(57)【要約】【課題】２つの記録層に対し良好な初期化が短時間に行ない得る初期化方法及び装置の提供。【解決手段】２つの記録層に同時集光した２つの初期化レーザスポット１９及び２０をそれぞれ別の所定関数でディスク半径方向に送りながら、光ディスク２１の回転数を初期化レーザスポットの半径位置に従い変化させることにより、各記録層に適した別々の初期化レーザスポット走査速度が光ディスク全面に渡り得られ、これにより２つの記録層に対し良好な初期化を短時間に行うもの。特に、各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を所定値に初期化実行前に定め、初期化実行中においてスポット半径位置（半径）が走査速度比又は半径送り量比と同一比になる様に制御するもの。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、２つの初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて２つの記録層を同時に初期化する初期化方法において、一方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ０、走査速度をＶ０、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ０とし、他方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ１、走査速度をＶ１、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ１としたとき、初期化実行中の任意の時間にて下記数１が成り立つように、光ディスクの回転と各初期化レーザスポットの半径方向送りを制御しながら２つの記録層を同時に初期化することを特徴とする２層光ディスクの初期化方法。
【数１】
2004178631.tif 000004
【請求項２】
時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より早い場合は、光ディスクの内周側から外周側に向かって初期化を行ない、時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より遅い場合は、光ディスクの外周側から内周側に向かって初期化を行なうことを特徴とする請求項１記載の２層光ディスクの初期化方法。
【請求項３】
複数の記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、複数の初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて複数の記録層を同時に初期化する初期化方法において、初期化実行前に、各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を所定値に定め、初期化実行中においてスポット半径位置が前記走査速度比又は半径送り量比と同一比になる様に制御することを特徴とする２層光ディスクの初期化方法。
【請求項４】
２つの記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、２つの初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて２つの記録層を同時に初期化する初期化装置において、前記２つの初期化レーザスポット各々の初期化レーザスポットの光ディスク半径位置と走査速度と光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量とを制御するマイクロプロセッサを備え、一方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ０、走査速度をＶ０、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ０とし、他方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ１、走査速度をＶ１、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ１としたとき、前記マイクロプロセッサが、初期化実行中の任意の時間にて下記数２が成り立つように、光ディスクの回転と各初期化レーザスポットの半径方向送りを制御しながら２つの記録層を同時に初期化することを特徴とする２層光ディスクの初期化装置。
【数２】
2004178631.tif 000005
【請求項５】
前記マイクロプロセッサが、時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より早い場合は、光ディスクの内周側から外周側に向かって初期化を行ない、時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より遅い場合は、光ディスクの外周側から内周側に向かって初期化を行なうことを特徴とする請求項３記載の２層光ディスクの初期化装置。
【請求項６】
複数の記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、複数の初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて複数の記録層を同時に初期化する初期化装置において、前記複数の初期化レーザスポット各々の初期化レーザスポットの光ディスク半径位置と走査速度と光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量とを制御するマイクロプロセッサを備え、該マイクロプロセッサが、初期化実行前に、各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を所定値に定め、初期化実行中においてスポット半径位置が前記走査速度比又は半径送り量比と同一比になる様に制御することを特徴とする２層光ディスクの初期化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、レーザ光の照射によって多層光ディスクの記録層を初期化する初期化方法および初期化装置に係り、特に多層光ディスクを高速に初期化することができる初期化方法および初期化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、書換え可能な大記録容量の光ディスクとして、光ディスクの片面に２つの相変化型記録層を備えた、いわゆる相変化型片面２層光ディスクが考案されている。この２層光ディスクは、レーザ光入射側から保護層、第１の記録層、透明層（中間層）、第２の記録層、基板の各層により構成されており、ディスクの片面からレーザ光を入射することにより、第１の記録層と第２の記録層への記録・再生・消去が行われるものである。
【０００３】
この相変化型光ディスクの製造プロセスにおいては、記録膜生成後の記録膜を非晶質状態から結晶状態にする初期化処理が必要である。この初期化処理として現在、実用化されている技術はレーザを用いた初期化である。この初期化技術は、例えば２〜６Ｗクラスの高出力半導体レーザを熱源とし、走査方向の幅が１〜１０μｍ、走査方向と直交する方向の幅が５０〜５００ｕｍの長円形状の初期化レーザスポットを光ディスク記録膜上に照射し、このレーザスポットを、良好な結晶状態が得られる所定の走査速度で隙間なく螺旋状に光ディスク上を走査させることにより光ディスク全面を結晶化させるものであり、現在、一般に普及している単層型の相変化型光ディスクはこの処理により初期化が行われている。この初期化処理は、前述の相変化型片面２層光ディスクにおいても例外なく必須である。
【０００４】
この２層光ディスクにおいては、第１の記録層と第２の記録層とでは光学的特性や熱的特性等が異なり、良好な初期化を得るための走査速度も第１の記録層と第２の記録層とで異なるのが一般的である。また、各記録層ともに初期化前後によって光学的特性が大きく変化するため、一方の記録層を初期化してから他方の記録層を初期化するといった、初期化順番を厳密に規定され、この規定に反した順番に即しないと良好な結晶化どころか初期化処理自体不能となる。
【０００５】
このため従来技術による相変化型片面２層光ディスクの初期化方法は、一方の記録層を任意の走査速度でディスク全面にわたり完全に初期化し、次いで他方の記録層を前述走査速度とは異なった任意の走査速度で初期化するのが現実的であった。しかしながら、記録層が２面あるため、初期化に要する時間が単層の場合に対し約２倍掛かってしまう。
【０００６】
尚、前述の相変化型片面２層光ディスクの初期化方法に関する技術が記載された文献としては、例えば特開平９−９１７００号公報が挙げられ、この公報には、多層記録層型光学記録媒体に対し、少なくとも初期化を必要とする２層以上の記録層に共に光照射を行ってこれら記録層の初期化を同時的に行うこと、前記２層以上の記録層の初期化を、ほぼ同一位置で同時に行うこと、光照射手段が２層以上の記録層に対して同時に光照射がなされる平行光としたことが記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
前述の公報記載の初期化方法は、例えば前述したような最適な初期化条件が異なる第１の記録層と第２の記録層とを同一の初期化条件により初期化するため、第１及び第２の記録層が好適に初期化されないと言う不具合を招く可能性があった。特に前記公報には、初期化を行うためのレーザスポットについては言及されておらず、初期化時間を短縮するためにディスク半径方向に伸びる例えば５０〜５００μｍの幅広の長円形状初期化レーザスポットを螺旋状に同時走査させ、前述の初期化順番を厳密に守りディスク全面を均一に初期化するための手段も記載されおらず、２層光ディスクを好適に初期化することが困難であると言う不具合があった。
【０００８】
本発明の目的は、前述の従来技術による不具合を除去することであり、相変化単層光ディスクの初期化に用いている高出力、幅広の長円形状初期化レーザスポットを用い、多層光ディスクの各記録層に対した好適に初期化を行うことができる光ディスクの初期化方法及び初期化装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために本発明は、２つの記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、２つの初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて２つの記録層を同時に初期化する初期化方法において、一方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ０、走査速度をＶ０、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ０とし、他方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ１、走査速度をＶ１、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ１としたとき、初期化実行中の任意の時間にて下記数３が成り立つように、光ディスクの回転と各初期化レーザスポットの半径方向送りを制御しながら２つの記録層を同時に初期化することを第１の特徴とする。
【００１０】
【数３】
ｒ０／ｒ１  ＝  Ｖ０／Ｖ１  ＝  Ｄ０／Ｄ１
【００１１】
更に本発明は、前記特徴の初期化方法において、時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より早い場合は、光ディスクの内周側から外周側に向かって初期化を行ない、時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より遅い場合は、光ディスクの外周側から内周側に向かって初期化を行なうことを第２の特徴とする。
【００１２】
また本発明は、複数の記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、複数の初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて複数の記録層を同時に初期化する初期化方法において、初期化実行前に、各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を所定値に定め、初期化実行中においてスポット半径位置が前記走査速度比又は半径送り量比と同一比になる様に制御することを第３の特徴とする。
【００１３】
更に本発明は、２つの記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、２つの初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて２つの記録層を同時に初期化する初期化装置において、前記２つの初期化レーザスポット各々の初期化レーザスポットの光ディスク半径位置と走査速度と光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量とを制御するマイクロプロセッサを備え、一方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ０、走査速度をＶ０、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ０とし、他方の記録層に形成させた初期化レーザスポットの光ディスク半径位置をｒ１、走査速度をＶ１、光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量をＤ１としたとき、前記マイクロプロセッサが、初期化実行中の任意の時間にて下記数４が成り立つように、光ディスクの回転と各初期化レーザスポットの半径方向送りを制御しながら２つの記録層を同時に初期化することを第４の特徴とする。
【００１４】
【数４】
ｒ０／ｒ１  ＝  Ｖ０／Ｖ１  ＝  Ｄ０／Ｄ１
【００１５】
また本発明は、前記特徴の初期化装置において、前記マイクロプロセッサが、時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より早い場合は、光ディスクの内周側から外周側に向かって初期化を行ない、時間的に先行して初期化が必要な一方の記録層の走査速度が、他方の記録層の走査速度より遅い場合は、光ディスクの外周側から内周側に向かって初期化を行なうことを第５の特徴とする。
【００１６】
更に本発明は、複数の記録層をもちデータを記録・再生可能な光ディスクに対し、複数の初期化レーザスポットを各記録層に個別に照射させながら該初期化レーザスポットを光ディスクの半径方向に送り、螺旋状に記録層上を走査させて複数の記録層を同時に初期化する初期化装置において、前記複数の初期化レーザスポット各々の初期化レーザスポットの光ディスク半径位置と走査速度と光ディスク１回転当たりの半径方向の送り量とを制御するマイクロプロセッサを備え、該マイクロプロセッサが、初期化実行前に、各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を所定値に定め、初期化実行中においてスポット半径位置が前記走査速度比又は半径送り量比と同一比になる様に制御することを第６の特徴とする。
【発明実施の形態】
以下、本発明の一実施形態による２層光ディスクの初期化方法及び初期化装置を図面を参照して詳細に説明する。図１は本実施形態における初期化実行中の任意時間における初期化レーザスポットの配置を示した図、図２は、本実施形態による初期化装置の斜視図、図３は、一般の２層光ディスクの記録層の位置関係を示した図である
まず、本実施形態の初期化対象となる２層光ディスク２４は、図３に示すように初期化レーザ光の入射側に近い方の記録層を第１の記録層２４ａ、遠い方の記録層を第２の記録層２４ｂとする。
【００１７】
この２層光ディスク２４の初期化を行う本実施形態による初期化装置は、図２に示す如く、２〜６Ｗクラスの半導体レーザ（図示なし）を光源とし、対物レンズ１１又は１２を介して目的の記録層に集光且つフォーカシング機能をもつ２つの初期化レーザヘッド９及び１０と、これら初期化レーザヘッド９及び１０を独立して支持し、独立に半径方向１５又は１６に移動可能なキャリッジ１３及び１４と、該キャリッジ１３及び１４に取り付けられ、その位置を検出する位置検出手段に相当するリニアスケール１７及び１８と、２層光ディスク２１を方向２４に回転する回転手段であるスピンドルモータ２２と、各初期化レーザヘッド９及び１０のレーザ出力及びフォーカスを制御し、各初期化レーザスポット１９及び１０の半径位置情報（距離ｒ０、距離ｒ１）または時間情報を独立に認識しながら光ディスクの回転数（Ｎ）と各キャリッジ移動速度１５及び１６（速度ｖ０、速度ｖ１）を常時制御して本実施形態による初期化方法を実行するプログラムを含むマイクロプロセッサ２３とを備え、前記初期化レーザヘッド９及び１０は記録層に集光する初期化レーザスポットを光ディスク半径方向に細長い楕円形状として照射し、前記リニアスケール１７及び１８は、各初期化レーザヘッド９又は１０から照射された初期化レーザスポット１９又は２０が２層光ディスク２１の半径上のどの位置にあるか検知し、記録層に集光した初期化レーザスポットはディスク回転８による面振に耐えうるようにフォーカシング制御を行う様に構成されている。
【００１８】
この様に構成された初期化装置は、２つの初期化レーザヘッド９及び１０が２層光ディスク２１の初期化を行う記録層に各々レーザ照射を同時に行うものであり、この本実施形態による２層光ディスクの初期化動作を図１を参照して説明する。
【００１９】
図１は初期化実行中の任意時間における初期化レーザスポットの配置を示し、２層光ディスク面に対し垂直方向からみた図である。本実施形態においては、前記細長い楕円形状の初期化レーザスポットの半径方向の長さを二分する点を初期化レーザスポットの位置として説明する。
【００２０】
さて、本実施形態による初期化方法は、まず、２層光ディスク２４の第２記録層２４ｂに集光した初期化レーザスポット２を、２層光ディスク２４の回転中心７から距離ｒ０の位置に照射し、光ディスク２４の回転８により第２記録層２４ｂ上を速度Ｖ０で走査し、且つディスク１回転当たり半径方向距離Ｄ０だけ移動する様にディスク外周方向に搬送する。尚、前記距離Ｄ０は初期化レーザスポットの半径方向の長さよりは小さく、且つヘッド送りによって隙間ができないように設定するのが好ましい。このため２層光ディスク２４の領域４は、第２記録層２４ｂに集光した初期化レーザスポット２によって第２記録層２４ｂのみ初期化される。
【００２１】
同様に、本実施形態は、２層光ディスク２４の第１記録層２４ａに集光した初期化レーザスポット１を、２層光ディスク２４の回転中心７から距離ｒ１の位置に照射し、光ディスク２４の回転８により第１記録層２４ａ上を速度Ｖ１で走査し、且つディスク１回転当たり半径距離Ｄ１だけ移動する様にディスク外周方向に搬送する。尚、距離Ｄ１は、初期化レーザスポットの半径方向の長さよりは小さく、且つヘッド送りによって隙間ができないように設定するのが好ましい。このため２層光ディスク２４の領域５は、第２記録層に集光した初期化レーザスポット２によって第２記録層が初期化され、且つ第１記録層に集光した初期化レーザスポット１によって第１記録層が初期化される。
【００２２】
この様に本実施形態による初期化装置は、２つのレーザスポットを光ディスクの異なる記録層に照射して２層の初期化を同時に行うものであるが、特に本実施形態においては初期化レーザスポット１及び２のディスク中心からの距離ｒの比と、レーザスポットの走査速度Ｖの比と、ディスク１回転当たりの送り量Ｄの比とを同一にすることにより、２層の光ディスクの各層を同時且つ好適に初期化するものであって、これの具体例を次に説明する。
【００２３】
この具体例は、例えばφ１２０ｍｍの２層光ディスクを初期化対象とし、初期化レーザスポットの半径方向の幅が１９２ｕｍ、レーザスポット２の走査速度Ｖ０＝８．０ｍ／ｓ、同送り量Ｄ０＝９６ｕｍ／ｒｏｔ、レーザスポット１の走査速度Ｖ１＝６．０ｍ／ｓとした場合、初期化を開始する前に、次の数式５を満たすようにレーザスポット１の送り量Ｄ１＝７２ｕｍ／ｒｏｔを設定する。尚、前記距離Ｄ０及びＤ１は、初期化レーザスポットの半径方向の幅（１９２ｕｍ）より小さく設定する。
【００２４】
【数５】
ｒ０／ｒ１＝Ｖ０／Ｖ１＝Ｄ０／Ｄ１
【００２５】
また、光ディスク２４の回転数Ｎ（ｒｐｍ）は、各記録層ごとに定めた走査速度（Ｖ０＝８．０ｍ／ｓ、Ｖ１＝６．０ｍ／ｓ）を光ディスク全面にわたり保たせるため数式６を満たすように設定する（ｒ０ ｍｍ、ｒ１ ｍｍ）。
【００２６】
【数６】
2004178631.tif 000003
次いで、初期化実行範囲を距離ｒ＝２１．０ｍｍから距離ｒ＝５９．０ｍｍとした場合、第２の記録層２４ｂに集光した初期化レーザスポット２を数式７の速度ｖ０（ｍｍ／ｓ）で距離ｒ０＝２１．０ｍｍからディスク外周方向に送る様に制御する。
【００２７】
【数７】
ｖ０＝Ｖ０×Ｄ０／（２×π×ｒ０）＝３８４／（π×ｒ０）
【００２８】
この様に本実施形態による初期化方法及び装置は、初期化実行前に、各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を定めておき、、初期化実行中において以降に説明する様にスポット半径位置（半径）が走査速度比（＝半径送り量比）になる様に制御する。
【００２９】
即ち本実施形態は、前記数式により設定した各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を定めた後に初期化を開始し、スポット半径位置（半径）をマイクロフロセッサが制御を行いながら初期化を行う。例えば第２の記録層に集光した初期化レーザスポット２が距離ｒ０＝２８．０ｍｍ（＝Ｖ０／Ｖ１×ｒ１＝８／６×２１．０（数式３による））の位置に達したら、第１の記録層２４ａに集光した初期化レーザスポット１を、距離ｒ１＝２１．０（ｍｍ）から、数式８で計算される速度ｖ１（ｍｍ／ｓ）で光ディスク外周方向に送ることにより、２層光ディスク全面にわたり、所定値（Ｖ０＝８．０ｍ／ｓ、Ｄ０＝９６ｕｍ／ｒｏｔ、Ｖ１＝６．０ｍ／ｓ、Ｄ１＝７２ｕｍ／ｒｏｔ）を確保しながら両層同時初期化を行う。
【００３０】
【数８】
ｖ１＝Ｖ１×Ｄ１／（２×π×ｒ１）＝２１６／（π×ｒ１）
【００３１】
この様に本実施形態による初期化装置は、２つのレーザスポットを光ディスクの異なる記録層に照射して２層の初期化を同時に行う際、各レーザスポットの走査比と半径送り量比を所定値に初期化実行前に定め、初期化実行中においてスポット半径位置（半径）が走査速度比又は半径送り量比と同一比になる様に制御することによって、２層の光ディスクの各層を同時且つ各記録層の特性に応じて好適に初期化することができる。
【００３２】
尚、前記実施形態においては、光ディスクの外周においては第２の記録層に集光した初期化レーザスポット２が先に外周端（ｒ＝５９．０ｍｍ）に到達するが、第１の記録層に集光した初期化レーザスポット１が外周端に到達するまで待てば良い。また前記実施形態では、両層ともｒ＝２１．０（ｍｍ）からｒ＝５９．０（ｍｍ）と同じ初期化範囲としたが、これに限ることなく、各記録層にて数１を満たすように開始位置及び終了位置を任意に決め初期化させることもできる。
【００３３】
更に前記実施形態では、初期条件としてＶ０＝８．０（ｍ／ｓ）、Ｄ０＝９６（ｕｍ／ｒｏｔ）、Ｖ１＝６．０（ｍ／ｓ）としたが、これに限ることなく、各記録層において最適初期化が得られかつ数式３を満たすような値に各ファクターＶ０、Ｄ０、Ｖ１、Ｄ１を設定すれば良い。更に前記実施形態では時間的に先行して初期化する記録層の走査速度がもう一方の記録層より速い場合を説明したが、時間的に先行して初期化する記録層の走査速度がもう一方の記録層より遅い方が好ましい場合は同様の方法で、ディスク外周側から内周側に向かい初期化を行なえば良い。更に初期化実行中のレーザ出力も、各記録層において良好な初期化状態が得られるようにそれぞれ光ディスク半径位置によってレーザ出力を変える様に設定しても良い。
【００３４】
更に前記実施形態では２層の光ディスクを対象としているために、２つの初期化レーザスポットをディスク回転中心に対して対称的に配置したが、これに限るものではなく、２つの初期化レーザスポットをディスク回転中心に対し非対称に配することや、３層以上の光ディスクの場合は更に多数の初期化レーザスポットを各層毎に照射する様に構成しても良い。また前記実施形態においては、２層光ディスクの初期化について説明したが、単層光ディスクにおいて異なる走査速度で２回の初期化が必要な場合にも適用することができる。また相変化記録膜の初期化を例にとったが、これに限ることなく、光を用いた熱処理等にも応用することができる。
【００３５】
以上述べた如く本実施形態による初期化方法及び装置は、各記録層に同時集光した２つの初期化レーザスポットをそれぞれ別の所定関数でディスク半径方向に送りながら、光ディスクの回転数を初期化レーザスポットの半径位置に従い変化させることにより、各記録層に適した別々の初期化レーザスポット走査速度が光ディスク全面に渡り得られ、これにより２つの記録層に対し良好な初期化を短時間に実現することができる。
【発明の効果】
この様に本発明による初期化方法及び初期化装置は、複数のレーザスポットを光ディスクの異なる記録層に照射して複数層の初期化を同時に行う際、各レーザスポットの走査速度比と半径送り量比を所定値に初期化実行前に定め、初期化実行中においてスポット半径位置（半径）が走査速度比又は半径送り量比と同一比になる様に制御することによって、複数層の光ディスクの各層を同時且つ各記録層の特性に応じて好適に初期化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態による初期化方法により初期化実行中の任意時間における初期化レーザスポットの配置を示した図。
【図２】本実施形態による初期化装置の斜視図。
【図３】２層光ディスクの記録層の位置関係を示した図。
【符号の説明】
１及び２：初期化レーザスポット、３及び４：初期化された領域、５：領域、２１：光ディスク、９及び１０：初期化レーザヘッド、１３及び１５：キャリッジ、１７及び１８：リニアスケール、１９及び１０：初期化レーザスポット、２１：２層光ディスク、２２：スピンドルモータ。
【図１】
2004178631.tif 000006
【図２】
2004178631.tif 000007
【図３】
2004178631.tif 000008