(57)【要約】【課題】波面収差補正ミラーの固定時における平面度の低下を防止し、また、位置決めの高精度化を図る。【解決手段】ミラー基板（６）には、４辺の内の１辺の中央部分にドライエッチングによって形成された円形のエッチング凹部（２１ａ）が設けられている。このエッチング凹部（２１ａ）の位置は、半導体プロセスのエッチング用マスクによってミラーの設計された光軸（ミラーの中心）に対し正確に決められている。このため、光軸との位置精度は数ミクロン以下で設定できており、位置決め用の凹部としては最適である。【選択図】　　　図１
2004109843.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面に、位置決め用の凹部が少なくとも１カ所設けられていることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項２】
請求項１記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部がエッチングによって作られていることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項３】
請求項２記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部が異方性エッチングによって作られていることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーを固定するミラー固定用ベースに凸部が少なくとも１個設けられていることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項５】
請求項４記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部がエッチングによって作られていることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項６】
請求項５記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部が異方性エッチングによって作られていることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凹部または穴があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凸部があることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凸部があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凹部または穴があることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項９】
ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーは少なくとも１点が硬い接着剤により固定され、他は柔軟性のある接着剤によって固定されることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項１０】
請求項９記載の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が波面収差補正ミラーの四隅の１つであり、柔軟性の接着剤による固定部分は四隅の残り三隅の３点であることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項１１】
請求項９記載の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が補正ミラーの四辺の１つの中心であり、柔軟性の接着剤による固定部分は四辺の残りの３辺の中心であることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項１２】
請求項９記載の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が補正ミラーの四隅の１つ、または、四辺の１つの中心であり、柔軟性の接着剤による固定部分はその点以外の四辺であることを特徴とする波面収差補正装置。
【請求項１３】
レーザ光の光軸上にレーザー光の収差を補正する収差補正手段を有し、該収差補正手段として、請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の波面収差補正装置が用いられていることを特徴とする光ピックアップ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、波面収差補正装置および光ピックアップに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、光ディスクを用いた情報記憶装置として、ＣＤやＤＶＤなどがある。ＤＶＤなどは、ＣＤに比べて記録密度が高いため、情報を読み書きするときの条件が厳しくなっている。
【０００３】
例えば、光ピックアップの光軸とディスク面は垂直であることが理想であるが、実際にはディスクが樹脂製のため、かなりうねりを持っていて、これを回転させると、光ピックアップの光軸とディスク面は常に垂直ではなくなる（これを以降、チルトと表現する）。また、ディスクは、図２２（ａ），（ｂ）に示すように、記録層（１０８）が樹脂層（１０２）を介しているため、ディスク面が垂直でなくなると光路が曲げられディスク上に正しくスポットを絞れなくなり、コマ収差（１０３）が発生する。この収差が許容される量よりも大きくなると、正しく読み書きが出来なくなるという不具合が生じる。なお、図２２（ａ），（ｂ）はディスクがそれぞれＣＤ，ＤＶＤの場合である。
【０００４】
チルトの影響を少なくする手段としては、対物レンズと記録層との間の樹脂層を薄くすることがある。実際に、ＤＶＤ（図２２（ｂ））が、ＣＤ（図２２（ａ））に比較して、対物レンズ（１０１）と記録層（１０８）との間の樹脂層（１０２）の厚さを半分にしたのは、この効果を狙ったものである。しかし、この方法の場合、ＤＶＤよりも高密度記録をしようとした場合には樹脂層をもっと薄くしてさらにチルトの影響を少なくすることになるが、今度はディスク上にごみや傷がついた場合に、信号が正しく読み書きできなくなるという不具合が生じる。このため、アクチュエータによって光軸を傾けて（チルト）対応しているのが現状である。
【０００５】
チルトを光学的に補正するため、液晶を用いたり（例えば、特許文献１参照。）、透明圧電素子を用いたり（例えば、特許文献２参照。）、可変ミラーを用いたりする（例えば、特許文献３参照。）ことが提案されている。
【０００６】
具体的に、特許文献１（図１９）では、液晶板を用いて位相制御することによりコマ収差を補正している。しかし、この方法では、レーザーが液晶板を通過するために光量が減衰し、書き込みに必要なエネルギーを得ることが困難であり、また液晶の特性から、特にタンジェンシャルチルト制御に要求される高周波動作に使用するのは困難であると思われる。
【０００７】
また、特許文献２（図２０）では、実際に透明圧電素子単体で必要な変位量を得るためには高電圧が必要となり、光ピックアップなどに用いるには現実的ではない。
【０００８】
また、特許文献３（図２１）は、ミラー自体を積層型圧電素子で変形させ位相制御するようにしている。しかし、光ピックアップなどの小さい部品に用いるには配線などの考慮がされておらず、複雑になりかつ組み付けコストも高くなる。また、配線などの問題が解決できたとしても、積層型圧電素子をかなり小さくしなければならなくなるため、技術的にもコスト的にもなかなか困難である。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１０−７９１３５号公報
【００１０】
【特許文献２】
特開平５−１４４０５６号公報
【００１１】
【特許文献３】
特開平５−３３３２７４号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
このような情報を読み書きするときに不具合を生じさせるチルトの影響を、圧電素子を使用したユニモルフまたはバイモルフ形状の波面収差補正ミラーで波面収差を補正する方法が、低電圧で小型化にも有利であると考えられるが、ミラー基板のミラー面を変形させる場合、低電圧で駆動させるためには変形しやすくなくてはならない。
【００１３】
このためにはミラー基板を薄くすることが一番効果的であるが、図１４（ａ），（ｂ），図１５（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）に示すような波面収差補正ミラーの場合、ミラー基板を薄くすると、ミラーを固定するときも変形しやすくなっているため、固定する部分がミラーの平面度に影響を及ぼしてしまう可能性が高くなる。
【００１４】
また、ミラーを変形させる時にはミラーの光軸と光学系の光軸が合っていないと、変形することにより収差がよけい悪くなってしまう可能性がある。
【００１５】
本発明は、波面収差補正ミラーの固定時における平面度の低下を防止し、また、位置決めの高精度化を図ることの可能な波面収差補正装置および光ピックアップを提供することを目的としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明は、ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面に、位置決め用の凹部が少なくとも１カ所設けられていることを特徴としている。
【００１７】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部がエッチングによって作られていることを特徴としている。
【００１８】
また、請求項３記載の発明は、請求項２記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部が異方性エッチングによって作られていることを特徴としている。
【００１９】
また、請求項４記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーを固定するミラー固定用ベースに凸部が少なくとも１個設けられていることを特徴としている。
【００２０】
また、請求項５記載の発明は、請求項４記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部がエッチングによって作られていることを特徴としている。
【００２１】
また、請求項６記載の発明は、請求項５記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部が異方性エッチングによって作られていることを特徴としている。
【００２２】
また、請求項７記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凹部または穴があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凸部があることを特徴としている。
【００２３】
また、請求項８記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凸部があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凹部または穴があることを特徴としている。
【００２４】
また、請求項９記載の発明は、ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーは少なくとも１点が硬い接着剤により固定され、他は柔軟性のある接着剤によって固定されることを特徴としている。
【００２５】
また、請求項１０記載の発明は、請求項９記載の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が波面収差補正ミラーの四隅の１つであり、柔軟性の接着剤による固定部分は四隅の残り三隅の３点であることを特徴としている。
【００２６】
また、請求項１１記載の発明は、請求項９記載の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が補正ミラーの四辺の１つの中心であり、柔軟性の接着剤による固定部分は四辺の残りの３辺の中心であることを特徴としている。
【００２７】
また、請求項１２記載の発明は、請求項９記載の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が補正ミラーの四隅の１つ、または、四辺の１つの中心であり、柔軟性の接着剤による固定部分はその点以外の四辺であることを特徴としている。
【００２８】
また、請求項１３記載の発明は、レーザ光の光軸上にレーザー光の収差を補正する収差補正手段を有し、該収差補正手段として、請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の波面収差補正装置が用いられていることを特徴とする光ピックアップである。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００３０】
図１４（ａ），（ｂ）はミラー面が変位する波面収差補正ミラーの一例を示す図である。なお、図１４（ａ）は斜視図であり、図１４（ｂ）は図１４（ａ）のＡ−Ａ’における断面図である。
【００３１】
図１４（ａ），（ｂ）を参照すると、ミラー基板（６）にはミラー材（１）が付いており、その反対側の面には、絶縁層（７）が付いている。絶縁層（７）の下には、共通電極（４）が付いており、その下に、圧電極性が一方向の圧電材料（２）が付いて、さらにその下に、左右に分かれた個別電極（５）が付いている（なお、ここで、上下の表現は断面図でミラー基板（６）のミラー面を上として表現している）。このような構造のミラー部は、ミラー固定用ベース（８）に両端で固定されている。
【００３２】
ところで、このような構造で、電極（４）を接地し、左右に分かれた個別電極（５）の−方にプラスの電圧をかけ、他方にマイナスの電圧をかけたとすると、ミラー基板（６）の断面にあたる部分は、例えば図１８（ｂ）に示すような断面形状になる。個別電極（５）に逆電圧をかけた場合には、その逆の形状になる。
【００３３】
つまり、ミラー基板（６）は電圧がかかっても伸び縮みしないが、圧電材料（２）は電圧がかかれば伸び縮みするため、個別電極（５）にプラスの電圧を加えた場合、その部分の圧電材料（２）が横方向に縮むとすると、マイナス電圧をかけた場合には、その部分の圧電材料（２）は横方向に伸びることになり、個別電極（５）にプラスの電圧を加えた場合には、ミラー基板（６）のミラー材（１）の面は凸になり、個別電極（５）にマイナスの電圧を加えた場合には、ミラー基板（６）のミラー材（１）の面は凹になる。
【００３４】
このような波面収差補正ミラーを図１６に示すような光ピックアップの光軸上に設け制御することにより、チルトによるコマ収差を低減することが可能になる。
【００３５】
なお、図１６において、（１０）は波面収差補正ミラー、（１１）は光ディスク、（１２）は対物レンズ及び対物光学系、（１３）立ち上げミラー、（１４）は偏光ビームスプリッタ、（１５）はレーザ素子及びレーザ光学系、（１６）は光検出素子及び光検出光学系である。
【００３６】
図１６の光ピックアップでは、レーザー素子（１５）から発せられたレーザー光は、レーザ光学系により平行光にされ偏光ビームスプリッタ（１４）を通り、波面収差補正ミラー（１０）で反射され、立ち上げミラー（１３）でさらに反射され、対物レンズ及び対物光学系（１２）で集光され、光ディスク（１１）に焦点を結ぶ。
【００３７】
また、光ディスク（１１）から反射したレーザ光は、対物レンズ及び対物光学系（１２）を通り、立ち上げミラー（１３）で反射され、波面収差補正ミラー（１０）で反射され、偏光ビームスプリッタ（１４）を通り、光検出光学系で集光され、光検出素子（１６）で検出される。この検出素子にはチルト検出用の検出素子も設置されている。
【００３８】
なお、図１７に示すように、立ち上げミラー（１３）のかわりに直接波面収差補正ミラー（１０）を用いた光学系でも良い。
【００３９】
このような光学系で、光ディスク（１１）がレーザ光の光軸に対し垂直な位置から傾くと、光ディスクから反射して戻ってきたレーザ光の波面は乱れ、例えば図１８（ａ）に示すような波面収差（コマ収差）が発生する。ここで横軸は例えば図１４（ａ）に示す波面収差補正ミラーのＡ−Ａ’断面と同一断面であり、縦軸は波面収差である。つまり、図１６の光学系で、光ディスク（１１）がチルトしたときに波面収差補正ミラー（１０）のミラー面は平らであり、そこで反射した反射光の波面収差である。ちなみに、光ディスク（１１）がレーザ光の光軸に対し垂直であれば、波面は図１８（ａ）に示すような収差は発生せず、横軸と同じでまっすぐになる。図２３は波面の面方向を等高線で表した図であり、Ａ−Ａ’断面が図１８（ａ）のようになっている。
【００４０】
図１８（ｂ）は波面収差補正ミラー（１０）を故意に収差を発生させるよう動作させ、その反射光の波面収差を表した例である。ここで、横軸は例えば図１４（ａ）に示す波面収差補正ミラーのミラー表面のＡ−Ａ’断面と同一断面であり、縦軸は波面収差である。
【００４１】
いま仮に、光ディスクが傾き、ディスクからの反射光の波面が図１８（ａ）であったとする。ディスクが傾いていない時の反射光の波面が図１８（ｂ）のようになるよう波面収差補正ミラーを制御すれば、波面収差補正ミラーから反射された反射光の波面は図１８（ｃ）のようになり、図１８（ａ）にくらべ波面収差を低減させることが可能となる。
【００４２】
しかし、このような構造の波面収差補正ミラーは、ミラー基板を薄くしていくと、その取り扱いの困難さや、薄い基板を直接固定してしまうため平面度が悪くなってしまうという不具合を生じる。平面度が悪くなると、本来波面収差を低減させたい変形形状に変形させることができなくなる。
【００４３】
このため、図１５（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）に示すように、変形させたい部分だけ薄くして周辺は厚いままのメンブレン構造が提案されている。なお、図１５（ａ）はミラー固定用ベースに固定された状態の斜視図であり、図１５（ｂ）はミラー基板（６）をミラー裏面から見た斜視図である。なお、見やすいように一部省略して描いてある。また、図１５（ｃ）または図１５（ｄ）はＡ−Ａ’断面図である。
【００４４】
図１５（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）の構造は、周辺の枠部分で強度をもたせ、その部分で固定し、変形させる部分の平面度の劣化を抑えようとするものである。
【００４５】
図１５（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照すると、ミラー基板（６）にはミラー材（１）が付いており、その反対側の面には、絶縁層（７）が付いている。絶縁層（７）の下には、ミラー側個別電極（４ａ）が付いており、その下には、圧電極性が一方向の圧電材料（２）が付いて、さらにその下に、左右に分かれた個別電極（５）が付いている（ここで、上下の表現は、断面図でミラー基板（６）のミラー面を上として表現している）。このような構造であるミラー部はミラー固定用ベース（８）に両端のミラー固定部（３）で固定されている。
【００４６】
ミラー基板（６）は、例えばシリコン基板であれば、半導体のプロセス技術を用いることができるため、基板を薄くするにもエッチング技術を用いれば良い。
【００４７】
ここで、図１５（ｃ）は、通常のドライエッチング技術を使用してエッチング壁（９）を垂直に作ったものである。また、図１５（ｄ）は異方性エッチング技術を使用してエッチング壁（９）を作ったものであり、エッチング壁（９）が斜めになっている。
【００４８】
しかしながら、このような構造だけでは完璧ではなく、ミラーを固定する側の平面度が著しく悪いと、ミラーの平面度は劣化してしまう。
【００４９】
また、波面収差補正をしなくても良い普通のミラーであれば必要なコリメート光を反射させれば良く、その取り付け精度もさほど厳しくないが、波面収差補正ミラーは変形するため、コリメート光の光軸に対する位置精度も厳しくなっている。このため従来のようの固定方法では、収差補正の効果が低下する恐れがある。
【００５０】
本発明は、これらの補正ミラーの固定時における平面度低下の不具合や、位置決めの高精度化を、固定方法や位置決め構造によって解決することを意図している。
【００５１】
（第１の実施形態）
図１は本発明の第１の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。本発明の第１の実施形態の波面収差補正装置に用いられる波面収差補正ミラーも、基本構造は、図１４や図１５で示したミラー面が可変する波面収差補正ミラーの例とほぼ同じであり、見やすくするため一部省略してある。
【００５２】
図１（ａ）はミラー基板（６）をミラー裏面から見た斜視図であり、図１（ｂ）はミラー基板（６）をミラー裏面から見た平面図であり、見やすいように一部省略して描いてある。
【００５３】
図１（ａ），（ｂ）を参照すると、ミラー基板（６）には、４辺の内の１辺の中央部分にドライエッチングによって形成された円形のエッチング凹部（２１ａ）が設けられている。このエッチング凹部（２１ａ）の位置は、半導体プロセスのエッチング用マスクによってミラーの設計された光軸（ミラーの中心）に対し正確に決められている。このため、光軸との位置精度は数ミクロン以下で設定できており、位置決め用の凹部としては最適である。
【００５４】
また、図１（ｃ），（ｄ）はミラー表面側から見た平面図であり、それぞれ位置決め用凸部（２２）との位置決めを説明するための図である。図１（ｃ），（ｄ）を参照すると、位置決め用凸部（２２）は、ミラーの光軸と光学系の光軸とが一致するような位置にあらかじめ配置されている。
【００５５】
図１（ｃ）では、エッチング凹部（２１ａ）には位置決め用凸部（２２）がスムーズに回転できる程度の精度ではめ合わされており、もう一つの位置決め用凸部（２２）はミラー基板（６）の側面が当たって位置決めできるような位置に配置され、ミラー基板（６）を図の矢印の方向に回転させ位置決め用凸部（２２）に接したところで位置決めできるようになっている。
【００５６】
また、図１（ｄ）では、エッチング凹部（２１ａ）には位置決め用凸部（２２）がスムーズに回転できる程度の精度ではめ合わされており、もう一つの位置決め用凸部（２２）はミラー基板（６）の内側のエッチング壁（９）が当たって位置決めできるような位置に配置され、ミラー基板（６）を図の矢印の方向に回転させ位置決め用凸部（２２）に接したところで位置決めできるようになっている。図１（ｄ）の例では、エッチング壁（９）の位置も半導体プロセスのエッチング用マスクによって正確に決められるので、図１（ｃ）の例に比べてさらに精度良く位置決めすることが可能である。
【００５７】
なお、一例として、ミラー基板（６）としてはＳｉ（シリコン）を用い、圧電材料（２）としてはＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）を用い、エッチングにはＳＦ６系のガスを用いることができる。
【００５８】
（第２の実施形態）
図２（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の第２の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【００５９】
図２（ａ）はミラー基板（６）をミラー裏面から見た斜視図であり、図２（ｂ）はミラー基板（６）をミラー裏面から見た平面図であり、見やすいように一部省略して描いてある。図２（ａ），（ｂ）を参照すると、ミラー基板（６）には、４辺の内の１辺の中央部分にドライエッチングによって形成された円形のエッチング凹部（２１ａ）が設けられている。さらに、他の１辺には、ドライエッチングによって形成された長円形のエッチング凹部（２１ｂ）が設けられている。これらのエッチング凹部（２１ａ），（２１ｂ）の位置は、半導体プロセスのエッチング用マスクによってミラーの設計された光軸（ミラーの中心）に対して正確に決められている。このため、光軸との位置精度は数ミクロン以下で設定できており、位置決め用の凹部としては最適である。
【００６０】
また、図２（ｃ）はミラー表面側から見た平面図であり、位置決め用凸部（２２）との位置決めを説明するための図であり、位置決め用凸部（２２）は、ミラーの光軸と光学系の光軸が一致するような位置にあらかじめ配置されている。
【００６１】
図２（ｃ）を参照すると、エッチング凹部（２１ａ）には、一方の位置決め用凸部（２２）がスムーズに回転できる程度の精度ではめ合わされており、また、エッチング凹部（２１ｂ）には、他方の位置決め用凸部（２２）がスムーズに入る程度の精度ではめ合わされ、位置決めできるようになっている。
【００６２】
なお、一例として、ミラー基板（６）としてはＳｉ（シリコン）を用い、圧電材料（２）としてはＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）を用い、エッチングにはＳＦ６系のガスを用いることができる。
【００６３】
（第３の実施形態）
図３（ａ），（ｂ）は本発明の第３の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【００６４】
図３（ａ）はミラー基板（６）をミラー裏面から見た斜視図であり、見やすいように一部省略して描いてある。図３（ａ）を参照すると、ミラー基板（６）には、４辺の内の１辺の中央部分に異方性エッチングによって形成された矩形のエッチング凹部（２１ｃ）が設けられている。図３（ｂ）は、それに加え、さらに、他の１辺には異方性エッチングによって形成された長矩形のエッチング凹部（２１ｄ）が設けられている。これらのエッチング凹部（２１ｃ），（２１ｄ）の位置は、半導体プロセスのエッチング用マスクによってミラーの設計された光軸（ミラーの中心）に対して正確に決められている。このため、光軸との位置精度は数ミクロン以下で設定できており、位置決め用の凹部としては最適である。
【００６５】
このようして得られた凹部を利用し、図１（ｃ），（ｄ），図２（ｃ）で説明したのと同じようにすれば、高精度な位置決めができる。
【００６６】
なお、一例として、ミラー基板（６）としてはＳｉ（シリコン）を用い、圧電材料（２）としてはＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）を用い、エッチングにはＫＯＨ（水酸化カリウム溶液）を用いることができる。
【００６７】
（第４の実施形態）
図４（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の第４の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【００６８】
図４（ａ），（ｂ），（ｃ）は、図１で示した位置決め用凸部をミラー固定用ベース（８）に設けた例を示す図であり、ミラー基板（６）を固定する側から見た斜視図となっており、見やすいように一部省略して描いてある。
【００６９】
図４（ａ）では、ミラー固定用ベース（８）には、ミラー基板（６）の４辺の内の１辺の中央部分にあたるところに、ミラー固定用ベース（８）全体をドライエッチングによって掘り、マスクによって残した円形のエッチング凸部（２３ａ）が設けられている。図４（ｂ），（ｃ）では、さらに、マスクによって残した円形のエッチング凸部（２３ａ）が設けられている。これらのエッチング凸部（２３ａ）の位置は、半導体プロセスのエッチング用マスクによってミラーの設計された光軸（ミラーの中心）に対して正確に決められている。このため、光軸との位置精度は数ミクロン以下で設定できており、位置決め用の凸部としては最適である。
【００７０】
このようにして得た円形のエッチング凸部（２３ａ）は、図１（ｃ），（ｄ），図２（ｃ）で説明した位置決め用凸部（２２）として用いれば、ミラー基板（６）とミラー固定用ベース（８）は高精度な位置決めができる。
【００７１】
なお、一例として、ミラー基板（６）としてはＳｉ（シリコン）を用い、圧電材料（２）としてはＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）を用い、エッチングにはＳＦ６系のガスを用いることができる。
【００７２】
図５はエッチングに異方性エッチングを用いた例を示す図である。すなわち、図５は図１（ｃ），（ｄ），図２（ｃ）に示した位置決め用凸部をミラー固定用ベース（８）に設けた例であり、ミラー基板（６）を固定する側から見た斜視図であって、見やすいように一部省略して描いてある。
【００７３】
図５において、ミラー固定用ベース（８）には、ミラー基板（６）の４辺の内の１辺の中央部分にあたるところに、ミラー固定用ベース（８）全体を異方性エッチングによって掘り、マスクによって残した矩形のエッチング凸部（２３ｂ）が設けられている。さらに、マスクによって残した矩形のエッチング凸部（２３ｂ）が設けられている。これらのエッチング凸部（２３ｂ）の位置は、半導体プロセスのエッチング用マスクによってミラーの設計された光軸（ミラーの中心）に対して正確に決められている。このため、光軸との位置精度は数ミクロン以下で設定できており、位置決め用の凸部としては最適である。
【００７４】
このようにして得た矩形のエッチング凸部（２３ｂ）は、図１（ｃ），（ｄ），図２（ｃ）で説明した位置決め用凸部（２２）として用いれば、ミラー基板（６）とミラー固定用ベース（８）は高精度な位置決めができる。ただし、このときはミラー基板（６）側の凹部は円形である。
【００７５】
なお、一例として、ミラー基板（６）としてはＳｉ（シリコン）を用い、圧電材料（２）としてはＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）を用い、エッチングにはＫＯＨ（水酸化カリウム溶液）を用いることができる。
【００７６】
（第５の実施形態）
図６，図７は、本発明の第５の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【００７７】
図６（ａ），（ｂ）はミラー基板（６）とミラー固定用ベース（８）を固定したときの断面図であり、図７（ａ），（ｄ），（ｃ）はそれぞれミラー基板（６）裏面の平面図、ミラー固定用ベース（８）のミラー基板（６）固定側から見た平面図、ミラー固定用ベース（８）の裏面から見た平面図である。
【００７８】
断面図と平面図の関係は、図６（ａ）は図７のＢ１−Ｂ１’断面を、図６（ｂ）は図７のＢ２−Ｂ２’断面を表しており、図７（ａ）は図６（ａ）のＤ方向から見た平面図を表し、図７（ｂ）は図６（ａ）のＣ方向からみた平面図を表し、図７（ｃ）は図６（ｂ）のＥ方向から見た平面図を表している。
【００７９】
図６，図７を参照すると、ミラー固定用ベース（８）側に設けられた円形のエッチング凸部（２３ａ）は、ミラー基板（６）側に設けられた円形のエッチング凹部（２１ａ）と長円形のエッチング凹部（２１ｂ）で精度良くはめ合わされている。ミラー固定用ベース（８）の裏面には、あらかじめ精度良く設計された、円形のエッチング凹部（２４ａ），長円形のエッチング凹部（２４ｂ）が設けられている。
【００８０】
また、図８には、ユニットベース（２５）にあらかじめ光軸位置に合うよう設計された位置決め用凸部（２５ａ）が示されている。
【００８１】
このようにして組み合わせたものが図９であり、ミラー固定用ベース（８）側の円形のエッチング凹部（２４ａ），長円形のエッチング凹部（２４ｂ）と位置決め用凸部（２５ａ）とがはめ合わされることによって、高精度な位置決めが可能となる。
【００８２】
（第６の実施形態）
図１０（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の第６の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。ここで、図１０（ａ），（ｂ）は、それぞれ、ミラー基板（６）裏面の平面図、ミラー固定用ベース（８）のミラー基板（６）固定側から見た平面図であり、また、図１０（ｃ）はミラーをユニットベースに組み込んだ断面図である。
【００８３】
図１０（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照すると、ミラー固定用ベース（８）側に設けられた円形のエッチング凸部（２３ａ）は、ミラー基板（６）側に設けられた円形のエッチング凹部（２１ａ）と長円形のエッチング凹部（２１ｂ）で精度良くはめ合わされている。さらに、ミラー固定用ベース（８）には、あらかじめ精度良く設計され、エッチング凸部（２３ａ）と同時にエッチングして形成されたエッチング凸部（２６ａ）が設けられている。また、ユニットベース（２５）には、あらかじめ光軸位置に合うよう設計された位置決め用凹部（２５ｂ）が設けられている。
【００８４】
このようにして組み合わせたものが図１０（ｃ）である。また、図１１はその斜視図である。図１０（ｃ），図１１を参照すると、ミラー固定用ベース（８）側のエッチング凸部（２３ａ）と同時にエッチングした円形のエッチング凸部（２６ａ）と位置決め用凹部（２５ｂ）とがはめ合わされることによって、高精度な位置決めが可能となる。
【００８５】
（第７の実施形態）
図１２（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の第７の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。ここで、図１２（ａ）はミラー基板（６）裏面の平面図、図１２（ｂ）はミラー基板（６）とミラー固定用ベース（８）を組み合わせたときの側面図である。
【００８６】
図１２（ａ），（ｂ）を参照すると、ミラー基板（６）の４隅のうち１隅には硬い接着剤（２７ａ）が付けてあり、残りの３隅には柔軟性のある接着剤（２７ｂ）が付いている。この状態でミラー基板（６）をミラー固定用ベース（８）と組み合わせる。
【００８７】
この際、硬い接着剤（２７ａ）は位置精度を保持し、１隅以外は柔軟性のある接着剤（２７ｂ）であるため、ミラー固定用ベース（８）の平面度が悪くても面の悪さの影響を吸収することができ、ミラーの平面度の劣化を防ぐことが可能となる。
【００８８】
図１２（ｃ）は別な位置でのミラー例であり、ミラー基板（６）の４辺のうち１辺の中央には硬い接着剤（２７ａ）が付けてあり、残りの３辺の中央には柔軟性のある接着剤（２７ｂ）が付いている。この状態でミラー基板（６）をミラー固定用ベース（８）と組み合わせる。
【００８９】
この際、硬い接着剤（２７ａ）は位置精度を保持し、３辺は柔軟性のある接着剤（２７ｂ）であるため、ミラー固定用ベース（８）の平面度が悪くても面の悪さの影響を吸収することができ、ミラーの平面度の劣化を防ぐことが可能となる。
【００９０】
（第８の実施形態）
図１３（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の第８の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。ここで、図１３（ａ）はミラー基板（６）裏面の平面図、図１３（ｂ）はミラー基板（６）とミラー固定用ベース（８）を組み合わせたときの側面図である。
【００９１】
図１３（ａ），（ｂ）を参照すると、ミラー基板（６）の４隅のうち１隅には硬い接着剤（２７ａ）が付けてあり、それ以外の辺や隅には柔軟性のある接着剤（２７ｂ）が付いている。この状態でミラー基板（６）をミラー固定用ベース（８）と組み合わせる。
【００９２】
この際、硬い接着剤（２７ａ）は位置精度を保持し、１隅以外は柔軟性のある接着剤（２７ｂ）であるため、ミラー固定用ベース（８）の平面度が悪くても面の悪さの影響を吸収することができ、ミラーの平面度の劣化を防ぐことが可能となる。特に、辺のほぼ全面に柔軟性のある接着剤（２７ｂ）を使用しているので、位置安定性が良く、振動などに強くなっている。
【００９３】
図１３（ｃ）は別な位置でのミラー例であり、基板（６）の４辺のうち１辺の中央には硬い接着剤（２７ａ）が付けてあり、残りの辺や隅には柔軟性のある接着剤（２７ｂ）が付いている。この状態でミラー基板（６）をミラー固定用ベース（８）と組み合わせる。
【００９４】
この際、硬い接着剤（２７ａ）は位置精度を保持し、１辺の中央以外は柔軟性のある接着剤（２７ｂ）であるため、ミラー固定用ベース（８）の平面度が悪くても面の悪さの影響を吸収することができ、ミラーの平面度の劣化を防ぐことが可能となる。特に、辺のほぼ全面に柔軟性のある接着剤（２７ｂ）を使用しているので、位置安定性が良く、振動などに強くなっている。
【００９５】
なお、一例として、ミラー基板（６）としてはＳｉ（シリコン）を用い、圧電材料（２）としてはＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）を用い、硬い接着剤（２７ａ）には熱硬化性のエポキシ系接着剤を用い、柔軟性のある接着剤（２７ｂ）には湿気硬化性の弾性接着剤を用いることができる。
【００９６】
以上、本発明の各構成例を示したが、本発明はこれらの構成例にとどまることなく、あらゆる組み合わせや応用ができることはいうまでもない。
【００９７】
例えば、位置決め用の凸や凹部の一カ所で硬い接着剤接着剤で固定し、残りは柔軟性のある接着剤にしても良いし、エッチングもドライエッチングと異方性エッチングを組み合わせた方法で凹部，凸部を作っても良い。
【００９８】
さらに、上述した例では、使用光学系の説明として、主に、波面収差補正ミラー（１０）と立ち上げミラー（１３）を別々にした例で説明したが立ち上げミラーに波面収差補正ミラーを直接用いても良い。また、レーザ光学系（１５）と光検出光学系（１６）を別々にした例で説明したが、レーザ光学系（１５）と光検出光学系（１６）が一体になっている光学系でも良い。
【００９９】
以上のように、本発明は、ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面に、位置決め用の凹部が少なくとも１カ所設けられていることを特徴としている。
【０１００】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部がエッチングによって作られていることを特徴としている。
【０１０１】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部が異方性エッチングによって作られていることを特徴としている。
【０１０２】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーを固定するミラー固定用ベースに凸部が少なくとも１個設けられていることを特徴としている。
【０１０３】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部がエッチングによって作られていることを特徴としている。
【０１０４】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部が異方性エッチングによって作られていることを特徴としている。
【０１０５】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凹部または穴があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凸部があることを特徴としている。
【０１０６】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凸部があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凹部または穴があることを特徴としている。
【０１０７】
また、本発明は、ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーは少なくとも１点が硬い接着剤により固定され、他は柔軟性のある接着剤によって固定されることを特徴としている。
【０１０８】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が波面収差補正ミラーの四隅の１つであり、柔軟性の接着剤による固定部分は四隅の残り三隅の３点であることを特徴としている。
【０１０９】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が補正ミラーの四辺の１つの中心であり、柔軟性の接着剤による固定部分は四辺の残りの３辺の中心であることを特徴としている。
【０１１０】
また、本発明は、上述の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が補正ミラーの四隅の１つ、または、四辺の１つの中心であり、柔軟性の接着剤による固定部分はその点以外の四辺であることを特徴としている。
【０１１１】
本発明は、上記構成により、波面収差補正ミラーの固定時における平面度低下の不具合を解消し、位置決めの高精度化を実現できる。
【０１１２】
また、本発明の光ピックアップは、レーザ光の光軸上にレーザー光の収差を補正する収差補正手段を有し、該収差補正手段として、請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の波面収差補正装置が用いられていることを特徴としている。
【０１１３】
【発明の効果】
以上に説明したように、請求項１記載の発明によれば、ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面に、位置決め用の凹部が少なくとも１カ所設けられているので、光学系の光軸と精度良く位置決めすることができる。
【０１１４】
また、請求項２記載の発明によれば、請求項１記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部がエッチングによって作られているので、半導体マスクの精度まで精度を上げることができる。
【０１１５】
また、請求項３記載の発明によれば、請求項２記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーの裏面の凹部が異方性エッチングによって作られていることので、半導体マスクの精度まで精度を上げることができる。
【０１１６】
また、請求項４記載の発明によれば、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーを固定するミラー固定用ベースに凸部が少なくとも１個設けられているので、光学系の光軸と精度良く位置決めすることができる。
【０１１７】
また、請求項５記載の発明によれば、請求項４記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部がエッチングによって作られているので、半導体マスクの精度まで精度を上げることができる。
【０１１８】
また、請求項６記載の発明によれば、請求項５記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースの凸部が異方性エッチングによって作られているので、半導体マスクの精度まで精度を上げることができる。
【０１１９】
また、請求項７記載の発明によれば、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凹部または穴があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凸部があるので、容易に精度良く位置決めすることができる。
【０１２０】
また、請求項８記載の発明によれば、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の波面収差補正装置において、ミラー固定用ベースに凸部があり、ミラー固定用ベースを固定するユニットベースに凹部または穴があるので、さらに精度良く位置決めすることができる。
【０１２１】
また、請求項９，請求項１０，請求項１１記載の発明によれば、ミラー基板のミラー面を変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーを備えた波面収差補正装置において、波面収差補正ミラーは少なくとも１点が硬い接着剤により固定され、他は柔軟性のある接着剤によって固定されるので、精度良い位置決めと平面度劣化なしとの両方を同時に実現することができる。
【０１２２】
また、請求項１２記載の発明によれば、請求項９記載の波面収差補正装置において、硬い接着剤で固定する１点が補正ミラーの四隅の１つ、または、四辺の１つの中心であり、柔軟性の接着剤による固定部分はその点以外の四辺であるので、振動などにも強くなり、さらに精度良い位置決めと平面度劣化なしとの両方を同時に実現することができる。
【０１２３】
また、請求項１３記載の発明によれば、レーザ光の光軸上にレーザー光の収差を補正する収差補正手段を有し、該収差補正手段として、請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の波面収差補正装置が用いられていることを特徴とする光ピックアップであるので、信頼性の良い光ピックアップを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図２】本発明の第２の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図３】本発明の第３の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図４】本発明の第４の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図５】エッチングに異方性エッチングを用いた例を示す図である。
【図６】本発明の第５の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図７】本発明の第５の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図８】ユニットベースにあらかじめ光軸位置に合うよう設計された位置決め用凸部を示す図である。
【図９】本発明の第５の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図１０】本発明の第６の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図１１】本発明の第６の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図１２】本発明の第７の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図１３】本発明の第８の実施形態の波面収差補正装置の構成例を示す図である。
【図１４】ミラー面が変位する波面収差補正ミラーの一例を示す図である。
【図１５】ミラー面が変位する波面収差補正ミラーの他の例を示す図である。
【図１６】光ピックアップの構成例を示す図である。
【図１７】光ピックアップの他の構成例を示す図である。
【図１８】波面収差を説明するための図である。
【図１９】従来技術を説明するための図である。
【図２０】従来技術を説明するための図である。
【図２１】従来技術を説明するための図である。
【図２２】ＣＶ，ＤＶＤのディスクを示す図である。
【図２３】反射膜の面を等高線で表した図である。
【符号の説明】
１　　　　　ミラー材
２　　　　　圧電材料
３　　　　　ミラー固定部
４　　　　　共通電極
４ａ　　　　ミラー基板側個別電極
５　　　　　個別電極
６　　　　　ミラー基板
７　　　　　絶縁層
８　　　　　ミラー固定用ベース
９　　　　　エッチング壁
１０　　　　波面収差補正ミラー
１１　　　　光ディスク
１２　　　　対物レンズ及び対物光学系
１３　　　　立ち上げミラー
１４　　　　偏光ビームスプリッタ
１５　　　　レーザ素子及びレーザ光学系
１６　　　　光検出素子及び光検出光学系
２１ａ　　　エッチング凹部
２１ｂ　　　エッチング凹部
２１ｃ　　　エッチング凹部
２１ｄ　　　エッチング凹部
２２　　　　位置決め用凸部
２３ａ　　　エッチング凸部
２３ｂ　　　エッチング凸部
２４ａ　　　エッチング凹部
２４ｂ　　　エッチング凹部
２５　　　　ユニットベース
２５ａ　　　位置決め用凸部
２５ｂ　　　位置決め用凹部
２６ａ　　　エッチング凸部
２７ａ　　　硬い接着剤
２７ｂ　　　柔軟性のある接着剤
１０１ａ，１０１ｂ　　　対物レンズ
１０２ａ，１０２ｂ　　　ディスク
１０３ａ，１０３ｂ　　　スポット（コマ収差）
１０８　　　　　記録層
【図１】
2004109843.tif 000003
【図２】
2004109843.tif 000004
【図３】
2004109843.tif 000005
【図４】
2004109843.tif 000006
【図５】
2004109843.tif 000007
【図６】
2004109843.tif 000008
【図７】
2004109843.tif 000009
【図８】
2004109843.tif 000010
【図９】
2004109843.tif 000011
【図１０】
2004109843.tif 000012
【図１１】
2004109843.tif 000013
【図１２】
2004109843.tif 000014
【図１３】
2004109843.tif 000015
【図１４】
2004109843.tif 000016
【図１５】
2004109843.tif 000017
【図１６】
2004109843.tif 000018
【図１７】
2004109843.tif 000019
【図１８】
2004109843.tif 000020
【図１９】
2004109843.tif 000021
【図２０】
2004109843.tif 000022
【図２１】
2004109843.tif 000023
【図２２】
2004109843.tif 000024
【図２３】
2004109843.tif 000025