(57)【要約】【課題】被駆動物が非常停止限を超えて走行した場合に、早急にモータを停止させることができるモータのブレーキ回路を提供する。【解決手段】ブレーキ信号が「Ｈ」レベルとなるとＡＮＤ回路３１の反転入力が「Ｌ」レベルとなるので、ＡＮＤ回路３１の出力は「Ｌ」レベルとなる。これにより、ＦＥＴ３５はオフとなる。また、ＯＲ回路３３の一方の入力であるブレーキ信号が「Ｈ」レベルであるので、ＦＥＴ３６はオンとなる。これにより、３相リニアモータ２３のＵ相コイル２３Ｕ、Ｖ相コイル２３Ｖ、Ｗ相コイル２３Ｗは短絡され、ダイナミックブレーキが働く。また、インバータ３７の出力が「Ｌ」レベルとなるので、トランジスタ３８はオフとなり、リレー３９のコイルの励磁が解ける。そのため、リレー接点３９ｂはオンとなる。これにより、３相リニアモータ２３のＵ相コイル２３Ｕ、Ｖ相コイル２３Ｖ、Ｗ相コイル２３Ｗは短絡され、ダイナミックブレーキが働く。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータの巻線への配線を電気的に短絡することによって、モータにブレーキをかけるモータのブレーキ回路であって、モータを駆動するスイッチング回路のスイッチング素子を使用してモータの巻線への配線を電気的に短絡する第１の回路と、リレー接点によりモータの巻線への配線を電気的に短絡する第２の回路を有し、前記第２の回路を構成するリレーの接点は、Ｂ接点であることを特徴とするモータのブレーキ回路。
【請求項２】
モータへの給電を制御することによってモータを駆動するモータ駆動装置であって、請求項１に記載のモータのブレーキ回路を備えることを特徴とするモータ駆動装置。
【請求項３】
移動対象物を搭載するステージと、前記移動対象物を移動させるために前記ステージを駆動するモータと、前記モータを駆動するモータ駆動装置とを備え、当該モータ駆動装置が請求項２に記載のモータ駆動装置であることを特徴とするステージ装置。
【請求項４】
レチクルに形成された所定のパターンを感応基板上に露光転写する露光装置であって、レチクル及び感応基板のいずれか一方を搭載して移動させるステージ装置を備え、当該ステージ装置が請求項３に記載のステージ装置であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置を使用して、レチクルに形成された所定のパターンをウエハに露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、モータのブレーキ回路、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、及び半導体デバイスの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造工程においては、レチクル上に形成された所定の回路パターンをウエハに露光転写するリソグラフィ工程が含まれる。この露光転写には露光装置が使用される。露光装置においては、レチクルとウエハをそれぞれレチクルステージ、ウエハステージに固定し、これらレチクルステージ、ウエハステージをリニアモータにより同期して駆動しながら、露光転写を行うことが行われている。
【０００３】
レチクルステージ駆動系及びウエハステージ駆動系は、単電源を駆動電源として各リニアモータをそれぞれ駆動するモータ駆動装置を搭載する。このような投影露光装置におけるモータ駆動の例については、例えば特開２００２−１３６１７７号公報に記載されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１３６１７７号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような投影露光装置において、何らかの制御の異常により、レチクルステージ駆動系又はウエハステージ駆動系を構成するリニアモータが停止せず、そのため、レチクルステージ、ウエハステージがオーバランし、投影露光装置を破損させる可能性がある。これに対する対策として、レチクルステージ、ウエハステージがオーバランして、非常停止限を通過したことを検出し、その信号に応じて、リニアモータの巻線を機械的に（リレーを用いて）短絡し、ダイナミックブレーキをかけ、設備の破損に至る前にレチクルステージ、ウエハステージがオーバランを停止する方法が採用されてきた。
【０００６】
しかしながら、投影露光装置のスループットを上げるため、レチクルステージ、ウエハステージの駆動速度は高速化し、300mm／secに達するようになってきた。このような場合、機械的な接点による巻線の短絡では、機械的接点の動作に100msec程度かかることがあり、その間にステージが30mm進んでしまう。短絡が行われてからダイナミックブレーキがかかってステージが停止するまでにさらにステージは走行を続ける。そのため、ステージが設備を破壊しないような状態で確実に停止させるためには、非常停止限を、それだけ前に設定しておく必要があり、その結果、ステージのストロークを無駄に大型化せざるを得ず、装置が大型化するという問題点があった。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、ステージ等の被駆動物が非常停止限を超えて走行した場合に、早急にモータを停止させることができるモータのブレーキ回路、このブレーキ回路を有するモータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、さらには、この露光装置を使用した半導体デバイスの製造方法を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための第１の手段は、モータの巻線への配線を電気的に短絡することによって、モータにブレーキをかけるモータのブレーキ回路であって、モータを駆動するスイッチング回路のスイッチング素子を使用してモータの巻線への配線を電気的に短絡する第１の回路と、リレー接点によりモータの巻線への配線を電気的に短絡する第２の回路を有し、前記第２の回路を構成するリレーの接点は、Ｂ接点であることを特徴とするモータのブレーキ回路（請求項１）である。
【０００９】
本手段においては、モータを駆動するスイッチング回路のスイッチング素子を使用してモータの巻線への配線を電気的に短絡する第１の回路と、リレー接点によりモータの巻線への配線を電気的に短絡する第２の回路を有している。この第１の回路は、ほぼ遅れ時間無く作動するので、異常が検出された瞬間にモータにダイナミックブレーキをかけることができる。しかしながら、この第１の回路だけでは、装置の電源が落ちたときにはダイナミックブレーキをかけることができない。
【００１０】
第２の回路はこのような場合に確実にダイナミックブレーキをかけるためのものであり、リレー回路のＢ（ブレーク）接点によりモータのコイルへの配線を電気的に短絡するものである。Ｂ接点を使用しているので、回路の電源が落ちたとき接点がメークし、モータの巻線への配線が電気的に短絡されてダイナミックブレーキが作動する。この第２の回路の作動は、前述のようにリレーの作動時間だけ遅れる。しかし、通常の場合は第１の回路が先に働くので問題はなく、電源が落ちると同時に非常停止限の検出が行われることは極めて希である。よって、このように、２つの回路でモータの巻線への配線を電気的に短絡する構成とすることにより、通常の場合は遅れ時間無く、電源が落ちた場合でも確実に、ダイナミックブレーキを作動させることができる。
【００１１】
なお、本手段は、交流モータ、直流モータを問わず、種々のモータに適用できる。モータのコイルへの配線を電気的に短絡することにより、コイルの損傷が危惧される場合には、電流制限抵抗を入れて、電流を制限するようにしてもよい。
【００１２】
前記課題を解決するための第２の手段は、モータへの給電を制御することによってモータを駆動するモータ駆動装置であって、前記第１の手段であるモータのブレーキ回路を備えることを特徴とするモータ駆動装置（請求項２）である。
【００１３】
前記課題を解決するための第３の手段は、移動対象物を搭載するステージと、前記移動対象物を移動させるために前記ステージを駆動するモータと、前記モータを駆動するモータ駆動装置とを備え、当該モータ駆動装置が前記第２の手段であるモータ駆動装置であることを特徴とするステージ装置（請求項３）である。
【００１４】
前記課題を解決するための第４の手段は、レチクルに形成された所定のパターンを感応基板上に露光転写する露光装置であって、レチクル及び感応基板のいずれか一方を搭載して移動させるステージ装置を備え、当該ステージ装置が前記第３の手段であるステージ装置であることを特徴とする露光装置（請求項４）である。
【００１５】
これら、第２の手段から第４の手段においては、いずれも前記第１の手段であるモータのブレーキ回路が設けられているので、通常の場合は遅れ時間無く、電源が落ちた場合でも確実に、モータのダイナミックブレーキを作動させ、停止させることができる。
【００１６】
前記課題を解決するための第５の手段は、前記第４の手段である露光装置を使用して、レチクルに形成された所定のパターンをウエハに露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法（請求項５）である。
【００１７】
本手段においては、前記第４の手段である露光装置を使用しているので、安定して半導体デバイスの製造を行うことができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図１は、本発明の実施の形態の１例であるモータのブレーキ回路を使用する、モータ駆動装置の回路の概要を示す図である。３相リニアモータ２３の速度制御回路等のマイナーループである電流制御回路からの指令信号が、ＰＷＭ制御回路２１に送られる。
【００１９】
ＰＷＭ制御回路は、この信号を受けて、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相に流す電流を制御するためのパルス信号を決定し、それぞれＵ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｕ、Ｖ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｖ、Ｗ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｗに送出する。Ｕ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｕ、Ｖ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｖ、Ｗ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｗは、それぞれ指令されたパルスに相当するパルス駆動電圧を、Ｕ相コイル２３Ｕ、Ｖ相コイル２３Ｖ、Ｗ相コイル２３Ｗに印加し、３相リニアモータ２３を駆動する。
【００２０】
Ｕ相コイル２３Ｕ、Ｖ相コイル２３Ｖ、Ｗ相コイル２３Ｗは、図に示すようにスター接続されており、その中性点は接地されていない。
【００２１】
図２に、本発明の実施の形態の１例であるモータのブレーキ回路の構成の概要を示す。Ｕ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｕ、Ｖ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｖ、Ｗ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｗは、それぞれ図２に示すようにＡＮＤ回路３１、インバータ３２、オア回路３３、レベルシフト回路３４、及び実際のスイッチングを行うための直列に接続された２つのＦＥＴ３５、３６を有する。
【００２２】
通常の場合は、非常停止用のブレーキ信号は「Ｌレベル」にあり、ＡＮＤ回路３１からなるゲートの一方の入力である反転入力は「Ｈ」レベルとなるので、ＡＮＤ回路３１からなるゲートは「開」となって、Ｕ相ＰＷＭ信号、Ｖ相ＰＷＭ信号、Ｗ相ＰＷＭ信号はこのゲートを通過して、ＦＥＴ３５、３６をオンオフする。
【００２３】
すなわち、ＯＲ回路３３の一方の入力であるブレーキ信号は「Ｌ」レベルであるので、ＯＲ回路３３の出力、すなわちＦＥＴ３６のゲート信号は、インバータ３２の出力と同じもの、すなわち、Ｕ相ＰＷＭ信号、Ｖ相ＰＷＭ信号、Ｗ相ＰＷＭ信号を反転したものとなる。これにより、ＦＥＴ３６はＵ相ＰＷＭ信号、Ｖ相ＰＷＭ信号、Ｗ相ＰＷＭ信号が「Ｈ」レベルのときオフとなり、「Ｌ」レベルのときオンとなる。
【００２４】
一方、ＡＮＤ回路３１の出力はレベルシフト回路３４介してＦＥＴ３５のゲートに印加される。これにより、ＦＥＴ３５は、Ｕ相ＰＷＭ信号、Ｖ相ＰＷＭ信号、Ｗ相ＰＷＭ信号が「Ｈ」レベルのときオンとなり、「Ｌ」レベルのときオフとなる。
【００２５】
これにより、３相リニアモータ２３のＵ相コイル２３Ｕ、Ｖ相コイル２３Ｖ、Ｗ相コイル２３Ｗにかかる電圧は、それぞれ、Ｕ相ＰＷＭ信号、Ｖ相ＰＷＭ信号、Ｗ相ＰＷＭ信号が「Ｈ」レベルのとき＋Ｅとなり、「Ｌ」レベルのとき０（接地電位）となる。
【００２６】
非常時に３相リニアモータ２３を停止させたいときは、ブレーキ信号が「Ｈ」レベルとなる。これにより、ＡＮＤ回路３１の反転入力が「Ｌ」レベルとなるので、ＡＮＤ回路３１の出力は「Ｌ」レベルとなる。これにより、ＦＥＴ３５はオフとなる。また、ＯＲ回路３３の一方の入力であるブレーキ信号が「Ｈ」レベルであるので、ＯＲ回路３３の出力は「Ｈ」レベルとなり、ＦＥＴ３６はオンとなる。すなわち、Ｕ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｕ、Ｖ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｖ、Ｗ相ＰＷＭ駆動増幅器２２Ｗの出力は共に接地電位となる。
【００２７】
これにより、３相リニアモータ２３のＵ相コイル２３Ｕ、Ｖ相コイル２３Ｖ、Ｗ相コイル２３Ｗは短絡され、ダイナミックブレーキが働く。このダイナミックブレーキ回路は、全て電子回路で構成されているので、ブレーキ信号が「Ｈ」レベルとなった瞬間に作動するが、ロジック回路の電源、モータ駆動電源が落ちているときは働かない。
【００２８】
一方、ブレーキ信号が「Ｌ」となっているときは、インバータ３７の出力が「Ｈ」レベルとなり、ｎｐｎトランジスタ３８のベースにかかる電圧が「Ｈ」レベルとなるので、トランジスタ３８はオンとなり、電源Ｅ’からリレーコイル３９通してアースに電流が流れ、リレー３９のコイルは励磁されている。そのため、リレー接点３９ｂはオフとなっており、この回路はモータ制御に関係しない。
【００２９】
ブレーキ信号が「Ｈ」となると、インバータ３７の出力が「Ｌ」レベルとなり、ｎｐｎトランジスタ３８のベースにかかる電圧が「Ｌ」レベルとなるので、トランジスタ３８はオフとなり、電源Ｅ’からリレーコイル３９通してアースに流れる電流が遮断されて、リレー３９のコイルの励磁が解ける。そのため、リレー接点３９ｂはオンとなる。これにより、３相リニアモータ２３のＵ相コイル２３Ｕ、Ｖ相コイル２３Ｖ、Ｗ相コイル２３Ｗは短絡され、ダイナミックブレーキが働く。このダイナミックブレーキの作動は、リレー３９の作動時間だけ遅れるので、通常の場合は、前述のＦＥＴによるダイナミックブレーキの方が早く働く。
【００３０】
このリレー３９によるダイナミックブレーキは、ロジック回路の電源、モータ駆動電源、リレー電源が落ちているときでも、リレー接点３９ｂがＢ（ブレーク）接点であるため作動する。よって、電源に異常があった場合でも、確実にダイナミックブレーキを作動させることができるようになる。なお、電源Ｅ’は、モータを駆動するための電源Ｅと共用にしてもよい。
【００３１】
本発明の実施の形態の１例であるモータ駆動装置は、図１に示すような回路に図２に示すような回路が組み込まれたものであり、その作用については説明を要しないであろう。
【００３２】
本発明の実施の形態の１例であるステージ装置、露光装置を図５に示す。この投影露光装置は、レチクルのパターンの縮小像をウエハの各ショット領域に露光するステッパー型（ステップアンドリピート型）の投影露光装置である。図５において、照明光学系１からの露光光ＩＬが、ダイクロイックミラー２により反射されてレチクルＲのパターン領域を照明する。ダイクロイックミラー２により反射された後の露光光ＩＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な２次元平面内で、図５の紙面に平行な方向にＸ軸、紙面に垂直な方向にＹ軸を取る。
【００３３】
レチクルＲは、レチクル側Ｙステージ３Ｙ及びレチクル側Ｘステージ３Ｘを介して、レチクルベース４上に搭載される。レチクル側Ｘステージ３Ｘは、レチクルベース４に対して、固定子５Ａ及び可動子５Ｂからなるリニアモータ（以下、「リニアモータ５」と呼ぶ）によりＸ方向に駆動される。レチクル側Ｙステージ３Ｙは、レチクル側Ｘステージ３Ｘに対して、不図示のリニアモータによりＹ方向に駆動される。
【００３４】
また、レチクル側Ｙステージ３Ｙ上に、Ｘ軸用の移動鏡６Ｘ及び不図示のＹ軸用の移動鏡が固定されている。移動鏡６Ｘ、及び外部に設置されたＸ軸用のレチクル側のレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）７Ｘにより、レチクル側Ｘステージ３ＸのＸ座標ＸＲが計測される。不図示のＹ軸用の移動鏡、及びＹ軸用のレチクル干渉計７Ｙにより、レチクル側Ｙステージ３ＹのＹ座標ＹＲが計測される。計測されたＸ座標ＸＲ及びＹ座標ＹＲは、装置全体の動作を統括制御する中央制御系８に、コネクタ１７，１８を介して供給される。レチクル側Ｙステージ３Ｙ、レチクル側Ｘステージ３Ｘ、レチクルベース４、Ｘ軸用のリニアモータ５、及びＹ軸用のリニアモータからなるステージ系を、レチクルステージ装置３と呼ぶ。
【００３５】
露光光ＩＬのもとで、レチクルＲのパターンの像は、投影倍率β（βは例えば１／４）の投影光学系ＰＬを介して縮小されて、ウエハＷの各ショット領域に投影露光される。ウエハＷは、ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ及びウエハ側Ｘステージ１０Ｘを介して、ウエハベース１１上に搭載されている。ウエハ側Ｘステージ１０Ｘは、ウエハベース１１に対して、固定子１２Ａ及び可動子１２Ｂからなるリニアモータ（以下、「リニアモータ１２」と呼ぶ）を介してＸ方向に駆動される。ウエハ側Ｙステージ１０Ｙは、ウエハ側Ｘステージ１０Ｘに対して、不図示のリニアモータによりＹ方向に駆動される。
【００３６】
また、ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ上に、Ｘ軸用の移動鏡１３Ｘ及び不図示のＹ軸用の移動鏡が固定されている。移動鏡１３Ｘ、及び外部に設置されたＸ軸用のウエハ側のレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」という）１４Ｘにより、ウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標ＸＷが計測される。不図示のＹ軸用の移動鏡、及びＹ軸用のウエハ干渉計１４Ｙにより、ウエハ側Ｙステージ１０ＹのＹ座標ＹＷが計測される。計測されたＸ座標ＸＷ及びＹ座標ＹＷは、中央制御系８にコネクタ１９，２０を介して供給される。ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ、ウエハ側Ｘステージ１０Ｘ、ウエハベース１１、Ｘ軸用のリニアモータ１２、及びＹ軸用のリニアモータ、並びにウエハＷのＺ方向への位置及び傾斜角を制御するＺレベリングステージ（図示せず）からなるステージ系を、ウエハステージ装置１０と呼ぶ。
【００３７】
この例においては、リニアモータとして３相リニアモータを使用している。例えばリニアモータ１２を例に説明する。リニアモータ１２は、固定子１２Ａと可動子１２Ｂとで構成され、固定子１２Ａは３相の電機子巻線（図示せず）からなり、可動子１２Ｂはウエハ側Ｘステージ１０Ｘの側面に極性が順次反転してＸ方向に並べて固定された４個の永久磁石（図示せず）からなる。すなわち、リニアモータ１２は、ムービング・マグネット型のリニアモータである。
【００３８】
中央制御系８は、レチクルステージ駆動系１５を介してレチクル側のＸ軸用のリニアモータ５及びＹ軸用のリニアモータの動作を制御して、レチクルＲの位置決めを行うとともに、ウエハステージ駆動系１６を介してウエハ側のＸ軸用のリニアモータ１２及びＹ軸用のリニアモータの動作を制御して、ウエハＷの位置決めを行う。このような制御により、レチクルＲのパターンは、ウエハＷの各ショット領域に縮小されて露光される。
【００３９】
このような投影露光装置のレチクルステージ駆動系１５、ウエハステージ駆動系１６に、前述のような、本発明の実施の形態の１例であるモータのブレーキ回路を有するモータ駆動装置を用いることで、投影露光装置の安全性を高めることができる。
【００４０】
以下、本発明に係る半導体デバイスの製造方法の実施の形態の例を説明する。図３は、本発明の半導体デバイス製造方法の一例を示すフローチャートである。この例の製造工程は以下の各主工程を含む。
▲１▼ウエハを製造するウエハ製造工程（又はウエハを準備するウエハ準備工程）
▲２▼露光に使用するレチクル（マスク）を製作するレチクル（マスク）製造工程（又はレチクル（マスク）を準備するレチクル（マスク）準備工程）
▲３▼ウエハに必要な加工処理を行うウエハプロセッシング工程
▲４▼ウエハ上に形成されたチップを１個ずつ切り出し、動作可能にならしめるチップ組立工程
▲５▼できたチップを検査するチップ検査工程
なお、それぞれの工程はさらにいくつかのサブ工程からなっている。
【００４１】
これらの主工程の中で、半導体のデバイスの性能に決定的な影響を及ぼす主工程がウエハプロセッシング工程である。この工程では、設計された回路パターンをウエハ上に順次積層し、メモリやＭＰＵとして動作するチップを多数形成する。このウエハプロセッシング工程は以下の各工程を含む。
▲１▼絶縁層となる誘電体薄膜や配線部、あるいは電極部を形成する金属薄膜等を形成する薄膜形成工程（ＣＶＤやスパッタリング等を用いる）
▲２▼この薄膜層やウエハ基板を酸化する酸化工程
▲３▼薄膜層やウエハ基板等を選択的に加工するためにマスク（レチクル）を用いてレジストのパターンを形成するリソグラフィ工程
▲４▼レジストパターンに従って薄膜層や基板を加工するエッチング工程（例えばドライエッチング技術を用いる）
▲５▼イオン・不純物注入拡散工程
▲６▼レジスト剥離工程
▲７▼さらに加工されたウエハを検査する検査工程
なお、ウエハプロセッシング工程は必要な層数だけ繰り返し行い、設計通り動作する半導体デバイスを製造する。
【００４２】
図４は、図３のウエハプロセッシング工程の中核をなすリソグラフィ工程を示すフローチャートである。このリソグラフィ工程は以下の各工程を含む。
▲１▼前段の工程で回路パターンが形成されたウエハ上にレジストをコートするレジスト塗布工程
▲２▼レジストを露光する露光工程
▲３▼露光されたレジストを現像してレジストのパターンを得る現像工程
▲４▼現像されたレジストパターンを安定化させるためのアニール工程
以上の半導体デバイス製造工程、ウエハプロセッシング工程、リソグラフィ工程については、周知のものであり、これ以上の説明を要しないであろう。本発明に係る半導体デバイスの製造方法の実施の形態においては、本欄において説明した露光装置を使用してリソグラフィ工程を実施している。よって、安定した操業状態で半導体デバイスを製造することができる。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ステージ等の被駆動物が非常停止限を超えて走行した場合に、早急にモータを停止させることができるモータのブレーキ回路、このブレーキ回路を有するモータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、さらには、この露光装置を使用した半導体デバイスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の１例であるモータのブレーキ回路を使用するモータ駆動装置の回路の概要を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態の１例であるモータのブレーキ回路の構成の概要を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態の１例である半導体デバイスの製造法を示すフローチャートである。
【図４】リソグラフィ工程を示すフローチャートである。
【図５】投影露光装置の概要を示す図である。
【符号の説明】
２１：ＰＷＭ制御回路、２２Ｕ：Ｕ相ＰＷＭ駆動増幅器、２２Ｖ：Ｖ相ＰＷＭ駆動増幅器、２２Ｗ：Ｗ相ＰＷＭ駆動増幅器、２３：３相にリアモータ、２３Ｕ：Ｕ相コイル、２３Ｖ：Ｖ相コイル、２３Ｗ：Ｗ相コイル、３１：ＡＮＤ回路、３２：インバータ、３３：ＯＲ回路、３４：レベルシフト回路、３５、３６：ＦＥＴ、３７：インバータ、３８：トランジスタ、３９：リレー、３９ｂ：リレー接点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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