(57)【要約】【課題】粉体の開通および閉塞動作が円滑であって、確実な真空封止を可能とする簡単な構造の粉体移送用真空バルブおよびこれを設置した真空室を得ることを目的とする。【解決手段】真空室１０に設置する粉体移送用真空バルブ１００を、粉体を遮断するフィード弁式粉体遮断弁２０とその下方に配置した真空封止するゲート弁式真空封止弁３０とによって構成する。真空室１０の底部には漏斗１４を設けその漏斗当接面１５に、傾斜したフィード弁体当接面２１を当接して粉体を遮断する。よって、粉体の落下不良や挟圧が生じ難い。また、フィード弁式粉体遮断弁２０が粉体移送口４０を閉塞した時間帯に限り、ゲート弁式真空封止弁３０を前後進するから、ゲート弁体３２に粉体が付着することがない。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空室の開口部を開閉し且つ真空封止する粒体移送用真空バルブであって、
前記開口部を粒体が落下不能なように閉塞し且つ落下可能なように開通する粒体遮断弁と、
該粒体遮断弁の鉛直下方に設置され、前記開口部を真空封止し且つ粒体が落下可能なように開通する真空封止弁とを有し、
前記粒体遮断弁によって開通された範囲が前記真空封止弁によって開通された範囲より小さく、
前記粒体遮断弁が開口部を閉塞した状態において、前記真空封止弁が開口部を真空封止する動作または開通する動作をするとともに、
前記真空封止弁が開口部を開通した状態において、前記粒体遮断弁が開口部を閉塞する動作または開通する動作をすることを特徴とする粒体移送用真空バルブ。
【請求項２】
前記開口部に上方に向かって開いた上案内部が設けられてなることを特徴とする請求項１記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項３】
前記上案内部のテーパ角度が４０°〜１４０°でなることを特徴とする請求項２記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項４】
前記上案内部の下端に筒状の下案内部が設けられてなることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項５】
前記粒体遮断弁が前後進自在なフィード弁であって、その弁体が鉛直方向に対して所定の当接角度で傾斜した弁体当接面を具備し、
前記上案内部の下端面または下案内部の下端面が、鉛直方向に対して前記当接角度で傾斜した漏斗当接面を具備し、
前記弁体が前進した際、前記弁体当接面が漏斗当接面に当接して粒体の落下を不能にすることを特徴とする請求項２乃至４の何れかに記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項６】
前記粒体遮断弁が水平方向に設けられた回動軸を中心に鉛直面内で回動自在な弁体を具備するスイング弁であって、
前記上案内部の下端面または下案内部の下端面が、鉛直方向に対して所定の当接角度で傾斜した漏斗当接面を具備し、
前記弁体が回動した際、前記漏斗当接面に当接して粒体の落下を不能にする弁体当接面を具備することを特徴とする請求項２乃至４の何れかに記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項７】
前記当接角度が３０〜６０°でなることを特徴とする請求項５または６記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項８】
前記上案内部の下端面または下案内部の下端面を包囲して鉛直下方に設けられた筒状の粒体遮断弁カバーを有することを特徴とする請求項２乃至７の何れかに記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項９】
前記粒体が、金属または合金を切削加工または穿孔加工した際に発生する切削チップまたは穿孔チップであることを特徴とする請求項１乃至８の何れかに記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項１０】
前記真空封止弁が略水平方向に前後進自在なゲート弁または略水平面内で旋回自在なロータリ弁であることを特徴とする請求項１乃至９の何れかに記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項１１】
前記ゲート弁のゲート弁体または該ゲート弁体を収容するゲート弁ケースの一方または両方に真空封止手段が設置され、
前記ゲート弁体が前進限に到達した際、前記真空封止手段が前記ゲート弁体およびゲート弁ケースによって挟圧されることを特徴とする請求項１０記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項１２】
前記ロータリ弁のロータリ弁体または該ロータリ弁体を収容するロータリ弁ケースの一方または両方に真空封止手段が設置され、
前記ロータリ弁体が一方の旋回限に到達した際、前記真空封止手段が前記ロータリ弁体およびロータリ弁ケースによって挟圧されることを特徴とする請求項１０記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項１３】
前記真空封止弁が略水平方向の回動軸を中心に回動自在なボール弁であることを特徴とする請求項１乃至９の何れかに記載の粒体移送用真空バルブ。
【請求項１４】
粒体が天井部に設けられた天井開口部から搬入され、一旦内部に収容された後、床部に設けられた床部開口部から搬出される真空室であって、
前記天井開口部および床部開口部に請求項１乃至１２の何れかに記載の粒体移送用真空バルブが設置されることを特徴とする真空室。
【請求項１５】
前記真空室の床部開口部が射出成型機の加熱室に連結されることを特徴とする請求項１４記載の真空室。
【請求項１６】
前記真空室が真空封止された状態で、該真空室内のガスを排出してから真空室内に不活性ガスを注入する排気注気作業が複数回に渡って実施されることを特徴とする請求項１４または１５記載の真空室。
【請求項１７】
前記真空室内に不活性ガスを注入する際、該真空室が正圧に加圧されることを特徴とする請求項１６記載の真空室。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は粒体移送用真空バルブおよびこれを具備する真空室、特に、真空室の開口部に設置されてこれを開通または閉塞し且つ真空室を真空封止する、合金等の切削チップの移送および離隔に好適な、粒体移送用真空バルブおよびこれを具備する真空室に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
粒体（切削チップ、破砕小片、線材の短尺切断片等を含む）を真空処理または真空保管する真空室の開口部に設置される扉は、真空室を真空封止する機能と共に、粒体を真空室に移送したり真空室から排出したり、すなわち、開口部を粒体通過可能に開通および粒体通過不能に閉塞する機能を具備している。そして、かかる機能を一枚の扉で実施しようとすると、扉に付着した粒体が真空封止手段（Ｏリング等のシール材）を損傷して気密性が維持できないという問題点があった。
そこで、真空室の開口部を真空封止する機能を具備する弁体（以下、真空封止される位置を真空封止口と称し、真空封止口を真空封止する弁を真空封止弁と称す）と、開口部を粒体通過可能に開通および粒体通過不能に閉塞する機能を具備する弁体（以下、粒体が閉塞される位置を粒体移送口と称し、粒体移送口を閉塞す弁を粒体遮蔽弁と称す）との複数の弁体から構成された粒体移送用真空バルブが提案されている。
【０００３】
図１３は従来の粒体移送用真空バルブを示す側断面図である。図１３において、骨材９１９（粒体に相当）を収容した真空槽本体９０２の下端部がシュート９０３、９０４によって縮径され、シュート９０４の下端部（粒体移送口に同じ）に閉止ダンパ９０８が設置され、閉止ダンパ９０８の上流にダンパプレート９０５が設けられている。よって、閉止ダンパ９０８およびダンパプレート９０５が骨材９１９の排出量の規制および排出の完全停止の役目を果たしている。
さらに、真空槽本体９０２の下端部には、閉止ダンパ９０８を収容する真空弁箱９１１が設けられ、真空弁箱９１１の下部開口部（真空封止口に同じ）が弁板９１３によって真空封止されるものである。
【０００４】
このとき、前記粒体移送口の大きさが真空封止口の大きさより十分小さいため、落下する骨材９１９が該真空封止口の周囲（真空弁箱９１１の下部開口部近傍）に接することがない。
したがって、弁板９１３を開いた後で閉止ダンパ９０８を開いて骨材９１９を落下させ、一方、閉止ダンパ９０８を閉じた後で弁板９１３を閉じるから、弁体９１３は骨材９１９が落下していない時間帯に限って開閉動作をすることになる。よって、弁体９１３に骨材９１９が触れることがないから、骨材９１９の付着を原因とする真空封止効果の低下が防止されている。（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平８−４９９５４号公報（第２−４頁、図１）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような従来の粒体移送用真空バルブは、閉止ダンパ９０８が水平な軸９０９を中心に鉛直面内で回転する円弧状板であるから、また、ダンパプレート９０５が水平面内で移動（前後進）する平板であるから、以下のような問題点があった。
▲１▼粒体移送用真空バルブがダンパプレート９０５と閉止ダンパ９０８と弁体９１３の合計３枚の弁によって構成されるため構造が複雑になる。
▲２▼閉止ダンパ９０８が回転して粒体移送口が除々に開通していく際、落下する骨材９１９は斜め下方向（図中、片矢印で示す左下方向）に落下するため、真空弁箱９１１の下部開口部（真空封止口に同じ）に骨材９１９が衝突して付着し、真空封止不良が生じるおそれがある。
▲３▼また、該骨材９１９の衝突を防止しようとすると、真空封止口が大径化し、真空弁箱９１１および弁板９１３が大型になる。
▲４▼さらに、閉止ダンパ９０８が骨材９１９を受け止めたまま時計回りの方向に回転するため、受け止められた骨材９１９は、閉止ダンパ９０８とシュータ９０４との隙間（図中、シュータ９０４の左側下端部Ｐ）に挟まって、閉止ダンパ９０８が回転不能を生じるおそれがある。
▲５▼ダンパプレート９０５が水平移動（図中、右側に後退）する際、ダンパプレート９０５に骨材９１９が乗ったまま収納ケース９０６内に引き込まれるため、ダンパプレート９０５と収納ケース９０６との隙間（図中、収納ケース９０６の左端部Ｑ）に挟まって、ダンパプレート９０５の水平移動が不能になるおそれがある。
【０００７】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、粒体移送口を開通および閉塞する弁体の円滑な動作を保証すると共に、真空封止口を封止する弁体への粒体の付着を最少に抑えて、確実な真空封止を可能とする簡単な構造の粒体移送用真空バルブおよびこれを設置した真空室を得ることを目的とする。
なお、本発明における真空室とは文字通り減圧されるチャンバーの他に、大気圧または大気圧以上の状態で気密的に封止されるチャンバーを含むものであって、真空封止弁とは文字通り真空封止する弁の他に、かかるチャンバーの開口部を気密的に封止する弁を含むものである。さらに、粒体とは文字通り小さな塊まりである粒（つぶ）に限定するものではなく、小面積の板片、短い棒片、異形の切削屑や破砕片等を含むものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る粒体移送用真空バルブは、真空室の開口部を開閉し且つ真空封止する粒体移送用真空バルブであって、
前記開口部を粒体が落下不能なように閉塞し且つ落下可能なように開通する粒体遮断弁と、
該粒体遮断弁の鉛直下方に設置され、前記開口部を真空封止し且つ粒体が落下可能なように開通する真空封止弁とを有し、
前記粒体遮断弁によって開通された範囲が前記真空封止弁によって開通された範囲より小さく、
前記粒体遮断弁が開口部を閉塞した状態において、前記真空封止弁が開口部を真空封止する動作または開通する動作をするとともに、
前記真空封止弁が開口部を開通した状態において、前記粒体遮断弁が開口部を閉塞する動作または開通する動作をする。
これによると、粒体移送用真空バルブが粒体遮断弁と真空封止弁との２枚の弁によって構成されるから、前者は粒体の投下に特化し、後者は真空封止に特化することができる。
さらに、粒体遮断弁が開口部を閉塞して粒体が落下不能な時間帯に限って、真空封止弁が真空封止する動作または開通する動作をするから、動作中の真空封止弁の弁体に粒体が衝突することがない。
また、真空封止弁が開口部を開通して、開口部から退避した（開口部内に真空封止弁の弁体が存在しない）時間帯に限って、粒体遮断弁が開口部を開通して粒体を落下させるから、落下する粒体が真空封止弁の弁体に衝突することがない。さらに、粒体遮断弁が開通した開口部（以下、粒体移送口と称する）の大きさが、真空封止弁が開通した開口部（以下、真空封止口と称する）の大きさより小さいから、すなわち、平面視において粒体移送口が真空封止口の内部に取り込まれるから、粒体移送口から落下する粒体が、真空封止口の周囲に衝突することがない。
よって、落下する粒体が真空封止弁の弁体または弁体ケースに衝突したり、付着したりしないから、弁体は円滑な真空封止動作または開通動作をするとともに、確実な真空封止（シール）を可能にする。
なお、粒体移送口の内径を真空封止弁の有効径の２／３以下にして、粒体遮断弁と真空封止弁とを近接して配置しておけば、落下する粒体の弁体への衝突、付着がより確実に防止できる。
【０００９】
また、前記開口部に上方に向かって開いた上案内部が設けられてなることが好ましい。
これによると、前記粒体移送口が上案内部（下方に向かって閉じている）の下端によって形成されるから、粒体移送口の大きさ小さくすることができる。
たとえば、筒状の真空室の底部に粒体移送用バルブを設置する場合、真空室の底面を円錐台状に形成した上案内部としたり、真空室の底面の上（真空室内）に漏斗状の上案内部を配置したりすれば、粒体移送口の大きさを小さくすることができる。また、真空室の天井に粒体移送用バルブを設置する場合、該天井の上（真空室外）に粒体を受け入れる受け入れホッパーを配置して、該受け入れホッパーの底面を円錐台状に形成した上案内部にすれば、粒体移送口の大きさを小さくすることができる。
【００１０】
なお、前記上案内部のテーパ角度が４０°〜１４０°でなることが好ましい。これによれば、上案内部が上方に向かってテーパ角度が４０°〜１４０°で開いている、つまり、鉛直方向に対して片側２０〜７０°の角度で傾斜しているから、粒体が該傾斜面を円滑に滑落する。すなわち、テーパ角度が４０°以下（片側２０°以下の急な傾斜）の場合、上案内部の高さが高くなり粒体移送用真空バルブが大型化することになる。一方、テーパ角度が１４０°以上（片側７０°以上の緩やかな傾斜）の場合、粒体が上案内部の下端（斜面の終端、粒体移送口に同じ）で詰まりを生じる（いわゆるブリッジまたはブリッジングを生じる）。
特に、前記上案内部のテーパ角度を６０°〜１２０°の範囲にしておけば、粒体移送用真空バルブの高さが極端に高くならず、しかも粒体の性状に比較的左右されなることなく、粒体が円滑に滑落して詰まりが生じ難くなる。
【００１１】
さらに、前記上案内部の下端に筒状の下案内部が設けられてなることが好ましい。
これによれば、粒体移送口が筒状の下案内部の下端によって形成され、上案内部と下案内部とによって漏斗状の案内部が形成される。よって、上案内部に沿って移送された粒体がさらに下案内部に案内されるから、粒体が周囲に飛散することがない。
したがって、真空遮断弁の弁体または弁体ケースへの粒体の衝突がより確実に防止できるから、粒体が弁体または弁体ケースに付着しないため、弁体は円滑な真空封止動作または開通動作をするとともに、確実に真空封止する。
また、開口部の上案内部と真空遮断弁の弁体とを近接して配置することができない場合であっても、両者の間に下案内部（漏斗の下部）が配置されるから、粒体の周囲への飛散が防止される。さらに、下案内部の下端（粒体移送口）を弁体に直接当接自在にして、該当接によって粒体移送口が閉塞されるようにすれば、粒体遮断弁の機構が簡素になる。
なお、下案内部は全長が等径の管または上方が大径化したテーパ管等であって、断面形状は円形に限定するものではない。たとえば、上部が断面円形で下部が断面矩形であってもよい。
【００１２】
さらに、前記粒体遮断弁が前後進自在なフィード弁であって、その弁体が鉛直方向に対して所定の当接角度で傾斜した弁体当接面を具備し、
前記上案内部の下端面または下案内部の下端面が、鉛直方向に対して前記当接角度で傾斜した漏斗当接面を具備し、
前記弁体が前進した際、前記弁体当接面が漏斗当接面に当接して粒体の落下を不能にすることが好ましい。
これによれば、粒体遮断弁の弁体の移動機構および粒体移送口（漏斗当接面によって包囲された範囲に同じ）の閉塞機構が簡素であるから、該弁体が円滑な閉塞動作または開通動作をする。また、弁体当接面が傾斜した傾斜面を形成するから、弁体当接面に粒体が滞留することがないため、粒体は停留することなく落下する。よって、閉塞する際（漏斗当接面に弁体当接面が当接する際）粒体を挟むことがなく、確実な閉塞が可能になる。
特に、下案内部を設置した場合には、上案内部の傾き（前記テーパ角度の１／２）と弁体当接面の傾きを同一にしたり後者の方を大きく（急な傾斜に）したりすることができるから粒体の落下はさらに確実になる。また、弁体が所定の距離だけ移動（後退）した時、弁体と漏斗当接面との間に所定の隙間が形成されるから、該隙間の大きさに応じた量の粒体が落下する。
さらに、フィード弁の弁体の前後進方向は水平方向に限定するものではなく、水平方向に対して所定の角度だけ傾斜してもよい。
【００１３】
さらに、前記粒体遮断弁が水平方向に設けられた回動軸を中心に鉛直面内で回動自在な弁体を具備するスイング弁であって、
前記上案内部の下端面または下案内部の下端面が、鉛直方向に対して所定の当接角度で傾斜した漏斗当接面を具備し、
前記弁体が回動した際、前記漏斗当接面に当接して粒体の落下を不能にする弁体当接面を具備することが好ましい。
これによれば、スイング弁の弁体（上縁部に回動軸が設置されている）が下方向に垂れ下がった時に、粒体移送口（漏斗当接面によって包囲された範囲に同じ）が全開し、その弁体が上方向（垂直から水平になる方向に）に回動して弁体当接面が漏斗当接面に当接して、粒体移送口の全域を閉塞するから、粒体の落下を不能にする。また、この状態から弁体が所定の角度だけ下方向に回動した時、弁体当接面と漏斗当接面との間に所定の隙間が形成されるから、該隙間の大きさに応じた量の粒体が落下する。このとき、漏斗当接面を滑らかな平面に（弁体を平板によって形成）しておけば、粒体は漏斗当接面に停留することなく滑落する。
【００１４】
さらに、前記当接角度が３０〜６０°でなることが好ましい。
これによれば、漏斗当接面が鉛直方向に対して３０〜６０°の角度で傾斜しているから、これに当接する弁体当接部の大きさを抑えることができ、フィード弁の弁体の高さ、あるいはスイング弁の弁体の長さを抑えることができる。
すなわち、フィード弁の場合、当接角度が３０°以下（急な傾斜）であると、弁体の高さが高くなりフィード弁が大型になる。一方、当接角度が６０°以上（緩やかな傾斜）であると、弁体当接面に粒体が停留（落下不良）することがあり、弁体の作動不良または閉塞不良が起こるおそれがある。そして、前記停留が起こると、弁体が前進した際、漏斗当接面と弁体当接面との間に粒体が挟まれて完全な閉塞ができなくなる。このため、弁体が前進を停止した後になって該粒体が落下するおそれが生じる。また、弁体の閉塞を確認する信号に基づいて真空封止弁の動作を制御するから、かかる一連の動作の進行が停止することになる。
また、スイング弁の場合、当接角度が３０°以下（急な傾斜）であると、弁体が長くなるとともに、弁体のわずかの回転で粒体の落下量が大きく変化する。一方、当接角度が６０°以上（緩やかな傾斜）であると、弁体が回動して漏斗当接面に当接する前に粒体が落下しなくなる（停留する）ため、該粒体を弁体当接面と漏斗当接面との間に挟み込み、弁体が回動を停止した後になって該粒体が真空封止弁の上に落下するおそれが生じる。また、弁体の閉塞を確認する信号に基づいて真空封止弁の動作を制御するから、かかる一連の動作の進行が停止することになる。
【００１５】
さらに、前記上案内部の下端面または下案内部の下端面を包囲して鉛直下方に設けられた筒状の粒体遮断弁カバーを有することが好ましい。
これによれば、粒体移送口（前記上案内部の下端面によって包囲されている範囲または下案内部の下端面によって包囲されている範囲）から落下する粒体が粒体遮断弁カバーに案内されて周囲に飛散しないから、真空封止弁の弁体または弁体ケース（真空封止口の周囲に同じ）に衝突することがない。よって、粒体が真空封止弁の弁体または弁体ケースに付着しないから、弁体は円滑な真空封止動作または開通動作をするとともに、確実な真空封止を可能にし、さらに、真空封止手段（Ｏリング等）の損傷を防止する。
特に、フィード弁の弁体が傾斜した斜面を具備し、あるいはスイング弁の弁体が傾斜した斜面を形成するから、開通開始直後や閉塞完了直前に該斜面によって粒体が斜め下方に落下するため、粒体遮断弁カバーは該斜め方向の落下を防止するという顕著な効果を奏する。
また、粒体遮断弁と真空封止弁とが鉛直方向で離れている（粒体遮断弁の弁体と真空封止弁の弁体とが離れているに同じ）場合でも、粒体遮断弁カバーの下端部を真空封止弁の弁体の動作範囲の直近にまで延長することができるから、前記飛散防止効果を確実に得ることができる。
なお、フィード弁に設置される粒体遮断弁カバーにはフィード弁の弁体が進退自在なように開口部が側面に設けられている。また、スイング弁に設置される粒体遮断弁カバーには回動軸が貫通するための貫通孔が側面に設けられている。
また、粒体遮断弁カバーの平面形状は円形、矩形、あるいは略半円形（馬蹄形）等いずれの形状であってもよい。また、側面形状は矩形、台形、あるいは三角形（たとえば、粒体の落下方向側を長くする）等いずれの形状であってもよい。
【００１６】
さらに、前記粒体が金属または合金を切削加工または穿孔加工した際に発生する切削チップまたは穿孔チップであることを特徴とすることがことが好ましい。これによれば、流動性の悪い金属または合金の切削チップまたは穿孔チップ（以下、切削チップと総称する）であっても、円滑に落下するとともに、粒体遮断弁に挟まれることがなく、さらに、真空封止弁に付着することがない。すなわち、かかる切削チップ類を処理する真空室に好適な粒体移送用真空バルブが得られる。
【００１７】
さらに、前記真空封止弁が略水平方向に前後進自在なゲート弁または略水平面内で旋回自在なロータリ弁であることが好ましい。
これによれば、ゲート弁のゲート弁体が後退した際、真空封止口の全域が完全に開通し、しかも、ゲート弁体が十分に退避した状態で粒体が落下するから、粒体の落下が確実になるとともに、弁体への粒体の付着が確実に防止できる。仮に、ゲート弁体を収容するゲート弁ケース（真空封止口の周囲）に粒体が衝突した場合でも、該粒体が後退しているゲート弁体の位置にまで飛散することがない。また、ロータリ弁のロータリ弁体が所定の位置（一方の旋回限）に停止した際、ロータリ弁体に設けたロータリ弁体貫通孔が真空封止口の全域を完全に開通し、しかも、該開通した状態で粒体が落下するから、粒体の落下が確実になるとともに、弁体への粒体の付着が防止できる。特に、ロータリ弁体貫通孔の内径を真空封止口の内径より十分大きくしておけば、ロータリ弁体を収容するロータリ弁ケース（真空封止口の周囲）に粒体が衝突した場合でも、該粒体がロータリ弁体に触れることがない。
【００１８】
さらに、前記ゲート弁のゲート弁体または該ゲート弁体を収容するゲート弁ケースの一方または両方に真空封止手段が設置され、
前記ゲート弁体が前進限に到達した際、前記真空封止手段が前記ゲート弁体およびゲート弁ケースによって挟圧されることが好ましい。
これによれば、ゲート弁体が前進限に到達した際、ゲート弁体が鉛直方向に押し付けられて（移動して）真空封止手段（Ｏリング等）を押圧するから、真空封止手段によって確実な真空封止が図られる。すなわち、真空室内を減圧した際に作用する大気圧を利用して真空封止手段を押圧するものでないため、真空封止手段を弁体に対して真空室側またはこれと反対側のいずれの位置に配置しても、確実な真空封止が図られる。また、真空室に大気圧以上の圧力のガスを封入した場合でも、該ガスが流逸（リーク）することがない。
また、真空室の天井および床にそれぞれ粒体移送用真空バルブを設置した場合でも、それぞれに同じ型式のゲート弁を使用することができる。すなわち、一方のゲート弁では弁体に対して真空室側に真空封止手段を配置し、他方のゲート弁では弁体に対して真空室とは反対の側に真空封止手段を配置することができる。さらに、ゲート弁体が前進または後進する間、ゲート弁体に設置された真空封止手段はゲート弁ケースから離隔するから摺動することがなく、ゲート弁ケースに設置された真空封止手段はゲート弁体から離隔するから摺動することがないため、真空封止手段の損傷を最少に抑えることができる。
【００１９】
同様に、前記ロータリ弁のロータリ弁体または該ロータリ弁体を収容するロータリ弁ケースの一方または両方に真空封止手段が設置され、
前記ロータリ弁体が一方の旋回限に到達した際、前記真空封止手段が前記ロータリ弁体およびロータリ弁ケースによって挟圧されることが好ましい。
これによれば、ロータリ弁体が一方の旋回限に到達した際、ロータリ弁体が鉛直方向に押し付けられて（移動して）真空封止手段（Ｏリング等）を押圧するから、真空封止手段によって確実な真空封止が図られる。すなわち、真空室内を減圧した際に作用する大気圧によって真空封止手段を押圧するものでないため、真空封止手段を弁体に対して真空室側またはこれと反対側のいずれの面に配置しても、確実な真空封止が図られる。また、真空室に大気圧以上の圧力のガスを封入した場合でも、該ガスが流逸（リーク）することがない。
また、真空室の天井および床にそれぞれ粒体移送用真空バルブを設置した場合でも、それぞれに同じ型式のロータリ弁を使用することができる。すなわち、一方のロータリ弁では弁体に対して真空室側に真空封止手段を配置し、他方のロータリ弁では弁体に対して真空室とは反対の側に真空封止手段を配置することができる。
さらに、ロータリ弁体が旋回する間、ロータリ弁体に設置された真空封止手段はロータリ弁ケースから離隔するから摺動することがなく、ロータリ弁ケースに設置された真空封止手段はロータリ弁体から離隔するから摺動することがないため、真空封止手段（Ｏリング等）の損傷を最少に抑えることができる。
【００２０】
さらに、前記真空封止弁が略水平方向の回動軸を中心に回動自在なボール弁であることが好ましい。
これによれば、ボール弁のボール弁体に設けたボール弁体貫通穴の大きさが前記真空封止口（ボール弁体を収容するボール弁体ケースに設けた貫通孔の鉛直方向の上側の開口部を指す）の大きさより大きいから、ボール弁体貫通孔が鉛直になった際、真空封止口の全域が完全に開通し、しかも、ボール弁体の外周面が真空封止口に露出しないから、粒体の落下が確実になるとともに、ボール弁体の外周面への粒体の付着が防止される。
仮に、ボール弁体を収容するボール弁体ケース（真空封止口の周囲に同じ）に粒体が衝突した場合でも、該粒体がボール弁体の外周面に飛散（付着）することがない。
また、ボール弁体ケースに設けた下側の開口部の大きさをボール弁体貫通孔よりも大きくしておけば、ボール弁体貫通孔内を落下した粒体が、ボール弁体ケースのボール弁体摺動面に飛散（付着）することがない。
よって、ボール弁体またはボール弁体摺動面に粒体が付着しないから、確実な真空封止ができる。また、真空封止手段（Ｏリング等）をボール弁体またはボール弁体摺動面の一方または両方に設置した場合でも、これを損傷することがない。
【００２１】
一方、本発明の真空室は、粒体が天井部に設けられた天井開口部から搬入され、一旦内部に収容された後、床部に設けられた床部開口部から搬出される真空室であって、
前記天井開口部および床部開口部に前記粒体移送用真空バルブが設置されることが好ましい。
これによると、粒体移送用真空バルブ自体が前記構成であって前記動作をするから（粒体遮断弁が粒体搬出口を閉塞している時間帯に限って真空封止弁が作動する等）、粒体の真空室への搬入および真空室からの搬出が円滑であり、真空室の真空封止が確実になる。
また、天井部に設置された粒体移送用真空バルブの真空封止弁と床部に設置された粒体移送用真空バルブの真空封止弁の一方が常時真空封止しているようにすれば（すなわち、それぞれの真空封止口を同時に開放しないようにすれば）、当該真空室の上部または下部に第二の真空室を設けた場合でも、該第二の真空室を気密的に封止することができる。
【００２２】
また、前記真空室の床部開口部が射出成型機の加熱室に連結されることが好ましい。
これによると、真空室において所定の処理が施された粒体が射出成型機の加熱室に直接供給され、該粒体が加熱された後、金型内に射出されて成型されるため、良質の成型品が得られる。また、粒体の移送が円滑であるから、円滑な射出成型作業を保証することができる。
特に、真空室の下部と射出成型機の加熱室とを気密的に連結して、真空室の天井部に設置された粒体移送用真空バルブの真空封止弁と床部に設置された粒体移送用真空バルブの真空封止弁の一方が常時真空封止しているようにすれば、すなわち、天井部および床部の両方の真空封止口を同時に開放しないようにすれば、前記加熱室を大気に曝すことがなくなるから、所定の処理（たとえば、真空乾燥等）が施された粒体が再度大気汚染（たとえば、酸素や水分の再付着等）されることがない。
【００２３】
さらに、前記真空室が真空封止された状態で、該真空室内のガスを排出してから真空室内に不活性ガスを注入する排気注気作業が複数回に渡って実施されることが好ましい。
これによると、排気および注気する作業をそれぞれ複数回繰り返すため、粒体に付随して真空室に取り込まれた空気や水分が効率良く除去されるから、射出成型機の加熱室における酸化物、窒化物、あるいは気泡等の発生が防止される。よって、良質の射出成型品が得られると共に、射出成型機の射出スクリューや加熱室の内壁の損傷を最少に抑えることが可能になる。
このとき、前記排気作業において到達する気圧が比較的高圧（真空度が悪い状態）であっても、真空室内の空気や水分が十分除去されるから、空封止手段の負担が比較的軽くなる。
【００２４】
さらに、前記真空室内に不活性ガスを注入する際、該真空室が正圧に加圧されることが好ましい。
これによると、粒体移送用真空バルブは、真空室の内部が正圧に加圧されても内部の加圧ガスが流逸（リーク）しない構造になっているから、不活性ガスを注入してもこれが漏れることがない。よって、不活性ガスの無駄を防止するとともに、真空封止手段に不活性ガスがリークしながら直接触れないから、該不活性ガスに混入した粉塵類が真空封止手段に付着することがなく粉塵類による損傷が防止される。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、実施の形態１においてフィード弁式粒体遮断弁とゲート弁式真空封止弁を具備する粒体移送用真空バルブについて、実施の形態２においてフィード弁式粒体遮断弁とボール弁式真空封止弁を具備する粒体移送用真空バルブについて、実施の形態３においてスイング弁式粒体遮断弁とロータリ弁式真空封止弁を具備する粒体移送用真空バルブについてそれぞれ説明し、その後、実施の形態４において真空室（実施の形態１に示す粒体移送用真空バルブが設置されている）について説明する。なお、実施の形態１〜４における各図の同じ部分には同じ符号を付し、一部の説明を省略する。
【００２６】
［実施の形態１］
（フィード弁式粒体遮断弁とゲート弁式真空封止弁を具備する粒体移送用真空バルブ）
図１は本発明の実施の形態１に係る粒体移送用真空バルブを説明する縦断面図である。図１において、１００は粒体移送用真空バルブ、１０は真空室、２０はフィード弁式粒体遮断弁（以下、フィード弁と称する場合がある）、３０はゲート弁式真空封止弁（以下、ゲート弁と称する場合がある）である。
なお、図１において、真空室１０の底部の下面に直接フィード弁式粒体遮断弁２０が配置され、フィード弁式粒体遮断弁２０の下面に直接ゲート弁式真空封止弁が設置されているが、本発明はこれに限定するものではなく、真空室１０の天井部に粒体移送用真空バルブ１００が設置、すなわち、真空室１０の天井部の上面にゲート弁式真空封止弁３０が直接配置され、ゲート弁式真空封止弁３０の上面に直接フィード弁式粒体遮断弁が設置されてもよい。
図２は図１の一部を断面にして示す斜視図である。以下、図１および図２に基づいて各部位について説明する。
【００２７】
（漏斗）
真空室１０は筒体（円筒状）１１によって形成され、筒体１１の下端に円錐台状の上案内部１２が設けられている。また、上案内部１２の下端には筒状の下案内部１３が設けられ、上案内部１２と下案内部１３とによって漏斗１４が形成されている。
すなわち、漏斗１４の下端が包囲する範囲（筒状の下案内部１３の内径、または下案内部がテーパ管の場合その下端部の内径に相当）が、粒体が移送される粒体移送口４０になっている。なお、漏斗１４は上案内部１２および下案内部１３が一体化されたラッパ状またはテーパ状の場合、すなわち、上案内部１２または下案内部１３が明りょうに区分できない場合がある。
上案内部１２は鉛直方向に対して片側で角度θ（以下、上案内角θと称す）だけ傾斜している（テーパ角度２θでもって上方に開いている）。図中、上案内角θは略４５°であるが、移送される粒体の性状に応じて変更されるものであって、通常２０〜７０°、望ましく３０〜６０°に設定される。
漏斗１４の下端面は鉛直方向に対して片側で角度φ（以下、漏斗当接角φと称す）だけ傾斜して漏斗当接面１５を形成している。図中、漏斗当接角φは略４５°であるが、移送される粒体の性状に応じて変更されるものであって、通常４５°を標準にして、望ましくは３０〜６０°の範囲に設定される。
【００２８】
（フィード弁式粒体遮断弁）
フィード弁式粒体遮断弁２０は、フィード弁体当接面２１を具備するフィード弁体２２と、フィード弁体２２を前後進させるフィード弁体進退手段２３（油圧シリンダ等）と、フィード弁体２２とフィード弁体進退手段２３とを連結するフィード弁体連結棒２４と、フィード弁体２２を収容するフィード弁空間２５と、フィード弁体進退手段２３が設置されるフィード弁ケース２６を有している。
フィード弁体２２は直方体または円柱であって、前進方向（図中、左方向）の端面が、鉛直方向に対して所定の角度φ（以下、フィード弁体当接角φと称す）だけ傾斜したフィード弁体当接面２１を形成し、フィード弁体当接角φは漏斗当接面１５の漏斗当接角φに同じである。
【００２９】
したがって、フィード弁体２２が前進してフィード弁体当接面２１が漏斗当接面１５に当接すると、粒体移送口４０の全域が閉塞されることになる。
また、フィード弁体２２が後退してフィード弁体当接面２１が漏斗当接面１５から離れると、その隙間から粒体が落下する。したがって、フィード弁体２２が僅かに後退して該隙間が狭ければ、僅かの粒体が落下し、一方、フィード弁体２２が大きく後退して該隙間が広がれば、より多くの粒体が落下することになる。さらに、フィード弁体当接面２１が所定のフィード弁体当接角φでもって傾斜しているため、粒体がフィード弁体当接面２１上に停留（落下しないで付着）することがないから、フィード弁体２２が前進してフィード弁体当接面２１が漏斗当接面１５に当接する際、粒体を挟むおそれがない。
【００３０】
（ゲート弁式真空封止弁）
ゲート弁式真空封止弁３０は、ゲート弁体封止面３１を具備するゲート弁体３２と、ゲート弁体３２を前後進させるゲート弁体進退手段３３（油圧シリンダ等）と、ゲート弁体３２とゲート弁体進退手段３３とを連結するゲート弁体連結棒３４と、ゲート弁体３２を収容するゲート弁ケース３６とを有している。
ゲート弁ケース３６の天井板３７には上開口部４１が、床板３８には下開口部４２がそれぞれ鉛直方向で略同一の位相になるように穿設され、天井板３７と床板３８とに挟まれて、上開口部４１（下開口部４２に同じ）から退避したゲート弁体３２が収容されるゲート弁空間３５が形成されている。
そして、天井板３７の下面で上開口部４１の周囲に真空封止のためのゲート弁ケース封止面３９が形成されている。ゲート弁ケース封止面３９は天井板３７の下面そのものによって形成される場合や、真空封止手段５０（Ｏリング等）の形状に合わせて環状の突条に形成される場合がある。なお、ゲート弁ケース封止面３９に包囲された開口部（図１において上開口部４１に同じ）を真空封止口と称す。
【００３１】
ゲート弁体３２は矩形平板または円形平板であって、その上面に真空封止手段５０（Ｏリング等）が設置されるためのゲート弁体封止面３１が形成され、ここに真空封止手段５０（Ｏリング等）が設置されている。
なお、ゲート弁体封止面３１はゲート弁体３２の上面そのものによって形成される場合や、真空封止手段５０（Ｏリング等）の形状に合わせて砲台状の突部または環状の突条に形成される場合がある。また、真空封止手段５０の配置を容易且つ確実にするため環状の溝が設けられている。なお、以下、溝の部分を含めてゲート弁体封止面３１と称する。
したがって、ゲート弁体３２が前進して前進限に到達すると（図１に示す状態）、図示しない押し付け機構（以下に別途説明する）によってゲート弁体３２が上方向に押し上げられるから、真空封止手段５０はゲート弁体封止面３１とゲート弁ケース封止面３９とによって挟圧され、上開口部４１（真空封止口に同じ）は確実に真空封止される。
なお、真空室１０が減圧された際、ゲート弁体３２は真空室１０側に押されるから、真空封止はさらに確実になる。よって、かかる押し付け機構を撤去して、減圧時の大気圧だけによってゲート弁体３２を真空室１０側に押し付けるようにしてもよい。
一方、かかる押し付け機構によって押し付け力が作用しているから、真空室１０に加圧ガスが注入されて内部が大気圧以上になった場合でも、該加圧ガスが流逸（リーク）することがない。
【００３２】
さらに、ゲート弁体３２が後退する際、まず前記押し付け機構による押し付けがなくなって、ゲート弁体封止面３１とゲート弁ケース封止面３９とが離隔し、ゲート弁体封止面３１に設置された真空封止手段５０はゲート弁ケース封止面３９から離れる。そして、真空封止手段５０はゲート弁ケース封止面３９に摺動することなく後退する。
やがて、ゲート弁体３２が後退限に到達して完全にゲート弁空間３５内に収納されると（図２に示す状態）、上開口部４１と下開口部４２との間が開通して、粒体が落下自在になる。このとき、ゲート弁体３２は十分後退しているから、粒体が付着することがない。
【００３３】
また、粒体移送口４０の大きさに比較して上開口部４１の大きさが十分大きくなっているから、落下する粒体がゲート弁ケース３６（天井板３７の上面または開口部４１を形成する内周面）に触れることがない。また、下開口部４２の大きさを上開口部４１の大きさより大きく形成しておけば、天井板３７に一旦付着した粒体がその後剥離して落下しても、床板３８の上面または開口部４２を形成する内周面）に触れることがない。
【００３４】
以上は、ゲート弁体３２の上面にゲート弁体封止面３１が形成され、ゲート弁ケース３６の天井板３７の下面にゲート弁ケース封止面３９が形成されるものであるが、本発明はこれに限定するものはなく、ゲート弁体３２の下面にゲート弁体封止面３１を形成して、ゲート弁ケース３６の床板３８の上面にゲート弁ケース封止面３９が形成されてもよい。
このとき、図示しない押し付け機構によってゲート弁体３２を下方向に押し付けるようにしておけば、真空室１０が減圧されても真空封止は継続（維持）されるものである。すなわち、真空封止手段５０を押し付ける押し付け力が弱まるものの、真空室１０内に大気が侵入することはない。
【００３５】
また、真空封止手段（Ｏリング等）はゲート弁体封止面３１またはゲート弁ケース封止面３９の何れに設置されてもよいし、または両方に設置されてもよい。そして、真空封止手段５０が設置される面には、この配置を容易且つ確実にするため環状の溝が設けられることになる。
たとえば、ゲート弁ケース封止面３９に真空封止手段５０が設置された場合は、ゲート弁ケース封止面３９に環状の溝が設けられる。さらに、ゲート弁体３２が後退する際、まず前記押し付け機構による押し付けがなくなって、ゲート弁体封止面３１とゲート弁ケース封止面３９とが離隔し、真空封止手段５０がゲート弁体封止面３１から離れる。そして、真空封止手段５０がゲート弁体封止面３１に摺動することなく後退する。
【００３６】
（粒体遮断弁カバー）
漏斗１４の外壁に鉛直下方に向けて筒状の粒体遮断弁カバー６０（以下、フィード弁カバー６０と称す）が設けられ、フィード弁カバー６０の側面には、後記フィード弁体２１が進退自在なようにフィード弁カバー側面開口部６１が設けられている。なお、フィード弁カバー６０の下端面６２は真空封止弁３０のゲート弁体３２または真空封止手段５０に接触しない位置にまで近接している。すなわち、ゲート弁ケース３６の上開口部４１（真空封止口）の中に侵入している。
したがって、粒体移送口４０が開いた際、粒体はフィード弁体当接面２１に沿って斜め下方（図中、左下方向）に偏って落下するため、フィード弁カバー６０がこれを受け止めて落下方向を鉛直下方に案内するとともに、飛散を防止している。
なお、フィード弁カバー６０を形成する材質は金属板、ゴム板等を適宜選択することができる。たとえば、密度が低く飛散し易い粒体（樹脂粒、切削チップ等）に対してはゴム板を使用して跳ね返りを抑え、一方、重量が大きく硬さの高い粒体に対しては強度の高い金属板（たとえば、ステンレス鋼板等）を使用して摩耗を防ぐことが好ましい。また、その長さは、真空封止弁３０のゲート弁体３２や真空封止手段５０（Ｏリング等）と干渉しない範囲で長くすることが好ましい。
【００３７】
（押し付け機構）
図３は本発明の実施の形態１に係る粒体移送用真空バルブに設置されるゲート弁体の押し付け機構の実施例１を説明する縦断面図であって、（ａ）はゲート弁体が押し付けられていない状態、（ｂ）はゲート弁体が押し付けられている状態を示す。なお、図１と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、一部の説明を省略する。
ゲート弁体３２は、下方に台形状に突出した斜面イおよび斜面ハを有す上ゲート弁体３２ａ、上方に突出した斜面チを有す下ゲート弁体３２ｂ、斜面ヘを有すスライドブロック３２ｃ、および引っ張りバネ３２ｄによって形成されている。そして、上ゲート弁体３２ａと下ゲート弁体３２ｂとは引っ張りバネ３２ｄによって常時相互に引っ張り合っている。
【００３８】
図３の（ａ）において、ゲート弁体３２が前進限にないとき、上ゲート弁体３２ａの下方に突出した下面ロは下ゲート弁体３２ｂの上面トに当接して、真空封止手段５０はゲート弁ケース封止面３９から離隔しているから、ゲート弁体３２が前進または後退する際、これらが摺動することがない。
このとき、上ゲート弁体３２ａの斜面イおよび斜面ハが、それぞれ下ゲート弁体３２ｂの斜面トおよび斜面チに当接して、スライドブロック３２ｃは前進方向（図中、左方向）に押し出されている。
また、斜面へと斜面チ（斜面イと斜面ハ）とは同じ傾斜角度であるものに限定するものではなく、相違、すなわち、非対称であってもよく、一方が前後進方向に垂直な平面であってもよい。また、斜面イと斜面チ（斜面ハと斜面チ）とは共に傾斜面であるものに限定するものではなく、一方が回転するローラ等であってもよい。
なお、図中、ゲート弁ケース３６の床板３８の上面と下ゲート弁体３２ｂの下面とが離れて記載されているが、これは、当該面同士が押し付け合っていないことを模式的に示したものであって、相互に摺動してもよい。
【００３９】
さらに、図３の（ｂ）において、ゲート弁体３２が前進限に近づくと、スライドブロック３２ｃの前端面ホ（図中、左側面）がゲート弁ケース３６の内壁ニに当接し、さらに、前進すると、スライドブロック３２ｃは後方（図中、右方向）に押し戻される。すなわち、上ゲート弁体３２ａの下方に突出した台形状の部分は、斜面ヘ（スライドブロック３２ｃ）と斜面チ（下ゲート弁体３２ｂ）とによって挟まれて上方に押し出されることになる。
このとき、ゲート弁体封止面３１とゲート弁ケース封止面３９とが近接し、真空封止手段５０を挟圧するから、確実な真空封止ができる。
【００４０】
図４は本発明の実施の形態１に係る粒体移送用真空バルブに設置されるゲート弁体の押し付け機構の実施例２を説明する縦断面図であって、（ａ）はゲート弁体が押し付けられていない状態、（ｂ）はゲート弁体が押し付けられている状態を示す。すなわち、図３におけるスライドブロック３２ｃをゲート弁体連結棒３４に設置したものである。なお、図１および図３と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、一部の説明を省略する。
ゲート弁体３２は、下方に台形状に突出した斜面イおよび斜面ハを有す上ゲート弁体３２ａ、上方に突出した斜面ヌを有す下ゲート弁体３２ｅ、斜面オを有し且つゲート弁体連結棒３４に設置されたスライドブロック３２ｆ、および引っ張りバネ３２ｄによって形成されている。そして、上ゲート弁体３２ａと下ゲート弁体３２ｅとは引っ張りバネ３２ｄによって常時相互に引っ張り合っている。
【００４１】
図４の（ａ）において、ゲート弁体３２が前進限にないとき、上ゲート弁体３２ａの下方に突出した下面ロは下ゲート弁体３２ｅの上面ルに当接して、真空封止手段５０はゲート弁ケース封止面３９から離隔しているから、ゲート弁体３２が前進または後退する際、これらが摺動することがない。
このとき、上ゲート弁体３２ａの斜面イおよび斜面ハが、それぞれ下ゲート弁体３２ｅの斜面ヌおよび斜面オに当接して、スライドブロック３２ｆは後方（図中、右方向）に押し戻されている。
また、斜面ヌと斜面オ（斜面イと斜面ハ）とは同じ傾斜角度であるものに限定するものではなく、相違、すなわち、非対称であってもよく、一方が前後進方向に垂直な平面であってもよい。また、斜面イと斜面ヌ（斜面ハと斜面オ）とは共に傾斜面であるものに限定するものではなく、一方が回転するローラ等であってもよい。
なお、図中、ゲート弁ケース３６の床板３８の上面と下ゲート弁体３２ｅの下面とが離れて記載されているが、これは、当該面同士が押し付け合っていないことを模式的に示したものであって、相互に摺動してもよい。
【００４２】
さらに、図４の（ｂ）において、ゲート弁体３２が前進限に到達すると、下ゲート弁体３２ｅの前端面リ（図中、左側面）がゲート弁ケース３６の内壁ニに当接する。さらに、前進すると、スライドブロック３２ｆは前方（図中、左方向）に押し込まれる。すなわち、上ゲート弁体３２ａの下方に突出した台形状の部分は、斜面オ（スライドブロック３２ｆ）と斜面ヌ（下ゲート弁体３２ｅ）とによって挟まれて上方に押し出されることになる。
このとき、ゲート弁体封止面３１とゲート弁ケース封止面３９とが近接し、真空封止手段５０を挟圧するから、確実な真空封止ができる。
【００４３】
（粒体移送用真空バルブの動作）
図５は本発明の実施の形態１に係る粒体移送用真空バルブの動作を説明する縦断面図である。かかる動作は図示しない制御手段によって制御されるものである。なお、図１および図２と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、一部の説明を省略する。また、フィード弁カバー６０については並行線によって表示している。移送される粒体はマグネシウム合金を旋盤加工した際に発生する切削チップであって、概ね長さ７ｍｍで断面が１ｍｍ角の略角柱状を呈している。該切削チップの表面には鋭い凹凸があるため流動性が悪い。
【００４４】
（閉塞状態）
図５の（ａ）は、フィード弁式粒体遮断弁（フィード弁）２０およびゲート弁式真空封止弁３０の両方が閉まった状態である。
すなわち、フィード弁式粒体遮断弁（フィード弁）２０のフィード弁体２２が前進して、フィード弁体当接面２１が漏斗当接面１５に当接して、粒体移送口４０を閉塞している。
また、ゲート弁式真空封止弁３０のゲート弁体３２が前進限まで前進して、図示しない押し付け機構によって上方向に押し付けられ、真空封止手段５０がゲート弁体封止面３１とゲート弁ケース封止面３９とによって挟圧されている。すなわち、真空室１０は真空封止されている。
【００４５】
このとき、前進限センサＬＳ１がフィード弁体２２が前進限に到達したことを検知して前進を停止し、前進限センサＬＳ３がゲート弁体３２が前進限に到達したことを検知して前進を停止している。
なお、以上は、ゲート弁式真空封止弁３０のゲート弁体封止面３１およびゲート弁ケース封止面３９がゲート弁体３２の前後進方向（水平面内）と平行であるが、本発明はこれに限定するものではなく、ゲート弁体封止面３１およびゲート弁ケース封止面３９がゲート弁体３２の前後進方向に対して傾斜してもよい。このとき、前記押し付け機構を別途設けることなく、ゲート弁体が真空封止手段５０を挟圧する。
【００４６】
（真空解除状態）
図５の（ｂ）は、フィード弁式粒体遮断弁（フィード弁）２０が閉まり、一方、ゲート弁式真空封止弁３０が真空封止を解除した状態である。
すなわち、粒体移送口４０が閉塞された状態、すなわち、粒体が落下しない状態のまま、ゲート弁式真空封止弁３０のゲート弁体３２が後退（図中、右方向に移動）し、後退限センサＬＳ４がゲート弁体３２が後進限に到達したことを検知して後退を停止している。よって、ゲート弁体３２の移動中にゲート弁体封止面３１（ゲート弁体３２に同じ）や真空封止手段５０の上に粒体が落下することがないから、当該部位が損傷することがないし、ゲート弁体３２の後進に際し、ゲート弁ケース封止面３９を損傷することがない。
また、仮に、ゲート弁ケース３６の床板３８の上面に粒体が付着した場合であっても、ゲート弁体封止面３１がゲート弁体３２の上面に設けられているから、かかる粒体によって真空封止手段５０が損傷することがない。なお、ゲート弁体３２の移動に際して、真空室１０内は大気圧に戻されるからゲート弁体３２が大気圧によって真空室１０側に押し付けられることがない。
【００４７】
（粒体落下状態）
図５の（ｃ）は、フィード弁式粒体遮断弁（フィード弁）２０およびゲート弁式真空封止弁３０の両方が開いた状態である。
すなわち、ゲート弁式真空封止弁３０のゲート弁体３２が後退して、上開口部４１（真空封止口）および下開口部４２から完全に退避した状態（図中、右方向に移動、後退限センサＬＳ４が後退限にあることを検出している状態）で、フィード弁体２２が後退して粒体移送口４０が開かれている。
よって、落下する粒体がゲート弁体３２に触れることがない。
【００４８】
なお、フィード弁体当接面２１が後退（図中、右方向に移動）を開始した直後は、粒体がフィード弁体当接面２１に沿って斜め下方（図中、左下方向）に落下するため、フィード弁カバー６０が粒体の落下軌跡を鉛直下方に案内している。また、上開口部４１の内径および下開口部４２の内径を粒体移送口４０の内径に比較して十分大きく形成して、粒体が飛散した場合でも、ゲート弁ケース３６に触れないようにしている。なお、フィード弁体当接面２１が傾斜する方向（図中、左下方向）とは反対の方向にゲート弁体３２を引き込むようにすれば、ゲート弁空間３５内に落下する粒体が侵入するおそれがさらに減少する。
【００４９】
その後、前記動作を逆に辿って、まず、フィード弁式粒体遮断弁２０のフィード弁体２２が前進して粒体移送口４０を閉塞し（図５の（ｂ））、その後、ゲート弁式真空封止弁３０のゲート弁体３２が前進して真空封止口４１を封止する（図５の（ａ））。
なお、フィード弁体２２の動作の制御は、後退限にまで後退して所定の時間待機した後に再度前進するもの、真空室１０内の粒体が全量落下したことを別途検出して該検出結果に基づいて再度前進するもの、あるいは、所定の距離だけ後退した後に再度前進するもの（後退限まで後退しない）等、真空室１０の用途によって適宜選択できるものである。このとき、フィード弁体２２の前後進速度、前後進加速度は適宜設定されるものである。
また、フィード弁体２２およびゲート弁体３２の位置検出は前進限センサＬＳ１等の材料確認センサに限定するものではなく、距離センサ（マグネスケール（登録商標）等）であってもよい。
【００５０】
（粒体移送口等の大きさ）
次に、真空室１０の内径をｂ、粒体移送口４０の内径をｃ、ゲート弁ケース３６の上開口部４１（真空封止口）の内径をｄ、下開口部４２の内径をｅとして、それらの寸法について説明する（図５の（ｂ）参照）。
漏斗部１４における出口の内径ｃの入口の内径ｂに対する絞り率ｃ／ｂが１／３〜２／３の範囲が望ましい。絞り率ｃ／ｂが１／３以下（出側がより小径）では粒体が詰まる（ブリッジする）おそれがある。２／３以上（出側が比較的大径）になるとフィード弁体２２が大型になり、これに伴ってゲート弁式真空封止弁３０も大型化することになる。
【００５１】
粒体移送口４０の内径ｃの真空封止口の内径ｄに対する割合ｃ／ｄは２／３以下であることが望ましい。割合ｃ／ｄが２／３以上では落下する粒体がゲート弁ケース３６に触れるおそれがある。ただし、長いフィード弁カバー６０が設置できる場合には、これによって落下する粒体が鉛直下方に案内されて飛散も防止されるから、割合ｃ／ｄが２／３以上にすることができる。
さらに、上開口部４１（真空封止口）の内径ｄを下開口部４２の内径ｅよりも小さくしておけば、天井板３７に衝突または付着した粒体が落下するような場合でも、該粒体が床板３８の上面に落下しないからゲート弁空間３５内に粒体が侵入することがない。よって、ゲート弁体３２の前後進動作を円滑に維持することができる。
【００５２】
（粒体移送用真空バルブの動作の制御）
図６および図７は、それぞれ本発明の実施の形態１に係る粒体移送用真空バルブの動作の制御の一例を説明する単線結線図およびフローチャートである。図６および図７において、フィード弁式粒体遮断弁２０のフィード弁体２２による粒体移送口４０の開通動作および閉塞動作をそれぞれ「ＦＶ開」および「ＦＶ閉」と、ゲート弁式真空封止弁３０のゲート弁体３２による真空封止口４１の開通動作および封止動作をそれぞれ「ＧＶ開」および「ＧＶ閉」と略記する。
また、フィード弁体２２が前進限または後退限の位置にあることは、それぞれ「前進限センサＬＳ１がＯＮ」または「後退限センサＬＳ２がＯＮ］によって検出し、ゲート弁体３２が前進限または後退限の位置にあることは、それぞれ「前進限センサＬＳ３がＯＮ」または「後退限センサＬＳ４がＯＮ］によって検出する。
【００５３】
（単線結線図）
図６において、ローカルシーケンサの外部との信号の往来（Ｉ／Ｏ）にバルブ開閉指令、外部材料センサ信号およびエラー出力がある。
また、入力側（ＩＮ）には前進限センサＬＳ１、後退限センサＬＳ２、前退限センサＬＳ３および後退限センサＬＳ４が接続され、出力側（ＯＵＴ）にはＦＶ開およびＦＶ閉のための電磁バルブの開閉指令、ＧＶ開およびＧＶ閉のための電磁バルブの開閉指令が接続されている。
さらに、シーケンサ内部タイマーとして、フィード弁体２２およびゲート弁体３２の動作開始タイミングを規定して実際の動作を確認する（動作不調を検出する）ための動作開始タイマーと、フィード弁体２２の動作保持時間を規定する動作保持タイマーが設定されている。
なお、図６は一例を示すものであって、ゲート弁体３２の動作保持時間を規定する動作保持タイマーが追加される場合等、図示しない結線の場合がある。
【００５４】
（フローチャート）
図７において、一連の動作は粒体移送用真空バルブを開く旨の「バルブ開信号」を受けることによってスタートし（Ｓ１）、まず、内部タイマーを設定する（Ｓ２）。
そして、ＧＶ開タイマーをスタートして（Ｓ３）、ＧＶ開指令を発する（Ｓ４）。
ＧＶが開動作（後退動作）をして一定時間内に後退限センサＬＳ４がＯＮしたことを確認して（Ｓ５）、ＧＶの開状態（後退限にある状態）を保持する（Ｓ６）。一方、ＬＳ４がＯＮしない場合（後退していない場合、Ｓ５の２）、ＧＶの動作が不調であると判断してエラーを表示する（Ｓ５の３）。
【００５５】
つぎに、ＧＶが開いた状態で、ＦＶ開タイマーをスタートして（Ｓ７）、ＦＶの開指令を発する（Ｓ８）。
ＦＶが開動作（後退動作）をして一定時間内に後退限センサＬＳ２がＯＮしたことを確認して（Ｓ９）、ＧＶの開状態（後退限にある状態）を保持するためＦＶ開保持タイマーをスタートする（Ｓ１０）。一方、ＬＳ２がＯＮしない場合（後退していない場合、Ｓ９の２）、ＦＶの動作が不調であると判断してエラーを表示する（Ｓ９の３）。
【００５６】
やがて、ＦＶ開状態が所定に時間経過したところで（保持タイマーがタイムアップしたところで、Ｓ１１）、  ＦＶ閉タイマーをスタートして（Ｓ１２）ＦＶの閉指令を発する（Ｓ１３）。
ＦＶが閉動作（前進動作）をして一定時間内に前進限センサＬＳ１がＯＮしたことを確認したら（Ｓ１４）、ＧＶ閉タイマーをスタートして（Ｓ１５）、ＧＶの閉指令を発する（Ｓ１６）。  一方、ＬＳ１がＯＮしない場合（前進していない場合、Ｓ１４の２）、ＦＶの動作が不調であると判断してエラーを表示する（Ｓ１４の３）。
【００５７】
そして、ＧＶが前進限に到達して前退限センサＬＳ３がＯＮしたことを確認して（Ｓ１７）一連の動作を終了する（Ｓ１８）。一方、ＬＳ３がＯＮしない場合（前進していない場合、Ｓ１７の２）、ＧＶの動作が不調であると判断してエラーを表示する（Ｓ１７の３）。
以上より、図５に示す動作が実現されることになる。
【００５８】
［実施の形態２］
（フィード弁式粒体遮断弁とボール弁式真空封止弁を具備する粒体移送用真空バルブ）
図８は本発明の実施の形態２に係る粒体移送用真空バルブを説明する縦断面図である。図８において、２００は粒体移送用真空バルブ、１０は真空室、２０はフィード弁式粒体遮断弁（以下、フィード弁と称する場合がある）、７０はボール弁式真空封止弁である。なお、実施の形態１（図１および図２）と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、一部の説明を省略する。また、真空室１０がボール式真空封止弁７０の下方に配置、すなわち、真空室１０の天井部に粒体移送用真空バルブ２００が設置されてもよい。
【００５９】
（ボール弁式真空封止弁）
ボール弁式真空封止弁７０は、ボール弁体７２と、ボール弁体７２を水平軸中心に回動させるボール弁体回動手段７３（油圧モータ等）と、ボール弁体７２とボール弁体回動手段７３とを連結するボール弁体回動軸７４と、ボール弁ケース７６とを有している。
また、ボール弁体７２の外面は球面状のボール弁体封止面７１を形成し、中心を貫通するボール弁体貫通孔４３が設けられている。
【００６０】
ボール弁ケース７６の内部にはボール弁体７２を収容する略球状のボール弁空間７５が設けられ、外部にはボール弁体回動手段７３が設置されている。また、ボール弁ケース７６の上部および下部は開口し、それぞれ略球状のボール弁空間７５に連通した上開口部４１（真空封止口に同じ）および下開口部４２が形成され、さらに、ボール弁空間７５の内面の所定の範囲が、真空封止のためのボールケース封止面７９を形成している。
そして、ボール弁体封止面７１またはボールケース封止面７９の一方または両方に真空封止手段５０（Ｏリング等）が設置される。そして、かかる設置される面には真空封止手段５０（Ｏリング等）の設置を容易且つ確実にするための溝が設けられている。なお、該溝の部分を含んでボール弁体封止面７１またはボールケース封止面７９と称す。
【００６１】
したがって、真空封止手段５０の全周がボール弁体封止面７１とボールケース封止面７９とによって挟圧されたとき、真空室１０は真空封止され（図８に示す状態）、ボール弁体７２が回動してボール弁体貫通孔４３が開口部４１および下開口部４２に連通した時には、真空封止口４１が開通され且つボール弁体貫通孔４３内を粒体が落下自在になる。
【００６２】
（粒体移送用真空バルブの動作）
図９は本発明の実施の形態２に係る粒体移送用真空バルブの動作を説明する縦断面図である。かかる動作は図示しない制御手段によって制御されるものであって、実施の形態１に準じるため（図５参照）、一部の説明を省略する。なお、図８と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、一部の説明を省略する。
【００６３】
（閉塞状態）
図９の（ａ）は、フィード弁式粒体遮断弁（フィード弁）２０およびボール弁式真空封止弁７０の両方が閉まった状態である。
また、ボール弁式真空封止弁７０のボール弁体７２のボール弁体貫通孔４３が略水平方向を向き、水平姿勢センサＬＳ５（図示しない）がボール弁体貫通孔４３が水平姿勢になっていることを検知している。
このとき、真空封止手段５０の全周がボール弁体封止面７１とボールケース封止面７９とによって挟圧され、真空室１０は真空封止されている（図８に示す状態に同じ）。
【００６４】
（真空解除状態）
図９の（ｂ）は、フィード弁式粒体遮断弁（フィード弁）２０が閉まり、一方、ボール弁式真空封止弁７０が真空封止を解除した状態である。
すなわち、粒体移送口４０が閉塞された状態、すなわち、粒体が落下しない状態のまま、ボール弁式真空封止弁７０のボール弁体７２が回動（図中、水平軸を中心に回動）して、ボール弁体貫通孔４３が鉛直姿勢で停止している。このとき、鉛直姿勢センサＬＳ６（図示しない）はボール弁体貫通孔４３が鉛直姿勢になっていることを検知して回動を停止している。
よって、ボール弁体７２が回動している間、ボール弁体封止面７１（ボール弁体７２の外周面に同じ）に粒体が落下することがないから、真空封止手段５０、ボール弁体封止面７１およびボールケース封止面７９が損傷することがない。
なお、ボール弁体７２が回動している途中で、真空封止手段５０の周方向の一部がボール弁体封止面７１から離隔するものの、全周が離隔することはない。また、真空解除状態において、真空封止手段５０の全周がボール弁体封止面７１とボールケース封止面７９とによって挟圧されている。
【００６５】
（粒体落下状態）
図９の（ｃ）は、フィード弁式粒体遮断弁（フィード弁）２０およびボール弁式真空封止弁７０の両方が開いた状態である。すなわち、ボール弁式真空封止弁７０のボール弁体貫通孔４３が鉛直姿勢になった（図中、上開口部４１とボール弁体貫通孔４３と下開口部４２が一直線上に並んだ）状態で、粒体移送口４０が開かれている。
よって、粒体移送口４０から落下する粒体がボール弁体７２に触れることがない。
その後、前記動作を逆に辿って、まず、フィード弁式粒体遮断弁２０のフィード弁体２２が前進して粒体移送口４０を閉塞し（図９の（ｂ））、その後、ボール弁式真空封止弁７０のボール弁体貫通孔４３が水平姿勢になって真空封止口４１を封止する（図５の（ａ））。
以上より、ボール弁式真空封止弁７０によって実施の形態１と同様の効果が得られる。また、ボール弁式真空封止弁７０の方がゲート弁式真空封止弁３０よりも安価に製造することができる。
【００６６】
さらに、上開口部４１（真空封止口）の内径ｄと、ボール弁体７２のボール弁体貫通孔４３の内径ｆと、下開口部４２の内径ｅにおいて、下方になる程大きくなるようにしておけば（ｄ＜ｆ＜ｅ）、ボール弁ケース７６に衝突または付着した粒体が落下するような場合でも、ボール弁体封止面７１に粒体が付着することがない。また、ボール弁体貫通孔４３に衝突または付着した粒体が落下するような場合でも、ボール弁空間７５の内面に粒体が付着することがない。よって、真空封止手段５０の損傷が防止できるからより確実且つより長期間の真空封止が可能になる。
【００６７】
［実施の形態３］
（スイング弁式粒体遮断弁とロータリ弁式真空封止弁を具備する粒体移送用真空バルブ）
図１０は本発明の実施の形態３に係る粒体移送用真空バルブを一部断面にして示す斜視図である。図１０において、３００は粒体移送用真空バルブ、１０は真空室、８０はスイング弁式粒体遮断弁（以下、スイング弁と称する場合がある）、９０はロータリ弁式真空封止弁（以下、ロータリ弁と称する場合がある）である。なお、実施の形態１（図１および図２）と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、一部の説明を省略する。
【００６８】
（スイング弁式粒体遮断弁）
スイング弁式粒体遮断弁８０は、スイング弁体当接面８１を具備するスイング弁体８２と、スイング弁体８２を水平回転軸８４（図中、Ｘ軸に平行）を中心
にして回転させる図示しないスイング弁回転手段とを有している。
スイング弁体８２が略垂直に垂れ下がったとき（図中、ＸＺ面に略平行）、粒体移送口４０の全域を開通し、一方、スイング弁体８２が案内部傾斜角φ（図１参照）になるまで上方向に回転（図中、時計回りに回転）したとき、スイング弁体当接面８１が漏斗当接面１５に当接して粒体移送口４０を閉塞する。
かかる回転の際、粒体はスイング弁体当接面８１に沿って落下するから、スイング弁体当接面８１と漏斗当接面１５の隙間に挟まれることがない。
また、スイング弁体８２が所定の角度だけ回転した際、スイング弁体当接面８１と漏斗当接面１５との間に所定の隙間が生じるから、該隙間から所定の量の粒体が落下することになる。
【００６９】
（ロータリ弁式真空封止弁）
ロータリ弁式真空封止弁９０は水平面内で旋回する（図中、Ｚ軸を旋回中心とする）ものであって、水平面内で前後進するゲート弁式真空封止弁３０（実施の形態１）と移動要領が相違している。
ロータリ弁式真空封止弁９０は、ロータリ弁体封止面９１を具備するロータリ弁体９２と、ロータリ弁体９２を旋回させる図示しないロータリ弁体旋回手段（油圧モータ等）と、ロータリ弁体９２とロータリ弁体旋回手段とを連結するロータリ弁体旋回軸９４と、ロータリ弁ケース９６とを有している。
ロータリ弁ケース９６の天井板９７には上開口部４１が、床板９８には下開口部４２（図示しない）がそれぞれ鉛直方向で略同一の位相になるように穿設され、天井板９７と床板９８との間の空間に上開口部４１（下開口部４２に同じ）から退避したロータリ弁体９２が収容されるロータリ弁空間９５が形成されている。
そして、天井板９７の下面で上開口部４１の周囲に真空封止のためのロータリ弁ケース封止面９９が形成されている。なお、ロータリ弁ケース封止面９９に包囲された上開口部４１を真空封止口と称す。
【００７０】
ロータリ弁体９２は扇型または半円型平板であって、平面視の一方側にスイング弁カバー６５の外径よりも大きな内径のロータリ弁体貫通孔４４が穿設され、他方側にロータリ弁体封止面９１が形成され、ロータリ弁体封止面９１に真空封止手段５０（Ｏリング等）が設置されている（実施の形態１に準じる）。
したがって、ロータリ弁体９２が旋回して、ロータリ弁体貫通孔４４が上開口部４１と同一の位相になったとき（図１０に示す状態）、粒体移送口４０、上開口部４１（真空封止口に同じ）、ロータリ弁体貫通孔４４および下開口部４２が鉛直方向で一直線状に並ぶため、粒体はこの間を通過して落下することになる。一方、ロータリ弁体９２が旋回して、ロータリ弁体封止面９１が上開口部４１（真空封止口に同じ）と同一の位相になったとき、ロータリ弁体９２は図示しない押し付け手段によって持ち上げられ、真空封止手段５０がロータリ弁体封止面９１とロータリ弁ケース封止面９９とによって挟圧されるから、真空室１０は真空封止される。
なお、粒体移送口４０、前記上開口部、ロータリ弁体貫通孔４４および前記下開口部の大きさは実施の形態１に準じて設定されるものである。
【００７１】
（スイング弁カバー）
スイング弁体８２および粒体移送口４０を収容する平面視略馬蹄形の筒状のスイング弁カバー６５が設けられ、スイング弁カバー６５の側面には水平回転軸８４が貫通する図示しない貫通孔が設けられている。そして、スイング弁カバー６５の下端面６７はロータリ弁式真空封止弁９０のロータリ弁体９２または真空封止手段５０に接触しない位置にまで下方に延長されている。すなわち、ロータリ弁ケース９６の上開口部４１（真空封止口）の中に侵入している。
したがって、粒体移送口４０が開いた際、粒体はスイング弁体当接面８１に沿って斜め下方（図中、左下方向）に偏って落下するため、スイング弁カバー６５がこれを受け止めて落下方向を鉛直下方に案内するとともに、飛散を防止している。したがって、粒体がロータリ弁体９２に付着することがない。
なお、スイング弁カバー６５を形成する材質は金属板、ゴム板等を適宜選択することができる。たとえば、密度が低く飛散し易い粒体（樹脂粒、切削チップ等）に対してはゴム板を使用して跳ね返りを抑え、一方、重量が大きく硬さの高い粒体に対しては強度の高い金属板（たとえば、ステンレス鋼板等）を使用して摩耗を防ぐことが好ましい。
【００７２】
（その他の態様）
本発明の粒体移送用真空バルブは、スイング弁式粒体遮断弁とロータリ弁式真空封止弁とを具備するものに限定するものではなく、スイング弁式粒体遮断弁（実施の形態３）とゲート弁式真空封止弁（実施の形態１）またはボール弁式真空封止弁（実施の形態２）とを具備するもの、あるいは、フィード弁式粒体遮断弁（実施の形態１または２）とロータリ弁式真空封止弁（実施の形態３）とを具備するものであってもよい。
【００７３】
［実施の形態４］
（粒体移送用真空バルブを設置した真空室）
図１１は本発明の実施の形態４に係る粒体移送用真空バルブを設置した真空室を説明する縦断面図である。図１１において、１は粒体移送用真空バルブを設置した真空室、４１０は第一室、５１０は第二室（真空室）、６１０は第三室、４００は第二室５１０の天井部に気密的に設置された上粒体移送用真空バルブ、５００は第二室５１０の床部に気密的に設置された下粒体移送用真空バルブである。
なお、上粒体移送用真空バルブ４００および下粒体移送用真空バルブ５００はいずれも実施の形態１に示す粒体移送用真空バルブ１００に同じであるため、実施の形態１と同じ部分には下二桁に同じ符号を付し、一部の説明を省略する。
【００７４】
（第一室）
第一室４１０は第二室５１０（真空室）に供給する粒体を一時ストックする大気圧の環境にあるホッパーであって、その上部に設置された図示しないスクリューコンベアによって粒体が搬送されて来るものである。
また、粒体はマグネシウム合金を旋盤加工した際に切削チップであるが、本発明はこれに限定するものではなく、その他の金属、合金または樹脂類の切削チップ、粉砕粉や噴霧粉（アトマイズ粉末）等であってもよい。
【００７５】
（第二室）
第二室５１０は、粒体（マグネシウム合金切削チップ）を真空乾燥するための真空室であって、上粒体移送用真空バルブ４００のゲート弁体４３２および下粒体移送用真空バルブ５００のゲート弁体５３２によって真空封止される。すなわち、第二室５１０と、上粒体移送用真空バルブ４００のゲート弁体空間４３５と、下粒体移送用真空バルブ５００のフィード弁空間５２５とがまとめて真空封止されるものである。
また、内部に収容した粒体を乾燥処理するために、内部に不活性ガスを注入するガス注入管７０１と、内部のガスを排出するガス排出管７０２が設置されている。
なお、第二室５１０は粒体を真空乾燥するためのものに限定するものではなく、第二室５１０において何れの処理がされてもよい（たとえば、多孔質の粒体に所定の液体または気体を吸着する処理等）。
さらに、第二室５１０は減圧されるチャンバーの他に、大気圧または大気圧以上の状態で気密的に封止されるチャンバーであってもよい。
【００７６】
（第三室）
第三室６１０は、下端部が粒体を射出成型する図示しない射出成型機の加熱室（スクリュー室）に気密的に連結されている。したがって、第二室５１０において、真空乾燥された粒体を大気に触れることなく該加熱室に供給することができるものである。
なお、本発明はこれに限定するものではなく、第三室６１０が何れの装置に連結されてもよく、また、第三室６１０が撤去されてもよい。
【００７７】
（各部位の動作）
図１２は、図１１に示す第二室（真空室）における各部位の動作を説明する模式図である。図１２において、上粒体移送用真空バルブ４００のフィード弁式粒体遮断弁４２０式のフィード弁体４２２をＦＶ１と、ゲート弁式真空封止弁４３０のゲート弁体のゲート弁体４３２をＧＶ１と称する。また、下粒体移送用真空バルブ５００のフィード弁式粒体遮断弁５２０式のフィード弁体５２２をＦＶ２と、ゲート弁式真空封止弁５３０のゲート弁体５３２をＧＶ２と称する。
【００７８】
まず、ＦＶ１、ＧＶ１、ＦＶ２およびＧＶ２の全てが閉の状態において、図示しないスクリューコンベアによって一定量の粒体を第一室４１０内に投入する（Ｓ１）。
次に、ＦＶ２およびＧＶ２が閉状態（第二室５１０は大気圧の状態）において、ＧＶ１を開き第二室を大気環境にする。このとき、直上のＦＶ１が閉じているから、ＧＶ１に粒体が付着することがない（Ｓ２）。
そして、ＧＶ１が開き切ったところで、ＦＶ１を開き粒体を第二室５１０に搬入する。このとき、ＧＶ１は粒体の落下経路（落下軌跡）から退避しているから、ＧＶ１に粒体が付着することがない（Ｓ３）。
次に、ＦＶ１を先に閉じて（Ｓ４）、その後にＧＶ１を閉じる。このとき、ＦＶ１を閉じた後で（粒体が落下しない状態）ＧＶ１が前進するから、ＧＶ１に粒体が付着することがない（Ｓ５）。
【００７９】
ＦＶ１、ＧＶ１、ＦＶ２およびＧＶ２の全てが閉の状態になったところ、すなわち、第二室が真空封止（気密的に封止された状態）で、第二室５１０において、収容した粒体の真空乾燥処理をする。すなわち、第二室５１０内の空気を排出してアルゴン等の不活性ガスを注入する。このとき、かかる排気および注気作業を複数回繰り返して乾燥を促進してもよい。また、第二室５１０を加熱してもよい（Ｓ５）。
【００８０】
前記真空乾燥処理が終了したところで、粒体を第三室６１０に搬出する。すなわち、まず、第二室５１０に不活性ガスを注入して略大気圧になった状態でＧＶ２を開いて第二室と第三室（略大気圧に維持されている）とを連通する（Ｓ６）。そして、ＧＶ２が開き切ったところで、ＦＶ２を開き粒体を第三室６１０に搬出する（Ｓ７）。次に、ＦＶ２を先に閉じてから（Ｓ８）その後にＧＶ２を閉じる（Ｓ９）。したがって、ＧＶ１と同様にＧＶ２に粒体が付着することがない。
【００８１】
以上より、ＧＶ１およびＧＶ２の円滑な動きと、第二室（真空室）５１０の確実な真空封止が保証される。また、ＧＶ１およびＧＶ２が同時に開くことがないから、第三室６１０が大気に曝されることがないため、第三室６１０に収容された粒体（真空処理済み）が再度大気に触れることがなく、また、図示しない射出成型機の加熱室内に大気が侵入することがない。よって、高品質の射出成型品を得ることができる。
さらに、ＧＶ１およびＧＶ２が図示しない押し付け機構によって、それぞれゲート弁ケース封止面４３９およびゲート弁ケース封止面５３９に押し付けられているから、前記アルゴン等の不活性ガスの注入によって第二室５１０が正圧に加圧されても該不活性ガスが流逸することがない。
【００８２】
また、上粒体移送用真空バルブ４００において、ゲート弁体４３２の下面にゲート弁体封止面４３１を配置して、床板４３８の上面にゲート弁ケース封止面４３９を配置（すなわち、真空封止手段４５０を弁体に対して真空室側に配置）してもよい。このとき、第二室５１０の減圧に際して大気圧によって、ゲート弁体４３２、５２１の両方が第二室５１０側に押されるから、真空封止手段４５０、５５０による封止がより確実になる。
一方、第二室５１０は真空室に限定するものではなく、加圧室に使用してもよい。このとき、封止手段（真空封止手段に相当）を第二室５１０の反対側に配置すれば、内圧によって該封止手段が押し付けられて封止がより確実になる。
【００８３】
さらに、上粒体移送用真空バルブ４００および下粒体移送用真空バルブ５００は実施の形態１に示す粒体移送用真空バルブ１００に限定するものではなく、実施の形態２または３に示す粒体移送用真空バルブ２００または３００のいずれを設置してもよい。
また、上粒体移送用真空バルブ４００および下粒体移送用真空バルブ５００が相違する型式であってもよい。すなわち、フィード弁式またはスイング弁式の一方の粒体遮断弁と、ゲート弁式またはボール弁式またはロータリ弁式の何れかの真空封止弁とをそれぞれ任意に組み合わせて設置することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１に係る粒体移送用真空バルブを説明する縦断面図。
【図２】図１の一部を断面にして示す斜視図。
【図３】ゲート弁体の押し付け機構の実施例１を説明する縦断面図。
【図４】ゲート弁体の押し付け機構の実施例２を説明する縦断面図。
【図５】図１に示す粒体移送用真空バルブの動作を説明する縦断面図。
【図６】図１に示す粒体移送用真空バルブの制御のための単線結線図。
【図７】図１に示す粒体移送用真空バルブの動作のフローチャート。
【図８】実施の形態２に係る粒体移送用真空バルブを説明する縦断面図。
【図９】図８に示す粒体移送用真空バルブの動作を説明する縦断面図。
【図１０】実施の形態３に係る粒体移送用真空バルブを示す一部断面斜視図。
【図１１】実施の形態４に係る真空室を説明する縦断面図。
【図１２】図１１に示す真空室における各部位の動作を説明する模式図。
【図１３】従来の粒体移送用真空バルブを示す側断面図である。
【符号の説明】
１  真空室、１０  真空室、１４  漏斗、１５  漏斗当接面、２０  フィード弁式粒体遮断弁、２１  フィード弁体当接面、２２  フィード弁体、３０  ゲート弁式真空封止弁、３１  ゲート弁体封止面、３２  ゲート弁体、３９  ゲート弁ケース封止面、４０  粒体移送口、４１  上開口部（真空封止口に同じ）、４２  下開口部、５０真空封止手段、６０  フィード弁カバー、６５  スイング弁カバー、７０  ボール弁式真空封止弁、７１  ボール弁体封止面、  ７２  ボール弁体、７９  ボール弁ケース封止面、８０  スイング弁式粒体遮断弁、８１  スイング弁体当接面、８２  スイング弁体、８９  スイング弁体封止面、９０  ロータリ弁式真空封止弁、９１  ロータリ弁体封止面、９２  ロータリ弁体、９９  ロータリ弁ケース封止面、１００  粒体移送用真空バルブ、２００  粒体移送用真空バルブ、３００  粒体移送用真空バルブ、４００  粒体移送用真空バルブ、５００  粒体移送用真空バルブ、５１０  第二室、θ  上案内角、φ  漏斗当接角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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