(57)【要約】【課題】簡易かつ低コストで生産性よく製造することができ、しかも透光性と電磁波のシールド効果の両方に優れるととも良好で品質の安定した、透光性電磁波シールド部材を提供する【解決手段】透明基板の表面に、銀を主成分とする導電材料を先端部面積１００μｍ２以下のノズルから連続あるいはパルス状に吐出して印刷して形成した、線幅が１〜１０μｍで、かつ式（１）０．００５≦Ｓｐ／Ｓ０≦０．１　（１）〔式中Ｓ０は、透明基板の表面における印刷された領域の全表面積、Ｓｐは印刷パターン領域の全表面積を示す。〕を満足する、ストライプ状またはストライプの集合からなる印刷パターンにより電磁波シールドパターンが構成されたことを特徴とする透光性電磁波シールド部材。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の表面に、銀を主成分とする導電材料を先端部面積１００μｍ２以下のノズルから連続あるいはパルス状に吐出して印刷して形成した、線幅が１〜１０μｍで、かつ式（１）
０．００５≦Ｓｐ／Ｓ０≦０．１　（１）
〔式中Ｓ０は、透明基板の表面における印刷された領域の全表面積、Ｓｐは印刷パターン領域の全表面積を示す。〕
を満足する、ストライプ状またはストライプの集合からなる印刷パターンにより電磁波シールドパターンが構成されたことを特徴とする透光性電磁波シールド部材。
【請求項２】
前記銀を主成分とする導電材料が、銀イオンまたは銀錯体イオンと、還元剤とを含んでなるものであり、前記透明基板の表面上に還元された金属銀により電磁波シールドパターンが形成されることを特徴とする請求項１記載の透光性電磁波シールド部材。
【請求項３】
前記銀を主成分とする導電材料が、銀錯体を含む溶液と、還元剤を含む溶液からなり、これらの溶液がそれぞれ異なる複数のノズルより吐出され、前記透明基板の表面上で混合され、還元された金属銀が析出されることを特徴とする請求項１または２記載の電磁波シールド部材。
【請求項４】
上記ストライプ状のパターンのそれぞれが、１本あたり、ノズルと透明基板の相対的な移動方向と略同一線上に設けられた複数のノズルから吐出された導電材料の複層からなるものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の透光性電磁波シールド部材。
【請求項５】
ノズルと透明基板の相対的な移動方向と略同一線上に設けられた複数のノズルの少なくとも片端のノズルから、暗色のインクを吐出して、電磁波シールドパターンの少なくとも一面を暗色としてなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の透光性電磁波シールド部材。
【請求項６】
前記導電材料及び暗色のインクの吐出が、前記ノズル内の材料に電圧を印加するとともに、前記透明基板をノズルに近接させることにより液滴が吐出されるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の透光性電磁波シールド部材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばＣＲＴ（ブラウン管）、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）等の表示画面から照射される電磁波を効果的にシールド（遮蔽）し、しかも、表示の視認性を阻害しないために透光性にも優れた透光性電磁波シールド部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子機器類などから放射される電磁波が人体に与える影響について種々の報告がなされており、それに伴って例えばＣＲＴ（ブラウン管）、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）等の表示画面から照射される電磁波を効果的にシールド（遮蔽）する技術について関心が高まっている。通常の電気機器などから放射される電磁波をシールドするためには、その筐体を金属製にするか、あるいは筐体に金属板を貼り付けるといった方法が行われる。
【０００３】
しかし、上記ＣＲＴやＰＤＰの表示画面から照射される電磁波をシールドするためには、ただ単に電磁波のシールド効果に優れるだけでなく、上記表示画面の表示の視認性を阻害しないために可視光の透過性（透光性）にも優れることが求められるので、金属板をそのまま使用することはできない。そこで、ＣＲＴ等の表示画面から照射される電磁波を、表示の視認性を阻害することなくシールドすることを目的として、例えば
（１）　導電性の高い金属フィラメントを混入した繊維からなるメッシュ、
（２）　ステンレス、タングステン等の導電性材料の繊維を内部に埋め込んだ透明基板、
（３）　表面に金属または金属酸化物の蒸着膜を形成した透明基板
【０００４】
しかし、上記のうち（１）のメッシュを用いると表示画面が暗くなって、コントラストや解像度が低下するという問題がある。また（２）の透明部材は内部に繊維が埋め込まれていることから、製造方法が複雑になってコストが高くつく上、やはり表示画面が暗くなって、コントラストや解像度が低下するという問題がある。さらに（３）の場合には、充分な透光性を維持し得る程度にまで蒸着膜を薄くすると、当該膜の表面抵抗が低下して電磁波の減衰特性が低下することから、透光性とシールド効果とを両立できないという問題がある。
【０００５】
ＣＲＴ等の表示画面を覆って電磁波をシールドする部材としては、上記例示の他にも例えば、透明基板の表面に、導電性の高い金属粉末を混合したインキを、スクリーン印刷法によって格子状または縞状のパターンに印刷形成したもの（例えば、特許文献１、特許文献２参照）や、導電性インキからなる網目状のパターンを、スクリーン印刷法によって印刷形成したのち真空中で焼き付けたもの（例えば、特許文献３参照）、あるいは紫外線硬化型エポキシアクリレート樹脂に金属粉末を混合したインキを、印刷法は不明であるが透明基板の表面に、格子状に印刷形成したのち紫外線を照射して硬化したもの（特許文献４参照）などが知られている。
また、透明プラスチック基板の表面に、金属薄膜を蒸着等によって形成した後、ケミカルエッチングプロセスによってパターニングする旨の記載（例えば、特許文献５参照）があり、また、金属薄膜からなる幾何学模様を、これもケミカルエッチングプロセスによって透明基板の表面に設ける旨の記載（例えば、特許文献６参照）がある。また同様に、透明基板の表面にめっき触媒を含む透明樹脂塗膜を形成し、その上に無電解めっきによって銅などの金属薄膜を形成したのち、やはりケミカルエッチングプロセスによってパターニングする旨の記載（特許文献７参照）がある。
また、凹版オフセット印刷法によって、被印刷物としての透明基板の表面に、導電性インキ組成物からなる、線幅５〜４０μｍの微細な印刷パターンを印刷したのち、２５０〜６００℃で焼成することによって、厚みが０．５〜５０μｍの電磁波シールドパターンを得る旨の記載（例えば、特許文献８参照）がある。
【０００６】
【特許文献１】
特開昭６２−５７２９７号公報
【特許文献２】
特開平９−２８３９７７号公報
【特許文献３】
特開平２−５２４９９号公報
【特許文献４】
特公平２−４８１５９号公報
【特許文献５】
特開平３−３５２８４号公報
【特許文献６】
特開平１０−４１６８２号公報
【特許文献７】
特開平１０−１６３６７３号公報
【特許文献８】
特開２００２−５７４９０号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献１〜４に記載のの部材を用いても、充分な電磁波のシールド効果と透光性とを両立することはできない。
すなわち、優れた電磁波のシールド効果と透光性とを両立するには、パターンの線幅とパターンの間隙（ピッチ）とを最適化し、さらにパターンの電気抵抗を小さくする必要があるが、このような観点に対する考慮は、上記各公報のいずれに記載の技術においてもなされておらず、またパターンの作成方法に対する考慮も不充分であると考えられる。例えば充分な透光性を得るには、パターンの線幅を極めて細くし、かつその間隔を大きくするのが好ましいが、この場合にはシールド効果が不充分になる。また、スクリーン印刷法によって数１０μｍ以下といった極めて細い線幅のパターンを形成するのは困難であって、パターンの線幅にばらつきが生じたり、パターンが途切れる箇所が多数発生したりするといった問題が生じる。
【０００８】
特許文献４に記載のものについても、その実施例ではパターンの線幅が１００μｍとなっていることから、やはりスクリーン印刷法等の従来法にて印刷を行っているものと推測され、１０μｍ以下といった極めて細い線幅のパターンを形成するのは困難であって、上記のようにパターンの線幅にばらつきが生じたり、パターンが途切れる箇所が多数発生したりするといった問題がある。
【０００９】
一方、シールド効果を高めるには、パターンの電気抵抗を極力低くすることが好ましいが、金属粉末と樹脂とからなる一般的な導電性ペーストをインキとして用いた場合、極めて細いパターンを形成した際に、パターン間の電気抵抗が非常に高くなってしまって、シールド効果を充分に高めることが困難になる。
【００１０】
また、単に上記従来の金属粉末と樹脂とからなる導電ペーストによりパターンを形成した場合、金属光沢によりコントラストの低下を招くおそれがあるが、これを抑制するために、導電性のカーボンブラックを金属粉末と併用して、印刷パターンを黒くすることが考えられるが、カーボンブラックは金属粉末に比べて抵抗値が高いために、併用すると印刷パターンの導電性が低くなって電磁波のシールド性が悪くなるという問題がある。また特にＰＤＰ用途では厳しい電磁波シールド性能が要求されているとともに、今後その要求がますます厳しくなることが予想されており、上記の、金属粉末やカーボンブラックを主とする導電性ペーストのみにてパターン形成されたシールド部材では、この要求に対応する十分なシールド性能が得られなくなりつつあるという問題もある。
【００１１】
特許文献５〜７に記載の方法によれば、非常に微細なパターンを高い精度でもって形成することができる上、特にＰＤＰ用途で要求される厳しい電磁波シールド性能を達成することもできる。しかしながらケミカルエッチングプロセスにおいては、かかる微細なパターンを形成するためにフォトリソグラフ法を用いる必要があり、製造コストが極めて高くつくため、コスト面で不利である。特に、ＰＤＰ等の大型画面に対応させるためには露光装置やエッチング装置を大型化しなければならず、製造設備が非常に高価になる。
また、透明基板の表面に一旦、形成した金属薄膜の大部分を除去する必要があって無駄が多い上、エッチング後の廃液の処理に時間と手間と費用とがかかるという問題もある。
【００１２】
特許文献８に記載の方法は、一見、材料の無駄も少なく、簡易な工程で製造可能であるが、凹版に対するインクの充填性、被印刷物に対するインクの転写性、凹版の汚れへの対策等、管理項目が多く、ＰＤＰパネル等の大きな面積全面にわたって十分な特性を安定的に得ることは非常に困難であった。
【００１３】
上述のように、従来の透光性電磁波シールド部材は、透光性と電磁波シールド特性の両方を満足することは困難であり、また、これらを満足するものにおいては、生産性、品質安定性の点で問題があり、これら全てにおいて満足し得るものではなかった。
すなわち、本発明の目的は、簡易かつ低コストで生産性よく製造することができ、しかも透光性と電磁波のシールド効果の両方に優れるとともに良好で品質の安定した、透光性電磁波シールド部材を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための、本発明の透光性電磁波シールド部材は、透明基板の表面に、銀を主成分とする導電材料を先端部面積１００μｍ２以下のノズルから連続あるいはパルス状に吐出して印刷して形成した、線幅が１〜１０μｍで、かつ式（１）
０．００５≦Ｓｐ／Ｓ０≦０．１　（１）
〔式中Ｓ０は、透明基板の表面における印刷された領域の全表面積、Ｓｐは印刷パターン領域の全表面積を示す。〕
を満足する、ストライプ状またはストライプの集合からなる印刷パターンにより電磁波シールドパターンが構成されたことを特徴とする。
【００１５】
また、前記銀を主成分とする導電材料が、銀イオンまたは銀錯体イオンと、還元剤とを含んでなるものであり、前記透明基板の表面上に還元された金属銀により電磁波シールドパターンが形成されることを特徴とする。
【００１６】
また、前記銀を主成分とする導電材料が、銀錯体を含む溶液と、還元剤を含む溶液からなり、これらの溶液がそれぞれ異なる複数のノズルより吐出され、前記透明基板の表面上で混合され、還元された金属銀が析出されることを特徴とする。
【００１７】
また、上記ストライプ状のパターンのそれぞれが、１本あたり、ノズルと透明基板の相対的な移動方向と略同一線上に設けられた複数のノズルから吐出された導電材料の複層からなるものであることを特徴とする。
【００１８】
また、ノズルと透明基板の相対的な移動方向と略同一線上に設けられた複数のノズルの少なくとも片端のノズルから、暗色のインクを吐出して、電磁波シールドパターンの少なくとも一面を暗色としてなることを特徴とする
【００１９】
また、前記導電材料及び暗色のインクの吐出が、前記ノズル内の材料に電圧を印加するとともに、前記透明基板をノズルに近接させることにより液滴が吐出されるものであることを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明に使用される透明基板としては、ガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、あるいはこれらを含む複合体が例示されるが、製造工程内での安定性、経時の安定性、特に変形等を生じる恐れが少ないことからガラス基板が好適に使用される。
【００２１】
ガラス基板としては、例えばソーダライムガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等の各種ガラス製の基板が挙げられる。透明基板の厚みは特に限定されないが、電磁波シールド部材の透光性を維持するという観点からすると薄いほど好ましく、通常は、使用時の形態や必要とされる機械的強度に応じて０．０５〜５ｍｍの範囲で適宜、厚みが設定される。
【００２２】
本発明に使用される銀を主成分とする導電材料は、最大粒径１００ｎｍ以下の銀粒子を適宜の分散媒に分散させたものや、銀イオンまたは銀錯体イオンと、還元剤とを含むもの、銀錯体を含む溶液と、還元剤を含む溶液との２液からなるもの等を例示することができる。
【００２３】
特に、銀イオンまたは銀錯体イオンと、還元剤とを含むもの、銀錯体を含む溶液と、還元剤を含む溶液との２液からなるものとすることで、高温を要せず導電パターンを得ることが可能であり、特に２液を異なる複数のノズルより吐出し、透明基板の表面上で混合、還元された金属銀が析出するようにすれば、常温での製造が可能となるという利点がある。
【００２４】
ここで、銀イオンまたは銀錯体イオンと、還元剤とを含む導電材料としては、硝酸銀、有機酸銀、銀アンミン錯体等の銀イオンまたは銀錯体イオンと、還元末端を有する有機化合物とからなるものとすることが良い。還元剤として上記の材料を使用するのは、一液状態での安定性を確保するためであり、例えば、ヒドロキシプロピルセルロースが好適なものとして例示される。この場合、導電材料の吐出、描画後に、１００〜２００℃程度の温度で加熱処理することで、銀イオンまたは銀錯体が還元され、金属銀を生じ、電磁波シールドパターンを得ることができる。
【００２５】
導電材料として、銀錯体を含む溶液と、還元剤を含む溶液の２液とする場合は上記のように液の安定性にとらわれる必要は無く、銀錯体としては、銀アンミン錯体を好適なものとして例示でき、還元剤としては、ブドウ糖、果糖、ショ糖、麦芽糖等の各種糖類、アスコルビン酸、ビタミンＥ等が例示される。この場合、上述したとおり、還元反応は常温領域で進行し、金属銀による電磁波シールドパターンが得られる。必要に応じて水洗等の処理を行うことは任意である。
【００２６】
印刷パターンの線幅を１〜１０μｍの範囲とするのは、この範囲を下回ると、たとえ導電材料として金属銀を使用していても十分な導電性が得られがたく、電磁波シールド性能の劣るものとなるためであり、この範囲を上回ると、表示体本体との干渉によるモアレを生じやすくなるためである。
【００２７】
また、印刷パターン領域の全表面積（Ｓｐ）の、透明基板の表面における印刷された領域の全表面積（Ｓ０）に占める割合（Ｓｐ／Ｓ０）を０．００５〜０．１の範囲とすることが必要であり、これは、この範囲を下回ると、表面抵抗率が低下し、十分な電磁波シールド効果が得られ難く、この範囲を上回ると、透光性が不十分となり、品位の高い表示体を得ることが難しくなるためである。
【００２８】
印刷パターンは、ストライプ状またはストライプの集合からなるものとする。これは、本発明が通常のインクジェット印刷と異なり、数μｍの線幅の連続したパターンを欠陥無く得なければならないため、１回の連続した基板あるいはノズルの移動動作において、一組のノズルは上記移動方向に１本のみ線を描くようにすることで、基板及びノズルの移動における機械的精度の影響を受けにくくするためである。ノズルの先端部面積は１００μｍ２以下である必要がある。これによりノズルから吐出した導電材料で数μｍ幅のパターンを印刷可能となる。
【００２９】
上記ストライプ状のパターンのそれぞれは、１本あたり、ノズルと透明基板の相対的な移動方向と略同一線上に設けられた複数のノズルから導電材料を吐出することでより高い導電性を得ることが可能となると共に、たとえノズルが詰まる等の不具合を生じたとしても、他のノズルから吐出された導電材料がこれを補い、全体としてはあまり影響を受けることなく、安定して製造を行うことが可能となる。
【００３０】
さらに、上記ノズルと透明基板の相対的な移動方向と略同一線上に設けられた複数のノズルの少なくとも片端のノズルから、暗色のインクを吐出して、電磁波シールドパターンの少なくとも一面を暗色とすることで、コントラストの優れた透光性電磁波シールド部材を得ることができる。この際も、一番端だけではなく、端部の複数個を暗色インク用とすることで、ノズル詰まりによる不良の発生を抑制することが可能となる。
【００３１】
微細ノズルからの液状材料の吐出は、ピエゾ方式やバブルジェット方式等の内圧を印加する方法、静電気的な力により液状材料を基板に引き寄せる方法が挙げられるが、本発明においては非常に微細な線を描画する必要があり、このためノズルの先端部面積も１００μｍ２以下と非常に微細であるため、内圧を印加する方法では、かなりの圧を要し、安定した吐出を得ることが困難であること、静電気的な力を利用すれば、基板と吐出液滴との間の鏡像効果により安定した着液が得られることから、静電気的な力を利用した方法とすることが好ましい。
【００３２】
具体的な方法としては、ノズル内の材料に電圧を印加するとともに、前記透明基板を相対的にノズルに近接させることにより液滴が吐出される。
このときの電圧印加のレベルは、例えば、ノズル先端の直径が１μｍで、吐出する材料の表面張力が１０〜８０ｄｙｎ／ｃｍのレベルである場合、基板とノズルの距離が５〜１００μｍの範囲で、おおよそ数百Ｖのレベルである。
【００３３】
上述の構成にすることにより、所望のパターン部のみに導電材料による電磁波シールドパターンを形成できるので材料の無駄が無く、また、線幅が１０μｍ以下という微細な線を描画できるので透光性に非常に優れた電磁波シールド部材を得ることができる。
【００３４】
また、導電材料として導電性の高い銀を用い、さらに、銀イオンまたは銀錯体の還元反応を利用し、透明基板上で金属銀が析出されることで、微細ノズルから吐出可能かつ高い導電性を得ることができる。
【００３５】
また、ストライプ状のパターンのそれぞれが、１本あたり、ノズルと透明基板の相対的な移動方向と略同一線上に設けられた複数のノズルから吐出された導電材料の複層からなるものとすることで、繰り返しの積層では非常に困難である数μｍレベルの重ねあわせ精度を実現でき、異なる種類の液滴の吐出が可能となり、前記銀錯体と還元剤を別々に吐出すれば、常温レベルでの銀の還元が可能となり、製造工程の簡素化ができると共に、これら複数のノズルの少なくとも片端のノズルから、暗色のインクを吐出して、電磁波シールドパターンの少なくとも一面を暗色とすることで、コントラストの優れた透光性電磁波シールド部材を得ることができる。
【００３６】
さらに、各材料の吐出に際し、ノズル内の材料に電圧を印加するとともに、前記透明基板をノズルに近接させることにより液滴が吐出されるものとすることで、ノズル内材料への格別の加圧を必要とせず、液状材料が吐出可能な上、電荷を帯びた液滴が、透明基板に対する鏡像効果で飛翔するので、外的な影響を殆んど受けずにノズル先端から基板に向かって最短距離で到達し、着液位置のばらつきが非常に少ない、高精度のパターンを得ることが可能となる。
【００３７】
【実施例】
以下に、実施例、比較例を用いて、本発明をさらに詳しく説明する。なお、各実施例、比較例で製造した透光性電磁波シールド部材について、以下の各試験を行って、その特性を評価した。
なお、透明基板は全て厚さ２．５ｍｍのソーダライムガラスを使用し、評価数は１００とした。また、パターンはすべてピッチ２００μｍの格子とし、１５°のバイアスを設けた。吐出ノズルは先端部内直径１μｍ（面積０．７８５μｍ２）線１本あたり１０本で一組とし、これが０．２ｍｍピッチで１００組が平行に並んだ構造とした。
【００３８】
電磁波シールド効果試験：各実施例、比較例の透光性電磁波シールド部材を縦２０ｃｍ×横２０ｃｍに切り出し、アドバンテスト法によって、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲の電磁波の減衰率（ｄＢ）を測定して、上記周波数範囲での、各サンプルの電磁波シールド効果を評価した。
【００３９】
なお後述する表には、シールド効果の指標として、周波数２００ＭＨｚでの電磁波の減衰率（ｄＢ）を、下記の評価基準で評価した結果を示す。
【００４０】
（評価基準）
××：０〜１０ｄＢ
×：１０〜２０ｄＢ
△：２０〜４０ｄＢ
○：４０〜５０ｄＢ
◎：５０ｄＢ超
【００４１】
透光性試験：各実施例、比較例の透光性電磁波シールド部材における、可視光線（波長４００〜７００ｎｍ）の分光透過率を測定した。そしてその最低値を指標として、各透光性電磁波シールド部材の透光性を、下記の評価基準で評価した。
【００４２】
（評価基準）
××：０〜５０％
×：５０〜７０％
△：７０〜８０％
○：８０〜９０％
◎：９０％超
【００４３】
視認性試験：各実施例、比較例の透光性電磁波シールド部材を、電磁波シールドパターンを内側にして、ＰＤＰパネルの表示画面に、アクリル系透明粘着剤を介して接着したのち、表示画像の視認性を下記の基準で評価した。
【００４４】
（評価基準）
×：全面にわたってムラ（モアレを含む。以下同様。）やメッシュが見られた。
△：かすかにムラやメッシュが見られた。
○：ムラやメッシュは全く見られなかった。またコントラストも十分に高く、良好な画像が得られた。
◎：ムラやメッシュが全く見られない上、コントラストが著しく高く、きわめて良好な画像が得られた。
【００４５】
各実施例、比較例の材料、構成、パターン形成方法、製造条件を以下に示す。
【００４６】
＜実施例１＞
導電材料としてハリマ化成製「Ａｇナノペースト」を使用し、上記ノズルより、±２００Ｖ、周波数５ｋＨｚの矩形波を印加し、基板とノズル先端との距離５０μｍで各線１０層で基板上に平均線幅およびＳＰ／Ｓ０が下記表１に記載の値となるパターンを描画を行った。さらにこのものを２００℃６０分処理して、本発明の透光性電磁波シールド部材を得た。
【００４７】
＜実施例２＞
導電材料として硝酸銀の５０％水溶液１００ｇに、ヒドロキシプロピルセルロース「ＨＰＣ−ＳＳＬ」（日本曹達製、商品名）の１０％水溶液２５ｇ添加したものを使用し、上記ノズルより、±２００Ｖ、周波数５ｋＨｚの矩形波を印加し、基板とノズル先端との距離５０μｍで各線１０層で平均線幅およびＳＰ／Ｓ０が下記表１に記載の値となるパターンの描画を行った。さらにこのものを２００℃６０分処理して、本発明の透光性電磁波シールド部材を得た。
【００４８】
＜実施例３＞
導電材料として硝酸銀の５０％水溶液１００ｇに濃アンモニア水を、一旦白色沈殿を生じ、これが再溶解するまで加えて銀アンミン錯体溶液を得た。このものを、奇数番目のノズルにつながるタンクに充填した。偶数番目のタンクには、アスコルビン酸の２０％水溶液を充填した。上記ノズルより、±２００Ｖ、周波数５ｋＨｚの矩形波を印加し、基板とノズル先端との距離５０μｍで各線５層（２液×５層＝１０ノズル使用）で平均線幅およびＳＰ／Ｓ０が下記表１に記載の値となるパターンの描画を行い、本発明の透光性電磁波シールド部材を得た。
【００４９】
＜実施例４＞
導電材料として実施例２と同様の材料を用い、両端のノズルに黒インクを充填し、実施例２と同条件で平均線幅およびＳＰ／Ｓ０が下記表１に記載の値となるパターンの描画を行った。導電層の層数は８層の、本発明の透光性電磁波シールド部材を得た。
【００５０】
＜実施例５＞
導電材料として実施例２と同様の材料条件で、導電層数４層とし、平均線幅およびＳＰ／Ｓ０が下記表１に記載の値となるパターンを挿画した以外は実施例２と同様にして、本発明の透光性電磁波シールド部材を得た。
【００５１】
＜比較例１＞
導電材料として、実施例１と同様の材料を用い、実施例１と同様の配列を持つ先端断面２０μｍ□のピエゾ方式インク吐出装置により、各線１０層で描画を行った。さらにこのものを２００℃６０分処理して、透光性電磁波シールド部材を得た。平均線幅およびＳＰ／Ｓ０は下記表１に記載の値となった。
【００５２】
実施例１〜５、比較例１で得た透光性電磁波シールド部材を評価した。評価結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
2004134511.tif 000002
【００５４】
各実施例においてはすべての評価で優れた性能が得られたが、比較例においては、透光性、視認性で評価が低く、特に視認性においてはモアレの発生が著しく、使用に耐えるものではなかった。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、透光性と電磁波のシールド効果の両方に優れるととも良好で品質の安定した、透光性電磁波シールド部材の提供が可能となる。