(57)【要約】【課題】製造工程が容易で、単磁極ヘッドを用いた記録再生が可能な垂直磁気記録方式のパターンドメディアを提供する。【解決手段】非磁性基板と、非磁性基板上に形成され、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを持つ軟磁性層と、この軟磁性層上に形成された強磁性層を有し、凸部領域に周囲と磁気的に分断された垂直磁気記録領域を有する磁気記録媒体である。なお、軟磁性層は、記録再生の際に基板面と平行な面方向に安定に磁化の向きが揃う厚みを持つ。【選択図】      図１
2004164692.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板と、
前記非磁性基板上に形成され、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを持つ軟磁性層と、
前記軟磁性層上に形成され、前記軟磁性層の前記凸部および前記凹部を反映した凹凸部を有し、該凸部領域に、周囲と磁気的に分断され、垂直磁気異方性と強磁性とを示す記録領域を持つ強磁性層と
を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記非磁性基板は、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有し、前記軟磁性層の凹凸は、前記非磁性基板の凹凸を反映したものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記非磁性基板は、平坦面を有し、
前記軟磁性層は、表面のみに前記凸部と前記凹部とを有することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記軟磁性層は、
平坦な面を有する軟磁性膜と、
前記軟磁性膜上に、個々に離間して規則的に配列された軟磁性微粒子とを有することを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記軟磁性層は、少なくとも記録再生の際に面方向に安定に磁化の向きを揃える厚みを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
前記軟磁性層は、厚みＬ１が、前記軟磁性層の表面の凹凸部の高さＬ２の２倍以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板を形成する工程と、
前記非磁性基板上に、軟磁性層を形成する工程と、
前記軟磁性層上に垂直磁気異方性を有する強磁性層を形成する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
非磁性基板上に軟磁性層を形成する工程と、
プレス成型法を用いて、前記軟磁性層表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部を形成する工程と、
プレス成形後の前記軟磁性層上に、垂直磁気異方性を有する強磁性層を形成する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
非磁性基板上に軟磁性膜を形成する工程と、
前記軟磁性膜上に前記軟磁性膜と共通する組成を含む軟磁性微粒子を個々に離間して、規則的に配列させる工程と、
前記軟磁性粒子が配列された表面上に、垂直磁気異方性を有する強磁性層を形成する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板と、
前記非磁性基板上に形成され、前記非磁性基板の前記凸部および前記凹部を反映した凹凸部を有し、該凸部領域に、周囲と磁気的に分断され、垂直磁気異方性と強磁性とを示す記録領域を持ち、それ以外の領域に軟磁性を示す非記録領域を持つ磁性層と
を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１１】
表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板を形成する工程と、
前記非磁性基板上に、垂直磁気異方性を有する強磁性材料からなる人工格子を形成する工程と
を有する磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度磁気記録技術に関し、特に高密度垂直磁気記録が可能なパターンドメディアとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、画像、映像、音声などのデータのマルチメディア化が進み、１ユーザあたりの検索データの情報量が増大化している。このため、データベースの大容量化、高速化が要求されている。一方、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ  Ｄｉｓｋ  Ｄｒｉｖｅ）の記録容量の増大に伴う磁気記録媒体の面記録密度の向上により、磁気記録媒体上の各記録ビットサイズは数１０ｎｍ程度の極めて微細なものになってきている。このような微細な記録ビットから再生出力を得るには、各ビットに可能な限り大きい飽和磁化と膜厚の確保が必要となる。しかし、記録ビットの微細化は、１ビットあたりの磁化最小体積（Ｖ）を小さくし、「熱揺らぎ」による磁化反転で、磁化情報の消失という問題を生じている。
【０００３】
一般に、この「熱揺らぎ」は、Ｋｕ・Ｖ／ｋＴ（ここで、Ｋｕは異方性定数、Ｖは磁化最小単位体積、ｋはボルツマン定数、Ｔは絶対温度である）の値が小さい程影響が大きくなり、経験的には、Ｋｕ・Ｖ／ｋＴが１００未満になると、「熱揺らぎ」による磁化の反転が生じると言われている。すなわち、磁性粒子の磁化の向きを一方向に保つのに必要な磁気異方性エネルギーは、磁気異方性エネルギー密度Ｋｕと磁性粒子の体積Ｖの積で表されるものであるが、これが室温の熱揺らぎエネルギー程度になってしまい、時間とともに磁化が揺らぎ、記録した情報が消失するという現象を生じている。
【０００４】
長手磁気記録方式の磁気記録媒体では、記録密度の高い領域の記録ビット内の減磁界が強くなるため、磁性粒子径が比較的大きいうちから「熱揺らぎ」の影響を受けやすい。これに対し、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体では、膜厚方向に磁性粒子を成長させることで、媒体表面の粒径は小さいまま磁化最小単位体積Ｖを大きくできるため、「熱揺らぎ」の影響を抑制できる。しかし、今後磁気記録媒体の高密度化がさらに進めば、たとえ垂直磁気記録方式であっても熱揺らぎ耐性に限界がでてくる。
【０００５】
この熱揺らぎ耐性の問題を解決する媒体として、「パターンドメディア」と呼ばれる磁気記録媒体が注目されている（例えば、特許文献１参照）。パターンドメディアは、一般には、非磁性体層中に記録ビット単位となる磁性体領域を複数、それぞれ独立に形成した磁気記録媒体であるが、磁気的に連続した磁性薄膜を記録磁区の大きさに分断した媒体と言うことができる。一般のパターンドメディアでは、非磁性体層として、例えばＳｉＯ２  、Ａｌ２  Ｏ３  、ＴｉＯ２  などの酸化物やＳｉ３  Ｎ４  、ＡｌＮ、ＴｉＮなどの窒化物、ＴｉＣなどの炭化物、ＢＮ等の硼化物が用いられ、これらの非磁性体層中に選択的に強磁性体領域が形成されている。
【０００６】
パターンドメディアは、磁性薄膜を記録磁区の大きさに分断したものであるから、磁化最小単位体積Ｖを大きくでき、熱揺らぎの問題を回避することができる。従来の連続磁性薄膜では、１ビットあたり、磁性粒子数として１０００グレイン程度までのものを用いているが、高記録密度化が進むにつれ、１ビットに対応するグレイン数が減少する。記録マークエッジはグレインの粒界で決まるので、Ｓ／Ｎを確保するにはグレインを極力小さくする必要がでてくる。従って従来の連続膜ではＶを小さくせざるを得ない。しかし、パターンドメディアでは記録磁区のエッジを構造で規定できるため、Ｖを小さくすること無くＳ／Ｎの向上が期待できる。
【０００７】
パターンドメディアは、記録ビット単位である強磁性体領域が独立しているので、各々の記録ビット間の干渉を防止することができ、隣接ビットによる記録の消失や雑音の低減に効果がある。また、パターニングにより、磁壁移動抵抗が増大し、磁気特性の向上を狙うことができる。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００１―１７６０４９号公報（第１図）
【０００９】
【特許文献２】
特許３０５７５８６号明細書（段落〔０００３〕、第１図）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上述するように、パターンドメディアは「熱揺らぎ」による磁化反転を抑制できるため、高密度磁気記録媒体として有効であるが、他の磁気記録媒体に比べその製造工程は複雑になる。
【００１１】
図１１（ａ）〜図１１（ｅ）に、従来の一般的なパターンドメディア作製方法を示す。この従来の製造方法によれば、まず、基板１１０上に強磁性体であるＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等を含む強磁性薄膜層１２０を形成し（図１１（ａ））、レジストパターン１３０をマスクとして強磁性薄膜層１２０をイオンミリングによりエッチングして（図１１（ｂ））、記録ビットごとに独立するパターンを形成する（図１１（ｃ））。さらに、この表面を非磁性体層１４０で被覆し（図１１（ｄ））、最後に強磁性体パターンが露出するように、表面の研磨を行っている（図１１（ｅ））。
【００１２】
なお、図１１（ｂ）に示すように、強磁性薄膜層１２０はエッチング困難な材料であるため、半導体プロセスで広く利用されているＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）等を用いた化学的なエッチングの使用が困難であり、代わりにイオンビームミリング等の物理的エッチングが使用されている。
【００１３】
しかしながら、イオンビームミリングは、電界加速されたイオンによって試料表面をスパッタするため、加工面にスパッタによるダメージが残りやすい。このダメージは、記録再生の際にノイズの要因になる。そこで、磁気特性の向上のために、ダメージのない製造方法の開発が望まれている。また、工程の多さから製造コストが嵩むという課題があり、より簡易な製造方法の開発も望まれている。
【００１４】
一方、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に適した記録再生ヘッドとして、単磁極ヘッドが挙げられる。垂直磁気記録方式のパターンドメディアの場合にも、記録再生の際この単磁極ヘッドを用いることが好ましい。単磁極ヘッドは、磁極を小さくすることで漏れ磁界を収束し、微小領域への書きこみができるが、ヘッドから媒体、媒体からさらにヘッドへと戻る磁束ループを構成するとともに、その磁束をヘッドのコイルに効率良く導くことが必要である。このため、単磁極ヘッドを使用する場合には、磁束ループを形成するため、磁束の通路となる軟磁性層を磁気記録層の下地として備える構造を採用することが望まれる（例えば、特許文献２参照）。
【００１５】
したがって、垂直磁気記録方式のパターンドメディアの構造および製造方法を考える場合も、記録層と非磁性基板との間に、磁束の通路となる軟磁性層を備える構造およびその構造を製造できる製造方法が望まれる。しかし、軟磁性層に磁壁が発生すると、これが記録再生の際のノイズになる。
【００１６】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、ノイズが少なく、単磁区ヘッドによる記録再生が可能な垂直磁気記録方式のパターンドメディアとその製造方法を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の磁気記録媒体の第１の特徴は、非磁性基板と、非磁性基板上に形成され、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを持つ、軟磁性層と、軟磁性層上に形成された強磁性層を有することである。さらに、この強磁性層が、軟磁性層の凹凸を反映した凹凸を有し、凸部領域に、磁気的に周囲と分断され、垂直磁気異方性と強磁性とを示す記録領域を持つことである。
【００１８】
なお、本発明において、強磁性層は、その積層構造等の状態により強磁性を発揮しうる層を意味する。また、軟磁性層は、軟磁性を示す層を意味する。
【００１９】
上記本発明の磁気記録媒体の第１の特徴によれば、凹凸を有する軟磁性層上に強磁性層を形成し、凹凸形状効果により凸部が磁気的に分断されたパターンドメディアを得ることができる。パターンドメディアを形成するために強磁性層のエッチングが不要な構造であるため、エッチングによるダメージに基づくノイズの発生を抑制できる。また、強磁性層の下地層として軟磁性層を有するので、単磁極ヘッドを用いた記録再生の際、媒体とヘッド間で磁束ループを形成できるので、高密度垂直磁気記録が可能になる。
【００２０】
上記本発明の磁気記録媒体において、非磁性基板は、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有し、軟磁性層の凹凸は、非磁性基板の凹凸を反映したものであってもよい。
【００２１】
あるいは、非磁性基板は平坦面を有し、軟磁性層は、上層部のみに凸部と凹部とを有するものであってもよい。さらに、軟磁性層の凹凸は、平坦な面を有する軟磁性膜と、軟磁性膜上に、個々に離間して規則的に配列された軟磁性微粒子によって形成されるものであってもよい。
【００２２】
また、上記本発明の磁気記録媒体において、強磁性層は、組成の異なる強磁性膜を交互に積層した人工格子であってもよい。人工格子は、界面状態が特性を大きく左右するため、凸部上の人工格子と、それ以外の領域の人工格子とはより確実に磁気的な分断がなされる。
【００２３】
なお、上記本発明の磁気記録媒体において、軟磁性層は、少なくとも記録再生の際に基板面と平行な面方向に安定に磁化の向きが揃う厚みを有していることが好ましい。さらに、厚みＬ１を軟磁性層の表面の凹凸高さＬ２の２倍以上とすることが好ましい。凹凸が存在すると磁壁が発生しやすくなるが、厚みを十分な厚さに設定することで、磁壁の発生を確実に抑制し、記録再生の際に安定した面内方向への磁化の向きを付与し、ノイズの発生を防止できる。
【００２４】
本発明の磁気記録媒体の製造方法の第１の特徴は、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板を形成する工程と、非磁性基板上に軟磁性層を形成する工程と、軟磁性層上に垂直磁気異方性を持つ強磁性層を形成する工程とを有することである。なお、非磁性基板への凹部と凸部の形成は、射出成型法を用いるのが好ましい。
【００２５】
上記本発明の磁気記録媒体の製造方法の第１の特徴によれば、非磁性基板に凹凸を形成し、その上に軟磁性層および強磁性層を形成するので、各層に、非磁性基板の凹凸を反映した凹凸形状を形成でき、この形状効果により凸部のみに周囲とは磁気的に分断された、強磁性体からなる記録領域を形成できる。すなわち、パターンドメディアを形成できる。また、強磁性層の下地層として軟磁性層を有するので、単磁極ヘッドを用いた記録再生の際、媒体とヘッド間で磁束ループを形成できる。この方法によれば、エッチング工程なしにパターンドメディアを形成できるので、工程が簡易な上、エッチングに伴うダメージがない。ダメージに起因するノイズの発生も防止できる。また、非磁性基板の凹凸は、射出成形で形成するため、量産性に適している。
【００２６】
本発明の磁気記録媒体の製造方法の第２の特徴は、非磁性基板上に軟磁性層を形成する工程と、プレス成型法を用いて、軟磁性層表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部を形成する工程と、凹凸が形成された軟磁性層上に、垂直磁気異方性を持つ強磁性層を形成する工程とを有することである。
【００２７】
上記本発明の磁気記録媒体の製造方法の第２の特徴によれば、軟磁性層に凹凸を形成し、その上に強磁性層を形成するので、強磁性層に軟磁性層の凹凸を反映した凹凸形状を形成でき、この形状効果により凸部のみに磁気的に分断された強磁性体からなる記録領域を形成できる。すなわち、この方法によれば、エッチング工程なしにパターンドメディアを形成できるので、工程が簡易な上、エッチングに伴うダメージがない。ダメージに起因するノイズの発生も防止できる。また、強磁性層の下地層として軟磁性層を有するので、単磁極ヘッドを用いた記録再生の際、媒体とヘッド間で磁束ループを形成できる。
【００２８】
本発明の磁気記録媒体の製造方法の第３の特徴は、非磁性基板上に軟磁性膜を形成する工程と、軟磁性膜上に軟磁性膜と共通する組成を含む軟磁性微粒子を個々に離間して、規則的に配列させる工程と、軟磁性粒子が配列された表面上に、垂直磁気異方性を持つ強磁性層を形成する工程とを有することである。
【００２９】
上記本発明の磁気記録媒体の製造方法の第３の特徴によれば、軟磁性層上に軟磁性微粒子を個々に離間して、規則的に配列させることで、微粒子の大きさおよび配列によって調整された凹凸を軟磁性層表面に形成できる。また、その上に強磁性層を形成するので、強磁性層に軟磁性層の凹凸を反映した凹凸形状を形成でき、この形状効果により凸部、すなわち軟磁性粒子上のみに磁気的に分断された強磁性体からなる記録領域を形成できる。この方法によれば、エッチング工程なしにパターンドメディアを形成できる。工程が簡易であり、エッチングダメージに起因するノイズをなくすこともできる。また、強磁性層の下地層として軟磁性層を有するので、単磁極ヘッドを用いた記録再生の際、媒体とヘッド間で磁束ループを形成できる。
【００３０】
なお、上記第１〜第３の特徴を有する磁気記録媒体の製造方法において、軟磁性層は、最終的に得られる厚みが、少なくとも記録再生の際に基板面と平行な面方向に安定に磁化の向きが揃う厚みとすることが好ましい。より好ましくは、軟磁性層の厚みＬ１を軟磁性層の凹凸部の高さＬ２の２倍以上とする。この場合、軟磁性層は、記録再生の際に安定した面内方向への磁化の向きを与える十分な厚さを有するので、軟磁性層における磁壁の発生が抑制され、ノイズの発生を抑制できる。凹凸形状の影響による磁壁の発生を抑制し、記録再生の際に安定した面内方向への磁化の向きを与えることができる。
【００３１】
本発明の第２の特徴を有する磁気記録媒体の特徴は、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板と、非磁性基板上に形成された磁性層を有することである。さらに、この磁性層が、非磁性基板の凸部および凹部を反映した凹凸部を有し、該凸部に垂直磁気異方性と強磁性とを示す記録領域を持つことである。
【００３２】
また、本発明の第４の特徴を有する磁気記録媒体の特徴は、上記第２の特徴を有する磁気記録媒体の製造方法であって、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板を形成する工程と、非磁性基板上に、強磁性材料からなる人工格子を形成する工程とを有することである。なお、非磁性基板への凹部と凸部の形成は、射出成型法を用いるのが好ましい。
【００３３】
上記第２の特徴を有する磁気記録媒体および第４の特徴を有する磁気記録媒体の製造方法によれば、凸部のみに磁気的に分断された強磁性体からなる記録領域を形成できる。すなわち、この方法によれば、エッチング工程なしにパターンドメディアを形成できる。エッチングダメージに伴うノイズの発生を防止できる。
また、強磁性体からなる記録領域が軟磁性を示す非記録領域で取り囲まれているので、単磁極ヘッドを用いた記録再生の際、媒体とヘッド間で磁束ループを形成できる。さらに、この構造および製造方法によれば、強磁体からなる記録領域と軟磁性を示す非記録領域が同一層で形成されているため、成膜工程が簡略化できる。
【００３４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。
【００３５】
（第１の実施の形態）
第１の実施の形態は、射出成形法で作製した、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板上に、軟磁性層と、垂直磁気異方性を持つ強磁性層を積層した、磁気記録媒体および製造方法に関する。この磁気記録媒体の構造によれば、非磁性基板の形状を反映した凹凸が軟磁性層および強磁性層にも形成され、強磁性層の凸部のみを記録領域とするいわゆるパターンドメディアを形成できる。
【００３６】
以下、具体的に第１の実施の形態の磁気記録媒体の構造および製造方法について説明する。
【００３７】
図１（ａ）は、第１の実施の形態に係る磁気記録媒体の構造を示す断面図である。また、図２（ａ）および図２（ｂ）は、その平面図である。
【００３８】
図１（ａ）に示すように、第１の実施の形態に係る磁気記録媒体では、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板１０上に、軟磁性層２０と垂直磁気異方性を有する強磁性層３０とが積層されている。
軟磁性層２０および強磁性層３０は、非磁性基板１０の凹凸形状を反映した凹凸を有している。
【００３９】
この磁気記録媒体の構造では、強磁性層３０は、軟磁性層２０表面の全面を覆っており、物理的には記録ビットは孤立化されていない。しかしながら、凹凸形状により、凸部の上面（以下、単に凸部という）の強磁性層３０と、凹部の側部および底部（以下、単に凹部という）の強磁性層３０とは磁気的相互作用が無く、磁気的に分断された状態となっている。すなわち、強磁性層３０の凸部のみが、保磁力の大きな記録領域３０Ａであり、その周囲の凹部の強磁性層３０が非記録領域３０Ｂである、いわゆるパターンドメディアとして機能する。上記第１の実施の形態に係る磁気記録媒体の構造によれば、強磁性層３０のエッチングをせずに、パターンドメディアを形成することが可能になる。
【００４０】
なお、確実に凸部に形成された強磁性層を磁気的分断するためには、強磁性層３０の膜厚を軟磁性層２０の凹凸高さＬ２より十分薄く設定することが好ましい。例えば、強磁性層３０の膜厚を凹凸高さＬ２の１／２〜１／４に設定することが好ましい。例えば強磁性層３０として一般的な強磁性材薄膜を使用する場合は、強磁性層３０の膜厚を５ｎｍ〜１０ｎｍとする場合、凹凸高さは１０〜２０ｎｍ以上とすることが望ましい。
【００４１】
また、強磁性層３０としては、コバルト（Ｃｏ）と白金（Ｐｔ）等を交互に積層した多層膜、すなわち金属人工格子で形成することが好ましい。人工格子は、積層界面の状態に特性が左右されるため、凹凸の側面部の強磁性層３０には、綺麗な積層界面が得られず、磁気特性が著しく劣化した状態になる。従って、凸部の大きな保持力を有する強磁性の記録領域３０Ａは、劣化により強磁性を発揮しない側面部の強磁性層３０の存在により磁気的に分断される。従って、人工格子を使用すればパターンドメディアをより容易に確実に形成できる。
【００４２】
なお、凸部上面の面積を小さくすることで、隣接ビットと相互作用のない、磁化の向き揃った単磁区状態を実現できる。例えば、各記録領域３０Ａを単磁区状態とするためには、各記録領域３０Ａを１００ｎｍ角以下望ましくは８０ｎｍ以下するのが好ましい。
【００４３】
記録領域３０Ａ、すなわち凸部は、周囲を凹部で囲まれ、規則的に配列されていればよく、記録領域３０Ａの平面形状は限定されない。図２（ａ）に示すように矩形であってもよいし、図２（ｂ）に示すように円形、あるいは楕円形等でもよい。また、記録領域３０Ａの配列形態は、図２（ａ）に示すような正方格子や、図２（ｂ）に示すような六方格子など様々な配列を取ることができる。
【００４４】
一方、第１の実施の形態に係る磁気記録媒体では、強磁性層３０の下に軟磁性層２０を有しているため、単磁極ヘッドを用いて記録再生を行う際、ヘッドと媒体との間で閉じた磁気ループを形成することができる。
【００４５】
なお、軟磁性層を備えた磁気記録媒体では、軟磁性層内で磁壁が発生すると再生時のノイズ発生の大きな要因となるため、軟磁性層で磁壁の発生を防止するために、磁化の向きを一定方向、例えばディスク型垂直磁気記録媒体においては、面内半径方向に付与することが望まれる。軟磁性層の凹凸は、磁壁のピニングサイトとなり、磁壁が生じやすくする。磁壁はスパイクノイズの発生の原因となり好ましくない。これに対し、第１の実施の形態に係る磁気記録媒体では、軟磁性層２０の厚みＬ１が、十分厚く、好ましくは、表面の凹凸高さＬ２の少なくとも２倍以上の厚みとすることで、磁壁の発生を抑制できる。よって、単磁極ヘッドを用いた記録再生の際、軟磁性層２０の面内方向に揃った磁気の向きを付与することができ、図１（ａ）に示すような、ヘッド（図示せず）と媒体との間で閉じた磁気ループを形成し、良好な高密度垂直磁気記録が可能になる。
【００４６】
以下、各層に使用する材料について説明する。
【００４７】
非磁性基板１０の材料としては、射出成形に適した材料を使用することが好ましい。例えば、熱可塑性樹脂が例示できる。また、熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート、ポリスチレン、スチレン系ポリマーアロイ、アクリル樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレ−ト系）  、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ナイロン、エチレン−酢酸ビニル樹脂、アモルファス・ポリオレフィンなどが挙げられる。このほか、熱硬化性樹脂も使用可能である。その例としては、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレタン、不飽和アクリル樹脂、不飽和ポリエステル、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂などが挙げられる。また、樹脂の代わりにガラス、特に低融点ガラスを用いることもできる。高生産性、コスト、耐吸湿性などの点からは、ポリカーボネートが好ましく、耐薬品性、耐吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。
【００４８】
軟磁性層２０は、記録再生時に単磁極ヘッドの磁界によって磁気の向き（スピンの向き）が変化し閉じた磁気ループが形成される程度の保持力を有するものであればよい。一般的には数ｋＯｅ以下であれば好ましく、１  ｋＯｅ以下であればさらに好ましく、５０Ｏｅ以下であればなお好ましい。
【００４９】
例えば、軟磁性層２０としては、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏのいずれかの元素を組成に含んでいる軟磁性材料、例えば、ＣｏＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＺｒＮｂ、フェライト、珪素鉄、炭素鉄等が使用できる。
【００５０】
軟磁性層２０の微細構造は、強磁性層３０と同様な構造であれば、結晶性や微細構造制御の点で好ましいが、磁気特性を優先させる場合には敢えて別の構造とすることもできる。例えば、アモルファスの軟磁性層２０と結晶性の強磁性層３０、あるいはその逆が考えられる。また、軟磁性層２０は、軟磁性体微粒子が非磁性体マトリックス中に存在する、いわゆるグラニュラー構造であっても構わないし、磁気特性の異なる複数の層（例えば軟磁性層／非磁性層の多層膜）から構成されていても構わない。
【００５１】
なお、記録再生時以外の軟磁性層２０の磁気異方性の方向は膜面に垂直でも、面内周方向でも、面内半径方向でも、あるいはこれらの合成であっても構わない。
【００５２】
強磁性層３０としては、現在の磁気記録媒体で一般的に用いられている強磁性材料を使用できる。すなわち、飽和磁化Ｉｓが大きくかつ磁気異方性が大きいものが適している。この観点から、例えばＣｏ、Ｐｔ、Ｓｍ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂｉ、およびＡｌならびにこれらの金属の合金からなる群より選択される少なくとも一種を使用することができる。これらのうちでは、結晶磁気異方性の大きいＣｏ合金、特にＣｏＰｔ、ＳｍＣｏ、ＣｏＣｒをベースとしたものやＦｅＰｔ，ＣｏＰｔ等の規則合金がより好ましい。具体的には、Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｐｔ，Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ，Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ，Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ−Ｐｔ、Ｆｅ５０Ｐｔ５０、Ｃｏ５０Ｐｔ５０、Ｆｅ５０Ｐｄ５０、Ｃｏ７５Ｐｔ２５などである。また、これらの他にも、Ｔｂ−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｔｂ−Ｃｏ，  Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｇｄ−Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｎｄ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｎｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ等の希土類−遷移金属合金、磁性層と貴金属層の多層膜（人工格子：Ｃｏ／Ｐｔ、Ｃｏ／Ｐｄなど）、ＰｔＭｎＳｂ等の半金属、Ｃｏフェライト、Ｂａフェライト等の磁性酸化物などから幅広く選択することができる。
【００５３】
強磁性層３０の磁気特性を制御する目的で、上記の磁性体と、磁性元素であるＦｅ、Ｎｉから選ばれる少なくとも１つ以上の元素とを合金化させたものを強磁性層３０として使用してもよい。また、これらの金属または合金に、磁気特性を向上させるための添加物、例えばＣｒ、Ｎｂ、Ｖ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ｈｆ、Ｃｒ、Ｖ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｂ等、あるいはこれらの元素と、酸素、窒素、炭素、水素の中から選ばれる少なくとも一つの元素との化合物を加えても良い。
【００５４】
強磁性層３０の磁気異方性に関しては、垂直磁気異方性成分が主であれば面内磁気異方性成分があっても構わない。強磁性層３０の厚さに特に制限はないが、高密度記録を考えると１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。なお、０．１ｎｍ以下になると連続した薄膜を構成するのが困難になるので好ましくない。一方、凹凸による記録領域を磁気的に分断するためには、強磁性層の膜厚は薄く、凹凸高さは大きくすることが望ましい。
【００５５】
また、強磁性層３０は、磁性粒子とその間に存在する非磁性物質とから構成される複合材料であることが好ましい。磁性粒子を反転単位とした高密度磁気記録が可能となるからである。しかしながら、記録領域をパターン化する場合には、非磁性物質の存在は必ずしも必要ではなく、また、希土類―遷移金属合金のような連続的なアモルファス磁性体であっても構わない。
【００５６】
以下、図３（ａ）〜図３（ｃ）を参考にして、第１の実施の形態に係る磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【００５７】
まず、図３（ａ）に示すように、射出成形により表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板１０を形成する。具体的には、非磁性基板１０の材料として、射出成形が可能な材料、例えば熱可塑性樹脂等を用い、凹凸パターンが形成された金型に溶融状態の樹脂を流しこみ、冷却後金型から取り出す。ドラム式磁気記録媒体を形成する場合は、円筒形金型を利用し、外面に微細な凹凸の形成された円筒状の非磁性基板１０を作製する。なお、非磁性基板１０に形成する凹凸の高さは、例えば１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍ、また、凸部上面の面積は１００ｎｍ角以下望ましくは８０ｎｍ角以下とする。磁気的な分断を行うためには、凸部上面の矩形の一辺の長さに対し、凹凸高さを同等以上の長さとすることが好ましい。しかしながら、凸部のアスペクト比が大きくなると加工が困難になるため、実用的には、凸部上面の矩形の一辺の長さと凹凸の高さをほぼ等しくすることが好ましい。例えば凸部上面が１００ｍｍ角の場合は凹凸高さを１００ｍｍ、４０ｎｍ角の場合は凹凸高さを５０ｎｍとする。
【００５８】
射出成形に用いる微細な凹凸を備えた金型は、以下の方法で作製することができる。すなわち、Ｓｉ基板や樹脂シリンダー上にレジスト膜をコーティングし、ＥＢ（電子ビーム）露光やＦＩＢ（Ｆｏｃｕｓｅｄ  ｉｏｎ  ｂｅａｍ）加工でレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクにしてＡｒイオンミリング等を行い基板表面に凹凸パターンを形成し、さらにＮｉ等をスパッタすることで、表面を導電化し、Ｎｉ電鋳によってこの型をとる。
【００５９】
しかし、これらのパターン形成法ではコストや時間が非常にかかるので、ＥＢ露光によるレジストのパターニング方法に代えて、ブロックコポリマーの自己組織化を利用し、基板上に規則的に配列された微細なドットパターンを形成する方法を用いて金型のベースとなるパターンを形成することが望ましい。ジブロックポリマーは分子量を制御することで、様々なサイズおよび配列構造を容易に形成することが可能になるため、微細凹凸パターンを非常に容易に形成でき、金型の製造工程上有利になる。
【００６０】
次に、図３（ｂ）に示すように、射出成型法で作製された非磁性基板１０上にスパッタ法で軟磁性層２０を成膜する。
【００６１】
続いて、図３（ｃ）に示すように、凹凸のある軟磁性層２０の上に強磁性層３０を成膜する。なお、好ましくは、強磁性層３０として、人工格子を形成する。
【００６２】
上記工程では、軟磁性層２０の凹凸を強磁性層３０で被膜するため、物理的には記録ビットは孤立化されていないが、凸部の強磁性層３０が周囲の凹部の強磁性層３０と磁気的に分断され、凸部のみに、保磁力の大きな記録領域３０Ａが形成される。こうしていわゆるパターンドメディアを得ることができる。
【００６３】
以上に説明した第１の実施の形態の磁気記録媒体の製造方法によれば、凹凸を備えた非磁性基板を射出成形法を用いて作製するので、量産に適している。また、従来のパターンドメディア作製工程で必要とされたエッチング工程が不要であるとともにＣＭＰ工程も省略できるため、大幅な工程の簡略化が可能となる。また、エッチングが不要なので、イオンミリング等の物理的エッチングによる加工表面のダメージがない。エッチングダメージによるノイズが発生しないため、磁気特性の向上を図ることができる。
【００６４】
なお、磁気記録媒体は必要に応じ、図１（ｂ）に示すように、強磁性層３０上に、非磁性膜４０を形成し、媒体表面を平坦化し、その上に保護膜５０を形成する。Ｒ／Ｗ評価（読み込みまたは書込み評価）を行う際にはＨＤＩ（Ｈｅａｄ−Ｄｉｓｋ  ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）が重要となるため、この平坦化処理は必要となる。平坦化用非磁性膜４０としては、例えばＳｉＯ２  、Ａｌ２  Ｏ３  、ＴｉＯ２  などの酸化物やＳｉ３  Ｎ４  、ＡｌＮ、ＴｉＮなどの窒化物、ＴｉＣなどの炭化物、ＢＮ等の硼化物を用いることができる。なお、ナノメーターレベルの微細な凹凸を平坦化するために、上記非磁性体をスパッタ法で充填するのは困難であるため、ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ−Ｏｎ−Ｇｌａｓｓ）を用い、スピンコート法で平坦化を図る方法がより好適である。ＳＯＧは溶媒にガラス材を溶解した液状剤であるため、スピンコートにより、基板表面の微細な凹部を埋め表面を均一に平坦化する。また、スピンコート後数秒で溶媒が気化し、固体へと変質する。ＳＯＧはそのまま用いても良いが、４５０℃以上の温度で熱処理を加えることで安定なＳｉＯ２に変質させることが望ましい。
【００６５】
以下、第１の実施の形態に係る実施例について説明する。
【００６６】
（実施例１）
まず、射出成形法を用いて凹凸を備えた円筒形非磁性基板１０を作製した。表面に図２（ａ）に示すような複数の矩形の凸部パターンが規則的に配列された射出成型金型を用いた。この射出成形金型は、ＥＢ露光法を用いて円筒形シリンダー上にパターニングしたものをＮｉ電鋳で型をとって作製した。凸部矩形部の面積は５０ｎｍ角であり、凹凸の高さは５０ｎｍであった。
【００６７】
具体的には、非磁性基板として、ポリカーボネート材を用意し、射出成形機のホッパーにセットし、金型温度を１２５℃、樹脂温度を３４０℃、射出圧力を３０ｔ、サイクルタイムを１２秒とする条件で射出成形を行った。こうして、直径２００ｍｍ、高さ７００ｍｍの、表面に凹凸が形成された非磁性基板１０となる円筒形ポリカーボネートシリンダーを作製した。
【００６８】
次に、この円筒形ポリカーボネートシリンダー表面にスパッタ蒸着法を用いて、軟磁性層２０であるＣｏＺｒＮｂを膜厚２００ｎｍ形成した。軟磁性層２０の上層に形成される凹凸高さＬ２は、少なくとも非磁性基板の凹凸高さ５０ｎｍより若干低いので、この条件において、軟磁性層２０の厚みＬ１は凹凸高さＬ２の２倍以上の条件を十分満たすものであった。
【００６９】
続けて、スパッタ蒸着法を用いて、強磁性層３０として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に積層させた人工格子を作製した。Ｃｏ膜の厚みは０．３ｎｍ、Ｐｄ膜の厚みは０．７ｎｍ、積層数は１０層とした。この人工格子は、平坦なポリカーボネート基板上に、軟磁性層を形成せず直接した場合の磁気特性は、角形比０．８、保磁力２５００Ｏｅであった。
【００７０】
強磁性層３０の上にＳＯＧ層を形成し、表面を平坦化し、さらにＣ保護膜をスパッタ法により膜厚１０ｎｍ形成した。
【００７１】
こうして得られた磁気記録媒体を、接触圧約５〜６ｇ、Ｄｉｓｃ回転数３０００ｒｐｍ、スライド速度１．２５ｍｍ／ｓ、５往復、時々発生する突起部分からと思われるパルス状の信号がなくなる程度バニッシュし、Ｒ／Ｗ試験を行った。
周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡで書込みを行った場合、プリアンプ出力で３００ｍＶ程度の再生信号が得られた。スパイクノイズの発生は見られなかった。
【００７２】
（実施例２）
実施例２では、ジブロックポリマーの自己組織化を利用して微細パターンを形成した金型を用いた射出成形法により凹凸を備えた非磁性基板を作製した。それ以外は、実施例１と同様な条件を用いて磁気記録媒体を作製した。
【００７３】
すなわち、ＰＳ−ＰＭＭＡジブロックポリマー（ポリスチレンＰＳ、ポリメチルメタクリレートＰＭＭＡ）を混合した液剤を円筒シリンダー上にコーティングし、ＰＭＭＡからなる「島」状領域とＰＳからなる「海」状領域とに相分離した海島構造を形成した。これをオゾン中に曝露し、ＰＳを選択的に気化させ、規則的なＰＭＭＡのドットパターンを得た。その後、このＰＭＭＡのドットパターンをマスクにしてイオンミリングを行い、エッチングで凹凸の形成された円筒形シリンダー表面にスパッタによりＮｉを被覆し、導電化処理を行い、さらにＮｉ電鋳を行い、射出成形金型を作製した。
【００７４】
この金型を用いて、ポリカーボネートを射出成形し、図２（ｂ）に示すような直径約４０ｎｍの凸部がピッチ８０ｎｍで六方格子状に配列されたパターンを非磁性基板１０上に形成した。なお、凹凸高さは５０ｎｍとした。
【００７５】
次に、この非磁性基板上にスパッタ蒸着法を用いて、実施例１と同様に、軟磁性層であるＣｏＺｒＮｂを膜厚２００ｎｍ形成した。
【００７６】
続けて、スパッタ蒸着法を用いて、強磁性層３０として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に積層させた人工格子を形成した。Ｃｏ膜の厚みは０．３ｎｍ、Ｐｄ膜の厚みは０．７ｎｍ、積層数は１０層とした。
【００７７】
こうして得られた磁気記録媒体を接触圧約５〜６ｇ、Ｄｉｓｃ回転数３０００ｒｐｍ、スライド速度１．２５ｍｍ／ｓ、５往復、時々発生する突起部分からと思われるパルス状の信号がなくなる程度バニッシュし、Ｒ／Ｗ試験をした。周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡで書込みを行った場合、プリアンプ出力で３００ｍＶ程度の再生信号が得られた。スパイクノイズの発生は見られなかった。
【００７８】
高コストプロセスであるＥＢ露光を用いて形成した射出成形金型を使用した実施例１と、低コストプロセスであるジブロックポリマーの自己組織化を用いて形成した射出成形金型を使用した実施例２とでは、得られた磁気記録媒体の磁気特性に差はほとんどみられなかった。
【００７９】
（実施例３）
実施例３は、軟磁性層の膜厚を実施例１および２の磁気記録媒体のものより薄くした磁気記録媒体である。それ以外の基本的な条件は実施例２と同様とした。
【００８０】
まず、実施例２と同様にジブロックポリマーの自己組織化を用いたパターニング方法を利用して作製した射出成形金型を用いて、ポリカーボネート基板に、図２（ｂ）に示すような直径４０ｎｍの円形の凸部がピッチ８０ｎｍで規則的に配置された凹凸を形成した。この非磁性基板１０であるポリカーボネート基板に形成した凹凸の高さは５０ｎｍであった。
【００８１】
次に、この非磁性基板上にスパッタ蒸着法を用いて、軟磁性層であるＣｏＺｒＮｂを膜厚８０ｎｍ形成した。すなわち、軟磁性層の厚みＬ１が、軟磁性層の上層の凹凸高さＬ２の２倍より薄い条件であった。
【００８２】
続けて、スパッタ蒸着法を用いて、強磁性層３０として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に積層させた人工格子を形成した。Ｃｏ膜の厚みは０．３ｎｍ、Ｐｄ膜の厚みは０．７ｎｍ、積層数は１０層とした。その上からＳＯＧをスピンコートで塗布し、表面を平坦化した後Ｃ保護膜を膜厚１０ｎｍスパッタにより成膜した。
【００８３】
こうして得られた磁気記録媒体を接触圧約５〜６ｇ、Ｄｉｓｃ回転数３０００ｒｐｍ、スライド速度１．２５ｍｍ／ｓ、５往復の条件で、時々発生する突起部分からと思われるパルス状の信号がなくなる程度バニッシュし、Ｒ／Ｗ試験をした。周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡで書込みを行い、再生信号が得られることを確認した。なお、本実施例においては、スパイクノイズがわずかに見られ、実施例１および２に較べて再生信号は劣化していた。
【００８４】
Ｒ／Ｗ評価を行った磁気記録媒体をＭＦＭ（磁気力顕微鏡）をもちいて磁気パターンを観測したところ、軟磁性層であるＣｏＺｒＮｂの磁壁と思われるパターンが観測された。この磁壁がスパイクノイズの原因と思われる。また、磁壁が生じてしまうのは、軟磁性層が薄すぎて凹凸が磁壁のピニングサイトとなったためである。この結果から、明瞭な再生信号を得るためには、軟磁性層厚みＬ１が軟磁性層の凹凸高さＬ２の少なくとも２倍以上であることが好ましいといえる。
【００８５】
（比較例）
比較例は、図４（ａ）〜図４（ｅ）に示す従来のイオンミリングエッチング法を用いたパターンドメディアの製造方法を用いて作製した磁気記録媒体である。
【００８６】
具体的には、まず図４（ａ）に示すように、平坦なポリカーボネート基板２１０上に、軟磁性層２２０として、スパッタ法を用いて膜厚約２００ｎｍのＣｏＺｒＮｂを成膜した。続けて、軟磁性層２２０上に、スパッタ蒸着法を用いて、強磁性層２３０として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に積層させた人工格子を形成した。Ｃｏ膜の厚みは０．３ｎｍ、Ｐｄ膜の厚みは０．７ｎｍ、積層数は１０層とした。
【００８７】
次に、図４（ｂ）に示すように、その上にフォトレジスト２７０をスピンコート法で膜厚約１５０ｎｍ塗布し、実施例２で用いた射出成型金型と同様の方法で作製したＮｉスタンパ２６０を用いてナノインプリントを行い、フォトレジスト２７０に凹凸を形成した。その後、図４（ｃ）に示すように、このフォトレジスト２７０をマスクにして、Ａｒイオンミリングで、表面をエッチングした。残ったレジストは酸素プラズマで剥離を行い，図４（ｄ）に示すような凹凸状の強磁性層２３０を得た。
【００８８】
この後、表面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により観察を行ったところ、軟磁性層上部に、クレバス（ｃｒｅｖａｓｓｅ）状のクラックが多数観察された。また、ＭＦＭによる磁気パターンの観測では、軟磁性層内に磁壁と思われるパターンが観測された。
【００８９】
続いて、図４（ｅ）に示すように、強磁性層２３０上にＳＯＧをスピンコートし、さらにＣＭＰ加工を行い表面を平坦化した後、Ｃ保護膜を１０ｎｍスパッタ成膜した。
【００９０】
Ｒ／Ｗ試験を行った。周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡで書込みを行ったが、ノイズが大きく明瞭な再生信号が得られなかった。スパイクノイズも多く見られた。これは、イオンミリングプロセスによるダメージが原因である。イオンミリングによるＡｒイオンの衝突エネルギーが大きいため、強磁性層のみならず軟磁性層にもダメージを与え、クラックが発生したと考えられる。このクラックが磁壁の発生原因となり、スパイクノイズが大きく明瞭な再生信号が得られなかったと考えられる。
【００９１】
このように、実施例１および２と比較して、強磁性層をイオンミリングによりエッチングする従来の製造方法で作製された比較例のパターンドメディアにはエッチングダメージがあり、ノイズ発生が大きいことがわかった。Ｓ／Ｎの高い垂直磁気記録媒体を得るには、エッチング工程が不要な本実施の形態に係る磁気記録媒体の構造が好ましいことが確認できた。
【００９２】
（第２の実施の形態）
図５に、本発明の第２の実施の形態に係る磁気記録媒体の断面構造を示す。この磁気記録媒体は、同図に示すように、非磁性基板１２上に形成された軟磁性層２２に、プレス成形法用いて規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを形成し、その上に垂直磁気異方性を持つ強磁性層３２を形成したものである。
【００９３】
この磁気記録媒体の構造によれば、軟磁性層の形状を反映した凹凸が強磁性層にも形成され、強磁性層の凸部のみを垂直記録領域とするいわゆるパターンドメディアを形成できる。すなわち、第１の実施の形態と異なる点は、非磁性基板は凹凸を有さず、軟磁性層に凹凸を形成した点である。なお、特に説明しない条件については、第１の実施の形態と同様な条件を使用できる。
【００９４】
この磁気記録媒体の構造では、凸部の強磁性層３２と凹部側部および底部の強磁性層３２との磁気的な相互作用を分断できるので、凸部のみに、独立した記録領域３２Ａを持つ、パターンドメディアが形成できる。平面的には、第１の実施の形態と同様に、記録領域３２Ａが図２（ａ）に示す正方格子や、図２（ｂ）に示す六方格子などの配列を取る。
【００９５】
第２の実施の形態に係る磁気記録媒体の構造によれば、強磁性層３２のエッチングをせずに、パターンドメディアを製造することが可能になる。また、強磁性層３２の下地層として備えた軟磁性層２２は、単磁極ヘッドを用いた記録再生の際に、磁気の通り道となり、図５に示すようなヘッド（図示せず）と媒体との間で閉じた磁気ループを形成できる。また、第１の実施の形態と同様に、軟磁性層２２の厚みＬ１を、少なくとも記録再生の際に面方向に安定に磁化の向きを揃えらえる厚み、好ましくは、軟磁性層表面の凹凸高さＬ２の少なくとも２倍以上の厚みとする。これにより、凹凸の影響を抑制し、磁壁の発生を防止できる。従って、高記録密度の垂直磁気記録が可能になる。
【００９６】
次に、図６（ａ）〜図６（ｃ）を参照して、第２の実施の形態に係る磁気記録媒体の製造方法を説明する。
【００９７】
まず、図６（ａ）に示すように、平坦な非磁性基板１２上に軟磁性層２２をスパッタ法等を用いて形成する。
【００９８】
続いて、凹凸のある硬質モールドであるスタンパ６０を用いて軟磁性層２２をプレス成型（ナノインプリント）する。硬質モールド材としては、ダイヤモンド、ＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ−ｌｉｋｅ  ｃａｒｂｏｎ）、ＳｉＣ、やＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｃｒ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＣａＯ２等の酸化物が好ましく使用できる。こうして、軟磁性層２２に、図６（ｂ）に示すような凹凸を形成する。この凹凸は、規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とからなる。
【００９９】
なお、軟磁性層２２としては、ナノインプリントによって加工できるよう、延性、展性に優れた柔らかい材料であることが好ましい。例えばＦｅ、Ｆｅ／Ｐｔの人工格子、Ｆｅ３Ｐｔ１、ポリマーにＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏを分散させたものなどが好適である。
【０１００】
なお、軟磁性層２２に形成する凹凸の高さは、例えば１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍ、また凸部上面の面積は１００ｎｍ角以下望ましくは８０ｎｍ角以下とする。磁気的な分断を行うためには、凸部上面の矩形の一辺の長さに対し、凹凸高さを同等以上の長さとすることが好ましい。しかしながら、凸部のアスペクト比が大きくなると加工が困難になるため、実用的には、凸部上面の矩形の一辺の長さと凹凸の高さをほぼ等しくすることが好ましい。例えば凸部上面が１００ｍｍ角の場合は凹凸高さを１００ｍｍ、４０ｎｍ角の場合は凹凸高さを５０ｎｍとする。
【０１０１】
次に、図６（ｃ）に示すように、凹凸が形成された軟磁性層２２の上に強磁性層３２を形成する。強磁性層３２の材料は、第１の実施の形態に係る磁気記録媒体と同様な材料を用いることができる。
【０１０２】
以上に説明した第２の実施の形態の磁気記録媒体の製造方法によれば、従来のパターンドメディア作製工程で必要とされたイオンミリング等のエッチング工程が不要であるとともにＣＭＰ工程も省略できるため、大幅な工程の簡略化が可能となる。また、イオンミリングを行わないですむため、物理的エッチングによる加工表面のダメージをなくし、磁気特性の向上を図ることができる。
【０１０３】
以下、第２の実施の形態に係る実施例について説明する。
【０１０４】
（実施例４）
まず、実施例２と同じ方法で作製したＰＳ−ＰＭＭＡジブロックコポリマーの相分離を利用したＮｉスタンパを用いて、ＳｉＣ基板上に塗布した厚み約１５０ｎｍのフォトレジストにナノインプリントを行い、レジストの凹凸パターンを形成した。次に、このレジストパターンをマスクとして、ＲＩＥでＳｉＣ基板をエッチングし、ＳｉＣスタンパを作製した。
【０１０５】
次に、非磁性基板として平坦なＳｉ基板を準備し、このＳｉ基板上に、軟磁性層としてスパッタ法で膜厚約３００ｎｍのＦｅ膜を形成した。上記ＳｉＣスタンパを用いてＦｅ膜上にプレス圧力３０ｔで直接ナノインプリントを行った。転写された凹凸高さは１５ｎｍであった。
【０１０６】
続けて、強磁性層として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に１０回スパッタ成膜し、人工格子を形成した。その上にＳＯＧをスピンコートで塗布し、平坦化した後、スパッタ法により膜厚１０ｎｍのＣ保護膜を形成した。Ｆｅの磁壁を除去するために、ヘルツホルムコイルの中に試料を導入し、１５ｋＯｅでディスクの回転方向に磁化させた。
【０１０７】
その後Ｒ／Ｗ試験を行った。周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡにおいて書き込みを行った場合、プリアンプ出力で２００ｍＶ程度の再生信号が得られた。スパイクノイズの発生は見られなかった。
【０１０８】
このように、実施例４の結果より、本発明の第２の実施の形態に係る磁気記録媒体によれば、Ｒ／Ｗ特性の良好なパターンドメディアを、より簡便に製作できることが確認できた。
【０１０９】
（第３の実施の形態）
図７に、本発明の第３の実施の形態に係る磁気記録媒体の断面構造を示す。この磁気記録媒体は、同図に示すように、非磁性基板１３上に形成された平坦な軟磁性膜２３Ａ上に、軟磁性膜２３Ａと共通する組成を有する軟磁性微粒子２３Ｂを規則的に配列させたものであり、軟磁性膜２３Ａと軟磁性粒子２３Ｂとをあわせて、凹凸を有する軟磁性層２３を構成している。さらに、この軟磁性層２３の上に、垂直磁気異方性を有する強磁性層３３を形成している。
【０１１０】
この磁気記録媒体の構造では、凸部に相当する軟磁性微粒子２３Ｂ上面上の強磁性層３３Ａと、凹部の側面および底面に相当する軟磁性微粒子２３Ｂの側面お軟磁性膜２３Ａの露出面に形成される強磁性層３３Ｂとの磁気的な相互作用を分断できるので、パターンドメディアが形成できる。
【０１１１】
軟磁性膜２３Ａおよび強磁性層３３の材料は、第１の実施の形態に係る磁気記録媒体と同様な材料を用いることができる。すなわち、軟磁性膜２３Ａとしては、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏのいずれかの元素を組成に含んだ軟磁性材料、例えば、ＣｏＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＺｒＮｂ、フェライト、珪素鉄、炭素鉄等を使用することが好ましい。また、軟磁性微粒子２３Ｂとしては、これらの軟磁性層２３Ａと共通する組成を含有する材料、例えばＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等を使用する。
【０１１２】
軟磁性微粒子２３Ｂは、脱カルボニル反応方法、スーパーハライド還元方法等を用いて作製する。脱カルボニル反応方法では、例えば前駆体にＣｏ２（Ｃｏ）８、Ｆｅ（Ｃｏ）５、Ｎｉ（Ｃｏ）４  などのカルボニル塩とトリアルキルフォスフィン（Ｒ３Ｐ）を混合し、高温で加熱して脱カルボニル反応で、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ等の微粒子を得る。また、スーパーハライド還元方法では、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２などの塩化物塩を前駆体にしてトリアルキルフォスフィン（Ｒ３Ｐ）を加え、塩化物を還元することで、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ等の微粒子を得る（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ，  Ｖｏｌ．  ８５，  Ｎｏ．８，  ｐｐ．４３２５−４３３０，  １５  Ａｐｒｉｌ  １９９９）。微粒子粒径Ｒは、添加するトリアルキルフォスフィンの分子鎖長に依存する。例えばアルキル鎖を短くすることでＲは小さくできるので、Ｒの大きさを調整できる。
【０１１３】
第３の実施の形態に係る磁気記録媒体を作製するためには、非磁性基板１３上にスパッタ等で軟磁性層２３Ａを形成した後、上記方法で製造された軟磁性微粒子を溶液中に分散させたコロイド溶液をスピンコートで軟磁性膜２３Ａ上にモノレイヤー塗布する。軟磁性微粒子は自己組織化によって軟磁性膜２３Ａ上に配列する。さらに、この上にスパッタ等で強磁性層３３を形成すればよい。
【０１１４】
なお、第３の実施の形態に係る磁気記録媒体の場合も、軟磁性膜２３Ａの厚みＬ１は、記録再生時の軟磁性層２３内の磁気の向きを揃えることのできる厚み、好ましくは、軟磁性層２３の凹凸高さＬ２、すなわち軟磁性微粒子２３Ｂの直径の２倍以上とすることが好ましい。
【０１１５】
以上に説明した第３の実施の形態の磁気記録媒体の製造方法によれば、軟磁性膜２３Ａとその上に配列させた軟磁性微粒子２３Ｂで形成する凹凸により、軟磁性微粒子２３Ｂの上層部を覆う強磁性層３３と、軟磁性微粒子２３Ｂの側面部および軟磁性膜２３Ａを覆う強磁性層３３との磁気的な相互作用を分断できるので、軟磁性微粒子２３Ｂの上層部を覆う部分、すなわち強磁性層３３の凸部に独立した記録領域３３Ａを持つ、パターンドメディアが形成できる。この構造によれば、従来のパターンドメディア作製工程で必要とされたイオンミリング等のエッチング工程が不要であるとともにＣＭＰ工程も省略できるため、大幅な工程の簡略化が可能となる。また、イオンミリングを行わないですむため、物理的エッチングによる加工表面のダメージをなくし、磁気特性の向上を図ることができる。
また、軟磁性層での磁壁の発生が抑制されるため、単磁極ヘッドを用いて、良好な高密度垂直磁気記録が可能になる。
【０１１６】
以下、第３の実施の形態に係る実施例について説明する。
【０１１７】
（実施例５）
まず、スーパーハライド還元法を用いて、軟磁性微粒子を作製した。ＦｅＣｌ２ を前駆体とし、微粒子間の間隔を制御するためのオレイン酸１ｍモルとｎ−オクチルエーテル２０ｍｌとを窒素雰囲気下で混合し、１００℃に加熱する。続けて、微粒子のサイズを制御するためのトリブチルフォスフィン［ＣＨ３（ＣＨ２）３］３Ｐを３ｍモル添加し、２００℃に加熱した。微粒子粒径Ｒは、この時添加したトリブチルフォスフィンの分子鎖長に依存し、この場合はＲ＝７〜１０ｎｍになった。
【０１１８】
次に上記溶液を攪拌しながら１ｍｌのジオクチルエーテルと２ｍモルのスーパーハイドライド（ＬｉＢＥｔ３Ｈ）を添加したのち２００℃で２０分攪拌し、ついで６０℃以下に冷却した。この還元工程によって表面がアルキル鎖によって覆われたＦｅ微粒子が形成された。
【０１１９】
その後、沈殿物が分離し始めるまで上記溶液中にエタノールを滴下し、沈殿物を含む溶液を遠心分離し、ワックス状の磁性微粒子を０．１〜０．５ｍｌのオレイン酸を添加した１０ｍｌのヘキサン中に再分散させ、流動性を高めるためエタノールを加えることで、Ｆｅ微粒子コロイド溶液を作製した。なお、オレイン酸は溶液の安定化を図るものである。
【０１２０】
一方、非磁性基板１３として、平坦なＳｉ基板を用意し、その上に軟磁性膜２３Ａとして、スパッタ法を用いて膜厚約２００ｎｍのＦｅ膜を形成した。
【０１２１】
このＦｅ膜上に、上記方法で作製したＦｅ微粒子コロイド溶液をスピンコートで塗布し、３００℃に加熱することで、エタノールなどの有機物を蒸発させ、Ｆｅ膜上にＦｅ微粒子を配列させた。
【０１２２】
Ｆｅ微粒子とＦｅ膜からなる軟磁性層２３上に、スパッタ蒸着法を用いて、強磁性層３３として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に積層させた人工格子を形成した。
Ｃｏ膜の厚みは０．３ｎｍ、Ｐｄ膜の厚みは０．７ｎｍ、積層数は１０層とした。さらに、その上にＳＯＧをスピンコートで塗布し、表面を平坦化した後、スパッタ法により膜厚１０ｎｍのＣ保護膜を形成した。Ｆｅの磁壁を除去するために、ヘルツホルムコイルの中に試料を導入し、１５ｋＯｅでディスクの回転方向に磁化させた。
【０１２３】
Ｒ／Ｗ試験を行った。周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡで書込みを行った場合、プリアンプ出力で３００ｍＶ程度の再生信号が得られた。スパイクノイズの発生は見られなかった。
【０１２４】
実施例５の磁気記録媒体は、実施例１または２の磁気記録媒体より高いＳ／Ｎ比を示した。これは、７〜１０ｎｍの軟磁性微粒子で形成した軟磁性層の凹凸が、人工格子で形成された強磁性層の磁区をより確実に分断されていることを示す。
【０１２５】
（第４の実施の形態）
第４の実施の形態に係る磁気記録媒体は、第１の実施の形態と同様に、凹凸が形成された非磁性基板を使用したものであり、より簡易な製造方法を提供できる磁気記録媒体に関する。
【０１２６】
図８に、第４の実施の形態に係る磁気記録媒体を示す。この磁気記録媒体は、表面に規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板１４上に、連続する磁性層８０が形成されている。このうち非磁性基板１４の凸部上に形成された磁性層８０は、垂直磁気異方性と強磁性とを示す記録領域３４であり、それ以外の凹部側面および底面に形成された磁性層８０は、非記録領域である軟磁性領域２４である。
【０１２７】
単磁極ヘッドを用いて、垂直磁気記録を行うためには、ヘッドと媒体との間に磁気ループを形成しなくてはならないが、そのためには、軟磁性層は必ずしも強磁性体からなる記録領域の下部に存在する必要はない。第４の実施の形態に係る磁気記録媒体のように、各記録領域３４の周囲を軟磁性領域２４が取り囲んでいれば、軟磁性領域２４が磁束の通路となり、磁気ループを形成することが可能である。従って、単磁極ヘッドを用いた垂直磁気記録が可能となる。
【０１２８】
第４の実施の形態に係る磁気記録媒体の構造を作製するためには、第１の実施の形態と同様な、射出成形方法で凹凸を有する非磁性基板を作製し、その上に直接Ｃｏ／ＰｄやＣｏ／Ｐｔのような人工格子を形成すればよい。例えばＣｏ／Ｐｔ人工格子を成膜した場合、凹凸の凸部上面においては綺麗な積層構造が得られ、強磁性を発現するが、凹部底辺または側辺においては積層構造にはならず、人工格子特有の強磁性は発現せず、軟磁性を示す。従って、凸部上面に形成されたＣｏ／Ｐｔ人工格子は、記録領域３４となり、それ以外のＣｏ／Ｐｔ人工格子部分は非記録領域２４となる。
【０１２９】
第４の実施の形態の製造方法によれば、強磁性層のエッチングが不要であるため、エッチングに伴うダメージを避けることができるとともに、成膜数を減らすことができるため工程を簡略化できる。
【０１３０】
以下、第４の実施の形態に係る実施例について説明する。
【０１３１】
（実施例６）
まず、実施例２と同様の条件で射出成形を行い、規則的に配列された複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有するポリカーボネート基板を製作した。すなわち、ブロックコポリマーの自己組織化を利用して微細な凹凸を有する金型を作製し、この金型を用いて、図２（ｂ）に示すような、凸部の直径約４０ｎｍ、ピッチ８０ｎｍの六方格子パターンで、凹凸高さが５０ｎｍのポリカーボネートの非磁性基板１４を作製した。
【０１３２】
続けて、ポリカーボネート基板表面に、スパッタ蒸着法を用いて、磁性層８０として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に積層させた人工格子を形成した。Ｃｏ膜の厚みは０．３ｎｍ、Ｐｄ膜の厚みは０．７ｎｍ、積層数は１０層とした。
【０１３３】
さらに、その上にＳＯＧをスピンコートで塗布し、表面を平坦化した後、スパッタ法により膜厚１０ｎｍのＣ保護膜を形成した。
【０１３４】
Ｒ／Ｗ試験を行った。周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡで書込みを行った場合、プリアンプ出力で２００ｍＶ程度の再生信号が得られた。スパイクノイズの発生は見られなかった。実施例１や２の磁気記録媒体より若干信号出力が低いが、実用に充分な感度の再生信号が得られた。
【０１３５】
（その他の実施の形態）
以下、上述した第１〜第４の実施の形態と同様に、エッチング工程を経ずに、形成できるパターンドメディアであり、しかも軟磁性層を少なくとも強磁性層の周囲に備え、単磁極ヘッドによる垂直磁気記録が可能なその他の実施の形態に係る磁気記録媒体について説明する。
【０１３６】
図９（ａ）および図９（ｂ）に、その他の実施の形態に係る磁気記録媒体を示す。この磁気記録媒体は、非磁性基板１５上に強磁性層３５を備えるとともに、この強磁性層３５を化学的に変質させて形成した軟磁性領域２５を有している。
図９（ｂ）の斜視図に示すように、この軟磁性領域２５は、強磁性層３５からなる複数の各露出記録領域３５Ａ周囲を取り囲むように形成されている。各記録領域３５Ａは、それぞれ完全に独立した領域にすることが望ましいが、図９（ｂ）に示すように、少なくとも強磁性層３５の上層部を軟磁性領域２５により取り囲むことで、各記録領域３５Ａは磁気的に分離され得る。
【０１３７】
なお、各記録領域３５Ａはそれぞれ磁化方向が一方向に揃った単磁区状態となるように１００ｎｍ角以下望ましくは８０ｎｍ以下とする。各記録領域３５Ａの形状は矩形に限られず、種々の形状にできる。例えば円形や楕円形等としてもよい。
【０１３８】
図１０（ａ）〜図１０（ｅ）を参照し、図９（ａ）および図９（ｂ）に示す磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【０１３９】
まず、図１０（ａ）に示すように、平坦な非磁性基板１５上に、スパッタ法を用いてＣｏ／Ｐｄ等の人工格子からなる強磁性層３５を形成する。次に、図１０（ｂ）に示すように、強磁性層３５の上にフォトレジスト７０をスピンコートで塗布し、スタンパ６０を用いてフォトレジスト７０にナノインプリント法で凹凸を転写する。なお、ここで用いるスタンパ６０は、実施例４で使用したものと同じものを使用できる。
【０１４０】
次に、図１０（ｃ）に示すように、酸素プラズマを用いたアッシングにより、ナノインプリント法で形成されたフォトレジスト７０の凹部底面に残っているレジストを除去し、強磁性層３５を露出させる。
【０１４１】
さらに、図１０（ｄ）に示すように、フォトレジスト７０をマスクとして、電界加速した低質量希ガスイオンを照射し、レジストの無い部分をイオン照射により、軟磁性化する。低質量希ガスイオンとしてはＨｅ＋、Ｎｅ＋が好ましい。低質量希ガスイオンを用いるのは、電界加速した際に、強磁性層３５をスパッタエッチングしてしまわないようにするためである。電界加速された低質量希ガスイオンが強磁性層３５である人工格子に照射されると、人工格子の界面が荒らされるため、もはや強磁性特性を示さなくなり、軟磁性領域２５となる。その後、酸素アッシャーにより、レジストを除去すれば、図１０（ｅ）に示すパターンドメディアが得られる。
【０１４２】
上述する磁気記録媒体およびその製造方法によれば、強磁性層３５をエッチングする必要もなく、パターンドメディアが形成できるので、エッチングダメージによるノイズが発生しない。また、記録領域３５Ａの周囲を軟磁性領域２５が取り囲んでいるので、単磁極ヘッドを用いた記録／再生の際、軟磁性領域２５が、磁束の通路となり、ヘッドと媒体との間で、閉じた磁気ループを形成できるので、垂直磁気記録を行うことができる。また、この方法では磁気記録媒表面に凹凸を形成しないため、平坦化工程を省略できる。
【０１４３】
以下、その他の実施の形態に係る実施例について説明する。
【０１４４】
（実施例７）
まず、非磁性基板１５である平坦なＳｉ基板上に、スパッタ蒸着法を用いて、強磁性層３５として、Ｃｏ膜とＰｄ膜とを交互に積層させた人工格子を形成した。Ｃｏ膜の厚みは０．３ｎｍ、Ｐｄ膜の厚みは０．７ｎｍ、積層数は１０層とした。この強磁性層の垂直方向の磁気特性は角形比０．８、保磁力２５００Ｏｅである。この後、フォトレジストをスピンコートで膜厚約１５０ｎｍ塗布した。このフォトレジストを実施例２で用いた射出成型金型と同様の方法で作製したＮｉスタンパ、すなわちＰＳ−ＰＭＭＡジブロックコポリマーの相分離を利用してパターニングしたものを用いて、ナノインプリントでフォトレジストに凹凸を形成した。
【０１４５】
次に、ＲＩＥにより、２０秒間フォトレジストをエッチングし、凹部底面のレジスト残さを除去した。この後、レジストパターンをマスクとして、露出した強磁性層に加速電圧４００Ｖ、電流１００ｍＡでＨｅ＋イオンビームを照射した。
その後、酸素アッシャーでレジストを除去した。さらに、表面にＣ保護膜を１０ｎｍスパッタ成膜した。
【０１４６】
Ｒ／Ｗ試験を行った。周波数１ＭＨｚ、４０ｍＡで書込みを行った場合、プリアンプ出力で２００ｍＶ程度の再生信号が得られた。スパイクノイズの発生は見られなかった。
【０１４７】
以上、各実施の形態に沿って本発明の磁気記録媒体およびその製造方法等について説明したが、本発明はこれらの実施の形態の記載に限定されるものではない。種々の改良や置換が可能なことは当業者には明らかである。
【０１４８】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の磁気記録媒体およびその製造方法によれば、従来のような強磁性層のエッチング工程を伴わずに熱ゆらぎ耐性にすぐれたパターンドメディアとして機能する磁気記録媒体をより簡易な方法で生産できる。エッチングダメージによるノイズの発生、軟磁性層での磁壁の発生を抑制できるため、ノイズの少ない高密度垂直磁気記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る磁気記録媒体を示す断面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る磁気記録媒体の平面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る磁気記録媒体の製造方法を示す工程図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態における比較例の磁気記録媒体の製造方法を示す工程図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係る磁気記録媒体の断面図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る磁気記録媒体の製造方法を示す工程図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態に係る磁気記録媒体の断面図である。
【図８】本発明の第４の実施の形態に係る磁気記録媒体の断面図である。
【図９】本発明のその他の実施の形態に係る磁気記録媒体の断面図および斜視図である。
【図１０】その他の実施の形態に係る磁気記録媒体の製造方法を示す工程図である。
【図１１】従来のパターンドメディアの製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１０、１２、１３、１４、１５  非磁性基板
２０、２２、２３、２４、２５  軟磁性層
３０、３２、３３、３４、３５  強磁性層
３０Ａ、３２Ａ、３３Ａ、３５Ａ  記録領域
３０Ｂ、３２Ｂ、３３Ｂ  非記録領域
４０  非磁性膜（平坦化膜）
５０  保護膜
６０  スタンパ
２３Ａ  軟磁性膜
２３Ｂ  軟磁性微粒子
７０  フォトレジスト
８０  磁性層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2004164692.tif 000007
【図６】
2004164692.tif 000008
【図７】
2004164692.tif 000009
【図８】
2004164692.tif 000010
【図９】
2004164692.tif 000011
【図１０】
2004164692.tif 000012
【図１１】
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