(57)【要約】      （修正有）【課題】従来のレーザ装置は、レーザ光をモニタした結果をレーザ光光路の修正に用いる技術ではなかった。【解決手段】レーザ装置は、位置を修正可能な第１のミラー９と、第２のミラー１０と、第１のミラーで反射された第１のレーザ光３と第２のミラーで反射された第２のレーザ光４を受光して合成し、出力光２０と参照光１３を出力するレーザ光合成手段１２と、レーザ光合成手段から出力された参照光１３を第１のレーザ光３に係るレーザ光と前記第２のレーザ光４に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段１６と、参照光測定手段で測定された参照光に応じて第１のミラー９の駆動を制御する制御部を備えるように構成している。【選択図】  図１
2004330251.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を出力するレーザ装置において、
第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、
前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光を反射する、その位置を修正可能な第１のミラーと、
第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、
前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を反射する第２のミラーと、
前記第１のミラーで反射された第１のレーザ光と前記第２のミラーで反射された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、
前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、
前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、
前記参照光測定手段で測定された参照光に応じて前記第１のミラーの駆動を制御する制御部とを備えることを特徴とするレーザ装置。
【請求項２】
レーザ光を出力するレーザ装置において、
第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、
前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光を反射する、その位置を修正可能な第１のミラーと、
第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、
前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を反射する、その位置を修正可能な第２のミラーと、
前記第１のミラーで反射された第１のレーザ光と前記第２のミラーで反射された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、
前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、
前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、
前記参照光測定手段で測定された参照光に応じて前記第１のミラーまたは第２のミラーの位置の駆動を制御する制御部とを備えることを特徴とするレーザ装置。
【請求項３】
レーザ光を出力するレーザ装置において、
第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、
前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光を反射する、その位置を修正可能な第１のミラーと、
第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、
前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を反射する、その位置を修正可能な第２のミラーと、
前記第１のミラーで反射された第１のレーザ光と前記第２のミラーで反射された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、
前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、
前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、
前記参照光測定手段で測定された参照光が前記第１のレーザ光に係るレーザ光か前記第２のレーザ光に係るレーザ光かに応じて前記第１のミラーまたは第２のミラーの位置を制御する制御部とを備えることを特徴とするレーザ装置。
【請求項４】
レーザ光を出力するレーザ装置において、
第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、
前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光を反射する、その位置が変化可能な第１のミラーと、
第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、
前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を反射する、その位置が変化可能な第２のミラーと、
前記第１のミラーで反射された第１のレーザ光と前記第２のミラーで反射された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、
前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光または前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、
前記第１のレーザ光に係るレーザ光または前記第２のレーザ光に係るレーザ光が前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、
前記参照光測定手段で測定された前記第１のレーザ光に係るレーザ光の特性に応じて前記第１のミラーまたは前記第２のミラーの位置を制御する制御部とを備えることを特徴とするレーザ装置。
【請求項５】
レーザ光を出力するレーザ装置において、
第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、
第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、
前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光と前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、
前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光または前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、
前記第１のレーザ光に係るレーザ光または前記第２のレーザ光に係るレーザ光が前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、
前記参照光測定手段で測定された前記第１のレーザ光に係るレーザ光または前記第２のレーザ光に係るレーザ光の特性に応じて前記第１のレーザ光源または前記第２のレーザ光源のレーザ出力に係る駆動を制御する制御部とを備えることを特徴とするレーザ装置。
【請求項６】
前記参照光分離部は偏光子が用いられることを特徴とする請求１乃至５に記載のレーザ装置。
【請求項７】
前記偏光子は偏光板であり、この偏光板を回転させることによって前記参照光の偏光面を変化させることを特徴とする請求項６に記載のレーザ装置。
【請求項８】
前記第１のレーザ光源および前記第２のレーザ光源は半導体レーザが用いられることを特徴とする請求項７に記載のレーザ装置。
【請求項９】
前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光および前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光はその光路がコリメータレンズで整えられることを特徴とする請求項８に記載のレーザ装置。
【請求項１０】
前記レーザ光合成手段は偏光合成器が用いられることを特徴とする請求項９に記載のレーザ装置。
【請求項１１】
第１のレーザ光を出力するステップと、
前記出力された第１のレーザ光を反射するステップと、
第２のレーザ光を出力するステップと、
前記出力された第２のレーザ光を反射するステップと、
前記反射された第１のレーザ光と第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するステップと、
前記出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力するステップと、
前記出力された参照光の特性を測定するステップと、
前記測定された参照光に応じて第１のレーザ光の反射角度を変更するステップを備えることを特徴とするレーザの出力方法。
【請求項１２】
第１のレーザ光を出力するステップと、
第２のレーザ光を出力するステップと、
前記出力された第１のレーザ光と第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するステップと、
前記出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力するステップと、
前記出力された参照光の特性を測定するステップと、
前記測定された参照光の特性に応じて前記第１のレーザ光または前記第２のレーザ光のレーザ出力を制御する制御部とを備えることを特徴とするレーザの出力方法。
【請求項１３】
第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、
前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光を反射する、駆動によってその位置を修正可能な第１のミラーと、
第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、
前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を反射する第２のミラーと、
前記第１のミラーで反射された第１のレーザ光と前記第２のミラーで反射された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、
前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、
前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、
前記参照光測定手段で測定された参照光に応じて前記第１のミラーの駆動を制御する制御部と、前記出力光が入射される光導波路と
前記レーザ光合成手段から出力された出力光を波長変換素子に入射にする光学手段と第３のレーザ光を出力する波長変換素子と映像信号を受信し、第３のレーザ光を用いて前記映像信号処理部で映像処理された映像信号を表示する表示部とを備えることを特徴とする映像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明はレーザ装置に係り、特に複数のレーザ光を合成して出力するレーザ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の複数のレーザ光を合成して出力する技術は、複数の半導体レーザから出力されたレーザ光を合流し、情報記憶媒体に照射されない部分をモニタ光として受光し、この受光出力に基づいて半導体レーザの出力を制御している。（例えば特許文献１）。
【０００３】
また従来の複数のレーザ光を合成して出力する技術は、第１の合成器が励起光源からの光と伝送路からの光を合波し、反射光検出手段の結果に基づいて、励起光源の光強度を制御するようにしている。（例えば特許文献２）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−８２６３号公報（第４−６頁、図１、図２）
【特許文献２】
特開２０００−３３２３３７号公報（第３−４頁、図１、図２、図３）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１、特許文献２の技術はレーザ光をモニタしてモニタ結果に応じてレーザ光源を制御するものであり、レーザ光をモニタした結果をレーザ光光路の修正に用いる技術ではなかった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るレーザ装置は、第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光を反射する、駆動によってその位置を修正可能な第１のミラーと、第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を反射する第２のミラーと、前記第１のミラーで反射された第１のレーザ光と前記第２のミラーで反射された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、前記参照光測定手段で測定された参照光に応じて前記第１のミラーの駆動を制御する制御部とを備えるように構成している。
【０００７】
またこの発明に係るレーザの出力方法は、第１のレーザ光を出力するステップと、前記出力された第１のレーザ光を反射するステップと、第２のレーザ光を出力するステップと、前記出力された第２のレーザ光を反射するステップと、前記反射された第１のレーザ光と第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するステップと、前記出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力するステップと、前記出力された参照光の特性を測定するステップと、前記測定された参照光に応じて第１のレーザ光の反射角度を変更するステップを備えるように構成している。
【０００８】
またこの発明に係る映像表示装置は、第１のレーザ光を出力する第１のレーザ光源と、前記第１のレーザ光源から出力された第１のレーザ光を反射する、駆動によってその位置を修正可能な第１のミラーと、第２のレーザ光を出力する第２のレーザ光源と、前記第２のレーザ光源から出力された第２のレーザ光を反射する第２のミラーと、前記第１のミラーで反射された第１のレーザ光と前記第２のミラーで反射された第２のレーザ光を受光して合成し、出力光と参照光を出力するレーザ光合成手段と、前記レーザ光合成手段から出力された参照光を偏光によって前記第１のレーザ光に係るレーザ光と前記第２のレーザ光に係るレーザ光に分離して出力する参照光分離部と、前記参照光分離部から出力された参照光の特性を測定する参照光測定手段と、前記参照光測定手段で測定された参照光に応じて前記第１のミラーの駆動を制御する制御部と、前記レーザ光合成手段から出力された出力光を波長変換素子に入射にする光学手段と第３のレーザ光を出力する波長変換素子と映像信号を受信し、第３のレーザ光に映像処理を行って出力する映像信号処理部とを備えるように構成している。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明に係る実施の形態を説明する。
【００１０】
図１はこの発明の実施の形態に係るレーザ装置を示す図である。
【００１１】
符号１は第１の半導体レーザ、符号２は第２の半導体レーザ、符号３は第１の半導体レーザから出力される第１のレーザ光、符号４は第２の半導体レーザから出力される第２のレーザ光である。
【００１２】
符号５はレーザ光３の支配的な偏波面であり、偏波方向が紙面に対して平行であることを示している。
【００１３】
符号６はレーザ光４の支配的な偏波面であり、偏波方向が紙面に対して垂直であることを示している。
【００１４】
符号７は第１のレーザ光を平行光に整えるコリメータレンズ、符号８は第２のレーザ光を平行光に整えるコリメータレンズ、符号９は第１のレーザ光を反射する第１のミラー、符号１０は第２のレーザ光を反射する第２のミラー、符号１１は偏光合成器（偏光ビームスプリッタ）、符号１２は薄膜偏光子、符号１３は参照光、符号１６は参照光測定部、符号２０は出力光である。
【００１５】
半導体レーザ光源（第１の半導体レーザ１および第２の半導体レーザ２）からそれぞれほぼ等しい波長（約８３５μｍ）の発振波長を持った第１のレーザ光３および第２のレーザ光４が出力（出射）される。
【００１６】
半導体レーザ光源１、２から出力された第１および第２のレーザ光３、４は、それぞれコリメータレンズ７、８に入力される。コリメータレンズ７、８では、それぞれ入力された第１および第２のレーザ光３、４をほぼ平行光に変換して出力する。
【００１７】
コリメータレンズ７、８から出力された第１および第２のレーザ光３、４は、それぞれミラー９、１０で反射された後に、偏光合波器１１に入力（入射）される。
【００１８】
ここでは、第１のレーザ光３は直線偏光をしており、偏光の向きは偏光方向５に示されるように紙面に対して平行な方向である。また、第２のレーザ光４も直線偏光であるが、偏光の向きは偏光方向６に示されるように紙面に対して垂直な向きである。
【００１９】
偏光合波器１１には薄膜偏光子１２が蒸着されている。このような偏光合波器としては例えば偏光ビームスプリッタが上げられる。
【００２０】
薄膜偏光子１２は薄膜偏光子１２に当たる光（ここではレーザ光）の内、Ｐ波はほぼ透過し、Ｓ波はほば反射するように設計されている。
【００２１】
すなわち、第１のレーザ光３は偏光合波器１１に入射された後、薄膜偏向子１２に当たる。ここで第１のレーザ光３は薄膜偏光子１２に対して、Ｐ波となる偏波方向５であるため、大部分の光は透過され出射光２０として外部へ出力される。
【００２２】
しかし、半導体レーザからの出射光は完全に直線偏波ではなく、支配的な偏波とは垂直な方向の偏波も持つことから、一部の、第１のレーザ光３の光は、薄膜偏光子１２で反射され、参照光１３として出力される。
【００２３】
また、第２のレーザ光４は、薄膜偏光子１２に対して、Ｓ波となる偏波方向６が主であるため、大部分の光は反射される。
【００２４】
ここで、第２のミラー１０を適当な位置や角度にすることによって、第２のレーザ光４の、偏光合波器１１に入力（入射）される位置、角度を制御することができ、薄膜偏光子１２で反射された第２のレーザ光４と、薄膜偏光子１２を透過した第１のレーザ光３を、ほぼ同一の光軸上に合波することができる。この合波された出射光２０を光導波路などに入射すると１つのレーザ光源から出射した光を光導波路に入射する時と比べて、より高出力のレーザを入射することができる。
【００２５】
この発明の実施の形態においては、第１のミラー９、第２のミラー１０の位置を修正できるように構成することで、上記光軸上の合波をより確実に行うことができるので、より高出力のレーザを得ることができる。
【００２６】
参照光測定部１６、第１のレーザ光源１、第２のレーザ光源２、ミラー９、ミラー１０は図示しないＣＰＵに接続されており、参照光測定部１６で測定された参照光の測定結果に応じて、ＣＰＵによって第１のレーザ光源１、第２のレーザ光源２の出力制御が、またミラー９、ミラー１０の位置制御（ミラー９、ミラー１０はその位置を修正可能に構成されている）が行われる。
【００２７】
第１のレーザ光４の中で、薄膜偏光子１２で反射されずに偏光合成器１２を透過した光（レーザ光）は、参照光１３になる。
【００２８】
参照光測定部（パワーメータ）１６でこの参照光１３を測定することによって、第１のレーザ光３および、第２のレーザ光４の出力を測定することが出来る。
【００２９】
尚、上記説明では、薄膜偏光子１２は大部分のＰ波を透過し、大部分のＳ波を反射させるものとして説明したが、薄膜偏光子１２の薄膜の設計によっては、Ｐ波、Ｓ波の透過、反射率を所望の値に設定することも可能である。その場合は、参照光１３を用いて、より正確な第１のレーザ光３および第２のレーザ光４の出力などの固有特性を算出することが出来る。
【００３０】
また、上記説明では、偏光合波器１２の一例として偏光ビームスプリッタを上げたが、出射光２０の強度を大きくし、参照光１３の強度を小さくするためには、偏光合波器１２として、好ましくは複屈折素子を使った偏光プリズム、更に好ましくはグラン・トムソンプリズムやグランレーザプリズムやロションプリズムを使う事が望ましい。
【００３１】
次に、参照光１３を測定するための参照光測定部１６について説明する。
【００３２】
図２はこの発明の実施の形態に係る参照光測定部を説明する図である。
【００３３】
符号３１は参照光１３が入力（入射）される光路、符号３２は偏光板、符号３３は偏光板３２を回転させる回転装置、符号３４は参照光測定部（図１では符号１６）である。
【００３４】
参照光を測定する手段としては、レーザ光の波長を測定する場合はスペクトラムアナライザ、強度を測定するにはパワーメータや空間的分布を測定するビームプロファイラなどを使用することが可能である。以下、レーザ光の波長や強度や空間的分布等をレーザ光の固有特性と呼ぶ。
【００３５】
測定機器（参照光測定部）３４の測定面の前段に、偏光板３２などの偏光子が配置される。ここに偏光板３２を配置することによって、第１のレーザ光と第２のレーザ光のように異なる偏光方向を持ったレーザ光が合成された参照光の、一方の特性を独立に測定することができる。
【００３６】
また、この偏光板３２を回転装置３３によって回転させることによって、偏光板３２を透過させるレーザ光の偏光面を変化させることができる。このため、参照光１３に含まれるそれぞれのレーザ光（参照光）の固有特性を、それぞれ独立に測定することが可能である。
【００３７】
また、この参照光を測定したデータを用いることによって、第１のミラーや第２のミラーの位置を修正することが可能である。
【００３８】
また、第１のレーザ光源や第２のレーザ光源に流す電流を制御（駆動制御）することによって、経年変化などで、レーザ強度が変化した時に、強度低下を検知し、レーザ光の強度を一定に保つように、例えば必要とされるレーザ光源に流す電流量を増加させることができる。
【００３９】
次に、参照光の固有特性に応じたレーザ光源の制御について説明する。
【００４０】
図３は、この発明の実施の形態に係る参照光の固有特性に応じたレーザ光源の制御を説明する図である。
【００４１】
上記と同一の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
【００４２】
符号４１は第１の半導体レーザ（第１のレーザ光源）、符号４２は第２の半導体レーザ（第２のレーザ光源）、符号４３は第１の電源供給部、符号４４は第２の電源供給部である。
【００４３】
上記と同様に第１の電源供給部４３、第２の電源供給部は共に図示しないＣＰＵによって制御される。
【００４４】
一般に半導体レーザは経時変化などによってレーザ光の強度が変化していくものであり、第１の半導体レーザ４１、第２の半導体レーザ４２もレーザ光の強度が変化していく。
【００４５】
レーザ光の強度を一定に保つには、この変化に応じて第１の半導体レーザおよび第２の半導体レーザに流す電流を変化させなければならない。
【００４６】
すなわち、上記説明したように、参照光測定部３４で第１の半導体レーザおよび第２の半導体レーザに係る参照光がそれぞれ測定される。ここで測定された結果がＣＰＵで判断され、レーザ光出力の強度が減少したと判断された半導体レーザの電源供給部に対してもっと電流を供給するように指示する。例えば、第１の半導体レーザ４１のレーザ光出力の強度が減少したと判断された場合は、第１の半導体レーザの電源供給部４３に対してもっと電流を供給するように指示する。また、第１の半導体レーザ４１のレーザ光出力の強度および第２の半導体レーザ４２のレーザ光出力の強度が減少したと判断された場合は、第１の半導体レーザの電源供給部４３および第２の半導体レーザの電源供給部４４に対してもっと電流を供給するように指示する。
【００４７】
尚、第１のミラー９、第２のミラー１０の位置を修正できるように構成することは特に説明するまでもない。
【００４８】
次に、上記説明したレーザ装置を映像表示装置へ応用した例を説明する。
【００４９】
図４はこの発明の実施の形態に係るレーザ装置を用いた映像表示装置の一例を説明するブロック図である。
【００５０】
符号６０はアンテナ、符号６１はチューナ、符号６２は映像信号処理部、符号６３は上記説明したレーザ光源、符号６４はＬＣＤ、符号６５は映像が表示されるスクリーン、符号６６はＣＰＵ、符号６８は映像表示部である。
【００５１】
ＣＰＵ６６はチューナ６１、映像信号処理部６２、レーザ光源６３、ＬＣＤ６４と接続されており、これらの制御を行う。
【００５２】
アンテナ６０で受信された映像信号は、図示しないユーザの指示によってチューナ６１で選局され映像信号処理部６２へ送信される。また、記憶媒体６７に記憶された映像信号も図示しないユーザの指示によって映像信号処理部６２へ送信される。
【００５３】
映像信号処理部６２では映像信号を受信し、映像処理を施して映像処理を施した映像信号をＬＣＤ６４へ出力する。
【００５４】
また、上記のように光源６３から出力されたレーザ出力光はＬＣＤ６４へ出力される。
【００５５】
ＬＣＤ６４では光源６３から出力されたレーザ出力を用いて映像処理が施された映像信号に応じて表示装置へ表示するための映像が出力される。
【００５６】
ＬＣＤ６４から出力された映像は映像表示部（スクリーン）６５へ表示される。
【００５７】
この発明の実施の形態においては、レーザ光を反射するミラーの位置を修正できるように構成することで、レーザ光の光軸上の合波をより確実に行うことができ、同一光軸上の高出力のレーザを得ることができる効果がある。
【００５８】
また、この発明の実施の形態においては、複数のレーザ光を合波する偏光合波器を用い、それぞれのレーザ光源から出射された参照光の固有特性を測定することができるので参照光測定部における部品点数を減らすことができる効果がある。
【００５９】
【発明の効果】
上記説明したように、この発明の実施の形態においては、高出力のレーザを得ることができる効果がある。
【００６０】
また、この発明の実施の形態においては、レーザ光の光軸上の合波をより確実に行うことができる効果がある。
【００６１】
また、この発明の実施の形態においては、部品点数を減らすことができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態に係るレーザ装置を示す図。
【図２】この発明の実施の形態に係る参照光測定部を説明する図。
【図３】この発明の実施の形態に係る参照光の固有特性に応じたレーザ光源の制御を説明する図。
【図４】この発明の実施の形態に係るレーザ装置を用いた映像表示装置の一例を説明するブロック図。
【符号の説明】
１  …  第１の半導体レーザ
２  …  第２の半導体レーザ
３  …  第１のレーザ光
４  …  第２のレーザ光
７  …  コリメータレンズ
８  …  コリメータレンズ
９  …  第１のミラー
１０  …  第２のミラー
１１  …  偏光合成器（偏光ビームスプリッタ）
１２  …  薄膜偏光子
１３  …  参照光
１６  …  参照光測定部
２０  …  出力光
【図１】
2004330251.tif 000003
【図２】
2004330251.tif 000004
【図３】
2004330251.tif 000005
【図４】
2004330251.tif 000006