(57)【要約】【課題】被処理物からの臭気の除去と発生防止を確実に行うことができる臭気を消臭・制御する方法と装置を提供する。【解決手段】消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する方法において、前記被処理物の電位を、比較電極とイオン電極で構成された電極によって測定し、その電位に基づいて消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定する臭気の消臭・抑制方法、及び、消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する方法において、前記被処理物の電位を、比較電極とイオン電極で構成された電極によって測定すると共に、該被処理物の気相部の臭気をにおいセンサー又は硫化水素センサーで測定し、それらの測定値に基づいて、消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定する臭気の消臭・抑制方法としたものである。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する方法において、前記被処理物の電位を、比較電極とイオン電極で構成された電極によって測定し、その電位に基づいて消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定することを特徴とする臭気の消臭・抑制方法。
【請求項２】
消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する方法において、前記被処理物の電位を、比較電極とイオン電極で構成された電極によって測定すると共に、該被処理物の気相部の臭気をにおいセンサー又は硫化水素センサーで測定し、それらの測定値に基づいて、消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定することを特徴とする臭気の消臭・抑制方法。
【請求項３】
消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する装置において、前記被処理物の電位を測定する比較電極とイオン電極で構成された電位測定装置と、該測定した電位に基づいて、前記被処理物への消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定する手段と、決定された添加量に基づいて消臭剤又は酸素含有気体を注入する装置とを備えることを特徴とする臭気の消臭・抑制装置。
【請求項４】
請求項３記載の臭気の消臭・抑制装置において、さらに、前記被処理物から発生する気相部の臭気を測定するにおいセンサー又は硫化水素センサーを備え、前記添加量を決定する手段が、前記測定した電位と、該センサーからの測定値に基づくことを特徴とする臭気の消臭・抑制装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理物から発生する臭気の消臭・抑制に係り、特に、下水、し尿、産業排水や汚泥、液状廃棄物からの硫化水素などの臭気の消臭・抑制、及び、下水あるいは下水処理場から発生する汚泥を、圧送管を用いて下水処理場や汚泥集中処理施設まで輸送する際に、圧送管出口部において発生する硫化水素などの臭気を消臭・抑制する方法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
下水、し尿、産業排水等の排水処理時や排水処理に伴って発生する有機性汚泥や、生ごみ等の有機性液状廃棄物の処理処分時に硫化水素などの臭気が発生し、このために作業環境の改善、周辺住民への環境対策及び設備機器への腐食防止対策が非常に重要である。
また、下水や汚泥を圧送管で目的地まで移送する際に、下水や汚泥に含まれる硫酸イオンが、硫酸塩還元菌により硫化水素になる。この硫化水素が、圧送管出口の気相部において、好気的条件下で硫黄酸化菌により硫酸に酸化される。この硫酸が、コンクリートや金属構造物を腐食する。また、硫化水素は、圧送管や処理場の構造物や設備機器などの腐食に加えて、臭気問題や作業環境問題になることから、硫化水素の除去はもちろんのこと発生の防止、抑制は重要である。
臭気の除去や発生防止には、排水や液状廃棄物に硫化水素と難溶塩を生成する金属塩を添加する方法、硫化水素などの臭気成分を酸化分解する酸化剤、次亜塩素酸塩などを添加する方法、空気や硝酸塩などを添加して好気的条件下にすることにより、硫化水素などの臭気の発生を抑える方法、殺菌効果を有する銀塩などの殺菌剤を添加する方法がある。
【０００３】
硫化水素などの臭気発生の抑制方法として、汚泥貯留槽や下水や汚泥の圧送管入口部に、空気や酸素などの酸素含有気体を注入する方法がある。
消臭剤の注入制御方法として、本発明者らは、先に特開２００２−５９１２６号公報で白金以外の材料で構成された電極で被処理物の電位を測定し、この電位により消臭剤の注入量を制御する方法を提案した。
特開２００２−５９１２６号公報による消臭剤の注入制御方法は、酸化性の強い酸化剤系消臭剤への注入制御が可能であるが、硝酸塩などの酸化力としては弱い消臭剤に対しては、消臭剤の注入制御の応答が遅いという問題があった。また、空気のような弱い酸化剤である酸素含有気体においても、注入制御の応答が遅いという問題があった。
更に、既に消臭対象範囲や臭気発生の抑制場所において、臭気が発生している場合には、特開２００２−５９１２６号公報による消臭剤の注入制御方法では、充分な消臭や臭気発生の抑制効果が得られなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記既知事実の問題点を解決して、被処理物からの硫化水素などの臭気の除去と発生防止を、確実に行うための消臭剤や酸素含有気体の注入量を制御する臭気の消臭・抑制方法及びその装置を提供することを課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する方法において、前記被処理物の電位を、比較電極とイオン電極で構成された電極によって測定し、その電位に基づいて消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定することを特徴とする臭気の消臭・抑制方法、及び、消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する方法において、前記被処理物の電位を、比較電極とイオン電極で構成された電極によって測定すると共に、該被処理物の気相部の臭気をにおいセンサー又は硫化水素センサーで測定し、それらの測定値に基づいて、消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定することを特徴とする臭気の消臭・抑制方法としたものである。
【０００６】
また、本発明では、消臭剤又は酸素含有気体を使用して液状の被処理物から発生する臭気を消臭・抑制する装置において、前記被処理物の電位を測定する比較電極とイオン電極で構成された電位測定装置と、該測定した電位に基づいて、前記被処理物への消臭剤又は酸素含有気体の添加量を決定する手段と、決定された添加量に基づいて消臭剤又は酸素含有気体を注入する装置とを備えることを特徴とする臭気の消臭・抑制装置としたものである。
前記消臭・抑制装置において、さらに、前記被処理物から発生する気相部の臭気を測定するにおいセンサー又は硫化水素センサーを備え、前記添加量を決定する手段が、前記測定した電位と、該センサーからの測定値に基づくこととすることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明は、消臭剤を使用して被処理物から発生する臭気を消臭する方法において、比較電極とイオン電極で構成された電極によって被処理物の電位を測定して、その電位を消臭剤の添加量を決定する手段に用いる方法である。
本発明の対象である液状の被処理物としては、下水、し尿、産業排水等や下水、し尿、産業排水等の排水処理に伴って発生する浄化槽汚泥などの汚泥であり、汚泥を脱水した脱水ケーキ及び生ごみ等の各種有機性廃棄物も消臭できる。
本発明における被処理対象物は、特に限定されないが、臭気の発生や腐敗が懸念されるのは一般的に汚泥であり、主に有機性汚泥への適用が望ましい。また、本発明の消臭方法が採用された汚泥が脱水処理され、得られた脱水ケーキにおいても、結果的に消臭できることになる。
【０００８】
本発明の対象とする臭気成分は、被処理物の腐敗が進行することで発生する臭気で、硫化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル、二硫化メチル、アンモニア、トリメチルアミン、アルデヒド類等である。
本発明の対象とする消臭剤は、その薬剤を被処理物に添加することによって、汚泥の電位を変化させることができるすべての薬剤であり、具体的には、塩化第２鉄などの金属塩、塩素等のハロゲンガス、硝酸塩、亜硝酸塩、過硫酸塩、次亜塩素酸塩、次亜臭素酸塩、過塩素酸塩、過沃素酸塩、過酸化水素、過酢酸などの一般的な酸化剤やキノンのような還元剤等である。
比較電極（参照電極とも呼ばれる）は、市販のｐＨ計やＯＲＰ計に使われている塩化銀電極や甘こう電極である。
【０００９】
本発明のイオン電極は、ニッケル、チタン、クロム、金、銀、鉛等などの遷移金属又はランタン、カルシウムなどのアルカリ土類金属化合物の少なくとも１種類で構成され、水溶液中の陽イオン又は陰イオンを検出する作用を有する物質で形成され、排水などに含まれる陽イオン又は陰イオンを検出するために使用される。
陽イオン又は陰イオンに感応する電極の物質は、硫化銀や硫化銀と塩化銀の混合物、硫化銀などの硫化物と金属酸化物である酸化鉛などとの混合物、あるいはフッ化ランタンなどのハロゲン化物の結晶である。
これらの物質は、本発明に使用できるように、製作してもよいし、市販のイオン電極を本発明に転用してもよい。
イオン電極は、粉末状の金属化合物を任意の圧力で加圧成形したものや、２種類以上の金属化合物を粉末状で混合後に加圧成形したものや、２種類以上の粉末状の金属化合物を加圧成形したものを重ね合わせたものが使用できる。
【００１０】
また、市販のイオン電極計は、比較電極とイオン電極で構成され、その両電極間で得られる電位を目的イオン濃度に演算して表示するものである。本発明では、市販のイオン電極計を電位モードで使用し、得られた電位から消臭剤添加量が制御できる。
本発明の電位は、比較電極とイオン電極のそれぞれの端を電位計又は電圧計、市販の記録計、ｐＨ計の端子に接続することにより、本発明の検出部が完成する。この検出部の電圧を、本発明における電位とする。
ここで取り出された電圧値は、被処理物の供給ポンプなどの供給装置の演算部に転送されて、消臭剤添加量に利用される。電圧を電流値に変換して、消臭剤添加量に使用することもできる。
また、市販のイオン電極計は、比較電極とイオン電極で構成され、その両電極間で得られる電位を、目的イオン濃度に演算して表示するものである。本発明では、市販のイオン電極計を電位モードで使用し、得られた電位から消臭剤添加量が制御できる。
【００１１】
比較電極とイオン電極の設置場所は、消臭剤の添加場所又はその前後である。具体的には、汚泥貯留槽や排水や下水や汚泥、液状廃棄物などの圧送配管内部や、圧送到着場所の受入槽や貯留槽などである。また、汚水や汚泥など消臭対象物のサンプリングラインである。
消臭剤の添加場所は、排水原水槽、処理水槽、生物処理水槽、汚泥貯留槽、排水や下水などの流入管や流出管、排水や下水や汚泥、液状廃棄物など圧送配管、圧送途中の圧送配管やマンホール、圧送到着場所の受入槽や貯留槽などである。
被処理物への消臭剤添加量の制御方法としては、本発明の電位が、ある設定電位値になった時点で、消臭剤添加を停止又は再開する方法や、ある設定電位範囲で消臭剤添加を停止又は再開する方法や、単位時間あたりの電位の変化量を推定し、消臭剤添加を停止又は再開する方法などがある。
【００１２】
図１に、消臭・抑制方法に用いる装置のフロー概略図を示す。被処理物である汚泥が、汚泥貯留槽を経由して脱水機にて脱水される過程で、汚泥貯留槽や脱水機回りで臭気が発生する。図１では、汚泥貯留槽の汚泥に消臭剤を添加して消臭する方法で、イオン電極による電位測定装置で汚泥貯留槽の汚泥の電位を測定し、その電位から最適な消臭剤注入量を演算する。消臭剤は、消臭剤注入装置から汚泥貯留槽の汚泥に添加される。又は、消臭剤を添加した汚泥の電位を測定し、消臭剤添加量の増減を行うことができる。
また、本発明は、酸素含有気体を使用して被処理物から発生する臭気を抑制する方法において、比較電極とイオン電極で構成された電極によって被処理物の電位を測定して、その電位を酸素含有気体の添加量を決定する手段に用いることができる。
【００１３】
本発明の対象とする臭気成分は、特に硫化水素である。
本発明の主な被処理物は、圧送管や自然流下で移送又は圧送される下水や農村集落排水、コミュニティプラントなどの下水道類似施設への流入排水やそれから発生する汚泥である。
本発明の酸素含有気体としては、空気、酸素、オゾン、オゾン含有空気やオゾン含有酸素である。また、排水処理の生物処理工程で使用される酸素やオゾンなどで、処理工程から排出される酸素含有気体や、脱臭工程から排出されるオゾンなど酸素含有気体も使用できる。
比較電極とイオン電極で構成された電極によって測定された被処理物の電位は、酸素含有気体の供給装置の演算部に転送されて、酸素含有気体添加量に利用される。電圧を電流値に変換して酸素含有気体添加量に使用することもできる。
【００１４】
被処理物への酸素含有気体添加量の制御方法としては、本発明の電位がある設定電位値になった時点で、酸素含有気体添加を停止又は再開する方法や、ある設定電位範囲で酸素含有気体添加を停止又は再開する方法や、単位時間あたりの電位の変化量を推定し、酸素含有気体添加を停止又は再開する方法などがある。
比較電極とイオン電極の設置場所は、酸素含有気体の添加場所又はその前後である。
具体的には、汚泥貯留槽や下水や汚泥、液状廃棄物などの圧送配管内部や圧送到着場所の受入槽や貯留槽などである。また、汚水や汚泥など消臭対象物のサンプリングラインである。
酸素含有気体の添加場所は、汚泥貯留槽、排水や下水などの流入管や流出管、排水や下水や汚泥、液状廃棄物など圧送配管、圧送途中の圧送配管やマンホール、圧送到着場所の受入槽や貯留槽などである。酸素含有気体の添加場所は、酸素が消費されやすい下水や汚泥では、複数箇所で添加するとよい。
【００１５】
また、比較電極とイオン電極の設置場所も、酸素が消費されやすい下水や汚泥では、複数箇所で添加するとよい。
酸素含有気体の添加量は、被処理物１ｍ３、１時間あたり０．０１〜３ｍ３である。酸素含有気体添加量０．０１ｍ３未満では、臭気発生の抑制効果が低い。３ｍ３を超えると、動力費が多くなったり、配管中に空気溜まりが生じて汚泥などの移送が困難になる。
酸素含有気体は、送風機、ブロワーなどで直接、被処理物に添加する。また、被処理物が、高低差により落下する場所の雰囲気を、酸素雰囲気にするように酸素含有気体を、その場所に供給することができる。また、水中ポンプなどで被処理物の一部又は全量を循環し、その被処理物にエジェクターなどで酸素含有気体を供給することもできる。
【００１６】
図２に、本発明の酸素含有気体を注入する消臭・抑制方法に用いる装置のフロー概略図を示す。
図２では、被処理物である汚泥が、圧送管を経由して汚泥受入槽に移送され、その後脱水処理される。圧送管での硫化水素による臭気と腐食問題の解決のために、圧送管内の汚泥に酸素含有気体が注入される。
イオン電極による電位測定装置で圧送管内の汚泥の電位を測定し、その電位から最適な酸素含有気体注入量を演算する。酸素含有気体は、酸素含有気体注入装置から汚泥に添加される。又は、酸素含有気体の添加場所より下流側、図２の汚泥受入槽で酸素含有気体が添加された汚泥の電位を測定し、酸素含有気体添加量の増減を行うことができる。
【００１７】
さらに、本発明では、被処理物の気相部の臭気をにおいセンサー又は硫化水素センサーで測定し、液相部を前記した本発明の方法で電位を測定し、酸素含有気体や消臭剤の添加量を決定する手段に用いることができる。
消臭剤の添加目的は、被処理物の気相部で既に発生している硫化水素などの臭気や、被処理物の液相部に存在する硫化物や硫化水素などの臭気成分や、臭気原因物質の除去、又は、被処理物から臭気や臭気の原因物質が発生しないようにするために使用される。
酸素含有気体は、被処理物から臭気や臭気の原因物質が発生しないようにするためだけに使用される。
被処理物の気相部にて、既に発生している硫化水素などの臭気の臭気濃度をにおいセンサーで測定することにより、消臭剤の添加率を設定する。
【００１８】
においセンサーとは、金属酸化物半導体表面で、ガス吸着により生じる熱伝導度変化や電気伝導度変化による抵抗値変化を測定する半導体センサーと合成２分子センサー、複数の導電性有機高分子膜のいずれかで構成されるにおいセンサーである。
一般に、においセンサーの特性は、低濃度臭気には高感度であるが、高濃度になると感度が低下する。しかしながら、本発明のような使用において、硫化水素濃度が数十から数百ｐｐｍと、高濃度でその濃度変化が激しいガスを対象に、センサー指示値の変化を把握するには、この傾向は好都合である。
においセンサーの表示値は、その機器特有の指示値でも硫化水素濃度でも、その他臭気成分濃度、臭気濃度に換算された値でも良い。
においセンサーへの採取ガス導入部に清澄な空気を混合し、設定指示値になるまでの清澄な空気と採取ガスの比率を求めて、この希釈倍率を消臭剤又は酸素含有気体の注入制御に使うこともできる。
【００１９】
汚泥受入槽など被処理物の気相部のにおいセンサー指示値を減少させるように、消臭剤又は酸素含有気体を被処理物に添加する。
硫化水素モニターは、硫化水素検知器として、定電位電解式など実用性の高い機器が市販されている。硫化水素濃度に応じて、電流値や電圧値として検出でき、消臭剤又は酸素含有気体添加量の設定や注入制御に利用できる。
においセンサーや硫化水素モニターは、市販品が使用できる。
においセンサーや硫化水素モニターの測定場所は、下水圧送管関連ではポンプ井やマンホールなどの下水道管、貯留槽、沈砂槽などの気相部で、汚泥圧送管では空気抜き弁、汚泥受入槽、貯留槽などの気相部であり、消臭剤又は酸素含有気体添加場所、又は、消臭剤又は酸素含有気体添加場所より下流の任意の気相部を有する場所である。
【００２０】
本発明では、臭気の消臭・抑制装置において、気相部からガスを吸引する装置と、においセンサー又は硫化水素センサーと、液相部の電位を比較電極とイオン電極で構成された電極により測定する装置と、消臭剤又は酸素含有気体注入装置から構成されるものである。
図３及び図４に、においセンサー又は硫化水素モニターとイオン電極を組み込んだ装置のフロー概略図を示す。
図３は、においセンサー又は硫化水素モニターで測定したにおいセンサー指示値や硫化水素濃度の測定値を、演算装置Ａで演算し、イオン電極による電位を演算装置Ｂで演算し、それらを一つの消臭剤又は酸素含有気体注入装置に演算結果を送り、消臭剤又は酸素含有気体を注入するものである。また、演算装置Ａと演算装置Ｂを一つの演算装置Ａだけで演算することもできる。
【００２１】
図４は、圧送管の気相部のガスをガス吸引装置で採取し、においセンサー又は硫化水素モニターで、においセンサー指示値や硫化水素濃度を測定する。それらの値を演算装置Ａにより、消臭剤又は酸素含有気体注入量を演算し、消臭剤又は酸素含有気体注入装置Ａで、消臭剤又は酸素含有気体が圧送管内の汚泥に注入される。
酸素含有気体が注入された場所の下流で、イオン電極による電位測定装置で圧送管内の汚泥の電位を測定し、その電位から最適な消臭剤又は酸素含有気体注入量を演算する。酸素含有気体は、酸素含有気体注入装置Ｂから、消臭剤は、消臭剤注入装置Ｂから汚泥に添加される。
気相部のガスを吸引する装置は、市販のエアーポンプなどが使用できるし、においセンサー部や硫化水素モニターのセンサー部を、直接気相部に挿入することができる。
【００２２】
【実施例】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例１
試験に用いた電極は、塩化銀の比較電極と酸化鉛電極と感応部が硫化銀である市販の鉛イオン電極である。酸化鉛電極は、希硝酸で鉛板（長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ１ｍｍ）の表面を洗浄した後、８００℃の電気炉で約１時間焼成して製作した電極である。これらの電極を、銅線で電位差計に接続し、電位を測定した。
これらの電極を、表１に示す性状の下水汚泥中に浸し、消臭剤を添加しつつ、電位の変化と気相部の硫化水素濃度の関係を試験した。
【表１】
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【００２３】
消臭剤には、工業薬品の純度３８％の塩化第２鉄と、有効塩素１０％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液と、試薬１級の硝酸ナトリウムを使用した。
容量２０００ｍｌの臭気測定用容器に、上記汚泥５００ｍｌと電極を入れ、密栓した後に気相部１５００ｍｌを窒素パージした。消臭剤を添加混合後、３０℃の恒温槽に保管する。４５分経過後に、汚泥の電位と気相部の硫化水素濃度を北川式検知管で測定する。
表２に、実施例１の試験結果を示す。気相部の硫化水素濃度は、各時間内に増加した濃度を示す。酸化剤でない硝酸ナトリウムは、時間が経過する方が硫化水素の発生が抑制でき、酸化鉛電極より鉛イオン電極の電位の変化が大きい。
【００２４】
【表２】
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【００２５】
実施例２
実施例１の電極を取り付けた容積６リットルの容器に実施例１の汚泥５０００ｍｌを入れ、０．１〜０．５リットル／分で６時間、空気を汚泥に添加した。排気される空気を２時間毎に１リットルのテトラバックに捕集した。６リットルの容器は、３０℃の恒温槽に保管する。
２時間毎にテトラバックに捕集された空気の硫化水素濃度を北川式検知管で測定し、容積６リットルの容器の気相部容積１リットルに硫化水素濃度を換算した。
表３に、実施例２の試験結果を示す。鉛イオン電極は、空気に対しても電位の変化が大きく、空気の注入制御に使用できる。
【００２６】
【表３】
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【００２７】
実施例３
図３の実験装置で、実施例１の下水汚泥を用いて、硫化水素モニターとイオン電極を組み合わせた硫化水素除去及び抑制実験を行った。
下水汚泥を、汚泥移送ポンプ流量０．５〜ｌｍ３／時で、圧送管を想定した容量３ｍ３の汚泥槽に連続的に供給した。その汚泥槽での汚泥滞留時間を、３〜１０時間になるように汚泥受け入れ流量と排出流量を調整した。汚泥槽の流入部に、硫化水素モニターと市販の硫化カドミウムの結晶を感応部にしたカドミウムイオン電極で構成された電位測定装置を取り付けた。汚泥槽出口の汚泥受入槽の気相部の硫化水素を硫化水素モニターで測定した。
【００２８】
硫化水素モニターで、汚泥槽流入部の気相部の硫化水素濃度を測定し、その値が２ｐｐｍ又は１０ｐｐｍになるように、消臭剤を添加するように演算して添加し、また、消臭剤として有効塩素１２％の工業薬品の次亜塩素酸ナトリウムを、カドミウムイオン電極の電位測定値が、設定電位になるようにを演算して添加し、また、消臭剤として試薬１級の硝酸ナトリウムを汚泥槽の流入部に添加した。表４に実施例３の結果を示す。硫化水素モニターとイオン電極の電位による消臭剤の注入制御を行うことで、汚泥受入槽気相部の硫化水素濃度を下げることができ、硫化水素の発生が効果的に抑制できた。
【００２９】
【表４】
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【００３０】
【発明の効果】
本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
（１）被処理物の水質が変動しても、消臭剤や酸素含有気体の適正な添加率が推定でき、硫化水素や臭気発生濃度の変化に容易に対応できる。
（２）被処理物に存在する臭気成分の除去と、これから発生する臭気の両方が除去又は発生の抑制ができる。
（３）発生した硫化水素や臭気成分以外に、これから発生する硫化水素や臭気に対しても、適正な添加率の消臭剤や酸素含有気体が添加できる。
（４）消臭剤や酸素含有気体の自動注入ができ、作業性が向上する。
（５）消臭剤や酸素含有気体の添加量が常時把握でき、無駄な薬剤の添加が無くなり、酸素含有気体供給の動力費が削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の消臭・抑制方法に用いる装置のフロー概略図。
【図２】本発明の別の消臭・抑制方法に用いる装置のフロー概略図。
【図３】本発明の他の消臭・抑制方法に用いる装置のフロー概略図。
【図４】本発明の他の消臭・抑制方法に用いる装置のフロー概略図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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