(57)【要約】【課題】  全光線透過率が高く、青色の透過色を生じることができるタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを提供する。【解決手段】  光透過性基材フィルムの一方の面に、（Ａ）電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層、（Ｂ）アンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンの金属酸化物を含有した電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．６５〜１．９０の範囲にある厚さ３０〜１６０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ）シロキサン系硬化性化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．４０〜１．５５の範囲にある厚さ１０〜５０ｎｍの低屈折率層を順次積層する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材フィルムの一方の面に、（Ａ）電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層、（Ｂ）金属酸化物としてアンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンを含有した電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．６５〜１．９０の範囲にある厚さ３０〜１６０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ）シロキサン系硬化性化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．４０〜１．５５の範囲にある厚さ１０〜５０ｎｍの低屈折率層を順次積層していることを特徴とするタッチパネル用光透過性ハードコートフィルム。
【請求項２】
前記光透過性基材フィルムの（Ａ）の電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層が設けられている面の反対面に光透過性ハードコート層を有する請求項１に記載のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルム。
【請求項３】
前記光透過性ハードコート層が防眩性光透過性ハードコート層である請求項１又は２に記載のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルム。
【請求項４】
高屈折率層において、アンチモンドープ酸化錫の含有量が全金属酸化物の合計量の２０〜９０質量％である請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用光透過性ハードコートフィルムに関し、詳しくは光線透過率が高く、青色の透過色を生じることができるタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、銀行のＡＴＭ、駅の券売機や情報端末、空港の搭乗手続き端末、電子手帳などに使用されており、タッチパネルの表面を指やペンなどで触ると、入力位置を記録させることができる。
代表的なアナログタイプのタッチパネルは、ガラスの表面に第１の透明導電膜が積層され、第１の透明導電膜の表面にマイクロドットスペーサーが形成され、その第１の透明導電膜に空間を設けて第２の透明導電膜が積層され、さらに第２の透明導電膜の表面に透明フィルムが積層されている構造を有しており、透明フィルムの表面を指やペンなどで触ると、スペーサーのない部分で２枚の透明導電膜を接触させることにより入力位置を記録させることができる。
このアナログタイプのタッチパネルは、通常、表面にマイクロドットスペーサーが形成された第１の透明導電膜が積層されたガラスと、第２の透明導電膜が積層された透明フィルムを透明導電膜同士面で、空間を設けて２枚の透明導電膜を積層することにより、製造できる。
【０００３】
従来、透明導電膜が積層された透明フィルムとしては、例えば、ＩＴＯ膜とポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）との積層物が挙げられる。
しかし、タッチパネル用のＩＴＯ膜とＰＥＴフィルムとの積層物は、全光線透過率がクリアハードコートＰＥＴフィルムと比較して低く、透過色も黄色をしているため、視認性、操作性、高級感が十分ではないという問題点があった。
また、ガラス板、ポリカーボネート板、ポリエチレンテレフタレート板などの透明基板、アクリル樹脂などからなるハードコート層、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などからなる屈折率が１．５０〜２．５０の高屈折率層、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２などからなる屈折率が１．３５〜１．６０の低屈折率層、透明導電体層を積層した透明タッチパネルが開示されている（特許文献１参照）。しかし、この透明タッチパネルは、視認性、操作性がある程度改善されているが、まだ十分とは言えず、透過色が黄色をしているという問題点があった。
【０００４】
また、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルムなどの透明基板、アクリル樹脂などからなるハードコート層、チタニウムとジルコニウムのアルコキシドの架橋物などからなる屈折率が１．７から透明導電層の屈折率よりおよそ０．３大きい高屈折率層、ケイ素アルコキシドの架橋物などからなる屈折率が１．３５〜１．５の低屈折率層、透明導電体層を積層した透明タッチパネルが開示されている（特許文献２参照）。
しかし、この透明タッチパネルは、透過光が無着色か僅かに黄色味を帯びているものであり、タッチパネルに望まれる青色ではなかった。
このため、全光線透過率が高く、青色の透過色を生じることができるタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムが望まれていた。
【特許文献１】国際公開ＷＯ００／６３９２４号公報
【特許文献２】特開２０００−３０１６４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来技術の状況に鑑みてなされたものであり、全光線透過率が高く、青色の透過色を生じることができるタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、光透過性基材フィルムの一方の面に、（Ａ）電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層、（Ｂ）金属酸化物としてアンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンを含有した電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．６５〜１．９０の範囲にある厚さ３０〜１６０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ）シロキサン系硬化性化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．４０〜１．５５の範囲にある厚さ１０〜５０ｎｍの低屈折率層を順次積層することにより、光の干渉効果により反射光が抑えられ、高い全光線透過率が得られ、青色の透過色を生じさせることができることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、光透過性基材フィルムの一方の面に、（Ａ）電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層、（Ｂ）金属酸化物としてアンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンを含有した電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．６５〜１．９０の範囲にある厚さ３０〜１６０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ）シロキサン系硬化性化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．４０〜１．５５の範囲にある厚さ１０〜５０ｎｍの低屈折率層を順次積層していることを特徴とするタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを提供するものである。
【０００８】
また、本発明は、上記タッチパネル用光透過性ハードコートフィルムにおいて、前記光透過性基材フィルムの（Ａ）の電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層が設けられている面の反対面に光透過性ハードコート層を有するタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを提供するものである。
また、本発明は、上記タッチパネル用光透過性ハードコートフィルムにおいて、前記光透過性ハードコート層が防眩性光透過性ハードコート層であるタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを提供するものである。
また、本発明は、上記タッチパネル用光透過性ハードコートフィルムにおいて、高屈折率層において、アンチモンドープ酸化錫の含有量が全金属酸化物の合計量の２０〜９０質量％であるタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを提供するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムは、光の干渉効果により反射光が抑えられ、全光線透過率が高く、青色の透過色を生じることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを図面に基づいて説明する。
本発明において、光透過性基材フィルム１としては、種々のプラスチックシート、フィルムが使用できる。光透過性基材フィルム１の具体例としては、例えばポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などのポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂などのポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などの各種合成樹脂のフィルムが挙げられ、特に、高強度であり安価であることから、ポリエチレンテレフタレート樹脂などのポリエステル樹脂より成るフィルムが好ましい。光透過性基材フィルム１は、単層であってもよいし、同種又は異種の２層以上の多層であってもよい。
光透過性基材フィルム１の厚みは、特に制限ないが、通常１０〜３５０μｍが好ましく、２５〜３００μｍがより好ましく、５０〜２５０μｍが特に好ましい。
【００１１】
光透過性基材フィルム１の表面は、易接着処理を施してもよい。易接着処理としては、特に制限ないが、例えば、コロナ放電処理や、光透過性基材フィルム１の樹脂と同一成分の低分子量の樹脂ポリマー層を設けること等が挙げられる。例えば、光透過性基材フィルム１がポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂）であるときは、低分子量の樹脂ポリマーとしては、低分子量のポリエステル（例えば、エチレンテレフタレートオリゴマー）が挙げられる。
【００１２】
本発明においては、光透過性基材フィルム１の一方の表面に（Ａ）層としての電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層２を有する。
電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層２は、電離放射線硬化型化合物を含有する硬化性組成物を塗布して電離放射線を照射して硬化させて形成できる。
電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層２の厚さは、特に制限ないが、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが特に好ましい。
電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層２の硬さは、スチールウール硬度で２００ｇ／ｃｍ２以上の荷重をかけた場合であっても傷が付かないことが好ましい。
【００１３】
電離放射線硬化型化合物は、電離放射線を照射されることにより硬化されるものであり、紫外線硬化型化合物、電子線硬化型化合物、α線硬化型化合物、β線硬化型化合物、γ線硬化型化合物などが挙げられるが、紫外線硬化型化合物、電子線硬化型化合物が好ましく、紫外線硬化型化合物が特に好ましい。
電離放射線硬化型化合物としては、不飽和モノマー、オリゴマー、樹脂又はそれらを含む組成物などが挙げられる。その具体例としては、多官能アクリレート、ウレタンアクリレートやポリエステルアクリレート等の２官能基以上を有する多官能の電離放射線硬化型のアクリル系化合物が挙げられ、ウレタンアクリレートやポリエステルアクリレートが好ましい。多官能アクリレートとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリアリル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１４】
ウレタンアクリレートは、例えばポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールと、ポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーの水酸基と（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得られる。
ポリエステルアクリレートは、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、又は多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得られる。
電離放射線硬化型化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。
【００１５】
電離放射線としては、紫外線、電子線、α線、β線などが挙げられる。紫外線を使用する場合は、硬化性組成物には、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系などの公知の光重合開始剤を用いることができ、また、オリゴマー型光重合開始剤を用いることもできる。
光重合開始剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。
電離放射線硬化型化合物と光重合開始剤の配合割合は、通常電離放射線硬化型化合物１００質量部に対し光重合開始剤が０．０１〜２０質量部が好ましく、０．１〜１０質量部が特に好ましい。
本発明において、オリゴマー型光重合開始剤を用いれば重合開始剤に由来するガスの発生がほとんど防止できる。
【００１６】
また、硬化性組成物には、シリカ（コロイド状シリカを含む）、シリコーンパウダー、マイカ、ガラスビーズ、アクリル系微粉末、中空粒子等のフィラーを含ませて防眩性を持たせるようにしてもよい。この場合、フィラーは電離放射線硬化型化合物１００質量部に対して、０．５〜５０質量部が好ましい。０．５質量部未満であると防眩性が低下するし、５０質量部を超えると光透過性ハードコート層の強度が低下する。
【００１７】
また、硬化性組成物には、抗菌剤を含ませてもよい。抗菌剤としては、リン酸ジルコニウムを担持体とした銀系無機抗菌剤、ゼオライトを担持体とした銀系無機抗菌剤、リン酸カルシウムを担持体とした銀系無機抗菌剤、シリカゲルを担持体とした銀系無機抗菌剤等の銀系無機抗菌剤、アミノ酸化合物を配合してなる有機系抗菌剤等のアミノ酸系有機抗菌剤、窒素含有硫黄系化合物を配合してなる有機系抗菌剤等、各種抗菌剤が使用することができる。抗菌剤の配合量は、使用する抗菌剤の種類や必要とされる抗菌性、その保持時間等に合わせて硬化性組成物中に適量配合させればよい。
また、硬化性組成物には、光安定剤、紫外線吸収剤、触媒、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、重合促進剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤、表面改質剤等の添加成分を含ませることは任意である。
【００１８】
また、硬化性組成物には、塗布し易くするために希釈剤を含有させてもよい。希釈剤としては、イソブタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどの脂肪族炭化水素、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソプロピルケトン等のケトン等が挙げられる。希釈剤の配合量は、要求される粘度になるように適宜選定すればよい。
本発明においては、上記硬化性組成物は、光透過性基材フィルムの表面に塗布され、希釈剤を含む場合は乾燥した後に電離放射線を照射されて、硬化されハードコート層を形成する。
光透過性ハードコート層の厚みは、特に制限ないが、通常１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが特に好ましい。
上記硬化性組成物の光透過性基材フィルムへの塗布方法は、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンコート法など従来公知の方法が挙げられる。
【００１９】
照射される電離放射線は、種々の電離放射線発生装置から発生する電離放射線が用いられる。例えば、紫外線は、通常は紫外線ランプから輻射される紫外線が用いられる。この紫外線ランプとしては、通常波長３００〜４００ｎｍの領域にスペクトル分布を有する紫外線を発光する、高圧水銀ランプ、ヒュ−ジョンＨランプ、キセノンランプ等の紫外線ランプが用いられ、照射量は通常５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００２０】
本発明においては、一方の（Ａ）層としての電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層２の表面には、（Ｂ）層としての高屈折率層３が積層されている。高屈折率層３は、金属酸化物としてアンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンを含有した電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．６５〜１．９０の範囲であり、好ましくは１．７０〜１．９０の範囲であり、厚さが３０〜１６０ｎｍの範囲であり、好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲である。
高屈折率層３には、アンチモンドープ酸化錫と、酸化ジルコニウム又は酸化チタンのいずれか一方又は両者の金属酸化物を含有する。これらの金属酸化物を含有することにより、屈折率を１．６５〜１．９０の範囲とすることができる。アンチモンドープ酸化錫は、低屈折率層４との接着性を向上させることができる。
【００２１】
アンチモンドープ酸化錫は、酸化錫に少量のアンチモンを添加（ドープ）したものである。
アンチモンドープ酸化錫としては、ドープされたアンチモンの含有量は、１〜２０質量％が好ましい。アンチモンドープ酸化錫の含有量は、アンチモンドープ酸化錫と、酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンの金属酸化物の合計量の２０〜９０質量％が好ましく、２５〜７０質量％がより好ましく、３０〜６５質量％が特に好ましい。アンチモンドープ酸化錫が上記範囲よりも少ないと、低屈折率層４との接着性を向上させる効果が低く、上記範囲を超えると全光線透過率が低くなる。
【００２２】
高屈折率層３において、アンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンの金属酸化物の含有割合は、電離放射線硬化型化合物と金属酸化物の合計量の４０〜９０質量％が好ましく、６０〜８５質量％が特に好ましい。
アンチモンドープ酸化錫、酸化ジルコニウム及び酸化チタンの平均粒子径は、１０〜５００ｎｍが好ましく、５０〜１５０ｎｍが特に好ましい。
高屈折率層３は、前記（Ａ）層の形成に用いられる電離放射線硬化性化合物と同様な電離放射線硬化型化合物に金属酸化物としてアンチモンドープ酸化錫と、酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンを混合した硬化性組成物を塗布して電離放射線を照射して硬化させて形成できる。
【００２３】
本発明においては、（Ｂ）層の高屈折率層３の表面に（Ｃ）層として低屈折率層４が積層されている。低屈折率層４は、シロキサン系硬化性化合物の硬化物からなる層であり、屈折率が１．４０〜１．５５の範囲であり、好ましくは１．４０〜１．５０の範囲であり、厚さが１０〜５０ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜３０ｎｍの範囲である。
シロキサン系硬化性化合物としては、ケイ素アルコキシドなどが好ましい。ケイ素アルコキシドとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、これらの部分加水分解物などが挙げられる。ケイ素アルコキシドは、空気中の水分などにより加水分解が起こり、脱水縮合により架橋されて、シロキサン系硬化性化合物の硬化物となる。
シロキサン系硬化性化合物は、コロイド粒子の形態で用いることが好ましい。コロイド粒子の平均粒子径は、１〜１００ｎｍが好ましい。
【００２４】
低屈折率層４は、シロキサン系硬化性化合物を含有する硬化性組成物を塗布して硬化させて形成できる。この硬化は、加熱により行われることが好ましい。加熱温度は、１００〜１５０℃が好ましい。
本発明のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムの（Ｃ）層の低屈折率層４の表面には、好ましくは光透過性導電層５が積層されて用いられる。
光透過性導電層５は、好適にはＩＴＯ膜などが挙げられる。ＩＴＯは、インジウムと錫の酸化物の合金であり、ＩＴＯ膜は、ＩＴＯをスパッタリングにより形成できる。
光透過性導電層５の厚さは、１０〜４０ｎｍが好ましく、２０〜３０ｎｍが特に好ましい。
【００２５】
なお、本発明においては、光透過性基材フィルム１の（Ａ）の電離放射線硬化型化合物の硬化物からなる光透過性ハードコート層２が設けられている面の反対面に光透過性ハードコート層６を設けることが好ましい。
光透過性ハードコート層６は、（Ａ）の電離放射線硬化型化合物の硬化物と同様なもので構成されていてもよい。
光透過性ハードコート層６の厚さは、特に制限ないが、２〜２０μｍが好ましく、３〜１８μｍがより好ましく、４〜１５μｍが特に好ましい。
光透過性ハードコート層６の硬さは、スチールウール硬度で２００ｇ／ｃｍ２以上の荷重をかけた場合であっても傷が付かないことが好ましい。
本発明の光透過性ハードコートフィルムは、全光線透過率が８７．０％以上が好ましく、８８．０以上が特に好ましい。
本発明の光透過性ハードコートフィルムの透過光の日本工業規格Ｚ８７２９号に定めるａ＊ｂ＊表色系のクロマティクネス指数ｂ＊値は、０．５〜４．０が好ましく、１．０〜２．０がより好ましく、１．３〜２．０が特に好ましい。
本発明の光透過性ハードコートの透過光の色彩は、青色又は緑色の青色系色などであるが、青色が好ましい。
【実施例】
【００２６】
次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。なお、本発明は、これらの例によって何ら制限されるものではない。
【００２７】
（各種成分の調製）
光透過性ハードコート層形成用の硬化性組成物１の調製
紫外線硬化型化合物としてのウレタンアクリレートと光重合開始剤の混合物（荒川化学工業（株）製、商品名「ビームセット５７５ＣＢ」）１００質量部に希釈剤としてトルエン１５０質量部を加えて調製した溶液を光透過性ハードコート層形成用の硬化性組成物１とする。
光透過性ハードコート層形成用の硬化性組成物２の調製
紫外線硬化型化合物としてのウレタンアクリレート（荒川化学工業（株）製、商品名「ビームセット５７７」）９８質量部に、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「イルガキュア９０７」）２質量部を添加して得られる混合液に、希釈剤としてトルエン１５０質量部を加えて調製した溶液を光透過性ハードコート層形成用の硬化性組成物２とする。
防眩性光透過性ハードコート層形成用の硬化性組成物３の調製
紫外線硬化型化合物としてのポリエステルアクリレート（大日精化工業（株）製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＰＩ）」）９８質量部に、ポリエステルアクリレートとシリカゲルの混合物（大日精化工業（株）製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＢＳ）」、シリカゲル含有量１０質量％）２０質量部、及び光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「イルガキュア９０７」）２質量部を添加して得られる混合液に、イソブタノール１８０質量部を加えて調製した溶液を防眩性光透過性ハードコート層形成用の硬化性組成物３とする。
【００２８】
高屈折率層形成用の硬化性組成物４の調製
紫外線硬化型化合物としてのウレタンアクリレート、光重合開始剤及び酸化ジルコニウムの混合物（ＪＳＲ（株）製、商品名「デソライトＫＺ７２５２Ｃ」、固形分４５質量％、固形分に占める酸化ジルコニウム６８質量％）１００質量部、アンチモンドープ酸化錫の１０質量％イソブタノール分散体（大日本インキ化学工業（株）製、商品名「ＴＡ−０１Ｄ」）１８０質量部の混合液にイソブタノール２８７０質量部を加えて調製した溶液を高屈折率層形成用の硬化性組成物４（固形分濃度２．０質量％）とする。アンチモンドープ酸化錫の含有量は、アンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウムの合計量に対して３７質量％であった。
高屈折率層形成用の硬化性組成物５の調製
アンチモンドープ酸化錫のイソブタノール分散体「ＴＡ−０１Ｄ」を４５０質量部、イソブタノールを３９５０質量部とした以外は、高屈折率層形成用の硬化性組成物４と同様に調製して高屈折率層形成用の硬化性組成物５（固形分濃度２．０質量％）を調製した。
アンチモンドープ酸化錫の含有量は、アンチモンドープ酸化錫と酸化ジルコニウムの合計量に対して６０質量％であった。
【００２９】
高屈折率層形成用の硬化性組成物６の調製
紫外線硬化型化合物としてのポリエステルアクリレートと光重合開始剤の混合物（大日精化工業（株）製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」）１００質量部、アンチモンドープ酸化錫のイソブタノール分散体（大日本インキ化学工業（株）製、商品名「ＴＡ−０１Ｄ」）３０００質量部の混合液にイソブタノール１６９００質量部を加えて調製した溶液を高屈折率層形成用の硬化性組成物６（固形分濃度２．０質量％）とする。該硬化性組成物中に含まれる金属酸化物はアンチモンドープ酸化錫のみである。
高屈折率層形成用の硬化性組成物７の調製
ウレタンアクリレート、光重合開始剤及び酸化チタンの混合物（日本化薬（株）製、商品名「ＫＡＹＡＮＯＶＡ  ＭＨＲ−１０１」、固形分２０質量％、固形分に占める酸化チタン６５質量％）１００質量部、アンチモンドープ酸化錫のイソブタノール分散体（大日本インキ化学工業（株）製、商品名「ＴＡ−０１Ｄ」）１００質量部の混合液にイソブタノール１３００質量部を加えて調製した溶液を高屈折率溶液７（固形分濃度２．０質量％）とする。アンチモンドープ酸化錫の含有量は、アンチモンドープ酸化錫と酸化チタンの合計量に対して４３質量％であった。
【００３０】
低屈折率層形成用の硬化性組成物８の調製
シロキサン系硬化性化合物の分散液（コルコート（株）製、商品名「コルコートＰ」、シロキサン系化合物の濃度２質量％、分散媒：イソブタノール、コロイド粒子の平均粒子径：約６ｎｍ）１００質量部にイソブタノール９００質量部を加えて調製した溶液を低屈折率層形成用の硬化性組成物８（固形分濃度２．０質量％）とする。
ハードコートフィルム１
光透過性基材フィルムとしてのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（商品名「ＰＥＴ１８８Ａ４３００」、東洋紡績（株）製、厚さ１８８μｍ）に硬化性組成物１をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが４μｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、光透過性ハードコート層を形成した。続いて、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムの光透過性ハードコート層が設けられている面の反対面に硬化性組成物２をマイヤーバー＃１０にて、乾燥膜厚４μｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１００ｍＪ／ｃｍ２）、光透過性ハードコート層を設け、ハードコートフィルム１を得た。
【００３１】
ハードコートフィルム２
光透過性基材フィルムとしてのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（商品名「ＰＥＴ１８８Ａ４３００」、東洋紡績（株）製、厚さ１８８μｍ）に硬化性組成物１をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが４μｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、光透過性ハードコート層を設けた。続いて、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムの光透過性ハードコート層が設けられている面の反対面に硬化性組成物３をマイヤーバー＃１０にて、乾燥膜厚４μｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１００ｍＪ／ｃｍ２）、防眩性光透過性ハードコート層を設けて、ハードコートフィルム２を得た。
【００３２】
（実施例１）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物４をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが７０ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１２にて、乾燥膜厚１５ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成してタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを得た。そして、低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工した。
【００３３】
（実施例２）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物５をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが７０ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１２にて、乾燥膜厚１５ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成してタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを得た。そして、低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工した。
【００３４】
（実施例３）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物７をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが７０ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１２にて、乾燥膜厚１５ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成してタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを得た。そして、低屈折率溶液塗工面に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工した。
【００３５】
（実施例４）
ハードコートフィルム２の防眩性光透過性ハードコート層上に硬化性組成物４をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが７０ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１２にて、乾燥膜厚１５ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成してタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを得た。そして、低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工した。
【００３６】
（実施例５）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物４をマイヤーバー＃１２にて、乾燥、硬化後の厚さが１００ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１２にて、乾燥膜厚１５ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成してタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを得た。そして、低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工した。
【００３７】
（実施例６）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物４をマイヤーバー＃８にて、乾燥、硬化後の厚さが５０ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１２にて、乾燥膜厚１５ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成してタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを得た。そして、低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工した。
【００３８】
（実施例７）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物４をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが７０ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１６にて、乾燥膜厚２０ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成してタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムを得た。そして、低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工した。
【００３９】
（比較例１）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物４をマイヤーバー＃１６にて、乾燥、硬化後の厚さが２００ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１６にて、乾燥膜厚３０ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成し、さらに低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工して、光透過性ハードコートフィルムを得た。
【００４０】
（比較例２）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工して、光透過性ハードコートフィルムを得た。
（比較例３）
ハードコートフィルム１の硬化性組成物２を硬化して得られた光透過性ハードコート層上に硬化性組成物６をマイヤーバー＃１０にて、乾燥、硬化後の厚さが７０ｎｍになるように塗布し、７０℃にて１分間乾燥後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率を形成した。続いて、その高屈折率層上に硬化性組成物８をマイヤーバー＃１０にて、乾燥膜厚１０ｎｍになるように塗布し、１３０℃にて１分間乾燥して低屈折率層を形成し、さらに低屈折率層上に膜厚２５ｎｍになるようにＩＴＯ膜を蒸着加工して、光透過性ハードコートフィルムを得た。この光透過性ハードコートフィルムの高屈折率層に含まれる金属酸化物はアンチモンドープ酸化錫のみである。
実施例及び比較例の光透過性ハードコートフィルムの性状を表１及び表２に示した。
【００４１】
全光線透過率、ヘイズ、色彩（ａ＊値、ｂ＊値）及びスチールウール硬度は、以下に示す方法で測定し、評価した。
（１）全光線透過率及びヘイズ
光線透過率測定器（日本電色工業（株）製、商品名「ＮＤＨ２０００」）を用いて測定した。
（２）色彩（ａ＊値、ｂ＊値）
色差計（日本電色工業（株）製、商品名「ＳＱ２０００」）を用いて、色彩の計算を行った。光源として日本工業規格Ｚ８７２０に規定される標準の光Ｄ６５を採用し、２度視野の条件で測定を行った。
（３）スチールウール硬度
低屈折率層の表面にスチールウールを２００ｇ／ｃｍ２の圧力をかけて１０回往復擦り付け、表面を目視で観察し、以下に示す基準で評価した。
○：傷がみられない。
×：傷がみられる。
（４）高屈折率層の屈折率の測定
固形分濃度を１０質量％に調製した硬化性組成物を、マイヤーバー＃１０にてガラス板上に塗布し、７０℃で１分間乾燥した後、紫外線を照射して（１０００ｍＪ／ｃｍ２）、高屈折率層を形成し、薄膜測定装置（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ社製、商品名「Ｆ２０」）を用いて屈折率を測定した。
（５）低屈折率層の屈折率の測定
固形分濃度を２質量％に調製した硬化性組成物を、マイヤーバー＃２０にてガラス板上に塗布し、１３０℃で１分間加熱して低屈折率層を形成し、高屈折率層と同様に、薄膜測定装置を用いて屈折率を測定した。
【００４２】
【表１】
2004178563.tif 000003
【００４３】
【表２】
2004178563.tif 000004
【００４４】
実施例１〜７のハードコートフィルムは、比較例１〜３のハードコートフィルムと比べて、全光線透過率が高く、青色系の透過色を生じる。なお、全光線透過率が１．０％異なると、タッチパネルにおいては目視での透明性の違いが明確に分かる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムは、銀行のＡＴＭ、駅の券売機や情報端末、空港の搭乗手続き端末、電子手帳などの種々の物品に使用されているタッチパネルに積層することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明のタッチパネル用光透過性ハードコートフィルムの一実施例の概略を示した断面図であって、光透過性導電層に積層した状態を示している。
【符号の説明】
【００４７】
１  光透過性基材フィルム
２  光透過性ハードコート層
３  高屈折率層
４  低屈折率層
５  光透過性導電層
６  光透過性ハードコート層
【図１】
2004178563.tif 000005