(57)【要約】【課題】上面の陰極層側から高効率で光を取り出し、高品質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表示装置を提供する。【解決手段】有機エレクトロルミネッセント画像表示装置を、基材上に順次設けられた陽極層、有機層、光透過性を有する第一陰極層、光透過性を有する電子輸送保護層、および、光透過性を有する第二陰極層とを少なくとも備えたものとし、電子輸送保護層は有機材料中にアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属を含有する薄膜とした。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材上に順次設けられた陽極層、有機層、光透過性を有する第一陰極層、光透過性を有する電子輸送保護層、および、光透過性を有する第二陰極層とを少なくとも備え、前記電子輸送保護層は電子輸送性有機材料中にアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項２】
前記第一陰極層はアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属からなり、前記第二陰極層は無機酸化物、無機窒化物の少なくとも１種からなることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項３】
前記第一陰極層を構成するアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属は、前記電子輸送保護層に含有されるアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属と同一種であることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項４】
前記第一陰極層の厚みは０．１〜１０ｎｍの範囲にあり、前記電子輸送保護層の厚みは３〜３００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項５】
前記陽極層は固有抵抗が１．０×１０−３Ω・ｃｍ以下の金属あるいは無機酸化物からなることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項６】
前記電子輸送保護層を構成する前記電子輸送性有機材料とアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属のモル比率は、１：１〜１：３の範囲にあることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項７】
前記第二陰極層は成膜工程において酸素導入を行わない真空成膜法により形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項８】
前記第二陰極層は成膜工程において酸素含有体積比率が１／３００以下であるアルゴンガスをスパッタガスとして使用したスパッタリング法により形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【請求項９】
前記基材は、ガラス基板、シリコン基板、高分子フィルムのいずれかであることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は有機エレクトロルミネッセント画像表示装置に係り、特に上面の陰極層側から光を取出すことができる有機エレクトロルミネッセント画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】特開平１０−１６２９５９号公報
【特許文献２】特開平１０−１４４９５７号公報
【特許文献３】特開平１０−１２５４６９号公報
【特許文献４】特開２００２−１５８５９号公報
【特許文献５】特開２００２−１５８６０号公報
【特許文献６】特開平１０−２７０１７１号公報
【特許文献７】特開平１０−２７０１７２号公報
有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子は、自己発色により視認性が高いこと、液晶ディスプレーと異なり全固体ディスプレーであり耐衝撃性に優れるること、応答速度が速いこと、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、画像表示装置における発光素子としての利用が注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子を用いた画像表示装置の構成は、陽極層／発光層／陰極層の積層構造を基本とし、ガラス基板等を用いた基材上に透明陽極層を形成する構成が通常採用されている。この場合、発光は基材側（陽極層側）から取出される。
近年、陰極層を透明にして発光を陰極層側から取出す試み（上面発光）がなされている。この上面発光の実現により、まず、陰極層と共に陽極層も透明にした場合、全体として透明な発光素子が可能となる。このような透明な発光素子の背景色として任意の色が採用でき、発光時以外にもカラフルなディスプレイとすることが可能となり、装飾性が改善される。一方、背景色として黒を採用することにより、発光時のコントラストが向上する。また、上面発光の実現により、カラーフィルタや色変換層を用いる場合は、発光層上に上記各層を配置することができる。さらに、アクティブ駆動表示装置のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）により発光が遮蔽されることないため、開口率の高い表示装置が可能となる。
【０００４】
陰極層を透明にすることにより上述の上面発光を可能とした有機ＥＬ画像表示装置の例としては、陽極層と陰極層との間に有機ＥＬ発光層を含む有機層が介在し、陰極層は電子注入金属層と非晶質透明導電層とからなり、この電子注入金属層が有機層に接するような構成が開示されている（特許文献１）。また、陰極材料が有機層へ拡散するのを防止するために、陰極層と有機層の間にＣａ拡散バリア層を設け、有機ＥＬ素子の短絡、特性の低下を防止するようにした構成が開示されている（特許文献２）。また、両面発光の例として、透明陰極層を低抵抗化するために、透明陰極層と発光層との間にＡｇ、Ｍｇ、ＴｉＮ等の導電体層を介在させた構成が開示されている（特許文献３）。さらに、有機層中への酸素やインジウムの侵入、拡散を防止する目的で、陽極層にＴｉＮを用いた構成が開示されている（特許文献４、特許文献５）。また、発光効率を向上させるために、金属ドーピングを行った電子注入層を有機層と陰極層の間に設けて有機層中への電荷の注入を安定化させることが行われている（特許文献６、特許文献７）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上面発光を可能とした従来の有機ＥＬ画像表示装置では、透明陰極層をスパッタリング法で形成する工程で、数百ボルトで高照射量のアルゴンイオンによる衝撃が有機層に加わり、有機層の構造が変化して電子注入層との界面で無放射消光が生じるという問題があった。また、透明陰極層の形成時の酸素導入により電子注入層にドープされている金属の酸化が避けられず、このため、電子注入層の電子注入機能が失われるという問題があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、上面の陰極層側から高効率で光を取り出し、高品質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表示装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置は、基材と、該基材上に順次設けられた陽極層、有機層、光透過性を有する第一陰極層、光透過性を有する電子輸送保護層、および、光透過性を有する第二陰極層とを少なくとも備え、前記電子輸送保護層は電子輸送性有機材料中にアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属を含有するような構成とした。本発明の他の態様として、前記第一陰極層はアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属からなり、前記第二陰極層は無機酸化物、無機窒化物の少なくとも１種からなるような構成とした。また、前記第一陰極層を構成するアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属は、前記電子輸送保護層に含有されるアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属と同一種であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記第一陰極層の厚みは０．１〜１０ｎｍの範囲にあり、前記電子輸送保護層の厚みは３〜３００ｎｍの範囲にあるような構成とした。
【０００７】
本発明の他の態様として、前記陽極層は固有抵抗が１．０×１０−３Ω・ｃｍ以下の金属あるいは無機酸化物からなるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記電子輸送保護層を構成する前記電子輸送性有機材料とアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属のモル比率は、１：１〜１：３の範囲にあるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記第二陰極層は成膜工程において酸素導入を行わない真空成膜法により形成されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記第二陰極層は成膜工程において酸素含有体積比率が１／３００以下であるアルゴンガスをスパッタガスとして使用したスパッタリング法により形成されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材は、ガラス基板、シリコン基板、高分子フィルムのいずれかであるような構成とした。
上記のような本発明では、第一陰極層と第二陰極層との間に介在する電子輸送保護層が、第二陰極層形成時の有機層や第一陰極層の劣化、酸化を防止する作用をなす。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の有機エレクトロルミネッセント（ＥＬ）画像表示装置の一実施形態を示す基本構成概念図である。図１において、有機ＥＬ画像表示装置１は、基材２と、この基材２上に順次設けられた陽極層３、有機層４、第一陰極層５、電子輸送保護層６、および、第二陰極層７とを備えている。このような有機ＥＬ画像表示装置１を構成する各部材を以下に説明する。
【０００９】
（１）基材
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する基材２は、有機ＥＬ画像表示装置１の支持体となるものであり、アクティブ駆動表示素子のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）の製造工程（例えば、多結晶シリコン成膜工程）でのプロセス温度を考慮すると、２００℃以上の耐熱性を具備するものが好ましく、石英、ガラス、シリコンウエハ等の無機材料が好適に用いられる。また、ＴＦＴがアモルファスシリコンを用いたものである場合、プロセス温度が相対的に低くなり、このため上記材料の他に、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン等の高分子材料を使用することができる。但し、高分子材料を用いる場合、基材から発生するガスによる有機層４の劣化を防止するために、基材２の少なくとも陽極層形成面にはシリコン酸化物やシリコン窒化物等からなるガスバリア層を設ける必要がある。
このような基材２の厚みは、材料、画像表示装置の使用状況等を考慮して設定することができ、例えば、０．０５〜５ｍｍ程度とすることができる。
【００１０】
（２）陽極層
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する陽極層３は導電性材料からなるものであれば特に制限はなく、固有抵抗が１．０×１０−３Ω・ｃｍ以下の金属あるいは無機酸化物からなるものとすることができる。具体的には、Ａｕ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｃｒ等の金属、Ａｌ合金、Ｎｉ合金、Ｃｒ合金等の金属電極層とすることができる。陽極層３が上記のような金属電極層である場合、可視領域３８０〜７８０ｎｍの範囲における金属電極層の光反射率を３０％以上、好ましくは５０％以上とすることにより、有機層４で発生した光が陽極層３で反射され、陰極層側からの光の取り出し効率がより高いものとなる。尚、上記の反射率とは、紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製　ＵＶ−２２００Ａ）を用い、室温、大気中において測定された値を示すものである。
【００１１】
また、陽極層３は、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｚｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ、Ｉｎ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ、Ｃｄ−Ｏ、Ｃｄ−Ｉｎ−Ｏ、Ｃｄ−Ｓｎ−Ｏ、Ｍｇ−Ｉｎ−Ｏ、Ｃａ−Ｇａ−Ｏ等の導電性無機酸化物、金属ドープされたポリチオフェン等の導電性高分子、α−Ｓｉ、α−ＳｉＣ、α−Ｃ等の非晶質半導体、μ−Ｃ−Ｓｉ、μ−Ｃ−Ｏ−Ｓｉ等の微結晶等からなる透明電極層であってもよい。
【００１２】
さらに、陽極層３は、金属電極層と透明電極層の組み合わせ構造であってもよい。例えば、金属電極層上に透明電極層を光学設計された膜厚に形成することにより、有機層４で発生した光に含まれる特定波長の光の反射を光学的な干渉効果で防止することができる。これにより、有機ＥＬ画像表示装置１において円偏光板を使用することなく光を取出すことができ、発光効率の損失を低減することができる。
このような陽極層３の厚みは、材質にもよるが、４０〜５００ｎｍの範囲内、特に１００〜３００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。陽極層３の厚みが４０ｎｍ未満であると、電気抵抗が高くなる場合があり、また、５００ｎｍを超えると、パターン形成された陽極層３の端部に存在する段差により、上層（有機層４、第一陰極層５、電子輸送保護層６、第二陰極層７）に切れや断線が発生したり、陽極層３と第二陰極層７との短絡が生じることがあり好ましくない。
【００１３】
（３）有機層
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する有機層４は、発光層単独からなる構造、発光層の陽極層３側に正孔注入層あるいは正孔注入輸送層を設けた構造等とすることができる。
（３−１）発光層
有機層４を構成する発光層は、以下の機能を併せ持つものである。
・注入機能：電界印加時に陽極層または正孔注入層より正孔を注入することができ、陰極層または電子注入層より電子を注入することができる機能
・輸送機能：注入した電荷（電子と正孔）を電界の力で移動させる機能
・発光機能：電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能
このような機能をもつ発光層の材料としては、従来から有機層用の発光層材料として公知の材料を使用することができ、特に制限はなく、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系の材料を挙げることができる。
【００１４】
（色素系材料）
色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００１５】
（金属錯体系材料）
金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロビウム錯体、イリジウム金属錯体、プラチナ金属錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【００１６】
（高分子系材料）
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したもの等を挙げることができる。
発光層の形成は、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法等によりパターン形状で形成する方法、発光層用の材料を塗工液としてスピンコーティング法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法等の塗布法により塗布して形成する方法が挙げられる。発光層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜２００ｎｍ程度とすることができる。
【００１７】
（３−２）正孔注入輸送層
正孔注入輸送層は、陽極層３により注入された正孔を発光層に輸送する機能を有するものであり、この正孔注入輸送層を陽極層３と発光層との間に介在させることにより、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入される。このような正孔注入輸送層は、例えば、陽極層３から注入された正孔を安定に発光層へ注入する機能を有する正孔注入層、および、陽極層３から注入された正孔を発光層内へ輸送する機能を有する正孔輸送層のいずれか一方からなる場合、または、これらの両機能を有する層とすることができる。
【００１８】
正孔注入機能を発現する材料としては、陽極層３から発光層への正孔の注入を安定化させることが可能な材料であれば特に限定されない。具体的には、ドープされたポリアニリン、ポリフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアセチレン等の導電性高分子、または、テトラメチルフェニレンジアミン等の電子供与性化合物と、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン等の電子受容性化合物からなる電荷移動錯体を形成する有機材料等を挙げることができる。
【００１９】
また、正孔輸送機能を発現する材料としては、陽極層３から注入された正孔を安定に発光層へ輸送する材料であれば特に限定されない。具体的には、ビス（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニルベンジジン（α−ＮＰＤ）、４，４，４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。また、高分子量の材料としては、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）、ポリ３，４エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、ポリフェニレンビニレン誘導体等が好適に使用される。
正孔注入輸送層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜３００ｎｍ、好ましくは３０〜１００ｎｍ程度とすることができる。
【００２０】
（４）第一陰極層
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する第一陰極層５は、第二陰極層７により注入された電子を安定に発光層に注入する機能、および、電子を発光層内へ輸送する機能のいずれか一方を有する層、または、これらの両機能を有する層とすることができる。
【００２１】
電子注入機能を発現する材料としては、発光層への電子注入を安定化させることができる材料であれば特に限定されない。このような材料としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の酸化物、フッ化物（例えば、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＬｉＯ２、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２）等が挙げられる。これらの中で特にアルカリ土類金属のフッ化物（ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＳｒＦ２、ＢａＦ２）が、有機層４の安定性と寿命の向上が図れる点で好ましく使用される。これは、アルカリ土類金属のフッ化物が、アルカリ金属の化合物やアルカリ土類金属の酸化物に比べて、水との反応性が低く、成膜中、あるいは、成膜後における吸水が少ないためである。さらに、アルカリ土類金属のフッ化物が、アルカリ金属の化合物に比べて、融点が高く耐熱安定性が優れるためである。尚、第一陰極層５を構成するアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属と、後述する電子輸送保護層６に含有されるアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属とを同じものとすることにより、同じ蒸発源での連続成膜が可能となり、成膜工程の時間短縮が図れることとなり好ましい。
【００２２】
また、後述する第二陰極層７としてインジウム酸化物のような仕事関数が４．６ｅＶ以上の透明酸化物導電材料を用いた場合、第一陰極層５として、仕事関数が４．０ｅＶ以下の材料を用いて電子注入層を形成することが好ましい。すなわち、第二陰極層７が仕事関数が４．６ｅＶ以上の透明酸化物導電材料で形成されている場合、第二陰極層７と発光層との界面におけるエネルギー障壁が高くなり、低駆動電圧下では、第二陰極層７から発光層へ直接電子を注入することは困難である。しかし、これらの層の間に位置する第一陰極層５を仕事関数が４．０ｅＶ以下の電子注入層とすることにより、電子の注入が容易となる。仕事関数が４．０ｅＶ以下の材料としては、Ｂａ、Ｃａ、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｍｇ等が挙げられる。
【００２３】
電子輸送機能を発現する材料としては、第二陰極層７から、あるいは、上記の電子注入層から注入された電子を発光層内に輸送することができる材料であれば特に限定されない。具体的には、バソキュプロイン（ＢＣＰ）、バソフェナントロリン（Ｂｐｈｅｎ）等を挙げることができる。
上述のような材料からなる第一陰極層５の厚みは、十分な光透過性を得るために薄膜化が必要であり、０．１〜５０ｎｍ、好ましくは０．１〜２０ｎｍ、より好ましくは０．１〜１０ｎｍ程度とする。
【００２４】
（５）電子輸送保護層
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する電子輸送保護層６は、有機層４と第一陰極層５の保護層としての機能と、電子輸送層としての機能の両方を有するものである。このような電子輸送保護層６は、電子輸送性の有機材料にアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属を混合したものであり、電子移動度が大きく厚膜化することが可能であるため、発光層へ電子を安定して輸送することができ、かつ、スパッタリング成膜時の保護層として機能することができる。上記の電子輸送性有機材料としては、例えば、バソキュプロイン（ＢＣＰ）、バソフェナントロリン（Ｂｐｈｅｎ）等を挙げることができる。また、上記のアルカリ金属、アルカリ土類金属としては、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ等が挙げられる。電子輸送保護層６における電子輸送性有機材料とアルカリ金属やアルカリ土類金属のモル比率は、１：１〜１：３、好ましくは１：１〜１：２程度である。このような電子輸送保護層６の厚みは、電子移動度が大きく、かつ、光透過性が金属単体に比べて高いことから、３〜１０００ｎｍ、好ましくは３〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍ程度とすることができる。
【００２５】
（６）第二陰極層
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する第二陰極層７は、透明性のある導電性材料からなるものであれば特に制限はなく、例えば、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｚｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ等の導電性酸化物を挙げることができる。これらの中で、ＩＴＯ、ＩＺＯが特に好ましく使用される。ＩＴＯ、ＩＺＯは導電性および光透過性が高く、電気低効率が低いことから、光の取り出し効率を向上させるとともに、有機層４の駆動電圧を低電圧化することができる。
このような第二陰極層７の厚みは１０〜５００ｎｍの範囲、特に５０〜３００ｎｍの範囲が好ましく、また、可視領域３８０〜７８０ｎｍにおける光透過率は５０％以上、特に８０％以上とすることが好ましい。第二陰極層７の厚みが１０ｎｍ未満であると導電性が不十分となり、５００ｎｍを超えると光透過性が不十分となり、また、製造工程、あるいは、製造後において有機ＥＬ画像表示装置を変形させた時に、第二陰極層７にクラック等の欠陥が発生し易くなり好ましくない。
【００２６】
このような第二陰極層７は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム法等の真空成膜法により形成することができる。例えば、スパッタリング法による第二陰極層７の形成では、上記の電子輸送保護層６の存在によって、数百ボルトで高照射量のアルゴンイオンによる衝撃が有機層４に加わることが防止され、また、酸素導入による有機層４、第一陰極層５の酸化が防止される。
【００２７】
尚、本発明では、第二陰極層７上にカラーフィルタ層および／または色変換蛍光体層を設けて、各色の光を色補正して色純度を高めてもよい。カラーフィルタ層としては、例えば、青色着色層、赤色着色層、緑色着色層の各層をアゾ系、フタロシアニン系、アントラキノン系等の顔料の１種または複数種を感光性樹脂に分散して調製した樹脂組成物を用いて形成したものとすることができる。また、色変換蛍光体層は、例えば、所望の蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法等により赤色変換蛍光体層、緑色変換蛍光体層、青色変換蛍光体層の各層を形成したものとすることができる。
【００２８】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
基材として、２５ｍｍ×２５ｍｍ、厚み０．７ｍｍの透明ガラス基板（ＮＨテクノグラス社製　無アルカリガラスＮＡ３５）を準備し、この透明ガラス基板を定法にしたがって洗浄した後、マグネトロンスパッタリング法により膜厚１５０ｎｍのＣｒ薄膜を形成した。このＣｒ薄膜の形成では、スパッタガスとしてＡｒを使用し、圧力０．３Ｐａ、ＤＣ出力１．０ｋＷとした。次いで、上記のＣｒ薄膜上に感光性レジスト（東京応化工業（株）製ＯＦＰＲ−８００）を塗布し、マスク露光、現像（東京応化工業（株）製ＮＭＤ３を使用）、エッチング（エッチング溶液：ザ・インクテック（株）製ＭＲ−Ｅ２０００）を行って、幅２ｍｍのライン状の陽極層を２本形成した。尚、この陽極層のパターニングはドライエッチングでもよい。
【００２９】
次に、上記の陽極層を覆うように透明ガラス基板上に、下記構造式（１）で示されるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホネート（ＰＳＳ）との混合物であるバイエル社製Ｂａｙｔｒｏｎ　Ｐ　ＣＨ８０００をスピンコート法により塗布、乾燥して正孔注入輸送層（厚み８０ｎｍ）を形成した。
【００３０】
【化１】
2004127740.tif 000003
【００３１】
次いで、酸素濃度０．８ｐｐｍ以下、湿度１ｐｐｍ以下（露点−１１５℃）の環境条件であるグローブボックス中にて、正孔注入輸送層上に下記構造式（２）で示されるポリ（ジオクチルジビニレンフルオレン−ｃｏ−アントラセン）（ＰＦ）であるＡＤＳ（株）製ＡＤＳ１０６ＧＥ）をスピンコート法により塗布、乾燥して発光層（厚み８０ｎｍ）を形成した。
【００３２】
【化２】
2004127740.tif 000004
【００３３】
更に、上記の発光層上にＣａを真空加熱蒸着により３ｎｍの厚みで成膜して第一陰極層を形成した。
次に、第一陰極層上に、下記構造式（３）に示すバソキュプロイン（ＢＣＰ）とＬｉの共蒸着膜（厚み５０ｎｍ）を成膜して電子輸送保護層とした。この電子輸送保護層の成膜条件は、真空度５×１０−５Ｐａとし、また、ＢＣＰとＬｉのモル比率が１：２になるようにＢＣＰの成膜速度を２Å／秒に調節した。
【００３４】
【化３】
2004127740.tif 000005
【００３５】
次に、マグネトロンスパッタリング法によりＩＺＯ薄膜（厚み１５０ｎｍ）を電子輸送保護層上に成膜して第二陰極層とした。この第二陰極層の形成では、上記の発光層へのスパッタダメージを軽減するため、対向ターゲット式マグネトロンスパッタリング装置を用いた。また、第二陰極層の成膜条件として、スパッタガスはＡｒとＯ２の混合ガス（体積比Ａｒ：Ｏ２＝４００：１）を使用し、圧力０．１Ｐａ、ＲＦ出力１００Ｗ、ＤＣ出力１５０Ｗとした。そして、成膜速度４Å／秒でガス圧５．５×１０−２Ｐａの条件下でマスクを使用して幅２ｍｍのライン状の第二陰極層を上記の陽極層と交差するように形成した。
以上により、幅２ｍｍのライン状にパターニングされた陽極層と、この陽極に直交するように幅２ｍｍのライン状で形成された第二陰極層を備え、４ヶ所の発光エリア（面積４ｍｍ２）を有する有機ＥＬ表示装置を作製した。
【００３６】
この有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧５Ｖを印加した時の電流密度は４７ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約１８００ｃｄ／ｍ２であった。また、上記の有機ＥＬ表示装置を０．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層や第一陰極層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。
【００３７】
［実施例２］
第二陰極層として、ＩＺＯ薄膜の代わりにＴｉＮ薄膜を設けた他は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。ＴｉＮ薄膜の成膜条件として、スパッタガスはＡｒガスのみを使用し、圧力０．１Ｐａ、ＲＦ出力１００Ｗ、ＤＣ出力１５０Ｗとした。そして、成膜速度４Å／秒でガス圧５．５×１０−２Ｐａの条件下で厚み１５０ｎｍのＴｉＮ薄膜を形成した。
【００３８】
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧５Ｖを印加した時の電流密度は４２ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約１７００ｃｄ／ｍ２であった。また、上記の有機ＥＬ表示装置を０．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層や第一陰極層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。
【００３９】
［実施例３］
Ｌｉの代わりにＣａをバソキュプロイン（ＢＣＰ）に含有させた電子輸送保護層（厚み５０ｎｍ）を設けた他は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。尚、ＢＣＰとＣａのモル比率が１：２になるようにＢＣＰの成膜速度を調節した。
【００４０】
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧５Ｖを印加した時の電流密度は５０ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約１８００ｃｄ／ｍ２であった。また、上記の有機ＥＬ表示装置を０．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層や第一陰極層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。
【００４１】
［比較例１］
第一陰極層を設けない他は、実施例３と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧５Ｖを印加した時の電流密度は６ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約５００ｃｄ／ｍ２であり、実施例１〜３の有機ＥＬ表示装置に比べて発光特性は悪いものであった。ただし、上記の有機ＥＬ表示装置を１．０ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。また、共役系高分子からなる有機ＥＬ素子において、アルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる第一電極層が設けられていないことにより、発光特性が低下することを確認した。
【００４２】
［比較例２］
電子輸送保護層として、Ｌｉを含有せずバソキュプロイン（ＢＣＰ）のみからなる電子輸送保護層を設けた他は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧５Ｖを印加した時の電流密度は０．０４ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約０．１ｃｄ／ｍ２であり、実施例１〜３の有機ＥＬ表示装置に比べて発光特性は極めて悪いものであった。ただし、上記の有機ＥＬ表示装置を１．０ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層や第一陰極層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。また、電子輸送保護層にアルカリ金属やアルカリ土類金属が含有されていないことにより、電子輸送保護層の電荷輸送能が減少し、電界強度が低下したため、発光特性が低下することを確認した。
【００４３】
［比較例３］
電子輸送保護層を形成しない他は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧５Ｖを印加した時の電流密度は３０ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約１２００ｃｄ／ｍ２であり、実施例１〜３の有機ＥＬ表示装置に比べて発光特性は低下するものであった。また、上記の有機ＥＬ表示装置を０．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、直径約０．１ｍｍのダークスポットが１ｍｍ２の範囲に数個の割合で確認された。この結果より、上記発光エリアでは、第二陰極層の形成時に発光層や第一陰極層の劣化、酸化が生じていることが確認された。
【００４４】
［実施例４］
まず、実施例１と同様にして、陽極層を形成した。
次に、上記の陽極層を覆うように透明ガラス基板上に、下記構造式（４）に示すビス（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニルベンジジン（α−ＮＰＤ）を真空加熱蒸着法により成膜して正孔注入輸送層（厚み４０ｎｍ）を形成した。
【００４５】
【化４】
2004127740.tif 000006
【００４６】
次いで、正孔注入輸送層上に真空蒸着法により下記構造式（５）に示すアルミニウムキノリノール金属錯体（Ａｌｑ３）を成膜して発光層（厚み６０ｎｍ）を形成した。
【００４７】
【化５】
2004127740.tif 000007
【００４８】
次に、上記の発光層上にＬｉを真空加熱蒸着により３ｎｍの厚みで成膜して第一陰極層を形成した。その後、実施例１と同様にして、電子輸送保護層、および、第二陰極層を形成し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
この有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧６Ｖを印加した時の電流密度は１３ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約３７０ｃｄ／ｍ２であった。また、上記の有機ＥＬ表示装置を２．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層や第一陰極層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。
【００４９】
［実施例５］
第二陰極層として、ＩＺＯ薄膜の代わりにＴｉＮ薄膜を設けた他は、実施例４と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。ＴｉＮ薄膜の成膜条件として、スパッタガスはＡｒガスのみを使用し、圧力０．１Ｐａ、ＲＦ出力１００Ｗ、ＤＣ出力１５０Ｗとした。そして、成膜速度４Å／秒でガス圧５．５×１０−２Ｐａの条件下で厚み１５０ｎｍのＴｉＮ薄膜を形成した。
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧６Ｖを印加した時の電流密度は１２ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約３４０ｃｄ／ｍ２であった。また、上記の有機ＥＬ表示装置を２．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層や第一陰極層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。
【００５０】
［比較例４］
第一陰極層を設けない他は、実施例４と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧６Ｖを印加した時の電流密度は１１ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約３３０ｃｄ／ｍ２であり、実施例４、５の有機ＥＬ表示装置に比べて発光特性は悪いものであった。ただし、上記の有機ＥＬ表示装置を２．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、ダークスポットは存在しなかった。この結果より、上記発光エリアでは、電子輸送保護層が存在することにより、第二陰極層の形成時における発光層の劣化、酸化が防止されていることが確認された。
【００５１】
［比較例５］
電子輸送保護層を形成しない他は、実施例４と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
上記の有機ＥＬ表示装置の陽極層と第二陰極層に電圧６Ｖを印加した時の電流密度は６ｍＡ／ｃｍ２で、上面（陰極層）側から測定した発光エリアの輝度は約１８０ｃｄ／ｍ２であり、実施例４、５の有機ＥＬ表示装置に比べて発光特性は悪いものであった。また、上記の有機ＥＬ表示装置を２．５ｍＡで２４０時間連続駆動させた後の発光エリア面を光学顕微鏡で観察（３０倍）したところ、直径約０．１ｍｍのダークスポットが１ｍｍ２の範囲に数個の割合で確認された。この結果より、上記発光エリアでは、第二陰極層の形成時に発光層や第一陰極層の劣化、酸化が生じていることが確認された。
【００５２】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば第一陰極層と第二陰極層との間に電子輸送保護層を介在させ、この電子輸送保護層を有機材料中にアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属を含有するものとしたので、光透過性を有する第二陰極層の形成時において有機層や第一陰極層の劣化、酸化が防止され、これにより、有機層や第一陰極層は特性劣化のない信頼性の高いものとなり、上面の第二陰極層側から高効率で光を取り出して高品質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機エレクトロルミネッセント（ＥＬ）画像表示装置の一実施形態を示す基本構成概念図である。
【符号の説明】
１…有機エレクトロルミネッセント画像表示装置
２…基材
３…陽極層
４…有機層
５…第一陰極層
６…電子輸送保護層
７…第二陰極層
【図１】
2004127740.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月26日(2003.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（６）第二陰極層
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する第二陰極層７は、透明性のある導電性材料からなるものであれば特に制限はなく、例えば、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｚｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ等の導電性酸化物を挙げることができる。これらの中で、ＩＴＯ、ＩＺＯが特に好ましく使用される。ＩＴＯ、ＩＺＯは導電性および光透過性が高く、電気抵抗率が低いことから、光の取り出し効率を向上させるとともに、有機層４の駆動電圧を低電圧化することができる。
このような第二陰極層７の厚みは１０〜５００ｎｍの範囲、特に５０〜３００ｎｍの範囲が好ましく、また、可視領域３８０〜７８０ｎｍにおける光透過率は５０％以上、特に８０％以上とすることが好ましい。第二陰極層７の厚みが１０ｎｍ未満であると導電性が不十分となり、５００ｎｍを超えると光透過性が不十分となり、また、製造工程、あるいは、製造後において有機ＥＬ画像表示装置を変形させた時に、第二陰極層７にクラック等の欠陥が発生し易くなり好ましくない。