(57)【要約】【課題】印刷物の画線部に見られる膜厚方向及び線幅方向のうねりを無くした高精細パターンの形成に用いられる平台オフセット印刷機を提供する。【解決手段】基台２と、該基台２に取り付けられたインキ供給ロール８と、基台上を往復動可能な、インキ充填ロール７及びブランケット胴６を備えるキャリッジ５と、基台２に固定された印刷版盤４及び印刷定盤３とを備える平台オフセット印刷機において、キャリッジ５はブランケット胴６の表面を押圧するための手段を備えることを特徴とする。インキ充填ロールにより印刷版にインキを充填し、インキ充填後の印刷版上をブランケット胴を回転移動させてブランケット胴にインキを受理させ、受理させたインキ面をプレス手段によりプレスすることで、ブランケット上のインキ膜厚が一定となり、被印刷材に転写したときに幅方向のうねり及びピンホールのない高品質な高精細パターンの印刷物を得ることができる。【選択図】　図２
2004009300.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台と、該基台に取り付けられたインキ供給ロールと、基台上を往復動可能な、インキ充填ロール及びブランケット胴を備えるキャリッジと、基台に固定された印刷版盤及び印刷定盤とを備える平台オフセット印刷機において、キャリッジはブランケット胴の表面を押圧するための手段を備えることを特徴とする平台オフセット印刷機。
【請求項２】
ブランケット胴を押圧するための手段が、ブランケット胴に対して着脱可能なプレスローラと該プレスローラをブランケット胴に押し付けるための加圧機構とを備えることを特徴とする請求項１に記載の平台オフセット印刷機。
【請求項３】
ブランケット胴を押圧するための手段が、さらにプレスローラを回転させるための駆動機構を備えることを特徴とする請求項２に記載の平台オフセット印刷機。
【請求項４】
プレスローラが、ブランケット胴とインキ充填ロールの間に配置されていることを特徴とする請求項２乃至３の何れか一項に記載の平台オフセット印刷機。
【請求項５】
プレスローラが、ブランケット胴の印刷定盤側に配置されていることを特徴とする請求項２乃至３の何れか一項に記載の平台オフセット印刷機。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高精細パターンの形成に用いられる平台オフセット印刷機に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
電子回路や画像表示装置等における高精細パターンの形成については、より高い精度で且つ低い製造コストで実施可能であることが要求されている。尚、本明細書において高精細パターンとは、電極、ブラックマトリックス、カラーフィルタ、パターン形成用のレジスト等を意味するものである。
【０００３】
従来、前記した高精細パターンの形成方法として、導電性粉体を含有するパターン形成用ペーストを用いてスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法によりパターンを形成した後、焼成して厚膜パターンを形成する方法がある。しかしながら、スクリーン印刷法による厚膜パターン形成では、スクリーン印刷版を構成するメッシュ材料の伸びによる印刷精度の限界があり、また、形成したパターンにメッシュ目が生じたりパターンのにじみが発生し、厚膜パターンのエッジ精度が低いという問題がある。また、フォトリソグラフィ法は、高精度の厚膜パターンの形成が可能であるものの、製造工程が複雑であり、且つ材料ロスが多く、製造コストの低減に限界があった。
【０００４】
このため、工程が簡単で量産性を有するオフセット印刷法を用いることによる高精細パターン形成の低コスト化が試みられている。このオフセット印刷法では、導電性粉体を含有した導体インキを凹版或いは平版の印刷版に供給し、印刷版上のインキパターンをブランケットを介して基板上に転移させ、その後、焼成して有機成分を分解し揮発させることによって厚膜パターンが形成される。
【０００５】
図１は従来のガラス等の基板へ高精細パターンの形成に用いられる平台オフセット印刷機の一例の略図である。
【０００６】
この平台オフセット印刷機１１は、基台１２と、該基台１２上に所定の間隔をおいて配置された印刷定盤１３及び印刷版盤１４と、前記基台１２上に平行に敷設された２本のガイドレール（図示せず）上を図示しない移動機構により移動可能なキャリッジ１５とを備える。
【０００７】
キャリッジ１５には、上下に移動可能なブランケット胴１６と、インキ充填ロール１７が備えられている。一方基台１２にはインキ供給ロール１８が設けられている。
【０００８】
この平台オフセット印刷機１１では、被印刷体であるガラス基板２１が印刷定盤１３に載置され、印刷版２２が印刷版盤１４上に載置される。そして、キャリッジ１５は、先ず、ガイドレール上をインキ充填ロール１７がインキ供給ロール１８に対峙する位置に移動する。そして両インキロール１７、１８が対峙した位置で、インキがインキ供給ロール１８からインキ充填ロール１７に供給される。次に、キャリッジ１５はガイドレール上を印刷版盤１４に向かって移動し、インキ充填ロール１７から印刷版２２にインキが充填される。その後、キャリッジ１５はガイドレール上をインキ供給ロール１８のほうへ戻り、再び、インキ充填ロール１７にインキ供給ロール１８からインキが供給される。この間、ブランケット胴１６は印刷版２２に接触しないように上昇した位置にある。
【０００９】
次に、ブランケット胴１６を印刷版２２に接触する位置に降下させた状態で印刷定盤１３に向かって移動する。そして、キャリッジ１５が印刷版盤１４を通過するときに、印刷版２２の画線部上のインキがブランケット胴１６に転移し、それと共にインキ充填ロール１７によって印刷版２２に新たにインキが充填される。キャリッジ１５は更に印刷定盤１３に向かって移動し、印刷定盤１３に載置された被印刷体であるガラス基板２１へブランケット胴１６からインキが転移される。その後、キャリッジ１５はインキ供給ロール１８のほうに戻る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記したような平台オフセット印刷機を用いてオフセット印刷法によりガラス基板上に約５〜２０μｍ程度に厚盛り印刷しようとすると次のような問題が発生する。
【００１１】
即ち、版面に充填されたインキをブランケットが受理する際に、インキを版上から剥がそうとするブランケットからの剪断力により、インキは凝集破壊を起こす。このため、ブランケット上に受理されたインキの表面は粗く毛羽立った状態となる。この状態で被印刷材にインキが転移されると、印刷形状は膜厚方向にうねりを発生する。またブランケット上でインキ膜厚の厚い部分と薄い部分の連続するところでは印刷後に幅方向にうねりを生じやすく、膜厚が薄くなっている個所はピンホール欠陥となり、そのため印刷品質が著しく悪化する。
【００１２】
上記した問題は、インキ皮膜の凝集破壊時の糸曳き現象により発生する充填ロール表面のインキの膜厚ムラ及び印刷版上のインキの膜厚ムラに起因するものと考えられる。
【００１３】
本発明の目的は、印刷物の画線部に見られる膜厚方向及び線幅方向のうねりを無くした高精細パターンの形成に用いられる平台オフセット印刷機を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の平台オフセット印刷機は、基台と、該基台に取り付けられたインキ供給ロールと、基台上を往復動可能な、インキ充填ロール及びブランケット胴を備えるキャリッジと、基台に固定された印刷版盤及び印刷定盤とを備える平台オフセット印刷機において、キャリッジはブランケット胴の表面を押圧するための手段を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、上記構成の平台オフセット印刷機において、ブランケット胴を押圧するための手段として、ブランケット胴に対して着脱可能なプレスローラと該プレスローラをブランケット胴に押し付けるための加圧機構とからなるものを用いることができる。
【００１６】
さらに、上記構成の平台オフセット印刷機において、ブランケット胴を押圧するための手段は、プレスローラを回転させるための駆動機構を備えることができる。この駆動機構によりプレスローラをブランケット胴の回転速度に対して同速、あるいは速度差を持って回転させることができる。
【００１７】
また、上記構成の平台オフセット印刷機において、プレスローラはブランケット胴とインキ充填ロールの間に、或いはブランケット胴の印刷定盤側に配置することができる。
【００１８】
本発明の平台オフセット印刷機によれば、インキ充填ロールにより印刷版にインキを充填し、インキ充填後の印刷版上をブランケット胴を印刷版に接触させながら回転移動させることによりブランケット胴にインキを受理させ、受理させたインキ面をプレス手段によりプレスすることによりインキ表面を平滑にし、しかる後基板にインキを転移させることにより、印刷物の画線部に見られる膜厚方向及び線幅方向のうねりを無くした高精細パターンの形成が可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
図２は本発明に係る平台オフセット印刷機の第１の実施の形態を示す。
【００２０】
図２に示す平台オフセット印刷機１は、従来の平台オフセット印刷機と同様に、基台２と、該基台２上に所定の間隔をおいて配置された印刷定盤３及び印刷版盤４と、前記基台２上に平行に敷設された２本のガイドレール（図示せず）上を図示しない移動機構により移動可能なキャリッジ５とを備える。
【００２１】
キャリッジ５には、上下に移動可能なシリコンブランケットが取り付けられたブランケット胴６と、インキ充填ロール７が備えられている。更にキャリッジ５にはブランケット胴６の表面を押圧するための手段としてプレスローラ９が設けられている。このプレスローラ９は着脱機構（図示せず）によりブランケット胴６に対して着脱自在なものである。また、プレスローラ９にはプレスローラ９をブランケット胴６に押し付けるための加圧機構（図示せず）が備えられている。また、キャリッジ５にはプレスローラ９をブランケット胴６に対して回転させるための駆動機構（図示せず）が備えられている。
【００２２】
一方、基台２にはインキ供給ロール８が設けられている。
【００２３】
この平台オフセット印刷機１では、被印刷体であるガラス基板２１が印刷定盤３に載置され、印刷版２２が印刷版盤４上に載置される。そして、キャリッジ５は、先ず、ガイドレール上をインキ充填ロール７がインキ供給ロール８に対峙する位置に移動する。そして両インキロール７、８が対峙した位置で、インキがインキ供給ロール８からインキ充填ロール７に供給される。次に、キャリッジ５はガイドレール上を印刷版盤４に向かって移動し、インキ充填ロール７から印刷版２２にインキが充填される。その後、キャリッジ５はガイドレール上をインキ供給ロール８のほうへ戻り、再び、インキ充填ロール７にインキ供給ロール８からインキが供給される。この間、ブランケット胴６は印刷版２２に接触しないように上昇して位置する脱状態にあり、プレスローラは印刷版２２及びブランケット胴６から離れた脱状態にある（図３）。
【００２４】
次に、ブランケット胴６を印刷版２２に接触する位置に降下させた状態で印刷定盤３に向かって移動する。そして、キャリッジ５が印刷版盤４を通過するときに、印刷版２２の画線部上のインキがブランケット胴６に転移する。
【００２５】
そして、インキが転移されたブランケット胴６にプレスローラ９が押し付けられ、ブランケット上に受理されたインキの表面が平滑にされる。このときプレスローラ９は駆動機構によりブランケット胴６の回転速度に対して同速、或いは速度差を持って回転せしめられる。また、プレスローラ９のブランケットへの接触圧は加圧機構により調節され、インキ表面を平滑にし、幅方向に広がらない、印圧よりは低い圧力に調整される（図４）。
【００２６】
更に、キャリッジ５は印刷定盤３に向かって移動し、印刷定盤３に載置された被印刷体であるガラス基板２１へブランケット胴６からインキが転移される（図５）。その後、キャリッジ５はインキ供給ロール８のほうに戻る。
【００２７】
ブランケットに受理されたインキをガラス基板に転移させる過程において、受理後のインキの表面をプレスすることで、ブランケット上のインキ膜厚が一定となり、ガラス基板上にインキを転移させたときの幅方向のうねり、ピンホールのない、厚みが一定の良好な印刷形状をした高品質の高精細パターンの印刷を行うことができる。
【００２８】
図６は本発明の平台オフセット印刷機の第２の実施の形態を示す。この実施の形態においてはプレスローラ９はブランケット胴６のガラス基板２１側に配置されている点が第１の実施の形態と異なる。
【００２９】
また、本発明の平台オフセット印刷機においては、プレスローラに代えてベルト状のブランケットの表面をプレスする装置を用いることもできる。
【００３０】
図２に示す平台オフセット印刷機において、ブランケット胴はシリコーンゴム系ブランケットを装着し、プレスローラとしてウレタンゴムからなるゴムロールにシリコーンによる撥水処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き付けたロールを用い、導電性粉体を含有した導体インキによりパターン形成を行った。すなわち、導体インキを充填ロールから印刷版に充填後に印刷版からブランケットにインキを転移させるとともにプレスローラによりインキ充填面の凹凸を平滑化し、しかる後にブランケットからガラス基板にインキを転移させてパターン形成を行った。印刷後にガラス基板上に形成された印刷物について印刷被膜の膜厚方向及び線幅方向のうねりを計測したところ、幅方向のうねり、ピンホールのない高品質な高精細パターンの印刷物の得られることが分かった
【００３１】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の平台オフセット印刷機は、基台と、該基台に取り付けられたインキ供給ロールと、基台上を往復動可能な、インキ充填ロール及びブランケット胴を備えるキャリッジと、基台に固定された印刷版盤及び印刷定盤とを備える平台オフセット印刷機において、キャリッジはブランケット胴の表面を押圧するための手段を備えることを特徴としているので、インキ充填ロールにより印刷版にインキを充填し、インキ充填後の印刷版上をブランケット胴を回転移動させてブランケット胴にインキを受理させ、受理させたインキ面をプレス手段によりプレスすることで、ブランケット上のインキ膜厚が一定となり、被印刷材に転写したときに幅方向のうねり及びピンホールのない高品質な高精細パターンの印刷物を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の平台オフセット印刷機の略図である。
【図２】本発明の平台オフセット印刷機の略図である。
【図３】本発明の平台オフセット印刷機を用いた印刷の過程を示す略図である。
【図４】図３の過程に続く本発明の平台オフセット印刷機を用いた印刷の過程を示す略図である。
【図５】図４の過程に続く本発明の平台オフセット印刷機を用いた印刷の過程を示す略図である。
【図６】本発明の平台オフセット印刷機の別の実施の形態を示す略図である。
【符号の説明】
１１、１　　平台オフセット印刷機
１２、２　　基台
１３、３　　印刷定盤
１４、４　　印刷版盤
１５、５　　キャリッジ
１６、６　　ブランケット胴
１７、７　　インキ充填ロール
１８、８　　インキ供給ロール
９　　　　　プレスローラ
２１　　　　ガラス基板
２２　　　　印刷版
【図１】
2004009300.tif 000003
【図２】
2004009300.tif 000004
【図３】
2004009300.tif 000005
【図４】
2004009300.tif 000006
【図５】
2004009300.tif 000007
【図６】
2004009300.tif 000008