(57)【要約】【課題】高温に曝されても優れた耐光性を有する成形品を製造し得る液晶ポリエステル樹脂組成物を提供する。【解決手段】［１］液晶ポリエステルと、一般式（１）2004182946.tif 0000232004182946.tif 000024（式中、R1は、フェニル基または炭素数14以上のアルキル基を表す。）で示されるホスファイト系化合物の少なくとも１種とを含有してなることを特徴とする液晶ポリエステル樹脂組成物。［２］さらに分解開始温度が350℃以上の有機系の紫外線吸収剤を含有してなる［１］記載の組成物。［３］［１］記載の組成物を成形して得られる成形品。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ポリエステルと、一般式（１）
2004182946.tif 000019
2004182946.tif 000020
（式中、R1は、フェニル基または炭素数14以上のアルキル基を表す。）
で示されるホスファイト系化合物の少なくとも１種とを含有してなることを特徴とする液晶ポリエステル樹脂組成物。
【請求項２】
さらに分解開始温度が350℃以上の有機系の紫外線吸収剤を含有してなる請求項１記載の組成物。
【請求項３】
紫外線吸収剤が、一般式（２）
2004182946.tif 000021
2004182946.tif 000022
（式中、Ｒ3は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。）
で示されるベンゾフェノン系化合物である請求項１または２記載の組成物。
【請求項４】
液晶ポリエステルが、芳香族ヒドロキシカルボン酸および芳香族ジオールからなる群から選ばれる少なくとも１種を脂肪酸無水物によりアシル化して得たアシル化物と、芳香族ヒドロキシカルボン酸および芳香族ジカルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種とをエステル交換して得られる液晶ポリエステルである請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
芳香族ヒドロキシカルボン酸がｐ−ヒドロキシ安息香酸であり、芳香族ジカルボン酸がテレフタル酸５０〜１００モル％を含み、芳香族ジオールが4,4'−ジヒドロキシビフェニル５０〜１００モル％を含む請求項４記載の組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の組成物を成形して得られる成形品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ポリエステル樹脂組成物及びその成形品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ポリエステルは、電気的特性、機械的性質に優れ、加工性にも優れている為、各種の電気・電子分野で幅広く利用されている。しかしながら、用途の拡大、多様化に伴い、液晶ポリエステルからなる成形品を紫外線暴露下で使用する機会が増加しており、優れた耐光性が要求されている。
耐光性を向上させるため、液晶ポリエステルに2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)オクチルホスファイトを耐光性改良剤として添加してなる樹脂組成物は知られている（特許文献１）。しかしながら、該樹脂組成物を成形品とした場合、フィラーとのコンパウンド化の際や、成形の際などに高温に曝されることによって、耐光性改良剤が分解して、耐光性の改善が十分でないという問題があった。
よって、高温に曝されても優れた耐光性を有する成形品を製造し得る液晶ポリエステル樹脂組成物の開発が望まれていた。
【０００３】
【特許文献１】
特開平４−３１８０５８号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、高温に曝されても優れた耐光性を有する成形品を製造し得る液晶ポリエステル樹脂組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決しようとする手段】
本発明らは、上記したような問題を解決し得る液晶ポリエステル樹脂組成物を見出すべく、鋭意検討を重ねた結果、液晶ポリエステルと下記式（１）で示されるホスファイト系化合物を含有してなる樹脂組成物が、高温に曝されても優れた耐光性を有する成形品を製造し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、液晶ポリエステルと、一般式（１）
2004182946.tif 000002
2004182946.tif 000003
（式中、R1は、フェニル基または炭素数14以上のアルキル基を表す。）
で示されるホスファイト系化合物の少なくとも１種とを含有してなることを特徴とする液晶ポリエステル樹脂組成物を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物は、液晶ポリエステルと上記式（１）で示されるホスファイト系化合物を含有してなる。
本発明で使用される液晶ポリエステルは、サーモトロピック液晶ポリマーと呼ばれるポリエステルであり、４５０℃以下の温度で異方性溶融体を形成するものである。
液晶ポリエステルとしては、例えば、
（１）芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および芳香族ジオールの組み合わせからなるもの、
（２）異種の芳香族ヒドロキシカルボン酸からなるもの、
（３）芳香族ジカルボン酸と芳香族ジオールとの組み合わせからなるもの、
（４）ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルに芳香族ヒドロキシカルボン酸を反応させたものなどが挙げられる。
なお、これらの芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸及び芳香族ジオールの代わりに、それらのエステル形成性誘導体を使用してもよい。
【０００８】
カルボン酸のエステル形成性誘導体としては、例えば、カルボキシル基が、ポリエステル生成反応を促進するような、酸塩化物、酸無水物などの反応性が高い誘導体となっているもの、カルボキシル基がエステル交換反応によりポリエステルを生成するようなアルコール類やエチレングリコールなどとエステルを形成しているものなどが挙げられる。
また、フェノール性水酸基のエステル形成性誘導体としては、例えば、エステル交換反応によりポリエステルを生成するように、フェノール性水酸基がカルボン酸類とエステルを形成しているものなどが挙げられる。
【０００９】
また、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および芳香族ジオールは、エステル形成性を阻害しない程度であれば、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基などで置換されていてもよい。
【００１０】
該液晶ポリエステルの繰り返し構造単位としては、下記のものを例示することができるが、これらに限定されるものではない。
【００１１】
芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰り返し構造単位：
2004182946.tif 000004
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子またはアルキル基で置換されていてもよい。
【００１２】
芳香族ジカルボン酸に由来する繰り返し構造単位：
2004182946.tif 000005
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
【００１３】
芳香族ジオールに由来する繰り返し構造単位：
2004182946.tif 000006
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
なお、上記のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、上記のアリール基としては、炭素数６〜２０のアリール基が好ましい。
【００１４】
耐熱性、機械物性のバランスから芳香族液晶ポリエステルは、前記A１式で表される繰り返し単位を少なくとも３０モル％含むことが好ましい。
繰り返し構造単位の好ましい組み合わせとしては、例えば、下記（ａ）〜（ｆ）が挙げられる。
（ａ）：（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ３）、または、（Ａ１）、（Ｂ１）と（Ｂ２）の混合物、（Ｃ３）。
（ｂ）：（ａ）の構造単位の組み合わせのものにおいて、（Ｃ３）の一部または全部を（Ｃ１）に置き換えたもの。
（ｃ）：（ａ）の構造単位の組み合わせのものにおいて、（Ｃ３）の一部または全部を（Ｃ２）に置き換えたもの。
（ｄ）：（ａ）の構造単位の組み合わせのものにおいて、（Ｃ３）の一部または全部を（Ｃ４）に置き換えたもの。
（ｅ）：（ａ）の構造単位の組み合わせのものにおいて、（Ｃ３）の一部または全部を（Ｃ４）と（Ｃ５）の混合物に置き換えたもの。
（ｆ）：（ａ）の構造単位の組み合わせのものにおいて、（Ａ１）の一部を（Ａ2）に置き換えたもの。
【００１５】
本発明に用いる液晶ポリエステルとしては、液晶性発現の観点から、ｐ―ヒドロキシ安息香酸に由来する繰り返し構造単位30〜80mol%、ヒドロキノン、レゾルシノール、４，４‘―ジヒドロキシビフェニル、ビスフェノールＡおよびビスフェノールＳからなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に由来する繰り返し構造単位10〜35mol%、テレフタル酸、イソフタル酸およびナフタレンジカルボン酸からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に由来する繰り返し構造単位10〜35mol%からなることが好ましい。
【００１６】
また、本発明に用いる液晶ポリエステルとしては、耐熱性の観点から、ｐ―ヒドロキシ安息香酸に由来する繰り返し構造単位30〜80mol%、ヒドロキノンおよび４，４‘―ジヒドロキシビフェニルからなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に由来する繰り返し構造単位10〜35mol%、テレフタル酸およびイソフタル酸からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に由来する繰り返し構造単位10〜35mol%からなることが好ましい。
【００１７】
本発明で用いられる液晶性ポリエステルは、耐熱性及び耐衝撃性のバランスから、下記式で表される繰り返し単位を少なくとも３０モル％含むことが好ましい。
2004182946.tif 000007
また、液晶性ポリエステルの重量平均分子量は、特に限定されないが、１００００〜５００００であることが好ましい。
【００１８】
本発明に用いる液晶ポリエステルの製造方法は、特に限定されないが、例えば、芳香族ヒドロキシカルボン酸および芳香族ジオールからなる群から選ばれる少なくとも１種を過剰量の脂肪酸無水物によりアシル化してアシル化物を得、得られたアシル化物と、芳香族ヒドロキシカルボン酸および芳香族ジカルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種とをエステル交換（重縮合）することにより溶融重合する方法が挙げられる。アシル化物としては、予めアシル化して得た脂肪酸エステルを用いてもよい。
【００１９】
アシル化反応においては、脂肪酸無水物の添加量がフェノール性水酸基の１．０〜１．２倍当量であることが好ましく、より好ましくは１．０５〜１．１倍当量である。脂肪酸無水物の添加量が１．０倍当量未満では、エステル交換（重縮合）時にアシル化物や芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸などが昇華し、反応系が閉塞し易い傾向があり、また、１．２倍当量を超える場合には、得られる液晶性ポリエステルの着色が著しくなる傾向がある。
【００２０】
アシル化反応は、１３０〜１８０℃で５分〜１０時間反応させることが好ましく、１４０〜１６０℃で１０分〜３時間反応させることがより好ましい。
【００２１】
アシル化反応に使用される脂肪酸無水物は，特に限定されないが、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水吉草酸、無水ピバル酸、無水２エチルヘキサン酸、無水モノクロル酢酸、無水ジクロル酢酸、無水トリクロル酢酸、無水モノブロモ酢酸、無水ジブロモ酢酸、無水トリブロモ酢酸、無水モノフルオロ酢酸、無水ジフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水β−ブロモプロピオン酸などが挙げられ、これらは２種類以上を混合して用いてもよい。価格と取り扱い性の観点から、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸が好ましく、より好ましくは、無水酢酸である。
【００２２】
エステル交換においては、アシル化物のアシル基がカルボキシル基の０．８〜１．２倍当量であることが好ましい。
【００２３】
エステル交換は、１３０〜４００℃で０．１〜５０℃／分の割合で昇温しながら行なうことが好ましく、１５０〜３５０℃で０．３〜５℃／分の割合で昇温しながら行なうことがより好ましい。
【００２４】
アシル化して得た脂肪酸エステルとカルボン酸とをエステル交換させる際、平衡を移動させるため、副生する脂肪酸と未反応の脂肪酸無水物は、蒸発させるなどして系外へ留去することが好ましい。
【００２５】
なお、アシル化反応、エステル交換は、触媒の存在下に行なってもよい。該触媒としては、従来からポリエステルの重合用触媒として公知のものを使用することができ、例えば、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモンなどの金属塩触媒、N,N-ジメチルアミノピリジン、N―メチルイミダゾールなどの有機化合物触媒などを挙げることができる。該触媒は、通常、モノマー類の投入時に投入され、アシル化後も除去することは必ずしも必要ではなく、該触媒を除去しない場合にはそのままエステル交換を行なうことができる。
【００２６】
エステル交換による重縮合は、通常、溶融重合により行なわれるが、溶融重合と固層重合とを併用してもよい。固相重合は、溶融重合工程からポリマーを抜き出し、その後、粉砕してパウダー状もしくはフレーク状にした後、公知の固相重合方法により行うことが好ましい。具体的には、例えば、窒素などの不活性雰囲気下、２０〜３５０℃で、１〜３０時間固相状態で熱処理する方法などが挙げられる。固相重合は、攪拌しながらでも、攪拌することなく静置した状態で行ってもよい。なお適当な攪拌機構を備えることにより溶融重合槽と固相重合槽とを同一の反応槽とすることもできる。固相重合後、得られた液晶ポリエステルは、公知の方法によりペレット化し、成形してもよい。
液晶ポリエステルの製造は、例えば、回分装置、連続装置等を用いて行うことができる。
【００２７】
本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物は、上記のようにして得られる液晶ポリエステルと、一般式（１）
2004182946.tif 000008
2004182946.tif 000009
で示されるホスファイト系化合物の少なくとも１種とを含有してなる。
【００２８】
式中、Ｒ1は、フェニル基または炭素数１４以上のアルキル基を表す。
Ｒ1が、炭素数１３以下のアルキル基であると、ホスファイト系化合物の揮発性が大きくなり、液晶ポリエステルに添加しても十分な耐光性改善効果が得られない。
炭素数１４以上のアルキル基としては、例えば、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、へプタデシル基、オクタデシル基などが挙げられる。炭素数１４以上のアルキル基としては、オクタデシル基が好ましい。
一般式（１）で示されるホスファイト系化合物としては、例えば、トリテトラデシルオキシホスファイト、トリペンタデシルオキシホスファイト、トリヘキサデシルオキシホスファイト、トリへプタデシルオキシホスファイト、トリオクタデシルオキシホスファイト（トリステアリルホスファイト）などが挙げられる。これらの中でトリオクタデシルオキシホスファイト（トリステアリルホスファイト）が好ましく使用される。
【００２９】
ホスファイト系化合物（１）の配合量は、液晶ポリエステル１００重量部に対して、0.01〜１重量部であることが好ましく、0.05〜0.2重量部であることがより好ましい。
配合量が0.01重量部未満では、耐光性改良効果が得られない傾向があり、また、配合量が１重量を超えると、ホスファイト系化合物（１）から発生するガスにより成形品が発泡して成形品表面に膨れが発生する傾向がある。
【００３０】
本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物には、その耐光性を更に向上させるために紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
紫外線吸収剤は、分解開始温度が350℃以上の紫外線吸収剤であることが好ましい。ここで、分解開始温度とは、JISK7120に記載される熱重量法により測定された値を言う。
紫外線吸収剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セシウム、酸化鉄などの無機系の紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系化合物、ポリエチレンテレナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂などの有機系の紫外線吸収剤などが挙げられるが、有機系の紫外線吸収剤が好ましく使用される。
無機系の紫外線吸収剤は、負触媒的な作用により樹脂の劣化を促進させる傾向がある。
【００３１】
有機系の紫外線吸収剤としては、一般式（２）
2004182946.tif 000010
2004182946.tif 000011
で示されるベンゾフェノン系化合物が特に好ましく使用される。
【００３２】
式中、Ｒ３は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。
炭素数１〜５のアルキレン基としては、例えば、１−メチルエチレン基、１−メチルプロピレン基、２−メチルプロピレン基、１，１−ジメチルプロピレン基、１，２−ジメチルプロピレン基、ブチレン基などが挙げられる。これらの中で、ブチレン基が好ましく使用される。
一般式（２）で示されるベンゾフェノン系化合物としては、例えば、１，４−ビス（４-ベンゾイル-３-ヒドロキシフェノキシ）-メタン、１，４−ビス（４-ベンゾイル-３-ヒドロキシフェノキシ）-エタン、１，４−ビス（４-ベンゾイル-３-ヒドロキシフェノキシ）-プロパン、１，４−ビス（４-ベンゾイル-３-ヒドロキシフェノキシ）-ブタンが挙げられる。
【００３３】
紫外線吸収剤の添加量は、特に限定されないが、液晶ポリエステル１００重量部に対して、0.01〜3重量部であることが好ましく、0.05〜0.5重量部であることがより好ましい。
【００３４】
また、本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物には、機械的強度をさらに向上させるために、繊維状、粒状、板状などの無機充填剤、または有機充填剤などを配合してもよい。
繊維状の無機充填剤としては、例えば、アルミニウム、チタン、銅などの金属の繊維状物質、ガラス繊維、アスベスト繊維、シリカ繊維、シリカアルミナ繊維、チタン酸カリウム繊維、炭素繊維、黒鉛繊維などが挙げられるが、ガラス繊維が好ましい。
【００３５】
粒状の無機充填剤としては、例えば、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、タルク、クレー、珪藻土、ウオラスナイトなどのケイ酸塩、酸化鉄、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、アルミナ、硫酸カルシウムなどの各種金属粉末、カーボンブラック、黒鉛、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ミルドガラスファイバー、ガラスバルーン、ガラス粉などが挙げられる。
また、板状の無機充填剤としては、マイカ、ガラスフレーク、各種金属箔などが挙げられる。
有機充填材としては、例えば、芳香族ポリエステル、芳香族ポリイミド、ポリアミドなどからなる耐熱性高強度繊維などが挙げられる。
これらの充填剤は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよく、必要に応じて、予め従来公知の表面処理剤により処理して用いてもよい。また、繊維状の充填剤を用いる場合には、収束剤などと併用してもよい。
【００３６】
充填剤を配合する場合、その配合量は組成物全体に対して、10重量％以上80重量％以下が好ましく、より好ましくは10重量％以上70重量％以下である。
80重量％を超えて充填剤を配合すると、機械的強度が低下する傾向がある。充填剤の配合方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。
【００３７】
また、本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物には、酸化防止剤、補強剤、顔料、増強剤、熱安定剤等の種々の公知の添加剤を配合してもよい。
また、上記した添加剤は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。
【００３８】
さらに、本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルエーテル及びその変性物、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性樹脂の少なくとも一種を配合してもよい。
【００３９】
本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物は、例えば、押出成形、射出成形、圧縮成形、ブロー成形などの溶融成形により、繊維、フィルム、三次元成形品、容器、ホースなどの成形品に加工することができる。
このようにして得られた成形品は、熱処理によって強度、弾性率を向上させることができる。
該熱処理は、不活性雰囲気（例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等）中、酸素含有雰囲気（例えば、空気）中、または減圧下において、成形品を該液晶ポリエステル樹脂組成物の融点以下（液晶化温度以下）で加熱することによって行うことができる。
【００４０】
本発明の液晶ポリエステル樹脂組成物を用いて得られる成形品は、耐光性に優れていることから、紫外線に暴露されるような用途、例えば、ランプ周りの部材、発光ダイオード周りの部材などに好適に使用することができる。
【００４１】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明が実施例により限定されるものでないことは言うまでもない。
尚、紫外線吸収剤の分解開始温度は島津製作所（株）TGA-50（空気雰囲気、昇温速度10℃/min）によりJISK7120に従って求めた。
【００４２】
実施例１
攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、ｐ―ヒドロキシ安息香酸 １０６４ｇ（７．７モル）、４，４’−ジヒドロキシビフェニル ３０７ｇ（１．６５モル）、テレフタル酸 ２６０．８ｇ．（１２．１モル）を仕込んだ。反応器内を十分に窒素ガスで置換した後、窒素ガス気流下で１５分かけて１５０℃まで昇温し温度を保持して３時間還流させた。その後、留出する副生酢酸、未反応の無水酢酸を留去しながら２時間５０分かけて３２０℃まで昇温し、トルクの上昇が認められる時点を反応終了とみなし、内容物を取り出した。得られた固形分は室温まで冷却し、粗粉砕機で粉砕後、窒素雰囲気下、室温から２５０℃まで１時間かけて昇温し、２５０℃から３２３℃まで５時間かけて昇温し、３２３℃で３時間保持し、固層で重合反応を進めた。偏光顕微鏡で観察した結果、得られた樹脂は、溶融時（４１０℃）に光学異方性を示した。
得られた樹脂１００重量部に対し、ホスファイト系化合物（下記式(３)のトリステアリルホスファイト）を0.1重量部、三菱化学製カーボンブラック（ＭＡ１００）を１重量％配合後、旭ガラス製ミルドガラス（REV-8）を全体の４０重量％になるよう配合して混合した後、１２０℃で３時間乾燥した。
次いで、２軸押出機（池貝鉄工（株）ＰＣＭ−３を用い、３９０℃で造粒した。得られたペレットを日精樹脂工業（株）製ＰＳ４０Ｅ５ＡＳＥ型射出成形機を用いて、シリンダー温度４００℃、金型温度１３０℃で射出成形を行い、平板厚み１mmの成形品を得た。得られた成形品の耐光性をスガ試験機（株）製キセノンウェザーメーターSC700-WNにより評価を行った。
ここで、成形品の耐光性は黄変度（JISK7103）により評価した。この黄変度は日本電工工業色差計（株）製色差計から得られるXYZの三刺激値から算出した。結果を表１に示す。
（Ｃ１８Ｈ３７Ｏ）３Ｐ
（３）
【００４３】
実施例２
更に、紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系化合物（下記式（４） 分解開始温度 約380℃）を0.1重量部添加した以外は実施例１と同様にして耐光性を評価した。結果を表１に示す。
2004182946.tif 000012
2004182946.tif 000013
【００４４】
実施例３
更に、紫外線吸収剤として、下記式（５）（分解開始温度 約190℃）を0.1重量部添加した以外は実施例１と同様にして耐光性を評価した。
2004182946.tif 000014
2004182946.tif 000015
【００４５】
比較例１
ホスファイト化合物として 2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)オクチルホスファイト（下記式（６））を0.1重量部添加した以外は実施例１と同様にして耐光性を評価した。
2004182946.tif 000016
2004182946.tif 000017
【００４６】
比較例２
ホスファイト系化合物と紫外線吸収剤を添加しなかった以外は実施例１と全く同様にして評価した。結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
2004182946.tif 000018
＊１黄変度・・・積算照光強度が10000kJ/m2における値
【００４８】
【発明の効果】
本発明によれば、高温に曝されても優れた耐光性を有する成形品を製造し得る液晶ポリエステル樹脂組成物を提供することが可能となる。