(57)【要約】【課題】極めて簡便な方法により、液晶を基板上に均一に分散させることができ、且つ液晶の吐出痕が残存するような不具合の生じ難い液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶が封入されてなる液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板上に前記シール材を枠状に形成するシール材形成工程Ｓ２と、前記シール材の枠内に液滴吐出装置を用いて液晶を滴下する液晶滴下工程Ｓ３と、前記液晶を滴下した基板を振動させ、該液晶を前記シール材の枠内に略均一に拡散させる基板振動工程Ｓ４と、を含むことを特徴とする。【選択図】    図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に膜を形成する膜形成方法であって、
前記基板上に、液滴吐出装置を用いて膜材料を含む液滴を滴下する工程と、
前記液滴を滴下した基板を振動させ、該液滴を基板面内において略均一に拡散させる工程と、
を含むことを特徴とする膜形成方法。
【請求項２】
一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた領域に液晶が封入されてなる液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板上に前記シール材を枠状に形成するシール材形成工程と、
前記シール材の枠内に液滴吐出装置を用いて液晶を滴下する液晶滴下工程と、前記液晶を滴下した基板を振動させ、該液晶を前記シール材の枠内に略均一に拡散させる基板振動工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記基板振動工程は、前記液晶の滴下と同時に、或いは前記液晶を滴下した後に行うことを特徴とする請求項２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記液晶滴下工程において、前記液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドの走査方向と改行方向とを略９０度交差させ、且つ走査ピッチと改行ピッチとが略等しくなるように液晶滴下を行うとともに、
前記基板振動工程において、前記液滴吐出ヘッドの走査方向及び改行方向に略沿って振動を行うことを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記液晶滴下工程において、前記液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドの走査方向と改行方向とを略９０度交差させて液晶滴下を行うとともに、
記基板振動工程において、前記液滴吐出ヘッドの走査方向及び改行方向に略沿って振動を行い、且つ各振動の振幅を走査方向と改行方向とで異なるように振動を行うことを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
前記液晶滴下工程において、前記液晶とともにスペーサーを滴下することを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項７】
請求項２ないし６のいずれか１項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする液晶装置。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置の製造方法、液晶装置、及び電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶装置の製造方法として、特許文献１に記載されているような方法が知られている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平０５−２８１５６２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１では、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に封止材を形成するステップと、少なくとも一方の基板上にインクジェットを用いて液晶を滴下するステップと、前記一対の基板を貼り合わせるステップと、その後封止材を硬化するステップとを備えた液晶パネルの製造方法が開示されている。このような方法によって、基板上に極めて微小に、且つ緻密にスペーサー材を混入した液晶を滴下する事が出来る旨、記載されている。
【０００５】
しかしながら、インクジェットを用いて単に液晶を滴下したのみでは、粘度の高い液晶材料を基板面内（封止材内）に均一に分散させることができず、液晶層に膜厚ムラが生じ、これを原因として液晶装置の性能低下、例えば当該液晶装置を表示装置として用いた場合にはコントラスト低下等の不具合を生じる惧れがある。また、同様にインクジェットを用いて単に液晶を滴下したのみでは、液晶を滴下した吐出痕が基板上に残り、当該液晶装置を表示装置として用いた場合には、これが影となって映し出される等の不具合も生じる場合がある。
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、極めて簡便な方法により、液晶を基板上に均一に分散させることができ、且つ液晶の吐出痕が残存するような不具合の生じ難い液晶装置の製造方法と、これにより得られる液晶装置、及び該液晶装置を備えた電子機器とを提供することを目的とする。さらに、本発明では、基板上に均一な膜を形成するのに好適な方法を併せて提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた領域に液晶が封入されてなる液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板上に前記シール材を枠状に形成するシール材形成工程と、前記シール材の枠内に液滴吐出装置を用いて液晶を滴下する液晶滴下工程と、前記液晶を滴下した基板を振動させ、該液晶を前記シール材の枠内に略均一に拡散させる基板振動工程と、を含むことを特徴とする。
【０００８】
このような液晶装置の製造方法によると、液滴吐出装置を用いて液晶を基板上に滴下するものとしているため、例えばディスペンサー法により液晶を基板上に吐出する方法に比して、シール材枠内に液晶を分散させ易くなるとともに、更に液晶を滴下した基板を振動させ該液晶をシール材枠内に略均一に拡散させるものとしているため、滴下された液晶の層に厚さムラが生じ難いものとなる。
その結果、製造される液晶装置の液晶層厚にムラが生じ難くなり、当該液晶装置を表示装置として用いた場合には、例えば液晶のリタデーション値が不均一となることに基づくコントラスト低下等の表示特性低下を防止ないし抑制することが可能となる。
また、液滴吐出装置を用いた場合に生じ得るスジ状の吐出痕についても、振動により解消することができる。さらに、例えば液滴吐出装置から滴下される液晶の滴下量、着弾位置、或いは着弾した液滴の広がり径等が不均一となった場合にも、振動によりこれら不具合を一掃することができるため、表示特性向上のみならず、製造歩留り向上をも実現することができるようになる。つまり、液滴吐出装置の性能に拘らず、効率良く液晶を基板上に均一に拡散させることが可能となるのである。
なお、本発明により、基板のシール材枠内において液晶が拡散され均一となるのは、振動により、基板上に着弾した液滴が隣接する位置に着弾した液滴と繋がって、これがシール材の枠内において全体的に広がることによるものである。
【０００９】
本発明における液晶滴下工程は、液滴吐出装置を用いて行うものであるが、この場合、液晶のみを液滴として滴下するに限らず、例えば液晶と所定の溶媒とを混合したものを液滴として滴下することもできる。また、液晶と、或いは液晶と溶媒とともに、基板間隔（セルギャップ）を規定するスペーサーを吐出するものとしても良い。この場合、スペーサーがシール材枠内に均一に分散される効果も生じるため、得られる液晶装置の基板間隔（セルギャップ）を一層均一なものとすることが可能となる。
【００１０】
本発明における基板振動工程では、その振動の大きさ或いは方向を種々の条件により変更することが好ましい。例えば液晶の吐出ピッチ、液晶の粘度、液晶と基板との濡れ性、液晶の滴下量等を考慮して、振動の大きさ或いは方向を適宜設定するのが良い。
【００１１】
また、本発明における基板振動工程は、前記液晶の滴下と同時に、或いは前記液晶を滴下した後に行うことができる。いずれのタイミングで振動を行うにしても上記効果を達成することができるが、液晶滴下と同時に基板を振動させると液晶の滴下位置にズレが生じるため、均一性向上の観点からは滴下後において基板振動を行う方が好ましいが、製造効率向上の観点からは、液晶滴下と基板振動とを同一工程で行うのが好ましい。
【００１２】
前記液晶滴下工程において、前記液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドの走査方向と改行方向とを略９０度交差させ、且つ走査ピッチと改行ピッチとが略等しくなるように液晶滴下を行うとともに、前記基板振動工程において、前記液滴吐出ヘッドの走査方向及び改行方向に略沿って振動を行うものとすることができる。
このように液滴吐出ヘッドを走査した場合に、液晶吐出後において振動を行わないものとした場合、走査方向及び改行方向にスジ状の吐出痕が生じる惧れがあるが、本発明のように該液滴吐出ヘッドの走査方向及び改行方向に略沿って振動を行うものとすれば、そのようなスジ状の吐出痕を効率良く解消することができるようになる。さらに、液滴吐出ヘッドの走査ピッチと改行ピッチとが略等しくなるように液晶滴下を行うことで、液晶の着弾位置が規則正しくなり、したがって着弾した液晶同士を繋ぎ合わせるための振動を小さく設定することが可能となり、また液晶の拡散性も一層向上させることが可能となる。
【００１３】
一方、前記液晶滴下工程において、前記液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドの走査方向と改行方向とを略９０度交差させて液晶滴下を行うとともに、前記基板振動工程において、前記液滴吐出ヘッドの走査方向及び改行方向に略沿って振動を行い、且つ各振動の振幅を走査方向と改行方向とで異なるように振動を行うものとすることができる。
この場合、例えば液滴吐出ヘッドにおいて走査ピッチと改行ピッチとが異なるように液晶が滴下された場合にも、基板の振動の振幅を、走査方向への振動と改行方向への振動とにおいて異なるように設定すれば、効率良く液晶を拡散することができるようになる。具体的には、ピッチの大きい方向には振動振幅を大きくし、ピッチの小さい方向には振動振幅を小さいものとすることができる。
【００１４】
次に、本発明の液晶装置は上記製造方法により得られたことを特徴とする。このような液晶装置によると、基板間に配設される液晶層の厚さを均一化することができるとともに、液晶の吐出痕を解消することが可能となり、その信頼性を高めることが可能となる。そして、この液晶装置を表示装置として用いた場合には視認性を一層向上させることが可能となり、このような液晶装置を備えた電子機器は視認性の高い表示を供するものとなる。
【００１５】
さらに、本発明の膜形成方法は、基板上に膜を形成する膜形成方法であって、前記基板上に、液滴吐出装置を用いて膜材料を含む液滴を滴下する工程と、前記液滴を滴下した基板を振動させ、該液滴を基板面内において略均一に拡散させる工程と、を含むことを特徴とする。このような方法によると、基板上に均一な膜を好適に作成することができ、この膜形成方法を本発明の液晶装置の製造方法に適用することで、一層信頼性の高い液晶装置を提供することが可能となる。なお、ここで言う膜とは、液晶装置等にあるように、基板間に挟持された液晶層等の流動性を備えた層をも含むものとする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しつつ説明する。
［液晶装置］
以下に示す本実施の形態の液晶装置は、スイッチング素子としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子を用いたアクティブマトリクスタイプの透過型液晶装置である。図１は本実施形態の透過型液晶装置のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図２はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す要部平面図である。図３は図２のＡ−Ａ’線断面図で、図４は本実施形態の透過型液晶装置全体の平面構造について示す全体平面図である。なお、図３においては、図示上側が光入射側、図示下側が視認側（観察者側）である場合について図示している。また、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１７】
本実施の形態の液晶装置において、図１に示すように、マトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極９と、当該画素電極９への通電制御を行うためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子３０とがそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ素子３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給される。
【００１８】
また、走査線３ａがＴＦＴ素子３０のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極９はＴＦＴ素子３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ素子３０を一定期間だけオンすることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００１９】
画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述する共通電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークすることを防止するために、画素電極９と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。
【００２０】
次に、図２に基づいて、本実施形態の液晶装置の要部の平面構造について説明する。図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板上に、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ，  以下、ＩＴＯと略記する）等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極９（点線部９Ａにより輪郭を示す）が複数、マトリクス状に設けられており、画素電極９の縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａ、走査線３ａおよび容量線３ｂが設けられている。本実施の形態において、各画素電極９および各画素電極９を囲むように配設されたデータ線６ａ、走査線３ａ、容量線３ｂ等が形成された領域が画素であり、マトリクス状に配置された各画素毎に表示を行うことが可能な構造になっている。
【００２１】
データ線６ａは、ＴＦＴ素子３０を構成する例えばポリシリコン膜からなる半導体層１ａのうち、後述のソース領域にコンタクトホール５を介して電気的に接続されており、画素電極９は、半導体層１ａのうち、後述のドレイン領域にコンタクトホール８を介して電気的に接続されている。また、半導体層１ａのうち、後述のチャネル領域（図中左上がりの斜線の領域）に対向するように走査線３ａが配置されており、走査線３ａはチャネル領域に対向する部分でゲート電極として機能する。
【００２２】
容量線３ｂは、走査線３ａに沿って略直線状に伸びる本線部（すなわち、平面的に見て、走査線３ａに沿って形成された第１領域）と、データ線６ａと交差する箇所からデータ線６ａに沿って前段側（図中上向き）に突出した突出部（すなわち、平面的に見て、データ線６ａに沿って延設された第２領域）とを有する。そして、図２中、右上がりの斜線で示した領域には、複数の第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００２３】
次に、図３に基づいて、本実施の形態の液晶装置の断面構造について説明する。図３は、上述した通り図２のＡ−Ａ’線断面図であり、ＴＦＴ素子３０が形成された領域の構成について示す断面図である。本実施の形態の液晶装置においては、ＴＦＴアレイ基板１０と、これに対向配置される対向基板２０との間に液晶層５０が挟持されている。
【００２４】
液晶層５０は、強誘電性液晶であるスメクティック液晶にて構成され、電圧変化に対する液晶駆動の応答性が速いものとされている。ＴＦＴアレイ基板１０は、石英等の透光性材料からなる基板本体１０Ａと、その液晶層５０側表面に形成されたＴＦＴ素子３０、画素電極９、配向膜４０を主体として構成されており、対向基板２０はガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体２０Ａと、その液晶層５０側表面に形成された共通電極２１、配向膜６０、を主体として構成されている。そして、各基板１０，２０は、スペーサー１５を介して所定の基板間隔が保持されている。
【００２５】
ＴＦＴアレイ基板１０において、基板本体１０Ａの液晶層５０側表面には画素電極９が設けられ、各画素電極９に隣接する位置に、各画素電極９をスイッチング制御する画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が設けられている。画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０は、ＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造を有しており、走査線３ａ、当該走査線３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体層１ａのチャネル領域１ａ’、走査線３ａと半導体層１ａとを絶縁するゲート絶縁膜２、データ線６ａ、半導体層１ａの低濃度ソース領域１ｂおよび低濃度ドレイン領域１ｃ、半導体層１ａの高濃度ソース領域１ｄおよび高濃度ドレイン領域１ｅを備えている。
【００２６】
上記走査線３ａ上、ゲート絶縁膜２上を含む基板本体１０Ａ上には、高濃度ソース領域１ｄへ通じるコンタクトホール５、及び高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第２層間絶縁膜４が形成されている。つまり、データ線６ａは、第２層間絶縁膜４を貫通するコンタクトホール５を介して高濃度ソース領域１ｄに電気的に接続されている。
【００２７】
さらに、データ線６ａ上および第２層間絶縁膜４上には、高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第３層間絶縁膜７が形成されている。すなわち、高濃度ドレイン領域１ｅは、第２層間絶縁膜４および第３層間絶縁膜７を貫通するコンタクトホール８を介して画素電極９に電気的に接続されている。
【００２８】
また、ＴＦＴアレイ基板１０の基板本体１０Ａの液晶層５０側表面において、各画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が形成された領域には、ＴＦＴアレイ基板１０を透過し、ＴＦＴアレイ基板１０の図示下面（ＴＦＴアレイ基板１０と空気との界面）で反射されて、液晶層５０側に戻る戻り光が、少なくとも半導体層１ａのチャネル領域１ａ’および低濃度ソース、ドレイン領域１ｂ、１ｃに入射することを防止するための第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００２９】
また、第１遮光膜１１ａと画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０との間には、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０を構成する半導体層１ａを第１遮光膜１１ａから電気的に絶縁するための第１層間絶縁膜１２が形成されている。さらに、図２に示したように、ＴＦＴアレイ基板１０に第１遮光膜１１ａを設けるのに加えて、コンタクトホール１３を介して第１遮光膜１１ａは、前段あるいは後段の容量線３ｂに電気的に接続するように構成されている。
【００３０】
さらに、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち、画素電極９および第３層間絶縁膜７上には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜４０が形成されている。したがって、このようなＴＦＴ素子３０を具備する領域においては、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち液晶層５０の挟持面には複数の凹凸ないし段差が形成された構成となっている。
【００３１】
他方、対向基板２０には、基板本体２０Ａの液晶層５０側表面であって、データ線６ａ、走査線３ａ、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の形成領域に対向する領域、すなわち各画素部の開口領域以外の領域に、入射光が画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の半導体層１ａのチャネル領域１ａ’や低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃに侵入することを防止するための第２遮光膜２３が設けられている。さらに、第２遮光膜２３が形成された基板本体２０Ａの液晶層５０側には、その略全面にわたって、ＩＴＯ等からなる共通電極２１が形成され、その液晶層５０側には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜６０が形成されている。
【００３２】
次に、図４は、本実施の形態の液晶装置１００の全体構成について概略を示す平面模式図であって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０の間には、閉環状のシール材９３により封止する形にて液晶層５０が形成されている。すなわち、本実施の形態の液晶装置１００において、シール材９３は、液晶を注入するための注入口を具備しておらず、基板１０，２０の面内領域において閉ざされた枠形状であって、基板１０，２０の外縁に露出することなく、基板１０，２０の外縁に向けた開口を具備しない閉口枠形状に形成されている。
【００３３】
ここで、本実施の形態の液晶装置１００では、シール材９３枠内に液晶を配設する方法として、後述のような方法を採用しているため、液晶層５０の層厚が、基板面内において極めて均一なものとなっている。また、例えばシール材に注入口を設け、注入法により液晶をシール材９３の枠内に注入した場合に生じ得る注入痕や、ディスペンサー法により液晶を基板上に配設した場合に生じ得る吐出痕等の縞状ないし円環状の液晶の痕跡が、以下の方法を採用したことで基板上に残存しない構成となっている。したがって、該注入痕或いは吐出痕等が視認されることなく、表示特性の高い液晶装置として構成されている。
【００３４】
［液晶装置の製造方法］
次に、本実施の形態に示した上記液晶装置１００の製造方法について、その一例を図面を参照しつつ説明する。
図５は、本実施形態の液晶装置１００の一製造方法について、そのプロセスフローを示す説明図である。すなわち、本製造方法は、配向膜を形成した基板の一方に対して枠状シール材を形成した後、このシール材枠内に液晶を滴下し、該滴下した基板を振動させた後に、他方の基板を貼り合せる工程を含んでいることを特徴としている。以下、各フローについて詳細を説明する。
【００３５】
まず、図５のステップＳ１に示すように、ガラス等からなる下側の基板本体１０Ａ上に遮光膜１１ａ、第１層間絶縁膜１２、半導体層１ａ、チャネル領域１ａ’、低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃ、高濃度ソース領域１ｄ、高濃度ドレイン領域１ｅ、蓄積容量電極１ｆ、走査線３ａ、容量線３ｂ、第２層間絶縁膜４、データ線６ａ、第３層間絶縁膜７、コンタクトホール８、画素電極９、配向膜４０を形成し、下基板（ＴＦＴアレイ基板）１０を作成する。また、上側の基板本体２０Ａ上にも遮光膜２３、対向電極２１、配向膜６０を形成し、上基板（対向基板）２０を作成する。
【００３６】
次に、図５のステップＳ２において、上記上基板２０又は下基板１０（本実施形態では下基板１０）上に枠状のシール材９３を形成する。なお、シール材９３としては紫外線硬化樹脂等を用いることができ、これを印刷法等に枠状に形成するものとしており、この場合、図４に示したように液晶注入口を有しない閉口枠形状に形成する。
【００３７】
次に、図５のステップＳ３において、シール材９３を形成した下基板１０上に、当該液晶装置１００のセル厚に見合った所定量の液晶を滴下する。本実施形態では、例えば図１０に示すような液滴吐出装置３００を用いて液晶滴下が行われ、スペーサーを含んだものを液滴として用いている。
【００３８】
図１０は、液滴吐出装置３００（以下、インクジェット装置３００とも言う）の概略構成を示す斜視図である。このインクジェット装置３００は、ベース３１、基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３、インクジェットヘッド（ヘッド）３４、インク（液状体）供給手段３５等を有して構成されたものである。ベース３１は、その上に前記基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３を設置したものである。
【００３９】
基板移動手段３２は、ベース３１上に設けられたもので、Ｙ軸方向に沿って配置されたガイドレール３６を有したものである。この基板移動手段３２は、例えばリニアモータにより、スライダ３７をガイドレール３６に沿って移動させるよう構成されたものである。スライダ３７には、θ軸用のモータ（図示せず）が備えられている。このモータは、例えばダイレクトドライブモータからなるものであり、これのロータ（図示せず）はテーブル３９に固定されている。このような構成のもとに、モータに通電するとロータおよびテーブル３９は、θ方向に沿って回転し、テーブル３９をインデックス（回転割り出し）するようになっている。
【００４０】
テーブル３９は、基板Ｓ（下基板１０に該当）を位置決めし、保持するものである。すなわち、このテーブル３９は、公知の吸着保持手段（図示せず）を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、基板Ｓをテーブル３９の上に吸着保持するようになっている。基板Ｓは、テーブル３９の位置決めピン（図示せず）により、テーブル３９上の所定位置に正確に位置決めされ、保持されるようになっている。テーブル３９には、インクジェットヘッド３４がインク（液状組成物）を捨打ちあるいは試し打ちするための捨打ちエリア４１が設けられている。この捨打ちエリア４１は、Ｘ軸方向に延びて形成されたもので、テーブル３９の後端部側に設けられたものである。
【００４１】
ヘッド移動手段３３は、ベース３１の後部側に立てられた一対の架台３３ａ、３３ａと、これら架台３３ａ、３３ａ上に設けられた走行路３３ｂとを備えてなるもので、該走行路３３ｂをＸ軸方向、すなわち前記の基板移動手段３２のＹ軸方向と直交する方向に沿って配置したものである。走行路３３ｂは、架台３３ａ、３３ａ間に渡された保持板３３ｃと、この保持板３３ｃ上に設けられた一対のガイドレール３３ｄ、３３ｄとを有して形成されたもので、ガイドレール３３ｄ、３３ｄの長さ方向にインクジェットヘッド３４を保持させるスライダ４２を移動可能に保持したものである。スライダ４２は、リニアモータ（図示せず）等の作動によってガイドレール３３ｄ、３３ｄ上を走行し、これによりインクジェットヘッド３４をＸ軸方向に移動させるよう構成されたものである。
【００４２】
インクジェットヘッド３４には、揺動位置決め手段としてのモータ４３、４４、４５、４６が接続されている。そして、モータ４３を作動させると、インクジェットヘッド３４はＺ軸に沿って上下動し、Ｚ軸上での位置決めが可能になっている。なお、このＺ軸は、前記のＸ軸、Ｙ軸に対しそれぞれに直交する方向（上下方向）である。また、モータ４４を作動させると、インクジェットヘッド３４は図１０中のβ方向に沿って揺動し、位置決め可能になり、モータ４５を作動させると、インクジェットヘッド３４はγ方向に揺動し、位置決め可能になり、モータ４６を作動させると、インクジェットヘッド３４はα方向に揺動し、位置決め可能になる。
【００４３】
このようにインクジェットヘッド３４は、スライダ４２上において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能となり、かつ、α、β、γに沿って揺動し、位置決め可能となっている。したがって、インクジェットヘッド３４のインク吐出面を、テーブル３９側の基板Ｓに対する位置あるいは姿勢を、正確にコントロールすることができるようになっている。
【００４４】
ここで、インクジェットヘッド３４は、図１１（ａ）に示すように例えばステンレス製のノズルプレート１１２と振動板１１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１１４を介して接合したものである。ノズルプレート１１２と振動板１１３との間には、仕切部材１１４によって複数の空間１１５と液溜まり１１６とが形成されている。各空間１１５と液溜まり１１６の内部はインク（液晶組成物）で満たされており、各空間１１５と液溜まり１１６とは供給口１１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート１１２には、空間１１５からインク（液晶組成物）を噴射するためのノズル孔１１８が一列に配列された状態で複数形成されている。一方、振動板１１３には、液溜まり１１６にインク（液晶組成物）を供給するための孔１１９が形成されている。
【００４５】
また、振動板１１３の空間１１５に対向する面と反対側の面上には、図１１（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）１２０が接合されている。この圧電素子１２０は、一対の電極１２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子１２０が接合されている振動板１１３は、圧電素子１２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間１１５の容積が増大するようになっている。したがって、空間１１５内に増大した容積分に相当するインク（液晶組成物）が、液溜まり１１６から供給口１１７を介して流入する。また、このような状態から圧電素子１２０への通電を解除すると、圧電素子１２０と振動板１１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間１１５も元の容積に戻ることから、空間１１５内部のインク（液晶組成物）の圧力が上昇し、ノズル孔１１８から基板に向けてインク（液晶組成物）の液滴１２２が吐出される。なお、インクジェットヘッド３４のインクジェット方式としては、前記の圧電素子１２０を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式のものとしてもよい。
【００４６】
図１０に戻り、インク供給手段３５は、インクジェットヘッド３４にインク（液晶組成物）を供給するインク供給源４７と、このインク供給源４７からインクジェットヘッド３４にインク（液晶組成物）を送るためのインク供給チューブ４８とからなるものである。すなわちステンレス製等の容器からなるインク供給源４７にインク（液晶組成物）を一時保管して、そこよりインク（液晶組成物）をインク供給チューブ４８によりヘッドまで供給する方式を採用している。
【００４７】
なお、このようなインクジェット装置３００を用いて吐出する液晶組成物として、本実施形態では、液晶とスペーサーとが混ざった液状体を用いたが、液晶のみから構成される液晶組成物を用いても良く、この場合、液晶のみの吐出工程を行った後、別個にスペーサーを配設することとなる。また、液晶組成物として、液晶と、該液晶を分散させるための分散媒とからなる液状体を用いることも可能である。
【００４８】
また、このようなインクジェット装置３００を用いて液晶組成物の滴下工程を行った場合、図７に示すように該ヘッド３４をＹ方向（正のＹ方向）に走査しつつ、所定のピッチで液滴（液晶組成物）を吐出していく。そして、走査方向の終点（シール材９３の枠形状によって定まる）に到達したら、走査時のピッチと等しい間隔でヘッド３４の改行が行われ、再びＹ方向（負のＹ方向）にヘッド３４が走査され、所定のピッチで液滴（液晶組成物）が吐出されていく。その結果、図８に示したように、Ｘ方向（改行方向）及びＹ方向（走査方向）へのピッチｘ及びｙが等しい液滴１２２が基板（本実施形態では下基板１０）上に着弾されることとなる。
【００４９】
図５に戻り、液晶を滴下した後はステップＳ４において、該液晶を滴下した下基板１０を振動させる工程を行う。ここでは、例えば図８に示したように、液滴吐出装置のヘッド３４の走査方向及び改行方向に沿ったＸ方向及びＹ方向に一定の振動を行っている。このような振動を基板に対して行うことで、図８に示した液滴１２２が広がり、隣接する液滴１２２が繋がることで、滴下された液晶が基板１０上のシール材９３枠内に拡散され、該シール材９３枠内においてムラ（液晶の厚さムラ）の少ない液晶層５０（図４参照）を形成することができるようになる。また、図８に示した状態では、液滴の吐出痕が形成されているが、上記振動を加えることで該吐出痕も解消されている。なお、この振動工程により、液晶とともに滴下したスペーサー１５もシール材９３枠内において均一に分散されることとなる。
【００５０】
基板の振動工程を行った後は、ステップＳ５において、液晶を滴下した下基板１０と、他方の上基板２０とを貼り合わせ、さらに下基板１０及び上基板２０の外面側に図示しない位相差板、偏光板等の光学フィルムを貼り合わせて、図３に示したセル構造を備える液晶装置が製造される。
【００５１】
一方、製造方法の異なる例として、図６に示すような工程によっても上記実施の形態の液晶装置を得ることもできる。すなわち、図５に示した方法では、基板に対して液晶組成物を滴下した後に振動を加えていたが、図６に示した方法では基板を振動させつつ液晶組成物を滴下するものとした。このような方法によっても、上記と同様の効果を得ることが可能で、図３に示したセル構造を備える液晶装置を製造することが可能である。
【００５２】
上記各製造方法においては、以下のような手法を採用することが好ましい。まず、下基板１０を振動する工程では、その振動の大きさ或いは方向を種々の条件により変更することが好ましい。具体的には滴下した液晶組成物の吐出ピッチ、液晶組成物の粘度、液晶組成物と下基板１０との濡れ性、液晶組成物の滴下量等を考慮して、振動の大きさ或いは方向を適宜設定するのが良い。
【００５３】
また、液晶組成物を滴下する工程において、ヘッド３４の走査方向（Ｙ方向）と改行方向（Ｘ方向）が略９０度となるように設定し、且つ走査ピッチｙと改行ピッチｘとが略等しくなるように設定することが好ましい。この場合、振動による液滴拡散効果が一層顕著なものとなる。一方、下基板１０を振動する工程において、走査方向（Ｙ方向）と改行方向（Ｘ方向）とで、振動の大きさ（振幅）を異ならせるものとしても良い。この場合、例えば液滴吐出ヘッドにおいて走査ピッチｙと改行ピッチｘとが異なって液晶組成物が滴下された場合にも、下基板１０の振動の振幅を走査方向（Ｙ方向）と改行方向（Ｘ方向）とにおいて異なるように設定すれば、効率良く液晶組成物を拡散することができるようになる。
【００５４】
［電子機器］
次に、上記実施形態で示した液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。図１２は携帯電話の一例を示した斜視図である。図１２において、符号５００は携帯電話本体を示し、符号５０１は上記実施の形態の液晶装置を備えた液晶表示部を示している。このように、図１２に示すそれぞれの電子機器は、上記実施形態の液晶装置のいずれかを備えたものであるので、表示品位に優れた表示部を有する電子機器となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の液晶装置を示す等価回路図。
【図２】図１の液晶装置について画素群の構造を示す平面図。
【図３】図１の液晶装置の要部を示す断面図。
【図４】図１の液晶装置の全体平面模式図。
【図５】図１の液晶装置の製造方法について一例を示す工程説明図。
【図６】図１の液晶装置の製造方法について一変形例を示す工程説明図。
【図７】基板に対して液晶組成物を滴下する具体的態様を示す説明図。
【図８】滴下した液晶組成物の具体的態様を示す説明図。
【図９】振動工程を行った後の液晶組成物の具体的態様を示す説明図。
【図１０】液晶滴下工程で用いる液滴吐出装置の構成を示す斜視図。
【図１１】図１０の要部斜視図及び要部断面図。
【図１２】本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図。
【符号の説明】
１０…下基板、１５…スペーサー、２０…上基板、５０…液晶層、９３…シール材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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