(57)【要約】【課題】例えば半導体生産工場などのクリーンルームで、、空気中の特定物質（特定の微細な粒子。例えば、ホコリなどのパーティクル、ボロン化合物、酸性物質、アルカリ性物質、有機化合物やガス状物質など）の除去度合いを向上する。ここにおいて、ケミカル汚染物質の取入れ時、ルーム内発生時、循環時等の各状況をリアルタイムに監視し、常に一定の濃度以下に維持すると同時に、急変や増加が生じても即時に対応処置し、生産品の不良を最小限に抑えることが要求されている。【解決手段】ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに空気中のケミカル汚染物質を検出し、この検出を受けた制御装置によって空気清浄化装置内の集塵型フィルタとケミカルフィルタとへ分岐する空気の各通路の通気量を演算し、この演算された通気量に応じて通気路開閉手段を制御する。【選択図】  図１
2004263985.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに空気中のケミカル汚染物質を検出し、
この検出を受けた制御装置によって空気清浄化装置内の集塵型フィルタとケミカルフィルタとへ分岐する前記空気の各通路の通気量を演算し、
この演算された前記通気量に応じて通気路開閉手段を制御することを特長とする空気清浄化方法。
【請求項２】
リアルタイムに前記空気中の前記ケミカル汚染物質を検出する前記ケミカル汚染検出センサと、
前記ケミカル汚染検出センサの検出を受けて前記空気清浄化装置内の前記集塵型フィルタと前記ケミカルフィルタとへ分岐する前記空気の前記通気路開閉手段を制御する前記制御装置とを具備することを特長とする空気清浄化装置。
【請求項３】
前記ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに前記空気中の前記ケミカル汚染物質を検出し、
この検出を受けた前記制御装置によって前記ケミカルフィルタの光触媒フィルタおよび紫外線ランプの回動を制御することを特長とする請求項１に記載の空気清浄化方法。
【請求項４】
前記ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに前記空気中の前記ケミカル汚染物質を検出し、
この検出を受けた前記制御装置によって前記ケミカルフィルタの前記光触媒フィルタまたは前記紫外線ランプのいずれかの回動を制御することを特長とする請求項１に記載の空気清浄化方法。
【請求項５】
前記制御装置によって制御される前記光触媒フィルタの回動は、
前記光触媒フィルタの駆動装置の回転数、回転方向、回転時間とすることを特長とする請求項１、請求項３または４に記載の空気清浄化方法。
【請求項６】
前記制御装置によって制御される前記紫外線ランプの回動は、前記紫外線ランプの駆動装置の回転数、回転方向、回転時間とすることを特長とする請求項１、請求項３または４に記載の空気清浄化方法。
【請求項７】
前記ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに前記空気中の前記ケミカル汚染物質を検出し、
この検出を受けた前記制御装置によって前記空気清浄化装置内のエアファンの回動を制御することを特長とする請求項１、請求項２に記載の空気清浄化方法とその装置。
【請求項８】
前記空気中のケミカル汚染物質を検出する前記ケミカル汚染検出センサは、
少なくとも給気、環気、外気の各前記ケミカル汚染物質を検出することを特長とする請求項１、請求項３または４、請求項５、請求項６に記載の空気清浄化方法。
【請求項９】
前記ケミカルフィルタの前記光触媒フィルタの最外径は、
区画壁の内径よりも大きな径として構成したことを特長とする請求項２に記載の空気清浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高度なクリーン度を要求される空間において、ケミカル汚染物質を検出した時に、制御装置によってリアルタイムにこのケミカル汚染物質を除去する空気清浄化方法とその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば半導体生産工場などのクリーンルームにおいては、高度のクリーン度を維持するために、該ルーム内の空気を常に循環させたり、外気を取り入れたりして、いずれの場合も相応の清浄化装置（方法）によって空気中の特定物質（特定の微細な粒子。例えば、ホコリなどのパーティクル、ボロン化合物、酸性物質、アルカリ性物質、有機化合物やガス状物質など）を除去している。
【０００３】
つまり、パーティクル汚染物質の除去については、主に各種の集塵型フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィルタ等）によって技術的に十分に解消されつつある。また、ケミカル（分子状）汚染物質の除去についても、種々の化学・吸着型フィルタ（エアウォッシャー、活性炭フィルタ、光触媒フィルタ等）が既に提案されている（十分に解消されているとは言い難い部分があるが）。
中でも本発明に関わるものとしては、次のようなものが知られている。
光触媒と紫外線を放射する発光ダイオードに関するもの（例えば、特許文献１参照）、光触媒フィルタ（ハニカム）と光脱臭ランプに関するもの（例えば、特許文献２参照）、光触媒（ハニカム）、紫外線と流通阻害手段に関するもの（例えば、特許文献３参照）、高性能フィルタ、清浄度センサによる風量調整ダンパー制御に関するもの（例えば、特許文献４参照）等がある。
【０００４】
【特許文献１】
特開平９−９４０号公報（第４−８頁、第１−５図）
【特許文献２】
特開２０００−１０２５９６号公報（第３頁、第１，７図）
【特許文献３】
特開２００１−１９０６４６号公報（第２−４頁、第１−３図）
【特許文献４】
特開平６−１８５７７５号公報（第３−４頁、第１−２図）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
つまり、例えばクリーンルーム等の汚染は、おおまかにパーティクル汚染物質と、ケミカル汚染物質とが考えられ、外気から、作業者（の出入り等）から、作業現場等から夫々に進入・発生したりして、従って、その清浄化、脱臭、抗菌・殺菌、防汚等の処置・対策が欠かせない要件になっている。そのために種々の方策が講じられているが、単に両汚染物質用フィルタを単に直列に配置しただけでは、パーティクルのみの汚染（ケミカル汚染の無い時）の時にも、不必要にケミカルフィルタが常時使用されることになる。が、殊にケミカルフィルタに関しては、高価で、寿命が短いため、常用したのではランニングコストやメンテナンス・交換等が大きな課題となっている。
本発明は、このような課題を解決するために、ケミカル汚染物質の有無のみを注視して監視・検出する方法（装置）を提供するものである。
つまり、ケミカル汚染検出センサを所定の（通気）場所に設置し、リアルタイムにその成分・濃度や変化を監視し、ケミカル汚染物質を検出した時にのみ、その状態に応じてケミカルフィルタ通過空気量を自在に可変（迂回の通気路への開閉量）させ、ケミカルフィルタの使用状態を制御し、ケミカル汚染物質除去やケミカルフィルタ使用の最適化を図るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の空気清浄化方法は、ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに空気中のケミカル汚染物質を検出し、この検出を受けた制御装置によって空気清浄化装置内の集塵型フィルタとケミカルフィルタとへ分岐する前記空気の各通路の通気量を演算し、この演算された前記通気量に応じて通気路開閉手段を制御することを特長とするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の空気清浄化方法とその装置は、ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに空気中のケミカル汚染物質を検出し、この検出を受けた制御装置によって空気清浄化装置を制御することを特長とするものである。
請求項１、請求項２に記載の本発明によれば、
▲１▼空気中のケミカル汚染物質の成分、濃度、その増減（変動）変化状況をインラインでリアルタイムに監視し、如何なる異変に対しても対応でき、常に一定の濃度以下に抑えて空気の清浄化が維持できる。
▲２▼ケミカルフィルタは、ケミカル汚染物質の検出時にのみ使用する（パーティクル汚染物質のみの検出時は使用しない）ので、長い寿命（メンテナンスの軽減化等）や低価のランニングコスト等の効果が得られる。
▲３▼ケミカル汚染物質のみをリアルタイムに監視し、その成分・濃度等に応じて、ケミカルフィルタ通過量を自在に可変・最適化し、ケミカルフィルタにパーティクル汚染物質が不要に通過するのを制限することができる。
【０００８】
請求項３、請求項４に記載の本発明によれば、
▲１▼空気中のケミカル汚染物質を積極的に捕捉（吸着・捕獲）し、ケミカルフィルタによる除去効果を一層高めることができる。つまり、光触媒フィルタが静止状態（回動しない状態）で空気の流れでケミカル汚染物質が触れてくるのを単に待ち受けるのではなく、光触媒フィルタを回動させることより積極的に通気中の空気を撹乱・攪拌してケミカル汚染物質を積極的に捕捉することができる。
▲２▼光触媒フィルタの表面を紫外線ランプの光点（光源）が（相互に回動して）移動することになるので、光点が光触媒フィルタの表面上を移動・変動し、このことは光触媒フィルタの全表面をくまなく（隅々まで）照射することができ、表面に吸着したケミカル汚染物質を分解・除去でき、つまり光触媒フィルタの表面の吸着性（化学結合）が常に再生され、寿命が長く維持できる。
【０００９】
請求項５、請求項６に記載の本発明によれば、
▲１▼上述の請求項３、請求項４の効果とともに、光触媒フィルタや紫外線ランプのきめの細かい回動制御は、さらに光触媒フィルタのケミカル汚染物質の捕捉効率や、その表面の再生効率を最適化できる（夫々の選定・設定等の条件が制御できる）。
【００１０】
請求項７に記載の本発明によれば、
▲１▼夫々のケミカル汚染検出センサは、欠かせない最低限のポイントに設置し、少なくとも外気取入れの汚染、外気・循環気の混合のトータル汚染、循環気の清浄化、環気の汚染（例えば、クリーンルーム内の汚染発生）の状況を、リアルタイム（タイミングをはずさない）に監視・検出できる。
【００１１】
請求項８に記載の本発明によれば、
▲１▼ケミカル汚染物質を含んだ空気が、光触媒フィルタを通る（洩れないで）ようにすることができる。
【００１２】
【実施例】
以下、本発明の空気清浄化方法とその装置の一実施例として、例えばクリーンルームでの実施例について図面を用いて説明する。
図１は、クリーンルーム１内の空気を清浄化する全体構成の概要を示す模擬図である。
図において、まず平常時（外気ＯＡを取入れない時）は、循環気ＣＡの給気ＳＡが天井（別の集塵型のＵＬＰＡフィルタ、ＨＥＰＡフィルタ、中性能フィルタ等を含んだ構成の天井）２からクリーンルーム１内をダウンフローする。このクリーンルーム１内で半導体等の生産加工・組立て検査等がなされ、その工程・作業や移送・保管過程において新たな特定汚染物質［塵埃等のパーティクル汚染物質や有機溶剤（ガス）や臭気成分等のケミカル（分子状）汚染物質］を発生し、クリーンルーム１内の空気を汚染することがある。いずれにしても、このクリーンルーム１内の空気は、床３を経て空気清浄化装置（方法）ＡＣｃへの環気ＲＡとなり、さらに再びクリーンルーム１内の循環気ＣＡとなる。ここに、ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓは循環気ＣＡの給気ＳＡのケミカル汚染物質（分子状の有機ガス分等をいう。以下同じとする）をリアルタイム（インライン等）に検出し、ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｒはクリーンルーム１内からの環気ＲＡのケミカル汚染物質をリアルタイムに検出する。
【００１３】
一方、外気ＯＡの取入れ時は、まずケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏによって、外気ＯＡに含まれているケミカル汚染物質［臭気成分や有害物質（ダイオキシン類やＮＯｘ、ＶＯＣ等に代表されるもの等）］をリアルタイムに検出する。そして、この外気ＯＡは、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏを経てクリーンルーム１内に給気ＳＡされ、以後の空気（外気ＯＡ）は循環気ＣＡと合流し、上述の平常時のとおりと同じ循環通路（説明は省略）をたどって環気ＲＡ・循環気ＣＡとして循環する。
また、クリーンルーム１内への外気ＯＡの取入れ、空気の清浄化とその循環、外部への排気ＥＡについては、すべて空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏのエアファン８ｃ、８ｏ（後述する）によって、その必要に応じて駆動制御（後述する）の運転（回動）が制御（後述する）される。
そして、平常時は空気清浄化装置（方法）ＡＣｃだけの駆動制御（後述する）によって為されるが、外気ＯＡの取入れ時は、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏの両駆動制御（後述する）によって為される。
本発明の一実施例として、以下にクリーンルーム１について述べるが、他には食品衛生関係、医療関係等の高度のクリーン度が要求される実施例においても同様に本発明が採用されるものである。
【００１４】
図２は、図１の制御装置Ｓを示す概要図である。
図において、まず平常時（外気ＯＡを取入れない時）は上述のとおり、循環気ＣＡのクリーンルーム１の天井（別の集塵型フィルタ等を含んだ構成）２を通過後の給気ＳＡ中に含まれるケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓによってリアルタイムに検出し、更にクリーンルーム１内をダウンフロー通過後の床３への環気ＲＡ中のケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓによってリアルタイムに検出し、これらのケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒの両検出信号が制御装置Ｓのデータ入力部１６に入力される。したがって、この両検出信号は、制御装置Ｓのデータ入力部１６、演算／検出部１７によって処理され、出力部１８から出力される。すなわち、出力部１８から空気清浄化装置（方法）ＡＣｃのダンパー（通気路開閉手段）６ｃの開閉駆動部（図示しない）、ケミカルフィルタＣＦｃの各駆動装置１４ｃ（後述の図４，５）、エアファン８ｃの駆動部（図示しない）に出力され、夫々の駆動（回転数等）を自動制御する。
【００１５】
次いで外気ＯＡの取入れ時は、この外気ＯＡ中に含まれるケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏによってリアルタイムに検出し、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏを経て、クリーンルーム１の天井２を通過後の給気ＳＡ中のケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓによってリアルタイムに検出し、これらのケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏ、４ｓの両検出信号が制御装置Ｓのデータ入力部１６に入力される。したがって、この両検出信号は、制御装置Ｓのデータ入力部１６、演算／検出部１７によって処理され、出力部１８から出力される。つまり、出力部１８から空気清浄化装置（方法）ＡＣｏのダンパー（通気路開閉手段）６ｏの開閉駆動部（図示しない）、ケミカルフィルタＣＦｏの各駆動装置１４ｏ（後述の図４，５）、エアファン８ｏの駆動部（図示しない）に出力され、夫々の駆動（回転数等）を自動制御する。
【００１６】
前述したとおり、平常時は、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃだけの駆動制御（後述する）によって為される。つまり、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃの駆動制御はケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒの検出によって為される。
しかし、外気ＯＡの取入れ時は、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏの両駆動制御（後述する）によって為される。すなわち、外気ＯＡの取入れ時のケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓは、給気ＳＡ中のケミカル汚染物質を検出するが、この給気ＳＡとは、正確には外気ＯＡ及び循環気ＣＡを共に含んだ（合流した）ものである。また同時に、ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｒは、環気ＲＡ中のケミカル汚染物質を検出するが、この環気ＲＡとは、正確には外気ＯＡ及び循環気ＣＡを共に含んだ（合流した）ものである。この外気ＯＡ取入れ時の場合、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏの駆動制御はケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏ、４ｓの検出によって為され、同時に、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃの駆動制御はケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒの検出によって為される。これらのケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒ、４ｏは、例えばＳｉＯ２表面へのケミカル汚染物質の付着（量や速度）をリアルタイムに検出（連続モニタリング）し、その汚染レベルや挙動パターンのデータが得られるものである。また、このケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏには、水晶振動子の共振周波数の変化からケミカル汚染度（量・濃度）をリアルタイムでモニタするものもある。
また、循環気ＣＡの排気ＥＡ（排気口の開閉）については、制御装置Ｓが必要に応じて制御しても良いが、また別（例えば、空気圧センサ等）の制御によっても良いことは明白である。
なお、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏ、ＡＣｃの詳細については、後に述べる。
【００１７】
図３は、図１の空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏを示す縦断面の概略図である。
図において、「平常時（外気ＯＡを取入れない時）」、また「外気ＯＡの取入れ時」のいずれの場合にも共通しているので、以下（図４、図５も）において、この両者を区分しないで説明する。
ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒ、４ｏのいずれもが、ケミカル汚染物質を検出しないときは、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内の循環気ＣＡ（環気ＲＡ）、外気ＯＡ〜給気ＳＡはダンパー（通気路開閉手段。以下同じ）６ｃ、６ｏによって直進（後述の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏへ迂回しない）する。すなわち、その通気は、エアファン８ｃ、８ｏによって、エアウォッシャー５ｃ、５ｏ、および集塵型フィルタ［集塵型のＵＬＰＡフィルタ、ＨＥＰＡフィルタ、中性能フィルタ等を含む。ただし、前述の天井（別の集塵型フィルタ等を含む）２とは区分する。以下、同じ］７ｃ、７ｏを通過し、平常どおりパーティクル汚染物質及びケミカル汚染物質を除去する。エアウォッシャー５ｃ、５ｏは、パーティクル汚染物質とともに、どちらかといえばケミカル汚染物質（アンモニア、ＳＯｘ、塩酸等の水溶性物質）を除去する。なお、パーティクル汚染物質の除去については、さらにクリーンルーム１の天井（別の集塵型フィルタ等を含む）２によっても除去される。
【００１８】
ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒ、４ｏのいずれかが、ケミカル汚染物質を検出したときは、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内の循環気ＣＡ（環気ＲＡ）、外気ＯＡ〜給気ＳＡはダンパー［の開閉駆動部（図示しない）を制御する。以下同じ］６ｃ、６ｏによって、エアウォッシャー５ｃ、５ｏ、ケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏ［空気が通路を分流（迂回）して］、および集塵型フィルタ７ｃ、７ｏを通過し、パーティクル汚染物質およびケミカル汚染物質をともに除去する。このとき、ダンパー６ｃ、６ｏの開閉駆動部の制御は、正確にはケミカル汚染物質の成分やその量（濃度）によって、直進〜迂回する空気の通風量（分流の通風面積比。すなわち、ダンパー６ｃ、６ｏによる両通気路開閉面積比。通気路の全開〜半開〜全閉）を自在に可変する。したがって、▲１▼ケミカル汚染物質が検出されなければ直進のみ、▲２▼ケミカル汚染物質の検出が少なければ直進を優先（迂回は少し）し、▲３▼ケミカル汚染物質の検出が増えれば、その成分や量に応じて迂回優先へと移行し、▲４▼ケミカル汚染物質の検出が多くなれば迂回のみの最優先となる。さらに言い換えると、高価なケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏを不要に通過しない（使用制限する）ように自動制御する。この場合、このダンパー６ｃ、６ｏの自動制御は、ケミカル汚染物質の影響度（フィルタ除去の困難さや高価なこと）を換算し基準値に対して偏差（値）を設け、例えば、パーティクル汚染物質よりもケミカル汚染物質を優先させる（必ずしも、両汚染物質量の比例関係である必要はない）ことができる。
そして、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内はエアファン８ｃ、８ｏによって、クリーンルーム１内の空気を循環（または換気）して清浄化を維持されるが、夫々の空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内の通気量は制御装置Ｓによって夫々の駆動部（図示しない）が自動制御される。また、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内のエアファン８ｃ、８ｏは、いずれも吸引側としているが、押圧側であっても良いことは明白である。
なお、ケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏ（の各駆動装置１４ｏ）の詳細については後述する。
【００１９】
図４は、図３のケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏを示す縦断面の概略図である。
図において、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ、及び紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの夫々の駆動装置（Ｍ）１４ｃ、１４ｏのシャフト１１ｃ、１１ｏは、外壁１５ｃ、１５ｏにその先端を固定されたシャフト支持具１２ｃ、１２ｏによって支持されている。
上述のとおり、ケミカル汚染物質の検知時には、制御装置Ｓからの出力を受けて光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ、及び紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏが夫々の駆動装置（Ｍ）１４ｃ、１４ｏによって回動が制御される。
区画壁１３ｃ、１３ｏは、外壁１５ｃ、１５ｏに固定され、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの最外径（図５の（ｂ）で後述する）に近接して配置し、循環気ＣＡ（環気ＲＡ）、外気ＯＡ〜給気ＳＡが洩れなく光触媒フィルタ９ｃ、９ｏを通過するように構成している。
光触媒フィルタ９ｃ、９ｏは、例えば多数の通気孔を有するハニカム構造とされ、その各通気孔の内周表面には酸化チタンや酸化亜鉛等でなる光励起触媒物質が塗布或いは添着され、ケミカル汚染物質の吸着型フィルタを構成している。つまり、各通気孔の内周面（表面）に処理流体としてのケミカル汚染空気が吸着（化学結合）〜分解され、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏによって、紫外線が各通気孔の内周表面を照射することによって、光励起触媒物質による触媒作用が付与され、空気清浄化、脱臭効果や殺菌効果等が得られる。
【００２０】
図においては、２つの光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの間に１つの紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏを配置した構成を示したが、他の各種組合せの構成（パターン）は自在である。
また、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏは、平板（やその凹凸変形等）状、図のような厚肉（通気孔）状、プロペラ・羽根状、シロッコファン状等の各種形状をとることができる。また、上記の平板（やその凹凸変形）状、厚肉（孔）状の場合の通気孔は、円形、多角形等の各種孔形状を問わない。
いずれにしても、ケミカル汚染物質を積極的に吸着（捕捉）するため、静止状態の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏで待ち受けるよりも、自在（後述）に回動（制御）させることによって、より積極的に撹乱して空気中のケミカル汚染物質を触れさせ、吸着（捕捉効果をあげる）させることができる。
光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの駆動装置（Ｍ）１４ｃ、１４ｏによる回動（回転数、回転方向、その可変回転速度（停止も含む）、回転時間等）は、空気中のケミカル汚染物質の成分や濃度の多少に応じて決められるべきものである。例えば、ケミカル汚染物質の変動に応じて、前後の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの回転数を変えたり、回転方向を変えたり、回転・停止時間を変えたり、自在に設定（制御）することができる。
なお、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの回動は、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの回動に対応させてより有効な光触媒効果を得るために、上述の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの回動と全く同様に、自在に設定（制御）される。すなわち、回動する光触媒フィルタ９ｃ、９ｏに対して、紫外線を光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ表面に満遍なく当てるために、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの回動（光源点が相互に移動する）によって当たらない部分を無くすることができる。また、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの光量・照度を必要に応じて自在に可変しても良い。
なお、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ、および紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの各回動は、ケミカル汚染物質の検出時のみ回動（および、同ランプ点灯）するのを基本とし、かつ低速度を基本とする。
【００２１】
図５は、図４のケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏの横断面の概略を示し、（ａ）は断面Ａ−Ａ′図、（ｂ）は断面Ｂ−Ｂ′図、（ｃ）は断面Ｃ−Ｃ′図である。
図において、（ａ）は、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの駆動装置１４ｃ、１４ｏのシャフト１１ｃ、１１ｏが、外壁１５ｃ、１５ｏとシャフト支持具１２ｃ、１２ｏによって支持されて、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏが回動（制御）する。
（ｂ）は、外壁１５ｃ、１５ｏの区画壁１３ｃ、１３ｏの内径が、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの最外径よりも小さな径としている。これは図４にも示した通り、ケミカル汚染物質を含んだ空気の洩れ［空気の（前後の）光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの通過洩れ］を防ぐものである。すなわち、空気が区画壁１３ｃ、１３ｏの内径内を通り、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏを通過することができる。
（ｃ）は、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの駆動装置１４ｃ、１４ｏが、シャフト１１ｃ、１１ｏに支持され回動（制御）する。
紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏは、発光ダイオード、蛍光灯、ＥＬ等よりなり、その形状は通気路の通風抵抗等によって多様に決まり、特に（図のような）扇形にこだわるものではない。
【００２２】
また、もしクリーンルーム１内の空気中の特定物質が何らかの原因（天災、人災等の異変時等）で急変増加しても、リアルタイムにその濃度検出及びその変化を監視しているので、報知・表示等の装置を併設・連動させることにより、機敏な応急処置によって生産品の不良を速やかに最小限に抑えることができる。
【００２３】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、
▲１▼空気中のケミカル汚染物質の成分、濃度、その増減（変動）変化状況をインラインでリアルタイムに監視し、如何なる異変に対しても対応でき、常に一定の濃度以下に抑えて空気の清浄化が維持できる。
▲２▼ケミカルフィルタは、ケミカル汚染物質の検出時にのみ使用する（パーティクル汚染物質のみの検出時は使用しない）ので、長い寿命（メンテナンスの軽減化等）や低価のランニングコスト等の効果が得られる。
▲３▼ケミカル汚染物質のみをリアルタイムに監視し、その成分・濃度等に応じて、ケミカルフィルタ通過量を自在に可変・最適化し、ケミカルフィルタにパーティクル汚染物質が不要に通過するのを制限することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の一実施例の（例えば）クリーンルーム内の空気を清浄化する全体構成
の概要を示す模擬図
【図２】
図１の制御装置を示す概要図
【図３】
図１の空気清浄化装置（方法）を示す縦断面の概略図
【図４】
図３のケミカルフィルタを示す縦断面の概略図
【図５】
（ａ）は図４のケミカルフィルタの概略横断面のＡ−Ａ′断面図
（ｂ）は同Ｂ−Ｂ′断面図
（ｃ）は同Ｃ−Ｃ′断面図
【符号の説明】
１…クリーンルーム
２…天井（別の集塵型フィルタ）
３…床
ＳＡ…給気
４ｓ…ケミカル汚染（成分）検出センサ
ＲＡ…環気
４ｒ…ケミカル汚染（成分）検出センサ
ＣＡ…循環気
ＯＡ…外気
４ｏ…ケミカル汚染（成分）検出センサ
ＥＡ…排気
ＡＣｃ，ＡＣｏ…空気清浄化装置（方法）
５ｃ，５ｏ…エアウォッシャー
６ｃ，６ｏ…ダンパー（通気路開閉手段）
７ｃ，７ｏ…集塵型フィルタ
８ｃ，８ｏ…エアファン
ＣＦｃ，ＣＦｏ…ケミカルフィルタ
９ｃ，９ｏ…光触媒フィルタ
１０ｃ，１０ｏ…紫外線ランプ
１１ｃ，１１ｏ…シャフト
１２ｃ，１２ｏ…シャフト支持具
１３ｃ，１３ｏ…区画壁
１４ｃ，１４ｏ…駆動装置
１５ｃ，１５ｏ…外壁
Ｓ…制御装置
１６…データ入力部
１７…演算／検出部
１８…出力部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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