(57)【要約】【課題】炉体内において蒸発させられた溶剤の結露および滴下を防止する連続乾燥装置を提供する。【解決手段】搬入口５６または搬出口５８から立ち上る気体を所定の排気管６０に導く為の排気フード６２と、その排気フード６２の内壁面６６に生じる溶剤の結露を防止する為の加熱装置６８とを含むことから、その加熱装置６８により加熱することで、その排気フード６２の内壁面６６に生じる上記溶剤の結露を防止することができる。また、給気口４４から供給される給気エアを整流する為に下方に向かうほど相互の間隔が広くなるように設けられた給気整流傾斜板７８を含むことから、上記炉体４２内において対流により気体が渦を成しがちな箇所にその給気エアが流れ込み難くなり、その炉体４２内の気体が澱まずに流通させられる為、その炉体４２の上部内壁面に生じる上記溶剤の結露を防止することができる。【選択図】　図１
2004044985.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉体内を搬入口から搬出口に向かって搬送される過程で、溶剤を含む膜材料が塗布された基板に連続的に乾燥処理を施す型式の連続乾燥装置であって、
前記炉体内から漏れ出して前記搬入口または搬出口から立ち上る気体を所定の排気管に導く為に該搬入口および搬出口それぞれの上方に設けられた排気フードと、
該排気フードの内壁面に生じる前記溶剤の結露を防止する為に該排気フードを構成する周壁部を加熱する加熱装置と
を、含むことを特徴とする連続乾燥装置。
【請求項２】
前記排気フードは、下方に向かうほど前記周壁部によって囲まれる断面積が広くなるように下向きに開口するものであり、前記加熱装置は、前記周壁部の上部を加熱するものである請求項１の連続乾燥装置。
【請求項３】
炉体内を搬入口から搬出口に向かって搬送される過程で、溶剤を含む膜材料が塗布された基板に連続的に乾燥処理を施す型式の連続乾燥装置であって、
前記炉体の上部に貫設された給気口から前記基板に向かって流れる給気エアを整流する為に下方に向かうほど相互の間隔が広くなるように設けられた給気整流傾斜板と、
前記給気口から前記基板に向かって給気エアを供給し、前記給気整流傾斜板を通して該基板の側縁より外側の位置から下方に向かって該給気エアを排気する給気装置と
を、含むことを特徴とする連続乾燥装置。
【請求項４】
前記給気整流傾斜板は、下端において相互の間隔が前記基板の幅寸法よりも広くされたものである請求項３の連続乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば一面に所定パターンで厚膜ペーストが塗布された比較的大型の基板に乾燥処理を施す為に用いられる連続乾燥装置の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ　Ｄｉｓｐｌａｙ　Ｐａｎｅｌ）用基板、蛍光表示管の陽極基板、プラズマ・アドレスド液晶表示装置のプラズマスイッチング基板、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｄｉｓｐｌａｙ）用基板などの表示デバイス用基板、厚膜配線基板、あるいはサーマルプリンターヘッドやイメージセンサなどの電子デバイス用基板などにおいては、ガラスやセラミックスなどから成る基板上に、それらの基板に所定の機能を付与する為の金属や無機材料などに必要に応じてガラスボンド成分が添加されて成る構成要素が所定パターンで設けられる。たとえば、ＰＤＰ用基板などの表示デバイス基板においては、放電空間を形成しあるいは発光空間を区画する為の隔壁や電極、蛍光体層などが設けられ、厚膜配線基板や電子デバイス用基板などにおいては、導体配線や絶縁膜、抵抗体などが設けられる。
【０００３】
上述の各構成要素は、たとえば厚膜ペーストを用いた所謂厚膜印刷法によって基板上に印刷形成されて設けられる。この厚膜ペーストには、一般に、上述の構成要素に加えて、印刷形成後に所定の形状を保持する為のたとえばエチルセルロースやアクリル樹脂などの熱分解性のよい高分子化合物（樹脂成分）と、印刷に適した所定の粘性を与える為のたとえばテルピオネールやカルビトールアセテートなどの溶剤とが含まれる。
【０００４】
ところで、厚膜印刷法においては、基板上に厚膜ペーストを所定パターンで印刷した後、所定温度たとえば数百℃程度で加熱処理を施すことにより、そのガラスボンド成分の溶融や材料自体の軟化、溶融、あるいは焼結によって、所定の機能を有する構成要素が基板上に固着される。このとき、上述のように厚膜ペーストには所定の粘性を与える為の溶剤が含まれていることから、かかる加熱処理に先だって、その溶剤を除去する乾燥処理が施される。これにより、加熱処理炉体内で溶剤蒸気濃度が高まることが防止される一方、印刷膜が強固になることから、加熱処理前の基板の取り扱いが容易になると共に、印刷工程を繰り返して厚膜ペーストを積層したり、別パターンで厚膜ペーストを印刷することなどが可能となる。
【０００５】
一般に、厚膜ペーストの乾燥処理において印刷膜は、温度上昇に伴う樹脂成分の粘性低下によって軟化作用を与えられる一方、溶剤の蒸発によって硬化作用を与えられる。これらの軟化および硬化作用による印刷膜形状への影響の度合いはとりわけ昇温速度によって変化し、昇温速度が遅いほど軟化する傾向にあると考えられる。その為、乾燥処理において基板の面内で大きな温度差（温度分布）が生じると、印刷膜の高さや幅が不均一となって、厚膜形成される構成要素に所望の機能を付与することが基板が大型になるほど困難となる。すなわち、乾燥処理は、基板の面内の温度分布を可及的に均一に保ちつつ実施されることが望まれるのである。
【０００６】
かかる要請に応えるべく、基板の面内の温度分布を可及的に均一に保ちつつ乾燥処理をおこない得る技術が開発されている。たとえば特許第２９７４６１９号の明細書などに記載された大型基板の乾燥方法および乾燥装置がそれであり、かかる発明によれば、基板を停止位置毎に停止させつつ間歇的に搬送する搬送部と、停止位置の各々において遠赤外線放射体が基板に対向して設けられ、遠赤外線の放射発散度が面状ヒータ毎に制御される複数のヒータと、その面状ヒータ毎の遠赤外線の放射発散度を、基板を構成する複数の領域毎に各々の温度上昇特性に応じた遠赤外線の放射照度となるように複数のヒータ毎に制御する制御装置とを含んで乾燥装置が構成される為、上記基板は、間歇的に搬送される過程で領域毎の温度上昇特性に応じた放射照度の遠赤外線を照射されて均一に温度上昇させられて乾燥させられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、最近になり、かかる乾燥装置の炉体内において同期的に乾燥処理を施される基板枚数の増加、および基板に塗布される膜材料に含まれる溶剤量の増大に伴い、上記炉体内における溶剤の蒸発量が従来に比べて増えてきた為、そのように蒸発させられた溶剤の蒸気濃度が局所的に上昇する部分たとえば炉体から排出されて搬入口または搬出口から立ち上る気体を所定の排気管に導く為にその搬入口および搬出口の上側に設けられた排気フードにおいて温度が低下したり溶剤蒸気濃度が高くなり易い部分、あるいは炉体内において気流の流速あるいは温度が低下しがちな部分などに溶剤が結露して、その下方で乾燥処理を施されている基板に滴下する可能性が指摘されるようになってきた。そのように溶剤が滴下した基板のほとんどは不良となる為、製品の歩留まりが低下することが考えられる。
【０００８】
本発明は、以上の事情を背景として為されたものであり、その目的とするところは、炉体内において蒸発させられた溶剤の結露および滴下を防止する連続乾燥装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための第１の手段】
かかる目的を達成する為に、本第１発明の要旨とするところは、炉体内を搬入口から搬出口に向かって搬送される過程で、溶剤を含む膜材料が塗布された基板に連続的に乾燥処理を施す型式の連続乾燥装置であって、前記炉体内から漏れ出して前記搬入口または搬出口から立ち上る気体を所定の排気管に導く為にその搬入口および搬出口それぞれの上方に設けられた排気フードと、その排気フードの内壁面に生じる前記溶剤の結露を防止する為にその排気フードを構成する周壁部を加熱する加熱装置とを含むことを特徴とするものである。
【００１０】
【第１発明の効果】
このようにすれば、前記炉体内から漏れ出して前記搬入口または搬出口から立ち上る気体を所定の排気管に導く為にその搬入口および搬出口それぞれの上方に設けられた排気フードと、その排気フードの内壁面に生じる前記溶剤の結露を防止する為にその排気フードを構成する周壁部を加熱する加熱装置とを含むことから、かかる排気フードの温度が所定の温度範囲内となるようにその加熱装置によりその排気フードを構成する周壁部を加熱することで、その排気フードの内壁面に生じる前記溶剤の結露を防止することができる。すなわち、炉体内において蒸発させられた溶剤の結露および滴下を防止する連続乾燥装置を提供することができる。
【００１１】
【第１発明の他の態様】
ここで、好適には、前記排気フードは、下方に向かうほど前記周壁部によって囲まれる断面積が広くなるように下向きに開口するものであり、前記加熱装置は、前記周壁部の上部を加熱するものである。このようにすれば、前記炉体内から漏れ出して前記搬入口または搬出口から立ち上る気体の流れがその排気フード内において澱むことなく前記排気管に導かれる為、その排気フード内において気体に含まれる溶剤の蒸気濃度が局所的に高くなり難いという利点がある。
【００１２】
【課題を解決するための第２の手段】
また、前記課題を解決する為に、本第２発明の要旨とするところは、炉体内を搬入口から搬出口に向かって搬送される過程で、溶剤を含む膜材料が塗布された基板に連続的に乾燥処理を施す型式の連続乾燥装置であって、前記炉体の上部に貫設された給気口から前記基板に向かって流れる給気エアを整流する為に下方に向かうほど相互の間隔が広くなるように設けられた給気整流傾斜板と、前記給気口から前記基板に向かって給気エアを供給し、前記給気整流傾斜板を通してその基板の側縁より外側の位置から下方に向かってその給気エアを排気する給気装置とを含むことを特徴とするものである。
【００１３】
【第２発明の効果】
このようにすれば、前記炉体の上部に貫設された給気口から前記基板に向かって流れる給気エアを整流する為に下方に向かうほど相互の間隔が広くなるように設けられた給気整流傾斜板と、前記給気口から前記基板に向かって給気エアを供給し、前記給気整流傾斜板を通してその基板の側縁より外側の位置から下方に向かってその給気エアを排気する給気装置とを含むことから、対流により前記給気エアが渦を成しがちな前記炉体内の上部の隅にその給気エアが流れ込み難くなり、前記給気口から給気された給気エアが炉体内において澱むことなく前記基板の側縁より外側の位置から下方に向かって排気される為、その炉体の上部内壁面に生じる前記溶剤の結露を防止することができる。すなわち、炉体内において蒸発させられた溶剤の結露および滴下を防止する連続乾燥装置を提供することができる。
【００１４】
【第２発明の他の態様】
ここで、好適には、前記給気整流傾斜板は、下端において相互の間隔が前記基板の幅寸法よりも広くされたものである。このようにすれば、前記給気整流傾斜板に前記溶剤が結露したとしても、その給気整流傾斜板を伝い落ちて前記基板の側縁より外側に滴下する為、前記基板に不具合を生じさせないという利点がある。
【００１５】
【実施例】
以下、本発明の好適な実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１６】
図１は、本発明の一実施例である連続乾燥装置１０の構成を示す断面図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ視断面図である。これらの図に示すように、かかる連続乾燥装置１０は、加熱部１２と、その加熱部１２の下方に駆動機構が位置させられた搬送部１４とを備えている。この連続乾燥装置１０は、たとえばガラスやセラミックスなどから成る１０００ｍｍ×６００ｍｍ程度の比較的大型の基板１６に所定の機能を付与する為の金属や無機材料などに必要に応じてガラスボンド成分が添加されて成る構成要素（たとえば表示デバイス用基板においては隔壁や電極、蛍光体層など、あるいは電子デバイス用基板においては導体配線や絶縁膜、抵抗体など）を厚膜印刷などによって所定パターンで形成するに際して、印刷された厚膜ペーストを乾燥する目的で用いられるものである。上記基板１６は、上記搬送部１４によって図の左方から右方に搬送され、その過程において上記加熱部１２によって所定温度に加熱されて乾燥させられる。
【００１７】
上記加熱部１２は、上記基板１６からたとえば２００ｍｍ程度の所定距離を隔ててその基板１６と平行となるように炉室１８内に備えられて、その基板１６に向かって遠赤外線を放射するたとえば３つの遠赤外線マトリクスヒータ２０ａ、２０ｂ、２０ｃ（以下、特に区別しないときは単にヒータ２０と称する）と、そのヒータ２０を制御する制御装置２２と、上記炉室１８内に冷気あるいは熱気すなわち給気エアを供給する為に上記ヒータ２０ａ、２０ｂ、２０ｃの上方にそれぞれ設けられた給気装置であるダウンブローユニット２４ａ、２４ｂ、２４ｃ（以下、特に区別しないときは単にダウンブローユニット２４と称する）とを含んで構成されている。なお、上記３つのヒータ２０は、後述するように、上記基板１６の各停止位置９４の真上に設けられており、かかる停止位置９４がそれぞれの温度曲線の昇温、保持、降温の各温度領域に対応して、たとえば１２０〜１８０℃の温度範囲にて保持温度が得られるように、それぞれ異なる値に設定されている。
【００１８】
上記ヒータ２０は、複数の面状ヒータ２６がマトリクス状に配列されたものであり、個々の面状ヒータ２６は、たとえば１２０ｍｍ四方程度の大きさの矩形表面を有する遠赤外線放射体２８の背面側に発熱体３０をそれぞれ備えて構成されている。すなわち、上記ヒータ２０には、たとえば１３０ｍｍ〜１５０ｍｍ程度の中心間隔をもって並ぶ複数本（図では６本）の長手状支持部材３２が備えられており、上記面状ヒータ２６は、その長手状支持部材３２上にそれぞれ複数個（たとえば９個）ずつ取り付けられることによって全体がマトリクス状に配列されているのである。そのように配列された上記面状ヒータ２６は、上記制御装置２２によってそれぞれ独立に駆動されるものであり、予め定められた面状ヒータ設定温度と、上記面状ヒータ２６の放熱面またはその近傍に設けられた熱電対などから構成される複数の温度センサ３４によって検出された面状ヒータ２６の表面温度すなわち遠赤外線放射体２８の表面温度とに基づいて、上記発熱体３０に通電する電流値が変化させられることにより、それぞれの遠赤外線放射体２８から放射される遠赤外線のエネルギ量すなわち放射発散度が調節される。
【００１９】
また、前記ダウンブローユニット２４は、図示しないエア供給源に接続されているダクト３６と、そのダクト３６を介して供給される給気エアを必要に応じて加熱する為の加熱ヒータ３８と、その給気エアから塵埃を除去する為のフィルタ４０とをそれぞれ備えており、前記加熱部１２を構成する炉体４２の上部に貫設された給気口４４を介して前記炉室１８に清浄な冷気あるいは熱気を供給するものである。かかるダウンブローユニット２４は、図１に示すように、前記ヒータ２０の背面に向かって給気エアを供給するように配置されているが、前記ヒータ２０を構成する複数の長手状支持部材３２相互の間には１０ｍｍ程度の隙間が設けられていることから、その背面に供給された給気エアはその隙間を通って前記ヒータ２０の下方に位置する基板１６の中央に吹きつけられることになる。このとき、前記ダウンブローユニット２４によってその基板１６上に供給される給気エア量は、たとえばそれぞれ２ｍ３／ｍｉｎ以下程度であることが好ましく、ダウンブローユニット２４の開口面積はたとえば１ｍ２程度であることから、給気エアはその際には風速２ｍ／ｍｉｎ以下程度で供給されることになる。
【００２０】
図１の二点鎖線矢印は、上記炉体４２の炉床５０から排出される排気エアの流通を示す。この図に示すように、前記炉室１８内に供給された気体は、前記加熱部１２の下方に設けられた排気管４６の中途に備えられた排気ファン４８が駆動させられることにより、上記炉体４２の炉床５０に設けられた排気口５２からその排気管４６内に吸引されて外部に排出される。ここで、上記排気ファン４８と排気口５２との間には、その内部に熱交換器と集積部とを備えた冷却式トラップ５４が設けられており、上記炉体４２内から排出された気体はその冷却式トラップ５４を通過することで溶剤の蒸気濃度が低下させられることから、上記排気ファン４８のファンケーシング内における溶剤の結露が少なくなる。前記ヒータ２０は、前記長手状支持部材３２の長手方向が前記基板１６の搬送方向と垂直となるように、すなわち、図１において紙面と垂直となるようにその両端部において上記炉体４２に支持されている。また、上記炉体４２の両端部には、図１における左方に前記基板１６が炉体４２内に搬入される際に通過する搬入口５６が、右方に前記基板１６が炉体４２内から搬出される際に通過する搬出口５８がそれぞれ貫通して設けられている。
【００２１】
図３は、前記連続乾燥装置１０における上記搬入口５６近傍の外観を示す斜視図であり、図４は、その搬入口５６近傍の構成を詳しく示す断面図である。図１、図３、および図４に示すように、上記搬入口５６および搬出口５８それぞれの上方には、その搬入口５６または搬出口５８から立ち上る気体を所定の排気管６０に導く為の排気フード６２が設けられている。上述のように、前記炉室１８内に供給された気体のほとんどは、前記炉床５０に設けられている排気口５２およびそれに続く排気管４６を介して外部に排出されるが、上記搬入口５６および搬出口５８は前記基板１６が通過できるようにたとえば８０ｍｍ×６９０ｍｍ程度の寸法を備えて形成されたものである為、そこからは必然的に前記炉室１８内の気体が漏れ出す。かかる気体が作業室内に漏れ出るに任せておくと、悪臭が甚だしいばかりか作業者の健康を害する可能性もある為、上記所定の排気管６０を介して外部に排出されるのである。上記排気管６０と排気フード６２との接続部は、気体の漏れ出しがないようにシールされている。上記排気フード６２は、下方に向かうほど断面積が広くなる下向きに開口する周壁部６４を備えたものであり、その周壁部６４には、上記排気フード６２の内壁面６６に生じる前記溶剤の結露を防止する為に上記周壁部６４を加熱する板状の加熱装置６８がその周壁部６４の上部外側を覆うように取り付けられている。ここで、上記周壁部６４の下端には、その周壁部６４に前記溶剤が結露して伝い落ちてきた際にそれが前記基板１６に滴下するのを防止する為の返り７０が形成されており、液化した溶剤はその返り７０を辿って図示しない樋から前記基板１６に滴下することなく排出される。
【００２２】
また、図４に詳しく示すように、上記搬入口５６および搬出口５８の上部内周面７２には、その部分に前記溶剤が結露した場合にそれが下方を搬送される基板１６に滴下するのを防ぐ為の防滴板部材７４が設けられている。その防滴板部材７４は、たとえば長手矩形状の金属板において長手方向に平行な２辺の一方に対応する部分が曲げられて形成され、曲げられることにより峰状とされた部分が下端となるように若干傾斜させられた状態で前記炉体４２に固設されている。その為、上記搬入口５６および搬出口５８の上部内周面７２に前記溶剤が結露した場合、その液化した溶剤は上記防滴板部材７４を辿って図示しない樋から前記基板１６に滴下することなく排出される。また、好適には、上記搬入口５６および搬出口５８の上部内周面７２およびその防滴板部材７４に前記溶剤が結露するのを防ぐ為、その防滴板部材７４を加熱する為の加熱装置７６が取り付けられる。
【００２３】
また、前記炉体４２内には、図１および図２に示すように、前記給気口４４から前記基板１６に向かって流れる給気エアを整流する為に下方に向かうほど相互の間隔が広くなるように１対の給気整流傾斜板７８がそれぞれの給気口４４の近傍に設けられている。その１対の給気整流傾斜板７８は、好適には、下端において相互の間隔が前記基板１６の幅寸法よりも広くされたものであり、たとえばそれぞれ鉛直方向に対して１８〜２８°程度の角度範囲内で傾斜させられたものである。また、さらに好適には、図２に示すように、その下端において前記炉体４２の側壁面に固設されたものである。それらの給気整流傾斜板７８は、たとえばステンレススチールなどの材料から成り４２０ｍｍ×６００ｍｍ×ｔ１．２ｍｍ程度の寸法を備えたものであり、その給気口４４における上記炉体４２の長手方向と平行な２辺に連なるように前記炉体４２に固設されている。また、かかる基板１６の側縁より外側の位置には、たとえば網目を有する板状を成す１対の補助整流板８０が下方に向かうほど相互の間隔が狭くなるように設けられている。それらの補助整流板８０は、たとえばステンレススチールなどの材料から成り１３０ｍｍ×６００ｍｍ×ｔ１．２ｍｍ程度の寸法を備えたものであり、平均径５ｍｍφ程度の通気孔すなわち網目を多数備えて、上記給気整流傾斜板７８の略直下に位置するように前記炉体４２に固設されている。
【００２４】
また、前記搬送部１４は、前記炉室１８内を通って上記炉体４２の長手方向すなわち前記基板１６の搬送方向に延びる互いに平行な複数本（たとえば３本）の固定ビーム８２ａ、８２ｂ、８２ｃ（以下、特に区別しないときは単に固定ビーム８２と称する）と、それら固定ビーム８２に沿ってそれらの間に位置する互いに平行な１対の可動ビーム８４ａ、８４ｂ（以下、特に区別しないときは単に可動ビーム８４と称する）とを備えている。また、前記炉体４２には、前記基板１６の搬送方向（すなわち図１における左右方向）に延びる１対の長手状溝８６が炉床５０に形成されている。上記固定ビーム８２は何れもその炉床５０から立設された棒状の支持部材上に固定されているが、両側に位置する２本である固定ビーム８２ａおよび４６ｃはその長手状溝８６の外側に、残る１本である固定ビーム８２ｂはその１対の長手状溝８６によって上記炉体４２から分離されている部分の中央にそれぞれ位置させられている。また、上記１対の可動ビーム８４は、上記１対の長手状溝８６内において上記炉床５０を貫通するように設けられている可動支持部材８８上に固定されており、上記可動ビーム８４ａが固定ビーム８２ａの近傍に、上記可動ビーム８４ｂが固定ビーム８２ｃの近傍にそれぞれ位置させられている。
【００２５】
上記固定ビーム８２および可動ビーム８４には、それぞれ複数本の固定ピン９０および可動ピン９２が固着されている。図１に示すように、前記炉室１８内には、３つのヒータ２０の直下の位置に前記基板１６の搬送方向に連なる３つの停止位置９４ａ、９４ｂ、９４ｃ（以下、特に区別しないときには単に停止位置９４と称する）が設けられており、前記基板１６は、図の左方から右方に搬送される過程において、その３つの停止位置９４に順次停止させられるようになっている。その停止位置９４のそれぞれにおいては、前記炉室１８内で左端に位置する基板１６について示すように、その基板１６は複数本の上記固定ピン９０によって支持されている。なお、前記炉室１８内においては上記固定ビーム８２が部分的に省略されているが、その省略部分に位置する他の２枚の基板１６も同様に上記固定ピン９０によって支持されている。
【００２６】
また、前記可動支持部材８８は、前記基板１６の搬送方向に延びる１対の可動フレーム９６上に固定されている。その可動フレーム９６は、長手方向の３箇所に設けられた桟９８によって相互に連結されると共に、長手方向の２箇所において、下端部にローラ１０２を備えた１対のフレーム支持部材１００がそれぞれの外側に取り付けられている。そのフレーム支持部材１００のローラ１０２は、上記可動フレーム９６の下方に位置する１対のレール１０４に、その上下から挟み込むように係合させられている。その為、上記フレーム支持部材１００がそのレール１０４上を滑動させられることによって、上記可動フレーム９６が前記基板１６の搬送方向に移動させられるようになっている。
【００２７】
また、上記レール１０４上には、前記制御装置２２によって駆動制御される前後移動用モータ１０６が取り付けられており、同様にレール１０４上に固定された１対の軸受１０８によって支持されているネジ軸１１０が、そのモータ１０６に連結されてその軸心まわりに正転および逆転させられるようになっている。上記可動フレーム９６には、下方に延びて先端部に雌ネジ穴を有するナット１１２がネジ軸１１０に嵌め込まれている。その為、上記可動フレーム９６は、上記モータ１０６が回転させられてナット１１２がネジ軸１１０上をその軸心方向に移動させられることによって、上記フレーム支持部材１００がレール１０４上を滑動させられつつ長手方向の前後何れかに移動させられる。
【００２８】
また、前記１対のレール１０４の長手方向の両端部および中央部の３位置には、そのレール１０４から下方に延びる突片１１４がそれぞれ設けられると共に、その長手方向と垂直且つ水平方向に延びるクランク軸１１６ａ、１１６ｂ、１１６ｃ（以下、特に区別しないときは単にクランク軸１１６と称する）がそれぞれフレーム１１８上に固定された１対の軸受１２０によって支持されて設けられている。なお、図２において省略されている左方に位置する一方の軸受１２０は、上記ネジ軸１１０および固定ビーム８２の軸心を通る平面に関して右方の軸受１２０と対称位置に設けられている。それぞれのクランク軸１１６には、上記１対のレール１０４の間の位置において、それぞれに設けられている突片１１４に向かって延びる第１アーム１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ（以下、特に区別しないときは単に第１アーム１２２と称する）が相対回動不能に固定されており、その第１アーム１２２と上記突片１１４とは、上記クランク軸１１６に平行な軸心まわりの相対回動可能にそれぞれ係合させられている。また、それぞれのクランク軸１１６には、図２において右側に位置するレール１０４の外側位置において上方に向かって延びる第２アーム１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃ（以下、特に区別しないときは単に第２アーム１２４と称する）が相対回動不能に固定されている。すなわち、３つの第２アーム１２４は、その上端部が上記レール１０４と平行に延びるクランク連結棒１２６にそれぞれ相対回動可能に取り付けられることによって相互に連結されている。
【００２９】
前記レール１０４の長手方向の中央部に位置するクランク軸１１６ｂには、図２に示すように第２アーム１２４ｂのさらに外側位置に、その第２アーム１２４ｂと同じ形状を成して上方に向かって延びる第３アーム１２８が相対回動不能に取り付けられている。その第３アーム１２８の先端部は、前記モータ１０６の近傍に固定されている昇降用エアシリンダ１３０のロッド１３２先端部に取り付けられている。これら第３アーム１２８とロッド１３２とは、上記クランク軸１１６に平行な回動軸まわりの相対回動可能とされている。なお、上記シリンダ１３０は、上記フレーム１１８上に固定されているシリンダ支持部材の先端部に、クランク軸１１６に平行な回動軸まわりの相対回動可能に取り付けられており、上記ロッド１３２の突き出しおよび引き込みに伴って上記第３アーム１２８が回動させられることに起因するそのロッド１３２先端の高さ変化が吸収されるようになっている。
【００３０】
前述の図１は、上記シリンダ１３０からロッド１３２が最も突き出した状態を示している。この図に示す状態からそのロッド１３２が引き込まれると、その引き込みに伴って上記第３アーム１２８の先端が引かれ、上記クランク軸１１６ｂが相対回動させられる。その為、そのクランク軸１１６ｂに相対回動不能に取り付けられている上記第２アーム１２４ｂがその第３アーム１２８と同様に上記クランク軸１１６ｂまわりに相対回動させられ、その先端が図における左方向に移動させられる。ここで、前記第２アーム１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃの先端部は、何れも前記クランク連結棒１２６に相対回動可能に取り付けられていることから、前記第２アーム１２４ｂの回動に伴って前記クランク連結棒１２６がその長手方向すなわち図の左方向に移動させられることとなる。その為、その第２アーム１２４ｂに同期して他の第２アーム１２４ａ、１２４ｃも前記クランク軸１１６まわりに相対回動させられることとなる。
【００３１】
このとき、前記クランク軸１１６には、それぞれ１対の第１アーム１２２が相対回動不能に取り付けられていることから、前記第２アーム１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃが同期して回動させられるのに伴って、前記第１アーム１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃも同方向すなわち図１の左方向に回動させられることとなる。その為、３つの第１アーム１２２の先端部が上昇させられることによって、前記突片１１４を介して前記レール１０４が上昇させられることとなり、前記ロッド１３２の引き込みおよび突き出しに伴って、前記レール１０４上に設けられているモータ１０６や可動フレーム９６、その可動フレーム９６上に設けられている可動ビーム８４などが一体的に上昇および下降させられる。
【００３２】
図５は、前記制御装置２２の構成を説明する図である。前記ヒータ２０に設けられている温度センサ３４によって検出された温度信号は、温度設定機能および演算機能を備えた温度調節計１３４に入力される。この温度調節計１３４は、たとえばマイクロコンピュータによって構成されており、ＲＡＭの一時記憶機能を利用しつつ予めＲＯＭに記憶されたプログラムに従って、設定された温度制御データ並びに入力された温度信号を処理して、ヒータ駆動回路１３６へ面状ヒータ２６にそれぞれ備えられている発熱体３０を駆動させる為の電圧信号を出力する。なお、図には温度センサ３４または発熱体３０が一組だけ示されているが、前記ヒータ２０には多数の温度センサ３４が備えられていることから、たとえば上記温度センサ３４または発熱体３０の回路が多数設けられている。また、前記制御装置２２には、加熱時間、搬送速度、およびダウンブローの気体量などを設定する設定スイッチ１３８が設けられていると共に、タイマ１４０が内蔵されており、それらの設定信号やカウント信号、さらには光電センサなどから構成される位置検出センサ１４２からの位置信号が入力インターフェース１４４を介して演算制御回路１４６に入力される。この位置信号が入力されることにより、可動フレーム９６すなわち基板１６の停止位置が制御される。なお、可動ビーム８４上の基板１６を検出するセンサを設け、停止位置の検出と同時に基板１６の有無を検出してもよい。この演算制御回路１４６は、たとえばマイクロコンピュータによって構成されており、ＲＡＭの一時記憶機能を利用しつつ予めＲＯＭに記憶されたプログラムに従って入力信号を処理し、出力インターフェース１４８を介して、モータ駆動回路１５０へ前後移動用モータ１０６を駆動させる為の信号を供給し、また、シリンダ駆動回路１５２へ昇降用エアシリンダ１３０を駆動させる為の信号を供給し、さらに、ダウンブロー駆動回路１５４へダウンブローユニット２４を駆動させる為の信号を供給する。
【００３３】
以上のように構成された前記連続乾燥装置１０により、前記基板１６に乾燥処理を施す工程について説明する。所定の厚膜印刷が施された基板１６は、図１の左方から連続乾燥装置１０に供給されると、上記演算制御回路１４６の作動に従って前記搬送部１４によって右方に順次送られ、その過程で前記加熱部１２によって加熱乾燥される。すなわち、先ず、図示しない起動操作スイッチが操作されて起動信号が発生させられると、全てのヒータ駆動回路１３６に駆動信号が供給されて前記発熱体３０が発熱させられることにより、前記面状ヒータ２６の表面温度が温度調節計１３４によって個々に設定されている目標温度に向かわせられると共に、上記ダウンブロー駆動回路１５４に駆動信号が供給されて前記ダウンブローユニット２４が作動させられる。ここで、前記ヒータ２０の表面温度分布は、前記基板１６の一面を構成する複数の領域毎に各々の温度上昇特性に応じて温度上昇し難い領域ほど高い放射照度の遠赤外線を照射するように設定されるのが好ましい。
【００３４】
次いで、前記タイマ１４０によるカウントが一旦クリアされてから開始され、前記シリンダ駆動回路１５２に引込信号が供給されることにより、前記シリンダ１３０に前記ロッド１３２が引き込まれて、前記クランク軸１１６の回転に伴って第１アーム１２２が図１における左回りに回動させられ、前記レール１０４およびそれと一体化させられている可動ビーム８４が上昇させられる。このとき、前記可動フレーム９６に取り付けられているナット１１２は、前記モータ１０６に最も接近した位置であるネジ軸１１０の基端側の位置検出センサ１４２の上方に位置させられている。その為、前記可動ビーム８４は、図１に示される位置よりも左方であって、前記炉室１８の手前で待機させられている基板１６の直下に位置させられている。そのようにして前記ロッド１３２が終端まで引き込まれることにより可動ビーム８４がたとえば３０ｍｍ程度上昇させられる。このとき、前記可動ピン９２の先端が固定ピン９０の先端の上側に突き出させられることから、前記基板１６が固定ピン９０から浮上させられてその可動ピン９２によって支持される。
【００３５】
次いで、前記モータ駆動回路１５０に正転信号が供給されることにより、前記前後移動用モータ１０６が正転駆動されると、前記ネジ軸１１０の回転に伴って可動フレーム９６が図１の右方向に移動させられ、前記可動ピン９２によって支持されている４枚の基板１６がその右方向に移動させられる。そして、前記ナット１１２がネジ軸１１０の先端部まで移動させられたことがその先端側の位置検出センサ１４２によって検出されると、前記モータ１０６が停止させられる。このとき、前記可動ビーム８４は、図１に示す右端位置に位置させられている。続いて、前記シリンダ１１４からロッド１３２が突き出させられることにより、前記クランク軸１１６の回転に伴って前記第１アーム１２２が図１の右回りに回動させられて前記レール１０４が徐々に下降させられ、それと一体化させられている前記可動ビーム８４が下降させられる。それに従って、前記可動ピン９２が下降させられて前記固定ピン９０がその可動ピン９２よりも突き出させられることから、前記炉室１８内の基板１６は、その炉室１８内に設けられている各停止位置９４ａ、９４ｂ、９４ｃにおいて固定ピン９０によって支持され、その炉室１８外に搬出された基板１６は、炉室１８に続いて設けられている停止位置９４ｄにおいて固定ピン９０によって支持される。なお、その停止位置９４ｄで固定ピン９０によって支持された基板１６は直ちに右方に送られることから、かかる基板１６の移動時にはその停止位置９４ｄは開けられた状態となっているのである。
【００３６】
前記ロッド１３２の突き出しが終了すると、前記モータ駆動回路１５０に逆転信号が供給されることにより、前記モータ１０６が逆転させられてレール１０４が左方に移動させられる。このとき、前記レール１０４は下端位置まで下降させられていることから、前記可動ビーム８４上の可動ピン９２によって前記基板１６が支持されていない為、その基板１６は上述の移動後の各停止位置９４に停止した状態で保たれている。前記モータ１０６の駆動によってナット１１２が当初位置させられていた基端位置すなわち戻り端位置まで移動させられると、その基端側の位置検出センサ１４２によってナット１１２が検出されてモータ１０６が停止させられる。
【００３７】
前記基板１６に乾燥処理が施される間、前記タイマ１４０によるカウントが開始されてから所定時間経過したか否かが前記制御装置２２により判断される。ここでタイムアップと判定されるまでの間、前記基板１６は移動させられず、各停止位置９４でヒータ２０によって加熱されると同時にダウンブローユニット２４から基板１６中央に向かって熱気あるいは冷気が供給されることとなる。ここで、前記炉体４２内に１対の給気整流傾斜板７８が設けられていることで、図２において＊印で示すような対流により給気エアが渦を成しがちな前記炉体４２内の上部の隅にその給気エアが流れ込み難くなり、前記給気口４４から給気された給気エアが炉体４２内において澱むことなく前記基板１６の側縁より外側の位置から下方に向かって排気される。また、前記１対の補助整流板８０が設けられていることで、前記炉体４２内を流通する給気エアの密度が部分に依らずに均一なものとされる。
【００３８】
また、前記基板１６に乾燥処理が施される間、前記炉体４２内の気体は前記搬入口５６および搬出口５８から少なからず漏れ出す。図４の二点鎖線矢印は、前記炉体４２内から漏れ出す気体の流通を示す。前記搬入口５６および搬出口５８から漏れ出した気体は、前記排気フード６２および排気管６０を介して外部に排出されるわけだが、その排気フード６２が前述のように下方に向かうほど断面積が広くなる下向きに開口する周壁部６４を備えたものであることから、図４に示すように、立ち上る気体の流れがその排気フード６２内において澱むことなくその周壁部６４に沿うようにして前記排気管６０に導かれるのである。
【００３９】
前述の各停止位置９４は前記ヒータ２０の直下に設けられており、そのヒータ２０の表面温度分布は基板１６の各領域における温度上昇特性に対応して設定されている。前述のように加熱が開始されてから予め設定されたたとえば１〜１０分程度の所定時間経過することにより一連の工程が終了させられる。このとき、前記基板１６は、各停止位置９４ａ、９４ｂ、９４ｃ毎にそれぞれ設定されている温度となっている。その後、以上の各工程が繰り返し実行されることによって、前記基板１６がそれぞれ次の停止位置９４に所定のサイクルで間歇的に搬送され、停止位置９４ａにおいて昇温させられ、停止位置９４ｂにおいて所定温度に保持（キープ）され、あるいは停止位置９４ｃにおいて降温させられ、さらに、停止位置９４ｄに取り出される。これにより、連続乾燥装置１０に送られてくる基板１６が間歇的に搬送される過程で順次乾燥処理されて次工程に送られる。
【００４０】
このように、本実施例によれば、前記炉体４２内から漏れ出して前記搬入口５６または搬出口５８から立ち上る気体を所定の排気管６０に導く為にその搬入口５６および搬出口５８それぞれの上方に設けられた排気フード６２と、その排気フード６２の内壁面６６に生じる前記溶剤の結露を防止する為にその排気フード６２を構成する周壁部６４を加熱する加熱装置６８とを含むことから、かかる排気フード６２の温度が所定の温度範囲内となるようにその加熱装置６８によりその排気フード６２を構成する周壁部６４を加熱することで、その排気フード６２の内壁面６６に生じる前記溶剤の結露を防止することができる。すなわち、炉体４２内において蒸発させられた溶剤の結露および滴下を防止する連続乾燥装置１０を提供することができる。
【００４１】
また、前記排気フード６２は、下方に向かうほど前記周壁部６４によって囲まれる断面積が広くなるように下向きに開口するものであり、前記加熱装置６８は、前記周壁部６４の上部を加熱するものである為、前記炉体４２内から漏れ出して前記搬入口５６または搬出口５８から立ち上る気体の流れがその排気フード６２内において澱むことなく前記排気管６０に導かれる為、その排気フード６２内において気体に含まれる溶剤の蒸気濃度が局所的に高くなり難いという利点がある。
【００４２】
また、前記炉体４２の上部に貫設された給気口４４から前記基板１６に向かって流れる給気エアを整流する為に下方に向かうほど相互の間隔が広くなるように設けられた給気整流傾斜板７８と、前記給気口４４から前記基板１６に向かって給気エアを供給し、前記給気整流傾斜板７８を通してその基板１６の側縁より外側の位置から下方に向かってその給気エアを排気する給気装置であるダウンブローユニット２４とを含むことから、対流により前記給気エアが渦を成しがちな前記炉体４２内の上部の隅にその給気エアが流れ込み難くなり、前記給気口４４から給気された給気エアが炉体４２内において澱むことなく前記基板１６の側縁より外側の位置から下方に向かって排気される為、その炉体４２の上部内壁面に生じる前記溶剤の結露を防止することができる。すなわち、炉体４２内において蒸発させられた溶剤の結露および滴下を防止する連続乾燥装置１０を提供することができる。
【００４３】
また、前記給気整流傾斜板７８は、下端において相互の間隔が前記基板１６の幅寸法よりも広くされたものである為、前記給気整流傾斜板７８に前記溶剤が結露したとしても、その給気整流傾斜板７８を伝い落ちて前記基板１６の側縁より外側に滴下する為、前記基板１６に不具合を生じさせないという利点がある。
【００４４】
また、前記搬入口５６および搬出口５８の上部内周面７２には、その上部内周面７２に前記溶剤が結露した場合にそれが前記基板１６に滴下するのを防ぐ為の防滴板部材７４が設けられており、さらに、上記搬入口５６および搬出口５８の上部内周面７２およびその防滴板部材７４に前記溶剤が結露するのを防ぐ為、その防滴板部材７４を加熱する為の加熱装置７６が取り付けられている為、前記溶剤の結露および液化した溶剤が前記基板１６に滴下するのをより好適に防止することができるという利点がある。
【００４５】
また、前記炉体４２の炉床５０に貫設された排気口５２と、その排気口５２に前記排気管４６を介して接続された排気ファン４８との間に冷却式トラップ５４が設けられており、前記炉体４２内から排出された気体はその冷却式トラップ５４を通して外部に排出されるものである為、前記排気ファン４８の内部に前記溶剤が結露し難く、その排気ファン４８の整備および清掃が少なくて済むという利点がある。
【００４６】
以上、本発明の好適な実施例を図面に基づいて詳細に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、さらに別の態様においても実施される。
【００４７】
たとえば、前述の実施例においては、所謂ウォーキングビーム搬送方式の搬送部１４が設けられていたが、本発明はこれに限定されるものではなく、たとえば搬送部にベルトコンベアを用いたもの、あるいは所謂ローラハースキルンに本発明が適用されても当然に構わない。
【００４８】
また、前述の実施例では特に言及していないが、本発明の連続乾燥装置は、たとえばＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ　Ｄｉｓｐｌａｙ　Ｐａｎｅｌ）用ペースト乾燥炉・焼成炉、レジストベーク炉、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）用配向膜乾燥炉・焼成炉、シール乾燥炉・焼成炉、レジストベーク炉、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ　Ｄｉｓｐｌａｙ）用レジストベーク炉などとして好適に用いられるものである。
【００４９】
また、前記排気フード６２において、前記加熱装置６８は、前記周壁部６４の上部外側を覆うように取り付けられていたが、かかる排気フード６２の温度が所定の温度範囲内すなわち前記溶剤が結露し難い温度範囲内となるようにその周壁部６４を加熱し得るものであれば、その加熱装置６８の取り付けられる部分または範囲などは問わない。また、前記排気フード６２に取り付けられる加熱装置は板状を成すものでなくとも構わない。
【００５０】
また、前述の実施例では特に言及していないが、前記排気フード６２に取り付けられた加熱装置６８および前記防滴板部材７４に取り付けられた加熱装置７６は、前記制御装置２２によってその駆動が制御されるものであっても構わない。
【００５１】
また、前記炉体４２内に設けられた１対の給気整流傾斜板７８は、図１などに示すように、前記給気口４４における炉体４２の長手方向と平行な２辺と同程度の長さ寸法を備えて各給気口４４に１対ずつ設けられたものであったが、これはたとえば前記炉体４２と同程度の長手方向長さ寸法を備えた１対の給気整流傾斜板がその炉体４２内に前記複数の給気口４４に共通して対応し得るように設けられるものであっても構わない。
【００５２】
その他一々例示はしないが、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更が加えられて実施されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例である連続乾燥装置の構成を示す断面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ視断面図である。
【図３】図１の連続乾燥装置における搬入口近傍の外観を示す斜視図である。
【図４】図１の連続乾燥装置における搬入口近傍の構成を詳しく示す断面図である。
【図５】図１の連続乾燥装置の制御装置の構成を説明する図である。
【符号の説明】
１０：連続乾燥装置
１６：基板
２４：ダウンブローユニット（給気装置）
４２：炉体
４４：給気口
５６：搬入口
５８：搬出口
６０：排気管
６２：排気フード
６４：周壁部
６６：内壁面
６８：加熱装置
７８：給気整流傾斜板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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