(57)【要約】【課題】耐熱性とともに優れた透明性を有し、光損失の少ない光導波路を得ることのできる光導波路の製法を提供する。【解決手段】基板１上にアンダークラッド層２を積層形成し、さらに上記アンダークラッド層２上に、感光剤を含有する感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いて所定のパターンにポリイミド樹脂製のコア層３ｂを形成し、ついで上記コア層３ｂを包含するようオーバークラッド層４を形成して光導体路を製造する際に、上記コア層３ｂの形成後、このコア層３ｂから感光剤を抽出する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光剤を含有する感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いて所定のパターンに形成されたポリイミド樹脂製のコア層を備えた光導波路の製法であって、上記コア層の形成後、このコア層から感光剤を抽出することを特徴とする光導波路の製法。
【請求項２】
上記感光剤の抽出が、下記の（ａ）および（ｂ）を用いる請求項１記載の光導波路の製法。
（ａ）液化二酸化炭素、もしくは、高温高圧状態あるいは超臨界状態にある二酸化炭素。
（ｂ）有機溶剤。
【請求項３】
上記感光剤が、下記の一般式（１）で表される化合物である請求項１または２記載の光導波路の製法。
【化１】
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【請求項４】
上記一般式（１）で表される化合物が、１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジンである請求項３記載の光導波路の製法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学で広く用いることができ、感光性ポリイミド前駆体により得られる光導波路の製法、詳しくは感光性ポリイミド前駆体により得られる透明で複屈折率の小さい光学用ポリイミド樹脂をコア層に用いて得られる光導波路の製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光導波路は、光導波路デバイス、光集積回路、光配線基板に組み込まれており、光通信、光情報処理、その他一般光学の分野で広く用いられている。そして、ポリイミド樹脂を用いて光導波路を形成する場合、上記ポリイミド樹脂を所定パターンに形成する必要があり、例えば、感光剤を配合した感光性ポリイミド樹脂前駆体を用い、これをウェットプロセスにて所定パターンのポリイミド樹脂層を形成する手法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この場合、上記感光性ポリイミド樹脂前駆体を加熱してイミド化させる段階において、上記前駆体中に配合された感光剤が熱分解し、得られる上記ポリイミド樹脂層が黒く着色するという問題が生じる。
【０００３】
【特許文献１】
特開平７−１７９６０４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記光導波路の製造に用いられる材料としては、可視光から近赤外領域において透明であることが求められるところ、上記感光剤を配合した感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いてなるポリイミド樹脂は、黒く着色するため、可視光領域のみならず近赤外領域においても、光を一部吸収することから、上記のような手法により得られる所定パターンのポリイミド樹脂層形成材料として用い難いのが実情である。
【０００５】
このようなことから、本出願人は、感光剤の配合量を、ポリイミド樹脂前駆体１００重量部（以下「部」と略す）に対して０．０５部以上５部未満の範囲に設定することを提案している（特願２００１−１６４７３５）。このような設定により透明性の向上を図ることはある程度可能となるが、ポリイミド樹脂のより一層の透明性の向上が望まれている。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みなさたもので、耐熱性とともに優れた透明性を有し、光損失の少ない光導波路を得ることのできる光導波路の製法の提供をその目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の光導波路の製法は、感光剤を含有する感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いて所定のパターンに形成されたポリイミド樹脂製のコア層を備えた光導波路の製法であって、上記コア層の形成後、このコア層から感光剤を抽出するという構成をとる。
【０００８】
本発明者らは、透明性の低下原因となるものを排除し、より一層優れた透明性を得るために、光導波路のコア層形成材料を中心に一連の研究を重ねた。その結果、コア層形成材料である感光性ポリイミド樹脂前駆体に含有される感光剤のイミド化時における熱分解での黒色による変色が透明性の低下原因であることから、この感光剤をコア層から抽出することを想起した。すなわち、感光剤含有の感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いて所定パターンにコア層を形成した後、このコア層から変色原因となる感光剤を抽出すると、得られるコア層は優れた透明性を備えるようになることを見出し本発明に到達した。
【０００９】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態を詳しく説明する。
【００１０】
本発明の光導波路の製法により得られる光導波路の一例として、図５に示す層構成のものがあげられる。この光導波路は、基板１上にアンダークラッド層２が積層形成され、さらに上記アンダークラッド層２上に所定パターンのコア層３ｂが形成され、このコア層３ｂを包含するようオーバークラッド層４が形成されている。
【００１１】
上記基板１材料としては、特に限定するものではなく従来公知のもの、例えば、青板ガラス、合成石英、シリコンウエハー、二酸化ケイ素付シリコンウエハー、ポリイミド樹脂等があげられる。
【００１２】
上記基板１上に積層形成されるアンダークラッド層２形成材料としては、ポリイミド樹脂前駆体があげられ、これはテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得られる。
【００１３】
上記テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併用してもよい。
【００１４】
一方、上記ジアミンとしては、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，４′−ジアミノジフェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフェニルスルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，４−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノ−２，２−ジメチルビフェニル、２，２′−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併用してもよい。
【００１５】
さらに、上記ジアミンとは別に、１，３−ビスアミノ（３−アミノプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを用いることが、上記基板１との密着性の向上という観点から好ましい。
【００１６】
上記アンダークラッド層２形成材料であるポリイミド樹脂前駆体の合成方法としては、通常の合成方法が適用できる。すなわち、窒素雰囲気下、ジアミンを溶解させた溶媒にテトラカルボン酸二無水物を添加し、室温において５〜２０時間攪拌を行うことにより粘性のある高分子溶液（ポリイミド樹脂前駆体溶液）を合成することができる。
【００１７】
上記溶媒としては、通常、ポリイミド樹脂前駆体の合成に使用されるのであれば特に限定するものではない。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）やＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等の極性溶媒を使用することができる。なかでも、透明性の点から加熱工程において熱分解性が起こりにくいＤＭＡｃが好ましく用いられる。
【００１８】
上記アンダークラッド層２上に所定パターンに形成されるコア層３ｂ形成材料としては、感光剤を含有する感光性ポリイミド樹脂前駆体が用いられる。そして、上記感光性ポリイミド樹脂前駆体は、先に述べたテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得られるポリイミド樹脂前駆体に、感光剤を配合することにより得られる。
【００１９】
上記ポリイミド樹脂前駆体としては、特に限定するものではなく各種ポリイミド樹脂前駆体があげられるが、例えば、上記アンダークラック層２形成材料であるポリイミド樹脂前駆体と同様のものがあげられる。
【００２０】
そして、コア層３ｂは両クラッド層２，４よりも屈折率が高い必要があるが、この屈折率の調整は、例えば、上記テトラカルボン酸二無水物とジアミンの組み合わせを適宜選択することにより行うことができる。その一例として、フッ素原子を含有するテトラカルボン酸二無水物やジアミンを用いると、屈折率を低くすることが可能となる。また、これ以外の屈折率の調整方法として、後述のコア層３ｂから感光剤を抽出する工程において、コア層３ｂ内にわずかに感光剤を残存させる方法があげられる。このようにコア層３ｂ内にわずかに感光剤を残存させることによって、上記コア層３ｂの屈折率を両クラッド層２，４の屈折率よりも高くすることができる。そして、上記屈折率の調整方法のなかでも、コア層３ｂ内にわずかに感光剤を残存させる方法が、コア層３ｂと両クラッド層２，４の各形成材料となるポリイミド前駆体の基本組成を同じとすることができ、生産における塗布液の管理の面からも好ましい。
【００２１】
具体的には、コア層３ｂ形成材料の屈折率と両クラッド層２，４形成材料の屈折率において０．２〜１．０％程度の差を持たせるようにすればよい。
【００２２】
このように、コア層３ｂは両クラッド層２，４よりも屈折率が高い必要がある。通常、両者の比屈折率差Δ〔比屈折率差Δ＝（ｎコア−ｎクラッド）／ｎコア：ｎ＝屈折率〕は先に述べたように０．２〜１．０％であればよい。
【００２３】
上記感光剤としては、特に限定するものではないが、なかでも、下記の一般式（１）で表される化合物を用いることが好ましい。
【００２４】
【化２】
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【００２５】
さらに、感光剤として上記一般式（１）で表される化合物のなかでも、コストおよびＣ−Ｈ結合による光吸収が少ないという点から、１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジンを用いることが特に好ましい。
【００２６】
このような一般式（１）で表される感光剤は、例えば、つぎのようにして合成される。すなわち、このような１，４−ジヒドロピリジン誘導体は、例えば、置換ベンズアルデヒドと、その２倍モル量のアルキルプロピオレート（プロパルギル酸アルキルエステル）と、相当する第１級アミンとを氷酢酸中で還流下に反応させることによって得ることができる（Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄ．，ｐｐ．１０６７−１０７１，１９８２）。
【００２７】
上記コア層３ｂ形成材料である感光性ポリイミド前駆体における感光剤の含有量は、上記ポリイミド前駆体１００部に対して０．０５部以上５部未満の範囲に設定することが好ましく、特に好ましくは０．０５部以上４部以下である。すなわち、感光剤の含有量が５部以上では、感光剤による近赤外領域での吸収が問題となる傾向がみられ、また０．０５部未満ではコントラストが不充分となる傾向がみられるからである。
【００２８】
さらに、感光性ポリイミド前駆体には、必要により、解像性を向上させるために溶解調整剤を適宜配合することができる。
【００２９】
上記溶解調整剤としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコールジフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併用することができる。特にパターン解像性の点から、ポリエチレングリコールジメチルエーテルを用いることが好ましい。さらに、上記化合物の重量平均分子量としては、１５０〜１０００の範囲、特に２００〜８００の範囲にあることが好ましい。
【００３０】
上記溶解調整剤の配合量は、上記ポリイミド前駆体１００部に対して１５〜４５部の範囲に設定することが好ましい。
【００３１】
そして、上記所定パターンに形成されたコア層３ｂを包含するオーバークラッド層４形成材料としては、ポリイミド樹脂前駆体があげられ、例えば、上記アンダークラッド層２形成材料および上記コア層３ｂ形成材料であるポリイミド前駆体と同様のものがあげられる。
【００３２】
つぎに、上記基板および各層形成材料を用いた、本発明の光導波路の製造方法について説明する。
【００３３】
まず、基板上に、ポリイミド樹脂前駆体溶液（ポリアミド酸溶液）を、乾燥後の膜厚が好ましくは１〜３０μｍ、特に好ましくは５〜１５μｍとなるよう塗布し、乾燥させることによりポリイミド樹脂前駆体組成物からなる樹脂層を形成する。上記塗布方法としては、スピンコート法やキャスティング法等の一般的な成膜方法を用いることができる。ついで、不活性雰囲気下、加熱することにより上記樹脂層中の残存溶媒の除去およびポリイミド樹脂前駆体のイミド化を完結させることにより、図１に示すように、基板１上にポリイミド樹脂製のアンダークラッド層２を形成する。
【００３４】
つぎに、図２に示すように、上記アンダークラッド層２上に、このアンダークラッド層２よりも屈折率の高い材料からなる感光性ポリイミド樹脂前駆体溶液（感光性ポリアミド酸ワニス）を、乾燥後の膜厚が好ましくは２〜３０μｍ、特に好ましくは６〜１０μｍとなるよう塗布し、初期乾燥にてコア層となる感光性ポリイミド樹脂前駆体層３ａを形成する。ついで、図３に示すように、所望のパターンが得られるように、感光性ポリイミド樹脂前駆体層３ａ上にフォトマスク５を載置してその上方から紫外線照射を行う。本発明においては、上記紫外線照射における露光量は５〜５０ｍＪ／ｃｍ２  で充分な解像が可能である。その後、光反応を完結させるために、Ｐｏｓｔ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ（ＰＥＢ）と呼ばれる露光後の熱処理を行い、現像を行う。上記現像における現像液としては、通常、アルカリ性の水溶性現像液を用いる。そして、現像によって得られた所望のパターンをイミド化するために、通常熱処理を行う。この際の加熱温度は、一般的に３００〜４００℃であり、真空下または窒素雰囲気下で脱溶剤と硬化反応（キュア）を行うものである。このようにしてイミド化することにより、図４に示すように、ポリイミド樹脂製のパターンとなるコア層３ｂを形成する。
【００３５】
ついで、上記コア層３ｂ上に、上記コア層３ｂよりも屈折率の低い形成材料からなるポリイミド樹脂前駆体溶液を乾燥後の最大の膜厚が好ましくは１〜３０μｍ、特に好ましくは５〜１５μｍとなるよう塗布し、乾燥させることによりポリイミド樹脂前駆体組成物からなる樹脂層を形成する。ついで、上記アンダークラッド層２と同様、不活性雰囲気下、加熱することにより上記樹脂層中の残存溶媒の除去およびポリイミド樹脂前駆体のイミド化を完結させることにより、図５に示すように、コア層３ｂを包含するようにポリイミド樹脂製のオーバークラッド層４を形成し光導波路を作製する。
【００３６】
そして、得られた光導波路のコア層３ｂから感光剤を抽出することにより、所望の光導波路を製造することができる。
【００３７】
上記コア層３ｂからの感光剤の抽出方法としては、例えば、有機溶剤を用いて行われるが、本発明においては、下記の（ａ）および（ｂ）を用いた方法が特に好ましい。
（ａ）液化二酸化炭素、もしくは、高温高圧状態あるいは超臨界状態にある二酸化炭素。
（ｂ）有機溶剤。
【００３８】
上記有機溶剤（ｂ）としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジグライム、トリグライム等の極性溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、シクロヘキサン、メチルケトン、アセトン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶剤等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３９】
そして、上記（ａ）および（ｂ）を用いた感光剤の抽出は、具体的に、つぎのようにして行われる。すなわち、耐圧容器に、コア層３ｂのイミド化が終了した状態の光導波路および有機溶剤（ｂ）を投入し、ついで、液化二酸化炭素を注入して所定の温度および圧力により所定時間放置することにより上記コア層３ｂ内の感光剤の抽出が行われる。
【００４０】
上記抽出条件としては、温度は０〜１５０℃で好ましくは２０〜１００℃、圧力は３．５〜１００ＭＰａで好ましくは６〜２５ＭＰａ、抽出時間は所定の圧力に達してから約２時間があげられる。
【００４１】
さらに、上記有機溶剤の使用量は、上記耐圧容器の容積に対して０．１〜１０容積％に設定することが好ましい。
【００４２】
上記感光剤の抽出は、光導波路のコア層３ｂのイミド化が終了した後であれば行うことが可能であり、例えば、上記オーバークラッド層４の形成前（ポリイミド樹脂前駆体組成物からなる樹脂層の形成前）、あるいは、オーバークラッド層４の形成後に行うことができる。
【００４３】
そして、先に述べたように、感光剤の抽出において、コア層３ｂ内にわずかに感光剤を残存させることによって、上記コア層３ｂの屈折率を両クラッド層２，４の屈折率よりも高くすることが可能となり好ましい。上記感光剤のわずかな残存とは、ポリイミド樹脂組成物に対して、０．１２重量％以下程度をいう。
【００４４】
このようにして得られた光導波路としては、例えば、直線光導波路、曲がり光導波路、交差光導波路、Ｙ分岐光導波路、スラブ光導波路、マッハツエンダー型光導波路、ＡＷＧ型光導波路、グレーティング、光導波路レンズ等があげられる。そして、これら光導波路を用いた光素子としては、波長フィルタ，光スイッチ，光分岐器，光合波器，光合分波器，光アンプ，波長変換器，波長分割器，光スプリッタ，方向性結合器、さらにはレーザダイオードやフォトダイオードをハイブリッド集積した、光伝送モジュール等があげられる。
【００４５】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【００４６】
【実施例】
攪拌機を備えた５００ｍｌのセパラブルフラスコ内で、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）２６．６６ｇ（０．０６モル）と、２，２′−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＢＴＦＢ）１８．５４ｇ（０．０５８モル）と、１，３−ビス（３−アミノプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ＡＰＤＳ）０．５２ｇ（０．００２モル）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１８２．８５ｇ（２．１０モル）に溶解させた後、室温で１０時間攪拌することによりポリアミド酸溶液（ポリイミド樹脂前駆体溶液）を作製した。
【００４７】
つぎに、厚み１．０ｍｍの合成石英ガラス基板上に上記ポリアミド酸溶液をスピンコート法にて塗布し、９０℃で約１５分間の乾燥を行うことにより、ポリイミド樹脂前駆体組成物からなる樹脂膜を形成した。その後、真空および窒素雰囲気下、３５０℃で加熱することにより上記樹脂膜中の残存溶剤の除去およびポリイミド樹脂前駆体のイミド化を完結させ、図１に示すように、合成石英ガラス基板１上にポリイミド樹脂からなるアンダークラッド層２（厚み２０μｍ）を形成した。
【００４８】
ついで、上記アンダークラッド層２上にコア層を形成するため、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と、２，２′−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＢＴＦＢ）を、溶剤（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）中、等モルで反応させることにより、ポリアミド酸溶液（ポリイミド樹脂前駆体溶液）Ａを作製した。
【００４９】
つぎに、上記ポリアミド酸溶液Ａに、１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジンを上記ポリアミド酸溶液Ａの固形分１００部に対して４部の割合で、さらに、重量平均分子量５００のポリエチレングリコールジメチルエーテルを上記ポリアミド酸溶液Ａの固形分１００部に対して３０部の割合で配合することにより、感光性ポリイミド樹脂前駆体組成物を溶液として得た。
【００５０】
そして、図２に示すように、上記感光性ポリイミド樹脂前駆体組成物を用いて、上記アンダークラッド層２上に、アンダークラッド層２の形成と同様の方法にて感光性ポリイミド樹脂前駆体組成物からなる感光性ポリイミド樹脂前駆体層３ａを形成した。ついで、図３に示すように、この感光性ポリイミド樹脂前駆体層３ａ上に、ライン幅２〜１６μｍ×長さ５０ｍｍ×間隔２００ｍｍのフォトマスク５を載置し、その上方から３０ｍＪ／ｃｍ２  の紫外線を照射した後、１８０℃で１０分間露光後加熱を行った。
【００５１】
つぎに、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドと日本アルコール販売社製のエキネンＦ６からなる混合溶液（混合体積比１：１）を現像液とし、３５℃で現像した後、水で洗浄することによりネガ型画像を有するバターンを形成した。その後、真空および窒素雰囲気下、３５０℃で加熱することにより感光性ポリイミド樹脂前駆体のイミド化を完結させ、図４に示すように、所定のパターンからなるコア層３ｂを形成した。形成されたコア層３ｂの厚みを接触式表面粗さ計で測定したところ６μｍであった。
【００５２】
ついで、上記コア層３ｂ上にオーバークラッド層を形成するための形成材料として、上記ポリアミド酸溶液（ポリイミド樹脂前駆体溶液）Ａの調製と同様の工程を得てポリアミド酸溶液（ポリイミド樹脂前駆体溶液）を得た。そして、このポリアミド酸溶液（ポリイミド樹脂前駆体溶液）を用い上記アンダークラッド層２の形成方法と同様の方法にて、図５に示すように、コア層３ｂを包含するようにオーバークラッド層４（最大厚み２０μｍ）を形成した。このようにしてポリイミド樹脂製の光導波路を作製した。
【００５３】
つぎに、このようにして得られた光導波路を５×１０ｃｍ２  の大きさにカットして、抽出溶剤であるＮ−メチル−２−ピロリドン１５．０ｇ（３容積％）が入った耐圧容器（容積５００ｃｍ３  ）中にセットし、液化二酸化炭素を注入しながら、温度４０℃で圧力を徐々に２５ＭＰａまで上げた。そして、温度と圧力が安定した後、２時間その状態を保持することにより、超臨界状態にある二酸化炭素が上記抽出溶剤とともに、上記感光性ポリイミド樹脂組成物（コア層３ｂ）中の感光剤〔１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン〕を抽出し、目的とする光導波路を得た。なお、コア層３ｂ内にはわずかに上記感光剤が残存しており、コア層３ｂの屈折率が、両クラッド層２，４の屈折率より高かった。そして、上記コア層３ｂ内における感光剤のわずかな残存量は、ポリイミド樹脂組成物に対して０．１２重量％以下であった。
【００５４】
このようにして得られた光導波路を、ダイサーによって端面切断を行い、その後カットバック法を用いて波長１．５ｎｍの時の伝播損失を測定した。その結果、光導波路の伝播損失は０．４ｄＢ／ｃｍであった。
【００５５】
【比較例】
感光剤の抽出工程を行わなかった。それ以外は上記実施例と同様にして光導波路を作製した。そして、得られた光導波路を用い、上記実施例と同様にして光導波路の伝播損失を測定した結果、コア層の光透過率が実施例品よりも低いため、１．０ｄＢ／ｃｍであった。
【００５６】
上記測定結果から、実施例品の光導波路は比較例品のそれと比べて伝播損失が低く、感光剤の抽出により光損失の少ない透明性に優れたものが得られたことがわかる。
【００５７】
【発明の効果】
以上のように、本発明は、感光剤を含有する感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いて所定のパターンに形成されたポリイミド樹脂製のコア層を備えた光導波路の製法において、上記コア層を形成した後、このコア層から感光剤を抽出するものである。このため、イミド化におけるキュア時に上記感光剤の熱分解による着色に起因した透明性の低下を抑制することができ、光損失の小さい透明性に優れた光導波路を得ることができる。
【００５８】
そして、上記コア層から感光剤を抽出する際に、液化二酸化炭素、もしくは、高温高圧状態あるいは超臨界状態にある二酸化炭素（ａ）および有機溶剤（ｂ）を用いると、効果的かつ容易に感光剤の抽出を行うことができ、また所望の屈折率を有するコア層を容易に得ることができる。
【００５９】
さらに、上記感光剤として、前記一般式（１）で表される化合物、特に１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジンを用いると、より一層透明性に優れたコア層が得られるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光導波路の製造工程を示す断面図である。
【図２】本発明の光導波路の製造工程を示す断面図である。
【図３】本発明の光導波路の製造工程を示す断面図である。
【図４】本発明の光導波路の製造工程を示す断面図である。
【図５】本発明の光導波路の製造工程を示す断面図である。
【符号の説明】
１  基板
２  アンダークラッド層
３ｂ  コア層
４  オーバークラッド層
【図１】
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【図２】
2004219446.tif 000006
【図３】
2004219446.tif 000007
【図４】
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【図５】
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