(57)【要約】【課題】液滴吐出技術を用いてカラーフィルタ基板を形成する際に、フィルタ要素間において混色が発生することを防止する。【解決手段】基材２上を複数の表示用ドット領域６に区分けするバンク４を形成する工程と、液状のフィルタ材料を複数の表示用ドット領域６内へノズル２７から液滴８として吐出して供給する工程とを有するカラーフィルタ基板の製造方法である。材料を吐出する工程では、表示用ドット領域６の中心から最も近い表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に、フィルタ材料の液滴８の中心を着弾させる。着弾した液滴がバンクを越えて隣りの領域へ侵入することを防止できる。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、
液状のフィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域内へ液滴吐出部から液滴として吐出して供給する材料吐出工程とを有し、
前記材料吐出工程では、前記フィルタ材料の液滴の中心が、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記複数の表示用ドット領域のそれぞれ１つずつには複数の液滴が供給され、それらの液滴の中心は、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記液滴は前記表示用ドット領域の全域を覆うことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１つにおいて、前記区分け要素は撥液性を有する材料によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つにおいて、前記表示用ドット領域の縦及び横の長さのうち長い方の長さをＬとし、短い方の長さをＳとするとき、
０．７Ｌ  ≦  Ｓ  ≦  Ｌ
であることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つにおいて、前記表示用ドット領域の平面的な形状は、楕円形、円形又は長円形であることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つにおいて、前記複数の表示用ドット領域内に形成されるフィルタ要素はデルタ配列で並べられることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項８】
基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、
液状の発光要素材料を前記複数の表示用ドット領域内へ液滴吐出部から液滴として吐出して供給する材料吐出工程とを有し、
前記材料吐出工程では、前記フィルタ材料の液滴の中心が、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾する
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項９】
請求項８において、前記複数の表示用ドット領域のそれぞれ１つずつには複数の液滴が供給され、それらの液滴の中心は、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項８又は９において、前記液滴は前記表示用ドット領域の全域を覆うことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項８から請求項１０のいずれか１つにおいて、前記区分け要素は撥液性を有する材料によって形成されることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項８から請求項１１のいずれか１つにおいて、前記表示用ドット領域の縦及び横の長さのうち長い方の長さをＬとし、短い方の長さをＳとするとき、
０．７Ｌ  ≦  Ｓ  ≦  Ｌ
であることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項１３】
請求項８から請求項１２のいずれか１つにおいて、前記表示用ドット領域の平面的な形状は、楕円形、円形又は長円形であることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項１４】
請求項８から請求項１３のいずれか１つにおいて、前記複数の表示用ドット領域内の発光要素はデルタ配列で並べられることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項１５】
請求項１から請求項７のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項８から請求項１４のいずれか１つに記載のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５又は請求項１６に記載の電気光学装置の製造方法によって製造されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１８】
請求項１５又は請求項１６に記載の電気光学装置の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電子機器の製造方法。
【請求項１９】
請求項１８記載の電子機器の製造方法によって製造されることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー表示を行う際に用いられるカラーフィルタ基板の製造方法に関する。また本発明は、基板上に発光要素が形成されて成る構造体であるエレクトロルミネッセンス基板の製造方法に関する。また本発明は、液晶装置やエレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置及びその製造方法に関する。また本発明は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器に、液晶装置やエレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するために電気光学装置が用いられている。
【０００３】
電気光学装置として液晶装置を考えた場合、その液晶装置によってカラー表示を行うときには、その液晶装置の内部にカラーフィルタ基板が設けられる。カラーフィルタ基板は、例えば、透光性のガラス等によって形成された基材上にカラーフィルタを形成することによって作製される。カラーフィルタとは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のフィルタ要素や、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色のフィルタ要素を平面内に所定の配列で並べることによって形成された光学要素である。
【０００４】
電気光学装置としてエレクトロルミネッセンス装置を考えた場合、このエレクトロルミネッセンス装置の内部には、一般に、エレクトロルミネッセンス基板が設けられる。そして、このエレクトロルミネッセンス基板は、例えば、透光性のガラス等によって形成された基材上に、複数の発光要素をマトリクス状に配列することによって形成される。
【０００５】
ところで、基材上にカラーフィルタを形成してカラーフィルタ基板を作製する際、すなわち、基材上に複数のフィルタ要素を形成する際に、従来、インクジェット技術を利用して基材上にフィルタ要素の材料を供給する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。この方法によれば、基材上にバンク等と呼ばれる区分け要素を形成して該基板上を複数の領域に区分けし、次に、ノズルからフィルタ材料を液滴として吐出して上記の領域内に供給し、さらにこれを乾燥して溶剤を蒸発させて所望のフィルタ要素を形成する。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−３７２６１４
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のカラーフィルタ基板の製造方法においては、目標とする個々の領域内のどの位置にフィルタ材料の液滴を着弾させるかについては、特に考慮が払われていなかった。実際には、それぞれの領域に関して着弾位置がばらついていたものと考えられる。この場合、液滴材料の着弾位置が領域の外縁近傍になると、着弾された材料がバンクを越えて隣りの領域に侵入し、その結果、異なる色のフィルタ材料が混色してカラーフィルタの品質が低下するおそれがある。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、液滴吐出技術を用いてカラーフィルタ基板やエレクトロルミネッセンス基板を形成する際に、カラーフィルタ基板のフィルタ要素間や、エレクトロルミネッセンス基板の発光要素間において、混色が発生するのを防止することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、液状のフィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域内へ液滴吐出部から液滴として吐出して供給する材料吐出工程とを有し、前記材料吐出工程では、前記フィルタ材料の液滴の中心が、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾することを特徴とする。
【００１０】
上記構成において、「基材」は、例えば、透光性のガラスや透光性のプラスチック等によって形成される。また、「区分け要素」は、例えば基板上に突出するバンクや、基板上に形成される撥インク層等によって構成される。この撥インク層は、基材の表面からほとんど突出することなく形成することができる。バンクは、基板上に突出することにより基材表面における液状フィルタ材料の流れを阻止する。また、撥インク層は、基材表面における液状フィルタ材料の流れを撥インク性によって阻止する。
【００１１】
また、「フィルタ材料」は、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）やＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）の色を有する材料によって構成される。このフィルタ材料の材質は特別のものに限定されないが、例えば、レジン等の透明材を主体とする各色顔料と、エチレングリコール等といったグリコール系の溶媒とから成る液状物とすることができる。また、顔料、界面活性剤及び溶媒によって構成される固形分を適宜の溶媒に溶かすことによって構成された液状物とすることもできる。
【００１２】
また、複数の「表示用ドット領域」の個々にはＲ，Ｇ，Ｂの３色から選択される１色の材料や、Ｃ，Ｍ，Ｙの３色から選択される１色の材料が供給される。Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの表示用ドット領域の集まり又はＣ，Ｍ，Ｙの３つの表示用ドット領域の集まりによって１つの画素が形成される。
【００１３】
また、「フィルタ材料を液滴として吐出する材料吐出工程」は、液滴吐出技術いわゆるインクジェット技術によって実現できる。このインクジェット技術は、例えば、インク貯留室に圧電素子及びノズルを付設し、圧電素子の振動によるインク貯留室の体積変化に応じてノズルからインク、すなわち液状物を液滴として吐出する技術であることが望ましい。また、インクジェット技術は、例えば、インク貯留室内に貯留されたインクを加熱によって膨張させることによりノズルからインクを液滴として吐出する技術とすることもできる。また、上記の材料吐出工程において用いられる「液滴吐出部」は、例えば、インクジェットヘッドのノズルのような微細な開口によって構成される。
【００１４】
上記構成より成る本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、表示用ドット領域の１つに着目したとき、その領域に供給される液滴の着弾位置が当該表示用ドット領域の辺縁部分、すなわちバンク等といった区分け要素の近傍になることがなくなり、吐出された液滴が区分け要素を越えて隣りの表示用ドット領域に侵入することを防止できる。その結果、互いに隣り合う表示用ドット領域に形成されるフィルタ要素間で混色が発生することを防止できる。
【００１５】
次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記複数の表示用ドット領域のそれぞれ１つずつに複数の液滴が供給されることが望ましい。そしてその際には、それらの液滴の中心は、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾することが望ましい。これにより、個々の表示用ドット領域内に十分な量のフィルタ材料を供給でき、しかも、隣り合う表示用ドット領域間での混色を防止できる。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記液滴は前記表示用ドット領域の全域を覆うことを特徴とする。
【００１６】
次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記区分け要素は撥液性を有する材料によって形成されることが望ましい。ここで、「撥液性」とは、液体をはじく性質のことである。区分け要素に撥液性を持たせれば、液滴が当該区分け要素を越える可能性が低くなるので、隣り合う表示ドット領域間で混色の発生を防止できる。
【００１７】
次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記表示用ドット領域の縦及び横の長さのうち長い方の長さをＬとし、短い方の長さをＳとするとき、
０．７Ｌ  ≦  Ｓ  ≦  Ｌ
であることが望ましい。この不等式は、表示用ドット領域が細長いというよりは、むしろ正方形に近い形状であることが望ましいことを意味している。
【００１８】
本発明によれば、フィルタ材料は１つの表示用ドット領域内の中心部分に集中的に吐出される傾向となるので、吐出されたフィルタ材料が表示用ドット領域の内部に均一に広がることを目指す上では、当該表示用ドット領域の平面形状は、長細いよりは正方形に近い形状であることが望ましい。
【００１９】
次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記表示用ドット領域の平面的な形状は、楕円形、円形又は長円形であることが望ましい。こうすれば、吐出された液滴材料を表示用ドット領域内に均一に広げることができる。
【００２０】
次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記複数の表示用ドット領域内に形成されるフィルタ要素の配列はデルタ配列であることが望ましい。デルタ配列とは、図４（ｃ）に示すような配列であって、具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂが三角形の頂点に相当する位置に配列されると共に横列方向でＲ，Ｇ，Ｂが順番に繰り返して並べられる配列である。
【００２１】
複数のフィルタ要素の配列方法としては、デルタ配列の他に、図４（ａ）に示すストライプ配列や、図４（ｂ）に示すモザイク配列等が考えられる。ストライプ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色が縦方向に１列に並び、横方向に順番に１つずつ繰り返して変化する配列である。また、モザイク配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが縦列と横列の両方で順番に繰り返して並べられる配列である。
【００２２】
ストライプ配列やモザイク配列の場合は、個々のフィルタ要素が細長く形成される傾向にある。これに対し、デルタ配列の場合は、個々のフィルタ要素が正方形に近い形状に形成される傾向にある。上述したように、フィルタ材料を表示用ドット領域内で均一に広げることを考える場合には、その表示用ドット領域の形状は長方形よりも正方形に近い形状であることが望ましい。この観点から、フィルタ材料の配列方法としてはデルタ配列が望ましいと考えられる。
【００２３】
次に、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法は、基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、液状の発光要素材料を前記複数の表示用ドット領域内へ液滴吐出部から液滴として吐出して供給する材料吐出工程とを有し、前記材料吐出工程では、前記フィルタ材料の液滴の中心が、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾することを特徴とする。この構成における各構成要件のうち、先に説明したカラーフィルタ基板の製造方法の場合と同じ構成要件は同じ機能を奏するので、説明は省略する。
【００２４】
上記構成より成る本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によれば、表示用ドット領域の１つに着目したとき、その領域に供給される液滴の着弾位置が当該表示用ドット領域の辺縁部分、すなわちバンク等といった区分け要素の近傍になることがなくなり、吐出された液滴が区分け要素を越えて隣りの表示用ドット領域に侵入することを防止できる。その結果、互いに隣り合う表示用ドット領域に形成される発光要素間で混色が発生することを防止できる。
【００２５】
本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記複数の表示用ドット領域のそれぞれ１つずつには複数の液滴が供給されることが望ましい。そしてその際、それらの液滴の中心は、前記表示用ドット領域の中心から最も近い該表示用ドット領域の縁までの距離の略３０％以内の範囲内に着弾することが望ましい。これにより、個々の表示用ドット領域内に十分な量の発光要素材料を供給でき、しかも、隣り合う表示用ドット領域間での混色を防止できる。
【００２６】
次に、本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記区分け要素は撥液性を有する材料によって形成されることが望ましい。区分け要素に撥液性を持たせれば、液滴が当該区分け要素を越える可能性が低くなるので、隣り合う表示ドット領域間で混色の発生を防止できる。
【００２７】
次に、本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記表示用ドット領域の縦及び横の長さのうち長い方の長さをＬとし、短い方の長さをＳとするとき、
０．７Ｌ  ≦  Ｓ  ≦  Ｌ
であることが望ましい。このように、表示用ドット領域の平面形状を、長細いよりも正方形に近い形状にすることにより、当該表示用ドット領域へ吐出された発光要素材料を当該表示用ドット領域内で均一に広げることができる。
【００２８】
次に、本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記表示用ドット領域の平面的な形状は、楕円形、円形又は長円形であることが望ましい。こうすれば、吐出された液滴材料を表示用ドット領域内に均一に広げることができる。
【００２９】
次に、本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記複数の表示用ドット領域はデルタ配列で並べられることが望ましい。デルタ配列では、個々の表示用ドット領域の平面形状が、ストライプ配列やモザイク配列に比べて、正方形に近い形状になるので、液滴材料を表示用ドット領域内で均一に広げることに関して好ましい。
【００３０】
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、以上に記載したカラーフィルタ基板の製造方法又は以上に記載したエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。この製造方法によれば、複数の表示用ドット領域間で混色のない、高品質の電気光学装置を製造できる。
【００３１】
次に、本発明に係る電気光学装置は、上記の電気光学装置の製造方法によって製造されることを特徴とする。この電気光学装置によれば、複数の表示用ドット領域間に混色のないフィルタ要素や発光要素が得られるので、鮮明なカラー表示を行うことができる。このような電気光学装置としては、例えば、カラーフィルタ基板を用いて構成される液晶装置や、エレクトロルミネッセンス基板を用いて構成されるエレクトロルミネッセンス装置等が考えられる。
【００３２】
次に、本発明に係る電子機器の製造方法は、以上に記載した電気光学装置の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。また、本発明に係る電子機器は、そのような電子機器の製造方法によって製造されることを特徴とする。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ、デジタルカメラ等が考えられる。
【００３３】
【発明の実施の形態】
（カラーフィルタ基板の製造方法の実施形態）
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法を一実施形態を挙げて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これから説明するカラーフィルタ基板の製造方法は、図３（ｋ）に示すカラーフィルタ基板１を製造するものとする。
【００３４】
カラーフィルタ基板の製造方法の説明に先立って、まず、その製造方法を実現できる製造装置について簡単に説明する。図７は、そのようなカラーフィルタ基板の製造装置の一例を示している。この製造装置２０１は、フィルタ形成部２０２と、フィルタ材料供給部２０３と、冷却保存部２０４とを有する。フィルタ形成部２０２は、ベース２０６と、このベース２０６上に設置されたＸ方向駆動系２０７ｘと、同じくベース２０６上に設置されたＹ方向駆動系２０７ｙとを有する。
【００３５】
Ｘ方向駆動系２０７ｘは、駆動モータ２１１と、その駆動モータ２１１によって駆動されて自身の中心軸線を中心として回転するネジ軸２１２とを有する。ネジ軸２１２には、記録ヘッド２１３がネジ嵌合している。駆動モータ２１１が作動してネジ軸２１２が正時計回転又は反時計回転すると、それにネジ嵌合する記録ヘッド２１３が矢印Ｘ方向で往復移動する。
【００３６】
Ｙ方向駆動系２０７ｙは、ベース２０６上に固定されたネジ軸２１６と、そのネジ軸２１６に嵌合する嵌合部材を回転駆動する駆動モータ２１７と、この駆動モータ２１７に固定されたステージ２１８とを有する。フィルタ形成処理を受けるカラーフィルタ基板の基材２はステージ２１８上に載せられる。この場合、基材２は容易には位置ズレしないように固着されることが望ましい。Ｙ方向モータ２１７が作動して上記の嵌合部材が正時計回転又は反時計回転すると、ステージ２１８がネジ軸２１６にガイドされて矢印Ｙ方向で往復移動する。Ｙ方向は上記のＸ方向に直角の方向である。
【００３７】
Ｙ方向駆動系２０７ｙを構成するネジ軸２１６上にはクリーニング装置２０８が配設され、このクリーニング装置２０８と一体なモータ２０９の出力軸がネジ軸２１６にネジ嵌合している。モータ２０９を作動させてクリーニング装置２０８を記録ヘッド２１３の所まで搬送すれば、このクリーニング装置２０８によって記録ヘッド２１３をクリーニングすることができる。
【００３８】
フィルタ材料供給部２０３には加熱手段としてのヒータ２２１が配設されている。フィルタ材料を貯留した容器２２２は、このヒータ２２１によって囲まれる空間内に置くことができるようになっている。また、容器２２２と記録ヘッド２１３とはパイプ２２３によってつながっている。このパイプ２２３を通して、容器２２２内の液状物、すなわちフィルタ材料が記録ヘッド２１３内へ供給される。
【００３９】
なお、本実施形態においてＲ，Ｇ，Ｂの３色によってカラーフィルタを形成する場合には、製造装置２０１がＲ色用、Ｇ色用、Ｂ色用の３種類用意されて、それらが別々の場所に設置され、個々の製造装置２０１の容器２２２の中にはＲ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色のフィルタ材料が１色ずつ収容される。
【００４０】
冷却保存部２０４は、冷媒ガスを用いた周知の冷蔵庫２２６によって構成されている。この冷蔵庫２２６は少なくとも容器２２２を収容可能な容積を有している。また、この冷蔵庫２２６の適所には扉が設けられ、この扉を開ければ、容器２２２を内部へ収納できる。この容器収納時の作業性を考慮して、パイプ２２３は容器２２２から外せるようになっていることが望ましい。
【００４１】
このカラーフィルタ基板の製造装置２０１は温度制御回路２２７を有する。この温度制御回路２２７は、作業者によって操作されるスイッチ等といった入力装置からの指示に従って、冷蔵庫２２６をＯＮ／ＯＦＦ制御する。また、温度制御回路２２７は、容器２２２の近傍に配置した温度センサ２２８によって検知される容器２２２の温度情報、従って容器２２２内のフィルタ材料の温度情報に従って、ヒータ２２１への通電量を制御する。この通電量の制御によりヒータ２２１の発熱量を制御して、フィルタ材料の温度を制御する。本実施形態では、温度制御回路２２７は、冷蔵庫２２６によって冷却された容器２２２内のフィルタ材料を使用温度、例えば室温、例えば１８℃〜２６℃、好ましくは２５℃〜２６℃まで昇温させる機能を実現する。なお、冷蔵庫２２６は、専用のＯＮ／ＯＦＦスイッチによって作業者が希望に応じて独自にＯＮ／ＯＦＦできるようにしても良い。
【００４２】
図７のフィルタ形成部２０２を構成する記録ヘッド２１３の底面には、例えば図９に示すようなインクジェットヘッド２２が１つ又は複数設けられている。このインクジェットヘッド２２は、ほぼ長方形状のケーシング２０を有し、そのケーシング２０の底面には複数のノズル２７が設けられている。これらのノズル２７は、直径約０．０２〜０．１ｍｍ程度の微小な開口を有する。
【００４３】
本実施形態では、複数のノズル２７は２列にわたって設けられ、これにより、２本のノズル列２８，２８が形成されている。個々のノズル列２８において、ノズル２７は一定の間隔で直線上に設けられている。これらのノズル列２８には、矢印Ｂで示す方向から液状物、すなわちフィルタ材料が供給される。供給されたフィルタ材料は圧電素子の振動に従って各ノズル２７から微小な液滴として吐出される。なお、ノズル列２８の個数は、１本又は３本以上であっても良い。
【００４４】
インクジェットヘッド２２は、図１０に示すように、例えばステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向して配置された振動板３１と、その両者を互いに接合する複数の仕切り部材３２とを有する。また、ノズルプレート２９と振動板３１との間には、フィルタ材料を貯留するための複数の貯留室３３と、フィルタ材料が一時的に溜る個所である液溜り３４とが、各仕切り部材３２によって形成されている。さらに、複数の貯留室３３と液溜り３４とが通路３８を介して互いに連通している。また、振動板３１の適所にフィルタ材料の供給孔３６が形成されており、この供給孔３６に図７のパイプ２２３を介して容器２２２が接続されている。容器２２２から供給されたフィルタ材料Ｍ０は、液溜り３４に充填され、さらに、通路３８を通って貯留室３３に充填される。
【００４５】
インクジェットヘッド２２の一部を構成するノズルプレート２９には、フィルタ材料を貯留室３３からジェット状に噴射するためのノズル２７が設けられている。このノズル２７が複数個並べられてノズル列２８を構成することは図９に関連して既述した通りである。また、振動板３１において貯留室３３に対応する面にはフィルタ材料を加圧するための加圧体３９が取り付けられている。この加圧体３９は、図１１に示すように、圧電素子４１及びこれを挟持する一対の電極４２ａ及び４２ｂを有している。
【００４６】
圧電素子４１は、電極４２ａ及び４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより貯留室３３の容積を増大させる機能を有する。そして、貯留室３３の容積が増大すると、その増大した容積分に相当するフィルタ材料Ｍ０が液溜り３４から通路３８を通って貯留室３３内へ流入する。
【００４７】
一方、圧電素子４１への通電を解除すると、圧電素子４１と振動板３１とが共に元の形状に戻り、貯留室３３も元の容積に戻る。そのため、貯留室３３の内部にあるフィルタ材料の圧力が上昇し、ノズル２７からフィルタ材料が液滴８となって吐出される。なお、液滴８は、フィルタ材料に含まれる溶剤等の種類にかかわらず、微小な液滴としてノズル２７から安定して吐出される。
【００４８】
カラーフィルタ基板の製造装置２０１は、図８に示す制御装置９０を有する。この制御装置９０は、図７のフィルタ形成部２０２内のＸ方向モータ２１１、Ｙ方向モータ２１７及び記録ヘッド２１３の各要素の動作を制御する。なお、製造装置２０１は、図７のクリーニング用モータ２０９の動作を制御する制御部も有するが、その制御部についての詳しい説明は省略する。
【００４９】
制御装置９０は、コンピュータによって構成された駆動信号制御部９１と、コンピュータによって構成されたヘッド位置制御部９２とを有する。これらの制御部は信号線９７を通して互いに情報を共有できるようになっている。駆動信号制御部９１は、記録ヘッド２１３を駆動するための波形Ｓ０をアナログアンプ９３へ出力する。また、駆動信号制御部９１は、フィルタ材料をいずれの位置に吐出するかを示すビットマップデータＳ１をタイミング制御部９４へ出力する。
【００５０】
アナログアンプ９３は、上記の波形Ｓ０を増幅して中継回路９５へ伝送する。タイミング制御部９４は、クロックパルス回路を内蔵し、上記のビットマップデータＳ１に従って吐出タイミング信号Ｓ２を中継回路９５へ出力する。中継回路９５は、タイミング制御部９４から送られた吐出タイミング信号Ｓ２に従って、アナログアンプ９３から送られた波形Ｓ０を記録ヘッド２１３の入力ポートへ出力する。
【００５１】
ヘッド位置制御部９２は、Ｘ−Ｙ制御回路９６へ記録ヘッド２１３の位置に関する情報Ｓ３を出力する。Ｘ−Ｙ制御回路９６は、送られてきた記録ヘッド２１３の位置情報Ｓ３に基づいて、Ｘ方向における記録ヘッド２１３の位置を制御する信号をＸ方向モータ２１１に対して出力し、さらに、Ｙ方向におけるステージ２１８の位置を制御する信号をＹ方向モータ２１７に対して出力する。
【００５２】
駆動信号制御部９１及びヘッド位置制御部９２に関する以上の構成により、記録ヘッド２１３は、ステージ２１８に載置された基材２の希望の座標位置が到来したときにフィルタ材料を液滴として吐出し、これにより、基材２上の希望位置にフィルタ材料の液滴が着弾して塗布される。
【００５３】
次に、図９に示したインクジェットヘッド２２を用いて行われる、カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。図１〜図３はその製造方法を構成する各工程を工程順に示している。また、図３（ｋ）が目標とするカラーフィルタ基板１を示している。
【００５４】
まず、図１（ａ）において、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された基材２の上に、遮光層３を形成する材料として、クロム、ニッケル、アルミニウム等を材料として、例えばドライメッキ法を用いて金属薄膜３ａを形成する。この場合、金属薄膜３ａの厚さは、０．１〜０．５μｍ程度であることが望ましい。
【００５５】
次に、図１（ｂ）において、感光性樹脂であるレジスト７ａを一様な厚さで塗布し、そのレジスト７ａをマスクを介して露光し、さらに現像して、レジスト７ａを所定のパターンに形成する。次に、このレジストパターンをマスクとして金属薄膜３ａをエッチングして、図１（ｃ）に示すように、所定形状、本実施形態では矢印Ａ方向から見て格子形状の遮光層３を形成する。
【００５６】
次に、図１（ｄ）において、遮光層３の上に、感光性樹脂４ａを一様な厚さで形成し、これにフォトリソグラフィ処理を施して図２（ｅ）に示すように所定パターンのバンク４を遮光層３と同じ形状、すなわち格子形状に形成する。このとき、バンク４の高さは１．０μｍ程度に形成するのが望ましい。
【００５７】
こうしてバンク４を形成することにより、基材２上にそのバンク４によって区分けされた複数の表示用ドット領域６が形成される。バンク４が格子形状であることにより、これら複数の表示用ドット領域６は、矢印Ａ方向から見てマトリクス状に並ぶことになる。バンク４としては、特に黒色のものを用いる必要はなく、例えば、ウレタン系又はアクリル系の硬化型の感光性樹脂組成物を用いることができる。
【００５８】
なお、バンク４は表示用ドット領域６内にフィルタ材料を収容することが主な役割であり、このバンク４の表面にフィルタ材料が付着することは好ましくない。従って、バンク４の材質としては、フィルタ材料をはじく性質を有するもの、すなわち撥液性を有するものであることが望ましい。この意味からバンク４は、フッ素樹脂、シリコン樹脂等によって形成されることが好ましい。
【００５９】
以上のように基材２上にバンク４が形成された後、その基材２を図７においてステージ２１８上の所定位置に載置する。そして、Ｘ方向駆動系２０７ｘ及びＹ方向駆動系２０７ｙを作動させると共に、図１０の加圧体３９を作動させることにより、以下のようなカラーフィルタ形成処理を行う。なお、本実施形態では、図４（ｃ）で示すようにＧ色フィルタ要素９ｇ、Ｒ色フィルタ要素９ｒ及びＢ色フィルタ要素９ｂをデルタ配列に形成するものとする。ここで、デルタ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが三角形の頂点に相当する位置に配列されると共に横列方向でＲ，Ｇ，Ｂが順番に繰り返して並べられる配列である。
【００６０】
図４では、デルタ配列の他に、図４（ａ）にストライプ配列を示し、図４（ｂ）にモザイク配列を示している。ストライプ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色が縦方向に１列に並び、横方向に順番に１つずつ繰り返して変化する配列である。また、モザイク配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが縦列と横列の両方で順番に繰り返して並べられる配列である。なお、図４では各配列においてフィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂの形状を便宜的に同じ形状に描いたが、実際には、ストライプ配列やモザイク配列では各フィルタ要素が細長い形状に形成され、それに比べてデルタ配列では正方形に近い形状に形成される。
【００６１】
カラーフィルタの形成処理工程に入ると、まず、図２（ｆ）において、Ｇ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｇ内へ、図９に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｇ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。この液滴吐出は１つの表示用ドット領域に対して複数回行われ、合計の吐出量Ａｇは、予め、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多くなるように設定されている。従って、供給されたＧ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＧ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図２（ｇ）に示すように、Ｇ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＧ色フィルタ要素９ｇを形成する。
【００６２】
次に、図２（ｈ）において、Ｒ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｒ内へ、図９に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｒ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。このときの合計の吐出量Ａｒも、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｒの容積より多くなるように設定され、供給されたＲ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＲ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図３（ｉ）に示すように、Ｒ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＲ色フィルタ要素９ｒを形成する。
【００６３】
次に、図３（ｊ）において、Ｂ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｂ内へ、図９に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｂ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。このときの合計の吐出量Ａｂも、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｂの容積より多くなるように設定され、供給されたＲ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＢ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図３（ｋ）に示すように、Ｂ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＢ色フィルタ要素９ｂを形成する。
【００６４】
その後、例えば、２３０℃、３０分程度の加熱によってアフターベークを行って、フィルタ要素を硬化させることにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂを所定の配列、例えば図４（ｃ）のデルタ配列に並べて成るカラーフィルタが形成される。また、同時に、基材２とカラーフィルタとから成るカラーフィルタ基板１が形成される。
【００６５】
図７に示したカラーフィルタ基板の製造装置２０１は以上に説明したようなカラーフィルタ基板の形成処理を実行する。この形成処理が行われている間、Ｒ，Ｇ又はＢのフィルタ材料を収容した容器２２２は、フィルタ材料供給部２０３に配置される。そして、パイプ２２３を通してフィルタ材料が記録ヘッド２１３へ送られる。このとき、フィルタ材料が使用温度、すなわち室温、例えば１８℃〜２６℃、好ましくは２５℃〜２６℃になっていれば、ヒータ２２１は発熱しない状態になっている。
【００６６】
カラーフィルタ基板の形成処理が終了して、製造装置２０１を再度稼動するまでに長時間の待機期間がある場合、作業者はフィルタ材料の容器２２２をフィルタ材料供給部２０３から取り出して、冷却保存部２０４にある冷蔵庫２２６の中に入れる。冷蔵庫２２６の内部は、フィルタ材料の使用温度よりも低い温度、又はフィルタ材料の劣化温度よりも低い温度に設定されている。今、使用温度すなわち室温を２５℃〜２６℃に設定するならば、冷蔵庫２２６内の温度は約１０℃に設定される。従って、冷蔵庫２２６に入れられたフィルタ材料はその低温度まで冷却された状態で保存される。この結果、フィルタ材料が短時間に劣化することを防止でき、フィルタ材料の品質を長期間にわたって正常に保持できる。
【００６７】
以上のようにフィルタ材料を冷蔵庫２２６内で冷却して保存した場合、このフィルタ材料を冷蔵庫２２６から出してフィルタ基板の形成処理を再開しようとするときには、冷蔵庫２２６から取り出したフィルタ材料がその使用温度、すなわち室温に昇温するまで、作業を開始できない。本実施形態では、フィルタ材料供給部２０３にヒータ２２１を設置してあるので、作業者がそのヒータ２２１によって囲まれる領域内に容器２２２を置いて、ヒータ２２１を発熱させれば、容器２２２内のフィルタ材料を短時間に使用温度まで昇温でき、それ故、インクジェットヘッド２２（図９参照）を用いたカラーフィルタ基板の形成処理を短時間内に開始できる。
【００６８】
なお、フィルタ材料の形成処理を開始するまでに時間の余裕がある場合には、ヒータ２２１の発熱を利用することなく、ヒータ材料を室温環境下で自然に昇温させることもできる。
【００６９】
本実施形態では、図２及び図３に示したフィルタ材料の吐出工程において、各表示用ドット領域６に対する液滴８の着弾位置を図５に示すような位置に設定する。具体的には、フィルタ材料の液滴８の中心が斜線で示す液滴着弾範囲Ｅ内に入るように制御する。この液滴着弾範囲Ｅは、次のようにして決定される。すなわち、表示用ドット領域６に関して、長辺方向の中心点が描く線と短辺方向の中心点が描く線との交点Ｐ０を中心に決める。そして、その中心Ｐ０から最も近い表示用ドット領域６の辺、図５の場合は辺Ｌ１又はＬ２までの距離ｄ１の３０％の距離ｄ２を半径とする円形状の領域を液滴着弾範囲Ｅとする。液滴の着弾位置をこの範囲Ｅに制限することにより、吐出された液滴がバンク４を越えて隣りの表示用ドット領域６へ侵入することを防止でき、それ故、互いに隣り合うフィルタ要素が混色することを防止できる。
【００７０】
このように、本実施形態では、液滴が表示ドット領域６の中央部に集められる。このため、表示ドット領域６の平面形状が過度に細長いと、表示ドット領域６の長手方向の辺端近傍にフィルタ材料が行き渡らないおそれがある。この現象を回避するためには、表示用ドット領域６の平面形状を細長い形状よりも、むしろ正方形や円形に近い形状にすることが好ましいと考えられる。
【００７１】
本発明者は、このことに関して実験を行った。その結果、表示用ドット領域６の縦及び横の長さのうち長い方の長さをＬとし、短い方の長さをＳとするとき、
０．７Ｌ  ≦  Ｓ  ≦  Ｌ
に設定すると、実用上支障のない程度にフィルタ材料を表示用ドット領域６のほぼ全ての領域に行き渡らせることができることが分かった。
【００７２】
（変形例）
上記の実施形態では、カラーフィルタを構成するフィルタ要素としてＲ，Ｇ，Ｂの３色を考えた。しかしながら、フィルタ要素としては、Ｒ，Ｇ，Ｂ以外にＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）とすることもできる。
【００７３】
また、上記の実施形態では、フィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂの配列を図４（ｃ）に示すデルタ配列とした。しかしながら、これに代えて、図４（ａ）に示すストライプ配列や、図４（ｂ）に示すモザイク配列を採用することもできる。
【００７４】
また、上記実施形態では、図５に示したように、表示用ドット領域６の平面形状として長方形状を考えた。しかしながら、表示用ドット領域６の平面形状は、楕円形、円形又は長円形とすることもできる。これらの形状は、長方形や正方形のような角部を有しないので、フィルタ材料を表示用ドット領域の隅々にまで行き渡らせることを考えた場合には、それらの楕円形、円形又は長円形が好ましい。
【００７５】
（電気光学装置及びその製造方法の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の一実施形態を電気光学装置の一例である液晶装置を例に挙げて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。図６は、液晶装置の一実施形態であって、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式であり、且つ、反射型表示と透過型表示を選択的に行うことができる半透過反射型の液晶装置を示している。
【００７６】
ここに示す液晶装置５１は、液晶パネル５２に照明装置５６及び配線基板５４を付設することによって形成されている。液晶パネル５２は、矢印Ａ方向から見て長方形状又は正方形状の第１基板５７ａと、矢印Ａ方向から見て同じく長方形状又は正方形状の第２基板５７ｂとを、矢印Ａ方向から見て環状のシール材５８によって貼り合わせることによって形成されている。
【００７７】
第１基板５７ａと第２基板５７ｂとの間には間隙、いわゆるセルギャップが形成され、そのセルギャップ内に液晶が注入されて液晶層５５を形成している。符号６９はセルギャップを維持するためのスペーサを示している。なお、観察者は矢印Ａ方向から液晶装置５１を観察する。
【００７８】
第１基板５７ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材６１ａを有する。この第１基材６１ａの液晶側の表面には、反射膜６２が形成され、その上に絶縁膜６３が形成され、その上に第１電極６４ａが形成され、その上に配向膜６６ａが形成されている。また、第１基材６１ａの照明装置５６側の表面には第１偏光板６７ａが、例えば貼着によって装着されている。
【００７９】
第１基板５７ａに対向する第２基板５７ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材６１ｂを有する。この第２基材６１ｂの液晶側の表面には、カラーフィルタ６８が形成され、その上に第２電極６４ｂが形成され、その上に配向膜６６ｂが形成されている。また、第２基材６１ｂの外側の表面には第２偏光板６７ｂが、例えば貼着によって装着されている。
【００８０】
第１基板５７ａ側の第１電極６４ａは図６の左右方向へ延びる線状電極である。また、第１電極６４ａは複数本形成されていて、それらは紙面垂直方向へ互いに平行に並べられている。つまり、複数の第１電極６４ａは、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。
【００８１】
また、第２基板５７ｂ側の第２電極６４ｂは、図６の紙面垂直方向に延びる線状電極である。また、第２電極６４ｂは複数本形成されていて、それらは図６の左右方向へ互いに平行に並べられている。つまり、複数の第２電極６４ｂは、第１電極６４ａに直交する方向へ延びるストライプ状に形成されている。
【００８２】
第１電極６４ａと第２電極６４ｂとは矢印Ａ方向から見て多数のマトリクス状に並ぶ点で交差しており、これらの交差点が表示のためのドット領域を構成している。Ｒ，Ｇ，Ｂの３色や、Ｃ，Ｍ，Ｙの３色のフィルタ要素から成るカラーフィルタを用いてカラー表示を行う場合には、上記のドット領域の１つずつにそれら３色のうちの１つずつが対応して配置され、３色の集まりが１つのユニットになって１画素を構成する。そして、その画素の多数が矢印Ａ方向から見てマトリクス状に並ぶことにより、有効表示領域Ｖが形成され、この有効表示領域Ｖの領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００８３】
表示の最小単位である表示用ドット領域に対応して、反射膜６２に開口７１が形成されている。これらの開口７１は、照明装置５６から供給される面状の光を透過させて、透過型の表示を実現する。なお、透過型の表示を行うにあたっては、反射膜６２に開口７１を設けることだけに限られず、例えば、反射膜６２の膜厚を薄くすることによっても透過型の表示を実現できる。
【００８４】
第１基材６１ａは第２基材６１ｂを越えて外側へ張り出す張出し部７０を有している。第１基板５７ａ側の第１電極６４ａはシール材５８を横切ってその張出し部７０上に延び出て配線６５となっている。また、張出し部７０の辺縁には外部接続端子４９が形成されている。配線基板５４は、その外部接続端子４９に導電接続されている。第２基板５７ｂ側の第２電極６４ｂは、シール材５８の内部に分散された導通材５９を介して第１基板５７ａ側の配線６５に接続されている。なお、導通材５９は、図６ではシール材５８の幅寸法とほとんど同じ寸法で描いてあるが、実際は、導通材５９はシール材５８の幅よりも小さくなっており、そのため、シール材５８の幅方向には複数の導通材５９が存在するのが普通である。
【００８５】
張出し部７０の表面において、配線６５と外部接続端子４９との間には駆動用ＩＣ５３がＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｆｉｌｍ：異方性導電膜）５８によって接着されている。そして、このＡＣＦ４８により、駆動用ＩＣ５３のバンプが配線６５及び外部接続端子４９に導電接続している。この実装構造により、配線基板５４から駆動用ＩＣ５３へ信号及び電圧が供給される。一方、駆動用ＩＣ５３からの走査信号及びデータ信号が第１電極６４ａや第２電極６４ｂへ伝送される。
【００８６】
図６において、照明装置５６は、観察側から見て液晶パネル５２の背面に緩衝材７８を挟んで配設され、バックライトとして機能する。この照明装置５６は、基板７７に支持された光源としてのＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）７６と、導光体７２とを有する。導光体７２の観察側の表面には拡散シート７３が設けられ、その反対側の面には反射シート７４が設けられる。ＬＥＤ７６を点状光源とする光は、導光体７２の受光面７２ａから導光体７２の内部に取り込まれ、その内部を伝播する間に光出射面７２ｂから面状光となって出射する。
【００８７】
上記構成より成る液晶装置５１において反射型の表示が行われる場合には、太陽光、室内光等といった外部光が第２基板５７ｂを通して液晶層５５の内部に取り込まれ、反射膜６２で反射した後、再び液晶層５５へ供給される。一方、透過型の表示が行われる場合には、照明装置５６のＬＥＤ７６が発光し、導光体７２の光出射面７２ｂから面状の光が出射し、反射膜６２に設けた複数の開口７１を通過した光が液晶層５５へ供給される。
【００８８】
液晶層５５に光が供給されたとき、第１電極６４ａ及び第２電極６４ｂの一方に走査信号が与えられ、それらの他方にデータ信号が与えられると、当該データ信号が与えられた部分の表示用ドットに所定電圧が印加されて液晶が駆動され、当該表示用ドットに供給された光が変調される。このような変調が、有効表示領域Ｖ内の表示用ドットごと、換言すれば画素ごとに行われ、文字、数字、図形等といった希望する像がその有効表示領域Ｖ内に形成され、観察者によって矢印Ａ方向から観察される。
【００８９】
本実施形態の液晶装置５１は、それに含まれるカラーフィルタ６８が図７〜図１１に示したカラーフィルタ基板の製造装置を用いて、図１〜図５に示した製造方法によって製造されることに特徴がある。図１〜図５に示した製造方法によれば、図５に関連して説明したように、１つの表示用ドット領域６に吐出された液滴が隣りの表示用ドット領域へ侵入することを防止でき、混色を防止できる。従って、この製造方法を１つの工程として用いる液晶装置の製造方法によって製造された液晶装置５１は、高品質のカラーフィルタ６８を有することができ、それ故、鮮明で高品質なカラー表示を行うことができる。
【００９０】
（変形例）
図６の実施形態では、半透過反射型で単純マトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した。しかしながら、本発明は、これ以外に、反射型表示機能を持たない半透過型の単純マトリクス方式の液晶装置や、透過型表示機能を持たない反射型の単純マトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）等といった２端子型のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等といった３端子型のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置等といった各種の液晶装置に適用できる。
【００９１】
（電気光学装置及びその製造方法の第２実施形態）
図１８は、本発明に係る電気光学装置の一実施形態であるエレクトロルミネッセンス装置の電気的な構成の一実施形態を示している。また、図１７は、その電気的な構成に対応する機械的な構成の一部分の断面構造を示している。なお、本明細書で、エレクトロルミネッセンス基板とは、基板上にＥＬ発光要素が形成されて成る構造体である。また、エレクトロルミネッセンス装置とは、エレクトロルミネッセンス基板に反射電極やその他の光学要素を付設して成る電気光学装置である。
【００９２】
図１８において、エレクトロルミネッセンス装置１０１は、データ信号を出力する駆動用ＩＣ１０７と、走査信号を出力する駆動用ＩＣ１０８を有する。駆動用ＩＣ１０７は、複数の信号線１０４へデータ信号を出力する。また、駆動用ＩＣ１０８は、複数の走査線１０３へ走査信号を出力する。走査線１０３と信号線１０４とは複数の部分で交差し、それらの交差部分には画素を構成する表示用ドット領域が形成される。図１７では、Ｇ色の表示用ドット領域６ｇ、Ｒ色の表示用ドット領域６ｒ，Ｂ色の表示用ドット領域６ｂを示している。個々の表示用ドット領域はＲ，Ｇ，Ｂの３色のＥＬ発光要素のうちの１つを含む領域であり、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する表示用ドット領域が集まって１つの画素が構成される。
【００９３】
図１８において、１つの表示用ドット領域の中には、スイッチング薄膜トランジスタ１０９、カレント薄膜トランジスタ１１０、画素電極１１１、反射電極１１２、そしてＥＬ発光要素１１３が含まれる。なお、発光要素１１３に関しては、Ｇ色を発光する発光要素１１３ｇと、Ｒ色を発光する発光要素１１３ｒと、Ｂ色を発光する発光要素１１３ｂとが所定の配列、例えばデルタ配列で並べられる。図１７において、各発光要素１１３は、下層部分の正孔注入層１１３Ａ上に上層部分の有機半導体膜１１３Ｂを重ねることによって形成されている。なお、図１７では、カレント薄膜トランジスタ１１０は示されているが、これと異なる断面に存在するスイッチング薄膜トランジスタ１０９は図示されていない。
【００９４】
図１７において、複数の表示用ドット領域６の中から適宜のものを選択して、その領域内の画素電極１１１と反射電極１１２との間に所定の電圧を印加すると、当該表示ドット領域６内の発光要素１１３が発光し、基材１０２の外側（すなわち、図１７の下方側）に文字、数字、図形等といった像がカラー表示される。
【００９５】
本実施形態のエレクトロルミネッセンス装置１０１は、それに含まれるＥＬ発光要素１１３が、以下に説明する本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によって製造されることに特徴がある。本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法は、後述のように、インクジェット技術、すなわち液滴吐出技術を用いてＥＬ発光材料を液滴として吐出する際に、その液滴の着弾位置が表示ドット領域６内の特定の範囲に入るように制御することにより、ＥＬ発光材料が隣りの表示ドット領域６内へ侵入することを防止し、これにより、異なるＥＬ発光材料間で混色が発生することを防止するようになっている。このため、そのようなエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を用いて製造された図１８及び図１７に示すエレクトロルミネッセンス装置は、混色のないＥＬ発光素子を有することになり、鮮明で高品質のカラー表示を行うことができる。
【００９６】
（エレクトロルミネッセンス基板の製造方法の実施形態）
以下、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を、図１８及び図１７に示したエレクトロルミネッセンス装置に用いられるエレクトロルミネッセンス基板を製造する場合を例に挙げて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
【００９７】
図１２〜図１６はエレクトロルミネッセンス基板の製造方法の一実施形態を工程順に示している。そして、この製造方法は、図１６（ｒ）に示すエレクトロルミネッセンス基板１００を製造することを目標とする。このエレクトロルミネッセンス基板１００を製造する場合には、まず、図１２（ａ）において、透光性の基材１０２に対して、テトラエトキシシラン（ｔｅｔｒａｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ：ＴＥＯＳ）や酸素ガス等を原料ガスとしてプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により、シリコン酸化膜から成る下地保護層（図示せず）を、望ましくは、約２，０００〜５，０００オングストロームの厚さで形成する。
【００９８】
次に、基材１０２の温度を約３５０℃に設定し、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により、非晶質のシリコン膜である半導体膜１２０ａを、約３００〜７００オングストロームの厚さで形成する。次に、半導体膜１２０ａに対して、レーザアニール又は固相成長法等といった結晶化工程を実施し、半導体膜１２０ａをポリシリコン膜に結晶化する。
【００９９】
次に、半導体膜１２０ａの上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜を露光及び現像してレジストマスクを形成し、そのマスクを用いて半導体膜１２０ａをパターニングすることによって、図１２（ｂ）に示す島状の半導体膜１２０ｂを形成する。
【０１００】
次に、半導体膜１２０ｂが形成された基材１０２の表面にＴＥＯＳや酸素ガス等を原料ガスに用いて、プラズマＣＶＤ法により、図１２（ｃ）に示すように、シリコン酸化膜あるいは窒化膜から成るゲート絶縁膜１２１ａを、望ましくは約６００〜１，５００オングストロームの厚さで形成する。なお、半導体膜１２０ｂは、カレント薄膜トランジスタ１１０（図１８参照）のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ１０９（図１８参照）のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる図示しない半導体膜も形成されている。図１２から図１６に示す製造工程では２種類のスイッチング薄膜トランジスタ及びカレント薄膜トランジスタが同時に形成されるが、それらは同じ手順で形成されるため、以下の説明では、カレント薄膜トランジスタ１１０についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタについては説明を省略する。
【０１０１】
次に、図１２（ｄ）において、アルミニウムやタンタル等を材料としてスパッタリングによって導電膜１１６ａを形成する。次に、レジスト材料を塗布し、露光及び現像によってレジストマスクを形成し、そのマスクを用いて導電膜１１６ａをパターニングして、図１３（ｅ）に示すように、ゲート電極１１６を形成する。
【０１０２】
この状態で、不純物、例えば高温度のリンイオンを注入し、図１３（ｆ）に示すように、ゲート電極１１６に対して自己整合的にソース・ドレイン領域１１７ａ，１１７ｂを半導体膜１２０ｂに形成する。なお、不純物が導入されなかった部分が、チャネル領域１１８となる。
【０１０３】
次に、図１３（ｇ）において、層間絶縁膜１２２を形成し、その後、図１３（ｈ）においてコンタクトホール１２３，１２４を形成する。さらにその後、図１４（ｉ）に示すように、それらのコンタクトホール１２３，１２４の内部に導電材料を埋め込んで中継電極１２６，１２７を形成する。
【０１０４】
次に、図１４（ｊ）に示すように、層間絶縁膜１２２の上に信号線１０４、共通給電線１０５及び走査線１０３（図１８参照）を形成する。そして、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜１３０を形成し、中継電極１２６に対応する位置にコンタクトホール１３２を形成する。次に、図１４（ｋ）において、コンタクトホール１３２の内部を埋めるようにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜１１１ａを形成する。次に、ＩＴＯ膜１１１ａの上にレジストを塗布し、そのレジストを露光及び現像してレジストマスクを形成し、そのマスクを用いてＩＴＯ膜１１１ａをパターニングすることにより、図１４（ｌ）に示すように、信号線１０４、共通給電線１０５及び走査線１０３に囲まれた領域に、ソース・ドレイン領域１１７ａに電気的に接続する画素電極１１１を形成する。
【０１０５】
次に、図９に示したインクジェットヘッド２２を用いて、図１５（ｍ）〜図１６（ｒ）に示すようにして、基材１０２上にＥＬ発光要素を形成する。この場合には、図１５（ｍ）において信号線１０４、共通給電線１０５及び図１８の走査線１０３が区分け要素として機能して、基材１０２上に複数の表示用ドット領域６が形成される。なお、図１５（ｍ）において、Ｇ色の発光要素が形成される領域を６ｇと示し、Ｒ色の発光要素が形成される領域を６ｒと示し、さらに、Ｂ色の発光要素が形成される領域を６ｂと示すことにする。
【０１０６】
まず、基材１０２の上面を上方に向けた状態で、図１７のＥＬ発光要素１１３ｇの下層部分に当る正孔注入層１１３Ａを形成するための材料Ｍ１を、図９のインクジェットヘッド２２のノズル２７から液滴として吐出し、区分け要素１０３，１０４，１０５で囲まれた第１番目の領域、すなわちＧ色領域６ｇ内に選択的に供給して塗布する。
【０１０７】
このときの吐出量Ａ１ｇは、予め、区分け要素１０３，１０４，１０５の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多く設定されており、供給されたＧ色発光要素材料は区分け要素１０３，１０４，１０５よりも上方へ突出する。次に、加熱すなわちプレベーク又は光照射等を行って材料Ｍ１に含まれる溶剤を蒸発させて、図１５（ｎ）に示すように表面が平坦な正孔注入層１１３Ａを形成する。正孔注入層１１３Ａが希望の厚さに満たない場合は、材料Ｍ１の吐出供給処理を繰り返す。
【０１０８】
次に、図１５（ｏ）に示すように、基材１０２の上面を上に向けた状態で、図１７のＥＬ発光要素１１３ｇの上層部分に有機半導体膜１１３Ｂを形成するための有機半導体膜材料Ｍ２を、図９のインクジェットヘッド２２のノズル２７から液滴として吐出し、区分け要素１０３，１０４，１０５で囲まれた第１番目の領域、すなわちＧ色領域６ｇ内に選択的に供給して塗布する。有機半導体膜材料Ｍ２は、溶媒に溶かされた状態の有機蛍光材料であることが望ましい。
【０１０９】
このときの吐出量Ａ２ｇは、予め、区分け要素１０３，１０４，１０５の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多く設定されており、供給された有機半導体膜材料Ｍ２は区分け要素１０３，１０４，１０５よりも上方へ突出する。次に、加熱すなわちプレベーク又は光照射等を行って材料Ｍ２に含まれる溶剤を蒸発させて、図１６（ｐ）に示すように、正孔注入層１１３Ａの上に、表面が平坦な有機半導体膜１１３Ｂを形成する。有機半導体膜１１３Ｂが希望の厚さに満たない場合は、材料Ｍ２の吐出供給処理を繰り返す。以上により、正孔注入層１１３Ａ及び有機半導体膜１１３Ｂによって、Ｇ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｇが形成される。
【０１１０】
次に、図１６（ｐ）において、第２番目の表示用ドット領域であるＲ色領域６ｒに対して、図１５（ｍ）から図１６（ｐ）に示した処理を繰り返して、図１６（ｑ）に示すように、Ｒ色領域６ｒの中にＲ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｒを形成する。さらに、図１６（ｑ）においてＲ色発光要素１１３ｒの形成が終了すると、次に、第３番目の表示用ドット領域であるＢ色領域６ｂに対して、図１５（ｍ）から図１６（ｐ）に示した処理を繰り返して、図１６（ｒ）に示すように、Ｂ色領域６ｒの中にＢ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｂを形成する。
【０１１１】
以上により、図１６（ｒ）において各色のＥＬ発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂの形成が完了することにより、エレクトロルミネッセンス基板が製造される。その後、図１７に示すように、ＥＬ発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂが形成された後の基材１０２の表面全体又はストライプ領域に、例えばフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理を用いて、反射電極１１２を形成する。また、必要に応じて、その他の電子要素を付設する。これにより、エレクトロルミネッセンス装置１０１が製造される。このエレクトロルミネッセンス装置１０１では、マトリクス状に並べられた複数の表示用ドット領域６の中から希望のものを選択して、それらの画素電極１１１と反射電極１１２との間に電圧を印加することにより発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂを選択的に発光させる。これにより、基材１０２側に文字、数字、図形等といった像を表示できる。
【０１１２】
実施形態では、図１５に示した発光要素材料の吐出工程において、各表示用ドット領域６に対する液滴８の着弾位置を図５に示すような位置に設定する。具体的には、発光要素材料の液滴８の中心が斜線で示す液滴着弾範囲Ｅ内に入るように制御する。この液滴着弾範囲Ｅは、次のようにして決定される。すなわち、表示用ドット領域６に関して、長辺方向の中心点が描く線と短辺方向の中心点が描く線との交点Ｐ０を中心に決める。そして、その中心Ｐ０から最も近い表示用ドット領域６の辺、図５の場合は辺Ｌ１又はＬ２までの距離ｄ１の３０％の距離ｄ２を半径とする円形状の領域を液滴着弾範囲Ｅとする。液滴の着弾位置をこの範囲Ｅに制限することにより、吐出された液滴がバンク４を越えて隣りの表示用ドット領域６へ侵入することを防止でき、それ故、互いに隣り合う発光要素が混色することを防止できる。
【０１１３】
（電子機器及びその製造方法の実施形態）
図１９は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１４１、表示情報処理回路１４２、電源回路１４３、タイミングジェネレータ１４４及び液晶装置１４５によって構成される。そして、液晶装置１４５は液晶パネル１４７及び駆動回路１４６を有する。液晶装置１４５は、図７〜図１１に示したカラーフィルタ基板の製造装置を用いて、図１〜図５に示した製造方法によって製造された、図６に示す液晶装置５１によって構成できる。
【０１１４】
表示情報出力源１４１は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１４４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１４２に供給する。
【０１１５】
次に、表示情報処理回路１４２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１４６へ供給する。ここで、駆動回路１４６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１４３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
【０１１６】
図２０は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルカメラ１５０におけるケース１５１の背面には液晶表示ユニット１５２が設けられる。この液晶表示ユニット１５２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１５２は、図７〜図１１に示したカラーフィルタ基板の製造装置を用いて、図１〜図５に示した製造方法によって製造された、図６に示す液晶装置５１によって構成できる。
【０１１７】
ケース１５１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１５３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１５２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１５４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１５５のメモリに転送されてそこに格納される。
【０１１８】
ケース１５１の側面には、ビデオ信号出力端子１５６と、データ通信用の入出力端子１５７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１５６にはテレビモニタ１５８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１５７にはパーソナルコンピュータ１５９が必要に応じて接続される。回路基板１５５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１５８や、パーソナルコンピュータ１５９に出力される。
【０１１９】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１２０】
【実施例】
以下、本発明者が行った実験について説明する。この実験は、１つの表示用ドット領域に関して、インクジェットヘッドのノズルから吐出される液滴をどの位置に着弾させれば、混色の発生を低減できるかを検討したものである。
【０１２１】
本実験にあたって、図２１（ａ）において、１つの表示用ドット領域６の中心Ｐ０から最も近い辺までの距離を“Ｂ”とし、液滴着弾範囲“Ｅ”の半径を“Ａ”とした。このとき、表示用ドット領域６に対する液滴着弾範囲Ｅの大きさは、
（Ａの長さ／Ｂの長さ）×１００（％）  ……  （１）
によって表すことができる。
【０１２２】
上記（１）式に基づいて、液滴着弾範囲を図２１（ｂ）の表に示すように、１５．２％、２２．８％、３０．４％、３５．４％、６０．８％の５種類に設定し、各液滴着弾範囲における混色の発生の程度を目視判断に基づいてパーセンテージによって判定した。そして、その結果、図２１（ｂ）の表の「混色率」の項に示す結果を得た。また、この結果をグラフに表したところ、図２２に示すようなグラフが得られた。
【０１２３】
図２２のグラフによれば、混色率は液滴着弾範囲が３０％を越える範囲で大きくなることが分かる。このことから、液滴着弾範囲を３０％以内の範囲に制限すれば、混色の発生を抑えることができることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態の主要工程を示す工程図である。
【図２】図１に続く工程図である。
【図３】図２に続く工程図であり、特に（ｋ）は目標とするカラーフィルタ基板の一実施形態を示している。
【図４】複数のフィルタ要素の配列例を示す図であり、（ａ）はストライプ配列、（ｂ）はモザイク配列、（ｃ）はデルタ配列を示している。
【図５】液滴吐出時の液滴着弾範囲の一例を示す平面図である。
【図６】本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図７】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法を実施する製造装置の一例を示す斜視図である。
【図８】図７に示す製造装置の制御系を示す回路ブロック図である。
【図９】図７に示す製造装置の材料吐出部を示す斜視図である。
【図１０】図９に示す材料吐出部の主要部の内部構造を一部破断して示す斜視図である。
【図１１】図１０のＤ−Ｄ線に従った断面図である。
【図１２】本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法の一実施形態の主要工程を示す工程図である。
【図１３】図１２に続く工程図である。
【図１４】図１３に続く工程図である。
【図１５】図１４に続く工程図である。
【図１６】図１５に続く工程図である。
【図１７】エレクトロルミネッセンス装置の一例の１画素分の断面構造を示す断面図である。
【図１８】図１７のエレクトロルミネッセンス装置の等価回路を示す回路図である。
【図１９】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図２０】本発明に係る電子機器の一実施形態であるデジタルカメラを示す図である。
【図２１】（ａ）は本発明に関連する実験の条件を説明するための図であり、（ｂ）は実験結果を示す表である。
【図２２】図２１（ｂ）の結果を示すグラフである。
【符号の説明】
１：カラーフィルタ基板、  ２：基材、  ３：遮光層、  ３ａ：金属膜、  ４：バンク、  ４ａ：感光性樹脂、  ６，６ｇ，６ｒ，６ｂ：表示用ドット領域、７ａ：レジスト、  ８：液滴、  ９ｇ，９ｒ，９ｂ：フィルタ要素、  ２０：ケーシング、  ２２：インクジェットヘッド、２７：ノズル（液滴吐出部）、  ３９：加圧体、  ４１：圧電素子、  ４２ａ，４２ｂ：電極、  ５１：液晶装置（電気光学装置）、  ５２：液晶パネル、  ５５：液晶層、  ５７ａ，５７ｂ：基板、  ６１ａ．６１ｂ：基材、  ６８：カラーフィルタ、  １００：エレクトロルミネッセンス基板、１０１：エレクトロルミネッセンス装置（電気光学装置）、  １１１：画素電極、  １１１ａ：ＩＴＯ膜、  １１２：反射膜、１１３，１１３ｒ，１１３ｒ，１１３ｂ：ＥＬ発光要素、  １１３Ａ：正孔注入層、  １１３Ｂ：有機半導体膜、  １５０：デジタルカメラ（電子機器）、２０１：カラーフィルタ基板の製造装置、  ２０２：フィルタ形成部、２０３：フィルタ材料供給部、  ４：冷却保存部、  ２１３：記録ヘッド、  Ｅ：液滴着弾範囲、  Ｐ０：表示用ドット領域の中心、  Ｍ０：フィルタ材料、Ｍ１：正孔注入層材料、Ｍ２：有機半導体膜材料、  Ｓ０：波形、  Ｓ１：ビットマップデータ、  Ｓ２：吐出タイミング信号、  Ｓ３：位置情報、  Ｖ：有効表示領域、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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