(57)【要約】【課題】画像表示品質の良い薄型表示素子、及び該薄型表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】液晶表示素子１は、一対のガラス基板１１，１２と、複数の透明電極１３，１６と、配向膜１４，１７と、ガラス基板１１とガラス基板１２を所定の間隔に保持するスペーサー１８と、ガラス基板１１，１２の周縁部において、ガラス基板１１，１２を気密に接合して、その内部に液晶２１を封入するシール層２０とを備える。ガラス基板１１は、厚さが０．３ｍｍであり、平面透過率が９１．５％であり、ヘイズ率が０．４％であり、ガラス基板１２は、厚さが０．３ｍｍであり、平面透過率が９１．６％であり、ヘイズ率が０．４％である。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間隔で互いに対向する一対のガラス基板と、該一対のガラス基板の内側表面の間に形成された表示部とを備える表示素子において、
前記一対のガラス基板のうち少なくとも表示側のガラス基板の厚さが０．４ｍｍ未満であることを特徴とする薄型表示素子。
【請求項２】
前記ガラス基板の平面透過率が９１．５％以上であることを特徴とする請求項１記載の薄型表示素子。
【請求項３】
前記ガラス基板のヘイズ率が０．５％以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の薄型表示素子。
【請求項４】
前記薄型表示素子は薄型液晶表示素子であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の薄型表示素子。
【請求項５】
前記薄型表示素子は薄型ＥＬ素子であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の薄型表示素子。
【請求項６】
所定の間隔で互いに対向する一対のガラス基板と、該一対のガラス基板の内側表面の間に形成された表示部とを備える表示素子を製造する薄型表示素子の製造方法において、
前記一対のガラス基板の厚さをエッチングにより薄くするエッチングステップを備えることを特徴とする薄型表示素子の製造方法。
【請求項７】
前記エッチングステップは、弗酸、硫酸、酢酸、及びドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを含むエッチング液を用いて前記エッチングを行うことを特徴とする請求項６記載の薄型表示素子の製造方法。
【請求項８】
前記エッチングステップは、弗酸と、アミノ基及びカルボキシル基の少なくともいずれか一方を有する有機物とを含むエッチング液を用いて前記エッチングを行うことを特徴とする請求項６記載の薄型表示素子の製造方法。
【請求項９】
複数の前記薄型表示素子に応じた面積をもつ一対の他のガラス基板を作製するステップと、前記一対の他のガラス基板に前記薄型表示素子に対応する表示素子部を前記複数の薄型表示素子に応じて複数形成する表示素子部形成ステップとを備え、前記エッチングステップは、前記複数の表示素子部が形成された前記一対の他のガラス基板をエッチングすることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の薄型表示素子の製造方法。
【請求項１０】
前記薄型表示素子は薄型液晶表示素子であることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の薄型表示素子の製造方法。
【請求項１１】
前記薄型表示素子は薄型ＥＬ素子であることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の薄型表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示素子及び表示素子の製造方法に関し、特に薄型表示素子及び薄型表示素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示素子は、携帯電話、携帯情報端末、テレビ、パーソナルコンピュータ等のモニタ等の表示装置として、ＥＬ素子は、携帯電話やカーナビゲーションシステム等の表示装置として、夫々用いられている。
【０００３】
液晶表示素子は、所定の間隔保持のために配置されたスペーサを介して互いに対向していると共に、内側表面に透明電極や配向膜等が形成され、且つ外側表面に偏光フィルターが形成された一対の矩形のガラス基板と、一対のガラス基板の外周縁部において一対のガラス基板を気密に接合して液晶封入のための液晶封入領域を画成するシール層と、液晶封入領域に封入された液晶とから成る。
【０００４】
ＥＬ素子は、所定の間隔で互いに対向して配設された一対のガラス基板と、一対のガラス基板の一方の内側表面に形成された電極及びＥＬ積層膜と、一対のガラス基板の外周縁部において一対のガラス基板を接合するシール層とから成り、一対のガラス基板の他方は、ＥＬ積層膜を覆うようにその中央部に凹部が形成され、その周囲に周辺突条部が形成されている。凹部の底部表面には、凹部内の水分を吸着させるために乾燥剤が塗布されている。
【０００５】
上記液晶表示素子及びＥＬ素子は、一般に、製造の高効率化及び低コスト化を目的としたマルチ製法と呼ばれる製法で製造されている。このマルチ製法は、液晶表示素子又はＥＬ素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板に、液晶表示素子又はＥＬ素子の１つに対応する構成部材を複数形成し、一対のガラス基板を切断して複数の構成部材毎に分割し、液晶表示素子又はＥＬ素子を複数個製造するものである。
【０００６】
従来の液晶表示素子の製法について具体的に説明する。
【０００７】
図８は、従来の液晶表示素子の製造方法を説明するための図である。
【０００８】
マルチ製法では、液晶表示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板１０１，１０２に、各液晶表示素子に対応する素子区画１０３をマトリックス状に複数形成し、この素子区画１０３毎に、透明電極や配向膜等（図示せず）の液晶表示素子の構成要素を一対のガラス基板１０１，１０２の内側表面に夫々形成し、この一対のガラス基板１０１，１０２の各素子区画１０３に球状の複数のスペーサ１０４を所定の間隔で配設し、スペーサ１０４の外側であって各素子区画１０３の外周縁部に、一部に液晶を注入するための開口部１０６を備えたシール層１０５を形成し、一対のガラス基板１０１，１０２の外周縁部において各素子区画１０３を囲うようにシール層１０７を形成し、一対のガラス基板１０１，１０２をシール層１０５，１０７によって接合して、液晶表示素子多面取り用ガラス基板体１００を作製する。液晶表示素子多面取り用ガラス基板体１００において、各素子区画１０３には、ガラス基板１０１，１０２の各内側表面とシール層１０５とにより、液晶が封入される液晶封入領域１０８が形成される。
【０００９】
次いで、液晶表示素子多面取り用ガラス基板体１００を、各素子区画１０３の開口部１０６側の端辺に沿った行方向切断線１０９に沿って切断して、行方向に素子区画１０３が並んだ行方向素子集合体に分割し、行方向素子集合体の各液晶封入領域１０８内に開口部１０６から液晶を注入し、開口部１０６を封止部材で封止した後、行方向素子集合体を切断して素子区画１０３毎に分割し、この素子区画１０３毎に分割された一対のガラス基板１０１，１０２の各外側表面に偏光フィルター（図示せず）を貼着して、液晶表示素子が完成する。
【００１０】
近年、液晶表示素子及びＥＬ素子は、軽量化、薄型化されることが望まれており、薄くした一対のガラス基板１０１，１０２を用いて液晶表示素子多面取り用ガラス基板体１００を製造すると、製造工程にガラス基板１０１，１０２がたわむことにより過大な応力が発生して、ガラス基板１０１，１０２が破損するので、上述のように接合された一対のガラス基板１０１，１０２をエッチング液に所定時間浸漬させてからガラス基板１０１，１０２の各外側表面をエッチング等してガラス基板１０１，１０２を薄くした液晶表示素子多面取り用ガラス基板体１００を作製した後に、素子区画１０３毎に分割することにより、液晶表示素子及びＥＬ素子の軽量化、薄型化が図られている（例えば、特許文献１参照。）。また、液晶表示素子の液晶封入領域１０８の高さを低くしたり、ＥＬ素子の凹部の深さを浅くしたりすることにより、液晶表示素子及びＥＬ素子の軽量化、薄型化図られている。
【００１１】
【特許文献１】
特許第２７２２７９８号明細書
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、液晶表示素子の液晶封入領域１０８は、表示特性を保つために一定の高さが必要であり、また、ガラス基板１０１，１０２の各外側表面を砥粒を用いて研磨する場合は、液晶表示素子多面取り用ガラス基板体１００を１つずつ、しかも、両面をいちいち研磨しなければならず、処理時間の増大により製造効率が悪く、一方、ガラス基板１０１，１０２の各外側表面をエッチングする場合は、ガラス基板１０１，１０２の各外側表面が荒れて、液晶表示素子又はＥＬ素子の画像表示品質が悪化してしまう。
【００１３】
本発明の目的は、画像表示品質の良い薄型表示素子、及び該薄型表示素子の製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の薄型液晶表示素子は、所定の間隔で互いに対向する一対のガラス基板と、該一対のガラス基板の内側表面の間に形成された表示部とを備える表示素子において、前記一対のガラス基板のうち少なくとも表示側のガラス基板の厚さが０．４ｍｍ未満であることを特徴とする。
【００１５】
請求項１記載の薄型表示素子によれば、一対のガラス基板のうち少なくとも表示側のガラス基板は、その厚さが０．４ｍｍ未満であるので、ガラス基板による光の散乱を低減することができると共に、ガラス基板の直進光と、その内側表面による反射光とのズレを低減でき、もって薄型表示素子の画像表示品質を向上させることができる。
【００１６】
請求項２記載の薄型表示素子は、請求項１記載の薄型表示素子において、前記ガラス基板の平面透過率が９１．５％以上であることを特徴とする。
【００１７】
請求項２記載の薄型表示素子によれば、ガラス基板は、平面透過率が９１．５％以上であるので、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【００１８】
請求項３記載の薄型表示素子は、請求項１又は２記載の薄型表示素子において、前記ガラス基板のヘイズ率が０．５％以下であることを特徴とする。
【００１９】
請求項３記載の薄型表示素子によれば、ガラス基板は、ヘイズ率が０．５％以下であるので、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【００２０】
請求項４記載の薄型表示素子は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の薄型表示素子において、前記薄型表示素子は薄型液晶表示素子であることを特徴とする。
【００２１】
請求項５記載の薄型表示素子は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の薄型表示素子において、前記薄型表示素子は薄型ＥＬ素子であることを特徴とする。
【００２２】
請求項６記載の薄型表示素子の製造方法は、所定の間隔で互いに対向する一対のガラス基板と、該一対のガラス基板の内側表面の間に形成された表示部とを備える表示素子を製造する薄型表示素子の製造方法において、前記一対のガラス基板の厚さをエッチングにより薄くするエッチングステップを備えることを特徴とする。
【００２３】
請求項６記載の薄型表示素子の製造方法によれば、一対のガラス基板の厚さをエッチングにより薄くするので、薄型表示素子のガラス基板の外側表面の表面を平坦に薄くすることができ、もって薄型表示素子の画像表示品質を向上させることができる。
【００２４】
請求項７記載の薄型表示素子の製造方法は、請求項６記載の薄型表示素子の製造方法において、前記エッチングステップは、弗酸、硫酸、酢酸、及びドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを含むエッチング液を用いて前記エッチングを行うことを特徴とする。
【００２５】
請求項７記載の薄型表示素子の製造方法によれば、弗酸、硫酸、酢酸、及びドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを含むエッチング液を用いてエッチングを行うので、ガラス基板から溶解したシリカがガラス基板に再付着することを防止して、ガラス基板の厚さを０．４ｍｍ未満に、その平面透過率を９１．５％以上に、そのヘイズ率を０．５％以下にでき、もってガラス基板による光の散乱を低減させると共に、ガラス基板の直進光と、その内側表面による反射光とのズレを低減させて、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【００２６】
請求項８記載の薄型表示素子の製造方法は、請求項６記載の薄型表示素子の製造方法において、前記エッチングステップは、弗酸と、アミノ基及びカルボキシル基の少なくともいずれか一方を有する有機物とを含むエッチング液を用いて前記エッチングを行うことを特徴とする。
【００２７】
請求項８記載の薄型表示素子の製造方法によれば、弗酸と、アミノ基及びカルボキシル基の少なくともいずれか一方を有する有機物とを含むエッチング液を用いてエッチングを行うので、ガラス基板から溶解したシリカがガラス基板に再付着することを防止して、ガラス基板の厚さを０．４ｍｍ未満に、その平面透過率を９１．５％以上に、そのヘイズ率を０．５％以下にでき、もってガラス基板による光の散乱を低減させると共に、ガラス基板の直進光と、その内側表面による反射光とのズレを低減させて、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【００２８】
請求項９記載の薄型表示素子の製造方法は、請求項６乃至８のいずれか１項に記載の薄型表示素子の製造方法において、複数の前記薄型表示素子に応じた面積をもつ一対の他のガラス基板を作製するステップと、前記一対の他のガラス基板に前記薄型表示素子に対応する表示素子部を前記複数の薄型表示素子に応じて複数形成する表示素子部形成ステップとを備え、前記エッチングステップは、前記複数の表示素子部が形成された前記一対の他のガラス基板をエッチングすることを特徴とする。
【００２９】
請求項９記載の薄型表示素子の製造方法によれば、表示素子に対応する表示素子部を複数の表示素子に応じて複数形成した一対の他のガラス基板をエッチングするので、画像表示品質を向上させることができる薄型表示素子を効率良く製造することができる。
【００３０】
請求項１０記載の薄型表示素子の製造方法は、請求項６乃至９のいずれか１項に記載の薄型表示素子の製造方法において、前記薄型表示素子は薄型液晶表示素子であることを特徴とする。
【００３１】
請求項１１記載の薄型表示素子の製造方法は、請求項６乃至９のいずれか１項に記載の薄型表示素子の製造方法において、前記薄型表示素子は薄型ＥＬ素子であることを特徴とする。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
【００３３】
図１は、本発明の実施の形態に係る表示素子の断面図である。
【００３４】
図１において、本発明の実施の形態に係る表示素子としての液晶表示素子１は、一対の長方形ガラス基板１１，１２と、ガラス基板１１の内側表面に互いに平行に配列されると共にＩＴＯ膜から成るストリップ状の複数の透明電極１３と、透明電極１３の上に形成された配向膜１４と、ガラス基板１２の内側表面に互いに平行に配列されると共にＩＴＯ膜から成るストリップ状の複数の透明電極１６と、透明電極１６の上に形成された配向膜１７と、配向膜１４及び配向膜１７の間に互いに等間隔に配設され、ガラス基板１１とガラス基板１２を所定の間隔に保持する球状のスペーサー１８と、ガラス基板１１，１２の周縁部においてスペーサー１８の外側に形成され、ガラス基板１１，１２を気密に接合して、その内部に液晶封入領域１９を画成するシール層２０とを備える。液晶封入領域１９には、液晶２１が封入されている。
【００３５】
透明電極１３と透明電極１６は互いに直交して配列されて、画像を表示するマトリックス状の画素電極を構成し、配向膜１４と配向膜１７は、そのラビング方向が９０°異なる。また、シール層２０のシール材としては、例えばガラス基板１１，１２のエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系接着剤等を用いる。
【００３６】
液晶表示素子１は、さらに、ガラス基板１１の外側表面に貼着された偏光フィルター２２と、ガラス基板１２の外側表面に貼着された偏光フィルター２３とを備える。
【００３７】
シール層２０には、液晶封入領域１９内に液晶２１を封入するための図示しない開口部が形成されている。シール層２０の開口部は、液晶封入領域１９内に液晶２１が封入された後に図示しない封止部材により封止されている。
【００３８】
ガラス基板１１は、ソーダライムガラス製であり、外形寸法が、例えば３５ｍｍ×４５ｍｍで、厚さが０．３ｍｍである。ガラス基板１２は、ソーダライムガラス製であり、外形寸法が、例えば３５ｍｍ×４５ｍｍで、厚さが０．３ｍｍである。
【００３９】
また、ガラス基板１１及びガラス基板１２は、夫々、平面透過率が９１．５％であり、ヘイズ率が０．４％である。
【００４０】
液晶表示素子１において、ガラス基板１１，１２は、その厚さが薄く０．３ｍｍであり、その外側表面が平坦且つ滑らかであり、その光の透過率が高く、平面透過率が９１．５％であり、その透明度も良く、ヘイズ率が０．４％であるので、光の散乱が少なく、また、ガラス基板１１，１２の各内側表面による反射光とガラス基板１１，１２の各直進光とのズレが夫々少なく、液晶表示素子１１，１２の画像表示品質は優れたものとなる。
【００４１】
以下、図１の液晶表示素子１の製造方法を図面を参照しながら説明する。
【００４２】
まず、図３及び図４に示すように、外形寸法が、例えば２００ｍｍ×１６０ｍｍで、厚さが、例えば０．４ｍｍであり、液晶表示素子１のほぼ１２個分の面積を有するソーダライムガラス製の一対のガラス基板３１，３２を作製する。
【００４３】
ガラス基板３１に液晶表示素子１のガラス基板１１の１つに対応する素子区画３３を３行×４列のマトリックス状に規定する。また、ガラス基板３２に液晶表示素子１のガラス基板１２に対応する素子区画３４をガラス基板３１の素子区画３３に対応するように夫々規定する。
【００４４】
ガラス基板３１の一方の面（内側表面）上に、各素子区画３３において、透明電極１３及び配向膜１４を夫々形成する。透明電極１３は、ＩＴＯ膜をスパッタ法により形成し、このＩＴＯ膜をフォトエッチングによりパターニングして形成され、配向膜１４は、透明電極１３上にポリイミド薄膜を積層し、このポリイミド薄膜にラビング処理を施して形成される。
【００４５】
ガラス基板３２の一方の面（内側表面）上に、各素子区画３４において、透明電極１６、及び配向膜１７を夫々形成する。透明電極１６は、ＩＴＯ膜をスパッタ法により形成し、このＩＴＯ膜をフォトエッチングによりパターンニングして形成され、配向膜１７は、透明電極１６上にポリイミド薄膜を積層し、このポリイミド薄膜にラビング処理を施して形成される。
【００４６】
ガラス基板３１，３２のいずれか一方、本実施の形態においてはガラス基板３２の内側表面上において、各素子区画３４内の液晶表示素子１のシール層２０に対応する位置にシール材をスクリーン印刷法等の方法で印刷することによりシール層２０を形成し（図４）、各素子区画３４内の液晶表示素子１のスペーサ１８に対応する位置にスペーサ１８を配設する。シール層２０を形成するときには、後述する図２の液晶表示素子多面取り用ガラス基板体３０において開口部２を形成するようにその一部にシール材が印刷されていない開口部４３を形成する。
【００４７】
ガラス基板３２の内側表面に、開口部２を形成するように開口部４３の両端から列方向にシール層４４を形成する。シール層４４は、シール層２０と同じシール材から成り、シール層２０と同様にスクリーン印刷法等により形成される。
【００４８】
ガラス基板３２の内側表面周縁部に、全ての素子区画３４をその内側に囲い、シール層２０，４４に対して所定の間隔をあけてシール層３５を形成する。シール層３５は、ガラス基板３１，３２のエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系接着剤等から成り、スクリーン印刷法等により形成される。シール層３５を形成するときには、ガラス基板３２の上端側の一部においてシール材が印刷されていない開口部４５を形成する。開口部４５は、後述するように、ガラス基板３１とガラス基板３２が接合されたときにガラス基板３１，３２の内部と外部とを連通する。
【００４９】
ガラス基板３１とガラス基板３２を、素子区画３３とこれに対応する素子区画３４とが互いに対向するように重ね合わせ、シール層２０，３５，４４により接合して図１の液晶表示素子１に対応する液晶表示素子部１’（表示素子部）を１２個作製し（図２）、次いで、開口部４５を、ガラス基板３１，３２とのエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系接着剤等の封止部材４６により封止する。
【００５０】
各液晶表示素子部１’には、ガラス基板３１，３２の各内側表面と各シール層２０により、液晶表示素子１の液晶封入領域１９が画成されると共に、ガラス基板３１，３２の各内側表面とシール層４４により、開口部２が形成され、液晶表示素子部１’の各液晶封入領域１９は、外部と夫々連通される。
【００５１】
上述のように、ガラス基板３１，３２を接合するときに、ガラス基板３１，３２の内部は、開口部２及び開口部４５を介して外部に連通しているので、ガラス基板３１，３２間の圧力が高くなることはなく、ガラス基板３１，３２をその全域にわたって均一な間隔で接合することができる。
【００５２】
次いで、接合された一対のガラス基板３１，３２をエッチング液内に所定時間浸漬させ、ガラス基板３１，３２の各外側表面にエッチング処理を施した後に、接合された一対のガラス基板３１，３２をエッチング液内から取り出し、速やかに洗浄して、ガラス基板３１，３２に付着したエッチング液を完全に除去し、液晶表示素子多面取り用ガラス基板体３０を作製する（図２）。ガラス基板３１，３２は、各外側表面がエッチングされることにより、それらの厚さが０．３ｍｍになっている。接合された一対のガラス基板３１，３２をエッチング液内に浸漬させる時間は、エッチングにより除去したいガラス基板３１，３２の厚さにより決定される。接合された一対のガラス基板３１，３２にエッチング処理を行うときは、接合された一対のガラス基板３１，３２をエッチング液内で所定の振動数で揺動させる。
【００５３】
次いで、液晶表示素子部１’の開口部２側の端辺に沿った行方向切断線４７（図２）に沿って液晶表示素子多面取り用ガラス基板体３０を切断し、行方向に液晶表示素子部１’が並んだ行方向素子集合体に分割する。これにより、液晶表示素子部１’の各開口部２が表出する。各行方向素子集合体において、各液晶封入領域１９内を減圧し、開口部２を介して各液晶封入領域１９内に液晶２１を注入した後、各行方向素子集合体を液晶表示素子部１’毎に切断し、各液晶表示素子部１’を洗浄した後に各開口部２を図１の液晶表示素子１の図示しない封止部材により封止し、切断されたガラス基板３１の外側表面に偏光フィルター２２を、切断されたガラス基板３２の外側表面に偏光フィルター２３を夫々貼着して、液晶表示素子１を作製する。
【００５４】
上記接合された一対のガラス基板３１，３２をエッチングするときに用いるエッチング液は、弗酸を主成分とし、硫酸、酢酸、及びドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを含むエッチング液であり、その組成は、弗酸が、例えば１０質量％、硫酸が、例えば３質量％、酢酸が、例えば０．５質量％、ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムが、例えば０．２質量％である。
【００５５】
上述のように、接合された一対のガラス基板３１，３２の厚さを薄くするために、弗酸を主成分とし、硫酸、酢酸、及びドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを含むエッチング液を用いて、ガラス基板３１，３２の各外側表面のエッチングを行っているので、ガラス基板３１，３２の厚さを０．３ｍｍと薄くできると共に、エッチングによりガラス基板３１，３２から溶け出したシリカが、ガラス基板３１，３２の各外側表面に再付着することを防止でき、ガラス基板３１，３２の各外側表面を平坦且つ滑らかにでき、これによりガラス基板３１，３２の平面透過率が９１．５％に、ヘイズ率が０．４％になる。
【００５６】
したがって、液晶表示素子多面取り用ガラス基板体３０を切断して液晶表示素子部１’毎に分割した液晶表示素子１において、ガラス基板１１，１２は、その厚さが薄く０．３ｍｍと、その外側表面が平坦且つ滑らかとなり、ガラス基板１１，１２の平面透過率を９１．５％と、その光の透過率を高くできると共に、そのヘイズ率を０．４％と、その透明度を良くすることができる。
【００５７】
本発明の実施の形態に係る表示素子としての液晶表示素子１において、ガラス基板１１は、厚さが０．３ｍｍであり、平面透過率が９１．５％であり、ヘイズ率が０．４％であるとしたが、ガラス基板１１はこれに限るものではなく、ガラス基板１１は、厚さが０．４ｍｍ未満であり、平面透過率が９１．５％以上であり、ヘイズ率が０．５％以下であればよい。
【００５８】
液晶表示素子１において、ガラス基板１２は、厚さが０．３ｍｍであり、平面透過率が９１．５％であり、ヘイズ率が０．４％であるとしたが、ガラス基板１２はこれに限るものではなく、ガラス基板１２は、厚さが０．４ｍｍ未満であり、平面透過率が９１．５％以上であり、ヘイズ率が０．５％以下であればよい。
【００５９】
また、液晶表示素子１において、ガラス基板１１及びガラス基板１２は、ガラス基板１１及びガラス基板１２のうち画像が表示される側のガラス基板の厚さのみが０．４ｍｍ未満であってもよい。
【００６０】
液晶表示素子１は、シール層２０，３５，４４により接合された一対のガラス基板３１，３２を、弗酸を主成分とし、硫酸、酢酸、及びドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを含み、弗酸が１０質量％、硫酸が３質量％、酢酸が０．５質量％、ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムが０．２質量％の組成のエッチング液によりエッチングすることによりガラス基板３１，３２の厚さが薄くされたものであるとしたが、ガラス基板３１，３２のエッチングに用いるエッチング液はこれに限るものではなく、他の組成であってもよい。また、エッチング処理の工程は上記工程に限るものではない。
【００６１】
液晶表示素子１において、ガラス基板１１は、ソーダライムガラス製としたが、ガラス基板１１はこれに限るものではなく、ガラス基板１１は、他の材料からなるものであってもよい。
【００６２】
液晶表示素子１において、ガラス基板１２は、ソーダライムガラス製としたが、ガラス基板１２はこれに限るものではなく、ガラス基板１２は、他の材料からなるものであってもよい。
【００６３】
液晶表示素子１は、液晶表示素子多面取り用ガラス基板体３０を分割することにより、複数作製するものとしたが、液晶表示素子１の製造方法はこれに限るものではなく、液晶表示素子１の単体を製造するものであってもよい。
【００６４】
液晶表示素子１の形状及び構成は、上記に限るものではなく、また、液晶表示素子多面取り用ガラス基板体３０の形状及び構成は、上記に限るものではない。
【００６５】
上述のようにエッチングを行ってガラス基板を薄くすることにより、表示素子を薄くする方法は、ＥＬ素子においても適用することができる。
【００６６】
以下、本発明の他の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
【００６７】
図５は、本発明の他の実施の形態に係る表示素子の断面図である。
【００６８】
図５において、本発明の他の実施の形態に係る表示素子としてのＥＬ素子５０は、有機ＥＬ素子であり、長方形ガラス基板５１と、ガラス基板５１の上に形成されたＥＬ積層体５２と、このＥＬ積層体５２を覆うように形成された長方形封止板（ガラス基板）５３とから成る。封止板５３は、長方形ガラス素板から成り、当該ガラス素板の中央部にはウエットエッチング法等を用いて、深さが、例えば０．３ｍｍの凹部５５が形成され、周囲に周辺突条部５４が形成されている。
【００６９】
封止板５３の凹部５５の底部表面５８には、凹部５５内の水分を吸着させるために乾燥剤５９が塗布されている。
【００７０】
封止板５３は、周辺突条部５４の頂部である封止部５６においてシール層５７によりガラス基板５１上に接合されている。シール層５７としては、ガラス基板５１及び封止板５３のエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系接着剤等を用いる。
【００７１】
ＥＬ積層体５２は、ガラス基板５１上に載置され、ＩＴＯ膜から成るアノード電極６０と、該アノード電極６０の上面に積層され、ＥＬ積層膜６１と、ＥＬ積層膜６１の上面に積層されたＭｇ−Ａｇ合金製のカソード電極６２と、ＥＬ積層膜６１の側方においてカソード電極６２に接続したＩＴＯ膜から成る引出し電極６３とを備える。ＥＬ積層膜６１は、アノード電極６０側から順に、トリフェニルジアミンから成る正孔輸送層と、キノリノールアルミ錯体から成る発光層と、トリアゾールやオキサジアゾールから成る電子輸送層とから成る。
【００７２】
ＥＬ素子５０は、上記発光層が発光して、この光が正孔輸送層及びガラス基板５１を透過することにより光を発光する。
【００７３】
ガラス基板５１は、無アルカリガラス製であり、外形寸法が３５ｍｍ×４５ｍｍで、厚さが０．３ｍｍである。封止板５３は、無アルカリガラス製であり、外形寸法が３５ｍｍ×４５ｍｍで、凹部５５の厚さ（封止板５３の凹部５５の底面と外側表面との間隔）が０．３ｍｍである。
【００７４】
また、ガラス基板５１及び封止板５３は、夫々、平面透過率が９１．６％であり、ヘイズ率が０．３％である。
【００７５】
ＥＬ素子５０において、ガラス基板５１及び封止板５３は、その厚さが薄く０．３ｍｍであり、その外側表面が平坦且つ滑らかであり、その光の透過率が高く、平面透過率が９１．６％であり、その透明度も良く、ヘイズ率が０．３％であるので、光の散乱が少なく、また、ガラス基板５１の内側表面による反射光とガラス基板５１の直進光とのズレが少なく、ＥＬ素子５０の画像表示品質は優れたものとなる。
【００７６】
図５のＥＬ素子５０は、図１液晶表示素子１の製造方法と同様な製造方法により製造される。
【００７７】
以下、図５のＥＬ素子５０の製造方法を図面を参照しながら説明する。
【００７８】
まず、図６及び図７に示すように、外形寸法が、例えば２００ｍｍ×１６０ｍｍで、厚さが、例えば０．４ｍｍであり、ＥＬ素子５０のほぼ１２個分の面積を有する無アルカリガラス製の一対ガラス基板７１と、ガラス基板７１に対して厚さのみが異なり、厚さが、例えば０．７ｍｍのガラス基板７２を作製する。
【００７９】
ガラス基板７１にＥＬ素子５０のガラス基板５１の１つに対応する素子区画７３を３行×４列のマトリックス状に規定する。また、ガラス基板７２にＥＬ素子５０の封止板５３の１つに対応する素子区画７４をガラス基板７１の素子区画７３に対応するように夫々規定する。
【００８０】
ガラス基板７１の一方の面（内側表面）上に、各素子区画７３において、ＩＴＯ膜から成るアノード電極６０と、ＩＴＯ膜から成る引出し電極６３とを積層し、アノード電極６０上にトリフェニルジアミンから成る正孔輸送層を、正孔輸送層の上にキノリノールアルミ錯体から成る発光層を、発光層の上にトリアゾールやオキサジアゾールから成る電子輸送層を夫々積層してＥＬ積層膜６１を形成し、ＥＬ積層膜６１及び引出し電極６３上にＭｇ−Ａｇ合金製のカソード電極６２を積層して、ＥＬ積層体５２を形成する。
【００８１】
ガラス基板７２の一方の面（内側表面）上に、各素子区画７４において、ＥＬ素子５０の周辺突条部５４に対応する突条部７５を形成すべく、ウエットエッチング法等のエッチング法、又はサンドブラスト法等によりガラス基板７２の所定部分を凹状に取り除くことにより凹部５５を形成する。また、各凹部５５の底部表面５８に乾燥剤５９を塗布し、各突条部７５の頂部にエポキシ樹脂系接着剤等から成るシール材をスクリーン印刷法等の方法で印刷することによりシール層５７を形成する。
【００８２】
ガラス基板７１とガラス基板７２を、素子区画７３とこれに対応する素子区画７４とが互いに対向するように重ね合わせ、シール層５７により接合し、図５のＥＬ素子５０に対応するＥＬ素子部（表示素子部）を１２個作製する。
【００８３】
次いで、接合された一対のガラス基板７１，７２をエッチング液内に所定時間浸漬させ、ガラス基板７１，７２の各外側表面をエッチング処理を施した後に、接合された一対のガラス基板７１，７２をエッチング液内から取り出し、速やかに洗浄して、ガラス基板７１，７２に付着したエッチング液を完全に除去し、図示しないＥＬ素子多面取り用ガラス基板体を作製する。ガラス基板７１，７２は、各外側表面がエッチングされることにより、ガラス基板７１の厚さが０．３ｍｍに、ガラス基板７２の凹部５５の厚さが０．３ｍｍなっている。接合された一対のガラス基板７１，７２をエッチング液内に浸漬させる時間は、エッチングにより除去したいガラス基板７１，７２の厚さにより決定される。接合された一対のガラス基板７１，７２にエッチング処理を行うときは、接合された一対のガラス基板７１，７２をエッチング液内で所定の振動数で揺動させる。
【００８４】
次いで、ＥＬ素子多面取り用ガラス基板体を切断して各素子区画７３，７４毎に分割し、ＥＬ素子５０を作製する。
【００８５】
上記接合された一対のガラス基板７１，７２をエッチングするときに用いるエッチング液は、弗酸を主成分とし、アミノ基及びカルボキシル基の少なくともいずれか一方を含む有機物、例えばＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）を含むエッチング液であり、その組成は、弗酸が、例えば２０質量％、ＥＤＴＡが、例えば１質量％である。
【００８６】
上述のように、接合された一対のガラス基板７１，７２の厚さを薄くするために、弗酸を主成分とし、ＥＤＴＡを含むエッチング液を用いて、ガラス基板７１，７２の各外側表面のエッチングを行っているので、ガラス基板７１，７２の厚さを０．３ｍｍと薄くできると共に、エッチングによりガラス基板７１，７２から溶け出したシリカが、ガラス基板７１，７２の各外側表面に再付着することを防止でき、ガラス基板７１，７２の各外側表面を平坦且つ滑らかにでき、これによりガラス基板７１，７２の平面透過率が９１．６％に、ヘイズ率が０．３％になる。
【００８７】
したがって、ＥＬ素子多面取り用ガラス基板体を切断して素子区画７３，７４毎に分割したＥＬ素子５０において、ガラス基板５１及び封止板５３は、その厚さが薄くガラス基板５１の厚さが０．３ｍｍと、封止板５３の凹部５５の厚さが０．３ｍｍと、その表面が平坦且つ滑らかとなり、ガラス基板５１及び封止板５３の平面透過率を９１．６％と、その光の透過率を高くできると共に、そのヘイズ率を０．３％と、その透明度を良くすることができる。
【００８８】
本発明の他の実施の形態に係る表示素子としてのＥＬ素子５０において、ガラス基板５１は、厚さが０．３ｍｍであり、平面透過率が９１．６％であり、ヘイズ率が０．３％であるとしたが、ガラス基板５１はこれに限るものではなく、ガラス基板５１は、厚さが０．４ｍｍ未満であり、平面透過率が９１．５％以上であり、ヘイズ率が０．５％以下であればよい。
【００８９】
ＥＬ素子５０において、封止板５３は、凹部５５の厚さが０．３ｍｍであり、平面透過率が９１．６％であり、ヘイズ率が０．３％であるとしたが、封止板５３はこれに限るものではなく、封止板５３は、凹部５５の厚さが０．４ｍｍ未満であり、平面透過率が９１．５％以上であり、ヘイズ率が０．５％以下であればよい。
【００９０】
また、ＥＬ素子５０において、ガラス基板５１及び封止板５３のうち、画像が表示される側であるガラス基板５１の厚さのみが０．４ｍｍ未満であってもよい。
【００９１】
ＥＬ素子５０は、シール層５７により接合された一対のガラス基板７１，７２を、弗酸を主成分とし、ＥＤＴＡを含み、弗酸が２０質量％、ＥＤＴＡが１質量％の組成のエッチング液によりエッチングすることによりガラス基板７１，７２の厚さが薄くされたものであるとしたが、ガラス基板７１，７２のエッチングに用いるエッチング液はこれに限るものではなく、他の組成であってもよい。また、エッチング処理の工程は上記工程に限るものではない。
【００９２】
ＥＬ素子５０において、ガラス基板５１は、無アルカリガラス製としたが、ガラス基板５１はこれに限るものではなく、ガラス基板５１は、他の材料からなるものであってもよい。
【００９３】
ＥＬ素子５０において、封止板５３は、無アルカリガラス製としたが、封止板５３はこれに限るものではなく、封止板５３は、他の材料からなるものであってもよい。
【００９４】
ＥＬ素子５０は、ＥＬ素子多面取り用ガラス基板体を分割することにより、複数作製するものとしたが、ＥＬ素子５０の製造方法はこれに限るものではなく、ＥＬ素子５０の単体を製造するものであってもよい。
【００９５】
ＥＬ素子５０の形状及び構成は、上記に限るものではなく、また、ＥＬ素子多面取り用ガラス基板体の形状及び構成は、上記に限るものではない。
【００９６】
ＥＬ素子５０は、有機ＥＬ素子としたが、ＥＬ素子５０はこれに限るものではなく、無機ＥＬ素子であってもよい。
【００９７】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項１記載の薄型表示素子によれば、一対のガラス基板のうち少なくとも表示側のガラス基板は、その厚さが０．４ｍｍ未満であるので、ガラス基板による光の散乱を低減することができると共に、ガラス基板の直進光と、その内側表面による反射光とのズレを低減でき、もって薄型表示素子の画像表示品質を向上させることができる。
【００９８】
請求項２記載の薄型表示素子によれば、ガラス基板は、平面透過率が９１．５％以上であるので、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【００９９】
請求項３記載の薄型表示素子によれば、ガラス基板は、ヘイズ率が０．５％以下であるので、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【０１００】
請求項６記載の薄型表示素子の製造方法によれば、一対のガラス基板の厚さをエッチングにより薄くするので、薄型表示素子のガラス基板の外側表面の表面を平坦に薄くすることができ、もって薄型表示素子の画像表示品質を向上させることができる。
【０１０１】
請求項７記載の薄型表示素子の製造方法によれば、弗酸、硫酸、酢酸、及びドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムを含むエッチング液を用いてエッチングを行うので、ガラス基板から溶解したシリカがガラス基板に再付着することを防止して、ガラス基板の厚さを０．４ｍｍ未満に、その平面透過率を９１．５％以上に、そのヘイズ率を０．５％以下にでき、もってガラス基板による光の散乱を低減させると共に、ガラス基板の直進光と、その内側表面による反射光とのズレを低減させて、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【０１０２】
請求項８記載の薄型表示素子の製造方法によれば、弗酸と、アミノ基及びカルボキシル基の少なくともいずれか一方を有する有機物とを含むエッチング液を用いてエッチングを行うので、ガラス基板から溶解したシリカがガラス基板に再付着することを防止して、ガラス基板の厚さを０．４ｍｍ未満に、その平面透過率を９１．５％以上に、そのヘイズ率を０．５％以下にでき、もってガラス基板による光の散乱を低減させると共に、ガラス基板の直進光と、その内側表面による反射光とのズレを低減させて、薄型表示素子の画像表示品質をより向上させることができる。
【０１０３】
請求項９記載の薄型表示素子の製造方法によれば、表示素子に対応する表示素子部を複数の表示素子に応じて複数形成した一対の他のガラス基板をエッチングするので、画像表示品質を向上させることができる薄型表示素子を効率良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る表示素子の断面図である。
【図２】図１の液晶表示素子の多面取り用ガラス基板体の平面図である。
【図３】図２におけるガラス基板３１の内側表面の断面図である。
【図４】図２におけるガラス基板３２の内側表面の断面図である。
【図５】本発明の他の実施の形態に係る表示素子の断面図である。
【図６】図５のＥＬ素子の製造方法を説明するための図である。
【図７】図５のＥＬ素子の製造方法を説明するための図である。
【図８】従来の液晶表示素子の製造方法を説明するための図である。
【符号の説明】
１  液晶表示素子
１’  液晶表示素子部
２，４５  開口部
１１，１２，３１，３２，５１，７１，７２，１０１，１０２  ガラス基板
１３，１６  透明電極
１４，１７  配向膜
１８，１０４  スペーサ
１９，１０８  液晶封入領域
２０，３５，４４，５７，１０５，１０７  シール層
２１  液晶
３０，１００  液晶素子多面取り用ガラス基板体
３３，３４，７３，７４，１０３  素子区画
４６  封止部材
４７，１０９  行方向切断線
５０  ＥＬ素子
５２  ＥＬ積層体
５３  封止板
【図１】
2004317981.tif 000003
【図２】
2004317981.tif 000004
【図３】
2004317981.tif 000005
【図４】
2004317981.tif 000006
【図５】
2004317981.tif 000007
【図６】
2004317981.tif 000008
【図７】
2004317981.tif 000009
【図８】
2004317981.tif 000010