(57)【要約】【課題】処理液変更に伴う時間的及び資源的ロスを抑制することができる基板処理装置及び処理液切替方法を提供する。【解決手段】この基板処理装置では、ノズル５９と、処理液Ａ，Ｂを供給するための処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５との間に切替弁部７１を介装している。切替弁部７１の開閉弁７５，７７，７９を開閉することにより、ノズル５９と処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５との間の管路の連通状態を個別に開閉することができる。このため、各処理液ライン８１，８３における切替弁部７１の開閉弁７５，７７よりも一次側の部分においては処理液Ａ，Ｂの混合を防止しつつ、使用する処理液Ａ，Ｂの切替え、及び、処理液切替に伴う開閉弁７５，７７から二次側の管路における純水洗浄及び次回使用予定の処理液Ａ，Ｂによるパージ処理を行うことができる。【選択図】        図４
2004267965.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバ内にて基板に処理を行う基板処理装置であって、
互いに異なる種類の処理液を供給する複数の処理液ラインと、
洗浄液を供給する洗浄液ラインと、
供給される液体を吐出するノズル手段と、
前記ノズル手段と、前記複数の処理液ライン及び前記洗浄液ラインとの間に介装され、前記ノズル手段と、前記各処理液ライン及び前記洗浄液ラインとの間の管路を個別に開閉する切替弁手段と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記切替弁手段は、
前記複数の処理液ライン及び前記洗浄液ラインからの管路を集合して前記ノズル手段に接続するマニホールドと、
前記各処理液ライン及び前記洗浄液ラインと前記マニホールドとの間の管路を個別に開閉する開閉弁と、
を備える基板処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記ノズル手段によって吐出された前記液体を前記チャンバ外に排出する排出ラインと、
複数の収液ラインと、
前記排出ラインを前記複数の収液ラインのいずれかに選択的に連通させる切替手段と、
をさらに備える基板処理装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記切替弁手段の前記管路の開閉動作を制御するとともに、その動作モードとして、基板に対する通常の処理を行う際に能動化される通常モードと、基板処理に使用する前記処理液を切替える際に能動化される切替モードとを切替可能に有する制御部をさらに備え、
前記制御部は、
前記動作モードが前記通常モードにあるときには、前記切替弁手段を制御して、前記複数の処理液ラインのうちの基板処理に使用する指定された処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記指定された処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を開閉して前記ノズル手段に前記処理液の供給を行う一方、
前記動作モードが前記切替モードに切替えられると、前記切替弁手段を制御して、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、続いて、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給する基板処理装置。
【請求項５】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記切替弁手段の前記管路の開閉動作及び前記切替手段の切替動作を制御する制御部をさらに備える基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記複数の収液ラインとして、
前記排出ラインからの液体を廃棄するための廃液ラインと、
前記排出ラインからの液体を回収するために設けられ、前記複数の処理液ラインのうちのいずれかに対応付けられた少なくとも１個の回収ラインと、
を備え、
前記制御部は、
その動作モードとして、基板に対する通常の処理を行う際に能動化される通常モードと、基板処理に使用する前記処理液を切替える際に能動化される切替モードとを切替可能に有し、
前記動作モードが前記通常モードにあるときには、前記切替弁手段及び前記切替手段を制御して、前記複数の処理液ラインのうちの基板処理に使用する指定された処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記複数の収液ラインのうちのその指定された処理液ラインに対応する回収ライン又は前記廃液ラインに連通させた状態で、前記指定された処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を開閉して前記ノズル手段に前記処理液の供給を行う一方、
前記動作モードが前記切替モードに切替えられると、前記切替弁手段及び前記切替手段を制御して、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記廃液ラインに連通させた状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、続いて、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記複数の収液ラインのうちのその使用予定の処理液ラインに対応する回収ライン又は前記廃液ラインに連通させた状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給する基板処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記洗浄液が純水である基板処理装置。
【請求項８】
チャンバ内にて基板に処理を行う基板処理装置であって、
種類の異なる処理液を供給する複数の処理液ラインと、
供給される前記処理液を吐出するノズル手段と、
前記ノズル手段と前記複数の処理液ラインとの間に介装され、前記ノズル手段と前記各処理液ラインとの間の管路を個別に開閉する切替弁手段と、
を備える基板処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記切替弁手段は、
前記複数の処理液ラインからの管路を集合して前記ノズル手段に接続するマニホールドと、
前記各処理液ラインと前記マニホールドとの間の管路を個別に開閉する開閉弁と、
を備える基板処理装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の基板処理装置において、
前記切替弁手段の前記管路の開閉動作を制御するとともに、その動作モードとして、基板に対する通常の処理を行う際に能動化される通常モードと、基板処理に使用する前記処理液を切替える際に能動化される切替モードとを切替可能に有する制御部をさらに備え、
前記制御部は、
前記動作モードが前記通常モードにあるときには、前記切替弁手段を制御して、前記複数の処理液ラインのうちの基板処理に使用する指定された処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記指定された処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を開閉して前記ノズル手段に前記処理液の供給を行う一方、
前記動作モードが前記切替モードに切替えられると、前記切替弁手段を制御して、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記複数の処理液ラインのうちの次に使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給する基板処理装置。
【請求項１１】
請求項２又は９に記載の基板処理装置において、
前記処理液ラインとは、前記処理液が貯められたタンクから所定のフィルタを介して前記マニホールドに接続される管路をいい、
前記切替弁手段に備えられる前記各処理液ラインと前記マニホールドとの間の前記管路を開閉する前記開閉弁は、前記処理液ラインにおける前記フィルタよりも二次側に介装されている基板処理装置。
【請求項１２】
請求項２又は９に記載の基板処理装置において、
前記処理液ラインは、
貯蔵した液体の温度調節機能を有するタンクに貯められた前記処理液を、ポンプ及びフィルタを介して再び前記タンクに戻す温調用の循環ライン部と、
その一次側端部が前記循環ライン部の前記フィルタよりも二次側の部分と接続され、その二次側端部が前記マニホールドと接続された供給ライン部と、
を備え、
前記切替弁手段に備えられる前記各処理液ラインと前記マニホールドとの間の前記管路を開閉する前記開閉弁は、前記供給ライン部に介装されている基板処理装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記切替弁手段は、前記ノズル手段が設置される前記チャンバ内に設置される基板処理装置。
【請求項１４】
請求項１又は２に記載の基板処理装置を用いた処理液切替方法であって、
前記切替弁手段により、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、
前記切替弁手段により、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給する処理液切替方法。
【請求項１５】
請求項３に記載の基板処理装置を用いた処理液切替方法であって、
前記複数の収液ラインとして、
前記排出ラインからの液体を廃棄するための廃液ラインと、
前記排出ラインからの液体を回収するために設けられ、前記複数の処理液ラインのうちのいずれかに対応付けられた少なくとも１個の回収ラインと、
を設け、
基板処理に使用する処理液の変更の際に、
前記切替弁手段及び前記切替手段により、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記廃液ラインに連通させた状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、
前記切替弁手段及び前記切替手段により、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記複数の収液ラインのうちのその使用予定の処理液ラインに対応する回収ライン又は前記廃液ラインに連通させた状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給する処理液切替方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板、プリント基板等の板状基板を処理液を用いて処理（洗浄、フォトリソグラフ、現像、エッチング、ポリマー除去など）するための基板処理装置、及びそれに用いられる処理液切替方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１４は、従来の基板処理装置（ポリマー除去装置）における処理液の供給ラインの構成を示す図である。この基板処理装置では、図１４に示すように、タンク１に貯められた処理液を供給ライン３によってノズル部５に供給する。ノズル部５は、基板が収容されるチャンバ内に設置されており、供給ライン３から供給された処理液がそのノズル部５を介してチャンバ内のカップ７内に吐出される。供給ライン３は、タンク１内の処理液を取り込んで循環させる温調用の循環ライン部９と、その循環ライン部９とノズル部５との間を接続する供給ライン部１１とを備えている。タンク１は貯められた処理液の温度を調節する機能を有しており、循環ライン部９は、処理液を温度調節された状態で供給ライン部１１まで導くためのものである。タンク１への処理液の供給は、供給ライン１２によって行われる。
【０００３】
循環ライン部９には、ポンプ１３、フィルタ１５及び調節弁１７が介装されている。そして、タンク１から循環ライン部９の一端側を介して循環ライン９内に取り込まれた処理液が、ポンプ１３の吐出圧力により循環ライン９に沿って送られ、フィルタ１５を介して濾過された後、調節弁１７を経て循環ライン部９の他端側からタンク１内に戻される。
【０００４】
供給ライン部１１は、その一次側端部が循環ライン部９のフィルタ１５と調節弁１７との間の部分に接続され、その二次側端部がノズル部５に接続されている。供給ライン部１１には、流量計１９及び開閉弁２１が介装され、開閉弁２１により供給ライン部１１を開放することにより、処理液が循環ライン部９から供給ライン部１１を介してノズル部５に供給され、開閉弁２１により供給ライン部１１を閉鎖することにより、ノズル部５への処理液の供給が停止される。
【０００５】
基板処理の際は、基板をカップ７内に設置した状態で、開閉弁２１を開閉して処理液をノズル部５に供給し、ノズル部５を介して基板上に吐出して処理を行う。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の従来の基板処理装置では、使用する処理液を変更する場合、処理液の混合による性能低下等を防止するため、タンク１、ノズル部５、カップ７及び供給ライン３全体の洗浄、及び、フィルタ１５の交換又は洗浄等を行った後、タンク１内の処理液を交換する必要がある。このため、処理液変更に伴う時間的及び資源的な面でのロスが大きい。
【０００７】
そこで、本発明は、処理液変更に伴う時間的及び資源的ロスを抑制することができる基板処理装置及び処理液切替方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための技術的手段は、チャンバ内にて基板に処理を行う基板処理装置であって、互いに異なる種類の処理液を供給する複数の処理液ラインと、洗浄液を供給する洗浄液ラインと、供給される液体を吐出するノズル手段と、前記ノズル手段と、前記複数の処理液ライン及び前記洗浄液ラインとの間に介装され、前記ノズル手段と、前記各処理液ライン及び前記洗浄液ラインとの間の管路を個別に開閉する切替弁手段と、を備える。
【０００９】
好ましくは、前記切替弁手段は、前記複数の処理液ライン及び前記洗浄液ラインからの管路を集合して前記ノズル手段に接続するマニホールドと、前記各処理液ライン及び前記洗浄液ラインと前記マニホールドとの間の管路を個別に開閉する開閉弁と、を備えるのがよい。
【００１０】
また、好ましくは、前記ノズル手段によって吐出された前記液体を前記チャンバ外に排出する排出ラインと、複数の収液ラインと、前記排出ラインを前記複数の収液ラインのいずれかに選択的に連通させる切替手段と、をさらに備えるのがよい。
【００１１】
さらに、好ましくは、前記切替弁手段の前記管路の開閉動作を制御するとともに、その動作モードとして、基板に対する通常の処理を行う際に能動化される通常モードと、基板処理に使用する前記処理液を切替える際に能動化される切替モードとを切替可能に有する制御部をさらに備え、前記制御部は、前記動作モードが前記通常モードにあるときには、前記切替弁手段を制御して、前記複数の処理液ラインのうちの基板処理に使用する指定された処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記指定された処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を開閉して前記ノズル手段に前記処理液の供給を行う一方、前記動作モードが前記切替モードに切替えられると、前記切替弁手段を制御して、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、続いて、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給するのがよい。
【００１２】
また、好ましくは、前記切替弁手段の前記管路の開閉動作及び前記切替手段の切替動作を制御する制御部をさらに備えるのがよい。
【００１３】
さらに、好ましくは、前記複数の収液ラインとして、前記排出ラインからの液体を廃棄するための廃液ラインと、前記排出ラインからの液体を回収するために設けられ、前記複数の処理液ラインのうちのいずれかに対応付けられた少なくとも１個の回収ラインと、を備え、前記制御部は、その動作モードとして、基板に対する通常の処理を行う際に能動化される通常モードと、基板処理に使用する前記処理液を切替える際に能動化される切替モードとを切替可能に有し、前記動作モードが前記通常モードにあるときには、前記切替弁手段及び前記切替手段を制御して、前記複数の処理液ラインのうちの基板処理に使用する指定された処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記複数の収液ラインのうちのその指定された処理液ラインに対応する回収ライン又は前記廃液ラインに連通させた状態で、前記指定された処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を開閉して前記ノズル手段に前記処理液の供給を行う一方、前記動作モードが前記切替モードに切替えられると、前記切替弁手段及び前記切替手段を制御して、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記廃液ラインに連通させた状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、続いて、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記複数の収液ラインのうちのその使用予定の処理液ラインに対応する回収ライン又は前記廃液ラインに連通させた状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給するのがよい。
【００１４】
また、好ましくは、前記洗浄液が純水であるのがよい。
【００１５】
さらに、前記目的を達成するための技術的手段は、チャンバ内にて基板に処理を行う基板処理装置であって、種類の異なる処理液を供給する複数の処理液ラインと、供給される前記処理液を吐出するノズル手段と、前記ノズル手段と前記複数の処理液ラインとの間に介装され、前記ノズル手段と前記各処理液ラインとの間の管路を個別に開閉する切替弁手段と、を備える。
【００１６】
また、好ましくは、前記切替弁手段は、前記複数の処理液ラインからの管路を集合して前記ノズル手段に接続するマニホールドと、前記各処理液ラインと前記マニホールドとの間の管路を個別に開閉する開閉弁と、を備えるのがよい。
【００１７】
さらに、好ましくは、前記切替弁手段の前記管路の開閉動作を制御するとともに、その動作モードとして、基板に対する通常の処理を行う際に能動化される通常モードと、基板処理に使用する前記処理液を切替える際に能動化される切替モードとを切替可能に有する制御部をさらに備え、前記制御部は、前記動作モードが前記通常モードにあるときには、前記切替弁手段を制御して、前記複数の処理液ラインのうちの基板処理に使用する指定された処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記指定された処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を開閉して前記ノズル手段に前記処理液の供給を行う一方、前記動作モードが前記切替モードに切替えられると、前記切替弁手段を制御して、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記複数の処理液ラインのうちの次に使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給するのがよい。
【００１８】
また、好ましくは、前記処理液ラインとは、前記処理液が貯められたタンクから所定のフィルタを介して前記マニホールドに接続される管路をいい、前記切替弁手段に備えられる前記各処理液ラインと前記マニホールドとの間の前記管路を開閉する前記開閉弁は、前記処理液ラインにおける前記フィルタよりも二次側に介装されているのがよい。
【００１９】
さらに、好ましくは、前記処理液ラインは、貯蔵した液体の温度調節機能を有するタンクに貯められた前記処理液を、ポンプ及びフィルタを介して再び前記タンクに戻す温調用の循環ライン部と、その一次側端部が前記循環ライン部の前記フィルタよりも二次側の部分と接続され、その二次側端部が前記マニホールドと接続された供給ライン部と、を備え、前記切替弁手段に備えられる前記各処理液ラインと前記マニホールドとの間の前記管路を開閉する前記開閉弁は、前記供給ライン部に介装されているのがよい。
【００２０】
また、好ましくは、前記切替弁手段は、前記ノズル手段が設置される前記チャンバ内に設置されるのがよい。
【００２１】
さらに、前記目的を達成するための技術的手段は、請求項１又は２に記載の基板処理装置を用いた処理液切替方法であって、前記切替弁手段により、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、前記切替弁手段により、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖した状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給する。
【００２２】
また、前記目的を達成するための技術的手段は、請求項３に記載の基板処理装置を用いた処理液切替方法であって、前記複数の収液ラインとして、前記排出ラインからの液体を廃棄するための廃液ラインと、前記排出ラインからの液体を回収するために設けられ、前記複数の処理液ラインのうちのいずれかに対応付けられた少なくとも１個の回収ラインと、を設け、基板処理に使用する処理液の変更の際に、前記切替弁手段及び前記切替手段により、すべての前記処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記廃液ラインに連通させた状態で、前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記洗浄液を所定時間だけ前記ノズル手段に供給し、前記切替弁手段及び前記切替手段により、前記複数の処理液ラインのうちの次回の基板処理に使用予定の処理液ライン以外の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路、及び前記洗浄液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を閉鎖し、かつ、前記排出ラインを前記複数の収液ラインのうちのその使用予定の処理液ラインに対応する回収ライン又は前記廃液ラインに連通させた状態で、前記使用予定の処理液ラインと前記ノズル手段との間の前記管路を所定時間だけ開放して前記処理液を前記ノズル手段に供給する。
【００２３】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態＞
＜基本構成＞
図１は本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の平面的構成を示す図であり、図２は図１の基板処理装置のブロック図である。この基板処理装置３１は、図１に示すように、インデクサ部３３と、受渡し部３５と、処理部３７とを備えて構成されており、半導体ウェハ、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板、プリント基板等の板状基板を処理液を用いて処理（洗浄、フォトリソグラフ、現像、エッチング、ポリマー除去など）するためのものである。本実施形態では、本発明を、基板に付着したポリマーを除去する基板処理装置（ポリマー除去装置）３１に適用した場合について説明するが、本発明は、基板処理のための複数種類の処理液を切り替えて使用することがある種々の基板処理装置に適用可能である。除去対象のポリマーとしては、例えばレジスト膜をマスクとして基板の表面に存在する薄膜をドライエッチングすることによって生成されたポリマーがある。
【００２４】
インデクサ部３３には、図示しない基板の搬入搬出を行う搬入搬出機構４１が備えられ、その搬入搬出機構４１が、インデクサ部３３にセットされた複数、例えば４個のカセット４１に対する基板の搬入及び搬出、受渡し部３５との間の基板の受け渡しを行う。受渡し部３５には、インデクサ部３３と処理部３７との間で基板の受け渡しを行う受渡し機構４５が備えられている。
【００２５】
処理部３７には、複数、例えば４個の処理ユニット４７と、搬送機構４９とを備えている。処理ユニット４７は、基板に付着したポリマーを処理液を用いて除去する。搬送機構４９は、受渡し部３５と各処理ユニット４７との間等で基板の搬送を行う。
【００２６】
インデクサ部３３、受渡し部４５、処理ユニット４７及び搬送機構４９の制御は、コントローラ（制御部）５１によって行われる。
【００２７】
各処理ユニット４７のチャンバ５３内には、図３に示すように、カップ５５と、カップ５５内において基板を保持及び回転駆動する基板保持手段であるチャック５７と、ポリマー除去のための処理液Ａ，Ｂ（図４参照）又は洗浄液である純水を吐出するノズル５９と、純水（又は、純水と気体との混合流体や、超音波印加された純水など）を吐出するノズル６１と、ノズル５９，６１のための待機ポット６３，６５とが備えられている。また、チャンバ５３内には、図４に示すように、後述する切替弁部７１、流量計９９及び調節弁１０１も収容される。ここで、処理液Ａ，Ｂは、ポリマー除去処理の内容によって択一的に切替えて使用される。
【００２８】
チャック５７は、コントローラ５１により制御されるチャック駆動機構６６により駆動され、基板の保持のための動作（吸着動作等）や、基板の回転駆動等を行う。
【００２９】
ノズル５９，６１は、図３の矢印Ｍ１，Ｍ２で示すように、図５に示すノズル駆動機構６７，６９により待機ポット６３，６５上の待機位置とカップ５５上の吐出位置との間で駆動（ここでは旋回駆動）されるようになっている。ノズル駆動機構６７，６９は、コントローラ５１の制御によりノズル５９，６１を駆動する。
【００３０】
ノズル５９は、図４に示すように、配管５９ａを介して切替弁部（切替弁手段）７１のマニホールド７３の接続口と接続される。本実施形態では、ノズル５９と配管５９ａを含めたものが本発明のノズル手段に相当している。
【００３１】
切替弁部７１は、マニホールド７３と、３個の開閉弁７５，７７，７９とを備えている。マニホールド７３は、４個の接続口を有しており、その各接続口には、管路５９ａ、処理液Ａ，Ｂを供給する処理液ライン８１，８３、及び純水を供給する純水ライン（洗浄液ライン）８５、がそれぞれ接続されており、処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５からの管路を二次側に向けて集合して配管５９ａに接続している。
【００３２】
処理液ライン８１，８３は、タンク８７内の処理液Ａ，Ｂを取り込んで循環させる温調用の循環ライン部８９と、その循環ライン部８９とマニホールド７３との間を接続する供給ライン部９１とを備えている。タンク８７は貯められた処理液Ａ，Ｂの温度を調節する機能を有しており、循環ライン部８９は、処理液Ａ，Ｂを温度調節された状態で供給ライン部９１まで導くためのものである。タンク８７への処理液Ａ，Ｂの供給は、供給ライン９２によって行われる。
【００３３】
循環ライン部８９には、ポンプ９３、フィルタ９５及び調節弁９７が介装されている。そして、タンク８７から循環ライン部８９の一端側を介して循環ライン８９内に取り込まれた処理液Ａ，Ｂが、ポンプ９３の吐出圧力により循環ライン８９に沿って送られ、フィルタ９５を介して濾過された後、調節弁８７を経て循環ライン部８９の他端側からタンク８７内に戻される。
【００３４】
供給ライン部９１は、流量計９９及び調節弁１０１が介装され、その一次側端部が循環ライン部８９のフィルタ９５と調節弁９７との間の部分に接続され、その二次側端部がマニホールド７３に接続されている。
【００３５】
純水ライン８５は、純水が循環される循環ライン部１０３と、その循環ライン部１０３とマニホールド７３との間を接続する供給ライン部１０５とを備えており、処理液Ａ，Ｂの切替時にノズル５９やその管路５９ａ等を洗浄する純水を供給するためのものである。循環ライン部１０３は、調節弁１０７が介装され、純水が温度調節された状態、又は温度調節のない通常の状態で循環されている。供給ライン部１０５は、その一次側端部が循環ライン部１０３の調節弁９７の一次側部分に接続され、その二次側端部がマニホールド７３に接続されている。
【００３６】
開閉弁７９が開かれて純水ライン８５からの純水がマニホールド７３及びノズル５９に供給されると、その純水により、マニホールド７３、管路５９ａ及びノズル５９内等に残留する処理液Ａ，Ｂが洗い出される。また、ノズル５９から吐出されるその純水により、カップ５５内等に残留する処理液Ａ，Ｂも洗い流される。
【００３７】
開閉弁７５，７７，７９は、処理液ライン８１，８３の供給ライン部９１及び純水ライン８５の供給ライン部１０５の二次側端部又はマニホールド７３の近傍にそれぞれ介装され、各供給ライン部９１，１０５を開閉する。開閉弁７５，７７，７９により各供給ライン部９１，１０５を開閉することにより、処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５からマニホールド７３への処理液Ａ，Ｂ及び純水の供給状態が、供給又は停止に切替えられる。
【００３８】
このため、切替弁部７１、特にその開閉弁７５，７７，７９は、処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５のいずれをノズル５９のための管路５９ａに連通させるかを切替える切替手段としての役割と、各処理液ライン８１，８３及び純水ライン８７からノズル５９への処理液Ａ，Ｂ及び純水の供給状態を供給又は停止する遮断弁としての役割とを担っている。
【００３９】
ノズル６１には、第１及び第２の開閉弁１０７，１０９及び流量計１１１が介装された供給ライン１１３が接続されており、図示しない純水供給源から供給される純水が、供給ライン１１３を介してノズル６１に供給される。第１の開閉弁１０７は、供給ライン１１３の開閉状態を、供給ライン１１３の主な開閉に用いられ、供給ライン１１３を開放した状態と、微量の純水の流通を許容する状態との間で切替える。第２の開閉弁１０９は、第１の開閉弁１０７の補助として備えられるものであり、供給ライン１１３の開閉状態を、供給ライン１１３を開放した状態と閉鎖した状態との間で切替える。
【００４０】
第１及び第２の開閉弁１０７，１０９の動作を簡単に説明すると、ノズル６１が待機ポット６５又はカップ５５上に位置されているときには、第２の開閉弁１０９は開放された状態に保持され、供給ライン１１３の開閉は第１の開閉弁１０７によって行われる。すなわち、この状態では、第２の開閉弁１０９が開放されているため、第１の開閉弁１０７が閉鎖されている状態でも、ノズル６１に微量の純水が供給され続けており、その微量の純水がノズル６１から待機ポット６５又はカップ５５内に流出している。ノズル６１が待機ポット６５とカップ５５との間で移動されるには、ノズル６１からの微量の純水の流出を停止すべく、第２の開閉弁１０９により供給ライン１１３が閉鎖される。
【００４１】
カップ５５には、ノズル５９，６１から吐出された液体をカップ５５外に排出するための排出ライン１１５が接続されている。この排出ライン１１５の中間部には、待機ポット６３内から排出される液体の排出ライン１１７が合流されている。
【００４２】
排出ライン１１５の二次側端部は、切替弁部（切替手段）１１９のマニホールド１２１の接続口と接続される。
【００４３】
切替弁部１１９は、マニホールド１２１と、３個の開閉弁１２３，１２５，１２７とを備えており、排出ライン１１５と３個の収液ライン１２９，１３１，１３３との連通状態を個別に切替えることにより、排出ライン１１５を３個の収液ライン１２９，１３１，１３３のいずれかに選択的に連通させる。マニホールド１２１は、４個の接続口を有しており、その各接続口には、排出ライン１１５及び収液ライン１２９，１３１，１３３がそれぞれ接続されており、排出ライン１５５からの管路を二次側に向けて分岐させて収液ライン１２９，１３１，１３３に接続している。開閉弁１２３，１２５，１２７は、収液ライン１２９，１３１，１３３における一次側端部又はマニホールド６５の近傍に介装されている。
【００４４】
このため、開閉弁１２３，１２５，１２７により収液ライン１２９，１３１，１３３を個別に開閉することにより、収液ライン１２９，１３１，１３３のいずれかがマニホールド１２１を介して排出ライン１１５に選択的に連通される。ここで、収液ライン１２９，１３１，１３３のうち、収液ライン１２９は処理液Ａを回収するための回収ラインであり、収液ライン１３１は処理液Ｂを回収するための回収ラインであり、収液ライン１３３は廃液が流される廃液ラインである。
【００４５】
待機ポット６５内の液体は、排出ライン１３５を介して外部に排出される。
【００４６】
上述の開閉弁７５，７７，７９，１０７，１０９，１２３，１２５，１２７は、図４及び図５に示すように、コントローラ５１によって制御される。より詳細には、開閉弁７５，７７，７９，１０７，１０９，１２３，１２５，１２７は、エアシリンダ駆動式の開閉弁であり、図示しない圧縮空気供給源から供給される圧縮空気の供給状態が、コントローラ５１により制御される電磁弁１３７によって制御されることにより、開閉駆動される。
【００４７】
コントローラ５１は、その動作モードとして、基板に対する通常の処理を行う際に能動化される通常モードと、基板処理に使用する前記処理液を切替える際に能動化される切替モードとを切替可能に有しており、その各動作モードにおいて、入力受付部１３９から入力される入力内容（操作入力や、記録媒体から読み込まれた制御データ等）に基づいて、インデクサ部３３、受渡し部４５、処理ユニット４７及び搬送機構４９の制御を行う。処理ユニット４７の制御としては、電磁弁１３７を介した各開閉弁７５，７７，７９，１０７，１０９，１２３，１２５，１２７の開閉制御、及びノズル駆動機構６７，６９を介したノズル５９，６１の移動制御などが含まれる。なお、コントローラ５１の各動作モードにおける具体的な制御動作については、後述の動作説明の中で説明する。
【００４８】
図６及び図７は切替弁部７１の具体的な構成例を示す図であり、図６は開閉弁７５，７７，７９がマニホールド７３と離れた位置（マニホールド７３の近傍）に配置された構成された例を示しており、図７は開閉弁７５，７７，７９がマニホールド７３と一体的に設けられた例を示している。図７の構成の方が、図６の構成に比して開閉弁７５，７７，７９とマニホールド７３との間の管路を短縮できるため、処理液Ａ，Ｂの切替時に処理液Ａ，Ｂの混合が生じる管路の区間を短縮できるという利点がある。
【００４９】
＜通常動作＞
次に、通常の基板処理を行う際の動作について説明する。通常の基板処理では、コントローラ５１の動作モードが通常モードに設定されており、搬入搬出機構４１によって基板がカセット４３から順次取り出されて受渡し機構４５に受け渡される。その受け渡された基板は、受渡し機構４５から搬送機構４９に受け渡され、搬送機構４９によって処理ユニット４７のチャンバ５３内にセットされ、処理ユニット４７によるポリマー除去処理が施される。
【００５０】
本実施形態に係るポリマー除去処理工程は、以下の除去液供給工程、純水供給工程、液切り工程、乾燥工程からなる。なお、ポリマー除去処理の対象としては、レジスト膜や薄膜に由来する反応生成物（ポリマー）が付着している基板が対象となる。
【００５１】
基板がセットされてチャック５７により保持されると、チャック５７が回転駆動されて基板が回転され、除去液供給工程が開始される。なお、この除去液供給工程の開始時点では、開閉弁７５，７７，７９は閉鎖され、ノズル５９への処理液Ａ，Ｂ及び純水の供給は停止されている。また、ノズル６１については、第２の開閉弁１０９は開放されているが、第１の開閉弁１０７は閉鎖されており、ノズル６１へは微量の純水が供給されている。さらに、排出ライン１１５については、開閉弁１２３，１２５のうちのこの除去液供給工程で使用される処理液Ａ，Ｂの一方に対応する一方の開閉弁１２３，１２５が開放されて、排出ライン１１５が使用される処理液Ａ，Ｂの一方に対応する回収ライン１２９，１３１の一方に連通されている。なお、廃液ライン１３３に対応する開閉弁１２７は閉鎖されている。
【００５２】
この除去液供給工程では、ノズル駆動機構６７により待機位置にあるノズル５９が吐出位置に移動され、処理レシピにより予め設定された処理液Ａ，Ｂのいずれか一方に対応する開閉弁７５，７７の一方が開放され、処理液Ａ，Ｂの一方がノズル５９から基板Ｗ上に吐出される。基板上に吐出された処理液Ａ，Ｂは基板の外に落下してカップ５５にて集められ、排出ライン１１５を介して対応する回収ライン１２９，１３１の一方に流れ込み、回収ライン１２９，１３１により回収される。所定時間だけ処理液Ａ，Ｂが供給されると、開放している開閉弁７５，７７が閉鎖され、ノズル駆動機構６７によりノズル５９が待機位置に戻される。また、開閉弁７５，７７の閉鎖から一定時間経が過後してカップ５５内の処理液Ａ，Ｂが排出された後で、開放されていた開閉弁１２３，１２５が閉鎖される。
【００５３】
ここで、この除去液供給工程では、基板上に吐出される処理液Ａ，Ｂが基板上の反応生成物に作用するため、基板上の反応生成物が基板から脱落しやすくなる。このため、反応生成物は基板の回転や処理液Ａ，Ｂの供給により、徐々に基板上から除去されていく。
【００５４】
なお、上記の除去液供給工程では、排出ライン１１５を回収ライン１２９，１３１のいずれかに連通させて、処理液Ａ，Ｂを回収して再利用するようにしたが、排出ライン１１５を廃液ライン１３３に連通させて、処理系Ａ，Ｂを廃棄するようにしてもよい。
【００５５】
次に、純水供給工程が実行される。純水供給工程では、開放されたいた開閉弁１３３が開放されて排出ライン１１５が廃液ライン１３３に連通されるとともに、開放されていた第２の開閉弁１０９が閉鎖されて、ノズル駆動機構６９により待機位置にあるノズル６１が吐出位置に移動される。そして、第１及び第２の開閉弁１０７，１０９が開放されてノズル６１に純水が供給され、純水がノズル６１から基板上に吐出される。基板上に吐出された純水は、基板の外に落下してカップ５５にて集められ、排出ライン１１５を介して廃液ライン１３３に流れ込む。所定時間だけ純水が供給されると、第１及び第２の開閉弁１０７，１０９が閉鎖され、ノズル駆動機構６９によりノズル６１が待機位置に戻される。ノズル６１が待機位置に戻されると、第１の開閉弁１０７が閉鎖されたままの状態で、第２の開閉弁１０９が開放され、ノズル６１への微量の純水の供給が行われる。
【００５６】
ここで、この純水供給工程では、基板供給された純水によって処理液Ａ，Ｂや溶解された反応生成物などの汚染物質が基板Ｗ上から洗い流される。
【００５７】
次に、液切り工程が実行される。液切り工程では、チャック５７により基板を高速で回転させることにより、基板上にある液体を振切り、これによって、基板が乾燥される。
【００５８】
処理ユニット４７での処理が完了すると、搬送機構４９によって基板が処理ユニット４７から取り出されて、受渡し機構４５に受け渡される。その受け渡された基板は、受渡し機構４５から搬入搬出機構４１に受け渡されて、搬入搬出機構４１によりカセット４３内に挿入される。
【００５９】
＜処理液切替時の動作＞
図８は、この基板処理装置３１の処理液切替時の動作を示すフローチャートである。ステップＳ１で、入力受付部１３９を介して処理液Ａ，Ｂの切替指示が入力されると、ステップＳ２に進み、コントローラ５１の動作モードが通常モードから切替モードに切替えられ、処理液Ａ，Ｂの切替えのための動作が開始される。この処理液Ａ，Ｂの切替えは、処理液Ａから処理液Ｂへの切替えと、処理液Ｂから処理液Ａへの切替えとがある。なお、この動作モードの切替えが行われた時点では、開閉弁７５，７７，７９は閉鎖され、ノズル５９への処理液Ａ，Ｂ及び純水の供給は停止されている。
【００６０】
続くステップＳ３では、開閉弁１２３，１２５が開放している場合には閉鎖され、あるいは閉鎖されている場合にはその閉鎖状態が保持されて、開閉弁１２７が開放され、これによって排出ライン１１５が廃液ライン１３３に連通される。
【００６１】
続くステップＳ４では、ダミー基板が処理ユニット４７にセットされる。このダミー基板のセット工程では、カセット４３に収容されているダミー基板を搬入搬出機構４１により取り出させて、受渡し機構４５を介して搬送機構４９に受け渡させ、その受け渡されたダミー基板を搬送機構４９により処理ユニット４７にセットさせるようにしてもよく、あるいは、作業者が手作業でダミー基板を処理ユニット４７にセットするようにしてもよい。
【００６２】
続くステップＳ５では、開閉弁７５，７７が閉鎖された状態で開閉弁７９が所定時間だけ開放され、純水ライン８５からの純水が、マニホールド７３及び管路５９ａを介して、待機位置に位置するノズル５９に所定時間だけ供給され、ノズル５９から待機ポット６３内に吐出される。待機ポット６３内に吐出された純水は、排出ライン１１５，１１７を介して廃液ライン１３３に流れ込む。
【００６３】
この純水の供給により、マニホールド７３、管路５９ａ及びノズル５９内等に残留する処理液Ａ，Ｂが純水によって洗い出されるとともに、ノズル５９から待機ポット６３内に吐出された純水により、待機ポット６３内等に残留する処理液Ａ，Ｂも洗い流される。
【００６４】
続くステップＳ６では、ノズル駆動機構６７により待機位置に位置しているノズル５９が吐出位置に移動される。
【００６５】
続くステップＳ７では、開閉弁７５，７７が閉鎖された状態で開閉弁７９が所定時間だけ開放され、純水ライン８５からの純水が、マニホールド７３及び管路５９ａを介してノズル５９に所定時間だけ供給され、ノズル５９からダミー基板上に吐出される。ダミー基板上に吐出された純水は、ダミー基板の外に落下してカップ５５にて集められ、排出ライン１１５を介して廃液ライン１３３に流れ込む。
【００６６】
この純水の供給は、チャック５７によりダミー基板が回転されている状態で行われ、純水の供給が停止されるのに伴ってダミー基板の回転も停止される。なお、このダミー基板の回転は、後述するステップＳ９の処理が終了するまで継続するようにしてもよい。
【００６７】
この純水の供給により、マニホールド７３、管路５９ａ及びノズル５９内等に残留する処理液Ａ，Ｂが純水によってさらに洗い出されるとともに、ノズル５９からダミー基板上に吐出され、ダミー基板上からカップ５５内に流れる落ちる純水により、カップ５５内等に残留する処理液Ａ，Ｂも洗い流される。
【００６８】
続くステップＳ８では、ノズル５９からの純水吐出停止時から一定時間経過してカップ５５内の液体が排出ライン１１５に排出された後で、開閉弁１２７が閉鎖されるとともに、開閉弁１２３，１２５のうちの次回の基板処理に使用予定の処理液Ａ，Ｂに対応する開閉弁１２３，１２５が開放され、これによって、排出ライン１１５が、回収ライン１２９，１３１のうちの次回の基板処理に使用予定の処理液Ａ，Ｂに対応するいずれかの回収ライン１２９，１３１に連通される。
【００６９】
続くステップＳ９では、開閉弁７９が閉鎖された状態で開閉弁７５，７７のうちの次回の基板処理に使用予定の処理液Ａ，Ｂに対応するいずれかの開閉弁７５，７７が所定時間だけ開放され、次回の使用予定の処理液Ａ，Ｂが処理液ライン８１，８３から、マニホールド７３及び管路５９ａを介してノズル５９に所定時間だけ供給され、ノズル５９からダミー基板上に吐出される。ダミー基板上に吐出された処理液Ａ，Ｂは、ダミー基板の外に落下してカップ５５にて集められ、排出ライン１１５を介して対応する回収ライン１２９，１３１に流れ込む。
【００７０】
この処理液Ａ，Ｂの供給により、マニホールド７３、管路５９ａ及びノズル５９内等に残留する純水が次回使用予定の処理液Ａ，Ｂによって置換されるとともに、ノズル５９からダミー基板上に吐出され、ダミー基板上からカップ５５内に流れる落ちる処理液Ａ，Ｂにより、カップ５５内等に残留する純水も次回使用予定の処理液Ａ，Ｂに置換される。
【００７１】
なお、上記の次回使用予定の処理液Ａ，Ｂによりパージ処理では、排出ライン１１５を対応する回収ライン１２９，１３１のいずれかに連通させて、処理液Ａ，Ｂを回収して再利用するようにしたが、排出ライン１１５を廃液ライン１３３に連通させて、処理系Ａ，Ｂを廃棄するようにしてもよい。
【００７２】
続くステップＳ１０では、チャック５７によりダミー基板が回転されて、ダミー基板に付着した処理液Ａ，Ｂが振切られる。
【００７３】
続くステップＳ１１では、ノズル駆動機構６７によりノズル５９が吐出位置から待機位置に移動される。
【００７４】
続くステップＳ１２では、ダミー基板が処理ユニット４７から回収される。このダミー基板の回収工程では、処理ユニット４７にセットされているダミー基板を搬送機構４９により処理ユニット４７から取り出させて、受渡し機構４５を介して搬入搬出機構４１に受け渡させ、その受け渡されたダミー基板を搬入搬出機構４１によりカセット４３内に挿入させるようにしてもよく、あるいは、作業者が手作業でダミー基板を処理ユニット４７内から回収するようにしてもよい。
【００７５】
続くステップＳ１３では、コントローラ５１の動作モードが切替モードから通常モードに切替えられて、処理液切替のための処理動作が終了する。
【００７６】
以上のように、本実施形態によれば、ノズル５９と、２個の処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５との間に切替弁部７１を介装した構成であるため、その切替弁部７１の開閉弁７５，７７，７９によって、ノズル５９と、各処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５との間の管路を個別に開閉することにより、基板処理に使用する処理液Ａ，Ｂを短時間で簡単かつ容易に切替えることができ、これによって処理液切替に伴う時間的及び労力的ロスを抑制することができる。
【００７７】
また、各処理液ライン８１，８３における切替弁部７１の開閉弁７５，７７よりも一次側の部分においては処理液Ａ，Ｂの混合を確実に防止することができるため、処理液切替時には、開閉弁７５，７７から二次側の管路のみについて洗浄又は次に使用する処理液Ａ，Ｂによる管内液の置換処理（パージ処理）を行えばよく、少量の純水又は処理液Ａ，Ｂにより短時間で管路の洗浄又はパージ処理を行うことができ、これによって処理液切替に伴う時間的及び資源的ロスを抑制することができる。
【００７８】
さらに、処理液切替時に、切替弁部７１から二次側の管路等の洗浄が必要な場合な場合には、切替弁部７１により純水ライン７１とノズル５９との間の管路を開放して純水を切替弁部７１を介してノズル５９に供給することにより、切替弁部７１のマニホールド７３を含むその二次側の管路５９ａ等の洗浄を容易に行うことができる。しかも、ノズル５９を介してカップ５５内に吐出されたその純水により、処理液切替に伴うカップ５５内の洗浄を自動的に行うことも可能である。
【００７９】
また、切替弁部７１は、処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５のいずれをノズル５９に連通させるかを切替える役割と、各処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５とノズル５９との間の管路を開閉する役割との両方を担っているため、各処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５とノズル５９との間の管路を開閉するための弁を別個に設ける必要がなく、弁の設置数を抑制することができ、その結果、占有スペースを抑制しつつ、２種類の処理液Ａ，Ｂを切替使用可能な構成を実現することができる。
【００８０】
さらに、マニホールド７３と３個の開閉弁７５，７７，７９とを用いた簡単な構成により切替弁部７１を構成することができる。
【００８１】
また、排出ライン１１５に連通させる収液ライン１２９，１３１，１３１を切替弁部１１９により切替えることにより、ノズル５９からチャンバ５３内に吐出された液体の回収再利用又は廃棄処分の切替え、及び、処理液Ａ，Ｂの分別回収を容易に行うことができる。
【００８２】
さらに、コントローラ５１の動作モードとして処理液切替のための切替モードが備えられているため、処理液切替に伴う切替弁部７１から二次側の管路等の洗浄及び次回使用予定の処理液Ａ，Ｂによるパージ処理等を自動的に行わせることができるとともに、排出ライン１１５に連通させるべき収液ライン１２９，１３１，１３３の切替えも自動的に行わせることができる。
【００８３】
また、切替弁部７１から二次側の管路等を洗浄するための洗浄液として比較的安価な純水が用いられるため、処理液切替時のコストを抑制することができる。
【００８４】
さらに、切替弁部７１の開閉弁７５，７７が、処理液ライン８１，８３を構成するフィルタ９５が介装された循環ライン部８９と、その循環ライン部８９とマニホールド７３との間に介装される供給ライン部９１とのうちの供給ライン部９１に介装されているため、処理液切替時にタンク８７内の処理液交換及びフィルタ９５の交換又は洗浄等を行う必要がない。
【００８５】
また、処理液切替時に各処理液ライン８１，８３の循環ライン部８９内の処理液Ａ，Ｂを交換する必要がないため、処理液切替後に温調された処理液Ａ，Ｂを迅速にノズル５９に供給することができ、この点でも時間的ロスを抑制することができる。
【００８６】
さらに、切替弁部７１がチャンバ５３内に設置されるため、切替弁部７１とノズル５９との間の管路を短くすることができ、処理液切替に伴って行う切替弁部７１から二次側の管路の洗浄又は次に使用する処理液Ａ，Ｂによるパージ処理を、少量の純水又は処理液Ａ，Ｂにより短時間で行うことができる。
【００８７】
＜第２実施形態＞
図９は本発明の第２実施形態に係る基板処理装置に備えられる処理ユニットの配管図であり、図１０はその処理ユニットのブロック図である。本実施形態に係る基板処理装置３１が上述の第１実施形態に係る基板処理装置３１と実質的に異なる点は、処理ユニット４７内の構成が変更された点と、それに伴って処理動作が一部変更された点のみであり、互いに対応する部分には同一の参照符号を付し、ここでは変更されている点のみについて説明する。
【００８８】
本実施形態に係る処理ユニット４７では、図９に示すように、図４に示す第１実施形態の構成のうち、排出ライン１１５の連通先を切替える切替弁部１１９が省略され、排出ライン１１５が図示しない廃液ラインに接続されている。これによって、カップ５５から排出される液体は排出ライン１１５を介してすべて廃液ラインに流れ込むこととなる。これに伴って、図１０に示すように、切替弁部１１９の開閉弁１２３，１２５，１２７を開閉駆動するための電磁弁１３７も省略されている。
【００８９】
本実施形態に係る基板処理装置３１による通常の基板処理動作については、切替弁部１１９に対する制御動作が省略されている点を除いて、第１実施形態に係る基板処理装置３１と実質的に同様であるため、説明を省略する。
【００９０】
図１１は、本実施形態に係る基板処理装置３１の処理液切替時の動作を示すフローチャートである。ステップＳ２１で、入力受付部１３９を介して処理液Ｃ，Ｄの切替指示が入力されると、ステップＳ２２に進み、コントローラ５１の動作モードが通常モードから切替モードに切替えられ、処理液Ｃ，Ｄの切替えのための動作が開始される。この処理液Ｃ，Ｄの切替えは、処理液Ｃから処理液Ｄへの切替えと、処理液Ｄから処理液Ｃへの切替えとがある。なお、この動作モードの切替えが行われた時点では、開閉弁７５，７７，７９は閉鎖され、ノズル５９への処理液Ｃ，Ｄ及び純水の供給は停止されている。
【００９１】
続くステップＳ２３では、開閉弁７５，７７が閉鎖された状態で開閉弁７９が所定時間だけ開放され、純水ライン８５からの純水が、マニホールド７３及び管路５９ａを介して、待機位置に位置するノズル５９に所定時間だけ供給され、ノズル５９から待機ポット６３内に吐出される。待機ポット６３内に吐出された純水は、排出ライン１１５，１１７を介して廃液ラインに流れ込む。この純水の供給により、マニホールド７３、管路５９ａ及びノズル５９内等に残留する処理液Ｃ，Ｄが純水によって洗い出される。
【００９２】
続くステップＳ２４では、開閉弁７９が閉鎖された状態で開閉弁７５，７７のうちの次回の基板処理に使用予定の処理液Ｃ，Ｄに対応するいずれかの開閉弁７５，７７が所定時間だけ開放され、次回の使用予定の処理液Ｃ，Ｄが処理液ライン８１，８３から、マニホールド７３及び管路５９ａを介してノズル５９に所定時間だけ供給され、ノズル５９から待機ポット６３内に吐出される。待機ポット６３内に吐出された処理液Ｃ，Ｄは、排出ライン１１５，１１７を介して廃液ラインに流れ込む。この処理液Ｃ，Ｄの供給により、マニホールド７３、管路５９ａ及びノズル５９内等に残留する純水が次回使用予定の処理液Ｃ，Ｄによって置換される。
【００９３】
続くステップＳ２５では、コントローラ５１の動作モードが切替モードから通常モードに切替えられて、処理液切替のための処理動作が終了する。
【００９４】
以上のように、本実施形態によれば、排出ライン１１５の連通先を切替弁部１１９により切替えることによって得られる効果を除いて、第１実施形態と同様な効果が得られる。
【００９５】
また、本実施形態では、切替弁部１１９等の省略により装置構成の簡略化が図れる。
【００９６】
＜第３実施形態＞
図１２は本発明の第３実施形態に係る基板処理装置に備えられる処理ユニットの配管図である。本実施形態に係る基板処理装置３１が上述の第２実施形態に係る基板処理装置３１と実質的に異なる点は、処理ユニット４７内の構成が変更された点と、それに伴って処理動作が一部変更された点のみであり、互いに対応する部分には同一の参照符号を付し、ここでは変更されている点のみについて説明する。
【００９７】
本実施形態に係る処理ユニット４７では、図１２に示すように、図９に示す第２実施形態の構成のうち、純水ライン８５が省略され、それに伴って切替弁部７１の構成が変更されている。具体的には、純水ライン８５の省略に伴って、切替弁部７１のマニホールド７３には、３個の接続口を有するものが用いられるとともに、開閉弁７９が省略されている。従って本実施形態では、処理液切替時には、切替弁部７１から二次側の管路の純水による洗浄は行われず、次回使用予定の処理液Ｃ，Ｄによるパージ処理のみが行われる。
【００９８】
このため、本実施形態に係る基板処理装置３１では、次回使用予定の処理液Ｃ，Ｄによるパージ処理の際に、マニホールド７３及び管路５９ａ内等で前回使用の処理液Ｃ，Ｄと次回使用予定の処理液Ｃ，Ｄとの混合が生じるため、混合による悪影響が生じない種類の処理液Ｃ，Ｄが用いられる。
【００９９】
本実施形態に係る基板処理装置３１による通常の基板処理動作については、切替弁部１１９に対する制御動作が省略されている点を除いて、第１実施形態に係る基板処理装置３１と実質的に同様であるため、説明を省略する。
【０１００】
図１３は、本実施形態に係る基板処理装置３１の処理液切替時の動作を示すフローチャートである。ステップＳ３１で、入力受付部１３９を介して処理液Ｃ，Ｄの切替指示が入力されると、ステップＳ３２に進み、コントローラ５１の動作モードが通常モードから切替モードに切替えられ、処理液Ｃ，Ｄの切替えのための動作が開始される。なお、この動作モードの切替えが行われた時点では、開閉弁７５，７７は閉鎖され、ノズル５９への処理液Ｃ，Ｄの供給は停止されている。
【０１０１】
続くステップＳ３３では、開閉弁７５，７７のうちの次回の基板処理に使用予定の処理液Ｃ，Ｄに対応するいずれかの開閉弁７５，７７が所定時間だけ開放され、次回の使用予定の処理液Ｃ，Ｄが処理液ライン８１，８３から、マニホールド７３及び管路５９ａを介してノズル５９に所定時間だけ供給され、ノズル５９から待機ポット６３内に吐出される。待機ポット６３内に吐出された処理液Ｃ，Ｄは、排出ライン１１５，１１７を介して廃液ラインに流れ込む。この処理液Ｃ，Ｄの供給により、マニホールド７３、管路５９ａ及びノズル５９内等に残留する切替え前の処理液Ｃ，Ｄが次回使用予定の処理液Ｃ，Ｄによって置換される。
【０１０２】
続くステップＳ３４では、コントローラ５１の動作モードが切替モードから通常モードに切替えられて、処理液切替のための処理動作が終了する。
【０１０３】
以上のように、本実施形態によれば、処理液切替時に純水により切替弁部７１から二次側の管路等を洗浄することにより得られる効果を除いて、第２実施形態と同様な効果が得られる。
【０１０４】
また、本実施形態では、純水ライン８５等の省略により装置構成の簡略化が図れる。
【０１０５】
＜変形例＞
第１及び第２実施形態では、切替弁部７１から二次側の管路を洗浄する洗浄液として純水を用いたが、洗浄用の薬液等の他の洗浄液を使用してもよい。
【０１０６】
また、第３実施形態では、第２実施形態に係る基板処理装置３１において、純水ライン８５の省略等の構成変更を行ったが、第１実施形態に係る基板処理装置３１において純水ライン８５の省略等の同様な構成変更を行ってもよい。
【０１０７】
さらに、第１ないし第３実施形態では、２種類の処理液Ａ，Ｂ又はＣ，Ｄを切替え使用する場合について説明したが、３種類以上の処理液を切替え使用するようにしてもよい。この場合、切替弁部７１の構成（マニホールド７１の接続口及び開閉弁の数）なども処理液の種類増加に伴って変更される。
【０１０８】
また、第１実施形態に係る処理ユニット４７の処理液Ａ，Ｂを供給する処理液ライン８１，８３及び純水を供給する純水ライン８５から切替弁部７１を介したノズル５９までの構成要素と、第２実施形態に係る処理ユニット４７の処理液Ｃ，Ｄを供給する処理液ライン８１，８３及び純水を供給する純水ライン８５から切替弁部７１を介したノズル５９までの構成要素とを、一つの処理ユニット４７内に組み込んで基板処理装置３１を構成してもよい。この場合、処理ユニット４７には、処理液Ａ，Ｂを切替えて吐出するノズル５９と、処理液Ｃ，Ｄを切り替えて吐出するノズル５９とが備えられることとなる。
【０１０９】
【発明の効果】
請求項１、１４及び１５に記載の発明によれば、ノズル手段と、複数の処理液ライン及び洗浄液ラインとの間に切替弁手段を介装した構成であるため、その切替弁手段によって、ノズル手段と、各処理液ライン及び洗浄液ラインとの間の管路を個別に開閉することにより、基板処理に使用する処理液を短時間で簡単かつ容易に切替えることができ、これによって処理液変更に伴う時間的及び労力的ロスを抑制することができる。
【０１１０】
また、各処理液ラインにおける切替弁手段よりも一次側の部分においては処理液の混合を確実に防止することができるため、処理液変更時には、切替弁手段から二次側の管路のみについて洗浄又は次に使用する処理液による管内液の置換処理（パージ処理）を行えばよく、少量の洗浄液又は処理液により短時間で管路の洗浄又はパージ処理を行うことができ、これによって処理液変更に伴う時間的及び資源的ロスを抑制することができる。
【０１１１】
さらに、処理液変更時に、切替弁手段から二次側の管路等の洗浄が必要な場合な場合には、切替弁手段により洗浄液ラインとノズル手段との間の管路を開放して洗浄液を切替弁手段を介してノズル手段に供給することにより、切替弁手段を含むその二次側の管路の洗浄を容易に行うことができる。しかも、ノズル手段を介してチャンバ内に吐出されたその洗浄液により、処理液変更に伴うチャンバ内における洗浄が必要な設備（例えば、カップ等）の洗浄を自動的に行うことも可能である。これによって、処理液変更に伴う時間的及び労力的ロスを抑制することができる。
【０１１２】
また、切替弁手段は、処理液ライン及び洗浄液ラインのいずれをノズル手段に連通させるかを切替える役割と、各処理液ライン及び洗浄液ラインとノズル手段との間の管路を開閉する役割との両方を担っているため、各処理液ライン及び洗浄液ラインとノズル手段との間の管路を開閉するための弁を別個に設ける必要がなく、弁の設置数を抑制することができ、その結果、占有スペースを抑制しつつ、複数の処理液を切替使用可能な構成を実現することができる。
【０１１３】
請求項２に記載の発明によれば、簡単な構成により切替弁手段を構成することができる。
【０１１４】
請求項３及び１５に記載の発明によれば、ノズル手段によって吐出された液体をチャンバ外に排出する排出ラインに連通させる収液ラインを切替手段により切替えることにより、チャンバ内に吐出された液体の回収再利用又は廃棄処分の切替え、あるいは、液体を回収再利用する場合における液体の分別回収を容易に行うことができる。
【０１１５】
請求項４に記載の発明によれば、制御部の動作モードとして処理液変更のための切替モードが備えられているため、処理液変更に伴う切替弁手段から二次側の管路等の洗浄及び次回使用予定の処理液によるパージ処理等を自動的に行わせることができる。
【０１１６】
請求項５及び６に記載の発明によれば、処理液変更に伴う切替弁手段の管路の開閉及び切替手段による収液ラインの切替えを自動的に行わせることができる。
【０１１７】
請求項７に記載の発明によれば、洗浄液として比較的安価な純水が用いられるため、処理液変更時のコストを抑制することができる。
【０１１８】
請求項８に記載の発明によれば、ノズル手段と複数の処理液ラインとの間に切替弁手段を介装した構成であるため、その切替弁手段により、ノズル手段と各処理液ラインとの間の管路を個別に開閉することにより、基板処理に使用する処理液を短時間で簡単かつ容易に切替えることができ、これによって処理液変更に伴う時間的及び労力的ロスを抑制することができる。
【０１１９】
また、各処理液ラインにおける切替弁手段よりも一次側の部分においては処理液の混合を確実に防止することができるため、処理液変更時には、切替弁手段から二次側の管路のみについて次に使用する処理液による管内液の置換処理（パージ処理）を行えばよく、少量の処理液により短時間で管路のパージ処理を行うことができ、これによって処理液変更に伴う時間的及び資源的ロスを抑制することができる。
【０１２０】
また、切替弁手段は、処理液ラインのいずれをノズル手段に連通させるかを切替える役割と、各処理液ラインとノズル手段との間の管路を開閉する役割との両方を担っているため、各処理液ラインとノズル手段との間の管路を開閉するための弁を別個に設ける必要がなく、弁の設置数を抑制することができ、その結果、占有スペースを抑制しつつ、複数の処理液を切替使用可能な構成を実現することができる。
【０１２１】
請求項９に記載の発明によれば、簡単な構成により切替弁手段を構成することができる。
【０１２２】
請求項１０に記載の発明によれば、制御部の動作モードとして処理液変更のための切替モードが備えられているため、処理液変更に伴う切替弁手段から二次側の管路等の次回使用予定の処理液によるパージ処理等を自動的に行わせることができる。
【０１２３】
請求項１１に記載の発明によれば、切替弁手段の開閉弁が処理液ラインにおけるフィルタの２次側に介装されているため、処理液変更時にタンク内の処理液交換及びフィルタの交換又は洗浄等を行う必要がない。
【０１２４】
請求項１２に記載の発明によれば、切替弁手段の開閉弁が、処理液ラインを構成するフィルタが介装された循環ライン部と、その循環ライン部とノズル手段との間に介装される供給ライン部とのうちの供給ライン部に介装されているため、処理液変更時にタンク内の処理液交換及びフィルタの交換又は洗浄等を行う必要がない。
【０１２５】
また、処理液変更時に各処理液ラインの循環ライン部内の処理液を交換する必要がないため、処理液変更後に温調された処理液を迅速にノズル手段に供給することができ、この点でも時間的ロスを抑制することができる。
【０１２６】
請求項１３に記載の発明によれば、切替弁手段がチャンバ内に設置されるため、切替弁手段とノズル手段との間の管路を短くすることができ、処理液変更に伴って行う切替弁手段から二次側の管路の洗浄又は次に使用する処理液によるパージ処理を、少量の洗浄液又は処理液により短時間で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の平面的構成を示す図である。
【図２】図１の基板処理装置のブロック図である。
【図３】処理ユニット内の平面的構成を示す図である。
【図４】処理ユニットの配管図である。
【図５】処理ユニットのブロック図である。
【図６】切替弁部の具体的な構成例を示す図である。
【図７】切替弁部の具体的な他の構成例を示す図である。
【図８】図１の基板処理装置の処理液切替時の動作を示すフローチャートである。
【図９】本発明の第２実施形態に係る基板処理装置に備えられる処理ユニットの配管図である。
【図１０】図９の処理ユニットのブロック図である。
【図１１】第２実施形態に係る基板処理装置の処理液切替時の動作を示すフローチャートである。
【図１２】本発明の第３実施形態に係る基板処理装置に備えられる処理ユニットの配管図である。
【図１３】第３実施形態に係る基板処理装置の処理液切替時の動作を示すフローチャートである。
【図１４】従来の基板処理装置における処理液の供給ラインの構成を示す図である。
【符号の説明】
３１  基板処理装置
３３  インデクサ部
３５  受渡し部
３７  処理部
４７  処理ユニット
４９  搬送機構
５１  コントローラ
５３  チャンバ
５５  カップ
５９，６１  ノズル
６３，６５  待機ポット
７１  切替弁部
７３  マニホールド
７５，７７，７９  開閉弁
８１，８３  処理液ライン
８５  純水ライン
８７  タンク
８９  循環ライン部
９１  供給ライン部
９５  フィルタ
１１９  切替弁部
１２１  マニホールド
１２３，１２５，１２７  開閉弁
１２９，１３１  回収ライン（収液ライン）
１３３  廃液ライン（収液ライン）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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