(57)【要約】【課題】薄いフィルム状支持体に対しても、熱による溶融を生じることなく、高品質の蒸着膜を高速で成膜することのできる真空蒸着方法および真空蒸着装置を提供する。【解決手段】供給ロ−ルによって前記フィルム状支持体を蒸着源の近傍に供給しながら、移動・搬送するとともに、前記フィルム状支持体に静電気を発生させ、蒸発源を加熱溶融し、フィルム状支持体にむけて蒸発させて、蒸着を行うとともに、前記フィルム状支持体に静電気を供給し、蒸着のなされた前記フィルム状支持体を、静電気力により、冷却手段に張り付けて冷却しながら、巻取りロールによって巻き取るようにした真空蒸着方法において、前記冷却手段に張り付けられた前記フィルム状支持体の帯電量を測定し、前記フィルム状支持体の前記帯電量が一定となるように前記フィルム状支持体上の静電気発生量をフィードバック制御するようにしたことを特徴とする。【選択図】図１
2004156068.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給ロ−ルによって前記フィルム状支持体を蒸着源の近傍に供給しながら、移動・搬送するとともに、前記フィルム状支持体に静電気を発生させ、
蒸発源を加熱溶融し、フィルム状支持体にむけて蒸発させて、蒸着を行うとともに、前記フィルム状支持体に静電気を供給し、蒸着のなされた前記フィルム状支持体を、静電気力により、冷却手段に張り付けて冷却しながら、巻取りロールによって巻き取るようにした真空蒸着方法において、
前記冷却手段に張り付けられた前記フィルム状支持体の帯電量を測定し、前記フィルム状支持体の前記帯電量が一定となるように前記フィルム状支持体上の静電気発生量をフィードバック制御するようにしたことを特徴とする真空蒸着方法。
【請求項２】
前記フィードバック制御は、前記フィルム状支持体の幅方向での帯電量が一定となるように、幅方向での制御を行う工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着方法。
【請求項３】
前記静電気の供給は、電子銃によって前記フィルム状支持体に電子を打ち込むことによってなされることを特徴とする請求項１または２に記載の真空蒸着方法。
【請求項４】
前記フィルム状支持体は、厚さ３μｍ以下の誘電体フィルムであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の真空蒸着方法。
【請求項５】
蒸発源と、
前記蒸発源を加熱溶融し、フィルム状支持体にむけて蒸発させる加熱手段と、
前記フィルム状支持体を支持するとともに、前記蒸発源からの蒸発物が蒸着された前記薄膜フィルムを冷却する冷却手段と、
前記フィルム状支持体に静電気を発生させる静電気発生手段と、
前記フィルム状支持体を蒸着源の近傍に搬送・供給する供給ロールと、
前記フィルム状支持体を巻き取る巻取りロールとを具備した真空蒸着装置において、
前記フィルム状支持体表面の静電気量を測定する測定手段と、
測定された前記静電気量に応じて前記フィルム状支持体の帯電量が一定となるように、前記静電気発生手段の出力を調整するフィードバック制御手段とを具備したことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項６】
前記測定手段は前記フィルム状支持体の幅方向に沿って配列された複数個の表面電位計であることを特徴とする請求項５に記載の真空蒸着装置。
【請求項７】
前記フィードバック制御手段は、前記フィルム状支持体の幅方向に沿って帯電量が一定となるように、前記表面電位計の出力に基づいて前記静電気発生手段の出力を調整する調整手段を含むことを特徴とする請求項６に記載の真空蒸着装置。
【請求項８】
前記フィルム状支持体は３μｍ以下の誘電体フィルムであることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空蒸着方法および真空蒸着装置にかかり、特に、薄いフィルム状支持体への蒸着方法および装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
真空装置内に蒸発源と、半導体ウェハなどの支持基板を設置し、前記蒸発源を加熱することにより、金属材料などを真空中で蒸発させ、支持基板に所望の金属を堆積させるようにした真空蒸着装置が知られている。
【０００３】
この真空蒸着装置は、例えば図４に示すように、長尺状を有し堆積物を蒸着させるフィルム状支持体１０１と、このフィルム状支持体１０１を供給するための供給ロール１０２Ａと、フィルム状支持体１０１を円滑に駆動・搬送する中間ロール１０３と、このフィルム状支持体１０１を巻き取る巻取りロール１０２Ｂと、これら供給ロール１０２Ａと巻取りロール１０２Ｂとの間に設けられたドラム状の冷却ロール１０４とを具備し、蒸着源１０６に、電子銃１０８から電子を打ち込むことにより蒸着金属Ｍを溶融せしめ、蒸発された金属を前記フィルム状支持体１０１表面に堆積するように構成されている。ここで冷却ロール１０４とフィルム状支持体１０１との密着性を向上するために蒸着源よりも上流側にフィルム状支持体１０１を帯電させるための帯電用電子銃１０５が設けられており、静電誘導によりフィルム状支持体１０１が帯電せしめられ、冷却ロールに密着するように構成されている。またこれらの手段を収容する真空チャンバは隔壁１１１によって成膜室１０９と収納室１１０とに分離されており、収納室に蒸発金属などの粒子が入るのを阻止するように構成されている。
【０００４】
このような真空蒸着装置では、供給ロール１０２Ａから送出されてきたフィルム状支持体１０１が、中間ロール１０３を介して冷却ロール１０４の外周面に沿って移動する。このとき、冷却ロール１０４上のシャッタ１０８Ａ，１０８Ｂまでフィルム状支持体１０１が移動する際に、帯電用電子銃１０５から発せられた電子がフィルム状支持体１０１に打ち込まれることにより、フィルム状支持体１０１は静電気を帯びて、その静電気力で冷却ロール１０４と密着する。この状態で、電子銃１０７で発生せしめられた電子ビームにより溶融せしめられた蒸着金属ｋが坩堝１０６から飛び出し、冷却ロール上を走行するフィルム状支持体１０１に付着せしめられる。このようにして蒸着金属が付着せしめられたフィルム状支持体１０１を、中間ロール１０３を介して巻取りロール１０２Ｂに巻き取る。
【０００５】
ところでこのとき千数百度に溶融した蒸着金属が、ガラス転移点８０数℃、融点百数十℃の高分子材料が構成される支持体１０１に付着するわけであるから、支持体１０１は大きな熱エネルギーを受けることになる。このため良好な蒸着を目的として、冷却ロール１０４は−数十℃に冷やされ、フィルム状支持体１０１との接触を良くするために冷却ロール１０４の表面は一般に鏡面状態に仕上げられている。また真空中での熱伝導の改善を目的として帯電用電子銃１０５により発生せしめられた電子をフィルム状支持体１０１に打ち込むことにより、フィルム状支持体１０１を負の電荷で帯電させている。そして、その帯電力で冷却ロール１０４との真の実接触面積を向上させ、フィルム状支持体１０１と冷却ロール１０４との密着力を大きくしている。このようにして、蒸着金属の熱エネルギーを瞬時に冷却ロール１０４に伝えることにより、フィルム状支持体１０１の温度上昇を、このフィルム状支持体を構成する高分子材料のガラス転移点以下に保ち、良好な蒸着を行う事を可能にしている。
【０００６】
このようにフィルム状支持体が誘電体である場合には、特に熱による損傷が問題となることが多々ある。例えばその一例として、絶縁性の物質からなる蒸発材料から放出される二次電子の絶縁体フィルムへの入射を減少させ、二次電子による絶縁体フィルムの帯電に起因するコーティングドラムとの剥離放電を抑止してクラックなどの損傷・破壊のない蒸着膜を形成するようにした技術も提案されている（例えば特開平５−８６４７０号公報）。
【特許文献１】
特開平５−８６４７０号公報、図１、［０００５］［０００６］［０００７］［０００８］［０００９］
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年フィルム状支持体の薄膜化は進む一方であり、最近では３μｍに満たないものも提案されている。
ところで前述したような蒸着の過程において、帯電用電子銃１０５より発生した電子をフィルム状支持体１０１に打ち込んだ時の帯電量はフィルム状支持体の厚みで決まる。従って、薄いフィルム状支持体の場合、帯電用電子銃１０５のパワーをいくらあげても、フィルム状支持体１０１の帯電量は飽和するために、冷却ロール１０５とフィルム状支持体１０１との密着力は一定の値を超えることはできず小さいという問題がある。このような状況の中で、帯電量が少ない領域すなわち張り付け力の低下している領域では、冷却ロールとの接触性が十分でないため、蒸着金属からの熱が十分に冷却ロールから伝達されず、局所的にフィルム状支持体に熱負けが生じてしまうことがある。
【０００８】
一方、帯電用電子銃１０５の出力が大きすぎてフィルム状支持体の帯電量が大きくなりすぎると、冷却ロールとフィルム状支持体との密着力が強すぎて、フィルム状支持体１０１が冷却ロール１０４を離れる際に剥離放電を起こし、フィルム状支持体１０１が損傷を受けることになる。
【０００９】
このため従来の方法では、特に薄いフィルム状支持体への蒸着に際しては、１００ｍ／ｍｉｎでは熱負けなどに起因するフィルム状支持体の損傷が発生しやすく、歩留まりが大幅に低下し、実用上成膜不可能であった。そこで、蒸着スピードを低速化させる必要があった。
【００１０】
そこで本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、薄いフィルム状支持体に対しても、熱による溶融（熱負け）を生じることなく、高品質の蒸着膜を成膜することのできる真空蒸着方法および真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、蒸着スピードの高速化の可能な真空蒸着方法および真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明では、フィルム状支持体の帯電量を連続的に測定し、この測定値を、帯電用電子銃などの静電気発生手段にフィードバックし、帯電量が一定となるように、帯電量電子銃の出力を連続的に変化させることにより、フィルム状支持体の冷却ロールへの張り付け力を均一化させるようにしている。そしてこれによりフィルム状支持体の冷却ロールへの密着性を高め、熱負けを抑制するようにしている。
また、フィルム状支持体の冷却ロールへの張り付け力を最適化することにより、剥離放電を低減し、蒸着スピードの高速化を実現する。
【００１３】
そこで本発明の方法では、供給ロ−ルによって前記フィルム状支持体を蒸着源の近傍に供給しながら、移動・搬送するとともに、前記フィルム状支持体に静電気を発生させ、蒸発源を加熱溶融し、フィルム状支持体にむけて蒸発させて、蒸着を行うとともに、前記フィルム状支持体に静電気を供給し、蒸着のなされた前記フィルム状支持体を、静電気力により、冷却手段に張り付けて冷却しながら、巻取りロールによって巻き取るようにした真空蒸着方法において、前記冷却手段に張り付けられた前記フィルム状支持体の帯電量を測定し、前記フィルム状支持体の前記帯電量が一定となるように前記フィルム状支持体上の静電気発生量をフィードバック制御するようにしたことを特徴とする。
【００１４】
かかる構成によれば、フィルム状支持体の冷却ロールへの張り付け力を均一化し、フィルム状支持体と冷却ロールとの密着性を高めるようにしているため、蒸着する金属による熱負けの発生を抑制することができ、高歩留まりでの成膜を実現することが可能となる。
【００１５】
従って、フィルム状支持体を高速で走行させながら、高速で成膜させる場合にも、冷却ロールを介して良好に放熱が促進されるため、蒸着金属とフィルム状支持体との熱伝導のバランスも良好に維持され、蒸着金属の熱エネルギーを良好に放出しながら、フィルム状支持体の温度上昇を抑制することが可能となる。従ってフィルム状支持体の溶融を生じたりすることなく、高品質の蒸着を行うことが可能となる。
また、必要に応じて絶縁可能に形成するようにし、例えば冷却ロールとの剥離が必要な領域では瞬時に通電するようにして剥離性を良くし剥離放電によるフィルム状支持体の損傷を低減することも可能である。
【００１６】
また、前記フィードバック制御は、前記フィルム状支持体の幅方向での帯電量が一定となるように、幅方向での制御を行うようにしている。
【００１７】
かかる構成によれば、フィルム状支持体の幅方向にも冷却ロールへの張り付け力を均一化することができ、幅方向の密着性を高めることができ、より高歩留まりの蒸着を行うことが可能となる。
【００１８】
また望ましくは、前記静電気の供給は、電子銃によって前記フィルム状支持体に電子を打ち込むことによってなされる。
【００１９】
特に、フィルム状支持体が、厚さ３μｍ以下の誘電体フィルムである場合には帯電量が少なく、冷却ロールとの十分な密着性を得ることができないが、本発明の方法によれば、冷却ロールとの密着状態を維持することができ、高速で信頼性の高い成膜を行う事が可能となる。
【００２０】
また本発明の真空蒸着装置では、蒸発源と、前記蒸発源を加熱溶融し、フィルム状支持体にむけて蒸発させる加熱手段と、前記フィルム状支持体を支持するとともに、前記蒸発源からの蒸発物が蒸着された前記薄膜フィルムを冷却する冷却手段と、前記フィルム状支持体に静電気を発生させる静電気発生手段と、前記フィルム状支持体を蒸着源の近傍に搬送・供給する供給ロールと、前記フィルム状支持体を巻き取る巻取りロールとを具備した真空蒸着装置において、前記フィルム状支持体表面の静電気量を測定する測定手段と、測定された前記静電気量に応じて前記フィルム状支持体の帯電量が一定となるように、前記静電気発生手段の出力を調整するフィードバック制御手段とを具備したことを特徴とする。
【００２１】
かかる構成によれば、フィルム状支持体の冷却手段への張り付け力を均一化し、最適値となるように調整することにより、フィルム状支持体はある一定の静電力を保持することができる。従ってフィルム状支持体は、冷却ロールと一定の力で密着し、蒸発金属の熱エネルギーを瞬時に冷却ロールに伝えることができ、良好な蒸着を行うことができる。
【００２２】
前記測定手段としてフィルム状支持体の幅方向に沿って配列された複数個の表面電位計を用いるようにすれば、効率よく連続的に帯電量をモニタすることが可能となる。
【００２３】
また、フィードバック制御手段が、前記フィルム状支持体の幅方向に沿って帯電量が一定となるように、前記表面電位計の出力に基づいて前記静電気発生手段の出力を調整する調整手段を含むようにすれば、容易に連続的に最適な放熱特性を実現することができる。また、適宜静電気量を低減する区間を設けることにより、冷却手段との剥離放電を低減することが可能となる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態における蒸着方法を実施するコンデンサフィルムの製造装置を示す図である。
【００２５】
このコンデンサフィルムの製造装置は、図１に示すように、フィルム状支持体１表面の近傍に帯電量を検出する表面電位計８を設け、この表面電位計８の検出値に基づいて帯電量を算出する帯電量算出部２０と、この帯電量にもとづいて静電気発生手段である帯電用電子銃５の出力を制御するようにしたことを特徴とするものである。
【００２６】
そして帯電用電子銃５は、冷却ロールの上方に配設されており、電子銃から発せられた電子により、フィルム状支持体１が任意の静電気量をもつように帯電させるように構成されている。
【００２７】
また、この装置は、供給ロール２Ａ、中間ロール３および巻取りロール２Ｂが、２００ｍ／ｍｉｎ程度の高速で走行せしめられるようにモータ２２で回転駆動せしめられるもので、他の部分についてはおおむね図３に示した従来の真空蒸着装置と同様に形成されている。
【００２８】
この装置は、長尺状を有し堆積物を蒸着させるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる厚さ１μｍ、幅５００ｍｍのフィルム状支持体１を供給するための供給ロール２Ａと、フィルム状支持体１を円滑に駆動・搬送する中間ロール３と、このフィルム状支持体１を巻き取る巻取りロール２Ｂと、これら供給ロール２Ａと巻取りロール２Ｂとの間に設けられたドラム状の冷却ロール４とを具備し、蒸着源６に、電子銃６から電子を打ち込むことにより蒸着金属であるコバルトＭを溶融せしめ、蒸発されたアルミニウムをフィルム状支持体１表面に堆積するように構成されている。
【００２９】
そして冷却ロール４とフィルム状支持体１との密着性を向上するために蒸着源よりも上流側にフィルム状支持体１を帯電させるための帯電用電子銃５が設けられており、この帯電用電子銃５から打ち込まれた電子によって、フィルム状支持体１が帯電せしめられ、この静電気力により冷却ロール４に密着するように構成されている。この帯電用電子銃５は、帯電量算出部２０の出力に応じて制御部２４から電子銃制御部２１の出力を調整して帯電量が調整される。またこれらの手段を収容する真空チャンバは隔壁１１によって成膜室９と収納室１０とに分離されており、成膜室で効率よく成膜がなされるように構成されている。
【００３０】
ここで供給ロール２Ａは、成膜室９内部に設けた坩堝７の近傍に形成される蒸着領域に向けてフィルム状支持体１を送出するために、蒸着領域に向けて支持体を送出するための装置であり、多数の支持体を巻装させており、モータ２３によって回転駆動させるようになっている。
【００３１】
また巻取りロール２Ｂは、蒸着領域で成膜のなされたフィルム状支持体１を巻き取っていくものであり、供給ロール２Ａと同様にモータ２３により供給ロール２Ａと同期して強制回転させるようになっている。
【００３２】
更に中間ロール３は、供給ロール２Ａと、冷却ロール４との間および冷却ロール４と巻取りロール２Ｂとの間に、フィルム状支持体１を移動搬送するために装着されており、図示しないモータによって強制的に回転させるようになっている。
【００３３】
また、冷却ロール４は、電子銃から発せられた電子ビームにより溶融されて蒸発せしめられた坩堝７内の蒸着金属が、供給ロール２Ａおよび巻取りロール２Ｂ巻に設けられた蒸着領域にて積層・成膜された後にこれを冷却させるものである。また冷却ロール４も制御部２４によって冷却ロール回転制御手段２５を制御し、モータ２６の回転を制御している。これにより冷却ロール４による冷却能力もモータ２６の回転速度に応じて良好に制御される。
【００３４】
また図２に要部拡大図を示すように、坩堝７は、フィルム状支持体１に蒸着させる蒸着物となる蒸着金属を収めており、冷却ロール４の下方に配設されており、電子銃６で照射される電子ビームにより領域で加熱溶融されて蒸発するようになっており、フィルム状支持体１の表面にアルミ薄膜１２を形成する。
【００３５】
なお、ここでは図示していないが、フィルム状支持体１への蒸着金属の入射角度を最適値に規制するシャッタを設けても良い。
【００３６】
次にこの装置を用いた下部電極としてのコバルト薄膜の成膜方法について説明する。
供給ロール２Ａにより送出されたフィルム状支持体１は中間ロール３を介して２００ｍ／ｍｉｎで冷却ロール４に供給される。このとき冷却ロール４の上方に配設された帯電用電子銃５より発せられる電子の量をフィルムの厚みに応じて変化させることにより、最適静電気量でフィルムを帯電させ、冷却ロール４に静電気力によって密着させる。
【００３７】
そして冷却ロール４に密着せしめられたフィルム状支持体１は冷却ロール４の回転により、冷却ロール４の下方に形成される蒸着領域に移動する。この領域では、電子銃６で照射される電子ビームにより坩堝７に収納されている蒸着金属が加熱・溶融されて蒸発する。そして、シャッタ８により、フィルム状支持体１への入射角を最適値に規制しながら蒸着が進められる。
【００３８】
この後、中間ロール３を介して巻取りロール２Ｂによりフィルム状支持体１が巻き取られていく。
【００３９】
このとき、表面電位計の出力に応じて、フィルム状支持体の帯電量が一定となるように、制御部２４および電子銃制御部２１を経て、帯電用電子銃５への出力が制御される。これにより、フィルム状支持体１表面では、静電気力が一定となるように、維持され冷却ロールへの密着状態を維持することができる。
【００４０】
従ってフィルム状支持体１に発生した蒸着金属ｋの熱エネルギーはフィルム状支持体１〜冷却ロールに密着しているために瞬時に伝達される。従ってフィルム状支持体１が熱溶融したりすることなく良好な蒸着処理を行うことができる。
【００４１】
この後中間ロール３を介して巻取りロール２Ｂによりフィルム状支持体１は巻き取られていく。
【００４２】
そして続いて、誘電体膜の成膜、更にこの上層に上部電極金属の成膜を行い、熱負けもなく信頼性の高いフィルムコンデンサを形成することができる。またフィルム状支持体が冷却ロールを離れる際に発生する剥離放電を防ぐことができる。
【００４３】
なお前記実施の形態では、フィルム状支持体として厚さ１μｍのＰＥＴフィルムを用いたが、フィルムコンデンサの場合０．８から２．０μｍのＰＥＴフィルムが用いられる。またフィルム状支持体としてはＰＥＴのほかポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）など他の高分子材料も適用可能である。さらにまたＤＶＣに用いる場合には４〜６μｍとするのが望ましい。
【００４４】
また前記実施の形態では、導電性膜であるアルミ薄膜の形成について説明した。導電性膜の成膜の場合、フィルム状支持体表面が導電性となるため電荷がより逃げやすく、帯電量が減少しやすいが、本発明によれば、帯電量を維持し、フィルム状支持体と冷却ロールとの密着性を良好に維持することができるため、放熱性が良好となり、信頼性の高い薄膜形成が可能となる。
【００４５】
成膜する導電性材料としてはアルミ薄膜の他、他の金属材料についても適用可能であるが、誘電体膜の成膜に際しても適用可能であることはいうまでもない。
【００４６】
さらにまた、望ましくは、中間ロール３、巻取りロール２Ｂ、供給ロール２Ａがいずれも絶縁体で形成し、フィルム状支持体に対して絶縁されるようにすれば、２００ｍ／ｍｉｎ程度の高速駆動でも信頼性の高い薄膜形成を行うことが可能となる。
【００４７】
また、冷却ロールとの剥離に際しては帯電用電子銃の通電量を低減し、フィルム状支持体の静電気量が少なくなるようにすることにより、熱バランスを調整し、剥離放電の防止が必要な時点では、剥離放電を防ぎ、より信頼性の高い蒸着を行うように制御することも可能である。
【００４８】
また、冷却ロールとフィルム状支持体との密着性を調整するようにし、フィルム状支持体との剥離性を向上する区間を設けるようにしても良いことはいうまでもない。
【００４９】
（第２の実施の形態）
次に本発明の第２の実施の形態として、図３に示すようにフィルム状支持体の幅方向に沿って等間隔で３個の表面電位計８Ａ，８Ｂ，８Ｃを設け、フィルム状支持体の幅方向での出力を独立して制御するようにしたものである。
この例では、表面電位計８Ａ，８Ｂ，８Ｃの出力に応じて、帯電量算出部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃで帯電量を算出し、制御部２４に出力を送出している。そしてこの制御部２４からの出力により電子銃制御部２１では、帯電用電子銃５をフィルム状支持体の幅方向にスキャンするスキャン速度の調整がなされ、帯電量算出部２０，２０Ｂ，２０Ｃの出力に応じて帯電量が調整される。他部については、前記第１の実施の形態と同様に形成されている。図１に示した装置と同一部位には同一符号を付した。
【００５０】
かかる構成によれば、幅方向についても均一となるように制御されるため、前記第１の実施の形態による効果に加え、より均一な張り付け力を維持することが可能となる。
【００５１】
また前記実施の形態では１個の帯電用電子銃のスキャンすることにより幅方向の帯電を調整したが、複数個の帯電用電子銃を用いるようにしても良い。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、静電気発生手段により冷却ロールに張り付けられたフィルム状支持体の帯電量を連続的に測定し、その結果を張り付け電子銃の制御部にフィードバックし、張り付けよう電子銃の出力を連続的に変化させ、フィルム状支持体の冷却ロールへの張り付け力を均一化させ、フィルム状支持体の冷却ロールへの密着性を最適値に維持しつつ成膜を行うことができるため、熱負けの発生を抑制することができる。また高速での蒸着に際しても高品質の成膜を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の真空蒸着装置を示す図である。
【図２】同装置を用いた真空蒸着方法を示す要部説明図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態の真空蒸着装置を示す図である。
【図４】従来例の真空蒸着装置を示す図である。
【符号の説明】
１  フィルム状支持体
２Ａ  供給ロール
２Ｂ  巻取りロール
３  中間ロール
４  冷却ロール
５  電子銃
６  電子銃
７  坩堝
８  表面電位計
２４  制御部
【図１】
2004156068.tif 000003
【図２】
2004156068.tif 000004
【図３】
2004156068.tif 000005
【図４】
2004156068.tif 000006