(57)【要約】【課題】高分子光導波路を形成するために必須の技術である一定の複屈折を有すると共に任意の屈折率を有するベンゾオキサゾール共重合体の製造法及びこれを用いた光部品を提供すること。【解決手段】下記構造式（化１）：【化１】2004182912.tif 000016で表される繰り返し単位と、下記構造式（化２）：【化２】2004182912.tif 000017で表される繰り返し単位の少なくとも一方を含むベンゾオキサゾール共重合体の製造法及びこれを用いた光部品。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記構造式（化１）：
【化１】
2004182912.tif 000011
で表される繰り返し単位と、下記構造式（化２）：
【化２】
2004182912.tif 000012
で表される繰り返し単位のどちらか一方、又は、それら両方を含むベンゾオキサゾール共重合体の製造法であって、
下記構造式（化３）：
【化３】
2004182912.tif 000013
で表されるビスアミノフェノール誘導体と、下記構造式（化４）：
【化４】
2004182912.tif 000014
及び下記構造式（化５）：
【化５】
2004182912.tif 000015
で表されるジカルボン酸誘導体を反応させて、ヒドロキシアミド共重合体を得、更にこれを脱水閉環させることを特徴とする上記ベンゾオキサゾール共重合体の製造法。
【請求項２】
式（化３）のモル比が０．５、式（化４）と式（化５）のモル比の和が０．４〜０．７になるように反応させることを特徴とする請求項１に記載のベンゾオキサゾール共重合体の製造法。
【請求項３】
請求項１又は２記載のベンゾオキサゾール共重合体を使用した光部品。
【請求項４】
光導波路又は光学フィルターである請求項３記載の光部品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ベンゾオキサゾール共重合体の製造法、及び該ベンゾオキサゾール共重合体を使用した光部品に関し、特に、高分子光導波路を形成するために必須の技術である一定の複屈折を有すると共に任意の屈折率を有するベンゾオキサゾール共重合体の製造法及びこれを用いた光部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報通信量の増大に伴って光通信技術の発展が期待されている。光通信技術のひとつである光導波路は、レーザーダイオードやフォトダイオードを始めとする光デバイスどうし、あるいはそれらと光ファイバーを接続するために用いられる。この光導波路を作製するため石英ガラスを始めとする無機材料、有機高分子材料など種々の材料が検討されている。一般に、光導波路には、光損失が小さい、耐熱性に優れている、コアとクラッドの屈折率差を制御できる、等の条件が要求されるが、例えば有機高分子材料では、含フッ素化ポリイミドが知られている。その構造および製造法等については、特許文献１〜３等に記載されている。しかしながら、シリコンウエハとの接着性が悪い、ドライエッチング後にクラックが入り易い、など含フッ素ポリイミドにも問題がある。
【０００３】
一方、ポリベンゾオキサゾールは、引っ張り強度、曲げ強度などの機械的強度が大きい、高い耐熱性を有する、等の優れた特徴をもつ高性能エンジニアリングプラスチックである。ポリベンゾオキサゾールの研究は古くからなされており、その基本骨格および製造法については、特許文献４などによって知られている。最近ではポリベンゾオキサゾールが半導体の多層配線用層間絶縁膜として有用であることが特許文献５に記述されている。さらに光学的な用途としては特許文献６に、ポリベンゾオキサゾールに可視光領域での透明性を付与させる方法が述べられている。
【０００４】
【特許文献１】
特許第２６５７７００号公報
【特許文献２】
特許第２８１３７１３号公報
【特許文献３】
特許第３１３１９４０号公報
【特許文献４】
特公昭４２−１９７２１号公報
【特許文献５】
特開平１１−１８１０９４号公報
【特許文献６】特開平１１−３２２９２９号公報
しかしながら、光導波路用途でポリベンゾオキサゾールに光通信で使われる近赤外波長（１３００ｎｍや１５５０ｎｍ）での透明性を付与し、かつその屈折率および複屈折率を精密に制御した例はない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、光通信に使用される光に対して透明性を有するポリベンゾオキサゾールの屈折率および複屈折を制御する技術を提供することにある。
本発明の目的は、高分子光導波路を形成するために必須の技術である一定の複屈折を有すると共に任意の屈折率を有するベンゾオキサゾール共重合体の製造法を提供することである。
本発明のさらに他の目的は、上記ベンゾオキサゾール共重合体を使用した光部品を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記構造式（化１）：
【０００７】
【化６】
2004182912.tif 000002
で表される繰り返し単位と、下記構造式（化２）：
【０００８】
【化７】
2004182912.tif 000003
で表される繰り返し単位のどちらか一方、又は、それら両方を含む光学用ベンゾオキサゾール共重合体の製造法であって、
下記構造式（化３）：
【０００９】
【化８】
2004182912.tif 000004
で表されるビスアミノフェノール誘導体と、下記構造式（化４）：
【００１０】
【化９】
2004182912.tif 000005
及び下記構造式（化５）：
【００１１】
【化１０】
2004182912.tif 000006
で表されるジカルボン酸誘導体を反応させて、ヒドロキシアミド共重合体を得、更にこれを脱水閉環させることを特徴とする上記ベンゾオキサゾール共重合体の製造法を提供するものである。
本発明はさらに、上記ベンゾオキサゾール共重合体を使用した光部品、特に光導波路又は光学フィルターを提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、ポリベンゾオキサゾールの分子構造とその屈折率、及び複屈折について種々検討し、原料としてのビスアミノフェノール誘導体に構造式（化３）で表される２，２−ビス（３−アミノ―４−ヒドロキシフェニル）  ヘキサフルオロプロパン、若しくはその反応性誘導体、また原料としての芳香族ジカルボン酸に構造式（化４）で表される４，４’−ジカルボン酸ジクロリドジフェニルエーテル、及び構造式（化５）で表される２，２−ビス（４−カルボン酸クロリド）ヘキサフルオロプロパンから製造されるベンゾオキサゾール共重合体がその共重合比を変えることにより、一定の複屈折を有しながらその屈折率（ｎＴＥ及びｎＴＭ）を特定の範囲で任意に制御できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、一定の複屈折を有し、かつその屈折率（ｎＴＥ及びｎＴＭ）の精密な制御性を有するベンゾオキサゾール共重合体の製造法を提供するものである。
【００１３】
本発明者らは、種々の既存ポリベンゾオキサゾール、及びそれらの共重合体についてその光透過性、屈折率、複屈折を評価した結果、特定の化学構造を有する２種類のポリベンゾオキサゾールとその共重合体が近赤外波長領域での優れた光透過性と共に一定の複屈折と特定の範囲での屈折率（ｎＴＥ及びｎＴＭ）の精密な制御性を有していることを見出した。
【００１４】
ポリアミドアルコール共重合体を製造する場合、ビスアミノフェノール誘導体のモル比を０．５とすると、２種類のジカルボン酸誘導体のモル比を合わせた値は、０．４〜０．７であることが好ましく、０．４５〜０．６であることがより好ましく、０．４５〜０．５５であることが特に好ましい。上記の範囲外では、分子量が十分に伸びない傾向がある。ここで２種類のジカルボン酸誘導体のモル比、すなわち、式（化４）と式（化５）のモル比を変えることにより、最終的に得られるベンゾオキサゾール共重合体の屈折率を精密に制御することが可能である。
これらの原料からポリアミドアルコール共重合体への反応条件は通常のポリアミドアルコールの重合条件と同じでよく、一般的にはＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等の極性有機溶媒中で−２０〜５０℃の範囲で反応させる。重合体の数平均分子量としては、５千〜３０万が好ましく、１万〜２５万がより好ましく、２万〜２０万が特に好ましい。５千未満では、最終的に得られるポリベンゾオキサゾールの機械特性が劣る傾向がある。また３０万を越えると、重合体の溶解性が劣る傾向がある。構造式（化１）と構造式（化２）のどちらか一方、又は、それら両方を含む繰り返し数ｎとしては、２〜５００の整数であることが好ましい。
【００１５】
構造式（化１）と構造式（化２）の少なくとも一方は必須成分であるが、さらに光学特性や機械特性を低下させない程度にこれら以外の繰り返し単位を介在させることができる。本発明のベンゾオキサゾール共重合体中の構造式（化１）と構造式（化２）により表される成分の含有量は、好ましくは１０質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上、最も好ましくは３０質量％以上である。
【００１６】
構造式（化１）と構造式（化２）以外の繰り返し単位を構成するビス（アミノフェノール）誘導体としては、特に制限はなく、例えば２，４−ジアミノ−１，５−ジヒドロキシベンゼン、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、２，２’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’−ジアミノ−２，２’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ジフルオロメタン、ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）ジフルオロメタン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ジフルオロメタン、ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ジフルオロメタン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−２−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、及び上記化合物中の芳香環の水素原子が部分的あるいは全てフッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチル基で置換された化合物が挙げられ、それぞれ単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００１７】
構造式（化１）と構造式（化２）以外の繰り返し単位を構成するジカルボン酸誘導体としては、特に制限はなく、例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、４，４’−ジカルボキシビフェニル、２，２’−ジカルボキシビフェニル、２，３’−ジカルボキシビフェニル、３，３’−ジカルボキシビフェニル、３，４’−ジカルボキシビフェニル、４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、２，２’−ジカルボキシジフェニルエーテル、２，３’−ジカルボキシジフェニルエーテル、３，３’−ジカルボキシジフェニルエーテル、３，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、４，４’−ジカルボキシジフェニルケトン、２，２’−ジカルボキシジフェニルケトン、２，３’−ジカルボキシジフェニルケトン、３，３’−ジカルボキシジフェニルケトン、３，４’−ジカルボキシジフェニルケトン、４，４’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、２，２’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、２，３’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、３，３’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、３，４’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジカルボキシジフェニルスルホン、２，２’−ジカルボキシジフェニルスルホン、２，３’−ジカルボキシジフェニルスルホン、３，３’−ジカルボキシジフェニルスルホン、３，４’−ジカルボキシジフェニルスルホン、４，４’−ジカルボキシジフェニルメタン、２，２’−ジカルボキシジフェニルメタン、２，３’−ジカルボキシジフェニルメタン、３，３’−ジカルボキシジフェニルメタン、３，４’−ジカルボキシジフェニルメタン、４，４’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、２，２’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、２，３’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、３，３’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、３，４’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、２，２’−ジカルボキシジフェニルエーテル、２，３’−ジカルボキシジフェニルエーテル、３，３’−ジカルボキシジフェニルエーテル、３，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル等の芳香族ジカルボン酸、ジカルボン酸以外に、ジカルボン酸のジクロリド、ジブロミド等の酸ハロゲン化物、ジカルボン酸のジメチルエステルやジエチルエステル等のジアルキルエステル等が挙げられ、それぞれ単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００１８】
前駆体であるヒドロキシアミド共重合体の脱水閉環によるベンゾオキサゾール共重合体の生成は、通常加熱により行われる。加熱条件は前駆体の構造によって異なる。一般的には加熱温度６０℃〜４００℃で、加熱時間は１０分〜５時間である。最終的な加熱温度は、ベンゾオキサゾール共重合体のガラス転移温度以上に上げることが望ましい。加熱は、空気中でも行えるが、好ましくは窒素雰囲気下で行う。ベンゾオキサゾール共重合体の生成前に可塑剤、安定剤、屈折率調整剤（例えば、含フッ素化合物、含硫黄化合物）などの添加剤や、種々の力学特性、光学特性を向上させる目的で、平均粒径が０．００５〜２０μｍの充填剤（例えば、シリカ、アルミナ、各種有機フィラー）を０．０１〜５０質量部配合したり、紫外線吸収剤を添加したりしてもよい。
【００１９】
後記各実施例の結果から、本発明の一定の複屈折を有するベンゾオキサゾール共重合体は、ハンダ接続に耐えるような優れた耐熱性に加えて、光学損失０．６ｄＢ／ｃｍ以下の透明性を有し、かつ波長１．３μｍにおける１．５２０〜１．５８４迄の精密なｎＴＥの制御性、１．５１３〜１．５７７迄の精密なｎＴＭの制御性、波長１．５５μｍにおける１．５１８〜１．５８４迄の精密なｎＴＥの制御性、１．５１２〜１．５７５迄の精密なｎＴＭの制御性、及び共重合比を変えた場合の０．００６〜０．００９迄の極めて小さな複屈折変動を有することが明らかとなった。
【００２０】
以上に述べたように、本発明のベンゾオキサゾール共重合体は共重合比を変えることにより、その耐熱性を損なうことなく、一定の複屈折を有すると共に波長１．３μｍ及び１．５５μｍにおけるＴＥモード／ＴＭモードの屈折率を精密に制御できる。このような特徴をもつベンゾオキサゾール共重合体の用途としては光部品が好ましく、光導波路や光学フィルターがより好ましく、光導波路が特に好ましい。
【００２１】
【実施例】
以下、実施例により本発明の一定の複屈折を有するベンゾオキサゾール共重合体、及びその製造法について詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
（実施例１）
窒素雰囲気下で攪拌装置のついた４つ口フラスコに２，２−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン３．６６ｇ（０．０１ｍｏｌ）、塩化リチウム０．９３ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン１６ｇを加え、攪拌しながら０〜−５℃に冷却した。この溶液に４，４’−ジカルボン酸ジクロリドジフェニルエーテル２．９１ｇ（０．０１ｍｏｌ）を加え、０〜−５℃に保ったまま
２時間攪拌後、室温に戻しさらに２４時間攪拌した。反応液を過剰の水中に滴下しポリマーを沈殿させ、濾過、減圧乾燥を行い、ポリヒドロキシアミドを得た。ＧＰＣにより得られたポリマーの分子量を測定したところ、数平均分子量で４６，０００であった。
【００２２】
得られたポリヒドロキシアミドをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶かし濃度２５ｗｔ％の溶液になるように調製した。溶液を、スピナ−を用いてシリコンウエハ上に塗布し、６０℃で３０分、１００℃で３０分、１５０℃で３０分、２００℃で３０分、２５０℃で３０分、３００℃で３０分、３５０℃で３０分乾燥させた。
スラブ膜での光学損失を散乱検出法で測定したところ、波長１．３μｍＴＥモードで０．６ｄＢ／ｃｍ、波長１．３μｍＴＭモードで０．４ｄＢ／ｃｍであった。波長１．３μｍでの屈折率をプリズムカップラー法により測定したところｎＴＥは１．５８４、ｎＴＭは１．５７７、Δｎは０．００７であった。波長１．５５μｍでの屈折率を測定したところｎＴＥは１．５８４、ｎＴＭは１．５７５、Δｎは０．００９であった。
【００２３】
（実施例２）
窒素雰囲気下で攪拌装置のついた４つ口フラスコに２，２−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン３．６６ｇ（０．０１ｍｏｌ）、塩化リチウム０．９３ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン１６ｇを加え、攪拌しながら０〜−５℃に冷却した。この溶液に２，２−ビス（４−カルボン酸クロリド）ヘキサフルオロプロパン４．２９ｇ（０．０１ｍｏｌ）とを加え、０〜−５℃に保ったまま２時間攪拌後、室温に戻しさらに２４時間攪拌した。反応液を過剰の水中に滴下しポリマーを沈殿させ、濾過、減圧乾燥を行い、ポリヒドロキシアミドを得た。ＧＰＣにより得られたポリマーの分子量を測定したところ、数平均分子量で４０，０００であった。
【００２４】
得られたポリヒドロキシアミドをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶かし濃度２５ｗｔ％の溶液になるように調製した。溶液を、スピナ−を用いてシリコンウエハ上に塗布し、６０℃で３０分、１００℃で３０分、１５０℃で３０分、２００℃で３０分、２５０℃で３０分、３００℃で３０分、３５０℃で３０分乾燥させた。スラブ膜での光学損失を散乱検出法で測定したところ、波長１．３μｍＴＥモードで０．４ｄＢ／ｃｍ、波長１．３μｍＴＭモードで０．３ｄＢ／ｃｍであった。波長１．３μｍでの屈折率をプリズムカップラー法により測定したところ、ｎＴＥは１．５２０、ｎＴＭは１．５１３、Δｎは０．００７であった。波長１．５５μｍでの屈折率を測定したところ、ｎＴＥは１．５１８、ｎＴＭは１．５１２、Δｎは０．００６であった。
【００２５】
（実施例３）
窒素雰囲気下で攪拌装置のついた４つ口フラスコに２，２−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン７．３２ｇ（０．０２ｍｏｌ）、塩化リチウム１．８６ｇ（０．０４４ｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン３２ｇを加え、攪拌しながら０〜−５℃に冷却した。この溶液に２，２−ビス（４−カルボン酸クロリド）ヘキサフルオロプロパン４．２９ｇ（０．０１ｍｏｌ）  と４，４’−ジカルボン酸ジクロリドジフェニルエーテル２．９５ｇ（０．０１ｍｏｌ）を加え、０〜−５℃に保ったまま２時間攪拌後、室温に戻しさらに２４時間攪拌した。反応液を過剰の水中に滴下しポリマーを沈殿させ、濾過、減圧乾燥を行い、ポリヒドロキシアミドを得た。ＧＰＣにより得られたポリマーの分子量を測定したところ、数平均分子量で２３，０００であった。
【００２６】
得られたポリヒドロキシアミドをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶かし濃度２５ｗｔ％の溶液になるように調製した。溶液を、スピナーを用いてシリコンウエハ上に塗布し、６０℃で３０分、１００℃で３０分、１５０℃で３０分、２００℃で３０分、２５０℃で３０分、３００℃で３０分、３５０℃で３０分乾燥させた。波長１．３μｍでの屈折率を測定したところｎＴＥは１．５５２、ｎＴＭは１．５４５、Δｎは０．００７であった。波長１．５５μｍでの屈折率を測定したところｎＴＥは１．５５０、ｎＴＭは１．５４３、Δｎは０．００７であった。
【００２７】
（実施例４〜１４）
実施例３における２，２−ビス（４−カルボン酸クロリドフェニル）ヘキサフルオロプロパンと４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）のモル比を表１に示すように種々に変えて、実施例３と同等の操作を行い、種々のベンゾオキサゾール共重合体を得た。合成したベンゾオキサゾール共重合体の波長１．３μｍおよび１．５５μｍでのｎＴＥ、ｎＴＭ、Δｎを表２に示す。
全ての実施例においてガラス転移温度Ｔｇは３００℃以上であり、５％熱質量減少温度Ｔｄは５００℃以上であった。
【００２８】
【表１】
2004182912.tif 000007
【表２】
2004182912.tif 000008
【００２９】
（比較例１）
窒素雰囲気下で攪拌装置のついた４つ口フラスコに２，２−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン３．６６ｇ（０．０１ｍｏｌ）、塩化リチウム０．９３ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン１６ｇを加え、攪拌しながら０〜５℃に冷却した。この溶液に下記構造式（化６）：
【００３０】
【化１１】
2004182912.tif 000009
で表されるジカルボン酸誘導体２．７９ｇ（０．０１ｍｏｌ）を加え、０〜５℃に保ったまま２時間攪拌後、室温に戻しさらに２４時間攪拌した。反応液を過剰の水中に滴下しポリマーを沈殿させ、濾過、減圧乾燥を行い、ポリヒドロキシアミドを得た。ＧＰＣにより得られたポリマーの分子量を測定したところ、数平均分子量で２５，０００であった。
【００３１】
得られたポリヒドロキシアミドをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶かし濃度２５ｗｔ％の溶液になるように調製した。溶液を、スピナーを用いてシリコンウエハ上に塗布し、６０℃で３０分、１００℃で３０分、１５０℃で３０分、２００℃で３０分、２５０℃で３０分、３００℃で３０分、３５０℃で３０分乾燥させた。波長１．３μｍでの屈折率を測定したところｎＴＥは１．６１０、ｎＴＭは１．５７５、Δｎは０．０３４であった。波長１．５５μｍでの屈折率を測定したところｎＴＥは１．６０７、ｎＴＭは１．５７３、Δｎは０．０３４であった。後記、他の例と比較した結果を表３に示す。
【００３２】
（比較例２）
窒素雰囲気下で攪拌装置のついた４つ口フラスコに２，２−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン３．６６ｇ（０．０１ｍｏｌ）、塩化リチウム０．９３ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン１６ｇを加え、攪拌しながら０〜５℃に冷却した。この溶液に式（化６）で表されるジカルボン酸誘導体１．４０ｇ（０．００５ｍｏｌ）と２，２−ビス（４−カルボン酸クロリドフェニル）ヘキサフルオロプロパン２．１５ｇ（０．００５ｍｏｌ）を加え、０〜５℃に保ったまま２時間攪拌後、室温に戻しさらに２４時間攪拌した。反応液を過剰の水中に滴下しポリマーを沈殿させ、濾過、減圧乾燥を行い、ポリヒドロキシアミドを得た。ＧＰＣにより得られたポリマーの分子量を測定したところ、数平均分子量で４６，０００であった。
【００３３】
得られたポリヒドロキシアミドをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶かし濃度２５ｗｔ％の溶液になるように調製した。溶液を、スピナーを用いてシリコンウエハ上に塗布し、６０℃で３０分、１００℃で３０分、１５０℃で３０分、２００℃で３０分、２５０℃で３０分、３００℃で３０分、３５０℃で３０分乾燥させた。波長１．３μｍでの屈折率を測定したところｎＴＥは１．５６２、ｎＴＭは１．５５２、Δｎは０．０１０であった。波長１．５５μｍでの屈折率を測定したところｎＴＥは１．５５９、ｎＴＭは１．５４９、Δｎは０．０１０であった。後記、他の例と比較した結果を表３に示す。このように共重合比が変わることで、複屈折Δｎが大きく異なってしまった。
【００３４】
【表３】
2004182912.tif 000010
【００３５】
【発明の効果】
本発明のベンゾオキサゾール共重合体は、共重合比を変えることにより、その耐熱性を損なうことなく、一定の複屈折を有すると共に波長１．３μｍでのＴＥモードの屈折率、及びＴＭモードの屈折率をそれぞれ、１．５２０〜１．５８４、１．５１３〜１．５７７の範囲で、また波長１．５５μｍでのＴＥモードの屈折率、及びＴＭモードの屈折率をそれぞれ、１．５１８〜１．５８４、１．５１２〜１．５７５の範囲で精密に制御できる。従って本発明のベンゾオキサゾール共重合体は、光通信用の高耐熱ポリマー光学材料として好適である。
本発明のベンゾオキサゾール共重合体の製造法は、本発明のベンゾオキサゾール共重合体を収率よく製造することができる。