(57)【要約】【課題】本発明では水分や酸素等の気体から素子を保護する膜として、積層形成が可能なフッ素系樹脂を含む膜を保護膜として用いることにより、従来よりも容易に発光素子の劣化を防ぎ、信頼性を向上させることを目的とする。【解決手段】本発明では、フッ素系樹脂を含む膜の膜表面を表面処理して表面形状を凹凸構造としたり、フッ素系樹脂を含む膜中におけるフッ素系樹脂の含有量を制御したりすることにより、フッ素系樹脂を含む膜上への他の膜の積層形成を可能とする。また、フッ素系樹脂を含む膜中のフッ素系樹脂の含有量を制御することによってフッ素系樹脂を含む膜上に他の膜の積層する場合には、フッ素系樹脂および金属酸化物からなるターゲットであって、それぞれ含有率の異なる複数のターゲットを順次用いてスパッタリング法で成膜することにより、膜中に含まれるフッ素系樹脂の含有量を制御することができる。【選択図】　図１
2004119015.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極、前記第１の電極上に形成された電界発光膜、及び前記電界発光膜上に形成された第２の電極からなる発光素子を有する発光装置であって、
前記第２の電極上にフッ素系樹脂を含む膜と、
前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して形成された無機絶縁膜とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
基板上に形成されたＴＦＴと絶縁膜を介して電気的に接続された第１の電極、前記第１の電極上に形成された電界発光膜、および前記電界発光膜上に形成された第２の電極からなる発光素子を有する発光装置であって、
前記第２の電極上にフッ素系樹脂を含む膜と、
前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して形成された無機絶縁膜とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記絶縁膜は、第１の絶縁膜と前記第１の絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜を有し、
前記第１の絶縁膜は、アクリル、ポリアミド、ポリイミドのいずれか一で形成され、
前記第２の絶縁膜は、フッ素系樹脂を含む膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記絶縁膜は、フッ素系樹脂を含む膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記フッ素系樹脂を含む膜は、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニルフルオライド、ポリビニリデンフルオライドから選ばれた一種であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項３または請求項４において、
前記フッ素系樹脂を含む膜は、フッ素系樹脂と金属酸化物とを含む混合膜であり、
前記混合膜の膜中において前記金属酸化物の占める比率は、前記第１の電極との界面に近づくにつれて高くなることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
第１の電極と第２の電極との間に電界発光膜を有する発光装置の作製方法であって、
前記第２の電極上にスパッタリング法によりフッ素系樹脂を含む膜を形成し、
前記フッ素系樹脂を含む膜の膜表面をプラズマ処理し、
前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して無機絶縁膜を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項８】
基板上に形成されたＴＦＴと絶縁膜を介して電気的に接続された第１の電極、および第２の電極との間に電界発光膜を有する発光装置の作製方法であって、
前記第２の電極上にスパッタリング法によりフッ素系樹脂を含む膜を形成し、
前記フッ素系樹脂を含む膜の膜表面をプラズマ処理し、
前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して無機絶縁膜を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１１において、
前記絶縁膜は、第１の絶縁膜と、第２の絶縁膜とからなり、
アクリル、ポリアミド、ポリイミドのいずれか一からなる第１の絶縁膜上に、フッ素系樹脂を含む膜からなる第２の絶縁膜をスパッタリング法で形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第２の絶縁膜表面にＡｒを材料ガスに用いたプラズマ処理することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項９または請求項１０において、
金属酸化物、フッ素樹脂、または金属酸化物とフッ素樹脂の混合物からなる複数のターゲットを順次組み合わせて用い、
前記各ターゲット１ｃｍ２当たり０．１５〜６．２Ｗの高周波電力を与えて、高周波スパッタリング法により前記第２の絶縁膜を形成する発光装置の作製方法であって、
前記第２の絶縁膜の膜中に含まれる金属酸化物の比率が、成膜時間に伴い大きくなることを特徴とする発光装置の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一対の電極間に有機化合物を含む膜（以下、「有機化合物層」と記す）を設けた素子に電界を加えることで、蛍光又は燐光が得られる発光素子を用いた発光装置及びその作製方法に関する。具体的には、フッ素系樹脂からなる膜を用いることにより素子基板上に形成された上記発光素子を水分や酸素から防ぐ技術に関する。なお、本発明における発光装置とは、発光素子を用いた画像表示デバイス、発光デバイスもしくは光源（照明装置含む）を指す。また、発光素子にコネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ　Ｐｒｉｎｔｅｄ　Ｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＡＢ（Ｔａｐｅ　Ａｕｔｏｍａｔｅｄ　Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープもしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ　Ｃａｒｒｉｅｒ　Ｐａｃｋａｇｅ）が取り付けられたモジュール、ＴＡＢテープやＴＣＰの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ　Ｏｎ　Ｇｌａｓｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むものとする。
【０００２】
【従来の技術】
薄型軽量、高速応答性、直流低電圧駆動などの特徴を有する材料を発光体として用いた発光素子は、次世代のフラットパネルディスプレイへの応用が期待されている。特に、発光素子をマトリクス状に配置した発光装置は、従来の液晶表示装置と比較して、視野角が広く視認性が優れる点に優位性があると考えられている。
【０００３】
発光素子の発光機構は、一対の電極間に電界発光層を挟んで電圧を印加することにより、陰極から注入された電子および陽極から注入された正孔が電界発光層中の発光中心で再結合して分子励起子を形成し、その分子励起子が基底状態に戻る際にエネルギーを放出して発光するといわれている。励起状態には一重項励起と三重項励起が知られ、発光はどちらの励起状態を経ても可能であると考えられている。
【０００４】
しかしながら、発光装置は、その作製において、他の液晶表示装置等の表示装置とは異なる問題を有している。
【０００５】
発光素子は、水分により劣化することが知られており、具体的には、水分の影響により電界発光層と電極間において剥離が生じたり、電界発光層を形成する材料が変質したりすることにより、ダークスポットと呼ばれる非発光領域が生じたり、発光面積が縮小したりして所定の発光が維持できなくなるといった問題が生じる。なお、このような発光素子の劣化は、素子を長時間駆動させた際における信頼性の低下にもつながる。
【０００６】
このような問題を解決する方法としては、素子上にテフロン（Ｒ）系ポリマーであるテフロン（Ｒ）ＡＦ膜（デュポン社製）を蒸着法により形成して、素子を封止する技術（例えば、特許文献１参照。）が知られている。しかし、このような膜は、素子を水分や酸素等の気体から保護する点において有効であるが、その上に別の膜を形成できないという特殊性から、パターニングができず、また表面層のみにしか用いることができないという制限を受ける。
【０００７】
これに対して、金属酸化物とフッ素系樹脂との混合膜を形成することにより、耐擦傷性に優れ、撥水性のある膜を形成する技術（例えば、特許文献２参照。）が知られている。しかし、両者の特性を有するというメリットを持つ反面、単膜の場合に比べるとその特性が充分でないというデメリットを有している。
【０００８】
その他、素子の外表面を防湿性フィルムで覆う方法（例えば、特許文献３参照。）や、素子基板に気密ケースを貼り合わせたりすることにより、発光素子を外部と遮断された密閉空間に備えるといった技術（封止技術）が知られている（例えば、特許文献４〜５参照。）。しかし、このような場合には、防湿性フィルムで覆う工程や、気密フィルムを貼り合わせる等の工程が増え、またこれらの工程の途中において水分や、酸素等の気体が侵入して、発光素子の劣化を促進する恐れがある。
【０００９】
そのため、発光素子を水分や酸素等の気体から保護する機能を持たせる上で上述するような複雑な工程を特に増やすことなく、容易に実現できることが期待されている。
【００１０】
【特許文献１】
特開平２−４０９０１７号公報
【特許文献２】
特開平６−３０６５９１号公報
【特許文献３】
特開平５−１０１８８４号公報
【特許文献４】
特開平５−３６４７５号公報
【特許文献５】
特開平５−８９９５９号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明では水分や酸素等の気体から素子を保護する膜として、積層形成が可能なフッ素系樹脂を含む膜を保護膜として用いることにより、従来よりも容易に発光素子の劣化を防ぎ、信頼性を向上させることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明では、上記課題を解決するためにフッ素系樹脂を含む膜の膜表面を表面処理して表面形状を凹凸構造としたり、フッ素系樹脂を含む膜中におけるフッ素系樹脂の含有量を制御したりすることにより、フッ素系樹脂を含む膜上への他の膜の積層形成を可能とする。
【００１３】
また、フッ素系樹脂を含む膜中のフッ素系樹脂の含有量を制御することによってフッ素系樹脂を含む膜上に他の膜の積層する場合には、フッ素系樹脂および金属酸化物からなるターゲットであって、それぞれ含有率の異なる複数のターゲットを順次用いてスパッタリング法で成膜することにより、膜中に含まれるフッ素系樹脂の含有量を制御することができる。具体的には、成膜時間の経過と共に、金属酸化物の含有量が多いターゲットを順次用いることにより、得られた膜中の金属酸化物の含有量を膜表面方向に増加させることができる。
【００１４】
なお、本発明における具体的な構成は、第１の電極、前記第１の電極上に形成された電界発光膜、及び前記電界発光膜上に形成された第２の電極からなる発光素子を有する発光装置であって、前記第２の電極上にフッ素系樹脂を含む膜と、前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して形成された無機絶縁膜膜とを有することを特徴とする発光装置である。
【００１５】
なお、上記構成においてフッ素系樹脂を含む膜は、前記発光素子を覆って形成されており、前記発光素子が水分や酸素などの気体によって劣化するのを防ぐ機能を有するものである。
【００１６】
また、本発明におけるフッ素系樹脂を含む膜の成膜には、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニルフルオライド、ポリビニリデンフルオライド等からなるターゲットを用いることにより、これらのフッ素系樹脂を含む膜を形成することができる。
【００１７】
また、上記構成において、フッ素系樹脂を含む膜上に接して形成される無機絶縁膜は、フッ素系樹脂を含む膜に比べて硬度が高く外部からの衝撃に強いバリア性を有する膜であることを特徴とする。具体的には、スパッタリング法、ＣＶＤ法、または蒸着法により形成された窒化珪素、酸化珪素、酸化窒化珪素などの珪素を含む膜の他、炭素を主成分とする薄膜（例えばＤＬＣ膜、ＣＮ膜）等を用いることができる。すなわち、上述したようなフッ素系樹脂を含む膜と、無機絶縁膜とを積層して形成することにより、フッ素系樹脂を含む膜により得られる水分や酸素等の気体の侵入を防ぐ機能と、無機絶縁膜により得られる外部からの衝撃等に対する耐久性を高める機能の両方を有することができる。
【００１８】
また、本発明における他の構成は、基板上に形成されたＴＦＴと絶縁膜を介して電気的に接続された第１の電極、前記第１の電極上に形成された電界発光膜、および前記電界発光膜上に形成された第２の電極からなる発光素子を有する発光装置であって、前記第２の電極上にフッ素系樹脂を含む膜と、前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して形成された無機絶縁膜とを有することを特徴とする発光装置である。
【００１９】
なお、上記各構成において、前記絶縁膜は、アクリル、ポリアミド、ポリイミドのいずれか一で形成された第１の絶縁膜上にフッ素系樹脂を含む膜で形成された第２の絶縁膜を有する積層構造の場合や、絶縁膜がフッ素系樹脂を含む膜からなる単層構造の場合も含めるものとする。
【００２０】
さらに、上記構造を得るための本発明の構成は、第１の電極と第２の電極との間に電界発光膜を有する発光装置の作製方法であって、前記第２の電極上にスパッタリング法によりフッ素系樹脂を含む膜を形成し、前記フッ素系樹脂を含む膜の膜表面をプラズマ処理（逆スパッタ処理を含む）し、前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して無機絶縁膜を形成することを特徴とする発光装置の作製方法である。
【００２１】
なお、上記構成におけるプラズマ処理のうち、逆スパッタ処理とは、具体的にはＡｒガスを流量を５０（ｓｃｃｍ）で導入しながらスパッタ圧力を０．６７（Ｐａ）として行うことを特徴とする。なお、この場合において放電を励起するために２０ｋＨｚ〜２７ＭＨｚの高周波電力を印加し、ＲＦ電力５００Ｗで、基板の温度を室温〜２００℃以下として５〜２０分程度行う。
【００２２】
また、上記構成において、前記第１の電極が基板上に形成されたＴＦＴと絶縁膜を介して電気的に接続されている場合についても同様の構成とする。
【００２３】
また、前記絶縁膜が、感光性の有機樹脂膜からなる第１の絶縁膜上に、フッ素系樹脂を含む膜からなる第２の絶縁膜がスパッタリング法により積層形成される場合には、第２の絶縁膜の膜表面をプラズマ処理（逆スパッタ処理も含む）し、前記フッ素系樹脂を含む膜上に接して無機絶縁膜を形成する。
【００２４】
さらに、フッ素系樹脂を含む膜を高周波スパッタリング法で形成する場合において、金属酸化物、フッ素系樹脂、または金属酸化物とフッ素樹脂の混合物からなる複数のターゲットを順次組み合わせて用いることを特徴とする。
【００２５】
なお、上記構成における金属酸化物には、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどの材料を用いることができる。
【００２６】
なお、上記複数のターゲットを用いた作製方法により得られるフッ素系樹脂と金属酸化物とを含む混合膜は、前記混合膜の膜中に含まれる前記金属酸化物の含有量が膜表面に近づくにつれて増加することを特徴とする。
【００２７】
なお、このように膜表面における膜中の金属酸化物の含有量を増加させることにより、フッ素系樹脂の含有量を低減させ、成膜された膜表面の表面特性を金属酸化物の表面特性に近いものとすることができるので、通常フッ素系樹脂膜上に成膜ができないという問題を解決することができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
【００２９】
（実施の形態１）
本実施の形態１では、発光素子の劣化を防止するためのフッ素系樹脂を含む膜および無機絶縁膜が発光素子形成後であって、第２の電極上に積層して形成される場合について図１を用いて説明する。また、本実施の形態１では、フッ素系樹脂を含む膜の膜表面を表面処理することで無機絶縁膜が積層される場合について説明する。
【００３０】
なお、本発明において、発光装置の構造は、ＴＦＴが形成される素子基板側から発光素子で生じた光を出射させる下面出射型の構成と、素子基板の反対側から発光素子で生じた光を出射させる上面出射型の構成とがあるが、ここでは上面出射型の構成の場合について説明することとする。
【００３１】
図１（Ａ）は画素部の一部を示す断面図である。図１（Ａ）において、１０１は第１の基板、１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃは絶縁層、１０３はＴＦＴ（ゲート電極１０４、チャネル形成領域１０５、不純物領域１０６を含む）、１０７は配線、１０８は第１の電極、１０９は絶縁物、１１０は電界発光層、１１１は第２の電極、１１２はフッ素系樹脂を含む膜、１１３は無機絶縁膜である。
【００３２】
まず、第１の基板１０１上には下地絶縁膜（ここでは、下層を窒化絶縁膜、上層を酸化絶縁膜）となる絶縁層１０２ａが形成されており、ゲート電極１０４と活性層との間には、ゲート絶縁膜となる絶縁層１０２ｂが設けられている。また、ゲート電極１０４上には、有機材料または無機材料からなり、層間絶縁膜となる絶縁層１０２ｃが形成されている。
【００３３】
なお、絶縁層１０２ａと接して第１の基板１０１上に形成されたＴＦＴ１０３（ここでは、ｐチャネル型ＴＦＴを用いる）は、電界発光層１１０に流れる電流を制御する素子であり、１０６は不純物領域（ドレイン領域、またはソース領域）である。なお、１０７は第１の電極１０８と不純物領域１０６とを接続する配線（ドレイン電極、またはソース電極ともいう）であり、同様の工程において電流供給線やソース配線などが同時に形成される。
【００３４】
また、本実施の形態１において、一つの画素には、他にもＴＦＴ（ｎチャネル型ＴＦＴまたはｐチャネル型ＴＦＴ）が１以上設けられている。
【００３５】
本実施の形態１では、第１の電極１０８は陽極として機能する。従って、第１の電極を形成する材料としては仕事関数の大きい（４．０ｅＶ以上）を用いることが好ましい。具体的には、ＴｉＮ、ＴｉＳｉｘＮｙ、ＷＳｉｘ、ＷＮｘ、ＷＳｉｘＮｙ、ＮｂＮ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）の他、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｉｎ、またはＭｏから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料もしくは化合物材料を主成分とする膜またはそれらの積層膜を総膜厚１００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で用いればよい。ここでは、第１の電極１０８として窒化チタン膜を用いる。窒化チタン膜を第１の電極１０８として用いる場合、表面に紫外線照射や塩素ガスを用いたプラズマ処理を行って仕事関数を増大させることが好ましい。
【００３６】
また、第１の電極１０８の端部（および配線１０７）を覆う絶縁物１０９（バンク、隔壁、障壁、土手などと呼ばれる）を有している。絶縁物１０９としては、無機材料（酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコンなど）、感光性または非感光性の有機材料（ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、レジストまたはベンゾシクロブテン）、またはこれらの積層などを用いることができるが、ここでは窒化シリコン膜で覆われた感光性の有機樹脂を用いる。例えば、有機樹脂の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物の上端部のみに曲率半径を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物として、感光性の光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。
【００３７】
また、電界発光層１１０は、蒸着法または塗布法を用いて形成する。なお、信頼性を向上させるため、電界発光層１１０を形成する直前に真空加熱（１００℃〜２５０℃）を行って脱気を行うことが好ましい。
【００３８】
なお、蒸着法により電界発光層１１０を形成する場合には、例えば、Ａｌｑ３、部分的に赤色発光色素であるナイルレッドをドープしたＡｌｑ３、Ａｌｑ３、ｐ−ＥｔＴＡＺ、ＴＰＤ（芳香族ジアミン）を蒸着法により順次積層することで白色を得ることができる。
【００３９】
また、スピンコートを用いた塗布法により電界発光層１１０を形成する場合には、塗布した後、真空加熱で焼成することが好ましい。例えば、正孔注入層として作用するポリ（エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）水溶液（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を全面に塗布、焼成し、その後、発光層として作用する発光中心色素（１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（ＴＰＢ）、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノ−スチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ１）、ナイルレッド、クマリン６など）ドープしたポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）溶液を全面に塗布、焼成すればよい。
【００４０】
電界発光層１１０は単層で形成することもでき、ホール輸送性のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）に電子輸送性の１，３，４−オキサジアゾール誘導体（ＰＢＤ）を分散させてもよい。また、３０ｗｔ％のＰＢＤを電子輸送剤として分散し、４種類の色素（ＴＰＢ、クマリン６、ＤＣＭ１、ナイルレッド）を適当量分散することで白色発光が得られる。
【００４１】
ここで示した白色発光が得られる発光素子の他にも、電界発光層１１０の材料を適宜選択することによって、赤色発光、緑色発光、または青色発光が得られる発光素子を作製することができる。
【００４２】
第２の電極１１１は、本実施の形態１において発光素子の陰極として機能するため、第２の電極１１１を形成する材料としては仕事関数の小さい（３．５ｅＶ以下）材料を用いることが好ましい。具体的には、ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ、ＡｌＬｉ、ＣａＦ２、ＣａＮなどの合金、または周期表の１族もしくは２族に属する元素とアルミニウムとを共蒸着法により形成した透光性を有する膜を用いることができる。
【００４３】
本実施の形態１に示す発光装置は、上面出射型であるため第２の電極１１１は、光透過性を有する必要がある。そこで、１ｎｍ〜１０ｎｍのアルミニウム膜、もしくはＬｉを微量に含むアルミニウム膜を用いて第２の電極１１１を形成する。なお、この場合において、アルミニウム膜を形成する前に陰極バッファ層としてＣａＦ２、ＭｇＦ２、またはＢａＦ２からなる透光性を有する層（膜厚１ｎｍ〜５ｎｍ）を形成することもできる。
【００４４】
さらに、第２の電極１１１の低抵抗化を図るため、１ｎｍ〜１０ｎｍの金属薄膜と透明導電膜（ＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ合金）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等）との積層構造とすることもできる。その他、発光領域と重ならない第２の電極１１１上に補助電極を設けることもできる。
【００４５】
また、フッ素系樹脂を含む膜１１２は、スパッタリング法または蒸着法により形成され、第２の電極１１１を保護するとともに発光素子１１４に対して劣化の原因となる水分や、酸素等の気体の侵入を防ぐ保護膜となる。
【００４６】
なお、フッ素系樹脂を含む膜の成膜においては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニルフルオライド、ポリビニリデンフルオライド等からなるターゲットを用いることにより、これらのフッ素系樹脂を含む膜を形成することができる。
【００４７】
ここでは、フッ素系樹脂を含む膜１１２がスパッタリング法により成膜される場合について説明する。なお、成膜時の条件は材料ガスとしてＡｒガスを流量３０（ｓｃｃｍ）（さらに流量（５ｓｃｃｍ）のＯ２ガスを併せて用いても良い）で導入しながら、スパッタ圧力を０．４Ｐａ、パワーを４００Ｗ、基板温度を３００℃として、フッ素系樹脂を含む膜１１２を１００〜２００ｎｍの膜厚で成膜する。
【００４８】
次に、フッ素系樹脂を含む膜１１２表面を逆スパッタ処理する。具体的にはＡｒガスを流量５０（ｓｃｃｍ）で導入しながらスパッタ圧力を０．６７（Ｐａ）、パワーを５００（Ｗ）として、フッ素系樹脂を含む膜１１２の表面を処理する。なお、逆スパッタ処理時間は５〜２０ｍｉｎ．が好ましい。
【００４９】
次に形成される無機絶縁膜１１３には、スパッタリング法、ＣＶＤ法または蒸着法により得られる窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜（ＳｉＮＯ膜（組成比Ｎ＞Ｏ）またはＳｉＯＮ膜（組成比Ｎ＜Ｏ））、炭素を主成分とする薄膜（例えばＤＬＣ膜、ＣＮ膜）を用いることができる。
【００５０】
以上により、フッ素系樹脂を含む膜と、無機絶縁膜とを積層して形成することにより、フッ素系樹脂を含む膜により得られる水分や酸素等の気体の侵入を防ぐ機能と、無機絶縁膜により得られる外部からの衝撃等に対する耐久性を高める機能の両方を有することができる。
【００５１】
（実施の形態２）
本実施の形態２では、発光素子の劣化を防止するためのフッ素系樹脂を含む膜を発光素子の形成前であって、基板上に形成されたＴＦＴとの間に形成される絶縁膜（層間絶縁膜）の一部又は、全部に用いる場合であって、ここでは、特に絶縁膜の一部に用いる場合について図２を用いて説明する。
【００５２】
なお、図２において、絶縁膜の一部にフッ素系樹脂を含む膜を用いる以外は実施の形態１とほぼ同じであるので、図１と同じ部分には同じ符号を用いることとする。
【００５３】
図２において、層間絶縁膜である絶縁膜１０２ｃ上にフッ素系樹脂を含む膜２０１をスパッタリング法により形成する。そして、絶縁膜１０２ｃおよびフッ素系樹脂を含む膜２０１にコンタクトホールを形成して配線１０７を形成する。
【００５４】
本実施の形態２では、フッ素系樹脂を含む膜２０１をエッチングしてコンタクトホールを形成するため、フッ素系樹脂を含む膜２０１は、フッ素系樹脂と金属酸化物とからなるターゲットを用いて成膜することとする。なお、実施の形態１で示したフッ素系樹脂からなるターゲットを用いることもできる。
【００５５】
また、フッ素系樹脂と金属酸化物とからなるフッ素系樹脂を含む膜２０１の成膜方法について図３により説明する。なお、図３において、３０１はスパッタリングを行う成膜室であり、成膜室３０１には、複数のターゲットが備えられている。なお、ここでは、４種類のターゲット（３０２ａ、３０２ｂ、３０２ｃ、３０２ｄ）を用いることにより、基板３０３上にフッ素系樹脂と金属酸化物とからなる膜を形成することができる。
【００５６】
なお、本実施の形態におけるターゲットは、それぞれフッ素系樹脂と金属酸化物の含有率が異なるものを用いるが、フッ素系樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニルフルオライド、ポリビニリデンフルオライド等のうちのいずれか一種、または複数種が含まれており、金属酸化物としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等のうちの一種、または複数種が含まれたものを用いることができる。
【００５７】
また、基板３０３は、成膜室３０１内の搬送手段３０４により移動しながら成膜がなされる。なお、本実施の形態２における４種類のターゲット（第１のターゲット３０２ａ、第２のターゲット３０２ｂ、第３のターゲット３０２ｃ、第４のターゲット３０２ｄ）は、フッ素系樹脂と金属酸化物との混合比がそれぞれ異なったものを用い、ここでは、ターゲット中に含まれるフッ素系樹脂の含有量の関係が、第１のターゲット３０２ａ＞第２のターゲット３０２ｂ＞第３のターゲット３０２ｃ＞第４のターゲット３０２ｄとなるようにする。
【００５８】
また、搬送手段３０４は、基板３０３を図３の矢印の方向に移動させるので、成膜される膜は、成膜される位置が移動することにより（膜厚が厚くなるにつれて）図４に示すように膜中におけるフッ素系樹脂の含有量が変化する。
【００５９】
なお、図４（Ａ）は、本実施の形態２において基板４０１（既に成膜されている膜を含む）上に形成されるフッ素系樹脂を含む膜４０２を示したものであり、図４（Ｂ）に示すグラフは、フッ素系樹脂を含む膜４０２の膜中のフッ素系樹脂および金属酸化物の含有率を示している。なお、図４（Ｂ）の横軸には成膜室における基板の位置（成膜時に基板がどのターゲット上に位置するかで示す）を示し、縦軸には、図４（Ａ）に対応させたフッ素系樹脂を含む膜４０２の膜厚を示している。
【００６０】
すなわち、本実施の形態２におけるフッ素系樹脂を含む膜４０２は、膜中のフッ素系樹脂および金属酸化物の含有率の異なる膜（４０２ａ、４０２ｂ、４０２ｃ、４０２ｄ）が連続的に成膜されたものである（各界面が存在する場合および存在しない場合のいずれも含む）。また、ここで、最表面に形成される膜４０２ｄは、フッ素系樹脂を含む膜であるものの、その多くは金属酸化物が含まれており、その特性は金属酸化物のものに近くなり、主成分がフッ素系樹脂で形成された場合とは異なるため、さらに他の膜の積層および、エッチング等を用いたパターニングが可能となる。
【００６１】
次に、図５に示すように、第１の基板上に形成されたＴＦＴ１０３を覆って層間絶縁膜である絶縁膜１０２ｃおよびフッ素系樹脂を含む膜４０２を形成した後で逆スパッタ法によりフッ素系樹脂を含む膜４０２の膜表面に凹凸構造を形成する。
【００６２】
次に、図５（Ｂ）に示すように所定の位置にレジスト５０１を形成した後、レジスト５０１をマスクとしてエッチング処理を行うことにより、図５（Ｃ）に示すコンタクトホール５０２を形成する。なお、コンタクトホール５０２の形成にはドライエッチング法を用い、以下に示す条件でフッ素系樹脂を含む膜２０１、絶縁膜１０２ｃおよび絶縁膜１０２ｂを順次エッチングすることによりそれぞれのＴＦＴが有するソース領域またはドレイン領域に達するコンタクトホール５０２を形成する。
【００６３】
初めにフッ素系樹脂を含む膜２０１のエッチングを行う。この場合のエッチングには、ＣＨＦ３を材料ガスに用い、ガス流量を３５（ｓｃｃｍ）とし、基板側（試料ステージ）に５００ＷのＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）電力を投入し、３．３（Ｐａ）の圧力でコイル型の電極に４５０ＷのＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）電力を投入するという条件を用いる。
【００６４】
次に、絶縁膜１０２ｃのエッチングを行う。なお、本実施の形態において、絶縁膜１０２ｃとして、塗布法により１．０〜２．０μｍの膜厚に形成されたアクリルからなる膜を用いることとする。その他にもアクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）等の有機絶縁材料を用いることができる。なお、絶縁膜を有機絶縁材料で形成することにより、表面を良好に平坦化させることができ、さらに有機絶縁材料は一般に誘電率が低いので、寄生容量を低減させることができる。
【００６５】
なお、この場合の絶縁膜１０２ｃのエッチングには、ＣＦ４とＯ２とＨｅとを材料ガスに用い、それぞれのガス流量比を５／９５／４０（ｓｃｃｍ）とし、基板側（試料ステージ）に５００ＷのＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）電力を投入し、６６．５Ｐａの圧力でコイル型の電極に４５０ＷのＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）電力を投入するという条件を用いる。
【００６６】
次に、絶縁膜１０２ｂのエッチングを行う。なお、絶縁膜１０２ｂはプラズマＣＶＤ法やスパッタ法で、酸化珪素又は酸化窒化珪素などの無機絶縁体材料を用いて形成される。
【００６７】
なお、この場合の絶縁膜１０２ｂのエッチングには、ＣＨＦ３を材料ガスに用い、ガス流量を３５（ｓｃｃｍ）とし、基板側（試料ステージ）に４００ＷのＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）電力を投入し、４０Ｐａの圧力でコイル型の電極に４５０ＷのＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）電力を投入するという条件を用いる。
【００６８】
以上により、コンタクトホール５０２が形成された後、図２に示すように配線１０７、第１の電極１０８、絶縁物１０９、電界発光層１１０、および第２の電極１１１がそれぞれ形成される。なお、これらの形成に用いる材料および作製方法は、実施の形態１と同様であるのでそちらを参照すればよい。
【００６９】
また、本実施の形態２においても、実施の形態１で示すように第２の電極１１１上にフッ素系樹脂を含む膜１１２および無機絶縁膜１１３を形成することができる。なお、その際の作製方法については、実施の形態１を参照すればよい。
【００７０】
本実施の形態２におけるフッ素系樹脂を含む膜２０１は、パターニングが可能であり、かつ積層が可能であるため、配線、および発光素子の第１の電極形成直前に水分や酸素等の気体から発光素子を保護する膜として形成することができる。
【００７１】
なお、このような位置にフッ素系樹脂を含む膜２０１を形成することにより、基板上に形成された膜の一部から水分や酸素等の気体が発光素子に侵入して、素子を劣化するのを防ぐことができる。特に、図２において示した層間絶縁膜である絶縁膜１０２ｃとして、カバレッジに優れる有機樹脂膜を用いる場合には、より水分や酸素等の気体が放出され易いため、フッ素系樹脂を含む膜２０１による高い効果が期待できる。
【００７２】
（実施の形態３）
本実施の形態３では、本発明において用いるフッ素系樹脂を含む膜の特性について測定した結果を示す。なお、測定に用いたフッ素系樹脂を含む膜としては、Ａｒを材料ガスとして３０（ｓｃｃｍ）導入し、スパッタ圧力を０．４Ｐａ、パワーを４００Ｗ、基板温度を３００℃としてポリテトラフルオロエチレンをターゲットに用いたスパッタリング法により、１００ｎｍの膜厚で成膜した膜である。
【００７３】
図８には、Ｘ線光電子分光法であるＥＳＣＡ（ｐｈｏｔｏｎｅｌｅｃｔｒｏｎｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ　ｆｏｒ　ｃｈｅｍｉｃａｌ　ａｎａｌｙｓｉｓ：）により得られたスペクトルを示すものである。なお、この場合におけるサンプル中の成分元素の組成比は、フッ素（Ｆ）：酸素（Ｏ）：炭素（Ｃ）：珪素（Ｓｉ）＝６１：＜１：３８：＜０であった。
【００７４】
また、同様の測定方法により、成膜条件の異なる膜を測定した結果を図９に示す。なお、この場合には、材料ガスとしてＡｒを３０（ｓｃｃｍ）、Ｏ２を５（ｓｃｃｍ）導入している。組成比に関しては、図８の条件の場合と同様であった。
【００７５】
また、図１０には、フーリエ変換赤外分光法（Ｆｏｕｒｉｅｒ　ｔｒａｎｓｆｏｒｍ　ｉｎｆｒａｒｅｄ　ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＦＴ−ＩＲ）による定性分析結果を示す。なお、図１０中に示す▲１▼〜▲３▼からは、ＣＦ（１１００〜１０００ｃｍ−１）、ＣＦ２（１２５０〜１０７０ｃｍ−１）、およびＣＦ３（１３６０〜１１５０ｃｍ−１）に由来のピークが確認されていると考えられる。その中でも特に▲２▼のピークが特徴的であるため、ＣＦ２が高い割合で含まれると考えられる。
【００７６】
（実施の形態４）
本実施の形態４では、アクティブマトリクス型の発光装置の外観図について図７に説明する。なお、図６（Ａ）は、発光装置を示す上面図、図６（Ｂ）は図６（Ａ）をＡ−Ａ’で切断した断面図である。点線で示された６０１は駆動回路部（ソース側駆動回路）、６０２は画素部、６０３は駆動回路部（ゲート側駆動回路）である。また、６０４は封止基板、６０５はシール剤であり、シール剤６０５で囲まれた内側６０７は、空間になっている。
【００７７】
なお、６０８はソース側駆動回路６０１及びゲート側駆動回路６０３に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）６０９からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。なお、ここではＦＰＣしか図示されていないが、このＦＰＣにはプリント配線基盤（ＰＷＢ）が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにＦＰＣもしくはＰＷＢが取り付けられた状態をも含むものとする。
【００７８】
次に、断面構造について図６（Ｂ）を用いて説明する。基板６１０上には駆動回路部及び画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路部であるソース側駆動回路６０１と、画素部６０２が示されている。
【００７９】
なお、ソース側駆動回路６０１はｎチャネル型ＴＦＴ６２３とｐチャネル型ＴＦＴ６２４とを組み合わせたＣＭＯＳ回路が形成される。また、駆動回路を形成するＴＦＴは、公知のＣＭＯＳ回路、ＰＭＯＳ回路もしくはＮＭＯＳ回路で形成しても良い。また、本実施の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバー一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、基板上ではなく外部に形成することもできる。
【００８０】
また、画素部６０２はスイッチング用ＴＦＴ６１１と、電流制御用ＴＦＴ６１２とそのドレインに電気的に接続された第１の電極６１３とを含む複数の画素により形成される。なお、第１の電極６１３の端部を覆って絶縁物６１４が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。
【００８１】
また、カバレッジを良好なものとするため、絶縁物６１４の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物６１４の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物６１４の上端部のみに曲率半径（０．２μｍ〜３μｍ）を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物６１４として、感光性の光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。
【００８２】
第１の電極６１３上には、電界発光層６１６、および第２の電極６１７がそれぞれ形成されている。ここで、第１の電極６１３に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Ｚｎ膜、Ｐｔ膜などの単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との３層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。
【００８３】
また、電界発光層６１６は、蒸着マスクを用いた蒸着法、またはインクジェット法によって形成される。
【００８４】
さらに、電界発光層６１６上に形成される第２の電極（陰極）６１７に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料（Ａｌ、Ａｇ、Ｌｉ、Ｃａ、またはこれらの合金ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ、ＡｌＬｉ、ＣａＦ２、またはＣａＮ）を用いればよい。ここでは、発光が透過するように、第２の電極（陰極）６１７として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜（ＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ合金）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ２Ｏ３―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等）との積層を用いる。
【００８５】
また、第２の電極６１７は全画素に共通の配線としても機能し、接続配線６０８を経由してＦＰＣ６０９に電気的に接続されている。
【００８６】
また、第２の電極６１７上には、フッ素系樹脂を含む膜６１９がスパッタリング法により形成される。フッ素系樹脂を含む膜６１９としては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニルフルオライド、ポリビニリデンフルオライド等のフッ素系樹脂を含む膜を用いることができる。
【００８７】
なお、本実施の形態に用いるフッ素系樹脂を含む膜６１９は、実施の形態１で示したように膜表面を逆スパッタ処理しても良いが、実施の形態２で示したようにフッ素系樹脂と金属酸化物とを混合して得られる膜を用いることができる。なお、表面処理の方法、または成膜条件等については、実施の形態１または実施の形態２を参照すればよい。
【００８８】
次に、フッ素系樹脂を含む膜６１９上に無機絶縁膜６２０が形成される。無機絶縁膜６２０には、スパッタリング法、ＣＶＤ法または蒸着法により得られる窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜（ＳｉＮＯ膜（組成比Ｎ＞Ｏ）またはＳｉＯＮ膜（組成比Ｎ＜Ｏ））、炭素を主成分とする薄膜（例えばＤＬＣ膜、ＣＮ膜）を用いることができる。
【００８９】
なお、このようにフッ素系樹脂を含む膜６１９および無機絶縁膜６２０で発光素子６１８を覆うことにより、水や酸素等の気体の侵入による発光素子６１８の劣化を防ぐことができるが、さらにシール剤６０５により封止基板６０４を素子基板６１０と貼り合わせることで、より上記効果を高めることができる。
【００９０】
すなわち、素子基板６０１、封止基板６０４、およびシール剤６０５で囲まれた空間６０７に発光素子６１８が備えられた構造になっている。
【００９１】
なお、シール剤６０５にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。
【００９２】
また、本実施の形態では封止基板６０４を構成する材料としてガラス基板や石英基板の他、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ　Ｐｌａｓｔｉｃｓ）、ＰＶＦ（ポリビニルフロライド）、マイラー、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
【００９３】
以上のようにして、フッ素系樹脂を含む膜６１９、無機絶縁膜６２０のおよび封止基板６０４を用いて発光素子６１８を外部から完全に遮断することにより、外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐことができる。従って、信頼性の高い発光装置を得ることができる。
【００９４】
なお、本実施の形態４は実施の形態１乃至３と自由に組み合わせることができる。
【００９５】
（実施の形態５）
発光素子を用いた発光装置は自発光型であるため、液晶表示装置に比べ、明るい場所での視認性に優れ、視野角が広い。従って、本発明の発光装置を用いて様々な電気器具を完成させることができる。
【００９６】
本発明により作製した発光装置を用いて作製された電気器具として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ）、ナビゲーションシステム、音響再生装置（カーオーディオ、オーディオコンポ等）、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等）、記録媒体を備えた画像再生装置（具体的にはデジタルビデオディスク（ＤＶＤ）等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうる表示装置を備えた装置）などが挙げられる。特に、斜め方向から画面を見る機会が多い携帯情報端末は、視野角の広さが重要視されるため、発光素子を有する発光装置を用いることが好ましい。それら電気器具の具体例を図７に示す。
【００９７】
図７（Ａ）は表示装置であり、筐体２００１、支持台２００２、表示部２００３、スピーカー部２００４、ビデオ入力端子２００５等を含む。本発明により作製した発光装置をその表示部２００３に用いることにより作製される。発光素子を有する発光装置は自発光型であるためバックライトが必要なく、液晶表示装置よりも薄い表示部とすることができる。なお、表示装置は、パソコン用、ＴＶ放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用表示装置が含まれる。
【００９８】
図７（Ｂ）はデジタルスチルカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、受像部２１０３、操作キー２１０４、外部接続ポート２１０５、シャッター２１０６等を含む。本発明により作製した発光装置をその表示部２１０２に用いることにより作製される。
【００９９】
図７（Ｃ）はノート型パーソナルコンピュータであり、本体２２０１、筐体２２０２、表示部２２０３、キーボード２２０４、外部接続ポート２２０５、ポインティングマウス２２０６等を含む。本発明により作製した発光装置をその表示部２２０３に用いることにより作製される。
【０１００】
図７（Ｄ）はモバイルコンピュータであり、本体２３０１、表示部２３０２、スイッチ２３０３、操作キー２３０４、赤外線ポート２３０５等を含む。本発明により作製した発光装置をその表示部２３０２に用いることにより作製される。
【０１０１】
図７（Ｅ）は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置（具体的にはＤＶＤ再生装置）であり、本体２４０１、筐体２４０２、表示部Ａ２４０３、表示部Ｂ２４０４、記録媒体（ＤＶＤ等）読み込み部２４０５、操作キー２４０６、スピーカー部２４０７等を含む。表示部Ａ２４０３は主として画像情報を表示し、表示部Ｂ２４０４は主として文字情報を表示するが、本発明により作製した発光装置をこれら表示部Ａ、Ｂ２４０３、２４０４に用いることにより作製される。なお、記録媒体を備えた画像再生装置には家庭用ゲーム機器なども含まれる。
【０１０２】
図７（Ｆ）はゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ）であり、本体２５０１、表示部２５０２、アーム部２５０３を含む。本発明により作製した発光装置をその表示部２５０２に用いることにより作製される。
【０１０３】
図７（Ｇ）はビデオカメラであり、本体２６０１、表示部２６０２、筐体２６０３、外部接続ポート２６０４、リモコン受信部２６０５、受像部２６０６、バッテリー２６０７、音声入力部２６０８、操作キー２６０９、接眼部２６１０等を含む。本発明により作製した発光装置をその表示部２６０２に用いることにより作製される。
【０１０４】
ここで図７（Ｈ）は携帯電話であり、本体２７０１、筐体２７０２、表示部２７０３、音声入力部２７０４、音声出力部２７０５、操作キー２７０６、外部接続ポート２７０７、アンテナ２７０８等を含む。本発明により作製した発光装置をその表示部２７０３に用いることにより作製される。なお、表示部２７０３は黒色の背景に白色の文字を表示することで携帯電話の消費電力を抑えることができる。
【０１０５】
なお、将来的に有機材料の発光輝度が高くなれば、出力した画像情報を含む光をレンズ等で拡大投影してフロント型若しくはリア型のプロジェクターに用いることも可能となる。
【０１０６】
また、上記電気器具はインターネットやＣＡＴＶ（ケーブルテレビ）などの電子通信回線を通じて配信された情報を表示することが多くなり、特に動画情報を表示する機会が増してきている。有機材料の応答速度は非常に高いため、発光装置は動画表示に好ましい。
【０１０７】
また、発光装置は発光している部分が電力を消費するため、発光部分が極力少なくなるように情報を表示することが好ましい。従って、携帯情報端末、特に携帯電話や音響再生装置のような文字情報を主とする表示部に発光装置を用いる場合には、非発光部分を背景として文字情報を発光部分で形成するように駆動することが好ましい。
【０１０８】
以上の様に、本発明により作製された発光装置の適用範囲は極めて広く、本発明の発光装置をあらゆる分野の電気器具に適用することが可能である。また、本実施の形態５の電気器具は実施の形態１乃至４を実施して作製された発光装置を用いることにより完成させることができる。
【０１０９】
【発明の効果】
本発明では、その表面状態、または膜中における含有量を制御したフッ素系樹脂を含む膜で発光素子を覆うことにより、水分や酸素等の気体の侵入により発光素子が劣化するのを防ぐことができるだけでなく、そのフッ素系樹脂を含む膜上に他の膜を積層することができる。すなわち、フッ素系樹脂を含む膜上に硬度の高い無機絶縁膜を形成することができるので、フッ素系樹脂を含む膜により得られる上記機能の他に、無機絶縁膜により得られる外部からの衝撃等に対する耐久性を高める機能を有することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の発光装置の構造について説明する図。
【図２】本発明の発光装置の構造について説明する図。
【図３】フッ素系樹脂を含む膜の成膜方法について説明する図。
【図４】フッ素系樹脂を含む膜の膜中成分について説明する図。
【図５】フッ素系樹脂を含む膜のパターニングについて説明する図。
【図６】本発明の発光装置の封止構造について説明する図。
【図７】電気器具について説明する図。
【図８】フッ素系樹脂を含む膜についてのＥＳＣＡ測定結果を説明する図。
【図９】フッ素系樹脂を含む膜についてのＥＳＣＡ測定結果を説明する図。
【図１０】フッ素系樹脂を含む膜についてのＩＲ測定結果を説明する図。
【符号の説明】
１０１　第１の基板
１０２（１０２ａ〜１０２ｃ）　絶縁膜
１０３　ＴＦＴ　１０４　ゲート電極　１０５　チャネル形成領域
１０６　不純物領域
１０７　配線
１０８　第１の電極
１０９　絶縁物
１１０　電界発光層　１１１　第２の電極　１１２　フッ素系樹脂を含む膜
１１３　無機絶縁膜
【図１】
2004119015.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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