(57)【要約】【課題】ノルボルネンカルボン酸から、特定の還元剤を用いて還元する事で、光学材料に有用なノルボルネン誘導体を工業的に安価に、かつ、安全に得る方法を提供する。【解決手段】下記一般式（１）2004217539.tif 000006（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立にして、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を示し、ｎは０または１である。）で表される化合物のカルボン酸基を下記一般式（２）ＸＡｌＨ２（ＯＹ）２    または、  ＸＡｌＨ（ＯＹ）３    （２）（式中、Ｘは、ナトリウム原子又はリチウム原子を示し、Ｙは、それぞれ独立して、アルキル基又はアルコキシアルキル基を示す。）で表される化合物を作用させ還元することを特徴とする下記一般式（３）2004217539.tif 000007（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びｎは前記と同義である。）で表される化合物の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2004217539.tif 000004
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立にして、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を示し、ｎは０または１である。）で表される化合物のカルボン酸基を下記一般式（２）
【化２】
ＸＡｌＨ２（ＯＹ）２    または、  ＸＡｌＨ（ＯＹ）３    （２）
（式中、Ｘは、ナトリウム原子又はリチウム原子を示し、Ｙは、それぞれ独立して、アルキル基又はアルコキシアルキル基を示す。）で表される化合物を作用させ還元することを特徴とする下記一般式（３）
【化３】
2004217539.tif 000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びｎは前記と同義である。）で表される化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、前記一般式（３）で表されるノルボルネン誘導体の製造方法に関する。このようなノルボルネン誘導体は、耐熱性、透明性、耐湿性に優れた光学材料や、感放射性樹脂組成物の単量体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ヒドロキシメチル基含有ノルボルネン誘導体の製造方法としては、以下に示す方法がある。
特開平１１−２６５０６７号公報には、アクリル酸エステルとジシクロペンタジエンからディールズアルダー反応によって得られた、ノルボルネンカルボン酸エステルをＬｉＡｌＨ４で還元しアルコールを製造する方法が実施例に記載されている。しかしながら、ＬｉＡｌＨ４は高価である上、その取り扱いの点で工業的には好ましくない。また、収率も７２％と未だ不十分である。
【０００３】
ロシアン  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー（Ｒｕｓｓｉａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９９７年、第３３巻、２号、２２８頁）には、アリルアルコールとジシクロペンタジエンからディールズアルダー反応によって製造する方法が記載されているが、この方法は、反応の選択性が低く、収率の点で工業的に満足する方法でない。
【０００４】
米国特許第４３９１２８４号明細書には、アリルアルデヒドとジシクロペンタジエンからディールズアルダー反応によって得られた、ノルボルネンアルデヒドをＮａＢＨ４で還元しアルコールを製造する方法が実施例に記載されているが、この方法は、不安定なアリルアルデヒドを使用する点で工業的に満足する方法ではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記事情に鑑み、本発明はノルボルネンカルボン酸類を原料として、安全かつ安価に、高品質なヒドロキシメチル基含有ノルボルネン誘導体を製造する工業的に有利な方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定構造を有するアルミニウム系還元剤を用いることにより、簡便且つ収率よく目的物が製造できることを見出し本発明を完成するに至った。すなわち本発明の要旨は、
下記一般式（１）
【０００７】
【化４】
2004217539.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立にして、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を示し、ｎは０または１である。）で表される化合物のカルボン酸基を下記一般式（２）
【０００８】
【化５】
ＸＡｌＨ２（ＯＹ）２    または、  ＸＡｌＨ（ＯＹ）３    （２）
（式中、Ｘは、ナトリウム原子又はリチウム原子を示し、Ｙは、それぞれ独立して、アルキル基又はアルコキシアルキル基を示す。）で表される化合物を作用させ還元することを特徴とする下記一般式（３）
【０００９】
【化６】
2004217539.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びｎは前記と同義である。）で表される化合物の製造方法に存する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法は、上記一般式（１）で表される化合物のカルボン酸基を上記一般式（２）で表される化合物により還元し上記一般式（３）で表される化合物に誘導するものである。
（反応基質）
上記一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基である。このうち、ハロゲン基で置換されていてもよいアルキル基としては、炭素数１〜４のものが好ましく、その具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基等が挙げられる。
【００１１】
このうち少なくとも１つ以上が水素原子である方が好ましく、より好ましくはＲ１及びＲ３が共に水素原子のものである。
また、ｎは０又は１である。
上記一般式（１）で表される化合物のｎが０である化合物の具体例としては、５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−メチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−エチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｎ−プロピル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｉｓｏ−プロピル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｎ−ブチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｉｓｏ−ブチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−モノフルオロメチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ジフルオロメチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−モノブロモメチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ジブロモメチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−トリブロモメチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン等を挙げることができる。
【００１２】
また、上記一般式（１）のｎが１である化合物の具体例としては、８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−メチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−エチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−ｎ−プロピル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−ｉｓｏ−プロピル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−ｎ−ブチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−ｉｓｏ−ブチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−モノフルオロメチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−ジフルオロメチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−トリフルオロメチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−モノブロムメチル−８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−ジブロモメチル−８−カルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−トリブロムヒドロキシメチル−８−カルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、等を挙げることができる。
【００１３】
（還元剤）
上記一般式（２）におけるＸは、ナトリウム原子又はリチウム原子であり、このうち好ましくはナトリウム原子である。
Ｙは、それぞれ独立して、アルキル基又はアルコキシアルキル基であり、このうちアルキル基としては炭素数１〜４のものが好ましく、より好ましくは炭素数１〜２のものである。また、アルコキシアルキル基としては炭素数１〜８のものが好ましく、より好ましくは炭素数１〜４である。
【００１４】
上記アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基が挙げられ、このうち好ましくはメチル基、エチル基又はｔ−ブチル基が挙げられ、より好ましくはエチル基が挙げられる。
上記アルコキシアルキル基として具体的には、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、エトキシブチル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、プロポキシプロピル基、プロポキシブチル基、ブトキシメチル基、ブトキシエチル基、ブトキシプロピル基、ブトキシブチル基等が挙げられ、このうち好ましくはメトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、又はエトキシエチル基が挙げられ、より好ましくはメトキシエチル基が挙げられる。
【００１５】
一般式（２）で表される還元剤の具体例としては、モノヒドロトリメトキシアルミニウムナトリウム、モノヒドロトリエトキシアルミニウムナトリウム、モノヒドロトリノルマルプロポキシアルミニウムナトリウム、モノヒドロトリイソプロプロポキシアルミニウムナトリウム、モノヒドロノルマルブトキシアルミニウムナトリウム、モノヒドロイソブトキシアルミニウムナトリウム、モノヒドロターシャリーブトキシアルミニウムナトリウム、モノヒドロトリメトキシアルミニウムリチウム、モノヒドロトリエトキシアルミニウムリチウム、モノヒドロトリノルマルプロポキシアルミニウムリチウム、モノヒドロトリイソプロポキシアルミニウムリチウム、モノヒドロノルマルブトキシアルミニウムリチウム、モノヒドロイソブトキシアルミニウムリチウム、モノヒドロターシャリーブトキシアルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−メトキシメトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−メトキシプロポキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−メトキシブトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−エトキシメトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−エトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−エトキシプロポキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−エトキシブトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−プロポキシメトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−プロポキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−プロポキシプロポキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−プロポキシブトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−ブトキシメトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−ブトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、    ジヒドロビス（２−ブトキシプロポキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−ブトキシブトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−メトキシメトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−メトキシプロポキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−メトキシブトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−エトキシメトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−エトキシエトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−エトキシプロポキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−エトキシブトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−プロポキシメトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−プロポキシエトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−プロポキシプロポオキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−プロポキシブトキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−ブトキシメトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−ブトキシエトキシ）アルミニウムリチウム、    ジヒドロビス（２−ブトキシプロポキシ）アルミニウムリチウム、ジヒドロビス（２−ブトキシブトキシ）アルミニウムリチウム等が挙げられる。
【００１６】
このうち、ジヒドロビス（２−メトキシメトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−エトキシメトキシ）アルミニウムナトリウム、ジヒドロビス（２−エトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムが好ましく、ジヒドロビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムが最も好ましい。
【００１７】
（反応条件）
本発明の方法において、上記一般式（２）で表される還元剤の使用量は、一般式（１）で表される化合物の１モルに対して、通常、１モル程度以上の範囲で用いられる。但し、あまり多すぎると、コスト及び後処理の点等で好ましくないため、通常１０モル以下、好ましくは５モル以下、より好ましくは３モル以下の範囲で用いられる。
【００１８】
本発明の方法においては、通常、窒素ガス、Ａｒガス等の不活性ガス雰囲気下で反応が行われる。
また、通常、溶媒が使用され、その使用される溶媒としては、反応に関与しなければ特に制限はないが、例えば塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフランなどのエ−テル系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒などを挙げることができ、このうち、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル又はテトラヒドロフランなどが好ましい。これらの溶媒は単独でも混合して用いてもよい。
【００１９】
本発明において有機溶媒の使用量は、上記一般式（１）で表される化合物の濃度として、０．１〜９９．９％（重量比）の割合になる量であればよく、１〜５０％（重量比）の割合になる量が好ましく、１〜３０％（重量比）の割合になる量が更に好ましい。
本発明の方法における反応様式としては、一般式（１）で表される化合物含有液中に一般式（２）で表される還元剤を添加する方法、一般式（２）で表される還元剤含有液中に一般式（１）で表される化合物又はその溶液を添加する方法、反応基中に一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される還元剤を同時に添加する方法等が挙げられるが、このうち一般式（２）で表される還元剤含有液中に一般式（１）で表される化合物又はその溶液を添加する方法が好ましい。
【００２０】
反応温度、反応時間は、一般式（１）で表される化合物の反応性及び反応液中の原料濃度、還元剤の種類及び使用量に依存するが、通常５０℃〜１３０℃であればよく、反応時間は１〜８時間程度である。
反応終了後、反応液に希酸水溶液等を加えて過剰の還元剤を不活性化した後、抽出・濃縮・洗浄・精製等の一般的な単離・精製操作を組み合わせることにより、目的とする生成物を得ることができる。
【００２１】
このようにして得られる一般式（３）で表される化合物としては、上述の一般式（１）で表される化合物のカルボン酸基がヒドロキシメチル基に変換された化合物であり、ｎが０である化合物の具体例としては、５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−メチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−エチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｎ−プロピル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｉｓｏ−プロピル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｎ−ブチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ｉｓｏ−ブチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−モノフルオロメチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ジフルオロメチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−トリフルオロメチル−５−カルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−モノブロモメチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−ジブロモメチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン、５−トリブロモメチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン等を挙げることができる。
【００２２】
また、ｎが１である化合物の具体例としては、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−メチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０１  ］ドデカ−３−エン、８−エチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−ｎ−プロピル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［４．４．０．１１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−ｉｓｏ−プロピル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−ｎ−ブチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−ｉｓｏ−ブチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−モノフルオロメチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−ジフルオロメチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−トリフルオロメチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−モノブロメチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、８−ジブロモメチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エン、８−トリブロモメチル−８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン、等を挙げることができる。
【００２３】
【実施例】
以下に実施例を示して本発明をさらに詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
実施例１
８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エンの合成
フラスコに、ジヒドロビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムリチウムの７０％トルエン溶液１３６ｍｌ（４７１ｍｍｏｌ）およびトルエン２４５ミリリットルを仕込み、窒素雰囲気中で３０℃に保持した。次いで、トルエン１０５ｍｌに懸濁した８−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０  ］ドデカ−３−エン４２．７ｇ（２０９ｍｍｏｌ）を、滴下ロートを用いて３０分かけて添加したのち、５０℃で２時間反応させた。次いで、反応溶液を氷冷し、１０％塩酸水溶液１８０ｇを徐々に添加した。次いで、析出した塩をセライトで濾過した。酢酸エチル２５０ｍｌで塩を洗浄し、飽和食塩水２５０ｍｌを加え、分液した。さらに、飽和重曹水２５０ｍｌと飽和食塩水２５０ｍｌで１回ずつ洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、その後トルエン、酢酸エチルを留去して、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ［  ４．４．０．１２，５  ．１７，１０］ドデカ−３−エンの粗生成物３７ｇを得た。その粗生成物を、減圧蒸留し、１１４−１２３℃  ／０．９ｍｍＨｇの留分３４ｇ（０．１７９ｍｍｏｌ、収率８５％）を得た。
物性値
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  、３００ＭＨｚ）δ：０．４０−０．９５（２Ｈ、ｍ）、１．１−１．７（３Ｈ、ｍ）、１．８−２．０（６Ｈ、ｍ）、２．９（２Ｈ、ｓ）、３．３−３．５（２Ｈ、ｍ、１級アルコールメチレンプロトン）、５．９−６．１（２Ｈ、ｍ）
実施例２
５−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エンの合成
フラスコに、ジヒドロビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムリチウムの６５％トルエン溶液１０６ｇ（３４２ｍｍｏｌ）およびトルエン１８０ミリリットルを仕込み、窒素雰囲気中で５０℃に保持した。次いで、トルエン１００ｍｌとテトラヒドロフラン２０ｍｌに懸濁した５−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシカルボニル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エン３０ｇ（１４６ｍｍｏｌ）を、滴下ロートより１時間３０分かけて添加したのち、８５℃で２時間反応させた。次いで、反応溶液を氷冷し、１０％塩酸水溶液１３５ｇを徐々に添加した。次いで、反応液にトルエンを１００ｍｌ添加し、析出した塩をセライトで濾過した。酢酸エチル２５０ｍｌで２回塩を洗浄した。飽和重曹水２００ｍｌで中和後、さらに析出した塩をセライト濾過した。水相を分液し、有機相を飽和食塩水２００ｍｌで２回洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、その後トルエン、酢酸エチルを留去して、５−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシメチル−ビシクロ［  ２．２．１］  ヘプト−２−エンの粗生成物を、減圧蒸留し、９５℃／２５ｍｍＨｇの留分２１ｇ（１０９ｍｍｏｌ、収率７５％）を得た。
物性値
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  、４００ＭＨｚ）δ：０．８２−１．９（４Ｈ、ｍ）、２．９３（１Ｈ、ｓ）、３．０５−３．１５（１Ｈ、ｍ）、３．２４−４．０（２Ｈ、ｍ、１級アルコールメチレンプロトン）、６．０−６．３（２Ｈ、ｍ）
【００２４】
【発明の効果】
本発明によれば、ノルボルネンカルボン酸を、アルキル置換されたリチウム化合物を用いて還元する事で、光学材料に有用な、ノルボルネンアルコール体を工業的に、安価に、安全に得る事ができる。