(57)【要約】【課題】Ｘ線検出器の置換やＸ線源の出力調整などを行うことなく、Ｘ線の強度を前記Ｘ線検出器の検出限界（比例領域）内に設定する。【解決手段】長さ方向Ｌにおいて連続的に厚さが変化したＸ線減衰部材１０の所定の位置にＸ線を入射させ、Ｘ線減衰部材１０の、前記Ｘ線の入射位置の厚さに対応した減衰率で、前記Ｘ線の強度を減衰させる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のＸ線吸収部材からなるとともに、少なくとも一方向に連続的又はステップ状に厚さが変化してなり、所定のＸ線を入射させることにより、その入射位置の、前記Ｘ線吸収部材の厚さに対応した減衰率で前記Ｘ線の強度を減衰させるようにしたことを特徴とする、Ｘ線減衰部材。
【請求項２】
前記Ｘ線吸収部材は楔型を呈することを特徴とする、請求項１に記載のＸ線減衰部材。
【請求項３】
少なくとも一方向に連続的又はステップ状に厚さが変化してなる複数のＸ線吸収部材を具え、所定のＸ線を入射させることにより、その入射位置の、前記複数のＸ線吸収部材の合計の厚さに対応した減衰率で前記Ｘ線の強度を減衰させるようにしたことを特徴とする、Ｘ線減衰部材。
【請求項４】
前記Ｘ線吸収部材は楔型を呈することを特徴とする、請求項３に記載のＸ線減衰部材。
【請求項５】
前記複数のＸ線吸収部材は、少なくとも２以上のＸ線吸収性材料からなることを特徴とする、請求項３又は４に記載のＸ線減衰部材。
【請求項６】
前記複数のＸ線吸収部材は、同一のＸ線吸収性材料からなることを特徴とする、請求項３又は４に記載のＸ線減衰部材。
【請求項７】
前記複数のＸ線吸収部材はＡｌからなり、特性Ｘ線ＷＬのＸ線強度を減衰させることを特徴とする、請求項６に記載のＸ線減衰部材。
【請求項８】
少なくとも一方向に連続的又はステップ状に厚さが変化してなるＸ線吸収部材を準備する工程と、
前記Ｘ線吸収部材の任意の位置に所定のＸ線を入射させることにより、その入射位置の、前記Ｘ線吸収部材の厚さに対応した減衰率で前記Ｘ線の強度を減衰させる工程と、
を具えることを特徴とする、Ｘ線減衰方法。
【請求項９】
前記Ｘ線吸収部材を、前記少なくとも一方向に移動させることにより、前記Ｘ線の強度を連続的又はステップ状に変化させることを特徴とする、請求項８に記載のＸ線減衰方法。
【請求項１０】
複数のＸ線を前記Ｘ線吸収部材の任意の位置に入射させることにより、それらの入射位置の、前記Ｘ線吸収部材の厚さに対応した減衰率で前記複数のＸ線の強度を減衰させることを特徴とする、請求項８又は９に記載のＸ線減衰方法。
【請求項１１】
前記Ｘ線吸収部材は楔形を呈することを特徴とする、請求項８〜１０のいずれか一に記載のＸ線減衰方法。
【請求項１２】
少なくとも一方向に連続的又はステップ状に厚さが変化してなる複数のＸ線吸収部材を準備する工程と、
前記複数のＸ線吸収部材の任意の位置に所定のＸ線を入射させることにより、その入射位置の、前記複数のＸ線吸収部材の合計の厚さに対応した減衰率で前記Ｘ線の強度を減衰させる工程と、
を具えることを特徴とする、Ｘ線減衰方法。
【請求項１３】
前記複数のＸ線吸収部材を、前記少なくとも一方向に移動させることにより、前記Ｘ線の強度を連続的又はステップ状に変化させることを特徴とする、請求項１２に記載のＸ線減衰方法。
【請求項１４】
複数のＸ線を前記複数のＸ線吸収部材の任意の位置に入射させることにより、それらの入射位置の、前記複数のＸ線吸収部材の合計の厚さに対応した減衰率で前記複数のＸ線の強度を減衰させることを特徴とする、請求項１２又は１３に記載のＸ線減衰方法。
【請求項１５】
前記Ｘ線吸収部材は楔形を呈することを特徴とする、請求項１２〜１４のいずれか一に記載のＸ線減衰方法。
【請求項１６】
Ｘ線源と、
前記Ｘ線源の後方に設けられた請求項１〜７のいずれか一に記載のＸ線減衰部材と、
前記Ｘ線減衰部材の後方に設けられた入射Ｘ線検出器と、
前記入射Ｘ線検出器の後方であって、前記入射Ｘ線検出器と測定試料を介して対向するように配置された透過Ｘ線検出器と、
前記Ｘ線減衰部材を構成する前記Ｘ線吸収部材を、所定の制御信号に基づいて前記Ｘ線吸収部材の厚さ変化方向に駆動させるための制御系と、
を具えることを特徴とする、ＸＡＦＳ実験装置。
【請求項１７】
Ｘ線源と、前記Ｘ線源の後方に設けられた請求項１〜７のいずれか一に記載のＸ線減衰部材と、前記Ｘ線減衰部材の後方に設けられた入射Ｘ線検出器と、前記入射Ｘ線検出器の後方であって、前記入射Ｘ線検出器と測定試料を介して対向するように配置された透過Ｘ線検出器と、前記Ｘ線減衰部材を構成する前記Ｘ線吸収部材を、前記Ｘ線吸収部材の厚さ変化方向に駆動させるための制御系とを具えるＸＡＦＳ実験装置を準備する工程と、
前記制御系に対して所定の制御信号を送信することによって、前記Ｘ線減衰部材を構成する前記Ｘ線吸収部材を、厚さ変化方向に駆動させる工程と、
を具えることを特徴とする、ＸＡＦＳ測定方法。
【請求項１８】
前記制御信号は、前記入射Ｘ線検出器及び前記透過Ｘ線検出器の少なくとも一方の検出限界のＸ線強度に対応する直流電圧値をＩＳ、前記Ｘ線源からのＸ線の強度に対応する直流電圧値をＩＲとした場合において、ＩＲ−ＩＳで表されることを特徴とする、請求項１７に記載のＸＡＦＳ測定方法。
【請求項１９】
ＩＲ−ＩＳ＞０である場合において、前記制御系により、前記Ｘ線吸収部材を構成する前記Ｘ線吸収部材の厚さが大きくなるように前記Ｘ線吸収部材を駆動することを特徴とする、請求項１８に記載のＸＡＦＳ測定方法。
【請求項２０】
ＩＲ−ＩＳ＜０である場合において、前記制御系により、前記Ｘ線吸収部材を構成する前記Ｘ線吸収部材の厚さが小さくなるように前記Ｘ線吸収部材を駆動することを特徴とする、請求項１８に記載のＸＡＦＳ測定方法。
【請求項２１】
ＩＲ−ＩＳをモニター信号として用い、ＩＲ−ＩＳ＝０となるように前記Ｘ線吸収部材を駆動することを特徴とする、請求項１９又は２０に記載のＸＦＡＳ測定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｘ線減衰部材、Ｘ線減衰方法、ＸＡＦＳ実験装置及びＸＡＦＳ測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、Ｘ線検出器の検出限界（比例領域）を越えた強いＸ線が前記Ｘ線検出器に入射した場合、前記Ｘ線検出器はいわゆる“数えおとし”という現象を生じ、前記Ｘ線の入射強度に対する出力強度の比例関係が失われる。その結果、そのような状態で測定操作を実行した場合、測定結果に誤差を生じてしまっていた。このような場合、前記Ｘ線検出器をより高性能のものに変更する、あるいはＸ線源の出力を制御することにより、前記Ｘ線の強度を低減するなどの試みがなされていた。
【０００３】
しかしながら、前述したようなＸ線検出器を実際に組み込んだ測定装置は、種々の測定に対処できるように、種々の装置が組み込まれて構成されている。したがって、前記Ｘ線源の出力を変更すると他の装置へ与える影響が大きく、測定の度毎に総て装置の設定条件などを変更する必要性が生じ、測定操作を非常に困難かつ複雑なものにしてしまっていた。また、十分広範囲なＸ線強度に対応できるようなＸ線検出器は現状では存在しない。したがって、使用するＸ線の強度に応じて随時適切な検出器で置き換える必要が生じ、この場合においても、測定操作を非常に困難かつ複雑なものにしてしまっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、Ｘ線検出器の置換やＸ線源の出力調整などを行うことなく、Ｘ線の強度を前記Ｘ線検出器の検出限界（比例領域）内に設定することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく、本発明は、
所定のＸ線吸収部材からなるとともに、少なくとも一方向に連続的又はステップ状に厚さが変化してなり、所定のＸ線を入射させることにより、その入射位置の、前記Ｘ線吸収部材の厚さに対応した減衰率で前記Ｘ線の強度を減衰させるようにしたことを特徴とする、Ｘ線減衰部材に関する。
【０００６】
また、本発明は、
少なくとも一方向に連続的又はステップ状に厚さが変化してなるＸ線吸収部材を準備する工程と、
前記Ｘ線吸収部材の任意の位置に所定のＸ線を入射させることにより、その入射位置の、前記Ｘ線吸収部材の厚さに対応した減衰率で前記Ｘ線の強度を減衰させる工程と、
を具えることを特徴とする、Ｘ線減衰方法に関する。
【０００７】
本発明のＸ線減衰部材をＸ線検出器の前方に配置し、所定のＸ線源からのＸ線が前記Ｘ線検出器に入射する以前に、前記Ｘ線減衰部材に入射させることにより、前記Ｘ線の強度は、前記Ｘ線減衰部材の、前記Ｘ線吸収部材の厚さに対応した減衰率で減衰するようになる。なお、この減衰の程度は以下に示すランバートベールの光吸収の法則によって定義づけられる。
【０００８】
Ｉ＝Ｉ０ｅ−μｔ
μ  ：（Ｘ線吸収部材の）線吸収計数
ｔ  ：試料（Ｘ線吸収部材）の厚さ
Ｉ０  ：（Ｘ線吸収部材に対する）入射Ｘ線の強度
Ｉ  ：（Ｘ線吸収部材からの）透過Ｘ線の強度
【０００９】
したがって、前記Ｘ線強度の大小に依存して、前記Ｘ線減衰部材の前記Ｘ線吸収部材をその厚さ変化方向に適宜移動するようにすれば、前記Ｘ線の、前記Ｘ線吸収部材への入射位置を適宜に制御することができ、前記入射位置の、前記Ｘ線吸収部材の厚さに対応した減衰率で前記Ｘ線の強度を減衰できるようになる。
【００１０】
具体的には、前記Ｘ線の強度が大きい場合は、前記Ｘ線減衰部材の前記Ｘ線吸収部材を移動させ、前記Ｘ線が前記Ｘ線吸収部材の、比較的厚い部分に入射するようにする。これによって、前記Ｘ線の強度は比較的大きく減衰するようになる。また、前記Ｘ線の強度が小さい場合は、前記Ｘ線が前記Ｘ線吸収部材の、比較的薄い部分に入射するようにする。これによって、前記Ｘ線の強度の減衰率は比較的小さくなる。なお、Ｘ線強度が十分に小さく、使用するＸ線検出器の検出限界の範囲である場合は、当然に上述したＸ線減衰部材を使用することなく、前記Ｘ線を直接的に前記Ｘ線検出器に導入することができる。
【００１１】
本発明のＸ線減衰部材はその厚さ変化方向に移動可能であるので、Ｘ線の入射位置を制御することにより、前記Ｘ線の強度減衰率を任意に制御できるようになる。また、Ｘ線強度の減衰が必要でない場合は、前記Ｘ線減衰部材をＸ線の伝播経路から除外するようにすることもできる。
【００１２】
本発明の好ましい態様においては、上述したＸ線吸収部材を複数設け、この複数のＸ線吸収部部材を一体的に扱い、前記複数のＸ線吸収部材の所定位置にＸ線が入射するようにする。この場合、単独のＸ線吸収部材を使用する場合に比較して、前記複数のＸ線吸収部材の、全体的な厚さをより広範囲に設定できるため、前記Ｘ線の前記複数のＸ線吸収部材への入射位置を適宜に変化させることによって、前記Ｘ線の減衰率を広範囲に設定できるようになる。
【００１３】
なお、この場合においても、Ｘ線強度の減衰が必要でない場合は、前記複数のＸ線吸収部材をＸ線伝播経路から除外することができる。
【００１４】
また、前記複数のＸ線吸収部材は、互いの材料種類が異なるように２以上のＸ線吸収性材料から構成することができる。この場合、前記複数のＸ線吸収部材の合計の厚さのみならず、各Ｘ線吸収部材を構成する材料種類によってＸ線の減衰率を制御できるようになる。したがって、より広範囲なＸ線強度の制御が可能となる。
【００１５】
また、前記複数のＸ線吸収部材は、同一の材料種類から構成することができる。この場合でも、前記複数のＸ線吸収部材それぞれの厚さの範囲を適宜制御し、これらを組み合わせた前記複数のＸ線吸収部材の合計厚さを適宜に制御することにより、所定のＸ線に対して広範囲な減衰率を設定することができ、所望の強度まで減衰できるようにすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を発明の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明のＸ線減衰部材の一例を示す構成図である。図１に示すＸ線減衰部材１０は、楔形のＸ線吸収部材１１を具えている。Ｘ線吸収部材１１は、長さ方向Ｌに沿って厚さが連続的に変化し、右端において最小値ｔを有し、左端において最大値Ｔを有する。なお、Ｘ線吸収部材１１の長さＬ及び高さＨは、減衰すべきＸ線のスポット径や、組み込むべき装置の大きさや用途などに応じて適宜設定する。
【００１７】
図１に示すＸ線減衰部材１０の所定の位置に、例えば矢印で示すように所定強度のＸ線が入射すると、前記Ｘ線はＸ線減衰部材１０を構成するＸ線吸収部材１１を透過する際に、上述したランバートベールの光吸収の法則にしたがって減衰するようになる。したがって、Ｘ線吸収部材１１は長さ方向Ｌにおいて厚さが連続的に変化しているので、前記Ｘ線の強度に応じて前記Ｘ線の、Ｘ線吸収部材１１に対する入射位置を、長さ方向Ｌにおいて変化させることにより、前記Ｘ線強度の減衰率を任意に制御できるようになり、所望強度のＸ線を得ることができるようになる。
【００１８】
具体的には、比較的大きな減衰率でＸ線強度を減衰させる場合、Ｘ線はＸ線吸収部材１１の比較的厚い部分に入射させる。比較的小さな減衰率でＸ線強度を減衰させる場合、Ｘ線はＸ線吸収部材１１の比較的薄い部分に入射させる。なお、Ｘ線強度を減衰させる必要がない場合は、Ｘ線吸収部材１１をＸ線伝播経路から除外する。
【００１９】
また、Ｘ線減衰部材１０を長さ方向Ｌに沿って移動させることによって、前記Ｘ線強度に対する減衰率を連続的又はステップ状に変化させることができ、前記Ｘ線強度を連続的又はステップ状に変化させることができるようになる。
【００２０】
さらに、複数のＸ線の強度減衰を実現する際にも、前記複数のＸ線それぞれの強度及び所望する減衰率に応じて、前記複数のＸ線の、Ｘ線吸収部材１１における長さ方向Ｌでの入射位置を適宜に制御することにより、前記複数のＸ線それぞれを所望の強度まで減衰させることができるようになる。
【００２１】
なお、図１において、Ｘ線吸収部材１１は楔形を呈しているが、その他の形状を呈することもできる。しかしながら、Ｘ線吸収部材１１を楔形に形成することにより、本発明の作用効果を奏するＸ線吸収部材１１を簡易に形成することができる。
【００２２】
図２は、図１に示すＸ線減衰部材の変形例を示す構成図である。図２に示すＸ線減衰部材１５は、長さ方向Ｌに沿って厚さが連続的に変化し、右端において最小値ｔを有し、左端において最大値Ｔを有する。Ｘ線の強度に応じて前記Ｘ線の、Ｘ線吸収部材１６に対する入射位置を、長さ方向Ｌにおいて変化させることにより、前記Ｘ線強度の減衰率をステップ状に制御できるようになり、所望強度のＸ線を得ることができるようになる。なお、Ｘ線吸収部材１６の各部分の寸法は図１に示すものと同じにすることができる。
【００２３】
図３は、本発明のＸ線減衰部材の他の例を示す構成図である。図３に示すＸ線減衰部材２０は、楔形の第１のＸ線吸収部材２１と、同じく楔形の第２のＸ線吸収部材２２とを具えている。第１のＸ線吸収部材２１は、長さ方向Ｌ１に沿って連続的に厚さが変化しており、右端において最小値ｔ１を有し、左端において最大値Ｔ１を有している。第２のＸ線吸収部材２２は、長さ方向Ｌ２に沿って、第１のＸ線吸収部材２１と逆方向に連続的に厚さが変化しており、右端において最大値Ｔ２を有し、左端において最小値ｔ２を有している。
【００２４】
図３に示すＸ線減衰部材２０の所定の位置に、例えば矢印で示すように所定強度のＸ線が入射すると、前記Ｘ線はＸ線減衰部材２０を構成する第１のＸ線吸収部材２１及び第２のＸ線吸収部材２２を透過する際に、上述したランバートベールの光吸収の法則にしたがって減衰するようになる。したがって、Ｘ線吸収部材２１及び２２は長さ方向Ｌ１及びＬ２において厚さが連続的に変化しているので、前記Ｘ線の強度に応じて前記Ｘ線の、Ｘ線吸収部材２１及び２２に対する入射位置を、長さ方向Ｌ１及びＬ２において変化させることにより、前記Ｘ線強度の減衰率を任意に制御できるようになり、所望強度のＸ線を得ることができるようになる。
【００２５】
具体的には、比較的大きな減衰率でＸ線強度を減衰させる場合、第１のＸ線吸収部材２１を右側へ移動させ、第２のＸ線吸収部材２２を左側へ移動させることにより、Ｘ線の伝播経路における第１のＸ線吸収部材２１及び第２のＸ線吸収部材２２の合計の厚さが大きくなるようにする。比較的小さな減衰率でＸ線強度を減衰させる場合、第１のＸ線吸収部材２１を左側へ移動させ、第２のＸ線吸収部材２２を左側へ移動させることにより、Ｘ線伝播経路における第１のＸ線吸収部材２１及び第２のＸ線吸収部材２２の合計の厚さが小さくなるようにする。
【００２６】
なお、Ｘ線強度を減衰率をより小さくする際には、Ｘ線吸収部材２１及び２２の一方のみを用いることもできるし、Ｘ線強度を減衰させる必要がない場合は、Ｘ線吸収部材２１及び２２をＸ線伝播経路から除外することもできる。
【００２７】
また、第１のＸ線減衰部材２１を長さ方向Ｌ１に沿って移動させ、第２のＸ線減衰部材２２を長さ方向Ｌ２に沿って移動させることにより、Ｘ線強度に対する減衰率を連続的又はステップ状に変化させることができ、前記Ｘ線強度を連続的又はステップ状に変化させることができるようになる。
【００２８】
さらに、複数のＸ線の強度減衰を実現する際にも、前記複数のＸ線それぞれの強度及び所望する減衰率に応じて、前記複数のＸ線の、Ｘ線吸収部材２１及び２２における長さ方向Ｌ１及びＬ２での入射位置を適宜に制御することにより、前記複数のＸ線それぞれを所望の強度まで減衰させることができるようになる。
【００２９】
なお、図３においても、Ｘ線吸収部材２１及び２２は楔形を呈しているが、その他の形状を呈することもできる。しかしながら、Ｘ線吸収部材２１及び２２を楔形に形成することにより、本発明の作用効果を奏するＸ線吸収部材を簡易に形成することができる。
【００３０】
図３に示すＸ線減衰部材２０において、第１のＸ線吸収部材２１及び第２のＸ線吸収部材２２は同一のＸ線吸収性材料から構成することもできるし、それぞれ異なるＸ線吸収性材料から構成することもできる。前者の場合、Ｘ線吸収部材２１及び２２の合計の厚さのみならず、Ｘ線吸収部材２１及び２２を構成する材料種類によってＸ線の減衰率を制御できるようになる。したがって、より広範囲なＸ線強度の制御が可能となる。後者の場合でも、Ｘ線吸収部材２１及び２２の厚を適宜制御することにより、広範囲な減衰率を実現することができ、また設計が容易になるという利点もある。
【００３１】
例えば、第１のＸ線吸収部材２１及び第２のＸ線吸収部材２２をＡｌから構成する場合、厚さｔ１＝ｔ２＝０．０２５ｍｍに設定し、厚さＴ１＝Ｔ２＝５ｍｍに設定することにより、Ｘ線源のフィラメント材に起因した特性Ｘ線であるＷＬを汎用のＸ線検出器で検出できるような強度まで十分に低減することができるようになる。
【００３２】
図４は、図２に示すＸ線減衰部材の変形例を示す構成図である。図４に示すＸ線減衰部材２５においては、Ｘ線吸収部材２６及び２７が長さ方向Ｌ１及びＬ２において厚さがステップ状に変化しているので、Ｘ線の強度に応じて前記Ｘ線の、Ｘ線吸収部材２６及び２７に対する入射位置を、長さ方向Ｌ１及びＬ２において変化させることにより、前記Ｘ線強度の減衰率をステップ状に制御できるようになり、所望強度のＸ線を得ることができるようになる。この場合、Ｘ線吸収部材の各部分の寸法は図３に示すものと同じにすることができる。
【００３３】
図５は、本発明のＸ線減衰部材を組み込んだＸＡＦＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ  Ｆｉｎｅ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）測定装置の一例を示す構成図である。図５に示す装置においては、Ｘ線源Ｓと、分光結晶Ｍと、入射Ｘ線検出器（Ｉ０検出器）と、透過Ｘ線検出器（Ｉ検出器）と、Ｉ０検出器の前方であって分光結晶Ｍの後方において、図３で示すような構成のＸ線減衰部材Ａとを具えている。また、Ｘ線減衰部材Ａには、Ｘ線減衰部材制御系が連結されており、上述したようにＸ線減衰部材を構成するＸ線吸収部材を移動させ、入射Ｘ線のＸ線強度を所定の減衰率で減衰できるように構成されている。
【００３４】
Ｘ線源ＳからのＸ線はスリットを通過した後、分光結晶Ｍによるブラッグ反射によって下方に反射され、Ｘ線減衰部材Ａを通過した後、スリットを介してＩ０検出器に入射される。その後、前記Ｘ線はＩ０検出器を通過した後試料内に導入される。前記Ｘ線は前記試料を透過し、得られた透過Ｘ線はＩ検出器内に導入される。
【００３５】
Ｉ検出器で受光した透過Ｘ線の強度は、レートメータによって相当する直流電圧値ＩＲに変換され、この直流電圧値ＩＲは前記Ｘ線減衰部材制御系に導入される。一方、Ｉ検出器の検出限界（比例限界）に相当する直流電圧値ＩＳが予め前記レートメータから前記Ｘ線減衰部材制御系に導入されている。前記制御系では、ＩＲ−ＩＳが演算され、この演算値を制御信号として用い、前記Ｘ線減衰部材制御系によりＸ線減衰部材Ａを図３で説明したようにして制御する。
【００３６】
具体的には、ＩＲ−ＩＳ＞０である場合、すなわち、透過Ｘ線の強度がＩ検出器の検出限界よりも大きい場合、前記制御系により、Ｘ線伝播経路における、Ｘ線減衰部材Ａを構成するＸ線吸収部材の厚さが大きくなるように前記Ｘ線吸収部材を駆動する。これによって前記透過Ｘ線の強度を十分に減衰することができ、Ｉ検出器での正確な検出を可能とすることができる。
【００３７】
ＩＲ−ＩＳ＜０である場合、すなわち、透過Ｘ線の強度がＩ検出器の検出限界よりも小さい場合、前記制御系により、Ｘ線伝播経路における、Ｘ線減衰部材Ａを構成する前記Ｘ線吸収部材の厚さが小さくなるように前記Ｘ線吸収部材を駆動する。また、Ｘ線減衰部材ＡをＸ線伝播経路から除外することもできる。
【００３８】
前記制御系による駆動は、ＩＲ−ＩＳをモニター信号として用い、ＩＲ−ＩＳ＝０となるようにしてＸ線減衰部材Ａの前記Ｘ線吸収部材を駆動する。
【００３９】
以上、具体例を挙げながら発明の実施の形態に基づいて本発明を詳細に説明してきたが、本発明は上記内容に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。
【００４０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のＸ線減衰部材及びＸ線減衰方法によれば、Ｘ線検出器の置換やＸ線源の出力調整などを行うことなく、Ｘ線の強度を前記Ｘ線検出器の検出限界（比例領域）内に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＸ線減衰部材の一例を示す構成図である。
【図２】図１に示すＸ線減衰部材の変形例を示す構成図である。
【図３】本発明のＸ線減衰部材の他の例を示す構成図である。
【図４】図３に示すＸ線減衰部材の変形例を示す構成図である。
【図５】本発明のＸ線減衰部材を組み込んだＸＡＦＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ  Ｆｉｎｅ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）測定装置の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
１０、１５、２０、２５  Ｘ線減衰部材
１１、１６  Ｘ線吸収部材
２１、２６  第１のＸ線吸収部材
２２、２７  第２のＸ線吸収部材
【図１】
2004317299.tif 000003
【図２】
2004317299.tif 000004
【図３】
2004317299.tif 000005
【図４】
2004317299.tif 000006
【図５】
2004317299.tif 000007