(57)【要約】【課題】高速露光が可能で画像形成能の優れる画像形成方法、特に生産性及び耐刷性能に優れた平版印刷版原版の製版に有用な画像形成方法を提供する。【解決手段】被画像形成媒体に赤外光ビームをオーバーラップさせて像様露光する工程と該被画像形成媒体を現像処理して画像形成する工程とを少なくとも有する画像形成方法であって、赤外光ビーム径のビーム強度の半値幅（ＦＷＨＭ）と副走査側のビーム中心間距離との比であるオーバーラップ係数が０．２５以上０．７５以下、且つ、露光解像度が１３００ｄｐｉ以下の条件で前記像様露光工程を行うことを特徴とする画像形成方法である。【選択図】　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
被画像形成媒体に赤外光ビームをオーバーラップさせて像様露光する露光工程と、該被画像形成媒体を現像処理する画像形成工程と、を少なくとも有する画像形成方法であって、
前記露光工程が、赤外光ビーム径のビーム強度の半値幅（ＦＷＨＭ）と副走査側のビーム中心間距離との比であるオーバーラップ係数が０．２５以上０．７５以下、且つ、露光解像度が１３００ｄｐｉ以下の条件で行われることを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】
前記被画像形成媒体が、（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物と、（Ｂ）赤外線吸収剤と、（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物と、（Ｄ）酸により架橋する架橋剤と、を含有する画像形成層を備えた平版印刷版原版である請求項１に記載の画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被画像形成媒体の画像形成方法に関し、特に、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザーを走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版に有用な画像形方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年におけるレーザーの発展は目覚しく、特に波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザー（以下、「赤外線レーザー」という場合がある。）は、高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになった。これらの赤外線レーザーは、コンピュータ等のデジタルデータにより直接印刷版を製版する際の記録光源として非常に有用である。従って、このような赤外線記録光源に対し、感応性の高い画像記録材料、即ち、赤外線照射により光化学反応等が起こり、現像液に対する溶解性が大きく変化する画像記録材料への要望が近年高まっている。
【０００３】
このような赤外線レーザーにより記録可能な画像記録材料としては、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外線吸収剤よりなる記録材料（特許文献１参照）、ハロアルキル置換されたｓ−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外線吸収剤よりなる画像記録材料（特許文献２参照）、等が知られている。
【０００４】
一方、これらの画像記録材料の露光方法としては、露光時間を短縮するなど生産性向上を目的とする露光方法、例えば、低解像度で露光を行う露光方法がある。具体的には、解像度１３００ｄｐｉ以下で露光を行う露光方法が、新聞分野などにおいて採用されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−２０６２９号公報
【特許文献２】
特開平７−２７１０２９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような低解像度露光にて得られる画像記録材料は、例えば２０００ｄｐｉ以上の高解像度露光にて得られるものと比較して画像形成能が劣るものとなり、例えば、この技術を平版印刷版原版の製版方法に応用した場合、得られる平版印刷版の印刷時の耐刷性能が劣化してしまうという問題があった。
従って、本発明の目的は、高速露光が可能で画像形成能の優れる画像形成方法、特に生産性及び耐刷性能に優れた平版印刷版原版の製版に有用な画像形成方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明者は種々の方法を鋭意研究した結果、以下の手段によれば上記課題を解決して目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
即ち、本発明は、被画像形成媒体に赤外光ビームをオーバーラップさせて像様露光する露光工程と、該被画像形成媒体を現像処理する画像形成工程と、を少なくとも有する画像形成方法であって、
前記露光工程が、赤外光ビーム径のビーム強度の半値幅（ＦＷＨＭ）と副走査側のビーム中心間距離との比であるオーバーラップ係数が０．２５以上０．７５以下、且つ、露光解像度が１３００ｄｐｉ以下の条件で行われることを特徴とする画像形成方法である。
【０００９】
本発明においては、前記被画像形成媒体が、（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物と、（Ｂ）赤外線吸収剤と、（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物と、（Ｄ）酸により架橋する架橋剤と、を含有する画像形成層を備えた平版印刷版原版であることが好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。ここでは、被画像形成媒体として平版印刷版原版を用いた画像形成方法及び平版印刷版原版の製版方法を説明するが、本発明はこれらに特に限定されるものではない。
【００１１】
本発明において、像様露光に用いる露光装置は、露光解像度が１３００ｄｐｉ以下の露光が可能な装置であれば特に限定されるものではないが、赤外線を発光するＬＤ（Ｌａｓｅｒ　Ｄｉｏｄｅ）を光源に使用した露光装置が好ましく用いられる。また、露光光源としては、特に、半導体レーザーが好ましく用いられる。
【００１２】
本発明における露光方法は、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光する。ここで、オーバーラップとは、副走査側のビーム中心間距離がビーム径より小さいことをいう。例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅（ＦＷＨＭ）で表わしたとき、ＦＷＨＭ／副走査側のビーム中心間距離（オーバーラップ係数）で定量的に表現することができる。
本発明において、オーバーラップ係数は、０．２５以上０．７５以下であり、好ましく、０．３以上０．７以下であることが特に好ましい。生産性の向上の観点からはオーバーラップ係数の値が小さい方が望ましく、画像形成能の向上の観点からはオーバーラップ係数の値が大きい方が望ましい。
オーバーラップ係数の値が、０．２５未満であると、画像形成性が不充分となる。即ち、ビーム重なり部分の画像濃度が低下し、耐刷性能が劣化する。一方、０．７５を越えると、アブレーションが起こり、耐刷性能が劣化する。露光解像度の下限は、特に制限はないが、効果の点からは３００ｄｐｉ程度である。
本発明においては、露光時のオーバーラップ係数の値を上記範囲とすることにより、露光解像度が１３００ｄｐｉ以下の低解像度露光の場合であっても優れた画像形成性を発揮することができ、平版印刷版原版に適用した場合には、高耐刷性を実現することができる。
本発明は、例えば、新聞等の生産性を重視した印刷物の画像形成方法として、好適に用いることができる。
【００１３】
本発明に使用する露光装置の光源の走査方式は、特に限定されるものではなく、例えば、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式など、公知の走査方式のものを好適に用いることができる。また、光源は、単チャンネル方式でもマルチチャンネル方式でもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。
【００１４】
本発明においては、露光後すぐに現像処理を行ってもよいが、露光工程と現像工程の間に加熱処理を行う、すなわち加熱処理を施した後に現像処理することが好ましい。この加熱処理の条件としては、温度６０〜１５０℃下で、５秒〜５分間とすることが好ましい。
前記加熱処理としては、従来公知の種々の方法から適宜選択することができる。具体的には、非画像形成媒体である平版印刷版原版をパネルヒーターやセラミックヒーターと接触させながら加熱する方法、ランプや温風により非接触での加熱方法等が挙げられる。前記加熱処理を施すことにより、照射するレーザーの、画像記録に必要なレーザーエネルギー量の低減を図ることができる。
【００１５】
現像処理は、特に限定されるものではないが、通常、水又はアルカリ性の水溶液を現像液として用いて行うのが一般的である。この種の現像処理に用いられるアルカリ性の水溶液及びその補充液としては、従来より公知のアルカリ水溶液の中から選択することができる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第３リン酸ナトリウム、第３リン酸カリウム、第３リン酸アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、第２リン酸カリウム、第２リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の無機アルカリ塩、
【００１６】
モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤、を挙げることができる。前記無機アルカリ塩及び有機アルカリ剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１７】
前記無機アルカリ塩及び有機アルカリ剤を用いた現像液としては、例えば、特開昭５４−６２００４号公報、特公昭５７−７４２７号公報に記載のアルカリ金属ケイ酸塩等の、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液を好適に挙げることができる。これは、ケイ酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ２とアルカリ金属酸化物Ｍ２Ｏ（Ｍは、アルカリ金属を表す。）との混合比率と濃度の調整により、現像性を容易に調節することができる。
【００１８】
近年、特に製版・印刷業界においては、製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用原版を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷用原版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。
【００１９】
この場合、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液を補充液として現像液中に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できる。従って、本発明においても、この補充方式を採用することは好ましい態様である。
【００２０】
現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系又は両性界面活性剤が好ましく、前記有機溶剤としては、ベンジルアルコール等が好ましい。また、ポリエチレングリコール若しくはその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくはその誘導体等の添加も好ましい。
【００２１】
さらに、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナトリウム塩若しくはカリウム塩等の無機塩系還元剤、有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
【００２２】
前記界面活性剤、有機溶剤、還元剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭５１−７７４０１号公報に記載の、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭５３−４４２０２号公報に記載の、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特開昭５５−１５５３５５号公報に記載の、水に対する溶解度が常温下で１０質量％以下の有機溶剤、アルカリ剤、及び水からなる現像液組成物等を好適に挙げることができる。
【００２３】
前記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水や界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。この後処理には、これらの処理液を種々組み合わせて用いることができる。
【００２４】
また、実質的に未使用の処理液で処理する、いわゆる使い捨て処理方式も適用可能である。
【００２５】
前記のようにして得られる平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布した後、印刷工程に供することができる。また、より一層耐刷性能を向上させる目的で、バーニング処理を施すこともできる。平版印刷版をバーニング処理する場合には、バーニング処理前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載の整面液で処理することが好ましい。その処理方法としては、前記整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、整面液を平版印刷版上に塗布する方法、整面液を満たしたバット中に平版印刷版を浸漬する方法、自動コーターによる塗布方法等が挙げられる。また、塗布後にスキージ又はスキージローラーを用いて、その塗布量を均一化することも好ましい。前記整面液の塗布量としては、一般に、塗布、乾燥後の固形分量で０．０３〜０．８ｇ／ｍ２が好ましい。
【００２６】
平版印刷版に整面液を塗布、乾燥した後、必要に応じて、バーニングプロセッサー（例えば、ＢＰ−１３００，富士写真フイルム（株）製）等を用いて高温に加熱される。該加熱温度及び時間としては、画像を形成する含有成分の種類によるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分が好ましい。
【００２７】
バーニング処理が施された平版印刷版は、必要に応じて、適宜水洗、ガム引き等の、従来から行われている処理を適宜施こすこともできる。尚、水溶性高分子化合物等を含有する整面液を使用した場合には、ガム引き等のいわゆる不感脂化処理を省略することもできる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に使用することができる。
【００２８】
以下、被画像形成媒体としての平版印刷版原版について詳述する。
本発明に好適に用いられる平版印刷版原版は、少なくとも、（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物と、（Ｂ）赤外線吸収剤と、（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物と、（Ｄ）酸により架橋する架橋剤と、を含有する画像形成層を備えたものである。
【００２９】
本発明における平版印刷版原版の画像形成層は、赤外線感応性のネガ型の画像記録材料であり、この種の平版印刷版原版の画像形成プロセスは、通常、以下のように説明される。
即ち、先ず赤外線レーザーを照射することにより、その照射部分に存在する赤外線吸収剤によりレーザー光が効率よく吸収され、その吸収エネルギーの蓄積により露光部分のみが発熱して酸を発生する。この発生した酸により、共存する架橋剤が架橋反応を起こし、露光部のみがアルカリ水に不溶性となって像を形成する一方、非露光部ではアルカリ現像処理により現像除去されて、所望の画像が形成される。このとき、露光工程において、オーバーラップ係数を所定の範囲とすることにより、優れた生産性及び耐刷性能という効果が得られる。
【００３０】
以下、本発明における平版印刷版原版の画像形成層の各構成について詳細に説明する。
【００３１】
［（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物］
本発明において好適に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物としては、例えば、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー等が挙げられる。前記ノボラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。中でも、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−又はｍ−／ｐ−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂等が好ましい。
【００３２】
前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜２０００００で、数平均分子量が４００〜６０，０００のものが好ましい。
【００３３】
また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシアリール基としては、ＯＨ基が１以上結合したアリール基が挙げられる。前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。
【００３４】
前記ヒドロキシアリール基としては、ヒドロキシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロキシフェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好ましい。これらのヒドロキシアリール基は、さらに、ハロゲン原子、炭素数２０以下の炭化水素基、炭素数２０以下のアルコキシ基、炭素数２０以下のアリールオキシ基等の置換基を有していてもよい。前記ヒドロキシアリール基は、ポリマーを構成する主鎖に側鎖としてペンダント状に結合しているが、主鎖との間に連結基を有していてもよい。
【００３５】
本発明において好適に使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーとしては、例えば、特開２０００−２８４４７４号公報に記載の下記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位のうちのいずれか１種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００３６】
【化１】
2004109858.tif 000002
【００３７】
上記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）中、Ｒ１１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ１２及びＲ１３は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１０以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ基又は炭素数１０以下のアリールオキシ基を表す。また、Ｒ１２とＲ１３が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサン環を形成していてもよい。Ｒ１４は、単結合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１５は、単結合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１６は、単結合又は炭素数１０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｘ１は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合又はアミド結合を表す。ｐは、１〜４の整数を表す。ｑ及びｒは、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
【００３８】
本発明においては、前記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位のみからなるホモポリマーであってもよいが、他の構成単位を含む共重合体であってもよい。該他の構成単位としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーに由来する構成単位が挙げられる。
【００３９】
前記アクリル酸エステル類としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又はｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。
【００４０】
前記メタクリル酸エステル類としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙げられる。
【００４１】
前記アクリルアミド類としては、例えば、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
【００４２】
前記メタクリルアミド類としては、例えば、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。
【００４３】
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。
【００４４】
前記モノマーの中でも、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルが好ましい。
【００４５】
前記モノマーを用いた共重合体中に含まれる、前記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位の割合としては、５〜１００質量％が好ましく、１０〜１００質量％がより好ましい。
【００４６】
側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーの分子量としては、重量平均分子量で４０００以上が好ましく、１万〜３０万がより好ましい。また、数平均分子量としては、１０００以上が好ましく、２０００〜２５万がより好ましい。さらに、多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）としては、１以上が好ましく、１．１〜１０がより好ましい。
【００４７】
側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、中でも、ランダムポリマーが好ましい。
【００４８】
本発明における（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物は、１種類のみで使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。このアルカリ水可溶性高分子化合物の添加量としては、画像形成層の全固形分に対し５〜９５質量％が好ましく、１０〜９５質量％がより好ましく、２０〜９０質量％が特に好ましい。このアルカリ水可溶性樹脂の添加量が、５質量％未満であると、画像形成層の耐久性が劣化することがあり、９５質量％を超えると、画像形成されないことがある。
【００４９】
［（Ｂ）赤外線吸収剤］
本発明における（Ｂ）赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有しており、発生した熱により後述の（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物が分解して酸を発生させる。本発明において好適に使用可能な赤外線吸収剤としては、波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収しうる染料又は顔料が好ましく、波長７６０〜１２００ｎｍの領域に吸収極大を有する染料又は顔料がより好ましい。
【００５０】
前記染料としては、市販の染料又は文献（例えば、「染料便覧」，有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載の公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。中でも、例えば、特開昭５８−１２５２４６号公報、特開昭５９−８４３５６号公報、特開昭５９−２０２８２９号公報、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載のシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号公報、特開昭５８−１８１６９０号公報、特開昭５８−１９４５９５号公報等に記載のメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号公報、特開昭５８−２２４７９３号公報、特開昭５９−４８１８７号公報、特開昭５９−７３９９６号公報、特開昭６０−５２９４０号公報、特開昭６０−６３７４４号公報等に記載のナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載のスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン染料等が好ましい。
【００５１】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号公報、同５８−２２０１４３号公報、同５９−４１３６３号公報、同５９−８４２４８号公報、同５９−８４２４９号公報、同５９−１４６０６３号公報、同５９−１４６０６１号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等、特公平５−１３５１４号公報、同５−１９７０２号公報に記載のピリリウム化合物等も好ましい。さらに、米国特許第４，７５６，９９３号明細書に記載の式（Ｉ）、（ＩＩ）で表される近赤外吸収染料も好適なものとして挙げることができる。上記のうち、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体がより好ましい。
【００５２】
前記顔料としては、市販の顔料又はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載の顔料が挙げられ、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が挙げられる。
【００５３】
具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。中でも、カーボンブラックが好ましい。
【００５４】
前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよいし、表面処理を施した後に用いてもよい。表面処理の方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。これらの表面処理の方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００５５】
前記顔料の粒径としては、０．０１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍがより好ましく、０．１μｍ〜１μｍが最も好ましい。前記粒径が、０．０１μｍ未満であると、感光層（画像形成層）塗布液等の分散液を調製したときの分散物の安定性が劣化することがあり、１０μｍを超えると、画像記録層の均一性が悪化することがある。
【００５６】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から適宜選択することができる。前記分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。その詳細については、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。
【００５７】
画像形成層中における、上述の染料又は顔料の含有量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましい。さらに、染料の場合には、０．５〜１０質量％が特に好ましく、顔料の場合には、１．０〜１０質量％が特に好ましい。前記含有量が、０．０１質量％未満であると、感度が低くなることがあり、５０質量％を超えると、平版印刷用原版とした場合の非画像部に汚れが発生することがある。前記染料又は顔料は、他の成分と同一層に添加してもよいし、別の層を設けてそこに添加してもよい。
【００５８】
［（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物］
本発明において、（Ｃ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物（以下、適宜「酸発生剤」という場合がある。）とは、２００〜５００ｎｍの波長領域の光を照射するか、又は１００℃以上に加熱することにより、酸成分を発生する化合物をいう。
【００５９】
前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合物及びそれらの混合物等を好適に用いることができる。
【００６０】
例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、同Ｒｅ２７，９９２号の各明細書、特開平４−３６５０４９号に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ　　ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ，Ｃｕｒｉｎｇ　　ＡＳＩＡ，ｐ４７８　　Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、
【００６１】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆　　Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第５，０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔ　　ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｓｃｉ．，ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔ　　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
【００６２】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同４，９３３，３７７号、同４，４９１，６２８号、同５，０４１，３５８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩、
【００６３】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ　　ＡＳＩＡ，ｐ４７８　　Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、
【００６４】
米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号の各公報に記載の有機ハロゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅｒ　　ｅｔａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４），２６（１９８６），Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌｅｔ　　ａｌ，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９，３００７（１９８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，１９（１２），３７７（１８９６）、特開平２−１６１４４５号公報に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、
【００６５】
Ｓ．Ｈａｙａｓｅ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｓｃｉ．，２５，７５３（１９８７）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚｈｕ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ　　Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，８５，３９，３１７（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔ．，（２４）２２０５（１９７３）、
【００６６】
Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．３５７１（１９６５）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ　　Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．Ｒｕｄｉｎｓｔｅｉｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７５）、Ｊ．Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、Ｓ．Ｃ．Ｂｕｓｍａｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ　　Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８５）、Ｈ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２（１９７２）、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１８，１７９９（１９８５）、
【００６７】
Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｓｏｌｉｄ　　Ｓｔａｔｅ　　Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１３０（６）、Ｆ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、欧州特許第０２９０，７５０号、同０４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０１，７１０号、同４，１８１，５３１号の各明細書、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号に記載のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、
【００６８】
Ｍ．Ｔｕｎｏｏｋａ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ　　Ｊａｐａｎ，３８（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ　　ｅｔ　　ａｌ，ＣｏａｔｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌ．，５５（６９７），４５（１９８３）、Ａｋｚｏ，Ｈ．Ａｄａｃｈｉ　　ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０５号、同４，４３１，７７４号の各明細書、特開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号に記載のイミノスルフォネート等に代表される、光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５４４号に記載のジスルホン化合物を挙げることができる。
【００６９】
また、これら酸を発生する基又は化合物を、ポリマーの主鎖若しくは側鎖に導入した化合物も好適に挙げることができ、例えば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏｕｓｅｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０４，５５８６（１９８２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ　　Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８６）、Ｓ．Ｋｏｎｄｏ　　ｅｔ　　ａｌ．　　Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，ＲａｐｉｄＣｏｍｍｕｎ．，９，６２５（１９８８）、Ｙ．Ｙａｍａｄａ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１５２，１５３，１６３（１９７２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　　ｅｔ　　ａｌ．Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，３８４５（１９７９）、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３，９１４，４０７号の各明細書、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３７号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
【００７０】
さらに、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａｄ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ　　ｅｔ　　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，．（Ｃ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号の各明細書等に記載の、光により酸を発生する化合物も使用可能である。
【００７１】
上述の酸発生剤のうち、特開２０００−２８４４７４号公報に記載の一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物が好ましい。
【００７２】
また、（Ｃ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物として、ハロゲン化物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げることができ、中でも、特開２０００−２８４４７４号公報に記載の一般式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げることができる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００７３】
一方、前記オニウム塩のカウンターアニオンとしては、スルホネートイオンが好ましく、以下に、その具体例を示すが、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
１）メタンスルホネート、
２）エタンスルホネート、
３）１−プロパンスルホネート、
４）２−プロパンスルホネート、
５）ｎ−ブタンスルホネート、
６）アリルスルホネート、
７）１０−カンファースルホネート、
８）トリフルオロメタンスルホネート、
９）ペンタフルオロエタンスルホネート、
１０）ベンゼンスルホネート、
【００７４】
１１）ｐ−トルエンスルホネート、
１２）３−メトキシベンゼンスルホネート、
１３）４−メトキシベンゼンスルホネート、
１４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、
１５）４−クロロベンゼンスルホネート、
１６）３−ニトロベンゼンスルホネート、
１７）４−ニトロベンゼンスルホネート、
１８）４−アセチルベンゼンスルホネート、
１９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、
２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、
２１）メシチレンスルホネート、
２２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネート、
２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネート、
２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、
２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、
２６）１−ナフタレンスルホネート、
２７）２−ナフタレンスルホネート、
２８）２−ナフトール−６−スルホネート、
２９）２−ナフトール−７−スルホネート、
３０）アントラキノン−１−スルホネート、
【００７５】
３１）アントラキノン−２−スルホネート、
３２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホネート、
３３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、
３４）キノリン−８−スルホネート、
３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、
３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート
等が挙げられる。
【００７６】
さらに、
４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、
４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、
４３）１、５−ナフタレンジスルホネート、
４４）２、６−ナフタレンジスルホネート、
４５）２、７−ナフタレンジスルホネート、
４６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、
４７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、
４８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、
４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジスルホネート、
５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジスルホネート、
等のジスルホネート類とオニウム塩カチオン２当量との塩も使用可能である。
【００７７】
上述のオニウム塩スルホネートは、対応するＣｌ−塩等を、スルホン酸、スルホン酸ナトリウム又はカリウム塩とともに水中、或いは、アルコール等の親水性溶媒と水との混合溶媒中で混ぜ合わせて塩交換を行うことにより得ることができる。
【００７８】
オニウム塩の合成は、既知の方法で行うことができ、例えば、丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の２・３章（ｐ．４４８）、１４−ＩＩＩ　巻の８・１６章（ｐ．１８３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、Ｊ．Ｗ．Ｋｎａｐｃｚｙｋ他、ジャーナル　　オブ　　アメリカン　　ケミカルソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）９１巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙｃｏｋ他、ジャーナル　　オブ　　オーガニック　　ケミストリィ（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）３５巻、２５３２（１９７０）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、ポリマー　　ケミストリィ　　エディション（Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．）１８巻、２６７７（１９８０）、米国特許第２，８０７，６４８号、同４，２４７，４７３号の各明細書、特開昭５３−１０１３３１号、特公平５−５３１６６号の各公報等に記載の方法により合成することができる。
【００７９】
本発明で酸発生剤として好適に使用されるオニウム塩スルホネートとしては、特開２０００−２８４４７４号公報に記載のものが好ましい。
【００８０】
本発明における酸発生剤〔（Ｃ）成分〕の添加量としては、画像形成層の全固形分質量「に対し０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましく、０．　５〜２０質量％が最も好ましい。前記添加量が、０．０１質量％未満であると、画像が得られないことがあり、５０質量％を超えると、平版印刷版原版とした時の印刷時において非画像部に汚れが発生することがある。上述の酸発生剤は単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００８１】
［（Ｄ）酸により架橋する架橋剤］
次に、（Ｄ）酸により架橋する架橋剤（以下、適宜「架橋剤」という。）について説明する。
本発明で好適に用いられる架橋剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、以下のものが挙げられる。
（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物
（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物
（ｉｉｉ）エポキシ化合物
【００８２】
以下、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の化合物について詳述する。
前記（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物は含まない。前記レゾール樹脂は、架橋性には優れるものの、熱安定性が十分でないため、特に、感光性材料に含有させて高温下に長期間保存した場合、均一に現像を行うことができない点で好ましくない。
【００８３】
ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中でも、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。また、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が炭素数１８以下の化合物が好ましく、特開２０００−２８４４７４号公報に記載の一般式（１）〜（４）で表される化合物がより好ましい。
【００８４】
（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物としては、欧州特許公開（以下、「ＥＰ−Ａ」と示す。）第０，１３３，２１６号、西独特許第３，６３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号の各明細書に記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ第０，２１２，４８２号明細書に記載のアルコキシ置換化合物等が挙げられる。中でも、例えば、少なくとも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、Ｎ−アルコキシメチル誘導体が最も好ましい。
【００８５】
（ｉｉｉ）エポキシ化合物としては、１以上のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。その他、米国特許第４，０２６，７０５号、英国特許第１，５３９，１９２号の各明細書に記載され、使用されているエポキシ樹脂を挙げることができる。
【００８６】
架橋剤〔（Ｄ）成分〕として、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の化合物を用いる場合の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し５〜８０質量％が好ましく、１０〜７５質量％がより好ましく、２０〜７０質量％が最も好ましい。前記添加量が、５質量％未満であると、得られる画像形成層（感光層）の耐久性が低下することがあり、８０質量％を超えると、保存時の安定性が低下することがある。
【００８７】
また、本発明においては、架橋剤として、（ｉｖ）特開２０００−２８４４７４号公報に記載の一般式（５）で表されるフェノール誘導体も好適に使用することができる。
【００８８】
前記フェノール誘導体は、従来公知の方法により合成することができる。例えば、下記［ＫＺ−１］は、フェノールと、ホルムアルデヒドと、ジメチルアミンやモルホリン等の２級アミンとを反応させ、トリ（ジアルキルアミノメチル）フェノールとし、次に無水酢酸と反応させ、さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下でエタノールと反応させることにより、特開２０００−２８４４７４号公報に記載の反応式［１］に表す経路の合成方法により合成することができる。
【００８９】
【化２】
2004109858.tif 000003
【００９０】
また、別の方法によっても合成することができる。例えば、上記の［ＫＺ−１］は、フェノールとホルムアルデヒド又はパラホルムアルデヒドを、ＫＯＨ等のアルカリ存在下で反応させて２，４，６−トリヒドロキシメチルフェノールとし、引き続き硫酸等の酸の存在下でエタノールと反応させることにより、特開２０００−２８４４７４号公報に記載の反応式［２］に表す経路の合成方法により合成することができる。
【００９１】
前記フェノール誘導体は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組合わせて用いてもよい。前記フェノール誘導体を合成する際に、フェノール誘導体同士が縮合して２量体や３量体等の不純物を副生成する場合があるが、本発明においては、これらの不純物を含有したまま使用してもよい。尚、前記不純物の含有量としては、３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましい。
【００９２】
前記フェノール誘導体の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。前記添加量が、５質量％未満であると、画像記録した際の画像部の膜強度が低下することがあり、７０質量％を越えると、保存時の安定性が劣化することがある。
【００９３】
［その他の成分］
本発明においては、必要に応じて、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分以外に、後述の種々の化合物を添加することもできる。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を、画像の着色剤として使用することができる。前記着色剤としては、例えば、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等、或いは、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載の染料等を挙げることができる。
【００９４】
これらの染料を添加することにより、画像形成後の画像部と非画像部の区別が明瞭となり、高コントラストな画像とすることができることから添加する方が好ましい。その添加量としては、画像記録材料の全固形分質量に対し、０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００９５】
また、現像時の現像条件に対する処理安定性を高める目的で、特開昭６２−２５１７４０号公報、特開平３−２０８５１４号公報に記載の非イオン界面活性剤や特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載の両性界面活性剤を添加することができる。
【００９６】
前記非イオン界面活性剤としては、例えば、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
【００９７】
前記両性界面活性剤としては、例えば、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（商品名：アモーゲンＫ，第一工業（株）製等）等が挙げられる。
【００９８】
前記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層中への添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し０．０５〜１５質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。
【００９９】
さらに、本発明において、画像形成層用の材料を支持体上に塗布する場合には、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等を付与する目的で、可塑剤を添加することもできる。前記可塑剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が挙げられる。
【０１００】
本発明における平版印刷版原版は、通常、前述の各種成分（即ち、前記成分（Ａ）〜（Ｄ）及びその他の成分等）を溶媒に溶解し、塗布液の状態（以下、「感光層用塗布液」という場合がある。）として、所望の支持体上に塗布、乾燥して感光層（画像形成層）を塗設することにより作製することができる。
【０１０１】
この種の溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等が挙げられる。但し、本発明においては、これに限定されるものではない。これらの溶媒は、１種単独又は混合して使用することができる。
【０１０２】
溶媒中における前述の各種成分（即ち、前記成分（Ａ）〜（Ｄ）及びその他の成分等）の全固形分濃度としては、感光層用塗布液の全質量に対し１〜５０質量％が好ましい。
【０１０３】
前記各種成分を有する感光層用塗布液を支持体上に塗布する場合、塗布、乾燥後の固形分塗布量としては、用途により異なるが、平版印刷版原版を作製する場合には、一般に、０．５〜５．０ｇ／ｍ２が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の被膜特性は低下することがある。
【０１０４】
尚、支持体上に、感光層用塗布液を塗布する方法としては、公知の塗布方法の中から適宜選択して用いることができ、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
【０１０５】
本発明における画像形成層には、塗布性を良化する目的で、界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号公報に記載のフッ素系界面活性剤を添加することができる。前記界面活性剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し０．０１〜１質量％が好ましく、０．０５〜０．５質量％がより好ましい。
【０１０６】
［支持体］
本発明において用いる支持体としては、寸度的に安定な板状物が好ましく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のような金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１０７】
なかでも、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、寸法安定性に優れ、比較的安価である点でアルミニウム板がより好ましい。前記アルミニウム板の中でも、純アルミニウム板、又はアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、或いは、アルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムが最も好ましい。
【０１０８】
前記アルミニウム合金に含まれる異元素としては、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等が挙げられる。前記合金中における異元素の含有量としては、総量で１０質量％以下であることが好ましく、従って、純アルミニウムを使用することがより好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは、精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものであってもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜利用することができる。
支持体として用いる前記アルミニウム板の厚みとしては、０．１〜０．６ｍｍが好ましく、０．１５〜０．４ｍｍがより好ましく、０．２〜０．３ｍｍが最も好ましい。
【０１０９】
前記アルミニウム板は、その表面を粗面化した後に使用することが好ましい。粗面化するに先立ち、所望によりアルミニウム板表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理を行うこともできる。
アルミニウム板表面の粗面化処理としては、種々の方法の中から適宜選択して用いることができ、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解して粗面化する方法又は化学的に表面を選択的に溶解させて粗面化する方法が挙げられる。前記機械的に粗面化する方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法が挙げられる。前記電気化学的に粗面化する方法としては、塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載のようにそれら両者を組み合わせた方法も挙げることができる。
【０１１０】
粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じて、アルカリエッチング処理や中和処理を施した後、表面の保水性や耐摩耗性を高める目的で陽極酸化処理が施される。前記陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化被膜を形成する種々の電解質が挙げられ、一般的には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。前記電解質の濃度は、電解質の種類によって適宜決められる。
【０１１１】
前記陽極酸化処理の条件としては、用いる電解質により種々変わるので一概に特定することができないが、一般的には、電解質濃度１〜８０質量％、液温５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ２、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分が適当である。陽極酸化被膜の被膜量としては、１．０ｇ／ｍ２以上が好ましい。前記被膜量が、１．０ｇ／ｍ２未満であると、十分な耐膜性が得られず、非画像部に傷が付き易くなったり、特に平版印刷版原版の場合には、印刷時に傷の部分にインキが付着する、いわゆる「傷汚れ」が生じ易くなることがある。
【０１１２】
陽極酸化処理を施した後、アルミニウム板表面は、必要に応じて、親水化処理が施される。前記親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号明細書、同第３，１８１，４６１号明細書、同第３，２８０，７３４号明細書、同第３，９０２，７３４号明細書に記載のアルカリ金属シリケート（例えば、ケイ酸ナトリウム水溶液）法が挙げられる。この方法では、アルミニウム板は、ケイ酸ナトリウム水溶液中に浸漬するか、或いは、電解処理される。他に、特公昭３６−２２０６３号公報に記載のフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第３，２７６，８６８号明細書、同第４，１５３，４６１号明細書、同第４，６８９，２７２号明細書に記載のポリビニルホスホン酸を用いて処理する方法等も挙げることができる。
【０１１３】
［その他］
本発明で好適に用いられる平版印刷版原版は、前記感光層塗布液を所望の支持体上に塗布して、感光層（画像形成層）を塗設することにより作製することができるが、前記感光層の形成前に、必要に応じて、支持体上に下塗り層を設けることもできる。
【０１１４】
下塗り層に用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸；置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸；置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸；グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類；トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩等が挙げられる。前記有機化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、前述したジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様である。
【０１１５】
前記下塗り層の塗布量としては、２〜２００ｍｇ／ｍ２が好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ２がより好ましい。前記塗布量が、２ｍｇ／ｍ２未満であると、充分な膜性が得られないことがある。一方、２００ｍｇ／ｍ２を超えて塗布しても、それ以上の効果を得ることはできない。
【０１１６】
前記下塗り層は、下記方法により設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアルミニウム板等の支持体上に塗布、乾燥して設ける方法、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板等の支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、その後水等で洗浄、乾燥して設ける方法、である。
【０１１７】
前者では、前記有機化合物の０．００５〜１０質量％濃度の下塗り層用溶液を用いることが好ましい。一方、後者では、下塗り層用溶液の前記有機化合物の濃度としては、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましい。また、浸漬温度としては、２０〜９０℃が好ましく、２５〜５０℃がより好ましい。浸漬時間としては、０．１〜２０分が好ましく、２秒〜１分がより好ましい。
【０１１８】
前記下塗り層用溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や塩酸、リン酸等の酸性物質を用いて、ｐＨ１〜１２の範囲に調整することもできる。また、本発明の平版印刷用原版を作製する場合には、調子再現性改良を目的として黄色染料を添加することもできる。
【０１１９】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を詳細に説明するが、本発明は特にこれらに制限されるものではない。
【０１２０】
＜架橋剤［ＫＺ−９］の合成＞
水酸化カリウム水溶液中で、１−［α−メチル−α−（４−ヒドロキシフェニル）エチル］―４―［α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼンとホルマリンとを反応させ、その反応溶液に硫酸を添加して酸性とし晶析させた後、さらにメタノールにより再結晶することにより、下記構造の架橋剤［ＫＺ−９］を得た。逆相ＨＰＬＣにより純度を測定したところ、９２％であった。
【０１２１】
【化３】
2004109858.tif 000004
【０１２２】
＜架橋剤［ＫＺ−１０］の合成＞
水酸化カリウム水溶液中で、ｏ−クレゾールとパラホルムアルデヒドとを反応させ、その反応溶液に硫酸を添加して酸性とし晶析させた後、さらにカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記構造の架橋剤［ＫＺ−１０］を得た。逆相ＨＰＬＣにより純度を測定したところ、９６％であった。
【０１２３】
【化４】
2004109858.tif 000005
【０１２４】
＜アルカリ水可溶性高分子化合物［ＢＰ−１］の入手＞
ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）（商品名：マルカ　リンカーＭ　Ｓ−４Ｐ，丸善石油化学（株）製）を入手し、アルカリ水可溶性高分子化合物［ＢＰ−１］とした。
【０１２５】
（実施例１〜実施例６、比較例１〜比較例３）
厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０）を、トリクロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−水懸濁液を用い、その表面を砂目立てし、よく水で洗浄した。このアルミニウム板を２５％水酸化ナトリウム水溶液（４５℃）中に９秒間浸漬し、エッチングを行い水洗した後、さらに２％ＨＮＯ３水溶液中に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は、約３ｇ／ｍ２であった。
【０１２６】
次いで、電解質溶液に７％硫酸を用い、電流密度１５Ａ／ｄｍ２により、前記アルミニウム板上に３ｇ／ｍ２の直流陽極酸化被膜を設け、さらに水洗、乾燥した後、下記下塗り層用溶液を塗布し、８０℃雰囲気下で３０秒間乾燥した。乾燥塗布量は、１０ｍｇ／ｍ２であった。
【０１２７】
＜下塗り層用溶液の調製＞
下記組成の化合物を混合し、下塗り層用溶液を調製した。
・２−アミノエチルホスホン酸　　　　　　　　　　　・・・　０．５ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・４０ｇ
・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・６０ｇ
【０１２８】
＜感光層用塗布液［Ｇ］の調製＞
下記の各組成の化合物を混合し、感光層用塗布液［Ｇ］を調製した。
−［Ｇ］の組成−
・下記酸発生剤［ＳＨ−１］　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・　　０．２ｇ
・架橋剤（ＫＺ−９）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・　　０．３ｇ
・架橋剤（ＫＺ−１０）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・　　０．３ｇ
・アルカリ水可溶性高分子化合物［ＢＰ−１］　　　　　　　　　　・・・　　１．４ｇ
・下記赤外線吸収剤［ＩＫ−１］　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・　　０．２ｇ
・ビクトリアピュアブルーの１−ナフタレンスルホン酸塩・・・　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・　　３．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・１６ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・　　８．０ｇ
【０１２９】
上記酸発生剤［ＳＨ−１］及び赤外線吸収剤［ＩＫ−１］の構造を下記に示す。
【０１３０】
【化５】
2004109858.tif 000006
【０１３１】
＜平版印刷用原版の作製＞
前記より得られた基板上に、前記感光層用塗布液［Ｇ］を、乾燥塗布量が１．５ｇ／ｍ２となるように塗布した後、１００℃で１分間乾燥し、本発明に係る平版印刷版原版［Ｇ］を得た。
【０１３２】
＜露光＞
ビーム径（ビーム強度の１／２のＦＷＨＭ）４０μｍ、レーザー出力４０Ｗ、出力波長８２０ｎｍの半導体レーザーを搭載した３２チャンネル円筒外面方式のレーザー露光装置を使用し、ベタ画像と０．５％〜９９．５％の網点画像を露光した。
この時の露光条件は、下記表１に示すとおり、実施例１〜実施例４のオーバーラップ係数を各々０．３、０．４５、０．６、０．７とし、比較例１〜比較例３のオーバーラップ係数を各々０．１５、０．９、０．７とし、露光解像度を実施例１〜実施例４、比較例１及び比較例２を９０９ｄｐｉとし、比較例３を１５００ｄｐｉとした。
【０１３３】
＜加熱、現像＞
露光後、温風加熱装置（Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎ　Ｏｖｅｎ社製）を用い、１４５℃で７５秒間加熱処理した後、自動現像機ＬＰ−９４０Ｈ（富士写真フイルム（株）製）、現像液ＤＴ−Ｎ（１：８の水希釈液，富士写真フイルム（株）製）、ＦＰ−２Ｗ（１：１の水希釈液，富士写真フイルム（株）製）にて製版した。現像処理は３０℃１２秒で行った。
【０１３４】
＜印刷性能の評価＞
次に、実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例３において得られた平版印刷版をそれぞれ用いて、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンにて印刷を実施し、耐刷性能及び製版速度を評価した。結果を下記表１に示す。
尚、表１における製版速度については、実施例１の製版速度を基準とし、これに対する相対速度を示している。
【０１３５】
【表１】
2004109858.tif 000007
【０１３６】
表１から明らかなように、実施例１〜実施例４においては、高速製版が可能となるとともに、非画像部に汚れのない優れた画質の印刷物が１０万枚まで得られた。一方、比較例１では、高速製版は可能となるが、非画像部に汚れのない優れた画質の印刷物が２万枚までしか得られなかった。また、比較例２では、高速製版を実現できないばかりか、露光時に平版印刷版原版の画像形成層がアブレーションして印刷に適した平版印刷版が得られなかった。さらに、実施例３では、非画像部に汚れのない優れた画質の印刷物が１０万枚まで得られるが、高速製版を実現できなかった。
【０１３７】
【発明の効果】
本発明によれば、高速露光が可能で画像形成能の優れる画像形成方法、特に生産性及び耐刷性能に優れた平版印刷版原版の製版に有用な画像形成方法を提供することができる。従って、コンピューター・トゥ・プレート用として、高速露光が可能で、良好な耐刷性能を得ることが可能な画像形成方法を提供することができる。