(57)【要約】【課題】所定の形成条件に従って感光性樹脂層が適正に形成されているか否かを簡便かつ迅速に確認することができ、ひいては、高品位な液晶表示装置を効率的に形成することができる感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法およびこの検査方法に用いる凹凸形成基板を提供する。【解決手段】評価パターン４の複数の凹条部６のうち、基板１ａの表面が許容限度以下の露出面積で露出されている凹条部６を検出し、前記検出された凹条部６に基づき、感光性樹脂層３が最適な露光量の下で形成されたか否かを、予め得られている露光量の最適値に関する試験データを参照して判定する。【選択図】      図１
2004317793.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に形成された、かつ、表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層が、所定の形成条件を満足しているか否かを検査する感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法において、
前記基板に前記感光性樹脂層を形成する際に、前記基板における前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが漸次変化するようにされた評価パターンを、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成し、
前記評価パターンにおける前記複数の凹条部のうち、前記基板の表面が許容限度以下の露出面積で露出されている凹条部を検出し、
前記検出された凹条部に基づき、前記感光性樹脂層が最適な露光量の下で形成されたか否かを、予め得られている露光量の最適値に関する試験データを参照して判定することを特徴とする感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法。
【請求項２】
基板上の液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に形成された、かつ、表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層が、所定の形成条件を満足しているか否かを検査する感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法において、
前記基板に前記感光性樹脂層を形成する際に、前記基板における前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが複数条おきに段階的に変化するようにされた評価パターンを、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成し、
前記評価パターンのうち、表面が平坦な平坦部を検出し、
前記検出された平坦部に基づき、前記感光性樹脂層が最適なプロキシミティギャップの下で形成されたか否かを、予め得られているプロキシミティギャップの最適値に関する試験データを参照して判定することを特徴とする感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法。
【請求項３】
凹凸形状を有する感光性樹脂層が液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に配設された凹凸形成基板において、
前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが漸次変化するようにされた評価パターンが、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成されていることを特徴とする凹凸形成基板。
【請求項４】
凹凸形状を有する感光性樹脂層が液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に配設された凹凸形成基板において、
前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが複数条おきに段階的に変化するようにされた評価パターンが、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成されていることを特徴とする凹凸形成基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法および凹凸形成基板に係り、特に、表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層が、所定の形成条件を満足しているか否かを検査するのに好適な感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法および凹凸形成基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、反射型液晶表示素子は、光源を外部からの光に求めているため、透過型もしくは半透過型液晶表示素子のようにバックライトを必要としない。このため、消費電力が少なくて済むとともに、薄型化・軽量化が可能である。
【０００３】
液晶表示素子を反射型とするには、一対の基板間に液晶を封入してなる液晶表示パネルの外部において光反射板を偏光板と一体として設けるか、あるいは、液晶表示パネル内部に光反射層を例えばアルミニウムなどにより形成するようにしている。特に、液晶表示パネル内部に光反射層を設ける場合には、視野角を広げ光源としての室内・室外の照明光を効率よく使用するため、別途にパネル内もしくはパネル外に光拡散層を設けるようにしている。
【０００４】
この光拡散層は、表示の解像度の関係で液晶表示パネル内部に設けられることが好ましい。そして、この種の液晶表示素子を内面拡散型液晶表示素子と称している。
【０００５】
このような内面拡散型液晶表示素子を形成するためには、従来から、液晶表示パネルに用いられる一方のガラス基板上にネガ型感光性ポリイミド樹脂膜やポジ型感光性樹脂からなる膜を形成し、所定の光透過パターンを有するフォトマスクを介して露光した後に現像することにより、無数の微細な凹凸を形成して粗面化する場合があった。
【０００６】
この凹凸形状は、液晶表示素子におけるモアレ縞を防止するために規則性をもたせず、ランダムな配置にしていることが多い。一方、前述した凹凸形状は、光の反射特性に大きな影響を与えるため、液晶表示素子の形成の際には、凹凸の高さやピッチなどといった凹凸形状の状態を厳密に管理する必要がある。
【０００７】
このため、実際の凹凸形状を触針式表面粗さ計などの表面形状測定装置により測定したり、レーザ顕微鏡やＡＦＭ（原子間力光学顕微鏡）により測定したりしていた。
【０００８】
前述したように、光の反射特性に大きな影響のある凹凸形状の状態を管理する場合、触針式表面粗さ計による測定では、ランダムな配置である凹凸形状の測定個所により測定値が微妙に異なってしまうため、厳密な管理ができない。すなわち、実際の凹凸形状による管理においては、ＲｚＤ（ＤＩＮ規格：十点平均粗さ）などの管理範囲を１．３５±０．１μｍ以内とする必要があり、この範囲内に入っていても、場合によっては、反射拡散特性がばらつくことがあった。
【０００９】
一方、レーザ光学顕微鏡やＡＦＭによる測定では正確な測定結果を得ることができるものの、測定に時間を要するため、量産には不向きであった。
【００１０】
そこで、本出願人は、鋭意研究した結果、特願平１１−３７３４４号（特開２００１−１８８２２３号）に係る発明において、液晶表示パネルの表示部形成領域以外の領域に凹凸形状測定パターンを形成することによって凹凸形状の状態を正確にしかも簡単に管理できる液晶表示素子用マザー基板を提案した。この液晶表示素子用マザー基板によれば、凹凸形状測定パターンは実際の光拡散に関与しないため規則性を有するように形成することでき、この結果、誤差の少ない良好な測定結果を得ることができる。
【００１１】
【特許文献１】
特開２００１−１８８２２３号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、光拡散層を構成する感光性樹脂層を形成する際における露光量やプロキシミティギャップ等の形成条件に従って感光性樹脂層が適正に形成されていることを確認するためには、高精度の機器を要し、また、時間がかかってしまうといった問題が生じており、この問題を解決するための具体的な手段については未だに有効な提案がなされていないのが実情であった。
【００１３】
本発明は、このような問題点に鑑みなされたもので、所定の形成条件に従って感光性樹脂層が適正に形成されているか否かを簡便かつ迅速に確認することができ、ひいては、高品位な液晶表示装置を効率的に形成することができる感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法および凹凸形成基板を提供することを目的とするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため本発明の請求項１に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法の特徴は、基板上の液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に形成された、かつ、表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層が、所定の形成条件を満足しているか否かを検査する感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法において、前記基板に前記感光性樹脂層を形成する際に、前記基板における前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが漸次変化するようにされた評価パターンを、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成し、前記評価パターンにおける前記複数の凹条部のうち、前記基板の表面が許容限度以下の露出面積で露出されている凹条部を検出し、前記検出された凹条部に基づき、前記感光性樹脂層が最適な露光量の下で形成されたか否かを、予め得られている露光量の最適値に関する試験データを参照して判定する点にある。
【００１５】
そして、この請求項１に係る発明によれば、基板の表面が許容限度以下の小さな露出面積で露出された凹条部を検出し、この検出した凹条部に基づいて前記感光性樹脂層が最適な露光量の下で形成されたか否かを簡便かつ迅速に確認することが可能となる。
【００１６】
請求項２に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法の特徴は、基板上の液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に形成された、かつ、表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層が、所定の形成条件を満足しているか否かを検査する感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法において、前記基板に前記感光性樹脂層を形成する際に、前記基板における前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが複数条おきに段階的に変化するようにされた評価パターンを、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成し、前記評価パターンのうち、表面が平坦な平坦部を検出し、前記検出された平坦部に基づき、前記感光性樹脂層が最適なプロキシミティギャップの下で形成されたか否かを、予め得られているプロキシミティギャップの最適値に関する試験データを参照して判定する点にある。
【００１７】
そして、この請求項２に係る発明によれば、評価パターンにおける表面が平坦な平坦部に基づいて、前記光拡散層が最適なプロキシミティギャップの下で形成されたか否かを簡便かつ迅速に判定することが可能となる。
【００１８】
請求項３に係る凹凸形成基板の特徴は、凹凸形状を有する感光性樹脂層が液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に配設された凹凸形成基板において、前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが漸次変化するようにされた評価パターンが、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成されている点にある。
【００１９】
そして、この請求項３に係る発明によれば、前記評価パターンにおける前記複数の凹条部のうち、基板の表面が許容限度以下の小さな露出面積で露出された凹条部を検出するとともに、この検出された凹条部に基づいて、前記感光性樹脂層が最適な露光量の下で形成されたか否かを簡便かつ迅速に確認することが可能となる。
【００２０】
請求項４に係る凹凸形成基板の特徴は、凹凸形状を有する感光性樹脂層が液晶表示パネルの表示部形成領域に対応する位置に配設された凹凸形成基板において、前記表示部形成領域以外の領域に、所定の方向に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部と凹条部とを有し、かつ、各凸条部および凹条部の整列方向の寸法と各凹条部の深さとが複数条おきに段階的に変化するようにされた評価パターンが、前記感光性樹脂層の感光性樹脂と同一の感光性樹脂によって形成されている点にある。
【００２１】
そして、この請求項４に係る発明によれば、前記評価パターンのうち、表面が平坦な平坦部を検出するとともに、この検出された平坦部に基づいて、前記感光性樹脂層が最適なプロキシミティギャップの下で形成されたか否かを簡便かつ迅速に判定することが可能となる。さらに、前記評価パターンにおける前記複数の凹条部のうち、基板の表面が許容限度以下の小さな露出面積で露出された凹条部を検出するとともに、この検出された凹条部に基づいて、前記感光性樹脂層が最適な露光量の下で形成されたか否かを簡便かつ迅速に確認することが可能となる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法およびこの検査方法に用いる凹凸形成基板の第１実施形態について、図１乃至図４を参照して説明する。
【００２３】
本第１実施形態においては、反射層とともに光拡散層を構成する感光性樹脂層が、所定の形成条件としての最適な露光量の下で形成されたか否かを判定する。
【００２４】
まず、前提として、１個の液晶表示パネルの表示部形成領域を有する基板、または、複数個の液晶表示パネルの表示部形成領域を有する基板における視認側の表面に、プロキシミティタイプの露光機を用いたフォトリソグラフィ法によって、感光性樹脂の塗布、フォトマスクを介した露光および現像を順次施すことにより、表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層を形成する。
【００２５】
この際に、図１に示すように、基板１ａの表面における表示部形成領域２以外の領域に、感光性樹脂層３の感光性樹脂と同一の感光性樹脂を用いることによって、帯状の評価パターン４を、前記感光性樹脂層３と同一の成膜法によって同時に形成する。なお、ここでいう同一の感光性樹脂とは、レジスト感度等の材料的特性のみならず、膜厚も同一であることを意味する。
【００２６】
前記評価パターン４は、所定の方向（図１において上下方向）に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部５と凹条部６とを有しており、各凸条部５および凹条部６の整列方向の寸法と、各凹条部６の深さとは、漸次変化するように形成されている。なお、図１においては、下方へ向かって整列方向の寸法と深さとが漸次大きくなるように形成されている。
【００２７】
このような評価パターン４が前記感光性樹脂層３とともに形成された凹凸形成基板１に対して、前記感光性樹脂層３の形成条件の判定を行う場合は、光学顕微鏡等を用いることによって前記評価パターン４を観察する。
【００２８】
そして、図２のように前記評価パターン４における前記複数の凹条部６のうち、基板１ａの表面が許容限度以下の小さな露出面積で露出されている凹条部６を検出する。なお、このときの露出面積の許容限度については、必要に応じて変更することができる。
【００２９】
次に、この検出された凹条部６に基づき、前記感光性樹脂層３が最適な露光量の下で形成されたか否かを、予め得られている露光量の最適値に関する試験データを参照して判定する。
【００３０】
この露光量の適否の判定についての簡単な具体例を挙げると、まず、試験データを得る段階において、試験用の基板上に、膜厚（μｍ）、レジスト感度（μｍ／Ｊ）等の感光性樹脂の条件が所定の条件Ａである感光性樹脂を用いて、表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層を形成した場合を考える。
【００３１】
この場合に、評価パターンを形成するためのフォトマスクにおける遮光部１３、開口部の寸法をそれぞれライン（Ｌ）、スペース（Ｓ）と称し、ラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）が１０μｍ／１０μｍとなる位置で、凹部からガラスの表面が許容限度以下の小さな露出面積で露出されたと仮定する。
【００３２】
このときの露光機の露光量が７０（ｍＪ／ｃｍ２  ）の場合、この７０（ｍＪ／ｃｍ２  ）を、条件Ａの感光性樹脂を用いる場合における露光量の最適値とし、これを試験データとして確保しておく。
【００３３】
次に、実際に、前記条件Ａの感光性樹脂を用いて基板１ａに評価パターン４を感光性樹脂層３とともに形成し、この感光性樹脂層３についての露光量の適否を前記試験データを参照して判定する場合について考える。
【００３４】
この場合、図２に示すように、フォトマスクにおけるラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）が１０μｍ／１０μｍとなる位置で、凹条部６から基板１ａの表面が許容限度以下の小さな露出面積で露出されている場合は、この評価パターン４とともに形成された感光性樹脂層３は、最適な露光量７０（ｍＪ／ｃｍ２  ）の下で形成されたものと判定する。
【００３５】
一方、図３に示すように、基板１ａの表面が露出された凹条部６が見つからない場合は、露光量が最適値よりも不足しているものと判定し、また、図４に示すように、基板１ａの表面が許容限度以下の小さな露出面積で露出されている位置において、ラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）が、１０μｍ／１０μｍよりも小さくなる場合は、露光量が最適値よりも多くなっているものと判定する。
【００３６】
このように、本第１実施形態においては、評価パターン４に基づいて前記感光性樹脂層３が最適な露光量の下で形成されたか否かを簡便かつ迅速に確認することができる。
【００３７】
そして、この判定結果に基づいて露光機の露光量を適宜調整することによって最適な露光量の下で感光性樹脂層を形成することができる。
【００３８】
次に、本発明に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法およびこの検査方法に用いる凹凸形成基板の第２実施形態について、図５乃至図７を参照して説明する。
【００３９】
なお、前記第１実施形態と基本的構成の同一もしくはこれに類する箇所については、同一の符号を用いて説明する。
【００４０】
本第２実施形態においては、基板に形成された感光性樹脂層が、所定の形成条件としての最適なプロキシミティギャップの下で形成されたか否かを判定する。
【００４１】
なお、プロキシミティギャップとは、露光を行う際のフォトマスクと感光性樹脂層の表面との間の距離である。そして、感光性樹脂層における互いに隣接する凸部、凹部を形成するためのフォトマスクの遮光部１３、開口部の寸法をそれぞれＬ、Ｓ、露光機のコリメーションアングルをθＣ    、補正量をｆ（ｘ）とした場合、プロキシミティギャップＰＧは次式の関係を満足する。
【００４２】
Ｌ＋Ｓ≒ｆ（ｘ）×ＰＧ×ｔａｎθＣ              （１）
【００４３】
本第２実施形態においては、まず、前提として、１個の液晶表示パネルの表示部形成領域を有する基板、または、複数個の液晶表示パネルの表示部形成領域を有する基板における視認側の表面に、プロキシミティタイプの露光機を用いたフォトリソグラフィ法によって、感光性樹脂の塗布、フォトマスクを介した露光および現像を順次施すことにより、所定の凹凸形状を有する感光性樹脂層を形成する。
【００４４】
この際に、図５に示すように、基板８ａの表面における表示部形成領域２以外の領域に、感光性樹脂層３の感光性樹脂と同一の感光性樹脂を用いることによって、帯状の評価パターン９を、前記感光性樹脂層３と同一の成膜法によって同時に形成する。なお、ここでいう同一の感光性樹脂とは、レジスト感度等の材料的特性のみならず、膜厚も同一であることを意味する。
【００４５】
前記評価パターン９は、所定の方向（図５において上下方向）に沿って交互に繰り返し整列された複数の凸条部１０と凹条部１１とを有しており、各凸条部１０および凹条部１１の整列方向の寸法と、各凹条部１１の深さとは、複数条おきに段階的に変化するように形成されている。なお、図５においては、下方へ向かって整列方向の寸法と深さとが４条おきに段階的に大きくなるように形成されている。
【００４６】
このような評価パターン９が前記感光性樹脂層３とともに形成された凹凸形成基板８に対して、前記感光性樹脂層３の形成条件の判定を行う場合は、光学顕微鏡等を用いることによって前記評価パターン９を観察し、図６のように前記評価パターン９のうち、表面が平坦な部位である平坦部１２を検出する。
【００４７】
なお、この平坦部１２は、評価パターン９の凹凸が極小になることによって発生したものである。
【００４８】
次に、この検出された平坦部１２に基づき、前記感光性樹脂層３が最適なプロキシミティギャップの下で形成されたか否かを、予め得られているプロキシミティギャップの最適値に関する試験データを参照して判定する。
【００４９】
このプロキシミティギャップの適否の判定についての簡単な具体例を挙げると、まず、試験データを得る段階において、試験用の基板上に、特定の露光機Ｂを用いて表面に凹凸形状を有する感光性樹脂層を形成した場合を考える。
【００５０】
この場合に、前記フォトマスクのラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）が、５μｍ／５μｍとなる位置で、平坦部が観察されたと仮定する。
【００５１】
このときの前記感光性樹脂層と露光用のフォトマスクとの間の距離が１５０（μｍ）である場合、この１５０（μｍ）を、露光機Ｂにおけるプロキシミティギャップの最適値とし、これを試験データとして確保しておく。
【００５２】
次に、実際に前記露光機Ｂを用いて基板８ａに評価パターン９を感光性樹脂層３とともに形成し、この感光性樹脂層３についてのプロキシミティギャップの適否を前記試験データを参照して判定する場合を考える。
【００５３】
この場合、図６に示すように、ラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）が５μｍ／５μｍとなる位置で、平坦部１２が観察された場合は、この評価パターン９とともに形成された感光性樹脂層３が、最適なプロキシミティギャップ１５０（μｍ）の下で形成されたものと判定する。
【００５４】
一方、図７に示すように、ラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）が５μｍ／５μｍとなる位置以外の位置で前記平坦部１２が観察された場合は、最適でないプロキシミティギャップの下で感光性樹脂層３が形成されたものと判断する。
【００５５】
このように、本第２実施形態においては、評価パターン９に基づいて前記感光性樹脂層３が最適なプロキシミティギャップの下で形成されたか否かを簡便かつ迅速に確認することができる。
【００５６】
そして、この判定結果に基づくことによって、最適なプロキシミティギャップの下で感光性樹脂層が形成された基板８のみを簡便かつ迅速に選別して次工程に搬送することができる。
【００５７】
前記第１または第２実施形態において、感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法に用いられた凹凸形成基板１（８）は、前述した検査に合格すると、次工程へ搬送され、図８および図９に例示するような反射型の液晶表示素子１５を構成することになる。
【００５８】
この液晶表示素子１５は、シール２７を介して互いに貼り合わされた視認側の基板１６と、端子部２０が形成された反視認側の前記凹凸形成基板１（８）とを有しており、これら両基板および前記シール２７によって囲繞された空間内には、液晶１４が封入されている。
【００５９】
前記反視認側の凹凸形成基板１（８）は、前述のように、視認側の表面に感光性樹脂層３と評価パターン４（９）とを備えており、さらに、これら感光性樹脂層３および評価パターン４（９）の視認側には、前記感光性樹脂層３とともに光拡散層２２を構成する反射層２３が形成されている。なお、図８における評価パターン４（９）は、反視認側の基板１（８）における表示部形成領域２の外側の非表示領域２５に形成されている。
【００６０】
前記両基板１６，１（８）の厚み方向の内側における表示部形成領域２には、縞状の一対の表示電極１７，１８が互いに交差するように形成されており、これら両表示電極１７，１８の交差部位によって、液晶表示の最小単位である画素１９が形成されている。
【００６１】
また、両表示電極１７，１８の内側表面には、所定の方向にラビング処理が施された配向膜２１が形成されている。
【００６２】
さらに、前記反視認側の凹凸形成基板１（８）と表示電極１８との間には、平滑化膜２４が介在されている。
【００６３】
このような液晶表示素子１５は、感光性樹脂層３が露光量またはプロキシミティギャップが最適な形成条件の下で形成されているため、良好な表示品位を得ることができる。
【００６４】
したがって、本実施形態によれば、評価パターン４，９に基づいて感光性樹脂層３が所定の形成条件の下で形成されているか否かを簡便かつ迅速に判定することができる。
【００６５】
なお、本発明は前記実施形態のものに限定されるものではなく、必要に応じて種々変更することが可能である。
【００６６】
例えば、前記第１実施形態および前記第２実施形態における評価パターン４，９は、互いに隣位する凸条部５，１０と凹条部６，１１との整列方向の寸法が互いに同一となる部位を有しているが、このような部位を有しない評価パターンを用いるようにしてもよい。
【００６７】
また、感光性樹脂は、フォトマスクによる露光部が凸部となり、遮光部が凹部となるネガ型の感光性樹脂であってもよく、逆に、フォトマスクによる露光部が凹部となり、遮光部が凸部となるポジ型の感光性樹脂であってもよい。
【００６８】
さらに、前記第２実施形態における評価パターン９を第１実施形態における露光量の適否の判定に適用することも可能である。
【００６９】
さらにまた、前記評価パターン４，９の観察や形成条件の判定を、液晶表示素子の一連の製造ライン上において流れ作業的に行ってもよいことは勿論である。
【００７０】
【発明の効果】
以上述べたように本発明の請求項１に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法によれば、感光性樹脂層が最適な露光量の下で適正に形成されているか否かを簡便かつ迅速に確認することができ、ひいては、高品位な液晶表示装置を効率的に形成することができる。
【００７１】
請求項２に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法によれば、感光性樹脂層が最適なプロキシミティギャップの下で適正に形成されているか否かを簡便かつ迅速に確認することができ、ひいては、高品位な液晶表示装置を効率的に形成することができる。
【００７２】
請求項３に係る凹凸形成基板によれば、感光性樹脂層が最適な露光量の下で適正に形成されているか否かを簡便かつ迅速に確認することができ、この凹凸形成基板によって高品位な液晶表示装置を効率的に形成することができる。
【００７３】
請求項４に係る凹凸形成基板によれば、感光性樹脂層が最適なプロキシミティギャップの下で適正に形成されているか否かを簡便かつ迅速に確認することができ、この凹凸形成基板によって高品位な液晶表示装置を効率的に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法に用いる凹凸形成基板の第１実施形態を示す平面図
【図２】本発明に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法の第１実施形態を模式的に示した説明図
【図３】本発明に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法の第１実施形態を模式的に示した図２と異なる説明図
【図４】本発明に係る感光性樹脂層の凹凸形成条件の検査方法の第１実施形態を模式的に示した図２、図３と異なる説明図
【図５】本発明に係る拡散層の製造条件の検査方法に用いる凹凸形成基板の第２実施形態を示す平面図
【図６】本発明に係る拡散層の製造条件の検査方法の第２実施形態を模式的に示した説明図
【図７】本発明に係る拡散層の製造条件の検査方法の第２実施形態を模式的に示した図６と異なる説明図
【図８】本発明に係る凹凸形成基板によって形成された液晶表示素子を示す平面図
【図９】図８の縦断面部分拡大図
【符号の説明】
１，８  凹凸形成基板
２  表示部形成領域
３  感光性樹脂層
４，９  評価パターン
５，１０  凸条部
６，１１  凹条部
１２  平坦部
１５  液晶表示素子
２２  光拡散層
２３  反射層
【図１】
2004317793.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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