(57)【要約】【課題】保持した試料が自重で撓んでいる場合であっても、撓み変形前の座標値で表された試料表面上の特定点を所定の目標位置に移動させることができるようにする。【解決手段】ウエハ上の特定点の位置を、撓みが生じていない状態におけるウエハを基準とした第１座標系で表した補正前座標値が座標値入力部４４に入力されると、補正後座標値算出部４６は、座標値入力部４４に入力された上記補正前座標値及び焦点検出機構６０により計測された変位計測点の撓み方向変位量に基づいて、ウエハに撓みが生じている状態における特定点の位置をウエハ保持テーブル３１を基準とした第２座標系で表した補正後座標値を算出する。そして制御部４０は、補正後座標値算出部４６において算出された上記補正後座標値に相当する位置が所定の目標位置に位置するようにウエハ保持テーブル移動機構３３を作動させる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を保持する保持部材と、
前記試料が前記保持部材に保持された状態で、前記試料上の選択された計測点における前記試料の撓みによる変位量を計測する計測手段と、
前記試料上の特定点の位置を前記試料を基準とした座標系で表した第１の座標値が入力される入力手段と、
前記第１の座標値及び前記撓みによる変位量に基づいて、前記特定点の位置を前記保持部材を基準とした座標系で表した第２の座標値を算出する算出手段と、
前記第２の座標値に相当する位置を目標位置に相対移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記計測手段が焦点検出機構からなることを特徴とする請求項１記載の搬送装置。
【請求項３】
前記特定点が前記計測点を兼ねていることを特徴とする請求項１又は２記載の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、保持した試料を搬送して試料上の特定点を所定の目標位置に位置させる搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
このような搬送装置を備えた装置としては、例えば重ね合わせ検査装置や半導体製造装置、或いは半導体ウエハ表面上の欠陥を観察する外観検査装置などが知られている。これらの装置に付随して設けられる搬送装置では、試料である半導体ウエハ上の特定点（特定のマークのある部位、加工作業部位或いは観察部位）を座標値で特定し、この特定した座標値に相当する位置が装置の目標位置に位置するように試料を搬送移動させる構成を有している（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−１１１５９０号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、搬送対象となる試料の厚さが小さいためにその曲げ剛性が小さく、従って搬送装置に備えられた試料保持部材（例えばウエハの下面を支持するウエハ保持テーブル）に保持された状態で試料の一部が自重で撓んでしまうような場合には、試料の撓み変形前の座標値で表した試料上の特定点の位置が実際の（撓み変形後の）特定点の位置とずれてしまうことがあり、外観観察装置などにおいて試料を高倍率で観察するようなときには、観察対象である上記特定点が視野に入らなくなってしまうという問題が生じていた。
【０００５】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、保持した試料が自重で撓んでいる場合であっても、撓み変形前の座標値で表された試料表面上の特定点を所定の目標位置に移動させることが可能な構成の搬送装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するため、請求項１に係る発明の搬送装置は、試料を保持する保持部材と、前記試料が前記保持部材に保持された状態で、前記試料上の選択された計測点における前記試料の撓みによる変位量を計測する計測手段と、前記試料上の特定点の位置を前記試料を基準とした座標系で表した第１の座標値が入力される入力手段と、前記第１の座標値及び前記撓みによる変位量に基づいて、前記特定点の位置を前記保持部材を基準とした座標系で表した第２の座標値を算出する算出手段と、前記第２の座標値に相当する位置を目標位置に相対移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
請求項２に係る発明の搬送装置は、請求項１記載の搬送装置において、前記計測手段が焦点検出機構からなることを特徴とする。
【０００８】
請求項３に係る発明の搬送装置は、請求項１又は２記載の搬送装置において、前記特定点が前記計測点を兼ねていることを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。図１は本発明の実施形態の搬送装置の構成を示すブロック図であり、図２は本発明の搬送装置が適用された外観検査装置１０を示している。本外観検査装置１０は、検査テーブル１２上に設置されて複数の半導体ウエハ（以下、単にウエハと称する）Ｗを収納するウエハカセット１４と、このウエハカセット１４からウエハＷを取り出して移動させるウエハ移動ロボット２０と、ウエハ移動ロボット２０により移動されてきたウエハＷを保持してウエハＷ上の特定点（特定部位）が所定の目標位置に位置するように搬送移動するウエハ搬送装置３０と、ウエハ搬送装置３０により搬送されてきたウエハＷ上の上記特定点の外観を拡大観察する顕微鏡装置５０とを有して構成される。
【００１０】
ウエハ移動ロボット２０は、検査テーブル１２上の基部２２に取り付けられた屈伸アーム２４と、この屈伸アーム２４の先端部に取り付けられた平板状のウエハホルダ２６とを有して構成されている。屈伸アーム２４は内蔵された図示しない電動モータ等により屈伸動が可能であり、これによりウエハホルダ２６を水平姿勢のまま自在に移動させることができるようになっている。屈伸アーム２４及びウエハホルダ２６の内部には不図示の真空管路が形成されており、これら真空管路は真空チューブ２８を介して不図示の真空源と繋げられている。ウエハホルダ２６内に形成された真空管路はウエハホルダ２６の上面側に開口しており、真空源より真空チューブ２８、屈伸アーム２４及びウエハホルダ２６内の真空管路を介して空気を吸引することにより、ウエハホルダ２６の上記開口においてウエハＷの下面を真空吸着することができるようになっている。また、このようにウエハＷを真空吸着した状態から上記真空管路及び真空チューブ２８内に空気を送り込むことにより、ウエハＷの吸着を解除してウエハＷをウエハホルダ２６から離脱させることが可能である。
【００１１】
ウエハ搬送装置３０は、ウエハＷの下面を保持する円盤状のウエハ保持テーブル３１と、このウエハ保持テーブル３１の下方に設けられてウエハ保持テーブル３１を３次元的に移動させるウエハ保持テーブル移動機構３３とを有して構成される。また、ウエハ保持テーブル移動機構３３は、検査テーブル１２の面内の一方向（Ｘ方向）に移動自在なＸステージ３４と、このＸステージ３４の移動方向に対して検査テーブル１２に平行な面内で直交する方向（Ｙ方向）に移動自在なＹステージ３５と、Ｘステージ３５をＸ方向へ移動させるＸ方向移動用電動モータ３６と、Ｙステージ３５をＹ方向へ移動させるＹ方向移動用電動モータ３７と、ウエハ保持テーブル３１を検査テーブル１２の構成面（ＸＹ平面）に対して垂直な軸（Ｚ軸）方向に移動させるＺ方向移動用電動モータ３８とから構成される（図１参照）。ここで、Ｘ方向移動用電動モータ３６、Ｙ方向移動用電動モータ３７及びＺ方向移動用電動モータ３８はそれぞれ制御部４０（図１参照）と電気的に繋がっており、制御部４０から出力される作動指令信号を受けて作動するようになっている。
【００１２】
図３及び図４はそれぞれウエハ保持テーブル３１上に載置された状態のウエハＷを示す平面図と側面図である。これらの図に示すように、ウエハ保持テーブル３１の内部にはウエハＷを真空吸着するための真空管路３１ａが設けられている。この真空管路３１ａはウエハ保持テーブル３１の上面側（図３においては紙面手前側、図４においては紙面上側）に一端側が開口するとともに、他端側が真空チューブ３２（図２参照）に接続されている。この真空チューブ３２は上述の真空チューブ２８と同様に不図示の真空源に接続されており、この真空チューブ３２を介して真空管路３１ａ内を真空にすることで、ウエハ保持テーブル３１に載置されたウエハＷを真空吸着することが可能である。この場合、ウエハ保持テーブル３１の上面側に位置する真空管路３１ａの開口部を図３及び図４に示すようにウエハ保持テーブル３１の表面に分散させて配置しておくことにより、ウエハＷをウエハ保持テーブル３１より浮き上がらせることなく、ウエハ保持テーブル３１の上面に密着させた状態で吸着させることができる。
【００１３】
図３及び図４に示すように、ウエハ保持テーブル３１の直径は、これに吸着保持されるウエハＷの直径よりも小さくなっている。ウエハＷの直径がウエハ保持テーブル３１の直径より大きく、ウエハＷのウエハ保持テーブル３１への受け渡しの際にウエハＷの上面を吸着しなければならないときには、その受け渡しの際にウエハＷをウエハ保持テーブル３１上に落下させてしまうおそれがあるが、このような構成であれば、ウエハ保持テーブル３１へのウエハＷの受け渡しは、ウエハホルダ２６によりウエハＷの外周部の下面側を吸着した状態で行うことができるので、ウエハ保持テーブル３１への受け渡しの際にウエハＷに損傷を与える危険性を軽減することができる。また、ウエハ保持テーブル３１上にはウエハ吸着確認センサ４２（図１参照）が設けられており、制御部４０は、このウエハ吸着確認センサ４２からの出力信号に基づいて、ウエハＷがウエハ保持テーブル３１上に正常に吸着された状態を確認することができる。
【００１４】
顕微鏡装置５０は、ウエハ搬送装置３０の上方を覆うようにして設置されたフレーム５２と、このフレーム５２の上部に設けられた接眼レンズ５４と、フレーム５２の下部に設けられた対物レンズ５６とを有して構成されている。また、フレーム５２の内部には図５に示す構成の焦点検出機構６０が内蔵されており（図１も参照）、その構成及び焦点検出動作を下に説明する。
【００１５】
図５に示す焦点検出機構６０において、半導体レーザ及び光学系を含む発光部６１から射出されたレーザビームは偏光ビームスプリッタ６２で反射された後、１／４波長板６３、結像レンズ６４及び上述の対物レンズ５６を介してウエハ保持テーブル３１上に載置されたウエハＷの表面（上面）に集光される。このウエハＷの表面で反射したレーザ反射光は、再び対物レンズ５６及び結像レンズ６４を介して１／４波長板６３に照射される。ここで、１／４波長板６３は照射された光の偏光方向を９０度回転させる働きをするため、１／４波長板６３に入射するウエハＷの表面からの反射光は、その偏光方向が最初の偏光光に対して９０度回転した状態で、偏光ビームスプリッタ６２に照射される。従ってウエハＷの表面からの反射光は、偏光ビームスプリッタ６２を透過してビームスプリッタ６６に入射する。ビームスプリッタ６６に入射したウエハＷの表面からの反射光はその光路を分割され（例えば、直交する２方向）、その一方は第１絞り６７を介して第１受光素子６８に照射され、他方は第２絞り６９を介して第２受光素子７０に照射される。
【００１６】
第１絞り６７は、結像レンズ６４及びビームスプリッタ６６を介して結像される、ウエハＷ表面からの反射光の結像位置（合焦点）Ｍ１よりも前側に、ビームスプリッタ６６に対向して配置される。一方、第２絞り６９は、結像レンズ６４及びビームスプリッタ６６を介して結像される、ウエハＷ表面からの反射光の結像位置（合焦点）Ｍ２よりも後側に、ビームスプリッタ６６に対向して配置される。第１及び第２受光素子６８，７０は、受光光量に対応した変位信号を信号処理回路７１に出力する。前述の制御部４０は、入力される上記変位信号に基づいてＺ方向移動用電動モータ３８を作動させ、ウエハＷの載置されているウエハ保持テーブル３１を上下移動させてウエハＷの表面で光が合焦状態となるようにする。
【００１７】
図６は、ウエハＷの載置されているウエハ保持テーブル３１をＺ方向（図５の紙面上下方向）に変位させたときの変位量に対して第１及び第２受光素子６８，７０それぞれが出力する変位信号の一例を示している。図６中において変位量を示す横軸の「０」の位置が合焦点を示している。図５において、合焦状態におけるウエハＷ表面のＺ方向の高さを０として、これより図５の紙面上方向を「＋」、紙面下方向を「−」としたときに、ウエハＷの表面が合焦点「０」よりも−方向にある場合には、図６に示されるように、第１受光素子６８の出力する変位信号より、第２受光素子７０の出力する変位信号の方が大きくなる。また、これとは逆に、ウエハＷの表面が合焦点「０」よりも＋方向にある場合には、第２受光素子７０の出力する変位信号より、第１受光素子６８の出力する変位信号の方が大きくなる。よって、第１及び第２受光素子６８，７０の出力する変位信号の大きさを検出することによって合焦状態を検知することができ、このような合焦状態でウエハＷ表面上の観察点を見れば、いわゆるピントが合った状態でその観察点の外観を明瞭に観察することができる。また、このような合焦状態におけるウエハ保持テーブル３１の基準位置（面）からのＺ方向変位量に基づいて、ウエハＷ表面におけるレーザ光反射点のＺ方向の高さ、すなわちそのレーザ光反射点の撓み方向変位（撓み量）を求めることが可能である。なお、ここでいう基準位置（面）とは、ウエハ保持テーブル３１に載置されたウエハＷ上において撓み方向変位量が「０（零）」となる位置（面）である。
【００１８】
また、図１に示すように、制御部４０には座標値入力部４４が設けられている。この座標値入力部４４には、ウエハＷ上の特定点の位置を撓みが生じていない状態におけるウエハＷを基準としたＸＹ座標系（これを第１座標系とする）で表されたウエハＷ表面上の特定点の座標値（これを補正前座標値とする）が入力されるようになっている。そして、この座標値入力部４４に上記補正前座標値が入力されると、制御部４０は、その補正前座標値をウエハ保持テーブル３１を基準としたＸＹ座標系（これを第２座標系とする）における座標値として読み込み、この第２座標系で読み込まれた上記補正前座標値に相当する位置が目標位置（ここでは顕微鏡装置５０による観察位置であり、対物レンズ５６の下方位置）に位置するようにＸ方向移動用電動モータ３６及びＹ方向移動用電動モータ３７を作動させる。また、上述の焦点検出機構６０による焦点検出動作に基づいてＺ方向移動用電動モータ３８を作動させる。
【００１９】
ここで、ウエハＷは撓み変形前のウエハＷを基準とした上記第１座標系がウエハ保持テーブル３１を基準とした上記第２座標系と合致するようにウエハ保持テーブル３１上に設置することが可能である。従って、ウエハＷ上の特定点を予め第１座標系により表しておき、その第１座標系により表された座標値（補正前座標値）を座標値入力部４４より入力すれば、その座標値は第２座標系で読み込まれても値の同一性を失わないので、観察したいウエハＷ上の特定点が目標位置（観察位置）に位置するようにウエハ保持テーブル３１が移動され、ウエハＷ上の特定点を顕微鏡装置５０により観察することが可能となる。
【００２０】
しかし、ウエハＷ上の特定点の位置を表した座標値が第１座標系と第２座標系との間で同一性を失わないのは、観察しようとする特定点がウエハＷの撓み部分（ウエハ保持テーブル３１の外周縁からはみ出して自重で下方に撓んでいる部分）に存在していない場合であって、観察しようとする特定点が撓み部分上に存在している場合には、特定点の位置を表した座標値は第１座標系と第２座標系とでは異なった値となってしまう。すなわち、特定点の位置を第２座標系で表す場合には、特定点の位置を第１座標系で表した座標値（補正前座標値）を、撓み部分の変形形状に応じた座標値のずれ量を用いて補正する必要がある。このことは、図４におけるウエハＷの外周縁上の点Ｎが、ウエハＷの外周部が下方に撓むことにより、Ｚ方向にΔＺだけ、またＸ方向にΔＸだけ変位することからも容易に分かる。なお、これらΔＺ及びΔＸの大きさは、例えば、ウエハＷの直径が３００ｍｍ、ウエハ保持テーブル３１の直径が８０ｍｍ、ウエハＷの厚さｔが０．３ｍｍ、ウエハＷの単位体積当たりの密度が２．３８×１０−６ｋｇ／ｍｍ３であるときには、図中に示す傾きφはおよそφ＝１．４７１度となり、ΔＺ及びΔＸはそれぞれおよそΔＺ＝２．８２３ｍｍ、ΔＸ＝３５μｍとなる。
【００２１】
そこで、本外観検査装置１０に備えられたウエハ搬送装置３０においては、ウエハＷがウエハ保持テーブル３１により保持された状態で撓み変形を生じているウエハＷの撓み部分において任意に選択された変位計測点の撓み方向変位量を上述の焦点検出機構６０を用いて計測しておくことにより、座標値入力部４４に入力された補正前座標値と、焦点検出機構６０を用いて計測された上記変位計測点の撓み方向変位量とに基づいて、ウエハＷに撓みが生じている状態における特定点の位置を第２座標系で表した座標値（補正後座標値）を算出することができるようになっている。この補正後座標値は、上記制御部４０とは別に設けられた補正後座標値算出部４６において後述のアルゴリズムに従って算出され、制御部４０は、この補正後座標値算出部４６において算出された補正後座標値に相当する位置が所定の目標位置（観察位置）に位置するように、ウエハ保持テーブル３１を移動させる（Ｘ方向移動用電動モータ３６、Ｙ方向移動用電動モータ３７及びＺ方向移動用電動モータ３８を作動させる）。なお、変位計測点の撓み方向変位量を正確に求めるためには、ウエハ保持テーブル３１に保持された状態でも撓みを生じないウエハＷ上の点における上記Ｚ方向変位量を求めておき、両点のＺ方向変位量の差分から変位計測点の撓み方向変位量を算出する。例えば、図３において点Ｐ１を変位計測点として選択してそのＺ方向変位量を求めるときには、ウエハＷの中心部に位置する点Ｐ０のＺ方向変位量も併せて求めるようにするとよい。
【００２２】
以下、補正後座標値算出部において行われる、ウエハＷの撓み部分上から選択した任意の変位計測点における撓み方向の変位量に基づいて、ウエハＷ上の特定点の撓み変形後（ウエハＷの撓み変形後）における座標値を算出する手順について説明する。
【００２３】
図４に示すように、ウエハＷの中心Ｏから、半径方向へ距離Ｐ１の点（この距離Ｐ１は、ウエハＷが撓んでいない状態における距離である）を変位計測点とする。図４に示すようにウエハ保持テーブル３１上にウエハＷを載置した状態では、ウエハＷは撓んでいる。ウエハＷが撓むことにより、ウエハＷを基準とした点Ｐ１の座標値（ここでは便宜上Ｐ１とする）は、ウエハ保持テーブル３１を基準とした座標では、ウエハＷの中心側にずれて、座標値はＰ１−ΔＰ１となる。なお、ここではウエハＷの中心Ｏとウエハ保持テーブル３１の中心とは一致しているとする。ここで、ウエハ保持テーブル３１の半径をＲとする。
【００２４】
先ず、ウエハＷをウエハ保持テーブル３１上に保持した状態で、ウエハＷが自重で撓まない点（すなわちウエハ保持テーブル３１からの距離がＲ以下の点）において、ウエハＷ面のＺ方向の変位量を計測する。そして、この点におけるＺ方向の位置を基準位置（変位量０の位置）とする。次に、第１座標系による変位計測点の座標値を第２座標値による座標値に変換する。ここでは、簡単のため、第１座標系による座標値が（Ｐ１，０）であり、第１座標系のＸ軸、Ｙ軸、と第２座標系のＸ軸、Ｙ軸が一致しているとする。この場合、第１座標系による座標値（Ｐ１，０）には、第２座標系による座標値（Ｐ１，０）が対応する。そして、第２座標系による座標値（Ｐ１，０）において、Ｚ方向の変位量（撓み方向変位量）を計測する。この変位量は、言うまでもなく前述の基準位置に対する変位量である。図４においては、紙面横方向がＸ軸であるとし、Ｘ軸方向、Ｚ軸方向の変位のみ考えることとする（Ｙ軸方向の変位は０とする）。
【００２５】
第２座標系における座標値Ｐ１でのＺ方向変位量（撓み方向変位量）がΔＺＰであるとする。図４において、ウエハＷが撓んでいるために、第１座標系における座標値Ｐ１の位置は、第２座標系においては、Ｐ１−ΔＰ１の位置へとずれている。撓んでいる部分のウエハＷ面とウエハ保持テーブル３１面とのなす角をφとすると、ΔＰ１は、Ｐ１、Ｒと比べて十分小さいので、近似的には下式（１）が成り立つ。
【００２６】
【数１】
ΔＰ１＝（Ｐ１−Ｒ）（１−ｃｏｓφ）  ・・・  （１）
【００２７】
更に、近似的には下式（２）が成り立つ。
【００２８】
【数２】
ｓｉｎφ＝ΔＺＰ／（Ｐ１−Ｒ）  ・・・      （２）
【００２９】
式（２）より、ΔＺＰを上記計測により求めることにより、φを求めることができることが分かる。そして、φを求めることができれば、式（１）より、ΔＰ１を求めることができることが分かる。したがって、第１座標系による座標値が（Ｐ１，０）である点の対応する第２座標系における座標値（補正後座標値）である（Ｐ１−ΔＰ１，０）を求めることができる。ウエハ保持テーブル３１の中心からの距離がＸである任意の点Ｘ１における補正値ΔＸ１（Ｘ軸方向のずれ）は、式（１）より下式（３）で求められる。
【００３０】
【数３】
ΔＸ１＝（Ｘ１−Ｒ）（１−ｃｏｓφ）  ・・・  （３）
【００３１】
以上のように、変位計測点（本実施形態では点Ｐ１）におけるＺ方向変位量（撓み方向変位量）を計測することにより、ウエハＷ上の任意の特定点（観察点）における第１座標系による座標値から第２座標系における座標値に変換する際の補正値を計算により求めることができる。なお、撓み方向の変位量を計測する計測点は、本実施形態では１つ（Ｐ１）としたが、複数であってもよい。例えば、図３中に示す点Ｐ１のほか、他の３点Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４の撓み方向変位量を計測し、これら４点Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４の撓み方向変位量それぞれを対象として求められる補正後座標値の平均値をとるようにしてもよい。
【００３２】
このように上記外観検査装置１０に備えられたウエハ搬送装置３０では、ウエハＷ上の特定点の位置を、撓みが生じていない状態におけるウエハＷを基準とした第１座標系で表した座標値が、ウエハＷの撓み変形後にはウエハ保持テーブル３１を基準とした第２座標系を用いてどのような座標値として表されるかを算出したうえで、そのウエハＷの撓み変形後における座標値に相当する位置が所定の目標位置（観察位置）に位置するようにウエハＷを搬送移動させるようになっている。このため、ウエハ保持テーブル３１において保持されたウエハＷが自重により撓んでおり、観察したいウエハＷ上の特定点がその撓み部分に存在する場合であっても、特定点を正確に目標位置に位置させることが可能である。
【００３３】
なお、撓み方向変位を計測するための変位計測点としては、ウエハＷの撓み部分の領域内からの任意に選択することができるが、観察しようとする特定点を変位計測点に選択すれば、変位を計測した後に特定点を目標位置（観察位置）に位置させる際にウエハ保持テーブル３１を移動させる移動量が少量になるという利点がある。また、詳述はしないが、ウエハＷの搬送過程で多数の撓み方向変位量を計測し、これら計測された多数の点の変位量に基づいてウエハＷの正確な撓み形状を算出した上で補正後座標値を求めるようにしてもよい。このようにすれば、より正確な補正後座標値を求めることが可能となる。
【００３４】
これまで本発明の好ましい実施形態について説明してきたが、本発明の範囲は上述の実施形態に示したものに限定されない。例えば、上述の実施形態におけるウエハ搬送装置３０は、ウエハＷを顕微鏡装置５０に付随する形態で用いられるものであったが、これは一例であり、他の装置、例えば、ウエハＷの表面に加工を加えるウエハ製造装置等に付随する形態で用いることもできる。また、上述の実施形態では、試料であるウエハＷ上の特定点を移動させる目標位置が観察位置、すなわち対物レンズ５６の下方位置であったが、これはウエハ搬送装置３０が顕微鏡装置５０に付随して設けられていたからであり、ウエハ搬送装置が上記のようにウエハ製造装置に付随する形態で用いられる場合には、その目標位置はウエハ上に加工を加える作業位置となる。
【００３５】
また、上述の実施形態では、変位計測点の撓み方向変位量を計測する変位量計測部として焦点検出機構６０が用いられていたが、変位量計測部はこのような焦点検出機構６０に限られず、ウエハＷの撓み部分において任意に選択された変位計測点の撓み方向変位量を計測できるものであれば、その他の構成を有していても構わない。また、上述の実施形態では、ウエハＷを保持する部材（ウエハ保持テーブル３１）はウエハＷの下面を保持する形態であったが、これはウエハＷの上面を吸着保持する形態であってもよく、更にはウエハＷの一部をウエハＷの側方から把持する形態であってもよい。また、上述の実施形態では、搬送対象となる試料が半導体ウエハであったが、これは一例であり、半導体ウエハ以外の試料（例えば液晶基板）等であっても構わない。
【００３６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る搬送装置によれば、試料保持部材において保持された試料が自重により撓んでおり、観察したい試料上の特定点がその撓み部分に存在する場合であっても、特定点を正確に目標位置に位置させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態における搬送装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態における搬送装置が適用された外観検査装置の斜視図である。
【図３】ウエハ保持テーブル上に載置された状態のウエハを示す平面図である。
【図４】ウエハ保持テーブル上に載置された状態のウエハを示す側面図である。
【図５】焦点検出機構の一例を示す模式的構成図である。
【図６】ウエハ保持テーブルのＺ方向変位量に対して第１及び第２受光素子が出力する変位信号の一例を示すグラフである。
【符号の説明】
１０    外観検査装置
２０    搬送ロボット
３０    ウエハ搬送装置
３１    ウエハ保持テーブル
３３    ウエハ保持テーブル移動機構
４０    制御部
４２    ウエハ吸着確認センサ
４４    座標値入力部
４６    補正後座標値算出部
５０    顕微鏡装置
５６    対物レンズ
６０    焦点検出機構
【図１】
2004325217.tif 000003
【図２】
2004325217.tif 000004
【図３】
2004325217.tif 000005
【図４】
2004325217.tif 000006
【図５】
2004325217.tif 000007
【図６】
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