(57)【要約】【課題】電気光学装置における表示不良を防止する。【解決手段】液晶パネル１１０に含まれる第１基板１２０には、複数のセグメント電極１２３がＹ方向に延在するように形成されている一方、第２基板１３０には、複数のコモン電極１３３がＸ方向に延在すように形成されている。絶縁層１２５は、封止材１１４から離間した位置にて、セグメント電極１２３を覆うように第１基板１２０上に形成されている。一方、絶縁層１３５は、絶縁層１２５と同様に封止材１１４から離間した位置にて、コモン電極１３３を覆うように第２基板１３０上に形成されている。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隔を隔てて対向する一対の基板と、
前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、
前記シール材によって囲まれた領域に注入された電気光学物質と、
前記シール材の前記注入口をふさぐように設けられた封止材と、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられて前記電気光学物質に作用する電界を変化させる電極群と、
前記電極群を覆うように設けられた配向膜とを具備し、
前記配向膜のうち前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間する第１の領域に対向する前記電気光学物質の分子は第１のプレチルト角にて配向する一方、前記配向膜のうち前記第１の領域からみて前記封止材側にて当該第１の領域に接する第２の領域に対向する前記電気光学物質の分子は前記第１のプレチルト角よりも小さい第２のプレチルト角にて配向し、
前記第１の領域と前記第２の領域との境界は、前記電気光学物質のうち前記電極群により電界が変化される領域より前記封止材側に位置する
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１および第２の領域の境界は、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記配向膜の周縁のうち対向する二つの縁辺の各々に属する点同士を結ぶ線に相当する
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
間隔を隔てて対向する一対の基板と、
前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、
前記シール材によって囲まれた領域に注入された電気光学物質と、
前記シール材の前記注入口をふさぐように設けられた封止材と、
前記一対の基板に含まれる少なくとも一方の基板のうち、その板面と垂直な方向からみて前記封止材と離間した位置に設けられると共に、前記電気光学物質に作用する電界を変化させる電極群と、
金属元素を含む材料で形成され、前記電極群を覆う絶縁層であって、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すると共に、その縁辺の一部が前記電気光学物質のうち前記電極群により電界が変化させられる部分と前記封止材との間に位置するように設けられた絶縁層と、
前記絶縁層を覆うように設けられる配向膜であり、前記絶縁層の縁辺のうち前記封止材と対向する部分よりも前記封止材側に位置する部分を有する配向膜と、
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
前記絶縁層と同一の材料を含み、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて、前記封止材と前記絶縁層との間に介在し、前記絶縁層と少なくとも一部が離間するように設けられた絶縁層をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
間隔を隔てて対向する一対の基板と、
前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、
前記シール材によって囲まれた領域に注入された電気光学物質と、
前記シール材の前記注入口をふさぐように設けられた封止材と、
前記一対の基板に含まれる少なくとも一方の基板のうち、その板面と垂直な方向からみて前記封止材と離間した位置に設けられると共に、前記電気光学物質に作用する電界を変化させる電極群と、
金属元素を含む材料により前記一方の基板上に形成され、前記一対の基板のうち他方の基板を介して入射した光を反射する反射層であって、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すると共に、その縁辺の一部が前記電気光学物質のうち前記電極群により電界が変化させられる部分と前記封止材との間に位置する反射層と
前記電極群を覆うように設けられる配向膜であり、前記反射層の縁辺のうち前記封止材と対向する部分よりも前記封止材側に位置する部分を有する配向膜と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
前記反射層と同一の材料を含み、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて、前記封止材と前記反射層との間に介在し、前記反射層と少なくとも一部が離間するように設けられた反射層をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【請求項８】
間隔を隔てて対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられ、前記電気光学物質に作用する電圧を変化させる電極群と、前記電極群を覆う絶縁層とを具備する電気光学装置の製造方法であって、
前記電気光学装置に含まれる前記一方の基板に設けられた前記絶縁層のうち前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すべき第１の領域に光を照射しない一方、前記絶縁層のうち前記電極群により前記電気光学物質に作用する電界が変化される領域および前記第１の領域からみて前記封止材側にて当該第１の領域と接する第２の領域には光を照射する露光過程と、
前記露光過程を経た前記一方の基板を有する電気光学装置に対して前記注入口から電気光学物質を注入し、この注入口をふさぐように封止材を形成する封止過程と
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
間隔を隔てて対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、前記注入口から注入された電気光学物質と、前記注入口をふさぐ封止材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられ、前記電気光学物質に作用する電圧を変化させる電極群と、前記電極群を覆う絶縁層とを具備する電気光学装置に対し、
前記電気光学装置に含まれる前記絶縁層のうち前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すべき第１の領域に光を照射する一方、前記絶縁層のうち前記電極群により前記電気光学物質に作用する電界が変化される領域および前記第１の領域からみて前記封止材側にて当該第１の領域に接する第２の領域には光を照射しない露光過程、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は電気光学装置、その製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知の通り、電気光学パネルは、シール材により張り合わされた一対の基板と、両基板の間に封入される電気光学物質と、この電気光学物質に対して電界を変化させるための電極とを有する構成が一般的である（例えば、特許文献１参照）。このうちシール材は、基板の縁辺近傍に沿って枠状に設けられるが、両基板の間に電気光学物質を注入するための注入口を有している。この注入口は、電気光学物質の注入後、ＵＶ硬化性樹脂などの封止材により塞がれて、電気光学物質の外部への漏出や、不純物の外部からの浸入が防止される。一方で、電気光学パネルにおいては、基板上に形成された電極の短絡を防止すべく、配線のうちシール材で囲まれる部分を覆うようにチタンやジルコニウムなどの金属元素を含む絶縁層が設けられることがしばしばある。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−１２３５２０号公報（図６）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このように絶縁層と封止材との両方の部材を有する電気光学パネルにおいては、光を照射させた状態で放置すると、次のような表示不良が生じることが確認されている。すなわち、電気光学パネルとして液晶パネルを用いて説明すると、図１９に示すように、液晶パネル５００のうち液晶の配向状態が制御される表示領域５０２に、封止材５１０を略中心として波紋を描くようなムラ５２０が生じることが確認されている。このようなムラ５２０の原因は、現段階では必ずしも明らかにはなっていないが、本発明者の考察によれば、絶縁層に光が照射されることにより絶縁層から液晶中に金属イオンが溶出し、その金属イオンと、封止材５１０から溶出したイオン性不純物とが反応を起こし、液晶分子の極性に悪影響を及ぼすものと考えられている。また、これに加え、絶縁層から溶出したチタン酸が、液晶中に混在する水分を吸収あるいは離脱することにも起因するものと考えられている。
なお、以上説明した封止材５１０を一因とする表示不良は、液晶パネルに絶縁層を設けた場合に限らず、銀や、パラジウム、銅を含む金属化合物を電極や反射層として用いた場合にも同様に生じ得ることが確認されている。
【０００５】
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、封止材を一因とする表示不良の発生を防止することができる電気光学装置、および、この電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。
【０００６】
【発明を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明にかかる電気光学装置は、間隔を隔てて対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、前記シール材によって囲まれた領域に注入された電気光学物質と、前記シール材の前記注入口をふさぐように設けられた封止材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられて前記電気光学物質に作用する電界を変化させる電極群と、前記電極群を覆うように設けられた配向膜とを具備し、前記配向膜のうち前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間する第１の領域に対向する前記電気光学物質の分子は第１のプレチルト角にて配向する一方、前記配向膜のうち前記第１の領域からみて前記封止材側にて当該第１の領域に接する第２の領域に対向する前記電気光学物質の分子は前記第１のプレチルト角よりも小さい第２のプレチルト角にて配向し、前記第１の領域と前記第２の領域との境界は、前記電気光学物質のうち前記電極群により電界が変化される領域より前記封止材側に位置する。
かかる電気光学装置によれば、封止材からみてプレチルト角が小から大になる境界にて、封止材を略中心とする波紋状のムラの表示領域への波及を防止することができる。
【０００７】
好ましい態様において、前記第１および第２の領域の境界は、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記配向膜の周縁のうち対向する二つの縁辺の各々に属する点同士を結ぶ線に相当する。
このように、第１および第２の領域の境界を基板の板面と垂直な方向からみて配向膜を横切るように設けることにより、表示領域へのムラの波及を確実に防止することができる。
【０００８】
また、本発明は、間隔を隔てて対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、前記シール材によって囲まれた領域に注入された電気光学物質と、前記シール材の前記注入口をふさぐように設けられた封止材と、前記一対の基板に含まれる少なくとも一方の基板のうち、その板面と垂直な方向からみて前記封止材と離間した位置に設けられると共に、前記電気光学物質に作用する電界を変化させる電極群と、金属元素を含む材料で形成され、前記電極群を覆う絶縁層であって、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すると共に、その縁辺の一部が前記電気光学物質のうち前記電極群により電界が変化させられる部分と前記封止材との間に位置するように設けられた絶縁層と、前記絶縁層を覆うように設けられる配向膜であり、前記絶縁層の縁辺のうち前記封止材と対向する部分よりも前記封止材側に位置する部分を有する配向膜とを具備することを特徴とする電気光学装置を提供する。
かかる電気光学装置によれば、電気光学物質のうち、基板の板面からみて絶縁層と重なる領域のプレチルト角は、絶縁層と重ならない領域のプレチルト角よりも大きくなる。このため、封止材からみてプレチルト角が小から大になる境界が、表示領域の封止材側に形成され、封止材を略中心とするムラの表示領域への波及を防止することができる。
【０００９】
好ましい態様において、前記電気光学装置は、前記絶縁層と同一の材料を含み、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて、前記封止材と前記絶縁層との間に介在し、前記絶縁層と少なくとも一部が離間するように設けられた絶縁層をさらに含む。
このように、封止材と絶縁層との間に位置する絶縁層を設けることにより、電気光学装置におけるセルギャップを略一定に保つことが可能となる。
【００１０】
本発明は、間隔を隔てて対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、前記シール材によって囲まれた領域に注入された電気光学物質と、前記シール材の前記注入口をふさぐように設けられた封止材と、前記一対の基板に含まれる少なくとも一方の基板のうち、その板面と垂直な方向からみて前記封止材と離間した位置に設けられると共に、前記電気光学物質に作用する電界を変化させる電極群と、金属元素を含む材料により前記一方の基板上に形成され、前記一対の基板のうち他方の基板を介して入射した光を反射する反射層であって、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すると共に、その縁辺の一部が前記電気光学物質のうち前記電極群により電界が変化させられる部分と前記封止材との間に位置する反射層と前記電極群を覆うように設けられる配向膜であり、前記反射層の縁辺のうち前記封止材と対向する部分よりも前記封止材側に位置する部分を有する配向膜とを具備することを特徴とする電気光学装置を提供する。
この構成によれば、電気光学物質のうち、基板の板面からみて反射層と重なる領域のプレチルト角は、反射層と重ならない領域のプレチルト角よりも大きくなる。このため、封止材からみてプレチルト角が小から大になる境界が、表示領域の封止材側に形成され、封止材を略中心とするムラの表示領域への波及を防止することができる。
【００１１】
好ましい態様において、前記電気光学装置は、前記反射層と同一の材料を含み、前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて、前記封止材と前記反射層との間に介在し、前記反射層と少なくとも一部が離間するように設けられた反射層をさらに含む。このように、封止材と絶縁層との間に位置する反射層を設けることにより、電気光学装置におけるセルギャップを略一定に保つことが可能となる。
また、本発明にかかる電子機器は、上述した電気光学装置を有することを特徴としている。上述したように本発明にかかる電気光学装置は、表示領域へのムラの波及が防止されるため、該電気光学装置を備えた電子機器においては、表示品質が良好なものとなる。
【００１２】
上述した課題を解決するため、本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、間隔を隔てて対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられ、前記電気光学物質に作用する電圧を変化させる電極群と、前記電極群を覆う絶縁層とを具備する電気光学装置の製造方法であって、前記電気光学装置に含まれる前記一方の基板に設けられた前記絶縁層のうち前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すべき第１の領域に光を照射しない一方、前記絶縁層のうち前記電極群により前記電気光学物質に作用する電界が変化される領域および前記第１の領域からみて前記封止材側にて当該第１の領域と接する第２の領域には光を照射する露光過程と、前記露光過程を経た前記一方の基板を有する電気光学装置に対して前記注入口から電気光学物質を注入し、この注入口をふさぐように封止材を形成する封止過程とを有する。
この製造方法によれば、電気光学物質のうち、基板の板面からみて第１の領域と重なる領域のプレチルト角は、第２の領域と重なる領域のプレチルト角よりも大きくなる。このため、封止材からみてプレチルト角が小から大になる境界が、表示領域の封止材側に形成され、封止材を略中心とするムラの表示領域への波及を防止することができる。
【００１３】
また、本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、間隔を隔てて対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に介在するように枠状に設けられ、該枠内に電気光学物質を注入するための注入口を有するシール材と、前記注入口から注入された電気光学物質と、前記注入口をふさぐ封止材と、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられ、前記電気光学物質に作用する電圧を変化させる電極群と、前記電極群を覆う絶縁層とを具備する電気光学装置に対し、前記電気光学装置に含まれる前記絶縁層のうち前記一方の基板の板面と垂直な方向からみて前記封止材から離間すべき第１の領域に光を照射する一方、前記絶縁層のうち前記電極群により前記電気光学物質に作用する電界が変化される領域および前記第１の領域からみて前記封止材側にて当該第１の領域に接する第２の領域には光を照射しない露光過程を有する。
この製造方法によれば、電気光学物質のうち、基板の板面からみて第１の領域と重なる領域のプレチルト角は、第２の領域と重なる領域のプレチルト角よりも大きくなる。このため、封止材からみてプレチルト角が小から大になる境界が、表示領域の封止材側に形成され、封止材を略中心とするムラの表示領域への波及を防止することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下においては、電気光学装置の一例として、パッシブマトリックス型の液晶装置を例にして本発明にかかる各実施形態を説明する。
【００１５】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態にかかる液晶装置の上面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ′線からみた液晶装置の断面図である。
図２に示すように、液晶装置１００は、液晶パネル１１０と、該液晶パネル１１０の背面側に位置するバックライトユニット１８０とを含んでいる。
このうちバックライトユニット１８０に含まれる光源１８２は、例えばＬＥＤなどであり、板状の導光板１８４のうち側端面に対して光を照射する。導光板１８４は、合成樹脂などの光透過性を有する部材であり、その側端面から入射した光源１８２からの光を液晶パネル１１０に向けて一様に出射する。また、導光板１８４の背面側に設けられた反射板１８６は、導光板１８４から背面側に放出された光を観察側に反射する役割を果たす。
【００１６】
液晶パネル１１０は、第１基板１２０と第２基板１３０とを含み、両基板１２０、１３０により、例えばＳＴＮ（ｓｕｐｅｒ  ｔｗｉｓｔｅｄ  ｎｅｍａｔｉｃ）型などの液晶（電気光学物質）１１５が挟まれた構成になっている。これらの第１基板１２０および第２基板１３０の各々は、ガラスなどの光透過性を有する板状の部材であり、両基板１２０、１３０は、スペーサが分散されたシール材１１２によって、間隔を隔てて対向するように固定されている。図１に示すように、シール材１１２は、第２基板１３０の縁辺近傍に沿って枠状に設けられているが、液晶を注入するための隙間（以下「注入口」と称する）１１３を有している。この注入口１１３は、液晶が注入された後、ＵＶ硬化型樹脂を含む封止材１１４により塞がれ、これにより液晶１１５が封止される。
【００１７】
また、図２に示すように、第１基板１２０のうち液晶１１５と反対側の面には、コントラストを改善するための位相差板１２１と、入射光を偏光させるための偏光板１２２とが、第１基板１２０側からこの順で積層されている。同様に、第２基板１３０のうち液晶１１５と反対側の面についても、位相差板１３１と偏光板１３２とが、第２基板１３０側からこの順で積層されている。
【００１８】
第１基板１２０のうち第２基板１３０と対向する部分には、Ｙ方向に延在する複数の帯状のセグメント電極１２３が形成されている。セグメント電極１２３は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの光透過性を有する導電性材料によって形成され、各セグメント電極１２３の一端は、封止材１１４からＹ方向に距離ｄよりやや離れた位置にて揃えられている。第１基板１２０は、第２基板１３０に対してＹ方向に張り出しており、この張り出した部分にはＸドライバ１２４が設けられている。各セグメント電極１２３は、第１基板１２０の張り出した部分において引き回されてＸドライバ１２４に接続されている。
【００１９】
第２基板１３０のうち第１基板１２０と対向する部分には、複数のコモン電極１３３が形成されている。これらのコモン電極１３３は、セグメント電極１２３と同様にＩＴＯなどの光透過性を有する帯状の導電体であるが、それらの延在方向が、各セグメント電極１２３が延在する方向と交差するＸ方向となるように設けられている。なお、複数のコモン電極１３３のうち最も封止材１１４側のコモン電極１３３は、封止材１１４から距離ｄよりやや離れている。図１に示すように第２基板１３０は、第１基板１２０に対してＸ方向に張り出しており、この張り出した部分にはＹドライバ１３４が設けられている。各コモン電極１３３は、第２基板１３０の張り出した部分において引き回されてＹドライバ１３４に接続されている。
【００２０】
液晶パネル１１０においては、セグメント電極１２３とコモン電極１３３とが部分的に対向する領域はマトリックス状に配列している。このマトリックス状に配列された領域は、液晶１１５に作用する電界を変化させ、液晶１１５の配向状態を制御することができる領域の最小単位となる。ここで、セグメント電極１２３およびコモン電極１３３の各々は、封止材１１４から距離ｄよりやや離れるように形成されている。このため、液晶１１５の配向状態をドット単位で制御して表示に利用することができる領域（以下「表示領域」と称する）は、図１に示すように、封止材１１４から距離ｄよりややＹ方向に離れている。言い換えれば、液晶パネル１１０においては、シール材１１２で囲まれる領域のうち、封止材１１４からＹ方向に距離ｄの範囲内にある領域（以下、「非表示領域」と称する）は表示には用いられない。
【００２１】
第１基板１２０のうち観察側の面には、各セグメント電極１２３を覆うように、チタンや、ジルコニウム、五酸化アンチモンを含むＡＳＭ（Ａｎｔｉ  Ｓｔａｔｉｃ  Ｍｉｄｌｅｃｏａｔ）などの金属化合物を含む絶縁層１２５が設けられている。ここで、図３は、第１基板１２０に形成された絶縁層１２５を液晶１１５側からみた図である。この図に示すように、絶縁層１２５は、第１基板１２０のうちシール材１１２の外周縁に囲まれる領域を覆うように形成されるが、封止材１１４の近傍には設けられていない。具体的には、絶縁層１２５は、封止材１１４からＹ方向に距離ｄだけ離れるように形成されている。このように絶縁層１２５が封止材１１４から隔離されている理由は、封止材１１４および絶縁層１２５に起因する表示不良を防止するためであるがこの点については後述する。
【００２２】
再び図２において、第２基板１３０のうち液晶１１５側の面には、コモン電極１２１を覆うようにＡＳＭなどの金属化合物を含む絶縁層１３５が形成されている。図４は、第２基板１３０に形成された絶縁層１３５を液晶１１５側からみた図である。この図に示すように、絶縁層１３５は、第２基板１３０のうちシール材１１２の外周縁に囲まれる領域を覆うように形成されるが、封止材１１４からＹ方向に距離ｄの範囲には設けられない。このように絶縁層１３５が封止材１１４から隔離されているのは、上述した絶縁層１２５と同様に、封止材１１４ならびに絶縁層１２５および絶縁層１３５に起因する表示不良を防止するためであるがこの点については後述する。
【００２３】
再び図２において、第１基板１２０のうちシール材１１２および封止材１１４の外周縁により囲まれる領域には、絶縁層１２５を覆うように配向膜１２６が形成されている。一方、第２基板１３０のうちシール材１１２および封止材１１４の外周縁により囲まれる領域には、絶縁層１３５を覆うように配向膜１３６が形成されている。これらの配向膜１２６、１３６は、例えばポリイミドなどの有機薄膜であり、その表面には液晶１１５の配向状態を規定するためのラビング処理が施されている。
【００２４】
図５は、配向膜１２６、１３６により配向状態が規定された液晶（液晶分子）の様子を示す図である。なお、図５においては、セグメント電極１２３およびコモン電極１３３の間の電位差が「０」である場合の液晶分子の様子が示されている。この図に示すように、液晶分子１１５ｍのうち最も第１基板１２０側に位置する液晶分子１１５ｍは、第１基板１２０に設けられた配向膜１２６（図示略）によりＸ方向に配向される。一方、液晶分子１１５ｍのうち最も第２基板１３０側に位置する液晶分子１１５ｍは、第２基板１３０に設けられた配向膜１３６（図示略）によりＹ方向に配向される。これにより第１基板１２０（配向膜１２６）と第２基板１３０（配向膜１３６）との間に介在する複数の液晶分子１１５ｍは、第１基板１２０から第２基板１３０に近づくにつれ、それらの配向方向が徐々にずれ、例えば最大で２７０度だけ捻れた状態となる。この結果、液晶パネル１１０の背面側から偏光板１２２を透過して入射した光は、液晶１１５において２７０度だけ旋光された後、偏光板１３２を透過して観察側に出射する。
【００２５】
いま仮に、液晶パネル１１０において、「右回り」に捻れた液晶分子１１５ｍ群と「左回り」に捻れた液晶分子１１５ｍ群とが混在すると、互いに逆方向に捻れる液晶分子１１５ｍ群の境界において、透過光の旋光方向が逆となるリバースツイストと呼ばれる現象が生じる。このようなリバースツイストが生じると、透過光を厳密に制御できないため、コントラストの低下などといった表示品質の低下を招く。
【００２６】
これを防ぐため、各配向膜１２６、１３６には、液晶分子１１５ｍの捻れ方向がいずれか一方となるような処置がラビング処理時に施されている。具体的には、配向膜１２６には、該配向膜１２６と接触する液晶分子１１５ｍの配向方向が第１基板１２０に対して角度θ（プレチルト角）だけ傾くようにラビング処理が施されている。同様に配向膜１３６についても、該配向膜１３６と接触する液晶分子１１５ｍの配向方向が第２基板１３０に対してプレチルト角θだけ傾くようにラビング処理が施されている。なお、このように配向膜１２６、１３６により液晶分子１１５ｍにプレチルト角θを付与し、液晶分子１１５ｍの捻れ方向を統一させるための技術は、従来から広く用いられている技術であるため、その詳細については省略することとする。
【００２７】
ここで、液晶パネル１１０は、封止材１１４と絶縁層１２５、１３５とを有している。したがって、液晶パネル１１０を光が照射される状況で放置して、液晶パネル１１０が経年変化したとすると、前掲図１９に示すように、封止材１１４を略中心として波紋状のムラ５２０が生じるおそれがある。これに対処すべく、本願発明者は、試行錯誤を重ねた結果、上述したように絶縁層１２５、１３５を封止材１１４から隔離することにより、これを防止することが可能であるという事実を得た。以下、この点について詳細に説明する。
【００２８】
図６は、液晶パネル１１０を経年変化させた様子を示す図である。この図に示すように、液晶パネル１１０のうち非表示領域においては、封止材１１４を略中心とした波紋状のムラが出現するが、封止材１１４からＹ方向に距離ｄだけ離れたラインを境界として、液晶パネル１１０のうち表示領域側の領域ついてはムラは出現しない。つまり、絶縁層１２５、１３５が設けられている領域と設けられていない領域との境界を境として、表示領域側の領域ついてはムラは観察されなかった。
【００２９】
この事実を踏まえた研究の結果、本願発明者は、図７に示すように、絶縁層１２５、１３５に挟まれる液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが、絶縁層１２５、１３５に挟まれない液晶分子１１５ｍのプレチルト角θより大きいという事実を得た。なお、プレチルト角θは、上述したように配向膜１２６、１３６の表面形状により規定されるが、絶縁層１２５、１３５の有無により変化する原因は次の理由によるものと考えられている。すなわち、絶縁層１２５、１３５から溶出した金属イオンが、配向膜１２６、１３６を透過した後、液晶分子１１５ｍに到達し、液晶分子１１５ｍの極性に影響を与えるためと考えられている。
【００３０】
そして、本願発明者は、液晶１１５のうちプレチルト角θが小から大になる境界が、封止材１１４から溶出する不純物の移動を抑制するという仮説を立てた。この仮説を確かめるべく、本願発明者は実験的に図８（ａ）に示すような絶縁層を有する液晶パネルを経年変化させた。この図に示す絶縁層２００Ａ、２００Ｂは、第１基板１２０および第２基板１３０の各々に形成される絶縁層の平面形状を示している。これらの絶縁層２００Ａ、２００Ｂは、絶縁層２００Ｂが設けられる点において上述した絶縁層１２５、１３５と相違する。この絶縁層２００Ｂは、非表示領域のうち封止材１１４側に位置する一方で、表示領域側に設けられた絶縁層２００Ａと離間するように設けられている。
【００３１】
このような絶縁層２００Ａ、２００Ｂを有する液晶パネル１１０においては、図８（ｂ）に示すように  絶縁層２００Ａに対応する領域Ｒ１に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、いずれの絶縁層２００Ａ、２００Ｂも設けられない領域Ｒ２に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θと比較して大きくなる。同様に絶縁層２００Ｂに対応する領域Ｒ３に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、領域Ｒ２に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θと比較して大きくなる。すなわち、領域Ｒ２と領域Ｒ１との境界は、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界に相当する。
【００３２】
かかる構成の液晶パネルを経年変化させたところ、図８（ｃ）に示すように、領域Ｒ２および領域Ｒ３にはムラが出現したものの、領域Ｒ１にはムラは出現しなかった。したがって、この構成の液晶パネルにおいても、上述した液晶パネル１１０と同様に、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大になる境界にて、封止材１１４を中心としたムラの波及を防止することができた。
【００３３】
なお、この構成の液晶パネルは、上記液晶パネル１１０と比較して、非表示領域に絶縁層２００Ｂが設けられているため次の様な利点を有している。上述した液晶パネル１１０においては、非表示領域には絶縁層１２５、１３５が設けられていないため、非表示領域のセルギャップは、表示領域におけるセルギャップと比較して絶縁層１２５、１３５の膜厚分だけ広くなり、表示の均一性が損なわれる可能性があった。これに対し、図８（ａ）に示す絶縁層２００Ａ、２００Ｂを有する液晶パネルであれば、領域Ｒ３についてのセルギャップを、領域Ｒ１のセルギャップと同程度にすることができるという利点を有する。
【００３４】
また、本願発明者は、実験的に図９（ａ）に示すような絶縁層を有する液晶パネルを経年変化させた。この図に示す絶縁層２００Ｃは、シール材１１２の外周縁で囲まれる領域のうち、表示領域とシール材１１２との間に延在する帯状の領域を除く部分に形成される。絶縁層２００Ｃが設けられない帯状の領域は、シール材１１２の外周縁で囲まれる領域のうち一部分を残すようにしてＸ方向に延在する。
【００３５】
このような絶縁層２００Ｃを有する液晶パネル１１０においては、図９（ｂ）に示すように  絶縁層２００Ｃに対応する領域Ｒ４に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、絶縁層２００Ｃが設けられていない領域Ｒ５に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θと比較して大きくなる。したがって、領域Ｒ５と領域Ｒ４との境界は、液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが小から大に変化する境界となる。
【００３６】
かかる構成の液晶パネルを経年変化させたところ、図９（ｃ）に示すように、領域Ｒ４のうち領域Ｒ５からみて封止材１１４側の部分および領域Ｒ５ではムラが出現したものの、領域Ｒ４のうち領域Ｒ５からみて表示領域側の部分ではほとんどムラが生じなかった。換言すると、ムラは、領域Ｒ５と領域Ｒ４との境界のうち表示領域側の部分からその波及が抑制される結果となった。なお、領域Ｒ４のうち、封止材１１４側の部分と表示領域側との部分とを連結する部分（以降「連結部」と称する）Ｒ４Ｃから、表示領域側へムラが若干波及したが、これは表示に問題とならない程度のものであった。本願発明者の実験によれば、プレチルト角θが小から大に変化する境界と、封止材１１４との距離ｄが長いほど、ムラの表示領域側への波及を低減させることが可能であり、また、連結部Ｒ４Ｃの幅ｗが狭いほど、表示領域へのムラの伝搬を低減させることが可能であることが確認されている。
【００３７】
以上から本願発明者は、絶縁層１２５および絶縁層１３５ならびに封止材１１４に起因するムラは、液晶１１５のうちプレチルト角θが小から大に変化する境界から表示領域側へは波及しないという見地を得るに至った。したがって、封止材１１４からみて、プレチルト角θが変化する境界より遠方に表示領域を配置することにより、表示領域に発生するムラを抑制することができる。より好ましくは、プレチルト角θが小なる領域と大なる領域との境界を、各基板１２０、１３０の板面の垂直方向からみて、配向膜１２６、１３６のうちシール材１１２で囲まれる部分を横切るように位置させることにより、すなわち、配向膜１２６、１３６の周縁うちＸ方向に対向する二つの縁辺に属する点同士を結ぶ線上に境界を位置させることにより、表示領域に生じるムラを完全に抑制することが可能である。
【００３８】
＜第２実施形態＞
上述した第１実施形態においては、両基板１２０、１３０にひとつづつドライバが設けられた液晶パネル１１０について説明した。これに対し、第２実施形態においては、Ｘドライバ１２４およびＹドライバ１３４の両方が第１基板１２０に設けられた構成の液晶パネルについて説明する。以降、本実施形態にかかる液晶パネルのうち上述した液晶パネル１１０との相異点を中心に説明する。
【００３９】
図１０は、第２実施形態にかかる液晶パネルのシール材１１２近傍の部分断面図である。また、図１１は、液晶パネル１１０のうち第１基板１２０の構成を示す図である。図１０において、液晶パネル２００は、シール材１１２に分散されたスペーサ１１６が導電性を有している点において上述の液晶パネル１１０と異なる。このスペーサ１１６は、第２基板１３０に形成されたコモン電極１３３と、第１基板１２０に形成された配線１２７とを電気的に接続させる役割を果たす。配線１２７は、第１基板１２０に実装されたＹドライバ１３４（図１１参照）と電気的に接続されており、Ｙドライバ１３４から出力される信号は、この配線１２７を介してコモン電極１３３に伝送される。
【００４０】
また、上述の液晶パネル１１０においては、第１基板１２０に形成された絶縁層１２５および配向膜１２６の各々の縁辺は、シール材１１２と第１基板１２０との間に介在するように設けられていた。これに対し、液晶パネル２００に含まれる第１基板１２０においては、スペーサ１１６と配線１２７との導通性を確保すべく、絶縁層２０２および配向膜２０４の各々は、第１基板１２０の板面の垂直方向からみてシール材１１２から離間するように形成されている。同様に第２基板１３０に形成された絶縁層２０６および配向膜２０８の各々についても、第２基板１３０の板面の垂直方向からみてシール材１１２から離間するように形成されている。
【００４１】
以下、図１１を参照して、第１基板１２０に形成された絶縁層２０２および配向膜２０４の平面形状について説明する。同図に示すように、絶縁層２０２は、第１基板１２０と配向膜２０４との間において、表示領域およびその近傍のみに介在するように設けられており、封止材１１４の近傍には設けられていない。ここで、絶縁層１２５の縁辺のうち封止材１１４側に位置する一辺は、配向膜１２６の縁辺のうち封止材１１４側に位置する一辺から、距離ｄだけ封止材１１４から離れるようになされている。
なお、第２基板１３０に形成される絶縁層２０６および配向膜２０８の各々は、第１基板１２０に形成される絶縁層２０２および配向膜２０４と略同一の平面形状にて形成されている。
【００４２】
このような絶縁層２０２、２０６を有する液晶パネル２００においては、図１２（ａ）に示すように  配向膜２０４、２０８に挟まれる液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが絶縁層２０２、２０６の有無に応じて異なる。具体的には、絶縁層２０２、２０６に対応する領域Ｒ６に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、絶縁層２０２、２０６が設けられない領域Ｒ７に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θと比較して大きくなる。このため、領域Ｒ６と領域Ｒ７との境界は、封止材１１４からみて液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが小から大に変化する境界に相当する。
【００４３】
かかる構成の液晶パネル２００を経年変化させたところ、図１２（ｂ）に示すように、領域Ｒ７にはムラが出現したものの、領域Ｒ６にはムラが出現しなかった。この構成の液晶パネルにおいても、第１実施形態にかかる液晶パネル１１０と同様に、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大になる境界にて、封止材１１４を中心としたムラの波及が防止された。
【００４４】
＜第３実施形態＞
上述した第１実施形態においては、絶縁層１２５、１３６が設けられた領域と、絶縁層１２５、１３６が設けられていない領域とを区分することにより、それぞれプレチルト角θが異なる２つの領域を、液晶パネル１１０に形成する方法について説明した。これに対し、第３実施形態においては、それぞれプレチルト角θが異なる複数の領域を露光処理によって液晶パネルに形成する。
【００４５】
図１３は、この実施形態にかかる液晶パネルの製造工程を示す図であり、さらに詳しくは、液晶１１５の注入前において、液晶セル（液晶パネルの液晶注入前の構造体）を露光する様子を示す図である。この図に示す液晶セル２１０の構成は、第１実施形態における液晶パネル１１０と略同様であるが、両基板１２０、１３０に形成された絶縁層２１０、２１２の形状が液晶パネル１１０のそれと異なる。より詳細には、第１基板１２０に形成された絶縁層２１２は、非表示領域にも設けられており、第１基板１２０のうちシール材１１２の外周縁に囲まれる領域全てを覆うような形状になされている。同様に、第２基板１３０に形成された絶縁層２１４も、第２基板１３０のうちシール材１１２の外周縁に囲まれる領域全てを覆うような形状になされている。したがって、仮に、このままの状態で液晶セル２１０に液晶１１５を注入したとしても、液晶分子１１５ｍのプレチルト角θの境界は形成されない。
【００４６】
以上の構成の液晶セル２１０は、液晶１１５の注入前に、同図に示すフォトマスク２２０により露光される。このフォトマスク２２０は、ガラスなどの光透過性を有する基材２２２と、クロムなどの遮光性を有する遮光層２２４とを有する。このうち遮光層２２４は、露光時に液晶セル２１０のうち非表示領域以外の領域が遮光されるべく、基材２２２を部分的に覆っている。このようなフォトマスク２２０を介して紫外線などの光を液晶セル２１０に照射すると、非表示領域のみに選択的に光が照射される。この露光処理が施された液晶セル２１０に液晶１１５を注入後、封止材１１４により封止すると、露光された領域（以下「注入前露光部」と称する）と、露光されなかった領域（以下「注入前遮光部」と称する）とは、液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが互いに異なるという特性が付与される。詳細には、液晶１１５のうち、注入前露光部に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、注入前遮光部に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θより小さくなる。したがって、前掲図７と同様に、封止材１１４からみて、注入前露光部と注入前遮光部との境界は、液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが小から大に変化する境界となる。
【００４７】
かかる構成の液晶パネルを経年変化させたところ、前掲図６に示したのと同様に、非表示領域にはムラが出現したものの、注入前露光部と注入前遮光部との境界を境にして、表示領域側へのムラの波及を防止することができた。
【００４８】
なお、この実施形態においては、液晶セル２１０のうち非表示領域についてのみ光を照射するものとしたが、露光の態様はこれに限らない。例えば、図１４（ａ）に示す様態にて液晶セル２１０を露光しても良い。すなわち、シール材１１２で囲まれる領域のうち、表示領域と封止材１１４との間に延在するような帯状の領域（以下「帯状領域」と称する）２１６についてのみ光を照射しても良い。この帯状領域２１６は、液晶セル２１０において、シール材１１２で囲まれる領域をＸ方向に横切るように延在している。このような露光処理を施すと、液晶１１５の注入後においては、帯状領域２１６における液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、それ以外の領域における液晶分子１１５ｍのプレチルト角θよりも小さくなる。したがって、液晶セル２１０においては、帯状領域２１６の境界のうち表示領域側の部分において、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界が形成され、表示領域にムラが発生することがない。
【００４９】
また、図１４（ｂ）に示すように、図１４（ａ）とは逆に、シール材１１２で囲まれる領域のうち、帯状領域２１７のみを遮光し、それ以外の領域については光を照射しても良い。かかる液晶セル２１０においては、帯状領域２１７における液晶分子１１５ｍプレチルト角θが、他の領域における液晶分子１１５ｍのプレチルト角θよりも大きくなる。したがって、帯状領域２１７の境界のうち封止材１１４側の部分が、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界の役割を果たし、表示領域におけるムラの発生を防止することができる。
【００５０】
一方、図１４（ｃ）に示すように、液晶セル２１０のシール材１１２で囲まれる領域のうち、表示領域に対しては遮光する一方で、表示領域以外の領域に光を照射しても良い。このような露光処理を施すと、表示領域の境界が、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界となり、表示領域におけるムラを防止することができる。
【００５１】
また、この実施形態においては、両基板１２０、１３０をシール材１１２により固定した後、両基板１２０、１３０に対して一括して露光処理を施したが、シール材１１２により固定する前の基板１２０、１３０に対して別個独立に露光処理を施した後、両基板１２０、１３０をシール材１１２により張り合わせても同様の効果が得られる。
【００５２】
＜第４実施形態＞
上述した第３実施形態においては、液晶１１５の注入前の露光処理により、それぞれプレチルト角θが異なる複数の領域を液晶パネルに形成する方法について説明した。これに対し、第４実施形態においては、液晶１１５の注入後の露光処理により、それぞれプレチルト角θが異なる複数の領域を液晶パネルに形成する方法について説明する。
【００５３】
この実施形態にかかる液晶パネルは、第３実施形態における液晶セル２１０と構成は略同一であるが、液晶パネルに対する露光の処理が上記液晶セル２１０と相違する。図１５は、液晶パネルの製造工程を示す図であり、さらに詳しくは、液晶セル２１０に液晶１１５の注入後の液晶パネルを露光する様子を示す図である。この図に示すように、液晶パネル２３０の露光に用いられるフォトマスク２４０は、遮光層２２４が、露光時に液晶パネル２３０のうち非表示領域のみを遮光すべく、基材２２２を部分的に覆っている。つまり、フォトマスク２４０と上記フォトマスク２２０（図１３）とは、光を透過させる部分と遮光する部分とが反転するような関係にある。
【００５４】
このようなフォトマスク２４０を介して紫外線などの光を液晶パネル２３０に照射すると、液晶パネル２３０のうち非表示領域以外の領域のみ選択的に光が照射される。この露光処理により液晶パネル２３０には、露光された領域（以下「注入後露光部」と称する）と、露光されなかった領域（以下「注入後遮光部」と称する）とは、液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが互いに異なるという特性が付与される。さらに詳細には、液晶パネル２３０のうち、注入後遮光部に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、注入後露光部に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θより小さくなる。したがって、液晶パネル２３０においては、前掲図７と同様に、注入後遮光部と注入後露光部との境界は、封止材１１４からみて液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが小から大に変化する境界となる。
【００５５】
かかる構成の液晶パネル２３０を経年変化させると、前掲図６に示したのと同様に、非表示領域にはムラが出現したものの、注入後遮光部と注入後遮光部との境界を境にして、表示領域側へのムラの波及を防止することができた。
【００５６】
なお、この実施形態においては、液晶パネル２３０のうち非表示領域についてのみ遮光するものとしたが、露光の態様はこれに限らない。例えば、図１６（ａ）に示す様態にて液晶パネル２３０を露光しても良い。すなわち、シール材１１２で囲まれる領域のうち、表示領域と封止材１１４との間に延在するような帯状の領域（以下「帯状領域」と称する）２３６以外の領域について光を照射するものとしても良い。ここで、帯状領域２３６は、液晶パネル２３０において、シール材１１２で囲まれる領域をＸ方向に横切るように延在している。このような露光処理を施すと、液晶１１５の注入後においては、帯状領域２３６に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、それ以外の領域に位置する液晶分子１１５ｍのプレチルト角θよりも小さくなる。このため、液晶パネル２３０においては、帯状領域２３６の境界のうち表示領域側の部分において、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界が形成され、表示領域にムラが発生するのが防止される。
【００５７】
また、図１６（ｂ）に示すように、図１６（ａ）とは逆に、シール材１１２で囲まれる領域のうち、帯状領域２３７のみに光を照射し、それ以外の領域については遮光しても良い。かかる液晶パネル２３０においては、帯状領域２３７における液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが、他の領域における液晶分子１１５ｍのプレチルト角θよりも大きくなる。このため、帯状領域２３７の境界のうち封止材１１４側の部分が、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界の役割を果たし、表示領域におけるムラの発生を防止する。
【００５８】
一方、図１６（ｃ）に示すように、液晶パネル２３０のシール材１１２で囲まれる領域のうち、表示領域のみに光を照射しても良い。このような露光処理を施すと、表示領域の境界が、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界となり、表示領域におけるムラを防止することができる。
【００５９】
＜第５実施形態＞
以上説明した各実施形態においては、封止材１１４および絶縁層に起因する表示不良の防止策について説明した。しかしながら、従来の技術として述べたように、封止材１１４を一因とする表示不良は、封止材１１４と絶縁層とが組み合わされた場合に限らず、封止材１１４と、電極や反射層として機能する金属元素を含む薄膜層とが組み合わされた場合においても同様に生じ得る。そこで、この実施形態では、反射層と封止材１１４とに起因する表示不良の防止策について説明する。
【００６０】
図１７は、本実施形態にかかる液晶パネル３００の構成を示す図である。この図に示す液晶パネル３００は、第１実施形態にかかる液晶パネル１１０と比較して、両基板１２０、１３０に絶縁層１２５、１３６が設けられていない点と、第１基板１２０に反射層１２７および絶縁層１２８が設けられている点において相違する。液晶パネル３００は、太陽光や室内照明光などの外光を反射層１２７によって反射して表示を行う反射型の液晶装置である。
【００６１】
第１基板１２０に形成された反射層１２７は、銀を主成分としてパラジウムおよび銅を含む合金（以下、「ＡＰＣ合金」と称する）によって形成された光反射性を有する層であり、観察側から入射した光を反射する役割を果たす。この反射層１２７は、封止材１１４からＹ方向に距離ｄだけ離れるように形成されている。絶縁層１２８は、例えば樹脂などの光透過性を有する部材であり反射層１２７を覆うように形成されている。セグメント電極１２３は、その一端がＸドライバ１２４の端子に接続されており、絶縁層１２８の面上に形成されている。そして、配向膜１２６は、第１基板１２０のうちシール材１１２の外周縁に囲まれる領域において、セグメント電極１２３を覆うように第１基板１２０の全面に渡って設けられている。第２基板１３０は、絶縁層１３６（図２参照）が設けられていない点を除けば、第１実施形態にかかる第２基板１３０と同様のため、その詳細については省略する。
【００６２】
このような構成の液晶パネル３００においては、反射層１２７が設けられていない領域における液晶分子１１５ｍのプレチルト角θは、反射層１２７が設けられている領域におけるプレチルト角θより小さくなる。このように反射層１２７の有無に応じてプレチルト角θが変化するのは、絶縁層１２５、１３５の有無によりプレチルト角θが変化するのと同様に、反射層１２７から溶出した金属イオンが、絶縁層１２８、セグメント電極１２３および配向膜１２６を順番に透過した後、液晶分子１１５ｍに到達し、液晶分子１１５ｍの極性に影響を与えるためと考えられる。このため、液晶１１５のうち反射層１２７が設けられていない領域と、設けられている領域との境界は、封止材１１４からみて液晶分子１１５ｍのプレチルト角θが小から大に変化する境界に相当する。
【００６３】
かかる構成の液晶パネルを経年変化させたところ、前掲図６に示したのと同様に、非表示領域にはムラが出現したものの、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界において、表示領域側へのムラの波及を防止することができた。
なお、この実施形態においては、反射層１２７と封止材１１４とに起因する表示不良の防止策について説明したが、ＡＰＣ合金などの金属元素を含む薄膜層を配線として使用した場合においても、封止材１１４から配線を隔離することにより、本実施形態と同様な効果を得ることができる。
【００６４】
以上説明したように、本実施形態にかかる液晶装置１００によれば、封止材１１４からみてプレチルト角θが小から大に変化する境界を設けることにより、表示領域におけるムラを防止することができる。
【００６５】
最後に、以上説明した液晶装置１００を搭載した電子機器について説明する。
例えば、図１８は、上述した液晶装置１００を表示部として有する携帯電話機３００の外観図である。この図において、携帯電話機３００は、複数の操作ボタン３１０の他、受話口３２０、送話口３３０とともに、電話番号などの各種情報を表示する表示部として、上記液晶装置１００を備えている。
また、携帯電話機３００以外にも、液晶装置１００は、コンピュータや、プロジェクタ、カメラ、車載機器、複写機、オーディオ機器などの各種電子機器の表示部として用いることができる。
また、上記各実施形態では液晶装置を用いて説明したが、本発明の適用範囲はそれに限らず、例えばエレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などのように、封止材を一因とする表示不良が発生し得る各種の電気光学装置に対して適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態にかかる液晶装置の平面図である。
【図２】同液晶装置の断面図である。
【図３】同液晶装置の液晶パネルに含まれる第１基板の平面図である。
【図４】同液晶パネルに含まれる第２基板の平面図である。
【図５】配向膜に挟まれる液晶分子の様子を示す図である。
【図６】同液晶パネルが経年変化を起こした様子を示す図である。
【図７】同液晶パネルにおけるプレチルト角θの大小を示す図である。
【図８】同液晶パネルを説明するための図である。
【図９】同液晶パネルを説明するための図である。
【図１０】本発明の第２実施形態にかかる液晶パネルの部分断面図である。
【図１１】同液晶パネルに含まれる第１基板の構成を示す図である。
【図１２】同液晶パネルを説明するための図である。
【図１３】本発明の第３実施形態にかかる液晶パネルの製造工程を示す図である。
【図１４】同実施形態の変形例にかかる露光処理を示す図である。
【図１５】本発明の第４実施形態にかかる液晶パネルの製造工程を示す図である。
【図１６】同実施形態の変形例にかかる露光処理を示す図である。
【図１７】本発明の第５実施形態にかかる液晶パネルの断面図である。
【図１８】同液晶装置を搭載した携帯電話機を示す斜視図である。
【図１９】従来の液晶パネルにおける表示不良を示す図である。
【符号の説明】
１００  液晶装置、１１０，２３０  液晶パネル、１２０  第１基板、１２３  セグメント電極、１２５，１３５  絶縁層、１２６，１３６  配向膜、１３０  第２基板、１３３  コモン電極、１１５  液晶、１８０  バックライトユニット、２１０  液晶セル、３００  携帯電話機。
【図１】
2004271749.tif 000003
【図２】
2004271749.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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