(57)【要約】【課題】印象材料の安全な病原菌減少方法。【解決手段】印象材料及び／又はその成分を放射線滅菌にかける。【選択図】　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
印象材料及び／又はその成分の滅菌法及び／又は病原菌減少方法において、
印象材料及び／又はその成分を、放射線滅菌にかけることを特徴とする、印象材料及び／又はその成分の滅菌法及び／又は病原菌減少方法。
【請求項２】
弾性材料へと架橋した２成分系印象材料を使用する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
付加架橋性、縮合架橋性又は（メタ）アクリレート基を介して架橋可能なシリコーン印象材料もしくは付加架橋性、縮合架橋性、開環を経てか又は（メタ）アクリレート基を介して架橋可能なポリエーテル印象材料を使用する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
（粉末：液体）−系として取扱い可能な印象材料を使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
アルギン酸塩印象材料（粉末：水）を使用する、請求項４記載の方法。
【請求項６】
配合物中に、少なくとも部分的に存在しているジフェニルシロキサン構造単位及び／又はフェニルメチルシロキサン構造単位を有するビニル基含有ポリシロキサン類を有する付加架橋性シリコーン印象材料を使用する、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
ジフェニルシロキサン単位及び／又はフェニルメチルシロキサン単位少なくとも３ｍｏｌ％、好ましくは少なくとも１０ｍｏｌ％を有するポリマーを使用する、請求項６記載の方法。
【請求項８】
一次包装材中の印象材料及び／又はその成分を滅菌する、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
印象材料及び／又はその成分が、一次包装中に配置されており、かつ付属品と共に同時に印象材料の混合又は施与のために処理する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
一次包装としてダブルチャンバカートリッジ及び付属品としてミキシングノズルを使用する、請求項８又は９記載の方法。
【請求項１１】
放射線滅菌をγ線又は電子線を用いて行う、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
多くとも５０ｋＧｙ、好ましくは２０〜３０ｋＧｙの放射線量を使用する、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
医学分野において使用される印象材料に使用するための請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
歯科分野において、整形外科学において、耳形成術において、顔面補綴術において、欠損外科学において、獣医学において、ＨＮＯ−医学における印象の分野においてか又は皮膚部位の印象のための、印象材料に使用するための請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
構造を写し取るための雄型を製造するための印象材料に使用するための請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、印象材料及びその成分の滅菌法及び／又は病原菌減少法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
多様な種類の印象材料は本来公知である（Ｒ．Ｇ．　Ｃｒａｉｇ，　Ｒｅｓｔａｕｒａｔｉｖｅ　Ｄｅｎｔａｌ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，　Ｔｈｅ　Ｃ．Ｖ．　Ｍｏｏｓｂｅ−Ｃｏｍｐ．　Ｓｔ．　Ｌｏｕｉｓ，　Ｔｏｒｏｎｔｏ，　Ｌｏｎｄｏｎ，　１９８０，　１９７９頁以降参照）。そのような材料には、全体として極めて高い要求が出される（Ｋ．Ｅｉｃｈｎｅｒ，　Ｚａｈｎａｅｒｚｔｌｉｃｈｅ　Ｗｅｒｋｓｔｏｆｆｅ　ｕｎｄ　ｉｈｒｅ　Ｖｅｒａｒｂｅｉｔｕｎｇ，　１巻，　Ａ．　Ｈｕｅｔｈｉｇ　Ｖｅｒｌａｇ，　Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ，　第４版，　１９８１，　４５頁以降参照）：
１．心地良い匂い、味及び美的外観。
【０００３】
２．前記材料は、毒性成分又は刺激性成分を含有してはならない。
【０００４】
３．前記材料は、数ヶ月の貯蔵安定性を有さなくてはならない。
【０００５】
４．前記材料は、経済的に製造可能でなければならず、かつ精密な印象をもたらさねばならない。
【０００６】
５．前記材料は、簡単に取り扱えなければならない。
【０００７】
６．硬化特性は、臨床的必要条件に適合しなければならない。
【０００８】
７．硬化した前記材料は、弾性でなければならず、かつ引張応力下に永久に歪んではならない。
【０００９】
８．硬化した前記材料は、十分な耐圧力を有さなければならず、かつ破損してはならない。
【００１０】
９．硬化した前記材料は、室温及び標準の空気湿度で、適切な時間で精密な石膏印象が製造されうる間は、寸法安定でなければならない。
【００１１】
１０．硬化した前記材料は、石膏損傷を引き起こしてはならず、かつ他の印象材料と相容性でなければならない。
【００１２】
多様な材料の群からは、とりわけ非弾性印象材料に対して有利な応用技術的性質及び機械的性質にも基づいて、弾性印象材料が特に有利である。
【００１３】
多様な種類の弾性印象材料、例えば、付加反応により硬化するポリマー鎖構造を有するエラストマー類（例えば、ポリジオルガニル基含有ポリマー（ビニルポリマー類）上のビニル基のヒドロシリル化反応によりＳｉＨ基を有しているポリジオルガノシロキサン（ＳｉＨ−架橋剤）と互いに反応し、かつそれによりエラストマーを形成する付加架橋性シリコーン印象材料（いわゆるＡ−シリコーン類）、もしくは相応するポリエーテル材料（例えばＤＥ−Ａ１−３７４１５７５もしくはＤＥ−Ａ１−３８３８５８７に記載されているようなもの））又はしかし縮合反応によりエラストマー類を形成する印象材料、例えば縮合架橋性シリコーン印象材料（いわゆるＣ−シリコーン類）又はしかしポリエーテル印象材料（例えばＤＥ　１０１　０４　０７９．２−４２及び例えばそこで評価されたＥＰ　０　２６９　８１９　Ｂ１に記載されているようなもの）が公知である。しばしば使用される他の弾性印象材料は、ポリエーテル鎖を有しかつアジリジノ基を介しての結合を有するものであり（例えばＤＥ−Ｂ−１７　４５　８１０に記載されている）；同じように、アクリレート基もしくはメタクリレート基を有するポリエーテル印象材料は、例えばＥＰ　０　１７３　０８５から公知である。これらの印象材料タイプは、本質的には、印象材料についての前記の一般的な性質を満たす。
【００１４】
通例、これらの弾性印象材料は、“硬化”（すなわち、弾性構造の形成）の前に、通例２つの成分（しばしばベースペースト及びキャタリストペーストもしくは硬化剤ペーストと呼ばれる）からなり、かつ混合後にエラストマーへと硬化する（架橋する）ペーストとして存在する。
【００１５】
印象材料により、前記の適用範囲において、生体に特有なジオメトリーの状態の陰型は、例えば予備部品の製造のためか又は診断上の理由から作成されるか又はしかし雄型材料（Ｓｔｅｍｐｅｌｍａｔｅｒｉａｌ）が生じる。その際、状態は、できるだけ詳細正確に再現されるべきである。すなわち、この理由から、特に、印象の貯蔵の場合にも高い詳細正確度及び寸法安定性を有するだけではなく、物理的性質の本質的な変化なしで良好に消毒されることもできる弾性印象材料が推奨され、このことは医学分野における使用の際にその点で特に重要である、それというのも、印象採得された身体部位は多少集中的な病原菌定着を有するからであり、これらの部位は次の作業段階、例えば模型製造、修復物の製造等の際に、これらの病原菌での汚染をまねき、かつ最終的には、これらの印象でかつこれらの印象を用いてこれから製造された予備部品で負傷した人間もかなり危険にさらされうる。故に、硬化された印象の消毒のための多くの方法が存在する（例えばＨ２Ｏ２、ＵＶ−照射、消毒剤の適用を用いる（例えばＦ．Ｍ．　Ｂｌａｉｒ，　Ｒ．Ｗ．　Ｗａｓｓｅｌｌ，　Ｂｒｉｔｉｓｈ　Ｄｅｎｔａｌ　Ｊｏｕｒｎａｌ，　１８０巻，　Ｎｏ．１０，　１９９６，　３６９頁以降もしくはＧ．Ｌ．　Ａｄａｂｏ，　Ｅ．　Ｚａｎａｒｏｔｔｉ，　Ｒ．Ｇ．　Ｆｏｎｓｅｃａ，　Ｃ．Ａ．　Ｃｒｕｚ，　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｒｏｓｔｈｅｔｉｃ　Ｄｅｎｔｉｓｔｒｙ　８１（５），　１９９９，　６２１頁以降）又は印象のγ線滅菌（例えばＪ．　Ｓｅｔｚ，　Ｕ．Ｂｅｎｚｉｎｇ，　Ｄｅｕｔｓｃｈｅ　Ｚａｈｎａｅｒｔｚｌｉｃｈｅ　Ｚｅｉｔｓｃｈｒｉｆｔ，　４４，　１９８９，　１０６頁及び次頁））。これら全ての方法は、しかしながら、既に“硬化した”、すなわち、弾性印象について実施される。
【００１６】
しかしながら、前記の医学的適用範囲において、しばしば印象採得の際に、印象材料が、硬化されないかもしくは架橋されない状態で、負傷した皮膚組織又は粘膜組織又は骨組織と接触しているという問題が生じる（例えば歯の印象採得の際の粘膜での出血によるかもしくはインプラントをつける際の印象の場合又はしかしまだ治癒していない皮膚組織での印象の場合、顔面補綴術による処置（ｅｐｉｔｈｅｔｉｓｃｈｅｎ　Ｖｅｒｓｏｒｇｕｎｇｅｎ）の範囲内の印象の場合又は皮膚印象の場合）。
【００１７】
その際、もちろん、印象材料と接触しているこれらの身体部位が、病原菌（例えば細菌類、桿菌類、菌類、酵母類、ウイルス類）で、印象材料からかもしくは一次包装材からかもしくは施与のために必要とされる付属品（例えばダブルチャンバカートリッジ中に供給される印象材料用のミキシングカニューレ、又はしかし練和用スパチュラ）により汚染される危険が存在し；この病原菌汚染は、免疫系の制限された機能を有する人間の場合に特にマイナスの効果を有しうる重大な健康上の問題をまねきうる。
【００１８】
さらにまた、基質又は構造が雄型を用いて表面上に写し取られることによる、いわゆる雄型技術（例えばとりわけ根本的な特徴においてＹ．　Ｘｉａ，　Ｇ．Ｍ．　Ｗｈｉｔｅｓｉｄｅｓ，　Ａｎｇｅｗ．　Ｃｈｅｍ．　Ｉｎｔ．　Ｅｄ．　１９９８，　３７，　５５０−５７５；　Ｅ．　Ｄｅｌａｍａｒｃｈｅ，　Ｈ．　Ｓｃｈｍｉｄ，　Ｂ．　Ｍｉｃｈｅｌ，　Ｈ．　Ｂｉｅｂｕｙｃｋ，　Ａｄｖ．　Ｍａｔｅｒ．　１９９７，　９，　７４１−７４６；　Ｈ．　Ｓｃｈｍｉｄ，　Ｂ．　Ｍｉｃｈｅｌ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ　２０００，　３３，　３０４２−３０４９に記載されている）の場合に、特に、生物学的又は医薬的に有効な材料がこの技術により写し取られる場合に、これらの雄型材料が病原菌不含であることが望ましい。ここでは、もちろん、（複数回利用可能な）雄型のその後の消毒は、雄型材料中への抗微生物的に有効な物質の混入と同じように（これは確かに同様に生物学的基質中へ移行されうるか、又はしかし生物学的基質の表面不活性化を引き起こしうる）不可能である（それというのも、それにより消毒剤残分が生物学的基質中へ移行され、かつ生物学的作用に影響を及ぼしうるからである）。
【００１９】
故に、病原菌発生（Ｖｅｒｋｅｉｍｕｎｇ）のこの危険を取り除く措置を講じるという試みが不足していた訳ではなかった。
【００２０】
例えばＤ．Ｎ．　Ｆｉｒｔｅｌｌ，　Ｄ．Ｊ．　Ｍｏｏｒｅ，　Ｇ．Ｂ．　Ｐｅｌｌｅｕにより，　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｒｏｓｔｈｅｔｉｃ　Ｄｅｎｔｉｓｔｒｙ，　１９７２，　４１９−４２２頁には、アルギン酸塩粉末をエチレンオキシドガス処理で滅菌する方法が記載されている。粉末状材料に適しているこの方法は、しかしながら、単純な方法では印象材料ペースト上に写し取られることはできない。
【００２１】
同じように、病原菌の乏しい又はそれどころか無菌の印象を、印象材料への病原菌を殺す薬剤の添加により、病原菌成長を妨げる薬剤が材料に添加されることによって製造することが試みられた（例えばＤＥ　３７　２４　２４３、ＪＰ　０７１１２９１０、ＷＯ　９９／１５１３２、ＷＯ　００／０７５４６）。この種類の問題解決は、こうして供給された印象材料の性質変化の危険から助け、かつとりわけ、全ての相応する添加物が、それにより相応する身体部位も汚染されるという欠点を、例えば有効成分による考えられうる根本的な不相容性もしくはアレルギー反応までの局所的な刺激と結びついた全ての欠点と共に有する。さらにまた、抗微生物的に有効な作用物質は、通例、特別な病原菌への制限された作用スペクトルを有する。既に説明されているように、いわゆる雄型技術の適用の際のそのような手順は不可能である。
【００２２】
米国特許４，０３３，７７４号明細書には、使用前にオートクレーブ中で滅菌されうるべきであるが、それに関してさらなる詳細が記載されていない熱可塑性の歯科用非弾性印象材料が記載されている。弾性印象材料の場合に可能な病原菌減少についての一般的に応用可能な問題解決は、それにより記載されていない。
【００２３】
Ｔｈ．　Ｋａｕｓ，　Ａ．　Ｓｅｔｈｉにより、ＺＷＲ，　１１０．　Ｊａｈｒｇａｎｇ，　２００１，　２２−２６頁には、カートリッジ系中の印象材料用の放射線滅菌された印象用トレー及び放射線滅菌されたミキシングカニューレの使用が記載されているが、しかし滅菌された印象材料の使用は記載されていない。
【００２４】
歯科分野において応用可能なプラスチックのγ線処理についての例は、ＪＰ　５２０１３２３４　Ｂ４により与えられており、その際、ポリメタクリル酸メチル粉末へのγ線照射による歯科分野において使用可能なプラスチックの重大な意味を持つ弾性変化が記載されている。この記載された材料は、印象材料として利用可能ではなく、かつ病原菌減少には対応されない。
【００２５】
米国特許５，５４０，８７６号明細書には、熱可塑性で、非弾性のγ線処理されたポリ（ε−カプロラクトン）及び材料を歯科工学における使用に一般に使われているようにするγ線処理によるその性質変化が記載されており；前記材料は、弾性印象材料として同様に利用可能ではない。
【００２６】
すなわち、現在の技術水準に従って、この病原菌の乏しい形で印象採得の前もしくは雄型の製造の前に存在する雄型の製造のための病原菌減少されるか又は無菌の印象材料又は材料の製造のための一般的に応用可能な方法が公知ではないことが確認されなければならない。
【００２７】
【特許文献１】
ＤＥ−Ａ１−３７４１５７５
【特許文献２】
ＤＥ−Ａ１−３８３８５８７
【特許文献３】
ＤＥ　１０１　０４　０７９．２−４２
【特許文献４】
ＥＰ　０　２６９　８１９　Ｂ１
【特許文献５】
ＤＥ−Ｂ−１７　４５　８１０
【特許文献６】
ＥＰ　０　１７３　０８５
【特許文献７】
ＤＥ　３７　２４　２４３
【特許文献８】
ＪＰ　０７１１２９１０
【特許文献９】
ＷＯ　９９／１５１３２
【特許文献１０】
ＷＯ　００／０７５４６
【特許文献１１】
米国特許４，０３３，７７４号明細書
【特許文献１２】
ＪＰ　５２０１３２３４　Ｂ４
【特許文献１３】
米国特許５，５４０，８７６号明細書
【非特許文献１】
Ｒ．Ｇ．　Ｃｒａｉｇ，　Ｒｅｓｔａｕｒａｔｉｖｅ　Ｄｅｎｔａｌ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，　Ｔｈｅ　Ｃ．Ｖ．　Ｍｏｏｓｂｅ−Ｃｏｍｐ．Ｓｔ．　Ｌｏｕｉｓ，　Ｔｏｒｏｎｔｏ，　Ｌｏｎｄｏｎ，　１９８０，　１９７９頁以降
【非特許文献２】
Ｋ．　Ｅｉｃｈｎｅｒ，　Ｚａｈｎａｅｒｚｔｌｉｃｈｅ　Ｗｅｒｋｓｔｏｆｆｅ　ｕｎｄ　ｉｈｒｅ　Ｖｅｒａｒｂｅｉｔｕｎｇ，　１巻，　Ａ．　Ｈｕｅｔｈｉｇ　Ｖｅｒｌａｇ，　Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ，　第４版，　１９８１，　４５頁以降
【非特許文献３】
Ｆ．Ｍ．　Ｂｌａｉｒ，　Ｒ．Ｗ．　Ｗａｓｓｅｌｌ，　Ｂｒｉｔｉｓｈ　Ｄｅｎｔａｌ　Ｊｏｕｒｎａｌ，　１８０巻，　Ｎｏ．１０，　１９９６，　３６９頁以降
【非特許文献４】
Ｇ．Ｌ．　Ａｄａｂｏ，　Ｅ．　Ｚａｎａｒｏｔｔｉ，　Ｒ．Ｇ．　Ｆｏｎｓｅｃａ，　Ｃ．Ａ．　Ｃｒｕｚ，　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｒｏｓｔｈｅｔｉｃ　Ｄｅｎｔｉｓｔｒｙ　８１（５），　１９９９，　６２１頁以降
【非特許文献５】
Ｊ．　Ｓｅｔｚ，　Ｕ．Ｂｅｎｚｉｎｇ，　Ｄｅｕｔｓｃｈｅ　Ｚａｈｎａｅｒｔｚｌｉｃｈｅ　Ｚｅｉｔｓｃｈｒｉｆｔ，　４４，　１９８９，　１０６頁及び次頁
【非特許文献６】
Ｙ．　Ｘｉａ，　Ｇ．Ｍ．　Ｗｈｉｔｅｓｉｄｅｓ，　Ａｎｇｅｗ．　Ｃｈｅｍ．　Ｉｎｔ．　Ｅｄ．　１９９８，　３７，　５５０−５７５
【非特許文献７】
Ｅ．　Ｄｅｌａｍａｒｃｈｅ，　Ｈ．　Ｓｃｈｍｉｄ，　Ｂ．　Ｍｉｃｈｅｌ，　Ｈ．　Ｂｉｅｂｕｙｃｋ，　Ａｄｖ．　Ｍａｔｅｒ．　１９９７，　９，　７４１−７４６
【非特許文献８】
Ｈ．　Ｓｃｈｍｉｄ，　Ｂ．　Ｍｉｃｈｅｌ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ　２０００，　３３，　３０４２−３０４９
【非特許文献９】
Ｄ．Ｎ．　Ｆｉｒｔｅｌｌ，　Ｄ．Ｊ．　Ｍｏｏｒｅ，　Ｇ．Ｂ．　Ｐｅｌｌｅｕにより，　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｒｏｓｔｈｅｔｉｃ　Ｄｅｎｔｉｓｔｒｙ，　１９７２，　４１９−４２２頁
【非特許文献１０】
Ｔｈ．　Ｋａｕｓ，　Ａ．　Ｓｅｔｈｉ，　ＺＷＲ，　１１０．　Ｊａｈｒｇａｎｇ，　２００１，　２２−２６頁
【非特許文献１１】
Ｄ．Ｊ．Ｔ．　Ｈｉｌｌ，　Ｃ．Ｍ．Ｌ．　Ｐｒｅｓｔｏｎ，　Ａ．Ｋ．　Ｗｈｉｔｔａｋｅｒ，　Ｓ．Ｍ．　Ｈｕｎｔ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌ．　Ｓｙｍ．　１５６，　９５−１０２　（２０００）
【非特許文献１２】
Ｗ．　Ｎｏｌｌ，　Ｃｈｅｍｉｅ　ｕｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ　ｄｅｒ　Ｓｉｌｉｃｏｎｅ，　Ｖｅｒｌａｇ　Ｃｈｅｍｉｅ，　Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，　第２版，　１９６８，　１９９頁及び次の頁
【非特許文献１３】
Ｋ．Ｈ．　Ｗａｌｌｈａｅｕｓｅｒ、Ｐｒａｘｉｓ　ｄｅｒ　Ｓｔｅｒｉｌｉｓａｔｉｏｎ　−　Ｄｅｓｉｎｆｅｋｔｉｏｎ　−　Ｋｏｎｓｅｒｖｉｅｒｕｎｇ　−　Ｋｅｉｍｉｄｅｎｔｉｆｉｚｉｅｒｕｎｇ　−　Ｂｅｔｒｉｅｂｓｈｙｇｉｅｎｅ，　第３版，　Ｇｅｏｒｇ　Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖｅｒｌａｇ，　Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ　−　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ，　１９８４，　３．４章
【非特許文献１４】
Ｇ．Ｇ．　Ｄｅｌｉｄｅｓｔ，　Ｒａｄｉａｔ．　Ｐｈｙｓ．　Ｃｈｅｍ．，　１６，　（１９８０），　３４５−３５２頁
【非特許文献１５】
Ｗ．　Ｎｏｌｌ，　Ｃｈｅｍｉｅ　ｕｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ　ｄｅｒ　Ｓｉｌｉｃｏｎｅ，　Ｖｅｒｌａｇ　Ｃｈｅｍｉｅ，　Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，　第２版，　１９６８，　４０７頁及び次の頁及び４４７頁
【００２８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、印象材料の安全な病原菌減少方法を述べるという課題に基づいている。
【００２９】
【課題を解決するための手段】
この課題は、本発明によれば、印象材料及び／又はその成分を放射線滅菌にかけることによる、印象材料及び／又はその成分の滅菌法及び／又は病原菌減少法により解決される。好ましくは、その際、弾性材料へと架橋した２成分系印象材料が使用され、さらに、付加架橋性、縮合架橋性又は（メタ）アクリレート基を介して架橋可能なシリコーン印象材料もしくは付加架橋性、縮合架橋性、開環を経てか又は（メタ）アクリレート基を介して架橋可能なポリエーテル印象材料を使用することが好ましい。その際、印象材料は、（粉末：液体）−系として取扱い可能でありうる。好ましい一実施態様において、アルギン酸塩印象材料（粉末：水）が使用される。さらに、配合物中で少なくとも部分的に存在しているジフェニルシロキサン構造単位及び／又はフェニルメチルシロキサン構造単位を有するビニル基含有のポリシロキサン類を有する付加架橋性シリコーン印象材料を使用することが好ましい。好ましくは、ジフェニルシロキサン単位及び／又はフェニルメチルシロキサン単位少なくとも３ｍｏｌ％、好ましくは少なくとも１０ｍｏｌ％を有するポリマーも使用される。
【００３０】
本発明によれば、本方法は、医学分野において、特に歯科分野において、耳形成術において、整形外科学において、顔面補綴術（Ｅｐｉｔｈｅｔｉｋ）において、欠損外科学（Ｄｅｆｅｋｔｃｈｉｒｕｒｇｉｅ）において、ＨＮＯ−医学における印象の分野において、獣医学においてか又は皮膚部位の印象において、並びに雄型技術のための雄型材料として、特に生物学的基質又は医薬的に有効な基質の使用の際に使用される。印象材料が、特に、前記の医学分野における使用のため及び／又はいわゆる雄型技術における雄型材料として、特に高エネルギー放射線、好ましくはγ線もしくは電子線（β線）による架橋の前に、病原菌減少されるかもしくは滅菌されることができることが確認できた。用語放射線滅菌は、病原菌減少並びに滅菌であると理解される。
【００３１】
このことは、例えばＪＰ　５２０１３２３４　Ｂ４及び米国特許５，５４０，８７６号明細書に記載された性質変化（放射線架橋、高分子構造の分解）を考慮すれば、予期され得ない。高い放射線量のためには、前記の印象材料において一部利用されるポリジメチルシロキサン鎖の分解及び再構成機構が公知である（Ｄ．Ｊ．Ｔ．　Ｈｉｌｌ，　Ｃ．Ｍ．Ｌ．　Ｐｒｅｓｔｏｎ，　Ａ．Ｋ．　Ｗｈｉｔｔａｋｅｒ，　Ｓ．Ｍ．　Ｈｕｎｔ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌ．　Ｓｙｍ．　１５６，　９５−１０２　（２０００））。例えばＷ．　Ｎｏｌｌ，　Ｃｈｅｍｉｅ　ｕｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ　ｄｅｒ　Ｓｉｌｉｃｏｎｅ，　Ｖｅｒｌａｇ　Ｃｈｅｍｉｅ，　Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，　第２版，　１９６８，　１９９頁及び次の頁に記載されているような可能な放射線架橋の背景からは、相応するシリコーン印象材料のそのような安定性は予期され得ない。
【００３２】
前記の目的のために印象材料が相応して滅菌されていることのなかった、照射による滅菌は原則的に公知である（例えばＫ．Ｈ．　Ｗａｌｌｈａｅｕｓｅｒ、Ｐｒａｘｉｓ　ｄｅｒ　Ｓｔｅｒｉｌｉｓａｔｉｏｎ　−　Ｄｅｓｉｎｆｅｋｔｉｏｎ　−　Ｋｏｎｓｅｒｖｉｅｒｕｎｇ　−　Ｋｅｉｍｉｄｅｎｔｉｆｉｚｉｅｒｕｎｇ　−　Ｂｅｔｒｉｅｂｓｈｙｇｉｅｎｅ，　第３版，　Ｇｅｏｒｇ　Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖｅｒｌａｇ，　Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ　−　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ，　１９８４，　３．４章）。
【００３３】
γ線及びβ線滅菌の原理は、Ｋ．Ｈ．　Ｗａｌｌｈａｅｕｓｅｒの前記のモノグラフィー又は他のモノグラフィーにも詳しく記載されている。
【００３４】
電子線滅菌は、加速された電子を照射すべき材料に放射し、かつこうして短い時間内で大きな線量を作用させる電子加速器を用いて実施される。故に特に好ましいとみなすべきγ線による滅菌と比較して不利なのは、β線の明らかにより僅かな透過能であるので、β線の照射は、γ線照射に対して経済的欠点が、前記の印象材料もしくは雄型材料を塊で滅菌する問題（及び単に薄い層厚の材料を有する包装を滅菌するそのことと結びついた必然性）により、必然的に伴う。
【００３５】
γ線処理の際の透過能ははるかに大きい。γ線処理の際に、滅菌すべき物品は、放射線源に、通例封入アイソトープ６０Ｃｏ、所望の線量が達成されるまで導いて通り過ぎられる。γ線滅菌のより大きな透過能は、滅菌すべき材料がより大きな単位で滅菌されることができることをもたらす。
【００３６】
γ線もしくはβ線での処理技術は本来公知である。
【００３７】
放射線量に応じて、しかしながら病原菌定着として存在している病原菌にも依存している多様な病原菌減少速度が達成されうる。しばしば、２５ｋＧｙでの医薬製品の放射線滅菌で操作される（Ｋ．Ｈ．　Ｗａｌｌｈａｅｕｓｅｒの前記のモノグラフィー，　２３３頁参照）。特に印象材料もしくは雄型技術のための材料の場合に、出発病原菌負荷は企業の衛生対策により製造の際に僅かであるとみなすべきであるので（しばしば５−１０の平均汚染微生物数）、放射線量は、“無菌状態”のためのさらに十分な確率（すなわち、病原菌発生した製品を見出す確率は、百万分の１より小さい）を保証したために、場合によりなおさらに低下されうる（このための指摘は、ＩＳＯ　１１１３７：　１９９５　（Ｅ）の表Ｂ１から引き出されうる）ので、２０ｋＧｙは放射線量としてしばしば十分であろう。放射線量として、通例、高くとも５０ｋＧｙ、好ましくは２０〜３０ｋＧｙが使用される。
【００３８】
まだ安全な無菌状態を保証しない僅かな放射線量は、少なくとも１つのかなりの病原菌減少を引き起こしうる。
【００３９】
汚染微生物数に応じて及び目標設定（病原菌減少、無菌状態）に応じて、放射線量は定められることができる。
【００４０】
原則的に、全ての種類の印象材料は、記載された医学分野においてもしくは雄型材料として照射により病原菌減少されるかもしくは滅菌されることができる。好ましくは架橋後の弾性印象材料及び特に好ましくは架橋性のポリエーテル−もしくはポリシロキサンポリマー骨格を基礎とする弾性印象材料である。
【００４１】
これに関連して、照射された材料の場合に、未処理の材料に対して物理的性質もしくは応用技術的性質の僅かな変化が生じるに過ぎないことが重要である。
【００４２】
意外なことに、ポリエーテル印象材料及び縮合架橋性シリコーン印象材料が、例えば４０ｋＧｙの比較的高い放射線量の場合にも、応用に本質的な変化を示さないことが見出された。興味深いことには、ポリジメチルシロキサンポリマー骨格を有する付加架橋性シリコーン印象材料は、例えば４０ｋＧｙのより高い放射線量でより感受性であり；ここでは使用適性を制限する架橋（ビニル基の放射線架橋）を生じる。より少ない放射線量の場合にも、付加架橋性シリコーン印象材料の場合に、より迅速な架橋速度論においても首尾一貫して示す前架橋を示す。すなわち、ポリジメチルシロキサンポリマーを基礎とする常用の付加架橋性シリコーン印象材料の場合に、これらを適している放射線量及びさらに受け入れることができる応用技術的性質で滅菌することが確かに可能であり、こうして得られた材料は、しかしながら出発材料に対して明らかな変化を示す。
【００４３】
Ｇ．Ｇ．　Ｄｅｌｉｄｅｓｔ，　Ｒａｄｉａｔ．　Ｐｈｙｓ．　Ｃｈｅｍ．，　１６，　（１９８０），　３４５−３５２頁からは、照射されたジメチルジフェニルシロキサン類の挙動へのフェニル基の“保護”作用が公知である。類似の証言は、Ｗ．　Ｎｏｌｌ，　Ｃｈｅｍｉｅ　ｕｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ　ｄｅｒ　Ｓｉｌｉｃｏｎｅ，　Ｖｅｒｌａｇ　Ｃｈｅｍｉｅ，　Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，　第２版，　１９６８，　４０７頁及び次の頁及び４４７頁にも見出される。
【００４４】
興味深いことには、付加架橋性シリコーン印象材料中でのフェニル含有及びビニル基含有のポリジメチルシロキサンポリマーの使用が、著しくより僅かな変化をもたらすので、ジフェニルシロキサン単位及び／又はメチルフェニルシロキサン単位少なくとも３ｍｏｌ％、特に好ましくは少なくとも１０ｍｏｌ％を有するシロキサンポリマー類を使用することが好ましいことが見出された。
【００４５】
他の印象材料タイプ、例えばアルギン酸塩印象材料粉末は、同様に、高エネルギー放射線により滅菌されることができる。アルギン酸塩印象材料の場合に観察された変化は、部分的な鎖分解（粘度低下）が推論されうるものであり、このことは、観察された架橋速度論が、しかしながら僅かに影響を受けるに過ぎず、かつそこでこの粘度変化は、（粉末：液体−）比の変化により反作用されうる。
【００４６】
すなわち、各印象材料タイプについては、物理的性質もしくは応用技術的性質の変化からこれからもたらす最大放射線量は、出発病原菌発生及び病原菌減少の得ようと努めた等級の考慮下に定められなければならない。ポリエーテルポリマーもしくはシリコーンポリマーを基礎とする、エラストマーへと架橋する常用の２成分系印象材料もしくは雄型材料には、４０ｋＧｙの最大放射線量が好ましく、３０ｋＧｙの最大放射線量が特に好ましい。
【００４７】
一次包装材中のこれらの印象材料もしくは雄型材料を滅菌することは有利であり、また、必要不可欠の付属品の混合及び適用のために一緒に滅菌することは特に有利である（その際、もちろん、一次包装材が外側からかもしくは付属品（例えば練和用スパチュラ、ミキシングノズル等）も他の方法により病原菌減少されるか又は滅菌されることも十分に可能である（例えばエチレンオキシドによる滅菌、Ｈ２Ｏ２での低温プラズマ滅菌又は類似のもの））。
【００４８】
緻密な最終包装（例えば溶接されたバッグ）中の場合により必要不可欠の付属品と一緒に一次包装材中の材料のγ線又はβ線による滅菌は有利であり；一次包装材としてのダブルチャンバカートリッジ及び付属品としてのミキシングノズル（ミキシングチップ）が特に有利である。病原菌減少されるかもしくは無菌に一度の施与に十分な量で、付属品に加えて一次包装材中の印象材料もしくは雄型材料を提供することは、極めて特に有利である。
【００４９】
その際、もちろん、使用される包装材、付属品及びフィルム材料もしくは包装材料が、高エネルギー放射線による滅菌条件に耐えられることに注意すべきである。そのような放射線滅菌安定な包装もしくは付属品は本来公知である。
【００５０】
一次包装材及び付属品の選択の際に、もちろん付加的に、使用される材料が、相応する印象材料タイプに対して良好な安定性を示すことに注意すべきである。
【００５１】
次の例は本発明を記載するものであるが、しかしながら限定するものではない。
【００５２】
【実施例】
例１：
これらの試験の際に、多様な印象材料タイプ（シリコーン印象材料（縮合架橋性）、ポリエーテル印象材料（縮合架橋性もしくは開環架橋性））を、ダブルチャンバカートリッジ中で、２５ｋＧｙのγ線を照射し、その後未処理の試料と比較して調査した。結果は、次の表にまとめられており、かつ調査された印象材料タイプの良好な安定性を示す。放射線処理に起因している速度論及び粘度における全ての変化は、応用技術的に十分に受け入れることができる範囲内でもある。
【００５３】
【表１】
2004059588.tif 000002
【００５４】
例２：
多様な印象材料タイプを、多様なγ線量でのγ線処理にさらし、かつ照射した及び照射しない（“Ｏ−試料”）印象材料を物理的に調査した。結果は、次の表から引き出されうる。ポリエーテル印象材料（アジリジノ基を介して開環架橋する並びに縮合反応により架橋する）が、２０ｋＧｙ並びに４０ｋＧｙでの照射の際に良好な使用特性を保ち続けることが確認されうる。このことは、縮合架橋性シリコーン印象材料にも当てはまる。
【００５５】
付加架橋性シリコーン印象材料の場合に、２０ｋＧｙで処理されたＰｒｏｖｉｌ　Ｎｏｖｏ　Ｍｅｄｉｕｍ　Ｃ．Ｄ．２の試料が、変化にもかかわらずなお有用な印象材料をもたらす場合にも（印象により本質的な変化を示さなかったゴム性質を有する）、“前架橋”により望ましくない粘度増大及び付随している架橋速度論加速度を生じる。
【００５６】
前記の付加架橋性シリコーン印象材料“Ｐｒｏｖｉｌ　Ｎｏｖｏ　Ｍｅｄｉｕｍ　Ｃ．Ｄ．２”中には、ベースペースト中に、末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン類に加えてＳｉＨ−架橋剤が存在する。ＳｉＨ−架橋剤及びビニル基含有のシロキサンポリマー類の分離は、特にジフェニルシロキサン単位を有しているポリマーの使用の際に、しかし依然として架橋速度論の変化に付随しかつ故に一般的な問題解決法ではないより僅かな粘度変化をもたらす。４０ｋＧｙの放射線量は、付加架橋性シリコーン印象材料の場合に原則的に重合をまねき、ひいては使用を不可能にするペーストの粘弾性挙動を引き起こす。すなわち、付加架橋性シリコーン印象材料が、高エネルギー照射による滅菌で他の印象材料よりも感受性に挙動し（照射した付加架橋性シリコーン印象材料の根本的な使用可能性が危うくされうることなく）、かつここで材料に基づき許容可能な放射線量についての上限が確認可能であることが認識されうる。
【００５７】
【表２】
2004059588.tif 000003
【００５８】
例３：
アルギン酸塩印象材料（Ｘａｎｔａｌｇｉｎ　Ｓｅｌｅｃｔ）の粉末に、多様な放射線量でγ線を用いて滅菌し、かつ水で練和した粉末の物理的核性質を放射線処理の前後に測定する（次の表）。その際、γ線滅菌により応用技術的に検出できる粘度減少（鎖分解による）も伴う速度論延長が行われることが明らかになる（前記減少はしかしながら（粉末：水）−比の変化により部分的に補償されることができる）。ここでも、４０ｋＧｙを用いて、存在しているアルギン酸塩粉末のためにもはや強化可能ではない線量が存在することが明らかになる。
【００５９】
アルギン酸塩粉末（Ｘａｎｔａｌｇｉｎ　Ｓｅｌｅｃｔ）のγ線滅菌の結果
粉末１６．８ｇ：水４０ｍｌ；口内保持時間　その都度１．５ｍｉｎ
【００６０】
【表３】
2004059588.tif 000004
【００６１】
２０もしくは４０ｋＧｙの放射線量で照射したアルギン酸塩類は、“Ｏ−試料”に対して同じ（粉末：水）−比でより流動性である。
【００６２】
例４：
この試験系列において、滅菌されない試料に対しての２５ｋＧｙでのγ線滅菌での性質変化に基づく付加架橋性の２成分系シリコーン印象材料の変質を試験した。
【００６３】
その際、変法ＢＥＲ　０９１−１２／０９１−１３は、ビニル基を有しているポリマーに基づいてその都度２つの末端ビニル基を有する２つのポリジメチルシロキサンから構成されている変法である。これらのポリマーは、約１０００ｍＰａｓもしくは６５０００ｍＰａｓの粘度を有する。
【００６４】
変法ＢＥＲ　０９１−４／０９１−５は、その代わりに、ジメチルシロキサン単位に加えてジフェニルシロキサン単位３．０〜３．５ｍｏｌ％の含量も有する相応するビニル基を含有しているポリマーを含有する。
【００６５】
ＢＥＲ　０９１−１０／０９１−１１において、Ｗａｃｋｅｒ　Ｃｈｅｍｉｅ　ＧｍｂＨ社のフェニルメチルシロキサン単位約１０ｍｏｌ％を有する相応するポリマーが使用される。
【００６６】
相応するデータは、添付された表に示す。
【００６７】
期待通りに、ＢＥＲ　０９１−１２／０９１−１３のγ線滅菌の場合に、付随している架橋速度論加速度を伴う粘度上昇を再び示し、この上昇はＢＥＲ　０９１−４／０９１−５において使用されるジフェニルシロキサン基を有しているポリマーを用いて明らかにより僅かな結果となる。
【００６８】
最も僅かな変化は、ＢＥＲ　０９１−１０／０９１−１１において使用されたポリマーを用いて達成されうる。すなわち、付加架橋性シリコーン印象材料中の使用されたポリマーの変化により、コンシステンシーもしくは速度論の変化は集中的に影響を受けうる。このようにして、相応する印象材料は、それらの使用可能性に基づきγ線滅菌後に最適化される。
【００６９】
【表４】
2004059588.tif 000005
【００７０】
例５：
病原菌数測定の次の表にまとめられた結果は、γ線滅菌後に増殖能力のある微生物がもはや検出できなかったことを示す。
【００７１】
ＤＩＮ　ＥＮ　１１７４−１、−２、ＩＳＯ　１１７３７−１による病原菌数測定の結果：
【００７２】
【表５】
2004059588.tif 000006
【００７３】
例６：
多様な印象材料タイプの電子線滅菌試験：
次の双方の表は、滅菌されない状態で及びその都度２５ｋＧｙの線量での電子線滅菌後の多様な印象材料タイプの比較しているデータを示している。調査した電子線処理された試料は、増殖能力のある微生物を有しない。
【００７４】
γ線処理の際の結果に類似して、縮合架橋性シリコーン印象材料もしくはポリエーテル印象材料又はアルギン酸塩印象材料は、物理的性質の僅かな影響のみを示す。
【００７５】
もう一つの表中には、付加架橋性シリコーン印象材料に対する例が見出され、その際、変法ＢＥＲ　０９１−１２／０９１−１３は、ビニル基を有しているオイルとしてその都度末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサンを含有する。粘度上昇は、明らかに、同じようにこれに付随しており、しかし放射線滅菌後にもなお良好に取扱い可能なシリコーン印象材料をもたらす速度論加速度である。なお明らかにより僅かな変化は、ＰＤＶ　０３３１／０３４６もしくはＳＬＭ　４３５０６４を用いてＢＥＲ　０９１−４／０９１−５もしくはＢＥＲ　０９１−１０／０９１−１１において達成可能である。
【００７６】
【表６】
2004059588.tif 000007
【００７７】
【表７】
2004059588.tif 000008