(57)【要約】【課題】高周波回転領域でのフォーカスエラー補正可能な光ディスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】基板２上に反射層３と、記録層４と、光透過性接着層５と、光透過性シート６とが順次積層され、光透過性接着層５と光透過性シート６との合計厚さは、０．１ｍｍであり、かつ光透過性シート６表面の皺の高低差は、２．５μｍ以下にした。そして、光透過性シート６は、光透過性接着層５を介して記録層４上に貼り付ける前に波長が２５０ｎｍ〜３００ｎｍで、エネルギー量が５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２である紫外線を照射するアニール処理を行う。【選択図】      図１
2004220746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に反射層と、記録層と、光透過性接着層と、光透過性シートとが順次積層され、前記光透過性接着層と前記光透過性シートとの合計厚さは、０．１ｍｍであり、かつ前記光透過性シート表面の皺の高低差は、２．５μｍ以下であることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
光透過性シートを第１のエネルギー量で第１の紫外線を照射する工程と、
予め表面に反射層、記録層が順次積層されている基板を用意する工程と、
前記基板の記録層上に紫外線硬化性の光透過性接着層を塗布する工程と、
前記光透過性シートを前記光透過性接着層上に載置する工程と、
前記光透過性シート上方から第２のエネルギー量で第２の紫外線を照射して前記光透過性接着層を硬化させて前記基板と前記光透過性シートとを貼り合わせる工程と、
からなる光ディスクの製造方法において、
前記第１の紫外線の波長は、２５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、前記第１のエネルギー量は、５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２であることを特徴とする光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回転数が高い場合のフォーカスエラーを改善する１層又は２層の記録層を有する光ディスク及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクの分野においては、レンズの高開口度化及びレーザ光の短波長化等により高密度化が進められている。
次世代光ディスクの記録再生装置においては、光ピックアップの対物レンズと光ディスクの表面までの距離に比例して反り等の原因で光ディスクが傾斜した時のレンズ収差が激しくなるので、表面を覆う光透過層を薄くすることによって、上記対物レンズと光ディスクの表面までの距離を短縮して、レンズ収差の発生量そのものを抑制する必要がある。
また、光ディスクの面振れに伴うフォーカスエラーも所定値以内に抑える必要もある。
【０００３】
このため、基板上に記録層、接着層を順次積層し、次に、予め光透過性のポリマーシートを熱変形温度に対し−２０℃〜＋８０℃の温度でアニール処理を行った後、このポリマーシートを介して前記した接着層に貼り付けて、前記した接着層とポリマーシ−トとを併せて光透過層として作製すると、ポリマーシートの皺を低減できるため、前記光透過層の膜厚ムラが改善される。この種の光ディスクの製造方法は、特許文献１に開示されている。
【０００４】
ここで、フォーカスエラーと光ディスクの面振れとの関係について図７を用いて説明する。
以下では、数十ｋＨｚ以上の変動量の中には、光ディスクからの情報信号により間接的に変動量として測定されてしまう分も含まれてしまうため、フォーカスエラーは、回転周波数が１０ＫＨｚ以下のもについて取り扱うことにしている。
【０００５】
図７は、再生時の線速度が５．３ｍ／ｓの時の光ディスクの面振れ量と光ディスクの回転周波数との関係を示す図である。
この場合は、再生時の場合を示しているが記録時の場合も同様である。
図７中、縦軸は、光ディスクの面振れ量を示し、横軸は、光ディスクの回転周波数を示している。そして、両軸は、共に対数メモリである。また、臨界線Ｒとは、フォーカスエラーを生じる限界線であり、臨界線Ｒよりも下側領域が光学ピックアップのサーボ回路により面振れ補正が可能で、情報面に正しくフォーカスが合わせられる領域であり、上側領域が光学ピックアップのサーボ回路により面振れ補正が不可能で、情報面に正しくフォーカスが合わせられない領域である。ここで、下側領域をフォーカス補正可能領域Ｐ、上側領域をフォーカス補正不可領域Ｑという。
【０００６】
図７に示すように、光ディスクの面振れ量は、光ディスクの回転周波数が１〜３６Ｈｚまでの（Ａ）範囲、３６Ｈｚ〜１１００Ｈｚまでの（Ｂ）範囲、１１００Ｈｚ〜１００００Ｈｚまでの（Ｃ）範囲の各範囲で周波数依存性を示す。
回転周波数が１Ｈｚ〜３６Ｈｚまでの（Ａ）範囲では、面振れ量が１００μｍ以下の場合にフォーカス補正可能となる。回転周波数が３６Ｈｚ〜１１００Ｈｚまでの（Ｂ）範囲では、この回転周波数が大きくなるにつれてフォーカス補正可能な面振れ量が直線的に減少している。
【０００７】
即ち、回転周波数が１Ｈｚ〜３６Ｈｚの範囲では、１００μｍまでの面振れ量がフォーカス補正可能となり、回転周波数が１１００Ｈｚの時には、０．０９μｍまでの面振れ量がフォーカス補正可能となる。回転周波数が高い１１００Ｈｚ〜１００００Ｈｚまでの（Ｃ）範囲では、面振れ量が０．０９μｍ以下の場合にフォーカス補正可能となる。
【０００８】
以上のように、回転周波数が高くなった場合には、フォーカスエラーの補正は、わずかしか許容されず、図７中の（Ｃ）範囲では、０．０９μｍ以下に面振れ量を抑えなければ、フォーカスエラー補正をすることができないことがわかる。
【０００９】
【特許文献１】
特開２０００−３１１３９２号公報（第３−４頁、第１図）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開２０００−３１１３９２号公報に開示の製造方法により作製された光ディスクでは、単に光透過層の膜厚ムラが改善されることのみで、高周波領域での回転においては、面振れ量をフォーカスエラー補正が可能となる０．０９μｍ以下に抑えることができなかった。
【００１１】
そこで、本発明は、かかる問題点に鑑みなされたものであり、回転が高周波領域の場合にもフォーカスエラー補正を可能にする光ディスク及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の発明は、基板上に反射層と、記録層と、光透過性接着層と、光透過性シートとが順次積層され、前記光透過性接着層と前記光透過性シートとの合計厚さは、０．１ｍｍであり、かつ前記光透過性シート表面の皺の高低差は、２．５μｍ以下であることを特徴とする光ディスクを提供する。
第２の発明は、光透過性シートを第１のエネルギー量で第１の紫外線を照射する工程と、予め表面に反射層、記録層が順次積層されている基板を用意する工程と、前記基板の記録層上に紫外線硬化性の光透過性接着層を塗布する工程と、前記光透過性シートを前記光透過性接着層上に載置する工程と、前記光透過性シート上方から第２のエネルギー量で第２の紫外線を照射して前記光透過性接着層を硬化させて前記基板と前記光透過性シートとを貼り合わせる工程と、からなる光ディスクの製造方法において、前記第１の紫外線の波長は、２５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、前記第１のエネルギー量は、５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２であることを特徴とする光ディスクの製造方法を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態における光ディスク及びその製造方法について図１乃至図６を用いて説明する。
図１は、本発明の実施形態における光ディスクを示す断面図である。
図２は、本発明の実施形態における光ディスクを作製する製造装置を示す平面図である。
図３は、図２のＬＬ断面図である。図４は、図２のＭＭ断面図である。図５は、図２のＮＮ断面図である。図６は、本発明の実施形態における光ディスクの変形例を示す断面図である。
【００１４】
図１に示すように、本発明の実施の形態における光ディスク１は、中心孔Ｏを有し、ポリカーボネートからなる円板状のディスク基板２の情報面２ａ上に金属からなる反射層３と、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅからなる記録層４と、紫外線硬化樹脂からなる光透過性接着層５と、光透過性シート６と、が順次積層されて構成されている。
光透過性接着層５と光透過性シート６とで光透過層７が構成され、この光透過層７の厚さは、０．１ｍｍである。
なお、ディスク基板２の情報面２ａには、凹凸形状を有するピット列や溝列が形成されている。そして、ディスク基板２は、外径がφ１２０ｍｍ、内径がφ１５ｍｍである。光透過性シート６は、厚さが９０μｍ、外径がφ１１９ｍｍ、内径がφ２０ｍｍである。光透過性接着層５の材料としては、一例として紫外線硬化型の大日本インキ社製、ＥＸ８２０４を用いることができる。
【００１５】
更に、線速度５．３ｍ／ｓで記録再生した際に、フォーカス補正が可能となるように光透過層７の厚さが０．１ｍｍであり、かつ光透過性シート６の表面の皺が、高低差２．５μｍ以下に抑えられている。
この光ディスク１は、レーザ光を光透過性シート６側から入射させて記録再生を行う。
【００１６】
次に、本発明の実施形態における光ディスクの製造方法について、図１に図２乃至図５を併せ用いて説明する。
まず始めに、図２乃至図５に示す製造装置９について説明する。
ここでは、ディスク基板２上に反射層３、記録層４が順次積層されたものを積層基板８ということにする。
製造装置９は、積層基板８を載置する基板供給部１０と、光透過性シート６と保護シート１１とが一体的に形成されたシート原反１２がセットされ（図２及び図３参照）、保護シート１１から光透過性シート６を剥がした後、供給するシート供給部１３と、シート供給部１３から供給された光透過性シート６を巻き取るシート巻取り部１４と、からなる。
【００１７】
シート供給部１３とシート巻取り部１４との間にあって、光透過性シート６を積層基板８と同じ大きさに切断して、ディスク状にするシートカッター部１５と、切断された光透過性シート６を搬送する第１搬送部Ａと、第１搬送部Ａにより搬送された光透過性シート６を載置するシートテーブル１６と、積層基板８を基板供給部１０から搬送する第２搬送部Ｂと、第２搬送部Ｂにより回転テーブル１８上に搬送された積層基板８に紫外線硬化型の光透過性接着層５を塗布するスピン装置１７と、からなる。
【００１８】
更に、シートテーブル１６と共に光透過性シート６を搬送し、或いは後述する光透過性シート６に紫外線照射した後に、シートテーブル１６を初期位置に戻す第３搬送部Ｃと、スピン装置１７の回転テーブル１８に載置されている積層基板８と共に一体化した光透過性シート６を搬送し、或いは紫外線照射後の光透過性シート６を回転テーブル１８上に搬送する第４搬送部Ｄと、からなる。
【００１９】
第３搬送部Ｃにより回転テーブル１８上に搬送された光透過性シート６の紫外線照射或いは積層基板８と共に一体化した光透過性シート６の紫外線照射を行う紫外線照射装置２０と、紫外線照射により積層基板８と共に光透過性シート６を硬化して作製された光ディスク１を搬送する第５搬送部Ｅと、光ディスク１を収納する収納部２１と、からなる。
【００２０】
更にまた、図２及び図４に示すように、スピン装置１７は、中央部に積層基板８の内径と同径の中心軸２２及びこの中心軸２２の外径をガイドとして積層基板８上にスペーサ２３を備えた円板状の回転テーブル１８と、先端に光透過性接着層５を吹き出すノズル２４が形成され、他端が固定部２５に固定され、回転テーブル１８上を往復移動する搬送アーム２６と、回転テーブル１８を回転しながら、積層基板８上に光透過性接着層５を塗布した際に、回転の遠心力により放射状に外側に飛散した余分な光透過性接着層５を収納する回転テーブル１８の外周に形成されたコートハウス２７と、からなる。
【００２１】
図５に示すように、紫外線照射装置２０は、光透過性接着層５が塗布された積層基板８を載置する回転テーブル１９と、この回転テーブル１９に載置される積層基板８或いは透過性シート６を照射する紫外線ランプ２８と、からなる。紫外線ランプ２８は、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等である。
なお、第１、２、４、５搬送部Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅは中心部Ｘの周りを矢印方向に所定角度で回転する。
【００２２】
次に、製造装置９を用いた光ディスク１の製造方法について説明する。
（光透過性シート切断工程）
シート供給部１３を稼動させて、保護シート１１から光透過性シート６を剥がした後、シート巻取り部１４側に供給して、ここで巻き取る。次に、シート供給部１３とシート巻取り部１４との間に配置されているシートカッター部１５により光透過性シート６を積層基板８と同じ大きさに切断して、ディスク状の光透過性シート６を形成する。
この際、保護シート１１は、図示しない巻取り部により巻き取られる。
【００２３】
（光透過性シートの紫外線照射工程）
次に、第１搬送部Ａにより、光透過性シート６をシートテーブル１６上に載置した後、第３搬送部Ｃにより、シートテーブル１６と共に光透過性シート６を紫外線照射装置２０の回転テーブル１９上に搬送して載置する。
この後、所定の回転数で回転テーブル１９を回転させながら、紫外線照射装置２０の紫外線ランプ２８から第１の紫外線を第１のエネルギー量で光透過性シート６に照射する。
【００２４】
ここで、光透過性シート６の皺が低減されることについて説明する。
光透過性シート６は、波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍの紫外領域に吸収帯を有する分子骨格を有することから、この波長帯域及び５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の第１のエネルギー量の第１の紫外線を照射すると、皺等が生じた場合にも第１の紫外線によるアニール効果により内部応力が緩和されて元の性質に戻ろうとするため、皺の段差が低減されることになるのである。この際、第１のエネルギー量が５００ｍＪ／ｃｍ２未満の場合には、アニール効果がないため、また３０００ｍＪ／ｃｍ２を超える場合には、光透過性シート６が熱変形してしまうため、光透過性シート６に大きな皺を生じてしまう。従って、第１のエネルギー量は、５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２にする必要がある。
この後、光透過性シート６を第４搬送部Ｄに設けた図示しない吸着部に吸着せて待機状態にする。一方、第３搬送部Ｃにより、シートテーブル１６を初期位置に戻す。
【００２５】
（基板準備工程）
一方、予め用意した積層基板８を基板供給部１０上に記録層４側を上にして載置する。
【００２６】
（積層基板への光透過性接着層塗布工程）
第２搬送部Ｂにより、基板供給部１０から積層基板８をスピン装置１７の回転テーブル１８上に搬送して載置する。回転テーブル１８を所定回転数で回転させながら、搬送アーム２６を回転テーブル１８方向に移動させ、ノズル２４から紫外線硬化型の光透過性接着層５を積層基板８の記録層４上に滴下する。
【００２７】
光透過性接着層５が積層基板８の記録層４上に適当量覆うようになったら、回転テーブル１８と光透過性接着層５の供給を停止する。この後、搬送アーム２６を初期位置に戻す。
【００２８】
（貼り合せ工程）
この後、第４搬送部Ｄを稼動させて紫外線照射させた光透過性シート６をスピン装置１７の回転テーブル１８上に載置されている積層基板８に光透過性接着層５を介して載置する。この時、紫外線ランプ２８に近い光透過性シート６面が表面になるようにする（図５参照）。このようにした結果、光透過性シート６の自重により光透過性接着層５が延伸し、最適な位置まで延伸したら回転テーブル１８を高速回転させる。この際、回転テーブル１８の回転条件は、光透過性シート６の厚さと光透過性接着層５の厚さとが０．１ｍｍとなるように時間及び回転数を選択する。
ここでは、回転数は、５０００ｒｐｍであり、回転時間は、１５ｓである。
【００２９】
また、放射状に外側に飛散した余分な光透過性接着層５は、コートハウス２７に収納される。
こうして、積層基板８上に光透過性接着層５を介して光透過性シート６を貼り合せる。
この際、波長帯域が２５０ｎｍ〜３００ｎｍで、第１のエネルギー量が５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を用いて、光透過性シート６を照射してアニールしており、かつ光透過性接着層５は、粘性が低いため、光透過性シート６に皺があった場合でも皺の隅々まで侵入して、貼り合せた際の凹凸を小さく抑えることができる。
【００３０】
（紫外線照射硬化工程）
次に、第４搬送部Ｄにより、積層基板８に光透過性接着層５を介して光透過性シート６が貼り合せられて一体化したものを紫外線照射装置２０の回転テーブル１９上に搬送する。この際、一体化されたものは、光透過性シート６側を上方に向けて載置する。
更に、回転テーブル１９を回転させながら、光透過性シート６上方から紫外線ランプ２８により第２の紫外線を第１のエネルギー量と同じ５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の第２のエネルギー量で照射することにより光透過性接着層５を硬化させて、積層基板８と光透過性シート６を完全に貼り合せて図１に示す光ディスク１を得る。この後、回転テーブル１９の回転を停止する。
【００３１】
この際、第２の紫外線の波長は、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内にあれば良い。
また、第２のエネルギー量は、光透過性接着層５が硬化すれば良いので、第１のエネルギー量と同じである必要はなく、これよりも弱くても良い。第２のエネルギー量を第１のエネルギー量と同じにすると、光透過性シート６の皺の発生を抑止しながら貼り合わせることができるので、より皺の高低差を減じることができる。
【００３２】
（光ディスクの収納工程）
次に、第５搬送部Ｅにより、回転テーブル１９上から光ディスク１を収納部２１に搬送して収納する。
【００３３】
次に、光透過性シート６を照射する第１の紫外線の第１のエネルギー量を５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲で変化させて、その片面或いは両面に照射した時のフォーカスエラーについて、複数のサンプル１〜４を作製して調べた。この際、比較用として比較サンプル１〜３を作製した。
光透過性シート６の皺の高低差の良否は、光ディスク１が高周波回転した場合におけるフォーカスエラー補正可能な限界である面振れ量である０．０９μｍを基準として判断した。即ち、皺の高低差は、面振れ量が０．０９μｍ以下の場合には、良とし、０．０９μｍを超える場合には、否とした。
【００３４】
面振れ量は、シバソク製の記録再生装置ＬＭ３３０Ａを用いて測定し、光透過性シート６の皺高低差は、表面粗さ計（島津製作所製、タリサーフ）を用いて測定した。
この場合の光ディスク１の測定は、半径２３ｍｍ位置で線速度５．３ｍ／ｓで行った。光透過性シート６を照射する第１の紫外線は、２５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲に波長帯域を有している。
その結果を表１に示す。
【００３５】
【表１】
2004220746.tif 000003
【００３６】
表１中、皺高低差とは、光透過性シート６に形成されている皺の最大の高低差である。光透過性シート６を照射する紫外線照射エネルギー量（第１のエネルギー量）は、サンプル１では、５００ｍＪ／ｃｍ２、サンプル２では、１５００ｍＪ／ｃｍ２、サンプル３では、３０００ｍＪ／ｃｍ２、サンプル４では、１５００ｍＪ／ｃｍ２、比較サンプル１では、０ｍＪ／ｃｍ２、比較サンプル２では、４００ｍＪ／ｃｍ２、比較サンプル３では、３５００ｍＪ／ｃｍ２にしたものである。紫外線照射は、サンプル１〜３及び比較サンプル１〜３については、光透過性シート６の片面に照射したものであり、サンプル４については、光透過性シート６の両面に照射したものである。
【００３７】
表１に示すように、皺の高低差は、サンプル１では、２．５μｍ、サンプル２では、１．８μｍ、サンプル３では、１．０μｍ、サンプル４では、１．８μｍであるのに対して、比較サンプル１〜３では、２．５μｍを超えていた。
また、面振れ量は、サンプル１では、０．０８５μｍ、サンプル２では、０．０５１μｍ、サンプル３では、０．０３３μｍ、サンプル４では、０．０５１μｍであるのに対して、比較サンプル１〜３では、０．０９μｍを超えていた。
【００３８】
サンプル１〜４は、皺の高低差が２．５μｍ以下になっている。これは、第１の紫外線によるアニール効果により光透過性シート６の内部応力が大幅に緩和されるためと考えられる。
この結果から、光透過性シート６の皺高低差を２．５μｍ以下にし、これを照射する第１の紫外線は、波長が２５０ｎｍ〜３００ｎｍ、第１のエネルギー量が５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２にすると、面振れ量をフォーカスエラー補正が可能な０．０９μｍ以下に抑えることができることがわかる。
【００３９】
以上のように、本発明の実施形態によれば、光透過性接着層５と光透過性シート６との合計厚さが０．１ｍｍであり、かつ光透過性シート６の皺の高低差が２．５μｍ以下としたので、面振れ量が０．０９μｍ以下であり、フォーカスエラー補正を可能とする光ディスク１が得られる。
また、本発明の実施形態の製造方法によれば、積層基板８上に光透過性接着層５を介して光透過性シート６を貼り合せる前の光透過性シート６への紫外線照射は、波長帯域が２５０ｎｍ〜３００ｎｍで、第１のエネルギー量が５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内にある第１の紫外線を用いて行うので、光透過性シート６の皺高低差を２．５μｍ以下に抑えることができる。
【００４０】
次に、本発明の実施形態の変形例として記録層が２層である２層光ディスクに図６を用いて説明する。
本発明の実施形態と同一構成には同一符号を付しその説明を省略する。
２層光ディスク２９は、中心孔Ｏを有し、ポリカーボネートからなるディスク基板２と、このディスク基板２の情報面２ａ上に第１反射層３０と、第１記録層３１と、第１光透過性接着層３２と、第２反射層３３と、第２記録層３４と、第２光透過性接着層３５と、光透過性シート６と、が順次積層されて構成されている。なお、第２反射層３３は、半透明膜である。また、第１光透過性接着層３２上には、透明なスタンパーを用いて２Ｐ形成法（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）にて情報面２ａと異なる図示しないもう一つ情報面が形成されている。
【００４１】
そして、この場合も同様に第２光透過性接着層３５と光透過性シート６とで光透過層７が構成され、この光透過層７の厚さが０．１ｍｍである。
また、第１及び第２記録層３１、３４の材料としては、実施形態における記録層４の材料と同じものである。第１及び第２光透過性接着層３２、３５の材料としては、実施形態における光透過性接着層５と同じものである。
この変形例の場合についても本発明の実施形態と同様な効果が得られる。
【００４２】
【発明の効果】
本発明によれば、基板上に反射層と、記録層と、光透過性接着層と、光透過性シートとが順次積層され、前記光透過性接着層と前記光透過性シートとの合計厚さは、０．１ｍｍであり、かつ前記光透過性シート表面の皺の高低差は、２．５μｍ以下であるので、面振れを０．０９μｍ以下に抑えることができ、フォーカスエラー補正を行うことができる。
また、光透過性シートを第１のエネルギー量で第１の紫外線を照射する工程と、予め表面に反射層、記録層が順次積層されている基板を用意する工程と、前記基板の記録層上に紫外線硬化性の光透過性接着層を塗布する工程と、前記光透過性シートを前記光透過性接着層上に載置する工程と、前記光透過性シート上方から第２のエネルギー量で第２の紫外線を照射して前記光透過性接着層を硬化させて前記基板と前記光透過性シートとを貼り合わせる工程と、からなる光ディスクの製造方法において、前記第１の紫外線の波長は、２５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、前記第１のエネルギー量は、５００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２であるので、光透過性シートの皺高低差を２．５μｍ以下に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態における光ディスクを示す断面図である。
【図２】本発明の実施形態における光ディスクを作製する製造装置を示す平面図である。
【図３】図２のＬＬ断面図である。
【図４】図２のＭＭ断面図である。
【図５】図２のＮＮ断面図である。
【図６】本発明の実施形態における光ディスクの変形例を示す断面図である。
【図７】再生時の線速度が５．３ｍ／ｓの時の光ディスクの面振れ量と光ディスクの回転周波数との関係を示す図である。
【符号の説明】
１…光ディスク、２…基板、２ａ…情報面、３…反射層、４…記録層、５…光透過性接着層、６…光透過性シート、７…光透過層、８…積層基板、９…製造装置、１０…基板供給部、１１…保護シート、１２…シート原反、１３…シート供給部、１４…シート巻取り部、１５…シートカッター部、１６…シートテーブル、１７…スピン装置、１８、１９…回転テーブル、２０…紫外線照射装置、２１…収納部、２２…中心軸、２３…スペーサ、２４…ノズル、２５…固定部、２６…搬送アーム、２７…コートハウス、２８…紫外線ランプ、２９…２層光ディスク、３０…第１反射層、３１…第１記録層、３２…第１光透過性接着層、３３…第２反射層、３４…第２記録層、３５…第２光透過性接着層、Ａ…第１搬送部、Ｂ…第２搬送部、Ｃ…第３搬送部、Ｄ…第４搬送部、Ｅ…第５搬送部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2004220746.tif 000008
【図６】
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【図７】
2004220746.tif 000010