(57)【要約】【課題】記録層として非晶質磁性層を備えた構成において磁壁移動を抑え、十分な信号品質で高密度記録を行えるようにする。【解決手段】磁気記録媒体１は、基板２上に記録層となる非晶質磁性層４を備えている。また、基板２と非晶質磁性層４との間に下地層３である非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａが、０．７〜２．０ｎｍの範囲となっている。このように非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａが大きい範囲にある場合、非晶質磁性層に対して大きいピニング効果を発揮できるので、非晶質磁性層では、高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成できる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に記録層となる非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体において、
前記基板と前記非晶質磁性層との間に非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａが、０．７〜２．０ｎｍの範囲であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記非磁性金属元素層がアルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）もしくは銀（Ａｇ）のうちの何れか一つを材料として形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記非磁性金属元素層の表面には、前記平均粗さＲａを有する凹凸が形成されており、この凹凸は、非磁性金属元素層の材料の結晶化により形成されたものであることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記非磁性金属元素層を形成する材料の純度が３Ｎ（９９．９％）以上であることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
基板上に記録層となる非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体において、
前記基板と前記非晶質磁性層との間に非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層は、純度が３Ｎ（９９．９％）以上の単一元素の材料により形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
前記非晶質磁性層には、この非晶質磁性層に対する加熱および磁界の印加により情報が記録されることを特徴とする請求項１または５に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
請求項１から５の何れか１項に記載の磁気記録媒体を使用し、
磁化方向を決定するための磁界を前記磁性層に印加する磁界印加手段を備え、前記磁性層に情報を磁気的に記録することを特徴とする磁気記録装置。
【請求項８】
請求項１から６の何れか１項に記載の磁気記録媒体を使用し、
前記磁性層を局所的に加熱する加熱手段と、
前記磁性層における前記加熱手段にて加熱された領域の少なくとも一部に対して、磁化方向を決定するための磁界を印加する磁界印加手段とを備え、
前記磁性層に情報を磁気的に記録することを特徴とする磁気記録装置。
【請求項９】
基板上に、純度が３Ｎ（９９．９％）以上の単一元素の材料からなる非磁性金属元素層を形成し、この非磁性金属元素層の上に、記録層となる非晶質磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、記録層となる非晶質磁性層の記録領域に磁気的に情報を記録する磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｋ（ＢＤ）や光磁気ディスクに代表される光メモリ、およびハードディスクに代表される磁気メモリの高密度化が著しい。高密度磁気記録再生技術の１つとしては、熱アシスト磁気記録再生方式が知られている。この熱アシスト磁気記録再生方式の一例として、特開平４−１７６０３４号公報には、略室温に補償点（磁気的補償温度）を有するＮ形フェリ磁性体からなる磁性層が形成された磁気記録媒体、およびそれを使用したレーザ光による熱アシスト磁気記録再生方式（以下、第１従来技術と称する）が開示されている。
【０００３】
このような熱アシスト磁気記録再生方式では、記録時には、磁気記録媒体の記録領域をレーザ光により昇温させ、保磁力を十分に低下させた状態で、記録用磁気ヘッドにより外部磁場を記録領域に印加することで情報の記録を行う。この記録方式において、記録ビット（記録ビット）が形成される領域は、レーザ光照射領域と磁場印加領域とが重なり合う領域に限定される。
【０００４】
即ち、これらの位置関係を図６を用いて説明すると、磁気ヘッドによる磁場印加領域６１と、レーザ光照射による昇温領域６２（光スポットに対応する領域）６２との重ね合わせ部分が記録領域６３となり、この記録領域６３に記録ビット６４が形成される。その結果、従来と同様の数μｍ幅の記録用磁気ヘッドを用いながら、レーザ光のビームスポット径（昇温領域６２の径；０．５μｍ以下）と同等の幅を持つ狭いトラック６４を磁気記録媒体上に記録することが可能となる。
【０００５】
また、再生時にも、磁気記録媒体の再生領域をレーザ光により昇温させ、残留磁化の強度を大きくした状態で、再生用磁気ヘッドにより再生領域から情報を読み出す。その際に再生される領域もまた、レーザ照射領域と再生ヘッド領域とが重なり合う領域に限定される。この結果、幅の広い再生用磁気ヘッドを用いながら、狭いトラックピッチで記録されたトラックをクロストークを抑えて再生することが可能となる。
【０００６】
このように、第１従来技術である熱アシスト磁気記録再生方式では、熱源にレーザ光を用いて磁場印加領域よりも狭い領域を選択的に昇温することにより、記録トラック幅を縮小するとともにクロストークを低減し、その結果、高密度の記録再生が行えるという特徴を持っている。
【０００７】
上記の熱アシスト磁気記録再生方式では、磁気記録媒体として、ディスク基板上に下地層を備えず、もしくはディスク基板上に下地層として窒化アルミニウム（ＡｌＮ）膜を６０ｎｍ成膜し、次いで、磁性層および保護層をこの順に成膜したものが用いられている。上記のＡｌＮ下地層は、光の反射を防止して昇温効率を高めるために設けられたものである。即ち、上記のＡｌＮ下地層は、磁気記録媒体に入射した光の吸収率（磁性層に吸収される光の割合）を向上させ、記録感度を向上させるために使用されている。
【０００８】
また、特開２０００−３１５３１０には、下地層としてＮｉＰを用いることにより下地層表面のＲａを増大させ、ピニング効果により高密度記録を実現している例（以下、第２従来技術と称する）が開示されている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平４−１７６０３４号公報（公開日平成０４年０６月２３日）
【００１０】
【特許文献２】
特開２０００−３１５３１０公報（公開日平成１２年１１月１４日）
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
情報記録媒体においては、記録周波数（磁界変調方式の場合には磁界印加の周波数）を上げて、最短記録ビット長（１ビットの情報に対応する最小単位の記録ビットのトラック方向に沿った長さ；図６のＭに相当）を短くすればするほど、高密度の記録が可能になる。
【００１２】
しかしながら、第１従来技術の熱アシスト磁気記録方式では、用いられている磁気記録媒体の性能が不十分であるため、最短記録ビット長が２００ｎｍ以下の記録ビットを形成することが困難であり、記録密度の向上に限界がある。この状態は、以下の現象から明らかである。
【００１３】
即ち、上記公報で用いられている磁気記録媒体の記録再生評価を行った結果、最短記録ビット長が約２００ｎｍ以下に差し掛かる辺りから、信号品質が急激に劣化する現象が現れる。
【００１４】
さらには、磁気記録媒体に形成された記録ビットを磁気力顕微鏡（ＭＦＭ；Magnetic Force Microscope）により観察した結果、最短記録ビット長が約２００ｎｍに差し掛かる辺りから、個々の記録ビットに乱れが生じる現象、例えば記録ビット同士が引っ付き合う現象や、記録ビットが消えて無くなる現象等が発生する。これをトラック幅の減少と見ると、トラック幅が次第に細くなり最終的には途切れを生じることになる。
【００１５】
したがって、従来の磁気記録媒体では、熱アシスト磁気記録装置に使用した場合の信頼性を考えると、実際に使用できる最短記録ビット長は２５０ｎｍが限界であった。
【００１６】
上記のように、従来の磁気記録媒体において記録ビットの形状が安定しない要因の一つとしては、交換相互作用力が考えられる。以下、この点について説明する。
【００１７】
記録ビットが小さくなるに従い、記録ビットに働く力の中でも、交換相互作用力の占める割合は大きくなる。磁性層がＴｂＦｅＣｏ磁性体等の略室温に補償点を有するＮ形フェリ磁性体からなる場合には、交換相互作用力は、隣り合う記録ビットの磁化方向を同一方向に揃えるように働く力となる。特に、記録領域に対して昇温を行う熱アシスト記録再生方式においては、記録時には著しく記録再生領域の磁気異方性（保磁力）が低下するため、交換相互作用力の占める割合が大きくなる。そのため、記録ビットを形成しようにも、周辺の磁化により影響を受け、磁壁（磁気壁）が簡単に移動してしまい、記録ビットの形状が安定しないという上記の現象につながると考えられる。したがって、最短記録ビット長が２００ｎｍ以下の記録ビットを安定して形成するには、磁壁移動を抑える何らかの手段が必要であった。
【００１８】
一方、第２の従来技術は、高密度記録を可能にするための下地層としてニッケル燐（ＮｉＰ）層を用いている。これにより、下地層表面には凹凸が形成され、これらがピニングサイトとして働くため高密度記録が可能となる。
【００１９】
しかしながら、ＮｉＰは層分離温度（ＮｉとＰに分離する温度）が約３５０℃と低いため、光アシスト記録再生によりレーザ昇温を行った場合、形状変化に加え、ＮｉＰの層分離を引き起こす恐れがある。その結果、記録再生領域のランダムな位置において、Ｎｉの析出が起こり、軟磁性体に変化する。また、この変化は、不可逆なものであり、かつ、磁性層の磁気ビットの位置や形状とは一致しないため、再生信号に対しノイズを発生させる要因となり、光アシスト記録再生方式には適さないと考えられる。
【００２０】
したがって、本発明は、記録層として非晶質磁性層を備えた構成において適切に磁壁移動を抑制することができ、十分な信号品質で高密度記録を行うことができる磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録媒体の製造方法の提供を目的としている。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気記録媒体は、基板上に記録層となる非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体において、前記基板と前記非晶質磁性層との間に非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａが、０．７〜２．０ｎｍの範囲であることを特徴としている。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体では、記録層として例えばＴｂＦｅＣｏ磁性体からなる非晶質（アモルファス）磁性層を備えているので次の効果を有する。
【００２３】
磁性層が常温で作製可能であり、製膜プロセスが簡単である（結晶では、数百℃の高温プロセスが必要となる）。また、任意の組成でＴｂＦｅＣｏの形成が可能なため、連続的に特性（組成）を制御できる（結晶では、取り得る組成は決まっている）。さらに、磁気ビットが結晶粒の大きさに制限されないため、微小なビットが形成できる可能性がある（結晶では、ビットの大きさは結晶粒の大きさ以上になる）。
【００２４】
ここで、記録層として非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体では、次のように、記録ビットの形状が安定しないという現象が顕著に現れる。
【００２５】
多結晶磁性体（例えばＣｏ合金系磁性体）を磁性層に用いた磁気記録媒体では、記録ビットが結晶粒界により分離される。これに対し、非晶質磁性体からなる非晶質磁性層を用いた本発明の磁気記録媒体では、結晶粒界が存在しないため、記録ビットが結晶粒界により分離されることがなく、磁気的には媒体全面に渡って連続していると考えられる。即ち、記録ビット同士が前述の交換相互作用力を及ぼしあう程度が比較的大きく、かつ、磁壁移動を妨げる要因が少ない。
【００２６】
このため、磁性層が非晶質磁性体からなる磁気記録媒体では、磁性層の磁壁移動を抑制することが一層重要になる。
【００２７】
そこで、本発明の磁気記録媒体では、非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａを０．７〜２．０ｎｍの範囲としている。即ち、このように非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａが大きい場合、非磁性金属元素層の上に形成されている非晶質磁性層に対して大きいピニング効果を発揮することができる。したがって、非晶質磁性層では、上記ピニング効果により、高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる。
【００２８】
また、非晶質磁性層の下地層となる非磁性金属元素層は、非磁性金属からなるので、下地層が磁性金属からなる場合（第２の従来技術）のように、昇温等により磁性体が析出する不具合を防止することができる。
【００２９】
上記の磁気記録媒体は、前記非磁性金属元素層がアルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）もしくは銀（Ａｇ）のうちの何れか一つを材料として形成されている構成としてもよい。
【００３０】
上記の構成によれば、非磁性金属元素層を前記の何れかの材料にて形成した場合には、その材料が結晶化する際にその層（非磁性金属元素層）の表面に平均粗さＲａが０．７〜２．０ｎｍの範囲となる凹凸を適切かつ容易に形成することができる。
【００３１】
上記の磁気記録媒体において、前記非磁性金属元素層の表面には、前記平均粗さＲａを有する凹凸が形成されており、この凹凸は、非磁性金属元素層の材料の結晶化により形成された構成であってもよい。
【００３２】
上記の構成によれば、非磁性金属元素層の形成と同時に非磁性金属元素層の表面の平均粗さＲａを０．７〜２．０ｎｍの範囲とすることができるので、非磁性金属元素層形成後の後工程において、上記平均粗さＲａを得るための処理が不要となる。
【００３３】
上記の磁気記録媒体は、前記非磁性金属元素層を形成する材料の純度が３Ｎ（９９．９％）以上である構成としてもよい。
【００３４】
上記の構成によれば、非磁性金属元素層を形成する材料の純度が３Ｎ（９９．９％）以上であるので、非磁性金属元素層の結晶化が適切に促進され、非磁性金属元素層の表面の平均粗さＲａを確実に０．７〜２．０ｎｍの範囲とすることができる。
【００３５】
本発明の磁気記録媒体は、基板上に記録層となる非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体において、前記基板と前記非晶質磁性層との間に非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層は、純度が３Ｎ（９９．９％）以上の単一元素の材料により形成されていることを特徴としている。
【００３６】
上記の構成によれば、非磁性金属元素層を形成する材料の純度が３Ｎ（９９．９％）以上であるので、非磁性金属元素層の結晶化が適切に促進され、非磁性金属元素層の表面の平均粗さＲａを適切に大きくすることができる。これにより、非磁性金属元素層はその上に形成されている非晶質磁性層に対して大きいピニング効果を発揮することができる。したがって、非晶質磁性層では、上記ピニング効果により、高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる。
【００３７】
また、非晶質磁性層の下地層となる非磁性金属元素層は、非磁性金属からなるので、下地層が磁性金属からなる場合（第２の従来技術）のように、昇温等により磁性体が析出する不具合を防止することができる。
【００３８】
上記の磁気記録媒体は、前記非晶質磁性層に、この非晶質磁性層に対する加熱および磁界の印加により情報が記録される構成としてもよい。
【００３９】
上記の構成によれば、非晶質磁性層には、熱アシストによる記録再生が行われるので、より微小な磁気ビットによる高密度記録が可能であるとともに、高密度記録時の熱ゆらぎによる信号対雑音比（Ｓ／Ｎ比）の劣化を抑えることができる。
【００４０】
また、上述したピニング効果により非晶質磁性層において安定に磁気ビットを形成できるようにすることは、非晶質磁性層に対して加熱および磁界の印加により情報を磁気的に記録する場合において特に重要となる。これは次の理由による。
【００４１】
加熱および磁界の印加によって情報を磁気的に記録する場合には、記録領域が昇温されるため、磁性層では保磁力が低下するとともに磁気異方性が著しく低下する。このため、磁壁移動が起こり易くなり、磁壁移動の抑制がより重要となる。したがって、このような磁気記録媒体において、上述のピニング効果により非晶質磁性層に安定して磁気ビットを形成できるようにすれば、高密度記録時の信号品質を向上させる効果が一層顕著となる。
【００４２】
本発明の磁気記録装置は、上記の磁気記録媒体を使用し、磁化方向を決定するための磁界を前記磁性層に印加する磁界印加手段を備え、前記磁性層に情報を磁気的に記録することを特徴としている。
【００４３】
上記の構成によれば、前述のように高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる磁気記録媒体を使用しているので、十分な信号品質で高密度記録を行うことができる。
【００４４】
また、従来技術に比べて、記録電流値のマージンを大きく取ることが可能となる。即ち、記録可能な電流値の範囲が広くなる。これにより、装置に組み込まれる磁気ヘッドの設計が容易になる。また、マージンが大きい分、少々の電流値の変動にも耐えることができるため信頼性の高い装置とすることができる。
【００４５】
本発明の磁気記録装置は、上記の磁気記録媒体を使用し、前記磁性層を局所的に加熱する加熱手段と、前記磁性層における前記加熱手段にて加熱された領域の少なくとも一部に対して、磁化方向を決定するための磁界を印加する磁界印加手段とを備え、前記磁性層に情報を磁気的に記録することを特徴としている。
【００４６】
上記の構成によれば、前述のように高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる磁気記録媒体を使用しているので、十分な信号品質で高密度記録を行うことができる。
【００４７】
また、非晶質磁性層を局所的に加熱するとともに、非晶質磁性層における加熱された領域の少なくとも一部に磁界を印加する磁気記録方式、即ちいわゆる熱アシスト磁気記録方式を用いているので、記録される領域が光ビーム照射領域と磁界印加領域とが重なり合う領域に限定される。したがって、記録トラック幅を縮小することができ、高密度の記録が行える。
【００４８】
さらに、熱アシスト磁気記録方式においては、記録時に記録領域（記録ビット）を昇温するため、非晶質磁性層は、保磁力が低下するとともに磁気異方性が著しく低下する。このため、熱アシスト磁気記録方式においては、磁壁移動が起こり易くなると考えられ、非磁性金属元素層の表面粗さＲａ（凹凸）による非晶質磁性層での磁壁移動の抑制がより重要となる。その結果、熱アシスト磁気記録方式においては、高密度記録時の信号品質を向上させる効果がより一層顕著となる。
【００４９】
また、従来技術に比べて、記録電流値のマージンを大きく取ることが可能となる。即ち、記録可能な電流値の範囲が広くなる。これにより、装置に組み込まれる磁気ヘッドの設計が容易になる。また、マージンが大きい分、少々の電流値の変動にも耐えることができるため信頼性の高い装置とすることができる。
【００５０】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板上に、純度が３Ｎ（９９．９％）以上の単一元素の材料からなる非磁性金属元素層を形成し、この非磁性金属元素層の上に、記録層となる非晶質磁性層を形成することを特徴としている。
【００５１】
上記の構成によれば、非磁性金属元素層の純度は３Ｎ（９９．９％）以上と高いので、非磁性金属元素層は、薄い層厚であっても（表面の凹凸の径がより小さくても）、大きなＲａを得ることができる。これにより、非磁性金属元素層は、非晶質磁性層に対して大きいピニング効果を発揮できるので、非晶質磁性層において高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる。
【００５２】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の一形態を図面に基づいて以下に説明する。
図１には、本実施の形態に係る磁気記録媒体１の縦断面図を示す。この磁気記録媒体１は、レーザ光による昇温によって記録領域に対し磁気的に情報を記録しまたは再生する熱アシスト磁気記録再生方式に用いられる。
【００５３】
同図に示すように、磁気記録媒体１は、基板２上に、非磁性金属元素からなる下地層（非磁性金属元素層）３、非晶質磁性体からなる非晶質磁性層（磁性層）４、保護層５および潤滑層６をこの順で形成したものである。
【００５４】
基板２としては、非晶質磁性層４側の面がほぼ平滑な基板であればよく、例えばガラス基板、アルミニウム（Ａｌ）基板、プラスチック基板あるいはシリコン基板等を用いることができる。このうちガラス基板が特に好適である。基板２における下地層３側の面の平均粗さ（Ｒａ）は、磁気記録媒体１に設ける凹凸を充分に目立たせるためにも、１ｎｍ未満であることが好ましい。なお、その値は小さければ小さいほど好ましい。
【００５５】
下地層３は、その上に形成される非晶質磁性層４の表面に凹凸を形成するための核として作用する。したがって、下地層３は、基板２上に成膜されたときに表面に微細な凹凸が形成される非磁性金属からなることが望ましい。比較的融点が低い金属は、成膜したとき結晶粒として微細な凹凸形状が形成されるため、下地層３に適している。
【００５６】
下地層３を形成するための非磁性材料（例えば非磁性金属）の純度は９９．９％以上であることが望ましい。上記非磁性材料の純度が高ければ高いほど下地層３の結晶化が促進され、下地層３においてよりＲａ（平均粗さ）の大きな凹凸形状を形成可能である。
【００５７】
下地層３の材料（原料）となる非磁性金属としては、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）あるいはマグネシウム（Ｍｇ）が挙げられる。下地層３として例えばＡｌを平均層厚１〜５ｎｍの範囲で形成することにより、微細な凹凸（凹凸の径としては１０〜４５ｎｍとなる）を容易に形成することができる。下地層３の表面形状、即ち上記凹凸形状は、上述したように材料（原料）の純度によって大きく変化し、純度が高いほどよりＲａの大きな下地層表面とすることができる。
【００５８】
なお、本願明細書において、「平均層厚」とは、次のようにして間接的に求めた層厚を指すものとする。即ち、まず測定対象の層（膜）を構成する材料と同一の材料からなる層を、測定対象の層の形成（成膜）条件と同じ条件で、層厚に対して層表面の凹凸を無視できるほどに十分な層厚に形成し、得られた層を試料とする。次にこの試料の層厚を測定し、層厚の測定値と形成（成膜）時間とから、形成（成膜）速度（単位時間当たりに形成される層厚）を算出する。そして、この形成速度を基に、測定対象の層の形成時間から測定対象の層の層厚、即ち平均層厚を求める。この平均層厚は、層の質量を密度に応じた層厚に換算したものと考えることもできる。
【００５９】
非晶質磁性層４を構成する非晶質磁性体は、熱アシスト磁気記録が行える磁性体、即ち補償温度が室温付近のフェリ磁性体であればよい。なお、非晶質の希土類−遷移金属合金であることが好ましい。非晶質の希土類−遷移金属合金としては、ＴｂＦｅ、ＧｄＦｅ、ＤｙＦｅＣｏあるいはＴｂＦｅＣｏ等が挙げられる。このうち、ＴｂＦｅＣｏが特に好ましい。なお、本願明細書において、「ＴｂＦｅ」のような合金の表記は、特定の組成比の合金を指すものではなく任意の組成比の合金を指すものとする。
【００６０】
保護層５は、磁気ヘッドとの接触時に非晶質磁性層４に傷が付かないように非晶質磁性層４を保護するためのものである。保護層５としては、特に限定されるものではないが、炭素層や窒化炭素層等の炭素系保護層、特に炭素層が好適に用いられる。
【００６１】
潤滑層６は、磁気ヘッドとの接触時の摩擦を低減するためのものである。潤滑層６としては、フッ素系潤滑剤、特にパーフルオロポリオキシアルカン（パーフルオロポリエーテル）系の潤滑剤が好適に使用される。
【００６２】
なお、ここでは、磁気記録媒体１を熱アシスト磁気記録用磁気記録媒体として説明したが、磁気記録媒体１は、他の方式の磁気記録用の磁気記録媒体、例えば、磁界印加のみによって記録を行う磁気記録用の磁気記録媒体としても使用可能である。
【００６３】
次に、磁気記録媒体１を使用する磁気記録再生装置（磁気記録装置）について説明する。
【００６４】
図２に示すように、本実施の形態の磁気記録再生装置は、熱アシストのためのレーザピックアップ（光照射手段）１１、磁気ヘッド（磁界印加手段）１２、および磁気記録媒体１を回転させるためのモータ１３、および対物レンズ１５を備えている。
【００６５】
レーザピックアップ１１は、レーザ光源（図示せず）を備えている。このレーザ光源は、非晶質磁性層４を局所的に加熱するための光ビーム（レーザ光）１４を出射する。この光ビーム１４は、磁気記録媒体１の基板２側から下地層３を通して非晶質磁性層４に照射される。対物レンズ１５は、レーザ光源からの光ビーム１４を非晶質磁性層４に集光するようになっている。
【００６６】
磁気ヘッド１２は、磁気記録媒体１に対してレーザピックアップ１１と反対側の位置に配置されている。磁気ヘッド１２は、非晶質磁性層４における光ビーム１４が照射された領域の少なくとも一部に対して、上記磁性層の磁化方向を決定するための磁界を印加するようになっている。
【００６７】
次に、上記磁気記録再生装置を用いた熱アシストによる磁気記録媒体１の磁気記録方法について説明する。この方法では、磁界変調方式によって記録を行う。ただし、これに限らず、磁気記録媒体１は、光変調方式においても同様に記録可能である。
【００６８】
磁気記録再生装置では、まず初めに、レーザピックアップ１１と磁気ヘッド１２の位置合わせを行い、光照射領域と磁場印加領域とを一致させてから、直流消去（ＤＣイレース）により非晶質磁性層４の磁化方向を一定とする。つまり、非晶質磁性層４の磁化方向を初期化する。
【００６９】
次いで、磁気ヘッド１２による磁界印加と同時に、光ビーム１４の照射による昇温を行うことにより、記録しようとする情報に応じて非晶質磁性層４の領域毎の磁化方向を決定する。
【００７０】
即ち、レーザピックアップ１１内のレーザ光源から照射された光ビーム１４は、図２に示すように、磁気記録媒体１内の非晶質磁性層４における所望の記録部位に集光され、光ビーム１４が照射された記録部位の温度は、記録部位の保磁力が十分小さく（１ｋＯｅ程度）なる温度まで上昇される。そして、記録したい情報を変調した信号磁界を磁気ヘッド１２に印加して上記記録部位に記録する。この際、保磁力が低下してほぼ１ｋＯｅになっている部位のみ記録が行われる。次に、光ビーム１４の照射を停止し、上記記録部位の温度が降下して、記録動作が終了する。
【００７１】
以上のようにして、図６に示すように、磁気ヘッド１２による磁場印加領域６１と、レーザ光照射による昇温領域（光スポットに対応する領域）６２との重ね合わせ部分が記録領域６３となり、この記録領域６３に記録ビット６４が形成される。
【００７２】
なお、この熱アシスト磁気記録方式では、光ビーム（レーザ光）１４を磁気記録媒体１の基板２側から下地層３を通して非晶質磁性層４に照射するようになっているので、下地層３は、十分な量のレーザ光を透過しうるような薄い層厚、具体的には、少なくとも１００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。なお、磁気記録媒体１に対し、図１の潤滑層６側から光ビーム１４を入射させる場合には、下地層３の厚みが１００ｎｍより厚くてもよい。
【００７３】
次に、上記磁気記録再生装置を用いた磁気記録媒体１の再生方法について説明する。
【００７４】
磁気記録再生装置では、まず、レーザピックアップ１１内のレーザ光源から光ビーム１４が非晶質磁性層４の再生部位に照射される。これにより、光ビーム１４が照射された再生部位の温度が上昇するとともに、この再生部位の残留磁化が上昇する。
【００７５】
この際、残留磁化が最大となる温度付近まで昇温するのが好ましい。なお、この時、光ビーム１４が照射されていない部位から発生する残留磁化は小さい。これは、光ビーム１４が照射されていない部位は室温に保たれているからである。
【００７６】
次に、磁気ヘッド１２により残留磁化の大きくなった再生部位からの漏れ磁束を検知する。これにより磁気記録媒体１からの再生信号を得ることができる。その後、再生部位に対して行われている光ビーム１４の照射を停止し、再生部位の温度が降下して、再生動作が終了する。
【００７７】
なお、本実施の形態において、磁気記録媒体１に対して情報を記録する磁気記録装置は、磁気ヘッド１２からの磁界印加と、レーザピックアップ１１からのレーザ光による加熱とによって記録を行うものとして説明した。しかしながら、磁気記録再生装置は、これに限らず、磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド１２からの磁界印加のみによって記録を行うものであってもよい。
【００７８】
ただし、高密度記録時の熱ゆらぎによる信号対雑音比（Ｓ／Ｎ比）の劣化を抑えるためには、加熱と磁界印加とを組み合わせた、いわゆる熱アシスト磁気記録方式の方が好ましい。また、本発明は、磁気光学効果によって信号を再生する光磁気記録媒体や光磁気記録装置に適用することも可能である。
【００７９】
〔実施例１〕
次に、上記磁気記録媒体１と従来の磁気記録媒体とを比較した結果について説明する。
【００８０】
本実施例１の磁気記録媒体１（実施例記録媒体）は下記のようにして作成した。
まず、基板２の上に下地層３としてのアルミニウム膜（以下、Ａｌ下地層と称する）を作成した。次に、このＡｌ下地層の上に、非晶質磁性層４としてＴｂＦｅＣｏ膜（Ｔｂ、Ｆｅ、およびＣｏからなる非晶質合金膜）を成膜した。なお、ＴｂＦｅＣｏ膜においてピニング効果を得るためには、このように、基板２に下地層３を成膜した後、ＴｂＦｅＣｏ膜を成膜する。
【００８１】
次いで、非晶質磁性層（記録層）４上に、保護層５として、一般的なハードディスクに用いられている非晶質炭素（ａ−Ｃ）膜（Ｃ系保護層）を成膜した。
【００８２】
上記アルミニウム膜、ＴｂＦｅＣｏ膜および非晶質炭素膜の成膜は、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタ法を用いて行った。
【００８３】
Ａｌ下地層の作製条件は、原料（ターゲット）に純度９９．９９％のＡｌ（４Ｎ−Ａｌ）を用い、スパッタ圧を０．５Ｐａとし、層厚を３．７ｎｍとした。このときの下地層表面のＲａは約１．５ｎｍであった。なお、下地層としてＺｎ（亜鉛）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ａｇ（銀）等を用いた場合でも、Ａｌを用いた場合と同じく、Ｒａを大きくすることが可能である。
【００８４】
ＴｂＦｅＣｏ膜の作製条件は、スパッタのターゲットとして、組成比がＴｂ２４ａｔ％（原子％）、Ｆｅ５２ａｔ％、およびＣｏ２４ａｔ％の合金を用いた。また、このときのスパッタ圧は０．４５Ｐａとし、層厚は５０ｎｍとした。成膜されたＴｂＦｅＣｏ膜は、約５０℃に磁気的補償点（補償温度）を持ち、キュリー温度は約２５０℃であった。一方、非晶質炭素膜の成膜条件は、スパッタ圧を１．０Ｐａとし、層厚を１０ｎｍとした。
【００８５】
最後に、潤滑層６として、パーフルオロポリオキシアルカン系の潤滑剤をディップコータにより非晶質炭素膜表面に塗布し、層厚０．８ｎｍの潤滑膜を形成した。
【００８６】
次に、実施例磁気記録媒体に対する比較用の磁気記録媒体（従来の磁気記録媒体）として、Ａｌ下地層（下地層３）を備えていない磁気記録媒体（以下、比較例記録媒体と称する）を作成した。
【００８７】
なお、実施例磁気記録媒体におけるＡｌ下地層（下地層３）表面の平均粗さＲａの効果を正確に評価するために、比較例磁気記録媒体の作成工程は、Ａｌ下地層の形成工程を有していない点以外、実施例磁気記録媒体の作成工程と同一とした。したがって、比較例磁気記録媒体は、Ａｌ下地層を備えていない点以外、実施例磁気記録媒体と同様の構成である。
【００８８】
下地層３を備えていない比較例磁気記録媒体では、基板２のＲａ（約０．５ｎｍ）のみが作用する。したがって、ピニング効果は弱くなっている。
【００８９】
次に、実施例磁気記録媒体および比較例磁気記録媒体に対し、評価用の熱アシスト磁気記録再生装置を用いて、実際に情報の記録再生を行った。そして、特に高密度記録の目安となる記録周波数特性の関係を詳細に調べた。また、形成された記録ビットの形状を、磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）により観察した。
【００９０】
評価用の熱アシスト磁気記録再生装置としては、前述の図に示した磁気記録再生装置を用いた。この場合、レーザピックアップ１１は、発振波長６５０ｎｍのレーザ光源を備えたものを使用し、対物レンズ１５は、開口数（ＮＡ；Numerical Aperture）が０．６５のものを使用した。磁気ヘッド２０２は、ＧＭＲ(GiantMagneto Resistive；巨大磁気抵抗効果)素子と薄膜誘導型磁気ヘッドとを一体化したものを使用した。この磁気ヘッド１２の浮上量は約２８ｎｍとした。モータ１３（スピンドル）の回転速度（磁気記録媒体の回転速度）は、３６００（Ｓ-1）とした。そのときの磁気記録媒体の線速度は、１１（ｍ／ｓｅｃ）であった。
【００９１】
この評価実験では、まず、直流消去（ＤＣイレース）を行い、次いで、熱アシストによる磁気記録を行った後、熱アシストによる再生を行うことにより、磁気記録再生特性を測定した。熱アシストによる磁気記録の条件は、レーザ光源の出力を５ｍＷ、磁気ヘッド１２の磁界電流を１０ｍＡとした。また、熱アシストによる再生の条件は、レーザ光源の出力を２ｍＷ、ＧＭＲ素子のバイアス電流を５ｍＡとした。
【００９２】
この評価実験では、磁気記録媒体の高密度記録化の指標として、記録周波数特性、即ち、磁界印加の周波数（記録周波数）を変化させたときの信号品質の変化を求めた。このために、記録周波数が変化したときの搬送波信号レベル（Ｃ値）および雑音レベル（Ｎ値）を測定し、その比、即ち搬送波対雑音比（Ｃ／Ｎ値）を、記録ビットの信号品質を評価するパラメータとして求めた。得られた測定結果（記録周波数特性）を図３に示す。
【００９３】
図３に●印で示したプロットは、実施例磁気記録媒体、即ちＡｌ下地層を用いることにより下地層３表面に凹凸を設け、Ｒａ（平均粗さ）を大きくした磁気記録媒体（図３では「Ｒａの大きい媒体」と記す）の記録周波数特性の測定結果である。
【００９４】
図３に■印で示したプロットは、比較例記録媒体、即ち下地層を用いず、このため表面に微細な凹凸を備えずＲａの小さい磁気記録媒体（図３では「Ｒａの小さい媒体」と記す）の記録周波数特性の測定結果である。
【００９５】
実施例磁気記録媒体は、記録周波数が５ＭＨｚから５０ＭＨｚまでの範囲において、Ｃ／Ｎ値の低下（落ち込み）の傾きが目立って大きくなることはなく、約４０ｄＢ以上を保持できることが分かった。したがって、実施例磁気記録媒体は、良好な記録周波数特性が得られることが分かった。
【００９６】
さらに、実施例磁気記録媒体では、磁気力顕微鏡による磁気像の観察においても、記録周波数が５ＭＨｚから１００ＭＨｚまでの範囲でトラック幅の狭化や途切れが起きないことが確認された。したがって、実施例磁気記録媒体は、良好な記録特性が得られることが分かった。
【００９７】
これに対し、比較例磁気記録媒体では、Ｃ値が２５ＭＨｚを境に大きく減少した。また、Ｃ／Ｎ値が約４０ｄＢ以上を保持できるのは、記録周波数が５ＭＨｚから２５ＭＨｚまでの範囲だけであった。
【００９８】
また、比較例磁気記録媒体では、磁気像の観察においても、記録周波数が２５ＭＨｚを超えると、トラック幅の狭小化に加え、記録ビットが途切れる現象が起きた。これらは、記録周波数が２５ＭＨｚを超えると、急激に記録ビットが安定して存在できなくなり、信号品質が低下することを示している。
【００９９】
なお、図示はしないが、下地層３として窒化アルミニウム（ＡｌＮ）膜を用いた場合も、ほぼ、■印のプロットに近い値となった。
また、磁気ヘッド１２の記録電流に関して、Ａｌ下地層を備える実施例磁気記録媒体においては、記録電流を１〜５０ｍＡまで変化させた場合でも十分な記録が可能（記録電流のマージンとしては５０ｍＡ以上）であった。これに対し、下地層を備えない比較例磁気記録媒体においては、記録電流は１〜１０ｍＡに限られ（記録電流のマージンとしては１０ｍＡ以下）、１０ｍＡを超えた場合、徐々にＣ／Ｎが減少し、記録が困難となる現象が現れた。
【０１００】
以上のように、実施例磁気記録媒体では、Ａｌ下地層を用いたことにより（よりＲａの大きな凹凸構造を持つ下地層を用いたことにより）、比較例磁気記録媒体に比べて、磁気記録媒体としての性能が改善された。
【０１０１】
よって、Ａｌ下地層を用いることにより、容易にそのＲａ（表面粗さ）を大きくすることができ、そのＲａにより、高密度記録時においても記録ビットを安定して形成することができることが判明した。
【０１０２】
また、下地層３としてＡｌ下地層を備えた磁気記録媒体１に関し、Ａｌ下地層の層厚を１．０〜１０．０ｎｍの範囲において１．０もしくは２．０ｎｍおきとした８種類の磁気記録媒体１を作製し、同様にして評価を行った。
【０１０３】
この評価の結果、Ａｌ下地層の層厚が２．０〜６．０ｎｍの磁気記録媒体１においては、大きくＣ／Ｎが改善された。これら磁気記録媒体１におけるＡｌ下地層表面のＲａは、層厚が厚くなるに従って増加し、それぞれ１．０〜１．７ｎｍに相当した。
【０１０４】
次に、下地層３無しの磁気記録媒体（下地層３のＲａが小さい媒体）およびＡｌ下地層の層厚が１．０〜６．０ｎｍの範囲にある磁気記録媒体１（下地層３の層厚が大きい媒体）の下地層３表面のＲａとＣ／Ｎ値との関係を図４に示す。なお、下地層３無しの磁気記録媒体のＲａは、基板２表面のＲａを採用している。
【０１０５】
図４では、横軸に上記Ｒａを、縦軸に記録周波数４５ＭＨｚにて熱アシストによる記録再生を行った際のＣ／Ｎ値をとっている。ただし、熱アシスト記録の条件としては、記録電流を３０ｍＡ一定とした。
【０１０６】
図４から分かるように、Ｒａが１．０ｎｍ以下では、Ｒａが増加するに従ってＣ／Ｎ値も上昇し、Ｒａが１．０以上１．７ｎｍ以下でほぼ一定して高いＣ／Ｎ値を維持した。また、図示はしないがＡｌ下地層の層厚が１０．０ｎｍ以上の場合、さらにＲａは大きくなるが、同時に凹凸の径が大きくなり過ぎてしまう。このため、小さな磁気ビット（高密度記録時の磁気ビット）に対してはピニング効果が大きくは現れず、結果的にはＣ／Ｎの改善には及ばないことになる。
【０１０７】
上記結果では、Ｒａが１．０〜１．７ｎｍの場合に記録密度が向上することが分かった。なお、Ｒａの測定誤差を少なくとも０．３ｎｍ以下とすると、Ｒａは０．７〜２．０ｎｍが適切である。
【０１０８】
また、Ａｌ下地層を形成するためのＡｌ原料の純度に関して、純度が９９．９９％である４Ｎ−Ａｌでは、記録密度が下地層無しに比べ、上述のように大きく改善された。その他、これ以上の純度、例えば５Ｎ（９９．９９９％）−Ａｌ、６Ｎ（９９．９９９９％）−Ａｌでも同様に記録密度は向上した。また、純度の低い方では３Ｎ以上であれば、十分である。
【０１０９】
したがって、Ａｌ下地層表面のＲａ（表面粗さ）を大きくし、上述したピニングの効果を持つ高密度記録媒体を形成するには、純度が３Ｎ以上のＡｌ原料を用いることが有効である。
【０１１０】
〔実施例２〕
熱アシストを行わず、室温で記録および再生を行う通常の磁気記録再生方式においても記録媒体表面の凹凸の効果を確かめるため、下記の実験を行った。
【０１１１】
この実験のために、試料として作成した実施例磁気記録媒体は、構成および作成方法において、基本的に実施例１に示した実施例磁気記録媒体と同様である。したがって、本実施例における実施例磁気記録媒体は、基板２、純度９９．９９％のＡｌ（４Ｎ−Ａｌ）からなる下地層３、ＴｂＦｅＣｏからなる非晶質磁性層（記録層）４、炭素からなる保護層５および潤滑層６で構成されている。
【０１１２】
ただし、本実施例磁気記録媒体は、室温において記録再生を行うことが可能となるように、非晶質磁性層４におけるＴｂの量を調節しており、この点が、実施例１における実施例磁気記録媒体とは異なる。即ち、本実施例磁気記録媒体は、非晶質磁性層４におけるＴｂの量を増加させることにより、室温における保磁力を減少させるとともに、室温における磁化を増加させることで、室温において記録および再生が可能な磁気記録媒体とした。
【０１１３】
ここでは、実施例磁気記録媒体として下地層３（Ａｌ下地層，層厚２ｎｍ）を備える磁気記録媒体と、比較例磁気記録媒体として下地層３無しの磁気記録媒体を作製した。これらの磁気記録媒体に対して記録再生を行い、記録再生特性を評価した。磁気記録媒体の記録再生は、通常の磁気記録装置と同じく、レーザ照射（熱アシスト）は全く行わず、磁気ヘッド１２のみを使用して行った。図５にはその場合の記録再生評価結果を示す。
【０１１４】
図５のグラフから分かるように、下地層３無しの比較例磁気記録媒体（下地層のＲａが小さい媒体）に比べ、下地層３表面に凹凸を有する実施例磁気記録媒体（下地層のＲａが大きい媒体）は、明らかに周波数特性が向上しており、高密度記録が可能となることが確認できた。
【０１１５】
例えば、Ｃ／Ｎ値が３０ｄＢ以上の条件では、比較例磁気記録媒体の場合には、記録周波数が６０ＭＨｚ以下であったのに対し、実施例記録媒体では、１００ＭＨｚを超える記録周波数を達成することができた。なお、室温記録の場合には、熱アシスト記録のようにトラック幅を縮めることができない。
【０１１６】
ただし、熱アシストを行わない磁気記録媒体では、下地層３の層厚を厚くし、下地層３表面の凹凸の径やＲａが大きくなりすぎる場合に、磁気特性が面内の異方性を示し、熱揺らぎの問題を生じる。このため、高密度記録には適さないことがわかった。このときのＡｌ下地層の層厚は、Ａｌ原料の純度が３Ｎ以上と高い場合に３ｎｍ以上であった。したがって、熱アシストを行わない通常の磁気記録においては、Ａｌ下地層の層厚が１〜３ｎｍである場合、高密度記録が可能となることが分かった。なお、Ａｌの層厚が１〜３ｎｍである場合の下地層表面のＲａは、０．７〜１．５ｎｍに相当した。
【０１１７】
【発明の効果】
以上のように、本発明の磁気記録媒体は、基板上に記録層となる非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体において、前記基板と前記非晶質磁性層との間に非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａが、０．７〜２．０ｎｍの範囲である構成としている。
【０１１８】
このように、本発明の磁気記録媒体では、記録層として例えばＴｂＦｅＣｏ磁性体からなる非晶質（アモルファス）磁性層を備えているので次の効果を有する。
【０１１９】
磁性層が常温で作製可能であり、製膜プロセスが簡単である（結晶では、数百℃の高温プロセスが必要となる）。また、任意の組成でＴｂＦｅＣｏの形成が可能なため、連続的に特性（組成）を制御できる（結晶では、取り得る組成は決まっている）。さらに、磁気ビットが結晶粒の大きさに制限されないため、微小なビットが形成できる可能性がある（結晶では、ビットの大きさは結晶粒の大きさ以上になる）。
【０１２０】
また、記録層として非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体では、記録ビットの形状が安定しないという現象が顕著に現れるため、記録ビットの形状を安定にすること（磁性層の磁壁移動を抑制すること）が一層重要になる。そこで、上記のように、非磁性金属元素層表面の平均粗さＲａを大きい範囲に設定すれば、非磁性金属元素層の上に形成されている非晶質磁性層に対して大きいピニング効果を発揮することができる。したがって、非晶質磁性層では、上記ピニング効果により、高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる。
【０１２１】
また、非晶質磁性層の下地層となる非磁性金属元素層は、非磁性金属からなるので、下地層が磁性金属からなる場合（第２の従来技術）のように、昇温等により磁性体が析出する不具合を防止することができる。
【０１２２】
本発明の磁気記録媒体は、基板上に記録層となる非晶質磁性層を備えている磁気記録媒体において、前記基板と前記非晶質磁性層との間に非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層は、純度が３Ｎ（９９．９％）以上の単一元素の材料により形成されている構成である。
【０１２３】
上記の構成によれば、非磁性金属元素層を形成する材料の純度が３Ｎ（９９．９％）以上であるので、非磁性金属元素層の結晶化が適切に促進され、非磁性金属元素層の表面の平均粗さＲａを適切に大きくすることができる。これにより、非磁性金属元素層はその上に形成されている非晶質磁性層に対して大きいピニング効果を発揮することができる。したがって、非晶質磁性層では、上記ピニング効果により、高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる。
【０１２４】
また、非晶質磁性層の下地層となる非磁性金属元素層は、非磁性金属からなるので、下地層が磁性金属からなる場合（第２の従来技術）のように、昇温等により磁性体が析出する不具合を防止することができる。
【０１２５】
本発明の磁気記録装置は、上記の磁気記録媒体を使用し、磁化方向を決定するための磁界を前記磁性層に印加する磁界印加手段を備え、前記磁性層に情報を磁気的に記録する構成である。
【０１２６】
上記の構成によれば、前述のように高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる磁気記録媒体を使用しているので、十分な信号品質で高密度記録を行うことができる。
【０１２７】
また、従来技術に比べて、記録電流値のマージンを大きく取ることが可能となる。即ち、記録可能な電流値の範囲が広くなる。これにより、装置に組み込まれる磁気ヘッドの設計が容易になる。また、マージンが大きい分、少々の電流値の変動にも耐えることができるため信頼性の高い装置とすることができる。
【０１２８】
本発明の磁気記録装置は、上記の磁気記録媒体を使用し、前記磁性層を局所的に加熱する加熱手段と、前記磁性層における前記加熱手段にて加熱された領域の少なくとも一部に対して、磁化方向を決定するための磁界を印加する磁界印加手段とを備え、前記磁性層に情報を磁気的に記録する構成である。
【０１２９】
上記の構成によれば、前述のように高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる磁気記録媒体を使用しているので、十分な信号品質で高密度記録を行うことができる。
【０１３０】
また、非晶質磁性層を局所的に加熱するとともに、非晶質磁性層における加熱された領域の少なくとも一部に磁界を印加する磁気記録方式、即ちいわゆる熱アシスト磁気記録方式を用いているので、記録される領域が光ビーム照射領域と磁界印加領域とが重なり合う領域に限定される。したがって、記録トラック幅を縮小することができ、高密度の記録が行える。
【０１３１】
さらに、熱アシスト磁気記録方式においては、記録時に記録領域（記録ビット）を昇温するため、非晶質磁性層は、保磁力が低下するとともに磁気異方性が著しく低下する。このため、熱アシスト磁気記録方式においては、磁壁移動が起こり易くなると考えられ、非磁性金属元素層の表面粗さＲａ（凹凸）による非晶質磁性層での磁壁移動の抑制がより重要となる。その結果、熱アシスト磁気記録方式においては、高密度記録時の信号品質を向上させる効果がより一層顕著となる。
【０１３２】
また、従来技術に比べて、記録電流値のマージンを大きく取ることが可能となる。即ち、記録可能な電流値の範囲が広くなる。これにより、装置に組み込まれる磁気ヘッドの設計が容易になる。また、マージンが大きい分、少々の電流値の変動にも耐えることができるため信頼性の高い装置とすることができる。
【０１３３】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板上に、純度が３Ｎ（９９．９％）以上の単一元素の材料からなる非磁性金属元素層を形成し、この非磁性金属元素層の上に、記録層となる非晶質磁性層を形成する構成である。
【０１３４】
上記の構成によれば、非磁性金属元素層の純度は３Ｎ（９９．９％）以上と高いので、非磁性金属元素層は、薄い層厚であっても（表面の凹凸の径がより小さくても）、大きなＲａを得ることができる。これにより、非磁性金属元素層は、非晶質磁性層に対して大きいピニング効果を発揮できるので、非晶質磁性層において高密度記録を行う場合においても安定して磁気ビットを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態における磁気記録媒体を示す縦断面図である。
【図２】本発明の実施の一形態における磁気記録装置を示す概略の模式図である。
【図３】本発明の一実施例における実施例磁気記録媒体と比較例磁気記録媒体との記録周波数特性を示すグラフである。
【図４】本発明の一実施例における実施例磁気記録媒体および比較用磁気記録媒体におけるＲａとＣ／Ｎ値との関係を示すグラフである。
【図５】本発明の他の実施例において、磁気ヘッドのみを使用して記録を行った場合の実施例磁気記録媒体と比較例磁気記録媒体との記録周波数特性を示すグラフである。
【図６】熱アシスト磁気記録方式における記録ビットの形成状態を示す説明図である。
【符号の説明】
１  磁気記録媒体
２  基板
３  下地層（非磁性金属元素層）
４  非晶質磁性層
５  保護層
６  潤滑層
１１  レーザピックアップ（加熱手段）
１２  磁気ヘッド（磁界印加手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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