(57)【要約】【課題】液晶性化合物を短時間で均一に欠陥なく配向させて、光学補償シートを高い生産性で製造する。【解決手段】支持体上に設けられている配向膜の上に、液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、液晶性化合物を含む層を形成する工程；液晶性化合物を含む層を液晶相転移温度と等方相転移温度との間の温度で１乃至５０秒間加熱することにより、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程；そして、液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程をこの順序で実施する。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に設けられている配向膜の上に、液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、液晶性化合物を含む層を形成する工程；液晶性化合物を含む層を液晶相転移温度と等方相転移温度との間の温度で１乃至５０秒間加熱することにより、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程；そして、液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程をこの順序で実施することにより、透明支持体、配向膜および液晶性化合物から形成した光学異方性層をこの順序で有する光学補償シートを製造することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項２】
支持体上に設けられている配向膜の上に、液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、液晶性化合物を含む層を形成する工程；液晶性化合物を含む層を液晶相転移温度と等方相転移温度との間の温度で１乃至５０秒間加熱することにより、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程；液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程；そして、液晶性化合物の配向方向を変化させた層を透明支持体上に転写する工程をこの順序で実施することにより、透明支持体および液晶性化合物から形成した光学異方性層を有する光学補償シートを製造することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項３】
液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程における加熱温度よりも高い温度で液晶性化合物を含む層を加熱することにより、液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程を実施する請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
液晶性化合物の配向方向を変化させる工程において、液晶性化合物を含む層を加熱している状態で、液晶性化合物の配向状態を固定する請求項３に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、支持体上に設けられている配向膜の上に、液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、液晶性化合物を配向させて、光学補償シートを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。
現在の主流であるＴＮモードの液晶セルを有するＴＦＴ液晶表示装置では、さらに光学補償シートを偏光板と液晶セルの間に挿入し、高品位な画像の表示を実現している。光学補償シートは、他の液晶表示装置にも有効である。
光学補償シートとしては、延伸ポリマーフイルムまたは液晶性化合物を配向させた光学異方性素子が用いられている。液晶性化合物には多様な配向状態があるため、液晶性化合物を配向させた光学異方性素子は、延伸ポリマーフイルムでは得ることができない光学的性質を実現することができる。
棒状液晶性化合物を用いた光学補償シートについては特開平０６−３４７７４２号公報に、円盤状液晶性化合物を用いた光学補償シートについては特開平０８−０５０２０６号公報に記載がある。
【０００３】
液晶性化合物を配向させて光学補償シートを製造する場合は、画像表示面全体で均一に液晶性化合物を所望の配向状態にすることが必要である。例えば、ＴＮモードの液晶セルを光学的に補償するためには、円盤状液晶性化合物を均一にハイブリット配向（配向膜との距離に伴って円盤面の傾きが変化するように配向）させた光学補償シートを用いることが好ましい。
しかし、画像表示面全体のような大面積において、液晶性化合物を均一に配向させるには、かなりの時間を要する。
特開平０８−０５０２０６号公報の実施例２〜５では、（１）支持体上に設けられている配向膜の上に、重合性基を有する円盤状液晶性化合物および光重合開始剤を含む塗布液を塗布し、円盤状液晶性化合物を含む層を形成する工程；（２）円盤状液晶性化合物を含む層を加熱して円盤状液晶性化合物をハイブリッド配向させる工程；そして（３）加熱温度を維持しながら、円盤状液晶性化合物を含む層に紫外光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させて配向状態を固定する工程により光学補償シートを製造している。上記（２）の工程で、支持体側に配向膜が存在するが、空気界面側には配向規制力を有する層が存在しない。そのため、空気界面側に配向欠陥が生じやすい。そして、配向欠陥が消失するまでに、かなりの時間が必要である。特開平０８−０５０２０６号公報の実施例１〜５では３分間の加熱処理を実施している。
【０００４】
配向欠陥が消失するために要する時間は、液晶性化合物を含む層の厚みに比例する。従って、液晶性化合物を含む層を薄くすれば、加熱時間を短縮できる。しかし、液晶性化合物を含む層の厚みは、光学補償シートが必要とする光学異方性（レターデーション値）と直接関係しており、製造時間を短縮する都合で液晶性化合物を含む層を薄くすることはできない。
特開平０８−０９４８３５号公報に、３００秒（５分）以下の加熱時間で、円盤状液晶性化合物を配向させて光学補償シートを製造する方法が開示されている。加熱配向時間を短縮する手段として、具体的には低融点化合物を液晶性化合物を含む層に添加している。特開平０８−０９４８３５号公報記載の実施例１〜５における具体的な加熱時間は、１〜４分であった。
【０００５】
【特許文献１】
特開平０６−３４７７４２号公報
【特許文献２】
特開平０８−０５０２０６号公報
【特許文献３】
特開平０８−０９４８３５号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
液晶表示装置は、近年のモニター市場でＣＲＴを脅かすほどに成長を遂げている。そのため、長い処理時間を要する製造方法では生産性が低く、市場の要求に対応できない。
本発明者の研究によれば、均一配向までに要する時間を律するのは、配向欠陥（ネマチック液晶相の場合、シュリーレン模様）の発生と、その消失である。短い加熱時間では、液晶性化合物の配向状態に多数の欠陥が生じる。配向欠陥がある光学補償シートを液晶表示装置に組み入れると、欠陥を起因とする光漏れで、表示画像のコントラストが著しく低下する。
本発明の目的は、大面積で存在する液晶性化合物を、短時間で均一に欠陥なく配向させて光学補償シートを製造することである。
また、本発明の目的は、液晶表示装置の視角特性の改善に有効な光学補償シートを、高い生産性で製造することでもある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記（１）〜（１２）の光学補償シートの製造方法を提供する。
（１）透明支持体上に設けられている配向膜の上に、液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、液晶性化合物を含む層を形成する工程；液晶性化合物を含む層を液晶相転移温度と等方相転移温度との間の温度で１乃至５０秒間加熱することにより、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程；そして、液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程をこの順序で実施することにより、透明支持体、配向膜および液晶性化合物から形成した光学異方性層をこの順序で有する光学補償シートを製造することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
（２）支持体上に設けられている配向膜の上に、液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、液晶性化合物を含む層を形成する工程；液晶性化合物を含む層を液晶相転移温度と等方相転移温度との間の温度で１乃至５０秒間加熱することにより、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程；液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程；そして、液晶性化合物の配向方向を変化させた層を透明支持体上に転写する工程をこの順序で実施することにより、透明支持体および液晶性化合物から形成した光学異方性層を有する光学補償シートを製造することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【０００８】
（３）液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程における加熱温度よりも高い温度で液晶性化合物を含む層を加熱することにより、液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程を実施する（１）または（２）に記載の製造方法。
（４）液晶性化合物の配向方向を変化させる工程において、液晶性化合物を含む層を加熱している状態で、液晶性化合物の配向状態を固定する（３）に記載の製造方法。
（５）液晶性化合物が重合性基を有し、液晶性化合物を重合させることにより、液晶性化合物の配向状態を固定する（４）に記載の製造方法。
（６）液晶性化合物を含む塗布液がさらに光重合開始剤を含み、液晶性化合物を含む層を光照射することにより液晶性化合物を重合させる（５）に記載の製造方法。
【０００９】
（７）製造した光学補償シートを、透過軸が直交した１対の偏光板内に透過率が最小となるとなるように配置したときの透過率が０．０１％以下となる（１）または（２）に記載の製造方法。
（８）製造した光学補償シートにおいて、１００ｃｍ２  中に５０μｍ以上の配向欠陥が１０個以下である（１）または（２）に記載の製造方法。
（９）製造した光学補償シートにおいて、液晶性化合物が、ハイブリット配向している（１）または（２）に記載の製造方法。
（１０）液晶性化合物が、円盤状液晶性化合物である（１）または（２）に記載の製造方法。
（１１）液晶性化合物を含む塗布液がさらに１，３，５−トリアジン環を有する化合物を含む（１）または（２）に記載の製造方法。
（１２）液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる工程により、液晶性化合物を含む層と配向膜との界面、あるいは液晶性化合物を含む層と空気との界面における液晶性化合物の平均傾斜角度が１０゜以上となる（１）または（２）に記載の製造方法。
【００１０】
本明細書において「水平に配向」とは、液晶性化合物の配向状態において屈折率が最大となる方向が配向膜面に対して平行であることを意味する。具体的には「水平に配向」は、円盤状液晶性化合物の場合にホメオトロピック配向を意味し、棒状液晶性化合物の場合にホモジニアス配向を意味する。そして、「実質的に水平に配向」とは、円盤状液晶性化合物の場合に円盤状液晶性化合物の円盤面と配向膜面との平均傾斜角度が１０゜未満であることを意味し、棒状液晶性化合物の場合に棒状分子の長軸方向と配向膜面との平均傾斜角度が１０゜未満であることを意味する。平均傾斜角度は、８゜未満であることが好ましく、６゜未満であることがより好ましく、４゜未満であることがさらに好ましく、２゜未満であることが最も好ましい。
【００１１】
また、「液晶性化合物の配向方向」は、液晶性化合物の配向状態において屈折率が最大となる方向を意味する。従って、円盤状液晶性化合物の場合には円盤状液晶性化合物の円盤面の方向を意味し、棒状液晶性化合物の場合に棒状液晶性分子の長軸方向を意味する。さらに、「ハイブリッド配向」とは、配向膜との距離に伴って液晶性化合物の傾斜角度が変化している配向状態を意味する。
「液晶相転移温度」および「等方相転移温度」は、使用している液晶性化合物のみで測定した温度（液晶性化合物そのものの相転移温度）ではなく、層を構成している実際の成分で測定した温度である。層の塗布液中に溶媒が含まれる場合は、溶媒の蒸発による相転移温度への影響があるが、そのような影響を除外することなく、実際の層の構成成分で温度を測定する。
【００１２】
【発明の効果】
本発明者は研究の結果、液晶性化合物を二段階の処理で配向させることによって、従来の一段階の処理よりも短時間で液晶性化合物を欠陥なく配向させることに成功した。
本発明者の研究により、水平配向（円盤状液晶性化合物の場合はホメオトロピック配向、棒状液晶性化合物の場合はホモジニアス配向）は、非常に短時間で欠陥ない配向状態に到達することができることが判明した。次に、水平配向状態にある液晶性化合物の配向方向を、配向膜との距離に伴って液晶性化合物を変化させる処理（例えば、冷却処理）も、短時間で実現できる。そのため、配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させようとする一段階の配向処理よりも、本発明に従う二段階処理の方が短時間で液晶性化合物を欠陥なく配向させることができる。
【００１３】
また、本発明者の研究により、配向膜近傍における液晶性化合物の傾斜角を大きく（例えば、液晶性化合物を含む層と配向膜との界面における液晶性化合物の平均傾斜角度を１０゜以上に）すると、生じた欠陥が早く消失することも判明した。
従って、本発明により、大面積で存在する液晶性化合物を、短時間で均一に欠陥なく配向させることが可能になった。配向に要する時間を短縮することで、液晶表示装置の視角特性の改善に有効な光学補償シートを、高い生産性で製造することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
［支持体］
液晶性化合物の配向に使用する支持体と、製造する光学補償シートの透明支持体とは、異なっていてもよい。例えば、本発明に従い液晶性化合物を配向させて配向状態を固定して得られた光学異方性層を、透明支持体に転写して、光学補償シートを製造することもできる。液晶性化合物の配向に使用する支持体と光学補償シートの透明支持体とが異なる場合、液晶性化合物の配向に使用する支持体について、特に制限はない。
【００１５】
光学補償シートの透明支持体としては、光透過率が８０％以上であるポリマーフイルムを用いることが好ましい。フイルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネートおよびポリスルホンが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン、ゼオネックス）を用いてもよい。セルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。セルロースの低級脂肪酸エステルは、セルロースアセテートであることが最も好ましい。セルロースアセテートの酢化度は、５５．０乃至６２．５％であることが好ましく、５７．０乃至６２．０％であることがさらに好ましい。
【００１６】
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｍ／Ｍｎ（Ｍｍは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。Ｍｍ／Ｍｎの値は、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。
【００１７】
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシル基が均等に置換されるのでなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明において、セルロースエステルの６位置換度は、２位および３位と同程度またはそれ以上であることが好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する６位置換度の割合は、３０乃至４０％であることが好ましい。６位置換度の割合は、３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
セルロースの６位は、アセチル以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位の置換度は、ＮＭＲによって測定することができる。
６位置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、および段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３を参照して合成することができる。
【００１８】
セルロースエステルフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
【００１９】
セルロースエステルフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
さらに、ライトパイピング防止に、極少量の染料を添加してもよい。透過率の観点からは、波長４２０ｎｍの光の透過率が５０％以上となるように、種類および量を調整することが好ましい。染料の添加量としては、０．０１ｐｐｍ乃至１ｐｐｍであることが好ましい。
【００２０】
セルロースエステルフイルムには、レターデーション値を制御するため、レターデーション上昇剤を添加することができる。
セルロースエステルフイルムのＲｅレターデーション値は２０乃至７０ｎｍの範囲に、そして、Ｒｔｈレターデーション値は７０乃至４００ｎｍの範囲に調節することが好ましい。
液晶表示装置に二枚の光学的異方性層を使用する場合、透明支持体に用いるセルロースエステルフイルムのＲｔｈレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
液晶表示装置に一枚の光学的異方性層を使用する場合、透明支持体に用いるセルロースエステルフイルムのＲｔｈレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
なお、セルロースエステルフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．０００２８乃至０．０２０の範囲にあることが好ましい。また、セルロースエステルフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４の範囲にあることが好ましい。
【００２１】
レターデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物であることが好ましい。レターデーション上昇剤は、セルロースエステル１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【００２２】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。
芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【００２３】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがより好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
レターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４号、ＷＯ００／２６１９号の各パンフレット、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号の各公報に記載がある。
【００２４】
セルロースエステルフイルムは、セルロースエステルおよび他の成分を含む溶液をドープとして用いて、ソルベントキャスト法により製造することができる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０乃至４０質量％となるように濃度を調整することが好ましい。固形分量は１８乃至３５質量％であることがさらに好ましい。ドープを２層以上流延することもできる。
ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【００２５】
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。そして、得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させる方法（特公平５−１７８４４号公報記載）を採用できる。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。複数のセルロースエステル溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースエステルを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフイルムを作製してもよい（特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および同１１−１９８２８５号の各公報記載）。２つの流延口からセルロースエステル溶液を流延することによりフイルムを作製することもできる（特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、同６１−９４７２４５号、同６１−１０４８１３号、同６１−１５８４１３号および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載）。高粘度セルロースエステル溶液の流れを低粘度のセルロースエステル溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースエステル溶液を同時に押出すセルロースエステルフイルムの流延方法（特開昭５６−１６２６１７号公報記載）を採用してもよい。
【００２６】
セルロースエステルフイルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３乃至１００％の範囲にあることが好ましい。テンター延伸が好ましい。遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度および離脱タイミングの差をできる限り小さくすることが好ましい。延伸処理についてはＷＯ０１／８８５７４号パンフレットの３７頁８行〜３８頁８行目に記載がある。
【００２７】
セルロースエステルフイルムは、表面処理を施すことが好ましい。表面処理には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理および紫外線照射処理が挙げられる。
フイルムの平面性を保持する観点から、表面処理においてセルロースエステルフイルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【００２８】
セルロースエステルフイルムの表面処理は、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースエステルに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。アルカリ処理が最も好ましい。
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ処理は、フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液は、水酸化カリウム溶液および水酸化ナトリウム溶液が好ましい。水酸化物イオンの規定濃度は、０．１乃至３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５乃至２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲にあることが好ましく、４０乃至７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【００２９】
表面処理後のフイルム表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０乃至７５ｍＮ／ｍの範囲にあることが更に好ましい。
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースエステルフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースエステルフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフイルムの表面エネルギーを算出できる。
セルロースエステルフイルムに、下塗り層（特開平７−３３３４３３号公報記載）を設けてもよい。
【００３０】
［配向膜］
配向膜は、液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有する。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
【００３１】
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましいポリマーである。疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
好ましい配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４号パンプレットの４３頁２４行〜４９頁８行に記載がある。
【００３２】
［光学異方性層の構成成分］
光学異方性層は、液晶性化合物から形成する。液晶性化合物には、棒状液晶性化合物および円盤状液晶性化合物が含まれる。液晶性化合物は、高分子液晶であってもよい。低分子液晶が重合して液晶性を示さなくなった化合物を用いることもできる。
液晶性化合物は、配向状態を固定するため、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、イソシアナート、チオシアナート、アミノ、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、メルカプト、ホルミル、アシル基、ヒドロキシル、カルボキシル基、スルホ、ホスホリル、ハロカルボニル、ハロスルホニル、ハロホスホリル、（メタ）アクリロイル、ビニルオキシ、エポキシ基およびプロパギルが好ましく、メルカプト、ホルミル、ヒドロキシル、ハロカルボニル、（メタ）アクリロイル、ビニルオキシおよびエポキシがさらに好ましく、ヒドロキシルおよび（メタ）アクリロイルが最も好ましい。
光学異方性層に用いる液晶性化合物については、ＷＯ０１／８８５７４号パンフレットの４９頁１０行〜６７頁２０行に記載がある。特に好ましい円盤状液晶性化合物については、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。
【００３３】
液晶性化合物には、液晶相転移温度が高い（１８０℃以上の）化合物が多く含まれている。液晶相転移温度が高い化合物は、ポリマーフイルム（一般に、ガラス転移点が１８０℃以下）を支持体として配向させることが難しい。液晶相転移温度が高い液晶性化合物は、それと相溶性の高い添加剤（可塑剤、モノマー、界面活性剤、配向促進剤（例えば、後述するトリアジン化合物）、高沸点用溶剤）と混合することで、任意の液晶相転移温度に調節することが望ましい。ただし、添加剤の混合により等方相転移温度が下がり、液晶相温度域が狭くなる場合もある。添加剤の混合量は、液晶性化合物の量に対して、０．００１乃至５０質量％が好ましく、０．０１乃至３０質量％がさらに好ましく、０．０５乃至２０質量％が最も好ましい。
塗布液に低融点化合物を加えて、液晶相転移温度を調節することもできる。低融点化合物は、融点が液晶性化合物の融点よりも低い化合物を意味する。液晶性化合物と低融点化合物とを混合することにより、混合物の融点が下がり、低温でも液晶性分子が動けるようになる。その結果、液晶性分子の液晶相転移温度が低下する。低融点化合物は、一般に低沸点化合物であって、低沸点有機溶媒として知られている化合物が好ましく用いられる。低融点化合物は、塗布層の固形分の２乃至７５質量％が好ましく、５乃至５０質量％がさらに好ましい。低融点化合物は、塗布液中に０．５乃至７５質量％含まれ、層の乾燥後に揮発して残存しなくてもよい。また、低融点化合物は重合性基を有し、重合反応により液晶性化合物と結合してもよい。重合性基の例は、液晶性化合物の重合性基と同様である。
【００３４】
塗布液は、水平配向促進剤を含むことが好ましい。液晶性化合物の水平配向促進剤については、特開平１１−３５２３２８号、特開２０００−１０５３１５号および同２００２−２０３６３号の各公報に記載がある。ただし、各公報に記載の水平配向促進剤は、液晶性化合物を水平配向状態とすることのみを考慮して選択されているが、本発明では液晶性化合物を水平配向状態とした後で配向方向を変化させる必要がある。そのため、本発明で好ましく使用できる水平配向促進剤は、各公報に記載の水平配向促進剤の一部に過ぎない。
【００３５】
本発明で使用する水平配向促進剤は、１，３，５−トリアジン環を有する化合物が好ましい。１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、下記式（ＩＩ）で表されることが好ましい。
【００３６】
【化１】
2004177813.tif 000002
【００３７】
式（ＩＩ）において、Ｘ１  、Ｘ２  およびＸ３  は、それぞれ独立に、単結合または二価の連結基であり、そして、Ｒ１  、Ｒ２  およびＲ３  は、それぞれ独立に、水素原子または一価の基である。一価の基が結合して環を形成してもよい。
【００３８】
二価の連結基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アリーレン基、置換アリーレン基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲ−（Ｒは、炭素原子数が１乃至５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２  −およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる基であることが好ましく、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＳＯ２  −を少なくとも二つ組み合わせた基であることがより好ましく、アルキレン基、置換アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＳＯ２  −を二つまたは三つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基および置換アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基および置換アルケニレン基、の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アリーレン基および置換アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。
【００３９】
置換アルキレン基および置換アルケニレン基の置換基の例には、アリール基、アルキル置換アリール基、アミノ、アルキル置換アミノ基、アリール置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルフィニル基、アリールスルフィニル基、ウレイド、アルキル置換ウレイド基、アリール置換ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル、メルカプト、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ、スルホ、カルボキシル、ニトロ、ヒドロキサム酸基、スルフィノ、ヒドラジノ、イミノ基、ヘテロ環基およびシリル基が含まれる。置換基は、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基およびアシルオキシ基が好ましい。
【００４０】
置換アリーレン基の置換基の例には、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキル置換アリール基、アミノ、アルキル置換アミノ基、アリール置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルフィニル基、アリールスルフィニル基、ウレイド、アルキル置換ウレイド基、アリール置換ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル、メルカプト、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ、スルホ、カルボキシル、ニトロ、ヒドロキサム酸基、スルフィノ、ヒドラジノ、イミノ基、ヘテロ環基およびシリル基が含まれる。置換基は、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基およびアシルオキシ基が好ましい。
【００４１】
一価の基は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキル置換アリール基、アミノ、アルキル置換アミノ基、アリール置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルフィニル基、アリールスルフィニル基、ウレイド、アルキル置換ウレイド基、アリール置換ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル、メルカプト、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ、スルホ、カルボキシル、ニトロ、ヒドロキサム酸基、スルフィノ、ヒドラジノ、イミノ基、ヘテロ環基またはシリル基が好ましい。
【００４２】
一価の基は、アルキル基、アリール基、アミノ、アルキル置換アミノ基、アリール置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、、アルキル置換ウレイド基、アリール置換ウレイド基およびヘテロ環基がさらに好ましく、アリール基、アミノ、アルキル置換アミノ基、アリール置換アミノ基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アリールチオ基およびヘテロ環基が最も好ましい。
【００４３】
アルキル基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１２がさらに好ましく、１乃至８が最も好ましい。アルキル基の例には、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが含まれる。
アルケニル基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１２がさらに好ましく、２乃至８が最も好ましい。アルケニル基の例には、ビニル、アリル、２−ブテニルおよび３−ペンテニルが含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１２がさらに好ましく、２乃至８が最も好ましい。アルキニル基の例には、プロパルギルおよび３−ペンチニルが含まれる。
アリール基の炭素原子数は、６乃至３０が好ましく、６乃至２０がさらに好ましく、６乃至１２が最も好ましい。アリール基の例には、フェニルおよびナフチルが含まれる。
アルキル置換アリール基の炭素原子数は、７乃至３０が好ましく、７乃至２０がさらに好ましく、７乃至１２が最も好ましい。アルキル置換アリール基の例には、ｐ−メチルフェニルが含まれる。
【００４４】
アルキル置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１０がさらに好ましく、１乃至６が最も好ましい。アルキル置換アミノ基の例には、メチルアミノ、ジメチルアミノおよびジエチルアミノが含まれる。
アリール置換アミノ基の炭素原子数は、６乃至３０が好ましく、６乃至２０がさらに好ましく、６乃至１２が最も好ましい。アリール置換アミノ基の例には、アニリノが含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１２がさらに好ましく、１乃至８が最も好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシおよびブトキシが含まれる。
アリールオキシ基の炭素原子数は、６乃至２０が好ましく、６乃至１６がさらに好ましく、６乃至１２が最も好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシおよび２−ナフチルオキシが含まれる。
アシル基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１６がさらに好ましく、１乃至１２が最も好ましい。アシル基の例には、アセチル、ベンゾイル、ホルミルおよびピバロイルが含まれる。
【００４５】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１６がさらに好ましく、２乃至１２が最も好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニルが含まれる。
アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７乃至２０が好ましく、７乃至１６がさらに好ましく、７乃至１０が最も好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェニルオキシカルボニルが含まれる。
アシルオキシ基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１６がさらに好ましく、２乃至１０が最も好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシおよびベンゾイルオキシが含まれる。
【００４６】
アミド基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１６がさらに好ましく、２乃至１０が最も好ましい。アミド基の例には、アセトアミドおよびベンズアミドが含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１６がさらに好ましく、２乃至１２が最も好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノが含まれる。
アリールオキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、７乃至２０が好ましく、７乃至１６がさらに好ましく、７乃至１２が最も好ましい。アリールオキシカルボニルアミノの例には、フェニルオキシカルボニルアミノが含まれる。
スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１６がさらに好ましく、１乃至１２が最も好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホニンアミドおよびベンゼンスルホンアミドが含まれる。
【００４７】
アルキル置換スルファモイル基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１６がさらに好ましく、１乃至１２が最も好ましい。アルキル置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイルおよびジメチルスルファモイルが含まれる。
アリール置換スルファモイル基の炭素原子数は、６乃至２０が好ましく、６乃至１６がさらに好ましく、６乃至１２が最も好ましい。アリール置換スルファモイル基の例には、フェニルスルファモイルが含まれる。
アルキル置換カルバモイル基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１６がさらに好ましく、２乃至１２が最も好ましい。アルキル置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチルカルバモイルが含まれる。
アリール置換カルバモイル基の炭素原子数は、７乃至２０が好ましく、７乃至１６がさらに好ましく、７乃至１２が最も好ましい。アリール置換カルバモイル基の例には、フェニルカルバモイルが含まれる。
【００４８】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１６がさらに好ましく、１乃至１２が最も好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオおよびエチルチオが含まれる。
アリールチオ基の炭素原子数は、６乃至２０が好ましく、６乃至１６がさらに好ましく、６乃至１２が最も好ましい。アリールチオ基の例には、フェニルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１６がさらに好ましく、１乃至１２が最も好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メシルが含まれる。
アリールスルホニル基の炭素原子数は、６乃至２０が好ましく、６乃至１６がさらに好ましく、６乃至１２が最も好ましい。アリールスルホニル基の例には、トシルが含まれる。
アルキルスルフィニル基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１６がさらに好ましく、１乃至１２が最も好ましい。アルキルスルフィニルの例には、メタンスルフィニルが含まれる。
アリールスルフィニル基の炭素原子数は、６乃至２０が好ましく、６乃至１６がさらに好ましく、６乃至１２が最も好ましい。アリールスルフィニルの例には、ベンゼンスルフィニルが含まれる。
【００４９】
アルキル置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至２０が好ましく、２乃至１６がさらに好ましく、２乃至１２が最も好ましい。アルキル置換ウレイド基の例には、メチルウレイドが含まれる。
アリール置換ウレイド基の炭素原子数は、７乃至２０が好ましく、７乃至１６がさらに好ましく、７乃至１２が最も好ましい。アリール置換ウレイド基の例には、フェニルウレイドが含まれる。
リン酸アミド基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１６がさらに好ましく、１乃至１２が最も好ましい。リン酸アミド基の例には、ジエチルリン酸アミドおよびフェニルリン酸アミドが含まれる。
ヘテロ環基の炭素原子数は、１乃至３０が好ましく、１乃至１２がさらに好ましい。ヘテロ環原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロ環基の例には、イミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリルおよびベンズチアゾリルが含まれる。
シリル基の炭素原子数は、３乃至４０が好ましく、３乃至３０がさらに好ましく、３乃至２４が最も好ましい。シリル基の例には、トリメチルシリルおよびトリフェニルシリルが含まれる。
式（ＩＩ）で表される化合物は、配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有してもよい。
【００５０】
下記式（ＩＩａ）で表される化合物がさらに好ましい。
【００５１】
【化２】
2004177813.tif 000003
【００５２】
式（ＩＩａ）において、Ｘ４  、Ｘ５  およびＸ６  は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−ＮＲ−（Ｒは炭素原子数が１乃至５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２  −およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であり、Ｒ４  、Ｒ５  およびＲ６  は、それぞれ独立に、アルコキシ基または置換アルコキシ基であり、そして、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、１乃至５の整数である。
Ｘ４  、Ｘ５  およびＸ６  は、それぞれ独立に、−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−ＳＯ２  −、−Ｏ−または−Ｓ−であることが好ましい。
Ｒは、水素原子であることが好ましい。
ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、２または３であることが好ましい。ｌ、ｍおよびｎが、２以上の整数の場合、複数個のＲ４  、Ｒ５  およびＲ６  は、互いに異なっていてもよい。
式（ＩＩａ）で表される化合物は、配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有してもよい。
【００５３】
下記式（ＩＩｂ）で表される化合物が特に好ましい。
【００５４】
【化３】
2004177813.tif 000004
【００５５】
式（ＩＩｂ）において、Ｘ７  、Ｘ８  およびＸ９  は、それぞれ独立に、−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＳＯ２  −、−Ｏ−または−Ｓ−であり、Ｌ１  、Ｌ２  、Ｌ３  、Ｌ４  、Ｌ５  およびＬ６  は、それぞれ独立に、下記式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される二価の連結基であり、そして、Ｒ７  、Ｒ８  、Ｒ９  、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ独立に、アルキル基または置換アルキル基である。
【００５６】
【化４】
2004177813.tif 000005
【００５７】
【化５】
2004177813.tif 000006
【００５８】
式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）において、ｎは、１乃至１２の整数である。ｎは、１乃至８の整数であることが好ましく、２乃至６の整数であることがさらに好ましい。
前記アルキル基および置換アルキル基のアルキル部分は、分岐を有していてもよい。アルキル基および置換アルキル基のアルキル部分の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、４乃至１６であることがさらに好ましく、８乃至１６であることが最も好ましい。
置換アルキル基の置換基の例には、アリール基、アルキル置換アリール基、アミノ、アルキル置換アミノ基、アリール置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルフィニル基、アリールスルフィニル基、ウレイド、アルキル置換ウレイド基、アリール置換ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル、メルカプト、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ、スルホ、カルボキシル、ニトロ、ヒドロキサム酸基、スルフィノ、ヒドラジノ、イミノ基、ヘテロ環基およびシリル基が含まれる。置換基は、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
式（ＩＩｂ）で表される化合物は、配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有してもよい。
【００５９】
以下に、式（ＩＩ）で表される化合物の例を示す。
【００６０】
【化６】
2004177813.tif 000007
【００６１】
【化７】
2004177813.tif 000008
【００６２】
【化８】
2004177813.tif 000009
【００６３】
【化９】
2004177813.tif 000010
【００６４】
【化１０】
2004177813.tif 000011
【００６５】
【化１１】
2004177813.tif 000012
【００６６】
【化１２】
2004177813.tif 000013
【００６７】
【化１３】
2004177813.tif 000014
【００６８】
【化１４】
2004177813.tif 000015
【００６９】
【化１５】
2004177813.tif 000016
【００７０】
【化１６】
2004177813.tif 000017
【００７１】
【化１７】
2004177813.tif 000018
【００７２】
【化１８】
2004177813.tif 000019
【００７３】
【化１９】
2004177813.tif 000020
【００７４】
【化２０】
2004177813.tif 000021
【００７５】
【化２１】
2004177813.tif 000022
【００７６】
【化２２】
2004177813.tif 000023
【００７７】
【化２３】
2004177813.tif 000024
【００７８】
【化２４】
2004177813.tif 000025
【００７９】
【化２５】
2004177813.tif 000026
【００８０】
【化２６】
2004177813.tif 000027
【００８１】
【化２７】
2004177813.tif 000028
【００８２】
【化２８】
2004177813.tif 000029
【００８３】
【化２９】
2004177813.tif 000030
【００８４】
【化３０】
2004177813.tif 000031
【００８５】
【化３１】
2004177813.tif 000032
【００８６】
【化３２】
2004177813.tif 000033
【００８７】
【化３３】
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【００８８】
【化３４】
2004177813.tif 000035
【００８９】
【化３５】
2004177813.tif 000036
【００９０】
【化３６】
2004177813.tif 000037
【００９１】
【化３７】
2004177813.tif 000038
【００９２】
【化３８】
2004177813.tif 000039
【００９３】
【化３９】
2004177813.tif 000040
【００９４】
【化４０】
2004177813.tif 000041
【００９５】
【化４１】
2004177813.tif 000042
【００９６】
【化４２】
2004177813.tif 000043
【００９７】
【化４３】
2004177813.tif 000044
【００９８】
【化４４】
2004177813.tif 000045
【００９９】
【化４５】
2004177813.tif 000046
【０１００】
【化４６】
2004177813.tif 000047
【０１０１】
【化４７】
2004177813.tif 000048
【０１０２】
【化４８】
2004177813.tif 000049
【０１０３】
【化４９】
2004177813.tif 000050
【０１０４】
【化５０】
2004177813.tif 000051
【０１０５】
【化５１】
2004177813.tif 000052
【０１０６】
１，３，５−トリアジン環を有する化合物を、二種類以上併用してもよい。１，３，５−トリアジン環を有する化合物の添加量は、液晶性化合物の量の０．０１乃至２０質量％が好ましく、０．０５乃至１０質量％がさらに好ましく、０．１乃至５質量％が最も好ましい。
【０１０７】
１，３，５−トリアジン環を有する化合物に代えて、あるいは加えて、他の水平配向促進剤を用いることもできる。他の水平配向促進剤の例には、ベンゼン環に、２以上の長鎖アルコキシ基が結合した化合物が含まれる。
光学異方性層の塗布液は、以上述べた成分に加え、配向状態の維持に必要な添加剤、例えば、重合性開始剤や任意の添加剤（例、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル、カイラル剤）を含有することができる。
【０１０８】
［垂直配向促進剤］
水平配向促進剤に加えて、垂直配向促進剤を用いることができる。
垂直配向促進剤は、水素結合が可能な官能基を有し、水平配向促進剤と錯体または塩を形成することが好ましい。
水素結合が可能な官能基の例には、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、メルカプト、ヒドロキシル、アミノ、カルボンアミド、スルホンアミド、他の酸アミド、ウレイド、アシル基、カルバモイル、カルボキシル、スルホおよび含窒素複素環基（例、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、１，３，５−トリアジル、ピリミジル、ピリダジル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、スクシンイミド、フタルイミド、マレイミド、ウラシル基、チオウラシル基、バルビツール酸基、ヒダントイン基、マレイン酸ヒドラジド基、イサチン基、ウラミル基）が含まれる。アミノ、カルボンアミド、スルホンアミド、他の酸アミド、ウレイド、アシル基、カルバモイル、カルボキシル、スルホ、ピリジル、１，３，５−トリアジル、ピリミジル、フタルイミド、マレイミド、ウラシル基およびバルビツール酸基が好ましい。
垂直配向促進剤は、下記式（Ｖ）で表されることが好ましい。
【０１０９】
（Ｖ）Ａｒ１  （−Ｌ１０−Ａｃ１  ）ｐ
式中、Ａｒ１  は、ｐ価の芳香族炭化水素環基または芳香族ヘテロ環基であり；Ｌ１０は、単結合または二価の連結基であり；Ａｃ１  は、ＣＯＯＨまたはＳＯ３  Ｈであり；そして、ｐは、１乃至１０の整数である。
Ａｒ１  の芳香族炭化水素環は、炭素原子数が６乃至３０であることが好ましく、６乃至２０であることがより好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。炭化水素環は、ベンゼン環またはナフタレン環であることが最も好ましい。
Ａｒ１  の芳香族ヘテロ環は、炭素原子数が１乃至３０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。ヘテロ環のヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。芳香族ヘテロ環の例には、ピリジン環、ピリミジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
Ａｒ１  は、芳香族炭化水素環であることが好ましい。
【０１１０】
Ａｒ１  は、−Ｌ１０−Ａｃ１  以外の置換基を有していてもよい。置換基の例には、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキル置換アリール基、アミノ、アルキル置換アミノ基、アリール置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルフィニル基、アリールスルフィニル基、ウレイド、アルキル置換ウレイド基、アリール置換ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル、メルカプト、ハロゲン原子、シアノ、スルホ、カルボキシル、ニトロ、ヒドロキサム酸基、スルフィノ、ヒドラジノ、イミノ基、ヘテロ環基またはシリル基が好ましい。各基の定義および例は、水平配向促進剤の置換基と同様である。置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホンアミド基およびアルキルチオ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基およびアシルオキシ基がさらに好ましい。
【０１１１】
垂直配向促進剤は、分子中にフルオロカーボン基を含むことが好ましい。Ａｒ１  の置換基が、フルオロカーボン基を含むことがさらに好ましい。フルオロカーボン基は、パーフルオロカーボン基であることが好ましく、−Ｃｎ  Ｆ２ｎ＋１（ｎは４乃至１４の整数、好ましくは６乃至１０の整数）で定義されるパーフルオロカーボン基であることが特に好ましい。
Ｌ１０の二価の連結基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アリーレン基、置換アリーレン基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲ−（Ｒは、炭素原子数が１乃至５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２  −およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる基であることが好ましい。各基の定義および例は、水平配向促進剤の連結基と同様である。Ｌ１０は、単結合またはアルケニレン基であることが好ましく、単結合であることが最も好ましい。
ｐは、１であることが特に好ましい。
垂直配向促進剤は、下記式（Ｖａ）で表されることがさらに好ましい。
【０１１２】
（Ｖａ）（Ｒｘ−）ｍ  Ａｒ２  −Ａｃ２
式中、Ｒｘは、フルオロカーボン基を含む一価の置換基であり；Ａｒ２  は、ｍ＋１価の芳香族炭化水素環基または芳香族ヘテロ環基であり；Ａｃは、ＣＯＯＨまたはＳＯ３  Ｈであり；そして、ｍは、１乃至５の整数である。
フルオロカーボン基は、パーフルオロカーボン基であることが好ましく、−Ｃｎ  Ｆ２ｎ＋１（ｎは４乃至１４の整数、好ましくは６乃至１０の整数）で定義されるパーフルオロカーボン基であることが特に好ましい。フルオロカーボン基を含む一価の置換基は、フルオロカーボン基で置換された、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基またはアシルオキシ基であることが好ましい。
以下に、垂直配向促進剤の具体例を示す。
【０１１３】
【化５２】
2004177813.tif 000053
【０１１４】
【化５３】
2004177813.tif 000054
【０１１５】
【化５４】
2004177813.tif 000055
【０１１６】
【化５５】
2004177813.tif 000056
【０１１７】
【化５６】
2004177813.tif 000057
【０１１８】
【化５７】
2004177813.tif 000058
【０１１９】
【化５８】
2004177813.tif 000059
【０１２０】
【化５９】
2004177813.tif 000060
【０１２１】
【化６０】
2004177813.tif 000061
【０１２２】
【化６１】
2004177813.tif 000062
【０１２３】
【化６２】
2004177813.tif 000063
【０１２４】
【化６３】
2004177813.tif 000064
【０１２５】
【化６４】
2004177813.tif 000065
【０１２６】
【化６５】
2004177813.tif 000066
【０１２７】
【化６６】
2004177813.tif 000067
【０１２８】
【化６７】
2004177813.tif 000068
【０１２９】
【化６８】
2004177813.tif 000069
【０１３０】
【化６９】
2004177813.tif 000070
【０１３１】
【化７０】
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【０１３２】
【化７１】
2004177813.tif 000072
【０１３３】
【化７２】
2004177813.tif 000073
【０１３４】
【化７３】
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【０１３５】
【化７４】
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【０１３６】
【化７５】
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【０１３７】
【化７６】
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【０１３８】
【化７７】
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【０１３９】
【化７８】
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【０１４０】
【化７９】
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【０１４１】
【化８０】
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【０１４２】
【化８１】
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【０１４３】
【化８２】
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【０１４４】
【化８３】
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【０１４５】
【化８４】
2004177813.tif 000085
【０１４６】
［配向処理工程］
支持体上に設けられている配向膜の上に、液晶性化合物を含む光学異方性層の塗布液を塗布し、液晶性化合物を含む層を形成する。次に、液晶性化合物を含む層を液晶相転移温度と等方相転移温度との間の温度で１乃至５０秒間加熱することにより、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる。
次の工程において、液晶性化合物と配向膜との距離に伴って液晶性化合物の配向方向を変化させる。例えば、液晶性化合物を含む層に外部からのエネルギー（熱、光、電場、磁場）を加えると、液晶性化合物の配向状態を変化させることができる。塩または錯体の状態にある水平配向促進剤により液晶性化合物の水平配向が実現されている場合（例えば、水平配向促進剤と垂直配向促進剤とを併用し、両者が塩または錯体を形成している場合）は、外部からのエネルギーによって塩または錯体が壊れることにより水平配向状態が失われる。なお、水平配向が失われた後の空気界面との角度は、錯体または塩を形成していた一方の化合物（一般に、疎水性が強い方の化合物）が決定する。
外部からのエネルギーは、熱であることが好ましい。加熱温度は、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程における加熱温度よりも高い温度であることが好ましい。加熱温度は、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程における加熱温度よりも５℃以上高い温度であることがさらに好ましく、１０℃以上高い温度であることが最も好ましい。
【０１４７】
水平配向状態から変化した後の液晶性化合物の配向状態は、ハイブリッド配向であることが好ましい。
円盤状液晶性化合物を用いる場合、円盤状構造単位の面が、支持体表面に対して傾き、かつ円盤状構造単位の面と支持体表面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向に変化していることが好ましい。
円盤状構造単位の面の角度（傾斜角）は、一般に、光学異方性層の深さ方向でかつ光学異方性層の底面からの距離の増加と共に増加または減少している。傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化などを挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、傾斜角が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
液晶性化合物を含む層の空気界面における液晶性化合物の平均傾斜角度は、１０゜以上となることが好ましく、２５゜以上となることがさらに好ましく、５０゜以上となることが最も好ましい。
【０１４８】
液晶性化合物の配向状態を固定することが好ましい。液晶性化合物の配向方向を変化させる工程において、液晶性化合物を含む層を加熱している状態で、液晶性化合物の配向状態を固定することがより好ましい。液晶性化合物が重合性基を有し、液晶性化合物を重合させることにより、液晶性化合物の配向状態を固定することがさらに好ましい。液晶性化合物を含む塗布液がさらに光重合開始剤を含み、液晶性化合物を含む層を光照射することにより液晶性化合物を重合させることが最も好ましい。
【０１４９】
［光学補償シートの評価方法］
製造した光学補償シートは、１対の偏光板内に組み込んで評価することができる。
液晶表示装置が黒表示の際に、光学補償シートは、必要以上の光漏れを起こさないことが必要である。本発明のように液晶性化合物を有する光学補償シートの場合、液晶性化合物の配向状態が悪い（欠陥が存在する）と、光漏れが発生する。光学補償シートの光漏れは、下記（１）〜（３）の手順で評価することができる。
（１）偏光板をクロスニコル（直交配置）にして、その間に光学補償シートを挿入する。
（２）光学補償シートを一対の偏光板内で回転させ、透過率が最小となる方位を探す。
（３）このときの透過率が０．０１％以下であれば、液晶表示装置に問題なく使用できる。
透過率は、０．００８％以下がさらに好ましく、０．００６％以下が最も好ましい。
また、製造した光学補償シートにおいて、１００ｃｍ２  中に５０μｍ以上の配向欠陥の数は、１０個以下であることが好ましい。
【０１５０】
［偏光板］
光学補償シートは、偏光板の保護フイルムとして使用することが好ましい。
偏光板と塗布型の光学部材（光学補償シート、輝度向上シート）とを組み合わせる場合は、偏光板の透過軸と各光学部材の遅相軸を精度良く制御することが、各部材の機能を発揮させるために重要である。本発明に従い製造した光学補償シートについても、遅相軸を精度良く制御することが必要である。なお、光学補償シートと、輝度向上シート（特開平１１−１４９０１５号公報記載）とを併用してもよい。
偏光板の視認側表面には、ディスプレイの視認性向上のための防眩層や反射防止層、あるいはＬＣＤ輝度向上のための異方性散乱や異方性光学干渉によるＰＳ波分離機能を有する層（例えば、高分子分散液晶層、コレステリック液晶層）、偏光板の耐傷性を高めるためのハードコート層、水分や酸素の拡散を抑えるガスバリア層、スベリ性を付与する層のような各種機能層を設けることができる。偏光板の内部には、偏光膜あるいは接着剤、粘着剤との密着力を高める易接着層を設けることができる。
【０１５１】
偏光板には、液晶表示装置において一般的な直線偏光膜が使用できる。
偏光膜は、原反フイルムを長手方向に対して、１０乃至８０度傾斜して延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素または二色性染料で染色することが好ましい。この傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸する。
通常この角度は４５度であるが、最近は新しい透過型ＬＣＤモードや反射型ＬＣＤ、半透過型ＬＣＤ等において必ずしも４５度でないものがあり、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０１５２】
延伸法の場合、延伸倍率は２．５乃至３０．０倍が好ましく、３．０乃至１０．０倍がより好ましい。延伸は空気中でのドライ延伸でも、水中に浸漬したウェット延伸でもよい。ドライ延伸の場合は、２．５乃至５．０倍の延伸倍率が好ましく、ウェット延伸の場合は３．０乃至１０．０倍の延伸倍率が好ましい。斜め延伸工程は数回に分けて行ってもよい。斜め延伸工程を数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。
延伸は、例えば通常のフイルム製膜において行われているような二軸延伸におけるテンター延伸を前記のように左右異なる工程で行うことによって達成される。ただし、二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフイルム厚みが左右で異なるように調整する必要がある。流延製膜の場合には、例えばダイにテーパーをつけるような手段を採用することによって、バインダー溶液の流量に左右差をつけることができる。
延伸工程により、長手方向に対して１０乃至８０度斜め延伸された偏光膜が製造できる。
【０１５３】
ラビング法は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を利用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得ることができる。一般的は、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いることが特に好ましい。ラビングロールへのフイルムのラップ角度は、０．１度乃至９０度が好ましい。ただし、３６０度以上巻き付けることで、安定なラビング処理が得られる方法（特開平８−１６０４３０号公報記載）も実施できる。長尺なフイルムをラビングする場合は、フイルムが搬送装置によって、一定張力の状態で１乃至１００ｍ／分の速度で搬送されることが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフイルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。ラビング角度は、０乃至６０度の範囲から選択することが好ましく、４０度乃至５０度がさらに好ましく、４５度が特に好ましい。
【０１５４】
［液晶表示装置］
光学補償シートを組み込んだ偏光板は、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。
透過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
一方、あるいは双方の偏光板に、光学補償シートを組み込んだ偏光板を用いればよい。この際には、偏光板に組み込まれた光学補償シートが液晶セル側になるよう配置する。
液晶セルは、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＥＣＢモードまたはＴＮモードであることが好ましい。
【０１５５】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）  液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１５６】
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８・５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１５７】
ＥＣＢモードは、最も古くから知られている液晶モードであり、多数の文献に記載がある。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０１５８】
【実施例】
［実施例１］
（支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１５９】
2004177813.tif 000086
【０１６０】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。
【０１６１】
【化８５】
2004177813.tif 000087
【０１６２】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、テンターを用いて幅方向に２８％延伸した。この後、１３５℃の乾燥風で２０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％の支持体を製造した。
得られた支持体の厚さは、９２μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値を測定したところ、４３ｎｍであった。また、波長５９０ｎｍにおけるＲｔｈレターデーション値を測定したところ、１７５ｎｍであった。
作製した支持体を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。支持体の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【０１６３】
（配向膜の形成）
支持体上に、下記の組成の配向膜塗布液を、＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ２  塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０１６４】
2004177813.tif 000088
【０１６５】
【化８６】
2004177813.tif 000089
【０１６６】
支持体の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と４５゜の方向に、ラビング処理を実施して、配向膜を形成した。
【０１６７】
（光学異方性層の形成）
メチルエチルケトン１０２ｇに、下記の円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、１，３，５−トリアジン化合物（ＩＩ−１）１．８５ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇおよび増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。
【０１６８】
【化８７】
2004177813.tif 000090
【０１６９】
配向膜上に、塗布液を＃４のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２０℃の恒温槽中で３０秒間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。なお、１２０℃の状態で、高圧水銀灯を用いて２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させ、配向状態を確認したところ、液晶性化合物は水平配向となっていた。
次に、上記のように１２０℃の恒温槽中で３０秒間加熱した後、８０℃に温度を変更し、高圧水銀灯を用いて２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成して、光学補償シートを作製した。
【０１７０】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は３８ｎｍであった。また、液晶性化合物の円盤面と支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で３０゜であった。そして、配向状態を確認したところ、液晶性化合物はハイブリッド配向となっていた。
偏光顕微鏡を用いて、１００ｍ２  中の配向欠陥数を調べたところ、１個であった。なお、核（例、異物）がある欠陥は、カウントしない。
また、クロスニコル下での最小透過率は、１ｍ２  中、１０箇所で測定した。その平均値は０．００３５％であり、最大値は０．００４４％であった。
使用した円盤状液晶性化合物そのもの液晶相転移温度は、１９０℃であり、等方相転移温度は２５０℃であった。さらに、光学異方性層（溶媒が蒸発していく過程も含む）全体の液晶相転移温度は、７０℃であり、等方相転移温度は１５０℃であった。
【０１７１】
（偏光板の作製）
平均重合度１７００、ケン化度９９．５％のポリビニルアルコールフイルム（厚み８０μｍ、幅２５００ｍｍ）を４０℃の温水中で８倍に縦一軸延伸し、そのままヨウ素０．２ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０ｇ／ｌの水溶液中に３０℃にて５分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／ｌの水溶液中に浸漬した。このときフイルム幅１３００ｍｍ、厚みは１７μｍであった。
さらにこのフイルムを水洗槽にて２０℃、１０秒間浸漬した後、ヨウ素０．１ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム２０ｇ／ｌの水溶液中に３０℃にて１５秒間浸漬し、このフイルムを室温にて２４時間乾燥してヨウ素系偏光膜を得た。
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した光学補償シートを支持体面で偏光膜の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフイルム（ＴＤ−８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸と光学補償シートの支持体の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板を作製した。
【０１７２】
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを６μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。液晶セルの大きさは２０インチであった。
【０１７３】
（液晶表示投資の作製）
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
結果を第１表に示す。
【０１７４】
【表１】
2004177813.tif 000091
【０１７５】
［比較例１］
（光学異方性層の形成）
実施例１と同様に、支持体上に配向膜を形成した。
メチルエチルケトン１０２ｇに、実施例１で用いた円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．３５ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇおよび増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。配向膜上に、塗布液を＃４のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。次に、１３０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、円盤状液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成して、光学補償シートを作製した。
【０１７６】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は３８ｎｍであった。また、液晶性化合物の円盤面と支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で４０゜であった。
上記のように１３０℃の恒温槽中で３０秒間加熱し、すぐに、高圧水銀灯を用いて２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させたところ、光学異方性層は、全面に欠陥が生じており、光学補償シートとして機能しないことが確認された。
光学異方性層（溶媒が蒸発していく過程も含む）全体の液晶相転移温度は、１００℃であり、等方相転移温度は１５０℃であった。
また、クロスニコル下での最小透過率は、１ｍ２中、１０箇所で測定し、その平均値は０．１２５％であり、最大値は０．２５％であった。
【０１７７】
［実施例２］
（支持体の作製）
ミキシングタンクに、実施例１で使用したレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
実施例１で作製したセルロースアセテート溶液４７４質量部に、レターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質量部であった。
【０１７８】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％の支持体を製造した。
得られた支持体の厚さは、６５μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値を測定したところ、８ｎｍであった。また、波長５９０ｎｍにおけるＲｔｈレターデーション値を測定したところ、７８ｎｍであった。
支持体を、２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。支持体の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【０１７９】
（配向膜の形成）
作製した支持体上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ２  塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０１８０】
2004177813.tif 000092
【０１８１】
次に、透明支持体の長手方向と平行な方向に、形成した膜にラビング処理を実施して、配向膜を形成した。
【０１８２】
（光学異方性層の形成）
メチルエチルケトン１０２ｇに、実施例１で用いた円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、１，３，５−トリアジン化合物（ＩＩ−１）１．８５ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇおよび増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。配向膜上に、塗布液を＃３．６のワイヤーバーで塗布した。これを１２０℃の恒温ゾーンで２５秒間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。なお、この状態で実施例１と同様にＵＶ照射で円盤状化合物の配向を固定化し、その配向状態を確認したところ、水平配向であった。
次に、上記のように１２０℃の恒温ゾーンで２５秒間加熱した後、１２０℃の雰囲気下で磁場を、磁力線がフイルム面に対して６５゜となるように印加しながら、高圧水銀灯を用いて、２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シートを作製した。
【０１８３】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４０ｎｍであった。また、円盤面と支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で３８゜であった。そして、配向状態を確認したところ、液晶性化合物はハイブリッド配向となっていた。
偏光顕微鏡を用いて、１００ｍ２  中の配向欠陥数を調べたところ、皆無であった。なお、核（例、異物）がある欠陥は、カウントしていない。
また、クロスニコル下での最小透過率は、１ｍ２  中、１０箇所で測定し、その平均値は０．００２９％であり、最大値は０．００３５％であった。
光学異方性層（溶媒が蒸発していく過程も含む）全体の液晶相転移温度は、７５℃であり、等方相転移温度は１４５℃であった。
【０１８４】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した光学補償シートを、実施例１で作製した偏光膜の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフイルム（ＴＤ−８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸と光学補償シートの遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板を作製した。
【０１８５】
（液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ・ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに作製した偏光板を、光学補償シートが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
結果を第２表に示す。
【０１８６】
［比較例２］
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ・ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
結果を第２表に示す。
【０１８７】
【表２】
2004177813.tif 000093
【０１８８】
［比較例３］
（光学異方性層の形成）
メチルエチルケトン１０２ｇに、実施例１で用いた円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）０．９０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．２３ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇおよび増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。配向膜上に、塗布液を＃３．６のワイヤーバーで塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、円盤状液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シートを作製した。
【０１８９】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４３ｎｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で４２゜であった。
また、上記のように１３０℃の恒温槽中で３０秒間加熱し、すぐに、高圧水銀灯を用いて２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させた光学異方性層は、全面に欠陥が生じており、光学補償シートとして機能しないことが確認された。
光学異方性層（溶媒が蒸発していく過程も含む）全体の液晶相転移温度は、１０５℃であり、等方相転移温度は１４５℃であった。
また、クロスニコル下での最小透過率は、１ｍ２  中、１０箇所で測定し、その平均値は０．３５％であり、最大値は０．５０％であった。
【０１９０】
［実施例３］
（液晶性化合物の作製）
４−ヘプチル安息香酸１０ミリモル、テレフタル酸９５ミリモル、メチルヒドロキノンジアセテート５０ミリモル、カテコールジアセテート５０ｍｍｏｌ、および酢酸ナトリウム１００ｍｇを、窒素雰囲気下、２７０℃で１２時間重合反応させて、重合を行った。次に得られた反応生成物をテトラクロロエタンに溶解したのち、メタノールで再沈澱を行って精製し、液晶性ポリエステル２２．０ｇを得た。
液晶性ポリエステルの対数粘度は０．１５、液晶相としてネマチック相をもち、等方相−液晶相転移温度は２４０℃、ガラス転移温度は７５℃であった。
【０１９１】
液晶性ポリエステルをフェノール／テトラクロロエタン混合溶媒（６／４質量比）に溶解して、１０質量％溶液を調製した。この溶液を、ソーダガラス板（無配向処理基板）上に、バーコート法により塗布し、溶媒を除去した。次いで、１９０℃で３０分間熱処理した後、室温下で冷却および固定化した。その結果、膜厚１５μｍの均一に配向した液晶性フイルムを得た。コノスコープ観察したところ高分子液晶は正の一軸性構造を持つことがわかり、このポリマーがホメオトロピック配向性を持つことがわかった。
【０１９２】
（光学異方性層の形成）
実施例２と同様に、支持体上に配向膜を形成した。支持体の長手方向と平行な方向に、配向膜に対してラビング処理を実施した。
テトラクロロエタン９２．０ｇ中に、液晶性ポリエステル８．０ｇおよび１，３，５−トリアジン化合物（ＩＩ−１）０．１ｇを溶解して、塗布液を調製した。次いで、配向膜上に、塗布液をスピンコート法により塗布した。溶媒を除去した後、１９０℃で１分間熱処理した。熱処理後、室温に空冷し、液晶性化合物の配向状態を固定化した。このようにして、光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートは、透明で配向欠陥はなく、均一な膜厚（１．５５μｍ）を有していた。そして、配向状態を確認したところ、液晶性化合物はハイブリッド配向となっていた。
また、実施例１と同様に室温冷却前に偏光顕微鏡で、その配向状態を確認したところ、水平配向であった。
偏光顕微鏡を用いて、１００ｍ２  中の配向欠陥数を調べたところ、５個であった。なお、核（例、異）がある欠陥は、カウントしない。
また、クロスニコル下での最小透過率は、１ｍ２  中、１０箇所で測定し、その平均値は０．００８％であり、最大値は０．００９５％であった。
【０１９３】
［比較例４］
（光学異方性層の形成）
実施例２と同様に、支持体上に配向膜を形成した。支持体の長手方向と平行な方向に、配向膜に対してラビング処理を実施した。
実施例３で製造した液晶性ポリエステルの８質量％テトラクロロエタン溶液を調製した。次いで、配向膜の上に、溶液をスピンコート法により塗布した。溶媒を除去した後、１９０℃で２０分間熱処理した。熱処理後、空冷し、液晶性化合物の配向状態を固定化した。このようにして、光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートは、透明で配向欠陥はなく、均一な膜厚（１．５５μｍ）を有していた。
また、上述の１９０℃の恒温槽中で１分間加熱し、すぐに、空冷し、液晶性化合物の配向状態を固定化した光学異方性層は、全面に欠陥が生じており、光学補償フイルムとして機能しないことが確認された。
また、クロスニコル下での最小透過率は、１ｍ２  中、１０箇所で測定し、その平均値は０．９％であり、最大値は１．８％であった。
【０１９４】
［実施例４］
（光学異方性層の形成）
実施例２と同様に、支持体上に配向膜を形成した。
メチルエチルケトン１０２ｇに、実施例１で用いた円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、１，３，５−トリアジン化合物（ＩＩ−１０）０．１ｇ、垂直配向促進剤（Ｖ−２７）０．０５ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇおよび増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。配向膜上に、塗布液を＃３．６のワイヤーバーで塗布した。これを８０℃の恒温ゾーンで１０秒間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。なお、この状態で実施例１と同様にＵＶ照射で円盤状化合物の配向を固定化し、その配向状態を確認したところ、水平配向であった。
次に、上記のように８０℃の恒温ゾーンで１０秒間加熱し、さらに、恒温ゾーンの温度を１２０℃に変更した雰囲気下で２０秒間加熱した後、高圧水銀灯を用いて、２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シートを作製した。
【０１９５】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４０ｎｍであった。また、円盤面と支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で３８゜であった。そして、配向状態を確認したところ、空気界面に近づくに伴って円盤面が立ち上がっているハイブリッド配向となっていた。
偏光顕微鏡を用いて、１００ｍ２  中の配向欠陥数を調べたところ、皆無であった。なお、核（例、異物）がある欠陥は、カウントしていない。
また、クロスニコル下での最小透過率は、１ｍ２  中、１０箇所で測定し、その平均値は０．００２０％であり、最大値は０．００２８％であった。
光学異方性層（溶媒が蒸発していく過程も含む）全体の液晶相転移温度は、７５℃であり、等方相転移温度は１４５℃であった。