(57)【要約】【課題】ワイピングシートに均一に洗浄液を付与することができる液滴吐出ヘッド清掃装置、液滴吐出ヘッド清掃方法、かかる液滴吐出ヘッド清掃装置を備える液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供すること。【解決手段】液滴吐出ヘッド清掃装置は、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドのノズル形成面を清掃する液滴吐出ヘッド清掃装置であって、ノズル形成面を拭うワイピングシートを走行させるワイピングシート走行機構と、ワイピングシートへ向けて洗浄液を噴射する複数の噴射口１７１ａと、各噴射口１７１ａに洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、各噴射口１７１ａのそれぞれに対応して設けられ、当該噴射口１７１ａからの噴射量を調整する噴射量調整手段としてのニードル弁４４を備える。【選択図】図２０
2004188807.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出する液滴吐出ヘッドのノズル形成面を清掃する液滴吐出ヘッド清掃装置であって、
前記ノズル形成面を拭うワイピングシートを走行させるワイピングシート走行機構と、
前記ワイピングシートへ向けて洗浄液を噴射する複数の噴射口と、
前記各噴射口に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記各噴射口のそれぞれに対応して設けられ、当該噴射口からの噴射量を調整する噴射量調整手段とを備えることを特徴とする液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項２】
前記複数の噴射口は、前記ワイピングシートの送り方向に直交する方向に互いに間隔を空けて配置されている請求項１に記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項３】
前記噴射量調整手段は、対応する噴射口への洗浄液の流路の途中に設置された流量を調整する調整弁で構成される請求項１または２に記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項４】
前記複数の噴射口は、前記ワイピングシートの前記ノズル形成面が接触する面と反対側の面に向けて洗浄液を噴射する請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項５】
前記複数の噴射口は、前記ワイピングシートの前記ノズル形成面が接触する面と同じ側の面に向けて洗浄液を噴射する請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項６】
複数の液滴吐出ヘッドの各ノズル形成面を一括して清掃する請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項７】
前記ワイピングシートを前記ノズル形成面に押し付ける押し付け部材をさらに備える請求項１ないし６のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項８】
前記押し付け部材は、ローラで構成されている請求項７に記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項９】
前記ローラは、複数の液滴吐出ヘッドの各ノズル形成面に対して一括してワイピングシートを押し付けるものであり、
前記ローラの外周面は、前記各ノズル形成面間のピッチ間隔に合わせて前記ローラの回転軸方向に沿って複数に分割されている請求項８に記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項１０】
前記各噴射口への洗浄液の流路の途中にそれぞれ設置された逆流防止弁をさらに備える請求項１ないし９のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項１１】
前記洗浄液供給手段は、前記各噴射口にそれぞれ接続された枝管と、前記洗浄液を貯留する洗浄液タンクに接続された主管と、前記主管を前記各枝管に分岐させるマニホールドとを有する請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド清掃装置。
【請求項１２】
走行するワイピングシートへ向けて複数の噴射口から洗浄液を噴射し、前記洗浄液が付与された前記ワイピングシートによって、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドのノズル形成面を拭って清掃する液滴吐出ヘッド清掃方法であって、
前記各噴射口からの洗浄液の噴射量が互いにほぼ同じになるように調整することを特徴とする液滴吐出ヘッド清掃方法。
【請求項１３】
装置本体と、
ワークが載置されるワーク載置部と、
前記ワーク載置部に載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる相対移動機構と、
請求項１ないし１１のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド清掃装置とを備えることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１４】
前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成する請求項１３に記載の液滴吐出装置。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１６】
請求項１３または１４に記載の液滴吐出装置を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出ヘッド清掃装置、液滴吐出ヘッド清掃方法、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、インクジェットプリンターが主に民生用のプリンターとして広く用いられている。このインクジェットプリンターのインクジェット方式（液滴吐出方式）を応用した産業用の液滴吐出装置（インクジェット描画装置）が知られている。この産業用の液滴吐出装置は、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ表示装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに使用される。
【０００３】
このような液滴吐出装置における液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）は、そのノズル形成面にインク等の吐出液が付着していると、吐出した液滴が真っ直ぐに飛ばず、飛ぶ方向が乱れる（一般に「ヨレ」という）ことがあり、形成（描画）するパターンの精度に悪影響を及ぼす。このようなヨレ等を防止するため、液滴吐出装置には、液滴吐出ヘッドのノズル形成面を拭って清掃するワイピング機構（液滴吐出ヘッド清掃装置）が設けられている。
【０００４】
このようなワイピング機構では、洗浄液を吸収させたワイプ材でノズル形成面を拭う。このため、ワイピング機構には、ワイプ材へ向けて洗浄液を噴射する噴射口（ノズル）が設けられている。この噴射口は、ワイプ材全体に洗浄液を付与するために、ワイプ材の幅方向に沿って複数設置されている（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、従来のワイピング機構では、各噴射口からの洗浄液の噴射量にムラがあるため、ワイプ材全体に均一に洗浄液を付与できなかった。このため、ワイプ材中に洗浄液が過多の領域や過少の領域が生じる結果、拭い残しを生じたり、洗浄液が無駄になったりするという問題があった。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−３４１３１９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ワイピングシートに均一に洗浄液を付与することができる液滴吐出ヘッド清掃装置、液滴吐出ヘッド清掃方法、かかる液滴吐出ヘッド清掃装置を備える液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置は、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドのノズル形成面を清掃する液滴吐出ヘッド清掃装置であって、
前記ノズル形成面を拭うワイピングシートを走行させるワイピングシート走行機構と、
前記ワイピングシートへ向けて洗浄液を噴射する複数の噴射口と、
前記各噴射口に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記各噴射口のそれぞれに対応して設けられ、当該噴射口からの噴射量を調整する噴射量調整手段とを備えることを特徴とする。
これにより、ワイピングシートに均一に洗浄液を付与することができる液滴吐出ヘッド清掃装置を提供することができる。
【０００８】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置では、前記複数の噴射口は、前記ワイピングシートの送り方向に直交する方向に互いに間隔を空けて配置されていることが好ましい。
これにより、ノズル形成面を拭う前のワイピングシートの全体に渡ってより均一に洗浄液を付与することができる。
【０００９】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置では、前記噴射量調整手段は、対応する噴射口への洗浄液の流路の途中に設置された流量を調整する調整弁で構成されることが好ましい。
これにより、簡単な構成で、各噴射口からの噴射量の調整を容易かつ確実に行うことができる。
【００１０】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置では、前記複数の噴射口は、前記ワイピングシートの前記ノズル形成面が接触する面と反対側の面に向けて洗浄液を噴射することが好ましい。
これにより、液滴吐出ヘッド清掃装置の小型化が図れ、液滴吐出ヘッドとの干渉をより確実に防止することができる。
【００１１】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置では、前記複数の噴射口は、前記ワイピングシートの前記ノズル形成面が接触する面と同じ側の面に向けて洗浄液を噴射することが好ましい。
これにより、噴射した洗浄液をワイピングシートにより確実に含浸させることができるとともに、より少ない量の洗浄液でも十分な清掃効果を得ることができる。
【００１２】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置は、複数の液滴吐出ヘッドの各ノズル形成面を一括して清掃することが好ましい。
これにより、複数の液滴吐出ヘッドに対する清掃を高い効率で迅速に行うことができる。
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置は、前記ワイピングシートを前記ノズル形成面に押し付ける押し付け部材をさらに備えることが好ましい。
これにより、ノズル形成面に拭い残しを生じるのをより確実に防止するとともに、短時間で確実に清掃を行うことができる。
【００１３】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置では、前記押し付け部材は、ローラで構成されていることが好ましい。
これにより、ワイピングシートをより円滑に走行させつつ、ワイピングシートをノズル形成面に押し付けることができる。
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置では、前記ローラは、複数の液滴吐出ヘッドの各ノズル形成面に対して一括してワイピングシートを押し付けるものであり、
前記ローラの外周面は、前記各ノズル形成面間のピッチ間隔に合わせて前記ローラの回転軸方向に沿って複数に分割されていることが好ましい。
これにより、ローラの外周面で構成される押し付け面が、各ノズル形成面間のピッチ間隔に合わせて分割されているので、隣接する押し付け面間で互いに干渉し合うのを防止することができ、各ノズル形成面のそれぞれにワイピングシートをより確実に押し付けることができる。
【００１４】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置は、前記各噴射口への洗浄液の流路の途中にそれぞれ設置された逆流防止弁をさらに備えることが好ましい。
これにより、各噴射口への洗浄液の流路における洗浄液の逆流を防止することができる。
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置では、前記洗浄液供給手段は、前記各噴射口にそれぞれ接続された枝管と、前記洗浄液を貯留する洗浄液タンクに接続された主管と、前記主管を前記各枝管に分岐させるマニホールドとを有することが好ましい。
これにより、洗浄液の配管内消費量を減らすことができるので、洗浄液の無駄がより少ないとともに、配管接続の作業も容易に行うことができる。
【００１５】
本発明の液滴吐出ヘッド清掃方法は、走行するワイピングシートへ向けて複数の噴射口から洗浄液を噴射し、前記洗浄液が付与された前記ワイピングシートによって、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドのノズル形成面を拭って清掃する液滴吐出ヘッド清掃方法であって、
前記各噴射口からの洗浄液の噴射量が互いにほぼ同じになるように調整することを特徴とする。
これにより、ワイピングシートに均一に洗浄液を付与することができる液滴吐出ヘッド清掃方法を提供することができる。
【００１６】
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、
ワークが載置されるワーク載置部と、
前記ワーク載置部に載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる相対移動機構と、
本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置とを備えることを特徴とする。
これにより、均一に洗浄液が付与されたワイピングシートで液滴吐出ヘッドのノズル形成面の清掃を拭うことにより、液滴吐出ヘッドの清掃を拭い残しを生じることなく確実に行うことができる液滴吐出装置を提供することができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出装置は、前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成することが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１８】
本発明の電気光学装置は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、製造コストの低減を図りつつ、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備える電気光学装置を提供することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、ワークに対するパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、製造コストの低減を図りつつ、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備える電子機器を提供することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置、液滴吐出ヘッド清掃方法および液滴吐出装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１、図２、図３および図４は、それぞれ、本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置を備える液滴吐出装置の実施形態を示す斜視図、平面図、正面図および側面図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図２中の上下方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向であって図２中の上方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図２中の下方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図２中の右方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図２中の左方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００２０】
これらの図に示す液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができるものである。液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。また、本発明で対象とするワークは、板状の部材に限らず、底面が平らな部材であればいかなるものでもよい。例えば、本発明は、レンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。
【００２１】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワーク載置部（ワークステージ）としての基板テーブル（基板ステージ）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）５３を有するヘッドユニット１２０と、装置本体２の側方に設置された付帯装置１０とを備えている。なお、ヘッドユニット１２０および付帯装置１０については、後に詳述する。
【００２２】
液滴吐出ヘッド５３から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（electroluminescence）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００２３】
図３に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２と、石定盤２２の上に設置された４本の支柱２３と、これらの支柱２３により支持されたガントリー構造部（上部構造部）２４とを有している。
架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。石定盤２２は、無垢の石材で構成され、その上面は、高い平面度を有している。本実施形態では、石定盤２２を設けたことにより、周囲の環境条件や振動等の影響を防ぎ、後述する基板テーブル３およびヘッドユニット１２０が高精度に移動することができる。
【００２４】
石定盤２２の上には、基板テーブル３と、Ｙ軸方向移動機構を構成するエアースライダ１０６およびリニアモータ１０１とが設置されている。基板テーブル３は、エアースライダ１０６によりＹ軸方向に円滑に移動可能に支持されるとともに、リニアモータ１０１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板Ｗは、基板テーブル３上に載置される。基板テーブル３は、ガントリー構造部２４の下を通過可能になっている。基板テーブル３には、載置された基板Ｗを負圧により吸着・固定するための溝３１６が形成されている。また、基板テーブル３の下部には、θ軸回転駆動機構が設けられており、これにより、基板テーブル３は、基板テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。
【００２５】
基板テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板Ｗに対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド５３から捨て吐出（フラッシングまたは予備吐出ともいう）された液滴を受ける描画前フラッシングユニット（図示せず）が設置されている。この描画前フラッシングユニットには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、付帯装置１０のタンク収納部１１に設置された排液タンク内に貯留される。
【００２６】
図２および図４に示すように、ガントリー構造部２４には、ブリッジ１０３と、Ｘ軸方向移動機構を構成する一対のＸ軸方向スライダ１０７、ボールねじ１０８およびサーボモータ１０９とが設置されている。ブリッジ１０３は、Ｘ軸方向スライダ１０７の案内により、Ｘ軸方向に円滑に移動可能に支持されるとともに、ボールねじ１０８およびこれを回転させるサーボモータ１０９の駆動により、Ｘ軸方向に前進・後退する。
【００２７】
図３に示すように、ブリッジ１０３には、ヘッドユニット１２０を支持するメインキャリッジ１０２がブリッジ１０３から吊り下げられるような状態で設置されている。このような構成により、ヘッドユニット１２０は、ブリッジ１０３とともに、基板テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に前進・後退可能になっている。
なお、本実施形態では、前記Ｙ軸方向移動機構と前記Ｘ軸方向移動機構とで、基板テーブル３と液滴吐出ヘッド５３とを相対的に移動させる相対移動機構が構成される。
装置本体２の側方であって付帯装置１０が設置されたのと反対の側には、第１のエアー供給装置１４が設置されている（図３参照）。第１のエアー供給装置１４は、装置本体２側に設置された空気圧シリンダ等のアクチュエータの駆動源として機能する。
【００２８】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド５３のいわゆる主走査は、基板テーブル３をＹ軸方向に移動させながら、図示しない移動距離検出手段（例えばリニアエンコーダまたはレーザー測長器）によって検出した基板テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて生成した吐出タイミングで、液滴吐出ヘッド５３を駆動して液滴を選択的に吐出することにより行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、液滴吐出ヘッド５３の非駆動時（非吐出時）に、ヘッドユニット１２０（液滴吐出ヘッド５３）をＸ軸方向に段階的（間欠的）移動させることにより行う。
【００２９】
このような液滴吐出装置１は、好ましくは、チャンバ（隔離された空間）９１に収納され、温度および湿度が管理された環境下に置かれている。チャンバ９１には、外部に設置された空調装置（図示せず）により生成された温度および湿度を調節した空気が導入される。このようなチャンバ９１によって液滴吐出装置１の周囲の温度および湿度が管理されることにより、温度変化による基板Ｗや装置各部の膨張・収縮が原因となって誤差が生じるのを防止することができ、基板Ｗ上に吐出液滴によって描画（形成）されるパターンの精度をより高くすることができる。また、タンク収納部１１も温度および湿度が管理された環境に置かれるので、吐出液の粘度等も安定し、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高精度に行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、基板Ｗを清浄に維持することができる。
なお、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
【００３０】
また、液滴吐出装置１は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する制御装置（図示せず）を有している。この制御装置は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有しており、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する。
【００３１】
図５は、図１ないし図４に示す液滴吐出装置におけるパターン形成動作（描画動作）を説明するための模式図である。以下、図５に基づいて、前記制御装置の制御による液滴吐出装置１のパターン形成動作ついて説明する。
図示しない給材・除材ロボットにより基板Ｗが基板テーブル３上の所定の位置に位置決めして給材（載置）されると、基板テーブル３に形成された溝３１６でのエアー吸引により、基板Ｗは、基板テーブル３に吸着・固定される。次いで、装置本体２に設置された認識カメラ（図示せず）が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、前記θ軸回転駆動機構が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する動作を開始する。この動作は、液滴吐出ヘッド５３（ヘッドユニット１２０）を基板Ｗに対し主走査および副走査することにより行われる。
【００３２】
本実施形態の液滴吐出装置１では、主走査は、ヘッドユニット１２０を装置本体２に対し停止した（移動しない）状態で、基板テーブル３の移動により基板ＷをＹ軸方向に移動させながら、基板Ｗに対し各液滴吐出ヘッド５３から液滴を吐出することにより行う。すなわち、本実施形態では、Ｙ軸方向が主走査方向となる。
【００３３】
この主走査は、基板テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板テーブル３を複数回往復させて、複数回繰り返し行ってもよい。このような主走査により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１２０により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って延びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【００３４】
このような主走査の後、副走査を行う。副走査は、液滴の非吐出時に、メインキャリッジ１０２（ブリッジ１０３）の移動により、ヘッドユニット１２０を前記所定の幅の分だけＸ軸方向に移動させることにより行う。すなわち、本実施形態では、Ｘ軸方向が副走査方向となる。
このような副走査の後、前記と同様の主走査を行う。これにより、前回の主走査で液滴が吐出された領域に隣接する領域に対し、液滴が吐出される。
このようにして、主走査と副走査とを交互に繰り返し行うことにより、基板Ｗの全領域に対して液滴が吐出され、基板Ｗ上に、吐出された液滴（液体）による所定のパターンを形成（描画）することができる。
【００３５】
なお、本発明では、主走査方向と副走査方向とは、上述したのと逆になっていてもよい。すなわち、基板Ｗ（基板テーブル３）を停止させた状態で液滴吐出ヘッド５３（ヘッドユニット１２０）をＸ軸方向に移動させながら基板Ｗに対して液滴を吐出することによって主走査を行い、液滴の非吐出時に基板Ｗ（基板テーブル３）をＹ軸方向に移動させることによって副走査を行うように構成されていてもよい。
【００３６】
図６は、図１ないし図４に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットを示す平面図、図７は、ヘッドユニットを図６の矢印Ｃより見た側面図、図８は、図６および図７に示すヘッドユニットが備える液滴吐出ヘッドの吐出機構を説明する説明図、図９は、液滴吐出ヘッドの一部分を示す図であって、（ａ）はノズル形成面５３ａに対向する側から見た図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ断面図、図１０は、液滴吐出ヘッドを説明する図であり、（ａ）は主走査方向を示す説明図、（ｂ）はノズルピッチの変更を示す説明図である。以下、これらの図に基づいて、ヘッドユニット１２０および液滴吐出ヘッド５３の詳細について説明する。
【００３７】
図６および図７に示すように、本実施形態のヘッドユニット１２０は、ヘッド保持板１２２と、これに固定された１２個の液滴吐出ヘッド５３とを有している。各液滴吐出ヘッド５３は、副走査方向に対し斜めの姿勢で互いに重なるようにして６個ずつ二列に配列され、第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂを構成している。第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂは、互いに平行をなしており、なおかつ、それぞれの軸線ｃ１、ｃ２が、後述のワイピングシート７５の送り方向（図６の矢印Ｓ方向）に対して交差するように配置されている。
【００３８】
図８に示すように、各液滴吐出ヘッド５３は、たとえば、ピエゾ素子（圧電素子）を用いたヘッドであり、本体５３ｂのノズル形成面５３ａには、複数のノズル５３ｃが形成されている。そして、これらノズル５３ｃのそれぞれに対してピエゾ素子５３ｄが設けられている。このピエゾ素子５３ｄは、ノズル５３ｃと液室５３ｅに対応して配置されており、印加電圧Ｖｈが印加されることで、矢印Ｐ方向に伸縮し、液室５３ｅ内を加圧して所定量の液滴Ｒを各ノズル５３ｃから吐出させるようになっている。
【００３９】
図９（ａ）、（ｂ）に示すように、各液滴吐出ヘッド５３のノズル形成面５３ａには、複数列（本実施形態では二列）の溝５３ａ１、５３ａ２が互いに平行に形成されており、さらに、これら溝５３ａ１、５３ａ２の内部に、各ノズル５３ｃが等ピッチ間隔で穿設されている。
【００４０】
前述のように、これら液滴吐出ヘッド５３は互いに斜めに重なった状態に配置されている。これは、図１０（ａ）のように基板Ｗ上を各液滴吐出ヘッド５３を通過させながら液滴Ｒの吐出を行う際に、図１０（ｂ）のように走査方向（進行方向）に対して各液滴吐出ヘッド５３を適切な角度に傾けることで、製造する基板Ｗの画素ピッチｐ１に応じて見かけのノズル間隔ｐ２を一致させるためである。
【００４１】
なお、上述したようなヘッドユニット１２０における液滴吐出ヘッド５３の配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド５３同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド５３を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド５３の全ノズル５３ｃによるドットが副走査方向において連続していればよい。
【００４２】
さらに、液滴吐出ヘッド５３は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド５３が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の液滴吐出ヘッド５３で構成してもよい。また、メインキャリッジ１０２に複数のヘッドユニット１２０が搭載されていてもよい。
また、液滴吐出ヘッド５３は、上述したような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００４３】
図１１および図１２は、それぞれ、図１ないし図４に示す液滴吐出装置における付帯装置を示す側面図および平面図である。以下、これらの図に基づいて、液滴吐出装置１の付帯装置１０について説明する。
図１１および図１２に示すように、付帯装置１０は、ほぼ直方体をなす筐体１３と、筐体１３内に設けられたタンク収納部１１と、筐体１３の側面および内部に設置された第２のエアー供給装置１７と、筐体１３の上でＹ軸方向に移動可能に設置された移動台１２４と、キャッピングユニット６０と、ワイピングユニット（液滴吐出ヘッド清掃装置）７０と、重量測定ユニット９０と、ドット抜け検出ユニット１００とを有している。以下、この付帯装置１０の各部について説明するが、ワイピングユニット７０については、別途に後述する。
【００４４】
図１２に示すように、キャッピングユニット６０、ワイピングユニット７０および重量測定ユニット９０は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１２０が付帯装置１０の上方に位置した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット６０、ワイピングユニット７０および重量測定ユニット９０のいずれかがヘッドユニット１２０（液滴吐出ヘッド５３）の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１２０は、待機時（例えば基板Ｗの給材・除材時等）には付帯装置１０の上方に移動し、キャッピングおよびクリーニング（ワイピング）を行う。
【００４５】
キャッピングユニット６０は、複数の液滴吐出ヘッド５３のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップ６１とこれらキャップ６１を昇降させる昇降機構とを有している。各キャップ６１には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット６０は、各キャップ６１で各液滴吐出ヘッド５３のノズル形成面５３ａを覆うとともに、ノズル形成面５３ａに形成されたノズル５３ｃから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド５３のノズル形成面５３ａが乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００４６】
キャッピングユニット６０によるキャッピングは、ヘッドユニット１２０の待機時や、ヘッドユニット１２０に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１２０から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
キャッピングユニット６０によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド５３から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通って回収され、タンク収納部１１に設置された再利用タンク１１３に貯留される。再利用タンク１１３に回収された液体は、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００４７】
重量測定ユニット９０は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド５３からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１２０は、重量測定ユニット９０の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド５３の全ノズル５３ｃから１回または複数回液滴を重量測定ユニット９０に対し吐出する。重量測定ユニット９０は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置は、その重量計測結果に基づいて、ノズル５３ｃにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド５３を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００４８】
ドット抜け検出ユニット１００は、移動台１２４上におけるキャッピングユニット６０の側方（装置本体２側）に設置されている。ドット抜け検出ユニット１００は、液滴吐出ヘッド５３のノズル５３ｃの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１２０がドット抜け検出ユニット１００の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各ノズル５３ｃから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１００は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしているノズル５３ｃの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド５３から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１００が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って回収され、タンク収納部１１に設置された排液タンク（図示せず）内に貯留される。
【００４９】
タンク収納部１１には、各液滴吐出ヘッド５３から吐出する吐出液を貯留する一次タンク１１１と、ワイピングユニット７０へ供給される洗浄液を貯留する洗浄液タンク１１２と、前述したキャッピングユニット６０で吸引されて回収された液体を貯留する再利用タンク１１３と、描画前フラッシングおよびドット抜け検出の際に吐出されて回収された液体を貯留する排液タンク（図示せず）とがそれぞれ設置、収納されている。
第２のエアー供給装置１７は、一次タンク１１１および洗浄液タンク１１２からそれぞれ吐出液および洗浄液を送出するための圧力を供給する圧力供給源として機能したり、付帯装置１０における空気圧シリンダ等のアクチュエータの駆動源として機能したりする。
【００５０】
筐体１３の上には、二次タンク１８が固定的に設置されている。一次タンク１１１内に貯留された吐出液は、図示しない配管（チューブ）を通って、二次タンク１８に流入する。二次タンク１８内では、圧力が制御され、液量（水頭差）が調節されている。二次タンク１８内の吐出液は、図示しない配管（チューブ）を通ってヘッドユニット１２０の各液滴吐出ヘッド５３に供給される。
【００５１】
図１３は、ワイピングユニット７０のワイピングシート供給ユニットを示す斜視図、図１４は、同ワイピングシート供給ユニットを示す図であって、巻き出しローラおよび巻き取りローラの軸線に垂直をなす断面より見た縦断面図、図１５は、ワイピングユニット７０のローラユニットを示す斜視図、図１６は、同ローラユニットを、そのローラの軸線に垂直な断面より見た縦断面図、図１７は、ワイピングユニット７０による各ノズル形成面の清掃を説明する平面図、図１８は、同ワイピングユニット７０による各ノズル形成面の清掃を説明する側面図であって、（ａ）はワイピングシートをノズル形成面に対して押し付ける前の状態を示す図、（ｂ）は押し付け状態を示す図、図１９は、同ワイピングユニット７０による各ノズル形成面の清掃を説明する平面図、図２０は、ワイピングユニット７０の洗浄液の流路を示す配管系統図、図２１は、マニホールド、各ニードル弁およびそれらの支持板の表面を示す側面図、図２２は、マニホールド、各ニードル弁およびそれらの支持板を示す平面図、図２３は、マニホールド、各ニードル弁およびそれらの支持板の裏面を示す側面図である。以下、これらの図と、図１１および図１２とに基づいて、ワイピングユニット（液滴吐出ヘッド清掃装置）７０について詳細に説明する。
【００５２】
これらの図に示すワイピングユニット７０は、定期的あるいは随時に、各液滴吐出ヘッド５３の各ノズル形成面５３ａをワイピングシート７５によって拭って清掃するものである。ワイピングシート７５は、液体を吸収し得る性質を有しており、その材質としては特に限定されないが、例えばポリエステルからなる織布が好適に用いられる。
【００５３】
図１１および図１２に示すように、ワイピングユニット７０は、各ノズル形成面５３ａを拭うワイピングシート７５を各ノズル形成面５３ａに向けて押し付けるローラ（押し付け部材）７６と、ワイピングシート７５を各ノズル形成面５３ａに向かって巻き出して供給する巻き出しローラ７８と、各ノズル形成面５３ａを拭った後のワイピングシート７５を巻き取る巻き取りローラ７９と、該巻き取りローラ７９を回転駆動する電動モータ１５３とを備えている。
【００５４】
そして、このワイピングユニット７０によれば、巻き出しローラ７８から巻き出されるワイピングシート７５を各ノズル形成面５３ａに向かって供給しながらローラ７６で押し付けていくことで、ワイピングシート７５の新しい清掃面を絶えず各ノズル形成面５３ａに対して供給することができるようになっている。しかも、ローラ７６の押し付け力によりワイピングシート７５を各ノズル形成面５３ａに押し付ける構成であるため、各ノズル形成面５３ａに対して清掃面を確実に当てることもできるようになっている。
【００５５】
図１３および図１４に示すように、巻き出しローラ７８および巻き取りローラ７９は、それぞれの軸線回りに回動可能な状態で、ローラケーシング１５１に固定されており、巻き取りローラ７９を回転駆動させることで、巻き出しローラ７８からワイピングシート７５（図１３および図１４中では図示省略）を巻き出すことができるようになっている。ここで、巻き取りローラ７９の回転駆動は、該巻き取りローラ７９の回転軸７９ａの端部に同軸に取り付けられたプーリ７９ｂを、ベルト１５２を介して電動モータ１５３により駆動することで行われる。
【００５６】
同図に示すガイドローラ１５４は、ワイピングシート７５の流れを正しくガイドするためのものであり、その端部に備えられた回転速度計１５５（エンコーダ）がガイドローラ１５４の回転速度を検出することにより、ワイピングシート７５の送り速度を検出することができるようになっている。
そして、以上説明の巻き出しローラ７８と、巻き取りローラ７９と、ローラケーシング１５１と、ワイピングシート７５と、電動モータ１５３と、ガイドローラ１５４と、回転速度計１５５（エンコーダ）とを備えて、ワイピングシート供給ユニット１５０が構成されている。
【００５７】
図１５および図１６に示すように、ローラ７６は、その軸線回りに回動可能な状態でローラケーシング１６１に固定されており、ワイピングシート供給ユニット１５０から繰り出されてくるワイピングシート７５の送り速度に同期して回転駆動されるようになっている。ここで、ローラ７６の回転駆動は、該ローラ７６の回転軸７６ａの端部に同軸に取り付けられたプーリ７６ｃを、ベルト１６２を介して電動モータ１６３により駆動することで行われる。
そして、以上説明のローラ７６と、ローラケーシング１６１と、電動モータ１６３とを備えて、ローラユニット１６０が構成されている。また、ワイピングシート供給ユニット１５０と、ローラユニット１６０とで、ワイピングシート７５を走行させるワイピングシート走行機構が構成される。
【００５８】
ローラ７６の近傍には、各ノズル形成面５３ａを拭う前のワイピングシート７５へ向けて洗浄液を噴射する複数の噴射口（ノズル）１７１ａを備えたノズルユニット１７１が設置されている。このノズルユニット１７１は、複数の噴射口１７１ａが上向きに穿設された棒状の部材であり、ローラ７６の軸線（回転軸）に対し平行に配置されている。ノズルユニット１７１は、その真上を通過していくワイピングシート７５に対し、その裏面（下面）側から、各噴射口１７１ａより洗浄液を噴射する。これにより、各ノズル形成面５３ａを拭う直前のワイピングシート７５が洗浄液を吸収し、ワイピングシート７５を湿らせることができる。
【００５９】
このようにして、ワイピングシート７５に予め洗浄液を吸収させる理由は、洗浄液の洗浄効果により各ノズル形成面５３ａをよりきれいに拭き取ることはもちろんであるが、これに加えて下記理由も有している。すなわち、例えば乾いたワイピングシート７５を各ノズル形成面５３ａに対して押し付けた場合（乾式の場合）、ワイピングシート７５の吸い込みにより、各液滴吐出ヘッド５３内の吐出液をノズル形成面５３ａ側に余計に引き出してしまう恐れがある。これに対し、洗浄液により予めワイピングシート７５の清掃面を湿らせておく（湿式とする）ことで、余分な吐出液を液滴吐出ヘッド５３内部から抜き出すことなく、かつ、確実に各ノズル形成面５３ａに付着した吐出液を拭い取ることができるようになる。なお、洗浄液としては、特に限定されないが、例えば各種洗浄剤や有機溶剤などを使用することができる。
【００６０】
また、本実施形態では、複数の噴射口１７１ａは、ワイピングシート７５のノズル形成面５３ａが接触する面と反対側の面に向けて洗浄液を噴射し、ワイピングシート７５にその裏面側から洗浄液を吸収させる。これにより、噴射口１７１ａ（ノズルユニット１７１）をワイピングシート７５の下側に配置することができるので、ワイピングユニット７０の小型化（省スペース化）が図れ、液滴吐出ヘッド５３と干渉したりするのをより確実に防止することができる。
【００６１】
複数の噴射口１７１ａは、ワイピングシート７５の送り方向（走行方向）と直交する方向（ワイピングシート７５の幅方向）に互いに間隔を空けて配置されている。これにより、各ノズル形成面５３ａを拭う前のワイピングシート７５の全体に渡って洗浄液を付与することができる。なお、複数の噴射口１７１ａは、図示の構成のように、等間隔で配置されているのが好ましい。これにより、ワイピングシート７５の幅方向の全体に洗浄液をまんべんなく付与することができる。
【００６２】
また、本実施形態では、複数の噴射口１７１ａの配列方向は、ワイピングシート７５の幅方向に平行になっている。これにより、各噴射口１７１ａを極力小さいスペースに配置することができる。なお、このような構成と異なり、複数の噴射口１７１ａの配列方向は、ワイピングシート７５の幅方向に対し傾斜していてもよい。
【００６３】
また、噴射口１７１ａの設置間隔（ピッチ）は、特に限定されず、ワイピングシート７５の材質や洗浄液の種類などによってもその好ましい値は異なるが、通常、１５〜３０ｍｍ程度であるのが好ましい。また、噴射口１７１ａの設置個数は、特に限定されず、ワイピングシート７５の幅寸法などによってもその好ましい値は異なるが、通常、６〜１８個程度であるのが好ましい。なお、本実施形態では、噴射口１７１ａは、１２個設けられている。
【００６４】
ノズルユニット１７１に形成された各噴射口１７１ａは、互いに連通することなく独立している。そして、ノズルユニット１７１には、各噴射口１７１ａに対応する配管接続部１７１ｂが設けられており、各配管接続部１７１ｂには、それぞれ、対応する噴射口１７１ａに洗浄液を供給する枝管４１が接続されている。枝管４１は、図示の構成では、可撓性を有するチューブで構成されている。なお、図を見易くするため、図１５および図２３中では、１２本の枝管４１のうち３本のみを図示し、図２２中では、全部の枝管４１の図示を省略する。
【００６５】
図２０に示すように、各枝管４１は、洗浄液タンク１１２に接続された主管４２から、マニホールド４３を介して分岐している。洗浄液タンク１１２内の洗浄液は、主管４２、マニホールド４３および各枝管４１を通って、各噴射口１７１ａに供給される。このように、主管４２、マニホールド４３および各枝管４１によって、洗浄液供給手段が構成される。
【００６６】
また、洗浄液タンク１１２の内部は、加圧気体供給源１１０から供給される加圧された窒素ガス等の気体によって加圧されており、この圧力によって、送液（送出）される。
また、主管４２の途中には、流路を遮断し得る切り替え弁４７が設置されており、ワイピングを行わないときに主管４２からマニホールド４３への洗浄液の流れを止めることができるようになっている。
【００６７】
各枝管４１の途中には、それぞれ、流量を調整するニードル弁（調整弁）４４が設置されている。各ニードル弁４４は、対応する噴射口１７１ａからの噴射量を調整する噴射量調整手段として機能するものである。
また、各枝管４１の途中には、さらに、逆流防止弁（チェック弁）４６がそれぞれ設置されている。これにより、枝管４１内で洗浄液が逆流するのを防止することができる。各逆流防止弁４６は、ワイピングシート供給ユニット１５０およびローラユニット１６０の近傍に設けられた逆流防止弁設置部１８０にまとめて設置されている（図１１参照）。
【００６８】
図２１ないし図２３に示すように、マニホールド４３および各ニードル弁４４は、移動台１２４上であってワイピングシート供給ユニット１５０およびローラユニット１６０の近傍に設置された支持板７１に固定されている。
図２１に示すように、マニホールド４３の本体４３１は、支持板７１の表側に位置しており、この本体４３１に、主管４２が、調整弁４５を介して接続されている。調整弁４５を調整することにより、洗浄液タンク１１２からマニホールド４３への流量を調整することができる。また、支持板７１の表側には、各ニードル弁４４の調整ツマミ４４２がそれぞれ設けられている。
図２３に示すように、支持板７１の裏側には、各ニードル弁４４の本体４４１と、マニホールド４３の各分岐口４３２とが設けられている。各枝管４１は、各分岐口４３２から出て、各ニードル弁４４の本体４４１を経由し、各噴射口１７１ａ側へと延びている。
【００６９】
以上説明したような構成により、ワイピングユニット７０では、各ニードル弁４４の調整ツマミ４４２を回すことにより、各噴射口１７１ａからの洗浄液の噴射量をそれぞれ調整することができる。よって、各噴射口１７１ａからの洗浄液の噴射量を、洗浄液がワイピングシート７５の幅方向に均一に付与されるように調整することができる。この場合、各噴射口１７１ａからの噴射量が互い同じになるように調整することが好ましい。
【００７０】
本発明では、このようにして、洗浄液をワイピングシート７５の全体に均一に付与することができる。これにより、ワイピングシート７５に、洗浄液が少な過ぎて洗浄力が足りない領域を生じたり、洗浄液が多過ぎてそれ以上液体（拭き取った液体）を吸収できない領域を生じたりするのを防止することができる。よって、ワイピングシート７５の全体に渡って高い清掃効果が得られるので、拭い残しを生じるのを確実に防止することができる。すなわち、各ノズル形成面５３ａに対し、その全体を隈なく拭って、付着した液体を確実に除去することができる。その結果、液滴吐出ヘッド５３の各ノズル５３ｃからの液滴の吐出方向（飛ばす方向）にヨレ（乱れ）を生じることなく、真っ直ぐに液滴を飛ばすことができるので、基板Ｗに対するパターンの形成（描画）を高い精度を維持して行うことができる。
【００７１】
さらに、ワイピングシート７５の全体に渡って均一に洗浄液を付与できるので、各噴射口１７１ａからの噴射量のムラを考慮して全体の噴射量を多めにしなければならないようなことがないので、洗浄液の消費量を必要最小限にすることができる。よって、洗浄液の無駄が少なく、ランニングコストの低減が図れ、基板Ｗ等の製造物の製造コストの低減に寄与する。
【００７２】
また、本実施形態では、洗浄液タンク１１２からワイピングユニット７０（ワイピングシート７５）の近傍のマニホールド４３までは１本の配管（主管４２）により洗浄液が供給され、マニホールド４３から複数の配管（枝管４１）に分岐して各噴射口１７１ａに洗浄液が供給される。これにより、洗浄液の配管内消費量を減らすことができるので、洗浄液の無駄がより少ないとともに、配管接続の作業も容易に行うことができる。
【００７３】
図１７に示すように、ワイピングユニット７０は、第１ヘッド列１２１Ａ、第２ヘッド列１２１Ｂをそれぞれ一括して（同時に）清掃することができるよう構成されている。すなわち、ローラ７６は、各列を構成する複数（６個）の液滴吐出ヘッド５３の各ノズル形成面５３ａに対して一括してワイピングシート７５を押し付けるよう構成されている。これにより、ヘッドユニット１２０の全体に対する清掃を高い効率で迅速に行うことができる。
【００７４】
また、ワイピングシート７５およびローラ７６は、これらワイピングシート７５およびローラ７６と、各ノズル形成面５３ａとの間の相対的な幅寸法Ｗ１、Ｗ２が、それぞれ、すべての各ノズル形成面５３ａがなす総和幅寸法Ｗ３以上とされている。同様に、ノズルユニット１７１の各噴射口１７１ａがなす総和幅寸法Ｗ４も、総和幅寸法Ｗ３よりも長くされている。
このように構成することにより、ワイピングシート７５の清掃面の範囲や、ローラ７６の押し付け範囲や、ノズルユニット１７１からの洗浄液塗布範囲から外れるノズル形成面５３ａが生じないので、すべてのノズル形成面５３ａを確実に残さず拭い取ることができるようになる。
【００７５】
さらに、本実施形態の液滴吐出装置１では、図１５および図１７に示すように、そのローラ７６が、各ノズル形成面５３ａ間のピッチ間隔に合わせて該ローラ７６の軸線方向に複数分割された分割ローラ７６ｂと、軸線を共通の軸線とする回転軸７６ａとを有する構成を採用している。すなわち、ローラ７６の外周面は、各ノズル形成面５３ａ間のピッチ間隔に合わせてローラ７６の回転軸方向に沿って複数に分割されている。そして、各分割ローラ７６ｂの外周面は、ワイピングシート７５を各ノズル形成面５３ａに向けてそれぞれが押し付ける押し付け面７６ｂ１となっている。各分割ローラ７６ｂは、好ましくはその少なくとも外周部が例えばゴム等の弾性材料で構成されており、押し付け面７６ｂ１に対する押圧力に対して反発する弾性を備えている。
【００７６】
このように、ローラ７６は、複数の押し付け面７６ｂ１を有する複数の分割ローラ７６ｂに分割されており、なおかつ、これら押し付け面７６ｂ１間のピッチ間隔を、各ノズル形成面５３ａ間のピッチ間隔に合わせてあるので、各ノズル形成面５３ａにワイピングシート７５を押し付けている状態において、互いに隣接する各押し付け面７６ｂ１間で互いに干渉し合うことがないようになっている。
【００７７】
より詳細には、各ノズル形成面５３ａに設けられている第１ノズル列ｎ１および第２ノズル列ｎ２の、ワイピングシート７５の送り方向に交差する交差方向（図１７の紙面上下方向）の幅寸法Ｗａよりも幅広となるように、各押し付け面７６ｂ１（分割ローラ７６ｂ）の幅寸法Ｗｂが設定されており、なおかつ、これら幅寸法Ｗｂ内に、対応する各幅寸法Ｗａがそれぞれ収まるように各押し付け面７６ｂ１（分割ローラ７６ｂ）の配置が設定されている。
【００７８】
したがって、すべてのノズル形成面５３ａ毎にそれぞれ専用の押し付け面７６ｂ１を供給することができるので、すべてのノズル形成面５３ａへのワイピングシート７５の押し付けをより確実に確保することができるようになっている。
例えば、ローラ７６を分割せず、その外周面を単独の押し付け面として構成した場合、他の液滴吐出ヘッド５３よりもノズル形成面５３ａがワイピングシート７５側に突出したものがあるとすると、この突出したノズル形成面５３ａは、ワイピングシート７５に良く当接することができる。しかし、良く当接する分、ワイピングシート７５の清掃面の周囲を巻き込んで余分に凹ませるので、その両隣位置のノズル形成面５３ａから清掃面が離れやすくなり、これら両隣位置の各ノズル形成面５３ａを拭いにくくなる。これに対し、本実施形態では、互いに分割された各押し付け面７６ｂ１を採用しているので、例え上述のような突出したノズル形成面５３ａが有ったとしても、この突出したノズル形成面５３ａが、他の押し付け面７６ｂ１を巻き込んで凹ませることがない。これにより、互いに隣接する各押し付け面７６ｂ１間で互いに干渉し合うことがないので、それぞれが均等に拭われてより確実に清掃されるようになっている。
なお、本発明では、ローラ７６は、複数に分割されておらず、その外周面が回転軸方向に沿って連続しているものであってもよい。
【００７９】
図６で図示したように、各液滴吐出ヘッド５３は、複数個をそれぞれ一列配置してまとめることで、第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂを構成している。そして、これら第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂは、ワイピングシート７５の送り方向（矢印Ｓ方向）に交差するように配置され、なおかつ、これら第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂは、描画する画素ピッチに合わせて、前記送り方向から見た場合の位置がシフト量Ｓｈだけずれたものとなっている。
【００８０】
本実施形態のワイピングユニット７０は、このシフト量Ｓｈのずれを吸収するべく、各列毎に（第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂ毎に）、各ノズル形成面５３ａに対する各押し付け面７６ｂ１の相対位置を合わせるローラ位置調整部（図示せず）を備えている。
このローラ位置調整部は、図６の紙面垂直方向に移動台１２４をスライド移動させる駆動機構であり、この移動台１２４上に据え付けられているワイピングユニット７０を一体にスライド移動させることができるようになっている。すなわち、図１９に示すように、ローラ７６を、ワイピングシート７５の送り方向に交差する方向にシフトして位置決めすることができるようになっている。
【００８１】
図１９に示すように、各ノズル形成面５３ａの清掃のために定位置に固定された第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂに対し、ローラ７６を紙面右方向に移動させることで、第１ヘッド列１２１Ａ、そして第２ヘッド列１２１Ｂの順にそれぞれのノズル形成面５３ａを清掃するが、前述のように、これら第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂ間には、シフト量Ｓｈがあるため、第１ヘッド列１２１Ａを清掃した後のローラ７６を、ローラ位置調整部によりシフト量Ｓｈ分だけ予めスライド移動させることで、このシフト量Ｓｈを吸収することができるようになっている。
【００８２】
したがって、このローラ位置調整部を備えたことにより、製造する基板Ｗの画素ピッチやサイズ等の仕様変更が生じて、第１ヘッド列１２１Ａおよび第２ヘッド列１２１Ｂ間のシフト量Ｓｈが変更になったとしても、これに対応して、ローラ位置調整部が、各列の各ノズル形成面５３ａの位置に一致するように各押し付け面７６ｂ１の相対位置を調整することができるようになっている。これにより、各列の全ノズル形成面５３ａの充分な清掃作業を行うことができるようになる。
【００８３】
ところで、各ノズル形成面５３ａへのワイピングシート７５の押し付け圧は、好ましくは、１００〜１０００ｇｆの範囲内の所定圧となるように設定されている。これは、押し付け圧を適正に保つことにより、ワイピングシート７５を強く押し付けすぎて各ノズル形成面５３ａを傷付けたり、もしくは、押し付け力が弱すぎて各ノズル形成面５３ａに付着した液体が拭いきれずに残ったりするのを防止するためである。より具体的に言うと、所定圧が１００ｇｆよりも小さいと、押し付け力が弱すぎて各ノズル形成面５３ａに付着した液体が拭いきれずに残る恐れがあり、また、所定圧が１０００ｇｆよりも大きくなると、強く押し付けすぎて各ノズル形成面５３ａを傷付けたりする恐れがあるので、所定圧を１００〜１０００ｇｆの範囲内に収まるように設定するのが好ましい。この所定圧は、ワイピングシートの材料およびローラ７６の硬度に応じて設定されることがより好ましい。例えば、ワイピングシート７５としてポリエステルを用い、ローラ７６として硬度２０〜７０度程度のゴム部材を用いる場合にあっては、２００〜４００ｇｆの範囲内の所定圧となるように設定されることがより好ましい。
【００８４】
この押し付け圧の設定に際しては、押し付け圧を直接計測する方法もあるが、本実施形態では、図１８（ａ）、（ｂ）に示すように、ワイピングシート７５を介してローラ７６を各ノズル形成面５３ａに押し付けた際に、ワイピングシート７５およびローラ７６の変位量（つぶれ量）が所定寸法となるようにすることで設定してもよい。より具体的に言うと、上記の変位量は、ワイピングシート７５の材料や厚さおよびローラ７６の硬度に応じて適正範囲が規定される。例えば、ワイピングシート７５としてポリエステル繊維による厚さ０．６ｍｍのシートを用い、ローラ７６として硬度３０〜６０度のゴムを用いた場合、ノズル形成面５３ａ、ワイピングシート７５およびローラ７６が接した状態のローラ７６の回転軸の位置と、押し付け後の回転軸の位置の押し付け方向における変位量が、０．１〜１ｍｍの範囲内となるように設定されている。
【００８５】
すなわち、図１８（ａ）に示す押し付け前では、各液滴吐出ヘッド５３から離れた位置にローラユニット１６０が位置しており、そのときのワイピングシート７５の上面（洗浄面）の鉛直方向高さをＨ１とする。そして、各液滴吐出ヘッド５３のノズル形成面５３ａの鉛直方向高さをＨ２とした場合に、Ｈ２−Ｈ１が、０．１〜１ｍｍの範囲内となるように設定されている。
【００８６】
これにより、図１８（ｂ）に示すように、ヘッドクリーニングのためにローラユニット１６０のローラ７６を、ノズルユニット１７１の真下に来るようにローラユニット駆動機構（図示せず）で水平移動させたときに、ワイピングシート７５およびローラ７６が、定位置に固定された各液滴吐出ヘッド５３の各ノズル形成面５３ａにより下方に押されて変形する。そして、この変形量をＧとした場合に、変形量Ｇが、０．１〜１ｍｍの範囲内となるように設定されている。
【００８７】
この変位量Ｇが０．１ｍｍに満たない場合には、ワイピングシート７５による押し付け圧が不十分であるとして判断し、逆に、１ｍｍを超える場合には、ワイピングシート７５による押し付け圧が強すぎるとして判断することができるようになる。したがって、変位量Ｇを０．１〜１ｍｍ内に収めるようにすることで、各ノズル形成面５３ａに加わる押し付け圧を直接測定せずとも、ワイピングシート７５の押し付け圧が所定圧内に収まるように容易に設定することができるのである。
【００８８】
図２４は、ワイピングユニットの他の実施形態におけるローラユニットを、そのローラの軸線に垂直な断面より見た縦断面図である。以下、この図に基づいて、ワイピングユニット（液滴吐出ヘッド清掃装置）の他の実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については説明を省略する。
【００８９】
図２４に示すように、本実施形態のワイピングユニットにおけるローラユニット１６０’では、ローラ７６へ向かって移動するワイピングシート７５の上方に、ノズルユニット１７１が設置されている。このノズルユニット１７１には、複数の噴射口１７１ａが下向きに穿設されており、ノズルユニット１７１は、その真下を通過していくワイピングシート７５に対し、その表面（上面）側から、各噴射口１７１ａより洗浄液を噴射する。
【００９０】
また、ローラ７６とワイピングシート供給ユニット１５０との間を走行するワイピングシート７５は、図示しないガイドローラの案内により、前述した実施形態よりも下側の位置を通過するように構成されている。これにより、ワイピングシート７５の上方に、ノズルユニット１７１を設置するスペースが作り出され、ノズルユニット１７１が上方に突出しないように配置されている。
【００９１】
このように、本実施形態では、複数の噴射口１７１ａは、ワイピングシート７５のノズル形成面５３ａが接触する面と同じ側の面に向けて洗浄液を噴射し、ワイピングシート７５にその表面側から洗浄液を吸収させる。これにより、噴射口１７１ａから洗浄液を重力に逆らわずに噴射するので、噴射した洗浄液の全量をワイピングシート７５により確実に含浸させることができる。また、洗浄液が付与された面と同じ面でノズル形成面５３ａを拭き取るので、より少ない量の洗浄液でも十分な清掃効果を得ることができる。
【００９２】
以上、本発明の液滴吐出ヘッド清掃装置、液滴吐出ヘッド清掃方法および液滴吐出装置を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、液滴吐出ヘッド清掃装置および液滴吐出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
【００９３】
また、各噴射口からの噴射量を調整する噴射量調整手段は、図示の構成に限らず、いかなる構成のものでもよい。また、噴射量調整手段は、手動で調整を行うものに限らず、各噴射口からの噴射量をセンサーにより検出し、その検出結果に基づいて、自動的に調整するものであってもよい。
また、ワイピングシートをノズル形成面に押し付ける押し付け部材は、ローラに限らず、ワイピングシートの裏面に摺動しつつこれをノズル形成面に押し付けるパッドのような部材であってもよい。
【００９４】
また、本発明の液滴吐出装置は、ワーク載置部を装置本体に対し互いに直交する水平な２方向（Ｙ軸方向およびＸ軸方向）に移動させるものでもよい。すなわち、本発明の液滴吐出装置は、ヘッドユニットを装置本体に対し固定とし、ワークをＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。また、本発明の液滴吐出装置は、これと逆に、ワーク（ワーク載置部）を装置本体に対し固定とし、ヘッドユニット（液滴吐出ヘッド）をＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。すなわち、本発明の液滴吐出装置は、ワーク載置部と液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させるよう構成されたものであればよい。
また、本発明の電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。本発明の電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
【００９５】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
また、本発明の電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。本発明の電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す斜視図。
【図２】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図３】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す正面図。
【図４】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図５】パターン形成動作を説明するための模式図。
【図６】図１ないし図４に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットを示す平面図。
【図７】ヘッドユニットを図６の矢印Ｃより見た側面図。
【図８】図６および図７に示すヘッドユニットが備える液滴吐出ヘッドの吐出機構を説明する説明図。
【図９】液滴吐出ヘッドの一部分を示す図であって、（ａ）はノズル形成面５３ａに対向する側から見た図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ断面図。
【図１０】液滴吐出ヘッドを説明する図であり、（ａ）は主走査方向を示す説明図、（ｂ）はノズルピッチの変更を示す説明図。
【図１１】図１ないし図４に示す液滴吐出装置における付帯装置を示す側面図。
【図１２】図１ないし図４に示す液滴吐出装置における付帯装置を示す平面図。
【図１３】図１ないし図４に示す液滴吐出装置におけるワイピングユニットのワイピングシート供給ユニットを示す斜視図。
【図１４】同ワイピングシート供給ユニットを示す図であって、巻き出しローラおよび巻き取りローラの軸線に垂直をなす断面より見た縦断面図。
【図１５】同ワイピングユニットのローラユニットを示す斜視図。
【図１６】同ローラユニットを、そのローラの軸線に垂直な断面より見た縦断面図。
【図１７】同ワイピングユニットによる各ノズル形成面の清掃を説明する平面図。
【図１８】同ワイピングユニットによる各ノズル形成面の清掃を説明する側面図であって、（ａ）はワイピングシートをノズル形成面に対して押し付ける前の状態を示す図、（ｂ）は押し付け状態を示す図。
【図１９】同ワイピングユニットによる各ノズル形成面の清掃を説明する平面図。
【図２０】ワイピングユニットの洗浄液の流路を示す配管系統図。
【図２１】マニホールド、各ニードル弁およびそれらの支持板の表面を示す側面図。
【図２２】マニホールド、各ニードル弁およびそれらの支持板を示す平面図。
【図２３】マニホールド、各ニードル弁およびそれらの支持板の裏面を示す側面図。
【図２４】ワイピングユニットの他の実施形態におけるローラユニットを、そのローラの軸線に垂直な断面より見た縦断面図。
【符号の説明】
４１……枝管、４２……主管、４３……マニホールド、４４……ニードル弁、４６……逆流防止弁、４７……切り替え弁、１１０……加圧気体供給源、１７１ａ……噴射口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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