(57)【要約】【課題】ステッパ光学系において、透過率ムラ特性が平坦で良好な結像性能を発揮する光学素子等を提供すること。【解決手段】瞳面の像側に配置されるレンズ１０の反射防止膜を、入射角度の増大に伴って透過率が増加するいわゆる負の入射角特性とすることで、例えばその周辺のレンズ等による周辺部の減光を相殺することができ、瞳面上における照度分布をほぼ均一なものとすることができ、投影光の入射方向によって解像度に差が生じることを防止できる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性の光学部材と、
前記光学部材の所定の入出射面に形成されるとともに、所定の斜入射角度における斜入射透過率が垂直入射透過率よりも高くなる光学特性を有する反射防止膜と
を備える光学素子。
【請求項２】
前記反射防止膜は、前記所定の斜入射角度が３０゜以上の所定範囲であるとした場合に、斜入射透過率が垂直入射透過率よりも２％以上高くなる光学特性を有することを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
前記光学部材は、レンズ本体であることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項４】
前記反射防止膜は、屈折率が異なる複数の層を積層した多層膜を含み、前記複数の層の光学的膜厚の設定によって斜入射透過率と垂直入射透過率の差が調節されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項５】
複数のレンズ要素と、
前記複数のレンズ要素のうち少なくとも１つのレンズ要素の所定の入出射面に形成された反射防止膜を含み、当該少なくとも１つのレンズ要素に関する透過光に対する２次元的な透過率分布を透過光の入射角に応じて調節する透過率調整手段と
を備えるレンズ系。
【請求項６】
前記透過率調整手段は、所定の斜入射角度における斜入射透過率が垂直入射透過率よりも高くなる光学特性を有する反射防止膜であることを特徴とする請求項５記載のレンズ系。
【請求項７】
前記少なくとも１つレンズ要素は、透過光の斜入射角度が最も大きくなる１以上のレンズ要素から選択されることを特徴とする請求項６記載のレンズ系。
【請求項８】
前記レンズ系は、投影レンズであり、前記少なくとも１つレンズ要素は、前記投影レンズの瞳面よりも射出側に配置されることを特徴とする請求項６記載のレンズ系。
【請求項９】
透過率ムラの平坦性が変動幅で３％以内であることを特徴とする請求項８記載のレンズ系。
【請求項１０】
請求項５から請求項９のいずれか一項に記載のレンズ系を設計する方法であって、
前記複数のレンズ要素から透過率分布の調整の判定対象である少なくとも１つの対象要素を選択する工程と、
前記対象要素に入射する光束の入射角度範囲を算出する工程と、
前記入射角度範囲に基づいて、前記対象要素に形成する反射防止膜の光学特性を調節することによって、透過率分布の調整量が所定の範囲にあるか否かを判定する工程と
を備えるレンズ系の設計方法。
【請求項１１】
前記透過率分布の調整量は、前記対象要素を除く他のレンズ要素による透過率分布への影響を相殺する量に近似するように設定されることを特徴とする請求項１０記載のレンズ系の設計方法。
【請求項１２】
前記対象要素を選択する工程は、前記レンズ系を構成するレンズ要素のうち透過率分布への影響が最も大きくなるレンズ要素を決定するものであることを特徴とする請求項１１記載のレンズ系の設計方法。
【請求項１３】
請求項１から請求項１０に記載の投影レンズの設計方法によって決定したデータに基づいてレンズを製造する投影レンズの製造方法。
【請求項１４】
投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、
紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光学素子を含み、前記マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系と
を備える投影露光装置。
【請求項１５】
投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光学素子を含み、紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系と
を備える投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体露光装置等の投影露光装置の光学系に適用される光学素子、このような光学素子を組み込んだレンズ系及びその設計方法、並びにこのような光学素子を組み込んだ投影露光装置に関するものである。
【０００１】
【従来の技術】
近年、半導体素子の集積度を増すために、縮小投影型の半導体露光装置（ステッパ）の高解像化の要求が高まっている。一般にフォトリソグラフィの解像度Ｒは、
Ｒ＝ｋ・λ／ＮＡ
で表される。ここで、ｋは比例定数であり、λ、ＮＡはそれぞれ露光波長と光学系の開口数である。
【０００２】
以上の解像度の式から明らかなように、ステッパによるフォトリソグラフィの解像度を上げる一つの方法としては光源波長の短波長化が挙げられる。最近では、従来使用してきた水銀ランプより短波長域の光を発振でき、かつ高出力なレーザを光源としたステッパの実用化が始まっている。ＫｒＦエキシマレーザ（λ≒２４８ｎｍ）からＡｒＦエキシマレーザ（λ≒１９３ｎｍ）へと短波長化が進められているが、さらに短波長光源として、Ｆ２レーザ（λ≒１５７ｎｍ）がある。
【０００３】
このような短波長域で使用するステッパの光学系において、レンズ等の光学素子の表面反射による光量損失やフレア、ゴースト等を低減するために、様々な光学素子表面に反射防止膜を形成することが一般的である。この際、かかる短波長域の光に対して吸収の大きい膜物質や耐レーザ性の低い膜物質によって光学薄膜を構成した場合、吸収による光量損失、吸収発熱による膜破壊や基板面変化等を起こしやすくなり、ステッパにとって大きな弊害となる。このため使用する膜物質としては低吸収・高耐レーザ性を有しているものが望ましい。レーザ波長にて使用可能な膜物質は、主にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）のようなフッ素化合物や酸化珪素（ＳｉＯ２）などの一部の酸化物であるが、種類が限られている。また、同様にレンズ等の光学素子に使用される基板材質も蛍石等のフッ素化合物結晶や石英ガラス等に限られている。このような基板材料および膜物質に対する制限は、光源の波長が短いほど顕著であることが知られており、Ｆ２波長ではフッ化物の一部しか使用できず、ステッパの短波長化は容易でない。
【０００４】
一方、上述の解像度の式によれば、ステッパによるフォトリソグラフィの解像度を上げる別の方法として、ステッパ光学系において投影レンズのＮＡを大きくするという方法がある。ＮＡとは、露光対象（シリコン・ウェハー等）での放線方向に対する露光光線の最大入射角（θ）の正弦（ｓｉｎθ）であるから、ＮＡを大きくすることは、各レンズ要素の表面に入射する光線入射角度もより広くなることを意味している。つまり、ステッパ光学系を高ＮＡ化した場合、ステッパ光学系で使用される反射防止膜が、より広い入射角度に対して反射防止効果を有している必要がある。
【０００５】
ところで、ステッパ光学系において、要求される性能として透過率ムラがある。透過率ムラには２種類有り、その一つは像面内の透過率ムラであり、もう一つは瞳内の透過率ムラである。いずれも平坦であることが望ましい。例えば、像面内透過率ムラ特性が平坦でないと、像面の位置により露光が不十分だったりするため、狙った形状に露光できないし、瞳面内透過率ムラ特性が平坦でないと、入射方向による露光解像度に差が生じてしまうといった弊害が発生する。このような高ＮＡ化に対して十分性能を満足する広入射角反射防止膜の作製は、膜材料に制限があるために一般に困難であり、特に斜入射における反射率が大きくなる傾向が生じる（特許文献１参照）。
【０００６】
また、高ＮＡ化に伴ってレンズ要素の曲率半径も小さくなる傾向がある。一般にレンズ周辺はレンズ頂点と比較して膜厚が薄くなる傾向がある。その場合、レンズ周辺の反射防止特性は悪化し、透過率はさらに低下しやすくなる。
【０００７】
以上のような状況により、レンズ中心を通過してくる光よりレンズ周辺を通過してくる光の透過率が低く、垂直入射してきた光より斜入射してきた光の透過率が低いという一般的傾向が生じる。この傾向は、像面内については像中心に比べて像周辺の透過率を低下させることになり、瞳内については瞳中心に対して瞳周辺の透過率を低下させることになる。つまり、露光対象の周辺の照度が低下したり、高入射角における露光解像度が低下する。
【０００８】
【特許文献１】
特開平９−３２９７０２号公報
【発明が解決しようとする課題】
上記のようなステッパ光学系の透過率ムラのうち、像面内透過率ムラについては照明光学系で照度ムラを制御することによりある程度修正可能であるが、瞳面内透過率ムラの修正については、投影レンズ内で行う必要があるため、スペースの都合上、困難な点が多い。
【０００９】
本発明は、従来のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、ステッパ光学系において、透過率ムラ特性が平坦で良好な結像性能を発揮する光学素子等を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するために手段】
上記課題を解決するため、第１の発明に係る光学素子は、光透過性の光学部材と、前記光学部材の所定の入出射面に形成されるとともに、所定の斜入射角度における斜入射透過率が垂直入射透過率よりも高くなる光学特性を有する反射防止膜とを備える。
【００１１】
上記光学素子に設けた反射防止膜は、所定の斜入射角度における斜入射透過率が垂直入射透過率よりも高くなる光学特性を有するので、光学部材や他の光学素子によって生じた透過率ムラを補償してその分布を平坦化することができる。すなわち、一般的には、ステッパ光学系等においてレンズ中心を通過してくる光よりもレンズ周辺を通過してくる光の透過率の方が低くなる傾向があるが、斜入射透過率が相対的に高くなる負の特性を有する反射防止膜を組み込むことで、透過率ムラ、とりわけ瞳面内透過率ムラの発生を抑えることができ、良好な結像特性を有する投影レンズ等を提供することができる。
【００１２】
また、第２の発明に係る光学素子は、第１の発明に係る光学素子において、前記反射防止膜が、前記所定の斜入射角度が３０゜以上の所定範囲であるとした場合に、斜入射透過率が垂直入射透過率よりも２％以上高くなる光学特性を有する。この場合、透過率ムラの補正を反射防止膜によって確実に行うことができる。
【００１３】
また、第３の発明に係る光学素子は、第１の発明に係る光学素子において、前記光学部材が、レンズ本体である。この場合、斜入射角度が大きくなりやすいレンズ周辺での減光を効果的に防止することができる。
【００１４】
また、第４の発明に係る光学素子は、第１〜第３の発明に係る光学素子において、前記反射防止膜が、屈折率が異なる複数の層を積層した多層膜を含み、前記複数の層の光学的膜厚の設定によって斜入射透過率と垂直入射透過率の差が調節される。この場合、多層膜の光学的設計によって、斜入射透過率が相対的に高い光学特性を簡易に付与することができ、透過率ムラの補正範囲の自由度を高めることができる。
【００１５】
また、第５の発明に係るレンズ系は、複数のレンズ要素と、前記複数のレンズ要素のうち少なくとも１つのレンズ要素の所定の入出射面に形成された反射防止膜を含み、当該少なくとも１つのレンズ要素に関する透過光に対する２次元的な透過率分布を透過光の入射角に応じて調節する透過率調整手段とを備える。
【００１６】
上記レンズ系では、透過率調整手段が少なくとも１つのレンズ要素に関する透過光に対する２次元的な透過率分布を透過光の入射角に応じて調節するので、着目するレンズ要素を構成する光学部材や他のレンズ要素によって生じた透過率ムラを補償してその分布を平坦化することができる。よって、レンズ系による透過率ムラ、とりわけ瞳面内透過率ムラの発生を抑えることができ、良好な結像特性を有する投影レンズ等のレンズ系を提供することができる。
【００１７】
また、第６の発明に係るレンズ系は、第５の発明に係るレンズ系において、前記透過率調整手段が、所定の斜入射角度における斜入射透過率が垂直入射透過率よりも高くなる光学特性を有する反射防止膜である。この場合、不可避的に必要な反射防止膜によって反射損失を低減できるだけでなく、この反射防止膜に透過率分布の調整機能を兼ねさせるので、レンズ系の構成を簡単なものとすることができ、高性能のレンズ系を簡易に提供することができる。なお、反射防止膜の層構成を適当に調整することで入射角の分布に対して多様な透過率分布を形成することができる。
【００１８】
また、第７の発明に係るレンズ系は、第６の発明に係るレンズ系において、前記少なくとも１つレンズ要素が、透過光の斜入射角度が最も大きくなる１以上のレンズ要素から選択される。この場合、レンズ系を構成するレンズ要素のうち最も効果的なレンズ要素によって透過率分布を調節することができるので、反射防止膜の設計が簡単になる。
【００１９】
また、第８の発明に係るレンズ系は、第６の発明に係るレンズ系において、前記レンズ系が、投影レンズであり、前記少なくとも１つレンズ要素が、前記投影レンズの瞳面よりも射出側に配置される。投影レンズの瞳面よりも射出側に配置されるレンズ要素は、一般に瞳面内透過率ムラに直接影響する傾向があるので、このようなレンズ要素に斜入射透過率が相対的に高くなる光学特性を有する反射防止膜を形成することにより、瞳面内透過率ムラを効果的に補正ことができる。
【００２０】
また、第９の発明に係るレンズ系は、第８の発明に係るレンズ系において、透過率ムラの平坦性が変動幅で３％以内である。この場合、投影レンズを用いた露光等が極めて均一なものとなる。
【００２１】
また、第１０の発明に係るレンズ系の設計方法は、第５〜９の発明に係るレンズ系の設計方法であって、前記複数のレンズ要素から透過率分布の調整の判定対象である少なくとも１つの対象要素を選択する工程と、前記対象要素に入射する光束の入射角度範囲を算出する工程と、前記入射角度範囲に基づいて、前記対象要素に形成する反射防止膜の光学特性を調節することによって、透過率分布の調整量が所定の範囲にあるか否かを判定する工程とを備える。ここで、「反射防止膜の光学特性」とは、反射防止膜の層数、光学膜厚等の各種条件を含む。
【００２２】
上記レンズ系の設計方法では、前記入射角度範囲に基づいて、前記対象要素に形成する反射防止膜の光学特性を調節することによって、透過率分布の調整量が所定の範囲にあるか否かを判定するので、着目するレンズ要素を構成する光学部材や他のレンズ要素によって生じた透過率ムラを補償してその分布を平坦化したレンズ系の設計ができる。よって、レンズ系による透過率ムラ、とりわけ瞳面内透過率ムラの発生を抑えることができ、良好な結像特性を有する投影レンズ等のレンズ系を提供することができる。
【００２３】
また、第１１の発明に係るレンズ系の設計方法は、第１０の発明に係るレンズ系の設計方法において、前記透過率分布の調整量が、前記対象要素を除く他のレンズ要素による透過率分布への影響を相殺する量に近似するように設定される。この場合、瞳面内透過率ムラ等の透過率ムラが全体として少ない、良好な結像特性を有する投影レンズ等のレンズ系を提供することができる。
【００２４】
また、第１２の発明に係るレンズ系の設計方法は、第１１の発明に係るレンズ系の設計方法において、前記対象要素を選択する工程が、前記レンズ系を構成するレンズ要素のうち透過率分布への影響が最も大きくなるレンズ要素を決定するものである。この場合、レンズ系を構成するレンズ要素のうち最も効果的なレンズ要素によって透過率分布を調節することができるので、反射防止膜の設計が簡単になる。
【００２５】
また、第１３の発明に係るレンズ系の製造方法は、第１〜第１０の発明に係るレンズ系の設計方法によって決定したデータに基づいてレンズを製造する。この場合、良好な結像特性を有する投影レンズ等のレンズ系を提供することができる。
【００２６】
また、第１４の発明に係る投影露光装置は、投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、真空紫外等の紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、第１〜第４の発明に係る光学素子を含み、前記マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系とを備える。
【００２７】
上記投影露光装置では、前記マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系が第１〜第４の発明に係る光学素子を含むので、紫外域で瞳面内透過率ムラ等の少ない良好な結像特性を有する投影光学系によって高精度の投影露光が可能になる。
【００２８】
また、第１５の発明に係る投影露光装置は、投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、第１〜第４の発明に係る光学素子を含み、真空紫外等の紫外線線を露光光としてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターン像を基板上に形成する投影光学系とを備える。
【００２９】
上記投影露光装置では、紫外線を露光光としてマスクを照明する照明光学系が第１〜第４の発明に係る光学素子を含むので、紫外域で照度ムラの少ない良好な照明特性を有する照明光学系によって高精度の投影露光が可能になる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態に係る光学素子について、図面に参照しつつ説明する。
【００３１】
図１は、第１実施形態の光学素子であるレンズ１０の断面構造を説明する図である。このレンズ１０は、紫外光等を対象とするレンズ状の光学部材であるレンズ本体１２と、このレンズ本体１２の一対の入出射面１２ａ，１２ｂに形成される反射防止膜１４，１５とを有する。ここで、レンズ本体１２は、その入出射面１２ａ，１２ｂの曲率の設定により、入射光に対して所望の集光特性を有するものとすることができる。この場合、レンズ１０の中心部分１０ａに光軸ＯＡに沿って入射した光束Ｌ１は、反射防止膜１４に垂直に入射する。一方、レンズ１０の周辺部分１０ｂに光軸ＯＡに沿って入射した光束Ｌ２は、反射防止膜１４に大きな角度θで斜めに入射する。さらに、反射防止膜１４を通過した光束Ｌ２は、それ以上に大きな角度で反射防止膜１５に入射する。つまり、レンズ１０を集光に用いた場合、その中心部分１０ａに入射する光は概ね垂直入射となり、その周辺部分１０ｂに入射する光は斜入射となる傾向が強くなる。
【００３２】
図２は、図１のレンズ１０の透過率特性を説明するグラフである。このグラフにおいて、横軸は入射角度θを示し、縦軸は透過率Ｔを示す。実線は本実施形態のレンズ１０の透過特性を示し、一点鎖線は従来型の反射防止膜を設けた比較例のレンズの透過特性を示す。グラフからも明らかなように、実施形態のレンズ１０は、入射角度の増加に伴って透過率が徐々に増加する構造となっている。一方、比較例のレンズは、入射角度の増加に伴って透過率が徐々に減少する。つまり、このレンズ１０は、通常のレンズの場合と異なっており、これへの入射角度の増大に伴って透過率が増加するものであり、負の入射角度特性を有するものということができる。
【００３３】
なお、比較例のレンズの透過特性は、これへの入射角度の増大に伴って透過率が減少するが、これは、従来型の反射防止膜が、垂直入射に際しての反射率を極小にすることを前提として、可能な限り広い入射角度範囲で低反射率を維持するように設計されたものだからである。言い換えれば、従来型の反射防止膜は、垂直入射を基本として設計されたものであり、対象レンズがどのような条件で実際に使用されるかが十分に考慮されていなかった。ここで、透過率が入射角度に依存しない反射防止膜、すなわち広い入射角度範囲で一定反射率の反射防止膜を作製することができれば、レンズを通過した光束において２次元的な透過率ムラが理論上生じないことになる。しかしながら、このような入射角依存性を有しない反射防止膜を透過率の低下を伴うことなく実現することは、実際上困難である。特に、複数のレンズ要素からなる投影光学系等のレンズ系において、入射角依存性のない又は入射角依存性の少ない反射防止膜を各レンズ要素に形成するならば、透過損失を極めて増加させることになる。
【００３４】
これに対し、本実施形態では、レンズ１０に入射する光束が斜入射光である場合に、その透過率を垂直入射光の場合よりも大きくする。つまり、着目する実施形態のレンズ１０とは異なるレンズ、光源の輝度分布等によって形成された周辺部の減光を、周辺で透過率が増加する反射防止特性、すなわち斜入射で透過率が減少する負の入射角度特性を有するレンズ１０によって補償する。これにより、複数のレンズ要素からなる投影光学系等のレンズ系において、かかるレンズ系の透過損失を実質的に増大させることなく、透過率ムラすなわち瞳面内透過率ムラや像面内透過率ムラの発生を確実に防止するこことができ、高精度の結像、露光等が可能になる。
【００３５】
図１に示すようなレンズ１０において、斜入射で透過率が減少する負の入射角度特性を実現するため、レンズ本体１２の表面上に形成される各反射防止膜１４，１５の光学的設計値を例えばシミュレーションによって徐々に最適化する。具体的には、反射防止膜１４，１５を構成する多層膜中の各層の光学膜厚や層数を適宜調節することによって、斜入射光の透過率を垂直入射光の透過率よりも大きくすることができ、入射角度に対する透過率分布も一定範囲で自在に調節することができる。この際、対象とするレンズ１０の各部に入射する光束の入射角度を予め計算しておくことにより、所望の２次元的透過率分布（具体的には、レンズ１０周辺にほぼ１００％の透過率を示しレンズ中央で数％の透過率減少を示す分布）が達成されるような反射防止膜１４，１５の設計が可能になる。
【００３６】
図１に示すレンズ１０のうちレンズ本体１２は、各種ガラス材料を適当に研削、研磨等することによって作製されるが、使用光が紫外光である場合、石英ガラスや蛍石が材料として使用される。また、反射防止膜１４，１５は、レンズ本体１２の表面上に低屈折率層と高屈折率層とを順次積層した構成を有する。
【００３７】
ここで、低屈折率層とは、レンズ本体１２の屈折率よりも低いものを指し、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、クリオライト（Ｎａ３ＡｌＦ６）、チオライト（Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１６）、酸化硅素（ＳｉＯ２：）、又はこれらの混合物質等を使用することができる。低屈折率層は、通常レンズ本体１２の表面上に形成されるため２層以上となる。この場合、各低屈折率層は、それぞれ同種の低屈折率物質を使用してもよいが、異なる低屈折率物質を使用しても所望の反射防止効果を得ることができる。また、高屈折率層とは、レンズ本体１２の屈折率よりも高いものを指し、使用光が紫外光の場合、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３），フッ化ランタン（ＬａＦ３），フッ化ガドリニウム（ＧｄＦ３）、フッ化ディスプロシウム（ＤｙＦ３）、フッ化イットリウム（ＹＦ３）、フッ化鉛（ＰｂＦ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、又はこれらの混合物質等を使用することができる。高屈折率層が２層以上となる場合、各高屈折率層は、それぞれ同種の高屈折率物質を使用してもよいが、異なる高屈折率物質を使用しても所望の反射防止効果を得ることができる。これら高低屈折率の膜は、公知の技術である真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等により形成される。
【００３８】
図３は、図１に示すレンズ１０の役割について説明する概念図である。図示のレンズ系１１０は、対象を所望の倍率の像として投影する両側テレセントリックタイプの投影レンズであり、例えば４つのレンズ要素１１０ａ〜１１０ｄからなる。
【００３９】
図からも明らかなように、瞳面ＰＰの物体面ＯＰ側に配置されたレンズ要素１１０ａ，１１０ｂの２次元的位置は、物体面ＯＰに近いことに起因して、物体面ＯＰの２次元的位置との相関性が高い。例えば、物体面ＯＰに対面する入射レンズ１１０ａへの入射角度に起因して周辺部で増光又は減光する２次元的透過率分布が形成される場合について考える。この場合、このような２次元的透過率分布がそのまま像面ＩＰに反映されるので、像面ＩＰ内において周辺部で増光又は減光が生じる照度不均一が発生する。
【００４０】
一方、瞳面ＰＰの像面ＩＰ側に配置されたレンズ１１０ｃ，１１０ｄの２次元的位置は、像面ＩＰに近いことに起因して、瞳面ＰＰ内の２次元的位置すなわち投影される投影光の入射角度との相関性が高い。例えば、像面ＩＰに対面する射出レンズ１１０ｄへの入射角度に起因して周辺部で増光する２次元的透過率分布が形成される場合について考える。この場合、このような２次元的透過率分布がそのまま瞳面ＰＰに反映されるので、光軸ＯＡに沿った中心光Ｌ１１を基準として入射角度が大きくなるほど投影光の増加が生じ、入射角度が最大となる外縁光Ｌ２１で最大の増光となる照度不均一が発生する。逆に、像面ＩＰに対面する射出レンズ１１０ｄへの入射角度に起因して周辺部で減光する２次元的透過率分布が形成されるものとする。この場合、中心光Ｌ１１を基準として入射角度が大きくなるほど投影光の減少が生じ、入射角度が最大となる外縁光Ｌ２１で最大の減光となる照度不均一が発生する。
【００４１】
以上をまとめると、入射レンズ１１０ａに代表される瞳面ＰＰの像側に配置されるレンズは、像面内透過率ムラを発生させ、射出レンズ１１０ｄに代表される瞳面ＰＰの物体側に配置されるレンズは、瞳面内透過率ムラを発生させる。逆に言えば、瞳面ＰＰの物体側に配置されるレンズ１１０ａ等の反射防止膜を図２の実線で示すような透過率部分布とすることで、例えばその周辺のレンズ１１０ｂ等による周辺部の減光を相殺することができ、像面ＩＰ上における照度分布をほぼ均一なものとすることができる。また、瞳面ＰＰの像側に配置されるレンズ１１０ｄ等の反射防止膜を図２の実線で示すような透過率部分布とすることで、例えばその周辺のレンズ１１０ｃ等による周辺部の減光を相殺することができ、瞳面ＰＰ上における照度分布をほぼ均一なものとすることができ、投影光の入射方向によって解像度に差が生じることを防止できる。
【００４２】
以下、具体的な実施例について説明する。なお、以下の実施例では、透過率分布の評価を簡単にするため、図４に示すように平板状の基板１１２上に反射防止膜１１４を形成した。また、反射防止膜１１４の構造は、すべての実施例に共通して低屈折率の第１層１１４ａと、高屈折率の第２層１１４ｂと、低屈折率の第３層１１４ｃとからなる３層構造とした。
【００４３】
〔第１実施例〕
媒質：空気
第３層：ＭｇＦ２（光学膜厚  ０．３０λ０）
第２層：ＬａＦ３（光学膜厚  ０．３０λ０）
第１層：ＭｇＦ２（光学膜厚  ０．３０λ０）
基板：石英ガラス
ここで、λ０は使用光の設計中心波長で、任意に設定できるが、ここではλ０＝１９３ｎｍに設定してある。基板１１２の石英ガラス、第１及び第３層のＭｇＦ２、並びに第２層のＬａＦ３の屈折率は、それぞれ１．５５、１．４２、及び１．６９である。
【００４４】
図５に第１実施例の反射防止膜１１４のλ＝１９３ｎｍにおける反射角度特性を、図６に透過角度特性を示す。図５より明らかなように、λ＝１９３ｎｍの光に対して、入射角度θ＝０°では反射率が約４％であるが、入射角度θ＝５０°付近では１％以下になっている。図６からは、入射角度θ＝０°では約９６％の透過率に対して、入射角度θ＝５０°付近では９９％以上となっていることがわかる。なお、入射角度θ＝３０°以上では、垂直入射に比較して約２％以上透過率が良くなっている。第１実施例の基板１１２及び反射防止膜１１４を、例えば図３の射出レンズ１１０ｄとしてレンズ系１１０に組み込むことにより、瞳面内透過率ムラを約３％改善することが期待できる。
【００４５】
〔第２実施例〕
媒質：空気
第３層：ＭｇＦ２（光学膜厚  ０．３０λ０）
第２層：ＬａＦ３（光学膜厚  ０．２９λ０）
第１層：ＭｇＦ２（光学膜厚  ０．３０λ０）
基板：蛍石
この第２実施例では、第１実施例と同様にλ０＝１９３ｎｍに設定しているが、基板１１２の材質を蛍石としている。基板１１２の石英ガラス、第１及び第３層のＭｇＦ２、並びに第２層のＬａＦ３の屈折率は、それぞれ１．５０、１．４２、及び１．６９である。
【００４６】
図７に第２実施例の反射防止膜１１４のλ＝１９３ｎｍにおける反射角度特性を、図８に透過角度特性を示す。図７より明らかなように、λ＝１９３ｎｍの光に対して、入射角度θ＝０°では反射率が約４％であるが、入射角度θ＝５０°付近では１％以下になっている。図８からは、入射角度θ＝０°では約９６％の透過率に対して、入射角度θ＝５０°付近では９９％以上となっていることがわかる。なお、入射角度θ＝３０°以上では、垂直入射に比較して約２％以上透過率が良くなっている。第２実施例の基板１１２及び反射防止膜１１４を、例えば図３の射出レンズ１１０ｄとしてレンズ系１１０に組み込むことにより、瞳面内透過率ムラを約２％改善することが期待できる。
【００４７】
〔第３実施例〕
媒質：空気
第３層：ＭｇＦ２（光学膜厚  ０．３０λ０）
第２層：ＬａＦ３（光学膜厚  ０．２７λ０）
第１層：ＭｇＦ２（光学膜厚  ０．３２λ０）
基板：蛍石
この第３実施例では、λ０＝１５７ｎｍに設定してある。また、基板１１２の材質を蛍石としている。蛍石、ＭｇＦ２、及びＬａＦ３の屈折率は、それぞれ１．５６、１．４７、及び１．８１である。
【００４８】
図９に第３実施例の反射防止膜１１４のλ＝１５７ｎｍにおける反射角度特性を、図１０に透過角度特性を示す。図９より明らかなように、λ＝１５７ｎｍの光に対して、入射角度θ＝０°では反射率が約５％であるが、入射角度θ＝５０°付近では約１％になっている。図１０からは、入射角度θ＝０°では約９５％の透過率に対して、入射角度θ＝５０°付近では９９％程度になっていることがわかる。なお、入射角度θ＝３０°以上では、垂直入射に比較して約２％以上透過率が良くなっている。第３実施例の基板１１２及び反射防止膜１１４を、例えば図３の射出レンズ１１０ｄとしてレンズ系１１０に組み込むことにより、瞳面内透過率ムラを約４％改善することが期待できる。
【００４９】
〔第４実施例〕
この第４実施例は、第１実施例を変形したものであり、基板及び第１〜３層の材料は第１実施例の場合と同様である。この場合、各層１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃの光学膜厚を３段階で同様に少量変化させて、反射防止膜１１４による補正量の調節を行う。この際、各層１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃの光学膜厚の設定は、以下の表１に示すようなものとした。
【表１】
2004271544.tif 000003
図１１は、λ０＝１９３ｎｍにおける反射角度特性を示す。グラフからも明らかなように、実線で示す光学膜厚０．２９λ０の第１の場合、反射率の変化幅Δが２％程度であり、一点鎖線で示す光学膜厚０．３０λ０の第２の場合（第１実施例に対応）、反射率の変化幅Δが３％程度であり、点線で示す光学膜厚０．３１λ０の第３の場合、反射率の変化幅Δが４％程度である。つまり、膜厚を若干変更することにより、変化幅Δすなわち補正量を制御可能であることがわかる。また、仮に補正量を超えるような透過率ムラがある場合でも、このような反射防止膜１１４を複数面に適用することにより透過率ムラを適切に補正できることが期待できる。なお、ここで複数面とは、着目レンズの他面に限らずレンズ系を構成する他のレンズの面も意味する。
【００５０】
〔第２実施形態〕
以下、本発明の第２実施形態である光学素子の製造方法及び装置について、図面に参照しつつ説明する。
【００５１】
図１２は、図１に示すレンズ１０等を製造するための装置を示すブロック図である。この装置４０は、レンズ１０の反射防止膜１４を製造するためのものであり、成膜装置本体４１と、その動作を制御する制御装置４５とを備える。
【００５２】
成膜装置本体４１は、レンズ本体１２の入出射面に多層膜からなる反射防止膜１４を形成する電子ビーム蒸着装置等の公知の成膜装置である。成膜装置本体４１は、レンズ本体１２を保持してこれを自転及び公転させるホルダ４１ａと、蒸発材料を選択的に切替可能な第１及び第２蒸発源４１ｃ，４１ｄと、両蒸発源４１ｃ，４１ｄの上方に配置されて両蒸発源４１ｃ，４１ｄからの蒸発物質の拡散方向を制御する絞り板４１ｆと、ホルダ４１ａや蒸発源４１ｃ，４１ｄの動作を制御する駆動制御装置４１ｈとを備える。この成膜装置本体４１では、ホルダ４１ａによってレンズ本体１２を自公転させることができ、さらに、絞り板４１ｆに設けた開口によって蒸発物質の拡散方向を制御することができるので、レンズ本体１２の中央と周辺とにバランス良い成膜が可能になり、レンズ本体１２の全面に亘って均一な膜厚の多層膜からなる反射防止膜１４を形成することができる（図１参照）。なお、両蒸発源４１ｃ，４１ｄは、駆動制御装置４１ｈに駆動されて蒸発物質を適当なタイミングで切替可能な構造に設計されており、屈折率の異なる２種以上の膜を順次積層することが可能になる。
【００５３】
制御装置４５は、ＣＰＵ４５ａ、入出力装置４５ｂ、記憶装置４５ｃ、表示装置４５ｄ、インターフェース４５ｅ等を備えるコンピュータである。ここで、ＣＰＵ４５ａは、入出力装置４５ｂ、記憶装置４５ｃ、表示装置４５ｄ、及びインターフェース４５ｅとの間で相互にデータの授受が可能になっている。また、ＣＰＵ４５ａは、入出力装置４５ｂすなわちオペレータからの指示等に基づいて、記憶装置４５ｃ等から所定のプログラムやデータを読み出し、これらプログラム及びデータに基づく各種処理を実行する。具体的には、ＡＲ膜設計プログラムを起動することにより、レンズ本体１２に形成すべき反射防止膜１４の膜構造の設計値を算出し、ＡＲ膜作製プログラムを起動することにより、成膜装置本体４１を動作させて上記設計値に対応する膜構造を有する反射防止膜１４を形成させる。なお、インターフェース４５ｅは、制御装置４５と成膜装置本体４１との間を取り持つ役割を有し、ＣＰＵ４５ａの指令を成膜装置本体４１側に伝えたり、成膜装置本体４１から出力された動作状態に関するデータをＣＰＵ４５ａに出力したりする。
【００５４】
図１３は、制御装置４５によって実行されるＡＲ膜設計プログラムの概要を簡単に説明するフローチャートである。まず、投影レンズを構成する各レンズのレンズデータを抽出する（ステップＳ１１）。なお、この投影レンズは、図３に例示するレンズ系１１０に限らず、様々なレンズ要素からなるものとすることができ、目的に応じた倍率、分解能等を有するように予め適宜光学設計されたものとすることができる。この際、投影レンズは、レンズに限らず平板ガラスを組み込んだものとすることができる。次に、入出力装置４５ｂや表示装置４５ｄを利用してオペレータからの指示を受け付け、自動設計と非自動設計のいずれが要求されたかが判断される（ステップＳ１２）。
【００５５】
ステップＳ１２で自動設計が選択された場合、投影レンズを構成する瞳面から像側の各レンズ要素における入射角度範囲を計算する（ステップＳ２１）。この入射角度範囲は、投影レンズについて光線追跡を行い、対象とするレンズ要素の各点を通過する各光束の入射角度範囲を計算し、中心からの距離と最大入射角との相関を表す入射角テーブルとして記憶装置４５ｃに保存される。
【００５６】
次に、ステップＳ２１で得た入射角テーブルから最大の入射角度を与える最大斜入射のレンズ要素を対象レンズとして選択する（ステップＳ２２）。ここで、対象レンズとは、図２に示す負の入射角特性を付与するレンズ要素であり、２以上とすることができる。この対象レンズによって、投影レンズを構成する他のレンズ等により形成される周辺部の減光を補償することがこの膜設計の目的である。
【００５７】
次に、ステップＳ２２で選択した対象レンズを除いた残りのレンズ要素等による斜入射の効果の総和を瞳面内透過率ムラとして評価する（ステップＳ２３）。具体的には、投影レンズについて光線追跡を行うことによって、各レンズ要素ごとに各点での平均入射角度を求め、この平均入射角度に対応する透過率の減少を瞳面上における２次元分布として計算し、このようにして得た透過率減少の総和として瞳面内透過率ムラを算出する。この際、残りのレンズ要素には、従来型の反射防止膜が形成されており、垂直入射で反射率がほぼ０％で最低となり比較的大きな入射角度まで低反射率が維持されるものとする。なお、対象レンズの一面のみに負の入射角特性を付与する場合、対象レンズの他面も瞳面内透過率ムラの評価対象となる。
【００５８】
図１４（ａ）は、瞳面内透過率ムラの評価例を瞳面における半径（ｒ）と透過率変動量（ΔＴ）との関係として表したグラフである。光軸が通る中心を基準として半径が増大するに従って透過率が減少していることがわかる。
【００５９】
図１３に戻って、次に対象レンズによる透過率補正目標量を算出する（ステップＳ２４）。これは、ステップＳ２３で得た瞳面内透過率ムラを解消するような高透過率フィルタの透過率分布の計算に対応し、透過率補正目標量と瞳面内透過率ムラとの積をとることによって瞳面に換算した場合における平坦な透過率分布を達成することができる。
【００６０】
図１４（ｂ）は、透過率補正目標量の計算例を瞳面における半径（ｒ）と透過率変動量（ΔＴ）との関係として表したグラフである。光軸が通る中心を基準として半径が増大するに従って透過率を減少させる必要があることがわかる。
【００６１】
図１３に戻って、次に対象レンズによる担当補正量を算出する（ステップＳ２５）。これは、ステップＳ２４で得た透過率補正目標量を対象レンズの面数に対応する負担分に分割したものであり、各面に形成される反射防止膜による透過率補正の目標量となっている。例えば、対象レンズが１つであり、その一対の光学面に形成する一対の反射防止膜の双方によって透過率補正を行う場合、各担当補正量は、ステップＳ２４で得た透過率補正目標量の平方根又は近似的に半分とする。もっとも、両反射防止膜による補正負担率は、上記に限らず適当な比率とできることは言うまでもない。
【００６２】
図１４（ｃ）は、担当補正量の計算例を瞳面における半径（ｒ）と透過率変動量（ΔＴ）との関係として表したグラフである。図１４（ｂ）の場合と比較すると、透過率の変化量が半分の値となっている。
【００６３】
図１３に戻って、次に対象レンズによる担当補正量を達成する反射防止膜の光学設計値を行う（ステップＳ２６）。具体的には、反射防止膜の初期条件として予め適当な膜構成、光学膜厚等の初期パラメータを設定する。これは、オペレータが入力してもよいが、制御装置４５側で使用波長を考慮して適宜選択したものとすることができる。次に、投影レンズについて光線追跡を行うことによって、対象レンズの各点での平均入射角度を求め、この平均入射角度に起因して反射防止膜によって発生する透過率の増加を、瞳面上に換算した２次元分布として計算し、このようにして得た透過率増加を達成補正量として算出する。このような達成補正量は、反射防止膜の初期パラメータを徐々に変更して新たな膜構成、光学膜厚等とした修正パラメータで繰返し計算され、目標値である担当補正量に最も近似する最適値が決定される。例えば達成補正量が、担当補正量に対して、予め定めた偏差量である２乗平均値（ＲＭＳ）以下に近似していれば処理を終了することができる。以上のような担当補正量の計算は、対象レンズの数やその面数に応じた回数だけ繰り返され、各反射防止膜による達成補正量を積算したものがステップＳ２４で得た透過率補正目標量となるように最適化のシミュレーションが繰り返される。
【００６４】
図１４（ｄ）は、達成補正量を積算値と瞳面内透過率ムラとを、瞳面における半径（ｒ）と透過率変動量（ΔＴ）との関係として表したグラフである。二点鎖線は瞳面内透過率ムラを示し、破線は、達成補正量の積算値を示す。実線は、反射防止膜の効果を示しており、二点鎖線と破線の積算値、すなわち達成補正量の積算値による瞳面内透過率ムラの補正後の透過特性を示す。このような補正後の透過特性は、投影レンズが半導体露光装置等に組み込まれるものである場合、その変動幅が３％以下であることが望ましい。
【００６５】
一方、図３のステップＳ１２で自動設計が選択されなかった場合、投影レンズを構成するいずれかのレンズ要素を対象レンズとして選択することオペレータに指示する（ステップＳ３１）。この際、瞳面内透過率ムラの補正を目的とするので、瞳面から像側で効果的と認められるレンズ要素が入出力装置４５ｂを介して選択される。
【００６６】
次に、ステップＳ３１で選択した対象レンズを除いた残りのレンズ要素等による斜入射の効果の総和を瞳面内透過率ムラとして評価する（ステップＳ３２）。この処理は、既に説明したステップＳ２３での処理と同様である。
【００６７】
次に、透過率補正目標量や対象レンズによる担当補正量を入力することをオペレータに指示する（ステップＳ３３）。ステップＳ２４，２５では、透過率補正目標量や担当補正量を投影レンズの設計値に基づいて計算したが、この場合、当業者であるオペレータの推測や直感に基づいて透過率補正目標量や担当補正量を人為的に設定させる。
【００６８】
最後に、対象レンズによる担当補正量を達成する反射防止膜の光学設計値を行う（ステップＳ３４）。この処理は、既に説明したステップＳ２６での処理と同様である。この処理において、対象レンズの数やその面数に応じた回数だけ担当補正量の計算が繰り返され、各反射防止膜による達成補正量を積算したものが透過率補正目標量となるように最適化のシミュレーションが繰り返される。
【００６９】
以上のような、反射防止膜の設計により、瞳面内透過率ムラの少ない投影レンズを実現することができる。このようにして得た反射防止膜の設計値は、記憶装置４５ｃに保管され、成膜装置本体４１による成膜工程の管理に利用される。
【００７０】
〔第３実施形態〕
以下、本発明の第３実施形態である投影露光装置について、図面に参照しつつ説明する。
【００７１】
図１５は、上述の第１実施形態等で構造や製造を説明したレンズを用いた投影露光装置の基本構造を示す。この投影露光装置は、フォトレジストでコートされたウェハー上にレチクルのパターンのイメージを投影するための、ステッパと呼ばれるような投影露光装置に特に応用される。
【００７２】
図１５に示すように、本実施形態の投影露光装置は少なくとも、▲１▼感光剤を塗布した基板（ウェハー）Ｗを表面３０１ａに置くことのできるウェハーステージ３０１，▲２▼露光光として用意された波長の真空紫外光を用意されたマスク（レチクルＲ）のパターンに照射する照明光学系１５０，▲３▼照明光学系１５０に露光光を供給するための光源１８０，▲４▼基板Ｗ上にマスクＲに形成されたパターンのイメージを投影するためのマスクＲが配置された最初の表面Ｐ１（物体面）と、基板Ｗの表面と一致させた二番目の表面Ｐ２（像面）との間に置かれ、基板Ｗ上にマスクＲのパターンを転写するための投影光学系４００，▲５▼投影露光装置の全系を統括的に制御して動作させる主制御部５００を含む。
【００７３】
ここで、ウェハーステージ３０１は、ステージ駆動系３００に駆動されて、基板Ｗを投影光学系４００に対して３次元的に移動させる。照明光学系１５０は、マスクＲと基板Ｗとの間の相対位置を調節するためのアライメント光学系１５１も含んでおり、マスクＲはウェハーステージ３０１の表面に対して平行に動くことのできるレチクルステージ２０１に配置される。レチクル交換系２００は、レチクルステージ２０１にセットされたレチクル（マスクＲ）を交換し運搬する。レチクル交換系２００は、ウェハーステージ３０１の表面３０１ａに対してレチクルステージ２０１を平行に動かすためのステージドライバーを含んでいる。投影光学系４００は、スキャンタイプの露光装置に応用されるアライメント光学系（不図示）を有している。
【００７４】
そして、本実施形態の投影露光装置は、第１実施形態等で構造や製造を説明したレンズを使用したものである。具体的には、図１５に示した投影露光装置は、照明光学系１５０の光学レンズ１５３、及び／又は投影光学系４００の光学レンズ４０１として、図１のレンズ１０又はこれに変更を加えたレンズを備えることが可能である。この場合、光学レンズ４０１によって透過率ムラの発生を防止するこことができ高い露光解像度を得ることができるので、大きなＮＡの投影露光装置において、高輝度で高精度の投影露光が可能になる。
【００７５】
以上実施形態に即して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、反射防止膜１４，１５を３層構造としているが、これに限るものではなく、２層以下或いは４層以上とすることができる。その際、レンズ本体１２上に最初に形成する膜は、光学アドミッタンスの観点からすると低屈折率膜の成膜から開始する方が光学設計を通常簡単なものとするが、高屈折率膜の成膜から開始してその上に順次積層することも可能である。
【００７６】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明に係る光学素子によれば、垂直入射透過率に比較して斜入射透過率が相対的に高くなる負の特性を有する反射防止膜を組み込んでいるので、透過率ムラとりわけ瞳面内透過率ムラの発生を抑えることができ、良好な結像特性を有する投影レンズ等を提供することができる。
【００７７】
また、本発明に係るレンズ系によれば、着目するレンズ要素を構成する光学部材や他のレンズ要素によって生じた透過率ムラを補償してその分布を平坦化することができるので、瞳面内透過率ムラ等の透過率ムラの発生を抑えることができ、良好な結像特性を有する投影レンズ等を提供することができる。
【００７８】
また、本発明に係るレンズ系の設計方法によっても、着目するレンズ要素を構成する光学部材や他のレンズ要素によって生じた透過率ムラを補償してその分布を平坦化することができるので、瞳面内透過率ムラ等の透過率ムラの発生を抑えることができ、良好な結像特性を有する投影レンズ等を提供することができる。
【００７９】
また、本発明に係る投影露光装置によれば、紫外域で瞳面内透過率ムラ等の少ない良好な結像特性を有する投影光学系によって高精度の投影露光が可能になる。
【００８０】
また、本発明に係る別の投影露光装置によれば、紫外域で照度ムラの少ない良好な照明特性を有する照明光学系によって高精度の投影露光が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態の光学素子であるレンズの断面構造を説明する図である。
【図２】図１のレンズの透過率特性を概念的に説明するグラフである。
【図３】図１に示すレンズ１０の役割について説明する概念図である。
【図４】各実施例の反射防止膜の構成図である。
【図５】第１実施例の反射防止膜の１９３ｎｍでの反射角度特性である。
【図６】第１実施例の反射防止膜の１９３ｎｍでの透過角度特性である。
【図７】第２実施例の反射防止膜の１９３ｎｍでの反射角度特性である。
【図８】第２実施例の反射防止膜の１９３ｎｍでの透過角度特性である。
【図９】第３実施例の反射防止膜の１５７ｎｍでの反射角度特性である。
【図１０】第３実施例の反射防止膜の１５７ｎｍでの透過角度特性である。
【図１１】第４実施例の反射防止膜の１９３ｎｍでの反射角度特性である。
【図１２】図１に示すレンズを製造するための第２実施形態の装置を示すブロック図である。
【図１３】図１２に示す制御装置によって実行されるＡＲ膜設計プログラムを説明するフローチャートである。
【図１４】（ａ）〜（ｄ）は、図１３における処理の一部を視覚的に説明するグラフである。
【図１５】第３実施形態の投影露光装置の基本構成を示す構成図である。
【符号の説明】
１０…レンズ、  １０ａ…中心部分、  １０ｂ…周辺部分、  １２…レンズ本体、  １２ａ，１２ｂ…入出射面、  １４，１５…反射防止膜、  ４１…成膜装置本体、  ４１ｈ…駆動制御装置、  ４５…制御装置、  ４５ｅ…インターフェース、１１０ａ〜１１０ｄ…レンズ要素、ＩＰ…像面、ＯＡ…光軸、ＯＰ…物体面、Ｐ１…表面、Ｐ２…表面、ＰＰ…瞳面
【図１】
2004271544.tif 000004
【図２】
2004271544.tif 000005
【図３】
2004271544.tif 000006
【図４】
2004271544.tif 000007
【図５】
2004271544.tif 000008
【図６】
2004271544.tif 000009
【図７】
2004271544.tif 000010
【図８】
2004271544.tif 000011
【図９】
2004271544.tif 000012
【図１０】
2004271544.tif 000013
【図１１】
2004271544.tif 000014
【図１２】
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【図１３】
2004271544.tif 000016
【図１４】
2004271544.tif 000017
【図１５】
2004271544.tif 000018