(57)【要約】【課題】光回折効果に優れたホログラム、回折格子などの光回折構造の製造方法、複製版材、及び媒体を提供する。【解決手段】電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層へ、表面が複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さい複製版材を用いて、加熱又は非加熱で加圧して賦型し、該賦型した後及び／又は賦型と同時に電離放射線で硬化させる、表面に複数の峰状の凹凸形状を有する光回折構造の製造方法、複製版材、及び媒体を特徴とする。【選択図】　図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に複数の峰状の凹凸形状を有する光回折構造の製造方法であって、電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層へ、表面が複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さい複製版材を用いて、加熱又は非加熱で加圧して賦型し、該賦型した後及び／又は賦型と同時に電離放射線で硬化させることを特徴とする光回折構造の製造方法。
【請求項２】
上記峰状が湾曲している場合は、該湾曲の接線に交差する方向に、中間線を引くことをを特徴とする請求項１記載の光回折構造の製造方法。
【請求項３】
上記峰状が独立峰であることをを特徴とする請求項１記載の光回折構造の製造方法。
【請求項４】
複数の峰状の凹凸形状からなる光回折構造を複製する複製版材であって、該複製版材は複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さいことを特徴とする光回折構造の複製版材。
【請求項５】
電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層へ、表面が複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さい複製版材を用いて、加熱又は非加熱で加圧して賦型し、該賦型した後及び／又は賦型と同時に電離放射線で硬化させて、複数の峰状の凹凸形状を形成することを特徴とする光回折構造を有する媒体。
【請求項６】
上記表面が、峰の方向及び／又は峰の間隔及び／又は凹凸の形状及び／又は凹凸の高さ、が異なる複数の領域を有する集合体からなることを特徴とする請求項５記載の光回折構造を有する媒体。
【請求項７】
上記凹凸形状が、レリーフホログラム、及び／又は回折格子であることを特徴とする請求項５〜６のいずれかに記載の光回折構造を有する媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光回折構造の製造方法に関し、さらに詳しくは、表面が複数の峰状及び／又は独立峰状の凹凸形状からなり、光回折効果に優れたホログラム、回折格子などの光回折構造の製造方法、複製版材、及び媒体に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
（技術の概要）ホログラムや回折格子などの原版撮影は、無振動な環境で、特殊な設備を用い、危険なレーザを操作し、専門的な撮影技術を要する高度なものである。このように撮影された原版（写真乾板状態）は、二度と同じものを作るのは極めて困難で、非常に貴重なものであり、通常、金庫に保管されている。さらに、製造から複製までが工業的に生産ができるのは、世界でも数社といわれている。該原版の表面は、レリーフホログラムや回折格子では、長さ１ｍｍあたり数百から数千本の超微細な凹凸形状からなっている。該凹凸形状は複数の峰からなり、該峰の形状によって光回折効果が大きく劣化するので、正確、精密を期して、忠実に複製しなければならない。忠実に複製された凹凸形状のみが十分な光回折効果を発揮できるので、大量複製（生産）することは、極めて困難である。レリーフホログラムや回折格子などを大量複製するには、原版から１次（子）複製原版（マスタ版という）を作り、さらに２次（孫）中間版材を作り、さらにまた３次（曾孫）中間版材を作り、さらに必要に応じて４次、５次、〜ｎ次（子孫）の中間版材を作る。２次〜ｎ次（子孫）中間版材から複数の複製版材（刷版、版材ともいう）を作って、複製機へ搭載し複製することで大量複製（生産）ができる。ここで、複製版材とは複製機へ搭載し大量複製（生産）する際に用いる中間版材のことである。１枚の中間版材から数十〜百枚程度の複製版材が得られる。複製版材は生産するロットによって、３次中間版材であったり、４次であったり、また、１０次以上に及ぶ場合もあり、また、小ロットの時には中間版材を複製版材として使用することもあるので、中間版材、複製版材をあわせて中間版材、又は単に版材ということもある。
微細な凹凸形状は、通常レーザ光を干渉させてできる干渉縞の形状であり、その形状は正弦波である。このために、複製を繰り返しても、山谷の高さは低くなるが、凹凸形状の形状は同様とされてきた。複製版材の１枚が、生産（大量複製）できる枚数（耐刷力）は、一般的な印刷法の印刷版材と比較して著しく低い。該複製版材は多くの枚数を消費するので、一次〜ｎ次中間版材、該ｎ次中間版材から複製版材を作る作業を繰り返す。しかしながら、複製版材によっては、複製された媒体、製品の光回折効果が十分でないことが、たびたび発生していた。しかし、凹凸形状が微細であるが故に、原因が判らず、現場対処で光回折効果よい複製版材を選んで、大量複製に使用している状態が長い期間続いていた。
【０００３】
（先行技術）従来、生産に使用する複製版材としては、撮影原版の表面に金などを蒸着し、これを電極に厚さ数百μｍ程度のニッケルメッキ層を形成してから、ニッケル層を剥離して複製版材とすることが知られている。しかしながら、金などの蒸着層が電極として使用できなかったり、ニッケルメッキ複製版材が剥離しにくかったりする問題点がある。また、ニッケルメッキに要する時間が長く、メッキできる枚数が少なく、価格が高いという欠点がある。
また、撮影原版からニッケルメッキ複製原版、さらにガラス複製原版を経て、該ガラス複製原版を順次、複数回２Ｐ法を繰り返して樹脂多面版材とする方法が、知られている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。さらに、撮影原版から２Ｐ法を複数回繰り返して樹脂製の複製版材とし、大量複製する方法が知られている（例えば、特許文献３、ないし特許文献５参照。）。しかしながら、いずれにも、光回折効果に対する表面凹凸形状については、何らの記載も示唆もされていない。
さらにまた、温度湿度を制御することで複製版材の寸法精度を調整する技術が、知られている（例えば、特許文献６参照。）。しかしながら、表面の微細な凹凸形状そのものを温度湿度で制御するものではなく、光回折効果に対する表面凹凸形状については、何らの記載も示唆もされていない。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１−２３８６７９号公報
【特許文献２】
特開平３−２９９８６号公報
【特許文献３】
特公平６−８５１０３号公報
【特許文献４】
特公平６−８５１０４号公報
【特許文献５】
特公平７−１０４６００号公報
【特許文献６】
特開平６−２７０１６５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、複数の峰状及び／又は独立峰状の表面の凹凸形状を選択した複製版材を用いることで、光回折効果に優れたホログラム、回折格子などの光回折構造の製造方法、及び光回折構造を有する媒体を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わる光回折構造の製造方法は、表面に複数の峰状の凹凸形状を有する光回折構造の製造方法であって、電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層へ、表面が複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さい複製版材を用いて、加熱又は非加熱で加圧して賦型し、該賦型した後及び／又は賦型と同時に電離放射線で硬化させるようにしたものである。本発明によれば、賦型性がよいので、原版の凹凸が忠実に再現されて、光回折効果に優れたホログラム、回折格子などの光回折構造の製造方法が提供される。
請求項２の発明に係わる光回折構造の製造方法は、上記峰状が湾曲している場合は、該湾曲の接線に交差する方向に、中間線を引くように、請求項３の発明に係わる光回折構造の製造方法は、上記峰状が独立峰であるようにしたものである。本発明によれば、複雑な凹凸を有するホログラムや、回折方向の異なる複数の凹凸が重なり合った回折格子でも忠実に賦型できて、光回折効果に優れる光回折構造の製造方法が提供される。
請求項４の発明に係わる光回折構造を複製する複製版材は、複数の峰状の凹凸形状からなる光回折構造を複製する複製版材であって、該複製版材は複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さいようにしたものである。本発明によれば、微細な凹凸を忠実に再現する賦型性に優れるホログラム、回折格子などの光回折構造を複製する複製版材が提供される。
請求項５の発明に係わる光回折構造を有する媒体は、電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層へ、表面が複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さい複製版材を用いて、加熱又は非加熱で加圧して賦型し、該賦型した後及び／又は賦型と同時に電離放射線で硬化させて、複数の峰状の凹凸形状を形成するようにしたものである。本発明によれば、賦型性がよいので、原版の凹凸が忠実に再現されて、光回折効果に優れたホログラム、回折格子などの光回折構造を有する媒体が提供される。
請求項６の発明に係わる光回折構造を有する媒体は、上記表面が、峰の方向及び／又は峰の間隔及び／又は凹凸の形状及び／又は凹凸の高さ、が異なる複数の領域を有する集合体からなるように、請求項７の発明に係わる光回折構造を有する媒体は、上記凹凸形状が、レリーフホログラム、及び／又は回折格子であるようにしたものである。本発明によれば、複雑な凹凸を有するホログラムや、回折方向の異なる複数の凹凸が重なり合った回折格子でも忠実に賦型できて、光回折効果に優れる光回折構造を有する媒体が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。
（表面の凹凸形状）まず、表面の凹凸形状は、峰の繰り返し単位が数ｍｍ以下の特殊な光輝効果を醸し出す光輝印刷や光回折構造に適用できる、特に、１ｍｍの間に数百〜数千本の凹凸を有するレリーフホログラム、回折格子などの光回折構造に好適である。ホログラム、回折格子などの撮影は、無振動な環境で、特殊で危険なレーザ設備を操作し、レーザの干渉縞を記録する専門的で高度な技術である。このように撮影された撮影原版（写真乾板状態）は、二度と同じものを作るのは極めて困難で、非常に貴重なものであり、通常、金庫に保管されている。さらに、製造から複製までが工業的に生産ができるのは、世界でも数社といわれている。該撮影原版の表面は、レリーフホログラムや回折格子では、超微細な凹凸形状からなっている。該凹凸形状は、１ｍｍの間に数百本以上の峰が畝状に並んでいる。その峰の凹凸の深さは０．０１〜数μｍ程度である。該峰状の凹凸には、撮影物体による干渉縞でできた風紋のような縞模様がある。該風紋のような縞模様は回折格子にはなく、ただ複数の峰状凹凸が続いている。該縞模様の深さは、０．０１〜数μｍ程度の畝状の凹凸のさらに数〜数百分の一程度である。このような超微細な凹凸形状を、大量複製（生産）で忠実に再現させることは、極めて困難である。
さらに、凹凸形状表面の峰は、峰が短くなり、独立峰状であってもよい。さらにまた、表面の凹凸形状は、全面が同じでなく、峰の方向及び／又は峰の間隔及び／又は凹凸の形状及び／又は凹凸の高さ、が異なる複数の領域を有する集合体であってもよい。
【０００８】
（ホログラム）ホログラムの画像としては、用途、目的に合わせた画像とすればよく、特に限定されず、例えば、必要な意味を表現する記号、文字、数字、イラストなど自由に適用できる。ホログラム画像自体は、実物の撮影以外に、ホログラム回折格子を計算で求めたり、デジタルカメラで取り込んだデジタル画像やコンピュータグラフイックスから得られる、２次元あるいは３次元の画像データから、ホログラフィックステレオグラム技術等の適宜な手段により作成してもよい。回折格子は、その輪郭で文字などの画像を表現できる。
（レリーフホログラム）ホログラムには体積型とレリーフ型があるが、本発明では２次元又は３次元画像を再生可能な、表面に凹凸形状（光回折レリーフ）が形成されたレリーフホログラム、及び／又は回折格子が好適である。レリーフホログラムとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。該レリーフホログラムとしては、フレネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラフィック回折格子などがある。
【０００９】
（回折格子）回折格子としては、ホログラム記録手段を利用したホログラフィック回折格子の他に、精密旋盤や電子線描画装置等を用いて機械的、描画的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子をあげることもできる。これらのホログラム、回折格子は、単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。また、回折格子は、峰の方向及び／又は峰の間隔及び／又は凹凸の形状及び／又は凹凸の高さ、が異なる複数の領域を有する集合体、即ち、回折方向の異なる複数の領域を、規則的又はランダムに組合わせると、意匠性のある特異な光輝性が得られる。
本発明の効果は、単一の回折格子の場合、多数の峰が平行の規則的に並んだ状態であり凹凸形状の乱れが発生しにくいために少ないが、回折方向、回折波長、回折角度などが異なる複数の領域を有する、複雑な凹凸形状を有する回折構造には、複製しても凹凸形状が忠実に再現されるので、好適である。
【００１０】
（複製方法）ホログラムなどの微細な凹凸形状を商業的に複製するには、まず、凹凸形状が形成された原版（親）から、数世代次の中間版材を作り、該中間版材の適次なものを複製版材（刷版、スタンパともいう）とする。該複製版材を用いて、電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層へ圧着（所謂エンボス）して、光回折層の表面へ凹凸形状を賦型（複製、形成）した後に電離放射線を照射するか、又はエンボスと同時に電離放射線を照射してから、複製版材（スタンパ）を剥離する方法（以降、セミドライ複製法という）である。また、該複製版材へ、液状の電離放射線硬化樹脂を塗布し、押し伸ばして賦型した後に、電離放射線を照射して硬化させて後に、剥がすＰｈｏｔｏＰｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ法（以降、２Ｐ法という）方法でもよい。
商業的な複製方法では、複製版材（スタンパ）の基材を樹脂製とし、複製機のシリンダ状に巻き付けることで、長尺で連続に行えるセミドライ複製法が、大量に安価に複製作業ができて、好適である。
【００１１】
図１は、原版から次々と中間版材を作り、中間版材を複製版材として大量複製する状況の説明図である。
（中間版材）まず、商業的な複製に先立って、原版（親）から実際に複製機へ搭載する複製版材（刷版、スタンパ）を作る。レリーフホログラムや回折格子などを大量複製するには、原版（親）から一次中間版材（子）を作り、さらに二次中間版材（孫）、三次中間版材（曾孫）、〜ｎ次中間版材を作って行く。原版（親）は大切に保存する。中間版材１０の作製は、通常２Ｐ法が用いられる。
（多面化）また、大きな面積のホログラム撮影は、撮影時間（写真撮影でいうシャッター時間）が長くなって、該時間内を無振動状態で維持することは至難である。従って、小さい面積の原版（親）、マスタ版、又は一次〜三次程度の中間版材１０を、必要に応じて、複数個を面付けして１枚の多面原版として、該多面原版からｎ次の中間版材１０を作製する。
【００１２】
（複製版材）ｎ次中間版材のうちから、生産（複製）するロット枚数などによって、適宜、ｎ次中間版材を複製機へ搭載する複製版材（刷版、スタンパ）とする。実際に複製機へ搭載する複製版材は、通常、１〜１５次程度、好ましくは３〜９次、より好ましくは３次〜７次の中間版材が用いられる。
【００１３】
（発明のポイント）レーザ光の干渉による微細な凹凸形状は正弦波（サインカーブ）で、描画した微細な凹凸形状は矩形波であり、従来技術で述べたように、複製を繰り返しても、凹凸形状の形状は同じとされてきた。しかしながら、エンボス法を主体とした商業的複製は塑性加工であり、その方法や条件によって、複製された媒体の凹凸形状が微妙に劣化し、さらに、複製を繰り返す毎に劣化が続いて行く。劣化は賦型の不完全さ、電離放射線樹脂の収縮及び弾性回復、環境条件、外力などによるものと推測される。この劣化を事前に解消した原版、中間版材を作成し、該中間版材から選択して複製版材とし、該複製版材を用いて複製する方法、及び、該複製方法で複製された媒体が優れた回折効果を発揮することを見出して、本発明に至った。
【００１４】
即ち、凹凸断面においる凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より大きくする。このようにすることで、最終製品となる媒体へ所望した凹凸形状が賦型されて、照明光の対応する凹凸形状からの回折反射光が増して明るく観察される。そして、複製版材としては、媒体での凹凸形状の逆凹凸形状パターンを用いる。所望の凹凸形状は、正弦波、矩形波、ブレーズ波などでもよく、限定はされない。峰は畝状でも独立峰でもよい。
中間線としては、まず、隣り合う凹凸断面を連続１１個とりだす。隣り合う凹凸の凹底と凸頂の中間距離を中間点とする。同様にして１０点の中間点を求め、この平均値点を結ぶ線を中間線とする。ホログラムのような複雑な凹凸形状の場合、複数の回折方向が交わった回折格子の場合、ホログラム及び／又は回折格子が微細な面積の場合もあるので、隣り合う凹凸断面を連続２個とって同様に求めてもよい。
【００１５】
（複製版材と大量複製）図１に戻って、原版から通常は２Ｐ法で中間版材を作り、該中間版材のうち、適宜な中間版材を複製版材として、生産（大量複製）する概念を説明する。原版（撮影又は描画したガラス版）から２Ｐ法でマスタ版を作る。マスタ版から大量複製用の単独、又は多面化した複製版材をしなければならない。従って、該複製版材はマスタ版からｎ次複製を繰り返して得られた中間版材Ｃ２〜中間版材Ｃｎの中から刷版を選択する。
【００１６】
そして、中間版材Ｃｎを刷版として複製機へ搭載して、実際の生産を進行するが、従来は、中間版材Ｃｎの表面の凹凸形状については、なんらの考慮もされていなかった。複製版材は、生産枚数に応じて適宜選択していたに過ぎなかった。しかしながら、本発明では複製版材を凹凸形状で選択することで、複製媒体の明るさや品質が向上できる。さらに、原版を撮影又は描画する時に、観察側から見て凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より大きくするようにしておくことが好ましい。
【００１７】
図４は、複製版材の凹凸形状を説明する断面図である。
（複製版材の凹凸形状）直線状の峰が並んだ回折格子原版の凹凸形状は、通常のレーザ光の干渉縞の場合にはサインカーブで、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積と、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積は同じである。また、回折格子原版を描画的に作製すると、理想的には矩形状となる。図４は、作用が判り易いように、矩形状の凹凸形状を模式的に表している。
図４（Ａ）で、複製版材（等凹凸）１１１は、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積１０５Ａが、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積１０３Ａと同面積である。図４（Ｂ）で、複製版材（凸大）１１３は、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積１０５Ｂが、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積１０３Ｂより大きい。図４（Ｃ）で、複製版材（凸小）１１５は、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積１０５Ｃが、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積１０３Ｃより小さい。
ここで、それぞれを観察すると、図４（Ａ）の複製版材（等凹凸）１１１が回折効率がよく最も明るい。次いで、図４（Ｂ）の複製版材（凸大）１１３、図４（Ｃ）の複製版材（凸小）１１５となる。しかしながら、本発明の製造方法に用いる複製版材は、驚くべきことに最も明るい複製版材（等凹凸）１１１ではなく、複製版材（凸小）１１５である。
【００１８】
図５は、図４の複製版材でエンボス複製した光回折構造の断面図である。
（媒体の光回折構造）次に、複製版材として、複製版材（等凹凸）１１１、複製版材（凸大）１１３、複製版材（凸小）１１５を用いてエンボス法で大量複製した場合の、光回折構造の凹凸形状を現す。該光回折構造が、実際使用される媒体へ加工され、又は貼着、粘着、転写などの公知の手段で一体化されて使用される。即ち、この媒体へ付着される光回折構造が、所望の凹凸形状となり、最も回折効率がよく、明るく観察されるべきである。ここでも、作用が判り易いように、矩形状の凹凸形状を模式的に表しているが、凹凸形状は矩形に限定されないのは言うまでもない。
【００１９】
図５は、図４のの複製版材で光回折層２５へエンボス法で大量複製した状態を表しているが、判り易くするために、若干剥離した状態で表示してある。
図５（Ａ）は、複製版材（等凹凸）１１１を用いて、光回折層２５へエンボスしたものである。光回折層２５はエンボス時にたとえ加熱されても、溶融して液体状態となることなく、固体又は軟化状態で加圧によりエンボスされる。このために、図５（Ａ）に図示するように、光回折層２５は複製版材（等凹凸）１１１の凹部へ完全に埋まり込むことができないので、該凹部より小さく、先端が細まった形状へ賦型される。一方、複製版材（等凹凸）１１１の凸部は比較的容易に光回折層２５へ突入して、賦型できる。この結果、光回折構造（凸小）１２１の凹凸形状は、凸部が小さくなる。
【００２０】
図５（Ｂ）は、複製版材（凸大）１１３を用いて、光回折層２５へエンボスしたものである。前述と同様に、該小さな凹部よりさらに小さく、先端が細まった形状へ賦型される。一方、凸部は面積が大きくエンボス圧力が分散するので、光回折層２５へ入りずらく、浅めに賦型される。この結果、賦型された光回折構造（凸極小）１２３の凹凸形状は、凸部が極めて小さくなる。
【００２１】
図５（Ｃ）は、複製版材（凸小）１１５を用いて、光回折層２５へエンボスしたものである。図５（Ｃ）に図示するように、光回折層２５は複製版材（凸小）１１５の凹部が広いので、光回折層２５の樹脂が埋まり込み易いので、比較的忠実な形状へ賦型される。一方、複製版材（凸小）１１５の凸部は小さく尖った状態であり、光回折層２５へ突入して、容易に賦型することができ、本発明の複製版材である。また、エンボス時に加熱すれば、光回折層２５の軟化状態となってさらに容易に加圧エンボスができる。この結果、賦型された光回折構造（等凹凸）１２５の凹凸形状は、所望の凹凸形状に最も忠実に再現されている。
【００２２】
図２は、２Ｐ法を説明する概念図である。
（２Ｐ法）中間版材（複製版材も含まれる）は、原版に、電離放射線硬化樹脂を塗布し、電離放射線を照射して硬化させて後に、剥がすＰｈｏｔｏＰｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ法（２Ｐ法という）方法で作製する。２Ｐ法は、一般に、基材上に凹凸凹凸形状を形成する有効な方法として知られ、公知の光学部品などの複製でも使用されている。２Ｐ法は、概略の工程を図２で図示するように、図２（Ａ）は凹凸状レリーフの形成された原版で、図２（Ｂ）に示すように電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａを滴下し、図２（Ｃ）、図２（Ｄ）に示すように、その上へ複製基材１５を積置し、押圧する。次いで、図２（Ｅ）に示すような状態で、原版１１又は複製基材１５側から紫外線等の電離性放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａを硬化させる。図２（Ｆ）に示すように、硬化して一体化した電離放射線硬化樹脂１３Ｂと基材１５とを、原版１１側から剥離することで、マスタ版が得られる。さらに、該マスタ版から２Ｐ法で中間版材Ｃ２を作る。さらにまた、該中間版材Ｃ２から２Ｐ法で中間版材Ｃ３を作る。さらにまた、該中間版材Ｃ３から２Ｐ法で中間版材Ｃ４を作る。図２に図示する凹凸状レリーフの形成は、説明しやすく矩形で示しているが、特に矩形に限らない。原版の製造方法によって、波状、ノコギリ状（ブレーズ）などがあり、また、ホログラム画像が記録されていると、凹凸レリーフにもさらに凹凸がある。
【００２３】
図３は、本発明の製造方法で使用する複製版材の断面図である。
複製版材（中間版材を含む）は、基材１５とプライマー層１９と電離放射線硬化樹脂層１３Ｂとが、順次積層されている。そして、その凹凸形状は、表面が複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さくなっている。即ち、判り易く極端に表現すると、凸部が小さく尖った状態である。
【００２４】
（複製版材（凸小）の作製法）このような凹凸形状の複製版材とするには、いくつかの方法が適用できるが、特に限定されるものではない。まず、描画法で原版を作製する場合には、複製機で使用する複製版材が何回２Ｐ法を繰り返すかを逆算して、凹凸形状の凹部を広く凸部を狭く、又はその逆にすればよい。レーザ光を用いて干渉縞を撮影する方法では、露光条件を見直して、ややオーバー露光としたり、２重露光したり、または、感光材料を厚塗りしてもよい。また、２Ｐ法で行う場合には、硬化前の電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａの粘度や表面張力をを調整したり、原版への押圧や、押圧と電離放射線の照射タイミングを調整したりすればよい。また、２Ｐ法でもその回数で凹凸形状が暫時劣化して、２Ｐ法の奇数回と偶数回でも変化するので、奇数回目の複製版材を用い、少ないｎ次複製版材を用いることが望ましい。
【００２５】
（複製版材の基材）複製版材（中間版材を含む）の基材１５としては、具体的には、金属版、ガラス版、プラスチックシートなどが適用できるが、複製機の版胴が円筒状で、該版胴へ巻き付ける場合にはプラスチックシートが好適である。プラスチックシートとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレ−ト・ポリブチレンテレフタレ−ト・ポリエチレンナフタレ−ト・ポリエチレンテレフタレート‐イソフタレート共重合体・テレフタル酸‐シクロヘキサンジメタノール‐エチレングリコール共重合体・ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンナフタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６・ナイロン６６・ナイロン６１０などのポリアミド系樹脂、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート・ポリメタアクリレート・ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレ−ト・ポリスルホン・ポリエーテルスルホン・ポリフェニレンエ−テル・ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）・ポリアラミド・ポリエーテルケトン・ポリエーテルニトリル・ポリエーテルエーテルケトン・ポリエーテルサルファイトなどのエンジニアリング樹脂、ポリカ−ボネ−ト、ＡＢＳ樹脂などのスチレン系樹脂、セロファン・セルローストリアセテート・セルロースダイアセテート・ニトロセルロースなどのセルロース系フィルムなどがある。
【００２６】
該フィルムは、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。該フィルムは、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該フィルムの厚さは、通常、２５〜１０００μｍ程度が適用できるが、５０〜２００μｍが好適である。該フィルムは、通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系のフィルムが、耐熱性、寸法安定性、耐電離放射線性のため好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該フィルムは、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。該フィルムは、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００２７】
（電離放射線硬化樹脂層）原版の凹凸形状が賦形される電離放射線硬化樹脂層１３Ｂは、電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａへ、電離放射線を照射して硬化させる。電離放射線としては電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ‐Ａ、ＵＶ‐Ｂ、ＵＶ‐Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線、電子線が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａとしては、電離放射線硬化性樹脂（前駆体）へ、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加したもので、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないでもよい。また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。
【００２８】
該電離放射線硬化樹脂層１３Ｂは、電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａが電離放射線で硬化したもので、該電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａへは、電離放射線で重合（硬化ともいう）反応する少なくとも１つの、官能基を有する硬化性成分を含有させれば良い。該硬化性成分としては、ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物が適用でき、１官能モノマー、２官能以上の多官能モノマー、官能オリゴマー、官能ポリマーなどがある。また、電離放射線で重合（硬化ともいう）する官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、またはエポキシ基である。
【００２９】
１官能モノマーとしては、例えば、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸‐２‐エチルヘキシル、アクリル酸イソブチル、メチルメタクリレート、２‐エチルヘキシルアクリレート、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２‐ヒドロキシプロピルアクリレート、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート（ＤＮＰＡ）、２‐ヒドロキシ‐３‐フェノキシプロピルアクリレート（ＨＰＰＡ）、３‐エチル‐３‐ヒドロキシメチルオキセタン、などの（メタ）アクリル酸又はそのアルキル若しくはアリールエステル、スチレン、メチルスチレン、スチレンアクリロニトリル、ｎ‐ビニルピロリドンなどが適用できる。
【００３０】
また、本明細書においては、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸もしくはメタクリル酸を意味する。（メタ）アクリレートとは、アクリレートもしくはメタクリレートを意味し、同様の表記はこれに準ずる。
【００３１】
２官能モノマーとしては、例えば、１，６‐ヘキサンジオールアクリレート（ＨＤＤＡ）、ヘキサメチレンジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート（ＤＥＧＤＡ）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＮＰＧＤＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）、ポリエチレングリコール４００ジアクリレート（ＰＥＧ４００ＤＡ）、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート（ＨＰＮＤＡ）、ビスフェノールＡＥＯ変成ジアクリレート、１，４‐ビス［（３‐エチル‐３‐オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼンなどが適用できる。
【００３２】
多官能モノマーとしては、エチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスルトール、エポキシ樹脂等の２官能以上の化合物に（メタ）アクリル酸又はその誘導体を反応させて得られる２官能以上の（メタ）アクリロイルモノマーなどが適用でき、例えば、トリメチロールプロパンアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＰＥＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレートなどが例示できる。
【００３３】
官能オリゴマー（プレポリマーとも呼ばれる）としては、分子量（重量平均）が約３００〜５０００程度で、分子内中に（メタ）アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、またはエポキシ基などのラジカル重合性二重結合を有するポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系が適用でき、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエステル‐ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、アミノ変性トリアクリレート、脂肪酸アクリレートなどが例示できる。
【００３４】
官能ポリマーとしては、分子量（重量平均）が約１０００〜３０万程度で、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、またはエポキシ基などのラジカル重合性二重結合を有するウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル‐ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートが適用できる。
【００３５】
以上に説明した硬化性のモノマー、および／またはオリゴマー、および／またはポリマーを、電離放射線硬化性樹脂組成物１３Ａへ含有させれば良い。これらの硬化性成分を、例えば、電離放射線硬化性樹脂（前駆体）に対して、５質量％以上、好ましくは１０〜９０質量％、更に好ましくは、２０〜８０質量％含有させることによって、電離放射線硬化性が付与される。
【００３６】
また、電離放射線硬化性樹脂（前駆体）へ、少なくとも１種のモノマーを含有させ、さらに、反応性希釈剤と呼ばれるモノマーを含ませても良い。該モノマーは、（メタ）アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、またはエポキシ基などを有する１官能反応性希釈剤である。ここで、反応性希釈剤は、トルエンなどの一般的な有機溶剤とは異なり、トルエンなどの一般的な有機溶剤などの溶剤を含有していないことを意味する。通常、電離放射線硬化性樹脂組成物は粘度が高く、有機溶剤で粘度を下げるように調整しないと、塗布することができない。しかし、該モノマーを電離放射線硬化性樹脂（前駆体）へ含有させると粘度が下がり、溶剤を用いる必要がなくなり、ノンソルベント（無溶剤）で使用することができる。また、オリゴマーも、同様の効果がある。
【００３７】
さらに、モノマー、オリゴマーは重合反応の速度を向上させ、また、オリゴマー、ポリマーは、硬化後の電離放射線硬化樹脂層１３Ｂの架橋密度、凝集力などを調整することができる。このために、電離放射線硬化性樹脂（前駆体）へは、モノマー、および／またはオリゴマー、および／またはポリマーを用いることが好ましい。さらに、好ましくはそれらを併用して、適宜、配合比を変えて、用途や目的に合わせた電離放射線硬化樹脂層１３Ｂの性能とする。さらに、電離放射線硬化性樹脂（前駆体）には、必要に応じて、重合禁止剤、老化防止剤などの添加剤を加えてもよい。該電離放射線硬化樹脂層１３Ｂには、必要に応じて、可塑剤、滑剤、染料や顔料などの着色剤、増量やブロッキング防止などの体質顔料や樹脂などの充填剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤等の添加剤を、適宜加えても良い。
【００３８】
電子線照射は、電子線加速器により発生させた電子線を照射する。電子線照射装置としては、たとえば、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器などを用いて、エクレトロンカーテン方式、ビームスキャニング方式などで、電子線を照射する。好ましくは、線状のフィラメントからカーテン状に均一な電子線を照射できる装置「エレクトロカーテン」（商品名）である。電子線の照射量は、通常１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを持つ電子を、０．５〜２０Ｍｒａｄ程度の照射量で照射する。照射量が０．５Ｍｒａｄ未満の場合、未反応モノマーが残留して硬化が不十分となる恐れがあり、また、照射量が２０Ｍｒａｄを超えると、架橋密度が高くなり硬化したバインダ、若しくは基材が、損傷を受ける恐れがある。また、硬化の際の雰囲気は、酸素濃度５００ｐｐｍ以下で行われ、通常は２００ｐｐｍ程度で行うのが好ましい。
【００３９】
（光重合開始剤）紫外線照射は、電離放射線硬化性樹脂組成物に光重合開始剤、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、αーアミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類などの光重合開始剤と、必要に応じて光増感剤、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎーブチルホスフィンなどを添加する。紫外線硬化に用いる紫外線（ＵＶ）ランプは、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプが適用でき、紫外線の波長は２００〜４００ｎｍ程度で、接着剤組成物に応じて波長を選択すれば良い。その照射量は、組成物の材質や量と、ＵＶランプの出力と、加工速度に応じて照射すれば良い。
【００４０】
（大量複製法）生産に使用する大量複製法は、２Ｐ法やエンボス法が適用でき、セミドライ複製法が好適である。セミドライ複製法は、本発明の複製版材（刷版、スタンパともいう）を、円筒状の刷胴（シリンダ、エンボスローラともいう）へ巻き付けて、該複製版材を電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層２５へ圧着（所謂エンボス）して、光回折層２５の表面へ凹凸形状を賦型（形成、複製）した後に電離放射線を照射するか、又はエンボスと同時に電離放射線を照射してから、版材（スタンパ）を剥離する。商業的複製の方法として、セミドライ複製法は、複製版材（スタンパ）の基材を樹脂製とし、円筒状の刷胴（エンボスローラともいう）へ巻き付けることで、複製作業が電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層２５へ長尺で連続に行えるので、大量に安価にできる。
【００４１】
（媒体）本発明の光回折構造を有する媒体は、電離放射線硬化性樹脂からなる光回折層へ、表面が複数の峰状の凹凸形状を有し、前記峰に交差する方向の断面において、凹凸の高さの中間点を結ぶ中間線を引き、該中間線に対して隣り合う、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さい複製版材を用いて、加熱又は非加熱で加圧して賦型し、該賦型した後及び／又は賦型と同時に電離放射線で硬化させて、複数の峰状の凹凸形状を形成した光回折構造を有する媒体である。
図６は、本発明の１実施例を示す光回折構造を有する媒体の断面図である。
本発明の製造方法で形成した凹凸形状は、忠実に所望の凹凸形状が再現されており、光回折構造は輝度特性に優れ、明るく意匠性が良く、種々の形態として用いることができる。一般的な形態として、図６（Ａ）はラベル形態で、図６（Ｂ）は転写箔形態であるが、他の形態でもよい。
【００４２】
（ラベル形態）図６（Ａ）はラベル形態で、ラベル基材２１／必要に応じてプライマ層２３／光回折層（該面に光回折構造を持つ）２５／反射層２７／粘着層２９／必要に応じて剥離紙３０、の構成である。各構成の材料は公知のものが適用できる。剥離紙を剥がして露出した粘着層２９で、種々のものに貼着して使用すればよい。
【００４３】
（転写箔形態）図６（Ｂ）は転写箔形態で、転写基材３１／剥離層３３／光回折層（光回折する凹凸形状を持つ）２５／反射層２７／接着層３９、の構成である。各構成の材料は公知のものが適用できる。公知のホットスタンプ転写機、サーマルプリンタなどを用いて、種々の被転写体へ加熱加圧して転写して使用すればよい。
【００４４】
【実施例】
（実施例１）（転写箔）まず、転写基材３１として、厚さ６μｍのルミラーＦ５３（東レ社製、ポリエステルフィルム商品名）を用いた。この一方の面へ、ＳＵＺ６００（ザ・インクテック社製、紫外線硬化樹脂商品名）９８質量部とバイロン２９ＳＳ（東洋紡社製、ポリエステル樹脂商品名）２質量部を加え、これらの固形分が１５質量％になるように、溶剤で稀釈した剥離層組成物塗工液を用いて、グラビアコーティング法で、乾燥後の厚さが０．５μｍになるように塗布し乾燥して、剥離層３３を形成した。
該剥離層３３面へ、ＳＵＺ６００（ザ・インクテック社製、紫外線硬化樹脂商品名）を固形分１７質量％となるように溶剤で稀釈して、グラビアコーティング法で、乾燥後の厚さが０．５μｍになるように塗布し乾燥して、光回折層２５を形成した。
該光回折層２５面へ、複製版材（スタンパ）を加圧（エンボス）して凹凸形状を賦形する。複製版材としては、別途電子線を用いて描画したマスター回析格子からなる原版から、２Ｐ法を５回繰り返して複製した中間版材Ｃ５を複製版材Ｃ５（スタンパ）として、複製装置のエンポスローラに巻き付けて貼着し、１５０℃で相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなる凹凸形状を賦形させて光回折構造１７を形成した。
複製版材Ｃ５（スタンパ）の凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積／凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積＝０．９／１．１であった。原版は、予めこのようになるように描画しておいた。
賦形後直ちに、高圧水銀灯で波長が３００〜４００ｎｍの紫外線を照射して硬化させた。該光回折構造１７面へ、真空蒸着法で、厚さが４００ｎｍになるようにアルミニウムを蒸着して、反射層２７を形成した。該反射層２７面へ、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体が２５質量％なるように溶剤で稀釈して、グラビア印刷法で、乾燥後の厚さが２μｍになるように、全面に塗布し乾燥して、接着層３９を形成して、転写箔（光回折構造を有する媒体）を得た。
【００４５】
（比較例１）複製版材として、２Ｐ法を４回繰り返して複製した中間版材Ｃ４を複製版材Ｃ４（スタンパ）とする以外は、実施例１と同様にして、転写箔を得た。
【００４６】
（実施例２）複製版材として、２Ｐ法を７回繰り返して複製した中間版材Ｃ７を複製版材Ｃ７（スタンパ）とする以外は、実施例１と同様にして、転写箔を得た。
【００４７】
（比較例２）複製版材として、２Ｐ法を６回繰り返して複製した中間版材Ｃ６を複製版材Ｃ６（スタンパ）とする以外は、実施例１と同様にして、転写箔を得た。
【００４８】
（実施例３）複製版材として、２Ｐ法を９回繰り返して複製した中間版材Ｃ９を複製版材Ｃ９（スタンパ）とする以外は、実施例１と同様にして、転写箔を得た。
【００４９】
（比較例３）複製版材として、２Ｐ法を８回繰り返して複製した中間版材Ｃ８を複製版材Ｃ８（スタンパ）とする以外は、実施例１と同様にして、転写箔を得た。
【００５０】
（実施例４）（透明ホロラベル）ラベル基材３１として、厚さ５０μｍのルミラーＴ６０（東レ社製、ポリエステルフィルム商品名）を用いた。この一方の面へ、ウレタン樹脂を固形分１０質量％となるように溶剤で稀釈して、ロールコーティング法で、乾燥後の厚さが１μｍになるように塗布し乾燥して、プライマ層２３を形成した。該剥離層２３面へ、ユピマーＬＺ０６５（三菱化学社製、紫外線硬化樹脂商品名樹脂）を固形分２５質量％となるように溶剤で稀釈して、リバースロールコーティング法で、乾燥後の厚さが３μｍになるように塗布し乾燥して、光回折層２５を形成した。該光回折層２５面へ、複製版材（スタンパ）を加圧（エンボス）して凹凸形状を賦形する。複製版材としては、別途レーザー光を用いて作ったマスターホログラム（原版）から、２Ｐ法を５回繰り返して複製した中間版材Ｃ５を複製版材Ｃ５（スタンパ）として、複製装置のエンポスローラに貼着して、１５０℃で相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなる凹凸形状を賦形させた。
複製版材Ｃ５（スタンパ）の凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積／凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積＝０．９５／１．０５であった。原版は、予めこのようになるようにレーザー光を用いて撮影しておいた。
賦形後直ちに、高圧水銀灯で波長が３００〜４００ｎｍの紫外線を照射して硬化させた。該光回折構造１７面へ、真空蒸着法で、厚さが４００ｎｍになるように硫化亜鉛を蒸着して、反射層２７を形成した。該反射層２７面へ、粘着剤（ニッセツＰＥ−１１８＋ＣＫ１０１、日本カーバイド製）を、乾燥膜厚が２５ｇ／ｍ２になるようにロールコートで塗布し、１００℃で乾燥して溶剤を揮散させた後、剥離紙としてシリコーン処理ＰＥＴフイルム（ＳＰＯ５、東京セロファン紙社製）を貼合し、半抜きして実施例４の粘着ラベル（光回折構造を有する媒体の１例）を得た。
【００５１】
（実施例５）（転写箔）電子線を用いて描画したマスター回析格子の原版から、２Ｐ法を５回繰り返して複製した中間版材Ｃ５を複製版材Ｃ５（スタンパ）とし、該複製版材Ｃ５（スタンパ）の回析格子の凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積／凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積＝０．８：１．２とした以外は、実施例１と同様にして、転写箔を得た。なお、原版は、予めこのようになるように描画しておいた。描画法による原版は、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積／凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積の比を自由に設定できるので、特に好ましい。
【００５２】
（評価）評価は回折効率（輝度特性）で行い、その測定方法は、光源はキセノン灯、光源と評価サンプルとの距離は２５０ｍｍ、サンプルへの光源入射角を３０度、サンプル上の照度は２２０００ルクスとなるように設定した後に、輝度測定機トプコンＢＭ−７機（トプコン社製、商品名）を用い、測定機の１スポットの測定は入射光のうち立体角１度以内の入射光を測定するように設定して、サンプルと測定機との距離を６００ｍｍとし、測定角度範囲は０〜−２０度とし、各測定角での輝度を測定した。
【００５３】
実施例１〜３、比較例１〜３の転写箔を、転写基材側から単色光を照明して回折効率を測定したところ、表１に示す結果が得られた。奇数又は偶数回の複製回数ではｎ次が少ない程輝度が高く、また、実施例（奇数ｎ次の複製版材）は比較例（ｎ次が１少ない偶数ｎ次複製版材）に比べて輝度が高く、目視で観察しても明るく視認できた。
【００５４】
【表１】
2004109417.tif 000003
【００５５】
図７は本発明の実施例１〜３、比較例１〜３の輝度特性を示すグラフである。図７は、表１の出射角度−７度における輝度を示すグラフである。図７において、凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より小さい複製版材を用いた例が、輝度特性がよい。但し、全体としては右下がりなのは、２Ｐ複製による樹脂の収縮などにより、凹凸高さの絶対値の低下による影響と考える。このように、本発明の複製版材としては、複製ｎ次が少なく、奇数回複製した中間版材の選択が好ましい。また、原版は、その撮影又は描画する時に、観察側から見て凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積が、凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積より大きくする、ようにしておくことが好ましい。
【００５６】
また、実施例４は、明るい透明ホログラムを有するラベルが得られた。実施例５は、金属反射型の回折格子の転写箔で、特に明るく目視ではギラギラと輝くように観察された。さらに、実施例４の透明ホログラムラベル又は実施例５の回折格子転写箔を用いて、本発明の明るい光回折構造を種々の物品へ貼着又は転写することができる。
【００５７】
【発明の効果】
本発明の光回折構造の製造方法によれば、エンボス法による商業的な複製方法でも、複製された媒体が優れた回折効果を発揮する。円筒版胴へ複製版材を巻き付けることで、ロールツーロールの連続状で、明るさが明るく安定した回折反射光を有する回折構造が大量複製することができる。
本発明の複製版材によれば、エンボス法による商業的な複製方法でも、明るさが明るく安定した回折反射光を有する回折構造が大量複製することができる。
本発明の光回折構造を有する媒体によれば、最終製品となる媒体へ所望した凹凸形状が賦型されて、照明光の対応する凹凸形状からの回折反射光が増して明るく観察される。所望の凹凸形状は、正弦波、矩形波、ブレーズ波などでもよく、限定はされない。峰は畝状でも独立峰でもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】原版から次々と中間版材を作り、中間版材を複製版材として大量複製する状況の説明図である。
【図２】２Ｐ法を説明する概念図である。
【図３】本発明の製造方法で使用する複製版材の断面図である。
【図４】複製版材の凹凸形状を説明する断面図である。
【図５】図４の複製版材でエンボス複製した光回折構造の断面図である。
【図６】本発明の１実施例を示す光回折構造を有する媒体の断面図である。
【図７】本発明の実施例１〜３、比較例１〜３の輝度特性を示すグラフである。
【符号の説明】
１０　複製版材
１１　原版
１３Ａ　電離放射線硬化性樹脂
１３Ｂ　電離放射線硬化樹脂
１５　複製版材基材
１７　光回折構造
１９、２３　プライマー層
２１　ラベル基材
２５　光回折層
２７　反射層
２９　粘着層
３０　剥離紙
３１　転写基材
３３　剥離層
３９　接着層
１０３Ａ、１０３Ｂ、１０３Ｃ　凹部輪郭線と中間線で囲まれた面積
１０５Ａ、１０５Ｂ、１０５Ｃ　凸部輪郭線と中間線で囲まれた面積
１１１　複製版材（等凹凸）
１１３　複製版材（凸大）
１１５　複製版材（凸小）
１２１　光回折構造（凸小）
１２３　光回折構造（凸極小）
１２５　光回折構造（等凹凸）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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