(57)【要約】【課題】透明性、易廃棄性を有し金属箔並みのガス遮断性を有する高ガスバリア性を有する粘着性フィルムを提供する。【解決手段】プラスチック材料からなる基材２の少なくとも片面に、厚さ５〜１００ｎｍの蒸着薄膜層（Ａ層）３、コーティング剤を塗布し加熱乾燥してなる中間被膜層（Ｂ層）４、厚さ５〜３００ｎｍの蒸着薄膜層（Ｃ層）５、更にＢ層４と同様の成分から成る被膜層（Ｄ層）６を順次積層して積層体１とし、前記コーティング剤は、水溶性高分子と、（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／及びその加水分解物または（ｂ）塩化錫の少なくともいずれか１つを含む水溶液、或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤であり、前記積層体１の少なくとも片面に粘着剤を塗布、もしくは粘着剤を塗布した紙またはフィルム等を積層７したことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、厚さ５〜１００ｎｍの蒸着薄膜層（Ａ層）、コーティング剤を塗布し加熱乾燥してなる中間被膜層（Ｂ層）、厚さ５〜３００ｎｍの蒸着薄膜層（Ｃ層）、更にＢ層と同様の成分から成る被膜層（Ｄ層）を順次積層して積層体とし、前記コーティング剤は、水溶性高分子と、（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／及びその加水分解物または（ｂ）塩化錫の少なくともいずれか１つを含む水溶液、或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤であり、前記積層体の少なくとも片面に粘着剤を塗布、もしくは粘着剤を塗布した紙またはフィルム等を積層したことを特徴とする高ガスバリア性を有する粘着性フィルム。
【請求項２】
前記蒸着薄膜層が、アルミニウム、銅、銀などの金属、もしくはイットリウムタンタルオキサイド、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウムなどの無機酸化物或いはそれらの混合物であることを特徴とする請求項１記載の高ガスバリア性を有する粘着性フィルム。
【請求項３】
前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物であることを特徴とする請求項１または２記載の高ガスバリア性を有する粘着性フィルム。
【請求項４】
前記水溶性高分子が、ポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１記載の高ガスバリア性を有する粘着性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食品・日用品やエレクトロニクス関係部品及び医薬品等の包装分野に用いられる包装用の高ガスバリア性を有する粘着性フィルム、または電子機器関連部材などの高水蒸気バリアを必要とする包装分野または電子機器部材分野で利用される高ガスバリア性を有する粘着性フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
食品や日用品及び医薬品等の包装に用いられる包装材料、または電子機器関連部材は、内容物の変質を抑制しそれらの機能や性質を保持するために、その材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これらを遮断するガスバリア性等を備えることが求められている。通常のガスバリアレベルのものについては、高分子の中では比較的にガスバリア性に優れる塩化ビニリデン樹脂のフィルムまたはそれらをコーティングしたフィルム等が良く用いられてきたが、これらは高度なガスバリア性が要求されるものについては使用不可である。そのため上記の様な要求があるものについては、アルミ等の金属からなる金属箔等をガスバリア層として用いた包装材料を用いざるを得なかった。
【０００３】
ところが、アルミ等の金属からなる金属箔等を用いた包装材料は、温度・湿度の影響がなく高度なガスバリア性を持つが、使用後の廃棄の際は不燃物として処理しなければならないこと、材料としての重量が大きくなること、検査の際金属探知器が使用できないなど数多くの欠点を有し問題があった。
【０００４】
そこで、これらの欠点を克服した包装材料として、例えば特許文献１、特許文献２等に記載されているような酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等の無機酸化物をプラスチックフィルム上に、真空蒸着法やスパッタリング法等の形成手段により蒸着膜を成膜したフィルムが上市されている。これらの蒸着フィルムは透明性及び酸素、水蒸気等のガス遮断性を有していることが知られ、金属箔等では得ることのできない透明性、ガスバリア性を有する包装材料として好適とされている。
しかし、このような包装材料でも金属箔並みのガス遮断性には遠く、また包装材料として有用である粘着性フィルムにこのようなガス遮断性のあるものがなかった。
【０００５】
【特許文献１】
米国特許第３４４２６８６号明細書
【特許文献２】
特公昭６３−２８０１７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本願発明は、このような問題点を解決するもので、透明性、易廃棄性を有し金属箔並みのガス遮断性を有する高ガスバリア性を有する粘着性フィルムを提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は係る課題を解決するもので、請求項１の発明は、
プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、厚さ５〜１００ｎｍの蒸着薄膜層（Ａ層）、コーティング剤を塗布し加熱乾燥してなる中間被膜層（Ｂ層）、厚さ５〜３００ｎｍの蒸着薄膜層（Ｃ層）、更にＢ層と同様の成分から成る被膜層（Ｄ層）を順次積層して積層体とし、前記コーティング剤は、水溶性高分子と、（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／及びその加水分解物または（ｂ）塩化錫の少なくともいずれか１つを含む水溶液、或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤であり、前記積層体の少なくとも片面に粘着剤を塗布、もしくは粘着剤を塗布した紙またはフィルム等を積層したことを特徴とする高ガスバリア性を有する粘着性フィルム。
としたものである。。
【０００８】
本発明の請求項２の発明は、前記蒸着薄膜層が、アルミニウム、銅、銀などの金属、もしくはイットリウムタンタルオキサイド、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウムなどの無機酸化物或いはそれらの混合物であることを特徴とする請求項１記載の高ガスバリア性を有する粘着性フィルムとしたものである。
【０００９】
本発明の請求項３の発明は、前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物であることを特徴とする請求項１または２記載の高ガスバリア性を有する粘着性フィルムとしたものである。
【００１０】
本発明の請求項４の発明は、前記水溶性高分子が、ポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１記載の高ガスバリア性を有する粘着性フィルムとしたものである。
【００１１】
＜作用＞
本発明のの高ガスバリア性を有する粘着性フィルムによれば、プラスチック基材の少なくとも片面に、蒸着薄膜層（Ａ層）／中間被膜層（Ｂ層）／蒸着薄膜層（Ｃ層）／プライマー層からなるガスバリア層を設けているので、押出ラミネート等の後加工適性を保持しつつこれまで得ることができたかった金属箔並みのガスバリア性を持つ実用性の高い積層体が得られ、さらにこの積層体に粘着剤を塗布することにより、幅広い用途に使用できるようになる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明について、図面を用いて更に詳細に説明する。図１は本発明の高ガスバリア性を有する粘着性フィルムの一例を示した断面図である。
【００１３】
まず、図１に一例として示した本発明の高ガスバリア性を有する粘着性フィルム１は、基材２がプラスチック材料からなるフィルム基材であり、その少なくとも片面に蒸着薄膜層（Ａ層）３、ガスバリア性被膜層（Ｂ層）４、蒸着薄膜層（Ｃ層）５、プライマー層６、粘着剤７が順次積層されている。
【００１４】
本発明で用いられる基材は、プラスチック材料であり、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等が用いることができる。これらは、機械的強度や寸法安定性を有するものであれば、延伸されたものでも未延伸のものでも構わない。通常これらのものを、フィルム状に加工して用いられる。特に耐熱性等の観点から二軸方向に任意に延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムやナイロンフィルムが好ましく用いられる。またこの基材の蒸着層が設けられる面と反対側の表面に、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤などが使用されていても良い。また、この薄膜との密着性を良くするために、前記基材の積層面側を前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、薬品処理、溶剤処理などのいずれかの処理を施しても良い。
【００１５】
基材の厚さはとくに制限を受けるものではなく、また、材料としての適性を考慮して単体フィルム以外に異なる性質のフィルムを積層したフィルムを使用できる。尚蒸着薄膜層Ａ及びＣ、中間被膜層Ｂ層、被膜層Ｄ層等を形成する場合の加工性を考慮すると、実用的には３〜２００μｍの範囲が好ましく、特に６〜３０μｍとすることが好ましい。
【００１６】
また、量産性を考慮すれば、連続的に前記各層を形成できるように長尺の連続フィルムとすることが望ましい。
【００１７】
本発明におけるガスバリア層は、高ガスバリア性を持たせるために、後述する構成が必要で、特に積層順序が重要で、中間被膜層（Ｂ層）は蒸着薄膜層であるＡ層とＣ層で挟まれている必要がある。本発明におけるガスバリア層を形成する各層について更に詳細に説明する。
【００１８】
まず、ガスバリア層を形成する第１の層である、蒸着薄膜層（Ａ層）を説明する。
蒸着薄膜層（Ａ層）は、金属、例えばアルミニウム、銅、銀など、もしくは無機酸化物、例えばイットリウムタンタルオキサイド、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム或いはそれらの混合物の蒸着膜からなり、酸素、水蒸気等のガスバリア性を有する層であればよい。これらの中では、特にアルミニウム、酸化アルミニウム及び酸化珪素、酸化マグネシウムが好ましい。ただし本発明の蒸着薄膜層Ａは、上述した金属および無機酸化物に限定されず、上記条件に適合する材料であれば用いることができる。
【００１９】
蒸着薄膜層（Ａ層）の厚さは、用いられる化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また無機酸化物の場合、膜厚が３００ｎｍを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがある。好ましくは、１０〜１５０ｎｍの範囲内である。
【００２０】
蒸着薄膜層（Ａ層）をプラスチック基材上に形成する方法としては種々在り、通常の真空蒸着法により形成することができる。また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ）などを用いることも可能である。但し生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかが好ましい。また蒸着薄膜層と基材の密着性及び蒸着薄膜層の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、蒸着膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素ガスなど吹き込む反応蒸着を行っても一向に構わない。
【００２１】
次いで、ガスバリア層を形成する第２の層である中間被膜層（Ｂ層）を説明する。中間被膜層（Ｂ層）は、水溶性高分子と、（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／及び加水分解物又は（ｂ）塩化錫の少なくともいずれか１つを含む水溶液、或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を用いて形成される。例えば、水溶性高分子と塩化錫を水系（水或いは水／アルコール混合）溶媒で溶解させた溶液、或いはこれに金属アルコキシドを直接、或いは予め加水分解させるなど処理を行ったものを混合した溶液を調整し溶液とする。この溶液を無機化酸化物からなる蒸着薄膜層（Ａ層）にコーティング後、加熱乾燥し形成される。コーティング剤に含まれる各成分について更に詳細に説明する。
【００２２】
本発明でコーティング剤に用いられる水溶性高分子は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。特にポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略す）を本発明のコーティング剤に用いた場合にガスバリア性が最も優れる。ここでいうＰＶＡは、一般にポリ酢酸ビニルをけん化して得られるものである。ＰＶＡとして例えば、酢酸基が数十％残存している、いわゆる部分けん化ＰＶＡから酢酸基が数％しか残存していない完全ＰＶＡ等を含み、特に限定されない。
【００２３】
またコーティング剤に使用される塩化錫は、塩化第一錫（ＳｎＣｌ２  ）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ４  ）、或いはそれらの混合物であってもよい。またこれらの塩化錫は、無水物でも水和物でもあってもよい。
【００２４】
更に金属アルコキシドは、一般式、Ｍ（ＯＲ）ｎ    （Ｍ：Ｓｉ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒ等の金属、Ｒ：ＣＨ３  ，Ｃ２  Ｈ５  等のアルキル基）で表せる化合物である。具体的にはテトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ２  Ｈ５  ）４  〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Ａｌ（Ｏ−２’−Ｃ３  Ｈ７  ）３  〕などがあげられ、中でもテトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムが加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。
【００２５】
コーティング剤のガスバリア性を損なわない範囲で、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、或いは分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤などの公知の添加剤を必要に応じて加えることができる。
【００２６】
例えばコーティング剤に加えられるイソシアネート化合物としては、その分子中に２個以上のイソシアネート基を有するものが好ましい。例えばトリレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネートなどのモノマー類と、これらの重合体、誘導体が挙げられる。
【００２７】
コーティング剤の塗布方法には、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法などの従来公知の手段を用いることができる。被膜の厚さは、コーティング剤の種類や加工機や加工条件によって異なる。乾燥後の厚さが、０．０１μｍ以下の場合は、均一な塗膜が得られず十分なガスバリア性を得られない場合があるので好ましくない。また厚さが５０μｍを超える場合は膜にクラックが生じ易くなるため問題がある。好ましくは０．０１〜５０μｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍの範囲にあることである。
【００２８】
次いでガスバリア層を形成する第３の層である蒸着薄膜層（Ｃ層）を説明する。蒸着薄膜層（Ｃ層）は、中間被膜層上に蒸着薄膜層（Ａ層）と同様なものから形成される層である。つまり、金属、例えばアルミニウム、銅、銀など、もしくは無機酸化物、例えばイットリウムタンタルオキサイド、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム或いはそれらの混合物の蒸着膜からなり、酸素、水蒸気等のガスバリア性を有する層である。これらの中では、特にアルミニウム、酸化アルミニウム及び酸化珪素、酸化マグネシウムが好ましい。ただし本発明の蒸着薄膜層（Ｃ層）は、上述したものに限定されず、上記条件に適合する材料であれば用いることができる。蒸着薄膜層（Ｃ層）は、蒸着薄膜層（Ａ層）を同じ種類でも、違う種類でも構わなく、要求されるガスバリア性をクリアできれば、その組み合わせに特に限定しない。
【００２９】
蒸着薄膜層（Ｃ層）の厚さは、用いられる化合物の種類・構成及び蒸着薄膜層Ａの内容等により最適条件が異なるが、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また無機酸化物の場合、膜厚が３００ｎｍを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがある。好ましくは、１０〜１５０ｎｍの範囲内である。
【００３０】
蒸着薄膜層（Ｃ層）をガスバリア被膜層上に形成する方法としては、上述した蒸着薄膜層（Ａ層）の場合と同様な方法で可能である。つまり、通常の真空蒸着法により形成することが可能である。また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ）などを用いることも可能である。但し生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかが好ましい。また蒸着薄膜層と基材の密着性及び蒸着薄膜層の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、蒸着膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素ガスなど吹き込む反応蒸着を行っても一向に構わない。
【００３１】
次いでガスバリア層を形成する最後の層である被膜層（Ｄ層）について説明する。本発明の被膜層（Ｄ層）は、蒸着薄膜層（Ｃ層）上に積層され、耐熱性に優れ押出ラミネート時の熱ダメージを緩和すること、印刷適性や各層間のラミネート強度ＵＰなどを目的に設けられるものである。
【００３２】
適性及び加工しやすさを考慮すれば、前記中間被膜層（Ｂ層）と同様の成分が好ましい。すなわち、水溶性高分子と、（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／及び加水分解物又は（ｂ）塩化錫の少なくともいずれか１つを含む水溶液、或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を用いて形成される。例えば、水溶性高分子と塩化錫を水系（水或いは水／アルコール混合）溶媒で溶解させた溶液、或いはこれに金属アルコキシドを直接、或いは予め加水分解させるなど処理を行ったものを混合した溶液を調整し溶液とする。この溶液を蒸着薄膜層（Ｃ層）にコーティング後、加熱乾燥し形成される。
【００３３】
コーティング剤に含まれる、水溶性高分子・塩化錫・金属アルコキシドなどは、中間被膜層（Ｂ層）と同様に限定される成分ではない。
【００３４】
被膜層（Ｄ層）の厚さやコーティング剤の塗布方法も中間被膜層（Ｂ層）と同様で、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法などの従来公知の手段を用いることができる。被膜の厚さは、コーティング剤の種類や加工機や加工条件によって異なる。乾燥後の厚さが、０．０１μｍ以下の場合は、均一な塗膜が得られず十分なガスバリア性を得られない場合があるので好ましくない。また厚さが５０μｍを超える場合は膜にクラックが生じ易くなるため問題がある。好ましくは０．０１〜５０μｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍの範囲にあることである。
【００３５】
上記のようにして得られた積層体のＤ層の上、もしくは積層体の両面に、粘着剤を塗布して粘着フィルムとする。使用できる粘着剤としては、特に制限されるものではなく、周知のアクリル系、ポリエステル系、酢酸ビニル系、ゴム系，シリコン系などで良い。
【００３６】
粘着剤層の厚みとしては、性能を害しない程度であれば制限されるものではないが、５〜１００μｍの範囲が通常用いられ、好ましくは１０〜３０μｍである。
【００３７】
耐熱性・耐候性に優れるアクリル系粘着剤が好ましく使用される。アクリル系粘着剤としては、アクリル酸アルキルエステルとアクリル酸の共重合体を主成分として、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、熱安定剤、紫外線吸収剤などを副成分とした粘着剤が選択される。
【００３８】
架橋剤は、粘着層の耐熱性・耐クリープ性などを改善するために使用され、例えば、イソシアネート系、エポキシ系、アジリジン系、有機金属系、キレート系、アミン系などの反応型架橋剤、又は、ジアクリレート系、ジビニル系などの多官能ビニルモノマーによる共重合体型架橋剤などが使用される。粘着付与剤、可塑剤など他の副成分は、適宜、目的に応じて添加される。
【００３９】
粘着剤を積層体にコーティングする方法は公知のコーティング法でよく、離型背面処理あるいは離型紙又は離型フィルムと併せても構わない。
【００４０】
【実施例】
本発明の高ガスバリア性を有する粘着フィルムを具体的な実施例を挙げて更に説明する。
【００４１】
〈実施例１〉
基材として、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面に、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させそこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して無機酸化物からなる蒸着薄膜層（Ａ層）を形成した。次いで下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃  １分間乾燥させ厚さ０．５μｍの中間被膜層（Ｂ層）を形成した。次いで中間被膜層上に電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させそこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して無機酸化物からなる蒸着薄膜層（Ｃ層）を形成し、更に中間被膜層（Ｂ層）と同成分から成るコーティング剤をグラビアコートにより厚さ０．５μｍの被膜層（Ｄ層）を設けた。Ｂ層及びＤ層となるコーティング剤の組成は、▲１▼液と▲２▼液を配合比（ｗｔ％）で６０／４０に混合したもの。
▲１▼液：テトラエトキシシラン１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間撹拌し加水分解させた固形分３ｗｔ％（ＳｉＯ２  換算）の加水分解溶液
▲２▼液：ポリビニルアルコールの３ｗｔ％水／イソプロピルアルコール溶液（水：イソプロピルアルコール重量比で９０：１０）
更に被膜層（Ｄ層）の上にアクリル系粘着剤を塗布し、乾燥して厚さ２０μｍの粘着層を形成して、粘着性フィルムを得た。
【００４２】
アクリル系粘着剤の組成は，▲１▼アクリル酸ブチル８５モル％、メタクリル酸３モル％、アクリロニトリル１２モル％の比率で共重合し、固形分２０重量％のアクリル酸ブチル−メタクリル酸−アクリロニトリル共重合体の酢酸エチル溶液を調整した。▲２▼酢酸ビニル７０モル％、１−ビニル−２−ピロリドン３０モル％の比率で共重合市し、固形分５０重量％の酢酸ビニル−１−ビニル−２−ピロリドン共重合体エタノール溶液を調整した。
【００４３】
上記▲１▼と▲２▼を、固形分１００：３（重量比）で均一に混合し，アクリル系粘着剤を得た。
【００４４】
〈実施例２〉
実施例１において、無機酸化物からなる蒸着薄膜層（Ａ層及び／またはＣ層）が抵抗加熱方式による真空蒸着方式により、厚さ約２０ｎｍの酸化珪素を形成した以外は実施例１と同様にして本発明の粘着性フィルムを得た。
【００４５】
〈比較例１〉
実施例１において、中間被膜層（Ｂ層）、蒸着薄膜層（Ｃ層）及び被膜層（Ｄ層）を設けなかった以外は実施例１と同様にして粘着性フィルムを得た。
【００４６】
〈比較例２〉
実施例１において、蒸着薄膜層（Ｃ層）及び被膜層（Ｄ層）を設けなかった以外は実施例１と同様にして粘着性フィルムを得た。
【００４７】
〈比較例３〉
実施例１において、中間被膜層（Ｂ層）及び被膜層（Ｄ層）のコーティング剤を塩化ビニリデンにしたこと以外は実施例１と同様にして粘着性フィルムを得た。
【００４８】
〈比較例４〉
実施例１において、蒸着薄膜層（Ａ及びＣ層）のかわりに金属アルミニウム箔を貼りつけて使用したこと以外は実施例１と同様にして粘着性フィルムを得た。
【００４９】
〈評価〉
実施例及び比較例の粘着性フィルムについて、ガスバリア性の指標として酸素透過率（ｍｌ／ｍ２  ・ｄａｙ・ＭＰａ）及び水蒸気透過率（ｇｒ／ｍ２  ・ｄａｙ）の測定を行った。測定は、モコン法を用いて測定し、その時の測定条件は、酸素透過率が３０℃−７０％ＲＨで水蒸気透過率が４０℃−９０％ＲＨである
また、インキ又は粘着剤の密着適性、粘着性、透明性、廃棄性を比較評価した。その結果を、表１に示す。。
【００５０】
【表１】
2004276294.tif 000003
なお表中、０．１＞とあるのは、測定結果の値が０．１以下であったことを意味する。
【００５１】
評価結果から、本願の高ガスバリア性を有する粘着性フィルムは、比較例に比べガスバリア性が優れており、透明性、廃棄性、粘着性、密着性も良好である。
【００５２】
【発明の効果】
以上に述べたように本発明によれば、金属箔並の高度なガスバリア性を有した粘着性フィルムが得られ、単なる粘着性フィルムではなく、高いバリア性を必要とする電子機器部材分野や粘着テープとして幅広い用途で使用が可能である。
【００５３】
そして、粘着剤が塗布されていることにより、高い水蒸気バリア性を付与した形でその他部材品同士の接着が可能となる。また、従来，水蒸気バリア性を付与するためにアルミなどの金属を使用していた部分の代替となりえ、透明性・易廃棄性が新たに付与され、金属探知器及び電子レンジの使用が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の高ガスバリア性を有する粘着性フィルムの例の部分断面図である。
【符号の説明】
１…  積層体
２…  プラスチック基材
３…  蒸着薄膜層（Ａ層）
４…  中間被膜層（Ｂ層）
５…  蒸着薄膜層（Ｃ層）
６…    被膜層（Ｄ層）
７…  粘着剤層
【図１】
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