(57)【要約】【課題】塗布ヘッドのペースト吐出口周辺部に、溶剤で湿潤させた拭き取り部材を弾性体で押し当ててから、塗布ヘッドと拭き取り部材を相対的に摺動させ、付着しているペースト等の汚染物を拭き取って清掃する方法において、清掃手段を構成する弾性体の膨潤、並びに弾性体からのペースト、溶剤の染み出しを防止することで、ペースト吐出口周辺部に付着したペーストを長期にわって繰り返して確実に除去、清掃する清掃装置及び方法と、並びに本清掃装置及び清掃方法を用いたペースト塗布装置及び塗布方法を提供する【解決手段】ペースト吐出口を有する塗布ヘッドと、溶剤で湿潤させた拭き取り部材と、前記拭き取り部材を押し当てる弾性体と、塗布ヘッド又は拭き取り部材の少なくとも一方を相対的に移動させて摺動させる移動摺動手段を備えた清掃装置において、拭き取り部材と弾性体の間にペースト及び溶剤の浸透を防止する手段を有することを特徴とする塗布ヘッド清掃装置。【選択図】図２
2004290836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペースト吐出口を有する塗布ヘッドと、溶剤で湿潤させた拭き取り部材と、前記拭き取り部材を押し当てる弾性体と、塗布ヘッド又は拭き取り部材の少なくとも一方を相対的に移動させて摺動させる移動摺動手段を備えた清掃装置において、拭き取り部材と弾性体の間にペースト及び溶剤の浸透を防止する手段を有することを特徴とする塗布ヘッド清掃装置。
【請求項２】
前記ペースト及び溶剤の浸透を防止する手段が、弾性体の表面に設けられたゴム又は樹脂のコーティングであることを特徴とする請求項１に記載の塗布ヘッド清掃装置。
【請求項３】
前記ペースト及び溶剤の浸透を防止する手段が、弾性体の表面に設けられたゴム又は樹脂フィルムの被覆物であることを特徴とする請求項１に記載の塗布ヘッド清掃装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の塗布ヘッド清掃装置を備えたことを特徴とするペースト塗布装置。
【請求項５】
ペーストを吐出する塗布ヘッドの吐出口周辺部に、溶剤で湿潤させた拭き取り部材を弾性体によって押し当て、塗布ヘッド又は拭き取り部材の少なくとも一方を相対的に移動させる清掃方法において、拭き取り部材から弾性体へのペースト及び溶剤の浸透を防止する手段を設けて清掃することを特徴とする塗布ヘッド清掃方法。
【請求項６】
請求項５に記載の塗布ヘッド清掃方法を用いて塗布することを特徴とするペースト塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルタ、プラズマディスプレイ、プリント基板等の製造工程において、ペーストを吐出するダイ又はノズル等の塗布ヘッドのペースト吐出口周辺部を清掃する装置及び方法、並びにそれらの清掃する装置及び方法を用いて、塗布ヘッドよりペーストを吐出して塗布を行う塗布装置及び塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から基板上にペーストを塗布する装置として、ダイやノズル等の塗布ヘッドを用いたペースト塗布装置が知られている。図３は塗布ヘッドの一例であるノズルヘッドを示している。ノズルヘッド２００内にはペースト２０３が貯留されており、ノズルヘッド２００の下面には複数個のペースト吐出口２０２が一直線上に穿設されている。ここで、気体圧力供給口２０５から圧縮空気等の気体圧力を供給し、吐出口２０２に対向するように置かれた基板上にペーストを吐出して塗布することができる。
【０００３】
しかしながら、ノズルヘッド２００を用いた前記ペースト塗布装置では、１）吐出口２０２からのペースト吐出を繰り返すことにより、吐出口２０２の周辺部にペーストが付着すること、２）ペースト吐出前の待機時でのノズルヘッド内の圧力変化及びペーストの自重の影響により、図３に示すように、吐出口２０２からペーストが滴状に染み出すこと、がある。このような状態で吐出口２０２に対向するように置かれた基板上にペースト吐出を行うと、ペーストの表面張力等の影響により吐出口２０２からのペースト吐出流が鉛直にならないので、基板にペーストを一直線上に均一厚さで塗布することが困難となる。さらに、吐出口２０２に付着するペースト量は一定ではなく、かつノズルヘッド２００の長手方向にわたって不均一であるため、この残留ペーストが基板に付着すると、全領域にわたって均一厚さの塗布が行えなくなる。特に粘度が５０００ｍＰａｓを超える高粘度ペーストを用いる場合には、以上の不具合の発生は顕著になる。この不具合を解消するには、ペースト吐出前にノズルヘッド２００の吐出口２０２及びその周辺に付着したペーストを確実に除去、清掃することが必須要件となる。
【０００４】
塗布ヘッド吐出口周辺部の清掃を行う従来の技術としては、ペースト吐出口周辺部に溶剤で湿潤させた拭き取り部材をゴム等の弾性ロールで押し当ててから、塗布ヘッドと拭き取り部材を相対的に摺動させ、付着しているペーストを拭き取って清掃する方法が知られている。（例えば、特許文献１  参照）
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１２６５９９公報（第３−４頁、第２図）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１の清掃方法では、塗布ヘッドの拭き取り動作を繰り返し行うと、ペースト及び溶剤が拭き取り部材より弾性ロールへ浸透するので、弾性ロールが膨潤して変形又は劣化が生じる。それに加えて、拭き取り時に弾性ロールが押しつけられたことで、弾性ロールへ浸透したペースト及び溶剤が拭き取り部材へ染み出して、塗布ヘッドへ転写されることも生じる。
【０００７】
本発明は、上記事情に基づいてなされたものであり、塗布ヘッドのペースト吐出口周辺部に、溶剤で湿潤させた拭き取り部材を弾性体で押し当ててから、塗布ヘッドと拭き取り部材を相対的に摺動させ、付着しているペースト等の汚染物を拭き取って清掃する方法において、清掃手段を構成する弾性体の膨潤、並びに弾性体からのペースト、溶剤の染み出しを防止することで、ペースト吐出口周辺部に付着したペーストを長期にわたって繰り返し確実に除去、清掃する清掃装置及び方法と、並びに本清掃装置及び清掃方法を用いたペースト塗布装置及び塗布方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を有する。
【０００９】
（１）ペースト吐出口を有する塗布ヘッドと、溶剤で湿潤させた拭き取り部材と、前記拭き取り部材を押し当てる弾性体と、塗布ヘッド又は拭き取り部材の少なくとも一方を相対的に移動させて摺動させる移動摺動手段を備えた清掃装置において、拭き取り部材と弾性体の間にペースト及び溶剤の浸透を防止する手段を有することを特徴とする塗布ヘッド清掃装置。
【００１０】
（２）前記ペースト及び溶剤の浸透を防止する手段が、弾性体の表面に設けられたゴム又は樹脂のコーティングであることを特徴とする前記（１）に記載の塗布ヘッド清掃装置。
【００１１】
（３）前記ペースト及び溶剤の浸透を防止する手段が、弾性体の表面に設けられたゴム又は樹脂フィルムの被覆物であることを特徴とする前記（１）に記載の塗布ヘッド清掃装置。
【００１２】
（４）前記（１）〜（３）のいずれかに記載の塗布ヘッド清掃装置を備えたことを特徴とするペースト塗布装置。
【００１３】
（５）ペーストを吐出する塗布ヘッドの吐出口周辺部に、溶剤で湿潤させた拭き取り部材を弾性体によって押し当て、塗布ヘッド又は拭き取り部材の少なくとも一方を相対的に移動させる清掃方法において、拭き取り部材から弾性体へのペースト及び溶剤の浸透を防止する手段を設けて清掃することを特徴とする塗布ヘッド清掃方法。
【００１４】
（６）前記（５）に記載の塗布ヘッド清掃方法を用いて塗布することを特徴とするペースト塗布方法。
【００１５】
上記の塗布ヘッド清掃装置、清掃方法によれば、拭き取り部材に付着したペースト及び溶剤が拭き取り部材から弾性体へ浸透することを防止する手段を設けたので、弾性体の膨潤による変形及び劣化を防止すると共に、ペースト及び溶剤が弾性体から拭き取り部材へと染み出して、拭き取り動作時に塗布ヘッドを再汚染することも防止できる。また、弾性体の変形及び劣化の防止により、塗布ヘッドに拭き取り部材を均一に押し当てる状態を維持できるため、塗布ヘッドに付着しているペースト等の汚染物を確実に除去、清掃すると共に、その効果を長期にわたって再現性よく持続することができる。
【００１６】
さらに、本発明の塗布ヘッド清掃装置、清掃方法を用いたペースト塗布装置、塗布方法によれば、塗布ヘッドを確実に清掃して汚染物のない初期状態から塗布ヘッドよりペーストを吐出して塗布するのであるから、安定して均一かつ高品位な塗布を長期に渡って実現することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施形態を図面に基づいて説明するが、何等これに限定されるものではない。図１は本発明のペースト塗布装置の概略正面図、図２はペースト塗布装置に組み込まれた塗布ヘッド清掃装置の拡大正面図、図３は塗布ヘッドの一例であるノズルヘッドの正面断面図、図４は本発明のペースト塗布装置で塗布した時の基板塗布状況を例示する平面図である。
【００１８】
図１を用いてペースト塗布装置１の構成を説明する。まず基板２が載置されるテーブル５は機台３上のＸ軸走行レール４でＸ軸方向（図面左右方向）に自在に案内されるとともに、Ｘ軸モータ（図示しない）でボールネジ（図示しない）等を介して駆動される。また、図示されていないが、テーブル５は真空吸着により、基板２を吸着固定する機構を有していることが好ましい。
【００１９】
機台３の中央部には、テーブル５上の基板２の幅方向（紙面に垂直な方向）に渡って、門型の支持機台６が架設されている。支持機台６にはテーブル５の基板載置面に対して垂直方向に設置されたＺ軸走行レール７があり、このＺ軸走行レール７に沿って自在に昇降するホルダ９に、塗布ヘッド１０が取り付けられている。塗布ヘッド１０の長手方向（紙面に垂直な方向）は、基板２の幅方向に一致するよう配置されている。ホルダ９及び塗布ヘッド１０はＺ軸モータ８によって、ボールネジ（図示しない）等を介して駆動され、Ｚ軸方向（上下方向）に自在に往復動できる。
【００２０】
機台３の右側には塗布ヘッド清掃装置を構成する拭き取り装置１００及び溶剤付着装置１５０が有る。拭き取り装置１００はＸ軸走行レール４にそって、図１に示す位置（終点）から、塗布ヘッド１０の真下付近にある塗布ヘッド拭き取り位置Ｄ（拭き取り装置１００を破線で示す位置）の間を、テーブル５とは独立して、自在に往復動できる。
【００２１】
Ｘ軸、Ｚ軸、その他の各軸の走行駆動機構としては、サーボモータとボールネジを用いて回転運動をリニア運動に変換する方式の他、リニアモータ、エアーシリンダ等直接リニア運動する方式があるが、ペースト塗布装置に求められる位置決め精度及び速度精度が達成できるならば、いずれの方式を用いても良い。またリニア運動を案内するガイドとしては、通常のリニアガイドの他、エアーベアリングを用いてもよい。
【００２２】
次に図３を用いて、塗布ヘッド１０の一実施態様例であるノズルヘッド２００の構成について説明する。ノズルヘッド２００は筺体２０７と上面板２０４から構成される。筐体２０７の内部にはマニホールド２０１を備える一方、筺体２０７の底面には複数個のペースト吐出口２０２が一直線上に穿設されている。また上面板２０４には気体圧力供給口２０５及びペースト供給口２０６が備えられている。ペースト２０３はペースト供給口２０６より供給され、マニホールド２０１に貯留された後、気体圧力供給口２０５より圧縮空気等の気体圧力で加圧されて、ペースト吐出口２０２より吐出される。ここで、ペースト吐出方法としては、気体圧力で加圧する方法の他、シリンジポンプやギヤポンプ等の定容量ポンプで定量供給する方法でも良く、ペーストの特性と塗布条件に応じて最適な方法を選択することが望ましい。
【００２３】
次に図２を見ると、本発明の清掃装置である拭き取り装置１００の詳細が示されている。拭き取り装置１００は拭き取り部材である拭き取り布１０４を送り出す巻出布ロール１０１と、送り出された拭き取り布１０４が部分的に接触する拭き取り部材を押し当てる弾性体である押し当てロール１０３と、拭き取り布１０４を巻き取る巻取布ロール１０２を有する。ここで、押し当てロール１０３は、図１に示す通り、拭き取り布１０４を塗布ヘッド拭き取り位置Ｄで塗布ヘッド１０に押し当てられるようになっている。この押し当てロール１０３は、固定の芯軸１０５を弾性体１０６で包み込み、さらに弾性体１０６の外周表面を樹脂（ゴムであっても良い）フィルム１０７の被覆物で覆った（被覆物で覆うのに代えて、コーティングを押し当てロール表面に設けても良い）上で、止め具１０８によって樹脂フィルム１０７を固定することで構成されている。弾性体１０６は、適度な柔らかさと共に、押し当てた相手の形状にならう融通性を有するものが適しており、発泡性スポンジや合成ゴム等を使用することが好ましい。具体的には、シリコンスポンジ、ポリエチレンスポンジ、フッ素スポンジ、シリコンゴム、フッ素ゴム等が好ましい。なお押し当てロール１０３の形状については、円筒形の他、接触面が平面となる直方体でも良い。
【００２４】
さて巻出布ロール１０１と巻取布ロール１０２は、各々２対の傘歯車によって構成される連結軸１１１ａ、１１１ｂを介して、巻出モータ１０９及び巻取モータ１１０によって駆動され、拭き取り布１０４の送り出し及び巻き取りが行なわれる。巻出布ロール１０１における拭き取り布１０４の拭き取り操作１回毎の送り出し量は、布の使用量を節約して拭き取り回数を多くできるよう、３〜１０ｍｍとすることが望ましい。送り出し量は、布径検知センサ１１２で巻取布ロール１０２の直径を測定し、直径から算出される巻取モータ１０２の駆動速度及び駆動時間によって制御される。また、押し当てロール１０３上で、拭き取り布１０４にしわが発生しないように、常に拭き取り布１０４に張力を付加した状態とする。そのために、１）ブレーキ力を生じるように巻出モータ１０９をトルク制御しながら、巻取布ロール１０２で拭き取り布１０４を巻き取る、２）拭き取り布１０４の送り出し以外の停止時には、巻出モータ１０９によって拭き取り布１０４に張力を付加する、ことが好ましい。
【００２５】
なお、この例では拭き取り部材である拭き取り布１０４には布材を用いている。布材には多くの品種があるが、拭き取りによる汚れの除去作用が高く、且つ毛羽等がなく発塵しないものが好ましい。具体例として、極細長繊維を使用した不織布が好ましい。さらに布材以外でも、発塵を抑制し、且つ耐薬品性を有する樹脂及びゴムのシート材を使用してもよい。具体例としては、フッ素ゴムシート、ブチルゴムシート、シリコンゴムシート等が好ましい。
【００２６】
樹脂フィルム１０７は拭き取り布１０４に付着したペースト及び溶剤が弾性体１０６へ付着し、且つ浸透することを防止する手段であり、ペースト及び溶剤への耐久性を有する耐薬品性の樹脂フィルムが好ましい。具体例としては、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素フィルム等がある。また、樹脂フィルム１０７は拭き取り布１０４と塗布ヘッド１０との密着性を良好にするため、押し当てロール１０３を構成する弾性体１０６の柔軟性を損なわない厚さのものを選定することが必要であり、具体的には、１０〜２００μｍの厚さが好ましい。さらに、ペースト及び溶剤の浸透を防止する手段としては、樹脂フィルムを使用するのではなく、芯軸１０５を包み込む弾性体１０６に樹脂フィルムと同等の溶剤浸透防止機能を備えさせてもよい。例えば、１）弾性体１０６に耐薬品性のゴムを用いる、２）弾性体１０６を耐薬品性のゴムで被覆する、３）弾性体１０６を耐薬品性のゴム又は樹脂によってコーティングする、等がある。耐薬品性のゴムや樹脂の具体例としては、シリコンゴム、ブチルゴム、クロロプレンゴム、並びにテフロン（登録商標）等のフッ素樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルエストラマー等が好ましい。
【００２７】
さらに、塗布ヘッド１０に付着したペースト及び溶剤を確実に拭き取るには、押し当てロール１０３で拭き取り布１０４を塗布ヘッド１０に押し当てた時に、拭き取り布１０４が塗布ヘッド１０に十分に密着していることが必要である。そのために押し当てロール１０３には適度な柔軟性が要求される。具体的には、拭き取り布１０４及び樹脂フィルム１０７及び弾性体１０６の３つの構成要素を重ね合わせてゴム硬度計（ＪＩＳ  Ｋ６３５１準拠）で一括して測定する場合に、そのゴム硬度が１５〜６０度とする構成を実現することが好ましい。
【００２８】
次に溶剤付着装置１５０は、拭き取り布１０４に溶剤を吹きかける溶剤ノズル１５１と、溶剤ノズル１５１を保持して押し当てロール１０３の幅方向（紙面に垂直な方向）に走行させるスライド機構１５４から構成される。溶剤ノズル１５１への溶剤の供給は溶剤供給源１５２から開閉バルブ１５３を介して、気体の加圧により行われる。気体はエアーでも、窒素、アルゴン等の不活性ガスのいずれでもよい。さらに、拭き取り動作時に溶剤で湿潤させた拭き取り布１０４から塗布ヘッド１０のペースト吐出口周辺部に溶剤が付着し、且つ残留すると、ペースト吐出口のペーストを溶解し、前記吐出口におけるペーストの吐出状況に影響を及ぼすので、使用する溶剤は大気中で容易に気化するものが好ましい。具体例的には、アセトン、エタノール、メタノールが好ましい。また基板サイズ変更時に溶剤ノズル１５１の走行長を塗布ヘッド１０の幅に対応して変更可能とし、走行長にあわせて溶剤ノズル１５１からの溶剤吐出時間を変更すれば、溶剤の消費量を最小限とすることができるので、好ましい。
【００２９】
次に以上の本発明による塗布ヘッド清掃装置を用いた清掃方法について、順をおって説明する。
【００３０】
（１）先ず、拭き取り装置１００は待機位置（溶剤付着装置１５０により、拭き取り布１０４に溶剤を吹きつける位置であり、図１で示す拭き取り装置１００の位置に相当する）にある。この状態で、拭き取り装置１００の巻出布ロール１０１から巻取布ロール１０２へ拭き取り布１０４を送り出し、塗布ヘッドと接触する拭き取り布１０４を未使用の清浄な部分に更新する。
【００３１】
（２）溶剤付着装置１５０で溶剤ノズル１５１を押し当てロール１０３の幅方向（紙面と垂直な方向）に走行させながら、拭き取り布１０４に溶剤を吹きつけ、拭き取り布１０４を溶剤で湿潤させる。
【００３２】
（３）拭き取り装置１００を、塗布ヘッド拭き取り位置Ｄより左側へ５〜３０ｍｍ程度離れた位置まで走行させ、停止させる。塗布ヘッド拭き取り位置Ｄは、拭き取り布１０４が塗布ヘッド１０と接触する位置である。
【００３３】
（４）塗布ヘッド１０を、押し当てロール１０３に適度に押し込むことができる高さまで下降させ、停止させる。ここで、塗布ヘッド１０の押し当てロール１０３への押し込み量は０．１〜１ｍｍであることが好ましい。押し込み量が不足すると、塗布ヘッド１０と拭き取り布１０４が均等に接触せず、ペースト吐出口周辺部のペースト及び溶剤を確実に拭き取ることができない。また、押し込み量が過大だと、拭き取り動作時に塗布ヘッド１０や押し当てロール１０３に大きな負荷がかかり、押し当てロール１０３の弾性体１０６又は樹脂フィルム１０７を損傷する。
【００３４】
（５）拭き取り装置１００をＸ軸走行レール４に沿って、右側へ速度１０〜４０ｍｍ／ｓｅｃで走行させる。押し当てロール１０３が塗布ヘッド１０の下を通過する時、すなわち塗布ヘッド拭き取り位置Ｄに達した時に、拭き取り布１０４が塗布ヘッド１０のペースト吐出口周辺部に押し当てられて摺動するので、塗布ヘッド１０のペースト吐出口周辺部に付着したペーストを除去、清掃できる。
【００３５】
（６）拭き取り装置１００を（１）で示した待機位置に戻し、一連の塗布ヘッド清掃作業を終了する。
【００３６】
以上説明した本発明の塗布ヘッド清掃方法で、拭き取り清掃することによる作用効果は次の通りである。すなわち、塗布ヘッド１０の拭き取り動作によって、拭き取り布１０４に付着したペースト及び溶剤が拭き取り布１０４を浸透しても、樹脂フィルム１０７によって、ペースト及び溶剤の弾性体１０６表面への付着を防止するため、弾性体１０６の膨潤が起こらない。その結果、弾性体１０６の変形及び劣化が生じないので、弾性体１０６は常に拭き取り布１０４を塗布ヘッド１０に均一に押し当てることができる。また、樹脂フィルム１０７によってペースト、溶剤が弾性体１０６に接触、浸透することがないので、弾性体１０６から浸透したペースト及び溶剤が染み出すこともなく、ペースト、溶剤で塗布ヘッドが再汚染されることもない。また、溶剤が弾性体１０６に吸収されないため、溶剤ノズル１５１から供給する溶剤量を少なくできるので、溶剤ノズル１５１からの溶剤が、押し当てロール１０３の樹脂フィルム１０７によって覆われていない部分に回り込んで弾性体１０６へ浸透することも防止できる。以上の作用効果は、長期にわたって持続でき、拭き取り動作を繰り返し行っても、塗布ヘッド１０のペースト吐出口周辺部に付着しているペーストを確実に除去、清掃することができる。
【００３７】
次に本発明の塗布ヘッド清掃装置を用いたペースト塗布方法について、順を追って説明する。
【００３８】
（１）先ず、準備作業として、図１の塗布ヘッド１０の内部にペーストを充填する。例えば、塗布ヘッド１０にノズルヘッド２００を用いると、ペーストは気体圧力を利用して、ペースト供給源からペースト供給口２０５へ供給され、ノズルヘッド２００内部に充填される。そして、所定量のペーストを充填し、且つノズルヘッド２００内部の空気抜きを完了したら、ペーストの供給を停止する。
【００３９】
（２）塗布ヘッド清掃装置により、塗布ヘッド１０のペースト吐出口周辺部に付着しているペーストを除去、清掃する。
【００４０】
（３）基板搬送装置（図示しない）によって、テーブル５上に基板２を置き、基板位置決め装置（図示しない）を用いて、基板２をテーブル５の中央位置に位置決めした後、吸着固定する。
【００４１】
（４）基板２と塗布ヘッド１０の相対位置をペースト塗布位置に合わせた後、基板２と塗布ヘッド１０のペースト吐出口の距離が所定値になるよう、塗布ヘッド１０を下降させる。次いで基板２を吸着固定したテーブル５をＸ軸走行レール４に沿って、右側へ走行させる。テーブル５走行中に、基板２の塗布開始部が塗布ヘッド１０のペースト吐出口の位置に到達した時点で、塗布ヘッド１０からペーストを吐出し、基板２上にペーストを塗布する。続いて、基板２の塗布終了部が塗布ヘッド１０のペースト吐出口に到達した時点でペースト吐出を停止し、テーブル走行を停止すると共に塗布ヘッド１０を上昇させて、ペースト塗布を終了する。ここで、ペーストの吐出は、塗布ヘッド１０であるノズルヘッド２００の気体圧力供給口２０５へ圧縮空気を供給し、気体加圧により行う。また、ペースト吐出の停止は、気体加圧力をゼロ又は負圧にすることで行う。
【００４２】
（５）テーブル５をさらに右側の基板搬出位置（図示しない）まで走行させた後、基板の吸着固定を解除し、その後、基板搬出装置（図示しない）により、基板２を次工程へ搬出する。基板の搬出が完了後、テーブル５を左側へ走行させ、基板搬入位置（図１に示すテーブル５の位置）まで戻すことで、塗布の一連動作を終了する。
【００４３】
以上の塗布方法で、連続して基板を塗布する場合には、ペースト塗布装置への基板搬入作業と基板位置決め作業を実施する間に、塗布ヘッド１０の清掃作業を行うようにして、ペースト塗布タクトタイムへの清掃作業時間の影響を軽減することが好ましい。また、塗布ヘッド拭き取りによる塗布品位への影響を一定にするため、塗布ヘッド清掃作業完了からペースト吐出開始までの時間を一定にすることが好ましい。
【００４４】
以上説明したように、本発明のペースト塗布方法を用いれば、塗布ヘッド１０からのペースト吐出前に、本発明の塗布ヘッド清掃方法により、塗布ヘッド１０のペースト吐出口周辺部に付着しているペースト等の汚染物は確実に除去、清掃されるので、常に同じ初期状態で塗布を行えることになり、高品位のペースト塗布を再現性よく長期にわたって実現できる。
【００４５】
なお、上記した塗布方法で実際にノズルヘッド２００を用いて塗布した結果を図４に示す。図４では、ノズルヘッド２００の吐出口２０２のピッチに相当する間隔と本数の塗布膜２１０が、厚さ、線幅とも均一にストライプ状に描画できている。
【００４６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の塗布ヘッド清掃装置、清掃方法によれば、拭き取り部材に付着したペースト及び溶剤が拭き取り部材から弾性体へ浸透することを防止する手段を設けたので、弾性体の膨潤による変形及び劣化を防止すると共に、ペースト及び溶剤が弾性体から拭き取り部材へと染み出して、拭き取り動作時に塗布ヘッドを再汚染することも防止できる。また、弾性体の変形及び劣化の防止により、塗布ヘッドに拭き取り部材を均一に押し当てる状態を維持できるため、塗布ヘッドに付着しているペースト等の汚染物を確実に除去、清掃すると共に、その効果を長期に渡って再現性よく持続することができる。
【００４７】
さらに、本発明の塗布ヘッド清掃装置、清掃方法を用いたペースト塗布装置、塗布方法によれば、塗布ヘッドを確実に清掃して汚染物が全くない初期状態から塗布ヘッドよりペーストを吐出して塗布するのであるから、安定して均一かつ高品位な塗布を長期にわたって実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施態様に係るペースト塗布装置の概略正面図である。
【図２】塗布ヘッド清掃装置の拡大正面図である。
【図３】塗布ヘッドの一例であるノズルヘッドの正面断面図である。
【図４】本発明のペースト塗布装置で塗布した時の基板塗布状況を示す平面図である。
【符号の説明】
１：ペースト塗布装置
２：被塗布基板
３：機台
４：Ｘ軸走行レール
５：テーブル
６：支持機台
７：Ｚ軸走行レール
８：Ｚ軸モータ
９：ホルダ
１０：塗布ヘッド
１００：拭き取り装置
１０１：巻出布ロール
１０２：巻取布ロール
１０３：押し当てロール
１０４：拭き取り布
１０５：芯軸
１０６：弾性体
１０７：樹脂フィルム
１０８：フィルム止め具
１０９：巻出モータ
１１０：巻取モータ
１１１ａ，１１１ｂ：連結軸
１１２：布径検知センサ
１５０：溶剤付着装置
１５１：溶剤ノズル
１５２：溶剤供給源
１５３：溶剤供給開閉バルブ
１５４：スライド機構
２００：ノズルヘッド
２０１：マニホールド
２０２：ペースト吐出口
２０３：ペースト
２０４：上面板
２０５：気体圧力供給口
２０６：ペースト供給口
２０７：筺体
２１０：塗布膜
Ｄ：塗布ヘッド拭き取り位置
【図１】
2004290836.tif 000003
【図２】
2004290836.tif 000004
【図３】
2004290836.tif 000005
【図４】
2004290836.tif 000006