(57)【要約】【課題】基板用ガラス上にＡｇペーストを塗布し、焼成して電極を形成した場合に、金属Ａｇのコロイドが基板用ガラス中に拡散して黄変することを効果的に抑制したフラットパネルディスプレイ基板用ガラス及びフラットパネルディスプレイ基板を提供する。【解決手段】本発明のフラットパネルディスプレイ基板用ガラスは、重量％で表示して６％未満のＮａ２Ｏを含有し、５６０〜５８０℃未満の歪み点、５０〜３５０℃の温度範囲で８０〜９５×１０−７／℃の平均熱膨張係数、２．７×１０３Ｋｇ／ｍ３以下の密度を有し、且つ、０．６０以下の光学的塩基性度を有する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量％で表示して、
６％未満のＮａ２Ｏを含有し、
５６０〜５８０℃未満の歪み点、
５０〜３５０℃の温度範囲で８０〜９５×１０−７／℃の平均熱膨張係数、
２．７×１０３Ｋｇ／ｍ３以下の密度を有し、
且つ、０．６０以下の光学的塩基性度、
を有することを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板用ガラス。
【請求項２】
Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏの値が２以上である請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ基板用ガラス。
【請求項３】
重量％で表示して、
０．２％〜２．５％のＺｒＯ２に換算した酸化ジルコニウム、
及び０．０１％〜０．５％未満のＦｅ２Ｏ３に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ２Ｏ３）を含む請求項１又は２に記載のフラットパネルディスプレイ基板用ガラス。
【請求項４】
基礎ガラス組成が、重量％で表示して、
５５〜７０％のＳｉＯ２、
０．２〜５％のＡｌ２Ｏ３、
０〜１５％のＭｇＯ、
２〜１５％のＣａＯ、
０〜１５％のＳｒＯ、
１０〜３０％のＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ、
０〜５％のＬｉ２Ｏ、
０〜６％のＮａ２Ｏ、
０〜１５％のＫ２Ｏ、
５〜２５％のＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、
０．２％〜２．５％のＺｒＯ２に換算した酸化ジルコニウム、
０．１％〜０．５％未満のＦｅ２Ｏ３に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ２Ｏ３）、
及び０〜５％のＢ２Ｏ３からなる請求項１乃至３のいずれか１項に記載のフラットパネルディスプレイ基板用ガラス。
【請求項５】
前記基礎ガラス組成として、実質的にＢａＯを含まない請求項１乃至４のいずれか１項に記載のフラットパネルディスプレイ基板用ガラス。
【請求項６】
前記請求１乃至５のいずれか１項に記載のフラットパネルディスプレイ基板用ガラスを用いたことを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」と称する）基板用ガラス及びＦＰＤ基板に関し、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と称する）や電界放射パネル（以下「ＦＥＤ」と称する）等の放電を利用したＦＰＤにおいて、前面パネル及び背面パネルとして用いる基板用ガラス及び基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大型平面テレビとして、ＰＤＰ、ＦＥＤ、液晶ディスプレイ等のＦＰＤの開発が急速に進められている。このうち、ＰＤＰ及びＦＥＤは、内部の電極間に電界を印加したときの放電を利用した表示装置である。
【０００３】
ＰＤＰは、パネル内部に閉じ込めた低圧の希ガス中で放電することによって、希ガスから紫外線を発生させて所定の蛍光体を励起し、可視光に変換して文字や図形等の画像を表示する方式である。また、ＦＥＤはパネル内部が高真空に保たれており、この高真空中で電界を印加して発生させた電子線で蛍光体を励起し、可視光線を発生させる方式の表示装置である。
【０００４】
以下に、一例としてＰＤＰの製造方法について説明する。
【０００５】
まず、背面基板用ガラス上にスクリーン印刷法等で銀（Ａｇ）からなるアドレス電極を形成し、その上に誘電体ガラスからなる可視光反射層と、ガラス製の隔壁とを所定ピッチで形成する。これらの隔壁に挟まれた各空間内に、各色蛍光体ペーストを夫々配設することにより蛍光体層を形成し、約５００℃で蛍光体層を焼成して、ペースト中の樹脂成分等を除去する。
【０００６】
蛍光体層の焼成後、背面基板用ガラスの周囲に前面基板用ガラスとの封着用の低融点ガラスフリットを塗布し、ガラススリットの樹脂分を除去するために約３００℃で仮焼成する。
【０００７】
その後、表示電極、誘電体ガラス層及び保護層を形成した前面基板用ガラスと前記背面基板用ガラスとを、隔壁を介して表示電極とアドレス電極が直交するように対向配置して約６００℃で焼成し、低融点ガラスフリットにより周囲を封着する。そして、約３００℃に加熱した状態でパネル間隙の大気を減圧排気し、この後、放電ガスを充填することにより完成に至るものである。
【０００８】
ＰＤＰ基板用ガラスとしては、歪み点が高く、且つ、熱膨張係数の大きいガラスが広く用いられている。このようなＰＤＰ基板用ガラスは、主表面の平坦性、ガラス組成の均質性に優れ、且つ、生産性が高いフロート法により生産されるのが一般的である。フロートガラスは、生産過程で水素雰囲気に晒されるため、ガラス表面には厚さ数μｍの還元層が生成し、この層には熔融錫由来の錫イオン（以下「Ｓｎ２＋」と称する）の存在することが知られている。
【０００９】
フロート法で形成されたＰＤＰ基板用ガラスの主表面に、透明電極を介してＡｇペーストが電極として塗布された後、熱処理工程が数回繰り返されると、銀イオン（以下「Ａｇ＋」と称する）が透明電極内に拡散してガラス表面に至り、ガラス中のアルカリイオン（特に、ナトリウムイオン（以下「Ｎａ＋」と称する））との間でイオン交換を生じる。そして、ガラス中にＡｇ＋が侵入し、侵入したＡｇ＋は還元層に存在するＳｎ２＋によって還元されて金属Ａｇのコロイドを生成する。その結果、金属Ａｇのコロイドにより基板用ガラスが黄色に着色（以下「黄変」と称する）するという問題が生じていた。
【００１０】
また、電極形成部のみならず、その周辺部にもＡｇ＋が拡散し、前記と同様にＳｎ２＋によって還元されて金属Ａｇのコロイドを生成し、基板用ガラスが黄変する場合が多く、表示性能が損なわれるという不具合があった。
【００１１】
そこで、アルカリ含有ガラスをＰＤＰ基板用ガラスとして用いる場合に、基板用ガラスの黄変を抑制する方法が、これまで種々提案されてきた。
【００１２】
特開平１０−２５５６６９号公報には、フロート法で製造された基板用ガラスの主表面を研磨することにより、その表面に生成されている還元性の異質層を除去したＦＰＤ基板用ガラスが開示されている。
【００１３】
フロート法で形成された基板用ガラスは、前述のとおり成形過程で水素雰囲気に晒されるため、錫（Ｓｎ）浴に接した面（ボトム面）及び雰囲気側に接した面（トップ面）共に、基板用ガラスの主表面に厚さ数μｍの還元層が生成し、この層にはＳｎ２＋の拡散層が形成されることは、従来より知られている。また、Ｓｎ２＋の拡散層が還元性を有し、Ｓｎ２＋の拡散層がガラス中の鉄を還元して、その結果、ボトム面が青色に着色してしまう現象（ブルーム）も同様によく知られている。従って、基板用ガラスの主表面に存在するＳｎ２＋拡散層を研磨して除去することは、当業者において容易になし得る技術である。しかしながら、基板用ガラスの全数を研磨するという対策は、非常に大きなコストアップ要因となるため現実的ではない。
【００１４】
また、特開平１０−３３４８１３号公報には、前面基板用ガラスに含まれるＦｅ２Ｏ３量が２０００ｐｐｍ未満であり、金属電極がＡｇで形成されたプラズマディスプレイ装置が開示されている。
【００１５】
通常、フロート法で成形された板ガラスにおいて、ガラス原料から混入する不純物レベルのＦｅ２Ｏ３量は１５００ｐｐｍ程度であるため、そのガラスをＰＤＰ基板用ガラスとして用いた場合も、前記金属Ａｇのコロイドによる黄変を抑制することはできず、現実的な解決策であるとは言えない。
【００１６】
また、特開２００１−２１３６３４号公報には、Ｌｉ２Ｏ，Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの含有量の合計が７．５〜２０モル％、Ａｌ２Ｏ３の含有量が１．５モル％以上、ＢａＯの含有量が０〜３．５モル％である珪酸塩ガラスをフロート法によって板状に成形した板ガラスであって、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選ばれた１種以上を含有するディスプレイ基板用フロートガラスが開示されている。
【００１７】
通常、フロート法で成形される板ガラスにおいて、ガラス原料から混入する不純物レベルの塩素は０．０１重量％程度であるが、Ｆ−やＣｌ−等の硬い塩基は、軟らかい酸であるＡｇ＋との優先的結合力が弱く、着色の抑制効果はほとんど得られない。また、Ｂｒ−やＩ−等の軟らかい塩基を用いれば、Ａｇ＋と優先的に結合するため着色の抑制効果を期待できるが、いずれも工業的に適当な原料が存在せず、またコストも高いため、現実的ではない。
【００１８】
また、特開２０００−２２６２３３号公報には、Ｎａ２Ｏ，Ｋ２Ｏ及びＬｉ２Ｏの含有量の合計が５重量％以上であり、２０℃における比重が２．７以下であるフロートガラスであって、銀処理を行う前のフロートガラスの波長４１０ｎｍにおける透過率Ｔｒｅｆと、銀処理を行った後のフロートガラスの波長４１０ｎｍにおける透過率Ｔとから、Ａ＝−ｌｏｇ１０（Ｔ／Ｔｒｅｆ）によって算出される吸光度Ａが０．０８以下であるフラットパネルディスプレイ基板用フロートガラスが開示されている。ここで、前記銀処理とは、フロートガラス表面のうち、フロートバス内で溶融錫と接触していない側（トップ面）の表面に、銀粒子と有機溶剤と樹脂とを含むＡｇペーストを塗布し、大気中において５８０℃で１時間焼成して、厚さが１０μｍ以上であり、銀の含有量が９５重量％以上である膜を該フロートガラスの表面に形成し、前記膜を硝酸により該フロートガラスの表面から除去することからなる処理である。
【００１９】
しかし、前記特開２０００−２２６２３３号公報においては「ガラス中への錫の浸透量が少ない方が、発色は少ないので、できるだけ錫の含有量が少ないガラスが望ましい」という公知事実と、金属Ａｇのコロイドによる黄変を評価する方法とが述べられているに過ぎず、根本的な解決手段には至っていない。
【００２０】
【特許文献１】
特開平１０−２５５６６９号公報
【特許文献２】
特開平１０−３３４８１３号公報
【特許文献３】
特開２００１−２１３６３４号公報
【特許文献４】
特開２０００−２２６２３３号公報
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点に鑑み、金属Ａｇのコロイドによる黄変を抑制したＦＰＤ基板用ガラス及びＦＰＤ基板を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に記載のＦＰＤ基板用ガラスは、重量％で表示して６％未満のＮａ２Ｏを含有し、５６０〜５８０℃未満の歪み点、５０〜３５０℃の温度範囲で８０〜９５×１０−７／℃の平均熱膨張係数、２．７×１０３Ｋｇ／ｍ３以下の密度を有し、且つ、０．６０以下の光学的塩基性度を有することを特徴とする。
【００２３】
請求項２に記載のＦＰＤ基板用ガラスは、請求項１に記載のＦＰＤ基板用ガラスにおいて、Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏの値が２以上であることを特徴とする。
【００２４】
請求項３に記載のＦＰＤ基板用ガラスは、請求項１又は２に記載のＦＰＤ基板用ガラスにおいて、重量％で表示して０．２％〜２．５％のＺｒＯ２に換算した酸化ジルコニウム、及び０．０１％〜０．５％未満のＦｅ２Ｏ３に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ２Ｏ３）を含むことを特徴とする。
【００２５】
請求項４に記載のＦＰＤ基板用ガラスは、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の基板用ガラスにおいて、前記基礎ガラス組成が、重量％で表示して、
５５〜７０％のＳｉＯ２、
０．２〜５％のＡｌ２Ｏ３、
０〜１５％のＭｇＯ、
２〜１５％のＣａＯ、
０〜１５％のＳｒＯ、
１０〜３０％のＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ、
０〜５％のＬｉ２Ｏ、
０〜６％のＮａ２Ｏ、
０〜１５％のＫ２Ｏ、
５〜２５％のＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、
０．２％〜２．５％のＺｒＯ２に換算した酸化ジルコニウム、
０．１％〜０．５％未満のＦｅ２Ｏ３に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ２Ｏ３）、
及び０〜５％のＢ２Ｏ３からなることを特徴とする。
【００２６】
請求項５に記載のＦＰＤ基板用ガラスは、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＦＰＤ基板用ガラスにおいて、基礎ガラス組成として、実質的にＢａＯを含まないことを特徴とする。
【００２７】
請求項６に記載のＦＰＤ基板は、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のＦＰＤ基板用ガラスを用いたことを特徴とする。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係るＦＰＤ基板用ガラスについて、詳細に説明する。
【００２９】
Ｎａ２Ｏは、ガラスの溶解性を向上させ、溶解負荷を低減し生産性を向上させる働きがある。また、Ｎａ２Ｏは熱膨張係数を大きくし、化学的耐久性、電気絶縁性を低下させる。さらに、金属Ａｇのコロイドによる黄変に注目した場合、Ｎａ２Ｏは黄変に大きな影響を及ぼすものと推定される。
【００３０】
ガラス中にＡｇイオンが侵入する場合を考えると、まず電子を奪われてＡｇ＋となり、ガラス中のアルカリイオンとイオン交換を生じる形でガラス中に侵入するものと推定される。とりわけ、ガラス中のＮａ＋は拡散速度が速く、Ａｇ＋とのイオン交換において支配的役割を果たすと考えられている。このため、Ａｇ＋のガラスへの侵入を抑制するために、Ｎａ２Ｏは６％未満であることが必要である。
【００３１】
ガラス中に侵入したＡｇ＋は、そのままでは発色には寄与せず、ガラス中で電子を供与されて金属Ａｇ（Ａｇ０）を形成した後、凝集してコロイドを形成することにより黄変することが分かっている。
【００３２】
ガラス中でＡｇ＋に電子を供与する相手としては、Ｓｎ２＋や鉄イオン（Ｆｅ２＋）等の寄与もあるが、発明者等はガラス自体の電子供与性を低減することで、Ａｇ＋の発色抑制に効果があることを見い出した。
【００３３】
ガラスの電子供与性を示す尺度の一つとして、ガラスの光学的塩基性度（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｂａｓｉｃｉｔｙ）が知られている。各元素の酸・塩基を示す係数には諸説あり、値も様々なものが提唱されているが、全ての元素について求められているわけではない。そこで、ポーリングの電気陰性度（ｅｌｅｃｔｒｏｎｅｇａｔｉｖｉｔｙ）との相関があり、係数の不明な元素でも比較的精度良く推定可能と考えられるダフィーとイングラムの塩基性度緩和係数（Ｂａｓｉｃｉｔｙ  ｍｏｄｅｒａｔｉｎｇ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ）γを用いて、次式▲１▼から各ガラス組成の光学的塩基性度を求めた。
光学的塩基性度  ＝  Σ（ｍに配位する全酸素数）／（γｍ×ガラス中の全酸素数）…式▲１▼
ｍ：ガラスに含まれる陽イオン種
γｍ：陽イオンｍの塩基性度緩和係数
【００３４】
発明者等は、幾つかのガラス組成の光学的塩基性度と金属Ａｇのコロイドによる黄変との間に相関を見い出し、光学的塩基性度の値を０．６０以下、とりわけ０．５７〜０．６０の範囲にすれば、金属Ａｇのコロイドによる黄変を改善できることが分かった。
【００３５】
以下に、各組成範囲の限定理由を述べる。
【００３６】
Ｋ２Ｏは、前記Ｎａ２Ｏと同様にガラスの溶解性を向上させ、溶解負荷を低減し生産性を向上させる。また、Ｎａ２Ｏよりも効果は小さいが、熱膨張係数を大きくし、化学的耐久性、電気絶縁性を低下させる。しかし、金属Ａｇのコロイドによる黄変に注目すれば、Ｋ２Ｏの挙動はＮａ２Ｏとは大きく異なると推定される。
【００３７】
カリウムイオン（以下「Ｋ＋」と称する）は、Ｎａ＋と同様にＡｇ＋とのイオン交換に寄与するが、Ｋ＋の拡散速度はＮａ＋に比較して非常に小さいため、Ａｇ＋がガラス深部まで拡散層を形成するのを妨げる。且つ、一旦ガラス外に出たＫ＋はＮａ＋とＡｇ＋とのイオン交換を妨げるため、Ａｇ＋のガラス中への侵入速度を抑え、拡散を抑制することができる。従って、重量％でＫ２Ｏ／Ｎａ２Ｏ比は２以上であることが好ましく、とりわけ６〜１４の範囲であることが望ましい。
【００３８】
アルカリ土類金属酸化物であるＲＯ（ＲはＣａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａから選択される１種以上）は、ガラスの歪み点を高くし、ガラスの耐久性を向上させるとともに、成形時の失透温度、粘度を調整するのに用いられる。また、粘度を下げる効果も大きいので、適量含有させることができる。しかし、ＭｇＯの含有量が１５％を超えると、失透温度が上昇する。ＣａＯの含有量が２％未満又は１５％を超える場合や、ＳｒＯの含有量が１５％を超える場合も、同様に失透温度が上昇する。
【００３９】
Ｂａイオン（Ｂａ２＋）は、他のアルカリ土類金属イオンに比べて係数γが小さいため、光学的塩基性度を大きくする働きがある。また、ＢａＯを添加するとガラスの密度が上昇する。従って、ガラス密度を２．７以下にするためには、ＢａＯを実質的に含まないことが好ましい。
【００４０】
ＢａＯは、工業的には他のアルカリ土類金属原料中の不純物として導入される。本発明において、「ＢａＯを実質的に含まない」とは０．２％以下の含有量のことである。
【００４１】
ＺｒＯ２は歪み点を大きくし、ガラスの耐久性を向上させる働きを有する。ＺｒＯ２の含有量は０．２％以上であることが好ましい。Ｚｒイオン（Ｚｒ４＋）は、他の網目形成イオンに比べて係数γが小さいため、光学的塩基性度を大きくする働きがある。さらに、ガラスの失透温度が高くなり成形温度を超えてしまうため、ＺｒＯ２の含有量は２．５％以下であることが好ましい。
【００４２】
Ｆｅ２Ｏ３に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ２Ｏ３）の含有量が０．５％以上であると、基板が黄変するという観点から、Ｆｅ２＋によるＡｇ＋の還元作用が無視できなくなることから好ましくない。
【００４３】
ＳｉＯ２（シリカ）はガラスの骨格を形成する主成分である。ＳｉＯ２の含有量が５５％未満ではガラスの耐久性が低下し、７０％を超えるとガラスの溶解が困難になる。
【００４４】
Ａｌ２Ｏ３はガラスの耐久性を向上させる成分であるが、含有量が５％を超えるとガラスの溶解が困難になる。Ａｌ２Ｏ３の好ましい範囲は０．２〜２％である。
【００４５】
Ｂ２Ｏ３はガラスの耐久性向上のため、あるいは溶解助剤としても使用される成分である。Ｂ２Ｏ３の含有量が５％を超えると、揮発等による成形時の不都合が生じるので、５％を上限とする。
【００４６】
本発明の組成範囲のガラスは、フロート法で製造されることが好ましいため、通常、清澄剤としてアルカリ金属又はアルカリ土類金属の硫酸塩が用いられる。この場合、ガラス中に残存するＳＯ３量の範囲は０．１〜０．３％であることが好ましい。
【００４７】
本発明の基板用ガラスの組成物は、５０〜３５０℃の温度範囲での平均熱膨張係数が８０〜９５×１０−７／℃の範囲であるため、熱応力に起因する基板用ガラスのクラックや割れの発生を抑えることができる。平均熱膨張係数が８０×１０−７／℃未満又は９５×１０−７／℃超では、周辺材料と整合させることが困難である。
【００４８】
本発明による基板用ガラスの組成物は、目標組成になるように調合した原料を熔融炉に供給し、ガラス化し、フロート法等により所定厚さの透明な板ガラスに成形することにより製造することができる。
【００４９】
【実施例】
以下に、本発明の実施形態を具体的な実施例を挙げて説明する。
【００５０】
（実施例）
表１に示す組成からなるガラス原料を、標準的なガラス熔解窯に供給して熔解し、フロート法により板状に成形して本実施例のガラス試料を作製した。このガラス試料について、歪み点、平均熱膨張係数、密度、光学的塩基性度及び銀処理前後の吸光度変化量を測定した。歪み点、平均熱膨張係数及び密度の測定は、一般的に知られている方法を用いて行った。また、銀処理前後の吸光度変化量の測定は、先に述べた特開２０００−２２６２３３号公報に記載されている方法に従った。
【００５１】
【表１】
2004182577.tif 000002
【００５２】
表１に示すように、本実施例のガラス試料は、５７６℃の歪み点、８４×１０−７／℃の熱膨張係数、及び２．６４×１０３Ｋｇ／ｍ３の密度を有していた。従って、本実施例のガラス試料は、高い歪み点を有するため、ＦＰＤ用基板として用いた場合に熱収縮が小さく、また、大きい熱膨張係数及び低密度という優れた特性を有するガラスである。さらに、光学的塩基性度を０．６０以下に抑えているため、金属Ａｇのコロイドによる黄変の抑制効果にも優れている。
【００５３】
（比較例１，２）
比較例１は、典型的なソーダ石灰シリカガラスであり、本発明の範囲外のガラス組成である。この組成によるガラスは、熱膨張係数が８６×１０−７／℃で本発明の範囲内にあるが、歪み点は５０９℃、密度は２．４９×１０３Ｋｇ／ｍ３といずれも本発明の範囲よりかなり低かった。また、比較例２は現在市場に出回っている典型的なＰＤＰ基板用ガラスのガラス組成である。比較例２は、光学的塩基性度が０．６０を超えており、金属Ａｇのコロイドによる黄変の抑制効果に劣ることが分かった。また、密度も２．７４と大きく、本発明の範囲外であった。
【００５４】
さらに、銀処理後の銀の分布について、実施例と比較例１，２を比較した。その結果、実施例は比較例１及び２に比して、発色に寄与している銀の分布層の厚みが薄かった。このことから、実施例の基板用ガラスは金属Ａｇのコロイドがガラス中へ拡散して黄変することが抑制されていることが分かった。
【００５５】
【発明の効果】
以上詳述したとおり、本発明の請求項１に記載のＦＰＤ基板用ガラスによれば、重量％で表示して６％未満のＮａ２Ｏを含有し、５６０〜５８０℃未満の歪み点、５０〜３５０℃の温度範囲で８０〜９５×１０−７／℃の熱膨張係数、２．７×１０３Ｋｇ／ｍ３以下の密度を有し、且つ、０．６０以下の光学的塩基性度を有するので、基板用ガラス上にＡｇペーストを塗布し、焼成して電極を形成した場合に、金属Ａｇのコロイドが基板用ガラス中に拡散して黄変することを効果的に抑制することができ、熱収縮が小さく、しかも化学的耐久性に優れたＦＰＤ基板用ガラスを得ることができる。
【００５６】
請求項４に記載のＦＰＤ基板用ガラスによれば、前記基礎ガラス組成が、重量％で表示して、５５〜７０％のＳｉＯ２、０．２〜５％のＡｌ２Ｏ３、０〜１５％のＭｇＯ、２〜１５％のＣａＯ、０〜１５％のＳｒＯ、１０〜３０％のＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ、０〜５％のＬｉ２Ｏ、０〜６％のＮａ２Ｏ、０〜１５％のＫ２Ｏ、５〜２５％のＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．２％〜２．５％のＺｒＯ２に換算した酸化ジルコニウム、０．１％〜０．５％未満のＦｅ２Ｏ３に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ２Ｏ３）、及び０〜５％のＢ２Ｏ３からなるので、耐熱衝撃性、耐クラック性及び成形性に優れ、さらに歪み点が高く、熱収縮性が小さいため、ＦＰＤ基板として用いることができる。
【００５７】
請求項５に記載のＦＰＤ基板用ガラスによれば、基礎ガラス組成として実質的にＢａＯを含まないので、ガラス密度を２．７以下に抑制することができる。
【００５８】
請求項６に記載のＦＰＤ基板によれば、請求１乃至５に記載されるＦＰＤ基板用ガラスを用いているので、熱収縮が小さく、また化学的耐久性にも優れるため、ＰＤＰやＦＥＤ等のＦＰＤ用途のガラス基板として好適である。