(57)【要約】【課題】安定した真空度が得られ、かつ、吸着ミスが生じても他の吸着部での吸着力が低下することを防止した、高速応答可能な真空発生器を提供することを課題とする。【解決手段】真空発生器１０を構成する真空発生体１４Ａは、圧縮空気を送給する分岐路２６ＡＵ、２６ＡＬと、分岐路２６ＡＵに開閉自在に設けられた電磁弁４２Ａと、分岐路２６ＡＬから供給された空気が送り込まれるディフューザ１８Ａと、ディフューザ１８Ａに連通する真空吸引口２１Ａと、真空吸引口２１Ａに連通し、真空破壊させる空気を供給する真空破壊用分岐路４８Ａと、真空破壊用分岐路４８Ａに開閉自在に設けられた電磁弁５２Ａと、を備え、エジェクタ式で真空を発生させる。これにより、安定した応答速度が得られと共に高速応答できる。【選択図】　　　　図３
2004009252.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エジェクタ方式で真空吸引力を発生させる真空発生器であって、
圧縮空気を供給する圧縮空気供給路と、
前記圧縮空気供給路を開閉する圧縮空気開閉弁と、
前記圧縮空気供給路から供給された空気が送り込まれるディフューザと、
前記ディフューザに連通する真空吸引口と、
前記真空吸引口に連通し、真空破壊させる空気を供給する破壊空気供給路と、
前記破壊空気供給路を開閉する破壊空気開閉弁と、
を有することを特徴とする真空発生器。
【請求項２】
エジェクタ方式で真空吸引力を発生させる真空発生器であって、
圧縮空気を供給する圧縮空気供給路と、
前記圧縮空気供給路に分岐して設けられた複数の分岐路と、
前記複数の分岐路をそれぞれ開閉する複数の圧縮空気開閉弁と、
前記複数の分岐路から供給された空気がそれぞれ送り込まれる複数のディフューザと、
前記複数のディフューザにそれぞれ連通する複数の真空吸引口と、
真空破壊用の空気を送給する破壊空気供給路と、
前記破壊空気供給路に分岐して設けられ、前記複数の真空吸引口にそれぞれ連通する複数の破壊空気用分岐路と、
前記複数の破壊空気供給路をそれぞれ開閉する複数の破壊空気開閉弁と、
を有することを特徴とする真空発生器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エジェクタ方式で真空吸引力を発生させる真空発生器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
複数の吸着口でワーク（電子部品等）を空気吸引により吸着する吸着装置では、真空ポンプシステムを用い、１つの真空ポンプから複数に分岐した配管（チューブなど）を設け、各配管の先端にそれぞれ吸着部を設けることが多い。
【０００３】
しかし、この場合、吸着部が全てワーク（電子部品等）を吸着しているときは問題が生じないが、１つの吸着部で吸着ミスが生じた場合、大気が流入して真空源である真空ポンプの真空圧力が低下し、同じ吸気ラインで繋がっている他の吸着部の吸着力が低下するという問題がある。また、真空ポンプの脈動により安定した真空度が得られず、応答速度にばらつきが生じるという問題もある。
【０００４】
上記の真空ポンプに代えてエジェクタ式の真空発生器（例えば、（株）妙徳から市販されている商品名「ＣＶコンバム」）を用いた場合、上記のような脈動は生じないため、安定した応答速度が得られるという利点はあるものの、大気圧の状態から真空にし、また、真空状態を開放するには大気圧に開放するため、上記の真空ポンプシステムに比べ、ワークを吸着したり離したりする際、所定の真空度に到達させるまでに時間がかかる。近年、高速実装機（マウンタ）、高速検査機（ハンドラ等）で、電子部品、デバイス等を吸着するノズルから真空ユニットまでの管路を短時間で所定の真空度にしたい、すなわち高速応答させたいという要望が強く出されており、エジェクタ式の真空発生器でも応答速度を更に上げることが急務である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事実を考慮して、安定した真空度が得られ、かつ、吸着ミスが生じても他の吸着部での吸着力が低下することを防止した、高速応答可能な真空発生器を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明では、エジェクタ方式で真空吸引力を発生させる真空発生器であって、圧縮空気を供給する圧縮空気供給路と、前記圧縮空気供給路を開閉する圧縮空気開閉弁と、前記圧縮空気供給路から供給された空気が送り込まれるディフューザと、前記ディフューザに連通する真空吸引口と、前記真空吸引口に連通し、真空破壊させる空気を供給する破壊空気供給路と、前記破壊空気供給路を開閉する破壊空気開閉弁と、を有することを特徴とする。
【０００７】
この真空発生器はエジェクタ式の真空発生器であるので、脈動が生じず、安定した応答速度が得られる。また、圧縮空気開閉弁により真空吸引の開始、停止を切り換えることができ、しかも、破壊空気開閉弁を開にすることにより真空破壊させてワーク等を離すことができるので、高速応答できる真空発生器が実現される。
【０００８】
請求項２に記載の発明では、エジェクタ方式で真空吸引力を発生させる真空発生器であって、圧縮空気を供給する圧縮空気供給路と、前記圧縮空気供給路に分岐して設けられた複数の分岐路と、前記複数の分岐路をそれぞれ開閉する複数の圧縮空気開閉弁と、前記複数の分岐路から供給された空気がそれぞれ送り込まれる複数のディフューザと、前記複数のディフューザにそれぞれ連通する複数の真空吸引口と、真空破壊用の空気を送給する破壊空気供給路と、前記破壊空気供給路に分岐して設けられ、前記複数の真空吸引口にそれぞれ連通する複数の破壊空気用分岐路と、前記複数の破壊空気供給路をそれぞれ開閉する複数の破壊空気開閉弁と、を有することを特徴とする。
【０００９】
これにより、各真空吸引口で互いに独立して真空吸引するので、１つの吸着ミスが生じても、他の真空吸引口の真空度が低下することはない。また、複数のディフューザを設けても、圧縮空気供給路から分岐した分岐路によって各ディフューザに空気が吹き込まれるので、圧縮空気供給路を１本にすることが可能になり、装置の小型化に寄与する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、実施形態を挙げ、本発明の実施の形態を説明する。図１〜図３は、本発明の一実施形態に係る真空発生器１０を示す図であり、真空発生器１０は、ねじ結合されることにより被取付体（図示せず）に取付けられ、外部から供給された空気を、基体１２を構成する４つの真空発生体１４Ａ〜Ｄ内のノズル部で吹き出し、空気吸引力を発生させる装置である。
【００１１】
真空発生器１０を構成する基体１２の正面側には、圧縮空気が送給される空気送給口２２が形成され、基体１２には、空気送給口２２に連通する圧縮空気送給路２４が形成されている（図２参照）。圧縮空気送給路２４から供給された圧縮空気は、各真空発生体のそれぞれの分岐路（例えば、真空発生体１４Ａであれば分岐路２６ＡＬ及び分岐路２６ＡＵ）に案内される。
【００１２】
真空発生体１４Ａには、分岐路２６ＡＬへ供給された圧縮空気を通過させるノズル部１６Ａと、ノズル部１６Ａの下流側に設けられたディフューザ１８Ａと、が設けられている。真空発生体１４Ｂ〜Ｄ（図２参照）にも、それぞれ、同様にノズル部及びディフューザが設けられている。
【００１３】
更に、真空発生体１４Ａ〜Ｄには、各ディフューザから吹き出された空気を外部へ排出する空気排出口２８Ａ〜Ｄが設けられている（図２参照）。
【００１４】
また、真空発生体１４Ａは、ノズル部１６Ａの空気吹出口とディフューザ１８Ａの空気吹込口との間に連通する真空吸引路２０Ａが形成されており、真空吸引路２０Ａの端部は真空吸引口２１Ａとして外部に形成され、同様に、真空発生体１４Ｂ〜Ｄにも、それぞれ、真空吸引口２１Ｂ〜Ｄが形成されている。
【００１５】
更に、真空発生体１４Ａは、真空吸引路２０Ａを開閉する切換弁３２Ａを備えている。切換弁３２Ａは、分岐路２６ＡＵの空気圧の変化により移動して空気流路Ｓの開閉を切り換える切換部材３４Ａと、切換部材３４Ａの下端側に設けられ、切換部材３４Ａを下方から上方に向けて常に付勢している圧縮コイルバネ３６Ａと、を備えている。更に、真空発生体１４Ａは、分岐路２６ＡＵを開閉する電磁弁４２Ａと、電磁弁４２Ａの開閉制御を行う制御部４０Ａと、を備えている。
【００１６】
電磁弁４２Ａが閉の状態では、切換部材３４Ａは圧縮コイルバネ３６Ａにより上方へ付勢される力のみ受けており、この結果、切換弁３２Ａは閉の状態になっている（図１参照）。電磁弁４２Ａが開にされると、分岐路２６ＡＵからの所定圧以上の空気によって切換部材３４Ａが上方から押圧され、圧縮コイルバネ３６Ａの付勢力に抗して下方へ移動し、この結果、切換弁３２Ａが開の状態になる（図３参照）。
【００１７】
また、基体１２には、真空破壊のための空気が送給される破壊空気送給口４４を正面側に有する破壊空気送給路４６（図２参照）が設けられており、破壊空気送給路４６に供給された空気が分岐して各真空発生体の各真空破壊用分岐路に案内され、各真空吸引路にそれぞれ供給される（例えば真空破壊用分岐路４８Ａに供給された空気は真空吸引路２０Ａへ供給される）。各真空破壊用分岐路にはニードル弁（例えば、真空破壊用分岐路４８Ａではニードル弁５６Ａ）が設けられている。更に、真空発生体１４Ａは、真空破壊用分岐路４８Ａを開閉する電磁弁５２Ａと、電磁弁５２Ａの開閉制御を行う制御部５０Ａと、を備えている。真空発生体１４Ａの電磁弁５２Ａを開にして真空破壊したときの空気流量はニードル弁５２Ａにより調整される。
【００１８】
同様に、真空発生体１４Ｂ〜Ｄも、それぞれ、真空破壊用分岐路、制御部、電磁弁、及び、ニードル弁を備えている。
【００１９】
なお、真空吸引口２１Ａ〜Ｄ及び空気送給口２２には一般に雌ねじが形成されており、継手が取付可能になっている。
【００２０】
以下、真空発生体１４Ａで真空吸引されること、及び、真空破壊されることについて詳しく説明し、真空発生器１０の作用を説明するが、他の真空発生体１４Ｂ〜Ｄでも同様である。
【００２１】
真空発生器１０の空気送給口２２から圧縮空気を送給した状態で、電磁弁４２Ａを開にすると、各ノズル部、更には各ディフューザ（例えば真空発生部１４Ａのノズル部１６Ａ及びディフューザ１８Ａ）から空気が噴出される。
【００２２】
この結果、真空吸引路２０Ａは真空吸引口２１Ａに対して負圧になり、吸引流Ｖが形成され、真空吸引口２１Ａから真空吸引される。また、ディフューザ１８Ａから排出された空気は、排気流Ｄを形成して空気排出口２８Ａから排出される。従って、電磁弁４２Ａを開にすることにより直ちに真空吸引力を発生させることができる。
【００２３】
同様に、真空発生体１４Ｂ〜Ｄでも、それぞれ、真空吸引口２１Ｂ〜Ｄから独立して（すなわち他の真空発生体の影響を受けることなく）真空吸引される。従って、１つの真空吸引口に接続された吸引ラインの吸着パッド（図示せず）で吸着ミスが生じても、他の真空吸引口に接続された吸着パッドによる真空吸引力が低下することがない。
【００２４】
真空吸引路２０Ａで真空破壊を生じさせるには電磁弁５２Ａを開にする。この結果、ニードル弁５６Ａから破壊エアーが真空吸引路２０Ａへ流入し、例えば、真空吸引路２０Ａに接続された吸引ラインによって吸着しているワークを高速応答で離すことができる。同様に、真空発生体１４Ｂ〜Ｄでも、他の真空発生体の影響を受けることなく高速応答で真空破壊させることができる。
【００２５】
また、真空発生器１０では、複数の真空発生体１４Ａ〜Ｄを有しており、圧縮空気送給路２４、及び、破壊空気送給路４６が共通である。従って、互いに独立した複数の真空吸引口２１Ａ〜Ｄを有する小型の真空発生器１０が実現されている。
【００２６】
【発明の効果】
本発明は上記構成としたので、以下の効果を奏することができる。
【００２７】
請求項１に記載の発明によれば、この真空発生器はエジェクタ式の真空発生器であるので、脈動が生じず、安定した応答速度が得られる。また、圧縮空気開閉弁により真空吸引の開始、停止を切り換えることができ、しかも、破壊空気開閉弁を開にすることにより真空破壊させてワーク等を離すことができるので、高速応答できる真空発生器が実現される。
【００２８】
請求項２に記載の発明によれば、各真空吸引口は互いに独立した構造になっているので、１つの吸着ミスが生じても、他の真空吸引口の真空度が低下することはない。また、複数のディフューザを設けても、圧縮空気供給路から分岐した分岐路によって各ディフューザに空気が吹き込まれるので、圧縮空気供給路を１本にすることが可能になり、装置の小型化に寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る真空発生器の構成を示す正面断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る真空発生器の側面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る真空発生器の構成を示す正面断面図である。
【符号の説明】
１０　真空発生器
１８Ａ　ディフューザ
２４　圧縮空気送給路（圧縮空気送給路）
２１Ａ〜Ｄ　真空吸引口
２６ＡＬ　分岐路
２６ＡＵ　分岐路
４２Ａ　電磁弁（圧縮空気開閉弁）
４６　破壊空気送給路（破壊空気供給路）
４８Ａ　真空破壊用分岐路（破壊空気供給路）
５２Ａ　電磁弁（破壊空気開閉弁）
【図１】
2004009252.tif 000003
【図２】
2004009252.tif 000004
【図３】
2004009252.tif 000005