(57)【要約】【課題】普通に見ると透明なフィルムに見えるが、直線偏光板を介して見ると、光回折構造体による像が視認できる光回折構造体。【解決手段】凹凸レリーフパターンからなる光回折構造３を有する光回折構造体において、光回折構造３は屈折率異方性を有する透明媒体１の層表面に形成され、その透明媒体１の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体２の層が光回折構造３上に設けられてなる光回折構造体。【選択図】　　　　図１
2004117682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸レリーフパターンからなる光回折構造を有する光回折構造体において、
前記光回折構造は屈折率異方性を有する透明媒体の層表面に形成され、前記透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体の層が前記光回折構造上に設けられてなることを特徴とする光回折構造体。
【請求項２】
前記屈折率異方性を有する透明媒体の常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上あることを特徴とする請求項１記載の光回折構造体。
【請求項３】
凹凸レリーフパターンからなる光回折構造を有する光回折構造体において、
前記光回折構造として第１光回折構造と第２光回折構造とを有し、前記第１光回折構造は屈折率異方性を有する第１透明媒体の層表面に形成され、前記第１透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の第２透明媒体の層が前記光回折構造上に設けられてなり、前記第２光回折構造は等方性の第３透明媒体の層表面に形成され、前記第２光回折構造上に反射層が設けられてなることを特徴とする光回折構造体。
【請求項４】
前記屈折率異方性を有する第１透明媒体の常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上あることを特徴とする請求項３記載の光回折構造体。
【請求項５】
前記反射層が前記第３透明媒体の屈折率と異なる屈折率を持つ第４透明媒体の層からなることを特徴とする請求項３又は４記載の光回折構造体。
【請求項６】
前記反射層が金属反射層からなることを特徴とする請求項３又は４記載の光回折構造体。
【請求項７】
前記第２透明媒体の層と前記第３透明媒体の層が同一層からなることを特徴とする請求項３から６の何れか１項記載の光回折構造体。
【請求項８】
凹凸レリーフパターンからなる光回折構造を有する光回折構造体において、
前記光回折構造として複数の光回折構造を有し、その中の少なくとも２つの光回折構造が屈折率異方性を有する透明媒体の層表面に形成され、各屈折率異方性を有する透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体の層が各光回折構造上に設けられてなり、各屈折率異方性を有する透明媒体の前記特定方向が相互に異なる方向になるように積層されてなることを特徴とする光回折構造体。
【請求項９】
前記各屈折率異方性を有する透明媒体の常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上あることを特徴とする請求項８記載の光回折構造体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光回折構造体に関し、特に、偽造防止用に用いられるホログラム、回折格子等の光回折構造体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ホログラムは優れた意匠性、及び、カラー複写機においても容易に複製できず偽造・変造が困難なことから、各種金券類及びＩＤカード等の個人認証書、保証書、証明書等に数多く利用されてきた。しかし、近年、ホログラムの偽造が増えてきており、ホログラムの偽造抑止効果は低下してきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、普通に見ると透明なフィルムに見えるが、直線偏光板を介して見ると、光回折構造体による像が視認できる光回折構造体を提供することである。
【０００４】
本発明のもう１つの目的は、普通に見ると反射型の光回折構造体の像が視認でき、直線偏光板を介して見ると、それに加えて新たな別の光回折構造体による像を視認することができる光回折構造体を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の第１の目的を達成する本発明による光回折構造体は、屈折率異方性を有するフィルムに光回折構造のエンボス加工を施し、その後、そのフィルムの特定方向の屈折率（常光線あるいは異常光線に対する屈折率）と等しい屈折率を持つ等方性の反射層を設けることにより、通常は光回折構造による像の輝度が低く、視認できないが、直線偏光板を介して見ると、光回折構造による像の輝度が向上し、視認することができるものである。
【０００６】
この場合に、屈折率異方性を有するフィルムとしては、常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上、好ましくは０．３以上のものを用いることが望ましい。
【０００７】
上記の第２の目的を達成する本発明による光回折構造体は、屈折率異方性を有するフィルムに光回折構造のエンボス加工を施し、その後、そのフィルムの特定方向の屈折率（常光線あるいは異常光線に対する屈折率）と等しい屈折率を持つ等方性の第１反射層を設ける。さらに、その第１反射層に別の光回折構造のエンボス加工を施し、第２反射層を設ける。第２反射層は、Ａｌ等の金属反射層の他、ＴｉＯ２　等の第１反射層とは屈折率の異なる透明層でもよい。
【０００８】
この場合も、屈折率異方性を有するフィルムとしては、常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上、好ましくは０．３以上のものを用いることが望ましい。
【０００９】
すなわち、本発明の光回折構造体は、凹凸レリーフパターンからなる光回折構造を有する光回折構造体において、
前記光回折構造は屈折率異方性を有する透明媒体の層表面に形成され、前記透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体の層が前記光回折構造上に設けられてなることを特徴とするものである。
【００１０】
この場合に、屈折率異方性を有する透明媒体の常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上あることが望ましい。
【００１１】
本発明の別の光回折構造体は、凹凸レリーフパターンからなる光回折構造を有する光回折構造体において、
前記光回折構造として第１光回折構造と第２光回折構造とを有し、前記第１光回折構造は屈折率異方性を有する第１透明媒体の層表面に形成され、前記第１透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の第２透明媒体の層が前記光回折構造上に設けられてなり、前記第２光回折構造は等方性の第３透明媒体の層表面に形成され、前記第２光回折構造上に反射層が設けられてなることを特徴とするものである。
【００１２】
この場合に、屈折率異方性を有する第１透明媒体の常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上あることが望ましい。
【００１３】
また、反射層が第３透明媒体の屈折率と異なる屈折率を持つ第４透明媒体の層からなるか、金属反射層からなることが望ましい。
【００１４】
また、第２透明媒体の層と第３透明媒体の層が同一層からなっていてもよい。
【００１５】
本発明のさらに別の光回折構造体は、凹凸レリーフパターンからなる光回折構造を有する光回折構造体において、
前記光回折構造として複数の光回折構造を有し、その中の少なくとも２つの光回折構造が屈折率異方性を有する透明媒体の層表面に形成され、各屈折率異方性を有する透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体の層が各光回折構造上に設けられてなり、各屈折率異方性を有する透明媒体の前記特定方向が相互に異なる方向になるように積層されてなることを特徴とするものである。
【００１６】
この場合に、各屈折率異方性を有する透明媒体の常光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の差が０．１以上あることが望ましい。
【００１７】
本発明においては、光回折構造が屈折率異方性を有する透明媒体の層表面に形成され、その透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体の層がその光回折構造上に設けられているので、通常の自然光下ではその光回折構造による像は明確に視認できず、直線偏光板を介して見るときその光回折構造による像を明確に視認することができ、偽造防止効果を向上させ、さらに、意匠性にも優れた光回折構造体を得ることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明による光回折構造体のいくつかの実施形態を説明する。
【００１９】
一般に従来のレリーフホログラムや回折格子からなる透明タイプの光回折構造体は、図３に断面図を示すように、光回折構造形成層１（屈折率ｎｐ　）にエンボス加工を施してその表面に凹凸のレリーフパターン３を形成し、光回折構造形成層１と異なる屈折率（ｎｒ　）を持つ反射層２を凹凸のレリーフパターン３に沿って形成することにより、光回折構造形成層１と反射層２の界面にてフレネル反射が生じ、そのレリーフパターン３からの回折光によって光回折構造体による像が視認されるものである。
【００２０】
これに対して、本発明による第１の光回折構造体では、図１（ａ）に断面図を示すように、光回折構造形成層１として、屈折率異方性（常光線屈折率ｎ１　、異常光線屈折率ｎ２　（ｎ１　≠ｎ２　））を持つ材料を使用しており、その光回折構造形成層１にエンボス加工を施してその表面に凹凸のレリーフパターン３を形成する。この結果、光回折構造形成層１は入射光の偏光方向により異なる屈折率を持つことになる。そのため、光回折構造形成層１の常光線に対する屈折率ｎ１　と同じ屈折率を持つ反射層２を凹凸のレリーフパターン３に沿って形成すると、常光線の向きの直線偏光成分の入射光４は反射層２との界面において屈折率差がないため、図１（ｂ）に示すように反射光が生じず、透過光５となって透過し、したがって、この光回折構造体による像も視認できない。
【００２１】
しかし、異常光線の向きの直線偏光成分の入射光６は反射層２との界面において屈折率差が存在するため、図１（ｃ）に示すように反射光７が生じ、レリーフパターン３からのこの反射光７による回折光によって光回折構造体による像を視認することができる。
【００２２】
通常の自然光は任意の偏光成分の光が含まれており、本発明の第１の光回折構造体を自然光下で見ても、異常光線の反射光は他の反射光（反射層２を透過した光５が基材等によって反射する光等）に紛れてしまい、明確に視認することはできない。
【００２３】
しかし、異常光線と同じ偏光方向の向きに直線偏光板を観察側に配置して、その偏光板を透過してきた反射光７を見ることにより、明確に光回折構造体による像を視認することができ、図３に示すような従来の反射型ホログラムあるいは反射型回折格子に対し、偽造防止効果を向上させ、さらに、意匠性にも優れた光回折構造体を提供することができる。
【００２４】
また、本発明による第２の光回折構造体では、図２（ａ）に断面図を示すように、図１の構成の光回折構造体における反射層２にエンボス加工を施してその表面に別の凹凸のレリーフパターン１３を形成し、その下に第２反射層１２を設けるようにする。すなわち、この場合は、第１光回折構造形成層１として、屈折率異方性（常光線屈折率ｎ１　、異常光線屈折率ｎ２　（ｎ１　≠ｎ２　））を持つ材料を使用しており、その第１光回折構造形成層１にエンボス加工を施してその表面に第１の凹凸のレリーフパターン３を形成する。この結果、第１光回折構造形成層１は入射光の偏光方向により異なる屈折率を持つことになる。そして、第１光回折構造形成層１の常光線に対する屈折率ｎ１　と同じ屈折率を持つ第１反射層２を第１の凹凸のレリーフパターン３に沿って形成する。次いで、この第１反射層２を第２光回折構造形成層２とし、この第２光回折構造形成層２にエンボス加工を施してその表面に第２の凹凸のレリーフパターン１３を形成し、その下に第２反射層１２を設ける。第２反射層１２はＡｌ等の金属反射層、あるいは、ＴｉＯ２　等の第１反射層２と屈折率が異なる透明層（ｎ３　）を使用する。
【００２５】
この本発明による第２の光回折構造体においては、常光線の向きの直線偏光成分の入射光４は第１反射層２との界面において屈折率差がないため、図２（ｂ）に示すように第１の凹凸のレリーフパターン３からは反射光が生じず、その透過光が第２の凹凸のレリーフパターン１３で反射され、その反射光８による回折光によって第２光回折構造形成層２の第２の凹凸のレリーフパターン１３による像が視認できる。
【００２６】
また、異常光線の向きの直線偏光成分の入射光６は第１光回折構造形成層１と第１反射層２との界面において屈折率差が存在するため、図２（ｃ）に示すように反射光７が生じ、第１の凹凸のレリーフパターン３からのこの反射光７による回折光によってその第１の凹凸のレリーフパターン３が第２の凹凸のレリーフパターン１３による像と重なって視認できる。
【００２７】
通常の自然光は任意の偏光成分の光が含まれており、本発明の第２の光回折構造体を自然光下で見ても、異常光線によるの第１反射層２からの反射光７は他の反射光（第２反射層１２からの反射光８、あるいは、基材からの反射光等）に紛れてしまい、明確に視認することはできない。
【００２８】
しかし、異常光線と同じ偏光方向の向きに直線偏光板を観察側に配置して、その偏光板を透過してきた反射光７を見ることにより、明確に第１反射層２からの反射光、すなわち、第１の凹凸のレリーフパターン３による像を視認することができると同時に、その第１反射層２を透過し、第２反射層１２からの反射光も視認することができる。その結果、自然光下で見えていた第２の凹凸のレリーフパターン１３による像に、新たに第１の凹凸のレリーフパターン３による像が追加されて視認できるようになり、図３に示すような従来の反射型ホログラムあるいは反射型回折格子に対し、偽造防止効果を向上させ、さらに、意匠性にも優れた光回折構造体を提供することができる。
【００２９】
次に、上記光回折構造形成層（第１光回折構造形成層）１に使用される屈折率異方性を有する材料の代表的な例として、一軸延伸フィルム若しくは二軸延伸フィルム等の延伸フィルムがあげられる。素材としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリメタクリル酸エチル樹脂、ポリアクリル酸ブチル樹脂、ナイロン６又はナイロン６６等で代表されるポリアミド樹脂、三酢酸セルロース樹脂、セロファン、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、又は、ポリスルホン樹脂等が使用でき、また、液晶ポリマーからなる液晶フィルムも使用できる。
【００３０】
また、凹凸のレリーフパターン（第１の凹凸のレリーフパターン３、第１の凹凸のレリーフパターン１３）としての光回折構造としては、ホログラムや回折格子のパターン等種々のものが使用可能であり、従来、この分野で使用されているものと同様なパターンであってよく、いかなるパターンでもよい。パターン自体は、実物の撮影以外に、ホログラム回折格子を計算で求めたり、デジタルカメラで取り込んだデジタル画像やコンピュータグラフイックスから得られる２次元あるいは３次元の画像データから、ホログラフィックステレオグラム技術等の適宜な手段により作成できる。
【００３１】
また、そのような光回折構造のエンボス加工としては、光回折構造の凹凸をメッキ等によって写し取った平版型の凹凸型を使用した平プレス法、若しくは、ロール上の凹凸型を用いたロールプレス法により、光回折構造形成層（第１光回折構造形成層１、第２光回折構造形成層２）を凹凸型に接触させて加熱及び加圧して行うことができる。
【００３２】
また、反射層（第１反射層）２には、上記の光回折構造形成層（第１光回折構造形成層）１の常光線に対する屈折率あるいは異常光線に対する屈折率と同じ屈折率であり、屈折率異方性を持たない材料であればよい。具体的に何を用いるかは、光回折構造体形成層１の光学特性によって選定されるが、使用可能な材料として、例えば、ポリエチレン系〔ポリエチレン（ＰＥ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体〕、ポリプロピレン（ＰＰ）、ビニル系〔ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、ポリビニルホルマール（ＰＶＦ）〕、ポリスチレン系〔ポリスチレン（ＰＳ）、スチレン―アクリロニトリル共重合体（ＡＳ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）〕、アクリル系〔ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＭＭＡースチレン共重合体〕、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルロース系〔エチルセルロース（ＥＣ）、酢酸セルロース（ＣＡ）、プロピルセルロース（ＣＰ）、酢酸・酢酸セルロース（ＣＡＢ）、硝酸セルロース（ＣＮ）〕、フッ素系〔ポリクロロフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルロエチレン−ヘキサフルオロエチレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶｄＦ）〕、ウレタン系（ＰＵ）、ナイロン系〔タイプ６、タイプ６６、タイプ６１０、タイプ１１〕、ポリエステル（アルキッド）系〔ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）〕、ノボラック型フェノール樹脂等の熱可塑性樹脂等を用いることができる。
【００３３】
また、レゾール型フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂や、蛋白質、ゴム、シエラック、コパル、でんぷん、ロジン等の天然樹脂等も使用することができる。
【００３４】
さらに、これらの樹脂は水性塗料用のエマルジョンであることができる。水性塗料用のエマルジョンとしては、例えば、酢酸ビニル（ホモ）エマルジョン、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合エマルジョン、酢酸ビニル−エチレン共重合樹脂エマルジョン（ＥＶＡエマルジョン）、酢酸ビニル−ビニルバーサテート共重合樹脂エマルジョン、酢酸ビニル−ポリビニルアルコール共重合樹脂エマルジョン、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合樹脂エマルジョン、アクリルエマルジョン、アクリルシリコンエマルジョン、スチレン−アクリル共重合樹脂エマルジョン、ポリスチレンエマルジョン、ウレタンエマルジョン、塩化ポリオレフィンエマルジョン、エポキシ−アクリルディスパージョン、ＳＢＲラテックス等を用いることができる。
【００３５】
また、第２反射層１２は、その見栄えにより、次の２タイプに分けることができる。
【００３６】
ａ）シルバータイプ
反射層は鏡面となる。光反射層の材質としては、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、インジウム（Ｉｎ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、コバルト（Ｃｏ）、スズ（Ｓｎ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、テルル（Ｔｅ）、銅（Ｃｕ）、鉛（Ｐｂ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）等の単体金属、若しくは、それらの合金がある。
【００３７】
光反射層の薄膜の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法があげられる。薄膜は、色調、デザイン、用途等に応じて適切な条件を設定すればよいが、５０Å〜１μｍの範囲が好ましく、さらには、１００〜１０００Åがより好ましい。透明性を有する着色光反射層を設けたい場合は、膜厚を２００Å以下にするのが好ましい。また、隠蔽性を有する着色光反射層を設けたい場合は、膜厚を２００Å以上にするのが望ましい。薄膜は、上記のように、光回折構造体の用途、トータルデザインを考慮し、色調、隠蔽性あるいは透明性等の必要に応じて設定することができる。
【００３８】
ｂ）透明タイプ
その透明層に光回折構造による像が浮かび上がるように見える。透明蒸着層を形成するための材料は、従来公知のもの、例えば、ＺｎＳ、ＴｉＯ２　、ＳｉＯ２　、Ｃｒ２　Ｏ３　等の金属酸化物や硫化物等を使用することができ、特に限定されない。また、その形成方法も、真空蒸着法、スパッタリング法等の従来と同様の方法で形成することができる。膜厚としては、５０〜５００Åの範囲が好ましく、１００〜４００Åの範囲が特に好ましい。
【００３９】
なお、本発明の光回折構造体、特に、図２の光回折構造体の変形形態として、以下のような形態が考えられる。
【００４０】
ａ）第２光回折構造（第２の凹凸のレリーフパターン１３）を第１反射層２には設けず、新たに別の第２光回折構造形成層を設け、その第２光回折構造形成層に第２光回折構造（第２の凹凸のレリーフパターン１３）を形成する。第２光回折構造形成層としては、等方性の材料を使用することで、以上に説明した作用効果と同様な作用効果が得られる。その場合の加工工程としては、第１反射層２まで図１と同様に形成し、別に用意した第２光回折構造形成層に第２光回折構造（第２の凹凸のレリーフパターン１３）を形成し、その第２光回折構造に沿って第２反射層１２を設けた後に、第１反射層２に貼り合わせるようにすることもできる。
【００４１】
ｂ）第２反射層１２として上記の透明タイプのものを用いる場合、第２反射層１２が付与された第２光回折構造形成層を第１光回折構造形成層１の上に設けるようにしても同様な作用効果が得られる。
【００４２】
ｃ）第２光回折構造形成層及び第２反射層１２（第２回折構造体）を第１光回折構造形成層１及び第１反射層２（第１回折構造体）と同様に屈折率異方性を持つ材料を使用して形成し、それぞれ異なる方向（好ましくは直交する向き）の直線偏向光によって各光回折構造体の像が視認できる向きに配置して積層する。このように構成すると、直線偏光板を介して見る際に、直線偏光板を回転（好ましくは直交する角度範囲で回転）させると、第１回折構造体、第２回折構造体の像が交互に認識され、より高い意匠性、偽造防止効果を付与することができる。さらに、同様に直線偏光の方向を変えて３層以上積層することも可能である。
【００４３】
以下、本発明の光回折構造体の具体例を説明する。
（具体例１）
厚み５０μｍの２，６−ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム（常光線屈折率ｎ１　＝１．６４、異常光線屈折率ｎ２　＝１．８８）を素材とし、レリーフホログラムの微細凹凸を表面に有するホログラム型の凹凸面を上記のフィルムに当て加熱加圧して、ホログラムの凹凸形状を付与した。その凹凸形成後、形成された凹凸の面にＰＥＮ及びナフタレート７０／テレフタレート３０のコポリエステル（ｃｏＰＥＮ）（屈折率ｎ＝１．６４）を厚みが１μｍになるよう形成した。
【００４４】
このようにして得られた光回折構造体は、この状態では、ホログラム像は見えなかったが、直線偏光板を介して眺めることにより、ホログラム像を顕像化して見ることができた。
（具体例２）
厚み５０μｍの２，６−ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム（常光線屈折率ｎ１　＝１．６４、異常光線屈折率ｎ２　＝１．８８）を素材とし、レリーフホログラムの微細凹凸を表面に有するホログラム型の凹凸面を上記のフィルムに当て加熱加圧して、ホログラムの凹凸形状を付与した。その凹凸形成後、形成された凹凸の面にＰＥＮ及びナフタレート７０／テレフタレート３０のコポリエステル（ｃｏＰＥＮ）（屈折率ｎ＝１．６４）を厚みが２μｍになるよう形成した。
【００４５】
さらに、上記のｃｏＰＥＮの面に、同様な方法で第２のホログラムの凹凸形状を付与し、その凹凸の面にアルミニウムを厚みが３０ｎｍになるように形成した。
【００４６】
このようにして得られた光回折構造体は、この状態では、第２のホログラム像のみが見え、直線偏光板を介して眺めることにより、第１のホログラム像が顕像化され、両方のホログラム像を同時に見ることができた。
【００４７】
ところで、本発明の光回折構造体が適用される被着体としては、ＩＤ（本人確認）用のカード、例えば、銀行等の預貯金カード、クレジットカード、身分証明書（学生証若しくは社員証）、カード形式ではないが、ＩＤ用である受験票、パスポート等がある。銀行等の預貯金カード若しくはクレジットカードが不正に使用されれば、正当な保持者（又は契約者）、及び、取引金融機関、商店、クレジット会社等に損害を与えるものである。
【００４８】
本発明の光回折構造体は、紙幣、商品券、株券、若しくは、証券等に適用できる。これらは不正に使用されると、額面金額、時には投機的な価値に基づく損失を生むものである。運転免許証、カード型の証書、例えば、防火、消毒、若しくは、防火等の保安、衛生上の資格若しくは等級を示すものにも、本発明の光回折構造体は適用可能である。これらは、本来資格のない者が関与することを防止するものであるにも係わらず、不正な使用により、危険を招いたり、犯罪につながることがあるものである。宝くじ、競馬・競輪等の勝馬投票券・車券等も、競技終了の後、当りの券には金銭的価値が備わり、偽造や変造は詐欺行為につながるので、それらの防止に本発明の光回折構造体の適用は有効である。
【００４９】
そして、本発明の図１の構成の光回折構造体は透明であるため、顔写真、ＩＤナンバー等、特に変造されると損失が大きい情報が付与されている部分に、本発明の光回折構造体を貼付することにより、より有効性を高めることができる。また、被着体に示されている絵柄、文字等と本発明の光回折構造体に形成される絵柄等に関連性を持たせることにより、判定精度の向上、意匠性の向上等の付加価値を加えることもできる。
【００５０】
また、本発明の図２の構成の光回折構造体の場合、第２反射層１２を透明タイプにすると、常に被着体の絵柄を視認することができるので、顔写真、ＩＤナンバー等、特に変造されると損失が大きい情報が付与されている部分に本発明の光回折構造体を貼付することにより、より有効性を高めることができる。また、被着体に示されている絵柄、文字等と本発明の光回折構造体に形成される絵柄等に関連性を持たせることにより、判定精度の向上、意匠性の向上等の付加価値を加えることもできる。
【００５１】
これらに加えて、高級腕時計、宝飾品、貴金属、若しくは、骨董品等の箱、ケース、若しくは、袋等にも、本発明の光回折構造体は、その製造の困難性、確認手段の秘匿性が高いことを利用して貼付等により適用することができる。また、磁気的記録媒体若しくは光学的記録媒体に、音楽ソフト、映像ソフト、コンピュータソフト、若しくは、ゲームソフト等のソフトを記録させた複製物も、正規の著作権許諾を受けることなく不正に複製されれば、著作権者や出版元の被る金銭的損失が大きく、このような記録媒体、又は、その箱、若しくは、ケース等に本発明の光回折構造体を適用することができる。
【００５２】
上記したように、本発明の光回折構造体は、種々の用途に適用でき、被着体の形状、素材も様々である。種々の用途に適用できるよう、接着剤層を有する貼付け用ラベルの形態であるか、若しくは、転写用の転写シートであることが好ましい。なお、被着体は、不透明なものに限ることなく、透明な物であってもよい。
【００５３】
なお、本発明の真正性識別体（光回折構造体）をラベル状に形成した場合、ラベルを構成する何れかの層を引張り強度の弱い層としておき、剥がそうとするとその層から破壊してしまう脆性ラベルとしてもよい。あるいは、ラベル本体と接着剤層との接着強度を部分的に変化させ、一旦貼り付けられたラベルを剥がそうとすると、接着剤層の一部が被着体上に残ってしまい、また、剥がした方のラベルを別の被着体に貼ろうとすると（大抵、不正な意図であることが多い。）、接着剤層の一部が欠落しているために円滑な貼付けができないばかりか、接着剤層の有無による凹凸が生じたり、ラベル上から眺めた際の接着剤層の不均一性が明らかになるよう構成してもよい。
【００５４】
以上、本発明の光回折構造体をその原理と実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能である。
【００５５】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の光回折構造体によると、光回折構造が屈折率異方性を有する透明媒体の層表面に形成され、その透明媒体の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体の層がその光回折構造上に設けられているので、通常の自然光下ではその光回折構造による像は明確に視認できず、直線偏光板を介して見るときその光回折構造による像を明確に視認することができ、偽造防止効果を向上させ、さらに、意匠性にも優れた光回折構造体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による第１の光回折構造体の構成と作用を説明するための図である。
【図２】本発明による第２の光回折構造体の構成と作用を説明するための図である。
【図３】従来の第２の光回折構造体の構成と作用を説明するための図である。
【符号の説明】
１…光回折構造形成層（第１光回折構造形成層）
２…反射層（第１反射層、第２光回折構造形成層）
３…凹凸のレリーフパターン（第１の凹凸のレリーフパターン）
４…常光線の向きの直線偏光成分の入射光
５…透過光
６…異常光線の向きの直線偏光成分の入射光
７…反射光
８…反射光
１２…第２反射層
１３…第２の凹凸のレリーフパターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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