(57)【要約】【課題】塩素バイパスダストを脱塩処理する際に、固液分離後のセレンの除去に要する還元剤の量を大幅に低減し、運転コストを低く抑える。【解決手段】セメントキルン燃焼ガスの一部を抽気して、抽気した燃焼ガスに含まれるダストを集塵し、集塵したダストに水を添加してスラリーとした後、１次ケーキとセレンを含む１次ろ液とに分離し、セレンを含む１次ろ液にｐＨ調整剤及び第一鉄化合物を添加してセレン濃度を低減した後、２次ケーキとセレンを含む２次ろ液とに分離し、セレンを含む２次ろ液を電気透析装置に通して、濃縮塩水とセレンを含む脱塩水とに分離し、セレンを含む脱塩水を、集塵したダストに添加する水の一部として循環使用する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメントキルン燃焼ガスの一部を抽気して、抽気した燃焼ガスに含まれるダストを集塵し、
該集塵したダストに水を添加してスラリーとした後、１次ケーキとセレンを含む１次ろ液とに分離し、
該セレンを含む１次ろ液にｐＨ調整剤及び第一鉄化合物を添加してセレン濃度を低減した後、２次ケーキとセレンを含む２次ろ液とに分離し、
該セレンを含む２次ろ液を電気透析装置に通して、濃縮塩水とセレンを含む脱塩水とに分離し、
該セレンを含む脱塩水を、前記集塵したダストに添加する水の一部として循環使用することを特徴とするセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【請求項２】
前記電気透析装置に一価陰イオン選択透過膜を用いて、濃縮塩水をセレンを含む脱塩水に分離することを特徴とする請求項１に記載のセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【請求項３】
前記２次ろ液中のセレン濃度を、０．３ｍｇ／ｌ以上、５ｍｇ／ｌ以下とした後、電気透析装置に通して、濃縮塩水とセレンを含む脱塩水とに分離することを特徴とする請求項１または２に記載のセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【請求項４】
前記第一鉄化合物添加後のｐＨを、８以上、１１以下にすることを特徴とする請求項１、２または３に記載のセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【請求項５】
前記ｐＨ調整剤が、水酸化カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのいずれか一つを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【請求項６】
前記濃縮塩水を蒸発させて塩化カリウムと塩化ナトリウムの少なくとも一方を含む塩を回収することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【請求項７】
前記濃縮塩水を、下水道、河川、海洋の少なくともいずれか一つに放流することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【請求項８】
前記１次ケーキまたは／及び前記２次ケーキをセメント製造用原料に利用することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法に関し、特に、セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスの一部を抽気して塩素及び硫黄分を除去し、抽気した燃焼ガスに含まれるダストを有効利用するセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法に関する。
【０００１】
【従来の技術】
従来、セメント製造設備におけるプレヒーターの閉塞等の問題を引き起こす原因となる塩素、硫黄、アルカリ等の中で、塩素が特に問題となることに着目し、セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスの一部を抽気して塩素を除去する塩素バイパス設備が用いられている。
【０００２】
この塩素バイパス設備では、抽気した燃焼ガスを冷却して生成したダストの微粉側に塩素が偏在しているため、ダストを分級機によって粗粉と微粉とに分離し、粗粉をセメントキルン系に戻すとともに、分離された塩化カリウム等を含む微粉（塩素バイパスダスト）を回収してセメント粉砕ミル系に添加していた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ところが、近年、廃棄物のセメント原料化または燃料化によるリサイクルが推進され、廃棄物の処理量が増加するに従い、セメントキルンに持ち込まれる塩素、硫黄、アルカリ等の揮発成分の量も増加し、塩素バイパスダストの発生量も増加している。そのため、塩素バイパスダストを全てセメント粉砕工程で利用することができず、水洗処理されていたが、今後、塩素バイパスダストの発生量もさらに増加することが予測されるため、その有効利用方法の開発が求められていた。
【０００４】
かかる見地から、特許文献２に記載のセメント原料化処理方法では、従来水洗処理されている塩素バイパスダストを脱塩処理し、セメント原料として有効利用するため、塩素を含む廃棄物に水を添加して廃棄物中の塩素を溶出させてろ過し、得られた脱塩ケーキをセメント原料として利用するとともに、排水を浄化処理し、放流または塩分を回収することで、環境汚染を引き起こすことなく、塩素バイパスダストの有効利用を図っている。
【０００５】
【特許文献１】
国際公開第ＷＯ９７／２１号パンフレット
【特許文献２】
特開平１１−１００２４３号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従来、塩素バイパスダストを脱塩処理するにあたって、排水のｐＨを塩酸等により調整し、還元作用のある鉄イオンを有する薬剤を添加してｐＨを調整し、セレン等の重金属類を除去した後、下水や海洋へ放流することが必要であった。しかし、排水中のセレン濃度を安全とされる基準、例えば、下水放流の場合の０．１ｍｇ−Ｓｅ／ｌまで除去するには、還元剤としての塩化第一鉄（ＦｅＣｌ２）が８０００ｍｇ−Ｆｅ２＋／ｌ以上必要となり、セレン除去にあたって還元剤を大量に消費し、運転コストが高騰するという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みてなされたものであって、塩素バイパスダストを脱塩処理する際に、固液分離後のセレンの除去に要する還元剤の量を大幅に低減し、運転コストを低く抑えること等が可能なセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、セメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法であって、セメントキルン燃焼ガスの一部を抽気して、抽気した燃焼ガスに含まれるダストを集塵し、該集塵したダストに水を添加してスラリーとした後、１次ケーキとセレンを含む１次ろ液とに分離し、該セレンを含む１次ろ液に２種類のｐＨ調整剤及び第一鉄化合物を添加してセレン濃度を低減した後、２次ケーキとセレンを含む２次ろ液とに分離し、該セレンを含む２次ろ液を電気透析装置に通して、濃縮塩水とセレンを含む脱塩水とに分離し、該セレンを含む脱塩水を、前記集塵したダストに添加する水の一部として循環使用することを特徴とする。
【０００９】
そして、本発明によれば、セレンを含む１次ろ液に２種類のｐＨ調整剤及び第一鉄化合物を添加してろ液中のセレン濃度を低減した後、電気透析装置を通すことでセレン濃度をさらに低減できるため、濃縮塩水として系外に排出される排水中のセレン濃度を所定の値以下に抑えるにあたって、還元剤としての第一鉄化合物の添加量を大幅に低減することができる。また、この際、脱塩水は、集塵したダストに添加する水の一部として循環使用するため排水処理が不要となり、排水処理に要する薬剤量を大幅に低減することができる。
【００１０】
前記セメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法において、前記２次ろ液中のセレン濃度を、０．３ｍｇ／ｌ以上、５ｍｇ／ｌ以下とした後、電気透析装置に通して、濃縮塩水とセレンを含む脱塩水とに分離することが好ましい。この中濃度域までのセレン除去は、比較的少量の第一鉄化合物の添加で可能となるため、その後、電気透析装置に通して、最終的に、例えば、セレン濃度を下水放流の場合の許容基準値０．１ｍｇ／ｌ以下とすれば、還元剤としての第一鉄化合物の添加量を大幅に低減することができる。また、電気透析装置に一価陰イオン選択透過膜等一価イオンの選択透過性が高いものを使用すると、第一鉄化合物の添加量低減効果を高くすることができる。
【００１１】
また、前記セメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法において、前記第一鉄化合物添加後のｐＨを、８以上、１１以下にすることが好ましい。これによって、セレンを効率的に除去することができる。この際、ｐＨ調整剤として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムの少なくともいずれか１つを用いることができる。
【００１２】
さらに、前記濃縮塩水を蒸発させることにより、塩化カリウムまたは塩化ナトリウムのいずれか一方を含む塩を回収することができる。また、濃縮塩水から塩を回収せずに、下水道、河川、海洋の少なくともいずれか一つに放流してもよい。前記１次ケーキまたは／及び前記２次ケーキをセメント製造用原料として有効利用することもできる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００１４】
図１は、本発明にかかるセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法を実施するためのシステムの一例を示し、この処理システム１は、溶解槽２と、固液分離装置３と、薬液反応槽４、５と、固液分離装置６と、電気透析装置７と、電気透析装置７で分離した脱塩水を溶解槽２に戻すための循環ルート８とで構成される。
【００１５】
溶解槽２は、塩素バイパスダストに含まれる水溶性塩素分を温水に溶解させるためのものであって、この温水はボイラ等から供給される。また、溶解槽２には、循環ルート８を介して後段の電気透析装置７からの脱塩水が供給される。
【００１６】
固液分離装置３は、ベルトフィルタ等であって、溶解槽２からのスラリーを１次ケーキと１次ろ液とに分離する。
【００１７】
薬液反応槽４は、固液分離装置３からの１次ろ液に、ｐＨ調整剤及び還元剤として第一鉄化合物を添加するためのものである。薬液反応槽５は、もう一種類のｐＨ調整剤を添加するためのものである。この操作は、ろ液中のセレン濃度を低減するために行われる。
【００１８】
固液分離装置６は、フィルタープレス等であって、薬液反応槽５からのスラリーを２次ケーキと２次ろ液とに分離する。
【００１９】
電気透析装置７は、固液分離装置６からの２次ろ液中の一価陰イオンと陽イオンを濃縮塩水側に含めるように機能するものであって、この電気透析装置７の原理について、図２を参照しながら説明する。
【００２０】
電気透析装置７は、両端に陽極７ａと陰極７ｂとを備え、両電極７ａ、７ｂ間にイオン交換膜としての陽イオン交換膜７ｃと、陰イオン交換膜７ｄとが交互に配置される。陽イオン交換膜７ｃと陰イオン交換膜７ｄとの間には、脱塩室７ｅまたは濃縮室７ｆが形成される。処理液（固液分離装置６のろ液）は、脱塩室７ｅに供給され、処理液に含まれるＫ＋は、陽イオン交換膜７ｃを通過して濃縮室７ｆへ移動し、Ｃｌ−は、陰イオン交換膜７ｄを通過して濃縮室７ｆへ移動する。一方、陰イオン交換膜に一価イオンの選択性があると、セレン酸（ＳｅＯ４２−）は、２価であるため、脱塩室７ｅに留まる。これによって、脱塩室７ｅには、ＳｅＯ４２−等２価以上の陰イオンが残り、濃縮室７ｆには、Ｋ＋及びＣｌ−が移動し、これらがＫＣｌとなって濃縮塩水に含められ、ＳｅＯ４２−は、脱塩水に含められる。
【００２１】
循環ルート８は、電気透析装置７から脱塩水を溶解槽２に戻すために設けられる。
【００２２】
次に、上記構成を有する処理システム１の動作について説明する。
【００２３】
塩素バイパスダストは、溶解槽２に供給され、塩素バイパスダストに含まれる水溶性塩素分が温水に溶解する。溶解槽２から排出されたスラリーは、固液分離装置３で固液分離され、塩素分が除去された１次ケーキは、セメントキルンに戻されるか、直接セメント粉砕ミル系に添加してセメント原料として利用される。一方、塩素分を含むろ液は薬液反応槽４に供給される。
【００２４】
塩素分、セレン等の重金属類を含む１次ろ液は、ｐＨ調整剤によってｐＨが調整された薬液反応槽４において、第一鉄化合物によってセレンが還元されて析出し、薬液反応槽５においてｐＨ調整剤によってｐＨを８〜１１とすることでろ液中のセレン濃度が減少する。ここで、還元剤によるセレン除去は、低濃度域（０．３ｍｇ−Ｓｅ／ｌ以下）まで除去しようとすると多量の薬剤が必要となるが、中濃度域（０．３〜５ｍｇ−Ｓｅ／ｌ）までの除去については比較的少量の添加で可能である。そこで、薬液反応槽４におけるセレン除去は、この中濃度域までに留め、還元剤の使用量を低減する。
【００２５】
次に、薬液反応槽５から排出されたスラリーを固液分離装置６によって固液分離し、２次ケーキをセメントキルン等に戻してセメント原料として利用し、２次ろ液を電気透析装置７に供給する。電気透析装置７において、上述のように、ろ液中のセレン酸（ＳｅＯ４２−）は脱塩水に含められ、塩素分は濃縮塩水に含められる。
【００２６】
電気透析装置７からのセレンを含む脱塩水は、循環ルート８を介して溶解槽２に戻されて循環使用される。一方、電気透析装置７から排出された濃縮塩水は、放流するか、塩回収設備によって工業塩を回収し、工業原料として利用することができる。これによって、薬液反応槽４においてセレンを中濃度域（０．３〜５ｍｇ−Ｓｅ／ｌ）まで除去し、電気透析装置７によって低濃度域（０．３ｍｇ−Ｓｅ／ｌ以下）までセレンを除去することができ、従来に比較して還元剤の使用量を大幅に低減することができる。
【００２７】
次に、本発明にかかるセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法の一実施例について図３を参照しながら説明する。
【００２８】
このセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法は、同図に示すように、大別して、水洗工程と、排水処理工程と、塩回収工程とに分けられる。
【００２９】
水洗工程は、上記塩素バイパスダストを水洗して、塩素分を除去する工程であって、この工程を実施するため、ボイラ１１と、温水槽１２と、溶解槽１３と、ベルトフィルタ１４と、貯槽１５とが設けられる。
【００３０】
ボイラ１１で発生した温水は、温水槽１２を経て溶解槽１３に供給され、塩素バイパスダストと混合される。溶解槽１３において、塩素バイパスダストに含まれる水溶性塩素分が温水に溶解する。溶解槽１３から排出されたスラリーは、ベルトフィルタ１４において固液分離され、塩素分が除去された１次ケーキは、セメントキルン等に戻されてセメント原料として利用される。一方、塩素分及びセレン等の重金属類を含む１次ろ液は貯槽１５に一時的に蓄えられる。
【００３１】
排水処理工程は、１次ろ液からセレン等の重金属類とカルシウム分を除去する工程であって、この工程を実施するため、薬液反応槽１６、１８、２０と、固液分離装置としてのフィルタープレス１７、１９と、除鉄塔２１と、キレート樹脂塔２２と、ろ過装置２３と、電気透析装置２４とが設けられる。
【００３２】
貯槽１５に蓄えられた、塩素分、セレン等の重金属類、カルシウムを含む１次ろ液は、薬液反応槽１６に供給される。薬液反応槽１６には、ｐＨ調整剤としての塩酸を加え、薬液反応槽１６内のｐＨを４以下に調整する。塩酸を供給するのは、還元剤としての硫酸第一鉄を溶かして還元剤としての効果を高めるためである。
【００３３】
硫酸第一鉄によって、排水に含まれる重金属としてのセレンを還元して析出させる。ここでは、還元剤としての硫酸第一鉄の添加量を抑えるため、２次ろ液のセレン濃度を０．８ｍｇ−Ｓｅ／ｌ程度にする。次に、水酸化カルシウムを加え、ｐＨを８〜１１に上昇させ、硫酸第一鉄の添加により生成した水酸化第一鉄を凝縮、析出させる。ｐＨを８〜１１に調整するのは、かかるｐＨ領域で水酸化第一鉄とセレン化合物及び／またはセレン金属が生成物として沈殿するからである。尚、水酸化カルシウムの代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いてもよい。
【００３４】
そして、薬液反応槽１６から排出されたスラリーをフィルタープレス１７によって固液分離し、２次ケーキをセメントキルン等に戻してセメント原料として利用し、２次ろ液は、薬液反応槽１８において炭酸カリウムと混合され、２次ろ液中のカルシウムが除去される。２次ろ液中のカルシウムを除去するのは、後段の電気透析装置２４において交換膜間がカルシウムスケールにより目詰まりするのを防止するためである。尚、炭酸カリウムの代わりに、炭酸ナトリウムを用いてもよい。
【００３５】
次に、薬液反応槽１８から排出されたスラリーをフィルタープレス１９によって固液分離し、３次ケーキをセメントキルン等に戻してセメント原料として利用し、３次ろ液は、塩酸を加えてｐＨ調整した後、除鉄塔２１、キレート樹脂塔２２、ろ過装置２３によって、鉄、残留重金属、縣濁物質（ＳＳ）が除去される。
【００３６】
ろ過装置２３からの排水は、電気透析装置２４に供給され、電気透析装置２４において、排水中のセレン酸（ＳｅＯ４２−）が脱塩水に含められ、塩素分は濃縮塩水に含められる。電気透析装置２４からの脱塩水は、図示しない循環ルートを介して水洗工程の温水槽１２に戻される（符号Ａ参照）。これによって、濃縮塩水のセレン濃度は、例えば、下水放流の場合の許容値である０．１ｍｇ−Ｓｅ／ｌ以下に低減される。
【００３７】
塩回収工程は、濃縮塩水から塩を回収して工業原料を得る工程であって、この工程を実施するため、ボイラ２５と、加熱器２６と、結晶装置２７と、コンデンサ２８と、ろ液タンク２９と、遠心分離機３０とが設けられる。
【００３８】
濃縮塩水は、ボイラ２５からの蒸気によって加熱器２６において加熱され、結晶装置２７において結晶化が行われる。結晶装置２７において、濃縮塩水中の溶質は、結晶として析出し、遠心分離機３０を経て、工業塩が回収され、工業原料として利用される。一方、結晶装置２７で蒸発した水分は、コンデンサ２８において冷却されてドレンが回収され、このドレンは、水洗工程に戻される。遠心分離機３０によって分離されたろ液は、ろ液タンク２９を経て結晶装置２７に戻される。尚、濃縮塩水から塩を回収せずに、放流することもできる。
【００３９】
次に、本発明にかかるセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法の試験例について、図４を参照しながら説明する。
【００４０】
図４（ａ）は、比較例を示すフローチャートであって、電気透析装置を使用しないでセレン除去を行う場合を示し、図４（ｂ）は、電気透析装置を使用した本発明の実施例を示すフローチャートである。
【００４１】
図４（ａ）の比較例では、塩素バイパスダストは溶解槽４１に供給され、塩素バイパスダストに含まれる水溶性塩素分が水に溶解する。溶解槽４１から排出されたスラリーは、ろ過装置４２で固液分離され、１次ケーキと１次ろ液に分離される。この１次ろ液のセレン濃度は、３２ｍｇ−Ｓｅ／ｌであった。
【００４２】
塩素分、セレンを含む１次ろ液は、薬液反応槽４３に供給され、ｐＨ調整剤によってｐＨが調整された薬液反応槽４３において、第一鉄化合物を添加後、薬液反応槽４４において、ｐＨ調整剤によりｐＨを８〜１１とすることでセレンが還元されて析出する。そして、薬液反応槽４４からのスラリーをろ過装置４５によって固液分離し、２次ケーキと２次ろ液とに分離する。ここで、２次ろ液のセレン濃度を下水放流の場合の許容基準の０．１ｍｇ−Ｓｅ／ｌとするにあたって、還元剤としての第一鉄化合物の使用量は、８０００ｍｇＦｅ２＋／ｌ以上であった。
【００４３】
一方、図４（ｂ）の実施例では、塩素バイパスダストは、溶解槽５１に供給され、塩素バイパスダストに含まれる水溶性塩素分が水に溶解する。溶解槽５１から排出されたスラリーは、ろ過装置５２で固液分離され、１次ケーキと１次ろ液に分離される。この１次ろ液のセレン濃度は、後述するように、電気透析装置５５のセレンを含む脱塩水が溶解槽５１に戻されるため、３２．８ｍｇ−Ｓｅ／ｌであった。
【００４４】
塩素分、セレンを含む１次ろ液は、薬液反応槽５３に供給され、ｐＨ調整剤によってｐＨが調整された薬液反応槽５３において、第一鉄化合物を添加後、薬液反応槽５４において、ｐＨ調整剤によりｐＨを８〜１１とすることでセレンが還元されて析出する。そして、薬液反応槽５４からのスラリーをろ過装置５５によって固液分離し、２次ケーキと２次ろ液とに分離する。その後、２次ろ液を、電気透析装置５６によって、濃縮塩水とセレンを含む脱塩水とに分離し、セレンを含む脱塩水を溶解槽５１に戻して循環させる。
【００４５】
ここで、セレン濃度を下水放流の場合の許容基準の０．１ｍｇ−Ｓｅ／ｌとするにあたって、薬液反応槽５３におけるセレン除去によって、２次ろ液中のセレン濃度を０．８ｍｇ−Ｓｅ／ｌまで低減し、その後、一価陰イオン選択膜を用いた電気透析装置５６によって２次ろ液中のセレンのほとんどを脱塩水側に移動させて、下水放流の場合の許容基準の０．１ｍｇ−Ｓｅ／ｌとした。上述のように、中濃度域（０．３〜５ｍｇ−Ｓｅ／ｌ）までのセレン除去は比較的少量の第一鉄化合物の添加で済み、今回、２次ろ液中のセレン濃度を０．８ｍｇ−Ｓｅ／ｌまで低減するための第一鉄化合物薬剤の添加量は、約２，０００  ｍｇ−Ｆｅ２＋／ｌであった。
【００４６】
以上のように、セレン濃度を下水放流の場合の許容基準の０．１ｍｇ−Ｓｅ／ｌ以下にするにあたって、比較例と実施例とで必要な第一鉄化合物の添加量は、表１のようになり、本発明によって、還元剤の量を大幅に低減できることが判る。
【００４７】
【表１】
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【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明にかかるセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法によれば、塩素バイパスダストを脱塩処理する際に、固液分離後のセレンの除去に要する還元剤の量を大幅に低減し、運転コストを低く抑えること等が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかるセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法を実施するためのシステムを示すフローチャートである。
【図２】図１の処理システムに用いる電気透析装置の原理を説明するための概略図である。
【図３】本発明にかかるセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法を実施するためのシステムの一実施例を示すフローチャートである。
【図４】本発明にかかるセメントキルン燃焼ガス抽気ダストの処理方法の試験例を説明するための図であって、（ａ）は比較例、（ｂ）は実施例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１            セメントキルン燃焼ガス抽気ダスト処理システム
２            溶解槽
３            固液分離装置
４            薬液反応槽
５            薬液反応槽
６            固液分離装置
７            電気透析装置
７ａ        陽極
７ｂ        陰極
７ｃ        陽イオン交換膜
７ｄ        陰イオン交換膜
７ｅ        脱塩室
７ｆ        濃縮室
８            循環ルート
１１        ボイラ
１２        温水槽
１３        溶解槽
１４        ベルトフィルタ
１５        貯槽
１６        薬液反応槽
１７        フィルタープレス
１８        薬液反応槽
１９        フィルタープレス
２０        薬液反応槽
２１        除鉄塔
２２        キレート樹脂塔
２３        ろ過装置
２４        電気透析装置
２５        ボイラ
２６        加熱器
２７        結晶装置
２８        コンデンサ
２９        ろ液タンク
３０        遠心分離機
４１        溶解槽
４２        ろ過装置
４３        薬液反応槽
４４        薬液反応槽
４５        ろ過装置
５１        溶解槽
５２        ろ過装置
５３        薬液反応槽
５４        薬液反応槽
５５        ろ過装置
５６        電気透析装置
【図１】
2004330148.tif 000004
【図２】
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【図３】
2004330148.tif 000006
【図４】
2004330148.tif 000007