(57)【要約】【課題】移動足場全体を移動レールと共に移動し且つ支持する際に移動足場の傾きが生じた場合でも円滑な移動を可能にするセルフクライミング移動足場を提供する。【解決手段】平行する移動レール７に形成された噛み合い結合可能な駆動源により移動する移動足場６において、移動足場に用いられるトラスフレーム６Ｃと移動レール７との支持位置にトラスフレーム６Ｃの傾きを許容する傾き受け部１００を設け、傾き受け部１００に設けられている縦長基板１０１の向きをトラスレール６Ｃの傾きに拘わらず、移動レール７と平行させることにより移動レール７に沿った移動足場６の移動を円滑に行うことを特徴とする。【選択図】　　図１１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮設足場を高層の構築物に対して昇降させる移動足場であって、
上記構築物の上下方向に沿って間隔を置いた状態で層配列されている複数の横梁材にそれぞれ装着されたハンガーブラケットと、該ハンガーブラケットのうちで上層側に位置するハンガーブラケットに対して着脱可能に設けられて駆動ピニオン及び挟脱可能な挟持ローラを有する駆動機構と、下層の複数の前記ハンガーブラケットにそれぞれ着脱可能に固定されて一方向回転機構を備えた従動ピニオン及び挟脱可能な挟持ローラを有する支持機構と、前記仮設足場に上下方向に固着されてレール面にラックを有する断面Ｈ形状の移動レールとからなり、上記駆動機構による上記移動レールの駆動を介して上記移動レールが昇降されると該移動レールに固着されている仮設足場を高さ方向に移動させるセルフクライミング移動足場において、
仮設足場の床部を下部に固定した縦枠間で該仮設足場の移動方向と直角な方向に横架されているトラスフレームが上記移動レールに支持され、該支持位置には上記トラスフレームに上記移動方向と直角な方向で傾きが生じた場合にその傾いた状態のトラスフレームを支持する傾き受け部が設けられ、該支持位置の他に上記縦枠とトラスフレームとの連結位置にはヒンジ結合部が設けられ、トラスフレームが横架方向で傾いた場合でも上記仮設足場の移動を許容することを特徴とするセルフクライミング移動足場。
【請求項２】
請求項１記載のセルフクライミング移動足場において、
上記傾き受け部は、上記移動レールと対峙する縦長基板との間で上記トラスフレームを構成する一方のフレームを摺動可能に支持するスライド受け部と、該スライド受け部と縦方向で対向する位置に設けられて上記トラスフレームを構成する他方のフレームを受けることができるように軸方向に沿って凹状とされた受けコロとで構成され、上記トラスフレームが傾きに関係なく上記傾き受け部の縦長基板を上記移動レールと平行な状態に維持することを特徴とするセルフクライミング移動足場。
【請求項３】
請求項１または２記載のセルフクライミング移動足場において、
上記傾き受け部により傾いた状態で支持される上記トラスフレームには、上記スライド受け部若しくは受けコロに衝合することにより横架方向の移動を規制する係止部材が設けられていることを特徴とするセルフクライミング移動足場。
【請求項４】
請求項１記載のセルフクライミング移動足場において、
上記支持機構には一方向回転機構に加えて、摩擦制動が可能な制動機構が備えられ、一方向と反対側への移動力を制動することを特徴とするセルフクライミング移動足場。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セルフクライミング移動足場に関し、詳しくは、仮設足場を取り付け取り外しすることなく、移動足場全体を移動レールと共に移動し且つ支持することができ、高層構築物の新設工事及び保守点検・補修工事等の作業性に優れたセルフクライミング移動足場に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の移動足場としては、例えば特開平１０−２９２６１８号公報に、作業床を複数持つ枠組を数列並べた枠組のユニットに自動昇降装置を取り付け、且つ枠組ユニットと自動昇降装置の荷重を支持して上下動をガイドする壁面に取り付けられるガイドレールより構成して成る壁工事用の作業足場が記載されており、これにより、足場の高所での組立及び解体作業をなくして省力化でき、また足場の稼働率を上げて足場コストを低減することができる、としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の技術における作業足場は、枠組ユニットをガイドするガイドレールが高層建物の外壁に取り付けられるものであるから、作業足場としては高層建物の高さに相当する長さのガイドレールを要し、しかも、その長尺のガイドレールの取り付け及び取り外しに多大な労力と時間を要するばかりでなく、枠組ユニットをガイドレール単位で単一の自動昇降装置により支持するものであるから、自動昇降装置に大きな荷重がかかるため、自動昇降装置が大型化してコストが増大するという諸問題があった。
【０００４】
一方、ガイドレールに沿って枠組ユニットを昇降させる駆動源として用いられる自動昇降装置は各ガイドレール毎に取り付けられて動作するようになっているが、自動昇降装置間での速度差により枠組ユニットが極端な場合には平行四辺形状にゆがんだ状態に変形することがあり、これにより枠組ユニットの円滑な移動を損ねてしまう虞がある。つまり、自動昇降装置自体の加工誤差などが原因して速度が微妙に異なる場合がある。このため、自動昇降装置同士の昇降速度を一致させることが難しくなり、結果として、速度差によって自動昇降装置に取り付けられている枠組ユニットがゆがむことになる。
枠組ユニットがゆがみを生じ、平行四辺形状になると、ガイドレールに対する姿勢が変化してしまい、ガイドレールとの噛み合い部分が食い込んだりして移動抵抗が発生することになる。
【０００５】
枠組ユニットが自動昇降装置により昇汞位置に位置決めされるようになっているが、何らかの原因によって急に下降する事態が生じると作業員への危険が大きくなる。しかし、自動昇降装置には昇降駆動および昇降位置での係止は可能であっても、不意な下降に対する係止動作は行えるようになっていない。従って、このような事態を防ぐには、枠組ユニットに対して補助ロープなどを結索しておき、不意な下降が生じた場合に牽引できるようにすることが考えられる。しかし、このような対策では、補助ロープという特別な部材が必要となること、さらには不意な下降を監視するための機構や人員が必要となるなどの理由によりコスト上昇を招くことになる。
【０００６】
本発明の目的は、上記従来の技術における問題点に鑑み、仮設足場を取り付け取り外しすることなく、移動足場全体を移動レールと共に移動し且つ支持することができ、高層構築物の諸工事の作業性に優れたセルフクライミング移動足場を提供するとともに、移動足場全体の斜行が生じた場合でも円滑な移動を保証すると共に不意な下降に際してもその下降を瞬時に停止させて安全を保証することが可能な構成を備えたセルフクライミング移動足場を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明は、仮設足場を高層の構築物に対して昇降させる移動足場であって、上記構築物の上下方向に沿って間隔を置いた状態で層配列されている複数の横梁材にそれぞれ装着されたハンガーブラケットと、該ハンガーブラケットのうちで上層側に位置するハンガーブラケットに対して着脱可能に設けられて駆動ピニオン及び挟脱可能な挟持ローラを有する駆動機構と、下層の複数の前記ハンガーブラケットにそれぞれ着脱可能に固定されて一方向回転機構を備えた従動ピニオン及び挟脱可能な挟持ローラを有する支持機構と、前記仮設足場に上下方向に固着されてレール面にラックを有する断面Ｈ形状の移動レールとからなり、上記駆動機構による上記移動レールの駆動を介して上記移動レールが昇降されると該移動レールに固着されている仮設足場を高さ方向に移動させるセルフクライミング移動足場において、仮設足場の床部を下部に固定した縦枠間で該仮設足場の移動方向と直角な方向に横架されているトラスフレームは上記移動レールに支持され、該支持位置には上記トラスフレームに上記移動方向と直角な方向で傾きが生じた場合にその傾いた状態のトラスフレームを支持する傾き受け部が設けられ、該支持位置の他に上記縦枠とトラスフレームとの連結位置にはヒンジ結合部が設けられ、トラスフレームが横架方向で傾いた場合でも上記仮設足場の移動を許容することを特徴としている。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明に加えて、上記傾き受け部は、上記移動レールと対峙する縦長基板との間で上記トラスフレームを構成する一方のフレームを摺動可能に支持するスライド受け部と、該スライド受け部と縦方向で対向する位置に設けられて上記トラスフレームを構成する他方のフレームを受けることができるように軸方向に沿って凹状とされた受けコロとで構成され、上記トラスフレームが傾きに関係なく上記傾き受け部の縦長基板を上記移動レールと平行な状態に維持することを特徴としている。
【０００９】
請求項１および２記載の発明においては、仮設足場を下部に固定しているトラスフレームには、移動レールとの支持位置に傾き支持部が設けられているので、トラスフレームが傾いた場合でも仮設足場の移動を許容することができるので、円滑な移動を保証することができる。特に請求項２記載の発明では、移動レールと対峙する縦長基板との間に設けられているスライド受け部および受けコロを介してトラスフレームを構成するが傾いた場合でも移動レールと平行している縦長基板に傾きが生じないようになっているので、縦長基板と移動レールとが常時平行した状態を維持してトラスフレームの傾きに関係なく移動できることにより仮設足場の円滑な移動を確保することができる。
【００１０】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の発明に加えて、上記傾き受け部により傾いた状態で支持される上記トラスフレームには、上記スライド受け部若しくは受けコロに衝合することにより横架方向の移動を規制する係止部材が設けられていることを特徴としている。
【００１１】
請求項３記載の発明では、トラスフレームに横架方向の移動を規制する係止部材が設けられているので、トラスフレームが傾いた場合に重力の作用により仮設足場が傾いた方向にずり落ちようとする危険を防止することができる。
【００１２】
請求項４記載の発明は、請求項１記載の発明に加えて、上記支持機構には一方向回転機構に加えて、摩擦制動が可能な制動機構が備えられ、一方向と反対側への移動力を制動することを特徴としている。
【００１３】
請求項４記載の発明では、支持機構に設けられている一方向回転機構に加えて摩擦制動が可能な制動機構が備えられているので、一方向回転機構により移動した位置で一方向と反対側への移動力を制動して仮設足場が不用意に落下する危険を防止することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。
図１乃至図１０は、本発明の実施の形態に係るセルフクライミング移動足場の基本構造を説明するための図であり、図１は、本発明のセルフクライミング移動足場が高層構築物の横梁材側に装着された状態を構築物側からみた斜視図で、高層構築物における横梁材に仮設足場が設置され、仮設足場を利用して作業が行われる状態が示されており、図２は、本発明のセルフクライミング移動足場が高層構築物の横梁材側に装着された状態の正面図で、仮設足場を移動レールと共に構築物における横梁材の１層分だけ上方へ移動させた状態が示されており、図３は、図２の側面図であり、図４は、本発明のセルフクライミング移動足場が高層構築物の横梁材側に装着された状態の平面図であり、図５（イ），（ロ），（ハ）は、本発明のセルフクライミング移動足場の移動状態を示す説明図で、仮設足場を移動レールと共に構築物における横梁材の１層分だけ上方へ移動させる工程が示されており、図６は、本発明における駆動機構，距離調整機構及び距離微調整機構の一部断面側面図であり、図７は、図６のＡ−Ａ線断面平面図であり、図８は、本発明における支持機構，距離調整機構及び距離微調整機構の一部断面側面図であり、図９は、図８のＢ−Ｂ線断面平面図であり、図１０は、本発明における駆動機構ないしは支持機構，距離調整機構及び距離微調整機構の背面図である。
以下、上記各図面においてセルフクライミング移動足場の基本構造について説明する。
【００１５】
図１〜図４に、本発明のセルフクライミング移動足場の全体構成が示されており、１は高層の構築物であり、２は構築物１の上下方向に間隔をおいて層配列されている複数の横梁材であり、３は複数の横梁材２にそれぞれ装着されたハンガーブラケットであり、４は上層側の所定のハンガーブラケット３に着脱可能に固定された駆動機構であり、５は下層側の複数のハンガーブラケット３にそれぞれ着脱可能に固定された支持機構であり、６は仮設足場であり、７は仮設足場６に上下方向に固着され且つレール面にラック７０を有する断面Ｈ形状の移動レールであり、仮設足場６は、一体に固着された移動レール７を駆動機構４により上方へ移動させると共に複数の支持機構５により支持することによって、高層の構築物１に対して間歇的に上方へ移動することができるものである。
【００１６】
図６〜図１０に、セルフクライミング移動足場の部分構成がさらに詳しく示されており、先ず、図６〜図１０を参照しながら、ハンガーブラケット３について説明すると、ハンガーブラケット３は、左右一対の対称的に配置される断面コ字状の分割ブラケット３０，３０で構成されており、各分割ブラケット３０，３０の長さ方向に穿設された複数の調整孔３１により、横梁材２の上面に固着された取付ピース２０にボルト・ナットで長さ方向に調節可能に挟着され、取付ピース２０と複数の調整孔３１とで移動レール７との距離を調整する距離調整機構３２が構成されている。
【００１７】
次に、図６及び図７を参照しながら、駆動機構４について説明すると、駆動機構４は、本体の両側に固定された固定アングル４０，４０と対をなす挟持片４１，４１とにより、各分割ブラケット３０，３０の上部側の左右側部にボルト・ナットで長さ方向に微調節可能に挟持され、固定アングル４０，４０と対をなす挟持片４１，４１とで移動レール７との距離を微調整する微距離調整機構４２が構成されている。
【００１８】
また、駆動機構４には、本体に一体に設置されたモータ４３により駆動される駆動ピニオン４４が移動レール７のラック７０と係合すべく左右方向の中央部に配設されており、該駆動ピニオン４４には一方向回転機構としてのラチェット機構４５が併設され、且つ本体の左右側と駆動ピニオン４４を挟んだ上下側との四箇所に、移動レール７の両側部を表裏側から挟持する表側の押えローラ４６と裏側の挟脱ローラ４７との一対からなる挟持ローラ４８が配設されており、図示を省略しているが、挟脱ローラ４７は、ローラ支軸と一体の摘み４９の回転により、ローラ支軸と本体側との係脱手段による係合が解かれて軸方向（図７の矢印方向）に移動可能となり、移動レール７の裏側に係脱することにより、駆動機構４は移動レール７に対して着脱可能に装着される。
【００１９】
次に、図８及び図９を参照しながら、支持機構５について説明すると、支持機構５は、駆動機構４と異なる構成は、モータ４３を具備しておらず、したがって、駆動ピニオン４４が従動ピニオン５４に構成されており、他の部分は同一の構成となっている。
【００２０】
すなわち、支持機構５は、本体の両側に固定された固定アングル５０，５０と対をなす挟持片５１，５１とにより、各分割ブラケット３０，３０の上部側の左右側部にボルト・ナットで長さ方向に微調節可能に挟持され、固定アングル５０，５０と対をなす挟持片５１，５１とで移動レール７との距離を微調整する微距離調整機構５２が構成されている。
【００２１】
また、支持機構５には、従動ピニオン５４が移動レール７のラック７０と係合すべく本体の左右方向における中央部に配設されており、該従動ピニオン５４には一方向回転機構としてのラチェット機構５５が併設され、且つ本体の左右側と従動ピニオン５４を挟んだ上下側との四箇所に、移動レール７の両側部を表裏側から挟持する表側の押えローラ５６と裏側の挟脱ローラ５７との一対からなる挟持ローラ５８が配設されており、図示を省略しているが、挟脱ローラ５７は、ローラ支軸と一体の摘み５９の回転により、ローラ支軸と本体側との係脱手段による係合が解かれて軸方向（図９の矢印方向）に移動可能となり、移動レール７の裏側に係脱することにより、支持機構５は移動レール７に対して着脱可能に装着される。
さらに、支持機構５には、上述した一方向回転機構に加えて、詳細を図示しないが、内部には一方向回転機構による回転時には弛み、これとは反対方向への回転が作用した場合に捲き締め動作を行う摩擦機構からなる制動機構が装備されている。
制動機構は、一方向回転機構による仮設足場６の移動を許容する一方、移動後に仮設足場６が下降する方向に一方向回転機構に回転力が作用すると捲き締め動作によって下降を制動するようになっている。これにより不意に仮設足場が下降するような場合には制動機構により下降が阻止される。なお、仮設足場６を強制的に下降させるような場合には、制動機構の作用を解除することで仮設足場６の下降道Ｓを行わせることができる。このような一方向回転機構と制動機構との組み合わせは周知のものを用いることが可能である。
【００２２】
次に、移動レール７について説明すると、移動レール７は、上述したように、仮設足場６に上下方向に固着され且つレール面にラック７０を有する断面Ｈ形状に構成されており、図１〜図３に示されているように、４本の短尺レールが連結具により直列に連結されていると共に２本の移動レール７が仮設足場６に並列に固着されている。
【００２３】
次に、図５（イ），（ロ），（ハ）を参照しながら、本発明のセルフクライミング移動足場の動作について説明すると、仮設足場６に固着された移動レール７は、駆動機構４及び複数の支持機構５に装着され、複数の支持機構５により多段的に支持された状態で仮設足場６を利用して作業が行われ（この状態が図イに示されている）、移動レール７が装着されている最下部の支持機構５の階層の作業が終了した段階で、移動レール７は、該移動レール７のラック７０と係合する駆動機構４の駆動ピニオン４４の駆動により、上下方向に配列された駆動機構４及び複数の支持機構５の各挟持ローラ４８に案内されながら構築物１における横梁材２の１層分だけ上方へ移動され、これにより、移動レール７に固着された仮設足場６も、移動レール７と共に構築物１における横梁材２の１層分だけ上方へ移動して支持機構５により支持されると共に、最下部の支持機構５は移動レール７から外れる（この状態が図ロに示されている）。
【００２４】
この段階では移動レール７の上部は駆動機構４から横梁材２の１層分だけ上方へ位置しているので、駆動機構４をハンガーブラケット３から取り外して自走により１層上の横梁材２の位置まで移動させ、その位置の横梁材２に取り付けた新たなハンガーブラケット３に駆動機構４を着脱可能に固定し、駆動機構４の駆動ピニオン４４を移動レール７のラック７０に係合すると共に駆動機構４の挟脱可能な挟持ローラ４８で移動レール７を挟持することにより、駆動機構４を移動レール７に着脱可能に装着し、次いで、移動レール７から外れた最下部の支持機構５をハンガーブラケット３から取り外し、取り外された支持機構５を適宜の手段により駆動機構４を取り外したハンガーブラケット３まで搬送し、該ハンガーブラケット３に搬送された支持機構５を取り付け、支持機構５の従動ピニオン５４を移動レール７のラック７０に係合すると共に支持機構５の挟脱可能な挟持ローラ５８で移動レール７を挟持することにより、支持機構５を移動レール７に着脱可能に装着し、これにより、他の支持機構５と共に移動レール７を多段的に支持した状態で仮設足場６を利用して作業を行うことができ（この状態が図ハに示されている）、最下部の支持機構５の階層の作業が終了した段階で上記仮設足場６の移動作業を繰り返すことにより、仮設足場６を高層の構築物１に対して間歇的に上方へ移動させることができる。
【００２５】
以上が本発明の実施の形態に係るセルフクライミング移動足場の基本構造であり、この構造を前提として、本発明の特徴部分を説明する。
図１１は、移動足場６の横架部材としてトラスフレーム６Ｃが用いられた場合を示す移動足場の正面図であり、同図において仮設足場６は、床部６Ａおよび床部６Ａの両側に位置して床部６Ａが取り付けられている縦枠６Ｂを備えており、縦枠６Ｂ間には、仮設足場６の移動方向である高さ方向と直角な方向に横架されたトラスフレーム６Ｃがその両端を支持されている。
【００２６】
トラスフレーム６Ｃは、図１２に示すように、移動レール７に対して後述する傾き受け部１００により支持されている。
図１２において傾き受け部１００は、移動レール７と対峙している縦長基板１０１を備えており、移動レール７との間で上部にはトラスフレーム６Ｃを構成するフレームのうちで上部フレーム６Ｃ１を摺動可能に支持するスライド受け部１０２が、そして縦方向でスライド受け部１０２に対向する下部にはトラスフレーム６Ｃを構成するフレームのうちの下部フレーム６Ｃ２を受けられるように軸方向に沿って凹状とされた受けコロ１０３がそれぞれ配置されている。
スライド受け部１０２は、樹脂製のライナ部材が用いられ、上部フレーム６Ｃ１を挟み込むことができるように上部フレーム６Ｃ１が挿通される位置に隙間が形成されている。
受けコロ１０３は、軸方向形状が鼓形状とされることにより軸方向に沿って凹状部を構成された回転自在のコロであり、凹状面に下部フレーム６Ｃ２が搭載されるようになっている。
【００２７】
受けコロ１０３は、回転自在のコロであるので、その軸心位置を中心にして下部フレーム６Ｃ２が傾くことができ、傾きが生じた場合の上部フレーム６Ｃ１はスライド受け部１０２内でその傾きに応じた角度に傾斜するように滑ることができるようになっている。
従って、トラスフレーム６Ｃは、仮に傾いた場合、受けコロ１０３を支点として傾きが許容されることになる。
移動レール７とトラスフレーム６Ｃとが対向している位置以外で仮設足場６の構成部品として用いられている縦枠６Ｂとトラスフレーム６Ｃとは、図１２に示すように、互いにヒンジ結合されてヒンジ結合用をなす一対のクランパ１０４を介して連結されており、縦枠６Ｂに対してトラスフレーム６Ｃが傾いた場合にクランパ１０４同士の対向角度を変化させることができるようになっている。
【００２８】
傾き受け部１００には、トラスフレーム６Ｃが傾いた場合に重力の作用によりトラスフレーム６Ｃが滑り落ちるのを防止するための構成が設けられており、その構成は、下部フレーム６Ｃ１の長手方向において受けコロ１０３をはさんだ両側に固定されている係止部材１０５が用いられる。
係止部材１０５は、図１３に示すように、受けコロ１０３の外径よりも大きく形成されたリング部材で構成されて下部フレーム６Ｃに対して取り付け具１０５Ａを介して固定されており、図１４に示すように、トラスフレーム６Ｃが傾いた際にそのトラスフレーム６Ｃがずり落ちる方向の後方に位置する係止部材１０５がトラスフレーム６Ｃにおける縦方向の補強フレーム６Ｃ３あるいは縦長基板１０１の側面に衝合することによりそれ以上のずり落ちが阻止されるようになっている。
【００２９】
本実施形態は以上のような構成により、移動レール７毎に設けられている駆動機構４により、図５に示した手順により仮設足場６が順次高さ方向に移動することになるが、各移動レール７毎で駆動機構４の速度が異なる場合には、仮設足場６が基の形状である矩形から平行四辺形状にゆがんだ状態となる。このときには、移動レール７と一体的に支持されているトラスフレーム６Ｃは、移動レール７との支持位置に設けられている傾き受け部１００において、トラスフレーム６Ｃが受けコロ１０３を支点として傾くことができる一方、移動レール７と一体の縦長基板１０１は、移動レール７と平行した状態を維持している。
従って、図１１に示すように、仮設足場６におけるトラスフレーム６Ｃが移動レール７の延長方向に対して直角な水平方向から符号θで示す角度を持って傾斜した場合でも、移動レール７と縦長基板１０１とが平行した状態を維持することになるので、トラスフレーム６Ｃの傾きが移動レール７と縦長基板１０１とに影響することがなく、トラスフレーム６Ｃが傾いたままで仮設足場６の円滑な移動が行えることになる。
【００３０】
トラスフレーム６Ｃにおける縦長基板１０１との支持構造は、図１２に示したように、受けコロ１０３を支点としてトラスフレーム６Ｃの傾きが許容される一方、この支持位置以外のトラスフレーム６Ｃと縦枠６Ｂとはヒンジ結合されているので、傾いた状態のトラスフレーム６Ｃをその状態のままで支持することができる。
【００３１】
一方、駆動機構４により仮設足場６が順次移動する過程で、次段の上層階に移動した後、作業が行われる間仮設足場６がその位置に固定保持されることになるが、その固定保持は、支持機構５に装備されている一方向回転機構および制動機構によって実現され、不意な下降が起こるような場合には制動機構によりその下降が阻止されることになる。これにより、不意な下降が起こる危険性を未然に防止することができる。
【００３２】
【発明の効果】
請求項１および２記載の発明によれば、仮設足場を下部に固定しているトラスフレームには、移動レールとの支持位置に傾き支持部が設けられているので、トラスフレームが傾いた場合でも仮設足場の移動を許容することができるので、円滑な移動を保証することができる。特に請求項２記載の発明では、移動レールと対峙する縦長基板との間に設けられているスライド受け部および受けコロを介してトラスフレームを構成するが傾いた場合でも移動レールと平行している縦長基板に傾きが生じないようになっているので、縦長基板と移動レールとが常時平行した状態を維持してトラスフレームの傾きに関係なく移動できることにより仮設足場の円滑な移動を確保することが可能となる。
【００３３】
請求項３記載の発明によれば、トラスフレームに横架方向の移動を規制する係止部材が設けられているので、トラスフレームが傾いた場合に重力の作用により仮設足場が傾いた方向にずり落ちようとする危険を防止することが可能となる。
【００３４】
請求項４記載の発明によれば、支持機構に設けられている一方向回転機構に加えて摩擦制動が可能な制動機構が備えられているので、一方向回転機構により移動した位置で一方向と反対側への移動力を制動して仮設足場が不用意に落下する危険を防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のセルフクライミング移動足場が高層構築物の横梁材側に装着された状態を構築物側からみた斜視図である。
【図２】本発明のセルフクライミング移動足場が高層構築物の横梁材側に装着された状態の正面図である。
【図３】本発明のセルフクライミング移動足場が高層構築物の横梁材側に装着された状態の側面図である。
【図４】本発明のセルフクライミング移動足場が高層構築物の横梁材側に装着された状態の平面図である。
【図５】（イ），（ロ）及び（ハ）は、本発明のセルフクライミング移動足場の移動状態を示す説明図である。
【図６】本発明における駆動機構，距離調整機構及び距離微調整機構の一部断面側面図である。
【図７】図６のＡ−Ａ線断面平面図である。
【図８】本発明における支持機構，距離調整機構及び距離微調整機構の一部断面側面図である。
【図９】図８のＢ−Ｂ線断面平面図である。
【図１０】本発明における駆動機構ないしは支持機構，距離調整機構及び距離微調整機構の背面図である。
【図１１】本発明における移動レールと仮設足場に用いられるトラスフレームとの支持部の作用を説明するための正面図である。
【図１２】図１１に示した移動レールと仮設足場に用いられるトラスフレームとの支持部の構成を説明するための部分的な斜視図である。
【図１３】図１２に示した支持部に用いられる係止構造を説明するための部分的な斜視図である。
【図１４】図１２および図１３に示した支持部の係止構造を用いた作用を説明するための正面図である。
【符号の説明】
１　…構築物
２　…横梁材
３　　…ハンガーブラケット
３２…距離調整機構
４　…駆動機構
５　　…支持機構
５５…一方向回転機構
６　…仮設足場
６Ａ…床部
６Ｂ…縦枠
６Ｃ…トラスフレーム
６Ｃ１…上部フレーム
６Ｃ２…下部フレーム
７…移動レール
１００…傾き受け部
１０１…縦長基板
１０２…スライド受け部
１０４…ヒンジ結合用クランパ
１０５…係止部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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