(57)【要約】【課題】基板の表面にエッチングや現像等の処理のむらが発生するのを抑制する。【解決手段】表面にエッチング液や現像液等が塗布された基板１は、洗浄槽内をローラ２によって基板移動方向へ移動される間に洗浄される。ノズルヘッダー３ａには、複数のノズル４ａが基板移動方向側へ斜め下向きに取り付けられている。一方、ノズルヘッダー３ｂには、複数のノズル４ｂが基板移動方向と反対側へ斜め下向きに取り付けられている。ノズルヘッダー３ｂの各ノズル４ｂは、ノズルヘッダー３ａの各ノズル４ａの中間の位置に配置されている。ノズル４ａから吐出された洗浄液５ａ及びノズル４ｂから吐出された洗浄液５ｂは、基板１の表面上で基板移動方向に同じ範囲へ供給される。ノズルヘッダー３ｃ，３ｄについても、同様である。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に処理液が塗布された基板を移動する基板移動手段と、複数のノズルを有し、基板の表面へ洗浄液を供給する第１の洗浄液供給手段と、
前記第１の洗浄液供給手段のノズルの位置と異なる位置に複数のノズルを有し、基板移動方向に前記第１の洗浄液供給手段と離して設けられ、基板の表面へ洗浄液を供給する第２の洗浄液供給手段とを備え、
前記第１の洗浄液供給手段及び前記第２の洗浄液供給手段は、基板の表面上で基板移動方向に同じ範囲へ洗浄液を供給することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記第１の洗浄液供給手段及び前記第２の洗浄液供給手段は、基板の表面上で両手段の中間の範囲へ洗浄液を供給することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記第１の洗浄液供給手段内及び前記第２の洗浄液供給手段内の隣り合う２つのノズルから吐出された洗浄液が、基板の表面上で一部重なることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
表面に処理液が塗布された基板を移動しながら、第１のノズル群と、基板移動方向に第１のノズル群と離して設けられ、各ノズルの位置が第１のノズル群の各ノズルの位置と異なる第２のノズル群とを用いて、基板の表面へ洗浄液を供給する基板洗浄方法において、
第１のノズル群から洗浄液が供給される範囲と、第２のノズル群から洗浄液が供給される範囲とを、基板の表面上で基板移動方向に同じ範囲としたことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いて、または請求項４に記載の基板洗浄方法を用いて基板を製造することを特徴とする基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エッチング液や現像液等の処理液が塗布された基板の表面を洗浄する基板洗浄装置、基板洗浄方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に係り、特に基板を移動しながら複数のノズルを用いて基板の表面へ洗浄液を供給する基板洗浄装置、基板洗浄方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板等の製造工程においては、エッチング液や現像液等の処理液を基板の表面に塗布してエッチングや現像等の処理を行った後、処理液を除去するために基板の洗浄が行われる。
【０００３】
図６は、従来の基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。基板１は、図示しないエッチング槽や現像槽等で表面にエッチング液や現像液等が塗布された後、基板洗浄装置が設備された洗浄槽へ搬送され、洗浄槽内をローラ２によって矢印で示した基板移動方向へ移動される間に洗浄されて、次工程の設備へ搬送される。ローラ２に搭載された基板１の上方には、基板移動方向に複数のノズルヘッダー６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅが配置されている。
【０００４】
ノズルヘッダー６ａには、図面の奥行き方向に、複数のノズル７ａが下向きに取り付けられている。各ノズル７ａは、循環水や純水等の洗浄液８ａをローラ２に搭載された基板１の表面へ向かって吐出する。同様に、ノズルヘッダー６ｂには、図面奥行き方向に、複数のノズル７ｂが下向きに取り付けられている。各ノズル７ｂは、循環水や純水等の洗浄液８ｂをローラ２に搭載された基板１の表面へ向かって吐出する。ノズルヘッダー６ｃ，６ｄ，６ｅについても、同様である。
【０００５】
図７は、従来の基板洗浄装置のノズルヘッダーの一例を示す正面図である。図７（ａ）はノズルヘッダー６ａ，６ｃ，６ｅを示し、図７（ｂ）はノズルヘッダー６ｂ，６ｄを示す。図７に示した例では、ノズルヘッダー６ａには、１４個のノズル７ａが所定の間隔で取り付けられている。ノズルヘッダー６ｃ，６ｅについても、同様である。一方、ノズルヘッダー６ｂには、１３個のノズル７ｂが所定の間隔で取り付けられている。ノズルヘッダー６ｂの各ノズル７ｂは、図面の横方向において、ノズルヘッダー６ａの各ノズル７ａの中間の位置に配置されている。ノズルヘッダー６ｄについても、同様である。
【０００６】
図８は、従来の基板洗浄装置から基板の表面へ供給された洗浄液の一例を示す上面図である。ノズル７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ，７ｅから吐出された洗浄液８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ，８ｅは、基板移動方向と直角の方向に長い楕円形に広がる。そして、基板１の表面上において、図８に示すように千鳥状に配置される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来の基板洗浄装置では、１つのノズルヘッダーから供給された洗浄液が、基板１の表面全体へ供給されるわけではない。基板１の表面では、例えばノズルヘッダー６ａのノズル７ａから吐出された洗浄液８ａが供給されない部分が発生する。そして、この部分には、基板１が移動することによって、次のノズルヘッダー６ｂのノズル７ｂから吐出された洗浄液８ｂが供給される。このように、ノズルの位置が異なるノズルヘッダーを基板移動方向に複数設けることにより、基板１の表面全体に渡って洗浄液が供給される。
【０００８】
しかしながら、例えばノズルヘッダー６ａのノズル７ａから吐出された洗浄液８ａが供給される部分と、供給されずにノズルヘッダー６ｂのノズル７ｂから吐出された洗浄液８ｂが供給される部分とでは、洗浄液が供給されるタイミングが異なる。このため、前の工程で塗布されたエッチング液や現像液等の処理液が洗浄液により除去されるまでの処理液反応時間が異なり、基板の表面にエッチングや現像等の処理のむらが発生するという問題があった。
【０００９】
これに対し、ノズルの間隔等を調整して、１つのノズルヘッダーから供給された洗浄液が基板の表面全体へ供給されるようにすると、エッチングや現像等の処理のむらをある程度減少させることができる。しかしながら、各ノズルが常に同じ圧力及び流量で洗浄液を吐出するとは限らず、また各ノズルから吐出された洗浄液が必ずしも均一に広がって基板の表面へ供給されるわけではないので、１つのノズルヘッダーから供給される洗浄液の圧力分布及び流量分布は一定にはならない。このため、基板には依然として供給される洗浄液の圧力分布の違いや流量分布の違いによるエッチングや現像等の処理のむらが発生する。
【００１０】
本発明は、基板の表面にエッチングや現像等の処理のむらが発生するのを抑制することを目的とする。
【００１１】
本発明はまた、エッチングや現像等の処理のむらが少なく品質の高い基板を製造することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板洗浄装置は、表面に処理液が塗布された基板を移動する基板移動手段と、複数のノズルを有し、基板の表面へ洗浄液を供給する第１の洗浄液供給手段と、第１の洗浄液供給手段のノズルの位置と異なる位置に複数のノズルを有し、基板移動方向に第１の洗浄液供給手段と離して設けられ、基板の表面へ洗浄液を供給する第２の洗浄液供給手段とを備え、第１の洗浄液供給手段及び第２の洗浄液供給手段が、基板の表面上で基板移動方向に同じ範囲へ洗浄液を供給するものである。
【００１３】
また、本発明の基板洗浄方法は、表面に処理液が塗布された基板を移動しながら、第１のノズル群と、基板移動方向に第１のノズル群と離して設けられ、各ノズルの位置が第１のノズル群の各ノズルの位置と異なる第２のノズル群とを用いて、基板の表面へ洗浄液を供給する基板洗浄方法において、第１のノズル群から洗浄液が供給される範囲と、第２のノズル群から洗浄液が供給される範囲とを、基板の表面上で基板移動方向に同じ範囲としたものである。
【００１４】
基板移動方向に離れて設けられた２つのノズル群からの洗浄液が、従来は基板の移動によって基板の表面へ異なるタイミングで供給されていたのに対し、本発明では基板の表面上で基板移動方向に同じ範囲へ同時に供給される。従って、基板の表面に塗布されたエッチング液や現像液等の処理液が洗浄液により除去されるまでの処理液反応時間が同じとなり、基板の表面にエッチングや現像等の処理のむらが発生するのを抑制することができる。
【００１５】
さらに、本発明の基板洗浄装置は、第１の洗浄液供給手段及び第２の洗浄液供給手段が、基板の表面上で両手段の中間の範囲へ洗浄液を供給するものである。各洗浄液供給手段から供給された洗浄液の圧力分布や流量分布が異なっていても、両手段から供給された洗浄液が両手段の中間の範囲で重なる際に、圧力分布の違いや流量分布の違いが打ち消されて小さくなる。従って、基板の表面へ洗浄液を均一に供給することができ、エッチングや現像等の処理のむらが発生するのをさらに抑制することができる。
【００１６】
また、本発明の基板洗浄装置は、第１の洗浄液供給手段内及び第２の洗浄液供給手段内の隣り合う２つのノズルから吐出された洗浄液が、基板の表面上で一部重なるものである。隣り合う２つのノズルから供給された洗浄液が基板の表面上で重なる際に、各ノズルから吐出された洗浄液の圧力差や流量差が打ち消されて小さくなる。従って、基板の表面へ洗浄液を均一に供給することができ、エッチングや現像等の処理のむらが発生するのをさらに抑制することができる。
【００１７】
本発明の基板の製造方法は、上記のいずれかの基板洗浄装置を用いて、または上記基板洗浄方法を用いて基板を製造するものである。上記基板洗浄装置又は上記基板洗浄方法を用いることにより、基板にはエッチングや現像等の処理のむらが少なくなり、品質の高い基板を製造することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に従って説明する。図１は、本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。本実施の形態の基板洗浄装置は、ローラ２、ノズルヘッダー３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ、及びノズル４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄを含んで構成されている。
【００１９】
基板１は、図示しないエッチング槽や現像槽等で表面にエッチング液や現像液等が塗布された後、基板洗浄装置が設備された洗浄槽へ搬送され、洗浄槽内をローラ２によって矢印で示した基板移動方向へ移動される間に洗浄されて、次工程の設備へ搬送される。ローラ２に搭載された基板１の上方には、基板移動方向に複数のノズルヘッダー３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄが配置されている。
【００２０】
ノズルヘッダー３ａには、図面の奥行き方向に、複数のノズル４ａが基板移動方向側へ斜め下向きに取り付けられている。各ノズル４ａは、循環水や純水等の洗浄液５ａをローラ２に搭載された基板１の表面へ向かって吐出する。一方、ノズルヘッダー３ｂには、図面奥行き方向に、複数のノズル４ｂが基板移動方向と反対側へ斜め下向きに取り付けられている。各ノズル４ｂは、循環水や純水等の洗浄液５ｂをローラ２に搭載された基板１の表面へ向かって吐出する。ノズル４ａから吐出された洗浄液５ａ及びノズル４ｂから吐出された洗浄液５ｂは、基板１の表面上で基板移動方向に同じ範囲へ供給される。本実施の形態では、ノズルヘッダー３ａ，３ｂのちょうど中間の範囲である。ノズルヘッダー３ｃ，３ｄについても、ノズルヘッダー３ａ，３ｂと同様である。
【００２１】
図２は、本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の上面図である。ノズルヘッダー３ａには、例えば１４個のノズル４ａが所定の間隔で取り付けられている。一方、ノズルヘッダー３ｂには、例えば１３個のノズル４ｂが所定の間隔で取り付けられている。ノズルヘッダー３ｂの各ノズル４ｂは、図面の縦方向（基板移動方向と直角の方向）において、ノズルヘッダー３ａの各ノズル４ａの中間の位置に配置されている。ノズルヘッダー３ｃはノズルヘッダー３ａと同様であり、ノズルヘッダー３ｄはノズルヘッダー３ｂと同様である。
【００２２】
図３は、本発明の一実施の形態による基板洗浄装置から基板の表面へ供給された洗浄液の一例を示す上面図である。ノズル４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄから吐出された洗浄液５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄは、基板移動方向と直角の方向に長い楕円形に広がる。そして、ノズル４ａから吐出された洗浄液５ａとノズル４ｂから吐出された洗浄液５ｂは、基板１の表面上で基板移動方向に同じ範囲Ａへ供給される。ノズル４ｃから吐出された洗浄液５ｃとノズル４ｄから吐出された洗浄液５ｄについても、同様である。
【００２３】
以上説明した実施の形態では、ノズル４ａから吐出された洗浄液５ａとノズル４ｂから吐出された洗浄液５ｂとが、基板１の表面上で基板移動方向に同じ範囲へ同時に供給される。ノズル４ｃから吐出された洗浄液５ｃとノズル４ｄから吐出された洗浄液５ｄについても、同様である。従って、以上説明した実施の形態によれば、基板１の表面に塗布されたエッチング液や現像液等の処理液が洗浄液により除去されるまでの処理液反応時間が同じとなり、基板１の表面にエッチングや現像等の処理のむらが発生するのを抑制することができる。
【００２４】
さらに、以上説明した実施の形態では、ノズル４ａから吐出された洗浄液５ａとノズル４ｂから吐出された洗浄液５ｂとが、基板１の表面上でノズルヘッダー３ａ，３ｂの中間の範囲へ供給される。このため、各ノズルヘッダーから供給された洗浄液の圧力分布や流量分布が異なっていても、各ノズルヘッダーから供給された洗浄液が両ノズルヘッダーの中間の範囲で重なる際に、圧力分布の違いや流量分布の違いが打ち消されて小さくなる。ノズル４ｃから吐出された洗浄液５ｃとノズル４ｄから吐出された洗浄液５ｄについても、同様である。従って、以上説明した実施の形態によれば、基板１の表面へ洗浄液を均一に供給することができ、エッチングや現像等の処理のむらが発生するのをさらに抑制することができる。
【００２５】
図４は、本発明の他の実施の形態による基板洗浄装置のノズルヘッダーの一部を示す正面図である。本実施の形態は、図１に示した実施の形態において、各ノズルが洗浄液を吐出する角度を広げたものである。図４に示すように、ノズルヘッダー３ａのノズル４ａから吐出された洗浄液５ａは、図面の横方向に広がり、その一部が基板１の表面上でノズルヘッダー３ａ内の隣り合うノズルから吐出された洗浄液と重なる。ノズル４ｃについても同様であり、また図示しないがノズル４ｂ、４ｄについても同様である。
【００２６】
図５は、本発明の他の実施の形態による基板洗浄装置から基板の表面へ供給された洗浄液の一例を示す上面図である。図４のように各ノズルが洗浄液を吐出する角度を広げると、ノズル４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄから吐出された洗浄液５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄは、基板移動方向と直角の方向にさらに長い楕円形に広がり、同じノズルヘッダー内の隣り合うノズルから吐出された洗浄液が一部重なる。そして、ノズル４ａから吐出された洗浄液５ａとノズル４ｂから吐出された洗浄液５ｂは、基板１の表面上で基板移動方向に同じ範囲Ａへ供給される。ノズル４ｃから吐出された洗浄液５ｃとノズル４ｄから吐出された洗浄液５ｄについても、同様である。
【００２７】
図４に示した実施の形態によれば、隣り合う２つのノズルから供給された洗浄液が基板１の表面上で重なる際に、各ノズルから吐出された洗浄液の圧力差や流量差が打ち消されて小さくなる。従って、基板１の表面へ洗浄液をさらに均一に供給することができ、エッチングや現像等の処理のむらが発生するのをさらに抑制することができる。
【００２８】
なお、図４に示した実施の形態では、各ノズルが洗浄液を吐出する角度を調節していたが、各ノズルの間隔や基板との距離等を調整することにより、隣り合う２つのノズルから供給された洗浄液が基板の表面上で重なるようにしてもよい。
【００２９】
以上説明した実施の形態では、基板の表面上で基板移動方向に同じ範囲へ洗浄液を供給する２つのノズルヘッダーを２組設けているが、本発明はこれに限るものではない。また、各ノズルヘッダーに取り付けられるノズルの数も上記の例に限るものではない。
【００３０】
以上説明した基板洗浄装置、またはそれらを使った基板洗浄方法を用いて基板を製造することにより、基板にはエッチングや現像等の処理のむらが少なくなり、品質の高い基板を製造することができる。
【００３１】
【発明の効果】
本発明によれば、エッチング液や現像液等の処理液が塗布された基板の表面へ、洗浄液を時間差なく供給することができる。また、本発明によれば、エッチング液や現像液等の処理液が塗布された基板の表面へ、洗浄液を均一に供給することができる。従って、基板の表面にエッチングや現像等の処理のむらが発生するのを抑制することができる。
【００３２】
本発明の基板の製造方法によれば、エッチングや現像等の処理のむらが少なく品質の高い基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】本発明の一実施の形態による基板洗浄装置の上面図である。
【図３】本発明の一実施の形態による基板洗浄装置から基板の表面へ供給された洗浄液の一例を示す上面図である。
【図４】本発明の他の実施の形態による基板洗浄装置のノズルヘッダーの一部を示す正面図である。
【図５】本発明の他の実施の形態による基板洗浄装置から基板の表面へ供給された洗浄液の一例を示す上面図である。
【図６】従来の基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。
【図７】従来の基板洗浄装置のノズルヘッダーの一例を示す正面図である。
【図８】従来の基板洗浄装置から基板の表面へ供給された洗浄液の一例を示す上面図である。
【符号の説明】
１…基板
２…ローラ
３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ…ノズルヘッダー
４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ…ノズル
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ…洗浄液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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