(57)【要約】【課題】逆洗用圧縮空気の元圧を高めることなく、セラミックフィルタの全長にわたって十分な逆洗圧力を与えることができるセラミックフィルタのパルス逆洗装置を提供する。【解決手段】容器１内の支持板２に首部を支持された多数本のセラミックフィルタＣの上方に、先端を１本ないし数本のセラミックフィルタＣに対向させた逆洗ノズル８を多数配置する。各逆洗ノズル８の基部に接続されたパイプ１０を容器天井面１１を貫通させて容器外周に水平に引き出し、アングル型電磁弁１３を介して容器外周のヘッダ管１９に接続する。アングル型電磁弁１３を用いたことにより、大量の圧縮空気を瞬時に逆洗ノズル８に供給することができる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器内の支持板に首部を支持された多数本のセラミックフィルタのパルス逆洗装置であって、先端を１本ないし数本のセラミックフィルタに対向させた逆洗ノズルを前記支持板の上部に多数配置するとともに、各逆洗ノズルの基部に接続されたパイプを容器天井面を貫通させて容器外周に水平に引き出し、アングル型電磁弁を介して容器外周のヘッダに接続したことを特徴とするセラミックフィルタのパルス逆洗装置。
【請求項２】
逆洗ノズルの先端とセラミックフィルタの上端との距離を２０〜４０ｍｍとした請求項１記載のセラミックフィルタのパルス逆洗装置。
【請求項３】
アングル型電磁弁として弁の流量計数であるＣｖ値が８０以上のものを使用した請求項１記載のセラミックフィルタのパルス逆洗装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射性雑固体廃棄物の焼却炉などから出た高温の排ガスを処理する集塵装置に組み込んで用いられるセラミックフィルタのパルス逆洗装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】特公平６−５９３７４号公報
【０００３】放射性雑固体廃棄物の焼却炉排ガスを処理するための集塵装置には、上記の特許文献１に示すように、従来からセラミックフィルタが用いられている。このセラミックフィルタＣはキャンドル型と呼ばれる有底円筒状のものであり、図４に示すように容器１内に水平に設けられた支持板２に首部を支持されて吊り下げられている。この支持板２は容器１の内部を排ガス流入室３と上部の清浄室４とに区画するためのもので、高温の排ガスは容器下部の排ガス流入口５から排ガス流入室３に入り、セラミックフィルタＣの多孔質の壁面でろ過される。そして清浄ガスは容器１の上部の清浄ガス取出し口６から排出される。
【０００４】このような運転を継続していると、ダストによりセラミックフィルタＣの多孔質の壁面が次第に目詰まりしてろ過差圧が上昇してくる。このため従来は容器１の天井面に図４に示すように逆洗用パイプ７を設置し、この逆洗用パイプ７から圧縮空気を清浄室４内にバックブローすることによって、各セラミックフィルタＣの目詰まり物質を一括して払い落としている。しかしこのような一括逆洗方式は設備停止が必要となるうえ、十分な逆洗効果が得られないという問題がある。
【０００５】そこで本発明者等は一括逆洗方式に代えて、図５に示すように先端を１本ないし数本のセラミックフィルタＣに対向させた逆洗ノズル８を前記支持板２の上部に多数配置し、各逆洗ノズル８に対して圧縮空気を順次パルス的に供給するパルス逆洗方式を開発した。パルス逆洗のためには、０．０５秒以下の高速度で弁の開閉が可能なストレート型電磁弁９が用いられる。この方式によれば設備の運転を継続したままで順次逆洗が可能となる。なおこのような逆洗ノズル８については、特許文献１にも開示されている。
【０００６】ところが、パルス逆洗を行ったセラミックフィルタＣを詳細に観察すると、全長が１５００ｍｍのセラミックフィルタＣのうち、下側部分は目詰まり物質が十分に除去されているものの、上側部分については除去効果が不十分であることが判明した。このため圧力センサを取り付けて逆洗時におけるセラミックフィルタＣの表面の圧力を測定したところ、逆洗時平均圧力は２．４ｋＰａに過ぎないことが確認された。
【０００７】このように有底円筒状のセラミックフィルタＣの口部から圧縮空気をパルスジェットとして吹き込んだ場合、上側部分よりも下側部分の圧力が高まることはある程度は止むを得ないことである。しかし逆洗効果を高めて実設備で問題なく稼動させるためには、セラミックフィルタＣの逆洗時平均表面圧力が９．８ｋＰａ以上となることが望まれる。
【０００８】この目的を簡単に達成するためには、逆洗用圧縮空気の元圧を現状の６００ｋＰａよりも高めればよい。しかし、このように逆洗用圧縮空気の元圧を高めると逆洗時に容器１の内圧が高まり、放射性物質の外部への漏洩を防止するために常に負圧運転を行うという設備の原則を損なうこととなる。従って逆洗用圧縮空気の元圧を高めることなく、セラミックフィルタの逆洗圧力を高める必要がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来の問題点を解決して、設備の運転を継続したままで順次逆洗が可能なパルス逆洗を行うことができ、しかも逆洗用圧縮空気の元圧を高めることなく、セラミックフィルタの全長にわたって十分な逆洗圧力を与えることができるセラミックフィルタのパルス逆洗装置を提供するためになされたものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するためになされた本発明は、容器内の支持板に首部を支持された多数本のセラミックフィルタのパルス逆洗装置であって、先端を１本ないし数本のセラミックフィルタに対向させた逆洗ノズルを前記支持板の上部に多数配置するとともに、各逆洗ノズルの基部に接続されたパイプを容器天井面を貫通させて容器外周に水平に引き出し、アングル型電磁弁を介して容器外周のヘッダに接続したことを特徴とするものである。なお、逆洗ノズルの先端とセラミックフィルタの上端との距離を２０〜４０ｍｍとすることが好ましく、アングル型電磁弁として弁の流量計数であるＣｖ値が８０以上のものを使用することが好ましい。
【００１１】本発明は、各逆洗ノズルの基部に接続されたパイプを容器天井面を貫通させて容器外周に水平に引き出し、アングル型電磁弁を介して容器外周のヘッダに接続したことを特徴としている。以下に説明するとおり、アングル型電磁弁は通常の電磁弁とは異なり、圧縮空気の入口流路と出口流路とに直角等の角度を持たせてあり、その交差部分に弁座が設けられている。このため弁の作動開始と同時に多量の圧縮空気を逆洗ノズルに流すことができ、逆洗用圧縮空気の元圧を高めることなく、セラミックフィルタの逆洗時平均表面圧力が９．８ｋＰａ以上の逆洗圧力を与えることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施形態を示す。
図１は本発明の好ましい実施形態を示す斜視図、図２はその平面図である。集塵装置の構造は従来と同様であり、１は容器、２はその内部を排ガス流入室３と上部の清浄室４とに区画する支持板であって、多数本のキャンドル型のセラミックフィルタＣが支持板２に首部を支持されて吊り下げられている。この実施形態ではセラミックフィルタＣの本数は約１００程度である。高温の排ガスは容器下部の排ガス流入口５から排ガス流入室３に入り、セラミックフィルタＣの多孔質の壁面でろ過される。そして清浄ガスは容器１の上部の清浄ガス取出し口６から排出されるようになっている。
【００１３】支持板２の上部には、先端を１本ないし数本のセラミックフィルタＣに対向させた逆洗ノズル８が多数配置されている。この実施形態では逆洗ノズル８は同時に４本のセラミックフィルタＣを逆洗できる構造となっているが、その本数は１０本程度までは増やすことができる。各逆洗ノズル８の基部に接続されたパイプ１０は容器天井面１１を貫通させて容器外周に水平に引き出されている。容器外周にはリング状のヘッダ管１９が配置されており、ヘッダ管１９から延びる垂直パイプ１２の上端にそれぞれアングル型電磁弁１３が配置されている。そしてパイプ１０はこれらのアングル型電磁弁１３を介して、容器外周のヘッダ管１９に接続されている。アングル型電磁弁１３は図示しない制御装置により順次開かれ、ヘッダ管１９内の圧縮空気を各逆洗ノズル８に約２秒間程度ずつ順次供給してパルス逆洗を行う。
【００１４】図３は、アングル型電磁弁１３の内部を従来のストレート型電磁弁９と対比した概念図である。いずれもソレノイド１４により駆動されるディスク１５を内部に備え、弁座１６に対してディスク１５を接離させることにより開閉動作を行う。しかし圧縮空気の入口流路１７と出口流路１８とを同一直線上に配置したストレート型電磁弁９においては、ディスク１５が弁座１６から離れた際に圧縮空気が矢印で示す狭い流路を複雑に屈曲して流れるのに対し、入口流路１７と出口流路１８とを直交させたアングル型電磁弁１３では、弁の内部空間を大きく取ることができ、ディスク１５が弁座１６から離れた際の流れが単純である。
【００１５】このため、本発明によればアングル型電磁弁１３が開いた瞬間に大量の圧縮空気を逆洗ノズル８に供給することができ、逆洗用圧縮空気の元圧を高めることなく、セラミックフィルタの逆洗時平均表面圧力が９．８ｋＰａ以上の逆洗圧力を与えることができる。なお、電磁弁の能力は弁の流量計数であるＣｖ値であらわすことができる。Ｃｖ値は弁を全開にして弁前後の圧力降下を１ｐｓｉにしたときの水の流量をｇａｌ／ｍｉｎの単位で表した値である。本発明ではＣｖ値が８０以上のものを使用することが好ましく、５０Ａのアングル型電磁弁のＣｖ値は８０以上、８０Ａのアングル型電磁弁のＣｖ値は１００以上となる。
【００１６】なお、逆洗ノズル８の先端とセラミックフィルタＣの上端とは密着させるのではなく、２０〜４０ｍｍの距離を持たせて設置することが好ましい。これにより逆洗時に周囲のガスが逆洗用空気に随伴してセラミックフィルタＣの内部に入り、逆洗効果を高めることができる。以下に本発明の実施例を示す。
【００１７】
【実施例】（実施例１）
実施形態に示したセラミックフィルタＣを備えた試験装置を用い、同時に４本の逆洗が可能な逆洗ノズルから元圧が６００ｋＰａの逆洗用空気を２秒間パルスジェットした。空気量は１０〜１５リットル、ノズル先端径は２０ｍｍである。使用したアングル型電磁弁は５０Ａのサイズであり、動作速度は０．０５秒以下、逆洗ノズルの先端とセラミックフィルタＣの上端とは２０ｍｍ離した。その結果、セラミックフィルタＣの逆洗時平均表面圧力は１４．２ｋＰａに達した。また逆洗ノズルの先端とセラミックフィルタＣの上端とを４０ｍｍ離したところ、セラミックフィルタＣの平均逆洗圧力は１３．４ｋＰａに達し、いずれも優れた逆洗効果が得られた。
【００１８】（実施例２）
実施例１と同じ集塵装置を用い、同時に７本の逆洗が可能な逆洗ノズルから元圧が６００ｋＰａの逆洗用空気を２秒間パルスジェットした。空気量は３０〜３６リットル、ノズル先端径は２３ｍｍである。使用したアングル型電磁弁は８０Ａのサイズであり、動作速度は０．０５秒以下、逆洗ノズルの先端とセラミックフィルタＣの上端とは４０ｍｍ離した。その結果、セラミックフィルタＣの逆洗時平均表面圧力は１３．７ｋＰａに達し、優れた逆洗効果が得られた。
【００１９】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のセラミックフィルタのパルス逆洗装置によれば、集塵設備の運転を継続したままで順次セラミックフィルタの逆洗が可能である。しかも逆洗用圧縮空気の供給経路を改良したことにより、元圧を高めることなくセラミックフィルタの逆洗時平均表面圧力が９．８ｋＰａ以上の逆洗圧力を与え、優れた逆洗効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施形態を示す平面図である。
【図３】アングル型電磁弁とストレート型電磁弁とを対比した概念図である。
【図４】従来の一括逆洗方式を示す斜視図である。
【図５】先行するパルス逆洗方式を示す断面図である。
【符号の説明】
１  容器、２  支持板、３  排ガス流入室、４  清浄室、５  排ガス流入口、６清浄ガス取出し口、７  逆洗用パイプ、８  逆洗ノズル、９  ストレート型電磁弁、１０  パイプ、１１  容器天井面、１２  垂直パイプ、１３  アングル型電磁弁、１４  ソレノイド、１５  ディスク、１６  弁座、１７  入口流路、１８  出口流路、１９  ヘッダ管、Ｃ  セラミックフィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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