(57)【要約】【課題】スペーサーを介して互いに対向する一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形を抑制させることができると共に、一対のガラス板の強度低下を抑制させることができる真空ガラスパネルの製造方法、及び該製造方法により製造された真空ガラスパネルを提供する。【解決手段】熱強化板ガラス体１３，１７の接合処理は、重ね合わせた熱強化板ガラス体１３，１７をパネル支持台５８上に載置し、熱強化板ガラス体１３，１７の全体を所定の温度、例えば１５０℃以上、望ましくは２００〜３００℃に加熱し、次いで、高周波光を照射する照射装置５９により熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部を局部加熱して、突条部１６を選択的に加熱し再度熔解して行う。また、局部加熱の際に、ノズル６０により圧縮空気を熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部を冷却する。【選択図】      図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペーサーを介して互いに対向する一対のガラス板の外周縁部を密閉し、当該外周縁部が密閉された一対のガラス板の内部空間を真空引きする真空ガラスパネルの製造方法において、
前記一対のガラス板の少なくとも一方の内面上に前記スペーサーとして複数の突起部を形成する突起部形成工程と、前記一対のガラス板の外周縁部において熔解温度が前記一対のガラス板よりも低い低融点ガラス層を熔解することにより前記一対のガラス板の外周縁部を密閉する密閉工程を有することを特徴とする真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２】
前記一対のガラス板の少なくとも一方が強化ガラスであることを特徴とする請求項１記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項３】
前記密閉工程は、前記低融点ガラス層の熔解をマイクロ波による局部加熱により行うことを特徴とする請求項１又は２記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項４】
前記低融点ガラス層は、前記マイクロ波の波長域における誘電損率が前記一対のガラス板より大きいことを特徴とする請求項３記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項５】
前記マイクロ波をジャイロトロンにより発振することを特徴とする請求項３又は４記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項６】
前記密閉工程は、前記低融点ガラス層の熔解をレーザー光による局部加熱により行うことを特徴とする請求項１又は２記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項７】
前記密閉工程は、前記低融点ガラス層の熔解を光ビーム光による局部加熱により行うことを特徴とする請求項１又は２記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項８】
前記低融点ガラス層は、前記光の波長域における光線吸収率が前記一対のガラス板より大きいことを特徴とする請求項６又は７記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項９】
前記低融点ガラス層の局部加熱の前に、前記一対のガラス板全体を所定の温度に加熱することを特徴とする請求項３乃至８のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１０】
前記所定の温度は１５０℃以上であることを特徴とする請求項９記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１１】
前記所定の温度は２００〜３００℃であることを特徴とする請求項１０記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記低融点ガラス層の局部加熱時に、前記一対のガラス板の外周縁部を冷却することを特徴とする請求項３乃至１１のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記一対のガラス板の外周縁部を空気で強制冷却することを特徴とする請求項１２記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記一対のガラス板のいずれか一方に前記真空引きのための貫通孔を形成し、前記一対のガラス板の外周縁部の局部加熱時に、前記貫通孔を局部加熱することを特徴とする請求項３乃至１３のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記外周縁部の密閉後、前記一対のガラス板の温度が８０℃以下になる前に前記真空引きを行うことを特徴とする請求項３乃至１４のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記一対のガラス板のいずれか一方の内面上外周縁部にガラスペースト剤を塗布し、前記塗布されたガラスペースト剤を加熱することにより前記低融点ガラス層を形成する低融点ガラス層形成工程を有することを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記ガラスペースト剤が塗布された一対のガラス板の一方は強化ガラスではなく、前記低融点ガラス層形成工程は、前記一対のガラス板の一方に熱強化処理を施すことにより前記低融点ガラス層を形成することを特徴とする請求項１６記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記低融点ガラス層の線膨張係数と前記一対のガラス板の線膨張係数の差は０〜５００℃で１．０×１／（１０６×Ｋ）以内であることを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項１９】
前記突起部形成工程は、前記一対のガラス板のいずれか一方の内面上に低融点ガラスペースト剤をマトリックス状に塗布し、前記塗布された低融点ガラスペースト剤を加熱により前記一対のガラス板のいずれか一方と一体化させることを特徴とする請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２０】
前記低融点ガラスペースト剤の塗布をスクリーン印刷により行うことを特徴とする請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２１】
前記低融点ガラスペースト剤の塗布をディスペンサーを用いて行うことを特徴とする請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２２】
前記低融点ガラスペースト剤の塗布を複数のニードルを用いた転写により行うことを特徴とする請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２３】
前記低融点ガラスペースト剤が塗布された一対のガラス板の一方は熱強化ガラスではなく、前記突起部形成工程は、前記一対のガラス板の一方に熱強化処理を施すことを特徴とする請求項１９乃至２２のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２４】
前記低融点ガラスペースト剤は、軟化温度が前記一対のガラス板より低い低融点ガラスを含むことを特徴とする請求項１９乃至２３のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記強化ガラスは熱強化ガラスであることを特徴とする請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２６】
前記強化ガラスは化学強化ガラスであることを特徴とする請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法。
【請求項２７】
請求項１乃至２６のいずれか１項に記載の真空ガラスパネル製造方法により製造されることを特徴とする真空ガラスパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は真空ガラスパネルの製造方法、及び該製造方法により製造された真空ガラスパネルに関し、特に、熱強化ガラスを用いた真空ガラスパネル及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１３は、従来の真空ガラスパネルの概略構成を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は線ＸＩＩＩｂ−ＸＩＩＩｂに関する断面図である。
【０００３】
図１３において、従来の真空ガラスパネル１００は、間に中空層１１４を画性すべく、互いにその一方の表面で向かい合い、その外周縁部においてシール用低融点ガラス１１３を介して気密的に接合された一対の熱強化ガラス板１１１及び１１２と、熱強化ガラス板１１１，１１２の表面に対しマトリックス状に配置され、且つ中空層１１４内に大気圧支持部材として挿入されて、熱強化ガラス板１１１，１１２の間隔を決定するほぼ円柱状のスペーサー１１５とから成る。（例えば、特許文献１）。
【０００４】
熱強化ガラス板１１２には、図１３（ｂ）に示すように、中空層１１４内を公知の方法により減圧状態にすべく、低融点ガラス１１３による接合部の内側の任意の位置に貫通孔１１６ａ及びザグリ孔１１６ｂが夫々形成されており、ザグリ孔１１６ｂには熱強化ガラス板１１２の一方の表面（外側面）からガラス管１１７が挿着され、その接触箇所がガラス半田１１８によって封着されている。また、ガラス管１１７の外気側端部は所定の方法で密閉されている。
【０００５】
熱強化ガラス板１１１，１１２の低融点ガラス１１３による接合は、熱強化ガラス板１１１の一方の表面（内側面）にスペーサー１１５を配置すると共に外周縁部に低融点ガラス１１３を塗布し、この低融点ガラス１１３が塗布された熱強化ガラス板１１１の内側面に対して熱強化ガラス板１１２の外側面に対向する面（内側面）を重ね合わせ、この重ね合わせられた熱強化ガラス１１１，１１２の外周縁部を加熱して低融点ガラス１１３を熔解させることにより行われる。
【０００６】
この熱強化ガラス板１１１，１１２の低融点ガラス１１３による接合の際の加熱により、熱強化ガラス板１１１，１１２も加熱され、熱強化ガラス板１１１，１１２の断面残留圧縮応力が減少して、熱強化ガラス板１１１，１１２の強度が低下してしまうが、上記接合の際に熱強化ガラス板１１１，１１２全体を略２００℃に加熱した後、マイクロ波により熱強化ガラス板１１１，１１２の外周縁部を加熱することにより、低融点ガラス１１３のみを効率良く急速加熱でき、熱強化ガラス板１１１，１１２の強度低下を熱強化ガラス板１１１，１１２の外周縁部に限定し、熱強化ガラス板１１１，１１２の強度低下を抑制する方法が知られている（例えば、非特許文献１）。
【０００７】
【特許文献１】
特表平１１−５１３０１５
【非特許文献１】
国際公開第０２／２７１３５号パンフレット
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、熱強化ガラス板１１１，１１２の低融点ガラス１１３による接合の際に、熱強化ガラス板１１１の内側面上に配置されたスペーサー１１５を移動させることは、真空ガラスパネル１００にとって致命的な欠陥となり、このため、上記接合に際して、熱強化ガラス板１１１の外側面全体を水平に支持し、熱強化ガラス板１１１，１１２の各表面が温度分布を持たないように加熱し、熱強化ガラス板１１１，１１２の各表面間の温度差を小さくして表面間の温度差により生じる熱強化ガラス板１１１，１１２の反りを防止すべくゆっくり加熱する必要がある。
【０００９】
一般のガラス板は、ガラスの歪点以下の温度では弾性体の特性を示し、フラットなガラス板の一部を局部加熱すると、加熱部が膨張しようとするが非加熱部に拘束され、ガラス板は反る。例えば、平板状の矩形ガラス板の外周縁部を急速加熱すると、このガラス板は突然に弾性変形して、不安定な鞍形に反る。このため、熱強化ガラス板１１１，１１２の低融点ガラス１１３による接合の際に、熱強化ガラス板１１１，１１２の外周縁部を急速加熱すると、熱強化ガラス板１１１，１１２のいずれか一方又は両方が鞍形に反り、中空層１１４の幅が均一ではなくなり、スペーサー１１５の高さより広くなる部分が生じる。急速加熱することにより突然に中空層１１４の幅が広くなった部分の圧力は他の部分の圧力より低くなるので周囲の空気を巻き込み、このため、中空層１１４に配置されたスペーサー１１５は、気流の流れる方向に移動する。このように、熱強化ガラス板１１１，１１２の接合の際に、熱強化ガラス板１１１，１１２の強度低下を抑制しようとすると、スペーサー１１５が配置位置から移動した状態で真空ガラスパネル１００が製造されるという問題があった。
【００１０】
本発明の目的は、スペーサーを介して互いに対向する一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形を抑制させることができると共に、一対のガラス板の強度低下を抑制させることができる真空ガラスパネルの製造方法、及び該製造方法により製造された真空ガラスパネルを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の真空ガラスパネルの製造方法は、スペーサーを介して互いに対向する一対のガラス板の外周縁部を密閉し、当該外周縁部が密閉された一対のガラス板の内部空間を真空引きする真空ガラスパネルの製造方法において、前記一対のガラス板の少なくとも一方の内面上に前記スペーサーとして複数の突起部を形成する突起部形成工程と、前記一対のガラス板の外周縁部において熔解温度が前記一対のガラス板よりも低い低融点ガラス層を熔解することにより前記一対のガラス板の外周縁部を密閉する密閉工程を有することを特徴とする。
【００１２】
請求項１記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、一対のガラス板の少なくとも一方の内面上にスペーサーとして複数の突起部を形成し、一対のガラス板の外周縁部において、熔解温度が一対のガラス板よりも低い低融点ガラス層を熔解することにより、一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形を抑制させることができると共に、一対のガラス板の強度低下を抑制させることができ、また、スペーサーの移動を防止することができる。
【００１３】
請求項２記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記一対のガラス板の少なくとも一方が強化ガラスであることを特徴とする。
【００１４】
請求項３記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１又は２記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記密閉工程は、前記低融点ガラス層の熔解ををマイクロ波による局部加熱により行うことを特徴とする。
【００１５】
請求項３記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層をマイクロ波による局部加熱により熔解して一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、低融点ガラス層の局部加熱を効率よく行うことができる。
【００１６】
請求項４記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項３記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラス層は、前記マイクロ波の波長域における誘電損率が前記一対のガラス板より大きいことを特徴とする。
【００１７】
請求項４記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、マイクロ波の波長域における低融点ガラス層の誘電損率が一対のガラス板より大きいので、低融点ガラス層の局部加熱をより効率よく行うことができる。
【００１８】
請求項５記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項３又は４記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記マイクロ波をジャイロトロンにより発振することを特徴とする。
【００１９】
請求項６記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１又は２記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記密閉工程は、前記低融点ガラス層の熔解をレーザー光による局部加熱により行うことを特徴とする。
【００２０】
請求項６記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層をレーザー光による局部加熱により熔解して一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、低融点ガラス層の局部加熱を効率よく行うことができる。
【００２１】
請求項７記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１又は２記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記密閉工程は、前記低融点ガラス層の熔解を光ビーム光による局部加熱により行うことを特徴とする。
【００２２】
請求項７記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層を光ビーム光による局部加熱により熔解して一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、低融点ガラス層の局部加熱を効率よく行うことができる。
【００２３】
請求項８記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項６又は７記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラス層は、前記光の波長域における光線吸収率が前記一対のガラス板より大きいことを特徴とする。
【００２４】
請求項８記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、局部加熱する光の波長域における低融点ガラス層の光線吸収率が、一対のガラス板より大きいので、低融点ガラス層の局部加熱をより効率よく行うことができる。
【００２５】
請求項９記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項３乃至８のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラス層の局部加熱の前に、前記一対のガラス板全体を所定の温度に加熱することを特徴とする。
【００２６】
請求項９記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層の局部加熱の前に、一対のガラス板全体を所定の温度に加熱するので、真空ガラスパネルにおいて中空層の真空度の低下を抑制させることができる。
【００２７】
請求項１０記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項９記載の真空ガラスパネルの製造方法において、請求項９記載の真空ガラスパネルの製造方法前記所定の温度は１５０℃以上であることを特徴とする。
【００２８】
請求項１１記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１０記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記所定の温度は２００〜３００℃であることを特徴とする。
【００２９】
請求項１２記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項３乃至１１のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラス層の局部加熱時に、前記一対のガラス板の外周縁部を冷却することを特徴とする。
【００３０】
請求項１２記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層の局部加熱時に一対のガラス板の外周縁部を冷却するので、一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形をさらに抑制させることができると共に、一対のガラス板の強度低下をさらに抑制させることができる。
【００３１】
請求項１３記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１２記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記一対のガラス板の外周縁部を空気で強制冷却することを特徴とする。
【００３２】
請求項１４記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項３乃至１３のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記一対のガラス板のいずれか一方に前記真空引きのための貫通孔を形成し、前記一対のガラス板の外周縁部の局部加熱時に、前記貫通孔を局部加熱することを特徴とする。
【００３３】
請求項１４記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、一対のガラス板の外周縁部の局部加熱時に真空引きのための貫通孔を局部加熱するので、貫通孔内面の強度低下を抑制させることができる。
【００３４】
請求項１５記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項３乃至１４のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記外周縁部の密閉後、前記一対のガラス板の温度が８０℃以下になる前に前記真空引きを行うことを特徴とする。
【００３５】
請求項１５記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、外周縁部の密閉後、一対のガラス板の温度が８０℃以下になる前に真空引きを行うので、一対のガラス板の水分等の吸着を抑制することができ、もって一対のガラス板が吸着した水分等の離脱による真空ガラスパネルにおける中空層の真空度の低下を抑制させることができる。
【００３６】
請求項１６記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記一対のガラス板のいずれか一方の内面上外周縁部にガラスペースト剤を塗布し、前記塗布されたガラスペースト剤を加熱することにより前記低融点ガラス層を形成する低融点ガラス層形成工程を有することを特徴とする。
【００３７】
請求項１７記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１６記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記ガラスペースト剤が塗布された一対のガラス板の一方は強化ガラスではなく、前記低融点ガラス層形成工程は、前記一対のガラス板の一方に熱強化処理を施すことにより前記低融点ガラス層を形成することを特徴とする。
【００３８】
請求項１８記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラス層の線膨張係数と前記一対のガラス板の線膨張係数の差は０〜５００℃で１．０×１／（１０６×Ｋ）以内であることを特徴とする。
【００３９】
請求項１８記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層の線膨張係数と一対のガラス板の線膨張係数の差が０〜５００℃で１．０×１／（１０６×Ｋ）以内であるので、一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形をさらに抑制させることができる。
【００４０】
請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記突起部形成工程は、前記一対のガラス板のいずれか一方の内面上に低融点ガラスペースト剤をマトリックス状に塗布し、前記塗布された低融点ガラスペースト剤を加熱により前記一対のガラス板のいずれか一方と一体化させることを特徴とする。
【００４１】
請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、一対のガラス板のいずれか一方の内面上にマトリックス状に塗布された低融点ガラスペースト剤を加熱することにより、一対のガラス板の一方と一体化させてスペーサとしての複数の突起部を形成するので、スペーサーの移動を確実に防止することができる。
【００４２】
請求項２０記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラスペースト剤の塗布をスクリーン印刷により行うことを特徴とする。
【００４３】
請求項２１記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラスペースト剤の塗布をディスペンサーを用いて行うことを特徴とする。
【００４４】
請求項２２記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法において、前記低融点ガラスペースト剤の塗布を複数のニードルを用いた転写により行うことを特徴とする。
【００４５】
請求項２３記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１９乃至２２のいずれか１項に記載の真空ガラスパネル製造方法において、前記低融点ガラスペースト剤が塗布された一対のガラス板の一方は熱強化ガラスではなく、前記突起部形成工程は、前記一対のガラス板の一方に熱強化処理を施すことを特徴とする。
【００４６】
請求項２４記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１９乃至２３のいずれか１項に記載の真空ガラスパネル製造方法において、前記低融点ガラスペースト剤は、軟化温度が前記一対のガラス板より低い低融点ガラスを含むことを特徴とする。
【００４７】
請求項２５記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の真空ガラスパネル製造方法において、前記強化ガラスは熱強化ガラスであることを特徴とする。
【００４８】
請求項２６記載の真空ガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の真空ガラスパネル製造方法において、前記強化ガラスは化学強化ガラスであることを特徴とする。
【００４９】
請求項２７記載の真空ガラスパネルは、請求項１乃至２６のいずれか１項に記載の真空ガラスパネル製造方法により製造されることを特徴とする。
【００５０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る真空ガラスパネルの製造方法を図面を参照にしながら説明する。
【００５１】
まず、２枚の図示しないソーダライムガラスから成る所定の厚さ、例えば３ｍｍのガラス素板を所定の寸法、例えば、１２００ｍｍ×９００ｍｍに夫々切断し、同一形状且つ同一サイズの後述する図５における矩形のソーダライムガラス製ガラス板１及び後述する図６における矩形のソーダライムガラス製ガラス板２を夫々作成し、次いで後述するガラス板１，２の強化処理における搬送の際に、ガラス板１，２のエッジからの微小なガラス粉の発生を防止すべく、ガラス板１，２のエッジを研磨する。
【００５２】
次いで、ガラス板１の一方の表面（内側面）上にマトリックス状に、低融点ガラスフリットを含有するガラスペースト剤により後述する図１における凸部３を形成する。この凸部３を焼成することにより、ガラス板１の表面上にほぼ円錐台又は釣鐘上等の形状の後述する図７における凸部１５が形成され、凸部１５は、後述する図１２の真空ガラスパネル３０において、熱強化ガラス板１４，１８を所定の間隔に保持する。
【００５３】
上記ガラスペースト剤のガラス板１の内側面上への形成方法としては、例えば、図１に示す特開２００１−２６４７７２号公報に記載された方法がある。すなわち、平板５１上に一定の厚さ、例えば０．４ｍｍでガラスペースト剤５２を塗布し（図１（ａ））、平板５１に対向して鉛直上方に移動自在に取付けられ、複数のニードル５３がその垂直方向に移動自在にバネ等の弾性体５４を介して配設された支持板５５を、平板５１方向に移動させてニードル５３の先端をガラスペースト剤５２に接触させることにより（図１（ｂ））、所定の形状、例えば、底面の直径が０．４５ｍｍの円錐台状にガラスペースト剤５２をニードル５３の先端に夫々付着させ（図１（ｃ））、支持板５５を平面状に載置されたガラス板１の鉛直上方に平行に移動させ、ニードル５３をガラス板１の内側面上に接触させてガラスペースト剤５２を夫々転写することにより、ガラス板１の内側面上に凸部３を形成する（図（ｄ））。この方法により微小な凸部３を正確な寸法で、且つ効率良くガラス板１の内側面上に形成できる。
【００５４】
ガラス板１の内側面上への凸部３の形成方法は上記に限るものではなく、例えば、スクリーン印刷法やディスペンサー法等があり、スクリーン印刷法としては特開平１１−３１４９４４号公報に記載された方法があり、この方法では、その内側面上に凸部３が形成されたガラス板１を後述するように焼成した際に、焼成後の凸部３の高さを均一にすることができる。
【００５５】
次いで、凸部３が形成されたガラス板１の内側面上外周縁部に、低融点ガラスフリットを含有するシール用ガラスペースト剤４を、図２に示すように、その射出口５７が内径１．０〜２．０ｍｍのディスペンサー５６により線状に塗布する。ガラスペースト剤４とガラスペースト剤５２は同一のものとする必要はなく、夫々の目的に合致したものを選択すればよい。例えば、ガラスペースト剤５２は黒色であり、且つ後述する図９のガラス板１，２の強化工程で焼成できる熔解温度とし、ガラスペースト剤４は、ガラス板１，２の熱膨張率とほぼ同一の熱膨張率を有し、且つガラスペースト剤５２より低温で焼成可能なものを選択するのが好ましい。また、ガラスペースト剤４は、後述する図９のジャイロトロンにより高周波を照射した場合にガラスペースト剤４がガラス板１，２より高温に加熱されるように、ガラスペースト剤４の上記ジャイロトロンの照射する高周波に対する誘電損率をガラス板１，２のその誘電損率より大きくすることが好ましい。高周波ではなく、レーザー光又は光ビーム光によりガラスペースト剤４を加熱する場合は、ガラスペースト剤４がガラス板１，２より高温に加熱されるようにするべく、上記夫々の光の吸収率がガラス板１，２よりガラスペースト剤４の方が大きくなる組成、例えば黒色のガラスペースト剤４とすることが好ましい。
【００５６】
ガラスペースト剤４の塗布方法は、ディスペンサー５６を用いて行うものに限らず、例えば、スクリーン印刷法によって行ってもよい。
【００５７】
次いで、ガラス板２の一方の表面（外側面）に対して垂直に、図３に示すように、所定の半径の貫通孔５を開け、貫通孔５と同軸にガラス板２の外側面から所定の深さまで貫通孔５の半径より大きな半径のザグリ孔６を開ける。ザグリ孔６の半径は、後述する図４（ａ）におけるガラス管７を外嵌できる大きさであればよく、例えば約２ｍｍであり、貫通孔５の半径は、例えば１．５ｍｍである。
【００５８】
次いで、図４（ａ）に示すように、長さ約３ｍｍ且つ外径約２ｍｍのガラス管７をザグリ孔６に挿入して内嵌させ、低融点ガラスフリットが環状に固められたガラス半田８を、ザグリ孔６に挿入されたガラス管７に嵌めてガラス板２の外側面上に載置する。後述する強化工程において、ガラス半田８は熔解して、ガラス板２とガラス管７を接着すると共にザグリ孔６とガラス管７の間をシールする（図４（ｂ））。
【００５９】
以上のようにして、板ガラス体１１（図５）及び板ガラス体１２（図６）が作成され、板ガラス体１１，１２は、後述する強化処理が施される。
【００６０】
板ガラス体１１，１２は、一般的に使用されているローラー搬送による水平強化炉を用いて強化処理がなされる。水平強化炉による強化処理において、板ガラス体１１の凸部３及びガラスペースト剤４、板ガラス体１２のガラス管７が水平強化炉の構成部材等に接触することを防止すべく、板ガラス体１１はガラス板１の内側面を上面にして、板ガラス体２はガラス板１２の外側面を上面にして搬送される。
【００６１】
板ガラス体１１，１２は、水平強化炉において搬送中に、ガラス板１，２の軟化温度近くまで加熱され、その後直ちに風冷により急冷（クエンチ）されて、図７に示すように、ガラス板１は熱強化されて熱強化ガラス板１４になり、凸部３及びガラスペースト剤４は熔解固化して固体ガラスとなって、凸部３は熱強化ガラス板１４上に接合された凸部１５に、ガラスペースト剤４は熱強化ガラス板１４上に接合された突条部１６になり、板ガラス体１１は熱強化板ガラス体１３になる。また、図８に示すように、ガラス板２は熱強化ガラス板１８になり、ガラス半田８は熔解固化して固体ガラスとなって、ガラス管７を熱強化ガラス板１８に接合シールするシール部１９となり、板ガラス体１２は熱強化板ガラス体１７になる。凸部３、ガラスペースト剤４、及びガラス半田８の各ガラスペースト剤に含まれている有機物は、その熔解過程で分解して酸化され、ガスとして取り除かれる。
【００６２】
上記強化処理では、ガラス板１の外周縁部に塗布したガラスペースト剤４に起因して熱強化ガラス板１４，１８に反りや、ローラー搬送に起因して熱強化ガラス板１４，１８にうねり（ローラーウエーブ）が発生し、熱強化ガラス板１４，１８の各表面に凹凸が生じる。
【００６３】
後述するように、熱強化板ガラス体１３，１７を互いに接合し、内部空間を真空にすると、熱強化板ガラス体１３，１７は、気圧差により互いに引き寄せられ、熱強化ガラス板１４，１８に発生した多少の凹凸は矯正され、また、熱強化ガラス板１４，１８が薄いと後述する図１２の真空ガラスパネル３０において気圧差により弾性変形しやすく、熱強化ガラス板１４，１８に発生した凹凸は矯正されやすいが、熱強化ガラス板１４，１８が厚いと真空ガラスパネル３０において気圧差により弾性変形しにくく、熱強化ガラス板１４，１８に発生した凹凸は矯正されにくく、真空ガラスパネル３０において、熱強化ガラス板１４，１８の反りやうねりが生じることがある。
【００６４】
熱強化ガラス板１４，１８の著しい反りやうねりは、後述する図１２の真空ガラスパネル３０において熱強化ガラス板１４，１８間の空間幅のばらつきが大きくなり、凸部１５の一部に過大な圧力が負荷され、凸部１５が破壊するおそれがあり、また、凸部１５の一部は熱強化ガラス１８に接触しないおそれがあり、熱強化ガラス板１４，１８において凹凸が生じるのは真空ガラスパネル３０にとって望ましくなく、上記強化処理では、熱強化ガラス板１４，１８の反りやうねりの発生をできるだけ抑えることが望ましい。
【００６５】
次いで、熱強化板ガラス体１３，１７の接合処理が以下のように実施される。
【００６６】
熱強化板ガラス体１３，１７の接合処理は、図９に示すように、熱強化板ガラス体１３，１７を互いにその内側面が向かい合い、外周縁部が一致するように重ね合わせ、熱強化板ガラス体１３の外側面を水平なパネル支持台５８上に載置して、重ね合わせられた熱強化板ガラス体１３，１７の全体を公知の方法で所定の温度、例えば１５０℃以上、望ましくは２００〜３００℃に加熱する。次いで、パネル支持台５８の上方に設置され、パネル支持台５８方向に高周波光を照射する照射装置５９により、重ね合わされた熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部を局部加熱して、突条部１６を再度熔解し、熔解した突条部１６が再度固体となるまで冷却して熱強化板ガラス体１３，１７を接合する。
【００６７】
熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部のみ高温に局部加熱すると、熱強化ガラス体１４，１８の温度分布が大きくなって熱応力により熱強化ガラス体１４，１８外周縁部で破損が生じ易いが、熱強化ガラス板１４，１８の中央部を加熱しているので温度差は小さくなり、破損が生じる可能性は低くなる。
【００６８】
また、照射装置５９による熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部の局部加熱の際には、後述するように図しないコンプレッサーにより配管されたノズル６０を用いて熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部の冷却を行う。このノズル６０によるエア冷却で、熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部の強化残留応力が低下することを防止できると共に、熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部の熱変形も防止できる。
【００６９】
上記熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部の局部加熱は、ジャイロトロンにより発振した高周波で行う。ジャイロトロンにより熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部を局部加熱することで、突条部１６のみを熔解させ、熱強化ガラス板１４，１８の熔解を防止することができるからである。
【００７０】
ジャイロトロンは高周波誘電加熱装置の一つであり、その発振する高周波の波長は数ｍｍ〜数十ｍｍで、上述したようにこの波長での突条部１６の誘電損率、すなわちガラスペースト剤４の誘電損率を熱強化ガラス板１４，１８のその誘電損率より大きくすると、突条部１６の温度上昇幅が大きくなる。このため、ジャイロトロンが発振した電波は突条部１６を熱強化板ガラス体１３，１７から選択的に加熱することができる。
【００７１】
上記照射装置５９は、上述のようにジャイロトロンに限るものではなく、他の高周波を照射する装置を用いてもよく、この場合、その照射波長における突条部１６（ガラスペースト剤４）の誘電損率を熱強化ガラス板１４，１８のその誘電損率より大きくすることにより、突条部１６を熱強化板ガラス体１３，１７から選択的に加熱することができる。また、ＹＡＧレーザーやキセノンランプ光を用いてもよく、この場合、その照射光はソーダガラスをよく透過する波長であるので、ガラスペースト剤４にこれらの波長の照射光を吸収する物質を混入しておくことにより、突条部１６を熱強化板ガラス体１３，１７から選択的に加熱することができる。
【００７２】
突条部１６の熱膨張係数は、熱強化ガラス板１４，１８と同一であるか、近似していることが必要であり、突条部１６の熱膨張係数と熱強化ガラス板１４，１８の熱膨張係数の差は、０〜５００℃で１．０×１／（１０６×Ｋ）以内であることが好ましい。
【００７３】
スペーサーとしての凸部１５は、熱強化ガラス板１４の内側面に接合されているので、スペーサーの移動は起こりえず、熱強化板ガラス体１３，１７は厳密に水平にする必要はない。しかしながら、熱強化板ガラス体１３，１７が互いに曲がった状態で突条部１６により接合されると後述する図１２の真空ガラスパネル３０において熱強化ガラス板１４，１８に捻れの残留応力が発生するので、パネル支持台５８は、ある程度水平であることが必要である。
【００７４】
熱強化ガラス板１４，１８は、上記強化処理後に常温で保存するとその表面に大気中の水分（Ｈ２Ｏ）や炭酸ガス（ＣＯ２）等の極性を有するガスを吸着し、熱強化ガラス板１４，１８の各表面に非常に強い力で上記ガスを吸着している層と、この層の上面に弱い力で上記ガスを吸着している層とを形成する。この吸着されたガスの大部分は水分である。非常に強い力で吸着されているガスは、真空中においても熱強化ガラス板１４，１８の表面から取り除くのに長時間を必要とする。
【００７５】
この吸着されたガスを除去しないと、後述する図１２の真空ガラスパネル３０において吸着されたガスが離脱し真空ガラスパネル３０の中空層３１の真空度が低下（圧力が上昇）するので、熱強化ガラス板１４，１８に吸着されているガスは除去しなくてはならない。
【００７６】
上記吸着されたガスの大部分を占める水分は、熱強化ガラス板１４，１８を大気圧の下で加熱し、その温度を上げていくと約１００℃から熱強化ガラス板１４，１８の表面から離脱し始め、１５０〜２００℃で激しく離脱し、３００℃でほとんどが離脱する。このため、上記のように熱強化ガラス板１４，１８全体を所定温度に加熱することは非常に重要である。
【００７７】
上述のように、熱強化板ガラス体１３，１７の全体加熱に加え、後述する図１２の真空ガラスパネル３０において中空層３１内に適切なゲッターを封入することにより、ゲッターは中空層３１において離脱した上記吸着ガスを吸収するので、中空層３１の真空度を維持することができる。しかし、ゲッターの封入後には活性化工程が必要であり、工程が増える。
【００７８】
また、上記熱強化ガラス板１４，１８全体を所定温度に加熱することは、熱強化ガラス板１４，１８の熱割れ防止及び残留応力減少の効果を奏する。すなわち、一般的にガラス板を部分的に加熱するとガラス板の平面上に温度分布が生じ、このガラス板において、温度の高い部分は膨張しようとするが、温度の低い部分に拘束されて自由膨張できずに一時的な平面圧縮応力が発生し、温度の低い部分は、温度の高い部分の膨張により一時的な平面引張り応力が発生する。ガラスは圧縮力に強く引張り力に弱いので、部分的に加熱されたガラス板は通常、温度の低い部分において破壊する。
【００７９】
熱強化ガラス板１４，１８の中央部を２００〜３００℃に加熱し、熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部を約５００℃に加熱すると、熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部に平面圧縮応力が発生する。
【００８０】
ガラス板には、外周縁部の平面圧縮応力の反力を受けてガラス板中央に平面引張り応力が発生する。ガラス板の面強度はもともと高いので、この平面引張り応力によりガラス板中央部の破損は起きない。しかし、この平面引張応力の発生する位置での熱強化ガラス板１８の貫通孔５及びザグリ孔６の内周面は微小な傷の集合体であり強度が低い。したがって、貫通孔５及びザグリ孔６は、上記外周縁部の局部過熱により破損を起こす起点となる可能性が高い（図１０）。
【００８１】
しかしながら、上述のジャイロトロンによる熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部の局部加熱では、熱強化ガラス板１８の貫通孔５及びザグリ孔６も加熱するので、上述のような貫通孔５及びザグリ孔６を破損させるような大きさの平面引張り応力の発生を防止できる。
【００８２】
貫通孔５及びザグリ孔６は、外周縁部ほど高温に加熱する必要はなく、熱強化ガラス板１８の表面中央部より約１００℃高く加熱すれば破損を防止できる。
【００８３】
上述のように接合された熱強化板ガラス体１３，１７の全体が常温になると、熱強化ガラス板１４，１８内部にジャイロトロンによる局部加熱に起因する残留応力が発生する。この残留応力は、突条部１６が固化したときの熱強化ガラス板１４，１８内の温度分布にしたがって発生する。
【００８４】
熱強化ガラス板１４，１８は、弾性体である限り温度分布をもって熱膨張すると変形し、その外周縁部が高温であると鞍形に変形する。この鞍形は凹及び凸が逆転する２つの安定形状を持ち、熱強化ガラス板１４，１８の温度が常温に戻ると安定なもとの平板形状に戻る。しかし、熱強化ガラス板１４，１８は、その外周縁部が塑性域温度で熱膨張すると、塑性変形して熱応力はある程度緩和し、常温に戻ってももとの平板形状に戻ることができず、熱強化ガラス板１４，１８には残留応力が生じる。
【００８５】
熱強化ガラス板１４，１８の熱応力緩和の発生をわずかなものに留めることが、後述する図１２の真空ガラスパネル３０における熱強化ガラス板１４，１８の変形や残留応力の発生防止に必要である。熱強化ガラス板１４，１８を突条部１６により接合する際のジャイロトロンによる加熱の時間及び温度は、単に熱強化ガラス板１４，１８の強度低下の問題だけではなく、熱強化ガラス板１４，１８の変形や残留応力の問題として捉えることが必要である。
【００８６】
残留応力の大きさは、加熱したときの熱強化ガラス板１４，１８内の温度分布、特に最高温度と最低温度の温度差に関係し、この差が大きいほど残留応力は大きくなる。大きな熱強化ガラス板１４，１８ほど、大きな平面残留応力が発生しやすく、破損する可能性が高い。
【００８７】
また、熱強化ガラス板１４，１８の各温度分布が互いに等しければ、熱強化ガラス板１４，１８を接合した後、常温になったときに、互いの各部分の熱収縮量が等しいために熱強化ガラス板１４，１８間の力の相互作用による残留応力は発生しない。しかし、熱強化ガラス板１４，１８のいずれか一方の外周縁部が高温に加熱された状態で、熱強化ガラス板１４，１８が接合されると、熱強化ガラス板１４，１８が常温になったとき熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部の熱収縮量の違いから熱強化ガラス板１４，１８が反り、残留応力が発生する。このため、熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部の接合の際の加熱温度を互いに同じにするか、互いの加熱温度差を小さくする必要がある。
【００８８】
上記熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部のジャイロトロンによる局部加熱の際における熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部の冷却は、ノズル６０から圧縮空気を吹き出し、周辺空気を巻き込んでこの圧縮空気を熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部外側面に吹き付けることにより行う。これにより、後述する図１２の真空ガラスパネル３０を構成する熱強化ガラス板１４，１８の各外周縁部外側面の温度上昇を抑えつつ突条部１６が再熔解可能な高温に加熱することができる。また、熱強化ガラス板１４，１８のジャイロトロンによる外周縁部の加熱の際に発生する熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部と内部との温度差を小さくすることができ、熱強化ガラス板１４，１８に発生する残留応力を減少できる。
【００８９】
上述のように、ジャイロトロンを用いて突条部１６の選択加熱を行うと、突条部１６が高温になるのに伴って突条部１６から熱強化ガラス板１４，１８へ熱が伝導して、熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部は高温になる。熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部が高温になると、熱強化ガラス板１４，１８の断面残留応力が徐々に低下すると共に、熱強化ガラス板１４，１８の中央部と外周縁部との板内温度差が大きくなり、上述のように熱強化ガラス板１４，１８が変形し、残留応力が発生する要因となる。これは、ジャイロトロンの代わりに他の高周波照射装置、ＹＡＧレーザー、又はキセノンランプ光を用いた場合も同様である。
【００９０】
また、ジャイロトロンからの熱強化ガラス板１４，１８への照射する高周波は、完全に熱強化ガラス板１４，１８を透過しない。熱強化ガラス板１８側からジャイロトロンにより突条部１６の選択加熱を行うと、熱強化ガラス板１８は熱強化ガラス板１４より高温になり、熱収縮量の差から上述のよう接合された後述する図１２の真空ガラスパネル３０における熱強化ガラス板１４，１８が変形し、残留応力が発生する要因となる。これは、ジャイロトロンの代わりに他の高周波発振装置、ＹＡＧレーザー、又はキセノンランプ光を用いた場合も同様である。
【００９１】
しかし、ジャイロトロンにより局部加熱する際に、上述のように、ノズル６０から圧縮エアを熱強化ガラス板１４，１８に吹き付けることにより、周囲の空気を巻き込んで熱強化ガラス板１４，１８を冷却するので、突条部１６の温度は上昇するも、熱強化ガラス板１４，１８の外周縁部の温度上昇を防止できる。さらに、ジャイロトロンによる高周波の照射により高温になった熱強化ガラス板１８の方が、これより低温の熱強化ガラス板１４に比べてノズル６０により、より冷却されるので、熱強化ガラス板１４と熱強化ガラス板１８との外周縁部の温度差を小さくすることができる。
【００９２】
上記熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部のジャイロトロンにより局部加熱の際における熱強化板ガラス体１３，１７の外周縁部の冷却は、ノズル６０から圧縮空気を吹き付けることにより行うものに限らず、他の方法により冷却するものであってもよい。
【００９３】
次いで、突条部１６により接合された熱強化板ガラス体１３，１７のガラス管７から、接合された熱強化板ガラス体１３，１７により画成された中空層３１の空気を排気して真空にし、ガラス管７の外気側の端部を封じ切り、ガラス管７にプロテクター２０を取り付けて真空ガラスパネル３０が完成する（図１２）。
【００９４】
中空層３１の空気の排気は、突条部１６により接合された熱強化ガラス板１４，１８の温度が８０℃以下にならないうちに、図１１（ａ）に示すように、真空引きカップ６１をガラス管７を覆うように熱強化板ガラス体１７の外側面上に取り付けて、中空層３１の空気を真空引きすることにより行う。次いで、真空引きカップ６１に取り付けられたヒーター６２に電流を流し、ガラス管７の外気側端部を高温に加熱して、ガラス管７の外気側端部を熔解して封じ切る（図１１（ｂ））。
【００９５】
熱強化ガラス板１４，１８の温度が８０℃以下にならないうちに真空引きを行うのは、熱強化ガラス板１４，１８の水分等の吸着を防止するためである。
【００９６】
中空層３１の空気の排気は、上記真空引きカップ６１を用いたものに限らず、例えば、重ね合わせられた熱強化板ガラス体１３，１７の上記予備加熱及び局部加熱を内部が真空状態である真空室内で行い、上記ジャイロトロンによる選択加熱により突条部１６を再熔解させた後に放射冷却すると、中空層３１が真空となって熱強化板ガラス体１３，１７が互いに接合され、真空ガラスパネル３０が完成する。ただし、この方法では、真空中で突条部１６を再熔解する際に突条部１６内に含まれるガスが激しく発砲し、また突条部１６内部にガスが残っていると熱強化板ガラス体１３，１７の接合が不完全となるので、突条部１６の熔解は時間をかけてゆっくり行い、内部ガスを完全に脱泡する必要がある。
【００９７】
上記本発明の実施の形態に係る真空ガラスパネルの製造方法によれば、ガラス板１の強化処理時にガラス板１の内側面上にマトリックス状に配置して形成した凸部３を熔解させ、熱強化ガラス板１４の内側面上に接合された凸部１５を形成するので、上記強化処理時や熱強化板ガラス体１３，１７の接合処理時に発生する熱強化ガラス板１４，１８の反りやうねりにより真空ガラスパネル３０の中空層３１の隙間が均一ではなくなっても、中空層３１の支持部材としての凸部１５が移動することを防止することができる。
【００９８】
上記本発明の実施の形態に係る真空ガラスパネルの製造方法においては、ガラス板１，２の強化処理を水平強化炉により行ったが、これに限るものではなく、他の装置を用いて行ってよい。また、ガラス板１，２の強化処理は熱処理により行うものに限らず、例えば、化学処理による化学強化処理であってもよい。
【００９９】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項１記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、一対のガラス板の少なくとも一方の内面上にスペーサーとして複数の突起部を形成し、一対のガラス板の外周縁部において、熔解温度が一対のガラス板よりも低い低融点ガラス層を熔解することにより、一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形を抑制させることができると共に、一対のガラス板の強度低下を抑制させることができ、また、スペーサーの移動を防止することができる。
【０１００】
請求項３記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層をマイクロ波による局部加熱により熔解して一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、低融点ガラス層の局部加熱を効率よく行うことができる。
【０１０１】
請求項４記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、マイクロ波の波長域における低融点ガラス層の誘電損率が一対のガラス板より大きいので、低融点ガラス層の局部加熱をより効率よく行うことができる。
【０１０２】
請求項６記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層をレーザー光による局部加熱により熔解して一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、低融点ガラス層の局部加熱を効率よく行うことができる。
【０１０３】
請求項７記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層を光ビーム光による局部加熱により熔解して一対のガラス板の外周縁部を密閉するので、低融点ガラス層の局部加熱を効率よく行うことができる。
【０１０４】
請求項８記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、局部加熱する光の波長域における低融点ガラス層の光線吸収率が、一対のガラス板より大きいので、低融点ガラス層の局部加熱をより効率よく行うことができる。
【０１０５】
請求項９記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層の局部加熱の前に、一対のガラス板全体を所定の温度に加熱するので、真空ガラスパネルにおいて中空層の真空度の低下を抑制させることができる。
【０１０６】
請求項１２記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層の局部加熱時に一対のガラス板の外周縁部を冷却するので、一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形をさらに抑制させることができると共に、一対のガラス板の強度低下をさらに抑制させることができる。
【０１０７】
請求項１４記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、一対のガラス板の外周縁部の局部加熱時に真空引きのための貫通孔を局部加熱するので、貫通孔内面の強度低下を抑制させることができる。
【０１０８】
請求項１５記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、外周縁部の密閉後、一対のガラス板の温度が８０℃以下になる前に真空引きを行うので、一対のガラス板の水分等の吸着を抑制することができ、もって一対のガラス板が吸着した水分等の離脱による真空ガラスパネルにおける中空層の真空度の低下を抑制させることができる。
【０１０９】
請求項１８記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、低融点ガラス層の線膨張係数と一対のガラス板の線膨張係数の差が０〜５００℃で１．０×１／（１０６×Ｋ）以内であるので、一対のガラス板の接合時に、一対のガラス板の変形をさらに抑制させることができる。
【０１１０】
請求項１９記載の真空ガラスパネルの製造方法によれば、一対のガラス板のいずれか一方の内面上にマトリックス状に塗布された低融点ガラスペースト剤を加熱することにより、一対のガラス板の一方と一体化させてスペーサとしての複数の突起部を形成するので、スペーサーの移動を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ガラス板１へ凸部３を形成する概略工程を示す図であり、（ａ）は第１工程であり、（ｂ）は第２工程であり、（ｃ）は第３工程であり、（ｄ）は第４工程である。
【図２】ガラス板１へガラスペースト剤４を塗布する概略工程を示す図である。
【図３】ガラス板２の貫通孔５及びザグリ孔６の横断面図である。
【図４】ガラス板２へガラス管７を取り付ける概略工程を示す図であり、（ａ）はガラス管７をガラス板２へ接合する前の状態を示し、（ｂ）はガラス管７がガラス板２へ固定された後の状態を示す。
【図５】板ガラス体１１の概略構成を示す斜視図である。
【図６】板ガラス体１２の概略構成を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）線ＶＩｂ−ＶＩｂに関する断面図である。
【図７】熱強化板ガラス体１３の概略構成を示す斜視図である。
【図８】熱強化ガラス板１７の概略構成を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は線ＶＩＩＩｂ−ＶＩＩＩｂに関する断面図である。
【図９】熱強化板ガラス体１３，１７の接合処理の概略工程を示す図である。
【図１０】熱強化ガラス板１８の平面上における発生応力分布を示す図である。
【図１１】熱強化板ガラス外１７における熱強化ガラス板１８とガラス管７の接合処理の概略工程を示す図であり、（ａ）は接合処理時の熱強化板ガラス体１７の断面図であり、（ｂ）は接合処理後の熱強化板ガラス体１７断面図である。
【図１２】本発明の真空ガラスパネル製造方法により製造された真空ガラスパネル３０の概略構成を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は線ＸＩＩｂ−ＸＩＩｂに関する断面図である。
【図１３】従来の真空ガラスパネル製造方法により製造された真空ガラスパネル１００の概略構成を示す図であり、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は線ＸＩＩＩｂ−ＸＩＩＩｂに関する断面図である。
【符号の説明】
１，２  ガラス板
３，１５  凸部
４，１１３  ガラスペースト剤
５，１１６ａ  貫通孔
６，１１６ｂ  ザグリ孔
７，１１７  ガラス管
８，１１８  ガラス半田
１１，１２  板ガラス体
１３，１７  熱強化板ガラス体
１４，１８，１１１，１１２  熱強化ガラス板
１６  突条部
１９  シール部
３０，１００  真空ガラスパネル
３１，１１４  中空層
５８  パネル支持台
５９  照射装置
６０  ノズル
【図１】
2004182567.tif 000003
【図２】
2004182567.tif 000004
【図３】
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【図４】
2004182567.tif 000006
【図５】
2004182567.tif 000007
【図６】
2004182567.tif 000008
【図７】
2004182567.tif 000009
【図８】
2004182567.tif 000010
【図９】
2004182567.tif 000011
【図１０】
2004182567.tif 000012
【図１１】
2004182567.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2004182567.tif 000015