(57)【要約】【課題】高活性で、長寿命な合成ガス生成用触媒、及びその触媒を良好な生産性で、かつ、安価に得ることができる合成ガス生成用触媒の製造方法を提供するものである。【解決手段】本発明に係る合成ガス生成用触媒は、メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するものであり、原料粉末の焼成体であるハニカム型基材１１の基材壁の表面部及び基材壁内部に、活性金属１２を担持させたものである。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するための触媒において、原料粉末の焼成体であるハニカム型基材の基材壁の表面部及び基材壁内部に、活性金属を担持させたことを特徴とする合成ガス生成用触媒。
【請求項２】
メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するための触媒において、原料粉末と有機バインダとの混練物を用いてハニカム状に押出成形し、その押出成形体を焼成してなるハニカム型基材の基材壁の表面部及び基材壁内部に、活性金属を担持させたことを特徴とする合成ガス生成用触媒。
【請求項３】
上記ハニカム型基材は多孔質状を呈しており、その内部に、上記原料粉末同士間のメソ細孔と、焼成に伴う上記有機バインダの脱ガスによるマクロ細孔とを有する請求項１又は２記載の合成ガス生成用触媒。
【請求項４】
上記活性金属は、上記マクロ細孔に臨んだ原料粉末及びそれらの近傍の原料粉末の表面に担持させた請求項１から３いずれかに記載の合成ガス生成用触媒。
【請求項５】
上記ハニカム型基材の嵩体積１リットルあたりの活性金属担持量が、０．１〜４ｇ／ｌである請求項１から４いずれかに記載の合成ガス生成用触媒。
【請求項６】
上記ハニカム型基材の主成分が、アルミナ、酸化セリウム、又は酸化ジルコニウムの単体、或いはそれらの内の２種以上を組み合わせた複合酸化物である請求項１から５いずれかに記載の合成ガス生成用触媒。
【請求項７】
メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するための触媒の製造方法において、原料粉末に有機バインダを混合すると共に混練を行い、その混練物を用いてハニカム状に押出成形した後、その押出成形体に焼成処理を施してハニカム型基材とし、そのハニカム型基材を、活性金属イオンを含む水溶液中に浸漬した後、再び焼成処理を施し、ハニカム型基材の基材壁の表面部及び基材壁内部に活性金属を担持させることを特徴とする合成ガス生成用触媒の製造方法。
【請求項８】
アルミナ粉末と硝酸セリウムとの混合物である上記原料粉末に、メチルセルロース系等の有機バインダを混合する請求項７記載の合成ガス生成用触媒の製造方法。
【請求項９】
アルミナ粉末、硝酸セリウム、又は硝酸ジルコニウムの単体、或いはそれらの内の２種以上を組み合わせてなる混合物からなる上記原料粉末に、メチルセルロース系等の有機バインダを混合する請求項７記載の合成ガス生成用触媒の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、合成ガス生成用触媒及びその製造方法に係り、特に、メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するのに用いる触媒及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、地球温暖化防止、環境保全、豊富な埋蔵量などの観点から、天然ガスの利用を増やそうという動きがある。天然ガスは、これまで、家庭用や発電用燃料としての利用が主であり、それ以外としては、化学原料としてアンモニアやメタノールの合成、又は石油製品の水素化精製などに利用されている程度であった。
天然ガスは、今後、化学原料用、燃料電池用水素の原料、又は水素インフラが整備されるであろう将来においては水素ステーション用水素の原料など、ますます、その重要性が高まるものと考えられる。このため、天然ガスを、高効率に、かつ、安価に水素を含む改質ガスに改質できるプロセスの開発が望まれている。
【０００３】
メタンを主成分とする天然ガスから、触媒を用いて合成ガス（Ｈ２とＣＯの混合ガス）を製造するプロセスとしては、主に以下に示す２つが挙げられる。
▲１▼水蒸気改質法（ＣＨ４＋Ｈ２Ｏ→ＣＯ＋３Ｈ２  ΔＨ＝２０６ｋＪ／ｍｏｌ）、
▲２▼接触部分酸化法（ＣＨ４＋１／２Ｏ２→ＣＯ＋２Ｈ２  ΔＨ＝−３６ｋＪ／ｍｏｌ）、
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、▲１▼の水蒸気改質法においては、高活性の触媒として安価なペレット型Ｎｉ系触媒を用いており、既に実用化されているが、▲１▼の水蒸気改質法は吸熱反応であるため、外部から大量の熱を供給する必要があり、Ｈ２，ＣＯの生成に多量のエネルギーを必要とするという問題があった。また、熱供給の伝熱が律速となるため、装置の大型化が困難であった。さらに、反応速度が遅いため、製造する合成ガス量に比較して大型の装置（触媒）が必要であった。これらにより、合成ガスが高価なものとなっていた。
【０００５】
これに対して、▲２▼の接触部分酸化法は発熱反応であるため、Ｈ２，ＣＯの生成の際、外部から大量の熱供給を必要としない。また、反応速度は、▲１▼と比較して数桁以上も速いため、用いる触媒によっては、装置の大幅な小型化を図ることが可能であるとされている。
【０００６】
▲２▼の接触部分酸化法においては、高活性の触媒として貴金属（ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）など）系触媒が用いられる。触媒の形状としては、ペレット型、流動層型、ハニカム型などが挙げられるが、中でもハニカム型触媒は、圧力損失の低減が可能であることから、小型の装置においては、最も効果的な触媒形状の一つである。
【０００７】
ハニカム型触媒は、図５に示すように、一般にコージエライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ２Ｏ３・５ＳｉＯ２）やステンレス鋼からなるハニカム型基材５１の表面に、アルミナ粉末、酸化セリウム等からなる多孔質層（ウォッシュコート層）５２を形成し、図７に示すように、ウォッシュコート層５２の表面部に、活性金属（Ｒｕ、Ｒｈ等）７１を担持して形成される（コーティング法）。しかしながら、このコーティング法では、担持された活性金属７１の濃度は、図６に示すように、基材壁の表面部のみで高く、合成反応中、活性金属７１の十分な分散度が得られないという問題があった。その結果、十分な活性及び寿命が得られなかった。
【０００８】
以上の事情を考慮して創案された本発明の一の目的は、高活性で、長寿命な合成ガス生成用触媒を提供することにある。
【０００９】
一方、本発明の他の目的は、高活性で、長寿命な合成ガス生成用触媒を、良好な生産性で、かつ、安価に製造する方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく本発明に係る合成ガス生成用触媒は、メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するための触媒において、原料粉末の焼成体であるハニカム型基材の基材壁の表面部及び基材壁内部に、活性金属を担持させたものである。また、メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するための触媒において、原料粉末と有機バインダとの混練物を用いてハニカム状に押出成形し、その押出成形体を焼成してなるハニカム型基材の基材壁の表面部及び基材壁内部に、活性金属を担持させたものである。
【００１１】
具体的には、請求項３に示すように、上記ハニカム型基材は多孔質状を呈しており、その内部に、上記原料粉末同士間のメソ細孔と、焼成に伴う上記有機バインダの脱ガスによるマクロ細孔とを有するものである。
【００１２】
また、請求項４に示すように、上記活性金属は、上記マクロ細孔に臨んだ原料粉末及びそれらの近傍の原料粉末の表面に担持させたものである。
【００１３】
また、請求項５に示すように、上記ハニカム型基材の嵩体積１リットルあたりの活性金属担持量が０．１〜４ｇ／ｌである。
【００１４】
また、請求項６に示すように、上記ハニカム型基材の主成分が、アルミナ、酸化セリウム、又は酸化ジルコニウムの単体、或いはそれらの内の２種以上を組み合わせた複合酸化物である。
【００１５】
これによって、活性金属の担持表面積を大きくすることができ、高活性で、長寿命な合成ガス生成用触媒を得ることができる。
【００１６】
一方、本発明に係る合成ガス生成用触媒の製造方法は、メタンを主成分とする天然ガスを改質し、水素と一酸化炭素からなる合成ガスを生成するための触媒の製造方法において、アルミナ粉末を主成分とする原料粉末に有機バインダを混合すると共に混練を行い、その混練物を用いてハニカム状に押出成形した後、その押出成形体に焼成処理を施してハニカム型基材とし、そのハニカム型基材を、活性金属イオンを含む水溶液中に浸漬した後、再び焼成処理を施し、ハニカム型基材の基材壁の表面部及び基材壁内部に活性金属を担持させるものである。
【００１７】
具体的には、請求項８に示すように、アルミナ粉末と硝酸セリウムとの混合物である上記原料粉末に、メチルセルロース系等の有機バインダを混合する。
【００１８】
また、請求項９に示すように、アルミナ粉末、硝酸セリウム、又は硝酸ジルコニウムの単体、或いはそれらの内の２種以上を組み合わせてなる混合物からなる上記原料粉末に、メチルセルロース系等の有機バインダを混合する。
【００１９】
これによって、高活性で、長寿命な合成ガス生成用触媒を、良好な生産性で、かつ、安価に得ることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適一実施の形態を添付図面に基いて説明する。
【００２１】
本発明に係る合成ガス生成用触媒の部分横断面図を図１に、図１の要部Ａの拡大図を図２に、図２の要部Ｂの拡大図を図３に示す。
【００２２】
図１に示すように、本発明に係る合成ガス生成用触媒は、原料粉末の焼成体であるハニカム型基材１１に、活性金属１２を担持させたものである。ここで、図２に示すように、活性金属１２は、ハニカム型基材１１の基材壁の表面はもちろん、基材壁内部の、厚さ方向（図２中では左右方向）全体に亘って担持される。
活性金属１２の担持濃度は、基材壁の中央部よりも基材壁の表面の方が若干高くなっている。
【００２３】
より具体的には、ハニカム型基材１１は、原料粉末と有機バインダとの混練物を用いてハニカム状に押出成形し、その押出成形体を焼成してなる多孔質状のものであり、図３に示すように、その内部に、原料粉末３１同士間のメソ細孔３２と、焼成に伴う有機バインダ（図示せず）の脱ガスによるマクロ細孔３３とを有するものである。活性金属１２は、ハニカム型基材１１の基材壁の表面、マクロ細孔３３に臨んだ原料粉末３１及びそれらの近傍の原料粉末３１の表面に担持される。言い換えると、活性金属１２は、ハニカム型基材１１の基材壁の表面、及び原料粉末群３５における外気との接触部（原料粉末群３５の外表部及びその近傍）に位置する原料粉末３１の表面に担持される。
【００２４】
原料粉末３１は、アルミナ粉末、硝酸セリウム、又は硝酸ジルコニウムの単体、或いはそれらの内の２種以上を組み合わせてなる混合物からなるものであり、ハニカム型基材１１の主成分は、アルミナ、酸化セリウム（セリア）、又は酸化ジルコニウム（ジルコニア）の単体、或いはそれらの内の２種以上を組み合わせた複合酸化物である。
【００２５】
ハニカム型基材１１の嵩体積１リットルあたりの活性金属１２の担持量は０．１〜４ｇ／ｌ、好ましくは０．５〜２ｇ／ｌ、特に好ましくは１ｇ／ｌ前後である。ここで、活性金属１２としては特に限定するものではなく、ハニカム型触媒に慣用的に用いられていた金属であれば全て適用可能であり、例えば、Ｒｕ、Ｒｈ等が挙げられる。特に好ましいのはＲｕである。
【００２６】
ハニカム型基材１１における基材壁の壁厚は、基材１１のサイズとセル数（ｃｐｓｉ〔ｃｅｌｌ  ｐｅｒ  ｓｑｕａｒｅ  ｉｎｃｈ〕）によって決定されるものであり、触媒としての強度を保持できる厚さを有していれば、特に限定するものではない。しかし、活性金属１２を基材壁内部にまで担持させることから、できれば薄い方が好ましく、例えば、０．１〜１．０ｍｍ、好ましくは０．１〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２５ｍｍ前後である。
【００２７】
次に、本発明に係る合成ガス生成用触媒の作用を、添付図面に基いて説明する。
【００２８】
接触部分酸化法は発熱反応であるため、合成反応中、触媒温度が上昇する。この時、図５〜図７に示した従来の合成ガス生成用触媒においては、ハニカム型基材５１の表面に形成したウォッシュコート層５２の表面部のみに活性金属７１が担持されており、ウォッシュコート層５２の表面積が、そのまま担体の表面積となっている。すなわち、従来の触媒は、担体（ウォッシュコート層５２）の表面積が小さかった。このため、活性金属７１の分散度を高く保つことが困難であり、合成反応中、活性金属７１及び担体のシンタリングが生じる。その結果、活性金属７１の凝集が生じてしまい、活性の低下及び触媒寿命の低下を引き起こす要因となっていた。また、合成反応は担体の表面部のみで生じるため、担体と活性金属７１との界面で局所的な発熱が生じると、最悪の場合、活性金属７１やウォッシュコート層５２自体が剥落するおそれがあった。
【００２９】
これに対して、本発明に係る合成ガス生成用触媒は、ハニカム型基材１１の内部にメソ細孔３２とマクロ細孔３３とを有しており、基材１１の基材壁の表面部及び基材壁内部における外気との接触部が担体となっており、担体の表面積が大きい（例えば、約１００〜２００ｍ２／ｇ）ということに特長がある。本発明に係る触媒においては、コーティング法による従来の触媒と異なり、活性金属１２が、ハニカム型基材１１の全体（表面部及び基材壁内部）に分散して担持されており、活性金属１２が担持された表面積が大きい。
【００３０】
従って、本発明に係る触媒は、活性金属１２の担持量（絶対量）が、コーティング法による従来の触媒と同じであっても、活性金属１２の分散度は高くすることができる。よって、合成反応中、活性金属１２のシンタリングによる凝集を抑制することができる。この結果、高温下での反応においても高い活性を得ることができると共に、触媒寿命の著しい向上を図ることができる。
【００３１】
また、本発明に係る触媒は、活性金属１２の担持された表面積が大きいことから、合成反応中、ハニカム型基材１１と活性金属１２との界面で局所的な発熱が生じることは殆どない。よって、合成反応中、活性金属１２及びハニカム型基材１１におけるシンタリングの発生自体を抑制することができる。
【００３２】
また、本発明に係る触媒は、活性金属１２の担持量を従来の触媒と同じにした場合、従来の触媒よりも高活性な触媒となるため、活性度を同程度に調整する場合、従来の触媒よりも活性金属１２の担持量が少なくて済む（又は従来の触媒よりも触媒自体のサイズが小さくて済む）。このため、高価な活性金属の原料コストを低減することができ、延いては、合成ガス生成用触媒の製造コストの低減を図ることができる。
【００３３】
また、本発明に係る触媒を、合成ガス製造プラントに適用することで、製造する合成ガス量に対し、従来の触媒と比較して触媒サイズを大幅に小さくすることが可能となる。また、本発明に係る触媒を、合成ガス製造プラントに適用することで、合成ガスを高効率で製造することができる。これらより、コンパクトな装置構成でありながら、合成ガスを大量に、かつ、高効率に製造可能なプラントを得ることができる。延いては、合成ガスの生産コストの低減を図ることができる。
【００３４】
次に、本発明に係る合成ガス生成用触媒の製造方法を説明する。
【００３５】
アルミナ粉末と硝酸セリウムとの混合物である原料粉末に、有機バインダ、例えばメチルセルロース系等の有機バインダを混合し、よく混練する。この混練の際、適宜、分散剤や可塑剤を添加してもよい。有機バインダとしては、メチルセルロース系の他に、カルボキシルセルロース、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、でんぷん等が使用可能である。原料粉末としては、上記した組み合わせの他に、アルミナ粉末、硝酸セリウム、又は硝酸ジルコニウムの単体、或いはそれらの内の２種以上を組み合わせてなる混合物からなるものであってよい。
【００３６】
次に、その混練物を用いてハニカム状の成形物を押出成形する。得られた押出成形体を乾燥させた後、焼成処理を施し、アルミナと酸化セリウムの混合酸化物からなるハニカム型基材を形成する。
【００３７】
次に、得られたハニカム型基材を活性金属イオンを含む水溶液、例えば、塩化ルテニウム・ｎ水和物（ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏ）水溶液中に浸漬した後、水分を乾燥させる。
【００３８】
その後、この乾燥させたハニカム型基材に焼成処理を施し、ハニカム型基材の基材壁表面及び内部に活性金属を担持させ、本発明に係る合成ガス生成用触媒が得られる。ここで、焼成処理後のハニカム型基材を、体積％で５％の水素を含む窒素ガス中で２００〜６００℃、例えば５００℃まで昇温して、還元処理を施すことが好ましい。
【００３９】
前述したコーティング法を用いた従来の製造方法においては、ハニカム型基材の表面に、アルミナ粉末、酸化セリウム等からなるウォッシュコート層（担体）を均一に形成するため、ハニカム型基材をアルミナ粉末や硝酸セリウム等を含んだスラリーに浸漬する工程、およびハニカム基材をスラリー中から取り出して余剰なスラリーを除去する工程を十分に繰り返す必要があった。これに対して、本発明に係る製造方法においては、押出成形体からなるハニカム型基材を用いているため、原理的には均一な、アルミナ、酸化セリウム等からなる担体が得られる。つまり、ハニカム型基材を製造するための作業が容易であると共に、均一なハニカム型基材を用いることで均一なハニカム型触媒を製造することが可能となり、その結果、製造コストの低減および生産性の向上を図ることができる。
【００４０】
つまり、本発明に係る製造方法によれば、従来の製造方法と比較して、良好な生産性で、かつ、安価に合成ガス生成用触媒を製造することができる。
【００４１】
以上、本発明の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、他にも種々のものが想定されることは言うまでもない。
【００４２】
【実施例】
次に、本発明について、実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４３】
（実施例１）
アルミナ粉末７５０ｇと硝酸セリウム・六水和物（Ｃｅ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ）２５０ｇとの混合物である原料粉末に、有機バインダとしてメチルセルロースを混合し、混練器内で十分に攪拌を行った。この混練の際、グリセリン、セラミゾール（日本油脂製）、セロゾール（中京油脂製）を適量添加した。また、イオン交換水約３００ｃｃを、混練器を攪拌しながら少しずつ加えた。最終的に４ｈｒの混練を行い、押出成形用の混練物を作製する。
【００４４】
次に、この混練物を用い、セル数が４００ｃｐｓｉ、壁厚が約０．２５ｍｍのハニカム状の成形物を押出成形する。得られた押出成形体を、乾燥機中で８０℃まで徐々に昇温させながら徐々に乾燥させた後、大気中で８００℃×３ｈｒの焼成処理を施し、アルミナと酸化セリウムの混合酸化物からなるハニカム型基材を形成する。このハニカム型基材を、縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×長さ２０ｍｍに切り出し、ハニカム試験片を形成する。
【００４５】
次に、得られた試験片を、塩化ルテニウム・ｎ水和物（ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏ）の水溶液（塩化ルテニウム濃度：０．０５ｇ／ｃｃ）中に浸漬した後、取り出して水分を乾燥させる。この作業を、Ｒｕ担持量が約１ｇ／ｌとなるまで繰り返し行う。
【００４６】
次に、このＲｕ担持ハニカム型基材に、大気中で５００℃×１ｈｒの焼成処理を施した。焼成処理後のハニカム型基材を、体積％で５％の水素を含む窒素ガス中で５００℃まで昇温して還元処理を施し、本発明に係る合成ガス生成用触媒であるＲｕ担持ハニカム型触媒を作製する。
【００４７】
（従来例１）
縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×長さ２０ｍｍで、コージエライトからなるハニカム試験片を形成する。
【００４８】
次に、超音波洗浄器に配置した容器内に、アルミナ粉末５ｇ、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）１０ｇ、イオン交換水３０ｃｃ、及び硝酸０．５ｃｃの混合液であるスラリーを入れ、スラリー中にハニカム試験片を浸漬し、よく振とうする。その後、スラリーからハニカム試験片を取り出し、余分なスラリーを高圧空気で吹き飛ばす。その後、ハニカム試験片を１２０℃の乾燥機中で十分に乾燥させる。この作業を、アルミナ担持量が約２０ｇ／ｌとなるまで繰り返し行う。最後に、大気中で８００℃×３ｈｒの焼成処理を施し、アルミナ担持ハニカム型基材を形成する。
【００４９】
次に、アルミナ担持ハニカム型基材を、硝酸セリウム・六水和物（Ｃｅ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ）約１５ｇ及びイオン交換水２００ｃｃの混合液である硝酸セリウム水溶液中に浸漬した後、取り出して水分を乾燥させる。この作業を、酸化セリウム（ＣｅＯ２）担持量が約５ｇ／ｌとなるまで繰り返し行う。最後に、大気中で７００℃×３ｈｒの焼成処理を施し、酸化セリウム／アルミナ担持ハニカム型基材を形成する。
【００５０】
次に、酸化セリウム／アルミナ担持ハニカム型基材を、塩化ルテニウム・ｎ水和物（ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏ）の水溶液（塩化ルテニウム濃度：０．０５ｇ／ｃｃ）中に浸漬した後、取り出して水分を乾燥させる。この作業を、Ｒｕ担持量が約１ｇ／ｌとなるまで繰り返し行う。
【００５１】
次に、Ｒｕ／酸化セリウム／アルミナ担持ハニカム型基材に、大気中で５００℃×１ｈｒの焼成処理を施した。焼成処理後のハニカム試験片を、体積％で５％の水素を含む窒素ガス中で５００℃まで昇温して還元処理を施し、Ｒｕ担持ハニカム型触媒を作製する。
【００５２】
（従来例２）
硝酸セリウム・六水和物（Ｃｅ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ）の代わりに硝酸ジルコニウム（ＺｒＯ（ＮＯ３）２・２Ｈ２Ｏ）を用い、最終焼成後のハニカム型基材として酸化ジルコニウム／アルミナ担持ハニカム型基材を形成する以外は従来例１と同様にして、Ｒｕ担持ハニカム型触媒を作製した。
【００５３】
実施例１及び従来例１，２の各ハニカム型触媒について、触媒活性の評価を行った。評価の方法は、石英ガラス製の反応管内に各ハニカム型触媒を配置した後、反応ガスがハニカム型触媒の周囲を流れないように、反応管とハニカム型触媒との間にガラスウールを充填した。また、反応ガスの組成は、メタン（ＣＨ４）５０％に、酸化剤として空気を５０％の割合で混合したものを用いた。反応ガスのＧＨＳＶは約２００００（１／ｈｒ）とし、約１００℃から９００℃まで触媒の温度を段階的に上昇させ、各反応温度（上流側温度と下流側温度との平均温度）でのＣＨ４転化率により触媒活性を評価した。ここで、反応ガスにおけるＣＨ４と空気との割合が１：１であることから、ＣＨ４転化率は４０％が最大値となる。
【００５４】
実施例１及び従来例１，２の各ハニカム型触媒における反応温度とメタン転化率との関係を図４に示す。
【００５５】
図４に示すように、実施例１のハニカム型触媒においては、７００℃強でＣＨ４転化率が４０％に達している。これに対して、従来例１，２のハニカム型触媒においては、ＣＨ４転化率が４０％に達するのは約８２０〜８５０℃となっている。このことから、実施例１のハニカム型触媒の場合、従来例１，２のハニカム型触媒と比較して、活性温度が１００℃以上も低温となっている。つまり、実施例１のハニカム型触媒は、従来例１，２のハニカム型触媒と比較して、低い反応温度でも高活性が得られるということがわかる。
【００５６】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような優れた効果を発揮する。
（１）  活性金属の担持表面積を大きくすることができ、高活性で、長寿命な合成ガス生成用触媒を得ることができる。
（２）  （１）の合成ガス生成用触媒を、良好な生産性で、かつ、安価に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る合成ガス生成用触媒の部分横断面図である。
【図２】図１の要部Ａの拡大図である。
【図３】図２の要部Ｂの拡大図である。
【図４】実施例における反応温度とメタン転化率との関係を示す図である。
【図５】従来の合成ガス生成用触媒の部分横断面図である。
【図６】図５の要部Ｃの拡大図である。
【図７】図６の要部Ｄの拡大図である。
【符号の説明】
１１  ハニカム型基材
１２  活性金属
３１  原料粉末
３２  メソ細孔
３３  マクロ細孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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