(57)【要約】【課題】光コネクタ端面等を高精度に研磨することができ、かつ、研磨後においても被研磨面に砥粒等が付着残存し難い研磨材、および光コネクタ端面の研磨方法を提供する。【解決手段】研磨材を、砥粒と結合剤とを含む研磨層を備えて構成し、研磨層には、さらに光触媒作用を有する光触媒材料を含め、結合剤には、耐酸化性を有する耐酸化性樹脂を含める。この研磨材を用い、光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を研磨層に照射しながら研磨する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
砥粒と結合剤とを含む研磨層を備える研磨材であって、
前記研磨層は、さらに光触媒作用を有する光触媒材料を含み、
前記結合剤は、耐酸化性を有する耐酸化性樹脂を含み、
該光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を該研磨層に照射しながら研磨する光照射研磨に用いられる研磨材。
【請求項２】
前記光触媒材料は、酸化チタン、Ｎドープ二酸化チタン、酸化亜鉛の少なくとも一種を含む請求項１に記載の研磨材。
【請求項３】
前記耐酸化性樹脂は、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリフェニレンエーテル、およびこれらの変性樹脂から選ばれる一種以上である請求項１に記載の研磨材。
【請求項４】
前記光触媒材料は酸化チタンであり、前記光は紫外線である請求項１に記載の研磨材。
【請求項５】
前記光触媒材料は、前記砥粒全体の重量を１００ｗｔ％とした場合の３ｗｔ％以上の割合で含まれる請求項１に記載の研磨材。
【請求項６】
砥粒を含む研磨層を備えた研磨材の該研磨層の表面に、
光ファイバーと、該光ファイバーの周囲を被覆するフェルールと、からなる光コネクタの端面を押し当てて該端面を研磨する光コネクタ端面の研磨方法であって、
前記研磨層は、光触媒作用を有する光触媒材料を含み、
該光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を該研磨層に照射しながら研磨することを特徴とする光コネクタ端面の研磨方法。
【請求項７】
前記光は、前記光ファイバーを通して前記研磨層に照射される請求項６に記載の光コネクタ端面の研磨方法。
【請求項８】
前記光触媒材料は、酸化チタン、Ｎドープ二酸化チタン、酸化亜鉛の少なくとも一種を含む請求項６に記載の光コネクタ端面の研磨方法。
【請求項９】
前記光触媒材料は、前記砥粒全体の質量を１００ｗｔ％とした場合の３ｗｔ％以上の割合で含まれる請求項６に記載の光コネクタ端面の研磨方法。
【請求項１０】
前記光触媒材料は酸化チタンであり、前記光は紫外線である請求項６に記載の光コネクタ端面の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバーコネクタ端面等の仕上げ研磨に用いられる研磨材、および光コネクタ端面の研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光通信の伝達手段として使用される光ファイバーには、近年の大容量化、高効率化の要求に伴い、光損失ができるだけ小さいことが要求される。光ファイバーと光ファイバーとの接続には、光コネクタが用いられる。光コネクタは、フェルールを有し、フェルールの内部に形成された挿通孔に光ファイバーが挿通される。光ファイバーは、接着剤等によりフェルールに固定される。光コネクタの接続端面の品質は、光ファイバーの光学特性に影響することから、非常に重要となる。そのため、光コネクタ端面には、複数段階の研磨により鏡面加工がなされる。研磨の最終仕上げとして、微細な砥粒を含む研磨層を備えた研磨シート、研磨テープ、研磨砥石、研磨布等の研磨材を使用した精密な鏡面研磨が行われる。
【０００３】
精密な鏡面研磨に使用される研磨材として、例えば、砥粒と所定の結合剤とを含む研磨層が支持体上に形成された研磨媒体が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。また、基材上に、シリカ粒子と結合剤とを含む研磨層を備えた研磨テープとして、研磨層表面の中心線平均粗さが０．００５〜０．５μｍである研磨テープが開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−２５４３１９号公報
【特許文献２】
特開２００２−２５４３２６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１、２に開示されたような研磨材を使用して精密な鏡面研磨を行った場合には、研磨後に、研磨層に含まれる砥粒等が被研磨面に付着残存するという問題がある。そのため、被研磨面の付着物を除去する工程を、別途設ける必要がある。また、付着物が被研磨面に残存すると、目的とする光学特性が得られず、使用の際に不具合を生じるおそれがある。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、光コネクタ端面等を高精度に研磨することができ、かつ、研磨後においても被研磨面に砥粒等が付着残存し難い研磨材、および光コネクタ端面の研磨方法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の研磨材は、砥粒と結合剤とを含む研磨層を備える研磨材であって、前記研磨層は、さらに光触媒作用を有する光触媒材料を含み、前記結合剤は、耐酸化性を有する耐酸化性樹脂を含み、該光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を該研磨層に照射しながら研磨する光照射研磨に用いられることを特徴とする。
【０００８】
本発明の研磨材では、研磨層に相手部材の被研磨面が摺接することで、研磨が行われる。また、本発明の研磨材は、研磨層に光触媒材料を含む。よって、光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光が研磨層に照射されることで、光触媒作用が発揮される。この光触媒作用により、砥粒等は被研磨面へ付着残存し難くなる。例えば、光触媒材料として酸化チタンを用いた場合、砥粒等の付着抑制のメカニズムは、以下のように考えられる。
【０００９】
酸化チタンに、バンドギャップ以上のエネルギーを有する光（紫外線）が照射されると、結晶中の酸素が持つ価電子が励起され、チタン側に遷移する。その結果、酸素は遊離酸素となり、結晶中には正孔が生成する。正孔は、酸化チタンの表面にある吸着水や周囲にある水と反応し、強力な酸化力を持つ水酸ラジカル（・ＯＨ）を発生させる。この水酸ラジカルにより、被研磨面に付着した樹脂成分が酸化分解される。また、水酸ラジカルは、酸化チタン表面と反応して水酸基（−ＯＨ）を形成し、その表面を強親水性にする。そのため、被研磨面に付着した親水性物質（砥粒のコロイダルシリカ等）は、酸化チタン表面に吸着される。
【００１０】
一方、チタン側に遷移した電子は、周囲の酸素と反応し、スーパーオキサイドイオン（Ｏ２−）を発生させる。スーパーオキサイドイオンによっても、被研磨面に付着した樹脂成分が酸化分解される。また、スーパーオキサイドイオンは、上記水酸ラジカルと同様、酸化チタン表面と反応して水酸基を形成し、その表面を強親水性にする。そのため、被研磨面に付着した親水性物質は、酸化チタン表面に吸着される。
【００１１】
このように、被研磨面と接する研磨層に特定の波長を持つ光が照射されると、光触媒作用により、被研磨面への砥粒等の付着残存が抑制される。したがって、本発明の研磨材を用いれば、研磨後に被研磨面の付着物を除去する工程を省略することができ、研磨工程を簡素化することができる。また、付着物の残存による光学特性の低下のおそれも少ない。また、本発明の研磨材は、結合剤として耐酸化性を有する耐酸化性樹脂を含む。そのため、研磨層へ照射される光や光触媒作用により、結合剤が酸化劣化するおそれが少ない。よって、本発明の研磨材は、耐久性の高い研磨材となる。
【００１２】
本発明の光コネクタ端面の研磨方法は、砥粒を含む研磨層を備えた研磨材の該研磨層の表面に、光ファイバーと、該光ファイバーの周囲を被覆するフェルールと、からなる光コネクタの端面を押し当てて該端面を研磨する光コネクタ端面の研磨方法であって、前記研磨層は、光触媒作用を有する光触媒材料を含み、該光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を該研磨層に照射しながら研磨することを特徴とする。
【００１３】
本発明の光コネクタ端面の研磨方法では、研磨層に光触媒材料を含んだ研磨材を用い、光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を研磨層に照射しながら研磨する。その結果、光触媒材料の上述した光触媒作用により、砥粒等が被研磨面へ付着残存し難くなる。したがって、本発明の研磨方法によれば、光コネクタ端面の研磨後に、端面に付着した付着物を除去する工程を省略することができ、研磨工程を簡素化することができる。また、付着物の残存による光学特性の低下のおそれも少ない。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の研磨材および光コネクタ端面の研磨方法の実施形態について詳しく説明する。なお、本発明の研磨材および光コネクタ端面の研磨方法は、下記の実施形態に限定されるものではない。本発明の研磨材および光コネクタ端面の研磨方法は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、当業者が行い得る変更、改良等を施した種々の形態にて実施することができる。
【００１５】
〈研磨材〉
本発明の研磨材は、砥粒と結合剤とを含む研磨層を備える。砥粒には、既に公知の材料を用いればよい。例えば、シリカ（ＳｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、コロイダルシリカ、オルガノシリカ、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、酸化鉄、酸化クロム、酸化スズ等の粒子を用いればよい。また、上記単一金属の酸化物の他、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−ＺｒＯ２等の複合酸化物を用いてもよい。なかでも、良好な被研磨面が得られることから、コロイダルシリカを用いることが望ましい。
【００１６】
結合剤は、砥粒どうしを接着する役割を果たす。また、基材の表面に研磨層を形成して研磨材を構成する場合には、砥粒と基材とを接着する役割をも果たす。本発明の研磨材では、結合剤として、耐酸化性を有する耐酸化性樹脂を含む。耐酸化性樹脂は、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリフェニレンエーテル、およびこれらの変性樹脂から選ばれる一種以上であることが望ましい。特に、紫外線に対する耐性が高いという理由から、シリコーン樹脂を用いると好適である。なお、本発明の研磨材では、結合剤として、上記耐酸化性樹脂以外の樹脂を含んでいても構わない。例えば、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂等を含んでいてもよい。また、研磨層における結合剤の配合割合は、特に限定されるものではない。例えば、砥粒の１００重量部に対して１０〜１８６重量部程度配合すればよい。
【００１７】
本発明の研磨材では、研磨層に、さらに光触媒作用を有する光触媒材料を含む。光触媒材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、Ｎドープ二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化鉄、ジルコニア、酸化すず、ストロンチウムチタニアオキサイド、酸化ニオブ、酸化バナジウム、酸化セリウム、硫化カドミウム、オキシ硫化亜鉛、アンチモンポルフィリン錯体等が挙げられる。これらを単独で、あるいは複合させて用いればよい。また、上記材料に金属を担持させて用いてもよい。なかでも、入手し易く実用的であるという理由から、酸化チタン、Ｎドープ二酸化チタン、酸化亜鉛の少なくとも一種を用いることが望ましい。特に、酸化チタンが好適である。
【００１８】
光触媒材料は、研磨層に含まれていればよく、含有態様が特に限定されるものではない。例えば、粒子状、チューブ状、針状、繊維状等の光触媒材料が、砥粒と、あるいは結合剤と混合されている態様が挙げられる。また、砥粒を構成する粒子の表面に、光触媒材料が付着している、あるいは光触媒材料の皮膜が形成されている態様であってもよい。なお、酸化チタン、酸化鉄、ジルコニア等の研磨作用を併有する光触媒材料を粒子状にして砥粒と混合することにより、光触媒材料に研磨作用をも発揮させることができる。
【００１９】
被研磨面への砥粒等の付着を抑制する光触媒作用を充分発揮させるという観点から、研磨層における光触媒材料の含有割合は、砥粒全体の重量を１００ｗｔ％とした場合の３ｗｔ％以上とすることが望ましい。１０ｗｔ％以上とするとより好適である。一方、光触媒材料の含有割合が高くなると、光触媒材料の種類によっては、研磨材の研磨特性に影響を与える場合がある。例えば、光触媒材料として酸化チタンを用いた場合には、その含有割合を、砥粒全体の重量を１００ｗｔ％とした場合の３０ｗｔ％以下とすることが望ましい。なお、研磨層は、上記砥粒、結合剤、光触媒材料以外に、潤滑剤、砥粒の分散剤等を含んでいてもよい。
【００２０】
本発明の研磨材は、例えば、研磨シート、研磨テープ、研磨砥石、研磨布等として実施することができる。例えば、研磨シート等として実施する場合には、基材の表面に研磨層を形成して研磨材とすればよい。この場合、使用する基材は、必要な弾性および強度を有し、研磨層を保持できるものであればよい。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル、ポリカーボネート（ＰＣ）等からなるフィルム等が好適である。基材の厚さは、特に限定されるものではなく、例えば、２５〜１５０μｍ程度とすればよい。
【００２１】
また、基材と研磨層との接着性の向上、研磨層の表面のパターニング等、目的に応じて、基材の表面に予めバッファー層を形成しておいてもよい。例えば、基材表面に易接着層を形成してバッファー層とすればよい。また、基材表面を熱処理、コロナ処理、プラズマ処理等してバッファー層を形成してもよい。易接着層は、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等からなるバッファー塗工液を、基材表面に塗布、乾燥することで形成することができる。
【００２２】
上記基材を用いる態様の場合、本発明の研磨材は、例えば、砥粒、結合剤、光触媒材料等を含む塗工剤を基材の表面に塗布、乾燥して製造することができる。具体的には、まず、砥粒等を所定の溶剤に分散させた塗工剤を調製する。次いで、バーコータ法、マイクログラビア法、コンマコート法等により、塗工剤を基材表面に塗布した後、２０〜１４０℃に加熱して乾燥すればよい。形成する研磨層の厚さは、被研磨面の材質や研磨工程に応じて適宜設定すればよい。例えば、３〜１５μｍ程度とすると好適である。研磨材は、シート状、帯状、円形状等、所定の形状にて用いればよい。
【００２３】
本発明の研磨材は、触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を研磨層に照射しながら研磨する光照射研磨に用いられる。被研磨面と接する研磨層への光の照射方法は、特に限定されるものではない。例えば、基材と研磨層とから研磨材を構成する場合、基材側から光を照射して、基材を透過した光を研磨層に照射させることができる。また一般に、光触媒材料の種類により、光触媒作用の発現する波長は異なる。よって、本発明の研磨材に用いる光触媒材料の種類に応じて、適宜最適な波長の光を照射すればよい。例えば、光触媒材料としてアナターゼ型の酸化チタンを用いた場合には、強度ピークが３６０〜３９０ｎｍにある紫外線を照射すると効果的である。また、Ｎドープ二酸化チタンを用いた場合には、紫外線の他、可視光線を照射してもよい。
【００２４】
本発明の研磨材は、例えば、光コネクタ端面、半導体ウエーハ、光学レンズ、光ディスク基板等の種々の精密部品の研磨に用いることができる。また、本発明の研磨材は、研磨の最終仕上げ工程の他、研磨の中間工程等においても使用することができる。特に、光コネクタ端面の最終仕上げ研磨工程に最適である。
【００２５】
〈光コネクタ端面の研磨方法〉
本発明の光コネクタ端面の研磨方法では、砥粒と光触媒材料とを含む研磨層を備える研磨材を用いる。研磨材は、上記本発明の研磨材に準ずればよい。よって、ここでは詳細を省略する。なお、本発明の研磨方法では、研磨層を構成する結合剤に、必ずしも耐酸化性樹脂を含む必要はない。つまり、結合剤として、既に公知の材料を用いてもよい。但し、光触媒作用等による酸化劣化をより抑制し、研磨材の耐久性を向上させることを考慮すれば、結合剤として、シリコーン樹脂等の耐酸化性樹脂を含む態様が好適である。
【００２６】
本発明の研磨方法では、上記研磨材の研磨層の表面に、光コネクタの端面を押し当てて研磨を行う。その際、光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を、研磨層に照射する。ここで、研磨層への光の照射方法は、特に限定されるものではない。例えば、研磨材が基材と研磨層とから構成される場合、研磨材の基材側から光を照射して、基材を透過した光を研磨層に照射させることができる。また、光コネクタの光ファイバーを通して研磨層に光を照射することができる。光ファイバーを通して光を照射する態様では、光を導くための特別な装置は不要となる。よって、容易に実施することができ、実用的である。
【００２７】
図１に、本発明の研磨方法を実施できる研磨装置の一例の模式図を示す。図１に示すように、光コネクタ１は、研磨材２の上面に配置される。なお、光コネクタ１は、ジグ（図略）により固定される。
【００２８】
光コネクタ１は、フェルール１１と、光ファイバー１２とからなる。フェルール１１は、ジルコニア製である。フェルール１１の内部には、挿通孔が形成される。光ファイバー１２の一端（下端）は、フェルール１１の挿通孔に挿通され、接着剤で固定される。光ファイバー１２の他端（上端）は、光源に接続される。光源からは、光ファイバー１２を通じて紫外線が照射される。光コネクタ１の端面１３は、研磨材２の研磨層２２表面に押し当てられる。
【００２９】
研磨材２は、基材２１と、研磨層２２とを備える。基材２１は、ポリエステル製でありシート状を呈する。基材２１の厚さは７５μｍである。研磨層２２が形成される基材２１の表面には、易接着処理が施されている。研磨層２２は、基材２１の表面に形成され、コロイダルシリカ（砥粒）、アナターゼ型の酸化チタン粒子（光触媒材料）、およびシリコーン樹脂（結合剤）を含む。研磨層２２中の酸化チタン粒子の含有割合は、コロイダルシリカの重量を１００ｗｔ％とした場合の１０ｗｔ％である。研磨層２２の厚さは約５μｍである。
【００３０】
研磨材２は、回転しながら水平方向に往復動する。これにより、研磨層２２表面に押し当てられた光コネクタ１の端面１３が研磨される。同時に、光ファイバー１２を通じて紫外線が研磨層２２の表面に照射される。その結果、研磨層２２に含まれる酸化チタン粒子の光触媒作用により、端面１３に付着したコロイダルシリカは、研磨層２２に吸着される。したがって、端面１３への砥粒等の付着残存は抑制される。
【００３１】
本実施形態では、光触媒材料としてアナターゼ型の酸化チタンを用いた。そのため、酸化チタンの光触媒作用を考慮して、強度ピークが３６０〜３９０ｎｍにある紫外線を照射した。しかしながら、研磨の際に照射する光は、紫外線に限定されるものではない。上述したように、光触媒作用が発現する波長は、光触媒材料の種類により異なる。よって、光触媒材料の種類に応じて、適宜最適な光を採用すればよい。また、本実施形態では、ジルコニア製のフェルールから構成される光コネクタ端面を研磨した。しかしながら、フェルールの材質は、特に限定されるものではなく、金属、あるいはプラスチックであってもよい。さらに、本実施形態では、研磨材を基材と研磨層とから構成した。しかしながら、研磨材は上記構成に限定されるものではなく、研磨層のみから構成されていてもよい。
【００３２】
本発明の研磨方法は、光コネクタ端面の最終仕上げ研磨工程に最適であるが、中間研磨工程等においても使用することができる。また、光ファイバーの、被研磨面を構成する端面と反対側の端面は、光の通過や波長への影響を少なくするため、ある程度良好な状態に研磨されていることが望ましい。
【００３３】
【実施例】
上記実施形態に基づいて研磨材を製造した。製造した研磨材を用い、紫外線を照射しながら光コネクタ端面の仕上げ研磨を行い、研磨後の被研磨面を評価した。以下、研磨材の製造、仕上げ研磨試験および被研磨面の評価について説明する。
【００３４】
〈研磨材の製造〉
（１）＃１の研磨材
砥粒として、コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製：平均粒子径０．０２μｍ）を用いた。光触媒材料として、アナターゼ型の酸化チタン（商品名「ＡＭＴ−１００」、テイカ株式会社製：平均粒子径６ｎｍ）を用いた。結合剤として、シリコーン樹脂（信越化学工業株式会社製）を用いた。まず、コロイダルシリカ１００重量部と、酸化チタン１０重量部と、シリコーン樹脂１００重量部とを、溶剤であるメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に分散させ、塗工剤を調製した。コロイダルシリカ全重量に対する酸化チタンの重量割合は１０ｗｔ％とした。次いで、調製した塗工剤を、バーコータ法により、基材であるポリエステルシート（株式会社パナック製：厚さ７５μｍ）の表面に塗布した。なお、塗工剤を塗布したポリエステルシートの表面には、予め易接着処理を施しておいた。その後、６０℃に加熱して、塗布した塗工剤を乾燥させ、研磨層を形成した。形成された研磨層の厚さは、約５μｍであった。このように製造された研磨材を、円形状に加工して下記の仕上げ研磨に供した。なお、本研磨材を、＃１の研磨材とした。
【００３５】
（２）＃２の研磨材
光触媒材料を含まない研磨材を製造した。上記＃１の研磨材の製造において、酸化チタンを混合しない点以外は、＃１の研磨材と同様にして製造した。製造された研磨材を、＃２の研磨材と番号付けした。
【００３６】
〈仕上げ研磨試験および被研磨面の評価〉
（１）仕上げ研磨試験
製造した＃１および＃２の研磨材を、それぞれ研磨機（「ＯＦＬ−１５」、セイコーインスツル株式会社製）に取り付け、光コネクタ端面の仕上げ研磨試験を行った。また、光コネクタ端面の仕上げ研磨用として市販されている研磨シートＡおよびＦ（Ａ：商品名「ＡＴＲ−０１」：日本ミクロコーティング株式会社製、Ｆ：商品名「ＦＯＳ−０１」：大日本印刷株式会社製）をも使用して、同様に仕上げ研磨試験を行った。仕上げ研磨試験は、各研磨材、研磨シートにつき、光コネクタを６個ずつ使用して行った。そして、使用した光コネクタの３個については、紫外線（強度ピークの波長：３６０〜３９０ｎｍ）を照射しながら研磨し、残りの３個については、紫外線を照射せずに研磨した。研磨は、１８０秒間行った。なお、使用した光コネクタ端面には、仕上げ研磨までの前研磨として、規定のＰＣフェルール用研磨処方を施した。そして、仕上げ研磨直後の光コネクタ端面を、以下（ａ）〜（ｄ）の四つの項目にて評価した。
（ａ）フェルール端面への付着物の有無：光学顕微鏡によりフェルール端面を観察し、付着物の有無を調査した。（ｂ）フェルール端面の研磨傷（スクラッチ）の有無、および鏡面状態：光学顕微鏡によりフェルール端面を観察し、研磨傷の有無、および鏡面状態を調査した。（ｃ）光ファイバー部中心線における表面粗さ（Ｒａ）：テーラーホブソン株式会社製の表面形状粗さ測定機により、光ファイバー部中心線における表面粗さ；Ｒａ（ｎｍ）を測定した。（ｄ）光ファイバーのフェルールに対する凸量：テーラーホブソン株式会社製の超精密段差測定器により、光ファイバーのフェルールに対する凸量（ｎｍ）を測定した。
【００３７】
（２）被研磨面の評価
（２−１）＃１の研磨材
＃１の研磨材を用いた研磨では、紫外線の照射の有無により、光コネクタ端面の状態は異なった。一例として、紫外線を照射しながら研磨した光コネクタ端面の光学顕微鏡写真を図２に示す。図２に示すように、紫外線を照射した場合、被研磨面には付着物および研磨屑は観察されなかった。また、光コネクタ端面には研磨傷は無く、良好な鏡面状態に仕上がっていた。光ファイバー部中心線における表面粗さ（Ｒａ）、および光ファイバーのフェルールに対する凸量は、ともに規格値の範囲内であった。
【００３８】
これに対して、紫外線を照射せずに研磨した光コネクタ端面には、雨滴形状の付着物が観察された。この付着物の大きさは、１〜１５０ｍｍ程度であり、長軸方向がほぼ同方向に揃っていた。また、付着物は、被研磨面に固着しており、アルコール等を含ませた不織布等で拭いても除去することはできなかった。なお、紫外線を照射しなかった場合でも、研磨傷は観察されず、鏡面状態に仕上がっていた。光ファイバー部中心線における表面粗さ（Ｒａ）、および光ファイバーのフェルールに対する凸量も、ともに規格値の範囲内であった。
【００３９】
（２−２）＃２の研磨材
＃２の研磨材を用いた研磨では、紫外線の照射の有無によらず、光コネクタ端面は、ほぼ同じ状態となった。一例として、紫外線を照射しながら研磨した光コネクタ端面の光学顕微鏡写真を図３に示す。図３に示すように、＃２の研磨材による研磨では、（２−１）後段で述べた付着物と同様の付着物が、光コネクタ端面のほぼ全体において観察された。付着物は、被研磨面をアルコール等を含ませた不織布等で拭いても残存した。これより、付着物は被研磨面に固着していることがわかる。また、フェルールの周縁部には、研磨屑も観察された。なお、研磨傷は観察されず、鏡面状態に仕上がっていた。光ファイバー部中心線における表面粗さ（Ｒａ）、および光ファイバーのフェルールに対する凸量は、ともに規格値の範囲内であった。
【００４０】
（２−３）市販の研磨シートＡ、Ｆ
研磨シートＡおよび研磨シートＦを用いた研磨では、いずれも紫外線の照射の有無によらず、光コネクタ端面はほぼ同じ状態となった。すなわち、研磨シートＡ、Ｆによる研磨では、光コネクタ端面において、上記図２に示したような雨滴形状の付着物が観察された。また、フェルールの周縁部には、研磨屑も観察された。なお、研磨傷は観察されず、鏡面状態に仕上がっていた。光ファイバー部中心線における表面粗さ（Ｒａ）、および光ファイバーのフェルールに対する凸量は、ともに規格値の範囲内であった。
【００４１】
（２−４）まとめ
光触媒材料を研磨層に含まない＃２の研磨材、市販の研磨シートＡ、Ｆを用いた研磨では、紫外線の照射の有無に関わらず、光コネクタ端面に付着物や研磨屑が観察された。また、光触媒材料を研磨層に含む＃１の研磨材を用いても、紫外線を照射せずに研磨した場合には、光コネクタ端面に付着物が観察された。これに対して、光触媒材料を研磨層に含む＃１の研磨材を用い、かつ紫外線を照射しながら研磨すると、光コネクタ端面に付着物や研磨屑を残存させずに、光コネクタ端面を高精度に研磨できた。
【００４２】
【発明の効果】
本発明の研磨材は、研磨層に光触媒材料を含む。よって、本発明の研磨材による研磨において、光触媒材料の光触媒作用が発現する波長を持つ光を研磨層に照射すると、光触媒作用により、砥粒等が被研磨面へ付着残存し難くなる。また、本発明の研磨材は、結合剤として耐酸化性樹脂を含む。よって、研磨層へ照射される光や光触媒作用により、結合剤が酸化劣化するおそれが少なく、耐久性が高い。
【００４３】
本発明の光コネクタ端面の研磨方法では、光触媒材料を含む研磨層を備える研磨材を用い、光触媒作用が発現する波長を持つ光を研磨層に照射しながら研磨する。本発明の研磨方法によれば、光触媒材料の光触媒作用により、砥粒等が被研磨面へ付着残存し難くなる。したがって、研磨後に被研磨面の付着物を除去する工程を省略することができ、研磨工程を簡素化することができる。また、付着物の残存による光学特性の低下のおそれも少ない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の研磨方法を実施できる研磨装置の一例の模式図を示す。
【図２】＃１の研磨材を用いた紫外線照射研磨後の光コネクタ端面の光学顕微鏡写真である。
【図３】＃２の研磨材を用いた紫外線照射研磨後の光コネクタ端面の光学顕微鏡写真である。
【符号の説明】
１：光コネクタ  １１：フェルール  １２：光ファイバー  １３：端面
２：研磨材  ２１：基材  ２２：研磨層
【図１】
2004345003.tif 000002
【図２】
2004345003.tif 000003
【図３】
2004345003.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月4日(2003.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2004345003.tif 000005
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004345003.tif 000006