(57)【要約】【課題】紫外線に対する耐性が高く、しかも可視光の透過率に優れた位相差フィルムを提供する。【解決手段】光透過性の高いポリマーに、紫外線吸収剤を、好ましくは０．１〜１０質量％混合し、この混合物を溶液または溶融液の状態にして、高分子フィルム等からなる支持体上に塗工し位相差フィルムを製造する。必要に応じ、前記支持体ごと延伸処理する等の手段により、適切な光学的異方性を付与しても良い。前記ポリマーは特に限定されないが、例えば、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミド等が使用可能である。前記紫外線吸収剤も特に限定されないが、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、ヒンダードアミン系化合物等が好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーおよび紫外線吸収剤を含み、前記紫外線吸収剤の含有率が、前記ポリマーの質量に対し０．５〜８質量％の範囲であり、波長４００〜７００ｎｍの単色光を入射した際の光透過率が８０％以上である位相差フィルム。
【請求項２】
前記ポリマーが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一つを含む請求項１記載の位相差フィルム。
【請求項３】
前記ポリマーがポリイミドである請求項１記載の位相差フィルム。
【請求項４】
前記ポリイミドが、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン二無水物と２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルとを反応させて得られるポリアミック酸をさらにイミド化して得られるポリイミドである請求項３記載の位相差フィルム。
【請求項５】
下記式（Ｉ）の光学特性条件を満たす請求項１から４のいずれかに記載の位相差フィルム。
ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ                                                  （Ｉ）
ただし、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記位相差フィルムにおけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記位相差フィルムの面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。
【請求項６】
支持体上に、ポリマーおよび紫外線吸収剤を含む溶液を塗布し乾燥させる方法、またはポリマーおよび紫外線吸収剤を含む溶融混合物を塗布し固体化させる方法により、ポリマーおよび紫外線吸収剤を含む層（ポリマー層）を形成する工程を含む位相差フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記ポリマー層を延伸する工程をさらに含む請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
基材上に、請求項１から５のいずれかに記載の位相差フィルムからなる光学補償層が積層された位相差板。
【請求項９】
請求項１から５のいずれかに記載の位相差フィルムまたは請求項８記載の位相差板と、偏光子との積層体を含む光学素子。
【請求項１０】
透明保護フィルムをさらに含み、前記透明保護フィルムを介して前記位相差フィルムまたは位相差板と前記偏光子とが積層されている請求項９記載の光学素子。
【請求項１１】
請求項１から５のいずれかに記載の位相差フィルム、請求項８記載の位相差板、または請求項９もしくは１０記載の光学素子を含む画像表示装置。
【請求項１２】
液晶セルを含み、前記液晶セルの少なくとも片側に、請求項１から５のいずれかに記載の位相差フィルム、請求項８記載の位相差板、または請求項９もしくは１０記載の光学素子が積層されている液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、位相差フィルムおよびそれを用いた位相差板、光学素子、画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
位相差フィルム（光学補償フィルム、補償シート等とも呼ばれる）には様々な用途があり、例えば、導波型光デバイス、偏波ビームスプリッター、サーキュレーター、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等に用いられる。特に画像表示装置全般に重要な部材として使用され、例えば、光学補償により液晶表示装置のコントラスト向上や視野角範囲の拡大を実現するために使用されている。このような位相差フィルムの材料としては、光透過性に優れたポリマーが適しており、よく用いられている。
【０００３】
位相差フィルムの重要な特性の一つとして、紫外線に対する耐性がある。例えば、位相差フィルムが強力な紫外線に曝された場合、強度が低下しクラックが入ったり、変色により透明度が低下したりするおそれがある。これらの現象は、主として空気存在下での紫外線照射により主鎖切断や光酸化反応が促進されることに基づくと思われる。さらに、紫外線による劣化に伴い、位相差フィルムの位相差が低下し、光学補償機能を果たさなくなるおそれもある。
【０００４】
従来は、前記各種用途に使用する位相差フィルムは遮蔽された空間の中で使用されることが多く、その場合は位相差フィルムに外光が直接照射されることがあまりないため、耐光性はさほど問題にならなかった。例えば、液晶表示装置において、液晶セルの視認側と反対側に設置された位相差フィルムには、それほど強い耐光性は要求されなかった。
【０００５】
しかし、近年、液晶表示装置等の画像表示装置は、屋内および屋外までのあらゆる場所で幅広い用途に使用される傾向にある。それに伴い、前記画像表示装置に用いられる位相差フィルムおよびその他の部材には、従来よりもさらに優れた耐光性および耐候性、特に紫外線に対する耐性が要求されている。
【０００６】
前記画像表示装置用部材を紫外線等から保護する目的で保護フィルムが用いられることがある。例えば、偏光板や液晶等を紫外線から保護するための保護フィルムとして、紫外線吸収性化合物を混合したトリアセチルセルロースフィルム等が偏光板に積層され、これにより位相差フィルムも紫外線から保護されている場合がある。しかしながら、最近、薄型軽量ノートパソコンに代表されるように画像表示装置の薄型化が進んでおり、これに伴い、前記保護フィルムも薄型化する傾向にある。そのため、位相差フィルムにも紫外線に対する耐性がますます強く要求されている。
【０００７】
位相差フィルムにおいて紫外線に対する耐性を高めようとすると可視光の透過率が低くなるおそれがある。紫外線吸収剤を含有する位相差フィルムが開示されているが、紫外線に対する耐性と可視光の透過率を両立する具体的な手段は示されていなかった（特許文献１参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開平７−０３５９２３号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明は、紫外線に対する耐性が高く、しかも可視光の透過率に優れた位相差フィルムを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の位相差フィルムは、ポリマーおよび紫外線吸収剤を含み、前記紫外線吸収剤の含有率が、前記ポリマーの質量に対し０．５〜８質量％の範囲であり、波長４００〜７００ｎｍの単色光を入射した際の光透過率が８０％以上であることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
前記の構成を有することにより、本発明の位相差フィルムは、紫外線に対する耐性が高く、しかも可視光の透過率に優れる。以下、本発明についてより具体的に説明する。
【００１２】
本発明において、前記光透過率は、入射光の全エネルギーに対する透過光の全エネルギーの割合であり、前記透過光には、位相差フィルムの表面と裏面との間で乱反射された後に透過した光をも含む。
【００１３】
本発明の位相差フィルムにおける前記光透過率は、波長４００〜７００ｎｍの単色光に対し８０％以上であれば良いが、波長４００〜８００ｎｍの単色光に対し８０％以上であることが好ましい。前記光透過率の上限は特に限定されないが、高いほど好ましく、理想的には１００％である。
【００１４】
次に、本発明の位相差フィルムに使用するポリマーは、前記本発明の目的を達成するために、フィルム加工時の光透過率が十分高いことが必要である。それ以外には、前記ポリマーは特に限定されず、ホモポリマーでもヘテロポリマーでも良いが、例えば、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一つを含むことが好ましい。なお、ここで、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドは、それぞれ、エーテル結合とカルボニル基とを含むポリマー、アミド結合とイミド結合とを含むポリマー、およびエステル結合とイミド結合とを含むポリマーを指す。また、これらポリマーは単独で使用しても二種類以上併用しても良い。
【００１５】
前記ポリマーの分子量は、特に限定されないが、重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００（千）〜１００００００（百万）の範囲であることが好ましい。Ｍｗが１０００以上であればフィルムに加工した際十分な強度が得られやすいため、伸縮や歪等でクラックが生じるおそれが少なく、Ｍｗが１００００００以下であれば、ポリマーがゲル化して溶剤に溶けない等のおそれが少ないため加工しやすい。前記Ｍｗは、より好ましくは５００００（五万）〜２０００００（二十万）の範囲である。
【００１６】
前記ポリマーの中では、フィルム加工時の光透過率がより高いという理由や、高い複屈折率が得やすいという理由等によりポリイミドがより好ましい。ポリイミドフィルムはこのように優れた光学特性を有していながら紫外線の影響を受けやすいことが指摘されていたが、本発明により紫外線に対する高い耐性が得られるようになった。前記ポリイミドは面内配向性が高く有機溶剤に可溶であることがさらに好ましい。例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物、具体的には、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーがあげられる。
【００１７】
【化１】
2004258544.tif 000002
前記式（１）中、Ｒ３〜Ｒ６は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ３〜Ｒ６は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００１８】
前記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。
【００１９】
【化２】
2004258544.tif 000003
前記式（２）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ７）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、または、ＮＲ８基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ７は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ９）３である。Ｒ８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ６〜２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ９は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。
【００２０】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。
【００２１】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００２２】
【化３】
2004258544.tif 000004
【化４】
2004258544.tif 000005
【化５】
2004258544.tif 000006
【００２３】
前記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＦ３）２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基、および、Ｎ（ＣＨ３）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００２４】
前記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。
【００２５】
前記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００２６】
前記式（４）中、Ｒ１０およびＲ１１は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００２７】
前記式（５）中、Ｍ１およびＭ２は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。
【００２８】
これらポリイミドの中でも、例えば、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン二無水物と２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルとを反応させて得られるポリアミック酸をさらにイミド化して得られるポリイミド、すなわち下記式（６）で表されるポリイミドが、特に光透過性が優れており、さらに、各種有機溶媒に対する溶解度が比較的高くフィルムに加工しやすいため特に好ましい。
【化６】
2004258544.tif 000007
【００２９】
なお、これらポリイミドのイミド化率は特に限定されないが高い程良く、理想的には１００％であり、前記式（１）〜（６）はそのイミド化率１００％の状態を表す式である。
【００３０】
前記ポリイミドとしては、その他、米国特許第５０７１９９７号公報、米国特許第５４８０９６４号公報および特表平１０−５０８０４８号公報等に記載のポリイミドがある。さらに、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。
【００３１】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２′−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００３２】
前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３′，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２′，３，３′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記２，２′−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２′−ジブロモ−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２′−ジクロロ−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２′−ビス（トリフルオロメチル）−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００３３】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４′−（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４′−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、（３，３′，４，４′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物）、４，４′−［４，４′−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等があげられる。
【００３４】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２′−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２′−ビス（トリハロメチル）−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２′−ビス（トリフルオロメチル）−４，４′，５，５′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００３５】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。
【００３６】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２′−ジアミノベンゾフェノン、および３，３′−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等があげられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等があげられる。
【００３７】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４′−ジアミノビフェニル、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４′−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４′−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４′−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４′−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。
【００３８】
前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。
【００３９】
【化７】
2004258544.tif 000008
前記式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
【００４０】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。
【００４１】
前記式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
【００４２】
また、前記式（７）中、Ｒ１は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
【００４３】
【化８】
2004258544.tif 000009
前記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記式（７）におけるＸと同様である。前記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
【００４４】
前記式（８）中、Ｒ２は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ２としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００４５】
【化９】
2004258544.tif 000010
【００４６】
前記式（７）中、前記Ｒ１としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ２およびｐは前記式（８）と同義である。
【００４７】
【化１０】
2004258544.tif 000011
【００４８】
さらに、前記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００４９】
さらに、前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００５０】
【化１１】
2004258544.tif 000012
【００５１】
前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００５２】
【化１２】
2004258544.tif 000013
【化１３】
2004258544.tif 000014
【化１４】
2004258544.tif 000015
【化１５】
2004258544.tif 000016
【００５３】
前記ポリエーテルケトンとしては、その他、特開２００１−６４２２６号公報に記載の含フッ素ポリアリールエーテルケトン等も好ましく用いることが出来る。
【００５４】
また、前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。
【００５５】
【化１６】
2004258544.tif 000017
前記式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ２アルキレン基、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｒ）２基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。
【００５６】
また、前記（２２）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。
【００５７】
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記ｔは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。
【００５８】
前記式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。
【００５９】
【化１７】
2004258544.tif 000018
前記式（２３）中、Ａ、Ａ’およびＹは、前記式（２２）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。
【００６０】
前記紫外線吸収剤の種類は特に限定されないが、紫外線吸収能および化学的安定性に優れるものが好ましく、その中でも、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少なく、波長３００〜３５０ｎｍの短波長側の紫外線吸収能が優れているという理由により、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、ヒンダードアミン系化合物等がより好ましく、これらは単独で使用しても二種類以上併用しても良い。なお、「ベンゾトリアゾール系化合物」とはベンゾトリアゾールおよびその誘導体を、「ベンゾエート系化合物」とは安息香酸エステルおよびその誘導体を指し、「ヒンダードアミン系化合物」とは、ピペリジン誘導体を指す。これら誘導体の分子量等は特に限定されず、低分子量化合物でも高分子化合物でも良い。前記紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社のＴＩＮＵＶＩＮ−Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ−３８４−２、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ−９９４ＦＬおよびＴＩＮＵＶＩＮ−１２０（いずれも商品名）、住友化学社のスミソープ１１０、スミソープ２５０、スミソープ３００、スミソープ３４０およびスミソープ３５０（いずれも商品名）、ＢＡＳＦ社のＵＶＩＮＯＬ３０４９、ＵＶＩＮＯＬ３０５０およびＵＶＩＮＯＬ３０９３（いずれも商品名）等がある。
【００６１】
本発明の位相差フィルムにおける前記紫外線吸収剤の含有率は、紫外線に対する十分な耐性を得るために、前記ポリマーの質量に対し０．５質量％以上である。また、前記含有率が８質量％以下であることにより、ポリマーの配向が乱れ位相差が低下するおそれや、前記紫外線吸収剤が製造工程中に蒸散して周囲を汚染したり、ブリードアウトによりフィルム上に析出して光透過性が低下したりするおそれが少ない。前記紫外線吸収剤の含有量は、好ましくは０．５〜７質量％、特に好ましくは１〜５質量％である。
【００６２】
なお、本発明の位相差フィルムは、前記ポリマーおよび前記紫外線吸収剤以外の添加剤を適宜含んでいても良い。前記添加剤の種類は特に限定されず、各種安定剤、可塑剤、金属類を含む種々の添加剤等、公知の添加剤を適宜使用することができる。前記添加剤の添加量も特に限定されないが、前記位相差フィルムの機能を損なわない範囲が好ましい。
【００６３】
次に、本発明の位相差フィルムは、下記式（Ｉ）の光学特性条件を満たすことが好ましい。これにより、例えば、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示装置において広視野角で良好なコントラストを付与することができる。
ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ                                                  （Ｉ）
ただし、式中、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ前記位相差フィルムにおけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記位相差フィルムの面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。さらに、厚み方向の複屈折率（ｎｘ−ｎｚ）および面内の複屈折率（ｎｘ−ｎｙ）がなるべく大きいことがより好ましい。ｎｘ−ｎｚの値は、具体的には０．００２以上がより好ましく、０．００５以上がさらに好ましく、特に好ましくは０．０１以上、最適には０．０２以上である。ｎｘ−ｎｙの値は、具体的には０．００２以上がより好ましく、上限は特に限定されないが、例えば０．１以下である。
【００６４】
また、本発明の位相差フィルムの厚みは、十分な位相差を得るために０．２μｍ以上が好ましく、製造しやすさと品質安定性の観点から１００μｍ以下が好ましい。前記厚みは、より好ましくは０．５〜５０μｍ、さらに好ましくは１〜２５μｍである。
【００６５】
なお、本発明の位相差フィルムにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈおよび面内方向の位相差Ｒｐは、それぞれ下記式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表されるものとする。
Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄ                                        （ＩＩ）
Ｒｐ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ                                          （ＩＩＩ）
ただし、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚの定義は前記式（Ｉ）と同様であり、ｄは前記位相差フィルムの厚みである。
【００６６】
前記式（１）を満たす本発明の位相差フィルムにおいて、前記Ｒｔｈは、位相差フィルムの機能の観点から５０ｎｍ以上がより好ましく、製造しやすさと品質安定性の観点から１０００ｎｍ以下がより好ましい。前記Ｒｔｈは、さらに好ましくは１００〜６００ｎｍ、特に好ましくは２００〜３００ｎｍである。また、前記Ｒｐは、１０〜１０００ｎｍの範囲であることがより好ましく、さらに好ましくは３０〜２００ｎｍである。
【００６７】
次に、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。
【００６８】
本発明の位相差フィルムの製造方法は特に限定されないが、例えば以下のような方法で製造することができる。すなわち、まず、支持体を準備し、その上に、前記ポリマーおよび前記紫外線吸収剤を含む層（以下、単に「ポリマー層」と呼ぶことがある）を形成する。形成方法は特に限定されないが、例えば、前記支持体上に、前記ポリマーおよび前記紫外線吸収剤を含む溶液を塗布し乾燥させる方法、または前記ポリマーおよび前記紫外線吸収剤を含む溶融混合物を塗布し固体化させる方法がある。これら二つの方法のうち、製造効率および光学的異方性制御等の観点から前者の方法が好ましい。前記溶液または溶融混合物には、帯電防止や前記支持体との密着性向上等の任意の目的のため、添加剤を適宜添加しても良い。前記溶液または溶融混合物の塗布方法も特に限定されず、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延製膜法、バーコート法、グラビア印刷法等の公知の方法を適宜用いることができる。
【００６９】
前記支持体の材質は特に限定されないが、例えば高分子フィルム等が使用できる。前記高分子フィルムに用いることのできるポリマーも特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ビスフェノールＡ・炭酸共重合体等のポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等の直鎖または分枝状ポリオレフィン、ポリノルボルネン等のシクロ構造を含むポリオレフィン、塩化ビニル系ポリマー、ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、およびエポキシ系ポリマーが好ましく、これらは単独で使用しても二種類以上併用しても良い。さらに、これらポリマー材料には、伸長性や収縮性付与等の任意の目的で、適切な添加剤を適宜添加しても良い。
【００７０】
前記高分子フィルムの製造方法も特に限定されず、例えば、キャスト法（押出成形法）により製造したものや、前記ポリマー材料を溶融し成膜した後延伸して製造したもの等があげられるが、機械的強度等の観点から後者が好ましい。前記支持体の機械的強度が大きければ、本発明の位相差フィルムの製造工程中に前記支持体の断裂等により不良が発生するおそれが少なく、精度の高い製造が可能になる。
【００７１】
前記高分子フィルムとしては、より具体的には、例えば、ＪＳＲ社のアートン（商品名）や、日本ゼオン社のゼオノア（商品名）等があげられる。その他、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載の高分子フィルムもあげられる。この高分子フィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基およびシアノ基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチレンマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。
【００７２】
また、前記支持体の厚みも特に限定されないが、機械的強度の観点から、例えば１２μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは２５μｍ以上である。前記支持体の機械的強度が大きければ、前記の通り不良が発生するおそれが少なく精度の高い位相差フィルム製造が可能になる。前記支持体の厚みの上限は特に限定されないが、例えば２００μｍである。
【００７３】
前記ポリマーおよび前記紫外線吸収剤を含む溶液において、溶媒は特に限定されないが、前記ポリマーおよび前記紫外線吸収剤の溶解度が比較的高く、かつ前記支持体を浸食しにくいことが好ましい。前記溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチルおよびカプロラクトン等のエステルや、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノン等のケトンや、メチルエーテル（ジメチルエーテル）、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジクロロエチルエーテル、フラン、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、およびトリプロピレングリコール等のエーテルや、塩化メチレン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素や、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミドおよびジメチルアセトアミド等のアミドを使用することができ、これらは単独で使用しても二種類以上併用しても良い。前記溶液の濃度も特に限定されないが、粘度および塗工容易性等の観点から、溶媒１００質量部に対し前記ポリマーを例えば５〜５０質量部、好ましくは１０〜４０質量部混合する。また、前記溶液塗布後の乾燥温度も特に限定されず、自然乾燥（風乾）でも良いが、製造効率等の観点から、例えば４０〜２００℃に加熱して乾燥させることが好ましい。
【００７４】
このようにして形成したポリマー層は、一般に、下記式（ＩＶ）を満たす光学特性、すなわち負の一軸性の光学的異方性を有する。
ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ                                                （ＩＶ）
ここで、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚの定義は前記式（Ｉ）と同様である。このようなポリマー層は、そのまま本発明の位相差フィルムとして使用することもできるが、必要に応じ、適切な光学特性等を付与するために伸長や収縮等の処理を施しても良い。この処理方法は特に限定されないが、延伸法が好ましく、例えば自由端一軸延伸法、固定端一軸延伸法、逐次二軸延伸法および同時二軸延伸法等があげられる。前記式（Ｉ）の光学特性条件を付与するためには通常は一軸延伸法で十分であるが、二軸延伸法を用いても良い。また、前記支持体が伸長性や収縮性を有していれば、前記支持体ごと延伸処理等を施すことができる。この場合、前記支持体の材料自体が本来有する収縮性等を利用しても良いし、前記の通り、あらかじめ前記支持体に伸長性や収縮性を付与しても良い。伸長率や収縮率等は、延伸機の条件設定等により適宜制御することがより好ましい。
【００７５】
以上のようにして本発明の位相差フィルムを製造することができるが、本発明の製造方法はこれには限定されない。また、このようにして製造した位相差フィルムは、前記支持体と一体のまま使用しても良いが、前記支持体と分離した後使用しても良い。前記支持体と前記位相差フィルムを分離する方法は特に限定されないが、例えば、以下のようにすれば良い。すなわち、別途ガラス、シリコンウェハまたはプラスチック等からなる基材を準備し、その上に粘着剤や接着剤等を塗布し、その塗布面と前記位相差フィルムとを密着させ、前記支持体を前記位相差フィルムから剥離する（この操作を「転写」と呼ぶことがある）。前記粘着剤や接着剤等の種類は特に限定されないが、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等があげられる。なお、本発明では「接着剤」と「粘着剤」とに明確な区別はないが、接着剤の中で被接着物同士の剥離や再接着が比較的容易であるものを「粘着剤」と呼ぶ。
【００７６】
次に、本発明の位相差板、光学素子および画像表示装置について説明する。
【００７７】
まず、本発明の位相差板は、基材上に本発明の位相差フィルムからなる光学補償層が積層された位相差板である。前記基材は特に限定されないが、位相差板の機能の観点から、光透過性に優れることが好ましい。また、光学的に等方であっても光学的異方性を有していても良いが、例えば、画像表示パネルの広視野角化のための精密な設計等の観点から、前記光学補償層と異なる光学的異方性を有することが好ましい。光学的異方性を付与する方法も特に限定されないが、例えば前記基材を延伸する等の方法があげられる。前記基材の材質も特に限定されず、例えばプラスチックフィルムでも良いし、ガラス板やシリコンウェハ等の無機材料であっても良いが、前記延伸による光学的異方性制御が可能である等の理由により、プラスチックフィルムが好ましい。前記基材の厚みも特に限定されないが、例えば２００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。２００μｍ以下であれば、液晶パネル等に実装したとき歪量が大きくなって外観不良を起こす等のおそれが少なく、また位相差板の薄型化の観点からも有利である。前記基材の厚みの下限は特に限定されないが、例えば１０μｍである。
【００７８】
本発明の位相差板の製造方法も特に限定されないが、例えば、前記の方法により本発明の位相差フィルムを製造した後、それを前記のように基材上に転写して製造することができる。また、転写を行なわず、前記位相差フィルムが前記支持体に積層されたまま本発明の位相差板とし、前記支持体を位相差板の基材としても良い。
【００７９】
次に、本発明の光学素子は、本発明の位相差フィルムまたは本発明の位相差板と、偏光子との積層体を含む光学素子である。それ以外の構成要素は特に限定されないが、前記偏光子の保護や前記光学素子の変形抑制のため、透明保護フィルムをさらに含み、前記透明保護フィルムを介して前記位相差フィルムまたは位相差板と前記偏光子とが積層されていることが好ましい。例えば、偏光子に透明保護フィルムが積層された偏光板にさらに本発明の位相差板を積層させて本発明の光学素子とすることができる。また、本発明の光学素子は、これら偏光子や透明保護フィルム以外の任意の構成要素を適宜含んでいても良い。以下、本発明の光学素子の各構成要素についてさらに具体的に説明する。
【００８０】
前記偏光子としては、特に限定されないが、延伸したポリマーフィルムが良好な光学特性が得やすいため好ましい。例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが良好な光学特性が得やすいため好ましい。また、前記偏光子の厚みは、例えば、１〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。
【００８１】
前記透明保護フィルムとしては、特に限定されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護フィルムの材質の具体例としては、トリアセチルセルロール（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等があげられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等もあげられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。その他、前記特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム等も好ましく使用できる。
【００８２】
また、前記透明保護フィルムは、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、下記式（Ｖ）で表される前記透明保護フィルムの厚み方向位相差値（Ｒ’）が、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。前記位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護フィルムに起因する着色（光学的な着色）を解消できる。
Ｒ’＝［（（ｎｘ’＋ｎｙ’）／２）−ｎｚ’］×ｄ’              （Ｖ）
ただし、式中、ｎｘ’、ｎｙ’およびｎｚ’は、それぞれ前記透明保護フィルムにおけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記透明保護フィルムの面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。そして、ｄ’は、前記透明保護フィルムの膜厚を示す。
【００８３】
また、前記透明保護フィルムは、それ自体が光学補償機能を有していても良いし、または、光学補償機能を有する層がその上に積層されたものでも良い。これらは特に限定されず、例えば、液晶セルにおける位相差に基づく視認角の変化が原因である、着色等の防止や、良視認の視野角の拡大等を目的とした公知のものが使用できる。具体的には、例えば、前述した透明フィルムを一軸延伸または二軸延伸した各種延伸フィルム、ポリマーのＺ軸配向処理（ポリマー溶液を塗布し乾燥させる等の処理により負の一軸性の光学的異方性を持たせること）により形成した光学的異方性層、液晶ポリマー等の配向フィルム、透明保護フィルム上に液晶ポリマー等の配向層を配置した積層体等があげられる。これらの中でも、良視認の広い視野角を達成できることから、前記液晶配向層との積層体が好ましく、特に、ディスコティック系やネマチック系の液晶ポリマーの傾斜配向層から構成される光学補償層を、前述のトリアセチルセルロースフィルム等で支持した積層体が好ましい。また、前記液晶配向層は、必要に応じ前記二色性物質を含んでいても良い。このような積層体としては、例えば、富士写真フィルム株式会社製「ＷＶフィルム（商品名）」等の市販品があげられる。なお、前記光学補償機能を有する透明保護フィルムは、前記位相差フィルムやトリアセチルセルロースフィルム等のフィルム支持体を２層以上積層させることによって、位相差等の光学特性を制御したもの等でもよい。
【００８４】
また、前記透明保護フィルムは、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護フィルムの表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行なうことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止等を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行なうことができる。
【００８５】
前記アンチグレア処理とは、外光が反射することによる透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護フィルムの表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行なうことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して前記透明保護フィルムを形成する方式等があげられる。
【００８６】
前記透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。前記透明微粒子の平均粒径は、特に限定されないが、例えば、０．５〜２０μｍの範囲である。また、前記透明微粒子の配合割合は、特に限定されないが、一般に、前述のような透明樹脂１００質量部あたり２〜７０質量部の範囲が好ましく、より好ましくは５〜５０質量部の範囲である。
【００８７】
前記透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、透明保護フィルムそのものとして使用することもでき、また、透明保護フィルム表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、前記アンチグレア層は、透過光を拡散して視野角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。
【００８８】
前記透明保護フィルムの厚みは、特に限定されず、例えば、位相差や保護強度等に応じて適宜決定できるが、通常、５００μｍ以下であり、好ましくは５〜３００μｍ、より好ましくは５〜１５０μｍの範囲である。
【００８９】
前記透明保護フィルムは、例えば、偏光子に前記各種透明樹脂を直接塗布する方法、前記偏光子に前記透明樹脂製フィルムを接着剤や粘着剤の層を介して積層する方法等の従来公知の方法によって適宜形成でき、また市販品を使用することもできる。ここで、粘着剤や接着剤の種類は特に限定されないが、例えば前記と同様である。
【００９０】
また、前記透明保護フィルムは、前記偏光子の片側にのみ設けられていても良いが、両側に設けられていても良く、その場合、各透明保護フィルムは互いに同じでも異なっていても良い。
【００９１】
なお、例えば、本発明の位相差板における前記基材が前記透明保護フィルムを兼ねていても良いし、前記基材が偏光子を兼ね、本発明の位相差フィルムが前記透明保護フィルムを兼ねていても良い。このような構成をとることにより、本発明の光学素子の薄型化を図ることも可能である。
【００９２】
さらに、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、前記透明保護フィルムとは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として積層してもよい。
【００９３】
また、前記偏光板は、さらにその他の光学層、例えば反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム等、液晶表示装置等の形成に使用される従来公知の各種光学層を含んでいても良い。これらの光学層は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよく、また、一層でもよいし、二層以上を積層してもよい。以下に、このような一体型偏光板について説明する。
【００９４】
まず、反射型偏光板または半透過反射型偏光板の一例について説明する。前記反射型偏光板は、前記偏光子および透明保護フィルムにさらに反射板が、前記半透過反射型偏光板は、前記偏光子および透明保護フィルムにさらに半透過反射板が、それぞれ積層されている。
【００９５】
前記反射型偏光板は、例えば、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等に使用できる。このような反射型偏光板は、例えば、バックライト等の光源の内蔵を省略できるため、液晶表示装置の薄型化を可能にする等の利点を有する。
【００９６】
前記反射型偏光板は、例えば、前記偏光板の片面に、金属等から構成される反射板を形成する方法等、従来公知の方法によって作製できる。具体的には、例えば、前記偏光板における透明保護フィルムの片面（露出面）を、必要に応じてマット処理し、前記面に、アルミニウム等の反射性金属からなる金属箔や蒸着膜を反射板として形成した反射型偏光板等があげられる。
【００９７】
また、前述のように各種透明樹脂に微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護フィルムの上に、その微細凹凸構造を反映させた反射板を形成した、反射型偏光板等もあげられる。その表面が微細凹凸構造である反射板は、例えば、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制できるという利点を有する。このような反射板は、例えば、前記透明保護フィルムの凹凸表面に、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、従来公知の方法により、直接、前記金属箔や金属蒸着膜として形成することができる。
【００９８】
また、前述のように偏光板の透明保護フィルムに前記反射板を直接形成する方式に代えて、反射板として、前記透明保護フィルムのような適当なフィルムに反射層を設けた反射シート等を使用してもよい。前記反射板における前記反射層は、通常、金属から構成されるため、例えば、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続や、透明保護フィルムの別途形成を回避する点等から、その使用形態は、前記反射層の反射面が前記フィルムや偏光板等で被覆された状態であることが好ましい。
【００９９】
一方、前記半透過型偏光板は、前記反射型偏光板において、反射板に代えて、半透過型の反射板を有するものである。前記半透過型反射板としては、例えば、反射層で光を反射し、かつ、光を透過するハーフミラー等があげられる。
【０１００】
前記半透過型偏光板は、例えば、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には視認側（表示側）からの入射光を反射して画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等に使用できる。すなわち、前記半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、一方、比較的暗い雰囲気下においても、前記内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。
【０１０１】
次に、前記偏光子および透明保護フィルムにさらに輝度向上フィルムが積層された偏光板の一例を説明する。
【０１０２】
前記輝度向上フィルムとしては、特に限定されず、例えば、誘電体の多層薄膜や、屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体のような、所定偏光軸の直線偏光を透過して、他の光は反射する特性を示すもの等が使用できる。このような輝度向上フィルムとしては、例えば、３Ｍ社製の商品名「Ｄ−ＢＥＦ」等があげられる。また、コレステリック液晶層、特にコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムや、その配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの等が使用でき、例えば、前記コレステリック液晶の選択反射といわゆるλ／４板との組み合わせを利用した輝度向上フィルムが好ましい。これらは、左右一方の円偏光を反射して、他の光は透過する特性を示すものであり、例えば、日東電工社製の商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」等があげられる。その他、前記輝度向上フィルムとしては、偏光方向による異方性散乱を利用した散乱フィルムや、いわゆるワイヤーグリッド型偏光子と呼ばれるものがあげられる。
【０１０３】
本発明の光学素子の製造方法は特に限定されず、従来公知の方法によって製造することができるが、例えば、各構成要素同士（位相差フィルム、偏光子、透明保護フィルム等）を粘着剤や接着剤等の層を介して積層させる方法によって製造できる。前記粘着剤や接着剤等の種類は特に限定されず、前記各構成要素の材質等によって適宜決定できるが、例えば、前記と同様に、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等があげられる。このような粘着剤や接着剤等は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。具体的には、前記偏光子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。また、前記接着剤や粘着剤は、感圧性であっても良い。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光子や透明保護フィルムの表面に塗布してもよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。なお、前記接着剤を塗布する場合は、例えば、前記接着剤水溶液に、さらに、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。このような接着層の厚みは、特に限定されないが、例えば、１ｎｍ〜５００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【０１０４】
また、場合によっては、接着剤や粘着剤を用いる代わりに、ある構成要素上に別の構成要素を塗工等により直接形成して積層させることができる。例えば、本発明の位相差フィルムを偏光子に積層させる場合、前記位相差フィルムと基材との積層体を準備し、転写により前記位相差フィルムのみを前記偏光子上に接着しても良いし、前記偏光子上に本発明の位相差フィルムを直接塗工して形成しても良い。また、本発明の位相差板を偏光子に積層させる場合、両者を前記接着剤や粘着剤で接着しても良いし、前記偏光子上に基材および本発明の位相差フィルムをこの順番で塗工して形成しても良い。
【０１０５】
以上のような本発明の光学素子を形成する偏光子、透明保護フィルム、光学層、粘着剤層等の各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で適宜処理することによって、紫外線吸収能を持たせたものでもよい。
【０１０６】
本発明の光学素子は、例えば、液晶表示装置等の製造過程において、液晶セル表面等に各構成要素を順次別個に積層する方式によっても製造できる。しかし、あらかじめ前記各構成要素を積層し、本発明の光学素子とした後に液晶表示装置等の製造に供する方が、例えば、品質の安定性や組立作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上できるという利点があるため好ましい。
【０１０７】
本発明の光学素子は、例えば、液晶セル等の他の部材への積層が容易になることから、その外側の片面または両面に、前記のような粘着剤層や接着剤層をさらに有していることが好ましい。前記粘着剤層等は、例えば、単層体でもよいし、積層体でもよい。前記積層体としては、例えば、異なる組成や異なる種類の単層を組合せた積層体を使用することもできる。また、前記光学素子の両面に配置する場合は、例えば、それぞれ同じ粘着剤層でもよいし、異なる組成や異なる種類の粘着剤層であってもよい。このように前記光学素子に設けた粘着剤層等の表面が露出する場合は、前記粘着層等を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的として、剥離ライナーによって前記表面をカバーすることが好ましい。この剥離ライナーは、適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成できる。前記フィルムの材質は特に限定されないが、例えば、前記透明保護フィルムと同様のものを使用することができる。
【０１０８】
本発明の光学素子の使用方法は特に限定されないが、例えば、液晶セル表面に配置する等、各種画像表示装置への使用に適している。
【０１０９】
次に、本発明の画像表示装置について説明する。本発明の画像表示装置は、本発明の位相差フィルム、本発明の位相差板または前記本発明の光学素子を含む画像表示装置である。これ以外には、本発明の画像表示装置は特に限定されず、その製造方法、構造、使用方法等は任意であり、従来公知の形態を適宜適用することができる。
【０１１０】
本発明の画像表示装置の種類は特に限定されないが、液晶セルを含み、前記液晶セルの少なくとも片側に、本発明の位相差フィルム、本発明の位相差板、または本発明の光学素子が積層されている液晶表示装置が好ましい。例えば、本発明の位相差フィルムや光学素子を液晶セルの片側または両側に配置して液晶パネルとし、反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。前記液晶表示装置を形成する前記液晶セルの種類は、任意で選択でき、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等、種々のタイプの液晶セルが使用できる。本発明の位相差フィルム、位相差板および光学素子は、特にＶＡ（垂直配向；Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｈｎｅｄ）セルの光学補償に非常に優れているので、ＶＡモードの液晶表示装置における視野角補償に非常に有用である。
【０１１１】
前記液晶セルは、通常、対向する液晶セル基板の間隙に液晶が注入された構造であって、前記液晶セル基板としては、特に限定されず、例えば、ガラス基板やプラスチック基板が使用できる。なお、前記プラスチック基板の材質としては、特に限定されず、従来公知の材料があげられる。
【０１１２】
また、本発明の本発明の位相差フィルム、位相差板、または光学素子は液晶セルの片面に設けても両面に設けても良く、液晶セルの両面に前記光学素子等の部材を設ける場合、それらは同じ種類のものでもよいし、異なっていてもよい。さらに、液晶表示装置の製造に際しては、例えば、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適当な部品を、適当な位置に１層または２層以上配置することができる。
【０１１３】
本発明の液晶表示装置における液晶パネルの構造は特に限定されないが、例えば、液晶セル、本発明の位相差フィルム、偏光子および透明保護フィルムを含み、前記液晶セルの一方の面に前記位相差フィルム、前記偏光子および前記透明保護フィルムがこの順序で積層されていることが好ましい。また、前記本発明の位相差フィルムにおいて複屈折層（光学的異方性層および位相差層）が透明基材上に形成されている場合、その配置は特に限定されないが、例えば、前記複屈折層側が前記液晶セルに面しており、前記透明基材側が前記偏光子に面している配置があげられる。
【０１１４】
本発明の液晶表示装置がさらに光源を含む場合、その光源は特に限定されないが、例えば、光のエネルギーが有効に使用できることから、例えば、偏光を出射する平面光源であることが好ましい。
【０１１５】
さらに、本発明の画像表示装置は、前述のような液晶表示装置には限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等の自発光型表示装置であっても良い。自発光型フラットディスプレイに使用する場合は、例えば、本発明の位相差フィルムの光学的異方性層の面内位相差値をλ／４にすることで、円偏光を得ることができるため、反射防止フィルターとして利用できる。
【０１１６】
以下に、本発明のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置について説明する。本発明のＥＬ表示装置は、本発明の位相差フィルムまたは光学素子を有する表示装置であり、このＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示装置および無機ＥＬ表示装置のいずれでもよい。
【０１１７】
近年、ＥＬ表示装置においても、黒状態における電極からの反射防止として、例えば、偏光子や偏光板等の光学フィルムをλ／４板とともに使用することが提案されている。本発明の位相差フィルムや光学素子は、特に、ＥＬ層から直線偏光、円偏光もしくは楕円偏光のいずれかの偏光が発光されている場合、または、正面方向に自然光を発光していても斜め方向の出射光が部分偏光している場合等に非常に有用である。
【０１１８】
まず、一般的な有機ＥＬ表示装置について説明する。前記有機ＥＬ表示装置は、一般に、透明基板上に、透明電極（陽極）、有機発光層および金属電極（陰極）がこの順序で積層された発光体（有機ＥＬ発光体）を含む。前記有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層とアントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層との積層体や、また、前記正孔注入層と発光層と電子注入層との積層体等、種々の組み合わせがあげられる。
【０１１９】
このような有機ＥＬ表示装置の発光原理は以下の通りである。すなわち、前記陽極と陰極とに電圧を印加することによって、前記有機発光層に正孔と電子とが注入され、前記正孔と電子とが再結合することによってエネルギーが生じる。そして、そのエネルギーによって蛍光物質が励起され、前記蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。前記正孔と電子との再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、電流と発光強度とは、印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１２０】
前記有機ＥＬ表示装置においては、前記有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要なため、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の透明導電体で形成された透明電極が陽極として使用される。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に、仕事関数の小さな物質を用いることが重要であり、通常、Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉ等の金属電極が使用される。
【０１２１】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、前記有機発光層は、例えば、厚み１０ｎｍ程度の極めて薄い膜で形成されることが好ましい。これは、前記有機発光層においても、透明電極と同様に、光をほぼ完全に透過させるためである。その結果、非発光時に、前記透明基板の表面から入射して、前記透明電極と有機発光層とを透過して前記金属電極で反射した光が、再び前記透明基板の表面側へ出る。このため、外部から視認した際に、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見えるのである。
【０１２２】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば、前記透明電極の表面に本発明の位相差フィルムまたは光学素子が配置されることが好ましい。この構成を有することにより、外界の反射を抑え、視認性向上が可能である等の効果を示す有機ＥＬ表示装置となる。例えば、前記位相差フィルムおよび偏光板を含む本発明の光学素子は、外部から入射して前記金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって前記金属電極の鏡面を外部から視認させない等の効果がある。特に、本発明の位相差フィルムが１／４波長板であり、かつ、前記偏光板と前記位相差フィルムとの偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、前記金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、前記偏光板によって直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は、前記位相差フィルムによって、一般に楕円偏光となるが、特に前記位相差フィルムが１／４波長板であり、しかも前記角がπ／４の場合には、円偏光となる。
【０１２３】
この円偏光は、例えば、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び、有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、前記位相差フィルムで再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、前記偏光板の偏光方向と直交しているため、前記偏光板を透過できず、その結果、前述のように、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができるのである。
【０１２４】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。しかし、本発明はこれに限定されない。
【０１２５】
（測定条件等）
光透過率は、高速分光光度計（村上色彩技術研究所製、商品名ＤＯＴ−３Ｃ）を用いて波長５５０ｎｍの光の透過率を測定した。耐光性試験は、スガ試験機株式会社の紫外線ロングライフフェードメーターを用い、照度５０ｍＷ／ｍ２の条件で行なった。厚み方向位相差Ｒｔｈおよび面内位相差Ｒｐは、自動複屈折計（王子計測機器社製、商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ）を用いて波長５９０ｎｍでの値を測定した。なお、ＲｔｈおよびＲｐの定義は前記式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の通りである。また、重量平均分子量Ｍｗおよび数平均分子量Ｍｎは、東ソー株式会社製ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ（商品名）を用いて測定した。測定対象ポリマーはＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶かして０．１質量％溶液に調製した後測定し、溶離液はＴＨＦを用いた。測定後、ポリスチレン標準換算により、ＭｗおよびＭｎを算出した。
【０１２６】
（実施例１）
以下のようにして位相差フィルムを製造した。すなわち、まず、ポリイミド粉末を準備した。このポリイミドは、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（６ＦＤＡ）と２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＰＦＭＢ）とを、米国特許第５３４４９１６号明細書に記載の方法により共重合させて合成した。前記ポリイミド粉末の分子量を測定したところ、重量平均分子量Ｍｗ＝６２５００、数平均分子量Ｍｎ＝２００００であった。次に、このポリイミド粉末にメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を少しずつ加えながら攪拌し、完全に溶解させた。そして、この溶液中に紫外線吸収剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商品名ＴＩＮＵＶＩＮ−３８４−２）を前記ポリイミド粉末に対し１質量％加え、メチルイソブチルケトンをさらに加えて、前記溶液中の溶質濃度が１５質量％となるように調整した。一方、厚さ８０μｍのＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを準備し、これを基材とした。この基材上に前記１５質量％溶液を塗布して１３０℃で５分間乾燥し、負の一軸性の光学的異方性を有する厚さ６μｍのポリイミド被膜を形成した。そして、この被膜を、基材ごと１５０℃で４％自由端一軸延伸し、前記基材上に積層された目的の位相差フィルムを得た。なお、「４％一軸延伸した」とは、延伸方向のフィルム長さが、延伸後において延伸前の１０４％となったことを意味する。
【０１２７】
（実施例２）
前記紫外線吸収剤の添加量をポリイミドに対し２質量％とする以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを製造した。
【０１２８】
（実施例３）
前記紫外線吸収剤の添加量をポリイミドに対し５質量％とする以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを製造した。
【０１２９】
（比較例１〜３）
前記紫外線吸収剤を添加しない以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを製造した（比較例１）。さらに、前記紫外線吸収剤の添加量をポリイミドに対し１０質量％（比較例２）および２０質量％（比較例３）とする以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを製造した。
【０１３０】
（位相差測定）
実施例１〜３および比較例１〜３の位相差フィルムについて厚み方向位相差Ｒｔｈおよび面内位相差Ｒｐを測定した。測定に先立ち、各位相差フィルムをガラス基板上に転写し、ガラス基板と位相差フィルムとを含む積層体を作製した。すなわち、まず、ガラス基板を準備し、その上に接着剤（日東電工株式会社製アクリル粘着剤）を塗布した。さらに、その塗布面と位相差フィルム表面とを密着させ、前記ＴＡＣフィルム製基材を前記位相差フィルムから剥離して目的の積層体を得た。そして、この積層体を用いて位相差測定を行なった。
【０１３１】
測定結果によると、実施例および比較例の位相差フィルムは、いずれも前記式（Ｉ）の光学特性条件（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）を満たし、二軸性の光学的異方性を有していた。さらに、いずれの位相差フィルムも、Ｒｔｈ＝１５０ｎｍ、Ｒｐ＝４０ｎｍという測定値を示し、十分に大きな位相差を有していることが分かった。
【０１３２】
（光透過率測定）
実施例１〜３および比較例１〜３の位相差フィルムについて光透過率を測定した。測定に先立ち、各位相差フィルムをＴＡＣ基材から剥離し、位相差フィルム単独での透過率を測定した。結果を表１にまとめて示す。
【０１３３】
（耐光性試験）
さらに、実施例１〜３および比較例１〜３の位相差フィルムについてそれぞれ耐光性試験を行なった。試験を行なうに先立ち、各位相差フィルムとＴＡＣ基材とをガラス基板に接着し、積層体を作製した。すなわち、まず、ガラス基板を準備し、その上に接着剤（日東電工株式会社製アクリル粘着剤）を塗布し、さらに、その塗布面と位相差フィルム表面とを密着させて目的の積層体を得た。このとき、前記位相差測定の場合とは異なり、ＴＡＣ基材は位相差フィルムから剥離しなかった。そして、この積層体のＴＡＣ基材側から光照射し、各位相差フィルムにクラックまたは着色が発生するまでの時間を測定することにより耐光性試験を行なった。クラックまたは着色の発生は、４８時間ごとに目視で観察することにより測定した。結果を表１にまとめて示す。
【０１３４】
【表１】
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【０１３５】
表１から分かる通り、実施例の位相差フィルムはいずれも８０％を超える光透過率を有しており、しかも高い耐光性を示し、実施例３では２４０時間以上、実施例１でも９６時間以上クラックや着色が発生しなかった。これに対し、比較例１の位相差フィルムは、光透過率は高いものの、耐光性試験では４８時間以内にクラックおよび着色が発生した。また、比較例２および３の位相差フィルムは、光透過率が８０％に達せず、また、耐光性試験では、クラックは発生しないものの着色が見られた。
【０１３６】
【発明の効果】
以上説明した通り、本発明によれば、紫外線に対する耐性が高く、しかも可視光の透過率に優れた位相差フィルムを提供することができる。本発明の位相差板および光学素子は、本発明の位相差フィルムを含むことにより、優れた光学特性を有する。さらに、本発明の画像表示素子は、本発明の位相差フィルムを含むことにより、画像表示性能に優れる。