(57)【要約】【課題】大気の流入を極めて少なく抑え、且つばたつきや傷付きを発生せずに被処理物を真空チャンバー内にスムースに搬送し、真空蒸着等の真空処理ができるようにした連続真空処理装置を提供する。【解決手段】真空チャンバー４内の前記導入開口部４ａの近傍には導入されてくる被処理物１を外気の流入を阻止しながら挟持する対向する一対のシールロール６を設け、また真空チャンバー４の前記導入開口部４ａには一端の先端部を前記一対のシールロール６の接触部からその近傍にかけての外周部に密接するように且つその先端のスリット３−１から前記一対のシールロール６の接触部に向けて被処理物１が導入されるようになっているシール部材３を設けると共に、前記シール部材３を前記１対のシールロール６が接する部分の方向へ一定の力で押付ける構造とした。【選択図】図１
2004115878.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を真空チャンバー内にその導入開口部から導入し、搬出開口部から搬出して被処理物１に対して成膜等の真空処理を連続して行なうための装置であって、真空チャンバー内の前記導入開口部の近傍には導入されてくる被処理物を外気の流入を阻止しながら挟持する対向する一対のシールロールを設け、また真空チャンバーの前記導入開口部には一端の先端部を前記一対のシールロールの接触部からその近傍にかけての外周部に密接するように、且つその先端のスリットから前記１対のシールロールの接触部に向けて被処理物が導入されるようになっているシール部材を設けると共に、前記シール部材を前記１対のシールロールが接する部分の方向へ一定の力で押付ける構造としたことを特徴とする連続真空処理装置。
【請求項２】
前記対向する１対のシールロールを、その対向方向に一定の力で押付ける構造としたことを特徴とする請求項１に記載の連続真空処理装置。
【請求項３】
前記シール部材には振動発生手段が付設してあることを特徴とする請求項１又は２に記載の連続真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理物を大気圧雰囲気から真空チャンバー内の真空雰囲気中に搬入し、真空雰囲気中で被処理物に成膜等の真空処理を施し、しかる後に真空処理された被処理物を大気圧雰囲気に戻すようにした連続真空処理装置であって、真空チャンバーの真空度を高レベルで保ちながら、被処理物に対して真空処理できるようにした連続真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
真空処理装置に用いられる真空チャンバー内の真空度を高レベルに保つためのシール機構としては、以下のようなものがある。
（１）真空チャンバー外の大気雰囲気と、真空チャンバー内の真空雰囲気との間に、対向圧接して回転可能な一対のシールロール（大気遮蔽ロール）を設け、この一対のシールロール間で、連続送行する被処理物を挟み込むと共に、この一対のシールロールの周囲をシールするようにした機構。
（２）被処理物を、幅と高さを帯状の被処理物の寸法に合わせて設定したスリットを介して真空チャンバーの外側から内側に通ずるようにし、真空チャンバー内への大気の流入を最小限にするようにした機構。
（３）大気雰囲気と真空雰囲気の間に液体金属浴部を設け、その中に被処理物を通して真空チャンバー内に搬送するようにして、真空チャンバー内の真空度を確保するようにした機構。
【０００３】
上記（１）の機構は、一対のシールロールでシート状の被処理物を挟み込み、且つこのシールロールの周囲を、シール部材でシールするようにした機構であるが、シール部材とシールロールとを、しっかりと密接（摺接）させて大気の流入を抑えようとすると、シール部材と回転するシールロールとの間に摩擦抵抗が生じてしまう。そのため、シールロールを滑らかに回転させ、被処理物の搬送に支障がないように、シール部材とシールロールとの間に、ある程度の間隙（クリアランス）を設ける必要がある。
【０００４】
しかし、そのような間隙を設けると、ここを通して大気が真空雰囲気へ流入してしまう。そのために、強力な大容量の真空ポンプを使用して、真空チャンバー内の真空雰囲気を保っているのが現状である。
【０００５】
また上記（２）の機構は、スリットの巾と高さをシート状の被処理物の寸法（巾と厚さ）に合わせて設定し、このスリットに通して被処理物を搬送しているときに、大気が真空チャンバー内に流入するのを最小限にするようにした機構であるが、スリットの開口寸法は被処理物を通すための余裕がなければならず、スリットと被処理物との間隙を完全に無くすことはできない。
【０００６】
そのため、スリットからの大気の流入を防ぎきれず、しかも被処理物が連続送行中に揺動してしまう現象が発生し、スリットの端縁に接触して被処理物を傷付けてしまう。これを防ぐには、被処理物に大きな張力を掛けるか、送行する被処理物周囲からスリットを介して真空チャンバーの真空雰囲気内に流入する大気の圧力や流速を出来るかぎり一定にする必要がある。そして、真空雰囲気への大気の流入を防ぎきれないため、（１）と同様に、強力な大容量の真空ポンプを取り付け、このポンプにより真空雰囲気を保つ必要もあった。
【０００７】
さらに上記（３）の機構は、真空チャンバー外側の大気雰囲気と真空チャンバー内側の真空雰囲気との間に液体金属浴部を設け、この液体金属浴部中の液体金属中にシート状の被処理物を通しつつ、真空チャンバー内に被処理物を搬送する機構であるが、被処理物に液体金属が付着するため、被処理物は一部の金属に限られる。また、使用する液体金属浴によっては、液体金属から有毒なガスが発生したりして、後工程に悪影響を与える場合がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような状況に対応してなされたものであり、その課題とするところは、大気の流入を極めて少なく抑え、且つばたつきや傷付きを発生せずに被処理物を真空チャンバー内にスムースに搬送し、真空蒸着等の真空処理ができるようにした連続真空処理装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決しようとする手段】
以上のような課題を達成すべくなされたもので、請求項１に記載の発明は、被処理物１を真空チャンバー４内にその導入開口部４ａから導入し、搬出開口部４ｂから搬出して被処理物１に対して成膜等の真空処理を連続して行なうための装置であって、真空チャンバー４内の前記導入開口部４ａの近傍には導入されてくる被処理物１を外気の流入を阻止しながら挟持する対向する一対のシールロール６を設け、また真空チャンバー４の前記導入開口部４ａには一端の先端部を前記一対のシールロール６の接触部からその近傍にかけての外周部に密接するように、且つその先端のスリット３−１から前記一対のシールロール６の接触部に向けて被処理物１が導入されるようになっているシール部材３を設けると共に、前記シール部材３を前記１対のシールロール６が接する部分の方向へ一定の力で押付ける構造としたことを特徴とする連続真空処理装置である。
【００１０】
本発明の請求項２に記載の発明は、上記請求項１に記載の連続真空処理装置において、前記対向する１対のシールロールを、その対向方向に一定の力で押付ける構造としたことを特徴とする連続真空処理装置である。
【００１１】
本発明の請求項３に記載の発明は、上記請求項１又は請求項２に記載の連続真空処理装置において、前記シール部材３には振動発生手段１５が付設してあることを特徴とする連続真空処理装置である。
【００１２】
【作用】
上記請求項１に係る連続真空処理装置は、被処理物１が通るシール部材３の先端にあるスリット３−１の周りを、対向する一対のシールロール６（６−１、６−２）でシールする構造であるが、このスリット３−１を持ったシール部材３のシールロール６に対する押し付けが強すぎると、シールロール６は摩擦抵抗で回転し難くなり、逆に弱すぎると、空気が洩れるという関係がある。
【００１３】
このように請求項１に係る発明は、シール部材３を、その先端のスリット３−１方向に一定の力でシールロール６の対向接触部分に対して押付ける構造としたことにより、被処理物１の進行方向の高精度な位置決めの必要が無くなり、大気（空気）の洩れとシールロール６の回転摩擦抵抗との間の相反する関係における最適条件が得られるものである。
【００１４】
また上記請求項１に係る発明は、被処理物１が通るスリット３−１の周りを、シールロール６でシールする構造であり、このことにより、シール面積を必要最小限にすることができ、それにより摩擦抵抗も最小限になる構造とすることができる。
【００１５】
上記請求項２に係る連続真空処理装置は、前記対向する１対のシールロール６のいずれか一方のシールロール（６−１又は６−２）を他方のシールロール（６−２又は６−１）の方向へ、一定の力で押付ける構造とした連続真空処理装置であるが、このように、一方のシールロール６対向した他方のシールロールの方向へ、一定の力で押付ける構造としたことにより、シート状の被処理物１の進行方向に対して直角方向（シート巾方向又はシート厚さ方向）の高精度な位置決めの必要が無くなり、しかも、対向する一対のシールロール６の適切なニップ圧を得ることができる。
【００１６】
上記請求項３に係る連続真空処理装置は、前記シール部材３に、振動発生手段１５を付設したものであり、このように、シール部材３に振動発生手段１５を付設して、シール部材３を振動させることにより、シールロール６とシール部材３との圧接によるシールロール６の回転摩擦抵抗を減らすことができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明の連続真空処理装置の実施の形態について図面に基づいて説明すれば、図１は、本発明の連続真空処理装置の概略を示す構成説明図である。
【００１８】
この連続真空処理装置は、長尺シート状（ウエブ）の搬送送行する被処理物１を、真空チャンバー４内にその導入開口部４ａから導入し、搬出部４ｂから搬出して、被処理物１に対して成膜等の真空処理加工を行なうための装置である。
【００１９】
真空チャンバー４内の導入用開口部４ａの近傍には、搬送送行されてくる被処理物１を、外気の流入を阻止しながら挟持する上下一対の対向するシールロール６（６−１、６−２）を設け、また真空チャンバー４の導入開口部４ａには一端の先端部にスリット３−１を備え、且つ前記一対のシールロール６−１、６−２の対向接触部に向けて被処理物１が導入されるように内部に被処理物１の中空導入路を備えたシール部材３を設けてある。なお図中、１０は真空チャンバー４内に導入セットされた被処理物１に対して蒸着やスパッタリング等の真空処理を施すための真空処理手段である。
【００２０】
真空チャンバー４内に設置した真空処理手段１０は、特にその処理方式や種類が制限されるものではなく、処理目的に応じて、種々ある公知の真空処理手段１０から適宜のものを選択して設置することができる。
【００２１】
本発明の連続真空処理装置は、真空度を良好に保つことが可能で、高生産能力で高品質の真空処理加工が実施でき、高品質の真空処理加工物が得られ、特に樹脂フィルム、紙、布等の被処理物１に対し、例えば真空処理手段１０として、真空蒸着装置、ＣＶＤ装置、スパッタリング装置を適用し、良好な薄膜の生成を被処理物１に対して行なうことができる。
【００２２】
また図１中、５はシール部を示しており、前述の一対のシールロール６−１、６−２とシール部材３から構成される。図１に示す連続真空処理装置において、このシール部材３によるシール部５は、例えば２ヶ所に設定されている。このシール部５を有する連続真空処理装置を用いた被処理物１の真空処理加工は、以下のようにして行なわれる。
【００２３】
まず図１の側面図に示すように、被処理物１は、真空チャンバー４の外側の大気雰囲気から、真空チャンバー４内の真空雰囲気へ搬入される。この際、被処理物１は、図面左側に位置するシール部５を構成するシール部材３を通って、その先端のスリット３−１（図４参照）から真空チャンバー４の中に導入されて、さらに対向する上下一対のシールロール６−１、６−２の接触部の間に挟持されつつ、真空チャンバー４の中ほどまで搬送される。そして真空チャンバー４内の真空処理手段１０により、その真上にある被処理物１面に真空処理が行なわれる。
【００２４】
続いて、真空チャンバー４内で真空処理された被処理物１は、図１の右側に位置する真空チャンバー４内のシール部５を経由して、搬出部４ｂから大気雰囲気に搬出される。すなわち、真空チャンバー４内の被処理物１は、図１の右側に位置する対向する上下一対のシールロール６−１、６−２の間を通り、シール部材３先端のスリット３−１を経由して、シール部材３の他端の搬出部４ｂから真空チャンバー４の外側の大気雰囲気に搬出される。もちろん、左右反対であってもかまわない。
【００２５】
図１では、真空チャンバー４内へ被処理物１を導入（搬入）するところと、搬出するところに、それぞれ一つずつシール部５を設定しているが、本発明は、このような構成に限るものではなく、例えば、図２に示すように、導入部４ａ側と搬出部４ｂ側にそれぞれ一つずつシール部５を設けた図１の真空チャンバー４の被処理物導入部４ａ側と搬出部４ｂ側とに、それぞれ補助の真空チャンバー４−１、４−２を連接し、その真空チャンバー４−１、４−２内に、それぞれ一つずつシール部５を設けた構成としてもよい。このことにより、大気圧に対する真空シール性をさらに向上させることができる。
【００２６】
また、図３に示すように、真空チャンバー４の導入開口部４ａを複数箇所に設けて、その各々導入開口部４ａにシール部５を設定し、複数のシート状の被処理物１を各導入開口部４ａより真空チャンバー４内に導入し、途中、真空チャンバー４内に設けたラミネートロール２（２−１、２−２）にてそれら被処理物１をラミネートしながら真空処理した後、１箇所の搬出部４ｂより搬出するようにしてもよい。この方法により、真空中で２枚乃至それ以上のフィルムを貼り合わせる真空ラミネートが可能になる。
【００２７】
図４は、本発明装置のシール部材３とシールロール６（６−１、６−２）によるシール部５の構造及び配置を説明する拡大斜視図（わかり易くするためにシール部材３とシールロール６を離間させた状態で示す斜視図）である。
【００２８】
図４に示すように、シール部材３は全体にプレート状（偏平状）形状であり、その内部には被処理物１が通過可能な中空の導入路３ａが形成されている。
【００２９】
また、該シール部材３のシールロール６対向間に向かう先端の表裏面には、対向する一対のシールロール６周面に沿う部分円形状の境界シール面３−２、３−２を備えていて、該シール部材３先端は鋭角状に尖った形状である。
【００３０】
該鋭角状のシール部材３先端には、そのシール部材３の巾方向両端部を残して切欠部３ｂが形成され、その切欠部３ｂにより厚さが増加したシール部材３先端部に沿って巾方向に導入路３ａに連通する被処理物１が通過可能な狭いスリット３−１が形成されている。
【００３１】
そして、シール部材３先端の切欠部３ｂ部分以外の巾方向両端部のみに、対向する一対のシールロール６の対向間に深く進入する両端鋭角部３ｃが突出形成されている。
【００３２】
このようにプレート状のシール部材３には、導入路３ａに連続するスリット３−１が形成され、該被処理物１は、シール部材３先端のスリット３−１を通り、対向する一対のシールロール６（６−１、６−２）の間を通る。被処理物１の巾と厚さは、スリット３−１の巾方向の長さとスリット巾以下であればよい。そして、シール部材３のシールロール６との境界シール面３−２に、各シールロール６−１、６−２の周面が接することにより、真空チャンバー４外側の大気雰囲気に対して真空チャンバー４内の真空雰囲気がシールされる。
【００３３】
図５は、本発明の連続真空処理装置のシール部５において、シール部材３を対向する一対のシールロール６（６−１、６−２）の対向接触部に対して一定の力で押付けるための押付機構の平面図、図６はその側面図である。
【００３４】
図５、図６に示すように、シールロール６−１、６−２は、軸受部６ａに軸支されて回転可能（自由回転可能又はモーター駆動回転可能）であり、シール部５のシール部材３は、偏平なプレート状の形状を備え、その内部は、被処理物１が通過可能な中空導入路３ａが形成され、そのシール部材３の先端には、被処理物１が通過可能な所定のスリット長さとスリット巾のあるスリット３−１が形成され、シール部材３先端の境界シール面３−２は、シールロール６−１、６−２の周面に接触するとともに、切欠部３ｂ部分以外の巾方向両端部のみに突出形成された前記両端鋭角部３ｃが、対向する一対のシールロール６−１、６−２の対向間に深く進入する。
【００３５】
シール部材３は、図５、図６に示すように、その周囲を真空チャンバー４側のフレームＦに設けたＯリング９でシールされており、フレームＦに取り付け固定されたリニアガイド１１と前記Ｏリング９に沿って、真空チャンバー４に対して、そのチャンバー４内に進入、後退移動できる構造になっていて、シール部材３に取り付けたブラケット３ｄはリニアガイド１１に嵌挿されて、該シール部材３は、リニアガイド１１に沿って移動可能であり、前記リニアガイド１１に嵌挿したバネ７によりシールロール６（６−１、６−２）の対向接触部に一定の力でリニアガイド１１に沿って矢印方向に押付けられている。なお図７は、真空チャンバー４のフレームＦに取り付けた上記シール部材３と、その内部に形成された中空導入路３ａを示す正面図である。
【００３６】
また、図６に示すように、上下に対向する一対のシールロール６−１、６−２の各々軸受部６ａ、６ａは、真空チャンバー４側のフレームＦに取り付けた垂直リニアガイド１２に沿って移動ができる構造になっており、該リニアガイド１２に嵌挿したバネ８により、シールロール６−１と６−２の各々軸受部６ａ、６ａは互いに対向方向に付勢されていて、シールロール６−１とシールロール６−２は、シール部材３先端の境界シール面３−２に周接するように一定の力で押付けられている。軸受部６ａに対するバネ８の押し付け力は、リニアガイド１２に沿って移動可能に嵌装した調整プレート８ａの位置を、該プレート８ａに螺着したボルト８ｂの回動により上下方向に微調整することにより行うことができる。なお、図８は、真空チャンバー４内のフレームＦに取り付けた上記シールロール６−１、６−２と、両ロール６−１、６−２を対向方向に付勢するリニアガイド１２に嵌挿したバネ８を示す正面図である。
【００３７】
図６に示すように、シールロール６−１、６−２は、各々軸受部６ａを押圧する上下のバネ８、８により上下対向する方向に互いに押し合う。調整プレート８ａの上下方向の位置調整（例えば、各々上下バネ８、８による圧力が各々軸受部６ａに略均等に掛かる状態に調整）することにより、シールロール６−１、６−２の接触面（ニップ面）はシール部材３先端の正面に安定した状態で停止するようになっている。その後、そのシールロール６−１、６−２の接触面（ニップ面）に向かってシール部材３の先端が進入できるようになっているものである。
【００３８】
図９は、本発明の連続真空処理装置のシール部５において、シール部材３を対向する一対のシールロール６（６−１、６−２）の対向接触部に対して一定の力で押付けるための他の実施例の押付機構の平面図、図１０はその側面図である。
【００３９】
図９、図１０に示すように、シールロール６−１、６−２は、軸受部６ａに軸支されて回転可能（自由回転可能又はモーター駆動回転可能）であり、シール部５のシール部材３は、偏平なプレート状の形状を備え、その内部は、被処理物１が通過可能な中空導入路３ａが形成され、そのシール部材３の先端には、被処理物１が通過可能な所定のスリット長さとスリット巾のあるスリット３−１が形成され、シール部材３先端の境界シール面３−２は、シールロール６−１、６−２の周面に接触するとともに、切欠部３ｂ部分以外の巾方向両端部のみに突出形成された前記両端鋭角部３ｃが、対向する一対のシールロール６−１、６−２の対向間に深く進入する。
【００４０】
シール部材３は、図９、図１０に示すように、その周囲を真空チャンバー４側のフレームＦに設けたＯリング９でシールされており、フレームＦに取り付け固定されたリニアガイド１１と前記Ｏリング９に沿って、真空チャンバー４に対して、そのチャンバー４内に進入、後退移動できる構造になっていて、シール部材３に取り付けたブラケット３ｄはリニアガイド１１に嵌挿されて、該シール部材３は、リニアガイド１１に沿って移動可能であり、前記ブラケット３ｄに取り付けたアクチュエータ１３（空圧（エア）シリンダー又は油圧シリンダー）の作動ロッド１３ａによりシールロール６（６−１、６−２）の対向接触部に一定の力でリニアガイド１１に沿って矢印方向に押付けられている。前記アクチュエータ１３本体は、真空チャンバー４側のフレームＦに併設した取付支持部Ｆ１　に取付け固定される。なお図１１は、真空チャンバー４のフレームＦに取り付けた上記シール部材３と、その内部に形成された中空導入路３ａを示す正面図である。
【００４１】
また、図１０に示すように、上下に対向する一対のシールロール６−１、６−２の各々軸受部６ａ、６ａは、真空チャンバー４側のフレームＦに取り付けた垂直リニアガイド１２に沿って上下方向に移動ができる構造になっており、各軸受部６ａに取り付けたアクチュエータ１４（空圧（エア）シリンダー又は油圧シリンダー）の作動ロッド１４ａにより、シールロール６−１、６−２の各軸受部６ａ、６ａは対向方向に付勢されていて、シールロール６−１とシールロール６−２は互いに一定の力で押付けられている。前記アクチュエータ１４本体は、真空チャンバー４側のフレームＦに取付け固定され、またアクチュエータ１４本体は大気雰囲気中にあるので、アクチュエータ１４の作動ロッド１４ａの摺動部分はフレームＦに対してＯリング１６でシールされている。なお図１２は、真空チャンバー４内のフレームＦに取り付けた上記シールロール６−１、６−２と、シールロール６−１、６−２をリニアガイド１２に沿って対向方向に付勢するアクチュエータ１４を示す正面図である。
【００４２】
図１０に示すように、シールロール６−１、６−２は、各々軸受部６ａを押圧する各々上下のアクチュエータ１４、１４により、上下対向する方向に互いに押し合う。アクチュエータ１４、１４を調整（例えば同一動作速度、同一動作圧力に調整）することにより、各々アクチュエータ１４、１４による圧力が各々軸受部６ａに略均等に掛かった状態でシールロール６−１、６−２の接触面（ニップ面）は、シール部材３先端の正面に安定した状態で停止するようになっている。その後、そのシールロール６−１、６−２の接触面（ニップ面）に向かってシール部材３の先端が進入できるようになっているものである。
【００４３】
図１３は、図６に示す本発明の連続真空処理装置において、シール部材３に振動発生手段１５を取り付けた側面図であり、図１４は、図１０に示す本発明の連続真空処理装置において、シール部材３に振動発生手段１５を取り付けた側面図である。
【００４４】
振動発生手段１５は、その基部１５ａがシール部材３（又はブラケット３ｄを介してシール部材３）に取り付けられていて、振動発生手段１５により発生させた振動、特に、シール部材３を被処理物１の流れ方向に振動させることにより、シールロール６−１、６−２周面とシール部材３の先端とを、その両者間のエアシール性を一層向上させるために、さらに圧接させた状態にしても、前記振動により、これらの間の摺接による回転摩擦係数を低減させることができ、シールロール６−１、６−２の回転が摩擦抵抗により遅くなったり、停止したりすることを回避することができる。
【００４５】
ここで、前記シールロール６−１、６−２の材料は、金属又は合成樹脂が用いられるが、合成樹脂ロールが好適に使用できる。これは、ロールの弾性により、被処理物１を挟む場所と挟まない場所の段差をなくすことができ、シールの機能を満足する。なお、シール部材３が振動しても、振幅が合成樹脂の弾性範囲内であれば、シール性に影響を与えるような大きな隙間は発生せず、シール性を損なうことはない。
【００４６】
一方、シール部材３の材料としては、合成樹脂であっても金属であってもかまわない。振動発生手段１５をシール部材３に取り付けた場合は、シール部材３の材料としては、金属が好適に使用できる。これは、剛性のある金属を使用することにより、被処理物１が通る隙間を確保し、振動を正確に伝えることができるためである。しかし、剛性が有り、振動を正確に伝えることができるのであれば、合成樹脂であってもかまわない。
【００４７】
また、振動発生手段１５としては、電磁石やその他の方法を用いる公知の起振装置や超音波などの振動子を用いることができる。中でも、超音波を用いた振動発生手段が好適に使用できる。これは、超音波の場合、振幅がシールロールの弾性範囲内であれば隙間が発生しないことと、真空チャンバー４等の構成部品と共振を起こしにくく、騒音の発生も抑えられるという長所があるからである。
【００４８】
本発明の連続真空処理装置は、高生産能力及び高品質が得られるため、特に樹脂フィルム、紙、布等の被処理物１に対し、例えば図１、図２に示す真空処理用の処理手段１０として、ＣＶＤ、蒸着、スパッタリング装置を設置して、薄膜の生成等の処理に適している。また、被処理物１も１枚とは限らず、複数枚を真空チャンバー内で加熱、圧縮し貼り合わせる連続真空ラミネート装置としても使用することができる。
【００４９】
【発明の効果】
本発明の連続真空処理装置によれば、真空チャンバーの被処理物が通過する位置において、シール部材と対向する一対のシールロールとが互いに一定の圧力で接触することで、真空チャンバー内外のエアの出入りをシールすることができ、真空チャンバー外側の大気が、真空チャンバー内に流入することを最小限に抑えることができ、非常に優れたシール効果が得られ、このことにより、真空チャンバー内への大気の流入を防ぎながら、被処理物を大気雰囲気中から真空中に導入することが可能となる。
【００５０】
また、シール部材を振動させることによって、シール部材とシールロールとの間の摩擦係数を低減させることにより、良好なシール性を保持しながら、被処理物の移動をスムースに行うことができ、真空チャンバー内に導入される被処理物に、真空チャンバー外側の大気の流入により、ばたつきや、傷付きが発生することを防止でき、被処理物を安定して真空チャンバー内に導入でき、そのために真空処理品質の向上効果と、大容量の真空ポンプの必要が無くなり、真空処理操作におけるイニシャルコスト、ランニングコスト、スペースを低減することができる。
【００５１】
また、従来の真空処理装置においては、巻き取りロール状の被処理物をロールの状態で真空チャンバー内に入れて、真空チャンバー内にてウエブシート状に巻き出しながら真空処理するため、真空処理が終了して被処理物を交換する場合には、真空処理装置の真空チャンバー内を真空状態から大気圧に戻す必要があったが、本発明によれば、被処理物の交換時、真空チャンバー内を大気圧から真空圧にする排気時間、真空から大気圧に戻すリーク時間が無く、生産時間が短縮され、生産能率の向上効果が得られる。それに、真空チャンバーを開放せずに被処理物を交換できるため、真空チャンバー内を大気圧に戻すことによるチャンバー内の汚染が無く、品質上の効果も有る。さらに、真空チャンバー内を真空に保つことができるため、生産条件の変動が無く、均一な品質が得られ、品質向上及び生産能力向上の効果もある。
【００５２】
本発明の連続真空処理装置による真空チャンバー内での真空処理は、特にその処理の種類を制限するものではなく、目的に応じて公知の処理手段を設置して処理することができる。
【００５３】
本発明の連続真空処理装置は、高生産能力及び高品質が得られるため、特に樹脂フィルム、紙、布等の被処理物に対し、ＣＶＤ、蒸着、スパッタリング装置を設置して、薄膜の生成処理を行うことができ、また、被処理物も１枚とは限らず複数枚を、本装置の真空チャンバー内で加熱、圧縮し、貼り合わせる連続真空ラミネート装置等としても使用することができる。
【００５４】
このように、本発明の連続真空処理装置は、被処理物を大気圧雰囲気から真空チャンバー内の真空雰囲気中に搬入し、真空雰囲気中で被処理物に真空処理を施し、しかる後に真空処理された被処理物を大気圧雰囲気に戻すことができ、真空チャンバー内への大気の流入を一対のシールロールやシール部材によりシールして阻止することができ、真空チャンバーの真空度を高レベルで保ちながら、被処理物に対して真空処理できる優れた効果を発揮するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の連続真空処理装置の一実施の形態を説明する概略側面図である。
【図２】本発明の連続真空処理装置の他の実施の形態を説明する概略側面図である。
【図３】本発明の連続真空処理装置の他の実施の形態を説明する概略側面図である。
【図４】本発明の連続真空処理装置における真空処理のシール部を示す部分拡大斜視図である。
【図５】本発明の連続真空処理装置の一実施の形態における真空処理のシール部を示す部分平面図である。
【図６】本発明の連続真空処理装置の一実施の形態における真空処理のシール部を示す部分側面図である。
【図７】本発明の連続真空処理装置の一実施の形態における真空処理のシール部材を示す正面図である。
【図８】本発明の連続真空処理装置の一実施の形態における真空処理の対向する一対のシールロールを示す正面図である。
【図９】本発明の連続真空処理装置の他の実施の形態における真空処理のシール部を示す部分平面図である。
【図１０】本発明の連続真空処理装置の他の実施の形態における真空処理のシール部を示す部分側面図である。
【図１１】本発明の連続真空処理装置の他の実施の形態における真空処理のシール部材を示す正面図である。
【図１２】本発明の連続真空処理装置の他の実施の形態における真空処理の対向する一対のシールロールを示す正面図である。
【図１３】本発明の連続真空処理装置の一実施の形態においてシール部材に振動発生手段を取り付けた真空処理のシール部を示す部分平面図である。
【図１４】本発明の連続真空処理装置の他の実施の形態においてシール部材に振動発生手段を取り付けた真空処理のシール部を示す部分平面図である。
【符号の説明】
１…被処理物　２…ラミネートロール　３…シール部材　３−１…スリット
３−２…シール面　４…真空チャンバー　５…シール部　６…シールロール
６−１…シールロール　６−２…シールロール　７…バネ　８…バネ
９…Ｏリング
１０…真空処理用処理手段　１１…ガイド　１２…ガイド
１３…アクチュエータ　１４…アクチュエータ　１５…振動発生手段
１６…Ｏリング
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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