(57)【要約】【課題】ハードコート性、帯電防止性、高透明性及び耐久性等の実用性能を損なうことなく、反射光の干渉による色ムラの生じない反射防止シートを提供する。【解決手段】基材フィルムと、前記基材フィルムの片面に積層された易接着樹脂層と、前記易接着樹脂層上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層とからなる反射防止シートであって、前記易接着樹脂層は、帯電防止性を有し、前記基材フィルム、前記易接着樹脂層及び前記ハードコート層の屈折率の差が０．０３以内であることを特徴とする反射防止シート。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、前記基材フィルムの片面に積層された易接着樹脂層と、前記易接着樹脂層上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層とからなる反射防止シートであって、
前記易接着樹脂層は、帯電防止性を有し、
前記基材フィルム、前記易接着樹脂層及び前記ハードコート層の屈折率の差が０．０３以内である
ことを特徴とする反射防止シート。
【請求項２】
基材フィルムは、ポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂からなることを特徴とする請求項１記載の反射防止シート。
【請求項３】
全光線透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１又は２記載の反射防止シート。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はハードコート性、帯電防止性、高透明性及び耐久性等の実用性能を損なうことなく、反射光の干渉による色ムラの生じない反射防止シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）ディスプレイやＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）等のフラットパネルディスプレイにおいては、外光の表面反射により表示情報が見えにくいという問題があった。
このような問題に対し、ディスプレイの表面をエッチングしたり、微小な粒子を含む透明塗料を塗布したりしてディスプレイの表面に凹凸を形成し、反射光を散乱させて反射像をぼかすことにより表示情報の視認性を改善する方法が考案された。
【０００３】
しかし、このような外光の反射を散乱する方法でディスプレイ表面の映り込みを解消しようとした場合、外光の反射散乱を非常に高くしなければ充分な効果が得られない。これは同時に、視認情報である透過光をも散乱させ、透過像の滲みやコントラストの低下等の表示画質劣化を伴うという問題があった。
【０００４】
これに対して、蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ又は塗工等の方法により、ディスプレイの表面に低屈折率層と高屈折率層とを組み合わせた反射防止膜を形成する方法が提案されている。この反射防止膜は、屈折率の異なる層での界面反射光の干渉をコントロールすることにより、反射光の特定波長領域の光を減衰低減するものであり、ディスプレイの表示画質を損なわずに表示情報の視認性を高めることができる。
【０００５】
当初は、ディスプレイの表面材に蒸着法やスパッタリング法等のバッチ処理によりディスプレイ上へ反射防止膜を形成していたため、非常に高価なものであったが、近年では透明フィルム上に連続的に反射防止膜を形成した反射防止フィルムを、粘着剤によりディスプレイに貼付する方法が主流となり、ディスプレイのフラット化ともあいまって普及が進んでいる。
【０００６】
しかしながら、このような透明フィルム上に連続的に反射防止膜を形成した反射防止フィルムは、ディスプレイ上に粘着剤により貼付した場合、反射防止膜の基材となる透明フィルムや粘着剤層等の各構成要素の界面での反射光が干渉することによりディスプレイ上に色ムラを生じるという問題があった。
また、ディスプレイ上に反射防止機能を付与するにあたって、実用上では静電気による埃付着を抑制するための帯電防止層等の機能層も必要であり、このような機能層の積層界面で反射光が干渉することによっても色ムラが発生するという問題があった。
【０００７】
このような反射光の干渉による色ムラの発生を抑制した反射防止シートとして、特許文献１に、透明基材上に帯電防止層、含フッ素重合体を積層し、かつ、透明基材の屈折率よりも帯電防止層の屈折率が小さく、その屈折率差が０．０５以内であるような反射防止材が示されている。
しかしながら、この特許文献１に例示される透明フィルムを基材とする反射防止材は、非常に傷つきやすいものであった。
【０００８】
一方、帯電防止性を有しながら耐擦傷性を付与する方法として、ＩＴＯ（インジウムドープ酸化スズ）やＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）等の導電性微粒子を多官能アクリレート等の硬化によって得られるハードコート層中に分散させた帯電防止ハードコート層を透明フィルム上に形成した構成の反射防止シートも広く用いられる。しかしながら、この帯電防止ハードコート層は、帯電防止性を得る濃度で導電微粒子を含有し、かつ、導電性微粒子の着色により透明性が低下するという問題があった。
【０００９】
また、光学用フィルムとしてポピュラーなポリエステル樹脂フィルム等を透明フィルムに使用する場合、一般に透明フィルムと帯電防止ハードコート層との接着性が悪いという問題があった。この透明フィルムと帯電防止ハードコート層との接着性の改善手段として、通常、透明フィルム表面に易接着樹脂層を設けることが行われる。このような易接着樹脂層は、実用上の耐久性を得るためには非常に有効な方法であるが、この易接着樹脂層は、帯電防止ハードコート層及び透明フィルムを構成する材料との屈折率差に起因した反射光の干渉による色ムラを引き起こす原因となるという問題があった。
【００１０】
【特許文献１】
特開平１１−３３７７０４号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記に鑑み、ハードコート性、帯電防止性、高透明性及び耐久性等の実用性能を損なうことなく、反射光の干渉による色ムラの生じない反射防止シートを提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基材フィルムと、前記基材フィルムの片面に積層された易接着樹脂層と、前記易接着樹脂層上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層とからなる反射防止シートであって、前記易接着樹脂層は、帯電防止性を有し、前記基材フィルム、前記易接着樹脂層及び前記ハードコート層の屈折率の差が０．０３以内である反射防止シートである。
なお、本明細書において、「シート」は、フィルムを包含し、本発明の反射防止シートは、反射防止フィルムを包含するものであるとする。
以下に本発明を詳述する。
【００１３】
本発明の反射防止シートは、基材フィルムと、該基材フィルムの片面に積層された易接着樹脂層と、該易接着樹脂層上に積層されたハードコート層と、該ハードコート層上に積層された反射防止層とからなる。図１に本発明の反射防止シートの断面を示す模式図を示した。
本発明の反射防止シートにおいて、基材フィルム、易接着樹脂層及びハードコート層を構成するそれぞれの材料の屈折率差が０．０３以内である。屈折率差が０．０３を超えると、基材フィルム、易接着樹脂層及びハードコート層の各層の界面で反射光の干渉が起こりやすく、該反射光の干渉による色ムラが発生してしまう。
【００１４】
また、本発明の反射防止シートの全光線透過率は、９０％以上であることが好ましい。全光線透過率が９０％未満であると、本発明の反射防止シートを透過する光の量が少なくなりディスプレイの表示画像を視認することが困難となることがある。
【００１５】
上記基材フィルムとしては透明性があるものであれば特に限定されず、例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル類；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、シクロヘキサンジメチレンテレフタレート等のポリエステル類；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン類；ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリサルホン、ポリイミド、ナイロン等からなるもの等が挙げられる。なかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂からなるものは、透明性、強度及び寸法安定性に優れ、本発明の反射防止シートの基材フィルムとして好適である。
【００１６】
本発明の反射防止シートにおいて、上記基材フィルムの屈折率としては、易接着樹脂層及びハードコート層の屈折率との差が０．０３以内であれば特に限定されない。
【００１７】
上記易接着樹脂層は、上記基材フィルムと上記ハードコート層との間に位置し、両者の密着性を向上させる役割を果たすとともに、帯電防止性を有し、静電気による埃付着を防止する役割を果たす。
上記易接着樹脂層に帯電防止性を付与する方法としては、上記易接着樹脂層を構成する易接着樹脂中に導電性の無機酸化物の超微粒子（以下、導電性微粒子ともいう）を分散させる方法が挙げられる。この方法によると透明性を損なうことなく易接着樹脂層に帯電防止性を付与することができる。
【００１８】
上記導電性微粒子としては特に限定されず、例えば、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、インジウムドープ酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化アンチモン等が挙げられる。
上記導電性微粒子は、易接着樹脂層中に均一に分散していることが必要であり、適宜、表面処理や分散剤等の使用により上記導電性微粒子の分散性を向上させることが好ましい。
【００１９】
上記導電性微粒子の粒径としては、一次粒径が１００ｎｍ以下であることが好ましい。一次粒径が１００ｎｍｎを超えると、充分な透明性を有する易接着樹脂層を得られないおそれがある。より好ましくは２０ｎｍ以下である。
更に、易接着樹脂層中に分散させた後の上記導電性微粒子の平均粒径は、２００ｎｍ以下であることが好ましい。易接着樹脂層中に分散させた後の平均粒径が２００ｎｍを超えると、易接着樹脂層のヘイズが増大し、ディスプレイのコントラスト低下といった表示品質の低下原因となることがある。より好ましくは１００ｎｍ以下である。
【００２０】
上記導電性微粒子の形状としては特に限定されず、例えば、球状、鱗片状、不定形等任意の形状が挙げられる。
また、上記導電性微粒子を上記易接着樹脂中へ分散させる方法としては特に限定されず、例えば、ビーズミル、サンドミル、ボールミル、ペイントシェイカー、三本ロール、ホモジナイザー、ディスクディゾルバー、薄膜旋回型分散機、ナノマイザー等の公知の分散装置を用いた方法が適用できる。
【００２１】
本発明の反射防止シートにおいて、上記導電性微粒子の上記易接着樹脂層への添加量は、上記易接着樹脂層の屈折率と、上記基材フィルム及びハードコート層の屈折率との差が０．０３以内となるように適宜調整される。具体的には、上記導電性微粒子が上記易接着樹脂層に占める体積分率ｘは、上記基材フィルム又はハードコート層を構成する易接着樹脂の屈折率をｎ、上記導電性微粒子の屈折率をｎ１及び易接着樹脂の屈折率をｎ２としたときに下記式（１）を満たす範囲で決
定される。
【００２２】
【数１】
2004163752.tif 000003
【００２３】
上記易接着樹脂としては特に限定されず、基材フィルムとハードコート層とに充分な密着性を付与でき、かつ、溶媒に可溶で上記導電性微粒子を分散させた分散液として基材フィルム上に塗布できるものが挙げられ、基材フィルム及びハードコート層を構成する材料に合わせて適宜選定される。例えば、上記基材フィルムがポリエステル系樹脂の場合、上記易接着樹脂としては、水溶性又は有機溶媒可溶性の変性ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等が好適である。
【００２４】
また、上記易接着樹脂としては、上記分散液を上記基材フィルム上に塗布した後に、熱又は紫外線等の活性光線を照射し重合させることにより易接着樹脂層を形成しうる反応性樹脂も用いることができる。上記反応性樹脂としては特に限定されず、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
上記ウレタン（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ポリオール、ジイソシアネート、ヒドロキシ（メタ）アクリレートの反応により得られる種々のウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２６】
上記ポリオールとしては特に限定されず、例えば、スピログリコール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳ、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、ポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（プロピレンオキサイド）トリオール、コポリ（エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド）トリオール等が挙げられる。
【００２７】
上記ジイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００２８】
上記ヒドロキシ（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、２、２−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］メタン、ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エーテル、４，４’−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］シクロヘキサン、９，９−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］アントラキノン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、上記ポリオール、ジイソシアネート、ヒドロキシ（メタ）アクリレートを１種又は２種以上を使用し、公知の方法により得ることができる。
【００３０】
上記易接着樹脂を溶解させる溶媒としては特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、エチルセルソルブアセテート、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の有機溶媒が挙げられるが、上記易接着樹脂との相溶性、乾燥効率の面から適宜選択される。上記溶媒は単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００３１】
更に、上記易接着樹脂を含有する分散液には、その性能を損なわない範囲で、他の成分を含有していてもよい。上記他の成分としては特に限定されず、例えば、顔料、充填剤、界面活性剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、消泡剤等が挙げられ、これらは、単独で加えられてもよく、２種以上が加えられてもよい。
【００３２】
上記易接着樹脂等を含む分散液を上記基材シート上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スプレーコート、ディップコート、グラビアコート、ロールコート、バーコート等の塗工法が挙げられる。
【００３３】
上記易接着樹脂が上記反応性樹脂である場合、該反応性樹脂等を含有する分散液を上記基材フィルム上に塗布した後重合硬化させる方法としては、（メタ）アクロイル基の重合反応を開始し促進するものであれば特に制限されず、熱硬化、光硬化、放射線硬化等の公知の方法で行うことができるが、生産の効率と設備の簡素化のためには紫外線による光硬化が有利である。
【００３４】
加熱により上記反応性樹脂を含有する分散液の重合硬化を行う場合、予め上記分散液中に熱重合開始剤を配合することが好ましい。
上記熱重合開始剤としては特に限定されず、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタノール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート等の過酸化物等が挙げられる。
また、紫外線照射により上記反応性樹脂等を含有する分散液を光硬化させる場合、予め上記分散液中に光重合開始剤を配合することが好ましい。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、その他チオキサント系化合物等が挙げられる。
これら重合開始剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３５】
本発明の反射防止シートにおいて、上記易接着樹脂層の屈折率としては、上記易接着樹脂中に分散させる上記導電性微粒子の量等により調整することができ、上記基材フィルム及びハードコート層の屈折率との差が０．０３以内であれば特に限定されない。
【００３６】
上記易接着樹脂層の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、上限は２μｍである。０．０５μｍ未満であると、上記易接着樹脂層の易接着効果が不充分となることがあり、２μｍを超えると、易接着樹脂層のヘイズ増加等による光学特性の劣化や、クラックの発生が起きやすくなる等の物理特性の低下が起こることがある。
【００３７】
上記ハードコート層に用いられるハードコート樹脂としては、ハードコート層の屈折率と基材フィルム及び易接着樹脂層の屈折率との差が０．０３以下となり、ハードコート性を有する透明樹脂が用いられる。
上記ハードコート樹脂としては、屈折率１．４〜１．７の範囲にわたって種々の樹脂が市販されており、それらを用いることができる。
上記ハードコート樹脂としては特に限定されず、例えば、熱、活性光線、放射線等で重合可能な多官能の（メタ）アクリル系、エポキシ系、オキセタン系等の反応性樹脂が挙げられる。
【００３８】
上記多官能（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール（メタ）テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、これら多官能アクリレートを変性したものも利用することができ、これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３９】
また、上記多官能（メタ）アクリレートとしては、アルコキシシランの加水分解縮合により得られるコロイダルシリカの残存シラノール基を（メタ）アクリル酸エステルとしたシリコンアクリレートを用いることもできる。このようなシリコンアクリレートとしては、デソライトＺ７５００（ＪＳＲ社製）、ＳＨＣ２００、ＳＨＣ９００、∪ＶＨＣ８５ＸＸシリーズ、∪ＶＨＣ１１ＸＸシリーズ（ＧＥ東芝シリコーン社製）等が挙げられる。
【００４０】
上記ハードコート層は、更に、硬度を損なわずに強靭性を持たせるためにウレタン（メタ）アクリレートが配合されていてもよい。
上記ウレタン（メタ）アクリレートとしては、上記易接着樹脂層において説明したウレタン（メタ）アクリレートと同様のものが挙げられる。
【００４１】
上記ハードコート層は、上記ハードコート樹脂の屈折率と異なる屈折率を有するフィラーを可視光波長以下の粒径に超微粒化して分散させることで、透明性を維持しながらハードコート層の屈折率を任意に調整することができる。
【００４２】
上記フィラーとして、例えば、ハードコート樹脂に比べて屈折率の高い無機酸化物等の超微粒子を分散させることにより、ハードコート層の屈折率を高めることができる。このような屈折率の高い無機酸化物としては、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ、ＴａＯ２等が挙げられる
。
【００４３】
また、無機酸化物としてＩＴＯ、ＡＴＯ等の導電性を有する超微粒子を分散させることにより、帯電防止効果を兼ねたハードコート層とすることも可能であるが、導電性を有する無機酸化物は着色が大きいことから、ハードコート層として充分な性能を得る膜厚において帯電防止性を発揮させようとすると、若干の光線透過率の低下が避けられず、用途的な制約が生ずる。
【００４４】
また、上記フィラーとしてＭｇＦ２等の低屈折材料の微粒子を上記ハードコート層に分散させることで、上記ハードコート層の屈折率を小さくすることができる。
これらハードコート層の屈折率調整のためのフィラーは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、それぞれの成分を固溶した多成分系の材料を用いることもできる。
【００４５】
本発明の反射防止シートにおいて、上記ハードコート樹脂中に上記フィラーを分散させる場合、上記フィラーの上記ハードコート樹脂への添加量は、上記ハードコート層の屈折率と、上記基材フィルム及び易接着樹脂層の屈折率との差が０．０３以内となるように適宜調整される。具体的には、上記フィラーが上記ハードコート層に占める体積分率ｘ’は、上記基材フィルム又は易接着樹脂層の屈折率をｎ’、フィラーの屈折率をｎ’１及びハードコート樹脂の屈折率をｎ’２とし
たときに下記式（２）を満たす範囲で決定される。
【００４６】
【数２】
2004163752.tif 000004
【００４７】
上記ハードコート層を上記易接着樹脂層上に形成する方法として特に限定されず、例えば、上記ハードコート樹脂及びフィラーを必要に応じて溶媒で希釈したハードコート樹脂組成物を調製し、このハードコート樹脂組成物を上記易接着樹脂層上に塗布し、乾燥させた後、硬化させる方法等が挙げられる。
【００４８】
上記溶媒は、上記ハードコート樹脂組成物の粘度を調整するために適宜添加するものであり、ハードコート樹脂との相溶性、乾燥効率の面から適宜選択され、例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、エチルセルソルブアセテート、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の有機溶媒が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
上記ハードコート樹脂組成物を易接着樹脂層上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スプレーコート、ディップコート、グラビアコート、ロールコート、バーコート等の公知の塗工法を用いることができる。
上記ハードコート樹脂組成物の塗布量は、必要とされる物性を考慮し、ハードコート層が所望の厚さとなるように調整されるが、通常は塗布後の厚みが好ましくは下限が１μｍ、上限が２０μｍ、より好ましくは下限が２μｍ、上限が１０μｍとなるように塗布される。
【００５０】
上記ハードコート樹脂組成物を上記易接着樹脂層上に塗布した後硬化させる方法としては、（メタ）アクロイル基の重合反応を開始し促進するものであれば特に制限されず、例えば、熱硬化、光硬化、放射線硬化等の公知の方法で行うことができる。なかでも、生産の効率と設備の簡素化のためには紫外線による光硬化が有利である。
【００５１】
加熱による上記組成物の重合硬化を行う場合、予め上記ハードコート樹脂組成物中に熱重合開始剤を配合することが好ましい。
上記熱重合開始剤としては特に限定されず、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタノール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート等の過酸化物等が挙げられる。
紫外線照射により上記組成物を光硬化させる場合、予め上記ハードコート樹脂組成物中に光重合開始剤を配合することが好ましい。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエ一テル、ベンジルジメチルケタール、その他チオキサント系化合物等が挙げられる。
これら重合開始剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５２】
上記ハードコート樹脂組成物には、その性能を損なわない範囲で、他の成分を添加してもよい。上記他の成分としては特に限定されず、例えば、顔料、充填剤、界面活性剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、消泡剤等が挙げられ、これらは、単独で加えられてもよく、２種以上が加えられてもよい。
【００５３】
上記反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層とが、低屈折率層が最表面となるように２層又はそれ以上積層してなるものが好ましい。
上記高屈折率層を構成する材料としては特に限定されず、例えば、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の金属酸化物が挙げられる。
また、上記低屈折率層を形成する材料としては特に限定されず、例えば、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＬｉＦ、３ＮａＦ・ＡＩＦ３、ＡＩＦ３、Ｎａ３ＡＩＦ６等の金属酸化物又は金属フッ化物が挙げられる。
【００５４】
上記反射防止層の厚さとしては、反射防止層の設計にもよるが、通常、下限が１０ｎｍ、上限が３００ｎｍの範囲で使用されることが多い。
【００５５】
上記反射防止層を上記ハードコート層上へ形成する方法としては特に限定されず、例えば、スパッタリング、蒸着、プラズマＣＶＤ、塗工等の公知の方法を用いることができるが、なかでも、真空を必要とせず、連続生産性と膜の均一性に優れる常圧プラズマＣＶＤ法が適している。
【００５６】
上記常圧プラズマＣＶＤ法では、大気圧近傍の圧力下、金属化合物を含むガス雰囲気中で、対向電極間に放電電流密度が０．２〜３００ｍＡ／ｃｍ２となるように電界を印加することにより、放電プラズマを発生させ、反射防止層を形成することが好ましい。
上記条件で反射防止層を形成することにより、スパッタリングと同等の膜質が得られるのに加え、塗工法と同等の連続成膜が可能になるため、生産性が高くコスト面でも有利である。
【００５７】
上記常圧プラズマＣＶＤ法では、例えば、ＴｉＯ２からなる高屈折率層を形成する場合、例えば、対抗電極間上に易接着樹脂層及びハードコート層を形成した基材フィルムを設置し、Ｔｉアルコキシド化合物とキャリアガスとの気化混合ガスを、大気圧近傍の圧力下、対向電極間に放電電流密度が０．２〜３００ｍＡ／ｃｍ２となるように電界を印加して発生させた放電プラズマ中に導入することにより、上記ハードコート層上にＴｉＯ２等の高屈折率層を成膜する。
また、例えば、ＳｉＯ２からなる低屈折率層を形成する場合、例えば、上記ＴｉアルコキシドをＳｉアルコキシドに置き換えることにより、同様の方法にて成膜することができる。
【００５８】
上記常圧プラズマＣＶＤ法において、大気圧近傍とは、１０〜１１０ｋＰａの圧力を指すが、圧力調整が容易で、装置が簡便になる９０〜１０４ｋＰａの範囲が好ましい。
また、上記放電電流密度とは、放電により対抗電極間に流れる電流を放電空間における電流の流れ方向と直交する方向の放電面積で除した値をいう。電極として平行平板型のものを用いた場合には、その対抗面積で上記電流値を除したものに相当する。
また、電極間に印加する電界がパルス電界の場合は、パルス電流の正負それぞれの最大値、つまりピーク−ピーク値を上記面積で除したものをいう。
【００５９】
上記対向電極は、電界集中によるアーク放電の発生を避けるために、対向電極間の距離が略一定となる構造であることが好ましい。この条件を満たす電極構造としては、平行平板型、円筒対向平板型、球対向平板型、双曲面対向平板型、同軸円筒型構造等が挙げられる。
上記対向電極の電極母材としては、例えば、銅、アルミニウム等の金属単体；ステンレス、真鍮等の合金；金属間化合物等からなるものが挙げられる。
【００６０】
電極同士が直接対向してアーク放電が生じるのを防止するために、上記対向電極の対向面の少なくとも一方には、固体誘電体が設置されることが好ましい。上記固体誘電体は、電極面と密着し、かつ、接する電極の対向面を完全に覆うようにすることが好ましい。固体誘電体によって覆われずに電極同士が直接対向する部位があると、そこからアーク放電が生じるおそれがあるためである。
上記固体誘電体は、厚み０．０１〜４ｍｍで、電極対抗面を均一に被覆することが好ましい。０．０１ｍｍ未満であると、電圧印加時に絶縁破壊が起こりアーク放電が発生することがあり、４ｍｍを超えると、放電プラズマを発生するのに高電圧を要することがある。
【００６１】
上記固体誘電体の材質としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、ガラス、二酸化珪素、酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン等の金属酸化物、チタン酸バリウム等の複酸化物等が挙げられる。
上記固体誘電体は、２５℃環境下における比誘電率が２以上であることが好ましい。この比誘電率が２以上の固体誘電体としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ガラス、金属酸化膜等が挙げられる。
高密度の放電プラズマを安定して発生させるためには、２５℃環境下における比誘電率が１０以上の固定誘電体を用いることが好ましい。この比誘電率が１０以上の固体誘電体としては、例えば、酸化チタニウム５〜５０重量％と酸化アルミニウム５０〜９５重量％とからなる金属酸化物、酸化ジルコニウムを含有する金属酸化物等が挙げられる。このような固体誘電体を被膜の厚みが１０〜１０００μｍとなるようにして用いることが好ましい。
【００６２】
上記対向電極間の距離は、雰囲気ガスの圧力・酸素濃度、固体誘電体の厚さ、印加電圧の大きさ、プラズマを利用する目的等を考慮して決定され、対向電極間の距離が小さいほど安定した放電プラズマが得られる傾向にあるが、好ましい下限は０．５ｍｍ、上限は５０ｍｍである。０．５ｍｍ未満であると、対向電極間における雰囲気ガス中の酸素濃度の変動が大きく、親水化処理が不均一になることがあり、また、対向電極間に設置できる被処理物の厚さが限定されてしまう。一方、５０ｍｍを超えると、均一な放電プラズマを発生させることが困難となることがある。
【００６３】
また、上記常圧プラズマＣＶＤ法により反射防止層を形成する場合にあっては、対向電極間にパルス化された電界を印加することが好ましい。この場合、電界のパルス波形はインパルス型、方形波型、変調型の波形のいずれでもよく、また、印加電圧が正負の繰り返しであっても、正又は負のいずれかの極性側に電圧が印加される片波状の波形であってもよい。
なお、この場合、上記放電電流密度とは、パルス電流の正負それぞれの最大値、すなわちピーク−ピーク値を放電空間における電流の流れ方向と直交する方向の放電面積で除した値をいう。
【００６４】
上記パルス電界の電圧立ち上がり時間は１００μｓｅｃ以下であることが好ましい。このような高速のパルスを印加することは高密度のプラズマの発生につながり、処理を高速連続化する上で重要である。ここで立ち上がり時間とは、電圧変化が連続して正である時間を指す。
パルス電界の立ち上がり時間が短いほどプラズマ発生の際のガスの電離が効率よく行われ、パルスの立ち上がり時間が１００μｓｅｃを超えると放電状態がアークに移行しやすく不安定なものとなり、パルス電界による高密度プラズマ状態を期待できなくなる。
上記パルス電界の電圧の立ち上がり時間は早いほうがよいが、常圧でプラズマが発生する程度の大きさの電界強度を有し、かつ、電圧の立ち上がり時間が早い電界を発生させる装置には制約があり、現実的には４０ｎｓｅｃ未満の立ち上がり時間のパルス電界を実現することは困難である。従って、現在考え得る電圧の立ち上がり時間のより好ましい下限は５０ｎｓｅｃ、上限は５μｓｅｃである。
【００６５】
また、パルス電界の電圧の立ち下がり時間も急峻であることが好ましく、立ち上がり時間と同様の１００μｓｅｃ以下のタイムスケールであることが好ましい。パルス電界発生技術によっても異なるが、例えば、本発明の実施例で使用した電源装置では、電圧の立ち上がり時間と立ち上がり時間とを同じ時間に設定することができる。
【００６６】
上記パルス電界の周波数の好ましい下限は０．５ｋＨｚ、上限は１００ｋＨｚである。０．５ｋＨｚ未満であると、プラズマ密度が低いため処理に時間がかかりすぎ、１００ｋＨｚを超えるとアーク放電が発生しやすくなる。より好ましい下限は１ｋＨｚ以上であり、このような高周波数のパルス電界を印加することにより、処理速度を大きく向上させることができる。
【００６７】
上記パルス電界におけるパルス縦続時間の好ましい下限は１μｓｅｃ、上限は１０００μｓｅｃである。１μｓｅｃ未満であると、放電が不安定なものとなることがあり、１０００μｓｅｃを超えると、アーク放電に移行しやすくなることがある。より好ましい下限は３μｓｅｃ、上限は、２００μｓｅｃである。
更に、放電を安定させるためには、放電時間１ｍｓｅｃ内に少なくとも１μｓｅｃ縫続するＯＦＦ時間を有することが好ましい。
なお、パルス継続時間とは、ＯＮ、ＯＦＦの繰り返しからなるパルス電界における、パルスが連続する時間を言う。
【００６８】
また、微細孔を有する被処理物や、低融点の材質からなる被処理物に対しては、上記基本となるパルス電界に、周波数５０〜５００Ｈｚ、デューティ比２０〜７０％である変調パルス電界を加えて変調された波形を用いるとよい。また、パルス電圧の印加において、直流を重畳してもよい。
【００６９】
プラズマ放電を発生し、かつ、原料ガスを導入するキャリアガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、窒素等の不活性ガスが単独もしくは混合して用いられる。これらの不活性ガスは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、金属酸化物膜を作製する場合には、上記不活性ガスに適宜酸素ガスを混合することにより、成膜反応を制御できる。
【００７０】
本発明の反射防止シートでは、該反射防止シートを構成する基材フィルム、易接着樹脂層及びハードコート層の屈折率差が０．０３以内であるため、これらの層の界面における反射光の干渉による色ムラが生じることがない。また、上記基材フィルムとハードコート層との間に帯電防止性を有する易接着樹脂層を設けることにより、上記基材フィルムとハードコート層との密着性を向上させることができるとともに、静電気による埃付着を防止することができる。
本発明の反射防止シートは、ハードコート性、帯電防止性、高透明性及び耐久性に優れており、特にフラットパネルディスプレイ（液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）、ＣＲＴディスプレイ等に好適に用いることができる。
【００７１】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００７２】
（実施例１）
（易接着樹脂層の形成）
１次粒子径２０ｎｍの表面処理済みアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）超微粒子（屈折率１．９０）３０重量部を、ビーズミルによりメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０重量部に分散させ、分散液を調製した。この分散液中のＡＴＯ超微粒子の粒度分布を粒度分布計（堀場製作所社製、ＬＡ−９２０）にて測定したところ、算術平均径は１２１ｎｍであった。
このＡＴＯ超微粒子を分散させた分散液６５重量部を、変性ポリエステル樹脂の３０ｗｔ％トルエン／ＭＥＫ溶液（高松油脂社製、ペスレジンＳ−１１０、屈折率１．６０）３５重量部、トルエン２００重量部と混合し、高速攪拌機にて５分間攪拌を行い易接着樹脂組成物を調製した。
得られた易接着樹脂組成物を厚さ７５μｍの透明なＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム社製、ＯＦＷ、屈折率１．６７）上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃、５分間加熱乾燥して易接着樹脂層を成膜した。易接着樹脂層の膜厚は約０．５μｍであり、その屈折率は１．６６であった。
【００７３】
（ハードコート層の形成）
紫外線硬化型アクリル系高屈折率ハードコート樹脂の４０ｗｔ％ＭＥＫ溶液１００重量部に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア８１９）２重量部を溶解し、ハードコート樹脂組成物を調製した。このハードコート樹脂組成物を、先ほどの易接着樹脂層上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、８０℃、５分間加熱乾燥した。乾燥後、高圧水銀ランプより４００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して硬化させた。硬化後のハードコート層の膜厚は約５μｍであり、屈折率は１．６５であった。
【００７４】
（反射防止層の形成）
反射防止層は、常圧プラズマＣＶＤ法により形成した。
使用した常圧プラズマＣＶＤ装置は、図２に示す常圧プラズマＣＶＤ装置１０ように、ステンレスチャンバー１１内に高圧パルス電源２０に接続された一対の平行平板型電極（上部電極１３、下部電極１４）が電極間隔２ｍｍで設置され、基材フィルム１２は、基材巻き出しロール２１からガイドロール２５、チャンバーシールロール２３を通って上記平行平板電極間の放電空間を下部電極１４とほぼ接するように走行させ、チャンバーシールロール２４、ガイドロール２６を通って基材巻き取りロール２２に巻き取られるように構成されている。また、電極間の放電空間には、ガス導入ノズル１５から、ガス排気ノズル１６ヘ、キャリアガス導入管１９から導入されたキャリアガスとともに原料気化器１７により気化されたＴｉアルコキシドの気化物が均一なガス流として供給され、排気ポンプ１８により排気されるようになっている。また、電極の対抗面表面は比誘電率８のＡｌ２０３誘電体にて被覆されている。
【００７５】
この常圧プラズマＣＶＤ装置を用いて、ガス導入ノズルより気化したテトライソプロポキシチタンとアルゴンとの体積比が０．５：９９．５となるように調製した混合気体を電極間へ導入し、同時にガス排気ノズルより導入量とほぼ等量のガスを排気しながら、１分間安定させた。
しかる後に、先ほどの易接着樹脂層上にハードコート層を形成した基材フィルムを０．５ｍ／分の速度で走行させながら、電極間に立ち上がり時間５μｓｅｃ、パルス継続時間２０μｓｅｃ。波高値４ｋＶ、周波数６ｋＨｚ、放電電流密度４１ｍＡ／ｃｍ２のパルス電界を印加し、放電プラズマを発生させ、厚さ１８ｎｍのＴｉＯ２膜（高屈折率層）を形成した。
【００７６】
次に、ＴｉＯ２膜を形成したフィルムを巻き出し部にセットし、気化したテトラメトキシシラン、アルゴン及び酸素の体積比が１：９２：７となるように調製した混合気体を電極間へ導入して同様の手順により厚さ８８ｎｍのＳｉＯ２膜（低屈折率層）を形成して反射防止層を形成し、反射防止シートを得た。
ただし、この際、電極間に印加したパルス電界は電圧の立ち上がり時間５μｓｅｃ、パルス継続時間２０μｓｅｃ、波高値１６ｋＶ、周波数４ｋＨｚ、放電電流密度５０ｍＡ／ｃｍ２とした。
【００７７】
（実施例２）
（易接着樹脂層の形成）
１次粒子径２０ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）超微粒子（屈折率２．０５）の透明性水分散液（三菱マテリアル社製、ＴＤＬ−１、ＡＴＯ含有量１８ｗｔ％）１００重量部に、変性ポリエステル樹脂の２５ｗｔ％水溶液（高松油脂社製、ペスレジンＡ−１１５Ｇ、屈折率１．６０）５０重量部、蒸留水１５０重量部と混合し、高速攪拌機にて５分間攪拌を行い易接着樹脂組成物を調製した。
得られた易接着樹脂組成物を厚さ７５μｍの透明なＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム社製、ＯＦＷ、屈折率１．６７）上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃、５分間加熱乾燥して易接着樹脂層を成膜した。易接着樹脂層の膜厚は約０．５μｍであり、その屈折率は１．６８であった。
【００７８】
（ハードコート層の形成）
１次粒子径２０ｎｍの表面処理済み酸化亜鉛超微粒子（屈折率２．１０）３０重量部を、ビーズミルによりメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０重量部に分散させ、分散液を調製した。この分散液中の酸化亜鉛超微粒子の粒度分布を粒度分布計（堀場製作所社製、ＬＡ−９２０）にて測定したところ、算術平均径は１１０ｎｍであった。
紫外線硬化型アクリル系高屈折率ハードコート樹脂の５０ｗｔ％プロピレングリコールモノエチルエーテル溶液（共栄社化学社製、ライトプロコートＨＩＣ−２０００、屈折率１．５８）６０重量部に、酸化亜鉛超微粒子を分散させた分散液１００重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア８１９）２重量部を溶解し、ハードコート樹脂組成物を調製した。このハードコート樹脂組成物を、先ほどの易接着樹脂層上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、８０℃、５分間加熱乾燥した。乾燥後、高圧水銀ランプより４００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して硬化させた。硬化後のハードコート層の膜厚は約５μｍで、屈折率は１．６６であった。
【００７９】
（反射防止層の形成）
反射防止層は、実施例１と同様にして形成し、反射防止シートを得た。
【００８０】
（実施例３）
（易接着樹脂層の形成）
１次粒子径２０ｎｍの表面処理済みアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）超微粒子（屈折率１．９０）３０重量部を、ビーズミルによりメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０重量部に分散させ、分散液を調製した。この分散液中のＡＴＯ超微粒子の粒度分布を粒度分布計（堀場製作所社製、ＬＡ−９２０）にて測定したところ、算術平均経は１２１ｎｍであった。
このＡＴＯ超微粒子を分散させた分散液５０重量部に、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＭＵ−２１００）１０重量部、ＭＥＫ１９０重量部を加え、高速攪拌機にて５分間攪拌を行い易接着樹脂組成物を調製した。
得られた易接着樹脂組成物を厚さ１００μｍの透明なＡ−ＰＥＴフィルム（帝人化成社製、テトロンフィルム、屈折率１．５８）上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、７０℃、５分間加熱乾燥して易接着樹脂層を成膜した。易接着樹脂層の膜厚は約０．５μｍであり、その屈折率は１．５９であった。
【００８１】
（ハードコート層の形成）
紫外線硬化型アクリル系高屈折率ハードコート樹脂の５０ｗｔ％プロピレングリコールモノエチルエーテル溶液（共栄社化学社製、ライトプロコートＨＩＣ−２０００）１００重量部に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア８１９）２重量部を溶解し、ハードコート樹脂組成物を調製した。このハードコート樹脂組成物を、先ほどの易接着樹脂層上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、８０℃、５分間加熱乾燥した。乾燥後、高圧水銀ランプより４００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して硬化した。硬化後のハードコート層の膜厚は約５μｍであり、屈折率は１．５８であった。
【００８２】
（反射防止層の形成）
反射防止層は、実施例１と同様にして形成し、反射防止シートを得た。
【００８３】
（実施例４）
（易接着樹脂層、ハードコート層の形成）
実施例３と同様にして、厚さ１００μｍの透明なポリカーボネートフィルム（三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロンフィルム、屈折率１．５９）上に易接着樹脂層、ハードコート層を形成した。
【００８４】
（反射防止層の形成）
反射防止層は、実施例１と同様にして形成し、反射防止シートを得た。
【００８５】
（比較例１）
（易接着樹脂層の形成）
１次粒子径２０ｎｍの表面処理済みアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）超微粒子（屈折率１．９０）３０重量部を、ビーズミルによりメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０重量部に分散させ、分散液を調製した。この分散液中のＡＴＯ超微粒子の粒度分布を粒度分布計（堀場製作所社製、ＬＡ−９２０）にて測定したところ、算術平均径は１２１ｎｍであった。
このＡＴＯ超微粒子を分散させた分散液３０重量部を、変性ポリエステル樹脂の３０ｗｔ％トルエン／ＭＥＫ溶液（高松油脂社製、ペスレジンＳ−１１０、屈折率１．６０）７０重量部、トル工ン２００重量部と混合し、高速攪拌機にて５分間攪拌を行い易接着樹脂組成物を調製した。
得られた易接着樹脂組成物を厚さ７５μｍの透明なＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム社製、ＯＦＷ、屈折率１．６７）上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃、５分間加熱乾燥して易接着樹脂層を成膜した。易接着樹脂層の膜厚は約０．５μｍであり、その屈折率は１．６３であった。
【００８６】
（ハードコート層の形成）
紫外線硬化型アクリル系高屈折率ハードコート樹脂の４０ｗｔ％ＭＥＫ溶液１００重量部に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア８１９）２重量部を溶解し、ハードコート樹脂組成物を調製した。このハードコート樹脂組成物を、先ほどの易接着樹脂層上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、８０℃、５分間加熱乾燥した。乾燥後、高圧水銀ランプより４００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して硬化させた。硬化後のハードコート層の膜厚は約５μｍであり、屈折率は１．６５であった。
【００８７】
（反射防止層の形成）
反射防止層は、実施例１と同様にして形成し、反射防止シートを得た。
【００８８】
（比較例２）
（易接着樹脂層の形成）
実施例３と同様にして、厚さ１００μｍの透明なＡ−ＰＥＴフィルム（帝人化成社製、テトロンフィルム、屈折率１．５８）上に易接着樹脂層を成膜した。塗膜の膜厚は約０．５μｍであり、その屈折率は１．５９であった。
【００８９】
（ハードコート層の形成）
トリメチロールプロパントリアクリレート（共栄社化学社製、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ）１００重量部に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア８１９）２重量部を溶解し、ハードコート樹脂組成物を調製した。このハードコート樹脂組成物を、先ほどの易接着樹脂層上にマイクログラビアコーターを用いて塗布し、８０℃、５分間加熱乾燥した。乾燥後、高圧水銀ランプより４００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して硬化した。硬化後のハードコート層の膜厚は約５μｍであり、屈折率は１．４８であった。
【００９０】
（反射防止層の形成）
反射防止層は、実施例１と同様にして形成し、反射防止シートを得た。
【００９１】
実施例１〜４及び比較例１、２で作製した反射防止シートについて、下記の方法により干渉による色むらの有無、表示画像の視認性、光学性能、鉛筆硬度の評価を行った。
結果を表１に示した。
【００９２】
（１）干渉による色ムラ及び表示画像の視認性の評価
反射防止シートの裏面を粘着材を用いてフラットＣＲＴの画面に貼付し、３波長蛍光管で画面を照明し、干渉による色ムラの有無及び表示画像の視認性を目視にて評価した。
【００９３】
（２）光学性能の評価
ヘイズメーターを用いて、平均反射率、全光線透過率及びヘイズを測定した。
【００９４】
（３）鉛筆硬度の測定
ＪＩＳ  Ｋ  ６８９４に準じて評価を行った。
【００９５】
（４）易接着樹脂層の帯電防止性の評価
易接着樹脂層の表面抵抗値を測定した。
【００９６】
【表１】
2004163752.tif 000005
【００９７】
【発明の効果】
本発明によれば、ハードコート性、帯電防止性、高透明性及び耐久性等の実用性能を損なうことなく、干渉による色ムラの生じない反射防止シートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止シートの断面を示す模式図である。
【図２】実施例１で用いた常圧プラズマＣＶＤ装置を示す模式図である。
【符号の説明】
１  反射防止シート
２  基材フィルム
３  易接着樹脂層
４  ハードコート層
５  反射防止層
１０  常圧ＣＶＤ装置
１１  チャンバー
１２  基材
１３  上部電極
１４  下部電極
１５  ガス導入ノズル
１６  ガス排気ノズル
１７  原料気化器
１８  排気ポンプ
１９  キャリアガス導入管
２０  高圧パルス電源
２１  基材巻き出しロール
２２  基材巻き取りロール
２３、２４  チャンバーシールロール
２５、２６  ガイドロール
【図１】
2004163752.tif 000006
【図２】
2004163752.tif 000007