(57)【要約】【課題】　可能な限り大きな範囲の粒子形状物質を取り扱う。【解決手段】　粒子形状物質（８０）を取り扱うための装置が、この物質を収容し取り扱うための加工室（１３）を有する。ベース（２２）は一方を他方の上にして異なる平面で互いに重なるように配置された複数のガイドプレートからなり、その間にスロットが配置され、これを介して加工エア（７８）が加工室（１３）内に本質的に水平方向成分動作で方向付けられ得る。ガイドプレートと相互作用する垂直調整器（７２）が設けられており、これを用いてガイドプレートの間の距離とこれによるスロットの高さが可変に構成されている。【選択図】　図２
2004130310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
　粒子形状物質（８０）を取り扱うための装置であって、物質（８０）を収容して取り扱うための加工室（１３）を有し、加工室（１３）のベース（２２）が、一方を他方の上にして異なる平面で互いに重なるように配置された複数のガイドプレート（２６−３１）からなり、その間にスロット（３６−４２）が形成されており、これらを介して加工エア（７８）が加工室（１３）内に本質的に水平方向成分動作で方向付けられていて、ガイドプレート（２６−３１）と相互作用する垂直調整器（７２）が設けられており、これを用いてガイドプレート（２６−３１）の間の距離とこれによるスロット（３６−４２）の高さが可変に構成されていることを特徴とする装置。
【請求項２】
　ガイドプレート（２６−３１）の間の垂直距離がゼロから最大距離まで可変である方式で、垂直調整器（７２）が構成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
　ガイドプレート（２６−３１）が、垂直調整可能な方向に行き来する振動をされ得るように、垂直調整器（７２）が構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
　垂直調整器（７２）が、ガイドプレート（２６−３１）の各々と接続される少なくとも１つの調整トラバース（５２）を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
　垂直調整器（７２）が、ベース（２２）の中央に配置される垂直調整部材（６４）を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
　放射方向外側から内側へ見たときに、一方を他方の上に配置した環状のガイドプレート（２６−３１）からなるベース（２２）において、中央の直立した垂直調整部材（６４）があり、これが横材（５８）の放射方向内側端部に接続されていて、その放射方向外側端部において旋回可能に連結されていることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
　垂直調整部材（６４）が、圧縮エア調整スタッド（６６）として構成されていることを特徴とする請求項５又は６に記載の装置。
【請求項８】
　垂直調整器（７２）が、ベース（２２）の下方に配置されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
　調整トラバース（５２）が、放射方向に延在した複数の横材（５８）、特に３つから６つの横材（５８）を有することを特徴とする請求項４から８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
　一方を他方の上に配置したガイドプレートの異なるグループからなるベースの場合に、各グループが垂直調整器と相互作用することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、粒子形状物質を取り扱うための装置であって、物質を収容して取り扱うための加工室を有し、加工室（プロセス室）のベースが、一方を他方の上にして異なる平面で互いに重なるように配置された複数のガイドプレートからなり、その間にスロットが形成されており、これらを介して加工エア（プロセス・エア）が加工室内に本質的に水平方向成分動作で方向付けられ得る装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
　このような装置は、例えば、独国特許ＤＥ１９９０４１４７Ｃ２号及び独国特許出願ＤＥ１００５４５５７Ａ１号によって開示されている。
【０００３】
　このような装置は、粒子形状物質を乾燥し、粒状にし又は覆うのに役立つ。
【０００４】
　ガス状媒体、すなわち“加工エア”は、加工室内にベースを介して方向付けられ、ほぼ水平に方向付けられる方式で、重なったガイドプレートの間の多くのスロットを通り、同時に加工室に入る。
【０００５】
　この技術におけるガイドプレートは、最初は、かわらの形で環状リングを形成するスロットが放射方向に延在するように、一方が他方の上に配置されるように組み立てられていた。しかしながら、傾いてかわらの形で重なっているガイドプレートは、比較的不均一な又は波状のベース表面を形成する。
【０００６】
　この技術の更なる発展によれば、ガイドプレートは、異なる水平面で一方が他方の上に置かれるように構成されていた。本発明の主題は、このように構成されたベースである。
【０００７】
　独国特許ＤＥ１９９０４１４７Ｃ２号は、円形ベースのセカントに沿って延在するスロットを開示している。ここでは２つのグループに属する平坦なガイドプレートがあり、これらは、各場合において一方が他方の上に配置されている。スロットは、中央の斜めの上昇領域に向かって通過する加工エアを方向付けるように配向されている。
【０００８】
　独国特許出願ＤＥ１００５４５５７Ａ１号においては、外周領域のスロットが、丸い加工室の外側輪郭に適合されていて、放射方向内側に見たときに、直線的な斜めの上昇領域の輪郭にだんだんと近づいている。取り扱われた生成物を放出するために、ベースの中央部分が持ち上げられ得る。その結果、中央の開口は、その開口に接続されるパイプを介して生成物を放出するために利用される。
【０００９】
　独国特許ＤＥ１０２０２５８４Ｃ１号においては、スロットが、ベースの中心点に関して偏心するように配置されたスプレーノズルの周りに及ぶように構成されている。
【００１０】
　独国特許出願ＤＥ１０１２９１６６Ｃ１号においては、ガイドプレートが環状プレートとして構成されていて、環状スロットが形成されるようになっている。
【００１１】
　薬剤の分野で主に使用されるこの技術において、可能な限り単一の装置で異なるタイプの生成物を取り扱うことが試みられている。粒子形状物質の範囲は、この場合、ダストと同じくらい微細で通常粒化されてより大きな塊を形成する粉末から、コーティング剤で覆われる比較的大きなタブレットや長楕円体に及ぶ。
【００１２】
　加工室を充填したり空にしたりするのも問題がある。特に超微細粒子の場合に、物質粒子がベースを通ってスロットを介して加工室から出て、加工エアを通す通路に入るというリスクがある。
【００１３】
　これは、清掃の間にかなりの問題になり、例えば他の生成物に切り替えるときに、清掃の目的で装置を完全に分解する必要があるという要因がある。
【００１４】
　独国特許出願ＤＥ３７０５３４３Ａ１号は、全ベースをプランジャを介して持ち上げることを開示している。ベースを囲む錐形に拡大した壁と持ち上げられた壁の間の周方向のスロットは、取り扱われた生成物を放出するために利用される。
【特許文献１】独国特許ＤＥ１９９０４１４７Ｃ２号
【特許文献２】独国特許出願ＤＥ１００５４７７５Ａ１号
【特許文献３】独国特許ＤＥ１０２０２５８４Ｃ１号
【特許文献４】独国特許出願ＤＥ１０１２９１６６Ｃ１号
【特許文献５】独国特許出願ＤＥ３７０５３４３Ａ１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
　それゆえ、本発明の目的は、可能な限り大きな範囲の粒子形状物質を取り扱うことができ、優れた結果をもたらす効果のある最初に述べたタイプの装置を開発することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
　本発明による課題を解決するための手段を例示すると、各請求項に記載の粒子形状物質を取り扱うための装置である。
【発明の効果】
【００１７】
　可能な限り大きな範囲の粒子形状物質を取り扱うことができ、優れた結果をもたらす効果がある。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
　本発明によれば、ガイドプレートと相互作用する垂直調整器が設けられており、これを用いてガイドプレートの間の距離とこれによるスロットの高さが可変に構成されていることで目的は達成される。
【００１９】
　垂直調整可能であるため、パラメーターが追加的に可変となる。これは異なる物質粒子をフレキシブルな方式で反応させることを可能にする。充填の程度や、移動される粒子形状物質のサイズや、エアクッション上での渦を可能にして均一の流動化したベッドを形成する性質に応じて、ガイドプレートは上昇又は加工でき、これによりスロットの高さが可変に構成される。スロット開口の断面積が大きいと、ベースを通る加工エアの単位時間あたりの大きな流量が可能になり、フレキシブルな方式で異なるサイズの量及び／又は異なる物質粒子と反応させることが可能になっている。
【００２０】
　本発明の更なる構成においては、ガイドプレートの間の垂直距離がゼロから最大距離まで可変である方式で、垂直調整器が構成される。
【００２１】
　この構造は、上述した垂直調整可能であることの利点だけでなく、開放しているスロットが全く無いような、プレートを互いにゼロの距離で配置する可能性も開いている。この状態は、特に加工室を充填したり空にしたりするときに望ましく、これは例えば、全生成コンテナがこの目的で横方向に傾く場合である。結果として、物質粒子がベースを通って落下し、エアガイド通路内を通るのが不可能となる。結果として、物質粒子のこれらの望ましくない損失、これは非常に高価な薬剤の場合にかなりの額となる、を避けることができるだけでなく、全装置も実質的に清掃がより単純になる。垂直調整器は、十分な圧力の加工エアがベースの下側で充分に作用するまで、スロットを開放しない。どんな状況の下でも、作動の間、粒子がベースを通って落下可能となるのを連続的に防止するようになっている。
【００２２】
　本発明の更なる構成において、ガイドプレートが、垂直調整可能な方向に行き来する振動をされ得るように、垂直調整器が構成される。
【００２３】
　この手段は、かなりの利点を有している。すなわち、作動の間、垂直調整器がガイドプレートを小さい振幅で調整方向に行き来するように振動させることに用いられていて、最上部側で起こり得るケーキングを除去し得るし、全く形成しないことも出来るようになっているのである。これはまた、ガイドプレート即ちベースの最上部側と流動化されたベッドの下方端部との間のエアクッションの形成を促進し、極端に影響を受けやすい物質の場合に、特に穏やかな取り扱いが行われ得る。
【００２４】
　本発明の更なる構成においては、垂直調整器が、ガイドプレートの各々と接続される少なくとも１つの調整トラバースを有する。
【００２５】
　このような調整トラバースを設けることで、単純なカップリングを介してプレートを持ち上げたり降ろしたりする目的で、機械的に単純な部材が提供される。
【００２６】
　更なる構成においては、垂直調整器が、ベースの中央に配置される垂直調整部材を有する。
【００２７】
　この手段は、垂直調整可能性を制御する目的に充分な単一の調整部材であるだけでなく、中央の配置が流れに偏心的な影響を与えず、従って付加的な問題となる流れの障害を形成しないという利点を有する。多くのベース構成において、中央にはもちろん流れをせき止める領域、例えば中央錐体があるが、その周りに材料を移動させるトロイダル形状で回転するシートが形成されている。
【００２８】
　中央配置はまた、垂直調整器をベースへ直接取り付ける可能性も開いており、一体化された垂直調整器とベースがともに単一操作で取り除かれたり挿入されたりされ得る。
【００２９】
　本発明の更なる構成においては、放射方向外側から内側へ見たときに、一方を他方の上に配置した環状のガイドプレートからなるベースにおいて、中央の直立した垂直調整部材があり、これが横材の放射方向内側端部に接続されていて、その放射方向外側端部において旋回可能に連結されている。
【００３０】
　この手段は、構成の観点からかなりの利点を有する。すなわち、個々の環状ガイドプレートの接続は、横材を解してもたらされ得る。さらに、単一の中央の垂直調整部材は、横材を持ち上げたり降ろしたりすることにより、横材に接続された全てのガイドプレートの対応する同期した垂直調整をもたらす。これは、コンパクトなタイプの構成と、垂直調整器がベース内に直接一体化されるという上記利点につながる。
【００３１】
　また、ベースや装置の外延において、垂直調整器を設けることができる。
【００３２】
　この装置のさらなる構成においては、垂直調整部材が、圧縮エア調整スタッドとして構成されている。
【００３３】
　この手段は、第１に、垂直調整が圧縮エア制御を介して単純な方式で与えられ得るし、同時に上記したベースの振動が、脈動した圧縮エアの供給によっても与えられ得る。
【００３４】
　本発明の更なる構成においては、垂直調整器が、ベースの下方に配置されている。
【００３５】
　この手段は、垂直調整器が、実際の加工室内に部材を有しないだけでなく、むしろこれらの部材が全てベースの下に存在しているという、かなりの利点を有する。加工エアは、ベースに抗して下から流れるが、垂直調整器の必要な部材の周りを問題なく流れて、ベースを通ることができる。
【００３６】
　本発明の更なる構成によれば、調整トラバースが、放射方向に延在した複数の横材、特に３つから６つの横材を有する。
【００３７】
　この手段は、ベースの構成とサイズに応じて、機械的に信頼でき、明確に制御される垂直調整が提供されるという利点を有する。一方を他方の上に配置した複数の環状プレートを有する上記例に戻ると、全環状周囲にわたって均一な持ち上げを保証するためには、約１２０°の角度ずれたちょうど３つの横材で充分である。しかしながら、４つや６つの横材も設けられうる。
【００３８】
　環状プレートの構成において、中央に最も近いプレートは、閉鎖ディスクとして構成されるため、垂直調整部材は、この領域、特にベースの下に、上記利点を達成する目的で配置され得る。
【００３９】
　本発明の更なる構成においては、一方を他方の上に配置したガイドプレートの異なるグループからなるベースの場合に、各グループが垂直調整器と相互作用する。
【００４０】
　独国特許ＤＥ１０１２９１６６Ｃ１号において、一方を他方の上に配置した第１グループの環状プレートがあり、この第１グループは、放射方向外側から内側へ見たときに、一方を他方の下に置いていて続いており、環状の上昇領域のあと、放射方向外側から内側へ見たときの、更なるグループが一方を他方の上に配置している。ここでは、２つのグループのガイドプレートを個々に作動させることを可能にするために、２つの別体に設けられる垂直調整器が設けられうる。これは、異なるグループのガイドプレートにおいて異なるスロット高さが設定され得るという理由で、フレキシビリティの更なる増加を提供する。
【００４１】
　構成の観点から特に単純な方式で、垂直調整可能であることを実現する手段の典型的な実施例が、以下に説明される。
【００４２】
　上記構成と以下に述べられる構成は、それぞれ特定の組み合わせだけでなく、他の組み合わせやそれら自身に基づいて、本発明の範囲から離れることなく用いられ得るのは言うまでも無い。
【００４３】
　本発明は、上述の典型的な実施例を参照して、添付の図面を参照して、以下により詳細に記載され説明される。
【実施例】
【００４４】
　図示された粒子形状物質を取り扱うための装置は、全体的に参照符号１０で示されている。
【００４５】
　装置１０は、円錐形状に外側に広がった壁を有するコンテナ１２を有する。コンテナ１２は、その最上部側で蓋によって閉鎖される（ここでは示されていない）。コンテナ１２の内部空間は、加工室１３からなる。包囲環状フランジ１４は、コンテナ１２の底端部に設けられている。
【００４６】
　流入室１６の環状フランジ２０は、環状フランジ１４の下側にフランジ配置されていて、その間に中間フランジ２４が位置している（図５を参照）。流入室１６は、入口１８を設け、それを介して、以下に説明されるように、加工エア７８が導入され得る。
【００４７】
　中間フランジ２４は、装置１０のベース２２の一部であり、このベース２２は、特に断面表示と図３の平面図から分かるように、一連の６つの環状ガイドプレート２６から３１からなる。中央の閉鎖体は、ディスク３２によって形成され、その最上部側に錐体３４が載置され、すなわち、加工室１３内に延在するようになっている。
【００４８】
　特に図３の表示と図５の左側から分かるように、スロット３６は中間フランジ２４と最も外側の環状ガイドプレート２６の間に形成される。
【００４９】
　従って、スロット３７は、ガイドプレート２６と、このガイドプレート２６上に配置されたより小さな直径を有する次の内側ガイドプレート２７の間に形成される。
【００５０】
　同じことが次の内側ガイドプレート２８にもさらに当てはまる。このガイドプレート２８は、更なる水平面内かつガイドプレート２７上にあり、スロット３８がその結果として形成されるようになっている。これは最も内側で最も高い位置にあるガイドプレート３１まで対応して続き、中央ディスク３２は最も高いレベルにあり、最も内側のスロット４２がディスク３２と最も内側のガイドプレート３１の間で形成されるようになっている。
【００５１】
　環状ガイドプレート２６から３１は、それゆえ異なる水平面にあり、それらが互いに重なる方式で一方が他方の上方に配置されていて、各場合において、放射方向内側のガイドプレートが、その下にある次の放射方向外側のガイドプレートと重なっている。
【００５２】
　結果として、流入室１６に方向付けられた加工エア７８（図２参照）が、スロット３６から４２を通って方向付けられるような方式で、スロットは傾いており、放射方向外側に方向付けられる方式で加工エア７８が入るようになっている。
【００５３】
　特に図４から分かるように、多数のガイドエレメント８２がガイドプレート２６から３１の下側に配置されている。これらのガイドエレメント８２は、図３の流れの矢印から分かるように、通過する加工エアに対し、放射方向流成分に加えて円周方向流成分を付与する。これは、中央の錐体３４の周りに、所定方向、ここでは時計回りに回転するトロイダル渦リングの形成を促進する。
【００５４】
　図４及び５の表示から特に理解されるように、押し込みピンが各環状ガイドプレート２６から３１の下側から下方に突出している。ガイドプレート２６の下側から４つの押し込みピン４４が突出しており、各々は円周方向に９０°ずれている。これは他のガイドプレートにも等しく適用され、押し込みピン４５はガイドプレート２７の下側から突出し、押し込みピン４６及び４７はガイドプレート３１及びディスク３２の下側からそれぞれ突出することが、図５からわかる。
【００５５】
　各環状ガイドプレート２６から３１の下側から突出する４つの押し込みピンや、ディスク３２の下側から突出する４つの押し込みピンは、それぞれ接続エレメント内に挿入され、スナップリングを介して固定される。
【００５６】
　図４には、接続エレメントの典型例として、接続エレメント４８及び４９が確認される。接続エレメント５０及び５１は、図５において対応して確認される。
【００５７】
　このような接続エレメント４８から５１の列は、調整トラバース５２に接続される。
【００５８】
　これは、ピンを介してもたらされ、対応するピン５４及び５５はまた図４に示されていて、対応するピン５６及び５７はまた図５に示されている。特に図４から分かるように、これらのピンは、押し込みピンに対して横方向に通っていて、後者の隣に配置されており、押し込みピンと同様に構成されていて、スナップリング（それほど詳細に確認されていないが）を介して保証される。
【００５９】
　調整トラバース５２は、４つのおよそ梁形状で各々９０°ずれた横材５８からなる。各横材５８は、中間フランジ２４から中央ディスク３２の調度下側へ延在している。
【００６０】
　中間フランジ２４は、あぶみ６０を介して横方向に補強されている。横材５８の放射方向外側端部は、ジョイント６２を介してあぶみ６０に旋回可能に連結されている。横材５８の放射方向内側端部は、上記したように、最も内側のピン５７を介して、ディスク３２の下側から突出した接続エレメント５１に旋回可能に連結されている。
【００６１】
　既述の全ての押し込みピン接続は、これらがピン軸の周りに旋回可能で、所定の放射方向の遊びをもって正確であるように構成されている。
【００６２】
　図１、２、及び５の断面表示から特に理解できるように、中央垂直調整部材６４が設けられている。
【００６３】
　この中央垂直調整部材６４は、ベローズ６８で囲まれる調整スタッド６６からなる。
【００６４】
　ベローズ６８は、あぶみ６０上のベース側に支持されていて、そこで調整スタッド６６が移動可能な方式で収容され得るようになっている。最上端において、ベローズ６８はディスク７０に支持されており、これは調整スタッド６６に強固に接続されている。
【００６５】
　垂直調整部材６４と横材５８からなるアセンブリは、ガイドプレートの下側に接続され、独立したものとして、垂直調整器７２を構成している。
【００６６】
　もし、圧縮エアがベローズ６８内に方向付けられると、後者は膨張して横材５８を持ち上げ、そしてまたガイドプレート２６から３１を持ち上げる。もし、脈動圧縮エアがベローズ６８に収容されるなら、全垂直調整器７２は、所定の高さレベルだけ上下に震動又は振動する。
【００６７】
　図１には、垂直調整器７２が最大量降ろされた位置が示されている。この位置において、全てのガイドプレート２６から３１は、互いに横たわっていて、中央のディスク３２はガイドプレート３１の上に横たわり、最も外側のガイドプレート２６は中間フランジ２４の上に横たわり、それらの間に開放したスロットが無いようになっている。ベース２２は、こうして閉鎖される。それは、この状態において、例えば取り扱われるべき物質で満たされ得るし、又は取り扱った後にその物質を空にするために横方向に傾斜され得る。コンパクトタイプの構成のため、ベース２２は、垂直調整器７２とともに、構成ユニットとして取り除かれ得るか、又は挿入され得る。
【００６８】
　図１から分かるように、ノズル７４及び７６は、取り扱い媒体を取り扱われる物質に接触させる目的で、コンテナ１２の横方向から挿入される。
【００６９】
　微細粉末物質粒子を粒化してより大きな塊を形成する間、これは、例えば、スプレーエアとともにスプレーされて微細なスプレーミストを形成する粘性流体である。
【００７０】
　図２には、作動位置が示されており、そこではベローズ６８が僅かに膨張されている。その結果として横材５８は持ち上げられている。ガイドプレート２６から３１は、所定の間隔で一方を他方の上にして横たわっている。図３においてより詳細に示されているスロット３７から４２は、加工エア７８の通過のために開放している。入口１８を介して流入室１６に入る加工エア７８は、それゆえスロット３６から４２を通ってベース２２を通過可能であり、まず第１にほぼ水平方向に放出可能である。ガイドプレートの下側にあるガイドエレメント８２は、対応する円周方向の推力を与える。
【００７１】
　上方に押し動かす加工エア７８を用いて、微細な物質粒子８０は、渦巻いて、中央錐体３４に関してトロイダル回転するベッドを形成する。
【００７２】
　図２の断面表示から分かるように、物質粒子は、本質的にノズル７４、７６の領域において上昇する。すなわち、コンテナ１２の壁の領域において、中央内側に移動され、重力のためにベース２２の上に再び落下する。さらに、それらは中央錐体３４により放射方向最も内側のスロット４２に再び運搬され、そこから再び移動されて対応する循環となる。
【００７３】
　もしベローズ６８が脈動方式で作動する場合、ベース２２は小さな振幅で振動し、ケーキングを防止できる。取り扱われる物質８０がどのような構成かに応じて、例えば図５に示されるように、最適なスロット高さを達成する目的で垂直調整器７２は作動される。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】ベースと流入室の領域における粒子形状物質を取り扱うための装置の長手方向断面を大幅に概略的に示す。
【図２】図１に対応した作動中の装置の表現であり、図１の表現と比較してガイドプレートが垂直に持ち上げられている。
【図３】図１の装置のベースを平面で示す。
【図４】図３のベースの底面を示し、図４ａには閉鎖領域が大幅に拡大されて示されている。
【図５】図２の左側縁領域と中央領域の一部を取り除いて部分的に大幅に拡大して示している。
【符号の説明】
【００７５】
１０　装置
１２　コンテナ
１３　加工室
１４　包囲環状フランジ
１６　流入室
１８　入口
２０　環状フランジ
２２　ベース
２４　中間フランジ
２６、２７、２８、２９、３０、３１　環状ガイドプレート
３２　ディスク
３４　錐体
３６、３７、３８、３９、４０、４１、４２　スロット
４４、４５、４６、４７　押し込みピン
４８、４９、５０、５１　接続エレメント
５２　調整トラバース
５４、５５、５６、５７　ピン
５８　横材
６０　あぶみ
６２　ジョイント
６４　中央調整部材
６６　調整スタッド
６８　ベローズ
７０　ディスク
７２　垂直調整器
７４、７６　ノズル
７８　加工エア
８０　物質
８２　ガイドエレメント
【図１】
2004130310.tif 000003
【図２】
2004130310.tif 000004
【図３】
2004130310.tif 000005
【図４】
2004130310.tif 000006
【図５】
2004130310.tif 000007