(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにすることにある。【解決手段】プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程において前記電極と同一材料で同時に形成されるパッチであって、幅および／または間隔の異なる複数種類のストライプ状のパターンにより構成されるか、または濃度の異なる複数種類のフォトマスクパターンの露光により作製されているフォトリソグラフィ工程管理用パッチ、およびそのパッチを使用するフォトリソグラフィ工程管理方法、並びにそのパッチを形成したプラズマディスプレイパネルの背面板。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程において前記電極と同一材料で同時に形成されるパッチであって、幅および／または間隔の異なる複数種類のストライプ状のパターンにより構成されていることを特徴とするフォトリソグラフィ工程管理用パッチ。
【請求項２】
請求項１記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、各々のパターンに対応する番号がそのパターンの近傍に付与されていることを特徴とするフォトリソグラフィ工程管理用パッチ。
【請求項３】
請求項１または２記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、前記ストライプ状のパターンは前記電極と同一幅のパターン部分を有することを特徴とするフォトリソグラフィ工程管理用パッチ。
【請求項４】
プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程において前記電極と同一素材で同時に形成されるパッチであって、濃度の異なる複数種類のフォトマスクパターンの露光により作製されていることを特徴とするフォトリソグラフィ工程管理用パッチ。
【請求項５】
請求項４記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、各々のパターンに対応する番号がそのパターンの近傍に付与されていることを特徴とするフォトリソグラフィ工程管理用パッチ。
【請求項６】
プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程における工程条件を請求項１〜５のいずれかに記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチによって管理することを特徴とするフォトリソグラフィ工程管理方法。
【請求項７】
請求項６記載のフォトリソグラフィ工程管理方法において、前記フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値によって管理することを特徴とするフォトリソグラフィ工程管理方法。
【請求項８】
基板有効部を除く周辺部に請求項１〜５のいずれかに記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチが形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの背面板。
【請求項９】
基板有効部に相当する部分に請求項１〜５のいずれかに記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチが形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの背面板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程の条件を管理する技術分野に属する。
【０００２】
【従来技術】
プラズマディスプレイパネルの背面板に形成される電極について図６と図７を参照して説明する。図６は背面板の構造を示す断面図であり、図７は背面板に形成された電極（アドレス電極）を示す斜視図である。電極は、図６、図７に示すように、ストライプ状のパターンを有し、互いに平行に複数配列される。背面板は、その電極を覆うように誘電体層を積層した後、電極と電極の間にストライプ状の隔壁を形成し、更に、隔壁と隔壁の間に蛍光面を形成した構造となっている。したがって、蛍光面は電極上に形成されることとなる。各々の蛍光面にはＲＧＢ各色で発光する蛍光体材料の１つが充填され、背面板はそのＲＧＢ各色のストライプ状の蛍光面が３つから成る組を多数配列した構造を有する。
【０００３】
この背面板における電極（アドレス電極）は、一般的には、フォトリソグラフィ工程で形成される。具体的には、下記の▲１▼〜▲４▼の工程で形成する方法が知られている。▲１▼ガラス基板の全面に感光性導電ペーストを塗布し乾燥する。▲２▼電極パターンのフォトマスクを塗布面に密着し露光する。▲３▼現像して電極となる部分だけをガラス基板に残す。▲４▼焼成し電極をガラス基板に固定する。
【０００４】
この▲１▼〜▲４▼で示すフォトリソグラフィ工程で電極を形成するときに、その工程条件を適切なものとすることが重要である。特に、露光と現像の条件を適切なものとすることは、電極の幅と高さを設計値の通りに製造する上で欠かせないものとなっている。露光と現像の条件とは、露光強度とその分布、露光時間、現像時間、等である。これらの条件は、背面板の品種ごとに最適な値に調整する必要性がある。
【０００５】
従来は、露光と現像の条件が適切であるか否かを確認する方法として、工程条件を決めるための背面板（条件出し用基板）に形成した電極の幅および高さを計測し、その計測値が設計値を満たしているか否かを検査する方法が行なわれている。測定には図８に示すような、基板を載置させるステージとその上方においてＸＹ方向に移動する機構とそれに支持されたカメラ付顕微鏡とを有する非接触式の測長機（市販品）が使用され、背面板の全体に分布する複数箇所において測定が行なわれる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、測長機は極めて大型であり、背面板の全体に分布する複数箇所において測定を行なうときには、測定に多くの時間を必要とする。そのため、工程条件が決まるまでに多くの時間（準備時間）を必要とし実質的な生産時間の割合が低くなる。
【０００７】
生産中において工程条件が適切であるか否かを検査するためにインラインで測長機を使用することは、測定に多くの時間を必要とするため、スループットの低下につながり好ましくない。また、スループットを向上させるため、複数台の測長機を使用することは、設備コストの上昇や設置空間上の問題がある。オフラインで測長機を使用することは、背面板をラインから抜き取って、測長機まで搬送する必要性がある。これを人手でするには、背面板が大きいため、作業負荷が大きく損傷する危険も大きい。また、これを自動でするには、やはり設備コストの上昇や設置空間上の問題がある。
【０００８】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにすることにある。そのためにフォトリソグラフィ工程管理用パッチ、およびフォトリソグラフィ工程管理方法、並びにそのパッチを形成したプラズマディスプレイパネルの背面板を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題は下記の本発明によって解決される。すなわち、
本発明の請求項１に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程において前記電極と同一材料で同時に形成されるパッチであって、幅および／または間隔の異なる複数種類のストライプ状のパターンにより構成されているようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程後に残っているパターンにより露光、現像、等の条件の適否を判定することができる。したがって、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにするフォトリソグラフィ工程管理用パッチが提供される。
【００１０】
また本発明の請求項２に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、請求項１に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、各々のパターンに対応する番号がそのパターンの近傍に付与されているようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程後に何番までのパターンが残っているかにより露光、現像、等の条件の適否を判定することができる。
【００１１】
また本発明の請求項３に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、請求項１または２に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、前記ストライプ状のパターンは前記電極と同一幅のパターン部分を有するようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値によって電極の成分の適否を判定することができる。
【００１２】
また本発明の請求項４に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程において前記電極と同一素材で同時に形成されるパッチであって、濃度の異なる複数種類のフォトマスクパターンの露光により作製濃度の異なる複数種類のパターンにより構成されているようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程後に残っているパターンにより露光、現像、等の条件の適否を判定することができる。したがって、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにするフォトリソグラフィ工程管理用パッチが提供される。
【００１３】
また本発明の請求項５に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、請求項４に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、各々のパターンに対応する番号がそのパターンの近傍に付与されているようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程後に何番までのパターンが残っているかにより露光、現像、等の条件の適否を判定することができる。
【００１４】
また本発明の請求項６に係るフォトリソグラフィ工程管理方法は、プラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程における工程条件を請求項１〜５のいずれかに記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチによって管理するようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程後に残っているパターンにより露光、現像、等の条件の適否を判定することができる。したがって、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにするフォトリソグラフィ工程管理方法が提供される。
【００１５】
また本発明の請求項７に係るフォトリソグラフィ工程管理方法は、請求項６に係るフォトリソグラフィ工程管理方法において、前記フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値によって管理するようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値によって電極の成分の適否を判定することができる。
【００１６】
また本発明の請求項８に係るプラズマディスプレイパネルの背面板は、基板有効部を除く周辺部に請求項１〜５のいずれかに記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチが形成されているようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程後に残っているパターンにより露光、現像、等の条件の適否を基板有効部を除く周辺部において判定することができる。したがって、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにする製品としてのプラズマディスプレイパネルの背面板が提供される。
【００１７】
また本発明の請求項９に係るプラズマディスプレイパネルの背面板は、基板有効部に相当する部分に請求項１〜５のいずれかに記載のフォトリソグラフィ工程管理用パッチが形成されているようにしたものである。本発明によれば、フォトリソグラフィ工程後に残っているパターンにより露光、現像、等の条件の適否を基板有効部分において判定することができる。したがって、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにする工程条件を決めるためのプラズマディスプレイパネルの背面板が提供される。
【００１８】
【発明の実施の形態】
次に、本発明について実施の形態を説明する。まず、本発明のフォトリソグラフィ工程管理用パッチについて図１を参照して説明する。図１はフォトリソグラフィ工程管理用パッチの一例と、その形成過程の一例を示す説明図である。プラズマディスプレイパネルの背面板における電極（アドレス電極）は、すでに説明したように、ガラス基板の表面に塗工した感光性を有する電極材料をフォトリソグラフィ工程において所望の電極パターンに加工することによって得ることができる。
【００１９】
本発明のフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、その電極材料と同一材料によってできており、ガラス基板の表面に電極を形成する過程において同時に形成される。すなわち、電極パターンを有するフォトマスクとともにフォトリソグラフィ工程管理用パッチのパターンを有するフォトマスクを使用して、感光性を有する電極材料の塗工被膜に密着露光を行い、現像することによって得ることができる。
【００２０】
勿論、電極パターンを有するフォトマスクとフォトリソグラフィ工程管理用パッチのパターンを有するフォトマスクとは別個のフォトマスクである必要性はない。電極パターンを有するフォトマスクにおいて、電極パターンを阻害しない特定の箇所、等にフォトリソグラフィ工程管理用パッチのパターンを挿入したマスクを使用することができる。
【００２１】
図１（Ａ）と（Ｂ）は、フォトリソグラフィ工程管理用パッチのパターンを有するフォトマスクを電極材料の塗工被膜に密着させて、露光を行った後にフォトマスクを取り除いた状態を示す説明図である。図１（Ａ）は上面図、図１（Ｂ）は側面図である。図１（Ａ）と（Ｂ）において、感光した電極材料の部分が黒色の複数のストライプで示されている。また、感光していない電極材料の部分は多数の細かい点から成る面で示されている。
【００２２】
図１（Ａ）と（Ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ工程管理用パッチは、複数のパターンによって構成される。そのパターンはストライプ状のパターンであって、ストライプの幅と間隔は各々のパターンにおいて相違する。各々のパターンの近傍には、各々を区別する１〜５の番号が付されている。この番号はもともとフォトマスクのパターンに存在するもので、感光した電極材料の部分となっている。
【００２３】
図１（Ｃ）と（Ｄ）は、上述の露光の後にさらに現像を行った後の状態を示す説明図である。図１（Ｃ）は上面図、図１（Ｄ）は側面図である。図１（Ｃ）と（Ｄ）に示すように、現像を行なうと感光していない電極材料の部分は除去される。また、感光した電極材料の部分であっても、露光条件と現像条件の組合せによっては除去される部分が生じる。
【００２４】
図１（Ｃ）と（Ｄ）において、番号１と番号２のパターンはストライプの幅が小さい。そのため、適切な露光条件と現像条件の組合せ、すなわちフォトリソグラフィ工程の適切な工程条件において除去される。番号３〜番号５のパターンはストライプの幅が大きい。そのため、適切な工程条件において除去されない。１〜５の番号そのものは線幅が太いため、適切な工程条件において除去されない。
【００２５】
適切な工程条件から外れたときには、たとえば露光時間が長過ぎるか現像時間が短過ぎるか両方のときには、番号２のパターン、または番号１と番号２の両方のパターンが除去されない。また、たとえば露光時間が短か過ぎるか現像時間が長過ぎるか両方のときには、番号３のパターン、または番号３と番号４の両方のパターン、または番号３と番号４と番号５のすべてのパターンが除去される。
【００２６】
このように、本発明のフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、感光性を有する電極材料をプラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程において電極と同一材料で同時に形成されるパッチである。また、本発明のフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、幅および／または間隔の異なる複数種類のストライプ状のパターンにより構成されている。また、各々のパターンに対応する番号がそのパターンの近傍に付与されている。そして、フォトリソグラフィ工程管理用パッチの状態を監視することにより、適切な工程条件であるか否かを判定することができる。
【００２７】
図１に示すフォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、ストライプ状のパターンのすくなくとも１つについて、ストライプの幅を電極の幅と同一とする。そのためには、当然、フォトリソグラフィ工程管理用パッチのパターンを有するフォトマスクにおけるストライプの幅と、電極のパターンを有するフォトマスクにおける電極の幅とを同一とする。これにより、電極そのものの幅、高さ、抵抗値を計測する代りに、フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値を計測すればよいことになる。抵抗値を計測するための接触端子による傷つきや破損を防ぐことができる。この抵抗値を計測することによって、形成された電極における成分の適否を判定することができる。
【００２８】
次に、本発明のフォトリソグラフィ工程管理用パッチについて別の形態のものを図２を参照して説明する。図２（Ａ）と（Ｂ）は、フォトリソグラフィ工程管理用パッチのパターンを有するフォトマスクを電極材料の塗工被膜に密着させて、露光を行った後にフォトマスクを取り除いた状態を示す説明図である。図２（Ａ）は上面図、図２（Ｂ）は側面図である。図２（Ａ）と（Ｂ）において、感光した電極材料の部分が黒色の複数のハッチングを施された四角形状のパターンで示されている。また、感光していない電極材料の部分は多数の細かい点から成る面で示されている。
【００２９】
図２（Ａ）と（Ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ工程管理用パッチは、複数の四角形状のパターンによって構成される。そのパターンにおいて四角形状の内部は露光量が均一なパターンであって、その露光量は各々のパターンにおいて相違する。すなわち、四角形状の内部の濃度が各々のパターンにおいて相違するフォトリソグラフィ工程管理用パッチのフォトマスクを介して露光が行なわれたものである。各々のパターンの近傍には、各々を区別する１〜５の番号が付されている。この番号はもともとフォトマスクのパターンに存在するもので、感光した電極材料の部分となっている。
【００３０】
図２（Ｃ）と（Ｄ）は、上述の露光の後にさらに現像を行った後の状態を示す説明図である。図２（Ｃ）は上面図、図１（Ｄ）は側面図である。図２（Ｃ）と（Ｄ）に示すように、現像を行なうと感光していない電極材料の部分は除去される。また、感光した電極材料の部分であっても、露光条件と現像条件の組合せによっては除去される部分が生じる。
【００３１】
図２（Ｃ）と（Ｄ）において、番号１と番号２のパターンは四角形状の内部における露光量が小さく感光が不十分である。そのため、適切な露光条件と現像条件の組合せ、すなわちフォトリソグラフィ工程の適切な工程条件において除去される。番号３〜番号５のパターンは四角形状の内部における露光量が大きく十分に感光されている。そのため、適切な工程条件において除去されない。１〜５の番号そのものはフォトマスクにおいて濃度が低いため十分に感光しており、適切な工程条件において除去されない。
【００３２】
適切な工程条件から外れたときには、たとえば露光時間が長過ぎるか現像時間が短過ぎるか両方のときには、番号２のパターン、または番号１と番号２の両方のパターンが除去されない。また、たとえば露光時間が短か過ぎるか現像時間が長過ぎるか両方のときには、番号３のパターン、または番号３と番号４の両方のパターン、または番号３と番号４と番号５のすべてのパターンが除去される。
【００３３】
このように、本発明のフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、感光性を有する電極材料をプラズマディスプレイパネルの背面板における電極を形成するフォトリソグラフィ工程において電極と同一材料で同時に形成されるパッチである。また、本発明のフォトリソグラフィ工程管理用パッチは、濃度の異なる複数種類のフォトマスクパターンの露光により作製されている。また、各々のパターンに対応する番号がそのパターンの近傍に付与されている。そして、フォトリソグラフィ工程管理用パッチの状態を監視することにより、適切な工程条件であるか否かを判定することができる。
【００３４】
以上、フォトリソグラフィ工程管理用パッチについて説明した。次に、フォトリソグラフィ工程管理方法について図３を参照して説明する。図３は上述のフォトリソグラフィ工程管理用パッチによって工程条件を管理するフォトリソグラフィ工程を示すフロー図である。このフロー図に沿って説明する前に、工程管理のために使用される製品用基板と条件出し用基板について図４、図５を参照して説明しておく。図４は製品用基板の一例を示し、図５は条件出し用基板の一例を示す図である。
【００３５】
製品用基板は、図４に示すように、電極パターンが形成される基板有効部を除く周辺部にフォトリソグラフィ工程管理用パッチ４１ａ，４１ｂ，・・・が形成されている。すなわち、フォトリソグラフィ工程後に残っているパターンにより露光、現像、等の条件の適否を基板有効部を除く周辺部において判定することができる。したがって、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定が簡易かつ短時間で行なえる。
【００３６】
一方、条件出し用基板は製品用基板と基本的に同一であるが、工程条件の適否を判定するために使用され製品にならなくてもよい基板である。条件出し用基板は、図５に示すように、基板有効部に相当する部分にフォトリソグラフィ工程管理用パッチ５１ａ，５１ｂ，・・・が形成されているようにしたものである。すなわち、フォトリソグラフィ工程後に残っているパターンにより露光、現像、等の条件の適否を基板有効部分において判定することができる。したがって、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定が簡易かつ短時間で行なえる。
【００３７】
図３に示すフロー図に沿ってフォトリソグラフィ工程管理方法について説明する。
まず、図３のステップＳ１において、条件出し用基板（下地層を形成したガラス基板）に電極材料（感光性導電ペースト）を塗布し乾燥する。
【００３８】
次に、ステップＳ２において、フォトマスクを塗布面に密着し露光する。前述のように、フォトマスクはフォトリソグラフィ工程管理用パッチが基板有効部に相当する部分に形成されているフォトマスクである（図５参照）。露光後にフォトマスクを取り除き、露光済の条件出し用基板を現像する。現像することによって、フォトリソグラフィ工程管理用パッチの部分の電極材料が残る。
【００３９】
次に、ステップＳ３において、条件出し用基板に設けられたすべてのフォトリソグラフィ工程管理用パッチ５１ａ，５１ｂ，・・・において大きい方から何番のパターンまで残っているかを確認する。
【００４０】
次に、ステップＳ４において、生産条件に在っているか否かを判定する。すべてのフォトリソグラフィ工程管理用パッチ５１ａ，５１ｂ，・・・において、大きい方から番号３のパターンまでが残っていれば、生産条件に在っていると判定しステップＳ６に進む。それ以外のときには、生産条件に在っていないと判定しステップＳ５に進む。
【００４１】
ステップＳ５において、露光および／または現像の条件を変更する。大きい方から番号２まで、または番号１までが残っているときには、露光時間が長過ぎるか現像時間が短過ぎることを示している。反対に、大きい方から番号４まで、または番号５だけが残るか、番号５も残っていないときには、露光時間が短過ぎるか現像時間が長過ぎることを示している。また、残っている番号がフォトリソグラフィ工程管理用パッチ５１ａ，５１ｂ，・・・の各々で異なっているときには露光および／または現像における面ムラが存在することを示している。したがって、それらを修正するための工程条件の変更を行なう。ステップＳ５を行った後は、ステップＳ１に戻って、前述の以降のステップを繰り返す。
【００４２】
ステップＳ６において、条件出しの作業を終了して生産を開始する。すなわち、フォトマスクを塗布面に密着し露光する。前述のように、フォトリソグラフィ工程管理用パッチが、電極パターンが形成される基板有効部を除く周辺部に形成されているフォトマスクである（図４参照）。勿論、フォトマスクは電極のパターンも有する。露光後にフォトマスクを取り除き、露光済の製品用基板を現像する。現像することによって、電極の部分とフォトリソグラフィ工程管理用パッチの部分の電極材料が残る。
【００４３】
次に、ステップＳ７において、生産中に基板有効部を除く周辺部に形成されているフォトリソグラフィ工程管理用パッチを監視する。この監視は、検査員が行なうようにしてもよく、撮像画像に基づいて画像処理を行い自動監視を行なうようにしてもよい。
【００４４】
次に、ステップＳ８において、生産条件に在っているか否かを判定する。すべてのフォトリソグラフィ工程管理用パッチ４１ａ，４１ｂ，・・・において、大きい方から番号３のパターンまでが残っていれば、生産条件に在っていると判定しステップＳ９に進む。それ以外のときには、生産条件に在っていないと判定しステップＳ１０に進む。
【００４５】
ステップＳ９において、現在の工程条件において生産を続行し、ステップＳ７に戻って前述の以降のステップを繰り返す。
ステップＳ１０において、塗布、露光、現像のいずれか１つまたは複数の条件を変更する。大きい方から番号２まで、または番号１までが残っているときには、露光時間が長過ぎるか現像時間が短過ぎることを示している。反対に、大きい方から番号４まで、または番号５だけが残るか、番号５も残っていないときには、露光時間が短過ぎるか現像時間が長過ぎることを示している。また、残っている番号がフォトリソグラフィ工程管理用パッチ４１ａ，４１ｂ，・・・の各々で異なっているときには露光および／または現像における面ムラが存在することを示している。
【００４６】
また、フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおいて、ストライプ状のパターンのすくなくとも１つについて、ストライプの幅を電極の幅と同一としておく。そして、電極そのものの幅、高さ、抵抗値を計測する代りに、フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値を計測する。これにより、形成された電極における成分の適否を判定することができる。すなわち、電極材料を塗布するときの塗布条件において、電極材料の粘度、成分、塗膜の厚さ等の管理が適切であるか否かが判る。したがって、それらを修正するための工程条件の変更を行なう。ステップＳ１０を行った後は、ステップＳ６に戻って、前述の以降のステップを繰り返す。
【００４７】
【発明の効果】
以上のとおりであるから、本発明の請求項１に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチによれば、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにするフォトリソグラフィ工程管理用パッチが提供される。
また本発明の請求項２に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチによれば、フォトリソグラフィ工程後に何番までのパターンが残っているかにより露光、現像、等の条件の適否を判定することができる。
また本発明の請求項３に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチによれば、フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値によって電極の成分の適否を判定することができる。
また本発明の請求項４に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチによれば、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにするフォトリソグラフィ工程管理用パッチが提供される。
また本発明の請求項５に係るフォトリソグラフィ工程管理用パッチによれば、フォトリソグラフィ工程後に何番までのパターンが残っているかにより露光、現像、等の条件の適否を判定することができる。
また本発明の請求項６に係るフォトリソグラフィ工程管理方法によれば、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにするフォトリソグラフィ工程管理方法が提供される。
また本発明の請求項７に係るフォトリソグラフィ工程管理方法によれば、フォトリソグラフィ工程管理用パッチにおけるパターンの幅、高さ、抵抗値によって電極の成分の適否を判定することができる。
また本発明の請求項８に係るプラズマディスプレイパネルの背面板によれば、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにする製品としてのプラズマディスプレイパネルの背面板が提供される。
また本発明の請求項９に係るプラズマディスプレイパネルの背面板によれば、フォトリソグラフィ工程における生産時の工程条件が適切であるか否かの判定を簡易かつ短時間で行なえるようにする工程条件を決めるためのプラズマディスプレイパネルの背面板が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】フォトリソグラフィ工程管理用パッチの一例（その１）と、その形成過程の一例を示す説明図である。
【図２】フォトリソグラフィ工程管理用パッチの一例（その２）と、その形成過程の一例を示す説明図である。
【図３】フォトリソグラフィ工程管理用パッチによって工程条件を管理するフォトリソグラフィ工程を示すフロー図である。
【図４】製品用基板におけるフォトリソグラフィ工程管理用パッチの配置の一例を示す図である。
【図５】条件出し用基板におけるフォトリソグラフィ工程管理用パッチの配置の一例を示す図である。
【図６】プラズマディスプレイパネルの背面板の構造を示す断面図である。
【図７】プラズマディスプレイパネルの背面板に形成された電極（アドレス電極）を示す斜視図である。
【図８】非接触式の測長機（市販品）の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
４１ａ，４１ｂ，・・・、５１ａ，５１ｂ，・・・  フォトリソグラフィ工程管理用パッチ
４２，５２  ガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
2004227824.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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