(57)【要約】【課題】作業時間を短縮することができ、コストを削減することのできる試料精製装置および方法を提供する。【解決手段】試料をスライドガラス上に載置したスライドガラス標本（１０）を観察するための顕微鏡（１）と、試料の顕微鏡による観察像に基づいて試料の精製に適した領域を選択する領域選択手段（５，７）と、スライドガラス標本の選択された領域をＵＶ光を遮断するマスクで覆うマスクプリント装置（２）と、スライドガラス標本のマスクで覆った側の面からスライドガラス標本にＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置（３）とを備えた試料精製装置である。【選択図】    図１
2004325132.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料をスライドガラス上に載置したスライドガラス標本を観察するための顕微鏡と、
前記試料の前記顕微鏡による観察像に基づいて試料の精製に適した領域を選択する領域選択手段と、
前記スライドガラス標本の選択された領域をＵＶ光を遮断するマスクで覆うマスクプリント装置と、
前記スライドガラス標本の前記マスクで覆った側の面から前記スライドガラス標本にＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置と
を備えたことを特徴とする試料精製装置。
【請求項２】
前記スライドガラス標本を、前記顕微鏡、前記マスクプリント装置、前記ＵＶ光照射装置のそれぞれの所定位置に搬送し、前記スライドガラス標本の任意の位置を、それぞれの所定位置に位置決めする搬送位置決め装置と、
前記マスクプリント装置のマスクプリント動作、前記ＵＶ光照射装置のＵＶ光照射動作、前記搬送位置決め装置の搬送と位置決め動作を制御する制御装置と
を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の試料精製装置。
【請求項３】
前記マスクプリント装置は、前記試料上に前記マスクを形成することを特徴とする請求項１または２に記載の試料精製装置。
【請求項４】
前記マスクプリント装置は、前記スライドガラスの前記試料を載置した面の裏面に前記マスクを形成することを特徴とする請求項１または２に記載の試料精製装置。
【請求項５】
前記スライドガラス標本は、前記スライドガラス上に載置した前記試料の上に更にカバーガラスを載置して構成され、
前記マスクプリント装置は、前記カバーガラス上に前記マスクを形成することを特徴とする請求項１または２に記載の試料精製装置。
【請求項６】
前記ＵＶ光照射装置は、複数の前記スライドガラス標本に対して同時にＵＶ光を照射することを特徴とする請求項１乃至５の内いずれか１項に記載の試料精製装置。
【請求項７】
前記領域選択手段は、前記試料の前記顕微鏡による観察像を画像処理して自動で試料の精製に適した領域を特定する自動領域特定手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至５の内いずれか１項に記載の試料精製装置。
【請求項８】
前記試料は、核酸解析用の生体試料であり、
前記ＵＶ光照射装置は、前記ＵＶ光を前記スライドガラス標本に照射して選択された領域外の細胞の核酸を断片化することで、選択された領域内の細胞を核酸解析の対象とすることを特徴とする請求項請求項１乃至７の内いずれか１項に記載の試料精製装置。
【請求項９】
試料をスライドガラス上に載置したスライドガラス標本を顕微鏡で観察する観察ステップと、
前記試料の前記顕微鏡による観察像に基づいて試料の精製に適した領域を選択する選択ステップと、
前記スライドガラス標本の選択された領域を、マスクプリント装置を用いてＵＶ光を遮断するマスクで覆うマスク形成ステップと、
前記スライドガラス標本の前記マスクで覆った側の面からＵＶ光照射装置を用いて前記スライドガラス標本にＵＶ光を照射する照射ステップと
を備えたことを特徴とする試料精製方法。
【請求項１０】
搬送位置決め装置を用いて、前記スライドガラス標本を、前記顕微鏡、前記マスクプリント装置、前記ＵＶ光照射装置のそれぞれの所定位置に搬送し、前記スライドガラス標本の任意の位置を、それぞれの所定位置に位置決めする搬送位置決めステップと、
制御装置を用いて、前記マスクプリント装置のマスク形成ステップ、前記ＵＶ光照射装置の照射ステップ、前記搬送位置決め装置の搬送位置決めステップを制御する制御ステップと
を更に備えたことを特徴とする請求項９に記載の試料精製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は試料切片中の特定の部位を試料として取り出すための試料精製装置および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
生体試料切片中の特定の細胞（たとえば腫瘍細胞）のＤＮＡを解析するために、顕微鏡下の生体試料切片から必要な細胞を切り出す顕微切断装置（マイクロダイセクション装置）が利用されている。
【０００３】
マイクロダイセクション装置に関する技術は、一般に顕微鏡下の試料の必要な領域を切り分ける技術と切り分けた試料を回収する技術で構成されている。従来のマイクロダイセクション装置に関する技術としては、レーザを用いて、試料から目的試料部分を切り取るレーザ顕微切断技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−１７４７７８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のマイクロダイセクション装置には、次のような問題が指摘されていた。
【０００６】
（１）レーザ切断によって必要な細胞と不要な細胞とを分離するため、切断後において不要な細胞を除去し、あるいは必要な細胞を回収する必要がある。このため、除去、回収のための処理時間を要すると共に、その処理のための装置を設ける必要がある。従って、処理時間が増加するとともに装置のコストがアップするという問題があった。また、必要な細胞を回収するときに、不要な細胞が混入すると解析の精度が低下するという問題もあった。
【０００７】
（２）レーザを用いて試料を切断する方法を採用すると、レーザの導入費用がアップするのみならず、顕微鏡下で試料にレーザを当てるための光学系を設計して顕微鏡に組み込む必要がある。従って、装置のコストが大幅にアップするという問題があった。
【０００８】
（３）更に従来の装置では必要な細胞、不要な細胞の選別は顕微鏡視野内に試料がある状態でしか行うことができない。従って、生体試料切片処理が終了しないと次試料の観察を行うことができず、作業に待ちが生じ装置全体としての処理量が制限されるという問題があった。
【０００９】
本発明は上記の問題に鑑みてなされたものであって、作業時間を短縮することができ、コストを削減することのできる試料精製装置および方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための、本発明の請求項１に記載の試料精製装置は、試料をスライドガラス上に載置したスライドガラス標本を観察するための顕微鏡と、試料の顕微鏡による観察像に基づいて試料の精製に適した領域を選択する領域選択手段と、スライドガラス標本の選択された領域をＵＶ光を遮断するマスクで覆うマスクプリント装置と、スライドガラス標本のマスクで覆った側の面からスライドガラス標本にＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置とを備えた。
【００１１】
また本発明の請求項２に記載の試料精製装置は、上記記載の発明である試料精製装置において、スライドガラス標本を、顕微鏡、マスクプリント装置、ＵＶ光照射装置のそれぞれの所定位置に搬送し、スライドガラス標本の任意の位置を、それぞれの所定位置に位置決めする搬送位置決め装置と、マスクプリント装置のマスクプリント動作、ＵＶ光照射装置のＵＶ光照射動作、搬送位置決め装置の搬送と位置決め動作を制御する制御装置とを更に備えた。
【００１２】
また本発明の請求項３に記載の試料精製装置は、上記記載の発明である試料精製装置において、マスクプリント装置は、試料上にマスクを形成する。
【００１３】
また本発明の請求項４に記載の試料精製装置は、上記記載の発明である試料精製装置において、マスクプリント装置は、スライドガラスの試料を載置した面の裏面にマスクを形成する。
【００１４】
また本発明の請求項５に記載の試料精製装置は、上記記載の発明である試料精製装置において、スライドガラス標本は、スライドガラス上に載置した試料の上に更にカバーガラスを載置して構成され、マスクプリント装置は、カバーガラス上にマスクを形成する。
【００１５】
また本発明の請求項６に記載の試料精製装置は、上記記載の発明である試料精製装置において、ＵＶ光照射装置は、複数のスライドガラス標本に対して同時にＵＶ光を照射する。
【００１６】
また本発明の請求項７に記載の試料精製装置は、上記記載の発明である試料精製装置において、領域選択手段は、試料の顕微鏡による観察像を画像処理して自動で試料の精製に適した領域を特定する自動領域特定手段をさらに備えた。
【００１７】
また本発明の請求項８に記載の試料精製装置は、上記記載の発明である試料精製装置において、試料は、核酸解析用の生体試料であり、ＵＶ光照射装置は、ＵＶ光をスライドガラス標本に照射して選択された領域外の細胞の核酸を断片化することで、選択された領域内の細胞を核酸解析の対象とする。
【００１８】
また本発明の請求項９に記載の試料精製方法は、試料をスライドガラス上に載置したスライドガラス標本を顕微鏡で観察する観察ステップと、試料の顕微鏡による観察像に基づいて試料の精製に適した領域を選択する選択ステップと、スライドガラス標本の選択された領域を、マスクプリント装置を用いてＵＶ光を遮断するマスクで覆うマスク形成ステップと、スライドガラス標本のマスクで覆った側の面からＵＶ光照射装置を用いてスライドガラス標本にＵＶ光を照射する照射ステップとを備えた。
【００１９】
また本発明の請求項１０に記載の試料精製方法は、上記記載の発明である試料精製方法において、搬送位置決め装置を用いて、スライドガラス標本を、顕微鏡、マスクプリント装置、ＵＶ光照射装置のそれぞれの所定位置に搬送し、スライドガラス標本の任意の位置を、それぞれの所定位置に位置決めする搬送位置決めステップと、制御装置を用いて、マスクプリント装置のマスク形成ステップ、ＵＶ光照射装置の照射ステップ、搬送位置決め装置の搬送位置決めステップを制御する制御ステップとを更に備えた。
【００２０】
【発明の実施の形態】
［第１の実施の形態］
［構成］
図１は、本発明に係る第１の実施の形態の試料精製装置の概略構成を示す図である。
【００２１】
本実施の形態の試料精製装置は、顕微鏡１、マスクプリント装置２、ＵＶ光照射装置３、標本搬送位置決め装置４、制御装置５、モニタ６及び操作盤７で構成されている。そして、本実施の形態の試料精製装置は、試料をスライドガラス上に固定したスライドガラス標本１０に対して精製処理を行う。
【００２２】
顕微鏡１は、光軸を同じくする光源装置１１、ミラー１２、コンデンサレンズ１３、対物レンズ１４、結像レンズ１５及びＣＣＤカメラ１６で構成されている。
【００２３】
マスクプリント装置２は、スライドガラス標本１０上にＵＶ光を遮断するマスクを形成する。マスクプリント装置２は、例えばインクジェット方式のプリンタヘッドを用いて、スライドガラス標本１０の生体試料切片表面にマスク用の顔料等を吹き付けても良く、また、アクチュエータを用いてマーカのペン先を生体試料切片表面に接触させてマスク用の顔料等を塗布しても良い。
【００２４】
ＵＶ光照射装置３は、スライドガラス標本１０にＵＶ光（紫外光）を照射する。ＵＶ光照射装置３は、ＵＶレーザ光源や水銀ランプ光源を用いて構成され、スライドガラス標本１０の生体試料切片全面にＵＶ光を照射することができる。
【００２５】
標本搬送位置決め装置４は、スライドガラス標本１０の顕微鏡１への搬送と位置決め、マスクプリント装置２への搬送と位置決め、ＵＶ光照射装置３への搬送と位置決めを行う。標本搬送位置決め装置４は、例えば、電動ＸＹステージで構成することができる。
【００２６】
制御装置５は、試料精製装置を統括的に制御する。制御装置５は、例えば、パーソナルコンピュータと画像入出力ボード、アナログまたはデジタルの信号入出力ボードで構成される。
【００２７】
モニタ６は、制御装置５を介してＣＣＤカメラ１６から取り込んだスライドガラス標本１０の顕微鏡画像等を表示する。操作盤７は、操作者の操作指示を受け取って制御装置に出力する。
【００２８】
制御装置５はマスクプリント装置２、ＵＶ光照射装置３、標本搬送位置決め装置４、モニタ６、操作盤７、ＣＣＤカメラ１６に接続されている。
【００２９】
そして、制御装置５は、マスクプリント装置２との間で、マスクを形成すべきスライドガラス標本１０の位置指定情報を含みマスクプリント装置２の動作を制御するためのマスクプリント信号の授受を行う。また、制御装置５は、ＵＶ光照射装置３との間で、ＵＶ光の照射動作を制御するＵＶ光の照射信号の授受を行う。更に、制御装置５は、標本搬送位置決め装置４との間で、スライドガラス標本１０の顕微鏡１、マスクプリント装置２及びＵＶ光照射装置３への搬送と位置決めの動作を制御する搬送位置決め信号２３の授受を行う。
【００３０】
また、制御装置５はＣＣＤカメラ１６から観察画像信号２４によって顕微鏡画像を取り込み、一方、操作盤７からは任意に移動可能なカーソル信号を含む操作信号２６を取り込む。そして、これらの信号からカーソルを合成した画像信号２５をモニタ６に出力する。
【００３１】
図２は、スライドガラス標本の構成を示す図である。
【００３２】
図２（Ａ）に示すように、生体試料切片１０１はスライドガラス１０２上に載置され固定されている。
【００３３】
［動作］
次に、第１の実施の形態に係る試料精製装置の動作を、試料精製装置の操作手順に沿って説明する。
【００３４】
スライドガラス１０２に生体試料切片１０１を固定したスライドガラス標本１０を標本搬送位置決め装置４に載置する。標本搬送位置決め装置４は制御装置５からの搬送位置決め信号２３に基づき、スライドガラス標本１０を顕微鏡下で位置決めする。
【００３５】
制御装置５は、ＣＣＤカメラ１６で撮像された観察画像信号２４と操作盤７から入力された操作信号２６とを合成して、任意位置に移動可能なカーソルを表示した観察画像信号２５をモニタ６に出力する。
【００３６】
図３（Ａ）は、試料の顕微鏡観察画像である。
【００３７】
操作者はこの顕微鏡観察画像を観て、取り出したい細胞領域を操作盤から入力する。即ち、操作者は、マウス、ジョイスティックなどでモニタ６上のカーソルを操作して必要な細胞領域を指定する。
【００３８】
図３（Ｂ）は、細胞領域を指定した試料の顕微鏡観察画像である。
【００３９】
必要な細胞領域３０１が、線で囲まれて表示されている。顕微鏡の視野は倍率が高いほど狭く、試料切片全体を一度に観察できないのが普通である。従って操作者は、標本搬送位置決め装置４によりスライドガラス標本１０を動かし、観察位置を変えて所望の細胞領域３０１を複数選択する。
【００４０】
細胞領域３０１の選択操作が終了すると、続いて操作者は、マスクプリント動作の開始を操作盤７から入力する。
【００４１】
制御装置５は操作盤７により入力された操作信号２６であるマスクプリント動作の開始信号に基づき、スライドガラス標本１０の選択された細胞領域３０１をマスクプリント装置２の下に搬送位置決めするための標本搬送位置決め信号２３を生成し、標本搬送位置決め装置４に出力する。
【００４２】
スライドガラス標本１０がマスクプリント装置２の下に搬送位置決めされると、制御装置５は、その細胞領域３０１を覆うマスクを形成するためのマスクプリント信号２１を生成し、マスクプリント装置２に出力する。これにより、図２（Ｂ）に示すように、マスク１０３が試料切片１０２上に形成される。
【００４３】
図３（Ｃ）は、マスク形成後の試料の顕微鏡観察画像である。選択した細胞領域３０１を覆うようなマスク領域３０２が形成されている。
【００４４】
そして、制御装置５は、標本搬送位置決め装置４とマスクプリント装置２に対して上述の制御信号出力を繰り返して、全ての選択された細胞領域３０１についてマスク領域３０２を形成する。
【００４５】
マスクを形成した後、制御装置５は、標本搬送位置決め信号２３を標本搬送位置決め装置４に出力し、スライドガラス標本１０をＵＶ光照射装置３の下に搬送する。スライドガラス標本１０がＵＶ光照射装置３の下に搬送位置決めされると、制御装置５は、ＵＶ光照射信号２２をＵＶ光照射装置３に出力する。これにより、スライドガラス標本１０のマスクが形成された側からＵＶ光がスライドガラス標本１０の全面に照射される。
【００４６】
ここで、マスク１０３はＵＶ光を吸収する（透過しない）顔料あるいは原料で構成されている。従って、マスク領域３０２以外の領域であるアンマスク領域３０３の細胞はＵＶ光を吸収し、その細胞の核酸がＵＶ光により断片化される。一方、マスク領域３０２の細胞の核酸はＵＶ光により断片化されない。
【００４７】
ここで、ＵＶ光により断片化された細胞の核酸は、以降の核酸解析にかからなくなる。即ち、ＵＶ光照射後の標本をそのまま核酸解析処理にかけると、操作者が選択し、マスクを形成した領域にある細胞の核酸のみがＵＶ光により断片化されていないので、以降の解析工程において核酸解析の対象となる。これにより、本実施の形態によれば、必要な細胞を取り出す操作を行わなくても、マイクロダイセクション装置で必要な細胞を切り出すのと同様の結果を得ることができる。
【００４８】
尚、マスクプリント装置２は、マスク用の顔料等をペンを用いて試料に接触して塗布しても良く、また吹きつけ手段を用い試料に非接触での状態からマスク用の顔料等を吹き付けても良い。更に、マスクの原料にはＵＶ光を透過しないものであれば樹脂を用いても良い。
【００４９】
［効果］
第１の実施の形態によれば、操作者はモニタ６を見ながら操作盤７を操作して、必要な細胞を選択することができる。また制御装置５は顕微鏡１、マスクプリント装置２、ＵＶ光照射装置３の位置を標本搬送位置決め装置４の座標情報として記憶している。従って、制御装置５は、スライドガラス標本１０の顕微鏡１で観察した任意の位置にマスクプリント装置２によってマスクを形成し、ＵＶ光照射装置３に搬送するように制御することができる。
【００５０】
このようにして、不必要な細胞のみの核酸を選択的に断片化することができるので、既存のマイクロダイセクション装置を使って核酸解析用の標本を精製（準備）するのに比べると次の効果を奏する。
【００５１】
不要な細胞と必要な細胞とを切り分ける作業が不要となるため、顕微鏡を観察しながらレーザを操作する必要がなくなり作業時間が短縮できる。
【００５２】
また顕微鏡にレーザ光学系を導入する必要がなくなるため、特別な光学系を設けなくても良くコストを削減することができる。
【００５３】
必要な細胞の選択操作のみを顕微鏡下で行えば良いため、顕微鏡観察、マスクのプリント、ＵＶ光の照射をそれぞれ独立に並行して実施することができる。従って、多数の試料を精製する場合の作業時間を短縮することが可能となる。また、不要な細胞の核酸が混入することなく高い精度で解析することができる。
【００５４】
［第１の実施の形態の変形例１］
［構成］
変形例１では、図１に示す第１の実施の形態において、スライドガラス標本１０の構成が異なっている。
【００５５】
第１の実施の形態では、図２（Ａ）に示すように、スライドガラス１０２上に生体試料切片１０１を固定したスライドガラス標本１０を用いているが、変形例１では、図４（Ａ）に示すように、生体試料切片１０１上にカバーガラス１０４を積載したスライドガラス標本１０を用いる。
【００５６】
［動作］
変形例１に係る試料精製装置の動作は、第１の実施の形態に係る試料精製装置の動作と同じであるためその説明を省略する。
【００５７】
図４（Ｂ）は、プリント装置２によるマスク形成後のスライドガラス標本１０を示す図である。マスク１０３は、カバーガラス１０４上に形成され、生体試料切片１０１と接触することはない。
【００５８】
変形例１でも、ＵＶ光はマスク１０１で覆われた領域を透過しないため、その領域内にある細胞の核酸は断片化されない。尚、カバーガラス１０４には、ＵＶ光の吸収が少ない材料、例えば、ＵＶ透過性の高い石英などを用いると良い。
【００５９】
［効果］
変形例１によれば、マスク剤を試料切片と接触させることなく、第１の実施の形態の効果を奏することができる。
【００６０】
［第２の実施の形態］
［構成］
第２の実施の形態の試料精製装置の構成は、図１に示す第１の実施の形態の試料精製装置の構成と同様であるため、同一部分には同一の符号を付して、その図示及び説明を省略する。
【００６１】
第２の実施の形態の試料精製装置は、制御装置５が、必要な細胞領域を自動で画像認識して特定する機能を備えている点で、第１の実施の形態の試料精製装置と異なっている。
【００６２】
［動作］
スライドガラス１０２に生体試料切片１０１を固定したスライドガラス標本１０を標本搬送位置決め装置４に載置する。標本搬送位置決め装置４は制御装置５からの搬送位置決め信号２３に基づき、スライドガラス標本１０を顕微鏡下で位置決めする。
【００６３】
制御装置５は、ＣＣＤカメラ１６で撮像された観察画像信号２４に基づいて画像認識により、必要な細胞領域を特定する。
【００６４】
必要な細胞領域の特定方法には、種々のアルゴリズムを採用することができる。例えば、試料切片１０１が蛍光画像である場合は、蛍光輝度が所定値以上の領域を選択しても良い。また、試料切片１０１が染色画像である場合は、特定色について濃度の高い領域を選択しても良い。更に、画像に含まれる細胞の内、特定の形状の細胞を抽出することもできる。更に、これらを適宜組合わせたアルゴリズムによって必要な細胞領域を特定しても良い。
【００６５】
次に、特定した領域を覆うように細胞領域３０１を設定する。細胞領域３０１は、特定した細胞の周囲を倣うように細胞領域３０１を設定しても良く、また特定した細胞を覆うような円形、多角形などの幾何学形状で細胞領域３０１を設定しても良い。
【００６６】
顕微鏡の視野は倍率が高いほど狭く、試料切片全体を一度に観察できないのが普通である。従って制御装置５は、標本搬送位置決め装置４によりスライドガラス標本１０を動かし、観察位置を変えて上述のアルゴリズムにより所望の細胞領域３０１を複数選択する。
【００６７】
細胞領域３０１の選択が終了すると、続いて制御装置は、マスクプリント動作の開始制御する。これ以降の、試料精製装置の動作は、第１の実施の形態で説明した動作と同じため、その詳細の説明は省略する。
【００６８】
［効果］
第１の実施の形態ではモニタ６上の試料の観察像を観察しながら、操作者が操作盤７を用いて必要な細胞領域３０１を選択していた。第２の実施の形態では、必要な細胞領域３０１を制御装置が画像認識して実行するため、操作者が逐一必要な細胞領域を選択する必要がなく、これにより、作業が簡易化し、作業時間を短縮することができる。
【００６９】
［第３の実施の形態］
［構成］
図５は、第３の実施の形態の試料精製装置の構成を示す図である。第３の実施の形態の試料精製装置の構成は、図１に示す第１の実施の形態の試料精製装置の構成と同様であるため、同一部分には同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００７０】
第３の実施の形態の試料精製装置は、マスクプリント装置２とＵＶ光照射装置３がスライドガラス標本１０の下面に位置する点で、第１の実施の形態の試料精製装置と異なっている。
【００７１】
［動作］
第３の実施の形態の試料精製装置の動作は、第１の実施の形態の試料精製装置の動作と同様であるため、その詳細の説明は省略する。
【００７２】
但し、マスクプリント装置２とＵＶ光照射装置３がスライドガラス標本１０の下面に配設されているため、図６に示すように、マスク１０３は、スライドガラス１０２の下面に形成される。
【００７３】
また、ＵＶ光はスライドガラス１０２を介して試料切片１０１に照射される。従って、スライドガラス１０２の材料としては石英などのＵＶ透過率の高い材料を用いるのが望ましい。
【００７４】
［効果］
第１の実施の形態では、生体試料切片１０１上にマスク１０３を形成するため、生体試料切片１０１の厚みが均一でない場合、あるいは、試料表面の状態が均一でない場合にはマスクの形成状態が均一でなくなりマスク効果に影響がでる恐れがある。第３の実施の形態では、均一な面をもつスライドガラス１０２の裏面に安定したマスク１０３を形成することができる。
【００７５】
［第４の実施の形態］
［構成］
図７は、第４の実施の形態の試料精製装置の構成を示す図である。第４の実施の形態の試料精製装置の構成は、図５に示す第３の実施の形態の試料精製装置の構成と同様であるため、同一部分には同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００７６】
第４の実施の形態の試料精製装置は、ＵＶ光照射装置３を標本搬送位置決め装置４とは切り離して独立の装置として構成するとともに、マスクをプリントした複数のスライドガラス標本１０に同時にＵＶ光を照射することができる点で、第３の実施の形態の試料精製装置と異なっている。
【００７７】
［動作］
第４の実施の形態の試料精製装置の動作は、第３の実施の形態の試料精製装置の動作と同様であるため、その詳細の説明は省略する。
【００７８】
第４の実施の形態の試料精製装置は、マスクを形成する迄の動作を一連の操作としてスライドガラス標本１０毎に実行する。マスクを形成した後は、スライドガラス標本１０はＵＶ光照射装置３に搬送されるが、直ちにＵＶ光で照射されない。複数のスライドガラス標本１０をまとめて、複数のスライドガラス標本１０に同時にＵＶ光を照射する。
【００７９】
［効果］
第１〜３の実施の形態では１枚のスライドガラス標本１０にしかＵＶ光を照射していない。このため、たとえばＵＶ光が弱い、試料切片が厚いなどの理由により、ＵＶ光の照射に時間がかかる場合には、ＵＶ光の照射が終わるまで次のスライドガラス標本１０を処理できない。第４の実施の形態の構成によれば、ＵＶ光の照射時間によって、装置全体の処理量（スループット）が制限されることがない。
【００８０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の試料精製装置および方法によれば、試料精製に要する作業時間を短縮することができ、更に装置のコストを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１の実施の形態の試料精製装置の概略構成を示す図。
【図２】スライドガラス標本の構成を示す図。
【図３】試料の顕微鏡観察画像。
【図４】スライドガラス標本の構成を示す図。
【図５】他の実施の形態の試料精製装置の構成を示す図。
【図６】スライドガラス標本の構成を示す図。
【図７】他の実施の形態の試料精製装置の構成を示す図。
【符号の説明】
１…顕微鏡、２…マスクプリント装置、３…ＵＶ光照射装置、４…標本搬送位置決め装置、５…制御装置、６…モニタ、７…操作盤、１０…スライドガラス標本、１６…ＣＣＤカメラ、１０１…試料切片、１０２…スライドガラス、１０３…マスク、３０１…細胞領域、３０２…マスク領域、３０３…アンマスク領域。
【図１】
2004325132.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2004325132.tif 000007
【図６】
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【図７】
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