(57)【要約】【課題】遮光性感光性樹脂組成物を用いてカラー画像の非画素部の透明基板上に遮光性画像を形成する方法及び該形成方法により作成される表示コントラストの向上したカラーフィルタの提供。【解決手段】透明基板上に赤、緑、及び青の各画素からなるカラー画像を形成するカラー画像形成工程と、前記カラー画像形成工程によりカラー画像を形成した面に遮光性感光性樹脂組成物からなる遮光性樹脂層を設ける遮光性樹脂層形成工程と、前記透明基板を通して前記遮光性樹脂層を露光する遮光性樹脂層露光工程と、現像処理を行い、前記カラー画像形成工程で形成したカラー画像の非画素部の透明基板上に遮光性画像を形成する遮光性画像形成工程とを含み、前記遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度を４０℃以上１３０℃未満の範囲、又は前記露光工程の後、現像処理する前における透明基板の温度を４０℃以上１３０℃未満の範囲とする。【選択図】　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像を形成するカラー画像形成工程と、
前記カラー画像形成工程によりカラー画像を形成した面に遮光性感光性樹脂組成物からなる遮光性樹脂層を設ける遮光性樹脂層形成工程と、
前記透明基板を通して前記遮光性樹脂層を露光する遮光性樹脂層露光工程と、
現像処理を行い、少なくとも前記カラー画像形成工程で形成したカラー画像の非画素部の透明基板上に遮光性画像を形成する遮光性画像形成工程と、を含む遮光性画像の形成方法であって、
前記遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満の範囲であることを特徴とする遮光性画像の形成方法。
【請求項２】
前記遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度が、６０℃以上１００℃以下の範囲である請求項１に記載の遮光性画像の形成方法。
【請求項３】
透明基板上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像を形成するカラー画像形成工程と、
前記カラー画像形成工程によりカラー画像を形成した面に遮光性感光性樹脂組成物からなる遮光性樹脂層を設ける遮光性樹脂層形成工程と、
前記透明基板を通して前記遮光性樹脂層を露光する遮光性樹脂層露光工程と、
現像処理を行い、少なくとも前記カラー画像形成工程で形成したカラー画像の非画素部の透明基板上に遮光性画像を形成する遮光性画像形成工程と、を含む遮光性画像の形成方法であって、
前記遮光性樹脂層露光工程の後、現像処理する前における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満の範囲であることを特徴とする遮光性画像の形成方法。
【請求項４】
透明基板の温度が、９０℃以上１２０℃以下の範囲である請求項３に記載の遮光性画像の形成方法。
【請求項５】
前記遮光性樹脂層露光工程において、現像パターニング面とは反対の透明基板面側から２０ｍＪ／ｃｍ２以上の条件で露光を行う請求項１から４のいずれかに記載の遮光性画像の形成方法。
【請求項６】
前記遮光性樹脂層形成工程において、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、遮光性樹脂層をこの順に設けた転写型フイルムを用いる請求項１から５のいずれかに記載の遮光性画像の形成方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の方法により作成されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項８】
遮光性画像部分の光学濃度（ＯＤ）値が２．６以上である請求項７に記載のカラーフィルタ。
【請求項９】
遮光性画像の厚みが、カラー画像の厚みと略同一の１．０〜３．０μｍである請求項７又は８に記載のカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、遮光性感光性樹脂組成物を用いて、所謂セルフアライメント方式によりカラー画像の非画素部の透明基板上に光学濃度（ＯＤ）値の高い遮光性画像を形成する方法、及び該遮光性画像の形成方法により作成される表示コントラストが大幅に向上したカラーフィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、カラーフィルタを作成するにあたりＲ（赤）、Ｇ（緑）、及びＢ（青）の各画素の間隙には表示コントラスト向上等の目的でブラックマトリックス（ＢＭ）をＲ、Ｇ、Ｂの各画素の間隙に形成している。その方法としては、クロム等の金属膜をブラックマトリックスとして用いる方法や遮光性顔料等を分散させた感光性樹脂を用いる方法等が知られている。
いずれの場合においても、ブラックマトリックスとＲ、Ｇ、Ｂの各画素はアライメントズレ等で発生する白ヌケ等を防止する目的で一部重なりを有して形成される。
前記クロム等の金属膜を用いたブラックマトリックスは、金属膜を蒸着等の方法で基板上に形成し、次に、フォトレジストを使用したフォトリソとエッチング工程により金属膜をパターニングする。一方、遮光性顔料等を分散させた感光性樹脂を用いる方法は、遮光性顔料等を分散した感光性樹脂層を塗布や印刷等の方法で基板上に形成し、パターン露光−現像の工程でブラックマトリックスが形成される。
【０００３】
例えば、特許文献１には、遮光性顔料等を分散させた感光性樹脂を用いたセルフアライメント方式でブラックマトリックスを形成する方法が提案されており、コスト、製造工程の面から注目視されている。その方式では、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素が形成された基板にカーボンブラック等の黒色遮光性顔料等を分散させた感光性樹脂層を設け、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素が、フォトマスクとして作用するよう裏面から露光し、画素の間隙にブラックマトリックスを形成する。この場合、従来必要であった位置合せの手間が省け、なおかつ白ヌケは原理上発生しない利点がある。
【０００４】
前記セルフアライメント方式において、裏面からの露光時に遮光性樹脂層が十分に硬化しない、つまり遮光性樹脂層の感光波長域におけるカーボン等の黒色遮光性顔料の光吸収性が大きいため、裏面からの露光が遮光膜表面まで十分達せず光硬化不足を生じ、結果的には得られた遮光膜の光学濃度が低くなってしまうという問題を有していた。
【０００５】
前記遮光膜の膜深部まで光硬化する遮光性感光性材料として、紫外線透過性かつ可視光不透過性のフォトレジストが開示されている（例えば、特許文献２参照）が、この場合、可視光よりも紫外部の方が透過率が大きく、色相が黒となる化合物として満足するものは非常に特殊であり、ある種の金属酸化物が挙げられている。しかしながら、これらの金属酸化物は感光性樹脂液等への分散性に問題があった。
【０００６】
前記遮光材料として、互いに補色関係にある二色の顔料を混合した遮光膜について開示されている（例えば、特許文献３参照）が、導電性の観点から検討されたものであり、色相は黒となるものの紫外線領域の透過性が改善されてはいない。
【０００７】
また、特許文献４には、複数の色相の顔料を組合わせた遮光性感光性材料が開示されている。しかしながら、この場合は単純に遮光性を得るために複数の顔料を組合わせているもので、その遮光膜を深部まで硬化させうるものではなかった。
【０００８】
また、複数の有機顔料とカーボンとの混合や複数の有機顔料と有機黒色顔料の混合による遮光性材料について開示されている（例えば、特許文献５及び特許文献６参照）。これらは何れも遮光材料の導電性の観点から検討されたもので赤色と青色の組合せなどの、互いに補色関係にある顔料の混合による疑似黒色材にカーボン等の遮光材を、更に組合せることにより導電性の小さな、遮光性の高いブラックマトリックスを形成するものであり、セルフアライメントによる遮光性画像形成性については、未だ不十分であった。
【０００９】
更に、近年、技術の進歩に基づいて、例えば、ノートパソコン等においては、バックライトが明るくなり、カラーフィルタの濃度が高くなり、これに伴って遮光膜の光学濃度（ＯＤ）値を高くすることへの要望も高くなってきている。
【００１０】
【特許文献１】
特開昭６２−９３０１号公報
【特許文献２】
特開平３−２７４５０３号公報
【特許文献３】
特開平４−１３１０５号公報
【特許文献４】
特開昭６３−３０９９１６号公報
【特許文献５】
特開平４−４０４２０号公報
【特許文献６】
特開平４−１９０３６２号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来における前記問題を解決し、前記要望に応え、以下の課題を解決することを目的とする。即ち、本発明は、遮光性感光性樹脂組成物を用いて、所謂セルフアライメント方式によりカラー画像の非画素部の透明基板上に光学濃度（ＯＤ）値の高い遮光性画像を形成する方法、及び該遮光性画像の形成方法により作成される表示コントラストが大幅に向上したカラーフィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞　透明基板上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像を形成するカラー画像形成工程と、
前記カラー画像形成工程によりカラー画像を形成した面に遮光性感光性樹脂組成物からなる遮光性樹脂層を設ける遮光性樹脂層形成工程と、
前記透明基板を通して前記遮光性樹脂層を露光する遮光性樹脂層露光工程と、
現像処理を行い、少なくとも前記カラー画像形成工程で形成したカラー画像の非画素部の透明基板上に遮光性画像を形成する遮光性画像形成工程と、を含む遮光性画像の形成方法であって、
前記遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満の範囲であることを特徴とする遮光性画像の形成方法である。
該＜１＞に記載の遮光性画像の形成方法は、前記遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満の範囲となるように加熱処理を行う。即ち、露光中に加熱処理することにより、露光処理が促進され、十分な光学濃度（ＯＤ）値を有する遮光性画像を形成することができる。
【００１３】
＜２＞　前記遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度が、６０℃以上１００℃以下の範囲である請求項１に記載の遮光性画像の形成方法。
＜３＞　透明基板上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像を形成するカラー画像形成工程と、
前記カラー画像形成工程によりカラー画像を形成した面に遮光性感光性樹脂組成物からなる遮光性樹脂層を設ける遮光性樹脂層形成工程と、
前記透明基板を通して前記遮光性樹脂層を露光する遮光性樹脂層露光工程と、
現像処理を行い、少なくとも前記カラー画像形成工程で形成したカラー画像の非画素部の透明基板上に遮光性画像を形成する遮光性画像形成工程と、を含む遮光性画像の形成方法であって、
前記遮光性樹脂層露光工程の後、現像処理する前における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満の範囲であることを特徴とする遮光性画像の形成方法である。
該＜３＞に記載の遮光性画像の形成方法は、前記遮光性樹脂層露光工程の後、現像処理する前における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満の範囲である。即ち、露光後に加熱処理することにより、十分な光学濃度（ＯＤ）値を有する遮光性画像を形成することができる。
【００１４】
＜４＞　透明基板の温度が、９０℃以上１１０℃以下の範囲である前記＜３＞に記載の遮光性画像の形成方法である。
＜５＞　前記遮光性樹脂層露光工程において、現像パターニング面とは反対の透明基板面側から２０ｍＪ／ｃｍ２以上の条件で露光を行う前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の遮光性画像の形成方法である。
＜６＞　前記遮光性樹脂層形成工程において、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、遮光性樹脂層をこの順に設けた転写型フイルムを用いる前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の遮光性画像の形成方法である。
＜７＞　前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の方法により作成されたことを特徴とするカラーフィルタである。
＜８＞　遮光性画像部分の光学濃度（ＯＤ）値が２．６以上である前記＜７＞に記載のカラーフィルタである。
＜９＞　遮光性画像の厚みが、カラー画像の厚みと略同一の１．０〜３．０μｍである前記＜７＞又は＜８＞に記載のカラーフィルタである。
前記＜７＞から＜９＞のいずれかに記載のカラーフィルタは、前記本発明の遮光性画像の形成方法によって、十分な光学濃度（ＯＤ）値を有する遮光性画像をカラー画像の非画素部に形成することができる。このため、表示コントラストが大幅に向上した従来の課題を解決できるカラーフィルタを提供できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について更に詳しく説明する。
＜遮光性画像の形成方法＞
本発明の遮光性画像の形成方法は、第１の態様として、カラー画像形成工程と、遮光性樹脂層形成工程と、遮光性樹脂層露光工程と、遮光性画像形成工程と、を含み、前記遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満である。
また、本発明の遮光性画像の形成方法は、第２の態様として、カラー画像形成工程と、遮光性樹脂層形成工程と、遮光性樹脂層露光工程と、遮光性画像形成工程と、を含み、前記露光工程の後、現像処理する前に透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満である。
【００１６】
本発明の遮光性画像の形成方法は、例えば、図１（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、まず、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像３を透明基板５上に形成し、このカラー画像３及び非画素部３ａに遮光性樹脂層１を設ける（図１（Ａ）参照）。
次に、図１（Ｂ）に示したように、透明基板５を通して（現像パターニング面とは反対の透明基板側から）露光処理を行う（裏露光）。ここで、本発明においては、露光処理中、又は露光処理後直ちに、透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満となるように加熱処理を行う。
その後、図１（Ｃ）に示したように、遮光性樹脂層を現像処理することでカラー画像３の厚みと略同一であり、光学濃度（ＯＤ）値が２．６以上である遮光性画像１ｂを有するカラーフィルタが得られる。
【００１７】
（カラー画像形成工程）
前記ガラー画像形成工程では、透明基板上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像を形成する。
ここで、カラー画像の形成方法については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができ、例えば、染色法、電着法、顔料分散法、転写型フイルムを用いたラミネート法等が挙げられるが、前記染色法、電着法では、カラーフィルタの耐候性に問題があり、前記顔料分散法では、スピンコート法による成膜時において、顔料の選択や顔料によるアクティブマトリクス基板の汚染等が問題が生じやすいので、前記転写型フイルムを用いたラミネート方式による感光性樹脂層の形成方法が最も好ましい。
【００１８】
前記転写型フイルムを用いたラミネート方式は、例えば、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層をこの順に設けてなり、更に必要に応じて適宜選択したその他の層を有してなる転写型フイルムを用いることが好ましい。
【００１９】
−透明基板−
前記透明基板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができ、例えば、無色又は有色ガラス、強化ガラス等であって差し支えなく、無色又は有色の透明性樹脂、などが挙げられる。前記透明性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、等が挙げられる。ここで、透明とは、可視光領域において１０〜１００％の光透過率を有することを意味する。
【００２０】
また、透明基板上に透明電極層を積層させて製造される透明電極基板を用いることもできる。
前記透明電極層としては、例えば、金、銀、クロム、銅、タングステン等の金属薄膜、金属酸化物からなる導電膜などが使用できる。前記金属酸化物としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）、酸化錫、酸化銀、酸化亜鉛、酸化バナジウム等が挙げられる。また、ＴＦＴアクティブマトリクス基板を用いることもできる。
【００２１】
（遮光性樹脂層形成工程）
前記遮光性樹脂層形成工程においては、前記カラー画像形成工程によりカラー画像を形成した面に遮光性感光性樹脂組成物からなる遮光性樹脂層を設ける。
ここで、遮光性樹脂層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、遮光性樹脂層をこの順に設けた転写型フイルムを用いる、所謂セルフアライメント方式が好適である。
以下、転写型フイルムの各構成層及びこれらに含まれる構成成分について説明する。
【００２２】
−仮支持体−
前記仮支持体としては、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層に対して転写に支障とならない程度の剥離性を有するものが好ましく、化学的、熱的に安定で可撓性のものが好ましい。具体的には、テフロン（Ｒ）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の薄膜シート又はこれらの積層物が好適に挙げられる。
【００２３】
前記仮支持体とアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層との間に良好な剥離性を確保するために、グロー放電等の表面処理は施さず、また、ゼラチン等の下塗り層も設けないことが好ましい。
【００２４】
前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、２０〜１５０μｍが好ましい。
【００２５】
−アルカリ可溶な熱可塑性樹脂−
前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂は、仮支持体上に設けられ、主としてアルカリ可溶な熱可塑性樹脂を含んでなり、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。
また、前記反射板形成用転写材料は、前記仮支持体上にアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の他、樹脂層を順次積層して構成されるが、特に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と仮支持体との接着強度を他の層間における接着強度よりも大きくすることが好ましく、これにより、転写の際に仮支持体とアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層を剥がして樹脂層のみを転写することができる点で有利である。
【００２６】
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂が好ましい。
軟化点が８０℃以下の熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物等が挙げられ、一種単独よりなるものであっても、二種以上を併用したものであってもよい。
【００２７】
更に、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうち、アルカリ水溶液に可溶なものも使用できる。
【００２８】
また、軟化点８０℃以上の有機高分子物質であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することにより、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて使用することもできる。前記可塑剤としては、既述の光硬化性組成物に使用可能な可塑剤と同様のものが挙げられる。
【００２９】
前記有機高分子物質を用いる場合、後述の仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を超えない範囲で、各種ポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることもできる。
【００３０】
前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層は、前記熱可塑性樹脂と必要に応じて他の成分を有機溶剤に溶解して塗布液（アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層用塗布液）を調製し、例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等して形成することができる。
【００３１】
前記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキンプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；等が挙げられる。
これらの有機溶剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組合わせて用いてもよい。
【００３２】
これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜形成性の点で、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエステル類、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類が特に好適である。
【００３３】
更に、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。
前記熱可塑性樹脂の層厚としては、０．５〜１００μｍが好ましく、３〜５０μｍがより好ましい。
【００３４】
−遮光性樹脂層−
前記遮光性樹脂層は、下記に詳しく説明する遮光性感光性樹脂組成物により好適に形成することができる。
【００３５】
（（遮光性感光性樹脂組成物））
本発明の遮光性感光性樹脂組成物は、重合性モノマーと（メタ）アクリル酸含有重合体と重合開始剤とを含み、ネガ型の光重合系やポジ型の光重合系のいずれも使用可能である。
この樹脂組成物は、少なくとも温度１５０℃以下で軟化若しくは粘着性を有する熱可塑性の樹脂組成物であり、未照射部ではアルカリ溶液に対して易溶性を有し、着色剤を含むものである。また、必要に応じて、熱可塑性の結合剤、相溶性の可塑剤等のその他の成分を含んでなる。
【００３６】
−重合性モノマー−
前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する付加重合可能な化合物であり、後述の（メタ）アクリル酸含有重合体のアルカリ溶解性を損なわず、光照射時に重合し、（メタ）アクリル酸含有重合体と共にアルカリ水溶液に対する溶解性を減少させるものである。
【００３７】
前記重合性モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を１分子中に２個以上有する化合物の中から適宜選択でき、例えば、モノマー、プレポリマー、即ち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物、若しくはこれらの共重合体等の化学構造を持つものが含まれる。
【００３８】
具体的には、例えば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。
【００３９】
前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（モノマー）としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステルなどが挙げられる。
【００４０】
前記アクリル酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンテルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマーなどが挙げられる。
【００４１】
前記メタクリル酸エステルとしては、例えば、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタンなどが挙げられる。
【００４２】
前記イタコン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネートなどが挙げられる。
【００４３】
前記クロトン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネートなどが挙げられる。
【００４４】
前記イソクロトン酸エステルとして、例えば、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネートなどが挙げられる。
【００４５】
前記マレイン酸エステルとして、例えば、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレー卜などが挙げられる。
なお、更に、前述の各種エステルの混合物も挙げることができる。
【００４６】
前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド（モノマー）としては、例えば、メチレンビス−アクリルアミド、メチレシビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミドなどが挙げられる。
【００４７】
その他の例としては、特公昭４８−４１７０８号公報に記載の、１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ｉ）で表される水酸基含有ビニルモノマーを付加せしめた、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物などが挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ１）ＯＨ　　　　　　　　　　　（Ｉ）
〔式中、Ｒ及びＲ１は、Ｈ又はＣＨ３を表す。〕
【００４８】
また、特開昭５１−３７１９３号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載の、ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会誌（ｖｏ１．２０、Ｎｏ．７、ｐ．３００〜３０８（１９８４年））に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【００４９】
前記重合性モノマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの含有量としては、遮光性感光性樹脂組成物の全固形分の１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。
【００５０】
また、後述の（メタ）アクリル酸含有重合体の総量に対する前記重合性モノマーの総量の質量比が０．５〜０．９である。
前記質量比が、０．５未満であると、光重合による硬化が不十分で硬度が不足する。一方、０．９を超えると、好ましい形状が得られない。
【００５１】
−（メタ）アクリル酸含有重合体−
前記（メタ）アクリル酸含有重合体は、主にバインダー成分として含有され、アルカリ溶液により現像可能なものである。
前記（メタ）アクリル酸含有重合体としては、一般に、側鎖にカルボン酸基を有するポリマー、例えば、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などが挙げられる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げられる。
【００５２】
上記のほか、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好適に挙げられる。特に、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載の、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸の共重合体やベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。更に、アルコール可溶性ナイロンも挙げることができる。
また、複数の（メタ）アクリル酸含有重合体を組合わせて使用してもよい。
【００５３】
前記（メタ）アクリル酸含有重合体は、通常、５０〜３００ｍｇＫＯＨ／１ｇの範囲の酸価と、１０００〜３０００００の範囲の質量平均分子量を有するものの中から適宜選択して使用される。
前記酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／１ｇ未満であると、アルカリ現像性が大きく低下することがあり、一方、３００ｍｇＫＯＨ／１ｇを超えると、目標とする構造体が得られなくなることがある。
【００５４】
前記（メタ）アクリル酸含有重合体の質量平均分子量としては、上記の通り、１０００〜３０００００が好ましく、中でも特に１００００〜２５００００が好ましい。
前記質量平均分子量が、１０００未満であると、目標とする構造体が得られなくなることがあり、一方、３０００００を超えると、現像性が極端に低下することがある。なお、質量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエイションクロマトグラフィー）により測定したポリスチレン換算平均分子量である。
【００５５】
前記（メタ）アクリル酸含有重合体の含有量としては、遮光性感光性樹脂組成物の全固形分の２０〜６０質量％が好ましく、３０〜５５質量％がより好ましい。
（メタ）アクリル酸含有重合体の含有量が、２０質量％未満であると、遮光性感光性樹脂組成物を支持体等上に塗布する際に膜形成が困難となることがあり、一方、６０質量％を超えると、重合性モノマーの含有比が少なくなり、重合不良となることがある。
【００５６】
−重合開始剤−
前記重合開始剤は、重合性モノマーの光重合を実質的に開始させることのできるものであり、前記重合性モノマーの重合反応を開始させる能力を持つ化合物は全て使用可能である。中でも特に、約３００〜５００ｎｍの波長領域に、少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種を含有し、紫外線領域の光線に対して感光性を有することが好ましい。
【００５７】
前記重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体、ケトン化合物、ケトオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、特開平２−４８６６４号公報、特開平１−１５２４４９号公報、特開平２−１５３３５３号公報に記載の、芳香族ケトン類、ロフィン２量体、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類、ポリハロゲン類、及びこれら２種以上の組合せなどが挙げられる。
【００５８】
これらの中でも、光感度、保存性、基板への密着性等に優れる点で、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物、ケトオキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンと２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体の組合わせ、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン〕を用いた系が好ましい。
【００５９】
前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（若林ら著、１９６９）に記載の化合物〔例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン等〕；英国特許第１３８８４９２号明細書に記載の化合物〔例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン等〕；特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の化合物〔例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン等〕；独国特許第３３３７０２４号明細書に記載の化合物〔例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｐ−メトキシスチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等〕；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等、２９、１５２７（１９６４））に記載の化合物〔例えば、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリブロモメチル−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン等〕；特開昭６２−５８２４１号公報に記載の化合物〔例えば、２−（４−フェニルアセチレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−アセチレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｐ−トリルアセチレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｐ−メトキシフェニルアセチレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｐ−イソプロピルフェニルアセチレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｐ−エチルフェニルアセチレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等〕；特開平５−２８１７２８号公報に記載の化合物〔例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等〕、等を挙げることができる。
【００６０】
前記ケトオキシム化合物としては、例えば、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
【００６１】
【化１】
2004109341.tif 000002
【００６２】
前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい。なお、Ｒ４及びＲ５は互いに結合して環を形成していてもよく、この場合、該環が−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｓ−及び−ＳＯ２−より選択される少なくとも一種の２価の基を環の連結主鎖として含んでいてもよい炭素数２〜８のアルキレン基を表す。
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよく、不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基、置換カルボニル基を表す。
【００６３】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
例えば、ｐ−メトキシフェニル−２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルケトンオキシム−Ｏ−アリルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−アリルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ベンジルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ｎ−ブチルエーテル、ｐ−モルフォリノフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−アリルエーテル、ｐ−メトキシフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ｎ−ドデシルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシエトキシエチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ｐ−メトキシカルボニルベンジルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシカルボニルメチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−エトキシカルボニルメチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−４−ブトキシカルボニルブチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−２−エトキシカルボニルエチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシカルボエル−３−プロペニルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル−２−モルフォリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ベンジルオキシカルボニルメチルエーテルなどが挙げられる。
【００６４】
前記ヘキサアリールビイミダゾールとしては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールなどが挙げられる。
これらのビイミダゾール類は、例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，３３，５６５（１９６０）及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，３６（１６）２２６２（１９７１）に記載の方法により容易に合成することができる。
【００６５】
前記ケトオキシムエーテルとしては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。
【００６６】
前記重合開始剤は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよく、また異種間で数個の化合物を併用することも可能である。
前記重合開始剤の含有量としては、遮光性感光性樹脂組成物の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましい。
【００６７】
−染料、顔料等の着色剤−
前記遮光性感光性樹脂組成物に用いられる着色剤としては、赤色、緑色、青色、黄色、紫色、マゼンタ色、シアン色、黒色の顔料、および染料が用いられるが、好ましい顔料の例として、下記のものが挙げられる。
【００６８】
赤（Ｒ）顔料としては、モノアゾ系、ディスアゾ系、キサンテン系、アンスラキノン系、ペリレン系、ペリノン系、キナクリドン系及びピランスロン系有機もしくは無機顔料が挙げられる。これらの中では、アンスラキノン系顔料が好ましい。
【００６９】
緑（Ｇ）顔料としては、トリフェニルメタン系、フタロシアニン系、ニトロソ系、インダミン系、モノアゾ系及びアンスラキノン系の有機もしくは無機顔料が挙げられる。これらの中では、フタロシアニン系顔料が好ましい。
【００７０】
青（Ｂ）顔料としては、トリフェニルメタン系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、トリアリールメタン系、ディスアゾ系及びインジゴイド系の有機もしくは無機顔料が挙げられる。これらの中では、フタロシアニン系顔料が好ましい。
【００７１】
黄（Ｙ）顔料としては、モノアゾ系、ディスアゾ系、アンスラキノン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ベンズイミダゾロン系及びジオキシム系の有機もしくは無機顔料が用いられる。これらの中では、イソインドリノン系顔料が好ましい。
【００７２】
紫顔料としては、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アンスラキノン系、モノアゾ系、ジオキサジン系、キナクリドン系、インジゴイド系及びペリレン系の有機もしくは無機顔料が挙げられる。これらの中では、ジオキサジン系の顔料が好ましい。
【００７３】
黒（Ｋ）顔料としては、カーボン系の顔料が好ましい。
【００７４】
前記着色剤の好ましい具体例としては、例えば、カーミン６Ｂ（Ｃ．Ｉ．１２４９０）、フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．７４２６０）、フタロシアニンブルー（Ｃ．Ｉ．７４１６０）、三菱カーボンブラックＭＡ−１００、ペリレンブラック（ＢＡＳＦ　Ｋ００８４、Ｋ００８６）、シアニンブラック、＃１２０１リオノールイエロー（Ｃ．Ｉ．２１０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（Ｃ．Ｉ．２１０９０）、シムラ−ファーストイエロー８ＧＦ（Ｃ．Ｉ．２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（Ｃ．Ｉ．２１０９５）、シムラ−ファーストレッド４０１５（Ｃ．Ｉ．１２３５５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（Ｃ．Ｉ．１５８５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、三菱カーボンブラックＭＡ−１００、三菱カーボンブラック＃４０、ビクトリアピュアブルー（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミンＯ（Ｃ．Ｉ．４１０００）、カロチンブリリアントフラビン（Ｃ．Ｉ．ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（Ｃ．Ｉ．４５１６０）、ローダミンＢ（Ｃ．Ｉ．４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（Ｃ．Ｉ．５０２４０）、エリオグラウシンＸ（Ｃ．Ｉ．４２０８０）、ファーストブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３等を挙げることができる。この他金属粉、白色顔料、蛍光顔料なども用いられる。これらの着色剤を２種類以上混合して色相的に黒色になるように用いる。
【００７５】
これらの着色剤を混合する際の組合わせや混合比は、その遮光性感光性樹脂組成物が、色相的には黒色に等しいか、あるいは、近く、かつ、遮光性感光性樹脂組成物層の膜厚が１〜３μｍの時、可視光領域の透過性が２以下で、かつ、可視光領域の透過性と紫外光領域の透過性の比が１：１から２０：１になるように選択される。
【００７６】
好ましい着色剤の組合わせとしては、赤色系と青色系の互いに補色関係にある顔料混合物と黄色系と紫色系の互いに補色関係にある顔料混合物との組合せや上記の混合物に更に黒色の顔料を加えた組み合わせである。
【００７７】
前記着色剤の添加量は、遮光性感光性樹脂組成物の全固形分の０．１〜３０質量％が好ましい。
【００７８】
−その他の成分−
前記遮光性感光性樹脂組成物には、他の成分として、熱可塑性の結合剤、相溶性の可塑剤等の成分を含有してもよい。
【００７９】
前記熱可塑性の結合剤としては、例えば、エチレン性不飽和化合物等の公知の結合剤が挙げられる。
【００８０】
前記相溶性の可塑剤としては、例えば、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジフェニルフォスフェートなどが挙げられる。
前記結合剤及び可塑剤の添加量としては、本発明の効果を損なわない範囲で加えることができる。
【００８１】
前記遮光性樹脂層は、前記各成分を必要に応じて有機溶剤に溶解して塗布液（遮光性感光性樹脂組成物塗布用塗布液）を調製し、公知の塗布方法により、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の上に塗布等して形成することができる。
前記有機溶剤としては、特に制限はなく、前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層用塗布液の調製に使用可能なものと同様のものを用いることができる。
【００８２】
前記遮光性樹脂層の層厚としては、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜６μｍがより好ましい。
前記遮光性樹脂層の層厚が、０．５μｍ未満であると、遮光性樹脂層用塗布液の塗布時にピンホールが発生しやすく、製造適性が低下することがあり、一方、１０μｍを超えると、現像時に未露光部を除去するのに長時間を要することがある。
【００８３】
−中間層−
前記反射板形成用転写材料は、必要に応じて、前記遮光性樹脂層と前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層との間に中間層を設けることができる。前記遮光性樹脂層とアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層との形成においては有機溶剤を用いるため、該中間層がその間に位置すると、両層が互いに混ざり合うのを防止することができる。
また、前記中間層は、その酸素遮断能が低下すると、遮光性樹脂層の重合感度が低下して、露光時の光量をアップしたり、露光時間を長くする必要が生ずるばかりか、解像度も低下することになるため、酸素透過性の小さいことが好ましい。
【００８４】
前記中間層は、水又はアルカリ水溶液に分散、溶解可能な樹脂成分を主に構成され、必要に応じて、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよい。
前記中間層を構成する樹脂成分としては、公知のものを使用することができ、例えば、特開昭４６−２１２１号公報及び特公昭５６−４０８２４号公報に記載のポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、などが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも親水性高分子を使用するのが好ましく、該親水性高分子の中でも、少なくともポリビニルアルコールを使用するのが好ましく、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの併用が特に好ましい。
【００８５】
前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その鹸化率が８０％以上であるのが好ましい。
前記ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量としては、該中間層の固形分に対し、１〜７５体積％であるのが好ましく、１〜６０体積％であるのがより好ましく、１０〜５０体積％であるのが特に好ましい。
前記含有量が、１体積％未満であると、前記遮光性樹脂層との十分な密着性が得られないことがあり、一方、７５体積％を超えると、酸素遮断能が低下することがあり、好ましくない。
【００８６】
前記中間層は、前記樹脂成分等を水系溶媒に溶解、分散して塗布液（中間層用塗布液）を調製し、例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法により前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層上に塗布等して形成することができる。前記水系溶媒としては、蒸留水等の水を主成分とし、所望により本発明の効果を損なわない範囲でアルコール等の水と親和性のある溶剤や塩等を添加した溶媒が挙げられる。
【００８７】
前記中間層の層厚としては、約０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。前記層厚が、約０．１μｍ未満であると、酸素透過性が高すぎて遮光性樹脂層の重合感度が低下することがあり、一方、約５μｍを超えると、現像や中間層除去時に長時間を要することがある。
【００８８】
−カバーフィルム−
前記遮光性樹脂層上には、保管等の際の汚れや損傷から保護する目的で、カバーフィルムを設けることが好ましい。カバーフィルムは、遮光性樹脂層から容易に剥離可能なものの中から選択でき、前記仮支持体と同一又は類似の材料からなるものであってもよい。
具体的には、シリコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシート等が好ましく、中でも、ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムがより好ましい。
【００８９】
前記カバーフィルムの厚みとしては、約５〜１００μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。
【００９０】
後述のように、転写材料を被転写体である基板上に密着させ、転写材料の仮支持体を剥離する過程では、仮支持体や基板等が帯電する結果、周囲のゴミ等を引き寄せ、剥離後の遮光性樹脂層上にゴミ等が付着して、その後の露光過程で未露光部ができ、その部分がピンホールを形成する要因となることから、帯電を防止する目的で、仮支持体の少なくとも一方の表面に導電性層を設けたり、或いは導電性を付与した仮支持体を用いることにより、その表面電気抵抗を１０１３Ω以下に下げることが好ましい。
【００９１】
仮支持体に導電性を付与するには、仮支持体中に導電性物質を含有させればよい。例えば、金属酸化物の微粒子や帯電防止剤を予め練り込んでおく方法が好適である。
前記金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリブデン等の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸化物の微粒子が挙げられる。
【００９２】
前記帯電防止剤としては、エレクトロストリッパーＡ（花王（株）製）、エレノンＮｏ．１９（第一工業製薬（株）製）等のアルキル燐酸塩系アニオン界面活性剤；アモーゲンＫ（第一工業製薬（株）製）等のベタイン系両性界面活性剤；ニッサンノニオンＬ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル系非イオン界面活性剤；エマルゲン１０６、１２０、１４７、４２０、２２０、９０５、９１０（花王（株）製）やニッサンノニオンＥ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレンアルキルエーテル系非イオン界面活性剤、等が好適である。その他、非イオン界面活性剤として、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系等のものが挙げられる。
【００９３】
仮支持体上に導電性層を設ける場合には、導電性層としては公知のものの中から、適宜選択して用いることができる。導電性層に用いる導電性物質として、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ３等から選ばれる少なくとも１種の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸化物の微粒子等が挙げられる。これらを含有させて用いる方法が湿度環境に影響されない、安定した導電効果を有する点で好ましい。
【００９４】
前記結晶性金属酸化物又はその複合酸化物の微粒子の体積抵抗値としては、１０７Ω・ｃｍ以下が好ましく、１０５Ω・ｃｍ以下がより好ましい。また、その粒子径としては、０．０１〜０．７μｍが好ましく、０．０２〜０．５μｍがより好ましい。
【００９５】
上記結晶性金属酸化物及びその複合酸化物の微粒子の製造方法は、特開昭５６−１４３４３０号公報に詳細に記載されている。即ち、第１に、金属酸化物微粒子を焼成により作製し、導電性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する方法、第２に、焼成により金属酸化物微粒子を製造する際に導電性を向上させるための異種原子を共存させる方法、第３に、焼成により金属微粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等が記載されている。異種原子を含む具体例としては、ＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ等、ＴｉＯ２に対してＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ２に対してＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等を存在させることが挙げられる。
【００９６】
異種原子の添加量としては、０．０１〜３０ｍｏｌ％が好ましく、０．１〜１０ｍｏｌ％がより好ましい。導電性粒子の使用量としては、０．０５〜２０ｇ／ｍ２が好ましく、０．１〜１０ｇ／ｍ２がより好ましい。
【００９７】
転写材料に設ける導電性層には、バインダーとして、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；塩化ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、炭素数１〜４のアルキルアクリレート、ビニルピロリドン等を含むホモポリマー又は共重合体；可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を使用することができる。
【００９８】
これらのバインダー中に導電性粒子を分散する場合、チタン系分散剤又はシラン系分散剤等の分散液を添加してもよい。また、必要に応じて、バインダー架橋剤等を添加することもできる。
【００９９】
前記チタン系分散剤としては、例えば、米国特許第４，０６９，１９２号公報、同第４，０８０，３５３号公報等に記載の、チタネート系カップリング剤、プレンアクト（味の素（株）製）などが挙げられる。
前記シラン系分散剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、「シランカップリング剤」（信越化学工業（株）製）として市販されている。
前記バインダー架橋剤としては、例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤などが挙げられる。
【０１００】
前記導電性層は、導電性微粒子をバインダー中に分散させて仮支持体上に塗設したり、又は仮支持体上に下引処理（例えば、下塗り層等）を施した上に導電性微粒子を付着させることにより設けることができる。
【０１０１】
前記導電性層は、仮支持体の遮光性樹脂層を塗設した面とは反対の表面上に設けてもよく、この場合には、十分な耐傷性を確保する目的で、導電性層上に更に疎水性重合体層を設けることが好ましい。この疎水性重合体層は、疎水性重合体を有機溶剤に溶解した状態又は水性ラテックスの状態で塗布すればよく、その塗布量としては、乾燥質量で０．０５〜１ｇ／ｍ２程度が好ましい。
【０１０２】
前記疎水性重合体としては、例えば、ニトロセルロース、セルロースアセテート等のセルロースエステル；塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレート等を含むビニル系ポリマー；有機溶剤可溶性ポリアミド、ポリエステル等のポリマーを挙げることができる。
【０１０３】
前記疎水性重合体層には、スベリ性を付与する目的で、例えば、特開昭５５−７９４３５号公報に記載の有機カルボン酸アミド等のスベリ剤を使用することができる。また、必要に応じて、マット剤等を使用することもできる。このような疎水性重合体層を設けても、導電性層の効果は実質的に影響を受けない。
【０１０４】
下塗り層を設ける場合、特開昭５１−１３５５２６号公報、米国特許第３，１４３，４２１号公報、同第３，５８６，５０８号公報、同第２，６９８，２３５号公報、同第３，５６７，４５２号公報等に記載の塩化ビニリデン系共重合体、特開昭５１−１１４１２０号公報、米国特許第３，６１５，５５６号公報等に記載のブタジエン等のジオレフイン系共重合体、特開昭５１−５８４６９号公報等に記載のグリシジルアクリレート又はグリシジルメタアクリレート含有共重合体、特開昭４８−２４９２３号公報等に記載のポリアミド・エピクロルヒドリン樹脂、特開昭５０−３９５３６号公報に記載の無水マレイン酸含有共重合体等を用いることができる。
【０１０５】
本発明においては、特開昭５６−８２５０４号公報、特開昭５６−１４３４４３号公報、特開昭５７−１０４９３１号公報、特開昭５７−１１８２４２号公報、特開昭５８−６２６４７号公報、特開昭６０−２５８５４１号公報等に記載の導電性層も必要に応じて用いることができる。
【０１０６】
仮支持体上に、導電性層を塗布する場合、ローラーコート、エアナイフコート、グラビアコート、バーコート、カーテンコート等の公知の方法により塗布することができる。十分な帯電防止効果を得るためには、導電性層又は導電性を付与した仮支持体の表面電気抵抗値を、１０１３Ω以下とすることが好ましく、１０１２Ω以下とすることがより好ましい。
【０１０７】
また、遮光性樹脂層の仮支持体との強固な接着を防止するため、仮支持体面に公知の微粒子を含有する滑り剤組成物、シリコーン化合物を含有する離型剤組成物等を塗布することもできる。
【０１０８】
仮支持体のアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層を設けない側の表面に導電性層を設ける場合には、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と仮支持体との接着性を向上する目的で、仮支持体に、例えば、グロー放電処理、コロナ処理、紫外線照射処理等の表面処理、フェノール性物質、ポリ塩化ビニリデン樹脂、スチレンブタジエンゴム、ゼラチン等の下塗り処理又はこれらの処理を組み合わせた処理を施すことができる。
【０１０９】
仮支持体用のフイルムは押し出し形成により形成することが可能であるが、導電性物質又は導電性層を仮支持体と同一又は異質のプラスチック原料に含有させ、前記フイルムと同時に押し出し形成した場合には、接着性、耐傷性に優れた導電性層を容易に得ることができる。この場合、前記疎水性重合体層や下塗り層を設ける必要はなく、転写材料を構成する導電性付与仮支持体として最も好ましい実施形態である。
【０１１０】
（遮光性樹脂層露光工程）
前記遮光性樹脂層露光工程では、透明基板を通して（現像パターニング面とは反対の透明基板側から）前記遮光性樹脂層を露光する（裏露光）。
前記裏露光の条件は、２０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、４０〜２００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
【０１１１】
ここで、本発明においては、遮光性樹脂層露光工程における透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満であり、６０℃以上１００℃以下がより好ましい。
また、前記遮光性樹脂層露光工程の後、現像処理する前に透明基板の温度が、４０℃以上１３０℃未満であり、９０℃以上１１０℃以下がより好ましい。
加熱方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができ、例えば、ホットプレートを用いて加熱する方法、空気循環型加熱槽を用いる方法、（遠）赤外線加熱装置を用いる方法、などが挙げられる。
【０１１２】
（遮光性画像形成工程）
前記遮光性樹脂層露光工程では、現像処理を行い、少なくとも前記カラー画像形成工程で形成したカラー画像の非画素部の透明基板上に遮光性画像を形成する。
前記感光性樹脂層の未硬化部分を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。該現像処理の後に蒸留水、イオン交換水、超純粋等による水洗工程を入れることが好ましい。
【０１１３】
ここで、使用される現像液は、特に制約はなく、公知の現像液を使用することができるが、現像液は感光性樹脂層を溶解する現像挙動をするものが好ましい。現像液としては、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含む現像液が好ましいが、さらに水と混和性を有す有機溶剤を少量添加しても良い。現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。水と混和性を有する有機溶剤は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等がある。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％である。さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。現像方式は、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等である。
【０１１４】
＜カラーフィルタ＞
本発明のカラーフィルタは、前記本発明の遮光性画像の形成方法により得られる。
前記カラーフィルタの遮光性画像部分の光学濃度（ＯＤ）値は２．６以上が好ましく、３以上がより好ましい。
前記光学濃度が２．６未満では、ＬＣＤに組んだ場合のコントラストが低くなる場合がある。
ここで、前記光学濃度（ＯＤ；オプティカルデンシティ）値は、ブラックマトリクスなどの色の黒い部分の光の透過率を示し、ＯＤ値が大きくなれば、光が透過し難いことを意味する。
【０１１５】
本発明のカラーフィルタにおいては、カラー画像の厚みと遮光性画像の厚みが略同一であり、より好ましくは、同一厚みであることが好ましい。このようにカラー画像と遮光性画像とが断差のないことが良好な画像を得る上で好ましい。なお、前記遮光性画像の厚みは、１．０〜３．０μｍが好ましく、１．５〜２．７μｍがより好ましい。
【０１１６】
【実施例】
以下、実施例を示し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
【０１１７】
（実施例１）
〔一体型フイルムの作成〕
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム仮支持体に下記の処方Ｈ１、Ｂ１からなる塗布液を塗り付け、更に、下記感光性樹脂層溶液Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｓのいずれかを塗り付け乾燥させた。その結果、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と乾燥膜厚が１．６μｍの酸素遮断膜と各種乾燥膜厚（Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂは２μｍ、Ｓは２．８μｍ）の感光層が形成され、その表面を保護フイルムでカバーした。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜と感光層が一体となったフイルムを作成し、それぞれの一体型フイルムのサンプル名を、使用した感光性樹脂層溶液の記号Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｓとした。
【０１１８】
＜熱可塑性樹脂層処方Ｈ１＞
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体　　　　　　　　　　　　　　３００質量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体　　　　　　　　　８０質量部
・フタル酸ジブチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【０１１９】
＜酸素遮断膜処方Ｂ１＞
・ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　　２００質量部（水を適宜添加）
【０１２０】
＜感光性樹脂層溶液Ｋ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体　　　　　　　　６０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート　　　　　　　　　　　４０質量部
・ミヒラーズケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３質量部
・２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルアミダジール二量体３質量部
・カーボンブラック　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６質量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【０１２１】
＜感光性樹脂層溶液Ｒ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体　　　　　　　　３２質量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　　　　　　　　　　３１質量部
・光重合開始剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．５質量部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサ
ジアゾール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−　ジエチルアミ
ノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン・フェノチアジン０．１質量部
・ＰＲ２５４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．６質量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【０１２２】
＜感光性樹脂層溶液Ｇ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体　　　　　　　　３２質量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　　　　　　　　　　３１質量部
・光重合開始剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．５質量部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサ
ジアゾール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．８質量部
・７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルアミノ
）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン　　　　　　　　０．１質量部
・ＰＹ１３８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．１質量部
・ＰＧ３６　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【０１２３】
＜感光性樹脂層溶液Ｂ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体　　　　　　　　３２質量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　　　　　　　　　　３１質量部
・光重合開始剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．５質量部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサ
ジアゾール・フェノチアジン　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２質量部
・ＰＢ１５：６　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２４質量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【０１２４】
2004109341.tif 000003
【０１２５】
＜基板の洗浄＞
縦３２０ｍｍ×横４００ｍｍのアクティブマトリクス基板を、室温の超純水中で超音波洗浄１分後、エアーブローで水切り後、乾燥した。
【０１２６】
＜樹脂層の形成＞
前記一体型フイルムＲ（感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）は１．５）の保護フイルムを剥離後、ラミネートした。超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機で、露光マスク下面と該感光性フイルムの間の距離（本実施例ではこの距離を「プロキシ量」と呼ぶことにする）を６０μｍに設定し、露光量３０ｍＪでパターン露光した後、下記組成の現像液Ｐ１にて３８℃で３５秒シャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
【０１２７】
−現像液Ｐ１の組成−
・超純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９７質量部
・トリエタノールアミン　　　　　３質量部（アルカリ金属濃度　５０ｐｐｂ）
【０１２８】
引き続き、下記組成の現像液Ｃ１を用いて３３℃で２６秒シャワー現像し感光性樹脂層を現像し、パターン画像を得た。
−現像液Ｃ１−
・モノエタノールアミン　　　　　　　　　　　　　　　　０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｐｐｂ
・界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５ｇ／Ｌ
【０１２９】
前記一体型フイルムＧ、Ｂを用いて、上記同様にして、基板上にＲＧＢのカラー画像を形成した。
次に、得られたカラー画像上に、前記一体型フィルムＫをラミネートした。得られたサンプルをホットプレートで透明電極の温度が２０℃、６０℃、８０℃、及び１００℃になるように２分間加熱した後、各温度を維持した状態で露光処理を行った。露光処理は、現像パターニング面とは反対の基板ガラス面側（裏露光）から超高圧水銀灯で５０ｍＪ／ｃｍ２の光で露光した。
露光後、引き続き、下記組成の現像液Ｃ２を用いて３３℃で２６秒シャワー現像し遮光性樹脂層を現像し、厚さ２．４μｍの遮光性画像を有するカラーフィルタを作成した。
−現像液Ｃ２−
・モノエタノールアミン　　　　　　　　　　　　　　　　０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｐｐｂ
・界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．８ｇ／Ｌ
【０１３０】
この実施例１のカラーフィルタについて、光学濃度（ＯＤ）値を、顕微分光光度計で測定した。結果を図２に示す。
【０１３１】
図２の結果から、露光中に透明基板の温度を４０℃以上１３０℃未満の範囲、より好ましくは６０℃以上１００℃以下の範囲に加熱することにより、遮光画像の光学濃度（ＯＤ）値を２．６以上とすることができることが確認できた。なお、加熱温度が１３０℃を超えると遮光性樹脂層に熱重合が生じて現像不能となってしまう。
【０１３２】
（実施例２）
実施例１において、同様に一体型フイルムＲ、Ｇ、Ｂを用いて、基板上にＲＧＢのカラー画像を形成した。
次に、得られたカラー画像上に、前記一体型フィルムＫをラミネートした。得られたサンプルを、現像パターニング面とは反対の基板ガラス面側（裏露光）から超高圧水銀灯で５０ｍＪ／ｃｍ２の光で露光処理した。露光後直ちに、ホットプレートで透明電極の温度が２０℃、６０℃、８０℃、１００℃、１１０℃及び１２０℃になるように３分間加熱、又は透明電極の温度が２０℃、６０℃、８０℃となるように１分間加熱した後、下記組成の現像液Ｃ２を用いて３３℃で２６秒シャワー現像し遮光性樹脂層を現像し、厚さ２．０μｍの遮光性画像を有するカラーフィルタを作成した。
−現像液Ｃ２−
・モノエタノールアミン　　　　　　　　　　　　　　　　０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｐｐｂ
・界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．８ｇ／Ｌ
【０１３３】
得られた実施例２のカラーフィルタについて、光学濃度（ＯＤ）値を、顕微分光光度計で測定した。結果を図３に示す。
【０１３４】
図３の結果から、露光中に透明基板の温度を４０℃以上１３０℃未満の範囲、より好ましくは９０℃以上１２０℃以下の範囲に加熱することにより、遮光画像の光学濃度（ＯＤ）値を２．６以上とすることができることが確認できた。なお、加熱温度が１３０℃を超えると遮光性樹脂層に熱重合が生じて現像不能となってしまう。
【０１３５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、遮光性感光性樹脂組成物を用いて、所謂セルフアライメント方式によりカラー画像の非画素部の透明基板上に光学濃度（ＯＤ）値の高い遮光性画像を形成することができ、表示コントラストが幅に向上したカラーフィルタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の遮光性画像の形成方法を示す概略断面図である。
【図２】図２は、実施例１における露光中における加熱時間と遮光性画像のＯＤとの関係を示すグラフである。
【図３】図３は、実施例２における露光後の加熱時間と遮光性画像のＯＤとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１　　　遮光性樹脂層
１ａ　　非画素部
１ｂ　　遮光性画像
３　　　カラー画像
５　　　透明基板
【図１】
2004109341.tif 000004
【図２】
2004109341.tif 000005
【図３】
2004109341.tif 000006