(57)【要約】【課題】視覚効果を利用することによって実質的に遮光層を設けた場合と同様の効果を発揮することのできる遮光手段を提供する。【解決手段】本発明の表示装置は、光学的に独立制御可能な複数の画素領域と、該画素領域の間に設けられた画素間領域と、該画素間領域に配置された傾斜反射面２１３ｔとを有することを特徴とする。より具体的には、基材２１１の上に下地層２１２を介して反射層２１３が形成されている。反射層２１３の上には、画素領域毎に着色層２１４が配置される。画素間領域には、反射層２１３が傾斜した傾斜反射面２１３ｔを備えたものとなっている。この傾斜反射面２１３ｔは、外光を斜めに反射させるため、その反射光は視認者の視野に入ることがなく、その結果、画素間領域は実質的に遮光される。【選択図】          図１
2004271723.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的に独立制御可能な複数の画素領域と、該画素領域の間に設けられた画素間領域と、該画素間領域に配置された傾斜反射面とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記傾斜反射面は、表面凹凸を実質的に有しない非散乱性反射面であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
光学的に独立制御可能な複数の画素領域と、該画素領域の間に設けられた画素間領域と、前記画素領域及び前記画素間領域に配置された反射層とを有し、前記画素間領域において前記反射層に傾斜反射面を形成したことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
前記反射層は、前記画素領域において微細な表面凹凸を備えた散乱性反射面を有し、前記傾斜反射面は、前記表面凹凸を実質的に有しない非散乱性反射面を備えていることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記画素領域には、電気光学層及びこれに電界を印加する電極が配置されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
電気光学層と、該電気光学層の背後に配置された反射層とを有し、前記電気光学層及び反射層を含み光学的に独立制御可能な複数の画素領域と、該画素領域の間に設けられた画素間領域とが構成され、該画素間領域において前記反射層に傾斜反射面を形成したことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
前記反射層は、前記画素領域において微細な表面凹凸を備えた散乱性反射面を有し、前記傾斜反射面は、前記表面凹凸を実質的に有しない非散乱性反射面を備えていることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記反射層は、前記画素領域毎に開口部を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の表示装置と、該表示装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は表示装置及び電子機器に係り、特に、電気光学層を有する表示装置として好適な表示体構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、表示装置には、光学状態を独立に制御可能な複数の画素領域が配列され、これらの画素領域の光学状態の制御によって所望の画像が表示されるように構成されている。ここで、上記の複数の画素領域の間に設けられた画素間領域には、表示のコントラストを高めるために遮光手段が適用される場合が多い。この遮光手段としては、通常、黒色樹脂や金属膜などにより構成された遮光層が設けられる。また、カラーフィルタの複数の色を重ねることによって遮光効果を得るようにした積層型遮光層が形成される場合もある。
【０００３】
図１０は、従来の液晶表示装置の画素領域を拡大して示す拡大断面図である。この液晶表示装置１００は、第１基板１１０と第２基板１２０とを図示しないシール材などを介して貼り合わせ、その間に液晶ＬＣを封入配置したものである。
【０００４】
第１基板１１０には、ガラスなどで構成される基材１１１上に透明な下地層１１２が形成され、この下地層１１２上に反射層１１３が形成されている。反射層１１３には、画素領域Ｐ毎に開口部１１３ａが形成される。反射層１１３の上には濃色部１１４Ｃ及び淡色部１１４Ｆを有する着色層が画素領域毎に配列されてなるカラーフィルタが形成されている。また、画素領域Ｐの間に配置される画素間領域には、異なる２色以上の着色層を重ねた積層型遮光層１１４Ｂが設けられている。さらに、着色層のうち淡色部１１４Ｆの上には透明な保護膜１１５が形成され、この保護膜１１５の上にＩＴＯ等の透明導電体で構成された透明電極１１６が形成されている。透明電極１１６の上にはポリイミド樹脂などで構成される配向膜１１７が形成される。
【０００５】
一方、前面基板１２０は、ガラスなどで構成される基材１２１上にＩＴＯ等の透明導電体で構成される透明電極１２２が形成され、さらにその上には上記と同様の配向膜１２３が形成されている。
【０００６】
上記液晶表示装置１００では、画素領域Ｐの中に、上記開口部１１３ａによって形成される光透過部Ｐｔと、上記反射層１１３によって形成される光反射部Ｐｒとが設けられる。これによって、光透過部Ｐｔにおいては、図示しないバックライトなどから放射される照明光を透過させることができるため、この照明光に基づいた透過表示が可能になる。また、光反射部Ｐｒにおいては、外光を反射層１１３によって反射させることによって反射光に基づいた反射表示が可能になる。このように、液晶表示装置１００は半透過反射型の液晶表示体を構成している。
【０００７】
また、この液晶表示装置１００の上記画素領域Ｐから外れた画素間領域では、積層型遮光層１１４Ｂによって外光及び反射光のいずれもが遮光されるため、表示のコントラストを向上させることができる。このような半透過反射型の液晶表示装置と同様の装置は、たとえば、以下の特許文献１に開示されている。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００１−２２８３１８号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の表示装置において、画素間領域の遮光手段として、黒色樹脂層や金属膜などで構成される遮光層を形成する場合には、遮光層を形成するための工程が必要になるため、製造工数が増え、製造コストが増大するという問題点がある。
【００１０】
このような問題点を解決するための方法として、上記液晶表示装置にて示した積層型遮光層１１４Ｂを形成する方法があり、この方法では、カラーフィルタの製造工程において遮光層を同時並行して形成することができるため、製造工数及びコストの増大を抑制できるという利点がある。ところが、この方法では２層以上の着色層を積層して遮光層を形成するため、遮光層が厚くなり、その結果、基板内面の平坦性を確保することが難しくなるという問題点がある。特に、液晶表示装置の場合には、基板内面の平坦性が低下すると、液晶配向の乱れなどによって表示品位が損なわれる場合がある。また、複数の着色層を積層させて遮光層を形成しているため、フォトリソグラフィ法などのパターニングずれによって遮光層の幅が広がってしまい、その分だけ画素領域Ｐが狭くなることから、表示装置の開口率が低下して表示が暗くなるという問題点もある。
【００１１】
上記従来の表示装置の遮光手段では、光を吸収することによって光の反射を抑制し、或いは、光を反射若しくは吸収することによって光の透過を抑制するように構成していたため、遮光層に充分な厚さが必要であり、また、遮光層を形成する素材として光透過率の低い素材を選択して用いる必要があったため、遮光手段の厚さや素材に対する制約が大きいことから、装置構成の設計自由度が小さいという問題点もあった。
【００１２】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、視覚効果を利用することによって実質的に遮光層を設けた場合と同様の効果を発揮することのできる遮光手段を提供することにある。また、この遮光手段を用いることにより、製造工数及びコストの増大や表示品位の低下を抑制できる表示装置の構成を実現することを目的とする。さらに、表示装置の設計自由度を高めることのできる遮光手段を提供することも目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の表示装置は、光学的に独立制御可能な複数の画素領域と、該画素領域の間に設けられた画素間領域と、該画素間領域に配置された傾斜反射面とを有することを特徴とする。
【００１４】
本発明によれば、画素間領域に傾斜反射面（すなわち、表示面に対して傾斜した反射面）を設けることによって、透過光を反射させて透過しないだけでなく、外光を偏向させて反射することができるため、反射光が視認者の視野に入らないように構成できる。したがって、実質的に充分な遮光効果を画素間領域において得ることができる。また、上記のように傾斜反射面を設けるだけでよいため、製造工程中の金属膜形成工程（たとえば、反射層の形成工程、配線の形成工程など）において同時並行して傾斜反射面を形成することができることから、製造工数も増加せず、製造コストの増加も抑制される。さらに、傾斜面による平坦性の低下や遮光幅の広がりは上記遮光積層部を設ける場合に較べて少ないため、表示の明るさの低下や表示品位の悪化を抑制することができる。
【００１５】
ここで、上記傾斜反射面は、実質的に外光を傾斜角度に応じて偏向させて反射できるものであればよく、必ずしも高い反射率（８０％以上）を有するものである必要はなく、８０％未満の反射面、たとえば、一部の光を透過するような反射面であっても構わない。
【００１６】
本発明によれば、前記傾斜反射面は、表面凹凸を実質的に有しない非散乱性反射面であることが好ましい。傾斜反射面が非散乱性反射面であることにより、傾斜反射面によって反射された光が散乱されず、正反射となって反射光が広角に広がらないため、傾斜反射面で反射された光が視認者の目にさらに入りにくくなることから、遮光性能をさらに向上させることができる。
【００１７】
次に、本発明に係る別の表示装置は、光学的に独立制御可能な複数の画素領域と、該画素領域の間に設けられた画素間領域と、前記画素領域及び前記画素間領域に配置された反射層とを有し、前記画素間領域において前記反射層に傾斜反射面を形成したことを特徴とする。
【００１８】
この発明によれば、反射型の表示装置、或いは、半透過反射型の表示装置において、画素間領域において反射層に傾斜反射面を形成することにより、画素間領域において実質的に遮光を行うことができる。
【００１９】
本発明において、前記反射層は、前記画素領域において微細な表面凹凸を備えた散乱性反射面を有し、前記傾斜反射面は、前記表面凹凸を実質的に有しない非散乱性反射面を備えていることが好ましい。反射層が画素領域において散乱性反射面を有することによって、正反射による照明光に起因する幻惑や背景の写り込みなどを防止できる。また、画素間領域においては傾斜反射面が非散乱性反射面を備えていることにより、反射光の散乱が抑制されるので、遮光性能を高めることができる。
【００２０】
ここで、下地層の表面のうち画素領域に相当する領域に微細な凹凸を形成するとともに、下地層のうち画素間領域に相当する一部領域に、上層部を除去することによって形成した傾斜面を形成し、さらに、この下地層の表面上に反射層が形成されていることが好ましい。これによれば、下地層の表面上に反射層を形成するだけで、画素領域において散乱性反射面が形成され、画素間領域においては傾斜反射面が形成される。特に、下地層の上記傾斜面を平滑に構成することによって、傾斜反射面を非散乱性反射面とすることができる。
【００２１】
本発明において、前記画素領域には、電気光学層及びこれに電界を印加する電極が配置されていることが好ましい。これによれば、電極によって電気光学層に電界を印加することにより画素領域の光学状態を制御することができる。電気光学層を備えた表示装置としては、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイなどが挙げられる。
【００２２】
次に、本発明のさらに別の表示装置は、電気光学層と、該電気光学層の背後に配置された反射層とを有し、前記電気光学層及び反射層を含み光学的に独立制御可能な複数の画素領域と、該画素領域の間に設けられた画素間領域とが構成され、該画素間領域において前記反射層に傾斜反射面を形成したことを特徴とする。
【００２３】
本発明において、前記反射層は、前記画素領域において微細な表面凹凸を備えた散乱性反射面を有し、前記傾斜反射面は、前記表面凹凸を実質的に有しない非散乱性反射面を備えていることが好ましい。
【００２４】
本発明において、前記反射層は半透過反射層であることが好ましく、特に、画素領域毎に開口部を設けることが望ましい。
【００２５】
次に、本発明の電子機器は、上記のいずれかに記載の表示装置と、該表示装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする。本発明の電子機器は、上記表示装置を制御することによって、製造コストを低減することができる簡易な構成を有しながらも、画素間領域において確実な遮光効果を得ることができるため、表示品位の向上を図ることができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る表示装置及び電子機器の実施形態について詳細に説明する。
【００２７】
［第１実施形態］
最初に、図１乃至図３を参照して、本発明に係る第１実施形態の表示装置である液晶表示装置２００について説明する。ここで、図１は液晶表示装置２００の構造を模式的に示す分解斜視図、図２は液晶表示装置２００の一部断面を拡大して示す拡大部分断面図、図３は第１基板（カラーフィルタ基板）の平面構造を示す概略平面図である。
【００２８】
液晶表示装置２００は、第１基板（カラーフィルタ基板）２１０と、第２基板（素子基板）１２０とを図示しないシール材などを介して相互に貼り合わせ、両基板の間に液晶ＬＣ（図２参照）を配置したものである。より具体的には、液晶ＬＣはシール材などによって両基板間に封入されている。
【００２９】
第１基板２１０においては、ガラスやプラスチックなどで構成される基材２１１が設けられる。この基材２１１の上には、アクリル樹脂などの透明材料で構成された下地層２１２が設けられる。この下地層２１２は、後述する反射層２１３の下地を構成するものである。たとえば、画素領域Ｐ内においては下地層に図示しない微細な表面凹凸が形成されている。また、この下地層２１２には、画素領域Ｐの間に設定される画素間領域に傾斜表面２１２ｔが設けられる。
【００３０】
この下地層２１２の製造方法としては、感光性樹脂を基材２１１上に塗布し、適切な露光マスクを用いることによって露光し、現像することにより、上記表面凹凸及び傾斜表面２１２ｔを形成することができる。通常、上記表面凹凸は、多数の微細な細孔を分散させてなる露光マスクを用いて露光することによって形成できる。この場合、露光方法としてプロキシミティ露光を用いることが好ましい。また、たとえばハーフトーンマスクを用いることによって現像時に除去される膜厚を制御し、現像後の表面が傾斜するようにして上記傾斜表面２１２ｔを構成することができる。
【００３１】
下地層２１２上には、アルミニウムや銀合金などの金属で反射層２１３が形成される。反射層２１３には、画素領域Ｐ（図２及び図３参照）毎に開口部２１３ａが設けられている。反射層２１３は、上記下地層２１２上にそのまま反射性材料（金属など）を蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などによって適宜に成膜することによって形成できる。ここで、下地層２１２の表面凹凸上に成膜された画素領域Ｐ内の部分には、微細な表面凹凸を有する散乱性反射面が形成される。また、下地層２１２の傾斜表面２１２ｔ上に成膜された画素間領域内の部分には、傾斜反射面２１３ｔが形成される。すなわち、反射層２１３の反射面は、下地層２１２の表面状態を反映した状態に形成される。
【００３２】
反射層２１３の上には着色層２１４が形成される。この着色層２１４は、たとえば、透明な基材中に染料や顔料などの着色材を分散させたフィルタ材料で構成される。着色層２１４には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）などの複数の色があり、これらの色が所定の配列パターン、たとえば、ストライプ配列、デルタ配列、斜めモザイク配列などの適宜のパターンで配列されることにより、カラーフィルタが構成される。なお、図示例の配列パターンは、図３の上下方向に同色の着色層が配置されたストライプ配列である。
【００３３】
なお、本実施形態の図示例では、画素領域内に単一のフィルタ材料が配置された構造を示してあるが、図１０に示すように、画素領域Ｐ内において光透過部Ｐｔに配置されたフィルタ材料と、光反射部Ｐｒに配置されたフィルタ材料とが相互に異なっていても構わない。これは、透過表示では透過光が一回だけ着色層を通過するのに対して、反射表示では反射光は着色層を二回通過するため、光反射部Ｐｒに配置されたフィルタ材料の光学濃度を高く、光透過部Ｐｔに配置されたフィルタ材料の光学濃度を低くすることによって、透過表示と反射表示の色の再現性の差を低減できるからである。本実施形態では、画素領域Ｐ内を単一のフィルタ材料で構成してあるが、これに伴う反射表示と透過表示の表示色の相違を低減するために、図２に示すように、光反射部Ｐｒの一部において着色層２１４に開口部２１４ｃを設けてもよい。この開口部２１４ｃは、光反射部Ｐｒに配置された反射層２１３を一部露出させるので、反射表示の彩度を低下させることができるとともに明るさを向上させることができ、その結果、透過表示と反射表示の表示色の差を低減することができる。
【００３４】
着色層２１４の上にはアクリル樹脂などで構成された透明な保護膜２１５が形成される。この保護膜２１５は、着色層２１４に対する不純物の侵入を防止するとともに、第１基板２１０の内面の平坦性を確保するために形成される。本実施形態では、従来装置の積層型遮光層は設けられず、傾斜反射面２１３ｔが形成されているに過ぎないため、第１基板２１０の内面の平坦性を容易に確保できる。すなわち、傾斜反射面２１３ｔは複数の着色層を積層した場合のような大きな段差を持たないため、保護層２１５の表面の平坦性をより容易に得ることができる。また、本実施形態では、積層型遮光層を設ける必要がないので、複数回のパターニングによるパターニングずれの増幅が発生せず、その結果、画素間領域の幅を低減することが可能になるため、結果的に開口率を向上させることができ、表示の明るさを高めることが可能になる。
【００３５】
なお、本実施形態では、光透過部Ｐｔと光反射部Ｐｒとにおいてそれぞれ効率的に光シャッタ特性を得るために、光透過部Ｐｔにおいて保護膜２１５を形成しないことにより、光透過部Ｐｔと光反射部Ｐｒにおける液晶ＬＣの厚さを変えている。
【００３６】
上記保護膜２１５上には透明導電体で構成される透明電極２１６が形成される。この透明電極２１６は、図１に示すようにストライプ状に構成されている。透明電極２１６上にはポリイミド樹脂などで構成される配向膜２１７が形成される。
【００３７】
一方、第２基板２２０には、ガラスやプラスチックなどで構成される基材２２１が設けられる。この基材２２１上には、タンタルなどで構成される配線２２２が形成され、この配線２２２上に陽極酸化膜などで構成される絶縁膜２２３を介してＣｒなどで構成される電極層２２４が接合され、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）構造或いはＭＩＭ（金属−絶縁体−金属）構造の非線形素子が構成される。電極層２２４は、画素領域Ｐ毎に形成された透明電極２２５に導電接続されている。上記の非線形素子や透明電極２２５の表面上には配向膜２２６が形成されている。
【００３８】
上記の第１基板２１０と第２基板２２０が液晶ＬＣを挟むように構成されたパネル構造の外側には、位相差板２４２，２４３を介して偏光板２４１，２４４が配置される。より具体的には、パネル構造の外面上に位相差板２４２，２４３及び偏光板２４１，２４４が貼着される。液晶表示装置２００の最も背面側にはバックライト２４０が配置される。このバックライト２４０としては、ＬＥＤなどの光源が側方に配置され、この光源から放出された光を端面から導入して前面から放出するように構成された導光板を上記パネル構造と平面的に重なるように配置したサイドライト型のバックライトであることが好ましい。
【００３９】
本実施形態では、図２に示すように、バックライト２４０から照射された照明光の一部が開口部２１３ａを通して透過してなる透過光Ｔにより透過表示が実現される。また、外光Ｏが入射して反射層２１３によって反射されてなる反射光Ｒによって反射表示が実現される。このとき、外光Ｏの一部は画素間領域において傾斜反射面２１３ｔによって反射され、偏向されて反射光Ｒ′となる。しかし、この反射光Ｒ′は、傾斜反射面２１３ｔが傾斜していることによって、画素領域Ｐで反射される反射光Ｒとは異なり、視認者の視野に入ってこないように設定される。したがって、画素間領域は傾斜反射面２１３ｔによって実質的に遮光されたことになる。この遮光効果は、当然のことながら反射表示だけでなく透過表示においても得られる。これは、画素間領域において照明光が傾斜反射面２１３ｔによって遮光されるからである。
【００４０】
図４（ａ）は、上記実施形態の反射層２１３に設けられた傾斜反射面２１３ｔの構造を示す拡大断面図である。傾斜反射面２１３ｔは、図２に示す画素領域Ｐの間に設定された画素間領域ＢＲに形成される。傾斜反射面２１３ｔの形成された画素間領域ＢＲは、図１０に示す従来構造では、遮光積層部１１４Ｂの複数回のパターニングずれの重畳により約１０μｍ程度の幅を有するものとなっていたが、本実施形態では、下地層２１２の１回のパターニングで傾斜表面２１２ｔが形成されることから、パターニングずれが大幅に低減されるため、その結果、画素間領域ＢＲの幅を約５〜６μｍ程度に設定することが可能になった。これによって、液晶表示装置２００の開口率を実質的に向上させることが可能になり、表示の明るさを増大せしめることが可能になる。
【００４１】
また、傾斜反射面２１３ｔの傾斜角度は、その遮光性能を勘案すると、５〜９０度の範囲内であることが好ましく、特に、１０〜９０度の範囲内であることが望ましい。しかしながら、実際には、傾斜角度が大きくなると段差量が増大するとともに、反射層の成膜時における被覆特性に起因して反射面の形成が困難になるため、これを考慮すると、５〜５０度の範囲内であることが好ましく、特に、１０〜４５度の範囲内であることが望ましい。
【００４２】
上記のように画素間領域ＢＲの幅方向に片傾斜の単一の傾斜反射面２１３ｔを形成する場合には、下地層２１２の厚さ（段差量）と画素間領域ＢＥの幅とによって傾斜角度の限界が決まってしまう。そこで、段差量を増大させることなく傾斜角度をある程度大きくするには、図４（ｂ）及び（ｃ）に示すように画素間領域ＢＲ内に複数の傾斜反射部を設ける方法が考えられる。図４（ｂ）に示す例では、画素間領域ＢＲ内において断面Ｖ字状に形成された一対の傾斜反射面２１３ｔ′を備えたものである。たとえば、下地層２１２に断面Ｖ字状の凹部（凹溝）２１２ｔ′を形成し、この凹部（凹溝）２１２ｔ′上に反射層を形成することによって一対の傾斜反射面２１３ｔ′が形成される。また、図４（ｃ）に示す例は、画素間領域ＢＲの幅方向に二つの片傾斜の傾斜反射面２１３ｔ″を設けたものである。この場合にも、下地層２１２″に複数の傾斜表面部２１２ｔ″を形成し、その上に反射層を形成するだけで構成できる。
【００４３】
また、図４（ｄ）に示すように、上記実施形態とは逆に、傾斜表面２１８ｔを備えた下地層２１８を画素間領域ＢＲ上にのみ形成し、その上に反射層２１９を形成することによって傾斜反射面２１９ｔを形成してもよい。この場合においても、図４（ｅ）及び（ｆ）に示すように、山形に構成された一対の傾斜表面２１８ｔ′又は複数の片傾斜の傾斜表面２１８ｔ″を備えた下地層２１８′又は２１８″を画素間領域ＢＲにのみ形成し、その上に反射層２１９′又は２１９″を形成することにより、画素間領域ＢＲ内に、山形に形成された一対の傾斜反射面２１９ｔ′又は複数の片傾斜の傾斜反射面２１９ｔ″を設けてもよい。
【００４４】
なお、上記各構成例は、いずれも画素間領域ＢＲの幅方向に傾斜した傾斜反射面を形成した例を示すものであるが、画素間領域ＢＲの延長方向に傾斜した複数の傾斜反射面を連続して形成しても構わない。
【００４５】
上記のように、本発明においては、画素間領域ＢＲの幅方向に複数の傾斜反射面を設けることによって傾斜角度をある程度自由に設定することができる。したがって、傾斜角度を最適化することにより遮光性能を向上できる。また、傾斜角度を低下させることなく、傾斜反射面の段差量を低減することが可能になる。したがって、傾斜反射面を形成することによる表面段差を低減でき、平坦化できるため、表示品位への影響を低減できる。
【００４６】
なお、本実施形態においては、上記の傾斜反射面２１３ｔ上に着色層２１４が形成されていないが、傾斜反射面２１３ｔ上に着色層２１４が形成されていても構わない。通常、着色層２１４と保護膜２１５の屈折率の差はほとんどないため、視野から反れる反射光の着色の有無を除いて光学的にはほとんど差異は生じない。
【００４７】
図７は、本実施形態の反射層の拡大断面図である。上述のように、画素領域内の反射層２１３には、微細な凹凸で構成される散乱性反射面が形成されている。これは、外光Ｏが入射して反射層２１３で反射されたときに、反射光Ｒを散乱させて幻惑や背景の写り込みなどを防止するために形成したものであるが、表示の明るさを高めるとともに、コントラストを向上させる効果も有する。ところが、本実施形態の場合には、画素間領域に設けられた傾斜反射面２１３ｔは非散乱性反射面となっており、散乱性反射面のような微小な凹凸が存在しない。したがって、傾斜反射面２１３ｔによって反射された光はほとんど散乱されず、傾斜反射面２１３ｔの傾斜角度に従った角度で反射される正反射光Ｒ′となる。したがって、傾斜反射面２１３ｔの正反射光が視野から外れるように傾斜角度が設定されている限り、画素間領域からの反射光が視認者に感じられることはなく、画素間領域は実質的に遮光された状態となる。
【００４８】
なお、傾斜反射面２１３ｔの傾斜方向は、表示装置が電子機器に搭載されたときに、外光の主な入射方向と、視認者の視認方向とを勘案して、傾斜反射面２１３ｔで反射される正反射光が視野から外れるように設定されていればよい。ただし、視認者から見て左右方向に向くように構成されることが好ましい。これによって、外光の正反射光を視認者の視野から容易に外すことができるだけでなく、視認者の横にいる人から画面が見にくくなるように構成することができるため、表示の秘匿性を高めることができるという利点がある。
【００４９】
［第２実施形態］
次に、図５及び図６を参照して本発明に係る第２実施形態について説明する。この実施形態の液晶表示装置３００は、上記第１実施形態と同様の、バックライト３４０、偏光板３４１，３４４、位相差板３４２，３４３を備えている。また、第１基板３１０と第２基板３２０との間に液晶ＬＣが配置されている点も上記第１実施形態と同様である。
【００５０】
第１基板３１０には、ガラスやプラスチックで構成された基材３１１上に第１実施形態と同様の下地層３１２が形成され、この下地層３１２上に反射層３１３が形成されている。反射層３１３には、画素領域Ｐ毎に開口部３１３ａが形成されている。また、反射層３１３は、画素間領域において傾斜反射面３１３ｔ、３１３ｓを備えている。傾斜反射面３１３ｔは基本的に第１実施形態と同様に構成されている。また、傾斜反射面３１３ｓは、傾斜反射面３１３ｔと直交する方向に帯状に形成されている。すなわち、本実施形態では、縦横にマトリクス状に配列された画素領域Ｐの所定方向に伸びる画素間領域に傾斜反射面３１３ｔが形成され、上記所定方向と直交する方向に伸びる画素間領域に傾斜反射面３１３ｓが形成されている。
【００５１】
反射層３１３上には絶縁層３１４が形成されている。この絶縁層３１４の上には配線３１５が形成され、この配線３１５に接合する電極層３１６及び透明電極３１６が画素領域Ｐ毎に形成されている。配線３１５と電極層３１６との間には第１実施形態と同様の絶縁膜が形成され、これによってＴＦＤ構造或いはＭＩＭ構造を備えた非線形素子が構成されている。なお、透明電極３１７の上には配向膜３１８が形成される。
【００５２】
一方、第２基板３２０には、基材３２１の上にストライプ状の透明電極３２２が形成され、その上に絶縁層３２３が形成される。絶縁層３２３の上には、画素領域Ｐ毎に着色層３２４が形成される。着色層３２４は上記第１実施形態と同様に画素領域Ｐ毎に配置され、複数色のフィルタ材料で構成される着色層３２４が所定のパターンにて配列されてカラーフィルタを構成している。着色層３２４の上には保護膜３２５が形成されている。この保護膜３２５の上には配向膜３２６が形成されている。
【００５３】
この実施形態では、第１基板３１０に反射層３１３が形成され、第２基板３２０にカラーフィルタが形成されている点で、第１基板２１０に反射層及びカラーフィルタが形成されている第１実施形態とは異なる。また、第１基板３１０に反射層及びアクティブ素子が形成されている点で、第１基板に反射層が形成され、第２基板にアクティブ素子が形成されている第１実施形態とは異なる。しかしながら、本実施形態においても、上記第１実施形態と同様に画素間領域において傾斜反射面３１３ｔ，３１３ｓによる遮光がなされるため、上記と同様の効果を奏することができる。
【００５４】
［その他の構成例］
本発明においては、画素間領域に傾斜反射面を設けることにより、画素間領域で反射されてなる反射光を視野から外し、これによって実質的な遮光を行うように構成することに特徴を有する。したがって、遮光性能に着目するとき、傾斜反射面は、上記実施形態のように反射層の一部として構成されたものである必要はなく、また、液晶ＬＣのような電気光学層の背後に配置されている必要もない。また、上記実施形態ではＴＦＤ素子（ＭＩＭ素子）を備えたアクティブマトリクス型パネルを有するが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を備えたアクティブマトリクス型パネルとすることもできる。さらに、パッシブマトリクス型パネル構造にも本発明を適用することができる。
【００５５】
［電子機器］
最後に、図８及び図９を参照して、本発明に係る電子機器の実施形態について説明する。この実施形態では、上記表示装置（液晶表示装置２００）を表示手段として備えた電子機器について説明する。図８は、本実施形態の電子機器における液晶表示装置２００に対する制御系（表示制御系）の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、表示情報出力源２９１と、表示情報処理回路２９２と、電源回路２９３と、タイミングジェネレータ２９４とを含む表示制御回路２９０を有する。また、上記と同様の液晶表示装置２００には、表示領域２００Ａを駆動する駆動回路２００Ｂが設けられている。この駆動回路２００Ｂは、通常、液晶パネルに直接実装されている半導体ＩＣチップ、パネル表面上に形成された回路パターン、或いは、液晶パネルに導電接続された回路基板に実装された半導体ＩＣチップ若しくは回路パターンなどによって構成される。
【００５６】
表示情報出力源２９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路２９２に供給するように構成されている。
【００５７】
表示情報処理回路２９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路２９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００５８】
図９は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話の外観を示す。この電子機器１０００は、操作部１００１と、表示部１００２とを有し、表示部１００２の内部に回路基板１１００が配置されている。回路基板１１００上には上記の液晶表示装置２００が実装されている。そして、表示部１００２の表面において上記表示領域２００Ａを視認できるように構成されている。
【００５９】
このように構成された電子機器１０００においては、通常、図示の状態で表示領域２００Ａの正面に利用者が存在し、表示領域２００Ａを斜め上方に向けた姿勢で用いられる。このとき、外光は主として上方若しくは利用者側に傾斜した斜め上方から入射するため、この入射方向から入射した外光が正反射した場合に利用者の視野に入らないように上記傾斜反射面の傾斜方向及び傾斜角度が設定される。
【００６０】
尚、本発明は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。たとえば、上記実施形態では、表示装置（電気光学装置）の一例として液晶表示装置２００について説明したが、本発明は液晶装置に限定されるものではなく、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッション表示装置など、種々の電気光学装置、その他の表示装置にも適用できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図２】第１実施形態の液晶表示装置の断面構造を示す拡大部分断面図。
【図３】第１実施形態の第１基板の平面構造を示す平面図（ａ）及び断面図（ｂ）。
【図４】傾斜反射面の構成態様を示す概略断面図（ａ）〜（ｆ）。
【図５】第２実施形態の液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図６】第２実施形態の液晶表示装置の断面構造を示す拡大部分断面図。
【図７】傾斜反射面の近傍を示す拡大部分断面図。
【図８】電子機器の表示制御系の構成を示す概略構成ブロック図。
【図９】電子機器の外観を示す概略斜視図。
【図１０】従来の液晶表示装置の部分断面を示す拡大部分断面図。
【符号の説明】
２００…液晶表示装置、２１０…第１基板、２１１…基材、２１２…下地層、２１３…反射層、２１３ａ…開口部、２１３ｔ…傾斜反射面、２１４…着色層、２１５…保護膜、２１６…透明電極、２２０…第２基板、２２１…基材、２２２…配線、２２３…絶縁膜、２２４…電極層、２２５…透明電極、ＬＣ…液晶
【図１】
2004271723.tif 000003
【図２】
2004271723.tif 000004
【図３】
2004271723.tif 000005
【図４】
2004271723.tif 000006
【図５】
2004271723.tif 000007
【図６】
2004271723.tif 000008
【図７】
2004271723.tif 000009
【図８】
2004271723.tif 000010
【図９】
2004271723.tif 000011
【図１０】
2004271723.tif 000012