(57)【要約】【課題】高密度記録が可能で、高い記録特性を有する光情報記録媒体および光情報記録方法を提供する。【解決手段】基板上に記録層が形成され、前記基板の反対側からレーザ光を照射することで、情報の記録再生を行う光情報記録媒体であって、前記レーザ光の波長が、３５０〜５００ｎｍであり、前記基板の複屈折が、１００〜１０００ｎｍであることを特徴とする光情報記録媒体である。前記記録層は色素を含有していることが好ましい。また、基板の複屈折が１００〜１０００ｎｍである光情報記録媒体の前記基板とは反対側から、波長３５０〜５００ｎｍのレーザ光を照射して情報を記録することを特徴とする光情報記録方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に記録層が形成され、前記基板の反対側からレーザ光を照射することで、情報の記録再生を行う光情報記録媒体であって、
前記レーザ光の波長が、３５０〜５００ｎｍであり、
前記基板の複屈折が、１００〜１０００ｎｍであることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記記録層が色素を含有することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
基板の複屈折が１００〜１０００ｎｍである光情報記録媒体の前記基板とは反対側から、波長３５０〜５００ｎｍのレーザ光を照射して情報を記録することを特徴とする光情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光情報記録媒体に関し、特に、ヒートモードによる追記型の光情報記録媒体および該光情報記録媒体に情報を記録する光情報記録方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、記録密度のより高い光情報記録媒体として、追記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光情報記録媒体が知られている。
このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光をトラッキングするための案内溝（グルーブ）がＣＤ−Ｒの半分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有する記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層したディスク２枚を、記録層を内側にして貼り合わせた構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生は、可視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの波長のレーザ光）を照射することにより行われており、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００３】
一方、最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も開始されるようになった。
このような状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することが可能で、より大容量を有する記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このため、ＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長の光で高密度の記録を行なうことが可能で、より大容量の記録媒体の開発が進められている。
【０００４】
例えば、有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射することにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が開示されている（例えば、特許文献１〜６参照）。
これらの方法では、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を備えた光情報記録媒体に、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）または青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録および再生を行っている。
【０００５】
しかしながら、本発明者の検討によれば、上記公報に記載された光情報記録媒体では、波長５００ｎｍ以下の短波長レーザ光の照射により情報を記録する場合には、実用上必要とされる感度を得ることができなかった。また、反射率や変調度等の他の記録特性も満足できるレベルではなく、さらに改良を要することが判明した。特に、上記公報に記載された光情報記録媒体では、上記レーザ光を照射した場合に記録特性の低下が確認された。
【０００６】
ところで、一般的に、従来の光情報記録媒体用の基板は、信号特性（Ｃ／Ｎ）の劣下を防ぐの観点から、複屈折の大きさを１００ｎｍ未満としていた。しかし、既述の短波長のレーザ光により情報を記録再生する光情報記録媒体では、レーザ光は、基板とは反対側から入射されるため、必ずしも当該複屈折が問題となることはない。
【０００７】
【特許文献１】
特開２０００−４３４２３号公報
【特許文献２】
特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献３】
特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献４】
特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献５】
特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献６】
特開２０００−２２８０２８号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
以上から、本発明は、下記目的を達成することを課題とする。すなわち、高密度記録が可能で、高い記録特性を有する光情報記録媒体および光情報記録方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者は、基板の複屈折の大きさを制御することで、ピット形状を明瞭にすることが可能となり、レーザ光の波長を短くした場合に見られる記録特性の低下を防ぐことを可能とした。
すなわち、本発明の光情報記録媒体は、基板上に記録層が形成され、前記基板の反対側からレーザ光を照射することで、情報の記録再生を行う光情報記録媒体であって、前記レーザ光の波長が、３５０〜５００ｎｍであり、前記基板の複屈折が、１００〜１０００ｎｍであることを特徴とする。
前記記録層は色素を含有することが好ましい。
また、本発明の光情報記録方法は、基板の複屈折が１００〜１０００ｎｍである光情報記録媒体の前記基板とは反対側から、波長３５０〜５００ｎｍのレーザ光を照射して情報を記録することを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に記録層が形成されていれば特に限定されないが、例えば、基板上に、少なくとも光反射層、記録層、透明シートが順次形成された構成を有することが好ましい。前記透明シートは、粘着剤または接着剤を介して記録層上に形成されていることが好ましい。
以下、上記光情報記録媒体の具体例として、本発明の光情報記録媒体について説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１１】
（基板）
基板としては、その複屈折の大きさが１００〜１０００ｎｍとなっていれば、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
【００１２】
基板に複屈折が存在する場合とは、言い換えると、基板中に応力（歪み）が存在する状態をいう。そして、この応力がある状態でレーザ光を照射して情報の記録を行うと、照射箇所の温度が上昇（３００〜４００℃程度）し、応力による歪みが開放される。一方、レーザ光が照射されない箇所は、温度が上昇しないため基板中に歪みは残ったままとなる。この歪みの有無により記録時の物理的変化の違いに影響が現れ、コントラストが上がり、ピット形状が明瞭となり、最終的にジッタが良化して記録特性が向上するものと推察される。
【００１３】
かかる観点から基板の複屈折が１００ｎｍ未満だと、既述の歪みの有無による違いが充分に大きくなく、その結果、ピット形状の明瞭化が図れずに記録特性を向上させることが不可能となる。また、複屈折が１０００ｎｍを超えると、内在する物理的な歪みが大きくなりすぎて、これが反り等の機械特性の初期および経時での悪化につながってしまう。
【００１４】
ジッタをより良化して記録特性を向上させる観点から、複屈折は上記範囲（１００〜１０００ｎｍ）内で、１２０ｎｍ以上とすることが好ましく、１５０ｎｍ以上とすることがより好ましい。また、反りの発生等を防ぐ観点から、複屈折は、上記範囲内で、５００ｎｍ以下とすることが好ましく、３５０ｎｍ以下とすることがより好ましく、３００ｎｍ以下とすることがさらに好ましい。
【００１５】
基板に所定の複屈折、すなわち、応力を付与するには、射出成形時の樹脂温度、金型温度、射出速度、圧力プロファイル、スプルー温調、保圧のいずれか１以上を適宜調整すればよい。
例えば、射出成型時の樹脂温度もしくは金型温度を調整する場合は、基板材料にもよるが、樹脂温度：３００〜４００℃、金型温度：１００〜１５０℃、と通常の樹脂温度もしくは金型温度より低く設定することが好ましい。温度を低く設定することで、樹脂の粘性が低下し基板中に歪が残って、所望の複屈折を付与することができる。
その他、射出成型時の樹脂温度および金型温度は通常の温度とし、その後の冷却時に加える圧力（保圧）を大きくすることで、基板に歪を与えて、所望の複屈折を付与することもできる。
【００１６】
また、複屈折は、円偏光回転検光子方式（光源：Ｈｅ−Ｎｅレーザ６３２．８ｎｍ）により、少なくとも、記録層形成領域における基板の任意の箇所を少なくとも１点測定して求める。また、複数箇所測定する場合は、それらの平均を算出して求める。測定装置としては、例えば、Ｂ−４ＤＬＴ（東菱アット（株）社製）を使用することができる。
【００１７】
基板材料の具体例としては、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さ（記録層が形成される領域の平均の厚さ）は、１．１±０．３ｍｍの範囲とすることが好ましい。
【００１８】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（オングルーブおよびイングルーブ、以下、単に「グルーブ」ということがある）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いる。グルーブのトラックピッチは、３００〜３６０ｎｍの範囲にとすることが好ましい。より好ましくは、３１０〜３４０ｎｍの範囲とする。
また、グルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜５０ｎｍの範囲とすることが好ましい。２０ｎｍ未満では、トラッキングエラー信号が小さくなってトラッキングがかかりにくくなることがある。５０ｎｍを超えると、成形が困難となることがある。より好ましくは、２５〜４０ｎｍである。
【００１９】
溝幅（オングルーブの幅）は、５０〜１４０ｎｍの範囲とすることが好ましい。５０ｎｍ未満では、トラッキングエラーが低下してしまうことがあり、トラッキングがかかりにくくなる。１４０ｎｍを超えると、ジッターが増加してしまうことがある。より好ましくは、７０〜１３０ｎｍの範囲とし、さらに好ましくは、９０〜１２０ｎｍとする。
オングルーブの溝傾斜角度は、２０〜８０°の範囲とすることが好ましく、３０〜７０°の範囲とすることがより好ましい。
【００２０】
ここで、オングルーブの形状を表す概略断面図を図１に示す。この図において定義されるように、グルーブの溝深さ（オングルーブの高さ）Ｄは、溝形成前の基板表面から溝の最も深い箇所までの距離であり、グルーブの溝幅Ｗは、Ｄ／２の深さでの溝の幅であり、グルーブの溝傾斜角度θは、溝形成前の基板表面からＤ／１０の深さの傾斜部と溝の最も深い箇所からＤ／１０の高さの傾斜部とを結ぶ直線と基板面とが成す角度である。これらの値はＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定することができる。
【００２１】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００２２】
（光反射層）
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【００２３】
光反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００２４】
（記録層）
記録層は、基板もしくは光反射層上に形成され、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能な層であれば相変化型、色素型のいずれでもよいが、明瞭なピットを形成することを考慮すると、色素型であることが好ましい。色素型とする場合、当該記録層に含有される色素（記録物質）としては、相変化金属化合物および有機化合物のいずれでもよい。
前記有機化合物の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
【００２５】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
さらに、記録物質は色素には限定されず、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
【００２６】
記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に形成された光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００２７】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２８】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００２９】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００３０】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００３１】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００３２】
（バリア層）
バリア層は、上記記録層と後述する透明シートとの間に形成される任意の層である。かかる層を形成することで、記録層への水分や有機成分の拡散を防ぐことができる。
バリア層を構成する材料としては、レーザー光を透過する材料であれば、特に制限はないが、誘電体であることが好ましく、より具体的には、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＧｅＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、Ｇｅ３Ｎ４、ＭｇＦ２、等の無機酸化物、窒化物、硫化物が挙げられ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、またはＳｉＯ２が好ましい。バリア層は、スパッタリング、イオンプレーティング等により形成すること可能で、その厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましい。
【００３３】
（透明シート）
透明シートは、光情報記録媒体内部を衝撃などから防ぐために形成され、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００３４】
透明シートは、例えば以下のようにして設けることができる。光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度でバリア層上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成される。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好ましい。透明シートの厚さは、０．０１〜０．２ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１ｍｍの範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲である。
なお、透明シートとして、ポリカーボネートシート等を使用することもできる。また、透明シートの代わりに、紫外線硬化樹脂等からなる樹脂層を形成してもよい。
【００３５】
粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好ましく、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。
ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ２以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ２以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。
なお、透明シートの貼り合わせ面に粘着剤が付与されている場合は、上記接着剤は必要ない。
【００３６】
次に、本発明の光情報記録媒体への情報の記録方法および記録した情報の再生方法について説明する。
光情報記録媒体への情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を定線速度にて回転させながら、透明シート側（基板の反対側）から記録用の３５０〜５００ｎｍ（好ましくは、４００〜４４０ｎｍ）のレーザ光を照射する。このレーザ光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性が変化する。この光学的特性の変化により、情報が記録される。
【００３７】
３５０〜５００ｎｍの発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約４３０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズの開口率（ＮＡ）は０．７以上が好ましく、０．８０以上がより好ましい。
【００３８】
一方、記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら、情報の記録に使用したレーザと同一波長もしくはそれ以下の波長のレーザ光を透明シート側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００３９】
【実施例】
本発明を以下の実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４０】
（実施例１）
射出成形により、所定のグルーブを有するポリカーボネート樹脂製の基板を作製した。射出成形時の金型の温度は、１２０℃として成型された基板の複屈折を１７０ｎｍとした。また、作製された基板は、厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍで、グルーブの溝深さ（オングルーブの高さ）は３４ｎｍ、幅（オングルーブの幅）は１０５ｎｍ、トラックピッチは３２０ｎｍとした。また、ＡＦＭで測定した溝の傾斜角度は５７°であった。
なお、基板の複屈折測定は、Ｂ−４ＤＬＴ（東菱アット（株）社製）を使用し、円偏光回転検光子方式（光源：Ｈｅ−Ｎｅレーザ６３２．８ｎｍ）により、行った。測定箇所は、基板の中心から４０ｍｍの位置とした（以下の実施例および比較例も同様）。
【００４１】
基板のグルーブを有する面上に、Ａｒ雰囲気中、ＤＣスパッタリング（Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅ）によりＡｇ−Ｐｔ−Ｃｕ（Ａｇ／Ｐｔ／Ｃｕ＝９８／１／１（原子比））からなる反射層（厚さ１００ｎｍ）を形成した。なお、膜厚の調整はスパッタリング時間によって行った。
【００４２】
下記化学式で表わされる２ｇの色素を２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で光反射層上に塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間保存して、記録層（溝内（イングルーブ部）での厚さ：１２０ｎｍ、ランド部（オングルーブ部）での厚さ：９０ｎｍ）を形成した。
【００４３】
【化１】
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【００４４】
記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで支持しながら、８０℃で１時間保持して行った。
【００４５】
その後、記録層上に、ＲＦスパッタリングによりＺｎＳ／ＳｉＯ２（ＺｎＳ：ＳｉＯ２＝８：２（質量比））からなるバリア層（厚さ５ｎｍ）を形成した。バリア層の形成条件は下記の通りとした。
パワー・・・４ｋＷ、
圧力・・・２×１０−２ｈＰａ、
時間・・・２秒間
【００４６】
貼り合わせ面に粘着剤が付与されたポリカーボネート製の透明シートを、バリア層上に貼り合わせて光情報記録媒体を作製した。
作製した光情報記録媒体透明シート（透明シート）と粘着剤からなる層との厚さの合計は概略１００μｍであった。
【００４７】
（実施例２）
射出成形時の金型の温度を、１１０℃として成型された基板の複屈折を２８０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００４８】
（実施例３）
射出成形時の金型の温度を、１２３℃として成型された基板の複屈折を１１０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００４９】
（比較例１）
射出成形時の金型の温度を、１２７℃として成型された基板の複屈折を６０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００５０】
（比較例２）
射出成形時の金型の温度を、１３０℃として成型された基板の複屈折を３０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００５１】
実施例１〜３および比較例１、２で作製した光情報記録媒体の記録再生特性を評価するため、ジッタの測定を行った。結果を下記表１に示す。
なお、ジッタ測定における記録再生には、ＤＤＵ１０００（パルステック工業社製、ＮＡ：０．８５、波長：４０３ｎｍ）を使用し、信号には、ＭＳＧ２（パルステック工業社製）を使用した。また、クロック周波数は６６ＭＨｚ、線速度は５．５ｍ／ｓ、記録パワーは５．９ｍＷ、再生パワーは０．４ｍＷとした。
【００５２】
【表１】
2004220694.tif 000003
【００５３】
実施例１〜３では、いずれの比較例よりもジッタの値が良好であった。これは、基板の複屈折を所望の範囲内としたため、ピットの形状が明瞭となり、ジッタが良化したものと考えられる。
【００５４】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、高密度記録が可能で、高い記録特性（良好なジッタ特性）を有する光情報記録媒体および光情報記録方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】基板の溝形状を説明する部分断面図である。
【符号の説明】
Ｄ…溝深さ
Ｗ…溝幅
θ…溝傾斜角度
【図１】
2004220694.tif 000004