(57)【要約】【課題】記録膜成膜時の成膜応力や熱及び初期化時の熱による第１のディスク基板の変形を防止し、機械特性と記録再生信号特性が高品質な多層光ディスクを効率良く製造する。【解決手段】フレキシブルシート２０の転写層２１と反対側の面に剛性付与基板３５を貼り合わせてから、転写面に記録層３７を成膜し、記録層３７の表面に保護層３８を形成してから記録層３７を初期化し、記録層３７を成膜するときにフレキシブルシート２０に加えられる成膜応力による変形を防いで第１のディスク基板４０を作製する。この第１のディスク基板４０と第２のディスク基板４４とを多層光ディスク４６を作製する。【選択図】  図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブルシートの一方の面に設けられた第１のスタンパのパターンが転写された転写層の転写面とは反対側の面に剛性を有し熱容量の大きな剛性付与基板を貼り合わせてから、転写面に記録層を成膜し、記録層の表面に保護層を形成してから記録層を初期化し、記録層を初期化した後フレキシブルシートから剛性付与基板を剥離して第１のディスク基板を作製し、
射出成形により第２のスタンパのパターンを基板に形成後、基板の表面に記録層を形成し、記録層の表面に保護層を形成して記録層を初期化して第２のディスク基板を作製し、
第１のディスク基板の保護層と第２のディスク基板の保護層と貼り合せることを特徴とする多層光ディスクの製造方法。
【請求項２】
前記フレキシブルシートの転写層と反対側の面に剥離可能な保護シートを有し、該保護シートに剛性付与基板を貼り合わせる請求項１記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項３】
前記フレキシブルシートは連続した原反からなり、スタンパのプリフォーマットを連続的に転写して転写面を形成した後、円板状に加工する請求項１又は２記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項４】
前記フレキシブルシートに転写面を形成するとき、スタンパ上に紫外線硬化樹脂を塗布し、スピン回転させて所定の厚さの紫外線硬化樹脂層を形成し、形成した紫外線硬化樹脂層にフレキシブルシートを押圧しながら紫外線を照射して転写面を形成する請求項１乃至３のいずれかに記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記紫外線硬化樹脂は分子量分布を持たないモノマー原料である請求項４記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記フレキシブルシートと保護シートは光透過率が同等である請求項４又は５記載の多層光ディスクの製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６の多層光ディスクの製造方法により作製したことを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、多層光ディスクの製造方法及び光ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】特開２００１−１８４７４１号公報
【特許文献２】特許第２９４２４３０号公報
【特許文献３】特開平５−１７４４３２号公報
【特許文献４】特開平９−２９３２７６号公報
【特許文献５】特開２００２−１５０６２９号公報
近年、情報記録の分野においては光学情報記録方式に関する研究が進められている。この光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えることや、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達成できること及び再生専用型や追記型や書換可能型のそれぞれのメモリ形態に対応できる等の数々の利点を有し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から民生用まで幅広い用途が考えられている。特に、再生専用型のメモリ形態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディスクやデジタルバーサタイルディスクなどと呼ばれている高密度情報記録媒体や光学式ビデオディスク等が普及している。
【０００３】
この種の光ディスクでは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パターンが形成された透明基板である光ディスク基板上にアルミニウム膜等の金属薄膜からなる反射膜が形成され、この反射膜を大気中の水分や酸素から保護するため、保護膜を反射膜の表面に形成している。このような光ディスクの情報を再生する際には、例えば光ディスク基板側より上記凹凸パターンにレーザ光等の再生光を照射し、その入射光と戻り光の反射率の差によって情報を検出している。
【０００４】
この光ディスクを製造する際には、先ず射出成形等により凹凸パターンを有する光ディスク基板を形成し、この光ディスク基板の表面に金属薄膜からなる反射膜を蒸着等で形成し、この反射膜の表面に紫外線硬化型樹脂等を塗布して保護膜を形成する。
【０００５】
このような光ディスクにおいては大記録容量化が要求されており、これに対応するために、例えば特許文献１に示すように、凹凸パターンを光ディスク基板の１つの面上に形成し、この上に半透明膜を形成し、この半透明膜上にも数１０μｍの間隔をへだてて凹凸パターンを形成し、その上に反射膜を形成するようにして、合計２層の情報基板層を有する光ディスクが開示されている。この２層の情報基板層を有する光ディスクの半透明膜の機能としては、第１のディスク基板側及び第２のディスク基板側それぞれに記録再生できることが必須である。すなわち、半透明膜の透過率が高すぎると、第１のディスク基板側には光吸収が起こらず、全く記録再生できなくなってしまう。反対に、半透明膜の透過率が低すぎると、第２のディスク基板側に光が全く到達せず、第２のディスク基板側には記録再生できなくなってしまう。また、記録再生装置のピックアップのレンズ開口数ＮＡを０．８５程度にする必要性から、レーザ入射側の信号面を、光ディスク基板表面から０．１ｍｍ程度の位置にとらなければならない。
【０００６】
この第１のディスク基板を製造するため、例えば特許文献２に示すように、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどのフレキシブルシートをロールトーロールＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式で搬送しながら、シート表面に熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を塗布してスタンパの微細凹凸パターンを転写するとともに熱硬化させてから記録膜を成膜する熱プレス法や、フレキシブルシート表面に紫外線硬化型樹脂を塗布してスタンパの微細パターンを転写するとともに紫外線硬化させてから記録膜を成膜する２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
この微細パターンが転写されたフレキシブルシートを専用の打抜き機で内外径加工を行うとき、内径とプリグルーブの偏芯を６０μｍ以下に抑える必要があり、位置決めのマーク等を顕微鏡によりモニターしながら偏芯を除去して打ち抜く作業をフレキシブルシート１枚１枚に対して行っている。このためリードタイムが長くなり、品質ばらつきも発生しやすい。
【０００８】
また、特許文献３ではスタンパに対して２Ｐ樹脂を転写するガラスに対して４方向からロッドを押し当てることにより偏芯を除去しているが、リードタイムが長く、ガラスのような剛体にしか適用できない。
【０００９】
また、半透明膜を成膜するとき、成膜応力によりフレキシブルシートが変形しやすいが、最終ディスク形状に仕上がったフレキシブルシートが変形しにくいように成膜することが困難である。
【００１０】
さらに、半透明膜成膜時の応力と熱により第１のディスク基板が変形し、相変化膜である半透明膜を均一に初期化することができなくなってしまう。このディスク基板の変形を防止するため、特許文献４に示すように、ディスク基板を、多孔質体を備えた吸着パッドにより真空吸着保持するようにしている。しかしながら、この方法はディスク基板を保持中に常に真空排気設備とディスク基板保持体を排気管に接続して吸着部を真空排気しておく必要があり、装置の構成がかなり煩雑になるという短所がある。また、ディスク基板保持体は、スパッタ成膜の工程内に搬送することは不可能であり、光情報記録媒体生産におけるディスク基板搬送手段としての汎用性は低い。
【００１１】
また、フレキシブルシートのハンドリング方法として、特許文献５に示すように、フレキシブルシートに補強材を加圧プレスして固定するようにしているが、フレキシブルシートと補強材が真空状態を形成するよう強く押圧されるため、シート表面が損傷を受けたり、スクラッチが発生したりしやすいという短所がある。
【００１２】
この発明はこのような短所を防止し、記録膜成膜時の成膜応力や熱及び初期化時の熱による第１のディスク基板の変形を防止し、機械特性と記録再生信号特性が高品質な多層光ディスクを効率良く製造することができる多層光ディスクの製造方法及びその製造方法で製造した光ディスクを提供することを目的とするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
この発明の多層光ディスクの製造方法は、フレキシブルシートの一方の面に設けられた第１のスタンパのパターンが転写された転写層の転写面とは反対側の面に剛性を有し熱容量の大きな剛性付与基板を貼り合わせてから、転写面に記録層を成膜し、記録層の表面に保護層を形成してから記録層を初期化し、記録層を初期化した後フレキシブルシートから剛性付与基板を剥離して第１のディスク基板を作製し、記録層を成膜するときの応力と初期化するとき熱によりフレキシブルシートが変形することを防ぎ、均一な初期化を行う。
【００１４】
また、射出成形により第２のスタンパのパターンを基板に形成後、基板の表面に記録層を形成し、記録層の表面に保護層を形成して記録層を初期化して第２のディスク基板を作製し、第１のディスク基板の保護層と第２のディスク基板の保護層と貼り合せ、記録再生信号特性と機械特性を安定化した多層光ディスクを作製する。
【００１５】
また、前記フレキシブルシートの転写層と反対側の面に剥離可能な保護シートを有し、該保護シートに剛性付与基板を貼り合わせ、記録層を成膜して初期化した後、フレキシブルシートから保護シートと剛性付与基板の剥離を容易にする。
【００１６】
また、フレキシブルシートは連続した原反からなり、スタンパのパターンを連続的に転写して転写面を形成した後、円板状に加工することが望ましい。
【００１７】
さらに、フレキシブルシートに転写面を形成するとき、スタンパ上に紫外線硬化樹脂を塗布し、スピン回転させて所定の厚さの紫外線硬化樹脂層を形成し、形成した紫外線硬化樹脂層にフレキシブルシートを押圧しながら紫外線を照射して転写面を形成すると良い。この紫外線硬化樹脂として分子量分布を持たないモノマー原料を使用して、転写層の円周方向の膜厚のばらつきを低減する。また、フレキシブルシートと保護シートは光透過率が同等であることが望ましい。
【００１８】
この発明の光ディスクは前記多層光ディスクの製造方法により作製したことを特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の多層光ディスクの製造装置の構成を示すブロック図である。図に示すように、多層光ディスクの製造装置１は、第１の製造装置２と第２の製造装置３と貼合せ装置４を有する。第１の製造装置２は２層の記録膜を有する光ディスクの第１のディスク基板を作製するものであり、転写装置５と外径加工装置６と剛性付与装置７と成膜装置８と保護層形成装置９と初期化装置１０及び剥離装置１１を有する。転写装置５はフレキシブルシートに転写層を形成する。外径加工装置６は転写層が形成されたフレキシブルシートを所定の外径のディスク状に加工する。剛性付与装置７はディスク状に加工したフレキシブルシートの転写層と反対の面に剛性を有する基板を貼り付けてフレキシブルシートに剛性を付与する。成膜装置８は剛性を付与されたフレキシブルシートの転写層に記録層を成膜する。保護層形成装置９は記録膜に保護層を形成する。初期化装置１０は成膜した記録層を初期化する。剥離装置１１はフレキシブルシートから剛性を有する基板を剥離して第１のディスク基板にする。
【００２０】
この第１の製造装置２で第１のディスク基板を作製するときの製造方法を工程順に従って説明する。まず、図３の斜視図に示すように、一定厚さを有し、強靭で衝撃強さが大きい合成樹脂、例えば厚さが７５μｍのポリカーボネートのフレキシブルシート２０の片面に剥離可能な保護シート２１が形成されたロール状の原反２２を用意する。この原反２２は２本のロールを用いて巻き取り可能なものである。そして原反２２の巻き取り方向に対して垂直方向である横幅を１８０ｍｍとし、原反２２の横幅方向の中心に一定ピッチ例えば１８０ｍｍピッチで１５ｍｍの中心穴２３を形成する。
【００２１】
転写装置５には図３の構成図に示すように、上下方向に移動自在で原反２２を保持して巻き取る駆動ロール２４と従動ロール２５と、あらかじめ１５ｍｍのセンター穴を有し、プリフォーマットパターンが形成されたスタンパ２６を保持して回転するセンターポール２７と、原反２２をスタンパ２６側に押付ける押圧手段２８と、紫外線照射装置２９を有する。この転写装置５の駆動ロール２４と従動ロール２５に原反２２をセットし、原反２２の中心穴２３をセンターポール２７に対して位置決めする。この状態で図３（ａ）に示すように、センターポール２７にスタンパ２６をセットし、スタンパ２６の表面に紫外線硬化樹脂３０を塗布し、センターポール２７をスピン回転させて、紫外線硬化樹脂３０を所定の膜厚に振り切って紫外線硬化樹脂膜を形成する。その後、原反２２を保持した駆動ロール２４と従動ロール２５をスタンパ２６側に下降させ、原反２２のフレキシブルシート２０を紫外線硬化樹脂膜に接触させる。そして図３（ｂ）に示すように、センターポール２７の位置から巻き取り方向の前後９０ｍｍの位置に、押圧手段２８の例えば合成樹脂又は金属で形成されたの棒状の押え部２８ａにより原反２２を一定の圧力でスタンパ２７側に押圧して原反２２に張力を加えた状態で紫外線照射装置２９から紫外線を照射して転写層３１を形成する。この転写層３１を適正な膜厚で形成するためには、紫外線硬化樹脂３０は粘度が１０〜３００ｍＰａ・ｓで分子量分布を持たないモノマーを使用することが望ましい。この分子量分布を持たないモノマーと分子量分布が大きいモノマーを使用した場合の転写層３１の円周方向の膜厚のばらつきを図４に示す。図４に示すように、分子量分布を持たないモノマーを使用した場合は、転写層３１の円周方向の膜厚のばらつきがほとんど生じないで、均一な膜厚に形成することができる。転写層３１を形成した後、押圧手段２８による押圧を解除し、駆動ロール２４と従動ロール２５を上昇させて、原反２２をセンターポール２７から離し、中心穴２３のピッチ分例えば１８０ｍｍ分巻き取る。そして上記転写層３１の形成処理を順次繰り返す。原反２２のフレキシブルシート２０の各中心穴２３毎に転写層３１を形成した後、転写層３１を形成した原反２２を駆動ロール２４と従動ロール２５から取り外して外径加工装置６に送る。
【００２２】
外径加工装置６は送られた原反２２を各中心穴２３を中心にして直径１８０ｍｍの円板状に加工し、図５に示すフレキシブル基板３２を連続的に作製する。この作製されたフレキシブル基板３２を剛性付与装置７に逐次送る。剛性付与装置７は、図６（ａ）に示すように、転写装置５と同サイズのセンターポール３３を有し、片面に粘着シート３４が形成されたＰＣ基板やガラス基板又は金属基板からなり、剛性を有し熱容量の大きな剛性付与基板３５を粘着シート３４を上にしてセンターポール３３にセットする。そして送られたフレキシブル基板３２の保護シート２１が粘着シート３４に貼り付くようにフレキシブル基板３２をセットし、図６（ｂ）に示すように、フレキシブル基板３２の転写層３１の上に別の保護シート３６を当て、保護シート３６の上からフレキシブル基板３２を弾性体で押圧して、フレキシブル基板３２の保護シート２１を剛性付与基板３５の粘着シート３４に貼り合わせる。このフレキシブル基板３１を剛性付与基板３５に貼り合わせるとき、転写層３１の表面に保護シート３６を当ててフレキシブル基板３２を押圧するから、転写層３１に損傷が生じることを防いで、転写面を平滑に保つことができる。
【００２３】
フレキシブル基板３２に剛性付与基板３５を貼り合わせた後、転写層３１の表面にある保護シート３６を除去して成膜装置８に送る。成膜装置８は、図７に示すように、フレキシブル基板３２の転写層３１の表面に記録層３７を成膜する。この記録層３７を成膜するとき、フレキシブル基板３２には剛性付与基板３５を貼り合わせてあるから、成膜時にフレキシブル基板２０に加えられる成膜応力によりフレキシブル基板３２が変形することを防ぐことができる。
【００２４】
この転写層３１に記録層３７を成膜したのち保護層形成装置９に送られ、図８（ａ）に示すように、記録層３７の表面に保護層３８を形成する。その後、初期化装置１０に送られ、図８（ｂ）に示すように、記録層３７に熱を加えて初期化して、初期化された領域３９を形成する。この記録層３７を初期化するとき、フレキシブル基板３２には熱容量の大きい剛性付与基板３５が貼り合わせてあるから、初期化するときフレキシブル基板３２に加えられる熱を剛性付与基板３５に放熱するとともにフレキシブル基板３２の熱変形を剛性付与基板３５で抑制するから、フレキシブル基板３２が、初期化する際の熱により変形することを防ぐことができ、均一な初期化を達成でき、反射率変動もないとともに良好な機械的特性を得ることができる。この初期化するときに、剛性付与基板３５の厚さに対して転写層３１の転写面の温度変化特性を図９に示す。図９に示すように、剛性付与基板３５の厚さが１ｍｍ程度になると、転写面の温度を大幅に低くすることができる。
【００２５】
記録層３７を初期化した後、記録層３７と剛性付与基板３５を有するフレキシブル基板３２は剥離装置１１に送られ、剥離装置１１でフレキシブルク基板３２のフレキシブルシート２０と保護シート２１との境界で剥離し、図８（ｃ）に示すように、フレキシブルシート２０と転写層３１と記録層３７及び保護層３８を有する第１のディスク基板４０を作製する。この剛性付与基板３５等を剥離して作製された第１のディスク基板３９の反りを剛性付与基板３５の厚さを変えて測定した結果を図１０に示す。図１０に示すように、記録層３７を初期化するとき剛性付与基板３５でフレキシブル基板３２の熱変形を抑制して、反りのない第１のディスク基板４０を作製することができる。
【００２６】
次に第２の製造装置３で第２のディスク基板を作製するときは、図１１に示すように、成形装置１２により射出成形により第２のスタンパの信号面を基板４１に形成後、成膜装置１３で基板４１の表面に記録層４２を形成し、保護層形成装置１４で記録層４２の表面に保護層４３を形成する。その後、初期化装置１５により記録層４２を初期化して第２のディスク基板４４を作製する。
【００２７】
第１の製造装置２で作製した第１のディスク基板４０と第２の製造装置３で作製した第２のディスク基板４４は貼合せ装置４に送られ、図１１に示すように、第１のディスク基板４０の保護層３８と第２のディスク基板４４の保護層４３とを感圧性粘着剤又は紫外線硬化樹脂４５により貼り合せ、図１２に示すように、第１の記録層３７と第２の記録層４２を有する多層光ディスク４６を作製する。この多層光ディスク４６を作製するとき、第１のディスク基板４０と第２のディスク基板４４を貼り合せる紫外線硬化樹脂４５は、粘度が１００〜１０００ｍＰａ・ｓの材料を使用することにより、適正な膜厚の貼合層４７を得ることができる。このようにして作製された多層光ディスク４６は反射率変動もなく、機械特性も良好であり、この多層光ディスク４６に記録を行い再生信号を確認した結果、アイパターンのきれいな高品質な信号特性を安定して得ることができた。
【００２８】
前記説明ではフレキシブル基板３２に剛性付与基板３５を貼り合わせてから記録層３７を成膜した場合について説明したが、フレキシブル基板３２に張力を与えてフレキシブル基板３２を張った状態で転写層３１の表面に記録層３７を成膜してから、フレキシブル基板３２に熱容量の大きき剛性付与基板３５を貼り合わせて記録層３７を初期化しても良い。例えば、図１３（ａ）に示すように、転写層３１を形成した原反２２を、最終的な光ディスクの外径サイズより大きな外径で加工してフレキシブル基板３２ａを作製する。このフレキシブル基板３２ａを所定の外径を有する内リング５０と、内リング５０より内径が大きい外リング１１を使用して、図１３（ｂ）に示すように放射方向に張力を付与させてから記録層３７を成膜する。この記録層３７を成膜するとき、フレキシブル基板３２ａに加えられる熱量は比較的少ないため、フレキシブル基板３２ａに剛性付与基板３５を貼り付けずに、フレキシブル基板３２ａに張力を与えて変形を防止すれば良い。フレキシブル基板３２ａに記録層３７を成膜した後、所定の外径に加工し、剛性付与基板３５を貼り付けて記録層３７を初期化すれば良い。
【００２９】
前記説明ではフレキシブルシート２０を厚さが７５μｍのポリカーボネートで形成した場合について説明したが、フレキシブルシート２０を厚さが７５μｍ又は１００μｍのポリエチレンテレフタレートで形成しても良い。
【００３０】
［比較例］  フレキシブルシート２０を厚さが７５μｍ及び１００μｍのポリカーボネートで形成し、転写層３１を形成後、フレキシブルシート２０に剛性付与基板３５を貼り合せずに記録層３７を成膜して初期化したところ、いずれの厚さの場合でも記録層３７を成膜するときの応力と初期化するとき熱によりフレキシブルシート２０が大きく変形し、均一な初期化を行うことはできなかった。また、フレキシブルシート２０を厚さが７５μｍ及び１００μｍのポリエチレンテレフタレートで形成した場合も、剛性付与基板３５を貼り合せずに記録層３７を成膜して初期化したところ、いずれの厚さの場合でも記録層３７を成膜するときの応力と初期化するとき熱によりフレキシブルシート２０が大きく変形し、均一な初期化を行うことはできなかった。
【００３１】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、フレキシブルシートの一方の面に設けられた第１のスタンパのパターンが転写された転写層の転写面とは反対側の面に剛性を有し熱容量の大きな剛性付与基板を貼り合わせてから、転写面に記録層を成膜し、記録層の表面に保護層を形成してから記録層を初期化することにより、記録層を成膜するときにフレキシブルシートに加えられる成膜応力によりフレキシブルシートが変形することを防ぐことができる。また、記録層を初期化するときフレキシブルシートに加えられる熱を剛性付与基板に放熱することができ、フレキシブルシートが、初期化する際の熱により変形することを防ぐことができ、均一な初期化を達成でき、反射率変動もないとともに良好な機械的特性を得ることができる。
【００３２】
また、射出成形により第２のスタンパのパターンを基板に形成後、基板の表面に記録層を形成し、記録層の表面に保護層を形成して記録層を初期化して第２のディスク基板を作製し、第１のディスク基板の保護層と第２のディスク基板の保護層と貼り合せることにより、記録再生信号特性と機械特性を安定化した多層光ディスクを作製することができる。
【００３３】
また、フレキシブルシートの転写層と反対側の面に剥離可能な保護シートを設け、保護シートに剛性付与基板を貼り合わせることにより、記録層を成膜して初期化した後、フレキシブルシートから保護シートと剛性付与基板の剥離を容易にすることができる。
【００３４】
また、フレキシブルシートは連続した原反で構成し、スタンパのパターンを連続的に転写して転写面を形成した後、円板状に加工することにより、フレキシブル基板を連続的に作製することができ、フレキシブル基板の作製効率を向上することができる。
【００３５】
さらに、フレキシブルシートに転写面を形成するとき、スタンパ上に紫外線硬化樹脂を塗布し、スピン回転させて所定の厚さの紫外線硬化樹脂層を形成し、形成した紫外線硬化樹脂層にフレキシブルシートを押圧しながら紫外線を照射して転写面を形成することにより、均質な転写面を安定して形成することができる。
【００３６】
また、紫外線硬化樹脂として分子量分布を持たないモノマー原料を使用することにより、転写層の円周方向の膜厚のばらつきを低減することができる。
【００３７】
さらに、フレキシブルシートと保護シートの光透過率を同等にすることにより、紫外線硬化樹脂層に均一な強度の紫外線を照射することができ、高品質の転写面を形成することができる。
【００３８】
この多層光ディスクの製造方法で作製した光ディスクは、反射率変動もなく良好な機械的特性を得るとともに高品質な信号特性を安定して得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の多層光ディスクの製造装置の構成を示すブロック図である。
【図２】フレキシブルシートの原反の構成を示す斜視図である。
【図３】転写工程を示す構成図である。
【図４】転写層の円周方向に対する膜厚の変動特性図である。
【図５】フレキシブル基板の構成を示す断面図である。
【図６】剛性付与工程を示す構成図である。
【図７】記録層を成膜下状態を示す斜視図である。
【図８】保護層形成と初期化及び剥離工程を示す工程図である。
【図９】剛性付与基板の厚さに対する転写面の温度変化特性図である。
【図１０】剛性付与基板の厚さに対する第１のディスク基板の反りの変化特性図である。
【図１１】第１のディスク基板と第２のディスク基板の貼合せ工程を示す斜視図である。
【図１２】多層ディスクの構成を示す斜視図である。
【図１３】記録層の他の成膜方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１；多層光ディスクの製造装置、２；第１の製造装置、
３；第２の製造装置、４；貼合せ装置、５；転写装置、６；外径加工装置、
７；剛性付与装置、８；成膜装置、９；保護層形成装置、
１０；初期化装置、１１；剥離装置、１２；成形装置、１３；成膜装置、
１４；保護層形成装置、１５；初期化装置、２０；フレキシブルシート、
２１；保護シート、２２；原反、２３；中心穴、２６；スタンパ、
２８；押圧手段、２９；紫外線照射装置、３０；紫外線硬化樹脂、
３１；転写層、３２；フレキシブル基板、３４；粘着シート、
３５；剛性付与基板、３６；保護シート、３７；記録層、３８；保護層、
３９；初期化領域、４０；第１のディスク基板、４１；基板、
４２；記録層、４３；保護層、４４；第２のディスク基板、
４５；紫外線硬化樹脂、４６；多層光ディスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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