(57)【要約】【課題】基板３０にペ−ストを塗布するロ−ルコ−タにおいて、基板３０に連続的にペ−ストを塗布するとともに良好なペ−スト膜質が得られるようにする。【解決手段】ペ−ストダム５上を往復移動しながらペ−ストを滴下する噴出ノズル４を設け、テ−ブル９に送られて来る基板３０に連続的にペ−ストを塗布する。また、噴出ノズル４にホ−スを介して供給タンクを繋ぎ、噴出ノズルの移動によるホ−スの曲がりを吸収するホ−ス保持機構を設け、ホ−スに加わる曲げ応力を抑制し、ホ−スの寿命を長くしている。【選択図】      図１
2004167355.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平行に配置されるコンマロ−ルおよびＡロ−ルと、前記コンマロ−ルと前記Ａロ−ルとの間に配置されるペ−ストダムと、該ペ−ストダムにペ−ストを噴出する噴出ノズルと、前記ペ−ストダムからの前記ペ−ストが前記Ａロ−ルを介して転写されるとともに搬送基板に前記ペ−ストを回転によって転写するＣロ−ルとを備えることを特徴とするロ−ルコ−タ。
【請求項２】
前記噴出ノズルを前記ペ−ストダムに沿って移動させる移動機構を備えることを特徴とする請求項１記載のロ−ルコ−タ。
【請求項３】
前記移動機構は、前記コンマロ−ルおよび前記Ａロ−ルを跨る門形フレ−ム内に組み込まれるとともに前記門形フレ−ムから垂下しかつ前記噴出ノズルを保持し走向する保持具とを備えることを特徴とする請求項２記載のロ−ルコ−タ。
【請求項４】
前記噴出ノズルに前記ペ−ストを供給する供給タンクと接続するホ−スを備えることを特徴とする請求項１、請求項２または請求項３記載のロ−ルコ−タ。
【請求項５】
前記供給タンクと前記噴出ノズルとを接続する前記ホ−スの中間部を保持し前記移動機構によって前記ホ−スの移動および曲がりを吸収するホ−ス保持機構を備えることを特徴とする請求項４記載のロ−ルコ−タ。
【請求項６】
前記ホ−ス保持機構は、前記ホ−スの外周囲と接触し前記噴出ノズルの移動による前記ホ−スの軸方向の移動および曲がりに応じて回転する複数のロ−ラと、これらロ−ラの回転軸を保持するとともに前記噴出ノズルの移動に伴う前記ホ−スの曲がりに応じて回転する主回転軸を備えることを特徴とする請求項５記載のロ−ルコ−タ。
【請求項７】
前記ホ−ス保持機構を一方向に移動させるスライド機構を備えることを特徴とする請求項５記載のロ−ルコ−タ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ロ−ルを用いてガラスやレジスト等のペ−ストを基板に塗布するロ−ルコ−タに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、プラズマディスプレイの基板等の基板、例えば、背面基板には、放電空間を単位発光セル毎に区画するリブがストライブ状に形成されている。このように作られた放電空間であるリブの内側には、可視光の発光をカラ−化のために赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体層が塗布され、これらリブが規則的に並べて配置されている。一方、前面基板には、放電させるための帯状の透明電極が形成され、その上を誘電体層で覆われている。そして、この一対の透明電極間の放電で生じる紫外線によって各蛍光体層が励起され発光する。
【０００３】
背面基板のリブの形成方法は、スクリ−ン印刷法、アディディブ法またはザンドブラスト法などが知られているが、なかでもサンドブラスト法は高アスペクト比が得られかつ高精細のリブ形成方法として注目されている。このサンドブラスト方法によるリブ形成方法の一つの工程において、ロ−ルコ−タにより基板上にリブ形成用のガラスペ−ストを一括に塗布し、１００〜１６０Ｃ度程度の温度で乾燥し、リブ材の厚膜を形成する。このガラスペ−スト（以下ペ−ストと記す）を基板に均一に塗布するが重要な課題であった。
【０００４】
図４は従来のロ−ルコ−タの一例における構成を示す斜視図である。この種のロ−ルコ−タは、例えば、図４に示すように、平行するＡロ−ル２５とコンマロ−ル２９との間に配置されペ−スト２８を溜め両端に一対のサイドダムスポンジ２６を具備するペ−ストダム２７を備えている。そして、Ａロ−ル１を回転させてペ−スト２８をＣロ−ル２３に転写し送り込まれる基板３０にペ−スト２８を塗布していることを特徴している。
【０００５】
また、ペ−ストダム２７内のペ−スト２８と接触するサイドダムスポンジ２６の部分に掻き捨てスクレ−パ２４を設け、ペ−スト２８が流れ落ちないように、掻き捨てスクレ−パ２４でペ−スト２８を掻き、ペ−スト受け２２にペ−スト２８漏れによる床や装置等の汚染を防止している（特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−９６００７号公報（第５−６頁、図１）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のロ−ルコ−タでは、基板が送られる毎にペ−ストをペ−ストダムに溜める必要があるので、ペ−ストを予めペ−ストダムに溜めるのに時間がかかるという問題がある。すなわち、連続的に基板にペ−ストを塗布することができない。
【０００８】
また、予めペ−ストをペ−ストダムに溜めると、大気中の浮遊塵がペ−ストに混入し、基板に塗布されるペ−スト膜質が劣化するという問題がある。
【０００９】
従って、本発明の目的は、基板に連続的にペ−ストを塗布できるとともに良好なペ−スト膜質が得られるロ−ルコ−タを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の特徴は、平行に配置されるコンマロ−ルおよびＡロ−ルと、前記コンマロ−ルと前記Ａロ−ルとの間に配置されるペ−ストダムと、該ペ−ストダムにペ−ストを噴出する噴出ノズルと、前記ペ−ストダムからの前記ペ−ストが前記Ａロ−ルを介して転写されるとともに搬送基板に前記ペ−ストを回転によって転写するＣロ−ルとを備えるロ−ルコ−タである。
【００１１】
また、前記噴出ノズルを前記ペ−ストダムに沿って移動させる移動機構を備えることが望ましい。そして、好ましくは、前記移動機構は、前記コンマロ−ルおよび前記Ａロ−ルを跨る門形フレ−ム内に組み込まれるとともに前記門形フレ−ムから垂下しかつ前記噴出ノズルを保持し走向する保持具とを備えることである。
【００１２】
一方、前記噴出ノズルに前記ペ−ストを供給する供給タンクと接続するホ−スを備えることが望ましい。また、前記供給タンクと前記噴出ノズルとを接続する前記ホ−スの中間部を保持し前記移動機構によって前記ホ−スの移動および曲がりを吸収するホ−ス保持機構を備えることことが望ましい。そして、好ましくは、前記ホ−ス保持機構は、前記ホ−スの外周囲と接触し前記噴出ノズルの移動による前記ホ−スの軸方向の移動および曲がりに応じて回転する複数のロ−ラと、これらロ−ラの回転軸を保持するとともに前記噴出ノズルの移動に伴う前記ホ−スの曲がりに応じて回転する主回転軸を備えることである。さらに、前記ホ−ス保持機構を一方向に移動させるスライド機構を備えることが望ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
次に、本発明について図面を参照して説明する。
【００１４】
図１は本発明の一実施の形態におけるロ−ルコ−タの構成を示す斜視図である。このロ−ルコ−タは、図１に示すように、平行に配置されるコンマロ−ル２およびＡロ−ル１と、コンマロ−ル２とＡロ−ル１との間に配置されるペ−ストダム５と、ペ−ストダム５にペ−ストを噴出する噴出ノズル４と、Ａロ−ル１に転写されたペ−ストをＡロ−ル１の回転によって送り込まれる基板３０にペ−ストを塗布するＣロ−ル３とを備えている。
【００１５】
また、ペ−ストを噴出させながら、噴出ノズル４をペ−ストダム５に沿って移動させる移動機構６を備えることが望ましい。そして、この移動機構６は、コンマロ−ル２およびＡロ−ル１を跨る門形フレ−ム７内に組み込まれ、この門形フレ−ム７から垂下するとともに噴出ノズル４を保持し噴出ノズル４を伴って走向する保持具８とを備えている。また、この移動機構６は、保持具８を取り付ける支持板２１に内蔵するナットと噛み合う送りねじ６ｂと、送りねじ６ｂと平行して配列され支持板２１に内蔵のガイドブッシュに摺動するガイドバ−６ａとを備えている。
【００１６】
そして、この移動機構６の送りねじ６ｂは、門形フレ−ム７に取り付けられたモ−タ２０によって回転される。このモ−タ２０は正逆回転可能なモ−タであり、噴出ノズル４がペ−ストダム５上を往復移動できる構造である。一方、テ−ブル９により基板３０は、連続的に送り込まれ、Ｃロ−ル３によってペ−ストが塗布される。また、噴出ノズル４のペ−スト噴出量は、ペ−ストダム５に貯えるペ−スト量を考慮して制御される。
【００１７】
次に、このロ−ルコ−タによるペ−スト塗布動作を説明する。まず、テ−ブル９が矢印の方向に移動し、基板３０を搬送する。これと同時に、ペ−ストダム５上を移動しながら噴出ノズル４からペ−ストが噴出され、ペ−ストダム５にペ−ストを貯える。ペ−ストダム５に貯えられたペ−ストは落ち込みＡロ−ル１に塗布される。Ａロ−ル１に塗布されたペ−ストはコンマロ−ル２によって混練され、Ａロ−ル１に転写されたペ−ストは、Ａロ−ルの回転に伴って送り込まれる基板３０に塗布される。
【００１８】
ペ−ストが基板３０に塗布している場合も、噴出ノズル４は、ペ−ストダム５上を噴出ノズル４はペ−ストを噴出しながら往復移動を行う。そして、一枚の基板３０へのペ−スト塗布が終了しても、テ−ブル９により送り込まれる基板３０へのペ−ストの塗布を行う。このように、順次送られて来る基板３０を連続的に塗布し、装置のスル−プットを短縮している。
【００１９】
また、ペ−ストダム５の開口を噴出ノズル４の外径より稍大きくし、噴出ノズル４から滴下するペ−スト量を少なくすれば、ペ−ストダム５に貯えられるペ−ストの盛りが小さくなり、大気中の汚染物の混入を少なくすることができる。
【００２０】
図２は図１のロ−ルコ−タの背面側を示す斜視図である。このロ−ルコ−タは、図２に示すように、連続的に運転できるように、ペ−ストを多量に貯える供給タンク１２と噴出ノズル４と接続する長尺なホ−ス１０を設けている。このホ−ス１０は、ゴムのように可撓性があるように外皮が形成され、そして、ペ−ストのような液状分質が円滑に供給できるように、内壁はポリテトラフルオロエチレンでコ−ティングされている。
【００２１】
また、長尺なホ−ス１０は、可撓性があるものの、矢印に示す噴出ノズル４の移動に伴って、左右に曲げられるとともにホ−ス１０自身が伸び縮みによる軸方向の移動が生ずる。もし、この長尺なホ−ス１０がコンマロ−ル２やＡロ−ル１およびテ−ブル９に接触しないように、ホ−ス１０の中間部を固定すると、ホ−ス１０に曲げ応力や伸縮を規制する応力を受けることになる。そして、これら応力を繰り返して受けることによりホ−スの寿命を短くするという新たな問題を生ずる。
【００２２】
図３は図２のＡ部を拡大して示す図である。そこで、このロ−ルコ−タでは、ホ−ス１０に繰り返して加えられる応力を緩和  するためのホ−ス保持機構１１を設けている。さらに、これら応力を確実に吸収するために、スライド機構１５を設けることが望ましい。
【００２３】
そして、ホ−ス保持機構は、図３に示すように、ホ−ス１０の側面と接触しホ−ス１０の軸方向を案内するロ−ラ１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄと、ホ−ス１０の上下面と接触しホ−ス１０の軸方向を案内するロ−ラ１４ａ，１４ｂ，１４ｄと、ロ−ラ１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄの回転軸を取付けるプレ−ト１７をホ−ス１０の曲がりに応じて回転する回転軸１８と、プレ−ト１７に取付けられるとともにホ−ス１０の曲がる方向に回転する回転軸１９とを備えている。
【００２４】
また、スライド機構１５は、ホ−ス保持機構１１の回転軸１９を固定する台１５ｃを取り付けるスライダ−１５ａと、ホ−ス１０の移動に応じてスライダ−１５ａが摺動する溝１５ｂをもつ案内部１５ｃを備えている。このスライド機構１５は、噴出ノズル４がペ−ストダム５の一端から他端に早く反転する必要があるとき、ホ−ス１０の急激な移動を吸収することができる。
【００２５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明は、基板に塗布するペ−ストを連続的に供給する手段を設けることによって、間断なく基板にペ−スト塗布でき、スル−プットが向上するという効果がある。
【００２６】
また、ペ−ストダムにペ−ストを滴下する噴出ノズルを設けることによって、ペ−ストダムに貯えられるペ−ストの盛り上げが少なくて済み、大気中の汚染物の混入が抑えられ、基板に塗布されるペ−スト膜の品質を安定して得られるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態におけるロ−ルコ−タの構成を示す斜視図である。
【図２】図１のロ−ルコ−タの背面側を示す斜視図である。
【図３】図２のＡ部を拡大して示す図である。
【図４】従来のロ−ルコ−タの一例における構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
１    Ａロ−ル
２    コンマロ−ル
３    Ｃロ−ル
４    噴出ノズル
５    ペ−ストダム
６    移動機構
６ａ    ガイドバ−
６ｂ    送りねじ
７    門形フレ−ム
８    保持具
９    テ−ブル
１０    ホ−ス
１１    ホ−ス保持機構
１２    供給タンク
１５    スライド機構
【図１】
2004167355.tif 000003
【図２】
2004167355.tif 000004
【図３】
2004167355.tif 000005
【図４】
2004167355.tif 000006