(57)【要約】【課題】基板上でＥＬ素子本体より外側の部分が占める面積を小さくすることを可能とし、外部からの水分等の侵入によるＥＬ層の劣化を抑制する。【解決手段】発光装置１１は基板１２上に、ＥＬ層１４を挟んで積層配置される第１電極１５及び第２電極１６を備えたＥＬ素子本体１３が形成されている。基板１２側に形成された第１電極１５はＩＴＯ層で形成された透明電極からなり、第２電極１６には光に対する反射性を有する金属が使用されている。第１電極１５の電極取り出し側には、第１電極１５よりガスバリア性の高い導電性膜１７が電気的に接続され、導電性膜１７は外部配線への接続端子を兼ねて、一端が第１電極１５の一部を覆うように形成されている。ＥＬ素子本体１３は第２電極１６の電極取り出し側端部１６ａと、導電性膜１７の接続用端子１７ａを露出させた状態で、ＥＬ層１４が外気と接しないように、光透過性を有するパッシベーション膜１８で覆われている。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＬ層を挟んで積層配置される第１電極及び第２電極を備え、かつ前記第１電極及び第２電極の少なくとも一方が透明電極からなるＥＬ素子本体が基板上に形成されるとともに、前記ＥＬ素子本体がパッシベーション膜で覆われた発光装置であって、
前記透明電極よりガスバリア性の高い導電性膜が前記透明電極の電極取り出し側に電気的に接続された状態で形成され、前記パッシベーション膜が少なくとも前記導電性膜の電極取り出し側の一部を露出させた状態で、前記透明電極の電極取り出し側部分の前記導電性膜で覆われていない部分を覆うように形成された発光装置。
【請求項２】
前記導電性膜は前記透明電極の一部を覆うように形成されている請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記導電性膜は外部配線の接続用端子を兼ねている請求項１又は請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記導電性膜は金属膜である請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
前記金属膜は少なくとも露出部分が耐酸化性を有する保護膜で被覆されている請求項４に記載の発光装置。
【請求項６】
前記ＥＬ層は有機ＥＬ層である請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の発光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光装置に係り、詳しくはＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を発光源とする発光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＥＬ素子は、ＥＬ層を挟んで積層配置される第１電極及び第２電極を備え、かつ前記第１電極及び第２電極の一方を透明電極とした状態で基板上に形成されている。ＥＬ材料は酸素、水分との反応性が高いため、外気から遮断された状態で使用しないと、大気中の酸素や水分により化学劣化が生じ、ダークスポット・ダークエリアと呼ばれる発光しない領域が拡がるという問題がある。ＥＬ層を外気から遮断する方法として、有機ＥＬ素子を窒化ケイ素や酸化ケイ素等の無機パッシベーション膜で封止する方法がある。
【０００３】
また、ＥＬ層を外気から遮断する方法として、シールガラス（ガラスカバー）をＥＬ素子本体を覆う状態で接着剤を介して基板に設けるとともに、シールガラスとＥＬ素子本体との間にシリコン油を充填した薄膜ＥＬ素子が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
この薄膜ＥＬ素子は本願明細書の図６に示すように、ガラス基板４１上に素子本体４２が形成され、素子本体４２は発光層４３の両側に互いに直交するようにストライプ状に設けられた透明電極４４及び背面電極４５が絶縁膜４６，４７を介して形成されている。透明電極４４は端子電極４８と電極接続線４９を介して接続されている。透明電極４４及び端子電極４８はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）で形成され、電極接続線４９は不透湿のＡｌ（アルミニウム）で形成されている。そして、素子本体４２を外気から封止する箱状のシールガラス５０が電極接続線４９と端子電極４８との接続部を覆う状態で接着剤でガラス基板４１に接着されている。
【０００５】
ＩＴＯ製の透明電極４４及び端子電極４８を連続して形成し、その上にシールガラス５０を接着剤で接着した場合、ＩＴＯ自体に僅かな透湿性が存在するため、ＩＴＯの部分を透過して水分が素子本体４２へ侵入する。しかし、透明電極４４及び端子電極４８の間にＡｌ製の電極接続線４９を設けることにより、ＩＴＯ製の端子電極４８を介して侵入しようとする水分が電極接続線４９の部分で遮断される。
【０００６】
【特許文献１】
特開平５−１９０２８０号公報（明細書の段落［００１０］〜［００１３］、図２、図３）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ＥＬ素子では一般に、透明電極はＩＴＯ製であり、ＩＴＯ電極は蒸着等により基板上に形成される。ＥＬ素子をパッシベーション膜で被覆した場合、透明電極を外部の駆動用回路等に接続するための端子電極は、透明電極に連続して形成されるとともにその一部を露出させた状態で前記パッシベーション膜で被覆される。ＩＴＯの透湿性が金属や無機パッシベーション膜に比較して無視できない大きさであっても、端子電極の無機パッシベーション膜に被覆される部分の長さ、即ち「封止しろ」を長くすれば、水分がＩＴＯを通ってＥＬ素子内まで侵入するのを防止できる。しかし、前記封止しろを長くすると、基板上でＥＬ素子本体より外側の部分が占める面積が大きくなり、基板を含めたＥＬ素子全体が大型となる。
【０００８】
近年、ＥＬ素子の小型化の要求があるが、ＥＬ素子の小型化を図るため、前記封止しろの長さを短くすると、ＩＴＯを通しての水分の侵入が問題となる。
一方、特許文献１に開示された装置では、端子電極４８がシールガラス５０で被覆される部分が少なくても、電極接続線４９が端子電極４８と素子本体４２との間に存在し、電極接続線４９の部分でシールガラス５０とのシールが行われるためシールガラス５０内への水分の侵入が防止される。しかし、この構成では端子電極４８と電極接続線４９とが重なる部分の長さと、透明電極４４と電極接続線４９とが重なる部分の長さと、電極接続線４９がガラス基板４１と直接接触する部分の長さとの合計が前記封止しろとなる。従って、素子本体４２より外側の部分が占める面積を小さくするのが難しい。
【０００９】
本発明は、前記従来の問題に鑑みてなされたものであって、その目的は基板上でＥＬ素子本体より外側の部分が占める面積を小さくでき、外部からの水分等の侵入によるＥＬ層の劣化を抑制することができる発光装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、ＥＬ層を挟んで積層配置される第１電極及び第２電極を備え、かつ前記第１電極及び第２電極の少なくとも一方が透明電極からなるＥＬ素子本体が基板上に形成されるとともに、前記ＥＬ素子本体がパッシベーション膜で覆われた発光装置である。前記透明電極よりガスバリア性の高い導電性膜が前記透明電極の電極取り出し側に電気的に接続された状態で形成され、前記パッシベーション膜が少なくとも前記導電性膜の電極取り出し側の一部を露出させた状態で、前記透明電極の電極取り出し側部分の前記導電性膜で覆われていない部分を覆うように形成されている。
【００１１】
「ガスバリア性の高い」とは、少なくとも水蒸気及び酸素の透過性が低いことを意味する。また、「透明電極の電極取り出し側」とは、透明電極を外部配線に接続するための接続部（接続用端子）が形成される側を意味する。
【００１２】
この発明では、前記導電性膜やパッシベーション膜より水蒸気及び酸素の透過性が高い透明電極は、導電性膜あるいはパッシベーション膜に覆われ、透明電極の電極取り出し側に透明電極と同じ材質の端子電極が連続することはない。従って、透明電極に連続して透明電極と同じ材質の端子電極が形成された従来の構成と異なり、水蒸気及び酸素の透過性が高い部分が外気に露出せず、水分や酸素がＥＬ素子本体内へ侵入するのが抑制され、水分等の侵入によるＥＬ層の劣化を抑制することができる。また、導電性膜は少なくとも電極取り出し側の一部を露出させた状態でパッシベーション膜に覆われているため、導電性膜の少なくとも一部を、外部配線への接続用に利用でき、基板上でＥＬ素子本体より外側の部分が占める面積を小さくできる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記導電性膜は前記透明電極の一部を覆うように形成されている。この発明では、導電性膜の形成を透明電極が基板上に形成された後に行うことができる。従って、ＥＬ層の発光を基板側から取り出す所謂ボトムエミッション型の場合、ＥＬ層を挟んで基板と反対側に配置される電極と、導電性膜とを同じ材質とした場合、基板と反対側に配置される電極と、導電性膜とを同時に形成できる。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、前記導電性膜は外部配線の接続用端子を兼ねている。この発明では、透明電極を外部配線に接続するための接続部として機能する接続用端子となる端子電極を別に形成する必要がないため、製造が簡単になる。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の発明において、前記導電性膜は金属膜である。この発明では、透明電極よりガスバリア性の高い導電性膜を形成する材料を入手し易く、前記導電性膜のコストを安くできる。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明において、前記金属膜は少なくとも露出部分が耐酸化性を有する保護膜で被覆されている。従って、この発明では、金属膜を形成する金属の材質として例えばアルミニウムのように安価で配線に好適に使用されているが酸化に弱い材質で導電性膜を形成しても耐久性の心配がない。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の発明において、前記ＥＬ層は有機ＥＬ層である。この発明では、ＥＬ層として無機ＥＬ層を使用した構成に比較して発光に必要な印加電圧を低くできる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を液晶表示装置のバックライトに具体化した一実施の形態を図１及び図２に従って説明する。図１（ａ）は発光装置の模式断面図、図１（ｂ）は模式平面図である。
【００１９】
図１（ａ），（ｂ）に示すように、発光装置１１は基板１２上にＥＬ素子本体１３が形成されている。基板１２は透明なガラス製である。ＥＬ素子本体１３は、ＥＬ層１４を挟んで積層配置される第１電極１５及び第２電極１６を備えている。ＥＬ素子本体１３は、基板１２側から第１電極１５、ＥＬ層１４、第２電極１６の順に積層されている。第１電極１５が陽極を構成し、第２電極１６が陰極を構成する。
【００２０】
この実施の形態ではＥＬ層１４として有機ＥＬ層が使用されている。有機ＥＬ層には例えば公知の構成のものが使用され、第１電極１５側から順に、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の３層で構成されている。ＥＬ層１４は白色発光層で構成されている。
【００２１】
第１電極１５はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）層で形成された透明電極からなる。第１電極１５は蒸着法やスパッタ法等によって積層形成されている。第２電極１６には材料として光に対する反射性を有する金属が使用され、金属として、例えばアルミニウム（アルミニウム合金を含む）が使用されている。両電極１５，１６は基板１２に比較して極薄く形成されている。即ち、ＥＬ素子本体１３は、基板１２側から第１電極１５、ＥＬ層１４、第２電極１６の順に積層され、ＥＬ層１４の発光が基板１２側から取り出される（出射される）所謂ボトムエミッション型のＥＬ素子を構成する。
【００２２】
ＥＬ層１４、第１電極１５及び第２電極１６はともに一つの平面として形成され、ＥＬ層１４は第１電極１５の電極取り出し側（図１（ａ），（ｂ）の右側）の所定範囲及び基板周縁部を除いたほぼ全面を覆うように積層されている。第２電極１６は第１電極１５の電極取り出し側と反対側が電極取り出し側となるようにＥＬ層１４のほぼ全面を覆うとともに、電極取り出し側が基板１２の端部に達するように積層されている。両電極１５，１６はＥＬ層１４に対してそれぞれ一つのみ設けられ、両電極１５，１６間に電圧が印加されることでＥＬ層１４はＥＬ素子本体１３の全域に亘って発光するように構成されている。
【００２３】
第１電極１５の電極取り出し側には、第１電極１５よりガスバリア性の高い導電性膜１７が電気的に接続された状態で形成されている。導電性膜１７は外部配線への接続端子を兼ねて形成され、一端が第１電極１５の一部を覆うように、他端が基板１２の端部に達するように形成されている。そして、導電性膜１７の電極取り出し側となる他端が接続用端子１７ａを構成している。導電性膜１７は金属（この実施の形態ではアルミニウム）膜で形成されている。
【００２４】
ＥＬ素子本体１３は第２電極１６の電極取り出し側端部１６ａと、導電性膜１７の接続用端子１７ａを露出させた状態で、ＥＬ層１４が外気と接しないように、光透過性を有するパッシベーション膜１８で覆われている。従って、パッシベーション膜１８は第１電極１５の電極取り出し側部分の導電性膜１７で覆われていない部分を覆うように形成されている。封止しろ１８ａの長さＬは図１（ａ）で示すように、ＥＬ層１４の第１電極１５の電極取り出し側端面から、パッシベーション膜１８の導電性膜１７側の端面までとなる。
【００２５】
パッシベーション膜１８は水分及び酸素の透過を防止可能な材料、例えば窒化ケイ素ＳｉＮｘで形成されている。パッシベーション膜１８は、基板１２に比較して極薄く形成されている。
【００２６】
次に前記のように構成された発光装置１１をバックライトとして使用する液晶表示装置を図２に従って説明する。
図２に示すように、液晶表示装置２０は、パッシブ・マトリックス方式の透過型の液晶パネル２１と、バックライトとしての発光装置１１とを備えている。
【００２７】
液晶パネル２１は、一対の透明な基板２２，２３を備え、両基板２２，２３は所定の間隔を保った状態で、図示しないシール材により貼り合わされて、その間に液晶２４が配置される。基板２２，２３は例えばガラス製である。発光装置１１側に配置された一方の基板２２には、液晶２４と対向する面に透明な走査電極２５が、複数、平行なストライプ状に形成されている。また、基板２２には、液晶２４と反対側の面に偏光板２６が形成されている。
【００２８】
他方の基板２３には液晶２４と対向する面にカラーフィルタ２７が形成され、カラーフィルタ２７上には透明電極２８が走査電極２５と直交する状態に形成されている。基板２３には、液晶２４と反対側の面に偏光板２９が形成されている。走査電極２５及び透明電極２８はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）で形成されている。走査電極２５及び透明電極２８の各交差部が液晶パネル２１の各画素（サブピクセル）となり、走査電極２５の走査により、画素が１列ずつ表示駆動可能となる。
【００２９】
発光装置１１は液晶パネル２１に対して基板１２が対向するように配置されている。
なお、図面において、液晶パネル２１及び発光装置１１を構成する各基板、各電極、各層及び膜等の厚さは、図示の都合上、実際とは必ずしも一致しない相対関係で示されている。
【００３０】
次に、前述のように構成された液晶表示装置２０の作用について説明する。
液晶パネル２１においては、表示すべき画像に対応する所定の画素の液晶２４に電圧が印加されることで前記画素が表示状態となる。このとき、発光装置１１の光により、暗所であっても液晶パネル２１の表示画像が良好に視認可能となる。発光装置１１においては、ＥＬ層１４から発せられた光が第１電極１５及び基板１２を透過して、基板１２側から液晶パネル２１に向かって出射される。
【００３１】
また、昼間の屋外のように外部が明るい状況では、発光装置１１を発光させず、即ちバックライトを点灯せずに、外光を光源として利用することも可能である。この状態では、外光が第２電極１６で反射した光を使用することにより、液晶表示装置２０は反射型の液晶表示装置として機能する。
【００３２】
ＥＬ素子本体１３は、ＥＬ層１４が外気と接しないようにパッシベーション膜１８で覆われているため、ＥＬ層１４が外気から遮断され、外気との接触によるＥＬ層１４の劣化が防止される。
【００３３】
第１電極１５を構成するＩＴＯは他の電極材料と比較して透明性が高いという優れた性質を有するが、ＩＴＯは微結晶構造であり、水蒸気や酸素は該結晶の隙間を通ることができる。そのため、ＩＴＯだけで水蒸気及び酸素を完全に遮断することは困難である。しかし、第１電極１５は、導電性膜１７あるいはパッシベーション膜１８に覆われ、第１電極１５の電極取り出し側に水蒸気及び酸素が通過しうる第１電極１５と同じ材質の端子電極が連続することはない。従って、第１電極１５に連続して第１電極１５と同じ材質の端子電極が形成された従来の構成と異なり、外気に露出した部分から水分や酸素がＥＬ素子本体１３内へ侵入するのが抑制される。
【００３４】
第１電極１５の取り出し側端部から水蒸気及び酸素の侵入を防止するためのパッシベーション膜１８の封止しろ１８ａが、ＥＬ層１４の端部から第１電極１５の電極取り出し側端部までの距離となる。従って、封止しろ１８ａと接続用端子１７ａとの合計長さを、パッシベーション膜１８が導電性膜１７全体を覆う構成に比較して短くできる。その結果、基板１２上でＥＬ素子本体１３より外側の部分が占める面積を小さくでき、ＥＬ層１４の面積が同じ場合、発光装置１１の小型化を図ることができる。
【００３５】
この実施の形態では以下の効果を有する。
（１）　発光装置１１は、ＥＬ素子本体１３がパッシベーション膜１８で覆われ、第１電極１５（透明電極）よりガスバリア性の高い導電性膜１７が第１電極１５の電極取り出し側に電気的に接続された状態で形成されている。そして、パッシベーション膜１８が少なくとも導電性膜１７の電極取り出し側の一部を露出させた状態で、第１電極１５の電極取り出し側部分の導電性膜１７で覆われていない部分を覆うように形成されている。従って、第１電極１５に連続して第１電極１５と同じ材質の端子電極が形成された従来の構成と異なり、水分や酸素がＥＬ素子本体１３内へ侵入するのが抑制され、水分等の侵入によるＥＬ層１４の劣化を抑制することができる。また、導電性膜１７は少なくとも電極取り出し側の一部を露出させた状態でパッシベーション膜１８に覆われているため、導電性膜１７の少なくとも一部を外部配線への接続用に利用でき、基板１２上でＥＬ素子本体１３より外側の部分が占める面積を小さくできる。
【００３６】
（２）　導電性膜１７は外部配線の接続用端子を兼ねており、接続用端子１７ａが一体に形成されている。従って、接続用端子となる端子電極を別に形成する必要がないため、製造が簡単になる。
【００３７】
（３）　導電性膜１７は第１電極１５の一部を覆うように形成されているため、導電性膜１７の形成を第１電極１５が基板１２上に形成された後に行うことができる。従って、ＥＬ素子本体１３の発光を基板１２側から取り出す所謂ボトムエミッション型の場合、ＥＬ層１４を挟んで基板１２と反対側に配置される第２電極１６と、導電性膜１７とを同じ材質とした場合、第２電極１６と、導電性膜１７とを同時に形成でき、工数を少なくできる。
【００３８】
（４）　導電性膜１７は金属膜であるため、第１電極１５よりガスバリア性の高い導電性膜１７を形成する材料を入手し易く、導電性膜１７のコストを安くできる。
【００３９】
（５）　導電性膜１７はアルミニウム層で形成されているため、蒸着等で簡単に形成できる。
（６）　ＥＬ層１４は有機ＥＬ層で構成されている。従って、ＥＬ層１４として無機ＥＬ層を使用した構成に比較して発光に必要な印加電圧を低くできる。
【００４０】
（７）　パッシベーション膜１８が窒化ケイ素で形成されている。従って、パッシベーション膜１８をプラズマＣＶＤで１００℃以下の条件で製造でき、パッシベーション膜１８を形成する際にＥＬ層１４を有機ＥＬ層で構成した場合でも、ＥＬ層１４にダメージを与えることを回避できる。
【００４１】
（８）　ＥＬ素子本体１３を構成する、両電極１５，１６はＥＬ層１４に対してそれぞれ一つのみ設けられ、両電極１５，１６間に電圧が印加されることでＥＬ層１４が全域に亘って発光するように構成されている。従って、第１及び第２電極の少なくとも一方が有機ＥＬ層に対して複数設けられた構成に比較して、各電極と外部とを電気的に接続するための接続端子の数を減らすことができる。
【００４２】
実施の形態は前記に限らず、例えば次のように構成してもよい。
○　導電性膜１７の接続用端子１７ａのみで外部配線接続部が形成される構成に限らず、図３に示すように、基板１２上の第１電極１５の電極取り出し側端部１５ａ近傍に端子電極３０を形成し、端子電極３０と導電性膜１７の露出部とにより外部配線接続部を構成してもよい。端子電極３０は第１電極１５を形成する際に同時に形成される。この実施の形態は、前記実施の形態の（１）、（３）〜（８）と同様な効果を有する。また、導電性膜１７に金（Ａｕ）のように高価な材質を使用する際、使用量を少なくできる。
【００４３】
○　パッシベーション膜１８が導電性膜１７を覆う構成に代えて、導電性膜１７がパッシベーション膜１８の一部を覆うように構成してもよい。例えば、図４に示すように、第１電極１５の電極取り出し側端部１５ａの一部を残すようにパッシベーション膜１８を形成し、導電性膜１７をパッシベーション膜１８で覆われていない第１電極１５の端部とパッシベーション膜１８の一部を覆うように形成する。この場合、ＥＬ素子本体１３が基板１２上に形成され、パッシベーション膜１８が形成された後、導電性膜１７を形成することができる。
【００４４】
○　第１電極１５と導電性膜１７とを電気的に接続する際、第１電極１５を基板１２上に形成した後、導電性膜１７を形成する代わりに、図５に示すように、導電性膜１７を基板１２上に形成した後、第１電極１５の電極取り出し側端部１５ａが導電性膜１７の一端を覆うように第１電極１５を形成してもよい。
【００４５】
○　第１電極１５の電極取り出し側を第２電極１６の電極取り出し側と反対側とする構成に限らず、第２電極１６の電極取り出し側と直角を成す位置、即ち、図１（ｂ）における基板１２の上辺又は下辺と対応する位置を電極取り出し側としてもよい。
【００４６】
○　パッシベーション膜１８の材質は窒化ケイ素に限らず、水分や酸素等のガスの透過率の小さな他の材質、例えば酸化ケイ素ＳｉＯｘやダイヤモンド・ライク・カーボンを使用してもよい。また、異なる材質の薄膜を積層してパッシベーション膜１８を形成してもよい。
【００４７】
○　第２電極１６は光に対する反射性を有していなくてもよい。しかし、反射性を有する方がＥＬ層１４から第２電極１６側に向かった光が第２電極１６で反射されて基板１２側から出射されるため、第２電極１６の反射光を利用しない形態に比較して、基板１２から出射する光量を多くすることができる。従って、ＥＬ層１４の発光量を少なくしても必要な光量を得ることができ、消費電力量をより低減することができる。
【００４８】
○　第２電極１６はアルミニウム以外の金属、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｉｎ等を用いて形成してもよい。ＡｕやＣｒを使用すれば金属膜が酸化され難く耐久性が向上する。
【００４９】
○　導電性膜１７を構成する金属膜が酸化に弱い材質の場合、金属膜が少なくとも露出部分を耐酸化性を有する保護膜で被覆された構成としてもよい。保護膜としては、錆び難い金属膜が好ましい。この場合、金属膜を形成する金属の材質として例えばアルミニウムのように安価で配線に好適に使用されているが酸化に弱い材質で導電性膜を形成しても耐久性の心配がない。
【００５０】
○　導電性膜１７を構成する金属膜が酸化に弱い材質の場合、外部配線が接続された後、導電性膜１７の露出部分を耐酸化性を有する保護膜で被覆してもよい。この場合、保護膜は導電性を必要とせず、樹脂を塗布して保護膜としてもよい。
【００５１】
〇　基板１２側に配設される第１電極１５を陰極とし、第２電極１６を陽極としてもよい。この場合、ＥＬ層１４の構成もそれに対応して変更する。
○　基板１２としてガラス基板に代えてフレキシブル基板を使用してもよい。
【００５２】
○　ＥＬ層１４を挟んで基板１２と反対側に配置される第２電極１６を透明電極として、基板１２側に配置される第１電極１５を金属電極とし、基板１２と反対側をＥＬ層１４の発光の出射側とする所謂トップエミッション型としてもよい。
【００５３】
〇　トップエミッション型の場合、基板１２は透明でなくてもよく、例えば金属、セラミックス等の硬質材を使用してもよく、樹脂等のフレキシブル基板を使用してもよい。
【００５４】
○　ＥＬ層１４は、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の３層からなるものに限らず、正孔輸送層及び電子輸送層の少なくとも一方を含む構成としてもよい。また、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一つと発光層とからなるものであってもよく、発光層のみからなるものであってもよい。
【００５５】
○　発光装置１１を液晶表示装置２０のバックライトとして液晶パネル２１と組み合わせて使用される構成としたが、発光装置１１を単体または複数組み合わせてデイスプレイや照明装置として使用してもよい。
【００５６】
○　発光装置１１を照明装置として使用する場合、ＥＬ層１４の発光を基板１２側及び基板１２と反対側の両側から出射する構成としてもよい。例えば、第１及び第２電極１５，１６の両方を透明電極とする。また、基板１２の両面にＥＬ素子本体１３を備えた構造としてもよい。
【００５７】
〇　液晶パネル２１は透過型のパッシブマトリックスのものとしたが、アクティブマトリックスのものでもよい。また、透過光を利用する液晶パネル、例えば半透過型の液晶パネルを用いてもよい。
【００５８】
以下の技術的思想（発明）は前記実施の形態から把握できる。
（１）　請求項４又は請求項５に記載の発明において、前記ＥＬ素子本体はボトムエミッション型に形成され、前記ＥＬ層を挟んで基板側に配置された電極と前記金属膜とは同じ材質で形成されている。
【００５９】
（２）　請求項４、請求項５及び前記技術的思想（１）のいずれか一項に記載の発明において、前記金属膜はアルミニウム膜である。
（３）　請求項１〜請求項６及び前記技術的思想（１）、（２）のいずれか一項に記載の発光装置をバックライトとして備えた液晶表示装置。
【００６０】
（４）　請求項１〜請求項６及び前記技術的思想（１）、（２）のいずれか一項に記載の発光装置を光源として備えた照明装置。
（５）　ＥＬ層を挟んで積層配置される透明電極及び金属電極を備えたＥＬ素子本体が、前記透明電極が基板側となる状態で基板上に形成されるとともに、前記ＥＬ素子本体がパッシベーション膜で覆われた発光装置の製造方法であって、前記基板上に前記透明電極及び前記ＥＬ層を順次積層形成した後、金属電極を前記ＥＬ層上に積層する際、前記透明電極よりガスバリア性の高い導電性膜として前記金属電極と同じ金属膜を前記透明電極の電極取り出し側に電気的に接続された状態で形成し、その後、前記パッシベーション膜を前記導電性膜の電極取り出し側の一部を露出させた状態で、かつ前記透明電極の電極取り出し側部分の前記導電性膜で覆われていない部分を覆うように形成する発光装置の製造方法。
【００６１】
【発明の効果】
以上に記載の発明によれば、基板上でＥＬ素子本体より外側の部分が占める面積を小さくでき、外部からの水分等の侵入によるＥＬ層の劣化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は一実施の形態の発光装置の模式断面図、（ｂ）は模式平面図。
【図２】発光装置をバックライトとした液晶表示装置の概略分解斜視図。
【図３】別の実施の形態の発光装置の模式部分断面図。
【図４】別の実施の形態の発光装置の模式部分断面図。
【図５】別の実施の形態の発光装置の模式部分断面図。
【図６】従来の薄膜ＥＬ素子の模式部分断面図。
【符号の説明】
１１…発光装置、１２…基板、１３…ＥＬ素子本体、１４…ＥＬ層、１５…透明電極としての第１電極、１６…第２電極、１７…導電性膜、１７ａ…接続用端子、１８…パッシベーション膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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