(57)【要約】【課題】基板間でシール材などが露出しているパネルを歩留まりを低下させずに、かつ、効率よく洗浄可能な電気光学装置の製造方法、この方法で製造した電気光学装置並びに電子機器を提供すること。【解決手段】電気光学装置を製造する際、液晶の付着したパネルを洗浄装置５００の耐圧洗浄室２５０において、二酸化炭素を超臨界にした洗浄用流体で洗浄する。この際、洗浄用流体の温度を５０℃以下、好ましくは４０℃以下にして、パネル１′のシール材３０や封止材３２を保護する。【選択図】　　　図７
2004109820.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール材によって所定の間隔を介して貼り合わされた一対の基板間に電気光学物質が保持されているパネルを備えた電気光学装置の製造方法において、
耐圧洗浄室内で前記パネルを温度が５０℃以下の超臨界または亜臨界の二酸化炭素からなる洗浄用流体に接触させることにより、少なくとも前記パネルに付着していた電気光学物質を洗浄、除去することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記パネルを接触させる際の前記洗浄用流体温度を４０℃以下にしておくことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２において、前記洗浄用流体には、水、有機溶剤、および界面活性剤のうちの少なくとも一つを洗浄助剤として含ませておくことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記パネルを製造する際には、前記一対の基板の少なくとも一方に対して一部に途切れ部分を有するように前記シール材を塗布した後、当該シール材を介して前記一対の基板を貼り合わせ、次に前記シール材の途切れ部分から当該シール材で区画された領域内に電気光学物質を充填した後、前記途切れ部分を封止材で塞ぐことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記パネルの洗浄に用いた二酸化炭素を回収し、回収した二酸化炭素を再び、超臨界または亜臨界状態にして前記洗浄用流体として使用することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、前記洗浄用流体で前記パネルを洗浄するにあたって、供給されてくる二酸化炭素を冷却器で冷却するとともに昇圧器で昇圧し、次に昇圧した二酸化炭素を所定温度にまで加熱して前記耐圧洗浄室に供給する一方、該耐圧洗浄室から排出されてきた前記洗浄用流体については、減圧器で減圧した後、分離器に供給し、
前記冷却器で発生した熱については前記減圧器に供給することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、前記耐圧洗浄室から排出される前記洗浄用流体の圧力を減圧器によって徐々に低下させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかにおいて、前記電気光学物質は、液晶であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに規定する製造方法で製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項９に規定する電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関するものである。さらに詳しくは、電気光学装置に用いたパネルに対する洗浄技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ、ビデオカメラ等といった電子機器の表示部として、液晶装置などの電気光学装置が広く用いられている。この液晶装置を製造するにあたっては、例えば、ガラス基板などといった一対の大型基板の各々に半導体プロセスを利用して電極パターンなどを形成した後、当該一対の大型基板を貼り合せて空の大型パネル構造体とする。次に、この大型パネル構造体を短冊状のパネル構造体に切断して注入口を開口させ、この注入口から電気光学物質としての液晶を注入した後、注入口に封止材を塗布して封止する。次に、短冊状のパネル構造体を単品の液晶装置サイズに切断する。
【０００３】
このような工程のうち、液晶を注入する工程では液晶がパネルの外側に付着することがあり、このような液晶の付着は、外観不良、パネルの端子に対するフレキシブル基板の接続不良などの原因となる。
【０００４】
そこで、従来は、注入口に封止材を塗布して封止した後、短冊状あるいは単品サイズのパネルを洗浄液に浸漬して、液晶を洗浄、除去している（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−２５５５０２号公報（第７頁、図１）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のように、パネルの洗浄に洗浄液を使用すると、濯ぎや乾燥などの工程が必要であるため、処理効率が低いとともに、洗浄液や濯ぎ液を処理するのに多大なコストがかかるという問題点がある。
【０００７】
このような問題点を解消可能な技術として、特開２００１−２５５５０２号公報には、超臨界または亜臨界の二酸化炭素からなる洗浄用流体を用いてパネルを洗浄する技術が開示されている。
【０００８】
しかしながら、パネルでは、一対の基板間でシール材や封止材が露出した状態にあるため、洗浄の際、シール材や封止材に二酸化炭素が溶け込む。その結果、洗浄が終了してパネルを大気圧下に戻すと、シール材や封止材に溶け込んだ二酸化炭素が発泡し、パネルの歩留まりが低下するという問題点がある。
【０００９】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、基板間でシール材などが露出しているパネルを歩留まりを低下させずに、かつ、効率よく洗浄可能な電気光学装置の製造方法、この方法で製造した電気光学装置並びに電子機器を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明では、シール材によって所定の間隔を介して貼り合わされた一対の基板間に電気光学物質が保持されているパネルを備えた電気光学装置の製造方法において、耐圧洗浄室内で前記パネルを温度が５０℃以下の超臨界または亜臨界の二酸化炭素からなる洗浄用流体に接触させることにより、少なくとも前記パネルに付着していた電気光学物質を洗浄、除去することを特徴とする。
【００１１】
本発明において、前記パネルを接触させる際の前記洗浄用流体温度を４０℃以下にしておくことが好ましい。
【００１２】
本発明において、パネルは、耐圧洗浄室において洗浄用流体によって洗浄される結果、パネルに付着していた液晶は、洗浄用流体によって洗浄、除去される。ここで、パネルは、５０℃以下、好ましくは４０℃以下という低い温度条件で洗浄されるため、シール材に二酸化炭素が大量に溶け込むことがない。それ故、超臨界流体でパネルを洗浄しても、パネルの歩留まりが低下することはない。
【００１３】
本発明において、前記洗浄用流体には、水、有機溶剤、および界面活性剤のうちの少なくとも一つを洗浄助剤として含ませておくことが好ましい。超臨界または亜臨界の二酸化炭素からなる洗浄用流体は、基本的には液晶などの電気光学物質については洗浄、除去できるが、パネルに付着したナトリウム塩などを洗浄、除去することができない。しかるに、洗浄用流体に対して水、有機溶剤、および界面活性剤のうちの少なくとも一つを洗浄助剤として含ませておけば、パネルを洗浄した際、液晶などの電気光学物質を洗浄、除去するとともに、ナトリウム塩などの無機物質なども洗浄、除去できる。
【００１４】
本発明において、前記パネルを製造する際には、前記一対の基板の少なくとも一方に対して、一部に途切れ部分を有するように前記シール材を塗布した後、当該シール材を介して前記一対の基板を貼り合わせ、次に前記シール材の途切れ部分から当該シール材で区画された領域内に電気光学物質を充填した後、前記途切れ部分を封止材で塞ぐ。このように構成すると、パネルの側面で封止材が露出した状態となるが、パネルは５０℃以下、好ましくは４０℃以下という低い温度条件で洗浄されるため、封止材に二酸化炭素が大量に溶け込むことがない。それ故、超臨界流体でパネルを洗浄しても、パネルの歩留まりが低下することはない。
【００１５】
本発明において、前記パネルの洗浄に用いた二酸化炭素を回収し、回収した二酸化炭素を再び、超臨界または亜臨界状態にして前記洗浄用流体として使用することが好ましい。このように構成すると、大気中への二酸化炭素の放出量を大幅に削減できる。
【００１６】
本発明において、前記洗浄用流体で前記パネルを洗浄するにあたって、供給されてくる二酸化炭素を冷却器で冷却するとともに昇圧器で昇圧し、次に昇圧した二酸化炭素を所定温度にまで加熱して前記耐圧洗浄室に供給する一方、該耐圧洗浄室から排出されてきた前記洗浄用流体については、減圧器で減圧した後、分離器に供給する。この際、前記冷却器で発生した熱については前記減圧器に供給することが好ましい。このように構成すると、洗浄装置での電力使用量などを削減できる。
【００１７】
本発明において、前記減圧器は、前記耐圧洗浄室から排出される前記洗浄用流体の圧力を徐々に低下させることが好ましい。このように構成すると、パネルを大気圧下に戻す際には、洗浄用流体の圧力が徐々に低下するので、シール材や封止材に溶け込んだ二酸化炭素が急激に減圧されることがないので、発泡しない。それ故、超臨界流体でパネルを洗浄しても、パネルの歩留まりが低下することはない。
【００１８】
本発明において、前記電気光学物質は、例えば、液晶である。
【００１９】
本発明に係る方法で製造した電気光学装置は、携帯電話機、モバイルコンピュータなどといった電子機器に用いられる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下に実施形態を説明するにあたっては、各種の電気光学装置のうち、パッシブマトリクス方式の液晶装置の製造工程に本発明を適用した例に説明する。
【００２１】
（電気光学装置の構成）
図１および図２はそれぞれ、本発明を適用した電気光学装置としての液晶装置の斜視図、および分解斜視図である。図３（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明を適用した液晶装置を図１のＩ−Ｉ′線で切断したときのＩ′側の端部の断面図、および封止材を通る部分で切断したときの断面図である。なお、図１および図２には、電極パターンおよび端子などを模式的に示してあるだけであり、実際の液晶装置では、より多数の電極パターンや端子が形成されている。
【００２２】
図１および図２において、本形態の電気光学装置１は、携帯電話などの電子機器に搭載されているパッシブマトリクスタイプの液晶表示装置である。この電気光学装置１に用いたパネル１′において、所定の間隙を介してエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂からなるシール材３０によって貼り合わされた矩形の無アルカリガラス、耐熱ガラス、石英ガラスなどのガラス基板からなる一対の基板１０、２０間には、シール材３０によって液晶封入領域３５が区画されているとともに、この液晶封入領域３５内に電気光学物質としての液晶３６が封入されている。
【００２３】
ここで、シール材３０は、基板間に液晶３６を注入するための注入口３１として一部が途切れているが、この注入口３１は、基板間に液晶３６を注入した後、塗布、光硬化されたアクリル樹脂などからなる封止材３２で塞がれている。
【００２４】
従って、図３（Ａ）、（Ｂ）から分かるように、パネル１′において、第１の器基板１０と第２の基板２０との間ではシール材３０が露出し、かつ、パネル１′の側面では封止材３２が露出した状態にある。
【００２５】
ここに示す電気光学装置１は透過型の例であり、図１および図２に示すように、第２の基板２０の外側表面に偏光板６１が貼られ、第１の基板１０の外側表面にも偏光板６２が貼られている。また、第２の基板２０の外側にはバックライト装置９が配置されている。
【００２６】
第１の基板１０には、図３（Ａ）に示すように、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０との交点に相当する領域に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが形成され、これらのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの表面側に絶縁性の平坦化膜１３、第１の電極パターン４０および配向膜１２がこの順に形成されている。また、各カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの境界部分には、各カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの下層側に遮光膜１６が形成されている。これに対して、第２の基板２０には、第２の電極パターン５０、オーバーコート膜２９、および配向膜２２がこの順に形成されている。
【００２７】
本形態の電気光学装置１において、第１の電極パターン４０および第２の電極パターン５０はいずれも、ＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）に代表される透明導電膜によって形成されている。なお、第２の電極パターン５０の下に絶縁膜を介してパターニングされたアルミニウム等の膜を薄く形成すれば、半透過・半反射型の液晶装置を構成できる。さらに、偏向板６１に半透過反射板をラミネートすることでも半透過・半反射型の電気光学装置１を構成できる。さらにまた、第２の電極パターン５０の下に反射性の膜を配置すれば、反射型の液晶装置を構成でき、この場合には、第２の基板２０の裏面側からバックライト装置９を省略すればよい。
【００２８】
（電極パターンおよび端子の構成）
再び図１および図２において、本形態の電気光学装置１では、外部からの信号入力および基板間の導通のいずれを行うにも、第１の基板１０および第２の基板２０の同一方向に位置する各基板辺１０１、２０１付近に形成されている第１の端子形成領域１１および第２の端子形成領域２１が用いられる。従って、第２の基板２０としては、第１の基板１０よりも大きな基板が用いられ、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせたときに第１の基板１０の基板辺１０１から第２の基板２０が張り出す部分２５を利用して、駆動用ＩＣ７００をＣＯＦ実装したフレキシブル基板９０の接続などが行われる。
【００２９】
第１の基板１０において、第１の端子形成領域１１は第１の基板１０の基板辺１０１の中央部分に沿って形成され、この第１の端子形成領域１１では、基板辺１０１に沿って複数の第１の基板間導通用端子６０が所定の間隔をもって並んでいる。また、第１の基板１０では、第１の基板間導通用端子６０から対向する基板辺１０２に向かって複数列の液晶駆動用の第１の電極パターン４０が両側に斜めに延びた後、液晶封入領域３５内で基板辺１０１、１０２に直交する方向に延びている。
【００３０】
第２の基板２０において、第２の端子形成領域２１も基板辺２０１に沿って形成され、第２の端子形成領域２１には、その中央領域で基板辺２０１に沿って所定の間隔をもって並ぶ複数の第１の外部入力用端子８１、およびこれらの第１の外部入力用端子８１が形成されている領域の両側２箇所で基板辺２０１に沿って所定の間隔をもって並ぶ複数の第２の外部入力用端子８２が形成されている。ここで、第１の外部入力用端子８１からは、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせたときに第１の基板間導通用端子６０と重なる複数の第２の基板間導通用端子７０が基板辺２０２に向かって直線的に延びている。これに対して、第２の外部入力用端子８２からは、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせたときに第１の電極パターン４０の形成領域の両側に相当する領域を回り込むように複数列の液晶駆動用の第２の電極パターン５０が形成され、これらの第２の電極パターン５０は、液晶封入領域３５内において第１の電極パターン４０と交差するように延びている。
【００３１】
従って、第１の基板１０と第２の基板２０とをシール材３０を介して貼り合わせる際に、シール材３０にギャップ材および導通材を配合しておくとともに、シール材３０を第１の基板間導通用端子６０および第２の基板間導通用端子７０が重なる領域にも形成しておくと、導電材は、第１の基板１０と第２の基板２０との間で押し潰された状態で第１の基板間導通用端子６０と第２の基板間導通用端子７０とを導通させる。また、この状態で、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０との交差部分によって画素がマトリクス状に形成されるため、第２の基板２０の第２の端子形成領域２１の基板辺２０１側の端部に対してフレキシブル基板９０を異方性導電材などを用いて実装した後、このフレキシブル基板９０を介して第２の基板２０の第１の外部入力用端子８１および第２の外部入力用端子８２に信号入力すると、第２の基板２０に形成されている第２の電極パターン５０には第２の外部入力用端子８２を介して走査信号を直接、印加することができ、かつ、第１の基板１０に形成されている第１の電極パターン４０には、第１の外部入力用端子８１、第２の基板間導通用端子７０、導通材および第１の基板間導通用端子６０を介して画像データを信号入力することができる。よって、これらの画像データおよび走査信号によって、各画素５において第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０との間に位置する液晶の配向状態を制御することができるので、所定の画像を表示することができる。
【００３２】
（電気光学装置１の製造方法）
図４、および図５（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれ、電気光学装置１の製造方法を示す工程図、およびこれらの各工程への仕掛途中品の様子を示す説明図である。
【００３３】
図４、および図５（Ａ）、（Ｂ）において、本形態の電気光学装置１を製造するにあたって、第１の基板１０および第２の基板２０はいずれも、これらの基板１０、２０を各々、多数枚取りできる大型基板１００、２００の状態で、半導体プロセスを利用して電極パターン４０、５０などの形成工程が行われる。すなわち、第１の基板１０を多数枚取りできる大型基板１００の状態で、遮光膜１６の形成工程ＳＴ１１、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの形成工程ＳＴ２、平坦化膜１３の形成工程ＳＴ１３、電極パターン４０の形成工程ＳＴ１４、配向膜１２の形成・ラビング工程、シール材３０の塗布工程が行われる。
【００３４】
また、第２の基板２０を多数枚取りできる大型基板２００の状態で、電極パターン５０の形成工程ＳＴ２１、オーバコート膜２９の形成工程ＳＴ２２、配向膜２２の形成・ラビング工程ＳＴ２３、ギャップ材の散布工程ＳＴ２４が行われる。
【００３５】
そして、貼合せ工程ＳＴ３１において、図５（Ｃ）に示すように、大型基板１００、２００同士をシール材３０によって貼り合せて、大型のパネル構造体３００を形成した後、１次ブレイク工程ＳＴ３２において、大型のパネル構造体３００を、図５（Ｄ）に示す短冊状のパネル構造体４００に切断して注入口３１を開口させる。
【００３６】
次に、液晶封入・封止工程ＳＴ３３において、短冊状のパネル構造体４００の内部に液晶３６を注入した後、注入口３１を封止材３２で封止し、次に、１次ブレイク工程ＳＴ３４において、短冊状のパネル構造体４００を、図１に示すように、単品のパネル１′に切断し、しかる後、実装工程ＳＴ３５で、単品のパネル１′に対してフレキシブル基板９０を実装する。
【００３７】
（洗浄方法および洗浄装置）
このような製造方法において、パネル１′に液晶などの異物が付着していると、電気光学装置１の品質や信頼性が低下してしまう。そこで、電気光学装置１の製造工程では、例えば、図４および図５に示す液晶封入・封止工程ＳＴ３３の後の短冊状のパネル構造体４００の状態で、あるいは、２次ブレイク工程ＳＴ３４の後の単品のパネル１′の状態で洗浄工程が行われる。
【００３８】
ここで、パネル構造体４００の状態、あるいは、単品のパネル１′の状態のいずれの状態で洗浄した場合も、洗浄条件などは同一であるため、以下の説明では、単品のパネル１′を洗浄する例を図６および図７を参照して説明する。
【００３９】
図６は、二酸化炭素の相平衡図であり、図７は、本形態で使用する洗浄装置の構成を模式的に示す説明図である。
【００４０】
図６において、二酸化炭素は、臨界温度が３１．１℃、臨界圧力が７．４ＭＰａであり、それを越えた斜線領域で示す条件下では、超臨界流体となる。また、圧力−温度状態図において臨界点付近では、亜臨界流体となる。
【００４１】
本形態では、二酸化炭素を所定の温度および圧力にして超臨界または亜臨界の二酸化炭素からなる洗浄用流体を準備し、それをパネル１′に接触させてパネル１′に付着していた液晶などの異物を洗浄、除去する。但し、図３（Ａ）、（Ｂ）を参照して説明したように、パネル１′では、一対の基板１０、２０間でシール材３０や封止材３２が露出した状態にあるため、洗浄の際、シール材３０や封止材３２に二酸化炭素が溶け込むとともに、洗浄が終了してパネル１′を大気圧下に戻すと、シール材３０や封止材３２に溶け込んだ二酸化炭素が発泡し、パネル１′の歩留まりが低下する。
【００４２】
そこで、本形態では、パネル１′を洗浄用流体に接触させる際の温度を５０℃以下、好ましくは、４０℃以下に設定する。また、洗浄後、パネル１′を大気圧下に戻す際には、洗浄用流体の圧力を徐々に低下させる。
【００４３】
このような方法で洗浄を行うために、本形態では、図７に示すように、洗浄装置５００には、二酸化炭素が充填されたボンベ５１０と、このボンベ５１０から供給されてくる二酸化炭素を２、３℃にまで冷却するための冷却器５２０と、冷却された二酸化炭素を加圧する加圧器５３０と、加圧された二酸化炭素を５０℃以下、好ましくは４０℃以下にまで加熱して二酸化炭素を超臨界流体とする加熱器５４０と、この加熱器５４０による加熱によって超臨界流体とされた二酸化炭素が、５０℃以下、好ましくは４０℃以下の温度で、１５ＭＰａ〜２０ＭＰａの圧力の洗浄用流体として供給されてくる耐圧洗浄室５５０とが設けられており、この耐圧洗浄室５５０においては、ヒータ（図示せず）によって洗浄用流体が５０℃以下、好ましくは４０℃以下に保持されるようになっている。
【００４４】
また、本形態の洗浄装置５００では、耐圧洗浄室５５０からの排出管に減圧器５６０が接続されており、耐圧洗浄室５５０から排出される洗浄用流体は、この減圧器５６０で徐々に減圧された後、分離器５７０供給される。この分離器５７０において、洗浄用流体が大気圧にまで戻される際、洗浄用流体からは液晶が分離され、分離された液晶は、異物として回収される。これに対して、洗浄流体として用いられた二酸化炭素は、大気中に放出してもよいが、本形態では、所定の容器（図示せず）に回収し、回収した二酸化炭素を洗浄流体として再利用している。
【００４５】
また、本形態の洗浄装置５００においては、冷却器５２０で二酸化炭素を冷却する際に熱が発生する一方、減圧器５６０では、吸熱が起こり、氷結が起こるおそれがあるので減圧器５６０を加熱する必要がある。そこで、本形態では、図７に点線の矢印Ｈで示すように、冷却器５２０で発生した熱を熱媒（図示せず）によって減圧器５６０に供給し、エネルギーの再利用を図っている。
【００４６】
このように構成した洗浄装置５００において、パネル１′は、耐圧洗浄室５５０での洗浄用流体への浸漬、あるいはノズルからの洗浄用流体の噴出によって、洗浄用流体に接触、洗浄される結果、パネル１′に付着していた液晶は、洗浄用流体によって効率よく洗浄、除去される。
【００４７】
ここで、超臨界流体は、液体に近い密度であるため、物質をよく溶かすことができるとともに、気体に近い性質も有しているため、狭い隙間まで洗浄可能であるとともに、乾燥工程が不要である。
【００４８】
しかも、温度や圧力で密度を制御できるので、溶解する対象を選択することもできる。このような特性を利用して、本形態では、パネル１′は、５０℃以下、好ましくは４０℃以下という低い温度条件で洗浄される。このため、シール材３０や封止材３２に二酸化炭素が大量に溶け込むことがない。また、パネル１′を大気圧下に戻す際には、減圧器５６０によって洗浄用流体の圧力が徐々に低下する。従って、シール材３０や封止材３２に溶け込んだ二酸化炭素が急激に減圧されることがないので、発泡しない。それ故、超臨界流体でパネル１′を洗浄しても、パネル１′の歩留まりが低下することはない。
【００４９】
しかも、本形態では、洗浄用流体として二酸化炭素を使用しており、臨界温度が低いので、熱的に不安定な物質の洗浄に適している。また、大気圧で気体になるので、異物との分離が容易である。さらに、二酸化炭素は、毒性および引火性がないので、安全であり、かつ、低コストである。
【００５０】
また本形態では、冷却器５２０で発生した熱を減圧器５６０に供給しているので、消費電力の削減を図ることができる。
【００５１】
さらに本形態では、洗浄に使用した二酸化炭素を回収し、回収した二酸化炭素を洗浄流体として再利用しているため、大気中への二酸化炭素の放出量を大幅に削減できる。
【００５２】
［その他の実施の形態］
なお、超臨界の二酸化炭素からなる洗浄用流体は、基本的には液晶などの電気光学物質については洗浄、除去できるが、ナトリウム塩などを洗浄、除去することができない。そこで、図８に示すように、洗浄装置５００において、耐圧洗浄室２５０に供給される二酸化炭素に対して、助剤供給部５８０から水、有機溶剤、および界面活性剤のうちの少なくとも一つを洗浄助剤として添加すれば、パネル１′を洗浄した際、液晶などの電気光学物質を洗浄、除去するができるとともに、パネル１′に付着したナトリウム塩などを洗浄、除去することができる。
【００５３】
また、上記形態では、超臨界の二酸化炭素を洗浄用流体として用いたが、図６に示す圧力−温度状態図において、二酸化炭素を臨界点付近に条件設定した亜臨界流体を洗浄用流体として用いてもよい。
【００５４】
さらに上記の実施形態では、パッシブマトリクス型の電気光学装置１の製造に本発明を適用した例を説明したが、能動素子としてＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置、あるいは能動素子として薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置等々、各種の電気光学装置の製造に本発明を適用してもよい。
【００５５】
［電子機器の実施形態］
図９は、本発明に係る電気光学装置（電気光学装置１）を各種の電子機器の表示装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源７０、表示情報処理回路７１、電源回路７２、タイミングジェネレータ７３、そして液晶装置７４を有する。また、液晶装置７４は、液晶表示パネル７５および駆動回路７６を有する。液晶装置７４および液晶パネル７５としては、前述した電気光学装置１、および単品のパネル１′を用いることができる。
【００５６】
表示情報出力源７０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ７３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路７１に供給する。
【００５７】
表示情報処理回路７１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７６へ供給する。電源回路７２は、各構成要素に所定の電圧を供給する。
【００５８】
図１０（Ａ）は、本発明に係る電子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ８０は、キーボード８６を備えた本体部８７と、液晶表示ユニット８８とを有する。液晶表示ユニット８８は、前述した電気光学装置１を含んで構成される。
【００５９】
図１０（Ｂ）は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機９０は、複数の操作ボタン９１と電気光学装置１を有している。
【００６０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明において、パネルは、耐圧洗浄室において洗浄用流体によって洗浄される結果、パネルに付着していた液晶は、洗浄用流体によって洗浄、除去される。ここで、パネルは、５０℃以下、好ましくは４０℃以下という低い温度条件で洗浄されるため、シール材に二酸化炭素が大量に溶け込むことがない。それ故、超臨界流体でパネルを洗浄しても、パネルの歩留まりが低下することはない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される液晶装置の斜視図である。
【図２】図１に示す液晶装置の分解斜視図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１に示す液晶装置を図１のＩ−Ｉ′線で切断したときのＩ′側の端部の断面図、および封止材の塗布位置を通る位置で切断したときの断面図である。
【図４】図１に示す液晶装置の製造方法を示す工程図である。
【図５】（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれ、図１に示す電気光学装置の製造工程での仕掛途中品の様子を示す説明図である。
【図６】二酸化炭素の相平衡図である。
【図７】本発明を適用した洗浄装置の構成図である。
【図８】本発明を適用した別の洗浄装置の構成図である。
【図９】本発明に係る液晶装置を用いた各種電子機器の構成を示すブロック図である。
【図１０】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一実施形態としてのモバイル型のパーソナルコンピュータを示す説明図、および携帯電話機の説明図である。
【符号の説明】
１　電気光学装置
１′　単品のパネル
１０　第１の基板
２０　第２の基板
３０　シール材
３１　注入口
３２　封止材
３５　液晶封入領域
３６　液晶（電気光学物質）
４０　第１の電極パターン
５０　第２の電極パターン
１００、２００　大型基板
４００　パネル構造体（パネル）
５００　洗浄装置
５１０　ボンベ
５２０　冷却器
５３０　加圧器
５４０　加熱器
５５０　耐圧洗浄室
５６０　減圧器
５７０　分離器
５８０　助剤供給部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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