(57)【要約】【課題】低コストで、しかも塗布領域に液体を正確に塗布することができる塗布装置を提供する。【解決手段】マスク４に形成された開口が基板１上の溝（塗布領域）に対向配置される。そして、その配置状態でノズル５から有機ＥＬ材料がマスク４に向けて吐出され、そのマスク４の開口を介して基板１に供給される。このため、基板１上のうち該開口に対向する溝に選択的に有機ＥＬ材料が塗布されるとともに、その溝以外の領域に有機ＥＬ材料が塗布されるのを確実に防止することができる。すなわち、溝（塗布領域）に有機ＥＬ材料が正確に塗布される。また、マスク４に付着する有機ＥＬ材料については、マスク洗浄ユニット７が洗浄除去するため、マスク４を繰り返して使用することが可能となってランニングコストを低減させることができる。【選択図】　　　　図１
2004050080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の塗布領域に液体を塗布する塗布装置において、
前記塗布領域に対応する開口を有し、該開口が前記塗布領域に対向するように配置されるマスクと、
前記マスクに向けて前記液体を供給することで前記マスクの開口を介して前記塗布領域に前記液体を選択的に塗布する液体供給手段と、
前記マスクに付着した前記液体を除去する液体除去手段と
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記液体除去手段は、前記マスクを洗浄する洗浄ユニットを備える請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
前記洗浄ユニットは前記基板の外側に配設されており、しかも、
前記マスクは移動自在となっており、前記マスクを移動させることで前記開口を前記塗布領域に対向する塗布位置に位置させたり、前記開口の周囲部分を前記洗浄ユニットに移動可能となっている請求項２記載の塗布装置。
【請求項４】
前記マスクは所定の周回軌道上を循環移動する無端ベルトの一部に前記開口を形成したものであり、
前記洗浄ユニットは前記周回軌道上に配置されている請求項３記載の塗布装置。
【請求項５】
前記洗浄ユニットは、移動している前記マスクに対して前記液体を溶解する溶媒を吐出して前記マスクを洗浄する請求項３または４記載の塗布装置。
【請求項６】
前記洗浄ユニットは、前記マスクに対して前記液体を溶解する溶剤を吐出して前記マスクを洗浄する溶剤吐出部と、前記マスクから洗浄物を回収する洗浄物回収部とを備える請求項２ないし５のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
前記液体除去手段は、前記塗布領域に対向して配置された前記開口の近傍に配置されて前記マスクの前記開口の周囲部分に付着した液体を回収除去する液体回収部を備える請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記液体回収部は前記マスクに付着している液体を吸引除去する請求項７記載の塗布装置。
【請求項９】
前記液体供給手段は、前記開口に沿って移動しながら前記マスクに向けて前記液体を吐出する液体吐出ノズルを備えており、
前記液体回収部は前記液体吐出ノズルの移動経路の延長線上に配置されている請求項７または８記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記液体供給手段は、前記開口に沿って移動しながら前記マスクに向けて前記液体を吐出する液体吐出ノズルを備えており、しかも、
前記液体回収部は前記液体吐出ノズルと一体的に移動可能となっている請求項７または８記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記液体供給手段は前記液体として有機ＥＬ材料を吐出する請求項１ないし１０のいずれかに記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハ、ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板（以下、単に「基板」という）の所定領域上に、フォトレジスト液、現像液および有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）材料などの液体を塗布する塗布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の塗布装置として、例えば特開２００２−７５６４０号公報に記載された装置がある。この塗布装置は上記液体として有機ＥＬ材料を基板に塗布する装置である。この装置では、予め形成された溝にノズルを沿わせるように基板とノズルとを相対的に移動させてノズルからの有機ＥＬ材料を溝内に流し込んでおり、こうすることで基板の溝（塗布領域）への有機ＥＬ材料の塗布を実行している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように基板とノズルとを相対的に移動させることで塗布領域たる溝に有機ＥＬ材料を塗布する場合、基板とノズルとの相対的な位置ずれが生じていたり、ノズルから有機ＥＬ材料を吐出するタイミングがずれる等の要因により、有機ＥＬ材料が溝の周囲に塗布されてしまうことがある。
【０００４】
ここで、本来的に塗布すべきでない有機ＥＬ材料が基板のエッジ部分に塗布されてしまう場合には、例えば特開平１０−２９４２４８号公報に記載された基板端縁処理装置を塗布装置に装備させて余分な有機ＥＬ材料を洗浄除去するようにしてもよい。しかしながら、基板端縁処理装置を付加することで塗布装置のコストは高くなってしまう。また、エッジ部分の有機ＥＬ材料を洗浄する際に、洗浄液の飛沫などが溝に塗布された有機ＥＬ材料に飛散して性能に悪影響を及ぼしてしまうことがある。さらに、基板端縁処理装置を装備したとしても、洗浄除去することができるのは、基板エッジ部分に塗布されてしまった有機ＥＬ材料に限定され、汎用性に欠けるという問題もある。
【０００５】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、低コストで、しかも塗布領域に液体を正確に塗布することができる塗布装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明は、基板上の塗布領域に液体を塗布する塗布装置であって、上記目的を達成するため、塗布領域に対応する開口を有し、該開口が塗布領域に対向するように配置されるマスクと、マスクに向けて液体を供給することでマスクの開口を介して塗布領域に液体を選択的に塗布する液体供給手段と、マスクに付着した液体を除去する液体除去手段とを備えている。
【０００７】
このように構成された発明では、液体供給手段から吐出された液体はマスクの開口を介して基板に供給されるため、その基板上のうち該開口に対向する塗布領域に選択的に液体が塗布され、その塗布領域以外の領域に液体が塗布されるのが確実に防止される。このように開口に対応した塗布領域に液体が正確に塗布される。また、液体供給手段から吐出された液体のうち開口から外れた液体はマスクに付着するが、この発明では液体除去手段によってマスクに付着している液体は除去される。このため、マスクに付着した液体がマスクから離れて基板に再付着して製品歩留りを低下させるという問題を未然に回避したり、マスクを繰り返して使用することが可能となってランニングコストを低減させることができる。
【０００８】
このようにマスクに付着した液体を除去する液体除去手段としては、例えばマスクを洗浄する洗浄ユニットを設けたり、マスクの開口の周囲部分に付着した液体を回収除去する液体回収部を設けるようにしてもよく、また洗浄ユニットと液体回収部をともに設けるように構成してもよい。
【０００９】
ここで、液体除去手段として洗浄ユニットを設けることで、この洗浄ユニットによりマスクを洗浄してマスクの繰り返し使用が可能となり、ランニングコストの低減に有利に作用する。この洗浄ユニットについては、例えば基板の外側に配設してもよく、開口の周囲部分が洗浄ユニットに位置するようにマスクを移動させて開口の周囲部分に付着している液体を除去するように構成してもよい。
【００１０】
また、所定の周回軌道上を循環移動する無端ベルトの一部に開口を形成したものをマスクとして用いることができる。すなわち、開口が基板の塗布領域に対向する塗布位置まで無端ベルト（マスク）を移動させた後に、液体供給手段から液体が吐出されて塗布領域に選択塗布され、その塗布領域以外の領域に液体が塗布されるのを確実に防止することができる。また、このようにして塗布処理を行った場合、開口を形成したベルト部分では、その開口の周囲部分に液体が付着するが、塗布処理の完了に続いて無端ベルトを周回軌道に沿って移動させると、開口を形成したベルト部分が基板から離れてマスクに付着した液体がマスクから離れて基板に再付着するのを防止することができる。しかも、無端ベルトの移動により開口を形成したベルト部分は周回軌道上に配置された洗浄ユニットに搬送され、マスク洗浄される。そして、開口が基板の塗布領域に対向する塗布位置まで無端ベルト（マスク）を移動させることで塗布処理を再び実行することができる。このようにマスクを繰り返して使用することができる。
【００１１】
上記のようにマスクが所定の移動経路に沿って移動する場合、その移動経路上に洗浄ユニットを配置し、移動しているマスクに対して液体を溶解する溶剤を吐出してマスクを洗浄するように構成してもよく、こうすることで洗浄ユニットのコンパクト化を図ることができる。
【００１２】
また、洗浄ユニットを、マスクに対して液体を溶解する溶剤を吐出してマスクを洗浄する溶剤吐出部と、マスクから洗浄物を回収する洗浄物回収部とで構成してもよく、こうすることでマスクに付着する液体を洗浄するとともに、その洗浄物（溶剤＋液体）を確実に回収することができる。
【００１３】
一方、液体除去手段として、塗布領域に対向して配置された開口の近傍に配置されてマスクの開口の周囲部分に付着した液体を回収除去する液体回収部を設けてもよい。上記のように液体供給手段から吐出された液体のうち開口から外れた液体はマスクの開口の周囲部分に付着するが、そのマスクを洗浄することなく長時間使用していると、開口の周囲部分に多量の液体が堆積し、やがて堆積物（液体）の一部がマスクから離れて基板に再付着して製品歩留りを低下させるという問題が発生するおそれがある。これに対し、この発明では、液体回収部がマスクの開口の周囲部分に付着した液体を回収除去するため、液体の堆積を未然に防止して上記問題を解消することができる。
【００１４】
この液体回収部としては、マスクに付着している液体を回収除去できるものであれば、如何なる構成のものを採用してもよいのであるが、特にマスクに付着している液体を吸引除去するものを採用することで、液体を除去する際に該液体を基板側に飛散させることなく、確実に回収することができ、好適である。
【００１５】
さらに、液体供給手段として開口に沿って移動しながらマスクに向けて液体を吐出する液体吐出ノズルを用いる場合には、液体吐出ノズルの移動経路の延長線上に位置するマスク表面領域に多くの液体が付着する。そこで、このように構成された塗布装置では、液体回収部を液体吐出ノズルの移動経路の延長線上に配置してマスクに付着する液体を確実に除去するのが望ましい。また、液体回収部を液体吐出ノズルと一体的に移動させるようにしてもよい。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図１は、この発明にかかる塗布装置の一実施形態を示す図である。また、図２は図１の塗布装置での基板、マスクおよびノズルの位置関係を模式的に示す図である。この塗布装置は、基板１上に形成された溝１１に液体状の有機ＥＬ材料を塗布する有機ＥＬ塗布装置であり、各溝１１が本発明の「塗布領域」に相当し、また有機ＥＬ材料が本発明の「液体」に相当している。
【００１７】
この塗布装置では、基板１を載置するステージ２が設けられている。このステージ２はＹ方向にスライド自在で、しかも垂直軸に対してθ方向に回動自在となっている。また、ステージ２にはステージ駆動機構部２１が接続されており、装置全体を制御する制御部３からの動作指令に応じてステージ駆動機構部２１が作動することでステージ２をＹ方向に移動させたり、θ方向に回転させてステージ２上の基板１を位置決めすることができる。
【００１８】
また、このステージ２の上方には、各溝１１に対応した形状を有する開口４２を無端ベルト４１に１個形成してなるマスク４が配置されている。この無端ベルト４１は４つのローラ４３〜４６に掛け渡されている。そして、制御部３からの駆動指令に応じてマスク駆動機構部４７が作動すると、ローラ４３が回転してマスク４を所定の周回軌道に沿って矢印方向Ｘに循環移動させる。このため、制御部３によってマスク駆動機構部４７を制御することでマスク４に形成された開口４２を図２に示すように基板１上の溝１１に対向配置させることができる。また、開口４２が基板１からＸ方向に離れた位置に移動させることも可能となっている。なお、図２においては、基板１と、マスク４と、次に説明するノズルとの位置関係を明らかにするため、これら基板１、マスク４およびノズルを上下方向Ｚにおいて実際より広く離間させた状態を図示している。
【００１９】
また、マスク４が形成する周回ループの内側にノズル５が配設されている。このノズル５はノズル駆動機構部５１と接続されており、制御部３からの動作指令に応じてノズル駆動機構部５１が作動することでノズル５をＸ方向に往復移動可能となっている。したがって、上記のようにして開口４２が基板１上の溝１１に対向する位置（塗布位置）にマスク４を位置決めした状態で、ノズル５をＸ方向に移動させると、ノズル５はマスク４の開口４２に沿って移動することとなる。
【００２０】
このノズル５は有機ＥＬ材料の供給部と配管接続されており、この供給部から圧送されてくる有機ＥＬ材料をマスク４に向けて吐出可能となっている。このため、図２に示すように塗布位置に位置決めされたマスク４に向けて有機ＥＬ材料を吐出させると、ノズル５から吐出された有機ＥＬ材料のうちマスク４の開口４２を通過したものだけが基板１に塗布される。つまり、基板１の溝１１に選択的に有機ＥＬ材料が塗布される。一方、マスク４の開口４２以外に吐出されてきた有機ＥＬ材料はマスク４に付着することとなり、基板１への供給が阻止され、その結果、溝１１以外の基板表面に有機ＥＬ材料が塗布されるのを確実に防止することができる。
【００２１】
そして、マスク４を塗布位置に固定したままノズル５をＸ方向に移動させると、Ｘ方向に延設された溝１１に有機ＥＬ材料がライン状に塗布されていく。このときも、ノズル５から吐出された有機ＥＬ材料は開口４２を通過したものだけが基板１に供給されて塗布されることから溝１１に対して正確に有機ＥＬ材料を塗布することができる。このように、この実施形態では、ノズル５と供給部とにより基板１に向けて有機ＥＬ材料を供給しており、これらノズル５および供給部が本発明の「液体供給手段」として機能している。なお、図面中の符号５２はノズル５の先端部に付着する有機ＥＬ材料を洗浄除去するためのノズル洗浄部であり、ノズル洗浄が必要となると、適宜マスク４に設けられたノズル洗浄用貫通孔４８を介してノズル５の先端部をノズル洗浄部５２に浸漬させてノズル洗浄を行う。
【００２２】
上記のようにしてノズル５による塗布処理を実行した際、マスク４の開口４２の周囲部分、特にノズル５の移動経路（図２中の矢印Ｐ）の延長線上に位置する部分４９に余分な有機ＥＬ材料が付着しやすく、この有機ＥＬ材料をマスク４から除去することが望まれる。そこで、この実施形態では、マスク４の開口４２の周囲部分４９に付着する有機ＥＬ材料を専門的に除去する液体回収部６、６を周囲部分４９に対応させて配設している。すなわち、図１に示すようにノズル５の移動範囲（Ｘ方向における基板サイズと同程度の範囲）の両端に液体回収部６、６がそれぞれ配置されている。
【００２３】
図３は液体回収部の構成を示す斜視図である。この液体回収部６はマスク４の周回方向Ｘにおける下流側に配置されたものであり、図示を省略する液体吸引機構部と配管接続されている。そして、制御部３からの液体回収指令に応じて回収駆動機構部６１（図１）が作動すると、液体吸引機構部から液体回収部６に対して負圧が与えられ、マスク４の開口４２の周囲部分４９を臨むように設けられた回収口６２を介して周囲部分４９から有機ＥＬ材料Ｌを吸引し、所定の回収タンクに回収除去する。なお、図３では下流側の液体回収部６のみを図示しているが、上流側の液体回収部６も全く同様の構成を有しており、上流側の周囲部分４９から有機ＥＬ材料を吸引除去する。
【００２４】
この実施形態では、マスク４に付着する有機ＥＬ材料を洗浄除去するために、マスク洗浄ユニット７がマスク４の周回方向Ｘにおける下流側（図１の右手側）、より詳しくは下流側の液体回収部６とローラ４４との間に配置されている。以下、図４および図５を参照しつつマスク洗浄ユニットの構成について説明する。
【００２５】
図４はマスク洗浄ユニットの構成を示す斜視図であり、図５は図４のマスク洗浄ユニットの断面図である。このマスク洗浄ユニット７は、これらの図に示すようにＸ方向における上流側に配設された溶剤吐出部７１と、下流側に配設された洗浄物回収部７２とで構成されている。この溶剤吐出部７１は、マスク４を挟んで上下方向Ｚに対称配置された上部吐出部７１１と、下部吐出部７１２とを備えている。これら上部および下部吐出部７１１、７１２はともに同一構成を有している。すなわち、これらの吐出部７１１、７１２は図示を省略する溶剤供給部に配管接続されており、制御部３からの溶剤吐出指令に応じて洗浄駆動機構部７３（図１）が作動すると、溶剤供給部から有機ＥＬ材料を溶解する溶剤が吐出部７１１、７１２に圧送される。
【００２６】
そして、この溶剤供給を受けた上部吐出部７１１では、図５に示すように本体７１１ａの内部に形成された流路７１１ｂを介して溶剤が圧送され、吐出口７１１ｃからマスク４の内周面Ｓ１に吐出される。これによって、マスク４の内周面Ｓ１に付着している有機ＥＬ材料Ｌが洗浄される。また、この溶剤供給を受けた下部吐出部７１２においても、上部吐出部７１１と同様にして溶剤吐出が行われる。すなわち、下部吐出部７１２においても、図５に示すように本体７１２ａの内部に形成された流路７１２ｂを介して圧送される溶剤が吐出口７１２ｃからマスク４の外周面Ｓ２に吐出される。これによって、マスク４の外周面Ｓ２に付着している有機ＥＬ材料が洗浄される。なお、この実施形態では、各吐出部７１１、７１２から吐出された溶剤ならびに溶解された有機ＥＬ材料、つまり洗浄物（溶剤＋有機ＥＬ材料）がマスク４の内周面Ｓ１および外周面Ｓ２に沿って洗浄物回収部７２に流れるように溶剤の吐出方向を調整している。
【００２７】
この洗浄物回収部７２は、図５に示すように、マスク４を挟んで上下方向Ｚに対称配置された上部回収部７２１と、下部回収部７２２とを備えている。これら上部および下部回収部７２１、７２２はともに同一構成を有している。すなわち、これらの回収部７２１、７２２は図示を省略する洗浄物吸引機構部に配管接続されており、制御部３からの洗浄物回収指令に応じて洗浄駆動機構部７３（図１）が作動すると、洗浄物吸引機構部から回収部７２１、７２２に対して負圧が与えられ、マスク４の内周面Ｓ１および外周面Ｓ２を臨むように設けられた回収口７２１ａ、７２２ａを介してマスク４から洗浄物（溶剤＋有機ＥＬ材料）を吸引し、所定の回収タンクに回収除去する。
【００２８】
さらに、この実施形態では、マスク４の内周面Ｓ１を撮像するための２つのＣＣＤカメラ８１、８２が設けられており、各ＣＣＤカメラ８１、８２からの出力信号を画像処理部８３に出力するように構成されている。そして、この画像処理部８３はＣＣＤカメラ８１、８２からの画像信号に対して所定の画像処理を施した後、画像処理後の画像データを制御部３に出力している。なお、この画像データを受け取った制御部３は後で詳述するアライメント処理を施してノズル５による塗布軌跡と、基板１上の溝１１（塗布領域）とを正確に一致させて塗布処理の精度を高める。
【００２９】
次に、上記のように構成された塗布装置の動作について、図６ないし図９を参照しつつ説明する。図６は図１の塗布装置の動作を示すフローチャートである。この塗布装置では、図示を省略する搬送ロボットにより未処理の基板１がステージ２上に載置される（ステップＳ１）と、制御部３がメモリ（図示省略）に予め記憶されているプログラムにしたがって装置各部を以下のように制御してアライメント処理（ステップＳ２）を実行する。
【００３０】
図７はアライメント処理のフローチャートである。また、図８はアライメント処理の内容を示す模式図である。このアライメント処理は、ノズル５による塗布軌跡と基板１上の溝１１（塗布領域）とを正確に一致させる処理である。
【００３１】
このアライメント処理では、まず図８（ａ）に示すように、マスク４を試塗位置に位置させる（ステップＳ２１）。この「試塗位置」とは、無端ベルト４１のうち開口４２が形成されていない部分が基板１と対向する位置である。そして、制御部３からの動作指令に応じてノズル駆動機構部５１が作動してノズル５をＸ方向に往復移動させるとともに、マスク４に向けて有機ＥＬ材料を吐出させる（ステップＳ２２）。これによって、塗布軌跡ＣＬがマスク４の内周面上に形成される。そして、この塗布軌跡ＣＬの光学像ＩｃｌをＣＣＤカメラ８１、８２で撮像する（ステップＳ２３）。これによって、例えば図８（ａ）中の画像Ｉ８１、Ｉ８２に示すような塗布軌跡ＣＬの光学像Ｉｃｌが撮像されて制御部３のメモリに一時的に記憶される。
【００３２】
次のステップＳ２４では、制御部３からの駆動指令に応じてマスク駆動機構部４７が作動してマスク４をＸ方向に移動させて塗布位置に位置決めする（同図（ｂ））。また、このマスク移動に伴って塗布軌跡ＣＬが形成されたベルト領域がマスク洗浄ユニット７に搬送されていくため、マスク移動とともに制御部３からの溶剤吐出指令に応じて洗浄駆動機構部７３（図１）が作動してマスク洗浄を実行する（ステップＳ２５）。これによって、試し塗りのためにマスク４に形成された塗布軌跡ＣＬは除去される。
【００３３】
そして、塗布位置ではマスク４の開口４２は基板１の溝（塗布領域）１１と対向配置されているため、この溝１１の光学像Ｉ１１をＣＣＤカメラ８１、８２で撮像する（ステップＳ２６）。これによって、例えば図８（ｂ）中の画像Ｉ８１、Ｉ８２に示すような溝（塗布領域）１１の光学像Ｉ１１が撮像されて制御部３のメモリに一時的に記憶される。なお、溝１１と塗布軌跡ＣＬとの相対関係の理解を容易にするため、各画像Ｉ８１、Ｉ８２に塗布軌跡ＣＬを示す仮想線（１点鎖線）を付している。ここでは、溝１１の光学像Ｉ１１と塗布軌跡ＣＬとが非平行となっており、塗布軌跡ＣＬと溝１１とが一致していないことがわかる。
【００３４】
そこで、この実施形態では、図８（ｃ）に示すように、制御部３が光学像Ｉ１１、Ｉｃｌの画像データに基づきθ方向における塗布軌跡ＣＬに対する溝１１の傾き量を演算により求めた（ステップＳ２７）後、制御部３からの動作指令に応じてステージ駆動機構部２１が作動してステージ２をθ方向に上記傾き量だけ回転させて塗布軌跡ＣＬと溝１１とが平行となるようにステージ２上の基板１を位置決めする（ステップＳ２８）。また、単に基板１を回転位置決めするのみで塗布軌跡ＣＬが溝１１の中心からずれている場合には、さらにステージ２をＹ方向に移動させて塗布軌跡ＣＬが溝１１の中心に位置するように制御する。こうすることで、塗布軌跡ＣＬと塗布領域たる溝１１とを完全に一致させることができる。
【００３５】
こうして、基板１のアライメント処理が完了すると、図６のステップＳ３に進んで塗布処理を実行する。図９は塗布処理のフローチャートである。この塗布処理では、制御部３からの動作指令に応じてノズル駆動機構部５１が作動してノズル５をスタートポイント、つまり開口４２と対向配置されている溝１１の上流端部（図８（ｄ）の左端）に対応する位置に位置決めする（ステップＳ３１）。そして、制御部３からの動作指令に応じてノズル駆動機構部５１が作動してノズル５を（＋Ｘ）方向に移動させるとともに、マスク４に向けて有機ＥＬ材料を吐出させる（ステップＳ３２）。このとき、ノズル５から吐出された有機ＥＬ材料のうちマスク４の開口４２を通過したものだけが該開口４２と対向する溝１１に選択的に塗布される。そして、マスク４の開口４２以外に吐出されてきた有機ＥＬ材料はマスク４に付着することとなり、基板１への供給が阻止され、その結果、溝１１以外の基板表面に有機ＥＬ材料が塗布されるのを確実に防止することができる。また、ノズル５の移動に伴って溝１１に有機ＥＬ材料がライン状に塗布されていく。特に、本実施形態では、このライン塗布に先だってアライメント処理（ステップＳ２）を行うことでノズル５による塗布軌跡ＣＬを溝１１と完全に一致させているため、溝１１に確実に、しかも精度良く有機ＥＬ材料を塗布することができる。
【００３６】
また、この実施形態では、ライン塗布の際にマスク４の上流側周囲部分４９（図２）に付着する有機ＥＬ材料Ｌを回収除去するために、上流側液体回収部６を作動させる（ステップＳ３３）。ただし、上流側液体回収部６の作動によりノズル５から吐出される有機ＥＬ材料の流れが乱れると塗布精度に悪影響が及ぶため、この悪影響が及ばない範囲で上流側液体回収部６を作動させるのが望ましく、例えばノズル５が液体回収部６から所定距離だけ離れた位置を移動している間でのみ作動させるように制御すればよい。この点に関しては、後で説明する下流側液体回収部６においても全く同様である。
【００３７】
そして、ノズル５が折り返し位置、つまりライン塗布処理中の溝１１の下流端部（図８（ｄ）の右端）に対応する位置にまで移動してくると、ステップＳ３４で「ＹＥＳ」と判断されてノズル５の移動方向を反転させる。すなわち、制御部３からの動作指令に応じてノズル駆動機構部５１が作動してノズル５を（−Ｘ）方向に移動させるとともに、マスク４への有機ＥＬ材料の吐出を継続させる（ステップＳ３５）。このときも、ノズル５から吐出された有機ＥＬ材料のうちマスク４の開口４２を通過したものだけが該開口４２と対向する溝１１に選択的に塗布される。もちろん、ノズル５を復動させる際に有機ＥＬ材料の吐出を停止させるようにしてもよいが、溝１１への塗布量が比較的多い場合には本実施形態の如く往動のみならず復動時にもノズル５から有機ＥＬ材料を吐出させてライン塗布するのが望ましい。
【００３８】
また、ノズル５の復動時においても、上流側と同様に、マスク４の下流側周囲部分４９（図２）に付着する有機ＥＬ材料Ｌを回収除去するために、下流側液体回収部６を作動させる（ステップＳ３６）。
【００３９】
次に、ノズル５がスタートポイントに戻ってくると、ステップＳ３７で「ＹＥＳ」と判断され、さらにステップＳ３８で全ての塗布対象の溝１１に有機ＥＬ材料を塗布したか否かを判断する。そして、このステップＳ３８で「ＮＯ」と判断する、つまり未塗布の溝１１が残っている間、制御部３からの動作指令に応じてステージ駆動機構部２１が作動してステージ２をＹ方向に所定ピッチだけ移動させた（ステップＳ３９）後、ステップＳ３２に進み、次の溝１１に対して上記一連のライン塗布を実行する。
【００４０】
一方、ステップＳ３８で「ＹＥＳ」と判断すると、塗布処理を終了し、図６のステップＳ４に進む。
【００４１】
このステップＳ４では、制御部３からの駆動指令に応じてマスク駆動機構部４７が作動してマスク４をＸ方向に移動させるとともに、搬送ロボットによりステージ２から処理済の基板１をアンロードし、次の処理装置に搬送する（ステップＳ５）。
【００４２】
また、上記マスク移動に伴って開口４２が形成されたベルト領域がマスク洗浄ユニット７に搬送されていくため、マスク移動とともに制御部３からの溶剤吐出指令に応じて洗浄駆動機構部７３（図１）が作動してマスク洗浄を実行する（ステップＳ６）。これによって、開口４２の周囲部分に付着した余剰の有機ＥＬ材料はマスク４から除去され、再利用が可能となる。
【００４３】
以上のように、この実施形態によれば、ノズル５から吐出された有機ＥＬ材料をマスク４の開口４２を介して基板１に供給して塗布するように構成しているため、その基板１上のうち該開口４２に対向する溝１１に選択的に有機ＥＬ材料を塗布することができ、その溝１１以外の領域に有機ＥＬ材料が塗布されるのを確実に防止することができる。したがって、この塗布装置を用いることで溝１１に有機ＥＬ材料を正確に塗布することができる。
【００４４】
また、ノズル５から吐出された有機ＥＬ材料のうち開口４２から外れた有機ＥＬ材料はマスク４に付着するが、マスク４を洗浄するマスク洗浄ユニット７を設けているため、マスク４を繰り返して使用することが可能となってランニングコストを低減させることができる。このように、この実施形態ではマスク洗浄ユニット７が本発明の「液体除去手段」として機能している。
【００４５】
また、この「液体除去手段」として、本実施形態では、塗布位置に位置決めされたマスク４の開口４２の近傍に配置されてマスク４の開口４２の周囲部分４９に付着した有機ＥＬ材料を回収除去する液体回収部６を設けている。このため、以下のような作用効果も得られる。すなわち、この実施形態ではマスク洗浄ユニット７を設けていることから、全ての溝１１に有機ＥＬ材料を塗布した後でマスク洗浄を実行してマスク４に付着している有機ＥＬ材料を洗浄除去するようにしてもよい。ここで、ノズル５が１回往復移動することでマスク４の開口４２の周囲部分４９に付着する有機ＥＬ材料の付着量が比較的少ないかもしれないが、マスク４が塗布位置に固定されたまま基板１がＹ方向にピッチ移動されるたびにノズル５が往復移動するため、開口４２の周囲部分４９に多量の有機ＥＬ材料が堆積し、やがて堆積物（有機ＥＬ材料）の一部がマスク４から離れて基板１に再付着して製品歩留りを低下させるという問題が発生するおそれがある。これに対し、この実施形態では、液体回収部６がマスク４の開口４２の周囲部分４９に付着した有機ＥＬ材料を回収除去するため、有機ＥＬ材料の堆積を未然に防止して上記問題を解消することができる。なお、上記実施形態では、ノズル５が往復移動するたびに液体回収部６を作動させて有機ＥＬ材料の回収除去を図っているが、液体回収部６の作動タイミングはこれに限定されるものではなく、ノズル５が複数回往復移動するたびに液体回収部６を作動させるようにしてもよい。
【００４６】
また、液体回収部６としては、マスク４に付着している有機ＥＬ材料を回収除去できるものであれば、如何なる構成のものを採用してもよいのであるが、特に本実施形態では液体回収部６がマスク４に付着している有機ＥＬ材料を吸引除去するように構成されているため、マスク４に付着している有機ＥＬ材料を除去する際に該有機ＥＬ材料を基板１側に飛散させることなく、確実に回収することができ、好適である。
【００４７】
さらに、上記実施形態では、所定の周回軌道上を循環移動する無端ベルト４１の一部に開口４２を形成したものをマスク４として用いているため、板状のマスクをマスク収容部と塗布位置との間でマスク搬送ロボットなどの搬送装置により往復搬送する場合に比べて装置構成を簡素化することができ、装置の小型化やコスト低減を図ることができる。また、上記のようにして塗布処理を行った場合、開口４２を形成したベルト部分では、その開口４２の周囲部分４９に有機ＥＬ材料が付着するが、塗布処理の完了に続いて無端ベルト４１を周回軌道に沿って移動させると、開口４２を形成したベルト部分が基板１から離れてマスク４に付着した有機ＥＬ材料がマスク４から離れて基板１に再付着するのを防止することができる。しかも、無端ベルト４１の移動により開口４２を形成したベルト部分は周回軌道上に配置されたマスク洗浄ユニット７に搬送され、マスク搬送と同時にマスク洗浄を行うことができ、塗布装置のスループットを短縮することができる。
【００４８】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、無端ベルト４１に開口４２を１個設けてなるマスク４を用いているが、開口４２の個数や配設位置などについては特に限定されるものではなく、例えば複数個設けるようにしてもよい。そして、その開口４２の個数に合わせて複数個のノズル５を配置して同時に移動し、塗布する構成としても良い。また、無端ベルト４１を用いることが必須構成要件ではなく、例えば板状のマスクを使用して塗布処理を行う塗布装置に対しても本発明を適用することができる。
【００４９】
また、上記実施形態では、Ｘ方向に１ライン状の溝１１がＹ方向に複数個形成された基板１に対して有機ＥＬ材料を塗布する塗布装置に対して本発明を適用しているが、Ｘ方向に２ライン以上の溝が形成された基板に有機ＥＬ材料を塗布する塗布装置や溝を設けることなく基板の所定の表面領域に直接有機ＥＬ材料を塗布する塗布装置などにも本発明を適用することができ、その塗布領域（上記溝や所定の表面領域）に対応した開口を有するマスクを用いればよい。
【００５０】
また、上記実施形態では、液体除去手段として、液体回収部６およびマスク洗浄ユニット７を装備しているが、いずれか一方のみを装備するようにしてもよい。また、上記液体回収部６は固定配置されているが、例えば図１０に示すようにノズル５に対して吸引チューブ６３を取り付けてノズル５と一体的に移動可能としてもよい。この装置では、ノズル５の移動位置に応じて吸引チューブ６３による有機ＥＬ材料の吸引・停止を制御することで開口４２の周囲部分４９に付着する有機ＥＬ材料を吸引回収することができる。
【００５１】
さらに、本発明の適用対象は有機ＥＬ塗布装置に限定されるものではなく、半導体ウエハ、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板にフォトレジスト液、現像液、エッチング液などの塗布液を塗布する塗布装置に対して適用することができる。すなわち、本発明は液体を基板上の塗布領域に塗布する塗布装置全般に適用することができる。
【００５２】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、液体供給手段から吐出された液体をマスクの開口を介して基板に供給するように構成しているので、その基板上のうち該開口に対向する塗布領域に選択的に液体を塗布することができ、その塗布領域以外の領域に液体が塗布されるのを確実に防止することができる。すなわち、このように開口に対応した塗布領域に液体を正確に塗布することができる。また、液体供給手段から吐出された液体のうち開口から外れ、マスクに付着した液体については、液体除去手段によってマスクから除去されるため、マスクに付着した液体がマスクから離れて基板に再付着するのを未然に防止して優れた製品歩留りで塗布処理を行うことができる。しかも、同じマスクを繰り返して使用することが可能となり、低ランニングコストで塗布処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明にかかる塗布装置の一実施形態を示す図である。
【図２】図１の塗布装置での基板、マスクおよびノズルの位置関係を模式的に示す図である。
【図３】液体回収部の構成を示す斜視図である。
【図４】マスク洗浄ユニットの構成を示す斜視図である。
【図５】図４のマスク洗浄ユニットの断面図である。
【図６】図１の塗布装置の動作を示すフローチャートである。
【図７】アライメント処理のフローチャートである。
【図８】アライメント処理の内容を示す模式図である。
【図９】塗布処理のフローチャートである。
【図１０】この発明にかかる塗布装置の他の実施形態を示す図である。
【符号の説明】
１…基板
４…マスク
５…ノズル（液体供給手段）
６…液体回収部（液体除去手段）
７…マスク洗浄ユニット（液体除去手段）
１１…溝（塗布領域）
４１…無端ベルト
４２…開口
４９…周囲部分
６３…吸引チューブ（液体除去手段）
７１…溶剤吐出部
７２…洗浄物回収部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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