(57)【要約】【課題】光走査装置に用いるｆθレンズなど走査レンズの走査結像光学素子の形状測定方法において、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行う。【解決手段】光走査装置の光源の光束について、あらかじめ実使用時に光学機能面を透過する光束の幅に加えて光量分布も光学シミュレーションにより求める。光量分布を正規分布などのモデル関数に近似しておく。主走査曲率誤差あるいは副走査曲率の導出工程における算出工程において、前述の光量分布を重み関数とした重み付き近似を行う。あるいは、重み関数を応答関数とする有限インパルス応答（ＦＩＲ）フィルタを適用した後に曲率誤差を算出する。【選択図】      図１
2004286505.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査結像光学素子の形状を測定する形状測定工程と、設計値からの差である形状誤差を求める形状誤差導出工程と、形状誤差の主走査断面のデータから複数の主走査方向位置で所定の幅に含まれるデータを抽出する区間データ抽出工程と、各区間データから各主走査位置での曲率誤差を求める主走査曲率誤差の導出工程からなる走査結像光学素子の形状評価方法であって、
主走査曲率誤差の導出工程が、実使用時の光束の主走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする、走査結像光学素子の形状評価方法。
【請求項２】
走査結像光学素子の形状を測定する形状測定工程と、設計値からの差である形状誤差を求める形状誤差導出工程と、形状誤差の各副走査断面データから各副走査断面の主走査方向位置を求める主走査位置算出工程と、各副走査断面データから曲率誤差を求める副走査曲率誤差の導出工程からなる走査結像光学素子の形状評価方法であって、
副走査曲率誤差の導出工程が、実使用時の光束の副走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする、走査結像光学素子の形状評価方法。
【請求項３】
前記区間データ抽出工程が、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と主走査方向光束幅の関係より導出された各主走査方向位置における光束幅でデータを抽出することを特徴とする、請求項１記載の走査結像光学素子の形状評価方法。
【請求項４】
前記主走査曲率誤差の導出工程が、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と主走査方向光量分布の関係より導出された各主走査方向位置における主走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする、請求項１記載の走査結像光学素子の形状評価方法。
【請求項５】
前記副走査曲率誤差の導出工程が、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と副走査方向光量分布の関係より導出された各主走査方向位置における副走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする、請求項２記載の走査結像光学素子の形状評価方法。
【請求項６】
走査結像光学素子の形状を測定する形状測定工程と、設計値からの差である形状誤差を求める形状誤差導出工程と、形状誤差の主走査断面に対してカットオフ値が実使用時の主走査光束幅であるローパスフィルタ処理を行うローパスフィルタ工程と、この出力から複数の主走査方向位置で所定の幅に含まれるデータを抽出する区間データ抽出工程と、各区間データから各主走査位置での曲率誤差を求める主走査曲率誤差の導出工程と、からなることを特徴とする走査結像光学素子の形状評価方法。
【請求項７】
前記形状測定工程において、主走査方向の測定ピッチが主走査方向光束幅の１／５以下であることを特徴とする、請求項１、３、４、または６記載の走査結像光学素子の形状評価方法。
【請求項８】
前記形状測定工程において、副走査方向の測定ピッチが副走査方向光束幅の１／５以下であることを特徴とする、請求項２、または５記載の走査結像光学素子の形状評価方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光走査装置に用いるｆθレンズなど走査レンズの走査結像光学素子の形状測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、デジタル複写機やレーザプリンタに用いる光走査装置には、ｆθレンズに代表される走査結像光学素子が１枚から３枚程度使用されている。
走査結像光学素子は、光束を走査させる方向（主走査方向）には数十ｍｍから数百ｍｍ、主走査方向と直交する方向（副走査方向）には数ｍｍと、主走査方向に長い光学機能面を有している。またその形状は近年では自由曲面化が進み、主走査断面が非球面、副走査断面形状は主走査位置により曲率などが変化する特殊なトーリック面を有することが多い。光学機能面の設計式の一例を次式に示す。
【数１】
2004286505.tif 000003
ここで、Ｃは主走査方向の近軸曲率、ｋは主走査方向の円錐定数、ｅｊｉは副走査形状を含む多項式成分を表す係数である。
【０００３】
また、近年の光学機能面の要求精度は、形状誤差（設計形状からの差）が主走査方向には数μｍ、副走査方向にはサブμｍ以下である。走査結像光学素子の光学機能面は高精度の自由曲面であるから、これを大量に生産するためには高精度で作成された鏡面駒の形状を転写するプラスチックの射出成形で製造するのが一般的である。
【０００４】
このような自由曲面を高精度で評価する形状評価方法としては、高精度な触針式形状測定装置で形状を測定し、形状誤差を求め、これを評価するのが一般的である。触針式形状測定装置について、図５を使って説明する。先端に高精度の球面を有する触針１を被測定物２の被測定面２ａに接触させて、接触圧が一定になるように触針をｚ軸方向に制御しながらｘ及びｙ軸方向に動作させる。その時の軌跡１ａの各位置における触針のｘ，ｙ，ｚ座標を精密に測定し、点列として記録し、出力する。
【０００５】
図６に形状測定での被測定面上の軌跡の一例を示す。まず軌跡ＤＴａに沿って主走査方向に測定する。次に軌跡ＤＴｂ１に沿って副走査方向に、そこから軌跡ＤＴｂ２，…，ＤＴｂｎと順に測定していく。副走査方向の測定ピッチ間隔Ｐｘ  は被測定物の仕様に応じて適宜設定する。測定ピッチ間隔を、実使用時に被測定面を透過する光束幅の１／２以下とする例が特開２００２−５６５１に開示されている。
【０００６】
触針の軌跡が、主走査方向の測定を複数本行うのではなく副走査方向の動作を複数本行うのには以下の理由がある。形状測定装置には構成部材の温度変動による熱膨張などに起因して長い時間周期で変動する誤差成分がある。複数の副走査断面を走査することにより、副走査断面の評価に用いる座標データの取得時間の差をできるだけ小さくして、要求精度の厳しい副走査形状評価に対するこの誤差成分の影響を小さくすることができる。
【０００７】
形状評価のデータ処理の一例を図７に示すように、この処理は、触針の接触点推定工程と、取付誤差補正工程と、形状誤差算出工程と、主走査曲率誤差分布算出工程と、副走査曲率誤差分布算出工程からなる。
【０００８】
触針の接触点推定工程について説明する。図８に測定時の触針と被測定面の関係を表す略図を示す。曲面を測定する場合、触針１の先端球面１ｂと被測定面２ａの接触位置が被測定面の傾斜に応じて変化する。触針１の動作軌跡１ａは触針先端球面１ｂの中心の軌跡とみなせるから、各点の接触位置はそこから法線ベクトル方向に先端球面１ｂの半径分だけシフトした点である。法線ベクトルは、近傍の測定データを平面近似する方法や、測定データ全体を曲面モデルに近似してその偏微分から求める方法などがある。
【０００９】
取付誤差補正工程について説明する。取付誤差とは、被測定面の座標系と形状測定装置の座標系のずれであり、これが正確に一致していないため、これを一致させることが望ましい。そこで、点列データ全体を並進、回転させて測定座標系から被測定面の座標系へ座標変換する為の各係数（実際にはｘ，ｙ，ｚ軸方向のシフト量と、ｘ，ｙ，ｚ軸周りの回転角のうちの一部または全部）を求める必要がある。これは厳密な解を求めることはできないが、全点の形状誤差の２乗和を最小化することで近似解を得ることが出来る。
【００１０】
形状誤差算出工程について説明する。点列データの全座標データに対して、ｘ，ｙ座標と設計式から求まる設計形状のｚ座標と、測定されたｚ座標の差を求める。
【００１１】
主走査曲率誤差分布算出工程について説明する。主走査形状誤差（軌跡ＤＴａの設計値からの差）は、複数の主走査方向位置ｘｊ  で、実使用時に光学機能面を透過する概略の光束幅をＤとした時、区間ｘｊ  ±Ｄ／２内の座標データ（ｘｉ  ，ｚｉ  ）を切り出す区間データ抽出工程と、ｘｉ’＝ｘｉ  −ｘｊ  なる座標変換を行う座標シフト工程と、球面の方程式または２次多項式に最小二乗法で近似してその曲率を求める主曲率誤差の導出工程からなる。座標シフト工程は理論的には無くても良いが、演算方法によっては曲率誤差の導出工程で曲率Ｃの最適化にかかる負荷が小さくなるので、行うと良い。図９に主走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す。
【００１２】
曲率誤差の導出工程の例を示す。以下に頂点が（ｘ０  ，ｚ０  ）、曲率がＣの球面の方程式を示す。
【数２】
2004286505.tif 000004
【００１３】
この方程式のｘ０  ，ｚ０  ，Ｃを最小二乗法で求め、曲率Ｃを出力する。この場合モデル関数が非線形なので、これに対応する減衰最小二乗法などの方法を用いる。
【００１４】
もう１つ、曲率誤差の導出工程の例を示す。今回求めるＣは曲率誤差であるから微小で、その２乗を０と見なすことができる。よって、以下のような近似モデルが使用できる。
【数３】
2004286505.tif 000005
【００１５】
このように、座標データを２次の多項式で近似し、その２次係数を２倍すれば、曲率Ｃを近似的に求めることが出来る。多項式は線形関数なので特異値分解法などの手法を用いることができる（特開２００１−３１８０２５参照）。
【００１６】
副走査曲率誤差分布算出工程について説明する。副走査形状誤差（軌跡ＤＴｂ１〜ＤＴｂｎの設計値からの差）からは、各軌跡の主走査方向位置（ｘ座標）の平均値などの代表値を求める主走査位置算出工程と、それぞれの軌跡の形状誤差データ（ｙｉ  ，ｚｉ  ）から、前述と同様の方法で曲率誤差を求める副走査曲率誤差の導出工程からなる。図１０に副走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す。
【００１７】
曲率誤差分布は、各主走査位置における形状誤差のレンズ効果を表す指標であり、光走査装置の像面における光軸方向の集光位置のずれ量と理論的に相関がある。
【００１８】
【特許文献１】
特開２００２−５６５１号公報
【特許文献２】
特開２００１−３１８０２５号公報
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記の様な従来の技術にあっては、主・副走査曲率誤差分布は像面における集光位置のずれ量と十分高い相関が得られない。具体的には、各曲率誤差分布は、像面での集光位置の分布に比べて高周波の誤差成分が多くなってしまう。これは、最小二乗法によるモデル式（２次多項式など）への近似はデータ周辺部の局部的な形状誤差の影響を受けやすいのに対して、実使用時の像面での集光位置は、レンズ周辺部の局部的な形状誤差の影響を受けにくい事による。
【００２０】
本発明は、走査結像光学素子の形状評価方法において、実使用時の光学特性，特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価方法を提供することを課題とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の走査結像光学素子の形状評価方法は、走査結像光学素子の形状を測定する形状測定工程と、設計値からの差である形状誤差を求める形状誤差導出工程と、形状誤差の主走査断面のデータから複数の主走査方向位置で所定の幅に含まれるデータを抽出する区間データ抽出工程と、各区間データから各主走査位置での曲率誤差を求める主走査曲率誤差の導出工程からなる走査結像光学素子の形状評価方法であって、主走査曲率誤差の導出工程が、実使用時の光束の主走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする。
【００２２】
請求項２の走査結像光学素子の形状評価方法は、走査結像光学素子の形状を測定する形状測定工程と、設計値からの差である形状誤差を求める形状誤差導出工程と、形状誤差の各副走査断面データから各副走査断面の主走査方向位置を求める主走査位置算出工程と、各副走査断面データから曲率誤差を求める副走査曲率誤差の導出工程からなる走査結像光学素子の形状評価方法であって、副走査曲率誤差の導出工程が、実使用時の光束の副走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする。
【００２３】
請求項３の走査結像光学素子の形状評価方法は、請求項１の構成を備え、前記区間データ抽出工程が、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と主走査方向光束幅の関係より導出された各主走査方向位置における光束幅でデータを抽出することを特徴とする。
【００２４】
請求項４の走査結像光学素子の形状評価方法は、請求項１の構成を備え、前記主走査曲率誤差の導出工程が、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と主走査方向光量分布の関係より導出された各主走査方向位置における主走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする。
【００２５】
請求項５の走査結像光学素子の形状評価方法は、請求項２の構成を備え、前記副走査曲率誤差の導出工程が、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と副走査方向光量分布の関係より導出された各主走査方向位置における副走査方向光量分布を加味した重み付き近似であることを特徴とする。
【００２６】
請求項６の走査結像光学素子の形状評価方法は、走査結像光学素子の形状を測定する形状測定工程と、設計値からの差である形状誤差を求める形状誤差導出工程と、形状誤差の主走査断面に対してカットオフ値が実使用時の主走査光束幅であるローパスフィルタ処理を行うローパスフィルタ工程と、この出力から複数の主走査方向位置で所定の幅に含まれるデータを抽出する区間データ抽出工程と、各区間データから各主走査位置での曲率誤差を求める主走査曲率誤差の導出工程と、からなることを特徴とする。
【００２７】
請求項７の走査結像光学素子の形状評価方法は、請求項１、３、４、または６の構成を備え、前記形状測定工程において、主走査方向の測定ピッチが主走査方向光束幅の１／５以下であることを特徴とする。
【００２８】
請求項８の走査結像光学素子の形状評価方法は、請求項２、または５の構成を備え、前記形状測定工程において、副走査方向の測定ピッチが副走査方向光束幅の１／５以下であることを特徴とする。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下の実施形態では、本発明の形状評価方法をパーソナルコンピュータとソフトウエアで実施するものである。図１は実施形態における形状評価のデータ処理の一例を示す図、図２は実施形態における主走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す図、図３は実施形態における副走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す図であり、図１〜図３において前掲の図７、図９及び図１０と同じブロックは同様な工程である。そして、また、図５と同様に触針式形状測定装置により、触針のｘ，ｙ，ｚ座標の点列データを得ること、この際に、図６のように走査することは同様である。また、図２及び図３における曲率誤差の導出の算出工程に本発明の特徴がある。
【００３０】
［請求項１の実施形態］
光走査装置の光源は、一般にレーザ光源であり、走査レンズを透過する位置では、光束は正規分布に近い光量分布をしている。従って光束周辺部の光線が像面での集光位置に及ぼす影響は、光軸近傍のそれと比べて小さい。従って形状誤差から曲率誤差を求めるときも、光量分布を加味して周辺部の影響を中央部のそれより小さくするとよいことが判明した。
【００３１】
そこで、あらかじめ実使用時に光学機能面を透過する光束の幅に加えて光量分布も光学シミュレーションにより求め、光量分布を正規分布などのモデル関数に近似しておく。一例としてモデル関数を正規分布とした時の例を示す。以下に高さＢ、位置ｘ０  、幅ｗの正規分布関数を示す。
【数４】
2004286505.tif 000006
【００３２】
ここで、光学シミュレーションで，主光線が主走査方向位置で０となる場合の主走査光量分布を求めた場合、ｘ０  ＝０となる。またこのモデル関数は重み関数に用いるので、高さＢを１とするように変換しても良い。よってｗｍ  （メリジオナルの幅）のみを最小二乗法で求めればよい。この、求めたｗｍ  はメモリに保存しておく。
【００３３】
そして、主走査曲率誤差の導出工程における算出工程において、前述の光量分布を重み関数とした重み付き近似を行う。例えば、主走査方向のｘｊ±Ｄ／２（Ｄ：光束幅）で抽出した区間データから曲率誤差Ｃを求めるに際して、モデル関数が前述の２次多項式の場合、ｎ個の区間データ（ｘｉ  ，ｚｉ  ）から，最小二乗法で曲率誤差を求めるための当てはまりの良さを評価する指標であるカイ２乗（χ２  ）は以下のようになる。
【数５】
2004286505.tif 000007
これが最小になるように各係数ａ，ｂ，Ｃを求め、曲率誤差Ｃを得る。これも特異値分解法などの既存の最小二乗法を用いることができる。
【００３４】
［請求項２の実施形態］
請求項１のｗｍ  の算出と同様の方法で、副走査光量分布からｗｓ  （サジタルの幅）を求めて、保存しておく。また同様に副走査曲率誤差の導出工程において、前述の副走査光量分布の幅ｗｓ  を用いた重み関数を使って重み付き近似を行う。
【００３５】
ここで，本実施形態では光学シミュレーションで得られた光量分布を最小二乗法で近似して重み関数を求めたが、ほとんどの光走査装置における実使用時の光束は、中央部の光量が多く周辺部の光量が少ない分布となっている。そこで、操作者が適当なｗを決めたり、２次関数などで光量分布に似た重み関数を作成しても、これに近い効果が得られる。
【００３６】
［請求項３の実施形態］
光学系によっては実使用時の光束の幅も主走査方向位置に依存して変化する場合がある。これは、走査レンズの主走査周辺部では光束が光学機能面に斜入射する、また各レンズ面の間の距離が変わる等のため、周辺部では中央部に比べて２割程度光束幅が広がる場合があるからである。
【００３７】
従って、光学シミュレーションを用いて光束の主光線が光学機能面を透過する時の主光線の主走査方向位置と主走査光束幅を複数の主走査方向位置で求め、主走査方向位置と主走査光束幅の分布を多項式などの関数に近似し、各係数を保存する。主走査曲率誤差分布を導出する際に、この関数を解くことにより任意の主走査方向位置での主走査光束幅を求める。
【００３８】
［請求項４の実施形態］
また、光束系が主走査方向に依存して変化する影響で、実使用時の光束の光量分布も主走査方向位置に依存して変化する。従って光学シミュレーションを用いて、複数の主走査位置で透過する光束の光量分布を求め、光量分布を表す係数を求める。前述の正規分布関数の場合は、主走査方向位置と正規分布関数の幅を表す係数ｗｍ  の分布を求める。前述の光束幅と同様これを多項式などの関数に近似し、各係数を保存する。
そして主走査曲率誤差の導出工程では、各区間データに対応する主走査方向位置ｘｊ  から係数ｗｍ  を求め、これを用いて例えば前掲の数４の式と同様な重み関数ｓ（ｘ）を求め、近似を行う。
【００３９】
［請求項５の実施形態］
同様の方法で、副走査方向位置とｗｓ  の分布を求め、これを多項式などの関数に近似し、各係数を保存する。そして副走査曲率誤差の導出工程で、各副走査形状誤差データに対応する主走査方向位置ｘｊ  から係数ｗｓ  を求め、これを用いて重み関数ｓ（ｘ）を求め、近似を行う。
【００４０】
［請求項６の実施形態］
最小二乗法による曲率誤差の算出において、光束の光量分布に対応した略正規分布の重み関数を用いた重み付き近似を行うという事は、デジタル信号処理の観点から考えると、重み関数を応答関数とする有限インパルス応答（ＦＩＲ）フィルタを適用した後に曲率誤差の算出というデジタルフィルタを適用する処理であると考えることができる。重み関数である正規分布関数などを応答関数とする有限インパルス応答フィルタは、ローパスフィルタの特性を有する。
【００４１】
従って、主走査曲率誤差の算出工程で、あらかじめ主走査形状誤差データを重み関数で畳み込み積分を行った後、従来の主走査曲率誤差の算出を行うことでほぼ同じ効果が得られる。図４に、このための主走査曲率誤差分布の算出工程の手順を示す。
【００４２】
正規分布の重み関数で畳み込み積分を行う方法は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６３２：２００１にある位相補償フィルタが良く知られており、ここでのカットオフ値を光束幅に設定することにより実現可能である。
【００４３】
［請求項７の実施形態］
点列データから曲率成分を導出するに際しては、３点の測定データで曲率を導出することができる。しかしこれでは光束の光量分布に対応した重み付けが適応出来ない。５点以上とするとこれが適応可能となる。主走査方向には、形状測定時の主走査方向の測定ピッチを、主走査方向光束幅の１／５以下にすることで実現できる。
【００４４】
［請求項８の実施形態］
同様に、副走査方向には、形状測定時の副走査方向の測定ピッチを、副走査方向光束幅の１／５以下にすることで、重み付き近似が有効に機能する。
【００４５】
以上のように各実施形態の評価方法で評価し、主・副走査いずれかまたは両方の曲率誤差分布が十分小さいことが確認された走査結像光学素子は、高い確率で実際の光学特性も十分な性能である。このような走査結像光学素子を用いた光走査装置は、走査結像光学系内の全ての光学機能面が充分な精度を有していることが確認できるので、高い確率で実際の光学特性も充分な性能となる。
【００４６】
以上の実施形態では重み関数として主に正規分布関数について説明したが、サイン関数やコサイン関数の極大値を光軸中心に合わせて、この関数の極大値から両側にを光束幅に整合させて切り出したものなどで光量分布に似た重み関数を作成しても、これに近い効果が得られる。また、その他の方法で、光量分布に似た重み関数を作成してもよい。
【００４７】
【発明の効果】
請求項１の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、主走査曲率誤差の導出工程で、実使用時の光束の主走査方向光量分布を加味した重み付きの近似により曲率誤差の算出を行うようにしたので、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【００４８】
請求項２の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、副走査曲率誤差の導出工程で、実使用時の光束の副走査方向光量分布を加味した重み付きの近似により曲率誤差の算出を行うようにしたので、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【００４９】
請求項３の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、請求項１の構成に加えて、区間データ抽出工程で、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と主走査方向光束幅の関係を求より導出された各主走査方向位置に置けるでデータを抽出するようにしたので、さらに、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【００５０】
請求項４の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、請求項１の構成に加えて、主走査曲率誤差の導出工程で、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と主走査方向光量分布の関係より導出された各主走査方向位置における主走査方向光量分布を加味した重み付き近似で曲率誤差の算出を行うようにしたので、さらに、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【００５１】
請求項５の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、請求項２の構成に加えて、副走査曲率誤差の導出工程で、あらかじめ求めた実使用時の主走査方向位置と副走査方向光量分布の関係より導出された各主走査方向位置における副走査方向光量分布を加味した重み付き近似で曲率誤差の算出を行うようにしたので、さらに、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【００５２】
請求項６の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、主走査形状誤差に対して主走査光束幅をカットオフ値とするローパスフィルタ処理を行うローパスフィルタ工程と、区間データ抽出工程と、主走査曲率誤差の抽出工程とを実行するようにしたので、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【００５３】
請求項７の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、請求項１、３、４、または６の構成に加えて、形状測定工程において、主走査方向の測定ピッチを主走査方向光束幅の１／５以下としたので、有効に重み付き近似を機能させ、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【００５４】
請求項８の走査結像光学素子の形状評価方法によれば、請求項２、または５の構成に加えて、形状測定工程において、副走査方向の測定ピッチを副走査方向光束幅の１／５以下としたので、有効に重み付き近似を機能させ、実使用時の光学特性、特に像面での集光位置のずれ量と理論的相関の高い形状評価を行うことができ、高い確率で実際の光学特性も十分な性能の走査結像光学素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態における形状評価のデータ処理の一例を示す図である。
【図２】本発明の実施形態における主走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す図である。
【図３】本発明の実施形態における副走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す図である。
【図４】本発明の実施形態におけるローパスフィルタを用いた主走査曲率誤差分布の算出工程の手順を示す図である。
【図５】本発明に係る触針式形状測定装置で形状を測定する状態を示す図である。
【図６】本発明に係る形状測定での被測定面上の軌跡の一例を示す図である。
【図７】従来の形状評価のデータ処理の一例を図である。
【図８】本発明に係る測定時の触針と被測定面の関係を表す略図である。
【図９】従来の主走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す図である。
【図１０】従来の副走査曲率誤差分布算出工程の手順を示す図である。
【符号の説明】
１    触針
１ａ  軌跡
２    被測定物
２ａ  被測定面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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