(57)【要約】【課題】表面酸化膜を除去して低抵抗化を実現しつつイオンビームダメージを低減し、ひいては素子の特性を向上させる。【解決手段】磁気抵抗効果層は、トンネルバリア層２６と、これを挟む下側のピンド層２５及び上側のフリー層２７とを有する。フリー層２７上には、保護膜となる非磁性層２８が形成される。層３５ａ，３６からなる複層膜が、ＡＢＳと反対側（−Ｙ側）において、磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成される。下層３５ａは絶縁材料からなる。上層３５ｂは、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む材料からなる。層３５ａ，３５ｂは、フリー層２７にバイアス磁界を与える磁区制御層を構成しない。【選択図】　　　　図４
2004031838.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体の一方の面側に形成されフリー層を含む磁気抵抗効果層と、前記磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された単層膜と、を備え、
前記単層膜は、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む酸化物又は窒化物からなる絶縁材料からなり、
前記単層膜は前記フリー層にバイアス磁界を与える層を含まないことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項２】
基体の一方の面側に形成されフリー層を含む磁気抵抗効果層と、
前記磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された複層膜と、
を備え、
前記複層膜の最も前記基体側の層は、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む酸化物又は窒化物からなる絶縁材料からなり、
前記複層膜は、前記フリー層にバイアス磁界を与える層を含まないことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項３】
前記絶縁材料は、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５及びＷＯ３からなる群より選ばれた少なくとも１つであることを特徴とする請求項１又は２記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項４】
基体の一方の面側に形成されフリー層を含む磁気抵抗効果層と、
前記磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された複層膜と、
を備え、
前記複層膜の最も前記基体側の層は絶縁材料からなり、
前記複層膜における最も前記基体側の層以外の少なくとも１つの層は、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む所定の材料からなり、
前記複層膜は、前記フリー層にバイアス磁界を与える層を含まないことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
【請求項５】
前記所定の材料は、Ｐ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、並びに、これらのいずれか１つ以上を含む非磁性金属及び非磁性半導体からなる群より選ばれた少なくとも１つであることを特徴とする請求項４記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項６】
前記所定の材料は、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５及びＷＯ３からなる群より選ばれた少なくとも１つであることを特徴とする請求項４記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項７】
前記有効領域は、前記磁気抵抗効果層において膜面と略々垂直な方向に電流が流れる領域であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項８】
前記磁気抵抗効果層の前記基体とは反対側の面に形成された１層以上からなる非磁性金属層を備え、
前記非磁性金属層は、前記磁気抵抗効果層の少なくとも前記基体とは最も反対側の層と実質的にちょうど重なるように、形成されたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項９】
前記磁気抵抗効果層は、前記フリー層の一方の面側に形成されたトンネルバリア層と、該トンネルバリア層の前記フリー層とは反対の側に形成されたピンド層と、前記ピンド層の前記トンネルバリア層とは反対の側に形成されたピン層と、を含み、
前記単層膜又は前記複層膜が、前記トンネルバリア層の端面に接触することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
【請求項１０】
基体と、該基体により支持された磁気抵抗効果素子とを備え、前記磁気抵抗効果素子が請求項１乃至９のいずれかに記載された磁気抵抗効果素子であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項１１】
前記単層膜又は前記複層膜は、少なくとも前記有効領域の磁気記録媒体側とは反対側において、前記有効領域と接触することを特徴とする請求項１０記載の磁気ヘッド。
【請求項１２】
請求項１０又は１１記載の磁気ヘッドと、該磁気ヘッドが先端部付近に搭載され前記磁気ヘッドを支持するサスペンションと、を備えたことを特徴とするヘッドサスペンションアセンブリ。
【請求項１３】
請求項１２記載のヘッドサスペンションアセンブリと、該アセンブリを支持するアーム部と、該アーム部を移動させて磁気ヘッドの位置決めを行うアクチュエータと、を備えたことを特徴とする磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気抵抗効果素子、並びに、これを用いた磁気ヘッド、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）の大容量小型化に伴い、高感度、高出力のヘッドが要求されている。その要求に対して、現行製品であるＧＭＲヘッド（Ｇｉａｎｔ　Ｍａｇｎｅｔｏ−Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ　Ｈｅａｄ）の懸命な特性改善が進んでおり、一方でＧＭＲヘッドの２倍以上の抵抗変化率が期待できるトンネル磁気抵抗効果型ヘッド（ＴＭＲヘッド）の開発も精力的に行われている。
【０００３】
ＧＭＲヘッドとＴＭＲヘッドは、一般的に、センス電流を流す方向の違いからヘッド構造が異なる。一般のＧＭＲヘッドのような膜面に対して平行にセンス電流を流すヘッド構造をＣＩＰ（Ｃｕｒｒｅｎｔ　Ｉｎ　Ｐｌａｎｅ）構造、ＴＭＲヘッドのように膜面に対して垂直にセンス電流を流すヘッド構造をＣＰＰ（Ｃｕｒｒｅｎｔ　Ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ　ｔｏ　Ｐｌａｎｅ）構造と呼ぶ。ＣＰＰ構造は、磁気シールドそのものを電極として用いることができるため、ＣＩＰ構造の狭リードギャップ化において深刻な問題になっている、磁気シールド−素子間ショート（絶縁不良）が本質的に生じない。そのため、高記録密度化においてＣＰＰ構造は大変有利である。
【０００４】
ＣＰＰ構造のヘッドとしては、ＴＭＲヘッドの他にも、例えば、磁気抵抗効果素子にスピンバルブ膜（スペキュラー型、デュアルスピンバルブ型磁性多層膜を含む）を用いながらもＣＰＰ構造を持つＣＰＰ−ＧＭＲヘッドも知られている。
【０００５】
ＣＰＰ構造のヘッドでは、いずれのタイプのヘッドであっても、基体上に形成された磁気抵抗効果層に電流を流すための上部電極及び下部電極が、前記磁気抵抗効果層の上面側（基体と反対側）及び下面側（基体側）にそれぞれ形成されている。製造工程上、一般的に、磁気抵抗効果層の形成後であって上部電極の形成前に、磁気抵抗効果層が形成された基体が大気中に置かれる。このとき、磁気抵抗効果層の上面が空気中で酸化されてしまうことにより磁気抵抗効果層のＭＲ比等の特性を損なうような事態を防止するため、磁気抵抗効果層の上面には、保護膜として、キャップ層と呼ばれる非磁性金属層が予め形成される。この非磁性金属層としては、酸化され難い材料又は酸化しても抵抗が低い材料が好ましく、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｔａなどが用いられている。そして、ＣＰＰ構造のヘッドでは、上部電極は、この非磁性金属層を介して、磁気抵抗効果層に電気的に接続されている。
【０００６】
ところで、スピンバルブ膜やＴＭＲ膜を利用したヘッドでは、ＣＩＰ構造及びＣＰＰ構造のいずれにおいても、バルクハウゼンノイズを抑制するために、フリー層へトラック幅方向にバイアス磁界が印加される。一般に、ＣＩＰ構造では、トラック幅を規定するミリングに使用したレジストマスクをそのまま利用し、リフトオフ法により、ＣｏＣｒＰｔ等の硬磁性膜を磁区制御膜として磁気抵抗効果層の両隣に形成する。これをＡｂｕｔｔｅｄ構造と呼ぶ。ＣＰＰ構造においても、ＣＩＰ−ＧＭＲヘッドと同様に、Ａｂｕｔｔｅｄ構造によりフリー層へバイアス磁界を印加している（例えば、特開２０００−３０２２３号公報、特開２００１−１４６１６号公報など）。このように、いずれのタイプのヘッドにおいても、フリー層へのバイアス磁界の印加は、Ａｂｕｔｔｅｄ構造により実現しているのが一般的である。
【０００７】
これに対し、中塩らによる論文（”Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ　ｂｉａｓ　ｍｅｔｈｏｄ　ｕｓｉｎｇ　ａ　ｌｏｎｇ　ｄｉｓｔａｎｃｅ　ｅｘｃｈａｎｇｅ　ｃｏｕｐｌｉｎｇ　ｆｉｅｌｄ　ｉｎ　ｔｕｎｎｅｌ　ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ　ｊｕｎｃｔｉｏｎｓ”，　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ，　Ｖｏｌ．８９，　Ｎｏ．１１，　ｐｐ．１−３　（１　Ｊｕｎｅ　２００１）　）及び特開２００１−６８７５９号公報において、フリー層へバイアス磁界を印加する磁区制御膜としてのＩｒＭｎ等の反強磁性層を磁気抵抗効果層のフリー層上に積層した磁気抵抗効果素子（ＴＭＲ素子）が、提案されている。このＴＭＲ素子では、トンネルバリア層上のフリー層上にＣｕ等の非磁性金属層が形成され、この非磁性金属層上に前記反強磁性層が形成されている。このＴＭＲ素子によれば、反強磁性層の交換結合磁界が、バイアス磁界として、非磁性金属層を介してフリー層に対してトラック幅方向に与えられる。その結果、フリー層の磁化方向が固定されることなく、フリー層の磁区が制御され、バルクハウゼンノイズが抑制される。
【０００８】
従来は、Ａｂｕｔｔｅｄ構造を採用した磁気ヘッドの場合には、フリー層へバイアス磁界を与える磁区制御層としての硬磁性膜が配置されていない、磁気抵抗効果層の磁気記録媒体側（ＡＢＳ側）と反対側には、磁気抵抗効果層の端面付近のみならずそこからかなり離れた箇所に至るまで、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２からなる絶縁層が配置されていた。また、前記論文及び特開２００１−６８７５９号公報に開示された構造を採用した磁気ヘッドの場合には、フリー層へバイアス磁界を与える磁区制御層としての反強磁性層が磁気抵抗効果層上に積層されることから、磁気抵抗効果層の磁気記録媒体側（ＡＢＳ側）以外の周囲の全体に渡って、磁気抵抗効果層の端面付近のみならずそこからかなり離れた箇所に至るまで、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２からなる絶縁層が配置されていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ＴＭＲヘッドなどＣＰＰ構造のヘッドでは、上部電極及び前記非磁性金属層（キャップ層）を経由して磁気抵抗効果層に電流を流すため、上部電極と非磁性金属層との間に良好な電気的接触を保ち、低抵抗化を実現する必要がある。ところが、磁気抵抗効果層及び非磁性金属層が形成された基体を大気中に置いた際に、非磁性金属層の表面は空気中で酸化する。非磁性金属層として酸化され難い材料を使用しても、多少の酸化膜や表面吸着層が少なからず存在する。このため、そのままの状態で非磁性金属層の上に上部電極などの他の層を形成するとすれば、上部電極と非磁性金属層との間に良好な電気的接触を保つことができない。そこで、非磁性金属層の上に上部電極などの他の層を形成する前に、上部電極等を成膜するのと同一の真空装置内で、ドライエッチング（スパッタエッチング、イオンビームエッチング等）を行うことより、非磁性金属層の表面酸化膜が除去されている。
【００１０】
しかし、この表面酸化膜の除去工程の際、低抵抗化を実現するために十分なドライエッチングを施すと、磁気抵抗効果層へのイオンビームによるダメージが深刻な問題になる。例えば、ＴＭＲヘッドの場合には極薄のトンネルバリア層（例えば、厚さ１ｎｍ以下）へのイオンビームダメージが深刻な問題になり、ＭＲ比が極端に下がり、場合によっては磁気ヘッドとして用いることができなくなる。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、非磁性金属層の表面酸化膜を除去して低抵抗化を実現しつつイオンビームダメージを低減し、ひいては素子の特性を向上することができる、磁気抵抗効果素子、並びに、これを用いた磁気ヘッド、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者の研究の結果、前述した表面酸化膜の除去工程の際に、磁気抵抗効果層にイオンビームダメージを与える経路の１つとして、磁気抵抗効果層の端面（例えば、ＴＭＲヘッドの場合には、特にトンネルバリア層の端面）に到達する経路が存在することが判明した。さらに、従来の磁気抵抗効果素子において、磁気抵抗効果層の所定の端面付近に配置されている絶縁層としてのＡｌ２Ｏ３及びＳｉＯ２は、イオンビームダメージ低減効果が比較的低く、特にその端面からのイオンビームダメージが問題になることが判明した。本発明者は、このような新たな知見に基づいて、この経路にＡｌ２Ｏ３及びＳｉＯ２よりイオンビームダメージ低減効果の高い材料を配置することにより、磁気抵抗効果層に与えるイオンビームダメージを低減することを着想し、その効果を実験により確かめた。
【００１３】
ここで、ここで２つの材料のイオンビームダメージ低減効果の高低について説明すると、当該２つの材料でそれぞれ同じ厚さの層を構成し、各層の一方側にそれぞれイオンビームダメージが問題となる対象層（例えば、トンネルバリア層）を形成し、前記２つの材料の層に、対象層と反対側から同じエネルギーのイオンビームをそれぞれ直接又は同じ所定層を介して照射したとき、対象層が破壊されなかったりその特性が劣化し難い方の材料を他方の材料よりイオンビームダメージ低減効果が高いという。一般的に、構成元素の原子量が大きい材料ほど、ここでいうイオンビームダメージ低減効果が高くなると考えられる。イオンビームダメージは、前記材料内を通過してＡｒ等のイオンビームが対象層に直接到達し対象層を破壊したり、あるいは、前記材料内の結晶格子中を格子振動という形でイオンビームのエネルギーが伝わり対象層を破壊したり、前記材料内の結晶中の原子が玉突き状態でイオンビームのエネルギーを伝えて対象層を破壊したりすることにより、生ずるものと考えられる。
【００１４】
本発明は、前述したような本発明者の研究の結果としてなされたもので、前記課題を解決するため、本発明の第１の態様による磁気抵抗効果素子は、基体の一方の面側に形成されフリー層を含む磁気抵抗効果層と、前記磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された単層膜と、を備え、前記単層膜は、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む酸化物又は窒化物からなる絶縁材料からなり、前記単層膜は前記フリー層にバイアス磁界を与える層を含まないものである。
【００１５】
Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む酸化物又は窒化物からなる絶縁材料は、Ａｌ２Ｏ３及びＳｉＯ２よりイオンビームダメージ低減効果が高い。このため、前記第１の態様では、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む酸化物又は窒化物からなる絶縁材料からなる単層膜が、磁気抵抗効果層の有効領域に対して前述したような関係で形成されているので、磁気抵抗効果層の有効領域の端面の少なくとも一部の領域に到達するイオンビームダメージが、従来の磁気抵抗効果素子に比べて低減される。したがって、この第１の態様によれば、表面酸化膜を除去して低抵抗化を実現しつつイオンビームダメージを低減し、ひいては素子の特性を向上することができる。なお、前記単層膜が絶縁材料からなるので、磁気抵抗効果層の各層の電気的な短絡が生ずることがない。
【００１６】
本発明の第２の態様による磁気抵抗効果素子は、基体の一方の面側に形成されフリー層を含む磁気抵抗効果層と、前記磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された複層膜と、を備え、前記複層膜の最も前記基体側の層は、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む酸化物又は窒化物からなる絶縁材料からなり、前記複層膜は、前記フリー層にバイアス磁界を与える層を含まないものである。
【００１７】
この第２の態様では、前記複層膜が磁気抵抗効果層の有効領域に対して前述したような関係で形成され、前記複層膜の最も基体側の層が、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む酸化物又は窒化物からなる絶縁材料からなるので、前記第１の態様と同様に、磁気抵抗効果層の有効領域の端面の少なくとも一部の領域に到達するイオンビームダメージが、従来の磁気抵抗効果素子に比べて低減される。したがって、この第２の態様によれば、前記第１の態様と同様の利点が得られる。なお、前記複層膜の最も基体側の層が絶縁材料からなるので、前記複層膜の他の層が導体又は半導体で構成されていても、磁気抵抗効果層の各層の電気的な短絡が生ずることがない。
【００１８】
本発明の第３の態様による磁気抵抗効果素子は、前記第１又は第２の態様において、前記絶縁材料は、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５及びＷＯ３からなる群より選ばれた少なくとも１つであるものである。この第３の態様は、前記絶縁材料の例を挙げたものであるが、前記絶縁材料はこれらの例に限定されるものではない。
【００１９】
本発明の第４の態様による磁気抵抗効果素子は、基体の一方の面側に形成されフリー層を含む磁気抵抗効果層と、前記磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された複層膜と、を備え、前記複層膜の最も前記基体側の層は絶縁材料からなり、前記複層膜における最も前記基体側の層以外の少なくとも１つの層は、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む所定の材料からなり、前記複層膜は、前記フリー層にバイアス磁界を与える層を含まないものである。
【００２０】
この第４の態様では、前記複層膜が磁気抵抗効果層の有効領域に対して前述したような関係で形成され、前記複層膜における最も基体側の層以外の少なくとも１つの層が、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む所定の材料からなるので、前記第１の態様と同様に、磁気抵抗効果層の有効領域の端面の少なくとも一部の領域に到達するイオンビームダメージが、従来の磁気抵抗効果素子に比べて低減される。したがって、この第４の態様によれば、前記第１の態様と同様の利点が得られる。なお、前記複層膜の最も基体側の層が絶縁材料からなるので、前記複層膜の他の層が導体又は半導体で構成されていても、磁気抵抗効果層の各層の電気的な短絡が生ずることがない。
【００２１】
本発明の第５の態様による磁気抵抗効果素子は、前記第４の態様において、前記所定の材料は、Ｐ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、並びに、これらのいずれか１つ以上を含む非磁性金属及び非磁性半導体からなる群より選ばれた少なくとも１つであるものである。この第５の態様は、前記所定の材料の例を挙げたものである。
【００２２】
本発明の第６の態様による磁気抵抗効果素子は、前記第４の態様において、前記所定の材料は、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５及びＷＯ３からなる群より選ばれた少なくとも１つであるものである。この第６の態様も、前記所定の材料の例を挙げたものである。
【００２３】
本発明の第７の態様による磁気抵抗効果素子は、前記第１乃至第６のいずれかの態様において、前記有効領域は、前記磁気抵抗効果層において膜面と略々垂直な方向に電流が流れる領域であるものである。この第７の態様は、有効領域の例を挙げたものであるが、前記第１乃至第６の態様では、有効領域は、これに限定されるものではなく、磁気検出に有効に関与する領域であればよい。
【００２４】
本発明の第８の態様による磁気抵抗効果素子は、前記第１乃至第７のいずれかの態様において、前記磁気抵抗効果層の前記基体とは反対側の面に形成された１層以上からなる非磁性金属層を備え、前記非磁性金属層は、前記磁気抵抗効果層の少なくとも前記基体とは最も反対側の層と実質的にちょうど重なるように、形成されたものである。
【００２５】
この第８の態様によれば、前記非磁性金属層によって磁気抵抗効果層が保護されるので、好ましい。また、この第８の態様によれば、磁気抵抗効果層の少なくとも前記基体とは最も反対側の層をミリング等して所望の形状にする際に、非磁性金属層も同時にミリング等することができ、いわゆるセルフアラインを達成することができる。したがって、製造工程が簡略化され、好ましい。
【００２６】
本発明の第９の態様による磁気抵抗効果素子は、前記第１乃至第８のいずれかの態様において、（ａ）前記磁気抵抗効果層は、前記フリー層の一方の面側に形成されたトンネルバリア層と、該トンネルバリア層の前記フリー層とは反対の側に形成されたピンド層と、前記ピンド層の前記トンネルバリア層とは反対の側に形成されたピン層と、を含み、（ｂ）前記単層膜又は前記複層膜が、前記トンネルバリア層の端面に接触するものである。
【００２７】
この第９の態様は、前記第１乃至第８の態様をＴＭＲ素子に適用した例である。ＴＭＲ素子では、磁気抵抗効果層自体を低抵抗化するべくトンネルバリア層を極薄にすると、イオンビームダメージの影響が非常に大きくなるため、前記第９の態様のようにＴＭＲ素子に適用した場合、その効果は著しくなる。もっとも、前記第１乃至第８の態様では、ＴＭＲ素子に限定されるものではなく、例えば、ＣＰＰ−ＧＭＲ素子等にも適用することができる。
【００２８】
本発明の第１０の態様による磁気ヘッドは、基体と、該基体により支持された磁気抵抗効果素子とを備え、前記磁気抵抗効果素子が前記第１乃至第９のいずれかの態様による磁気抵抗効果素子であるものである。
【００２９】
この第１０の態様によれば、前記第１乃至第９のいずれかの態様による磁気抵抗効果素子が用いられているので、非磁性金属層を用いて磁気抵抗効果層表面の酸化を防止しつつ、電極と非磁性金属層との間の良好な電気的接触を確保し、しかも、磁気抵抗効果層へのイオンビームダメージを低減し、ひいては素子の特性を向上することができる。
【００３０】
本発明の第１１の態様による磁気ヘッドは、前記第１０の態様において、前記単層膜又は前記複層膜は、少なくとも前記有効領域の磁気記録媒体側とは反対側において、前記有効領域と接触するものである。
【００３１】
前述したように、従来のＡｂｕｔｔｅｄ構造を採用した磁気ヘッドにおいても、前記論文及び特開２００１−６８７５９号公報に開示された構造を採用した従来の磁気ヘッドにおいても、磁気抵抗効果層の磁気記録媒体側（ＡＢＳ側）と反対側には、磁気抵抗効果層の端面付近のみならずそこからかなり離れた箇所に至るまで、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２からなる絶縁層が配置されていた。前記第１１の態様によれば、磁性金属層の磁気記録媒体側と反対側の端面に対する経路のイオンビームダメージが低減されるので、その効果は著しい。
【００３２】
本発明の第１２の態様によるヘッドサスペンションアセンブリは、前記第１０又は第１１の態様による磁気ヘッドと、該磁気ヘッドが先端部付近に搭載され前記磁気ヘッドを支持するサスペンションと、を備えたものである。
【００３３】
この第１２の態様によれば、前記第１０又は第１１の態様による磁気ヘッドが用いられているので、磁気ディスク装置等の高記録密度化等を図ることができる。
【００３４】
本発明の第１３の態様による磁気ディスク装置は、前記第１２の態様によるヘッドサスペンションアセンブリと、該アセンブリを支持するアーム部と、該アーム部を移動させて磁気ヘッドの位置決めを行うアクチュエータと、を備えたものである。この第１３の態様によれば、前記第１２の態様による磁気ヘッドが用いられているので、高記録密度化を図ることができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による磁気抵抗効果素子、並びに、これを用いた磁気ヘッド、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置について、図面を参照して説明する。
【００３６】
［第１の実施の形態］
【００３７】
図１は、本発明の第１の実施の形態による磁気ヘッドを模式的に示す概略斜視図である。図２は、図１に示す磁気ヘッドのＴＭＲ素子２及び誘導型磁気変換素子３の部分を模式的に示す拡大断面図である。図３は、図２中のＡ−Ａ’矢視概略図である。図４は、図２中のＴＭＲ素子２付近を更に拡大した拡大図である。図５は、図３中のＴＭＲ素子２付近を更に拡大した拡大図である。理解を容易にするため、図１乃至図５に示すように、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を定義する（後述する図についても同様である。）。また、Ｚ軸方向のうち矢印の向きを＋Ｚ方向又は＋Ｚ側、その反対の向きを−Ｚ方向又は−Ｚ側と呼び、Ｘ軸方向及びＹ軸方向についても同様とする。Ｘ軸方向が磁気記録媒体の移動方向と一致している。Ｚ軸方向がＴＭＲ素子２のトラック幅方向と一致している。
【００３８】
第１の実施の形態による磁気ヘッドは、図１に示すように、基体としてのスライダ１と、再生用磁気ヘッド素子として用いられる磁気抵抗効果素子としてのＴＭＲ素子２と、記録用磁気ヘッド素子としての誘導型磁気変換素子３と、ＤＬＣ膜等からなる保護膜４とを備え、複合型磁気ヘッドとして構成されている。もっとも、本発明による磁気ヘッドは、例えば、ＴＭＲ素子２のみを備えていてもよい。また、第１の実施の形態では、素子２，３はそれぞれ１個ずつ設けられているが、その数は何ら限定されるものではない。
【００３９】
スライダ１は磁気記録媒体対向面側にレール部１１，１２を有し、レール部１１、１２の表面がＡＢＳ（エアベアリング面）を構成している。図１に示す例では、レール部１１、１２の数は２本であるが、これに限らない。例えば、１〜３本のレール部を有してもよいし、ＡＢＳはレール部を持たない平面であってもよい。また、浮上特性改善等のために、ＡＢＳに種々の幾何学的形状が付されることもある。本発明による磁気ヘッドは、いずれのタイプのスライダを有していてもよい。
【００４０】
第１の実施の形態では、保護膜４はレール部１１，１２の表面にのみ設けられ、保護膜４の表面がＡＢＳを構成している。もっとも、保護膜４は、スライダ１の磁気記録媒体対向面の全面に設けてもよい。また、保護膜４を設けることが好ましいが、必ずしも保護膜４を設ける必要はない。
【００４１】
ＴＭＲ素子２及び誘導型磁気変換素子３は、図１に示すように、レール部１１、１２の空気流出端部ＴＲの側に設けられている。記録媒体移動方向は、図中のＸ軸方向と一致しており、磁気記録媒体が高速移動した時に動く空気の流出方向と一致する。空気は流入端部ＬＥから入り、流出端部ＴＲから流出する。スライダ１の空気流出端部ＴＲの端面には、ＴＭＲ素子２に接続されたボンディングパッド５ａ，５ｂ及び誘導型磁気変換素子３に接続されたボンディングパッド５ｃ，５ｄが設けられている。
【００４２】
ＴＭＲ素子２及び誘導型磁気変換素子３は、図２及び図３に示すように、スライダ１を構成するセラミック基体１５の上に設けられた下地層１６の上に、積層されている。セラミック基体１５は、通常、アルチック（Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ）又はＳｉＣ等で構成される。Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣを用いる場合、これは導電性があるので、下地層１６として、例えばＡｌ２Ｏ３からなる絶縁膜が用いられる。下地層１６は、場合によっては設けなくてもよい。
【００４３】
ＴＭＲ素子２は、図４及び図５に示すように、下地層１６上に形成された下部電極２１と、下部電極２１の上側（基体１５と反対側）に形成された上部電極３１と、電極２１，３１間に下部電極２１側から順に積層された、下部金属層（下層）２２、下部金属層（上層）２３、ピン層２４、ピンド層２５、トンネルバリア層２６、フリー層２７、保護膜となる非磁性金属層としての上部金属層（キャップ層）２８、及び、上部電極３の下地層としての上部金属層２９と、を備えている。ピン層２４、ピンド層２５、トンネルバリア層２６及びフリー層２７が、磁気抵抗効果層を構成している。実際のＴＭＲ素子２は、図示されたような層数の膜構造ではなく、より多層の膜構造を有するのが一般的であるが、図に示す磁気ヘッドでは、説明の簡略化のため、ＴＭＲ素子２の基本動作に必要な最少膜構造を示してある。
【００４４】
第１の実施の形態では、下部電極２１及び上部電極３１は、下部磁気シールド及び上部磁気シールドとしてそれぞれ兼用されている。電極２１，３１は、例えば、ＮｉＦｅなどの磁性材料で形成されている。図面には示していないが、これらの電極２１，３１は、前述したボンディングパッド５ａ，５ｂにそれぞれ電気的に接続されている。なお、下部電極２１及び上部電極３１とは別に、下部磁気シールド及び上部磁気シールドを設けてもよいことは、言うまでもない。
【００４５】
下部金属層２２は、導電体となっており、例えば、Ｔａ層などで構成される。下部金属層２３は、導電体となっており、例えば、ＮｉＦｅ層などで構成される。本例では、上側の下部金属層２３は磁気抵抗効果層の部分のみに形成され、下側の下部金属層２２は電極２１上に広く延在しているが、上側の下部金属層２３も広く延在させてもよいし、あるいは、下側の下部金属層２２も磁気抵抗効果層の部分のみに形成してもよい。
【００４６】
ピン層２４は、反強磁性層で構成され、例えば、ＰｔＭｎ、ＩｒＭｎ、ＲｕＲｈＭｎ、ＦｅＭｎ、ＮｉＭｎ、ＰｄＰｔＭｎ、ＲｈＭｎ又はＣｒＭｎＰｔなどのＭｎ系合金で形成することが好ましい。ピンド層２５及びフリー層２７は、それぞれ強磁性層で構成され、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＦｅＣｏ、ＮｉＦｅ、ＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣｏＮｉなどの材料で形成される。ピンド層２５は、ピン層２４との間の交換結合バイアス磁界によってその磁化方向が所定方向に固定されている。一方、フリー層２７は、基本的に磁気情報である外部磁場に応答して自由に磁化の向きが変わるようになっている。なお、本実施の形態では、下部電極２１側からピン層２４、ピンド層２５、トンネルバリア層２６、フリー層２７の順に配置されているが、下部電極２１側からフリー層２７、トンネルバリア層２６、ピンド層２５、ピン層２４の順に配置してもよい。トンネルバリア層２６は、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＧｄＯ、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＭｏＯ２、ＴｉＯ２又はＷＯ２などの材料で形成される。
【００４７】
キャップ層としての上部金属層（非磁性金属層）２８は、例えば、Ｔａ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｗ、Ｐｄ、Ｐｔ又はＡｕの単体、又は、これらのいずれか２種以上の組み合わせからなる合金、を用いた、単層膜又は多層膜で形成される。上部金属層２８の厚さは、７ｎｍ以上にすることが好ましい。上部金属層２８の厚さを７ｎｍ以上にすると、製造工程の過程で上部金属層２８の表面の酸化膜をドライエッチングにより除去する際に、前記磁気抵抗効果層のダメージをより低減することができる。本実施の形態では、上部金属層２８は後述するように製造時に層２３〜２７と一緒にミリングされ、上部金属層２８は層２３〜２７と実質的にちょうど重なっている。
【００４８】
上部電極の下地層となる上部金属層２９は、導電体となっており、Ｔａなどの非磁性金属材料で形成される。本実施の形態では、上部金属層２９は、磁気シールドギャップ（電極２１，３１間のギャップ）を所望の間隔に保つために、設けられている。もっとも、必ずしも上部金属層２９を設ける必要はない。
【００４９】
図３及び図５に示すように、フリー層２７及びピン層２４のＺ軸方向の両側には、フリー層２７に磁区制御のためのバイアス磁界を付与する磁区制御層としての硬磁性層３２，３３が形成されている。硬磁性層３２，３３は、例えば、Ｃｒ／ＣｏＰｔ（コバルト白金合金）、Ｃｒ／ＣｏＣｒＰｔ（コバルトクロム白金合金）、ＴｉＷ／ＣｏＰｔ、ＴｉＷ／ＣｏＣｒＰｔなどの材料で形成される。これらの層３２，３３の下側には、Ａｌ２Ｏ３などからなる絶縁層３４が形成されている。絶縁層３４は、硬磁性層３２，３３と層２３〜２８の端面との間にも介在し、層２３〜２８が硬磁性層３２，３３によって電気的に短絡しないようになっている。
【００５０】
また、図２及び図４に示すように、硬磁性層３２，３３が形成されていない領域には、下部金属層２２と上部金属層２９間において、Ａｌ２Ｏ３などからなる絶縁層３５ａ、及び、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む材料（以下、「ダメージ低減材料」という。）からなる層（以下、「ダメージ低減層」という。）３５ｂが、形成されている。本実施の形態では、層３５ａ，３５ｂが、磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域（本実施の形態では、磁気抵抗効果層において膜面の略々垂直な方向に電流が流れる領域）と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された複層膜を、構成している。
【００５１】
硬磁性層３２，３３は前述したように層２３〜２８のＺ軸方向の両側に形成されているので、絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂは、図４に示すように、層２３〜２８のＡＢＳ側と反対側（−Ｙ側）に位置している。本実施の形態では、層２３〜２８の−Ｙ側の端面は、後述するように製造時に一括したミリングにより形成されて、１つのテーパー面を構成している。絶縁層３５ａは、図４に示すように、層２３〜２８の−Ｙ軸側の端面及び下部金属層２２の上面に沿って比較的薄く形成されている。ダメージ低減層３５ｂは絶縁層３５ａ上に形成され、絶縁層３５ａが、ダメージ低減層３５ｂの＋Ｙ側の端面と層２３〜２８の−Ｙ側の端面との間、及び、ダメージ低減層３５ｂの下面と下部金属層２２の上面との間に、介在している。これにより、ダメージ低減材料が導体又は半導体であっても、層２３〜２８間がダメージ低減層３５ｂにより短絡しないようになっている。
【００５２】
もっとも、本発明では、ダメージ低減材料として絶縁体を用いてもよく、その場合には、絶縁層３５ａを形成する必要はなく、ダメージ低減層３５ｂを絶縁層３５ａの部分にも及ぶように形成すればよい。この場合、絶縁層３５ａの部分にも及ぶように形成したダメージ低減層３５ｂは、磁気抵抗効果層における磁気検出に有効に関与する有効領域と重ならずに、前記有効領域と接するように形成された単層膜（勿論、複層膜としてもよい。）を、構成することになる。
【００５３】
本実施の形態では、以上のようにダメージ低減層３５ｂ及び絶縁層３５ａが形成されているため、図４からもわかるように、トンネルバリア層２６の−Ｙ側の端面の全領域と、上部金属層（非磁性金属層）２８の上面（＋Ｘ側（基体１５と反対側）の面）と略同一の高さ（Ｘ軸方向の位置）を有し上部金属層２８から外れた面に対して、磁気抵抗効果層の厚さ方向（Ｘ軸方向）及びこの厚さ方向に対して傾斜した方向の両方にトンネルバリア層２６の−Ｙ側の端面の全領域を写像した、写像領域の付近との間にも、ダメージ低減層３５ｂ（したがって、ダメージ低減材料）が介在している。それ以外の箇所に位置しているダメージ低減層３５ｂの部分は、後述するようなトンネルバリア層２６の−Ｙ側の端面に至る経路のイオンビームダメージを低減するものではなく、単に下部金属層２２と上部金属層２９との間のスペーサとしての役割を果たしているに過ぎない。したがって、例えば、図４中のＢ−Ｂ’線の右側では、ダメージ低減層３５ｂを形成せずに、その代わりに任意の材料（例えば、絶縁層３５ａと同じ材料）の層を形成してもよい。しかし、ダメージ低減層３５ｂが図４中のＢ−Ｂ’線の−Ｙ側に存在していても何ら支障がないとともに、前述した箇所にのみダメージ低減層３５ｂを部分的に配置しようとすると製造に手数を要する結果となるので、本実施の形態では、ダメージ低減層３５ｂを図４中のＢ−Ｂ’線の−Ｙ側にも存在させている。
【００５４】
前記ダメージ低減材料は、例えば、Ｐ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉの単体、あるいは、これらのいずれか１つ以上を含む非磁性金属又は非磁性半導体であってもよい。また、前記ダメージ低減材料は、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５又はＷＯ３などの絶縁体であってもよい。ダメージ低減材料は、Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔｃ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ａｇ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕの単体、もしくはこれらを含む合金であることが、好ましい。ダメージ低減材料は、Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕの単体、もしくはこれらを含む合金であることが、更に好ましい。
【００５５】
なお、ダメージ低減層３５ｂは、硬磁性層３２，３３とは別個に形成されており、フリー層２７へバイアス磁界を与える磁区制御層を構成していない。ところで、硬磁性層３２，３３は、前述したようにＣｒ／ＣｏＰｔ等の材料で構成され、ダメージ低減材料で構成されているので、結果的に、硬磁性層３２，３３もダメージ低減層であると言える。本発明では、前記ダメージ低減層３５ｂのように、磁区制御層が結果的にダメージ低減層となっている場合であっても、本実施の形態のように、磁区制御層以外にもダメージ低減材料を前述したような箇所に配置する。
【００５６】
誘導型磁気変換素子３は、図２及び図３に示すように、当該素子３に対する下部磁性層としても兼用される前記上部電極３１、上部磁性層３６、コイル層３７、アルミナ等からなるライトギャップ層３８、ノボラック樹脂等の有機樹脂で構成された絶縁層３９及びアルミナ等からなる保護層４０などを有している。磁性層３６の材質としては、例えば、ＮｉＦｅ又はＦｅＮなどが用いられる。下部磁性層としても兼用された上部電極３１及び上部磁性層３６の先端部は、微小厚みのアルミナなどのライトギャップ層３８を隔てて対向する下部ポール部３１ａ及び上部ポール部３６ａとなっており、下部ポール部３１ａ及び上部ポール部３６ａにおいて磁気記録媒体に対して情報の書き込みを行なう。下部磁性層としても兼用された上部電極３１及び上部磁性層３６は、そのヨーク部が下部ポール部３１ａ及び上部ポール部３６ａとは反対側にある結合部４１において、磁気回路を完成するように互いに結合されている。絶縁層３９の内部には、ヨーク部の結合部４１のまわりを渦巻状にまわるように、コイル層３７が形成されている。コイル層３７の両端は、前述したボンディングパッド５ｃ，５ｄに電気的に接続されている。コイル層３７の巻数及び層数は任意である。また、誘導型磁気変換素子３の構造も任意でよい。
【００５７】
次に、本実施の形態による磁気ヘッドの製造方法の一例について、説明する。
【００５８】
まず、ウエハ工程を行う。すなわち、基体１５となるべきＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ又はＳｉＣ等のウエハ１０１を用意し、薄膜形成技術等を用いて、ウエハ１０１上のマトリクス状の多数の磁気ヘッドの形成領域にそれぞれ、前述した各層を前述した構造となるように形成する。
【００５９】
このウエハ工程の概要について、図６乃至図１０を参照して説明する。図６乃至図１０はウエハ工程を構成する各工程を模式的に示す図であり、図６（ａ）、図７（ａ）、図８（ａ）及び図１０（ａ）はそれぞれ概略平面図である。図６（ｂ）は図６（ａ）中のＣ−Ｄ線に沿った概略断面図、図７（ｂ）は図７（ａ）中のＣ−Ｄ線に沿った概略断面図、図８（ｂ）は図８（ａ）中のＥ−Ｆ線に沿った概略断面図、図９は図８（ｂ）に対応する概略断面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）中のＥ−Ｆ線に沿った概略断面図である。なお、図７（ａ）において、ＴＷは、ＴＭＲ素子２が規定するトラック幅を示している。
【００６０】
ウエハ工程では、まず、ウエハ１０１上に、下地層１６、下部電極２１、下部金属層２２、下部金属層２３、ピン層２４、ピンド層２５、トンネルバリア層２６、フリー層２７、上部金属層２８を、順次積層する。このとき、下部電極２１は例えばめっき法により形成し、他の層は例えばスパッタ法で形成する。このときの上部金属層２８の厚さは、例えば、後述する表面酸化膜除去のためのドライエッチング後の上部金属層２８の厚さが７ｎｍ以上となるような所定厚さとされる。その後、この状態の基板が一旦大気中に置かれる。このとき、磁気抵抗効果層の上面（本実施の形態では、フリー層２７の上面）は、上部金属層２８により保護されるので、酸化されない。しかし、上部金属層２８の上面に酸化膜５０が形成されることになる（図６）。
【００６１】
次に、第１のイオンミリングにより、下部金属層２３、ピン層２４、ピンド層２５、トンネルバリア層２６、フリー層２７、上部金属層２８及び酸化膜５０を、部分的に除去する。次いで、この除去した部分に、リフトオフ法により、絶縁層３４及び硬磁性層３２，３３を形成する（図７）。
【００６２】
次いで、第２のイオンミリングにより、ＴＭＲ素子２のハイト方向に関して必要な幅（Ｙ軸方向の幅）を持つとともに所定長さだけＺ軸方向に延びる帯状部分を残して、下部金属層２３、ピン層２４、ピンド層２５、トンネルバリア層２６、フリー層２７、上部金属層２８、酸化膜５０、硬磁性層３２，３３、絶縁層３４を、部分的に除去する。次に、この除去した部分に、リフトオフ法により、絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂを形成する（図８）。
【００６３】
次に、上部金属層２９を形成するのと同じ真空装置内で、スパッタエッチングやイオンビームエッチングなどのドライエッチングを行うことにより、上部金属層２８の上面に形成された酸化膜５０を除去する（図９）。このとき、上部金属層２８の厚さが７ｎｍ以上と比較的厚くされているので、図９に示すように、上部金属層２８を通過する経路１を通ろうとするイオンビームによるトンネルバリア層２６のダメージは、上部金属層２８により低減される。一方、図９に示すように、上部金属層２８を通過することなく経路２でトンネルバリア層２６の−Ｙ側の端面へ向かおうとするイオンビームによるトンネルバリア層２６のダメージは、この経路２中にダメージ低減層３５ｂが介在しているため、ダメージ低減層３５ｂにより、低減される。なお、図９では、イオンビームがＸ軸方向にのみ進行するように示しているが、実際には、イオンビームはＸ軸方向に対して斜めに入射する成分も持つ。
【００６４】
その後、上部金属層２９がスパッタ法等により形成され、更に、メッキ法等により上部電極３１を形成する（図１０）。
【００６５】
最後に、ギャップ層３８、コイル層３７、絶縁層３９、上部磁性層３６及び保護膜４０を形成し、更に電極５ａ〜５ｄ等を形成する。これにより、ウエハ工程が完了する。
【００６６】
次に、ウエハ工程後が完了したウエハに対して、公知の工程を経て磁気ヘッドを完成させる。簡単に説明すると、前記ウエハから、基体上に複数の磁気ヘッドの部分が一列状に配列された各バー（バー状磁気ヘッド集合体）切り出す。次いで、このバーに対して、スロートハイト、ＭＲハイト等を設定するために、そのＡＢＳ側にラッピング処理（研磨）を施す。次に、ＡＢＳ側に保護膜４を形成し、更に、エッチング等によりレール１１，１２を形成する。最後に、機械加工により切断してバーを個々の磁気ヘッドに分離する。これにより、本実施の形態による磁気ヘッドが完成する。
【００６７】
本実施の形態によれば、前述したように、フリー層２７の上面に上部金属層２８が形成されているので、上部金属層２８よってフリー層２７の表面の酸化が防止される。また、上部金属層２８の表面が空気中で酸化しても、上部金属層２９を形成する前に、ドライエッチングにより上部金属層２８の表面酸化膜５０が除去されるので、上部電極３１と上部金属層２９との間の良好な電気的接触を得ることができる。このとき、磁気抵抗効果層は、前記ドライエッチングによりイオンビームダメージを受ける。しかし、本実施の形態では、上部金属層２８の厚さが７ｎｍ以上であり比較的厚いので、図９中の経路１のイオンビームにより磁気抵抗効果層（特に、トンネルバリア層２６）が受けるダメージは、低減される。そして、本実施の形態では、図９中の経路２にダメージ低減層３５ｂが介在されているので、この経路２中にＡｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２しか存在していなかった従来技術（これに相当する比較例は、後述する。）と比べて、経路２でトンネルバリア層２６の−Ｙ側の端面へ向かおうとするイオンビームによるトンネルバリア層２６のダメージが、低減される。
【００６８】
このため、本実施の形態によれば、従来技術と比べてＭＲ比などの素子の特性が向上する。
【００６９】
［比較例］
【００７０】
ここで、前記第１の実施の形態による磁気ヘッドと比較される比較例の磁気ヘッドについて、図１１及び図１２を参照して説明する。
【００７１】
図１１は、この比較例による磁気ヘッドの要部を示す概略断面図である。図１２は、この比較例による磁気ヘッドの要部を示す他の概略断面図である。図１１及び図１２は、それぞれ図４及び図５に対応している。図１１及び図１２において、図４及び図５中の要素と同一又は対応する要素には同一符号を付し、その重複する説明は省略する。
【００７２】
この比較例による磁気ヘッドが前記第１の実施の形態による磁気ヘッドと異なる所は、前記第１の実施の形態において、絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂが形成されていた部分に、その代わりにＡｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２からなる絶縁層３５を形成した点のみである。
【００７３】
この比較例による磁気ヘッドの製造方法について、図１３乃至図１５を参照して説明する。図１３乃至図１５は、それぞれ図８乃至図１０に対応している。
【００７４】
この製造方法が前述した第１の実施の形態による磁気ヘッドの製造方法と異なる所は、ウエハ工程のみであるので、ここではウエハ工程についてのみ説明する。
【００７５】
このウエハ工程では、第１の実施の形態による磁気ヘッドと同じく、前述した図６及び図７に示す工程を経る。その後、第２のイオンミリングにより、ＴＭＲ素子２のハイト方向に関して必要な幅（Ｙ軸方向の幅）を持つとともに所定長さだけＺ軸方向に延びる帯状部分を残して、下部金属層２３、ピン層２４、ピンド層２５、トンネルバリア層２６、フリー層２７、上部金属層２８、酸化膜５０、硬磁性層３２，３４、絶縁層３４を除去する。この段階までは第１の実施の形態による磁気ヘッドの前述した製造方法と同一であるが、比較例による磁気ヘッドを製造する場合、この除去した部分に、リフトオフ法により、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２からなる絶縁層３５を形成する（図１３）。この後の工程は、第１の実施の形態による磁気ヘッドの前述した製造方法と同一である。
【００７６】
次に、上部金属層２９を形成するのと同じ真空装置内で、スパッタエッチングやイオンビームエッチングなどのドライエッチングを行うことにより、上部金属層２８の上面に形成された酸化膜５０を除去する（図１４）。このとき、経路１に関しては前述した図９の場合と同一であるが、この比較例では、経路２にはＡｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２しか介在していないため、上部金属層２８を通過することなく経路２でトンネルバリア層２６の−Ｙ側の端面へ向かおうとするイオンビームによるトンネルバリア層２６のダメージは、図９の場合に比べて大きくなってしまう。
【００７７】
その後、上部金属層２９がスパッタ法等により形成され、更に、メッキ法等により上部電極３１を形成し（図１５）、ウエハ工程が終了する。
【００７８】
この比較例は従来技術に相当するものである。図９と図１４の経路２を比較すれば明らかなように、経路２にダメージ低減層３５ｂが介在している前記第１の実施の形態では、経路２にはＡｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２しか介在していない比較例に比べて、トンネルバリア層２６に対するイオンビームダメージが低減されることがわかる。
【００７９】
［第２の実施の形態］
【００８０】
図１６は、本発明の第２の実施の形態による磁気ヘッドのＴＭＲ素子２及び誘導型磁気変換素子３の部分を模式的に示す拡大断面図である。図１７は、図１６中のＧ−Ｇ’矢視概略図である。図１８は、図１６中のＴＭＲ素子２付近を更に拡大した拡大図である。図１９は、図１７中のＴＭＲ素子２付近を更に拡大した拡大図である。図２０は、図１９中のＨ−Ｈ’矢視図である。図１６乃至図１９は、それぞれ図２乃至図５に対応している。
【００８１】
図１６乃至図２０において、図１乃至図５中の要素と同一又は対応する要素には同一符号を付し、その重複する説明は省略する。第２の実施の形態による磁気ヘッドが前記第１の実施の形態による磁気ヘッドと異なる所は、以下に説明する点のみである。
【００８２】
本実施の形態では、第１の実施の形態における下部金属層２２，２３がそれらを積層したものとして下部金属層２２として表され、この下部金属層２２が、フリー層２７、反強磁性層６３及び非磁性金属層６４と実質的に重なる領域のみに形成されている。
【００８３】
本実施の形態では、ＴＭＲ素子２は、図１８及び図１９に示すように、下地層１６上に形成された下部電極２１と、下部電極２１の上側（基体１５と反対側）に形成された上部電極３１と、電極２１，３１間に下部電極２１側から順に積層された、下部金属層２２、反強磁性層６３、非磁性金属層６４、フリー層２７、トンネルバリア層２６、ピンド層２５、ピン層２４、及び、保護膜となる非磁性金属層としての上部金属層（キャップ層）２８、及び、上部電極３１の下地層としての上部金属層２９と、を備えている。フリー層２７、トンネルバリア層２６、ピンド層２５及びピン層２４が、磁気抵抗効果層を構成している。実際のＴＭＲ素子２は、図示されたような層数の膜構造ではなく、より多層の膜構造を有するのが一般的であるが、図に示す磁気ヘッドでは、説明の簡略化のため、ＴＭＲ素子２の基本動作に必要な最少膜構造を示してある。
【００８４】
反強磁性層６３は、非磁性金属層６４を介してフリー層２７と交換結合することにより、フリー層２７の磁化方向を固定することなく、交換結合磁界をバイアス磁界としてフリー層２７に対してＺ軸方向（トラック幅方向）に与える。すなわち、反強磁性層６３及び非磁性金属層６４は、フリー層２７に対してバイアス磁界を与える磁区制御層となっている。反強磁性層６３は、例えば、ＰｔＭｎ、ＩｒＭｎ、ＲｕＲｈＭｎ、ＦｅＭｎ、ＮｉＭｎ、ＰｄＰｔＭｎ、ＲｈＭｎ又はＣｒＭｎＰｔなどのＭｎ系合金で形成される。非磁性金属層６４は、例えば、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ａｕ、Ａｇなどで形成される。非磁性金属層６４の厚みを厚くすると交換結合が弱くなるので、非磁性金属層６４の厚さは、フリー層２７に十分なバイアス磁界を与えられるように設定される。場合によっては、非磁性金属層６４は、なくても良い。ピンド層２５は、ピン層２４との間の交換結合バイアス磁界によってその磁化方向がＹ軸方向に固定されている。一方、フリー層２７は、前述したように、バイアス磁界が印加されるが、基本的に磁気情報である外部磁場に応答して自由に磁化の向きが変わるようになっている。
【００８５】
第２の実施の形態では、図１８乃至図２０に示すように、トンネルバリア層２６、ピンド層２５、ピン層２４及び上部金属層２８のＸ軸方向から見た平面視の大きさは、所望のトラック幅ＴＷ及びＭＲハイトｈに従って規定されている。厳密に言えば、層２４〜２６，２８は、後述するように同時にイオンミリングされることにより、平面視の大きさが定められ、それらの＋Ｚ側、−Ｚ側及び−Ｙ側端面は図１８及び図１９に示すようにテーパー面となっているので、層２４〜２６，２８のうち下側の層ほど若干大きくなるが、これらの平面視の大きさは実質的に同じであると言える。図２０では、層２４〜２６，２８については、その上部金属層２８のみを示し、その平面視の大きさがＴＷ×ｈであるとして示している。なお、層２４〜２６，２８の＋Ｙ側（ＡＢＳ側）の端面は、後述するラッピング処理により定まり、膜面に対して垂直となっている。
【００８６】
一方、第２の実施の形態では、反強磁性層６３、非磁性金属層６４及びフリー層２７は、図２０に示すように、ｗ×ｈ１の領域に形成され、トンネルバリア層２６、ピンド層２５、ピン層２４及び上部金属層２９が形成されている領域（ＴＷ×ｈの領域）と実質的に重なる領域と、その領域から＋Ｚ側及び−Ｚ側に連続して延びた領域とに、形成されている。したがって、ｗ＞ＴＷとなっている。厳密に言えば、層６３，６４，２７は、後述するように同時にイオンミリングされることにより、平面視の大きさが定められ、それらの＋Ｚ側、−Ｚ側及び−Ｙ側端面は図１８及び図１９に示すようにテーパー面となっているので、層６３，６４，２７下側の層ほど若干大きくなるが、これらの平面視の大きさは実質的に同じであると言える。図２０では、層６３，６４，２７については、そのフリー層２７のみを示し、その平面視の大きさがｗ×ｈであるとして示している。また、層２４〜２８，６４，６３の−Ｙ側の端面は、これらの層が同時にイオンミリングされることにより、連続したテーパー面となっているため、厳密に言えば、幅ｈ１は幅ｈより広いが、幅ｈ１と幅ｈとは実質的に同じであると言える。しかし、図６では、理解を容易にするため、ｈ１＞ｈとして示している。もっとも、層６３，６４，２７を、層２４〜２６，２８と実質的にちょうど重なる領域に形成してもよい。
【００８７】
第２の実施の形態では、前述したように、反強磁性層６３及び非磁性金属層６４が磁区制御層となっているので、第１の実施の形態で形成されていた硬磁性層３２，３３及び絶縁層３４は、除去されている。第２の実施の形態では、層２２，６３，６４，２７，２６，２５，２４，２８の−Ｙ側（ＡＢＳと反対側）だけでなく、これらの層の＋Ｚ側及び−Ｚ側にも、絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂが形成されている。本実施の形態においてこの絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂが形成されている部分には、従来技術に従えば、その代わりにＡｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２からなる絶縁層が形成されることになる。
【００８８】
次に、本実施の形態による磁気ヘッドの製造方法の一例について、説明する。
【００８９】
まず、ウエハ工程を行う。すなわち、基体１５となるべきＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ又はＳｉＣ等のウエハ１０１を用意し、薄膜形成技術等を用いて、ウエハ１０１上のマトリクス状の多数の磁気ヘッドの形成領域にそれぞれ、前述した各層を前述した構造となるように形成する。
【００９０】
このウエハ工程の概要について、図２１乃至図２４を参照して説明する。図２１乃至図２４はウエハ工程を構成する各工程を模式的に示す図であり、図２１（ａ）、図２２（ａ）、図２３（ａ）及び図２４（ａ）はそれぞれ概略平面図である。図２１（ｂ）は図２１（ａ）中のＪ−Ｋ線に沿った概略断面図、図２２（ｂ）は図２２（ａ）中のＪ−Ｋ線に沿った概略断面図、図２３（ｂ）は図２３（ａ）中のＬ−Ｍ線に沿った概略断面図、図２４（ｂ）は図２４（ａ）中のＪ−Ｋ線に沿った概略断面図である。なお、図２２（ａ）、図２３（ａ）及び図２４（ａ）において、ＴＷはＴＭＲ素子２が規定するトラック幅を示し、ｗは反強磁性層６３、非磁性金属層６４及びフリー層２７のＺ軸方向（トラック幅方向）の幅を示し、これらは図２０中の同符号のものとそれぞれ対応している。なお、図２１乃至図２３において、図６乃至図９中の表面酸化膜５０に相当する表面酸化膜は省略して示している。
【００９１】
ウエハ工程では、まず、ウエハ１０１上に、下地層１６、下部電極２１、下部金属層２２、反強磁性層６３、非磁性金属層６４、フリー層２７、トンネルバリア層２６、ピンド層２５、ピン層２４及び上部金属層２８を、順次積層する（図７）。このとき、下部電極２１は例えばめっき法により形成し、他の層は例えばスパッタ法で形成する。このときの上部金属層２８の厚さは、例えば、後述する表面酸化膜除去のためのドライエッチング後の上部金属層２８の厚さが７ｎｍ以上となるような所定厚さとされる。その後、この状態の基板が一旦大気中に置かれる。このとき、磁気抵抗効果層の上面（本実施の形態では、ピン層２４の上面）は、上部金属層２８により保護されるので、酸化されない。しかし、上部金属層２８の上面に酸化膜（図示せず）が形成されることになる（図２１）。
【００９２】
次に、第１のイオンミリングにより、トラック幅ＴＷに応じたＹ軸方向に延びる帯状部分を残して、トンネルバリア層２６、ピンド層２５、ピン層２４、上部金属層２８及び前記酸化膜を、部分的に除去する。このとき、第１のイオンミリングは、トンネルバリア層２６まで完全に除去するが、フリー層２７をほとんど除去しない位置で、停止させる。このようなストップ位置は、例えば、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ　Ｉｏｎ−ｍｉｃｒｏｐｒｏｂｅ　Ｍａｓｓ　Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ、２次イオン質量分析計）によってミリング中に出てくる物質をモニタすることにより、適切に設定することができる。そして、第１のイオンミリングの後、リフトオフ法を用いて、第１のイオンミリングにより除去した部分に、絶縁層３５ａの一部となるべき絶縁層３５ａ’及びダメージ低減層３５ｂの一部となるべきダメージ低減層３５ｂ’を形成する（図２２）。
【００９３】
次いで、第２のイオンミリングにより、ＴＭＲ素子２のハイト方向に関して必要な幅（Ｙ軸方向の幅）を持つとともに前記幅ｗに応じた長さだけＺ軸方向に延びる帯状部分を残して、下部金属層２２、反強磁性層６３、非磁性金属層６４、フリー層２７、トンネルバリア層２６、ピンド層２５、ピン層２４、上部金属層２８、絶縁層３５ａ’及びダメージ低減層３５ｂ’を、部分的に除去する。本例では、第２のイオンミリングは、下部金属層２２まで完全に除去するが、下部電極２１をほとんど除去しない位置で、停止させる。もっとも、第２のイオンミリングは、例えば、反強磁性層６３まで完全に除去するが、下部金属層２２をほとんど除去しない位置で、停止させてもよい。そして、第２のイオンミリングの後、リフトオフ法を用いて、第２のイオンミリングにより除去した部分に、絶縁層３５ａの残り部分となるべき絶縁層３５ａ”及びダメージ低減層３５ｂの残りの部分となるべきダメージ低減層３５ｂ”を形成する（図２３）。
【００９４】
次に、上部金属層２９を形成するのと同じ真空装置内で、スパッタエッチングやイオンビームエッチングなどのドライエッチングを行うことにより、上部金属層２８の上面に形成された酸化膜（図示せず）を除去する。このとき、上部金属層２８の厚さが７ｎｍ以上と比較的厚くされているので、図９中の経路１に相当する経路を通ろうとするイオンビームによるトンネルバリア層２６のダメージは、上部金属層２８により低減される。一方、上部金属層２８を通過することなく図９中の経路２に相当する経路でトンネルバリア層２６の−Ｙ側、＋Ｚ側及び−Ｚ側の端面へ向かおうとするイオンビームによるトンネルバリア層２６のダメージは、この経路中にダメージ低減層３５ｂが介在しているため、ダメージ低減層３５ｂ（３５ｂ’，３５ｂ”）により、低減される。
【００９５】
その後、上部金属層２９がスパッタ法等により形成され、更に、メッキ法等により上部電極３１を形成する（図２４）。
【００９６】
最後に、ギャップ層３８、コイル層３７、絶縁層３９、上部磁性層３６及び保護膜４０を形成し、更に電極５ａ〜５ｄ等を形成する。これにより、ウエハ工程が完了する。
【００９７】
次に、ウエハ工程後が完了したウエハに対して、公知の工程を経て磁気ヘッドを完成させる。簡単に説明すると、前記ウエハから、基体上に複数の磁気ヘッドの部分が一列状に配列された各バー（バー状磁気ヘッド集合体）切り出す。次いで、このバーに対して、スロートハイト、ＭＲハイト等を設定するために、そのＡＢＳ側にラッピング処理（研磨）を施す。その後、必要に応じて、スメア除去のために、ラッピング処理後のバーのＡＢＳ側の面をエッチングする。次に、ＡＢＳ側に保護膜４を形成し、更に、エッチング等によりレール１１，１２を形成する。最後に、機械加工により切断してバーを個々の磁気ヘッドに分離する。これにより、本実施の形態による磁気ヘッドが完成する。
【００９８】
本実施の形態によれば、やはりダメージ低減層３５ｂが形成されているので、前記第１の実施の形態と同様の利点が得られる。本実施の形態のように磁区制御層を磁気抵抗効果層上に積層する構造を持つ場合、Ａｂｕｔｔｅｄ構造の場合と異なり、従来技術に従えば、トンネルバリア層２６の−Ｙ側、＋Ｚ側及び−Ｚ側の端面付近には全てＡｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２からなる絶縁層が形成されてしまうので、本実施の形態の効果は極めて顕著である。
【００９９】
［第３の実施の形態］
【０１００】
図２５は、本発明の第３の実施の形態による磁気ディスク装置の要部の構成を示す概略斜視図である。
【０１０１】
第３の実施の形態による磁気ディスク装置は、軸７０の回りに回転可能に設けられた磁気ディスク７１と、磁気ディスク７１に対して情報の記録及び再生を行う磁気ヘッド７２と、磁気ヘッド７２を磁気ディスク７１のトラック上に位置決めするためのアッセンブリキャリッジ装置７３と、を備えている。
【０１０２】
アセンブリキャリッジ装置７３は、軸７４を中心にして回動可能なキャリッジ７５と、このキャリッジ７５を回動駆動する例えばボイスコイルモータ（ＶＣＭ）からなるアクチュエータ７６とから主として構成されている。
【０１０３】
キャリッジ７５には、軸７４の方向にスタックされた複数の駆動アーム７７の基部が取り付けられており、各駆動アーム７７の先端部には、磁気ヘッド７２を搭載したヘッドサスペンションアッセンブリ７８が固着されている。各ヘッドサスペンションアセンブリ７８は、その先端部に有する磁気ヘッド７２が、各磁気ディスク７１の表面に対して対向するように駆動アーム７７の先端部に設けられている。
【０１０４】
第３の実施の形態では、磁気ヘッド７２として、前述した第１及び第２の実施の形態に係るいずれかの磁気ヘッドが、搭載されている。したがって、第３の実施の形態によれば、ＭＲ比などの素子の特性が向上することから、より高記録密度化を図ることができる。
【０１０５】
【実施例】
前記第１の実施の形態による磁気ヘッドと同様の構成を持つ磁気ヘッドの製造過程におけるウエハ工程完了後のウエハ（多数のＴＭＲ素子及び誘導型磁気変換素子が形成されたウエハ）、及び、前記比較例による磁気ヘッドと同様の構成を持つ磁気ヘッドの製造過程におけるウエハ工程完了後のウエハ（多数のＴＭＲ素子及び誘導型磁気変換素子が形成されたウエハ）を、絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂを形成するかあるいは絶縁層３５を形成するかの点を除いて、前述した製造方法に相当する互いに同じ方法及び条件で、実施例及び比較例のサンプルとしてそれぞれ作成した。実施例のサンプルの主要な各層の構成は下記の表１に示す通りとし、比較例のサンプルの主要な各層の構成は下記の表１に示す通りとし、両者の層構成は、絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂを用いるかあるいは絶縁層３５を形成するの点でのみ異なり、他の点は全く同一である。なお、実施例も比較例も、トラック幅ＴＷは０．１３μｍとした。
【０１０６】
【表１】
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【０１０７】
【表２】
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【０１０８】
実施例及び比較例のサンプルの製造時に、上部金属層２８の表面の酸化膜除去のためのドライエッチングとして、Ａｒのイオンビームエッチングを次の条件で行った。その条件は、加速電圧を２５０Ｖ、ビーム電流を０．１ｍＡ／ｃｍ２、Ａｒガス圧を２×１０−４Ｔｏｒｒ、基板温度を３０℃、エッチング時間を約２分間とした。
【０１０９】
実施例及び比較例のサンプルのそれぞれについて、ウエハ内の全ＴＭＲ素子の抵抗値及びＭＲ比を測定した。表３に、その測定結果として、実施例及び比較例のサンプルのそれぞれについて、ウエハ内の全ＴＭＲ素子の抵抗値の平均値及びＭＲ比の平均値を示す。
【０１１０】
【表３】
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【０１１１】
表３からわかるように、絶縁層３５ａ及びダメージ低減層３５ｂを形成した実施例の場合には、ダメージ低減層を形成せずに絶縁層３５を形成した比較例の場合に比べて、抵抗値及びＭＲ比が高く、バリア層２６がダメージを受けていないことがわかる。
【０１１２】
以上、本発明の各実施の形態及び実施例について説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
【０１１３】
例えば、前述した実施の形態では、前述した構造のＴＭＲ素子を有する磁気ＴＭＲ素子を有する磁気ヘッドの例であったが、本発明は、他の構造を持つＴＭＲ素子や他の磁気抵抗効果素子を有する磁気ヘッド等にも、適用することができる。具体的には、本発明は、例えば、ＣＰＰ−ＧＭＲヘッドなどのＴＭＲヘッド以外の他のＣＰＰ構造を持つ磁気ヘッドにも適用することができる。
【０１１４】
さらに、前述した実施の形態では、本発明による磁気抵抗効果素子を磁気ヘッドに用いた例を挙げたが、本発明による磁気抵抗効果素子は他の種々の用途にも適用することができる。
【０１１５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、表面酸化膜を除去して低抵抗化を実現しつつイオンビームダメージを低減し、ひいては素子の特性を向上することができる、磁気抵抗効果素子、並びに、これを用いた磁気ヘッド、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態による磁気ヘッドを模式的に示す概略斜視図である。
【図２】図１に示す磁気ヘッドのＴＭＲ素子及び誘導型磁気変換素子の部分を模式的に示す拡大断面図である。
【図３】図２中のＡ−Ａ’矢視概略図である。
【図４】図２中のＴＭＲ素子２付近を更に拡大した拡大図である。
【図５】図３中のＴＭＲ素子２付近を更に拡大した拡大図である。
【図６】図１乃至図５に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する一工程を模式的に示す図である。
【図７】図１乃至図５に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する他の工程を模式的に示す図である。
【図８】図１乃至図５に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する更に他の工程を模式的に示す図である。
【図９】図１乃至図５に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する更に他の工程を模式的に示す図である。
【図１０】図１乃至図５に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する更に他の工程を模式的に示す図である。
【図１１】比較例による磁気ヘッドの要部を示す概略断面図である。
【図１２】図１１に示す比較例による磁気ヘッドの要部を示す他の概略断面図である。
【図１３】図１１及び図１２に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する一工程を模式的に示す図である。
【図１４】図１１及び図１２に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する他の工程を模式的に示す図である。
【図１５】図１１及び図１２に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する更に他の工程を模式的に示す図である。
【図１６】本発明の第２の実施の形態による磁気ヘッドのＴＭＲ素子及び誘導型磁気変換素子の部分を模式的に示す拡大断面図である。
【図１７】図１６中のＧ−Ｇ’矢視概略図である。
【図１８】図１６中のＴＭＲ素子付近を更に拡大した拡大図である。
【図１９】図１７中のＴＭＲ素子付近を更に拡大した拡大図である。
【図２０】図１９中のＨ−Ｈ’矢視図である。
【図２１】図１６乃至図２０に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する一工程を模式的に示す図である。
【図２２】図１６乃至図２０に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する他の工程を模式的に示す図である。
【図２３】図１６乃至図２０に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する更に他の工程を模式的に示す図である。
【図２４】図１６乃至図２０に示す磁気ヘッドの製造方法におけるウエハ工程を構成する更に他の工程を模式的に示す図である。
【図２５】本発明の第３の実施の形態による磁気ディスク装置の要部の構成を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
１　スライダ
２　ＴＭＲ素子
３　誘導型磁気変換素子
２１　下部電極
２２，２３　下部金属層
２４　ピン層
２５　ピンド層
２６　トンネルバリア層
２７　フリー層
２８　上部金属層（非磁性層、キャップ層）
２９　上部金属層
３１　上部電極
３５ａ　絶縁層
３５ｂ　ダメージ低減層
６３　反強磁性層
６４　非磁性層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004031838.tif 000012
【図８】
2004031838.tif 000013
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2004031838.tif 000018
【図１４】
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【図１５】
2004031838.tif 000020
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
2004031838.tif 000024
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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