(57)【要約】【課題】比較的簡単な構成で、画像に粒状感がある等の表示品位の低下がない投射型表示装置を提供する。【解決手段】本発明の投射型表示装置は、光源１１と、光源１１から射出される光を変調する空間型光変調器と、空間型光変調器により変調された光を投射する投射レンズ系２４とを有している。そして、空間型光変調器として、複数の画素が１次元的に配列された透過型のライトバルブ（液晶ライトバルブ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ）が用いられ、空間型光変調器により変調された光を画素の配列方向と交差する方向に走査する走査手段（可動ミラー２３）が備えられている。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源から射出される光を変調する空間型光変調器と、前記空間型光変調器により変調された光を投射する投射手段とを有する投射型表示装置であって、
前記空間型光変調器として、複数の画素が１次元的に配列された透過型ライトバルブが用いられ、
前記空間型光変調器により変調された光を前記画素の配列方向と交差する方向に走査する走査手段を備えたことを特徴とする投射型表示装置。
【請求項２】
前記透過型ライトバルブには、入射光を透過させる透過領域と前記入射光を透過させない非透過領域とが各画素毎に設けられ、前記透過領域および前記非透過領域は、前記画素の配列方向に沿って連続して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の投射型表示装置。
【請求項３】
前記透過型ライトバルブは、データ線および走査線と、前記データ線および前記走査線の交差に対応して設けられたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に対応して設けられた画素電極とを有し、前記データ線、前記走査線および前記スイッチング素子は、前記非透過領域に配置されるとともに、遮光層によって覆われていることを特徴とする請求項２に記載の投射型表示装置。
【請求項４】
前記スイッチング素子を駆動するための駆動回路が前記透過型ライトバルブ上に形成され、前記駆動回路が前記非透過領域に配置されたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
【請求項５】
前記スイッチング素子を駆動するための駆動回路が前記透過型ライトバルブに外付けで接続されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
【請求項６】
各画素に対応して信号線がそれぞれ設けられ、これら複数の信号線に対して画像信号が供給されることを特徴とする請求項５に記載の投射型表示装置。
【請求項７】
前記光源からの光を異なる色の複数の色光に分離する色分離手段と、前記空間型光変調器により変調された各色光を合成する色合成手段とを備え、前記走査手段は、前記色合成手段により合成された光を走査することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
【請求項８】
複数の画素が１次元的に配列された透過型ライトバルブからなることを特徴とする空間型光変調器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、投射型表示装置およびこれに用いる空間型光変調器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶プロジェクタ等の投射型表示装置における光変調手段として、液晶ライトバルブが知られている。液晶ライトバルブは、液晶層を挟持して対向配置され、液晶層に電圧を印加するための電極を有する一対の基板を主体として構成されている。従来から、液晶ライトバルブにはアクティブマトリクス型の液晶セルが用いられている。すなわち、液晶ライトバルブにおいてはマトリクス状に画素が配置され、画素駆動用のスイッチング素子である薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ，  以下、ＴＦＴと略記する）が各画素毎に配置されている。そのため、ＴＦＴの動作を制御する走査線と画像信号を供給するデータ線とが必須となり、隣接する画素間にはこれら走査線やデータ線、およびＴＦＴを配置するためのスペースが必要であった。また、光変調に液晶を用いる場合、隣接画素の電位による影響で画素内、特に画素の周縁部でディスクリネーション（液晶の配向乱れ）が生じ、表示品位を著しく下げるため、ディスクリネーションを隠す意味で画素間に遮光部を設けるスペースが必要であった。
【０００３】
投射型表示装置の分野では、近年、高解像度化が進められており、画素サイズが小さくなる傾向にある一方で上記のような画素間スペースが必要なことから、開口率の確保が難しくなってきている。また、液晶ライトバルブの製造時にはマザー基板上に複数の液晶セルを同時に作製する、いわゆる「多数個取り」などと呼ばれる手法がよく用いられる。この手法を用いる場合、１枚のマザー基板あたりの取れ個数を多くするため、１個の液晶セル面積を極力小さくしたい、という要求がある。このセル面積の縮小化も開口率の確保にとってはきびしい方向である。開口率が低下すると、拡大投射した画像において画素間の隙間の部分が目立つようになり、画像に粒状感が感じられる等、表示品位の低下を招く。
【０００４】
この種の表示品位の低下を抑制し得る画像表示装置が、下記の特許文献１に開示されている。この画像表示装置は、光源と、光源から射出された光が波長毎に１次元的に入射され、これらの入射光を各空間変調素子によって波長域毎に空間的に変調する空間光変調器と、変調後の各光を合波する合波機構と、合波された光を所定の方向に走査して投影する投影機構とを有している。ここで用いられる空間光変調器は、基板上に複数の微小なリボンを１次元的に配列したリボン列を複数備えたグレーティング・ライトバルブ（ＧＬＶ：Ｇｒａｔｉｎｇ  Ｌｉｇｈｔ  Ｂｕｌｂ）で構成される。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−１６２５７３号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の特許文献１に記載された画像表示装置においては、空間光変調器が反射型の素子で構成されており、また、光の回折を利用した素子であるため、表示品位を高めるためには、光源として単波長のレーザーを用いることが必要となる。そのため、装置全体の構成が大規模となり、高価になるという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、比較的簡単な構成で、画像に粒状感が感じられる等の表示品位の低下がない投射型表示装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の投射型表示装置は、光源と、前記光源から射出される光を変調する空間型光変調器と、前記空間型光変調器により変調された光を投射する投射手段とを有する投射型表示装置であって、前記空間型光変調器として、複数の画素が１次元的に配列された透過型ライトバルブが用いられ、前記空間型光変調器により変調された光を前記画素の配列方向と交差する方向に走査する走査手段を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明の投射型表示装置の最大の特徴点は、空間型光変調器として複数の画素を１次元的に配列した透過型ライトバルブを用いた点である。透過型ライトバルブとしては例えば液晶ライトバルブを用いることができる。ただし、液晶ライトバルブに代表される従来一般のライトバルブは、複数の画素を２次元的（マトリクス状）に配置したものであるのに対し、本発明におけるライトバルブは、複数の画素を１次元的、すなわち一方向のみに配列した点が異なっている。したがって、これだけでは空間型光変調器によって変調された光から得られる画像も１次元的なものとなってしまうが、走査手段が変調後の光を画素の配列方向と交差する方向に走査することにより通常の平面的な画像を得ることができる。つまり、１次元の画像を時分割表示しつつ走査することで２次元画像を生成するものである。その結果、粒状感のない滑らかな画像を得ることができる。そして、本発明の場合、透過型ライトバルブを用いるため、光の回折を利用した従来の反射型ライトバルブの場合と異なり、光源光が単波長である必要がなく、走査手段は必要となるものの装置構成がそれ程複雑になることはない。
【００１０】
また、前記透過型ライトバルブには、入射光を透過させる透過領域と前記入射光を透過させない非透過領域とが各画素毎に設けられ、前記透過領域および前記非透過領域は、前記画素の配列方向に沿って連続して設けられていることが望ましい。
すなわち、入射光を透過させて実際の表示に直接寄与させる透過領域と、表示には直接用いない非透過領域とを分離し、各画素毎に設けることが望ましい。そして、透過領域および非透過領域を画素の配列方向に沿って連続して設けた場合、例えば配線や素子を非透過領域にまとめて配置することができ、透過領域における各画素間には配線や素子を配置しなくても済む。その結果、画素間の隙間を最小限に小さくすることができ、画素間の継目のない、より滑らかな画像を得ることができる。
【００１１】
より具体的には、前記透過型ライトバルブが、データ線および走査線と、前記データ線および前記走査線の交差に対応して設けられたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に対応して設けられた画素電極とを有する場合、前記データ線、前記走査線および前記スイッチング素子を前記非透過領域に配置するとともに、遮光層によって覆うことが望ましい。
データ線や走査線等の配線や、特にＴＦＴ等のスイッチング素子に光が入射すると光リーク電流が生じ、誤動作や表示不良等の原因となる場合がある。したがって、上記の構成では、データ線、走査線およびスイッチング素子を非透過領域に配置し、遮光層で覆っているため、光リーク電流の発生を抑制することができ、誤動作や表示不良等の不具合をなくすことができる。なお、遮光層は、少なくともデータ線、走査線およびスイッチング素子に対して光入射側に設ける必要がある。さらに、反射光による悪影響等も考慮すると、光入射側と反対側にも設けることが望ましい。
【００１２】
さらに、前記スイッチング素子を駆動するための駆動回路を前記透過型ライトバルブ上に形成し、前記駆動回路を前記非透過領域に配置する構成としても良い。
この構成によれば、駆動回路内蔵型のライトバルブを実現することができ、外付けの駆動回路を不要とすることができる。
【００１３】
もしくは、前記スイッチング素子を駆動するための駆動回路を前記透過型ライトバルブに外付けで接続する構成としても良い。
この構成によれば、上記の構成とは逆に、ライトバルブ内の駆動回路が不要となるので、ライトバルブの構成が簡単になり、非透過領域の面積も小さくすることができる。
【００１４】
また、各画素に対応して信号線がそれぞれ設けられ、これら複数の信号線に対して画像信号が供給される構成としても良い。
この構成によれば、複数の画素に対応する画像信号を線順次に書き込むことができるため、画像信号を各画素に書き込む時間が長くなる。そのため、画素を駆動するスイッチング素子の能力が低くても対応が可能となる。
【００１５】
また、前記光源からの光を異なる色の複数の色光に分離する色分離手段と、前記空間型光変調器により変調された各色光を合成する色合成手段とを備え、前記走査手段が、前記色合成手段により合成された光を走査する構成としても良い。この構成によれば、粒状感がなく、表示品位に優れたカラー表示を提供することができる。また、色合成後の光を走査する構成であるため、走査手段が１つで済み、装置構成を簡単にすることができる。
【００１６】
本発明の空間型光変調器は、複数の画素が１次元的に配列された透過型ライトバルブからなることを特徴とする。
本発明の空間型光変調器を用いることによって、上記の利点を有する投射型表示装置を比較的安価に実現することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の第１の実施の形態を図１〜図３を参照して説明する。
本実施の形態では、投射型表示装置の空間型光変調装置として透過型の液晶ライトバルブを用いた例を挙げて説明する。
図１は本実施の形態の投射型表示装置の概略構成図、図２は同、投射型表示装置に用いた液晶ライトバルブの等価回路図、図３は同、液晶ライトバルブの画素のパターン構成を示す平面図、である。なお、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１８】
（投射型表示装置の全体構成）
本実施の形態の投射型表示装置は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）に対応した液晶ライトバルブ（空間型光変調器）を３個用いた、いわゆる３板式の投射型液晶表示装置（液晶プロジェクタ）である。図中、符号１１は光源、１２，１３はダイクロイックミラー（色分離手段）、１４，１５，１６は反射ミラー、１７，１８，１９はリレーレンズ、２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂは液晶ライトバルブ、２２はクロスダイクロイックプリズム（色合成手段）、２３は可動ミラー（走査手段）、２４は投射レンズ系を示す。
【００１９】
光源１１は、メタルハライド等のランプ２５とランプ２５の光を反射するリフレクタ２６とから構成されている。青色光・緑色光反射のダイクロイックミラー１２は、光源１１から射出される白色光のうちの赤色光ＬＲを透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光ＬＲは反射ミラー１４で反射され、赤色光用液晶ライトバルブ２０Ｒに入射される。
【００２０】
一方、ダイクロイックミラー１２で反射された色光のうち、緑色光ＬＧは、緑色光反射のダイクロイックミラー１３によって反射され、緑色用液晶ライトバルブ２０Ｇに入射される。一方、青色光ＬＢは、緑色光反射のダイクロイックミラー１３も透過する。青色光ＬＢに対しては、光路長が赤色光ＬＲ、緑色光ＬＧと異なるのを補償するために、入射レンズ１７、リレーレンズ１８、出射レンズ１１９を含むリレーレンズ系および反射ミラー１５，１６からなる導光手段２８が設けられ、これを介して青色光ＬＢが青色光用液晶ライトバルブ２０Ｂに入射される。
【００２１】
各ライトバルブ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂにより変調された３つの色光はクロスダイクロイックプリズム２２に入射する。このダイクロイックプリズム２２は、４つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されたものである。これらの誘電体多層膜によって３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。
【００２２】
本実施の形態の場合、後述するように、各液晶ライトバルブ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂは、複数の画素を１次元的に配列したものであり、画素の配列方向は図１において紙面を貫通する方向である。そのため、クロスダイクロイックプリズム２２で合成された光も１次元的な画像を表すものである。そこで、合成光が可動ミラー２３（走査手段）で反射されると同時に、画素の配列方向と直交する方向、すなわち、図１における紙面に平行な方向に走査される。ここで用いた可動ミラー２３は、図１において紙面を貫通する方向に延びる回動軸３０を有し、回動軸３０を中心として所定の角度範囲内で回動（首振り運動）可能に構成されている。ここで、液晶ライトバルブ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの駆動と可動ミラー２３の動作は連動して行われる必要があり、そのために装置内には図示しない制御部が設けられている。すなわち、液晶ライトバルブ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂで１ラインの画像信号を書き終え、１ライン分の画像が投射された後、液晶ライトバルブ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂで次の１ラインの画像信号を書き込むと同時に、可動ミラー２３が隣の１ラインの位置に画像を投射すべく、所定の角度だけ回動する。このように、可動ミラー２３によって光が走査されつつ、投射光学系である投射レンズ系２４によってスクリーン３２上に拡大投射されることにより、通常の２次元画像が表示される。
【００２３】
（液晶ライトバルブの構成）
本実施の形態の液晶ライトバルブ２０においては、図２に示すように、複数の画素Ｇが一方向（図２における縦方向）に１次元的に配列されている。配列される画素Ｇの数は、スクリーン３２上に表示される画像の一方向（例えば縦方向）の画素数に対応している。各画素Ｇは、画素電極３５と、画素駆動用のＴＦＴ３６（スイッチング素子）と、ＴＦＴ３６のドレインに対して画素電極３５と並列に接続された付加容量３７とを有している。そして、各画素Ｇに画像信号を供給するための１本のデータ線４０が設けられ、各ＴＦＴ３６のソースがデータ線４０に接続されている。一方、各画素ＧのＴＦＴ３６のオン／オフを制御する走査線４１が画素の数と同じ本数だけ設けられている。また、液晶ライトバルブ２０には走査線駆動回路４３が内蔵されており、走査線駆動回路４３にスタートパルス、クロック、電源（Ｖｄｄ）電位、電源（Ｖｓｓ）電位などが供給される構成となっている。よって、各走査線４１には、走査線駆動回路４３から各画素ＧのＴＦＴ３６の動作を制御する走査信号が線順次に供給される。付加容量３７の一方の電極は対応するＴＦＴ３６のドレインに接続される一方、他方の電極は容量線４５に接続されている。本実施の形態の場合、走査線駆動回路４３を液晶ライトバルブ２０に内蔵しているため、外付けの駆動回路を不要とすることができる。
【００２４】
（画素のパターン例）
図２の等価回路図で示した液晶ライトバルブ２０の画素Ｇの実際のパターンを拡大視したものが図３である。
ＴＦＴ３６を構成する半導体層５０が逆Ｌ字状に形成されており、図中横方向に延びる走査線４１と半導体層５０とが交差する領域（図３中の右上がりの斜線部分）がＴＦＴ３６のチャネル領域５０ｃとなっている。半導体層５０の材料は、単結晶シリコン、多結晶シリコン（高温プロセスによるもの、低温プロセスによるもの、連続粒界シリコンを含む）、アモルファスシリコンのいずれでも良い。図中縦方向に延びるデータ線４０と半導体層５０のソース領域５０ｓとがコンタクトホール５１を介して電気的に接続されている。各画素Ｇには、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ，  以下、ＩＴＯと略記する）等の透明導電膜からなる画素電極３５が設けられており、画素電極３５と半導体層５０のドレイン領域５０ｄとがコンタクトホール５２を介して電気的に接続されている。また、半導体層５０のドレイン領域５０ｄが画素電極３５と反対側に張り出しており、この張り出し部分が容量電極５４と平面的に重なるように配置されて付加容量３７を構成している。容量電極５４はコンタクトホール５３を介して容量線４５に電気的に接続されている。
【００２５】
本実施の形態においては、透明導電膜からなる画素電極３５が図中縦方向に配列されたことによって、液晶ライトバルブ２０への入射光を透過させる透過領域Ｔが形成されている。その一方、データ線４０、走査線４１、容量線４５等の配線やＴＦＴ３６、付加容量３７等の素子が形成された領域は遮光層５５に覆われており、液晶ライトバルブ２０への入射光が入射しない非透過領域Ｈを形成している。すなわち、透過領域Ｔと非透過領域Ｈとはそれぞれ画素Ｇの配列方向に沿って長く延びた構成となっている。
【００２６】
従来一般の液晶ライトバルブは、複数の画素を２次元的（マトリクス状）に配置したものであるのに対し、本実施の形態における液晶ライトバルブ２０は、複数の画素Ｇを１次元的、すなわち一方向のみに配列した点が異なっている。そして、１次元の画像を時分割表示しつつ走査することで２次元画像を生成するため、粒状感のない滑らかな画像を得ることができる。また、透過型の液晶ライトバルブを用いているため、光の回折を利用した従来の反射型ライトバルブの場合と異なり、光源光が単波長である必要がなく、従来の３板式投射型表示装置に可動ミラーを付加する必要があるが、装置構成がそれ程複雑になることはない。
【００２７】
また、本実施の形態では、透過領域Ｔと非透過領域Ｈを画素の配列方向に沿って連続して設けているため、例えば配線や素子を非透過領域Ｈにまとめて配置することができ、透過領域Ｔにおける各画素電極３５間には配線や素子を配置する必要がない。その結果、画素Ｇ間の隙間を最小限に小さくすることができ、より画素間の継目のない滑らかな画像を得ることができる。さらに、各種配線やＴＦＴ３６、付加容量３７等を遮光層５５で覆っているため、光リーク電流の発生を抑制することができ、誤動作や表示不良等の不具合をなくすことができる。
【００２８】
より具体的に説明するために、図６に示す従来のパターン配置と図３に示す本実施の形態のパターン配置とを比較してみる。なお、図６において、図３と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
従来一般の液晶ライトバルブの場合、図６に示すように、画素が２次元的に配列されているため、図中縦方向に延びるデータ線４０に加えて、図中横方向に並ぶ複数の画素に共通の走査線４１や容量線４５を横方向に配置する必要がある。このように、各種配線を格子状に設けなければならないため、透過領域Ｔの面積が小さくならざるを得ず、開口率の向上に限界があった。これに対して、本実施の形態の場合、図３に示すように、全ての配線や素子を図中左側の非透過領域Ｈ内に収めることができるので、縦方向に並ぶ隣接する画素電極３５の間に配線を配置する必要がない。その結果、開口率が大きくできると同時に、画素間の隙間を最小限に小さくすることができ、より画素間の継目のない滑らかな画像を得ることができる。
【００２９】
［第２の実施の形態］
以下、本発明の第２の実施の形態を図４、図５を参照して説明する。
本実施の形態の投射型表示装置の全体は第１の実施の形態と同様であり、液晶ライトバルブの構成が異なるのみである。よって、投射型表示装置の全体構成の説明はここでは省略し、液晶ライトバルブの構成のみを説明する。
図４は本実施の形態の液晶ライトバルブの等価回路図、図５は同、液晶ライトバルブの画素のパターン構成を示す平面図、である。
【００３０】
（液晶ライトバルブの構成）
第１の実施の形態の液晶ライトバルブは走査線駆動回路を内蔵したものであったのに対し、本実施の形態の液晶ライトバルブは駆動回路を一切内蔵していないタイプのものである。本実施の形態の液晶ライトバルブ６０においても、図４に示すように、複数の画素Ｇが一方向（図４における縦方向）に１次元的に配列され、各画素Ｇが画素電極３５とＴＦＴ３６と付加容量３７とを有している点は第１の実施の形態と同様である。そして、各画素ＧのＴＦＴ３６の動作を制御するための１本の走査線４１が設けられ、各ＴＦＴ３６のゲート電極６１が走査線４１に接続されている。一方、各画素Ｇに対して画像信号を供給するデータ線４０が画素Ｇの数と同じ本数だけ設けられている。また、液晶ライトバルブ６０には図示しないデータ線駆動回路が外付けで接続されている。この構成により、各データ線４０には、データ線駆動回路からの画像信号が線順次に供給される。また、付加容量３７の一方の電極は各画素ＧのＴＦＴ３６のドレインに接続される一方、他方の電極は容量線４５に接続されている。本実施の形態の場合、ライトバルブ内の駆動回路が不要となるので、ライトバルブの構成が簡単になる。
【００３１】
（画素のパターン例）
図４の等価回路図で示した液晶ライトバルブ６０の画素Ｇの実際のパターンを拡大視したものが図５である。
ＴＦＴ３６を構成する半導体層５０が逆Ｌ字状に形成されており、Ｌ字状のゲート電極６１と半導体層５０とが交差する領域（図５中の右上がりの斜線部分）がＴＦＴ３６のチャネル領域５０ｃとなっている。そして、図中縦方向に延びる走査線４１とゲート電極６１とがコンタクトホール６２を介して電気的に接続されている。また、各画素Ｇに対応して図中横方向に延びるデータ線４０が設けられ、データ線４０と半導体層５０のソース領域５０ｓとがコンタクトホール５１を介して電気的に接続されている。各画素Ｇには、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極３５が設けられており、画素電極３５と半導体層５０のドレイン領域５０ｄとがコンタクトホール５２を介して電気的に接続されている。また、半導体層５０のドレイン領域５０ｄが画素電極３５と反対側に張り出しており、この張り出し部分が容量線４５と平面的に重なるように配置されて付加容量３７を構成している。また、データ線４０、走査線４１、容量線４５等の配線やＴＦＴ３６、付加容量３７等の素子が形成された領域は遮光層５５に覆われており、透過領域Ｔと非透過領域Ｈとはそれぞれ画素Ｇの配列方向に沿って長く延びた構成となっている。
【００３２】
本実施の形態の投射型表示装置においても、装置構成をそれ程複雑にすることなく、粒状感のない滑らかな画像が得られる、といった第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。また特に本実施の形態の場合、複数の画素Ｇに対応する画像信号を線順次に書き込むことができるため、画像信号を各画素Ｇに書き込む時間を長くすることができる。そのため、画素Ｇを駆動するＴＦＴ３６の能力が多少低くても対応が可能となる。また、走査線４１が１本であるから、１ラインを同時に書き込むことになり、順次書込みに起因するムラの発生を抑えることができる。
【００３３】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば上記の実施の形態で例示した投射型表示装置や液晶ライトバルブの各部材の具体的な構成や配置、画素のパターン例、等については適宜変更が可能である。また、本発明を適用し得る投射型表示装置としては、３板式の投射型液晶表示装置（液晶プロジェクタ）のみならず、単板式の投射型液晶表示装置でも良く、さらに透過型であれば液晶ライトバルブに限るものでもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の投射型表示装置の概略構成図。
【図２】同、投射型表示装置に用いる液晶ライトバルブの等価回路図。
【図３】同、液晶ライトバルブの画素のパターンを示す平面図。
【図４】第２の実施の形態の液晶ライトバルブの等価回路図。
【図５】同、液晶ライトバルブの画素のパターンを示す平面図。
【図６】従来の液晶ライトバルブの画素のパターンの一例を示す平面図。
【符号の説明】
１１…光源、１２，１３…ダイクロイックミラー（色分離手段）、２０，２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ，６０…液晶ライトバルブ（空間型光変調器）、２２…クロスダイクロイックプリズム（色合成手段）、２３…可動ミラー（走査手段）、２４…投射レンズ系（投射手段）、３５…画素電極、３６…ＴＦＴ（スイッチング素子）、４０…データ線、４１…走査線、４３…走査線駆動回路、５５…遮光層、Ｇ…画素、Ｔ…透過領域、Ｈ…非透過領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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