(57)【要約】【課題】確実にインクジェットヘッドのクリーニングを実施でき、他装置に対して安全であり、かつ成膜プロセスの妨げにならないクリーニング装置を搭載した高分子膜形成装置を提供する。【解決手段】基板に高分子膜を形成する過程において、定期的にインクジェットヘッド内部をクリーニングするようにし、クリーニング後にインクジェットヘッド吐出面を拭き取る際、インクジェットヘッド吐出面に対して規定の角度傾斜させた状態に固定された弾性を有する板状のブレードを使用し、拭き取った後ブレードに付着した材料等を吸引機構によって除去する。【選択図】　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子系材料を吐出するための複数の吐出口を備えたインクジェットヘッドと、前記インクジェットヘッドの吐出口及びその周縁部を拭き取るためのブレードと、前記ブレードを前記インクジェットヘッドの吐出面に対して所定の角度で固定する固定溝を有するブレード支持具とを備え、前記ブレードの前記ブレード支持具からの露出高さを前記固定溝深さの１／５以下とし、前記ブレード支持具の前記固定溝の内側に吸引溝を設け、前記吸引溝と真空発生装置とを連通するための開口を設けたことを特徴とする高分子膜形成装置。
【請求項２】
液体状の高分子系材料を吐出するため複数の吐出口を備え、前記吐出口毎に吐出圧を発生する駆動機構を備えたヘッド本体と、前記ヘッド本体内部と吐出口の外側面を清掃するクリーニング機構を備え、前記クリーニング機構が、前記ヘッド内部を洗浄する洗剤を供給する洗剤供給機構部と、ヘッド内部の高分子材料及び洗剤を吸引排出し、ヘッド内部に高分子材料を充填するための充填機構部と、ヘッド吐出口面の高分子材料を拭き取るためのブレードと、拭き取った高分子材料を排出するための吸引溝を備えた拭き取り機構部とからなることを特徴とする高分子膜形成装置。
【請求項３】
請求項２記載の高分子膜形成装置において、
前記充填機構部と前記拭き取り機構部を高分子材料を吐出する基板を保持するテーブル端部に設け前記テーブルを基板の主面方向に移動可能に構成し、前記テーブルの端部にヘッド保護装置を設けたことを特徴とする高分子膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、インクジェットヘッドを用いた高分子膜形成装置に係り、特に、インクジェットヘッドの吐出特性を安定化する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、高分子系有機ＥＬ表示素子を製造する場合に、発光層材料や正孔輸送層材料といった高分子膜をインクジェット方式により基板に形成することが主流となりつつある。この場合、高分子膜形成いわゆる成膜は、インクジェットヘッド吐出口より高分子系材料を吐出しつつ、ステージ上に固定した基板、又はヘッドを、相対的に移動させて行う。この場合、基板上に高分子膜を均一に形成するためには、インクジェットヘッドの各吐出口より吐出する各液滴の容量を常時一定にすることが重要である。
【０００３】
しかし、インクジェットヘッドにおいては、吐出口またはその周縁部に吐出材料や、その吐出材料にゴミ等の異物が付着することで、吐出量が変化する場合がある。また、使用する高分子系材料における溶媒成分の揮発性が高く、溶媒の揮発により高分子材料の粘度が増加し、そのためインクジェットヘッド内部の流路に材料が蓄積することで、吐出口の目詰まり等を発生し吐出特性が不安定になる場合もある。そこで、吐出特性を安定化するためにクリーニング装置が設けられている。
【０００４】
従来のインクジェットヘッドのクリーニング装置として、特開平６−１１５０８３号公報に記載のものがある。
【０００５】
この公報には、インクジェットプリンタ等のインクを使用する機器においては、上記拭き取りフェイズの具体的なものに、弾性ブレードに弾性ブレードとインクジェットヘッドノズル面との接触面側に開口するエア吸引用貫通孔を設け、前記ノズル面の拭き取り動作時に前記エア吸引用貫通孔に負圧を共有する負圧供給手段を設けた構成のものがある。
【０００６】
また、特開平７−２５０１６号公報には弾性ブレードをその断面を多角形とした柱状とし、その角部の稜線で線接触による拭き取り（ワイピング）すると共に、多角形の傾斜部に吸引口を複数設けて拭き取ったインクを吸引する構成が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】
特開平６−１１５０８３号公報
【特許文献２】
特開平７−０２５０１６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
従来の技術を用いた装置においては、ブレードを撓ませ、その弾性回復力でインクジェットヘッドの吐出口を拭き取ることになる。そして、拭き取り時にブレード自体に設けた吸引口から拭き取った高分子材料を吸引できるようにしている。しかしこの構成では、ブレード周辺部に付着した高分子材料、及び吸引口からはずれて吸い取れなかった高分子材料に関しては何ら考慮されていない。そのため、拭き取り終了後にブレードが拭き取る前の形状へ自然に回復する反動で、ブレード周辺に付着した高分子系材料等が周囲に飛散し装置内部を汚してしまう問題がある。
【０００９】
また、高分子系有機ＥＬ表示素子に使用される発光層材料の種類によっては、その溶媒成分にオルソキシレンが含有されているものがある。この溶媒成分はふっ素を含まないゴムや熱可塑性樹脂に対して腐食性を示すことから、上記問題は耐腐食対策を施していない装置部品に対して、最悪損傷させる問題を新たに発生させている。
【００１０】
また、上記構成をそのまま高分子膜形成装置に適用すると、ブレードの材質により一部の高分子系材料には使用できないという問題が残る。また、ブレードを一体成形として製作した後のバリ取り等、ブレードの製作工数が多い問題も残る。
【００１１】
本発明の目的は、前記従来技術の問題を解決し、インクジェットヘッドを確実に清掃できると共に、ヘッド内に高分子材料を確実に充填できる装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、高分子系材料を吐出するための複数の吐出口を備えたインクジェットヘッドと、インクジェットヘッドの吐出口及びその周縁部を拭き取るための弾性を有するブレードと、ブレードを規定の角度をなすように固定する固定溝を有するブレード支持具とを備え、ブレードはブレード支持具からの露出高さをヘッドの接触したときに大きな撓みを生じないような高さに設定し、ブレード支持具には吸引溝を前記ブレードの姿勢を固定する溝の内側に設け、さらに、吸引溝と真空発生装置と連通するための開口を設けた、高分子膜形成装置を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図１に本発明の一実施形態になる、インクジェットヘッドを用いた高分子膜形成装置の概略図を示す。架台１上には門型フレーム２が固定されている。門型フレーム２の横梁の前面中心付近には、Ｚステージ３が架台１上面と直角に固定されている。Ｚ軸ステージ３には、その前面に設けたヘッドブラケット６を上下動するためのＺ軸駆動モータ４が設けてある。このヘッドブラケット６にはインクジェットヘッド本体５が固定される構成となっている。
【００１４】
また、門型フレーム２の脚の間の架台１上面には、Ｘステージ９が固定されている。このＸステージ９の上面には、Ｙステージ１１が取付けてあり、このＹステージ１１は、Ｘ軸駆動モータ１０を駆動することにより、図面上において左右（Ｘ）方向に移動するようになっている。Ｙステージ１１の上にはθ回転ユニット１３が取付けられ、このθ回転ユニット１３が、Ｙ軸駆動モータ１２を駆動することにより、図面上において手前奥行（Ｙ）方向に移動するようになっている。θ回転ユニット１３上には吸着テーブル１４が、架台１上面と平行に固定されている。この吸着テーブル１４は、θ回転ユニット１３に設けてある駆動モータによりθ方向に回転できるようになっている。本構成とすることで、基板を基板の主面方向（Ｘ、Ｙ、θ方向）に移動可能にしている。
【００１５】
なお、吸着テーブル１４の上面には微細な吸引穴が複数設けてあり、図示しない真空発生装置と連通されている。この吸着テーブル１４上面に搭載した基板１７を吸引穴から負圧を供給することで、テーブル上面に吸着保持する。また、吸着テーブル１４前側の端面にはインクジェットヘッド５（以下単にヘッドという場合もある）のクリーニング装置１５が固定されている。本実施形態では、インクジェットヘッド５のクリーニング装置１５は吸着プレート１４前面に配置したが、θ回転ユニット１３の回転可能な角度に応じて吸着テーブル１４前面以外の側面のいずれかに設置しても良いことは言うまでもない。なお吸着テーブルはここでは負圧による吸引吸着機構としたが、静電吸着機構等の他の保持手段を用いても良い。
【００１６】
上記構成とすることで、吸着テーブル１４上に設置された基板１７の表面とインクジェットヘッド５の吐出面２３（図２（ｂ）参照）とが互いに平行に対向する。
【００１７】
なお、インクジェットヘッド５を駆動するＺ軸駆動モータ４の下降ストロークは、少なくともインクジェットヘッド５がクリーニング装置１５に届く距離も大きく移動できるように設定してある。
【００１８】
図２（ａ）は、本実施形態に用いているインクジェットヘッド周辺の配管系概略図を示す。同図において、インクジェットヘッド５への高分子系材料の供給は、インクジェットヘッド５の供給口２０に供給チューブ２１を接続し、蓄積容器２２と連通させ、蓄積容器２２に圧縮気体を供給することで行う構成となっている。又同配管には、クリーニング機構の一部を構成する三方分岐部７１を備えており、供給チューブ２１’に設けた開閉弁７２により洗剤タンク７０からインクジェットヘッド５へ洗浄液を供給できるように構成してある。なお後述するクリーニング機構部に設けた充填機構部（吸引機構）で、洗剤をヘッドの吐出口から吸引する構成としている。また、洗剤タンク７０にも図示していないが圧縮気体を供給できるようにして、弁７２を開状態で、圧縮気体を洗剤タンクに供給することでインクジェットヘッド５の内部を洗浄する構成としてもよい。さらに、図示していないが洗浄時に蓄積容器側に洗剤が流れ込まないように、三方分岐部７１の蓄積容器２２側にも弁が設けてある。このように、二方弁を設ける代わりに、三方分岐部７１の所を三方分岐弁としてもよい。このように高分子材料供給チューブ２１の途中から洗浄液を、インクジェットヘッド５に流すことができる構成とすることで、インクジェットヘッド５を内部から自動的に洗浄することも可能にしてある。
【００１９】
図２（ｂ）は、本実施形態にて用いるインクジェットヘッド底面（吐出面）の概略図を示す。同図において、底面２３の内側にオリフィスプレート２４が貼り付けられており、さらにその内側に吐出口２５が直線状に複数設けてある。高分子系材料はインクジェットヘッド５内部に、吐出口に対応して設けた図示しない圧電素子で構成された吐出機構部によって、吐出口２５より微細な液滴として吐出される。なお、吐出機構部は、前記の圧電素子に方式に限らず空圧を加える機構等でも良いことは云うまでもない。
【００２０】
図３は、本実施形態のインクジェットヘッドのヘッドクリーニング装置の概略断面図である。本実施形態によるクリーニング装置は、充填機構部Ｓ１と拭き取り機構部Ｓ２に分けられる。充填機構部Ｓ１には、インクジェットヘッド５の吐出口２５の周囲を覆うために配置したパッキン３０と、このパッキン３０より内側に開口部を備えている。この開口部には、高分子系材料等を吸引する溝３１と、溝３１に連通した継手受口３２と、継手受口３２に配管３５を接続する継手３３とが設けてある。配管３５には途中に三方弁３４が設けてあり、この三方弁３４と継手３３の間に大気開放弁５０を設けてある。なお、パッキン３０の材質について本実施形態では、硬度が適当で幅広い溶剤に耐性を有するふっ素ゴムを用いているが、使用する高分子系材料により適宜変更しても良く、例えばシリコンゴムとしても良い。
【００２１】
そして拭き取り（掻き取り）機構部Ｓ２には、ブレード４０と、ブレード４０を固定するブレード支持具４１と、拭き取った高分子材料を吸引するための吸引穴４２と、吸引穴４２に連通した継手受口４３と、継手受口４３に配管５２を接続する継手４４とからなる。この配管５２は充填機後部Ｓ１に設けた配管５１を取付けた三方弁３４の１つの口に接続されている。
【００２２】
この三方弁３４に接続された配管５３は、配管５１及び配管５２から流入する廃液を一時的に蓄積する蓄積容器４５に接続されている。この蓄積容器４５には、内部を負圧にする真空発生装置４６とに接続される配管５４が設けてある。ブレード４０はブレード支持具４１によってその上面に対して所定の角度θ（例えば４５度〜７５度程度）および所定の露出高さ（突出部高さ）ｈ１となるように固定される。このようにブレード４０を角度θに傾けることにより、ヘッド５の底面に対してブレードの先端側の角部で接触する。このため、ブレードとヘッドとは線接触して高分子材料を拭き取ることになる。本実施形態では、この吸引する吸引穴４２をブレード４０の傾斜θに合わせて拭き取った高分子材料がブレード面に沿って形成された空間から吸引穴４２に取り込まれるように構成してある。このため、拭き取りの際にブレード４０は、図の様に吸引穴４２の設けてある方向に移動して拭き取りを行うようにしている。
【００２３】
また、ブレード支持具４１の上面からのブレード４０の突出高さｈ１は、できるで小さい方が良いが、本実施形態では、充填機構部のＳ１の上面に設けたパッキン３０の上面より０．５〜０．７ｍｍ程度高い位置、または、ブレード取り付け溝深さに対して１／５以下、１／１０以上となるように設定してある。このようにブレード４０の突出高さｈ１を小さくした理由は、高分子材料を拭き取る際にブレード４０がほとんど変形せずに、ブレード４０の変形による戻り時の高分子材料の飛散をほとんど無くしたものである。また、ブレード取り付け溝部を吸引用の溝と兼用する構成して、ブレードの表面から流れ落ちる高分子材料を全て吸引できるようにして、装置への汚染を極力防止するようにしたものである。さらにまた、パッキン３０の面より高く設定することで、充填機構部Ｓ１の近傍に設けたブレード４０によってヘッド吐出面の高分子材料を拭き取り作業時に、ヘッドが吐出面がパッキン３０に接触することを防ぐためである。
【００２４】
充填機構部Ｓ１と拭き取り機構部Ｓ２とは、クリーニング後速やかに成膜プロセスを実施できるよう近傍に配置、隣接して配置するのが望ましい。
【００２５】
図４は、本実施例で用いられるブレード支持具４１をさらに詳細に説明するものである。ここでは図２（ｂ）を一部引用しており、合わせて説明する。
【００２６】
ブレード支持具４１には、ブレード４０をはめ込むためのブレード嵌合溝５５と、ブレード嵌合溝５５の奥にはエア吸引溝５６が設けてある。ブレード４０はブレード嵌合溝５５の傾斜面の一方側（重力作用方向面側）に取り付け、他方側は吸引用のエアーがブレード面上を流れて、ブレード面に付着した高分子材料を吸引溝５６に吸い込むことができるように、所定の空間ができるようにしてある。エア吸引溝５６は、真空発生装置４６より発生する吸引力をインクジェットヘッド本体５の吐出口２５に伝達するものであり、エア吸引溝５６の溝幅ｈ２は、吸引力を伝達でき、かつブレード嵌合溝５５より小さければどのような形状でも良い。また、ブレード嵌合溝５５とエア吸引溝５６の溝形状については、ブレード４０の形状に合わせて適宜変更しても良い。
【００２７】
ブレードの材質について本実施形態では、硬度が適当で幅広い溶剤に耐性を有するシリコン樹脂を用いているが、使用する高分子系材料により適宜変更してもよい、例えばふっ素ゴムとしても良い。
【００２８】
次に、前記構成の高分子膜形成装置の動作について図７〜図９のフローチャトおよび図５、図６の清掃機構の図、及び図１０、図１１のヘッド保護装置の図を用いて説明する。図１０はヘッド保護装置の側面図で、図１１はヘッド保護装置の上面図である。
【００２９】
まず、成膜装置を起動すると、インクジェットヘッド５を保護するために吸着テーブル１４端部に設けてあるヘッド保護装置（図１０、１１）から取り外す（ステップ１０１）。このヘッド保護装置８０は、吸着テーブル１４のいずれかの端部取り付けた保護装置受け台８１に取り付けてある。また保護装置受け台８１には、エアシンリンダ８２が設けてある。このエアシリンダ８２は配管８４、８５によって圧縮気体の供給、又は排気を行う構成となっている。このエアシリンダに圧縮気体を供給又は排気することで、ピストン８８を伸ばし、そのピストン８８の前側に設けた爪８３を矢印９０方向に移動させることができる構成としている。この爪８３はヘッド保護装置８０を保護装置受け台８１に挟み込むことで、ヘッド保護装置８０が移動しないように固定するものである。ヘッド保護装置８０の中央部付近にはインクジェットヘッドの先端側の部分を嵌め込むように、ヘッド外周に相似の溝８６が設けてある。また、図１１に示すようにヘッド保護装置８０の溝８６の長手方向の両外側にヘッドブラケット６に磁気力を作用させて、インクジェットヘッド５がヘッド保護装置８０からずれないように固定するための磁石８７が設けてある。
【００３０】
通常、基板への高分子膜の塗布が全て終了すると、吸着テーブル１４を移動して、ヘッド保護装置８０が、インクジェットヘッド５の下に位置するようにする。そして、ヘッドブラケット６を矢印８９の下方に移動させて、インクジェットヘッド５の先端部分をヘッド保護装置８０の溝８６内に収納させている。ヘッド保護装置８０からインクジェットヘッド５を取り外すときは、磁石８７の磁気力よりも大きな力をヘッドブラケット６に上向きに作用させて行う。
【００３１】
なお、本実施形態ではヘッド保護装置８０を保護装置受け台８１に固定するためにエアシリンダ８２によりピストン８８を駆動して、爪８３を移動して行っているが、駆動源としてモータを用いてもよく、又は手動で爪８３を移動するようにしてもよい。このように、ヘッド保護装置８０は簡単に取り外せるようにして、ヘッドを収納する溝８６が汚れた時に簡単に洗浄できるようにしている。なお、後述するように、ヘッド保護装置８０をインクジェットヘッドに取り付け、保護装置受け台８１から離間させて作業を終了するようにしてもよい。
【００３２】
次に、インクジェットヘッド部をクリーニング装置１５の充填機構部Ｓ１の位置に移動し、そこでまずインクジェットヘッド内部および外側をクリーニングする（ステップ１０２）。
【００３３】
このクリーニング動作を図５、および図６を用いて説明する。
【００３４】
すなわち、図５に示すように、インクジェットヘッド５を充填機構部Ｓ１の真下に位置するようにＸステージ９およびＹステージ１１を移動させ、θ回転ユニット１３により水平になるよう回転させた後、Ｚ軸駆動モータ４によりインクジェットヘッド５の底面２３とパッキン３０とが当接する位置まで下降させ、さらにパッキン３０をわずか潰し、外気との密閉性を確保する。続いて、三方弁３４を充填機構部Ｓ１に切り替え、かつ図２に示す弁７２を開放して、真空発生装置３５を起動させ、洗剤容器７０内を負圧にする。これにより、インクジェットヘッド５に洗剤を流すことが可能となる。この動作でインクジェットヘッド５内部を洗剤で洗浄できる。なお洗剤を所定量流した後で、図２には示していないが、蒸留水を同じくインクジェットヘッド５内部に流して洗剤を洗い流すようにしても良い。
【００３５】
この動作により溝３１内が負圧になり、インクジェットヘッド５の吐出口２５より高分子系材料や洗剤を矢印６０方向に吸引し、インクジェットヘッド５内部のゴミ、増粘材料を吸引する。そして、一定時間経過後に真空発生装置４５を停止させ大気開放弁５０を開き流路内を大気開放させ、Ｚ軸駆動モータ４によりインクジェットヘッド５を上昇させ充填機構部Ｓ１と離す。なお、矢印６１の方向へインクジェットヘッドを移動させてパッキン３０に密着させているが、充填機構部本体を移動させても良い。
【００３６】
次に、インクジェットヘッドを拭き取り機構部Ｓ２側に移動させる。なお、インクジェットヘッド本体５と充填機構部Ｓ１との距離が拭き取り機構部Ｓ２のブレード４０の露出面高さｈ１より低く設定してある。そして、インクジェットヘッド５の吐出口２５表面に致命的なダメージを与えない押圧力をブレード４０より発生させうる拭き取り高さｈ３になる位置でＺ軸駆動モータ４を停止させる。続いて、三方弁３４を拭き取り機構部Ｓ２に切り替え、真空発生装置４６を起動し、インクジェットヘッド５を進行方向６３へ移動させる。なお本実施形態におけるインクジェットヘッド５の移動軌跡は矢印６２となる。
【００３７】
なお、本実施形態では、図中矢印６３の方向へインクジェットヘッド５を移動させているが、拭き取り機構部Ｓ２を左右移動させて吐出口２５を拭き取るようにしても良い。この時の拭き取り機構部Ｓ２の移動軌跡は矢印６２を１８０度回転させたものとなる。ブレード４０の吐出口２５との接触位置が図中左端を越えた時点でインクジェットヘッドのクリーニング動作は完了する。
【００３８】
ヘッド部のクリーニングが終了すると、再びインクジェットヘッドを充填機構部Ｓ１に移動し、上記のように位置合わせ後、Ｚ軸駆動モータ４によりインクジェットヘッド５の底面２３とパッキン３０とが当接する位置まで下降させ、さらにパッキン３０をわずか潰し、外気との密閉性を確保する。続いて、三方弁３４を充填機構部Ｓ１に切り替え、真空発生装置３５を起動させ、蓄積容器４５内を負圧にする。これにより、蓄積容器４５内の高分子材料をインクジェットヘッド５内に吸引、充填する（１０３）。なお、充填時にインクジェット吐出口２５より高分子材料が洩れることがあるため、この後、ブレード４０により拭き取り動作を行う。
【００３９】
インクジェットヘッド５内に高分子材料が充填されると、成膜前処理の工程（ステップ１０４）に移る。
【００４０】
この前処理工程は図８に示すように、成膜装置の吸着テーブル１４上に薄膜を形成する基板１７が搬入される（４０１）。基板１７が吸着テーブル１４上に搬入されると、図示していない、真空装置を駆動して吸着テーブル１４に設けた複数の吸着孔に負圧が供給され、基板１７はこの吸引力で吸着テーブル１４上に固定される。その後吸着テーブルの下側に設けてあるＸ，Ｙステージ９，１１およびθ回転ユニット１３の駆動モータを駆動して位置決めを行う（ステップ４０３）。これで前処理が終了し、成膜処理を行う（ステップ１０５）。成膜処理が終了すると成膜後処理に移る（ステップ１０６）。この成膜後処理（ステップ１０６）は、図９に示すように、まず、吸着テーブル１４に負圧を供給している真空発生装置を停止することで、負圧の供給を止める。これにより基板１７の固定が解除される（６０１）。その後基板１７を装置の外に搬出（ステップ６０２）して成膜後処理を終了する。
【００４１】
成膜処理が終了すると、成膜処理した基板枚数が成膜処理する規定枚数に達したかどうかを判定する（ステップ１０７）。成膜処理した基板枚数が所定数に達しているときは、先に説明したクリーニング処理（ステップ１０２）と同じようにヘッドのクリーニング処理を実行（ステップ１０９）する。その後、インクジェットヘッド５の位置にヘッド保護装置８０が来るように、吸着テーブル移動し、位置合わせ後、インクジェットヘッド５をヘッド保護装置８０に設けた溝８６に収納するように移動することで、インクジェットヘッド５にヘッド保護装置を取り付けて（ステップ１１０）、成膜処理を終了する。
【００４２】
ステップ１０７で処理基板枚数が規定枚数に達していないときは、それまで処理した基板枚数がクリーニング処理を行う枚数に達しているか否かを判定する（ステップ１０８）。クリーニング処理枚数に達しているときは、ヘッドクリーニング処理工程（ステップ１０２）へ、処理枚数に達していないときは成膜前処理工程（ステップ１０４）へ戻り、先に説明した工程に従って処理を行う。
【００４３】
なお上記工程では、インクジェットヘッドのクリーニングを装置起動時、および成膜終了時に行うようにしているが、成膜終了時にクリーニング処理を行えば、装置起動時はクリーニング処理を行わずに、充填処理から行うようにしても良い。
【００４４】
本実施形態によるクリーニング装置を使用する状況は、先に示したように規定の基板枚数毎に行っても良いし、または基板が規定以下の膜厚に成膜されたことを図示しない確認手段によって判断した場合に行っても良いし、また、本実施形態による高分子膜形成装置の初回起動後もしくは作業停止前のいずれかに行っても良い。
【００４５】
なお上記実施形態では、インクジェットヘッド５を設けた門型フレーム２は固定で、塗布対象の基板を保持する吸着テーブル１４がＸ，Ｙ，θ方向に移動可能とした。ところで他の実施形態として、門型フレーム２の脚と架台１の間に駆動機構を設けてＸ方向、又はＹ方向に移動可能として、インクジェットヘッド５を取り付けるＺステージ３も門型フレーム２の横梁を移動できるようにすることで、吸着テーブル１４はθ方向に回転できるようにするだけの構成としても良い。
【００４６】
さらに他の実施形態として、インクジェットヘッド５を門型フレーム２の横梁に２つ以上設けた構成した場合について説明する。
この場合、テーブル側に設けるクリーニング機構部１５は１つでよいが、ヘッド保護装置８０をヘッド５の数だけ設けておく必要がある。この場合、ヘッド保護装置８０は基板を保持する吸着テーブル１４の１つの端部に複数並べて設けた保護装置受け台８１に設置してもよし、テーブル端部の対角位置になるように保護装置受け台を設けても良い。対角位置に設けることで、テーブルを駆動する場合にテーブルに均等に力が作用し、制御がし易いメリットがある。なお、先の実施形態ではヘッド保護装置８０は保護装置受け台８１に固定した状態でヘッド５を挿入し、その状態で作業を終了するようにしていた。こてに対して、複数ヘッドを設けた場合は、ヘッド保護装置８０はそれぞれのヘッド５に取り付けると、エアーシリンダ８２を駆動して保護装置受け台８１から取り外し、Ｚステージ３に取り付けられたヘッドブラケット６を上に上げることで、保護装置受け台８１から退避させることができる。従って、ヘッド保護装置８０を取り付けるヘッド位置に吸着テーブル１４を移動することで、各ヘッド５にヘッド保護装置８０を取り付けることが可能となる。さらにまた、複数のヘッドの内から塗布に使用するヘッドのみを選択して、そのヘッド保護装置のみをヘッドから取り外して塗布作業を行わせることが可能である。塗布動作は基本的に先に説明した手順に従って行われる。
【００４７】
なお、先の例で説明したように、複数のヘッドを取り付けた門型フレーム及び及び各ＺテーブルをＸまたはＹ方向に移動可能して基板を保持する吸着テーブルはθ方向回転のみができる構成としても、良いことはいうまでもない。
【００４８】
【発明の効果】
本発明によれば、インクジェットヘッドの吐出口及びその周縁部に発生するゴミ等の異物を効果的に拭き取ることができ、かつ、拭き取り時にインクジェットヘッドの吐出口に致命的なダメージを与えなることが無く、さらに、異物がブレードに残らず装置の汚染を最小限に押さえた効果的なクリーニングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態になるインクジェットヘッドを用いた高分子膜形成装置の概略図。
【図２】本発明で用いるインクジェットヘッド周辺の配管系の概略図と、インクジェットヘッド底面の概略図。
【図３】本発明のインクジェットヘッドのヘッドクリーニング装置の概略断面図。
【図４】本発明のブレード支持具をさらに詳細に説明する図。
【図５】充填機構部Ｓ１の動作説明図。
【図６】拭き取り機構部Ｓ２の動作説明図。
【図７】塗布動作の全体のフローチャトである。
【図８】成膜前処理のフローチャートである。
【図９】成膜後処理のフローチャートである。
【図１０】ヘッド保護装置の側面図である。
【図１１】ヘッド保護装置の上面図である。
【符号の説明】
１…架台、２…門型フレーム、３…Ｚステージ、４Ｚ軸駆動モータ、５…インクジェットヘッド、６…ブラケット、１４…吸着テーブル、１５…クリーニング装置、Ｓ１…充填機構部、Ｓ２…拭き取り機構部、４０…ブレード、４１…ブレード支持具。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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