(57)【要約】【課題】有機化合物を主成分とする記録層と、記録層上に形成された誘電体層と、誘電体層上に形成された光透過層を備え、記録信号のノイズレベルおよび隣り合ったトラックへの記録信号のクロストークを大幅に低減することのできる光記録ディスクを提供する。【解決手段】支持基板２と、支持基板上に形成され、有機化合物を主成分とする記録層５と、記録層上に形成された誘電体層６と、誘電体層上に形成された光透過層７を備えた光記録ディスク１であって、誘電体層がセリウム系誘電体を含むことを特徴とする光記録ディスク。【選択図】      図１
2004164716.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、前記支持基板上に形成され、有機化合物を主成分とする記録層と、前記記録層上に形成された誘電体層と、前記誘電体層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクであって、前記誘電体層がセリウム系誘電体を含むことを特徴とする光記録ディスク。
【請求項２】
前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムを含むことを特徴とする請求項１に記載の光記録ディスク。
【請求項３】
前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物を含むことを特徴とする請求項２に記載の光記録ディスク。
【請求項４】
前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【化１】
2004164716.tif 000033
【請求項５】
前記一般式（１）中のＲが、
【化２】
2004164716.tif 000034
【化３】
2004164716.tif 000035
【化４】
2004164716.tif 000036
または、
【化５】
2004164716.tif 000037
から選ばれることを特徴とする請求項４に記載の光記録ディスク。
【請求項６】
前記記録層が、さらに、炭素数５ないし７のケトン系溶剤を含むことを特徴とする請求項４または５に記載の光記録ディスク。
【請求項７】
前記有機化合物が、一般式（２）で示されるモノメチンシアニン系色素を主成分として含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光記録ディスク。
【化６】
2004164716.tif 000038
ここに、ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群、Ｒ１およびＲ１’は、アルキル基、Ｘ−は陰イオンを表わし、ｍは０または１である。
【請求項８】
前記モノメチンシアニン系色素のモノメチン基の両側の含窒素複素環ＱおよびＱ’のうちの一方が、インドレニンおよびベンゾチアゾールから選ばれ、他方が、インドレニン、キノリン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールおよびベンゾセレナゾールから選ばれることを特徴とする請求項７に記載の光記録ディスク。
【請求項９】
支持基板上に、有機化合物を主成分として含む記録層を形成し、前記記録層上に、スパッタリングによって、セリウム系誘電体を含む誘電体層を形成することを特徴とする光記録ディスクの製造方法。
【請求項１０】
前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムを含むことを特徴とする請求項９に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１１】
前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物を含むことを特徴とする請求項１０に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１２】
さらに、前記誘電体層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成するステップを備えたことを特徴とする請求項９ないし１１のいずれか１項に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１３】
前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含むことを特徴とする請求項９ないし１２のいずれか１項に記載の光記録ディスクの製造方法。
【化７】
2004164716.tif 000039
【請求項１４】
前記一般式（１）中のＲが、
【化８】
2004164716.tif 000040
【化９】
2004164716.tif 000041
【化１０】
2004164716.tif 000042
または、
【化１１】
2004164716.tif 000043
から選ばれることを特徴とする請求項１３に記載の光記録ディスクの製造方法。
【請求項１５】
前記有機化合物が、一般式（２）で示されるモノメチンシアニン系色素を主成分として含むことを特徴とする請求項９ないし１２のいずれか１項に記載の光記録ディスクの製造方法。
【化１２】
2004164716.tif 000044
ここに、ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群、Ｒ１およびＲ１’は、アルキル基、Ｘ−は陰イオンを表わし、ｍは０または１である。
【請求項１６】
前記モノメチンシアニン系色素のモノメチン基の両側の含窒素複素環ＱおよびＱ’のうちの一方が、インドレニンおよびベンゾチアゾールから選ばれ、他方が、インドレニン、キノリン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールおよびベンゾセレナゾールから選ばれることを特徴とする請求項１５に記載の光記録ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録ディスクおよびその製造方法に関するものであり、さらに詳細には、記録信号のノイズレベルおよび隣り合ったトラックへの記録信号のクロストークを大幅に低減することのできる光記録ディスクおよびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録ディスクが広く用いられている。
【０００３】
これらの光記録ディスクは、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのように、データの追記や書き換えができないタイプのいわゆるＲＯＭ型光ディスクと、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのように、データの追記は可能であるが、データの書き換えができないタイプのいわゆる追記型光ディスクと、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能なタイプのいわゆる書き換え型光ディスクに大別することができる。
【０００４】
広く知られているように、ＲＯＭ型光ディスクにおいては、製造段階で、基板に形成されるプリピットにより、データが記録されるのが一般的であり、書き換え型光ディスクにおいては、たとえば、記録層の材料として、相変化材料が用いられ、その相状態に変化に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。
【０００５】
これに対して、追記型光ディスクにおいては、記録層の材料として、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素などの有機色素が用いられ、その化学的変化に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。
【０００６】
さらに、大容量のデータを、高密度に記録し、再生することができるように、記録・再生のために照射するレーザ光として、波長が短い青色レーザ光を用いるとともに、記録光学系および再生光学系のレンズとして、開口数の大きいレンズを用い、ポリカーボネートなどによって形成された基板とは反対側から、レーザ光を照射するように構成され、記録層上に、光透過層が設けられた次世代型の光記録ディスクが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素などの有機色素を用いて、ポリカーボネートなどによって形成された支持基板上に、蒸着やスピンコーティングによって、記録層を形成し、記録層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成する場合には、光透過層の形成時に、記録層に含まれている色素が、少しづつ、溶解して、光透過層中に溶け込んだり、流されたりすることによって、記録層に欠陥が生じ、あるいは、光透過層の膜厚が変化して、光記録ディスクの光学的特性や電気的特性が変化してしまうという問題があった。
【０００８】
かかる問題を解決するとともに、反射特性を改善するために、主として色素からなる記録層上に、スパッタリングによって、誘電体層を形成し、誘電体層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成するように構成された光記録ディスクが提案されている。
【０００９】
このように、記録層上に、スパッタリングによって、誘電体層を形成することによって、スピンコーティングによって、光透過層を形成する際に、記録層に含まれている色素が、少しづつ溶解して、光透過層中に溶け込んだり、流されたりすることを防止して、記録層に欠陥が生ずること防止するとともに、光記録ディスクの光学的特性や電気的特性が変化してしまうことを防止することが可能になるが、誘電体層は、記録・再生のために照射されるレーザ光の光路内に位置しており、その結果、誘電体層を形成する材料によって、記録信号のノイズレベルおよび隣り合ったトラックへの記録信号のクロストークが大きく異なるため、適切な材料を用いて、誘電体層を形成する必要があった。
【００１０】
したがって、本発明は、支持基板と、支持基板上に形成され、有機化合物を主成分とする記録層と、記録層上に形成された誘電体層と、誘電体層上に形成された光透過層を備え、記録信号のノイズレベルおよび隣り合ったトラックへの記録信号のクロストークを大幅に低減することのできる光記録ディスクおよびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、セリウム系誘電体を用いて、誘電体層を形成すると、驚くべきことに、記録信号のノイズレベルおよび隣り合ったトラックへの記録信号のクロストークが大幅に低減されることを見出した。
【００１２】
したがって、本発明の前記目的は、基板と、前記基板上に形成され、有機化合物を主成分とする記録層と、前記記録層上に形成された誘電体層と、前記誘電体層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクであって、前記誘電体層がセリウム系誘電体を含むことを特徴とする光記録ディスクによって達成される。
【００１３】
本発明の好ましい実施態様においては、前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムを含んでいる。
【００１４】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物を含んでいる。
【００１５】
本発明の好ましい実施態様においては、前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含んでいる。
【００１６】
【化１３】
2004164716.tif 000003
一般式（１）で示されるポルフィリン系色素は、３９０ないし４２０ｎｍの波長の青紫色レーザー光の照射によって、溶融または分解して、低屈折率から高屈折率へと変化し、所望のキャリア／ノイズ比および反射率を得ることができ、青紫色レーザー光に対しても、モル吸光係数が大きく、かつ、耐光性に優れていることが、本発明者によって見出されており、したがって、本実施態様によれば、優れた特性を有する光記録ディスクを得ることが可能になる。
【００１７】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記一般式（１）中のＲが、
【００１８】
【化１４】
2004164716.tif 000004
【００１９】
【化１５】
2004164716.tif 000005
【００２０】
【化１６】
2004164716.tif 000006
または、
【００２１】
【化１７】
2004164716.tif 000007
から選ばれる。
【００２２】
本発明の好ましい実施態様において、前記有機化合物が、前記ポルフィリン系色素を主成分として含んでいる場合には、前記記録層が、さらに、炭素数５ないし７のケトン系溶剤を含んでいる。
【００２３】
本発明のさらに好ましい実施態様において、前記有機化合物が、前記ポルフィリン系色素を主成分として含んでいる場合には、前記記録層が、炭素数６のケトン系溶剤を含んでいる。
【００２４】
本発明において、ケトン系溶剤は、鎖状構造を有していても、環状構造を有していてもよいが、直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が好ましく使用される。
【００２５】
本発明の好ましい実施態様において、前記有機化合物が、前記ポルフィリン系色素を主成分として含んでいる場合には、前記支持基板が、ポリオレフィン樹脂によって形成されている。
【００２６】
本発明のさらに好ましい実施態様において、前記有機化合物が、前記ポルフィリン系色素を主成分として含んでいる場合には、前記支持基板が、アモルファスポリオレフィン樹脂によって形成されている。
【００２７】
本発明の別の好ましい実施態様においては、前記有機化合物が、一般式（２）で示されるモノメチンシアニン系色素を主成分として含んでいる。
【００２８】
【化１８】
2004164716.tif 000008
ここに、ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群を表わし、含窒素複素環は縮合環であってもよく、置換基を有していてもよい。ＱおよびＱ’は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１およびＲ１’は、炭素数１ないし６のアルキル基、好ましくは、炭素数１ないし４のアルキル基を表わし、アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ１およびＲ１’は同一でも異なっていてもよい。Ｘ−は、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン、ＣｌＯ４−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＳＣＮ−などから選ばれる陰イオンを表わし、ｍは０または１である。
【００２９】
本発明の好ましい実施態様においては、前記モノメチンシアニン系色素のモノメチン基の両側の含窒素複素環ＱおよびＱ’のうちの一方が、インドレニンおよびベンゾチアゾールから選ばれ、他方が、インドレニン、キノリン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールおよびベンゾセレナゾールから選ばれる。
【００３０】
本発明の前記目的はまた、基板上に、有機化合物を主成分として含む記録層を形成し、前記記録層上に、スパッタリングによって、セリウム系誘電体を含む誘電体層を形成することを特徴とする光記録ディスクの製造方法によって達成される。
【００３１】
本発明の好ましい実施態様においては、前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムを含んでいる。
【００３２】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記セリウム系誘電体が、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物を含んでいる。
【００３３】
本発明の好ましい実施態様においては、光記録ディスクの製造方法は、さらに、前記誘電体層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成するステップを備えている。
【００３４】
本発明の好ましい実施態様においては、前記有機化合物が、一般式（１）で示されるポルフィリン系色素を主成分として含んでいる。
【００３５】
【化１９】
2004164716.tif 000009
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記一般式（１）中のＲが、
【００３６】
【化２０】
2004164716.tif 000010
【００３７】
【化２１】
2004164716.tif 000011
【００３８】
【化２２】
2004164716.tif 000012
または、
【００３９】
【化２３】
2004164716.tif 000013
から選ばれる。
【００４０】
本発明の好ましい実施態様においては、前記ポルフィリン系色素を、炭素数５ないし７のケトン系溶剤に溶解して、塗布液を調製し、スピンコーティングによって、支持基板上に塗布して、記録層が形成される。
【００４１】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記ポルフィリン系色素を、炭素数６のケトン系溶剤に溶解して、塗布液を調製し、スピンコーティングによって、支持基板上に塗布して、記録層が形成される。
【００４２】
本発明において、ケトン系溶剤は、鎖状構造を有していても、環状構造を有していてもよいが、直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が好ましく使用される。
【００４３】
本発明の好ましい実施態様においては、前記有機化合物が、前記ポルフィリン系色素を主成分として含んでいる場合には、ポリオレフィン樹脂によって形成された支持基板上に、記録層が形成される。
【００４４】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記有機化合物が、前記ポルフィリン系色素を主成分として含んでいる場合には、アモルファスポリオレフィン樹脂によって形成された支持基板上に、記録層が形成される。
【００４５】
本発明の別の好ましい実施態様においては、前記有機化合物が、一般式（２）で示されるモノメチンシアニン系色素を主成分として含んでいる。
【００４６】
【化２４】
2004164716.tif 000014
ここに、ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群を表わし、含窒素複素環は縮合環であってもよく、置換基を有していてもよい。ＱおよびＱ’は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１およびＲ１’は、炭素数１ないし６のアルキル基、好ましくは、炭素数１ないし４のアルキル基を表わし、アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ１およびＲ１’は同一でも異なっていてもよい。Ｘ−は、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン、ＣｌＯ４−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＳＣＮ−などから選ばれる陰イオンを表わし、ｍは０または１である。
【００４７】
本発明の好ましい実施態様においては、前記モノメチンシアニン系色素のモノメチン基の両側の含窒素複素環ＱおよびＱ’のうちの一方が、インドレニンおよびベンゾチアゾールから選ばれ、他方が、インドレニン、キノリン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールおよびベンゾセレナゾールから選ばれる。
【００４８】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００４９】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【００５０】
図１に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク１  は、支持基板２を備え、支持基板２の情報ピットやプリグルーブなどの微細凹凸が形成されている側の面上に、金属層３、誘電体層４、記録層５、誘電体層６および光透過層７が、この順で、形成されている。
【００５１】
光記録ディスク１は、図１において、矢印で示される向きに、記録または再生のためのレーザー光が照射され、光透過層７を通して、記録層５に、レーザー光が照射されるように構成されている。
【００５２】
支持基板２は、０．３ｍｍないし１．６ｍｍ、好ましくは、０．５ｍｍないし１．３ｍｍの厚さを有し、記録層３が形成される側の面に、情報ピットや、プリグルーブ、ランドなどの微細な凹凸が形成されている。本明細書において、グルーブＧは、レーザー光が入射すべき側に位置する案内溝を指し、ランドＬは隣り合ったグルーブＧの間に形成される。グルーブＧは、通常、スパイラル状に形成される。
【００５３】
グルーブＧの深さＧｄは、ランドＬの最も高い所とグルーブＧの最も低い所の差によって定義され、好ましくは４０ないし１５０ｎｍであり、より好ましくは６０ないし１２０ｎｍである。グルーブＧの深さＧｄをこのような範囲とすることによって、十分なトラッキング制御が可能となり、クロストークを抑制することが可能になる。グルーブＧの深さＧｄが４０ｎｍ未満であると、トラック追従のために必要なトラッキングエラー信号が小さくなるとともに、クロストークが大きくなり、さらに、ウオブル信号のようなプリフォーマット信号か小さくなる傾向があり、好ましくない。一方、グルーブＧの深さＧｄが１５０ｎｍを越えると、ランドＬおよびグルーブＧを精度良く形成することが困難になり、反射信号の低下や感度の低下が生じるおそれがある。
【００５４】
グルーブＧの幅Ｇｗは、グルーブＧの深さＧｄの１／２の深さ位置におけるグルーブの幅によって定義され、好ましくは１１０ないし２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０ないし１９０ｎｍである。グルーブＧのピッチＧｐは、隣り合うグルーブの間隔によって定義され、たとえば、隣り合うグルーブの幅Ｇｗ方向中心の間隔として定義される。グルーブＧのピッチＧｐは、たとえば、２９０ないし３５０ｎｍであり、好ましくは３１０ないし３３０ｎｍである。このような構成とすることによって、クロストークを抑制することが可能になる。
【００５５】
本実施態様にかかる光記録ディスク１のランドＬの部分およびグルーブＧの部分またはランドＬの部分もしくはグルーブＧの部分に、データを記録することもできる。
【００５６】
支持基板２は、光学的には透明である必要はないが、とくに、記録層を形成するために用いる溶剤に溶解しないものを用いることが好ましい。この観点から、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂などの各種プラスチック材料などが、支持基板２を形成するために使用することできる。これらのうち、成形の容易性などから、とくに、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂が好ましく、記録層３が、後述するポルフィリン系色素を含んでいる場合には、ポリオレフィン樹脂が好ましい。プラスチック材料のように撓み易い材料を用いた場合には、光記録ディスク１の反りの発生を抑制することができ、とくに有効である。ただし、ガラス、セラミックス、金属などを用いて、支持基板２を形成してもよい。支持基板２の表面上の凹凸パターンは、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形によって、支持基板２を形成する際に、形成されることが多いが、プラスチック材料以外の材料を用いて、支持基板２を形成する場合には、フォトポリマー法（２Ｐ法）によって成形することができる。
【００５７】
本実施態様においては、支持基板２上に、金属層３および誘電体層４が形成される。これらの金属層３および誘電体層４は、レーザー光によって、データを記録する際に生じる熱を効果的に放熱することができるものであればよく、金属層３は、たとえば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｐｄ、あるいは、これらの合金によって形成することができる。誘電体層４は、たとえば、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇから選ばれる金属のうちの少なくとも１種を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成され、とくに、ＺｎＳ−ＳｉＯ２  、Ａｌ２Ｏ３などによって、誘電体層４を形成することが好ましい。ＺｎＳ−ＳｉＯ２  によって、誘電体層４を形成する場合には、ＳｉＯ２  の含有量を１０ｍｏｌ％以上、４０ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。金属層３および誘電体層４を形成する方法としては、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法などの手法が挙げられる。
【００５８】
金属層３および誘電体層４の厚さは、とくに限定されるものではなく、たとえば、５ないし５０ｎｍ程度であり、好ましくは５なしし３０ｎｍ程度である。厚さが５ｎｍ未満となると、充分な放熱効果が得ることができない。その一方で、５０ｎｍを越えると、熱伝導性が良くなり過ぎ、感度が低下するおそれがある。
【００５９】
次いで、有機化合物を主成分とする記録層５が形成される。
【００６０】
本実施態様においては、有機化合物は、ポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素を含んでいる。
【００６１】
ここに、有機化合物を主成分とするとは、不可避成分を除いて、記録層が有機化合物で構成されている場合だけでなく、記録層が、ポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素以外の有機化合物を含んでいる場合や、記録層の諸特性向上の目的で、記録層中に１０重量％以下の無機化合物を含有している場合も含まれる。
【００６２】
ポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素は、３７０ないし４２５ｎｍの波長の範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、記録時のレーザー光および再生時のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、かつ、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じる性質を有していることが好ましい。
【００６３】
記録時のレーザー光の波長領域３９０ないし４２０ｎｍにおける屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が１．２以下のポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素を用いることによって、データの記録時において、ポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素が３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、３９０ないし４２０ｎｍの波長領域において、低屈折率から高屈折率（たとえば、１．４５ないし１．６５）への屈折率変化が生じる。このようにして、記録ピットが形成され、データが記録される。データの再生時においては、記録ピットとその周囲の未記録部との間の３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光に対する反射率の差を利用して、データが読み取られる。この原理に基づいて、３９０ないし４２０ｎｍの記録時のレーザー光による記録および３９０ないし４２０ｎｍの再生時のレーザー光による再生が行われる。より大きな屈折率変化を生じさせるために、３７０ないし４２５ｎｍの波長の範囲における屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎは、１．１以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎの下限値は、とくに限定されないが、通常は、０．７程度である。
【００６４】
また、ポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．１５以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。記録時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、記録ピット形成部において、記録時のレーザー光を適度に吸収することができ、局所的に、温度が上昇し、溶融または分解による屈折率変化が生じやすい。記録時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５未満である場合には、記録時のレーザー光の吸収率が低下し、通常の記録パワーでのデータの記録が困難となる。また、再生時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、データの未記録部において、所望の反射率が得られ、記録ピットと未記録部との間の反射率差を読み取りやすい。しかしながら、再生時のレーザー光の波長におけるポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが大きくなりすぎると、反射率が低下してしまうので、再生時のレーザー光の波長における消衰係数ｋは２．０以下であることが好ましい。このような観点から、ポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．３以上、２．０以下が好ましく、０．４以上、２．０以下がより好ましい。
【００６５】
ポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）および消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、薄膜状態のポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の吸収スペクトルを測定することによって、測定される。薄膜状態の有機化合物の吸収スペクトルは、一般的には、以下のようにして、測定される。吸収スペクトルを測定すべき有機化合物を適切な有機溶媒に溶解させ、得られた溶液を、スピンコーティング法により、グルーブやピットなどが形成されていないポリカーボネート平板上に、有機化合物が特定の配向性を持たないように、塗布して、４０ないし１００ｎｍ程度の膜厚を有する薄膜を形成する。スピンコーティング時の溶媒揮発の際に、有機化合物が著しく結晶化し、あるいは、会合するような場合には、別種の溶媒を選択する。こうして作成した有機化合物薄膜付きポリカーボネート基板の透過吸収スペクトルを、分光光度計にて測定する。
【００６６】
ポルフィリン系色素としては、次の一般式（１）で表わされる色素のうち、上述した条件を満たす色素が選ばれる。
【００６７】
【化２５】
2004164716.tif 000015
本発明において、好ましくは、ポルフィリン系色素の一般式（１）中のＲが、
【００６８】
【化２６】
2004164716.tif 000016
【００６９】
【化２７】
2004164716.tif 000017
【００７０】
【化２８】
2004164716.tif 000018
または、
【００７１】
【化２９】
2004164716.tif 000019
から選ばれる。
【００７２】
一方、モノメチンシアニン系色素としては、次の一般式（２）で表わされる色素のうち、上述した条件を満たす色素が選ばれる。
【００７３】
【化３０】
2004164716.tif 000020
一般式（２）において、ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群を表わし、含窒素複素環は縮合環であってもよく、置換基を有していてもよい。ＱおよびＱ’は、同一でも異なっていてもよい。
【００７４】
Ｒ１およびＲ１’は、アルキル基を表わし、アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ１およびＲ１’は同一でも異なっていてもよい。Ｒ１およびＲ１’として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし６のアルキル基が挙げられ、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が好ましい。
【００７５】
Ｘ−は陰イオンを表わし、ｍは０または１である。Ｘ−として用いられる陰イオンとしては、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン、ＣｌＯ４−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＳＣＮ−などが挙げられる。
【００７６】
一般式（２）において、モノメチン基の両側の含窒素複素環の例としては、それぞれ、次の一般式（Ａ）で示されるインドレニン、一般式（Ｂ）で示されるキノリン、一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾール、一般式（Ｄ）で示されるベンゾイミダゾール、一般式（Ｅ）で示されるベンゾセレナゾールが挙げられる。なお、これらの一般式（Ａ）ないし（Ｅ）においては、便宜的に、窒素原子が電荷を帯びた状態で示されている。
【００７７】
【化３１】
2004164716.tif 000021
一般式（Ａ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ７およびＲ８は、メチル基あるいはエチル基を表わし、同一でも異なっていてもよい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルコキシ基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００７８】
一般式（Ｂ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００７９】
一般式（Ｃ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００８０】
一般式（Ｄ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ６は、メチル基あるいはエチル基を表わす。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００８１】
一般式（Ｅ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００８２】
一般式（２）において、モノメチン基の両側の含窒素複素環の一方が、一般式（Ａ）で示されるインドレニンおよび一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾールから選ばれ、他方が、一般式（Ａ）で示されるインドレニン、一般式（Ｂ）で示されるキノリン、一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾール、一般式（Ｄ）で示されるベンゾイミダゾールおよび一般式（Ｅ）で示されるベンゾセレナゾールから選ばれる。これらのうちでも、モノメチン基の両側の含窒素複素環が同一であるいわゆる対称構造のモノメチンシアニン系色素が好ましい。すなわち、モノメチン基の両側の含窒素複素環がともに、一般式（Ａ）で示されるインドレニンあるいは一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾールである対称構造のモノメチンシアニン系色素が、好ましく用いられる。対称構造のモノメチンシアニン系色素は、非対称構造のモノメチンシアニン系色素に比して、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲において、色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が小さくなる傾向があり、データ記録の前後で、大きな変調が得られやすく、好ましい。また、屈折率ｎや消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）を調整したり、溶解性を向上させるなどの目的のために、２種以上のモノメチンシアニン系色素を併用してもよい。
【００８３】
具体的には、以下の構造式で示されるモノメチンシアニン系色素が、好ましく使用される。
【００８４】
【化３２】
2004164716.tif 000022
これらのポルフィリン系色素あるいはモノメチンシアニン系色素の中の１種を単独で用い、あるいは、２種以上を併用して、あるいは、さらに、以下に述べる一重項酸素クエンチャーを併用して、３９０ないし４２０ｎｍの波長の範囲における色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）および消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）が、所望の値になるように調整する。
【００８５】
本実施態様において、モノメチンシアニン系色素の場合は、好ましくは、記録層５が、一重項酸素クエンチャーを含んでいる。さらに、記録層５が、モノメチンシアニン系色素カチオンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合体を含んでいてもよい。
【００８６】
クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系や、ビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系などの金属錯体が好ましく用いられる。また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物や、ヒンダードアミンなどのアミン系のクエンチャーも好ましく使用される。
【００８７】
イオン結合体を構成するモノメチンシアニン系色素としては、インドレニン環を有するモノメチンシアニン色素が好ましく、イオン結合体を構成するクエンチャーとしては、ビスフェニルジチオール金属錯体などの金属錯体色素が好ましい。
【００８８】
クエンチャーは、モノメチンシアニン色素と別個に添加しても、イオン結合体の形で用いてもよいが、モノメチンシアニン系色素の総計１モルに対して、１モル以下、とくに、０．０５ないし０．８モル程度を添加することが好ましい。これによって、記録層５の耐光性を向上させることができる。
【００８９】
記録層５は、好ましくは、スピンコーティング法によって形成される。すなわち、ポルフィリン系色素を、適当な溶媒に溶解し、あるいは、モノメチンシアニン系色素と、必要に応じて、一重項酸素クエンチャーなどを、適当な溶媒に溶解して、塗布液を調製し、スピンコーティング法によって、塗布液を支持基板２上に塗布し、必要に応じて、塗布膜を乾燥して、記録層５を形成することが好ましい。スピンコーティング法に代えて、スクリーン印刷法、ディップ塗布法などを用いて、記録層５を形成することもできる。
【００９０】
ポルフィリン系色素を溶解して、塗布液を調製するために用いられる有機溶剤としては、炭素数が５ないし７のケトン系溶剤を用いることが好ましく、より好ましくは、直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が用いられる。炭素数が５ないし７の直鎖状および分岐状の構造を有するケトン形溶剤の具体例としては、３−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、３−ヘキサノン、２−ヘキサノン（ブチルメチルケトン）、４−ヘプタノン、２−ヘプタノンが挙げられる。
【００９１】
さらに好ましくは、炭素数が６のケトン系溶剤、とくに、炭素数が６の直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤が、ポルフィリン系色素を溶解するための有機溶剤として用いられ、より好ましく用いられる炭素数が６の直鎖状および分岐状の構造を有するケトン系溶剤の具体例としては、メチルイソブチルケトン、３−ヘキサノン、２−ヘキサノン（ブチルメチルケトン）が挙げられる。
【００９２】
モノメチンシアニン系色素を溶解して、塗布液を調製するために用いられる有機溶剤は、用いるモノメチンシアニン系色素に応じて、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、芳香族系溶剤、フッ素アルコール溶剤、ハロゲン化アルキル系溶剤などから、適宜選択することができる。これらの中では、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどが好ましく使用される。
【００９３】
記録層５は、ランドＬの部分で、３０ないし１２０ｎｍの膜厚を有するように形成され、好ましくは、４０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成され、記録層５は、グルーブＧの部分では、５ないし９５ｎｍ、好ましくは、１０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成される。記録層５の膜厚は、所望の反射率や変調度、隣接トラック、マークの熱干渉を考慮して、設計することが好ましい。これらに影響を与えるパラメータとしては、支持基板２の形状、色素の熱分解挙動や光学特性、隣接する層の光学特性や熱伝導性などが挙げられる。
【００９４】
記録層５上には、誘電体層６が形成される。誘電体層６は、記録層３を機械的、化学的に保護する機能を有するとともに、記録層５の光学特性を調整する干渉層としての機能を有している。誘電体層６は、単層によって構成されていても、複数層によって構成されていてもよい。
誘電体層６は、記録層５上に位置しているため、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光および再生時のレーザー光を透過させる性質を有していることが必要であり、記録時のレーザー光および再生時のレーザー光の波長である３９０ないし４２０ｎｍにおける誘電体層６の屈折率ｎ４（複素屈折率の実部）が２以上であることが好ましい。屈折率ｎ４が２以上であると、光記録ディスク１の反射率を目的とする範囲（たとえば、１５ないし２０％）に容易に調整することができ、好ましい。ｎ４の上限は、とくに限定されないが、３９０ないし４２０ｎｍの波長の光を透過させる材料として、現実に知られている材料にあっては、３程度である。また、誘電体層６の記録時のレーザー光および再生時のレーザー光の波長である３９０ないし４２０ｎｍにおける消衰係数ｋ４（複素屈折率の虚部）が０．２以下であることが好ましい。消衰係数ｋ４が０．２以下であると、誘電体層６でのエネルギー吸収分が減って、光記録ディスク１の反射率調整のマージンが広がり、または、感度が良好になるため、好ましい。一方、消衰係数ｋ４の下限はとくに限定されないが、０程度である。
【００９５】
誘電体層６は、セリウム系誘電体を含んでいる。セリウム系誘電体を用いて、誘電体層６を形成すると、記録信号のノイズレベルおよび隣り合ったトラックへの記録信号のクロストークが大幅に低減される。
【００９６】
誘電体層６は、好ましくは、スパッタリングによって形成される。
【００９７】
誘電体層６は、好ましくは、酸化セリウムを含み、さらに好ましくは、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物を含んでいる。誘電体層６に含まれるセリウム系誘電体が、酸化セリウムに加えて、酸化アルミニウムを含んでいると、スパッタリングによって、誘電体層６を形成する際に、ターゲットの損傷を効果的に防止することができ、さらに好ましい。
【００９８】
誘電体層６の厚さは、とくに限定されるものではなく、たとえば、２０ないし１５０ｎｍ程度であり、３０ないし７０ｎｍが好ましい。誘電体層６の厚さが、２０ｎｍ未満となると、光透過層７の成分が誘電体層６内に浸透し、記録層５を侵すおそれがあり、その一方で、誘電体層６の厚さが、１５０ｎｍを超えると、熱伝導性が良くなり過ぎて、感度が低下するおそれがある。
【００９９】
誘電体層６上には、光透過層７が形成される。
【０１００】
光透過層７を形成する材料としては、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂などから選択することができ、とくに、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などの活性エネルギー線硬化型樹脂が好ましい。また、光透過層７を形成する材料としては、無溶剤型の材料であることが好ましい。
【０１０１】
好ましくは、光透過層７は、紫外線硬化性化合物もしくは電子線硬化性化合物またはそれらの重合用組成物によって形成される。紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートなどのアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合などの紫外線照射または電子線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマーなどを挙げることができる。これらは、多官能化合物、とくに３官能以上の化合物であることが好ましく、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよい。単官能化合物を含んでいてもよい。
【０１０２】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては、分子量２０００ないし１００００のものが好適である。これらの例としては、スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレートなども挙げられるが、とくに好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）  アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）  アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）  アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）  アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ）  アクリレートなどが挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体などが挙げられる。
【０１０３】
紫外線硬化性材料としては、さらに、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も、好ましく使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、とくに、分子内に、２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量にとくに限定されるものではないが、良好な硬化性が得られることから、６０ないし３００、とくに１００ないし２００であることが好ましい。
【０１０４】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、とくに限定されるものではない。たとえば、光カチオン重合触媒として、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族ないし５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６  アニオン（ただし、Ｍは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩などを用いることができ、とくに、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【０１０５】
光透過層７を形成するために用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂としては、２５℃において、１，０００ないし１０，０００センチポイズの粘度を有するものが好ましい。
【０１０６】
誘電体層６上に、活性エネルギー線硬化型樹脂をスピンコーティング法によって塗布し、その後、紫外線などの活性エネルギー線を照射して、硬化させ、光透過層７を形成することが好ましい。
【０１０７】
また、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さい樹脂によって形成された所望の厚さのシートを、シート状の樹脂と同様の条件を満足する接着剤を使用して、誘電体層６上に貼付し、光透過層７を形成することもできる。
【０１０８】
光透過層７を形成するためのシートに用いられる樹脂としては、たとえば、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン、ポリエステルなどを挙げることができる。樹脂のシートの貼付前に、樹脂の熱変形温度に対して、−２０ないし＋８０℃の範囲で、シートの成膜時の残留応力を取り除く目的で、シート状の樹脂に、アニール処理（熱緩和処理）を施すこともできる。シート状の樹脂に、アニール処理を施さなかった場合には、光記録ディスクの保存時に、シートの残留応力の影響で、光記録ディスクが変形するおそれがある。アニール処理を施すための加熱手段は、ヒーター、ホットプレート、ホットローラ、ベーク炉、電磁誘導加熱などの公知の加熱手段の中から、工程条件などを元に、適宜選択することができる。
【０１０９】
樹脂のシートを貼付するために使用される接着剤は、感圧性粘着剤や紫外線硬化型樹脂などから選択することができる。たとえば、光透過層７の材料として上述した活性エネルギー線硬化型樹脂は、樹脂のシートを貼付するための接着剤として好適である。
【０１１０】
樹脂のシートを誘電体層６に貼付して、光透過層７を形成する場合には、誘電体層６上に、接着剤として、活性エネルギー線硬化型樹脂をスピンコーティング法によって塗布し、未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂層上に、樹脂のシートを載置し、その後、紫外線などの活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化することによって、樹脂のシートを接着して、光透過層７を形成するとよい。より具体的には、真空中（０．１気圧以下）において、樹脂のシートを未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂層上に載置し、次いで、大気圧雰囲気に戻して、紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化させるとよい。
【０１１１】
光透過層７の膜厚ｔは、一般に、ディスクスキューマージンθ（以下、スキューマージンθと略記する。）と、記録時のーザー光および再生時のーザー光の波長λと、対物レンズの開口数ＮＡとの間で相関関係があり、特開平３−２２５６５０号公報に、これらのパラメータとスキューマージンとの関係θ∝λ／｛ｔ×（ＮＡ）３ ｝が示されている。
【０１１２】
ここで、光記録ディスク１を実際に量産する場合、スキューマージンθを、歩留まりとコストから、０．４°として、レーザー光の短波長化、対物レンズの開口数の高ＮＡ化を考慮して、λ＝３８０ｎｍで、ＮＡ≧０．７６の場合には、光透過層７の膜厚ｔが１７０μｍ以下であれば、ＤＶＤと同等のスキューマージンθが確保できる。
【０１１３】
一方、光透過層７の膜厚の下限は、誘電体層６や記録層５を保護する保護機能の確保という観点から、１μｍ以上であることが好ましい。シート状の樹脂を用いて、光透過層７を形成した場合には、樹脂の性質から、シートの厚さを均一に薄くすることが困難であるため、光透過層７の膜厚の下限を接着剤層の厚みを含めて、５０μｍ以上とすることが好ましい。したがって、より好ましい光透過層７の膜厚ｔは、スピンコーティング法により、光透過層７を形成する場合には、１ないし１５０μｍが好ましく、シート状の樹脂を貼付して、光透過層７を形成する場合には５０ないし１５０μｍが好ましい。
【０１１４】
【実施例】
以下、本発明の効果を、より一層、明らかにするために、実施例および比較例を掲げる。
【０１１５】
実施例１
下記構造式（１）で示されるポルフィリン系色素をメチルイソブチルケトンに溶解して、塗布液を調製し、ノルボルネン系モノマーを開環重合した後に、水素添加して得られた下記構造式で示される繰返し単位を有するポリオレフィン樹脂である日本ゼオン株式会社製「Ｚｅｏｎｅｘ」（商品名）によって形成され、グルーブが形成された直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのポリオレフィン樹脂基板の表面に、塗布液を、スピンコーティング法により塗布し、５０ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【０１１６】
【化３３】
2004164716.tif 000023
【０１１７】
【化３４】
2004164716.tif 000024
グルーブＧの深さＧｄは８５ｎｍ、グルーブＧの幅Ｇｗは１６０ｎｍ、グルーブＧのピッチ（トラックピッチ）Ｇｐは３２０ｎｍであった。
【０１１８】
次いで、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で、記録層上に形成した。
【０１１９】
さらに、誘電体層上に、昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティング法によって、塗布し、紫外線を照射して、１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃１を作製した。
【０１２０】
比較例１
酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物に代えて、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１３Å／秒で、記録層上に形成した以外は、実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプル＃２を作製した。
【０１２１】
実施例２
下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を、テトラフルオロプロパノールに溶解して、塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成され、グルーブが形成された支持基板上に、スピンコーティング法によって、塗布液を塗布して、５０ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【０１２２】
【化３５】
2004164716.tif 000025
グルーブＧの深さＧｄは８５ｎｍ、グルーブＧの幅Ｇｗは１６０ｎｍ、グルーブＧのピッチ（トラックピッチ）Ｇｐは３２０ｎｍであった。
【０１２３】
次いで、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で、記録層上に形成した。
【０１２４】
さらに、誘電体層上に、昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティング法によって、塗布し、紫外線を照射して、１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃３を作製した。
【０１２５】
実施例３
４０ｎｍの膜厚の誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で、記録層上に形成した以外は、実施例２と全く同様にして、光記録ディスクサンプル＃４を作製した。
【０１２６】
比較例２
酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物に代えて、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比５：５）よりなる６０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１３Å／秒で、記録層上に形成した以外は、実施例２と同様にして、光記録ディスクサンプル＃５を作製した。
【０１２７】
比較例３
酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物に代えて、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート９３Å／秒で、記録層上に形成した以外は、実施例２と同様にして、光記録ディスクサンプル＃６を作製した。
【０１２８】
比較例４
スパッタリングレートを１１Å／秒とした以外は、比較例３と同様にして、光記録ディスクサンプル＃７を作製した。
【０１２９】
こうして得られた光記録ディスクサンプル＃１ないし＃７のノイズレベルを測定した。
【０１３０】
ノイズレベルを測定するにあたっては、パルステック株式会社製の記録再生装置「ＤＤＵ−１０００」（レーザー波長４０５ｎｍ、開口数ＮＡ０．８５）を用い、線速５．３ｍ／秒で、８Ｔにあたるピット長６４０ｎｍの繰り返し単一信号を、記録出力１０ｍＷで、光記録ディスクサンプル＃１ないし＃７に記録し、再生出力Ｐｗ０．４ｍＷで、記録した信号を再生した。
【０１３１】
再生されたＨＦ（ＳＵＭ）信号を、ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ株式会社製スペクトルアナライザー「ＴＲ４１７１」に入力し、再生された信号の８Ｔ信号の帯域に相当する３．１３ＭＨｚないし５．１３ＭＨｚ（中心周波数４．１３ＭＨｚ）の周波数帯域のノイズレベルを測定した。その際のビデオバンド幅（ＶＢＷ）は１００Ｈｚ、レゾルーションバンド幅は３０ｋＨｚとした。
【０１３２】
ノイズレベルの測定結果は、表１に示されている。表１においては、光記録ディスクサンプル＃１ないし＃７の３．１３ＭＨｚないし５．１３ＭＨｚ（中心周波数４．１３ＭＨｚ）の周波数帯域のノイズレベルの平均値が示されている。
【０１３３】
【表１】
2004164716.tif 000026
表１から、ポルフィリン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングにより、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃１においては、ポルフィリン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃２に比して、ノイズレベルが大幅に低下していることが認められる。
【０１３４】
また、表１から、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４においては、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比５：５）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃５およびモノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート９３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃６に比して、ノイズレベルが大幅に低下していることがわかる。
【０１３５】
さらに、表１から、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃７においては、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、同じスパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４に比し、ノイズレベルがはるかに高く、また、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート９３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃６に比して、ノイズレベルはほとんど改善されてはおらず、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、記録層上に形成した場合には、スパッタリングレートを低下させても、ノイズレベルは改善されなかったことが認められる。
【０１３６】
また、表１から、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した光記録ディスクサンプル＃１、光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４は、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した光記録ディスクサンプル＃２、光記録ディスクサンプル＃５、光記録ディスクサンプル＃６および光記録ディスクサンプル＃７に比して、ノイズレベルが大幅に改善されており、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した場合には、記録層を形成するために用いた色素の種類にかかわらず、ノイズレベルが大幅に改善されたことがわかる。
【０１３７】
さらに、光記録ディスクサンプル＃１ないし＃７のトラック＃０のみに、パルステック株式会社製の記録再生装置「ＤＤＵ−１０００」（レーザー波長４０５ｎｍ、開口数ＮＡ０．８５）を用い、線速５．３ｍ／秒で、８Ｔにあたるピット長６４０ｎｍの繰り返し単一信号を、記録出力１０ｍＷで、光記録ディスクサンプル＃１ないし＃７に記録し、隣り合うトラック＃１およびトラック＃１に隣り合うトラック＃２に漏れ込んだ信号を、再生出力Ｐｗ０．４ｍＷで再生し、ノイズレベルの場合と同様に、ＡＤＶＡＮＲＥＳＴ株式会社製スペクトルアナライザー「ＴＲ４１７１」を用いて、８Ｔ信号の帯域に相当する信号のピークのキャリアを測定して、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークを測定した。
【０１３８】
測定結果は、表２に示されている。
【０１３９】
【表２】
2004164716.tif 000027
表２において、トラック＃１およびトラック＃２でのクロストークは、トラック＃０に記録された信号のトラック＃１およびトラック＃２におけるキャリア／ノイズ比（Ｃ／Ｎ）と、トラック＃１およびトラック＃２において再生された信号強度のトラック＃０に記録された信号強度に対する信号強度比（％）によって、表わされている。
【０１４０】
表２から、ポルフィリン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃１においては、ポルフィリン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃２に比して、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少していることが認められる。
【０１４１】
また、表２から、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングにより、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４においては、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比５：５）よりなる誘電体層を、スパッタリングにより、スパッタリングレート１３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃５およびモノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート９３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃６に比して、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少していることがわかる。
【０１４２】
さらに、表２から、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃７においては、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングにより、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４に比して、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大きく、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、記録層上に形成した場合には、スパッタリングレートを低下させても、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークを顕著には減少させることができないことが認められる。
【０１４３】
また、表２から、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した光記録ディスクサンプル＃１、光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４は、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した光記録ディスクサンプル＃２、光記録ディスクサンプル＃５、光記録ディスクサンプル＃６および光記録ディスクサンプル＃７に比して、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少しており、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した場合には、記録層を形成するために用いた色素の種類にかかわらず、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少することが認められる。
【０１４４】
以上のように、実施例１、実施例２、実施例３、比較例１、比較例２、比較例３および比較例４によれば、ポルフィリン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃１においては、ポルフィリン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃２に比して、ノイズレベルが大幅に低下するとともに、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少することが判明した。
【０１４５】
また、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４においては、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比５：５）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃５およびモノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート９３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃６に比して、ノイズレベルが大幅に低下するとともに、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少することが判明した。
【０１４６】
さらに、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃７においては、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、同じスパッタリングレート１１Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４に比し、ノイズレベルがはるかに高く、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークも大きいことが認められ、また、モノメチンシアニン系色素を含む記録層上に、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート９３Å／秒で形成した光記録ディスクサンプル＃６に比して、ノイズレベルもトラック＃１およびトラック＃２へのクロストークもほとんど改善されず、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物（混合比８：２）よりなる５０ｎｍの膜厚を有する誘電体層を、スパッタリングによって、記録層上に形成した場合には、スパッタリングレートを低下させても、ノイズレベルもトラック＃１およびトラック＃２へのクロストークも顕著には改善されないことが判明した。
【０１４７】
また、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した光記録ディスクサンプル＃１、光記録ディスクサンプル＃３および光記録ディスクサンプル＃４は、硫化亜鉛と酸化シリコンの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した光記録ディスクサンプル＃２、光記録ディスクサンプル＃５、光記録ディスクサンプル＃６および光記録ディスクサンプル＃７に比して、ノイズレベルが大幅に改善されているとともに、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少しており、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物よりなる誘電体層を、記録層上に形成した場合には、記録層を形成するために用いた色素の種類にかかわらず、ノイズレベルが大幅に改善されるとともに、トラック＃１およびトラック＃２へのクロストークが大幅に減少することが判明した。
【０１４８】
本発明は、以上の実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１４９】
たとえば、前記実施例１ないし前記実施例２においては、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）を用いて、記録層上に、スパッタリングにより、誘電体層が形成されているが、混合比８：２の酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物を用いて、記録層上に、スパッタリングにより、誘電体層を形成することは必ずしも必要でなく、他の混合比の酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物を用いて、記録層上に、スパッタリングにより、誘電体層を形成することもできるし、また、酸化セリウム単体を用いて、記録層上に、スパッタリングにより、誘電体層を形成するようにしてもよく、さらには、酸化セリウム以外のセリウム化合物を用いて、記録層上に、スパッタリングにより、誘電体層を形成するようにしてもよい。
【０１５０】
また、前記実施例１ないし前記実施例２においては、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で、記録層上に形成しているが、酸化セリウムと酸化アルミニウムの混合物（混合比８：２）よりなる誘電体層を、スパッタリングによって、スパッタリングレート１１Å／秒で、記録層上に形成することは必ずしも必要でなく、状況に応じて、最適のスパッタリングレートを選択することができる。
【０１５１】
さらに、前記実施例１においては、下記構造式（１）で示されるポルフィリン系色素を用いて、記録層を形成しているが、下記構造式（１）で示されるポルフィリン系色素を用いて、記録層を形成することは必ずしも必要でなく、他のポルフィリン系色素を用いて、記録層を形成することもできる。
【０１５２】
【化３６】
2004164716.tif 000028
【０１５３】
【化３７】
2004164716.tif 000029
また、前記実施例２および前記実施例３においては、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成しているが、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成することは必ずしも必要でなく、他のモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成することもできる。
【０１５４】
【化３８】
2004164716.tif 000030
さらに、前記実施態様においては、下記一般式（１）で示されるポルフィリン系色素あるいは下記一般式（２）で示されるモノメチンシアニン系色素（ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群、Ｒ１およびＲ１’は、アルキル基、Ｘ−は陰イオンを表わし、ｍは０または１である。）を用いて、記録層が形成されているが、下記一般式（１）で示されるポルフィリン系色素あるいは下記一般式（２）で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層５を形成することは必ずしも必要でなく、モノメチンシアニン系色素に代えて、トリメチンシアニン系色素を用いて、記録層５を形成することもできるし、さらには、ポルフィリン系色素、モノメチンシアニン系色素、トリメチンシアニン系色素以外の色素を用いて、記録層５を形成してもよい。
【０１５５】
【化３９】
2004164716.tif 000031
【０１５６】
【化４０】
2004164716.tif 000032
【発明の効果】
本発明によれば、支持基板と、支持基板上に形成され、有機化合物を主成分とする記録層と、記録層上に形成された誘電体層と、誘電体層上に形成された光透過層を備え、記録信号のノイズレベルおよび隣り合ったトラックへの記録信号のクロストークを大幅に低減することのできる光記録ディスクおよびその製造方法を提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【符号の説明】
１  光記録ディスク
２  支持基板
３  金属層
４  誘電体層
５  記録層
６  誘電体層
７  光透過層
Ｇ  グルーブ
Ｌ  ランド
【図１】
2004164716.tif 000045