(57)【要約】【課題】１５００ｎｍ帯の既存の伝送路との整合がとれ、しかも、１３００ｎｍ帯のＣＷＤＭ（Ｃｏａｒｓｅ　Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ　Ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ）伝送に好適で、製造性にすぐれた光ファイバを提供する。【解決手段】本発明の光ファイバは、１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）が８μｍ以上で、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域にゼロ分散波長を持たず、前記波長領域における分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であり、２２ｍ法におけるカットオフ波長が１２７０ｎｍ以下であり、波長１３１０ｎｍにおける伝送損失が０．４ｄＢ／ｋｍ以下である。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）が８μｍ以上で、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域にゼロ分散波長を持たず、
前記波長領域における分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であり、
２２ｍ法におけるカットオフ波長が１２７０ｎｍ以下であり、
波長１３１０ｎｍにおける伝送損失が０．４ｄＢ／ｋｍ以下である
ことを特徴とする光ファイバ。
【請求項２】
波長１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）が９．５μｍ以下であることを特徴とする
請求項１記載の光ファイバ。
【請求項３】
ゼロ分散波長が１３２５〜１３５０ｎｍであることを特徴とする
請求項１記載の光ファイバ。
【請求項４】
波長１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）をＡ（μｍ）、２２ｍ法におけるカットオフ波長をＢ（ｎｍ）としたときに、Ａ×Ｂ≦１１＊１０００であることを特徴とする
請求項１記載の光ファイバ。
【請求項５】
波長１３８３ｎｍの伝送損失が、波長１３１０ｎｍの伝送損失よりも小さく、分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であることを特徴とする
請求項１記載の光ファイバ。
【請求項６】
水素エージング試験前後での波長１３８３ｎｍにおける伝送損失の増加が０．０４ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする
請求項５記載の光ファイバ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、波長分割多重光伝送を行なうときに用いる光ファイバに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、光ファイバを用いた光伝送における伝送容量を増大させる技術の検討が盛んに行われている。
一般に、光ファイバの伝送損失は波長１５５０ｎｍ付近で最も小さくなるため、この波長帯を用いた光伝送を行うことが望まれ、これまで、波長１５５０ｎｍ付近にゼロ分散波長を有する分散シフト光ファイバ（ＤＳＦ）が開発された。この光ファイバにより、波長１５５０ｎｍ帯において伝送容量が数Ｇｂｐｓの光伝送が可能となった。
また、近年では、伝送容量を増大させるための技術として波長分割多重（ＷＤＭ）光伝送についての研究開発がきわめて盛んに行われている。そして、ＷＤＭ光伝送に好適に用いられる光ファイバについても多くの検討がなされている。
【０００３】
光ファイバをＷＤＭ光伝送に使用する場合には、使用波長帯にゼロ分散波長が存在しないことが四光波混合を防ぐ観点から要求されるため、使用波長帯に零分散をもたないノンゼロ分散シフト光ファイバ（ＮＺＤＳＦ）が開発された。このＮＺＤＳＦの開発により、波長１５３０〜１５６５ｎｍの波長領域（Ｃバンド）および波長１５６５ｎｍ〜１６２５ｎｍの波長領域（Ｌバンド）でのＷＤＭ伝送が可能となり、伝送容量は飛躍的に増大した。
このようなＷＤＭ伝送システムにおいて、さらに、伝送容量を拡大するために、信号光の波長帯域の幅を広げる試みがなされている。
【０００４】
【特許文献１】
米国特許第５９０５８３８号明細書
【特許文献２】
米国特許第６２０５２６８号明細書
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
米国特許第６２０５２６８号に開示されている発明は、標準シングルモード光ファイバとほぼ同様のファイバパラメータを維持しながら、１．３８μｍの水酸基（ＯＨ）吸収による損失ピークを低減させ、かつ、１４００ｎｍ帯の分散値を低減させることにより、１３００ｎｍ帯〜１５００ｎｍ帯の幅広い波長領域でのＣＷＤＭ（Ｃｏａｒｓｅ　Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ　Ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ）システムを実現している。
このＣＷＤＭ伝送システムにおいて、光ファイバは１３１０ｎｍ近傍にゼロ分散波長を有するため、波長１３００ｎｍ帯は、アナログＣＡＴＶ伝送に使用し、波長１４００ｎｍ帯で１０Ｇｂｐｓ以上の伝送が提案されている。
また、この新しいＣＷＤＭ伝送方式の提案により、１４００ｎｍ帯でのＣＷＤＭ伝送に不可欠な伝送装置も近年開発され、実用化されつつある。
【０００６】
ＷＤＭ伝送のメトロポリタン系（大都市向）光伝送路への適用を考慮した場合、今日、布設されている伝送路の圧倒的多数が標準シングルモード光ファイバであることを考えれば、米国特許第６２０５２６８号に記載されている提案は優れていると思われる。しかしながら、そのような光伝送路同様、すでに実用化されている伝送装置の圧倒的多数もまた、１．３μｍ帯伝送用装置であることを考えれば、ＷＤＭ伝送用に、１３００ｎｍ帯を使わずに、１４００ｎｍ帯を使用することは、コスト的にも、また現用のシステムとの整合性の面からも望ましいことではない。
【０００７】
一方、米国特許第５９０５８３８号に開示されている発明は、ゼロ分散波長を１３５０〜１４５０ｎｍにシフトさせ、１３１０ｎｍと１５５０ｎｍの分散の絶対値を１．０〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍとすることで、両波長帯でのＷＤＭ伝送を実現する光ファイバを提案している。しかしながら、両波長帯でのＷＤＭ伝送を実現させようとすると、モードフィールド径（ＭＦＤ）または実効コア断面積（Ａｅｆｆ）を小さくせざるをえなかった。上記米国特許第５９０５８３８号に開示されている発明では、Ａｅｆｆが４９μｍ２を上限とされている。
しかしながら、ＷＤＭ伝送のメトロポリタン系への適用を考慮した場合、伝送距離が高々４０〜６０ｋｍ程度であるため、伝送損失が最小となるという理由だけで、１５５０ｎｍ帯を使うという積極的な必然性はない。
【０００８】
メトロポリタン系においては、１０００心程度の多心光伝送ケーブルが実用化されており、小さな伝送損失の光ファイバよりも、光ファイバ間の接続や光ファイバの曲げ・側圧等の取り扱い性に優れた光ファイバの方が不可欠となる。こうした観点からみれば、米国特許第５９０５８３８号で提案されている光ファイバでは、ＭＦＤ（Ａｅｆｆ）が小さく、標準シングルモード光ファイバ等の接続では、接続損失が０．３ｄＢ以上となり、実用的ではない。
【０００９】
このように、既存の伝送路との完全な整合を図ろうとすると、伝送装置の面で不整合が生じ、既存の伝送装置との完全な整合を図ろうとすれば、伝送路の面で不整合が生じるという二律背反する問題に遭遇する。
この整合性について、伝送路・伝送装置の両面から、最適化しようとする試みは、これまでのところ実施されていない。
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、１５００ｎｍ帯にも使用でき、１３１０ｎｍ帯のＣＷＤＭ伝送に好適で、製造性にすぐれた光ファイバを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本願発明者が鋭意検討し、実験したところ、本発明は次のような構成を持つことが好ましいことを見いだした。
本発明の光ファイバは、１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）が８μｍ以上で、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域にゼロ分散波長をもたず、該波長領域における分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であり、２２ｍ法におけるカットオフ波長が１２７０ｎｍ以下であり、波長１３１０ｎｍにおける伝送損失が０．４ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴としている。
【００１２】
１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８μｍ以上であるため、標準シングルモード光ファイバとの接続を０．１ｄＢ以下にすることが可能となり、既設の伝送路との整合性を保つことが可能となる。
また、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域にゼロ分散波長をもたず、該波長領域における分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであるため、四光波混合等の非線形現象により波形の歪が実用上無視できる。分散スロープの絶対値が０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であるため、各信号光間での波長分散値の差が小さくなり、各信号光間の波長分散による波形歪量の差を効果的に低減した光伝送が可能となる。
２２ｍ法によるカットオフ波長が１２７０ｎｍ以下であるため、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域において基底モード光のみが伝搬し得る。波長１３１０ｎｍにおける伝送損失が０．４ｄＢ／ｋｍ以下であるため、波長１３００ｎｍ帯における光通信が可能である。
【００１３】
また、本発明の光ファイバは、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが９．５μｍ以下である場合や、ゼロ分散波長が１３２５〜１３５０ｎｍである場合には、標準シングルモード光ファイバのプロファイルの変更を最小限に抑えるだけで実現可能となり、製造性に優れた光ファイバが実現可能となる。
【００１４】
また、本発明の光ファイバでは、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤをＡ（μｍ）、２２ｍ法におけるカットオフ波長をＢ（ｎｍ）とした場合に、Ａ×Ｂ≦１１＊１０００の関係を満足させることで上記特性が実現できる。
【００１５】
さらに、本発明の光ファイバでは、波長１３８３ｎｍの伝送損失が、波長１３１０ｎｍの伝送損失よりも小さく、分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下とすることにより、将来の波長領域拡大の際に、１４００ｎｍ帯を活用することができ、好適である。
【００１６】
水素エージング試験前後での波長１３８３ｎｍにおける伝送損失の増加が０．０４ｄＢ／ｋｍ以下であることにより、対水素性を加味した長期信頼性に優れた光ファイバを提供できることになる。
【００１７】
【用語の定義】
本明細書において使用する技術用語の定義を下記に記す。
（１）水素エージング試験とは、ＩＥＣ６０７９３−２−５０（ｆｉｒｓｔ　ｅｄｉｔｉｏｎ２００２−０１）　Ｃ３．１で規定された方法を云う。
（２）本発明において波長λｙは１３８３ｎｍとする。
（３）カットオフ波長とはＩＴＵ−Ｔ　Ｇ．６５０で定義されるカットオフ波長λｃｃを指す。
その他、本文で特に定義されない用語については、ＩＴＵ−Ｔ　Ｇ．６５０の定義、測定方法に従うものとする。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光ファイバの実施の形態を添付図面を参照して述べる。
【００１９】
第１実施の形態
図１（Ａ）、（Ｂ）を参照して、本発明の第１実施の形態に係る光ファイバについて述べる。
図１（Ａ）は本発明の第１実施の形態の光ファイバの断面図であり、図１（Ｂ）は第１実施の形態の光ファイバの屈折率プロファイルを示す図である。
図１（Ａ）、（Ｂ）に図解したように、本発明の第１実施の形態に係る光ファイバは、光軸中心に直径２ａ、屈折率ｎ１を有するコア領域１と、コア領域１の周囲に外径２ｄ、屈折率ｎ２を有するクラッド領域２とを備える。
屈折率の大小関係は、ｎ１＞ｎ２　である。このような光ファイバは、シリカをベースとして、例えば、コア領域１にクラッド領域２の屈折率より屈折率を高めるドーパント、たとえば、Ｇｅ元素を添加することにより実現することができる。
比屈折率差Δ１は下記式で規定される。
【００２０】
【数１】
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【００２１】
第１実施の形態の光ファイバは、コア領域の外周に、たとえば、ＶＡＤ法によってスート（煤体）を合成し、そのスート体を脱水・焼結して透明ガラス化し、プリフォーム（光ファイバ母材）を形成し、そのプリフォームを線引きして、コア領域１とクラッド領域２からなる光ファイバを形成する。さらに、クラッド領域２の外周に２層のＵＶ硬化型樹脂を被覆して、外径２５０μｍの光ファイバ素線とした。
その後、常温・常圧でＤ２ガス雰囲気内に２時間放置したあとで、下記に示す各種特性を確認した。
【００２２】
第１実施例
第１実施例に係る光ファイバは、図１（Ｂ）に示す屈折率プロファイルを有しており、モードフィールド径（ＭＦＤ）が８．５μｍであり、零分散波長が１３２６ｎｍであり、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域における分散スロープが０．０８ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍであり、該波長領域における分散値の絶対値は０．４〜３．４ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、カットオフ波長λｃ　が１１５２ｎｍである。したがって、１．３１μｍにおけるＭＦＤをＡ（μｍ）、２２ｍ法におけるカットオフ波長をＢ（ｎｍ）としたときに、ＭＦＤとカットオフ波長の積であるＡ×Ｂは９．７９＊１０００であった。
また、波長１３１０ｎｍにおける伝送損失は０．３４ｄＢ／ｋｍ、波長１３８３ｎｍにおける伝送損失は０．２９ｄＢ／ｋｍであった。
また、第１実施の形態の光ファイバを水素エージング試験を実施したところ、試験前後での波長１３８３ｎｍにおける伝送損失の増加は０．００ｄＢ／ｋｍであった。
【００２３】
第２実施例
第２実施例に係る光ファイバは、図１（Ｂ）に示す屈折率プロファイルを有しており、ＭＦＤが８．１μｍであり、零分散波長が１３４０ｎｍであり、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域における分散スロープが０．０８ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍであり、該波長領域における分散値の絶対値は１．６〜５．２ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、カットオフ波長λｃｃ　が１１００ｎｍである。従って、Ａ×Ｂ（ＭＦＤとカットオフ波長の積）は８．９＊１０００である。
また、波長１３１０ｎｍにおける伝送損失は０．３４ｄＢ／ｋｍであり、波長１３８３ｎｍにおける伝送損失は０．２９ｄＢ／ｋｍであった。
また、第２実施の形態の光ファイバを水素エージング試験を実施したところ、試験前後での波長１３８３ｎｍにおける伝送損失の増加は０．００ｄＢ／ｋｍであった。
【００２４】
第１および第２実施例から明らかなように、第１実施形態に係る光ファイバは下記になる。
１．３１μｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）が８μｍ以上で、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域にゼロ分散波長をもたず、該波長領域における分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であり、２２ｍ法におけるカットオフ波長が１２７０ｎｍ以下であり、波長１３１０ｎｍにおける伝送損失が０．４ｄＢ／ｋｍ以下である。また、本発明に係わる光ファイバは、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが９．５μｍ以下である場合や、ゼロ分散波長が１３２５〜１３５０ｎｍである場合に、好適となる。上記特性は、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤをＡ（μｍ）、２２ｍ法におけるカットオフ波長をＢ（ｎｍ）とした場合に、Ａ×Ｂ≦１１＊１０００の関係を満足させることで実現できる。
【００２５】
さらに、本発明に係わる光ファイバは、波長１３８３ｎｍの伝送損失が、波長１３１０ｎｍの伝送損失よりも小さく、分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下とすることが好適である。
【００２６】
水素エージング試験前後での波長１３８３ｎｍにおける伝送損失の増加が０．０４ｄＢ／ｋｍ以下とすることにより、長期信頼性に優れた光ファイバを提供でき、好適である。
【００２７】
第２実施の形態
本発明に係わる光ファイバの構成および屈折率プロファイルは図１（Ａ）、（Ｂ）に示すものに限定されるものではなく、例えば図２（Ａ）、（Ｂ）に示すようなものでもかまわない。
図２（Ａ）、（Ｂ）を参照して、本発明の第２実施の形態に係る光ファイバについて述べる。
図２（Ａ）は本発明の第１実施の形態の光ファイバの断面図であり、図２（Ｂ）は第２実施の形態の光ファイバの屈折率プロファイルを示す図である。
図２（Ａ）、（Ｂ）に図解したように、第２実施の形態に係る光ファイバは、光軸中心に直径２ａ、屈折率ｎ１１を有する中心コア（第１コア）領域１１と、第１コア領域１１の周囲に直径２ｂ、屈折率ｎ１２を有する第２コア領域１２と、第２コア領域１３の周囲に直径２ｃ、屈折率ｎ１３を有する第３コア領域１３と、第３コア領域１３の周囲に外径２ｄ、屈折率ｎ１４を有するクラッド領域１４とを備える。各屈折率の大小関係は、ｎ１１＞ｎ１３＞ｎ１４＞ｎ１２である。
比屈折率差Δ１１〜Δ１３は下記式で規定される。
【００２８】
【数２】
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【００２９】
このような光ファイバは、クラッド領域１４の屈折率ｎ１４　より高い屈折率を持つ第１コア領域１１および第３コア領域１３には、シリカをベースとして、例えば、屈折率を高めるドーパント、たとえば、Ｇｅ元素を添加することにより実現することができる。ただし、第１コア領域１１に添加する屈折率を高めるドーパントの量は第３コア領域１３に添加する屈折率を高めるドーパントの量より多い。また、クラッド領域１４の屈折率ｎ１４　より低い屈折率ｎ１２　を持つ第２コア領域１２には、屈折率を低くするドーパント、たとえば、フッ素元素を添加する。
【００３０】
第２実施の形態の光ファイバは、コア領域１１の周囲に、たとえば、ＶＡＤ法によって製造されたスート（煤体）を、脱水・焼結により透明ガラス化して第２コア領域１２を形成する。さらに、第２コア領域１２の周囲に、たとえば、ＶＡＤ法によってスート（煤体）を合成し、スート体を脱水・焼結により透明ガラス化して第３コア領域１３を形成する。この第３コア領域１３の周囲に、たとえば、ＶＡＤ法によってスート（煤体）を合成し、このスート体を脱水・焼結により透明ガラス化してクラッド領域１４を形成して、プリフォーム（光ファイバ母材）を形成し、そのプリフォームを線引きして、図２（Ａ）、（Ｂ）に図解した光ファイバを形成し、さらに、クラッド領域１４の外周に２層のＵＶ硬化型樹脂を被覆して、外径２５０μｍの光ファイバ素線とした。
その後、常温・常圧でＤ２ガス雰囲気内に２時間放置したあとで、第１および第２実施例と同様の試験を行なったところ、上述した結果と同様の結果を得た。
【００３１】
すなわち、第２実施の形態の光ファイバについても、第１実施の形態の光ファイバと同様、１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）が８μｍ以上で、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域にゼロ分散波長をもたず、該波長領域における分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であり、２２ｍ法におけるカットオフ波長が１２７０ｎｍ以下であり、波長１３１０ｎｍにおける伝送損失が０．４ｄＢ／ｋｍ以下である。
また、本発明に係わる光ファイバは、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが９．５μｍ以下である場合や、ゼロ分散波長が１３２５〜１３５０ｎｍである場合に、好適となる。上記特性は、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤをＡ（μｍ）、２２ｍ法におけるカットオフ波長をＢ（ｎｍ）とした場合に、Ａ×Ｂ≦１１＊１０００の関係を満足させることで実現できる。
【００３２】
さらに、本発明に係わる第２実施の形態の光ファイバは、波長１３８３ｎｍの伝送損失が、波長１３１０ｎｍの伝送損失よりも小さく、分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下とすることが好適である。
【００３３】
水素エージング試験前後での波長１３８３ｎｍにおける伝送損失の増加が０．０４ｄＢ／ｋｍ以下とすることにより、長期信頼性に優れた光ファイバを提供でき、好適である。
【００３４】
【発明の効果】
本発明の光ファイバは、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８μｍ以上で、１２８０〜１３２４ｎｍの波長領域にゼロ分散波長をもたず、該波長領域における分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍで、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下であり、２２ｍ法におけるカットオフ波長が１２７０ｎｍ以下であり、波長１３１０ｎｍにおける伝送損失が０．４ｄＢ／ｋｍ以下とすることにより既設の伝送路との整合性を保つことができた。したがって、１３１０ｎｍ帯で、４光波混合の発生を抑制したＷＤＭ用光ファイバとして適用できる。
【００３５】
また、本発明の光ファイバは、１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが９．５μｍ以下である場合や、ゼロ分散波長が１３２５〜１３５０ｎｍである場合には、製造性に優れた光ファイバが実現可能となり、好適である。
【００３６】
さらに、本発明の光ファイバでは、波長１３８３ｎｍの伝送損失が、波長１３１０ｎｍの伝送損失よりも小さく、分散の絶対値が０．１〜８．０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、分散スロープが０．１ｐｓ／ｎｍ２／ｋｍ以下とすることにより、将来の波長領域拡大の際に、１４００ｎｍ帯を活用することができ、好適である。
【００３７】
水素エージング試験前後での波長１３８３ｎｍにおける伝送損失の増加が０．０４ｄＢ／ｋｍ以下の場合には、長期信頼性に優れた光ファイバを提供でき、さらに好適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（Ａ）、（Ｂ）は本発明に係る第１実施の形態の光ファイバの断面構成図およびその屈折率プロファイルの一例を示す図である。
【図２】図２は（Ａ）、（Ｂ）は本発明に係る第２実施の形態の光ファイバの断面構成図およびその本発明に係る他の光ファイバの屈折率プロファイルの一例を示す図である。
【符号の説明】
１・・コア領域（屈折率ｎ１　）
２・・クラッド領域（屈折率ｎ２）
１１・・中心コア（第１コア）領域（屈折率ｎ１１）
１２・・第２コア領域（屈折率ｎ１２）
１３・・第３コア領域（屈折率ｎ１３）
１４・・クラッド領域（屈折率ｎ１４）
【図１】
2004102092.tif 000005
【図２】
2004102092.tif 000006