(57)【要約】【課題】電気メッキの操業中に、電気メッキ浴中のスラッジ（異物）を除去し、スラッジを低濃度に安定して保持する電気メッキ浴中のスラッジ除去装置および除去方法を提供する。【解決手段】鋼板表面に電気メッキを行うメッキ液中のスラッジを除去する装置であって、電気メッキを行うメッキセルにメッキ液を循環させる循環タンクと、前記循環中のメッキ液の一部を取り出してメッキ液中のスラッジを交互に沈殿分離する複数の沈殿タンクとを有することを特徴とする電気メッキ浴中のスラッジ除去装置および除去方法。【選択図】　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼板表面に電気メッキを行うメッキ液中のスラッジを除去する装置であって、電気メッキを行うメッキセルにメッキ液を循環させる循環タンクと、前記循環中のメッキ液の一部を取り出してメッキ液中のスラッジを交互に沈殿分離する複数の沈殿タンクとを有することを特徴とする電気メッキ浴中のスラッジ除去装置。
【請求項２】
鋼板表面に電気メッキを行うメッキ液中のスラッジを除去する方法であって、電気メッキを行うメッキセルと循環タンクとにメッキ液を循環させ、前記循環中のメッキ液の一部を取り出してメッキ液中のスラッジを沈殿分離し、スラッジ濃度の低いメッキ液を前記循環タンクに戻すことを特徴とする電気メッキ浴中のスラッジ除去方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気メッキ浴中のスラッジ（異物）を除去する電気メッキ浴中のスラッジ除去装置および除去方法に関する。
特に、電気メッキの操業中に、電気メッキ浴中のスラッジ（異物）を除去する電気メッキ浴中のスラッジ除去装置および除去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気亜鉛メッキ（ＥＧＬ）や亜鉛ニッケルメッキなどの電気メッキラインでの歩留まり低下の要因として、メッキセルにおける押疵が問題となっている。
このメッキセルにおける押疵は、メッキ液中の鉛を強制的に沈殿させるために添加する炭酸ストロンチウムが電気分解して硫酸ストロンチウムが生成し、電気メッキラインの操業停止中にメッキ液の循環タンクの底部に沈殿し凝集肥大化して粒径７５〜２００μｍのスラッジ（異物）として、メッキセルに設置されているコンダクターロールやサポートロールと鋼板との間に噛みこむことにより発生する。
【０００３】
この電気メッキ浴中のスラッジ（異物）を除去する方法として、従来から、フィルターや遠心分離機などを用いて機械的にスラッジを分離・除去する方法が知られている。
しかし、フィルターを使用する方法は、フィルターの目詰まりが問題となり、そのためフィルターの清掃が煩雑となるという欠点があった。
【０００４】
また、遠心分離機を使用する場合には、例えば、特開昭６２−７４４８６号公報に開示されているような遠心分離機と、その付帯設備が必要となり、設備費が高価となるうえ、煩雑なメインテナンス作業が発生するという問題点があった。さらに、従来のバッチ式の沈殿槽を用いた沈殿分離方法では、メッキ操業中に連続的にスラッジを分離することは困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前述のような従来技術の問題点を解決し、電気メッキの操業中に、電気メッキ浴中のスラッジ（異物）を除去し、スラッジを低濃度に安定して保持できる電気メッキ浴中のスラッジ除去装置および除去方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決する手段】
本発明は、前述の課題を解決するために鋭意検討を進めた結果、メッキ液の循環タンクとは別に、複数の沈殿タンクを設けることにより循環中のメッキ液の一部をこの沈殿タンクに移液してスラッジ（異物）を間欠的に沈殿分離させ、スラッジ濃度の低いメッキ液を循環タンクに戻すことにより、電気メッキの操業中に、電気メッキ浴中のスラッジ（異物）を除去し、スラッジを低濃度に安定して保持する電気メッキ浴中のスラッジ除去装置および除去方法を提供するものであり、その要旨とするところは、特許請求の範囲に記載した通りの下記内容である。
【０００７】
（１）　鋼板表面に電気メッキを行うメッキ液中のスラッジを除去する装置であって、電気メッキを行うメッキセルにメッキ液を循環させる循環タンクと、前記循環中のメッキ液の一部を取り出してメッキ液中のスラッジを交互に沈殿分離する複数の沈殿タンクとを有することを特徴とする電気メッキ浴中のスラッジ除去装置。
（２）　鋼板表面に電気メッキを行うメッキ液中のスラッジを除去する方法であって、電気メッキを行うメッキセルと循環タンクとにメッキ液を循環させ、前記循環中のメッキ液の一部を取り出してメッキ液中のスラッジを沈殿分離し、スラッジ濃度の低いメッキ液を前記循環タンクに戻すことを特徴とする電気メッキ浴中のスラッジ除去方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を、図１乃至図５を用いて詳細に説明する。
図１は、電気メッキラインの操業中におけるメッキ液の存在割合を示す図である。
図１において、通常操業時においてメッキ液は、左右のタンクに分かれているメッキセル３と循環タンク４、５に例えば、図１に示す量だけ存在し、メッキ液はメッキセルと循環タンクとの間をポンプにより矢印の方向に循環している。
【０００９】
この実施形態では、２基の循環タンク４，５が設けられており、両タンクの間には液面レベルを調整するために流量調整弁が設けられているが、この循環タンクは１基でも構わない。
メッキ液は、オーバーフロー７により、常に一定量が消費されており、鋼板表面にメッキすることによりメッキ液中の成分は常に消費される。この消費されたメッキ液中の成分を補充するため、循環タンク４には、増液に必要なろ過淡水（ＦＷ）、Ｚｎ，Ｈ２ＳＯ４などの原料８が必要に応じて供給される。
循環タンク４、５の先には、それぞれ１基ずつ沈殿タンク１、２が設置されており、循環しているメッキ液の一部をこの沈殿タンク１，２に移液することにより、メッキ液中のスラッジを沈殿分離することができる。
なお、図１の矢印６はメッキ鋼板の進行方向を示す。
【００１０】
図２は、メッキ液を＃１沈殿タンクから＃２沈殿タンクに移液する前のメッキ液の存在割合を示す図である。
図２において、＃１沈殿タンク１に７０ｍ３、＃２沈殿タンク２に２０ｍ３のメッキ液が入っているが、本実施形態では、約２ｈの間に、＃１沈殿タンク１から６０ｍ３を＃１循環タンク４に移し、＃２循環タンク５から５０ｍ３を＃２沈殿タンク２に移す。
この操作によって、循環している１１０ｍ３のメッキ液のうち、５０ｍ３をメッキ操業中に入れ替えることができる。
【００１１】
図３は、メッキ液を＃１沈殿タンクから＃２沈殿タンクに移液した後のメッキ液の存在割合を示す図である。
＃２循環タンク５から＃２沈殿タンク２に移された５０ｍ３のメッキ液はスラッジを含んでおり、＃２沈殿タンク２に移された後、約２０ｈかけて静置・沈殿を行うことにより、スラッジを＃２沈殿タンク２の底部に沈殿除去する。
図４は、メッキ液を＃２沈殿タンクから＃１沈殿タンクに移液する前のメッキ液の存在割合を示す図である。
図４において、＃２沈殿タンク１に７０ｍ３、＃１沈殿タンク２に１０ｍ３のメッキ液が入っているが、本実施形態では、約２ｈの間に、＃２沈殿タンク２から６０ｍ３を＃２循環タンク５に移し、＃１循環タンク５から６０ｍ３を＃１沈殿タンク１に移す。
【００１２】
この操作によって、循環している１２０ｍ３のメッキ液のうち、６０ｍ３をメッキ操業中に入れ替えることができる。
図５は、メッキ液を＃２沈殿タンクから＃１沈殿タンクに移液した後のメッキ液の存在割合を示す図である。
＃１循環タンク４から＃１沈殿タンク１に移された６０ｍ３のメッキ液はスラッジを含んでおり、＃１沈殿タンク１に移された後、約２０ｈかけて静置・沈殿を行うことにより、スラッジを＃１沈殿タンク１の底部に沈殿除去する。
そして、再度図２乃至図５の移液（２ｈ×２回）と沈殿分離（２０ｈ×２回）のサイクルを繰り返すことにより、スラッジを沈殿分離した上澄みメッキ液を循環タンクに戻し、スラッジを含むメッキ液を沈殿タンクに移液することが可能となる。その結果、循環しているメッキ液中のスラッジは間欠的に沈殿除去され、メッキ液中のスラッジを低濃度に維持することができる。
【００１３】
また、本発明によれば、フィルターを使用しないことからメンテナンスフリーとなり、遠心分離機などを使用せずに沈殿タンクだけを用いることから、装置が安価である。
さらに、沈殿分離することにより確実に分離し、かつ、操業中も半連続的（間欠的）に沈殿分離することができるので操業を中断する必要がない。
【００１４】
【実施例】
本発明の実施例を図６に、比較例を図７に示す。
図６は、本発明の電気メッキ浴中のスラッジ除去装置を用いた実施例を示す図である。
図６において、横軸は操業時間（ｈ）を示し、縦軸は循環しているメッキ液中のスラッジ濃度（ｍｇ／ｌ）を示す。
本発明により、２２ｈサイクルで間欠的にメッキ液の沈殿分離を行ったので
２２ｈサイクルでスラッジ濃度が上下し、メッキ液中のスラッジ濃度は操業開始後約２００ｈで１５０ｍｇ／ｌで一定値を示している。
また、押疵を発生させる粒径７５μｍ超のスラッジは、５０ｍｇ／ｌ以下となっており、押疵の防止効果は著しい。
【００１５】
図７は、従来の電気メッキ浴中のスラッジ除去装置を用いた比較例を示す図である。
メッキ液中のスラッジ量は３５０ｍｇ／ｌを超えており、押疵を発生させる粒径７５μｍ超のスラッジも約１００ｍｇ／ｌ存在するので、押疵発生の可能性が高い。
【００１６】
【発明の効果】
本発明によれば、複数の沈殿タンクを設けることにより循環中のメッキ液の一部をこの沈殿タンクに移液してスラッジ（異物）を間欠的に沈殿分離させることにより、電気メッキの操業中に、電気メッキ浴中のスラッジ（異物）を除去し、スラッジを低濃度に安定して保持する電気メッキ浴中のスラッジ除去装置および除去方法を提供することができ、具体的には以下のような、産業上有用な著しい効果を奏する。
【００１７】
１）フィルターなどを用いないため清掃などの煩雑な作業を排除できる。
２）遠心分離機を使用しないため、設備費が安価であり、摺動部が無いため維持管理が容易である。
３）全量移液を行う沈殿タンクとは異なり、操業中も半連続的（間欠的）に沈殿分離ができ、メッキ操業を中断することなくスラッジを低濃度に維持することができる。
４）原理が簡単であり、初期設備費が安価で、さらにメインテナンスの必要がない。
【図面の簡単な説明】
【図１】電気メッキラインの操業中におけるメッキ液の存在割合を示す図である。
【図２】メッキ液を＃１沈殿タンクから＃２沈殿タンクに移液する前のメッキ液の存在割合を示す図である。
【図３】メッキ液を＃１沈殿タンクから＃２沈殿タンクに移液した後のメッキ液の存在割合を示す図である。
【図４】メッキ液を＃２沈殿タンクから＃１沈殿タンクに移液する前のメッキ液の存在割合を示す図である。
【図５】メッキ液を＃２沈殿タンクから＃１沈殿タンクに移液した後のメッキ液の存在割合を示す図である。
【図６】本発明の電気メッキ浴中のスラッジ除去装置を用いた実施例を示す図である。
【図７】従来の電気メッキ浴中のスラッジ除去装置を用いた比較例を示す図である。
【符号の説明】
１　　：♯１沈殿タンク
２　　：♯２沈殿タンク
３　　：メッキセル
４　　：＃１循環タンク
５　　：＃２循環タンク
６　　：メッキ鋼板の進行方向
７　　：オーバーフロー
８　：増液に必要な原料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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