(57)【要約】【課題】紫外線照射では硬化が困難である材料をも容易に硬化でき、電子線の積算照射線量を被照射面全体にわたって均一にできる電子線照射装置及び電子線照射方法を提供する。また、紫外線照射では硬化が困難である材料による樹脂層等をディスク状体上に効率よく形成できるようにしたディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法を提供する。【解決手段】この電子線照射装置１は、ディスク状体２を回転駆動する回転駆動部１７と、ディスク状体を回転可能に収容する遮蔽容器１０と、ディスク状体の表面の被照射面に対し電子線が照射されるように遮蔽容器に設けられた電子線照射部１１と、を具備し、ディスク状体の回転中に被照射面２ｂに電子線照射部から電子線を照射するときに、電子線の照射線強度がディスク状体の半径方向の外周面２ｄ側において内周面２ｃ側よりも大きくなるように構成した。【選択図】　図１
2004110969.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク状体を回転駆動する回転駆動部と、前記ディスク状体を回転可能に収容する遮蔽容器と、前記ディスク状体の表面の被照射面に対し電子線が照射されるように前記遮蔽容器に設けられた電子線照射部と、を具備し、
前記ディスク状体の回転中に前記被照射面に前記電子線照射部から電子線を照射するときに、前記電子線の照射線強度が前記ディスク状体の半径方向の外周面側において内周面側よりも大きくなるように構成したことを特徴とする電子線照射装置。
【請求項２】
前記電子線照射部は加速電圧が２０乃至１００ｋＶであることを特徴とする請求項１に記載の電子線照射装置。
【請求項３】
前記電子線照射部は前記半径方向に配置された複数の電子線照射管を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の電子線照射装置。
【請求項４】
前記複数の電子線照射管の各電流値を前記外周面側に配置された電子照射管において前記内周面側に配置された電子照射管よりも大きく設定することを特徴とする請求項３に記載の電子線照射装置。
【請求項５】
前記複数の電子線照射管は、それぞれ電子線を外部に照射する照射窓を有し、前記被照射面から前記照射窓までの距離が前記外周面側の電子照射管において前記内周面側の電子照射管よりも短くなるように配置されたことを特徴とする請求項３または４に記載の電子線照射装置。
【請求項６】
前記複数の電子線照射管の少なくとも１つを前記照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させて配置したことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項７】
前記複数の電子線照射管を前記半径方向の略同一方向に配置したことを特徴とする請求項３乃至６にいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項８】
前記複数の電子線照射管を前記半径方向の異なる方向に配置したことを特徴とする請求項３乃至６にいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項９】
前記電子線照射部は電子線を外部に照射する照射窓を有する電子線照射管を備え、前記電子線照射管を前記照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させて配置したことを特徴とする請求項１または２に記載の電子線照射装置。
【請求項１０】
前記遮蔽容器内を不活性ガスの雰囲気とするとともに、
前記照射窓の近傍に前記不活性ガスが流れるようにガス導入口及びガス排出口を前記遮蔽容器に設けたことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項１１】
前記電子線照射部の近傍に温度センサを設け、前記温度センサによる測定温度に基づいて前記不活性ガスの流量を調整することを特徴とする請求項１０に記載の電子線照射装置。
【請求項１２】
前記遮蔽容器内の酸素濃度を測定するための酸素濃度計が設けられていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項１３】
前記遮蔽容器内を減圧するための真空装置が設けられていることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項１４】
前記遮蔽容器は開閉可能であり金属材料から構成されるとともに、前記照射窓からの電子線を遮蔽する遮蔽構造を有することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項１５】
前記電子線照射部と前記被照射面との間に配置され、前記電子線を透過するように開く開位置と遮るように閉じる閉位置との間で移動可能なシャッタ部材と、前記ディスク状体の回転中に前記電子線の照射と非照射とを切り換えるように前記シャッタ部材を移動させるシャッタ駆動機構と、更にを具備することを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の電子線照射装置。
【請求項１６】
前記シャッタ部材を前記ディスク状体の外周の周速よりも速い速度で開閉するように構成することを特徴とする請求項１５に記載の電子線照射装置。
【請求項１７】
ディスク状体を回転駆動するステップと、前記ディスク状体の回転中の被照射面に対し電子線照射部から電子線をその照射線強度が前記ディスク状体の半径方向の外周面側において内周面側よりも大きくなるように照射するステップと、を含むことを特徴とする電子線照射方法。
【請求項１８】
前記電子線照射部は加速電圧が２０乃至１００ｋＶであることを特徴とする請求項１７に記載の電子線照射方法。
【請求項１９】
前記電子線照射部として前記半径方向に配置された複数の電子線照射管の各電流値を前記外周面側に配置された電子照射管において前記内周面側に配置された電子照射管よりも大きくすることを特徴とする請求項１７または１８に記載の電子線照射方法。
【請求項２０】
前記電子線照射部として前記半径方向に配置された複数の電子線照射管の電子線の各照射窓と前記被照射面との距離を前記外周面側の電子照射管において前記内周面側の電子照射管よりも短くしたことを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれか１項に記載の電子線照射方法。
【請求項２１】
前記複数の電子線照射管の少なくとも１つを前記照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させたことを特徴とする請求項１９または２０に記載の電子線照射方法。
【請求項２２】
前記電子線照射部として配置された電子線照射管をその電子線の照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させたことを特徴とする請求項１７または１８に記載の電子線照射方法。
【請求項２３】
前記ディスク状体を密閉可能な遮蔽容器内に回転可能に収容し、前記遮蔽容器内に不活性ガスを導入することで不活性ガス雰囲気に置換することを特徴とする請求項１７乃至２２のいずれか１項に記載の電子線照射方法。
【請求項２４】
前記不活性ガスをガス導入口からガス排出口に向けて前記電子線照射部の照射窓の近傍を通して流すことにより前記照射窓を冷却することを特徴とする請求項２３に記載の電子線照射方法。
【請求項２５】
請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の電子線照射装置を備え、前記ディスク状体上に形成された潤滑性を有する層及び／又は樹脂層を前記電子線の照射により硬化させるように構成したことを特徴とするディスク状体の製造装置。
【請求項２６】
請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の電子線照射装置を用いるか、または、請求項１７乃至２４のいずれか１項に記載の電子線照射方法を用い、前記ディスク状体上に形成された潤滑性を有する層及び／又は樹脂層を前記電子線照射により硬化させることを特徴とするディスク状体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線照射のための電子線照射装置、電子線照射方法、ディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光情報記録媒体としてＣＤ（コンパクトディスク）やＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）等の光ディスクが実用化されているが、最近、発振波長が４００ｎｍ程度の青紫色半導体レーザの開発が進んでおり、かかる青紫色半導体レーザを用いてＤＶＤよりも高密度記録の可能な高密度ＤＶＤ等の次世代の高密度光ディスクの開発が行われている。
【０００３】
かかる次世代の高密度光ディスクの現在考えられている層構成の例を図１２に示す。この高密度光ディスクは、ポリカーボネート等の樹脂材料からなる基材９０の上に、情報記録のための記録層９１と、記録・再生のためのレーザ光が記録層９１に入射するように透過する光透過層９２と、光ピックアップ側の部材との接触を考慮した潤滑層９３とが順に積層されている。
【０００４】
これらの光透過層層９２及び潤滑層９３は、それらの形成時に硬化のために塗布後に紫外線が照射されるが、特に潤滑層等をラジカル重合性二重結合を有するシリコーン化合物及びフッ素化合物等の材料から形成する場合に、反応開始剤を添加すると潤滑層等としての特性が劣る場合があり、このような場合反応開始剤を添加しないと、紫外線照射では硬化が困難であり、充分な品質の潤滑層を形成することができない。
【０００５】
【特許文献１】
特開平４−０１９８３９号公報
【０００６】
【特許文献２】
特開平１１−１６２０１５号公報
【０００７】
【特許文献３】
特開平７−２９２４７０号公報
【０００８】
【特許文献４】
特開２０００−６４０４２公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述のような従来技術の問題に鑑み、紫外線照射では硬化が困難である材料をも容易に硬化でき、また、電子線の積算照射線量を被照射面全体にわたって均一にできる電子線照射装置及び電子線照射方法を提供することを目的とする。また、電子線の積算照射線量を被照射面全体にわたって均一にでき、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層や樹脂層をディスク状体上に効率よく形成できるようにしたディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明による電子線照射装置は、ディスク状体を回転駆動する回転駆動部と、前記ディスク状体を回転可能に収容する遮蔽容器と、前記ディスク状体の表面の被照射面に対し電子線が照射されるように前記遮蔽容器に設けられた電子線照射部と、を具備し、前記ディスク状体の回転中に前記被照射面に前記電子線照射部から電子線を照射するときに、前記電子線の照射線強度が前記ディスク状体の半径方向の外周面側において内周面側よりも大きくなるように構成したことを特徴とする。
【００１１】
この電子線照射装置によれば、回転中のディスク状体上に対し電子線を照射するので、ディスク状体上に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができる。このため、例えば、紫外線照射では硬化が困難である潤滑性を有する層（以下、単に「潤滑層」と記す。）や樹脂層等を容易に硬化できる。また、かかる電子線の照射のときに、回転中のディスク状体では半径方向外周側での線速度が内周側よりも速いことに対応して電子線の照射線強度を外周面側において内周面側よりも大きくできるので、電子線の積算照射線量がディスク状体の被照射面の全面において均一になる。これにより、例えば、樹脂層や潤滑層を全面にわたって均一に瞬時に効率的に硬化できる。
【００１２】
上記電子線照射装置において、前記電子線照射部は加速電圧が２０乃至１００ｋＶであることが好ましい。これにより、特に、表面から薄い範囲に例えば樹脂層に効率よく電子線エネルギを与え、その下に存在する基材等に電子線による影響を与えない。
【００１３】
また、前記電子線照射部は前記半径方向に配置された複数の電子線照射管を備えることが好ましい。この場合、前記複数の電子線照射管を前記半径方向の略同一方向に配置することができ、また、前記半径方向の異なる方向に例えば図１６や図１７のように略近接して配置するようにしてもよい。この場合、半径方向の略同一方向とは、半径方向に延びる同じ直線に沿った方向であり、また、半径方向の異なる方向とは、半径方向に異なる向きに延びる別々の直線に沿った方向である。ここで、半径方向とは、ディスク状体の回転中心から放射状に延びる方向及びディスク状体の回転中心から偏心した点からディスク状体の外周に延びる方向をいう。
【００１４】
また、前記複数の電子線照射管の各電流値を前記外周面側に配置された電子照射管において前記内周面側に配置された電子照射管よりも大きく設定することで、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００１５】
また、前記複数の電子線照射管は、それぞれ電子線を外部に照射する照射窓を有し、前記被照射面から前記照射窓までの距離が前記外周面側の電子照射管において前記内周面側の電子照射管よりも短くなるように配置されたことで、被照射面までの距離に応じて電子線の照射線強度が減衰するので、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００１６】
また、前記複数の電子線照射管の少なくとも１つを前記照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させ、例えば図１５または図１８のように配置することで、被照射面までの距離に応じて電子線の照射線強度が減衰するので、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００１７】
また、前記電子線照射部は電子線を外部に照射する照射窓を有する電子線照射管を備え、前記電子線照射管を前記照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させて配置したことで、単数の電子線照射管でも一定サイズの照射窓から被照射面までの距離に応じて電子線の照射線強度が減衰するので、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００１８】
また、前記遮蔽容器内を例えば窒素ガス、アルゴンガスやＣＯ２ガス、これらの混合ガス等の不活性ガスの雰囲気とし、前記照射窓の近傍に不活性ガスが流れるようにガス導入口及びガス排出口を前記遮蔽容器に設けることが好ましい。この不活性ガスの流れにより照射窓を冷却することができる。
【００１９】
この場合、前記照射窓の近傍に温度センサを設け、前記温度センサによる測定温度に基づいて前記不活性ガスの流量を調整することにより、照射窓の近傍を一定温度以下に制御できる。
【００２０】
また、前記遮蔽容器内の酸素濃度を測定するための酸素濃度計が設けられていることが好ましい。これにより、遮蔽容器内が一定の酸素濃度以下であることが確認でき、例えば、電子線の照射される被回転体の照射表面近傍での酸素によるラジカル反応阻害が発生し難くなり、良好な硬化反応を確保できる。
【００２１】
また、前記遮蔽容器内を減圧するための真空装置が設けられていることが好ましく、これにより、所定圧力に減圧した遮蔽容器内で電子線照射を行うことが可能となり、また、遮蔽容器内を不活性ガスの雰囲気に置換することを簡単かつ効率的に行うことができる。
【００２２】
また、前記遮蔽容器は開閉可能であり、鉄鋼やステンレス鋼等の金属材料から構成されるとともに前記照射窓からの電子線を遮蔽する遮蔽構造を有することが好ましい。これにより、電子線及び２次Ｘ線を遮蔽することができ、電子線及び２次Ｘ線が外部に漏れず、被爆に対する安全性の対策上好ましい。なお、前記遮蔽構造の近傍に前記遮蔽容器を密閉するための密閉構造を設けることが好ましく、これにより、密閉構造を構成するＯリング等の材料に対して電子線が遮蔽され、電子線照射による材料劣化が起きない。
【００２３】
また、前記電子線照射部と前記被照射面との間に配置され、前記電子線を透過するように開く開位置と遮るように閉じる閉位置との間で移動可能なシャッタ部材と、前記ディスク状体の回転中に前記電子線の照射と非照射とを切り換えるように前記シャッタ部材を移動させるシャッタ駆動機構と、を具備することで、電子線の照射・非照射の切り換え制御を簡単に実行でき、また、電子線照射部の電源をオンオフ制御する必要がないので、電子線照射部の立ち上げ時間が不要であり電子線照射を繰り返すときに効率的である。
【００２４】
この場合、前記シャッタ部材を前記ディスク状体の外周の周速よりも速い比較的高速度で開閉するように構成することで、シャッタ部材を開閉するときの照射時間の違いを無視できる。
【００２５】
本発明による電子線照射方法は、ディスク状体を回転駆動するステップと、前記ディスク状体の回転中の被照射面に対し電子線照射部から電子線をその照射線強度が前記ディスク状体の半径方向の外周面側において内周面側よりも大きくなるように照射するステップと、を含むことを特徴とする。
【００２６】
この電子線照射方法によれば、回転中のディスク状体上に対し電子線を照射するので、ディスク状体上に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができる。このため、例えば、紫外線照射では硬化が困難である樹脂材料による樹脂層を容易に硬化できる。また、かかる電子線の照射のときに、回転中のディスク状体では半径方向外周側での線速度が内周側よりも速いことに対応して電子線の照射線強度を外周面側において内周面側よりも大きくできるので、電子線の積算照射線量がディスク状体の被照射面の全面において均一になる。これにより、例えば、樹脂層を全面にわたって均一に瞬時に効率的に硬化できる。
【００２７】
上記電子線照射方法において、前記電子線照射部は加速電圧が２０乃至１００ｋＶである電子線を発生することが好ましい。これにより、特に、表面から薄い範囲に例えば樹脂層に効率よく電子線エネルギを与え、その下に存在する基材等に電子線による影響を与えない。
【００２８】
また、前記電子線照射部として前記半径方向に配置された複数の電子線照射管の各電流値を前記外周面側に配置された電子照射管において前記内周面側に配置された電子照射管よりも大きくすることで、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００２９】
また、前記電子線照射部として前記半径方向に配置された複数の電子線照射管の電子線の各照射窓と前記被照射面との距離を前記外周面側の電子照射管において前記内周面側の電子照射管よりも短くしたことで、被照射面までの距離に応じて電子線の照射線強度が減衰するので、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００３０】
また、前記複数の電子線照射管の少なくとも１つを前記照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させたことで、一定サイズの照射窓から被照射面までの距離に応じて電子線の照射線強度が減衰するので、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００３１】
また、前記電子線照射部として配置された電子線照射管をその電子線の照射窓が前記被照射面の外周面側に近づくように傾斜させたことで、単数の電子線照射管でも一定サイズの照射窓から被照射面までの距離に応じて電子線の照射線強度が減衰するので、電子線の照射線強度を被照射面の外周面側において内周面側よりも大きくできる。
【００３２】
また、前記ディスク状体を密閉可能な遮蔽容器内に回転可能に収容し、前記遮蔽容器内を減圧してから不活性ガスを導入することで不活性ガス雰囲気に置換することで、遮蔽容器内を簡単かつ効率的に不活性ガスの雰囲気とすることができる。なお、前記遮蔽容器内の酸素濃度を測定しながら前記不活性ガスを導入することが好ましい。
【００３３】
また、前記不活性ガスをガス導入口からガス排出口に向けて前記電子線照射部の照射窓の近傍を通して流すことにより前記照射窓を冷却することが好ましい。なお、前記照射窓の近傍に設けた温度センサによる測定温度に基づいて前記不活性ガスの流量を調整することで冷却温度を制御することが好ましい。
【００３４】
本発明によるディスク状体の製造装置は、上述の電子線照射装置を備え、前記ディスク状体上に形成された潤滑層及び／又は樹脂層を前記電子線照射により硬化させるように構成したことを特徴とする。
【００３５】
このディスク状体の製造装置によれば、回転中のディスク状体上に対し電子線を照射するので、ディスク状体上に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができる。このため、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層、樹脂層を簡単に硬化できディスク状体上に効率よく形成できる。また、かかる電子線の照射のときに、回転中のディスク状体では半径方向外周側での線速度が内周側よりも速いことに対応して電子線の照射線強度を外周面側において内周面側よりも大きくできるので、電子線の積算照射線量がディスク状体の被照射面の全面において均一になる。これにより、樹脂層等を全面にわたって均一に瞬時に効率的に硬化でき、ディスク状体の品質及び生産性を向上できる。
【００３６】
本発明によるディスク状体の製造方法は、上述の電子線照射装置を用いるか、または、上述の電子線照射方法を用い、前記ディスク状体上に形成された潤滑層及び／又は樹脂層を前記電子線照射により硬化させることを特徴とする。
【００３７】
このディスク状体の製造方法によれば、回転中のディスク状体上に対し電子線を照射するので、ディスク状体上に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができる。このため、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層、樹脂層を簡単に硬化できディスク状体上に効率よく形成できる。また、かかる電子線の照射のときに、回転中のディスク状体では半径方向外周側での線速度が内周側よりも速いことに対応して電子線の照射線強度を外周面側において内周面側よりも大きくできるので、電子線の積算照射線量がディスク状体の被照射面の全面において均一になる。これにより、樹脂層等を全面にわたって均一に瞬時に効率的に硬化でき、ディスク状体の品質及び生産性を向上できる。
【００３８】
また、上述のディスク状体の製造方法では、加速電圧が２０乃至１００ｋＶであることで、表面から薄い範囲に樹脂層等に効率よく電子線エネルギを与え、その下に存在する基材等に電子線による影響を与えない。
【００３９】
なお、上記ディスク状体の製造方法は、上記電子線照射ステップの前に実行される、前記照射前のディスク状体上に光透過層を形成するステップを含むことが好ましく、更に光透過層の上に潤滑層を形成するステップを含むことが好ましく、前記光透過層及び前記潤滑層を前記電子線照射により硬化及び架橋できる。
【００４０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による第１の実施の形態による電子線照射装置及び第２の実施の形態によるディスク状媒体の製造装置について図面を用いて説明する。
【００４１】
〈第１の実施の形態〉
【００４２】
図１は本発明の実施の形態による電子線照射装置を概略的に示す側面図であり、図２は図１の電子線照射装置のシャッタ部材及びシャッタ駆動機構を概略的に示す平面図であり、図３は図１の電子線照射装置の制御系を示すブロック図であり、図４は図１の電子線照射装置の動作を示すフローチャートである。
【００４３】
図１に示すように、電子線照射装置１は、ディスク状体２を回転可能に収容し電子線を遮蔽するためにステンレス鋼から構成された遮蔽容器１０と、ディスク状体２の中心孔を係合部４に係合することで保持したディスク状体２を回転軸３を介して回転駆動するモータ１７と、ディスク状体２に対し半径方向に電子線を照射面１１ａから照射する電子線照射部１１と、電子線照射部１１に電圧を印加し電流を流すための電源１２と、照射面１１ａの近傍に配置された温度センサ２４と、温度センサ２４と接続されて照射面１１ａの近傍の温度を測定する温度測定装置１３と、を備える。
【００４４】
また、電子線照射装置１は、遮蔽容器１０内の密閉空間の酸素濃度を測定する酸素濃度計１６と、遮蔽容器１０内をバルブ１９を介して排気し減圧する真空装置１８と、遮蔽容器１０内を窒素ガス雰囲気に置換するために窒素ガスを供給する窒素ガス源１４と、窒素ガス源１４から窒素ガスがガス導入口２５から導入され照射面１１ａの近傍を通りガス排出口２６から排出するように流れるときのガス流量を制御可能なガス流量制御バルブ１５と、を備える。
【００４５】
電子線照射装置１は、更に、ディスク状体２よりも直径が大きくディスク状体２と電子線照射部１１の照射面１１ａとの間に配置された開口付き円板２１と、円板２１と照射面１１ａとの間に配置されたシャッタ部材２２とシャッタ部材２２を駆動するスライダ２３とを有するシャッタ駆動機構２０と、を備える。
【００４６】
図２のように、円板２１は扇形状の開口２１ａを有し、電子線照射部１１からの電子線が扇形状の開口２１ａを通してディスク状体２の半径方向の内周側と外周側との間に形成される半径方向領域２ａに照射され、ディスク状体２は回転しているので、ディスク状体２の被照射面２ｂ（図１）の全面に照射される。
【００４７】
また、シャッタ部材２２は、矩形状に構成され、スライダ２３により図２のスライド方向Ｈに駆動されると、図２の破線で示すように、円板２１の扇形状の開口２１ａを完全に覆い閉める閉位置に移動し、電子線照射部１１からの電子線を遮り、ディスク状体２の半径方向領域２ａには電子線が照射されない。また、シャッタ部材２２がスライダ２３により上述と反対のスライド方向Ｈ’に駆動されると、図２の実線のように、開口２１ａから完全に退避し開口２１ａが開く開位置に移動し、電子線照射部１１からの電子線を通過させ、ディスク状体２の半径方向領域２ａに電子線が照射される。
【００４８】
また、図１，図２に示すように、電子線照射部１１は、ディスク状体２の半径方向に内周面２ｃ側と外周面２ｄ側に配列された複数の円柱状の電子線照射管３１，３２を備える。各電子線照射管３１，３２は電源１２から電圧が印加され、その加速電圧が２０乃至１００ｋＶである電子線が各照射窓３１ｂ、３２ｂを透過してディスク状体２の半径方向領域２ａに照射される。
【００４９】
各照射窓３１ｂ、３２ｂは、図２の破線のように、細長の矩形状に構成され、ディスク状体２の半径方向に延びるように配置されており、図１のように電子線照射部１１の照射面１１ａと同一平面にある。
【００５０】
また、電源１２では各電子線照射管３１，３２に流す管電流を変えることができ、管電流をディスク状体２の外周面２ｄ側に配置された電子線照射管３２の方が内周面２ｃ側に配置された電子線照射管３１よりも大きくなるように設定している。
【００５１】
上述のような電子線照射管３１，３２から構成される電子線照射部１１から照射される電子線の照射線強度の被照射面２ｂにおける分布の概略的な様子を図１３に示す。同図から分かるように、管電流を上述のように変えることで、電子線の照射線強度の分布をディスク状体２の被照射面２ｂの外周面２ｄ側において内周面２ｃ側よりも大きくできる。
【００５２】
この場合、電子線照射管３１，３２の管電流は、例えばそれぞれ３００，６００μＡに設定できる。
【００５３】
次に、各電子線照射管３１，３２の管電流を変えたことによる効果について説明する。
【００５４】
図２において、電子線照射時にディスク状体２が回転方向Ｓに一定速度で回転するときの１回転に要する時間をｔ秒とすると、ディスク状体２の半径位置ｒ１における周速度ｖ１及び半径位置ｒ２における周速度ｖ２は、それぞれ次式（１）、（２）で表すことができる。
【００５５】
ｖ１＝（２π・ｒ１）／ｔ　・・・（１）
ｖ２＝（２π・ｒ２）／ｔ　・・・（２）
【００５６】
ここで、ｒ１＜ｒ２であるので、周速度ｖ１と周速度ｖ２との関係は次式（３）のようになる。ｖ１＜ｖ２　・・・（３）
【００５７】
なお、電子線照射管３１，３２は、電子線照射管３１の中心３１ａがディスク状体２の半径位置ｒ１と一致し、電子線照射管３２の中心３２ａが半径位置ｒ２と一致するように配置されている。
【００５８】
上述のように、一定の回転速度で回転するディスク状体２では、ディスク状体２の表面の半径位置により式（３）のように周速度が異なるため電子線の積算照射線量が半径方向領域２ａにおいて内周面２ｃ側で大きく外周面２ｄ側で小さくなるような不均一な分布を示すのであるが、上述のように電子線照射管３１，３２の管電流を変えることで、図１３のように電子線の照射線強度を外周面２ｄ側で比較的大きく内周面２ｃ側で比較的小さくできるので、電子線の積算照射線量の半径方向における不均一な分布を補正でき、比較的均一にできる。
【００５９】
なお、シャッタ駆動機構２０でスライダ２３によりシャッタ部材２２を開閉するときの移動速度は、比較的高速であり、ディスク状体の外周の周速よりもかなり高速度であるので、シャッタ部材２２を開閉するときの照射時間の違いは無視できる。
【００６０】
以上のような図１，図２の電子線照射装置１は、図３に示すように制御部３０により全体が制御されながら電子線照射を行うが、電子線照射装置１の動作の各ステップＳ０１乃至Ｓ１１を図４を参照して説明する。
【００６１】
制御部３０の制御により、まず、真空装置１８が作動し遮蔽容器１０内を減圧し（Ｓ０１）、バルブ１９を閉じてから、窒素ガスを窒素ガス源１４から流量制御バルブ１５を介して遮蔽容器１０内に導入する（Ｓ０２）。これにより、遮蔽容器１０内を窒素雰囲気に容易に置換することができる。
【００６２】
そして、酸素濃度計１６で遮蔽容器１０内が所定の酸素濃度まで低下したことを検知し（Ｓ０３）、モータ１７を駆動することで被回転体２を所定の回転速度で回転させる（Ｓ０４）。一方、電源１２から電子線照射部１１に電圧を印加し（Ｓ０５）、電子線を発生させる（Ｓ０６）。このとき、シャッタ部材２２は閉位置にあり、電子線の発生量は小さく制御される。
【００６３】
次に、図２の破線の閉位置にあるシャッタ部材２２をシャッタ駆動機構２０を作動しスライダ２３を駆動することでスライド方向Ｈ’に移動させて開口２１ａを開いて開位置にするとともに（Ｓ０７）、電子線の発生量を大きく制御し、電子線を回転している被回転体２の半径方向領域２ａの表面に照射する（Ｓ０８）。このように回転している被回転体２の半径方向領域２ａに電子線を照射するので、被回転体２の表面全体に電子線を照射することができる。
【００６４】
そして、被回転体２に電子線を所定時間だけ照射してから、同様にシャッタ駆動機構２０を作動しシャッタ部材２２をスライド方向Ｈに移動させて開口２１ａを閉じて閉位置にすることで（Ｓ０９）、その被回転体２に対する電子線照射を終了する。
【００６５】
また、上述の電子線照射部１１から電子線が発生している間、窒素ガス源１４からの窒素ガスがガス導入口２５から照射窓１１ａの近傍を通りガス排出口２６へと流れるようにすることで（Ｓ１０）、電子線発生時に温度上昇する照射窓１１ａを冷却でき、またシャッタ部材２２も冷却できる。また、照射窓１１ａ近傍の温度を温度センサ２４と温度測定装置１３とで測定し、その測定温度に基づいて窒素ガスの流量をガス流量制御バルブ１５で制御する（Ｓ１１）。これにより、照射窓１１ａ近傍の温度を一定温度以下に制御できる。
【００６６】
以上のように、図１乃至図４の電子線照射装置によれば、回転中のディスク状体２の表面に対し電子線を照射するので、ディスク状体２の表面に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を瞬時に効率よく照射することができる。このため、例えば、紫外線照射では硬化が困難である樹脂層等を容易に硬化できる。
【００６７】
また、加速電圧が２０乃至１００ｋＶである電子線を照射するので、ディスク状体２の表面から薄い範囲に例えば樹脂層に効率よく電子線エネルギを与え、その下に存在する基材等に電子線による影響を与えず、基材等の劣化を防止できる。
【００６８】
また、シャッタ駆動機構２０及びシャッタ部材２２により電子線の照射・非照射の切り換え制御を簡単に実行できる。
【００６９】
また、ディスク状体２の半径方向において電子線の積算照射線量を均一に分布させるように電子線照射を行うことができ、ディスク状体２の被照射面２ｂに対し全体的に均一に電子線によるエネルギを与えることができるので、例えば樹脂層を被照射面２ｂの全面に均一に瞬時に効率的に硬化できる。
【００７０】
次に、電子線の照射線強度をディスク状体２の被照射面２ｂの外周面２ｄ側において内周面２ｃ側よりも大きくするようにした別の構成例を図１４を参照して説明する。
【００７１】
図１４は図１，図２の電子線照射部における電子線照射管３１，３２の電子線照射方向の相対位置を概略的に示す図である。
【００７２】
図１４に示すように、電子線照射管３１はディスク状体２の内周面２ｃ側に配置され、電子線照射管３２はディスク状体２の外周面２ｄ側に配置され、電子線照射管３２の照射窓３２ｂから被照射面２ｂまでの距離ｄ２が電子線照射管３１の照射窓３１ｂから被照射面２ｂまでの距離ｄ１よりも短く配置されている。電子線は距離が長くなるほど減衰するので、図１３と同様に電子線の照射線強度の分布をディスク状体２の被照射面２ｂの外周面２ｄ側において内周面２ｃ側よりも大きくできる。
【００７３】
上述のように、一定の回転速度で回転するディスク状体２では、ディスク状体２の表面の半径位置により式（３）のように速度が異なるため電子線の積算照射線量が内周面２ｃ側で大きく外周面２ｄ側で小さくなるような不均一な分布を示すのであるが、上述のように電子線照射管３１，３２の被照射面２ｂまでの距離を変えることで、電子線の照射線強度を外周面２ｄ側で比較的大きく内周面２ｃ側で比較的小さくできるので、電子線の積算照射線量の半径方向における不均一な分布を補正でき、比較的均一にできる。
【００７４】
従って、ディスク状体２の半径方向において電子線の積算照射線量を均一に分布させるように電子線照射を行うことができ、ディスク状体２の被照射面２ｂに対し全体的に均一に電子線によるエネルギを与えることができるので、例えば樹脂層を被照射面２ｂの全面に均一に瞬時に効率的に硬化できる。
【００７５】
なお、図１４において、各電子線照射管３１，３２の距離ｄ１，ｄ２を適宜変えることで、電子線の積算照射線量の半径方向における分布がより均一になるように調整できる。また、図１４では電子線照射管３１，３２の管電流及び加速電圧は同じに設定してよいが、管電流及び加速電圧の少なくとも一方を上述のように変えてもよい。
【００７６】
次に、電子線の照射線強度をディスク状体２の被照射面２ｂの外周面２ｄ側において内周面２ｃ側よりも大きくするようにした更に別の構成例を図１５を参照して説明する。
【００７７】
図１５は図１，図２の電子線照射部における電子線照射管をディスク状体に対し傾斜させた状態を概略的に示す図である。
【００７８】
図１５に示すように、上記電子照射管３１，３２と同様の単数の電子線照射管３３をその照射窓３３ｂがディスク状体２の被照射面２ｂの外周面２ｄ側に近づくように傾斜させて配置している。これにより、一定サイズの照射窓３３ｂから被照射面までの距離に応じて電子線の照射線強度が減衰するので、電子線の照射線強度を被照射面の外周面２ｄ側において内周面２ｃ側よりも大きくできる。従って、上述と同様に、電子線の積算照射線強度の半径方向における不均一な分布を補正でき、比較的均一にできる。この場合、電子線照射管３３の長手中心軸ｃと被照射面２ｂとのなす角度θ（図１５のような真横から見たときの角度）を適宜変えることで、電子線の積算照射線量の半径方向における分布がより均一になるように調整できる。
【００７９】
また、図１５では、電子線照射管３３を細長の矩形状の照射窓３３ｂの下端がディスク状体２の被照射面２ｂに最も近づくように配置したが、図１８、図１９のように、照射窓３３ｂの長辺が被照射面２ｂに対しほぼ平行となるように配置してもよい。
【００８０】
なお、図１５では、単数の電子線照射管を配置したが、複数の電子照射管を配置し、その一部または全部を同様に傾斜構造としてよく、また、ディスク状体に対する高さを変えてもよい。更に、少なくとも１つの電子照射管の管電流を上述のように変えてもよい。
【００８１】
〈第２の実施の形態〉
【００８２】
次に、第２の実施の形態としてのディスク状媒体の製造装置について説明する。図５乃至図９は、本実施の形態においてディスク状媒体上に潤滑層等を形成するための各工程を説明する製造装置の側面図である。
【００８３】
図５乃至図９に示すように、ディスク状媒体の製造装置（以下、単に「製造装置」という。）５０は、加速電圧が２０乃至１００ｋＶである低加速電圧による電子線を発生しディスク状媒体４９の表面に照射する電子線照射装置１と、照射前のディスク状媒体４９を電子線照射装置１に供給しかつ照射後のディスク状媒体４９ａを電子線照射装置１から受け取る入替室５２と、照射前のディスク状媒体と照射後のディスク状媒体とを入れ替えるために回動軸５３により回動する回動部５４と、を密閉可能なチャンバ５１内に備える。
【００８４】
図５乃至図９のように、製造装置５０は、更に、照射前のディスク状媒体を入替室５２に供給し照射後のディスク状媒体を排出するようにディスク状媒体の搬送を行うディスク搬送装置６０を備える。
【００８５】
電子線照射装置１は、図１、図２とほぼ同様に構成されているので、図１，図２と相違する点を説明する。即ち、図１の遮蔽容器１０は、図５では、ディスク状媒体４９を回転可能に収容する図の下側の回動トレイ部１０ａと、電子照射部１１やシャッタ駆動機構２０等が設けられる上側の固定部１０ｂに分割され、回動トレイ部１０ａは固定部１０ｂに対し回動部５４により上下動及び回動し入替室５２側に移動可能になっている。
【００８６】
図５のように、回動トレイ部１０ａの合わせ面１０ｃ及び固定部１０ｂの合わせ面１０ｃ’には電子線が外部に漏れないように電子線を遮蔽する遮蔽部５５が設けられている。図１０は遮蔽部５５を示す拡大断面図である。図１０に示すように、回動トレイ部１０ａの合わせ面１０ｃには凸部５５ａが全周に形成され、固定部１０ｂの合わせ面１０ｃ’には凸部５５ａが入り込むことができるように凹部５５ｂが全周に形成されている。
【００８７】
また、遮蔽部５５を構成する凹部５５ｂの底部には更に窪み５５ｃが形成され、窪み５５ｃ内にＯリング５６ａを収め密閉部５６を形成している。回動トレイ部１０ａと固定部１０ｂとを合わせて内部に形成される密閉空間１ａの密閉性を密閉部５６により高めることができる。
【００８８】
図１０において、密閉部５６のＯリング５６ａは凹部５５ｂの更に底部側の窪み５５ｃ内に位置するので、電子線が直接に照射されないので、Ｏリング５６ａの劣化を防止できる。
【００８９】
図５に示すように、入替室５２は、回動部５４により上下動及び回動し電子線照射装置１側に移動し回動トレイ部１０ａと入れ替え可能な回動トレイ部５２ａと、ディスク搬送装置６０により照射前のディスク状媒体を受け取り照射後のディスク状媒体を外部に排出するように回動する搬送回動トレイ部５２ｂとを備える。
【００９０】
チャンバ５１は入替室５２の一部を構成する端部５１ａと連結部５１ｂとを有する。端部５１ａと連結部５１ｂが入替室５２の回動トレイ部５２ａと搬送回動トレイ部５２ｂとの間に介在し合わせ面になって、入替室５２内に密閉空間５２ｃが形成されるとともに、搬送回動トレイ部５２ｂがチャンバ５１の一部を構成する。
【００９１】
また、端部５１ａと搬送回動トレイ部５２ｂとの間の合わせ面及び端部５１ｂと搬送回動トレイ部５２ｂとの間の合わせ面にはそれぞれＯリングによる密閉部５７が設けられている。また、端部５１ａと回動トレイ部５２ａとの間の合わせ面及び連結部５１ｂと回動トレイ部５２ａとの間の合わせ面にはそれぞれ図１０と同様の遮蔽部５５，密閉部５６が設けられている。
【００９２】
チャンバ５１は、電子線照射装置１の端部側で固定部１０ｂと連結し、中央部付近で連結部５１ｂが固定部１０ｂと連結し、搬送回動トレイ部５２ｂが端部５１ａ及び連結部５１ｂで密閉されるので、全体として密閉可能になっている。また、チャンバ５１、搬送回動トレイ部５２ｂ（６２）、回動トレイ部１０ａ及び固定部１０ｂ等は、鉄鋼やステンレス鋼から構成され、電子線を遮蔽し、電子線が外部に漏れないようになっている。
【００９３】
チャンバ５１には窒素ガス導入口５８から窒素ガスが導入でき、また、入替室５２内の密閉空間５２ｃは真空装置５９により減圧可能である。図９のようにチャンバ５１全体が密閉された状態で回動部５４が回動トレイ部１０ａ、５２ａとともに図の下方に移動し、密閉空間１ａ、５２ｃが開放された場合は、入替室５２は窒素ガスで置換された状態であるため、チャンバ５１内が電子線照射装置１の密閉空間１ａの窒素ガス雰囲気に影響を及ぼさない。
【００９４】
また、入替室５２には窒素ガス導入口５９ｂから窒素ガスが導入可能となっている。また、チャンバ５１内の窒素ガスはガス排出口５８ａから排出可能になっている。
【００９５】
図５に示すように、ディスク搬送装置６０は、入替室５２を構成する搬送回動トレイ部５２ｂと入れ替え可能な別の搬送回動トレイ部６２と、搬送回動トレイ部５２ｂ，６２を回動軸６３を介して回動させる回動部６４と、を備える。搬送回動トレイ部５２ｂ，６２は、ディスク状媒体４９の中心孔の周囲近傍でディスク状媒体４９を真空吸着する吸着部６１をそれぞれ有する。回動部６４は上下動及び回動によりディスク状媒体を入替室５２と外部のディスク受渡部７０との間で搬送する。
【００９６】
ディスク受渡部７０から入替室５２へと供給されるディスク状媒体４９は、外部のスピンコート装置でその表面に樹脂材料を含む光透過層とその上に潤滑剤からなる潤滑層が形成されている。
【００９７】
かかる光透過層形成のための材料としては活性エネルギー線硬化性化合物であれば特に限定されないが、（メタ）アクリルイロ基、ビニル基及びメルカプト基の中から選択される少なくとも１つの反応性基を有することが好ましい。その他、公知の光重合開始剤を含んでいてもよい。
【００９８】
また、潤滑層形成のための材料としては、例えば、ラジカル重合性二重結合を有するシリコーン化合物及びフッ素化合物があるが、これらには限定されない。これらの潤滑層形成材料は、一般に、光重合開始剤を含まない場合には紫外線による硬化が困難であるが、電子線により瞬時に硬化させることができる。
【００９９】
次に、上述の製造装置５０の動作についてディスク状媒体への電子線照射及びディスク状媒体の排出・供給に分けて、図５乃至図９、及び図１１のフローチャートを参照して説明する。
【０１００】
〈ディスク状媒体への電子線照射〉
【０１０１】
図１１に示すように、まず、図９のようにチャンバ５１全体が密閉され、回動軸５３及び回動部５４が回動トレイ部１０ａ、５２ａとともに図の下方に移動し、密閉空間１ａ、５２ｃが開放してから、窒素ガス導入口５８から窒素ガスをチャンバ５１内に導入し、内部を窒素ガス雰囲気に置換する（Ｓ２１）。このとき、酸素濃度計１６によりチャンバ内５１の酸素濃度を測定しながら窒素ガスの置換を行うことができる。
【０１０２】
次に、回動軸５３及び回動部５４が回動トレイ部１０ａ、５２ａとともに図の上方に移動すると、図５のように密閉空間１ａ、５２ｃが形成される。そして、電子線照射装置１では、密閉空間１ａ内でモータ１７によりディスク状媒体４９が回転し（Ｓ２２）、電子線照射部１１が所定量の電子線を発生するように制御され（Ｓ２３）、窒素ガスが導入口２５から排出口２６へと照射窓１１ａ近傍を通りながら流れる。
【０１０３】
次に、図６のように、シャッタ駆動機構２０によりシャッタ部材２２を開くことで（Ｓ２４）、電子線照射部１１から回転中のディスク状媒体４９の光透過層上に潤滑層が形成された表面に電子線照射を行う（Ｓ２５）。図７のように電子線照射を所定時間だけ行ってから、図８のようにシャッタ駆動機構２０によりシャッタ部材２２を閉じることで（Ｓ２６）、そのディスク状媒体４９の表面に対する電子線照射を終了する。これにより、ディスク状媒体４９の光透過層の表面に固着された潤滑層を有するディスク状媒体４９ａを得ることができる。これは、光透過層が硬化するとともに潤滑剤の反応性基が光透過層表面や他の潤滑剤の反応性基と結合（硬化）するためと思われる。
【０１０４】
〈ディスク状媒体の排出・供給〉
【０１０５】
図５のように入替室５２内の密閉空間５２ｃが形成されている状態で、図６のように、照射後のディスク状媒体４９ａが内部にある入替室５２の密閉空間５２ｃを開放バルブ５９ｃ及び開放口５９ｄを介して大気開放する（Ｓ３０）。
【０１０６】
そして、ディスク搬送装置６０は回動軸６３及び回動部６４を介して搬送回動トレイ部５２ｂ側の吸着部６１を図６の下方に移動させて、ディスク状媒体４９ａを吸着する（Ｓ３１）。これとほぼ同時に、外部のディスク受渡部７０にある表面に光透過層等の形成された照射前のディスク状媒体４９を別の搬送回動トレイ部６２側の吸着部６１が吸着する（Ｓ３２）。
【０１０７】
次に、図７のように、ディスク搬送装置６０は回動軸６３及び回動部６４を図７の上方に移動させることで、吸着部６１及び搬送回動トレイ部５２ｂとともにディスク状媒体４９ａを回動トレイ部５２ａ内から持ち上げ、同時に吸着部６１及び搬送回動トレイ部６２とともにディスク状媒体４９をディスク受渡部７０から持ち上げる。そして、回動部６４が回動軸６３を中心にして回動することで搬送回動トレイ部５２ｂと６２との位置を入れ替える（Ｓ３３）。
【０１０８】
次に、図８のように、ディスク搬送装置６０が回動軸６３及び回動部６４を図７の下方に移動させることで、ディスク状媒体４９を入替室５２の回動トレイ部５２ａ内に収める（Ｓ３４）。一方、ディスク状媒体４９ａをディスク受渡部７０に渡し（Ｓ３５）、各吸着部６１がディスク状媒体４９，４９ａの吸着を止め図の上方に移動する。ディスク受渡部７０からディスク状媒体４９ａが外部に排出される（Ｓ３６）。
【０１０９】
そして、上述のようにして再び形成された入替室５２内の密閉空間５２ｃを真空装置５９により減圧し、窒素ガス導入口５９ｂから窒素ガスを導入し窒素ガス置換をしておく（Ｓ３７）。
【０１１０】
以上のようにして、照射後のディスク状媒体４９ａを入替室５２からディスク受渡部７０まで搬送し、同時に、照射前のディスク状媒体４９をディスク受渡部７０から入替室５２まで搬送することができ、ディスク状媒体４９の交換を回動軸６３及び回動部６４の１回の回動で行うことができる。
【０１１１】
また、上述のディスク状媒体４９、４９ａの交換は、密閉空間１ａと５２ｃとが独立しているので、図６，図７のように、電子線照射装置１における電子線照射中に実行することができ、効率的である。
【０１１２】
次に、入替室５２と電子線照射装置１との間のディスク状媒体の入れ替え動作について説明する。即ち、上述の図８のように照射前のディスク状媒体４９が入替室５２の回動トレイ部５２ａ内に収容され、電子線照射装置１では、モータ１７による回転が停止し（Ｓ３８）、電子線照射の終了したディスク状媒体４９ａが回動トレイ部１０ａ内に収容された状態で、回動軸５３及び回動部５４が図の下方に移動することで、回動トレイ部５２ａ、１０ａを下方に移動して密閉空間５２ｃ、１０ｃを開放する。なお、このとき密閉空間５２ｃ内は窒素ガス雰囲気に置換されているので、チャンバ５１内の他の部分への影響はない。
【０１１３】
次に、図９のように、チャンバ５１内で回動部５４が回動軸５３を中心に回動することで回動トレイ部５２ａと１０ａとの位置を入れ替える（Ｓ３９）。これにより、回動トレイ部５２ａに収容された照射前のディスク状媒体４９が電子線照射装置１内に移り（Ｓ４０）、これとほぼ同時に、回動トレイ部１０ａに収容されたディスク状媒体４９ａが入替室５２内に移る（Ｓ４１）。
【０１１４】
上述のようにして、入替室５２と電子線照射装置１との間のディスク状媒体４９、４９ａの交換を回動軸５３及び回動部５４の１回の回動で行うことができる。そして、回動軸５３及び回動部５４が図の上方に移動することで、回動トレイ部５２ａ、１０ａを上方に移動させて図５のように密閉空間５２ｃ、１ａを再び形成し、電子線照射装置１では上述のステップＳ２２に戻り、また、入替室５２では上述のステップＳ３０に戻り、同様の動作を繰り返すことができる。
【０１１５】
なお、モータ１７の回転軸３は、回動軸５３及び回動部５４の回動時には、回動部５４及び回動トレイ部１０ａから下方に退避するようになっており、回動部５４が回動できる。
【０１１６】
以上のように、図５乃至図９の製造装置５０によれば、表面に潤滑層等が形成されたディスク状媒体４９を回転させ、その回転中のディスク状媒体上に加速電圧が２０乃至１００ｋＶである低加速電圧による電子線を照射するので、ディスク状媒体上に紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射することができるため、紫外線照射では硬化が困難である潤滑層等を容易に硬化・固着でき、潤滑層等を瞬時に形成でき、潤滑層等形成の生産性が向上する結果、ディスク状媒体の生産性向上に寄与できる。
【０１１７】
また、チャンバ５１の内部及びディスク搬送装置６０において回動トレイ部と別の回動トレイ部との連動したそれぞれ１回の回動で両回動トレイ部を互いに入れ替えることにより、照射後のディスク状媒体４９ａを排出するとともに照射前のディスク状媒体４９を供給することができ、効率よく入れ替えることができるので、生産性が向上する。
【０１１８】
また、加速電圧が２０乃至１００ｋＶである電子線を用いるので、表面から薄い範囲にある潤滑層や樹脂層に効率よく電子線エネルギを与え、その下に存在する基材に電子線による影響を与えない。
【０１１９】
また、ディスク状体２の半径方向において電子線の積算照射線量をディスク状体の被照射面の全面において均一に分布させるように電子線照射を行うことができ、ディスク状体２の被照射面に対し全体的に均一に電子線によるエネルギを与えることができる。これにより、潤滑層や樹脂層を全面にわたって均一に瞬時に効率的に硬化でき、ディスク状体の品質及び生産性を向上できる。
【０１２０】
また、シャッタ駆動機構２０及びシャッタ部材２２により電子線の照射・非照射の切り換え制御を簡単に実行でき、また、電子線照射部１１の電源１２をオンオフ制御する必要がないので、電子線照射部１１の立ち上げ時間が不要であり、電子線照射装置１にディスク状媒体４９が次々と供給され、連続的な電子線照射の繰り返しを効率的に実行でき、生産性が向上する。
【０１２１】
例えば、電子線照射装置１の電子線照射部１１を構成する低加速電圧による電子線照射のための電子線照射管３１、３２、３３（図２、図１５）は、ウシオ電機（株）から市販されており、例えば、加速電圧５０ＫＶ、管電流０．６ｍＡ／本の条件で、表面から１０乃至２０μｍ程度の深さ範囲内の潤滑層・樹脂層等に効率よく電子線エネルギを与えることができ、１秒未満で瞬時に効率的に硬化させることができる。例えば、図１２のような光ディスクの潤滑層９３のみならず光透過層９２の少なくとも潤滑層９３と接する部分をも同時に硬化できる。しかも、例えば図１２のような光ディスクにおいて潤滑層９３の下方にある基材９０には電子線が到達しないので、ポリカーボネート等の樹脂材料からなる基材９０にダメージを与えず、変色・変形・劣化等の悪影響が起きない。
【０１２２】
なお、各電子線照射管３１乃至３３の照射窓３１ｂ，３２ｂ，３３ｂを構成する窓材としては厚さ３μｍ程度のシリコン薄膜が好ましく、従来の照射窓では取り出すことのできない１００ｋＶ以下の低い加速電圧で加速された電子線を取り出すことができる。
【０１２３】
また、本明細書において、「回動」とは、回転のように一方向（またはその反対方向）に連続的にディスク状体が回るのではなく、一方向またはその反対方向に所定量だけ回りそこで停止するようにして、その位置を変えるように回ることを意味する。
【０１２４】
以上のように本発明を実施の形態により説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が可能である。例えば、本実施の形態のディスク状媒体の製造装置では、光ディスク等のディスク状媒体の表面近傍に上述のような材料からなる光透過層及び潤滑層を硬化して形成する例を説明したが、本発明はこれに限定されず、潤滑層以外の樹脂層等を硬化するのに適用してもよいことは勿論である。例えば、図１２において潤滑層９３の下の光透過層９２のみを形成するために適用してもよく、瞬時に硬化させることができ効率的であり、生産性向上に寄与できる。
【０１２５】
また、電子線照射装置１で電子線を照射可能なディスク状体としては各種のものであってよく、また、製造装置５０で製造可能なディスク状体として、光ディスク等のディスク状媒体を例にして説明したが、媒体以外のディスク状体上に各種の樹脂層を形成する場合にも適用できることは勿論である。
【０１２６】
また、図１の電子線照射装置及び図５乃至図９の製造装置では、電子線を照射の対象となる表面における層厚さを考慮して、電子線照射部１１の電子線照射管の加速電圧等を決定することが好ましい。また、電子線照射部１１を構成する電子線照射管の数は、被照射面の大きさや面積に応じて適宜増減することができる。
【０１２７】
また、チャンバ内や電子線照射装置内の雰囲気を置換するガスとしては窒素ガスに限定されず、アルゴンガス、ヘリウムガス，ＣＯ２等の不活性ガスであってもよく、また、これらの２種またはそれ以上の混合ガスであってもよい。
【０１２８】
また、図１，図２，図１４では、電子線照射管の本数を２本としたが、３本以上であってもよく、この場合、電子線の照射線強度がディスク状体の被照射面において半径方向の内周面側から外周面側に向けて大きくなるように構成する。
【０１２９】
また、複数の電子線照射管は図２のようにディスク状体の同一半径方向（半径方向に延びる直線上）に配置してよいが、図１６のように２本の電子線照射管３１、３２をディスク状体２の異なる半径方向（半径方向に別々に延びる複数の直線上）に略近接するように配置してもよい。また、図１７のように、３本の電子線照射管３１、３２、３３をディスク状体２の異なる半径方向（半径方向に別々に延びる複数の直線上）に略近接するように配置してもよい。
【０１３０】
また、図２，図１６，図１７では、各照射窓３１ｂ乃至３３ｂは回転軸３の中心から放射する半径方向の直線上に沿うように配置されているが、これに限定されず、かかる直線に対し所定角度で傾斜するように配置されてもよい。
【０１３１】
【発明の効果】
本発明によれば、紫外線照射では硬化が困難である材料をも容易に硬化でき、また、電子線の積算照射線量を被照射面全体にわたって均一にできる電子線照射装置及び電子線照射方法を提供できる。
【０１３２】
また、電子線の積算照射線量を被照射面全体にわたって均一にでき、紫外線照射では硬化が困難である材料による樹脂層や潤滑層等をディスク状体上に効率よく形成できるようにしたディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態による電子線照射装置を概略的に示す側断面図である。
【図２】図１の電子線照射装置のシャッタ部材及びシャッタ駆動機構を概略的に示す平面図である。
【図３】図１の電子線照射装置の制御系を示すブロック図であり、
【図４】図１の電子線照射装置の動作を示すフローチャートである。
【図５】第２の実施の形態によるディスク状媒体の製造装置を概略的に示す側断面図であり、ディスク状媒体上に樹脂層を形成するための電子線照射の直前の工程を説明する図である。
【図６】図５と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に樹脂層を形成するための電子線照射及びディスク状媒体の外部との入替工程を説明する図である。
【図７】図５と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に樹脂層を形成するための電子線照射及びディスク状媒体の外部との入替工程を説明する図である。
【図８】図５と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に樹脂層を形成するためのディスク状媒体の内部での入替工程の準備工程（入替室内の減圧・窒素ガス置換等）を説明する図である。
【図９】図５と同様の側断面図であり、ディスク状媒体上に樹脂層を形成するためのディスク状媒体の内部での入替工程を説明する図である。
【図１０】図５乃至図９の製造装置における遮蔽部５５を示す拡大断面図である。
【図１１】図５乃至図９の製造装置におけるディスク状媒体への電子線照射の各ステップ及びディスク状媒体の排出・供給の各ステップを示すフローチャートである。
【図１２】図５乃至図９の製造装置において製造可能な光ディスクの層構成の例を示す図である。
【図１３】図１，図２の電子線照射管３１，３２から構成される電子線照射部１１から照射される電子線の照射線強度の被照射面２ｂにおける分布を概略的に示す図である。
【図１４】図１，図２の電子線照射部における電子線照射管３１，３２の電子線照射方向の相対位置を変えるようにした構成例を示す図である。
【図１５】図１，図２の電子線照射部における電子線照射管をディスク状体に対し傾斜させた構成例を示す側面図である。
【図１６】２本の電子線照射管３１、３２をディスク状体２の異なる半径方向に配置した図２の変形例を示す平面図である。
【図１７】３本の電子線照射管３１、３２、３３をディスク状体２の異なる半径方向に配置した図２の別の変形例を示す平面図である。
【図１８】図１５の傾斜構成の変形例を示す側面図である。
【図１９】図１８の電子線照射管の照射窓のディスク状体に対する平面位置を示す平面図である。
【符号の説明】
１・・・電子線照射装置
２・・・ディスク状体
２ｂ・・・被照射面
２ｃ・・・内周面
２ｄ・・・外周面
１０・・・遮蔽容器
１１・・・電子線照射部
１１ａ・・・照射面
１２・・・電源
１３・・・温度測定装置
２４・・・温度センサ
１４・・・窒素ガス源
１５・・・ガス流量制御バルブ
１６・・・酸素濃度計
１７・・・モータ（回転駆動部）
１８・・・真空装置
２０・・・シヤッタ駆動機構
２１・・・円板
２１ａ・・・開口
２２・・・シヤッタ部材
３０・・・制御部
３１〜３３・・・電子線照射管
３１ｂ〜３３ｂ・・・照射窓
５０・・・ディスク状媒体の製造装置
１０ａ・・・回動トレイ部
１０ｂ・・・固定部
５１・・・チャンバ
５２・・・入替室
５２ａ・・・回動トレイ部
５２ｂ・・・搬送回動トレイ部
５３・・・回動軸
５４・・・回動部
５５・・・遮蔽部
５６・・・密閉部
５９・・・真空装置
６０・・・ディスク搬送装置
６２・・・回動トレイ部
７０・・・ディスク受渡部
９２・・・光透過層（樹脂層）
９３・・・潤滑層
【図１】
2004110969.tif 000003
【図２】
2004110969.tif 000004
【図３】
2004110969.tif 000005
【図４】
2004110969.tif 000006
【図５】
2004110969.tif 000007
【図６】
2004110969.tif 000008
【図７】
2004110969.tif 000009
【図８】
2004110969.tif 000010
【図９】
2004110969.tif 000011
【図１０】
2004110969.tif 000012
【図１１】
2004110969.tif 000013
【図１２】
2004110969.tif 000014
【図１３】
2004110969.tif 000015
【図１４】
2004110969.tif 000016
【図１５】
2004110969.tif 000017
【図１６】
2004110969.tif 000018
【図１７】
2004110969.tif 000019
【図１８】
2004110969.tif 000020
【図１９】
2004110969.tif 000021