(57)【要約】【課題】任意の位置で断裁加工が可能な調光層を有する調光ラミネート体を提供する。【解決手段】刺激により発色性を変化させることができるサーモクロミック材料或いはフォトクロミック材料からなる調光材料を含んだ調光層１２をヒートシール層１４を介して基板１１間に挟んだ状態で保持させてなる積層構造の調光ラミネート体であり、該調光ラミネート体は任意の位置でヒートシール可能であり、該ヒートシール部位で切断も可能である。【選択図】　図２
2004109582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の（１）〜（３）の何れかの調光材料を高分子材料中に分散させてなる調光発色組成物を用いて形成した調光層を基板間に挟んだ状態で保持させてなる積層構造の調光ラミネート体であって、任意の部位でヒートシール可能であることを特徴とする調光ラミネート体：
（１）スピロピラン系の縮合芳香環置換体、エチレン誘導体、コレステリック液晶およびロイコ染料から選ばれた有機系サーモクロミック材料；
（２）金属錯塩および金属塩類から選ばれた無機系サーモクロミック材料；
（３）フォトクロミック材料。
【請求項２】
前記調光層側の基板には、ヒートシール層が積層されている請求項１記載の調光ラミネート体。
【請求項３】
断面においてヒートシール加工がされている請求項１または２記載の調光ラミネート体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
刺激により調光することができる、特に、発色性を変化させることができる積層構造の調光ラミネート体に関し、熱線反射ウィンドウ、調光カーテン、調光パーティション、投影スクリーン、大面積反射型掲示板、交通表示、車両窓材に有用な調光ラミネート体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【０００３】
【特許文献１】
特開平５−５８６３号公報
【特許文献２】
特開平５−８０３０８号公報
【特許文献３】
特開平９−２６５６７号公報
【特許文献４】
特開平５−６１０７４号公報
【特許文献５】
特開平５−６６４２６号公報
【０００４】
外部からの、刺激、例えば、電圧、電流、電界、熱、光等の刺激を与えることによって、物質の状態を変化させる性質を利用した調光層を形成してなる調光シートは従来知られている。
【０００５】
例えば、電極間に液晶材料を含む組成物からなる調光層を挟んだ調光シートは、電気刺激により調光できるシートとして、特開平５−５８６３号公報、特開平５−８０３０８号公報、特開平９−２６５６７号公報により知られている。また、電極間に固体電解質膜を挟んだ調光シートは、特開平５−６１０７４号公報により知られている。また、発熱体の両面に温度によって色が変化するサーモクロミック材料を積層し、通電によって発熱体の発熱を制御することにより、調光するシートは特開平５−６６４２６号公報により知られている。
【０００６】
図１に、前記従来の調光発色組成物を用いた調光シートを示す。図１の調光シートは、サーモクロミック材料或いはフォトクロミック材料を含んだ調光層２を、一対の基板１間をスペーサー３を介して挟持した構成からなる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来の調光シートには、基板１間に挟持されている調光層２の端部はスペーサー３を介した構造となっているが、前記従来の調光層２を有する調光シートは、任意の位置で断裁加工することは困難であった。
【０００８】
そこで本発明は、任意の位置で断裁加工が可能な調光層を有する調光ラミネート体を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記した問題点を解決するための本発明の調光ラミネート体は、下記の（１）〜（３）の何れかの調光材料を含んだ調光層を基板間に挟んだ状態で保持させてなる積層構造の調光ラミネート体であって、任意の部位でヒートシール可能であり、ヒートシールされた部位において切断も可能であることを特徴とする調光ラミネート体である。
【００１０】
（１）スピロピラン系の縮合芳香環置換体；ビアントロン、ジキサンチレン等のエチレン誘導体；コレステリック液晶；およびロイコ染料から選ばれた有機系サーモクロミック材料；
（２）ヨウ化水銀等の金属錯塩および金属塩類から選ばれた無機系サーモクロミック材料；
（３）フォトクロミック材料
【００１１】
本発明の調光ラミネート体においては、調光層側の基板には、ヒートシール層が積層されていることがヒートシール性能付与のために望ましいが、基板自体にヒートシール性能がある場合には、ヒートシール層は無くてもよい。本発明の調光ラミネート体を断裁する場合には、予め断裁部位をヒートシール加工しておくと、断裁断面から調光層に含まれる液体の脱離を防止することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図２は、本発明の調光ラミネート体における代表的な層構成の一例であり、熱刺激により発色性が変化する調光層を用いた場合の例である。図２の調光ラミネート体の端部はヒートシール加工により、ヒートシールすることができる。図２において、１１は基板、１２は調光層、１４はヒートシール層を示す。調光層１２は、ヒートシール層１４間に挟まれてラミネートされている。
【００１３】
調光層
調光層は、前記した有機系サーモクロミック材料、無機系サーモクロミック材料、フォトクロミック材料から選ばれた調光材料を高分子材料中に分散させてなる調光発色組成物を用いて塗布等により形成される。
【００１４】
調光発色組成物中に含まれる高分子材料には、親水性樹脂としてポリビニルアルコール、ゼラチン、アクリル酸共重合体、水溶性アルキド樹脂等の水溶性または水分散性高分子材料等が挙げられ、疎水性樹脂としてはアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリアクリロニトリル等、およびこれらる混合物が挙げられ、また、ポリエン−チオール類、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メチルメタクリルレート等のモノマー類の硬化性樹脂等が挙げられる。
【００１５】
基板
一軸または二軸延伸ポリエチレンテレフタレート等の結晶性ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等の非結晶性ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ナイロン等のポリアミド等を用いて成形したフィルム、シートまたは板が挙げられる。これらの材料自体もヒートシール性があるが、溶融温度の１００℃を超える材料は高温を必要とするため、下記のヒートシール層を設けることが好ましい。
【００１６】
ヒートシール層
ヒートシール層を形成する材料には、ポリオレフィン系、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂（略語：ＥＶＡ）、ポリアミド系、スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタン系、エポキシ系のヒートシール材料が挙げられる。これらの材料は溶融温度が１００℃前後であるため、ハンドリングが容易である。
【００１７】
基板上にヒートシール層を形成する方法には、次の２種が挙げられる。
１）基板上にヒートシール材料からなるフィルム又はシートをラミネートすることにより形成する。
２）基板上にヒートシールインキを塗布、乾燥することにより形成する。
【００１８】
調光ラミネート体の製造プロセス
上記１）又は２）の形成方法により得たヒートシール層を有する基板を用意し、該基板のヒートシール層側に前記の調光発色組成物を塗布する。塗布方式には、コンマコート、ダイコート、スライドコート、スクリーン印刷等が適用できる。次いで、別のヒートシール層を形成したフィルム基板を対向基板として、ヒートシール層を内側にしてラミネートする。得られた調光層を内部に有するラミネート体は、ヒートシーラー、超音波融着等によって、任意の部位、場所で上下基板をヒートシールする。ヒートシール部分で裁断し、任意の寸法、形状の調光ラミネート体を得る。
【００１９】
【実施例】
［実施例１］
ポリウレタン樹脂（タケネートＤ−１４０ＮＷ：商品名、武田薬品工業社製、固形分７５重量％）５０ｇ、光安定剤（ＴＩＮＵＶＩＮＥ−１２３：商品名、チバガイギー社製、高分子量タイプヒンダードアミン系化合物）、フォトクロミック材料としてスピロベンゾピラン系化合物（ＳＰ−１：商品名、（株）日本感光色素研究所製）２．５ｇ、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２１７ＥＥ：商品名、クラレ社製）１０ｇ、純水３００ｇを混合し、水溶液中に前記フォトクロミック材料を分散、乳化した後、２０％ヘキサメチレンジアミン水溶液１．０５ｇを添加して界面重合を行い、カプセル化した。遠心分離洗浄後、凍結乾燥によってカプセル化したフォトクロミック材料を粉末として得た。
【００２０】
カプセル化したフォトクロミック粉末３０ｇ、ポリビニルアルコール樹脂２０ｇ、純水８０ｇを混合、分散し、フォトクロミック調光組成物とした。
（調光ラミネート体の作製）
製造例１）下基板フィルムに１８８μｍ厚　ＰＥＴフィルムを用い、該フィルム上に変性ナイロン系ヒートシール剤（ＦＳ１７５Ｒ９７２：東亜合成社製）を塗布、乾燥し、ヒートシール層を形成した。ヒートシール層を作製したＰＥＴフィルムのヒートシール面に対し、前記工程で得られた調光組成物をコンマコート法によって膜厚１００μｍで塗布した。得られた調光組成物の塗膜の領域の外周に高さ１００μｍのスペーサ材を配した。次いで、別のＰＥＴフィルムを用い、該下基板フィルムと同様にヒートシール層を形成して上基板フィルムとし、該フィルムを対向フィルムとして前記下基板フィルムの調光組成物の塗膜側にラミネートして調光ラミネート体を形成した。
【００２１】
ヒートシーラーを用いて、上下基板の両側から熱圧（１００℃、３秒、０．７ｋｇ／ｃｍ２　）を加え、シート内側に設けた上下ヒートシール層を接着し、任意の大きさで調光層を封止した。封止領域上またはその外周を断裁し、任意の大きさの調光ラミネート体を得た。
【００２２】
製造例２）下基板フィルムに１８８μｍ厚　ＰＥＴフィルムを用い、該フィルム上に変性オレフィン系ヒートシール剤（ＰＰＥＴ２００１：商品名、東亜合成社製）をラミネートしてヒートシール層を形成した。ヒートシール層を作製したＰＥＴフィルムのヒートシール面に対し、ダイコート法によって調光組成物を膜厚１００μｍで塗布した。調光組成物を塗布した領域に粒径１００μｍのビーズスペーサ材を散布した後、下基板フィルムと同様にヒートシール層を形成したフィルムを対向フィルムとしてラミネートして調光ラミネート体を形成した。
【００２３】
ヒートシーラーを用いて、上下基板の両側から熱圧（１００℃、３秒、０．７ｋｇ／ｃｍ２　）を加え、基板フィルム内側に設けた上下ヒートシール層を接着し、任意の大きさで調光層を封止した。封止領域上またはその外周を断裁し、任意の大きさの調光ラミネート体を得た。
【００２４】
［実施例２］
サーモクロミック材料を内包したメラミン系樹脂を殻材とする平均粒径３μｍの微小カプセル（ダイサーモＤＲ−３５　バイオレットＣ（ＴＭ）Ｓ：商品名、大日精化工業（株）製）１０ｇ、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２１７ＥＥ：商品名、クラレ社製）１０ｇ、架橋剤（ＤＩＡＺＯ−ＰＧ：商品名、東洋合成工業社製、ジアゾ系化合物）１ｇ、純水１００ｇを混合、分散し、サーモクロミック調光組成物とした。
【００２５】
前記工程で得られたサーモクロミック調光組成物を用いて、前記実施例１の「調光ラミネート体作製」と同じ方法を行い、調光ラミネート体を得た。
【００２６】
【発明の効果】
本発明の調光ラミネート体は、任意の場所で熱圧をかけることでヒートシール材が熱融着するため、該熱融着部分を切断することで調光層断面が露出することなく断裁加工が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の調光発色組成物を用いた調光シートを示す図である。
【図２】本発明の調光ラミネート体における代表的な層構成の一例を示す図である。
【符号の説明】
１，１１　　　基板
２，１２　　　調光層
３　　　　　　スペーサー
１４　　　　　ヒートシール層
【図１】
2004109582.tif 000003
【図２】
2004109582.tif 000004