(57)【要約】【課題】高密度磁気テープにおいて、電磁変換特性に優れ、走行後のエラーレートや高温保存後のエラーレートが小さい磁気記録媒体を提供することを目的としている。【解決手段】磁気テープの厚さが３．０〜７．７μｍ、磁性層の厚さが０．００５〜０．１５μｍ、磁性層と下塗層との合計の厚さが０．２〜１．２μｍとし、下塗層、磁性層およびバックコート層のうち、少なくとも下塗層およびバックコート層に電子線硬化性樹脂を含ませ、前記下塗層、磁性層およびバックコート層を硬化させるときの電子線の加速電圧を２０ｋＶ以上、１００ｋＶ未満とする。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一方の面に、非磁性粉をバインダ樹脂に分散してなる下塗層と、この下塗層の上に、磁性粉をバインダ樹脂に分散してなる磁性層、他方の面に非磁性粉をバインダ樹脂に分散してなるバックコート層を有する、ＭＲヘッドで記録信号の再生が行われる記録再生システムに用いられる磁気テープであって、前記磁気テープの厚さが３．０〜７．７μｍであり、前記磁性層の厚さが０．００５〜０．１５μｍであり、前記磁性層と下塗層との合計の厚さが０．２〜１．２μｍであり、前記下塗層、磁性層およびバックコート層のうち、少なくとも下塗層およびバックコート層には、電子線硬化性樹脂が含まれており、前記下塗層、磁性層およびバックコート層を硬化させるときの電子線の加速電圧が２０ｋＶ以上、１００ｋＶ未満であることを特徴とする磁気テープおよび磁気テープの製造方法。
【請求項２】
前記磁性層の中心線平均粗さをＲａＭ（ｎｍ）、前記バックコート層の中心線平均粗さをＲａＢ（ｎｍ）としたときに、２≦ＲａＭ≦７かつ、１＜ＲａＢ／ＲａＭ≦２．５であることを特徴とする、請求項１に記載の磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高記録密度特性に優れた塗布型の磁気テープに関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気テープは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピューターテープなど種々の用途があるが、特にデータバックアップ用テープの分野では、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、１巻当たり数十〜１００ＧＢの記録容量のものが商品化されている。また、今後１ＴＢを超える大容量バックアップテープが提案されており、その高記録密度化は不可欠である。
【０００３】
このような高記録密度化に対応した磁気テープを製造するにあたっては、磁性粉の微粒子化とそれらの塗膜中への高密度充填、塗膜の平滑化、磁性層の薄層化にとともに、下塗層、支持体の厚さも小さくなってきている。
【０００４】
磁性粉の微粒子化とともに、磁気テープの耐久性は低下する傾向にあるので、その耐久性を確保するために、磁性層、バックコート層に、モース硬度６以上のフィラーやカーボンブラックを添加する方法に加えて、バインダ樹脂を架橋材にて３次元架橋させることにより、磁性粉、非磁性粉の粉落ちを防ぐことが行われている。
【０００５】
３次元架橋させる方法としては、バインダ樹脂に水酸基を２個以上含むものを使用し、これをイソシアネート基を２個以上含むイソシアネート化合物を硬化剤として、ウレタン化反応を起こさせて架橋構造を形成することが一般的に行われている。この反応を十分行わせるためには、５０〜７０℃にて１２〜７２時間のエージングを行うことが必要となる。また、他の熱硬化反応を利用した架橋構造の形成も試みられているが、加熱エージングが必要な点は同じである。
【０００６】
さらに、バインダ樹脂を三次元架橋させる方法として、電子線硬化性樹脂をバインダ樹脂として使用し、電子線やＵＶなどの放射線で三次元架橋する方法も提案されている（特許文献１〜特許文献４）。
【０００７】
また、記録密度を大きくするために、記録信号の短波長化と共に、トラックピッチの狭幅化も行われており、再生ヘッドがトラックを正確にトレースできるようにサーボトラッキングも併用されるシステムが登場している。
【０００８】
薄手テープの走行を安定化させるために、非磁性支持体の磁性層が設けられている側の面と反対側の面に、非磁性粉をバインダ樹脂に分散してなる摩擦係数、電気抵抗の小さいバックコート層が設けられている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平６−１３１６６０号公報（２，５頁）
【特許文献２】
特開平１１−２１３３７２号公報（２，６頁）
【特許文献３】
特開２００１−８４５６５号公報（１，５，６，１０，１１頁）
【特許文献４】
特開２００２−１９０１０７号公報（２，３，９頁）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
磁気テープの高容量化のために、非磁性支持体、下塗層、磁性層、およびバックコート層の厚さが、より薄くなる傾向にある。このような薄手テープを加熱エージングにて硬化させる場合は、磁気テープがワカメ状に熱変形し、記録・再生時に当該テープとヘッドとの間のコンタクトが不安定になる傾向が大きくなってきた。また、このようなテープの熱変形があるとテープエッジの直線性も低下するため、前記したサーボシステムも不安定になり、十分なトラッキングが行えなくなる傾向が出てきた。
【００１１】
また、バインダ樹脂に電子線硬化性樹脂を導入し加熱エージングではなく電子線照射によりバインダを硬化させる試みもなされているが、従来は磁性層と下塗層との合計の厚さが１．２μｍを越えるような比較的厚い塗膜を硬化させるために１００ｋＶ以上の加速電圧で電子線を照射していた。このため、加熱エージングを行わない場合でも、製造工程中の電子線照射時のテープの温度上昇が大きいために、熱変形が避けられず、その後の工程にて熱歪取り行わなければならず、結局加熱エージングが必要であった。特に薄手テープでは、この熱変形の傾向が大きく加熱エージング工程をなくすことが課題となっていた。
【００１２】
さらに、加熱エージング工程において、前記バックコート層の表面粗さが磁性層に転写して磁性層の表面粗さが大きくなり、記録再生特性が低下したり、エラーが増加する現象も無視できなくなってきた。
【００１３】
そこで、本発明の課題は、上記問題点を検討し、薄手で高容量の低エラーレートの磁気テープを提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明者らは鋭意検討した結果、磁気テープを下記の構成にすれば、前記課題を解決できることを見出した。
【００１５】
すなわち、非磁性支持体の一方の面に、非磁性粉をバインダ樹脂に分散してなる下塗層と、この下塗層の上に、磁性粉をバインダ樹脂に分散してなる磁性層、他方の面に非磁性粉をバインダ樹脂に分散してなるバックコート層を有する、ＭＲヘッドで記録信号の再生が行われる記録再生システムに用いられる磁気テープであって、前記磁気テープの厚さが３．０〜７．７μｍであり、前記磁性層の厚さが０．００５〜０．１５μｍであり、前記磁性層と下塗層との合計の厚さが０．２〜１．２μｍであり、前記下塗層、磁性層およびバックコート層のうち、少なくとも下塗層およびバックコート層には、電子線硬化性樹脂が含まれており、前記下塗層、磁性層およびバックコート層を硬化させるときの電子線の加速電圧が２０ｋＶ以上、１００ｋＶ未満とすると前記目的を達成できる。さらに、前記磁性層の中心線平均粗さをＲａＭ（ｎｍ）、前記バックコート層の中心線平均粗さをＲａＢ（ｎｍ）としたときに、２≦Ｒａ≦７かつ、１＜ＲａＢ／ＲａＭ≦２．５とすると、より好ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】
磁気テープの高容量化のために、前記磁気テープの厚さは３．０〜７．７μｍであることが好ましく、３．０〜７．０μｍであることがより好ましく、３．０〜６．０μｍであることが最も好ましい。磁気テープの厚さがこの範囲であることが好ましいのは、３．０μｍ未満であると磁気テープの強度が小さくなり、ヘッドコンタクトが不十分になり、出力が小さくなったり、走行が不安定になりエラーレートが増加し、７．７μｍを越えるとテープの体積が増加し記録容量が低下するからである。前記磁性層の厚さは０．００５〜０．１５μｍであることが好ましく、０．０１〜０．１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．０８μｍであることが最も好ましい。磁性層の厚さがこの範囲であることが好ましいのは、０．００５μｍ未満では、出力が十分取れなくなったり、厚さの均一性が不十分でノイズが増加したりし、０．１５μｍを越えると反磁場による自己減磁で短波長記録特性が低下するためである。前記磁性層と下塗層との合計の厚さは０．２〜１．２μｍであることが好ましく、０．３〜１．０μｍであることがより好ましく、０．３〜０．８μｍであることが最も好ましい。磁性層と下塗層との合計の厚さがこの範囲であることが好ましいのは、０．２μｍ未満では下塗層の、潤滑剤の保持量が少なくなるため、磁性層の耐久性が不十分となったり磁性層の平滑性も確保できなくなり、１．２μｍを越えるとテープの体積が増加し記録容量が低下したり、低加速電圧では硬化しにくくなるからである。
【００１７】
前記下塗層および磁性層は、ウェット・オン・ドライまたはウェット・オン・ウェットのいずれの方法で形成してもよいが、厚さが０．００５〜０．０９μｍの厚さが均一な磁性層を得るためにはウェット・オン・ウェットの方法で塗膜を形成する方法が、より好ましい。
【００１８】
上記の、少なくとも下塗層およびバックコート層に電子線照射によるバインダ樹脂硬化処理を施せば、支持体の両面層に対して硬化が行われるので、効果的に熱変形を防止できる。また下塗層と磁性層は、いわゆるウエット・オン・ウエット方式（下層が湿潤状態にあるうちに上層を塗布形成する同時重層塗布方式）により形成されると、極めて厚さの小さい磁性層には下塗層の電子線硬化性樹脂が容易に拡散・転移するので、下塗層に電子線照射によるバインダ樹脂硬化処理を施せば、磁性層も同時に硬化する。
【００１９】
このようにすれば上記各層のバインダ樹脂を硬化させるのに従来行われていた加熱エージングを完全に不要化することができる。もちろん、下塗層、磁性層およびバックコート層の全ての層に、バインダ樹脂として、電子線硬化性樹脂を含有させることもできる。非磁性支持体上に下塗層、磁性層、バックコート層を塗布、乾燥、カレンダ後、それぞれの面に電子線を照射することにより、バインダの架橋硬化反応で、塗膜面は硬くなり、かつ従来の加熱エージングが不要となるので、それに伴う磁気記録媒体の熱変形やバックコート粗さの磁性層への転移がなくなり、磁性層の平滑性の低下、ヘッドコンタクト、サーボコントロールの不安定さに起因するエラーを低減することができる。
【００２０】
本発明では、高記録密度に対応可能な、非磁性支持体上に非磁性粉末とバインダとを含む下塗層（非磁性層）を設け、且つその上に極めて薄層の磁性層を設けてなる重層構造の磁気記録媒体に適用されるものであるが、塗布、乾燥後では、塗膜の架橋硬化が行われないために、カレンダ工程での磁性層の平滑化効果が大きく、カレンダ後の電子線硬化工程後は塗膜が硬く硬化するために、バックコート層からの磁性層への粗さの転移がない。加熱エージングを不要化して、磁性層の厚さが０．１５μｍ以下で、下塗層と磁性層との合計の厚さが、１．２μｍ以下、全厚が７．７μｍ以下の磁気テープであっても、熱変形を少なくして、エラーの少ない、記録再生特性と耐久性の両立が可能な高密度記録媒体を提供しようとするものである。
【００２１】
また、前記、下塗層中に平均粒子径が１０〜１００μｍの非磁性無機板状粒子を含ませることにより、下塗層の厚さムラや下塗層と磁性層との界面の変動がより小さくなるためにテープ変形やノイズが少なくなるためにエラーレートが向上するので好ましい。また、下塗層に前記の板状粒子を含ませることにより、幅方向の温度・湿度の寸法安定性が向上するのでサーボ制御の安定性が向上する。さらに、電子線硬化工程においても、従来のような下塗層と磁性層の厚さの合計が１．２μｍ以上あるような磁気記録媒体では、１００ｋＶ以上の加速電圧により、電子線照射を行う必要があったが、本発明者らは鋭意検討した結果、このような条件での電子線硬化では、磁気テープが熱変形するだけではなく、磁性層や下塗層のバインダ樹脂として使用している塩化ビニル系樹脂やバックコート層に使用しているセルロース系樹脂、潤滑剤として使用している脂肪酸や脂肪酸エステル類、非磁性支持体の分子鎖が一部切断され、耐久性が低下する場合があることを見出した。そのため、本発明の磁性層の厚さが０．１５μｍ以下で、下塗層と磁性層との合計の厚さが、１．２μｍ以下、全厚が７．７μｍ以下の磁気テープにおいては、２０ｋＶ以上、１００ｋＶ未満、より好ましくは、３０〜７０ｋＶの加速電圧で電子線照射を行うことが好ましいことを見出した。この範囲より加速電圧が小さくなると、塗膜の硬化が不十分となり、大きくなると、前記の問題点が生ずる。
【００２２】
１００ｋＶ以上の加速電圧で電子線照射を行うと磁気テープは熱変形するために、そのまま使用すると熱歪が残り、使用環境下（特に６０℃以上の高温下）での使用・保存で収縮するのでトラックずれが生じ、エラーが増加する問題があるため、後のスリット工程の前に、歪取りの目的で加熱エージングを必要とし、加熱エージングを行うと前述したバックコート粗さの磁性層への転写により出力の低下やエラーの増加などの原因となる。
【００２３】
磁気テープのバインダ樹脂を三次元架橋させる方法として、電子線硬化性樹脂をバインダ樹脂として使用し、電子線やＵＶなどの放射線で三次元架橋する方法も提案されている（特許文献１〜特許文献４）。
【００２４】
特許文献１は、磁性層とバックコート層とに電子線硬化性樹脂を用いる磁気記録媒体の製造法を開示しているが、磁性層厚さが数μｍの磁気記録媒体に関するもので、電子線の加速電圧は１００ｋＶ以上としており、本発明とは異なる。
【００２５】
特許文献２は、バックコート層が電子線により重合可能な化合物を含有する材料からなり、当該化合物を電子線照射により重合させて形成される磁気記録媒体を開示しているが、磁性層が強磁性金属薄膜の金属薄膜型の磁気記録媒体であり、また、電子線の加速電圧は１００ｋＶ以上としており、本発明とは異なる。
【００２６】
特許文献３は、電子線硬化型結合剤樹脂を主成分とするバックコート層を設けた磁気記録媒体を開示しているが、電子線の加速電圧は１００ｋＶ以上としており、また、磁性層は熱硬化性樹脂を用いているため、磁性層の硬化のための加熱エージングを行っており、本発明の主旨とまったく異なる。
【００２７】
特許文献４は、磁性層厚みが、０．０１〜１μｍ、非磁性層（下塗層）厚みが、０．５μｍ〜３μｍの少なくとも磁性層に含まれる結合剤が、電子線硬化性樹脂であり、電子線の加速電圧は３０〜１０００ｋＶであることが開示されているが、バックコート層を有しないデイスク状記録媒体に関するものであり、バックコート層からの磁性層への粗さの転移を防止する本発明とは異なるものである。
【００２８】
磁気テープの各塗膜（磁性層、下塗層、バックコート層）を硬化させるためにバインダ樹脂に含ませる電子線硬化性樹脂としては、従来公知のものが用いられる。これらの公知例から電子線硬化性樹脂を使用したバインダ樹脂の構成としては以下のように分類することができる。
（１）熱可塑性樹脂＋電子線硬化性樹脂（モノマー）
（２）熱可塑性樹脂＋電子線硬化性樹脂（ポリマー（オリゴマー））
（３）熱可塑性樹脂＋電子線硬化性樹脂（モノマー）＋電子線硬化性樹脂（オリゴマー、ポリマー）
（４）電子線硬化性樹脂（モノマー）
（５）電子線硬化性樹脂（ポリマー（オリゴマー））
（６）電子線硬化性樹脂（モノマー）＋電子線硬化性樹脂（ポリマー（オリゴマー））
【００２９】
これらの、各々の使い方についてはそれぞれ特徴があり磁気テープの要求仕様に応じて、使い分けるのが好ましい。例えば、上記（１）〜（３）の使い方は、磁性粉、非磁性粉などに対して、分散性の大変優れた樹脂が数多く提供されている熱可塑性樹脂が使用できるので、記録再生特性の優れた磁性層を設計しやすい。しかし、電子線硬化処理を行うと電子線硬化性樹脂の分子間には架橋ネットワークが形成されそのネットワークで塗膜を硬化させることはできるが、熱可塑性樹脂と電子線硬化性樹脂の分子間には架橋ネットワークが形成されないので、塗膜の樹脂全体が架橋ネットワークで結合しているとはいえず、耐久性の優れた塗膜を設計するためには、バインダ樹脂、潤滑剤、非磁性粉の選択に関して工夫が必要である。
【００３０】
上記（４）〜（６）の使い方は、バインダ樹脂としてすべて電子線硬化性樹脂を使用するもので、すべての樹脂分子間に架橋ネットワークが形成されるので、耐久性の優れた塗膜を設計しやすい。しかし、磁性粉、非磁性粉などに対して、分散性の優れた電子線硬化性樹脂は、まだ、十分に提供されているとは言えず、優れた記録再生特性の磁性層を設計するためには、磁性粉の表面処理、分散方法等に工夫が必要となる。
【００３１】
電子線硬化性樹脂としては、通常、一分子中に電子線感応性二重結合が２個以上あるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエ−テル類、ビニルエステル類が用いられ、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜４０００の電子線硬化性樹脂が好ましい。このような電子線硬化性樹脂としては、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ノボラックジアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグルコールジアクリレートなどの二官能アクリレートおよび上記アクリレートと同様の二官能メタクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレートなどの三官能アクリレートおよび上記アクリレートと同様の三官能メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの四官能以上のアクリレートおよび上記アクリレートと同様の四官能以上のメタクリレートなどのモノマーアクリレート（メタクリレート）やエーテル、エステル、カーボネート、エポキシ、塩化ビニル、ウレタンなどの骨格を有するオリゴマーやポリマーを上記モノマーで変性し、電子線感応性二重結合を含有させたものが用いられる。電子線感応性二重結合を含有させたポリマーとしては、電子線硬化性塩化ビニル系共重合体（東洋紡績（株）  製：ＴＢ０２４６）（重合度＝３００  、極性基：−ＯＳＯ３  Ｋ＝１．５  個／分子）、電子線硬化性ポリウレタン樹脂  （東洋紡績（株）  製：ＴＢ０２４２）（Ｍｎ＝２５０００、極性基：リン化合物＝１個／１分子）などの具体例がある。
【００３２】
磁性層、下塗層、バックコート層に用いる熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体樹脂、ニトロセルロース樹脂などのセルロース系樹脂の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂とを組み合わせものが挙げられる。磁性層、下塗層には、中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体樹脂とポリウレタン樹脂を併用するのが好ましい。バックコート層には、中でも、ニトロセルロース樹脂などのセルロース系樹脂とポリウレタン樹脂を併用するのが好ましい。ポリウレタン樹脂には、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリエステルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン樹脂などがある。
【００３３】
官能基として−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３  Ｍ、−ＯＳＯ３  Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）３  、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２  ［これらの式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩を示す］、ＯＨ、ＮＲ’  Ｒ’’、Ｎ＋  Ｒ’’’  Ｒ’’’’Ｒ’’’’’  ［これらの式中、Ｒ’  、Ｒ’’、Ｒ’’’  、Ｒ’’’’、Ｒ’’’’’  は水素または炭化水素基を示す］、エポキシ基を有する高分子からなるウレタン樹脂等のバインダ樹脂が使用される。このようなバインダ樹脂を使用するのは、上述のように磁性粉等の分散性が向上するためである。２種以上の樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ３  Ｍ基どうしの組み合わせが好ましい。
【００３４】
上記の熱可塑性樹脂と前記電子線硬化性樹脂とを組み合わせて本発明の磁気テープに用いるバインダ樹脂とすることができる。組み合わせる電子線硬化性樹脂としては、特に硬化性に優れた樹脂が好ましく、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の電子線硬化性樹脂が好ましい。前記、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の電子線硬化性樹脂はモノマータイプがより好ましい。
【００３５】
二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の電子線硬化性樹脂は、バインダ樹脂全体に対して５〜２０重量部の範囲で用いるのが好ましい。この範囲が好ましいのは、５重量部未満だと塗膜全体の架橋密度が小さく塗膜の耐久性が不足する一方、２０重量部を超えると塗膜が硬くなりすぎて非磁性支持体との接着性が低下したり、却って粉落ちが大きくなったり、磁性塗膜の記録再生特性が低下したりするからである。
【００３６】
２種以上の電子線硬化性樹脂を組み合わせてバインダ樹脂とすることができる。この場合、ポリマータイプとモノマータイプを組み合わせることが好ましい。ポリマータイプは重量平均分子量が３０００〜１０万、モノマータイプは重量平均分子量が１００〜２０００のものが好ましい。前記、モノマータイプの電子線硬化性樹脂は、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の範囲であることがより好ましい。
【００３７】
これらのバインダ樹脂（熱可塑性樹脂＋電子線硬化性樹脂または、電子線硬化性樹脂のみ）は、磁性層、下塗層においては、磁性粉末、非磁性粉末、カーボンブラックなどの粉末１００重量部に対して、７〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重量部の範囲で用いられる。特に、磁性層においては、７〜２５重量部の範囲にするのがより好ましい。バインダ樹脂として、塩化ビニル系樹脂５〜１５重量部と、ポリウレタン樹脂２〜１０重量部とを、複合して用いるのが最も好ましい。バックコート層においては、非磁性粉末、カーボンブラックなどの粉末１００重量部に対して、４０〜１５０重量部、好ましくは５０〜１２０重量部、より好ましくは６０〜１１０重量部、さらに好ましくは７０〜１１０重量部である。前記範囲が好ましいのは、５０重量部未満では、バックコート層の強度が不十分であり、１２０重量部を越えると摩擦係数が高くなりやすいためである。セルロース系樹脂を３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂を２０〜５０重量部使用することが好ましい。
【００３８】
磁性層中に含ませる磁性粉の平均粒子径は、１０〜１００ｎｍの範囲にあるのが好ましく、１５〜８０ｎｍの範囲がより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が１０ｎｍ未満では、粒子の表面エネルギーが大きくなって分散が困難になり、平均粒子径が１００ｎｍを越えるとノイズが大きくなるためである。磁性粉としては、強磁性鉄系金属磁性粉や窒化鉄磁性粉，板状の六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉等が好ましい。
【００３９】
強磁性鉄系金属磁性粉には、Ｍｎ  、Ｚｎ  、Ｎｉ  、Ｃｕ  、Ｃｏ  などの遷移金属を合金として含ませてもよい。その中でも、Ｃｏ  、Ｎｉ  が好ましく、とくにＣｏ  は飽和磁化を最も向上できるので、好ましい。上記の遷移金属元素の量としては、鉄に対して、５〜５０  原子％とするのが好ましく、１０〜３０  原子％とするのがより好ましい。また、イツトリウム、セリウム、イツテルビウム、セシウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、ユ―ロピウム、ネオジム、テルビウムなどから選ばれる少なくとも１  種の希土類元素を含ませても良い。その中でも、セリウム、ネオジムとサマリウム、テルビウム、イツトリウムを用いたときに、高い保磁力が得られ好ましい。希土類元素の量は鉄に対して０．２〜２０  原子％、好ましくは０．３〜１５  原子％、より好ましくは０．５〜１０原子％である。
【００４０】
強磁性鉄系金属磁性粉にホウ素を含ませてもよい。ホウ素を含ませることにより、平均粒子径が５０ｎｍ以下の粒状ないし楕円状の超微粒子が得られる。また同ホウ素の量は、磁性粉末全体中、鉄に対して０．５〜３０  原子％、好ましくは１〜２５  原子％、より好ましくは２〜２０  原子％である。上記両原子％は、蛍光Ｘ  線分析により測定される値である（参考特許：特開２００１−１８１７５４号公報）。
【００４１】
窒化鉄磁性粉は，公知のものを用いることができ，形状は針状の他に球状や立方体形状などの不定形のものを用いることができる。粒子径や比表面積については磁気記録用の磁性粉としての要求特性をクリアするためには，限定した磁性粉末の製造条件とすることが必要である（参考特許：特開２０００−２７７３１１号公報）。
【００４２】
強磁性鉄系金属磁性粉および窒化鉄磁性粉の保磁力は、８０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化量は、８０〜２００Ａ・ｍ２  ／ｋｇ（８０〜２００ｅｍｕ／ｇ）が好ましく、１００〜１８０Ａ・ｍ２  ／ｋｇ（１００〜１８０ｅｍｕ／ｇ）がより好ましい。
【００４３】
強磁性鉄系金属磁性粉および窒化鉄磁性粉の平均粒子径としては、１０〜１００ｎｍが好ましく、１５〜８０ｎｍがより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が１０ｎｍ未満となると、保磁力が低下したり、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中での分散が困難になったり、平均粒子径が１００ｎｍより大きいと、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるためである。また、この強磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ２  ／ｇ以上が好ましく、４０ｍ２  ／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ２  ／ｇ以上が最も好ましい。通常１００ｍ２  ／ｇ以下である。
【００４４】
六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化量は、４０〜７０Ａ・ｍ２  ／ｋｇ（４０〜７０ｅｍｕ／ｇ）が好ましい。なお、これらの強磁性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動形磁束計で外部磁場１２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうものである。また，粒径（板面方向の大きさ）は１０〜５０ｎｍが好ましく、１０〜３０ｎｍがより好ましく、１０〜２０ｎｍがさらに好ましい。粒径が１０ｎｍ未満となると、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中への分散が困難になり、５０ｎｍを越えると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなる。なお、上記の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮影した写真から各粒子の最大径（針状粉では長軸径、板状粉では板径）を実測し、１００個の平均値により求めたものである。また、板状比（板径／板厚）は２〜１０が好ましく、２〜５がより好ましく、２〜４がさらに好ましい。また、六方晶Ｂａ−フエライト磁性粉のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ２  ／ｇが好ましく用いられる。
【００４５】
テープ長手方向の残留磁束密度と磁性層厚さの積は、０．００１８〜０．０５μＴｍが好ましく、０．００３６〜０．０５μＴｍがより好ましく、０．００４〜０．０５μＴｍがさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、０．００１８μＴｍ未満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さく、０．０５μＴｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みやすいからである。このような磁性層からなる磁気記録媒体は、記録波長を短くでき、しかも、ＭＲヘッドで再生した時の再生出力を大きくでき、しかも再生出力の歪が小さく出力対ノイズ比を大きくできるので好ましい。
【００４６】
なお、この磁性層の磁気特性と、強磁性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動型磁束計で外部磁場１２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうものである。
【００４７】
本発明で使用する電子線としては、電子線、γ線、β線、紫外線などであるが、好ましくは電子線である。またその照射量は、１〜１０Ｍｒａｄがよく、３〜７Ｍｒａｄがより好ましい。また、その照射エネルギー（加速電圧）は２０Ｖ以上、１００ｋＶ未満、より好ましくは、３０〜７０ｋＶとするのが良い。
【００４８】
次に、本発明の磁気記録媒体の構成要素についてさらに詳述する
＜非磁性支持体＞
磁性支持体の厚さは、用途によって異なるが、通常、２〜６μｍのものが使用される。より好ましくは２．５〜４．５μｍである。この範囲の厚さの非磁性支持体が使用されるのは、２μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さくなり、６μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、テープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。
【００４９】
非磁性支持体の長手方向のヤング率は５．８ＧＰａ（５９０ｋｇ／ｍｍ２  ）以上が好ましく、７．８ＧＰａ（８００ｋｇ／ｍｍ２  ）以上がより好ましい。非磁性支持体の長手方向のヤング率が５．８ＧＰａ（５９０ｋｇ／ｍｍ２  ）以上がよいのは、長手方向のヤング率５．８ＧＰａ（５９０ｋｇ／ｍｍ２  ）未満では、テープ走行が不安定になるためである。また、ヘリキャルスキャンタイプでは、長手方向のヤング率（ＭＤ）／幅方向のヤング率（ＴＤ）は、０．６０〜０．８０の特異的範囲が好ましい。長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が、０．６５〜０．７５の範囲がより好ましい。長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が、０．６０〜０．８０の特異的範囲がよいのは、０．６０未満または０．８０を越えると、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入り側から出側間の出力のばらつき（フラットネス）が大きくなるためである。このばらつきは長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が０．７０付近で最小になる。さらに、リニアレコーディングタイプでは、長手方向のヤング率／幅方向のヤング率は、理由は明らかではないが、０．７０〜１．３０のが好ましい。このような特性を満足する非磁性支持体には二軸延伸の芳香族ポリアミドベースフィルム、芳香族ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等がある。
【００５０】
＜下塗層＞
厚さが０．１５μｍ以下で平滑な磁性層を安定して塗布し、かつ磁性層の耐久性を確保するために、下塗層を設ける。下塗層の厚さは、０．２〜１．１μｍの範囲に設定するのが好ましく、０．２〜０．８μｍの範囲がより好ましい。この範囲が好ましいのは、０．２μｍ未満では、磁性層の厚さむら低減効果、耐久性向上効果が小さくなり、１．１μｍを越えると磁気記録媒体の全厚が厚くなり過ぎてテープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。
【００５１】
下塗層に使用する非磁性粒子としては、酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウム等があるが、酸化鉄単独または酸化鉄と酸化アルミニウムの混合系が使用される。通常、長軸長０．０５〜０．２μｍ、短軸長５〜２００ｎｍの非磁性の酸化鉄を主に、必要に応じて粒子径０．０１〜０．１μｍのカーボンブラック、粒子径０．０５〜０．５μｍの酸化アルミニウムを補助的に含有させることが多い。下塗層を平滑に、かつ厚みムラを少なく塗布するためには、上記、非磁性粒子およびカーボンブラックは特に粒度分布がシャープなものを用いることが好ましい。
【００５２】
上記の粒状の粒子を含む下塗層の代わりに、下塗層に粒子径が１０〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１０〜５０ｎｍの非磁性無機板状粒子を添加するのがより好ましい。板状の粒子を添加することにより、膜厚の均一性、表面平滑性、剛性、寸法安定性が一層良好になる。板状粒子の成分は、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で同じく板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粒子を添加してもよい。下塗層には、下塗層中の全無機粉体の重量を基準にして、板状ＩＴＯ粒子を、１５〜７５重量％となるように添加する。これらの板状粒子の製法については、特願２００１−２９６１２５公報、特願２００１−２９６１２６公報、特願２００１−２９６１２７公報、特願２００１−３０５１３８公報、特願２００１−３５２０９２公報などに記載されている。また、必要に応じてカーボンブラックを添加してもよい。カーボンブラックは粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。また、さらに、従来公知の酸化鉄、酸化アルミニウムなどの酸化物粒子を添加してもよい。その場合、できるだけ微粒子で粒度分布の小さいものを用いるのが好ましい。
【００５３】
＜潤滑剤＞
下塗層には磁性層と下塗層に含まれる全粉体に対して０．５〜５．０重量％の高級脂肪酸を含有させ、０．２〜３．０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、ヘッドとの摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲の高級脂肪酸添加が好ましいのは、０．５重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、５．０重量％を越えると下塗層が可塑化してしまい強靭性が失われるおそれがあるからである。また、この範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、０．２重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、３．０重量％を越えると磁性層への移入量が多すぎるため、テープとヘッドが貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるからである。脂肪酸としては、炭素数１０以上の脂肪酸を用いるのが好ましい。炭素数１０以上の脂肪酸としては、直鎖、分岐、シス・トランスなどの異性体のいずれでもよいが、潤滑性能にすぐれる直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、たとえば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられる。これらの中でも、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などが好ましい。磁性層における脂肪酸（脂肪酸エステルについても同じ）の添加量としては、下塗層と磁性層の間で脂肪酸が転移するので、特に限定されるものではなく、磁性層と下塗層を合わせた脂肪酸の添加量を上記の量とすればよい。下塗層に脂肪酸を添加すれば、必ずしも磁性層に脂肪酸を添加しなくてもよい。
【００５４】
磁性層には磁性粉末に対して０．５〜３．０重量％の脂肪酸アミドを含有させ、０．２〜３．０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、テープ走行時の摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲の脂肪酸アミドが好ましいのは、０．５重量％未満ではヘッド／磁性層界面での直接接触が起りやすく焼付き防止効果が小さく、３．０重量％を越えるとブリードアウトしてしまいドロップアウトなどの欠陥が発生するおそれがあるからである。脂肪酸アミドとしてはパルミチン酸、ステアリン酸等の炭素数１０以上の脂肪酸のアミドが使用可能である。また、上記範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、０．２重量％未満では摩擦係数低減効果が小さく、３．０重量％を越えるとヘッドに貼り付く等の副作用があるためである。なお、磁性層の潤滑剤と下塗層の潤滑剤の相互移動を排除するものではない。
【００５５】
＜磁性層＞
１ＴＢを超える大容量のバックアップテープに対応するためには、厚み損失や、自己減磁を最小限に抑えるために、磁性層厚さを０．００５〜０．１５μｍとすることが好ましい。磁性層の厚さをこの範囲にするためには、前述した、平均粒子径が１００ｎｍ以下の磁性粉を用いることが好ましい。
【００５６】
磁性層の表面粗さは中心線平均粗さ（Ｒａ）で２〜７ｎｍが好ましく、３〜５ｎｍがより好ましい。この範囲が好ましいのは、２ｎｍ未満では摩擦係数が大きくなって走行が不安定になったり、７ｎｍを越えると記録・再生時のスペーシングロスが大きくなって短波長出力が低下するからである。
【００５７】
上層磁性層には従来公知の研磨材を添加することができる。これらの研磨材としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など、主としてモース硬度６以上のものが単独でまたは組み合わせで使用される。これらの中でもアルミナは高硬度で少量の添加量でヘッドクリーニング効果に優れるため特に好ましい。研磨材の粒径は、磁性層厚さにもよるが、通常、平均粒径で２０〜４００ｎｍとすることが好ましく、粒径３０〜３００ｎｍがより好ましい。添加量は強磁性鉄系金属粉１００重量部に対して５〜２０重量部が好ましい。より好ましくは８〜１８重量部である。
【００５８】
さらに、本発明磁気記録媒体における上層磁性層には、導電性向上と表面潤滑性向上を目的に従来公知のカーボンブラック（ＣＢ）を添加することができる。このカーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。通常は粒径が５〜２００ｎｍのカーボンブラックを使用するが、粒径１０〜１００ｎｍのものが好ましく、粒径１０〜５０ｎｍのものがさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、粒径が１０ｎｍ未満になるとカーボンブラックの分散が難しく、１００ｎｍを超えると多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、出力低下の原因になるためである。カーボンブラックの添加量は強磁性鉄系金属粉１００重量部に対して０．２〜５重量部が好ましく、より好ましくは０．５〜４重量部である。
【００５９】
また、磁性層には、前述したごとき粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの板状粒子や導電性向上のために板状ＩＴＯ粒子を添加してもよい。添加量は磁性粉末に対して５〜２０重量％が好ましい。より好ましくは８〜１８重量％である。
【００６０】
＜バックコート層＞
本発明の磁気記録媒体を構成する非磁性支持体の他方の面（磁性層が形成されている面とは反対側の面）には、走行性の向上等を目的としてバックコート層を設けることができる。バックコート層の厚さは０．２〜０．８μｍが好ましい。この範囲が良いのは、０．２μｍ未満では、走行性向上効果が不充分で、０．８μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、１巻当たりの記録容量が小さくなるためである。
【００６１】
バックコート層の中心線平均粗さをＲａＢ（ｎｍ）、磁性層の中心線平均粗さをＲａＭ（ｎｍ）とすると、２≦ＲａＭ≦７かつ、１＜ＲａＢ／ＲａＭ≦２．５の関係を満たすことが好ましく、３≦ＲａＭ≦５かつ、１．４＜ＲａＢ／ＲａＭ≦２．０がより好ましい。この範囲が好ましいのは、この範囲が好ましいのは、ＲａＭが２ｎｍ未満では摩擦係数が大きくなって走行が不安定になったり、７ｎｍを越えると記録・再生時のスペーシングロスが大きくなって短波長出力が低下するからである。また、ＲａＢ／ＲａＭが１以下では、バックコート層の摩擦係数が大きくなって、走行が不安定になったり、２．５を越えるとバックコート層の粗度が大きくなりすぎて、粗さが磁性層に転移しやすくなるためである。
【００６２】
バックコート層にもカーボンブラック（ＣＢ）を添加することができる。カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。通常、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックを使用する。小粒径カーボンブラックには、粒子径が５ｎｍ〜２００ｎｍのものが使用されるが、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものがより好ましい。この範囲がより好ましいのは、粒径が１０ｎｍ以下になるとカーボンブラックの分散が難しく、粒径が１００ｎｍ以上では多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）原因になるためである。大粒径カーボンブラックとして、小粒径カーボンブラックの５〜１５重量％、粒径２００〜４００ｎｍの大粒径カーボンブラックを使用すると、表面も粗くならず、走行性向上効果も大きくなる。小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラック合計の添加量は無機粉体重量を基準にして６０〜９８重量％が好ましく、７０〜９５重量％がより好ましい。バックコート層の中心線平均表面粗さＲａは３〜８ｎｍが好ましく、４〜７ｎｍがより好ましい。
【００６３】
また、バックコート層には、強度向上を目的に酸化鉄を添加するのが好ましい。添加する酸化鉄の粒径は１００〜６００ｎｍが好ましく、２００〜５００ｎｍがより好ましい。酸化鉄の添加量は、全無機粉体重量を基準にして２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。また、粒径が１００〜６００ｎｍのアルミナを全無機粉体重量を基準にして０．５〜５重量％添加すると、さらにバックコート層の強度が向上する。
【００６４】
また、バックコート層には、上記のカーボンブラック系のバックコート層の代わりに、１０〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１０〜５０ｎｍの範囲の非磁性無機板状粒子を主体としたバックコート層を設けると、強度向上と寸法安定性の向上が図れるので、より好ましい。板状粒子の成分は、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。バックコート層には、導電性改良の目的で板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粒子、グラファイト、板状カーボン、板状無機粒子にカーボンをコートしたものを添加することができる。その場合、バックコート層中の全無機粉体の重量を基準にして、板状ＩＴＯ粒子が６０〜９５重量％となるように添加するのがよい。必要に応じて、粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍのカーボンブラックや粒子径が０．１μｍ〜０．６μｍの酸化鉄を添加してもよい。添加量はバックコート層中の全無機粉体の重量を基準にして２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。
【００６５】
バックコート層には、バインダ樹脂として、前述した磁性層や下塗層に用いる樹脂と同じものを使用できるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を向上させるため、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを複合して併用することが好ましい。バインダ樹脂の含有量は、通常、前記カーボンブラックと前記無機非磁性粉末との合計量１００重量部に対して４０〜１５０重量部、好ましくは５０〜１２０重量部、より好ましくは６０〜１１０重量部、さらに好ましくは７０〜１１０重量部である。前記範囲が好ましいのは、５０重量部未満では、バックコート層の強度が不十分であり、１２０重量部を越えると摩擦係数が高くなりやすいためである。セルロース系樹脂を３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂を２０〜５０重量部使用することが好ましい。
【００６６】
バックコート層には、塗膜を架橋硬化させるために、磁性層や下塗層と同様の電子線硬化性樹脂を使用することができる。組み合わせる電子線硬化性樹脂としては、特に硬化性に優れた樹脂が好ましく、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の電子線硬化性樹脂が好ましい。前記、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の電子線硬化性樹脂はモノマータイプがより好ましい。電子線硬化性樹脂の量は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、５〜３０重量部の割合で用いられ、好ましくは７〜２５重量部、より好ましくは１０〜２０重量部である。前記範囲が好ましいのは、７重量部未満ではバックコート層の塗膜強度が弱くなりやすく、２５重量部を越えるとＳＵＳに対する動摩擦係数が大きくなるためである。
【００６７】
２種以上の電子線硬化性樹脂を組み合わせてバインダ樹脂とすることができる。この場合、ポリマータイプとモノマータイプを組み合わせることが好ましい。ポリマータイプは重量平均分子量が１万〜１０万、モノマータイプは重量平均分子量が１００〜２０００のものが好ましい。前記、モノマータイプの電子線硬化性樹脂は、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の範囲であることがより好ましい。
【００６８】
＜有機溶剤＞
磁性塗料、下塗塗料、バックコート塗料に使用する有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で又は混合して使用され、さらにトルエンなどと混合して使用される。
【００６９】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の部は重量部を示す。
実施例１：
≪下塗塗料成分≫
（１）
・針状酸化鉄（平均粒子径：１００ｎｍ）                          ６８部
・粒状アルミナ粉末（平均粒子径：８０ｎｍ）                        ８部
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ）                      ２４部
・ステアリン酸                                                ２．０部
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体共重合体  ８．８部
（含有−ＳＯ３  Ｎａ基：０．７×１０−４当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂                                ４．４部
（Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ３  Ｎａ基：１×１０−４当量／ｇ）
・シクロヘキサノン                                              ２５部
・メチルエチルケトン                                            ４０部
・トルエン                                                      １０部
（２）
・ステアリン酸ブチル                                              １部
・シクロヘキサノン                                            ７０  部
・メチルエチルケトン                                          ５０  部
・トルエン                                                    ２０  部
（３）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                    ２．５部
・シクロヘキサノン                                              １０部
・メチルエチルケトン                                            １５部
・トルエン                                                      １０部
【００７０】
≪磁性塗料成分≫
（１）混練工程
・強磁性鉄系金属磁性粉  （Ｃｏ−Ｆｅ−Ｙ）                    １００部
（Ｃｏ／Ｆｅ：２４ａｔ％、
Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：４．７ｗｔ％、
Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：１２．７ａｔ％
σｓ：９９Ａ・ｍ２  ／ｋｇ（９９ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：１７１ｋＡ／ｍ（２１５０Ｏｅ）、
平均粒子径：４５ｎｍ
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体            １４部
（含有−ＳＯ３  Ｎａ基：０．７×１０−４当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂（ＰＵ）                            ５部
（含有−ＳＯ３  Ｎａ基：０．７×１０−４当量／ｇ）
・アルミナ（平均粒子径：２００ｎｍ）                            １０部
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ）                        ３部
・メチルアシッドホスフェート（ＭＡＰ）                            ２部
・テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）                                  ２０部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ）              ９部
（２）希釈工程
・パルミチン酸アミド（ＰＡ）                                  １．５部
・ステアリン酸ｎ−ブチル（ＳＢ）                                  １部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ）        ３５０  部
（３）配合工程
・・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  １．５部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ）            ２９部
【００７１】
上記の下塗塗料成分において（１）を回分式ニーダで混練したのち、（２）を加えて攪拌の後サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに（３）を加え攪拌・濾過した後、下塗層用塗料とした。
【００７２】
これとは別に、上記の磁性塗料の成分において（１）混連工程成分を予め高速混合しておき、その混合粉末を連続式２軸混練機で混練し、さらに（２）希釈工程成分を加え連続式２軸混練機で少なくとも２段階以上に分けて希釈を行い、サンドミルで滞留時間を４５分として分散し、これに（３）配合工程成分を加え攪拌・濾過後、磁性塗料とした。
【００７３】
上記の下塗塗料を、ポリエチレンテレフタレートフイルム（厚さ６．０μｍ、ＭＤ＝５．９ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝１．０、商品名：ルミラー、東レ製）からなる非磁性支持体（ベースフィルム）上に、乾燥、カレンダ後の厚さが１．０μｍとなるように塗布し、この下塗層上に、さらに上記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダー処理後の磁性層の厚さが０．１０μｍとなるようにウエット・オン・ウエットで塗布し、磁場配向処理後、ドライヤおよび遠赤外線を用いて乾燥し、磁気シートを得た。なお、磁場配向処理は、ドライヤ前にＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を設置し、ドライヤ内で塗膜の指蝕乾燥位置の手前側７５ｃｍからＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を２基５０ｃｍ間隔で設置して行った。塗布速度は１００ｍ／分とした。
【００７４】
≪バックコート層用塗料成分≫
・カーボンブラック（粒径：２５ｎｍ）                            ８０部
・カーボンブラック（粒径：０．３５μｍ）                        １０部
・粒状酸化鉄（粒径：５０ｎｍ）                                  １０部
・ニトロセルロース                                              ４５部
・ポリウレタン樹脂（ＳＯ３  Ｎａ基含有）                          ３０部
・シクロヘキサノン                                            ２６０部
・トルエン                                                    ２６０部
・メチルエチルケトン                                          ５２５部
【００７５】
上記バックコート層用塗料成分をサンドミルで滞留時間４５分として分散した後、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５部を加えてバックコート層用塗料を調整し濾過後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ後の厚みが０．５μｍとなるように塗布し、乾燥した。
【００７６】
得られたバックコート層付き磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍの条件で鏡面化処理した。
【００７７】
カレンダ処理後の磁気シートを窒素ガス雰囲気中で、加速電圧５０ｋＶ、照射量４Ｍｒａｄの電子線を磁性層側およびバックコート層側からそれぞれ照射した。
【００７８】
電子線照射後の磁気シートを１／２インチ幅に裁断し、これを２００ｍ／分で走行させながら磁性層表面をラッピングテープ研磨、ブレード研磨そして表面拭き取りの後処理を行い、磁気テープを作製した。この時、ラッピングテープにはＫ１００００、ブレードには超硬刃、表面拭き取りには東レ製トレシー（商品名）を用い、走行テンション０．２９４Ｎで処理を行った。上記のようにして得られた磁気テープを、カートリッジに組み込み、コンピュータ用の磁気テープカートリッジ（以下、コンピュータ用テープともいう）を作製した。
【００７９】
実施例２：
磁性層の厚さを０．１０μｍから０．０６μｍに、下塗層厚さを１．０μｍから０．７μｍに、非磁性支持体をポリエチレンテレフタレートフイルム（厚さ６．０μｍ、ＭＤ＝５．９ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝１．０、商品名：ルミラー、東レ製）から、芳香族ポリアミドフイルム（厚さ４．５μｍ、ＭＤ＝１１．３ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝０．７７、商品名：ミクトロン、東レ製）に、電子線の照射条件を加速電圧５０ｋＶ、照射量４Ｍｒａｄから加速電圧３０ｋＶ、照射量４Ｍｒａｄに変更した以外は、実施例１と同様にして実施例２のコンピュータ用テープを作製した。
【００８０】
実施例３：
バックコート層のカレンダ条件を、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍから温度１２０℃、線圧１９６ｋＮ／ｍに変更した以外は、実施例２と同様にして実施例３のコンピュータ用テープを作製した。
【００８１】
比較例１：
電子線の照射条件を加速電圧５０ｋＶ、照射量４Ｍｒａｄから加速電圧１１０ｋＶ、照射量４Ｍｒａｄに変更した以外は、実施例１と同様にして比較例１のコンピュータ用テープを作製した。
【００８２】
比較例２：
電子線照射後に、７０℃、４８時間の歪取りエージングを行った以外は、比較例１と同様にして比較例２のコンピュータ用テープを作製した。
【００８３】
比較例３：
磁性層の厚さを０．１０μｍから０．２０μｍに、下塗層の厚さを１．０μｍから１．１μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして比較例３のコンピュータ用テープを作製した。
【００８４】
比較例４：
バックコート層のカレンダ条件を、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍから温度９０℃、線圧１９６ｋＮ／ｍに変更した以外は、実施例１と同様にして比較例４のコンピュータ用テープを作製した。
【００８５】
評価の方法は、以下のように行った。
〈出力と出力対ノイズ〉
テープの電磁変換特性測定には、ドラムテスターを用いた。ドラムテスターには電磁誘導型ヘッド（トラック幅２５μｍ、ギャップ０．１μｍ）とＭＲヘッド（８μｍ）を装着し、誘導型ヘッドで記録、ＭＲヘッドで再生を行った。両ヘッドは回転ドラムに対して異なる場所に設置されており、両ヘッドを上下方向に操作することで、トラッキングを合わせることができる。磁気テープはカートリッジに巻き込んだ状態から適切な量を引き出して廃棄し、更に６０ｃｍを切り出し、更に４ｍｍ幅に加工して回転ドラムの外周に巻き付けた。
【００８６】
出力及びノイズは、ファンクションジェネレータにより波長０．２μｍの矩形波を書き込み、ＭＲヘッドの出力をスペクトラムアナライザーに読み込んだ。０．２μｍのキャリア値を媒体出力Ｃとした。また０．２μｍの矩形波を書き込んだときに、出力及びシステムノイズを差し引いた値の積分値をノイズ値Ｎとして用いた。更に両者の比をとってＣ／Ｎとし、Ｃ、Ｃ／Ｎともにリファレンスとして用いている比較例１テープの値との相対値を求めた。
【００８７】
〈走行後のエラーレートの測定〉
薄手テープも測定できるように改善したＳ−ＤＬＴドライブを用いて、１００パス走行後の記録・再生（記録波長０．３７μｍ）を行うことによって測定した。エラーレートはテストモードでの値である。
【００８８】
〈保存後のエラーレートの測定〉
薄手テープも測定できるように改善したＳ−ＤＬＴドライブを用いて記録（記録波長０．３７μｍ）後、６０℃、２４ｈ保存した後、常温、常湿に戻し２４ｈ後、再生することによって行った。エラーレートはテストモードでの値である。
【００８９】
表１に、以上の結果と、各実施例および比較例で採用した条件をまとめて示す。
【００９０】
【表１】
2004227705.tif 000002
【００９１】
表１から明らかなように、本発明の実施例１〜３に係る各コンピュータ用テープ（磁気テープ）は、比較例１〜４に係るコンピュータ用テープに比べて、電磁変換特性に優れ、走行後のエラーレートや高温保存後のエラーレートが小さい。
【００９２】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、高い再生出力およびＣ／Ｎ等を有し、高温保存性に優れた磁気テープおよび磁気テープカートリッジが得られる。これにより、例えば１ＴＢ以上の記録容量に対応できるコンピュータ等用のバックアップテープを実現することができる。