(57)【要約】【課題】適切な配置を有する複数の光学素子が形成されている光学素子形成基板を複数回の露光によって製造するための光学素子形成基板製造ラインおよび光学素子形成基板製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】光学素子形成基板製造ライン９は、複数回の露光により複数の光学素子７０および複数の位置指示パターン８０を露光形成する露光装置１７と、露光形成された光学素子７０および位置指示パターン８０を現像する現像装置１９と、位置検知装置２１と、露光位置制御装置２４とを備えている。位置検知装置２１は、画像処理により、現像された位置指示パターン８０相互間の位置関係に基づいて光学素子７０相互間の位置関係を検知する。露光位置制御装置２４は、位置検知装置２１の検知結果に基づいて露光装置１７を制御し、感光材付きの基板６５に対する露光位置の調整を実施する。【選択図】  図１
2004317574.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学素子が形成された光学素子形成基板を製造するための光学素子形成基板製造ラインにおいて、
感光材付きの基板に対する露光位置を調節して複数回の露光を当該基板に対して行うことにより、複数の光学素子と、各光学素子に対応するように配置されると共に現像されると画像処理されうるような複数の位置指示パターンであって、各位置指示パターン相互間の位置関係がこれらの位置指示パターンに対応する光学素子相互間の位置関係を示唆するような位置指示パターンと、を当該基板に露光形成する露光装置と、
前記露光装置によって前記基板に露光形成された光学素子および位置指示パターンを現像する現像装置と、
前記現像装置によって現像された位置指示パターン相互間の位置関係を画像処理により求めて、求めた位置指示パターン相互間の位置関係に基づいてこれらの位置指示パターンに対応する光学素子相互間の位置関係を検知する位置検知装置と、
前記位置検知装置の検知結果に基づいて前記露光装置を制御し、感光材付きの基板に対する露光位置の調節を調整する露光位置制御装置と、
を備えたことを特徴とする光学素子形成基板製造ライン。
【請求項２】
前記露光装置は、第１の露光によって相互に対応する第１の光学素子および第１の位置指示パターンを感光材付きの基板に露光形成し、第２の露光によって相互に対応する第２の光学素子および第２の位置指示パターンを当該基板に露光形成し、第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンは、相互に対応するようにして当該基板に露光形成されるとともに、各々がＹ方向に延びるＸ方向位置指示部とＸ方向に延びるＹ方向位置指示部とを有し、
前記位置検知装置は、第１の位置指示パターンのＸ方向位置指示部と第２の位置指示パターンのＸ方向位置指示部との間の距離に基づいて第１の光学素子および第２の光学素子相互間におけるＸ方向に関する相対位置関係を検知するとともに、第１の位置指示パターンのＹ方向位置指示部と第２の位置指示パターンのＹ方向位置指示部との間の距離に基づいて第１の光学素子および第２の光学素子相互間におけるＹ方向に関する相対位置関係を検知することを特徴とする請求項１に記載の光学素子形成基板製造ライン。
【請求項３】
第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンは、それぞれＸ方向位置指示部とＹ方向位置指示部とが結合した状態を有していることを特徴とする請求項２に記載の光学素子形成基板製造ライン。
【請求項４】
第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンは、それぞれＸ方向位置指示部とＹ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態を有していることを特徴とする請求項３に記載の光学素子形成基板製造ライン。
【請求項５】
前記露光装置は、感光材付きの基板に対し、複数の第１の位置指示パターンを露光形成するとともに各第１の位置指示パターンに対応する複数の第２の位置指示パターンを露光形成して、相互に対応する第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンの組み合わせを複数形成し、
前記位置検知装置は、前記各組み合わせを構成する第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターン相互間のＸ方向位置指示部間の距離およびＹ方向位置指示部間の距離を求め、前記各組み合わせに関して求めたＸ方向位置指示部間の距離およびＹ方向位置指示部間の距離に基づいて、第１の光学素子および第２の光学素子相互間の回転方向に関する相対位置関係を検知することを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の光学素子形成基板製造ライン。
【請求項６】
複数の光学素子が形成されている光学素子形成基板を製造する光学素子形成基板製造方法において、
感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する第１露光位置配置工程と、
第１の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第１の光学素子と、当該第１の光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第１の位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第１の露光工程と、
前記基板を第２の露光位置に配置する第２露光位置配置工程と、
第２の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第２の光学素子と、当該第２の光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第２の位置指示パターンであって、第１の位置指示パターンと対応するようにして配置され対応する第１の位置指示パターンと比較されることによって第１の光学素子および第２の光学素子相互間の相対位置関係を示唆するような第２の位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第２の露光工程と、
前記基板に露光形成されている第１の光学素子、第２の光学素子、第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンを現像する現像工程と、
現像された相互に対応する第１の位置指示パターンと第２の位置指示パターンとの位置関係を画像処理により求めて、求めた対応する第１の位置指示パターンと第２の位置指示パターンとの位置関係に基づいて第１の光学素子および第２の光学素子相互間の相対位置関係を検知する位置検知工程と、を備え、
第２露光位置配置工程において感光材付きの基板が配置される第２の露光位置は、位置検知工程における検知結果に基づいて調整されることを特徴とする光学素子形成基板製造方法。
【請求項７】
第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンは、それぞれＹ方向に延びるＸ方向位置指示部とＸ方向に延びるＹ方向位置指示部とを有しており、
位置検知工程では、相互に対応する第１の位置指示パターンのＸ方向位置指示部と第２の位置指示パターンのＸ方向位置指示部との間の距離に基づいて、第１の光学素子および第２の光学素子相互間におけるＸ方向に関する相対位置関係を検知するとともに、第１の位置指示パターンのＹ方向位置指示部と第２の位置指示パターンのＹ方向位置指示部との間の距離に基づいて、第１の光学素子および第２の光学素子相互間におけるＹ方向に関する相対位置関係を検知することを特徴とする請求項６に記載の光学素子形成基板製造方法。
【請求項８】
第１露光位置配置工程の前段において、感光材付きの基板に対する露光位置を調整する露光条件確認工程を更に備えた請求項６又は７のいずれかに記載の光学素子形成基板製造方法において、
露光条件確認工程は、
感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する第１条件確認用露光位置配置工程と、
第１の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第１の条件確認用光学素子と、当該第１の条件確認用光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第１の条件確認用位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第１の条件確認用露光工程と、
前記基板を第２の露光位置に配置する第２条件確認用露光位置配置工程と、
第２の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第２の条件確認用光学素子と、当該第２の条件確認用光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第２の条件確認用位置指示パターンであって、第１の条件確認用位置指示パターンと対応するようにして配置され対応する第１の条件確認用位置指示パターンと比較されることによって第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間の相対位置関係を示唆するような第２の条件確認用位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第２の条件確認用露光工程と、
前記基板に露光形成されている第１の条件確認用光学素子、第２の条件確認用光学素子、第１の条件確認用位置指示パターンおよび第２の条件確認用位置指示パターンを現像する現像工程と、
現像された相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターンと第２の条件確認用位置指示パターンとの位置関係を画像処理により求めて、求めた対応する第１の条件確認用位置指示パターンと第２の条件確認用位置指示パターンとの位置関係に基づいて第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間の相対位置関係を検知する条件確認用位置検知工程と、
条件確認用位置検知工程における検知結果に基づいて第２の露光位置を調整する位置調整工程と、を有することを特徴とする請求項６又は７のいずれかに記載の光学素子形成基板製造方法。
【請求項９】
複数の光学素子が形成された光学素子形成基板を製造する光学素子形成基板製造方法において、
感光材付きの基板に対する露光位置を調整する露光条件確認工程と、感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する第１露光位置配置工程と、第１の露光位置に配置されている前記基板に対し露光を行うことにより第１の光学素子を前記基板に露光形成する第１の露光工程と、前記基板を第２の露光位置に配置する第２露光位置配置工程と、第２の露光位置に配置されている前記基板に対し露光を行うことにより第２の光学素子を前記基板に露光形成する第２の露光工程と、を備え、
露光条件確認工程は、
感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する第１条件確認用露光位置配置工程と、
第１の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第１の条件確認用光学素子と、当該第１の条件確認用光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第１の条件確認用位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第１の条件確認用露光工程と、
前記基板を第２の露光位置に配置する第２条件確認用露光位置配置工程と、
第２の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第２の条件確認用光学素子と、当該第２の条件確認用光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第２の条件確認用位置指示パターンであって、第１の条件確認用位置指示パターンと対応するようにして配置され対応する第１の条件確認用位置指示パターンと比較されることによって第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間の相対位置関係を示唆するような第２の条件確認用位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第２の条件確認用露光工程と、
前記基板に露光形成されている第１の条件確認用光学素子、第２の条件確認用光学素子、第１の条件確認用位置指示パターンおよび第２の条件確認用位置指示パターンを現像する現像工程と、
現像された相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターンと第２の条件確認用位置指示パターンとの位置関係を画像処理により求めて、求めた対応する第１の条件確認用位置指示パターンと第２の条件確認用位置指示パターンとの位置関係に基づいて第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間の相対位置関係を検知する条件確認用位置検知工程と、
条件確認用位置検知工程における検知結果に基づいて第２の露光位置を調整する位置調整工程と、を有することを特徴とする光学素子形成基板製造方法。
【請求項１０】
第１の条件確認用位置指示パターンおよび第２の条件確認用位置指示パターンは、それぞれＹ方向に延びるＸ方向位置指示部とＸ方向に延びるＹ方向位置指示部とを有しており、
条件確認用位置検知工程では、相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターンのＸ方向位置指示部と第２の条件確認用位置指示パターンのＸ方向位置指示部との間の距離に基づいて、第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間におけるＸ方向に関する相対位置関係を検知するとともに、第１の条件確認用位置指示パターンのＹ方向位置指示部と第２の条件確認用位置指示パターンのＹ方向位置指示部との間の距離に基づいて、第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間におけるＹ方向に関する相対位置関係を検知することを特徴とする請求項８又は９のいずれかに記載の光学素子形成基板製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光によってＲＧＢカラーフィルターのブラックマトリクス（ＢＭ）層のような光学素子が複数形成されている光学素子形成基板に係り、特に、光学素子形成基板を製造する光学素子形成基板製造ラインおよび光学素子形成基板製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶光学素子（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ等の流通の活性化に伴って、ＬＣＤ等に利用されているカラーフィルターのＢＭ層のような光学素子を効率良く生産することが強く望まれている。このため、露光、現像によって１枚の基板に複数の光学素子を形成した後に、複数の光学素子を形成した基板のまま（又は個々の光学素子に切断し）、例えばカラーフィルターの場合はアレイ基板に当該カラーフィルターを貼り合わせることによって生産性を向上させる手法が、広く一般的に行われている。
【０００３】
このような手法によって光学素子を生産する場合、精度の良い光学素子を確実に得るためには、個々の光学素子を基板に正確に配置することが重要である。このためには、基板に露光形成されている各光学素子相互間の相対位置を正確に把握する必要がある。特に、複数ショット（複数回）の露光によって１枚の基板に複数の光学素子を形成するような場合には、各露光により形成される光学素子の間において相対距離、相対位置が変動しやすい。このため、基板に露光形成されている各光学素子相互間の位置関係を正確に把握することは極めて重要である。そして、各光学素子相互間の相対位置を把握することによって、基板および露光装置の相対位置を調整して基板に対する光学素子の露光形成位置を調節することができ、各光学素子の位置を調整して個々の光学素子をより正確に基板上に配置することができる。これにより、精度の良い光学素子を効率的に提供することが可能となる。
【０００４】
ところで、光学素子形成基板に形成されている各光学素子相互間の位置関係を検知するための手法として、所謂ノギスの原理等を利用した測定員の目視による確認を伴う手法が広く一般的に用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の手法では測定員が必要とされるため、当該手法を機械的、自動的に実行するシステムを構築することは非常に難しかった。また、上述の手法に基づいて検知された各光学素子相互間の位置関係を具体的な露光環境に反映させるような場合にも人力が必要とされるため、当該反映を機械的、自動的に実行するシステムを構築することは非常に難しかった。
【０００６】
従って、測定員の目視によって検知した各光学素子相互間の位置関係を露光環境に反映させる作業は、非常に煩雑なものとなり適時に行うことが難しかった。また、そのような作業を行う場合には、露光によって光学素子形成基板を製造する装置やシステムの稼動を一旦停止させる必要があり、光学素子形成基板の生産性を一時的に阻害することとなる。更に、各測定員によって検知精度にバラツキが生じるとともに、測定員の疲労等によって検知精度が悪化するため、一定の精度で各光学素子相互間の位置関係を安定的に検知することが難しく、前述の露光環境への反映作業を正確に行うことも難しかった。
【０００７】
このため、光学素子形成基板に形成されている各光学素子相互間における位置関係を自動的に検知するとともに、当該検知結果を露光環境に正確かつ適時に反映させて、適切な配置を有する複数の光学素子が形成されている光学素子形成基板を製造するシステム、方法が社会的に必要とされている。
【０００８】
本発明は上述の事項を考慮してなされたものであり、複数回の露光によって複数の光学素子が形成された光学素子形成基板を製造するための光学素子形成基板製造ラインおよび光学素子形成基板製造方法であって、適切な配置を有する複数の光学素子が形成される光学素子形成基板を製造するための光学素子形成基板製造ラインおよび光学素子形成基板製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、複数の光学素子が形成された光学素子形成基板を製造するための光学素子形成基板製造ラインにおいて、感光材付きの基板に対する露光位置を調節して複数回の露光を当該基板に対して行うことにより、複数の光学素子と、各光学素子に対応するように配置されると共に現像されると画像処理されうるような複数の位置指示パターンであって、各位置指示パターン相互間の位置関係がこれらの位置指示パターンに対応する光学素子相互間の位置関係を示唆するような位置指示パターンと、を当該基板に露光形成する露光装置と、前記露光装置によって前記基板に露光形成された光学素子および位置指示パターンを現像する現像装置と、前記現像装置によって現像された位置指示パターン相互間の位置関係を画像処理により求めて、求めた位置指示パターン相互間の位置関係に基づいてこれらの位置指示パターンに対応する光学素子相互間の位置関係を検知する位置検知装置と、前記位置検知装置の検知結果に基づいて前記露光装置を制御し、感光材付きの基板に対する露光位置の調節を調整する露光位置制御装置と、を備えたことを特徴とする光学素子形成基板製造ラインである。
【００１０】
本発明は、複数の光学素子が形成されている光学素子形成基板を製造する光学素子形成基板製造方法において、感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する第１露光位置配置工程と、第１の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第１の光学素子と、当該第１の光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第１の位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第１の露光工程と、前記基板を第２の露光位置に配置する第２露光位置配置工程と、第２の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第２の光学素子と、当該第２の光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第２の位置指示パターンであって、第１の位置指示パターンと対応するようにして配置され対応する第１の位置指示パターンと比較されることによって第１の光学素子および第２の光学素子相互間の相対位置関係を示唆するような第２の位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第２の露光工程と、前記基板に露光形成されている第１の光学素子、第２の光学素子、第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンを現像する現像工程と、現像された相互に対応する第１の位置指示パターンと第２の位置指示パターンとの位置関係を画像処理により求めて、求めた対応する第１の位置指示パターンと第２の位置指示パターンとの位置関係に基づいて第１の光学素子および第２の光学素子相互間の相対位置関係を検知する位置検知工程と、を備え、第２露光位置配置工程において感光材付きの基板が配置される第２の露光位置は、位置検知工程における検知結果に基づいて調整されていることを特徴とする光学素子形成基板製造方法である。
【００１１】
本発明は、複数の光学素子が形成された光学素子形成基板を製造する光学素子形成基板製造方法において、感光材付きの基板に対する露光位置を調整する露光条件確認工程と、感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する第１露光位置配置工程と、第１の露光位置に配置されている前記基板に対し露光を行うことにより第１の光学素子を前記基板に露光形成する第１の露光工程と、前記基板を第２の露光位置に配置する第２露光位置配置工程と、第２の露光位置に配置されている前記基板に対し露光を行うことにより第２の光学素子を前記基板に露光形成する第２の露光工程と、を備え、露光条件確認工程は、感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する第１条件確認用露光位置配置工程と、第１の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第１の条件確認用光学素子と、当該第１の条件確認用光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第１の条件確認用位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第１の条件確認用露光工程と、前記基板を第２の露光位置に配置する第２条件確認用露光位置配置工程と、第２の露光位置に配置された前記基板に対し露光を行って、第２の条件確認用光学素子と、当該第２の条件確認用光学素子に対応するようにして配置され現像されると画像処理されうるような第２の条件確認用位置指示パターンであって、第１の条件確認用位置指示パターンと対応するようにして配置され対応する第１の条件確認用位置指示パターンと比較されることによって第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間の相対位置関係を示唆するような第２の条件確認用位置指示パターンと、を前記基板に露光形成する第２の条件確認用露光工程と、前記基板に露光形成されている第１の条件確認用光学素子、第２の条件確認用光学素子、第１の条件確認用位置指示パターンおよび第２の条件確認用位置指示パターンを現像する現像工程と、現像された相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターンと第２の条件確認用位置指示パターンとの位置関係を画像処理により求めて、求めた対応する第１の条件確認用位置指示パターンと第２の条件確認用位置指示パターンとの位置関係に基づいて第１の条件確認用光学素子および第２の条件確認用光学素子相互間の相対位置関係を検知する条件確認用位置検知工程と、条件確認用位置検知工程における検知結果に基づいて第２の露光位置を調整する位置調整工程と、を有することを特徴とする光学素子形成基板製造方法である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、図１乃至図１０を参照して本発明の一実施の形態を説明する。なお本実施の形態では、ＲＧＢカラーフィルターを構成するＢＭ素子７０を、本発明の光学素子として適用した場合について説明する。
【００１３】
ＲＧＢカラーフィルターを製造するためのライン（カラーフィルター製造ライン１）（図示せず）は、一般に、水平な設置面上において直線的に延びるように設置され複数の基板出し入れ位置（基板搬入位置３および基板搬出位置５）を有するコア装置７と、各基板出し入れ位置に接続された処理ラインと、を備えている（図１参照）。各処理ラインでは、コア装置７によって搬送されてくるガラス基板６５に対して所望のカラーフィルターを製造するために必要とされる各種処理が施されるようになっており、例えば図１に示されているようなＢＭ素子形成処理ライン９が当該処理ラインの一つとして採用されうる。
【００１４】
図１に示されているＢＭ素子形成処理ライン９（光学素子形成基板製造ライン）は、ガラス基板６５上にＢＭ素子を形成するための処理ラインであり、コア装置７の基板出し入れ位置に接続されている。ＢＭ素子形成処理ライン９を構成する各種機器類は逆Ｕ字状に配設されており、具体的には、洗浄機構１１、ＢＭ素子を形成するのに必要な感光材を塗布する感光材塗布装置１３、感光材乾燥装置１５、露光装置１７、現像装置１９、位置検知装置２１およびオーブン機構２３が、コア装置７の基板搬入位置３から基板搬出位置５に向かって順次配設されている。また、位置検知装置２１と露光装置１７との間には露光位置制御装置２４が設けられている。
【００１５】
洗浄機構１１は、コア装置７の基板搬入位置３から搬入されたガラス基板６５を洗浄するための機構であって、本実施の形態ではＵＶ洗浄装置１１ａを含んで構成されている。
【００１６】
感光材塗布装置１３は、コールドプレート（ＣＰ）１３ａを具備しており、所定の感光材を基板の所定箇所に塗布するようになっている。
【００１７】
感光材乾燥装置１５は、コールドプレート（ＣＰ）１５ａとホットプレート（ＨＰ）１５ｂとを具備しており、ガラス基板６５に塗布されている感光材を乾燥させて当該ガラス基板６５に定着させるようになっている。
【００１８】
露光装置１７は、感光材付きのガラス基板６５に対する露光位置を調整しながら、２ショット（複数ショット）の露光を当該基板に対して行う。これにより、ガラス基板６５には、複数のＢＭ素子（光学素子）７０と、各ＢＭ素子７０に対応するように配置された複数の位置指示パターン８０と、が露光形成されるようになっている。各位置指示パターン８０は、現像されると画像処理されうるようになっており、各位置指示パターン８０相互間の位置関係がこれらの位置指示パターンに対応するＢＭ素子７０相互間の位置関係を示唆するようになっている。
【００１９】
より具体的には、露光装置１７は、例えば図２に示されているような構成を有している。すなわち露光装置１７は、感光材乾燥装置１５から送られてきたガラス基板６５を載置するための露光ステージ２５と、露光ステージ２５の上方に設置された光源２７と、光源２７と露光ステージ２５との間に設置され、光源２７から発せられた光のうち所定箇所の光のみを透過させるマスク２９と、を具備している。露光ステージ２５は上下左右に移動可能な機構を有しているのに対し、光源２７及びマスク２９は固定された状態で設けられている。なお、露光ステージ２５には露光位置制御装置２４が接続されており、露光ステージ２５の移動は露光位置制御装置２４によって制御されるようになっている。
【００２０】
光源２７は、図２に示されるようにして設けられており、超高圧水銀灯３１、パラボラミラー３３、コールドミラー３４、シャッター３５、インテグレータレンズ３７および球面鏡３９を有している。このような構成を有する光源２７は、超高圧水銀灯３１から発せられた光が、光源２７の各種機器により調整されてマスク２９や露光位置に配置されたガラス基板６５に対して垂直に入射、照射するような構成を有している。
【００２１】
一方、マスク２９は、マスクステージ３０を介して固定されており、図３に示すように、横方向（Ｘ方向）に設けられた２つ（複数）のＢＭ素子形成光透過部４１と、各ＢＭ素子形成光透過部４１に対して所定の位置に配置された４つ（複数）のＬ字状の位置指示パターン形成光透過部４３と、を有している。本実施の形態では、各ＢＭ素子形成光透過部４１の上側及び下側に各位置指示パターン形成光透過部４３が形成されている（図３参照）。各ＢＭ素子形成光透過部４１の上側及び下側に形成されている位置指示パターン形成光透過部４３は、横方向（Ｘ方向）の位置が略同一となるように設けられると共に、上下方向（Ｙ方向）のＬ字状形状が相互に反対となるように（点対称となるように）設けられている。このようなマスク２９を用いた場合、１ショット当たりの露光で、２つのＢＭ素子形成光透過部４１および４つの位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光源２７からの光によって、２つのＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する４つの位置指示パターン８０とがガラス基板６５に露光形成されることとなる。なお、本実施の形態の露光装置１７では、後述する露光方法に基づく２ショットの露光により、１枚のガラス基板６５に対して４つのＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する８つの位置指示パターン８０とが最終的に露光形成されるようになっている。
【００２２】
現像装置１９は、ガラス基板６５に露光形成されたＢＭ素子７０および位置指示パターン８０を所定の現像液を用いて現像するようになっている。これにより、図４に示されているような縦横２×２に配置された４つのＢＭ素子７０が形成されているＢＭ素子形成領域７１と、各位置指示パターン８０が形成されている位置指示パターン形成領域８１と、を有するガラス基板６５（光学素子形成基板）がもたらされることとなる。
【００２３】
位置検知装置２１は、現像装置１９によって現像された位置指示パターン８０相互間の位置関係を画像処理により求めて、求めた位置指示パターン８０相互間の位置関係に基づいてこれらの位置指示パターン８０に対応するＢＭ素子７０相互間の位置関係を検知するようになっている。当該位置検知装置２１は、図５に示すような構成を有しており、送られてきたガラス基板６５を中央に載置する検査ステージ４５と、検査ステージ４５の位置を調整するステージコントローラ４７と、検査ステージ４５に載置されたガラス基板６５に形成されているＢＭ素子形成領域７１および位置指示パターン形成領域８１を画像情報として取得するための画像取得機構４９と、画像取得機構４９で取得した画像情報の画像処理を行う画像処理装置５１と、ステージコントローラ４７、画像取得機構４９及び画像処理装置５１を制御するための検査制御部５３と、を備えている。
【００２４】
画像取得機構４９は、レンズ５７と、レンズ５７を介して画像を取得するＣＣＤカメラ５５と、レンズ５７および検査制御部５３に接続されたＡＦユニット５９と、反射照明機６１と、透過照明機６３とを有しており、位置調整された検査ステージ４５に載置されているガラス基板６５のＢＭ素子形成領域７１及び位置指示パターン形成領域８１の画像情報をＣＣＤカメラ５５で取得し、当該画像情報をＣＣＤカメラ５５から画像処理装置５１へ送るようになっている。
【００２５】
画像処理装置５１は、画像取得機構４９（ＣＣＤカメラ５５）から送られてきたＢＭ素子形成領域７１及び位置指示パターン形成領域８１の画像情報に基づき、後述する検知方法に従って、ＢＭ素子形成領域７１のＢＭ素子７０相互間の位置関係を検知するようになっている。そして、当該検知結果は、画像処理装置５１（位置検知装置２１）から露光位置制御装置２４に送られるようになっている。
【００２６】
オーブン機構２３は、ガラス基板６５に熱を加えて乾燥させるようになっており、現像されたＢＭ素子７０および位置指示パターン８０をガラス基板６５上に定着させるようになっている。
【００２７】
露光位置制御装置２４は、位置検知装置２１から送られてくるＢＭ素子７０相互間の位置関係の検知結果に基づいて露光装置１７、とりわけ露光ステージ２５を制御し、ガラス基板６５に対する露光位置の調節を調整するようになっている。本実施の形態の露光位置制御装置２４は、後述する位置調整方法に従って露光装置１７（露光ステージ２５）を制御して、第２の露光位置を調整するようになっている。
【００２８】
次に、本実施の形態の作用について説明する。
【００２９】
上述のカラーフィルター製造ライン１において、コア装置７によって搬送されてきたガラス基板６５は、コア装置７の各基板搬入位置３から各処理ラインに搬入され、各処理ラインで各種の処理が施される。そして、ガラス基板６５は、各種の処理が施された後に当該処理ラインからコア装置７の基板搬出位置５に搬出され、コア装置７によって更に後段へと送られる。このようなガラス基板６５に対する一連の処理が、コア装置７の上流側から下流側に配設された各処理ラインで行われることにより、当該ガラス基板６５には所望のＲＧＢカラーフィルターが複数形成されることとなる。
【００３０】
ところで、このような各処理ラインのうち図１に示すＢＭ素子形成処理ライン９では、以下のようなＢＭ素子形成基板の製造方法（光学素子形成基板製造方法）に基づいて、ガラス基板６５に複数のＢＭ素子７０が形成される。
【００３１】
まず、ガラス基板６５は、コア装置７の基板搬入位置３からＢＭ素子形成処理ライン９の洗浄機構１１に送られて、ＵＶ洗浄装置１１ａによるＵＶ洗浄（紫外線を利用した洗浄）を含む所定の洗浄が行われる。これによりガラス基板６５は洗浄され、ゴミ等の不純物が当該ガラス基板６５上に付着していないクリーンな状態が確保されることとなる。
【００３２】
そして、洗浄されたガラス基板６５は、洗浄機構１１から感光材塗布装置１３に送られ、当該感光材塗布装置１３において所定の感光材が塗布される。この時、所定の感光材は、後述する露光工程において露光形成されることとなるＢＭ素子７０および位置指示パターン８０の位置に対応したガラス基板６５上の所定箇所に塗布されるようになっている。本実施の形態では、少なくとも、４つのＢＭ素子７０を縦横２×２の所定位置に露光形成することができるようにすると共に、８つの位置指示パターン８０を各ＢＭ素子７０の上側および下側の所定位置に露光形成することができるように（図４参照）、ガラス基板６５上の所定箇所に感光材が塗布される。
【００３３】
そして、所定の感光材が塗布されたガラス基板６５は、感光材塗布装置１３から感光材乾燥装置１５に送られ、当該感光材乾燥装置１５において塗布された感光材が乾燥させられる。これにより、ガラス基板６５に塗布された感光材を当該ガラス基板６５に定着させることができる。
【００３４】
そして、塗布された感光材が乾燥させられたガラス基板６５は、感光材乾燥装置１５から露光装置１７に送られ、当該露光装置１７において複数ショット（２ショット）の露光（露光工程）が行われる。これにより、ガラス基板６５には、複数（４つ）のＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する複数（８つ）の位置指示パターン８０とが露光形成される。具体的には以下の露光方法に従って、ガラス基板６５に対する露光が行われる。
【００３５】
まず、感光材が塗布されているガラス基板６５（感光材付の基板）は、露光ステージ２５の中心に載置され、当該露光ステージ２５とともに所定の第１の露光位置に配置される（第１露光位置配置工程）（図６のＳＴＥＰ  Ａ１）。本実施の形態における第１の露光位置は、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうちＹ方向上側に配置される２つのＢＭ素子７０（図４参照）が、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光源２７からの光によって露光形成されるような位置を指す。
【００３６】
そして、第１の露光位置に配置されたガラス基板６５を、光源２７からの光によって露光する（第１の露光工程）（ＳＴＥＰ  Ａ２）。この時、光源２７から発せられた光は、マスク２９を介して当該ガラス基板６５に照射されるため、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１および位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光のみがガラス基板６５に照射されることとなり、他の光はマスク２９によって遮られることとなる。従って、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光によって露光される２つのＢＭ素子（第１のＢＭ素子７０ａ）と、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光によって露光される４つの位置指示パターン（第１の位置指示パターン８０ａ）とが、ガラス基板６５に形成される。この第１の露光工程で露光形成される第１のＢＭ素子７０ａは、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうち縦方向上側に配置される２つのＢＭ素子７０に対応し、一方、第１の露光工程で形成される４つの第１の位置指示パターン８０ａは、この第１のＢＭ素子７０ａの上側および下側に形成される（図４参照）。
【００３７】
なお、ガラス基板６５に露光形成される第１の位置指示パターン８０ａは、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３の形状に対応した形状を持っている。すなわち、各第１の位置指示パターン８０ａは、Ｙ方向に延びる第１Ｘ方向位置指示部８３ａとＸ方向に延びる第１Ｙ方向位置指示部８３ｂとを有しており、第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第１Ｙ方向位置指示部８３ｂとがＬ字状に結合した状態でガラス基板６５に露光形成される。また、当該露光工程において形成されたこれらの第１の位置指示パターン８０ａの各々は、第１のＢＭ素子７０ａに対して所定の位置に配置されている。また、各ＢＭ素子７０の上側および下側に形成される位置指示パターン８０同士は、点対称的に上下が反転した配置を有している（図４参照）。このようにして形成される第１の位置指示パターン８０ａは、現像されると画像処理可能となっている。
【００３８】
そして、第１のＢＭ素子７０ａおよび第１の位置指示パターン８０ａが形成された感光材付きのガラス基板６５は、露光ステージ２５とともに移動させられて、第１の露光位置から第２の露光位置に配置される（第２露光位置配置工程）（ＳＴＥＰ  Ａ３）。本実施の形態における第２の露光位置は、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうちＹ方向下側に配置される２つのＢＭ素子７０（図４参照）が、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光源２７からの光によって露光形成されるような位置を指す。
【００３９】
そして、第２の露光位置に配置されたガラス基板６５を、光源２７からの光によって露光する（第２の露光工程）（ＳＴＥＰ  Ａ４）。第２の露光工程においても、第１の露光工程と同様に、マスク２９およびガラス基板６５に対して略垂直に入射する光源２７からの光が、マスク２９を介してガラス基板６５に照射され、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１および位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光のみがガラス基板６５に照射される。従って、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光によって露光される２つのＢＭ素子７０（第２のＢＭ素子７０ｂ）と、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光によって露光される４つの位置指示パターン８０（第２の位置指示パターン８０ｂ）とが、ガラス基板６５に形成される。この第２の露光工程で露光形成される第２のＢＭ素子７０ｂは、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうち縦方向下側に配置される２つのＢＭ素子７０に対応し、一方、第２の露光工程で形成される４つの第２の位置指示パターン８０ｂは、この第２のＢＭ素子７０ｂの上側および下側に形成される（図４参照）。
【００４０】
なお、ガラス基板６５に露光形成される第２の位置指示パターン８０ｂも、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３の形状に対応する形状を持っている。すなわち、各第２の位置指示パターン８０ｂは、Ｙ方向に延びる第２Ｘ方向位置指示部８５ａとＸ方向に延びる第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとを有し、第２Ｘ方向位置指示部８５ａと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとがＬ字状に結合した状態でガラス基板６５に露光形成される。また、当該露光工程において形成されたこれらの第２の位置指示パターン８０ｂの各々は、第２のＢＭ素子７０ｂに対して所定の位置に配置されている。また、各ＢＭ素子７０の上側および下側に形成される位置指示パターン８０同士は、点対称的に上下が反転した配置を有している（図４参照）。このようにして形成される第２の位置指示パターン８０ｂは、現像されると画像処理可能となっている。
【００４１】
そして、第２のＢＭ素子７０ｂの上側に形成された第２の位置指示パターン８０ｂと、第１のＢＭ素子７０ａの下側に形成された第１の位置指示パターン８０ａとが、相互に対応して対称的（点対称）に配置されるように、各位置指示パターン８０は形成されている（図４参照）。更に、第２の位置指示パターン８０ｂは、後述するようにして対応する第１の位置指示パターン８０ａと比較されることにより、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂ相互間の相対位置関係を示唆するようになっている。
【００４２】
そして、上述の第２の露光工程が終了した後、露光ステージ２５が移動させられて、当該露光ステージ２５に載置されているガラス基板６５は、露光装置１７から後段に設置されている現像装置１９に送られる。
【００４３】
現像装置１９に送られてきたガラス基板６５は、当該現像装置１９において所定の現像液が用いられ、露光装置１７においてガラス基板６５に露光形成されてたＢＭ素子７０（第１のＢＭ素子７０ａ、第２のＢＭ素子７０ｂ）および位置指示パターン８０（第１の位置指示パターン８０ａ、第２の位置指示パターン８０ｂ）が現像される（現像工程）（ＳＴＥＰ  Ａ５）。本実施の形態では、ガラス基板６５上に縦横２×２の配置で形成されたＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する位置指示パターン８０とが現像され、図４に示すようなガラス基板６５（光学素子形成基板）が得られるようになっている。
【００４４】
上述のような露光、現像を経て得られたガラス基板６５は、４つ（複数）のＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する位置指示パターン８０とが形成されたガラス基板６５であって、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂ（第１の光学素子および第２の光学素子）が形成されているＢＭ素子形成領域７１（光学素子形成領域）と、位置指示パターン８０（第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂ）が形成されている位置指示パターン形成領域８１と、を有している。そして、第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂは、対応するＢＭ素子７０に対し所定の位置に形成されているので、対応するＢＭ素子７０から必ず所定の距離だけ隔てて配置されている。このため、第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの距離は、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置関係を示し、第１Ｙ方向位置指示部８３ｂと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとの間の距離は、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＹ方向に関する相対位置関係を示すこととなる。更に、本実施の形態では、相互に対応する上記の第１の位置指示パターン８０ａおよび上記第２の位置指示パターン８０ｂによって構成される位置指示パターン８０の２つ（複数）の組み合わせ９０ａ、９０ｂがガラス基板６５に対しＸ方向に沿って形成されており、これらの組み合わせ９０ａ、９０ｂ同士の相対位置関係が、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対的な位置関係（θ）を示すこととなる。すなわち、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂが理想的な位置に配置され回転方向の位置ズレが生じていない場合、これらの位置指示パターン８０の各組み合わせ９０ａ、９０ｂの間にＸ方向のズレ、Ｙ方向のズレは生じない。一方、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂの間に回転方向の位置ズレが生じている場合、これらの位置指示パターン８０の各組み合わせ９０ａ、９０ｂの間にはＸ方向のズレ、Ｙ方向のズレが生じることとなる。従って、これらの位置指示パターン８０の各組み合わせ９０ａ、９０ｂ間の位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向の位置ズレ）に基づいて、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置関係（θ）を検知することができる。
【００４５】
そして、ＢＭ素子７０および位置指示パターン８０が露光・現像されたガラス基板６５は、現像装置１９から位置検知装置２１に送られて、当該ガラス基板６５に形成された各ＢＭ素子７０の位置関係が検知される（位置検知工程）（ＳＴＥＰ  Ａ６）。この位置検知工程では、現像された対応する第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとの位置関係が位置検知装置２１において画像処理により求められる。そして、位置検知装置２１では、求めた対応する第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとの位置関係に基づいて、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂ相互間の相対位置関係が検知されることとなる。具体的には以下のような検知方法に従って、ガラス基板６５に形成された各ＢＭ素子７０の位置関係が検知されることとなる。
【００４６】
まず、ガラス基板６５は、図６に示す位置検知装置２１の検査ステージ４５に載置される。そして、ステージコントローラ４７により検査ステージ４５の位置を調整して、当該検査ステージ４５に載置されたガラス基板６５を所定の検査位置に配置する。
【００４７】
そして、検査位置に配置されたガラス基板６５のＢＭ素子形成領域７１および位置指示パターン形成領域８１を、画像取得機構４９（ＣＣＤカメラ５５）により画像情報として取得する。そして、当該画像情報が、画像取得機構４９（ＣＣＤカメラ５５）から画像処理装置５１に送られる。
【００４８】
画像処理装置５１は、画像取得機構４９から送られてきた画像情報に基づいて、ガラス基板６５に形成された各ＢＭ素子７０同士の相対位置関係を検知する。本実施の形態の画像処理装置５１は、以下の方法に従って各ＢＭ素子７０相互間の相対位置関係を検知する。
【００４９】
まず、画像処理装置５１は、画像取得機構４９から送られてきた画像情報に基づいて、相互に対応するようにして形成されている第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂの第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの実際の距離（間隔）を画像処理によって求める。そして、画像処理装置５１は、当該画像処理によって求めた第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの実際の距離と、各ＢＭ素子７０が理想的な位置に形成されている場合の第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの距離と、を比較して、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの間のＸ方向に関する相対位置関係を求める。具体的には、第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの間の実際の間隔と理想的な間隔との差ΔＸに基づいて、第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＸ方向に関する相対位置関係（理想的な状態に対するズレ）を求める。そして、画像処理装置５１は、このようにして求めた第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＸ方向に関する相対位置関係に基づいて、各位置指示パターン８０に対応する第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置関係を求める。
【００５０】
同様に、画像処理装置５１は、画像取得機構４９から送られてきた画像情報に基づいて、相互に対応するようにして形成されている第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂの第１Ｙ方向位置指示部８３ｂと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとの実際の距離を画像処理によって求める。そして、第１Ｙ方向位置指示部８３ｂおよび第２Ｙ方向位置指示部８５ｂのＹ方向に関する実際の間隔と各ＢＭ素子７０が理想的な位置に形成されている場合の両者の間の理想的な間隔とを比較して、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの間のＹ方向に関する相対位置関係を求める。具体的には、第１Ｙ方向位置指示部８３ｂと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとの間の実際の間隔と理想的な間隔との差ΔＹに基づいて、第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＹ方向に関する相対位置関係（理想的な状態に対するズレ）を検知する。画像処理装置５１は、このようにして求めた第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＹ方向に関する相対位置関係に基づいて各位置指示パターン８０に対応する第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＹ方向に関する相対位置関係を求める。
【００５１】
更に、画像処理装置５１（位置検知装置２１）は、相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂによって構成される複数の組み合わせ９０ａ、９０ｂ同士を比較することによって、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置関係（θ）を検知する。画像処理装置５１（位置検知装置２１）は、各組み合わせ９０ａ、９０ｂを構成する第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂについて、第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの間の距離（ΔＸ’）および第１Ｙ方向位置指示部８３ｂと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとの間の距離（ΔＹ’）を求める。そして、位置検知装置２１は、各組み合わせ９０ａ、９０ｂに関して求めたＸ方向位置指示部間の距離（ΔＸ’）およびＹ方向位置指示部間の距離（ΔＹ’）に基づいて、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂ相互間の回転方向に関する相対位置関係を検知する。
【００５２】
本実施の形態では、これらの組み合わせ９０ａ、９０ｂのうち、一方の組み合わせ９０ａに基づいて求められる第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＸ’１）及びＹ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＹ’１）と、他方の組み合わせ９０ｂに基づいて求められる第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＸ’２）およびＹ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＹ’２）と、を比較する。第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂが当初予定されていた理想的な位置に形成されている場合には、両者の間に回転方向のズレは発生せず、ΔＸ’１＝ΔＸ’２、ΔＹ’１＝ΔＹ’２、という関係が成立する。一方、両者の間に回転方向のズレが発生している場合には、ΔＸ’１≠ΔＸ’２、ΔＹ’１≠ΔＹ’２、という関係が成立することとなる。画像処理装置５１は、このような関係に基づいて、相互に対応する位置指示パターン８０の組み合わせ９０ａ、９０ｂ相互間のＸ方向のズレであるΔＸ’１とΔＸ’２との差（ΔＸ’３＝ΔＸ’１−ΔＸ’２）、及びＹ方向のズレであるΔＹ’１とΔＹ’２との差（ΔＹ’３＝ΔＹ’１−ΔＹ’２）を求める。そして、画像処理装置５１は、このようにして求めた各組み合わせ９０ａ、９０ｂに関するＸ方向およびＹ方向のズレ（ΔＸ’３、ΔＹ’３）に基づいて、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置関係（θ）を検知する。
【００５３】
上述のようにして求められた第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの相対的な位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向、回転方向）の検知結果は、位置検知装置２１から露光位置制御装置２４に送られる。
【００５４】
露光位置制御装置２４は、位置配置工程における位置検知装置２１による検知結果に基づいて露光装置１７をフィードバック的に制御して、ガラス基板６５に対する露光位置の調節（とりわけ第２の露光位置の位置調節）を調整する（ＳＴＥＰ  Ａ７）。例えば、位置検知装置２１の検知結果が、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの相対位置関係が所望位置関係から所定量だけＸ方向、Ｙ方向、あるいは回転方向にズレていることを示唆している場合には、露光位置制御装置２４は露光装置１７（露光ステージ２５）を制御して、このズレを解消するような第２露光位置の補正量を算出し、当該補正量に基づいてに第２の露光位置を調整する。これにより、上述の第２露光位置配置工程では、露光ステージ２５に載置されたガラス基板６５が調整された第２の露光位置に配置されることとなり、上述の第２の露光工程では、当該ガラス基板６５に対する露光が行われてガラス基板６５の適切な箇所に第２のＢＭ素子７０ｂが形成されることとなる。
【００５５】
一方、上述のようにして各ＢＭ素子７０相互間の相対位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向、回転方向の相対位置関係）が検知されたガラス基板６５は、位置検知装置２１からオーブン機構２３に送られる。オーブン機構２３に送られたガラス基板６５は加熱されて、現像されたガラス基板６５の各ＢＭ素子７０及び位置指示パターン８０が乾燥させられてガラス基板６５に定着させられる。
【００５６】
そして、ガラス基板６５（ＢＭ素子形成基板）は、その後、オーブン機構２３からコア装置７の基板搬出位置５に搬出され、カラーフィルター製造ライン１の後段へ送られる。
【００５７】
以上説明したように、本実施の形態のＢＭ素子形成処理ライン９（光学素子形成基板製造ライン）およびＢＭ素子形成基板製造方法によれば、露光装置１７において、画像処理可能な位置指示パターン８０がガラス基板６５に露光形成され、位置検知装置２１において、現像された位置指示パターン８０相互間の位置関係を画像処理によって求めることにより当該位置指示パターン８０に対応するＢＭ素子７０相互間の位置関係が検知され、露光位置制御装置２４によって、位置検知装置２１の検知結果に基づいて露光装置１７におけるガラス基板６５に対する露光位置の調節（第２の露光位置）を調整することができる。これにより、露光装置１７における露光位置が所定の位置からズレているような場合であっても、露光位置制御装置２４により当該ズレが補正され、露光位置が適切な位置に調整される。従って、ＢＭ素子形成処理ライン９において製造されるＢＭ素子形成基板には、適切な位置に配置された複数のＢＭ素子が形成されるので、高精度のＢＭ素子７０を効率良く製造しうることとなる。
【００５８】
また、各位置指示パターン８０はＸ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂを含んで構成されているので、各位置指示パターン８０相互間の位置関係を画像処理によって求めることができ、各位置指示パターン８０に対応する各ＢＭ素子７０相互間の位置関係を検知することができる。また、Ｘ方向およびＹ方向の両方向に関して、各位置指示パターン８０相互間の位置関係および各ＢＭ素子７０相互間の位置関係を検知することができる。更に、ガラス基板６５に相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとの組み合わせ９０ａ、９０ｂを複数形成することによって、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの間における回転方向（θ方向）の位置関係をも検知することができる。
【００５９】
また、各位置指示パターン８０はＸ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂが結合した状態でガラス基板６５に形成されているので、位置指示パターン８０を形成するための領域を縮小させて、コンパクトなものにすることができる。特に、Ｘ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂをＬ字状に結合させることによって、また、第１の位置指示パターン８０ａと当該第１の位置指示パターン８０ａに対応する位置指示パターン８０とを相互に対称的（点対称的）に配置することによって、位置指示パターン８０を形成するための領域を更にコンパクトなものにすることができる。
【００６０】
次に、上述の実施の形態の一変形例について説明する。
【００６１】
露光装置１７では、上述の第１露光位置配置工程の前段において、ガラス基板６５に対する露光位置を確認する露光条件確認工程が行われてもよい。
【００６２】
この露光条件確認工程は、第１条件確認用露光位置配置工程、第１の条件確認用露光工程、第２条件確認用露光位置配置工程、第２の条件確認用露光工程、現像工程、条件確認用位置検知工程および位置調整工程を含んで構成されており、具体的には以下のようにして行われる（図７参照）。なお、露光条件確認工程の各工程に関する以下の説明において、上述したＢＭ素子形成基板の製造過程における対応する各工程と同様の部分に関しては詳細な説明を省略する。
【００６３】
露光条件確認工程では、まず、条件確認用のガラス基板６５が、洗浄機構１１、感光材塗布装置１３および感光材乾燥装置１５を経て、所定の感光材が塗布された状態で露光装置１７に送られる。露光装置１７に送られてきた所定の感光材付きのガラス基板６５は、露光ステージ２５に載置されて第１の露光位置に配置される（第１条件確認用露光位置配置工程）（図７のＳＴＥＰ  Ｂ１）。そして、第１の露光位置に配置されたガラス基板６５に対し露光が行われる（第１の条件確認用露光工程）（ＳＴＥＰ  Ｂ２）。この時、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１および位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光によって、２つの条件確認用ＢＭ素子（第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃ）と４つの条件確認用位置指示パターン（第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃ）とがガラス基板６５に露光形成される。
【００６４】
第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃは、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３の形状に対応した形状を持ち、Ｙ方向に延びる第１Ｘ方向位置指示部８３ａとＸ方向に延びる第１Ｙ方向位置指示部８３ｂとがＬ字状に結合した状態でガラス基板６５に露光形成される（図４参照）。各第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃは、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃに対し所定の位置（所定距離）に配置され、各第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃの上側および下側に形成される第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃ同士は、点対称的に上下が反転した配置を有している。このようにして形成される第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃは、現像されると画像処理可能となっている。
【００６５】
そして、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃおよび第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃが形成された感光材付きのガラス基板６５は、露光ステージ２５とともに移動させられて、第１の露光位置から第２の露光位置に配置される（第２条件確認用露光位置配置工程）（ＳＴＥＰ  Ｂ３）。そして、第２の露光位置に配置されたガラス基板６５に対し露光が行われる（第２の条件確認用露光工程）（ＳＴＥＰ  Ｂ４）。第２の条件確認用露光工程においても、第１の条件確認用露光工程と同様にして、２つの条件確認用ＢＭ素子（第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄ）と４つの条件確認用位置指示パターン（第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄ）とがガラス基板６５に形成される。４つの第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄは、各第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄの上側および下側に形成され（図４参照）、Ｙ方向に延びる第２Ｘ方向位置指示部８５ａとＸ方向に延びる第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとがＬ字状に結合した状態でガラス基板６５に露光形成される。また、各第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄは、第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄに対し所定の位置（所定距離）に配置され、各第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄの上側および下側に形成される第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄ同士は、点対称的に上下が反転した配置を有している（図４参照）。このようにして形成される第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄは、現像されると画像処理可能となっている。そして、第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄの上側に形成された第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄと、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃの下側に形成された第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃとは、相互に対応して対称的（点対称）に配置される（図４参照）。更に、第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄは、対応する第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃと比較されることによって、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃおよび第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄ相互間の相対位置関係を示唆するようになっている。
【００６６】
そして、上述の第２の条件確認用露光工程が終了した後、露光ステージ２５が移動させられて、当該露光ステージ２５に載置されているガラス基板６５は、露光装置１７から後段に設置されている現像装置１９に送られる。当該現像装置１９では、ガラス基板６５に露光形成されている第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃ、第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄ、第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃおよび第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄが現像される（現像工程）（ＳＴＥＰ  Ｂ５）。
【００６７】
そして、条件確認用ＢＭ素子７０ｃ、７０ｄおよび条件確認用位置指示パターン８０ｃ８０ｄが露光・現像された条件確認用のガラス基板６５は、現像装置１９から位置検知装置２１に送られる。位置検知装置２１では、ガラス基板６５に形成された各条件確認用ＢＭ素子７０ｃ、７０ｄの相対的な位置関係が検知される（条件確認用位置検知工程）（ＳＴＥＰ  Ｂ６）。この条件確認用位置検知工程では、現像された相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃと第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄとの位置関係が、位置検知装置２１により画像処理されて求められる。具体的には、位置検知装置２１は、第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃおよび第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄの間においてＸ方向位置指示部相互間の距離とＹ方向位置指示部相互間の距離とを求める。そして、求めた相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃと第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄとの位置関係（距離）に基づいて、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃおよび第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄ相互間の相対位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向、回転方向）が検知されることとなる。具体的には、各位置指示パターン８０ａ、８０ｂに基づいて各ＢＭ素子７０ａ，７０ｂ相互間の相対位置関係を検知する上述の検知方法と同様にして、ガラス基板６５に形成された各条件確認用ＢＭ素子７０ｃ、７０ｄの相対的な位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向、回転方向）が検知される（上述の第１の位置指示パターン８０ａが第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃに対応し、上述の第２の位置指示パターン８０ｂが第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄに対応する）。そして、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃと第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄとの相対的な位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向、回転方向の相対位置関係）の検知結果は、位置検知装置２１から露光位置制御装置２４に送られる。
【００６８】
露光位置制御装置２４は、条件確認用位置検知工程における位置検知装置２１の検知結果に基づいて露光装置１７をフィードバック的に制御して、ガラス基板６５に対する露光位置の調節（とりわけ第２の露光位置）を調整する（位置調整工程）（ＳＴＥＰ  Ｂ７）。具体的には、露光位置制御装置２４は、位置検知装置２１の検知結果に基づく第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃと第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄとの相対的な位置関係（所望位置に対するＸ方向、Ｙ方向、あるいは回転方向へのズレ）が所望の位置関係となるような第２露光位置の補正量を算出し、当該補正量に基づいて第２の露光位置を調整する。
【００６９】
そして、上述の条件確認用位置検知工程の検知結果が、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃと第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄとの間に相対的な位置ズレが生じていることを示唆し、露光位置制御装置２４によって補正量に基づく第２の露光位置の調整が加えられた場合には、新たな条件確認用のガラス基板６５を用いて、上述の第１条件確認用露光位置配置工程、第１の条件確認用露光工程、第２条件確認用露光位置配置工程、第２の条件確認用露光工程、現像工程、条件確認用位置検知工程および位置調整工程を再度行う（ＳＴＥＰ  Ｂ８）。そして、上述の条件確認用位置検知工程の検知結果が、第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃと第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄとの間に相対的な位置ズレが生じていないことを示唆し、露光位置制御装置２４によって補正量に基づく第２の露光位置の調整が加えられなくなるまで露光条件確認工程の各工程が行われる。そして、条件確認用位置検知工程の検知結果が第１の条件確認用ＢＭ素子７０ｃと第２の条件確認用ＢＭ素子７０ｄとの間に相対的な位置ズレが生じていないことを示唆するようになったら、露光位置制御装置２４は、その時点における補正量を考慮した第２の露光位置を設定、登録して、露光装置（露光ステージ２５）を制御する。そして、このような露光条件確認工程の後に、ＢＭ素子形成基板の具体的な製造が行われる（ＳＴＥＰ  Ｂ９）。
【００７０】
これにより、露光条件確認工程後のＢＭ素子形成基板の具体的な製造における第２露光位置配置工程では、露光ステージ２５に載置されたガラス基板６５が調整された第２の露光位置に配置される。そして、第２の露光工程では、ガラス基板６５の適切な箇所に第２のＢＭ素子７０ｂが露光形成されることとなる。
【００７１】
このように、露光装置における露光位置が所定の位置からズレているような場合であっても、露光条件確認工程を設けることによって当該位置ズレが補正され、露光位置は適切な位置に調整される。従って、本変形例におけるＢＭ素子形成処理ライン９で製造されるＢＭ素子形成基板には、適切な位置に配置された複数のＢＭ素子７０が形成され、高精度のＢＭ素子７０を効率良く製造しうることとなる。
【００７２】
なお、本発明は、上述の実施の形態および変形例に限定されるものではなく、必要に応じて各種の設計変更等を加えることも可能である。
【００７３】
例えば、位置指示パターン８０ａ、８０ｂあるいは条件確認用位置指示パターン８０ｃ、８０ｄの結合状態は、Ｌ字状に限定されるものではなく、図８（ａ）に示すようなＴ字状（逆Ｔ字状を含む）、図８（ｂ）に示すような十字状、その他必要に応じた形状とすることができる。また、各位置指示パターン８０ａ、８０ｂあるいは各条件確認用位置指示パターン８０ｃ、８０ｄは、Ｘ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂを図８（ｃ）に示すように分離させた状態とすることも可能である。
【００７４】
また、相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとの間の間隔、あるいは相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃと第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄとの間の間隔は、任意の距離に設定することができる。また、相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂの対称性、あるいは相互に対応する第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃおよび第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄの対称性は、点対称に限定されるものではなく、図９に示すような線対称、その他各種の対称を含むものである。
【００７５】
また、第１の位置指示パターン８０ａ及び第２の位置指示パターン８０ｂによって構成される複数の組み合わせ９０ａ、９０ｂ、あるいは第１の条件確認用位置指示パターン８０ｃ及び第２の条件確認用位置指示パターン８０ｄによって構成される複数の組み合わせ、の各々を、Ｙ方向に沿って設けることもできる（図１０参照）。更に、Ｘ方向やＹ方向だけでなく様々な方向に沿ってこのような複数の組み合わせを設けることもできる。このような場合にも、これらの組み合わせ９０ａ、９０ｂ相互間の位置関係が、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置関係（θ）を示唆することとなる。なお、このような複数の組み合わせ９０ａ、９０ｂの各々をＸ方向或いはＹ方向に沿って設けた場合には、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置関係（θ）を比較的簡単に求めることができる。
【００７６】
また、１枚のガラス基板６５に形成されるＢＭ素子７０の数は４つに限定されるものではない。また、１枚のガラス基板６５に対する露光（露光工程）は２ショットに限定されるものではない。複数ショットの露光（露光工程）によって１枚の基板に複数のＢＭ素子を形成するような場合であれば、本発明を好適に適用することができる。
【００７７】
また、以上の説明はＲＧＢカラーフィルターの各ＢＭ素子７０に関してなされているが、本発明は、露光によって形成される光学素子全般を対象としたものである。従って、本発明の光学素子には、カラーフィルターのＢＭ素子７０の他に、例えばプラズマディスプレイやＴＦＴディスプレイのフォトリソ工程における１ｓｔレイヤー形成時に、分割露光方式によって光学素子をパターン形成するような場合における各パターン間の位置精度測定に関連する素子等も含まれうる。
【００７８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の光学素子形成基板製造ラインおよび光学素子形成基板製造方法によれば、位置指示パターンあるいは条件確認用位置指示パターンを画像処理することによって、基板に形成される複数の光学素子相互間の位置関係が検知され、当該検知結果に基づいて、基板に対する露光位置の調節（第２の露光位置）を効果的に調整することができる。このため、適切な配置を有する複数の光学素子が形成された光学素子形成基板を確実に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】カラーフィルター製造ラインを構成するＢＭ層形成処理ラインの全体構成の概略を示す図である。
【図２】露光装置の概略を示す構成図である。
【図３】露光装置のマスクの概略を示す図である。
【図４】ＢＭ素子形成領域および位置指示パターン形成領域を有するガラス基板を示す図である。
【図５】位置検知装置の概略を示す構成図である。
【図６】ＢＭ素子形成基板の製造過程を示すフローチャートである。
【図７】ＢＭ素子形成基板の製造過程を示すフローチャートであって、主として露光条件確認工程を示すフローチャートである。
【図８】位置指示パターンの変形例を示す図であって、（ａ）は第１の変形例を示し、（ｂ）は第２の変形例を示し、（ｃ）は第３の変形例を示す。
【図９】第１の位置指示パターン及び第２の位置指示パターンの組み合わせの一変形例を示す図である。
【図１０】ＢＭ素子形成領域および位置指示パターン形成領域を有するガラス基板の一変形例を示す図である。
【符号の説明】
１  カラーフィルター製造ライン
７  コア装置
９  ＢＭ素子形成処理ライン
１１  洗浄機構
１３  感光材塗布装置
１５  感光材乾燥装置
１７  露光装置
１９  現像装置
２１  位置検知装置
２３  オーブン機構
２４  露光位置制御装置
２７  光源
２９  マスク
４１  ＢＭ素子形成光透過部
４３  位置指示パターン形成光透過部
４９  画像取得機構
５１  画像処理装置
６５  ガラス基板
７０ａ、７０ｂ  ＢＭ素子
７０ｃ、７０ｄ  条件確認用ＢＭ素子
７１  ＢＭ素子形成領域
８０ａ、８０ｂ  位置指示パターン
８０ｃ、８０ｄ  条件確認用位置指示パターン
８１  位置指示パターン形成領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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