(57)【要約】【課題】パドル方式の薬液処理方法で、基板を薬液に浸漬させる方法では、薬液が基板裏面に回り込み、薬液処理工程以後の装置を汚染するため、回り込んだ薬液を排液し洗浄する装置ならびに工程が必要になる。【解決手段】試料台２０の可撓性基板載置面２１の外周部にＯリング３０が備えられ、Ｏリング３０に囲まれた領域には、吸着穴７０が開けられている。ポリイミドフィルム１０は、Ｏリング３０により外周部が高くなり、薬液として現像液８０を保持した状態となる。この結果、現像液８０はポリイミドフィルム１０の裏面に回り込むことなく、外周部まで均一に現像できる。【選択図】  図２
2004327927.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基板を載置し吸着固定する試料台と、
前記試料台を回転させる回転手段と、
前記可撓性基板に薬液を供給する薬液供給手段と、
前記回転手段と前記薬液供給手段とを制御する制御手段とを備え、
前記試料台は前記可撓性基板を前記試料台に載置した時に前記可撓性基板の外周部を内周部に比べて高くする可撓性基板載置面を有することを特徴とする薬液処理装置。
【請求項２】
前記可撓性基板載置面はその外周部にリングが設けられていることを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置。
【請求項３】
前記可撓性基板載置面はその外周部に固定されたピンが複数個設けられていることを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置。
【請求項４】
前記可撓性基板載置面の形状はその外周部から内周部に向けて凹形の円弧状であることを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置。
【請求項５】
可撓性基板を載置し吸着固定する試料台と、
前記試料台を回転させる回転手段と、
前記可撓性基板に薬液を供給する薬液供給手段と、
前記可撓性基板の外周部または内周部の高さを調節するための高さ調節手段と、
前記回転手段と前記薬液供給手段と前記高さ調節手段とを制御する制御手段とを備えたことを特徴とする薬液処理装置。
【請求項６】
前記試料台を試料台内周部と試料台外周部とに分離し、前記高さ調節手段は前記試料台外周部を鉛直方向に可動な構成としたことを特徴とする請求項５記載の薬液処理装置。
【請求項７】
前記高さ調節手段は前記試料台の外周部に設けた複数の貫通孔に挿入されたピンと、複数の前記ピンを鉛直方向に可動な構成としたことを特徴とする請求項５記載の薬液処理装置。
【請求項８】
可撓性基板を試料台に載置し吸着固定する載置工程と、
前記可撓性基板の外周部を内周部より高くする高さ設定工程と、
前記高さ設定工程以後に前記可撓性基板に第１の薬液を供給する第１薬液供給工程と、
前記可撓性基板を静止状態で所定時間保持する静止保持工程と、
前記可撓性基板の外周部を内周部と少なくとも同じ高さにする高さ除去工程と、
前記高さ除去工程以後に前記試料台を回転させ前記第１の薬液を排出する第１薬液排出工程と、
前記試料台を回転させながら第２の薬液を供給し排出する第２薬液供給排出工程と
を有する薬液処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薬液処理装置と薬液処理方法に関し、特に可撓性基板に薬液を供給した後、静止状態（パドル方式）で薬液処理する薬液処理装置と薬液処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のパドル方式での薬液処理装置と薬液処理方法として、パドル方式の現像装置と現像方法を例に説明する。真空吸着により保持された基板に、現像液を滴下するとその表面張力により現像液が液盛りされ、そのまま基板を静止させた状態、あるいは低速で基板を回転させて現像反応を進行させる。しかしながら、このようなパドル方式の現像装置では、現像液の表面張力によって基板上に液盛りしているため、基板の外周部は基板の内周部に比べ現像液の量が少なくなって現像速度が低下し、基板外周部に現像不良が生じていた。
【０００３】
これに対して、基板を囲むカップを設け現像液をカップ内に注入し、現像液に浸漬させて、基板外周部まで均一に現像する方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平４−１６７５１７号公報（第２−３頁）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような基板を現像液に浸漬させる方法では、現像液が基板裏面に回り込み、現像工程以後の装置を汚染するため、回り込んだ現像液を排液し洗浄する装置ならびに工程が必要になるという課題があった。
【０００６】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、パドル方式で可撓性基板外周部まで均一に薬液処理できるとともに、可撓性基板裏面を薬液で汚染させることがない薬液処理装置と薬液処理方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の薬液処理装置は、可撓性基板を載置し吸着固定する試料台と、試料台を回転させる回転手段と、可撓性基板に薬液を供給する薬液供給手段と、回転手段と薬液供給手段とを制御する制御手段とを備え、試料台は可撓性基板を試料台に載置した時に可撓性基板の外周部を内周部に比べて高くする可撓性基板載置面を有するものである。
【０００８】
このような薬液処理装置とすることにより、可撓性基板は外周部が持ち上げられた状態となり、薬液がその外周部まで液盛りされるので、可撓性基板の外周部まで均一に薬液処理できる。そして、薬液は回転手段で振り切り、排出されるので、可撓性基板裏面を薬液で汚染させることがない。
【０００９】
また、本発明の薬液処理装置の試料台の可撓性基板載置面は、その外周部にリングが設けられているものである。
【００１０】
また、本発明の薬液処理装置の試料台の可撓性基板載置面は、その外周部に固定されたピンが複数個設けられているものである。
【００１１】
また、本発明の薬液処理装置の試料台の可撓性基板載置面の形状は、その外周部から内周部に向けて凹形の円弧状である。
【００１２】
このような試料台の可撓性基板載置面および可撓性基板載置面の形状を有する薬液処理装置とすることにより、可撓性基板は薬液処理時に確実にその内周部が低く外周部が高くなった形状とできる。
【００１３】
また、本発明の薬液処理装置は、可撓性基板を載置し吸着固定する試料台と、試料台を回転させる回転手段と、可撓性基板に薬液を供給する薬液供給手段と、可撓性基板の外周部または内周部の高さを調節するための高さ調節手段と、回転手段と薬液供給手段と高さ調節手段とを制御する制御手段とを備えたものである。
【００１４】
また、本発明の薬液処理装置の高さ調節手段は、試料台を試料台内周部と試料台外周部とに分離し、試料台外周部を鉛直方向に可動な構成としたものである。
【００１５】
また、本発明の薬液処理装置の高さ調節手段は、試料台の外周部に設けた複数の貫通孔に挿入されたピンと、複数のピンを鉛直方向に可動な構成としたものである。
【００１６】
このような高さ調節手段を設けた薬液処理装置とすることにより、薬液処理時に持ち上げられた可撓性基板の外周部は、薬液排出時に元の高さに戻され平坦となるので、薬液排出がより確実に行われる。その結果、薬液残りによる次工程以降への悪影響をなくすことができる。なお薬液排出時、可撓性基板の外周部を内周部より下げて、薬液をより排出させやすくしてもよい。
【００１７】
また、本発明の薬液処理方法は、可撓性基板を試料台に載置し吸着固定する載置工程と、可撓性基板の外周部を内周部より高くする高さ設定工程と、高さ設定工程以後に可撓性基板に第１の薬液を供給する第１薬液供給工程と、可撓性基板を静止状態で所定時間保持する静止保持工程と、可撓性基板の外周部を内周部と少なくとも同じ高さにする高さ除去工程と、高さ除去工程以後に試料台を回転させ第１の薬液を排出する第１薬液排出工程と、試料台を回転させながら第２の薬液を供給し排出する第２薬液供給排出工程とを有するものである。
【００１８】
このような薬液処理方法とすることにより薬液処理時、可撓性基板は外周部が持ち上げられ、その基板の外周部まで薬液が液盛りされるので、その基板外周部まで均一に薬液処理できる。また薬液排出時、可撓性基板は平坦になるので薬液が排出されやすくなり、可撓性基板裏面を薬液で汚染させることがなくなる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態の薬液処理装置の一例である現像装置について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２０】
（第１の実施の形態）
まず、本発明の第１の実施の形態の現像装置を示す図１を用いて説明する。試料台２０の可撓性基板を載置する可撓性基板載置面２１の外周部には、可撓性基板の外周部の高さを内周部の高さより高くするためのリングとしてＯリング３０が、取り付けられている。また、試料台２０を回転させる回転手段として回転ユニット４０が試料台２０の下方に位置している。そして、可撓性基板に薬液を供給する薬液供給手段として第１薬液供給管５０、第２薬液供給管５２が試料台２０の上方に位置し、第１薬液供給管５０、第２薬液供給管５２にはそれぞれ電磁弁５４、電磁弁５６が取り付けられている。さらに、回転ユニット４０と電磁弁５４、電磁弁５６を制御する制御手段として制御装置６０が備えられ、制御装置６０と回転ユニット４０は信号線６２が、電磁弁５４、電磁弁５６には信号線６４がつながっている。
【００２１】
次に、第１の実施の形態の現像装置の動作を説明すると、可撓性基板載置面２１に可撓性基板が載置されると、真空吸着で固定され、Ｏリング３０により可撓性基板の外周部が持ち上げられた状態となる。そして、現像制御プログラムが格納された制御装置６０が信号線６４を介して電磁弁５４を開け、第１薬液供給管５０から現像液を供給する。所定時間後、制御装置６０が信号線６２を介してモータを有する回転ユニット４０で、試料台２０を回転させる。その後は、必要に応じて電磁弁５６を開け、第２薬液供給管５２からリンス液や純水を供給する場合もある。
【００２２】
図２は本発明の第１の実施の形態の現像装置の試料台を示す図であり、図２（Ａ）は、試料台の斜視図である。試料台２０の可撓性基板載置面２１の外周部にＯリング３０が備えられ、Ｏリング３０に囲まれた領域には、吸着穴７０が開けられている。
【００２３】
図２（Ｂ）は、試料台での現像状態を示す断面図である。可撓性基板載置面２１に載置された可撓性基板であるポリイミドフィルム１０は、Ｏリング３０により外周部が高くなり、薬液として現像液８０を保持した状態となる。この結果、可撓性基板は外周部まで均一に現像できるとともに、現像液８０はポリイミドフィルム１０の裏面に回り込むことがない。
【００２４】
なお、リングとしてはＯリング等の可撓性基板との密着性に優れた弾性体に限定されるものでなく、可撓性基板外周部の持ち上げ高さを均一としやすいステンレス鋼等の金属でもよい。
【００２５】
また、Ｏリング等の弾性体を使用する時は、可撓性基板載置面２１に溝状の穴を形成し、その穴にＯリング３０を挿入することにより、Ｏリング３０の位置が固定され、可撓性基板の現像される範囲がより均一となる。
【００２６】
また可撓性基板としては、厚さが０．１ｍｍ程度で、ポリイミドフィルム以外にポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、エポキシ樹脂、ポリベンズチアゾールを使用できる。
【００２７】
また、試料台２０はアルカリ現像液に耐性があり、表面平滑性のあるステンレス鋼等の金属が適している。
【００２８】
（第２の実施の形態）
次に本発明の現像装置の他の構成例について説明するが、第１の実施の形態と異なるのは試料台の構成のみであるので、試料台について説明する。
【００２９】
図３は、本発明の第２の実施の形態の現像装置の試料台を示す図である。図３（Ａ）は試料台の斜視図であり、試料台２０の可撓性基板載置面２１の外周部に複数個のピン３２を設けた場合である。ピン３２は可撓性基板載置面２１の外周部にほぼ均等な間隔で設けられ、可撓性基板載置面２１のピン３２に囲まれた領域には、可撓性基板を吸着固定する吸着穴７０が開けられている。
【００３０】
図３（Ｂ）は試料台での現像状態を示す断面図である。ポリイミドフィルム１０を可撓性基板載置面２１に載置し、真空吸着するとピン３２により、ポリイミドフィルム１０の外周部が内周部より高くなり、現像液８０を保持した状態となる。この結果、現像液８０はポリイミドフィルム１０の裏面に回り込むことなく、外周部まで均一に現像できる。
【００３１】
なお、本実施の形態では、ピン３２を０．３ｍｍ〜０．５ｍｍ程度の均等な高さとしたが、この高さは可撓性基板の大きさ、種類により適宜選択すればよい。また、ピン３２の材料としては加工が容易なプラスチックや金属がよい。
【００３２】
（第３の実施の形態）
さらに本発明の現像装置の他の構成例について説明するが、本実施の形態も第１の実施の形態と異なるのは試料台の構成のみであるので、試料台について説明する。
【００３３】
図４は本発明の第３の実施の形態の現像装置の試料台を示す図である。図４（Ａ）は試料台の斜視図で、試料台２２の可撓性基板載置面２１の形状はその外周部から内周部に向けて凹形の円弧状に切削してある。そして、円弧状の切削面には吸着穴７０が形成されている。
【００３４】
図４（Ｂ）は試料台での現像状態を示す断面図である。ポリイミドフィルム１０を試料台２２の可撓性基板載置面２１に載置し、真空吸着すると、可撓性基板載置面２１の円弧状の切削面に沿って吸着されるため、ポリイミドフィルム１０の内周部が低く、その外周部が高い状態となる。従って現像液８０が滴下されても、現像液８０はポリイミドフィルム１０の外周部まで液盛りされた状態となる。従って、本実施の形態でもポリイミドフィルム１０の外周部まで均一に現像でき、現像液８０が裏面に回り込むことがない。
【００３５】
なお、試料台２２はアルカリ現像液に耐性があり、加工しやすいステンレス鋼等の金属が適している。本実施の形態では、試料台２２の中心部切削深さを０．３ｍｍ〜０．５ｍｍ程度にしたが、この値も可撓性基板の大きさ、種類により適宜選択すればよい。
【００３６】
また、第１の実施の形態〜第３の実施の形態で、吸着穴７０を可撓性基板載置面２１の外周部より内周部に多く形成すると、可撓性基板の内周部を低く、外周部を高くするのに効果的である。
【００３７】
（第４の実施の形態）
さらに本発明の現像装置の他の構成例について、本発明の第４の実施の形態の現像装置を示す図５を用いて説明する。第４の実施の形態では、高さ調節手段は試料台を試料台内周部と試料台外周部とに分離し、試料台外周部を鉛直方向に可動な構成とするものである。
【００３８】
図５（Ａ）は現像装置の全体図で、可撓性基板を載置する試料台２４は試料台内周部２５と、断面形状が逆Ｌ字形の凹部を有する試料台外周部２６とに分離されている。そして試料台外周部２６に近接してカムフォロア９０があり、カムフォロア９０にピロボール９２、ターンバックル９４、シリンダー９６が順次接続されている。スプリング９８が試料台外周部２６の凹部に、また試料台２４を回転させる回転ユニット４０が試料台２４下方に設置されている。また、可撓性基板に薬液を供給する薬液供給手段として第１薬液供給管５０、第２薬液供給管５２が試料台２４の上方に位置し、第１薬液供給管５０、第２薬液供給管５２にはそれぞれ電磁弁５４、電磁弁５６が取り付けられている。さらに、回転ユニット４０と電磁弁５４、電磁弁５６とシリンダー９６を制御する制御手段として制御装置６０が備えられ、制御装置６０と回転ユニット４０は信号線６２が、電磁弁５４、電磁弁５６には信号線６４が、シリンダー９６には信号線６６がつながっている。
【００３９】
次に第４の実施の形態の動作を説明する。図５（Ｂ）（Ｃ）は試料台外周部２６の動作状態を説明する図で、シリンダー９６が加圧していない状態では、図５（Ｂ）に示すように、カムフォロア９０は試料台外周部２６から離れている。シリンダー９６が加圧されると、試料台２４方向への押圧力がターンバックル９４で強化され、ピロボール９２で回転運動に変えられ、カムフォロア９０は鉛直上方に回転し、試料台外周部２６を押し上げる。このように、高さ調節手段は試料台外周部２６を鉛直方向に押し上げる押圧手段を備えている。これを、図５（Ｃ）に示す。
【００４０】
また、試料台外周部２６がカムフォロア９０で押し上げられ試料台内周部２５より高い状態から、シリンダー９６への加圧がなくなると、カムフォロア９０が試料台外周部２６から離れる。この時、試料台外周部２６の自重で試料台外周部２６はいくらか下降するが、試料台内周部２５との摩擦により試料台内周部２５と同じ高さまで下降しない場合がある。この時スプリング９８は、試料台外周部２６を引張し、試料台外周部２６を試料台内周部２５と同じ高さにする。このように、高さ調節手段は試料台外周部を鉛直方向に引き下げる引張手段を備えている。
【００４１】
（第５の実施の形態）
さらに本発明の現像装置の他の構成例について、本発明の第５の実施の形態の現像装置を示す図６を用いて説明する。第５の実施の形態が、第４の実施の形態と異なる点は高さ調節手段の押圧手段のみであるので、押圧手段を中心に説明する。
【００４２】
図６（Ａ）は試料台近傍の図で、試料台２４を構成する試料台内周部２５と、試料台外周部２６の分離された形状および回転ユニット４０の位置は第４の実施の形態と同じである。試料台外周部２６に近接してミニチュアシリンダー１００が位置し、ミニチュアシリンダー１００はシリンダーステージ１０２に固定され、シリンダーステージ１０２にはステージ固定用支柱１０４が接続されている。また、ミニチュアシリンダー１００には、エアチューブ１０６が接続されている。図６（Ｂ）は押圧手段の斜視図で、ミニチュアシリンダー１００は均等な間隔で、ドーナツ状に加工したシリンダーステージ１０２に設置されている。
【００４３】
図６（Ｃ）（Ｄ）は試料台外周部２６の動作状態を説明する図で、エアチューブ１０６に圧縮気体が送られていない状態では、図６（Ｃ）に示すように、ミニチュアシリンダー１００は試料台外周部２６から離れた状態である。エアチューブ１０６に圧縮気体を送りミニチュアシリンダー１００が加圧されると、ミニチュアシリンダー１００は膨張し、図６（Ｄ）に示すように試料台外周部２６を押し上げる。試料台外周部２６を鉛直方向に引き下げる引張手段は第４の実施の形態と同様である。
【００４４】
（第６の実施の形態）
さらに本発明の現像装置の他の構成例について、本発明の第６の実施の形態の現像装置を示す図７を用いて説明する。第６の実施の形態も、第４の実施の形態と異なる点は高さ調節手段の押圧手段であるので、押圧手段を中心に説明する。
【００４５】
図７（Ａ）は全体図で、試料台２４を構成する試料台内周部２５と、試料台外周部２６の分離されている点は図５と同じであるが、試料台外周部２６の側面に円周形に楔状の切れ込み２７がある点のみ異なる。楔状の切れ込み２７に近接して楔１１０が位置し、楔１１０はシリンダー９６に接続されている。回転ユニット４０の形状、作用は第４の実施の形態と同じである。シリンダー９６が加圧されていない状態では、図７（Ｂ）に示すように、楔１１０は試料台外周部２６から離れた状態である。シリンダー９６が加圧されると、図７（Ｃ）に示すように楔１１０は試料台外周部２６方向に押し出され、楔状の切れ込み２７に入り込み、試料台外周部２６を押し上げる。また、試料台外周部２６を鉛直方向に引き下げる場合は、シリンダー９６の加圧を弱め楔１１０を楔状の切れ込み２７からはずし、第４の実施の形態と同様の引張手段を使用する。
【００４６】
次に、本発明の第４の実施の形態〜第６の実施の形態における薬液処理方法を示す工程図である図８を用いて説明する。図８（Ａ）は、可撓性基板であるポリイミドフィルム１０を試料台２４に載置すると、真空吸着され固定する載置工程を示す。次に図８（Ｂ）は、試料台外周部２６が押圧手段で押し上げられ、ポリイミドフィルム１０の外周部の高さを内周部の高さより高くする高さ設定工程を示す。高さ設定工程以後に図８（Ｃ）では、ポリイミドフィルム１０に第１の薬液として第１薬液供給管５０から現像液８０が供給される、第１薬液供給工程を示す。図８（Ｄ）は現像液８０が所定量滴下され、静止状態で所定時間保持している静止保持工程を示す。図８（Ｅ）は試料台外周部２６を引き下げて、ポリイミドフィルム１０の外周部と内周部の高さを少なくとも同じ高さにする高さ除去工程を示す。高さ除去工程以後に図８（Ｆ）は、試料台２４を回転させて現像液８０を排出する第１薬液排出工程を示す。図８（Ｇ）は、試料台２４を回転させながら第２の薬液としてリンス液を第２薬液供給管５２から供給し、排出する第２薬液供給排出工程を示す。
【００４７】
このような薬液処理装置と薬液処理方法とした結果、薬液処理時、可撓性基板は外周部が持ち上げられ、その基板の外周部まで薬液が液盛りされるので、その基板外周部まで均一に薬液処理できる。また薬液排出時、可撓性基板は平坦になるので薬液が排出されやすくなり、可撓性基板裏面を薬液で汚染させることがなくなる。ポリイミドフィルム１０の現像時もその端部まで均一な現像ができ、現像液８０がポリイミドフィルム１０の裏面に回り込むことはない。
【００４８】
なお本実施の形態では、試料台外周部２６を鉛直方向に引き下げる引張手段として、スプリングのバネの力を利用する例で説明したが、磁石の引張力やゴムの収縮力を利用するものでもよい。
【００４９】
また本実施の形態では、試料台外周部２６を可動させ試料台内周部２５より高くする方法を説明したが、試料台内周部２５を可動させ試料台外周部２６より低くしてもよい。
【００５０】
（第７の実施の形態）
さらに本発明の現像装置の他の構成例について説明するが、第７の実施の形態が第４の実施の形態と異なるのは試料台の構成のみであるので、試料台について説明する。
【００５１】
図９は本発明の第７の実施の形態の現像装置の試料台を示す図である。第７の実施の形態では高さ調節手段として、試料台の外周部に設けた複数の貫通孔に挿入されたピンと、複数のピンを鉛直方向に可動な構成としたものであり、ピンとして使用した突上げピンの上昇により可撓性基板の外周部を持ち上げる。
【００５２】
図９（Ａ）は突上げピン１２０が上昇した状態で、ポリイミドフィルム１０の外周部が持ち上がり、現像液８０がポリイミドフィルム１０の外周部まで液盛りされた状態となる。突上げピン１２０は、試料台２３の外周部を貫通して、取り付けられている。ここで突上げピン１２０を上昇させるには、第４の実施の形態〜第６の実施の形態での押圧手段を用いることができる。
【００５３】
図９（Ｂ）は突上げピン１２０が下降し、試料台２３が回転しながら現像液８０を排出している状態を示す。ここで突上げピン１２０の下降は、必要に応じて、第４の実施の形態〜第６の実施の形態の引張手段を利用すればよい。
【００５４】
この結果、可撓性基板は外周部まで均一に現像できるとともに、現像液８０はポリイミドフィルム１０の裏面に回り込むことがない。
【００５５】
なお、本発明の第１の実施の形態〜第７の実施の形態では薬液処理装置と薬液処理方法として、現像装置と現像方法を例として示したが、エッチング液を使ったエッチングの場合も同様の装置と方法とすることができる。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の薬液処理装置は可撓性基板を載置し吸着固定する試料台と、試料台を回転させる回転手段と、可撓性基板に薬液を供給する薬液供給手段と、可撓性基板の外周部または内周部の高さを調節するための高さ調節手段と、回転手段と薬液供給手段と高さ調節手段とを制御する制御手段とを備えたものである。また本発明の薬液処理方法は、可撓性基板を試料台に載置し吸着固定する載置工程と、可撓性基板の外周部を内周部より高くする高さ設定工程と、高さ設定工程以後に可撓性基板に第１の薬液を供給する第１薬液供給工程と、可撓性基板を静止状態で所定時間保持する静止保持工程と、可撓性基板の外周部を内周部と少なくとも同じ高さにする高さ除去工程と、高さ除去工程以後に試料台を回転させ第１の薬液を排出する第１薬液排出工程と、試料台を回転させながら第２の薬液を供給し排出する第２薬液供給排出工程とを有するものである。このような薬液処理装置と薬液処理方法とにすることで、パドル方式で可撓性基板外周部まで均一に薬液処理できるとともに、可撓性基板裏面を薬液で汚染させることがないという大きな効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の現像装置を示す図
【図２】本発明の第１の実施の形態の現像装置の試料台を示す図
【図３】本発明の第２の実施の形態の現像装置の試料台を示す図
【図４】本発明の第３の実施の形態の現像装置の試料台を示す図
【図５】本発明の第４の実施の形態の現像装置を示す図
【図６】本発明の第５の実施の形態の現像装置を示す図
【図７】本発明の第６の実施の形態の現像装置を示す図
【図８】本発明の第４の実施の形態〜第６の実施の形態における薬液処理方法を示す工程図
【図９】本発明の第７の実施の形態の現像装置の試料台を示す図
【符号の説明】
１０  ポリイミドフィルム
２０，２２，２３，２４  試料台
２１  可撓性基板載置面
２５  試料台内周部
２６  試料台外周部
２７  楔状の切れ込み
３０  Ｏリング
３２  ピン
４０  回転ユニット
５０  第１薬液供給管
５２  第２薬液供給管
５４，５６  電磁弁
６０  制御装置
６２，６４，６６  信号線
７０  吸着穴
８０  現像液
９０  カムフォロア
９２  ピロボール
９４  ターンバックル
９６  シリンダー
９８  スプリング
１００  ミニチュアシリンダー
１０２  シリンダーステージ
１０４  ステージ固定用支柱
１０６  エアチューブ
１１０  楔
１２０  突上げピン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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