(57)【要約】【課題】エッジライトパネル成型用の金型を機械加工によって直接且つ短時間に製作する。【解決手段】ローラー２５に銅鍍金による数百μｍ程度の加工ベース層２１を形成し印刷製版用電子彫刻機に装着してその回転下で微細カッター２８を高速突没することによって超微細の抉り彫刻による導光パターンの反転パターン２２を直接に形成し，表面に数μｍ程度のニッケル又はクロム鍍金を施して極薄の耐熱表面層２４を形成した後，ローラー２５から加工ベース層２１を剥離することによって硬軟積層鍍金層による成型金型２０とする。銅の加工ベース層２１に対して鏡面錐状微孔２３集合の反転パターン２２を極く短時間で高精密に形成することができ，また射出成形時の高熱による加工ベース層２１のパターン変形を耐熱表面層２４が防止して理想的な金型を得られる。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ鍍金層による硬質極薄の耐熱表面層と軟質薄肉の加工ベース層との硬軟異種金属鍍金層による積層構造をなし上記軟質薄肉の加工ベース層がその成型面に超微細彫刻加工によって鏡面状に抉り彫刻して形成した超微細彫刻パターンを備え且つ上記硬質極薄の耐熱表面層が上記成型面表面と超微細彫刻パターンの抉り彫刻面とを極薄均一に被覆してなることを特徴とするエッジライトパネルの成型金型。
【請求項２】
上記軟質薄肉の加工ベース層における超微細彫刻パターンを密度変化のパターンとしてなることを特徴とする請求項１に記載のエッジライトパネルの成型金型。
【請求項３】
上記軟質薄肉の加工ベース層における超微細彫刻パターンを，平面を四辺形乃至楕円状とし断面を曲面形成の錐状とした鏡面錐状微孔の集合によって形成してなることを特徴とする請求項１又は２に記載のエッジライトパネルの成型金型。
【請求項４】
上記微孔の集合による超微細彫刻パターンを，上記加工ベース層の定速回転下でその成型面に定位置微細カッターを高速突没することによって各微孔を抉り彫刻して形成してなることを特徴とする請求項３に記載のエッジライトパネルの成型金型。
【請求項５】
上記硬質極薄の耐熱表面層をニッケル又はクロムとし，軟質薄肉の加工ベース層を銅としてなることを特徴とする請求項１，２，３又は４に記載のエッジライトパネルの成型金型。
【請求項６】
ローラー表面に剥離自在に軟質薄肉の加工ベース層を鍍金形成する鍍金工程と，該加工ベース層を形成したローラーを彫刻加工機に装着して該加工ベース層の定速回転下でその成型面に定位置微細カッターを高速突没して超微細彫刻加工を施すことによって超微細彫刻パターンを鏡面状に抉り彫刻する彫刻工程と，超微細彫刻パターンを抉り彫刻した加工ベース層に硬質極薄の耐熱表面層を積層鍍金形成する表面鍍金工程と，上記加工ベース層をローラーから剥離する剥離工程とを備えることを特徴とするエッジライトパネルの成型金型製作方法。
【請求項７】
上記剥離工程を，上記彫刻工程後に配置して該剥離工程後に表面鍍金工程を配置することを特徴とする請求項６に記載のエッジライトパネルの成型金型製作方法。
【請求項８】
上記彫刻加工機をグラビア製版用の電子彫刻機とし且つ上記ローラーを該電子彫刻機装着用のローラーとしてなることを特徴とする請求項６又は７に記載のエッジライトパネルの成型金型製作方法。
【請求項９】
上記軟質薄肉の加工ベース層を銅の鍍金によって形成し且つ上記極薄硬質の耐熱表面層をニッケル又はクロムの鍍金によって形成することを特徴とする請求項６，７又は８に記載のエッジライトパネルの成型金型製作方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はエッジライトパネルを成型する成型金型及びその製作方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶バックライト等の照明装置として使用されるエッジライトパネルはその導光パターンを反転したパターンを成型面に形成した金型（スタンパーといってもよい）を用いてアクリル等の光透過性の高い透明樹脂を射出成型したものとされ，このとき金型は，例えばフォトレジストパターンを介して鋼材等の金属ベース表面をエッチング処理するエッチング加工が一般的に使用されるが，更に鋼材等の金属ベースに対する切削加工，サンドブラスト加工，放電加工等が知られ，また本発明者らによるフォトレジストパターンを介して耐熱性樹脂を金属ベースに供給し高温焼付けする方法も提案されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００１−９１７５０号（［００２６］〜［００４１］，図６参照）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
エッジライトパネル，特に液晶バックライトとして使用されるエッジライトパネル（導光板といってもよい）はその背面照明の輝度と均一性が可及的高度に確保し得るように，その裏面に形成される導光パターンを超微細高精密のものとすることが求められるとともに需要の多様化，開発期間の短縮化等によって金型製作の短期化が求められる傾向があるところ，上記従来の金型加工にあってはこれらの要求に必ずしも充分に応じえない状況にある。
【０００５】
即ち導光パターンを成型するために形成する金型成型面の反転パターンが比較的ラフなものであればこれらで対応することが可能であるも，導光パターンの超微細高精密に伴って反転パターンを高精度のものとしてこれらの加工を行うと，例えばエッチング加工はその工程が比較的煩雑になり易い上，液濃度，液温等によってエッチングの不均一性が生じる可能性があり，切削加工は金型に直接の加工であるために好ましいとしても硬質の鋼材等に高精度の加工を行うものとして適当ではなく，サンドブラスト加工はそれ自体高精度加工に適したものではなく，放電加工は金属溶融によるクレーター形成に不均一性が生じる可能性があり，本発明者らによるものもその工程が比較的煩雑になり易いといったように，これらは精度やその作業性に問題点を残している。また金型の耐久性は一般に数万回の成型を限度とするから，エッジライトパネルの成型予定数に応じて算出される反転パターンを同一とする多数の金型を製作する必要があるが，上記加工に不均一性が生じる可能性のあるものは多数金型相互間の同一性を確保できないことによって金型製作の歩留まりが著しく低下する傾向が強く，例えばエッチング加工にあっては液濃度，液温等を厳重に管理しても金型製作の歩留まりは１／２程度以下であり，一般には１／３程度に止まるとされる。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので，その解決課題とするところは第１に超微細高精密の導光パターンに応じた高精密な反転パターンを短時間で確実に形成し得るようにしたエッジライトパネルの成型金型を提供するにあり，第２に該成型金型の製作方法を提供するにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記第１の課題に添って本発明は，超微細高精密の導光パターンに応じた反転パターンを軟質金属の加工ベース層に対して直接に機械的に形成することによって加工容易性，高精度加工性，短時間加工性を確保し，加工ベース層の表面に硬質金属による耐熱表面層を形成した異種金属の積層構造とすることによって，加工ベース層が，例えば４５０℃程度といった高温の溶融樹脂に接触して熱収縮や軟化を来すことによる反転パターンの微小な形状変化を防止し，またこれら加工ベース層及び耐熱表面層の上記積層構造をそれぞれ鍍金層の積層によるものとして反転パターンを高精密に加工する加工ベース層表面の均質性を確保するとともに耐熱表面層の反転パターンの微小な形状変化を回避し得る極薄性を確保する一方，加工ベース層に対する反転パターンを超微細彫刻加工による鏡面状の抉り彫刻とすることによって該反転パターンの各抉り彫刻部分を形状や深さを面方向に変化した鏡面とし，これにより成型したエッジライトパネルの導光パターンが入射光の乱反射を可及的に促進し得るようにしたものであって，即ち請求項１に記載の発明を，それぞれ鍍金層による硬質極薄の耐熱表面層と軟質薄肉の加工ベース層との硬軟異種金属鍍金層による積層構造をなし上記軟質薄肉の加工ベース層がその成型面に超微細彫刻加工によって鏡面状に抉り彫刻して形成した超微細彫刻パターンを備え且つ上記硬質極薄の表面層が上記成型面表面と超微細彫刻パターンの抉り彫刻面とを極薄均一に被覆してなることを特徴とするエッジライトパネルの成型金型としたものである。
【０００８】
請求項２に記載の発明は，上記に加えて，成型したエッジライトパネルの導光パターンが輝度とその均一性を高度に確保したものとするためにその反転パターンの超微細彫刻パターンが密度変化（グラデーションといってもよい）をする好ましい形態のものとするように，これを，上記軟質薄肉の加工ベース層における超微細彫刻パターンを密度変化のパターンとしてなることを特徴とする請求項１に記載のエッジライトパネルの成型金型としたものである。
【０００９】
請求項３に記載の発明は，同じく上記に加えて，エッジライトパネルにおける導光パターンを輝度及び均一性をコントロールし易い上記形状や深さを変化した鏡面の突起による集合とするとともにその各突起を入射光の乱反射に好適な外周面を曲面によって形成し平面形状を四辺形状（例えば長手方向両端が鋭角の菱形や長手方向両端が異なる角度のダイヤ形等）の錐状又は楕円状（例えば長手方向両端が先鋭化した木の葉形等）の錐状とする錐状曲面突起として成型することが可能な反転パターンを備えたものとするように，これを，上記軟質薄肉の加工ベース層における超微細彫刻パターンを，平面を四辺形乃至楕円状とし断面を曲面形成の錐状とした鏡面錐状微孔の集合によって形成してなることを特徴とする請求項１又は２に記載のエッジライトパネルの成型金型としたものである。
【００１０】
請求項４に記載の発明は，上記超微細彫刻パターンの直接形成を，定速回転する加工ベース層に定位置の微細カッターを高速突没するように抉り彫刻を行なったものとするとその鏡面錐状微孔とその配置を高精度且つ高密度にするに適したものとし得ることから，これを，上記微孔の集合による超微細彫刻パターンを，上記加工ベース層の定速回転下でその成型面に定位置微細カッターを高速突没することによって各微孔を抉り彫刻して形成してなることを特徴とする請求項３に記載のエッジライトパネルの成型金型としたものである。
【００１１】
請求項５に記載の発明は，同じく上記に加えて，耐熱表面層を極薄ながら反転パターンの保形性を確保するとともにその鍍金形成に適した金属とするとともに加工ベース層を該超微細彫刻パターンの抉り彫刻とその鍍金形成に適した金属とするように，これを，上記硬質極薄の耐熱表面層をニッケル又はクロムとし，軟質薄肉の加工ベース層を銅としてなることを特徴とする請求項１，２，３又は４に記載のエッジライトパネルの成型金型としたものである。
【００１２】
請求項６に記載の発明は，上記第２の課題に添って，上記成型金型を製作するにつき，回転用のローラー（ドラム，ローラードラム等といってもよい）に加工ベース層を，例えば剥離層を介して鍍金形成し，これに上記反転パターンの超微細彫刻パターンの抉り彫刻加工を施し，該加工ベース層の表面に耐熱表面層を形成し，上記ローラーから加工ベース層を剥離する工程によれば，硬軟異種金属鍍金層による積層構造をなす成型金型を簡易且つ確実に製作することができるとともにローラーを鍍金基体としてこれに加工ベース層の鍍金を行いこれを彫刻加工機にセットして定速回転の加工ベース層に定位置の微細カッターによってその加工を行うようにすることによって，上記形状や深さを変化した鏡面の反転パターンを高精密な抉り彫刻によって容易且つ高精密に加工でき，ドラムごと耐熱表面層の鍍金形成することによって薄肉軟質の加工ベース層が損傷したりする可能性を減少し耐熱表面層の鍍金作業性を向上しようにしたものであって，これを，ローラー表面に剥離自在に軟質薄肉の加工ベース層を鍍金形成する鍍金工程と，該加工ベース層を形成したローラーを彫刻加工機に装着して該加工ベース層の定速回転下でその成型面に定位置微細カッターを高速突没して超微細彫刻加工を施すことによって超微細彫刻パターンを鏡面状に抉り彫刻する彫刻工程と，超微細彫刻パターンを抉り彫刻した加工ベース層に硬質極薄の耐熱表面層を積層鍍金形成する表面鍍金工程と，上記加工ベース層をローラーから剥離する剥離工程とを備えることを特徴とするエッジライトパネルの成型金型製作方法としたものである。
【００１３】
請求項７に記載の発明は，上記に加えて，上記基本の工程を変えることなく，上記剥離工程を表面鍍金工程の事前に配置し，加工ベース層を単体とすることによって被鍍金対象物を軽量化してこれに耐熱表面層の鍍金形成を施すことが可能であるから，これを，上記剥離工程を，上記彫刻工程後に配置して該剥離工程後に表面鍍金工程を配置することを特徴とする請求項６に記載のエッジライトパネルの成型金型製作方法としたものである。
【００１４】
請求項８に記載の発明は，同じく上記に加えて，加工ベース層の定速回転と定位置カッターによる超微細彫刻パターンの直接形成に使用する彫刻加工機を，加工精度，加工スピード等において好適なものとするように，これを，上記彫刻加工機をグラビア製版用の電子彫刻機とし且つ上記ローラーを該電子彫刻機装着用のローラーとしてなることを特徴とする請求項６又は７に記載のエッジライトパネルの成型金型製作方法としたものである。
【００１５】
請求項９に記載の発明は，同じく上記に加えて，加工ベース層を該超微細彫刻パターンの抉り彫刻とその鍍金形成に適した金属とし，また耐熱表面層を極薄ながら反転パターンの保形性を確保するとともにその鍍金形成に適した金属とするように，これを，上記軟質薄肉の加工ベース層を銅の鍍金によって形成し且つ上記極薄硬質の耐熱表面層をニッケル又はクロムの鍍金によって形成することを特徴とする請求項６，７又は８に記載のエッジライトパネルの成型金型製作方法としたものである。
【００１６】
本発明はこれらをそれぞれ発明の要旨として上記第１又は第２の課題解決の手段としたものである。
【００１７】
なお本発明において上記銅を例示した軟質金属，ニッケル，クロムを例示した硬質金属の具体的金属はそれぞれ当該金属主体の合金を含む意味に用いる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下図面の例に従って本発明を更に具体的に説明すれば，１０はエッジライトパネルであり，該エッジライトパネル１０は，本例にあってアクリル，ポリカーボネート等の光透過性の良好な樹脂を成型金型２０を使用して射出成形して形成し，その裏面に超微細高精密な導光パターン１３を備えるとともに入射端面１１側を厚く，反射端面１２側を薄くした楔状断面のものとしてあり，入射端面１１に冷陰極蛍光灯，並列したＬＥＤ等の図示省略の光源を臨設して各種液晶表示機器の液晶バックライトとしてその液晶画面を背面照明するものとしてある。
【００１９】
このとき上記超微細高精密な導光パターン１３は，これを鏡面の突起１４の集合によるものとし，図２に示すようにその各突起１４を入射光の乱反射に好適な外周面を曲面によって形成し平面形状を四辺形状の錐状又は楕円状の錐状とする錐状曲面突起として成型してあり，このとき本例の導光パターン１３は該突起１４の寸法及び／又は配置数量を変更することによってその密度変化を行ったものとしてある。
【００２０】
この超精密高精度の導光パターン１３を形成したエッジライトパネル１の外観は透明樹脂の透明度を幾分低下するように僅かに乳白色を呈し，裏面に指触すると僅かに粗面の感触を呈するも，該突起１４を肉眼で判別することは不可能な程度に超微細としてあり，本例にあって該突起１４の寸法は例えばその平面形状の長さ乃至幅及び突出高さをそれぞれ数μｍ〜数拾μｍ程度とし，突出高さは最大でも７０〜８０μｍ程度以下のものとし，入射光の導光を高度且つ精密に行なって異常発光や輝度のバラツキのない高輝度高均一のものとしてある。
【００２１】
エッジライトパネル１を射出成型する成型金型２０は，それぞれ鍍金層による硬質極薄の耐熱表面層２４と軟質薄肉の加工ベース層２１との硬軟異種金属鍍金層による積層構造をなし上記軟質薄肉の加工ベース層２１がその成型面に超微細彫刻加工によって鏡面状に抉り彫刻して形成した超微細彫刻パターン２２を備え且つ上記硬質極薄の耐熱表面層２４が上記成型面表面と超微細彫刻パターン２２の抉り彫刻面とを極薄均一に被覆したものとし，本例にあって上記導光パターン１３の反転パターンをなす超微細彫刻パターン２２はその各抉り彫刻部分の形状や深さを面方向に変化した鏡面のものとしてあり，本例の該超微細彫刻パターン２２は，これを，平面を四辺形乃至楕円状とし断面を曲面形成の錐状とした鏡面錐状微孔２３の集合によって形成し，また該超微細彫刻パターン２２は，これを密度変化のパターンとしてある。該密度変化は上記鏡面錐状微孔２３の平面及び断面形状を大小に拡縮するものとし，例えば該拡縮を大小相似形状とすることによって該パターン２２を成型した導光パターン１３がエッジライトパネル１における入射光の性状に応じて好適な乱反射とこれによる導光を行なうようにしてある。
【００２２】
本例の成型金型２０は，その上記硬質極薄の耐熱表面層２４をニッケル又はクロムとし，軟質薄肉の加工ベース層２１を銅としてあり，耐熱表面層２４を極薄ながら反転パターン２２の保形性を確保するとともにその鍍金形成に適した金属とし，加工ベース層２１を該超微細彫刻パターン２２の抉り彫刻とその鍍金形成に適した金属とするようにしてある。
【００２３】
即ち本例にあって成型金型２０は，例えば数百μｍ程度厚さの加工ベース層２１と数μｍ程度厚さの耐熱表面層２４とによる，全体としても数百μｍ程度の厚さにしてエッジライトパネル１より僅かに大きい面積を有するものとしてあり，これら加工ベース層２１と耐熱表面層２４をそれぞれ鍍金形成した鍍金層によるものとしてあり，加工ベース層２１にあってはその成型面として抉り彫刻加工の深さを超える厚さにして，該加工の対象として可及的高度に均質な表面を確保したものとしてあり，また耐熱表面層２４にあっては加工ベース層２１に形成した超微細彫刻パターン２２，本例にあっては超微細高精密な鏡面錐状微孔２３に微小な形状変形をも齎すことなく，該錐状微孔２３の内面とそのエッジ部分を含めて成型面に同じく極薄均一の被覆層をなすようにしてある。
【００２４】
成型金型２０をその金型製作方法によって更に説明すれば，ローラー２５表面に剥離自在に軟質薄肉の加工ベース層２１を鍍金形成する鍍金工程と，該加工ベース層２１を形成したローラー２５を彫刻加工機に装着して該加工ベース層２１の定速回転下でその成型面に定位置微細カッター２８を高速突没して超微細彫刻加工を施すことによって超微細彫刻パターン２２を鏡面状に抉り彫刻する彫刻工程と，超微細彫刻パターン２２を抉り彫刻した加工ベース層２１に硬質極薄の耐熱表面層２４を積層鍍金形成する表面鍍金工程と，上記加工ベース層２１をローラー２５から剥離する剥離工程とを備えるものとしてあり，或いは必要に応じて，上記剥離工程を，上記彫刻工程後に配置して該剥離工程後に表面鍍金工程を配置するものとしてある。
【００２５】
上記軟質薄肉の加工ベース層２１は，上記抉り彫刻をスムーズ且つ高精密になし得るように，例えばビッカース硬度を１９０〜２５０ＨＶ程度のものとするのが好ましく，本例にあって該加工ベース層２１は，該硬度に適し且つ適度の粘りを有することから，銅の鍍金によって形成してあり且つ上記極薄硬質の耐熱表面層２１は，これをニッケル又はクロムの鍍金によって形成するものとしてあり，加工ベース層２１は，例えば数百μｍ厚さとするように鍍金形成し，また耐熱表面層２１は，例えば１０μｍ以下の特に数μｍ厚さとするように鍍金形成することによって上記硬軟異種金属鍍金層による積層構造をなす成型金型を形成するようにしてある。
【００２６】
鍍金工程のおける加工ベース層２１の鍍金形成は，例えば数拾ｃｍ程度の径を有するスチール等金属製のローラー２５を鍍金基体としてこれに上記銅の鍍金処理を施すことによってその外周面に均一厚さにして均質表面を有するように行なう。このときローラー２５の外周面には，例えば剥離剤を塗布することによって剥離層２７を形成した状態で鍍金処理を施すことによって銅の鍍金層がローラー２５に直接析出して剥離不能となるのを防止した状態で該銅の鍍金層を剥離自在としてその鍍金処理を施す。鍍金処理は，例えば電気鍍金を常法に従って施すことによって得られるが，ピンホールが形成されると彫刻工程による超微細彫刻パターン２２の精度を低下させ導光パターン１３として異常発光の原因となる可能性があるので，電気鍍金によるときは鍍金層に該ピンホールが形成されないように留意することが好ましい。
【００２７】
ローラー２５の径は適宜に設定すればよいが，上記数拾ｃｍ程度の比較的径大なローラー２５を使用するとその径方向に複数乃至多数枚の加工ベース層２１を得ることができ，またローラー２５長さによって幅方向にも複数乃至多数枚の加工ベース層２１を得ることができるから，このようにするのが同時に多数の成型金型を製作する上で都合がよい。図中２６はローラー２５の表面を平滑化し且つローラー２５をカッターの誤作動等から保護するように配置したローラー保護層を示す。
【００２８】
鍍金処理によって本例にあって銅とした軟質金属による加工ベース層２１を形成したローラー２５は，これを加工ベース層２１を備えたまま彫刻加工機に装着し，該ローラーを回転することによって加工ベース層２１を定速回転し，彫刻加工機に定位置設置された微細カッター２８をローラー２５の中心を通る水平線上の側面位置に向けて水平方向に高速突没し，該微細カッター２８が銅鍍金層の加工ベース層２１に接触しその回転に応じてこれを抉り彫刻することによって彫刻工程を施すようにすればよい。微細カッター２８には超硬質の例えば彫刻用ダイヤ製にして先端形状をバイト状としたものを使用すれば，加工ベース層２１が定速回転する一方で定位置のカッター２８による接触が加工ベース層２８の厚さ方向に向けて高速になされるため，上記平面を四辺形乃至楕円状とし断面を曲面形成の錐状とした鏡面錐状微孔２３を所定ピッチで抉り彫刻して容易に形成することができ，該カッター２８の突没を，例えばパターン設計データを有するＣＡＤによってコントロールするようにすれば設計とおりの錘状微孔２３の集合による超微細彫刻パターン２２を，例えば上記複数乃至多数枚の加工ベース層２１を同時に製作するケースを含めて容易に得ることができる。銅の鍍金層を用いた本例の加工ベース層２１にあっては，かえり等もない鏡面仕上の抉り彫刻面を容易且つ確実に得られ，従って例えば微細カッター２８の近傍に配置した吸引口から切屑を吸引除去するようにすることによって，加工部分の補修等仕上工程を必要とすることなく直ちに次工程の表面鍍金工程を施すことが可能となる。
【００２９】
このとき本例にあって上記彫刻加工機は，これをグラビア製版用電子彫刻機とし且つ上記ローラー２５を該電子彫刻機装着用のローラーとしてあり，該グラビア製版用電子彫刻機は加工精度が極めて高度でローラー２５の振れや捻れもなく，超微細高精密な抉り彫刻を高精度且つ高速に加工ベース層２１に施すことができるので，上記彫刻加工機は該グラビア製版用のものを使用するのが好ましい。この場合，例えば２０インチ程度のエッジライトパネル１０用の超微細彫刻パターン２２を加工ベース層２１に抉り彫刻する時間は，例えば１枚当り２０分程度とすることが可能となるから，前後の工程時間を加えても成形金型製作時間が大幅に短縮されることになる。
【００３０】
一般にグラビア印刷の製版は印刷インクの粘性を考慮して凹版からのインク抜けが容易に可能な，例えば１４０度程度乃至それ以上の緩やかな孔加工がなされるが，成型した導光パターン１３の入射光乱反射性能に照らして上記錐状微孔２３を形成するにはその角度（曲面を除外した微孔形成角度）は一般に６０度から１００度程度とするのが好ましく，この範囲を下回り又は上回ると乱反射性能の発揮が損われる傾向が生じ易いので避けるのが好ましい。
【００３１】
表面鍍金工程における耐熱表面層２４の積層鍍金形成は，上記数拾ｃｍ程度の径のローラー２５に加工ベース層２１を形成した状態で，該加工ベース層２１に同様に上記ニッケル又はクロムの鍍金処理を施すことによって銅鍍金層の全面に極薄の数μｍの鍍金層を形成して加工ベース層２１の成型面表面と超微細彫刻パターン２２の抉り彫刻面とを極薄均一に被覆するようにこれを行なうようにすればよい。この鍍金処理は，加工ベース層と同様に，例えば電気鍍金を常法に従って施すことによって得られるが同じくピンホールは超微細彫刻パターン２２の精度を低下させる可能性があるのでその形成がないように留意することが好ましい。このとき上記加工ベース層２１には鏡面の超微細高精密パターンが形成されているから，これが鍍金下地となって耐熱表面層の鍍金は上記パターン２２の錐状微孔２３を鏡面とするように耐熱表面層２４を形成することができる。
【００３２】
剥離工程は，本例にあって該表面鍍金工程後に行なうものとし，耐熱表面層２４を積層鍍金した加工ベース層２１に長手方向の切込みを入れてローラー２５からこれを剥離して成型金型２０を得るものとすればよく，このときローラー２５と加工ベース層２１間に剥離層２７を形成することによって加工ベース層２１を剥離自在としてあるから，該剥離はこれを容易に行なうことができる。上記複数乃至多数枚の加工ベース層２１を得るようにしたときは該剥離工程後に加工ベース層２１の数に応じて切断を施して大判パネルから複数乃至多数枚同一の成型金型２０を同時に得るようにすればよい。
【００３３】
該成型金型２０は上記ローラー２５から剥離したものであるためローラー２５径に応じてカールした形態となり，従って平板とするように，例えば加熱押圧等の矯正を施すことも可能であるが，該カール状態で射出成型機に装着して常法による成型を開始すれば溶融樹脂による高温加熱を受けることによって直ちに矯正された平板となり，成形のスタート時から良好な成形をなし得るものとなるので，一般に上記平板化の矯正を施すことは必要がない。
【００３４】
図示した例は以上のとおりであるが，本発明の実施に当って加工ベース層をアルミ，錫，鉛等，銅以外の軟質金属によるものとしてこれに上記超微細彫刻パターンを施すようにすること，耐熱表面層をチタン等，ニッケル，クロム以外の硬質金属によるものとすること，超微細彫刻パターンを所望の導光パターンに合せた，上記微孔の集合以外のものとし，また微孔の集合とするときその形状を適宜のものとすること，成型金型の製作においてそのローラーからの剥離工程を彫刻加工工程後に配置し，ローラーから剥離した加工ベース層に表面鍍金工程を施すようにすること等を含めて，本発明の実施に当って，加工ベース層，耐熱表面層，超微細彫刻パターン，鍍金工程，彫刻工程，表面鍍金工程，剥離工程，これら工程に用いるローラー，彫刻加工機，また必要に応じて用いる密度変化のパターン，鏡面錐状微孔，グラビア製版用電子彫刻機等の各具体的形状，構造，材質，方法，寸法，これらの関係，これらに対する付加等は，上記発明の要旨に反しない限り様々の形態とすることができる。
【００３５】
【発明の効果】
本発明は以上のとおりに構成したから，請求項１に記載の発明は，超微細高精密の導光パターンに応じた反転パターンを軟質金属の加工ベース層に対して直接に機械的に形成することによって加工容易性，高精度加工性，短時間加工性を確保し，加工ベース層の表面に硬質金属による耐熱表面層を形成した異種金属の積層構造とすることによって，加工ベース層が高温の溶融樹脂に接触して熱収縮や軟化を来すことによる反転パターンの微小な形状変化を防止し，またこれら加工ベース層及び耐熱表面層の上記積層構造をそれぞれ鍍金層の積層によるものとして反転パターンを高精密に加工する加工ベース層表面の均質性を確保するとともに耐熱表面層の反転パターンの微小な形状変化を回避し得る極薄性を確保する一方，加工ベース層に対する反転パターンを超微細彫刻加工による鏡面状の抉り彫刻とすることによって該反転パターンの各抉り彫刻部分を形状や深さを面方向に変化した鏡面とし，これにより成型したエッジライトパネルの導光パターンが入射光の乱反射を可及的に促進し得るようにすることにより，超微細高精密の導光パターンに応じた高精密な反転パターンを短時間で確実に形成し得るようにしたエッジライトパネルの成型金型を提供することが可能となる。
【００３６】
請求項２に記載の発明は，上記に加えて，成型したエッジライトパネルの導光パターンが輝度とその均一性を高度に確保したものとするためにその反転パターンの超微細彫刻パターンが密度変化をする好ましい形態のものとすることができる。
【００３７】
請求項３に記載の発明は，同じく上記に加えて，エッジライトパネルにおける導光パターンを輝度及び均一性をコントロールし易い上記形状や深さを変化した鏡面の突起による集合とするとともにその各突起を入射光の乱反射に好適な外周面を曲面によって形成し平面形状を四辺形状の錐状又は楕円状の錐状とする錐状曲面突起として成型することが可能な反転パターンを備えたものとすることができる。
【００３８】
請求項４に記載の発明は，上記超微細彫刻パターンの直接形成を，定速回転する加工ベース層に定位置の微細カッターを高速突没するように抉り彫刻を行なったものとするとその鏡面錐状微孔とその配置を高精度且つ高密度にするに適したものとすることができる。
【００３９】
請求項５に記載の発明は，同じく上記に加えて，耐熱表面層を極薄ながら反転パターンの保形性を確保するとともにその鍍金形成に適した金属とするとともに加工ベース層を該超微細彫刻パターンの抉り彫刻とその鍍金形成に適した金属とすることができる。
【００４０】
請求項６に記載の発明は，上記硬軟異種金属鍍金層による積層構造をなす成型金型を簡易且つ確実に製作することができるとともに上記形状や深さを面方向に変化した鏡面の反転パターンを高精密な抉り彫刻によって容易且つ高精密に加工でき，上記薄肉軟質の加工ベース層が損傷したりする可能性を減少し耐熱表面層の鍍金作業性を向上することができるエッジライトパネルの金型製作方法を提供することが可能となる。
【００４１】
請求項７に記載の発明は，上記に加えて，上記基本の工程を変えることなく，同様に被鍍金対象物を軽量化してこれに耐熱表面層の鍍金形成を施す方法を提供できる。
【００４２】
請求項８に記載の発明は，同じく上記に加えて，加工ベース層の定速回転と定位置カッターによる超微細彫刻パターンの直接形成に使用する彫刻加工機を，加工精度，加工スピード等において好適なものとすることができる。
【００４３】
請求項９に記載の発明は，同じく上記に加えて，加工ベース層を該超微細彫刻パターンの抉り彫刻とその鍍金形成に適した金属とし，また耐熱表面層を極薄ながら反転パターンの保形性を確保するとともにその鍍金形成に適した金属とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】エッジライトパネルの斜視図である。
【図２】導光パターンにおける錘状突起のモデルを示すエッジライトパネルの部分拡大斜視図である。
【図３】抉り彫刻による鏡面錐状微孔のモデルを示す成型金型の部分拡大斜視図である。
【図４】加工ベース層に対する抉り彫刻のモデルを示す部分拡大断面図である。
【図５】加工ベース層と耐熱表面層のモデルを示す部分拡大断面図である。
【符号の説明】
１０  エッジライトパネル
１１  入射端面
１２  反射端面
１３  導光パターン
１４  鏡面錘状突起
２０  成型金型
２１  加工ベース層
２２  超微細彫刻パターン
２３  鏡面錐状微孔
２４  耐熱表面層
２５  ローラー
２６  ローラー保護層
２７  剥離層
２８  微細カッター
【図１】
2004284224.tif 000003
【図２】
2004284224.tif 000004
【図３】
2004284224.tif 000005
【図４】
2004284224.tif 000006
【図５】
2004284224.tif 000007