(57)【要約】【課題】カラーフィルタの遮光領域においてパターニングずれに起因する遮光幅の増大を防止することのできる新規な構成を提供する。【解決手段】本発明のカラーフィルタ基板及び電気光学装置は、複数色の着色層２１４（Ｂ）、２１４（Ｒ）、２１４（Ｇ）が所定パターンにて配列形成され、前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層２１４（Ｂ）と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターン２１４Ｂ（Ｂ）により構成された遮光領域を有することを特徴とする。【選択図】          図３
2004258367.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数色の着色層が所定パターンにて配列形成され、
前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより構成された遮光領域を有することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
複数色の着色層が所定パターンにて配列形成され、
前記着色層には、第１着色部と、該第１着色部と略同色で前記第１着色部よりも光学濃度の高い第２着色部とが形成され、
前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層の前記第２着色部と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項３】
前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を備えた光反射層を有し、前記第２着色部は前記開口部と平面的に重なるように構成されていることを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項４】
複数色の着色層が所定パターンにて配列形成され、
前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を有する光反射層を有し、
前記複数色の着色層のうちの少なくとも一色の前記着色層は、前記光反射層と平面的に重なる領域に開口領域を有し、
前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項５】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層と同じ材料で構成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項６】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色以外の前記着色層と同じ材料で構成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項７】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層上には形成されていないことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項８】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色の前記着色層上に限定して形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項９】
電気光学層と、該電気光学層と平面的に重なる複数色の着色層を備えたカラーフィルタとを有し、
前記遮光領域は、前記着色層に対して前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
電気光学層と、該電気光学層と平面的に重なる複数色の着色層を備えたカラーフィルタとを有し、
前記着色層には、第１着色部と、該第１着色部と略同色で前記第１着色部よりも光学濃度の高い第２着色部とが形成され、
前記遮光領域は、前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層の前記第２着色部と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有する
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を備えた光反射層を有し、前記第２着色部は前記開口部と平面的に重なるように構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
電気光学層と、該電気光学層と平面的に重なる複数色の着色層を備えたカラーフィルタとを有し、
前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を有する光反射層を有し、
前記複数色の着色層のうちの少なくとも一色の前記着色層は、前記光反射層と平面的に重なる領域に開口領域を有し、
前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有する
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層と同じ材料で構成されていることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色以外の前記着色層と同じ材料で構成されていることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層上には形成されていないことを特徴とする請求項９乃至１４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１６】
前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色の前記着色層上に限定して形成されていることを特徴とする請求項９乃至１４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１７】
請求項９乃至１６に記載の前記電気光学装置と、前記電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器に係り、特に、カラーフィルタとともに設けられる遮光パターンの構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、液晶表示装置などの電気光学装置において表示をカラー化するためにカラーフィルタが用いられている。典型的なカラーフィルタは、電気光学装置において光学状態を独立して制御可能な最小単位である単位領域（画素領域或いはドット領域）毎に、着色層が一つずつ配置されて、全体として着色層が所定の配列パターン（ストライプ配列、デルタ配列、斜めモザイク配列など）で配列されたものである。これらの配列パターンには、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）などの複数色の着色層が含まれ、これらの複数色の着色層をそれぞれ有する単位領域の光学状態の組み合わせによって多様な色相や明度を表現できるように構成されている。
【０００３】
従来の電気光学装置に用いられるカラーフィルタ構造としては、電気光学装置の単位領域間に遮光領域を備えたものが知られている。この遮光領域は、単位領域間に生ずる光学状態の不安定性に起因する光漏れによって表示画像のコントラストが低下することを防止するためのものである。この遮光領域の構造として最も頻繁に用いられるものとしては、例えば、黒色樹脂（ブラックマトリクス）で構成される黒色樹脂層を着色層上などに配置してなる遮光パターンと、或る色の着色層の上に複数の他の色の着色層と同じ着色材料で形成された層を積層させてなる遮光パターンとが知られている。特に、後者の着色材料を積層した遮光構造は、工程数を増加させることなく製造できる点で有利であり、広く用いられている。
【０００４】
このような積層構造の遮光パターンを備えた従来の液晶表示装置の例として、図１４に示す内部構造を有するものが知られている。この構成例は、消費電力の低減と視認性の向上とを両立させる方法として、反射型表示と透過型表示のいずれの表示態様も可能とした半透過反射型の液晶表示装置である。図１４に示す半透過反射型の液晶表示装置１００は、背後に配置された第１基板１１０と、観察側に配置された第２基板１２０との間に液晶層ＬＣが配置されている。第１基板１１０には、第１基材１１１上に透明樹脂層１１２、光反射層１１３、複数色（例えば赤、緑、青の３色）の着色層１１４、保護膜１１５が順次に形成され、さらに、保護膜１１５上に透明電極１１６及び配向膜１１７が積層されている。また、第２基板１２０には、第２基材１２１上に配線１２２、絶縁膜１２３及び対向端子１２４で構成される素子構造（ＭＩＭ２端子素子）が設けられ、対向端子１２４は透明電極１２５に導電接続されている。そして、上記素子構造及び透明電極１２５上には配向膜１２６が形成されている。第１基板１１０と第２基板１２０とはスペーサＳＰなどによって所定の間隔となるように図示しないシール材等によって貼り合わされて液晶セルが構成されている。
【０００５】
この液晶表示装置１００には、上記液晶セルの背後において液晶セルに向かってバックライト１４０、偏光板１４１及び位相差板１４２が順次配置され、上記液晶セルの観察側において観察側に向かって位相差板１４３及び偏光板１４４が順次配置されている。
【０００６】
液晶表示装置１００には単位領域Ｐが設けられ、この単位領域Ｐには、光反射層１１３と平面的に重なる光反射部Ｐｒと、光反射層１１３の開口部１１３ａと平面的に重なる光透過部Ｐｔとが設けられている。そして、単位領域Ｐ毎に複数色（例えば、赤、緑、青）のうちのいずれか一色の着色層１１４が配置される。
【０００７】
単位領域Ｐの間には、異なる複数の着色材料を積層してなる遮光パターン１１４Ｂが形成され、この遮光パターン１１４Ｂによって遮光領域が構成されている。この遮光パターン１１４Ｂは、単位領域Ｐ間の光漏れを防止するものである。遮光パターン１１４Ｂは、或る色の着色層１１４上に、他の複数色の着色層と同色の着色材料で構成された複数（２層以上）の層が積層されてなる。
【０００８】
上記のような構造の遮光パターンを備えた例としては、たとえば、以下の特許文献１に記載されたものがある。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２８７１３１号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記積層構造の遮光パターンを有するカラーフィルタにおいては、図７（ａ）に示すように遮光パターン１１４Ｂの第１層１１４Ｂ−１の単層幅をＷ１とした場合、図７（ｂ）に示すように、これに同幅の第２層１１４Ｂ−２を積層したときには、第１層１１４Ｂ−１と第２層１１４Ｂ−２とのパターニングずれに起因して全体の幅Ｗ２が上記単層幅Ｗ１よりも大きくなり、さらに、図７（ｃ）に示すように、第３層１１４Ｂ−３を積層したときには、各層間のパターニングずれによって全体の遮光幅Ｗ３が上記幅Ｗ２よりもさらに大きくなってしまい、その分、単位領域Ｐの開口面積が減少して、表示が暗くなってしまうという問題がある。例えば、単層幅Ｗ１を１０μｍ程度とする場合には、３層構造とすることによって全体の遮光幅Ｗ３は平均で１４μｍ程度となる。また、これを回避しようとして単層幅Ｗ１を小さくすれば、パターニングずれの発生態様にはばらつきがあるため、光漏れが発生する危険性がある。
【００１１】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、カラーフィルタの遮光領域においてパターニングずれに起因する遮光幅の増大を防止することのできる新規な構成を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のカラーフィルタ基板は、複数色の着色層が所定パターンにて配列形成され、前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより構成された遮光領域を有することを特徴とする。
【００１３】
この発明によれば、遮光領域が着色層上にいずれかの着色層の着色材料で形成された単層の遮光パターンで構成されていることによって、積層構造の遮光パターンにおける各層間のパターニングずれを生ずるおそれがないため、遮光幅を低減することができることから、カラーフィルタの開口率を向上させることが可能になる。
【００１４】
また、本発明の別のカラーフィルタ基板は、複数色の着色層が所定パターンにて配列形成され、前記着色層には、第１着色部と、該第１着色部と略同色で前記第１着色部よりも光学濃度の高い第２着色部とが形成され、前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層の前記第２着色部と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有することを特徴とする。
【００１５】
この発明によれば、第１着色部と第２着色部とを有する着色層上に第２着色部と同じ材料で構成された単層の遮光パターンを有する遮光領域が設けられることにより、積層構造の遮光パターンにおける各層間のパターニングずれを生ずるおそれがないため、遮光幅を低減することができることから、カラーフィルタの開口率を向上させることが可能になる。また、光学濃度の高い第２着色部と同じ材料で遮光パターンが形成されていることにより、遮光領域の遮光性能を高めることができる。
【００１６】
本発明において、前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を備えた光反射層を有し、前記第２着色部は前記開口部と平面的に重なるように構成されていることが好ましい。光学濃度の高い第２着色部が開口部と平面的に重なるように構成されていることにより、光反射層によって反射される反射光に対しては第１着色部の光学作用の寄与があり、透過光に対しては第２着色部が光学的に機能するため、反射光と透過光とに対してそれぞれ独立に光学的に作用し得るカラーフィルタ基板を構成できる。
【００１７】
次に、本発明のさらに別のカラーフィルタ基板は、複数色の着色層が所定パターンにて配列形成され、前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を有する光反射層を有し、前記複数色の着色層のうちの少なくとも一色の前記着色層は、前記光反射層と平面的に重なる領域に開口領域を有し、前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有することを特徴とする。
【００１８】
この発明によれば、着色層と同じ材料で構成された単層の遮光パターンを着色層上に有する遮光領域が設けられることにより、積層構造の遮光パターンにおける各層間のパターニングずれを生ずるおそれがないため、遮光幅を低減することができることから、カラーフィルタの開口率を向上させることが可能になる。また、着色層において光反射層と平面的に重なる領域に開口領域を有することによって、光反射層によって構成される光反射領域における着色層の光学的寄与を上記開口領域の開口面積によって調整することができるため、着色層の光学濃度を、光反射層の開口部によって構成される光透過領域における光学的寄与に合わせて高く設定することが可能になる。したがって、この状況において高い光学濃度を有する着色層と同じ材料で遮光パターンが形成されることにより、遮光領域の遮光性を高めることができる。
【００１９】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層と同じ材料で構成されていることが好ましい。これによって、遮光パターンの遮光性をさらに向上できる。
【００２０】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色以外の前記着色層と同じ材料で構成されていることが好ましい。これによって、遮光パターンの遮光性をある程度確保することができる。
【００２１】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層上には形成されていないことが好ましい。これによって、最も光学濃度の高い色の着色層と同じ材料で遮光パターンを形成すれば、着色層の形成時に遮光パターンを同時に形成することが可能になるので、製造工程を増やすことなく遮光領域を構成できる。また、最も光学濃度の高い色の着色層上には遮光パターンがなくても光漏れは少ないため、全体としては光漏れに起因するコントラストの低下を抑制できるとともに、全体の明るさを高めることができる。
【００２２】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色の前記着色層上に限定して形成されていることが好ましい。この場合には、最も光学濃度の低い色の着色層以外のいずれかの材料で遮光パターンを形成すれば製造工程を増やすことなく遮光領域を構成できるため、遮光パターンの材料選択に関する自由度が増大するとともに、全体の明るさをさらに高めることができる。
【００２３】
次に、本発明の電気光学装置は、電気光学層と、該電気光学層と平面的に重なる複数色の着色層を備えたカラーフィルタとを有し、前記遮光領域は、前記着色層に対して前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有することを特徴とする。
【００２４】
この発明によれば、遮光領域が着色層上にいずれかの着色層の着色材料で形成された単層の遮光パターンで構成されていることによって、積層構造の遮光パターンにおける各層間のパターニングずれを生ずるおそれがないため、遮光幅を低減することができることから、カラーフィルタの開口率を向上させることが可能になる。したがって、光漏れを低減してコントラストの低下を抑制しつつ、表示の明るさを増大させることができる。
【００２５】
また、本発明の別の電気光学装置は、電気光学層と、該電気光学層と平面的に重なる複数色の着色層を備えたカラーフィルタとを有し、前記着色層には、第１着色部と、該第１着色部と略同色で前記第１着色部よりも光学濃度の高い第２着色部とが形成され、前記遮光領域は、前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層の前記第２着色部と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有することを特徴とする。
【００２６】
この発明によれば、第１着色部と第２着色部とを有する着色層上に第２着色部と同じ材料で構成された単層の遮光パターンを有する遮光領域が設けられることにより、積層構造の遮光パターンにおける各層間のパターニングずれを生ずるおそれがないため、遮光幅を低減することができることから、カラーフィルタの開口率を向上させることが可能になる。また、光学濃度の高い第２着色部と同じ材料で遮光パターンが形成されていることにより、遮光領域の遮光性能を高めることができる。その結果、光漏れを低減してコントラストの低下を抑制しつつ、表示の明るさを増大させることができる。特に、光漏れに起因するコントラストの低下をより確実に防止できる。
【００２７】
本発明において、前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を備えた光反射層を有し、前記第２着色部は前記開口部と平面的に重なるように構成されていることが好ましい。光学濃度の高い第２着色部が開口部と平面的に重なるように構成されていることにより、光反射層によって反射される反射光に対しては第１着色部の光学作用の寄与があり、透過光に対しては第２着色部が光学的に機能するため、反射光と透過光とに対してそれぞれ独立に光学的に作用し得るカラーフィルタ基板を構成できる。
【００２８】
次に、本発明のさらに別の電気光学装置は、電気光学層と、該電気光学層と平面的に重なる複数色の着色層を備えたカラーフィルタとを有し、前記着色層と平面的に重なるように配置された、開口部を有する光反射層を有し、前記複数色の着色層のうちの少なくとも一色の前記着色層は、前記光反射層と平面的に重なる領域に開口領域を有し、前記複数色の着色層のうちの一色の前記着色層と同じ材料で構成され、前記着色層上に積層された単層の遮光パターンにより形成された遮光領域を有することを特徴とする。
【００２９】
この発明によれば、着色層と同じ材料で構成された単層の遮光パターンを着色層上に有する遮光領域が設けられることにより、積層構造の遮光パターンにおける各層間のパターニングずれを生ずるおそれがないため、遮光幅を低減することができることから、カラーフィルタの開口率を向上させることが可能になる。また、着色層において光反射層と平面的に重なる領域に開口領域を有することによって、光反射層によって構成される光反射領域における着色層の光学的寄与を上記開口領域の開口面積によって調整することができるため、着色層の光学濃度を、光反射層の開口部によって構成される光透過領域における光学的寄与に合わせて高く設定することが可能になる。したがって、この状況において高い光学濃度を有する着色層と同じ材料で遮光パターンが形成されることにより、遮光領域の遮光性を高めることができる。その結果、光漏れを低減してコントラストの低下を抑制しつつ、表示の明るさを増大させることができる。特に、光漏れによるコントラストの低下をさらに低減できる。
【００３０】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層と同じ材料で構成されていることが好ましい。これによって、遮光パターンの遮光性をさらに向上できる。
【００３１】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色以外の前記着色層と同じ材料で構成されていることが好ましい。これによって、遮光パターンの遮光性をある程度確保することができる。
【００３２】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の高い色の前記着色層上には形成されていないことが好ましい。これによって、最も光学濃度の高い色の着色層と同じ材料で遮光パターンを形成すれば、着色層の形成時に遮光パターンを同時に形成することが可能になるので、製造工程を増やすことなく遮光領域を構成できる。また、最も光学濃度の高い色の着色層上には遮光パターンがなくても光漏れは少ないため、全体としては光漏れに起因するコントラストの低下を抑制できるとともに、全体の明るさを高めることができる。
【００３３】
本発明において、前記遮光パターンは、前記複数色のうち最も光学濃度の低い色の前記着色層上に限定して形成されていることが好ましい。この場合には、最も光学濃度の低い色の着色層以外のいずれかの材料で遮光パターンを形成すれば製造工程を増やすことなく遮光領域を構成できるため、遮光パターンの材料選択に関する自由度が増大するとともに、全体の明るさをさらに高めることができる。
【００３４】
また、本発明の電子機器は、上記いずれかに記載の前記電気光学装置と、前記電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする。電子機器において表示の明度向上と、製造コストの低減とを図ることができる上記電気光学装置を用いることにより、特に携帯型電子機器などの表示部付き小型電子機器の性能向上に大きく寄与できる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係るカラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器の実施形態について詳細に説明する。
【００３６】
［第１実施形態］
図１は本発明に係るカラーフィルタ基板を備えた電気光学装置の一例としての液晶表示装置２００の分解斜視図、図２は液晶表示装置２００の拡大部分断面図である。図１に示すように、液晶表示装置２００は、第１基板（カラーフィルタ基板）２１０と、第２基板（対向基板若しくは素子基板）２２０とを図示しないシール材を介して貼り合わせたものであり、これらの基板同士は、図２に示すスペーサＳＰによる規制によって３〜１０μｍ程度の適宜の間隔とされ、その内側に液晶ＬＣが封入されている。
【００３７】
第１基板２１０には、図１に示すように、第１基材２１１上に電極２１６が形成されている。電極２１６はたとえば図示例のように複数平行に配列されている。より具体的には、第１基材２１１上に透明な下地層２１２が形成され、この下地層２１２上に光反射層２１３が形成されている。光反射層２１３には、図２に示す画素Ｐ毎に開口部２１３ａが形成されている。ここで、開口部２１３ａによって、画素Ｐ内に光透過部Ｐｔが設けられ、光反射層２１３によって光反射部Ｐｒが設けられている。なお、下地層２１２は必須のものではない。すなわち、下地層２１２の表面は微細な凹凸状（或いは粗面状）に構成され、この表面上に形成される光反射層２１３に光散乱性を付与するためのものであるため、光反射層２１３に光散乱性を付与しない場合や、基材表面をエッチングするなどによって凹凸状にするなどの別の方法で光散乱性を付与する場合には形成しない。
【００３８】
光反射層２１３及び開口部２１３ａ上には、第１着色部２１４Ｆと第２着色部２１４Ｃとを含む着色層２１４が形成される。ここで、光反射層２１３上には第１着色部２１４Ｆが形成され、上記開口部２１３ａ上には第２着色部２１４Ｃが形成される。これらの第１着色部２１４Ｆ及び第２着色部２１４Ｃは、染料や顔料などの着色材を含む樹脂等で構成される。ここで、画素Ｐ別に異なる種類の色相を呈する着色層２１４がストライプ配列、デルタ配列、斜めモザイク配列などの適宜のパターンで配列されている。また、同一画素Ｐ内に配置された着色部２１４内の第１着色部２１４Ｆ及び第２着色部２１４Ｃは相互に同一種類の色相を呈するものとなっており、第１着色部２１４Ｆの光学濃度（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）よりも、第２着色部２１４Ｃの光学濃度の方が高くなるように構成されている。すなわち、いずれかの画素Ｐ内の第１着色部２１４Ｆと第２着色部２１４Ｃとが複数種類の色相のうちのいずれか一つの同一種類の色相を共に有するが、その第１着色部２１４ＦのＹ値（ＸＹＺ表色系のＹ）は、第２着色部１４ＣのＹ値よりも大きくなるように構成される。たとえば、カラーフィルタがＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色で構成される場合には、これら３色の着色層２１４についてそれぞれ、第１着色部２１４Ｆは淡色のフィルタとなっており、第２着色部２１４Ｃは濃色のフィルタとして構成されている。
【００３９】
上記第１着色部２１４Ｆ及び遮光パターン２１４Ｂの上には、図２に示すように、透明な保護膜２１５が形成されている。この保護膜２１５は、通常は、カラーフィルタの各着色層を保護するとともに、表面を平滑化する目的で形成されるものである。本実施形態においても、そのような機能を期待して保護膜２１５を形成するわけであるが、この保護膜２１５は第１基板２１０の表面に段差を設けるための構成要素ともなっている。すなわち、保護膜２１５は、開口部２１３ａ上において形成されておらず、光反射層２１３上に選択的に形成されている。
【００４０】
本実施形態では、上記第２着色部２１４Ｃ及び保護膜２１５上に、ＩＴＯ等の透明導電体で構成される透明電極２１６が形成される。この透明導電体２１６は、第２着色部２１４Ｃから段差を介して第１着色部２１４Ｆ（及び保護膜２１５）上にまで亘り一体に形成されている。透明電極２１６上には配向膜２１７が形成されている。
【００４１】
一方、基板２２０には、ガラスやプラスチック等で構成される基材２２１上に、Ｔａ等の金属などで上記配線２２２が形成されている。配線２２２上には、画素毎に素子構造（ダイオード素子）が形成され、この素子構造は上記電極２２５に接続されている。より具体的には、Ｔａ等で構成された配線２２２上に形成されたＴａ２Ｏ５等の絶縁膜２２３（図２参照）を介してＣｒ等で構成される対向端子２２４が接合され、この対向端子２２４がＩＴＯ等で構成される電極２２５に接続されている。上記素子構造は、配線２２２、絶縁膜２２３及び対向端子２２４のＭＩＭ（金属−絶縁体−金属）構造によって構成される。このＭＩＭ構造で構成される素子構造は、上記遮光部２１４Ｂが配置された画素間領域と平面的に重なるように配置されている。これらの上には、上記と同様の配向膜２２６が形成されている。
【００４２】
なお、上記第１基板２１０及び第２基板２２０の製造工程においては、電極や配線はスパッタリング法により形成することができる。また、上記素子構造の絶縁膜２２３は配線２２２の表面を陽極酸化法によって酸化することにより形成できる。着色層２１４を含むカラーフィルタは、ロールコータ法などによって着色した感光性レジストを塗布し、露光・現像を行うフォトリソグラフィ法を色毎に繰り返すことで形成できる。
【００４３】
液晶表示装置２００のパネル構造の背後には、図２に示すように、バックライト２４０が配置されている。また、パネル構造と、バックライト２４０との間には、偏光板２４１と位相差版２４２が順次配置され、また、パネル構造の前面にも、位相差版２４３と偏光板２４４が順次配置されている。なお、図示例の液晶表示装置２００では、上記液晶ＬＣによりＳＴＮモードの液晶層が構成されている場合について示してある。
【００４４】
この実施形態では、バックライト２４０から照射される光のうち、光透過部Ｐｔ、すなわち光反射層２１３の開口部２１３ａを通過する透過光Ｔによって透過型表示がなされる。また、外光がパネル内に入射して光反射部Ｐｒにおいて光反射層２１３により反射された反射光Ｒによって反射型表示がなされる。この場合、透過型表示を構成する透過光Ｔは、基本的に第２着色部２１４Ｃを１回だけ通過し、反射型表示を構成する反射光Ｒは、基本的に第１着色部２１４Ｆを２回通過する。したがって、第２着色部２１４Ｃと第１着色部２１４Ｆとをそれぞれ光学特性上最適化して形成しておくことによって、透過型表示と反射型表示の品位を大幅に改善できる。
【００４５】
また、本実施形態では、第２基板２１０の表面において光透過領域Ｐｔと光反射領域Ｐｒとの間に高低差が存在するので、この高低差に応じて画素Ｐ内に異なる液晶層の厚さを設けることができる。すなわち、光透過領域Ｐｔにおいて液晶層の厚さＧｔは大きく、光反射領域Ｐｔにおいて液晶層の厚さＧｒは小さい。これによって、液晶層を１回だけ通過する透過光Ｔに対する液晶層のリタデーション値を、液晶層を２回通過する反射光Ｒに対する液晶層のリタデーション値に近づけることができるため、透過型表示と反射型表示の品位を共に向上させることができる。より具体的には、両表示の明るさを改善できる。
【００４６】
（実施例１）  図３は、本実施形態におけるカラーフィルタの平面図（ａ）及び遮光領域の断面図（ｂ）である。画素Ｐの間には遮光領域が設けられ、この遮光領域には遮光パターン２１４Ｂが形成されている。この遮光パターン２１４Ｂは、図示例では複数色（赤、緑及び青）のうちの一色の着色層２１４の第２着色部２１４Ｃと同じ材料によって構成されている。この遮光パターン２１４Ｂは、画素Ｐに形成された着色層２１４上に配置されている。遮光パターン２１４Ｂのパターン形状は、図３に示すように、画素Ｐ間を横断するストライプ状に構成されている。遮光パターン２１４Ｂは単層であり、積層構造を有する典型的な遮光パターンのように２層以上の構成を有する多層構造にはなっていない。本実施形態の遮光パターン２１４Ｂは複数色の着色層２１４の全てに亘って形成されている。
【００４７】
本実施形態では、遮光パターン２１４Ｂを単層で構成することによって、遮光パターン２１４Ｂの遮光幅Ｗを図７（ａ）に示す単層幅Ｗ１と同一に設定することが可能になり、パターニングずれに起因する遮光幅Ｗの増大を回避することができる。より具体的には、本実施形態の場合、隣接する透明電極２１６間の隙間ｄに対するパターニングずれを考慮した分だけ余裕を持って遮光幅Ｗを形成するだけで、光漏れを確実に回避することができるため、遮光幅Ｗを従来の遮光幅Ｗ３（図７（ｃ）参照）よりも大幅に小さくすることができる。たとえば、上記隙間ｄが５〜６μｍ程度であるときには、従来であれば、遮光幅Ｗ３のばらつきが大きいことから平均で１０μｍの遮光幅が必要となっていたが、本実施形態では、遮光幅Ｗを６〜７μｍ程度とすることが可能である。
【００４８】
なお、本実施形態においては、遮光パターン２１４Ｂは、複数色の着色層のうち最も光学濃度の高い色の着色層のうちの第２着色部２１４Ｃの材料と同一材料で構成されている。たとえば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３色の着色層２１４（Ｒ）、２１４（Ｇ）及び２１４（Ｂ）を備えたカラーフィルタにおいては、青（Ｂ）の着色層２１４（Ｂ）の第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）と同一材料で構成される。これによって、遮光パターン２１４Ｂ（Ｂ）が単層で構成されていても、その下方に形成された着色層２１４（図示例では第１着色部２１４Ｆ）との重なりによって十分な遮光性能を有するものとなる。なお、本明細書においては、上記のように各着色層２１４、第１着色部２１４Ｆ、第２着色部２１４Ｃ、遮光パターン２１４Ｂの符号に続いて付された括弧内の符号Ｒ，Ｇ，Ｂは色の種類（赤、緑、青）を示すこととする。
【００４９】
なお、遮光パターン２１４Ｂを、赤（Ｒ）の着色層２１４の第２着色部２１４Ｃと同一材料で構成してもよい。この場合には、遮光パターン２１４Ｂそのものの光学濃度はやや低下するが、それでもなお十分な遮光性能を得ることができる。
【００５０】
図３に示すカラーフィルタ基板の構造は、通常のフォトリソグラフィ法などを用いたパターニング技術によって形成することができる。すなわち、複数色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の着色層２１４を順次にパターニングすることによって形成される。たとえば、色材を含んだ感光性樹脂を基材上に塗布し、所定の露光パターンにて露光し、その後、現像することによってパターニングを行うことができる。ここで、本実施形態の場合には、第１着色部２１４Ｆと、第２着色部２１４Ｃを別々の材料で形成する必要があるため、着色層２１４の色毎に２工程が必要になる。
【００５１】
本実施形態では、遮光パターン２１４Ｂを上記と同様の方法で形成する工程が必要になるが、遮光パターン２１４Ｂをその色の第２着色部２１４Ｃと同時に形成することによって工程数の増加を回避することができる。たとえば、遮光パターン２１４ＢをＢ（青）の着色層２１４（Ｂ）の第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）と同一材料で構成する場合には、第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）を形成する際に同時に遮光パターン２１４Ｂを形成する。より具体的には、第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）をパターニングする際に、第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）とともに遮光パターン２１４Ｂをパターニングする。
【００５２】
（実施例２）  次に、図４を参照して、本発明に係るカラーフィルタ基板及び電気光学装置の実施例２について説明する。この実施形態では、カラーフィルタ基板２１０及び電気光学装置２００の全体構成は基本的に上記実施例１と全く同様であるので、それらの図示及び説明は省略する。また、図４において上記実施例１と同一部分には同一符号を付す。
【００５３】
この実施例２では、実施例１と同様の配列パターンを有する着色層２１４上に、選択的に遮光パターン２１４Ｂ′が形成されている。この遮光パターン２１４Ｂ′は、図示例ではＢ（青）の着色層２１４（Ｂ）の第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）と同一材料で構成されている。遮光パターン２１４Ｂ′は、その材料と同一の第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）が属する着色部２１４（Ｂ）上には形成されておらず、当該着色部２１４（Ｂ）以外の色の着色部２１４（Ｒ）及び２１４（Ｇ）上に限定して形成されている。
【００５４】
この実施形態では、着色層２１４（Ｂ）、２１４（Ｒ）、２１４（Ｇ）のうち、最も光学濃度の高い着色層２１４（Ｂ）を除く他の着色層２１４（Ｒ）及び２１４（Ｇ）上にのみ遮光パターン２１４Ｂ′を形成していることによって、最も光学濃度の高い着色層２１４（Ｂ）によって生ずる光成分を増大させ、明るくすることができるとともに、充分な遮光性能をも確保することができる。
【００５５】
なお、この実施形態においても、遮光パターン２１４Ｂ′は第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）と同一工程で形成することができる。
【００５６】
また、上記実施形態ではＢ（青）の着色材料で遮光パターン２１４Ｂ′を形成しているが、Ｒ（赤）の着色材料で遮光パターン２１４Ｂ′を形成してもよい。この場合でも、図示例のようにＲ（赤）とＧ（緑）の着色層２１４（Ｒ）、２１４（Ｇ）上にのみ遮光パターン２１４Ｂ′を形成してもよい。しかし、遮光パターン２１４Ｂ′をそれとは異なる色の着色層２１４（Ｂ）及び２１４（Ｇ）上には形成し、それと同色の着色層２１４（Ｒ）上には形成しないように構成することによって、光漏れをより低減することができる。
【００５７】
（実施例３）  次に、図５を参照して、本発明に係るカラーフィルタ基板及び電気光学装置の第２実施形態について説明する。この実施形態では、カラーフィルタ基板２１０及び電気光学装置２００の全体構成は基本的に上記実施例と全く同様であるので、それらの図示及び説明は省略する。また、図５において上記実施例と同一部分には同一符号を付す。
【００５８】
この実施形態で形成される遮光パターン２１４Ｂ″も上記実施例２と同様に着色層２１４上に選択的に形成されている。この実施形態では、遮光パターン２１４Ｂは、最も光学濃度の高い着色層２１４（Ｂ）だけでなく、次に光学濃度の高い着色層２１４（Ｒ）上にも形成されておらず、さらに光学濃度の低い（図示例では最も光学濃度の低い）着色層（Ｇ）上には形成されている。すなわち、図示例では、最も光学濃度の低い着色層２１４（Ｇ）上にのみ遮光パターン２１４ｂ″が限定的に形成されている。
【００５９】
なお、本実施形態においても、遮光パターン２１４ｂ″は最も光学濃度の高い第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）と同一材料で構成されている。また、第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）と同一工程で形成される。ただし、第２実施形態と同様に、第２着色部２１４Ｃ（Ｒ）と同一材料で構成してもよい。
【００６０】
（遮光パターンの色材料）  次に、遮光パターンの色材料について説明する。ＸＹＺ表色系では、ＲＧＢ表色系に対して以下の式が成立する。
Ｘ＝２．７６８９Ｒ＋１．７５１７Ｇ＋１．１３０２Ｂ
Ｙ＝Ｒ＋４．５９０７Ｇ＋０．０６０１Ｂ
Ｚ＝０．５６５Ｇ＋５．５９４３Ｂ
ここで、上記Ｙの値は、明るさの刺激に対応するもので、明度の代表値として用いられる。また、一般的な表現として利用されるＹｘｙ系のｘ及びｙは、
ｘ＝Ｘ／（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）
ｙ＝Ｙ／（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）
で表される。したがって、ｘ，ｙ，Ｙによって色を表現することもできることになる。
【００６１】
本明細書にいうＹ値は視感透過率（％）に相当するものである。このＹ値をＴ％とすれば光学濃度はｌｏｇ１０［１００／Ｔ］で表される。すなわち、ＡとＢにおいてＡのＹ値がＢよりも高ければ、光学濃度はＢの方が高いことになる。遮光パターンのＹ値としては、Ｙ値は５０％以下であることが好ましく、４０％以下であることがより好ましい。実際には、上記実施形態において、遮光パターンは第２着色部と同一材料で構成されるため、第２着色層としても有効な範囲を考慮すると、遮光パターンのＹ値としては、２０〜５０％が好ましく、２５〜４０％がより望ましい。たとえば、上記実施形態におけるＢ（青）の第２着色部２１４Ｃ（Ｂ）のＹ値は約３０％、Ｒ（赤）の第２着色部２１４Ｃ（Ｒ）のＹ値は約３５％である。なお、Ｇ（緑）の第２着色部２１４Ｃ（Ｇ）のＹ値は約７５％である。
【００６２】
図６には、このＹｘｙ表色系におけるｘｙ色度図を示す。ここで、上記着色層２１４のうち、第１着色部２１４Ｆの色度は図示丸印で、第２着色部２１４Ｃの色度は図示三角印でそれぞれ示されている。
【００６３】
［第２実施形態］
次に、図８を参照して、本発明に係る第２実施形態について説明する。この実施形態の液晶表示装置３００は、基本的に上記第１実施形態と同様の構造を備え、第１基板３１０、第１基材３１１、下地層３１２、光反射層３１３、開口部３１３ａ、保護膜３１５、透明電極３１６、配向膜３１７、第２基板３２０、第２基材３２１、配線３２２、絶縁膜３２３、対向端子３２４、電極３１５、配向膜３１６、偏光板３４１，３４４、位相差板３４２，３４３、バックライト３４０はそれぞれ上記と同様に構成されているので、説明を省略する。
【００６４】
本実施形態では、各単位領域Ｐ内に配置された着色層３１４が単一の材料で形成されている点で、上記実施形態とは異なる。着色層３１４は、基本的に上記第１実施形態の第２着色部２１４Ｃと同一材料で構成される。この場合には、光反射領域Ｐｒと光透過領域Ｐｔとにおいて着色層３１４の材質が共通になっていることから、反射型表示と透過型表示における着色の色相の相違を低減するために、光反射層３１３と平面的に重なる領域（すなわち光反射領域Ｐｒ）の一部に開口領域３１４ａが形成される。この開口領域３１４ａは、複数色の着色層３１４のうちいずれか少なくとも一つの色の着色層について形成される。
【００６５】
上記開口領域３１４ａが設けられることにより、反射型表示を構成する反射光Ｒの一部は着色層３１４を通過せずに観察側に反射されるため、当該単位領域Ｐの反射光量を増大させることができる。すなわち、開口領域３１４ａにより反射型表示における当該単位領域Ｐの彩度は低下するか明度が増大する。一方、透過型表示では光反射層３１３上の開口領域３１４ａの影響は受けないので、彩度の低下は生じない。このように、光反射領域Ｐｒ内の着色層３１４に開口領域３１４ａを形成することによって、相対的に透過型表示の彩度を向上させるとともに反射型表示の明度を向上させることができ、単一の着色層３１４であっても開口領域３１４ａの開口面積を調整することによって反射型表示と透過型表示の色彩を別々に変えることができる。
【００６６】
この実施形態では、着色層３１４の光学濃度を透過型表示に合わせて高く設定できるため、この着色層３１４と同一材料で構成される遮光パターン３１４Ｂの遮光性を高めることができ、単層の遮光パターン３１４Ｂであっても十分な機能を果たすことが可能になる。
【００６７】
（実施例４）
図９には、この第２実施形態における遮光パターン３１４Ｂの平面形状を示す。この実施例においては、遮光パターン３１４Ｂは上記第１実施例と同様に隣接する透明電極３１６間の隙間ｄを全て覆うようにストライプ状に形成されている。図示例では、Ｂ（青）の色相を有する着色層３１４（Ｂ）と、Ｒ（赤）の色相を有する着色層３１４（Ｒ）と、Ｇ（緑）の色相を有する着色層３１４（Ｇ）とが設けられている。ここで、単位領域Ｐ毎に、着色層３１４（Ｒ）及び着色層３１４（Ｇ）には上記の開口領域３１４ａが設けられている。この開口領域３１４ａは、反射型表示と透過型表示の間の色相の相違を低減するために、通常、Ｇ（緑）の色相を有する単位領域Ｐにおいて最も開口面積が大きくなるように構成される。図示例では、Ｂ（青）の単位領域Ｐには開口領域が形成されず、Ｒ（赤）の単位領域Ｐには比較的小さな開口領域３１４ａが形成され、Ｇ（緑）の単位領域Ｐには比較的大きな（或いは複数の）開口領域３１４ａが形成されている。
【００６８】
この実施例４では、Ｂ（青）の着色層３１４（Ｂ）と同一材料で形成されたストライプ状の遮光パターン３１４Ｂは、図示上下方向に並列する単位領域Ｐ間において十分な遮光性能を有する。これは、本実施形態が基本的に光透過領域Ｐｔにマッチングさせた光学濃度の高い着色層（すなわち、第１実施形態の第２着色部２１４Ｃと同様の光学濃度を有する着色層）を備えているからである。そして、光反射領域Ｐｒにおける着色層による光学的寄与は、上述のように、上記開口領域３１４ａの開口面積によって調整されている。
【００６９】
（実施例５）
次に、図１０を参照して、上記とは別の実施例について説明する。なお、この実施例５においても基本構造は図８に示す断面図にて説明したものと同一構成を有する。この実施例では、上記実施例４とは異なり、遮光パターン３１４Ｂ′は、着色層３１４（Ｒ）及び３１４（Ｇ）上には形成されているが、着色層３１４（Ｂ）上には形成されていない。この状況は上記実施例２と同様である。
【００７０】
また、本実施例では、着色層３１４（Ｂ）、３１４（Ｒ）及び３１４（Ｇ）の全てにそれぞれ開口領域３１４ａが形成されている。ここで、開口領域３１４ａの開口面積は、着色層３１４（Ｂ）を有する単位領域Ｐにおいて最も小さく、着色層３１４（Ｒ）を有する単位領域Ｐにおいては着色層３１４（Ｂ）よりも大きく、着色層３１４（Ｇ）を有する単位領域Ｐにおいてはさらに大きく（すなわち最も大きく）構成されている。
【００７１】
（実施例６）
次に、図１１を参照して、上記とは別の実施例について説明する。この実施例６においても基本構造は図８に示す断面図にて説明したものと同一構成を有する。この実施例では、上記各実施例４，５とは異なり、遮光パターン３１４Ｂ″は、着色層３１４（Ｇ）上には形成されているが、着色層３１４（Ｂ）及び３１４（Ｒ）上には形成されていない。この状況は上記実施例３と同様である。
【００７２】
また、本実施形態では、着色層３１４（Ｇ）には開口領域３１４ａが形成されているが、着色層３１４（Ｂ）及び３１４（Ｒ）には開口領域は形成されていない。また、開口領域３１４ａは、単位領域Ｐを横断するストライプ状の開口形状を有している。
【００７３】
この実施例では、遮光パターン３１４Ｂ″は開口領域３１４ａと隣接しているが、遮光パターン３１４Ｂ″は開口していない着色層３１４（Ｇ）の上に形成されている。このように構成しないと、遮光パターン３１４Ｂ″が形成された遮光領域の遮光性を十分に確保することができないからである。
【００７４】
なお、以上説明した第２実施形態（実施例４乃至実施例６）においても、遮光パターンのＹ値或いは光学濃度は上記第１実施形態で示した値（範囲）であることが望ましい。
【００７５】
［電子機器］
最後に、図１２及び図１３を参照して、本発明に係る電子機器の実施形態について説明する。この実施形態では、上記電気光学装置の液晶表示装置２００を表示手段として備えた電子機器について説明する。図１２は、本実施形態の電子機器における液晶表示装置２００に対する制御系（表示制御系）の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１２１０と、表示情報処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを含む表示制御回路１２００を有する。また、上記と同様の液晶表示装置２００には、表示領域２００Ａを駆動する駆動回路２００Ｂが設けられている。この駆動回路２００Ｂは、通常、液晶パネルに直接実装されている半導体ＩＣチップ、パネル表面上に形成された回路パターン、或いは、液晶パネルに導電接続された回路基板に実装された半導体ＩＣチップ若しくは回路パターンなどによって構成される。
【００７６】
表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されている。
【００７７】
表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００７８】
図１３は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話を示す。この携帯電話２０００は、ケース２０１０の内部に回路基板２００１が配置されている。ケース２０１０の表面には、操作部２０２０と、アンテナ２０３０と、受話部２０４０と、送話部２０５０と、表示部２０６０とが設けられている。操作部２０２０には複数の操作ボタンが配列され、受話部２０４０にはスピーカが内蔵され、送話部２０５０の内部にマイクが内蔵されている。また、表示部２０６０の内部には上記回路基板２００１に実装された液晶表示装置２００が配置されている。
【００７９】
尚、本発明は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。たとえば、上記実施形態では、電気光学装置の一例として液晶表示装置２００について説明したが、本発明は液晶装置に限定されるものではなく、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッション表示装置など、種々の電気光学装置にも適用できるものである。また、上記のカラーフィルタ基板（光反射基板）は、電気光学装置だけでなく、種々の表示装置その他の各種機器にも用いることができる。
【００８０】
また、上記実施例では、いずれもストライプ配列のカラーフィルタにおいて、同色の着色層を有する隣接単位領域間にのみ遮光領域を設けているが、相互に異なる色の着色層を有する隣接単位領域間にも遮光領域を設け、上記遮光パターンを同様に形成してもよい。この場合には、隣接する異なる２色の着色層上に亘って遮光パターンが形成されるように構成してもよく、或いは、隣接する２色の着色層のうちの一方にのみ遮光パターンが形成されるように構成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置の全体構成を示す分解斜視図。
【図２】第１実施形態の液晶表示装置の拡大部分断面図。
【図３】実施例１のカラーフィルタの平面図（ａ）及び遮光領域の断面図（ｂ）
【図４】実施例２のカラーフィルタの平面図（ａ）及び遮光領域の断面図（ｂ）
【図５】実施例３のカラーフィルタの平面図（ａ）及び遮光領域の断面図（ｂ）
【図６】第１実施形態のカラーフィルタの色度図。
【図７】遮光パターンの積層ずれを示す説明図（ａ）〜（ｃ）。
【図８】第２実施形態の液晶表示装置の拡大部分断面図。
【図９】実施例４のカラーフィルタの平面図（ａ）及び遮光領域の断面図（ｂ）。
【図１０】実施例５のカラーフィルタの平面図（ａ）及び遮光領域の断面図（ｂ）。
【図１１】実施例６のカラーフィルタの平面図（ａ）及び遮光領域の断面図（ｂ）。
【図１２】第３実施形態の電子機器の表示系の構成を示す概略構成ブロック図。
【図１３】電子機器の外観を示す斜視図。
【図１４】比較例の液晶表示装置の拡大部分断面図。
【符号の説明】
２００…液晶表示装置、２１０…第１基板（カラーフィルタ基板）、２１１…第１基材、２１２…下地層、２１３…光反射層、２１３ａ…開口部、２１４…着色層、２１４Ｆ…第１着色部、２１４Ｃ…第２着色部、２１４Ｂ…遮光パターン、２１５…保護膜、２１６…透明電極、ＬＣ…液晶層、３１４…着色層、３１４ａ…開口領域
【図１】
2004258367.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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