(57)【要約】【課題】本発明の目的は、膜物性（膜均一性、屈曲耐性）が良好で、光拡散性に優れた光拡散層の形成方法、特に液晶表示装置等のバックライト用として好適な光拡散フィルムとその製造方法及び光拡散層形成用のインクジェット装置を提供することにある。【解決手段】透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有するインク液滴を、該インク液滴の容積を制御しながら出射させて、該基材表面に微細凹凸構造を有する光拡散層を形成することを特徴とする光拡散層の形成方法。【選択図】        図７
2004325861.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有するインク液滴を、該インク液滴の容積を制御しながら出射させて、該基材表面に微細凹凸構造を有する光拡散層を形成することを特徴とする光拡散層の形成方法。
【請求項２】
前記微細凹凸構造の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜１０．０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項３】
前記微細凹凸構造が、凹部底を基準とした高さａが１．０〜３０．０μｍである凸部を、０．０１ｍｍ２あたり５〜２０００個有していることを特徴とする請求項１または２に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項４】
前記光拡散性付与組成物が、活性光線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項５】
前記インク液滴を透明基体上に着弾させた直後より、活性光線を照射することを特徴とする請求項４に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項６】
前記光拡散性付与組成物が、熱硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項７】
前記インク液滴を透明基体上に着弾させた直後より、加熱硬化処理を行うことを特徴とする請求項６に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項８】
２種以上の組成の異なるインク液滴を出射して、異なる屈折率を有する凹凸構造を形成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項９】
２種以上の粒径の異なるインク液滴を出射して形成することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１０】
粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成することを特徴とする請求項９に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１１】
前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１２】
前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微小液滴を含有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１３】
前記微小液滴と、インク液滴媒体との屈折率差が０．０１以上であることを特徴とする請求項１２に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１４】
前記インクジェット方式が、インクジェットヘッド部に振動を与えてインク液滴を吐出することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１５】
前記透明基材が、透明支持体とその上に少なくとも１層の硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層を有し、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に、前記凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に微細凹凸構造を有する光拡散層を形成することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１６】
前記硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層がハーフキュア状態で、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする請求項１５に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１７】
前記硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面をプラズマ処理した後、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする請求項１５または１６に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１８】
透明基材上に、凸部を形成するための容積が制御されたインク液滴を着弾させて、該基材表面に微細凹凸構造を形成した後、該微細凹凸構造の凸構造の上に、該凸構造の高さよりも粒径が小さい微粒子を含有する活性線硬化型塗布組成物を塗設して光拡散層を形成することを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法により、透明基材上に光拡散層を形成して光拡散フィルムを製造することを特徴とする光拡散フィルムの製造方法。
【請求項２０】
透明基材上に光拡散層を形成した後、該光拡散層上に反射防止層を設けることを特徴とする請求項１９に記載の光拡散フィルムの製造方法。
【請求項２１】
請求項１９または２０に記載の光拡散フィルムの製造方法により製造したことを特徴とする光拡散フィルム。
【請求項２２】
請求項２１に記載の光拡散フィルムを製造するための光拡散層形成用のインクジェット装置であって、インクジェットヘッド部に直接活性光線または熱が作用しないように配置された活性光線照射部または加熱部を備えていることを特徴とする光拡散層形成用のインクジェット装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、液晶ディスプレイ装置等のバックライト用光拡散シートに好適な光拡散性に優れた光拡散層の形成方法、光拡散フィルムとその製造方法及び光拡散層形成用のインクジェット装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶テレビ、携帯端末、パソコンあるいはワープロのディスプレイ等のような液晶を使用する液晶表示装置では、その表示画像を見やすくするために、液晶表示パネルの後方に照明パネルを配置し、この照明パネルからの光を液晶表示パネルの後方から前方に透光させて表示を行っている。
【０００３】
ここで使用されるバックライトは、液晶表示画面全体に均一に照射させることが求められている。最近、小型化や薄型化が望まれているノートブック型パソコン等の薄型の液晶表示装置には、液晶表示画面に対して側面より光を入射させるサイドライト型の面光源装置が好ましく用いられている。
【０００４】
この面光源装置は、エッジライト方式と呼ばれるもので、導光板の側端面より管状光源からの光を入射させ、光散乱パターンが設けられた導光板をそのパターン状に光らせるようにしており、このパターンを隠すために導光板の光出射面側に光拡散性シートを設けるようにしている。
【０００５】
このような光拡散性シートとしては、従来より光線透過率が良いこと、導光板の光散乱パターンを隠すことができること、演色性が良いこと等が要求されており、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂等に無機系或いは有機系の光拡散剤を均一に分散し板状に成型したものや、ポリエステルフィルム等の薄いフィルムに光拡散剤含有の透明性樹脂溶液を塗布したものがある。
【０００６】
また、カラー液晶表示装置では、特に充分な明るさを得ることが必要であるために、導光板より出射された光をできるだけ正面方向に出射させるプリズムレンズと光拡散シートとを組合せたものがある。このような面状光源装置では、導光板の光出射面側にプリズムレンズと光拡散シートが積層されるため、光拡散シートとしては一層の光透過性が要求される。しかし上述したように光拡散剤を含有せしめた光拡散シートでは、充分な光拡散効果を得るために少なくとも光拡散層を形成する樹脂に対し、多量の光拡散剤を含有せしめており、高い光透過性を得ることができない。
【０００７】
このため高い光透過性の要求される用途では、光拡散シートとしてポリカーボネート等の高透明性の樹脂の表面をエンボス加工することによって光拡散性を得るようにしたものが使用されている。
【０００８】
しかし、このような光拡散シートを製造するためには、エンボス加工のための金属ロールを製造する必要があり、製造コストを押し上げる。また一度、金属ロールを作製してしまうとエンボスによる凹凸の程度を容易に調整することはできず、種々の光拡散性を有する光拡散シートを製造するためには、高価な金属ロールを要求される光拡散性に応じて作製しなければならない。さらに一般にポリカーボネート等の高透明性樹脂フィルムの表面はぎらつきを生じるという問題もある。
【０００９】
上記課題に対し、透明な支持体と支持体の少なくとも片面上に形成された光拡散層とを備え、光拡散層のバインダーとして電離放射線硬化型樹脂とバインダー中に分散された光拡散剤とを含む光学フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、上記提案されている方法では、膜厚よりも大きな粒子を含有させる必要があり、粒子の添加量が多くなると屈曲によりクラックが入りやすいといった問題があった。比較的大きな粒子を用いる場合、均一な塗膜を形成することが難しく、塗布液の分散不良や塗布ムラ等により、均一な光拡散性を有するフィルムの生産は困難であった。
【００１０】
一方、このような照明パネルに適用される光拡散フィルムには、乳白色の樹脂フィルムが用いられている。これは、導光板から出る光を散乱光とし、光源からの光を均一化するとともに、光を広げることで表示装置の視野角の向上に寄与している。また、透過型プロジェクションテレビ等に使用される透過型スクリーンでは光拡散フィルムまたは光拡散板が、スクリーンの何れかの部材に使用されている。そのような用途に用いられる光拡散板が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、光拡散フィルムもしくは光拡散板として、より光学的等方性に優れ、平面性が高く、表面が平滑で、カールも少なく、光拡散性がより良好なものが求められていた。
【００１１】
【特許文献１】
特開平９−２６５００４号公報  （特許請求の範囲）
【００１２】
【特許文献２】
特開平１１−２７１５１０号公報  （特許請求の範囲）
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、膜物性（膜均一性、屈曲耐性）が良好で、光拡散性に優れた光拡散層の形成方法、特に液晶表示装置等のバックライト用として好適な光拡散フィルムとその製造方法及び光拡散層形成用のインクジェット装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
【００１５】
１．透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有するインク液滴を、該インク液滴の容積を制御しながら出射させて、該基材表面に微細凹凸構造を有する光拡散層を形成することを特徴とする光拡散層の形成方法。
【００１６】
２．前記微細凹凸構造の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜１０．０μｍであることを特徴とする前記１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００１７】
３．前記微細凹凸構造が、凹部底を基準とした高さａが１．０〜３０．０μｍである凸部を、０．０１ｍｍ２あたり５〜２０００個有していることを特徴とする前記１または２項に記載の光拡散層の形成方法。
【００１８】
４．前記光拡散性付与組成物が、活性光線硬化型樹脂であることを特徴とする前記１〜３項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００１９】
５．前記インク液滴を透明基体上に着弾させた直後より、活性光線を照射することを特徴とする前記４項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２０】
６．前記光拡散性付与組成物が、熱硬化性樹脂であることを特徴とする前記１〜３項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２１】
７．前記インク液滴を透明基体上に着弾させた直後より、加熱硬化処理を行うことを特徴とする前記６項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２２】
８．２種以上の組成の異なるインク液滴を出射して、異なる屈折率を有する凹凸構造を形成することを特徴とする前記１〜７項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２３】
９．２種以上の粒径の異なるインク液滴を出射して形成することを特徴とする前記１〜８項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２４】
１０．粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成することを特徴とする前記９項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２５】
１１．前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子を含有することを特徴とする前記１〜１０項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２６】
１２．前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微小液滴を含有することを特徴とする前記１〜１０項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２７】
１３．前記微小液滴と、インク液滴媒体との屈折率差が０．０１以上であることを特徴とする前記１２項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２８】
１４．前記インクジェット方式が、インクジェットヘッド部に振動を与えてインク液滴を吐出することを特徴とする前記１〜１３項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００２９】
１５．前記透明基材が、透明支持体とその上に少なくとも１層の硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層を有し、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に、前記凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に微細凹凸構造を有する光拡散層を形成することを特徴とする前記１〜１４項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００３０】
１６．前記硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層がハーフキュア状態で、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする前記１５項に記載の光拡散層の形成方法。
【００３１】
１７．前記硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面をプラズマ処理した後、該硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする前記１５または１６項に記載の光拡散層の形成方法。
【００３２】
１８．透明基材上に、凸部を形成するための容積が制御されたインク液滴を着弾させて、該基材表面に微細凹凸構造を形成した後、該微細凹凸構造の凸構造の上に、該凸構造の高さよりも粒径が小さい微粒子を含有する活性線硬化型塗布組成物を塗設して光拡散層を形成することを特徴とする前記１〜１７項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法。
【００３３】
１９．前記１〜１８項のいずれか１項に記載の光拡散層の形成方法により、透明基材上に光拡散層を形成して光拡散フィルムを製造することを特徴とする光拡散フィルムの製造方法。
【００３４】
２０．透明基材上に光拡散層を形成した後、該光拡散層上に反射防止層を設けることを特徴とする前記１９項に記載の光拡散フィルムの製造方法。
【００３５】
２１．前記１９または２０項に記載の光拡散フィルムの製造方法により製造したことを特徴とする光拡散フィルム。
【００３６】
２２．前記２１項に記載の光拡散フィルムを製造するための光拡散層形成用のインクジェット装置であって、インクジェットヘッド部に直接活性光線または熱が作用しないように配置された活性光線照射部または加熱部を備えていることを特徴とする光拡散層形成用のインクジェット装置。
【００３７】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有するインク液滴を、該インク液滴の容積を制御しながら出射させて、該基材表面に微細凹凸構造を有する光拡散層の形成方法により、膜物性（膜均一性、屈曲耐性）が良好で、光拡散性に優れた光拡散層の形成を実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。
【００３８】
詳しくは、微細凹凸構造として、中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．０５〜１０．０μｍの範囲とすること、あるいは、凹部底を基準とした高さａが１．０〜３０．０μｍである凸部を０．０１ｍｍ２あたり５〜２０００個の範囲とすることが好ましく、また、光拡散性付与組成物として、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂を用いることにより、上記で規定した極めて微細な凹凸構造を実現できたものである。更に、インクジェット方式による上記インク液滴として、２種以上の組成の異なるインク液滴を用いて、屈折率の異なる凹凸構造を形成すること、あるいは２種以上の粒径の異なるインク液滴を用いること、粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成すること、あるいは、インク液滴に、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子または微小液滴を含有させることにより、本発明の目的効果をより一層発揮されることを見出したものである。
【００３９】
本発明の光拡散フィルムは、透明基材上に上記で規定する光拡散層を形成する構成であり、単に透明基材上に直接光拡散層を設けてもよいが、１層以上の硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層を有する透明基材上に設けることがより好ましい。平滑型の光拡散層とは、主に内部散乱によって光を拡散させる機能を有している層であり、膜厚よりも小さな粒径を有する微粒子等を含有しいる層で形成されている。
【００４０】
このときの硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層は、光拡散層の凹凸構造を形成する際に、未硬化であってもよいが、硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層がハーフキュア状態（半硬化状態）で凹凸構造を有する光拡散層をインクジェット方式で設けることが好ましく、また、硬化性樹脂層または平滑型の光拡散層表面をプラズマ処理した後、光拡散層を設けることにより、硬化性樹脂層と光拡散層の接着性を高めることができる。
【００４１】
また、本発明の光拡散フィルムにおいては、上述の方法により、透明基材上に、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を設け、その上に本発明に係る凹凸構造を有する光拡散層を設けた後、更にその表面に反射防止層を設けることが好ましい。このような構成とすることにより、極めて微細な凹凸構造により、好ましい光拡散効果と反射防止効果が実現でき、光拡散性に優れた光拡散フィルムを実現することができた。
【００４２】
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明においては、透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有するインク液滴を、インク液滴の容積を制御しながら出射させて、基材表面に微細凹凸構造を有する光拡散層を形成することが特徴である。
【００４３】
本発明に係る微細凹凸構造の一つの形状として、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１で規定される中心線平均粗さＲａが０．０５〜１０．０μｍである凹凸形状であることが好ましく、より好ましくはＲａが０．０７〜８．０μｍ、最も好ましくはＲａが０．１〜５．０μｍの凹凸形状である。
【００４４】
本発明で規定する中心線平均粗さＲａは、ＪＩＳ表面粗さのＪＩＳ−Ｂ−０６０１により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。
【００４５】
【数１】
2004325861.tif 000003
【００４６】
中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定方法としては、２５℃、６５％ＲＨ環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で２４時間調湿したのち、上記環境下で測定して求めることができる。ここでいう重なり合わない条件とは、例えば、試料のエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や試料と試料の間に紙をはさんで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることのできる測定装置としては、例えば、ＷＹＫＯ社製  ＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることができる。
【００４７】
また、本発明に係る微細凹凸構造の他の形状として、凹部底を基準とした高さａが１．０〜３０．０μｍである凸部を０．０１ｍｍ２あたり５〜２０００個有していることが好ましい。
【００４８】
図１は、透明基材上に、インクジェット方式で凹凸構造からなる光拡散層を設けた一例を示す模式図である。
【００４９】
図１の（ａ）は、凹凸構造からなる光拡散層の斜視図であり、図１の（ｂ）は断面図である。
【００５０】
図１の（ｂ）は、透明基材１の上に、塗布方式等により設けた１層もしくは複数からなる平滑型の光拡散層２上に、インクジェット方式により光拡散性付与組成物を含むインク液滴３により形成された凹凸構造を有する光拡散層４の一例を示してあるが、本発明で規定する凹部底を基準とした高さａとは、底部である光拡散層２表面を底部として、凹凸構造の頂部までの高さ（μｍ）と定義する。
【００５１】
光拡散層表面の微細な凹凸構造は、市販の触針式表面粗さ測定機あるいは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することができる。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約４０００μｍ２の範囲（５５μｍ×７５μｍ）について凹凸を２次元的に測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。
【００５２】
ここで隣接する底部を基準とした高さが１．０μｍ〜３０μｍである凸部の数をカウントし、０．０１ｍｍ２の面積あたりの数で示した。測定は、光拡散フィルム１ｍ２あたり任意の１０点を測定してその平均値として求める。
【００５３】
本発明において、光拡散層４を構成する凹凸構造の形状として、図１の（ｂ）では球形型の凸部を着弾させた一例を示しているが、本発明は上記の凹凸構造に限定されるものではない。
【００５４】
図１は、球体形状で着弾させた凹凸構造の一例であり、出射するインク液滴の粘度や、インク液滴とインク着弾面との接触角を適宜調整することにより、このような形状の凹凸構造を形成することができる。本発明のインクジェット方式による凹凸構造の形成方法は、従来の塗布方式等の光拡散層形成方法に比較し、任意の形状の凹凸構造を形成できることが、大きな特徴である。
【００５５】
上記凹凸構造の配置として、上図の説明では凸部を間隔をあけて着弾させた一例を示しているが、図２に示すように、インク液滴を充填させて、着弾面全体を凸部で被覆した構成でもよい。
【００５６】
次いで、本発明に係るインクジェット方式について説明する。
図３は、本発明に係るインクジェット方法に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【００５７】
図３（ａ）はインクジェットヘッドの断面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ線矢視拡大図である。図中、１１は基板、１２は圧電素子、１３は流路板、１３ａはインク流路、１３ｂは壁部、１４は共通液室構成部材、１４ａは共通液室、１５はインク供給パイプ、１６はノズルプレート、１６ａはノズル、１７は駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）、１８はリード部、１９は駆動電極、２０は溝、２１は保護板、２２は流体抵抗、２３、２４は電極、２５は上部隔壁、２６はヒータ、２７はヒータ電源、２８は伝熱部材、１０はインクジェットヘッドである。
【００５８】
集積化されたインクジェットヘッド１０において、電極２３、２４を有する積層された圧電素子１２は、流路１３ａに対応して、該流路１３ａ方向に溝加工が施され、溝２０と駆動圧電素子１２ｂと非駆動圧電素子１２ａに区分される。溝２０には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子１２には、上部隔壁２５を介して流路板１３が接合される。すなわち、前記上部隔壁２５は、非駆動圧電素子１２ａと隣接する流路を隔てる壁部１３ｂとで支持される。駆動圧電素子１２ｂの幅は流路１３ａの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）上の駆動回路により選択された駆動圧電素子１２ｂはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子１２ｂは厚み方向に変化し、上部隔壁２５を介して流路１３ａの容積が変化し、その結果ノズルプレート１６のノズル１６ａよりインク液滴を吐出する。
【００５９】
流路板１３上には、伝熱部材２８を介してヒータ２６がそれぞれ接着されている。伝熱部材２８はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材２８は、ヒータ２６からの熱を効率良く流路板１３に伝え、かつ、ヒータ２６からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、したがって、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、あるいは、ＳｉＣ、ＢｅＯ、ＡｌＮ等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。
【００６０】
圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。
【００６１】
図４は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【００６２】
図４において、図４の（ａ）はヘッド部の断面図、図４の（ｂ）はノズルプレートの平面図である。図中、１は透明基材、３１はインク液滴、３２はノズル、２９は活性光線照射部である。ノズル３２より噴射したインク液滴３１は透明基材１方向に飛翔して付着する。透明基材１上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部２９より、活性光線を直ちに照射され、硬化する。なお、３５は透明基材１を保持するバックロールである。
【００６３】
本発明においては、図４の（ｂ）に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、透明基材１の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに透明基材上に着弾するようにすることが好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することができる。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることができるが、特にこれらに限定されない。
【００６４】
本発明に用いられる凹凸構造を有する光拡散層の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット方式を用いることが好ましく、図５に、本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す。
【００６５】
図５において、図５のａ）は、インクジェットヘッド１０を透明基材１の幅手方向に配置し、透明基材１を搬送しながらその表面に光拡散層を形成する方法（ラインヘッド方式）であり、図５のｂ）はインクジェットヘッド１０が副走査方向に移動しながらその表面に光拡散層を形成する方法（フラットヘッド方式）であり、図５のｃ）はインクジェットヘッド１０が、透明基材１上の幅手方向を走査しながらその表面に光拡散層を形成する方法（キャプスタン方式）であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。なお、図５のａ）〜ｃ）に記載の２９は、インクとして後述の活性光線硬化型樹脂を用いる場合に使用する活性光線照射部である。
【００６６】
また、本発明においては、図５のａ）、ｂ）、ｃ）の透明基材の搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。
【００６７】
本発明において、微細な凹凸構造を形成するため、インク液滴としては０．１〜２００ｐｌが好ましく、０．５〜１００ｐｌがより好ましく、０．５〜２０ｐｌが特に好ましい。また、異なるインクジェットヘッド部からそれぞれ異なる液滴量のインクを吐出してもよく、同じインクジェットヘッド部から液滴量を変えてインクを吐出してもよく、この時の吐出間隔も一定間隔でもランダムであってもよい。上記条件でインク液滴を出射することにより、光拡散性に優れる微細な凹凸構造を有する光拡散フィルムを得ることができる。
【００６８】
また、インク液滴の粘度は、２５℃において０．１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓである。
【００６９】
次いで、本発明で用いることのできる透明基材について説明する。
本発明に係る透明基材としては、製造が容易であること、平滑型の光拡散層、または反射防止層等との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
【００７０】
本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることをさし、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
【００７１】
上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム（アートン（ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオネア（以上、日本ゼオン社製））、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることができる。中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルム（例えば、コニカタック  製品名ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ８ＵＶ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ５０ＵＮ、ＫＣ１２ＵＲ（コニカ（株）製））が、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。基材フィルムの膜厚は、特に制限はなく、１０μｍ〜１０ｍｍのシート状のものであってもよく、好ましくは１０μｍ〜１ｍｍである。
【００７２】
透明基材の光学特性としては膜厚方向のリターデーションＲｔが０ｎｍ〜３００ｎｍ、面内方向のリターデーションＲ０が０ｎｍ〜１０００ｎｍのものが好ましく用いられる。
【００７３】
本発明においては、透明基材としてはセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。
【００７４】
特にアセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとしたとき、ＸとＹが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有する透明基材上に光拡散層と反射防止層を設けた光拡散フィルムが好ましく用いられる。
【００７５】
２．３≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０．１≦Ｙ≦１．２
特に、２．５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
０．３≦Ｙ≦１．２であることが好ましい。
【００７６】
本発明に係る透明基材として、セルロースエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。
【００７７】
アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ３ＣＯＣｌ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＣｌ、Ｃ３Ｈ７ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０）。
【００７８】
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。
【００７９】
プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。
【００８０】
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【００８１】
セルロースエステルの数平均分子量は、７０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的強度が強く、且つ、適度なドープ粘度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。
【００８２】
これらセルロースエステルは、一般的に溶液流延製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液（ドープ）を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延（キャスティング）し製膜する方法で製造されることが好ましい。
【００８３】
これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えば、メチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセト酢酸メチル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル等が好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。
【００８４】
また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等である。
【００８５】
上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライドあるいは酢酸メチルが好ましく用いられる。
【００８６】
上記有機溶媒の他に、０．１質量％〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％で前記アルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。
【００８７】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。
【００８８】
これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド７０質量％〜９５質量％に対してエタノール５質量％〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。
【００８９】
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３質量％〜４０質量％であるときに幅手方向に１．０１倍〜１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶量が３質量％〜４０質量％であるときに幅手方向及び長手方向に、各々１．０１倍〜１．５倍に延伸されることが望ましい。この様にすることにより、平面性及び光拡散性に優れた光拡散性フィルムを得ることが出来る。更に、２軸延伸し、後述のナーリング加工をすることによって、長尺状光拡散フィルムのロール状での保管中の巻き形状の劣化を著しく改善することができる。
【００９０】
更に好ましくは後述する裏面側の突起の数が所定範囲内に調整することにより、ロール状の光拡散フィルムの保管安定性の向上効果が得られる。
【００９１】
本発明においては、二軸延伸されたセルロースエステルフィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上の透明支持体であることが好ましい。
【００９２】
本発明に係るセルロースエステルフィルム支持体は、その厚さが１０μｍ〜１００μｍのものが好ましく、透湿性は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８（２５℃、９０％ＲＨ）に準じて測定した値として、２００ｇ／ｍ２・２４時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、１０〜１８０ｇ／ｍ２・２４時間以下であり、特に好ましくは、１６０ｇ／ｍ２・２４時間以下である。特には、膜厚１０μｍ〜６０μｍで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。
【００９３】
本発明においては、長尺フィルムを用いることができ、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。更に、上記の長尺フィルムは下記に記載のナーリング加工を施すことがこのましい。ここで、ナーリング加工について説明する。
【００９４】
本発明では、上記の長尺フィルムの幅方向の両端に凹凸を付与して端部を嵩高くするいわゆるナーリング加工が施されていることが好ましい。ここで、ナーリング高さとは、下記のように定義される。
【００９５】
ナーリング高さ（ａ：μｍ）のフィルム膜厚（ｄ：μｍ）に対する比率Ｘ（％）＝（ａ／ｄ）×１００
本発明においては、Ｘ＝１〜２５％の範囲であることが好ましく、５％〜２０％が更に好ましく、１０％〜１５％が特に好ましい。
【００９６】
また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。
【００９７】
本発明の光拡散フィルムの支持体にセルロースエステルフィルムを用いる場合、後述の硬化性樹脂層で用いるのと同様の可塑剤を含有するのが好ましい。
【００９８】
これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１質量％〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３質量％〜１本発明に係る支持体に用いられる紫外線吸収剤について説明する。光拡散性低反射フィルム用の支持体には、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
３質量％である。
【００９９】
本発明の光拡散フィルム用の支持体には、後述のインクにおいて詳述するのと同様の紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０１００】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０１０１】
また、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには滑り性を付与するため、インクで記載したのと同様の微粒子を用いることができる。
【０１０２】
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムに添加される微粒子の１次平均粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。これらの微粒子は０．１〜５μｍの粒径の２次粒子を形成してセルロースエステルフィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は０．１〜２μｍであり、更に好ましくは０．２〜０．６μｍである。これにより、フィルム表面に高さ０．１〜１．０μｍ程度の凹凸構造を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を与えることが出来る。
【０１０３】
本発明に用いられる微粒子の１次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって、１次平均粒子径とした。
【０１０４】
微粒子の見掛比重としては、７０ｇ／リットル以上が好ましく、更に好ましくは、９０〜２００ｇ／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００ｇ／リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高いドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。
【０１０５】
１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見掛比重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１０００〜１２００℃にて空気中で燃焼させることで得ることができる。また例えばアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、それらを使用することができる。
【０１０６】
上記記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時の重さを測定し、下記式で算出したものである。
【０１０７】
見掛比重（ｇ／リットル）＝二酸化珪素質量（ｇ）／二酸化珪素の容積（リットル）
本発明に用いられる微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば以下に示すような３種類が挙げられる。
【０１０８】
《調製方法Ａ》
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
【０１０９】
《調製方法Ｂ》
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、撹拌溶解する。これに前記微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０１１０】
《調製方法Ｃ》
溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０１１１】
調製方法Ａは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。
【０１１２】
《分散方法》
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５質量％〜３０質量％が好ましく、１０質量％〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１１３】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１１４】
セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、二酸化珪素微粒子は０．０１質量部〜５．０質量部が好ましく、０．０５質量部〜１．０質量部がさらに好ましく、０．１質量部〜０．５質量部が最も好ましい。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方が、凝集物が少なくなる。
【０１１５】
分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。
【０１１６】
メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどがあげられる。
【０１１７】
メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。
【０１１８】
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げられる。
【０１１９】
また、微粒子を含むドープを流延支持体に直接接するように流延することが、滑り性が高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。
【０１２０】
また、流延後に剥離して乾燥されロール状に巻き取られた後、本発明に係る光拡散層が設けられる。加工若しくは出荷されるまでの間、汚れや静電気によるゴミ付着等から製品を保護するために通常、包装加工がなされる。この包装材料については、上記目的が果たせれば特に限定されないが、フィルムからの残留溶媒の揮発を妨げないものが好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、紙、各種不織布等が挙げられる。繊維がメッシュクロス状になったものは、より好ましく用いられる。
【０１２１】
本発明に係るセルロースエステルフィルムは複数のドープを用いた共流延法等による多層構成を有するものであってもよい。
【０１２２】
共流延とは、異なったダイを通じて２層または３層構成にする逐次多層流延方法、２つまたは３つのスリットを有するダイ内で合流させ２層または３層構成にする同時多層流延方法、逐次多層流延と同時多層流延を組み合わせた多層流延方法のいずれであっても良い。
【０１２３】
また、本発明で用いられるセルロースエステルは、フィルムにしたときの輝点異物が少ないものが、支持体として好ましく用いられる。本発明において、輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコル）、この間にセルロースエステルフィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面からセルロースエステルフィルムを観察したときに、光源の光がもれて見える点のことである。
【０１２４】
このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物の発生は、セルロースエステルに含まれる未酢化のセルロースがその原因の１つと考えられ、対策としては、未酢化のセルロース量の少ないセルロースエステルを用いることや、また、セルロースエステルを溶解したドープ液の濾過等により、除去、低減が可能である。また、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向がある。
【０１２５】
輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上のものが２００個／ｃｍ２以下であることが好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃｍ２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましくは、０であることである。
【０１２６】
また、０．００５ｍｍ〜０．０１ｍｍの輝点についても２００個／ｃｍ２以下であることが好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃｍ２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましいのは、輝点が０の場合である。０．００５ｍｍ以下の輝点についても少ないものが好ましい。
【０１２７】
輝点異物を濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶解させたものを濾過するよりも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、セラミックス、金属等も好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく、更に好ましくは、３０μｍ以下、１０μｍ以下であるが、特に好ましくは、５μｍ以下のものである。
【０１２８】
これらは、適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。
【０１２９】
次いで、本発明に係るインクジェット方式で用いるインクについて説明する。
本発明に係るインクは、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する光拡散性付与組成物を含有することが特徴であるが、該光拡散性付与組成物としては、活性光線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂あるいは金属アルコキシドまたはその加水分解物であることが好ましい。
【０１３０】
はじめに、本発明に係る活性光線硬化型樹脂について説明する。
活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。
【０１３１】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１３２】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０１３３】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【０１３４】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【０１３５】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０１３６】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性光線反応性化合物を示す。
【０１３７】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
【０１３８】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。
【０１３９】
上記のエポキシ化合物を活性光線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。
【０１４０】
エポキシ系活性光線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性光線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。
【０１４１】
活性光線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性光線反応性樹脂である。
【０１４２】
本発明に有用な活性光線反応性エポキシ樹脂は、活性光線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【０１４３】
かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。
一般式（ａ）
〔（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ（Ｒ３）ｃ（Ｒ４）ｄＺ〕ｗ＋〔ＭｅＸｖ〕ｗ−
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【０１４４】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸｖ〕ｗ−の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ４−）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ４−）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ４−）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ４−）等を挙げることができる。
【０１４５】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。
【０１４６】
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。
【０１４７】
また、エポキシアクリレート基を有する活性光線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性光線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。
【０１４８】
本発明に有用な活性光線硬化型樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性光線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。
【０１４９】
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性光線ラジカル重合開始剤と活性光線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。
【０１５０】
また、本発明に係る光拡散層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。
【０１５１】
本発明で用いることのできる紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（以上、三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。
【０１５２】
本発明に係るインクには、公知の熱可塑性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダを上記記載の活性光線硬化型樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ２、−ＮＲ３Ｘ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ２、−ＯＰＯ３Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることができる。
【０１５３】
本発明に使用する上記活性光線反応性化合物を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記活性光線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。
【０１５４】
本発明に係る平滑型の光拡散層あるいは凹凸構造を有する光拡散層を形成するインクには光拡散剤を含有することができ、光拡散剤としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、タルク、クレー、アルミナホワイト、炭酸カルシウム、シリカ等の無機系顔料およびポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）ビーズ、シリコンビーズ、スチレンビーズ等の合成樹脂ビーズを単独で或いは２種類以上を混合して用いることができる。
【０１５５】
これら光拡散剤の粒径は、光拡散層の厚さとの関係で適宜選択されるが、通常平均粒径０．０１μｍ〜５μｍ程度のものが用いられ、特に粒径の分布範囲が狭い方が好ましい。
【０１５６】
また、更には、本発明の光拡散フィルムでは、光拡散剤として、膜厚以上の直径の粒子、特に粒径が３μｍ以上の粒子の使用量を少なくすることができ、もしくはまったく使用することなく、粒径が３μｍ以上の粒子を用いて形成したのと同等の光拡散性を有する光拡散層を形成することができ、屈曲による割れにくく、取り扱い性に優れる光拡散フィルムを提供することができる。特にプラスチック基板を用いた液晶表示装置や、有機ＥＬディスプレイ、電子ペーパーなど折り曲げることが可能なフレキシブルな表示装置に用いられる光拡散フィルムとして特に有用である。
【０１５７】
本発明に係るインクが、活性光線硬化型樹脂を含有する場合、活性光線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。
【０１５８】
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。
【０１５９】
また、活性光線硬化型樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。
【０１６０】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０１６１】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１６２】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式（１）で示される化合物が好ましく用いられる。
【０１６３】
【化１】
2004325861.tif 000004
【０１６４】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４とＲ５は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。
【０１６５】
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。
以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１６６】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式（２）で表される化合物が好ましく用いられる。
【０１６７】
【化２】
2004325861.tif 000005
【０１６８】
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。
【０１６９】
上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。
【０１７０】
以下に一般式（２）で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１７１】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０１７２】
また、特開２００１−１８７８２５号に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、支持体の面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０１７３】
また、特開平６−１４８４３０号に記載の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９号の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。
【０１７４】
また、インクジェット方式により形成した凹凸構造を有する光拡散層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。
【０１７５】
本発明に係るインクには、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＺｎＯ等の導電性微粒子や架橋カチオンポリマー粒子等の帯電防止剤を含有させることが好ましい。また、これらの化合物は、透明基材上に設ける後述の硬化性樹脂層に添加してもよい。
【０１７６】
本発明において、インクジェット方式により形成した凹凸構造を有する光拡散層が活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、インク液滴を透明基体上に着弾させた直後より、活性光線を照射することが好ましい。
【０１７７】
本発明でいうインク液滴を透明基体上に着弾させた直後とは、具体的にはインク液滴が着弾後０．００１〜２．０秒の間が好ましく、より好ましくは０．００１〜１．０秒の間である。照射光源の照射間隔が０．００１秒より短いと、ノズル部と照射光源の距離が接近しすぎて、硬化反応により昇華物質によるヘッドの汚染や、照射光のインク出射部への回り込みにより、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため好ましくない。また、照射光源の照射間隔が長くなると、着弾したインク液滴の流動、変形等により、本発明で規定する所望の凹凸構造を得ることが困難となる。なお、インクジェットヘッド部より吐出されたインクは、溶媒を揮散させながら飛翔して、基材に着弾することが好ましい。着弾時に含有する溶媒量によっても凹凸構造を制御することができる。より微細な凹凸構造を形成する場合、インクの固形分量を少なくし、飛翔中に溶媒を揮散させて着弾させることが好ましい。
【０１７８】
上記照射時のノズル部への光の回り込みを防止するため、本発明のインクジェット方式においては、活性光源照射部をインクジェットヘッドのノズル部に直接作用させない位置に配置することが好ましく、更に、照射される活性光線が、インクジェットヘッドのノズル部に作用しないように遮光板をその間に設けることが好ましい。
【０１７９】
また、インク液滴が着弾した直後の活性光線の照射は、着弾したインク液滴の流動性を低下させ、所望の凹凸構造が形成できる程度に照射すればよく、ハーフキュア状態でもよい。この場合には、別途下流側に設置した活性光源を照射して、完全に硬化させることができる。このようにすることにより、インクジェットヘッドのノズル部に、活性光線が作用して目詰まりを起こすことを防止することができる。
【０１８０】
本発明に使用することができる活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、光拡散性付与組成物である活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１８１】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０１８２】
本発明においては、活性線照射の時の雰囲気中の酸素濃度が１％以下であることがより好ましい。また、窒素ガスでページすることによって酸素濃度を下げることもできる。
【０１８３】
また、本発明においては、活性光線の硬化反応を効率的に進めるため、透明基材等を加熱することもできる。加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、あるいは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、インクジェット出射部の透明支持体を挟んで反対側に用いられるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。
【０１８４】
加熱温度としては、使用する活性光線硬化型樹脂の種類により一概には規定できないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。
【０１８５】
次いで、本発明に係る熱硬化性樹脂について説明する。
本発明で用いることのできる熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることができる。
【０１８６】
不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは皮膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど）を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Ｂｒ２でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはＩＰＮ化した強靭性（高強度、高弾性率、高伸び率）の強靭性樹脂等がある。
【０１８７】
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールＦ型、臭素化ビスフェノールＡ型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１８８】
ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。
【０１８９】
フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。
【０１９０】
熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・Ｏ，Ｏ′−ジアリルビスフェノール−Ａ樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。
【０１９１】
また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることができる。
【０１９２】
なお、本発明に係る熱硬化性樹脂からなるインクには、活性光線硬化型樹脂を含むインクに記載した酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。
【０１９３】
本発明において、インクジェット方式により形成した凹凸構造を有する光拡散層が熱硬化性樹脂を含む場合、加熱方法としては、インク液滴を透明基体上に着弾させた直後に、加熱処理を行うことが好ましい。
【０１９４】
本発明でいうインク液滴を透明基体上に着弾させた直後とは、具体的にはインク液滴が着弾と同時または５秒以内に加熱が開始されることが好ましく、より好ましくは０．００１〜２．０秒の間である。加熱間隔が０．００１秒より短いと、ノズル部と加熱部の距離が接近しすぎて、熱がヘッド部に伝達すると、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため注意が必要である。また、加熱間隔が５．０秒を超えると、着弾したインク液滴の流動、変形等により、本発明で規定する所望の凹凸構造を得ることが困難となる。
【０１９５】
上記加熱時のノズル部への熱の伝達を防止するため、本発明のインクジェット方式においては、加熱部をインクジェットヘッドのノズル部に直接作用させない位置に配置することが好ましい。
【０１９６】
加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、あるいは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、インクジェット出射部の透明支持体を挟んで反対側に設けるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。加熱温度としては、使用する熱硬化性樹脂の種類により一概には規定できないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。
【０１９７】
本発明に係るインクにおいては、光拡散性付与組成物として、上述した活性光線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも用いることができるが、好ましくは活性光線硬化型樹脂を用いることである。
【０１９８】
本発明に係る上記インクには、必要に応じて溶媒を含有させることができる。例えば、水系溶媒に前記活性光線硬化型樹脂モノマー成分、あるいは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解もしくは分散させてもよく、あるいは有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも高沸点のものでも適宜選択して用いることができ、これらの溶媒の添加量や種類、組成はインク粘度や表面張力を調整するため適宜調整することが好ましい。
【０１９９】
本発明に係るインクで用いることができる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類；ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することができる。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。
【０２００】
グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶剤が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルＡｃ、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルＡｃ、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることができる、なおＡｃはアセテートを表す。本発明に係るインクにおいては、上記溶剤の中でも、沸点が１００℃未満の溶剤が好ましい。
【０２０１】
次いで、本発明におけるインクジェット方式による凹凸構造を形成する好ましい態様について説明する。
【０２０２】
本発明における凹凸構造を有する光拡散層の好ましい形成方法の一つは、２種以上の屈折率の異なるインク液滴を出射して形成する方法である。詳しくは、硬化後の５５０ｎｍにおける屈折率が０．０１以上異なる２種以上のインク液滴を用いることにより、光反射性に優れた凹凸構造を有する光拡散層が形成できるため好ましい。好ましくは屈折率差が０．０１〜２．０、特に屈折率差が０．０３〜１．０異なるインク滴を組み合わせることが好ましい。本発明に係るインクにおいて、上記条件を満たすための方法として、特に制限はなく、例えば、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂の種類や添加量、あるいは不揮発性有機溶媒の種類や添加量、その他の添加剤の種類や添加量を適宜調整することにより、実現することができる。
【０２０３】
本発明における凹凸構造を有する光拡散層の好ましい形成方法の一つは、２種以上の屈折率の異なるインク液滴を出射して形成する方法である。詳しくは、硬化後の５５０ｎｍにおける屈折率が０．０１以上異なる２種以上のインク液滴を用いることにより、光反射性に優れた凹凸構造を有する光拡散層が形成できるため好ましい。好ましくは屈折率差が０．０１〜２．０、特に屈折率差が０．０３〜１．０異なるインク滴を組み合わせることが好ましい。本発明に係るインクにおいて、上記条件を満たすための方法として、特に制限はなく、例えば、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂の種類や添加量、あるいは不揮発性有機溶媒の種類や添加量、その他の添加剤の種類や添加量を適宜調整することにより、実現することができる。
【０２０４】
本発明における凹凸構造を有する光拡散層の他の好ましい形成方法として、２種以上の粒径の異なるインク液滴を出射して形成することが好ましく、更に好ましくは、粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成することである。
【０２０５】
図６の（ａ−１）、（ａ−２）には、透明基材１の上に、塗布方式等により設けた１層もしくは複数からなる硬化性樹脂層５上に、インクジェット方式により光拡散性付与組成物を含むインク液滴３により形成された凹凸構造を有する光拡散層４を構成した後、更にその表面をインク液滴３より粒径の小さい微小液滴６を含む塗布液を塗布方式により形成した一例を示す。
【０２０６】
また、図６の（ｂ）には、透明基材１の上に、塗布方式等により設けた１層もしくは複数層からなる平滑型の光拡散層２上に、インクジェット方式により光拡散性付与組成物を含むインク液滴３により形成された凹凸構造を有する光拡散層４を構成した後、更にその表面をインク液滴３より粒径の小さい微小液滴６を含む塗布液を塗布方式により形成した一例を示す。
【０２０７】
また、図６の（ｃ）には、透明基材１の上に、塗布方式等により設けた１層もしくは複数からなる硬化性樹脂層５上に、インクジェット方式により光拡散性付与組成物を含むインク液滴３により形成された凹凸構造を有する光拡散層４を構成した後、更にその表面をインクジェット方式によりインク液滴３より粒径の小さい微小インク液滴７で、より微細な凹凸構造を形成した一例を示す。
【０２０８】
本発明に係る光拡散層の構成としては、透明基材上に凹凸構造を有する光拡散層が形成されていれば特に制限はないが、好ましくは、図６の（ａ−１）、（ａ−２）または（ｃ）で示す様な透明基材上に１層以上の硬化性樹脂層５を設けた後、インクジェット方式で光拡散性付与組成物を含むインク液滴３により、上記で規定する凹凸構造からなる光拡散層４を設けることが好ましい。
【０２０９】
本発明において、凹凸構造を形成するインクとして粒径の異なるインク液滴を用いて形成することにより、干渉縞を生じにくくするとともに、表示装置の光拡散性に優れる微細な凹凸構造を形成することができる。各々のインク液滴は、０．１〜１００ｐｌが好ましく、０．１〜５０ｐｌが更に好ましく、０．１〜１０ｐｌが特に好ましい。２種以上の大きさの異なるインク液滴を用いる場合、平均粒径が最も大きい粒径のインク液滴に対し、平均粒径が最も小さな粒径のインク液滴の容量としては、０．１〜８０体積％、更に好ましくは１〜６０体積％、特に好ましくは３〜５０体積％であることが好ましい。また、３種以上の容量が異なるインク液滴を組み合わせることがより好ましい態様である。
【０２１０】
また、２種以上のインク液滴を用いる場合、固形分濃度が異なる各インク液滴を用いることができる。例えば、主に後から出射するより微小な液滴は、より大きなインク液滴よりも固形分濃度として低く設定することが好ましい。このように各インク液滴の固形分濃度を適宜調整することにより、微細な凹凸構造の形成や形状を容易に制御することができる。
【０２１１】
更に、本発明においては、異なる容量のインク滴を組み合わせて凹凸構造を形成する場合、大きなインク液滴を透明基材上に着弾させた後、より微細なインク液滴をその上に着弾させることが好ましい。大きなインク滴を着弾させて、未硬化の状態でその上により微細なインク液滴を着弾させてもよいが、本発明では、大きなインク液滴を着弾させた後、活性光線を照射すること、あるいは加熱処理を施してより完全に硬化させるか、あるいはハーフキュアの状態にした後、より微細なインク液滴をその上に着弾させることが好ましい。
【０２１２】
本発明における凹凸構造を有する光拡散層の他の好ましい形成方法として、インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子を含有することが好ましい。
【０２１３】
図６の（ｄ）は、透明基材１の上に、塗布方式等により設けた１層もしくは複数からなる硬化性樹脂層５上に、インクジェット方式により光拡散性付与組成物と微粒子または微小液滴８を含むインク液滴３により形成された凹凸構造を有する光拡散層４を構成した後、更にその表面をインクジェット方式によりインク液滴３より粒径の小さい微小インク液滴７で、より微細な凹凸構造を形成した一例を示す。
【０２１４】
本発明において、インク液滴中に含有せしめることのできる微粒子としては、例えば、無機微粒子または有機微粒子を挙げることができる。
【０２１５】
無機微粒子としては、例えば、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。
【０２１６】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
【０２１７】
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
【０２１８】
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。
【０２１９】
本発明で用いる微粒子の平均粒径は、０．００１〜１０μｍが好ましく、さらに好ましくは０．００５〜３μｍであり、特に好ましくは０．０１〜１μｍである。粒径や屈折率の異なる２種以上の微粒子を含有させてもよい。
【０２２０】
本発明における凹凸構造を有する光拡散層の他の好ましい形成方法として、インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微小液滴を含有することが好ましい。
【０２２１】
本発明でいう微小液滴とは、インク液滴より小粒径で、相分離状態にあるか、あるいは乳化物の形態でインク中に液状で存在しているものが好ましく、インクの主成分とは完全に混じりあわないものであることが好ましく、また、インクが硬化した後、５５０ｎｍにおける屈折率が、インク液滴媒体と０．０１以上異なることが好ましい。好ましくは屈折率が０．０１〜２．０異なること、特に屈折率が０．０３〜１．０異なることが好ましい。
【０２２２】
上述したインク液滴に微粒子を用いた場合には、インクジェットヘッドの目詰まりを起こす可能性も残るが、液状物であれば目詰まりを起こしにくく特に好ましい。また、微小液滴自身も硬化性成分を含んでいることが好ましく、着弾後に硬化させることが好ましい。これらを用いることによって、より微細な凹凸構造や光散乱の効果が得られ、光拡散性の向上が期待できる。
【０２２３】
本発明に係る微小液滴として、金属アルコキシドまたはその加水分解物あるいは部分重合物を用いることが特に好ましい。
【０２２４】
金属原子としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ等を挙げることができ、本発明で用いることのできる金属アルコキシドの具体例として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のシランカップリング剤、テトライソプロピルチタン、テトラｎ−ブトキシチタン、テトラブトキシジルコニウム、テトライソプロピルジルコニウム、テトラエトキシチタン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの金属アルコキシドは、インク液滴が透明基材に着弾した後、活性光線等による硬化処理により硬化し、その種類により屈折率の異なる凹凸構造を形成することができる。
【０２２５】
次いで、本発明の光拡散フィルムの他の構成要素について説明する。
本発明の光拡散フィルムにおいては、透明基材上に直接インクジェット方式により光拡散層を形成することができるが、より好ましくは１層以上の硬化性樹脂層、あるいは塗布方式で形成した平滑型の光拡散層を形成した後、その硬化性樹脂層、または平滑型の光拡散層表面上に凹凸構造からなる光拡散層を形成することが好ましい。これらの層の膜厚は、０．１〜１０μｍが好ましい。
【０２２６】
硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層には、インクで用いたのと同様の熱硬化性樹脂または活性線硬化型樹脂を好ましく用いることができるが、特に紫外線硬化樹脂が好ましい。また、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の形成に際しては、上記各樹脂の他に、インクで記載したのと同様な光拡散剤、光反応開始剤、光増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機微粒子、有機微粒子等を適宜添加することができる。
【０２２７】
また、本発明においては、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層は、複数層で構成されてもよいが、インク液滴を着弾させる硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の最表層が、可塑剤を含有していることが好ましい。
【０２２８】
硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層で用いることのできる可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【０２２９】
リン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。また、トリメチロールプロパントリベンゾエート等も好ましく用いることができる。
【０２３０】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。
【０２３１】
特に、特願２０００−３３８８８３号記載のエポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の添加物を有するセルロースエステルも好ましく用いられる。
【０２３２】
上記化合物としては、ＫＥ−６０４とＫＥ−６１０は荒川化学工業（株）からそれぞれ酸価２３７と１７０で市販されている。同じく、荒川化学工業（株）からアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物のエステル化物として、ＫＥ−１００及びＫＥ−３５６が、それぞれの酸価は８と０で市販されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物は、播磨化成（株）からそれぞれの酸価１６７、１６８のＧ−７及びハートールＲ−Ｘで市販されている。
【０２３３】
また、エポキシ樹脂としては、アラルダイドＥＰＮ１１７９及びアラルダイドＡＥＲ２６０は旭チバ（株）から市販されている。
【０２３４】
ケトン樹脂としては、ハイラック１１０及びハイラック１１０Ｈは日立化成（株）から市販されている。
【０２３５】
パラトルエンスルホンアミド樹脂としては、トップラーとして、フジアミドケミカル（株）から市販されている。
【０２３６】
本発明に係る凹凸構造を有する光拡散層を形成するインク液滴を着弾させる硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層最表層には、可塑剤が０．１〜１０質量％を含有することが好ましい。例えば、前記硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の塗布組成物にあらかじめ可塑剤を添加することが好ましく、あるいは硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の塗設前に、あらかじめ基材表面に可塑剤を塗布もしくは付着させておくこともできる。これらによって、硬化後のインク滴の密着性が改善される。
【０２３７】
本発明に係る硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（炭素数１〜４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（炭素数１〜４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。
【０２３８】
上記説明した組成からなる硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層組成物塗布液を透明基材上に塗布する方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で５μｍ〜３０μｍが適当で、好ましくは１０μｍ〜２０μｍである。塗布速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分が好ましい。また、乾燥膜厚としては、０．１〜１０μｍが好ましい。
【０２３９】
硬化性樹脂層組成物、あるいは平滑型の光拡散層は塗布乾燥された後、インクの硬化と同様の方法で、紫外線や電子線等の活性光線を照射したり、あるいは加熱処理により硬化されることが好ましいが、前記活性光線の照射時間は０．１秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、０．１〜１０秒である。
【０２４０】
本発明においては、上記方法で透明基材上に塗布した硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層が未硬化の状態、あるいは完全に硬化が終了した後のいずれの時期で、インクジェット方式により、凹凸構造を有する光拡散層を形成するインク液滴を着弾させてもよいが、好ましくは硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層が硬化した後に、インクジェット方式によりインク液滴を着弾させて凹凸構造を形成することが好ましく、特に好ましくは硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層がハーフキュア（半硬化状態）のときにインク液滴を着弾させて凹凸構造を形成させることが、微細な凹凸が形成しやすく、かつ生産性にも優れるため好ましく、更に、凹凸構造部と硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層表面との密着性を向上することができる。
【０２４１】
また、上記方法で透明基材上に塗布した硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層表面に、凹凸構造を有する光拡散層を形成するインク液滴を着弾する前に、プラズマ処理を施すことが、より微細な凹凸構造を形成することができるため好ましい。特に、大気圧プラズマ処理を施すことが好ましく、ヘリウム、アルゴン等の希ガスもしくは窒素、空気などの放電ガスと必要に応じて、酸素、水素、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、水蒸気、メタン、４フッ化メタンなどを１種以上含有する反応ガスによって表面改質することができ、例えば、特開２０００−３５６７１４号公報に記載の方法を参考にして、硬化性樹脂層表面に、プラズマ処理を施すことができる。
【０２４２】
本発明の光拡散フィルムは、透明基材上に硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗布、乾燥させた後、本発明に係るインクジェット方式により凹凸構造を有する光拡散層を形成し、更に、凹凸構造を有する光拡散層上に反射防止層あるいは防汚層を設けることが好ましい。
【０２４３】
本発明に係る反射防止層は、凹凸構造を有する光拡散層の上に、光拡散層側から複数の屈折率層を設けることが好ましく、更には、高屈折率層、低屈折率層を順に積層したものであることが好ましい。屈折率の高低は、そこに含まれる金属または化合物によってほぼ決まり、例えばＴｉは高く、Ｓｉは低く、Ｆを含有する化合物は更に低く、このような組み合わせによって屈折率が設定される。屈折率と膜厚は、分光反射率の測定により計算して算出し得る。
【０２４４】
本発明の光拡散フィルムは、透明な基材（支持体）上に凹凸構造を有する光拡散層を有し、その上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成されている。得に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体または光拡散層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。
【０２４５】
また、必要に応じて、汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、さらに防汚層を設けることも好ましい。防汚層としては、含フッ素有機シラン化合物が好ましく用いられる。
【０２４６】
本発明に係る反射防止層は、前述の塗布方式により形成することもでき、また大気圧プラズマ処理、ＣＶＤ等のドライプロセスによって金属酸化物層（ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＩＴＯなど）を設けることができる。
【０２４７】
本発明に係る高屈折率層としては、好ましくはチタン酸化物を含有することが望ましい。これらは微粒子として添加することもできるが、より好ましくは、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率１．５５〜２．５の層である。
【０２４８】
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ｔｉ（ＯＣＨ３）４、Ｔｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ３Ｈ７）４、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ３Ｈ７）４、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ３Ｈ７）４の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ３Ｈ７）４の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９）４の２〜１０量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。中でもＴｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ３Ｈ７）４、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ３Ｈ７）４、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ３Ｈ７）４の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９）４の２〜１０量体が特に好ましい。
【０２４９】
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の５０．０質量％〜９８．０質量％を占めていることが望ましい。固形分比率は５０質量％〜９０質量％がより好ましく、５５質量％〜９０質量％が更に好ましい。このほか、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー（あらかじめ有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの）あるいは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。
【０２５０】
また、本発明においては、塗布液中に上記有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーの部分または完全加水分解物を含むが、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーは、自己縮合して架橋し網状結合するものである。その反応を促進するために触媒や硬化剤を使用することができ、それらには、金属キレート化合物、有機カルボン酸塩等の有機金属化合物や、アミノ基を有する有機けい素化合物、光による酸発生剤（光酸発生剤）等がある。これらの触媒または硬化剤の中で特に好ましいのは、アルミキレート化合物と光酸発生剤である。アルミキレート化合物の例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等であり、光酸発生剤の例としては、ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、その他のホスホニウム塩やトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェートの塩等を挙げることができる。
【０２５１】
反射防止層の塗布液中の固形分比率として０．５質量％〜２０質量％のバインダが含まれることが好ましい。
【０２５２】
バインダとしては、重合可能なビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基、エポキシ基、オキセタン環等の重合性基を２つ以上有し、活性光線照射により架橋構造または網目構造を形成するインクで用いたのと同様なアクリルまたはメタクリル系活性エネルギー線反応性化合物、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物またはオキセタン系活性エネルギー線反応性化合物を用いることができる。これらの化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマーを含む。重合速度、反応性の点から、これらの活性基のうちアクリロイル基、メタクリロイル基またはエポキシ基が好ましく、多官能モノマーまたはオリゴマーがより好ましい。また、前述のインク及び硬化性樹脂層に用いられる活性光線硬化型樹脂も好ましく用いることができる。更に、アルコール溶解性アクリル樹脂も好ましく用いられる。
【０２５３】
チタン化合物を含む中〜高屈折率層には、バインダとしてアルコール溶解性アクリル樹脂も好ましく用いられ、これによって、膜厚むらが少ない中、高屈折率層を得ることができる。具体的には、アルキル（メタ）アクリレート重合体またはアルキル（メタ）アクリレート共重合体、例えばｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート等の共重合体が好ましく用いられるが、共重合成分としてはこれらに限定されるものではない。市販品としては、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５１、ＢＲ−５２、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−６５、ＢＲ−７０、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７６、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−８９、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−９６、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８（以上、三菱レーヨン（株）製）等が使用できる。これらのモノマー成分も中〜高屈折率層用バインダとして添加することができる。バインダの添加比率を変更することによって屈折率を調整することができる。
【０２５４】
低屈折率層にはすべり剤を添加することが好ましく、滑り性を付与することによって耐傷性を改善することができる。すべり剤としては、シリコンオイルまたはワックス状物質が好ましく用いられる。
【０２５５】
具体的には、ベヘン酸、ステアリン酸アミド、ペンタコ酸等の高級脂肪酸またはその誘導体、天然物としてこれらの成分を多く含んでいるカルナバワックス、蜜蝋、モンタンワックスも好ましく使用できる。特公昭５３−２９２号に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米国特許第４，２７５，１４６号に開示されているような高級脂肪酸アミド、特公昭５８−３３５４１号、英国特許第９２７，４４６号または特開昭５５−１２６２３８号及び同５８−９０６３３号に開示されているような高級脂肪酸エステル（炭素数が１０〜２４の脂肪酸と炭素数が１０〜２４のアルコールのエステル）、そして米国特許第３，９３３，５１６号に開示されているような高級脂肪酸金属塩、特開昭５１−３７２１７号に開示されているような炭素数１０までのジカルボン酸と脂肪族または環式脂肪族ジオールからなるポリエステル化合物、特開平７−１３２９２号に開示されているジカルボン酸とジオールからのオリゴポリエステル等を挙げることができる。
【０２５６】
低屈折率層に使用する滑り剤の添加量は０．０１ｍｇ／ｍ２〜１０ｍｇ／ｍ２が好ましい。必要に応じて、中屈折率層や高屈折率層に添加することもできる。
【０２５７】
本発明に係る低屈折率層には、界面活性剤、柔軟剤、柔軟平滑剤等を添加することが好ましく、これによって耐擦り傷性が改善される。中でもアニオン系または非イオン系の界面活性剤が好ましく、例えば、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム塩、多価アルコール脂肪酸エステルの非イオン界面活性剤乳化物等が好ましい。例えば、リポオイルＮＴ−６、ＮＴ１２、ＮＴ−３３、ＴＣ−１、ＴＣ−６８、ＴＣ−７８、ＣＷ−６、ＴＣＦ−２０８、ＴＣＦ−６０８、ＮＫオイルＣＳ−１１、ＡＷ−９、ＡＷ−１０、ＡＷ−２０、ポリソフターＮ−６０６、塗料用添加剤ＰＣ−７００（日華化学株式会社製）等が用いられる。
【０２５８】
本発明に係る低屈折率層は、酸化珪素等の珪素化合物微粒子あるいはフッ素含有化合物微粒子等を塗設して設けることが好ましい。好ましい有機けい素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等を挙げることができ、これらを加水分解することによりシリケートオリゴマーが得られる。加水分解反応は、公知の方法により行うことができ、例えば、上記テトラアルコキシシランに所定量の水を加えて、酸触媒の存在下で、通常、室温〜１００℃で反応させる。この反応によりアルコキシシランは加水分解し、続いて縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を２個以上有する液状のシリケートオリゴマー（通常、平均重合度は２〜８、好ましくは３〜６）を加水分解物として得ることができる。
【０２５９】
硬化触媒としては、酸、アルカリ、有機金属、金属アルコキシド等を挙げることができるが、本発明においては酸、特にスルホニル基またはカルボキシル基を有する有機酸が好ましく用いられる。例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は１分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物も好ましく用いられ、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、２−オキソグルタル酸、グリコール酸、Ｄ−グリセリン酸、Ｄ−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることができる。
【０２６０】
上記有機酸を用いることで、硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸等の無機酸の使用による生産時の配管腐蝕や安全性への懸念が解消できるばかりでなく、加水分解時のゲル化を起こすことなく、安定した加水分解物を得ることができる。添加量は、部分加水分解物１００質量部に対して０．１〜１０質量部、好ましくは０．２〜５質量部がよい。また、水の添加量については部分加水分解物が理論上１００％加水分解し得る量以上であればよく、１００〜３００％相当量、好ましくは１００〜２００％相当量を添加するのがよい。
【０２６１】
このようにして得られた低屈折率層用の塗布組成物は極めて安定である。
（熟成工程）
更に、本発明では熟成工程により、有機けい素化合物の加水分解、縮合による架橋が充分に進み、得られた被膜の特性が優れたものとなる。熟成は、オリゴマー液を放置すればよく、放置する時間は、上述の架橋が所望の膜特性を得るのに充分な程度進行する時間である。具体的には用いる触媒の種類にもよるが、塩酸では室温で１時間以上、マレイン酸では数時間以上、８時間〜１週間程度で充分であり、通常３日前後である。熟成温度は熟成時間に影響を与え、極寒地では２０℃付近まで加熱する手段をとった方がよいこともある。一般に高温では熟成が早く進むが、１００℃以上に加熱するとゲル化が起こるので、せいぜい５０〜６０℃までの加熱が適切である。また、本発明で用いるシリケートオリゴマーについては、上記の他に、例えば、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、カルボキシル基等の官能基を有する有機化合物（モノマー、オリゴマー、ポリマー）等により変性した変性物であってもよく、単独または上記シリケートオリゴマーと併用することも可能である。
【０２６２】
また、本発明においては、上記低屈折率層に酸化けい素微粒子を含有させることができる。粒径０．１μｍ以下の酸化けい素微粒子を含むことが好ましい。例えば、アエロジル２００Ｖ（日本アエロジル（株）製）等を添加することができる。特に表面がアルキル基で修飾された酸化けい素微粒子が好ましく用いられ、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ（以上、日本アエロジル（株）製）として市販されている表面がメチル基で修飾された酸化けい素微粒子を好ましく添加することができる。このほか特開２００１−２７９９号に記載されている表面がアルキル基で置換された酸化けい素微粒子を用いることもでき、前述のシリケートオリゴマーの加水分解後にアルキルシランカップリング剤により処理することでも容易に得ることができる。添加量としては低屈折率層中の固形分比率で０．１質量％〜４０質量％の範囲となるように添加することが好ましい。
【０２６３】
本発明の各屈折率層には、屈折率の調整あるいは膜質の改善のために更にシラン化合物を添加することができる。
【０２６４】
本発明に係る高〜低屈折率層（反射防止層ともいう）を塗設する際の塗布液に使用する溶媒は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、水等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することができる。
【０２６５】
また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類が更に好ましい。
【０２６６】
グリコールエーテル類としては、プロピレングリコールモノ（炭素数１〜４）アルキルエーテル、プロピレングリコールモノ（炭素数１〜４）アルキルエーテルエステルであり、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。また、プロピレングリコールモノ（炭素数１〜４）アルキルエーテルエステルとしては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられ、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの溶媒は、塗布液中に全有機溶媒の１質量％〜９０質量％添加されていることが好ましい。また、本発明に係る高〜低屈折率層の各層の塗布液には各種のレベリング剤、界面活性剤、シリコンオイル等の低表面張力物質を添加することが好ましい。
【０２６７】
なお、ここで示した低屈折率層の組成物、あるいは中〜高屈折率層の組成物は、本発明に係る光拡散層のインクとしても用いることができ、あるいは本発明に係るインク中に適宜添加して用いることもできる。
【０２６８】
本発明に係る中〜高屈折率層及び低屈折率層の塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解または硬化を促進するため、活性光線を照射することが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに活性エネルギー線を照射することである。
【０２６９】
本発明に使用する活性光線は、インクの硬化で用いるのと同様の光源を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ２〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、更に好ましくは、１００ｍＪ／ｃｍ２〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、４００ｍＪ／ｃｍ２〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０２７０】
紫外線を用いる場合、多層の反射防止層を１層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよいが、多層を積層した後、紫外線を照射することが特に好ましい。
【０２７１】
また、本発明においては、ドライプロセスにより反射防止層を設ける方法も好ましく用いることができ、例えば、特開平７−３３３４０４号、同１１−１３３２０５号、同１１−６１４０６、特開２００２−２２８８０３号の各公報に記載の方法に従って、反射防止層あるいは防汚層を形成することができるが、本発明においては、大気圧プラズマ処理方法により反射防止層を形成することが、特に好ましい。
【０２７２】
次いで、本発明の光拡散フィルムの製造方法について説明する。
図７は、透明基材上のインクジェット方式により凹凸構造を有する光拡散層を設けて光拡散フィルムを製造するフローの一例を示す模式図である。詳しくは、透明基材上に硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗布方式で塗設した後、インクジェット方式で凹凸構造を有する光拡散層を形成し、次いで複数の反射防止層を塗布方式で設けて光拡散フィルムを製造するフローの一例を示してある。
【０２７３】
図７において、積層ロール１０１より繰り出された透明基材１０２は、搬送されて、第１コータステーションＡで、押し出し方式の第１コータ１０３により硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗設する。このとき、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層は単層構成でも、それぞれを組み合わせた複数層から構成されている層でもよい。硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗設した透明基材１０２は、次いで乾燥ゾーン１０５Ａで乾燥が行われる。乾燥は、透明基材１０２の両面より、温湿度が制御された温風により乾燥が施される。乾燥後、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層にバインダーとして活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、活性光線照射部１０６Ａで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させたり、照射量や照射条件を制御してハーフキュア状態とすることもでき、あるいは硬化せずに直接インクジェット出射部１０９へと搬送することもできる。
【０２７４】
次いで、インクジェット方式を用いた凹凸構造を有する光拡散層を設ける第２コータステーションＢに搬送されるが、硬化性樹脂層は、ハーフキュア状態であることが好ましい。あるいは、凹凸構造を有する光拡散層を形成する前にプラズマ処理部１０７で表面処理を施すことが好ましい。インクジェット出射部１０９には、インク供給タンク１０８が接続されており、そこからインク液が供給される。インクジェット出射部１０９は、図４の（ｂ）で示すような複数のインクジェットノズルを透明基材の幅全域に千鳥状、好ましくは多段に配置し、インク液滴を硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層上に出射して、その表面に凹凸構造を形成する。また、２種以上のインク液滴を出射する場合には、２列以上配置したインクジェットノズルより、各々のインク液滴を出射してもよいし、あるいはランダムに任意のインクジェットノズルよりインク液滴を出射してもよい。また、インクジェット出射部を複数配置し、各々のインク出射部より異なるインク液滴を出射してもよい。本発明においては、０．１〜１００ｐｌ、場合によっては０．１〜１０ｐｌという微細な液滴を出射するため、インク液滴の飛翔性に対し、外気の気流の影響を受けやすくなるため、第２コータステーションＢ全体を、隔壁等で覆って防風処理を施すことが好ましい。また、１ｐｌ以下の極めて微細な液滴を精度高く飛翔させるため、インクジェット出射部１０９と透明基材１０２あるいはバックロール１０４Ｂ間に電圧を印加し、インク液滴に電荷を与えて電気的にインク液滴の飛翔安定性を補助する方法も好ましい。また、着弾したインク液滴の変形を防止するため、透明基材を冷却して着弾後のインク液滴の流動を速やかに低下させる方法を用いることも好ましい。あるいは、インク液滴が出射後、着弾するまでの飛翔中に含有する溶媒を揮発させて、インク液滴中の含有溶媒量が減少した状態で着弾させることが、より微細な凹凸構造を形成する上で好ましい。そのため、インク飛翔空間の温度を高くしたり、あるいは気圧を、１気圧以下、例えば２０〜１００ｋＰａに制御する方法も好ましい。また、インク飛翔空間の雰囲気溶媒濃度を下げることも好ましく、飽和濃度の５０％以下、より好ましくは１〜３０％である。
【０２７５】
硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層表面に着弾したインク液滴は、活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、インクジェット出射部１０９の直後に配置されている活性光線照射部１０６Ｂで、活性光線、例えば、紫外線等を照射して硬化させる。また、インク液滴が熱硬化性樹脂を用いている場合には、加熱部１１０、例えば、ヒートプレートにより加熱、硬化される。また、バックロール１０４Ｂをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。
【０２７６】
第２コータステーションＢにおいて、活性光線照射部１０６Ｂの照射光が、インクジェット出射部１０９のインクジェットノズルに直接影響を与えないように、活性光線照射部１０６Ｂとインクジェット出射部１０９とを適度な間隔で配置する、あるいは活性光線照射部１０６Ｂとインクジェット出射部１０９とを間に、遮光壁等を設置することが好ましい。また、加熱部１１０の熱が、インクジェット出射部１０９のインクジェットノズルに直接影響を与えないように、インクジェット出射部１０９を保温カバーで被覆する、あるいは図７で示すように、加熱部１１０を透明基材１０２の裏面側に配置し、インクジェット出射部１０９に影響を及ぼさないようにすることが好ましい。
【０２７７】
着弾したインク液滴により形成された凹凸構造が維持できる程度に硬化処理を行った透明基材１０２は、乾燥ゾーン１０５Ｂで不要な有機溶媒等を蒸発させた後、更に、活性光線照射部１０６Ｃで、活性光線を照射して、硬化を完了させる。
【０２７８】
凹凸構造を有する光拡散層を設けた透明基材１０２は、次いで第３コータステーションＣ、あるいは複数の反射防止層を設ける場合には第４コータステーションＤ、第５コータステーション（不図示）により、第１コータステーションＡと同様にして、塗布、乾燥、硬化処理を行って光拡散フィルムが作製され、その後巻き取りロール１１３に積層される。
【０２７９】
図７においては、反射防止層の形成方法としては塗布方式を例示したが、塗布方式に代えて、公知の大気圧プラズマ処理方法により反射防止層あるいは防汚層を形成してもよい。
【０２８０】
以上のようにして作製した光拡散フィルムは、偏光板保護フィルムとして好ましく用いることができ、偏光子の少なくとも片側に積層し、貼合されて偏光板とすることができ、例えば、バックライトの光を均一に拡散させることができ、ディスプレイの視認性を高めることができる。
【０２８１】
本発明の光拡散フィルムを用いた偏光板、それを用いた表示装置について説明する。
【０２８２】
偏光板に用いる偏光子としては、従来公知のものを用いることができる。偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。
【０２８３】
偏光板は、こうして得られた偏光子と本発明の光拡散フィルムと貼合して得られる。あるいは、光拡散フィルムの裏面側に塗布により偏光子を設けてもよい。
【０２８４】
本発明に係る偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の光拡散フィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。上記記載のアルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す。このとき、反射防止層の表面には再剥離性の保護フィルム（例えば、ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、またはポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂製）を設けることにより、アルカリや汚れから保護することができる。
【０２８５】
本発明の光拡散フィルムを一方の偏光板保護フィルムとして用いた場合、もう一方の偏光板保護フィルムには、各種機能を持たせることができる。例えば、直接または配向層を介して、液晶を塗布して配向、固定化した光学異方層（例えば、ハイブリッド配向で固定化した層）を設け、これを偏光板保護フィルムとして用いて視野角拡大効果を有する偏光板を作製することもできる。
【０２８６】
また、必要に応じて、光拡散層あるいは反射防止層の表面に防汚性を持たせるかあるいは防汚層を設けることができる。防汚層としてはシリコーン系あるいはフッ素系の公知の化合物を用いた膜厚が１〜３０ｎｍの層が好ましく用いられる。
【０２８７】
この様にして得られた偏光板は、液晶セルの一方の面もしくは、両面に設けてもよい。本発明の光拡散フィルムは、光拡散層が外側を向くように液晶セルに貼りつけ、表示装置が得られる。本発明の光拡散フィルムを用いることにょって、高精細でありながら光拡散性に優れた表示装置を提供することができる。
【０２８８】
【実施例】
以下、実施例を示し本発明の構成と効果を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２８９】
実施例１
《光拡散フィルム１の作製》
セルロースエステルフィルム（コニカタック  ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ  コニカ社製）の一方の面に、第１層として下記の光拡散層塗布組成物１をダイコーターで塗布し、８５℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より１５０ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射し、乾燥膜厚３μｍの光拡散層を有する比較の光拡散フィルム１を作製した。
【０２９０】
2004325861.tif 000006
《光拡散フィルム２の作製》
セルロースエステルフィルム（コニカタック  ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ  コニカ社製）の一方の面に、第１層として下記の下層塗布組成物Ａをダイコーターで塗布し、８５℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より紫外線照射してハーフキュア状態とし、膜厚１μｍの平滑型の光拡散層を設けた。この第１層の上に、第２層として下記のインク液１をインクジェット方式により、インク液滴として１ｐｌで出射し、着弾後活性光線照射部より１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して硬化させた後、熱風の温度、風速を徐々に強め、最終的に８５℃で乾燥し、更に１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して、中心線平均粗さＲａが５μｍ、凹部底を基準とした高さａが１〜３０μｍである凸部を０．０１ｍｍ２あたり１００個有している光拡散フィルム２を形成した。
【０２９１】
なお、中心線平均粗さＲａ及び凹部底を基準とした高さａが１〜３０μｍである凸部の個数は、インクジェット法で凸部を形成した時点で、その表面をＷＹＫＯ社製のＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微小表面形状測定システムを用いて測定し、中心線平均粗さＲａ（μｍ）と凹部底を基準とした高さａが１〜３０μｍの範囲にある凸部の０．０１ｍｍ２当たりの個数を計測して求めた。
【０２９２】
2004325861.tif 000007
〔インクジェット出射方法〕
インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式（図４の（ａ））を使用し、ノズル径が３．５μｍのノズルを所定数有するインクジェットヘッドを１０基準備した。インクジェットヘッドは、図３に記載の構成のものを使用した。
【０２９３】
インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び５０℃に加温し、出射温度は５０℃、駆動周波数は２０ｋＨｚで行った。
【０２９４】
《光拡散フィルム３の作製》
セルロースエステルフィルム（コニカタック  ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ  コニカ社製）の一方の面に、第１層として下記の下層塗布組成物Ｂをダイコーターで塗布し、８５℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より紫外線照射してハーフキュア状態とし、膜厚１μｍの下層を設けた。この第１層の上に、第２層として前記インク液１を前記インクジェット方式によりインク液滴として２ｐｌで出射し、着弾後活性光線照射部より１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して硬化させた後、熱風の温度、風速を徐々に強め最終的に８５℃で乾燥し、更に１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して、中心線平均粗さＲａが５μｍ、凹部底を基準とした高さａが１〜３０μｍである凸部を０．０１ｍｍ２あたり１００個形成し、この第２層の上に、第３層として下記上層塗布組成物Ｄを膜厚２μｍとなるようにダイコーターで塗布し、８５℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して光拡散フィルム３を得た。
【０２９５】
2004325861.tif 000008
《光拡散フィルム４〜８の作製》
上記作製した光拡散フィルム３の作製において、第１層の下層塗布組成物の種類、第２層のインク液の種類及び第３層の上層塗布組成物の種類を、表１に記載の表に変更した以外は同様にして、光拡散フィルム４〜８を作製した。
【０２９６】
上記光拡散フィルム４〜８の作製に用いた各塗布組成物及び各インク液の詳細は、以下の通りである。
【０２９７】
2004325861.tif 000009
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《光拡散フィルム９の作製》
セルロースエステルフィルム（コニカタック  ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ  コニカ社製）の一方の面に、第１層として前記下層塗布組成物Ｃをダイコーターで塗布し、８０℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より紫外線照射してハーフキュア状態とし、膜厚１μｍの下層を設けた。この第１層上に、第２層として前記インク液１を、前記インクジェット方式によりインク液滴として１ｐｌで出射し、着弾後活性光線照射部より１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して硬化させた後、この第２層上に、第３層として前記インク液６を、前記インクジェット方式によりインク液滴として０．５ｐｌで出射し、着弾後活性光線照射部より１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して硬化させて、微細な凹凸構造を形成して光拡散フィルム９を得た。中心線平均粗さＲａが５μｍ、凹部底を基準とした高さａが３〜６μｍである凸部が０．０１ｍｍ２あたり１５０個であった。
【０２９８】
【表１】
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【０２９９】
《反射防止層の塗設》
上記作製した各光拡散フィルムについて、下記の反射防止層を大気圧プラズマ処理装置を用いて設けた。
【０３００】
〔反射防止層の形成〕
下記の大気圧プラズマ放電処理装置により、上記第２層あるいは第３層上に、下記の特性からなる高屈折率層１、低屈折率層１、高屈折率層２、低屈折率層２の順に設けて反射防止層を形成した。
【０３０１】
高屈折率層１：チタン酸化物層  膜厚２３ｎｍ  屈折率２．００
低屈折率層１：珪素酸化物層  膜厚２９ｎｍ  屈折率１．４６
高屈折率層２：チタン酸化物層  膜厚７７ｎｍ  屈折率２．００
低屈折率層２：珪素酸化物層  膜厚９５ｎｍ  屈折率１．４６
〔大気圧プラズマ放電処理装置〕
図８に示した大気圧プラズマ放電処理装置において、誘電体で被覆したロール電極及び同様に誘電体で被覆した複数の角筒型電極のセットを以下のように作製した。
【０３０２】
各層毎に、各１台のプラズマ放電処理装置を使用し、これらを連結して１パスで各層を連続して形成させた。
【０３０３】
第１電極となるロール電極（図９）は、冷媒を循環させることによる電極表面温度の制御手段を有するチタン合金Ｔ６４製ジャケットロール金属質母材に対して、アルミナ溶射膜を被覆し、テトラメトキシシランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外線照射により硬化させ封孔処理を行った。このようにして被覆した誘電体表面を研磨し、平滑にして、Ｒｍａｘ１μｍとなるように加工した。最終的な誘電体の膜厚は１ｍｍ、誘電体の比誘電率は１０であった。更に導電性の金属質母材と誘電体の線熱膨張係数の差は１．７×１０−４で、耐熱温度は２６０℃であった。ロール電極には電極表面温度を制御するための温度制御された冷媒を循環できるようにし、８０℃の温水を供給し、電極温度を制御した。
【０３０４】
一方、第２電極の角筒型電極（図１０）は、中空の角筒型のチタン合金Ｔ６４に対し、上記同様の誘電体を同条件にて被覆し、対向する角筒型固定電極群とした。この角筒型電極の誘電体については上記ロール電極のものと同じである。角筒型電極内部にはそれぞれ電極表面温度を制御するための温度制御された冷媒を循環できるようにし９０℃の温水を供給し、電極温度を制御した。
【０３０５】
このロール電極のまわりに角筒型電極を配置した。角筒型固定電極群の放電総面積は、１３０ｃｍ（幅手方向の長さ）×４ｃｍ（搬送方向の長さ）×最大２０本（電極の数）であった。
【０３０６】
ロール電極のまわりに配置した複数の角筒型固定電極の間隙より、反応ガスの導入と使用済みガスの排気を交互に行った。１つの間隙に対して下記の流量で窒素を主成分とする反応ガスを導入した。
【０３０７】
大気圧プラズマ放電処理装置には、固定電極（角筒型電極）側に、連続周波数１３．５６ＭＨｚ、電界強度０．８ｋＶ／ｍｍ（１／２Ｖｐ−ｐ）の高周波電圧（パール工業社製高周波電源  ＣＦ−５０００−１３Ｍ）を供給し、ロール電極側には、連続周波数１００ｋＨｚ、電界強度１０ｋＶ／ｍｍ（１／２Ｖｐ−ｐ）の高周波電圧（ハイデン研究所製高周波電源  ＰＨＫ−６ｋ  連続モード）を供給した。また、ロール電極は、ドライブを用いて光拡散層を有するフィルムの搬送に同期して回転させた。
【０３０８】
ここでいう高周波の電界強度（印加電界強度  １／２Ｖｐ−ｐ）とは、下記の方法に従って求めることができる。すなわち、高周波電界強度（単位：ｋＶ／ｍ）は、各電極部の高周波プローブ（Ｐ６０１５Ａ）を設置し、この高周波プローブをオシロスコープ（例えば、Ｔｅｋｔｒｏｎｉｘ社製  ＴＤＳ３０１２Ｂ）に接続して測定した。
【０３０９】
なお、固定電極とロール電極の間隙は０．５ｍｍ、反応ガスの圧力は大気圧下で行った。プラズマ放電処理に用いた反応ガスの組成を以下に記す。尚、反応ガス中の液体成分は気化器によって蒸気とし、ガス供給系の配管は原料ガスが凝結するのを防止するため保温しながらロール電極のまわりに配置された隣接する角筒型電極の間隙（１ｍｍ）より放電部に供給し、１箇所の間隙あたり下記に示したガスの割合で放電部に供給した。
【０３１０】
〈放電条件〉
ロール電極側：１００ｋＨｚ  １０Ｗ／ｃｍ２
固定電極（角筒型電極）側：１３．５６ＭＨｚ  ５Ｗ／ｃｍ２
〈低屈折層形成用の反応ガス組成〉
窒素：３００Ｌ／ｍｉｎ
酸素：１５Ｌ／ｍｉｎ
テトラエトキシシラン（蒸気）：０．３ｇ／ｍｉｎ（リンテック社製の気化器にて気化させた）
ガス温度：９０〜１００℃
〈高屈折率層形成用の反応ガス組成〉
窒素：３００Ｌ／ｍｉｎ
水素：２Ｌ／ｍｉｎ
テトライソプロポキシチタン（蒸気）：０．２ｇ／ｍｉｎ（リンテック社製の気化器にて気化させた）
ガス温度：９０〜１００℃
《光拡散フィルムの評価》
〔偏光板の作製〕
下記の方法に従って、各光拡散フィルムとセルロースエステルフィルム（ＫＣ８ＵＣＲ１、コニカ社製）を各々１枚、偏光板保護フィルムとして用いて、下記の手順に従って各偏光板を作製した。
【０３１１】
ａ）偏光膜の作製
厚さ１２０μｍの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇの比率からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
【０３１２】
ｂ）偏光板の作製
次いで、下記工程１〜５に従って、偏光膜と偏光板保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
【０３１３】
工程１：長尺のセルロースエステルフィルムと各光反射フィルムとを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に５０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。光拡散フィルムの反射防止層を設けた面にはあらかじめ剥離性の保護フィルム（ポリエチレン製）を張り付けて保護した。
【０３１４】
同様に長尺のセルロースエステルフィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に５０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。
【０３１５】
工程２：前述の長尺の偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。
【０３１６】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理したセルロースエステルフィルムと光拡散フィルムで挟み込んで積層配置した。
【０３１７】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ２の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。
【０３１８】
工程５：８０℃の乾燥機中にて工程４で作製した試料を２分間乾燥処理して、各偏光板を作製した。
【０３１９】
市販の液晶表示パネル（富士通製  ＶＡ型液晶表示装置：型名  ＶＬ−１５０ＳＤ）のバックライト側の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた偏光板を張り付け、下記の評価を行った。
【０３２０】
〔正面輝度の評価〕
上記のように、市販の液晶表示装置のバックライト部分に使用されている光拡散フィルムを、各々の上記作製した光拡散フィルム１〜９に交換し、正面法線方向より、表面の輝度を輝度計ＢＭ−７（トプコン社製）により測定し、比較である光拡散フィルム１の輝度を１００としたときの相対輝度を求め、下記の基準に則り正面輝度の評価を行った。
【０３２１】
◎：相対輝度が１０１〜１０５である
○：相対輝度が９５〜１００である
×：相対輝度が９５未満である
〔視認性の評価〕
各光拡散フィルムの視認性（画像均一性）については、上記作製した各偏光板を組み込んだ液晶表示パネルの視認性を評価した。具体的には、光拡散フィルムを透過した光のムラを目視観察し、下記の基準に則り視認性の評価を行った。
【０３２２】
○：表示画面上に斑むらが認められず、均一な画像である
×：表示画面の一部に、斑むらが認められる
〔屈曲耐性の評価〕
各光拡散フィルムを、屈曲試験機（心棒２ｍｍ使用）にて、１８０度曲げた後、その表面を目視観察し、下記の基準に則り屈曲耐性の評価を行った。
【０３２３】
○：光拡散層塗設面側表面に変化なし
△：光拡散層塗設面側表面に細かい割れが認められる
×：光拡散層塗設面側表面に多数の割れが認められる
以上により得られた結果を、表２に示す。
【０３２４】
【表２】
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【０３２５】
表２より明らかなように、本発明の光拡散フィルムは、比較例と同等の光拡散性を示すと共に、画像の均一性（視認性）及び屈曲耐性に優れていることが分かる。
【０３２６】
【発明の効果】
本発明により、膜物性（膜均一性、屈曲耐性）が良好で、光拡散性に優れた光拡散層の形成方法、特に液晶表示装置等のバックライト用として好適な光拡散フィルムとその製造方法及び光拡散層形成用のインクジェット装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】透明基材上に、インクジェット方式で凹凸構造からなる光拡散層を設けた一例を示す模式図である。
【図２】本発明に係る光拡散層を構成する凹凸構造の配列の他の一例を示す断面図である。
【図３】本発明に係るインクジェット方法に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【図４】本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【図５】本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す模式図である。
【図６】インクジェット方式により、粒径の大きなインク液滴で微細構造を形成した後、より粒径の小さなインク液滴で、更に微細な凹凸構造を形成した一例を表す模式図である。
【図７】透明基材上のインクジェット方式により光拡散層を設けて光拡散フィルムを製造するフローの一例を示す模式図である。
【図８】反射防止層の形成に用いるのに有用な対向電極間で基材を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。
【図９】図８に示したロール回転電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【図１０】角筒型電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１、１０２  透明基材
２  平滑型の光拡散層
３、３１  インク液滴
４  凹凸型の光拡散層
５  硬化性樹脂層
６  微小液滴（塗布型）
７  微小インク液滴（インクジェット方式）
８  微粒子または微小液滴
１０  インクジェットヘッド
１２  圧電素子
２９、１０６Ａ〜Ｅ  活性光線照射部
３５  バックロール
５１  エンドレスステンレスベルト
５２  ダイ
５３  乾燥ゾーン
５５  流延部
５６  剥離部
１０１  積層ロール
１０３  第１コータ
１０４Ａ〜Ｄ  バックロール
１０５Ａ〜Ｄ  乾燥ゾーン
１０７  プラズマ処理部
１０８  インク供給タンク
１０９  インクジェット出射部
１１０  加熱部
１１３  巻き取りロール
１３０  プラズマ放電処理装置
１３５  ロール回転電極（第１電極）
１３６  角筒型固定電極群（第２電極）
１４０  電圧印加手段
１４１  第１電源
１４２  第２電源
１５０  ガス供給手段
Ｇ  ガス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004325861.tif 000020
【図８】
2004325861.tif 000021
【図９】
2004325861.tif 000022
【図１０】
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