(57)【要約】【課題】  本発明は、分割マスクを使って效率的にシールパターンを形成することで大面積基板における生産性向上及びタックタイム(tact time)を短縮するようにした液晶表示装置のシールパターン形成方法に関する。【解決手段】本発明は、複数個の液晶表示パネルが形成された基板を準備する段階、前記少なくとも一つの液晶表示パネル上に開口部を持つマスクを整列させる段階、前記整列されたマスクを利用して開口部に対応する液晶表示パネル上にシールパターンを形成する段階、前記マスクを残り液晶表示パネルに整列させて該当液晶表示パネル上に繰り返しシールパターンを形成する段階を含めてなることを特徴とする。【選択図】      図３Ｄ
2004177941.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の液晶表示パネルが形成された基板を用意する段階と、
前記少なくとも一つの液晶表示パネルに開口部を有するマスクを整列させる段階と、
前記整列されたマスクを用いて開口部に対応する液晶表示パネル上にシールパターンを形成する段階と、
前記マスクを残りの液晶表示パネルに整列させて該当液晶表示パネル上に繰り返してシールパターンを形成する段階を含めてなる液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項２】
前記複数の液晶表示パネルは等しい大きさを持つ液晶表示パネルである請求項１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項３】
前記基板は、ＴＦＴアレイ基板である請求項１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項４】
前記基板はカラーフィルター基板である請求項１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項５】
前記シールパターンはマスク上の所定部分にシールパターンを落とした後にゴムローラーを利用して開口部に対応する液晶表示パネル上に形成する請求項１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項６】
前記各液晶表示パネルの周りにマスクアラインマークを形成することを更に含む請求項１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項７】
前記基板上にアラインメントマークを形成することを更に含む請求項１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項８】
前記アラインマークは液晶表示パネルの対角線方向に少なくとも二つ、または第１、第２液晶表示パネルの角の隣接領域に四つ形成することを特徴とする請求項６または７に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項９】
前記アラインマークは、＋形、×形、四角形、円形など多様な形態に変更して形成する請求項６または７に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１０】
第１大きさを有する第１液晶表示パネルと、前記第１大きさとは異なる大きさを持つ少なくとも一つの第２液晶表示パネルが形成された基板を準備する段階と;
前記第１液晶表示パネル上に開口部を持つ第１マスクを整列する段階と;
前記整列された第１マスクを利用して開口部に対応した前記第１液晶表示パネル上に第１シールパターンを形成する段階と;
前記第２液晶表示パネル上に開口部を持つ第２マスクを整列する段階と;
前記整列された第２マスクを利用して開口部に対応した第２液晶表示パネル上に第２シールパターンを形成する段階とを含めてなる液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１１】
前記第１大きさは前記第２大きさより大きい請求項１０に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１２】
前記少なくとも一つの第２液晶表示パネルは複数の第２液晶表示パネルである請求項１０に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１３】
前記少なくとも一つの第２液晶表示パネルと他の第２液晶表示パネル上に前記第２マスクを整列する段階と、前記第２マスクの開口部に対応する前記他の第２液晶表示パネル上に第２シールパターンを形成する段階を更に含む請求項１２に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１４】
前記基板はＴＦＴアレイ基板である請求項１０に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１５】
前記基板はカラーフィルター基板である請求項１０に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１６】
前記シールパターンは第１、第２マスク上の所定部分にシールパターンを落とした後にゴムローラーを利用して開口部に対応した第１、第２液晶表示パネル上に形成する請求項１０に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１７】
前記第１、第２液晶表示パネルの周りにアラインマークを形成することを更に含めてなる請求項１０に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１８】
前記基板上にアラインマークを形成することを更に含めてなる請求項１０に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項１９】
前記アラインマークは第１、第２液晶表示パネルの対角線方向に少なくとも二つまたは第１、第２液晶表示パネルの角の隣接領域に四つ形成する請求項１７または１８に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項２０】
前記アラインマークは＋形、×形、四角形、円形など多様な形態に変更して形成する請求項１７または１８に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項２１】
互いに異なる大きさを持つ複数個の液晶表示パネルが、第１領域と第２領域に分けられて反復的に形成された基板を準備する段階と;
前記第１領域に対応した基板上に開口部を持つ第１マスクを整列する段階と;
前記整列された第１マスクを利用して第１マスクの開口部に対応した第１領域の各液晶表示パネルに第１シールパターンを形成する段階と;
前記第２領域に対応した基板上に開口部を持つ第２マスクを整列する段階と;
前記整列された第２マスクを利用して第２マスクの開口部に対応した第２領域の各液晶表示パネルに第２シールパターンを形成する段階とを含めてなる液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項２２】
前記基板はＴＦＴアレイ基板である請求項２１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【請求項２３】
前記基板はカラーフィルター基板である請求項２１に記載の液晶表示装置のシールパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ：ＬＣＤ）に関するもので、特に、生産性を向上させるのに適した液晶表示装置のシール（ｓｅａｌ）パターン形成方法に関する。
【０００２】
情報化社会の発達と共に、表示装置に対する要求も様々な形態に求められており、これに応じて最近ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＥＬＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＶＦＤ（Ｖａｃｕｕｍ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）など多数の平板表示装置が研究されてきて一部は既に各種装備の表示装置に活用されている。
【０００３】
そのうち、現在画質が鮮明で軽薄型、低消費電力の特長によって移動型画像表示装置の用途でＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）に替わってＬＣＤが多用されており、ノ−トブックコンピューターのモニターのような移動型の用途以外にも放送信号を受信してディスプレイするテレビ及びコンピューターのモニターなどに多様に開発されている。
【０００４】
このように、液晶表示装置が多数分野において画面表示装置として役割をするために多数の技術的な発展が成されているにも関わらず画面表示装置として画像の品質を高める作業は前記特長と背馳される面が多かった。従って、液晶表示装置が一般の画面表示装置として多用されるためには、軽薄型、低消費電力の特長を維持しながら高精細、高輝度、大面積などのように上品の画像を実現できるかどうかによって決められるといっても過言ではないである。
【０００５】
このような液晶表示装置は、画像を表示する液晶パネルと前記液晶パネルに駆動信号を印加するための駆動部から大きく分けられ、前記液晶パネルは一定空間を有し合着された第１、第２ガラス基板と、前記第１、第２ガラス基板の間に注入された液晶層から構成される。
【０００６】
ここで、前記第１ガラス基板（ＴＦＴアレイ基板）には、一定間隔を有し、一方向に配列される複数のゲートラインと、前記各ゲートラインと垂直な方向に一定の間隔で配列される複数のデータラインと、前記各ゲートラインとデータラインとが交差されて定義された各画素領域にマトリックス状に形成される複数の画素電極と前記ゲートラインの信号によってスイッチングされて前記データラインの信号を前記各画素電極に伝える複数の薄膜トランジスタが形成される。
【０００７】
また、第２ガラス基板（カラーフィルター基板）には、前記画素領域を除外した部分の光を遮断するためのブラックマトリックス層と、カラー色を表現するためのＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルター層と画像を実現するための共通電極が形成される。勿論、横電界方式の液晶表示装置では共通電極が第１ガラス基板に形成される。
このような前記第１、第２基板はスペーサによって一定空間を有し液晶注入口を有するシール剤によって合着されて前記両基板の間に液晶が注入される。
【０００８】
前記画素電極と共通電極によって両基板の間に電場が形成されて液晶層が駆動し、その駆動する液晶層を通じて光透過度が調節されて画像がディスプレイすることになる。
このような構造の液晶表示装置において、前記第１ガラス基板と第２ガラス基板の間に液晶層を形成する方法として、従来は毛細管現象と圧力差を利用した真空注入方式を使ったが、以下真空注入方式による従来の液晶表示装置の製造方法を説明すれば次の通りである。
【０００９】
まず、薄膜トランジスタと画素電極を具備した下部基板と、遮光膜、カラーフィルター層及び共通電極を具備した上部基板を製造する。
続いて、両基板の間の均一なセルギャップを維持するために下部基板にスペーサを散布し、液晶が外に漏れることを防止し、両基板を接着できるように上部基板端にシールパターンを形成する。この時、前記シールパターンとしてはエポキシシールパターンのような熱硬化型シールパターンが主に使われる。
そして、前記両基板を合着する。この時、前記エポキシシールパターンはエポキシ樹脂と開始剤が混合したものであって、加熱されれば開始剤によって活性化したエポキシ樹脂が架橋結合を通じて高分子化して接着力にすぐれるシールパターンとして作用する。
【００１０】
また、前記合着された両基板を真空チャンバに位置させて両基板の間を真空状態に維持した後、液晶容器に浸す。このように両基板の間が真空になると毛細管現象によって液晶が両基板の間に吸い上げられる。
そして、前記液晶が両基板の間にある程度満たされた時、徐々に窒素(N2)を真空チャンバ内へ注入すれば両基板の間と周囲との圧力差が発生して液晶が両基板の間の空の空間を満たすことになって結局両基板の間に液晶層が形成される。
【００１１】
図１は一般的な液晶表示装置をあらわした平面図である。
図１に図示したように、下部基板１０上に画素領域(P)を定義するために一定間隔を有して片側方向に複数個のゲートライン１１が配列されて、前記ゲートライン１１に垂直な方向に一定間隔を持って複数個のデータライン１２が配列される。
そして前記ゲートライン１１とデータライン１２が交差して定義された各画素領域(P)にはマトリックス形態に形成される画素電極１６と、前記ゲートライン１１の信号によってスイッチングされて前記データライン１２の信号を前記各画素電極１６に伝達する複数個の薄膜トランジスタが形成される。
【００１２】
ここで、前記薄膜トランジスタは前記ゲートライン１１から突き出て形成されるゲート電極１３と、全面に形成されたゲート絶縁膜(図面には図示せず)と前記ゲート電極１３上側のゲート絶縁膜上に形成される半導体層１４と、前記データライン１２から突出して形成されるソース電極１５ａと、前記ソース電極１５ａに対向するようにドレーン電極(15Ｂ)を具備して構成される。
ここで、前記ドレーン電極(15Ｂ)は前記画素電極１６とコンテックホール(17)を通じて電気的に繋がれる。
【００１３】
一方、前記のように構成された下部基板１０は一定空間を有し、上部基板(図示せず)と合着する。
ここで、前記上部基板には下部基板１０に形成された画素領域(P)にそれぞれ対応する開口部を有し光遮断役割を果すブラックマトリックス(black matrix)層と、カラー色相を具現するための赤/緑/青(R/G/B)カラーフィルター層及び前記画素電極１６と共に液晶を駆動させる共通電極を含めて構成されている。
このような下部基板１０と上部基板はスペーサ(spacer)によって一定空間を有し液晶注入口を持つシールパターンによって合着された二つの基板の間に液晶が注入される。
【００１４】
図２Ａはスクリーン印刷法による従来の液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす図面である。
図２Ａに図示したように、スクリーン印刷装備は概略的にシールパターン形成領域が選択的に露出されるように開口部３１を持つスクリーンマスク３２と、前記スクリーンマスク３２を通じて基板１０にシーラント(sealant)を選択的に供給してシールパターンを形成するゴムローラー(squeeze)３３が具備されている。
【００１５】
前記のように具備されたスクリーン印刷装備は基板１０上に一定形態で開口部３１を有するスクリーンマスク３２を整列させた後、シリンジ装備(図示せず)を利用してシーラントを塗布し、ゴムローラー３３を利用して矢印方向に掃きながら前記開口部３１に対応した基板１０上にシールパターンを形成する。
続いて、前記シールパターンに含有された溶媒はレベリング(leveling)させる乾燥工程を通じて蒸発させる。
【００１６】
ここで、前記基板１０に形成されたシールパターンは液晶を注入するためのギャップを用意し、注入された液晶の漏洩を防止する。よって、シールパターンは基板１０の画像表示部端に沿って形成されて、片側に液晶注入口が形成される。
しかし前記のようなスクリーン印刷法は工程の便宜性に優れるので普遍的に使われているが、スクリーンマスク３２の全面にシーラントを塗布し、ゴムローラー３３で印刷してシールパターンを形成することによってシーラントの消費量が多くなるという短所がある。
また、前記スクリーンマスク３２と基板１０が接触することによって基板１０上に形成された配向膜(図示せず)のラビング(rubbing)不良が発生して液晶表示装置の画質を低下させるという短所がある。
【００１７】
したがって、前記したようなスクリーン印刷法の短所を補うためにシールディスペンシング(seal dispensing)方法が提案された。
図２Ｂはディスペンシング法による従来の液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわした図面である。
図２Ｂに図示したように、基板１０がローディングされたステージ(図示せず)を前後左右方向に移動させながら、シーラントが保存されたシリンジ３４に一定の圧力を印加してシーラントを排出することで基板１０の端にシールパターン７を形成するようになる。
【００１８】
前記ディスペンシング方法は基板１０の画像表示部外郭にだけ選択的にシーラントを供給してシールパターン７を形成することによってシーラントの消費量を
減らすことができ、前記シリンジ３４が基板と接触しないから配向膜(図示せず)のラビング不良を防止して液晶表示装置の画質を高めることができるようになる。
【００１９】
しかし前記のような従来のディスペンシング方法を使ったシールパターン形成方法は基板の面積が増加したり液晶表示パネルのモデル変更によって基板上に形成される画像表示部の面積が変更される場合、效率的に対処することができないという問題点がある。
【００２０】
すなわち、最近液晶表示パネルが徐々に大型化することによって大面積液晶表示パネルを製作するための基板の面積も増加しており、したがって基板上にシールパターンが形成される位置が変更されるが、従来のディスペンシング方法ではシールパターンの形成位置が変更される場合にシリンジを分解し再び組み立ててディスペンシング装備を再構成しなければならない。
結局、基板の大型化によってその大きさに合わせてシールパターンを形成するための多くの時間が必要となることで全体的なタックタイム(tact time)が増加すると同時に生産性が低下する。
【００２１】
また、順次に大面積になることによってスクリーン印刷法を適用する時に使われるマスクの大きさをふやすのには限界があり、大面積基板の余剰領域(液晶表示パネルが形成されない領域)がたくさん残ることになり、これを效率的に利用することができずに捨てるなど全体的な費用が上昇するという問題があった。
また、液晶表示パネルのサイズが大きくなることにより、これに対応するマスクのサイズも増加することでマスク保管及び管理に困難がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
本発明は、上記関連技術の問題点を解決するためのもので、その目的は、分割マスクを使って效率的にシールパターンを形成することで大面積基板における生産性向上及び工程時間を短縮するようにした液晶表示装置のシールパターン形成方法を提供することが目的である。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
前記のような目的を達成するための本発明の第１実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法は、複数個の液晶表示パネルが形成された基板を準備する段階、前記少なくとも一つの液晶表示パネル上に開口部を持つマスクを整列させる段階、前記整列されたマスクを利用して開口部に対応する液晶表示パネル上にシールパターンを形成する段階、前記マスクを残りの液晶表示パネルに整列させて該当液晶表示パネル上に繰り返してシールパターンを形成する段階を含めて成なることを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の第２実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法は、
第１大きさを有する第１液晶表示パネルと、前記第１大きさとは異なる大きさを持つ少なくとも一つの第２液晶表示パネルが形成された基板を準備する段階と;前記第１液晶表示パネル上に開口部を持つ第１マスクを整列する段階と;前記整列された第１マスクを利用して開口部に対応した前記第１液晶表示パネル上に第１シールパターンを形成する段階と;前記第２液晶表示パネル上に開口部を持つ第２マスクを整列する段階と;前記整列された第２マスクを利用して開口部に対応した第２液晶表示パネル上に第２シールパターンを形成する段階とを含めてなることを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の第３実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法は互いに異なる大きさを持つ複数個の液晶表示パネルが、第１領域と第２領域に分けられて反復的に形成された基板を準備する段階、前記第１領域に対応した基板上に開口部を持つ第１マスクを整列する段階、前記整列された第１マスクを利用して第１マスクの開口部に対応した第１領域の各液晶表示パネルに第１シールパターンを形成する段階、前記第２領域に対応した基板上に開口部を持つ第２マスクを整列する段階、前記整列された第２マスクを利用して第２マスクの開口部に対応した第２領域の各液晶表示パネルに第２シールパターンを形成する段階を含めてなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２６】
以上で説明したように本発明による液晶表示装置のシールパターン形成方法は次のような效果がある。
第一、分割したマスクを利用してマルチ印刷方式で該当の液晶表示パネル上にシールパターンを形成することで大面積基板での生産性向上及びタックタイム(tact time)を短縮することができる。
第二、マルチ印刷方式を多様なサイズを持つＭＭＧ(Multi Models on a Glass) モデルに適用することでタックタイム短縮と基板の利用效率を増加させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付された図面を参考にして本発明による液晶表示装置のシールパターン形成方法を詳しく説明すれば次の通りである。
図３Ａないし図３Ｅは本発明の第１実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす工程斜視図である。
図３Ａに図示したように、一定間隔を有し複数個の液晶表示パネル４１が形成された基板４０を準備する。
ここで、前記基板４０には複数個のマスクアラインマーク４２が形成されている。
【００２８】
また、前記マスクアラインマーク４２は各液晶表示パネル４１の対角線方向に少なくとも二つを形成することもでき、各液晶表示パネル４１の角の隣接領域に四つ形成することもできる。
この時、前記マスクアラインマーク４２は＋形、×形、四角形、円形など多様な形態に変更して形成することができる。
その他、図面には図示してはいなかったが、前記基板４０がＴＦＴアレイ基板の場合には縦横に交差して画素領域を定義する複数個のゲート配線とデータ配線を形成して、前記ゲート配線とデータ配線の交差点にゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体層、オミックコンタクト層、ソース/ドレーン電極、及び保護膜からなる薄膜トランジスタを形成して、前記薄膜トランジスタに繋がれる画素電極を前記画素領域に形成する。
【００２９】
また、前記画素電極上に液晶の初期配向のための配向膜を形成する。この時、前記配向膜はポリアミド(polyamide)またはポリイミド(polyimide)係化合物、PVA(polyvinylalcohol)、ポリアミック酸(polyamic acid)などの物質をラビング配向処理して形成することもでき、PVCN(polyvinylcinnamate)、PSCN(polysiloxanecinnamate)、またはCelCN(cellulosecinnamate)係化合物のような光反応性物質を光配向処理して形成することもできる。
【００３０】
そして、前記基板４０がカラーフィルター基板の場合には前記ゲート配線、データ配線、及び薄膜トランジスタ形成領域から光が漏洩することを遮断するための遮光膜を形成し、前記遮光膜の上に赤色、緑、及び青色のカラーフィルター層を形成し、前記カラーフィルター層上に共通電極を形成する。
また、前記カラーフィルター層と共通電極の間にオーバーコート層を追加して形成することもできる。また、前記共通電極上に前記配向膜を形成する。
【００３１】
また、前記ＴＦＴアレイ基板には銀(Ag)をドット(dot)状に形成して前記ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルター基板の合着後、前記カラーフィルター基板上の共通電極に電圧を印加できるようにする。
一方、ＩＰＳ(In Plane Switching)モード液晶表示装置の場合は、共通電極を画素電極と同一の下部基板上に形成して横電界を誘導することとなり、前記銀(Ag)ドットは形成しない。
【００３２】
図３Ｂに図示したように、前記少なくとも一つの液晶表示パネル４１に対応された基板４０上部に開口部４３を持つスクリーンマスク４４を図３ｃに図示したように、前記マスクアラインマーク４２に合わせて該当の液晶表示パネル４１上に整列させる。
図３Ｄに図示したように、前記スクリーンマスク４４上にシーラントを塗布し、ゴムローラー４５を利用して塗布されたシーラントを矢印方向に押しながら前記開口部４３に対応された液晶表示パネル４１上にシールパターン４６を印刷して形成する(図３ｅ)。
【００３３】
一方、本発明の第１実施例では等しい大きさを持つ６個の液晶表示パネル４１が形成された基板４０を使っており、前記スクリーンマスク４４を該当の液晶表示パネル４１に整列させた後、シーラントを塗布する工程を繰り返して実施しながら所望する液晶表示パネル４１上に図３ｅに図示したように、シールパターン４６を印刷して形成する。
以後の工程は図面に図示していなかったが、前記各液晶表示パネル４１上にシールパターン４６が印刷された基板４０と違う基板を合着した後、ＵＶ照射装置を利用してＵＶを照射して前記シールパターン４６を硬化する。
【００３４】
図４は本発明の第２実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
図４に図示したように、基板４０上に互いに異なる大きさを持つ第１、第２液晶表示パネル４１ａ、４１ｂが配置されている時は、前記第１、第２液晶表示パネル４１ａ、４１ｂの大きさに合わせて第１、第２スクリーンマスク４４ａ、４４ｂをそれぞれ形成する。
【００３５】
次いで、前記第１スクリーンマスク４４ａを基板４０上に整列させた後ゴムローラーを利用して第１スクリーンマスク４４ａ上に塗布されたシーラントを片側方向に配列しながら第１液晶表示パネル４１ａに第１シールパターン４６ａを形成する。
そして前記第２スクリーンマスク４４ｂを基板４０上に整列させた後、ゴムローラーを利用して第２スクリーンマスク４４ｂ上に塗布されたシーラントを片側方向に配列しながら第２液晶表示パネル４１ｂに第２シールパターン４６ｂを形成する。
【００３６】
一方、前記第２液晶表示パネル４１ｂは二つが形成されているので第２スクリーンマスク４４ｂを一つの第２液晶表示パネル４１ｂに整列させた後、第２シールパターン４６ｂを印刷し、また第２スクリーンマスク４４ｂを他の一つの第２液晶表示パネル４１ｂに整列させた後、第２シールパターン４６ｂを形成する。
【００３７】
図５は本発明の第３実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
図５に図示したように、基板４０上に第１サイズを持つ複数個の第１液晶表示パネル４１ａと前記第１大きさより小さな第２サイズを持つ複数個の第２液晶表示パネル４１ｂが形成されている時、すなわち、複数個の第１、第２液晶表示パネル４１ａ、４１ｂが一定形態で繰り返して形成される時は第１、第２スクリーンマスク４４ａ、４４ｂを一定形態に繰り返す大きさに合わせて形成する。
【００３８】
引き継いで、前記第１スクリーンマスク４４ａを基板４０上に整列した後、ゴムローラーを利用して第１スクリーンマスク４４ａ上に塗布されたシーラントを片側方向に掃きながら複数個の第１液晶表示パネル４１ａに第１シールパターン４６ａを形成する。
そして、前記第２スクリーンマスク４４ｂを基板４０上に整列させた後、ゴムローラーを利用して第２スクリーンマスク４４ｂ上に塗布されたシーラントを片側方向に配列しながら複数個の第２液晶表示パネル４１ｂに第２シールパターン４６ｂを形成する。
【００３９】
図６Ａは図４の第１液晶表示パネルに使われた第１スクリーンマスクをあらわす平面図で、図６Ｂは図４の第２液晶表示パネルに使われた第２スクリーンマスクをあらわす平面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに図示したように、第１、第２スクリーンマスク４４a、４４bは各液晶表示パネルの大きさに合わせて形成し、第１、第２シールパターン４６ａ、４６ｂが印刷される部分に開口部４３が形成されている。
【００４０】
また、図７Ａは図５の第１液晶表示パネルに使われた第１スクリーンマスクをあらわす平面図で、図７Ｂは図５の第２液晶表示パネルに使われた第２スクリーンマスクをあらわす平面図である。
図７ａ及び図７Ｂに図示したように、第１スクリーンマスク４４ａは２個の第１液晶表示パネル４１ａに対応するように２個の開口部４３が形成されていて、前記第２マスク４４ｂは３個の第２液晶表示パネル４１ｂに対応するように３個の開口部４３が形成されている。
【００４１】
図８Ａないし図８Ｄは本発明による液晶滴下方式による液晶表示装置の製造方法をあらわす斜視図である。
図８Ａに図示したように、下部基板１と上部基板３を準備する。
図面には図示していないが、下部基板１上には縦横に交差して画素領域を定義する複数個のゲート配線とデータ配線が形成され、前記ゲート配線とデータ配線の交差点に薄膜トランジスタを形成し、前記薄膜トランジスタに繋がれる画素電極を前記画素領域に形成する。
【００４２】
また、上部基板３上には前記ゲート配線、データ配線、薄膜トランジスタ形成領域から光が漏洩することを遮断するための遮光膜が形成され、その上に赤、緑及び青のカラーフィルター層が形成され、その上に共通電極が形成される。
また、前記下部基板１と上部基板３中、少なくとも一つの基板上に液晶の初期配向膜のための配向膜が形成される。
【００４３】
図８Ｂに図示したように、前記上部基板３上に分割マスクを使ったスクリーン印刷法によってシールパターン７を形成し、前記下部基板１上に液晶５を滴下して液晶５を形成する。また、前記下部基板１または上部基板３上にシールパターン７と液晶５を形成することもできる。
図８Ｃに図示したように、前記下部基板１と上部基板３を合着する。
この時、前記真空注入方式による液晶表示装置は、液晶が注入される前に両基板の合着工程が遂行されるが、液晶滴下方式による液晶表示装置は液晶５が滴下された後に両基板１３の合着工程を遂行する。
【００４４】
したがって、液晶滴下方式による液晶表示装置では前記シールパターン７としてＵＶ(Ultra Violet)硬化型シールパターンを使うようになる。
図８Ｄに図示したように、ＵＶ照射装置９を通じてＵＶを照射して前記シールパターン７を硬化させる。
そして前記シールパターン７でＵＶ及び熱硬化用シールパターンを使う時はＵＶ照射後１２０℃から1時間位熱硬化する。
ここで、図８Ａないし図８Ｄでは前記シールパターン７を閉鎖型で形成した後、液晶滴下方式によって液晶表示装置を製造しているが、前記シールパターン７を液晶注入口が備えられている形状で形成して液晶注入方式によって液晶表示装置を製造することもできる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
以上で説明したように本発明による液晶表示装置のシールパターン形成方法は次のような效果がある。
第一、分割したマスクを利用してマルチ印刷方式で該当の液晶表示パネル上にシールパターンを形成することで大面積基板での生産性向上及びタックタイム(tact time)を短縮することができる。
第二、マルチ印刷方式を多様なサイズを持つＭＭＧ(Multi Models on a Glass)モデルに適用することでタックタイム短縮と基板の利用效率を増加させることができる。
【００４６】
以上本発明の好適な一実施例について説明したが、前記実施例に限定されず、本発明の技術思想に基づいて種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】一般的な液晶表示装置をあらわす平面図である。
【図２Ａ】スクリーン印刷法によるシールパターンを形成する方法をあらわす図である。
【図２Ｂ】ディスペンシング法によるシールパターンを形成する方法をあらわす図面である。
【図３Ａ】本発明の第１実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
【図３Ｂ】本発明の第１実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
【図３Ｃ】本発明の第１実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
【図３Ｄ】本発明の第１実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
【図３Ｅ】本発明の第１実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
【図４】本発明の第２実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
【図５】本発明の第３実施例による液晶表示装置のシールパターン形成方法をあらわす斜視図である。
【図６Ａ】図４の第１液晶表示パネルに使われた第１スクリーンマスクをあらわす平面図である。
【図６Ｂ】図４の第２液晶表示パネルに使われた第２スクリーンマスクをあらわす平面図である。
【図７Ａ】図５の第１液晶表示パネルに使われた第１スクリーンマスクをあらわす平面図である。
【図７Ｂ】図５の第２液晶表示パネルに使われた第２スクリーンマスクをあらわす平面図である。
【図８Ａ】本発明による液晶滴下方式による液晶表示装置の製造方法をあらわす斜視図である。
【図８Ｂ】本発明による液晶滴下方式による液晶表示装置の製造方法をあらわす斜視図である。
【図８Ｃ】本発明による液晶滴下方式による液晶表示装置の製造方法をあらわす斜視図である。
【図８Ｄ】本発明による液晶滴下方式による液晶表示装置の製造方法をあらわす斜視図である。
【符号の説明】
【００４８】
４０  基板                            ４１  液晶表示パネル
４２  マスクアラインマーク            ４３  開口部
４４  スクリーンマスク                ４５  ゴムローラー
４６  シールパターン
【図１】
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【図２Ａ】
2004177941.tif 000004
【図２Ｂ】
2004177941.tif 000005
【図３Ａ】
2004177941.tif 000006
【図３Ｂ】
2004177941.tif 000007
【図３Ｃ】
2004177941.tif 000008
【図３Ｄ】
2004177941.tif 000009
【図３Ｅ】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
2004177941.tif 000013
【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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