(57)【要約】【課題】粘性や揮発性等の物性が大きく異なる様々な種類の塗布膜を形成する事が必要となり、また、塗布膜の変更により容易に段取り替えの可能な装置も必要となってきている。【解決手段】鉛直方向に配置された円筒状部材の外周面に、内周面に吐出口を有するリング状塗布手段により塗布膜を形成する装置で、乾燥装置を、塗布膜を形成する速度とは独立した速度で移動可能にする事で、様々な種類の塗布膜を形成可能である。また装置構成も簡単であり塗布時間も短縮する事ができる。【選択図】　　　図１
2004113943.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内周面に吐出口を有するリング状塗布手段から、鉛直方向でかつ該リング状塗布手段と同芯に配置された円筒状部材の外周に向かって塗布液を吐出させ、該リング状塗布手段と該円筒状部材を軸方向に相対的に移動させることにより所定の速度で塗布膜を形成する塗布膜形成装置において、該塗布膜を形成する所定の速度とは独立した速度で、前記該円筒状部材に対し、その軸方向に相対的に移動可能に配置されている乾燥装置を有する事を特徴とする塗布膜形成装置。
【請求項２】
前記リング状塗布手段は、該軸方向に複数個配置されており、該円筒状部材に複数層の塗布膜を形成する事を特徴とする請求項１に記載の塗布膜形成装置。
【請求項３】
前記乾燥装置は、前記円筒状部材の内部において前記軸方向に移動可能に配置されている事を特徴とする請求項１または２に記載の塗布膜形成装置。
【請求項４】
前記円筒状部材は固定して配置されており、前記リング状塗布手段と前記乾燥手段は前記軸方向に移動可能に配置されている事を特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の塗布膜形成装置。
【請求項５】
前記乾燥装置は、加熱手段である事を特徴とする請求項４に記載の塗布膜形成装置。
【請求項６】
前記乾燥装置は、クリーンエア供給手段である事を特徴とする請求項４に記載の塗布膜形成装置。
【請求項７】
前記乾燥装置は、加熱手段とクリーンエア供給手段とを併用している事を特徴とする請求項４に記載の塗布膜形成装置。
【請求項８】
前記クリーンエア供給手段は、鉛直方向を基準にして４５°以下の方向からクリーンエアを供給する事を特徴とする請求項６または７に記載の塗布膜形成装置。
【請求項９】
内周面に吐出口を有するリング状塗布手段から、鉛直方向でかつ該リング状塗布手段と同芯に配置された円筒状部材の外周に向かって塗布液を吐出させ、該リング状塗布手段と該円筒状部材を軸方向に相対的に移動させることにより所定の速度で塗布膜を形成する塗布膜形成装置において、該円筒状部材を該軸方向に回転させるステージと、該円筒状部材に形成された塗布膜の軸方向の長さに相当する長さの乾燥装置を有する事を特徴とする塗布膜形成装置。
【請求項１０】
内周面に吐出口を有するリング状塗布手段から、鉛直方向でかつ該リング状塗布手段と同芯に配置された円筒状部材の外周に向かって塗布液を吐出させ、該リング状塗布手段と該円筒状部材を軸方向に相対的に移動させることにより所定の速度で塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、乾燥手段により該塗布膜を形成する所定の速度とは独立した速度で該塗布膜を乾燥させる事を特徴とする塗布膜形成方法。
【請求項１１】
前記リング状塗布手段は該軸方向に複数個形成されており、該円筒状部材に１層の塗布膜を形成する度に、前記乾燥手段により該塗布膜を乾燥させる事を特徴とする請求項１０に記載の塗布膜形成方法。
【請求項１２】
前記乾燥手段はクリーンエア供給手段であり、該クリーンエアの供給速度は５０Ｌ／ｍｉｎ〜１００Ｌ／ｍｉｎである事を特徴とする請求項１０または１１に記載の塗布膜形成方法。
【請求項１３】
前記乾燥手段は、前記リング状塗布手段による塗布膜の形成と平行して、該形成された塗布膜を乾燥する事を特徴とする請求項１０または１１に記載の塗布膜形成方法。
【請求項１４】
前記乾燥手段はクリーンエア供給手段であり、前記リング状塗布手段による塗布膜の形成開始から、該塗布膜の乾燥開始までの時間は、１０ｓｅｃ〜３０ｓｅｃであることを特徴とする請求項１３に記載の塗布膜形成方法。
【請求項１５】
前記請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の塗布膜形成方法により製造した事を特徴とする感光ドラム、現像ローラ、搬送ローラ、転写ローラ、中間転写ベルト、転写搬送ベルトのいずれか１つの画像形成装置の機能部品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真方式を用いた複写機、プリンタ、ファックス等の画像形成装置の機能部品として使用される、感光ドラムや現像ローラ、搬送ローラ、転写ローラなどの剛体円筒状部品、あるいは中間転写ベルト、転写搬送ベルトなどの可撓体円筒状部品の製造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、円筒状部材の外周面に塗布液を膜状に塗布する塗布方法として、塗布液を円筒状部材に向けてスプレーガンより霧状に噴霧して塗布するスプレーコートや、円筒状部材の軸方向にブレードもしくはロールを配置し、その円筒状部材を回転させながら塗布を行い円筒状基材を１回転させた後ブレードもしくはロールを後退させるブレード塗布法もしくはロール塗布法や、塗布液で満たした液槽に円筒状部材を浸漬して速度調整しながら引き上げて塗布を行うディップコートなどが広く知られている。
【０００３】
しかしながら、スプレーコートではスプレーガンより噴出した塗布液滴の溶媒が円筒状部材の外周面上に到達するまでに蒸発してしまい、円筒状部材の外周面に付着する時には乾燥固体化しているため、塗布表面の平滑性を良くする事が困難である。また連続面を有する円筒状部材への液滴の到達率が数十％〜数％程度であり，塗布液の使用効率が低く、生産性が悪いと言う課題もある。
【０００４】
また、ブレード塗布法およびロール塗布法は、ブレードもしくはロールを後退させる際、塗布液の粘性により塗布膜厚の一部に他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点がある。また、この不均一な状態が、局所的に発生する場合、特に電子写真感光体ドラムなどにおいては、局所的に濃淡差として画像に表れる直接的な原因となってしまうと言う課題がある。
【０００５】
また、ディップコートにおいて膜厚の均一性を保つには、溶液の粘度、溶液の密度、引き抜き速度を精密に管理する必要がある。しかしながら液槽に満たされた溶液を常に同じ状態になるように管理する事は非常に困難であった。また引き抜き速度は高速にすると液切れが起こるため、引き抜き速度には限界がる。そのため生産性をあげる事ができないと言う課題もある。また、塗布液槽を塗布液で満たしておくためには、常にある一定量以上の液量が必要であり溶液の使用効率が低いという問題もある。
【０００６】
このような課題を解決するため、円筒状部材の表面に沿うように環状のノズルから塗布液を吐出させ、ノズルと基材を相対移動させることにより塗布するリング塗布方法が考えられている。特公平０７−０５２２９６や特開平０８−３２３２６４にはリング塗布方法が開示されている。リング塗布方法は、円筒状部材の全周にわたって塗布液を吐出する開口部を有するリング状塗布部材を設け、塗布液を吐出しながら円筒状部材をリング状塗布部材に対して相対的に鉛直上方に移動させることにより、円筒体の外周面に塗布液を塗布する方法である。このリング塗布方法は、ディップコートと比較して塗布時間が短いため生産性が良く、また塗布液の使用効率が非常に良いため生産コストを削減する事もできる。
【０００７】
また円筒状部材の生産効率を更に上げるため特開平１１−１９７５７０では、リング状塗布手段と乾燥手段とを円筒状部材の軸方向に並べて配置し、それらの中に円筒状部材を連続して搬送する事で、リング状塗布手段により塗布膜を塗布した後、直ちに乾燥手段で乾燥することが記載されている。また特開平１１−１９７５７０には、リング状塗布手段と乾燥手段とを複数組軸方向に並べて配置し、複数層の塗布膜を連続して形成する事も記載されている。
【０００８】
【発明が解決しようとしている課題】
しかしながら、近年の商品ライフサイクルの短命化と製品種の多様化が進んで来ている。これに対応するためには、粘性や揮発性等の物性が大きく異なる様々な種類の塗布膜を形成する事が必要となり、またそれらを層状に形成する事も必要となってきている。また、塗布膜の変更により容易に段取り替えの可能な装置も必要となってきている。
【０００９】
前述の特開平１１−１９７５７０に記載された従来の技術においては、リング状塗布手段と乾燥手段とを、円筒体の軸方向に複数個並べて固定配置しているため、リング状塗布手段と乾燥手段とを通過する円筒状部材の搬送速度はすべて等しくなる。そのため、粘性や揮発性等の物性が大きく異なる塗布膜を形成するには、あらかじめ個々のリング状塗布手段の塗布流量や、個々の乾燥手段の乾燥能力を調整しておかなければならない。
【００１０】
しかしながら現実的にはリング状塗布手段の塗布流量や、乾燥手段の乾燥能力は調整範囲は限られており、段取り替えにより物性の大きく異なる塗布膜を形成するにはリング状塗布手段及び乾燥手段の交換を余儀なくされていた。リング状塗布手段及び乾燥手段の交換には非常に大きな負荷と時間を要してしまい、また装置の交換作業を行う際には、各装置の設定等の調整にも大きな負荷と時間が必要となってしまう。そのため、生産性を著しく損なってしまう事となる。
【００１１】
また、特開平１１−１９７５７０に記載された装置では、リング状塗布手段と乾燥手段とを複数組軸方向に並べて配置しているので、装置構成は複雑で非常に大きくなってしまい、装置コストがかさんでしまうと共に、スペース上の制約が大きいという課題もあった。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記従来技術の課題を解決するために本発明において、内周面に吐出口を有するリング状塗布手段から、鉛直方向でかつ該リング状塗布手段と同芯に配置された円筒状部材の外周に向かって塗布液を吐出させ、該リング状塗布手段と該円筒状部材を軸方向に相対的に移動させることにより所定の速度で塗布膜を形成する塗布膜形成装置において、該塗布膜を形成する所定の速度とは独立した速度で、前記該円筒状部材に対し、その軸方向に相対的に移動可能に配置されている乾燥装置を有する塗布膜形成装置を提供している。
【００１３】
また本発明においては、前記リング状塗布手段は、該軸方向に複数個配置されており、該円筒状部材に複数層の塗布膜を形成する事を特徴とする請求項１に記載の塗布膜形成装置。
【００１４】
また本発明においては、前記乾燥装置は、前記円筒状部材の内部において前記軸方向に移動可能に配置されている塗布膜形成装置を提供している。
【００１５】
また本発明においては、前記円筒状部材は固定して配置されており、前記リング状塗布手段と前記乾燥手段は前記軸方向に移動可能に配置されている塗布膜形成装置を提供している。
【００１６】
また本発明においては、前記乾燥装置は、加熱手段である塗布膜形成装置を提供している。
【００１７】
また本発明においては、前記乾燥装置は、加熱手段とクリーンエア供給手段とを併用している塗布膜形成装置を提供している。
【００１８】
また本発明においては、前記乾燥装置は、クリーンエア供給手段である塗布膜形成装置を提供している。
【００１９】
また本発明においては、前記クリーンエア供給手段は、鉛直方向を基準にして４５°以下の方向からクリーンエアを供給する塗布膜形成装置を提供している。
【００２０】
また本発明においては、内周面に吐出口を有するリング状塗布手段から、鉛直方向でかつ該リング状塗布手段と同芯に配置された円筒状部材の外周に向かって塗布液を吐出させ、該リング状塗布手段と該円筒状部材を軸方向に相対的に移動させることにより所定の速度で塗布膜を形成する塗布膜形成装置において、該円筒状部材を該軸方向に回転させるステージと、該円筒状部材に形成された塗布膜の軸方向の長さに相当する長さの乾燥装置を有する塗布膜形成装置を提供している。
【００２１】
また本発明においては、内周面に吐出口を有するリング状塗布手段から、鉛直方向でかつ該リング状塗布手段と同芯に配置された円筒状部材の外周に向かって塗布液を吐出させ、該リング状塗布手段と該円筒状部材を軸方向に相対的に移動させることにより所定の速度で塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、乾燥手段により該塗布膜を形成する所定の速度とは独立した速度で該塗布膜を乾燥させる塗布膜形成方法を提供している。
【００２２】
また本発明においては、前記リング状塗布手段は該軸方向に複数個形成されており、該円筒状部材に１層の塗布膜を形成する度に、前記乾燥手段により該塗布膜を乾燥させる塗布膜形成方法を提供している。
【００２３】
また本発明においては、前記乾燥手段はクリーンエア供給手段であり、該クリーンエアの供給速度は５０Ｌ／ｍｉｎ〜１００Ｌ／ｍｉｎである塗布膜形成方法を提供している。
【００２４】
また本発明においては、前記乾燥手段は、前記リング状塗布手段による塗布膜の形成と平行して、該形成された塗布膜を乾燥する塗布膜形成方法を提供している。
【００２５】
また本発明においては、前記乾燥手段はクリーンエア供給手段であり、前記リング状塗布手段による塗布膜の形成開始から、該塗布膜の乾燥開始までの時間は、１０ｓｅｃ〜３０ｓｅｃである塗布膜形成方法を提供している。
【００２６】
また本発明においては、前記塗布膜形成方法により製造した感光ドラム、現像ローラ、搬送ローラ、転写ローラ、中間転写ベルト、転写搬送ベルトのいずれか１つの画像形成装置の機能部品を提供している。
【００２７】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２８】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態を示した塗布膜形成装置の斜視図である。ただし構成を明確にするために装置の一部を透視して示している。本実施の形態では、１本の円筒状部材に４層の異なる塗布膜を重ねて形成している。
【００２９】
図中１は鉛直方向に配置されたワークとなる円筒状部材であり、固定具５１、５２によりその両端は上下方向から調芯されて固定支持されている。２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは円筒状基材１の表面に所望の量の塗布液を吐出して塗布膜を形成するリング状塗布手段であり、円筒状基材１の中心線と同軸に配置されている。リング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは、上下方向に移動する事により円筒状基材１の表面に塗布膜４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ　を塗布する。塗布膜を形成する順番はリング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄの順であり、図１は円筒状部材１の外周面にリング状塗布手段２Ａにより塗布膜４Ａを形成した後、リング状塗布手段２Ｂにより、２層目の塗布膜４Ｂを形成中の状態を示している。したがって円筒状部材１のリング状塗布手段２Ｂよりも下側には塗布膜４Ａが、リング状塗布手段２Ｂよりも上側には塗布膜４Ａと４Ｂが積層されて形成されている。塗布膜４Ｃと４Ｄは、まだ塗布されていないので図１では不図示となっている。リング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは塗布膜の塗布時以外は、円筒状基材１の両端の固定具５１、５２の外周位置に待機している。図１では、リング状塗布手段２Ａは塗布膜４Ｂの塗布が終了し固定具５２の外周位置に待機している。リング状塗布手段２Ｃ、２Ｄは塗布膜４Ｃ、４Ｄの形成前であり固定具５１の外周位置に待機している。尚リング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは、不図示のガイドレールにより上下動可能に支持されている。
【００３０】
３Ａは塗布した塗布膜を乾燥する乾燥手段であり、円筒状基材１の内部を上下方向に移動可能に配置されている。乾燥手段３Ａは、電磁誘導加熱ヒータあるいは赤外線ランプ、抵抗発熱ヒータ、遠赤外線ヒータを用いることができる。また、乾燥手段３Ａによる乾燥は、円筒状部材１の外周面にリング状塗布手段により塗布された塗布膜に含まれている溶剤成分を揮発させるための１次乾燥である。この１次乾燥により塗布膜は安定した膜となり、層状に重ねていくことが可能となる。すべての塗布膜を乾燥手段３Ａにより１次乾燥させた後、不図示のクリーンオーブン等で２次乾燥させる事により塗布膜は完全に固化し完成する。ただし場合によっては乾燥手段３Ａにより、塗布膜の溶剤成分を揮発させる１次乾燥と、塗布膜を完全に固化させる２次乾燥とを兼ねても良い。また塗布する材料によっては、２次乾燥を必要としないものもある。
【００３１】
６Ａ、６Ｂ、６Ｃ、６Ｄは各リング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄに塗布液を供給するポンプである。ポンプ６Ａ、６Ｂ、６Ｃ、６Ｄは必要な流量が安定して供給できる供給手段であれば何でも良く、たとえばシリンジポンプやダイヤフラムポンプなどが考えられる。７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄはポンプ６Ａ、６Ｂ、６Ｃ、６Ｄからの塗布液の供給量を調整するバルブである。１０は各バルブ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄの開閉を制御し、各リング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄの移動動作及び塗布動作、乾燥手段３の移動動作及び乾燥動作を制御する制御手段である。
【００３２】
次にリング状塗布手段２Ａの詳細を説明するが、リング状塗布手段２Ｂ、２Ｃ、２Ｄも同様の構成を有している。図２はリング状塗布手段２Ａを示した斜視図で、構成を明確にするために一部装置を切断した断面図となっている。図１に示した部材と同じ部材には同じ符号が付してある。２１は図１に示したポンプ６Ａからリング状塗布手段２Ａ内に塗布液が供給される流入口で、リング状塗布手段２Ａの周方向に少なくとも１点に設けられている。２２はリング状塗布手段２Ａ内に入った塗布液を周方向に行き渡らせる第１の液溜まり室であり、リング状塗布手段２Ａの全周に亙って形成されている。２４は第１の液溜まり室と同様にリング状塗布手段２Ａの全周に亙って形成されている第２の液溜まり室である。第１の液溜まり室２２と第２の液溜まり室２４の間には、リング状塗布手段２Ａの周方向における塗布液の流速ムラの均一化を図る第１の絞り部２３が形成されている。２６は第２の液溜まり室２４から円筒状部材１へ塗布液を塗布する塗出口である。吐出口２６はリング状塗布手段２Ａの全周に亙って形成されている。第２の液溜まり室２４と吐出口２６の間には、第２の絞り部２５が形成されている。尚、本実施の形態では液溜まり室は２個設けられているが、周方向の流速ばらつきが十分に均一化できるのであれば絞り部２３は必ずしも必要ではない。
【００３３】
次に図１、２に示したリング状塗布膜形成装置の塗布動作を説明する。
【００３４】
まず、４つのリング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは円筒状部材１を上方で支持している固定具５１の周辺の待機位置に待機している。また乾燥手段３は円筒状部材１を上方で支持している固定具５１の内部の待機位置に待機している。リング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄはこの順番で塗布膜を形成し、下からその順に並べられている。
【００３５】
次に制御手段１０によりリング状塗布手段２Ａは下方に一定速度で移動を開始する。リング状塗布手段２Ａが塗布開始位置に到達すると、制御手段１０によりバルブ７Ａが開放され、ポンプ６Ａからリング状塗布手段２Ａに第１層の塗布液が供給され、リング状塗布手段２Ａの吐出口２６から塗布液が吐出される。この際リング状塗布手段２Ａは一定速度を維持したまま下降を続け、塗布終了位置に来るとバルブ７Ａを閉じ塗布を終了するリング状塗布手段２Ａはそのまま下方に移動し、固定具５２の周辺の待機位置で停止し待機状態となる。この様にして第１層目の塗布膜４Ａの塗布は終了する。
【００３６】
第１層目の塗布膜４Ａの塗布が終了すると、円筒状部材１を上方で支持している固定具５１の内部の待機位置に待機している乾燥装置３Ａは、制御手段１０により下方に一定速度で移動を開始する。乾燥装置３Ａは移動開始にあわせて必要に応じて暖機されている。乾燥装置３Ａは移動に伴い、第１層目の塗布膜４Ａは乾燥され、溶剤成分が揮発し安定した膜となる。乾燥装置３Ａはそのまま下方に移動し、固定具５２の内部の待機位置で停止し待機状態となる。この様にして第１層目の均一な塗布膜４Ａは形成される。
【００３７】
次に第１層目の塗布膜４Ａと同様にして、リング状塗布手段２Ｂにより第１層目の塗布膜４Ａの上に第２層目の塗布膜４Ｂの塗布が行われる。リング状塗布手段２Ｂが塗布動作のため下方に移動を開始すると、乾燥手段３は固定具５２の内部の待機位置から、固定具５１の内部の待機位置へ上昇を始め、第２層目の塗布膜４Ｂの塗布が終了した際には、固定具５１の内部の待機位置に待機状態となっている。乾燥装置３Ａを下方に移動させる事で、第２層目の塗布膜の溶剤成分は揮発し第２層目の均一な塗布膜４Ｂは形成される。
【００３８】
同様にして、リング状塗布手段２Ｃ、２Ｄにより、第３、４の塗布膜４Ｃ、４Ｄが形成される。第１、２、３、４の塗布膜４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄの形成が終了すると、４つのリング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄと乾燥手段３Ａは円筒状部材１を下方で支持している固定具５２の周辺及び内部の待機位置に待機した状態となる。この状態で４層の塗布膜が形成された円筒状部材１は、固定具５１、５２から取り外され、新たな円筒状部材１と交換される。円筒状部材１の交換が終了すると、４つのリング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄと乾燥手段３Ａは上方に移動し、固定具５１の周辺及び内部の待機位置に待機した状態となる。
【００３９】
以上の動作を繰り返す事により、連続して供給されてくる円筒状部材１への４層の塗布膜４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄの形成が行われる。尚、固定具５１、５２から取り外され円筒状部材１は、不図示のクリーンオーブンにより、約２００℃の高温で約１時間の２次乾燥を行って塗布膜を固化する。各装置の成形条件は、２次乾燥を終わった時点での塗布膜の厚さが塗布膜は所定の膜厚となるように設定されている。
【００４０】
尚、本実施の形態では、４層の異なる膜を重ねて形成するためリング塗布手段を４つ配しているが、本発明はこれに限られるものではなく、塗布したい膜の数に応じて用意すればよい。また塗布する方向も上から下に限られるものではなく、リング状塗布手段及び乾燥手段の配置を替えることで、下から上に向かって塗布膜を形成する事もできる。
【００４１】
また、本実施の形態では、１つの乾燥手段３Ａで円筒状基材１を乾燥する形態となっているが、本発明はこれに限られるものではなく、複数の乾燥手段を円筒状基材１の上下に配置して乾燥させても良い。
【００４２】
また、本実施の形態では、１層の塗布膜の塗布が円筒状部材１の全域で終了してから乾燥手段３Ａにより塗布膜の乾燥を開始しているが、本発明はこれに限られるものではなく、リング状塗布手段の下方への移動と同時に乾燥手段３Ａも下方へ移動し、塗布した塗布膜を瞬時に乾燥させもよい。この様な形態をとれば、塗布膜の形成速度は大幅に短縮する事ができる。
【００４３】
また、本実施の形態では４つのリング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄと乾燥手段３Ａが上下方向に移動可能に形成されているが、本発明はこれに限られるものではなく、円筒状部材１を上下方向に移動させても良い。また、リング状塗布手段２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄと乾燥手段３Ａと円筒状部材１の両方を上下方向に移動させても良い。ただし装置の稼動領域を考慮すると、リング状塗布手段のみを上下方向に移動させる装置が最も有利である。
【００４４】
この様に、リング状塗布手段の円筒状部材に対する軸方向の相対的な移動速度と、乾燥手段の円筒状部材に対する軸方向の相対的な移動速度とを、独立した速度となる様に塗布膜形成装置を構成することにより、段取り替え等により物性の大きく異なる塗布膜を形成する場合でも、リング状塗布手段及び乾燥手段の交換する事なく同じ装置で塗布膜を形成する事ができる。
【００４５】
また基本的に円筒状部材を１個ずつ製造する装置であるため、複数のリング塗布手段を複数層のリング状塗布手段と乾燥手段とを複数組軸方向に並べて配置する必要がなく、装置構成は複雑で非常に小さくすることが可能である。特に円筒状部材に複数層の塗布膜を形成する場合においては、リング状塗布手段を複数個設け、それらをすべての円筒状部材との相対速度を独立した速度に設定する事ができるため、複数のリング塗布手段を複数層のリング状塗布手段と乾燥手段とを複数組軸方向に並べて配置する必要がなく、装置構成は複雑で非常に小さくすることが可能である。また、乾燥手段を円筒状部材の内部において前記軸方向に移動可能に配置することにより、装置構成を小さくすると共に、リング塗布手段と乾燥手段がお互いが干渉する事なく移動できるため、動作の自由度が増し、様々な条件での塗布膜の形成が可能となる。
【００４６】
（実施例１）
前述の図１に記載のリング塗布装置を使って円筒状部材に塗布膜を形成した。円筒状部材として、直径３０ｍｍ、長さ３３０ｍｍのアルミニウムシリンダーの素管を用いた。前述の手順によりアルミニウムシリンダーの素管に４層の塗布膜を形成し電子写真式の画像形成装置に用いる感光ドラムを得た。なお、乾燥手段のヒータは、基材１の内側から加熱できるＩＨヒーター（５００ｗ）を用いた。
【００４７】
第１層は導電性被服層で、酸化スズおよびチタンの粉末をフェノール樹脂に分散したものを主体としている。リング状塗布手段の移動速度は１５ｍｍ／ｓ、乾燥装置の移動速度は８ｍｍ／ｓで、形成された膜厚は１５μｍである。第２層は下引層で、変性ナイロン、および共重合ナイロンを主体としている。リング状塗布手段の移動速度は１５ｍｍ／ｓ、乾燥装置の移動速度は１８ｍｍ／ｓで、形成された膜厚は０．６μｍである。第３層は電荷発生層であり、フタロシアニン顔料をブチラール樹脂に分散したものを主体としている。リング状塗布手段の移動速度は１５ｍｍ／ｓ、乾燥装置の移動速度は１８ｍｍ／ｓ、形成された膜厚は０．２μｍである。第４層は電荷輸送層であり、ホール搬送性ヒドラゾン化合物、ポリカーボネート樹脂を主体としている。リング状塗布手段の移動速度は２０ｍｍ／ｓ、乾燥装置の移動速度は４ｍｍ／ｓで、形成された膜厚は２５μｍである。尚、４層の塗布膜を形成した後、２００℃のクリーンオーブンで１時間、２次乾燥を行い各膜を完全に固化させ感光ドラムの最終製品を製造した。
【００４８】
製造された感光ドラムは塵埃の混入や塗布後の重力による垂れなどのない均一な塗膜の積層からなる良好な感光ドラムであった。
【００４９】
（第２の実施の形態）
次に本発明の第２の実施の形態を、図３に示した塗布膜形成装置の斜視図を用いて説明する。図３において図１に示した第１の実施の形態と同じ部材には同じ符号が付してある。本実施の形態においては、鉛直方向に配置されたワークとなる円筒状部材は、電子写真式画像形成装置に用いられる転写ベルト等の様に、薄肉で可撓性を有するエラストマー系等の樹脂からなる部材である。また形成される塗布膜は、転写ベルト等の保護膜となるアクリル樹脂などである。尚、本実施の形態では、１本の円筒状部材に１層の塗布膜を形成している。
【００５０】
図３において、ワークとなる円筒状部材８は薄肉の可撓性を有する円筒体である。円筒状部材８は円筒状の芯金９の外周面に密着しており、可撓性を有する円筒状部材８は安定した筒形状を保つように保持されている。２Ｅはリング状塗布手段で、図２に示した第１の実施の形態のリング状塗布手段２Ａと同じ構造を有している。芯金９は水平方向に回転可能な芯金ステージ５３に載置されている。塗布手段２Ｅは芯金９の中心軸と同軸となるように配置されている。３Ｅはライン状に紫外線を照射する乾燥手段であり、円筒状部材８の外側に芯金９の中心軸と平行になるように配置されている。乾燥手段の長さは、円筒状部材８の外周面に形成される塗布膜の軸方向の長さに相当する長さである。
【００５１】
次に塗布動作を説明する。まず、リング状塗布手段２Ｅは芯金ステージ５３の外周部の待機位置で待機している。次にリング状塗布手段２Ｅが上昇を開始し塗布開始位置に来ると、リング状塗布手段２Ｅから塗布液を吐出し、円筒状部材８の外側面に塗布膜４Ｅを塗布する。リング状塗布手段２Ｅが更に上昇し塗布終了位置到達すると塗布液の吐出を終了し、リング状塗布手段２Ｅは芯金ステージ５３の外周部の待機位置に下降して停止する。次に芯金ステージ５３を芯金９の中心軸回りに回転させ、乾燥手段３Ｅにより紫外線光を照射し、塗布膜４Ｅの溶剤成分を揮発させる１次乾燥を行う。その後、不図示のクリーンオーブンにより２次乾燥を行って塗布膜を固化する。この様にして塗布膜の形成は終了する。
【００５２】
以上のようにして塗布膜を形成することにより、ワークが可撓性を有する円筒状部材であっても、容易に膜厚の安定し塗布膜を形成する事ができる。また、円筒状部材の軸方向の全域を一度に乾燥可能なライン状の乾燥手段を用いることにより、塗布膜の乾燥時間を短縮する事が可能である。また、芯金ステージ５３を回転させる事により円筒状部材の表面をムラなく照射する事が可能となる。
【００５３】
（第３の実施の形態）
図４は本発明の第３実施の形態を示した塗布膜形成装置の側面図であり、図１に示した第１の実施の形態と同じ部材には同じ符号が付してある。本実施の形態では、乾燥手段３を円筒状部材１外側に配置し上下に移動させる方式を用いている。本実施の形態では、１本の円筒状部材に上から下に向かって１層の塗布膜形成している。
【００５４】
図中１は鉛直方向に配置されたワークとなる円筒状部材であり、ＳＵＳやアルミからなる固定具５１、５２によりその両端は上下方向から調芯されて固定支持されている。固定具５２を固定とし、固定具５１を上下させることで円筒状基材１をはさみ込んで固定する。２Ｆは円筒状基材１の表面に所望の量の塗布液を吐出して塗布膜を形成するリング状塗布手段であり、円筒状基材１の中心線と同軸に配置されている。リング状塗布手段２Ｆは図２に示した第１の実施の形態のリング状塗布手段２Ａと同じ構造を有している。リング状塗布手段２Ｆは、上下方向に移動する事により円筒状基材１の表面に塗布膜４Ｆを形成する。リング状塗布手段２Ｆは塗布膜形成時以外は、円筒状基材１の両端の固定具５１、５２の外周位置に待機している。３Ｆは塗布した塗布膜４Ｆを乾燥するリング状の乾燥手段であり、リング状塗布手段２Ｆの上部に円筒状基材１の中心線と同軸に配置されている。乾燥手段３Ｆは、送風機１１と接続されており、送風機１１から乾燥したクリーンエアを円筒状部材１に吹き付ける事で塗布膜４Ｆを乾燥させる。乾燥手段３Ｆによる乾燥は塗布膜４Ｆの溶剤成分を揮発させる１次乾燥である。１次乾燥させた後、不図示のクリーンオーブン等で２次乾燥させる事により塗布膜は完全に固化し完成する。ただし場合によっては乾燥手段３Ｆにより、塗布膜の溶剤成分を揮発させる１次乾燥と、塗布膜を完全に固化させる２次乾燥とを兼ねても良い。
【００５５】
６Ｆはリング状塗布手段２Ｆに塗布液を供給するポンプである。ポンプ６Ｆは必要な流量を安定して供給できる供給手段であれば何でも良く、たとえばシリンジポンプやダイヤフラムポンプなどが考えられる。７Ｆはポンプ６Ｆからの塗布液の供給量を調整するバルブである。１０は各バルブ７Ｆの開閉を制御し、リング状塗布手段２Ｆの移動動作及び塗布動作、乾燥手段３Ｆの移動動作を乾燥動作、送風機１１のエア供給動作を制御する制御手段である。リング状塗布手段２Ｆと乾燥手段３Ｆは，それぞれガイドレール１２に接続され、独立した任意の速度で移動可能である。尚、図４では、リング状塗布手段２Ｆ及び乾燥手段３Ｆの移動方向は鉛直方向下向きとしたが、リング状塗布手段２Ｆ及び乾燥手段３Ｆ上下位置関係を入れ替え、塗布方向を上向きとしてもよい。
【００５６】
図５は送風機１１の概要を示している。工場エア、Ｎ２、Ａｒ等所望のガスを外部より導入し、レギュレータ２０２で１次圧を調整する。更にシリカゲル乾燥フィルター２０３と、有機ガスフィルター２０４、ダストフィルター２０５を通し、再度レギュレータ２０６で送り出し圧力を調整する。さらに流路に加熱板２０７を配置し、その先に流量計２０８を備え、最終的な吹き付け量を調整する。このような構成により無塵の乾燥加熱エアを吹き付ける事ができる。導入するガスは、塗布液が嫌気性である場合、乾燥窒素等酸素を含まないものを用いるなどの塗布液の性質に合わせた配慮が必要である。また、溶媒の揮発性が著しく低い場合は、エアの送付量を増やす他、加熱板の出力を増やし、より温度を与えた状態で吹き付けることも有効である。
【００５７】
図６は、乾燥手段３Ｆの詳細を示した断面図である。３０１ａと３０１ｂの２箇所に送風機１１からのエア流入口が設けられている。エア流路３０２はエア流入口３０１ａ、３０１ｂから、乾燥手段３Ｆの周方向に均一に広がるような流路として形成されている。エア流路３０２を通過したエアは乾燥手段３Ｆの内周面全周に亙って形成された開口部３０３から、円筒状部材１の外周に形成された塗布膜４Ｆに吹き付けられる。塗布膜４Ｆ中の溶媒の揮発効率は、エアの送り量のみでなく、流速にも依存するため、吐出口の大きさが可変である稼動シャッター部３０４が設けられており、開口部３０３の開口幅は０ｍｍ〜１０ｍｍの範囲で調整可能としている。エアの開口部３０３からの吐出方向に関しては、円筒状部材１の軸方向上向きを基準に対して４５°以下にすることが望ましい。４５°以下にすることにより、エアの風力により塗布膜４Ｆの表面に対してダメージを与える事がなく、また、塗布液のだれを防止する効果もある。
【００５８】
尚塗布膜の乾燥には、塗布膜から揮発する溶剤成分が可燃性であったり、溶剤が揮発した後の塗布膜自体が可燃性である場合には、第１、２の実施の形態で示した電磁誘導加熱ヒータあるいは赤外線ランプ、抵抗発熱ヒータ、遠赤外線ヒータなどの熱による乾燥手段は使用することができない。そのような場合には、本実施の形態で示したクリーンエアによる乾燥が有効である。
【００５９】
（実施例２）
前述の図４、５、６に示した塗布膜形成装置を使って円筒状部材に塗布膜を形成した。円筒状部材として、直径３０ｍｍ、長さ３３０ｍｍのアルミニウムシリンダーの素管を用い、前述の手順によりアルミニウムシリンダーの素管に１層の塗布膜を形成した。塗布膜の乾燥は、図６に示したクリーンエアによる乾燥手段を用いた。
【００６０】
塗布液として、電荷輸送材料（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４）２ＮＣ６Ｈ４ＣＨＣ７（Ｃ６Ｈ４）とビスフェノールＺ型ポリカーボネートをモノクロルベンゼンに溶解し、固形分濃度の調整によって、粘度１５０ｍＰａＳの電荷輸送層溶液を調整した。この電荷輸送材料溶液の液体から固体になる際の体積収縮率は３１．９％である。この電荷輸送層溶液を用いて、乾燥状態での膜厚が２５μｍとなるように吐出量を７４．０５ｍｍ３／ｓｅｃに調整し塗布膜を形成した。
【００６１】
乾燥手段３Ｆは内径φ４０ｍｍで、外径φ８０ｍｍであり、開口幅を５ｍｍにし、５０℃のＮ２ガスが開口部より出るように熱板２０７の出力を調整した。開口部直後の流速を測定したところは０．２５ｍ／ｓｅｃであった。この乾燥手段３Ｆは、リング状塗布手段と同様に１０ｍｍ／ｓｅｃで動く。乾燥手段３Ｆの開口部３０３とリング状塗布手段の吐出口２６との初期位置の間隔を１００ｍｍ（時間遅れ１０ｓｅｃに相当）とした。
【００６２】
リング状塗布手段による塗布後、乾燥手段により１次乾燥を行ったのち、２００℃のクリーンオーブンで、１時間の２次乾燥を行った。２次乾燥後のアルミニウムシリンダーの素管に塗布された塗布膜の膜厚を塗布方向に連続的に測定した。この時パラメーターとして、エア流量を０Ｌ／ｍｉｎ、１０Ｌ／ｍｉｎ、２０Ｌ／ｍｉｎ、５０Ｌ／ｍｉｎ、１００Ｌ／ｍｉｎ、１５０Ｌ／ｍｉｎの６段階の条件で行った。
【００６３】
図７はそのときの膜厚のプロファイルを示した図である。図７において縦軸は塗布開始位置からの距離であり、上から下に向かって距離が遠くなっている。横軸は形成された塗布膜の膜厚である。比較のため設定値である２５．０μｍの位置を実線で示している。ただし、エア流量１５０Ｌ／ｍｉｎはうねりがひどく測定不能であった。また、そのプロファイルをもとにした膜厚の変動を示すため、図８に設定値である２５μｍと、測定したプロファイルとの偏差二乗の平均値を示す。図８において縦軸は偏差二乗の平均値であり、横軸は各エア流量を示している。一般的に膜厚の変動が０．５％を超えると不良品、０．５％以内であれば良品としている。そこで図８には２５μｍの０．５％である、０．１２５μｍの位置を一点鎖線で示している。
【００６４】
図７、８から分かるように、乾燥手段のエア流量は、強い風量条件のほうが膜厚の変動が少ないく、５０Ｌ／ｍｉｎ、１００Ｌ／ｍｉｎであれば良品となることが分かる。ただしエア流量が１００Ｌ／ｍｉｎを超えると、エアによって膜にうねりが生じてしまう可能性があり適当ではない。
【００６５】
（実施例３）
実施例２で使用した塗布膜形成装置と同じ装置を使って円筒状部材に同じ塗布膜を形成した。本実施例で実施例２と異なるのは、リング塗布手段２Ｆと乾燥手段３Ｆとの初期位置の間隔を変える事で、塗布開始から乾燥開始までの時間を変更している点である。リング塗布手段２Ｆと乾燥手段３Ｆとの初期位置の間隔を５０ｍｍ、１００ｍｍ、２００ｍｍ、３００ｍｍとする事で、塗布開始から乾燥開始までの時間を５ｓｅｃ、１０ｓｅｃ、２０ｓｅｃ、３０ｓｅｃに設定している。ちなみにエア流量は５０Ｌ／ｍｉｎである。
【００６６】
図９はそのときの膜厚のプロファイルを示した図である。ただし塗布から乾燥までの時間を５ｓｅｃにした時は、塗布膜のうねりが非常に大きく測定不能であった。図９は図７と同様に、縦軸は塗布開始位置からの距離であり、上から下に向かって距離が遠くなっている。横軸は形成された塗布膜の膜厚である。比較のため設定値である２５．０μｍの位置を実線で示している。また、そのプロファイルをもとにした膜厚の変動を示すため、図１０に設定値である２５μｍと、測定したプロファイルとの偏差二乗の平均値を示す。図１０において縦軸は偏差二乗の平均値であり、横軸は塗布開始から乾燥開始までの時間を示している。
【００６７】
一般的に膜厚の変動が０．５％を超えると不良品、０．５％以内であれば良品としている。そこで図１０には２５μｍの０．５％である、０．１２５μｍの位置を一点鎖線で示している。
【００６８】
図９、図１０から、塗布開始から乾燥開始までの時間が短い方が良く、１０〜３０ｓｅｃであれば良品となる事がわかる。ただし、１０ｓｅｃ以下では初期の乾燥が十分でなく膜にうねりが生じてしまう、３０ｓｅｃ以上では乾燥前の液ダレの発生が大きく、エアによる効果が見られなかった。
【００６９】
（第４の実施の形態）
本実施の形態は、第１の実施の形態で示した赤外線ヒータによる乾燥手段と、第３の実施の形態で示したクリーンエアによる乾燥手段と併用した塗布膜形成方法である。本実施の形態では、１本の円筒状部材に上から下に向かって１層の塗布膜形成している。
【００７０】
図１１は本発明の第４の実施の形態を示す、乾燥手段３Ｇの断面図である。図１１において、図６と同じ部材には同じ符号を付し、その説明は省略する。図６と異なるのは、リング状塗布手段３Ｇの内周面において、エアを吐出する開口部３０３の下部に、赤外線ヒータ３０５（１２０Ｗ）が２個備えられており、不図示の可変抵抗器で電圧調整を行えるようになっている。乾燥手段以外は、第３の実施の形態で示したクリーンエアによる塗布膜形成装置と同じである。
【００７１】
赤外線ヒータによる塗布膜の乾燥は、乾燥時間を早めるため通常５００ｗを超える高出力で行うが、塗布直後に行うと、局所加熱によって突沸、酸化などによる不均質化が発生してしまう。そのため、ある程度塗布膜が自然乾燥するまで、１０ｓｅｃ程度の待機時間が必要となる。一方、エアによる乾燥においても、風速により膜が乱されることがあるため、ある程度塗布膜が自然乾燥するまで、１０ｓｅｃ程度の待機時間が必要となる。本実施の形態は、塗布直後に赤外ヒータを３００ｗ以下の低出力でかけて、ある程度塗布膜が乾燥し風速に乱されない状態を速やかに作り出し、１０ｓｅｃ待機することなく、エア乾燥を速やかに始めるものである。
【００７２】
（実施例４）
前述の乾燥手段３Ｇを用いた装置を使って円筒状部材に同じ塗布膜を形成した。円筒状部材として、直径３０ｍｍ、長さ３３０ｍｍのアルミニウムシリンダーの素管を用い、アルミニウムシリンダーの素管に１層の塗布膜を形成した。塗布膜の乾燥は、図１２に示したクリーンエアと赤外線ヒータを併用した乾燥手段を用いた。
【００７３】
実施例２と同様の塗布液を使用し、乾燥状態での膜厚が２５μｍとなるように吐出量を７４．０５ｍｍ３／ｓｅｃに調整し塗布膜を形成した。
【００７４】
乾燥手段３Ｇは内径φ４０ｍｍで、外径φ８０ｍｍであり、エア流量は５０Ｌ／ｍｉｎで開口幅を５ｍｍにし、５０℃のＮ２ガスが開口部より出るように熱板２０７の出力を調整した。開口部直後の流速を測定したところは０．２５ｍ／ｓｅｃであった。この乾燥手段３Ｇは、リング状塗布手段の塗工速度と同じ１０ｍｍ／ｓｅｃで動かす。乾燥手段３Ｇの吐出口３０４と、赤外線ヒータとの距離は１０ｍｍと２０ｍｍであり、乾燥手段３Ｇの吐出口３０４と、リング状塗布手段との初期位置の間隔は５０ｍｍ（時間遅れ５ｓｅｃに相当）とした。赤外線ヒータの出力は２００ｗである。
【００７５】
リング状塗布手段３Ｇによる塗布後、乾燥手段４Ｇにより１次乾燥を行ったのち、２００℃のクリーンオーブンで、１時間の２次乾燥を行った。２次乾燥後のアルミニウムシリンダーの素管に塗布された塗布膜の膜厚を塗布方向に連続的に測定した。
【００７６】
図１２はそのときの膜厚のプロファイルを示した図である。図１２は縦軸は塗布開始位置からの距離であり、上から下に向かって距離が遠くなっている。横軸は形成された塗布膜の膜厚である。比較のため設定値である２５．０μｍの位置を実線で示している。また、そのプロファイルをもとにした膜厚の変動を示すため、図１３に設定値である２５μｍと、測定したプロファイルとの偏差二乗の平均値を示す。図１３において縦軸は偏差二乗の平均値であり、本実施の形態である、赤外線ヒータとクリーンエアを併用した場合の値が左側に示してある。比較のため、図１２に示したクリーンエアによる乾燥手段のみを使用し、塗布から乾燥までの時間が１０ｓｅｃの時の値が右側に示してある。
【００７７】
図１２、１３から分かるように、クリーンエアと赤外線ヒータを併用することで、リング塗布手段と乾燥手段の初期位置での間隔を近づけ、塗布膜の塗布から乾燥までの時間を短縮しても、液ダレを抑制することができ、膜厚変動の少ない良好な塗布膜を形成する事ができる。
【００７８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、円筒状のワークとリング状塗布装置及び乾燥装置との相対速度を、リング状塗布装置及び乾燥装置で独立して任意に設定できるため、粘性や揮発性等の物性が異なる塗布膜に対して、瞬時に段取り替え等の対応が可能な生産装置及び生産方法を提供する事ができる。また複数層の塗布膜を形成する際には、各層毎に円筒状のワークとリング状塗布装置及び乾燥装置との相対速度を、リング状塗布装置及び乾燥装置で独立して任意に設定できるため、同じ位置で連続して複数層の塗布膜を形成する事ができる。そのためプロセスの自由度を向上させることが可能となり、多品種への対応が容易となる。
【００７９】
更に待機時間を自由に設定できるため適切な生産量に調整することが可能である。したがって生産量を大幅に増加させたい場合も、装置構成が簡素かつコンパクトであるためスペースの制約をあまり受けることなく装置台数を増加させることが可能である。そして装置コストを低く抑えることができるため、必要に応じた適切な設備投資を行うことができる。
【００８０】
また、塗布を行った直後、直ちに硬化を行うことで、不要な塵埃の付着を防ぎ、液垂れを防止することができる。
【００８１】
また、乾燥手段にクリーンエアと赤外線ヒータ等の加熱手段を併用する事で、塗布から乾燥までの待機時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態を示すリング状塗布膜形成装置の斜視図である。
【図２】第１の実施の形態のリングノズルの詳細図。
【図３】第２の実施の形態の他のリング状塗布膜形成装置の斜視図である。
【図４】第３の実施の形態を示すリング状塗布膜形成装置の概略図である。
【図５】第３の実施の形態の送風機の詳細図。
【図６】第３の実施の形態の乾燥手段の詳細図。
【図７】実施例２における円筒状部材の各位置における膜厚を示したグラフ。
【図８】図７に示した膜厚の目標値に対する偏差二乗平均を示したグラフ。
【図９】実施例３における円筒状部材の各位置における膜厚を示したグラフ。
【図１０】図９に示した膜厚の目標値に対する偏差二乗平均を示したグラフ。
【図１１】第４の実施の形態の乾燥手段の詳細図。
【図１２】実施例４における円筒状部材の各位置における膜厚を示したグラフ。
【図１３】図１２に示した膜厚の目標値に対する偏差二乗平均を示したグラフ。
【符号の説明】
１、８　円筒状部材
２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ、２Ｅ、２Ｆ　リング塗布手段
３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、３Ｅ、３Ｆ、３Ｇ　乾燥手段
４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ、４Ｅ、４Ｆ　塗布膜
６Ａ、６Ｂ、６Ｃ、６Ｄ、６Ｆ　ポンプ
７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、７Ｆ　バルブ
９　芯金
１０　制御装置
２１　流入口
２２　第１の液溜まり室
２３　第１の絞り部
２４　第２の溜まり室
２５　第２の絞り部
２６　吐出口
５１、５２　固定具
５３　芯金ステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2004113943.tif 000011
【図１０】
2004113943.tif 000012
【図１１】
2004113943.tif 000013
【図１２】
2004113943.tif 000014
【図１３】
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