(57)【要約】【課題】　低コストで製造できる光学部材を提供する。【解決手段】　光学部材は光入射面１１５及び光入射面と向き合う光射出面１１６を有するベース本体を有する。ベース本体１１０の光射出面には第１樹脂層１３０が形成され、第１樹脂層には光射出面から射出された第１光１５０を拡散して第２光４２０を射出するための光拡散パターンが均一に形成される。この光拡散パターンは樹脂層が硬化する前に型により変形させることにより得られる。従って、光学部材の製造過程を大きく短縮させることができ、ビーズを使用しないことにより生産コストを大きく減少させることができる。【選択図】　　　図６
2004126594.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
　第１光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第１光が射出される光射出面を有するベース本体と、
　前記光射出面上に形成された第１樹脂層及び前記第１樹脂層上に形成され、前記光射出面から射出された前記第１光を拡散して第２光として射出するための光拡散パターンを有する光拡散層を含むことを特徴とする光学部材。
【請求項２】
　前記ベース本体はしわが発生しないように熱処理されることを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
　前記ベース本体は前記熱処理により、熱膨張率と冷却による収縮率が互いに実質的に同一であるように処理されていることを特徴とする請求項２に記載の光学部材。
【請求項４】
　前記第１樹脂層は紫外線に対する露出により硬化される硬化物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項５】
　前記ベース本体と前記第１樹脂層の熱膨張率及び収縮率は互いに同一であることを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項６】
　前記第１樹脂層の上面に形成された前記光拡散パターンは半球形状を有することを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項７】
　前記光入射面に形成された第２樹脂層及び前記第２樹脂層に形成され前記第２樹脂層と隣接する部材と密着されることを防止する突起を有する密着防止層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項８】
　前記第２樹脂層は紫外線への露出により硬化される硬化物質を含むことを特徴とする請求項７に記載の光学部材。
【請求項９】
　前記ベース本体及び第２樹脂層は熱による膨張率と冷却による収縮率が互いに実質的に同一であることを特徴とする請求項７に記載の光学部材。
【請求項１０】
　第１光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第１光が射出される光射出面を有するベース本体の前記光射出面に第１樹脂層を形成する段階と、
　前記第１樹脂層に前記光射出面から射出された前記第１光を拡散して第２光として射出するための光拡散パターンを形成する段階と、
　前記第１樹脂層を硬化させる段階とを含むことを特徴とする光学部材の製造方法。
【請求項１１】
　前記光拡散パターンは半球形状の光拡散パターンであることを特徴とする請求項１０に記載の光学部材の製造方法。
【請求項１２】
前記ベース本体に前記第１樹脂層を形成する段階以前に、前記ベース本体の熱膨張及び収縮によるしわを防止するために前記ベース本体を熱処理する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の光学部材の製造方法。
【請求項１３】
　前記光拡散パターンを形成する段階は、前記光拡散パターンと逆の形態を有する逆形状パターンが表面に形成されたローラを前記第１樹脂層に沿って移送させ、前記第１樹脂層に前記光拡散パターンを転写する段階を含むことを特徴とする請求項１０に記載の光学部材の製造方法。
【請求項１４】
　前記光拡散パターンが形成された前記第１樹脂層を硬化する段階は、前記第１樹脂層に紫外線を照射する段階を含むことを特徴とする請求項１０に記載の光学部材の製造方法。
【請求項１５】
　前記第１樹脂層を硬化する段階以降に、
　前記光入射面に第２樹脂層を形成する段階と、
　前記第２樹脂層に前記第２樹脂層から突出される突起を形成する段階と、
　前記第２樹脂層を硬化する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の光学部材の製造方法。
【請求項１６】
　前記第２樹脂層を硬化する段階は、前記第２樹脂層に紫外線を照射する段階を含むことを特徴とする請求項１５に記載の光学部材の製造方法。
【請求項１７】
　光入射面を通じて入射された第１光を拡散して光射出面を通じて第２光を射出するベース本体を有する光学部材において、
　前記光射出面に第１硬化性樹脂層を形成する段階と、
　前記光入射面に第２硬化性樹脂層を形成する段階と、
　前記第１硬化性樹脂層に前記光射出面から射出された前記第１光を拡散して第２光として射出するための光拡散パターンを形成する段階と、
　前記第２硬化性樹脂層から前記第２樹脂層と隣接する部材と密着されることを防止するための突起を形成する段階と、
　前記第１硬化性樹脂層及び前記第２硬化性樹脂層を硬化させる段階とを含むことを特徴とする光学部材の製造方法。
【請求項１８】
　前記光拡散パターンは半球形状の光拡散パターンであることを特徴とする請求項１７に記載の光学部材の製造方法。　　　
【請求項１９】
　前記第１硬化性樹脂層及び第２硬化性樹脂層を形成する段階以前に、前記ベース本体の膨張及び収縮によるしわを防止するために前記ベース本体を熱処理する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１７に記載の光学部材の製造方法。
【請求項２０】
　第１光を発生するための光供給モジュールと、
　前記第１光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合う光射出面を有するプレート形状のベース本体、前記光射出面に形成された第１樹脂層、及び前記第１樹脂層に形成され前記光射出面から射出された第１光を拡散して第２光として射出するための光拡散パターンを有する光拡散層を含む光学部材と、
　前記第２光の進行経路に配置され前記第２光をイメージ情報が含まれたイメージ光に変更させる液晶表示パネルアセンブリとを含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２１】
　前記光入射面に形成される第２樹脂層及び前記第２樹脂層の表面から突出され前記光供給モジュールと密着されることを防止する突起を有する密着防止層をさらに含むことを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　　本発明は光学部材、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置に関するものであり、より詳細には、ディスプレー品質を向上させ、生産原価を減少させることができる光学部材、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
　一般に、液晶表示装置は液晶を利用して映像を表示する平板表示装置うちの一つである。
【０００３】
　液晶表示装置で使用される液晶は、電界により配列が変更される電気的特性及び液晶の配列により光透過度が変更される光学的特性を共に有する。
【０００４】
　液晶を利用してディスプレーを実施するためには、光を発生させる光供給モジュールと、光供給モジュールで発生した光を画像情報が含まれたイメージ光に変更させるディスプレーモジュールを含む。
【０００５】
　ここで、イメージ光の品質をさらに向上させるために、光供給モジュールとディスプレーモジュールの間には光供給モジュールから発生した光の光分布を変更させる光分布変更モジュールがさらに設けられる。光分布変更モジュールは光供給モジュールから発生した光の輝度分布を変更または輝度を増加させるために使用される。
【０００６】
　具体的に、光供給モジュールは導光板、拡散シート及びプリズムシートなどが使用される。
【０００７】
　導光板は光供給モジュールから発生した光の分布を面光源光学分布に近く変更させる。拡散シートは導光板の上面に配置され導光板から射出された光の輝度分布を均一に変更させる。プリズムシートは拡散シートの上面に配置され拡散シートから射出された光を集光して輝度を増加させる。
【０００８】
　導光板、拡散シート及びプリズムシートは各々固有の機能を実施するために全て重要であるが、特に、拡散シートは液晶表示装置のディスプレー品質に多くの影響を及ぼす。
【０００９】
　拡散シートは透明な基板にビーズを分布させて入射された光を散乱または拡散させる。
【００１０】
　しかし、ビーズは大きさが相当に微細であり、拡散シートに均一に分布させることが相当に困難である。ビーズが拡散シートに均一に分布されない場合、拡散シートから射出される光は均一でない輝度を有し、これによりディスプレー品質は大きく低下する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
　本発明の目的は、製作が簡単であり、非常に均一な光学分布を有する光を射出させる光学部材を提供することにある。
【００１２】
　本発明の他の目的は、光学部材の製造方法を提供することにある。
【００１３】
　また、本発明の目的は、光学部材を有する液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
　上述した目的を達成するための本発明による光学部材は、ベース本体及びベース本体と関連して形成される光拡散層を含む。ベース本体は、第１光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第１光が射出される光射出面を有し、光拡散層は、光射出面上に形成された第１樹脂層及び前記第１樹脂層上に形成され、光射出面から射出された前記第１光を拡散して第２光として射出するための光拡散パターンを含む。
【００１５】
　上述した目的を達成するための本発明による光学部材の製造方法は、第１樹脂層は第１光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合って前記第１光が射出される光射出面を有するベース本体の前記光射出面に形成する。光射出面から射出された前記第１光を拡散して第２光として射出するための光拡散パターンは、第１樹脂層上に形成され、望ましくは半球形状を有する。次いで、樹脂層は硬化工程を経て硬化される。
【００１６】
　上述した目的を達成するための本発明による液晶表示装置は、第１光を発生するための光供給モジュール、前記第１光を拡散して第２光として射出するための光学部材及び第２光を利用して画像を表示するための液晶表示パネルアセンブリを含む。
【００１７】
　前記光学部材は、第１光が入射される光入射面及び前記光入射面と向き合う光射出面を有するプレート形状のベース本体、前記光射出面に形成された第１樹脂層、及び前記第１樹脂層に形成され前記光射出面から射出された第１光を拡散して第２光として射出するための光拡散パターンを有する光拡散層を含む。また、液晶表示パネルアセンブリは第２光の進行経路に配置され前記第２光をイメージ情報が含まれたイメージ光に変更する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
　以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施形態をより詳細に説明する。
【００１９】
　図１は本発明の一実施形態による光学部材の部分切開斜視図である。
【００２０】
　図１に示す光学部材１００は不均一な光学分布で入射された光を均一な光学分布に変更させる役割を有する拡散シートである。
【００２１】
　これを具現するために、光学部材１００はベース本体１１０及び光拡散層１５０を含む。
【００２２】
　ベース本体１１０は幅に比べて長さが長い直六面体プレート形状または直六面体シート形状に製作され、光透過率が高いポリエステル材質により製作される。
【００２３】
　図２は図１に示したベース本体の平面図である。図３は図１に示したベース本体の側面図である。
【００２４】
　図２及び図３に示すように、本発明の一実施形態によるベース本体１１０は第１側面１１１、第２側面１１２、第３側面１１３、第４側面１１４、光入射面１１５及び光射出面１１６を有する。
【００２５】
　具体的に、第１側面１１１及び第３側面１１３、第２側面１１２及び第４側面１１４は互いに向き合い、第１側面１１１乃至第４側面１１４は全て端部が互いに連結される。光入射面１１５及び光射出面１１６のエッジは第１側面１１１乃至第４側面１１４に連結され、光入射面１１５及び光射出面１１６は互いに向き合う。ベース本体１１０は光透過率が高いために、光入射面１１５に外部から入射する第１光５１０は光射出面１１６を通過してそのまま射出される。
【００２６】
　ベース本体１１０は第１光５１０を発生させる光源（図示せず）と密接な関係があり、光源との配置次第で形状が変化する可能性がある。特に、ベース本体１１０は光源で発生した熱により形状が変化する。光源で発生した熱はベース本体１１０にしわを発生させる。ベース本体１１０に発生したしわは液晶表示装置のディスプレー品質を大きく低下させる。
【００２７】
　図４は本発明の一実施形態によるベース本体と熱の関係を示すグラフである。
【００２８】
　図４のグラフはベース本体１１０を連続的に加熱したときに測定されたベース本体１１０の長さ変化及びベース本体１１０を連続的に冷却したときに測定されたベース本体１１０の長さ変化を示す。
【００２９】
　図４に示すように、ベース本体１１０をＡ温度からＢ温度まで加熱すると、ベース本体１１０はＡ温度及びＢ温度間で２次曲線をなす変化で膨張し、ベース本体１１０の膨張長さはＢ地点で最も大きい。一方、ベース本体１１０はＢ温度とＣ温度間では加熱温度が上昇されたにもかかわらず、むしろ収縮する。このようなベース本体１１０の膨張特性はベース本体１１０をなす物質の特性ためである。
【００３０】
　一方、Ｃ温度からベース本体１１０を連続的にＡ温度まで冷却すると、ベース本体１１０の長さは加熱する以前の長さと異なる長さを有する。加熱前及び加熱後ベース本体１１０の長さの差異は図４のグラフで参照符号Ｌで表示した。これはベース本体１１０に一定温度以上の熱を加えると、ベース本体１１０が弾性変形の限界を超えて永久変形を受けることを意味する。
【００３１】
　最近、液晶表示装置が大型化され、液晶表示装置の大型化によりランプの長さ及び光量が増加している。これにより、ランプから発生する熱量も増加するからベース本体１１０に頻繁にシートしわが発生している。
【００３２】
　図５は本発明の一実施形態により熱処理されたベース本体と熱の関係を示すグラフである。
【００３３】
　図５に示すように、熱処理されたベース本体１１０をＡ温度からＣ温度まで連続的に加熱した結果、熱処理されたベース本体１１０は温度に比例して膨張してＣ温度で最も多く膨張した。一方、熱処理されたベース本体１１０をＣ温度からＡ温度まで冷却した結果、熱処理されたベース本体１１０は元来の長さに復帰した。即ち、熱処理されたベース本体１１０は熱を加える前の長さ及び熱を加えた後、冷却した長さが実質的に同一であった。
【００３４】
　このように熱処理されたベース本体１１０はしわが発生しないために、しわによる液晶表示装置のディスプレー不良が発生しないという長所を有する。
【００３５】
　特に、ポリエステル材質により製作されたベース本体１１０は熱処理過程を経る場合、外部の熱、例えば、ランプから発生される熱などによるしわが発生しない。
【００３６】
　図１に示すように、光拡散層１５０は熱処理されたベース本体１１０上に形成される。
【００３７】
　図６は図１に示した光学部材をＡ−Ａに沿って示した断面図である。図７は図６のＢ領域の拡大図である。
【００３８】
　図６及び図７に示すように、前記光拡散層１５０はベース本体１１０の光射出面１１６上に形成される。
【００３９】
　前記光拡散層１５０は第１樹脂層１３０及び光拡散パターン１３５により構成される。
【００４０】
　第１樹脂層１３０は硬化性物質により製作される。硬化性物質としては時間が経過するに従い、徐々に硬化される物質または特定条件により急激に硬化される物質が使用されることができる。
【００４１】
　本発明の望ましい一実施形態において、第１樹脂層１３０は特定条件により急激に硬化される。即ち、第１樹脂層１３０は紫外線への露出により硬化され、これを具現するために第１樹脂層１３０は紫外線硬化物質を含む。
【００４２】
　また、本発明の望ましい一実施形態で、第１樹脂層１３０の膨張率及び収縮率は前述した熱処理されたベース本体１１０の膨張率及び収縮率と実質的に同一であるようにすることが望ましい。万一、第１樹脂層１３０の膨張率及び収縮率がベース本体１１０の膨張率及び収縮率と異なると、前記ベース本体１１０が外部から熱、例えばランプから発生される熱などにより膨張または収縮される過程でベース本体１１０に取り付けられた第１樹脂層１３０が裂けたり、クラックが発生したりする可能性がある。
【００４３】
　図８は本発明の一実施形態による光拡散パターンを示した走査電子顕微鏡（Scanning-Electron-Microscopy:ＳＥＭ）写真である。
【００４４】
　図８に示すように、光拡散パターン１３５は第１樹脂層１３０の表面に形成される。本発明の一実施形態で、光拡散パターン１３５はスタンプ（型を用いた押圧）方式により第１樹脂層１３０に形成される。
【００４５】
　光拡散パターン１３５は第１樹脂層１３０の表面にほぼ均一な大きさで形成された半球の形状を有する。ベース本体１１０に入射され射出された第１光５１０はベース本体１１０を通過した後、半球形状を有する光拡散パターン１３５に到達する。第１光５１０は光拡散パターン１３５の球面を通過する際、拡散または散乱される。以下、光拡散パターン１３５を通過する際、拡散または散乱された光を第２光４２０と称する。
【００４６】
　本実施形態で光拡散パターン１３５がスタンプ方式で形成されることを考慮する時、スタンプの形状を変更することにより光拡散パターン１３５の形状は半球形状以外に多様な形状、例えば、凸部として形成される角錐形状、凹部として形成される半球形状または角錐形状にも製作可能である。
【００４７】
　また、図７に示すように、ベース本体１１０の光入射面１１５には密着防止層１４０がさらに形成されることができる。密着防止層１４０は他の部材、例えば、導光板（図示せず）などに光学部材１００が密着することを防止する。
【００４８】
　密着防止層１４０は第２樹脂層１４２及び光学部材１００の密着を防止するための突起１４４により構成される。
【００４９】
　第２樹脂層１４２は硬化性物質により製作される。第２樹脂層１４２は時間が経過するに従い硬化される物質または特定条件により硬化される物質を含む。本実施形態では第２樹脂層１４２をなす硬化性物質には特定条件、例えば、紫外線に対する露出により硬化される硬化物質が含まれる。
【００５０】
　ここで、第２樹脂層１４２の膨張率及び収縮率はベース本体１１０の膨張率及び収縮率と実質的に同一であるようにすることが望ましい。これは、第２樹脂層１４２の膨張率及び収縮率がベース本体１１０の膨張率及び収縮率と異なる場合、ベース本体１１０が外部の熱、例えば、ランプから発生される熱により膨張されたり、膨張後に冷却される過程でベース本体１１０に取り付けられた第２樹脂層１４２が破損されたり、クラックが発生したりする可能性があるためである。
【００５１】
　また、第２樹脂層１４２の膨張率及び収縮率は第１樹脂層１３０の膨張率及び収縮率とも実質的に同一であるようにすることが望ましい。第１樹脂層１３０及び第２樹脂層１４２の膨張率及び収縮率が相異する場合、ベース本体１１０が膨張されたり、収縮される時、ベース本体１１０は第１樹脂層１３０及び第２樹脂層１４２の膨張率及び収縮率の差異によりいずれか一側に曲がる。
【００５２】
　一方、突起１４４はマトリックス状に第２樹脂層１４２の表面に複数個が形成される。突起１４４は第２樹脂層１４２の表面から突出して形成される。突起１４４は第２樹脂層１４２がまだ流動性を有する間にスタンプ方式で形成されるために、半球形状、角錐形状など多様な形状を有するように製作可能である。
【００５３】
　このような構成を有する光学部材は製造工程が非常に簡単であり、光拡散パターンを相当に均一な大きさ及び所望である形状で形成することができるという長所を有する。
【００５４】
　以下、図面を参照して本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を説明する。
【００５５】
　図９乃至図１２は本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【００５６】
　図９は本発明の一実施形態によりベース本体を熱処理することを示す工程図である。
【００５７】
　図９に示すように、ベース本体１１０をなす物質に第１樹脂層が塗布される以前にベース本体１１０は熱処理される。ベース本体１１０の熱処理は熱によるベース本体１１０の膨張率及び冷却による収縮率が相異する場合にのみ選択的に実施される。この熱処理は、樹脂材料を予め一度加熱することにより、その後の加熱、冷却の間の変形量を最小にするものである。
【００５８】
　図１０は、ベース本体に第１樹脂層を形成することを示す工程図である。
【００５９】
　図１０に示すように、ベース本体１１０の表面には第１樹脂層１３０が薄膜形態で形成される。本発明の望ましい一実施形態において、第１樹脂層１３０はベース本体１１０の光射出面１１６に形成される。第１樹脂層１３０には紫外線への露出により硬化される硬化物質が含まれる。
【００６０】
　図１１は本実施形態により第１樹脂層に光拡散パターンを形成することを示す工程図である。
【００６１】
　図１１に示すように、第１樹脂層１３０には凹状の半球形状の転写パターン３６５が形成された転写ローラー３７０が密着される。転写ローラー３７０は第１樹脂層１３０の一端部から他の一端部側に回転しながら移送され、第１樹脂層１３０には光拡散パターン１３５が形成される。転写ローラー３７０により第１樹脂層１３０に光拡散パターン１３５が形成された後、光拡散パターン１３５には紫外線が照射され第１樹脂層１３０及び光拡散パターン１３５は硬化される。
【００６２】
　図１２はベース本体１１０の光入射面に形成された第２樹脂層に突起が形成されることを示す工程図である。
【００６３】
　図１２に示すように、第１樹脂層１３０に光拡散パターン１３５を形成して硬化させた後、ベース本体１１０の光入射面１１５には第２樹脂層１４０が塗布される。第２樹脂層１４０は紫外線に対する露出により硬化される硬化物質を含む。第２樹脂層１４０には突起１４４と反対の形状を有する転写パターン３８５が形成された転写ローラー３８０が密着される。転写ローラー３８０が第２樹脂層１４０の一端部から他の一端部に回転される間に、第２樹脂層１４０にはベース本体１１０と導光板（図示せず）との密着を防止するための突起１４４が形成される。第２樹脂層１４０及び突起１４４は紫外線への露出により全て硬化される。
【００６４】
　図１３乃至図１５は本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【００６５】
　図１３はベース本体に第１樹脂層及び第２樹脂層を同時に形成した工程図である。
【００６６】
　図１３に示すように、ベース本体１１０の光射出面１１６には第１樹脂層１３０が薄い厚さで塗布され、ベース本体１１０の光入射面１１５には第２樹脂層１４０が薄い厚さで塗布される。
【００６７】
　第１樹脂層１３０及び第２樹脂層１４０は特定条件により硬化される硬化物質を含む。具体的に、第１樹脂層１３０及び第２樹脂層１４０は紫外線に対する露出により硬化される硬化物質を含む。
【００６８】
　図１４は第１及び第２樹脂層に光拡散パターン及び突起を各々同時に形成することを示す工程図である。図１５は光拡散パターン及び密着防止突起が形成された光学部材を示す概念図である。
【００６９】
　図１４及び図１５に示すように、ベース本体１１０に形成された第１樹脂層１３０及び第２樹脂層１４０には各々第１転写ローラー３７０及び第２転写ローラー３８０が密着して位置合わせされる。
【００７０】
　前記第１転写ローラー３７０にはローラの表面に凹部の半球形状の転写パターン３６５が稠密に形成されている。また、前記第２転写ローラー３８０にはローラの表面に互いに所定間隔に離隔された凹部の半球形状の転写パターン３８５が形成されてる。
【００７１】
ここで、第１転写ローラー３７０及び第２転写ローラー３８０はベース本体１１０の上部及び下部に各々前記第１樹脂層１３０及び第２樹脂層１４０に密着して配置される。
【００７２】
　続いて、前記第１転写ローラー３７０及び第２転写ローラー３８０が回転しながらベース本体１１０の一端部から他の一端部に移送され第１樹脂層１３０及び第２樹脂層１４０の表面には各々光拡散パターン１３５及び突起１４４が形成される。代替的に、光拡散パターン１３５及び突起１４４は前記ベース本体１１０が前記第１転写ローラー３７０及び第２転写ローラー３８０の間を通過するように移送されることにより形成されるようにもできる。
【００７３】
　第１樹脂層１３０に光拡散パターン１３５を形成し、第２樹脂層１４０に突起１４４が形成された後、光拡散パターン１３５及び第２樹脂層１４０には紫外線が照射され、第１樹脂層１３０及び光拡散パターン１３５、また、第２樹脂層１４０は硬化される。
【００７４】
　以下、本発明による光学部材の製造方法を具現するための転写ローラを製作する実施形態を図面を参照して説明する。
【００７５】
　図１６乃至図２０は本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。
【００７６】
　図１６に示すように、第１基板３００にはスピンコーティングなどの方法により第１フォトレジスト薄膜３１０が塗布される。
【００７７】
　続いて、第１フォトレジスト薄膜３１０の上面にはパターンマスク３３０が整合させられる。パターンマスク３３０は光拡散パターンが形成される位置に開口３３４が形成されたクロム薄膜３３２を有する。
【００７８】
　パターンマスク３３０が第１基板３００に整合させられた状態でパターンマスク３３０の上面には第１フォトレジスト薄膜３１０に向かう方向に光が供給される。
【００７９】
　前記パターンマスク３３０に供給された光は開口３３４を通じて第１フォトレジスト薄膜３１０に供給され第１フォトレジスト薄膜３１０を部分的に露光させる。
【００８０】
　図１７に示すように、パターンマスク３３０から供給された光に露出された第１フォトレジスト薄膜３１０の一部は現像工程を通じて除去され、前記光拡散パターン１３５と同一の大きさ及び形態を有する第１パターン３１５を有する第２フォトレジスト薄膜３１７が形成される。
【００８１】
　図１８に示すように、第１パターン３１５が形成された第２フォトレジスト薄膜３１７の上面にはスパッタリングなどの方法により金属層３４０が形成される。この金属層３４０には第２フォトレジスト薄膜３１７に形成された第１パターン３１５により光拡散パターン１３５と同一な形状を有する第２パターン３４５が形成される。
【００８２】
　前記金属層３４０は厚さが非常に薄くて、形状変形などが発生する可能性があるので、金属層３４０を利用して可撓性の合成樹脂材質により転写ローラが製作される。
【００８３】
　これを具現するために金属層３４０の下部に形成された第２フォトレジスト薄膜３１７はアッシング（ａｓｈｉｎｇ）工程などを通じて除去され、これにより金属層３４０は第１フォトレジスト薄膜３１７から分離される。
【００８４】
　図１９に示すように、分離された金属層３４０は第２基板３５０に取り付けられる。ここで、第２基板３５０には金属層３４０の第２パターン３４５が上部に向かうように取り付けられる。
【００８５】
　続いて、金属層３４０の上面には図１９に示したように、溶融された合成樹脂が塗布され合成樹脂層３６０が形成される。ここで、合成樹脂層３６０は金属層３４０の第２パターン３４５との間に空き空間がないように緻密に注入されるようにすることが望ましい。
【００８６】
　これにより、合成樹脂層３６０の表面には光拡散パターン１３５と反対の形状を有する第３パターン３６５が形成される。以下、第３パターンを転写パターンと称する。
【００８７】
　図２０に示すように、図６に示した光拡散パターン１３５と反対の形状を有する転写パターン３６５が形成された合成樹脂層３６０は転写ローラー３７０の外周面に取り付けられる。
【００８８】
　このような過程を経て製作された転写ローラー３７０の外周面に取り付けられた転写パターン３６５により第１樹脂層１３０に転写された光拡散パターン１３５に紫外線が照射されると、第１樹脂層１３０及び光拡散パターン１３５が硬化される。
【００８９】
　図２１は本発明の一実施形態による液晶表示装置の概念図である。
【００９０】
　図２１に示すように、液晶表示装置７００は全体的に光供給モジュール５００、光学分布変更モジュール４００及びディスプレーモジュール６００により構成される。
【００９１】
　光供給モジュール５００は映像をディスプレーするに必要である第１光５１０を発生させる。第１光５１０は主に冷陰極線管方式ランプにより発生される。前記光供給モジュール５００は少なくとも一つの冷陰極線管方式ランプを使用することができ、大画面に光を供給するために、冷陰極線管方式ランプは複数個が並列方式に配置されることができる。
【００９２】
　光供給モジュール５００で発生した第１光５１０は光分布変更モジュール４００に印加される。
【００９３】
　光分布変更モジュール４００は少なくも二つの光学部材１００、２００からなる。
【００９４】
　本発明の一実施形態として、符号１００として図示された光学部材は第１光５１０を光学分布が均一である第２光４２０に変更する拡散シートである。光学部材１００は前述した実施形態に示した光学部材１００と同一の構成及び同一の製造方法により製造されるので、その詳細な説明は省略する。
【００９５】
　符号２００で表示される光学部材は、第２光４２０の方向性を変更して第３光４３０を射出するためのプリズムシートである。第３光４３０はディスプレーモジュール６００に入射される。
【００９６】
　ディスプレーモジュール６００は入射された第３光４３０を画像情報が含まれたイメージ光６１０に変更する。
【００９７】
　このディスプレーモジュール６００は代表的には液晶を利用して情報を表示する液晶表示パネルである。ここで、液晶表示パネルは液晶を利用して情報を表示するために多様な構成を有することができる。
【００９８】
　また、前記ディスプレーモジュール６００は光供給モジュール５００及び光分布変更モジュール４００を通過した光を利用して、画像のディスプレーを実施する多様な手段を使用することができる。
【００９９】
　以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できるであろう。
【０１００】
　本発明によると、光分布が不均一な光は光拡散パターンにより光分分布が均一な光に変更される。従って、ディスプレー品質を向上させることができ、製造工程及び生産費用を大きく減少させることができる。
【０１０１】
　また、光拡散パターンは硬化物質を利用して形成されるために、大きさ及び形態を設計により容易に変形することができ、製作再現性が極めて優れる。
【０１０２】
　また、本発明による光学部材は高価なビーズを使用しないので、製作工程が単純であるだけでなく、生産費用を大きく減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明の一実施形態による光学部材の部分切開斜視図である。
【図２】図１に図示されたベース本体を示す平面図である。
【図３】図１に図示されたベース本体を示す正面図である。
【図４】図１に図示されたベース本体の熱特性を示すグラフである。
【図５】図１に図示されたベース本体の熱処理後の熱特性を示すグラフである。
【図６】図１に図示された光学部材をＡ−Ａに沿って示した断面図である。
【図７】図６のＢ領域の拡大図である。
【図８】本発明の一実施形態による光拡散パターンを示したＳＥＭ写真である。
【図９】本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【図１０】本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【図１１】本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【図１２】本発明の一実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【図１３】本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【図１４】本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【図１５】本発明の他の実施形態による光学部材の製造方法を示す図面である。
【図１６】本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。
【図１７】本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。
【図１８】本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。
【図１９】本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。
【図２０】本発明の一実施形態による転写ローラの製作方法を示す図面である。
【図２１】本発明の一実施形態による液晶表示装置を示す概念図である。
【符号の説明】
【０１０４】
１００　　光学部材
１１０　　ベース本体
１１２　　第２側面
１１３　　第３側面
１１４　　第４側面
１１５　　光入射面
１１６　　光射出面
１３０　　第１樹脂層
１３５　　光拡散パターン
１４２　　第２樹脂層
１４４　　突起
１５０　　光拡散層
３００　　第１基板
３１０　　第１フォトレジスト薄膜
３１５　　第１パターン
３３０　　パターンマスク
３３２　　クロム薄膜
３３４　　開口
３４０　　金属層
３４５　　第２パターン
３５０　　第２基板
３６５　　転写パターン
３７０　　第１転写ローラー
５１０　　第１光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図８】
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