(57)【要約】      （修正有）【課題】高純度の３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを工業的に収率よく製造する方法の提供。【解決手段】４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを、酸解離指数(pka)０．５〜１２の弱酸性酸触媒の存在下に、温度５０〜１５０℃で反応させることを特徴とする2004345961.tif 000010化学式（１）で表される３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールの製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを、酸解離指数（ｐｋａ）０．５〜１２の弱酸性酸触媒の存在下に、温度５０〜１５０  ℃で反応させることを特徴とする
【化１】
2004345961.tif 000008
2004345961.tif 000009
で表される３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールの製造方法に関する。
さらに詳しくは、本発明は、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを原料として酸化防止剤、紫外線吸収剤、樹脂改質材、農薬液晶ポリマー等の中間体として有用である３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを高純度で、高収率で製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールの製造方法は、例えば、グリニヤール反応を利用して４−クロロフェノールとエチレンオキサイドを反応させることにより製造されている（特開平２−１３８１４２号公報）。また、２−ｔ−ブチルフェノールを原料とし、これにエチレンオキサイドを反応させることにより製造されている（特開２０００−３２７６１０号公報）。また、３，５−ジーｔ−ブチル４−ヒドロキシフェネチルアルコールを原料とし、これに塩基及びルイス酸触媒の存在下に部分脱ブチル化することにより製造されている（特開２０００−３１９２１３号公報）。
しかしながら、これらの従来の製造方法では、高純度の３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを工業的に収率よく製造することは、困難であった。
【０００３】
【特許文献】
【特許文献１】特開平２−１３８１４２号公報
【特許文献２】特開２０００−３１９２１３号公報
【特許文献３】特開２０００−３２７６１０号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高純度の３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを工業的に収率よく製造する方法を提供することを課題とする。
【０００５】
【解決を解決するための手段】
本発明者らは、上記の従来技術における問題点を鋭意検討した結果、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを原料とし、このｔ−ブトキシ基中のｔ−ブチル基を、特定の酸解離指数をもつ弱酸性酸触媒の存在下に、分子内転移反応させることによって、収率よく、高純度の３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを容易に製造することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明では、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを、酸解離指数（ｐｋａ）０．５〜１２の弱酸性酸触媒の存在下に、温度５０〜１５０℃で反応させることによって、目的とする３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを工業的に容易に製造することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明は、下記化学式（１）で表される３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを工業的に高純度、高収率で製造することを特徴とするものである。
【０００７】
【化２】
2004345961.tif 000002
2004345961.tif 000003
【０００８】
本発明において、上記化学式（１）の３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを製造するための原料としては、下記化学式２の４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを使用する。
【０００９】
【化３】
2004345961.tif 000004
2004345961.tif 000005
【００１０】
上記化学式（２）で表される４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールは、例えば、ｐ−ブトキシクロロベンゼンをグリニヤール試薬とし、これにエチレンオキサイドを反応させる方法（特開平２−１３８１４２号公報）などにより容易に製造することができる。
【００１１】
本発明の製造法においては、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを、酸解離指数（ｐｋａ）０．５〜１２の弱酸性酸触媒の存在下に、温度５０〜１５０℃で反応させることにより目的物の下記化学式（１）で表される３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを製造するものである。
【００１２】
【化４】
2004345961.tif 000006
2004345961.tif 000007
本発明の製造方法においては、反応中における転移反応に際して、弱酸性酸触媒が用いられる。
【００１３】
上記転移反応における弱酸性酸触媒としては、酸解離指数（ｐｋａ）０．５〜１２、好ましくは１〜８、より好ましくは１．５〜５の弱酸性酸触媒であり、具体的にはリン酸、リン酸水溶液、シュウ酸水溶液、酢酸、酢酸水溶液、ギ酸、安息香酸等が挙げられる。これらの中では、リン酸が好ましく、リン酸水溶液が特に好ましい。
ここで、酸解離指数（ｐｋａ）とは酸解離定数（ｋａ）の逆数の対数値で下記式で表されるものである。
ｐｋａ＝−ｌｏｇ  ｋａ
上記弱酸性酸触媒の使用量としては、通常、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコール１重量部に対し、１０〜３００重量部、好ましくは５０〜１５０重量部が用いられる。
【００１４】
本発明においては、上記反応に際して、溶媒は用いなくてもよく、又は溶媒を用いてもよい。しかしながら、好ましくは、有機溶媒を用いるのがよい。用いられる有機溶媒としては、特に制限はないが、非プロトン系有機溶剤が好ましく用いられる。
非プロトン系有機溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類等を挙げることができる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は、特に制限はないが、通常、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコール１００重量部に対して、１０〜５００  重量部、好ましくは５０〜１５０重量部程度用いられる。
【００１５】
本発明においては、反応温度は５０〜１５０℃の範囲で行われる。温度５０℃以下では、ｔ−ブチル基の転移反応は、選択性が低くなり、また、１５０℃以上では、ｔ−ブチル基が離脱し、収率が低くなる。従って、反応温度は、好ましくは７０〜１２０℃、より好ましくは８０〜１００℃の範囲で行われる。
反応圧力は、特に制限はないが、通常、常圧〜微加圧下で行われる。
上記のような反応条件においては、反応時間は、通常、３〜７時間程度で完了する。
【００１６】
反応終了後、反応生成混合物は、常法に従って精製することができる。例えば、弱酸性酸触媒含有水層を分液等により分離し、得られた油層を水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリで中和した後、水洗し、その後、水層を分離し、得られた油層から、溶剤等を留去することによって、目的物の粗製物が得られる。さらに、必要に応じて、例えば、蒸留等の方法により高純度品を得ることができる。
【００１７】
【実施例】
【実施例１】
滴下ロート、還流冷却器、温度計及び撹拌機を備えた１Ｌ容量の４つ口フラスコに、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコール（純度８８．５重量％）１５０ｇ（０．６８４モル）、７５％リン酸水溶液（ｐｋａ    ２．１５）１５０ｇ（１．１４８モル）を仕込み、窒素置換した後、攪拌下に、温度を９０〜９５℃に昇温し、この温度に保って、５時間反応を行った。反応終了後、得られた反応溶液を高速液体クロマトグラフィー分析した結果、反応収率は８９．１モル％であった。また、主生成物をプロトン核磁気共鳴分析することにより、目的物であることを確認した。
反応終了後、得られた反応終了混合物を温度８５℃において分液して、リン酸含有水層を分離した後、残った油層に１６％水酸化ナトリウム水溶液を添加して、中和した。中和後の溶液を水洗した後、水層を分離し、目的物を含む油層を得た。得られた油層から減圧下にトルエンを留去した後、残留溶液を蒸留し、得られた主留分を冷却して、目的物である３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコール１１０ｇを白色結晶（純度９７モル％）として得た（４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールに対する収率８３モル％）。
【００１８】
【発明の効果】
本発明においては、４−ｔ−ブトキシフェネチルアルコールを原料として、目的物の３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチルアルコールを、高純度で、且つ高収率で工業的に製造することができる。本発明の製造方法においては、合成反応中の転移反応では、リン酸やリン酸水溶液等の弱酸性酸触媒を使用することにより反応を効率的に進行させることができる。