(57)【要約】【課題】汚れの再付着のない基板洗浄方法及びこれに用いる基板洗浄装置、並びに電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】液晶パネル１´´を保持する保持部材４０と、保持部材４０により保持された液晶パネル１´´の表面に蒸気を噴出するための蒸気噴出ノズル４５と、保持部材４０と蒸気噴出ノズル４５との間を所定の方向に沿って相対的に移動させる手段としての搬送ローラ４１及び基板抑え用ローラ４３を具備する。これにより基板を１枚ずつ連続的に洗浄処理することが可能となり、汚れの再付着といった問題がなく、洗浄度の高い基板を得ることができる。【選択図】    図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する保持部材と、
前記保持部材により保持された基板の表面に蒸気を噴出するための蒸気噴出ノズルと、
前記保持部材と前記蒸気噴出ノズルとの間を所定の方向に沿って相対的に移動させる手段と
を具備することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記保持部材は、前記基板の洗浄領域以外を覆う蓋部を有することを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記基板の表面に対し気体を噴出するための気体噴出ノズルと、
前記保持部材と前記気体噴出ノズルとの間を前記方向に沿って相対的に移動させる手段と
を更に具備することを特徴とする請求項１または請求項２記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記蒸気噴射ノズルと前記気体噴射ノズルは、前記方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項３記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記蒸気は超純水の蒸気であることを特徴とする請求項１から請求項４いずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記基板の洗浄領域は、第１基板と該第１基板から張り出した張り出し部を有する第２基板とが対向配置されてなる電気光学パネルの前記張り出し部の前記第１基板側の面であることを特徴とする請求項１から請求項５いずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記基板の洗浄領域は、第１面と第２面とを有する第１基板と第１面と第２面とを有する第２基板とが互いの第１面が対向するように配置されてなる電気光学パネルの前記第１基板及び第２基板それぞれの前記第２面であることを特徴とする請求項１から請求項５いずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
保持部材により保持された基板の表面に蒸気噴出ノズルから蒸気を噴出する工程を具備する基板洗浄方法であって、
前記蒸気噴出工程は、前記保持部材と前記蒸気噴出ノズルとの間を所定の方向に沿って相対的に移動させながら行うことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項９】
電気光学パネルを備える電気光学装置の製造方法であって、前記電気光学パネルの基板は請求項８に記載の基板洗浄方法によって洗浄されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば電気光学パネルの製造中の基板洗浄方法及びこれに用いる基板洗浄装置、並びに電気光学装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば電気光学パネルの一例としての液晶パネルは、第１基板とこの第１基板よりも張り出した張り出し部を有する第２基板とが貼り合わされた構造を有している。更に、接続端子部などの導電膜が形成された張り出し部には例えば駆動用ＩＣや配線基板などが接続配置され、貼り合わされた第１基板と第２基板とを挟み込むように一対の偏光板が配置されている。液晶パネルの製造工程においては、第１基板と第２基板との間に液晶を封入した状態で洗浄が行われた後、張り出し部に駆動用ＩＣや配線基板が実装または接続される。その後、駆動用ＩＣ及び配線基板が配置された状態で洗浄が行われた後、偏光板が貼り付けられる。
【０００３】
洗浄工程では、一般に、液晶パネルを洗浄液に漬けた後、超純水などのすすぎ液に漬けることによって洗浄液を落とし、その後、乾燥を行う（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１０−１０５０９号（第２頁）
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のような洗浄方法で洗浄を行う場合、洗浄液及びすすぎ液は何回も使われるため汚れてしまい、汚れた状態の洗浄液及びすすぎ液に液晶パネルを漬けることにより汚れが再付着し、液晶パネルの製品特性が劣化するという問題があった。
【０００５】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、汚れの再付着のない基板洗浄方法及びこれに用いる基板洗浄装置、並びに電気光学装置の製造方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような課題を解決するため、本発明は以下のような構成を採用している。
本発明の基板洗浄装置は、基板を保持する保持部材と、前記保持部材により保持された基板の表面に蒸気を噴出するための蒸気噴出ノズルと、前記保持部材と前記蒸気噴出ノズルとの間を所定の方向に沿って相対的に移動させる手段とを具備することを特徴とする。
【０００７】
本発明のこのような構成によれば、保持部材と蒸気噴出ノズルとの間を所定の方向に沿って相対的に移動させて洗浄を行っているので、基板を１枚ずつ連続的に洗浄処理することが可能である。これにより常に清浄度の高い蒸気を用いて洗浄が行われるため、基板の洗浄度が高い。すなわち、従来の洗浄液に漬ける洗浄方法では、同じ洗浄液及びすすぎ液を何回も用いるため洗浄液及びすすぎ液が汚れてしまい、その汚れた洗浄液及びすすぎ液に基板を漬けることにより基板に汚れが再付着してしまうという問題があった。これに対し、本発明においては常に清浄度の高い蒸気を用いて洗浄を行っているので、汚れの再付着といった問題がなく、洗浄度の高い基板を得ることができる。
【０００８】
また、前記保持部材は、前記基板の洗浄領域以外を覆う蓋部を有することを特徴とする。
【０００９】
このような構成によれば、蓋部を設けることにより基板を部分的に洗浄することができ、洗浄処理を施したくない領域を蓋部により覆うことができる。
【００１０】
また、前記基板の表面に対し気体を噴出するための気体噴出ノズルと、前記保持部材と前記気体噴出ノズルとの間を前記方向に沿って相対的に移動させる手段とを更に具備することを特徴とする。
【００１１】
このような構成によれば、蒸気による洗浄後、気体による乾燥を速やかに行うことができる。
【００１２】
また、前記蒸気噴射ノズルと前記気体噴射ノズルは、前記方向に沿って配置されていることを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、蒸気洗浄、気体乾燥を連続的に行うことができる。
【００１４】
また、前記蒸気は超純水の蒸気であることを特徴とする。
【００１５】
このように蒸気として超純水の蒸気を用いることができる。
【００１６】
また、前記基板の洗浄領域は、第１基板と該第１基板から張り出した張り出し部を有する第２基板とが対向配置されてなる電気光学パネルの前記張り出し部の前記第１基板側の面であることを特徴とする。
【００１７】
このように電気光学パネルの接続端子などの導電膜が形成される張り出し部の洗浄に用いることができる。
【００１８】
また、前記基板の洗浄領域は、第１面と第２面とを有する第１基板と第１面と第２面とを有する第２基板とが互いの第１面が対向するように配置されてなる電気光学パネルの前記第１基板及び第２基板それぞれの前記第２面であることを特徴とする。
【００１９】
このように電気光学パネルの両面の洗浄に用いることができる。
【００２０】
本発明の基板洗浄方法は、保持部材により保持された基板の表面に蒸気噴出ノズルから蒸気を噴出する工程を具備する基板洗浄方法であって、前記蒸気噴出工程は、前記保持部材と前記蒸気噴出ノズルとの間を所定の方向に沿って相対的に移動させながら行うことを特徴とする。
【００２１】
本発明のこのような構成によれば、保持部材と蒸気噴出ノズルとの間を所定の方向に沿って相対的に移動させて洗浄を行っているので、基板を１枚ずつ連続的に洗浄処理することが可能である。これにより常に清浄度の高い蒸気を用いて洗浄が行われるため、基板の洗浄度が高い。すなわち、従来の洗浄液に漬ける洗浄方法では、同じ洗浄液及びすすぎ液を何回も用いるため洗浄液及びすすぎ液が汚れてしまい、その汚れた洗浄液及びすすぎ液に基板を漬けることにより基板に汚れが再付着してしまうという問題があった。これに対し、本発明においては常に清浄度の高い蒸気を用いて洗浄を行っているので、汚れの再付着といった問題がなく、洗浄度の高い基板を得ることができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学パネルを備える電気光学装置の製造方法であって、前記電気光学パネルの基板は上述に記載の基板洗浄方法によって洗浄されることを特徴とする。
【００２３】
本発明のこのような構成によれば洗浄度の高い電気光学パネルを有する高品質の電気光学装置を得ることができる。
【発明の実施の形態】
以下、電気光学パネルとしての液晶パネルの製造工程中の基板洗浄に本発明を適用した場合を例にあげて説明する。まず初めに液晶パネルの製造工程の流れについて図１〜図３を用いて説明する。
【００２４】
図１は、液晶パネルの製造方法のフローチャート図である。図２及び図３は液晶パネルの製造工程を示す斜視図である。
【００２５】
まず、図２（ａ）に示す大基板としての第１母基板１１と第２母基板１２に対して、透明電極の形成や配向膜の形成などの所定の処理を行った後（工程Ｓ１）、一方の母基板上に複数（ここでは４個）の開曲線状のシール材１３を塗布する。その後、２枚の母基板をシール材１３を介して貼りあわせる（工程Ｓ２）。これにより図２（ａ）に例示する大板パネル基板１０が得られる。
【００２６】
次に、破断線１５及び１６に沿って基板を切断する（工程Ｓ３、１次切断）１次切断により、大判パネル１０からは複数の短冊状のパネルが形成される。この短冊状パネルは、一方の基板１２´（第２母基板１２から切り出された基板）が、もう一方の基板１１´（第１母基板１１から切り出された基板）よりも張り出した張り出し部２１を有している。
【００２７】
次に、短冊状パネルの切断面に露出した各液晶パネル開口部１４から基板間に液晶を注入し、開口部１４を封止材１９により封止する（工程Ｓ４）。これにより、図２（ｂ）に示す液晶が封入された状態の張り出し部２１を有する短冊状パネル２０が得られる。
【００２８】
次に、短冊状パネル２０を破断線１７に沿って切断する（工程Ｓ５、２次切断）。２次切断により、短冊状パネル２０から複数の図２（ｃ）に示すような個別の液晶パネル１´´を得る。液晶パネル１´´は、対向する第１面１１´´ａと第２面１１´´ｂを有する第１基板１１´´と、この第１基板１１´´よりも張り出した張り出し部３を有する第１面１２´´ａと第２面１２´´ｂとを有する第２基板１２´´とが、互いの第１面１１´´ａ及び１２´´ａが対向するように重ね合わされてなる。張り出し部３には、後述する駆動用ＩＣ及び配線基板と電気的に接続する導電膜からなる接続端子４及び５が形成されている。尚、図２（ｂ）では、説明をわかりやすくするために接続端子の図示は省略している。
【００２９】
次に、液晶パネル１´´を本発明の洗浄装置を用いて洗浄（工程Ｓ６、洗浄Ａ）し、張り出し部３表面に付着したガラスなどの異物を除去する。この洗浄Ａ工程の詳細については後述する。
【００３０】
次に、個別の液晶パネル１´´の張り出し部４上の所定位置にドライバＩＣ７を実装し、配線基板６を接続して（工程Ｓ７）、図３（ａ）に示す液晶パネル１´が完成する。接続端子４はその一端がドライバＩＣ７と電気的に接続し、他端は液晶パネル１´配置された配線（図示せず）にされる。接続端子７は、その一端がドライバＩＣ７と電気的に接続し、他端は配線基板６と電気的に接続する。
【００３１】
次に、液晶パネル１´を本発明の洗浄装置を用いて洗浄（工程Ｓ８，洗浄Ｂ）し、第１基板１１´´の第２面１１´´ｂ及び第２基板１２´´の第２面１２´´ｂの汚れを除去する。この洗浄Ｂ工程の詳細については後述する。
【００３２】
その後、液晶パネル１´を挟み込むように、すなわち第１基板１１´´の第２面１１´´ｂ及び第２基板１２´´の第２面１２´´それぞれに接するように偏光板８を配置して、図３（ｂ）に示す液晶パネル１を得る（工程Ｓ９）。次に、液晶パネル１に隣り合ってバックライト（図示せず）を配置し、これらを筐体（図示せず）によって保持し、液晶装置が完成する。
【００３３】
以下に、上述の洗浄Ａ工程及び洗浄Ｂ工程について詳細に説明する。
【００３４】
（洗浄Ａ工程）
洗浄Ａ工程に用いる洗浄装置及びこれを用いた洗浄方法の一実施形態について図４〜６を用いて説明する。
【００３５】
図４は洗浄装置の一部である液晶パネル１´´を保持する保持部材を説明するための図である。図４（ａ）は液晶パネル１´´を保持した状態の保持部材の概略平面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）の線Ａ−Ａ´で切断した断面図である。図５（ａ）は洗浄装置の概略平面図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）の線Ｂ−Ｂ´で切断した概略断面図である。図５においては、液晶パネル１´´を保持する保持部材４０を搬送するローラの構造をわかりやすく説明するために、詳細な保持部材の構造について図示を省略している。図６（ａ）は洗浄装置の概略平面図であり、図６（ｂ）は図６（ａ）の線Ｃ−Ｃ´で切断した概略断面図である。図６においては、ノズル４５及び４６と保持部材４０との位置関係をわかりやすくするためにローラの図示を省略している。
【００３６】
図５に示すように、本実施形態における洗浄装置７０は、保持部材４０と、保持部材４０を搬送するための搬送ローラ４１及び基板抑え用ローラ４３と、蒸気噴出ノズル４５及び気体噴出ノズル４６とを具備する。
【００３７】
保持部材４０は２枚の基板１１´´及び１２´´間に液晶層８が挟持された液晶パネル１´´を水平に保持するものである。図４に示すように、保持部材４０は、平面上、液晶パネル１´´よりも大きい矩形状の開口部を有する下部部材４０ｂと、蓋部としてのカバーマスク４０ｄと、下部部材４０ｂの開口部の４辺それぞれから１つづつ突き出した突起爪４０ｃとを有している。突起爪４０ｃは斜面を有しており、液晶パネル１´´はこの突起爪４０ｃの斜面部分で保持される。洗浄Ａ工程では、液晶パネル１´´は張り出し部３を有する第２基板１２´´が下側に位置するように配置される。カバーマスク４０ｄは、平面上、矩形状の開口部４０ａを有し、この開口部４０ａは液晶パネル１´´を保持した際に液晶パネル１´´の張り出し部３に対応するように設計されている。また、カバーマスク４０ｄは下部部材４０ｂから離間可能に設計されている。液晶パネル１´´は、カバーマスク４０ｄを下部部材４０ｂから離間した状態で保持部材４０に設置され、その後カバーマスク４０ｄによってカバーすることによって、張り出し部３の接続端子（図示せず）が形成された面、言い換える実装面となる第１基板側の面が露出した状態となる。言い換えると、洗浄領域のみが露出し、それ以外の領域は後述する蒸気噴射ノズル４５から噴射される蒸気が当たらないようにカバーマスク４０ｄにより覆われる。
【００３８】
図５に示すように、搬送ローラ４１は保持部材４０の下部に位置し、基板抑え用ローラ４３（図５（ａ）上、右下がりの斜線で埋められた部分）は保持部材４０の上部に位置する。搬送ローラ４１は支持軸４２によって支持され、基板抑え用ローラ４３は支持軸４４によって支持される。本実施形態においては、搬送ローラ４１上に保持部材４０を載置し、基板抑え用ローラ４３で液晶パネル１´´を上から抑えた状態で、それぞれのローラ４１及び４３を回転させることにより、保持部材４０を図面矢印方向に搬送させる。尚、図５においては１つの保持部材４０に対応したローラ４１及び４３のみ記載していないが、実際には搬送方向（図面上矢印で示す方向）に沿って複数のローラ４１及び４３が設置されている。また、液晶パネル１１´´を保持する保持部材４０も複数、ローラ４１上に載置されている。
【００３９】
図５及び図６に示すように、蒸気噴出ノズル４５及び気体噴出ノズル４６は、保持部材４０の開口部４０ａ上に位置するように配置される。蒸気噴出ノズル４５は、１００℃〜２００℃の超純水を、１．５〜４ｋｇ／ｃｍ２の圧力で噴出するノズルである。蒸気噴出ノズル４５への超純水の供給は超純水が貯留された超純水槽５１から行われる。気体噴出ノズル４６は、窒素ガス供給源５０から供給された１０〜３０℃の窒素ガスを噴出するノズルである。蒸気噴出ノズル４５及び気体噴出ノズル４６は、図上矢印で示した液晶パネル１１´´の搬送方向に沿って配置され、図示しない支持軸によってある一定の距離、例えば１０〜１５ｍｍの距離となるように固定されている。ノズル４５及び４６はいずれもその噴出口の径が２〜７ｍｍであり、張り出し部３の幅は例えば２〜１０ｍｍである。また、それぞれのノズル４５及び４６の先端部分には、蒸気または気体が飛散しないように飛散カバー４９が設けられている。
【００４０】
本実施形態においては、保持部材４０と蒸気噴出ノズル４５及び気体噴出ノズル４６との間を所定の方向（図５及び図６において矢印で示した方向）に沿って相対的に移動させる手段として、搬送ローラ４１及び基板抑え用ローラ４３を用いている。すなわち、ノズル４５及び４６の位置を固定し、保持部材４０を支持するローラ４１及び４３を回転させることにより、保持部材４０とノズル４５及び４６との間を所定の方向に沿って相対的に移動させている。
【００４１】
次に、上述の洗浄装置７０を用いた洗浄方法について説明する。
【００４２】
まず図４に示すように液晶パネル１´´を張り出し部３を有する第２基板１２´´が下側に位置するように保持部材４０により保持する。これにより、洗浄領域である張り出し部３の第１基板１１´´側の面である第２面１２´´ａが保持部材４０の開口部４０ａに位置する。
【００４３】
次に、液晶パネル１´´を保持した保持部材４０を、図５に示すように搬送ローラ４１上に載置し、更に保持部材４０を上方から基板抑え用ローラ４３で抑える。この状態でローラ４１及び４３を回転させて保持部材４０を移動させる。そして、保持部材４０を移動させながら、蒸気噴出ノズル４５からは蒸気を、気体噴出ノズル４６からは窒素ガスを、張り出し部３に対して噴出する。ここで、蒸気噴出ノズル４５及び気体噴出ノズル４６は搬送方向に沿って隣り合って配置されており、先に張り出し部３に対して蒸気が噴射されるように蒸気噴出ノズル４５が配置されている。蒸気噴出ノズル４５からは１００℃〜２００℃の超純水が１．５〜４ｋｇ／ｃｍ２の圧力で蒸気として洗浄領域である張り出し部３に対して噴出される。これにより、張り出し部３上の異物が除去され、後の駆動用ＩＣの実装や配線基板の接続の際に異物による導電接触不良や短絡の発生を防止することができる。ここで、蒸気を１００℃〜２００℃にすることにより、蒸気が噴き付けられる領域は異物が除去されるとともに加熱される。このように加熱された状態で、気体噴出ノズル４６から窒素ガスが噴き付けられることにより乾燥を速やかに行うことができる。例えば蒸気を１００℃よりも低い温度とすると乾きが悪くなる。また、例えば装置構成上、蒸気の温度を２５０℃くらいまで上げることは可能であるが、１００〜２００℃程度の蒸気であれば十分に乾燥を速やかに行うことができる。蒸気が噴きつけられた後、洗浄領域には気体噴出ノズル４６から１０〜３０℃℃の窒素ガスが噴出され、洗浄流域の乾燥が行われる。このように蒸気噴出ノズル４５と気体噴出ノズル４６とを隣り合って配置することにより、蒸気による洗浄及び気体による乾燥を連続的に行っている。また、基板洗浄に用いられた超純水は、図４（ａ）に示すように、下部部材４０ｃと液晶パネル１´´との間にできた隙間から流れ出る。以上により液晶パネル１´´の張り出し部３の洗浄が行われる。
【００４４】
本実施形態においては、保持部材４０とノズル４５及び４６との間を所定の方向に沿って相対的に移動させて洗浄を行っているので、液晶パネルを１枚ずつ連続的に洗浄処理することが可能である。これにより常に清浄度の高い蒸気を用いて洗浄が行われるため、液晶パネルの製品特性を一定に保つことができる。すなわち、従来の洗浄液に漬ける洗浄方法では、同じ洗浄液及びすすぎ液を何回も用いるため洗浄液及びすすぎ液が汚れてしまい、その汚れた洗浄液及びすすぎ液に液晶パネルを漬けることにより液晶パネルに汚れが再付着し、液晶パネルの製品特性を劣化させてしまうという問題があった。これに対し、本実施形態においては常に清浄度の高い蒸気を用いて洗浄を行っているので、汚れの再付着といった問題がなく、製品特性にすぐれた液晶パネルを安定して得ることができる。
【００４５】
また、本実施形態においては、超純水の蒸気を用いることにより異物の除去を行っており、従来のように洗浄液を用いる必要がなく、洗浄液中に含有される洗浄剤成分による電蝕といった問題の発生がない。例えば超純水が基板間隙に入り込んだとしても、従来のような電蝕の発生はなく、液晶パネルの品質には影響がない。
【００４６】
また、本実施形態においては、保持部材４０にカバーマスク４０ｄを設けることにより液晶パネルを部分的に洗浄することが可能である。
【００４７】
（洗浄Ｂ工程）
洗浄Ｂ工程に用いる洗浄装置及びこれを用いた洗浄方法の一実施形態について図７〜９を用いて説明する。尚、洗浄Ｂ工程では、上述の洗浄Ａ工程と洗浄対象が異なるため、洗浄Ａ工程で用いた洗浄装置とは保持部材の形状及びノズルの種類が異なっている。以下、洗浄Ａ工程で用いた洗浄装置と同一の構成については説明を簡略化し、異なる構成について主に説明する。
【００４８】
図７は洗浄装置の一部である液晶パネル１´を保持する保持部材を説明するための図である。図７（ａ）は液晶パネル１´を保持した状態の保持部材の概略平面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）の線Ｄ−Ｄ´で切断した断面図である。図８（ａ）は洗浄装置の概略平面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）の線Ｅ−Ｅ´で切断した概略断面図である。図８においては、液晶パネル１´を保持する保持部材１４０を搬送するローラの構造をわかりやすく説明するために、詳細な保持部材の構造について図示を省略している。図９（ａ）は洗浄装置の概略平面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）の線Ｆ−Ｆ´で切断した概略断面図である。図９においては、ノズル１４４、１４５及び１４６と、保持部材１４０との位置関係をわかりやすくするためにローラの構造については図示を省略している。
【００４９】
図８に示すように、本実施形態における洗浄装置１７０は、保持部材１４０と、保持部材１４０を搬送するための搬送ローラ４１及び基板抑え用ローラ４３と、洗浄液噴出ノズル１４４、蒸気噴出ノズル１４５及び気体噴出ノズル１４６とを具備する。
【００５０】
保持部材１４０は２枚の基板１１´´及び１２´´間に液晶層８が挟持され、更に張り出し部３に駆動用ＩＣ７及び配線基板６が実装及び接続された液晶パネル１´を水平に保持するものである。図７に示すように、保持部材１４０は、平面上、液晶パネル１´よりも大きい矩形状の開口部を有する下部部材１４０ｂと、蓋部としてのカバーマスク１４０ｄと、下部部材１４０ｂの開口部の４辺それぞれから１つづつ突き出した突起爪１４０ｃとを有している。突起爪１４０ｃは斜面を有しており、液晶パネル１´はこの突起爪１４０ｃの斜面部分で保持される。洗浄Ｂ工程では、液晶パネル１´の偏光板が貼り付けられる領域が洗浄される。従って、第１基板１１´´の第２面１１´´ｂ側を洗浄する場合には第１基板１１´´が上側に位置するように、第２基板１１´´の第２面１２´´ｂ側を洗浄する場合には第２基板１２´´が上側に位置するように、液晶パネル１´は保持部材１４０により保持される。カバーマスク１４０ｄは、平面上、矩形状の開口部１４０ａを有し、この開口部１４０ａは液晶パネル１´を保持した際に液晶パネル１´の偏光板が貼り付けられる領域に対応するように設計されている。また、カバーマスク１４０ｄは下部部材１４０ｂから離間可能に設計されている。液晶パネル１´は、カバーマスク１４０ｄを下部部材１４０ｂから離間した状態で保持部材１４０に設置され、その後カバーマスク１４０ｄによってカバーされることによって、偏光板が貼り付けられる面が露出した状態となる。言い換えると、洗浄領域のみが露出し、それ以外の領域は後述する洗浄剤噴射ノズル１４４から噴射される洗浄液が当たらないようにカバーマスク１４０ｄにより覆われる。これにより、洗浄液の付着を極力避けたい駆動用ＩＣが実装され接続端子が露出する張り出し部３への洗浄液の付着を防止することができる。
【００５１】
洗浄Ａ工程で用いた洗浄装置と同様、図８に示すように、搬送ローラ４１は保持部材４０の下部に位置し、基板抑え用ローラ４３（図８（ａ）上、右下がりの斜線で埋められた部分）は保持部材１４０の上部に位置する。本実施形態においても、搬送ローラ４１上に保持部材１４０を載置し、基板抑え用ローラ４３で液晶パネル１´を上から抑えた状態で、それぞれのローラ４１及び４３を回転させることにより、保持部材１４０を図面矢印方向に搬送させる。
【００５２】
図８及び図９に示すように、洗浄剤噴出ノズル１４４、蒸気噴出ノズル１４５及び気体噴出ノズル１４６は、保持部材１４０の開口部１４０ａ上に位置するように配置される。それぞれのノズル１４４、１４５及び１４６はスリット形状の噴出口を有し、その長手方向が平面上搬送方向に対して斜めに位置するように配置されている。洗浄剤噴出ノズル１４４は、常温、例えば２５℃程度の洗浄剤を、１．５〜４ｋｇ／ｃｍ２の圧力で霧状に噴出するノズルである。洗浄剤噴出ノズル１４４への洗浄剤の供給は洗浄剤が貯留された洗浄剤槽１４８から行われる。蒸気噴出ノズル１４５は、１００℃〜２００℃の超純水を、１．５〜４ｋｇ／ｃｍ２の圧力で噴出するノズルである。蒸気噴出ノズル１４５への超純水の供給は超純水が貯留された超純水槽１５１から行われる。気体噴出ノズル１４６は、窒素ガス供給源１５０から供給された、温度が８０〜１２０℃の窒素ガスを噴出するノズルである。洗浄剤噴出ノズル１４４、蒸気噴出ノズル４５及び気体噴出ノズル４６は、図上矢印で示した液晶パネル１１´の搬送方向に沿って配置され、支持軸１４７によって隣り合うノズル間の距離が例えば１０〜１５ｍｍとなるように固定されている。ノズル１４４、１４５及び１４６はいずれもその噴出口の幅が２〜７ｍｍであり、長さは洗浄領域の大きさによって決定され、例えば１０〜１００ｍｍである。また、それぞれのノズル１４４、１４５及び１４６の先端部分には、蒸気または気体が飛散しないように飛散カバー１４９が設けられている。
【００５３】
本実施形態においては、保持部材１４０と洗浄剤噴出ノズル１４４、蒸気噴出ノズル１４５及び気体噴出ノズル１４６との間を所定の方向（図８及び図９において矢印で示した方向）に沿って相対的に移動させる手段として、搬送ローラ４１及び基板抑え用ローラ４３を用いている。すなわち、ノズル１４４、１４５及び１４６の位置を固定し、保持部材１４０を支持するローラ４１及び４３を回転させることにより、保持部材１４０とノズル１４４、１４５及び１４６との間を所定の方向に沿って相対的に移動させている。
【００５４】
次に、上述の洗浄装置１７０を用いた洗浄方法について説明する。
【００５５】
まず図７に示すように液晶パネル１´を第１基板１１´´が上側に位置するように保持部材１４０により保持する。次に、液晶パネル１´を保持した保持部材１４０を、図８に示すように搬送ローラ４１上に載置し、更に保持部材４０を上方から基板抑え用ローラ４３で抑える。この状態でローラ４１及び４３を回転させて保持部材１４０を移動させる。そして、保持部材１４０を移動させながら、洗浄剤噴出ノズル１４４からは洗浄剤を、蒸気噴出ノズル１４５からは超純水の蒸気を、気体噴出ノズル１４６からは窒素ガスを、基板面に噴出する。ここで、洗浄剤噴出ノズル１４４、蒸気噴出ノズル１４５及び気体噴出ノズル１４６は搬送方向に沿って、基板面に対して洗浄剤、蒸気、窒素ガスが順に噴出されるように配置されている。洗浄剤噴出ノズル１４４からは２５℃の洗浄剤が１．５〜４ｋｇ／ｃｍ２の圧力で洗浄領域に対して噴霧される。これにより、蒸気だけでは除去しきれない油分などが洗浄される。その後、蒸気噴出ノズル１４５から、１００℃〜２００℃の超純水が１．５〜４ｋｇ／ｃｍ２の圧力で洗浄領域に対して噴出される。これにより、基板面の洗浄剤成分が除去され、更に異物が除去される。ここで、蒸気を１００℃〜２００℃にすることにより、蒸気が噴き付けられる領域は洗浄剤及び異物が除去されるとともに加熱される。このように加熱された状態で、気体噴出ノズル１４６から窒素ガスが噴き付けられることにより乾燥を速やかに行うことができる。蒸気が噴きつけられた後、洗浄領域には気体噴出ノズル４６から８０〜１２０℃の窒素ガスが噴出され、洗浄流域の乾燥が行われる。このように隣り合って洗浄剤噴出ノズル１４４、蒸気噴出ノズル１４５及び気体噴出ノズル１４６を隣り合って配置することにより、洗浄剤による洗浄、蒸気によるすすぎ及び洗浄、気体による乾燥を連続的に行っている。また、基板洗浄に用いられた洗浄剤及び超純水は、図７（ａ）に示すように、矩形状の液晶パネル１´の張り出し部３が位置する辺と直交する２辺に沿って位置する下部部材１４０ｃと液晶パネル１´との間にできた隙間から流れ出る。
【００５６】
次に、液晶パネル１´を第２基板１２´´が上方に位置するように保持部材１４０に設置し、上述と同様に第２基板１２´´の第２面１２´´ｂ側の面を洗浄する。以上により液晶パネル１´の偏光板が貼り付けられる領域の洗浄が行われる。
【００５７】
本実施形態においては、保持部材１４０と、ノズル１４４、１４５及び１４６との間を所定の方向に沿って相対的に移動させて洗浄を行っているので、液晶パネルを１枚ずつ連続的に洗浄処理することが可能である。これにより常に清浄度の高い洗浄液及び蒸気を用いて洗浄及びすすぎが行われるため、液晶パネルの製品特性を一定に保つことができる。すなわち、従来の洗浄液に漬ける洗浄方法では、同じ洗浄液及びすすぎ液を何回も用いるため洗浄液及びすすぎ液が汚れてしまい、その汚れた洗浄液及びすすぎ液に液晶パネルを漬けることにより液晶パネルに汚れが再付着し、液晶パネルの製品特性を劣化させてしまうという問題があった。これに対し、本実施形態においては常に清浄度の高い洗浄液及び蒸気を用いて洗浄を行っているので、汚れの再付着といった問題がなく、製品特性にすぐれた液晶パネルを安定して得ることができる。
【００５８】
また、本実施形態においては、保持部材１４０にカバーマスク１４０ｄを設けているので液晶パネルを部分的に洗浄することが可能である。すなわち、基板間隙に洗浄剤が入り込みにくく、また配線基板、駆動用ＩＣや接続端子が配置された張り出し部３に洗浄剤が付着しにくいため、洗浄液中に含有される洗浄剤成分による電蝕といった問題の発生が起こりにくい。
【００５９】
また、液晶パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンスパネル、無機エレクトロルミネッセンスパネル、プラズマディスプレイパネル、電気泳動表示パネル、電界放出表示パネル、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示パネルなどの電気光学パネルにおいても本発明を同様に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】液晶パネルの製造方法のフローチャート図である。
【図２】液晶パネルの製造工程図（その１）である。
【図３】液晶パネルの製造工程図（その２）である。
【図４】洗浄Ａ工程に用いる保持部材の平面図及び断面図である。
【図５】洗浄Ａ工程に用いる洗浄装置の平面図及び断面図である。
【図６】洗浄Ａ工程に用いる洗浄装置の平面図及び断面図である。
【図７】洗浄Ｂ工程に用いる保持部材の平面図及び断面図である。
【図８】洗浄Ｂ工程に用いる洗浄装置の平面図及び断面図である。
【図９】洗浄Ｂ工程に用いる洗浄装置の平面図及び断面図である。
【符号の説明】
１、１´´・・・液晶パネル、１１´´・・・第１基板、１１´´ａ・・・第１面、１１´´ｂ・・・第２面、１２´´・・・第２基板、１２´´ａ・・・第１面、１２´´ｂ・・・第２面、３・・・張り出し部、４、５・・・接続端子、４０・・・保持部材、４０ｄ・・・カバーマスク、４１・・・搬送ローラ、４３・・・基板抑え用ローラ、４５、１４５・・・蒸気噴出ノズル、４６、１４６・・・気体噴出ノズル、７０、１７０・・・洗浄装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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