(57)【要約】【課題】フォトレジスト膜を含む基板（以下、基板、という）に現像液を供給する際に、現像液の流速ムラなどの発生を抑制し、安定した現像処理を行うことができる現像処理装置および現像処理方法を提供する。【解決手段】基板２を保持するための基板保持手段５と、現像液を基板２に供給するためのノズル１と、プレート４とを備え、基板２に現像液を供給する際に、プレート４の上面と基板２の上面とが面一、かつ、プレート４と基板２との間隔が所定の間隔以下となるように、基板２近傍にプレート４を配置するプレート移動手段４１と、ノズル１が、プレート４および基板２の上面に沿って移動しながら、プレート４に現像液を供給した後に、続けて基板２に現像液を供給するノズル移動手段とを備えた現像処理装置とする。【選択図】　図２
2004128282.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジスト膜を含む基板に現像液を供給することで、前記フォトレジスト膜を現像処理する現像処理装置であって、
前記基板を保持するための基板保持手段と、前記現像液を前記基板に供給するためのノズルと、プレートとを備え、
前記基板に前記現像液を供給する際に、前記プレートの上面と前記基板の上面とが面一、かつ、前記プレートと前記基板との間隔が所定の間隔以下となるように、前記基板近傍に前記プレートを配置するプレート移動手段と、
前記ノズルが前記プレートおよび前記基板の上面に沿って移動しながら、前記プレートに前記現像液を供給した後に、続けて前記基板に前記現像液を供給するように前記ノズルを移動させるノズル移動手段とを備えた現像処理装置。
【請求項２】
前記所定の間隔が、１．５ｍｍ以下の値である請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項３】
前記プレートが、前記基板の厚さよりも厚みの大きい部分を有している請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項４】
前記プレートの前記基板側端面の厚さが、前記基板の厚さよりも大きい請求項３に記載の現像処理装置。
【請求項５】
前記プレートが、脱着可能である請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項６】
前記プレートの洗浄を行う洗浄手段をさらに備えた請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項７】
前記ノズルが、リニアノズルである請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項８】
フォトレジスト膜を含む基板の上面に沿って現像液を供給することにより、前記フォトレジスト膜の現像処理を行う現像処理方法であって、
（ｉ）プレートを、前記プレートの上面と前記基板の上面とが面一、かつ、前記プレートと前記基板との間隔が所定の間隔以下となるように、前記基板近傍に配置する第１の工程と、
（ｉｉ）前記基板および前記プレートの上面に沿って移動するノズルによって、前記プレートに前記現像液を供給した後に、続けて前記基板に前記現像液を供給する第２の工程とを含む現像処理方法。
【請求項９】
前記所定の間隔が、１．５ｍｍ以下の値である請求項８に記載の現像処理方法。
【請求項１０】
前記プレートが、前記基板の厚さよりも厚みの大きい部分を有している請求項８に記載の現像処理方法。
【請求項１１】
前記プレートの前記基板側端面の厚さが、前記基板の厚さよりも大きい請求項１０に記載の現像処理方法。
【請求項１２】
前記ノズルがリニアノズルであり、
前記第２の工程が、前記基板を固定した状態で行われる請求項８に記載の現像処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、現像処理装置および現像処理方法に関する。
【０００２】
例えば、半導ウエハなどの基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う現像処理装置および現像処理方法に関するものである。
【０００３】
【従来の技術】
半導体デバイスなどの製造の際に、フォトレジスト膜を含む基板（以下、単に「基板」ともいう）に現像液を供給することで上記基板を現像処理する工程が用いられている。例えば、フォトレジスト膜が形成された半導体ウエハ上に、フォトリソグラフィー技術により回路パターンを転写し、これを現像処理すれば半導体ウエハに回路パターンを形成することができる。
【０００４】
現在、上記の現像処理工程において、ノズルから現像液を基板に連続的に供給し、現像液を所定時間だけ液盛りしてフォトレジスト膜に接触させることにより潜像パターンを現像する方法、いわゆるパドル方式が一般的に用いられている。パドル方式には、基板を回転させながら現像液を供給する回転方式や、固定した基板に対してノズルを一方向に平行に移動させながら現像液を供給するスキャン方式などがある（例えば、特許文献１を参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−０５７３３４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記のスキャン方式では、ノズルの吐出孔と基板表面とを近接させ、多数の吐出孔から同時に現像液を吐出することで、基板に現像液を供給している。その際、固定した基板に対してノズルを一方向に平行に移動させることで、基板上に現像液膜が形成される。また、ノズルの下端面を、基板に供給された現像液に接触した状態で移動させることで、現像液の液面を均一な状態にすることができる。
【０００７】
しかしながら、図９（ｃ）に示すように、ノズル１０１が基板１０２上にある程度進入した状態では、既に基板１０２に形成された現像液膜１０４上に新たな現像液が供給されるのに対して、図９（ａ）および（ｂ）に示すように、ノズル１０１が基板１０２上に進入しようとする際には、現像液１０３が基板１０２上に直接供給されることになる。
【０００８】
既に形成された現像液膜上に新たな現像液が供給される場合、フォトレジスト膜から見た現像液の流速は比較的均一であり、新たに供給される現像液がフォトレジスト膜へ与える衝撃は比較的小さいと思われる。また、既に形成されている現像液膜による緩衝効果も期待することができる。一方、現像液が基板上に直接供給される場合、ノズル吐出孔の直下にあたる領域と、吐出孔と吐出孔との間の下にあたる領域とでは、フォトレジスト膜から見た現像液の流速に比較的大きな差が生じる可能性がある。また、ノズルの吐出孔直下では、現像液がフォトレジスト膜に与える衝撃が比較的大きいと思われる。その結果、ノズルが進入する基板上の領域で、現像量、解像度、フォトレジスト膜厚などに局所的なムラが生じる可能性がある。特に、フォトレジスト膜上にさらに反射防止膜を形成した場合などは、基板表面が親水性となるため、ノズルが進入する領域における現像液の局所的な流速ムラはより大きくなると考えられる。また、レジストと反射防止膜のミキシングにより、現像処理後のフォトレジスト膜の膜減り量が大きくなる傾向にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の現像処理装置は、フォトレジスト膜を含む基板に現像液を供給することで、前記フォトレジスト膜を現像処理する現像処理装置であって、
前記基板を保持するための基板保持手段と、前記現像液を前記基板に供給するためのノズルと、プレートとを備え、
前記基板に前記現像液を供給する際に、前記プレートの上面と前記基板の上面とが面一、かつ、前記プレートと前記基板との間隔が所定の間隔以下となるように、前記基板近傍に前記プレートを配置するプレート移動手段と、
前記ノズルが前記プレートおよび前記基板の上面に沿って移動しながら、前記プレートに前記現像液を供給した後に、続けて前記基板に前記現像液を供給するように前記ノズルを移動させるノズル移動手段とを備えている。
【００１０】
上記の現像処理装置では、基板上に現像液を供給し現像液膜を形成する際に、基板近傍に配置されたプレート上にまず現像液が供給される。そのため、基板上に現像液が供給される際には、必ず、既に形成された現像液膜上に新たな現像液が供給されることになる。よって、基板上に直接現像液が供給されることがなく、フォトレジスト膜への衝撃や、現像液の流速ムラの発生などを抑制することができ、安定した現像処理を行うことができる。
【００１１】
本発明の現像処理方法は、フォトレジスト膜を含む基板の上面に沿って現像液を供給することにより、前記フォトレジスト膜の現像処理を行う現像処理方法であって、
（ｉ）プレートを、前記プレートの上面と前記基板の上面とが面一、かつ、前記プレートと前記基板との間隔が所定の間隔以下となるように、前記基板近傍に配置する第１の工程と、
（ｉｉ）前記基板および前記プレートの上面に沿って移動するノズルによって、前記プレートに前記現像液を供給した後に、続けて前記基板に前記現像液を供給する第２の工程とを含んでいる。
【００１２】
上記の現像処理方法では、基板上に現像液を供給して現像液膜を形成する際に、基板近傍に配置されたプレート上にまず現像液が供給される。そのため、基板上に現像液が供給される際には、必ず、既に形成された現像液膜上に新たな現像液が供給されることになる。よって、基板上に直接現像液が供給されることがなく、フォトレジスト膜への衝撃や、現像液の流速ムラの発生などを抑制することができ、安定した現像処理を行うことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態において、同一の部分については同一の符号を付し、重複する説明を省略する場合がある。
【００１４】
（実施の形態１）
本発明の現像処理装置は、フォトレジスト膜を含む基板に現像液を供給することで、前記フォトレジスト膜を現像処理する現像処理装置であって、前記基板を保持するための基板保持手段と、前記現像液を前記基板に供給するためのノズルと、プレートとを備え、前記基板に前記現像液を供給する際に、前記プレートの上面と前記基板の上面とが面一、かつ、前記プレートと前記基板との間隔が所定の間隔以下となるように、前記基板近傍に前記プレートを配置するプレート移動手段と、前記ノズルが前記プレートおよび前記基板の上面に沿って移動しながら、前記プレートに前記現像液を供給した後に、続けて前記基板に前記現像液を供給するように前記ノズルを移動させるノズル移動手段とを備えている。なお、現像処理されるフォトレジスト膜は、露光後のフォトレジスト膜である。
【００１５】
上記の現像処理装置では、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、ノズル１により基板２上に現像液３を供給する際に、基板２の近傍に配置されたプレート４上にまず現像液が供給される（図１（ｂ））。そのため、基板２上に現像液３が供給される際には、必ず、既に形成された現像液膜３１上に新たな現像液が供給されることになる（図１（ｃ））。よって、図９（ｂ）に示すように、基板上に直接現像液が供給されることがなく、フォトレジスト膜への衝撃や、現像液の流速ムラの発生などを抑制することができ、安定した現像処理を行うことができる。
【００１６】
図２および図３は、本発明における現像処理装置の構造例を示す模式図である。図３は、図２に示す例を上方（図２に示すＺ軸方向）から見た図である。なお、図２および図３には上記現像処理装置における主要部の構造のみを示し、また、上記構造を分かりやすくするために、一部の部材については図２および図３のいずれか一方にのみ示す。また、双方の図とも、基板２が上記現像処理装置にセットされた状態となっている。以下、図２および図３を主に用いて説明する。
【００１７】
この現像処理装置は、基板２を保持するための基板保持手段５と、現像液を基板２に供給するためのノズル１と、プレート４とを備えている。
【００１８】
基板保持手段５は、スピンチャック５１とスピンチャック駆動部５２とを備えている。スピンチャック５１は、真空吸着によって基板２を固定、保持することができる。また、スピンチャック５１は、基板２の有無に関わらず、スピンチャック駆動部５２により回転および昇降することが可能である。スピンチャック駆動部５２の構造は、スピンチャック５１を回転および昇降できれば特に限定されない。例えば、モーターまたはエアシリンダーなどを組み合わせて用いてもよい。また、上記スピンチャック以外にも基板を保持することができるものであれば、特に限定されずに基板保持手段に用いることができる。
【００１９】
ノズル１は、ノズル移動手段の一部であるノズルスキャンアーム１１に取り付けられている。ノズル１とノズルスキャンアーム１１は着脱可能であってもよい。着脱可能であれば、ノズル１およびノズルスキャンアーム１１のメンテナンス性を向上させることができる。
【００２０】
ノズル１としては、基板２に現像液を供給できるものであれば特に限定されない。例えば、現像液の吐出孔がほぼ直線状に並んだ構造を有するリニアノズルを用いてもよい。上記リニアノズルの一例を図４に示す。図４に示すリニアノズル１２は、多数の吐出孔１３がほぼ直線状に並んだ構造を有している。なお、吐出孔１３の配列は、完全に直線である必要はなく、必要に応じて弧状など任意の形状であってもよい。また図４に示すように一列である必要はなく、必要に応じて複数配列していてもよい。また、基板における現像液を供給したい領域の幅以上の長さを有するリニアノズルを用いた場合、基板全面に現像液を供給することができる。
【００２１】
ノズルスキャンアーム１１は、上下駆動部１５を介して垂直支持部材１４に取り付けられており、図２に示すＺ軸方向に垂直移動することができる。また、垂直支持部材１４は、ガイドレール７１に沿って、図２および図３に示すＸ軸方向に水平移動することができる。上記のようなノズル移動手段によって、ノズル１をＸ軸方向およびＺ軸方向に自由に移動させることができる。基板２に対するノズル１のＺ軸方向の相対位置（即ち、ノズル１と基板２とのＺ軸方向における間隔）を調整し、ノズル１が基板２の上面に沿ってＸ軸方向に水平移動しながら現像液を供給することで、基板２上に現像液膜を形成することができる。なお、ノズルスキャンアーム１１を中空構造などにすれば、ノズル１に現像液を供給する現像液供給管としての役割を与えることもできる。
【００２２】
垂直支持部材１４の構造は、上下駆動部１５を介してノズルスキャンアーム１１を保持でき、ガイドレール７１に沿ってＸ軸方向に水平移動することができれば特に限定されない。また、上下駆動部１５の構造は、ノズルスキャンアーム１１をＺ軸方向に垂直移動させることができれば特に限定されない。例えば、エアシリンダーまたはモーターなどを組み合わせて用いてもよい。
【００２３】
プレート４は、プレート移動手段４１により、プレート４の上面と基板２の上面とが面一、かつ、プレート４と基板２との間隔が所定の間隔以下になるように移動させることができる。プレート移動手段４１は、プレート４を上記のように移動させることができれば特に限定されない。例えば、図２および図３に示す例では、プレート移動手段４１は、水平駆動部４２と回転駆動部４３と上下駆動部４４とを備えており、プレート４と基板２との相対位置および相対角度を任意に調整することができる。
【００２４】
なお、水平駆動部４２、回転駆動部４３および上下駆動部４４の構造は、それぞれプレート４を、Ｘ軸方向に水平移動、Ｘ−Ｚ平面に沿って回転移動、Ｚ軸方向に垂直移動させることができれば、特に限定されない。例えば、エアシリンダーまたはモーターを組み合わせて用いてもよい。また、回転駆動部４３は、図２に示すように、Ｘ−Ｚ平面内に沿ってプレート４を回転できるだけでなく、Ｙ−Ｚ平面、Ｘ−Ｙ平面に沿ってプレート４を回転できてもよい。
【００２５】
プレート４と基板２との間における上記所定の間隔は、その間隙から現像液がこぼれ落ちない程度の間隔であればよい。例えば、上記所定の間隔は、１．５ｍｍ以下の値であってもよい。この場合、プレート４に現像液を供給した後に基板２に現像液を供給する際に、フォトレジスト膜への衝撃や、現像液の流速ムラの発生などをより抑制することができ、より安定した現像処理を行うことができる。
【００２６】
また、プレート４の上面と基板２の上面とが面一とは、プレート４の上面と基板２の上面とのＺ軸方向（垂直方向）における相対位置のずれが、１ｍｍ以下であることを意味している。
【００２７】
上記の現像処理装置において、基板に現像液を供給する際の動作例を示す模式図を図５に示す。スピンチャック５１により保持された基板２の近傍に、プレート４を配置する。その後、図５（ａ）に示すように、ノズル１によって、まずプレート４に現像液が供給され、続けて基板２に現像液が供給される。基板２に現像液が供給される際には、既に形成された現像液膜３１上に供給されることになる。このとき、図５（ｂ）に示すように、ノズル１の幅が、基板２における現像液を供給したい領域の幅以上の場合は（例えば、ノズル１が、基板２における現像液を供給したい領域の幅以上の長さを有するリニアノズルの場合は）、基板２全面に現像液を供給することができる。
【００２８】
プレート４の形状としては、図２および図３の例に示す形状だけでなく、同様の効果を有するものであれば、即ち、基板におけるノズルが進入する部分近傍に配置可能な形状であれば特に限定されない。様々な形状のプレートを用いることができる。例えば、図６（ａ）に示すような、スピンチャック５１上の基板２におけるノズルが進入する部分近傍のみに配置される形状だけではなく、図６（ｂ）に示すように、基板２の全周にわたって配置される形状であってもよい。
【００２９】
また、プレート４の材料としては、特に限定されない。例えば、ポリテトラフルオロエチレン系の樹脂などを用いてもよい。
【００３０】
また、図７に示すように、プレート４が、基板２の厚さよりも厚みの大きい部分を有していてもよい。基板に現像液を供給する際に、プレートの裏側に現像液が回り込んだ場合、図８（ｃ）に示すように、上記回り込んだ現像液３がプレート４の裏面を伝って基板２の裏面に到達し、上記基板の裏面を汚染する可能性がる。汚染が生じた場合、特に基板保持手段近傍の汚染の除去が困難である。しかし、プレートが基板の厚さより厚みの大きい部分を有していれば、プレートより内側に現像液が回り込むのを難しくし、上記汚染の発生を抑制することができる。上記厚みの大きい部分は、プレートの任意の場所に設けることができる。
【００３１】
その際、図７（ａ）および（ｂ）に示すように、プレート４の基板２側端面の厚さが、基板２の厚さよりも大きくてもよい。図８（ａ）および（ｂ）に示すように、ノズル１によって基板２に現像液を供給する際に、プレート４の裏面を伝って、基板２の裏面に現像液３が到達するのをより確実に防ぐことができる。なお、図７では、プレート４の形状を分かりやすくするために、基板２を点線で示している。
【００３２】
本発明における現像処理装置において、上記プレートは、脱着可能であってもよい。脱着可能な場合、例えば、予め現像液に対する濡れ性が異なる複数のプレートを用意しておき、基板の濡れ性に合わせてプレートを選択することなども可能とある。また、現像処理装置自体のメンテナンス性も向上させることができる。
【００３３】
また、本発明における現像処理装置において、上記プレートの洗浄を行う洗浄手段をさらに備えていてもよい。現像液を基板に供給する前に、上記プレートの洗浄を行えば、より安定した現像処理を行うことができる。洗浄手段は、上記プレートを洗浄できるものであれば特に限定されない。例えば、図２および図３に示す例では、洗浄手段６として、プレート４を洗浄するための洗浄液を噴射するプレート洗浄ノズル６１と、上記洗浄後にプレート４を乾燥するためのガスを噴射するガス噴射ノズル６２とを備えている。基板の現像処理後、次の基板の現像処理を行う前に、プレート４を洗浄手段６近傍に移動させ、プレート洗浄ノズル６１より洗浄液を噴射してプレート４の洗浄を行った後、ガス噴射ノズル６２からガスを噴射してプレート４を乾燥させ、次に現像処理を行う基板近傍にプレート４を配置すればよい。なお、プレート洗浄ノズル６１は洗浄液供給源６３、ガス噴射ノズルはガス供給源６４にそれぞれ連通させればよい。
【００３４】
なお、上記洗浄液としては、例えば、純水などを用いてもよい。また、ガスとしては、例えば、不活性ガスを用いてもよい。不活性ガスとしては、例えば、窒素などを用いてもよい。
【００３５】
図２および図３に示す例における、その他の部材について説明する。
【００３６】
図２および図３に示す例では、環状の内カップ７２をさらに備えている。内カップ７２によって、基板２に現像液を供給する際の現像液飛散を防止することができる。また、内カップ駆動部７３によって、内カップ７２を昇降させることができる。基板２およびプレート４の脱着の際などには内カップ７２を下降させ、現像液供給時には内カップ７２を上昇させればよい。プレート４は、内カップ７２の内側に位置している。なお、内カップ駆動部７３の構造は、内カップ７２を昇降させることができれば特に限定されない。例えば、モーターまたはエアシリンダーなどを組み合わせて用いればよい。
【００３７】
また、図２および図３に示す例では、矩形状の外カップ７４をさらに備えている。外カップ７４によって、現像液、または、後述するリンス液を振り切る際の液飛散を防止することができる。また、外カップ駆動部７５によって、外カップ７４を昇降させることができる。なお、外カップ駆動部７５の構造は、外カップ７４を昇降させることができれば特に限定されない。例えば、モーターまたはエアシリンダーなどを組み合わせて用いればよい。
【００３８】
なお、内カップ７２、外カップ７４、スピンチャック５１はすべて取り外しが可能であってもよい。この場合、各部材が劣化、破損した場合、異なる形状のものに変更する場合などにも、速やかに交換が可能である。また、必要に応じて容易に洗浄を行うこともできる。
【００３９】
また、図２および図３に示す例では、リンス液を基板に供給するためのリンスノズル７６をさらに備えている。リンスノズル７６は、リンスノズルスキャンアーム７７に取り付けられている。リンスノズル７６とリンスノズルスキャンアーム７７は着脱可能であってもよい。着脱可能であれば、リンスノズル７６およびリンスノズルスキャンアーム７７のメンテナンス性を向上させることができる。
【００４０】
リンスノズルスキャンアーム７７は、ノズルスキャンアーム１１と同様に、ガイドレール７１上をＸ軸方向に水平移動することができればよい。また、同様に、Ｚ軸方向に垂直移動することができればよい。基板２の現像処理終了後に、基板２にまで移動して、基板２にリンス液を供給することができる。
【００４１】
また、図２および図３に示す例において、スピンチャック駆動部５２、ノズル移動手段（ノズルスキャンアーム１１、垂直支持部材１４および上下駆動部１５など）、プレート移動手段４１、内カップ駆動部７３、外カップ駆動部７５、リンスノズル移動手段（リンスノズルスキャンアーム７７など）は、制御部８０によって制御すればよい。
【００４２】
また、図２および図３に示す例において、ノズル１は、現像液を基板２に供給する時以外は、ノズル待機部７８に待機させてもよい。上記ノズル待機部７８は、ノズル１を洗浄するノズル洗浄手段を備えていてもよい。リンスノズル７６についても同様であり、リンス液を基板２に供給する時以外は、リンスノズル待機部７９に待機させてもよい。上記リンスノズル待機部７９は、リンスノズル７６を洗浄するリンスノズル洗浄手段を備えていてもよい。
【００４３】
なお、現像液およびフォトレジスト膜には、一般的に用いられている材料を用いることができる。
（実施の形態２）
本発明の現像処理方法は、フォトレジスト膜を含む基板の上面に沿って現像液を供給することにより、前記フォトレジスト膜の現像処理を行う現像処理方法であって、
（ｉ）プレートを、前記プレートの上面と前記基板の上面とが面一、かつ、前記プレートと前記基板との間隔が所定の間隔以下となるように、前記基板近傍に配置する第１の工程と、
（ｉｉ）前記基板および前記プレートの上面に沿って移動するノズルによって、前記プレートに前記現像液を供給した後に、続けて前記基板に前記現像液を供給する第２の工程とを含んでいる。
【００４４】
上記の現像処理方法では、基板に現像液を供給する際に、基板近傍に配置されたプレート上にまず現像液が供給される。そのため、基板上に現像液が供給される際には、必ず、既に形成された現像液膜上に新たな現像液が供給されることになる。よって、基板上に直接現像液が供給されることがなく、フォトレジスト膜への衝撃や、現像液の流速ムラの発生などを抑制することができ、安定した現像処理を行うことができる。
【００４５】
上記現像処理方法は、例えば、上述した、図２および図３に示す現像処理装置の例を用いて実施することができる。以下、図２および図３に示す例を用いて、本発明における現像処理方法の例について説明する。
【００４６】
まず、フォトレジスト膜上に所定のパターンを露光した基板２を、内カップ７２の内側まで搬送し、スピンチャック５１に真空吸着させて基板２を保持する。
【００４７】
次に、プレート４をプレート移動手段４１により、プレート４の上面と基板２の上面とが面一、かつ、プレート４と基板２との間隔が所定の間隔以下となるまで移動させる。このとき、プレート４の上面と基板２の上面とが面一とは、プレート４の上面と基板２の上面とのＺ軸方向（垂直方向）における相対位置のずれか１ｍｍ以下であることを意味する。また、所定の間隔とは、その間隙から現像液がこぼれ落ちない程度の間隔であればよい。例えば、上記所定の間隔は、１．５ｍｍ以下の値であってもよい。この場合、プレート４に現像液を供給した後に基板２に現像液を供給する際に、フォトレジスト膜への衝撃や、現像液の流速ムラの発生などをより抑制することができ、より安定した現像処理を行うことができる。
【００４８】
次に、ノズル１をプレート４および基板２の上面に沿って移動させながら、プレート４に現像液を供給した後に、続けて基板２に現像液を供給する。このとき、ノズル１と基板２との間隔は、例えば、１．５ｍｍである。上記間隔は、例えば、１．５ｍｍ〜４．０ｍｍの範囲で自由に設定することができる。上記のようにして基板２上に現像液を供給した後、そのまま所定の時間保持し、基板上のフォトレジスト膜の現像処理を行う。また、ノズル１の幅が、基板２における現像液を供給したい領域の幅以上の長さを有するノズル（例えば、基板２における現像液を供給したい領域の幅以上の長さを有するリニアノズル）の場合は、基板２全面に現像液を供給することができる。
【００４９】
上記所定の時間保持後、プレート移動手段４１によりプレート４を降下させる。次に、スピンチャック５１を回転させることにより基板２を回転させ、回転開始とほぼ同時またはその直後にリンスノズル７６から基板２上にリンス液を供給し、基板２上の現像液を洗い流す。その後、リンス液の供給を停止し、基板２の回転数を上昇させることで、基板２を乾燥させればよい。上記一連の工程によって、基板２の現像処理を行うことができる。
【００５０】
また、実施の形態１で説明したのと同様に、上記現像処理の際に、プレート４が、基板２の厚さよりも厚みの大きい部分を有していてもよい。また、プレート４の基板２側端面の厚さが、基板２の厚さよりも大きくてもよい。基板に現像液を供給する際に、プレート４の裏側に現像液が回り込み、基板２の裏面を汚染するのを抑制することができる。上記厚みの大きい部分は、プレート４の任意の場所に設けることができる。
【００５１】
本発明の現像処理方法において、プレートの洗浄をさらに行ってもよい。現像液を基板に供給する前に、上記プレートの洗浄を行えば、より安定した現像処理を行うことができる。
【００５２】
洗浄方法は、上記プレートを洗浄できるものであれば特に限定されない。洗浄方法の例を図２および図３に示した現像処理装置の例を用いて説明する。まず、プレート移動手段４１によって、プレート４をプレート洗浄ノズル６１近傍にまで移動させる。次に、プレート洗浄ノズル６１から洗浄液をプレート４に吐出してプレート４を洗浄し、その後、ガス噴射ノズル６２からガスを噴射してプレート４を乾燥させればよい。
【００５３】
なお、洗浄液としては、例えば、純水などを用いてもよい。また、ガスとしては、例えば、不活性ガスを用いてもよい。不活性ガスとしては、例えば、窒素などを用いてもよい。
【００５４】
また、本発明の現像処理方法において、ノズルの洗浄をさらに行ってもよい。現像液を基板に供給する前に、上記ノズルの洗浄を行えば、より安定した現像処理を行うことができる。洗浄方法は、上記ノズルを洗浄できるものであれば特に限定されない。例えば、図２および図３に示した現像処理装置の例において、基板２への現像液の供給後、ノズル１をノズル待機部７８に移動させ、ここでノズル１に洗浄液を供給するなどすればよい。
【００５５】
なお、現像液およびフォトレジスト膜には、一般的に用いられている材料を用いることができる。また、本発明の現像処理装置および現像処理方法において現像処理される基板としては、上記した半導体ウエハに限定されるものではなく、例えば、ＬＣＤ（液晶ディスプレー）製造用のガラス基板であってもよい。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、フォトレジスト膜を含む基板に現像液を供給する際に、レジスト膜への衝撃や現像液の流速ムラなどの発生を抑制することができ、より安定した現像処理を行うことができる現像処理装置および現像処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の現像処理装置における現像液供給の例を示す模式図である。
【図２】本発明における現像処理装置の例を示す模式図である。
【図３】本発明における現像処理装置の例を示す模式図である。
【図４】本発明におけるノズルの例を示す模式図である。
【図５】本発明の現像処理装置における現像液供給の例を示す模式図である。
【図６】本発明におけるプレートの例を示す模式図である。
【図７】本発明におけるプレートの例を示す模式図である。
【図８】（ａ）および（ｂ）は、本発明の現像処理装置における現像液供給の例を示す模式図である。（ｃ）は、従来の現像処理装置における現像液供給の例を示す模式図である。
【図９】従来の現像処理装置における現像液供給の例を示す模式図である。
【符号の説明】
１、１０１　ノズル
１１　ノズルスキャンアーム
１２　リニアノズル
１３　吐出孔
１４　垂直支持部材
１５　上下駆動部
２、１０２　基板
３、１０３　現像液
３１、１０４　現像液膜
４　プレート
４１　プレート移動手段
４２　水平駆動部
４３　回転駆動部
４４　上下駆動部
５　基板保持手段
５１　スピンチャック
５２　スピンチャック駆動部
６　プレート洗浄手段
６１　プレート洗浄ノズル
６２　ガス噴射ノズル
６３　洗浄液供給源
６４　ガス供給源
７１　ガイドレール
７２　内カップ
７３　内カップ駆動部
７４　外カップ
７５　外カップ駆動部
７６　リンスノズル
７７　リンスノズルスキャンアーム
７８　ノズル待機部
７９　リンスノズル待機部
８０　制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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