(57)【要約】【課題】ＰＤＰ用基板の下面に供給される冷却用ガスが、ＰＤＰ用基板の全体に渡って均一に供給されることにより、被乾燥物内の溶剤の蒸発量をＰＤＰ用基板上で大略均一にして、乾燥ムラを軽減させながら冷却することができるＰＤＰ用基板冷却装置及び方法を提供する。【解決手段】揺動ローラ２０４、揺動ローラユニット２５０、冷却プレート２０６、冷却プレート前後往復部２９０を備え、揺動ローラ２０４に載置されたＰＤＰ用基板１０を搬送方向に揺動しながら冷却用ガスを供給する冷却部材２０６を搬送方向と直交した方向に往復運動させる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＤＰ用基板を乾燥部内で加熱により上記ＰＤＰ用基板上の被乾燥物を乾燥させた後、搬入された上記ＰＤＰ用基板を搬送方向に揺動しながら上記ＰＤＰ用基板に対して下方から冷却用ガスを供給することで上記ＰＤＰ用基板上の上記被乾燥物の冷却を行うＰＤＰ用基板冷却装置において、
上記ＰＤＰ用基板を支持しかつ上記搬送方向に揺動可能な２個のローラと、
上記各ローラを回転させる回転駆動部と、
上記隣接するローラの隙間の下方に配置され、かつ、上記冷却用ガスを上記ＰＤＰ用基板の下面に向かって供給する給気穴を有する冷却部材と、
上記冷却部材を上記搬送方向に直交する方向に往復運動させる往復運動駆動部と、
上記回転駆動部による上記各ローラの回転と上記往復運動駆動部による上記冷却部材の往復運動とを同時的に行うように動作制御させる制御部とを備えることを特徴とするＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項２】
循環する冷却媒体の通路を有し、上記冷却部材の下面に密着して設けられた冷却媒体循環部材と、
上記隣接するローラの隙間で上記ＰＤＰ用基板の下面に上記冷却部材の上面が接触して上記ＰＤＰ用基板の熱を上記冷却媒体循環部材を介して上記冷却媒体循環部材の上記冷却媒体に移動可能な上昇位置と、上記冷却部材が上記ＰＤＰ用基板から下方に離れてかつ、上記冷却部材の上記給気穴からの上記冷却用ガスが上記ＰＤＰ用基板の下面に達する下降位置との間で昇降する昇降部とを備えて、
上記制御部は、上記昇降部による上記冷却部材と上記冷却媒体循環部材の上記昇降を上記各ローラによる上記ＰＤＰ用基板の上記揺動停止後に動作制御する請求項１に記載のＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項３】
上記制御部は、上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向と直交する方向に上記冷却部材を往復させる上記往復運動の速度を上記ＰＤＰ用基板を上記搬送方向に揺動させる速度より速くするように上記回転駆動部と上記往復運動駆動部とを動作制御する請求項１または２に記載のＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項４】
上記往復運動駆動部は、上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向と直交する方向に上記冷却部材を往復させる上記往復運動のストロークが、上記冷却部材に形成される複数の上記給気穴の上記往復運動方向のピッチに大略等しくなるように上記冷却部材を動作制御する請求項１〜３のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項５】
上記往復運動駆動部は、
上記往復運動の駆動源であるモータと、上記モータに接続されたクランク機構と、上記クランク機構に接続されて上記モータの回転運動を上記クランク機構を介して直線運動に変換するスライダー部とを備えており、
上記クランク機構は、
上記モータの出力軸に長手方向の一端部が設けられたクランク腕と、
上記クランク腕の長手方向の他端部から上記出力軸の軸心に向かって上記出力軸の軸方向と直交方向に上記クランク腕に形成された溝内に上下方向に沿って一端部が上記溝内を移動可能に設けられ、上記一端部に上記溝部の長手方向に沿って形成された穴の内面にメネジが形成されているクランクピンと、
上記クランク腕の両端部を貫通して上記クランクピンの上記メネジにねじ込まれている位置調整用ネジと、
上記位置調整用ネジの少なくとも一端部にねじ込むことで上記クランクピンを上記溝内に位置調整可能に固定するナットと、
両端に軸受けを有して、上記両端の内の一端の軸受けを介して上記クランクピンに対して回転自在に設けられた連接棒とを備え、
上記スライダ部は、上記冷却部材に接続されてかつ、上記連接棒の他端の上記軸受けを介して上記連接棒に接続されて、上記モータの回転力を上記クランク機構により直線運動に変換して、上記冷却部材を上記搬送方向に直交する方向に移動可能に設けられており、
上記クランク機構において、上記ナットを緩めて、上記位置調整用ネジを上記クランクピンに対して正逆回転することで、上記クランクピンを上記溝内で上記出力軸に対して進退させて上記クランクピンの位置調整を行うことにより、上記搬送方向に直交して上記往復運動する上記冷却部材の往復ストロークを変えることができる請求項４に記載のＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項６】
上記給気穴が、上記冷却部材上面に上記搬送方向に直交した方向に並んで２個形成され、その搬送方向に直交した方向に並んで形成された給気穴を１列とし、さらに上記ＰＤＰ用基板の搬送方向に上記列をなす上記給気穴を２列上記冷却部材に形成し、上記２列のうちの１つの列に上記搬送方向に直交した方向で並んでいる上記給気穴と、その隣の列に上記搬送方向に直交した方向に並んでいる給気穴とが上記搬送方向に直交した方向で位相が異なっている請求項１〜５のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項７】
給気穴が、上記冷却部材上面に上記搬送方向に直交した方向に並んで２個形成され、その上記搬送方向に直交した方向に並んで形成された上記給気穴を１列とし、さらに上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向に上記列をなす上記給気穴を２列上記冷却部材に形成し、上記２列のうちの１つの列に上記搬送方向に直交した方向で並んでいる上記給気穴と、その隣の列に上記搬送方向に直交した方向に並んでいる上記給気穴とが上記搬送方向に直交した方向で位相が異なっていて、かつその上記搬送方向に直交した方向に重なるようにそれぞれ上記搬送方向に直交した方向に長く形成されている請求項１〜５のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項８】
上記ＰＤＰ用基板の冷却において、上記冷却装置内部の各壁面に結露防止用のヒータを設ける請求項１〜７のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置。
【請求項９】
ＰＤＰ用基板を乾燥部内で加熱により上記ＰＤＰ用基板上の被乾燥物を乾燥させた後、搬入された上記ＰＤＰ用基板を２個のローラ上に載置して搬送方向に揺動しながら、隣接する上記ローラの隙間の下方から冷却用ガスを供給することで上記ＰＤＰ用基板上の上記被乾燥物の冷却を行うＰＤＰ用基板冷却方法において、
上記各ローラ上に載置された上記ＰＤＰ用基板を上記搬送方向に揺動させるのと同時的に、上記冷却用ガスを供給する冷却部材を上記搬送方向に直交した方向に往復運動させながら上記ＰＤＰ用基板の下面全体に上記冷却用ガスを吹付けて行うＰＤＰ用基板冷却方法。
【請求項１０】
最初の冷却段階として、上記ＰＤＰ用基板の下面全体に上記冷却用ガスを吹付けて空冷による冷却を行った後、
次の冷却段階として、上記搬送方向の上記ＰＤＰ用基板の上記揺動を止めて、隣接する上記ローラの隙間の上記ＰＤＰ用基板の下面に上記冷却部材を直接接触させて伝熱による冷却を行うような２段階の冷却を伴う請求項９に記載のＰＤＰ用基板冷却方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ用基板（以下ＰＤＰ用基板）の製造において、ガラス基板上に形成された電極、透明誘電体層、リブ、又は、蛍光体層等の膜を乾燥及び冷却させるＰＤＰ用基板乾燥装置においてＰＤＰ用基板を冷却させるＰＤＰ用基板冷却装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種のＰＤＰ用基板乾燥装置は、ＰＤＰ用の前面基板上に形成された電極の膜を乾燥し、上記前面基板上に形成された透明誘電体層等の膜を乾燥させるようにしている。また、ＰＤＰ用基板乾燥装置は、ＰＤＰ用の背面基板上に形成されたリブの膜を乾燥し、上記背面基板上に形成された蛍光体層等の膜を乾燥させるようにしている。上記各乾燥終了後、上記各種膜が形成されたＰＤＰ用の基板を冷却装置にて冷却する。ここで、乾燥装置内で完全に乾燥させてはいけない材料として電極がある。よって、冷却装置に搬入された当初、電極が形成されたＰＤＰ用基板において、蒸発しなかった溶剤が膜内に残っており、冷却装置内でその膜内に残った溶剤が蒸発し続ける。冷却用ガスをそのような膜に直接強く吹付けると、ガスが当たっている膜の一部は温度が下がり、ガスが当たっていない膜の一部は温度が高いままとなる。よって、ガスが当たっていない膜の一部は、温度が高いままとなって、膜内の溶剤を蒸発し続け、ガスが当たっている膜の一部は、温度が下がって、溶剤の蒸発が抑制される。このように膜の場所によって蒸発状態が違うことになって乾燥ムラが生じる。よって、基板上に形成された膜にガスが直接強く当たらないように、ガスの吹き出し口を基板からできるだけ上方に配置した冷却装置となっている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特願２００１−３１４６２３号
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構造のものでは、基板からできるだけ上方に離した位置に冷却用ガス吹き出し口を設けているため、冷却装置の天井が高くなり、その結果、冷却装置の容積が大きくなる。冷却装置の容積が大きくなると、冷却するための冷却用ガスの消費量が増え、また冷却用ガスが直接強く当たらないように冷却させているため冷却するのにも時間を要する。
【０００５】
そこで、複数のローラで基板を保持して、冷却用ガスを基板の下方からローラの間を抜けて基板の下面に直接吹付けるように、冷却用ガス吹き出し口を基板より下に設けた冷却装置が提案されている。
【０００６】
冷却用ガスを基板の下面に吹付けている間、複数のローラを正逆回転することで基板を搬送方向に揺動し、ローラの下から冷却用ガスを吹付けても、ローラで冷却用ガスが遮られる部分がなくなるようになっている。また、冷却用ガスを吹き出す穴が基板の搬送方向に直交して複数設けられて、その穴より冷却用ガスが基板下面に吹付けられるようになっている。よって、この冷却装置は冷却用ガスが強く基板下面に当たっても、基板上の膜に直接当たる事は無いので、冷却用ガス吹き出し口を基板に近づけることが可能となる。その結果、冷却装置の高さを小さくできるため冷却装置の容積を小さくできる。冷却装置の容積を小さくすることで、冷却用ガスの消費量が軽減でき、また冷却用ガスが基板の下面に直接吹付けられるので冷却時間も短縮できるようになっている。
【０００７】
しかしながら、上記構造のものでは、基板の搬送方向と直交して複数個独立して設けられた穴より吹き出される冷却用ガスは、基板の揺動により基板の搬送方向には均一に吹付けられるが、基板の搬送方向と直交方向に所定間隔あけて配設されている穴から冷却用ガスが吹き出されているため、基板の搬送方向に直交する方向に均一に吹付けられず、基板の搬送方向に沿って帯状の乾燥ムラが生じるといった問題がある。
【０００８】
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、基板の下面全体に、かつ、均一に冷却用ガスが吹付けられ、基板の搬送方向に沿って生じる帯状の乾燥ムラを軽減することができるＰＤＰ用基板冷却装置及び方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
【００１０】
本発明の第１態様によれば、ＰＤＰ用基板を乾燥部内で加熱により上記ＰＤＰ用基板上の被乾燥物を乾燥させた後、搬入された上記ＰＤＰ用基板を搬送方向に揺動しながら上記ＰＤＰ用基板に対して下方から冷却用ガスを供給することで上記ＰＤＰ用基板上の上記被乾燥物の冷却を行うＰＤＰ用基板冷却装置において、
上記ＰＤＰ用基板を支持しかつ上記搬送方向に揺動可能な２個のローラと、
上記各ローラを回転させる回転駆動部と、
上記隣接するローラの隙間の下方に配置され、かつ、上記冷却用ガスを上記ＰＤＰ用基板の下面に向かって供給する給気穴を有する冷却部材と、
上記冷却部材を上記搬送方向に直交する方向に往復運動させる往復運動駆動部と、
上記回転駆動部による上記各ローラの回転と上記往復運動駆動部による上記冷却部材の往復運動とを同時的に行うように動作制御させる制御部とを備えることを特徴とするＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１１】
本発明の第２態様によれば、循環する冷却媒体の通路を有し、上記冷却部材の下面に密着して設けられた冷却媒体循環部材と、
上記隣接するローラの隙間で上記ＰＤＰ用基板の下面に上記冷却部材の上面が接触して上記ＰＤＰ用基板の熱を上記冷却媒体循環部材を介して上記冷却媒体循環部材の上記冷却媒体に移動可能な上昇位置と、上記冷却部材が上記ＰＤＰ用基板から下方に離れてかつ、上記冷却部材の上記給気穴からの上記冷却用ガスが上記ＰＤＰ用基板の下面に達する下降位置との間で昇降する昇降部とを備えて、
上記制御部は、上記昇降部による上記冷却部材と上記冷却媒体循環部材の上記昇降を上記各ローラによる上記ＰＤＰ用基板の上記揺動停止後に動作制御する第１の態様に記載のＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１２】
本発明の第３態様によれば、上記制御部は、上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向と直交する方向に上記冷却部材を往復させる上記往復運動の速度を上記ＰＤＰ用基板を上記搬送方向に揺動させる速度より速くするように上記回転駆動部と上記往復運動駆動部とを動作制御する第１または２の態様に記載のＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１３】
本発明の第４態様によれば、上記制御部は、上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向と直交する方向に上記冷却部材を往復させる上記往復運動の速度を上記ＰＤＰ用基板を上記搬送方向に揺動させる速度より速くするように上記回転駆動部と上記往復運動駆動部とを動作制御する第１〜３の態様のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１４】
本発明の第５態様によれば、上記往復運動駆動部は、
上記往復運動の駆動源であるモータと、クランク機構と、スライダー部とを備えており、
上記クランク機構は、
上記モータの出力軸に一端部が設けられたクランク腕と、
上記クランク腕の他端部から上記出力軸の軸心に向かって上記出力軸の軸方向と直交方向に上記クランク腕に形成された溝内に上下方向に沿って一端部のみが上記溝内を移動可能に設けられ、上記一端部に上記溝部の長手方向に沿って穴が形成され、上記穴の内面にメネジが形成されているクランクピンと、
上記クランク腕の両端部を貫通して上記クランクピンの上記メネジにねじ込まれている位置調整用ネジと、
上記位置調整用ネジの少なくとも一端部にねじ込むことで上記クランクピンを上記溝内に位置調整可能に固定するナットと、
両端に軸受けを有して、その一端の軸受けを介して上記クランクピンに対して回転自在に設けられた連接棒とを備え、
上記スライダ部は、上記冷却部材に接続されてかつ、上記連接棒に上記連接棒の他端の上記軸受けを介して接続されて、上記モータの回転力を上記クランク機構により上記冷却部材を上記搬送方向に直交する方向に移動可能に設けられており、
上記クランク機構において、上記ナットを緩めて、上記位置調整用ネジを上記クランクピンに対して正逆回転することで、上記クランクピンを上記溝内で上記出力軸に対して進退させて上記クランクピンの位置調整を行うことにより、上記搬送方向に直交して上記往復運動する上記冷却部材の往復ストロークを変えることができる第４の態様に記載のＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１５】
本発明の第６態様によれば、上記給気穴が、上記冷却部材上面に上記搬送方向に直交した方向に並んで２個形成され、その搬送方向に直交した方向に並んで形成された給気穴を１列とし、さらに上記ＰＤＰ用基板の搬送方向に上記列をなす上記給気穴を２列上記冷却部材に形成し、上記２列のうちの１つの列に上記搬送方向に直交した方向で並んでいる上記給気穴と、その隣の列に上記搬送方向に直交した方向に並んでいる給気穴とが上記搬送方向に直交した方向で位相が異なっている第１〜５の態様のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１６】
本発明の第７態様によれば、給気穴が、上記冷却部材上面に上記搬送方向に直交した方向に並んで２個形成され、その上記搬送方向に直交した方向に並んで形成された上記給気穴を１列とし、さらに上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向に上記列をなす上記給気穴を２列上記冷却部材に形成し、上記２列のうちの１つの列に上記搬送方向に直交した方向で並んでいる上記給気穴と、その隣の列に上記搬送方向に直交した方向に並んでいる上記給気穴とが上記搬送方向に直交した方向で位相が異なっていて、かつその上記搬送方向に直交した方向に重なるようにそれぞれ上記搬送方向に直交した方向に長く形成されている第１〜５の態様のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１７】
本発明の第８態様によれば、上記ＰＤＰ用基板の冷却において、上記ＰＤＰ用基板冷却装置内部の各壁面に結露防止用のヒータを設ける第１〜７の態様のいずれか１つに記載のＰＤＰ用基板冷却装置を提供する。
【００１８】
本発明の第９態様によれば、ＰＤＰ用基板を乾燥部内で加熱により上記ＰＤＰ用基板上の被乾燥物を乾燥させた後、搬入された上記ＰＤＰ用基板を２個のローラ上に載置して搬送方向に揺動しながら、隣接する上記ローラの隙間の下方から冷却用ガスを供給することで上記ＰＤＰ用基板上の上記被乾燥物の冷却を行うＰＤＰ用基板冷却方法において、
上記各ローラ上に載置された上記ＰＤＰ用基板を上記搬送方向に揺動させるのと同時的に、上記冷却用ガスを供給する冷却部材を上記搬送方向に直交した方向に往復運動させながら上記ＰＤＰ用基板の下面全体に上記冷却用ガスを吹付けて行うＰＤＰ用基板冷却方法を提供する。
【００１９】
本発明の第１０態様によれば、最初の冷却段階として、上記ＰＤＰ用基板の下面全体に上記冷却用ガスを吹付けて空冷による冷却を行った後、
次の冷却段階として、上記搬送方向の上記ＰＤＰ用基板の上記揺動を止めて、隣接する上記ローラの隙間の上記ＰＤＰ用基板の下面に上記冷却部材を直接接触させて伝熱による冷却を行うような２段階の冷却を伴う第９の態様に記載のＰＤＰ用基板冷却方法を提供する。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００２１】
本発明の第１の実施形態にかかる冷却装置２００を備えたＰＤＰ用基板乾燥装置５００は、図１に示すように、直方体形状の乾燥室５０２の下面全体に配置された基台５０１上において、図１の左半分に直方体形状の上下移載空間５０６内に配置された上下移載部３００と、図１の右半分の下部に配置された排気部４００と、その排気部４００の上に配置されたＰＤＰ用基板冷却装置２００と、そのＰＤＰ用基板冷却装置２００の上に４段に積み重ねられた乾燥部１００と、乾燥部１００を動作制御している制御部６００と、４段に積み重ねられた乾燥部１００及びＰＤＰ用基板冷却装置２００にガスを給気している給気部４２０とを備えている。
【００２２】
乾燥室５０２の外側で図１の左側下部に炉外排気口５０３と、その炉外排気口５０３の上方に配置された搬入・搬出口５０５と、図１の右側に上下に沿ってそれぞれ配置された排出管４０４及び乾燥部用ガス給気管４２３及び冷却部用ガス給気管４２４と、上下移載空間５０６の天井に配置されたフィルターユニット５０４とを備えている。
【００２３】
搬入・搬出口５０５は、ＰＤＰ用基板乾燥装置５００外においてガラス基板１０上に被乾燥物の一例として電極又は透明誘電体層又はリブ又は蛍光体層等の膜が形成されたＰＤＰ用基板１０を上記乾燥室５０２内に搬入する搬入口であり、かつ、ＰＤＰ用基板乾燥装置５００内で乾燥後のＰＤＰ用基板１０をＰＤＰ用基板乾燥装置５００外に搬出する搬出口である。
【００２４】
上下移載部３００は、ＰＤＰ用基板１０を出し入れする基板移載部３１０と、基板移載部３１０を昇降させる上下駆動部３２０を備えている。
【００２５】
基板移載部３１０は、四角筒の形状しており、搬入・搬出口５０５と、４段の各乾燥部１００と、ＰＤＰ用基板冷却装置２００とに対してＰＤＰ用基板１０を出し入れするように駆動する。
【００２６】
上下駆動部３２０は、基板移載部３１０を、乾燥部１００の４段それぞれに対向する４つの位置と、ＰＤＰ用基板冷却装置２００かつ搬入・搬出口５０５に対向する位置とに適宜上昇下降して、位置決めして停止する。尚、ＰＤＰ用基板冷却装置２００かつ搬入・搬出口５０５に対向する基板移載部３１０の位置を基準位置２０とする。
【００２７】
上下駆動部３２０は、上下方向に平行に配設された上下駆動軸３２１ａと３２１ｂと、制御部６００に接続されかつ上下駆動軸３２１ａと３２１ｂとを同期して上下に移動させるように駆動する上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとを備えている。よって、上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとを駆動することにより基準位置２０を含む上記５つの位置に位置決めして停止することができる。上下駆動軸３２１ａと３２１ｂの各上端に基板移載部３１０の底面が取り付けられ、各下端はフリーとなっていて、上下駆動軸３２１ａと３２１ｂとの上下軸の途中に上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂが乾燥室５０２に固定されている。２つの上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとを、制御部６００の制御の下に正逆同期回転させて上下駆動軸３２１ａと３２１ｂとを昇降させることにより、基板移載部３１０を上記所定位置に位置決め停止可能としている。
【００２８】
以下、図１において左側を正面側とし、右側を背面側とする。
【００２９】
基板移載部３１０は、筐体３１５と、搬入・搬出口側受け渡し口３１２と、乾燥部側受け渡し口３１３と、ローラ３１１と、ヒータ３１４とを備えている。
【００３０】
筐体３１５は、四角筒の形状でありかつ正面側と背面側に開口があり、正面側開口部に搬入・搬出口側受け渡し口３１２と、背面側開口部に乾燥部側受け渡し口３１３とを備えている。
【００３１】
ローラ３１１は、筐体３１５内部において上記両側の受け渡し口３１２、３１３間の下方に等間隔で横方向に平行にかつＰＤＰ用基板１０が入ってくる方向に直交して複数本、例えば４本設けられ、ＰＤＰ用基板１０を両側の上記受け渡し口３１２、３１３へそれぞれ移動させるように制御部６００の制御の下で例えば、図示しないモータにより正逆同期回転可能となっている。尚、ローラ３１１の一方の端部に設けた図示しない歯車に図示しないチェーンベルトを渡し掛け、チェーンベルトに図示しないモータから動力を伝達することによって、一斉に駆動されて回転するようになっている。
【００３２】
ヒータ３１４は、筐体３１５内部を一定温度に加熱して保持するために、筐体３１５内側上面のほぼ全体に設けられている。
【００３３】
一方、上下移載空間５０６の天井にはフィルターユニット５０４が設けられ、フィルターユニット５０４を通った清浄なエアーが、上下移載空間５０６を通って、乾燥室５０２の下部に設けられた排気口５０３より排気されることで、乾燥室５０２内を清浄に保つようにしている。
【００３４】
上記乾燥部１００は、上下移載部３００から送られてくるＰＤＰ用基板１０上の電極又は透明誘電体層又はリブ又は蛍光体層等を、乾燥させるためにそれぞれ適した温度を維持するようにそれぞれ異なる温度、電極の場合、例えば大略１２０℃前後、透明誘電体層の場合、大略１６０℃前後、リブまたは蛍光体層の場合、大略１００℃前後にそれぞれ温度管理された室であり、独立した各室は、断熱材１０８を介して重ねて配置されている。
【００３５】
各乾燥部１００は、筐体１０１と、正面扉１０２と、背面メンテナンス用扉１０３と、揺動ローラ１０４と、正面ヒータ１０５と、背面ヒータ１０６と、側面ヒータ１０７と、上部ヒータユニット１１０と、下ヒータユニット１２０とを備えている。
【００３６】
筐体１０１は、四角筒の形状でありかつ正面側と背面側にそれぞれ正面側開口１０１ａと背面側開口１０１ｂとを備えており、正面側開口１０１ａに配置された正面扉１０２と、背面側開口１０１ｂに配置された背面メンテナンス用扉１０３とを備えている。
【００３７】
正面扉１０２は基板移載部３１０よりＰＤＰ用基板１０を出し入れするために、正面側開口１０１ａの下端縁部に配置されたヒンジ１６１により開閉可能かつ密閉可能に正面側開口に配置されている。ＰＤＰ用基板１０を出し入れするときのみ正面扉１０２が開閉することで、乾燥部１００内の熱量が逃げることを最小限に抑えることが可能となっている。正面ヒータ１０５は、正面扉１０２の内側に溶剤の結露が生じないように正面扉１０２の内側を一定温度、例えば、大略８０℃前後に保持するために、正面扉１０２の内側のほぼ全体に設けられている。
【００３８】
背面メンテナンス用扉１０３は、乾燥部１００のメンテナンスを行うために、背面側開口１０１ｂの上端縁部に配置されたヒンジ１６２により開閉可能かつ密閉可能に背面側開口１０１ｂに配置される。背面ヒータ１０６は、背面扉１０３の内側に溶剤の結露が生じないように背面扉１０３の内側を一定温度例えば、大略８０℃前後に保持するために、背面扉１０３の内側のほぼ全体に設けられている。
【００３９】
揺動ローラ１０４は、筐体１０１の内部において、上記両側の扉１０２、１０３の間の下方に等間隔で横方向に平行にかつＰＤＰ用基板１０が入ってくる方向に直交して複数本、例えば４本設けられ、上下移載部３００に対してＰＤＰ用基板１０を出し入れしかつ筐体内で図１の左右に揺動させるように制御部６００の制御の下で例えば図示しないモータにより正逆同期回転可能となっている。尚、揺動ローラ１０４の一方の端部に設けた図示しない歯車に図示しないチェーンベルトを渡し掛け、チェーンベルトに図示しないモータから動力を伝達することによって、一斉に駆動されて回転するようになっている。また、  ＰＤＰ用基板１０を左右に揺動するストロークは、ローラ１０４が停止した位置から例えば左に１／２ピッチと、右に１／２ピッチとの間の範囲とすることができる。ここで、ピッチとは、等間隔に配置された揺動ローラ１０４の配置ピッチを表す。
【００４０】
上部ヒータユニット１１０は、膜乾燥用として筐体１０１内部を加熱して一定温度に保持するために、筐体１０１内側上面のほぼ全体に設けられ、上部ヒータユニット１１０に相対するように揺動ローラ１０４の下方に、下ヒータユニット１２０が設けられている。
【００４１】
側面ヒータ１０７も、筐体１０１内部の相対する両側面側に溶剤の結露が生じないように筐体１０１内部の両側面を一定温度に保持するために、筐体１０１内部の両側面のほぼ全体にそれぞれ設けられている。
【００４２】
また、上部ヒータユニット１１０には、給気管１１２と排気管１１３とが上記両側の扉１０２、１０３の間の上方に等間隔で交互に横方向に平行にかつＰＤＰ用基板１０が入ってくる方向に直交して複数本設けられ、それぞれが乾燥部用ガス給気管４２３と排出管４０４とに連通している。上記連通することにより、乾燥部用ガス給気管４２３から各給気管１１２を通じてガスを各乾燥部１００内に給気可能となり、また、各乾燥部１００内のガスを各排気管１１３から排出管４０４へ排気可能となっている。上部ヒータユニット１１０及び下ヒータユニット１２０に関しては、詳細を後述する。ここで、ガスとは乾燥部に供給される冷却用のガスとは別のガスである。
【００４３】
給気部４２０は、ＰＤＰ用基板乾燥装置５００の装置外に配設されるガスを送り出す装置、例えば、ポンプであるガス給気源４２１と、そのガスを加熱する予熱ヒータ４３８とを備えている。
【００４４】
ガス給気源４２１は、各乾燥部１００内の各給気管１１２と連通している乾燥部用ガス給気管４２３に接続して配置される。予熱ヒータ４３８は、乾燥部用ガス給気管４２３に配置される。このように配置されたガス給気源４２１は、例えば、乾燥部１００内の設定温度が１００℃のときは、予熱ヒータ４３８によって熱せられた大略８０℃〜１００℃前後のガスを各乾燥部１００内に、各給気管１１２を通じて給気することが可能となっている。
【００４５】
このような乾燥部１００の構成は、４段における他の段の乾燥部１００の構成と同一である。
【００４６】
４段の乾燥部１００の最下部に配置されている乾燥部１００のさらに下方に断熱材１０８を介して配置されたＰＤＰ用基板冷却装置２００は、筐体２０１と、正面扉２０２と、背面メンテナンス用扉２０３と、正面ヒ−タ２０５と、背面ヒータ２３６と、側面ヒータ２０７と、上部ヒータ２１１と、揺動ローラユニット２５０と、冷却プレート昇降部２７０と、冷却プレート前後往復部２９０とを備えている。ここで、揺動ローラユニット２５０は回転駆動部の一例であり、冷却プレート前後往復部２９０は往復運動駆動部の一例であり、冷却プレート昇降部２７０は昇降部の一例であり、正面ヒ−タ２０５と背面ヒータ２３６と側面ヒータ２０７と上部ヒータ２１１とは結露防止用のヒータの一例である。
【００４７】
筐体２０１は、四角筒の形状でありかつ正面側と背面側にそれぞれ正面側開口２０１ａと背面側開口２０１ｂとを備えており、正面側開口２０１ａに配置された正面扉２０２と、背面側開口２０１ｂに配置された背面メンテナンス用扉２０３とを備えている。
【００４８】
正面扉２０２は基板移載部３１０よりＰＤＰ用基板１０を出し入れするために、正面側開口２０１ａの下端縁部に配置されたヒンジ２６１により開閉可能かつ密閉可能に正面側開口に配置されている。ＰＤＰ用基板１０を出し入れするときのみ正面扉２０２が開閉することで、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内の熱量が逃げることを最小限に抑えることが可能となる。正面ヒータ２０５は、正面扉２０２内側に溶剤の結露が生じないように正面扉２０２内側を一定温度、例えば、大略８０℃前後に保持するために、正面扉２０２内側のほぼ全体に設けられている。
【００４９】
背面メンテナンス用扉２０３は、ＰＤＰ用基板冷却装置２００のメンテナンスを行うために、背面側開口２０１ｂの上端縁部に配置されたヒンジ２６２により開閉可能かつ密閉可能に背面側開口２０１ｂに配置される。背面ヒータ２３６は、背面扉２０３の内側に溶剤の結露が生じないように背面扉２０３の内側を一定温度例えば、大略８０℃前後に保持するために、背面扉２０３の内側のほぼ全体に設けられている。
【００５０】
上部ヒータ２１１は、筐体２０１内部の上面に溶剤の結露が生じないように筐体２０１内部の上面を一定温度、例えば、大略８０℃前後に保持するために、筐体２０１内部の上面のほぼ全体に設けられている。
【００５１】
側面ヒータ２０７も、筐体２０１内部の相対する両側面側に溶剤の結露が生じないように筐体２０１内部の両側面を一定温度に保持するために、筐体２０１内部の両側面のほぼ全体にそれぞれ設けらている。
【００５２】
このような正面ヒータ２０５、背面ヒータ２３６、上部ヒータ２１１、側面ヒータ２０７は少なくとも冷却工程中は大略８０℃前後に保たれている。ここで、冷却工程とは、ＰＤＰ基板１０をＰＤＰ用基板冷却装置２００内で冷却している間をいい、後述する空冷による冷却段階と伝熱による冷却段階を併せた間である。
【００５３】
図２の上記冷却工程を行うＰＤＰ用基板冷却装置２００内の模式図に基づいて揺動ローラユニット２５０と冷却プレート前後往復部２９０と冷却プレート昇降部２７０とを以下に概略説明する。
【００５４】
ＰＤＰ用基板冷却装置２００内において、揺動ローラユニット２５０と冷却プレート昇降部２７０と冷却プレート前後往復部２９０とユニット取り付けプレート２８１とがこの順で上から下に配置されている。
【００５５】
まず、揺動ローラユニット２５０の概略を以下説明する。
【００５６】
揺動ローラ２０４は、筐体２０１の内部において、上記両側の扉２０２、２０３の間に等間隔で横方向に平行にかつＰＤＰ用基板１０が入ってくる方向に直交して複数本、例えば４本設けられている。その４本の揺動ローラの端部にローラ側歯車２５４がそれぞれ固定して設けられている。ここで、揺動ローラ２０４はローラの一例である。
【００５７】
一方、揺動用モータ２５１が筐体２０１外に設けられ、その揺動用モータ２５１のモータ出力軸２５６にモータ側歯車２５２が固定して設けられている。そのモータ側歯車２５２と４本のローラ側歯車２５４とにそれぞれ歯付きベルト２５３を渡し掛けることで、揺動用モータ２５１の回転を同時に４本の揺動ローラ２０４に伝達するようになっている。よって、揺動用モータ２５１を正逆回転させることで、各揺動ローラ２０４を同時に正逆回転し、ＰＤＰ用基板１０は搬送方向に揺動するようになっている。
【００５８】
以上のような各揺動ローラ２０４に載置されたＰＤＰ用基板１０は、各揺動ローラ２０４によって左右に揺動されている間、各揺動ローラ２０４間の隙間の下方から冷却用ガスをＰＤＰ用基板１０の下面に吹付ける複数の給気穴２４１を設けた冷却プレート２０６が、基板の搬送方向と直交する方向に往復運動しながらＰＤＰ用基板１０を空冷にて冷却する。ここで、冷却プレート２０６は冷却部材の一例である。さらに、冷却プレート２０６の空冷による冷却が終了するとともにＰＤＰ用基板１０の揺動を停止した後、冷却プレート２０６を支持する水冷プレート２９１が上昇して、冷却プレート２０６をＰＤＰ用基板１０の下面に直接押し当てることで伝熱により熱を奪い冷却する。このように２段階の冷却方法を行う。ここで、水冷プレート２９１は冷却媒体循環部材の一例である。
【００５９】
以下、冷却プレート前後往復部２９０の概略を説明する。
【００６０】
冷却プレート前後往復部２９０は、ＰＤＰ用基板１０の搬送方向と直交して、搬送方向に直交する方向にに冷却プレート２０６を往復運動させる装置であり、往復用モータ２７８とクランク機構部９１とスライダー部９２とを備えている。往復用モータ２７８がユニット取り付けプレート２８１に固定して設けられている。往復用モータ２７８はモータの一例である。スライダー部９２に備えられているシリンダ取り付けプレート２８２はユニット取り付けプレート２８１の上方に配置されており、往復用モータ２７８によってシリンダ取り付けプレート２８２がユニット取り付けプレート２８１に対して搬送方向に直交する方向に往復運動するようになっている。
【００６１】
以下、冷却プレート昇降部２７０の概略を説明する。
【００６２】
冷却プレート昇降部２７０は、冷却プレート前後往復部２９０の上方に配置された冷却プレート２０６と水冷プレート２９１を昇降させる装置であり、昇降シリンダ２７１が搬送方向に直交する方向に往復運動するシリンダ取り付けプレート２８２に、固定して設けられている。昇降シリンダ２７１の上下方向に移動するシリンダ出力軸２８８の上に水冷プレート２９１が固定して設けられており、水冷プレート２９１はシリンダ取り付けプレート２８２の上方でＰＤＰ用基板１０が載置される面とほぼ平行を保って、かつ、シリンダ取り付けプレート２８２に対して昇降するようになっている。ＰＤＰ用基板１０の下面に冷却用ガスを吹付けるための３個の冷却プレート２０６が昇降する水冷プレート２９１の上面に固定して設けられている。また、水冷プレート２９１は水冷用ポンプ２９２に接続されている。水冷プレート２９１内に形成された図示しない冷却水通路と水冷用ポンプ２９２との間に水を循環させることで、水冷プレート２９１とその上面に設けられている冷却プレート２０６は常に冷却されている。ここで、上記の冷却水は、冷却媒体の一例であり、冷却水通路は循環する冷却媒体の通路の一例である。冷却工程中、少なくとも、ＰＤＰ用基板１０がＰＤＰ用基板冷却装置２００に搬入されてから冷却終了してＰＤＰ用基板１０がＰＤＰ用基板冷却装置２００より搬出されるまでの間、水冷プレート２９１と水冷用ポンプ２９２との間の水の循環は行われている。
【００６３】
次に図３、図４に基づいて、揺動ローラユニット２５０の詳細を以下に説明する。上記図２に基づいての概略説明では揺動ローラ２０４を４本としたが、以下５本の場合で説明する。
【００６４】
まず、揺動ローラユニット２５０は、揺動ローラ２０４と、揺動用モータ２５１と、モータ側歯車２５２と、歯付きベルト２５３と、ローラ側歯車２５４と、案内ローラ２５５と、モータ取り付けブラケット２５７と、軸受け２５９ａ、２５９ｂとを備えている。揺動ローラ２０４は、筐体２０１の内部において、上記両側の扉２０２、２０３の間に等間隔で横方向に平行にかつＰＤＰ用基板１０が入ってくる方向に直交して複数本、例えば５本設けられている。ここで、ＰＤＰ用基板１０が各揺動ローラ２０４に載置されて搬送される際、ＰＤＰ用基板１０が損傷せず、また塵埃が生じないように、図３において各揺動ローラ２０４の軸の長手方向においてＰＤＰ用基板１０と接触可能な部分全部で、その外周に揺動ローラ２０４の外径より少し大きい筒状の基板保護部材２５８が全周に渡ってそれぞれ設けられている。基板保護部材２５８の材質は、耐熱性に優れ、かつＰＤＰ用基板１０を傷付けないような例えば、テフロン（登録商標）のようなフッ素樹脂、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、またはシリコンゴムのような耐熱性樹脂が望ましい。また、各基板保護部材２５８のそれぞれの上側の接線を含む面、即ち、ＰＤＰ用基板１０が載置される面と、ＰＤＰ用基板冷却装置２００の底部でＰＤＰ用基板乾燥装置５００の設置面とほぼ平行に設けられたユニット取り付けプレート２８１とがほぼ平行になるように、５本の揺動ローラ２０４は設けられている。
【００６５】
各揺動ローラ２０４を支持するために、図３における筐体２０１の右側の側面に形成された穴に軸受け２５９ａが設けられており、軸受け２５９ａに相対する左側の側面に形成された穴に軸受け２５９ｂが設けられている。また、各揺動ローラ２０４の左端部は軸受け２５９ｂに支持され、各揺動ローラ２０４の右端部近傍は軸受け２５９ａに支持されており、各揺動ローラ２０４の右端部である軸端部１９２が筐体２０１よりそれぞれ突出して設けられている。各軸端部１９２にローラ側歯車２５４がそれぞれ固定して設けられている。
【００６６】
一方、揺動用モータ２５１は、筐体２０１の右側の側面の外で、揺動用モータ２５１のモータ出力軸２５６が揺動ローラ２０４の軸方向に平行かつ搬送方向に直交するようにかつ、揺動ローラ２０４より下方でモータ取り付けブラケット２５７によって筐体２０１の右側の側面に固定して設けられている。そのモータ出力軸２５６にはモータ側歯車２５２が固定して設けられている。
【００６７】
モータ側歯車２５２と各ローラ側歯車２５４とに１本の歯付きベルト２５３の歯が噛み合うように渡し掛けられている。歯付きベルト２５３がモータ側歯車２５２と各ローラ側歯車２５４とに十分に巻き付いて歯が噛み合うように、各ローラ側歯車２５４間及び、モータ側歯車２５２とローラ側歯車２５４との間に回転自在の案内ローラ２５５が、例えば６個、筐体２０１の右側の側面に配置されている。
【００６８】
よって、揺動用モータ２５１が正逆回転すると、モータ出力軸２６５とモータ側歯車２５２も同時に正逆回転する。モータ側歯車２５２の正逆回転を歯付きベルト２５３を介してかつ、各案内ローラ２５５の案内で全てのローラ側歯車２５４に伝達する。各ローラ歯車２５４の正逆回転は各ローラ歯車２５４に連結されている各揺動ローラ２０４に伝達され、各揺動ローラ２０４は正逆同期回転するようになっている。
【００６９】
その揺動用モータ２５１は制御部６００に接続されている。よって、上下移載部３００に対してＰＤＰ用基板１０を出し入れする一方、筐体２０１内でＰＤＰ用基板１０の搬送方向（例えば、図１の左右方向）に揺動させるように、制御部６００の制御の下で揺動用モータ２５１により５本の揺動ローラ２０４は正逆同期回転可能となっている。
【００７０】
また、ＰＤＰ用基板１０の揺動停止位置７０の位置を検出できるように、基板検出センサ（図示せず）が、筐体２０１内の背面側に設けられ、制御部６００と接続されている。よって、制御部６００の制御の下、基板検出センサ（図示せず）でＰＤＰ用基板１０を検出して揺動モータ２５１を停止させることにより、ＰＤＰ用基板１０を揺動停止位置７０で停止できるようになっている。
【００７１】
また、ＰＤＰ用基板１０を左右に揺動するストロークは、移載部３００よりＰＤＰ用基板冷却装置２００にＰＤＰ用基板１０が搬入し終わって揺動ローラ２０４が停止したときのＰＤＰ用基板１０の揺動停止位置７０から例えば左に１／２ピッチの左端位置８０と、右に１／２ピッチの右端位置９０との間の範囲とすることができる。ここで、ピッチとは、等間隔に配置された揺動ローラ２０４の配置ピッチを表す。
【００７２】
また、揺動用モータ２５１内に設けられている図示しない回転角度検出センサ、例えばエンコーダによって、揺動用モータ２５１の回転を検出し、制御部６００によって、揺動停止位置７０から左端位置８０までの距離と揺動停止位置７０から右端位置９０までの距離を回転制御できるようになっている。
【００７３】
この左端位置８０から右端位置９０までの揺動ストロークＳ０は揺動ローラ２０４の配置ピッチとに関係がある。ＰＤＰ用基板１０の下面に給気される冷却用ガスが揺動ローラ２０４により遮られる部分が無いようにするため、揺動ストロークＳ０は揺動ローラ２０４の配置ピッチ以上あるとより好ましい。しかし、後述する伝熱による冷却を行うとき、左端位置８０及び右端位置９０を用いて冷却するため、揺動ストロークＳ０は揺動ローラ２０４の配置ピッチと同じ距離にする。なお、揺動ストロークＳ０を揺動ローラ２０４の配置ピッチと等しくする理由は、伝熱による冷却を説明する際に述べる。
【００７４】
また、制御部６００内に格納された図示しないインバータと揺動用モータ２５１と制御部６００とが接続されていて、制御部６００により揺動用モータ２５１の回転速度を変化させることで、ＰＤＰ用基板１０の揺動運動の速度を変えることができるようになっている。ＰＤＰ用基板１０を揺動させる速度は、その速度が速すぎることによりＰＤＰ用基板１０が載置されている各基板保護部材２５８上をＰＤＰ用基板１０が滑ったり、逆に遅すぎることにより冷却用ガスがＰＤＰ用基板１０の下面の同じ部分に吹付けられるということが無い程度の速度で良く、この実施例における揺動速度は、例えば、大略２０ｍｍ／ｓと設定している。
【００７５】
次に図５〜図９に基づいて、冷却プレート前後往復部２９０と冷却プレート昇降部２７０の詳細を以下に説明する。
【００７６】
まず、冷却プレート前後往復部２９０の詳細について説明する。
【００７７】
ユニット取り付けプレート２８１は長方形状の板材で、ＰＤＰ用基板冷却装置２００の筐体２０１の底部を形成するように固定して設けられており、ＰＤＰ用基板乾燥装置５００の設置面とほぼ平行になっている。ＬＭガイドレール２８０ａと２８０ｂとがＰＤＰ用基板１０の搬送方向に直交する方向にかつ、２本離れて平行に、ユニット取り付けプレート２８１上面に長手方向に沿って固定して設けられている。一方のＬＭガイドレール２８０ａ上には２個のＬＭガイドブロック２８３ａと２８３ｂとが滑動可能に設けられ、他方のＬＭガイドレール２８０ｂ上には２個のＬＭガイドブロック２８３ｃと２８３ｄとが滑動可能に設けられている。それら４つのＬＭガイドブロック２８３ａ、２８３ｂ、２８３ｃ、２８３ｄの上面が、長方形状の板材のシリンダ取り付けプレート２８２の大略４隅に位置するように、シリンダ取り付けプレート２８２の下面に固定されている。よって、シリンダ取り付けプレート２８２は、ＬＭガイドレール２８０ａと２８０ｂの軸方向に沿って、即ち搬送方向に直交する方向にかつ各基板保護部材２５８のそれぞれの上側の接線を含む面とほぼ平行を保って滑動できるようになっている。このようなシリンダ取り付けプレート２８２とＬＭガイドブロック２８３ａ〜２８３ｄとＬＭガイドレール２８０ａ、２８０ｂとは、スライダー部９２を構成するようになっている。
【００７８】
シリンダ取り付けプレート２８２を搬送方向に直交する方向に往復運動させる往復用モータ２７８は、往復用モータ２７８の往復用モータ出力軸２８５が上向きに突出しているように、ユニット取り付けプレート２８１の搬送方向に直交する方向の長手方向の端部に固定して設けられている。その往復用モータ出力軸２８５の上端部に円形の板状の出力軸フランジ２９３の中心が固定して設けられている。往復用モータ出力軸２８５の回転と共に、出力軸フランジ２９３の面はその往復用モータ出力軸２８５の軸心回りをその往復用モータ出力軸２８５の軸方向に直交した面で回転するようになっている。長方形の板状のモータ側クランクプレート２７６の長手方向の下面を長手方向の一端部がその出力軸フランジ２９３の中心を通り、他端部がその往復用モータ出力軸２８５の軸心から離れるようにかつ、出力軸フランジ２９３の上面に固定して設けられており、モータ側クランクプレート２７６の他端部は往復用モータ出力軸２８５の回転と共にその往復用モータ出力軸２８５の軸心回りをその往復用モータ出力軸２８５の軸方向に直交した面で回転するようになっている。クランクプレート２７６はクランク腕の一例である。
【００７９】
そのモータ側クランクプレート２７６には他端部側、即ち往復用モータ出力軸２８５から離れた側から往復用モータ出力軸２８５の軸心にまっすぐに向かって細長い溝部２９５が往復用モータ出力軸２８５の軸方向と直交方向に両端部を残して形成されている。溝部２９５は溝の一例である。モータ側ピン２８６が上下方向に沿って下端部側のみが、その溝部２９５内を滑動可能に設けられ、その溝部２９５内に入っている下端部にはモータ側ピン２８６の軸方向に直交してかつ、溝部２９５の長手方向に沿ってメネジ部２９６が貫通して形成されている。一方、モータ側ピン２８６の上端部側はモータ側クランクプレート２７６の上面より上方に出ている。メネジ部２９６はメネジの一例であり、モータ側ピン２８６はクランクピンの一例である。
【００８０】
モータ側ピン２８６に形成されているメネジ部２９６と同じネジ径かつ同じピッチのオネジ部１９１が軸の外周に形成され、その一端部に六角頭部２９７を備えたピン固定用ネジ軸２８９が、モータ側クランクプレート２７６の他端側から他端部側に形成された他端部側穴２９９ａを通って溝部２９５内に貫通している。ピン固定用ネジ軸２８９は位置調整用ネジの一例である。そして、ピン固定用ネジ軸２８９は、溝部２９５内に設けれているモータ側ピン２８６の下部に形成されたメネジ部２９６にねじ込まれ、さらにモータ側クランクプレート２７６の一端部側に形成された一端部側穴２９９ｂを貫通し、六角頭部２９７がモータ側クランクプレート２７６の他端部側になるように設けられている。尚、他端部側穴２９９ａと一端部側穴２９９ｂは、いわゆるばか穴であり、ピン固定用ネジ軸２８９はそのばか穴内で自在に回転できるようになっている。
【００８１】
よって、ピン固定用ネジ軸２８９をモータ側クランクプレート２７６に対して正逆回転させると、モータ側ピン２８６は溝部２９５によりピン固定ネジ軸２８９の軸心まわりの回転を規制されていため、モータ側ピン２８６はピン固定用ネジ軸２８９に対して溝部２９５内で進退するようになっている。
【００８２】
このような状態において、ピン固定用ネジ軸２８９は回転可能な状態にあり、またピン固定用ネジ軸２８９にねじ込まれているモータ側ピン２８６とピン固定用ネジ軸２８９とは溝部２９５の長手方向に沿って移動可能な状態である。
【００８３】
モータ側ピン２８６を溝部２９５内で固定するために、モータ側クランクプレート２７６の一端側で貫通しているピン固定用ネジ軸２８９のオネジ部１９１に、そのオネジ部１９１に形成されているネジと同じネジ径かつピッチのナットメネジ部２９８が形成されている固定用ナット２９４をねじ込むようにする。固定用ナット２９４をピン固定用ネジ軸２８９にねじ込むことで、モータ側クランクプレート２７６の両端に配置された六角頭部２９７と固定用ナット２９４とによってモータ側クランクプレート２７６を挟みこむように、ピン固定用ネジ軸２８９をモータ側クランクプレート２７６に対して固定されるようになる。固定用ナット２９４はナットの一例である。このように、ピン固定用ネジ軸２８９がモータ側クランクプレート２７６に対して固定、即ちピン固定用ネジ軸２８９の軸心まわりの回転と溝部２９５の長手方向に沿っての移動が規制されることによって、それにねじ込まれているモータ側ピン２８６は溝部２９５内の任意の位置で固定される。
【００８４】
上記のように溝部２９５の長手方向の任意の位置で固定されたモータ側ピン２８６をさらに溝部２９５の長手方向に沿って異なる位置で固定させたい場合、以下のように調整する。溝部２９５の長手方向沿いのモータ側ピン２８６の位置が果たす役割は後述する。
【００８５】
まず、モータ側クランクプレート２７６の一端側で締結されている固定用ナット２９４をピン固定用ネジ軸２８９から緩める。そして、ピン固定用ネジ軸２８９をモータ側ピン２８６に対してねじ込むように回転させることで、モータ側ピン２８６は他端側に近づき、即ち往復用モータ出力軸２８５の軸心から離れるようになっている。逆に、ピン固定用ネジ軸２８９をモータ側ピン２８６に対して緩めるように回転させることで、モータ側ピン２８６は他端側から離れ、即ち往復用モータ出力軸２８５の軸心に近づくようになっている。
【００８６】
このように、固定用ナット２９４を緩めた状態で、ピン固定用ネジ軸２８９をモータ側クランクプレート２７６に対して正逆回転することにより、モータ側ピン２８６の軸心と往復用モータ出力軸２８５の軸心との距離をかえることができるようになっている。モータ側ピン２８６の軸心と往復用モータ出力軸２８５の軸心との距離を例えば１０ｍｍ〜３０ｍｍの間で、モータ側ピン２８６を任意の位置に変更できるようになっている。モータ側ピン２８６の軸心と往復用モータ出力軸２８５の軸心との距離を１０ｍｍ〜３０ｍｍとしたが、これに限定されるものではなく、ＰＤＰ用基板１０の大きさ、ＰＤＰ用基板１０上に形成された膜の種類、後述する冷却プレート２０６に形成された給気穴の配置ピッチによって変更する必要がある。つまり、モータ側ピン２８６の軸心と往復用モータ出力軸２８５の軸心との距離を変えることで、後述するクランクスライダ機構のスライダー部９２に接続された冷却プレート２０６が往復するストロークを変更できるようになっていて、その往復ストロークとＰＤＰ用基板１０の大きさ等と関連がある。なお、往復ストロークとＰＤＰ用基板１０の大きさ等との関連性については後述する。
【００８７】
また、往復用モータ２７８が設けられている側に位置するシリンダ取り付けプレート２８２の下面の後部に長方形の板状の往復側クランクプレート２７４の前部が固定して、往復側クランクプレート２７４の後部がシリンダ取り付けプレート２８２から往復用モータ２７８側に出るように設けられている。その往復側クランクプレート２７４の後部には往復側ピン２８７が上下方向に固定して設けられている。上記の前部は図５において左側で、後部は右側を表す。
【００８８】
一方、長方形状の板状の中間クランクプレート２７５の長手方向両端部に穴が板の厚み方向に貫通してそれぞれ形成されており、一端部に形成された穴に玉軸受け２７９ａが取り付けられ、他端部に形成された穴に玉軸受け２７９ｂが取り付けられている。中間クランクプレート２７５は連接棒の一例である。玉軸受け２７９ａと２７９ｂとが、モータ側ピン２８６と往復側ピン２８７とに嵌合されており、中間クランクプレート２７５はモータ側ピン２８６と往復側ピン２８７とに対して玉軸受け２７９ａと２７９ｂとを介してそれぞれ回転自在に取り付けられている。
【００８９】
このように往復用モータ出力軸２８５に設けられたモータ側クランクプレート２７６と中間クランクプレート２７５と往復側クランクプレート２７４とモータ側ピン２８６と往復側ピン２８７とにより、その往復用モータ出力軸２８５の軸方向に直交した面内、即ち上述したスライダー部９２の移動面でクランク機構部９１を構成している。よって、上述したスライダー部９２を構成しているシリンダ取り付けプレート２８２とクランク機構部９１とを往復側クランクプレート２７４を介して連結することで、クランクスライダー機構を構成するようになっている。
【００９０】
クランクスライダー機構によって、以下のように動作を行うことができる。まず、往復用モータ２７８を回転させることで往復用モータ出力軸２８５が回転し、往復用モータ出力軸２８５の回転により、モータ側クランクプレート２７６が往復用モータ出力軸２８５に軸心の回りに回転する。モータ側クランクプレート２７６の回転により、モータ側クランクプレート２７６に上下方向に沿って設けられたモータ側ピン２８６が、往復用モータ出力軸２８５の軸心の回りに回転する。そのモータ側ピン２８６の回転により、中間クランクプレート２７５の一端部に設けられた玉軸受け２７９ａを介して、中間クランクプレート２７５の一端部が往復用モータ出力軸２８５の軸心の回りに回転する。その中間クランクプレート２７５の一端部の回転により、中間クランクプレート２７５の他端部に設けられた玉軸受け２７９ｂを介して往復側クランクプレート２７４に設けられた往復側ピン２８７とともにシリンダ取り付けプレート２８２を搬送方向に直交する方向に往復運動させる。
【００９１】
また、図７〜図９に示すように、シリンダ取り付けプレート２８２に昇降シリンダ２７１と水冷プレート２９１とを介して取り付けられている冷却プレート２０６は前端位置５０と後端位置６０との間を搬送方向に直交する方向に往復するようになっていて、前端位置５０と後端位置６０の中間の位置を中間位置５５とする。このような３つの位置で位置決め停止可能となっている。往復用モータ出力軸２８５に設けられた出力軸フランジ２９３には、その半径方向に突出するように、板状の往復位置決め用ドグ２７７が１箇所取り付けられている。
【００９２】
往復回数計数用センサ２８４ａと中間位置決め用センサ２８４ｂとがユニット取り付けプレート２８１上で往復用モータ出力軸２８５の回りに９０度間隔で配置されている。冷却プレート２０６が前端位置５０のとき、往復位置決め用ドグ２７７は往復回数計数用センサ２８４ａを遮光するように取り付けられている。また、冷却プレート２０６が中間位置５５のとき、往復位置決め用ドグ２７７は中間位置決め用センサ２８４ｂを遮光するように取り付けられている。
【００９３】
制御部６００は、往復用モータ２７８と往復回数計数用センサ２８４ａと中間位置決め用センサ２８４ｂとにそれぞれ接続されている。なお、上記の２位置即ち、前端位置５０、中間位置５５でそれぞれのセンサが往復位置決め用ドグ２７７に遮光されたとき、各センサから制御部６００に向かって信号が送られるようになっている。よって、制御部６００の制御の下、中間位置決め用センサ２８４ｂからの信号を受けて往復用モータ２７８の回転停止を行うことにより、冷却プレート２０６を中間位置５５で停止することができるようになる。また、往復回数計数用センサ２８４ａからの信号を制御部６００で受けることにより、制御部６００は冷却プレート２０６の往復回数を認識できるようになっている。また、往復用モータ２７８を一方向に回転させることで、連続して冷却プレート２０６を前端位置５０と後端位置６０との間を往復運動することができるようになっている。また、制御部６００内に格納された図示しないインバータと往復用モータ２７８と制御部６００とが接続されていて、制御部６００により往復用モータ２７８の回転速度を変化させることで、冷却プレート２０６の往復運動の速度を変えることができるようになっている。ＰＤＰ用基板１０の下面全体に均一に冷却用ガスを吹付けるためには、冷却プレート２０６の往復運動の速度は以下の式（１）に示すように設定すると好ましい。
【００９４】
【数１】
往復運動の速度≧揺動速度×１．５    ・・・・（１）
ここで、往復運動の速度とは冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動する平均速度（ｍｍ／ｓ）、揺動速度とはＰＤＰ用基板１０を搬送方向に揺動する平均速度（ｍｍ／ｓ）を表す。
【００９５】
上記の式（１）のように揺動速度に対して往復運動の速度を１．５倍より高くしているのは、揺動速度と往復運動の速度が同一に近い場合は、冷却プレート２０６からＰＤＰ用基板１０の下面に吹付けられる冷却用ガスが繰り返し同じ部分になり、ＰＤＰ用基板１０の温度が均一にならない場合があるからである。また、ＰＤＰ用基板１０の揺動速度よりも冷却プレート２０６の往復運動の速度を速くするのは、ＰＤＰ用基板１０の揺動速度を高くすると、ＰＤＰ用基板１０が揺動ローラ２０４上で滑るためである。
【００９６】
よって、この実施例では、ＰＤＰ用基板１０の揺動速度を例えば、２０ｍｍ／ｓとしているので冷却プレート２０６の往復運動の速度は３５ｍｍ／ｓと設定している。
【００９７】
また、前端位置５０と後端位置６０との距離は、ピン固定用ネジ軸２８９を調節することにより、即ちモータ側ピン２８６の中心と往復用モータ出力軸２８５の中心との距離Ｌを変えることで変更することができる。ここで、前端位置５０と後端位置６０との距離を往復ストロークとする。例えば、モータ側ピン２８６の中心と往復用モータ出力軸２８５の中心との距離Ｌを１０ｍｍに設定した場合、冷却プレート２０６は、中間位置５５を基準に中間位置５５から前端位置５０まで１０ｍｍ移動し、中間位置５５から後端位置６０まで１０ｍｍ移動することとなり、往復ストロークは２０ｍｍとすることができる。次に、Ｌを３０ｍｍに設定した場合、冷却プレート２０６は、中間位置５５を基準に中間位置５５から前端位置５０まで３０ｍｍ移動し、中間位置５５から後端位置６０まで３０ｍｍ移動することとなり、往復ストロークは６０ｍｍとすることができる。このように、往復ストロークを変更した場合、所望のストロークになったかどうかを確認するために、実際に冷却プレート２０６の前端位置５０と後端位置６０との距離を例えばスケールなどで計測する必要がある。
【００９８】
次に、図５〜図７に基づいて、冷却プレート昇降部２７０について詳細に説明する。
【００９９】
搬送方向に直交する方向に往復運動が可能なシリンダ取り付けプレート２８２の下面中心あたりに昇降シリンダ２７１のシリンダ出力軸２８８が上向きに突出しているようにして、かつシリンダ出力軸２８８の上端部が、上下方向に移動可能にシリンダ取り付けプレート２８２を貫通し、上方に位置するようにして昇降シリンダ２７１が固定して設けられている。シリンダ取り付けプレート２８２の上方で、シリンダ出力軸２８８の上端に長方形状の板状の水冷プレート２９１の下面の中心あたりが固定して設けられている。
【０１００】
また、上下滑動軸受け２７３ａと２７３ｂとが、昇降シリンダ２７１を搬送方向に直交する方向に挟むように大略等間隔に離れて、シリンダ取り付けプレート２８２に固定して設けられている。各上下滑動軸受け２７３ａと２７３ｂとには、上下滑動軸２７２ａと２７２ｂとが上下移動可能にそれぞれ支持されている。各上下滑動軸２７２ａと２７２ｂの上端は水冷プレート２９１の下面にそれぞれ固定して設けられ、その下端はそれぞれ自由端となっている。よって、水冷プレート２９１の上面はシリンダ取り付けプレート２８２に対してほぼ平行即ち、各基板保護部材２５８のそれぞれの上側の接線を含む面とほぼ平行を保って昇降することができるようになる。
【０１０１】
尚、水冷プレート２９１に形成されている図示しない冷却水通路には例えば、大略２３℃前後の冷却水が循環されており、水冷プレート２９１の材質は伝熱性の高い、例えばアルミニウムが使用されている。その水冷プレート２９１の上面に長方形状の板材の冷却プレート２０６が、上方に配置されている６本（図２では簡略化のため揺動ローラ２０４は４本になっており、また図４の揺動ローラユニット２５０の詳細説明では、揺動ローラ２０４が５本の場合である。）の揺動ローラ２０４の隙間に配置されるように５個（図２では簡略化のため３個になっている。）密着して設けられている。なお、各冷却プレート２０６の材質は伝熱性の高い材質、例えばアルミニウムであり、図１２に示すように、冷却用ガスを給気する複数の給気穴２４１がその上面に搬送方向にａ１の間隔で並んで形成され、その搬送方向に並んで形成された給気穴２４１を１列とし、さらにその１列が搬送方向に直交する方向にａ２の間隔で複数列形成されている。また、冷却プレート２０６に形成された複数の給気穴２４１は図示しない給気通路に通じており、その給気通路に冷却用ガス給気管４２４が連通している。よって、冷却部用ガス給気管４２４から図示しない給気通路と複数の給気穴２４１を通じて冷却用ガスを、揺動ローラ２０４上に載置されたＰＤＰ用基板１０の下面に給気して冷却できるようになっている。
【０１０２】
このように、水冷プレート２９１上面に設けられた冷却プレート２０６は、昇降シリンダ２７１によって、下降位置３０から上昇位置４０までの間をシリンダ取り付けプレート２８２に対して上下方向に移動できるようになっている。また、下降位置３０と上昇位置４０の位置決めは、例えば、昇降シリンダ２７１の内部に設けられている図示しないストッパにより位置決めされている。
【０１０３】
下降位置３０は、揺動ローラ２０４上に載置されたＰＤＰ用基板１０下面から離れ過ぎないで冷却用ガスがその下面に吹付けられる程度の位置とし、上昇位置４０は、揺動ローラ２０４上に載置されたＰＤＰ用基板１０の下面を、若干、例えば１０ｍｍ程度持ち上げるくらいの位置とする。この揺動ローラ２０４からＰＤＰ用基板１０を持ち上げる距離は、１０ｍｍに限定するものでなく、各冷却プレート２０６の上面のほぼ全てがＰＤＰ用基板１０の下面に接触すれば良い。即ち、各冷却プレート２０６の上面は同一平面を構成し、好ましくは各揺動ローラ２０４の各基板保護部材２５８のそれぞれの上側の接線を含む面と各冷却プレート２０６の上面により形成される面とが、ほぼ平行であれば良い。
【０１０４】
また、昇降シリンダ２７１は図示しない電磁バルブに接続されて、その図示しない電磁バルブは制御部６００に接続されることで、制御部６００の制御の下、冷却プレート２０６は自在に上昇と下降をすることができるようになっている。
【０１０５】
ここで、冷却プレート２０６を上昇位置４０まで上昇させて、ＰＤＰ用基板１０の下面に接触させた場合、ＰＤＰ用基板１０の揺動ローラ２０４が接してる周辺部は冷却プレート２０６が無いため、冷却プレート２０６がＰＤＰ用基板１０に接触できない部分が生じる。そこで、ＰＤＰ用基板１０の揺動ローラ２０４が接している周辺部にも冷却プレート２０６が接触できるように、一度、冷却プレート２０６を下降位置３０まで下降してＰＤＰ用基板１０を各揺動ローラ２０４上に載置させる。そして、ＰＤＰ用基板１０の揺動ローラ２０４に接している周辺部が、冷却プレート２０６に接触できるようにＰＤＰ用基板１０を搬送方向にある距離Ｓ１だけ移動させて、再び冷却プレート２０６を上昇位置４０まで上昇させてＰＤＰ用基板１０に接触させるようにする。その搬送方向に移動する距離Ｓ１は揺動ローラ２０４のローラ径と揺動ローラ２０４の配置ピッチとに関係がある。例えば、揺動ローラ２０４のローラ径に対して揺動ローラ２０４の配置ピッチが２倍以上ある場合、以下の条件を満たすことが好ましい。
【０１０６】
【数２】
Ｐ−Ｄ≧Ｓ１≧Ｄ    ・・・・（２）
ここで、Ｐは揺動ローラ２０４の配置ピッチ（ｍｍ）、Ｄは揺動ローラ２０４のローラ径（ｍｍ）を表す。この式（２）を満たした距離Ｓ１だけ揺動方向にＰＤＰ用基板１０を移動させた後、冷却プレート２０６をＰＤＰ用基板下面に接触させることで、冷却プレート２０６がＰＤＰ用基板１０の下面に接触できない部分にも冷却プレート２０６を接触することができるようになる。ここで、接触できない部分とは、ＰＤＰ用基板１０が揺動ローラ２０４に載置されているため、各揺動ローラ２０４の隙間に配置されている各冷却プレート２０６の搬送方向沿いの生じる隙間である。
【０１０７】
また、揺動ローラ２０４のローラ径に対して揺動ローラ２０４の配置ピッチが２倍に満たない場合、以下の条件を満たすことが好ましい。
【０１０８】
【数３】
Ｓ１＝Ｐ／２    ・・・・（３）
この式を満たすことで、ＰＤＰ用基板１０が揺動ローラ２０４に載置されているため接触できない部分の１部にも冷却プレート２０６を接触することができるようになる。
【０１０９】
以上の式（２）、（３）より、揺動ローラ径や揺動ローラの配置ピッチを考慮せずに適用できる式（３）をこの実施例では使用する。つまり、冷却プレート２０６を上昇させる場合のＰＤＰ用基板１０の揺動方向の２位置の距離Ｓ１は、揺動ローラ２０４の配置ピッチの１／２に設定している。ここで、空冷による冷却を行う際に、ＰＤＰ用基板１０を揺動方向に揺動ローラ２０４により揺動する距離Ｓ０を揺動ローラ２０４の配置ピッチＰとしていたため、冷却プレート２０６を上昇させる際の２位置の距離は、Ｓ０の１／２にすることができる。すなわち、揺動停止位置７０と左端位置８０または、右端位置９０の間で、冷却プレート２０６を上昇させる２位置とすることができる。
【０１１０】
このように、空冷による冷却時に行うＰＤＰ用基板１０の揺動ストロークＳ０を揺動ローラ２０４の配置ピッチに設定し、伝熱による冷却時の２位置の距離Ｓ１を揺動ローラの配置ピッチの１／２に設定することで、揺動ストロークＳ０は左端位置８０と右端位置９０との間、２位置の距離Ｓ１は左端位置８０と揺動停止位置７０との間または、右端位置９０と揺動停止位置７０との間とすることができる。よって、揺動方向は３位置、即ち右端位置９０と揺動停止位置７０と左端位置８０のみ制御部６００の図示しない記憶部に格納しておけば良い。
【０１１１】
また、上記の３位置に限定するものではなく、記憶部に３つ以上の位置情報を格納する余裕がある場合、揺動ストロークＳ０を揺動ローラ２０４の配置ピッチ以上、例えば揺動ローラ２０４の配置ピッチの２倍にして右端位置９０と左端位置８０を設定し、Ｓ１を式（３）または、式（４）を満たす距離にして左端位置８０と右端位置９０とは違う位置を２箇所設定しても良い。
【０１１２】
以下、往復ストロークと給気穴２４１の配置ピッチとの関連性、往復ストロークと搬送方向に直交する方向のＰＤＰ用基板１０の大きさ、往復ストロークとＰＤＰ用基板１０上に形成される膜の種類等との関連性についてこの順で説明する。
【０１１３】
まず、図１２に示す揺動方向と直交方向に冷却プレート２０６に形成されている給気穴２４１の配置ピッチａ２と冷却プレート２０６の往復ストロークとに関連性があり、以下の式（２）のように往復ストロークを設定するのが好ましい。
【０１１４】
【数４】
往復ストローク≒ａ２    ・・・・（４）
ここで、往復ストロークとは冷却プレート２０６前端位置５０から後端位置６０までの距離（ｍｍ）を表す。
【０１１５】
上記の式（２）に示すようように、冷却プレート２０６の往復ストロークを往復ストロークの方向に形成されている給気穴２４１の配置ピッチａ２に大略等しくすることでＰＤＰ用基板１０の下面に冷却用ガスを往復運動方向に均一に吹付けることが可能となるからである。
【０１１６】
また、上述した冷却プレート２０６の前端位置５０は、揺動ローラ２０４上に載置されているＰＤＰ用基板１０に対向している後端側の冷却プレート２０６から給気される冷却用ガスがＰＤＰ用基板１０の後端側から少し外れるくらいの位置で良い。一方、冷却プレート２０６の後端位置６０は、各冷却プレート２０６が後端位置６０にあるとき、揺動ローラ２０４上に載置されているＰＤＰ用基板１０に対向している前端側の冷却プレート２０６から給気される冷却用ガスがＰＤＰ用基板１０の前端側から少し外れるくらいの位置で良い。
【０１１７】
また、往復ストロークと給気穴２４１の配置ピッチとの関係、往復ストロークと搬送方向に直交する方向のＰＤＰ用基板１０の大きさとの関係を満たした上で、さらにＰＤＰ用基板１０上に形成される膜の種類やその厚みによって、また乾燥後の膜内に含まれる溶剤の量によって、往復ストロークを変えることもできる。即ち、その膜の種類や膜の厚みや膜内に含まれる溶剤の量によって、冷却速度を高くしたい場合は、冷却プレート２０６の往復ストロークを小さくすることで、冷却プレート２０６の往復する速度を低くすることができ、逆に冷却速度を低くしたい場合は、冷却プレート２０６の往復ストロークを大きくすることで、冷却プレート２０６の往復する速度を高くすることができる。
【０１１８】
また、ＰＤＰ用基板１０上に形成される膜の種類やその厚みによって、また乾燥後の膜内に含まれる溶剤の量によって、冷却プレート２０６とＰＤＰ用基板１０との距離を変えることができるようにしても良い。例えば、厚みの異なる冷却プレート２０６を使用したり、冷却プレート２０６と水冷プレート２９１との間に伝熱性の良いプレート等を挟んで冷却プレート２０６とＰＤＰ用基板１０との距離を変えても良い。本実施例では、上記の往復ストロークを３０ｍｍに設定する。
【０１１９】
また、ＰＤＰ用基板冷却装置２００の下部に排気管２１３が設けられ、排出管４０４と接続している。排気管２１３には複数の排気穴２４２が形成されており、排気管２１３と排出管４０４とが連通することにより、冷却部内の冷却用ガスを各排気穴２４２から排気管２１３を経て排出管４０４へ排気可能となっている。排気穴２４２の形状は、円形に限らず、細長いスリット形状の開口を設けても良い。
【０１２０】
以上のように、ＰＤＰ用基板冷却装置２００において、揺動ローラ２０４によるＰＤＰ用基板１０の搬送方向の揺動とその搬送方向に直交する方向に往復運動している冷却プレート２０６によって、揺動ローラ２０４上に載置されたＰＤＰ用基板１０の下面全体に均一に冷却用ガスを給気できるようになっている。
【０１２１】
一方、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内の下部冷却プレート２０６の各給気穴２４１と連通している冷却部用ガス給気管４２４は、乾燥部用ガス給気管４２３に配置されている予熱ヒータ４３８の手前で分岐した管であり、ガス給気源４２１は、熱せられていない冷却用ガス、例えば常温の冷却用ガスをＰＤＰ用基板冷却装置２００内の下部冷却プレート２０６の各給気穴２４１を通じて給気することが可能となっている。
【０１２２】
乾燥部１００及びＰＤＰ用基板冷却装置２００に給気されるガス及び冷却用ガスの一例としては空気を用いることができ、被乾燥物に応じてＯ２の多く含まれた空気や、Ｎ２の多く含まれた不活性ガス等を用いる。
【０１２３】
上記被乾燥物とは、背面基板用のＰＤＰ用基板上１０に形成された電極、透明誘電体層、リブ、又は、蛍光体層等の膜のことをいい、また前面基板用のＰＤＰ用基板上１０に形成された電極または透明誘電体層の膜のことをいう。このため、排気部４００は、各乾燥部１００及びＰＤＰ用基板冷却装置２００の排気管１１３及び２１３と連通している上記排出管４０４を通って運ばれるガス及び冷却用ガスを１箇所に集め、それらのガス中に含まれる溶剤を分離し、溶剤の含まれないガスを炉外に排気する装置である。
【０１２４】
排気部４００は、溶剤ガス結露用熱交換器４０１と、結露収集容器４０２と、熱排気ファン４０３と、接続排気管４０５とを備えている。
【０１２５】
排気部４００の背面側に配置された溶剤ガス結露用熱交換器４０１の一端が排出管４０４と接続し、他端が接続排気管４０５を介して熱排気ファン４０３の一端と接続し、熱排気ファン４０３の他端は外部排気管４０６と接続している。
【０１２６】
溶剤ガス結露用熱交換器４０１と一端にて接続している熱排気ファン４０３は、各乾燥部１００内部とＰＤＰ用基板冷却装置２００内部より排気管１１３及び２１３と排出管４０４と溶剤ガス結露用熱交換器４０１とを通じて熱排気ファン４０３内にガス及び冷却用ガスを吸い込むようにしている。そのガス及び冷却用ガスが溶剤ガス結露用熱交換器４０１を通過するときに、ガス及び冷却用ガスに含まれている溶剤が、溶剤ガス結露用熱交換器４０１により冷却されて液化し、溶剤ガス結露用熱交換器４０１の下方に配置された結露収集容器４０２に溜められるようにしている。よって、熱排気ファン４０３の他端に連通している外部排気管４０６より、溶剤の含まれてない冷却用ガスが排気されるようになっている。
【０１２７】
以上のように構成されたＰＤＰ用基板乾燥装置５００の各乾燥部１００、ＰＤＰ用基板冷却装置２００、上下移載部３００、排気部４００、給気部４２０のそれぞれの動作は、制御部６００に格納されている動作制御プログラムによって動作制御されている。
【０１２８】
上記のように構成された、上記ＰＤＰ用基板乾燥装置５００は、以下の如く動作する。
【０１２９】
まず、乾燥及び冷却対象のＰＤＰ用基板１０が、本ＰＤＰ用基板乾燥装置５００内に搬入される前の動作について以下に述べる。
【０１３０】
４段の各乾燥部１００において、乾燥部１００内の温度があらかじめ定められた温度となるように、各乾燥部１００に設けられた上ヒータ１１１と下ヒータ１２１とにより、乾燥部１００内のガスを加熱する。
【０１３１】
また、上下移載部３００上方に設けられたフィルターユニット５０４から清浄なエアーが、上下移載空間５０６を通って、下部の炉外排気口５０３より排気されて、乾燥室５０２内が清浄に保たれている。
【０１３２】
一方、上下移載部３００は基準位置２０に待機している。ここで、ＰＤＰ用基板冷却装置２００のローラ上面の流れ面高さと、搬入・搬出口５０５の搬入、及び搬出高さ即ち、基準位置２０の高さは、同一である。４段の乾燥部１００の全ての正面扉１０２及びメンテナンス用扉１０３は閉じた状態であり、またＰＤＰ用基板冷却装置２００の正面扉２０２も閉じた状態である。
【０１３３】
次に、例えば、制御部６００の制御の下で行われる乾燥部１００とＰＤＰ用基板冷却装置２００の一例として、ＰＤＰ用基板１０上の電極の乾燥と冷却について順次説明する。
【０１３４】
ＰＤＰ用基板乾燥装置５００外において背面基板としてのＰＤＰ用基板１０上に例えば電極が形成されたＰＤＰ用基板１０が搬入・搬出口５０５より搬入される。そして、基準位置２０で停止している基板移載部３１０の全てのローラ３１１が時計方向に同期回転することで、ＰＤＰ用基板１０はローラ３１１上に乗り移らされ、ＰＤＰ用基板１０が該ローラ３１１上に安定して載置されるまで、ローラ３１１は回転する。ここで、時計方向及び反時計方向とは、図１においての時計方向及び反時計方向である。
【０１３５】
その後、ＰＤＰ用基板１０がローラ３１１に安定して載置されると、ローラ３１１は回転を停止する。一方、制御部６００によって所望の温度に設定されたある１つの乾燥部１００例えば、最上段の乾燥部１００における正面扉１０２が該正面側開口の下端縁部の支点を軸に開く。
【０１３６】
上記正面扉１０２が開いた後、ローラ３１１上にＰＤＰ用基板１０を載置した基板移載部３１０は、正面扉１０２が開いている乾燥部１００に対向する位置まで、上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとの同期回転により、ＰＤＰ用基板１０をローラ３１１上に安定して載置したままの状態で上昇して、最上段の乾燥部１００に対向する位置に位置決めして停止される。
【０１３７】
上記位置決めが完了すると、正面扉１０２が開いている乾燥部１００の全てのローラ１０４が時計方向に同期回転し続け、基板移載部３１０の全てのローラ３１１も時計方向に同期回転を行う。ローラ１０４とローラ３１１とが各々同期回転することで、ＰＤＰ用基板１０はローラ１０４上に乗り移らされ、ＰＤＰ用基板１０がローラ１０４に安定して載置されるまで、ローラ１０４及びローラ３１１は回転する。
【０１３８】
その後、ＰＤＰ用基板１０がローラ１０４に安定して載置されると、ローラ１０４及びローラ３１１は回転を停止し、基板移載部３１０は基準位置２０まで上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとの同期回転により下降し、次に搬入・搬出口５０５より搬入されるＰＤＰ用基板１０に備える。
【０１３９】
上記基板移載部３１０が基準位置２０まで下降した後、ローラ１０４に安定してＰＤＰ用基板１０を載置している乾燥部１００の正面扉１０２が閉じる。
【０１４０】
上記乾燥部１００の正面扉１０２が閉じられた後、乾燥部１００内の温度があらかじめ定められた温度（例えば大略１２０℃前後の温度）になるように、各乾燥部１００に設けられた上ヒータ１１１と下ヒータ１２１とを制御部６００によって温度制御する。
【０１４１】
また、上記乾燥部１００内の温度を大略１２０℃前後に維持している間、ガスが各給気管１１２に形成された各給気穴１４１より上ヒータ１１１に向かって給気されることで、ＰＤＰ用基板１０上の電極にガスが直接当たることなく、また、電極上方の溶剤濃度を大略均一に保ちながら乾燥部１００内を流れ、ガスがＰＤＰ用基板１０の電極より蒸発した溶剤を同伴して各排気穴１４２を通って各排気管１１３へ吸い込まれ、排出管４０４を通って、乾燥部１００内より排気される。ガスは乾燥部用ガス給気管４２３の上流側に設けられた予熱ヒータ４３８によって、あらかじめ熱せられたガスであり、例えば、ガスの温度は８０℃〜１００℃である。
【０１４２】
また、上述したように、乾燥部１００内において、正面扉１０２内側に取り付けられたヒータ１０５と、背面メンテナンス用扉１０３の内側に取り付けられた背面ヒータ１０６と、側面ヒータ１０７は例えば８０度に加熱され、ＰＤＰ用基板１０の電極より蒸発した溶剤の結露発生を予防する。
【０１４３】
このように、大略１２０℃前後に温度設定された乾燥部１００内において、全てのローラ１０４が正逆同期回転を周期的に繰り返すことにより、ローラ１０４に安定して載置されているＰＤＰ用基板１０は、搬送方向（図１における左右方向）に揺動する。よって、給気管１１２に斜め上向きに形成された各給気穴１４１より給気されるガスが乾燥部１００内を流れ、流出したガスがＰＤＰ用基板１０上の電極の同じ個所に当たらないように、ＰＤＰ用基板１０を搬送方向に揺動することで、ＰＤＰ用基板１０上の電極を均一に乾燥することが可能となり、乾燥ムラを軽減できる。この揺動は乾燥工程の間行われている。
【０１４４】
上記のように、一定温度で管理された乾燥部１００内において、一定周期で左右に揺動されたＰＤＰ用基板１０の電極は、所定時間が経過すると乾燥工程を終了し、正面扉１０２が開く。
【０１４５】
ＰＤＰ用基板１０の電極の乾燥が終了して正面扉１０２が開くと、ローラ３１１上にＰＤＰ用基板１０を載置していない基板移載部３１０は、基準位置２０から正面扉１０２が開いている乾燥部１００に対向する位置まで、上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとの同期回転により上昇して、乾燥部１００に対向する位置に位置決めして停止される。上記位置決めが完了すると、基板移載部３１０の全てのローラ３１１が反時計方向に同期回転し続け、正面扉１０２が開いている乾燥部１００の全てのローラ１０４も時計方向に同期回転を行う。ローラ１０４とローラ３１１とが各々同期回転することで、ＰＤＰ用基板１０はローラ３１１上に乗り移らされ、ＰＤＰ用基板１０がローラ３１１に安定して載置されるまで、ローラ１０４及びローラ３１１は回転する。
【０１４６】
ＰＤＰ用基板１０がローラ３１１に安定して載置されると、該ローラ１０４及びローラ３１１は回転を停止し、基板移載部３１０は乾燥部１００から基準位置２０まで上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとの同期回転により下降し、基準位置２０、即ちＰＤＰ用基板冷却装置２００に対向する位置に位置決めして停止される。
【０１４７】
正面扉２０２が開いているＰＤＰ用基板冷却装置２００の全ての揺動ローラ２０４が時計方向に同期回転し、基板移載部３１０の全てのローラ３１１も時計方向に同期回転を行う。
【０１４８】
上記揺動ローラ２０４とローラ３１１とが各々同期回転することで、ＰＤＰ用基板１０は揺動ローラ２０４上に乗り移らされ、ＰＤＰ用基板１０が揺動ローラ２０４に安定して載置されるまで、揺動ローラ２０４及びローラ３１１は回転する。
【０１４９】
ＰＤＰ用基板１０が揺動ローラ２０４に安定して載置されると、揺動ローラ２０４及びローラ３１１は回転を停止し、基板移載部３１０はＰＤＰ用基板冷却装置２００の上方の位置であって正面扉２０２の開閉に支障の無い位置まで上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとの同期回転により上昇した後、ＰＤＰ用基板冷却装置２００の正面扉２０２が閉じられる。ＰＤＰ用基板冷却装置２００の正面扉２０２が閉じられた後、基板移載部３１０は乾燥部１００から基準位置２０まで上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとの同期回転により下降し、基準位置２０で再び搬入・搬出口５０５より搬入されるＰＤＰ用基板１０に備える。
【０１５０】
以下、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内において、制御部６００によって、空冷による冷却段階と伝熱による冷却段階の２段階の冷却により最適に冷却工程を行う一例を説明する。ここで、空冷による冷却段階とは、最初の冷却段階の一例であり、伝熱による冷却段階とは、次の冷却段階の一例である。
【０１５１】
まず、揺動ローラ２０４によるＰＤＰ用基板１０の搬送方向の揺動とともに、冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動させて行う空冷による冷却段階の動作について説明する。
【０１５２】
ＰＤＰ用基板冷却装置２００内にＰＤＰ用基板１０が搬入されると、搬入のために回転していた揺動ローラ２０４の回転が停止し、ＰＤＰ用基板１０は揺動停止位置７０で停止する。ここで、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内に搬入されたＰＤＰ用基板１０上に形成された電極は、乾燥部１００で完全に乾燥しきっておらず、電極内に溶剤がまだ残っている状態である。揺動ローラ２０４の回転停止後、揺動用モータ２５１に取り付けられている図示しないエンコーダによる回転角度の検出結果に基づいて制御部６００の制御の下で、揺動用モータ２５１を正逆回転させる。揺動用モータ２５１を正逆回転させることで、モータ側歯車２５２とローラ側歯車２５４と歯付きベルト２５３とを介して、６本の全ての揺動ローラ２０４を同時に正逆回転する。よって、揺動ローラ２０４上に載置されたＰＤＰ用基板１０は揺動停止位置７０から左へ揺動ローラ２０４の配置ピッチの半分の距離、例えば、大略８０〜１２０ｍｍの左端位置８０と右に揺動ローラ２０４の配置ピッチの半分の距離、例えば、８０〜１２０ｍｍの右端位置９０とに繰り返し移動することで、搬送方向に揺動する。
【０１５３】
揺動ローラ２０４によるＰＤＰ用基板１０の搬送方向の揺動運動が開始後、冷却プレート２０６の複数の給気穴２４１からＰＤＰ用基板１０の下面に向かって冷却用ガスが給気される。また、給気穴２４１から冷却用ガスが給気後、往復用モータ２７８の往復用モータ出力軸２８５を１方向に連続回転させる。往復用モータ出力軸２８５が回転すると、往復側クランクプレート２７４と中間クランクプレート２７５とモータ側クランクプレート２７６とシリンダ取り付けプレート２８２とモータ側ピン２８６と往復側ピン２８７とＬＭレール２８０ａ、２８０ｂとＬＭガイドブロック２８３ａ〜２８３ｄとにより構成されるクランクスライダー機構によってシリンダ取り付けプレート２８２を搬送方向に直交する方向に往復運動させる。シリンダ取り付けプレート２８２が搬送方向に直交する方向に往復運動することで、そのシリンダ取り付けプレート２８２に取り付けられた昇降シリンダ２７１と水冷プレート２９１とを介して５個の冷却プレート２０６が、揺動ローラ２０４によるＰＤＰ用基板１０の搬送方向に直交する方向にそれぞれ往復運動する。よって、揺動ローラ２０４によるＰＤＰ用基板１０の搬送方向の揺動と、搬送方向に直交する方向の冷却プレート２０６の往復運動を伴う冷却用ガスの吹付けが組み合わさって、ＰＤＰ用基板１０の下面全体に均一に冷却用ガスを吹き付けるようになる。
【０１５４】
なお、５個の冷却プレート２０６は各揺動ローラ２０４の各隙間にそれぞれ配置されているため、各揺動ローラ２０４の各隙間に沿って搬送方向に直交する方向に冷却用ガスは吹付けられる。
【０１５５】
この場合の冷却プレート２０６の搬送方向に直交する方向への往復運動の速度は例えば３５ｍｍ／ｓとし、揺動ローラ２０４によるＰＤＰ用基板１０の搬送方向への揺動速度は例えば２０ｍｍ／ｓである。
【０１５６】
また、冷却プレート２０６の搬送方向に直交する方向に往復運動する距離、即ち冷却プレート２０６の前端位置５０から後端位置６０までの往復ストロークを例えば、３０ｍｍにする。この場合、ピン固定用ネジ軸２８９を回してモータ側ピン２８６の軸心と往復用モータ出力軸２８５の軸心との距離Ｌを１５ｍｍに設定する。即ち、必要な往復ストロークに対してモータ側ピン２８６の軸心と往復用モータ出力軸２８５の軸心との距離を１／２に設定する。
【０１５７】
以上のように、ＰＤＰ用基板１０の下面全体に均一に冷却用ガスを吹付けることで、ＰＤＰ用基板１０上の電極は、ＰＤＰ用基板１０の全体に渡って温度差の小さい状態で冷却される。即ち、電極内に含まれている溶剤は、ＰＤＰ用基板１０の全体に渡って大略均一に蒸発し、乾燥ムラの発生を軽減しながら冷却できる。
【０１５８】
また、ＰＤＰ用基板１０の下面に吹付けられた冷却用ガスは、電極内から蒸発した溶剤を同伴して、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内に設けられている排気管２１３に形成されている複数の排気穴２４２を通ってＰＤＰ用基板冷却装置２００の外に排気される。このように、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内における冷却用ガスの循環により、電極から蒸発した溶剤の濃度をＰＤＰ用基板冷却装置２００内において大略一定に保つようになっている。ＰＤＰ用基板冷却装置２００内の溶剤濃度を大略一定に保つことにより、電極内の溶剤の蒸発も促進できる。
【０１５９】
以上のように、冷却用ガスをＰＤＰ用基板１０の下面全体に均一に吹付けて行う空冷による冷却段階は、ＰＤＰ用基板１０上に形成された電極に含まれる溶剤が完全に蒸発した後に終了する。この冷却段階は電極の場合、例えば、大略２分前後である。なお、上記の大略２分前後という時間は、ＰＤＰ用基板１０上の電極の温度、例えば大略５０℃前後に下がるまでの時間であり、電極の温度が大略５０℃前後まで下がると電極内の溶剤は完全に蒸発しきるようになる。
【０１６０】
よって、冷却用ガスを吹付けて行う空冷による冷却段階が所定時間例えば、大略２分前後の経過後に終了すると、空冷によって、ＰＤＰ用基板１０の温度を例えば５０℃から常温に冷却するには時間を要するので、さらにＰＤＰ用基板１０の温度を短時間で常温に下げるために、伝熱による冷却段階に入る。
【０１６１】
以下、冷却プレート２０６を直接ＰＤＰ用基板１０に当てて行う伝熱による冷却段階の動作について説明する。
【０１６２】
ＰＤＰ用基板１０がＰＤＰ用基板冷却装置２００内に搬入されて、ＰＤＰ用基板１０上の電極内の溶剤が完全に蒸発した後、即ち、空冷による冷却段階終了後、揺動用モータ２５１に取り付けられた図示しないエンコーダによる回転角度の検出結果により、制御部６００の制御の下で揺動用モータ２５１の回転は、ＰＤＰ用基板１０が揺動停止位置７０に停止するように停止する。
【０１６３】
一方、往復用モータ２７８の回転は、往復用モータ出力軸２８５に設けられた往復位置決め用ドグ２７７が中間位置決め用センサ２８４ｂを遮光した位置で停止する。即ち冷却プレート２０６が中間位置５５で停止する。往復用モータ２７８が回転停止後、冷却プレート２０６から給気されていた冷却用ガスは給気部４２０により停止する。
【０１６４】
次に、昇降シリンダ２７１の駆動によりシリンダ出力軸２８８を上方向に移動させ、水冷プレート２９１を上方に持ち上げる。水冷プレート２９１が上方に移動することで、６本の揺動ローラ２０４の各隙間に配置されるように水冷プレート２９１上に設けられている５個の冷却プレート２０６のそれぞれの上面が、ＰＤＰ用基板１０の下面にほぼ同時に接触して、ＰＤＰ用基板１０を揺動ローラ２０４上から若干、例えば１０ｍｍ程度浮かした状態とする。
【０１６５】
また、水冷プレート２９１内の図示しない冷却水通路に循環されている水温は大略２３℃前後である。水冷プレート２９１と冷却プレート２０６の材質は伝熱性の高い材質、例えばアルミニウムを使用し、かつ水冷プレート２９１と冷却プレート２０６は密着して設けられているため、各冷却プレート２０６の上面も大略水温と同じになっている。
【０１６６】
５個の冷却プレート２０６の各上面に接触して保持されているＰＤＰ用基板１０の熱は、ＰＤＰ用基板１０の下面から冷却プレート２０６の上面へ移動し、冷却プレート２０６の上面から下面に向かって移動する。さらに、冷却プレート２０６の下面の熱は、水冷プレート２９１の上面を通って水冷プレート２９１内の冷却水へ移動する。冷却プレート２０６内の冷却水へ移動した熱は、冷却水が冷却プレート２０６とＰＤＰ用基板冷却装置２００外との間を循環しているため、循環されている冷却水とともに冷却プレート２０６からＰＤＰ用基板冷却装置２００外へ移動する。なお、熱を含んだ冷却水は、ＰＤＰ用基板冷却装置２００外で例えば、図示しない放熱板に形成された通路を通って冷却された後、水冷用ポンプ２９２へ移動し、再び水冷用ポンプ２９２から水冷プレート内へ冷却された冷却水を水冷用ポンプ２９２によって送り出す。このように、ＰＤＰ用基板１０の熱を冷却プレート２０６を介して水冷プレート２９１内の冷却水へ移動させて、水冷プレート２９１内の冷却水を循環させることで逐次に冷却水内の熱を奪っていき、効率的にＰＤＰ用基板１０を冷却することができる。
【０１６７】
次に、冷却プレート２０６が上昇してから所定の時間例えば、２０〜３０秒前後が経過すると、昇降シリンダ２７１の駆動によりシリンダ出力軸２８８が下降して、冷却プレート２０６も下降することで、再びＰＤＰ用基板１０は揺動ローラ２０４上に載置される。
【０１６８】
シリンダ出力軸２８８が下降し終わると、ＰＤＰ用基板１０の揺動停止位置７０から左端位置８０へ向かって例えば、揺動ローラの配置ピッチの半分の距離だけ移動するように、揺動用モータ２５１を回転させる。ＰＤＰ用基板１０が左端位置８０へ移動したことを、揺動用モータ２５１内に設けられた図示しないエンコーダによって検出すると、制御部６００により揺動用モータ２５１の回転を停止する。この場合、左端位置８０としたが右端位置９０でも良く、左右どちらか端の位置で停止すれば良い。
【０１６９】
揺動用モータ２５１の回転が停止すると、再び昇降シリンダ２７１の駆動によりシリンダ出力軸２８８を上昇させて、６個の冷却プレート２０６の上面をＰＤＰ用基板１０の下面に接触させて持ち上げる。上記と同様に所定時間経過後、昇降シリンダ２７１の駆動によりシリンダ出力軸２８８を下降させた後、ＰＤＰ用基板１０を左端位置８０から揺動停止位置７０に向かって移動させる。
【０１７０】
このように、ＰＤＰ用基板１０の左右の移動と冷却プレート２０６の上昇、下降を繰り返すことで、揺動ローラ２０４が接しているＰＤＰ用基板１０の下面も交互に冷却プレート２０６によって冷却することができる。
【０１７１】
以上のように、冷却プレート２０６の上下を繰り返して行う伝熱による冷却段階はＰＤＰ用基板１０が大略常温まで下がると終了する。この終了するまでの所定時間は電極の場合、例えば、大略３分前後である。なお、上述したように、空冷による冷却時間の終了時と伝熱による冷却時間の終了時とを制御部６００に含まれる図示しない例えば、タイマ等で検出しても良いが、往復回数計数用センサ２８４ａにより空冷による冷却時間の終了時を冷却プレート２０６の往復する回数で検出しても良い。また、上記で伝熱による冷却段階の冷却時間を大略３分前後としたが、伝熱による冷却の目的は、ＰＤＰ用基板１０を常温近くまで冷却することで次工程で扱い易くすることであり、伝熱による冷却段階の冷却時間は、大略３分前後に限らず、生産サイクルタイムの中で冷却にかける時間が十分にある場合は大略３分以上としても良いし、生産効率を上げるために冷却にかける時間があまり取れない場合は大略３分以下としても良い。但し，ＰＤＰ用基板１０の温度が常温近くまで下がると、ＰＤＰ用基板１０の温度と大略常温に保たれている冷却プレート２０６との温度差が小さくなることで、ＰＤＰ用基板１０の冷却される速度が遅くなり、ＰＤＰ用基板１０の温度が常温になるまでに長い時間を要するようになる。そのため、生産サイクルタイムの中で冷却にかける時間が十分にある場合は、長めに伝熱による冷却時間を取った方が好ましい。なお、空冷による冷却が終了した後の伝熱による冷却において、ＰＤＰ用基板１０を均一に同時に冷却しなくても、空冷後の電極の温度が大略５０℃前後まで下がっており電極内に溶剤が残ってないため、乾燥ムラは発生しない。また、一例として、電極の場合の空冷による冷却時間を大略２分前後、伝熱による冷却時間を大略３分前後と説明したが、透明誘電体層及び蛍光体層も同様の冷却時間で良い。
【０１７２】
なお、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内において、正面扉２０２内側に取り付けられたヒータ２０５と、背面メンテナンス用扉２０３の内側に取り付けられた背面ヒータ２３６と、側面ヒータ２０７と上部ヒータ２１１とは例えば８０度に加熱され、ＰＤＰ用基板１０の電極より蒸発した溶剤の結露発生を予防する。
【０１７３】
以上の空冷による冷却段階及び、伝熱による冷却段階も終了すると、即ち冷却工程を終了すると、基板移載部３１０がＰＤＰ用基板冷却装置２００の上方の位置であって正面扉２０２の開閉に支障の無い位置まで上昇した後、基板正面扉２０２が開く。
【０１７４】
ＰＤＰ用基板１０の電極の冷却工程が終了して、正面扉２０２が開くと、ローラ３１１上にＰＤＰ用基板１０を載置していない基板移載部３１０は、正面扉２０２が開いているＰＤＰ用基板冷却装置２００に対向する位置即ち、基準位置２０まで、上下駆動モータ３２２ａと３２２ｂとの同期回転により下降して、基準位置２０に対向する位置に位置決めして停止される。上記位置決めが完了すると、基板移載部３１０の全てのローラ３１１が反時計方向に同期回転し、正面扉２０２が開いているＰＤＰ用基板冷却装置２００の全ての揺動ローラ２０４も時計方向に同期回転を行う。上記ローラ２０４とローラ３１１とが各々同期回転することで、ＰＤＰ用基板１０はローラ３１１上に乗り移らされ、ＰＤＰ用基板１０が基板移載部３１０内を通過して搬入・搬出口５０５から搬出されるまで、揺動ローラ２０４及びローラ３１１は回転する。ここで、ＰＤＰ用基板冷却装置２００のローラ上面の流れ面高さと、搬入・搬出口５０５の搬入及び搬出高さ即ち、基準位置２０の高さは、同一である。
【０１７５】
以上のように、ＰＤＰ用基板乾燥装置５００は、ＰＤＰ用基板１０上の電極をある温度設定された最上段の乾燥部１００内で乾燥し、その後、ＰＤＰ用基板冷却装置２００内で空冷による冷却を行った後、伝熱による冷却を行い、最後に、搬入・搬出口５０５より搬出するという動作を、あらかじめ制御部６００内に格納された動作プログラムにより実行する。
【０１７６】
上記第１実施形態によれば、ＰＤＰ用基板１０を支持しかつ搬送方向に揺動可能な各揺動ローラ２０４と、各揺動ローラ２０４を回転させる揺動ユニット２５０と、隣接する揺動ローラ２０４の隙間の下方に配置され、かつ、冷却用ガスをＰＤＰ用基板１０の下面に向かって給気する給気穴２４１を有する冷却プレート２０６と、上記冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動させる冷却プレート前後往復部２９０とを備え、揺動ユニット２５０による各揺動ローラ２０３を正逆回転させてＰＤＰ用基板１０を搬送方向に動かす揺動運動と、冷却プレート前後往復部２９０による冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に動かす往復運動とを同時的に行うように制御部６００によって動作制御させることで、揺動ローラ２０４に載置されたＰＤＰ用基板１０の下面の全体に均一に冷却用ガスを吹付けることができる。よって、ＰＤＰ用基板１０の全体に渡って温度分布が均一な状態で冷却されることになり、ＰＤＰ用基板１０上の電極に含まれる溶剤もＰＤＰ用基板１０の全体に渡って大略均一に蒸発して、乾燥ムラを軽減しながら冷却することができる。以上のように、ＰＤＰ用基板１０を搬送方向に揺動させながら、冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動して冷却させることにより、乾燥ムラが減少している例を図１１に示す。図に示す２つの曲線の下側のハッチング部は乾燥ムラが発生する領域である。図に示すように、同じ流量で比較すると、冷却プレート２０６を往復運動しない場合に比べて、冷却プレート２０６を往復運動する場合の方がＰＤＰ用基板１０と冷却プレート２０６との距離を短くしても乾燥ムラは発生しにくくなっている。即ち、往復運動しない場合に乾燥ムラが生じるＰＤＰ用基板１０と冷却プレート２０６との距離においても、冷却プレート２０６を往復運動することにより乾燥ムラがなくなっている領域がある。
【０１７７】
一方、図１０に示すように、冷却速度において、同じ流量で比較すると、ＰＤＰ用基板１０と冷却プレート２０６との距離を小さくしたほうが平均冷却速度を上げることができる。このように、ＰＤＰ用基板１０の平均冷却速度を上げるべく、冷却プレート２０６をＰＤＰ用基板１０に近づける場合は、乾燥ムラの発生を抑制するために冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動して冷却することがより効果的である。即ち、ＰＤＰ用基板１０を搬送方向に揺動させながら、冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動してＰＤＰ用基板１０を冷却させることにより、ＰＤＰ用基板１０の品質を保ったまま冷却時間の短縮が可能となる。
【０１７８】
また上記した効果以外に以下の効果がある。
【０１７９】
循環する冷却水の図示しない通路を有し、冷却プレート２０６の下面に密着して設けられた水冷プレート２９１と、隣接する揺動ローラ２０４の隙間でＰＤＰ用基板１０の下面に冷却プレート２０６の上面が接触してＰＤＰ用基板１０の熱を冷却水を介して水冷プレート２９１の冷却水に移動可能な上昇位置４０と、冷却プレート２０６がＰＤＰ用基板１０から下方に離れてかつ、冷却プレート２０６の給気穴２４１からの冷却用ガスがＰＤＰ用基板１０の下面に達する下降位置３０との間で昇降する冷却プレート昇降部２７０とを備えており、ＰＤＰ用基板１０の搬送方向への揺動停止後、隣接する揺動ローラ２０４の隙間でＰＤＰ用基板１０の下面に冷却プレート２０６の上面が接触することで、ＰＤＰ用基板１０の熱を冷却プレート２０６の下面に密着して設けられた水冷プレート２９１を介し、水冷プレート２９１内に設けられた循環する冷却水に移動させることができる。よって、ＰＤＰ用基板１０の熱を直接的、かつ効率的に奪うことによって冷却することで、冷却用ガスをＰＤＰ用基板１０の下面に吹付けて行う冷却よりも短時間での冷却が可能となって生産性の向上に貢献することが可能となる。
【０１８０】
また、制御部６００は、ＰＤＰ用基板１０の搬送方向と直交する方向に冷却プレート２０６を往復させる往復運動の速度をＰＤＰ用基板１０を搬送方向に揺動させる速度より速くするように揺動ローラユニット２５０と冷却プレート前後往復部２９０とを動作制御することにより、冷却プレート２０６からＰＤＰ用基板１０の下面に向かって吹付けられる冷却用ガスが、ＰＤＰ用基板１０の下面の同じ場所に繰り返し当たることなくＰＤＰ用基板１０の下面の全体にさらに均一に吹付けることができるようになる。よって、さらに乾燥ムラを一層軽減しながら冷却することができる。
【０１８１】
また、ＰＤＰ用基板１０の搬送方向と直交する方向に冷却プレート２０６を往復させる往復運動のストロークが、冷却プレート２０６に形成される複数の給気穴２４１の往復運動方向のピッチに大略等しくなるように冷却プレート前後往復部２９０を調整することで、給気穴２４１から供給される冷却用ガスが、往復運動方向で途切れることなく連続してＰＤＰ用基板１０に吹付けられるようになり、ＰＤＰ用基板１０の下面の全体にさらに均一に吹付けることができるようになる。よって、さらに乾燥ムラを一層軽減しながら冷却することができる。
【０１８２】
また、冷却プレート前後往復部２９０は、往復運動の駆動源である往復用モータ２７８とクランク機構部９１とスライダー部９２とを備えて、上記クランク機構部９１に接続された往復用モータ２７８の回転運動は、クランク機構部９１とスライダー部９２との接続により、スライダー部９２に案内される搬送方向と直交する方向の往復運動に変換されるようになっている。即ち、クランク機構部９１は、往復用モータ２７８の往復用モータ出力軸２８５に一端部が設けられたモータ側クランクプレート２７６と、モータ側クランクプレート２７６の他端部から往復用モータ出力軸２８５の軸心に向かって往復用モータ出力軸２８５の軸方向と直交方向にモータ側クランクプレート２７６に形成された溝部２９５内に上下方向に沿って一端部のみが溝部２９５内を移動可能に設けられ、下端部に溝部２９５の長手方向に沿って穴が形成され、穴の内面にメネジ部２９６が形成されているモータ側ピン２８６と、モータ側クランクプレート２７６の両端部を貫通してモータ側ピン２８６のメネジ部２９６にねじ込まれているピン固定用ネジ軸２８９と、ピン固定用ネジ軸２８９の一端部にねじ込むことでモータ側ピン２８６を溝部２９５内に位置調整可能に固定する固定用ナット２９４と、両端に軸受け２７９ａ、２７９ｂを有して、その一端の軸受け２７９ａを介してモータ側ピン２８６に対して回転自在に設けられた中間クランクプレート２７５とを備えている。クランク機構部９１において、固定用ナット２９４を緩めて、ピン固定用ネジ軸２８９をモータ側ピン２８６に対して正逆回転することで、モータ側ピン２８６を溝部２９５内で往復用モータ出力軸２８５に対して進退させてモータ側ピン２８６の位置調整を行うことにより、搬送方向に直交して往復運動する冷却プレート２０６の往復ストロークを変えることができる。この結果、搬送方向に直交する方向に冷却プレート２０６に形成された給気穴２４１の配置ピッチや、搬送方向に直交する方向のＰＤＰ用基板１０の大きさによって、往復ストロークを変更することによって、ＰＤＰ用基板１０の搬送方向に直交する方向に均一に、かつ、その方向沿いのＰＤＰ用基板１０の全部に冷却用ガスを吹付けることができ、またＰＤＰ用基板１０上に形成されている膜の種類やその厚みや膜内に含まれる溶剤の量によって、往復ストロークを変更することによって、冷却速度を変えることができるようになる。よって、さらに乾燥ムラを一層軽減しながら冷却することができる。
【０１８３】
また、本発明のＰＤＰ用基板冷却方法によれば、ＰＤＰ用基板１０を少なくとも２個の揺動ローラ２０４上に載置して搬送方向に揺動しながら、隣接する揺動ローラ２０４の隙間の下方から冷却用ガスを給気することでＰＤＰ用基板１０上の被乾燥物の冷却を行う際、各揺動ローラ２０４上に載置されたＰＤＰ用基板１０を上記搬送方向に揺動させるのと同時的に、冷却用ガスを給気する冷却プレート２０６を搬送方向に直交した方向に往復運動させながらＰＤＰ用基板１０の下面全体に冷却用ガスを吹付けて行う。この結果、ＰＤＰ用基板１０の全体に渡って温度分布が均一な状態で空冷により冷却されることになり、電極に含まれる溶剤もＰＤＰ用基板１０の全体に渡って大略均一に蒸発して、乾燥ムラを軽減しながら冷却することができる。
【０１８４】
また、最初の冷却段階として、ＰＤＰ用基板１０の下面全体に冷却用ガスを吹付けて空冷による冷却を行った後、すなわちＰＤＰ用基板１０上の電極の溶剤が完全に蒸発しきった後、次の冷却段階として、搬送方向のＰＤＰ用基板１０の揺動を止めて、隣接する揺動ローラ２０４の隙間のＰＤＰ用基板１０の下面に冷却プレート２０６を直接接触させて伝熱による冷却を行うような２段階の冷却行う。この結果、ＰＤＰ用基板１０の熱を直接的、かつ効率的に奪うことによって冷却することで、空冷のみで冷却を行うよりも短時間での冷却が可能となり、生産性の向上に貢献することが可能となる。
【０１８５】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。
【０１８６】
例えば、図１３にその第１変形例である冷却プレート２０６に形成される給気穴２４１を示す。冷却用ガスを給気する複数の給気穴２４１が冷却プレート２０６上面に搬送方向に直交する方向にａ２の間隔で並んで形成され、その搬送方向に直交する方向に並んで形成された給気穴２４１を１列とし、さらに基板の搬送方向にａ１の間隔で複数列形成され、列に搬送方向に直交する方向に並んでいる給気穴２４１と、その隣りの列に搬送方向に直交する方向に並んでいる給気穴２４１とが搬送方向に直交する方向で位相が１／２ピッチ分ずれている。ここで、ピッチとは搬送方向に直交する方向にａ２の間隔で並んで形成されている給気穴２４１のピッチである。このように、冷却プレート２０６上に千鳥状に給気穴２４１を形成することで、搬送方向に直交する方向に密に給気穴が形成されているのと同様の効果があり、搬送方向沿いに生じる帯状の乾燥ムラを防ぐためにする搬送方向に直交する方向の往復運動のストロークも小さくすることが可能となる。例えば、図１４、図１５は上記の第１変形例である冷却プレート２０６上に千鳥状に給気穴２４１を形成した場合において、冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動しなかったとき、即ち、ＰＤＰ用基板１０の搬送方向の揺動のみ行ったときのＰＤＰ用基板１０の下面に吹付けられる冷却用ガスの範囲を表す。図１５に示すようにＰＤＰ用基板１０の搬送方向への揺動により、搬送方向沿いに冷却用ガスが吹付けられる部分と吹付けられない部分とが１／２×ａ２の間隔で生じる。ここで、ハッチング部は冷却用ガスが吹付けられる部分を示す。
【０１８７】
また、第２の変形例として、図１４に示す千鳥上に配置された円形である給気穴２４１を図１６のように、１つの円形である給気穴２４１の面積と等しく、かつ搬送方向に直交する方向に円を変形させたような楕円状の１つの給気穴２４３を千鳥状に形成する。さらに、その楕円状の給気穴２４３は、搬送方向に直交する方向沿いに並んでいる給気穴２４３と、その隣の列に搬送方向に直交する方向沿いに並んでいる給気穴２４３とは搬送方向に直交する方向で重なるようにそれぞれ搬送方向に直交する方向に長く形成されている。このような、隣り合う列で搬送方向に直交する方向に重なるように形成された楕円状の給気穴２４３を形成した冷却プレート２０６は、ＰＤＰ用基板１０の搬送方向に直交する方向には往復運動せずに、ＰＤＰ用基板１０を搬送方向に揺動のみ行った場合の冷却用ガスが吹付けられる範囲は、図１７のハッチング部になる。よって、隣り合う列で搬送方向に直交する方向に重なるように形成された楕円状の給気穴２４３により、冷却プレート２０６を搬送方向に直交する方向に往復運動せずに、搬送方向の揺動のみでＰＤＰ用基板１０の下面全体に均一に冷却用ガスを吹付けることができるようになる。よって、冷却プレート前後往復部２９０を必要としないで、搬送方向沿いに生じる帯状の乾燥ムラを軽減でき、かつ部品点数の削減できコストダウンを図ることができる。
【０１８８】
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
【０１８９】
【発明の効果】
本発明のＰＤＰ用基板ＰＤＰ用基板冷却装置よれば、上記ＰＤＰ用基板を支持しかつ上記搬送方向に揺動可能な少なくとも２個のローラと、上記各ローラを回転させる回転駆動部と、上記隣接するローラの隙間の下方に配置され、かつ、上記冷却用ガスを上記ＰＤＰ用基板の下面に向かって供給する給気穴を有する冷却部材と、上記冷却部材を上記搬送方向に直交する方向に往復運動させる往復運動駆動部とを備え、上記回転駆動部による上記各ローラを正逆回転させて上記ＰＤＰ用基板を搬送方向に動かす揺動運動と、上記往復運動駆動部による上記冷却部材を搬送方向に直交する方向に動かす往復運動とを同時的に行うように上記制御部によって動作制御させることで、上記ローラに載置された上記ＰＤＰ用基板の下面の全体に均一に冷却用ガスを吹付けることができる。よって、ＰＤＰ用基板の全体に渡って温度分布が均一な状態で冷却されることになり、上記ＰＤＰ用基板上の被乾燥物に含まれる溶剤もＰＤＰ用基板の全体に渡って大略均一に蒸発して、乾燥ムラを軽減しながら冷却することができる。
【０１９０】
また、循環する冷却媒体の通路を有し、上記冷却部材の下面に密着して設けられた冷却媒体循環部材と、上記隣接するローラの隙間で上記ＰＤＰ用基板の下面に上記冷却部材の上面が接触して上記ＰＤＰ用基板の熱を上記冷却媒体循環部材を介して上記冷却媒体循環部材の上記冷却媒体に移動可能な上昇位置と、上記冷却部材が上記ＰＤＰ用基板から下方に離れてかつ、上記冷却部材の上記給気穴からの上記冷却用ガスが上記ＰＤＰ用基板の下面に達する下降位置との間で昇降する昇降部とを備える場合には、上記ＰＤＰ用基板の搬送方向への揺動停止後、上記隣接するローラの隙間で上記ＰＤＰ用基板の下面に上記冷却部材の上面が直接接触することで、上記ＰＤＰ用基板の熱を上記冷却部材の下面に密着して設けられた上記冷却媒体循環部材を介し、上記冷却媒体部材内に設けられた循環する冷却媒体に直接移動させることができる。よって、上記ＰＤＰ用基板の熱を直接的、かつ効率的に奪うことによって冷却することで、短時間での冷却が可能となって生産性の向上に貢献することが可能となる。
【０１９１】
また、上記制御部は、上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向と直交する方向に上記冷却部材を往復させる上記往復運動の速度を上記ＰＤＰ用基板を上記搬送方向に揺動させる速度より速くするように上記回転駆動部と上記往復運動駆動部とを動作制御するように構成する場合には、冷却部材からＰＤＰ用基板の下面に向かって吹付けられる冷却用ガスが、上記ＰＤＰ用基板の下面の同じ場所に繰り返し当たることなく上記ＰＤＰ用基板の下面の全体にさらに均一に吹付けることができるようになる。よって、さらに乾燥ムラを一層軽減しながら冷却することができる。
【０１９２】
また、上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向と直交する方向に上記冷却部材を往復させる上記往復運動のストロークが、上記冷却部材に形成される複数の上記給気穴の上記往復運動方向のピッチに大略等しくなるように上記冷却部材を動作制御するように構成する場合には、上記給気穴から供給される冷却用ガスが、上記往復運動方向で途切れることなく連続してＰＤＰ用基板に吹付けられるようになり、上記ＰＤＰ用基板の下面の全体にさらに均一に吹付けることができるようになる。よって、さらに乾燥ムラを一層軽減しながら冷却することができる。
【０１９３】
また、上記往復運動駆動部は、往復運動の駆動源であるモータと上記モータに接続されたクランク機構部と上記クランク機構に接続されて上記モータの回転運動を上記クランク機構を介して直線運動に変換するスライダー部とを備える場合には、上記クランク機構に接続された上記モータの回転運動は、クランク機構部とスライダー部との接続により、スライダー部に案内される搬送方向と直交する方向の往復運動に変換されるようになっている。即ち、上記クランク機構は、上記モータの出力軸に一端部が設けられたクランク腕と、上記クランク腕の他端部から上記出力軸の軸心に向かって上記出力軸の軸方向と直交方向に上記クランク腕に形成された溝内に上下方向に沿って一端部のみが上記溝内を移動可能に設けられ、上記一端部に上記溝部の長手方向に沿って穴が形成され、上記穴の内面にメネジが形成されているクランクピンと、上記クランク腕の両端部を貫通して上記クランクピンの上記メネジにねじ込まれている位置調整用ネジと、上記位置調整用ネジの少なくとも一端部にねじ込むことで上記クランクピンを上記溝内に位置調整可能に固定するナットと、両端に軸受けを有して、その一端の軸受けを介して上記クランクピンに対して回転自在に設けられた連接棒とを備えている。上記クランク機構において、上記ナットを緩めて、上記位置調整用ネジを上記クランクピンに対して正逆回転することで、上記クランクピンを上記溝内で上記出力軸に対して進退させて上記クランクピンの位置調整を行うことにより、上記搬送方向に直交して上記往復運動する上記冷却部材の往復ストロークを変えることができる。この結果、被乾燥物の種類やその厚みや被乾燥物内に含まれる溶剤の量によって、冷却速度を高くしたい場合は、冷却部材の往復ストロークを小さくすることで、冷却部材の往復する速度を低くすることができ、逆に冷却速度を低くしたい場合は、冷却部材の往復ストロークを大きくすることで、冷却部材の往復する速度を高くすることができる。
【０１９４】
また、上記冷却部材に形成された上記給気穴が、上記冷却部材上面に上記搬送方向に直交した方向に並んで２個形成され、その搬送方向に直交した方向に並んで形成された給気穴を１列とし、さらに上記ＰＤＰ用基板の搬送方向に上記列をなす上記給気穴を２列上記冷却部材に形成し、上記２列のうちの１つの列に上記搬送方向に直交した方向で並んでいる上記給気穴と、その隣の列に上記搬送方向に直交した方向に並んでいる給気穴とが上記搬送方向に直交した方向で位相が異なっているように構成する場合には、上記搬送方向に直交した方向で上記給気穴が密に形成されているのと同様とすることができる。よって、さらに乾燥ムラを一層軽減しながら冷却することができる。
【０１９５】
また、上記給気穴が、上記冷却部材上面に上記搬送方向に直交した方向に並んで２個形成され、その上記搬送方向に直交した方向に並んで形成された上記給気穴を１列とし、さらに上記ＰＤＰ用基板の上記搬送方向に上記列をなす上記給気穴を２列上記冷却部材に形成し、上記２列のうちの１つの列に上記搬送方向に直交した方向で並んでいる上記給気穴と、その隣の列に上記搬送方向に直交した方向に並んでいる上記給気穴とが上記搬送方向に直交した方向で位相が異なっていて、かつその上記搬送方向に直交した方向に重なるようにそれぞれ上記搬送方向に直交した方向に長く形成されている場合には、上記搬送方向に直交した方向に冷却部材を往復運動させたことと同じになる。よって、上記往復運動駆動部が不要となり、部品点数を削減できコストダウンを図ることができるようになる。
【０１９６】
また、上記ＰＤＰ用基板の冷却において、上記ＰＤＰ用基板冷却装置内部の各壁面に結露防止用のヒータを設ける場合には、被乾燥物より蒸発する溶剤が各壁面に結露するのを防ぐことができる。よって、結露が上記ＰＤＰ用基板上に落ちて品質が悪くなることを防ぐことができる。
【０１９７】
また、本発明のＰＤＰ用基板冷却方法によれば、上記ＰＤＰ用基板を少なくとも２個のローラ上に載置して搬送方向に揺動しながら、隣接する上記ローラの隙間の下方から冷却用ガスを供給することで上記ＰＤＰ用基板上の上記被乾燥物の冷却を行う際、上記各ローラ上に載置された上記ＰＤＰ用基板を上記搬送方向に揺動させるのと同時的に、上記冷却用ガスを供給する冷却部材を上記搬送方向に直交した方向に往復運動させながら上記ＰＤＰ用基板の下面全体に上記冷却用ガスを吹付けて行う。この結果、ＰＤＰ用基板の全体に渡って温度分布が均一な状態で空冷により冷却されることになり、被乾燥物に含まれる溶剤もＰＤＰ用基板の全体に渡って大略均一に蒸発して、乾燥ムラを軽減しながら冷却することができる。
【０１９８】
また、最初の冷却段階として、上記ＰＤＰ用基板の下面全体に上記冷却用ガスを吹付けて空冷による冷却を行った後、すなわちＰＤＰ用基板上の被乾燥物内の溶剤が完全に蒸発しきった後、次の冷却段階として、上記搬送方向の上記ＰＤＰ用基板の上記揺動を止めて、隣接する上記ローラの隙間の上記ＰＤＰ用基板の下面に上記冷却部材を直接接触させて伝熱による冷却を行うような２段階の冷却行う場合には、上記ＰＤＰ用基板の熱を直接的、かつ効率的に奪うことによって冷却することで、空冷のみで冷却を行うよりも短時間での冷却が可能となり、生産性の向上に貢献することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置の構成を示す一部断面、右側面図である。
【図２】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の構成を示す模式図である。
【図３】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の揺動ユニットの駆動部を示す正面図及び一部断面図である。
【図４】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の揺動ローラユニットにおける揺動ローラと揺動用モータの配置を表す図である。
【図５】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の冷却プレート前後往復部と冷却プレート昇降部を示す右側面図である。
【図６】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の冷却プレート前後往復部と冷却プレート昇降部を示す図５におけるＡ−Ａ矢視図である。
【図７】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の冷却プレート前後往復部と冷却プレート昇降部を示す図６におけるＢ−Ｂ矢視図である。
【図８】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の冷却プレート前後往復部を示す図７におけるＣ−Ｃ矢視図である。
【図９】上記第１の実施形態にかかるＰＤＰ用基板乾燥装置内のＰＤＰ用基板冷却装置の冷却プレート前後往復部を示す図６におけるＤ部拡大図である。
【図１０】従来の平均冷却速度と冷却用ガス給気量とＰＤＰ用基板−冷却プレート間との関係を表すグラフである。
【図１１】上記第１の実施形態にかかる冷却プレートを搬送方向に直交する方向に往復運動する場合と、従来の冷却プレートを往復運動しない場合の２種類の冷却用ガス給気量とＰＤＰ用基板−冷却プレート間と乾燥ムラの関係を表すグラフである。
【図１２】上記第１の実施形態にかかる冷却プレートに形成される給気穴の配置を表す図である。
【図１３】上記第１の実施形態の第１変形例にかかる冷却プレートに形成される給気穴の配置を表す図である。
【図１４】従来の冷却プレートに形成される給気穴の配置を表す図である。
【図１５】図１２の給気穴の配置で従来の冷却方法によって生じるＰＤＰ用基板上の乾燥ムラを表す図である。
【図１６】第２の変形例である冷却プレートに形成される給気穴を表す図である。
【図１７】第２の変形例である冷却プレートに形成される給気穴で従来の冷却方法によって冷却用ガスが吹付けられる範囲を表す図である。
【符号の説明】
１０…ＰＤＰ用基板、３０…下降位置、４０…上昇位置、５０…前端位置、５５…中間位置、６０…後端位置、７０…揺動停止位置、８０…左端位置、９０…右端位置、９１…クランク機構部、９２…スライダー部、１００…乾燥部、１１１…上ヒータ、１１２…給気管、１１３…排気管、１２０…下ヒータユニット、１４１…給気穴、１４２…排気穴、１９１…オネジ部、１９２…軸端部、２００…ＰＤＰ用基板冷却装置、２０４…揺動ローラ、２４１…給気穴、２４２…排気穴、２４３…楕円給気穴、２５０…揺動ローラユニット、２５１…揺動用モータ、２５２…モータ側歯車、２５３…歯付きベルト、２５４…ローラ側歯車、２５５…案内ローラ、２５６…モータ側出力軸、２５７…モータ取り付けブラケット、２５８…基板保護部材、２５９ａ…軸受け、２５９ｂ…軸受け、２７０…冷却プレート昇降部、２７１…昇降シリンダ、２７２ａ…上下滑動軸、２７２ｂ…上下滑動軸、２７３ａ…上下滑動軸受け、２７３ｂ…上下滑動軸受け、２７４往復側クランクプレート…、２７５…中間クランクプレート、２７６…モータ側クランクプート、２７７…往復位置決め用ドグ、２７８…往復用モータ、２７９ａ…玉軸受け、２７９ｂ…玉軸受け、２８０ａ…ＬＭレール、２８０ｂ…ＬＭレール、２８１…ユニット取り付けプレート、２８２…シリンダ取り付けプレート、２８３ａ〜２８３ｄ…ＬＭガイドブロック、２８４ａ…往復回数計数用センサ、２８４ｂ…中間位置決め用センサ、２８５…往復用モータ出力軸、２８６…モータ側ピン、２８７…往復側ピン、２８８…シリンダ出力軸、２８９…ピン固定用ネジ軸、２９０…冷却プレート前後往復部、２９１…水冷プレート、２９２…水冷用ポンプ、２９３…出力軸フランジ、２９４…固定用ナット、２９５…溝部、２９６…メネジ部、２９７…六角頭部、２９８…ナットメネジ部、２９９ａ…他端部側穴、２９９ｂ…一端部側穴。
【図１】
2004150736.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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