(57)【要約】【課題】電気光学パネルや基板等の洗浄対象箇所に洗浄液の残留や電蝕の発生を抑制すること。【解決手段】この洗浄装置１００は、水噴射ノズル１０とブローノズル２０とを備えている。洗浄対象である電気光学パネル５０は、異物除去、ガラス粉等の無機物汚れ除去等を目的として、実装前に電気光学パネル５０の、例えば端子５２等が洗浄される。水噴射ノズル１０及びブローノズル２０はベース３０に取り付けられている。電気光学パネル５０は搬送ベルト４０上に載せられて搬送されてくるので、搬送途中に水噴射ノズル１０から超純水を噴射して端子５２を洗浄し、水噴射ノズル１０の下流側直近に配置したブローノズル２０でこれを乾燥させる。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄水を洗浄対象物の洗浄対象箇所へ選択的に噴射する水噴射手段を有し、前記洗浄対象物の搬送経路に取り付けられて前記洗浄対象物が搬送される過程で、前記洗浄対象物の前記洗浄対象箇所を洗浄することを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
上記洗浄水には超純水又は機能水を使用することを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
上記洗浄水の流量は０．５〜２．０ｌ／ｍｉｎであることを特徴とする請求項１又は２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
上記洗浄水を供給する圧力は２〜４ｋｇ／ｃｍ２であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項５】
さらに、上記水噴射手段の下流側に乾燥手段を備え、洗浄後の洗浄対象箇所を乾燥させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項６】
洗浄対象物を搬送する搬送工程と、
前記洗浄対象物が搬送される過程で、前記洗浄対象物の洗浄対象箇所へ洗浄水を選択的に噴射する洗浄工程と、
を有することを特徴とする洗浄方法。
【請求項７】
上記洗浄水には超純水又は機能水を使用することを特徴とする請求項６に記載の洗浄方法。
【請求項８】
さらに、上記洗浄工程の後に上記洗浄対象箇所を乾燥させる乾燥工程を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の洗浄方法。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の洗浄装置を用いて洗浄されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の洗浄方法を用いて電気光学装置を洗浄することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、電気光学パネルや基板等の洗浄に関し、さらに詳しくは、電気光学パネルや基板等の洗浄対象箇所に洗浄液の残留や電蝕の発生を抑制できる洗浄装置、洗浄方法及び電気光学装置、電気光学装置の製造方法並びに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
実装前における電気光学パネルや電子機器の基板を洗浄する場合には、従来、多槽式の大型洗浄装置を用いた大容量のバッチ処理によって、１０００〜３０００枚の電気光学パネルや基板を１ロットとして洗浄処理する。このときには、まず、大量の洗浄液（界面活性剤）を使用して実装前の電気光学パネル等を洗浄し、次にすすぎ用の洗浄槽へこれらを移し、界面活性剤を洗い落としてから乾燥させて、次工程へ流していた。
【０００３】
このような大容量のバッチ式処理では、一度に１０００〜３０００枚の電気光学パネル等を洗浄できるといっても、洗浄、すすぎ、乾燥が終了するまでには相当の時間を要する。そして、１ロットに対して前記一連の処理が終了しなければ、次の１ロットを処理することができず、結果として生産効率の向上を阻害していた。
【０００４】
従来のように、電気光学パネルを単品で生産する場合には上記バッチ処理でも対応できた。しかしながら、近年においては電気光学パネルにドライバ回路やＦＰＣ基板等の周辺デバイスを実装して出荷する、いわゆるモジュール形式になると、洗浄工程が増加する結果、生産効率が低下してしまう。これを解決するために、電気光学パネルや電子機器の基板を１枚ごとに洗浄する、いわゆる枚葉処理が採用され始めている（特許文献１、２）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−４４８７７号公報
【特許文献２】
特開２００１−１０８９７７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１、２に開示された枚葉処理は、基板等の洗浄に洗浄液を使用して、これを純水によってすすぎ洗いするものである。基板等の洗浄に使用する洗浄液には、洗浄性能を高くするため通常界面活性剤を使用する。しかし、界面活性剤は浸透性が高いため、わずかな隙間でも侵入してしまい、洗浄した異物や汚れを隙間内に再付着させることがある。また、わずかな隙間に侵入した界面活性剤は、これよりも浸透性の低い純水ですすいだとしても、これを洗い落とすことは困難であり、結果として隙間内に洗浄剤が残留することもある。
【０００７】
このように、隙間に残留する異物や洗浄剤等によって、端子の電蝕や導通不良を招くことがあり、製品の品質を低下させることがあった。特に、液晶パネルに代表される電気光学パネルでは、ガラス基板同士の貼合部に数μｍ程度の隙間が生じるので、上記問題が発生しやすかった。そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、電気光学パネルや基板等の洗浄対象箇所に洗浄液の残留や電蝕の発生を抑制できる洗浄装置、洗浄方法及び電気光学装置、電気光学装置の製造方法並びに電子機器を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、この発明に係る洗浄装置は、洗浄水を洗浄対象物の洗浄対象箇所へ選択的に噴射する水噴射手段を有し、前記洗浄対象物の搬送経路に取り付けられて前記洗浄対象物が搬送される過程で、前記洗浄対象物の前記洗浄対象箇所を洗浄することを特徴とする。
【０００９】
この洗浄装置は、浸透性の低い洗浄水を洗浄対象箇所へ選択的に噴射することにより、短時間で異物を吹き飛ばし、汚れを除去できる。これにより、洗浄対象が洗浄水に接触する時間を従来よりも短くでき、また確実に異物や汚れを吹き飛ばすことができるので、異物の再付着や汚れや洗浄液が隙間に残留する確率を極めて低減できる。その結果、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできるので、製品の歩留まり及び信頼性を向上させることができる。また、電気光学パネル等を単品枚葉で洗浄・乾燥するので、従来のバッチ処理のように洗浄・乾燥のために洗浄対象を停止させる必要がなく、また、洗浄前における洗浄対象の在庫を低減できるので、生産効率が向上する。
【００１０】
また、次の発明に係る洗浄装置のように、上記洗浄水には超純水又は機能水を使用することが好ましい。超純水又は機能水は、界面活性剤と比較して浸透性は低いので、電気光学パネル等に生ずる数μｍ程度の大きさの隙間に入り込むことはない。そして、洗浄液が隙間に入り込まなければ、洗浄により除去した汚れが隙間に入り込む確率は極めて低くなるので、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできる。
【００１１】
また、次の発明に係る洗浄装置のように、上記洗浄水の流量は０．５〜２．０ｌ／ｍｉｎが好ましい。さらに、次の発明に係る洗浄装置のように、上記洗浄水を供給する圧力は２〜４ｋｇ／ｃｍ２であることが好ましい。このような流量及び圧力の範囲であれば、洗浄対象箇所に付着した汚れや異物を十分に除去できる。また、この洗浄装置を、例えば実装ラインに組み込んだ場合でも、製造ライン速度の低下を引き起こすことはない。
【００１２】
また、次の発明に係る洗浄装置は、上記洗浄装置において、さらに、上記水噴射手段の下流側に乾燥手段を備え、洗浄後の洗浄対象箇所を乾燥させることを特徴とする。このように、水噴射手段の下流側に乾燥手段を設ければ、洗浄直後に洗浄対象箇所を乾燥させることができるので、洗浄対象箇所の腐食を招くことはない。また、本発明に係る洗浄装置を実装ラインに組み込んだ場合でも製造ライン速度の低下を引き起こすことはない。
【００１３】
また、次の発明に係る洗浄方法は、洗浄対象物を搬送する搬送工程と、前記洗浄対象物が搬送される過程で、前記洗浄対象物の洗浄対象箇所へ洗浄水を選択的に噴射する洗浄工程と、を有することを特徴とする。
【００１４】
この洗浄方法は、浸透性の低い洗浄水を洗浄対象箇所へ選択的に噴射することにより、短時間で異物を吹き飛ばし、汚れを除去できる。これにより、洗浄対象が洗浄水に接触する時間を従来よりも短くでき、また確実に異物や汚れを吹き飛ばすことができるので、異物の再付着や汚れや洗浄液が隙間に残留する確率を極めて低減できる。その結果、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできるので、製品の歩留まり及び信頼性を向上させることができる。また、電気光学パネル等を単品枚葉で洗浄・乾燥するので、洗浄・乾燥のために洗浄対象を停止させる必要がなく、また、洗浄前における洗浄対象の在庫を低減できるので、生産効率が向上する。
【００１５】
また、次の発明に係る洗浄方法は、上記洗浄水には、超純水又は機能水を使用することを特徴とする。超純水又は機能水は、界面活性剤と比較して浸透性は低いので、電気光学パネル等に生ずる数μｍ程度の大きさの隙間に入り込むことはない。そして、洗浄液が隙間に入り込まなければ、洗浄により除去した汚れが隙間に入り込む確率は極めて低くなるので、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできる。
【００１６】
また、次の発明に係る洗浄方法は、上記洗浄方法において、さらに、上記洗浄工程の後に上記洗浄対象箇所を乾燥させる乾燥工程を有することを特徴とする。このように、洗浄工程の後に乾燥工程を設ければ、洗浄直後に洗浄対象箇所を乾燥させることができるので、洗浄対象箇所の腐食を招くことはない。
【００１７】
また、次の発明に係る電気光学装置は、上記洗浄装置を用いて洗浄されることを特徴とする。また、次の発明に係る電気光学装置の製造方法は、上記洗浄方法を用いて電気光学装置を洗浄することを特徴とする。このため、確実に異物や汚れが除去できるので、異物の再付着や汚れや洗浄液が基板等の隙間に残留する確率を極めて低減できる。その結果、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできるので、製品である電気光学装置の信頼性が向上する。
【００１８】
また、次の発明に係る電子機器は、上記電気光学装置を有することを特徴とする。このため、確実に異物や汚れが除去できるので、異物の再付着や汚れや洗浄液が基板等の隙間に残留する確率を極めて低減できる。その結果、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできるので、製品の信頼性が向上する。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの或いは実質的に同一のものが含まれる。なお、本発明の適用対象は特に限定するものではないが、電気光学パネルの端子部や偏光板、あるいは基板等を洗浄する場合に好適に適用でき、特に、液晶パネルの貼り合わせ部のように微小な隙間が存在する部分の端子等を洗浄する場合には特に好ましい。また、本発明にいう電気光学パネルには、例えば液晶表示パネルが挙げられるがこれに限定されるものではなく、電気泳動装置、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、あるいは、プラズマ発光や電子放出による蛍光等を用いた様々な表示パネルも含まれる。
【００２０】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る洗浄装置を示す説明図である。また、図２は、実施の形態１に係る洗浄ノズルを示す説明図である。この洗浄装置１００は、高圧水を洗浄対象である電気光学パネルや基板等の端子部分へ集中して噴射することにより、電気光学パネルや基板等を単葉枚毎に洗浄する点に特徴がある。
【００２１】
図１に示すように、この洗浄装置１００は、水噴射手段である水噴射ノズル１０と乾燥手段であるブローノズル２０とを備えている。また、洗浄装置１００には洗浄後の廃水を処理する廃水処理装置３が取り付けられている。洗浄対象である電気光学パネル５０は、異物除去、ガラス粉等の無機物汚れ除去等を目的として、実装前に電気光学パネル５０の、例えば端子５２等が洗浄される。
【００２２】
水噴射ノズル１０及びブローノズル２０はベース３０に取り付けられている。電気光学パネル５０は搬送ベルト４０上に載せられて搬送されてくるので、搬送途中に水噴射ノズル１０で端子５２を洗浄し、水噴射ノズル１０の下流側直近に配置したブローノズル２０でこれを乾燥させる。このように、水噴射ノズル１０の下流側にブローノズル２０を設ければ、洗浄直後に洗浄対象箇所を乾燥させることができるので、端子５２の腐食を招くことはなく、電気光学パネル５０の実装後は確実に導通をとることができる。また、ブローノズル２０から噴射される温風によって非接触で端子５２を乾燥できるので、端子５２を傷つけることもない。これによって、電気光学パネル５０の実装後は確実に導通をとることができ、実装後における製品の品質を向上させることができる。
【００２３】
また、例えば、本発明に係る洗浄装置１０００を実装ラインに組み込んだ場合でも製造ライン速度の低下を引き起こすことはない。なお、この洗浄装置１００は、電気光学パネル５０の実装工程と直結した製造ラインに組み入れることを考慮しているのでこのような構成であるが、これに限らず、水噴射ノズル１０及びブローノズル２０を動かすことにより洗浄対象箇所を洗浄及び乾燥してもよい。
【００２４】
本発明においては、洗浄対象である電気光学パネル５０の洗浄対象箇所（ここでは端子５２）を選択的に集中して洗浄するため、端子５２上へ集中して洗浄水が噴射されるように、水噴射ノズル１０はその位置と方向が調整されてベース３０に取り付けられている。なお、水噴射ノズル１０やブローノズル２０に調整機構３２、３３を取り付けて、洗浄対象の種類によって洗浄水の噴射位置を調整してもよい。
【００２５】
電気光学パネル５０の端子５２や基板の端子部分等を洗浄する場合には、洗浄箇所の幅が２〜１０ｍｍ程度なので、水噴射ノズル１０はスポット噴射型を使用する。また、水噴射ノズル１０の噴射口１０ｏは、洗浄対象によってその噴射口直径ｄを調整することが好ましいが、電気光学パネル５０の端子５２や基板の端子部分等を洗浄する場合には、図２に示すように、噴射口直径ｄは２〜１０ｍｍである。なお、水噴射ノズル１０は、洗浄対象に応じて、スポット型の他にもスリット型を使用することができる。
【００２６】
水噴射ノズル１０に供給する洗浄水の流量Ｖは、当該ノズルの噴射口直径ｄにもよるが、０．５〜２．０ｌ／ｍｉｎが好ましい。また、水噴射ノズル１０に供給する洗浄水の圧力Ｐは、２〜４ｋｇ／ｃｍ２が好ましい。このような流量及び圧力の範囲であれば、洗浄対象箇所に付着した汚れや異物を十分に除去できる。また、この洗浄装置１００を実装ラインに組み込んだ場合でも、製造ライン速度の低下を引き起こすことはない。ブローノズル２０に供給する空気の流量は、２〜２０ｌ／ｍｉｎ、また供給圧力は、３〜５ｋｇ／ｃｍ２、空気の加熱温度は６０〜９０℃が好ましい。
【００２７】
また、図１（ｃ）に示すように、噴射口直径ｄ、流量Ｖ又は圧力Ｐのうち少なくとも一つを変化させて、洗浄水の噴射条件を異ならせた水噴射ノズル１０１〜１０ｎ（ｎは整数）を切り替え可能にして備えてもよい。このようにすれば、異なる洗浄対象箇所を洗浄する場合であっても、最適噴射条件の水噴射ノズル１０１〜１０ｎを選択して洗浄できるので、安定した洗浄力で洗浄対象箇所を洗浄できる。
【００２８】
洗浄水として使用する水は、純水よりも純度の高い水を使用することが好ましいが、超純水以上の純度があれば十分である。また、純水、超純水の代わりに電解精製水等の機能水を使用してもよい。ここで、洗浄液に純水又は超純水を使用する理由を説明する。図３は、電気光学パネルの端子部分における断面図である。電気光学パネルは、ガラス基板５４ａ及び５４ｂの周辺にシール材５６を塗布して、両者を貼り合わせる。シール材５６のはみ出しを防止する観点から、ガラス基板５４ａと５４ｂとの合わせ目近傍は、シール材５６がガラス基板５４ａ及び５４ｂの内側に塗布される（図３参照）。このため、図３に示すように、ガラス基板５４ａと５４ｂとの合わせ目近傍は、ガラス基板５４ｂが庇状に突き出た形となり、端子５２近傍に隙間ｔが形成される。この隙間ｔの大きさは数μｍである。
【００２９】
また、機能水はオゾンガス溶解水、すなわち、超純水にオゾンガスを溶解させたものであり、これを洗浄水に使用した場合には、オゾンの強力な酸化力によって有効な洗浄効果を得ることができる。特に、有機物汚染（環境付着物）や金属パーティクル除去に有効である。ここで、洗浄水として使用する超純水は、電気比抵抗が１５ＭΩ・ｃｍ以上である。
【００３０】
界面活性剤は浸透性が高いので、従来のように界面活性剤を洗浄剤として使用すると、隙間ｔに洗浄液が入り込んでしまい、すすぎ洗いによってもこれを除去できないことがある。また、洗浄液のみならず、除去した異物や無機物等の汚れも前記隙間ｔに入り込んでしまうことがある。これが原因で、電蝕や導通不良が発生することがあり、隙間ｔに残留する洗浄液や汚れは極小とすることが好ましい。
【００３１】
ここで、洗浄液に使用する純水又は超純水は、界面活性剤と比較して浸透性は低いので、数μｍ程度の大きさの隙間ｔに入り込むことはない。洗浄液が隙間ｔに入り込まなければ、除去した汚れが隙間ｔに入り込む確率は極めて低くなる。したがって、洗浄液に純水又は超純水を使用すれば、上記電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできるので、製品の歩留まり及び信頼性を向上させることができる。これが、洗浄液に純水又は超純水を使用する理由である。
【００３２】
次に、実際の洗浄手順について説明する。洗浄対象である電気光学パネル５０が搬送ベルト４０に載せられて前工程から搬送されてくると、洗浄対象箇所であるＩＴＯ５２へ向けて水噴射ノズル１０及びブローノズル２０から洗浄水と乾燥用空気とを噴射する。この例では、洗浄中においては洗浄水及び乾燥用空気を供給し続けるが、搬送ベルト４０近傍に配置したセンサ４２によって洗浄対象の有無を判別し、洗浄対象がない場合には洗浄水及び乾燥用空気の供給を停止するようにしてもよい。このようにすれば、洗浄水及び乾燥用空気の消費量を低減できる。また、搬送ベルト４０の搬送速度は洗浄対象箇所の状態や、前後工程の処理速度等によって適宜選択するが、およそ３０〜１００ｍｍ／ｓｅｃ．である。
【００３３】
端子５２へ噴射された洗浄水は、端子５２上の異物を吹き飛ばし、ガラス粉等の無機物汚れを除去する。洗浄後の端子５２は、洗浄水で濡れているが、水噴射ノズル１０の後流側に配置されたブローノズル２０から噴射される温風によって、搬送過程で乾燥させられる。このようにして端子５２の洗浄が終了した電気光学パネル５０は、搬送ベルト４０によって次工程へ送られて、電気光学パネルモジュールへ実装される。洗浄後の廃水は、ドレン５から排出されて、廃水処理装置３によって処理される。
【００３４】
この洗浄装置１００によれば、浸透性の低い洗浄水を洗浄対象箇所へ選択的に噴射することにより、短時間で異物を吹き飛ばし、汚れを除去する。これにより、洗浄水に接触する時間を従来よりも短くでき、また確実に異物や汚れを吹き飛ばすことができるので、異物の再付着や汚れや洗浄液が隙間に残留する確率を極めて低減できる。その結果、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできるので、製品の歩留まり及び信頼性を向上させることができる。
【００３５】
また、この洗浄装置１００は、従来と異なり電気光学パネル５０等を単品枚葉で連続して洗浄・乾燥するので、大型洗浄槽や大型の搬送装置を必要としない。このため、洗浄装置１００をコンパクトにできるので装置の駆動エネルギーを低減でき、また、既存の実装ラインにこの洗浄装置１００を組み込むことも容易である。
【００３６】
さらに、電気光学パネル５０等を単品枚葉で洗浄・乾燥するので、従来のバッチ処理のように洗浄・乾燥のために洗浄対象を停止させる必要がなく、また、洗浄前における洗浄対象の在庫を低減できるので、生産効率が向上する。また、従来のように大量の洗浄液を使用しないので廃水処理装置３も、処理能力が低いもので十分である。そして、洗浄液に純水又は超純水を使用するので環境負荷も低減できる。
【００３７】
（実施の形態２）
図４は、実施の形態２に係る洗浄装置を示す説明図である。また、図５は、実施の形態２に係る水噴射ノズルを示す説明図である。この洗浄装置１０１は、スリット型の水噴射ノズル１１を用いて、電気光学パネル５０の偏光板５８を洗浄するものである。その他の構成は実施の形態１の洗浄装置１００と略同様なのでその説明を省略するとともに、同一の構成には同一の符号を付す。
【００３８】
水噴射ノズル１１は、ブローノズル２１とともにベース３０へ取り付けられている。図５に示すように、この水噴射ノズル１１は噴射口１１ｏがスリット形状をしたスリット型ノズルである。噴射口１１ｏの開口幅Ｈは、洗浄対象箇所の全域を一度に洗浄できる程度の開口幅Ｈが必要であり、洗浄対象箇所の大きさによって適宜変更する。この例においては偏光板５８を洗浄するので、開口幅Ｈは２０〜９０ｍｍである。このとき、開口隙間Ｓは、０．１〜２．０ｍｍが好ましい。また、開口隙間Ｓは開口幅Ｈによって変化させるが、開口隙間Ｓと開口幅Ｈとの比Ｓ／Ｈが１／１０００〜１／１０が好ましい。
【００３９】
また、図４（ｂ）に示すように、水噴射ノズル１１を、電気光学パネル５０の平面に対して垂直な軸Ｚの周囲に回転可能としてもよい。このとき、図４（ｃ）に示すように、電気光学パネル５０の搬送方向Ｙに平行な方向と水噴射ノズル１１とのなす角度をθとする。見かけ上の開口幅Ｈ’＝Ｈ×ｓｉｎθで表すことができるので、このような構成によれば、角度θを変化させることにより、見かけ上の開口幅Ｈ’を変更して、様々な幅の洗浄対象箇所に対しても柔軟に対応できる。
【００４０】
電気光学パネル５０は、偏光板５８が取り付けられた状態で搬送ベルト４０に載せられて搬送される。そして、水噴射ノズル１１から洗浄水を噴射して、電気光学パネル５０が搬送される過程で偏光板５８を洗浄する。次に、水噴射ノズル１１の下流側直近に配置されているブローノズル２１から温風を噴射して、偏光板５８を感想させる。なお、ブローノズル２１も、偏光板５８の幅方向全域を一度に乾燥させることができるように、噴射口２１ｏがスリット状に形成されている。
【００４１】
この発明の実施の形態２に係る洗浄装置１０１は、上記本発明の実施の形態１に係る洗浄装置１００と同様の構成なので、上記実施の形態１に係る洗浄装置１００と同様の作用・効果を奏する。さらに、この発明の実施の形態２に係る洗浄装置１０１のように、水噴射ノズル１１の形式を変更すれば、異なる洗浄対象箇所に対しても柔軟に対応できる。
【００４２】
（実施の形態３）
図６は、本発明の洗浄装置を実装ラインに組み込んだ一例を示す説明図である。この電気光学パネルの実装ライン２００は、ＩＴＯ電極の洗浄・乾燥工程、偏光板５８における貼付後の洗浄・乾燥工程、カラーフィルタ５３を形成したガラス基板５０ａとＩＴＯ電極等を形成したガラス基板５０ｂとの貼付工程を含む。
【００４３】
この実装ライン２００においては、ＩＴＯ電極の洗浄・乾燥、及び偏光板５８の貼付後における洗浄・乾燥を、本発明に係る洗浄装置１００、１０１が実行する。この実装ライン２００は、本発明に係る洗浄装置１００、１０１を備えているので、上記各工程において、異物の再付着や汚れや洗浄液が隙間に残留する確率を極めて低減できる。その結果、電蝕や導通不良の発生確率を極めて低くできるので、電気光学パネル５０の歩留まり及び信頼性を向上させることができる。
【００４４】
また、この実装ライン２００は、洗浄装置１００、１０１によって電気光学パネル５０を単品枚葉で連続して洗浄・乾燥できるので、大型洗浄槽や大型の搬送装置を必要としない。このため、実装ライン２００をコンパクトにでき、また実装ライン２００の駆動エネルギーを低減できる。さらに、電気光学パネル５０を単品枚葉で洗浄・乾燥するので、洗浄・乾燥のために洗浄対象を停止させる必要がなく、また、洗浄前における洗浄対象の在庫を低減できるので、生産効率が向上する。また、従来のように大量の洗浄液を使用しないので廃水処理設備は処理能力が低いもので十分であり、洗浄液に純水又は超純水を使用するので環境負荷も低減できるので、実装ライン２００の周辺機器も簡易に構成できる。
【００４５】
（本発明の適用対象）
本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法が適用できる電子機器としては、携帯電話機の他に、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、端子部その他の洗浄対象箇所を有する電子機器が挙げられる。
【００４６】
また、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法が適用できる電気光学パネルは、透過型又は反射型の電気光学パネルであり、図示しない照明装置をバックライトとして用いるものがある。なお、パッシブマトリクス型の電気光学パネルであっても同様に適用できる。また、アクティブマトリクス型の電気光学パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた電気光学パネル）にも同様に本発明を適用することができる。アクティブマトリックス型のカラー電気光学パネルであっても同様に適用できる。さらに、電気光学パネルとして、液晶パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置等のように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置の製造においても本発明を同様に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１に係る洗浄装置を示す説明図。
【図２】実施の形態１に係る洗浄ノズルを示す説明図。
【図３】電気光学パネルの端子部分における断面図。
【図４】実施の形態２に係る洗浄装置を示す説明図。
【図５】実施の形態２に係る水噴射ノズルを示す説明図。
【図６】本発明の洗浄装置を実装ラインに組み込んだ一例を示す説明図。
【符号の説明】
３  廃水処理装置、  ５  ドレン、  １０、１０１、１０ｎ、１１  水噴射ノズル、  ２０、２１  ブローノズル、  ４０  搬送ベルト、  ５０  電気光学パネル、  ５２  端子、  ５８  偏光板、  １００、１０１  洗浄装置、  ２００実装ライン
【図１】
2004261703.tif 000003
【図２】
2004261703.tif 000004
【図３】
2004261703.tif 000005
【図４】
2004261703.tif 000006
【図５】
2004261703.tif 000007
【図６】
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