(57)【要約】【課題】光漏れのない液晶表示装置用基板を提供する。【解決手段】第１の基板１とその第１の基板１に対向配置される第２の基板２とそれら基板１，２間に注入された液晶３とを有する液晶表示装置の前記一方の基板であって、該基板に、柱状のスペーサー１２を設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜８，１０を形成し、前記スペーサー１２の側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜１３を形成したことにより、上記課題を解決した。このとき、第１の配向膜８，１０が疎水性の膜であり、第２の配向膜１３が親水性の膜であることが好ましい。【選択図】        図１
2004325527.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板とその第１の基板に対向配置される第２の基板とそれら基板間に注入された液晶とを有する液晶表示装置の前記一方の基板であって、該基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成したことを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項２】
前記第１の配向膜が、疎水性の膜であり、前記第２の配向膜が、親水性の膜であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項３】
前記第１の配向膜が、フッ素系シリコーン樹脂又はポリイミド樹脂で形成された高分子膜であり、前記第２の配向膜が、前記フッ素系シリコーン膜又はポリイミド膜に親水基が付与された親水性の膜であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項４】
前記第２の配向膜の表面自由エネルギーが、３８ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項５】
第１の基板とその第１の基板に対向配置される第２の基板とそれら基板間に注入された液晶とを有する液晶表示装置の前記一方の基板であって、該基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に対して直交する方向に沿って配列させる第４の配向膜を形成したことを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項６】
前記第３の配向膜が、親水性の膜であり、前記第４の配向膜が、疎水性の膜であることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項７】
前記第４の配向膜の表面自由エネルギーが、３２ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項８】
第１の基板とその第１の基板に対向配置される第２の基板とそれら基板間に注入された液晶とを有する液晶表示装置の前記一方の基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成した液晶表示装置用基板の製造方法であって、
前記スペーサーを有する基板の表面及びスペーサーの側面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、前記スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
第１の基板と、第２の基板と、それら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーと、を有する垂直配向方式の液晶表示装置であって、
前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１の配向膜が、疎水性の膜であり、前記第２の配向膜が、親水性の膜であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１の配向膜が、フッ素系シリコーン樹脂又はポリイミド樹脂で形成された高分子膜であり、前記第２の配向膜が、前記フッ素系シリコーン膜又はポリイミド膜に親水基が付与された親水性の膜であることを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第２の配向膜の表面自由エネルギーが、３８ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
第１の基板と、第２の基板と、それら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーと、を有する水平配向方式の液晶表示装置であって、
前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に対して直交する方向に沿って配列させる第４の配向膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第３の配向膜が、親水性の膜であり、前記第４の配向膜が、疎水性の膜であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第４の配向膜の表面自由エネルギーが、３２ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
第１の基板と第２の基板とそれら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーとを有し、前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜が形成されている垂直配向方式の液晶表示装置の製造方法であって、
前記スペーサーを有する基板の表面及び前記スペーサーの側面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、前記スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置用基板、液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関し、さらに詳しくは、テレビジョン画像やコンピュータ画像などを表示する液晶表示装置において、コントラストの少ない液晶表示装置用基板、液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、カラー表示可能な液晶表示パネルを有する液晶表示装置の利用が急速に拡大している。一般的な液晶表示装置を構成する液晶表示パネルは、図７及び図８に示すように、第１の基板１０１と、これに対向する第２の基板１０２と、第１の基板１０１及び第２の基板１０２間に介在する液晶層１０３とを備えた構造を有している。第２の基板１０２の内側面には、マトリックス状に配置された画素領域に画素電極及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の電極層１０４が形成され、さらにその電極層１０４上に配向膜１０５が形成されている。一方、第１の基板１０１の内側面には、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の各画素を形成する着色層１０６が形成されていると共に、画素間の境界部を遮光する所定のパターンのブラックマトリクス層１０７が形成されている。これら着色層１０６及びブラックマトリクス層１０７上に保護膜１０８を介して透明電極１０９が形成され、さらにその透明電極１０９上に配向膜１１０が形成されている。
【０００３】
また、液晶表示パネル１００の両外側面、すなわち第１の基板１０１及び第２の基板１０２の外側面には偏光板（図示せず）が設けられると共に、第２の基板１０２側にバックライトが装着されている。そして、このバックライトから光を照射すると共に、電極層１０４及び透明電極１０９間の電圧を制御することにより、液晶の配列状態を制御してカラー画像を表示している。
【０００４】
こうした液晶表示パネルにおいては、第１の基板１０１と第２の基板１０２との間にスペーサー１１１，１１２が設けられており、セルギャップが一定の値となるように設計されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。
【０００５】
スペーサー１１１，１１２としては、図７に示すように、ビーズ状のスペーサー１１１が一般的に用いられている。ビーズ状のスペーサー１１１としては、プラスチックビーズ、シリカビーズ、ガラスビーズ等の粒子状のものが用いられている場合が多い。このようなスペーサー１１１は、第１の基板１０１と第２の基板１０２との間に適当に分散されて用いられている。しかし、ビーズ状のスペーサー１１１は適当に分散されるため、第１の基板１０１と第２の基板１０２との間の所定の位置に位置させることができないことがある。つまり、第１の基板１０１と第２の基板１０２との間にビーズ状のスペーサー１１１が偏って配置されて均一に分散させることが難しいので、セルギャップを一定の値にすることができないことにもなりかねない。
【０００６】
このため、ビーズ状のスペーサー１１１に代わって、図８に示すように、柱状のスペーサー１１２を用いることが提案されている。このスペーサー１１２は、通常、着色層１０６が形成されている側の基板（第１の基板１０１）の透明電極１０９上の所定の位置に透明の樹脂を用いて形成されている。このように、柱状のスペーサー１１２は、フォト技術によって透明電極１０９上の所定の位置に形成できる透明の樹脂、例えば光硬化樹脂を用いて形成することができるので、セルギャップを一定の値に維持することができる。
【０００７】
【特許文献１】
特開平２００２−３４１５３１号公報（図１、図２）
【特許文献２】
特開平２００２−１７４８１７号公報（図２、図４）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述の液晶表示装置１００において、図８に示すように、柱状のスペーサー１１２を用いてセルギャップを一定の値に維持する場合、スペーサー１１２側の配向膜１１０は、透明電極１０９上と共にスペーサー１１２の側面にも形成されている。
【０００９】
このため、例えば、液晶表示装置１００が、垂直配向方式の液晶表示装置の場合、配向膜１１０は、図９に示すように、液晶分子１１３のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させるように形成されているので、スペーサー１１２の側面上の配向膜１１０ａの近傍の液晶分子１１３ａは、その側面に対して直交する方向に沿って配列される。その液晶分子１１３ａがスペーサー１１２の側面に対して直交する方向に沿って配列される箇所は、液晶分子１１３ａのダイレクタが基板法線方向に沿って配列されていないので、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こることもあり得る。光漏れが起こると、カラー表示ではホワイトスポットとして画面に表われ、コントラストを低下させることになる。
【００１０】
本発明は、上述した問題を解決するためになされたものであって、光漏れのない液晶表示装置用基板、液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法の提供を目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための請求項１の液晶表示装置用基板は、第１の基板とその第１の基板に対向配置される第２の基板とそれら基板間に注入された液晶とを有する液晶表示装置の前記一方の基板であって、該基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成したことを特徴とする。なお、ダイレクタとは、液晶分子の平均的配向方向を表す単位ベクトルのことである。
【００１２】
この発明によれば、スペーサーの側面には第２の配向膜が設けられているため、その側面近傍の液晶分子はダイレクタが側面に沿うように配列されるので、液晶分子のダイレクタが基板法線方向に沿って配列されない部分が少なくなり、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなる。その結果、光抜けのない、コントラストが低下しない液晶表示装置用基板が得られることになる。
【００１３】
請求項２の発明は、請求項１に記載の液晶表示装置用基板において、前記第１の配向膜が疎水性の膜であり、前記第２の配向膜が親水性の膜であることを特徴とする。この発明によれば、第１の配向膜と第２の配向膜とを容易に形成することができる。
【００１４】
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２に記載の液晶表示装置用基板において、前記第１の配向膜が、フッ素系シリコーン樹脂又はポリイミド樹脂で形成された高分子膜であり、前記第２の配向膜が、前記フッ素系シリコーン膜又はポリイミド膜に親水基が付与された親水性の膜であることを特徴とする。
【００１５】
請求項４の発明は、請求項１に記載の液晶表示装置用基板において、前記第２の配向膜の表面自由エネルギーが３８ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする。
【００１６】
また、上記課題を解決するための請求項５の液晶表示装置用基板は、第１の基板とその第１の基板に対向配置される第２の基板とそれら基板間に注入された液晶とを有する液晶表示装置の前記一方の基板であって、該基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に対して直交する方向に沿って配列させる第４の配向膜を形成したことを特徴とする。
【００１７】
この発明によれば、スペーサーの側面には第４の配向膜が設けられているため、その側面近傍の液晶分子はダイレクタが側面に対して直交する方向に沿うように配列されるので、ダイレクタが基板法線方向に沿って配列される液晶分子がなくなり、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなる。その結果、光抜けのない、コントラストが低下しない液晶表示装置用基板が得られることになる。
【００１８】
請求項６の発明は、請求項５に記載の液晶表示装置用基板において、前記第３の配向膜が親水性の膜であり、前記第４の配向膜が疎水性の膜であることを特徴とする。この発明によれば、第３の配向膜と第４の配向膜とを容易に形成することができる。
【００１９】
請求項７の発明は、請求項５に記載の液晶表示装置用基板において、第４の配向膜の表面自由エネルギーは、３２ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする。
【００２０】
また、上記課題を解決するための請求項８の液晶表示装置用基板の製造方法は、第１の基板とその第１の基板に対向配置される第２の基板とそれら基板間に注入された液晶とを有する液晶表示装置の前記一方の基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成した液晶表示装置用基板の製造方法であって、前記スペーサーを有する基板の表面及びスペーサーの側面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、前記スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
【００２１】
この発明によれば、スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理することにより、親水性の第２の配向膜を形成することができ、容易な工程により液晶の配列制御を可能にする第２の配向膜を形成することができる。その結果、液晶表示装置用基板を効率的に製造することができ、コストダウンに寄与することができる。
【００２２】
請求項９の発明は、請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする。
【００２３】
この発明によれば、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われるので、露光時の光触媒の作用により疎水膜を極めて容易に親水膜に変化させることができると共に、露光処理するだけで極めて容易に第２の配向膜を形成することができる。
【００２４】
また、上記課題を解決するための請求項１０の液晶表示装置は、第１の基板と、第２の基板と、それら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーと、を有する垂直配向方式の液晶表示装置であって、前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第２の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜が形成されていることを特徴とする。
【００２５】
この発明によれば、スペーサーの側面には第２の配向膜が設けられているため、その側面近傍の液晶分子はダイレクタが側面に沿うように配列されるので、液晶分子のダイレクタが基板法線方向に沿って配列されない部分が少なくなり、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなる。その結果、光抜けのない、コントラストが低下しない液晶表示装置が得られることになる。
【００２６】
請求項１１の発明は、請求項１０に記載の液晶表示装置において、前記第１の配向膜が疎水性の膜であり、前記第２の配向膜が親水性の膜であることを特徴とする。この発明によれば、第１の配向膜と第２の配向膜とを容易に形成することができる。
【００２７】
請求項１２の発明は、請求項１０又は請求項１１に記載の液晶表示装置において、前記第１の配向膜が、フッ素系シリコーン樹脂又はポリイミド樹脂で形成された高分子膜であり、前記第２の配向膜が、前記フッ素系シリコーン膜又はポリイミド膜に親水基が付与された親水性の膜であることを特徴とする。
【００２８】
請求項１３の発明は、請求項１０に記載の液晶表示装置において、前記第２の配向膜の表面自由エネルギーが３８ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする。
【００２９】
上記課題を解決するための請求項１４の液晶表示装置は、第１の基板と、第２の基板と、それら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーと、を有する水平配向方式の液晶表示装置であって、前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に対して直交する方向に沿って配列させる第４の配向膜が形成されていることを特徴とする。
【００３０】
この発明によれば、スペーサーの側面には第４の配向膜が設けられているため、その側面近傍の液晶分子はダイレクタが側面に対して直交する方向に沿うように配列されるので、ダイレクタが基板法線方向に沿って配列される液晶分子がなくなり、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなる。その結果、光抜けのない、コントラストが低下しない液晶表示装置が得られることになる。
【００３１】
請求項１５の発明は、請求項１４に記載の液晶表示装置において、前記第３の配向膜が親水性の膜であり、前記第４の配向膜が疎水性の膜であることを特徴とする。この発明によれば、第３の配向膜と第４の配向膜とを容易に形成することができる。
【００３２】
請求項１６の発明は、請求項１４に記載の液晶表示装置において、前記第４の配向膜の表面自由エネルギーが３２ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする。
【００３３】
また、上記課題を解決するための請求項１７の液晶表示装置の製造方法は、第１の基板と第２の基板とそれら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーとを有し、第１の基板及び第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜がそれぞれ形成され、スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜が形成されている垂直配向方式の液晶表示装置の製造方法であって、前記スペーサーを有する基板の表面及びスペーサーの側面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、前記スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
【００３４】
この発明によれば、スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理することにより、親水性の第２の配向膜を形成することができ、容易な工程により液晶の配列制御を可能にする第２の配向膜を形成することができる。その結果、液晶表示装置を効率的に製造することができ、コストダウンに寄与することができる。
【００３５】
請求項１８の発明は、請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする。
【００３６】
この発明によれば、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われるので、露光時の光触媒の作用により疎水膜を極めて容易に親水膜に変化させることができると共に、露光処理するだけで極めて容易に第２の配向膜を形成することができる。
【００３７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液晶表示装置用基板、液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法について図面を参照しつつ説明する。
【００３８】
（液晶表示装置用基板、液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、図１に示すように、第１の基板１と、第２の基板２と、これら対向する基板１，２間に注入された液晶層３とを有している。本発明の液晶表示装置においては、第１の基板１及び第２の基板２が、カラーフィルター基板とデバイス（ＴＦＴ）基板の何れかを構成している。以下においては、第１の基板１をカラーフィルター基板として説明し、第２の基板２をデバイス基板として説明する。
【００３９】
第１の基板１は、ガラス基板又は透明プラスチック基板等からなる。第１の基板１の内表面（第２の基板２と対抗する表面）には、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の各画素を形成する着色層４と、漏れ光を遮蔽するためにその画素領域の周縁部に位置される所定のパターンのブラックマトリクス層５とが形成されている。このブラックマトリクス層５は、デバイス基板（第２の基板２）のＴＦＴ素子、走査配線や信号配線等のライン電極、その他光漏洩領域を覆うようにして配置されている。これらブラックマトリクス層５及び着色層４上に保護膜６を介して透明電極７が形成され、さらにその透明電極７上に配向膜８が形成されている。なお、本発明を構成するカラーフィルター基板である第１の基板１は、現在一般的に使用されている構成を有するものであれば特に限定されず、前記以外の構成を備えているものであっても構わない。
【００４０】
一方、デバイス基板である第２の基板２は、ガラス基板又は透明プラスチック基板等からなる。第２の基板２の内表面（第１の基板１と対抗する表面）上には、マトリックス状に配置された画素電極、薄膜電界トランジスタ（ＴＦＴ）素子及びライン電極等の透明の電極９が形成され、その電極９上には配向膜１０が形成されている。なお、本発明を構成するデバイス基板２は、現在一般的に使用されている構成を有するものであれば特に限定されず、前記以外の構成を備えているものであっても構わない。
【００４１】
電極７，９は、デバイス基板２にあっては画素電極であり、カラーフィルター基板１にあっては透明電極である。電極７，９の構成材料としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等の透明電極が挙げられる。電極７，９の形成法については一般的な各種の方法を適用でき特に限定されないが、例えばスパッタ法により形成することができる。電極７，９の厚さは、約１００ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００４２】
配向膜８，１０は、液晶表示装置の配向方式に応じて形成される。すなわち、液晶表示装置が垂直配向方式である場合には、図２に示すように、液晶分子１１のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜が用いられる。また、液晶表示装置が水平配向方式である場合には、液晶分子１１のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜が用いられる。本実施の形態では、液晶表示装置が垂直配向方式である場合、つまり、配向膜が第１の配向膜である場合について説明する。
【００４３】
第１の配向膜（液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる配向膜）８，１０としては、好ましくは表面自由エネルギーが３２ｍＮ／ｍ以下の膜、より好ましくは３０ｍＮ／ｍ以下の膜であることがよい。なお、本発明における表面自由エネルギーは、液滴法に基づいて、液晶の表面（または配向膜（傾斜領域を含む）の表面）上に水滴を滴下し、水滴と液晶等の表面との接触角度を測定し、この測定値から算出した値を示している。
【００４４】
液滴法は、図６に示すように、固体（液晶、配向膜、傾斜領域）の表面上に水滴を滴下した場合、水滴固液界面・水平線と、液滴端での接線と、の二つの線がなす角をθ１（接触角）とする。また、固液界面・水平線と、液滴頂点と液滴端とを結ぶ線と、の二つの線がなす角をθ２（測定角）とすると、測定角は接触角の二分の一の関係にあるので、簡単に接触角を測定することができる。
【００４５】
接触角θと、固体表面張力（γＳＶ）、固液界面張力（γＳＬ）、液体表面張力（γＬＶ）との間には下記のような関係式が成り立つ。
【００４６】
γＳＶ＝γＬＶｃｏｓθ＋γＳＬ
この式により算出されるγＳＬが本発明における表面自由エネルギーである。
【００４７】
この第１の配向膜８，１０としては、例えば疎水性の膜がよく、疎水性であれば、その表面自由エネルギーが３２ｍＮ／ｍ以下となり、もともと疎水性であるが親水化処理をすることにより親水性とすることができる膜であることが好ましい。
【００４８】
第１の配向膜８，１０の形成材料としては、例えば、疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂、又は垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂等が挙げられる。疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂としては、例えば、東芝シリコーン製等の撥水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂等を例示でき、このフッ素系シリコーン樹脂により形成された第１の配向膜の表面自由エネルギーは２９ｍＮ／ｍである。また、垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂としては、垂直配向用のポリイミド樹脂である日本合成ゴム製のＪＡＬＳ−６８８等々の市販の感光性樹脂を例示でき、このポリイミド樹脂により形成された第１の配向膜の表面自由エネルギーは３３ｍＮ／ｍである。
【００４９】
第１の配向膜８、１０の厚さについては特に限定されないが、例えば１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。第１の配向膜８、１０は、配向膜形成用の材料を基板の全面にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布されて形成される。
【００５０】
本発明の液晶表示装置は、第１の基板１及び第２の基板２のうち少なくとも一方の基板、図示例では第１の基板１（透明電極７）上にセルギャップを一定に維持するための柱状のスペーサー１２（以下、単に「スペーサー」という。）が形成され、このスペーサー１２の側面に、液晶分子１１のダイレクタを制御する第２の配向膜１３が形成されていることに特徴がある。
【００５１】
なお、この第１の基板１上にスペーサー１２が形成され、このスペーサー１２の側面に第２の配向膜１３が形成されていることにより、本発明の液晶表示装置用基板を構成することにもなる。また、本発明の液晶表示装置用基板は、図示例では、カラーフィルター基板を構成要素とするが、これに限定されず、第２の基板２であるデバイス基板を構成要素としてもよい。
【００５２】
スペーサー１２は、第１の基板１及び第２の基板２の両方に形成してもよいが、製造上一方例えば図に示すように第１の基板１にのみに設けることが好ましい。スペーサー１２の形成位置は、ブラックマトリックス層５の上方の任意の箇所の透明電極７上である。スペーサー１２の大きさは、ブラックマトリックス層５の幅以下の寸法であることが好ましい。なお、スペーサー１２を第２の基板２に形成する場合には、その形成位置は、第１の基板１と第２の基板２とを対向させた際に、第１の基板１にブラックマトリックス層５が形成されている位置に対応した位置の任意の個所である。
【００５３】
スペーサー１２の高さは、液晶表示装置に応じて任意に設定される。スペーサー１２の形状は、柱状であれば特に限定されず、例えば、円柱状、三角柱状、四角柱状、多角柱状等の柱状である。本発明におけるスペーサー１２の形状の柱状とは、スペーサー１２の高さ方向の断面が正方形を含む長方形に限定されず、台形又はひし形が含まれるものとする。すなわち、本発明におけるスペーサー１２の形状の柱状とは、スペーサー１２の水平断面（スペーサー１２の高さ方向に直交する方向の断面）が、円形、三角形、四角形、多角形等のどのような形状でもよく、縦断面（スペーサー１２の高さ方向の断面）が、正方形を含む長方形、台形又はひし形等の形状に形成されるものである。
【００５４】
スペーサー１２の形成材料としては、液晶表示装置に用いられているものであれば特に限定されず、例えば、ＪＳＲ株式会社製：ＮＮ−７７７、Ｎ−７８０などの感光性樹脂等である。スペーサー１２の形成方法については、一般的な各種の方法を適用でき特に限定されないが、例えば、フォトリソグラフィー、印刷、フィルムレーザー転写などの各種のスペーサーパターン形成方法等が挙げられる。
【００５５】
このスペーサー１２の側面に形成されている第２の配向膜１３は、液晶分子１１のダイレクタを制御するものである。具体的には、第２の配向膜１３は、液晶表示装置が垂直配向方式である場合、つまり、配向膜８が液晶分子１１のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜である場合、液晶分子１１のダイレクタをスペーサー１２の側面に沿って配列させる膜である。なお、スペーサーの側面に形成される配向膜は、液晶表示装置が水平配向方式である場合、つまり、配向膜が液晶分子のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜である場合には、液晶分子１１のダイレクタをスペーサーの側面に対して直交する方向に沿って配列させる第４の配向膜である。
【００５６】
第２の配向膜１３としては、液晶分子１１のダイレクタをスペーサー１２の側面に沿って配列させることができる膜であればどのような膜でもよく、その表面自由エネルギーが３８ｍＮ／ｍ以上であるであることが好ましい。この第２の配向膜１３としては、例えば親水性の膜がよく、親水性であればその表面自由エネルギーが３８ｍＮ／ｍ以上となり、例えば疎水性の第１の配向膜８，１０を親水化処理することによって得られた制御膜等である。なお、液晶表示装置が水平配向方式である場合には、第３の配向膜は、液晶分子１１のダイレクタを基板表面に沿って配列させる膜であればどのような膜でもよく、その表面自由エネルギーが３８ｍＮ／ｍ以上であるであることが好ましく、かつ、第４の配向膜は、液晶分子のダイレクタをスペーサー１２の側面に対して直交する方向に沿って配列させる膜であればどのような膜でもよく、その表面自由エネルギーが３２ｍＮ／ｍ以下、より好ましくは３０ｍＮ／ｍ以下であることがよい。
【００５７】
第２の配向膜１３は、例えば親水性膜形成用の材料をスペーサー１２の側面にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布して形成してもよいが、好ましくは、前記第１の配向膜８をスペーサー１２の側面にも形成し、この側面上の第１の配向膜を親水化処理して第２の配向膜１３とすることがよい。
【００５８】
すなわち、親水化処理可能な配向膜形成用樹脂を第１の基板１の透明電極７と共にスペーサー１２の表面（側面）にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布して第１の配向膜８を形成し、その後、スペーサー１２の側面上の第１の配向膜に親水化処理を施すことにより第２の配向膜１３を形成することができる。そうした親水化処理方法としては、例えば後述するように、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理を好ましく挙げることができる。
【００５９】
このように、スペーサー１２の側面には第２の配向膜１３が設けられているため、図２に示すように、その側面近傍の液晶分子１１はダイレクタが側面に沿うように配列されるので、液晶分子１１のダイレクタが基板法線方向に沿って配列されない部分が少なくなる。すなわち、スペーサー１２の側面の近傍の液晶分子１１はダイレクタが側面に沿うように配列されるが、図２におけるスペーサー１２の左側に示すように、基板の法線方向にも沿って配列される場合には、第１の配向膜８により規制される液晶分子１１のダイレクタと同じ方向であるので、液晶を黒表示にしたときに光漏れが起らない。また、図２におけるスペーサーの右側に示すように、基板１（配向膜８）の表面にも沿って配列される場合には、配向膜８により規制される液晶分子１１のダイレクタの方向と異なるが、その液晶分子１１はスペーサー１２の側面に沿って配列されるので、その液晶分子１１が存在する領域ａが小い。従来の液晶分子は、図９に示すように、そのダイレクタがスペーサー１１２の側面に対して直交する方向に沿って延在するので、その液晶分子１１３ａが存在する領域ｂが大きいからである。よって、図２に示すように、液晶分子１１のダイレクタが基板法線方向に沿って配列されない部分が少なくなり、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなる。
【００６０】
なお、液晶表示装置が水平配向方式の場合には、スペーサーの側面に第４の配向膜が設けられているとその側面近傍の液晶分子はダイレクタが側面に対して直交する方向に沿うように配列されるので、ダイレクタが基板法線方向に沿って配列される液晶分子がなくなり、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなる。
【００６１】
以上のように、本発明の液晶表示装置用基板及び液晶表示装置は、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなるので、光抜けのない、コントラストが低下しないものである。
【００６２】
（液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法）
次に、液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置の製造方法について説明する。本発明の液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置の製造方法は、上述した構成からなる液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置の製造方法であって、その特徴は、▲１▼第１の基板表面（例えばカラーフィルター基板の表面）及び第２の基板表面（例えばデバイス基板の表面）のうちスペーサーを有する基板の少なくとも一方、例えば第１の基板の表面及びスペーサーの表面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、▲２▼そのスペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程、を有することにある。なお、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置を製造するためのその他の製造工程、例えばカラーフィルター層、ブラックマトリクス層、透明電極、スペーサー、電極等の形成工程については従来公知の方法と同様である。
【００６３】
上記▲１▼の工程において、親水化処理可能な配向膜を形成するための樹脂としては、上述した疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂又は垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、基板（スペーサーの側面を含む）の全面にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布される。
【００６４】
上記▲２▼の工程において、スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理する手段は、図３に示すように、（ｉ）  スペーサー１２の側面上の疎水性の第１の配向膜２０を光触媒層２１を有するマスク２２で露光することにより、露光された部分のみを親水化してスペーサー１２の側面上に親水性の第２の配向膜２３を形成する方法、図４に示すように、（ｉｉ）光触媒を含有する疎水性樹脂をコーティングして光触媒含有第１の配向膜３０を形成した後、スペーサー１２の側面上の配向膜３０を露光することにより、露光された部分のみを親水化して第２の配向膜３１を形成する方法、等を挙げることができる。
【００６５】
上記（ｉ）工程においては、疎水性の第１の配向膜２０として、上述したフッ素系シリコーン被膜やポリイミド被膜を挙げることができる。光触媒層２１を有するマスクを利用した処理は、図３に示すように、先ず、マスクパターン２４が形成された基板２５上に光触媒層２１を形成したマスク２２と、疎水性の第１の配向膜２０が形成され、スペーサー１２を有する第１の基板１又は／及び第２の基板２とを準備する（図３（ａ））。その光触媒層２１を有するマスク２２と疎水性の第１の配向膜２０とを所定の間隔を隔てると共に露光光がスペーサー１２の表面上の第１の配向膜２０に照射されるように対向させ（図３（ｂ））、そこに露光光２６を照射することにより（図３（ｃ））、第２の配向膜２３を形成する処理方法（親水化処理方法）である（図３（ｄ））。
【００６６】
この光触媒層２１は、バインダー中に光触媒である酸化チタンを含有させたものである。酸化チタンは、アナターゼ型のものが好ましく、また、バインダー中に２０〜４０重量％の割合で含有させることが好ましい。酸化チタンの平均粒径はおよそ５〜２０μｍであることが好ましい。酸化チタンの代わりに、ＺｎＯなどを光触媒として用いてもよい。こうした光触媒層２１に例えば３８０ｎｍ以下の露光光が照射されることにより、光触媒粒子内で光電気化学反応が起こり、露光された疎水性の第１の配向膜２０の側鎖を−ＯＨ基に置換させることができる。その結果、スペーサー１２の側面の疎水性の第１の配向膜２０を第２の配向膜２３に変化させることができる。
【００６７】
また、マスク２２と疎水性の第１の配向膜２０との間隔は、光触媒反応により生じた活性酸素種等をその隙間に容易に発生させ、作用させて、第１の配向膜２０を第２の配向膜２３に変化させることができる間隔であることが好ましく、およそ５〜２０μｍの間隔となるように配置することが好ましい。
【００６８】
上記（ｉｉ）工程においては、疎水性の第１の配向膜として、上述した光触媒を含有するフッ素系シリコーン被膜やポリイミド被膜を挙げることができる。第２位の配向膜の形成は、図４に示すように、先ず、基板３２上にマスクパターン３３が形成されたマスク３４と、光触媒を含有する疎水性の第１の配向膜３０が形成され、スペーサー１２を有する第１の基板１又は／及び第２の基板２とを準備する（図４（ａ））。そのマスク３４と、光触媒を含有する疎水性の第１の配向膜３０とを所定の間隔を隔てると共に露光光がスペーサー１２の表面上の第１の配向膜３０に照射されるように対向させ（図４（ｂ））、そこに露光光３５を照射することにより（図４（ｃ））、第２の配向膜３１を形成する方法（親水化処理方法）である（図４（ｄ））。
【００６９】
この疎水性の第１の配向膜３０は、バインダー中に光触媒である酸化チタンを含有させたものである。酸化チタンは、上記同様、アナターゼ型のものが好ましく、また、バインダー中に２０〜４０重量％の割合で含有させることが好ましい。酸化チタンの平均粒径はおよそ５〜２０μｍであることが好ましい。酸化チタンの代わりに、ＺｎＯなどを光触媒として用いてもよい。こうした疎水性の第１の配向膜３０に例えば３８０ｎｍ以下の露光光３５が照射されることにより、含有する光触媒粒子内で光電気化学反応が起こり、スペーサー１２上の疎水性の第１の配向膜３０の側鎖を−ＯＨ基に置換させることができる。その結果、スペーサー１２上の疎水性の第１の配向膜３０を第２の配向膜３１に変化させることができる。また、マスク３４と疎水性の第１の配向膜３０との間隔についても、上記（ｉ）の場合と同様である。なお、（ｉ）の工程と（ｉｉ）の工程とを比べると、（ｉ）の工程をより好ましく適用することができる。
【００７０】
図５は、疎水性の第１の配向膜の一部が親水性の第３の配向膜に変化する表面反応の一例を示す説明図である。図５（ａ）は、疎水性の第１の配向膜表面の側鎖に活性酸素種等がアタックし、その側差の結合を切断する様子を示しており、図５（ｂ）は、切断された部位に水酸基が結合して親水性に変化する様子を示している。
【００７１】
図５の表面反応を生じさせる処理に際しては、疎水性の第１の配向膜と光触媒層を有するマスクとを、所定の間隔（例えば５〜２０μｍ）で配置することが好ましい。疎水性の第１の配向膜と光触媒層を有するマスクとを所定の間隔に配置することにより、光触媒反応により生じた活性酸素種等をその隙間に容易に発生させることができる。活性酸素種等としては、光触媒粒子内での光電気化学反応に基づいて生じる活性酸素又は活性水酸基が挙げられ、それらの活性酸素種等が図５に示す側鎖（例えばアルキル側鎖）にアタックし、その側差の結合が切断される。側鎖が切断された部分には、その活性酸素種等が入れ替わって結合し、図５（ｂ）に示す親水性に変化する。
【００７２】
以上のように、本発明の液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法は、極めて容易な工程により液晶の配列制御を可能にする制御膜を形成することができるので、液晶表示装置用基板、液晶表示装置を効率的に製造することができ、コストダウンに寄与することができる。
【００７３】
【実施例】
以下、実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。
【００７４】
（実施例１）
先ず、カラーフィルター基板の制御膜を形成する場合について説明する。透明電極としてＩＴＯが形成されると共に、透明電極の所定の位置にスペーサーが形成されたカラーフィルター基板を準備し、その透明電極（スペーサーも含む）上に、側鎖の置換が可能な疎水性樹脂組成物（垂直配向用のポリイミド樹脂組成物、日本合成ゴム製、ＪＡＬＳ−６８８）をスピンコートし、表面自由エネルギー３３ｍＮ／ｍ、厚さ６０ｎｍの疎水性の第１の配向膜を形成した。
【００７５】
次に、その疎水性の第１の配向膜上に、光触媒層を有するマスクを、約２０μｍの間隔を保持するように配置し、その後波長２００〜３７０ｎｍの紫外線でスペーサー上の第１の配向膜を露光処理した。露光された部分は、露光された部分は、疎水性の第１の配向膜から表面自由エネルギー４０ｍＮ／ｍの親水性領域（第２の配向膜）に変化した。
【００７６】
なお、マスクは、基板上にクロム薄膜からなる所定のマスクパターン３３が形成され、さらにそのマスクパターン上にアナターゼ型酸化チタン粒子を光触媒として含有する厚さ０．０５〜０．５μｍの光触媒層が形成されている。マスクパターンは、スペーサー上の第１の配向膜に応じて形成されている。また、この光触媒層は、バインダー樹脂（シリコーン樹脂）中に酸化チタン粒子が約１０〜１００重量％含有されている。なお、酸化チタン１００重量％とは、酸化チタンのみで光触媒層を形成した場合である。
【００７７】
こうして、カラーフィルター基板のスペーサー上の疎水性の第１の配向膜を、親水性の第２の配向膜に変化させたカラーフィルター基板を形成した。
【００７８】
次に、デバイス基板について説明する。画素電極としてＩＴＯが形成されたデバイス基板を準備し、その画素電極４上に、疎水性樹脂組成物（垂直配向用のポリイミド樹脂組成物、日本合成ゴム製、ＪＡＬＳ−６８８）をスピンコートし、厚さ６０〜１００μｍの疎水性の第１の配向膜を形成した。
【００７９】
上記の方法により形成したカラーフィルター基板とデバイス基板を一定距離で対向させ、その間に垂直配向用の液晶を注入して液晶層を形成した。この液晶表示装置は、カラーフィルター基板に形成されたスペーサーによってセルギャップが一定の値に維持されている。また、液晶表示装置は、カラーフィルター基板とデバイス基板とに形成された第１の配向膜により、液晶分子のダイレクタが基板法線方向に配列されたものであると共に、スペーサーの側面に設けられた第２の配向膜により、その側面近傍の液晶分子はダイレクタが側面に沿うよ配列され、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなり、光抜けのない、コントラストが低下しない液晶表示装置となった。
【００８０】
（実施例２）
実施例１において、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する樹脂組成物として、撥水性のフッ素系シリコーン樹脂（東芝シリコーン製、ＴＳＬ８２３３及びＴＳＬ８１１４）を用いた他は、実施例１と同様にした。
【００８１】
この液晶表示装置は、上述した第２の配向膜により、スペーサーの側面近傍の液晶分子はダイレクタが側面に沿うよように配列されるので、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなり、光抜けのない、コントラストが低下しない液晶表示装置となった。
【００８２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の液晶表示装置用基板及び液晶表示装置によれば、スペーサーの側面には、基板上の第１、第３の配向膜と配向方向が異なる第２、第４の配向膜が形成されているので、特に液晶を黒表示にしたときに光漏れが起こり難くなる。その結果、光抜けのない、コントラストが低下しない液晶表示装置用基板及び液晶表示装置が得られる。
【００８３】
本発明の液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置の製造方法によれば、形成された疎水性の第１の配向膜を露光することにより第２の配向膜を形成できるので、極めて容易な工程により液晶の配列制御を可能にする第２の配向膜を形成することができる。その結果、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置を効率的に製造することができ、コストダウンに寄与することができる
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液晶表示装置用基板及び液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の液晶分子の配列状態を説明するための説明図である。
【図３】光触媒を用いた第２の配向膜の形成方法の一例を示す説明図である。
【図４】光触媒を用いた第２の配向膜の形成方法の他の一例を示す説明図である。
【図５】疎水性の第１の配向膜の一部が親水性に変化する表面反応の一例を示す説明図である。
【図６】液滴法における接触角と表面張力との関係を示す説明図である。
【図７】従来の液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図８】従来の液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図９】従来の液晶分子の配列状態を説明するための説明図である。
【符号の説明】
１    第１の基板
２    第２の基板
３    液晶
４    着色層
５    ブラックマトリクス層
６    保護膜
７    透明電極
８    第１の配向膜
９    電極
１０  第１の配向膜
１１  液晶分子
１２  スペーサー
１３  第２の配向膜
【図１】
2004325527.tif 000003
【図２】
2004325527.tif 000004
【図３】
2004325527.tif 000005
【図４】
2004325527.tif 000006
【図５】
2004325527.tif 000007
【図６】
2004325527.tif 000008
【図７】
2004325527.tif 000009
【図８】
2004325527.tif 000010
【図９】
2004325527.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月14日(2003.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成したことを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項２】
前記第１の配向膜が、疎水性の膜であり、前記第２の配向膜が、親水性の膜であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項３】
前記第１の配向膜が、フッ素系シリコーン樹脂又はポリイミド樹脂で形成された高分子膜であり、前記第２の配向膜が、前記フッ素系シリコーン膜又はポリイミド膜に親水基が付与された親水性の膜であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項４】
前記第２の配向膜の表面自由エネルギーが、３８ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項５】
第１の基板とその第１の基板に対向配置される第２の基板とそれら基板間に注入された液晶とを有する液晶表示装置の前記一方の基板であって、該基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に対する垂直方向に沿って配列させる第４の配向膜を形成したことを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項６】
前記第３の配向膜が、親水性の膜であり、前記第４の配向膜が、疎水性の膜であることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項７】
前記第４の配向膜の表面自由エネルギーが、３２ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項８】
基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成した液晶表示装置用基板の製造方法であって、
前記基板の表面及び前記スペーサーの側面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、前記スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
第１の基板と、第２の基板と、それら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーと、を有する垂直配向方式の液晶表示装置であって、
前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１の配向膜が、疎水性の膜であり、前記第２の配向膜が、親水性の膜であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１の配向膜が、フッ素系シリコーン樹脂又はポリイミド樹脂で形成された高分子膜であり、前記第２の配向膜が、前記フッ素系シリコーン膜又はポリイミド膜に親水基が付与された親水性の膜であることを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第２の配向膜の表面自由エネルギーが、３８ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
第１の基板と、第２の基板と、それら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーと、を有する水平配向方式の液晶表示装置であって、
前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板表面に沿って配列させる第３の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に対する垂直方向に沿って配列させる第４の配向膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第３の配向膜が、親水性の膜であり、前記第４の配向膜が、疎水性の膜であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第４の配向膜の表面自由エネルギーが、３２ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
第１の基板と第２の基板とそれら基板間に介設された液晶と、第１の基板及び第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状のスペーサーとを有し、前記第１の基板及び前記第２の基板には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜がそれぞれ形成され、前記スペーサーの側面には、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜が形成されている垂直配向方式の液晶表示装置の製造方法であって、
前記スペーサーを有する基板の表面及び前記スペーサーの側面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、前記スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための請求項１の液晶表示装置用基板は、基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成したことを特徴とする。なお、ダイレクタとは、液晶分子の平均的配向方向を表す単位ベクトルのことである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、上記課題を解決するための請求項８の液晶表示装置用基板の製造方法は、基板に、柱状のスペーサーを設けると共に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配列させる第１の配向膜を形成し、前記スペーサーの側面に、液晶分子のダイレクタを該側面に沿って配列させる第２の配向膜を形成した液晶表示装置用基板の製造方法であって、前記基板の表面及び前記スペーサーの側面に、親水化処理可能な疎水性の第１の配向膜を形成する工程、前記スペーサーの側面上の第１の配向膜を親水化処理して親水性の第２の配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする。