(57)【要約】【課題】光学特性が良好であり、かつ、使用時における反り発生を防止した光ディスクを得る。【解決手段】支持基盤の少なくとも一方の面に記録層、接着層及び光透過層が順次積層された光ディスクであって、光透過層の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量に対する、支持基盤の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量である熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内であり、かつ、光透過層は熱可塑性樹脂から主として成ることを特徴とする。【選択図】図２
2004220755.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基盤の少なくとも一方の面に記録層、接着層及び光透過層が順次積層された光ディスクであって、前記光透過層の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量に対する、前記支持基盤の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量である熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内であり、かつ、当該光透過層は熱可塑性樹脂から主として成ることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
前記光透過層上に鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】
前記ハードコート層の膜厚が０．５〜８μｍであり、膜厚精度が±１．０μｍ以内であることを特徴とする請求項２に記載の光ディスク。
【請求項４】
前記ハードコート層が、架橋構造体であることを特徴とする請求項２または３に記載の光ディスク。
【請求項５】
前記ハードコート層が、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項６】
前記ハードコート層が、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０．０重量％含むことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項７】
前記光透過層の複屈折が２０ｎｍ以下であり、厚さが１５μｍ〜２５０μｍであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項８】
前記光透過層の波長４０５ｎｍにおける光透過率が、８７％以上であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項９】
前記光透過層の熱可塑性樹脂は、少なくとも１種のプロトン供与性原子団と、少なくとも１種のプロトン受容性原子団と、を含むビニル系共重合体であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項１０】
前記光透過層の熱可塑性樹脂はビニル系共重合体であり、当該ビニル系共重合体は、少なくとも１種のプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａと、少なくとも１種のプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂと、の混合物であり、混合物内に分子間水素結合により擬似的な架橋が形成されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項１１】
前記ビニル系重合体Ａは、分子内にカルボキシル基、水酸基及びフェノール性水酸基の中から選択される１種以上の官能基を有するビニル系単量体を含む単量体混合物を重合させて得られた重合体であり、前記ビニル系重合体Ｂは、分子内に窒素原子を有するビニル系単量体を含む単量体混合物を重合させて得られた重合体であり、かつ、前記ビニル系重合体Ａ及び前記ビニル系重合体Ｂのいずれか一方のガラス転移温度が２５℃以上であり、他方のガラス転移温度が２５℃未満であることを特徴とする請求項１０に記載の光ディスク。
【請求項１２】
前記熱可塑性樹脂は、アクリル樹脂であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項１３】
前記光透過層の熱可塑性樹脂中に、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤及び光安定剤の中から選択される少なくとも１種以上の化合物が含有されることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項１４】
前記光透過層と前記接着層との屈折率差が０．１以下であることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項１５】
前記支持基盤は、主としてポリカーボネートから成ることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項１６】
前記支持基盤の厚さは、０．４ｍｍ〜１．２ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、コンパクトディスク（ＣＤ）、ＤＶＤあるいは光磁気記録ディスク等の光ディスクであり、特に、２０ＧＢ以上の記録容量を有する大容量化した高密度ＤＶＤ等の光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクは、透明なプラスチック基盤より成る支持基盤の一方の面側に、微細な凹凸を有するビット列や溝から成る信号情報を記録した記録層を形成しており、記録層と対向する面側からレーザー光などの光を照射して、支持基盤上の信号情報に応じて反射光量が変化することを利用して情報の記録及び再生を行うシステムである。
【０００３】
光ディスクの種類として、例えば、コンパクトディスク（ＣＤ：Compact Disk）、ＤＶＤ( Digital Versatile Disk)及び光磁気記録ディスク等が挙げられる。
【０００４】
代表的な光ディスクであるＣＤでは、厚さが０．６ｍｍである支持基盤上に情報を読み出す透明な光透過層が形成されており、光透過層は記録層を有する支持基盤を兼ねた構造である。ＣＤでは、記録再生用として波長７８０ｎｍのレーザー光を使用し、光透過層側から記録再生用のレーザー光を照射し、支持基盤上の記録層に刻印されたビット列や溝から成る信号情報に応じて変化する反射光量に基づき記録層に記録された情報を再生する。
【０００５】
ＣＤよりも記録容量の大きいＤＶＤでは、記録再生用として波長６３５ｎｍのレーザー光を使用しているが、基本的には、前述したＣＤと同様に、記録層にレーザー光を照射して信号情報の記録及び再生を行う。
【０００６】
図３は、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図であり、図４はその断面図である。図３及び図４に示すように、ＤＶＤ１０は、支持基盤１１と、支持基盤１１上に形成された記録層１２と、記録層１２上に形成された光透過層１３と、を備える。さらに、具体的に説明すると、単層板においては情報を読み出す透明な支持基盤１１の厚さは０．６ｍｍであり、この支持基盤１１上にビット１４列や記録用溝等の情報が記録された記録層１２が形成され、記録層１２上に支持基盤１１と同厚さ（０．６ｍｍ）の透明支持基盤を張り合わせて光透過層１３が形成される。なお、記録層１２上に張り合わせて形成された光透過層１３は、通常「ダミー」と呼ばれ、光ディスク自体の強度を向上させる役割を果たしている。上記図３及び図４に示すように、光透過層１３側からレーザー光１５を照射して、記録層の情報を記録及び再生する。
【０００７】
さらに、ここ数年、映像情報や動画情報等の発展に伴い、記録容量を大容量化したＤＶＤが求められ、次世代ディスクと呼ばれる記録容量が２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤの開発が進められている。高密度ＤＶＤは、直径１２センチのサイズであり従来と同様のサイズである。従来と同様のサイズであることから、記録層におけるトラックピッチを狭小化しあるいはビット長を縮小化する等により微細化し、高密度化を図ることが要求されている。
【０００８】
具体的には、厚さが１．１ｍｍ程度の支持基盤上にビット列や溝等により信号情報が記録された記録層が形成され、記録層の表面には透明な厚さ０．１ｍｍ程度のフィルムを接着して光透過層が形成される。そして、光透過層の面側から４００ｎｍ程度の短波長の青色レーザーを照射して、信号情報の記録及び再生を行う。
【０００９】
上述したＣＤ、ＤＶＤ及び次世代ディスク等の支持基盤及び光透過層（ダミー層）の材料として、例えば、強度特性及び光学特性が良好なポリカーボネートが使用されていることが報告されており（特許文献１及び特許文献２参照）、次世代ＤＶＤの記録層としてもポリカーボネートが使用されている。さらに、次世代ＤＶＤの光透過層としては、ポリカーボネート以外のその他の各種材料を適用することも検討されている。
【特許文献１】特開２０００−６７４６８号公報
【特許文献２】特開２００１−２４３６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上述した光透過層は、４００ｎｍ程度の短波長であるレーザー光を透過させて記録層に刻印された信号情報の記録及び再生をするため、光透過層の光透過率が低いと記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下してしまうという問題があった。このため、高い信号精度を得るために、光透過層における４００ｎｍ程度の短波長レーザーの光透過率が高いことが要求されており、光透過率の良好な材料が望まれている。
【００１１】
アクリル樹脂は、高度な透明性を有しているため、特に、４００ｎｍ程度の短波長のレーザーを用いた光ディスクへの適用が各種試みられている。しかし、アクリル樹脂は高い透明性が得られるものの、アクリル樹脂から成る光透過層を光ディスクに適用した場合、例えば、アクリル樹脂から成る光透過層用のフィルムと、アクリル樹脂以外の材料から成る支持基盤用のフィルムと、を張り合わせてフィルムを積層して光ディスクを構成した場合、使用時に光ディスクに反りが発生してしまうという問題を有していた。特に、大容量化した高密度光ディスクでは、前述したように光透過層及び支持基盤の厚さを極めて薄くしているため、光ディスクに反りが発生し易いという問題を有していた。光ディスク自体に反りが発生すると、レーザー光を照射して光ディスクの記録及び再生をする際、反射光の方向に大きなずれが生じてしまい、記録層の信号情報の再生及び記録を正確に行えないという問題を有していた。
【００１２】
また、前記の反りを低減するためには、アクリル樹脂の貯蔵弾性率を増加させると改善されるが、貯蔵弾性率を増加させるとアクリル樹脂表面の硬度が低下するため、実用時に傷がつき易いという問題を有している。塵をふき取る際、或いは、何かとの接触により光透過層表面微細な傷が生じてしまった場合、レーザ光自体が記録層に到達しない又は、到達光及び反射光の強度が著しく落ちるため、光信号を正確に読みことができなくなり、その結果、記録容量が低下する問題を有している。
【００１３】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、光学特性が良好であり、かつ、使用時における反り発生を防止した光ディスクを得ることを目的とする。
【００１４】
さらに、本発明は、上記に加え、実用時の表面耐擦傷性が優れた光ディスクを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
反りが発生する原因は、支持基盤と光透過層との材料が相異するためであり、使用環境における水分の吸収量の違いや、熱膨張量の差により体積変動量が異なる等の影響があり、特に、熱膨張量は、材料固有の本質的な特性に起因するものである。このため、本発明者らは、光ディスクに適用する光透過層及び支持基盤の各熱膨張量を種々変えて反り発生を種々研究した結果、支持基盤と光透過層との熱膨張量を所定の範囲と規定することにより、反りの発生を低減できることを見出し、本発明を完成させたものである。
【００１６】
すなわち、本発明は、支持基盤の少なくとも一方の面に記録層、接着層及び光透過層が順次積層された光ディスクであって、前記光透過層の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量に対する、前記支持基盤の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量である熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内であり、かつ、当該光透過層は熱可塑性樹脂から主として成ることを特徴とする。
【００１７】
更に、本発明の光ディスクの光透過層上に鉛筆硬度が３Ｈ以上のハードコート層を設けることにより実用時の耐擦傷性を向上させ、反りの発生と傷付き易さを同時に低減することに成功した。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、光ディスクの長期使用時及び耐環境性促進試験時のディスクの反りを著しく低減することができ、その結果、記録層での読み取り精度及び書き込み精度を向上させることが可能である。さらに、光ディスクの光透過層上にハードコート層を形成することで、実使用時の耐擦傷性に優れる、より高品質の光ディスクを提供することができる。その結果、映像情報や動画情報等の発展に伴い光ディスクに要求される記録容量の大容量化を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明において、光透過層に対する支持基盤の熱膨張比を０．７５〜１．２５の範囲と規定したが、より好ましくは、０．８〜１．２であり、さらに、好ましくは、０．９〜１．１の範囲である。熱膨張比が０．７５よりも小さくなると環境性試験時又は長期に亘る実使用時に光透過層が収縮する方向にディスクが反り、記録層での読み取り精度及び書き込み精度が低下し、熱膨張比が１．２５を超えると、環境性試験時又は長期に亘る実使用時に光透過層が膨張する方向にディスクが反り、記録層での読み取り精度及び書き込み精度が低下するからである。
【００２０】
また、本発明において、光透過層を形成する熱可塑性樹脂としては、光透過層の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量に対する、支持基盤の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量である熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内にあるものであれば如何なるものも使用できる。例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース樹脂等の中から適宜選択することができる。これらの樹脂中、変性のし易さ、透明性の高さ及び低複屈折等の諸特性の観点から考慮すると、後述するアクリル樹脂が最も好適である。
【００２１】
また、本発明の光ディスクにおいて、光透過層の複屈折を２０ｎｍ以下とすることが好ましい。複屈折が２０ｎｍを超えると、光ディスクに書き込む際及び読み出す際の信号精度が低下する傾向があるからである。複屈折は、信号精度の点から、１０ｎｍ以下がより好ましく、５ｎｍ以下がさらに好ましく、特に２０ＧＢを超えるような高密度ＤＶＤの場合には、２ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２２】
さらに、本発明の光ディスクにおいて、光透過層の厚さは１５〜２５０μｍであることが好ましく、より好ましくは２５〜２００μｍ、さらに好ましくは３５〜１５０μｍである。光透過層の厚さが１５μｍ未満になると強靱性が低下し、加工時の作業性が悪化する傾向があり、逆に、２５０μｍを超えると溶剤、モノマ等の揮発性物質が残存しやすく特性の良好なフィルムが得られないからである。なお、光透過層の厚さの測定は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８０１０）を用いて、任意の大きさ（例えば１ｃｍ２〜１００００ｃｍ２の面内）について、全体から適切に（例えば２５〜１０００点）測定点を選択して測定し、その平均値を厚さとすることができる。
【００２３】
また、本発明の光ディスクにおいて、光透過層の波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。光透過率が８７％未満になると、記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下してしまうからである。光透過率を８７％以上とするために、例えば、紫外線を吸収する添加剤を用いないこと又は樹脂を構成する単量体に紫外線吸収帯を持たないもののみを用いることにより調整することができる。
【００２４】
なお、これらの詳細な測定法の例は、実施例において詳述する。
【００２５】
光透過層を形成する熱可塑性樹脂としては、光透過層の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量に対する、支持基盤の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量である熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内であれば如何なるものも使用できるが、変性のし易さ、透明性の高さ、低複屈折等の諸特性の観点から考慮すると、アクリル樹脂が最も好適である。
【００２６】
アクリル樹脂は、反応性の２重結合を有する単量体を重合することにより得られるものであり、特に制限はなく、例えば、以下に示すものを用いることができる。アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル酸ノルボルニルメチル、アクリル酸シアノノルボルニル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェンチル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸ジメチルアダマンチル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカ−８−イル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカ−４−メチル、アクリル酸シクロデシル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ブトキシエチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ナフチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸シアノノルボルニル、メタクリル酸フェニルノルボルニル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−４−メチル、メタクリル酸シクロデシル等のメタクリル酸エステル類、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、α−クロルスチレン、α−ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリル酸カルシウム、アクリル酸バリウム、アクリル酸鉛、アクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸カルシウム、メタクリル酸バリウム、メタクリル酸鉛、メタクリル酸すず、メタクリル酸亜鉛等の（メタ）アクリル酸金属塩、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−ｉ−プロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｉ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ブロモフェニル）フェニルマレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ベンジルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリブロモフェニル）マレイミド、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−メチルピペリジルメタクリレート等が挙げられる。また、これらは単独で又は２種以上組み合わせて使用され、ここに示したものに制限されることはない。
【００２７】
また、本発明において、光透過層を形成する熱可塑性樹脂は、少なくとも１種のプロトン供与性原子団と、少なくとも１種のプロトン受容性原子団と、を含むビニル系共重合体であることが好ましく、これにより、両原子団の間には分子間水素結合により擬似的な架橋が形成される。さらに、ビニル系重合体としては、特にアクリル酸又はメタクリル酸のエステルを主な単量体として製造されるアクリル系重合体であることが、透明性等のフィルム特性の面から好ましい。
【００２８】
ビニル系重合体をアクリル系重合体（アクリル樹脂）とした場合には、その分子量については特に制限はないが、強靱性、耐熱性の点から重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値）を１０，０００〜１，０００，０００の範囲とすることが好ましい。
【００２９】
また、アクリル樹脂の欠点である可とう性不足を改善する目的で、柔軟性のあるアクリル樹脂を使用することが好ましく、屈折率が同一のゴム粒子を添加することや柔軟性の高いアクリル樹脂をブレンドすることもできる。柔軟性の高いアクリル樹脂をブレンドする方法としては、例えば、特開２０００−２７３３１９号公報あるいは特開２００２−３８０３６号公報に記載された方法が知られている。本方法によれば、プロトン受容性の原子団を有するアクリル樹脂と、プロトン供与性の原子団を有するアクリル樹脂とをブレンドした際に分子間水素結合が形成され、そのブレンド物であるアクリル樹脂組成物は高い透明性を得ている。
【００３０】
さらに、上記発明において、ビニル系重合体としては、少なくとも１種のプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａと、少なくとも１種のプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂと、の混合物であり、混合物内に分子間水素結合により擬似的な架橋が形成されているものが好ましい。なお、ここで「擬似的な」と表現したが、疑似とは、熱（熱分解温度以下）又は溶剤等により架橋構造が切断され、温度を下げるか又は溶剤を除去することにより再び架橋構造が形成されると推定できるためである。以下、ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Bについて説明する。
【００３１】
[ビニル系重合体Ａ]
ビニル系重合体Ａは、少なくとも１種のプロトン供与性原子団を有する重合体であり、カルボキシル基、水酸基及びフェノール性水酸基の中から選択される１種以上の官能基を有し、以下に示す単量体と共重合させて得ることができる。例えば、アクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイロキシプロピルアクリレート、ビニルフェノール、ビニル安息香酸、安息香酸ビニル及びそれらの誘導体等が挙げられる。また、これらは単独で又は２種以上組み合わせて使用され、ここに例示したものに制限されない。
【００３２】
分子内にカルボキシル基、水酸基及びフェノール性水酸基の中から選択される１種以上の官能基を有するビニル系単量体と、他のビニル系単量体とを共重合する場合、ビニル系重合体Ａの主構成部分を構成するビニル系単量体に対し、前述の官能基を有するビニル系単量体を０．２モル％以上添加して共重合することが好ましく、より０．５モル％以上共重合することが好ましく、さらに１．０モル％以上添加して共重合することが好ましい。０．２モル％未満になると分子間水素結合点が少なくなり溶解性が低下し、得られる熱可塑性樹脂の透明性が損なわれる傾向があるためである。
【００３３】
本発明におけるプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａを製造するためには、上記の材料を用いて、塊状重合、懸濁重合、乳化重合、溶液重合等の既存の方法を適用することができる。
【００３４】
重合を行う際には、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用することができ、ここに示したものに制限されるものではない。重合開始剤は、ビニル系重合体の製造に用いる単量体の総量に対して０．０１〜１０重量％の範囲で使用することが好ましい。
【００３５】
さらに、分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することができる。また、ここに示したものに限定されるものではない。
【００３６】
熱重合による場合、重合温度は０℃〜２００℃の間で適宜選択することができ、５０℃〜１２０℃の範囲とすることが好ましい。
【００３７】
本発明におけるプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａは、その分子量について特に制限はないが、強靱性、耐熱性の点から重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値）が１０，０００〜１，０００，０００の範囲のものが好ましく、１００，０００〜１，０００，０００の範囲とすることがより好ましい。
【００３８】
[ビニル系重合体Ｂ]
プロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂは、少なくとも１種のプロトン受容性原子団を有する重合体であり、反応性の２重結合を有する単量体を重合することにより得ることができ、透明性、複屈折等の光学特性を損なわない限り特に制限はない。反応性の２重結合を有する単量体は、前述したビニル重合体Ａに用いられる単量体と同様のものを使用することができる。
【００３９】
プロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂは、通常のビニル系重合体及び／又は共重合体中に少なくとも１個のプロトン受容性原子団、好ましくは窒素原子を有する原子団を有する単量体を導入すれば得ることができるが、分子中への窒素原子の導入方法としては、ビニル系単量体の重合の際、以下の単量体を共重合させれば良い。例えば、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチルＮ−メチルピリミジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチルＮ−メチルピリミジルアクリレート、２，２，６，６−テトラ−Ｎ−メチルピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、ビニルピリジン及びその誘導体等が挙げられる。また、ここに示したものに限定されるものではない。
【００４０】
また、プロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂの分子中に少なくとも一個の窒素原子を導入するための単量体の使用量としては、プロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂの主構成部分を構成するビニル系単量体に対して、０．２モル％以上が好ましく、０．５モル％以上共重合することがより好ましく、１．０モル％以上共重合することがさらに好ましい。０．２モル％未満であると、分子間水素結合点が少なくなることから溶解性が悪くなり、得られる樹脂組成物の透明性が損なわれる傾向があることから０．２モル％以上とすることが好ましい。
【００４１】
本発明におけるプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂの製造には、上記の材料を用い塊状重合、懸濁重合、乳化重合、溶液重合等の既存の方法を適用できる。
【００４２】
重合を行う際には、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用することができる。また、ここに示したものに限定されるものではない。重合開始剤は、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａの製造に用いる単量体の総量に対し０．０１重量％〜１０重量％の範囲で使用することが好ましい。
【００４３】
さらに、分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することができる。また、ここに示したものに限定されるものではない。
【００４４】
熱重合による場合、重合温度は、０〜２００℃の間で適宜選択することができ、５０℃〜１２０℃の範囲とすることが好ましい。
【００４５】
プロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂは、その分子量について特に制限はないが、強靱性、耐熱性の点から重量平均分子量（ポリスチレン換算）が１０，０００〜１，０００，０００の範囲のものが好ましい。
【００４６】
[ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂの混合]
プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａと、プロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂと、の混合を行う際に、ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂの混合比率は、得られる樹脂組成物の透明性を確保するのであれば特に制限はないが、強靱性、耐熱性、透明性の点から、ビニル系重合体Ａとビニル系重合体Ｂとの各々の水素結合を形成できる原子団のモル比を１５対１〜１対１５の混合比で混合することが好ましい。さらに、好ましくは、ビニル系重合体Ａにおけるカルボキシル基、水酸基及びフェノール性水酸基の中から選択される１種以上の官能基と、ビニル系重合体Ｂにおける窒素原子含有基とのモル比を、１５対１〜１対１５の混合比で混合することが好ましい。
【００４７】
本発明の光ディスクに好適に使用される疑似架橋型樹脂組成物は、上記のプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａとプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂとを混合することにより得ることができ、可撓性又は耐熱性を向上させる目的により、ビニル系重合体を適宜添加することも可能である。
【００４８】
本発明において、擬似架橋型樹脂組成物とは水素結合で架橋している樹脂組成物を指す。また、擬似とは熱（熱分解温度以下）又は溶剤等により架橋構造が切断され、温度を下げるか又は溶剤を除去することにより架橋構造が形成されることを指す。
【００４９】
本発明において、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａとプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂとを混合する方法は、溶融混練法、ワニスブレンド法など特に方法は問わない。
【００５０】
プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａと、プロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂと、のブレンド物の熱膨張量を、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａ単独の熱膨張量、あるいはプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂ単独の熱膨張量よりも小さくするためには、プロトン供与性原子団におけるカルボキシル基、水酸基及びフェノール性水酸基の中から選択される１種以上の官能基と、プロトン受容性原子団における窒素原子含有基と、のモル比を５対１〜１対５の範囲とすることが好ましく、さらに小さくするためには２対１〜１対２の範囲とすることが好ましい。
【００５１】
本発明において、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａとプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂのガラス転移温度は異なることが好ましく、さらには一方のガラス転移温度が２５℃未満であり、かつ、他方のガラス転移温度が２５℃以上にすることがより好ましい。このように相違するガラス転移温度を有するビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを混合することにより、得られるビニル重合体に耐熱性及び可撓性を付与することができる。上記の温度条件から外れた場合、室温において可撓性を付与できず、熱変形してしまうという問題が生じる傾向があるため、ガラス転移温度は上記の条件を満たす温度範囲であれば特に問題はないが、好ましくは一方が＋１０℃以下、他方が＋５０℃以上であり、さらに好ましくは一方が０℃以下、他方が＋８０℃以上とすることが好ましい。なお、本発明において、ガラス転移温度はＤＶＡ（動的粘弾性測定）、ＴＭＡ，ＤＳＣ法等により測定することができるが、ＤＶＡ（動的粘弾性測定）を基準とすることが好ましく、後述する実施例においても、ＤＶＡで測定を行っている。
【００５２】
可撓性を付与するためには、ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂのどちらか一方のガラス転移温度を２５℃未満にすることが好ましいが、それはどちらでも構わない。そこで任意の高分子の製造において、単独重合体でのガラス転移温度が２５℃（好ましくは０℃）より低い単量体と共重合することにより、ビニル系重合体を目的のガラス転移温度以下に調製することができる。
【００５３】
上述の熱可塑性樹脂を、フィルム、シート又は成形材に加工して、光ディスクの光透過層として適用することができる。また、熱可塑性樹脂又はビニル系重合体をフィルム、シート又は成形材とする際には、必要に応じて任意の成分を加えることができる。例えば、劣化防止、熱的安定性、成形性及び加工性等種々の観点から、熱可塑性樹脂中に、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤及びチオエーテル系酸化防止剤等の酸化防止剤や、光安定剤の中から選択される少なくとも１種以上の化合物を含有させることが好ましい。さらに具体的に、酸化防止剤及び光安定剤について説明する。
【００５４】
ここで用いるフェノール系酸化防止剤としては、光透過層として使用する熱可塑性樹脂の透明性、低複屈折性を低下させない限り特に制限はない。例えば、以下の構造式（１）〜構造式（８）に示す酸化防止剤を用いることができる。
【化１】
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【化２】
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【化３】
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【化４】
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【化５】
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【化６】
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【化７】
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【化８】
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【００５５】
ホスファイト系酸化防止剤としては、光透過層として使用する熱可塑性樹脂の透明性及び複屈折性を低下させない限り特に制限はなく、例えば、以下の構造式（９）〜構造式（２１）に示す酸化防止剤を用いることができる。
【化９】
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【化１０】
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【化１１】
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【化１２】
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【化１３】
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【化１４】
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【化１５】
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【化１６】
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【化１７】
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【化１８】
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【化１９】
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【化２０】
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【化２１】
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【００５６】
チオエーテル系酸化防止剤としては、光透過層として使用する熱可塑性樹脂の透明性及び複屈折性を低下させない限り特に制限はなく、例えば、以下の構造式（２２）〜構造式（２４）に示す酸化防止剤を用いることができる。
【化２２】
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【化２３】
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【化２４】
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【００５７】
また、本発明において使用する光安定剤としては、光透過層として使用する熱可塑性樹脂の透明性及び低複屈折性を低下させない限り特に制限はないが、例えば、以下の構造式（２５）〜構造式（３４）に示す光安定剤を使用することができる。
【化２５】
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【化２６】
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【化２７】
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【化２８】
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【化２９】
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【化３０】
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【化３１】
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【化３２】
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【化３３】
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【化３４】
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【００５８】
上記酸化防止剤及び光安定剤の添加剤は、単独又は２種以上を併用することができる。添加剤の量は必要に応じて決定することができ、一般に、光透過層の製造に用いられる熱可塑性樹脂の固形分に対し、１．０重量％以下添加することが好ましく、特に０．０１重量％以上添加することが好ましい。添加剤の量が１．０重量％を超えると、熱可塑性樹脂の透明性が低下する傾向があるからである。特に、光透過層として、加熱溶融して作製されるフィルムを使用する際には、上記に例示した酸化防止剤を添加することが望ましい。酸化防止剤を添加しないと、加工時に酸化劣化による着色が生じてしまい、熱可塑性樹脂の透明性を低下させる恐れがあるからである。しかし、加工時、比較的低温（２００℃程度以下）で加工できる場合には、酸化防止剤を添加しなくても良い。光安定剤は、熱可塑性樹脂の光安定性に応じて添加することができる。脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤などを添加するものであっても良い。
【００５９】
これらの添加剤は、単独又は２種以上を併用することができる。各々の添加量は、必要に応じて決定することができる。但し、１．０％超えて添加すると、熱可塑性樹脂の透明性が低下する傾向があるからである。
【００６０】
その他としては、脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤などを添加しても良い。
【００６１】
本発明では、光透過層に用いる樹脂から、溶融混練法、溶媒キャスト法等で有機溶媒を揮発させることによりフィルムやシートを得ることができる。
【００６２】
キャストの条件は特に制限されるものではないが、例えば空気中や不活性ガス中、８０〜１６０℃の温度で行うことが可能である。ここで用いる溶媒には、ビニル系重合体が溶解するものであれば特に制限はない。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、NMP、ジメチルアセトアミド等を用いることができる。ここに示したものは一例でありこれらに制限されるものではない。
【００６３】
またこれら条件を用いて予備乾燥を行ったあと、これをさらに１６０〜３５０℃の高温で乾燥することで乾燥時間を短縮することが可能である。
【００６４】
得られたフィルム又はシートは強靱でかつ柔軟性を有しており、機械特性に優れている。得られたフィルム又はシートは好適な柔軟性を有することより後に実施例で示されるように好適な折り曲げ加工性を有する。また特にガラスやアルミ、銅などといった金属に対する密着性が高いため、フィルムやシートの作成においてはキャスト基板の選択が重要である。
【００６５】
具体的にはステンレス、ＰＥＴフィルム、テフロン（登録商標）フィルム等が選択できるが、樹脂組成物との密着性が低くければこれらに制限されない。
【００６６】
また、溶融混練法により製造する場合も製造条件に特に制限はないが、例えば、空気中１８０℃〜２５０℃程度の温度で溶融して適当に調整されたギャップを通して押し出し、その形状を保ったまま冷却することによりフィルムを製造することができる。高温で加工するために酸化防止剤等の安定剤を添加した方が良い。
【００６７】
上述の熱可塑性樹脂は、少なくとも支持基盤、記録層、接着層、光透過層から構成される光ディスクの光透過層として用いることができる。また、本発明における支持基盤、記録層は特に制限はなく、従来のものを用いることができる。
【００６８】
本発明における接着層には、透明性を損なわない限り特に制限はない。例えば、紫外線硬化型樹脂、感圧型粘着フィルム等を用いることができる。
【００６９】
上記発明において、光透過層と接着層との屈折率差が、０．１以下であることが好ましい。また、より好ましくは０．０５以下であり、さらに好ましくは０．０１以下である。光透過層と接着層との屈折率差が０．１を超えると接着層と光透過層との界面において、レーザー光の乱反射が生じ、信号の読み取り及び書き込み精度が低下する傾向があるからである。支持基盤、記録層、接着層、光透過層の積層方法には如何なる方法を用いても良い。
【００７０】
また、上記発明において、支持基盤は、主としてポリカーボネート（ＰＣ）から成ることが好ましく、支持基盤の厚さは、０．４ｍｍ〜１．２ｍｍであることが好ましい。より好ましい支持基盤の厚さは、０．６ｍｍ〜１．１ｍｍである。
【００７１】
また、本発明の光学部ディスクの光透過層表面上には、さらにハードコート層が形成されていてもよく、このハードコート層は、硬化後の表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈ以上であることが好ましい。鉛筆硬度が３Ｈ未満であると耐擦傷性が不十分である。また、ハードコート層は、特に限定されないが、架橋体構造であることが好ましく、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることがより好ましい。また、ハードコート層の膜厚は０．５〜８．０μｍであることが好ましく、その膜厚精度は±１．０μｍ以内であることが好ましい。ハードコート層の膜厚が０．５μｍ未満であると耐擦傷性の向上効果が低く、８．０μｍを越えると環境性試験時にクラックが生じる。
【００７２】
このようなハードコート層を形成する方法としては、特に制限されないが、例えば、予め作製した、熱可塑性樹脂から主として成る光透過層用フィルム上に硬化触媒を添加したハードコート前駆体を均一な厚みに塗布し、その後、これを加熱もしくは紫外線照射して硬化させることで積層フィルムを作製し、この積層フィルムを接着層を介し、ハードコート層を外側にして記録層に貼付することで形成できる。
【００７３】
上記シリコーン系架橋構造体となるハードコート前駆体としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリエトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリメトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリエトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）メトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）エトキシシラン等の加水分解縮合物を用いることができる。尚、これらのシラン化合物は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【００７４】
上記ハードコート前駆体に添加される硬化触媒としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属水酸化物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、メチルアミン、エチルアミン、（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、シクロヘキシアミン、モルホリン、トリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、トリエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジメチルハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジエチルハイドロオキサイド等のアミン化合物を用いることができ、中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が好適である。中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等がより好適である。但し、これらは一例でありここに示したものに限定されるものではない。また、これらは単独で用いても良いし、２種類以上を併用することもできる。添加する硬化触媒量は、特に制限されないが、ハードコート前駆体の固形分に対して０．０５重量％〜１０重量％の範囲で適宜選択することができる。
【００７５】
加熱による硬化温度は、ハードコート前駆体が硬化できる温度であれば特に制限はないが、一般に６０℃〜１８０℃程度が好適である。最も好ましい温度は１２０℃〜１６０℃程度である。
【００７６】
また、上記ハードコート前駆体を製造する際には触媒を用いるが、その触媒としては、例えば、上記の硬化触媒と同様のアルカリ水酸化物、アミン化合物、さらには、塩酸、硫酸、硝酸、パラトルエンスルフォン酸、燐酸、フェノールスルフォン酸、ポリリン酸等の酸を用いることができる。これらは単独で用いることもできるし、２種類以上を併用することもできる。尚、ここに示したものは一例であり、これらに制限されるものではない。
【００７７】
本発明におけるハードコート前駆体を製造する際の反応温度には特に制限はないが、２０℃〜１００℃程度の温度が好適である。２０℃を下回ると、反応速度が低下し生産性が低下する。１００℃を越えると、加水分解又は縮合により生成するアルコール又は水が沸騰するため危険を伴う。また、反応は、溶液中でおかなうことが好適である。用いることのできる溶媒は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等のアルコールを挙げることができる。ここに示したものは１例であり、これらに制限されるものではない。
【００７８】
本発明におけるハードコート層となる、アクリル系架橋構造体としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する重合性化合物を含む重合性材料（ハードコート材料）を用いて形成することができる。
【００７９】
このハードコート材料で用いることができる、重合性化合物としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、オリゴエステル（メタ）アクリレートなどの２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡにアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）が付加した付加体のジ（メタ）アクリレート［例えば、２，２−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル］プロパンなど］などの２官能性（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ホスファゾ基−Ｐ＝Ｎ−と（メタ）アクリロイル基とを有する（メタ）アクリレートなどの多官能性（メタ）アクリレートが含まれる。
【００８０】
また、硬化塗膜の特性を調整するため、単官能性（メタ）アクリレート、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートなどのＣ１−２０アルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの塩基性窒素原子含有（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートなどのハロゲン含有（メタ）アクリレートなどを併用してもよい。
【００８１】
このような重合性ハードコート材料は、熱重合開始剤（ベンゾイルパーオサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどの有機過酸化物など）を含む熱硬化性のものでもよいが、生産性を向上させるため、光重合開始剤を含む光硬化型のものが好ましく、特に紫外線硬化型のものが好ましい。
【００８２】
光重合を開始するために使用する化合物としては、例えば、ベンゾイン又はその誘導体（ベンゾイン，ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなど）、ケトン類（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンやその誘導体（アルコキシアセトフェノンなど）、プロピオフェノン又はその誘導体（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなど）、ベンゾフェノン又はその誘導体（４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ケトンなど）、ベンジル又はその誘導体（ベンジルおよびベンジルメチルケタールなど）、チオキサントン又はその誘導体（２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントンなど）などの慣用の光重合開始剤や増感剤を使用することができ、これらは単独で使用してもよく、二種以上組み合わせて使用してもよい。
【００８３】
熱重合開始剤や光重合開始剤の量は、前記重合性化合物１００重量部に対して、０．１〜１０重量部程度用いることが好ましい。
【００８４】
またハードコート材料は、必要に応じて、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類などの有機溶媒を含む有機溶媒含有塗布剤であってもよい。
【００８５】
また、本発明におけるハードコート層は、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０．０重量％含有することが好ましい。シリコーン系熱可塑性樹脂を含有することにより、ハードコート層表面の滑り性が向上し、耐擦傷性をより向上させることができる。
【００８６】
また、光透過層上にハードコート層を形成して本発明の光学部品用フィルムとする場合、光透過層とハードコート層をあわせた２層の複屈折は、光透過層単独での好ましい値の範囲と同様、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、特に２０ＧＢを超えるような高密度ＤＶＤの場合、２ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【００８７】
また、ハードコート層を光透過層上に形成した場合、２層あわせた膜厚や光透過性などの値は、上述した光透過層単独の規定に準ずることが好ましい。
【００８８】
また、熱可塑性樹脂から主として成る光透過層フィルム上には、これを支持し、使用時には剥離除去される基材層を設けてもよい。また、後の貼り付け工程を減少させるために、フィルム上に接着層をあらかじめ設けてもよく、上記基材層と共に設けてもよい。なお、ハードコート層が形成されているフィルムの場合には、接着層はハードコート層と反対側の面に形成する。さらに、接着層が最外層に積層される場合には、これを保護し、使用時には剥離除去される保護層を形成してもよい。このように、基材層、接着層、ハードコート層、および保護層が積層されうる光透過層フィルムは、用途に応じて各種層を自由に組み合わせて得ることができ、２〜５層構造の積層フィルムとなりうるものである。なお、上記「接着層」とは、接着剤や粘着剤等を塗布、またはそれらのフィルムをラミネートして形成される層を指すものであり、積層フィルムと記録層を貼り合わせることができるものであれば公知のものを使用することができ、種類や形成方法は特に限定されない。
【００８９】
以下、本発明の光ディスクとして、２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤを例に挙げて説明する。
【００９０】
図１は、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図であり、図２はその断面図である。図１及び図２に示すように、高密度ＤＶＤ１は、支持基盤２上に記録層３を備え、記録層３上に接着層４を介して光透過層５が形成される。
【００９１】
ＤＶＤは、４０５nmの短波長レーザー光６を光透過層５側から照射し、光透過層５を介して記録層３の信号情報を再生及び記録するものであるが、高密度ＤＶＤ１では、光透過層５を薄肉としている。
【００９２】
ＤＶＤの構成材料としては、光透過層５として熱可塑性樹脂を使用したものであり、この熱可塑性樹脂は、３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量に対する、支持基盤の３０℃〜８０℃の一軸方向における熱膨張量である熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内であるものであれば特に制限は無く、支持基盤２及び記録層３は、従来と同様の材料から成るものを適用することができる。
【００９３】
支持基盤２は、例えば、ポリカーボネート等のプラスチック基板から構成され、接着層４は、透明性を損なわない限り特に材料は制限されず、例えば、紫外線硬化型樹脂、感圧型粘着フィルム等を適用することができる。
【００９４】
支持基盤２の厚さは、０．４ｍｍ〜１．２ｍｍの範囲とし、記録層３及び接着層４の厚さは、３０μｍ〜２５０μｍの範囲とすることができ、より好ましい記録層３及び接着層４の厚さは３０μｍ〜１５０μｍである。
【００９５】
なお、上述した支持基盤２、記録層３、接着層４、光透過層５の各層の積層方法としては、いかなる方法を使用しても良い。
【００９６】
次に、以下に示す実施例により光ディスクを作製し、各種特性を検討した。
【実施例】
【００９７】
具体的には、実施例１から実施例１０、比較例１から比較例４により、樹脂材料を各々変えた光透過層用フィルム、さらにはそのそれぞれの表面上にハードコート層を形成した積層フィルムの特性評価を行うと共に、各光透過層用フィルムおよび各積層フィルムを使用して光ディスクを作製し、光ディスクの特性評価を行った。なお、各実施例及び比較例で使用した材料をまとめたものを表１に示す。なお、表１中の構造式３５、構造式３６及び構造式３７は、化３５、化３６及び化３７に各々対応する。
【表１】
2004220755.tif 000037
【００９８】
【化３５】
2004220755.tif 000038
【化３６】
2004220755.tif 000039
【化３７】
2004220755.tif 000040
【００９９】
[実施例１]
本実施例では、まずプロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａとプロトン受容性原子団を有するビニル重合体Ｂとを含有するビニル系重合体（アクリル樹脂）を製造し、ビニル系重合体からフィルムを形成し、さらに、このフィルムを使用した光ディスクを作製した。
【０１００】
＜ビニル系重合体の製造＞
[プロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａの製造]
５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）５６．１ｇ（２９モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）７３．１ｇ（６５モル％）、アクリル酸（ＡＡ）３．８ｇ（６モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。
【０１０１】
[プロトン受容性原子団を有するビニル重合体Ｂの製造]
５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８８．８ｇ（８１．６モル％）、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）３７．１ｇ（１５．５モル％）、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジルメタクリレート７．１ｇ（２．９モル％）を秤取し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を１８時間保持し、ビニル系重合体Ｂのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。
【０１０２】
＜光透過層フィルムの製造＞
得られたプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａのアセトン溶液とプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂのアセトン溶液を４：６の重量比で混合してビニル重合体混合物を得た。その後、略称ＡＯ−５０及び略称ＨＰ−１０で示される酸化防止剤をビニル重合体混合物に対して各々０．１％加え、完全に溶解させた後、その溶液をガラス板上に塗布した。その後、１００℃で１０分間加熱乾燥した後、１５０℃で１５分間加熱乾燥して溶媒を除去し、厚さ約１００μｍの光透過層フィルムを作製した。作製したフィルムを評価用試料とし、以下の測定法により、熱膨張量、熱膨張比、光透過率、複屈折、膜厚、膜厚精度を各々評価した。評価結果は、後述する表２にまとめて示した。
【０１０３】
[熱膨張量、熱膨張比]
光透過層を形成する各材料から評価試験片として、サイズ（４ｍｍ×２０ｍｍ）のフィルムを作製し、３０℃から８０℃に温度を上昇させたときの一軸方向における熱膨張量を測定した。測定には、Seiko Instruments社製のSSC/5200を使用し、測定条件は、昇温速度２℃／min、測定モードを引張りモードとした。また、ポリカーボネートから形成される支持基盤からサイズ（４ｍｍ×２０ｍｍ）の評価試験片を作製し、同様に熱膨張量を測定した。熱膨張量の測定方法は、３０℃において上記サイズの試験片における長手方向の中央部分１０ｍｍをギャップとしてその両側に鉄製ジグを取り付け、これを上記測定条件で昇温し、８０℃においてどの位の長さ膨張したかを膨張量として測定し、μｍ単位で表した。
【０１０４】
測定された光透過層のフィルムと支持基盤との熱膨張量について、光透過層に対する支持基盤のフィルムの熱膨張比を算出した。
【０１０５】
[光透過率（％）]
光透過率は、分光光度計を用いて、室温（２５℃）で波長４０５ｎｍの光透過率を測定した。測定器は、ＪＡＳＣＯ社製のＶ−５７０を用いた。
【０１０６】
[複屈折（nm）]
複屈折は、島津製作所（株）製のエリプソメータＡＥＰ−１００を使用して測定した。
【０１０７】
［膜厚（μｍ）、膜厚精度（μｍ）］
フィルムの膜厚及び膜厚精度は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８１００）を使用し、サイズ１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形フィルムについて測定した。
【０１０８】
正方形フィルムの４つの辺を、それぞれ直線Ａ、直線Ｂ、直線Ｃ、直線Ｄとし、直線Ａに対向する辺を直線Ｃとし、直線Ｂに対向する辺を直線Ｄとした。直線Ａから直線Ｃに向かって３ｃｍの間隔を空けた３本の平行直線を各々直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３とし、これら３本の平行直線（Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３）と、直線Ａと、直線Ｃとの合計５本について、以下の手順により直線上の各点におけるフィルムの膜厚を測定した。まず、直線Ａの一端部から正方形内側の１ｃｍの点を基準点とし、基準点から直線Ａの他端部に向かい１ｍｍの間隔を空けた各点について、他端部から正方形内側１ｃｍの点までの長さ１０ｃｍに亘る合計１０１個の各点についてフィルムの膜厚を測定した。次に、直線Ａと同様の方法を用いて、直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３及び直線Ｃについての各点の膜厚を測定し、５本の直線について合計５０５個の各点の膜厚を測定した。さらに、前述した直線Ａから直線Ｃまでの各直線と同様に、直線Ｂから直線Ｄに向かう５本の直線（直線Ｂ、直線Ｂ１、直線Ｂ２、直線Ｂ３、直線Ｄ）の合計５０５個の各点について膜厚を測定した。最後に、前述した方法により測定された正方形フィルム内の総計１０１０個についての膜厚の平均値をフィルムの膜厚とした。
【０１０９】
＜光ディスクの作製＞
直径１２ｃｍのポリカーボネート製の支持基盤上に、粘着フィルム（積水化学製  品名：5511）をラミネートし、さらに粘着フィルム上に上記で作製した光透過層フィルムをラミネートして光ディスクを作製した。粘着層と光透過層の屈折率差および作製した光ディスクについて、以下の測定法により光ディスクの反りを評価し、その結果を後述する表２に示した。
【０１１０】
[屈折率差]
アッベ屈折計を用い光透過層、粘着層それぞれの屈折率を測定し、その差を求めた。
【０１１１】
[光ディスクの反り]
作製した光ディスクを、温度８０℃、湿度８５％の恒温恒湿槽中で１００ｈ放置した後の反り量を測定した。反り量は、直径１２ｃｍのディスクの端部が水平面より変動した距離を実態顕微鏡により測定し、測定された変動距離から三角関数を用いて角度を算出し、算出した角度をディスクの反り量とした。
【０１１２】
[実施例２]
本実施例では、実施例１と同様の方法により製造したビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを使用し、両者のビニル系重合体の混合比を変えた以外は、実施例１と同様の手順により光透過層フィルムを作製した。その後、作製したフィルムを用いて、実施例１と同様の手順により光ディスクを作製した。光透過層フィルムおよび光ディスクについて、実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２に示した。
【０１１３】
上記混合比について、具体的には、得られたビニル系重合体Ａのアセトン溶液とビニル系重合体Ｂのアセトン溶液のアセトン溶液を３：７の重量比で混合し、その後、完全に溶解させて、その溶液をガラス板上に塗布した後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、さらに１５０℃で１５分間加熱乾燥して溶媒を除去し、厚さ約１００μｍのフィルムを作製し、評価用試料とした。
【０１１４】
[実施例３]
本実施例では、２種類のビニル系重合体を混合せずに、以下に示す方法により製造した１種類の単独のビニル系重合体から作製した光透過層フィルムを用いた以外は、実施例１と同様に光ディスクを作製した。光透過層フィルムおよび光ディスクについて、実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２に示した。
【０１１５】
＜ビニル系重合体の製造＞
メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）９８ｇ（９９モル％）、エチレンジメタクリレート（ＥＤＭＡ）２ｇ（１モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．３ｇをモノマ混合物に添加して溶解した後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し溶存酸素を置換しその混合物を１００μｍのギャップを設けたステンレス板の間に封入した。これを６０℃の恒温槽に約１８時間放置し、重合反応を行った。このときの重合率は９９％以上であった。このステンレス板を取り外し、厚さ１００μｍのフィルムを得た。
【０１１６】
[実施例４]
本実施例では、実施例１と同様の方法により製造したビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを使用し、両者のビニル系重合体の混合比を変えた以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムを作製した。その後、作製したフィルムを用いて、実施例１と同様の手順により光ディスクを作製した。光透過層フィルムおよび光ディスクについて、実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２に示した。
【０１１７】
上記混合比について、具体的には、得られたビニル系重合体Ａのアセトン溶液とビニル系重合体Ｂのアセトン溶液のアセトン溶液を５：５の重量比で混合し、その後、完全に溶解させて、その溶液をガラス板上に塗布した後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、さらに１５０℃で１５分間加熱乾燥して溶媒を除去し、厚さ約１００μｍの光透過層フィルムを作製し、評価用試料とした。
【０１１８】
[実施例５]
本実施例では、実施例１と同様の方法により製造したビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを使用し、両者のビニル系重合体の混合比を変えた以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムを作製した。その後、作製したフィルムを用いて、実施例１と同様の手順により光ディスクを作製した。光透過層フィルムおよび光ディスクについて、実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２に示した。
【０１１９】
上記混合比について、具体的には、得られたビニル系重合体Ａのアセトン溶液とビニル系重合体Ｂのアセトン溶液のアセトン溶液を２：８の重量比で混合し、その後、完全に溶解させて、その溶液をガラス板上に塗布した後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、さらに１５０℃で１５分間加熱乾燥して溶媒を除去し、厚さ約１００μｍの光透過層フィルムを作製し、評価用試料とした。
【０１２０】
[比較例１]
本比較例では、プロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａを以下の方法により製造した以外は、実施例１と同様の方法を用いて、光透過層フィルムおよび光ディスクを作製した。光透過層フィルムおよび光ディスクについて、実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２に示した。
【０１２１】
[プロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａ]
５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）５８．０ｇ（３１モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）７５．０ｇ（６９モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し溶存酸素を置換した後、窒素気流下で６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【０１２２】
[比較例２]
本比較例では、２種類のビニル系重合体を混合せずに、以下に示す方法により製造した１種類の単独のビニル系重合体から作製した光透過層フィルムを用いた以外は、実施例１と同様に光ディスクを作製した。光透過層フィルムおよび光ディスクについて、実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２に示した。
【０１２３】
＜ビニル系重合体の製造＞
５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）７６．２ｇ（６５モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）３７．５ｇ（２５モル％）、シクロヘキシルマレイミド１９．２ｇ（１０モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、ビニル系重合体のアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【０１２４】
＜フィルムの製造＞
上記溶液をガラス板上に塗布した後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、更に１５０℃で１５分間加熱乾燥して、溶媒を除去し、約１００μｍのフィルムを作製し、評価用試料とした。
【表２】
2004220755.tif 000041
【０１２５】
表２に示すように、比較例１の光透過層を形成するアクリル系重合体は、フィルム形成能が見られず熱膨張量を測定することができず、また、比較例２では、光透過層に対する支持基盤の熱膨張比が０．７２の値と小さく、反り量が高い値となっていたが、実施例１から実施例５までは、いずれも熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内にあることから、光ディスクの反り量を低減することができた。
【０１２６】
[実施例６]
本実施例では、まずプロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａとプロトン受容性原子団を有するビニル重合体Ｂとを含有するビニル系重合体（アクリル樹脂）を製造し、ビニル系重合体からフィルムを形成し、さらに、該フィルム上にハードコート前駆体を塗工積層し、加熱硬化した後、この積層フィルムを使用した光ディスクを作製した。
【０１２７】
＜ビニル系重合体の製造＞
[プロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａの製造]
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）４４９ｇ（２９モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）５８５ｇ（６５モル％）、アクリル酸（ＡＡ）３０ｇ（６モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド３．２ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。
【０１２８】
[プロトン受容性原子団を有するビニル重合体Ｂの製造]
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）７１０ｇ（８１．６モル％）、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）２９７ｇ（１５．５モル％）、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジルメタクリレート５７ｇ（２．９モル％）を秤取し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル３．２ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を１８時間保持し、ビニル系重合体Ｂのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。
【０１２９】
＜光透過層フィルムの製造＞
得られたプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａのアセトン溶液とプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂのアセトン溶液を４：６の重量比で混合してビニル重合体混合物を得た。その後、略称ＡＯ−５０及び略称ＨＰ−１０で示される酸化防止剤をビニル重合体混合物に対して各々０．１％加え、完全に溶解させた後、この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、基材層としてコスモシャインＡ−４１００（東洋紡績（株）製）のＰＥＴを使用し、３ｍ／ｍｉｎ速度で塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１４０℃の乾燥路を３分通して光透過層フィルムを形成した。このときのフィルムの膜厚は１００μｍであった。作製したフィルムを評価用試料とし、上記と同様の測定法により、本実施例の光透過層フィルムの熱膨張量、熱膨張比、光透過率、複屈折、膜厚、膜厚精度を上記と同様の測定方法により各々評価した。評価結果は、後述する表３にまとめて示した。
【０１３０】
＜積層フィルムの製造＞
ハードコート前駆体（ｘ−１２−２２０６）の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１５％水溶液（和光純薬（株）製）を３．３重量％添加してはーコート前駆体溶液を調整した。この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、光透過層フィルム上に塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１５０℃の乾燥路を３分通して積層フィルムを形成した。このときの積層フィルムの膜厚は１０５μｍであり、光透過層フィルムの膜厚は１００μｍであるので、ハードコート層の膜厚は５μｍである。本実施例の積層フィルムの膜厚、膜厚精度、光透過率、複屈折を上記と同様の測定方法により、積層フィルムのハードコート層の鉛筆硬度および密着性を下記の方法により各々測定した。評価結果は、後述する表３にまとめて示した。
【０１３１】
［ハードコートの鉛筆硬度］
ハードコートの鉛筆硬度は、ハードコート前駆体の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１５％水溶液（和光純薬（株）製）を３．３重量％添加したものをガラス板状に塗布した後、５０℃／３分の後直ちに１５０℃／３分加熱し、ハードコートを作製し、その鉛筆硬度をＪＩＳ  K５４００に準拠して測定した。
【０１３２】
［ハードコートの密着性］
積層フィルムのハードコート面から１ｍｍ間隔に１ｃｍ以上の切り込みを碁盤の目状に１０本ずつ入れ、その上にセロテープを貼り付けた後瞬時に引き剥がしたときの剥離個数を升目の数で割ったものを密着性の尺度とした。
【０１３３】
＜光ディスクの作製＞
直径１２ｃｍのポリカーボネート製の支持基盤上に、粘着フィルム（積水化学製  品名：5511）をラミネートし、さらに粘着フィルム上に作製した積層フィルムをラミネートして光ディスクを作製した。粘着層と光透過層の屈折率差および作製した光ディスクの反り量を上記と同様の測定方法により、その耐擦傷性を以下の測定法により測定した。結果を後述する表３に示した。
【０１３４】
［光ディスクの耐擦傷性］
光ディスクの耐擦傷性は、摩耗試験器を用いて、荷重２５０ｇ、摩耗輪ＣＳＦ−１、回転数１００回転で行い、試験後のヘイズを耐擦傷性の尺度とした。ヘイズ（％）は、ヘーズメーター（スガ試験器（株）製、ＨＧＭ−２）を用い、室温で測定した。
【０１３５】
[実施例７]
本実施例では、実施例６と同様の方法により製造したビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを使用し、両者のビニル系重合体の混合比を変えた以外は、実施例１と同様の手順により光透過層フィルムを作製した。その後、作製した光透過層フィルム上に実施例６と同様の手順によりハードコート層を形成して、積層フィルムを作製し、これを用いて光ディスクを製造した。
【０１３６】
上記混合比について、具体的には、得られたビニル系重合体Ａのアセトン溶液とビニル系重合体Ｂのアセトン溶液のアセトン溶液を３：７の重量比で混合し、その後、完全に溶解させて、この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、基材層としてコスモシャインＡ−４１００（東洋紡績（株）製）のＰＥＴを使用し、３ｍ／ｍｉｎ速度で塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１４０℃の乾燥路を３分通して光透過層フィルムを形成した。このときの光透過層フィルムの膜厚は１００μｍであった。
【０１３７】
本実施例の光透過層フィルム、積層フィルムおよび光ディスクについて、実施例６と同様の各種特性評価を行い、その結果を表３に示した。
【０１３８】
[実施例８]
本実施例では、２種類のビニル系重合体を混合せずに、以下に示す方法により製造した１種類の単独のビニル系重合体から作製した光透過層フィルムを用い、以下に示す方法により作製した積層フィルムを用いた以外は、実施例６と同様にして光ディスクを製造した。本実施例の光透過層フィルム、積層フィルムおよび光ディスクについて、実施例６と同様の各種特性評価を行い、その結果を表３に示した。
【０１３９】
＜ビニル系重合体の製造＞
メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）９８ｇ（９９モル％）、エチレンジメタクリレート（ＥＤＭＡ）２ｇ（１モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．３ｇをモノマ混合物に添加して溶解した後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し溶存酸素を置換しその混合物を１００μｍのギャップを設けたステンレス板の間に封入した。これを６０℃の恒温槽に約１８時間放置し、重合反応を行った。このときの重合率は９９％以上であった。このステンレス板を取り外し、厚さ１００μｍの光透過層フィルムを得た。
【０１４０】
＜積層フィルムの製造＞
ハードコート前駆体（ｘ−１２−２２０６）の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１５％水溶液（和光純薬（株）製）を３．３重量％添加してハードコート前駆体溶液を調整した。この溶液を前記光透過層上にハンドコータを用いて塗布し、５０℃／１０分乾燥後、１５０℃で５分間加熱して、積層フィルムを得た。このときのハードコート層の膜厚は約２μｍであった。
【０１４１】
[実施例９]
本実施例では、実施例６と同様の方法により製造したビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを使用し、両者のビニル系重合体の混合比を変えた以外は、実施例１と同様の手順により光透過層フィルムを作製した。その後、作製した光透過層フィルム上にハードコート層を実施例６と同様の手順で形成し、積層フィルムを得た。ハードコート層の膜厚は約２μｍであった。その後、実施例６と同様の手順により光ディスクを作製した。
【０１４２】
上記混合比について、具体的には、得られたビニル系重合体Ａのアセトン溶液とビニル系重合体Ｂのアセトン溶液のアセトン溶液を５：５の重量比で混合し、その後、完全に溶解させて、この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、基材層としてコスモシャインＡ−４１００（東洋紡績（株）製）のＰＥＴを使用し、３ｍ／ｍｉｎ速度で塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１４０℃の乾燥路を３分通して光透過層フィルムを形成した。このときの光透過層フィルムの膜厚は１００μｍであった。
【０１４３】
本実施例の光透過層フィルム、積層フィルムおよび光ディスクについて、実施例６と同様の各種特性評価を行い、その結果を表３に示した。
【０１４４】
[実施例１０]
本実施例では、実施例６と同様の方法により製造したビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを使用し、両者のビニル系重合体の混合比を変えた以外は、実施例６と同様の手順により光透過層フィルムを作製した。その後、作製した光透過層フィルム上にハードコート層を実施例６と同様の手順で塗工し、積層フィルムを得た。ハードコート層の膜厚は約２μｍであった。その後、実施例６と同様の手順により光ディスクを作製した。
【０１４５】
上記混合比について、具体的には、得られたビニル系重合体Ａのアセトン溶液とビニル系重合体Ｂのアセトン溶液のアセトン溶液を２：８の重量比で混合し、その後、完全に溶解させて、この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、基材層としてコスモシャインＡ−４１００（東洋紡績（株）製）のＰＥＴを使用し、３ｍ／ｍｉｎ速度で塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１４０℃の乾燥路を３分通して光透過層を形成した。このときの光透過層の膜厚は１００μｍであった。
【０１４６】
本実施例の光透過層フィルム、積層フィルムおよび光ディスクについて、実施例６と同様の各種特性評価を行い、その結果を表３に示した。
【０１４７】
[比較例３]
本比較例では、プロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａを以下の方法により製造したこと、およびハードコート層を形成しなかったこと以外は、実施例６と同様の方法を用いて光透過層フィルムおよび光ディスクを作製した。本実施例の光透過層フィルムおよび光ディスクについて、実施例６と同様の各種特性評価を行い、その結果を表３に示した。
【０１４８】
[プロトン供与性原子団を有するビニル重合体Ａ]
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、  メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）４６４ｇ（３１モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）６００ｇ（６９モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド３．２ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し溶存酸素を置換した後、窒素気流下で６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、プロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【０１４９】
[比較例４]
本実施例では、２種類のビニル系重合体を混合せずに、以下に示す方法により製造した１種類の単独のビニル系重合体から作製した光透過層フィルムを用い、積層フィルムのハードコート層の膜厚を約０．５μｍとした以外は、実施例６と同様にして光ディスクを製造した。本実施例の光透過層フィルム、積層フィルムおよび光ディスクについて、実施例６と同様の各種特性評価を行い、その結果を表３に示した。
【０１５０】
＜ビニル系重合体の製造＞
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）６１０ｇ（６５モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）３００ｇ（２５モル％）、シクロヘキシルマレイミド１５４ｇ（１０モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド３．２ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、２５℃で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、ビニル系重合体のアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【０１５１】
＜フィルムの製造＞
上記溶液をガラス板上に塗布した後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、更に１５０℃で１５分間加熱乾燥して、溶媒を除去し、約１００μｍのフィルムを作製し、評価用試料とした。
【表３】
2004220755.tif 000042
【０１５２】
表３に示すように、比較例３の光透過層を形成するアクリル系重合体は、フィルム形成能が見られず熱膨張量を測定することができず、また、比較例４では、光透過層に対する支持基盤の熱膨張比が０．７２の値と小さく、反り量が高い値となっていたが、実施例６から実施例１０までは、いずれも熱膨張比が０．７５〜１．２５の範囲内にあることから、光ディスクの反り量を低減することができた。
【０１５３】
また、比較例３のハードコートを積層しない場合、比較例４のハードコートの膜厚が薄すぎる場合は、各々耐擦傷性が低いのに対して、実施例６から実施例１０では、耐擦傷性が向上していることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１５４】
【図１】本発明の実施形態における、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図。
【図２】図１に示した高密度ＤＶＤの一部の構造を示す断面図。
【図３】従来例における、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図。
【図４】図３に示したＤＶＤの断面図。
【符号の説明】
【０１５５】
１  高密度ＤＶＤ
２  支持基盤
３  記録層
４  接着層
５  光透過層
６  レーザー光
【図１】
2004220755.tif 000043
【図２】
2004220755.tif 000044
【図３】
2004220755.tif 000045
【図４】
2004220755.tif 000046