(57)【要約】【課題】曇りや曇りムラが発生しにくい光学部品、レンズ系、及び投影露光装置を提供すること。【解決手段】レンズ１０が比較的平坦な表面１０ａを有している場合、曇り物質ＤＭが表面１０ａに付着しにくく、或いは一旦付着した曇り物質ＤＭも比較的高い確率で表面１０ａから離脱する（図２（ａ）参照）。このため、レンズ１０の表面１０ａでの光散乱量が少なく、レンズ１０を長期間使用しても曇り物質ＤＭの付着量が増加しにくいので、長期に亘って高い透過率を維持することができる。よって、このようなレンズ１０を投影露光装置中に光学部品として組み込んだ場合、透過率の劣化が生じにくいので、高精度の投影露光が可能になる。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外光を透過させるレンズ本体と、
前記レンズ本体の所定の入出射面に形成されるとともに、表面粗さの標準値が略２ｎｍ以下である反射防止膜と
を備える光学部品。
【請求項２】
前記レンズ本体は、１００ｍｍ以上の有効径を有し、当該有効径の曲率半径に対する比は、１以上であることを特徴とする請求項１記載の光学部品。
【請求項３】
前記レンズ本体は、蛍石を材料として形成されていることを特徴とする請求項１及び請求項２のいずれか一項記載の光学部品。
【請求項４】
前記反射防止膜は、反射率が最低値となる最低反射率波長が１４０ｎｍから２００ｎｍの範囲のいずれかに設定されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項５】
前記光学部品は、投影露光装置に部品として組み込まれることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項６】
複数のレンズ要素を備え、
前記複数のレンズ要素のうち少なくとも１つのレンズ要素として、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光学部品を含むことを特徴とするレンズ系。
【請求項７】
投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、
真空紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光学部品を含み、前記マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系と
を備える投影露光装置。
【請求項８】
投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光学部品を含み、真空紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系と
を備える投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空紫外用の光学系に適用される光学部品、このような光学部品を組み込んだレンズ系、及びこのような光学部品を含む投影露光装置に関するものである。
【０００１】
【従来の技術】
ステッパ等の投影露光装置に用いられる光学部品は、露光解像度の高解像度化に伴って大口径化してきている。このような大口径光学部品のうち、レンズには、通常反射防止膜が施されている。特に真空紫外域ではレンズ材料として蛍石が用いられるが、蛍石からなるレンズに反射防止膜を施す際には、一般に真空蒸着法が用いられている（特許文献１等参照）。なお、反射防止膜を形成する手段としては、スパッタ等プラズマを用いる手法もあるが、基板に蛍石を用いる場合、蛍石がプラズマによりダメージを受けるため、いまだ実用化されていない。
【０００２】
【特許文献１】
特開平１１−２０００１７号公報
【発明が解決しようとする課題】
上記のような真空蒸着法によって反射防止膜を形成したレンズを投影露光装置の投影レンズ等に組み込んだ場合、レンズ面内の位置によって透過率の経時変化量が異なるものとなる。特にレンズ周辺における透過率低下の進行が著しいものとなり、投影露光の結像性能が漸次低下する。レンズの透過率が変化する原因は、反射防止膜を施したレンズの置かれている環境中に微量に含まれている有機物が露光用の光線により分解され反射防止膜上に固着するためと考えられている。この際、固着した物質は、露光波長に対して吸収を持つため、固着量が多いとレンズの透過率が減少する（以下、この現象を「曇る」と表現する）。
【０００３】
しかしながら、透過率の経時変化量すなわち曇りの進行速度がレンズ面内の位置によって異なる理由、つまり曇りムラが増大する理由については、十分に解明されていない。
【０００４】
そこで、本発明は、曇りや曇りムラが発生しにくい光学部品、レンズ系、及び投影露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、実験の結果、曇りムラが発生する光学部品において、固着する物質量と反射防止膜の表面粗さとの間に相関関係があることを見出し、反射防止膜の表面粗さを低減して固着物質の付着を抑制することによって上記目的を達成すべく、本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、第１の発明は、紫外光を透過させるレンズ本体と、レンズ本体の所定の入出射面に形成されるとともに表面粗さの標準値が略２ｎｍ以下である反射防止膜とを備える光学部品に関する。
【０００７】
上記光学部品では、反射防止膜の表面粗さの標準値が略２ｎｍ以下であるので、光線によって分解された有機物が付着しにくい。すなわち、実験データによれば、反射防止膜の表面粗さの標準値が２ｎｍを超えると、光学部品の表面に分解された有機物が格段に付着しやすくなるので、この部分で曇りが発生して透過率低下や透過率ムラといった性能劣化に至る。一方、本発明のように、反射防止膜の表面粗さの標準値を２ｎｍ未満にすると、分解された有機物が光学部品の表面に付着しにくくなり、或いは付着しても離脱しやすくなり、透過率低下や透過率ムラが発生することを防止できる。特に、有効径が大きく曲率半径が小さな蛍石製のレンズ本体に反射防止膜を形成する場合、周辺での表面粗さが極めて増大し易くなる。このような表面粗さは、周辺部における光学散乱量すなわち透過率減少を単に増大させるだけでなく、この部分における有機物の付着量を急速に増大させるので、周辺部の透過率の経時劣化が著しくなって実用的な光学部品すなわちレンズが得られない。本発明の場合、成膜装置や成膜条件等の制御によってレンズ本体の各部に形成される反射防止膜の表面粗さの標準値が略２ｎｍ以下となっているので、レンズ本体の形状に拘わらず分解された有機物が付着しにくくなり、作製された光学部品すなわちレンズの周辺部における透過率の経時劣化を防止できる。
【０００８】
また、第２の発明は、上記第１の発明において、レンズ本体が１００ｍｍ以上の有効径を有し、当該有効径の曲率半径に対する比が１以上である。この場合、光学部品が比較的大口径で曲率が大きなレンズであることから、周辺部で透過率劣化が生じ易いが、反射防止膜の表面粗さの標準値が略２ｎｍ以下となっているので、レンズの周辺部における透過率減少を有効に防止できる。
【０００９】
また、第３の発明は、上記第１，２の発明において、レンズ本体が蛍石を材料として形成されている。この場合、真空紫外域で光量損失の少ない高性能の光学部品を提供することができる。
【００１０】
また、第４の発明は、上記第１〜３の発明において、反射防止膜が、反射率が最低値となる最低反射率波長が１４０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲のいずれかに設定されている。この場合、真空紫外域のうち比較的短波長側のＡｒＦレーザ（１９３ｎｍ）やＦ２レーザ（１５７ｎｍ）用のものとして、良好な反射防止特性を有する光学部品を提供することができる。
【００１１】
また、第５の発明は、上記第１〜４の発明において、光学部品が、投影露光装置に部品として組み込まれる。この場合、光学部品であるレンズが周辺部で透過率の劣化が生じにくいものとなっているので、高精度の投影露光が可能になる。
【００１２】
また、第６の発明は、複数のレンズ要素を備え、複数のレンズ要素のうち少なくとも１つのレンズ要素として、上記第１〜４の発明に係る光学部品を含むことを特徴とするレンズ系である。
【００１３】
上記レンズ系においては、周辺部で透過率の劣化が生じにくい光学部品をレンズ要素として含むので、高性能で長期間使用しても劣化が生じにくいレンズ系を提供することができる。
【００１４】
また、第７の発明は、投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、真空紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、上記第１〜４の発明に係る光学部品を含みマスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系とを備える投影露光装置である。
【００１５】
上記投影露光装置では、マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系が第１〜第４の発明に係る光学素子を含むので、良好な結像性能を有し劣化が生じにくい投影光学系によって高精度の投影露光が可能になる。
【００１６】
また、第８の発明は、投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、上記第１〜４の発明に係る光学部品を含み真空紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系とを備える投影露光装置である。
【００１７】
上記投影露光装置では、真空紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系が第１〜第４の発明に係る光学素子を含むので、良好な照明特性を有し劣化が生じにくい照明光学系によって高精度の投影露光が可能になる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
〔第１実施形態〕
以下、本発明に係る第１実施形態の光学部品について、図面に参照しつつ説明する。
【００１９】
図１は、第１実施形態の光学部品であるレンズ１０の断面構造を説明する図である。このレンズ１０は、真空紫外光用の光学素子として作製されたものであり、レンズ状の光学部材であるレンズ本体１２と、このレンズ本体１２の一対の入出射面１２ａ，１２ｂに形成される反射防止膜１４，１５とを有する。このうち、レンズ本体１２は、その入出射面１２ａ，１２ｂの曲率の設定により、入射光に対して所望の集光特性を有するものとすることができる。また、各反射防止膜１４，１５は、入出射面１２ａ，１２ｂにおける意図しない反射を防止するものであり、レンズ１０による集光に際して光量損失が生じたり迷光が発生することを防止する。
【００２０】
ここで、レンズ１０の有効径Ｄは、入射面１２ａの曲率半径ｒよりも大きくなっている。つまり、Ｄ／ｒ＞１を満たしている。このことは、入射面１２ａの曲率が比較的大きいこと、すなわち突起量が大きいレンズ１０であることを意味し、入射面１２ａの周辺部ＰＰにおいて光軸ＯＡに対する傾斜角が大きくなることを意味する。このように有効径に対して曲率半径が小さいレンズ１０の場合、突起量が少なく平坦面に近いレンズの場合に比較して反射防止膜１４，１５の形成が困難になり、周辺部ＰＰで反射防止膜１４，１５の表面粗さが増大し易くなる傾向がある。
【００２１】
レンズ１０のうちレンズ本体１２は、石英ガラスや蛍石等の真空紫外光の透過材料を適当に研削、研磨等することによって作製される。また、反射防止膜１４，１５は、レンズ本体１２の表面上に真空紫外光の透過材料からなる低屈折率層と高屈折率層とを順次積層した構成を有する。
【００２２】
ここで、低屈折率層とは、レンズ本体１２の屈折率よりも低いものを指し、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等を使用することができる。低屈折率層が２層以上となる場合、各低屈折率層は、それぞれ同種の低屈折率物質を使用してもよいが、異なる低屈折率物質を使用しても所望の反射防止効果を得ることができる。また、高屈折率層とは、レンズ本体１２の屈折率よりも高いものを指し、使用光が紫外光の場合、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３），フッ化ランタン（ＬａＦ３），フッ化ガドリニウム（ＧｄＦ３）等を使用することができる。高屈折率層が２層以上となる場合、各高屈折率層は、それぞれ同種の高屈折率物質を使用してもよいが、異なる高屈折率物質を使用しても所望の反射防止効果を得ることができる。これら高低屈折率の膜は、公知の技術である真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等により形成される。
【００２３】
図２は、レンズの表面粗さと曇り物質の付着量との関係を概念的に説明する断面図である。図２（ａ）に示すレンズ１０は、比較的平坦な表面１０ａを有しており、曇り物質ＤＭが表面１０ａに付着しにくく、或いは一旦付着した曇り物質ＤＭも比較的高い確率で表面１０ａから離脱する。このため、レンズ１０の表面１０ａでの光散乱量が少なく、レンズ１０を長期間使用しても曇り物質ＤＭの付着量が増加しにくいので、長期に亘って高い透過率を維持することができる。よって、このようなレンズ１０を投影露光装置中に光学部品として組み込んだ場合、透過率の劣化が生じにくいので、高精度の投影露光が可能になる。
【００２４】
一方、図２（ｂ）に示すレンズ１１０は、起伏の激しい表面１１０ａを有している比較例のレンズであり、曇り物質ＤＭが表面１１０ａに付着し易く、一旦付着した曇り物質ＤＭが表面１１０ａから離脱しにくい。このため、レンズ１１０を長期間使用すると曇り物質ＤＭが次第に蓄積して、比較的短期間で透過率の減少が進行する。よって、このようなレンズ１０を投影露光装置中に光学部品として組み込んだ場合、透過率の劣化が著しく、高精度の投影露光の維持が困難になる。
【００２５】
なお、曇り物質ＤＭについては、十分な解明がなされていないが、環境中に微量に含まれているフタル酸エステル類や有機シリコン類等の有機物質が紫外光線等によって分解され、反射防止膜上に固着して光吸収性の物質（すなわち曇り物質ＤＭ）になるものと考えられている。その他、アンモニウム塩その他の窒素化合物、硫酸塩その他の硫黄化合物、塩化物、臭化物等も、反射防止膜上に固着して光吸収性の曇り物質ＤＭになるものと考えられている。
【００２６】
図３は、図１に示すレンズ１０を製造するための成膜装置の一例を説明するブロック図である。
【００２７】
図示の成膜装置４０は、図１のレンズ本体１２の例えば入射面１２ａに多層膜からなる反射防止膜１４を形成するための電子ビーム蒸着装置である。この成膜装置４０は、レンズ本体１２を保持してこれを自転及び公転させるホルダ４１ａと、蒸発材料を選択的に切替可能な第１及び第２蒸発源４１ｃ，４１ｄと、両蒸発源４１ｃ，４１ｄの上方に配置されて両蒸発源４１ｃ，４１ｄからの蒸発物質の拡散方向を制御する絞り板４１ｆと、ホルダ４１ａや蒸発源４１ｃ，４１ｄの動作状態を統括的に制御する駆動制御装置４１ｈとを備える。このうち、ホルダ４１ａ、蒸発源４１ｃ，４１ｄ、及び絞り板４１ｆは、適度な真空度に維持された真空容器４１ｊ中に収納されている。
【００２８】
この成膜装置４０では、ホルダ４１ａに保持されたレンズ本体１２をホルダ駆動装置４１ｍによって自公転させるだけでなく、各レンズ本体１２の主に正面方向から成膜を行う第１蒸発源４１ｃと、レンズ本体１２の主に斜め方向から成膜を行う第２蒸発源４１ｄとを備えるので、レンズ本体１２が大きな曲率を有する場合であっても、レンズ本体１２の表面全体に均一な成膜を行うことができる。この際、絞り板４１ｆに設けた開口ＡＰ１，ＡＰ２によって蒸発物質の拡散方向や密度を精密に制御することができるので、レンズ本体１２の中央と周辺とに極めてバランス良い精密な成膜が可能になり、レンズ本体１２の全面に亘って均一な膜厚の多層膜からなる反射防止膜１４を形成することができる。
【００２９】
図４は、絞り板４１ｆの平面図である。図からも明らかなように開口ＡＰ１は、一対の円形開口ＡＰ１ａ，ＡＰ１ｂをスリット部分でつないだ形状を有し、開口ＡＰ２は、簡単な円形開口となっている。ここで、開口ＡＰ１のうち大きな円形開口ＡＰ１ａは、レンズ本体１２の公転軌道に対向して配置されており、第１蒸発源４１ｃから射出される蒸発物質をレンズ本体１２の主に中央部分に入射させる。一方、開口ＡＰ１のうち小さな円形開口ＡＰ１ｂは、レンズ本体１２の公転軌道から所定距離だけはずれた位置に対向して配置されており、第１蒸発源４１ｃから射出する蒸発物質をレンズ本体１２の主に周辺部分に入射させる。この際、円形開口ＡＰ１ｂのサイズや配置は、円形開口ＡＰ１ａによる蒸着を補うようにコンピュータ・シミュレーション等によって最適化されており、レンズ本体１２の全面にほぼ完全に均一な成膜を行うことができる。
【００３０】
なお、両蒸発源４１ｃ，４１ｄは、蒸発源駆動装置４１ｎ上に設置されており、この駆動制御装置４１ｈに駆動されて蒸発物質を適当なタイミングで切替可能な構造になっており、屈折率の異なる２種以上の膜を順次積層することができる。
【００３１】
以上のような成膜装置４０を用いた場合、レンズ本体１２上に均一な膜厚の多層膜を積層することができ、目標波長に対して高い透過率を有する高性能な反射防止膜１４のコーティングを可能にする。さらに、本発明者は、このような装置を用いることにより、一定条件下で、レンズ本体１２上に形成された反射防止膜１４の表面平坦度を極めて高くし得ることを見出した。これは、レンズ本体１２の表面全体に亘って正面からの蒸着が支配的に行われているためと思われる。つまり、レンズ本体１２表面において正面から入射した蒸発物質は、平坦に付着し或いは既に付着した物質を平坦化すると考えられる。一方、レンズ本体１２表面において斜め方向から入射した蒸発物質は、突起を形成するように付着し或いは既に付着した物質に起伏を形成すると考えられる。したがって、図４の成膜装置４０を用いてレンズ本体１２各部に正面からの蒸着が主体となるような成膜を行うことにより、単に均一な膜厚というだけでなく極めて表面が平坦な反射防止膜１４をレンズ本体１２表面に形成することができる。このように反射防止膜１４の表面が平坦な場合、既に説明したように、その表面での光散乱量が少なくなるだけでなく、得られたレンズを長期間使用しても曇り物質の付着量が増加しにくい。このため、このようなレンズは、長期に亘って高い透過率を維持することができる。
【００３２】
以下、具体的な実験例について説明する。以下の表１は、図１に示すようなレンズ１０の各部における表面粗さと、表面散乱量と、透過率の経時変化との関係を示す。
【表１】
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なお、実験は、図４に示す成膜装置４０を用いたが、正面からの成膜を斜めからの成膜よりも多くして、レンズ１０の周辺部で表面粗さが増大するように設定した。ここで、レンズ本体１２の材料は蛍石とし、反射防止膜１４はＭｇＦ２／ＬａＦ３／ＭｇＦ２の３層構造とした。この際、反射防止膜１４の目標波長はＡｒＦレーザの１９３ｎｍとした。また、レンズ１０の有効系Ｄを３００ｍｍとし、有効径（Ｄ）／半径（ｒ）の比を１．７とした。なお、表面粗さとして、接触型の表面粗さ計を用いることにより、凹凸量の標準値に相当する２乗平均平方根（ＲＭＳ）を計測した。また、透過率の経時変化を試験するため、曇り物質をトルエンとし、曇り物質を分解する光源をＡｒＦエキシマレーザとして加速試験を行った。
【００３３】
表１からも明らかなように、表面粗さが２ｎｍ以下で比較的平坦なレンズ１０の中央部や中間部では、表面散乱が小さく、透過率の経時変化量も少ない。一方、表面粗さが２ｎｍより大きく微少な凹凸が多いレンズ１０の周辺部では、表面散乱が大きく、透過率の経時変化量も大きくなる。図５は、参考のため、表面粗さと透過率の経時変化量との関係をグラフ化したものである。
【００３４】
以下の表２は、図１に示すようなレンズ１０の有効径（Ｄ）／半径（ｒ）の比を変更してレンズ１０周辺の表面粗さを計測したものである。実験は、図４に示す成膜装置４０を用いて表１の場合と同様の条件で行われた。
【表２】
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表２からも明らかなように、比（Ｄ／ｒ）が１を超えると表面粗さが２ｎｍより大きくなる傾向が生じている。よって、（Ｄ／ｒ）が１を超える比較的曲率が大きなレンズ１０では表面粗さを低減させる必要がある。図４に示す成膜装置４０による成膜条件を適宜調整して、比（Ｄ／ｒ）が１を超えるようなレンズ１０の周辺でも表面粗さを２ｎｍ以下とすれば、レンズ１０周辺での光散乱量が少なくなるだけでなく、得られたレンズ１０を長期間使用してもレンズ１０周辺で曇りが発生しにくく、長期に亘って高い透過率を維持することができる。
【００３５】
〔第２実施形態〕
以下、本発明に係る第２実施形態の投影露光装置について、図面に参照しつつ説明する。
【００３６】
図６は、上述の第１実施形態で構造や製造を説明したレンズ１０（図１参照）を用いた投影露光装置の基本構造を示す。この投影露光装置は、フォトレジストでコートされたウェハ上にレチクルのパターンのイメージを投影するための、ステッパと呼ばれるような装置に特に応用される。
【００３７】
図６に示すように、本実施形態の投影露光装置は少なくとも、▲１▼感光剤を塗布した基板（ウェハ）Ｗを表面３０１ａに置くことのできるウェハステージ３０１，▲２▼露光光として用意された波長の真空紫外光を別に用意されたマスク（レチクル）Ｒのパターンに照射する照明光学系１５０，▲３▼照明光学系１５０に露光光を供給するための光源１８０，▲４▼マスクＲが配置された最初の表面Ｐ１（物体面）と、基板Ｗの表面と一致させた二番目の表面Ｐ２（像面）との間に置かれ、基板Ｗ上にマスクＲのパターンを転写するための投影光学系４００，▲５▼投影露光装置の全系を統括的に制御しつつ動作させる主制御部５００を含む。
【００３８】
ここで、ウェハステージ３０１は、ステージ駆動系３００に駆動されて、基板Ｗを投影光学系４００に対して３次元的に移動させる。照明光学系１５０は、マスクＲと基板Ｗとの間の相対位置を調節するためのアライメント光学系１５１も含んでおり、マスクＲはウェハステージ３０１の表面に対して平行に動くことのできるレチクルステージ２０１に配置される。レチクル交換系２００は、レチクルステージ２０１にセットされたレチクル（マスクＲ）を交換し運搬する。レチクル交換系２００は、ウェハステージ３０１の表面３０１ａに対してレチクルステージ２０１を平行に動かすためのステージドライバーを含んでいる。投影光学系４００は、スキャンタイプの露光装置に応用されるアライメント光学系（不図示）を有している。
【００３９】
そして、本実施形態の投影露光装置は、第１実施形態等で構造や製造を説明したレンズを使用したものである。具体的には、図６に示した投影露光装置は、照明光学系１５０の光学レンズ１５３、及び投影光学系４００の光学レンズ４０１として、図１のレンズ１０又はこれに適宜変更を加えたレンズを備えることが可能である。この場合、光学レンズ４０１等によって長期間に亘って透過率ムラの発生を防止するこことができ高い露光解像度を得ることができるので、高輝度で高精度の投影露光が可能になる。これにより、投影露光装置の光学系部分を長期間メンテナンス不要にすることができる。
【００４０】
以上実施形態に即して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実験例では、反射防止膜１４，１５を３層構造としているが、これに限るものではなく、２層以下或いは４層以上とすることができる。
【００４１】
また、以上の説明では、成膜装置４０の条件設定等によってレンズ１０に形成する反射防止膜１４の表面粗さを低減しているが、膜材料の選択、膜構成の調節等によって反射防止膜１４の表面粗さを制御することもできる。
【００４２】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明に係る光学部品によれば、反射防止膜の表面粗さの標準値が略２ｎｍ以下であるので、光線によって分解された有機物が付着しにくくなり、作製された光学部品すなわちレンズの特に周辺部における透過率の経時劣化を防止できる。
【００４３】
また、本発明に係るレンズ系によれば、高性能で長期間使用しても劣化が生じにくいレンズ系を提供することができる。
【００４４】
また、本発明に係る投影露光装置によれば、良好な結像性能又は照明特性を有し劣化が生じにくい光学系によって高精度の投影露光が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態の光学素子であるレンズの断面構造を説明する図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、レンズ表面での曇り物質の付着を概念的に説明するグラフである。
【図３】図１に示すレンズの役割について説明する概念図である。
【図４】図１に示すレンズを製造するための成膜装置の構造を説明する図である。
【図５】表面粗さと、透過率の経時変化との関係を示すグラフである。
【図６】第２実施形態の投影露光装置の基本構成を示す構成図である。
【符号の説明】
１０…レンズ、  １０ａ…表面、  １２…レンズ本体、  １２ａ，１２ｂ…入出射面、  １４，１５…反射防止膜、  ４０…成膜装置、  ４１ａ…ホルダ、  …４１ｃ，４１ｄ…蒸発源、  ４１ｆ…絞り板、  １５０…照明光学系、  １５３…光学レンズ、  ２０１…レチクルステージ、  ３０１…ウェハステージ、４００…投影光学系、  ４０１…光学レンズ、  ５００…主制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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