(57)【要約】【課題】搬送、表裏反転時にワーク落下や破損、割れ欠け等を発生させることなく確実にワークを反転させることができ、メカニカル部品を最小限に抑えてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図り、かつ静電気によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することができるワーク搬送装置を提供する。【解決手段】上下一対の第１及び第２搬送ステージ１４，１５間でガスの噴出と吸引との同時動作により浮上させたワークＷの周囲を複数の昇降ピン１６により保持した状態で、各搬送ステージを上下反転させ、上側の第１搬送ステージの各昇降ピンの下降に伴って該第１搬送ステージ上から下側の第２搬送ステージ上にワークをガスの噴出と吸引との同時動作により浮上させた状態で受け渡す。【選択図】      図６
2004284698.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージが互いに上下方向に対向して配置され、
上記一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージ上には、ワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンが設けられており、
上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を備えていて、
上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージでの上記各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようになされていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項２】
流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する搬送ステージがワークの搬送方向に互いに対向するように配置され、
上記各搬送ステージ上には、ワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンが設けられているとともに、この各昇降ピンのうちのワーク搬送方向上流側の搬送ステージのワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージのワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピンは、他の昇降ピンとは別個に昇降動作するように制御されており、
上記ワーク搬送方向上流側の搬送ステージを上下反転方向に１８０度未満の傾斜角度まで回転させる第１回転機構と、この第１回転機構により回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージに対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度までワーク搬送方向下流側の搬送ステージを回転させる第２回転機構とを備えていて、
上記第１回転機構により上下反転方向に回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよび上記第２回転機構により回転されたワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを自重により滑らせて受け渡すようになされていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のワーク搬送装置において、各昇降ピンは、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材または防振材により被覆されていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項４】
流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージが互いに上下方向に対向して配置され、
この一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージに対しワークを流体の吸引により吸着させた状態で、上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を備えていて、
上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージでの流体の吸引解除に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようになされていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１つに記載のワーク搬送装置において、
各搬送ステージは、上下方向および左右方向に移動可能に支持されていることを特徴とするワーク搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体、液晶表示素子やＥＬやＰＤＰをはじめとするフラットパネルディスプレイや、太陽電池パネル等を製造する際にガラス基板や半導体ウエハなどのワークを搬送するワーク搬送装置に関し、特に、ワークの裏面処理、或いは両面処理を行うためにワークを円滑に表裏反転させる対策に係わる。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽電池等の製造現場では、ガラス基板や半導体ウエハ（以下、まとめてワークと称する）の洗浄やフォトなどの工程において、ワークの表裏を反転させる必要性が生じた場合には、メカチャック、真空チャック、静電チャックなどのチャック機構を用いてワークの端部を支持したり、ワークの裏面を吸着したりした状態で、ワークを反転させていた。
【０００３】
このようなワーク搬送装置としては、図２０および図２１に示すように、ワークａを４つの搬送位置Ｐ１〜Ｐ４（搬送位置Ｐ１は塗布液塗布後の位置、Ｐ２はワーク側面洗浄処理位置、Ｐ３は待機位置、Ｐ４は後工程位置）に搬送し、搬送位置Ｐ１からＰ２への搬送時にワークａを表裏反転させて搬送するようにしたものがある（例えば、特許文献１参照）。そして、ワークａの表裏反転は、ワークａの周囲を複数個のメカチャック手段ｂ，…のチャックコマｃにより所定位置でチャックした状態で、メカチャック手段ｂの駆動部ｄを構成している図示しないモータを駆動源として、矢印ｅ方向へ回転駆動することにより行われる。この各チャック手段ｂのチャックコマによるワークａのチャック動作は、エアシリンダｆによる直接駆動によってスライド動作するスライドシャフトｇを介して行われる。この場合、ワークの各搬送位置Ｐ１〜Ｐ４間の受け渡しは、図示しない別のロボットにより行われる。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１０−２６４０７１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来のワーク搬送装置では、ワークａが複数個のメカチャック手段ｂ，…のチャックコマｃによりチャックされているため、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生すると、チャックの信頼性が低いものとなる。そのため、搬送、表裏反転時のワーク落下や破損、割れ欠け等の問題が発生し易い。しかも、最初からワークに反りがあると、チャックが益々困難となる。
【０００６】
また、チャック動作がスライドシャフトｇを介して行われるため、スライドシャフトや摺動部、回転駆動部からのパーティクル発生が懸念される。しかも、メカニカル部品が多く装置構成が複雑であるため、故障し易くメンテナンス時の労力も大きい上、装置サイズが大きなものとなる。
【０００７】
更に、メカチャックの代わりに真空チャックや静電チャックを用いた場合においても、静電気の発生によってワークやプロセスに影響を与えるおそれもある。
【０００８】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、搬送、表裏反転時にワーク落下や破損、割れ欠け等を発生させることなく確実にワークを反転させることができ、メカニカル部品を最小限に抑えてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図り、かつ静電気によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することができるワーク搬送装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明では、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージを互いに上下方向に対向させて配置し、上記一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージ上にワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンを設けるとともに、上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を設ける。そして、上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージでの上記各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようにしている。
【００１０】
この特定事項により、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークは、昇降ピンを上昇させることにより周囲が保持された状態で、回転機構により回転させて一対の搬送ステージを上下反転させてから各昇降ピンを下降させると、その下降に伴って、上側にある一方の搬送ステージ上から下側にある他方の搬送ステージ上に該他方の搬送ステージでの流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークの周囲が昇降ピンの上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されてから上側の搬送ステージでの各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することが可能となる。
【００１１】
また、ワークのチャック動作が昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生が最小限に抑えられる。しかも、メカニカル部品を減らして、故障もし難くメンテナンス時の労力も軽減される上、装置サイズも非常にコンパクトなものとなる。
【００１２】
更に、真空チャックや静電チャックを用いたもののように、静電気の発生によってワークやプロセスに悪影響を与えることもない。
【００１３】
また、その他の手法としては、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する搬送ステージをワークの搬送方向に互いに対向させるように配置し、上記各搬送ステージ上に、ワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンを設けるとともに、この各昇降ピンのうちのワーク搬送方向上流側の搬送ステージのワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージのワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピンを、他の昇降ピンとは別個に昇降動作させるように制御しており、上記ワーク搬送方向上流側の搬送ステージを上下反転方向に１８０度未満の傾斜角度まで回転させる第１回転機構と、この第１回転機構により回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージに対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度までワーク搬送方向下流側の搬送ステージを回転させる第２回転機構とを備えている。そして、上記第１回転機構により上下反転方向に回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよび上記第２回転機構により回転されたワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降動作に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを自重により滑らせて受け渡すようにしている。
【００１４】
この特定事項により、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上に浮上しているワークは、昇降ピンを上昇させることにより周囲が保持された状態で、第１回転機構により上下反転方向に１８０度未満の角度まで回転させてワーク搬送方向上流側の搬送ステージを傾斜させてから、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンを下降させると、その下降に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上に該ワーク搬送方向下流側の搬送ステージでの流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で自重により滑らせて受け渡される。これにより、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上に浮上しているワークの周囲が昇降ピンの上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されてから、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降に伴ってワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを浮上させた状態で滑らせて受け渡され、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することが可能となる。
【００１５】
また、ワークのチャック動作が昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることが可能となり、メカニカル部品を最小限に抑えて故障も少なくメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることも可能となる。
【００１６】
更に、静電気の発生によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することが可能となる。
【００１７】
ここで、各昇降ピンを、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材または防振材により被覆している場合には、ワークを表裏反転させる際にワークの周囲が昇降ピンによってより確実に保持されることになり、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等をより確実に防止することが可能となる。しかも、各昇降ピンによってワークの周囲を保持した際の接触によるワークの損傷を防止することも可能となる。
【００１８】
更に、その他の手法としては、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージを互いに上下方向に対向して配置し、この一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージに対しワークを流体の吸引により吸着させた状態で、上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を備える。そして、上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージ上から流体の吸引解除に伴って下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようにしている。
【００１９】
この特定事項により、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークは、この一方の搬送ステージに対しワークを流体の吸引により吸着させた状態で、回転機構により回転させて一対の搬送ステージを上下反転させてから、上側となった一方の搬送ステージ上から流体の吸引解除させると、その吸引解除に伴って、上側にある一方の搬送ステージ上から下側にある他方の搬送ステージ上に該他方の搬送ステージでの流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークがその一方の搬送ステージ上に流体の吸引により吸着された状態で円滑に表裏反転されてから上側となった一方の搬送ステージでの流体の吸引解除に伴って一方の搬送ステージ上から下側となる他方の搬送ステージ上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することが可能となる。
【００２０】
また、ワークのチャック動作が流体の吸引のみにより行われ、メカニカル部品によるワークのチャック動作が不要となってパーティクル発生を可及的に抑えることが可能となり、メカニカル部品をなくしてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることも可能となる。
【００２１】
そして、各搬送ステージを上下方向および左右方向に移動可能に支持している場合には、ワークを表裏反転させる際に回転する搬送ステージが付近の部材と干渉することが確実に防止されることになり、ワークの表裏反転を円滑に行うことが可能となる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２３】
＜第１の実施の形態＞
図１ないし図３は、本発明の第１の実施形態に係わるワーク搬送装置Ｘを示し、１はワークＷを表裏反転させるワーク回転部、２はワーク回転部１にワークＷを搬入するワーク搬入部、３はワーク回転部１からワークＷを搬出するワーク搬出部である。上記ワーク回転部１、ワーク搬入部２およびワーク搬出部３は、ベース台Ｘａ上に一列に並んで配置されている。この場合、ワークＷとしては、半導体、液晶表示素子やＥＬやＰＤＰをはじめとするフラットパネルディスプレイや、太陽電池パネル等を製造する場合のガラス基板や半導体ウエハなどの略矩形状のものが適用される。
【００２４】
上記ワーク回転部１は、ベース台Ｘａ上に設置された左右一対の支持脚１１（図１ないし図３では紙面手前側のみ示す）と、この支持脚１１に対し上下方向に伸縮動する伸縮軸１２と、この伸縮軸１２の先端に回転軸１３を介して回転可能に支持された上下一対の第１および第２搬送ステージ１４，１５とを備えている。この回転軸１３と、図示しないモータとによって、上下一対の第１および第２搬送ステージ１４，１５を回転させる回転機構が構成されている。そして、上記第１および第２搬送ステージ１４，１５は、互いに上下方向に対向して配置されている。この第１および第２搬送ステージ１４，１５の平面視で略矩形状を呈する互いの対向面１４ａ，１５ａの中央付近には、図示しないガス供給用タンク或いはボンベから供給されるガスを供給通路１４ｂ，１５ｂ（図４ないし図７に表れる）を介して噴出させる複数のガス噴出口１４ｃ，１５ｃと、この各ガス噴出口１４ｃ，１５ｃから噴出したガスを吸引する複数のガス吸引口１４ｄ，１５ｄとが互いに相隣ならないように交互に設けられている。また、図４ないし図７に示すように、上記各ガス噴出口１４ｃ，１５ｃから噴出したガスは、ワークＷに衝突したのち各ガス吸引口１４ｄ，１５ｄに吸引され、吸引通路１４ｅ，１５ｅを介して図示しない排気用ポンプ或いはブロアにより装置外へと排出される。この場合、各ガス噴出口１４ｃ，１５ｃから噴出したガスがワークＷに衝突することによってワークＷに浮上力を作用させ、ワークＷが浮上するようになっている。また、図４に示すように、下側に位置する第１搬送ステージ１４（対向面１４ａ）の各ガス噴出口１４ｃから噴出したガスのみがワークＷに衝突したり、図７に示すように、下側に位置する第２搬送ステージ１５（対向面１５ａ）の各ガス噴出口１５ｃから噴出したガスのみがワークＷに衝突しても、ワークＷに浮上力が作用し、ワークＷが浮上する。
【００２５】
そして、図８および図９にも示すように、上記第１搬送ステージ１４の対向面１４ａの中央付近の周り、つまり各ガス噴出口１４ｃおよび各ガス吸引口１４ｄの周囲には、その周方向所定間隔置きに複数の昇降自在な昇降ピン１６，…が設けられている。この各昇降ピン１６は、図示しないアクチュエータによって昇降動し、第１搬送ステージ１４上にて浮上しているワークＷの周囲を上昇時に保持するようになされている。上記各昇降ピン１６の周面は、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材１７により被覆されている。また、上記第２搬送ステージ１５の対向面１５ａの中央付近の周り、つまり各ガス噴出口１５ｃおよび各ガス吸引口１５ｄの周囲には、上記各昇降ピン１６の先端を嵌入する嵌入穴（図示せず）が該各昇降ピン１６に対応して凹設されている。
【００２６】
また、図１ないし図３に示すように、上記ワーク搬入部２は、ベース台Ｘａ上に設置された左右一対の支持脚２１（図１ないし図３では紙面手前側のみ示す）と、この各支持脚２１の先端に固定された搬入ステージ２２とを備えている。一方、上記ワーク搬出部３は、ベース台Ｘａ上に設置された左右一対の支持脚３１（図１ないし図３では紙面手前側のみ示す）と、この各支持脚３１の先端に固定された搬出ステージ３２とを備えている。上記搬入ステージ２２および搬出ステージ３２にも、図示しないガス供給用タンク或いはボンベから供給されるガスを供給通路（図示せず）を介して噴出させる複数のガス噴出口（図示せず）と、この各ガス噴出口から噴出したガスを吸引する複数のガス吸引口（図示せず）とが互いに相隣ならないように交互に設けられている。そして、上記各ガス噴出口から噴出したガスは、ワークＷに衝突したのち各ガス吸引口に吸引され、吸引通路（図示せず）を介して図示しない排気用ポンプ或いはブロアにより装置外へと排出される。この場合においても、各ガス噴出口から噴出したガスがワークＷに衝突することによってワークＷに浮上力を作用させ、ワークＷが浮上するようになっている。なお、搬入ステージ２２および搬出ステージ３２の各ガス噴出口から噴出したガスのみをワークＷに衝突させることによって、ワークＷに浮上力を作用させてワークＷを浮上させるようにしてもよい。
【００２７】
次に、搬入ステージ２２から搬入されたワークＷを表裏反転させてから搬出ステージ３２に搬送する手順について説明する。
【００２８】
まず、図１および図４に示すように、搬入部２の搬入ステージ２２において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬入ステージ２２上に浮上させていたワークＷがワーク回転部１の下側の第１搬送ステージ１４に搬入されると、この第１搬送ステージ１４（対向面１４ａ）において、供給通路１４ｂを介して各ガス噴出口１４ｃから噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口１４ｄから吸引通路１４ｅを介して吸引させることによって、第１搬送ステージ１４にてワークＷが浮上した状態で受け渡される。
【００２９】
次いで、図５に示すように、上側の第２搬送ステージ１５（対向面１５ａ）において、各供給通路１５ｂを介してガス噴出口１５ｃから噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口１５ｄから吸引通路１５ｅを介して吸引させることによって、ワークＷを第１搬送ステージ１４と第２搬送ステージ１５との間の中立位置に浮遊させてから、第１搬送ステージ１４より各昇降ピン１６を上昇させ、図６に示すように、各昇降ピン１６の先端を第２搬送ステージ１５の嵌入穴にそれぞれ嵌入させる。このとき、ワークＷは、第１搬送ステージ１４と第２搬送ステージ１５との間の中立位置に浮上した状態で、各昇降ピン１６の周面（緩衝材１７）との接触により保持される。
【００３０】
その後、図２にも示すように、回転軸１３を支点にして第１および第２搬送ステージ１４，１５を図６の紙面時計回りに１８０度回転させる。このとき、回転軸１３を支点として回転する第１および第２搬送ステージ１４，１５が、搬入ステージ２２または搬出ステージ３２と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸１２を伸長させることで、容易に干渉回避できることになる。
【００３１】
それから、図７に示すように、第１搬送ステージ１４の各昇降ピン１６を下降させるとともに、第１搬送ステージ１４における供給通路１４ｂを介した各ガス噴出口１４ｃからのガスの噴出および各ガス吸引口１４ｄからの吸引通路１４ｅを介したガスの吸引を停止することによって、下側となった第２搬送ステージ１５での各供給通路１５ｂを介したガス噴出口１５ｃからのガスの噴出および各ガス吸引口１５ｄからの吸引通路１５ｅを介したガスの吸引により該第２搬送ステージ１５上にワークＷを受け渡す。
【００３２】
しかる後、第２搬送ステージ１５上に浮上させていたワークＷを、搬出部３の搬出ステージ３２上に搬送し、この搬出ステージ３２上において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬出ステージ３２にてワークＷが浮上した状態で受け渡される。
【００３３】
このとき、第２搬送ステージ１５が下側に、第１搬送ステージ１４が上側にそれぞれ位置しているが、ワーク搬入部２の搬入ステージ２２からの次のワークＷは、第２搬送ステージ１５上に搬入され、同様の手順でワークＷが表裏反転されて第２搬送ステージ１５から第１搬送ステージ１４に受け渡されると、この第１搬送ステージ１４から搬出部３の搬出ステージ３２にワークＷが搬送されることになる。
【００３４】
このように、ガスの噴出と吸引との同時動作により第１搬送ステージ１４上に浮上しているワークＷは、各昇降ピン１６を上昇させることにより周囲が保持された状態で、回転軸１３を支点にして紙面時計回りに回転させて一対の第１および第２搬送ステージ１４，１５を上下反転させてから各昇降ピン１６を下降させると、その下降に伴って、上側にある第１搬送ステージ１４上から下側にある第２搬送ステージ１５上に該第２搬送ステージ１５でのガスの噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークＷの大型化に伴いワークＷに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、ガスの噴出と吸引との同時動作により第１搬送ステージ１４上に浮上しているワークＷの周囲が各昇降ピン１６の上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されたのち、上側の第１搬送ステージ１４での各昇降ピン１６の下降に伴って該第１搬送ステージ１４上から下側の第２搬送ステージ１５上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークＷの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。
【００３５】
また、ワークＷのチャック動作が各昇降ピン１６によるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができる。しかも、メカニカル部品を減らして、故障もし難くメンテナンス時の労力も軽減できる上、装置サイズも非常にコンパクトなものにすることができる。
【００３６】
更に、真空チャックや静電チャックを用いたもののように、静電気の発生によってワークＷやプロセスに悪影響を与えることもなく、静電気によるワークＷやプロセスへの悪影響を確実に防止することができる。
【００３７】
＜第２の実施の形態＞
次に、本発明の第２の実施形態を図１０ないし図１３に基づいて説明する。
【００３８】
この実施形態では、第１および第２搬送ステージの構成を変更している。なお、第１および第２搬送ステージを除くその他の構成は、上記第１の実施形態の場合と同じであり、同じ部分については同一の符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【００３９】
すなわち、本実施形態では、図１０ないし図１３に示すように、ワーク回転部４の第１および第２搬送ステージ４１，４２の対向面４１ａ，４２ａの中央付近には、複数の供給通路４１ｂ，４２ｂを介してガスを噴出させるガス噴出口４１ｃ，４２ｃと、複数の吸引通路４１ｅ，４２ｅを介してガスを吸引するガス吸引口４１ｄ，４２ｄとが互いに相隣ならないように交互に設けられている。そして、上記第１搬送ステージ４１の対向面４１ａの中央付近の周り、つまり各ガス噴出口４１ｃおよび各ガス吸引口４１ｄの周囲には、昇降ピンが存在しない構成となっている。
【００４０】
次に、搬入ステージ２２から搬入されたワークＷを表裏反転させてから搬出ステージ３２に搬送する手順について説明する。
【００４１】
まず、図１０に示すように、搬入部２の搬入ステージ２２上に浮上させていたワークＷがワーク回転部１の下側の第１搬送ステージ４１に搬入されると、この第１搬送ステージ４１（対向面４１ａ）において、供給通路４１ｂを介して各ガス噴出口４１ｃから噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口４１ｄから吸引通路４１ｅを介して吸引させることによって、第１搬送ステージ４１にてワークＷが浮上した状態で受け渡される。
【００４２】
次いで、図１１に示すように、各供給通路４１ｂを介したガス噴出口４１ｃからのガスの噴出を停止し、各ガス吸引口４１ｄから吸引通路４１ｅを介してガスを吸引する。
【００４３】
その後、図１２に示すように、各ガス吸引口４１ｄから吸引通路４１ｅを介したガスの吸引によって、ワークＷを第１搬送ステージ４１の対向面４１ａ上に吸着させておき、この状態で、回転軸１３を支点にして第１および第２搬送ステージ４１，４２を図１２の紙面時計回りに１８０度回転させる。このとき、回転軸１３を支点として回転する第１および第２搬送ステージ４１，４２が、搬入ステージ２２または搬出ステージ３２と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸１２を伸長させることで、容易に干渉回避できることになる。
【００４４】
それから、図１３に示すように、上側の第１搬送ステージ４１での第１各ガス吸引口４１ｄからの吸引通路４１ｅを介したガスの吸引を停止させて、ワークＷを自重により落下させるとともに、第２搬送ステージ４２において供給通路４２ｂを介して各ガス噴出口４２ｃから噴出したガスをワークＷに衝突させつつ各ガス吸引口４２ｄから吸引通路４２ｅを介して吸引させることによって、第２搬送ステージ４２上にワークＷが浮上した状態で受け渡される。
【００４５】
しかる後、第２搬送ステージ１５上に浮上させていたワークＷを、搬出部３の搬出ステージ３２上に搬送し、この搬出ステージ３２上において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬出ステージ３２にてワークＷが浮上した状態で受け渡される。
【００４６】
このとき、第２搬送ステージ４２が下側に、第１搬送ステージ４１が上側にそれぞれ位置しているが、ワーク搬入部２の搬入ステージ２２からの次のワークＷは、第２搬送ステージ４２上に搬入され、同様の手順でワークＷが表裏反転されて第２搬送ステージ４２から第１搬送ステージ４１に受け渡されると、この第１搬送ステージ４１から搬出部３の搬出ステージ３２にワークＷが搬送されることになる。
【００４７】
このように、ガスの噴出と吸引との同時動作により下側の第１搬送ステージ４１上に浮上しているワークＷは、この第１搬送ステージ４１に対しワークＷをガスの吸引により吸着させた状態で、回転軸１３を支点にして紙面時計回りに回転させて一対の第１および第２搬送ステージ４１，４２を上下反転させてから、上側となった第１搬送ステージ４１上でのガスの吸引を停止させると、その吸引停止に伴い自重によって落下し、上側にある第１搬送ステージ４１上から下側にある第２搬送ステージ４２上に該第２搬送ステージ４２でのガスの噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークＷの大型化に伴いワークＷに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、ガスの噴出と吸引との同時動作により第１搬送ステージ４１上に浮上しているワークＷがその第１搬送ステージ４１の対向面４１ａ上にガスの吸引により吸着された状態で円滑に表裏反転されてから上側となった第１搬送ステージ４１でのガスの吸引停止に伴い自重によって第１搬送ステージ４１上から下側となる第２搬送ステージ４２上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークＷの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。
【００４８】
また、ワークＷのチャック動作が流体の吸引のみにより行われ、メカニカル部品によるワークのチャック動作が不要となってパーティクル発生を可及的に抑えることができ、メカニカル部品をなくしてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることもできる。
【００４９】
＜第３の実施の形態＞
次に、本発明の第３の実施形態を図１４ないし図１９に基づいて説明する。
【００５０】
この実施形態では、ワーク回転部の構成を変更している。なお、ワーク回転部を除くその他の構成は、上記第１の実施形態の場合と同じであり、同じ部分については同一の符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【００５１】
すなわち、本実施形態では、図１４および図１５に示すように、ワーク搬入部２とワーク搬出部３との間には、ワーク搬送方向上流側の上流側ワーク回転部５と、ワーク搬送方向下流側の下流側ワーク回転部６とが設けられ、この上流側ワーク回転部５および下流側ワーク回転部６、ワーク搬入部２並びにワーク搬出部３は、ベース台Ｘａ上に一列に並んで配置されている。
【００５２】
上記上流側ワーク回転部５は、ベース台Ｘａ上に設置されたワーク搬送方向に延びる左右一対のレール４９（図１４および図１５では紙面手前側のみ示す）のワーク搬送方向上流側（図１４および図１５では右側）に摺動自在に支持されたスライダ５１と、このスライダ５１に固着された支持脚５２と、この支持脚５２に対し上下方向に伸縮動する伸縮軸５３と、この伸縮軸５３の先端に回転軸５４を介して回転可能に支持されたワーク搬送方向上流側の上流側搬送ステージ５５とを備えている。この回転軸５４と、図示しないモータとによって、上流側搬送ステージ５５を回転軸５４を支点にして上下反転方向に１３５°以上１８０°未満の傾斜角度となるまで図１５に示す反時計回りで回転させる第１回転機構が構成されている。また、上記上流側搬送ステージ５５は、レール４９に沿ってワーク搬送方向（図１４および図１５では左右方向）に摺動自在に、かつ伸縮軸５３によって上下方向に昇降自在に支持されている。
【００５３】
一方、上記下流側ワーク回転部６は、ベース台Ｘａ上に設置されたワーク搬送方向に延びる左右一対のレール４９のワーク搬送方向下流側（図１４および図１５では左側）に摺動自在に支持されたスライダ６１と、このスライダ６１に固着された支持脚６２と、この支持脚６２に対し上下方向に伸縮動する伸縮軸６３と、この伸縮軸６３の先端に回転軸６４を介して回転可能に支持されたワーク搬送方向上流側の上流側搬送ステージ６５とを備えている。この回転軸６４と、図示しないモータとによって、第１回転機構により回転された上流側搬送ステージ５５に対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度（上流側搬送ステージ５５と平行となる傾斜角度）まで下流側搬送ステージ６５を回転軸６４を支点にして図１５に示す反時計回りに回転させる第２回転機構が構成されている。また、上記下流側搬送ステージ６５は、レール４９に沿ってワーク搬送方向（図１４および図１５では左右方向）に摺動自在に、かつ伸縮軸６３によって上下方向に昇降自在に支持されている。
【００５４】
上記上流側および下流側搬送ステージ５５，６５は平面視で略矩形状を呈し、その中央付近には、図示しないガス供給用タンク或いはボンベから供給されるガスを供給通路５５ｂ，６５ｂ（図１６ないし図１９に表れる）を介して噴出させる複数のガス噴出口５５ｃ，６５ｃと、この各ガス噴出口５５ｃ，６５ｃから噴出したガスを吸引する複数のガス吸引口５５ｄ，６５ｄとが互いに相隣ならないように交互に設けられている。また、図１６ないし図１９に示すように、上記各ガス噴出口５５ｃ，６５ｃから噴出したガスは、ワークＷに衝突したのち各ガス吸引口５５ｄ，６５ｄに吸引され、吸引通路５５ｅ，６５ｅを介して図示しない排気用ポンプ或いはブロアにより装置外へと排出される。この場合、各ガス噴出口５５ｃ，６５ｃから噴出したガスがワークＷに衝突することによってワークＷに浮上力を作用させ、ワークＷが浮上するようになっている。
【００５５】
そして、図８および図９にも示すように、上記上流側および下流側搬送ステージ５５，６５の中央付近の周り、つまり各ガス噴出口５５ｃ，６５ｃおよび各ガス吸引口５５ｄ，６５ｄの周囲には、その周方向所定間隔置きに複数の昇降自在な昇降ピン７１，…が設けられている。この各昇降ピン７１は、図示しないアクチュエータによって昇降動し、上流側搬送ステージ５５上にて浮上しているワークＷの周囲を上昇時に保持するようになされている。上記各昇降ピン７１の周面は、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材７２により被覆されている。また、上記各昇降ピン７１のうちの上流側搬送ステージ５５のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン７１および下流側搬送ステージ６５のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン７１は、他の昇降ピン７１とは別個に昇降動作するように制御されており、各昇降ピン７１を全て上昇させた状態で、上流側搬送ステージ５５のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン７１および下流側搬送ステージ６５のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン７１のみを下降させることによって、上流側搬送ステージ５５上にて浮上しているワークＷを下流側搬送ステージ６５上に受け渡せるように開放する両搬送ステージ５５，６５間の搬送経路が構成されるようになっている。そして、上記下流側搬送ステージ６５のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン７１を除くその他の昇降ピン７１は、上流側搬送ステージ５５上から下流側搬送ステージ６５上に受け渡される際に受け止められるように上昇している。
【００５６】
次に、搬入ステージ２２から搬入されたワークＷを表裏反転させてから搬出ステージ３２に搬送する手順について説明する。
【００５７】
まず、図１４および図１６に示すように、搬入部２の搬入ステージ２２において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬入ステージ２２上に浮上させていたワークＷが上流側ワーク回転部５の上流側搬送ステージ５５に搬入されると、この上流側搬送ステージ５５において、供給通路５５ｂを介して各ガス噴出口５５ｃから噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口５５ｄから吸引通路５５ｅを介して吸引させることによって、上流側搬送ステージ５５にてワークＷが浮上した状態で受け渡される。
【００５８】
次いで、図１７に示すように、上流側搬送ステージ５５より各昇降ピン７１を全て上昇させる。このとき、ワークＷは、上流側搬送ステージ５５上に浮上した状態で、各昇降ピン７１の周面（緩衝材７２）との接触により保持される。
【００５９】
その後、図１８にも示すように、回転軸５３を支点にして上流側搬送ステージ５５を図１８の紙面時計回りに１３５°〜１８０°未満の傾斜角度となるまで回転させるとともに、この回転された上流側搬送ステージ５５に対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度（上流側搬送ステージ５５と平行となる傾斜角度）まで下流側搬送ステージ６５を回転軸６４を支点にして図１８に示す反時計回りに回転させる。このとき、回転軸５３を支点として回転する上流側搬送ステージ５５および回転軸６３を支点として回転する下流側搬送ステージ６５が、互いの干渉、もしくは搬入ステージ２２または搬出ステージ３２と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸５２，６２を伸長させたり、レール４９上をスライダ５１，６１を介して搬送方向に摺動させることで、容易に干渉回避できることになる。
【００６０】
それから、図１９に示すように、下流側搬送ステージ６５のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン７１を除くその他の昇降ピン７１を上昇させた後、上流側搬送ステージ５５のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン７１のみを下降させて、両搬送ステージ５５，６５間に搬送経路を構成すると、ワークＷは、自身の自重によって、上流側搬送ステージ５５のワーク搬送方向下流側から下流側搬送ステージ６５上にそのワーク搬送方向上流側を経て滑り込み、下流側搬送ステージ６５での各供給通路６５ｂを介したガス噴出口６５ｃからのガスの噴出および各ガス吸引口６５ｄからの吸引通路６５ｅを介したガスの吸引により該下流側搬送ステージ６５上にワークＷを受け渡す。
【００６１】
しかる後、上流側ワーク回転部５の回転軸５３を支点にして上流側搬送ステージ５５を図１８の紙面反時計回りに回転させるとともに、下流側ワーク回転部６の回転軸６３を支点にして下流側搬送ステージ６５を時計回りに回転させて、図１４および図１６に示す状態に戻す。このときも、回転軸５３を支点として回転する上流側搬送ステージ５５および回転軸６３を支点として回転する下流側搬送ステージ６５が、互いの干渉、もしくは搬入ステージ２２または搬出ステージ３２と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸５２，６２を伸長させたり、レール４９上をスライダ５１，６１を介して搬送方向に摺動させることで、容易に干渉回避できることになる。
【００６２】
その後、上流側搬送ステージ５５および下流側搬送ステージ６５の各昇降ピン７１を全て下降させ、下流側搬送ステージ６５上に浮上させていたワークＷを、搬出部３の搬出ステージ３２上に搬送し、この搬出ステージ３２上において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークＷに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬出ステージ３２にてワークＷが浮上した状態で受け渡される。
【００６３】
このように、ガスの噴出と吸引との同時動作により上流側搬送ステージ５５上に浮上しているワークＷは、各昇降ピン７１を上昇させることにより周囲が保持された状態で、回転軸５３を支点にして上流側搬送ステージ５５を図１８の紙面時計回りに１３５°〜１８０°未満の傾斜角度となるまで回転させるとともに、この回転された上流側搬送ステージ５５に対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度（上流側搬送ステージ５５と平行となる傾斜角度）まで下流側搬送ステージ６５を回転軸６４を支点にして図１８に示す反時計回りに回転させてから、下流側搬送ステージ６５のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン７１を除くその他の昇降ピン７１を上昇させた後、上流側搬送ステージ５５のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン７１のみを下降させて両搬送ステージ５５，６５間に搬送経路を構成すると、自身の自重によって、上流側搬送ステージ５５のワーク搬送方向下流側から下流側搬送ステージ６５上にそのワーク搬送方向上流側を経て滑り込み、該下流側搬送ステージ６５でのガスの噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークＷの大型化に伴いワークＷに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、ガスの噴出と吸引との同時動作により上流側搬送ステージ５５上に浮上しているワークＷの周囲が各昇降ピン７１の上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されたのち、両搬送ステージ５５，６５間での搬送経路の構成に伴って上流側搬送ステージ５５上から下流側搬送ステージ６５上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークＷの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。
【００６４】
また、ワークＷのチャック動作が各昇降ピン７１によるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができる。しかも、メカニカル部品を減らして、故障もし難くメンテナンス時の労力も軽減できる上、装置サイズも非常にコンパクトなものにすることができる。
【００６５】
更に、真空チャックや静電チャックを用いたもののように、静電気の発生によってワークＷやプロセスに悪影響を与えることもなく、静電気によるワークＷやプロセスへの悪影響を確実に防止することができる。
【００６６】
＜他の実施の形態＞
本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、その他種々の変形例を包含している。例えば、上記各実施形態では、ワーク回転部１または上流側ワーク回転部５に対するワーク搬入部２でのワークＷの搬入、もしくはワーク回転部１または下流側ワーク回転部６からのワーク搬出部２でのワークＷの搬出をガスの噴出またはガスの噴出と同時吸引によりワークＷを浮上させた状態で行ったが、ワークの導入、排出方法はこれに限定されるものではなく、コロ搬送や、ワークを浮上させないステージ搬送であってもよい。
【００６７】
また、上記各実施形態では、ガスの噴出またはガスの噴出と同時吸引によりワークＷを浮上させたが、液体の噴出または液体の噴出と同時吸引によりワークを浮上させるようにしてもよく、この場合には、ワークやプロセスに対し液体が悪影響を与えない場合に限られる。
【００６８】
そして、上記各実施形態では、略矩形状のワークＷを搬送する場合について述べたが、円形状のワークにも適用できるのはもちろんであり、その場合には、昇降ピンの配置を円形状のワークに則して変更すればよい。
【００６９】
更に、上記第１実施形態では、第１搬送ステージ１４上に複数の昇降ピン１６を設けたが、第２搬送ステージ上にのみまたは両搬送ステージ上に複数の昇降ピンが設けられていてもよい。また、複数の昇降ピン１６，７１によりワークＷの周囲を保持したが、開閉式のガイド枠などによってワークの周囲が保持されるようにしてもよい。
【００７０】
【発明の効果】
以上、説明したように、各昇降ピンによりワークの周囲を保持した状態で上下一対の搬送ステージを上下反転させ、上側の搬送ステージの各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを流体の噴出または噴出と吸引との同時動作により浮上させた状態で受け渡すことで、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。しかも、ワークのチャック動作を昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行え、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができ、メカニカル部品を減らしてメンテナンス時の労力も軽減できる上、装置サイズも非常にコンパクトなものにすることができ、更に、静電気によるワークやプロセスへの悪影響も防止することができる。
【００７１】
また、各昇降ピンによりワークの周囲を保持した状態で上下反転方向に回転させたワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピン、およびワーク搬送方向上流側の搬送ステージに対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度まで回転させたワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降動作に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを自重により滑らせて浮上させた状態で受け渡すことで、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。また、ワークのチャック動作を昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行え、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができ、メカニカル部品を最小限に抑えてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることもでき、更に、静電気の発生によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することができる。
【００７２】
そして、各昇降ピンを、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材または防振材により被覆することで、ワークの周囲を昇降ピンによってより確実に保持して、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等をより確実に防止することができる上、各昇降ピンの接触によるワークの損傷を防止することもできる。
【００７３】
また、ワークを下側の搬送ステージに吸着した状態で上下一対の搬送ステージを上下反転させ、上側の搬送ステージ上から流体の吸引解除に伴って下側の搬送ステージ上にワークを浮上した状態で受け渡すことで、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。しかも、ワークのチャック動作を流体の吸引のみにより行え、メカニカル部品によるワークのチャック動作を不要にしてパーティクル発生を可及的に抑えることができる上、メカニカル部品をなくしてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることもできる。
【００７４】
そして、各搬送ステージを上下方向および左右方向に移動可能に支持することで、ワークを表裏反転させる際に回転する搬送ステージと付近の部材との干渉を確実に防止し、ワークの表裏反転を円滑に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係わるワーク回転部にワーク搬入部からワークを搬入する状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図２】同じくワーク回転部においてワークを表裏反転させる状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図３】同じくワーク回転部からワーク搬出部にワークを搬出する状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図４】同じくワーク搬入部から搬入したワークを浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図５】同じく第１および第２搬送ステージ間においてワークを浮上させた状態で昇降ピンにより周囲を保持している状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図６】同じく昇降ピンにより周囲を保持したワークを表裏反転させる状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図７】同じく表裏反転させたワークを第２搬送ステージ上にて浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図８】同じく第１搬送ステージを対向面側から見た平面図である。
【図９】同じく第１搬送ステージを対向面の斜め上方から見た斜視図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係わるワーク搬入部から搬入したワークを浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図１１】同じく第１および第２ワーク搬送ステージ間において浮上させていたワークに対し第１搬送ステージでの吸引動作を開始した状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図１２】同じく第１搬送ステージ上に吸着させたワークを表裏反転させる状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図１３】同じく表裏反転させたワークの吸着を解除して第１および第２搬送ステージ間にてワークを浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図１４】本発明の第３の実施形態に係わる上流側ワーク回転部にワーク搬入部からワークを搬入する状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図１５】同じく上流側ワーク回転部から下流側ワーク回転部にワークを受け渡す状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図１６】同じくワーク搬入部から搬入したワークを浮上させている状態を示す上流側ワーク回転部の側面図である。
【図１７】同じくワークを浮上させた状態で昇降ピンにより周囲を保持している状態を示す上流側ワーク回転部の側面図である。
【図１８】同じく昇降ピンにより周囲を保持したワークを表裏反転させる状態を示す上流側ワーク回転部の側面図である。
【図１９】同じく上流側搬送ステージから下流側搬送ステージにワークを受け渡す状態を示す上流側ワーク回転部から下流側ワーク回転部の側面図である。
【図２０】従来例に係わるワーク搬送装置の斜視図である。
【図２１】同じくメカチャック手段の詳細を示す斜視図である。
【符号の説明】
１４        第１搬送ステージ（搬送ステージ）
１５        第２搬送ステージ（搬送ステージ）
１６        昇降ピン
１７        緩衝材
４１        第１搬送ステージ（搬送ステージ）
４２        第２搬送ステージ（搬送ステージ）
５５        上流側搬送ステージ（搬送ステージ）
６５        下流側搬送ステージ（搬送ステージ）
７１                昇降ピン
７２                緩衝材
Ｗ          ワーク
Ｘ          ワーク搬送装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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