(57)【要約】【課題】光透過率やＰＣＢ濃度などの変化に対応して処理液に紫外線を効果的に照射させることができ反応制御性と処理効率に優れたＰＣＢ処理装置を提供する。【解決手段】ポリ塩化ビフェニルを含む処理液が供給される紫外線処理槽と、紫外線処理槽の内部中央に配設された紫外線ランプと、前記処理槽の両側壁面にそれぞれ対向して設けられた一対の攪拌羽根と、を備えてＰＣＢ処理装置を構成する。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ塩化ビフェニルを含む処理液が供給される紫外線処理槽と、前記紫外線処理槽の内部中央に配設された紫外線ランプと、前記処理槽の両側壁面にそれぞれ対向して設けられた一対の攪拌羽根と、を備えたことを特徴とするＰＣＢ処理装置。
【請求項２】
前記紫外線処理槽がその内壁部の一部又は全部に、鏡面仕上げされて形成された紫外線反射面を備えていることを特徴とする請求項１に記載のＰＣＢ処理装置。
【請求項３】
前記紫外線処理槽が上下方向に複数組み配置され、前記処理液を流下させて各紫外線処理槽で順次、多段処理することを特徴とする請求項１又は２に記載のＰＣＢ処理装置。
【請求項４】
酸化チタンなどの光触媒層がその表面に形成された処理液流路と、前記光触媒層を照射する紫外線ランプとを備えた光触媒分解部が前記紫外線処理槽の下流側に接続されていることを特徴とする請求項１〜３の内いずれか１項に記載のＰＣＢ処理装置。
【請求項５】
供給される処理液に塩素化合物分解酵素を添加して混合攪拌する酵素分解槽が、前記紫外線処理槽又は前記光触媒分解部に接続されていることを特徴とする請求項４に記載のＰＣＢ処理装置。
【請求項６】
ポリ塩化ビフェニルを含有する処理液にエタノールや炭酸ナトリウムなどのＰＣＢ分解調整成分を所定割合で添加する成分調整工程と、
前記成分調整工程で得られた処理液を所定の分解温度で攪拌しながら紫外線を照射する紫外線照射工程と、
前記紫外線照射された処理液を酸化チタンなどの光触媒と接触させながら紫外線を照射する光触媒分解工程と、
前記光触媒分解工程で得られた処理液に塩素化合物分解酵素を添加して所定の保持温度に維持させる酵素分解工程と、を備えたことを特徴とするＰＣＢ処理方法。
【請求項７】
前記紫外線照射工程における分解温度が５５℃〜６５℃の範囲であり、前記酵素分解工程における保持温度が３５℃〜４５℃の範囲であることを特徴とする請求項６に記載のＰＣＢ処理方法。
【請求項８】
前記塩素化合物分解酵素が、アルコールデハイドロゲナーゼ、ラクテートデハイドロゲナーゼ、アルデヒドデハイドロゲナーゼ、グルタミン酸デハイドロゲナーゼ、アスパラギン酸セミアルデヒド・デハイドロゲナーゼ、ヒスタミナーゼなどを主成分とする果汁抽出酵素であることを特徴とする請求項６又は７に記載のＰＣＢ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は塩化ビフェニルを効率的に分解して無害化できるＰＣＢ処理装置、及びＰＣＢ処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ポリ塩化ビフェニル（以下ＰＣＢという）はその安定した性状、絶縁性、電気的特性に優れていることから幅広い用途に供され、例えばトランスなどには絶縁油として使用されてきた経緯がある。
【０００３】
ところが、ＰＣＢが人体に有害であることから現在ではその製造が禁止されて使用済みのＰＣＢについては保管が義務付けられている。しかし、長期保管中にＰＣＢが自然環境に出て行くおそれがあり、しかも、ＰＣＢの保管は保管事業者にとっても負担となることから、この大量のＰＣＢを処理する必要に迫られている。
【０００４】
そこで、ＰＣＢの処理方法として、高温焼却処理方法や、水熱分解処理方法、光触媒分解方法、酵素分解方法などが提案されている。
【０００５】
高温焼却処理方法は、ＰＣＢを高温で焼却分解処理するために処理条件の制御が困難で未分解のＰＣＢが灰に含まれるおそれがある上に、処理温度が低くなるとさらに有害なダイオキシンが発生するなどの焼却管理上の問題があった。
【０００６】
水熱分解処理方法は、高温高圧の熱水中でＰＣＢを炭酸ナトリウムなどで脱塩素化し、次いで酸化反応によって分解するものであり、高温高圧に維持するための処理タンクなどを要し、プラントとしても大型となり、コストが高くなることから簡単には導入しにくいという問題があった。
【０００７】
以上のような背景から、近年、ＰＣＢを含む処理液の分解処理を低温で行うことができ、操作が比較的簡単な光触媒分解法や紫外線照射分解法、酵素分解法などが注目されている。例えば、これらの技術に関連して、以下のようなものが開示されている。
【０００８】
特許文献１には、  酸化チタンを用いたＰＣＢの光触媒分解法であって、被処理液となるＰＣＢ含有液を反応制御剤により調整し、この調整したＰＣＢ含有液を紫外線の照射下で光触媒反応によりＰＣＢを光分解処理するようにしたＰＣＢの光触媒分解法が記載されている。
【０００９】
特許文献２には、  分解処理対象となる含塩素系有機化合物と、溶媒としてのイソプロピルアルコールとを混合し、得られた混合液中に溶解する酸素を除去した後、中和剤を溶解し、得られた被処理液に対して紫外線を照射することにより、前記含塩素系有機化合物を脱塩素化するようにした紫外線照射分解法が記載されている。
【００１０】
特許文献３には、パイナップル果汁を熱風乾燥したパイナップル酵素の粉末と、生石灰粉末及び鉱滓から成る塩素化合物分解剤をＰＣＢ処理水と混合し、２０〜１００℃にて１２〜７２時間保温するようにした塩素化合物の酵素分解法が記載されている。
【００１１】
【特許文献１】
特開２００１−２９９４２号公報
【００１２】
【特許文献２】
特開２００２−１６７３３９号公報
【００１３】
【特許文献３】
特開平６−２８５１８１号公報
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、特許文献１〜３に記載された従来のＰＣＢの処理方法では、以下のような課題があった。
（イ）特許文献１、２に記載の分解方法は、処理液に紫外線を効果的に照射させるための照射機構や攪拌機構を備えていないので、その反応を均一かつ適正に制御することが困難であるという課題があった。
（ロ）紫外線を利用した光分解反応では、ＰＣＢ濃度が１００ｐｐｍ程度の低レベルに達すると分解率が急速に悪化してしまうという課題があった。
（ハ）ＰＣＢの光分解に伴って反応生成物が発生して、光の透過率が低減し反応効率が悪くなるという課題があった。
（ニ）特許文献３に記載の酵素分解方法では、酵素分解反応の速度が遅く、長時間処理を要して、実用レベルでの大量処理が困難であるという課題があった。
【００１５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、光透過率やＰＣＢ濃度などの変化に対応して処理液に紫外線を効果的に照射させることができ、反応制御性と処理効率に優れたＰＣＢ処理装置を提供すると共に、ＰＣＢ含有液を効果的かつ大量に処理でき経済性にも優れたＰＣＢ処理方法を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明は、以下の態様によって実現される。
（１）本発明のＰＣＢ処理装置は、ポリ塩化ビフェニルを含む処理液が供給される紫外線処理槽と、前記紫外線処理槽の内部中央に配設された紫外線ランプと、前記紫外線処理槽の両側壁面にそれぞれ対向して設けられた一対の攪拌羽根とを備えて構成される。
（２）本発明のＰＣＢ処理装置は、前記（１）において、前記紫外線処理槽がその内壁部の一部又は全部に、鏡面仕上げされて形成された紫外線反射面を備えている。
（３）本発明のＰＣＢ処理装置は、前記（１）及び（２）において、前記紫外線処理槽が上下方向に複数組み配置され、前記処理液を流下させて各紫外線処理槽で順次、多段処理するように構成することができる。
（４）本発明のＰＣＢ処理装置は、前記（１）〜（３）において、酸化チタンなどの光触媒層がその表面に形成された処理液流路と、前記光触媒層を照射する紫外線ランプとを備えた光触媒分解部が前記紫外線処理槽の下流側に接続される。
（５）本発明のＰＣＢ処理装置は、前記（４）において、供給される処理液に塩素化合物分解酵素を添加して混合攪拌する酵素分解槽が、前記紫外線処理槽又は前記光触媒分解部に接続されている。
（６）本発明のＰＣＢ処理方法は、ポリ塩化ビフェニルを含有する処理液にエタノールや炭酸ナトリウムなどのＰＣＢ分解調整成分を所定割合で添加する成分調整工程と、前記成分調整工程で得られた処理液を所定の分解温度で攪拌しながら紫外線を照射する紫外線照射工程と、前記紫外線照射された処理液を酸化チタンなどの光触媒と接触させながら紫外線を照射する光触媒分解工程と、前記光触媒分解工程で得られた処理液に塩素化合物分解酵素を添加して所定の保持温度に維持させる酵素分解工程と、を備えて構成されている。
（７）本発明のＰＣＢ処理方法は、前記（６）において、前記紫外線照射工程における分解温度が５５℃〜６５℃の範囲であり、前記酵素分解工程における保持温度が３５℃〜４５℃の範囲であるように構成されている。
（８）本発明のＰＣＢ処理方法は、前記（６）又は（７）において、前記塩素化合物分解酵素が、アルコールデハイドロゲナーゼ、ラクテートデハイドロゲナーゼ、アルデヒドデハイドロゲナーゼ、グルタミン酸デハイドロゲナーゼ、アスパラギン酸セミアルデヒド・デハイドロゲナーゼ、ヒスタミナーゼなどを主成分とする果汁抽出酵素であるように構成されている。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施の形態に係るＰＣＢ処理装置は、ポリ塩化ビフェニルを含む処理液が供給される紫外線処理槽と、紫外線処理槽の内部中央に配設された紫外線ランプと、紫外線処理槽の両側壁面にそれぞれ対向して設けられた一対の攪拌羽根と、を備えている。この一対の攪拌羽根をＰＣＢ濃度や温度などに対応した所定の回転数で作動させることで紫外線ランプの周囲に有効な攪拌流を生起させることができる。こうして、ＰＣＢの分解反応に伴って処理液の濃度が不均一化したり、反応生成物によって光透過率などが変動したりしても、これに対応して処理液に紫外線を均一かつ効果的に照射でき、反応制御性と処理効率に優れたＰＣＢ処理装置を提供できる。
【００１８】
ここで、ＰＣＢを含む処理液としては、廃トランスなどから取り出されたＰＣＢにエタノールや水を所定量、例えばＰＣＢ：１ｍｇに対して０．５〜２ｇのエタノールを加えて溶解し、ＰＣＢ分解調整成分となる炭酸ナトリウムなどを所定量、例えばＰＣＢ：１ｍｇに対して４０〜６０ｇを添加した溶液などが適用できる。
【００１９】
紫外線処理槽は、耐薬品性の鋼材やステンレススチールなどからなる略直方体状や略円筒状などの容器体であって、その中央上部に基端側が支持されて垂設され、先端側が処理液に浸漬される棒状の紫外線ランプを備えている。
【００２０】
攪拌羽根は耐薬品性鋼材などからなり２枚〜６枚羽根などのものが適用でき、その羽根径は紫外線処理槽の処理液深さに対してその１／４〜１／２程度の大きさに形成される。紫外線ランプの左右に配置される一対の攪拌羽根の回転数及び回転方向は制御装置でそれぞれ制御され、処理液中のＰＣＢ濃度や処理液温度、処理液供給速度などの処理条件に応じて所定の適正な回転数及び回転方向となるように設定される。
【００２１】
また、本実施の形態のＰＣＢ処理装置は、紫外線処理槽の内壁部の一部又は全部に鏡面仕上げされて形成された紫外線反射面を備えることもでき、これによって、紫外線ランプから処理液に照射される紫外線を中心部に反射集光させて照射効率を高めることができ、ＰＣＢの分解効率を高めてＰＣＢ処理装置を低コストで経済的に稼働できる。
【００２２】
ここで、紫外線反射面は、クロームメッキや電界研磨、バフ研磨などの表面処理によって鏡面仕上げされた円筒状や平板状、球面状などの反射面であって、紫外線処理槽の内壁面を直接仕上げ加工したり、別途設けた鏡面部材をこの内壁面に取り付けたりして用いることができる。紫外線反射面の設置面積は紫外線処理槽の全内壁面に対してその１／４以上の範囲に設けることが好ましい。これは、設置面積が１／４より少ないと紫外線の集光効果が減退する傾向が現れるからである。
【００２３】
本実施の形態のＰＣＢ処理装置は、前記構成の紫外線処理槽を複数多段配置して、処理液をこれらの紫外線処理槽で順次、多段処理することができ、これによって、各紫外線処理槽における処理液中のＰＣＢ濃度に応じた適正条件でＰＣＢの分解処理を行うことができ、全体の処理コストを削減するとともに確実にＰＣＢ濃度を低減できる。
【００２４】
さらに本実施の形態のＰＣＢ処理装置は、前記紫外線処理槽の下流側に、光触媒層がその表面に形成された処理液流路と、光触媒層を照射する紫外線ランプとを備えた光触媒分解部を配置するようにしてもよい。これによって、紫外線処理槽で処理された比較的低濃度のＰＣＢの分解処理をその最適条件下で効率的に行うことができる。
【００２５】
光触媒としては粉末状や塊状、粒状、平板状などの酸化チタンなどの含チタン化合物などが好適に用いられ、これを処理液が流下する流路の内壁面に層状などに敷きつめたり、含チタン化合物を担持させた板状体などを配置して処理液と接触させて、紫外線照射下でＰＣＢを分解する。すなわち、光触媒は紫外線を吸収するとその構成原子の価電子帯の電子が伝導帯へ励起され、この励起された電子による還元作用によってヒドロキシラジカルなどを発生させ、このラジカルをＰＣＢに作用させて効果的に分解処理することができる。
【００２６】
本実施の形態のＰＣＢ処理装置は、供給される処理液に塩素化合物分解酵素を添加して混合攪拌する酵素分解槽を前記紫外線処理槽又は前記光触媒分解部に接続して設けることもできる。これによって、最終処理される低ＰＣＢ濃度の処理液をパイナップルなどから抽出した塩素化合物分解酵素を用いて分解処理を行うことができ、ＰＣＢを含む処理液を簡易かつ安全に分解することができると共に、該酵素は容易かつ安価に入手できるので経済性にも優れている。
【００２７】
本実施の形態のＰＣＢ処理方法は、ポリ塩化ビフェニルを含有する処理液にエタノールや炭酸ナトリウムなどのＰＣＢ分解調整成分を所定割合で添加する成分調整工程と、前記成分調整工程で得られた処理液を所定の分解温度で攪拌しながら紫外線を照射する紫外線照射工程と、前記紫外線照射された処理液を酸化チタンなどの光触媒と接触させながら紫外線を照射する光触媒分解工程と、前記光触媒分解工程で得られた処理液に塩素化合物分解酵素を添加して所定の保持温度に維持させる酵素分解工程と、を備えている。これらの成分調整工程、紫外線照射工程、光触媒分解工程、酵素分解工程を順次実行することによって、各工程における光透過率やＰＣＢ濃度などの変化に対応して処理液を最適条件で処理できる反応制御性と処理効率に優れると共に、ＰＣＢ含有液を効果的かつ大量に処理でき経済性にも優れたＰＣＢ処理方法を提供することができる。
【００２８】
ここで紫外線照射工程における分解温度を５５℃〜６５℃の範囲とすることが以下の理由から好ましい。すなわち、分解温度が５５℃より低くなると、分解効率が著しく低下する傾向が現れ、逆に６５℃を超えると処理液の蒸発量が増加して管理面で支障が生じコスト的にも不利になるからである。
【００２９】
酵素分解工程における保持温度は３５℃〜４５℃の範囲とすることが好ましい。これは、保持温度が２５℃より低いと塩素化合物分解酵素によるＰＣＢ分解作用を効果的に利用することが困難となり、逆に４０℃を超えると分解酵素が変性してその分解機能が阻害される傾向が顕著になるからである。
【００３０】
塩素化合物分解酵素としては、アルコールデハイドロゲナーゼ、ラクテートデハイド、ロゲナーゼ、アルデヒドデハイドロゲナーゼ、グルタミン酸デハイドロゲナーゼ、アスパラギン酸セミアルデヒド・デハイドロゲナーゼ、ヒスタミナーゼなどを主成分とするパイナップルなどから抽出された果汁抽出酵素が適用でき、これに必要に応じて酵素担体や攪拌補助材としてのゼオライト粒やスラグ粒などを添加したものを適用できる。これによって、取り扱いなどの安全性に優れ、しかも安価な原料を用いて、ＰＣＢ含有液の分解処理を効率的に行うことができる。
【００３１】
以上説明してきたように、本実施の形態によれば、光透過率やＰＣＢ濃度などの変化に対応して処理液中のＰＣＢを最適条件で分解処理ができ、反応制御性と処理効率に優れた処理システムを構築できると共に、ＰＣＢ含有液を効果的かつ大量に処理できる。これによって、ＰＣＢを低コストで容易に無害化処理することができる。
【００３２】
（実施例）
以下、本発明の実施例におけるＰＣＢ処理装置について図面に基づいてさらに具体的に説明する。
【００３３】
図１は本発明に係るＰＣＢ処理装置の一実施例を示す全体説明図、図２は同平面視による説明図、図３は同側面視による説明図、図４は同ＰＣＢ処理装置の紫外線処理槽の平面視による説明図、図５は同側面視による説明図である。
【００３４】
図１に示すように、本実施例のＰＣＢ処理装置１０は、ＰＣＢ容器１１などから取り出されたＰＣＢ含有物を貯留するＰＣＢ貯留タンク１２と、ＰＣＢ貯留タンク１２のＰＣＢ含有物にエタノールタンク１３のエタノールを添加した処理液が供給される上中下３段組みからなる紫外線処理槽１４、１４ａ、１４ｂと、最下流部の紫外線処理槽１４ｂに接続配置され紫外線ランプを備えた光触媒分解部１５と、光触媒分解部１５で処理された処理液に酵素タンク１６に貯留された塩素化合物分解酵素などを含む塩素化合物分解剤を注入して酵素分解処理を行う酵素分解槽１７と、酵素分解処理された処理液が順次供給される静置槽１８、１８ａ、１８ｂとを備えている。
【００３５】
図２及び図３に示すようにＰＣＢ処理装置１０は、４本の柱体１０ａとこれらをそれぞれ連結する上下の梁体１０ｂからなる枠体に、所要の構成要素を配置したコンパクトな構成としている。
【００３６】
すなわち、枠体内に上中下三段に紫外線処理槽１４〜１４ｂを配置し、下部に静置槽１８〜１８ｂを配設し、静置槽の上部に光触媒分解部１５を配置して各槽をジグザグ状の搬送流路で連結した構成としている。なお、１０ｃは作業用ステップであり、比較的高所に配設された光触媒分解部１５のメンテナンスなどが容易にできるようにしている。
【００３７】
紫外線処理槽１４〜１４ｂは、図４、図５に示すように略矩形箱型の容器体であって、その対向する内壁面に３枚組みや４枚組みなどの攪拌羽根２０、２０ａが設けられ、それぞれの羽根が回転モータ２１、２１ａを介して駆動される。そして、左右一対の攪拌羽根２０、２０ａ間の紫外線処理槽１４〜１４ｂの内部中央には棒状の紫外線ランプ２２が槽上部に渡設された覆板部から固定部材２２ａを介して懸下された状態で垂設されている。ＰＣＢ貯留タンク１２から供給される処理液は槽上部に設けられた処理液供給管２３から供給され、槽下部に設けられた処理液排出管２４から吐出される。なお、２５は紫外線処理槽清掃用の廃液排出管、２６はその天井部に設けられた槽内の発生ガスを排出させるためのガス抜き管である。紫外線処理槽１４の上面には、対象処理液の供給量を検出するための油量計２７を設けており、処理液の量に見合った分量の分解液を紫外線処理槽１４に供給し、適切な混合比で両者を混合するようにしている。
【００３８】
紫外線処理槽１４〜１４ｂの内壁面はその底部、側壁部がそれぞれメッキ処理されて鏡面状に表面加工されている。これによって、図５に点線で図示するように紫外線ランプ２２から照射される紫外線を紫外線ランプ２２に向けて集光させ、紫外線をＰＣＢに効果的に照射して、その処理効率を向上させるようにしている。
【００３９】
本実施例における処理液、水、塩素化合物分解剤との混合比は、処理液：水：塩素化合物分解剤＝１００：１００：５（容積比）となるようにしている。なお、処理液１００重量部に対して水を１００重量部、塩素化合物分解剤を５重量部としても処理能力的には殆ど変化はないことが分かっている。
【００４０】
このように、紫外線処理槽１４〜１４ｂにおいて、処理液と分解液とを混合して処理液とするとともに、同処理液を攪拌羽根２０、２０ａにより混合攪拌してエマルジョン化するようにしている。なお、各紫外線処理槽１４〜１４ｂにおける攪拌時間は１０分〜３０分とすることが好ましい。
【００４１】
酵素タンク１６には塩素化合物分解酵素を含有する塩素化合物分解剤が貯留される。このような塩素化合物分解剤としては、例えば、特許文献３に記載されているようなパイナップル果汁などから抽出された酵素と、消石灰の粉末もしくは顆粒と、鉱渣などを含むものが好適に用いられる。
【００４２】
光触媒分解部１５は、図１に示すようにやや傾斜した樋状の処理液流路１５ａと、その流路に沿って上方に配置された紫外線ランプ１５ｂとを備え、流下する処理液が接する処理液流路１５ａの流路面上には、酸化チタンなどの粉末や粒子で形成した充填層や、これらの粉末を板状などに成形焼結させた多孔質体などの光触媒層が形成されている。そしてこれらの傾斜配置された処理液流路１５ａを上下方向に順次、ジグザグ状にコンパクトに多段配置して、全体レイアウトにおける空間利用効率を高めるようにしている。
【００４３】
酵素分解槽１７は略矩形箱状に形成された容器体であって、その対向する内壁面に駆動装置１７ａ、１７ｂを介してそれぞれ駆動される左右一対の４枚組みなどの攪拌羽根１７ｃ、１７ｄを備えている。なお、この攪拌羽根１７ｃ、１７ｄはそれぞれ独立に回転方向及び回転速度を図示しない制御装置を介して制御することが可能であり、槽内の処理液のＰＣＢ濃度や温度、供給速度などに対応して、酵素によるＰＣＢの分解反応が適正化される条件下で処理液を効果的に攪拌できる。
【００４４】
静置槽１８〜１８ｂは、枠体の下部に設けられており、前記紫外線処理槽１４と同様に矩形箱状に構成され、必要に応じて温度調節用のヒータや処理液を全体的に均一攪拌させるための攪拌機などを設けることができる。これによって、例えば各静置槽１８〜１８ｂ毎にそれぞれ異なる温度条件や攪拌条件を設定して、供給される処理液中に含まれる残留酵素によってＰＣＢ濃度が低いレベルでの脱塩素化を適正に行うことが可能となる上に、複数の静置槽１８〜１８ｂを備えるので処理液の大量処理に対して各槽を切り換えながらＰＣＢ処理システムを柔軟に運用できる。
【００４５】
以上のように構成されたＰＣＢ処理装置１０に適用されるＰＣＢ処理方法を以下に説明する。この実施例に係るＰＣＢ処理方法は、（１）成分調整工程、（２）紫外線照射工程、（３）光触媒分解工程、（４）酵素分解工程を備えて構成されている。
（１）成分調整工程では、ＰＣＢ貯留タンク１２に貯留された処理液とエタノールタンク１３内のエタノールとをそれぞれ図示しない供給ポンプなどを介して所定成分割合となるように紫外線処理槽１４に供給する。なお、紫外線処理槽１４には希釈液として水やメタノール、ブタノールなどの有機溶媒や、炭酸ナトリウムなどのＰＣＢ分解調整成分を必要に応じて添加してもよい。
（２）紫外線照射工程では、紫外線処理槽１４において紫外線ランプ２２の両側に対向して配置された攪拌羽根２０、２０ａを回転モータ２１、２１ａを介してそれぞれ所定の回転方向と、回転速度で回転させる。これによって、エタノールや炭酸ナトリウムなどのＰＣＢ分解調整成分が所定割合で添加された処理液を紫外線ランプ２２の周囲で旋回対流させると共に、紫外線ランプ２２を介して効果的に紫外線を照射して、ＰＣＢの紫外線吸収による分解を促進させることができる。こうして、多段配置された紫外線処理槽１４〜１４ｂにおいてそれぞれ５５℃〜６５℃の範囲の分解温度となる攪拌条件で処理液の紫外線照射処理を順次行うことによって、ＰＣＢ濃度や処理速度などによって異なるＰＣＢ分解速度を適正範囲に維持して処理システムを円滑に作動させることができる。
（３）光触媒分解工程においては、最下段の紫外線処理槽１４ｂから供給されるＰＣＢ濃度が所定範囲に低減された処理液を光触媒層が形成された処理液流路１５ａに流下させるとともに、その上方から紫外線ランプ１５ｂを介して紫外線を照射する。これによって、ＰＣＢ濃度を一段階下の低レベル領域に引き下げることができる。
（４）酵素分解工程では、光触媒分解部１５から排出される処理液を酵素分解槽１７に供給すると共に、酵素タンク１６からアルコールデハイドロゲナーゼ、ラクテートデハイドロゲナーゼ、アルデヒドデハイドロゲナーゼ、グルタミン酸デハイドロゲナーゼ、アスパラギン酸セミアルデヒド・デハイドロゲナーゼ、ヒスタミナーゼなどを主成分とする果汁抽出酵素を含有する塩素化合物分解剤を所定量添加して攪拌羽根１７ｃ、１７ｄを駆動装置１７ａ、１７ｂを介してそれぞれ駆動させ、３５℃〜４５℃の保持温度に所定時間維持させる。
【００４６】
これによって、前記（１）〜（３）の工程で未分解のＰＣＢが含まれている場合でも、環境基準の許容範囲内にＰＣＢ濃度を効率的に低減できる。
【００４７】
最後にこの処理液を静置槽１８〜１８ｂに約１日貯留させて、さらに別のタンクなどへ移して１〜４日程度寝かせておくことで分解反応が進行して処理液を確実に無害化することができる。なお、このときには窒素を適宜含ませておくことが好ましく、窒素により前記果汁抽出酵素を含有する塩素化合物分解剤の効果を持続させることができる。こうして、静置槽１８〜１８ｂの底部に析出した沈殿物は焼却処理し、無害化した廃液は、紫外線処理槽１４や光触媒分解部１５などに供給する希釈水などとして処理液と混合してリサイクルさせることもできる。
【００４８】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、一対の攪拌羽根をＰＣＢ濃度や温度などに対応した所定の回転数で作動させることで紫外線ランプの周囲に有効な攪拌流を生起させることができるので、ＰＣＢの分解反応に伴って処理液の濃度が不均一化したり光透過率などが変動したりしてもこれに対応して処理液に紫外線を均一かつ効果的に照射でき、反応制御性と処理効率に優れたＰＣＢ処理装置を提供できる。
【００４９】
請求項２に記載の発明によれば、請求項１に記載の効果に加えて、紫外線処理槽において紫外線ランプから処理液に照射される紫外線を中心部に反射集光させて照射効率を高めることができ、ＰＣＢの分解効率を高めてＰＣＢ処理装置を低コストで経済的に稼働できる。
【００５０】
請求項３に記載の発明によれば、請求項１又は２に記載の効果に加えて、各紫外線処理槽における処理液中のＰＣＢ濃度に応じた適正条件でＰＣＢの分解処理を行うことができ、全体の処理コストを削減するとともに確実にＰＣＢ濃度を低減できる。
【００５１】
請求項４に記載の発明によれば、請求項１〜３の内いずれか１項に記載の効果に加えて、紫外線処理槽で処理された比較的低濃度のＰＣＢの分解処理を光触媒分解部を用いてその最適条件下で効率的に行うことができる。
【００５２】
請求項５に記載の発明によれば、請求項４に記載の効果に加えて、最終処理される低ＰＣＢ濃度の処理液をパイナップルなどから抽出した塩素化合物分解酵素を用いて分解処理を行うことができ、ＰＣＢを含む処理液を簡易かつ安全に分解することができると共に、酵素を容易かつ安価に入手できるので経済性にも優れている。
【００５３】
請求項６に記載の発明によれば、成分調整工程、紫外線照射工程、光触媒分解工程、酵素分解工程を順次実行することによって、各工程における光透過率やＰＣＢ濃度などの変化に対応して処理液を最適条件で処理できる反応制御性と処理効率に優れると共に、ＰＣＢ含有液を効果的かつ大量に処理でき経済性にも優れたＰＣＢ処理方法を提供することができる。
【００５４】
請求項７に記載の発明によれば、請求項６に記載の効果に加えて、紫外線照射工程における分解温度を特定範囲するので、分解条件や処理液の蒸発量を適正化して管理面で支障が生じてコスト的にも不利になるようなことを防止できるとともに、塩素化合物分解酵素の変性を防止しながら塩素化合物分解酵素によるＰＣＢ分解作用を効果的に持続させることができる。
【００５５】
請求項８に記載の発明によれば、請求項６又は７に記載の効果に加えて、果汁抽出酵素などを含有する塩素化合物分解剤が適用できるので、取り扱いなどの安全性に優れ、しかも安価な原料を用いて、ＰＣＢ含有液の分解処理を効率的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るＰＣＢ処理装置の一実施例を示す全体説明図である。
【図２】同平面視による説明図である。
【図３】同側面視による説明図である。
【図４】紫外線処理槽の平面視による説明図である。
【図５】紫外線処理槽に側面視による説明図である。
【符号の説明】
１０  ＰＣＢ処理装置
１０ａ  柱体
１０ｂ  梁体
１０ｃ  作業用ステップ
１１  ＰＣＢ容器
１２  ＰＣＢ貯留タンク
１３  エタノールタンク
１４、１４ａ、１４ｂ  紫外線処理槽
１５  光触媒分解部
１６  酵素タンク
１７  酵素分解槽
１８、１８ａ、１８ｂ  静置槽
２０、２０ａ  攪拌羽根
２１、２１ａ  回転モータ
２２  紫外線ランプ
２２ａ  固定部材
２３  処理液供給管
２４  処理液排出管
２５  廃液排出管
２６  ガス抜き管
２７  油量計
【図１】
2004261519.tif 000003
【図２】
2004261519.tif 000004
【図３】
2004261519.tif 000005
【図４】
2004261519.tif 000006
【図５】
2004261519.tif 000007