(57)【要約】【課題】露光マスクに付着した異物の除去。【解決手段】ステージ上に異物を除去、清掃するための粘着剤パターン部を設置したクリーンユニットを置き一定露光時間もしくは設定間隔が経過した時点、あるいは異物検出手段により露光用マスクへの異物の付着を検出したときにクリーンユニットが設置されたステージを清掃ポジションに移動することにより付着した異物を粘着剤層に吸着し除去する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光用マスクを粘着剤パターン部に密着・剥離動作させ異物を取り去ることを特徴とするごみ除去方法。
【請求項２】
近接場露光用マスクを粘着剤パターン部に密着・剥離動作させ異物を取り去る時に、マスク背面からの圧力を制御しマスクに微少振動を印加する事により異物除去効果を高めたことを特徴とするごみ除去方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は露光用マスクの異物除去方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年の半導体デバイスの集積度向上により光リソグラフィのさらなる微細化は必要不可欠のものとなっている。従来、光の波長により微細加工限界が制限される光リソグラフィ装置に対して、光の波長以下の微細加工を可能とする手段としてエバネッセント光を用いて露光マスク前面をレジスト面に密着させ露光させる方法が考えられる。この場合、露光マスクのメンブレンとレジスト面との間隔は常にウエハに対して１００ｎｍ以下に保持する事が求められ平面度に対する要求が厳しくなるのは避けられない。しかしながら、露光用マスクにゴミやレジスト破片等の異物が残存するとその異物により露光用マスクとウエハの露光面の密着性や平面度が悪化する。その露光面の密着性の悪化は、露光パターンの欠陥やレジスト部材のウエハ母材からの更なる剥がれなどにより歩留まりの低下の要因となる。このような異物を露光用マスク面から除去するのに、従来は全ての露光サイクルが終了するまで待ってから装置を停止して、露光用マスクを装置より取り外し表面を洗浄し異物を除去していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
これらの異物除去作業は露光工程の連続性を中断し、３０分から１時間程度の時間を要する。実際の露光を行なえる時間が短縮されてスループットが低下するという不都合があった。また、クリーニング手段により露光用マスクから除去した異物がクリーニング部材から剥がれて飛散したり、再付着を起こすという問題もある。また、露光マスクの脱着のさいにも同様な問題が発生する可能性がある。
【０００４】
更にエバネッセント光一括露光では、従来では問題とされなかったサブミクロンサイズの異物の存在までが問題となるほどマスクやウエハの清浄度が要求される。本発明の目的は、以上の問題を解消するもので、サブミクロンサイズの異物等が存在しても露光用マスクを傷つけることなく確実に除去することができる。また、露光中においても露光マスクを取り外す必要が無い為に一定間隔でクリーニング作業が実施できる。このように露光用マスクのメンブレンを装置が稼動中に常に清浄に維持することができる露光装置を提供することが可能となる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決する為になされたものであり、ＸＹステージ上に異物を除去・清掃するための粘着剤パターン部を設置したクリーンユニットを置き、一定露光時間・間隔が経過もしくは異物検出手段により露光用マスクへの異物の付着を検出したときに前記クリーンユニットが設置されたＸＹステージが移動することにより露光用マスクのメンブレン面（ウエハ接触面）に付着した異物を粘着剤層に吸着し除去・清掃する。
【０００６】
また、クリーンユニット駆動用のＸＹステージをウエハ移動用のＸＹステージと兼用した場合には、クリーンユニット部はＸＹステージ上のウエハステージからオフセット配置し、異物除去作業によるウエハへの異物再付着などの影響を排除することが可能となる。とくに、ステップ・アンド・リピート動作による露光などのようにウエハに比べてマスクが充分小さい場合などはウエハの一部または周囲などにマスク面より大きい粘着剤層を配置して異物を吸着除去・清掃することも可能である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態について、添付の図１、図２、図３を参照して説明する。図１は、本発明の粘着剤パターン部を配置したクリーンユニットの構成を示す図面。図２は本発明のクリーンユニットを用いた近接場光露光装置の構成を示す図面である。
【０００８】
本発明の粘着剤パターン部を配置したクリーンユニット３００について図１、２を参照して説明する。
【０００９】
図１におけるクリーンユニット３００は、粘着剤支持体３０２、粘着剤層３０１から構成されている。粘着剤層３０１は、粘着剤支持体３０２の上に配置された構造となっている。粘着剤層３０１は、アクリル樹脂系、シリコン樹脂系、フッ素樹脂系、ゴム系（天然ゴム、合成ゴム）などのポリマーを主成分とした、常温下で感圧接着性を有するものである。
【００１０】
図２の近接場光露光装置２００の構成で、露光マスク２０１は圧力調整手段２１３からの圧力で加圧され弾性変形による撓みによりレジスト２０２／クリーンユニット３００に密着する。
【００１１】
（実施例）
次に本発明の粘着剤によるクリーンユニットを使用した露光装置の動作を図２を参照して説明する。
【００１２】
被露光物としては、基板２０３の表面にレジスト２０２を形成する。レジスト２０２／基板２０３をステージ２０４上に取付け、ステージ２０４を駆動することにより、露光マスク２０１に対する基板２０３のマスク面内２次元方向の相対位置あわせを行なう。次に、マスク面法線方向にステージ２０４を駆動し、露光マスク２０１のおもて面と基板２０３上のレジスト面２０２との間隔が全面にわたって１００ｎｍ以下になるように両者を密着させる。この後、露光光源２０９から照射される露光光２１０をコリメータレンズ２１１で平行光にした後、ガラス窓２１２を通し、圧力調整容器２０５内に導入し、露光マスク２０１に対して裏面（図２では上側）から照射し、露光マスク２００おもて面のマスク母材２０６上の遮光膜２０７に形成された微少開口パターンから滲み出す近接場でレジスト２０２の露光を行なう。なお、露光マスクとレジスト／基板の密着は圧力調整手段２１３からの圧力により露光マスク２０１に弾性変形による撓みを生じさせることにより薄膜部が全体にわたって密着させることが出来る。
【００１３】
露光サイクル完了後に異物除去のためのクリーンサイクルにはいる、ステージ２０４によりレジスト２０２／基板２０３を退避させ、ステージ３０４によりクリーンユニット３００を露光マスク２０１の下部に位置あわせを行なう。次に、マスク面法線方向にステージ３０４を駆動し、露光マスク２０１のおもて面とクリーンユニット３００との間隔が全面にわたって１００ｎｍ以下になるように両者を密着させる。圧力調整手段２１３からの圧力を漸増させ露光マスク２０１に弾性変形による撓みを生じさせる。この時、露光マスク２０１は中心部から変形を始めクリーンユニット３００の粘着剤層３０２に接触する。圧力を漸増するごとに、密着面が円周上に周囲に広がり露光マスク２０１上の異物は粘着剤層３０２に吸着される。一定時間経過後に圧力調整手段２１３により圧力調整容器２０５内の圧力を漸減させることにより、露光マスク２０１の変形による撓みを解消し、粘着剤層３０２から引き離す。この時に露光マスク２０１上の異物は粘着剤層３０２に吸着されて、マスク表面から除去される。
【００１４】
【発明の効果】
本発明の粘着剤パターン部を設置したクリーンユニットにより、露光マスクに付着した異物を高い除去率で除去できるため、露光パターンの欠陥やレジスト部材のウエハ母材からの更なる剥がれなどによる歩留まりの低下を減少できる。また、マスクの異物除去のためにマスクを露光装置から取り外して洗浄する必要がない為、スループットの向上が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】粘着剤を配置したクリーンユニットの一例
【図２】本発明の粘着剤によるクリーンユニットを用いた近接場光露光装置
【図３】粘着剤を周囲に配置・一体化したウエハの一例
【符号の説明】
２０１  露光マスク
２０２  レジスト
２０３  基板
２０４  ステージ
２０５  圧力調整容器
２０６  マスク母材
２０７  遮光膜
２０９  露光光源
２１０  露光光
２１１  コリメータレンズ
２１２  ガラス窓
２１３  圧力調整手段
３００  クリーンユニット
３０１  粘着剤層
３０２  粘着剤支持体
３０４  ステージ
４００  被露光用ウエハ（粘着剤層付き）
４０１  粘着剤層
４０２  レジスト
４０３  ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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