(57)【要約】【課題】高い光学分割能力と十分な耐溶媒性を兼ね備えた光学異性体用分離剤が得られる製造方法の提供。【解決手段】光学異性体用分離剤の製造方法であり、多孔質担体と光学活性な高分子化合物のドープとを接触させ、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させる工程、その後、放射線を照射する工程を具備する、光学異性体用分離剤の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質担体に光学活性な高分子化合物が担持されている光学異性体用分離剤であり、光学活性な高分子化合物が、放射線の照射により不溶化されている光学異性体用分離剤。
【請求項２】
放射線がγ線及び／又は電子線である請求項１記載の光学異性体用分離剤。
【請求項３】
光学活性な高分子化合物が重合性不飽和基を含有していない請求項１又は２記載の光学異性体用分離剤。
【請求項４】
光学活性な高分子化合物が多糖誘導体である請求項１〜３のいずれかに記載の光学異性体用分離剤。
【請求項５】
多糖誘導体が、セルロースエステル誘導体、セルロースカルバメート誘導体、アミロースエステル誘導体、及びアミロースカルバメート誘導体よりなる群から選択される少なくとも１種である請求項４記載の光学異性体用分離剤。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学異性体用分離剤の製造方法であり、
多孔質担体と光学活性な高分子化合物のドープとを接触させ、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させる工程、
その後、放射線を照射する工程を具備する、光学異性体用分離剤の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学異性体用分離剤の製造方法であり、
所要量の光学活性な高分子化合物のドープを複数に分割し、多孔質担体にドープの一部を接触させ、乾燥する工程を一工程とし、この工程を複数回繰り返し、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させる工程、
その後、放射線を照射する工程を具備する、光学異性体用分離剤の製造方法。
【請求項８】
多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させる工程の後に、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させたものを分散溶媒中に分散させる工程を具備しており、その後、放射線を照射する工程を具備する、請求項６又は７記載の光学異性体用分離剤の製造方法。
【請求項９】
放射線を照射した後、更に光学活性な高分子化合物を溶解できる有機溶媒にて洗浄する工程を具備する請求項６〜８のいずれかに記載の光学異性体用分離剤の製造方法。
【請求項１０】
分散溶媒が、水、アルコール系溶媒、エステル系溶媒及びエーテル系溶媒よりなる群から選択される少なくとも一種である請求項８又は９記載の光学異性体用分離剤の製造方法。
【請求項１１】
放射線の線量が１〜２０００ＫＧｙである請求項６〜１０のいずれかに記載の光学異性体用分離剤の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学異性体用分離剤、又は請求項６〜１１のいずれかに記載の製造方法により得られた光学異性体用分離剤を用いて光学異性体を分離する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光学異性体用分離剤、その製造法等に関し、特に高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）に好適に用いられる、耐溶媒性に優れた光学異性体用分離剤、その製造方法等に関する。
【０００２】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】
従来から光学活性な高分子化合物、中でも多糖類やその誘導体、例えばセルロースやアミロースのエステル又はカルバメート誘導体が高い光学分割能力を示すことはよく知られている。またこれらをシリカゲル上に物理的に吸着、担持させたクロマトグラフィー用分離剤が幅広い光学分割能、高い段数、耐久性を示す優れた分離剤であることも、よく知られている（Ｙ．Ｏｋａｍｏｔｏ，Ｍ．Ｋａｗａｓｈｉｍａ  ａｎｄＫ．Ｈａｔａｄａ，  Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０６，５３５７，１９８４）。
【０００３】
しかしながら、これらの分離剤は、光学活性な高分子化合物をシリカゲルに物理的な吸着によって担持させているために、光学活性な高分子化合物を溶解せしめる溶媒は移動相等に使用することができず、分離条件選択に制約があった。また試料を溶解する溶媒にも制限があり、移動相として使用可能な溶媒に対して溶解性の小さい試料では、特にクロマト分取時において大きな短所があった。さらに分離剤に強く吸着する汚染物質の洗浄においても、洗浄液が制限されるという欠点があった。これらの点から、耐溶媒性を兼ね備えた分離剤が強く求められていた。
【０００４】
このような問題を解決するために、光学活性な高分子化合物、例えば多糖誘導体を担体上で固定化させる方法がこれまでにも提案されている。例えば特開平４−２０２１４１号公報においては、多糖類の水酸基部位にエステル結合もしくはウレタン結合を介してビニル基を導入した多糖誘導体を、ビニル基を導入した多孔質担体に対して直接共重合しめた光学異性体用分離剤が開示されている。
【０００５】
また、本発明者らにあっても、先に特公平７−３０１２２号公報において、イソシアネート誘導体を介して多糖誘導体をシリカゲルに化学的に結合させることにより両者の安定性を確保する技術を明らかにし、更に特開平１１−１７１８００号公報においては、セルロース誘導体を担持したシリカゲル上でスチレン、ジビニルベンゼンをラジカル共重合させて網掛けをして固定化する方法を提案している。
【０００６】
しかし、これらの方法は、特別のイソシアネート誘導体を準備する必要がある、更には製造工程が多いといった問題により工業的レベルでの生産には向かなかった。
【０００７】
一方、ＷＯ９７／０４０１１号公報において、光重合性官能基を持たない多糖類誘導体を光化学的に架橋させた多糖類誘導体及びその製造方法が開示されている。しかし、光重合性官能基を持たない多糖類誘導体を光化学的に架橋させる方法は、架橋率の制御が極めて困難であるため再現性よく製造することができず、光は透過性が低いため大量生産が極めて難しい等の問題点があり、やはり工業的レベルでの生産には向かなかった。
【０００８】
従って、光学活性な高分子化合物本来の高い光学分割能力を有し、かつ耐溶媒性を兼ね備え、更には簡単に製造できる光学異性体用分離剤が強く望まれていた。
【０００９】
本発明の課題は、光学活性な高分子化合物本来の高い光学分割能力と十分な耐溶媒性を兼ね備えた光学異性体用分離剤、及びその製造方法、前記分離剤を用いた光学異性体の分離方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、課題の解決手段として、多孔質担体に光学活性な高分子化合物が担持されている光学異性体用分離剤であり、光学活性な高分子化合物が、放射線の照射により不溶化されている光学異性体用分離剤を提供する。
【００１１】
請求項６の発明は、他の課題の解決手段として、請求項１〜５のいずれかに記載の光学異性体用分離剤の製造方法であり、
多孔質担体と光学活性な高分子化合物のドープとを接触させ、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させる工程、
その後、放射線を照射する工程を具備する、光学異性体用分離剤の製造方法を提供する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光学異性体用分離剤の製造方法を説明し、合わせて本発明の光学異性体用分離剤についても説明する。なお、以下の各製造工程に加えて、当業者により行われる通常の処理を付加することができるほか、各製造工程は、それぞれが独立した別々の工程としても良く、連続した一つの工程としても良い。
【００１３】
第１工程は、多孔質担体と光学活性な高分子化合物のドープとを接触させ、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させる工程である。
【００１４】
多孔質担体と光学活性な高分子化合物のドープとの接触方法は特に制限されるものではなく、適当な器具や装置を用い、多孔質担体に光学活性な高分子化合物のドープを塗布する方法、容器内に多孔質担体を入れ、更に光学活性な高分子化合物のドープを加えて、機械的又は人為的手段で攪拌混合する方法等を適用できる。なお、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させた後、多孔質担体上に光学活性な高分子化合物と共に残留する溶媒は揮発除去させることが好ましい。
【００１５】
この第１工程の処理により、多孔質担体の開孔内も含めた表面上に光学活性な高分子化合物が担持される。この担持状態は、多孔質担体と光学活性な高分子化合物との組み合わせにより異なり、多孔質担体に光学活性な高分子化合物が単に物理的な吸着等によって付着した状態のものから、多孔質担体と光学活性な高分子化合物が化学的に結合されたものまである。
【００１６】
第１工程においては、所要量の光学活性な高分子化合物のドープを複数に分割し、多孔質担体にドープの一部を接触させ、乾燥する工程を一工程とし、この工程を複数回繰り返し、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させる工程にすることもできる。
【００１７】
光学活性な高分子化合物のドープは、好ましくは２〜２０分割、より好ましくは２〜１０分割する。
【００１８】
乾燥は、ドープを得るために用いた溶媒を揮発除去させるためのものであり、常圧又は減圧下、常温又は加温下、更にガス気流のもとで行う。
【００１９】
多孔質担体にドープの一部を接触させ乾燥させる工程は、好ましくは２〜２０回繰り返し、より好ましくは２〜１０回繰り返す。各回ごとのドープの使用量は、同一でも異なっていても良い。
【００２０】
第１工程として、このような複数回に分けた担持方法を適用することにより、多孔質担体の表面上の全体に対して、より均一に光学活性な高分子化合物を担持させることができ、光学異性体用分離剤の分離性能が高められるため好ましい。
【００２１】
多孔質担体としては、多孔質有機担体又は多孔質無機担体を用いることができ、好ましくは多孔質無機担体である。
【００２２】
多孔質有機担体として適当なものは、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリアクリレート等からなる高分子物質であり、多孔質無機担体として適当なものは、シリカ、アルミナ、マグネシア、ガラス、カオリン、酸化チタン、ケイ酸塩、ヒドロキシアパタイト等であるが、特に好ましいものはシリカゲルである。なお、シリカゲルを使用する場合は、シリカゲル表面における残存シラノールの影響を排除し、光学活性な高分子化合物との親和性を向上させるため、シリカゲルをシラン化処理（アミノプロピルシランを用いたシラン化処理等）、プラズマ処理により表面処理することが望ましいが、全く表面処理が施されていなくても問題ない。
【００２３】
多孔質担体、特にシリカゲルの粒径は、好ましくは１〜３００μｍ、より好ましくは２〜１００μｍ、さらに好ましくは３〜５０μｍであり、平均細孔径は、好ましくは６０〜８０００Å、より好ましくは１２０〜４０００Å、さらに好ましくは３００〜３０００Åである。なお、多孔質担体の粒径が、実質的に分離剤の粒径になる。
【００２４】
多孔質担体の平均細孔径が前記範囲内であると、光学活性な高分子化合物溶液が細孔内に充分に浸透され、光学活性な高分子化合物が細孔内壁に均一に付着されやすくなるので好ましい。更に、細孔が閉塞されてしまうことがないため、分離剤の圧力損失を低く維持できる。
【００２５】
光学活性な高分子化合物としては、光学活性な高分子化合物が重合性不飽和基を含有していないものが好ましく、より好ましくは多糖誘導体を用いることができる。特に多糖誘導体の置換誘導体全てが同一の誘導体であることが、光学活性高分子の規則正しい高次構造を形成し易い点で好ましい。
【００２６】
多糖誘導体を導く多糖としては、合成多糖、天然多糖及び天然物変成多糖のいずれかを問わず、光学活性であればいかなるものでもよいが、好ましくは結合様式の規則性の高いものが望ましい。
【００２７】
例示すればβ−１，４−グルカン（セルロース）、α−１，４−グルカン（アミロース、アミロペクチン）、α−１，６−グルカン（デキストラン）、β−１，６−グルカン（ブスツラン）、β−１，３−グルカン（例えばカードラン、シゾフィラン等）、α−１，３−グルカン、β−１，２−グルカン（Ｃｒｏｗｎ  Ｇａｌｌ多糖）、β−１，４−ガラクタン、β−１，４−マンナン、α−１，６−マンナン、β−１，２−フラクタン（イヌリン）、β−２，６−フラクタン（レバン）、β−１，４−キシラン、β−１，３−キシラン、β−１，４−キトサン、α−１，４−Ｎ−アセチルキトサン（キチン）、プルラン、アガロース、アルギン酸等であり、アミロースを含有する澱粉も含まれる。
【００２８】
これらの中でも、高純度の多糖を容易に入手できるセルロース、アミロース、β−１，４−キシラン、β−１，４−キトサン、キチン、β−１，４−マンナン、イヌリン、カードラン等が好ましく、特にセルロース、アミロースが好ましい。
【００２９】
多糖の数平均重合度（１分子中に含まれるピラノースあるいはフラノース環の平均数）は、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上であり、特に上限はないが、１０００以下であることが取り扱いの容易さの点で好ましく、より好ましくは５〜１０００、更に好ましくは１０〜１０００，特に好ましくは１０〜５００である。
【００３０】
多糖誘導体は、上記した多糖の水酸基の一部又は全部に水酸基と反応可能な官能基を有する化合物を、エステル結合、ウレタン結合、エーテル結合等させることにより、得られるものを用いることができる。
【００３１】
水酸基と反応しうる官能基を有する化合物としては、イソシアン酸誘導体、カルボン酸、エステル、酸ハロゲン化物、酸アミド化合物、ハロゲン化合物、アルデヒド、アルコールあるいはその他脱離基を有する化合物であればいかなるものでもよく、これらの脂肪族、脂環族、芳香族、ヘテロ芳香族化合物を用いることができる。
【００３２】
特に好ましい多糖誘導体として、セルロースエステル誘導体、セルロースカルバメート誘導体、アミロースエステル誘導体、及びアミロースカルバメート誘導体よりなる群から選択される少なくとも１種を挙げることができる。
【００３３】
光学活性な高分子化合物のドープ（本発明では、溶液乃至は分散液を意味する。）を調製するために用いる溶媒は、光学活性な高分子化合物を溶解乃至は分散することができるものであれば特に制限されず、下記のものを用いることができる。
【００３４】
ケトン系溶媒としては、アセトン、エチルメチルケトン、アセトフェノン等；エステル系溶媒としては、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、安息香酸メチル、酢酸フェニル等；エーテル系溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等；アミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、  Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等；イミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等；ハロゲン系溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等；炭化水素系溶媒としては、ペンタン、石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等；尿素系溶媒としては、テトラメチル尿素等；アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等；酸系溶媒としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、フェノール、カテコール等；アミン系溶媒としてはジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等を用いることができる。
【００３５】
光学活性な高分子化合物と溶媒との混合比率は、光学活性な高分子化合物１００質量部に対して、溶媒は、好ましくは３００〜１０，０００質量部、より好ましくは３００〜１，０００質量部である。
【００３６】
多孔質担体と光学活性な高分子化合物のドープとの割合は、多孔質担体１００質量部に対して、光学活性な高分子化合物のドープは、好ましくは５０〜５０００質量部、より好ましくは１００〜１０００質量部である。
【００３７】
第２工程は、第１工程の処理により得られた被処理物に対して、放射線を照射する工程である。第２工程の処理により、光学活性な高分子化合物同士で架橋反応による化学結合が形成される。なお、このとき、多孔質担体と光学活性な高分子化合物との間で架橋による化学結合が形成されても良い。
【００３８】
放射線としては、α線、β線、γ線、Ｘ線、電子線等が挙げられ、これらの中でも特にγ線と電子線が好適に用いられ、γ線が最も好適に用いられる。
【００３９】
照射するγ線の線量は、好ましくは１ＫＧｙ〜２０００ＫＧｙ、より好ましくは１０ＫＧｙ〜１０００ＫＧｙ、更に好ましくは５０ＫＧｙ〜５００ＫＧｙである。５００ＫＧｙ以上の線量を照射する場合は、電子線を用いることが好ましい。
【００４０】
放射線を照射する際は、放射線による架橋反応を促進するような第三成分、例えば、ジフェニルメタンジイソシアナート、エピクロルヒドリン、マレイン酸クロライド、イソシアナート、エポキシ、ジカルボン酸を添加しても良い。これらの第三成分の添加量は、多孔質担体と高分子化合物の合計１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜５０質量部、より好ましくは０．０５〜２０質量部、更に好ましくは０．１〜１０質量部である。
【００４１】
第２工程の処理では、第１工程で得られた被処理物を溶媒中に分散させた状態で放射線を照射することができる。このように溶媒中に分散させた状態で放射線を照射することにより、被処理物の全体に対して均一に放射線を照射できるので好ましく、特に工業的レベルの製造のように被処理物の量が大量であるときに適している。一度に放射照射できる被処理物の量は、約１ｇ〜約１００ｋｇの範囲に設定することが好ましいが、前記範囲外であっても良い。
【００４２】
このような処理をするときは、第２工程の処理に先立って、第１工程の処理後、多孔質担体に光学活性な高分子化合物を担持させたものを溶媒中に分散させる工程を設ける。
【００４３】
分散溶媒としては、水、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒等が挙げられるが、その中でも、水及びアルコール系溶媒が好適に用いられる。アルコール系溶媒の中では、メタノール、エタノール及び２−プロパノールが特に好適に用いられる。
【００４４】
分散液の濃度は。３０〜８０質量％が好ましく、特に好ましい範囲は５０〜７０質量％である。分散液の濃度が３０質量％以上のときは、分散剤量が適当量であるため、照射効率が良く、照射コストの面でも有利となり、８０質量％以下のときは、多孔質担体表面の光学活性な高分子化合物の溶媒による浸漬が十分となるため、放射線の照射による架橋反応が良好に進行する。
【００４５】
第２工程の後、第２工程の処理を経た被処理物に対して、更に光学活性な高分子化合物を溶解できる有機溶媒にて洗浄する工程を設けることができる。この工程の処理により、第２工程の放射線の照射により化学結合しなかった光学活性な高分子化合物を除去することができる。
【００４６】
光学活性な高分子化合物を溶解できる有機溶媒としては、第１工程と同じものを用いることができる。
【００４７】
被処理物の容量に対する有機溶媒の使用量は、好ましくは５〜１５倍量である。
【００４８】
洗浄方法は特に制限されないが、被処理物に有機溶剤を注ぎながら自然濾過又は吸引濾過する方法、有機溶剤中で加温下攪拌する方法、一旦カラム管に充填後、溶剤をポンプで通液する方法等を適用することができる。このような洗浄は、必要に応じて複数回繰り返すことができる。
【００４９】
洗浄処理は、洗浄処理後の分離剤に対し、光学活性な高分子化合物を溶解せしめる溶媒を１０００ｍｌ通液したときの光学活性な高分子化合物の溶出量が１０００ｐｐｍ以下、好ましくは７００ｐｐｍ以下、より好ましくは５００ｐｐｍ以下になるように行うことが好ましい。前記の光学活性な高分子化合物の溶出量が１０００ｐｐｍ以下であると、得られた光学異性体用分離剤を用いて光学異性体を分離するときの不純物混入を阻止する点から有効である。
【００５０】
本発明の光学異性体用分離剤における光学活性な高分子化合物の担持量（光学異性体用分離剤中に含まれる光学活性な高分子化合物の質量の割合）は、好ましくは３〜４０質量％、より好ましくは５〜３５質量％、更に好ましくは１０〜３０質量％である。
【００５１】
本発明の光学異性体用分離剤は、カラムに充填して使用するものであるが、本発明の光学異性体用分離剤を１本又は複数本のカラムに充填したものを組み合わせて、各種クロマトグラフィーに適用できる。
【００５２】
本発明の光学異性体用分離剤は、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、超臨界クロマトグラフィー、擬似移動床式クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー等のクロマトグラフィー用の分離剤として有用であるが、特に液体クロマトグラフィー用の分離剤として用いるのが好ましい。
【００５３】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００５４】
実施例１
（第１工程）
シリカゲルへのアミロース  トリス［（Ｓ）−フェニルエチルカルバメート］の担持
▲１▼シリカゲル表面処理
多孔質シリカゲル（粒子径２０μｍ）を３−アミノプロピルトリエトキシシランと反応させることにより、アミノプロピルシラン処理（ＡＰＳ処理）を施した。得られたＡＰＳ処理シリカゲルをイソシアネート化合物と反応させ、カルバモイル表面処理が施されたシリカゲルを得た。
【００５５】
▲２▼アミロース  トリス［（Ｓ）−フェニルエチルカルバメート］の合成
アミロース２０ｇ及び乾燥ピリジン５００ｍｌの混合物に、窒素雰囲気下、（Ｓ）−フェニルエチルイソシアネート１０９ｇ（アミロース水酸基に対して２当量）を添加し、ピリジンの還流温度にて、２４時間加熱攪拌を行った。反応混合物を放冷後、メタノールに注ぎ込むことで、目的のアミロース  トリス［（Ｓ）−フェニルエチルカルバメート］を析出させ、これをグラスフィルターで濾取した。（収率９３％）を得た。
【００５６】
▲３▼アミロース  トリス［（Ｓ）−フェニルエチルカルバメート］のシリカゲルへの担持
上記▲２▼で得たアミロース  トリス［（Ｓ）−フェニルエチルカルバメート］２０ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解させ、ポリマードープを調製した。このポリマードープを２分割し、半量を▲１▼で得たシリカゲル４０ｇに対し、メカニカルスターラーを用いて塗布した。塗布後、ＴＨＦの減圧留去を行った。更に、残り半量のポリマードープを同様に均一塗布後、ＴＨＦを留去することで、目的のアミロース  トリス［（Ｓ）−フェニルエチルカルバメート］をシリカゲルに担持させたものを得た。
【００５７】
（第２工程）
第１工程で得られた被処理物２０ｇを乾燥させた後、メタノール２００ｍｌを加えて、１時間放置した。その後、吸引濾過により、余分なメタノールを取り除いた。その後、被処理物をポリエチレン製のチャック付き袋に入れ、３００ｋＧｙのγ線〔コバルト６０を線源とした照射装置（線源装荷能力３７ＰＢｑ）〕を照射し、光学異性体用分離剤を得た。
【００５８】
実施例２
分散溶媒をメタノールからメタノール／水＝５０／５０（容量比）の混合溶媒に替えた他は、実施例１と同様の方法で光学異性体用分離剤を得た。
【００５９】
実施例３
分散溶媒をメタノールから水に替えた他は、実施例１と同様の方法で光学異性体用分離剤を得た。
【００６０】
比較例１
実施例１の第１工程の処理後のもの（第２工程の処理をしていないもの）を分離剤とした。
【００６１】
応用例１
実施例１〜３、比較例１で作製した光学異性体用分離剤を、長さ２５ｃｍ、内径１．０ｃｍのステンレス製カラムにスラリー充填法で充填し、光学異性体用分離カラムを作製した。得られた光学異性体用分離カラムを用い、下記４種類の化合物（ラセミ体１〜ラセミ体４）の光学分割を行った。
【００６２】
【化１】
2004167343.tif 000002
【００６３】
式中、ｐｈはフェニル基を示す。
【００６４】
＜分析条件＞
移動相：ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝９／１
カラム温度：２５℃
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．
ＵＶ検出器：２５４ｎｍ
液体クロマトグラフィー分離装置における分離係数αは、以下により定義される。上記条件により得られた分離係数αを表１に示した。
【００６５】
α＝ｋ２’／ｋ１’
ここで、ｋ１’＝（ｔ１−ｔ０）／ｔ０、ｋ２’＝（ｔ２−ｔ０）／ｔ０である。ｔ１、ｔ２は各光学異性体の溶出時間を示し、ｔ０はトリ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンの溶出時間を示す。
【００６６】
【表１】
2004167343.tif 000003
【００６７】
実施例４
実施例３で得られた光学異性体用分離剤６．５ｇをグラスフィルター上に置き、ＴＨＦ５０ｍｌを加え、数分間の攪拌後、吸引濾過〔吸引圧力４ｋＰａ（＝３０Ｔｏｒｒ）、差圧９７ｋＰａ（＝７３０Ｔｏｒｒ）〕を行った。これを３回繰り返した。得られた充填剤を用い、応用例１と同様の方法により、分離係数αを求めた。結果を表２に示した。
【００６８】
比較例２
比較例１の光学異性体用分離剤を用いた他は、実施例４と同様の方法により洗浄を行った後、分離係数αを求めた。結果を表２に示した。
【００６９】
【表２】
2004167343.tif 000004
【００７０】
実施例５
（第１工程）
シリカゲルへのアミロース  トリス（３，５−ジメチルフェニルカルバメート）をシリカゲルの担持
▲１▼シリカゲル表面処理
合成例１の▲１▼と同様の方法にてシリカゲルの表面処理を行った。
【００７１】
▲２▼アミロース  トリス（３，５−ジメチルフェニルカルバメート）の合成
窒素雰囲気下、アミロース１０．０ｇと３，５−ジメチルフェニルイソシアネート８２．２ｇ（３当量）とを、乾燥ピリジン３６０ｍｌ中、ピリジンの還流温度下、６０時間加熱攪拌を行った後、メタノール６．０Ｌに注ぎ込んだ。析出した固体をグラスフィルターで濾取し、メタノールで数回の洗浄後、真空乾燥（８０℃、５時間）を行った。その結果、若干黄色がかった白色固体、３５．３ｇ（収率９５％）が得られた。
【００７２】
▲３▼アミロース  トリス（３，５−ジメチルフェニルカルバメート）  のシリゲルへの担持
上記▲２▼で得たアミロース  トリス（３，５−ジメチルフェニルカルバメート）１０ｇを酢酸エチルに溶解させ、ポリマードープを調製した。このポリマードープの全量を、メカニカルスターラーを用いて、▲１▼で得たシリカゲル４０．０ｇに塗布した。塗布後、溶媒を減圧留去することで、目的のアミローストリス（３，５−ジメチルフェニルカルバメート）をシリカゲルに担持させたものを得た。
【００７３】
（第２工程）
第１工程で得られた被処理物を乾燥させた後、直接γ線を照射し、γ線を照射した光学異性体用分離剤を得た。γ線の照射条件は実施例１と同様であった。
【００７４】
実施例６
実施例５で作製した光学異性体用分離剤を用いた以外は、応用例１と同様の方法で分離係数αを求めた。結果を表３に示した。
【００７５】
比較例３
実施例５の第１工程の処理後のもの（第２工程の処理をしていないもの）を分離剤とし、応用例１と同様の方法で分離係数αを求めた。結果を表３に示した。
【００７６】
【表３】
2004167343.tif 000005
【００７７】
実施例７
実施例５で得られた光学異性体用分離剤６．５ｇをグラスフィルター上に置き、ＴＨＦ５０ｍｌを加え、数分間の攪拌後、吸引濾過〔吸引圧力４ｋＰａ（＝３０Ｔｏｒｒ）、差圧９７ｋＰａ（＝７３０Ｔｏｒｒ）〕を行った。これを３回繰り返した。得られた充填剤を用い、応用例１と同様の方法により、分離係数αを求めた。結果を表４に示した。
【００７８】
比較例４
比較例３の光学異性体用分離剤を用いた他は、実施例７と同様の方法により洗浄を行った後、分離係数αを求めた。結果を表４に示した。
【００７９】
【表４】
2004167343.tif 000006
【００８０】
【発明の効果】
本発明の光学異性体用分離剤は、高い光学分割能力と十分な耐溶媒性を兼ね備え、更に簡単に製造できるため、各種の光学異性体の分離に有用である。