(57)【要約】【課題】位相マスクに付着する異物の堆積速度を低減し、位相マスクの洗浄間隔や寿命を増大させることにより、コストを低減した光ファイバグレーティングの製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】光ファイバグレーティングの製造において、位相マスク６と、光ファイバガラス部位９の間に、ガス供給口４からガス吸引口５へとガスを所定の流量で流すことにより、光ファイバガラス部位９の表面にある残留被覆樹脂が紫外光によって、位相マスク６の表面へと、ガスや異物として飛散し堆積する速度を低減させる。前記効果により、位相マスク６の表面の汚染進行速度が緩和され、位相マスクの洗浄間隔や寿命が増加する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバを１本以上並列させて固定し、これら光ファイバに位相マスクを介して、紫外光を照射して光ファイバグレーティングを製造する方法において、前記位相マスクと前記光ファイバの間にガスを流すことを特徴とする光ファイバグレーティング製造方法。
【請求項２】
ガスを流す方向が、光ファイバの長手方向と同一であることを特徴とする請求項１の光ファイバグレーティング製造方法。
【請求項３】
ガスの種類が不活性ガスであることを特徴とする請求項１の光ファイバグレーティング製造方法。
【請求項４】
ガスの流量が、５０ｍｌ／ｍｉｎ以上、１０００ｍｌ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする請求項１の光ファイバグレーティング製造方法。
【請求項５】
紫外光を露光用の位相マスクを介して光ファイバに照射して光ファイバにグレーティングを形成する光ファイバグレーティング製造装置において、ガスの吹出口とガスの吸引口が対向して、前記位相マスクと前記光ファイバの間に配置されたことを特徴とする光ファイバグレーティング製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、光ファイバグレーティングの製造方法および製造装置に関するものであり、露光用の位相マスク表面に付着する異物を低減し、位相マスク洗浄の間隔を増加させることにより製造コストを低減させたものである。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバグレーティングは、光ファイバ中を伝搬する光のうち、特定の波長の光を透過または反射させて、特定の波長の光を抽出する光部品であり、波長多重信号光から所望の波長信号光を選択的に抽出する波長フィルタとして、あるいは、光増幅器における利得等化器として用いられている。
【０００３】
このような光ファイバグレーティングは、ファイバの長手方向においてコアの屈折率に周期的な変動を形成したものであり、この屈折率の周期的変動構造がコアを伝搬する光に対して回折格子として作用する。この回折格子としての作用により、コアを伝播する波長多重化光信号において特定の波長の光を反射／透過させる機能や、特定波長の信号光をクラッド伝播光に結合させて、減衰させるという機能が生ずる。
【０００４】
最も一般的な光ファイバグレーティングの製造方法として、フォトリフラクティブ（紫外線誘起屈折率増加）効果によりコアの屈折率を変化させる方法がある。フォトリフラクティブ効果とは、例えばドーパントとしてゲルマニウムを添加させた石英ガラスファイバに、波長２４０ｎｍ付近の紫外線を照射すると、ゲルマニウム添加石英ガラスの屈折率が上昇する現象のことである。
【０００５】
図２に従来の光ファイバグレーティングの製造方法の一例をしめす。図中符号２１は光ファイバの被覆を除去し、光ファイバ裸線が露出したガラス部位である。符号２１ａはガラス部位２１の中のコアであり、符号２１ｂクラッドである。符号２２は、ガラス部位２１を覆っている被覆樹脂である。クラッド２１ｂは通常、純粋石英ガラスからなり、コア２１ａは、石英ガラスにゲルマニウム等のドーパントを添加することにより、クラッドよりも屈折率を高くせしめ、この部位に信号光を閉じこめて長手方向に伝搬させる機能を有する。
【０００６】
被覆樹脂２２は、ガラス部位２１の表面保護と外力に対する緩衝層であることを目的とする。符号２３は位相マスクであり、石英ガラスの薄板からなる。位相マスク２３の片面には周期的な微細溝が形成されており、回折格子として機能する。
【０００７】
以下に、光ファイバグレーティングの製造方法を説明する。まず、光ファイバの一部の被覆樹脂２２を外周全面に渡って除去してクラッド２１ｂを露出させ、位相マスク２３の回折格子面に平行に置く。この被覆樹脂２２を除去したガラス部位２１にグレーティングが形成される。ガラス部位２１に位相マスク２３を介して波長２４０ｎｍ付近の紫外光を照射させる。
【０００８】
位相マスク２３を通過した前記紫外光は、位相マスク２３の表面の周期的格子により回折され、±１次回折光となる。これら回折光が位相マスク２３を透過後の空間において互いに重畳し干渉することにより、紫外光は光ファイバの長手方向において、光強度の周期的変動を有する分布を形成する。
【０００９】
この周期的光強度分布を有する紫外光が、位相マスク２３の直下に位置する光ファイバのガラス部位２１に照射され、コア２１ａに到達すると、前記フォトリフラクティブ効果により、コア２１ａに周期的な屈折率変動が形成される。
【００１０】
このようにして得られた光ファイバ長手方向の屈折率の周期的な変動が、光ファイバに特定波長帯の光に損失を発生させるフィルタとしての機能を与える。コア２１ａに効率良く紫外光を照射するために、紫外光吸収作用のある被覆樹脂２２を照射前に除去し、紫外光を直接ガラス部位２１に照射するが、次のような問題が存在する。
【００１１】
すなわち、前記被覆樹脂２２を除去するには、機械的方法と化学的方法があり、前者では例えば、被覆樹脂２２に薄刃を当て、薄刃または樹脂被覆２２を動かすことにより、樹脂を剥離させて除去する。この場合、薄刃がガラス部位２１に接触するとガラス表面に微細な傷が発生し、破断の原因となるため、薄刃がガラス部位２１に接触しないような保護機能を施すか、あるいはガラスに傷が付きにくいような低硬度の材質の薄刃をもちいる。
【００１２】
しかし、そうすることによってガラス部位２１の表面には樹脂被覆２２が微少に残留する。また、化学的方法では、被覆樹脂２２を溶解可能な酸に光ファイバを含浸させる方法がとられるが、被覆樹脂２２を完全に溶解するには長時間を要するため作業効率が悪く、また、機械的方法と同様に微少な残留樹脂が発生する場合が多かった。
【００１３】
ところで、紫外光が位相マスク２３によって回折されて発生する光強度の周期的変動は位相マスク２３の表面の周期的格子から数１００μｍの距離までしか発生しない。よって、位相マスク２３の表面と光ファイバガラス部位１１の距離は数１００μｍまで近接させる必要がある。
【００１４】
そのため、光ファイバガラス部位２１の表面に被覆樹脂２２が残留していると、残留樹脂は、紫外光によってガス化あるいは飛散し、位相マスク２３の表面に付着し汚染するという現象が発生する。
【００１５】
この問題は特に光ファイバグレーティングを量産して作製するために複数のファイバを並列に固定し、一度に複数本の光ファイバグレーティングを作製する際には、一層顕著となる。
【００１６】
位相マスク２３は、その表面の微細な溝によって紫外光を回折するのであるが、位相マスク２３の表面にガス化した樹脂や飛散した樹脂が付着した場合、それらの付着部位において紫外光が散乱され、空間に光強度の周期的変動を形成するために必要な±１次回折光の光強度が弱められる。
【００１７】
そのため、空間に形成される周期的光強度分布のコントラスト（光強度の最大値と最小値の比）が低下することになる。光ファイバグレーティングにおいて所定の反射／透過特性を得るためには、周期的光強度分布を有する紫外光によって形成されるコアの屈折率変動が所定の範囲に達しなければならないが、前記のように紫外光の周期的光強度分布のコントラストが低下すると、必要な屈折率の変動を生ぜしめるためには長時間の紫外光照射が必要となり、作業性を著しく低下させることとなる。
【００１８】
ところで、位相マスクの表面の残留樹脂による汚染は酸またはアルカリによる洗浄で除去できることが知られている。しかし、この洗浄作業は、位相マスク表面の微細溝を傷つけることなく洗浄しなければならないため、作業者の熟練と技能を要し、作業時聞も長く必要になる。従って、できる限り位相マスクの洗浄回数を少なくすることが、光ファイバグレーティングの製造コストを下げる意味でも重要となってくる。
【００１９】
しかも、洗浄により位相マスク表面の汚染が完全に除去されるということはなく、微小な汚れが蓄積されていくので、位相マスクの可能な洗浄回数は限られているといえる。よって、位相マスク表面の汚染を出来る限り低減し、洗浄までに要する時間を長くすることは、光ファイバグレーティングの製造コストを考えた時に非常に重要となってくる。
【００２０】
【特許文献１】
特開２００２−４８９２６号公報
【００２１】
これらの位相マスク表面の汚染に対しては、位相マスクとファイバの間に石英板を置くという方法（特開２００２−４８９２６号公報）が知られている。前記公報における発明は、位相マスクに付着する汚れを石英板で遮断し、位相マスクの表面が汚染されないようにするものである。
【００２２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記先行発明では、位相マスク表面の汚染の抑制に対しては有効ではあるが、位相マスクと光ファイバの間においた石英板自体の表面が汚染されるという問題が生じる。従って、石英板を交換または洗浄することが必要になる。
【００２３】
また、位相マスクと石英板の間で発生する反射光が回折光に重畳して、回折光の干渉による周期的光強度分布を乱すことによって、光ファイバグレーティングの光学特性を悪化させることがある。また、石英板により紫外光の強度が減衰するので、より強度の大きい紫外光を用いる必要が生じてくる。
【００２４】
さらに、前述したように位相マスクとファイバの距離は数１００μｍに近づける必要があるために、この石英板の厚みは数１００ミクロン以下であり、しかも均一であることが要求される。よってこの石英板は非常に高価なものとならざるをえない。このような高価な部品を用いて製造することで、結果的に光ファイバグレーティングの製造コストは高いものになってしまう。
【００２５】
本発明は、製造する光ファイバグレーティングの光学特性を悪化させることなく、位相マスク表面の汚染を効果的に抑制することによって、位相マスクの洗浄が必要になるまでの時間を長くし、結果としてより安価に光ファイバグレーティングを製造する方法およびその製造装置を提供することを目的とする。
【００２６】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するために、請求項１における発明は、光ファイバを１本以上並列させて固定し、これら光ファイバに位相マスクを介して、紫外光を照射して光ファイバグレーティングを製造する方法において、前記位相マスクと前記光ファイバの間にガスを流すことを特徴とする光ファイバグレーティング製造方法である。
【００２７】
請求項２における発明は、ガスを流す方向が、光ファイバの長手方向と同一であることを特徴とする請求項１の光ファイバグレーティング製造方法である。
【００２８】
請求項３における発明は、ガスの種類が不活性ガスであることを特徴とする、請求項１の光ファイバグレーティング製造方法である。
【００２９】
請求項４における発明は、ガスの流量が、５０ｍｌ／ｍｉｎ以上、１０００ｍｌ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする請求項１の光ファイバグレーティング製造方法である。
【００３０】
請求項５における発明は、紫外光を露光用の位相マスクを介して光ファイバに照射して光ファイバにグレーティングを形成する光ファイバグレーティング製造装置において、ガスの吹出口とガスの吸引口が対向して、前記位相マスクと前記光ファイバの間に配置されたことを特徴とする光ファイバグレーティング製造装置である。
【００３１】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明のファイバグレーティング製造方法および製造装置の実施形態を示す図である。この例における光ファイバグレーティング製造装置は、符号１１で示す紫外光光源、符号１で示すガス供給装置、符号６で示す位相マスク、符号７で示す位相マスク固定台、符号８で示す光ファイバ、符号９で示す光ファイバガラス部位、および符号１０で示す光ファイバ固定台より構成されている。
【００３２】
まず、ガス供給装置１について説明する。ガス供給装置１の一端には、符号２で示すガス供給部が接続されており、ガス供給部２は、図示しない配管を経由して、符号４で示すガス吹出口に接続されている。また、ガス供給装置１の他端には、符号３で示す真空ポンプ接続部が接続されており、真空ポンプ接続部３は図示しない配管によって符号５で示すガス吸引口に接続されている。
【００３３】
真空ポンプ接続部３には、図示しない真空ポンプが接続されている。ガス吹出口４とガス吸引口５は対向しており、ガス吹出口４より噴出したガスは、ガス吸引口５から吸引される。
【００３４】
ガス吹出口４の個数及び、形状は、光ファイバ８の本数、形状、光ファイバガラス部位９の長さ等を考慮して、光ファイバガラス部位９より飛散するガスや異物を吹き流す効果が最適となるように設計すればよい。また、ガス吸引口５の個数、寸法、形状も同様に、ガス吹出口４から噴出したガスを効率よく吸引できるように設計すれば良い。
【００３５】
光ファイバガラス部位９に対するガスの吹出し方向は任意であるが、固定されたファイバが吹出すガスの流れにより振動することがないように、ファイバの長手方向とガスの吹出し方向は同一であることが望ましい。また、図１においては、ガス供給装置１の光ファイバガラス部位９と対向する面に貫通部が設けられており、この貫通部に、位相マスク６および位相マスク固定台７が設置される。
【００３６】
ガス供給装置１に貫通部を設けず、ガス供給装置１と位相マスク固定台７が一体化された構造であっても良いが、位相マスク６に対するガス吹出口４の高さを微調整する機構が設けられていることが望ましい。
【００３７】
ガス供給装置１に供給されるガスは、光ファイバガラス部位９から位相マスク６の表面へ向かって飛散する異物を吹き流すために用いられるが、不活性ガスや乾燥空気などが望ましい。また、それらのガスは、フィルタ等を介して十分に異物を除去し精製されたものでなければならない。
【００３８】
位相マスク６は、位相マスク固定部７に装着され、紫外光は、位相マスク固定部７の背後より、位相マスク６に向かって照射される。位相マスク固定台７の位相マスク６を取付ける面には、紫外光を位相マスク６へ透過させるための貫通部が設けられている。
【００３９】
光ファイバ８は、光ファイバ固定台１０によって、位相マスク６に対向して、一定張力により固定される。光ファイバ８は、１本あるいは、複数本であり、テープファイバのように多心化されたものでも良いが、位相マスク６に対して平行に設置される必要がある。
【００４０】
光ファイバ固定台１０は、真空吸引や押さえ部材などにより光ファイバを一定の張力において固定するが、位相マスク６によって形成される紫外光の干渉縞は、位相マスク６の表面から数１００μｍ以内に存在するため、位相マスク６と光ファイバガラス部位９の間隔を微調整できる機構を有する必要がある。
【００４１】
また、光ファイバ固定台１０は、ガス供給装置１および位相マスク固定部７と一体化されていても良い。位相マスク固定部７、ガス供給装置１、光ファイバ固定台１０は、紫外光照射中の振動を極力防ぐために、除振台等の防振構造を有するべース上に設置されることが望ましい。
【００４２】
符号１１は紫外光光源であり、紫外光ランプやエキシマレーザーなどが用いられる。紫外光光源１１から発した紫外光は、位相マスク６へ照射されるが、通常、両者の間には、石英レンズや紫外光反射ミラー等による集光や光路変更のための図示しない光学系が使用される。
【００４３】
かかる光ファイバグレーティング製造装置を用いた光ファイバグレーティングの製造方法を以下に説明する。紫外光光源１１より照射された紫外光は、位相マスク固定部７の貫通部を通過して、位相マスク６に照射される。
【００４４】
位相マスク６を透過した紫外光は、位相マスク６の回折効果により、±１次の回折光となり、位相マスク６を透過した後の空間に周期的光強度変動構造を有する干渉縞を形成する。この干渉縞の発生している空間に、光ファイバガラス部位９は設置され、紫外光の周期的光強度変動により、コア内に屈折率の周期的変動構造が形成される。
【００４５】
位相マスク６と、光ファイバガラス部位９の間隔は、紫外光干渉縞の発生領域が限られているところから、屈折率変動効果が最適となるように調整される。また、ガス吹出口４およびガス吸引口５の位相マスク６表面からの高さは、ガス流が光ファイバガラス部位９から飛散するガスや異物の吹流しに最適となるように調整される。
【００４６】
ガス吹出口４とガス吸引口５が対向して位相マスク６と光ファイバガラス部位９の間に配置されていることにより、位相マスク６と光ファイバガラス部位９の間には、ガス吹き出し口４からガス吸引口５へと向かうガス流の層が形成され、光ファイバガラス部位９の表面に残留し、紫外光によってガス化あるいは飛散した被覆樹脂は、このガス流の層によって吹き流されて、ガス吸引口５に吸引され、外部へ排出される。
【００４７】
従って、位相マスク６の表面に異物が到達する頻度が著しく低下する。このような効果により位相マスク６表面の汚染の進行は、ガス流がない場に比較して大幅に遅くなるため、位相マスク６の洗浄間隔が長くなり、位相マスク６自体の寿命も改善される。
【００４８】
ガスを流す方向については、先に説明したように、光ファイバガラス部位９の長手方向に対して任意に設定可能であるが、両者が平行ではなく角度を有すると、ガス流が光ファイバガラス部位９に当たり、微小振動を発生させることがある。
【００４９】
この微小振動によって、光ファイバガラス部位９上に投影された紫外光の周期的光強度分布が乱れ、所望の周期的屈折率変動が生じない場合がある。従って、ガスを流す方向と、光ファイバガラス部位９の長手方向は同一であることが望ましい。
【００５０】
また、用いるガスについては、微小な異物が除去されたものであれば、種類は問わないが、安全性等を考慮すると、窒素、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガスあるいは乾燥空気などであることが望ましい。
【００５１】
ガスの流量は、残留樹脂により発生するガスや異物を吹き流す場合に、吹き流しの効果を決定する重要な要素である。流量が少なければ、吹き流しの効果は弱く、位相マスク６への異物付着は緩和されず、また流量が大きすぎれば、先に説明したように光ファイバガラス部位９に微小振動を与え、屈折率の周期的変動に乱れが生ずる。
【００５２】
従って、ガス流量には、異物付着の防止が効果的に実施できる範囲が存在し、後に述べる実施例等における実験的検討から、５０ｍｌ／ｍｉｎ以上であり、１０００ｍｌ／ｍｉｎ以下である流量範囲が適していることが確認されている。流量が５０ｍｌ／ｍｉｎであれば、流量が少なすぎて、位相マスク６の表面への異物付着は十分に防ぐことができず、また、１０００ｍｌ／ｍｉｎ以上では流量が大きすぎて、ファイバガラス部位９に与える振動が大きくなり周期的屈折率変動に乱れが生ずる。
【００５３】
以下に実施例を示しながら詳細を説明する。
［実施例］
光ファイバ８を複数本並列させた状態で、ガスとして窒素を前記光ファイバ８と位相マスク６の間に流しながら、光ファイバグレーティングの作製を行った。使用した紫外光の波長は２４８ｎｍである。
【００５４】
ガス吹出口４は、直径１ｍｍの穴が３ｍｍ間隔で３個直線上に配置されている。また、ガス吸引口５は、１ｍｍ×２５ｍｍの長方形である。３個のガス吹出口４の穴の中心を結ぶ直線の高さと、ガス吸引口４の短辺の中点を結ぶ直線の高さは等しく、両者は対向する位置関係にある。ガスの流量は１００ｍｌ／ｍｉｎに設定した。
【００５５】
使用した光ファイバ８は外径２５０μｍであり、樹脂被覆を除去した光ファイバガラス部位９の外径は１２５μｍである。樹脂被覆の除去長は４０ｍｍであった。また、使用した位相マスク６の寸法は、２０ｍｍ×３０ｍｍであり、位相マスク表面に形成された溝のピッチは約１μｍ、溝の深さは約２５０ｎｍであった。
【００５６】
まず、初期特性を比較するため、窒素を流した状態と流さない状態で、それぞれ光ファイバグレーティングを作製し、それらの光学特性を調べた。得られた光学特性はほぼ同一であり、作製に要した時間もほぼ同一であった。
【００５７】
次に窒素を流さない状態で、光ファイバグレーティングの製造を行い、位相マスク６の洗浄が必要となる製作本数を求めた。この実験における位相マスク６の洗浄が必要となる時期は、測定波長である１５５０ｎｍにおける光ファイバグレーティングの透過率が、所定時間内での紫外線照射により、目標値の５０％に達しなくなった場合とし、この条件に至るまでの製作本数を調査している。
【００５８】
次に、位相マスク６を同一規格の新品に交換し、窒素を流しながら、同一の条件で光ファイバグレーティングを作成し、洗浄が必要となる製作本数を求めた。結果は、表１に示すものである。表１の値は、同一の実験を１０回繰返し、その平均作製本数を示したものである。
【００５９】
【表１】
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【００６０】
表１からわかるように、窒素を流しながら製造する方が、位相マスク６の洗浄を要するまでに作製できた光ファイバグレーティングの本数が多くなっている。これは、位相マスク表面が汚染されるまでの時間が長くなっていることを示すものであり、明らかに発明の効果が認められる。
【００６１】
また、従来の技術と比較するために、光ファイバガラス部位９と位相マスク６の問に石英板を置いた場合についても同様の調査を行った。石英板の寸法は、４０ｍｍ×４０ｍｍであり、厚さは１００μｍである。前記石英板を位相マスク６と光ファイバガラス部位９の間に設置し、表１に結果を示した実験と同じ条件で光ファイバグレーティングの作製を行った。
【００６２】
この場合には、前記実験における、位相マスク６が交換必要となる条件と同じ条件で、石英板が交換必要となるまでの光ファイバグレーティング作製本数を求めた。その結果を表２に示す。表２の結果は、同一実験１０回の平均値である。
【００６３】
【表２】
2004271689.tif 000004
【００６４】
表２から、窒素を流しながら製造する方が、位相マスク６の洗浄または石英板の交換までに作製できた光ファイバグレーティングの本数が多くなっており、明らかに発明の効果があることがわかる。
【００６５】
さらに、窒素を流した場合と流さない場合とで位相マスク表面の汚染進行の違いを見るために、同じ本数の光ファイバグレーティングを製造した後、位相マスク表面に付着した異物の個数を顕微鏡により調査した。異物検出は、顕微鏡に接続した市販の画像処理装置を用いて行い、異物の面積が１μｍ２  以上のものを異物としてカウントする設定とした。その結果は表３に示すものである。表３は同一実験を１０回行った平均値である。
【００６６】
【表３】
2004271689.tif 000005
【００６７】
表３より、窒素を流しながら製造する方が、位相マスク表面の異物が少ない、すなわち汚れが少なくなつており、明らかに発明の効果があることがわかる。なお、窒素に替えて、乾燥空気、Ｈｅ、Ａｒなどのガスを用いてもよい。
【００６８】
また、窒素の流量と異物検出個数の関係を調査した。その結果を図３に示す。この図からわかるように、窒素流量が５０ｍｌ／ｍｉｎ未満では、異物個数が増加する。これは、窒素の流れが、位相マスク表面に向かって飛散してくる異物を十分に吹き流すことができないため、異物の付着防止効果が低下するためであると考えられる。
【００６９】
従って、窒素は、５０ｍｌ／ｍｉｎ以上の流量に設定することが必要である。なお、流量を１０００ｍｌ／ｍｉｎ以上に設定すると窒素の流れによる光ファイバ８の振動が大きくなり、結果として光ファイバガラス部位９上に投影された紫外光の光強度の周期構造が乱れ、屈折率分布の周期的構造を正確に製作することが不能となった。
【００７０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の製造方法および製造装置を用いて、ファイバと位相マスクの問にガスを流すことで、被覆樹脂除去後にファイバ表面に残留存する微量の被覆樹脂が紫外光によりガス化あるいは飛散したものが位相マスク表面に付着することを、効果的に抑制できる。従って、本発明を用いることで、位相マスク表面に汚れが付着し洗浄が必要になるまでの時間を大幅に長くすることが可能である。前記の効果により、洗浄に要する費用の低減が可能であり、また洗浄頻度の低下により、位相マスクの寿命が延びることも期待できる。その結果として、より安価に光ファイバグレーティングを製造することが可能になる。
また、従来技術である位相マスクとファイバの問に石英板を置く方法に比べ、より安い費用で位相マスクの洗浄頻度を低減することができる。その結果としてより安価に光ファイバグレーティングを製造することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ファイバグレーティング製造装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】従来の光ファイバグレーティングの製造方法の一例を示す図である。
【図３】実施例において、窒素の流量と位相マスク表面に付着した異物の個数の関係を示したグラフである。
【符号の説明】
１…ガス供給装置、２…ガス供給部、３…真空ポンプ接続部、４…ガス吹出口、５…ガス吸引口、６…位相マスク、７…位相マスク固定部、８…光ファイバ、９…光ファイバガラス部位、１０…光ファイバ固定台、１１…紫外光光源、２１…光ファイバガラス部位、２３…位相マスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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