(57)【要約】【課題】液晶を液滴吐出法により塗布する方法において帯電による吐出不良を解消すると共に、イオン伝導による表示不良を解消する薄膜形成装置を提供することを課題とする。【解決手段】液晶表示要素が形成された第１基板１の表面に例えば液晶等の塗布液１１を吐出する液滴吐出ヘッド１２を有する液滴吐出手段１３と、該液滴吐出ヘッド１２と基板１との位置を相対的に移動させる移動手段１４と、吐出手段１３及び移動手段１４を制御する制御手段１５とを具備してなり、塗布液１１の流路の少なくとも一部を非イオン性の導電性材料から形成してなる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液を基板上に塗布して塗布膜を形成する薄膜形成装置であって、
上記基板上に上記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出手段と、
該液滴吐出ヘッドと上記基板との位置を相対的に移動可能とする移動手段と、
液滴吐出手段又は移動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを具備すると共に、
上記塗布液の接する部分の少なくとも一部を帯電防止材料としたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
塗布液を基板上に塗布して塗布膜を形成する薄膜形成装置であって、
上記基板上に上記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出手段と、
該液滴吐出ヘッドと上記基板との位置を相対的に移動可能とする移動手段と、
液滴吐出手段又は移動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを具備すると共に、
上記塗布液の接する部分の少なくとも一部を非イオン性材料としたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項３】
塗布液を基板上に塗布して塗布膜を形成する薄膜形成装置であって、
上記基板上に上記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出手段と、
該液滴吐出ヘッドと上記基板との位置を相対的に移動可能とする移動手段と、
液滴吐出手段又は移動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを具備すると共に、
上記塗布液の接する部分の少なくとも一部を非イオン性の導電材料としたことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１つにおいて、
上記基板にシール材を形成してなることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１つにおいて、
上記薄膜材料が液晶又は有機ＥＬ用インク材料であることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１つにおいて、
上記塗布液の接する部分が塗布液流路部又は塗布液タンクであることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項７】
請求項４において、
上記シール材が間隙保持粒子を含む接着剤よりなることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項８】
請求項４において、
上記シール材の設置後、基板上に間隙保持粒子を散布してなることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれか１つにおいて、
上記塗布液に間隙保持粒子を分散してなることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項１０】
請求項４において、
上記シール材が熱硬化型接着剤又は光硬化型接着剤であることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１つに記載の薄膜形成装置を用いて製造されてなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１０のいずれか１つに記載の薄膜形成装置を用いて製造されてなる電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成装置に係り、特に薄膜の品質の向上及び生産性の向上を図る薄膜形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置は、一般に、一対の基板間に液晶を封入した構造の液晶表示パネルに、バックライト等といった照明装置や液晶駆動用ＩＣ等といった付加機器を付設することによって形成される。
また、液晶表示パネルは、一般に、図２０に示すように、第１電極が形成された第１基板１と第２電極が形成された第２基板４とをシール部２によって互いに貼り合わせ、それらの基板１，４間に形成される間隙、いわゆるセルギャップ内に液晶３を封入することによって形成される。なお、符号５は液晶注入後に注入口を封止する封止部である。
【０００３】
前記液晶は一般にいわゆる注入法によりセルギャップ内に封入されている。
ここで、液晶注入法とは、真空下で、液晶注入口から液晶を圧力差により注入する方法であり、液晶を充填する方法は以下の通りであった。
まず封じる前の液晶表示素子（以下液晶表示セルという）を真空中で十分脱気した後、液晶で注入口を封じる。このようにした液晶表示セルを大気中に戻し、液晶表示セル内外の圧力差と表面張力を利用して充填するものであった。
このため液晶表示素子が大きくなると非常に時間がかかることになる。対角で１ｍ以上の大型の基板になると１日以上にも及ぶことになり、製造上現実的でない、という問題がある。
【０００４】
そこで、従来では、液晶を注入する代わりに、図２１−１〜図２１−４に示すように、枠状のシール部２を形成してなる第１の基板１の枠内に、例えばインクジェット法による液滴吐出ヘッドを用いて液晶３を吐出し、その後、対向する第２基板４を貼り合わせることが提案されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３）。
【０００５】
【特許文献１】特開平０５−２８１５６２号公報
【特許文献２】特開平１０−２２１６６６号公報
【特許文献３】特開２００１−１８３６７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、前記特許文献１乃至３にかかる従来のインクジェット法においては、液晶が流路部を流れる際の帯電によって液晶中へ、例えば塵、埃等の異物が混入した場合、液晶パネルの表示品質が低下してしまう。また、分子配向の乱れが生じ、液滴吐出ヘッドのメニスカスの乱れ等が原因で安定吐出状態を得ることができない、という問題がある。
【０００７】
また、液晶中へイオン等が混入した場合、イオン伝導による液晶パネルの表示不良が発生するという、問題がある。
【０００８】
本発明は、前記問題に鑑み、液晶を液滴吐出法により塗布する方法において帯電による吐出不良を解消すると共に、イオン伝導による表示不良を解消する薄膜形成装置、電子光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するため、本発明に係る薄膜形成装置は、塗布液を基板上に塗布して塗布膜を形成する薄膜形成装置であって、上記基板上に上記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出手段と、該液滴吐出ヘッドと上記基板との位置を相対的に移動可能とする移動手段と、液滴吐出手段又は移動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを具備すると共に、上記塗布液の接する部分の少なくとも一部を帯電防止材料としたことを特徴とする。これにより、塗布液の帯電が防止され、塗布液中への、例えば塵、埃等の異物が混入することが防止される。また、分子配向の乱れが生じることが解消され、液滴の安定吐出を行うことができる。上記塗布液としては液晶、有機ＥＬインク材料等の膜材料を挙げることができ。また塗布液は、溶剤中に膜材料が溶解又は分散されてなるものである。
【００１０】
また、塗布液を基板上に塗布して塗布膜を形成する薄膜形成装置であって、上記基板上に上記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出手段と、該液滴吐出ヘッドと上記基板との位置を相対的に移動可能とする移動手段と、液滴吐出手段又は移動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを具備すると共に、上記塗布液の接する部分の少なくとも一部を非イオン性材料としたことを特徴とする。これにより、液晶中へイオン等の混入がなく、イオン伝導による液晶パネルの表示不良が発生することが解消される。
【００１１】
塗布液を基板上に塗布して塗布膜を形成する薄膜形成装置であって、上記基板上に上記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出手段と、該液滴吐出ヘッドと上記基板との位置を相対的に移動可能とする移動手段と、液滴吐出手段又は移動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを具備すると共に、上記塗布液の接する部分の少なくとも一部を非イオン性の導電材料としたことを特徴とする。これにより、塗布液の帯電が防止され、塗布液中への、例えば塵、埃等の異物が混入することが防止されると共に、分子配向の乱れが生じることが解消され、液滴吐出の安定吐出を行うことができる。また、液晶中へイオン等の混入がなく、イオン伝導による液晶パネルの表示不良が発生することが解消される。
【００１２】
上記基板にシール材を形成することで、塗布液の描画領域が確定できる。特に枠状のシール材とするのが好ましい。
【００１３】
上記塗布液の接する部分が塗布液流路部又は塗布液タンクとすることで、塗布液の帯電又はイオンの混入が防止され、液晶パネルの表示品質の劣化を防ぐことができる。
【００１４】
上記シール材が間隙保持粒子を含む接着剤よりなることで基板間隔を一定に保つことができ、基板間のギャップムラによる液晶パネルの表示品質の低下を防ぐことができる。
【００１５】
上記シール材の設置後、基板上に間隙保持粒子を散布してなることで、基板間隔を均一に保持でき、基板間のギャップムラによる液晶パネルの表示品質の低下を防ぐことができる。
【００１６】
上記塗布液に間隙保持粒子を分散してなることで、間隙保持粒子を散布する工程を省くことができると共に、基板間隔を一定に保つことができ、基板間のギャップムラによる液晶パネルの表示品質の低下を防ぐことができる。
【００１７】
上記シール材が熱硬化型接着剤又は光硬化型接着剤とすることにより、加熱もしくは光照射などの容易な手段で高いシール強度を確保することが可能となる。
【００１８】
上記薄膜形成装置を用いることにより、液晶使用量削減によるコスト削減、かつ塵、埃やイオン伝導による表示不良のない電気光学装置を提供することができる。
【００１９】
これらの構成によれば、ワークへの描画を極めて高精度に行い得る液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、例えばカラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：以下、「ＥＬ」と略称する）装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ(Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ)やＳＥＤ（Ｓｕｒｆａｃｅ−ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−Ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２０】
上記薄膜形成装置を用いることにより、液晶等の塗布液の使用量削減によるコスト削減、かつ塵、埃やイオン伝導による表示不良のない電気光学装置を備える電子機器を得ることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の薄膜形成装置によれば、上記塗布液の接する部分の少なくとも一部を帯電防止材料としたことを特徴とする。これにより、塗布液の帯電が防止され、塗布液中への、例えば塵、埃等の異物が混入することが防止される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に、本発明に係るデータ写し込み用液晶装置の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例により本発明が限定されるものではない。
【実施例】
【００２３】
図１は本実施例にかかる薄膜形成装置の概略図である。図２及び図３は液滴吐出ヘッドの概略図である。図４は液晶パネルの構成図である。
【００２４】
先ず、図４を参照して本発明にかかる電気光学装置である液晶表示パネルの構成について説明する。本実施例にかかる液晶表示パネル１００は、対向配置された第１基板１と第２基板４とを有するものであり、第１基板１及び第２基板４の内側面には、それぞれ液晶表示要素１０６、１０７が形成されている。
【００２５】
具体的には、図４に示すように、第１基板１には、反射膜(アルミニウム、銀等)１０１、カラーフィルタ（ＣＦ）１０２、オーバーコート（ＯＶＣ）層１０３、透明電極１０４及び配向膜１０５が順次形成され、第１基板側の液晶表示要素１０６としている。
一方の対向する第２基板４には、透明電極１０４及び配向膜１０５が形成されている。透明電極１０４はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）その他の透明電極材料によって形成され、所定のパターンが加工され、第２基板側の液晶表示要素１０６としている。配向膜１０５は例えばポリイミド（ＰＩ）等の膜が形成され、配向処理（ラビング処理）がなされている。
【００２６】
このようにして液晶表示要素が各々形成された第１基板１と第２基板４とは、両基板間の内周囲に間隙保持粒子１１０を分散したシール部２が略矩形状に施され、スペーサである間隙保持粒子１１１により所定の間隙、いわゆるセルギャップをもって封着されている。そして、このシール部２によって、第１基板１と第２基板４との間に液晶領域が画成されている。
【００２７】
以下、本実施例にかかる液晶表示装置を製造する薄膜形成装置について説明する。
【００２８】
本実施例の薄膜形成装置１０は、図１に示すように、液晶表示装置においてその基板上に形成される薄膜（液晶）を形成するために用いられるもので、本実施例においては、液晶表示要素１０６が形成された第１基板１の表面側に枠状に形成されたシール部２を形成した内部に液晶３を吐出するものである。その後、対向する液晶表示要素１０７が形成された第２基板４を貼合わせ、図４に示すような液晶表示装置を形成するものである。
【００２９】
ここで、シール部を形成するシール剤としては市販の接着材を代用する事が出来るが、基板間の厚みを保持し、液晶の量を規定するために間隙保持粒子を分散した接着剤を用いれば好適である。
【００３０】
また、シール部を形成後、該基板上に間隙保持粒子を散布することにより、基板間隔を均一に保持するようにしてもよい。
【００３１】
また、間隙保持粒子を分散した液晶を液滴吐出装置により吐出することにより、間隙保持粒子を散布する工程を省くようにしてもよい。
【００３２】
上記シール剤としては、熱硬化型接着材や光硬化型接着材を用いることができ、間隙保持粒子としては、シリカ粒子、ポリスチレン粒子等のプラスチック粒子、シリカ粒子の回りに熱可塑性樹脂をコーティングした粒子等を用いることができる。そして、基板上に形成された枠状のシール部により囲まれた部分に、必要量の液晶を液滴吐出ノズルにより平面状に塗布する。
【００３３】
このようにして得た基板と、他方の基板を貼り合わせた後、接着剤を硬化させることにより液晶表示素子を得ることが出来る。貼り合わせる条件としては真空下で行えば尚好適である。
【００３４】
本実施例にかかる薄膜形成装置１０は、図１に示すように、液晶表示要素が形成された第１基板１の表面に例えば液晶等の塗布液１１を吐出する液滴吐出ヘッド１２を有する液滴吐出手段１３と、該液滴吐出ヘッド１２と基板１との位置を相対的に移動させる移動手段１４と、液滴吐出手段１３及び移動手段１４を制御する制御手段１５とを具備してなるものである。
【００３５】
上記移動手段１４は、図１に示すように、基板ステージ１６上に載置された基板１の上方に、液滴吐出ヘッド１２を下方側に向けて支持すると共に移動自在のステージ１８によりＸ軸方向に移動自在のヘッド支持部１７と、上方の液滴吐出ヘッド１２に対して基板ステージ１６と共に基板をＹ軸方向に移動させるステージ駆動部１９とから構成されている。
【００３６】
上記ヘッド支持部１７は、液滴吐出ヘッド１２を基板１に対してその鉛直軸方向（Ｚ軸）に任意の移動速度で移動可能且つ位置決め可能な例えばリニアモータ等の機構と、鉛直軸を中心に液滴吐出ヘッド１２を回転させることによって下方の基板１に対して任意な角度に設定可能なステッピングモータ等の機構とを備えたものである。
【００３７】
上記ステージ駆動部１９は、鉛直軸を中心に基板ステージ１６を回転させて上方の液滴吐出ヘッド１２に対して任意な角度に設定可能なθ軸ステージ２０と、基板ステージ１６とを液滴吐出ヘッド１２に対して水平方向（Ｙ方向）に移動させ且つ位置決めするステージ２１とを備えている。なお、θ軸ステージ２０は、ステッピングモータ等から構成され、ステージ２１はリニアモータ等から構成されている。
【００３８】
上記吐出手段１３は、液滴吐出ヘッド１２とこれにチューブ２２を介して接続されたタンク２３とを備えている。タンク２３は塗布液１１を貯留するものである、チューブ２２を介してこの塗布液１１を液滴吐出ヘッド１２に供給するものとなっている。このような構成によって液滴吐出手段１３は、タンク２３に貯留された塗布液１１を液滴吐出ヘッド１２から吐出し、これを基板１上に塗布するようにしている。上記液滴吐出ヘッド１２は、例えばピエゾ素子によって液室を圧縮し、その圧力で液滴（液状材料）を吐出させるものであり、一列又は複数列に配列された複数のノズル(ノズル孔)を有している。
【００３９】
この液滴吐出ヘッド１２の構成の一例について図２、図３を参照して説明する。図２、図３に示すように、液滴吐出ヘッド１２は、例えばステンレス製のノズルプレート３１と振動版３２とを備え、仕切り部材（リザーバプレート）３３を介して両者を接合したものである。ノズルプレート３３と振動板３２との間には、仕切り部材によって複数の空間３４と液溜まり３５とが形成されている。各空間３４と液溜まり３５の内部は液状材料(図示せず)で満たされており、各空間３４と液溜まり３５とは供給口３６を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート３１には、各空間３４から液状材料１１を噴射するための微小孔のノズル３７が形成されている。一方、振動板３２には、液溜まり３５に塗布液１１を供給するための孔３７が形成されている。
【００４０】
振動板３２の空間に対向する面と反対側の面上には、図２、図３に示すように、圧電素子（ピエゾ素子）３８が接合されている。この圧電素子３８は、図３に示すように一対の電極３９，３９の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するように撓曲するようになっている。そして、このような構成のもとに圧電素子３８が接合されている振動板３２は、圧電素子３８と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間３４の内部容積が増大するようになっている。したがって、空間３４内に増大した容積分に相当する液状材料が液溜まり３５から供給口３６を介して流入する。また、このような状態から圧電素子３８への通電を解除すると、圧電素子３８と振動板１３とは共に元の形状に戻る。したがって、空間３４も元の容積に戻ることから、空間内部の塗布液１１の圧力が上昇し、ノズル３７から基板１に向けて液状材料の噴霧状液滴が吐出される。
【００４１】
なお、液滴吐出ヘッド１２の方式としては、上述したような圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式でもよく、超音波モータ，リニアモータ等により、振動を付与し、またはタンク内に圧力を印加することにより、上記微小穴から塗布液１１である液晶を射出させるようにしてもよい。ここで、タンク内の液晶は、前もって脱泡処理されていることが望ましい。尚、液滴吐出ヘッド１３は、タンク内の液晶ないしは液晶と低粘性揮発性液体の混合物を加熱して、該物質の膨張・発泡により、微小穴から液晶を射出させる、所謂バブルジェット（Ｒ）方式として構成されていてもよい。
【００４２】
上記制御手段１５は、装置全体の制御を行うマイクロプロセッサ等のＣＰＵや、各種信号の入出力機能を有するコンピュータ等によって構成されたものであり、図１に示したように、液滴吐出手段１３及び移動手段１４にそれぞれ電気的に接続されたことにより、液滴吐出手段１３による吐出動作、及び移動手段１４による移動動作の少なくとも一方、本実施例では両方を制御するものとなっている。
そして、このような構成により、液状吐出液の吐出条件を調整し、形成する薄膜（液晶）の塗布量を制御するようにしている。
【００４３】
すなわち、制御手段１５は、上記塗布量を制御する機能として、基板に対する液状吐出液の吐出間隔を調整する制御機能と、１ドットあたりの液状吐出液の吐出量を調整する制御機能と、ノズルの配列方向と移動機構による移動方向との角度（θ）を調整する制御手段と、基板上を複数の領域に分けて各領域に吐出条件を設置する制御機能とを備えている。
【００４４】
さらに、制御手段１５は、上記吐出間隔を調整する制御機構として、基板１と液滴吐出ヘッド１２との相対的な移動の速度を調整して吐出間隔を調整する制御機能と、移動手段における吐出の時間間隔を調整して吐出間隔を調整する制御機能と、複数のノズルのうち同時に塗布液を吐出させるノズルを任意に設定して吐出間隔を調整する機能とを備えている。
【００４５】
本発明では、上記塗布液１１と接触する部材（例えばチューブ、タンク、吐出ノズル１２）の材料を非イオン性の帯電防止材料としている。
ここで、特に塗布液１１の接触範囲が一番大きいチューブ２２は少なくとも非イオン性の帯電防止材料製のものを用いるとよい。
上記チューブ２２は、非イオン性の帯電防止材からなる材料で形成するようにしてもよいし、内部に非イオン性の帯電防止材をコーティングするようにしてもよい。
【００４６】
例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン等のチューブや樹脂材料は、非イオン性材料であり、これに非イオン性界面活性剤を練り込んだり、塗布したりすることにより、帯電防止効果を発揮させるようにしている。
【００４７】
ここで、非イオン性の帯電防止材料とは、帯電防止材料の中でも非イオン性のものである。
【００４８】
帯電防止材料とは各種界面活性剤、無機塩、多価アルコール、金属化合物、カーボン等を樹脂材料に練り込んだ材料、もしくは塗布した材料を挙げることができる。特に、界面活性剤では、非イオン性の界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤等を用いることができる。
【００４９】
また、塗布液１１である液晶の温度を上げ流動性を確保するために、必要に応じてタンク、チューブ、液滴吐出ヘッドを加温する加温手段を設けるようにしてもよい。塗布液１１の粘度はインクジェット方法の場合には、好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以下とするのがよく、液晶の場合には約６０度程度に加温することで１２ｍＰａ・ｓ程度となるようにしている。ノズル孔の孔径は例えば２７〜２８μｍ程度としている。
【００５０】
このように、本発明においては、塗布液１１である液晶がタンクから液滴吐出ヘッドへ移送される間において、直接触れる部材の少なくとも一部に帯電防止材料又は非イオン性材料又はこれらの併用材料を用いるようにしている。
【００５１】
本実施例では、塗布液１１を貯留するタンク２３及び塗布液１１を液滴吐出ヘッド１３へ供給するチューブ２２及び液滴吐出ヘッド１３を非イオン性の導電材を用いて構成した。
【００５２】
この結果、非イオン性材料を用いることで、イオンが液晶に混入することが防止され、イオン伝導による液晶ディスプレイの表示品質の低下を防止することができた。
【００５３】
また、帯電防止材料を用いることで、液晶中への塵や埃の混入、分子配向の乱れによる吐出ノズルのメニスカスの乱れが防止され、液滴吐出ヘッドからの塗布液の安定吐出が可能となり、製造歩留まりの向上を図ることができた。
【００５４】
上述した説明においては、塗布液１１をタンク２３から供給するようにしているが、タンクと液滴吐出ヘッドとを一体としたカートリッジ方式としてもよい。この場合には、塗布液を貯留するタンク及び塗布液流路を非イオン性の導電材とするようにすればよい。
【００５５】
本実施例の液晶表示装置の製造は、液晶表示要素１０６を形成した第１基板１に例えばディスペンサ等により熱硬化性のシール２を形成する。この際、基板間のギャップを均一に維持するために、シール部２中に間隙保持粒子を含ませるようにしてもよい。
その後、上述した図１に示すような薄膜形成装置１０を用いて、液晶をシール部２の内側に塗布する。この際、基板間のギャップを均一に保持するために、液晶中に間隙保持粒子を含ませるようにしてもよい。
【００５６】
その後、対向する第２の液晶表示要素１０７が形成された第２基板４を位置決め調整しながら、貼合わせ、真空中で押圧して貼合わせを行い、その後加熱炉で１２０℃１０分間加熱し、両基板を接着し、電気光学装置を得た。
【００５７】
本実施例では、塗布液１１を液晶として説明したが、本発明では液晶に限定されるものではなく、両配向膜１０５の塗布を液滴吐出ヘッド１２を用いて行うことも可能である。
【００５８】
次に、本発明にかかる薄膜形成装置１０を用いて製造される有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
なお、有機ＥＬ装置では、例えば正孔材料、発光材料等の有機ＥＬ用のインク材料を用いる場合にも適用することができる。
【００５９】
次に、図５は、有機ＥＬ（Ｏｒｇａｎｉｃ   Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ、又は、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）ともいう。）装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【００６０】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００６１】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【００６２】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【００６３】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【００６４】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【００６５】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【００６６】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【００６７】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（塗布液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００６８】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（塗布液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【００６９】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００７０】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【００７１】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図６〜図１４を参照して説明する。
この表示装置７００は、図６に示すように、バンク部形成工程（Ｓ２１）、表面処理工程（Ｓ２２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）、発光層形成工程（Ｓ２４）、及び対向電極形成工程（Ｓ２５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【００７２】
まず、バンク部形成工程（Ｓ２１）では、図７に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図８に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【００７３】
表面処理工程（Ｓ２２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、液滴吐出ヘッド１２を用いて機能層７１７を形成する際に、塗布液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した塗布液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【００７４】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した薄膜形成装置１の基板ステージ１２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）及び発光層形成工程（Ｓ２４）が行われる。
【００７５】
図９に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）では、液滴吐出ヘッド１２から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図１０に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【００７６】
次に発光層形成工程（Ｓ２４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【００７７】
そして次に、図１１に示すように、各色のうちの何れか（図１１の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を塗布液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【００７８】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１２に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【００７９】
同様に、液滴吐出ヘッド１２を用い、図１３に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００８０】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ２５）に移行する。
【００８１】
対向電極形成工程（Ｓ２５）では、図１４に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施例においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【００８２】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【００８３】
次に、図１５は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【００８４】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【００８５】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【００８６】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【００８７】
本実施例においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した薄膜形成装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を薄膜形成装置１の基板ステージ１２に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、液滴吐出ヘッド１２により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（塗布液）を塗布液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【００８８】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【００８９】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（塗布液）を塗布液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（塗布液）を液滴吐出ヘッド１２から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【００９０】
次に、図１６は、電子放出装置（ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ＝ＦＥＤ）装置あるいはＳＥＤ(Ｓｕｒｆａｃｅ Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ)装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【００９１】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【００９２】
ここで、前記導電性膜９０７を構成する材料としては、前記ＰｄＯに限定されるものではなく、例えば、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ等の金属、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｓｂ2Ｏ3等の酸化物、ＨｆＢ2、ＺｒＢ2、ＬａＢ6、ＣｅＢ6、ＹＢ4、ＧｄＢ4等の硼化物、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＨｆＣ、ＴａＣ、ＳｉＣ、ＷＣ等の炭化物、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ等の窒化物、Ｓｉ、Ｇｅ等の半導体、カーボン等が挙げられる。
また、導電性膜９０７は良好な電子放出特性を得るために微粒子で構成された微粒子膜が特に好ましく、その膜厚は、素子電極へのステップカバレージ、素子電極間の抵抗値および通電フォーミング条件等によって適宜設定されるが、好ましくは数Å〜数千Åで、特に好ましくは１０Å〜５００Åとするのがよい。そのシート抵抗値は、１０3〜１０7Ω／□とするのが好ましい。なお、ここで述べる微粒子膜とは、複数の微粒子が集合した膜であり、その微細構造として、微粒子が個々に分散配置した状態のみならず、微粒子が互いに隣接あるいは重なり合った状態（島状も含む）の膜を指しており、微粒子の粒径は、数Å〜数千Å、好ましくは１０Å〜２００Åとするのがよい。
【００９３】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【００９４】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【００９５】
この場合も、他の実施例と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、薄膜形成装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、薄膜形成装置１を用いて形成することができる。
【００９６】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図１７−１に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図１７−２に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（薄膜形成装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（薄膜形成装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【００９７】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した薄膜形成装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【００９８】
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図１８及び図１９を参照して説明する。
【００９９】
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１８は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ１００１は、キーボード１００２を備えた本体部１００３と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部１００４とを備えている。
【０１００】
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１９は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。
同図に示すように、携帯電話機１０１０は、複数の操作ボタン１０１１のほか、受話口１０１２、送話口１０１３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部１０１４を備える。
【０１０１】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図１８に示したパーソナルコンピュータや、図１９に示した携帯電話機の他にも、例えば液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられ、特に限定されるものではない。
【０１０２】
また、上述した実施例では、電気光学装置として、液晶装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、液晶シャッター等を用いた小型テレビ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いた装置などの各種の電気光学装置に適用できる。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
以上のように、本発明に係る薄膜形成装置は、塗布液の接する部分の少なくとも一部を帯電防止材料としたことにより、塗布液の帯電が防止され、塗布液中への、例えば塵、埃等の異物が混入することが防止される、分子配向の乱れが生じることが解消され、液滴の安定吐出を行うことができ、例えば電気光学装置の液晶等によるカラーフィルタの製造に適している。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】第１の実施例にかかる薄膜形成装置の概略図である。
【図２】第１の実施例にかかる液滴吐出ヘッドの概略図である。
【図３】第１の実施例にかかる液滴吐出ヘッドの概略図である。
【図４】液晶パネルの構成図である。
【図５】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図６】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図７】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図８】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図９】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１０】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１１】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１２】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１３】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１４】陰極の形成を説明する工程図である。
【図１５】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図１６】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図１７−１】表示装置の電子放出部廻りの平面図である。
【図１７−２】その形成方法を示す平面図である。
【図１８】パーソナルコンピュータの斜視図である。
【図１９】携帯電話の斜視図である。
【図２０】液晶パネルの概略図である。
【図２１−１】液晶インクジェット法の工程概略図である。
【図２１−２】液晶インクジェット法の工程概略図である。
【図２１−３】液晶インクジェット法の工程概略図である。
【図２１−４】液晶インクジェット法の工程概略図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１・・・第１基板、２・・・シール部、３・・・液晶、４・・・第２基板、１０・・・薄膜形成装置、１１・・・塗布液、１２・・・液滴吐出ヘッド、１３・・・液滴吐出手段、１４・・・移動手段、１５・・・制御手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７−１】
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【図１７−２】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１−１】
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【図２１−２】
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【図２１−３】
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【図２１−４】
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