(57)【要約】【課題】フォトマスクの回路パターンのレイアウト状態を考慮し、最適の解像度及びＤＯＦを得るようにアパーチュアを設計できるシミュレーション方法及び装置、及びシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体を提供する。【解決手段】光源、光学レンズ群、フォトマスク及びアパーチュアを含む露光装置のアパーチュアを設計するためのシミュレーション方法であって、まず、前記フォトマスクのレイアウト情報を入力される。次いで、前記アパーチュアを多数のピクセルに分割して、前記アパーチュアのピクセルをフリップさせつつ、フォトリソグラフィシミュレーションを実行して最適の解像度を表すアパーチュア形状を探す段階を含む。【選択図】　図２
2004031962.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源、光学レンズ群、フォトマスク及びアパーチュアを含む露光装置のアパーチュアを設計するためのシミュレーション方法であって、
前記フォトマスクのレイアウト情報を入力される段階と、
前記アパーチュアを多数のピクセルに分割する段階と、
前記アパーチュアのピクセルをフリップさせつつ、フォトリソグラフィシミュレーションを実行して最適の解像度を表すアパーチュア形状を探す段階と、を含むことを特徴とする露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法。
【請求項２】
前記アパーチュアのピクセルをフリップさせることは、
前記閉鎖されたピクセルは開放されるように、開放されたピクセルは閉鎖されるように変化させることであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法。
【請求項３】
（ａ）露光条件及びフォトマスクイメージを入力する段階と、
（ｂ）前記露光条件及びフォトマスクイメージをデータとして、フォトリソグラフィ工程をシミュレーションする段階と、
（ｃ）前記アパーチュアを多数のピクセルに分割した状態で、アパーチュアのピクセルをフリップさせる段階と、
（ｄ）前記アパーチュアのピクセルをフリップさせた状態でフォトリソグラフィ工程を再度シミュレーションする段階と、
（ｅ）前記（ｄ）段階においてシミュレーションで生成されたフォトレジストパターンと前記フォトマスクのレイアウトとの差としてコスト関数値を算出する段階と、
（ｆ）前記コスト関数が一定になる時まで前記（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）段階を繰り返し遂行する段階と、を含むことを特徴とする露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法。
【請求項４】
前記露光条件は光源の波長、光源の強度、開口数及びアパーチュア形状であることを特徴とする請求項３に記載の露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法。
【請求項５】
前記アパーチュアのピクセルをフリップさせる段階は、
前記閉鎖されたピクセルは開放されるように、開放されたピクセルは閉鎖されるように変化させることであることを特徴とする請求項３に記載の露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法。
【請求項６】
フォトマスクのレイアウト情報が入力される入力部と、
前記入力部より提供されるデータによって最適の解像度を有するアパーチュア形状を探すシミュレーション実行部と、
前記シミュレーション実行部の結果を表す表示部と、を含むことを特徴とする露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション装置。
【請求項７】
前記入力部は開口数、アパーチュアの形状、光源の種類及び波長等の露光条件がさらに入力されることを特徴とする請求項６に記載の露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション装置。
【請求項８】
前記シミュレーション実行部は、
前記入力部に提供されるデータを利用してフォトリソグラフィ工程を遂行するフォトリソグラフィシミュレーション部と、
前記アパーチュアを多数のピクセルに分割してピクセルを段階的にフリップするアパーチュアフリップ遂行部と、
前記フォトリソグラフィシミュレーション部によって形成されたフォトレジストパターンとフォトマスクのレイアウトとの差として、コスト関数値を算出するコスト算出部と、
前記算出されたコスト関数値が一定であるかを比較する比較部と、を含むことを特徴とする請求項７に記載の露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション装置。
【請求項９】
前記表示部はモニターであることを特徴とする請求項６に記載の露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション装置。
【請求項１０】
フォトマスクのレイアウト情報が入力される入力モジュールと、
前記入力部より提供されるデータによって最適の解像度を有するアパーチュア形状を探すシミュレーションモジュールと、
前記シミュレーション実行部の結果を表す表示モジュールと、を含むことを特徴とするアパーチュア設計のためのシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体。
【請求項１１】
前記入力モジュールは、開口数、アパーチュアの形状、光源の種類及び波長等の露光条件がさらに入力されることを特徴とする請求項１０に記載のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体。
【請求項１２】
前記シミュレーションモジュールは、前記入力部に提供されるデータを利用してフォトリソグラフィ工程を遂行するフォトリソグラフィシミュレーションサブモジュールと、
前記アパーチュアを多数のピクセルに分割してピクセルを段階的にフリップするアパーチュアフリップ遂行サブモジュールと、
前記フォトリソグラフィシミュレーション部によって形成されたフォトレジストパターンとフォトマスクのレイアウトとの差として、コスト関数値を算出するコスト算出サブモジュールと、
前記算出されたコストが一定であるかを比較する比較サブモジュールと、を含むことを特徴とする請求項１０に記載のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はフォトリソグラフィシステムに係り、より具体的には、露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法及び装置、そしてシミュレーション方法を記録した記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトリソグラフィ工程は半導体ウェーハ上に回路パターンを形成するための工程として、フォトレジストコーティング、露光及び現像の一連の工程により構成される。このようなフォトリソグラフィ工程は半導体素子の集積密度が増加するにつれて、高い解像度及び最適のＤＯＦを得るための種々の技術が開発されている。
【０００３】
図１は、フォトリソグラフィ工程を進行する一般的な投影露光装置を示したものである。
【０００４】
光源１１の周りには例えば、一対の楕円形ミラー１２が位置し、光源１１の下部には集束レンズ１３、フライアイレンズ１４、集光レンズ１５、フォトマスク１６、投射レンズ１７、ウェーハ１８及びウェーハテーブル１９が順次に配置される。この時、フライアイレンズ１４及び集光レンズ１５の間に光の方向を決定するアパーチュア２０が位置する。従来のアパーチュア２０は中央に円形の開口部を有する形状円状が主に利用されたが、ＯＡＩ方法が導入されるによって、リング型（ａｎｎｕｌａｒ）、四重極型（ｑｕａｄｒｕｐｏｌｅ）、クエーサー（ＱＵＡＳＡＲ）形状の開口部を有するアパーチュアが使われる。
【０００５】
このような投影露光装置は次のように動作される。光源１１から放射される光は楕円形ミラー１２によって反射され、集束レンズ１３に集光される。光は集束レンズ１３によって光軸と平行に進められ、フライアイレンズ１４に入射される。フライアイレンズ１４を通過した光はアパーチュア２０を通過し、集光レンズ１５によって集光される。この時、アパーチュア２０は前述したように所定の開口領域を有しており、フォトマスク１６に入射する光の方向、すなわち、角度を調節する。集光レンズ１５を通過した光は所定の回路パターンを形成するためのフォトマスク１６に入射される。その後、光はフォトマスク１６及び投射レンズ１７を通過し、半導体ウェーハ１８上にフォーカシングされる。これによって、ウェーハテーブル１９上に安置された半導体ウェーハ１８の表面に回路パターンが転写される。
【０００６】
最適の解像度及びＤＯＦを得るためには、フォトマスク１６の回路パターンのレイアウトを考慮して光の入射が重要であり、このような光の進行方向の制御はアパーチュア２０で達成される。
【０００７】
しかし、現在の集積回路製造工程において、フォトマスクは一つのディバイスを製造するのに異なる形状の回路パターンを有する多数のフォトマスクが少なくても２０ないし３０枚要求される。一方、アパーチュア２０は投影露光装置に装着されたただ幾つかのアパーチュア２０だけを使用する。これによって、多様な回路パターンのレイアウトを有するフォトマスク各々に対して最適の解像度及びＤＯＦが得られない。なお、各々のフォトマスクのレイアウトに対して最適の解像度及びＤＯＦが得られるアパーチュアを設計することも試行錯誤を経ている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする技術的な課題は、フォトマスクの回路パターンのレイアウト状態を考慮して最適の解像度及びＤＯＦを得るようにアパーチュア設計できるシミュレーション方法を提供するところにある。
【０００９】
また、本発明が解決しようとする他の技術的課題は、前記シミュレーション方法を遂行するシミュレーション装置を提供するところにある。
【００１０】
また、本発明が解決しようとするさらに他の技術的課題は、前記シミュレーション方法を記録する記録媒体を提供するところにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記技術的な課題を解決するために、本発明は、光源、光学レンズ群、フォトマスク及びアパーチュアを含む露光装置のアパーチュアを設計するためのシミュレーション方法であって、まず、前記フォトマスクのレイアウト情報を入力される。次いで、前記アパーチュアを多数のピクセルに分割し、前記アパーチュアのピクセルをフリップさせつつ、フォトリソグラフィシミュレーションを実行して最適の解像度を表すアパーチュア形状を探す段階を含む。
【００１２】
より具体的に説明すれば、まず、シミュレーションプログラムに、露光条件及びフォトマスクイメージを入力した後、前記露光条件及びフォトマスクイメージをデータとしてフォトリソグラフィ工程をシミュレーションする。次いで、前記アパーチュアを多数のピクセルに分割した状態で、アパーチュアのピクセルをフリップさせる。このように、アパーチュアのピクセルをフリップさせた状態でフォトリソグラフィ工程を再度シミュレーションし、前記シミュレーション段階で形成されたフォトレジストパターンと前記フォトマスクのレイアウトとの差のコストを算出する。その後、前記コストが一定になるまでアパーチュアをフリップする段階、フォトリソグラフィ工程をシミュレーションする段階、及びコスト算出する段階を繰り返し遂行する。
【００１３】
前記露光条件は光源の波長、光源の強度、開口数及びアパーチュア形状等でありうる。また、アパーチュアのピクセルをフリップさせることは、前記閉鎖されたピクセルは開放されるように、開放されたピクセルは閉鎖されるように変化させることを意味する。
【００１４】
また、本発明の他の見地によるシミュレーション装置は、フォトマスクのレイアウト情報が入力される入力部と、前記入力部より提供されるデータによって最適の解像度を有するアパーチュア形状を探すシミュレーション実行部と、前記シミュレーション実行部の結果をあわらす表示部とを含む。
【００１５】
この時、入力部には開口数、アパーチュアの形状、光源の種類及び波長等の露光条件がさらに入力されうる。
【００１６】
また、前記シミュレーション実行部は、前記入力部に提供されるデータを利用してフォトリソグラフィ工程を遂行するフォトリソグラフィシミュレーション部、前記アパーチュアを多数のピクセルに分割してピクセルを段階的にフリップするアパーチュアフリップ遂行部、前記フォトリソグラフィシミュレーション部によって形成されたフォトレジストパターンとフォトマスクのレイアウトとの差としてコスト関数値を算出するコスト算出部、及び前記算出されたコスト関数値が一定であるか否かを決定する比較部を含む。なお、表示部はモニターでありうる。
【００１７】
また、本発明のさらに他の見地によるシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体は、フォトマスクのレイアウト情報が入力される入力モジュール、前記入力部より提供されるデータによって最適の解像度を有するアパーチュア形状を探すシミュレーションモジュール、及び前記シミュレーション実行部の結果を表す表示モジュールを含む。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面に基づき、本発明を詳細に説明する。しかし、本発明の実施例は種々の他の形態に変形でき、本発明の範囲が下に詳述する実施例によって限定されることに解釈されてはならない。本発明の実施例は当業者に本発明をより完全に説明するために提供されることである。したがって、図面での要素の形状等はより明確な説明を強調するために誇張されたものであり、図面上で同じ符号で表示された要素は同一要素を意味する。また、ある層が他の層または半導体基板の“上”にあると記載される場合に、ある層は前記他の層または半導体基板に直接接触して存在でき、または、その間に第３の層が介在されうる。
【００１９】
図２は、本発明によるアパーチュアシミュレーション方法を説明するためのフローチャートである。図３Ａ及び図３Ｂは、アパーチュアをピクセル化して示す平面図である。
【００２０】
本発明のアパーチュアシミュレーションプログラムは従来のフォトリソグラフィシミュレーションプログラムを利用する。ここで、フォトリソグラフィシミュレーションはフォトマスクの集積度が増加するにつれて、フォトリソグラフィ工程条件を最適化するために、実際の製造段階以前にフォトリソグラフィ工程をコンピュータ内で仮想で実現するためのプログラムである。本実施例では“ＴＯＰＯ”と呼ばれるオプティカルリソグラフィシミュレーターを使用する。また、前記コンピュータはシミュレーションプログラムを遂行するパソコンでありうり、通常パソコンが、具備するＣＰＵ、入力部、ＲＡＭ、記憶部、伝送制御部及び表示部などを含むことができる。
【００２１】
以下、図２を参照して、本発明のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法を説明する。まず、シミュレータープログラムに露光条件及びフォトマスクのイメージを入力する（Ｓ１）。露光条件は、例えば、露光装置（図１参照）の光源の波長、光源の強度、開口数及びアパーチュアの開口領域の形状などができる。フォトマスクのイメージ、すなわち、フォトマスクの表面に配列された回路パターンのレイアウト状態はスキャニング装置によって入力してもよい。
【００２２】
次に、所定の形状、例えば、リング型、クエーサー型または四重極型の開口領域を有するアパーチュア５０を所定の大きさ及び個数のピクセル形態（形状）に区画する（Ｓ２）。すなわち、アパーチュア５０は横方向にｍ個、縦方向にｎ個のピクセルに分割し、全体アパーチュア５０はｍ×ｎの個数のピクセルに分割される。ここで、図３Ａは光透過領域が円形のクエーサー型アパーチュアを数個のピクセルに分割した状態を示し、図３Ｂは光透過領域が原形の四重極型アパーチュアを数個のピクセルに分割した状態を示す。この時、アパーチュアのピクセル化はシミュレーションプログラム内で仮想で進められる。合わせて、ピクセルのサイズは細かくなるほどさらに高い解像度及びＤＯＦが実現できる。ここで、図面符号５０ａは光遮断領域を示し、５０ｂは光透過領域を示す。
【００２３】
前記入力された露光条件、フォトマスクのレイアウト及び初期アパーチュアイメージに基づいてフォトリソグラフィ工程をシミュレーションする（Ｓ３）。すると、前記シミュレーションプログラムは露光条件、フォトマスクのレイアウト及びアパーチュアイメージのような情報を総合して、ウェーハの上にいかなるフォトレジストパターンが具現されるか予測、表示される。
【００２４】
次に、Ｓ３段階においてシミュレーションで又は仮想で形成されたフォトレジストパターンとフォトマスクの回路パターンとを比較し、面積又は体積の初期の差を測定する（Ｓ４）。このような比較において、仮想のフォトレジストパターンが空間上でフォトマスクの回路パターンに一致しない（回路パターンから逸脱した）面積又は体積をコスト関数によって定義する。この時、コスト関数値が小さいほど、フォトマスクの回路パターンとほとんど同一のウェーハ上にフォトレジストパターンが形成されていることを示していることが理解できる。合わせて、コスト関数値は一般的なコンピュータプログラムによって算出される。
【００２５】
次に、Ｓ３段階において形成された仮想のフォトレジストパターンが、コスト関数について最適の解像度を有しているかを確認する（Ｓ５）。一般的なアパーチュアを使用した時、所望の解像度が得られたとすれば、すなわち、所望のコスト関数値が算出されたとすれば、シミュレーション工程を中断する。しかし、一般的なアパーチュアは何枚かのフォトマスクに対して平均的な解像度を得るために設計されたものであって、特定のフォトマスクに対して最適の解像度及びＤＯＦを得られない。
【００２６】
このように、ウェーハ上に形成されたフォトレジストパターンが所望の解像度を得られないならば、アパーチュアのピクセルをフリップする（Ｓ６）。ここで、フリップするというのは閉鎖されたピクセルは開放され、開放されたピクセルは閉鎖されるように順次に変化させることを意味する。すなわち、アパーチュアの開閉空間を段階的に変化させることである。
【００２７】
その後、アパーチュアの開閉領域を変化させた状態で、フォトリソグラフィシミュレーションを繰り返し実施する（Ｓ７）。次いで、前記フォトリソグラフィシミュレーション段階（Ｓ７）によって形成されたフォトレジストパターンの解像度がどのくらい改善されたかを確認するために、コスト関数値を算出する（Ｓ８）。
【００２８】
次に、算出されたコスト関数値が以前のコスト関数値と比べて一定であるかを測定する（Ｓ９）。すなわち、先に測定されたコスト関数値（例えば、Ｓ４段階で測定されたコスト）と現段階で測定されたコスト関数値が許容できる誤差範囲内で同一であるかを比較する。この時、二つのコスト関数値がほとんど同一ならば、シミュレーション工程を終了する。一方、二つのコスト関数値が同一でなければ、再びアパーチュアピクセルをフリップし（Ｓ６）、フォトリソグラフィシミュレーションを実行し（Ｓ７）、再度コストを算出する段階（Ｓ８）、及びコスト関数値が一定になったかを比べる段階（Ｓ９）を繰り返し遂行する。ここで、Ｓ６、Ｓ７、Ｓ８及びＳ９段階はコスト関数値が一定になるまで継続的に遂行される。始めの段階では、Ｓ４段階のコスト関数値とＳ８段階のコスト関数値とを比較する。この時、工程者の所望の解像度が得られなかったとき、アパーチュアピクセルをフリップする段階（Ｓ６）に戻る。一方、アパーチュアピクセルをフリップする段階（Ｓ６）を二番目実施する段階からは、Ｓ８段階で算出された以前コスト関数値（直前のＳ８段階で算出されたコスト）と現在のコスト関数値とを相互比較する。
【００２９】
この時、コスト関数の最小化はシミュレートアニーリングアルゴリズムを使用した。
【００３０】
このように、最適の解像度及びＤＯＦを得るために、各々のフォトマスクのイメージに対応する最適のアパーチュアの形状が設計できる。
【００３１】
図４Ａ及び図４Ｂは、本発明の一実施例によるアパーチュアシミュレーション以前及び結果を示すためのシミュレーション画面である。本実施例はストレージノード電極を限定するためのフォトマスク用アパーチュア形状をシミュレーションする。
【００３２】
ここで、一般的なクエーサーアパーチュアを使用する場合、ストレージノード電極を限定する各々のフォトレジストパターンのイメージコントラストは短軸方向には０．４６、長軸方向には０．２７に計算される。イメージログスロップもやはり短軸は１０．７／μｍ、長軸は３．２１／μｍに計算される。前記長軸及び短軸方向のデータを比較してみる時、短軸に比べて長軸方向のフォトレジストパターンが所望の形態に形成されない。これによって、工程者の所望の最適の解像度を満足できなくなる。
【００３３】
一方、本実施例においては、開口数、アパーチュアの形状及び光源の種類などを前記シミュレーションプログラムに入力する。この時、開口数は０．７であり、円状のアパーチュアを使用し、２４８ｎｍ波長のＫｒＦ光源を使用する。合わせて、シミュレーションプログラム内にストレージノード電極を限定するためのフォトマスクのイメージを入力する。次に、円状のアパーチュアをコンピュータによって多数のピクセルに分割する。
【００３４】
前記露光条件及びフォトマスクの形状を根拠に、フォトリソグラフィシミュレーションを進行する。すると、コンピュータのモニター上にウェーハの上部に形成されるフォトレジストパターンが見られ、シミュレーションプログラムによって、コスト関数と解像度とを予測するデータのフォトレジストパターンのイメージコントラスト及びイメージログスロップが計算される。
【００３５】
これにより、コスト関数が一定の値を維持するまで、アパーチュアのピクセルを継続的にフリップする。より具体的には、アパーチュアのピクセルを順次に開閉させながらフォトリソグラフィ工程を遂行し、コスト関数値を計算する。これ以上コストが減少されない時、すなわち、前段階で測定されたコスト関数値と現段階で計算されたコスト関数値とが誤差範囲内で類似した場合、シミュレーション動作を止める。
【００３６】
図４Ｂはこれ以上コスト関数が減少されない時、最終アパーチュアの形状をあらわすシミュレーション画面を示す。ストレージノード電極を限定するためのフォトマスク用アパーチュアは９０゜回転された蝶ネクタイ形状の開口領域を有する時、最もフォトマスクの回路パターンの形態と近くフォトレジストパターンが形成される。
【００３７】
このような形状のアパーチュアを使用してフォトリソグラフィシミュレーションを実施すれば、イメージコントラストは短軸方向は０．４７、長軸方向は０．３３に測定される。これはクエーサー型アパーチュアを使用した場合より短軸は２％、長軸は約２２％程度改善された。イメージログスロップの場合、短軸は１０．８１／μｍで大きく変化されていない反面、長軸は４．５１／μｍで約４０％程度向上された。ここで、イメージコントラスト及びイメージログスロップは解像度及びＤＯＦを決定する要素であって、このような要素の値が大きいほど解像度及びＤＯＦが改善される。
【００３８】
このように、フォトリソグラフィシミュレーション方式を利用し、各々のフォトマスクに対応して最適の解像度及びＤＯＦを有するアパーチュアが設計できる。
【００３９】
図５は、本発明の他の実施例によるアパーチュア設計のためのシミュレーション装置を概略的に示すブロック図である。
【００４０】
図５に図示されたように、本発明のアパーチュア設計のためのシミュレーション装置は入力部１００、シミュレーション実行部１１０及び表示部１２０を含む。
【００４１】
入力部１００は露光装置内の露光条件、例えば、開口数、アパーチュアの形状、光源の種類及びフォトマスクのレイアウト程度が入力され、上記のデータ情報をシミュレーション実行部１１０に伝える。この時、アパーチュアの形状及びフォトマスクのレイアウト情報を入力されるために、入力部１００はスキャニング部（図示せず）を含むことができる。
【００４２】
シミュレーション実行部１１０はフォトマスクのレイアウト情報によって最適のアパーチュアを設計、提供する。シミュレーション実行部１１０はフォトリソグラフィシミュレーション部１１１、アパーチュアフリップ遂行部１１３、コスト算出部１１５及びコスト比較部１１７を含む。
【００４３】
フォトリソグラフィシミュレーション部１１１は投影露光装置で進められるフォトリソグラフィ工程を実際の工程前にコンピュータ内の仮想空間で実現する所であって、フォトマスクのレイアウト情報が伝われ、ウェーハ上に形成されるフォトレジストパターン形態を予測する。
【００４４】
アパーチュアフリップ遂行部１１３はアパーチュアを多数にピクセル化し、ピクセルの開閉空間を段階的に変化（フリップ）させる。
【００４５】
コスト算出部１１５はフォトマスクのレイアウト情報とウェーハ上に仮想に形成されたフォトレジストパターンの間の差を算出する所であって、本実施例のコスト算出部１１５はアパーチュアフリップ遂行部１１３で段階的にピクセルの開閉が変化される度にコスト関数値を算出する。
【００４６】
比較部１１７は直前段階で算出されたコスト関数値と現段階で算出されたコスト関数値とを比較する。この時、比較値が誤差範囲内でほぼ同一ならばシミュレーション工程を止め、それとも引続きフォトリソグラフィシミュレーション部１１１、アパーチュアフリップ遂行部１１３及びコスト算出部１１５を遂行する。
【００４７】
表示部１２０は、例えば、モニターであって、露光条件及びアパーチュアの形状を表示する。
【００４８】
このようなシミュレーション装置の動作は前述した図２の説明と同じである。
【００４９】
このようなアパーチュア設計用シミュレーション方法及び装置はプログラムで具現でき、このプログラムはコンピュータにて読み取りできる記録媒体によって提供できる。また、前記記録媒体は汎用デジタルコンピュータによって使われ、前記露光装備に付着されたデジタルコンピュータによって遂行されることによって、本発明をより一層容易に実施できる。記録媒体は例えば、ＲＯＭ、フロッピー（登録商標）ディスク及びハードディスクのような磁気記録媒体、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤのような光学的記録媒体及びインターネットを通じた伝送のような搬送波のような貯蔵媒体を含む。
【００５０】
このような記録媒体は、露光条件及びフォトマスクのレイアウト情報を入力される入力モジュール、入力モジュールの情報によって最適のアパーチュア形状をシミュレーションするモジュール及び前記アパーチュア形状及び露光条件を表示する表示モジュールを含む。
【００５１】
前記シミュレーションモジュールは、仮想でフォトリソグラフィ工程を遂行するフォトリソグラフィシミュレーションモジュール、アパーチュアの形状を変化させるアパーチュアフリップ遂行モジュール、フォトマスクのレイアウト情報とウェーハ上に形成されたフォトレジストパターンとの差を算出するコスト算出モジュール及び直前段階に算出されたコスト関数値と現段階に算出されたコスト関数値とを比較する比較モジュールを含む。
【００５２】
このようなモジュールによって各々のフォトマスクのレイアウト情報によるアパーチュアの形状を設計できる。
【００５３】
【発明の効果】
前述したように本発明によれば、フォトリソグラフィシミュレーションプログラムを利用し、各々のフォトマスクのレイアウトに対応して最適の解像度及びＤＯＦが得られるアパーチュアを設計する。
【００５４】
これによって、各々のフォトマスク別に最適の解像度及びＤＯＦを得ることができる。
【００５５】
以上、本発明を望ましい実施例を上げて詳細に説明しいるが、本発明は前記実施例に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で当業者によっていろいろと変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】一般的な投影露光装置の断面図である。
【図２】本発明によるアパーチュアシミュレーション方法を説明するためのフローチャートである。
【図３Ａ】アパーチュアをピクセル化して示した平面図である。
【図３Ｂ】アパーチュアをピクセル化して示した平面図である。
【図４Ａ】本発明の一実施例によるアパーチュアシミュレーション以前及び結果を示すためのシミュレーション画面である。
【図４Ｂ】本発明の一実施例によるアパーチュアシミュレーション以前及び結果を示すためのシミュレーション画面である。
【図５】本発明の他の実施例によるアパーチュア設計のためのシミュレーション装置を概略的に示ブロック図である。
【符号の説明】
１１　　光源
１２　　楕円形ミラー
１３　　集束レンズ
１４　　フライアイレンズ
１５　　集光レンズ
１６　　フォトマスク
１７　　投射レンズ
１８　　半導体ウェーハ
１９　　ウェーハテーブル
２０　　アパーチュア
【図１】
2004031962.tif 000003
【図２】
2004031962.tif 000004
【図３Ａ】
2004031962.tif 000005
【図３Ｂ】
2004031962.tif 000006
【図４Ａ】
2004031962.tif 000007
【図４Ｂ】
2004031962.tif 000008
【図５】
2004031962.tif 000009