(57)【要約】【課題】反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れた金属膜、及び、このように優れた特性を有する金属膜を用いた光反射体を提供する。【解決手段】（１）  少なくとも１種類のＡｇ合金膜が基体上に形成され、更に該Ａｇ合金膜の上に純Ａｇ膜が形成されている積層膜において、基体側のＡｇ合金膜がその上層の純Ａｇ膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするＡｇ合金積層膜、（２）  少なくとも２種類のＡｇ合金膜を基体上に順次積層したＡｇ合金積層膜において、基体側のＡｇ合金膜がその上層のＡｇ合金膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするＡｇ合金積層膜、（３）  前記Ａｇ合金積層膜において基体側のＡｇ合金膜が希土類元素の１種以上を合計で０．１  〜３．０  原子％含有するもの、（４）  前記Ａｇ合金積層膜が基体上に形成されていることを特徴とする光反射体等。【選択図】        図なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種類のＡｇ合金膜が基体上に形成され、更に該Ａｇ合金膜の上に純Ａｇ膜が形成されている積層膜において、基体側のＡｇ合金膜がその上層の純Ａｇ膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするＡｇ合金積層膜。
【請求項２】
少なくとも２種類のＡｇ合金膜を基体上に順次積層したＡｇ合金積層膜において、基体側のＡｇ合金膜がその上層のＡｇ合金膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするＡｇ合金積層膜。
【請求項３】
前記基体側のＡｇ合金膜が希土類元素の１種以上を合計で０．１  〜３．０  原子％含有する請求項１または２記載のＡｇ合金積層膜。
【請求項４】
前記希土類元素がＮｄおよび／またはＹである請求項３記載のＡｇ合金積層膜。
【請求項５】
前記基体側のＡｇ合金膜の上層のＡｇ合金膜がＣｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｂｉ、Ｓｂの１種以上を含む請求項２〜４のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜。
【請求項６】
前記基体側のＡｇ合金膜の上層のＡｇ合金膜が、Ａｕ、Ｃｕの１種以上を合計で０．３  〜５．０  原子％、及び／又は、Ｐｄを０．３  〜３．０  原子％、及び／又は、Ｂｉを０．０１〜０．５  原子％含む請求項５記載のＡｇ合金積層膜。
【請求項７】
前記基体側のＡｇ合金膜の上層のＡｇ合金膜または純Ａｇ膜の膜厚が５〜７０ｎｍである請求項１〜６のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜。
【請求項８】
前記基体側のＡｇ合金膜とその上層のＡｇ合金膜または純Ａｇ膜とが、結晶構造の異なる異相界面層を介することなく連続的に形成されている請求項１〜７のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜が基体上に形成されていることを特徴とする光反射体。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜を反射層として用いた光情報記録媒体。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜を反射電極および／または反射体として用いたフラットパネルディスプレイ素子。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜を反射層として用いた車載用および／または照明用リフレクター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ａｇ合金積層膜、光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子およびリフレクターに関する技術分野に属し、特には、ＣＤ、ＤＶＤ  等の光情報記録媒体やフラットパネルディスプレイ素子用反射電極、各種リフレクターに用いられる高耐久性かつ高反射率を有するＡｇ合金積層膜およびそれを用いた光反射体に関する技術分野に属するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光情報記録媒体やフラットパネルディスプレイ素子用反射電極には、その高い反射率からＡｇ系の反射材料が用いられてきつつある。
【０００３】
光情報記録媒体には、読み出し専用ディスク、追記型ディスク、書き換え型ディスクがあるが、これらのディスクは何れもＡｇ、Ａｌ、Ａｕ等を母材とする反射膜層を設けた構造を有しており、データ読み出し時にはディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出する事により、データの再生を行う。
【０００４】
また、フラットパネルディスプレイ素子では、反射型液晶ディスプレイの電極等にＡｇ、Ａｌを母材とする反射膜が設けられている。
【０００５】
Ａｇを主成分とする反射膜では、恒温恒湿試験や耐熱性試験において、ＡｕやＡｌ合金系の薄膜より劣るものの、実用波長領域の４００  〜８００ｎｍ  で最も高い反射率を示すことから実用化が進められている。
【０００６】
Ａｇ合金膜の耐久性を高める方法としては、例えば、米国特許第６００７８８９  号明細書（特許文献１）や、特開平６−２０８７３２号公報（特許文献２）には、ＡｇにＡｕ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｒｈ等の元素を添加し、化学的安定性を高める方法が示されている。しかし、これらのＡｇ合金膜においては、Ａｇ基合金薄膜の耐食性の改善はなされるものの、Ａｇ合金膜の加熱時の構造変化を抑制するには不十分であり、実用上の課題が残されている。また、特許第３３６５７６２  号公報（特許文献３）においては、ＡｇにＮｄを添加することにより大きく耐熱性を改善したＡｇ合金膜が提案されている。さらにＡｇ−Ｎｄ  にＡｕやＰｄを添加して、化学的安定性と耐熱性を同時に向上させる方法も提案されている。また、液晶ディスプレイ用反射電極では、保護膜としてＩＴＯ  、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２などの酸化物系誘電体材料を積層して耐久性を高める方法が提示されている。
【０００７】
しかしながら、これらの何れの方法においても、耐久性を高めるためには、添加元素の量を増加させる必要があり、その結果、特に波長４００ｎｍ  前後の短波長側で反射率が低下するという問題点があった。また、酸化物系誘電体材料を積層した場合も、酸化膜の吸収や散乱により、反射率が大きく低下する。このため、Ａｇが有する高い反射率を維持させながら耐久性を向上すること、即ち、高い反射率と優れた耐久性〔化学的安定性（耐食性）、耐熱性（加熱時の構造変化が起り難いこと）〕を両立することは、非常に難しい課題であった。
【０００８】
【特許文献１】
米国特許第６００７８８９号明細書
【特許文献２】
特開平６−２０８７３２号公報
【特許文献３】
特許第３３６５７６２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
以上述べたように、光情報記録媒体やフラットパネルディスプレイ素子に用いられる反射膜には、高い反射率と同時に高い耐久性（化学的安定性と耐熱性）が要求される。しかしながら、これらの要求特性の全てを満足する金属薄膜は、未だ得られていない。
【００１０】
本発明はこのような事情に着目してなされたものであって、その目的は、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れた金属膜を提供し、また、このように優れた特性を有する金属膜を用いた光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子およびリフレクターを提供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。本発明は、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れたＡｇ合金積層膜、および、このＡｇ合金積層膜を用いた光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子およびリフレクターであり、上記目的を達成できるものである。
【００１２】
このようにして完成され、上記目的を達成することのできた本発明は、Ａｇ合金積層膜、および、このＡｇ合金積層膜を用いた光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子ならびにリフレクターに係わり、請求項１〜８記載のＡｇ合金積層膜（第１〜８発明に係るＡｇ合金積層膜）、請求項９記載の光反射体、請求項１０記載の光情報記録媒体、請求項１１記載のフラットパネルディスプレイ素子、請求項１２記載のリフレクターであり、それは次のような構成としたものである。
【００１３】
即ち、請求項１記載のＡｇ合金積層膜は、少なくとも１種類のＡｇ合金膜が基体上に形成され、更に該Ａｇ合金膜の上に純Ａｇ膜が形成されている積層膜において、基体側のＡｇ合金膜がその上層の純Ａｇ膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするＡｇ合金積層膜である〔第１発明〕。
【００１４】
請求項２記載のＡｇ合金積層膜は、少なくとも２種類のＡｇ合金膜を基体上に順次積層したＡｇ合金積層膜において、基体側のＡｇ合金膜がその上層のＡｇ合金膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするＡｇ合金積層膜である〔第２発明〕。
【００１５】
請求項３記載のＡｇ合金積層膜は、前記基体側のＡｇ合金膜が希土類元素の１種以上を合計で０．１  〜３．０  原子％含有する請求項１または２記載のＡｇ合金積層膜である〔第３発明〕。
【００１６】
請求項４記載のＡｇ合金積層膜は、前記希土類元素がＮｄおよび／またはＹである請求項３記載のＡｇ合金積層膜である〔第４発明〕。
【００１７】
請求項５記載のＡｇ合金積層膜は、前記基体側のＡｇ合金膜の上層のＡｇ合金膜がＣｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｂｉ、Ｓｂの１種以上を含む請求項２〜４のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜である〔第５発明〕。
【００１８】
請求項６記載のＡｇ合金積層膜は、前記基体側のＡｇ合金膜の上層のＡｇ合金膜が、Ａｕ、Ｃｕの１種以上を合計で０．３  〜５．０  原子％、及び／又は、Ｐｄを０．３  〜３．０  原子％、及び／又は、Ｂｉを０．０１〜０．５  原子％含む請求項５記載のＡｇ合金積層膜である〔第６発明〕。
【００１９】
請求項７記載のＡｇ合金積層膜は、前記基体側のＡｇ合金膜の上層のＡｇ合金膜または純Ａｇ膜の膜厚が５〜７０ｎｍである請求項１〜６のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜である〔第７発明〕。
【００２０】
請求項８記載のＡｇ合金積層膜は、前記基体側のＡｇ合金膜とその上層のＡｇ合金膜または純Ａｇ膜とが、結晶構造の異なる異相界面層を介することなく連続的に形成されている請求項１〜７のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜である〔第８発明〕。
【００２１】
請求項９記載の光反射体は、請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜が基体上に形成されていることを特徴とする光反射体である〔第９発明〕。
【００２２】
請求項１０記載の光情報記録媒体は、請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜を反射層として用いた光情報記録媒体である〔第１０発明〕。
【００２３】
請求項１１記載のフラットパネルディスプレイ素子は、請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜を反射電極および／または反射体として用いたフラットパネルディスプレイ素子である〔第１１発明〕。
【００２４】
請求項１２記載のリフレクターは、請求項１〜８のいずれかに記載のＡｇ合金積層膜を反射層として用いた車載用および／または照明用リフレクターである〔第１２発明〕。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、Ａｇに種々の元素を添加したＡｇ合金スパッタリングターゲットを製作し、これらターゲットまたは純Ａｇスパッタリングターゲット上に種々の元素のチップを配置したものを使用してスパッタリング法により種々の成分・組成のＡｇ合金膜（Ａｇ合金薄膜）を形成し、その組成及び反射膜としての特性を調べた。特に、環境試験（一般的には温度約８０℃、湿度約９０％ＲＨの環境下で数１０〜数１００  時間放置する）後に反射率等の低下が認められる原因について、従来より検討されてきた化学的安定性に加え、薄膜の微細構造変化という観点からＡｇ合金膜を２層積層した積層膜〔Ａｇ合金積層膜（２層膜）〕について検討を行い、以下のことを見いだした。
【００２６】
（１）  基体上にＡｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜（下部層）を形成し、その上に、単層では耐熱性を持たない純Ａｇ膜や  Ａｇ−他元素（Ｐｔ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｃｕ，Ｂｉ，Ｓｂ）系Ａｇ合金膜（上部層）を積層したＡｇ合金積層膜（２層膜）は、前記環境試験の試験環境下において、粒成長などの構造変化を起こさない（耐熱性に優れている）。なお、純Ａｇ膜や  Ａｇ−他元素（Ｐｔ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｃｕ，Ｂｉ，Ｓｂ）系Ａｇ合金膜からなる前記上部層を説明するにあたり、当該上部層が純Ａｇ膜である場合も含め、代表してＡｇ合金膜ということがある。
【００２７】
ここで、上記下部層のＡｇ合金膜（以下、下部Ａｇ合金層ともいう）は、その上部層のＡｇ合金膜（以下、上部Ａｇ合金層ともいう）よりも高い耐熱性を有する。従って、上記のことは、下部層に耐熱性の高い層を用いることによって、膜全体の耐熱性が向上すると換言することができる〔第１、第２発明に関係する事項〕。
【００２８】
なお、従来技術では、耐熱性の高い層で表面を保護する方法が一般的であり、上記のように下部層に耐熱性の高い層を用いることによって、膜全体の耐熱性を向上させる方法は新規である。
【００２９】
（２）  上部Ａｇ合金層を、Ａｕ，Ｐｄ，Ｃｕ，Ｐｔ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｂｉ，Ｓｂの１種以上を含有させたＡｇ合金膜とすることにより、Ａｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜（単層）では困難であった化学的安定性（特にハロゲン元素に対する耐食性）を向上させることが可能である〔第５発明に関係する事項〕。
【００３０】
（３）  上部Ａｇ合金層の膜厚は５〜７０ｎｍがよい〔第７発明に関係する事項〕。５ｎｍ未満の場合は、反射率の点で下部層のＡｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜との有意差が無くなる。７０ｎｍ超の場合は、上部Ａｇ合金層の構造変化が相対的に顕著になり、耐熱性が低下する。耐熱性を重視する場合は、上部Ａｇ合金層の膜厚は５〜３０ｎｍが特に良い。高反射率を重視する場合には、上部Ａｇ合金層の膜厚は２０〜５０ｎｍが特に良い。
【００３１】
（４）  上部Ａｇ合金層と下部Ａｇ合金層との間に結晶構造の異なる異相界面層（界面層、酸化膜等）がなく、結晶粒が連続していると、特に耐熱性向上の効果が大きい。即ち、下部Ａｇ合金層と上部Ａｇ合金層とが異相を介することなく連続的に形成されていると、特に耐熱性向上の効果が大きい〔第８発明に関係する事項〕。これは、上部Ａｇ合金層と下部Ａｇ合金層が連続した結晶粒を形成することにより、これら２層は金属結合となるため、これらの結合を破壊して上部Ａｇ合金層が独立に形態変化を起こすことが困難となるからである。このような膜は、下部Ａｇ合金層と上部Ａｇ合金層を連続的に成膜して積層すること（下部Ａｇ合金層の成膜に連続して上部Ａｇ合金層の成膜を行うこと）により、形成することができる。
【００３２】
（５）  下部Ａｇ合金層は、希土類元素を０．１  〜３．０  原子％（以下、ａｔ％ともいう）含有するＡｇ合金膜であることが望ましく、特にＮｄ、Ｙの１種以上を合計で０．１  〜３．０  ａｔ％含有するＡｇ合金膜であることがより望ましい〔第３発明、第４発明に関係する事項〕。
【００３３】
（６）  上部Ａｇ合金層としては、反射率の点では、純Ａｇ膜が良好である。ただし、純Ａｇ膜よりも化学的安定性を高めるために、ＡｇにＣｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｐｔ，Ｒｕ，Ｒｈを加えてもよい〔第５発明に関係する事項〕。特に、ＡｕもしくはＰｄの添加が効果的である。なお、Ａｇ−Ｐｄ  系Ａｇ合金膜（単層）では、前述のように耐熱性が低く、容易に構造変化が起こる。
【００３４】
このとき、Ａｕ，Ｐｄの添加量は  ０．３〜３．０  ａｔ％がよい。  ０．３ａｔ％未満では耐食性向上の効果が少なく、３．０  ａｔ％超では反射率が低下するからである〔第６発明に関係する事項〕。
【００３５】
Ｂｉ、Ｓｂの添加量は０．０１〜０．５  ａｔ％が望ましい。０．０１ａｔ％未満では耐食性向上の効果が少なく、０．５  ａｔ％超では反射率が低下するからである〔第６発明に関係する事項〕。
【００３６】
本発明は、上記のような知見に基づき完成されたものである。このようにして完成された本発明に係るＡｇ合金積層膜は、請求項１〜８記載のＡｇ合金積層膜（第１〜８発明に係るＡｇ合金積層膜）であり、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れている。
【００３７】
この中、第１発明、第２発明に係るＡｇ合金積層膜が基本的なものである。これらの発明に係るＡｇ合金積層膜は、少なくとも２種類のＡｇ合金膜（上部層が純Ａｇ膜である場合を含む）を基体上に順次積層したＡｇ合金積層膜において、基体側のＡｇ合金膜がその上層のＡｇ合金膜よりも高い耐熱性を有することを特徴とするＡｇ合金積層膜であることとしている。このＡｇ合金積層膜は、従来の単層膜や誘電体保護膜を積層した反射膜では得られない高反射率および優れた耐久性（化学的安定性、耐熱性）を有することができる。
【００３８】
このメカニズムについて、以下説明する。
純Ａｇ膜や  Ａｇ−他元素（Ａｕ，Ｐｄ，Ｃｕ，Ｐｔ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｂｉ，Ｓｂ）  系Ａｇ合金膜は、高い反射率や優れた耐食性を有するが、耐熱性が非常に劣る。一方、Ａｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜は、優れた耐熱性を有するものの、反射率や耐食性で相対的に劣る。
【００３９】
Ａｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜の上に、純Ａｇ膜や、  Ａｇ−他元素（Ａｕ，Ｐｄ，Ｃｕ，Ｐｔ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｂｉ，Ｓｂ）  系Ａｇ合金膜を連続的に成膜して積層すると、前者の下部Ａｇ合金層と後者の上部Ａｇ合金層は同じＡｇ主成分の合金であり、かつ、Ａｌ合金のように表面に酸化被膜が出来ないことから、結晶粒が連続して成長した（境界がなく成長した）構造の２層膜を得ることができる。
【００４０】
このような膜では、下部層に用いたＡｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜は耐熱性が高いので、加熱によって結晶粒径が増大したり表面粗度が増加したりすることがなく、このため、上部層のＡｇ合金膜〔本来は（このＡｇ合金膜が単層の場合には）加熱により構造変化を起こす〕も下地（下部層のＡｇ合金膜）に固定されて、動かないので、加熱により構造変化を起こすことがなくなる。従って、膜全体の耐熱性が向上し、優れた耐熱性を有することとなる。
【００４１】
一方、反射特性（反射率）については、膜の表層部の光学特性によって決まるため、上部層として高い反射率を有するＡｇ合金膜を形成することにより、高反射率が得られる。なお、上部層の膜厚が薄い（３０ｎｍ以下）場合には、入射光が上部層を透過し、下部層にいたるため、上部層の厚みに応じて反射率が変化する。
【００４２】
なお、上記メカニズムは、下部層としてＡｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜を用い、上部層として純Ａｇ膜や  Ａｇ−他元素（Ａｕ，Ｐｄ，Ｃｕ，Ｐｔ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｂｉ，Ｓｂ）  系Ａｇ合金膜を用いた場合について説明したが、これらに限定されるものではなく、他のＡｇ合金膜を用いた場合も同様である。
【００４３】
下部Ａｇ合金層（耐熱性Ａｇ合金膜）としては、Ａｇ−Ｎｄ  系が望ましいが、希土類（含むＹ）やＴｉなどでも効果はある。
【００４４】
特開２００２−２４５６７４  号公報等には、反射体において２種類の薄膜を積層するという技術が記載されているが、この技術は異種の材料を積層して、意図的に異相界面を形成させて結晶粒の微細化をはかるものであり、本発明とは異なる発明である。
【００４５】
本発明に係る光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子、リフレクターは、上記のような優れた特性を有する本発明に係るＡｇ合金積層膜を反射層、反射膜、反射電極等として用いているので、優れた反射率が得られて機能の向上がはかれ、また、耐久性の向上がはかれる。
【００４６】
【実施例】
本発明の実施例および比較例を以下説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。以下、合金での％は原子％（ａｔ％）のことである〔合金においては原子％（ａｔ％）を％という〕。
【００４７】
〔実施例１、比較例１〕
本実施例においては、下部Ａｇ合金層としてＡｇ−０．７％Ｎｄ−０．９％Ｃｕ合金よりなるＡｇ合金膜を成膜し、上部Ａｇ合金層として純Ａｇ膜またはＡｇ−１．０％Ｐｄ  合金あるいはＡｇ−１．０％Ａｕ  合金よりなるＡｇ合金膜を成膜したＡｇ合金積層膜（２層膜）について、環境試験前後の表面粗さの変化を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ  ）を用いて観察した。また、波長６５０ｎｍ  、４００ｎｍ  における反射率の測定を行った。
【００４８】
このとき、基体としてはガラス基板（コーニング＃１７３７、基板サイズ：直径５０ｍｍ、厚さ  ０．５ｍｍ）を用いた。スパッタ装置としてＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、前記ガラス基板上に厚さ１５０ｎｍ  の下部Ａｇ合金層（Ａｇ−０．７％Ｎｄ−０．９％Ｃｕ合金）を成膜し、これに引き続き、上部Ａｇ合金層（純Ａｇ、Ａｇ−１．０％Ｐｄ  又はＡｇ−１．０％Ａｕ  合金）を連続的に成膜して、Ａｇ合金積層膜（２層膜）を作製した。そして、このＡｇ合金積層膜を試料（試験材）として用いた。
【００４９】
上記成膜の条件は、真空度：  １．０×１０−６Ｔｏｒｒ以下、Ａｒガス圧：２ｍＴｏｒｒ  、Ａｒガス流量：３０ｓｃｃｍ、基板温度：２３℃、スパッタリングパワー密度：３．３１Ｗ／ｃｍ２  、ターゲット基板間距離：５５ｍｍとした。
【００５０】
環境試験の条件は、温度：８０℃、湿度：９０％ＲＨ、時間：４８ｈとした。
【００５１】
一方、比較例として、純Ａｇ膜（単層膜）や、Ａｇ−１．０％Ｐｄ  合金またはＡｇ−１．０％Ａｕ  合金よりなるＡｇ合金膜（単層膜）を作製し、上記と同様の試験を行った。
【００５２】
上記試験の結果を表１に示す。なお、この表１において、上部Ａｇ層は上部Ａｇ合金層を示すものである。下部ＡＮＣ  層は、Ｎｄ含有Ａｇ合金よりなる下部Ａｇ合金層を示すものであり、この場合のＮｄ含有Ａｇ合金はＡｇ−０．７％Ｎｄ−０．９％Ｃｕ合金である。
【００５３】
この表１からわかるように、比較例に係る純Ａｇ膜（単層膜）は、環境試験前での反射率は高いものの、環境試験前での表面粗度Ｒａが大きく（４．２ｎｍ）、環境試験後での表面粗度Ｒａが更に大きく（６．８ｎｍ）、環境試験により表面粗度Ｒａが増大しており、また、環境試験後での反射率が低くて環境試験により反射率が低下している。従って、この純Ａｇ膜（単層膜）は、加熱時の構造変化の程度が大きくて耐熱性に劣る。
【００５４】
比較例に係るＡｇ−１．０％Ａｕ  合金よりなるＡｇ合金膜（単層膜）およびＡｇ−１．０％Ｐｄ  合金よりなるＡｇ合金膜（単層膜）は、環境試験前も環境試験後も反射率は高く、また、環境試験前での表面粗度Ｒａは小さい（それぞれ０．８ｎｍ  、０．９ｎｍ）ものの、環境試験後での表面粗度Ｒａが大きくなり（それぞれ１．５ｎｍ  、１．８ｎｍ）、環境試験により表面粗度Ｒａが増大している。従って、このＡｇ合金膜（単層膜）は、加熱時の構造変化の程度が大きくて耐熱性に劣る。
【００５５】
これに対し、本発明の実施例に係るＡｇ合金積層膜（２層膜）は、上部Ａｇ合金層が純Ａｇ膜の場合も、Ａｇ−１．０％Ｐｄ  合金膜の場合も、Ａｇ−１．０％Ａｕ  合金膜の場合も、環境試験後での表面粗度Ｒａは環境試験前での表面粗度Ｒａと同程度に小さく、環境試験による表面粗度Ｒａの増大がほとんどないか、もしくは該Ｒａの増大の程度が極めて小さい。従って、これらのＡｇ合金積層膜（２層膜）は、加熱時の構造変化がないか、もしくは該構造変化の程度が小さくて耐熱性に優れている。
【００５６】
本発明の実施例に係るＡｇ合金積層膜（２層膜）において、上部Ａｇ合金層の膜厚の影響をみると、上部Ａｇ合金層が純Ａｇ膜の場合も、Ａｇ−１．０％Ｐｄ  合金膜の場合も、Ａｇ−１．０％Ａｕ  合金膜の場合も、上部Ａｇ合金層の膜厚が増大すると共に、反射率は向上し、３０ｎｍ以上の膜厚で、比較例に係る純Ａｇ膜（単層膜）の場合とほぼ同様の反射率となることが分かる。一方、表面粗度は、上部Ａｇ合金層の膜厚の増大と共に大きくなっている。これらから、反射率、耐熱性のバランスで最も良好な膜厚は１０〜５０ｎｍ近傍となる。
【００５７】
〔実施例２、比較例２〕
本実施例では、上部Ａｇ合金層の組成を変化させたときの反射率、耐熱性、耐食性の評価を行った。
【００５８】
このとき、下部Ａｇ合金層としてＡｇ−０．７％Ｎｄ−０．９％Ｃｕ合金よりなるＡｇ合金膜を成膜した。上部Ａｇ合金層として、Ａｇ−Ａｕ  系Ａｇ合金（Ａｕ含有量：変化）、Ａｇ−Ｐｄ  系Ａｇ合金（Ｐｄ含有量：変化）またはＡｇ−Ｂｉ  系Ａｇ合金（Ｂｉ含有量：変化）よりなるＡｇ合金膜を成膜した。下部Ａｇ合金層の膜厚は１５０ｎｍ  とし、上部Ａｇ合金層の膜厚は３０ｎｍとした。
【００５９】
耐食性の評価については、環境試験後の膜表面および５％ＮａＣｌ水溶液に５ｍｉｎ  浸漬後の膜表面について目視による観察を行い、白点の発生状況で判定した。即ち、この判定に際し、目視で剥離や全面にわたる変色が認められるものは×（不良）、１ｍｍ以上の白点が基板上に２０個以上見られるものは△（上記×の場合よりは良いが、耐食性不充分）、前記のような白点が５〜２０個のものは○（良好）、５個以下のものは◎（上記○の場合よりも優れる）とした。
【００６０】
上記評価試験の結果を表２に示す。なお、この表２において、上部Ａｇ層は上部Ａｇ合金層を示すものである。下部ＡＮＣ  層は、Ｎｄ含有Ａｇ合金よりなる下部Ａｇ合金層を示すものであり、この場合のＮｄ含有Ａｇ合金はＡｇ−０．７％Ｎｄ−０．９％Ｃｕ合金である。実施例は実施例２に該当することを示す。比較例は、前記実施例２に対しての比較例であって、この全てが本発明の範囲外のものに該当することを意味するものではない。この比較例の中で、上部Ａｇ合金層：純Ａｇ／ＡＮＣ積層膜と記載のものは、上部Ａｇ合金層として純Ａｇ膜を成膜したＡｇ合金積層膜のことであり、これは本発明の範囲内のものであるが、前記実施例２に対しての比較例として位置づけている。
【００６１】
この表２からわかるように、下部Ａｇ合金層としてＡｇ−０．７％Ｎｄ−０．９％Ｃｕ合金よりなるＡｇ合金膜を成膜し、上部Ａｇ合金層として純Ａｇ膜を成膜したＡｇ合金積層膜（表２では、純Ａｇ／ＡＮＣ積層膜と表示）、Ａｇ−０．７％Ｎｄ−０．９％Ｃｕ合金よりなるＡｇ合金膜（単層膜）（表２では、ＡＮＣ  単層膜と表示）では、５％ＮａＣｌ水溶液浸漬後の膜表面に白点発生が多く認められた。
【００６２】
これに対し、上部Ａｇ合金層としてＡｇ−Ａｕ  系Ａｇ合金やＡｇ−Ｐｄ  系Ａｇ合金よりなるＡｇ合金膜を成膜したＡｇ合金積層膜（２層膜）において、Ａｕ含有量：０．３  ％以上、Ｐｄ含有量：０．３  ％以上のものは、ほとんど白点が認められない。ただし、Ａｕ含有量：５％以上の場合や、Ｐｄ含有量：３％以上の場合、特に波長４００ｎｍ  で反射率が大きく低下した。
【００６３】
上部Ａｇ合金層としてＡｇ−Ｂｉ  系Ａｇ合金よりなるＡｇ合金膜を成膜したＡｇ合金積層膜（２層膜）は、Ｂｉ含有量：０．０１〜０．５  ％において高い耐食性が得られた。
【００６４】
〔実施例３、比較例３〕
本実施例では、下部Ａｇ合金層のＡｇ−Ｎｄ  系Ａｇ合金膜のＮｄ含有量を変化させた場合の耐熱性（加熱温度３００  ℃まで）の変化について調べた。このために、ＡＦＭ  （原子間力顕微鏡）による表面粗度の観察を行った。
【００６５】
このとき、下部Ａｇ合金層の膜厚は１５０ｎｍ  とし、上部Ａｇ合金層の純Ａｇ膜の膜厚は１０，３０，５０ｎｍとした。耐熱性を調べるため、耐熱性試験を行った。この耐熱性試験は、真空熱処理（真空度：  １．０×１０−５Ｔｏｒｒ以下）にて行った。この熱処理での加熱温度は、１００  ℃、２００  ℃、３００  ℃とし、熱処理時間は１時間とした。
【００６６】
上記試験の結果を表３に示す。Ｎｄ含有量：０．３  ％で約２００  ℃の加熱、Ｎｄ含有量：０．５  ％以上で３００  ℃の加熱に対しても、表面粗度の変化が少なく、高い耐熱性を示すことが分かった。一方、Ｎｄの添加量が３．０  ％を超えると、反射率の低下が大きく、特に上部Ａｇ合金層のＡｇ膜が薄い場合には、下部Ａｇ合金層の反射率の影響が大きく、膜全体の反射率が低下するため、好ましくない。
【００６７】
【表１】
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【００６８】
【表２】
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【００６９】
【表３】
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【００７０】
【発明の効果】
本発明に係るＡｇ合金積層膜は、反射率が高く、且つ、耐久性（化学的安定性、耐熱性）に優れている。このため、光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子、リフレクター等の反射層、反射膜、反射電極等として好適に用いることができ、それらの機能の向上および耐久性の向上がはかれる。
【００７１】
本発明に係る光反射体、光情報記録媒体、フラットパネルディスプレイ素子、リフレクターは、上記のような優れた特性を有する本発明に係るＡｇ合金積層膜を反射層、反射膜、反射電極等として用いているので、優れた反射率が得られて機能の向上がはかれ、また、耐久性の向上がはかれる。