(57)【要約】【課題】金属プレートの面の濃淡模様が安定して発揮される装飾プレート及び装飾プレートの製造方法を提供する。【解決手段】装飾プレートを構成する金属プレート１３の表面には、直線溝１５ａ〜直線溝１５ｃと、直線溝１５ｘ〜直線溝１５ｚとが形成されている。直線溝１５ａ〜直線溝１５ｃの各々は互いに隣接して平行に形成されている。一方、直線溝１５ｘ〜直線溝１５ｚの各々も隣接して互いに平行に形成されている。そして直線溝１５ａの形成方向を規定する第１の軸１６と、直線溝１５ｘの形成方向を規定する第２の軸１８とは、ポイントＡにおいて交差している。これによって同一視点に対する直線溝１５ａ〜直線溝１５ｃからの光の反射量と直線溝１５ｘ〜直線溝１５ｚからの光の反射量とが相違する。その結果、金属プレート１３の表面には、光の反射量の差によって濃淡模様が表れることになる。【選択図】　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングによって形成された第１の線溝と、
前記第１の線溝の端部に、その端部が隣接又は接続した、エッチングによって形成された第２の線溝とを備え、
前記第１の線溝の形成方向を規定する第１の軸と、前記第２の線溝の形成方向を規定する第２の軸とが交差する、装飾プレート。
【請求項２】
前記第１の線溝及び前記第２の線溝の各々は、少なくとも２本ずつ隣接して平行に形成される、請求項１記載の装飾プレート。
【請求項３】
前記第１の線溝及び前記第２の線溝の各々の溝幅は、６０〜１００μｍであり、且つ各々の線溝の間隔は１２０〜２００μｍである、請求項２記載の装飾プレート。
【請求項４】
前記装飾プレートの前記第１の線溝及び前記第２の線溝の内面及びこれらが形成されている面は、前記エッチングによって生じる形成面より平滑な面を有する、請求項１から請求項３のいずれかに記載の装飾プレート。
【請求項５】
第１の線溝と前記第１の線溝の端部に、その端部が隣接又は接続した第２の線溝とが形成された装飾プレートの製造方法であって、
金属プレートの一方面上にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜をフォトマスクを介して前記第１の線溝及び前記第２の線溝に対応する部分を露光し、現像して開口を形成する工程と、
前記開口を介して露出した前記金属プレートの部分をエッチングして、前記第１の線溝及び前記第２の線溝を形成する工程とを備えた、装飾プレートの製造方法。
【請求項６】
前記第１の線溝及び前記第２の線溝の線溝の内面と、これらが形成された前記金属プレートの全面とを研磨する工程を更に備えた、請求項５記載の装飾プレートの製造方法。
【請求項７】
前記第１の線溝及び前記第２の線溝の内面と、これらが形成された前記金属プレートの全面をメッキする工程を更に備えた、請求項５記載の装飾プレートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は装飾プレート及び装飾プレートの製造方法に関し、特に金属プレートの表面に濃淡模様等が形成された装飾プレート及び装飾プレートの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、金属プレート表面にフォトリソグラフ法に基づいて画像を形成することが行なわれている。
【０００３】
例えば、特許文献１において、金属板の表面に画像パターンに対応したレジスト膜を形成する工程と、このレジスト膜で覆われた部分を除いて金属膜の表面をエッチングする工程と、レジスト膜を除去した後、金属板の表面を一様に再度エッチングする工程と、金属板の表面を研磨する工程とにより金属装飾板を製造する方法が開示されている。これによって金属板の装飾面のざらつきが無くなり、高い意匠性を得ることができる。更に、装飾面に埃が付きにくく、装飾面を常に清浄に保つことが可能となる。しかも、装飾面のいわゆる映り込みが無く、高品質感を得ることができるものである。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−２１９３号公報
【特許文献２】
特開２００１−１０５７９６号公報
【特許文献３】
特許第２７４４４１１号
【発明が解決しようとする課題】
上記のような従来の金属装飾板の製造方法では、画像イメージを表示することができるものの、金属プレートの面において適切な濃淡模様を形成することができるものではない。
【０００５】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、金属プレートの面の濃淡模様が安定して形成される装飾プレート及び装飾プレートの製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１記載の発明は、エッチングによって形成された第１の線溝と、第１の線溝の端部に、その端部が隣接又は接続した、エッチングによって形成された第２の線溝とを備え、第１の線溝の形成方向を規定する第１の軸と、第２の線溝の形成方向を規定する第２の軸とが交差するものである。
【０００７】
このように構成すると、同一視点での光の反射量が第１の線溝と第２の線溝とでは相違する。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明の構成において、第１の線溝及び第２の線溝の各々は、少なくとも２本ずつ隣接して平行に形成されるものである。
【０００９】
このように構成すると、第１の線溝及び第２の線溝の各々からの光の反射量が増大する。
【００１０】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明の構成において、第１の線溝及び第２の線溝の各々の溝幅は、６０〜１００μｍであり、且つ各々の線溝の間隔は、１２０〜２００μｍとしたものである。
【００１１】
請求項４記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の発明の構成において、装飾プレートの第１の線溝及び第２の線溝の内面及びこれらが形成される面は、エッチングによって生じる形成面より平滑な面を有するものである。
【００１２】
このように構成すると、第１の線溝及び第２の線溝からの光の反射量がエッチングによるもののみに比べて増加する。
【００１３】
請求項５記載の発明は、第１の線溝と第１の線溝の端部に、その端部が隣接又は接続した第２の線溝とが形成された装飾プレートの製造方法であって、金属プレートの一方面上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜をフォトマスクを介して第１の線溝及び第２の線溝に対応する部分を露光し、現像して開口を形成する工程と、開口を介して露出した金属プレートの部分をエッチングして、第１の線溝及び第２の線溝を形成する工程とを備えたものである。
【００１４】
このように構成すると、フォトマスクに基づいて第１の線溝及び第２の線溝が形成される。
【００１５】
請求項６記載の発明は、請求項５記載の発明の構成において、第１の線溝及び第２の線溝の内面と、これらが形成された金属プレートの全面とを研磨する工程を更に備えたものである。
【００１６】
このように形成すると、線溝の内面及び金属プレートの全面の平滑度が向上する。
【００１７】
請求項７記載の発明は、請求項５記載の発明の構成において、第１の線溝及び第２の線溝の内面と、これらが形成された金属プレートの全面とをメッキする工程を更に備えたものである。
【００１８】
このように構成すると、線溝の内面及び金属プレートの全面の平滑度が向上する。
【００１９】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１記載の発明は、光の反射量が第１の線溝と第２の線溝とでは相違するため、第１の線溝と第２の線溝とが濃淡をもって視認される。
【００２０】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明の効果に加えて、第１の線溝及び第２の線溝の各々からの光の反射量が増大するため、第１の線溝と第２の線溝との濃淡効果が安定して発揮される。
【００２１】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明の効果に加えて、第１の線溝及び第２の線溝の各々の溝幅や溝の間隔が微細であるため、金属プレートの面としての濃淡が視認される。
【００２２】
請求項４記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の発明の効果に加えて、第１の線溝及び第２の線溝からの光の反射量がエッチングによるもののみに比べて増加するため、視認される濃淡がより明確になる。
【００２３】
請求項５記載の発明は、フォトマスクに基づいて第１の線溝及び第２の線溝が形成されるため、微細な第１の線溝及び第２の線溝の形成が容易となり、装飾プレートの品質を向上する。
【００２４】
請求項６記載の発明は、請求項５記載の発明の効果に加えて、金属プレートの全体の平滑度が向上するため、第１の線溝及び第２の線溝からの光の反射率が高まり、これらの反射量の差により視認される濃淡がより明確になる。
【００２５】
請求項７記載の発明は、請求項５記載の発明の効果に加えて、金属プレートの全体の平滑度が向上するため、第１の線溝及び第２の線溝からの光の反射率が高まり、これらの反射量の差により視認される濃淡がより明確になる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の第１の実施の形態による装飾プレートの外観形状を示した拡大図であり、図２は図１で示した“Ｘ”部分の拡大図であり、図３は図２で示したＩＩＩ−ＩＩＩラインの断面図である。
【００２７】
これらの図を参照して、装飾プレート１１は、例えばステンレス鋼板等の金属プレート１３の表面に複数の直線溝１５が形成されて構成されている。直線溝１５は後述するように等方性エッチングによって形成されており、その断面は図３で示すようにほぼ半円状となっている。又、その端部は金属プレート１３の表面においては半円状となっている。直線溝１５は図１に示す部分においては４つのグループ１４ａ〜１４ｄに分けられており、各々のグループにおいて多数の直線溝１５が隣接して平行に形成されている。直線溝１５の溝幅Ｗは６０〜１００μｍであり、隣接する直線溝１５同志の溝の間隔Ｐは１２０〜２００μｍとなっている。尚、この実施の形態による金属プレート１３の厚さは０．１ｍｍとなっている。
【００２８】
図２に示すように、直線溝１５ａの形成方向を規定する第１の軸１６と、直線溝１５ａの端部にその端部が隣接する直線溝１５ｘの形成方向を規定する第２の軸１８とはポイントＡにおいて交差している。同様に直線溝１５ｂと直線溝１５ｙ及び直線溝１５ｃと直線溝１５ｚとにおいても各々の軸同志が同様に交差している。このように直線溝１５ａの端部に直線溝１５ｘの端部が隣接した状態で形成されているため、同一視点から直線溝１５ａ及び直線溝１５ｘを見たとき、これらの反射量が相違することになる。
【００２９】
同様に直線溝１５ｂと直線溝１５ｙともその反射量が相違し、直線溝１５ｃと直線溝１５ｚの光の反射量も相違する。これによって直線溝１５ａ〜直線溝１５ｃが形成されるグループの金属プレート１３の面と、直線溝１５ｘ〜直線溝１５ｚが形成されるグループの金属プレート１３の面とは、これらの線溝が微細に加工されているため、濃淡の差となって視認されることになる。そして、これらの線溝からの反射量は、線溝の形成方向が同一であるグループに対しては同一視点に対して同一の反射量となる。従って、図１で示したような４つのグループ１４ａ〜１４ｄにおいて、直線溝１５が各グループ毎に同一方向に形成されていると、１つおきのグループ毎の濃淡が同一となる。これによって図１に示した装飾プレート１１においては、全体として立体感が生じる模様が形成されることになる。
【００３０】
尚、直線溝１５からの反射量の差は隣接する直線溝１５の形成方向との差に基づいて生じるため、図１に示した装飾プレート１１のような直線溝１５の模様にあっては、どの視点からも濃淡の差が表れ、結果としていずれの位置から見ても立体感が生じることになる。
【００３１】
図４は図１から図３で示した装飾プレートの製造方法の概略工程を示した図である。
【００３２】
図を参照して、その（１）に示すように、金属プレート１３の表面上にフォトレジストを塗布してこれを乾燥することによって、レジスト膜１７を全面に形成する。一方、透過部２１と非透過部２２とからなるフォトマスク１９を準備しこれをレジスト膜１７上に設置する。尚、透過部２１は金属プレート１３に形成する直線溝１５に対応した大きさ及び寸法を有するものである。そしてこの状態でフォトマスク１９の上方から紫外線２３を全面に照射する。すると、照射された紫外線２３はフォトマスク１９の透過部２１を通してレジスト膜１７を露光するが、フォトマスク１９の非透過部２２の部分は透過せずその下のレジスト膜１７を露光しない。
【００３３】
次にフォトマスク１９を取り除くと、図４の（２）に示されているように、金属プレート１３の表面に形成されたレジスト膜１７において、露光部分２５と非露光部分２６とが形成されることになる。露光が終了すると所定の現像液を使用して、レジスト膜１７を現像する。すると、図４の（３）に示されているように、レジスト膜１７の露光部分２５のみがこの現像によって選択的に除去され、その部分が図４の（３）に示すように開口２８となる。これによってレジスト膜１７に形成された開口２８の部分から金属プレート１３の表面の一部が露出することになる。
【００３４】
次に、金属プレート１３のレジスト膜１７を有する表面側を腐蝕性を有するエッチング液でエッチングを行なう。このエッチングによって、金属プレート１３のレジスト膜１７に覆われていない部分が図４の（４）に示されているように部分的にエッチングされ、直線溝１５が形成される。尚、この場合のエッチングは等方性を有しているため、直線溝１５の断面形状は図のようにほぼ半円状となる。
【００３５】
エッチングが終了すると、金属プレート１３を洗浄してエッチング液を除去した後、レジスト膜１７を金属プレート１３から取り除き、再度金属プレート１３を洗浄して乾燥させる。これによって図４の（５）に示すように、金属プレート１３の表面に所望の直線溝１５が形成された装飾プレートが製造されることになる。
【００３６】
この装飾プレートの製造方法からわかるように、直線溝１５の線幅はフォトマスク１９の透過部２１に依存することになるため、微細な直線溝１５の形成が容易となる。又、隣接する直線溝１５の溝の間隔も、フォトマスク１９における非透過部２２の間隔に依存するため、同様に微細な溝同志の間隔の確保も容易となる。
【００３７】
上記の工程によって製造された装飾プレートは上述のように同一視点に対する光の反射量が異なる濃淡を持った立体的な模様となる。しかし、この反射量の相違をより明確にしてくっきりとした模様とするためには、エッチング処理の後、直線溝１５の内面及び直線溝１５が形成された金属プレート１３の表面の平滑度をより高めることが有効である。
【００３８】
この平滑度を高める方法の一つとして、電解研磨、化学研磨、機械（バフ）研磨等によって表面の平滑度をエッチングによる平滑度より高めることができる。又、研磨以外の平滑度を高める方法としては、金属プレートの表面全体をメッキすることも有効である。
【００３９】
図５はこの発明の第２の実施の形態による装飾プレートの概略形状を示した図である。
【００４０】
図を参照して、この実施の形態による装飾プレート１１は円盤形状を有している。そして、内円端３３と外円端３５とを有する円盤状金属プレート３１の表面は、内円端３３から外円端３５に向かってらせん状に伸びるらせん状部３６を１つの単位として、円周方向に連続的に区分けされている。そしてらせん状部３６の各々において、複数の直線溝１５が隣接して平行に形成されている。尚、らせん状部３６に形成される直線溝１５は、らせん状部３６の全体形状に対して一定方向に平行となるように設定されている。
【００４１】
従って、隣接するらせん状部３６の各々に形成される直線溝１５同志は、互いにその形成方向を規定する軸が平行とならず交差するように位置することになる。これによって各らせん状部３６における直線溝１５に基づく光の反射量は同一視点に対して一定となるが、隣接するらせん状部３６における直線溝１５の反射量はその同一視点に対しては異なることになる。この反射量は隣接するらせん状部３６毎に徐々に変化することになるため、全体としてらせん状部３６の部分毎が階調を持った濃淡模様として視認されることになる。
【００４２】
図６はこの発明の第３の実施の形態による装飾プレートの概略形状を示した図である。
【００４３】
図を参照して、この実施の形態による装飾プレート１１は先の第２の実施の形態によるものと同様に円盤形状を有している。そして、内円端３３と外円端３５とで規定される円盤状金属プレート３１の表面は、内円端３３から外円端３５に放射状に伸びる放射状部３８が１つの単位として周方向に連続するように構成されている。尚、放射状部３８に複数の直線溝１５が隣接した状態で平行に形成されている。そして隣接する放射状部３８における直線溝１５の形成方向は、互いそれらの形成方向を規定する軸同志が交差するように形成されている。更に、１つおきの放射状部３８における直線溝１５の形成方向は、放射状部３８の全体形状に対しては同一となるように構成されている。
【００４４】
これによって隣接する放射状部３８同志にあっては、図１で示したような立体感が円盤状金属プレート３１の表面に表れる。又、円盤状金属プレート３１全体としては、各放射状部３８に形成された直線溝１５の方向が各々異なるため、同一視点に対する光の反射量が放射状部３８毎に異なることになる。その結果、装飾プレート１１には立体感が表われるとともに、放射状部３８を１つの単位とした階調を持った濃淡模様が常に表れることになる。
【００４５】
図７はこの発明の第４の実施の形態による装飾プレートの拡大図であって、先の第１の実施の形態による図２に対応したものである。
【００４６】
先の第１の実施の形態から第３の実施の形態にあっては、金属プレートに形成される線溝は全て直線溝である。この実施の形態においては、線溝を曲線溝として構成している。すなわち、装飾プレートを構成する金属プレート１３の表面には、一定の曲率を有した曲線溝４１ａ〜曲線溝４１ｃが形成されている。一方、曲線溝４１ａ〜曲線溝４１ｃの端部に各々の端部が隣接した所定の曲率を有する曲線溝４１ｘ〜曲線溝４１ｚが形成されている。そして曲線溝４１ａの形成方向を規定する第１の軸４３と、曲線溝４１ｘの形成方向を規定する第２の軸４４とがポイントＢにおいて交差している。
【００４７】
これによって先の第１の実施の形態によるものと同様に同一視点に対する曲線溝４１ａ〜曲線溝４１ｃからの光の反射量と曲線溝４１ｘ〜曲線溝４１ｚからの光の反射量とが、隣接する端部において大きく相違することになる。このように、直線溝と同様に曲線溝にあっても、隣接した曲線溝の形成方向を変化させることによって立体感や濃淡模様を形成することが可能となる。尚、これらの曲線溝も直線溝と同様に、フォトマスクを利用したエッチングによって所望の位置に微細に形成することが容易となる。
【００４８】
尚、上記の各実施の形態では、隣接する線溝の端部同志が分離しているが、これらを互いに接続して一体化しても良い。この場合であっても互いの線溝の形成方向を規定する軸同志が交差するように、すなわち、線溝がその部分で屈曲するように構成されていれば、同様の効果を奏する。
【００４９】
又、上記の各実施の形態では、隣接する線溝は直線溝同志か曲線溝同志になっているが、隣接する線溝が直線溝と曲線溝との組み合せであっても良い。
【００５０】
更に、上記の各実施の形態では、各線溝の断面形状は同一としているが、これらの断面形状は必ずしも同一でなくても、それらの軸の関係が各実施の形態で示したような所定の関係になっていれば、同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態による装飾プレートの概略形状を示した拡大図である。
【図２】図１で示した“Ｘ”部分の拡大図である。
【図３】図２で示したＩＩＩ−ＩＩＩラインの断面図である。
【図４】この発明の第１の実施の形態による装飾プレートの製造方法を示した概略工程図である。
【図５】この発明の第２の実施の形態による装飾プレートの概略形状を示した拡大図である。
【図６】この発明の第３の実施の形態による装飾プレートの概略形状を示した拡大図である。
【図７】この発明の第４の実施の形態による装飾プレートの概略形状を示した拡大図である。
【符号の説明】
１１…装飾プレート
１３…金属プレート
１５…直線溝
１６，４３…第１の軸
１７…レジスト膜
１８，４４…第２の軸
１９…フォトマスク
２５…露光部分
２８…開口
４１…曲線溝
尚、各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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