(57)【要約】  【課題】      本発明の課題は、遊離のホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を保存する際に、ホスファイト化合物の変質を抑制し、長期間安定して保存する方法を提供することにある。  【解決手段】  遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を、酸素分圧が１０Ｐａ以下の雰囲気中で保存することを特徴とするＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法。更には、遊離の有機ホスファイト配位子及びVIII族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含むヒドロホルミル化触媒液を反応器より抜き出した後、気相部分の酸素分圧が１０Ｐａ以下である保存容器にて保存することを特徴とするVIII族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法。  【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を、酸素分圧が１０Ｐａ以下の雰囲気中で保存することを特徴とするＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法。
【請求項２】
遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含むヒドロホルミル化触媒液を反応器より抜き出した後、気相部分の酸素分圧が１０Ｐａ以下である保存容器にて保存することを特徴とするＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法。
【請求項３】
保存容器内に保存中の触媒液温度を０℃〜５０℃に保つ請求項１または２に記載の保存方法。
【請求項４】
ＶＩＩＩ族金属が、ロジウムである請求項１〜３のいずれかに記載の保存方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
第ＶＩＩＩ族金属錯体触媒の存在下に、オレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素でヒドロホルミル化することによりアルデヒド類を製造するプロセスは広範に工業化されている。このヒドロホルミル化反応における触媒としては、ロジウム等の第ＶＩＩＩ族金属を３価のリンの化合物のような配位子で修飾した錯体触媒が用いられており、ヒドロホルミル化反応の活性や選択性を向上させるために、種々の配位子についての研究がなされている。特に、これまで主に用いられてきたホスフィン化合物に代わり、近年、高い活性と選択性を示すホスファイト化合物が用いられるようになってきている。
【０００３】
しかしながら、WO９７／２０９７４号公報や特開２００１−３４２１６２号公報等に記載されているように、ホスファイト化合物はホスフィン化合物に比べて変質しやすく、またホスファイト化合物はホスフィン化合物に比べて比較的高価であるために、いかに損失を少なくして用いるかが課題となっている。
ＷＯ９７／２０９７４号公報やＷＯ９７／２０７９７号公報では、ホスファイト配位子を安定化させるために、反応生成物流体を水性緩衝液や水で処理することによりホスファイト化合物の加水分解を促進する原因となるリン酸性化合物を除去する方法が開示されている。
【０００４】
また、特開２００１−３４２１６２号公報や特開２００１−３４２１６４号公報では、ホスファイト化合物の加水分解による変質を抑制するために、触媒存在領域から水分を積極的に除去する方法が開示されている。しかしながら、これらの方法により、反応実施中にホスファイトの変質を抑制することはできるものの、触媒を保存している間に徐々に変質するものを抑制することはできなかった。
【特許文献１】ＷＯ９７／２０９７４号公報 ｐ１Ｌ１２〜Ｌ２５、ｐ３Ｌ９〜Ｌ２５
【特許文献２】ＷＯ９７／２０７９７号公報 ｐ１Ｌ１１〜Ｌ２３、ｐ３Ｌ８〜Ｌ２２
【特許文献３】特開２００１−３４２１６２号公報  段落番号［０００２］〜［０００４］、［０００８］
【特許文献４】特開２００１−３４２１６４号公報  段落番号［０００２］〜［０００４］、［０００８］
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、遊離のホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を保存する際に、ホスファイト化合物の変質を抑制し、長期間安定して保存する方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
発明者らは上記課題について鋭意検討を重ねた結果、従来の技術では抑制できなかった触媒保存時の触媒の変質が、主に触媒の酸化によるものであること、更には遊離のホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を保存する際に、保存容器中に存在する微量の酸素によりホスファイト配位子が酸化されるだけでなく、さらに分解が促進されて変質が進んでいることを見出し、更には保存に際して酸素分圧
を低減させることにより長期間安定して保存することができることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち本発明の要旨は、下記（１）〜（４）に存する。
【０００７】
（１）  遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を、酸素分圧が１０Ｐａ以下の雰囲気中で保存することを特徴とするＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法。
（２）  遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含むヒドロホルミル化触媒液を反応器より抜き出した後、気相部分の酸素分圧が１０Ｐａ以下である保存容器にて保存することを特徴とするＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法。
【０００８】
（３）  保存容器内に保存中の触媒液温度を０℃〜５０℃に保つ上記（１）または（２）に記載の保存方法。
（４）  ＶＩＩＩ族金属が、ロジウムである上記（１）〜（３）のいずれかに記載の保存方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、遊離のホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を保存する際に、ホスファイト化合物の変質を抑制し、長期間安定して保存する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法の第１の実施形態は、遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含む触媒液を、酸素分圧が１０Ｐａ以下の雰囲気にて保存することを特徴とする。また、本発明のＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒液の保存方法の第２の実施形態は、遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒を含むヒドロホルミル化触媒液を反応器より抜き出した後、気相部分の酸素分圧が１０Ｐａ以下である保存容器にて保存することを特徴とする。
【００１１】
本発明における遊離の有機ホスファイト配位子及びＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒の有機ホスファイトとしてのホスファイト化合物としては、単座配位子又は多座配位子としての能力を有する常用の任意のもので良いが、具体的には、例えば下記一般式（１）〜（１０）で表される化合物が挙げられる。
【００１２】
【化１】
2004202487.tif 000002
【００１３】
（上記一般式（１）式中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立して、置換されていてもよい1価の炭
化水素基を表す。）
置換されていてもよい1価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロア
ルキル基などが挙げられる。式（１）で示される化合物の具体例としては、例えば、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、ｎ−ブチルジエチルホスファイト、トリ−ｎ−ブチルホスファイト、トリ−ｎ−プロピルホスファイト、トリ−ｎ−オクチルホスファイト、トリ−ｎ−ドデシルホスファイト等のトリアルキルホスファイト；トリフェニルホスファイト、トリナフチルホスファイト等のトリアリールホスファイト；ジメチルフ
ェニルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイト、エチルジフェニルホスファイト等のアルキルアリールホスファイトなどが挙げられる。また、例えば、特開平６−１２２６４２号公報に記載のビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）フェニルホスファイト、ビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）（４−ビフェニル）フェニルホスファイトなどを用いても良い。これらの中で最も好ましいのはトリフェニルホスファイトである。
【００１４】
【化２】
2004202487.tif 000003
【００１５】
（上記一般式（２）中、Ｒ4は置換されていてもよい２価の炭化水素基を表し、Ｒ5は置換されていてもよい１価の炭化水素基を表す。）
置換されていてもよい２価の炭化水素基としては、炭素鎖の中間に酸素、窒素、硫黄原子などを含んでいてもよいアルキレン基；炭素鎖の中間に酸素、窒素、硫黄原子などを含んでいてもよい
シクロアルキレン基；フェニレン、ナフチレンなどの２価の芳香族基；２価の芳香環が直接、又は中間にアルキレン基や酸素、窒素、硫黄などの原子を介して結合した２価の芳香族基；２価の芳香族基アルキレン基とが直接、又は中間に酸素、窒素、硫黄などの原子を介して結合したものなどが挙げられる。１価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基などが挙げられる。
【００１６】
上記一般式（２）で表される化合物としては、例えば、ネオペンチル（２，４，６−ｔ−ブチル−フェニル）ホスファイト、エチレン（２，４，６−ｔ−ブチル−フェニル）ホスファイト等の米国特許第３４１５９０６号公報記載の化合物などが挙げられる。
また、下記一般式（３）
【００１７】
【化３】
2004202487.tif 000004
【００１８】
（上記一般式（３）中、、Ｒ10は上記一般式（２）におけるＲ5と同義であり、Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立して、置換されていてもよいアリール基を表し、ｘ及びｙは、そ
れぞれ独立して、０又は１を表し、Ｑは−ＣＲ11Ｒ12−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ13−、−ＳｉＲ14Ｒ15及び−ＣＯ−よりなる群から選ばれる架橋基であり、Ｒ11及びＲ12はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、トリル基又はアニシル基を表し、Ｒ13、Ｒ14およびＲ15はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、ｎは０又は１を表す。）で表される化合物、より具体的には１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト等の米国特許第４５９９２０６号公報記載の化合物及び３，３’−ジ−ｔ−ブチル−５，５’−ジメ
トキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル（２−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ホスファイト等の米国特許第４７１７７７５号公報記載の化合物等も挙げられる。
【００１９】
【化４】
2004202487.tif 000005
【００２０】
（上記一般式（４）中、Ｒ6は環状又は非環状の置換されていてもよい３価の炭化水素基
を表す。）
上記一般式（４）で表される化合物としては、例えば、４−エチル−２，６，７−トリオキサ−１−ホスファビシクロ−［２，２，２］−オクタン等の米国特許第４５６７３０６号公報記載の化合物などが挙げられる。
【００２１】
【化５】
2004202487.tif 000006
【００２２】
（上記一般式（５）中、Ｒ7は上記一般式（３）におけるＲ4と同義であり、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立して、置換されても良い炭化水素基を表し、ａ及びｂはそれぞれ０〜６の整数を表し、ａとｂの和は２〜６であり、Ｘは（ａ＋ｂ）価の炭化水素基を表す。）
上記一般式（５）で表される化合物のうち、好ましいものとしては、例えば、下記一般式（６）で表される化合物が挙げられる。
【００２３】
【化６】
2004202487.tif 000007
【００２４】
（上記一般式（６）中、Ｘはアルキレン、アリーレンおよび−Ａｒ1−（ＣＨ2）ｘ−Ｑｎ−（ＣＨ2）ｙ−Ａｒ2−からなる群から選ばれる２価の基を表し、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｑ、ｘ、ｙ、ｎは上記一般式（３）におけるＡｒ1、Ａｒ2、Ｑ、ｘ、ｙ、ｎと同義である。）で表される化合物が挙げられ、また、特開昭６２−１１６５３５号公報および特開昭６２−１１６５８７号公報に記載の化合物を含有する。
【００２５】
【化７】
2004202487.tif 000008
【００２６】
（上記一般式（７）中、Ｘ、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｑ、ｘ、ｙ、ｎは上記一般式（３）におけるＸ、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｑ、ｘ、ｙ、ｎと同義であり、Ｒ18は上記一般式（２））におけるＲ4と同義である。）
【００２７】
【化８】
2004202487.tif 000009
【００２８】
（上記一般式（８）中、Ｒ19及びＲ20はそれぞれ独立して芳香族炭化水素基を表し、かつ少なくとも一方の芳香族炭化水素基は、酸素原子が結合する炭素原子に隣接する炭素原子に炭化水素基を有しており、ｍは２〜４の整数を表し、各−Ｏ−Ｐ(ＯＲ19)(ＯＲ20)基は互いに異なっていてもよく、Ｘは置換されていてもよいｍ価の炭化水素基を表す。）
上記一般式（８）で表される化合物の中で、例えば、特開平５−１７８７７９号公報に記載の化合物が好ましい。
【００２９】
【化９】
2004202487.tif 000010
【００３０】
（上記一般式（９）中、Ｒ21〜Ｒ24は、それぞれ独立して置換されていても良い炭化水素基を表し、Ｒ21とＲ22、Ｒ23とＲ24は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｗは置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表し、Ｌは置換基を有していてもよい飽和又は不飽和の２価の脂肪族炭化水素基を表す。）
上記一般式（９）で表される化合物としては、例えば、特開平８−２５９５７８号公報に記載のものが用いられる。
【００３１】
【化１０】
2004202487.tif 000011
【００３２】
（上記一般式（１０）中、Ｒ25〜Ｒ28は、置換されていても良い１価の炭化水素基を表し、Ｒ25とＲ26、Ｒ27とＲ28は互いに結合して環を形成していてもよく、Ａ及びＢはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基を表し、ｎは０又は１の整数を表す。）
ここで、置換しても良い１価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基などが挙げられる。置換しても良い２価の炭化水素基としては、芳香族、脂肪族又は脂環族のいずれであっても良い。
【００３３】
なお、本発明において「遊離の有機ホスファイト配位子」とは、金属と錯化していない配位子のことである。遊離の有機ホスファイト配位子としては、前記の有機ホスファイト化合物の任意のものを用いることができるが、用いるＶＩＩＩI族金属−有機ホスファイ
ト錯体触媒の有機ホスファイト配位子と同じものを用いるのが好ましい。
上記した化合物は、２種以上を混合してＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒の配位子として用いることもできる。また、上記３価の有機ホスファイト化合物とトリフェニルホスフィンオキシド等の５価の有機リン化合物とを混合して用いることもできる。
【００３４】
本発明におけるＶＩＩＩ族金属とは、現在の周期律表における８〜１０族の金属であり、具体的には、ロジウム、パラジウム、コバルト、ルテニウム、白金等が挙げられ、好ましくはロジウムである。
本発明における「ＶＩＩＩ族金属−有機ホスファイト錯体触媒」としては、ヒドロホルミル化反応等の反応系中で形成させても良く、予め調整したものを用いても良い。金属化合物を供給する化合物としては、特に制限されないが、例えば、塩化コバルト、酢酸コバルト、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、塩化ルテニウム等が挙げられ、好ましくは酢酸ロジウム、三塩化ロジウム、硝酸ロジウムなどのロジウム化合物が挙げられ、より好ましくは酢酸ロジウムが挙げられる。ロジウム錯体触媒を予め調整する場合には、これらのロジウム化合物と上記の３価の有機ホスファイト化合物及びオキソガスを、溶媒の存在下に、６０〜２００℃、常圧〜２０Ｍｐａでカルボニル化反応させることにより容易に調整できる。溶媒としては、通常、後述する反応溶媒の中から選んで用いて良く、実際に反応溶媒として用いられるものと同一のものが好ましい。触媒調整に際してのロジウム化合物と遊離の３価の有機ホスファイト化合物の比率は、ロジウムに対する燐のモル比として通常０．１〜５００、好ましくは０．１〜１００、更に好ましくは１〜３０である。
【００３５】
本発明における「触媒液」とは、前記の触媒が反応溶媒中に溶解したものであるが、反応原料や反応生成物を含有していても良い。
ヒドロホルミル化反応の反応溶媒としては、触媒を溶解し、かつ反応に悪影響を与えないものであれば、任意のものを用いることができ、例えばヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ブタノール、オクタノール、ポリエチレングリコール等のアルコール；トリグライム等のエーテル；ジオクチルフタレート等のエステルなどが用いることができる。また、ヒドロホルミル化反応の場合は、反応で生成するアルデヒドや、その三量体や四量体などのアルデヒド縮合物を用いることもできる。さらには、原料オレフィンに対応するパラフィンを用いることもできる。
【００３６】
触媒の保存に際しては、通常窒素等の不活性ガスの雰囲気下で保存されるが、通常、工場等で用いられる窒素中には１００〜数百ｐｐｍの酸素が含まれていることが多い。しかしながら、本発明による触媒液保存に際しては、十分に酸素濃度を低減させた窒素等の不活性ガスを用い、酸素分圧が１０Ｐａ以下の雰囲気となるようにして保存する。保存時の酸素分圧は好ましくは、５Ｐａ以下、さらに好ましくは１Ｐａ以下である。酸素分圧が高すぎると配位子の変質がおこってしまう。
【００３７】
気相中の酸素分圧を測定する方法としては、まず気相の圧力を測定し、次に気相のガスをサンプリングし、これを酸素濃度計等によって分析したガス中の酸素濃度を用いて算出することができる。
酸素分圧を上記の雰囲気にするための手段としては、十分に酸素濃度を低減させた窒素やアルゴン等の不活性ガスを用いて気相部をシールする方法が挙げられる。この時、不活性ガス中の酸素濃度は１００ｐｐｍ以下、好ましくは５０ｐｐｍ以下であり、更に好ましくは５ｐｐｍ以下である。この時、同じ酸素濃度であっても、気相部の圧力が高ければ酸素分圧は高くなるので、気相部の圧力としては、２００ｋＰａＧ以下、好ましくは５０ｋＰａＧ以下、更に好ましくは０．５ｋＰａＧ以下である。他の手段としては、酸素吸着剤等を用いて気相中の酸素濃度を低減させる方法や、酸素吸着装置を設置して気相を循環させ、酸素濃度を低減させる方法等もある。
【００３８】
触媒の保存は、反応器等の機器中で不活性ガス雰囲気下で行うこともできるが、好ましくは、タンクやドラム缶等の保存容器に保存し、酸素分圧が高くならないように維持することが重要である。
保存時は触媒液温度が０℃〜５０℃で保存することが好ましい。５０℃以上の高温になるとホスファイト化合物の変質が促進され、また、０℃以下の低温になるとホスファイト化合物が析出し、閉塞等の問題が生じるので、好ましくない。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
＜触媒液の調整＞
以下の実施例及び比較例に用いた触媒液は、酢酸ロジウム３７ｇをメタノール２．７リットルに溶解した溶液とホスファイト化合物５７０ｇをノルマルブチルアルデヒド２９ｋｇに溶解し、８５℃、０．３９ＭＰａＧの条件下で一酸化炭素及び水素を含有する合成ガス（一酸化炭素：水素＝１：１（モル比））の雰囲気下で２時間カルボニル化させたものを用いてオレフィンとしてプロピレンを用いたヒドロホルミル化反応を７０℃、１．０ＭＰａＧの条件下で行い、反応終了後未反応のオレフィンを除去したものを用いた。
【００４０】
＜酸素分圧の測定方法＞
保存容器内の酸素分圧は、気相中のガスをサンプリングして酸素濃度計によって酸素濃度を測定し、これと気相圧力から求めた。
＜有機ホスファイト配位子の変質の測定＞
保存容器内の有機ホスファイト配位子の変質は、保存開始時と保存終了時の液を少量サンプリングし、液体クロマトグラフィーにより測定し、比較した。
【００４１】
なお、下記実施例及び比較例における「有機ホスフィン配位子の変質割合」は、遊離の有機ホスファイト配位子とロジウム−有機ホスファイト錯体触媒の配位子の両方の配位子の総量に対するものである。
実施例１
ヒドロホルミル化触媒液（Ｒｈ１９７ｍｇ／Ｌ、ホスファイト配位子０．９ｗｔ％、ノルマルブチルアルデヒド４７．５ｗｔ％、高沸点物質５１．５ｗｔ％）を酸素吸着装置を
通した酸素濃度５ｐｐｍ以下の窒素で置換したテンレス（ＳＵＳ）製ドラム缶に仕込み、気相圧力を１６ｋＰａＧに調整した。気相のＯ2濃度を分析したところ４ｐｐｍであった
（Ｏ2分圧で０．５Ｐａ）。
【００４２】
この触媒液を４０日間室温で保存した後に分析したところ、有機ホスファイト配位子は保存開始時の９９％が変質せずに存在していた。遊離の有機ホスファイト配位子及びロジウム−有機ホスファイト錯体触媒の配位子として用いるホスファイト化合物としては下記の化合物（１１）を用いた。
【００４３】
【化１１】
2004202487.tif 000012
【００４４】
（上記式中、ｔＢｕはｔ−ブチル基、−はメチル基を表す。）
実施例２
ヒドロホルミル化触媒液（Ｒｈ２５０ｍｇ／Ｌ、ホスファイト配位子０．９ｗｔ％、ノルマルブチルアルデヒド４７．５ｗｔ％、高沸点物質５１．５ｗｔ％）を酸素吸着装置を通した酸素濃度１００ｐｐｍ以下の窒素で置換したＳＵＳ製ドラム缶に仕込み、気相圧力を１６ｋＰａＧに調整した。気相のＯ2濃度を分析したところ９０ｐｐｍであった（Ｏ2分圧で９．２Ｐａ）。遊離の有機ホスファイト配位子及びロジウム−有機ホスファイト錯体触媒の配位子として用いるホスファイト化合物は実施例１と同じ化合物（１１）を用いた。
【００４５】
この触媒液を４０日間室温で保存した後に分析したところ、有機ホスファイト配位子は保存開始時の９６％が変質せずに存在していた。
比較例１
ヒドロホルミル化触媒液（Ｒｈ２５０ｍｇ／Ｌ、ホスファイト配位子０．９ｗｔ％、ノルマルブチルアルデヒド４７．５ｗｔ％、高沸点物質５１．５ｗｔ％）を工場内で作業用に使用している深冷分離した窒素（酸素濃度を測定したところ、２００ｐｐｍであった）で置換したＳＵＳ製ドラム缶に仕込み、気相圧力を１６ｋＰａＧに調整した。気相のＯ2
濃度を分析したところ２００ｐｐｍであった（Ｏ2分圧で２０．４Ｐａ）。遊離の有機ホ
スファイト配位子及びロジウム−有機ホスファイト錯体触媒の配位子として用いるホスファイト化合物は実施例１と同じ化合物（１１）を用いた。
【００４６】
この触媒液を４０日間室温で保存した後に分析したところ、有機ホスファイト配位子は保存開始時の７８％しか存在していなかった。
比較例２
ヒドロホルミル化触媒液（Ｒｈ２５０ｍｇ／Ｌ、ホスファイト配位子１ｗｔ％、ノルマルブチルアルデヒド９９ｗｔ％）をガラス製ビーカーに入れて開放のまま、空気中（Ｏ２分圧２０．４ｋＰａ）に室温で保存した。遊離の有機ホスファイト配位子及びロジウム−有機ホスファイト錯体触媒の配位子として用いるホスファイト化合物は実施例１と同じ化合物（１１）を用いた。
【００４７】
この触媒液を翌日に分析したところ、有機ホスファイト配位子は保存開始時の６６％しか存在していなかった。
＜考察＞
本実施例から考察すると、酸素分圧の高い雰囲気にさらされると、有機ホスファイト化合物は、ロジウムに配位している量以上の有機ホスファイト化合物が変質しており、ロジウムに配位しているものだけでなく、触媒液中に溶解している遊離の有機ホスファイト化合物も変質し、元の有機ホスファイト化合物の形態でなくなっていることが分かる。
【００４８】
参考例
ヒドロホルミル化触媒液（Ｒｈ２５０ｍｇ／Ｌ、ホスフィン配位子３０ｗｔ％、トルエン３０ｗｔ％、高沸点物質４０ｗｔ％）をガラス製ビーカーに入れて、空気中に室温で保存した。遊離の有機ホスフィン配位子及びロジウム−有機ホスフィン錯体触媒の配位子として用いるホスフィン化合物としてはトリフェニルホスフィンを用いた。
【００４９】
この触媒液を翌日に分析したところ、ホスフィン配位子は保存開始時の９８％が存在していた。