(57)【要約】【課題】近接して対向配置した場合であっても、電気絶縁性に優れた電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、および、このような電気光学装置用基板を含む電気光学装置や電子機器を提供する。【解決手段】対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板であって、第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、遮光層として、ブラックマトリクスと、その上に設けられた電気配線と、を備え、第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、二端子型非線形素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、を備えるとともに、第１の電気光学装置用基板の前記ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しない。【選択図】　図１
2004109819.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板において、
前記第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、遮光層としてのブラックマトリクスと、その上に設けられた電気配線と、を備え、
前記第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、
二端子型非線形素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、を備え、
かつ、前記第１の電気光学装置用基板の前記ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成していないことを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
前記ブラックマトリクスにおける赤色層および緑色層、あるいは、いずれか一層を形成しないことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項３】
前記第１の電気光学装置用基板と、前記第２の電気光学装置用基板とを対向させた場合に、前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部と、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】
前記第１の電気光学装置用基板と、前記第２の電気光学装置用基板とを対向させた場合に、前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応して、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線の一部に、非形成箇所を設けることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。電気光学装置用基板。
【請求項５】
前記第１の電気光学装置用基板と、前記第２の電気光学装置用基板とを対向させた場合に、前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応して、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線が絶縁処理してあることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項６】
前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極と、前記第１の電気光学装置用基板におけるブラックマトリクスとを、鉛直方向に透視した場合に、平行配置または直交配置してあることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項７】
対向する第１の電気光学装置用基板と第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
前記第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、遮光層としてのブラックマトリクスと、その上に設けられた電気配線と、を備え、
前記第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、二端子型非線形素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、を備え、
かつ、前記第１の電気光学装置用基板の前記ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しないことを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部と、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置することを特徴とする請求項７に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部に対応した位置の、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線の一部に、非形成箇所が設けてあることを特徴とする請求項７または８に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応して、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線が、絶縁処理してあることを特徴とする請求項７〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
対向する第１の電気光学装置用基板と第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板の製造方法において、
基板としての第１のガラス基板上に、遮光層としてのブラックマトリクスおよび電気配線を形成し、第１の電気光学装
置用基板を準備する工程と、
対向基板としての第２のガラス基板上に、二端子型非線形素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極を形成し、第２の電気光学装置用基板を準備する工程と、を備えるとともに、
前記第１の電気光学装置用基板の前記ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しないことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１２】
前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部と、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置することを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１３】
前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応して、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線の一部に、非形成箇所を設ける工程を含むことを特徴とする請求項１１または１２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１４】
前記第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部に対応した位置の、前記第１の電気光学装置用基板における電気配線を絶縁処理する工程を含むことを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１５】
請求項７〜１０のいずれか一項に記載された電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。特に、近接して対向配置し、薄型化した場合であっても、電気絶縁性に優れた電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、および、このような電気光学装置用基板を含む電気光学装置や電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶表示装置等の電気光学装置は、図１５に例示されるように、対向する第１の電気光学装置用基板５１２と、第２の電気光学装置用基板５１４とを含む一対の電気光学装置用基板５１２、５１４との間に、液晶材料５０４を注入して構成されている。また、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置の場合には、第２の電気光学装置用基板５１４上に、複数の画素電極５２０がマトリクス状に配列されるとともに、図１６（ａ）および（ｂ）に示すように、これらの画素電極５２０のそれぞれに非線形素子（スイッチング素子）、例えば、薄膜ダイオード（ＴＦＤ素子）５３１、５３２が設けられており、第１の電気光学装置用基板５１２上に、対向電極５１９が設けられている（例えば、特許文献１参照）。
そして、非線形素子としての薄膜ダイオード５３１、５３２に対して、しきい値以上の電圧を印加し、当該非線形素子を導通状態にするとともに、当該非線形素子と、対向電極５１９との間に電圧をさらに印加することにより、液晶材料の配向性を制御して、所定の画像表示を行っている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−２３１３５１号　（第３頁、第４図）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１６（ｂ）に示されるように、第１の電気光学装置用基板５１２における対向電極としての電気配線（走査電極）５１９と、第２の電気光学装置用基板５１４における素子第１電極５２４の端部とを近接して対向配置するとともに、電気光学装置を薄型化して構成した場合に、外圧によりパネルが変形した際、第１の電気光学装置用基板５１２における電気配線５１９と、第２の電気光学装置用基板５１４における素子第１電極５２４の端部との間の電気絶縁性が低下して、電気配線５１９から素子第１電極５２４の端部に対して、リーク電流が生じ、それが非線形素子としての薄膜ダイオード５３２中を流れ、データ電極５２６に到達して、絶縁膜５２３が破壊されたり、誤動作を生じ易たりするという問題が見られた。なお、参考のため、図１６（ｂ）中に、矢印でリーク電流の流れを示してある。
特に、近年は、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板を含む電気光学装置の厚さを、例えば、５μｍ以下にするという薄型化が図られており、そのため、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の電気絶縁性を所定値以上の値とすることが望まれていた。
【０００５】
そこで、本発明は、上記問題点を解決するものであり、その課題は、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部とを近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板における電気配線（走査電極）と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の電気絶縁性に優れた電気光学装置用基板や、それを利用した電気光学装置等を効率的に提供することにある。
すなわち、本発明は、近接して対向配置した場合であっても、電気絶縁性に優れた電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、薄型に構成した場合であっても電気絶縁性に優れた電気光学装置、および、このような電気光学装置を含む電子機器を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、電気光学装置に対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板において、第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、遮光層として、ブラックマトリクスと、その上に設けられた電気配線と、を備え、第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、二端子型非線形素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、を備えるとともに、第１の電気光学装置用基板の前記ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しない（除去した）電気光学装置用基板が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、通常、赤色層、緑色層、および青色層からなるブラックマトリクスから少なくとも一層を除去することにより、着色層の厚さが薄くなり、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離を、比較的離すことができる。したがって、近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板に形成された対向する電極間でのリーク電流の発生を防ぎ、優れた電気絶縁性を示すことができ、一対の電気光学装置用基板を用いて、電気光学装置を薄型化して構成した場合であっても、画素欠陥の発生を有効に防止することができる。
【０００７】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、ブラックマトリクスにおける赤色層および緑色層、あるいは、いずれか一層を除去することが好ましい。
このように構成することにより、青色層を含む他の着色層でカバーして、隠蔽性の低下を抑制することができる。
【０００８】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向させた場合に、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部と、第１の電気光学装置用基板における電気配線とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置してあることが好ましい。
すなわち、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離が、さらに離れるように配置してあるため、第１および第２の電気光学装置用基板を近接して対向配置した場合であっても、対向する電極間のリーク電流の発生を防ぎ、優れた電気絶縁性を示すことができる。
【０００９】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向させた場合に、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部に対応した位置の、第１の電気光学装置用基板における電気配線が部分的に除去してあることが好ましい。
このように構成することにより、電極の所定配置が容易になるとともに、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、対向する電極間でのリーク電流の発生を有効に防いで、優れた電気絶縁性を示すことができる。
【００１０】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向させた場合に、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部に対応した位置の、第１の電気光学装置用基板における電気配線が絶縁処理してあることが好ましい。
このように構成することにより、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、対向する電極同士の配置位置にかかわらず、絶縁材等がリーク電流の発生を有効に防ぎ、優れた電気絶縁性を示すことができる。
【００１１】
本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極と、第１の電気光学装置用基板におけるブラックマトリクスとを、垂直透視した場合に、それぞれが平行配置または直交配置してあることが好ましい。
このように構成することにより、画素電極の面積減少を抑制しつつ、対向する電極間でのリーク電流の発生を有効に防いで、優れた電気絶縁性を示すことができる。
【００１２】
本発明の別の態様は、対向する第１の電気光学装置用基板と第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、着色層と、遮光層として、ブラックマトリクスと、その上に設けられた電気配線と、を備え、第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、二端子型非線形素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、を備えるとともに、第１の電気光学装置用基板のブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しない（除去する）ことを特徴とする電気光学装置である。
すなわち、通常、赤色層、緑色層、および青色層からなるブラックマトリクスから少なくとも一層を除去することにより、着色層の厚さが薄くなり、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離を、比較的離すことができる。したがって、電気光学装置を薄型化して構成した場合であっても、画素欠陥の発生を有効に防止することができる。
【００１３】
本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部と、第１の電気光学装置用基板における電気配線とを、垂直透視した場合に、それぞれが重ならないように配置してあることが好ましい。
すなわち、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離が、さらに離れるように配置してあるため、電気光学装置をより薄型化して構成した場合であっても、画素欠陥の発生を有効に防止することができる。
【００１４】
本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部に対応した位置の、第１の電気光学装置用基板における電気配線の一部に、非形成箇所が設けてあることが好ましい。
このように構成することにより、電気光学装置用基板における電極の所定配置が容易になるとともに、電気光学装置をより薄型化して構成した場合であっても、画素欠陥の発生を有効に防止することができる。
【００１５】
本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応して、第１の電気光学装置用基板における電気配線が絶縁処理してあることが好ましい。
このように構成することにより、電気光学装置用基板における電極の所定配置が容易になるとともに、電気光学装置をより薄型化して構成した場合であっても、画素欠陥の発生を有効に防止することができる。
【００１６】
本発明の別の態様は、対向する第１の電気光学装置用基板と第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板の製造方法において、
基板としての第１のガラス基板上に、着色層と、遮光層として、ブラックマトリクスと、電気配線とを形成することにより、第１の電気光学装置用基板を準備する工程と、
対向基板としての第２のガラス基板上に、二端子型非線形素子を構成する素子第１電極と、絶縁膜と、素子第２電極とを形成することにより、第２の電気光学装置用基板を準備する工程と、を備えるとともに、
第１の電気光学装置用基板の前記ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しない（除去する）工程を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法である。
すなわち、通常、赤色層、緑色層、および青色層からなるブラックマトリクスから少なくとも一層を除去することにより、着色層の厚さが薄くなり、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、優れた電気絶縁性を示す電気光学装置用基板を効率的に提供することができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部と、第１の電気光学装置用基板における電気配線とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置する工程を含むことが好ましい。
このように実施すると、電極の所定配置が容易であり、かつ、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、優れた電気絶縁性を示す電気光学装置用基板を効率的に提供することができる。
【００１８】
本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応させて、第１の電気光学装置用基板における電気配線の一部に、非形成箇所を設ける工程を含むことが好ましい。
このように実施すると、電極の所定配置が容易であり、かつ、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、優れた電気絶縁性を示す電気光学装置用基板を効率的に提供することができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応して、第１の電気光学装置用基板における電気配線を絶縁処理する工程を含むことが好ましい。
このように実施すると、電極の所定配置が容易であり、かつ、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、優れた電気絶縁性を示す電気光学装置用基板を効率的に提供することができる。
【００２０】
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えたことを特徴とする電子機器である。
このように構成することにより、薄型の電気光学装置を利用した電子機器を効率的に提供することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００２２】
［第１実施形態］
第１実施形態は、図１（ａ）〜（ｃ）に例示されるように、電気光学装置に対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板１２および第２の電気光学装置用基板１４からなる一対の電気光学装置用基板であって、第１の電気光学装置用基板１２は、基板としての第１のガラス基板１３と、着色層（図示せず）と、遮光層として、通常、青色層１５、赤色層１６、および緑色層１７を含むブラックマトリクス１８と、その上に設けられた電気配線１９と、を備え、第２の電気光学装置用基板１４は、基板としての第２のガラス基板２７と、二端子型非線形素子３１、３２を構成する素子第１電極２４、絶縁膜２３および素子第２電極２２、２５と、を備えるとともに、第１の電気光学装置用基板１２のブラックマトリクス１８における青色層１５、赤色層１６、および緑色層１７の少なくとも一層を形成しない（除去した）ことを特徴とする電気光学装置用基板である。
以下、本発明の第１実施形態の電気光学装置用基板について、カラーフィルタ基板（第１の電気光学装置用基板）、二つの二端子型非線形素子を備えた対向基板（第２の電気光学装置用基板）、およびそれらを用いた液晶パネルを例に採って説明する。
【００２３】
１．基本構造
まず、図２〜図４を参照して、本発明の第１実施形態の電気光学装置用基板を用いた電気光学装置の基本構造、すなわち、セル構造や配線、あるいは位相差板および偏光板について具体的に説明する。なお、図２は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図であり、図３は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図であり、図４は、アクティブマトリクス配線の電気的構成を示す図である。
また、図２に示される電気光学装置を構成する液晶パネル２００は、二端子型非線形素子としてのＴＦＤ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｄｉｏｄｅ）を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることが好ましい。
【００２４】
（１）セル構造
図２に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１のガラス基板２２１（図１中、第１のガラス基板１３に相当）を基体とするカラーフィルタ基板（第１の電気光学装置用基板と称する場合がある。）２２０と、これに対向配置される第２のガラス基板２１１（図１中、第２のガラス基板２７に相当）を基体とする対向基板２１０（第２の電気光学装置用基板と称する場合がある。）とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられていることが好ましい。そして、カラーフィルタ基板２２０と、対向基板２１０とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
すなわち、図３に示すように、カラーフィルタ基板２２０と、対向基板２１０との間に液晶材料２３２が充填されていることが好ましい。
【００２５】
（２）配線
▲１▼マトリクス
図２に示すように、第２のガラス基板２１１の内面（第１のガラス基板２２１に対向する表面）上に、マトリクス状の透明電極２１６を形成し、第１のガラス基板２２１の内面上には、当該透明電極２１６に直交する方向に並列した、複数のストライプ状の透明電極２２２を形成することが好ましい。また、透明電極２１６を、図示しない非線形素子を介して配線２１８Ａに対して導電接続するとともに、もう一方の透明電極２２２を、配線２２８に対して導電接続することが好ましい。
そして、透明電極２１６と透明電極２２２とは相互に直交するため、その交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Ａを構成することになる。
【００２６】
また、図４に、ドライバＩＣおよびＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス配線の具体的な電気的構成例を示す。すなわち、Ｙ方向に延在する複数のデータ電極２６と、Ｘ方向に延在する複数の走査電極１９とから構成されており、各交差部分において画素５０が構成されている。また、各画素５０において、液晶表示要素５１と、ＴＦＤ素子３１とが直列接続されている。
【００２７】
▲２▼入力端子部
また、図２に示すように、第２のガラス基板２１１は、第１のガラス基板２２１の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、この基板張出部２１０Ｔ上には、配線２１８Ａ、配線２２８に対して、シール材２３０の一部で構成される上下導通部を介して導電接続された配線２１８Ｂ、および、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部２１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ、２１８Ｂおよび入力端子部２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体ＩＣ２６１が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部２１０Ｔの端部には、入力端子部２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板２６３が実装されていることが好ましい。
【００２８】
（３）位相差板および偏光板
図２に示される液晶パネル２００において、図３に示すように、第１のガラス基板２２１の所定位置に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
そして、第２のガラス基板２１１の外面においても、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
【００２９】
２．カラーフィルタ基板（第１の電気光学装置用基板）
次いで、図１および図２、あるいは図３〜図８を適宜参照しながら、本発明の第１の電気光学装置用基板としての構造的特徴や動作を、カラーフィルタ基板２２０を例に採って詳細に説明する。
【００３０】
（１）基本的構成
カラーフィルタ基板２２０は、図３に示すように、基本的に、ガラス基板２２１と、着色層２１４と、透明電極２２２と、配向膜２１７と、から構成してあることが好ましい。
また、カラーフィルタ基板２２０において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される反射半透過型の液晶表示装置においては、ガラス基板２２１と、着色層２１４との間に、図３に示すように、反射層２１２を設けることが好ましい。
さらに、カラーフィルタ基板２２０において、図３に示すように、その表面を平坦化するための平坦化層３１５や、電気絶縁性を向上させるための絶縁層を設けることも好ましい。
【００３１】
（２）着色層
▲１▼構成
また、図３に示す着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
【００３２】
▲２▼遮光膜
また、図３に示すように、画素毎に形成された着色層２１４の間の画素間領域に、ブラックマトリクス（黒色遮光膜、あるいはブラックマスクと称する場合がある。）２１４ＢＭが形成してあることが好ましい。
このブラックマトリクス２１４ＢＭとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
【００３３】
また、図１に示すように、第１の電気光学装置用基板では、ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しない（除去する）ことを特徴とする。
この理由は、少なくとも一層を形成しないことにより、ブラックマトリクスにおける着色層の厚さが薄くなって、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離が、比較的離れるためである。したがって、第１および第２の電気光学装置用基板を、近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板に形成された対向する電極間でのリーク電流の発生を防ぎ、優れた電気絶縁性を示すことができる。
【００３４】
また、ブラックマトリクスにおける青色層を残して、赤色層および緑色層、あるいは、いずれか一層を形成しない（除去する）ことが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、隠蔽性の高い青色層を含む他の着色層でカバーすることにより、遮光膜における隠蔽性の低下を抑制することができるためである。
【００３５】
▲３▼配列パターン
また、着色層の配列パターンとして、図５（ａ）に示すように、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、図５（ｂ）に示すような斜めモザイク配列や、図５（ｃ）に示すようなデルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００３６】
（３）透明電極
▲１▼透明電極
図３に示すように、平坦化層３１５の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２２２を形成することが好ましい。かかる透明電極２２２は、図２において、左右方向に伸びる帯状に形成されているが、複数の透明電極２２２が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、アクティブマトリクス配線においては、かかる透明電極２２２が、走査電極を構成することになる。
【００３７】
▲２▼電極配置
また、図６（ａ）〜（ｃ）に例示されるように、第２の電気光学装置用基板１４は、第２のガラス基板２７、二端子型非線形素子３１、３２を構成する素子第１電極２４、絶縁膜２３および二つの素子第２電極２２、２５と、を備えるとともに、第１の電気光学装置用基板１２と、第２の電気光学装置用基板１４とを対向させ、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４のいずれかの端部と、第１の電気光学装置用基板１２における電気配線１９とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置してあることを特徴とする。
この理由は、このように構成することにより、第１の電気光学装置用基板１２における電気配線１９と、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４の端部との間の距離が、比較的離れているため、近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板１２における電気配線１９と、第２の電気光学装置用基板１４に形成された対向する電極間でのリーク電流の発生を防いで、優れた電気絶縁性を示すことができるためである。
なお、このように第１の電気光学装置用基板１２における電気配線１９の配置を考慮して、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４のいずれかの端部に重ならないように構成することも好ましいし、あるいは、図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４の配置を考慮して、第１の電気光学装置用基板１２における電気配線１９と重ならないように構成することも好ましい。
【００３８】
（４）配向膜
また、図３に示すように、透明電極２２２の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板２２０を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料の電圧駆動を容易に実施することができるためである。
【００３９】
（５）反射層
また、図３に示すように、第１のガラス基板２２１の表面には、反射層２１２が形成されている。この反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成することが好ましい。また、反射層２１２には、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部２１２ａとが設けられていることが好ましい。
そして、反射層２１２の上には、画素毎に着色層２１４が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる平坦化層（表面保護層、オーバーコート層）３１５により、被覆してあることが好ましい。したがって、この着色層２１４と平坦化層３１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。
【００４０】
３．対向基板（第２の電気光学装置用基板）
（１）基本構造
また、図１および図３に示すように、カラーフィルタ基板２２０と対向するもう一方の対向基板（第２の電気光学装置用基板）２１０は、ガラス等からなる第２のガラス基板２１１上に、第１のガラス基板と同様の透明電極２１６や配向膜２２４を順次積層させたものであることが好ましい。
なお、このカラーフィルタ基板２２０の例では、着色層が第１のガラス基板に設けてあるが、着色層を、かかる対向基板２１０の第２のガラス基板２１１上に設けることも好ましい。
【００４１】
（２）二端子型非線形素子
二端子型非線形素子としては、図１に例示するように、ＴＦＤ素子３１、３２が典型的である。
かかるＴＦＤ素子３１、３２は、図１に例示されるように、素子第１電極としての第１金属膜２４、絶縁膜２３、および素子第２電極としての第２金属膜２２、２５からなるサンドイッチ構成を有することが好ましい。ここで、第１金属膜２４や第２金属膜２２、２５としては、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）や、クロム（Ｃｒ）等が挙げられる。また、絶縁膜２３としては、このような金属材料を陽極酸化させて構成してあることが好ましい。例えば、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）や酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等が具体的に挙げられる。
そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、第１金属膜２４および第２金属膜２２、２５の両端子間に印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
【００４２】
（３）二端子型非線形素子の配置方法１
二端子型非線形素子の配置方法に関して、図１（ｃ）に示すように、二個のＴＦＤ素子３１、３２は、走査電極１９またはデータ電極２６と、画素電極２０との間に介在するように、ガラス基板２７上に形成され、反対のダイオード特性を有する第１のＴＦＤ素子３２および第２のＴＦＤ素子３１から構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、交流を使用することができ、液晶表示装置等における液晶材料の劣化を防止することができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、図１に例示するように、二個のＴＦＤ素子３１、３２を逆向きに直列接続することにより、交流を使用することができるためである。
【００４３】
なお、第１のＴＦＤ素子３２は、図１中、Ａ−Ａ´断面を矢印方向に眺めた場合に、電気配線２６から分岐した部分に相当する第２金属膜２５と、絶縁膜２３と、第１金属膜２４と、がこの順に積層されて構成されていることが好ましい。一方、第２のＴＦＤ素子３１は、同様に、Ａ−Ａ断面を矢印方向に眺めた場合に、画素電極２０に電気接続された第２金属膜２２と、絶縁膜２３と、第１金属膜２４と、がこの順に積層されて構成されていることが好ましい。
また、第１のＴＦＤ素子３２および第２のＴＦＤ素子３１において、それぞれ別個の第２金属膜２５、２２が設けてあるが、絶縁膜２３および第１金属膜２４は、それぞれ共通していることが好ましい。
【００４４】
（４）二端子型非線形素子の配置方法２
また、二端子型非線形素子の配置方法に関して、図６および図８〜１０に例示されるように、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４と、第１の電気光学装置用基板１２におけるブラックマトリクス１８（参考のため、ブラックマトリクス１８の存在箇所を、図６および図８〜１０のそれぞれにおいて、点線で表している。）を、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが平行配置してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、電極の所定配置による画素電極における開口率の低下が少なくなり、かつ、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、対向する電極間でのリーク電流の発生を防いで、優れた電気絶縁性を示すことができるためである。また、このように構成することにより、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的である第１のＴＦＤ素子３２および第２のＴＦＤ素子３１をそれぞれ配置できるとともに、第１のＴＦＤ素子３２が、電気配線１９の配線間スペース部分と、第１のＴＦＤ素子用第１金属膜２５との間の交差部分に形成されるため、省スペース化を図ることができるためである。
【００４５】
（５）二端子型非線形素子の配置方法３
また、第２の電気光学装置用基板における二端子型非線形素子の配置方法に関して、ＴＦＤ素子３１、３２が、図８（ａ）に示されるように、第１のＴＦＤ素子３２および第２のＴＦＤ素子３１の二つから構成されており、少なくとも第１のＴＦＤ素子３２が、鉛直方向に透視した場合に、第１の電気光学装置用基板（図示せず）の電気配線の配線間スペース部分と、第２の電気光学装置用基板の第１金属膜２５との間の交差部分に形成されることが好ましい。
そして、図８（ｂ）に示されるように、第１のＴＦＤ素子３２は、第１金属膜２４と、絶縁膜２３と、第２金属膜２５とから構成されており、第２のＴＦＤ素子３１は、第１金属膜２４と、絶縁膜２３と、第２金属膜２２とから構成されていることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的である第１のＴＦＤ素子３２および第２のＴＦＤ素子３１の両方を配置できるとともに、第２のＴＦＤ素子３１が、第１の電気光学装置用基板（図示せず）の電気配線と、第１金属膜２５との間の交差部分に形成されるため、省スペース化を図ることができるためである。
【００４６】
（６）二端子型非線形素子の配置方法４
また、二端子型非線形素子の配置方法に関して、図９に示すように、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４が直線状であって、鉛直方向に透視した場合に、素子第１電極２４と、第１の電気光学装置用基板１２におけるブラックマトリクス１８とが、重なって配置されていることが好ましい。
この理由は、このように重なって配置されていることにより、素子第１電極２４の設計配置が容易になるとともに、画素電極における開口率の低下を抑制しつつ、対向する電極間でのリーク電流の発生を防いで、優れた電気絶縁性を示すことができるためである。
【００４７】
（７）二端子型非線形素子の配置方法５
また、二端子型非線形素子の配置方法に関して、図１０（ａ）に示すように、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４および素子第２電極２２、２５が、それぞれかぎ状であって、鉛直方向に透視した場合に、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４と、第１の電気光学装置用基板１２におけるブラックマトリクス１８とが、実質的に重なって配置されていることも好ましい。
また、図１０（ｂ）および（ｃ）に示すように、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４が直線状であって、素子第２電極２２、２５の両方またはいずれか一方が、それぞれかぎ状であって、鉛直方向に透視した場合に、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４と、第１の電気光学装置用基板１２におけるブラックマトリクス１８とが、実質的に重なって配置されていることも好ましい。
さらに、図１０（ｄ）および（ｅ）に示すように、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４が直線状であって、素子第２電極２２、２５の両方またはいずれか一方が、それぞれ斜め直線状であって、鉛直方向に透視した場合に、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４と、第１の電気光学装置用基板１２におけるブラックマトリクス１８とが、実質的に重なって配置されていることも好ましい。
【００４８】
［第２実施形態］
第２実施形態は、対向する第１の電気光学装置用基板と第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板の製造方法であって、
基板としての第１のガラス基板上に、遮光層として、通常、赤色層、緑色層、および青色層からなるブラックマトリクスおよび電気配線を形成し、第１の電気光学装置用基板を準備する工程と、
対向基板としての第２のガラス基板上に、二端子型非線形素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極を形成し、第２の電気光学装置用基板を準備する工程と、を備えるとともに、
第１の電気光学装置用基板の前記ブラックマトリクスにおける赤色層、緑色層、および青色層の少なくとも一層を形成しない（除去する）工程を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法である。
以下、図１１（ａ）〜（ｅ）を参照して、本発明に係る電気光学装置あるいは電気光学装置用基板の製造方法の実施形態について詳細に説明する。本実施形態において製造する電気光学装置は、図１に示す上記第１実施形態の液晶パネル２００を備えたものである。
【００４９】
１．第１の電気光学装置用基板の製造
（１）着色層の形成
図１１（ａ）に示すように、第１基板２２１上には、画像表示領域に相当する箇所に、反射層２１２、および黒色遮光層２１４ＢＭを順次形成することが好ましい。
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。また、黒色遮光層２１４ＢＭは、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成する。
また、着色層２１４についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、反射層２１２等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによっても形成することができる。
なお、複数の色の着色層２１４を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
【００５０】
（２）遮光層の形成
また、遮光層として、通常、赤色層、緑色層、および青色層を含むブラックマトリクスを形成するものの、本実施形態においては、赤色層、緑色層、および青色層のうち、いずれか一つ以上を形成しないか、あるいは一旦形成した後、削除することを特徴とする。
すなわち、このように実施すると、ブラックマトリクスにおける着色層の厚さが薄くなるために、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接して対向配置した場合であっても、優れた電気絶縁性を示す電気光学装置用基板を効率的に提供することができるためである。
【００５１】
（３）透光保護層の形成
次いで、図１１（ｂ）に示すように、第１基板２２１上に全面的に透光保護層３１５Ｘを形成する。この透光保護層３１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
【００５２】
次いで、上記透光保護層３１５Ｘに、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、図１１（ｃ）に示すように、画像表示領域に限定された平坦化層３１５を形成する。この工程によって、透光保護層３１５Ｘから画像表示領域以外の領域、すなわち、図１３に示すシール材２３０の外側に配置される領域とほぼ同じ領域上から透光性素材が欠落される。
【００５３】
（４）透明導電層の形成
次いで、図１１（ｄ）に示すように、平坦化層３１５上に、電気配線として、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体材料からなる透明導電層２２２Ｘを形成することが好ましい。この透明導電層２２２Ｘは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。
そして、透明導電層２２２Ｘに対して、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、図１１（ｅ）に示すように透明電極２２２を形成することが好ましい。
以下、透明導電層２２２Ｘの形成に関して、配置工程、非形成箇所の形成工程、および絶縁処理工程に分けてそれぞれ説明する。
【００５４】
▲１▼電気配線の配置工程
第１の電気光学装置用基板における透明導電層（電気配線）を形成するにあたり、第１の電気光学装置用基板上に、遮光層としてのブラックマトリクスと、電気配線と、を順次に形成するとともに、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の位置を考慮して、それと重ならないように、第１の電気光学装置用基板における電気配線をずらしたり、平行移動させたりすることが好ましい。
すなわち、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向配置した場合に、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離が比較的離れていることから、薄型化が容易な電気光学装置用基板を効率的に製造することができる。
ただし、後述するように、第１の電気光学装置用基板における透明導電層（電気配線）については、通常どおり形成し、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の形成位置を考慮して、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向配置した場合に、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極のいずれかの端部とが重ならないように配置することがより好ましい。
【００５５】
▲２▼非形成箇所の形成工程
また、電気配線の一部に非形成箇所を形成させる工程を設けて、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極と、第１の電気光学装置用基板における電気配線とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれの電気配線が相互に重ならないようにすることが好ましい。
例えば、フォトリソグラフィ法により、第１の電気光学装置用基板における電気配線の一部をエッチングして非形成箇所を形成しても良いし、あるいは、機械的に該当箇所を削除しても良い。さらに、マスキング法により、第１の電気光学装置用基板における電気配線を形成する際に、所定箇所に電気配線を形成しないことによっても、電気配線の一部に容易に非形成箇所を形成することができる。
なお、このように実施することにより、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向配置した場合に、優れた絶縁特性が得られるとともに、薄型化が容易な電気光学装置用基板を効率的に製造することができる。
【００５６】
▲３▼電気配線の絶縁処理工程
第１の電気光学装置用基板における電気配線の絶縁処理工程を設けて、対向する第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部と、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、の間の絶縁抵抗を所定値以上の値にすることが好ましい。
すなわち、第１の電気光学装置用基板における電気配線を形成した後に、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極のいずれかの端部位置に対応させて、絶縁処理を施すことが好ましい。
なお、このように実施することにより、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向配置した場合に、優れた絶縁特性が得られるとともに、薄型化が容易な電気光学装置用基板を効率的に製造することができる。
【００５７】
２．第２の電気光学装置用基板の製造
（１）素子第１電極の形成
図１２（ａ）に示すように、第２の電気光学装置用基板のガラス基板２７上に、金属膜６１を形成する工程である。この金属膜６１は、例えば、タンタルから構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。また、この金属膜６１の厚さはＴＦＤ素子の用途等に対応して、適宜変更することができるが、通常、１００〜５００ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００５８】
また、金属膜６１の形成前に、第２の電気光学装置用基板のガラス基板２７上に、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。この理由は、第２の電気光学装置用基板のガラス基板２７と、金属膜６１との間に、このように絶縁膜を形成することにより、ガラス基板２７に対する金属膜６１の密着力を著しく向上させることができるとともに、ガラス基板２７から金属膜６１への不純物の拡散を効率的に抑制することができるためである。
次いで、図１２（ｂ）に示すように、金属膜６１をフォトリソグラフィ法やエッチング技術を用いて、パターニングして、素子第１電極とすることが好ましい。
【００５９】
なお、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極のいずれかの端部と、第１の電気光学装置用基板における電気配線とを鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置することも好ましい。すなわち、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを対向配置した場合に、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極のいずれかの端部とが重ならないように配置することが好ましい。
したがって、図１に示すように、第１の電気光学装置用基板１２における電気配線１９と、第２の電気光学装置用基板１４における素子第１電極２４の端部との間の距離が比較的離れており、それぞれ近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板１２と、第２の電気光学装置用基板１４に形成された対向する電極間で、リーク電流の発生を防いで、優れた電気絶縁性を示すことができる。
【００６０】
（２）酸化膜の形成
次いで、図１２（ｃ）に示すように、金属膜２４の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜を形成することが好ましい。より具体的には、金属膜２４が形成されたガラス基板２７を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、金属膜２４との間に所定電圧を印加して、金属膜２４の表面を酸化させることが好ましい。
なお、酸化膜２３の厚さはＴＦＤ素子の用途等に対応して、適宜変更することができるが、通常、１０〜５０ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００６１】
（３）素子第２電極の形成
次いで、図示しないが、再び、スパッタリング法等により、全面的に金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法やエッチング技術を用いて、パターニングすることにより、図１２（ｄ）に示すように、素子第２電極２２、２５を形成することが好ましい。
【００６２】
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態としての電気光学装置を、電子機器における表示装置として用いた場合について具体的に説明する。
【００６３】
（１）電子機器の概要
図１４は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００とを有している。また、図１４中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されていることが好ましい。
【００６４】
また、表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給することが好ましい。そして、駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
【００６５】
（２）電子機器
本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、パーソナルコンピュータや、携帯電話機のほかにも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器などが挙げられる。
さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記実施形態の液晶パネルは、いわゆるＣＯＧタイプの構造を有しているが、ＩＣチップを直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
また、上述した実施形態では、電気光学装置として、液晶装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管、液晶シャッター、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いた装置などの各種の電気光学装置に適用できる。
【００６６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置用基板によれば、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離が、比較的離れていたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応させて、第１の電気光学装置用基板の電気配線に欠落箇所を設けたり、さらには、第１の電気光学装置用基板の電気配線に特定の絶縁処理を施してしてあったりすることから、近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板に形成された対向する電極間のリーク電流の発生を防ぎ、優れた電気絶縁性を示すことができるようになった。したがって、二端子型非線形素子の電圧破壊を有効に防止し、二端子型非線形素子の耐久性を著しく高めることができるようになった。
【００６７】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法によれば、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離が比較的離れていたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応させて、第１の電気光学装置用基板の電気配線に欠落箇所を設けてあったり、さらには、第１の電気光学装置用基板の電気配線に特定の絶縁処理を施してしてあったりする電気光学装置用基板を効率的に製造することができるようになった。したがって、耐久性に優れた二端子型非線形素子を有する電気光学装置用基板を安価に提供することができるようになった。
【００６８】
また、本発明の電気光学装置によれば、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部との間の距離が、比較的離れていたり、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極の端部位置に対応させて、第１の電気光学装置用基板の電気配線に欠落箇所を設けたり、さらには、第１の電気光学装置用基板の電気配線に特定の絶縁処理を施してしてあったりする電気光学装置用基板を使用することから、薄型化のために、近接して対向配置した場合であっても、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板における対向する電極間でのリーク電流の発生を防ぎ、優れた電気絶縁性を示すことができるようになった。よって、薄型化した場合であっても、優れた画像特性を示すことができる電気光学装置を効率的に提供することができるようになった。
【００６９】
さらに、本発明の電子機器によれば、よって、薄型化した場合であっても、優れた画像特性を示すことができる電気光学装置を含む電子機器を効率的に提供することができるようになった。
【００７０】
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、第１実施形態に係る対向基板の斜視図であり、（ｂ）は、第１実施形態に係る電気光学装置用基板の断面図であり、（ｃ）は、第１実施形態に係る対向基板の平面図である。
【図２】第１実施形態に係る液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図３】第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図である。
【図４】アクティブマトリクス配線の電気的構成を示す図である。
【図５】それぞれ着色層におけるパターン配列を説明するために供する図である。
【図６】二端子型非線形素子の配置方法を説明するために供する図である（その１）。
【図７】二端子型非線形素子の配置方法を説明するために供する図である（その２）。
【図８】二端子型非線形素子の配置方法を説明するために供する図である（その３）。
【図９】（ａ）は、第２実施形態に係る対向基板の斜視図であり、（ｂ）は、第２実施形態に係る電気光学装置用基板の断面図であり、（ｃ）は、第２実施形態に係る対向基板の平面図である。
【図１０】（ａ）は、第３実施形態に係る対向基板の斜視図であり、（ｂ）は、第３実施形態に係る電気光学装置用基板の断面図であり、（ｃ）は、第３実施形態に係る対向基板の平面図である。
【図１１】第１の電気光学装置用基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図１２】第２の電気光学装置用基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図１３】本発明に係る第３実施形態である電気光学装置を示す断面図である。
【図１４】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図１５】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。
【図１６】（ａ）は、従来の対向基板の斜視図であり、（ｂ）は、従来の電気光学装置用基板の断面図であり、（ｃ）は、従来の対向基板の平面図である。
【００７１】
【符号の説明】
１０：電気光学装置用基板、１２：第１の電気光学装置用基板、１３：第１のガラス基板、１４：第２の電気光学装置用基板、１８：ブラックマトリクス、１９：電気配線（走査電極）、２０：画素電極、２２：第１の素子第２電極、２３：絶縁膜、２４：素子第１電極、２５：第２の素子第２電極、２６：データ電極、２７：第２のガラス基板、３１：第１のＴＦＤ素子、３２：第２のＴＦＤ素子、２００：液晶パネル、２１０：対向基板、２１１：第２基板、２１２：反射層、２１２ａ：開口部、２１２ｒ：反射部、２１４：着色層、２１６：透明電極
２２０：カラーフィルタ基板、２２１：第１基板、２２２：透明電極、３１５：平坦化層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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