(57)【要約】【課題】カラーフィルタから発生する水分やガス成分による有機ＥＬ層の劣化を抑制することができるカラー表示デバイスを提供する。【解決手段】有機ＥＬカラー表示デバイス１１は、基板１２の表面に形成された有機ＥＬ素子１３と、有機ＥＬ素子１３を挟んで基板１２と反対側に設けられたカラーフィルタ１４とを備えている。有機ＥＬ素子１３は、第１電極層１５、有機ＥＬ層１６、第２電極層１７の順に基板１２上に積層されている。有機ＥＬ素子１３は有機ＥＬ層１６が外気と接しないようにパッシベーション膜１８で被覆されている。第２電極層１７は透明な導電性物質で形成され、第２電極層１７側、即ち基板１２と反対側が発光の取出し方向となっている。カラーフィルタ１４はパッシベーション膜１８上に形成されている。有機ＥＬ層１６は白色発光層で構成されている。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の少なくとも一方の面上に有機ＥＬ素子を備えたカラー表示デバイスであって、
前記有機ＥＬ素子は、有機ＥＬ材料を含む発光層と、該発光層を挟むように配置された電極とを有し、かつ前記発光層が外気と接しないように、少なくとも前記基板と反対側の面がパッシベーション膜で被覆され、少なくとも前記発光層に対して前記基板と反対側に配置される電極は光透過性であり、該電極側を前記発光層の発光の取出し方向とし、前記パッシベーション膜上にカラーフィルタを設けたカラー表示デバイス。
【請求項２】
前記カラーフィルタは少なくともカラーフィルタの電極と接していない面側が耐擦傷性を有する保護膜で被覆されている請求項１に記載のカラー表示デバイス。
【請求項３】
前記基板上にアクティブ駆動用素子が形成され、前記有機ＥＬ素子は前記基板側に設けられる電極が少なくとも前記アクティブ駆動用素子の一部を覆う状態又は覆わない状態に設けられている請求項１又は請求項２に記載のカラー表示デバイス。
【請求項４】
前記発光層は白色発光層である請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のカラー表示デバイス。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー表示デバイスに係り、詳しくは有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）を利用し、有機ＥＬ材料を含む発光層を備えたカラー表示デバイスに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ素子を用いたカラー表示デバイスは優れた表示性能から近年注目されているが、表示色（赤色、緑色、青色）毎にそれぞれ発光層を形成する構成では、製造が複雑になってコストが高くなり、また、高精細化、大面積化が困難である。
【０００３】
これらの問題を解決する構成として、発光層を白色発光のみとし、カラーフィルタにより所望の発光色を得る構成が提案されている。
図３に示すように、前記構成のカラー表示デバイス５１は、ガラス製の基板５２の上にカラーフィルタ５３ａ及び平坦化膜５３ｂからなるカラーフィルタ構造体５３が形成され、カラーフィルタ構造体５３の上に陽極５４、有機ＥＬ層５５及び陰極５６が順次積層形成されている。また、有機ＥＬ材料は酸素や水分との反応性が高いため、有機ＥＬ層５５を外気から遮断するための封止カバー（封止缶）５７が基板５２上に接着されている。封止カバー５７内にゲッター剤５７ａが収容されている。なお、ゲッター剤とは、水分や酸素など、有機ＥＬ層５５に有害な成分を吸収、吸着する作用をなす物質を意味し、吸湿剤や乾燥剤、あるいは酸素吸着剤等が単独あるいは混合した状態で使用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、一般にカラーフィルタ５３ａは有機顔料を用いて形成されており、有機顔料は透明樹脂に分散されている。そして、有機顔料及び／又は透明樹脂は吸湿している。また、カラーフィルタ５３ａを覆う平坦化膜５３ｂも吸湿している。従って、前記構成では、カラーフィルタ構造体５３から発生する微量の水分、酸素等が有機ＥＬ層５５に浸透し、有機ＥＬ層５５が劣化するという問題がある。
【０００５】
また、カラーフィルタを形成する場合は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素を塗り分ける必要があるため段（凹凸）が生じ、その段を平坦化するために樹脂系の平坦化膜がカラーフィルタの上に形成される。ところが、カラーフィルタや平坦化膜は、有機ＥＬ層に比較して厚く、ミクロ的に見ると、平坦化膜の表面がうねった状態となり易い。その結果、従来技術のように、カラーフィルタを被覆した平坦化膜上に有機ＥＬ素子を形成する構成では、薄い有機ＥＬ層を挟んで配置される陽極と陰極とがショートする場合があり、信頼性が悪くなるとともに歩留まりが悪くなるという問題がある。
【０００６】
また、駆動方式としてアクティブ・マトリックス方式を採用する場合は、カラーフィルタ構造体５３上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）駆動回路を形成する必要があるが、この時に発生する熱により、カラーフィルタ構造体５３が劣化又は破損する場合があるという問題もある。
【０００７】
本発明は、前記従来の問題に鑑みてなされたものであって、第１の目的はカラーフィルタから発生する水分やガス成分による有機ＥＬ層の劣化を抑制することができるカラー表示デバイスを提供することにある。また、第２の目的は駆動方式としてアクティブ・マトリックス方式を採用した場合に、ＴＦＴ駆動回路の形成時にカラーフィルタに悪影響を与えることを回避できるカラー表示デバイスを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記第１の目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、基板の少なくとも一方の面上に有機ＥＬ素子を備えたカラー表示デバイスである。前記有機ＥＬ素子は、有機ＥＬ材料を含む発光層と、該発光層を挟むように配置された電極とを有し、かつ前記発光層が外気と接しないように、少なくとも前記基板と反対側の面がパッシベーション膜で被覆されている。そして、少なくとも前記発光層に対して前記基板と反対側に配置される電極は光透過性であり、該電極側を前記発光層の発光の取出し方向とし、前記パッシベーション膜上にカラーフィルタを設けた。ここで、「外気」とは、有機ＥＬ素子を取り巻く周囲の気体（使用雰囲気）を意味する。
【０００９】
この発明では、有機ＥＬ素子は従来の有機ＥＬカラー表示デバイスの場合と異なり、基板上に形成されたカラーフィルタの上に形成されるのではなく、基板の少なくとも一方の面上に形成される。一方、カラーフィルタは、有機ＥＬ素子を挟んで基板と反対側に配置され、発光の取出し側は基板と反対側となる。また、有機ＥＬ素子と基板との間にカラーフィルタが配置された従来の構成と異なり、有機ＥＬ素子とカラーフィルタとの間にパッシベーション膜が存在する。従って、カラーフィルタから発生する微量の水分や酸素等のガス成分による有機ＥＬ層の劣化を抑制することができる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記カラーフィルタは少なくともカラーフィルタの電極と接していない面側が耐擦傷性を有する保護膜で被覆されている。従って、この発明では、カラーフィルタに直接物が接触してカラーフィルタが傷つけられるのを防止することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、前記基板上にアクティブ駆動用素子が形成され、前記有機ＥＬ素子は前記基板側に設けられる電極が少なくとも前記アクティブ駆動用素子の一部を覆う状態又は覆わない状態に設けられている。この発明では、有機ＥＬ素子がアクティブ・マトリックス方式により駆動される。そして、アクティブ駆動用素子（例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む回路）は、カラーフィルタ上に形成されるのではなく、カラーフィルタと独立して基板上に形成される。従って、アクティブ駆動用素子を形成する際に発生する熱によるカラーフィルタの劣化又は破損を回避できる。そして、前記有機ＥＬ素子を構成する電極のうち、基板側に設けられる電極が少なくとも前記アクティブ駆動用素子の一部を覆う状態で設けられた場合は、覆わない状態で設ける場合に比較して同じ面積の基板を使用した場合に、有機ＥＬ素子の面積を大きくすることができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の発明において、前記発光層は白色発光層である。この発明では、カラーフィルタとして赤、緑、青のフィルタを形成すれば、光の三原色が得られる。従って、白色光以外の発光と色変換層との組合せで、必要な三原色を得る構成に比較してカラーフィルタの構成が簡単になる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
（第１の実施の形態）
以下、本発明をパッシブ・マトリックス駆動方式の有機ＥＬカラー表示デバイスに具体化した第１の実施の形態を図１（ａ），（ｂ）に従って説明する。図１（ａ）は有機ＥＬカラー表示デバイスの模式断面図である。
【００１４】
図１（ａ）に示すように、有機ＥＬカラー表示デバイス１１は、基板１２の表面に形成された有機ＥＬ素子１３と、有機ＥＬ素子１３を挟んで基板１２と反対側に設けられたカラーフィルタ１４とを備えている。
【００１５】
有機ＥＬ素子１３は、基板１２側の電極としての第１電極層１５、有機ＥＬ材料を含む発光層としての有機ＥＬ層１６、基板１２と反対側に配置される電極としての第２電極層１７の順に基板１２上に積層されている。この実施の形態では第１電極層１５が陽極を、第２電極層１７が陰極を構成している。有機ＥＬ素子１３は、有機ＥＬ層１６が外気と接しないように、少なくとも基板１２と反対側の面がパッシベーション膜１８で被覆されている。パッシベーション膜１８は水分の透過を防止する材質、例えば窒化ケイ素ＳｉＮｘや酸化ケイ素ＳｉＯｘで形成されている。
【００１６】
カラーフィルタ１４はパッシベーション膜１８上に形成されている。即ちカラーフィルタ１４は有機ＥＬ素子１３を挟んで基板１２と反対側に配置され、カラーフィルタ１４と有機ＥＬ素子１３との間にパッシベーション膜１８が存在する。カラーフィルタ１４は少なくともカラーフィルタ１４の電極と接していない面側、即ちパッシベーション膜１８と対向する面と反対側の面が耐擦傷性を有する保護膜１９で被覆されている。保護膜１９は例えば紫外線硬化型のアクリル樹脂で形成されている。
【００１７】
第１電極層１５はクロム（Ｃｒ）で形成され、基板１２の表面に複数、平行なストライプ状に形成されている。第１電極層１５は、図１（ａ）において、紙面に対して垂直方向に延びるように形成されている。有機ＥＬ層１６は図示しない絶縁性の隔壁により隔てられた状態で第１電極層１５と直交する方向に延びる複数の平行なストライプ状に形成されている。
【００１８】
第２電極層１７はストライプ状に形成された有機ＥＬ層１６の上に積層され、第１電極層１５と直交する状態に形成されている。有機ＥＬ素子１３は、第１電極層１５及び第２電極層１７の交差部に形成され、この交差部が基板１２上にマトリックス状に配置されている。第２電極層１７は有機ＥＬ層１６の発光を透過可能とするため透明な導電性物質で形成されている。即ち、第２電極層１７は光透過性である。そして、第２電極層１７側が発光の取出し方向となっている。この実施の形態では第２電極層１７はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）で形成されている。
【００１９】
有機ＥＬ層１６には例えば公知の構成のものが使用され、第１電極層１５側から順に、正孔注入層、発光層及び電子注入層の３層で構成されている。有機ＥＬ層１６は白色発光層で構成されている。図１（ｂ）に示すように、有機ＥＬ層１６の各画素（ピクセル）２０は３個のサブピクセル２０ａで構成され、各サブピクセル２０ａに対応して第１電極層１５及び第２電極層１７の交差部が形成されている。
【００２０】
カラーフィルタ１４には有機カラーフィルタが使用されている。カラーフィルタ１４のＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素（図示せず）はそれぞれ前記サブピクセル２０ａに対応して形成されている。
【００２１】
前記のように構成された有機ＥＬカラー表示デバイス１１を製造する際は、不活性なガス雰囲気（例えば、窒素ガス雰囲気）中で、基板１２上に有機ＥＬ素子１３を形成する。そして、その上にパッシベーション膜１８を形成した後、パッシベーション膜１８上にカラーフィルタ１４を形成する。即ち、カラーフィルタ１４はパッシベーション膜１８を挟んで有機ＥＬ素子１３と対応するように形成される。次にカラーフィルタ１４全体を覆うように紫外線硬化型のアクリル樹脂を塗布した後、紫外線を照射して硬化させて保護膜１９でカラーフィルタ１４を被覆する。
【００２２】
次に前記のように構成された有機ＥＬカラー表示デバイス１１の作用を説明する。
有機ＥＬカラー表示デバイス１１は図示しない駆動装置に第１及び第２電極層１５，１７が接続され、発光させるべき画素２０のサブピクセル２０ａと対応する両電極層１５，１７間に電圧が印加されると、そのサブピクセル２０ａが白色に発光する。そして、そのサブピクセル２０ａからの白色光が第２電極層１７、パッシベーション膜１８及びカラーフィルタ１４を透過して保護膜１９側から出射される。白色光がカラーフィルタ１４のＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素を透過した後、対応する色の光となる。Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素の組合せにより所望の色が再現される。
【００２３】
従来技術では有機ＥＬ素子がカラーフィルタ上に平坦化膜を介して連続して積層されているため、カラーフィルタあるいは平坦化膜から発生する水分あるいはガス成分（主として酸素）が有機ＥＬ層を劣化させる。しかし、本発明では有機ＥＬ素子１３とカラーフィルタ１４との間にパッシベーション膜１８が存在するため、カラーフィルタ１４から発生する水分やガス成分等による有機ＥＬ層１６の劣化が抑制される。
【００２４】
この実施の形態の有機ＥＬカラー表示デバイス１１（実施例）と、図３に示した従来技術のように形成した有機ＥＬカラー表示デバイス（比較例）について、有機ＥＬ素子１３の一つの画素２０が時間の経過に伴って劣化する程度を比較した。即ち、水分やガス成分により外周部から劣化する現象（ダークエリアの発生）の程度を、図１（ｂ）に示すサブピクセル２０ａの発光幅Ｗの変化により調べた。結果を表１に示す。
【００２５】
【表１】
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実施例では室温で１０００時間経過後もダークエリアの進行が遅く、充分な発光幅Ｗが存在するのに対し、比較例ではカラーフィルタや平坦化膜からの水分等の影響による有機ＥＬ層１６の劣化により、ダークエリアが進行し、発光幅Ｗが大きく減少した。実施例では発光幅Ｗの減少量が約９％であるのに対し、比較例では発光幅Ｗの減少量が約３３％と大幅に増加した。
【００２６】
この実施の形態では以下の効果を有する。
（１）　基板１２の一方の面上に有機ＥＬ層１６を有する有機ＥＬ素子１３を備え、有機ＥＬ層１６を挟んで配置される両電極層１５，１７のうち有機ＥＬ層１６に対して基板１２と反対側に配置される第２電極層１７を光透過性として第２電極層１７側を発光の取出し方向とした。そして、有機ＥＬ素子１３は少なくとも基板１２と反対側の面が覆われ、かつ有機ＥＬ層１６が外気と接しないようにパッシベーション膜１８で被覆されており、パッシベーション膜１８上にカラーフィルタ１４が形成されている。従って、有機ＥＬ素子と基板との間にカラーフィルタが配置された従来の構成と異なり、有機ＥＬ素子１３はカラーフィルタ１４と直接接触する構成ではなく、有機ＥＬ素子１３とカラーフィルタ１４との間にパッシベーション膜１８が存在する。その結果、カラーフィルタ１４から発生する微量の水分や酸素等のガス成分による有機ＥＬ層１６の劣化を抑制することができる。また、有機ＥＬ素子１３は平坦な状態で形成されるため、有機ＥＬ層１６が薄くても、有機ＥＬ層１６を挟んで形成される両電極層１５，１７のショートの危険性が少なくなり、信頼性が向上する。さらに、カラーフィルタ１４の凹凸を平坦化する平坦化膜が不要となり、その分コストを低減できる。
【００２７】
（２）　カラーフィルタ１４はパッシベーション膜１８上に直接形成されているため、カラーフィルタ１４が形成されたフィルタ基板を使用してパッシベーション膜１８との間に隙間をあけた状態でカラーフィルタ１４を配設した場合と異なり、近傍の画素への光の漏れが発生するのを防止できる。従って、色の滲みの発生を防止でき、色をきれいに再現できる。
【００２８】
（３）　カラーフィルタ１４は少なくともカラーフィルタの電極と接していない面側が耐擦傷性を有する保護膜１９で被覆されているため、カラーフィルタ１４に直接物が接触してカラーフィルタ１４の表面が傷つけられるのを防止することができる。
【００２９】
（４）　発光層として白色発光層が使用されているため、カラーフィルタ１４として赤、緑、青のフィルタを形成すれば、光の三原色が得られる。従って、白色光以外の発光（例えば、青色発光）と色変換層との組合せで、必要な三原色を得る構成に比較してカラーフィルタ１４の構成が簡単になる。
【００３０】
（５）　カラーフィルタ１４として有機カラーフィルタが使用されている。従って、無機カラーフィルタを使用した場合に比較して色再現性が良くなる。
（６）　有機ＥＬ層１６からの発光の取り出し方向（出射方向）が基板１２と反対側となるように構成されているため、基板１２及び基板１２側の第１電極層１５を透明な材質で形成する必要がなく、材質の自由度が向上する。
【００３１】
（７）　基板１２側に形成される第１電極層１５が金属層（この実施の形態ではクロム層）で形成されている。従って、第１電極層１５を透明電極で形成する場合に比較して、有機ＥＬ層１６から基板１２側に向かう光が第１電極層１５で効率よく反射され、第２電極層１７側から出射する光量を多くすることができる。
【００３２】
（８）　保護膜１９が紫外線硬化型のアクリル樹脂で形成されている。従って、光透過性の良い保護膜１９が得られるとともに、熱硬化性樹脂で保護膜１９を形成する場合に比較して、保護膜１９を形成する際にカラーフィルタ１４に加わる熱を少なくでき、カラーフィルタ１４が熱で劣化または破損するのを防止できる。
【００３３】
（第２の実施の形態）
次に第２の実施の形態を図２に従って説明する。この実施の形態は、基本的構成は前記第１の実施の形態と同様で、アクティブ・マトリックス方式の構成とするため、アクティブ駆動素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を備えている点が前記第１の実施の形態と大きく異なっている。前記実施の形態と同様の部分については同一符号を付して詳細な説明を省略する。
【００３４】
基板１２上にアクティブ駆動用素子としての薄膜トランジスタ２１を含む回路層２２が形成されている。薄膜トランジスタ２１は有機ＥＬ素子１３の各サブピクセル２０ａと対応して形成されている。この実施の形態では、有機ＥＬ素子１３を構成する基板１２側の電極としての第１電極層１５は、対応する各薄膜トランジスタ２１を覆うようにマトリックス状に形成されている。第２電極層１７はストライプ状ではなく有機ＥＬ層１６全体を覆う平面上に形成されている。
【００３５】
この実施の形態では基板１２上に薄膜トランジスタ２１を含む回路層２２が形成された後、その回路層２２の上に前記実施の形態と同様に有機ＥＬ素子１３が形成される。即ち、従来のアクティブ・マトリックス方式により駆動される有機ＥＬ素子と異なり、薄膜トランジスタ２１を含む回路はカラーフィルタ上に形成されるのではなく、カラーフィルタ１４と独立して基板１２上に形成される。
【００３６】
この実施の形態の有機ＥＬカラー表示デバイス１１では、前記実施の形態の（１）〜（８）と同様な効果を有する他に、次の効果を有する。
（９）　有機ＥＬ素子１３がアクティブ・マトリックス方式で駆動されるためクロストークが防止され、画素数が多くなった場合にパッシブ・マトリックス方式で駆動される構成に比較してきれいな画面が得られる。
【００３７】
（１０）　薄膜トランジスタ２１を含む回路をカラーフィルタ１４上に形成する必要がないため、薄膜トランジスタ２１を形成する際に発生する熱によりカラーフィルタ１４が劣化又は破損する虞がない。従って、アクティブ・マトリックス方式で駆動される液晶を製造する際に使用される従来からの工法で、薄膜トランジスタ２１を含む回路を形成することが可能になる。即ち、熱によるカラーフィルタ１４の劣化又は破損を回避する特別な設備を設ける必要がなくなる。
【００３８】
（１１）　有機ＥＬ素子１３の発光の取り出し方向が基板１２と反対の方向であるため、有機ＥＬ素子１３を形成する領域が薄膜トランジスタ２１を形成する領域と重ならないようにする必要がない。そして、有機ＥＬ素子１３を構成する基板１２側の画素電極（第１電極層１５）が、薄膜トランジスタ２１を覆うように形成されている。従って、同じ面積の基板１２を使用した場合に、有機ＥＬ素子１３を薄膜トランジスタ２１と同一平面上に形成する場合に比較して、有機ＥＬ素子１３の面積を大きくすることができる。
【００３９】
なお、実施の形態は前記に限らず、例えば次のように構成してもよい。
○　有機ＥＬ層１６は白色発光層に限らず、青色発光層を使用してもよい。この場合、カラーフィルタ１４として色変換層を備えたカラーフィルタを使用することにより、カラーフィルタ１４を透過後の光がＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素に対応する色の光となる。従って、白色発光層の場合と同様に、同一色の発光層で所望の色を再現することができる。
【００４０】
○　保護膜１９は紫外線硬化型のアクリル樹脂に限らず、透明で耐擦傷性の良い材質であればよい。例えば、シリコーン樹脂系のハードコート剤を使用してもよい。また、塗布後に硬化させるタイプのものに限らず、透明なフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム）でカラーフィルタ１４を被覆してもよい。
【００４１】
○　保護膜１９に代えて、カラーフィルタ１４を覆う透明なガラス又は硬質樹脂製のカバーを設けてもよい。しかし、保護膜１９の方が前記カバーを設ける構成に比較して有機ＥＬカラー表示デバイス１１の厚さを薄くできる。
【００４２】
○　カラーフィルタ１４を覆う透明なガラス又は硬質樹脂製のカバーを設ける構成の場合、カバーを基板１２に対してシール材質介して密封状態で固定し、カバーにより囲繞された空間内に、ゲッター剤を収容してもよい。この場合、有機ＥＬ素子１３はカバーとパッシベーション膜１８とにより二重に外部環境から遮断されるため、外気の水分やガス成分による影響をより受け難くなり、有機ＥＬ層１６の劣化をより防止することができる。
【００４３】
○　保護膜１９は必ずしもなくてもよい。保護膜１９がなくても、有機ＥＬカラー表示デバイス１１全体を収容するケース又はハウジングのカラーフィルタ１４と対応する部分に透明なカバーを設ければカラーフィルタ１４が傷つく機会は少ない。
【００４４】
〇　基板１２は透明である必要がないため、その材質はガラスに限らず、不透明なセラミックスや金属を使用してもよい。基板１２の材質にセラミックスや金属を使用した場合は、ガラスを使用した場合に比較して破損し難い。また、基板１２に樹脂等のフレキシブル基板を使用してもよい。
【００４５】
〇　基板１２側に配設される第１電極層１５をクロム以外の金属（例えば、アルミニウム）としたり、金属電極に限らず、ＩＴＯ等の透明電極やセラミックス製の電極としてもよい。
【００４６】
〇　有機ＥＬ素子１３を構成する両電極層１５，１７を透明な導電性物質で形成し、基板１２をその反射率が金属電極より小さくなるように形成する。反射率は、例えば３０％以下で好ましくは１０％以下に形成する。反射率が３０％以下であれば、有機ＥＬカラー表示デバイス１１を屋外で使用する場合に、外光が反射される割合が少なくなって、コントラストが良くなる。また、反射率を１０％以下にすればコントラストがより向上する。基板１２の表面を黒色にすることにより、反射率を１０％以下にすることができる。アルマイト処理を施したアルミニウム板を基板１２にすることにより、その表面を簡単に黒色にすることができる。
【００４７】
〇　有機ＥＬ層１６を挟んで基板１２側に配設される第１電極層１５を陰極とし、基板１２と反対側に配設される第２電極層１７を陽極としてもよい。
○　パッシベーション膜１８の材質は、窒化ケイ素ＳｉＮｘや酸化ケイ素ＳｉＯｘに限らず、透明で水分や酸素等のガスの透過率の小さな他の材質、例えばダイヤモンド・ライク・カーボンであってもよい。これらの材質は、真空製膜によりパッシベーション膜１８を形成できる。ここで真空製膜とは、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、ＣＶＤ法等の真空状態あるいは減圧下で薄膜を形成する方法を意味する。特に窒化ケイ素ＳｉＮｘを使用した場合は、パッシベーション膜１８を１００℃以下の条件で製造でき、パッシベーション膜１８を形成する際に有機ＥＬ層１６にダメージを与えることを回避できる。
【００４８】
〇　アクティブ・マトリックス方式により有機ＥＬ素子１３を駆動する構成において、基板１２上にアクティブ駆動用素子と有機ＥＬ素子１３とが同一面上に位置するように、即ち基板１２側に設けられる第１電極層１５がアクティブ駆動用素子を覆わない状態に形成してもよい。この場合、アクティブ駆動用素子と対応する箇所には有機ＥＬ素子１３を形成できないため、前記第２の実施の形態のように、アクティブ駆動用素子（薄膜トランジスタ２１）の上に有機ＥＬ素子１３を形成する方が好ましい。なお、基板１２側に設けられる電極（第１電極層１５）がアクティブ駆動用素子の一部を覆う状態に形成してもよい。
【００４９】
〇　アクティブ駆動用素子として薄膜トランジスタ２１に代えて、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ　）素子を使用してもよい。
〇　有機ＥＬ素子１３を基板１２の一方の面上にのみ備える構成に限らず、有機ＥＬ素子１３を基板１２の両方の面上に備える構成としてもよい。即ち、基板１２の他方の面上にも有機ＥＬ素子１３を設けるとともに、その有機ＥＬ素子１３に対応してパッシベーション膜１８及びカラーフィルタ１４等を設ける。
【００５０】
前記実施の形態から把握される発明（技術的思想）について、以下に記載する。
（１）　請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の発明において、前記発光層は青色発光層であり、前記カラーフィルタは色変換層を備えている。
【００５１】
（２）　請求項１〜請求項４及び前記技術的思想（１）のいずれか一項に記載の発明において、前記有機ＥＬ素子を構成する基板側の電極は透明に形成され、前記基板はその反射率が金属電極より小さく形成されている。
【００５２】
（３）　請求項３に記載の発明において、前記基板側の電極は、前記アクティブ駆動用素子を覆うように形成されている。
（４）　請求項１〜請求項４、前記技術的思想（１）〜（３）のいずれか一項に記載の発明において、前記カラーフィルタは有機カラーフィルタである。
【００５３】
【発明の効果】
以上詳述したように請求項１〜請求項４に記載の発明によれば、カラーフィルタから発生する水分やガス成分による有機ＥＬ層の劣化を抑制することができる。また、請求項４に記載の発明によれば、アクティブ・マトリックス方式を採用した場合に、ＴＦＴ駆動回路の形成時にカラーフィルタに悪影響を与えることを回避できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は第１の実施の形態の有機ＥＬ表示装置の模式断面図、（ｂ）は画素を示す模式図。
【図２】第２の実施の形態の有機ＥＬ表示装置の模式断面図。
【図３】従来技術の有機ＥＬ表示装置の模式断面図。
【符号の説明】
１２…基板、１３…有機ＥＬ素子、１４…カラーフィルタ、１５…電極としての第１電極層、１６…発光層としての有機ＥＬ層、１７…電極としての第２電極層、１８…パッシベーション膜、１９…保護膜、２１…アクティブ駆動素子としての薄膜トランジスタ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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