(57)【要約】【課題】インクジェット方法により、液晶を基板上に均一に分散配置させ、且つ液晶の配向処理に起因する不具合を解消出来る液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】ラビング処理が施された一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶が封入されてなる液晶表示装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板上に、前記シール材を枠状に形成するシール材形成工程Ｓ２と、前記シール材の枠内に液滴吐出装置を用いて液晶を滴下する液晶滴下工程Ｓ３と、前記液晶を滴下した基板と、他方の基板とを液晶が挟持されるように貼り合わせる基板貼り合わせ工程Ｓ４と、を含み、前記液晶の滴下方向が前記シール材の枠内のラビング方向と略４５度の角度をなす方向に設定されていることを特徴とする。【選択図】    図１０
2004361804.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビング処理が施された一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶が封入されるとともに、前記一対のうちの一方の基板上に複数のデータ線と複数の走査線とが互いに直交して設けられた液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板上に、前記シール材を枠状に形成するシール材形成工程と、
前記シール材の枠内に液滴吐出装置を用いて液晶を滴下する液晶滴下工程と、前記液晶を滴下した一方の基板と、他方の基板とを液晶が挟持されるように貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、
を含み、前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板のラビング方向が前記データ線と略平行に、かつ、他方の基板のラビング方向が前記データ線と略垂直に形成され、
前記液晶滴下工程において、前記液晶の滴下方向が前記ラビング方向と略４５度の角度をなす方向に設定されていることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記液晶滴下工程において、前記液晶の滴下方向と前記ラビング方向とのなす角度を４２度〜４８度の範囲内にすることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記液晶滴下工程において、前記液晶の滴下ピッチが前記液晶装置の明視方向にて小さくなるように設定されていることを特徴とする請求項１ないし２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記液晶滴下工程において、前記液晶の滴下ピッチが前記液晶装置の明視方向にて大きくなるように設定されていることを特徴とする請求項１ないし２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記液晶滴下工程において、前記液晶とともにスペーサーを滴下することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
光源と、
請求項６に記載の液晶装置を用い、入射光を画像信号に基づいて光変調する光変調手段と、
前記光源からの光を前記光変調手段に導く導光光学系と、
前記光変調手段によって光変調された画像光を拡大投射する拡大投射光学系とを備えたことを特徴とする投射型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置の製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶装置の製造方法として、特許文献１に記載されているような方法が知られている。該特許文献１では、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に封止材を形成するステップと、少なくとも一方の基板上にインクジェットを用いて液晶を滴下するステップと、前記一対の基板を貼り合わせるステップと、その後封止材を硬化するステップとを備えた液晶パネルの製造方法が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平０５−２８１５６２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような方法によって、基板上に極めて微小に、且つ緻密にスペーサー材を混入した液晶を滴下する事が出来る旨、記載されている。しかしながら、インクジェットを用いて単に液晶を滴下する方法においては、液晶滴下の方向について余り検討が行われていない。
【０００５】
すなわち、インクジェットを用いて単に液晶を滴下したのみでは、液晶を滴下した基板上の着弾した位置に着弾痕が残り、この着弾痕が連続したすじ状となり、当該液晶装置を表示装置として用いた場合には、これがすじ状の影（着弾すじ）となって映し出されるという不具合が生じる場合がある。又、滴下した液晶は、その分子を一定の方向に配向させるラビング方向に沿って、液晶分子が配向する傾向がある。このラビング方向はラビング布が取り付けられたラビングロールで配向膜の表面を擦るラビング処理により決められる。しかし、ラビング処理時にラビングロール（ラビング布）と配向膜との間で発生する摩擦熱、及び配向膜の表面の凸凹状態により、液晶分子の配向を規制する配向規制力にむらが生じ、この配向規制力のむらにより配向乱れが生じて、ラビング方向に平行なすじが発生する。その結果、当該液晶装置を表示装置として用いた場合には、これがすじ状の影（ラビングすじ）となって映し出されるという不具合も生じる。
特に低輝度の画像を投射表示する場合には、この着弾すじ、ラビングすじが投射表示された画像の中ですじ状の影となって視認されるため、投射画像の表示品位を著しく低下させるという問題点もあった。さらに、低輝度の画像を投射表示する場合には、画像の一部に薄い緑色の色むら、薄いマゼンタ色の色むらが視認される場合もあり、問題となっていた。
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、極めて表示品位の高い液晶装置の製造方法と、これにより得られる液晶装置、及び該液晶装置を備えた投射型表示装置とを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の液晶装置の製造方法は、ラビング処理された一対の基板がシール材を介して対向配置され、前記一対の基板と前記シール材とにより囲まれた空間に液晶が封入されるとともに、前記一対のうちの一方の基板上に複数のデータ線と複数の走査線とが互いに直交して設けられた液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板上に前記シール材を枠状に形成するシール材形成工程と、前記シール材の枠内に液滴吐出装置を用いて液晶を滴下する液晶滴下工程と、前記液晶を滴下した一方の基板と他方の基板とを、液晶が挟持されるように貼り合わせる基板貼り合わせ工程とを含み、前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板のラビング方向がデータ線と略平行に、かつ、他方の基板のラビング方向がデータ線と略垂直に形成され、前記液晶滴下工程において、前記液晶の滴下方向が前記ラビング方向と略４５度の角度をなす方向に設定されていることを特徴とする。
尚、本明細書にて、液晶の滴下方向、とは、液晶を滴下しながら走査する方向、のことである。
【０００８】
このような液晶装置の製造方法によると、液滴吐出装置を用いて液晶を基板上に滴下するものとしているため、例えばディスペンサー法により液晶を基板上に吐出する方法に比して、シール材枠内に液晶を均一に分散配置させ易くなるため、滴下された液晶の層に厚さムラが生じ難いものとなる。更に真空注入法により液晶を注入する際に、液晶の流動方向に沿って発生する液晶の注入スジについても、液滴吐出装置から滴下する事により、流動状態が発生しないため解消することができる。
その結果、製造される液晶装置の液晶層厚にムラが生じ難くなり、当該液晶装置を表示装置として用いた場合には、例えば液晶のリタデーション値が不均一となることに基づくコントラスト低下、表示むら等の表示特性低下を防止ないし抑制することが可能となる。
また、真空注入法を用いた場合に生じ得る液晶の流動方向に沿って発生する、注入スジという不具合を一掃することができるため、表示品位の向上のみならず、製造歩留り向上をも実現することができるようになる。
【０００９】
さらに、前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板のラビング方向がデータ線と略平行に、かつ、他方の基板のラビング方向がデータ線と略垂直に形成され、前記液晶滴下工程において、前記液晶の滴下方向が前記ラビング方向と略４５度の角度をなす方向に設定されている。この時、前記液晶の滴下方向は前記液晶装置の辺に対して斜め方向になっており、前記液滴吐出装置を用いれば斜め方向への液晶滴下も極めて容易に対応可能である。
【００１０】
また、前記液晶装置において、前記着弾すじと前記ラビングすじとが略４５度の角度にて交差する為、すじ状の影がお互いに斜め格子状に重なり合って視認し難くなり、表示品位の高い液晶装置を提供することが可能となる。
【００１１】
また、本発明における液晶滴下工程は、液滴吐出装置を用いて行うものであるが、前記液晶滴下工程において、前記液晶の滴下方向と前記ラビング方向とのなす角度を４２度〜４８度の範囲内にすることを特徴とする。近年、液晶のツイスト角度を９０度からわずかに変えて、液晶表示装置のコントラスト値を最大にする方法が提案されている。例えば、特開２００２−６２５３６９号公報には、ラビング処理された一対の基板の各ラビング方向の為す角度を８４度〜８９度に設定することで、最大コントラストが得られるとしている。特開２００２−６２５３６９号公報にての図８はツイスト角とコントラストとの関係を示すグラフであるが、９０度から最大６度変えてもコントラスト比が９０度のときよりも向上することが示されている。このことから、本発明では６度の半分の角度即ち３度までを、４５度から変えてもコントラスト比は向上するため、液晶の滴下方向と前記ラビング方向とのなす角度を４２度〜４８度の範囲内（４５度±３度）にすることで、着弾すじとラビングすじとが４２度〜４８度の角度で交差し、すじ状の影がお互いに斜め格子状に重なり合って視認し難くなり、表示品位の高い、かつコントラストの高い液晶装置を提供することが可能となる。
この時、前記液滴吐出装置を用いれば斜め方向への精密な角度での液晶滴下も極めて容易に対応可能である。
【００１２】
本発明における液晶滴下工程は、液滴吐出装置を用いて行うものであるが、この時、前記液晶の滴下ピッチが前記液晶装置の明視方向にて小さくなるように設定されていることを特徴とする。液晶装置の基板間隔（セルギャップ）は、該液晶装置の透過率が最大になる最適基板間隔に設定されるが、この最適基板間隔よりも大きくても、小さくても該液晶装置の透過率は低下することが知られている。３板式液晶プロジェクターでは、３枚の液晶装置を使用するが、３枚とも同一特性の液晶装置を使用する。この時、３枚の液晶装置の明視方向は同一であるが、Ｇ（緑色光）の液晶装置を透過した透過光とＲ（赤色光）及びＢ（青色光）の液晶装置を透過した透過光とでは、その後の反射回数がＲ及びＢがＧよりも１回多いため、投射画面上ではＧとＲ及びＢとの明視方向が左右逆になる。即ち投射画面上にてＧの液晶装置の明視方向が１時３０分の場合、Ｒ及びＢの液晶装置の明視方向は１０時３０分になる。その結果、暗い低輝度の投射画面上では、右斜め上方の１時３０分の方向に薄い緑色の色むらが視認され、左斜め上方の１０時３０分の方向に薄いマゼンタ色の色むらが視認される。この時、液晶の滴下ピッチを明視方向にて、最適な基板間隔（セルギャップ）が構成できるように設定された滴下ピッチよりも小さくする事で、滴下された液晶の量が増え、セルギャップが最適な基板間隔より大きくなり、その部分の部分透過率が低下して薄い緑色及び薄いマゼンタ色の色むらが視認し難くなり、色むらの見え難い表示品位の高い表示装置を提供することが可能になる。
【００１３】
本発明における液晶滴下工程は、液滴吐出装置を用いて行うものであるが、この時、前記液晶の滴下ピッチが前記液晶装置の明視方向にて大きくなるように設定されていることを特徴とする。３板式液晶プロジェクターでは、３枚の液晶装置を使用するが、３枚とも同一特性の液晶装置を使用する。この時、３枚の液晶装置の明視方向は同一であるが、Ｇの液晶装置を透過した透過光とＲ及びＢの液晶装置を透過した透過光との、その後の反射回数がＲ及びＢがＧよりも１回多いため、投射画面上ではＧとＲ及びＢとの明視方向が左右逆になる。即ち投射画面上にてＧの液晶装置の明視方向が１時３０分の場合、Ｒ及びＢの液晶装置の明視方向は１０時３０分になる。その結果、暗い低輝度の投射画面上では、右斜め上方の１時３０分の方向に薄い緑色の色むらが視認され、左斜め上方の１０時３０分の方向に薄いマゼンタ色の色むらが視認される。この時、液晶の滴下ピッチを明視方向にて、最適な基板間隔（セルギャップ）が構成できるように設定された滴下ピッチよりも大きくする事で、滴下された液晶の量が減少し、セルギャップが最適な基板間隔より小さくなり、その部分の部分透過率が低下して薄い緑色及び薄いマゼンタ色の色むらが視認し難くなり、色むらの無い表示品位の高い表示装置を提供することが可能になる。
【００１４】
また、３板式液晶プロジェクターにおいて、３枚の液晶装置に対するＲ（赤色光）、Ｇ（緑色光）、Ｂ（青色光）の構成は、前述した構成に限定されるものではなく、例えば液晶装置を透過した透過光とのその後の反射回数が、Ｇ及びＢがＲよりも１回多い、又はＲ及びＧがＢよりも１回多いという構成でも、前記色むらの色調が別の色調になるだけで同様の不具合を生じるが、本発明により色むらの無い表示品位の高い表示装置を提供することが可能になる。
【００１５】
本発明における液晶滴下工程は、液滴吐出装置を用いて行うものであるが、この場合、液晶のみを液滴として滴下するに限らず、例えば液晶とともに、基板間隔（セルギャップ）を規定するスペーサーを滴下することを特徴とする。この場合、スペーサーがシール材枠内に均一に分散配置される効果も生じるため、得られる液晶装置の基板間隔（セルギャップ）を一層均一なものとすることが可能となる。したがって、コントラスト低下、表示むら等の表示特性低下を防止ないし抑制する事が可能となる。
【００１６】
次に、本発明の液晶装置は上記製造方法により得られたことを特徴とする。このような液晶装置によると、基板間に配設される液晶層の厚さを均一化することができるとともに、液晶のラビング処理に起因するラビングすじと液滴吐出装置で液晶を滴下する際に生じる着弾すじとが、お互いに略４５度の角度で斜め格子状に重なり合うことで視認し難くなり、さらに液滴吐出装置で液晶を滴下する滴下ピッチを、明視方向にて最適ピッチからより小さいピッチ又はより大きいピッチに変えることで液晶装置の部分透過率を低下させ、明視方向に発生する色むらも視認し難くできるため、表示品位の高い液晶装置を提供することが可能である。そして、この液晶装置を表示装置として用いた場合には表示品位を一層向上させることが可能となる。
【００１７】
また、本発明に係る投射型表示装置は、光源と、本発明の液晶装置を用い入射光を画像信号に基づいて変調する光変調手段と、前記光源からの光を前記光変調手段に導く導光光学系と、前記光変調手段によって光変調された画像光を拡大投射する拡大投射光学系とを備えたことを特徴とする。
【００１８】
このような構成によれば、光源からの光は導光光学系によって光変調手段に導かれる。光変調手段は、入射光を画像信号に基づいて変調する。光変調手段は、本発明の液晶装置を用いており、表示品位の高い画像光を出射する。光変調手段からの画像光は拡大投射光学系によって拡大投射される。
このような液晶装置を備えた投射型表示装置は低輝度の投射画面にてもコントラストが高く、色むらの無い、かつ表示品位の高い表示を供するものとなる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しつつ説明する。
［液晶装置］
以下に示す本実施の形態の液晶装置は、スイッチング素子としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子を用いたアクティブマトリクスタイプの透過型液晶装置である。図１は本実施形態の透過型液晶装置のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図２はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す要部平面図である。図３は図２のＡ−Ａ’線断面図で、図４  （ａ）は本実施形態の透過型液晶装置全体の平面構造について示す全体平面図である。図４  （ｂ）は本発明の他の実施形態の透過型液晶装置全体の平面構造について示す全体平面図である。なお、図３においては、図示上側が光入射側、図示下側が視認側（観察者側）である場合について図示している。また、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００２０】
本実施の形態の液晶装置において、図１に示すように、マトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極９と、当該画素電極９への通電制御を行うためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子３０とがそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ素子３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給される。
【００２１】
また、走査線３ａがＴＦＴ素子３０のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極９はＴＦＴ素子３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ素子３０を一定期間だけオンすることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００２２】
画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述する共通電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークすることを防止するために、画素電極９と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。
【００２３】
次に、図２に基づいて、本実施形態の液晶装置の要部の平面構造について説明する。図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板上に、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ，  以下、ＩＴＯと略記する）等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極９（点線部９Ａにより輪郭を示す）が複数、マトリクス状に設けられており、画素電極９の縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａ、走査線３ａおよび容量線３ｂが設けられている。本実施の形態において、各画素電極９および各画素電極９を囲むように配設されたデータ線６ａ、走査線３ａ、容量線３ｂ等が形成された領域が画素であり、マトリクス状に配置された各画素毎に表示を行うことが可能な構造になっている。
【００２４】
データ線６ａは、ＴＦＴ素子３０を構成する例えばポリシリコン膜からなる半導体層１ａのうち、後述のソース領域にコンタクトホール５を介して電気的に接続されており、画素電極９は、半導体層１ａのうち、後述のドレイン領域にコンタクトホール８を介して電気的に接続されている。また、半導体層１ａのうち、後述のチャネル領域（図中左上がりの斜線の領域）に対向するように走査線３ａが配置されており、走査線３ａはチャネル領域に対向する部分でゲート電極として機能する。
【００２５】
容量線３ｂは、走査線３ａに沿って略直線状に伸びる本線部（すなわち、平面的に見て、走査線３ａに沿って形成された第１領域）と、データ線６ａと交差する箇所からデータ線６ａに沿って前段側（図中上向き）に突出した突出部（すなわち、平面的に見て、データ線６ａに沿って延設された第２領域）とを有する。そして、図２中、右上がりの斜線で示した領域には、複数の第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００２６】
次に、図３に基づいて、本実施の形態の液晶装置の断面構造について説明する。図３は、上述した通り図２のＡ−Ａ’線断面図であり、ＴＦＴ素子３０が形成された領域の構成について示す断面図である。本実施の形態の液晶装置においては、ＴＦＴアレイ基板１０と、これに対向配置される対向基板２０との間に液晶層５０が挟持されている。
【００２７】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜４０及び６０の間で、所定の配向状態をとる。ＴＦＴアレイ基板１０は、石英等の透光性材料からなる基板本体１０Ａと、その液晶層５０側表面に形成されたＴＦＴ素子３０、画素電極９、配向膜４０を主体として構成されており、対向基板２０はガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体２０Ａと、その液晶層５０側表面に形成された共通電極２１、配向膜６０、を主体として構成されている。そして、各基板１０，２０は、シール材（図示せず）を介して所定の基板間隔が保持されている。
【００２８】
ＴＦＴアレイ基板１０において、基板本体１０Ａの液晶層５０側表面には画素電極９が設けられ、各画素電極９に隣接する位置に、各画素電極９をスイッチング制御する画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が設けられている。画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０は、ＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造を有しており、走査線３ａ、当該走査線３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体層１ａのチャネル領域１ａ’、走査線３ａと半導体層１ａとを絶縁するゲート絶縁膜２、データ線６ａ、半導体層１ａの低濃度ソース領域１ｂおよび低濃度ドレイン領域１ｃ、半導体層１ａの高濃度ソース領域１ｄおよび高濃度ドレイン領域１ｅを備えている。
【００２９】
上記走査線３ａ上、ゲート絶縁膜２上を含む基板本体１０Ａ上には、高濃度ソース領域１ｄへ通じるコンタクトホール５、及び高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第２層間絶縁膜４が形成されている。つまり、データ線６ａは、第２層間絶縁膜４を貫通するコンタクトホール５を介して高濃度ソース領域１ｄに電気的に接続されている。
【００３０】
さらに、データ線６ａ上および第２層間絶縁膜４上には、高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第３層間絶縁膜７が形成されている。すなわち、高濃度ドレイン領域１ｅは、第２層間絶縁膜４および第３層間絶縁膜７を貫通するコンタクトホール８を介して画素電極９に電気的に接続されている。
【００３１】
また、ＴＦＴアレイ基板１０の基板本体１０Ａの液晶層５０側表面において、各画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が形成された領域には、ＴＦＴアレイ基板１０を透過し、ＴＦＴアレイ基板１０の図示下面（ＴＦＴアレイ基板１０と空気との界面）で反射されて、液晶層５０側に戻る戻り光が、少なくとも半導体層１ａのチャネル領域１ａ’および低濃度ソース、ドレイン領域１ｂ、１ｃに入射することを防止するための第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００３２】
また、第１遮光膜１１ａと画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０との間には、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０を構成する半導体層１ａを第１遮光膜１１ａから電気的に絶縁するための第１層間絶縁膜１２が形成されている。さらに、図２に示したように、ＴＦＴアレイ基板１０に第１遮光膜１１ａを設けるのに加えて、コンタクトホール１３を介して第１遮光膜１１ａは、前段あるいは後段の容量線３ｂに電気的に接続するように構成されている。
【００３３】
さらに、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち、画素電極９および第３層間絶縁膜７上には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜４０が形成されている。したがって、このようなＴＦＴ素子３０を具備する領域においては、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち液晶層５０の挟持面には複数の凹凸ないし段差が形成された構成となっている。
【００３４】
他方、対向基板２０には、基板本体２０Ａの液晶層５０側表面であって、データ線６ａ、走査線３ａ、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の形成領域に対向する領域、すなわち各画素部の開口領域以外の領域に、入射光が画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の半導体層１ａのチャネル領域１ａ’や低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃに侵入することを防止するための第２遮光膜２３が設けられている。さらに、第２遮光膜２３が形成された基板本体２０Ａの液晶層５０側には、その略全面にわたって、ＩＴＯ等からなる共通電極２１が形成され、その液晶層５０側には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜６０が形成されている。
【００３５】
次に、図４（ａ）は、本実施の形態の明視方向１０３が１０時３０分方向に形成された液晶装置１００の全体構成について概略を示す平面模式図であって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、閉環状のシール材９３により封止する形にて液晶層５０が形成されている。すなわち、本実施の形態の液晶装置１００において、シール材９３は、液晶を注入するための注入口を具備しておらず、基板１０，２０の面内領域において閉ざされた枠形状であって、基板１０，２０の外縁に露出することなく、基板１０，２０の外縁に向けた開口を具備しない閉口枠形状に形成されている。図４（ａ）において、紙面上方を１２時方向、紙面下方を６時方向、紙面右方を３時方向、紙面左方を９時方向と定義している。又、ＴＦＴアレイ基板１０のラビング方向１０１は、図４（ａ）の下方から上方に向かい、ｙ軸（液晶表示装置の短辺と平行、かつ、データ線と平行）と平行に設定されている。さらに、対向基板２０のラビング方向１０２は、図４（ａ）において右方から左方に向かい、ｙ軸と−９０度の角度をなしている。この時明視方向１０３は１０時３０分明視方向となっている。
【００３６】
図４（ｂ）は、本発明の他の実施形態の液晶装置１００の全体構成について概略を示す平面模式図であって、明視方向１０３が１時３０分方向に形成されている。この時ＴＦＴアレイ基板１０のラビング方向１０１は、図４（ｂ）の下方から上方に向かい、ｙ軸（液晶表示装置の短辺と平行、かつ、データ線と平行）と平行に設定されている。さらに、対向基板２０のラビング方向１０２は、図４（ｂ）において左方から右方に向かい、ｙ軸と９０度の角度をなしている。この時明視方向１０３は１時３０分明視方向となっている。
【００３７】
ここで、本実施の形態の液晶装置１００では、シール材９３枠内に液晶を分散配置する方法として、インクジェットを採用しているため、液晶層５０の層厚が、基板面内において極めて均一なものとなっている。また、例えばシール材に注入口を設け、注入法により液晶をシール材９３の枠内に注入した場合に生じ得る注入スジや、ディスペンサー法により液晶を基板上に配設した場合に生じ得る円環状の滴下痕も、基板上に残存しない構成となっている。したがって、該注入スジが視認されることなく、表示品位の高い液晶装置として構成されている。
【００３８】
［液晶装置の製造方法］
次に、本実施の形態に示した上記液晶装置１００の製造方法について、その一例を図面を参照しつつ説明する。
図５は、本実施形態の液晶装置１００の製造方法について、そのプロセスフローを示す説明図である。すなわち、本製造方法は、配向膜を形成した一対の基板のうちのいずれか一方の基板のラビング方向がｙ軸と平行に、かつ、他方の基板のラビング方向がｙ軸と垂直になるように、ラビング処理が施された該一対の基板の一方に対して枠状シール材を形成した後、このシール材枠内に液晶を滴下し、該滴下した後に、他方の基板を貼り合せる工程とを含み、前記液晶の滴下方向が前記シール材の枠内のラビング方向と略４５度の角度をなす方向に設定され、連続して滴下されていることを特徴としている。以下、各フローについて詳細を説明する。
【００３９】
まず、図５のステップＳ１に示すように、ガラス等からなる下側の基板本体１０Ａ上に遮光膜１１ａ、第１層間絶縁膜１２、半導体層１ａ、チャネル領域１ａ’、低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃ、高濃度ソース領域１ｄ、高濃度ドレイン領域１ｅ、蓄積容量電極１ｆ、走査線３ａ、容量線３ｂ、第２層間絶縁膜４、データ線６ａ、第３層間絶縁膜７、コンタクトホール８、画素電極９、配向膜４０を形成し、さらに該配向膜４０に所定の方向（例えばｙ軸に対して平行な方向）にラビング処理を施し、下基板（ＴＦＴアレイ基板）１０を作成する。また、上側の基板本体２０Ａ上にも遮光膜２３、対向電極２１、配向膜６０を形成し、さらに前記配向膜６０に所定の方向（液晶装置として完成状態にて、例えばｙ軸に対して−９０度になる方向）にラビング処理を施し上基板（対向基板）２０を作成する。
【００４０】
次に、図５のステップＳ２において、上記上基板２０又は下基板１０（本実施形態ではＴＦＴアレイ基板１０）上に枠状のシール材９３を形成する。なお、シール材９３としては紫外線硬化樹脂等を用いることができ、これを印刷法等で枠状に形成するものとしており、この場合、図４（ａ）及び図４（ｂ）に示したように液晶注入口を有しない閉口枠形状に形成する。この時、所定の基板間隔を保持する為に、シール材９３中にスペーサー（図示せず）を分散させて、所定の基板間隔を保持するようにしてもよい。
【００４１】
次に、図５のステップＳ３において、シール材９３を形成した下基板１０上に、当該液晶装置１００の最適な基板間隔（セルギャップ）に見合った所定量の液晶を滴下する。液晶装置の基板間隔（セルギャップ）は、該液晶装置の透過率が最大になる最適な基板間隔に設定されるが、この最適基板間隔よりも大きくても、小さくても該液晶装置の透過率は低下することが知られている。本実施形態では、例えば図６に示すような液滴吐出装置３００を用いて液晶滴下が行われている。
【００４２】
図６は、液滴吐出装置３００（以下、インクジェット装置３００とも言う）の概略構成を示す斜視図である。このインクジェット装置３００は、ベース３１、基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３、インクジェットヘッド（ヘッド）３４、インク（液状体）供給手段３５等を有して構成されたものである。ベース３１は、その上に前記基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３を設置したものである。
【００４３】
基板移動手段３２は、ベース３１上に設けられたもので、Ｙ軸方向（主走査方向）に沿って配置されたガイドレール３６を有したものである。この基板移動手段３２は、例えばリニアモータにより、スライダ３７をガイドレール３６、３６に沿って移動させるよう構成されたものである。スライダ３７には、θ軸用のモータ（図示せず）が備えられている。このモータは、例えばダイレクトドライブモータからなるものであり、これのロータ（図示せず）はテーブル３９に固定されている。このような構成のもとに、モータに通電するとロータおよびテーブル３９は、θ方向に沿って回転し、テーブル３９をＹ軸に対して所定の角度θ回転固定するようになっている。
【００４４】
テーブル３９は、基板Ｓ（下基板１０に該当）を位置決めし、保持するものである。すなわち、このテーブル３９は、公知の吸着保持手段（図示せず）を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、基板Ｓをテーブル３９の上に吸着保持するようになっている。基板Ｓは、テーブル３９の位置決めピン（図示せず）により、テーブル３９上の所定位置に正確に位置決めされ、保持されるようになっている。テーブル３９には、インクジェットヘッド３４がインク（液状組成物）を捨打ちあるいは試し打ちするための捨打ちエリア４１が設けられている。この捨打ちエリア４１は、Ｘ軸方向（副走査方向）に延びて形成されたもので、テーブル３９の後端部側に設けられたものである。
【００４５】
ヘッド移動手段３３は、ベース３１の後部側に立てられた一対の架台３３ａ、３３ａと、これら架台３３ａ、３３ａ上に設けられた走行路３３ｂとを備えてなるもので、該走行路３３ｂをＸ軸方向（副走査方向）、すなわち前記の基板移動手段３２のＹ軸方向（主走査方向）と直交する方向に沿って配置したものである。走行路３３ｂは、架台３３ａ、３３ａ間に渡された保持板３３ｃと、この保持板３３ｃ上に設けられた一対のガイドレール３３ｄ、３３ｄとを有して形成されたもので、ガイドレール３３ｄ、３３ｄの長さ方向にインクジェットヘッド３４を保持させるスライダ４２を移動可能に保持したものである。スライダ４２は、リニアモータ（図示せず）等の作動によってガイドレール３３ｄ、３３ｄ上を走行し、これによりインクジェットヘッド３４をＸ軸方向に移動させるよう構成されたものである。
【００４６】
インクジェットヘッド３４には、揺動位置決め手段としてのモータ４３、４４、４５、４６が接続されている。そして、スライダ４２とインクジェットヘッド３４とに接続されているモータ４３を作動させると、インクジェットヘッド３４はＺ軸に沿って上下動し、Ｚ軸上での位置決めが可能になっている。なお、このＺ軸は、前記のＸ軸、Ｙ軸に対しそれぞれに直交する方向（上下方向）である。また、モータ４４を作動させると、インクジェットヘッド３４は図６中のβ方向に沿って揺動し、位置決め可能になり、モータ４５を作動させると、インクジェットヘッド３４はγ方向に揺動し、位置決め可能になり、モータ４６を作動させると、インクジェットヘッド３４はα方向に揺動し、位置決め可能になる。
【００４７】
このようにインクジェットヘッド３４は、スライダ４２上において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能となり、かつ、α、β、γに沿って揺動し、位置決め可能となっている。したがって、インクジェットヘッド３４のインク吐出面を、テーブル３９側の基板Ｓに対する位置あるいは姿勢を、正確にコントロールすることができるようになっている。
【００４８】
ここで、インクジェットヘッド３４は、図７（ａ）に示すように例えばステンレス製のノズルプレート１１２と振動板１１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１１４を介して接合したものである。ノズルプレート１１２と振動板１１３との間には、仕切部材１１４によって複数の空間１１５と液溜まり１１６とが形成されている。各空間１１５と液溜まり１１６の内部はインク（液晶組成物）で満たされており、各空間１１５と液溜まり１１６とは供給口１１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート１１２には、空間１１５からインク（液晶組成物）を噴射するためのノズル孔１１８が一列に配列された状態で複数形成されている。一方、振動板１１３には、液溜まり１１６にインク（液晶組成物）を供給するための孔１１９が形成されている。
【００４９】
また、振動板１１３の空間１１５に対向する面と反対側の面上には、図７（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）１２０が接合されている。この圧電素子１２０は、一対の電極１２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子１２０が接合されている振動板１１３は、圧電素子１２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間１１５の容積が増大するようになっている。したがって、空間１１５内に増大した容積分に相当するインク（液晶組成物）が、液溜まり１１６から供給口１１７を介して流入する。また、このような状態から圧電素子１２０への通電を解除すると、圧電素子１２０と振動板１１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間１１５も元の容積に戻ることから、空間１１５内部のインク（液晶組成物）の圧力が上昇し、ノズル孔１１８から基板に向けてインク（液晶組成物）の液滴１２２が吐出される。なお、インクジェットヘッド３４のインクジェット方式としては、前記の圧電素子１２０を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式のものとしてもよい。例えば、バブルジェット（登録商標）方式でも良い。
【００５０】
図６に戻り、インク供給手段３５は、インクジェットヘッド３４にインク（液晶組成物）を供給するインク供給源４７と、このインク供給源４７からインクジェットヘッド３４にインク（液晶組成物）を送るためのインク供給チューブ４８とからなるものである。すなわちステンレス製等の容器からなるインク供給源４７にインク（液晶組成物）を一時保管して、そこよりインク（液晶組成物）をインク供給チューブ４８によりヘッドまで供給する方式を採用している。
【００５１】
なお、このようなインクジェット装置３００を用いて吐出する液晶組成物として、本実施形態では、液晶のみから構成される液晶組成物を用いたが、液晶とスペーサーとが混ざった液状体を用いてもよい。液晶のみから構成される液晶組成物を用いた場合、シール材形成工程にて、スペーサをシール材に分散させたシール材を、印刷法によりいずれか一方の基板上に枠状に形成しても良い。さらに、液晶のみの吐出工程を行った後、別個にスペーサーを配設しても良い。また、液晶組成物として、液晶と、該液晶を分散させるための分散媒体とからなる液状体を用いることも可能である。
【００５２】
また、このようなインクジェット装置３００を用いて液晶組成物の滴下工程を行った場合、従来は図８に示すように該ヘッド３４をＹ方向（正のＹ方向）に走査しつつ、所定のピッチで液滴（液晶組成物）を吐出していく。そして、走査方向の終点（シール材９３の枠形状によって定まる）に到達したら、走査時のピッチと等しい間隔でヘッド３４の改行が行われ、再びＹ方向（負のＹ方向）にヘッド３４が走査され、所定のピッチで液滴（液晶組成物）が吐出されていく。その結果、図９に示したように、Ｘ方向（改行方向）及びＹ方向（走査方向）へのピッチｘ及びｙが等しい液滴１２２が基板（本実施形態では下基板１０）上に着弾されることとなる。
【００５３】
この場合、前述したようにラビング方向をｙ軸と平行な方向に設定した液晶装置では、ラビング方向は図８においてＹ方向に対して平行な方向になっており、ラビング方向と液滴（液晶組成物）の吐出方向は平行になっている。
【００５４】
本発明により、インクジェット装置３００を用いて液晶組成物の滴下工程を行った場合を、図１０及び図１４（ａ）に示す。図１４（ａ）は図６のインクジェット装置３００のテーブル３９をＹ軸に対して所定の角度−θ回転固定した状態を示している。テーブル３９はスライダ３７に対して角度−θ回転固定され、スライダ３７とともにガイドレール３６、３６に沿ってＹ軸方向（主走査方向）に移動する。従って、基板Ｓもテーブル３９とともにＹ軸方向に移動することとなる。
【００５５】
図１０は図４（ａ）の１０時３０分明視の場合であり、図１４（ａ）においてテーブル３９及び基板ＳをＹ軸に対して−θ（例えば−４５度）の角度をなすように回転させて固定し、該ヘッド３４をＹ軸方向（正のＹ軸方向）に走査しつつ、最適な基板間隔に対応する所定のピッチで液滴（液晶組成物）を吐出していく。そして、走査方向の終点（シール材９３の枠形状によって定まる）に到達したら、走査時のピッチと等しい間隔でヘッド３４の改行が行われ、再びＹ軸方向（負のＹ軸方向）にヘッド３４が走査され、所定のピッチで液滴（液晶組成物）が吐出されていく。その結果、図１０に示したように、左上方向（改行方向）及びＹ方向に対してθの角度を為す方向（走査方向）へのピッチが等しい液滴１２２が基板（本実施形態では下基板１０）上に着弾されることとなる。即ち、ラビング方向と略４５度の角度をなす方向に液滴（液晶組成物）が着弾していき、図１０に示す実線の矢印のように着弾すじが形成される。この着弾すじとラビングすじが４５度の角度で交差するため、お互いに斜め格子状に重なってラビングすじ、着弾すじが見え難くなり、従って表示品位の高い液晶装置を提供出来る。
【００５６】
図１１は本発明の他の実施例であり、図４（ａ）の１０時３０分明視の場合であって、図１４（ｂ）においてテーブル３９及び基板ＳをＹ軸に対してθ（例えば４５度）の角度をなすように回転させて固定し、該ヘッド３４をＹ軸方向（正のＹ軸方向）に走査しつつ、所定のピッチで液滴（液晶組成物）を吐出していく場合である。その結果、図１１に示したように、左下方向（改行方向）及びＹ方向に対して−θの角度を為す方向（走査方向）へのピッチが等しい液滴１２２が基板（本実施形態では下基板１０）上に着弾されることとなる。即ち、ラビング方向と略−４５度の角度をなす方向に液滴（液晶組成物）が着弾していき、図１１に示す実線の矢印のように着弾すじが出来る。この場合も、この着弾すじとラビングすじが−４５度の角度で交差するため、お互いに斜め格子状に重なり合ってラビングすじ、着弾すじが見え難くなり、従って表示品位の高い液晶装置を提供出来る。
尚、図１４（ａ）、図１４（ｂ）は、テーブル３９及び基板ＳをＹ軸に対して傾けた形態であるが、基板Ｓをテーブル３９に対して傾ける事も出来る。
【００５７】
図１２は、図１０の実施例での吐出された液滴（液晶組成物）の着弾後の具体的態様を示す説明図である。図１２において、着弾すじ１０４はラビング方向１０１とθ（４５度）の角度をなすように形成されている。図１３は、図１１の実施例での吐出された液滴（液晶組成物）の着弾後の具体的態様を示す説明図である。図１３において、着弾すじ１０４はラビング方向１０１と−θ（−４５度）の角度をなすように形成されている。このように、本発明の実施形態は、液滴の滴下方向が一つの液晶装置において複数方向可能であり、いずれの方向に液滴を滴下しても良い。
【００５８】
図５に戻り、液晶を滴下した後はステップＳ４において、液晶を滴下した下基板１０と、他方の上基板２０とを該液晶を挟持するように貼り合わせ、さらに下基板１０及び上基板２０の外面側に、図示しない位相差板、偏光板等の光学フィルムを貼り合わせて、図３に示したセル構造を備える液晶装置が製造される。
【００５９】
本発明による製造方法により、前記シール材９３の枠内において液晶が均一に分散配置された液晶層５０（図４（ａ）、図４（ｂ）参照）を形成することができるようになり、さらに滴下した液滴（液晶組成物）の着弾すじにより、ラビングすじという本質的な不具合を視認し難くでき、さらに後述するように液晶の滴下ピッチを最適ピッチから部分的に変えて滴下することにより、色むらも解消出来るため、表示品位の高い液晶装置を提供できる。
【００６０】
一方、本発明では上基板と下基板の各ラビング方向のなす角度を９０度としたが、この角度はネマティック液晶の種類、特性により最適な性能が出せるように設定されるため、９０度に限定されるものではない。
【００６１】
また、液晶組成物を滴下する工程において、ヘッド３４の走査方向（Ｙ軸方向）と改行方向（Ｘ軸方向）が略９０度となるように設定し、且つ改行ピッチｘを固定して走査ピッチｙを可変としたが、改行ピッチｘを可変として走査ピッチｙを固定しても、さらに改行ピッチｘ、走査ピッチｙを同時に可変しても、本発明は表示品位の高い液晶装置を提供出来る。
【００６２】
［投射型表示装置］
図１５は、本発明に係る投射型表示装置の実施の形態の概略構成図を示している。本実施形態に係る投射型表示装置は、本発明の液晶装置を光変調手段として備えている。
図１５において、光源２１０は、超高圧水銀ランプ等のランプ２１１とランプ２１１の光を反射するリフレクタ２１２とによって構成される。光源２１０からの出射光路上に、青色光・緑色光反射のダイクロイックミラー２１３及び反射ミラー２１７が配設される。ダイクロイックミラー２１３は、光源２１０からの光束のうちの赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。反射ミラー２１７は、ダイクロイックミラー２１３を透過した赤色光を反射する。
【００６３】
ダイクロイックミラー２１３の反射光の光路上には、緑色光反射のダイクロイックミラー２１４及び反射ミラー２１５が配設され、ダイクロイックミラー２１４は、入射光のうち緑色光を反射し、青色光を透過させる。反射ミラー２１５はダイクロイックミラー２１４の透過光を反射する。反射ミラー２１５の反射光の光路上には反射ミラー２１６が配設されており、反射ミラー２１６は、反射ミラー２１５の反射光（青色光）を更に反射する。
【００６４】
反射ミラー２１７、ダイクロイックミラー２１４及び反射ミラー２１６の出射光路上には、夫々液晶光変調装置である液晶装置２２２、２２３、２２４が配設されている。液晶装置２２２乃至２２４には、夫々赤色光、緑色光又は青色光が入射し、液晶装置２２２乃至２２４は、夫々Ｒ、Ｇ、Ｂ画像信号に応じて、入射光を変調し、各Ｒ、Ｇ、Ｂの画像光をダイクロイックプリズム２２５に出射する。
【００６５】
ダイクロイックプリズム２２５は、４つの直角プリズムが貼り合わされて構成され、その内面に赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。ダイクロイックプリズム２２５は、これらの誘電体層によって、３つのＲ、Ｇ、Ｂ色光を合成して、カラー画像の画像光を出射する。
【００６６】
ダイクロイックプリズム２２５の出射光路上には投射光学系を構成する投射レンズ２２６が配設されており、投射レンズ２２６は、合成された画像光をスクリーン２２７上に投射する。こうして、スクリーン２２７には、拡大された画像が表示される。
【００６７】
図１５において、液晶装置２２２、２２３、２２４の左側に入射する赤色光、緑色光、青色光を各々２２２Ｌ、２２３Ｌ、２２４Ｌとすると、２２２Ｌ、２２４Ｌはダイクロイックプリズム２２５の内面の誘電体多層膜で反射されて、投射レンズ２２６の右側に入射する。また、２２３Ｌはダイクロイックプリズム２２５を透過して、投射レンズ２２６の左側に入射する。即ち、明視方向が同一の液晶装置を３枚使用しても、スクリーン２２７上に表示される画像においては、明視方向に対応する画像エリアは左右に分離することになる。
【００６８】
図１６は、従来の液晶装置を使用した投射型表示装置における、スクリーン２２７上に表示された低輝度の時の投射画像を示す模式図である。図１６において、右上に緑色光の明視方向に対応する位置に薄い緑色の色むらが視認され、この時左上に赤色光、青色光の明視方向に対応する位置に薄いマゼンタ色の色むらが視認され、低輝度の画像においては充分視認できる色むらとなっている。ここで図１２及び図１３の着弾後の液晶組成物の具体的態様を示す説明図において、明視方向１０時３０分方向に対応する左上部分に図示するように、液晶の滴下ピッチｙ’を最適値ｙよりも小さくすると、滴下される液晶量が増加するので、基板間隔（セルギャップ）が最適値よりも大きくなり、その結果該液晶装置の部分透過率が低下して、色むらを低減することが可能になり、色むらの視認出来ない表示品位の高い表示装置を提供することが可能になる。
また、図示しないが液晶の滴下ピッチｙ’を最適値ｙよりも大きくした場合は、滴下される液晶量が減少するので、基板間隔（セルギャップ）が最適値よりも小さくなり、その結果この場合も液晶装置の部分透過率が低下して、色むらを低減することが可能になり、色むらの視認出来ない表示品位の高い表示装置を提供することが可能になる。即ち、該液晶装置において最適な基板間隔（セルギャップ）よりも、基板間隔を大きくしても小さくしても、どちらの場合も該液晶装置の透過率は減少するためである。この基板間隔の変化量は所定の基板間隔の１パーセント以下であり、透過率の低下割合はさらに少ないが、図１５に示す投射型表示装置において、画像を拡大投射する時に視認される薄い色むらという不具合を解消して表示品位を向上させることが可能である。
【００６９】
このように構成された投射型表示装置においては、液晶装置２２２，２２３，２２４が本発明の実施の形態と同様に設定されているので、極めて良好な表示品位が得られる
【００７０】
次に、上記実施形態で示した液晶装置を備えた投射型表示装置の具体例について説明する。図１７は投射型表示装置の一例を示した斜視図である。図１７において、符号５００は投射型表示装置本体を示し、破線で示した符号５０１は上記実施の形態の液晶装置を備えた投射型表示装置であって、投射型表示装置本体５００の内部に収納されている。このように、図１７に示すそれぞれの投射型表示装置は、上記実施形態の液晶装置のいずれかを備えたものであるので、表示品位に優れた投射型表示装置となる。又、上記実施形態で示した液晶装置を備えた投射型表示装置としては、液晶プロジェクター、リアプロジェクションＴＶ、リアプロジェクションモニターなどが挙げられ、視認性の良い、表示品位に優れた表示部を備えた投射型表示装置となる。
【００７１】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲にて実施例を適宜変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の液晶装置を示す等価回路図。
【図２】図１の液晶装置について画素群の構造を示す平面図。
【図３】図１の液晶装置の要部を示す断面図。
【図４】図１の液晶装置の全体平面模式図。
【図５】図１の液晶装置の製造方法について一例を示す工程説明図。
【図６】液晶滴下工程で用いる液滴吐出装置の構成を示す斜視図。
【図７】図６の要部斜視図及び要部断面図。
【図８】従来の基板に対して液晶組成物を滴下する具体的態様を示す説明図。
【図９】図８において滴下した液晶組成物の具体的態様を示す説明図。
【図１０】図１の液晶装置の基板に対して液晶組成物を滴下する具体的態様を示す説明図。
【図１１】図１の液晶装置の基板に対して液晶組成物を滴下する他の具体的態様を示す説明図。
【図１２】図１０において滴下した液晶組成物の具体的態様を示す説明図。
【図１３】図１１において滴下した液晶組成物の具体的態様を示す説明図。
【図１４】図６の液滴吐出装置の具体的態様を示す要部平面図。
【図１５】本発明の液晶装置を用いた投射型表示装置を示す概略構成図。
【図１６】従来の液晶装置を用いた投射型表示装置のスクリーンに投射表示された画像を示す模式図。
【図１７】本発明に係る投射型表示装置の一例を示す斜視図。
【符号の説明】
１０…下基板、２０…上基板、４０…配向膜、６０…配向膜、５０…液晶層、９３…シール材、１０１…下基板ラビング方向、１０２…上基板ラビング方向、１０３…明視方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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