(57)【要約】【課題】透明有機発光ダイオードの両面表示構造及びその製造方法の提供。【解決手段】透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造を利用して両面が透明な有機発光ダイオードが形成され、この透明有機発光ダイオードが、基板（６）と、該基板（６）の上に設けられたＩＴＯ層と、該ＩＴＯ層の上に設けられた透明カソード構造と、を具え、該透明有機発光ダイオードの有機層（１）が発光する時、有機発光ダイオードのアノード及びカソードがいずれも光を発生して外部に投射し、両面で表示できるディスプレイを形成することを特徴としている。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、
透明カソード構造を利用して両面が透明な有機発光ダイオードが形成され、この透明有機発光ダイオードが、
基板（６）と、
該基板（６）の上に設けられたＩＴＯ層と、
該ＩＴＯ層の上に設けられた透明カソード構造と、
を具え、該透明有機発光ダイオードの有機層（１）が発光する時、有機発光ダイオードのアノード及びカソードがいずれも光を発生して外部に投射し、両面で表示できるディスプレイを形成することを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項２】
請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、基板（６）が透明ガラスで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項３】
請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造が、有機発光ダイオードの有機層（１）、有機保護層（２）、電子注入層（３）、薄い金属膜（４）及び透明導電膜（５）で組成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項４】
請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、有機発光ダイオードの有機層（１）が少なくとも正孔輸送層、発光層、電子輸送層を具えたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項５】
請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、有機保護層（２）がＣｕＰｃ，ＢＣＰ或いはＰＴＣＤＡのいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項６】
請求項５に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、有機保護層（２）の厚さが数１０ｎｍから数百ｎｍ間で制御されうることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項７】
請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、電子注入層（３）が、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項８】
請求項７に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、電子注入層（３）の厚さが０．１ｎｍから数ｎｍ間で制御されうることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項９】
請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、薄い金属膜（４）が、アルミニウム（Ａｌ）、インジウム（Ｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、銀（Ａｇ）、マンガン（Ｍｎ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、金（Ａｕ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項１０】
請求項９に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、薄い金属膜（４）の厚さが数ｎｍに制御されうることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項１１】
請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明導電膜（５）が、ＩＴＯ、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項１２】
請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造の外周が透明封止カバーで封止されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項１３】
請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造がパッシブタイプ或いはアクティブタイプ有機発光ディスプレイに応用可能とされ、アモルファスシリコン薄膜トランジスタのガラス基板上に有機発光ダイオード装置を形成する時、或いはアクティブタイプ有機発光ディスプレイ中の有機発光ダイオード装置をカソード面より光を発射させる設計に用いる時に、この透明カソード構造を使用する必要があることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【請求項１４】
透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造を利用して両面が透明な有機発光ダイオードが形成され、この透明カソード構造が、
ａ）有機発光ダイオード装置に対して蒸着により有機層（１）を形成する工程と、
ｂ）有機発光ダイオード装置の有機層（１）完成後に、直接一層の有機保護層（２）を形成し、この有機保護層（２）により後続の有機発光ダイオード装置をのＩＴＯスパッタ時に、各有機層（１）が電子衝撃により損壊するのを防止する工程と、
ｃ）上述の有機保護層（２）の形成後に、この有機保護層（２）の上に一層の電子注入層（３）と、これとエネルギーレベルがマッチする薄い金属膜（４）を形成する工程と、
ｄ）上述の電子注入層（３）と薄い金属膜（４）の形成完成後に、さらに一層のこの薄い金属膜（４）の伝導を増加し腐蝕を防止する透明導電膜（５）を形成する工程と、
により形成されることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一種の透明有機発光ダイオードの両面表示構造及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は真空スパッタ方法により有機と金属物の膜を基板上のスパッタして形成され、伝統的な有機発光ダイオードは片面発光であり、携帯電話、携帯情報端末、ディジタルカメラ等に使用されていた。最近の有機発光ダイオードの発展はフィルムを投影するディスプレイに類似し、不使用時にはロールスクリーンのように巻き上げれるものや、或いは透明の有機発光ダイオードが自動車のウインドシールドガラス或いはミラーに設けられて、ウインドシールド上で地図を探せるようにしたものがある。有機発光ダイオードが透明カソード構造を必要とする要求を満足するため、透明カソード構造を開発して両面発光の有機発光ダイオード装置を形成する必要がある。
【０００３】
周知のとおり、現在の透明カソード技術は二種類に分けられ、第１種は電子輸送層（例えばＡｌｑ）の上に直接複数層の、薄い（数ミリ）の金属膜と無機膜を形成する技術である（例えば特許文献１参照。）。その透明カソード構造は、低仕事関数金属を具え、低仕事関数金属は比較的広いバンドギャップの半導体層で被覆された有機発光ダイオードの電子輸送層ＥＴＬと直接接触する。カルシウムが最も好ましい金属であり、なぜならカルシウムは比較的高い光学透光率を有し、それは有機材料のために良好な電子注入コンタクト（ｇｏｏｄ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｉｎｆｅｃｔｉｏｎ  ｃｏｎｔａｃｔ）を形成できることが証明されている。しかし、この透明カソード構造は、Ａｌｑの上にＣａ（５ｎｍ）／ＺｎＳｅ（２０ｎｍ）／Ａｌ（５ｎｍ）の各層を形成すると、却って電子輸送層により効率アップすることができず、光が各層の材料を通過した後、透光率が高くなくなり、装置の発光輝度を下げ、最外層のＡｌはまた湿気による腐蝕現象を発生しやすく装置を劣化させた。
【０００４】
もう一種類の透明カソード構造技術は、電子輸送層（例えばＡｌｑ）の上に有機保護層（例えばＢＣＰ，ＣｕＰｃ）を形成し、さらに透明導電膜ＩＴＯを形成する技術である（例えば特許文献２参照。）。このような有機発光ダイオード表示パネルの高度透明非金属カソードは、ＣｕＰｃ薄膜で低仕事関数、交流周波数のスパッタ式ＩＴＯ薄膜の上を被覆する。透明カソード構造はＡｌｑの薄い金属膜（４）にＣｕＰｃ／ＩＴＯの二層が形成され、その欠点は、電子がカソードＩＴＯより有機保護層ＣｕＰｃに至る時に必ず非常に大きなエネルギーレベルの差約１．２ｅＶを通過しなければならず、このために電子輸送が順調でなくなることであり、これは図１に示されるとおりである。
【０００５】
【特許文献１】
米国特許第５，７３９，５４５号明細書
【特許文献２】
米国特許第６，４２０，０３１  Ｂ１号明細書
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の主要な目的は、上述の従来の技術の欠点を解決し、欠点の存在を無くすことにあり、すなわち、本発明は透明カソード構造を伝統的な不透明カソード構造の代わりに用いて両面が透明の有機発光ダイオードを形成し、透明な有機発光ダイオード装置が発光する時に、光が装置の両面（アノードとカソード）より発射され、両面発光を形成するディスプレイを形成する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、
透明カソード構造を利用して両面が透明な有機発光ダイオードが形成され、この透明有機発光ダイオードが、
基板（６）と、
該基板（６）の上に設けられたＩＴＯ層と、
該ＩＴＯ層の上に設けられた透明カソード構造と、
を具え、該透明有機発光ダイオードの有機層（１）が発光する時、有機発光ダイオードのアノード及びカソードがいずれも光を発生して外部に投射し、両面で表示できるディスプレイを形成することを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項２の発明は、請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、基板（６）が透明ガラスで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項３の発明は、請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造が、有機発光ダイオードの有機層（１）、有機保護層（２）、電子注入層（３）、薄い金属膜（４）及び透明導電膜（５）で組成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項４の発明は、請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、有機発光ダイオードの有機層（１）が少なくとも正孔輸送層、発光層、電子輸送層を具えたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項５の発明は、請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、有機保護層（２）がＣｕＰｃ，ＢＣＰ或いはＰＴＣＤＡのいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項６の発明は、請求項５に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、有機保護層（２）の厚さが数１０ｎｍから数百ｎｍ間で制御されうることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項７の発明は、請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、電子注入層（３）が、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項８の発明は、請求項７に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、電子注入層（３）の厚さが０．１ｎｍから数ｎｍ間で制御されうることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項９の発明は、請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、薄い金属膜（４）が、アルミニウム（Ａｌ）、インジウム（Ｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、銀（Ａｇ）、マンガン（Ｍｎ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、金（Ａｕ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項１０の発明は、請求項９に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、薄い金属膜（４）の厚さが数ｎｍに制御されうることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項１１の発明は、請求項３に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明導電膜（５）が、ＩＴＯ、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項１２の発明は、請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造の外周が透明封止カバーで封止されたことを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項１３の発明は、請求項１に記載の透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造がパッシブタイプ或いはアクティブタイプ有機発光ディスプレイに応用可能とされ、アモルファスシリコン薄膜トランジスタのガラス基板上に有機発光ダイオード装置を形成する時、或いはアクティブタイプ有機発光ディスプレイ中の有機発光ダイオード装置をカソード面より光を発射させる設計に用いる時に、この透明カソード構造を使用する必要があることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
請求項１４の発明は、透明有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造を利用して両面が透明な有機発光ダイオードが形成され、この透明カソード構造が、
ａ）有機発光ダイオード装置に対して蒸着により有機層（１）を形成する工程と、
ｂ）有機発光ダイオード装置の有機層（１）完成後に、直接一層の有機保護層（２）を形成し、この有機保護層（２）により後続の有機発光ダイオード装置をのＩＴＯスパッタ時に、各有機層（１）が電子衝撃により損壊するのを防止する工程と、
ｃ）上述の有機保護層（２）の形成後に、この有機保護層（２）の上に一層の電子注入層（３）と、これとエネルギーレベルがマッチする薄い金属膜（４）を形成する工程と、
ｄ）上述の電子注入層（３）と薄い金属膜（４）の形成完成後に、さらに一層のこの薄い金属膜（４）の伝導を増加し腐蝕を防止する透明導電膜（５）を形成する工程と、
により形成されることを特徴とする、透明有機発光ダイオードの両面表示構造としている。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の透明カソード構造の製造には、有機保護層／電子輸送層／薄い金属膜／透明導電膜の構造が採用され、該有機保護層の作用は有機発光ダイオード装置に後にＩＴＯスパッタを行う時に各有機層が直接電子衝撃による損害を受けるのを防止することにあり、電子注入層とエネルギーレベルのマッチする薄い金属膜が電子の注入効率を高め、透明導電膜は電極の伝導を増加しその他の薄膜が腐蝕されるのを防止し、この透明カソードＩＴＯが電子注入層ＬｉＦ／Ａｌに伝送する時、ただエネルギーレベルの差約０．５ｅＶだけを跨げばよく、電子伝送が比較的順調に行われ、装置の発光効率を高めることができる。
【０００９】
【実施例】
図２に示されるのは、本発明の透明有機発光ダイオードの構造である。図示されるように、本発明の有機発光ダイオードの両面表示構造において、透明カソード構造を伝統的な不透明カソード構造の代わりに利用して、両面透明有機発光ダイオードを製作し、透明有機発光ダイオード装置が発光する時、光は装置の両面（アノードとカソード）より発射され、両面発光のディスプレイを形成する。
【００１０】
透明カソード構造は有機層と金属透明層の結合で形成され、これにより透明カソード構造製作時には光線の透明性と、このカソード構造の全体装置の発光特性への影響を考慮する必要がある。これにより本発明では有機発光ダイオードに有機保護層、電子注入層、薄い金属膜及び透明導電膜を形成することにより透明カソード構造を形成している。
【００１１】
上述の透明カソード構造を製作時には、まず有機発光ダイオード装置に蒸着作業を行い、この蒸着作業完成後に、有機発光ダイオード装置において有機層（１）を形成し、この有機層（１）は、これに限定される訳ではないが、少なくとも正孔輸送層、発光層、電子輸送層を具え、こうして有機発光ダイオードの各有機層が形成される。
【００１２】
上述の有機発光ダイオード装置の有機層（１）の完成後に、直接有機層（１）の上に有機保護層（２）が形成され、この有機保護層（２）の厚さは数十ｎｍから数百ｎｍに制御可能で、有機保護層（２）は後に有機発光ダイオード装置にＩＴＯ層スパッタ時に、各有機層の電子衝撃による損壊を防止する。この有機保護層（２）の材料として選択可能なものとしてＣｕＰｃ、ＢＣＰ（ブロムクレゾ−ルパ−プル）或いはＰＴＣＤＡ（ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボキシリックジアンドハイドライド）があるが、これに限定されるわけではない。
【００１３】
また、上述の有機保護層（２）形成後に、この有機保護層（２）の上にさらに電子注入層（３）と、これとエネルギーレベルがマッチする薄い金属膜（４）を形成する。前述の電子注入層（３）の材料として選択できるものに、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）があるが、これに限定されるわけではない、この電子注入層（３）の厚さは０．１ｎｍから数ｎｍに制御される。前述の薄い金属膜（４）の材料として選択できるのに、アルミニウム（Ａｌ）、インジウム（Ｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、銀（Ａｇ）、マンガン（Ｍｎ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、金（Ａｕ）があるが、これに限定されるわけではない。この薄い金属膜（４）の厚さは数ｎｍに制御される。
【００１４】
また、上述の電子注入層（３）及び薄い金属膜（４）の形成後、さらにこの薄い金属膜（４）の伝導性を高め腐蝕から保護する透明導電膜（５）が形成される。この透明導電膜（５）の材料として選択できるものに、ＩＴＯ、ＩＴＺがある。以上の製造方法により透明カソード構造が完成する。
【００１５】
上述の製造方法により有機発光ダイオードの透明カソード構造を完成することにより両面発光の透明有機発光ダイオードを実現する。それは、ガラスで組成された基板（６）を具え、該基板（６）の上にＩＴＯ層（７）が形成され、該ＩＴＯ層（７）の上に有機層（１）が設けられ、有機層（１）の上に順に有機保護層（２）、電子注入層（３）、薄い金属膜（４）及び透明導電膜（５）が形成され、更に外周が透明封止カバー（８）で封止されている。
【００１６】
この透明有機発光ダイオードの有機層（１）が発光する時、有機発光ダイオードのアノードの発生する光はＩＴＯ層（７）と透明ガラス基板（６）を透過して外部に投射され、カソードの発生する光は有機保護層（２）、電子注入層（３）、薄い金属膜（４）及び透明導電膜（５）を透過して外部に投射され、こうして両面表示できるディスプレイを形成する。
【００１７】
図３、４は本発明の輝度と電圧関係及び発光効率と電流密度表示図である。図示されるように、本発明の透明カソード構造を上述の有機保護層（２）、電子注入層（３）、薄い金属膜（４）及び透明導電膜（５）で組成するほか、数種類の組合せ方式で形成して実験を行い、本発明の提出する透明カソード構造が実施可能な発明であることを証明した。構造１は、ＣｕＰｃ／ＮＰＢ／Ａｌｑ＋Ｃ５４５Ｔ／Ａｌｑ／ＢＣＰ／ＩＴＯの構造とし、構造２はＣｕＰｃ／ＮＰＢ／Ａｌｑ＋Ｃ５４５Ｔ／Ａｌｑ／ＢＣＰ／ＬｉＦ／Ａｌ／ＩＴＯの構造とし、構造３はＣｕＰｃ／ＮＰＢ／Ａｌｑ＋Ｃ５４５Ｔ／Ａｌｑ／ＬｉＦ／Ａｌ／ＩＴＯの構造とした。図３の輝度と電圧関係表示図中、装置構造２は有機保護層ＢＣＰの発光輝度が構造３の有機保護層を具備しないものより高く、有機保護層により各層を保護してＩＴＯスパッタ時に直接電子衝撃を受けて損壊するのを防止できる。
【００１８】
また、構造２の電子注入層と薄い金属膜を具えたものの発光輝度は、構造１の、電子注入層と薄い金属膜を具備しないものの発光輝度より高い。同様に図４の発光効率と電流密度表示図中より、構造２の有機保護層ＢＣＰを具えたものの発光効率は構造１、構造３の発光効率より高いことが分かる。
【００１９】
これから分かるように、図５に示されるとおり、本発明の透明カソード構造は、有機保護層／電子注入層／薄い金属膜／透明導電膜の構造設計を採用している。そのうち、有機保護層（ＣｕＰｃ或いはＢＣＰ或いはＰＴＣＤＡ）の作用は装置の後続のＩＴＯスパッタ時に、各有機層が直接電子衝撃を受けて損壊するのを防止することにある。電子注入層（例えばＬｉＦ、Ｒｂ、Ｃｓ）はエネルギーレベルのマッチする薄い金属膜（例えばＡｌ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ａｕ）は電子の注入効率を高めることができ、透明導電膜（例えばＩＴＯ、ＩＴＺ）は電極の伝導を増加しその他の薄膜を保護して腐蝕を防止し、この透明カソードＩＴＯが電子注入層ＬｉＦ／Ａｌに伝送する時にはただエネルギーレベルの差約０．５ｅＶを跨げばよく、これにより電子伝送が比較的順調に行え、装置の発光効率を高めることができる。
【００２０】
【発明の効果】
本発明の有機保護層／電子注入層／薄い金属膜／透明導電膜の透明カソード構造の設計は以下の長所を有している。
１．有機保護層が後続ＩＴＯスパッタ時に直接電子衝撃による損害を免除し、装置の発光効率と装置の使用寿命を増進する。
２．電子注入層／薄い金属膜により電子注入の効率を増加でき、装置の発光効率を高められる。
３．透明導電膜により電極抵抗を減らせると共に、各層の腐蝕の状況を減らすことができる。
４．透明カソード構造のエネルギーレベル設計により、電子のカソードからアノードへの伝送過程が順調である。
【００２１】
さらに、本発明はパッシブタイプとアクティブタイプの有機発光ディスプレイに応用でき、例えばアモルファスシリコンＴＦＴのガラス基板上に有機発光ダイオード装置を形成するか、或いはアクティブタイプ有機発光ディスプレイ中の有機発光ダイオード装置が光をカソード面より発生させる設計を必要とする時、この透明カソード構造を利用することができ、これによりＴＦＴ開口率の問題を心配する必要がなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】周知の電子エネルギーレベル伝送表示図である。
【図２】本発明の透明有機発光ダイオードの構造表示図である。
【図３】本発明の輝度と電圧の関係表示図である。
【図４】本発明の発光効率と電流密度の表示図である。
【図５】本発明の電子エネルギーレベル伝送表示図である。
【符号の説明】
（１）有機層
（２）有機保護層
（３）電子注入層
（４）薄い金属膜
（５）透明導電膜
（６）基板
（７）ＩＴＯ層
（８）透明封止カバー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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