(57)【要約】【課題】　ディスク表面に付着する塵埃を容易に排除することができ、浮上型磁気ヘッドを使用したシステムにおける塵埃の問題を解消する。【解決手段】　浮上型磁気ヘッド１０により磁界が印加され、且つ該磁気ヘッド１０と非接触の状態で記録及び／又は再生が行われるとともに、基板１上に少なくとも記録層３と保護層６が順次積層形成されてなる光磁気ディスクにおいて、保護膜６上に潤滑剤層７を設ける。この潤滑剤層７の膜厚は、２〜２０ｎｍであることが好ましい。この潤滑剤層７を構成してなる潤滑剤の２５℃における粘度は、１００〜１０００ポアズであることが好ましい。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
　媒体表面上に所定間隔を空けて対向配置される磁気ヘッドにより磁界が印加され、且つ該磁気ヘッドと非接触の状態で記録又は再生が行われるとともに、基板上に少なくとも記録層と保護層が順次積層形成されてなる光磁気ディスクにおいて、
　上記保護膜上に、２５℃における粘度が１００〜１０００ポアズである潤滑剤により形成された潤滑剤層を備えることを特徴とする光磁気ディスク。
【請求項２】
　媒体表面上に所定間隔を空けて対向配置される磁気ヘッドにより磁界が印加され、且つ該磁気ヘッドと非接触の状態で記録又は再生が行われるとともに、基板上に少なくとも記録層と保護層が順次積層形成されてなる光磁気ディスクにおいて、
　ジメチルシロキサン系の潤滑剤により形成された潤滑剤層を備えることを特徴とする光磁気ディスク。
【請求項３】
　上記潤滑剤層は、膜厚が２〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の光磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、浮上型磁気ヘッドにより磁界を印加し且つ浮上型磁気ヘッドと媒体の接触がない光磁気記録再生装置に使用して好適な光磁気ディスクに関し、特に保護膜の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
　従来、浮上型磁気ヘッドが搭載された記録再生装置として、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）が広く用いられている。このハードディスクドライブは、高容量で且つ光磁気ディスクドライブに比べ高転送レート、高アクセスである。これは、記録再生系のヘッドが小さいこと、オーバーライト（重ね書き）が可能であることによる。
【０００３】
　一方、オーバーライトの機能を有し記録時の転送レートを大きくすることができるという特徴を持つ磁界変調記録方式を用いた光磁気記録再生装置は、既に商品化され、市場に提供されている。
【０００４】
　この磁界変調記録方式を用いた光磁気記録再生装置は、低線速度のため浮上型ヘッドを用いることができない。このため、この光磁気記録再生装置においては、接触式の磁気ヘッドを採用しているが、転送レートを十分に高くすることが困難であることや、ヘッドとディスク間の磨耗等の問題を有している。
【０００５】
　これに対して、例えばヘッドとディスクとの間の距離を一定に、例えば１００μｍ程度に保つギャップサーボを搭載した光磁気記録再生装置も提供されているが高価である。
【０００６】
　このような状況から、磁気ヘッドとして浮上型磁気ヘッドを用い、磁気ヘッドと記録媒体が非接触である光磁気記録再生装置の要望が高まっている。
【０００７】
　ところで、上述のように浮上型磁気ヘッドを採用したシステムは、上記ハードディスクドライブにおいて盛んである。この記録再生装置は、ヘッドとディスクが遮蔽された箱の中にあるため、使用時に塵等が侵入する虞れがない。
【０００８】
しかし、リムーバブルであることを利点とする光磁気ディスクでは上記塵等の侵入は避けられず、この浮上型磁気ヘッドと媒体間の距離以上の大きさのダストが様々な問題を引き起こす。
【０００９】
　例えば、図６に示すように、透明基板２１上に第１の誘電体層２２、記録層２３、第２の誘電体層２４及び反射膜２５が順次積層形成された光磁気ディスクにおいて、反射膜２５を覆って塗布形成される保護膜２６に従来の紫外線硬化樹脂を使用し、光磁気ディスクの保護膜形成面の上部に設けられる磁気ヘッドとして浮上型磁気ヘッド２７を用い、この浮上型磁気ヘッド２７と光磁気ディスクとが非接触で使用される光磁気記録再生装置においては、クリーン環境下であればディスクに塵の付着が生じず、安定した記録再生を行うことができるが、通常の環境下、すなわち、塵埃が存在するダスト環境下で使用する場合には、ディスクに塵埃が付着し、この塵埃を介してヘッドとディスクが衝突する。
【００１０】
　この塵埃は、ヘッドに押され保護膜中にめり込み、除去しにくくなる。更に、この衝突によって、ヘッドは安定状態からジャンプし、ディスクとの間のギャップ増加に伴う磁界強度の低下をもたらすばかりか、ディスク振動を生じさせ、ピックアップのサーボ外れ等の記録再生の不可能となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
　そこで、本発明は、上述したような実情に鑑みて提案されたものであって、媒体表面に付着する塵埃を容易に排除することができ、浮上型磁気ヘッドを使用したシステムにおける塵埃の問題を解消することができる光磁気ディスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
　本発明者等は、上述の目的を達成するために鋭意研究の結果、浮上型磁気ヘッドにより記録及び／又は再生を行うシステムに使用される光磁気ディスクおいて、媒体の最上層である媒体表面に潤滑剤層を形成することにより、媒体表面に付着した塵埃が磁気ヘッドとの衝突により容易に排除されることを見いだし、本発明を提案するに至った。
【００１３】
　即ち、本発明に係る光磁気ディスクは、媒体表面上に所定間隔を空けて対向配置される磁気ヘッドにより磁界が印加され、且つ該磁気ヘッドと非接触の状態で記録又は再生が行われるとともに、基板上に少なくとも記録層と保護層が順次積層形成されてなる光磁気ディスクにおいて、保護膜上に、２５℃における粘度が１００〜１０００ポアズである潤滑剤により形成された潤滑剤層を備えることを特徴とする。
【００１４】
　また、本発明に光磁気ディスクは、媒体表面上に所定間隔を空けて対向配置される磁気ヘッドにより磁界が印加され、且つ該磁気ヘッドと非接触の状態で記録又は再生が行われるとともに、基板上に少なくとも記録層と保護層が順次積層形成されてなる光磁気ディスクにおいて、ジメチルシロキサン系の潤滑剤により形成された潤滑剤層を備えることを特徴とする。
【００１５】
　ここで、潤滑剤層は、２〜２０ｎｍの膜厚に形成されることが好ましい。これにより、光磁気ディスクの回転とともに浮上型磁気ヘッドを浮上させたときに、浮上型磁気ヘッドの衝突によりディスク面に付着した塵埃が排除され安定な浮上が得られる。潤滑剤層の膜厚が２ｎｍ未満であると、十分な効果が得られず、ディスク面に付着した塵埃を排除することができなくなり、また２０ｎｍより厚くなると、ディスク面に付着する塵埃が増大する。
【発明の効果】
【００１６】
　浮上型磁気ヘッドが使用されるシステムに使用される光磁気ディスクの最上層である表面に潤滑剤層を形成することにより、光磁気ディスクの回転とともに塵埃が吹き飛ばされ、安定な浮上状態が得られるまでの時間が短くなる。この結果、媒体表面に付着した塵は上記磁気ヘッドとの衝突により容易に排除される。
【００１７】
　このような光磁気ディスクを用いることにより、磁気ヘッドと光磁気ディスクが非接触で且つ磁気ヘッドとして浮上型磁気ヘッドを使用する光磁気記録用装置においても、ダスト環境下にて安定な記録再生を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
　以下、本発明に係る光磁気ディスクを図面を参照して説明する。
【００１９】
　本発明に係る光磁気ディスクは、図１に示すように、透明基板１上に第１の誘電体層２を介して記録層３が形成され、この記録層３上に第２の誘電体層４を介して反射膜５、保護膜６が順次積層形成され、更にこの保護膜６上である積層最上層に潤滑剤層７が形成されている。
【００２０】
　光磁気ディスクを構成する透明基板１の材質としては、例えばアクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ガラス等が挙げられる。この透明基板１上には、スパッタリングにより形成されたＳｉＮ膜からなる第１の誘電体層２が形成され、該第１の誘電体層２を介して上記記録層３が形成される。この記録層３として、ここではＴｂＦｅＣｏ系膜を使用したが、これに限定されるものではなく、通常この種の光磁気ディスクの記録層に使用される材料であればいずれも使用可能である。記録層３を成膜する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法がいずれも使用可能であるが、例えば蒸着法、スパッタリング法等が挙げられる。
【００２１】
　記録層３上には、スパッタリングにより形成されたＳｉＮ膜からなる第２の誘電体層４を介して反射膜５が形成される。この反射膜５としては、反射率の良好な金属が使用可能であり、例えばＤｙ，Ａｌ，Ａｕ等が使用可能であるが、ここではＡｌ膜を使用した。
【００２２】
　この反射膜５上に紫外線硬化樹脂からなる保護膜６がスピンコートにより形成され、この保護膜６上に潤滑剤層７が形成される。この潤滑剤層７は、膜厚が２〜２０ｎｍであり、また２５℃における粘度が１００〜１０００ポアズであることが望ましい。このような特性を満たす構成材料として、例えばジメチルシロキサン系等が好適である。
【００２３】
　なお、本発明に係る光磁気ディスクにおいては、潤滑剤層７が形成された面側には、浮上型磁気ヘッド１０が所定の間隔を空けて対向配置されて使用される。
【００２４】
　以上のような構成を有する光磁気ディスクは、高転送レート、高アクセスが可能な浮上型磁気ヘッド搭載のシステムに使用される。
【００２５】
　即ち、このシステムにおいては、図２に示すように、光磁気ディスク８を介して光ピックアップ９の対物レンズ９ａと浮上型磁気ヘッド１０が互いに対向配置される。光ピックアップ９の対物レンズ９ａは、光磁気ディスク８の透明基板側（図２中、下方側）に位置し、光磁気ディスク８の透明基板表面から所定の間隔を空けて配置される。一方、浮上型磁気ヘッド１０は、光磁気ディスク８の潤滑剤層形成面側（図２中、上方側）に配置される。この浮上型磁気ヘッド１０は、ヘッド部１０ａとスライダー１０ｂ及びジンバル１０ｃから構成されている。すなわち、前記ヘッド部１０ａがスライダー１０ｂの中に組み込まれジンバル１０ｃにより支持されており、光磁気ディスク８の回転に応じて浮上し潤滑剤層形成面の表面から微小間隙を空けて位置するようになる。
【００２６】
　従って、このシステムにおいては、浮上型磁気ヘッド１０と上記光磁気ディスク８とが非接触な状態で、上記光ピックアップ９の対物レンズ９ａから出射されたレーザー光ｘを上記光磁気ディスク８に照射して記録又は再生を行っている。
【００２７】
　このようなシステムにおいて、例えば光磁気ディスク８のディスク径をΦ８６ｍｍ、スライダー１０ｂの寸法を６×５ｍｍ、ヘッド加重２．５ｇｆ、回転数２４００ｒｐｍとした場合、５〜１０ｕｍのヘッド浮上量が得られる。ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）では、この浮上量が記録容量を左右するため、できるだけ低くなるようにする必要がある。本発明に係る光磁気ディスクでは、使用するレーザー光の集光径に依存するため、浮上量は磁気ヘッドと光磁気ディスクが接触しないように高くする必要がある。
【００２８】
　このとき、光磁気ディスク８の表面に、例えば２０ｕｍ程度の大きさの塵埃が付着していると、この塵埃を介して浮上型磁気ヘッド１０がディスク面に衝突し、ジャンプしてディスク面から離れてしまう。この結果、所定の磁界が得られなくなるばかりか、光磁気ディスク８が振動し、光ピックアップ９のサーボ外れを起こす。
【００２９】
　これに対して、上述のように光磁気ディスク８の表面に潤滑剤層が形成されることにより、ディスク面に付着した塵が上記浮上型磁気ヘッド１０の衝突により排除されるようになり、安定な浮上状態を維持することができる。
【００３０】
　そこで、このような光磁気ディスクにおける潤滑剤層の効果を調べるため、次のような実験を行った。
【００３１】
実験１
　透明基板上にスパッタリング法によりＳｉＮ膜、ＴｂＦｅＣｏ膜、ＳｉＮ膜及びＡｌ膜を順次積層形成し、第１の誘電体層、記録層、第２の誘電体層及び反射膜をそれぞれ形成した後、従来公知の手法によりスピンコートを行って紫外線硬化樹脂からなる保護膜を設けた。
【００３２】
　続いて、この保護膜上に予めヘキサンで０．１重量％の濃度に希釈されたジメチルポリシロキサン（２５℃における粘度１００ポアズ）からなる潤滑剤をスピンコート法（振り切り時間３０００ｒｐｍ１０秒）により塗布し、潤滑剤層を形成した。
【００３３】
　なお、得られた潤滑剤層の膜厚は、ここでは６ｎｍであったが、潤滑剤の濃度を変化させて膜厚を適宜選定することも可能である。
【００３４】
　このようにして作製された光磁気ディスク（ディスク径Φ８６ｍｍ）において、潤滑剤層の膜厚を変化させたときの膜厚とディスク面に付着した塵埃の付着性を調べた。この結果を図３に示した。
【００３５】
　塵埃の付着性は、試験用ダスト（ＪＩＳ第８種関東ローム粉）を光磁気ディスクの潤滑剤層面に振りかけ、光磁気ディスクを回転させた後、振り落とされなかった塵埃の重さにより評価した。
【００３６】
　図３に示すように、潤滑剤層の膜厚が２０ｎｍ以上になると急激に塵埃の付着量が増大することがわかった。
【００３７】
実験２
　上述の実験１と同様にして光磁気ディスクを作製した後、上述のようにして潤滑剤層上に試験用ダストを付着させ、潤滑剤層の膜厚を変化させた場合におけるヘッド浮上試験を行った。
【００３８】
　この試験を行うに際し、光磁気ディスクを２４００ｒｐｍで回転させ、浮上型磁気ヘッドをロード（下降操作させる）し浮上させる。このとき、浮上型磁気ヘッドは、初期においては安定浮上は不可能であるが、時間経過とともに安定浮上をし始める。この安定浮上をし始めるまでの時間（即ち、不安定な浮上時間）を測定し、これを塵埃の取れ易さの基準として判定した。この結果を図４に示す。
【００３９】
　図４に示すように、潤滑剤層の膜厚が２ｎｍ以上であれば、上記不安定な浮上時間は従来のように上記潤滑剤層を設けていない（保護膜のみ）光磁気ディスクと比べて１／５以下となることが判った。
【００４０】
実験３
　上述した実験１と同様にして光磁気ディスクを作製した後、上述のようにして潤滑剤層上に試験用ダストを付着させ、潤滑剤層の構成材料である潤滑剤の２５℃における粘度を１００から１０００００ポアズの範囲で変化させた場合における上記塵の付着性を実験１と同様にして調べた。この結果を図５に示す。
【００４１】
　なお、潤滑剤層の膜厚は、６ｎｍとした。この膜厚は、図３のようにダスト付着量が膜厚に依存しない最高膜厚である。
【００４２】
　図５に示すように、塵の付着量は、潤滑剤の粘度にほぼ比例することが判った。また、実験１の結果と併せて検討すると、潤滑剤層の膜厚２０ｎｍ以上の１０ｍｇとなるのは、使用する潤滑剤の粘度がほぼ１０００ポアズであり、１０００ポアズ以下であることが望ましいことが明らかとなった。更に、潤滑剤の粘度が１００ポアズ未満である場合は、温度８０℃湿度８５％ＲＨの環境下にて２０００時間保存する環境試験を行ったところ、その潤滑性が失われた。
【００４３】
　以上の結果から、潤滑剤として２５℃における粘度が１００〜１０００ポアズであるものを使用し、この潤滑剤からなる潤滑剤層の膜厚は２〜２０ｎｍの範囲とされることが好ましいことがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明にかかる光磁気ディスクの一構成例を示す断面図である。
【図２】浮上型磁気ヘッドを用いた光磁気記録再生装置の一構成例を示す斜視図である。
【図３】潤滑剤層の膜厚と塵の付着量の関係を示す特性図である。
【図４】潤滑剤層の膜厚とヘッドによる塵の取れ易さの関係を示す特性図である。
【図５】使用する潤滑剤の粘度と塵の付着量の関係を示す特性図である。
【図６】従来の光磁気ディスクの一構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
　１　透明基板、　２　第１の誘電体層、　３　記録層、　４　第２の誘電体層、　５　反射膜、　６　保護膜、　７　潤滑剤層、　８　光磁気ディスク、　９　光ピックアップ、　１０　浮上型磁気ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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