(57)【要約】【課題】簡単な構造で基板を変形および破損させることなく確実に搬送することが可能な基板搬送装置を提供することである。【解決手段】シリンダ１６の突出量が最大の場合、搬送軸１０は、Ｘ−Ｙ平面より角度θの傾斜した状態で支持される。搬送軸１０が回転することにより基板２００が搬送軸１０の小型搬送ローラによりＸ方向に搬入される。基板２００が所定の位置まで搬送されるとシリンダ１６の突出量が徐々に減少し、搬送軸１０が角度θ傾斜した状態からＸ−Ｙ平面に平行な状態へ移行する。シリンダ１６の突出量が最小になると搬送軸１０がＸ−Ｙ平面に平行な状態になり、搬送軸１０の小型搬送ローラの外周面の頂部が大型搬送ローラ２１の外周面の頂部よりも下方に位置する。それにより、基板２００が大型搬送ローラ２１により支持される。【選択図】        図８
2004284695.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する基板搬送装置であって、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、
前記複数の第１の回転軸に同心に設けられた第１のローラと、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸と、
前記複数の第２の回転軸に同心に設けられた第２のローラと、
前記複数の第１の回転軸は、前記複数の第２の回転軸の上方で前記複数の第２の回転軸と互いに交差するように設けられ、
前記第１のローラの直径は前記第２のローラの直径よりも小さく、
前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段とを備え、
前記複数の第１および第２の回転軸が前記第１の状態にある場合に前記第１のローラの頂部が前記第２のローラの頂部よりも上方に位置し、前記第２の状態にある場合に前記第２のローラの頂部が前記第１のローラの頂部よりも上方に位置するように前記複数の第１の回転軸および前記複数の第２の回転軸が配置されたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
基板を搬送する基板搬送装置であって、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、
前記複数の第１の回転軸に同心に設けられた第１のローラと、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸と、
前記複数の第２の回転軸に同心に設けられた第２のローラと、
前記複数の第１の回転軸は、前記複数の第２の回転軸と互いに略平行に設けられ、
前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段とを備え、
前記状態変更手段は、前記複数の第１および第２の回転軸が前記第１の状態で前記第１のローラの頂部が前記第２のローラの頂部よりも上方に位置し、前記第２の状態で前記第２のローラの頂部が前記第１のローラの頂部よりも上方に位置するように前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸とを相対的に移動または傾斜させることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】
前記第１の状態で前記複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と前記第２の状態で前記複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが異なることを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記第１の状態で前記複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と前記第２の状態で前記複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが等しいことを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。このような基板処理装置は、主にクリーンルーム内で使用されるため、設置スペースの削減が要求されている。
【０００３】
図１８は、基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である（特許文献１参照）。
【０００４】
図１８に示す基板処理装置９００では、互いに平行な搬送路１５１および搬送路１５２ならびにこれらを結合する反転経路１５３が形成されている。
【０００５】
基板処理装置９００においては、インデクサ部１１１のカセットＣに収納された基板が一枚ずつ取り出されて、搬送路１５１、反転経路１５３および搬送路１５２のほぼＵ字状の順に搬送されつつ処理が施され、再びインデクサ部１１１のカセットＣ内に収納される。
【０００６】
図１８の基板処理装置９００の搬送路１５１には、コンベア１１２、紫外線照射部１１３、オゾンアッシング部１１４およびブラシ水洗部１１５が順に配置され、基板処理装置９００の搬送路１５２には、紫外線照射部１１９、エアーナイフ部１１８、水洗部１１７が順に配置されている。
【０００７】
また、基板処理装置９００の反転経路１５３には、基板搬送装置８００、薬液処理を行う薬液処理部８１０および基板搬送装置８０１が順に配置されている。
薬液処理部８１０においては、基板の表面処理の均一化のため、基板を所定の角度だけ傾斜姿勢にさせて処理が行われる。
【０００８】
図１９は図１８の基板搬送装置８０１の横断面図であり、図２０は図１９の基板搬送装置８０１のＡ−Ａ線断面図である。
【０００９】
図１９および図２０において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。図１９に示すように、基板が搬送室３００の基板搬入口３１０からＹ方向に搬入され、基板搬出口３２０からＸ方向に搬出される。
【００１０】
図１９の基板搬送装置８０１の搬送室３００内には、複数の搬送軸８０ａと複数の搬送軸８０ｂとが所定の間隔Ｌ１０を隔ててそれぞれＸ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｃは、搬送軸８０ａと搬送軸８０ｂとの間の所定の間隔Ｌ１０内でＹ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｄは、搬送軸８０ａ，８０ｂの間にＹ方向に沿って配置されている。
【００１１】
各搬送軸８０ａ，８０ｂには複数のローラＰ１１０が設けられ、各搬送軸８０ｃには複数のローラＰ２１０が設けられ、各搬送軸８０ｄには複数のローラＰ２１１が設けられている。
【００１２】
また、搬送室３００外に設けられたモータＭ１０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ１に連結され、その伝達機構Ｇ１から複数の搬送軸８０ａに回転力が伝達される。同様に、搬送室３００外に設けられたモータＭ２０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ２に連結され、その伝達機構Ｇ２から複数の搬送軸８０ｂに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ１１０が複数の搬送軸８０ａ，８０ｂとともに回転する。
【００１３】
さらに、搬送室３００外に設けられたモータＭ３０は、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ３に連結され、その伝達機構Ｇ３から複数の搬送軸８０ｃに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ２１０が複数の搬送軸８０ｃとともに回転する。
【００１４】
図２０に示すように、搬送軸８０ａ，８０ｂは水平面に対して傾斜した状態で設けられる。搬送軸８０ｃ，８０ｄは、固定台９０の上方に複数の支持部材９６により支持される。固定台９０は、シリンダ９５により上下方向に駆動される。
【００１５】
図１９の基板搬入口３１０から搬入された基板２００は、図２０に示すように、傾斜姿勢でローラＰ１１０により支持される。搬送室３００外に設けられたモータＭ１０，Ｍ２０により伝達機構Ｇ１，Ｇ２を介して搬送軸８０ａ，８０ｂのローラＰ１１０が回転し、基板２００がＹ方向に搬送される。
【００１６】
続いて、基板２００が所定の位置まで搬送されると、モータＭ１０，モータＭ２０は回転動作を停止する。それにより、複数のローラＰ１１０の回転が停止し、基板２００が停止する。
【００１７】
続いて、シリンダ９５により固定台９０がＺ方向に持ち上げられる。それにより、複数の支持部材９６に支持された複数の搬送軸８０ｃのローラＰ２１０および複数の搬送軸８０ｄのローラＰ２１１が、複数のローラＰ１１０よりも上方へ移動する。したがって、基板２００がローラＰ１１０から離れ、ローラＰ２１０，２１１に支持されて上方に持ち上げられる。
【００１８】
さらに、搬送軸８０ｃ，８０ｄが上方に移動した際、図１９のモータＭ３０および伝達機構Ｇ３のギア（図示せず）と搬送軸８０ｃに設けられたギア（図示せず）とが噛み合う。それにより、複数のローラＰ２１０にモータ（Ｍ３０）の回転力が伝達されてローラＰ２１０が回転する。その結果、ローラＰ２１０，Ｐ２１１に支持された基板２００が基板搬出口３２０から矢印Ｘの方向に搬出される。
【００１９】
このように、基板搬送装置８０１では、傾斜姿勢でＸ方向に搬入された基板２００を水平姿勢でＹ方向へ搬出することができる。
【００２０】
【特許文献１】
特開２０００−３１２３９号公報
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の基板搬送装置８０１では、傾斜姿勢で基板２００が支持される際に、図２０に示すように、搬送軸８０ａ，８０ｂの間隔Ｌ１０において基板２００が支持されていない。そのため、基板２００の大径化に伴い基板２００の自重による撓みが発生し、基板２００に過度の負荷が加わることにより破損する懸念がある。
【００２２】
また、複数の搬送軸８０ｄのローラＰ２１１は、傾斜姿勢での搬送時には複数の搬送軸８０ａ，８０ｂの下方に位置し、水平姿勢での搬送時には複数の搬送軸８０ａ，８０ｂより上方に上昇する。そのため、搬送軸８０ｄおよびローラＰ２１１は、複数の搬送軸８０ａ，８０ｂと干渉しないように設けられる必要がある。そのため、全てのローラＰ２１１に回転力を伝達することは困難であり、基板２００の搬送力が低下する。その結果、基板２００の搬送不良が生じる。さらに、図２０の伝達機構Ｇ１と接触しないように基板２００を搬送しなければならないためシリンダ９５のストローク量を大きく設定する必要があり、上下方向の省スペース化が困難である。
【００２３】
本発明の目的は、簡単な構造で基板を変形および破損させることなく確実に搬送することが可能な基板搬送装置を提供することである。
【００２４】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
（第１の発明）
第１の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、複数の第１の回転軸に同心に設けられた第１のローラと、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸と、複数の第２の回転軸に同心に設けられた第２のローラと、複数の第１の回転軸は、複数の第２の回転軸の上方で複数の第２の回転軸と互いに交差するように設けられ、第１のローラの直径は第２のローラの直径よりも小さく、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段とを備え、複数の第１および第２の回転軸が第１の状態にある場合に第１のローラの頂部が第２のローラの頂部よりも上方に位置し、第２の状態にある場合に第２のローラの頂部が第１のローラの頂部よりも上方に位置するように複数の第１の回転軸および複数の第２の回転軸が配置されたものである。
【００２５】
第１の発明に係る基板搬送装置においては、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより、互いに交差するように設けられた複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係が状態変更手段により第１の状態または第２の状態に変更される。
【００２６】
この場合、第１の状態では複数の第１のローラの頂部が第２のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第１のローラにより支持される。また、第２の状態では複数の第２のローラの頂部が第１のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第２のローラにより支持される。その結果、基板に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００２７】
また、複数の第１のローラまたは複数の第２のローラに回転力が伝達されるので、基板の搬送不良を防止することができる。したがって、基板を変形および破損させることなく所定の角度の第１の状態および第２の状態に変更させるとともに基板の搬送の方向を転換させることができる。
【００２８】
さらに、基板を第１の状態および第２の状態に変更させる際の上下方向のストローク量を低減することが可能となり、省スペース化を実現することができる。
【００２９】
（第２の発明）
第２の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、複数の第１の回転軸に同心に設けられた第１のローラと、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸と、複数の第２の回転軸に同心に設けられた第２のローラと、複数の第１の回転軸は、複数の第２の回転軸と互いに略平行に設けられ、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段とを備え、状態変更手段は、複数の第１および第２の回転軸が第１の状態で第１のローラの頂部が第２のローラの頂部よりも上方に位置し、第２の状態で第２のローラの頂部が第１のローラの頂部よりも上方に位置するように複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に移動または傾斜させるものである。
【００３０】
第２の発明に係る基板搬送装置においては、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に移動または傾斜させることにより、略平行状態の複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係が状態変更手段により第１の状態または第２の状態に変更される。
【００３１】
この場合、第１の状態では、複数の第１のローラの頂部が第２のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第１のローラにより支持される。また、第２の状態では、複数の第２のローラの頂部が第１のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第２のローラにより支持される。その結果、基板に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００３２】
また、複数の第１のローラまたは複数の第２のローラに回転力が伝達されるので、基板の搬送不良を防止することができる。したがって、基板を変形および破損させることなく第１の状態および第２の状態に変更させることができる。
【００３３】
（第３の発明）
第３の発明に係る基板搬送装置は、第１または第２の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の状態で複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが異なるものである。
【００３４】
この場合、第１の状態で第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが異なるため、水平面に対する基板の傾斜角度を変更しつつ第１のローラおよび第２のローラにより基板を搬送することができる。
【００３５】
（第４の発明）
第４の発明に係る基板搬送装置は、第１または第２の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の状態で複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが等しいものである。
【００３６】
この場合、第１の状態で複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが等しいため、水平面に対する基板の傾斜角度を維持しつつ第１のローラおよび第２のローラにより基板を搬送することができる。
【００３７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００３８】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【００３９】
図１に示す基板処理装置５００は、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板を処理する装置である。
【００４０】
基板処理装置５００は、インデクサ部６０、コンベア６１，６９、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４、一次水洗部６５、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８および基板搬送装置１００，１０１から構成される。
【００４１】
図１の基板処理装置５００では、互いに平行な搬送路１５４および搬送路１５６並びにこれらを結合する反転経路１５５が形成されている。搬送路１５４，１５６と反転経路１５５とはほぼ直交している。
【００４２】
基板処理装置５００の搬送路１５４には、コンベア６１、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４が順に設けられている。基板処理装置５００の反転経路１５５には、基板搬送装置１００、一次水洗部６５および基板搬送装置１００が順に設けられている。基板搬送装置５００の搬送路１５６には、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８およびコンベア６９が順に設けられている。
【００４３】
まず、基板処理装置５００のインデクサ部６０に、複数の基板２００が収納されたカセットＣが搬入される。カセットＣ内に収納された基板２００は、搬送装置（図示せず）により１枚ずつ取り出され、コンベア６１に搬入される。ここで、搬送路１５４では、基板処理の均一化のために基板２００が水平面から所定の角度だけ傾斜した姿勢で処理される。
【００４４】
コンベア６１への搬入時に基板２００の姿勢が水平姿勢から所定の角度だけ傾斜した姿勢（以下、傾斜姿勢と呼ぶ。）に変更される。傾斜姿勢の基板２００がコンベア６１により紫外線（ＵＶ）照射部６２に搬送される。紫外線（ＵＶ）照射部６２において、基板２００に紫外線が照射される。その結果、基板２００の表面に付着した有機物および油分が分解され、基板２００の塗れ性が向上する。
その後、薬液処理部６３，６４において基板２００にエッチング等の薬液の処理が施される。
【００４５】
続いて、搬送路１５５において基板２００に一次水洗処理が行われる。基板搬送装置１００においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに傾斜姿勢で搬送されてきた基板２００を水平姿勢に変更させる。そして、基板２００は一次水洗部６５に搬送される。一次水洗部６５において、水平姿勢で基板２００の表面に水洗処理が行われる。一次水洗処理は、基板２００の表面が乾燥して、不純物が析出して固着することを防止するために行う。したがって、本実施の形態における基板搬送装置１００，１０１においても、基板２００を搬送するとともに上方から基板２００に対して純水が噴射される。
【００４６】
次に、基板２００は基板搬送装置１００に搬送される。本実施の形態においては、搬送路１５６において基板２００が傾斜姿勢で処理される。したがって、基板搬送装置１００においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で搬送されてきた基板２００を傾斜姿勢に変更させる。そして、基板２００は二次水洗部６６，６７に搬送される。
【００４７】
次いで、二次水洗部６６，６７において基板２００の表面が純水で洗浄される。さらに、エアーナイフ部６８に基板２００が搬送される。エアーナイフ部６８において基板２００にカーテン状の空気が噴射される。その後、基板２００がコンベア６９により搬送され、搬送装置（図示せず）により基板２００がカセットＣ内に収納される。処理済の複数の基板２００を収納するＣは、インデクサ部６０から搬出される。
【００４８】
次に、基板搬送装置１００，１０１の詳細について説明する。なお、基板搬送装置１００と基板搬送装置１０１とは、ほぼ同一構造を有する。以下、基板搬送装置１００について説明する。
【００４９】
図２は、基板搬送装置１００の横断面図である。図２において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【００５０】
図２に示す基板搬送装置１００は、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【００５１】
基板搬送装置１００は、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【００５２】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【００５３】
複数の搬送軸１０の一端近傍は、支持部材１２ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端近傍は、支持部材１５ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【００５４】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【００５５】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【００５６】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構造の詳細については後述する。
【００５７】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【００５８】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ｂおよびマグネット円板８ｂの構造の詳細については後述する。
【００５９】
図３および図４は、図２の基板搬送装置１００のＡ−Ａ線断面図である。図３は、基板２００を傾斜姿勢で支持した状態を示し、図４は基板２００を水平姿勢で支持した状態を示す。
【００６０】
搬送軸１０の一端近傍が、支持部材１２ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸１０の他端が支持部材１５ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【００６１】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。
支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【００６２】
図３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により傾斜姿勢で支持される。
【００６３】
また、図３に示すように、搬送室３０の側壁３０ｄの一部には、鉛直方向からやや傾斜した傾斜壁３０ｅが設けられている。マグネット円板８ａは、傾斜壁３０ｅの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、傾斜壁３０ｅの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁石によりマグネット８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００６４】
図４に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。
したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【００６５】
この場合、搬送軸１０の一端に設けられたマグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅから離れる方向へ移動する。それにより、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合でも、マグネット円板８ａは回転しない。その結果、搬送軸１０および小型搬送ローラ１１が回転しない。
【００６６】
図５は、図２の基板搬送装置１００のＢ−Ｂ線断面図である。
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂは側壁３０ａ，３０ｃに水平状態で固定されている。それにより、搬送軸２０ｂは水平状態となっている。
【００６７】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂとともに回転する。
【００６８】
次に、マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構成について図６に基づき説明する。図６は、マグネット円板の内部構造を示す図である。図６（ａ）は、マグネット円板の横断面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のマグネット円板のＤ−Ｄ線断面図、図６（ｃ）は傾斜壁３０ｅを挟んで対向するマグネット円板の側面図である。
【００６９】
図６（ａ），（ｂ）に示すようにマグネット円板７ａの内部には、一面側にＳ極を有し他面側にＮ極を有する磁石７１と、一面側にＮ極を有し他面側にＳ極を有する磁石７２とが交互に円形に設けられている。マグネット円板８ａの構造はマグネット円板７ａの構造と同様である。
【００７０】
また、図６（ｂ）に示すように、マグネット円板７ａは、ボルト７７ａにより回転軸１０の端面に固定されている。
【００７１】
本発明の実施の形態において、マグネット円板７ａは、非磁性体で形成される。例えば、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン），ＰＣＴＦＥ（三フッ化エチレン）等のフッ素樹脂、ＰＣＶ（ポリ塩化ビニル）等の樹脂またはチタン、アルミニウム、ステンレス等の非磁性体の金属若しくは合金を用いることができる。また、上記の非磁性体の金属および合金は例示であって、これに限定されるものではなく、他の非磁性体を用いることもできる。
【００７２】
図６（ｃ）に示すように、傾斜壁３０ｅの一面にマグネット円板７ａが対向し、傾斜壁３０ｅの他面にマグネット円板８ａが対向する。
【００７３】
この場合、図２のモータＭ１による回転運動が、ベルトＢ１を介して軸７６ａに伝達され、マグネット円板７ａが回転する。マグネット円板７ａの内部の磁石７１とマグネット円板８ａの内部の磁石８２とが磁石により引き合い、マグネット円板７ａの内部の磁石７２とマグネット円板８ａの内部の磁石８１とが磁石により引き合う。それにより、マグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００７４】
なお、傾斜壁３０ｅのマグネット円板７ａとマグネット円板８ａとで挟まれた部分は、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の磁力を強く作用させるために、他の部分の側壁３０ｄよりも厚みが薄くなっている。
【００７５】
次に、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【００７６】
図７（ａ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達される状態を示す図であり、図７（ｂ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない状態を示す図である。
【００７７】
図３に示したように、搬送軸１０が傾斜した状態では、図７（ａ）に示すように、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短いため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに確実に伝達される。
【００７８】
図４に示したように、搬送軸１０が水平の状態では、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石７１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない。
【００７９】
図８は、図２〜図５の基板搬送装置１００の動作を説明するための斜視図である。
【００８０】
図８（ａ）は搬送軸１０が傾斜した状態を示し、図８（ｂ）は搬送軸１０の傾斜途中の状態を示し、図８（ｃ）は搬送軸１０が水平になった状態を示す。
【００８１】
図８（ａ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最大の場合、複数の搬送軸１０は、Ｘ−Ｙ平面（水平面）より角度θの傾斜した状態で支持される。この場合、複数の搬送軸１０が回転することにより基板２００が搬送軸１０の小型搬送ローラ１１によりＸ方向に搬入される。なお、図８においては、小型搬送ローラ１１の図示を省略している。
【００８２】
基板２００が所定の位置まで搬送されると、図８（ｂ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が徐々に減少し、複数の搬送軸１０が角度θ傾斜した状態からＸ−Ｙ平面に平行な状態へ移行する。
【００８３】
図８（ｃ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最小になると、複数の搬送軸１０がＸ−Ｙ平面に平行な状態になる。それにより、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の外周面の頂部が、大型搬送ローラ２１の外周面の頂部よりも下方に位置する。その結果、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１により支持されていた基板２００が、大型搬送ローラ２１により支持される。したがって、大型搬送ローラ２１が回転することにより基板２００がＹ方向に搬出される。
【００８４】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００では、傾斜姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１により支持され、水平姿勢において基板２００の全域が大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００８５】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく所定の角度のθの傾斜姿勢から水平姿勢に変更させるとともに基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【００８６】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００では、基板２００に部分的に過度の負荷を加えることなく、基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【００８７】
また、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【００８８】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００においては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７１，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【００８９】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。また、基板２００を傾斜姿勢から水平姿勢に変更する際のシリンダ９５のストローク量を低減することができる。したがって、基板搬送装置１００の小型化および省スペース化を実現することができる。
【００９０】
本実施の形態においては、搬送軸１０が複数の第１の回転軸に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラに相当し、搬送軸２０が複数の第２の回転軸に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラに相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当する。
【００９１】
（第２の実施の形態）
第２の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢搬入された基板の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で基板を搬出する。以下、第２の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ａについて説明する。
【００９２】
図９は、基板搬送装置１００ａの横断面図である。図９において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【００９３】
図９に示す基板搬送装置１００ａは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【００９４】
基板搬送装置１００ａは、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【００９５】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【００９６】
複数の搬送軸１０の一端は、側壁３０ｄに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端は、側壁３０ｂに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【００９７】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｃにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｃにより回転可能に支持され、支持部材１２ｃおよび支持部材１５ｃは、支持部材１２ｄおよび支持部材１５ｄにより支持される。複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【００９８】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【００９９】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。
【０１００】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１０１】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。
【０１０２】
図１０および図１１は、図９の基板搬送装置１００ａのＣ−Ｃ線断面図である。図１０は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１１は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１０３】
搬送軸２０は、支持部材１５ｃにより支持されている。支持部材１５ｃの一端近傍が、支持部材１２ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。支持部材１５ｃの他端が支持部材１５ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１０４】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１０５】
図１０に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により水平姿勢で支持される。
【０１０６】
また、図１０に示すように、マグネット円板８ａは、搬送室３０の側壁３０ｄの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、側壁３０ｄの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが側壁３０ｄを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁石によりマグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【０１０７】
図１１に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【０１０８】
図１２および図１３は、図９の基板搬送装置１００ａのＤ−Ｄ線断面図である。図１２は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１３は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１０９】
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂの下方にシリンダ１６が設けられている。
【０１１０】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。
【０１１１】
図１２に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合でも、マグネット円板８ｂは回転しない。その結果、搬送軸２０および大型搬送ローラ２１が回転しない。
【０１１２】
一方、図１３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂおよび大型搬送ローラ２１とともに回転する。
【０１１３】
本実施の形態に係るマグネット円板７ａ、７ｂ，８ａ，８ｂの内部構造については、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂと同様である。
【０１１４】
次に、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａのマグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【０１１５】
図１４（ａ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達される状態を示す図であり、図１４（ｂ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない状態を示す図である。
【０１１６】
図１０および図１２に示したように、支持部材１５ｃが傾斜した状態では、図１４（ａ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが上下方向にずれて配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない。
【０１１７】
図１１および図１３に示したように、支持部材１５ｃが水平の状態では、図１４（ｂ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが対向可能な位置に配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに確実に伝達される。
【０１１８】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａでは、水平姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１または大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１１９】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく基板の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１２０】
また、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１２１】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７１，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１２２】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。また、基板２００を傾斜姿勢から水平姿勢に変更する際のシリンダ９５のストローク量を低減することができる。したがって、基板搬送装置１００ａの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１２３】
本実施の形態においては、搬送軸１０が複数の第１の回転軸に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラに相当し、搬送軸２０が複数の第２の回転軸に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラに相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当する。
【０１２４】
（第３の実施の形態）
第３の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢で搬入された基板の姿勢を変更して傾斜姿勢で基板を搬出する。以下、第３の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ｂについて説明する。
【０１２５】
図１５は、基板搬送装置１００ｂの横断面図である。図１５において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【０１２６】
図１５に示す基板搬送装置１００ｂは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｃには基板搬出口３４が設けられる。
【０１２７】
基板搬送装置１００ｂは、基板搬入口３３から搬送室３０内に水平姿勢で搬入された基板２００の姿勢を変更して基板搬出口３４から傾斜姿勢で基板２００を搬出する。
【０１２８】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０ｂがＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０ｂもＹ方向に沿って配置されている。搬送軸１０ｂの各々には、複数の搬送ローラ１１ｂがほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０ｂの各々には、複数の搬送ローラ２１ｂが等間隔で設けられている。
【０１２９】
複数の搬送軸１０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【０１３０】
複数の搬送軸２０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【０１３１】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０ｂを回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【０１３２】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０ｂが、搬送ローラ１１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ１１ｂ上に支持された基板２００を傾斜姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ａ，８ａの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，８ａの構造と同様である。
【０１３３】
搬送室３０の側壁３０ｂと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０ｂを回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｂを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１３４】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０ｂが、搬送ローラ２１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ２１ｂ上に支持された基板２００を水平姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ｂ，８ｂの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ｂ，８ｂの構造と同様である。
【０１３５】
図１６および図１７は、図１５の基板搬送装置１００ｂのＥ−Ｅ線断面図である。図１６は、基板２００を搬送ローラ２１ｂで支持した状態を示し、図１７は基板２００を搬送ローラ１１ｂで支持した状態を示す。
【０１３６】
搬送軸２０ｂの一端近傍が、支持部材１２ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸２０ｂの他端が支持部材１５ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１３７】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。
支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１３８】
図１６に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１２ｆが水平状態となる。この状態で、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ２１ｂにより水平姿勢で支持される。
【０１３９】
この場合、搬送軸２０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ｂとマグネット円板７ｂとが側壁３０ｂを介して対抗し、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合、マグネット円板８ｂが回転し、搬送軸２０ｂとともに搬送ローラ２１ｂが回転する。
【０１４０】
また、図１７に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。
それにより、支持部材１２ｆが傾斜姿勢となる。この状態では、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも下方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ１１ｂにより傾斜姿勢で支持される。
【０１４１】
この場合、搬送軸１０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ａとマグネット円板７ａとが側壁３０ｄを介して対抗し、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合、マグネット円板８ａが回転し、搬送軸１０ｂとともに搬送ローラ１１ｂが回転する。
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂでは、傾斜姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ１１ｂにより支持され、水平姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ２１ｂにより支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１４２】
また、全ての搬送ローラ１１ｂおよび搬送ローラ２１ｂに回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく水平姿勢から所定の角度のθの傾斜姿勢に変更させることができる。
【０１４３】
また、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１４４】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７１，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１４５】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。
そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。
また、基板２００を傾斜姿勢から水平姿勢に変更する際のシリンダ９５のストローク量を低減することができる。したがって、基板搬送装置１００ｂの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１４６】
なお、本実施の形態においては、支持部材１２ｆを水平面に対して支持軸１３Ａを中心として回動させることとしたが、支持部材１２ｆを上下に平行移動させてもよい。
【０１４７】
本実施の形態においては、搬送軸１０が複数の第１の回転軸に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラに相当し、搬送軸２０が複数の第２の回転軸に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラに相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【図２】基板搬送装置の横断面図である。
【図３】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図２の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】マグネット円板の内部構造を示す図である。
【図７】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図８】図２〜図５の基板搬送装置の動作を説明するための斜視図である。
【図９】基板搬送装置の横断面図である。
【図１０】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１１】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１２】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１３】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１４】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図１５】基板搬送装置の横断面図である。
【図１６】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１７】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１８】基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である。
【図１９】図１８の基板搬送装置の横断面図である。
【図２０】図１９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【符号の説明】
７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂ  マグネット円板
１０，２０  搬送軸
１１  小型搬送ローラ
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ，１２ｇ  支持部材
１３  支持台
１３Ａ  支持軸
１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇ  支持部材
１６  シリンダ
１６ａ  ピストン
２１  大型搬送ローラ
３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ  側壁
３０ｅ  傾斜壁
３１，３２  周壁
７１，７２，８１，８２  磁石
１００，１０１  基板搬送装置
２００  基板
５００  基板処理装置
Ｂ１，Ｂ２  ベルト
Ｍ１，Ｍ２  モータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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