(57)【要約】【課題】タンタル及び窒化タンタル膜を選択的に除去する。【解決手段】本発明は、タンタル及び窒化タンタル膜を選択的にドライ・エッチングするための方法を説明する。窒化タンタル層（３０）は半導体製造においてよく用いられる。半導体基板は、いかなる露出された銅（４０）をも不動態化する、還元性プラズマ化学物質にさらされる。タンタル又は窒化タンタル膜は、酸化性プラズマ化学物質を用いて選択的に取り除かれる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
　窒化タンタル層を選択的にエッチングする方法であって、
　少なくとも１つの窒化タンタル層を含む半導体基板を提供し、
　前記半導体基板を還元性プラズマ化学物質にさらし、ここで、前記還元性化学物質が、露出された銅領域を不動態化し、
　前記窒化タンタル層を酸化性プラズマ化学物質にさらし、前記窒化タンタル層のすべて又は一部を選択的に取り除く
　ことを含む方法。
　
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、タンタル及び窒化タンタル層を選択的に除去するためのドライ・エッチング・プロセスに関連する。ここで用いられるドライ・エッチング・プロセスは、銅層、及びシリコン酸化物ベースの誘電体層を著しく攻撃することなく、タンタル及び窒化タンタルをエッチングする。
【背景技術】
【０００２】
　幅広く用いられているアルミニウム配線に比べて銅の特性が優れているため、集積回路の金属相互接続配線を形成するために銅を用いることがますます増えてきている。集積回路製造における重要な課題の一つは、ＲＣ時間遅延を低減させることである。ＲＣ時間遅延の重要な構成要素には、その集積回路を構成する種々のデバイスを接続する金属配線内に存在する抵抗とキャパシタンスがある。2.82×10−６Ωcmであるアルミニウムの抵抗率に対し、銅の抵抗率は1.72×10−６Ωcmである。この低減された抵抗率により、銅配線に関連するＲＣ遅延が低減され得る。さらに、銅は、通常用いられるアルミニウム合金と比較すると、エレクトロマイグレーションに対する耐性が優れ、一層高い信頼性を有する。
【０００３】
　通常、集積回路の金属配線は誘電体層に形成される。典型的に、これらの誘電体層はシリコン酸化物で構成されるか、或いはシリコン酸化物を含む。集積回路銅配線を形成するための典型的なダマシン・プロセスにおいて、トランジスタ、ダイオードなどの電子デバイスを含むシリコン基板の上に形成される誘電体層に、まずトレンチが形成される。これは図１に示しており、シリコン基板の上に誘電体層１０が形成されている。通常のシリコン・プロセス技術を用いて、誘電体層１０にトレンチ２０が形成される。銅はシリコン酸化物と反応するため、障壁層を用いてそれを閉じ込める必要がある。
【０００４】
　通常用いられる障壁層は、銅層の形成の前に誘電体層上に形成される、窒化タンタル（TaxNy）である。TaxNy障壁層３０，３５が図１に示されている。TaxNyはブランケット・デポジション（blanket deposition）で形成されて、トレンチを区画する領域３５と、トレンチの外側の誘電体層１０上の表面に生じる領域３０となる。TaxNy障壁層の形成の後、銅の厚い層が形成される。化学的機械的プロセッシング（ＣＭＰ）などの標準のプロセス技術を用いて、過剰な銅が取り除かれ、トレンチ内に生じる銅の一部４０が残る。プロセスを完了するためには、銅によって覆われていない障壁層の部分（すなわち、図１の領域３０）を取り除かなければならない。
【０００５】
　現在ある方法を用いてTaxNy層を選択的に除去するのは非常に難しいプロセスである。露出されたTaxNy層３０を取り除くためにＣＭＰプロセスがよく用いられるが、これにより、露出された銅表面を窪ませたり、下にある誘電体層１０を侵食させることがある。露出されたTaxNy層の湿式化学エッチングは困難である。なぜならば、TaxNyをエッチングする化学溶液の殆どは、下にある誘電体材料を攻撃し得、露出された銅表面をエッチング又は損傷させ得るためである。したがって、下にある誘電体層及び／又は露出された銅表面を損傷させることなく、TaxNy層を選択的にエッチングする方法が必要とされている。
【０００６】
　タンタル及び窒化タンタル層は、集積回路製造中に形成されることが多い。本発明は、窒化タンタル層を選択的にエッチングする方法を詳細に述べる。本発明は、少なくとも１つのタンタル層及び／又は窒化タンタル層を含む半導体基板を、還元性プラズマ化学物質にさらすことを含み、この還元性化学物質は、任意の露出された銅、又は還元性化学物質にさらされた誘電体層を不動態化する。その後、この半導体基板を酸化性プラズマ化学物質にさらすことによって、タンタル及び／又は窒化タンタル層のすべて又は一部が選択的に取り除かれ得る。
【実施例】
【０００７】
　TaxNy及び／又はタンタル（Ta）を選択的にエッチングするために、二段階ドライ・エッチング・プロセスが用いられる。窒化タンタルの化学記号（すなわち、TaxNy）の下付き文字ｘ及びｙは整数を表し、これらは窒化タンタル合金の種類に依る。本発明のエッチング・プロセスは、あらゆる種類のタンタル金属及び窒化タンタル合金を選択的にエッチングし得る。プロセス条件を下記の表に示す。
【表１】
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【０００８】
　上記の表にあるように、プロセスの第１段階は、活性ガスとして窒素（N2）及びアンモニア（NH3）を用いるプラズマ・プロセスから成る。N2及びNH3に加えて、アルゴンなどのキャリア・ガスを含むその他のガスも本発明から逸脱することなくチャンバに存在し得る。本発明の一実施例では、N2及びNH3の流量はそれぞれ480 sccm及び2200 sccmで、電力は900ワット、ウエハ温度は約250℃であることが好ましい。この段階は、その表面を還元性プラズマ化学物質にさらすことによって、TaxNy及び／又はTa層の表面を修正する。TaxNy及び／又はTaの表面を修正することに加え、プロセスの第１段階は、第１段階で露出された銅表面（例えば、図１の４０）を不動態化し、それにより、銅表面の酸化度を低減させる。したがって、エッチング・プロセスの第１段階は、TaxNy及び／又はTa層の表面を修正すると同時に、露出された銅表面を不動態化して銅表面の酸化度を低減させる。
【０００９】
　プロセスの第２段階は、活性ガスとして酸素（O2）及びテトラフルオロエチレン（C2F4）を用いるプラズマ・プロセスから成る。O2及びC2F4に加えて、その他のガスも本発明から逸脱することなくチャンバ内に存在し得る。本発明の一実施例では、O2及びC2F4の流量はそれぞれ2900 sccm及び60 sccmで、電力は1200ワット、ウエハ温度は約60℃であることが好ましい。この段階は、誘電体層を著しく攻撃することなく、修正されたTaxNy及び／又はTa層を取り除くため、酸化性プラズマ化学物質を用いる。更に、第１段階で不動態化された銅表面は、第２段階の酸化性化学物質に対して高度な耐性があり、このため、プロセスの第２段階中に著しく攻撃されることがない。したがって、本発明の二段階エッチング・プロセスは、いかなる下にある誘電体層、又は露出された銅表面をも攻撃することなく、TaxNy及び／又はTa層をエッチングする（又は、取り除く）ための選択的なプロセスとなる。
【００１０】
　上述の二段階エッチング・プロセスは、同一のプラズマ・チャンバで成されてもよいし、別々のチャンバで成されてもよい。銅メタライゼーション・プロセスにおいてTaxNy及び／又はTa障壁層をエッチングすることに加え、本発明のプロセスは、任意のアプリケーションにおいてTaxNy及び／又はTa層及び膜をエッチングするために用いられ得る。
　本発明を例示用の実施例を参照して説明したが、本説明が限定的な意味に解釈されることを意図しているのではない。本発明の他の実施例だけでなく、これら例示用の実施例の種々の変形及び組合せも、本説明を参照すれば当業者にとって明白である。したがって、添付の特許請求の範囲はあらゆるこれらの変形及び組合せを包含することを意図する。
　以上の説明に関し、更に以下の項目を開示する。
【００１１】
　（１）　窒化タンタル層を選択的にエッチングする方法であって、
　少なくとも１つの窒化タンタル層を含む半導体基板を提供し、
　前記半導体基板を還元性プラズマ化学物質にさらし、ここで、前記還元性化学物質が、露出された銅領域を不動態化し、
　前記窒化タンタル層を酸化性プラズマ化学物質にさらし、前記窒化タンタル層のすべて又は一部を選択的に取り除く
　ことを含む方法。
【００１２】
　（２）　第１項に記載の方法であって、前記還元性プラズマ化学物質が窒素及びアンモニアを含む方法。
【００１３】
　（３）　第１項に記載の方法であって、前記酸化性プラズマ化学物質が酸素及びテトラフルオロエチレンを含む方法。
【００１４】
　（４）　第２項に記載の方法であって、窒素及びアンモニアのガス流量が、それぞれ250 sccmから1000 sccm及び1000 sccmから4000 sccmである方法。
【００１５】
　（５）　第３項に記載の方法であって、酸素及びテトラフルオロエチレンのガス流量が、それぞれ1000 sccmから5000 sccm及び20 sccmから100 sccmである方法。
【００１６】
　（６）　第４項に記載の方法であって、前記還元性プラズマ化学物質のプラズマ電力が700ワットから1200ワットである方法。
【００１７】
　（７）　第５項に記載の方法であって、前記酸化性プラズマ化学物質のプラズマ電力が800ワットから1800ワットである方法。
【００１８】
　（８）　第６項に記載の方法であって、前記窒化タンタル層を前記還元性プラズマ化学物質にさらす間、前記窒化タンタルの温度が60℃よりも高い方法。
【００１９】
　（９）　第７項に記載の方法であって、前記窒化タンタル層を前記酸化性プラズマ化学物質にさらす間、前記窒化タンタルの温度が100℃よりも低い方法。
【００２０】
　（１０）　本発明は、タンタル及び窒化タンタル膜を選択的にドライ・エッチングするための方法を説明する。窒化タンタル層（３０）は半導体製造においてよく用いられる。半導体基板は、いかなる露出された銅（４０）をも不動態化する、還元性プラズマ化学物質にさらされる。タンタル又は窒化タンタル膜は、酸化性プラズマ化学物質を用いて選択的に取り除かれる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】銅領域の下の窒化タンタル障壁層を示す断面図。
【符号の説明】
【００２２】
　１０　誘電体層
　２０　トレンチ
　３０，３５　窒化タンタル層
　４０　銅
　
【図１】
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