しつつ共通電圧を共通電極に印加することができる。
【００２９】
本願第２１発明は、前記第１発明において、前記第１基板は第１表示領域の前記画素電極に画素電圧を印加するためにマトリックス状に配置された薄膜トランジスタ、前記薄膜トランジスタに連結されたゲートバスライン及びデータバスラインを含む複数個の画素をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００３０】
本願第２２発明は、前記第１発明において、前記共通電極は前記第２周辺領域の一部に延伸され、前記導電体は前記共通電極のうち延伸された部分と接触することを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施形態をより詳細に説明する。
実施例１
図１は本発明の第１実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【００３２】
図１に示すように、液晶表示装置６００は第１基板１００、第２基板２００、共通電圧印加部材３００及び液晶４００を含む。第１基板１００及び第２基板２００は相互向き合うように配置され、共通電圧印加部材３００及び液晶４００は第１基板１００及び第２基板２００の間に介在される。
【００３３】
第１基板１００は第１透明基板１１０及び第１透明基板１１０に形成された画素１２０を含む。画素１２０は第１基板１００の第１表示領域にマトリックス状に複数個が形成され、第１表示領域は第１周辺領域により囲まれる。第１表示領域に配置された画素１２０はマトリックス状に配置され、画素電圧が印加される画素電極１２９を含む。第１透明基板１１０には第１周辺領域から第１表示領域に画素電圧を印加する画素電圧印加線及び第１周辺領域に共通電圧を印加する共通電圧印加ライン１９０が配置される。
【００３４】
第２基板２００は第２透明基板２１０及び第２透明基板２１０に形成された共通電極を含む。第２基板２００は第１基板１００の第１表示領域と向き合う第２表示領域及び第２表示領域を囲む第２周辺領域を含む。共通電極２２０は第２基板２００の第２表示領域及び第２周辺領域の一部に形成される。共通電極２２０には第１基板１００の共通電圧印加ライン１９０に印加された共通電圧が印加される。
【００３５】
このような構成を有する第１基板１００及び第２基板２００は画素電極及び共通電極２２０が向き合うように配置される。      
【００３６】
共通電圧印加部材３００は向き合うように配置された第１基板１００と第２基板２００との間に介在され、第１基板１００の第１周辺領域に印加された共通電圧を第２基板の共通電極２２０に印加する。共通電圧印加部材３００は第１基板１００の第１周辺領域及び第２基板２００の第２周辺領域の間に配置される。共通電圧印加部材３００は第１周辺領域に形成されるか、第２周辺領域に形成されることができる。共通電圧印加部材３００は絶縁体３５０と絶縁体３５０の表面に形成された導電体３９０とで構成される。絶縁体３５０は第１基板１００または第２基板２００を製作する過程中形成され、望ましくは、光と反応する感光物質で製作される。導電体３９０は絶縁体３５０の表面に形成され望ましく共通電極または画素電極を製作する過程中に形成される。
【００３７】
液晶４００は第１基板１００の画素電極及び第２基板２００の共通電極２２０の間に介在される。液晶４００は第１基板１００の画素電極に印加された画素電圧及び第１基板１００から共通電圧印加部材３００を通じて共通電極２２０に印加された共通電圧の電界差により局部的に互いに異なる配列を有する。
【００３８】
本実施例によると、別途の追加工程なしに液晶表示装置を製造する過程で第１基板に印加された共通電圧を第２基板に印加することができるようにして製造工程を単純化させ、高価の金スペーサを使用しないことで製造原価を節減することができる。
実施例２
図２は本発明の第２実施例による液晶表示装置を示す平面図である。
【００３９】
図３は図２のＡ部分拡大図である。図４は図２のＢ部分拡大図である。図５は図２のＶ−Ｖに沿って切断した断面図である。
【００４０】
図２に示すように、液晶表示装置６００は第１基板１００、第２基板２００、電源印加部材３００及び液晶４００を含む。
【００４１】
図５に示すように、第１基板１００は第１表示領域及び第１表示領域を囲む第１周辺領域を含む第１透明基板１１０、画素１２０を含む。画素１２０は第１表示領域に配置される。
【００４２】
図３に示すように、各画素１２０は第１表示領域に複数個がマトリックス状に配置される。例えば、液晶表示装置６００の解像度が１０２４＊７６８のとき、画素１２０は第１透明基板１１０に１０２４＊７６８＊３個の数で形成される。
【００４３】
画素１２０はゲートバスライン１２１、データバスライン１２２、薄膜トランジスタ及び画素電極１２９を含む。
【００４４】
図２及び図３に示すように、ゲートバスライン１２１は第１周辺領域から第１表示領域を通過して第１方向に相互平行に形成される。例えば、ゲートバスライン１２１は液晶表示装置６００の解像度が１０２４＊７６８のとき、７６８個の数で形成される。このとき、７６８個のゲートバスライン１２１は２５６個のゲートバスライン単位でグルーピングされて第１周辺領域でゲートバスラインチャンネル１２１ａを成す。従って、第１周辺領域には約３個のゲートバスラインチャンネル１２１ａが形成される。各ゲートバスラインチャンネル１２１ａには駆動信号が印加されるゲートテープキャリアパッケージが連結される。
【００４５】
データバスライン１２２はゲートバスライン１２１と絶縁され、第１方向と直交する第２方向に形成される。データバスライン１２２は第１周辺領域から第１表示領域に延伸される。データバスライン１２２は液晶表示装置６００の解像度が１０２４＊７６８のとき１０２４＊３個の数で形成される。このとき、１０２４＊３個のデータライン
１２２は２５６個のデータバスライン単位でグルーピングされ、第１周辺領域には約１２個のデータバスラインチャンネル１２２ａが形成される。各データバスラインチャンネル１２２ａには駆動信号が印加されるテープキャリアパッケージが連結される。
【００４６】
図３に示すように、薄膜トランジスタ１２８はゲート電極部Ｇ、ソース電極部Ｓ、ドレーン電極部Ｄ、チャンネル層Ｃからなる。ゲート電極部Ｇはゲートバスライン１２１から延伸され、ソース電極部Ｓはデータバスライン１２２から延伸される。チャンネル層Ｃはゲート電極部Ｇと絶縁された状態でゲート電極部Ｇの上面に配置される。チャンネル層Ｃはゲート電極部Ｇに印加された電圧が印加されると導電体特性を有し、ゲート電極部Ｇに電圧が印加されないと不導体特性を有する。チャンネル層Ｃにはソース電極部及びドレーン電極部は絶縁された状態に連結される。
【００４７】
画素電極１２９は各薄膜トランジスタ１２８のドレーン電極部ｂに連結され、透明し導電性である酸化すずインジウム物質ＩＴＯ、または酸化亜鉛インジウム物質ＩＺＯからなる。
【００４８】
図４に示すように、第１基板１００の第１周辺領域のうち各データバスラインチャンネル１２２ａに近接したところには共通電圧印加ライン１２３が形成される。共通電圧印加ライン１２３は外部から第１基板１００の第１周辺領域に共通電圧の印加を受ける。共通電圧印加ライン１２３は図５に示された共通電極２２０に均一なレベルの共通電圧が印加されるようにするために第１周辺領域に複数個が形成される。
【００４９】
図２及び図５に示すように、第２基板２００は第２透明基板２１０、カラーフィルター２３０、共通電極２２０及び電源印加部材３００を含む。また第２基板２００はブラックマトリックス２４０をさらに含むことができる。
【００５０】
第２透明基板２１０は第１透明基板１１０と向き合うように配置され、第２表示領域及び第２表示領域を囲む第２周辺領域を含む。第２表示領域は第１基板１００の第１表示領域と向き合い、第２周辺領域は第１基板１００の第１周辺領域と向き合う。
【００５１】
カラーフィルター２３０は第２透明基板２１０の第２表示領域の画素電極１２９と向き合うようにマトリックス状に配置される。カラーフィルター２３０はレッドカラーフィルター２３２、グリーンカラーフィルター２３４及びブルーカラーフィルター２３６で構成される。このとき、レッドカラーフィルター２３２、グリーンカラーフィルター２３４及びブルーカラーフィルター２３６のうち相互隣接する２つはエッジが相互オーバーラップされるように配置されることができる。エッジがオーバーラップされたレッドカラーフィルター２３２、グリーンカラーフィルター２３４及びブルーカラーフィルター２３６は混色されてブラックマトリックスなしにしてもカラーフィルター２３０の間に光が漏洩されることを防止するころができる。本実施例においては望ましくブラックマトリックス２４０が第１透明基板２１０及び共通電極２２０の間に形成される。ブラックマトリックス２４０は画素電極１２９の間に対応する部分を隔てる格子形状を有する。ブラックマトリックス２４０はクロム薄膜、クロム薄膜とクロム酸化膜の複層膜で形成するか、クロムと類似する光透過率を有するブラック有機膜を使用することもできる。
【００５２】
共通電極２２０は透明で導電性であるインジウムすず酸化物質またはインジウム亜鉛酸化物質からなる。共通電極２２０はカラーフィルター２３０が被覆されるように第２表示領域の全面積及び第２周辺領域の一部に形成される。
【００５３】
図５に示すように電源印加部材３００は絶縁体３１０及び導電体２２０ａからなる。
【００５４】
絶縁体３１０は第２基板２００の第２周辺領域に形成される。望ましくは絶縁体３１０は第１基板１００の第１周辺領域に形成された共通電圧印加ライン１２３と向き合うところに形成される。本実施例において絶縁体３１０はカラーフィルター２３０を形成するためのカラーフィルター薄膜の一部である。カラーフィルター薄膜は積層されたレッドカラーフィルター薄膜２３２ａ、グリーンカラーフィルター薄膜２３４ａ及びブルーカラーフィルター薄膜２３６ａからなる。第２周辺領域に形成されたカラーフィルター薄膜２３２ａ、グリーンカラーフィルター薄膜２３４ａ及びブルーカラーフィルター薄膜２３６ａは第２表示領域にカラーフィルター２３０を形成する過程中に形成される。具体的に、レッドカラーフィルター薄膜２３２ａは第２表示領域にレッドカラーフィルター２３２を形成する過程中に形成される。また、グリーンカラーフィルター薄膜２３４ａは第２表示領域にグリーンカラーフィルター２３４を形成する過程中にレッドカラーフィルター薄膜２３２ａ上面に形成される。そして、ブルーカラーフィルター薄膜２３６ａは第２表示領域にブルーカラーフィルター２３６を形成する過程中第２周辺領域のグリーンカラーフィルター薄膜２３４ａの上面に形成される。
【００５５】
このとき、第２周辺領域にレッドカラーフィルター薄膜２３２ａ、グリーンカラーフィルター薄膜２３４ａ及びブルーカラーフィルター薄膜２３６ａからなる絶縁体３１０の全体高さは第１基板１００と第２基板２００との間の間隔と類似するようにすることが望ましい。
【００５６】
導電体２２０ａは第２周辺領域に形成された絶縁体３１０を被覆し、一部は第２基板２００に形成された共通電極２２０と連結され、一部は第１基板１００に形成された共通電圧印加ライン１２３と接触される。本実施例において、導電体２２０ａは透明で導電性であるインジウムすず酸化物質またはインジウム亜鉛酸化物質から形成される。より望ましくは、導電体２２０ａ及び共通電極２２０は同一物質から製作が可能であるので導電体２２０ａと共通電極２２０を同時に形成することである。
【００５７】
第１基板１００の第１周辺領域及び第１表示領域の境界または第２基板２００の第２周辺領域及び第２表示領域の境界には液晶４００を密封するための密封部材４１０が帯形状に形成される。密封部材４１０により囲まれた第１表示領域または第２表示領域のうちいずれか一つには液晶４００が滴下され、第１基板１００及び第２基板２００は相互アセンブリされる。これとは違って、密封部材４１０を媒介として第１基板１００及び第２基板２００が相互アセンブリされた状態で第１基板及び第２基板２００の間に液晶が注入されることができる。
【００５８】
図６及び図７は本発明の第２実施例により第１透明基板にゲートバスライン及びゲート電極部を製造する過程を図示した工程図である。
【００５９】
図６及び図７に示すように、第１基板１００の第１透明基板１１０には全面にかけてゲート金属、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金などが化学気相蒸着方法またはスパッタリング方法により形成される。
【００６０】
続いて、第１透明基板１１０にはフォトレジスト薄膜が形成され、フォトレジスト薄膜は第１マスクによる局部露光される。従って、図２及び図７に示されたように第１透明基板１１０の第１方向にゲートバスライン１２１が形成され、ゲートバスライン１２１から第２方向にゲート電極部Ｇが形成される。このとき、ゲートバスライン１２１の数は、液晶表示装置の解像度が１０２４＊７６８のとき、約７６８個であり、一つのゲートバスライン１２１に形成されたゲート電極部Ｇの数は液晶表示装置６００の解像度が１０２４＊７６８のとき、約７６８＊３個である。
【００６１】
図８及び図９は本発明の第２実施例により第１透明基板にチャンネル層を製造する過程を図示した工程図である。
【００６２】
第１透明基板１１０にゲートバスライン１２１及びゲート電極部Ｇが形成された後第１透明基板１１０には全面積にかけてゲート絶縁膜１２７が形成される。
【００６３】
図８及び図９に示すように、ゲート絶縁膜１２７まで形成された第１透明基板１１０の全面積にかけてアモルファスシリコン薄膜、ｎ＋アモルファスシリコン薄膜及びソース／ドレーン金属薄膜が順次に蒸着される。ソース／ドレーン金属薄膜の表面にはフォトレジスト薄膜が形成される。続いて、フォトレジスト薄膜は第２マスクによりチャンネル層が形成される部分のみにフォトレジストパターンが形成され、残りの部分は全部除去される。続いて、フォトレジストパターンを用いてアモルファスシリコン薄膜、ｎ＋アモルファスシリコン薄膜及びソース／ドレーン金属薄膜は順次エッチングされる。この工程において第２方向に向かうデータバスライン１２２、データバスライン１２２から第１方向に向かうソース電極部Ｓ及びドレーン電極部Ｄが同時に形成される。続いて、フォトレジストパターンにはエッチバック工程が実施されｎ＋アモルファスシリコン薄膜はソース電極部Ｓ及びドレーン電極部Ｄの両側に分離されてチャンネル層Ｃが形成される。
【００６４】
図１０及び図１１は本発明の第２実施例により第１透明基板に画素電極を形成することを示す工程図である。
【００６５】
図１０及び図１１に示すように、第１透明基板１１０には全面積にかけて透明な保護膜１２８ａが蒸着され、保護膜１２８ａにはフォトレジスト薄膜が再び形成される。フォトレジスト薄膜のうちドレーン電極部Ｄを被覆している部分は第３マスク及び露光工程により開口される。続いて、保護膜１２８ａはエッチングされドレーン電極部Ｄに対応する保護膜１２８ａにはコンタクトホールが形成される。続いて、保護膜１２８ａの上面には全面積にかけてインジウムすず酸化物（以下、ＩＴＯと称する）またはインジウム亜鉛酸化物（以下、ＩＺＯと称する）が形成され、第４マスク及び露光工程によりパターニングされて画素電極１２９が形成される。
【００６６】
図１２及び図１３は本発明の第２実施例により第２透明基板にブラックマトリックス薄膜を形成することを図示した工程図である。
【００６７】
図１２及び図１３に示すように、第２透明基板２１０には全面積にかけてクロム薄膜またはクロム薄膜に形成されたクロム酸化膜またはブラック有機膜でブラック薄膜が形成される。続いて、ブラック薄膜にはフォトレジスト薄膜が塗布され、フォトレジスト薄膜のうち第１基板の画素電極と対向する部分に配置されたフォトレジスト薄膜はパターニングされ開口２４２が形成される。続いて、フォトレジスト薄膜により保護されないブラック薄膜は開口され図１３に示されたように第２透明基板２１０の第２表示領域には格子形状にブラックマトリックス薄膜２４０が形成される。
【００６８】
図１４及び図１５は本発明の第２実施例により第２透明基板にレッドカラーフィルター及びレッドカラーフィルター薄膜を形成することを図示した工程図である。
【００６９】
図１４及び図１５に示すように、第２透明基板２１０には全面積かけてレッドカラーフィルター物質が塗布される。レッドカラーフィルター物質はフォトリソグラフィ工程によりパターニングされ第２周辺領域にはレッドカラーフィルター薄膜２３２ａが形成され、第２表示領域のうちブラックマトリックス薄膜２４０の開口２４２にはレッドカラーフィルター２３２が規則的に形成される。
【００７０】
図１６及び図１７は本発明の第２実施例による第２透明基板にグリーンカラーフィルター及びグリーンカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【００７１】
図１６及び図１７に示すように、第２透明基板２１０には全面積にかけてグリーンカラーフィルター物質が塗布される。グリーンカラーフィルター物質はフォトリソグラフィ工程によりパターニングされて第２周辺領域のレッドカラーフィルター薄膜２３２ａの上面にはグリーンカラーフィルター薄膜２３４ａが形成され、第２表示領域のうちブラックマトリックス薄膜２４０の開口２４２にはグリーンカラーフィルター２３４が規則的に形成される。
【００７２】
図１８及び図１９は本発明の第２実施例により第２透明基板にブルーカラーフィルター及びブルーカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【００７３】
図１８及び図１９に示すように、第２透明基板２１０には全面積にかけてブルーカラーフィルター物質が塗布される。ブルーカラーフィルター物質はフォトリソグラフィ工程によりパターニングされ第２周辺領域のグリーンカラーフィルター薄膜２３４ａの上面にはブルーカラーフィルター薄膜２３６ａが形成され、第２表示領域のうちブラックマトリックス薄膜２４０の開口２４２にはブルーカラーフィルター２３６が規則的に形成される。
【００７４】
このとき、第２透明基板２１０の第２周辺領域の積層されたレッドカラーフィルター薄膜２３２ａ、グリーンカラーフィルター薄膜２３４ａまたはブルーカラーフィルター薄膜２３６ａは第２基板２００及び第１基板１００を連結する絶縁体３１０である。
【００７５】
図２０は本発明の第２実施例による第２透明基板に共通電極及び導電体が形成されたことを示す工程図である。
【００７６】
図２０に示すように、第２透明基板２１０にレッドカラーフィルター２３２、グリーンカラーフィルター２３４及びブルーカラーフィルター２３６が形成された状態で第２透明基板２１０にはレッドカラーフィルター２３２、グリーンカラーフィルター２３４及びブルーカラーフィルター２３６が被覆されるように全面積にかけて透明し導電性であるＩＴＯまたはＩＺＯが形成される。
【００７７】
このとき、ＩＴＯまたはＩＺＯは第２透明基板２１０の第２表示領域のみに形成されるか、第２透明基板２１０の第２周辺領域に形成された絶縁体３１０及び第２表示領域に形成されたカラーフィルター２３０を全部被覆することができる。本実施例においてはＩＴＯまたはＩＺＯが第２透明基板２１０の第２周辺領域に形成された絶縁体３１０及び第２表示領域に形成されたカラーフィルター２３０を全部被覆する。このとき、第２表示領域のカラーフィルター２３０を被覆したＩＴＯまたはＩＺＯは共通電極２２０であり、第２周辺領域の絶縁体３２０を被覆したＩＴＯまたはＩＺＯは導電体２２０ａである。
【００７８】
このような過程を経て製作された各第１基板１００及び第２基板２００は図５に示されたようにアセンブリされる。このとき、絶縁体３１０を被覆する第２基板２００の導電体２２０ａは第１基板１００の共通電圧印加ライン１２３と接触されるようにアラインされ、第２基板２００のカラーフィルター２３０は第１基板１００の画素電極１２９とアラインされる。このとき、第１基板１００及び第２基板２００を相互アセンブリするために、第１基板１００の第１周辺領域と第１表示領域の境界及び第２基板２００の第２周辺領域と第２表示領域との間には密封部材４１０が形成される。
【００７９】
このとき、第１基板１００及び第２基板２００をアセンブリする前または第１基板１００と第２基板２００をアセンブリした後には第１基板１００と第２基板２００との間に液晶を注入する。
【００８０】
第１基板１００と第２基板２００との間に液晶４００が注入された後には図２に示されたようにゲートバスライン１２１及びデータバスライン１２２には駆動モジュールがアセンブリされ液晶表示装置が製造される。
【００８１】
本実施例によると、画素が形成された第１基板と向き合う第２基板板の第２表示領域にカラーフィルターを形成する途中第２周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成して、第１基板に印加された共通電圧を導電体を通じて共通電極に伝達することができるように、製造工程を単純化させ、高価な金スペーサを使用しないことで製造原価を節減できる長所を有する。
実施例３
図２１は本発明の第３実施例による液晶表示装置を示す概念図である。本実施例にいおいては第２基板に形成された平坦化膜がさらに形成されたことを除いては実施例２と層同一である。従って、同一な部材については実施例２と同一な参照番号を付与し重複された説明は省略することにする。
【００８２】
図２１に示すように、第２基板２００のカラーフィルター２３０は形成過程でステップカバリッジが良好でないので、これを防止するために第２基板２００の第２透明基板２１０には全面積にかけて透明な平坦化膜２７２が形成される。このとき、第２周辺領域の絶縁体３１０を被覆する平坦化膜２７２はフォトリソグラフィ工程によりパターニングされ除去される。これは共通電極２２０の平坦化のための平坦化膜２７２により被覆された絶縁体３１０により第１基板１００及び第２基板２００のセルギャップが変更されることを防止するためである。
【００８３】
本実施例によると、画素が形成された第１基板と向き合う第２基板の第２表示領域にカラーフィルターを形成する途中第２周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成して、第１基板に印加された共通電圧を導電体を通じて共通電極に伝達できるようにし、製造工程を単純化させ、高価の金スペーサを使用しないことにより製造原価を大幅に低くし、カラーフィルターの不良ステップカバリッジにより共通電極のステップカバリッジ不良を防止することができる効果を持ち得る。
実施例４
図２２は本発明の第４実施例による液晶表示装置を示す概念図である。本実施例においては第２基板の全面積にかけて平坦化膜がさらに形成されていることを除いては実施例２と同一である。従って、同一な部材に対しては実施例２と同一な参照番号を付与し重複された説明は省略することにする。
【００８４】
図２２に示すように、第２基板２００のカラーフィルター２３０は形成過程でステップカバリッジが良好ではないので、これを防止するために第２基板板２００の第２透明基板２１０には全面積にかけて透明な平坦化膜２７４が形成される。即ち、平坦化膜２７４は第２周辺領域に配置された絶縁体３１０も共に被覆される。このように、平坦化膜３１０でカラーフィルター２３０及び絶縁体３１０をともに被覆する導電体２２０ａ及び絶縁体３１０の全体高さが第１基板１００及び第２基板２００の間のセルギャップより小さい場合に有用である。本実施例による、平坦化膜２７４は導電体２２０ａ及び絶縁体３１０の高さを増加させ絶縁体３１０に形成された導電体２２０ａが第１基板１００の共通電圧印加ライン１２３及び第２基板２００の共通電極２２０が相互ショートされることができるようにする。
【００８５】
本実施例によると、画素が形成された第１基板と向き合う第２基板の第２表示領域にカラーフィルターを形成する途中第２周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成して、第１基板に印加された共通電圧を導電体を通じて共通電極に伝達できるようにして、製造工程を単純化させ、高価の金スペーサを使用しないことで製造原価を大幅に低くし、カラーフィルターの不良ステップカバリッジによる共通電極のステップカバリッジ不良を解決することは勿論絶縁体の全体高さが第１基板と第２基板との間のセルギャップより小さく導電体と共通電圧印加ラインとの間にギャップが発生して共通電圧が第１基板から第２基板に伝達されない問題を解決することができる。
実施例５
図２３は本発明の第５実施例による液晶表示装置の概念図である。
【００８６】
図２３に示すように、液晶表示装置６００は第１基板１００、第２基板２００、電源印加部材３００及び液晶４００を含む。
【００８７】
第１基板１００は第１表示領域及び第１表示領域を囲む第１周辺領域を含む第１透明基板１１０、画素１２０、カラーフィルター１６０及び電源印加部材３００を含む。
【００８８】
画素１２０及びカラーフィルター１６０は第１表示領域に配置され、電源印加部材３００は第１周辺領域に配置される。
【００８９】
図２、図３及び図２３に示すように、画素１２０は第１表示領域に複数個がマトリックス状に配置される。例えば、液晶表示装置６００の解像度が１０２４＊７６８のとき、画素１２０は第１透明基板１１０に１０２４＊７６８＊３個の数で形成される。
【００９０】
画素１２０はゲートバスライン１２１、データバスライン１２２、薄膜トランジスタ及び画素電極１２９を含む。
【００９１】
ゲートバスライン１２１は第１表示領域及び第１周辺領域に第１方向に相互平行に形成される。例えば、ゲートバスライン１２１は液晶表示装置６００の解像度が１０２４＊７６８のとき、７６８個の数で形成される。このとき、７６８個のゲートバスライン１２１は２５６個のゲートバスライン１２１単位でグルーピングされ第１周辺領域でゲートバスラインチャンネル１２１ａを成す。従って、第１周辺領域には約３個のゲートバスラインチャンネル１２１ａが形成される。各ゲートバスラインチャンネル１２１ａには駆動信号が印加されるゲートテープキャリアパッケージが連結される。
【００９２】
データバスライン１２２はゲートバスライン１２１と絶縁され、第１方向と直交する第２方向に形成される。データバスライン１２２は第１周辺領域から第１表示領域に延伸される。データバスライン１２２は液晶表示装置６００の解像度が１０２４＊７６８のとき１０２４＊３個の数で形成される。このとき、１０２４＊３個のデータバスライン１２２は２５６個のデータバスライン単位でグルーピングされ、第１周辺領域には図３に示されたようにデータバスラインチャンネル１２２ａが形成される。第１周辺領域には約１２個のデータバスラインチャンネル１２２ａが形成される。各データバスラインチャンネルには駆動信号が印加されるデータテープキャリアパッケージが連結される。
【００９３】
薄膜トランジスタ１２８は図３に示されたようにゲート電極部Ｇ、ソース電極部Ｓ、ドレーン電極部Ｄ、チャンネル層Ｃで構成される。ゲート電極部Ｇはゲートバスライン１２１から延伸され、ソース電極部Ｓはデータバスライン１２２から延伸される。チャンネル層Ｃはゲート電極Ｇと絶縁さらた状態でゲート電極部Ｇ上面に配置される。チャンネルＣはゲート電極部Ｇに印加された電圧が印加されると導電体特性を有し、ゲート電極部Ｇに電圧が印加されないと不導体特性を有する。チャンネル層Ｃはソース電極部Ｓ及びドレーン電極部Ｄが連結される。
【００９４】
一方、第１基板１００の第１周辺領域のうち各データバスラインチャンネル１２２ａに近接したところには共通電圧印加ライン１２３が形成される。共通電圧印加ライン１２３は外部から第１基板１００の第１周辺領域に共通電圧の印加を受ける。共通電圧印加ライン１２３は共通電極２２０に均一なレベルの共通電圧が印加されるようにするための第１周辺領域に複数個が形成される。
【００９５】
カラーフィルター１６０は第１表示領域にマトリックス状に形成された各薄膜トランジスタ１２８が被覆されるようにマトリックス状に形成される。カラーフィルター１６０はレッドカラーフィルター１６２、グリーンカラーフィルター１６４及びブルーカラーフィルター１６６で構成される。このとき、レッドカラーフィルター１６２、グリーンカラーフィルター１６４及びブルーカラーフィルター１６６のうち相互隣接する２つはエッジが相互オーバーラップされるように配置することができる。また、各カラーフィルター１６０のうちドレーン電極部Ｄに対応する位置にはコンタクトホールが形成される。
【００９６】
画素電極１２９は各カラーフィルター１６０の上面に形成される。画素電極１２９は透明し導電性であるインジウムすず酸化物質またはインジウム亜鉛酸化物質からなる。画素電極１２９はカラーフィルター１６０に形成されたコンタクトホールにより薄膜トランジスタ１２８のドレーン電極Ｄに連結される。
【００９７】
このように、画素電極１２９をカラーフィルター１６０の上面に形成する場合、画素電極１２９とゲートバスライン１２１及びデータバスライン１２２が成す間隔をより遠く形成することができる。従って、画素電極１２９とゲートバスライン１２１及びデータバスライン１２２の間の寄生キャパシタンスを減少させることができ駆動信号の歪曲による映像品質低下を防止することができる。また、カラーフィルターの一部を隣接するカラーフィルターとオーバーラップさせることができブラックマトリックスを必ず必要としないことで光の透過面積をより向上させることができる。
【００９８】
電源印加部材３００は絶縁体３１０及び導電体１２９ａからなる。
【００９９】
絶縁体３１０は第１基板１００の第１周辺領域に形成される。望ましく絶縁体３１０は第１基板１００の第１周辺領域に形成された共通電圧印加ライン１２３と近接するところに形成される。本実施例において絶縁体３１０はカラーフィルター薄膜である。カラーフィルター薄膜は積層されたレッドカラーフィルター薄膜１６２ａ、グリーンカラーフィルター薄膜１６４ａ及びブルーカラーフィルター薄膜１６６ａからなる。第１周辺領域に形成されたレッドカラーフィルター薄膜１６２ａ、グリーンカラーフィルター１６４ａ及びブルーカラーフィルター薄膜１６６ａは第１表示領域にカラーフィルター１６０を形成する過程中形成される。
【０１００】
具体的に、レッドカラーフィルター薄膜１６２ａは第１表示領域にレッドカラーフィルター１６２を形成する過程中形成される。また、グリーンカラーフィルター薄膜１６４ａは第１表示領域にグリーンカラーフィルター１６４を形成する過程中レッドカラーフィルター薄膜１６２ａの上面に形成される。
【０１０１】
そして、ブルーカラーフィルター薄膜１６６ａは第１表示領域にブルーカラーフィルター１６６を形成する過程中第１周辺領域のグリーンカラーフィルター薄膜１６４ａの上面に形成される。
【０１０２】
このとき、第１周辺領域にレッドカラーフィルター薄膜１６２ａ、グリーンカラーフィルター薄膜１６４ａ及びブルーカラーフィルター薄膜１６６ａからなったことを絶縁体３１０の全体高さは第１基板１００と第２基板２００との間の間隔と類似するようにすることが望ましい。
【０１０３】
導電体１２９ａは第１周辺領域に形成された絶縁体３１０を被覆し、第１表示領域に形成された画素電極１２９とは絶縁される。導電体１２９ａは透明し導電性であるインジウムすず酸化物質またはインジウム亜鉛酸化物質からなる。より望ましくは導電体１２９ａは画素電極１２９を形成する過程でともに形成される。
【０１０４】
図２３に示すように、第２基板２００は第２透明基板２１０及び共通電極２２０を含む。それに加えて第２基板２００は選択的にブラックマトリックス２４０をさらに含むことができる。
【０１０５】
第２透明基板２１０は第１透明基板１１０と相互向き合うように配置され、第２表示領域及び第２表示領域を囲む第２周辺領域を含む。第２表示領域は第１基板１００の第１表示領域と向き合い、第２周辺領域は第１基板１００の第１周辺領域と向き合う。第２表示領域には共通電極２２０が形成され、第２周辺領域には共通電極２２０の一部が延伸される。共通電極２２０のうち一部が延伸された部分は第１基板１００の第１周辺領域に配置された電源印加部材３００の導電体２１９ａと接触するためである。
【０１０６】
一方、第２透明基板２１０と共通電極２２０との間には画素電極２１９間から漏洩された光を遮断するために選択的に画素電極２１９の間に格子を有するブラックマトリックス２４０がさらに配置されることができる。ブラックマトリックス２４０はクロム薄膜、クロム薄膜とクロム酸化膜の複層膜で形成するか、クロムと類似する光透過率を有するブラック有機膜を使用することもよいのである。
【０１０７】
一方、第１基板１００の第１周辺領域及び第１表示領域の境界または第２基板２００の第２周辺領域及び第２表示領域の境界には液晶を密封するための密封部材４１０が帯形状に形成される。密封部材４１０によって囲まれた第１表示領域または第２表示領域のうちいずれか一つには液晶が滴下され、第１基板１００及び第２基板２００は相互アセンブリされる。これとは違って、密封部材４１０を媒介に第１基板及び第２基板２００が相互アセンブリされた状態で第１基板１００と第２基板２００との間には液晶が注入されることができる。第１基板１００及び第２基板２００はアセンブリされ第１基板１００の導電体１２９ａ及び第２基板２００の共通電極２２０は相互接触される。
【０１０８】
本実施例による液晶表示装置を製造する方法はカラーフィルター及び絶縁体を第１基板に形成しカラーフィルターの上面に画素電極を形成することの除くと、実施例２と同一であるので重複された説明は省略する。
【０１０９】
本実施例によると、画素が形成され第１基板の第１表示領域にカラーフィルターを形成する途中第１周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成して、第１基板に印加された共通電圧を導電体を通じて第２基板の共通電極に伝達できるように、製造工程を単純化させ、従来のように高価な金スペーサを使用しないことで製造原価を大幅に低くし、液晶表示装置の表示品質も向上させることができる。
実施例６
図２４は本発明の第６実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【０１１０】
本実施例においては第１基板に平坦化膜がさらに形成されていることを除いては実施例５と同一である。従って、同一な部材に対しては実施例５と同一な参照番号を示し、重複された説明は省略することにする。
【０１１１】
図２４に示すように、第１基板１００のカラーフィルター１６０は形成過程でステップカバリッジが良好ではないので、これを防止するために第１基板１００の第１透明基板１１０には全面積にかけてカラーフィルター１６０を被覆する透明な平坦化膜１７２が形成される。このとき、第１周辺領域の絶縁体３１０を被覆していた平坦化膜１７２はフォトリソグラフィ工程により除去される。これによって、画素電極１２９とゲートバスライン１２１または画素電極１２９とデータバスライン１２２の間隔をより増加させることができより映像の品質を向上させることができる。
【０１１２】
本実施例によると、画素が形成された第１基板の第１表示領域にカラーフィルターを形成する途中第１周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成して、第１基板に印加された共通電圧を導電体を通じて第２基板の共通電極に伝達できるようにし、製造工程を単純化ささせ、従来のように高価な金スペーサを使用しないことで製造原価を大幅に低くすることができ、カラーフィルターの不良なステップカバリッジにより画素電極のステップカバリッジの不良を防止することができ、映像の品質を一層向上させることができる効果を有する。
実施例７
図２５は本発明の第７実施例による液晶表示装置を示す概念図である。本実施例においては第１基板の全面積にかけて平坦化膜がさらに形成されていることを除いては実施例５と同一である。従って、同一な部材に対しては実施例５と同一な参照番号を示し、重複された説明は省略する。
【０１１３】
図２５に示すように、第１基板１００に形成されたカラーフィルター１６０は形成過程でステップカバリッジが良好でないので、これを防止するために第１基板１００の第１透明基板１１０には全面積にかけて透明な平坦化膜１７４が形成される。このとき、平坦化膜１７４は第１周辺領域に配置された絶縁体３１０も共に被覆される。このように、平坦化膜１７４でカラーフィルター１６０及び絶縁体３１０を共に被覆することは導電体１２９ａ及び絶縁体３１０の全体高さが第１基板１００と第２基板２００との間のセルギャップより小さい場合に有用である。平坦化膜１７４は導電体１２９ａ及び絶縁体３１０の高さを増加させ導電体１２９ａ及び第２基板２００の共通電極２２０が相互ショートされることができる。
【０１１４】
本実施例によると、画素が形成され第１基板の第１表示領域にカラーフィルターを形成する途中第１周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成して、第１基板に印加された共通電極を導電体を通じて第２基板の共通電極に伝達できるようにして、製造工程を単純化させ、従来のような高価な金スペーサを使用しないことで製造原価を大幅に低くすることができ、カラーフィルターの不良なステップカバリッジによる共通電極のステップカバリッジ不良を解決することは勿論で絶縁体の全体高さが第１基板と第２基板との間のセルギャップより小さくて導電体と共通電極との間にギャップが発生して共通電極が第１基板から第２基板に伝達できない問題を解決することができる。
実施例８
図２６は本発明の第８実施例による液晶表示装置を示す概念図である。本実施例においては第１基板に形成されたブラックマトリックス及び共通電極の配置形態を除いては実施例５と同一である。従って、同一な部材に対しては実施例５と同一な参照番号を示し、重複された説明は省略する。
【０１１５】
図２６にに示すように、第１透明基板１１０とブラックマトリックス２４０との間には共通電極２２０が形成される。第１透明基板１１０とブラックマトリックス２４０との間に共通電極２２０を形成することはブラックマトリックス２４０の上面に形成された共通電極２２０がブラックマトリックス２４０の開口２４２によりステップカバリッジが不良になって所望しない周辺電界による映像の品質低下を防止するためである。このとき、導電体１２９ａと向き合う共通電極２２０はブラックマトリックス２４０により遮られるのでブラックマトリックス２４０のうち絶縁体３１０に囲まれた導電体１２９ａと対応する部分には共通電極２２０と導電体１２９ａが接触できるように開口２４４が形成される。導電体１２９ａは導電体１２９ａの位置に対応するブラックマトリックス２４０に形成された開口２４４により露出された共通電極２２０と接触する。
【０１１６】
本実施例によると、画素が形成された第１基板の第１表示領域にカラーフィルターを形成する途中第１周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成し、第１基板に印加された共通電圧を導電体を通じて第２基板の共通電極に伝達できるようにして、製造工程を単純化させ、高価な金スペーサを使用しないことで製造原価を大幅に低くすることができ、ブラックマトリックスを使用して光の漏洩を防止するとき、ブラックマトリックスにより発生した周辺電界により映像品質が低下されることを防止することができる。
実施例９
図２７は本発明の第９実施例による液晶表示装置を図示した概念図である。本実施例においては導電体及び共通電極の接触構造を除いては実施例５と同一である。従って、同一な部材に対しては実施例５と同一な参照符号を示し重複された説明は省略する。
【０１１７】
図２７に示すように、第１基板１００の第１周辺領域に形成された絶縁体３１０を被覆する導電体１２９のうち、第２基板２００の第２周辺領域に形成された共通電極２２０と接触する部分には第１凸凹部１２９ｂが形成され、第２周辺領域に形成された共通電極２２０のうち第１周辺領域に形成された導電体１２９ａと接触する部分には第２凹凸部２２０ｂが形成される。第１凹凸部１２９ｂはカラーフィルター薄膜１６０を形成する過程でスリット露出などの方法により形成され、第２凸凹部２２０ｂはブラックマトリックス２４０をパターニングする過程でスリット露出のなどの方法により形成される。
【０１１８】
第１凹凸部１２９ｂ及び第２凹凸部２２０ｂは絶縁体３１０及び導電体１２９ａを足した高さが第１基板１００と第２基板２００との間の間隔と互いに異なっても導電体１２９ａと共通電極２２０が接触できるようにして第１基板１００に印加された共通電極が第２基板２００の共通電極２００に印加されることができるようにする。
【０１１９】
本実施例によると、画素が形成された第１基板の第１表示領域にカラーフィルターを形成する途中第１周辺領域にカラーフィルター薄膜を積層して絶縁体及び絶縁体に導電体を形成して、第１基板に印加された共通電圧を導電体を通じて第２基板の共通電極に伝達できるようにし、製造工程を単純化させ、高価な金スペーサを使用しないことで製造原価を低くすることができ、第１基板と第２基板との間の間隔及び導電体と絶縁体の高さが互いに異なっても導電体と共通電極が常に接触できるようにする。
実施例１０
本発明の第１０実施例による液晶表示装置を示す概念図である。本実施例においては絶縁体の構成を除いては実施例５と同一である。従って、同一な部材に対しては実施例５と同一な参照番号を示し、重複された説明は省略する。
【０１２０】
図２８に示すように、第１基板１００の第１表示領域または第２基板２００の第２表示領域のうちいずれかの一つには柱形スペーサ１９２が形成される。具体的に、柱形スペーサ１９２は第１表示領域に形成されるか、第２表示領域に形成されることができる。本実施例におては柱形スペーサ１９２は第１基板１００の第１表示領域に形成される。柱形スペーサ１９２は第１基板１００及び第２基板２００のセルギャップを保持し、柱形スペーサ１９２は望ましくは画素電極１２９の間に配置される。
【０１２１】
一方、第１基板１００の第１周辺領域及び第２基板２００の第２周辺領域には絶縁体３３０が形成される。絶縁体３３０は第１表示領域及び第２表示領域に柱形スペーサ１９２を形成する過程で共に形成される。絶縁体３３０には導電体１２９ａが形成される。導電体１２９ａは第１基板１００に印加された共通電圧を第２基板２００の共通電極２２０に印加する役割を遂行する。
【０１２２】
本実施例によると、第１基板及び第２基板を製造する過程で第１基板と第２基板のセルギャップを保持するための柱形スペーサを絶縁体として利用し、絶縁体に導電体を形成して第１基板に印加された共通電圧を第２基板の共通電極に印加することにより、製造工程を単純化させ、高価な金スペーサを使用しないことで製造原価を大幅に低くすることができる。
【０１２３】
本発明においては、カラーフィルター薄膜をパターニングして絶縁体を形成し絶縁体に導電体を形成して第１基板に印加された共通電圧を第２基板の共通電極に印加することを望ましい実施例として説明している。または、カラーフィルター薄膜をパターニングして第１表示領域及び第２表示領域のうちいずれかの一つに第１基板及び第２基板を支持するスペーサを形成することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２４】
以上のように、液晶表示装置を製造するとき、第１基板に印加された共通電圧を第２基板に印加するために金などからなった高価のスペーサを使用しないことで製造原価を単純化させ、スペーサを形成するための複雑な工程を省略でき、スペーサによる基板汚染を防止するなどの多様な効果を有する。
【０１２５】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明の第１実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２】本発明の第２実施例による液晶表示装置を示す平面図である。
【図３】図２のＡ部分拡大図である。
【図４】図２のＢ部分拡大図である。
【図５】図２のＶ−Ｖに沿って切断した断面図である。
【図６】本発明の第２実施例により第１透明基板にゲートバスライン及びゲート電極部を製造する過程を示す工程図である。
【図７】本発明の第２実施例により第１透明基板にゲートバスライン及びゲート電極部を製造する過程を示す工程図である。
【図８】本発明の第２実施例により第１透明基板にチャンネル層を製造する過程を示す工程図である。
【図９】本発明の第２実施例により第１透明基板にチャンネル層を製造する過程を示す工程図である。
【図１０】本発明の第２実施例により第１透明基板に画素電極を形成することを示す工程図である。
【図１１】本発明の第２実施例により第１透明基板に画素電極を形成することを示す工程図である。
【図１２】本発明の第２実施例により第２透明基板にブラックマトリックス薄膜を形成することを示す工程図である。
【図１３】本発明の第２実施例により第２透明基板にブラックマトリックス薄膜を形成することを示す工程図である。
【図１４】本発明の第２実施例により第２透明基板にレッドカラーフィルター及びレッドカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【図１５】本発明の第２実施例により第２透明基板にレッドカラーフィルター及びレッドカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【図１６】本発明の第２実施例により第２透明基板にグリーンカラーフィルター及びグリーンカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【図１７】本発明の第２実施例により第２透明基板にグリーンカラーフィルター及びグリーンカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【図１８】本発明の第２実施例により第２透明基板にブルーカラーフィルター及びブルーカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【図１９】本発明の第２実施例により第２透明基板にブルーカラーフィルター及びブルーカラーフィルター薄膜を形成することを示す工程図である。
【図２０】本発明の第２実施例により第２透明基板に共通電極及び導電体が形成されたことを示す工程図である。
【図２１】本発明の第３実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２２】本発明の第４実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２３】本発明の第５実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２４】本発明の第６実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２５】本発明の第７実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２６】本発明の第８実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２７】本発明の第９実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【図２８】本発明の第１０実施例による液晶表示装置を示す概念図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１００      第１基板
１１０      第１透明基板
１２０      画素
１２１      ゲートバスライン
１２２      データバスライン
１２２ａ    データバスラインチャンネル
１２７      ゲート絶縁膜
１２８      薄膜トランジスタ
１２９      画素電極
１９０      共通電圧印加ライン
１９２      柱形スペーサ
２００      第２基板
２１０      透明基板
１６０、２３０      カラーフィルター
２３２      レッドカラーフィルター
２３２ａ    レッドカラーフィルター薄膜
２３４      グリーンカラーフィルター
２３６      ブルーカラーフィルター
２４０      ブラックマトリックス
２４２      開口
３００      共通電圧印加部材
４００      液晶
６００      液晶表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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