(57)【要約】【課題】電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板の製造方法において、カラーフィルタ基板の検査方法について誤検出を防止し、高品位なカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。【解決手段】複数のドットによって一画素が構成されてなる電気光学パネル用基板の製造方法において、上記ドットの位置に対応して基板上にカラーフィルタを形成する工程と、上記カラーフィルタ上にオーバーコート層を形成する工程と、を有し、上記オーバーコート層を形成する工程の前に、上記カラーフィルタの表面形状を検査する検査工程とを有することを特徴とする電気光学パネル基板用の製造方法。【選択図】　　　図６
2004117577.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のドットによって一画素が構成されてなる電気光学パネル用基板の製造方法であって、
前記ドットの位置に対応して基板上にカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、
前記カラーフィルタ上にオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程と、
前記オーバーコート層を形成する工程の前に、前記カラーフィルタの表面形状を検査する検査工程と、を有することを特徴とする電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項２】
前記カラーフィルタは、第１のカラーフィルタと第２のカラーフィルタにより形成されており、前記カラーフィルタ形成工程は、少なくとも前記第２のカラーフィルタ上にオーバーコート層を形成することを特徴とする請求項１に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項３】
前記検査工程で検出された欠陥部分を修正する修正工程をさらに有し、前記修正工程は、前記オーバーコート層形成工程の前に実行されることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項４】
前記検査工程で検出された欠陥部分を修正する修正工程をさらに有し、前記修正工程は、前記オーバーコート層形成工程の後に実行されることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項５】
前記修正工程は、前記検査工程において検出された欠陥を研磨することにより修正を行うことを特徴とする請求項３又は４に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項６】
前記カラーフィルタ形成工程はブラックマトリクス（遮光領域）を同時に形成し、前記ブラックマトリクスの端部の一方は緩やかな傾斜面を有し、前記ブラックマトリクスの端部の他方は、急峻な傾斜面を有しており、
前記検査工程は、前記ブラックマトリクスの緩やかな傾斜面を搬送テーブルの進行方向に向けて前記カラーフィルタ基板を搬送しながら前記カラーフィルタ基板の表面形状を検査することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項７】
前記検査工程は、
前記電気光学パネル用基板の上面に対して５度以上１５度以下の入射角を有する検査光を前記電気光学パネル用基板に対して照射する工程と、
前記電気光学パネル用基板の上面によって反射された前記検査光を光検出装置により検出することにより欠陥を検出する工程と、を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項８】
前記検査工程は、凸形状を有する欠陥を検出することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の電気光学パネル用基板の製造方法を有することを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の電気光学パネル用基板の製造方法によって製造される電気光学パネル用基板と、
前記電気光学パネル用基板と対向配置される他の基板と、
前記電気光学パネル用基板と前記他の基板との間にシール材を介して挟持される電気光学物質と、を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学パネル用基板に関し、特に液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタ基板の製造方法に関する。また、本発明は、上記カラーフィルタ基板の製造方法を用いた電気光学パネル用基板を用いて構成される電気光学装置、及び、上記電気光学装置を用いて構成される電子機器に関する。また、本発明は、上記カラーフィルタ基板の製造方法を用いた電子ペーパ等の電気泳動装置にも関する。
【０００２】
【背景技術】
近年、携帯電話、携帯型パーソナルコンピュータなどの電子機器に液晶表示装置が搭載されている。液晶表示装置は、カラーフィルタ基板などを用いて、カラー表示を可能としている。カラー液晶表示装置の構造について、以下に説明する。
【０００３】
一般的に、カラー液晶表示装置は、液晶駆動用素子を有した素子基板とカラーフィルタを有した対向基板とが、接着要素であるシール材等によって、貼り合せされ、シール材の内側に液晶層が封入された構造になっている。上記素子基板は、基板上に、配線、ＴＦＤ素子又はＴＦＴ素子などの駆動用素子、画素電極及び配向膜などを備えている。一方、対向基板は、基板上に、カラーフィルタ、保護膜、透明電極、配向膜などを備えている。そして、上記素子基板および上記対向基板とから構成されたカラー液晶表示パネルには、両基板の表側および裏側に偏光板等の光学フィルムが貼着されている。そして、カラー液晶表示パネルは、画素電極と透明電極とによって付与される電界の強さに応じて、各１ドット領域に値する液晶層を光学的に制御することができる。そして、上記１ドット領域には、それぞれ赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）のカラーフィルタが配置され、合計３ドットのカラーフィルタにより１画素が構成され、液晶表示パネルのカラー表示が機能するようになっている。
【０００４】
上述したように、カラーフィルタは、バックライトなどの光源から放射された光のうち特定波長領域の光を吸収し、その他の光を透過させることによって、白色光を着色させることができる光学部材であり、液晶表示装置のカラー化には、大変重要な部品である。つまり、カラーフィルタは透明基板上にＲ・Ｇ・Ｂの３原色微細パターンからなる画素を規則的に設けたものであり、液晶表示装置との組み合わせにより、カラー表示を可能としている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
したがって、液晶表示装置のカラー化には、高精細かつ高品位のカラーフィルタ基板の提供が重要なポイントとなるのである。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１１−２７１７５２号公報（第３頁―第４頁、
【図１】）
【発明が解決しようとする課題】
従来のカラーフィルタの製造方法は、例えば、フォトリソグラフィ法やインクジェット法、などが挙げられる。
【０００７】
上記フォトリソグラフィ法は、現在、液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法の主流となっている。フォトリソグラフィ法は、主に、顔料、アルカリ可溶性樹脂、ラジカル重合性モノマー、光ラジカル発生剤および溶剤からなる顔料分散溶液（カラーレジスト）を用いる方式である。フォトリソグラフィ法は、上記材料を基板に塗布製膜した後、着色層に、フォトマスクを通した光で露光し、さらに現像することで一色の着色パターンを形成する。上記フォトリソグラフィ法の長所は、分光特性のコントロールおよび再現性が容易に得ることができる。また、フォトリソグラフィ法を利用しているため、解像度が高く、高精細カラーフィルタを作製することも可能である。
【０００８】
また、上記インクジェット法は、工程数が少なく、生産効率のよい製造方法であり、インクジェット装置を用いて、インクを基板となる透明な基板に噴射、固定している。必要な領域にのみインクを塗布することができるため、材料の無駄がなく、低コスト化が可能となる。また、上記インクジェット方式は、パターニング工程を必要としないため、プロセス数が少なく、生産効率が高い方式である。
【０００９】
上述したカラーフィルタの製造方法における検査方法として、目視検査および光学測定検査などが一般的に行われている。この検査方式により、カラーフィルタ基板の良品が不良品と判別され、カラー液晶表示パネルの製造に用いられている。
【００１０】
上記目視検査には、以下の問題点が挙げられる。例えば、検査員の身体的あるいは精神的状態で検査結果が異なることや、個々の検査員によって、不良検出の判断水準が相違するから、検査結果が変わってしまうという問題がある。さらに視覚的に認識が困難な欠陥を検査員が全数検査しなければならないため、作業上の負荷が大きいなどの問題があった。上記の問題等により、規格化された定量的な欠陥の判定は難しく、カラーフィルタの一定した品質保証は困難であった。
【００１１】
また、上記光学測定検査においては、検査領域面に対して、ほぼ平行に入射する検査光及びその無欠陥領域での反射光のいずれも捉えることのない位置に設置された光検出装置が、異物、突出欠陥の特異面で散乱した光を捉え、これを電気信号に変換して、欠陥と判別する。また、光検出装置が捉えた電気信号のうち周期的な繰り返しを示す信号は、カラーフィルタ基板の正常特性として除外することができる。要するに、上記光学測定検査は、カラーフィルタ基板上に許容範囲以上の凹凸の有無を評価するために、検査基板とほぼ平行光である検査光をカラーフィルタ基板に入射している。そして、上記検査光が、基板上に存在する欠陥および突出異物によって乱反射する。そして、乱反射した光は、散乱光となり、光検出装置により検出される。そして、この検出された光学特性は、電気信号に変換され、この変換された電気信号によって、カラーフィルタ基板の良品と不良品を判別するのである。また、この光学測定検査により、定量的に欠陥を判別することができる。
【００１２】
上記光学測定検査によって検出される不良部分は、傾斜角の大きな欠陥および異物に関して検出感度に優れている。要するに、不良部分でなくとも、カラーフィルタ基板が、傾斜角の大きな構造設計を有する場合、上記光学測定検査では、欠陥と見なされることが発生する。例えば、マルチギャップ構造を有する半透過反射型液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板が挙げられる。上記マルチギャップ構造は、反射表示領域における液晶層の膜厚を透過表示領域における液晶層の膜厚よりも小さくした構造のことである。この構造は、透過表示領域の光は液晶層を一度だけ通過して出射されることに対して、反射表示領域の光は、液晶層を２度通過することを考慮した設計である。つまり、マルチギャップ構造は、透過表示領域の透過光と反射表示領域の反射光の双方において、リタデーション（Δｎ・ｄ）の最適化を図った構造である。上記のマルチギャップ構造の液晶表示装置の場合、反射表示領域には、オーバーコートが形成されるが、透過表示領域にはオーバーコートは、形成されないか、もしくは薄膜のオーバーコートが形成されている。これは、上述した液晶層の膜厚を調節するためのものである。反射表示領域と透過表示領域は隣接しているため、それらの領域の境界においては、オーバーコートの端部が比較的急峻な角度で形成されることになる。よって、マルチギャップ構造の液晶表示パネルにおいては、オーバーコートの端部、即ち、反射表示領域と透過表示領域との境界部付近において検査光の乱反射が増加し、上記光学測定装置の光検出装置がその部分をオ−バーコートの欠陥であると誤検出してしまうという問題がある。
【００１３】
したがって、本発明は、以上の点を鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ基板の製造方法において、カラーフィルタ基板の検査方法について誤検出を防止し、高品位なカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明の１つの観点では、複数のドットによって一画素が構成されてなる電気光学パネル用基板の製造方法は、上記ドットの位置に対応して基板上にカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、上記カラーフィルタ上にオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程と、上記オーバーコート層を形成する工程の前に、上記カラーフィルタの表面形状を検査する検査工程と、を有することを特徴とする。そして、本発明は、上記検査工程を、上記オーバーコート層形成工程の前に行うことにより、オーバーコートに起因する誤検出の発生を低下させることができる。
【００１５】
上記の製造方法の一態様では、上記カラーフィルタは、第１のカラーフィルタと第２のカラーフィルタにより形成されており、上記カラーフィルタ形成工程は、少なくとも上記第２のカラーフィルタ上にオーバーコート層を形成することを特徴とする。上記電気光学パネル用基板に設けられたカラーフィルタは、例えば、上記第１のカラーフィルタを反射型カラーフィルタとし、上記第２のカラーフィルタを透過型カラーフィルタとする半透過反射型カラーフィルタとすることができる。また、本発明による電気光学パネル用基板に設けられたカラーフィルタは、半透過反射型カラーフィルタだけでなく、透過型カラーフィルタや反射型カラーフィルタとすることもできる。
【００１６】
上記の製造方法の他の一態様では、上記検査工程で検出された欠陥部分を修正する修正工程をさらに有し、上記修正工程は、上記オーバーコート層形成工程の前に実行されることが好ましい。
【００１７】
上記の製造方法の他の一態様では、上記検査工程で検出された欠陥部分を修正する修正工程をさらに有し、上記修正工程は、上記オーバーコート層形成工程の後に実行されることが好ましい。
【００１８】
上記の製造方法の他の一態様では、上記修正工程は、上記検査工程において検出された欠陥を研磨することにより修正を行うことが好ましい。
【００１９】
上記の製造方法の他の一態様では、上記カラーフィルタ形成工程はブラックマトリクス（遮光領域）を同時に形成し、上記ブラックマトリクスの端部の一方は緩やかな傾斜面を有し、上記ブラックマトリクスの端部の他方は、急峻な傾斜面を有しており、上記検査工程は、上記ブラックマトリクスの緩やかな傾斜面を搬送テーブルの進行方向に向けて上記カラーフィルタ基板を搬送しながら、上記カラーフィルタ基板の表面形状を検査することが好ましい。上記検査方法を実施することにより、本発明は、検査工程における誤検出の発生を低下させることができる。
【００２０】
上記の製造方法の他の一態様では、上記検査工程は、上記電気光学パネル用基板の上面に対して５度以上１５度以下の入射角を有する検査光を上記電気光学パネル用基板に対して照射する工程と、上記電気光学パネル用基板の上面によって反射された上記検査光を光検出装置により検出することにより欠陥を検出する工程と、を有することができる。上記検査方法は、例えば、レーザ光を出射するレーザ光源からカラーフィルタ基板の表面に対して、ほとんど平行光、つまり比較的小さい入射光を、検査用レーザ光を用いて照射し、上記検査用レーザ光による反射光を光検出装置により検出することができる。
【００２１】
上記の製造方法の他の一態様では、上記検査工程は、凸形状を有する欠陥を検出することができる。要するに、カラーフィルタ基板上に凸欠陥部分がある場合は、検査用レーザ光が、凸欠陥部分により反射され、その反射光が乱反射して光検出装置に入射することにより、検出することができる。
【００２２】
上記の製造方法の他の一態様では、電気光学パネルの製造方法は、上記に記載の電気光学パネル用基板の製造方法を有することができる。
【００２３】
また、本発明の他の観点では、上述した電気光学パネル用基板の製造方法により製造される電気光学パネル用基板と、上記電気光学パネル用基板と対向配置される他の基板と、上記電気光学パネル用基板と上記他の基板との間にシール材を介して挟持される電気光学物質と、を備える電気光学装置を構成することができる。さらに、上記電気光学装置を備える電子機器を構成することができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００２５】
［実施形態］
本発明は、例えば、フォトリソグラフィ法、インクジェット法などにより作製されたカラーフィルタ基板の製造方法に関する。本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、カラーフィルタ製造工程において、カラーフィルタ形成工程と、オーバーコート形成工程の間に、カラーフィルタの表面形状を検査することを特徴としている。
【００２６】
（液晶表示パネル）
本発明の製造方法を有するカラーフィルタ基板を利用した液晶表示パネルの構成について説明する。
【００２７】
図１に示した液晶表示パネル１００は、半透過反射型液晶表示装置の断面図を示している。しかし、本発明による製造方法は、透過型液晶表示装置または反射型液晶表示装置でも使用することが可能である。
【００２８】
また、図２（ａ）および（ｂ）は、図１に示した液晶表示装置の拡大図１０１である。図２（ａ）は、液晶表示装置を構成する第２の基板１ｂの平面図の拡大図を示す。図２（ｂ）は、液晶表示装置を構成する第２の基板１ｂの断面図の拡大図を示し、図２（ａ）に示すＡ−Ａ’の断面図を示す。
【００２９】
図２（ａ）に示す画素領域１０は、例えば、アクティブマトリクス型液晶表示装置ならば、駆動用素子としてＴＦＤおよびＴＦＴのいずれを用いた場合にも共通する部分を抜き出している。また、単純マトリクス型液晶表示装置でも、本発明による製造方法を用いたカラーフィルタ基板を採用することができる。液晶表示装置１００は、ＩＴＯ膜などからなる透明電極２ａが表面に形成された石英やガラスなどの第１の透明基板１ａと、対向する面側に同じくＩＴＯなどからなる透明電極２ｂが形成された石英やガラスなどの第２の透明基板１ｂと、第１の基板１ａと第２の基板１ｂの間に保持されたＴＮ（ツイストネマテイック）モードの液晶からなる液晶層５とを有する。第１の透明電極１ａと第２の透明電極１ｂとが対向する領域が表示に直接寄与する画素領域１０になっている。
【００３０】
また、第１の基板１ａにおいて、第１の透明電極２ａの表面には配向膜が形成され、第２の基板１ｂにおいて、第２の透明電極２ｂの表面には配向膜が形成されている。ここで、配向膜は、例えば、ポリイミドなどを塗布し、焼成している。そして、所定の方向にラビング処理を施している。このラビング処理によって配向膜は、液晶層５を構成する液晶分子を配向させている。
【００３１】
第２の基板１ｂには、第１の透明電極２ａと第２の透明電極２ｂとが対応する矩形の画素領域１０に反射表示領域１０ｂを構成する矩形の光反射層がアルミニウムや銀合金膜によって形成され、この光反射層には矩形の開口が形成されている。このため、画素領域において、光反射層が形成されている領域は反射表示領域１０ｂとなっているが、開口に相当する領域は、光反射層が形成されていない透過表示領域１０ａとなっている。
【００３２】
第１の基板１ａ及び第２の基板１ｂの各々の外側の面には偏光板３ａ、３ｂや、位相差板４ａ、４ｂが配置され、偏光板３ａ、３ｂの外側にはバックライト１０２が配置されている。
【００３３】
このように構成された液晶表示装置１００において、バックライト１０２から出射された光のうち、透過表示領域１０ａに入射した光は、第２の基板１ｂの側から液晶層５に入射し、そこで光変調された後、第１の基板１ａの側から透過表示光Ｌ１として出射されて画像を表示する（透過モード）。
【００３４】
また、第１の基板１ａの側から入射した外光のうち、反射表示領域１０ｂに入射した光は、液晶層５を通って光反射層に至り、光反射層で反射されて再び液晶層５を通って第１の基板１ａから反射表示光Ｌ２として出射されて画像を表示する（反射モード）。
【００３５】
ここで、第２の基板１ｂ上には、反射表示領域１０ｂおよび透過表示領域１０ａの各々に反射表示用カラーフィルタと透過表示用カラーフィルタが形成されているので、カラー表示が可能である。
【００３６】
（凸検査装置）
凸検査装置は、カラーフィルタ基板上における凹凸欠陥および異物の有無を評価する装置である。上記凸検査装置は、レーザ光を出射するレーザ光源からカラーフィルタ基板の表面に対して、ほとんど平行光、つまり比較的小さい入射光を、検査用レーザ光を用いて照射し、上記検査用レーザ光による反射光を光検出装置により検出する。カラーフィルタ基板上に凸欠陥部分がある場合は、検査用レーザ光が、凸欠陥部分により反射され、その反射光が乱反射して光検出装置に入射するのである。
【００３７】
図３（ａ）、（ｂ）は、凸検査装置の検査原理を模式的に示す。図３（ａ）は、第２の基板１ｂ上における検出可能な異物や欠陥が存在しない場合の検査用レーザ光と検出用反射光の状態を示す。図３（ｂ）は、第２の基板１ｂ上に、検出可能な異物や欠陥が存在する場合の検査用レーザ光と検出用反射光の状態を示す。
【００３８】
図３（ａ）において、図示しない搬送機構により、搬送テーブルが矢印の方向へ送られる。搬送テーブル上には、第２の基板１ｂが所定間隔をおいて配置され、搬送テーブルの移動に従って、矢印の方向へ移動する。
【００３９】
搬送テーブルの上方には、レーザ光源１３と、ＣＣＤカメラなどを有する光検出装置１４が配置されている。レーザ光源１３は、テーブル上に配置された第２の基板１ｂの上方に対して、検査用レーザ光１５ａを照射する。このときの検査用レーザ光１５ａの、第２の基板１ｂの上面に対する角度は、例えば、１０°程度が好ましい。第２の基板１ｂの上面に照射された検査用レーザ光１５ａは、第２の基板１ｂの上面により反射する。カラーフィルタ基板における凹凸が許容範囲内であり、その上面に異物等が存在しない場合には、図３（ａ）に示すように、検査用レーザ光１５ａは入射角とほぼ等しい反射角をもって反射され、その反射光１５ｂは、光検出装置１４には、入射しない。しかし、図３（ｂ）に示すように、第２の基板上面に異物１６が存在する場合、即ち、許容範囲を超える凹凸が存在する場合には、検査用レーザ光１５ａは、異物の表面層により、反射され、その反射光１５ｃが光検出装置１４へ入射する。
【００４０】
次に、図４は、オーバーコート層を形成した後に凸検査を行った場合の検査工程中の状態を模式的に示す。図４に示す検査工程中の第２基板１ｂは、マルチギャップ構造を有するカラーフィルタ基板であり、半透過反射型液晶表示装置に用いられる。上記マルチギャップ構造のカラーフィルタ基板の場合、反射表示領域１０ｂには、オーバーコート１１が厚く形成されるが、透過表示領域１０ａには、オーバーコート１１は、形成されないか、もしくは薄く形成されている。反射表示領域１０ｂと透過表示領域１０ａは隣接しているため、それらの領域の界面においては、オーバーコート１１の端部が比較的急峻な角度で形成されることになる。よって、特に、マルチギャップ構造のカラーフィルタ基板においては、オーバーコート１１の端部、即ち、反射表示領域１０ｂと透過表示領域１０ａの境界部付近において検査用レーザ光１５ａの乱反射が増加し、上記光検出装置１４が、その反射光１５ｃを検出してしまうため、その部分をオーバーコートの凸欠陥であると誤検出してしまうのである。
【００４１】
次に、図５（ａ）、（ｂ）及び図６（ａ）、（ｂ）にて、本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明する。
【００４２】
図５に示す検査工程中の第２の基板１ｂは、マルチギャップ構造を有するカラーフィルタ基板であり、オーバーコート１１を形成する前の基板である。
【００４３】
上記カラーフィルタ基板に設けられたカラーフィルタ７、８、９の間には、ＢＭ（ブラックマトリクス）１２が設けられている。ＢＭ１２は、例えば、カーボンなどの樹脂材料で形成されていてもよく、カラーフィルタ赤７、カラーフィルタ緑８、カラーフィルタ青９の３色による複層構造（重ねＢＭ）で形成されていてもよい。上記ＢＭ１２は、フォトリソグラフィ工程にて作製される場合、その端部の一方は、緩やかな傾斜面１２ｂを有し、もう一方は、急峻な傾斜面１２ａを有していることが多い。また、上記ＢＭ１２の凸部は、一般的に、高さ約１μｍ程度であり、上記オーバーコート１１の凸部は、約２μｍ程度であることが多い。
【００４４】
図５（ａ）は、ＢＭ１２の急峻な傾斜面１２ａを搬送テーブルの進行方向（矢印Ｍで示す）に向けて前記第２の基板１ｂを搬送した場合の検査の状態を模式的に示す。
【００４５】
上述したように、ＢＭ１２の凸部の高さは、約１μｍであり、オーバーコート１１の凸部の高さと比較すると低い。したがって、上記ＢＭ１２の急峻な傾斜面１２ａに検査用レーザ光１５ａを照射した場合でも、ほとんどの反射光は、反射光１５ｂの方向に向かい、光検出装置１４には入射しない可能性が高い。つまり、凸検査において、カラーフィルタ基板におけるＢＭ１２の急峻な傾斜面１２ａを搬送テーブルの進行方向にする場合でも、誤検出の発生率は、低下する。したがって、上記凸検査装置１４による誤検出の発生率は、オーバーコートの端部による発生率よりも、ＢＭ１２の端部による発生率の方が低くなる。よって、マルチギャップ構造を有するカラーフィルタ基板の場合、オーバーコート形成後に凸検査を行うより、オーバーコート形成前に凸検査を行う方が、凸検査における誤検出の確率は大幅に低くなる。
【００４６】
また、図５（ｂ）は、ＢＭ１２の緩やかな傾斜面１２ｂを搬送テーブルの進行方向に向けて前記第２の基板１ｂを搬送した場合の検査の状態を模式的に示す。
【００４７】
上述したように、ＢＭ１２の凸部は、上記オーバーコートの凸部よりも低く、かつ上記ＢＭ１２の緩やかな傾斜面１２ｂに検査用レーザ光１５ａを照射するため、検査用レーザ光１５ａを照射した場合の検出光は、反射光１５ｂの方向に向かい、光検出装置には入射しない。この場合、光検出装置１４には、反射光は検出されず、第２の基板１ｂにおける欠陥の誤検出は、発生しない。つまり、凸検査において、カラーフィルタ基板におけるＢＭ１２の緩やかな傾斜面１２ｂを搬送テーブルの進行方向に向けて検査を実施することにより、第２の基板１ｂにおけるカラーフィルタ表面の検査は、正確に実施される。よって、図５（ｂ）の場合も、マルチギャップ構造を有するカラーフィルタ基板の場合、オーバーコート形成後に凸検査を行うより、オーバーコート形成前に凸検査を行う方が、凸検査における誤検出の確率は大幅に低くなる。
【００４８】
さらには、図５（ａ）に示す場合と、図５（ｂ）に示す場合とを比較すると、図５（ｂ）に示す方法、即ち、カラーフィルタ基板におけるＢＭ１２の緩やかな傾斜面１２ｂを搬送テーブルの進行方向に向けて凸検査を行う方が、ＢＭ１２の急峻な傾斜面１２ａを搬送テーブルの進行方向に向けて凸検査を行うより、誤検出の確率をより減少させることができることが理解される。
【００４９】
したがって、本発明によるカラーフィルタ基板の製造方法は、オーバーコート形成工程の前のマルチギャップ構造を有するカラーフィルタ基板を非検査体とし、上記凸検査装置によって検査する方法を用いることにより、良好な検査工程を提供することができる。
【００５０】
（研磨装置）
研磨装置とは、カラーフィルタ基板上における凸部欠陥を修正する装置である。上記研磨装置は、幅１ｃｍ以下のテープを有し、テープの中央部に、例えば、幅が約２ｍｍの長方形状のピンを配置している。上記研磨装置は、カラーフィルタ基板上における凸部欠陥に、テープを接触させ、凸部である不良領域を研磨することにより修正することができる。また、上記研磨装置は、カラーフィルタ基板上における凸欠陥の高さを測定しながら、研磨し、この凸欠陥の高さを評価しながら、研磨を実施していくため、良好な表面形状を得ることができる。
【００５１】
（カラーフィルタ製造方法例１）
図６（ａ）は、本発明に関するカラーフィルタ基板の製造方法例１について示す。
【００５２】
工程Ｐａ１において、カラーフィルタ赤７、カラーフィルタ緑８、カラーフィルタ青９およびＢＭ１２を、フォトリソグラフィ方式またはインクジェット方式などで形成する。上記ＢＭ１２は、例えば、カーボンなどの樹脂材料で形成されてもよく、カラーフィルタ赤７、カラーフィルタ緑、カラーフィルタ青９の３色による複層構造（重ねＢＭ）で形成されていてもよい。
【００５３】
次に工程Ｐａ２は、上記凸検査装置を用いた検査工程である。上述したように、凸検査装置は、カラーフィルタ基板上面における傾斜角の大きな凸欠陥および異物に関して検出感度に優れている。したがって、上記の凸欠陥および異物を有するカラーフィルタ基板の良否について判別することができる。上記凸検査におけるカラーフィルタ基板の搬送方向は、前述のように、ＢＭ１２の緩やかな傾斜面を進行方向とするのが、より好ましい。また、上記凸検査装置にて検出された欠陥データは、工程Ｐａ４の凸修正工程で使用する研磨装置に転送される。
【００５４】
工程Ｐａ３では、オーバーコート１１を形成する。マルチギャップ構造を有するカラーフィルタ基板の場合、反射表示領域１０ｂのオーバーコート１１が厚く形成されるが、透過表示領域１０ａのオーバーコート１１は形成されないか、もしくは薄く形成される。反射表示領域１０ｂと透過表示領域１０ａは隣接しているため、それらの領域の界面においては、オーバーコートの端部は、比較的急峻となる。従来技術では、オーバーコート形成後に、検査を実施するため、上記オーバーコートの端部において、検査用レーザ光の乱反射が増加し、光検出装置が、その反射光を検出してしまうという誤検出が発生している。しかし、本発明は、オーバーコート形成前に、凸検査を実施するため、この誤検出は、改善され、良好な精度で検査を実施することができる。
【００５５】
次に、工程Ｐａ４では、工程Ｐａ２で検出された凸欠陥を修正する工程である。この凸欠陥の修正方法には、上述した研磨装置が使用される。上記研磨装置とは、幅１ｃｍ以下のテープを有し、テープの中央部に、例えば、幅が約２ｍｍのピンを配置している。そして、上記凸部欠陥に、テープを接触させ、凸部である不良領域を研磨することにより修正することができる。また、上記研磨装置は、カラーフィルタ基板上における凸欠陥の高さを測定しながら、研磨し、この凸欠陥の高さを評価しながら、研磨を実施していくため、良好な表面形状を得ることができる。
【００５６】
本発明は、上述した工程Ｐａ１から工程Ｐａ４のカラーフィルタ製造方法によって、誤検出の少ない、正確な検査工程を実施することができるため、高品位で高品質なカラーフィルタ基板を提供することができる。
【００５７】
（カラーフィルタ製造方法例２）
図６（ｂ）は、本発明に関するカラーフィルタ基板の製造方法例２について示す。
【００５８】
工程Ｐｂ１において、カラーフィルタ赤７、カラーフィルタ緑８、カラーフィルタ青９およびＢＭ１２を、フォトリソグラフィ方式またはインクジェット方式などで形成する。上記ＢＭ１２は、例えば、カーボンなどの樹脂材料で形成されてもよく、重ねＢＭで形成されていてもよい。
【００５９】
次に工程Ｐｂ２は、上記凸検査装置を用いた検査工程である。上述したように、凸検査装置は、カラーフィルタ基板上面における傾斜角の大きな凸欠陥および異物に関して検出感度に優れている。したがって、上記の凸欠陥および異物を有するカラーフィルタ基板の良否について判別することができる。上記凸検査装置にて検出された欠陥データは、工程Ｐｂ３の凸修正工程で使用する研磨装置に転送される。
【００６０】
次に、工程Ｐｂ３では、工程Ｐｂ２で検出された凸欠陥を修正する工程である。この凸欠陥の修正方法には、上述した研磨装置が使用される。上記研磨装置は、カラーフィルタ基板上における凸欠陥の高さを測定しながら、研磨し、この凸欠陥の高さを評価しながら、研磨を実施していくことができる。
【００６１】
工程Ｐｂ４では、オーバーコート１１を形成する。マルチギャップ構造を有するカラーフィルタ基板の場合、反射表示領域１０ｂには、オーバーコート１１が厚く形成されるが、透過表示領域１０ａには、オーバーコート１１は形成されないか、もしくは薄く形成されている。反射表示領域１０ｂと透過表示領域１０ａは隣接しているため、それらの領域の界面においては、オーバーコートの端部は、比較的急峻となる。従来技術では、オーバーコート形成後に、検査を実施するため、上記オーバーコートの端部において、検査用レーザ光の乱反射が増加し、光検出装置が、その反射光を検出してしまうという誤検出が発生している。しかし、本発明は、オーバーコート形成前に、凸検査を実施するため、この誤検出は、改善され、良好な検査を実施することができる。
【００６２】
本発明は、上述した工程Ｐｂ１から工程Ｐｂ４のカラーフィルタ製造方法によって、誤検出の少ない、正確な検査工程を実施することができるため、高品位で高品質なカラーフィルタ基板を提供することができる。
【００６３】
［液晶表示パネルの製造方法］
次に、図１に示す液晶表示パネル１００を製造する方法について、図７を参照して説明する。図７は、液晶表示パネル１００の製造工程を示すフローチャートである。
【００６４】
まず、第１の基板１ａである対向基板を製造される（工程Ｓ１）。次に、透明電極膜２ａをスパッタリング法により成膜し、フォトリソグラフィ方式によってパターニングを実施し、透明電極膜２ｂを形成する（工程Ｓ２）。さらに透明電極上に図示しない配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ３）。
【００６５】
一方、上述した方法により、本発明の検査工程を有した第２の基板１ｂが製造される（工程Ｓ４）。さらに、赤色カラーフィルタ７、緑色カラーフィルタ８、青色カラーフィルタ９の上に設けられた保護膜１１の上に透明導電膜２ｂをスパッタリング法により成膜し、フォトリソグラフィ方式によってパターニングを実施し、透明電極膜２ｂを形成する（工程Ｓ５）。その後、透明電極膜２ｂ上に図示しないポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ６）。
【００６６】
そして、シール材６を介して、上記の基板１ａと基板１ｂを貼り合わせて、パネル構造を構成する（工程Ｓ７）。基板１ａと基板１ｂとは、基板間に分散配置された図示しないスペーサーなどによって、ほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせられる。
【００６７】
その後、シール材６の図示しない開口部から液晶５を注入し、シール材６の開口部を紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する（工程Ｓ８）。こうして主要なパネル構造が完成した後に、位相差板や偏光板などを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け（工程Ｓ９）、図１に示す液晶表示パネル１００が完成する。
【００６８】
［電子機器］
次に、本発明による反射散乱層を備えた液晶表示パネルを電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図８は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示パネル１００と同様の液晶表示パネル１００と、これを制御する制御手段１１０を有する。ここでは、液晶表示パネル１００を、パネル構造体１００Ａと、半導体ＩＣなどで構成される駆動回路１００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１１０は、表示情報出力源１１１と、表示情報処理回路１１２と、電源回路１１３と、タイミングジェネレータ１１４と、を有する。
【００６９】
表示情報出力源１１１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１１４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路１１２に供給するように構成されている。
【００７０】
表示情報処理回路１１２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫとともに駆動回路１００Ｂへ供給する。駆動回路１００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１１３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００７１】
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図９を参照して説明する。
【００７２】
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図９（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ２１０は、キーボード２１１を備えた本体部２１２と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部２１３とを備えている。
【００７３】
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図９（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機２２０は、複数の操作ボタン２２１のほか、受話口２２２、送話口２２３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部２２４を備える。
【００７４】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図９（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図９（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【００７５】
［変形例］
本発明の電気光学装置は、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけではなく、アクティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールド・エミッション・ディスプレイ（電界放出表示装置）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した液晶表示パネルの構造を示す断面図である。
【図２】（ａ）カラーフィルタ基板の平面図である。
（ｂ）カラーフィルタ基板の断面図である。
【図３】（ａ）本発明の検査方法の模式図を示す。
（ｂ）本発明の検査方法の模式図を示す。
【図４】従来技術の検査方法の模式図を示す。
【図５】（ａ）本発明の検査方法の模式図を示す。
（ｂ）本発明の検査方法の模式図を示す。
【図６】本発明の検査方法によるフローチャートを示す。
【図７】本発明を適用した液晶表示パネルの製造工程を示す図である。
【図８】本発明を適用した液晶表示パネルを利用する電子機器の構成を示す。
【図９】本発明を適用した液晶表示パネルを備えた電子機器の例を示す。
【符号の説明】
１ａ、第１の基板
１ｂ、第２の基板
２ａ，２ｂ、透明導電膜
３ａ，３ｂ、偏光板
４ａ、４ｂ、位相差板
５、液晶層
６、シール材
７，８，９　カラーフィルタ
１０ａ、反射表示領域
１０ｂ、透過表示領域
１０、画素領域
１１、保護膜
１２、ＢＭ（ブラックマトリクス）
１３、レーザ光源
１４、光検出器
１００、液晶表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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