(57)【要約】【課題】スライダに精度良く歪み形状を形成し、かつ生産性の向上が可能な磁気ヘッドの製造装置および製造方法を提供する。【解決手段】磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面の裏面３４Ｂに、ＹＡＧパルスレーザ発振より射出され、この裏面３４Ｂより小さい断面積に整形されたレーザパルスを所定の間隔で互いに離して複数回照射する。スライダに歪み形状を高精度に形成可能である。また、レーザパルスを互いに一部重複するように照射してもよい。【選択図】　　　　図４
2004110916.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する磁気ディスクにより生ずる空気流によって浮上力を発生させる空気ベアリング面を有する磁気ヘッドの製造装置において、
レーザパルスを射出するレーザパルス出射手段と、
前記レーザパルス出射手段と同期されて動作し、レーザパルスの照射位置を制御する照射位置制御手段とを備え、
前記レーザパルス出射手段および照射位置制御手段の制御に基づいて、レーザパルスが照射される領域が互いに重複するように、もしくは離間するように複数回のレーザパルスを前記空気ベアリング面の裏面に照射して磁気ヘッドに歪を発生させることを特徴とする磁気ヘッドの製造装置。
【請求項２】
前記レーザパルスの断面形状を規定する整形手段を更に備え、前記空気ベアリング面の裏面にレーザパルスが照射される領域の面積は、該裏面の面積より小さいことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造装置。
【請求項３】
前記照射位置制御手段はガルバノスキャナであり、該ガルバノスキャナの動作速度に基づいて、前記裏面に所定の間隔でレーザパルスを照射することを特徴とする請求項１または２記載の磁気ヘッドの製造装置。
【請求項４】
前記レーザパルス出射手段より出射された後にレーザパルスのエネルギ密度を制御するエネルギ密度制御手段を更に備えることを特徴とする請求項１〜３のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの製造装置。
【請求項５】
回転する磁気ディスクにより生ずる空気流によって浮上力を発生させる空気ベアリング面を有する磁気ヘッドの製造方法において、
空気ベアリング面の裏面に、該裏面より小さい断面積のレーザパルスを所定の間隔で重複し、若しくは重複しないように複数回照射して磁気ヘッドに歪みを発生させる工程を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記レーザパルスのエネルギ密度を異ならせて照射することを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザパルス照射により磁気ヘッドに歪みを付与する磁気ヘッドの製造装置および製造方法に関し、特にレーザパルスを所定の間隔で複数回照射して磁気ヘッドに高精度に微小な歪みを付与し、かつ生産性の向上が可能な磁気ヘッドの製造装置および製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、セラミック板の表面、例えばハードディスク装置等に使用される磁気ヘッドのスライダ表面にレーザパルスを照射してスライダに歪みを与え、所望の形状に塑性変形する加工が行われてきた。スライダは、アルチック（Ａｌ２Ｏ３とＴｉＣからなるセラミック）などのセラミックにより形成されており、一辺が約２ｍｍ以下、厚さが数百μｍ程度の直方体をしている。また、スライダの一面には浮上特性を決定するレール状のパッド等が形成された空気ベアリング面が設けられている。また、浮上時の空気の流出端側の空気ベアリング面に垂直な面には薄膜磁気ヘッド素子が形成されている。スライダは板バネ状のヘッドサスペンションに支持され、空気ベアリング面が受ける圧力とヘッドサスペンションのばね力とのバランスにより、磁気ディスク面から微小量安定して浮上して、薄膜磁気ヘッド素子により記録再生を行う。
【０００３】
スライダに凸形状が施されていると、スライダが磁気ディスクに偶然に衝突する際の磁気ディスクに与える衝撃を緩和しスライダ自体の破損を防止し、スライダが磁気ディスク上に静止した場合はスライダが磁気ディスクに吸着することが防止される。
【０００４】
このような凸形状を付与するためには、空気ベアリング面の裏面にレーザ光を照射して、表面を瞬間的に溶融・収縮させ、空気ベアリング面が凸になるようにする。例えば、特開平１１−２８５８６９号公報には、セラミック製の板に歪み加工する方法として、照射するレーザ光のエネルギ密度を制御して所望の凸形状を得る方法が開示されている。本公報によれば、エネルギ密度を増加することによって、凸量を増加することができる。
【０００５】
また、特開２００１−１５０１６２号公報には、被加工物の面積に比べて小さい断面積を有するレーザ光をセラミック板の照射領域の全域に亘るように複数回照射することにより、所望の凸形状を得る方法が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１１−２８５８６９号公報
【特許文献２】
特開２００１−１５０１６２号公報。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、磁気ディスク媒体の高記録密度化の要請により、磁気ヘッドの浮上量は１０ｎｍ以下が要求され、このような極低浮上においては空気ベアリング面の歪み形状を精度よく制御することが必要とされる。
【０００８】
しかしながら、上述した前者の方法では、１つのセラミック板、すなわち１つのスライダの全体に一度にレーザ光を照射しているので、凸量を精度良く制御することができないという問題を生ずる。
【０００９】
また、前者及び後者の方法は、ともに凸量の制御をレーザのエネルギ密度を制御することによって得ている。レーザのエネルギ密度を制御するためには、レーザ発振器のレーザパワーを変化させる必要があり、所定のエネルギになるまで、時間がかかるという問題がある。さらに、設定したレーザパワー如何によってはレーザ発振器のエネルギ安定性が悪化し安定したレーザ加工ができなくなるという問題がある。
【００１０】
したがって、本発明は上記の問題に鑑みてなされたもので、本発明の目的は、精度良く歪み形状を形成し、かつ生産性の向上が可能な磁気ヘッドの製造装置および製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、回転する磁気ディスクにより生ずる空気流によって浮上力を発生させる空気ベアリング面を有する磁気ヘッドの製造装置において、レーザパルスを射出するレーザパルス出射手段と、前記レーザパルス出射手段と同期されて動作し、レーザパルスの照射位置を制御する照射位置制御手段とを備え、前記レーザパルス出射手段および照射位置制御手段の制御に基づいて、レーザパルスが照射される領域が互いに重複するように、もしくは離間するように複数回のレーザパルスを前記空気ベアリング面の裏面に照射して磁気ヘッドに歪を発生させる磁気ヘッドの製造装置が提供される。
【００１２】
本発明によれば、一の磁気ヘッドの空気ベアリング面の裏面に、複数のレーザパルスが照射される。それぞれのレーザパルスにより照射される領域を離して、あるいは互いに一部重複するように照射することにより、個々のレーザパルスのエネルギを変化させることなく、この裏面の一部を溶融・凝固させて引っ張り応力を発生させる。レーザパルスが照射された領域に局部的に発生した引っ張り応力により、空気ベアリング面側が凸となる微細な歪み形状を高精度に付与することができる。このように、レーザパルス出射手段のレーザパワーを変化させる必要がないので、レーザパワー安定化の時間を省略でき、生産性も向上することができる。なお、レーザパルス出射手段は、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット結晶）パルスレーザ発振器、ＹＬＦパルスレーザ発振器などである。レーザパルス照射位置制御手段は、ガルバノスキャナミラー、音響光学素子、電気光学素子などである。
【００１３】
前記レーザパルスの断面形状を規定する整形手段を更に備え、前記空気ベアリング面の裏面にレーザパルスが照射される領域の面積は、該裏面の面積より小さい構成とする。磁気ヘッドの空気ベアリング面の裏面に照射するレーザパルスの断面形状を例えば長方形状あるいは線状にすることにより、円形である場合と比較して、空気ベアリング面の裏面に対称性よく引っ張り応力を発生させることが可能となる。また、レーザパルスが照射される領域は、この裏面の一部分とする。従来の全面に照射した場合は、照射により発生した熱は裏面の中央付近に集中してしまうので中央付近に引っ張り応力が集中し、この応力により歪み形状が決定され、周辺部分の歪み形状を精度良く形成することが困難であった。本発明によれば、裏面全体に亘って均一に引っ張り応力を発生させて周辺部についても高精度に歪み形状を付与することができる。なお、整形手段は、マスクあるいは切り出す形状・大きさが可変である液晶マスクなどである。
【００１４】
前記照射位置制御手段はガルバノスキャナであり、該ガルバノスキャナの動作速度に基づいて、前記裏面に所定の間隔でレーザパルスを照射する構成とする。ガルバノスキャナの動作速度により、空気ベアリング面の裏面におけるレーザパルスの照射間隔を調整することにより、裏面全体に照射されるレーザパルスの照射本数及びエネルギを調整して、歪み量を制御することができる。
【００１５】
前記レーザパルス出射手段より出射された後にレーザパルスのエネルギ密度を制御するエネルギ密度制御手段を更に備える構成とする。レーザパルス出射手段によりレーザパルスのエネルギ密度を変更するとエネルギが安定になるまでの時間を要する。エネルギ密度制御手段である、減衰器、液晶マスクなどによりエネルギ密度を短時間で変化させることができ、生産性を低下させることなく、より高精度に歪み形状を形成することができる。
【００１６】
本発明の他の観点によれば、回転する磁気ディスクにより生ずる空気流によって浮上力を発生させる空気ベアリング面を有する磁気ヘッドの製造方法において、空気ベアリング面の裏面に、該裏面より小さい断面積のレーザパルスを所定の間隔で重複し、若しくは重複しないように複数回照射して磁気ヘッドに歪みを発生させる工程を含む磁気ヘッドの製造方法が提供される。
【００１７】
本発明によれば、空気ベアリング面の裏面に、この裏面より小さな断面積を有する複数のレーザパルスが照射される。上述した同様の作用により、空気ベアリング面側が凸となる微細な歪み形状を高精度に付与することができる。このように、レーザパルス出射手段のレーザパワーを変化させる必要がないので、レーザパワー安定化の時間を省略でき、生産性も向上することができる。
【００１８】
前記レーザパルスのエネルギ密度を異ならせて照射してもよい。より高精度に歪み形状を形成することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
図１は、本発明の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造装置の概要構成を示す図である。図１を参照するに、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造装置１０は、レーザ発振器１２から射出されたレーザパルスをガルバノスキャナ１５によって微小に反射角度を変え、結像レンズ１８，１９により磁気ヘッドのスライダアレイ３０の空気ベアリング面（以下ＡＢＳ面と呼ぶ。）の裏面の所定の位置に照射して歪み加工を行うものである。
【００２１】
具体的には、磁気ヘッドの製造装置１０は、マイクロコンピュータなどからなる制御部１１と、レーザ発振器１２と、レーザ発振器１２により射出されたレーザパルスの強度を均一化する均一光学系１３と、均一光学系１３からのレーザパルスの断面形状を長方形状に切り出すマスク１４と、前記制御部１１によってレーザパルスの射出と同期されて動作し、マスク１４により切り出されたレーザパルスを被加工物であるスライダアレイ３０にスキャン等するためのガルバノスキャナ１５と、ガルバノスキャナ１５により反射され、斜めに入射するレーザパルスを光学系の光軸に平行にするためのコリメーションレンズ１６と、コリメーションレンズ１６を透過したレーザパルスをスライダアレイ３０に結像するための結像レンズ１８、１９と、レーザ光のエネルギ異常を監視するエネルギモニタ２０と、スライダアレイ３０を観察するための観察光学系２１と、スライダアレイ３０を移動するためのＸＹステージ２２と、光路を変更するための反射ミラー２３〜２７、ダンパ２９などから構成されている。
【００２２】
レーザ発振器１２は、ＹＡＧなどの固体レーザ発振器を用いている。例えば、ＹＡＧレーザ発振器は、パルス幅０．０２ｍｓ〜２０ｍｓ、繰り返し周波数１００Ｈｚ〜１ｋＨｚ、ピークパワー１００Ｗ〜５ｋＷの特性を有するものを用いることができる。
【００２３】
均一光学系１３は、例えば光ファイバ束などからなる。ＹＡＧレーザ発振器１２から出射されたレーザパルスは、光ファイバ、例えば屈折率の空間分布の広いＳＩ（ステップインデックス）型の光ファイバによりレーザパルスの強度分布が均一化される。なお、レーザ発振器１２と均一光学系１３との間は、光ファイバによって光路を形成してもよい。
【００２４】
マスク１４は、長方形あるいはスリット状の開口部を有する。マスク１４により均一光学系１３からのレーザパルスの光束が所定の形状、例えば１０ｍｍ×１ｍｍの長方形の光束に切り出される。この光束は、後方の結像レンズ１８，１９などの光学系により１／１０程度に縮小され、ＡＢＳ面の裏面では例えば１ｍｍ×０．１ｍｍの断面形状のレーザパルスになる。
【００２５】
また、マスク１４の代わりにレーザパルスの断面形状を任意の形状に整形するために液晶マスクを用いることができる。液晶マスクは、ＴＮ（ツイスティド・ネマティク）液晶セルから構成され、液晶セルを挟んだ電極に印可する電圧により、レーザパルスの透過量、例えば透過、遮断を液晶セルのマトリクス毎にＯＮ，ＯＦＦすることで任意の形状あるいは大きさにレーザパルスを切り出すことができる。例えば、１つのスライダのＡＢＳ面の裏面全体にレーザパルスを照射して全体的に歪み形状を付与後、さらに部分的に歪み形状を付与する場合は液晶マスクによりレーザパルスの光束の大きさや形状を変更して能率良く加工することができる。また、液晶マスクは、その透過量をＯＮ，ＯＦＦする以外に、例えば入射レーザパルスの５０％を透過させるというような減衰器（アッティネータ）としても用いることができる。１つのＡＢＳ面の裏面にエネルギ密度の異なるレーザパルスを照射することにより、歪み量及び歪み形状をより高精度に調整することができる。
【００２６】
ガルバノスキャナ１５は、ミラーが２軸のロータリエンコーダつきのモータに取り付けられたもので、マスク１４により切り出されたレーザパルスを角度の変化するミラーによって光軸を振らせて、レーザパルスを照射する位置を制御する。ＡＢＳ面の裏面の２方向、例えばＸＹステージ２２のＸ軸及びＹ軸方向にレーザパルスを照射することができる。また、ガルバノスキャナ１５は、ＸＹステージ２２の移動中やスライダアレイ３０の交換時などの場合にレーザパルスをＸＹステージ２２上に照射しないようにするために、光軸を後方の光学系に送出せず、ダンパ２９などにレーザパルスを照射するようにする。レーザ発振器１２の発振を停止すると、再発振直後のエネルギ密度が不安定となり、安定化するまでに時間がかかるためである。なお、ダンパ２９は照射されたレーザパルスによる発熱を吸収するため、冷却水などによる冷却手段が設けられる。
【００２７】
コリメーションレンズ１６は、ガルバノスキャナ１５により振られ、コリメーションレンズ１６の光軸に対して斜めに入射するレーザパルスを、この光軸に平行にするために用いられる。コリメーションレンズ１６は、ガルバノスキャナ１５によって振られたレーザパルスが入射できる大きさに設定される。
【００２８】
結像レンズ１８，１９は、コリメーションレンズ１６を透過したレーザパルスをＸＹステージ２２上のＡＢＳ面の裏側に結像するために用いられる。結像レンズ１８，１９により、レーザパルスの光束の縮小比が設定される。なお、結像レンズ１８，１９の少なくとも一方には焦点合わせのためのレンズの微動制御装置（図示せず）を設けてもよい。
【００２９】
観察光学系２１は反射ミラー２６を透過した可視光を受光するＣＣＤカメラなどにより構成されている。ＸＹステージ２２上のスライダアレイ３０の加工面を観察するためのもので、スライダアレイ３０の位置合わせなどに用いられる。
【００３０】
エネルギモニタ２０は、反射ミラー２６を一部透過したレーザパルスを１パルス毎にエネルギを測定する。レーザパルスが所定のエネルギ値の範囲内か否かを判定し、所定以下の場合は再照射処理を行い、レーザパルスの照射量に起因する加工不良を低減することができる。
【００３１】
ＸＹステージ２２は、Ｘ軸、Ｙ軸に精度良く微動し、スライダアレイ３０を固定するための治具等（図示せず）が載せられている。このＸＹステージ２２によりレーザ照射の対象となるスライダが切り替え・選択されるようになっている。
【００３２】
以下、上述した磁気ヘッドの製造装置１０の動作を説明する。予め、照射するレーザパルスのエネルギ密度、照射領域の形状、大きさおよび照射位置等とスライダの歪み形状およびその歪み量の関係を、例えば制御部１１の記憶装置に記憶しておく。照射位置は、予めＸＹステージ２２に位置決めされたスライダアレイ３０に対して、ガルバノスキャナ１５のミラーの角度と動作速度により制御される。また、照射レーザパルスの大きさはマスク１４の開口部の大きさおよび結像レンズ１８，１９の縮小比により決定される。これらの関係に基づいて制御部１１により、レーザ発振器１２よりレーザパルスを射出して、この射出に同期させてガルバノスキャナ１５を動作させてレーザパルスの光軸を振り、結像レンズ１８，１９によりスライダアレイの所定の位置レーザパルスが照射される。
【００３３】
次に本発明の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。
【００３４】
図２（Ａ）〜（Ｄ）は磁気ヘッドの製造工程を示す図である。図２（Ａ）の工程では、ウエハプロセスにより、アルチックの基板３２上に多数の薄膜磁気ヘッド素子３３を形成する。具体的には、薄膜磁気ヘッド素子３３であるライトヘッド素子およびＭＲ素子などからなるリードヘッド素子（図示せず）をマトリクス状に形成する。これらの素子の各層はメッキ法、スパッタ法、ＣＶＤ法などにより形成し、微細な形状加工は、リソグラフィ法などによりパターニングして、ドライエッチングなどにより研削等を行う。
【００３５】
次に図２（Ｂ）の工程では、薄膜磁気ヘッド素子３３が形成された基板３２を一列ごとに切り出す。この切り出したものをスライダアレイ３５と呼ぶ。このスライダアレイ３５の切断面を研磨加工して表面を円滑にした後、薄膜磁気ヘッド素子が形成された側と反対側のＡＢＳ面３４Ａにテーパ面を形成する。次いで、ＡＢＳ面３４Ａに感光性を有する例えばポジ型のレジストフィルムを貼着する。このヘッドアレイ３５にレール状のパッドパターンが形成されたマスク（図示せず）を接触させ、その上から紫外光などを照射して、レジストフィルムを感光させる。次いでレジストフィルムを現像し、露光した部分が除去される。次いで残ったレジストをマスクとしてイオンミリングにより所定の量を研削し、ＡＢＳ面３４Ａにレール状のパッドのパターンを形成する。次いでＡＢＳ面３４Ａにスパッタ法などにより摩耗抑制等のためのＤＬＣ（ｄｉａｍｏｎｄ　ｌｉｋｅ　ｃａｒｂｏｎ）膜を形成する。
【００３６】
次に図２（Ｃ）の工程では、図２（Ｂ）のスライダアレイ３５を裏返しにして、磁気ヘッド製造装置１０のＸＹステージ２２の治具（図示せず）に載せ、ＸＹステージ２２に対して位置決めを行う。例えば、スライダアレイ３５の長軸方向（スライダ３４が連なっている方向）をＸ軸、短軸方向をＹ軸とする。次いでスライダ３４毎にレーザパルスを照射する。
【００３７】
図３（Ａ）および（Ｂ）は、レーザパルスをＡＢＳ面の裏面に照射する手順を説明する図である。図において、１つのスライダ３４のＡＢＳ面の裏面３４Ｂ（以下照射面と呼ぶ。）を示し、１パルスのレーザパルスの照射領域３６Ａ〜３６Ｄをハッチングがされた１つの長方形で示している。
【００３８】
図３（Ａ）を参照するに、照射面３４Ｂに、例えば、同じ間隔ＬＸでＸ軸方向に４パルス照射する。１つのパルスの照射領域３６は、ＷＸ×ＷＹで表される。従来の方法では照射面全体に１パルス、あるいは複数のパルスを照射面全体を覆うようにレーザパルスを照射していた。本発明の特徴である照射方法では、図３（Ａ）に示すような、照射面３４Ｂに互いに離して、例えばＸ方向にレーザパルス３６Ａ〜３６Ｄのように照射する。このように照射すると、照射された領域のアルチックを瞬間的に溶融・凝固させて局部的に引っ張り応力を生じさせて、後述するレーザパルスの照射間隔ＬＸと歪み量との関係（図５（Ａ）および（Ｂ）に示す）より明らかなように、より小さな歪み量の形状を高精度に付与することができる。
【００３９】
なお、このよう照射するには、図１に示すレーザ発振器１２からのレーザパルスの射出とガルバノスキャナ１５を同期させて行う。例えば、ＸＹステージ２２上でＸ軸方向にスキャンできるガルバノスキャナ１５の一軸について、ガルバノスキャナ１５のミラーの角度とレーザパルスを同期させ、ガルバノスキャナ１５の動作速度、レーザパルスの射出の繰り返し周期および結像レンズ１８，１９の縮小比により設定された照射間隔Ｌｘで照射され、所定のレーザパルス数を照射後、ガルバノスキャナ１５のミラーをダンパ２９の角度に設定して照射面へ照射されないようにする。なおこれらの制御は制御部１１により行われる。
【００４０】
また、図３（Ｂ）に示すように、照射間隔ＬＸをＸ軸方向のレーザパルス幅ＷＸより狭くする、すなわち隣合う照射領域が重なるように照射する。このように照射することによって、歪み量を増加させることができる。この場合も個々のレーザパルスの照射エネルギを変更する必要がないので短時間に加工することができる。なおこの場合は、図３（Ａ）に対して、照射領域３６の大きさの変更は、図１に示すマスク１４を変更するか、マスクの代わりに液晶マスクを用いて透過範囲を制御することにより実現する。
【００４１】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）の方法を組み合わせてもよい。照射面３４Ｂに照射するレーザパルスのエネルギをより精緻に制御することができ、歪み形状を高精度に付与することができる。なおこの際、図３（Ａ）および（Ｂ）の方法に用いるレーザパルスのエネルギ密度を異なるようにしてもよい。照射するレーザパルスのエネルギを一層精緻に制御することができる。エネルギ密度を変更する場合は、図１に示すマスクの代わりに液晶マスクを用い、レーザパルスの透過率を制御することにより実現する。
【００４２】
図４は、レーザパルスを照射面に照射する手順の他の例を説明する図である。図４に示すように、Ｘ軸方向のみならずＹ軸方向についても、照射間隔ＬＹを設定してレーザパルスを照射してもよい。このように照射するには、上述したＸ軸方向への照射に加えて、Ｘ軸方向に照射領域３６Ａ、３６Ｂに照射後、Ｙ軸方向にスキャンするガルバノスキャナ１５のミラーの角度を変え、次いで照射領域３６Ｃ、３６Ｄに照射する。
【００４３】
このように照射すると、Ｙ軸方向すなわちスライダ３４の流入端−流出端方向にも照射面の収縮が発生し、ＡＢＳ面３４Ａ側に凸の流入端−流出端方向の歪み形状を付加することができる。
【００４４】
図２（Ｄ）にもどり、スライダアレイ３５を個々のスライダ３４に切り出す。ＡＢＳ面３４Ａ側に凸の歪み形状が付与された、歪み量ＣＷの磁気ヘッドが形成される。
【００４５】
本実施の形態によれば、上述したように照射面３４Ｂより面積の狭い断面積を有するレーザパルスを照射領域が重ならないように照射することにより、局部的に引っ張り応力を発生させて、より小さな歪み量の形状を付与することができる。また、レーザパルスを照射領域が重なるように照射することにより、１つのレーザパルスの照射エネルギの設定を変更することなく、照射面に照射する全照射エネルギを増加させることができ、より大きな歪み量の形状を付与することができる。さらに、Ｘ軸方向のみならずＹ軸方向にもガルバノスキャナ１５によりレーザパルスを振って照射することにより、Ｙ軸方向についても歪み形状を付与することが可能となり、より高精度の歪み加工が可能となる。
［実施例］
１つのスライダの大きさが１ｍｍ×１ｍｍ、厚さ０．３ｍｍのスライダアレイに、レーザパルスを照射した。レーザパルスの照射は、図３（Ａ）で説明した方法で行い、１レーザパルスの照射領域の大きさは照射面上で、Ｘ軸方向０．２ｍｍ、Ｙ軸方向０．８ｍｍ、エネルギ密度を２５０ｍＪ／ｍｍ２に設定した。Ｘ軸方向の照射間隔を５０〜１５０μｍとし、スライダのＸ軸方向（幅方向）において、レーザパルスがはみ出さないようにして照射した。また、レーザパルスのパルス数に対してＸ軸方向に均等な間隔で照射した。また、歪み量の測定は、レーザ干渉計を用いて、スライダの３つの端部からなる基準面に対して、湾曲した凸形状の頂点の高さ（ＡＢＳ面側に凸の場合を正値）を測定した。
【００４６】
図５（Ａ）は歪み量と照射間隔との関係を示す図、（Ｂ）は歪み量とスライダ当たりの照射パルス数との関係を示す図である。歪み量はレーザ照射前後の歪み量の差を求めてある。図５（Ａ）を参照するに、照射間隔を大きくすると歪み量は減少した。これは全照射エネルギが照射間隔を大きくするにつれて減少するためと考えられる。照射間隔を調整することにより、レーザパルスのエネルギ密度を変更することなく、数ｎｍの小さな歪み量から数十ｎｍの大きな歪み量まで付与することができた。
【００４７】
図５（Ｂ）を参照するに、１つのスライダ当たりの照射パルス数を増加させると歪み量が増加した。これは全照射エネルギが照射パルス数に比例して大きくなるため、歪み量が増加する。パルス数を調整することにより、レーザパルスのエネルギ密度を変更することなく、数ｎｍの小さな歪み量から数十ｎｍの大きな歪み量まで付与することができた。
【００４８】
以上本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【００４９】
【発明の効果】
以上詳述したところから明らかなように、本発明によれば、１つの磁気ヘッドの空気ベアリング面の裏面に、それぞれのレーザパルスにより照射される領域を互いに離して、あるいは一部が重複するように照射することにより、個々のレーザパルスのエネルギを変化させることなく、空気ベアリング面側が凸となる微細な歪み形状を高精度に付与することができる。また、このように、レーザパルス出射手段のレーザパワーを変化させる必要がないので、レーザパワー安定化の時間を省略でき、生産性も向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造装置の概要構成を示す図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｄ）は、磁気ヘッドの製造工程を示す図である。
【図３】（Ａ）および（Ｂ）は、レーザパルスをＡＢＳ面の裏面に照射する手順の例を説明する図である。
【図４】レーザパルスをＡＢＳ面の裏面に照射する手順の他の例を説明する図である。
【図５】（Ａ）は歪み量と照射間隔との関係を示す図、（Ｂ）は歪み量とスライダ当たりの照射パルス数との関係を示す図である。
【符号の説明】
１０　　磁気ヘッドの製造装置
１１　　制御部
１２　　レーザ発振器
１４　　マスク
１５　　ガルバノスキャナ
３０、３５　　スライダアレイ
３４　　スライダ
３６Ａ〜３６Ｄ　　照射領域
ＬＸ、ＬＹ　　照射間隔
ＷＸ、ＷＹ　　照射領域幅
【図１】
2004110916.tif 000003
【図２】
2004110916.tif 000004
【図３】
2004110916.tif 000005
【図４】
2004110916.tif 000006
【図５】
2004110916.tif 000007