(57)【要約】【課題】品質不良の発生を抑制できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】基板２を載せる面に、基板２を保持する基板保持部１６と、載せた基板２との間に空間を形成する凹部１７とを有するステージ１４を用い、そのステージ１４上にプラズマディスプレイパネル用の基板２を保持して基板２に加工を行う。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載せる面に、基板を保持する基板保持部と、載せた基板との間に空間を形成する空間形成部とを有するステージを用い、そのステージ上にプラズマディスプレイパネル用の基板を保持して基板に加工を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
基板を載せる面に、基板を保持する基板保持部と、載せた基板との間に空間を形成する複数の空間形成部とを有し、かつ、その複数の空間形成部を散在して配置したステージを用い、そのステージ上にプラズマディスプレイパネル用の基板を保持して基板に加工を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
基板保持部に、基板を真空吸着するための吸着手段を設けたことを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
薄型の表示装置に使用されるプラズマディスプレイパネルは、例えば図４に示すように、間に放電空間１を形成するように対向して配置されたガラス製の前面側の基板２と背面側の基板３とを備えている。前面側の基板２上には走査電極４および維持電極５からなる表示電極対を複数配列しており、走査電極４および維持電極５を覆って誘電体層６を形成し、誘電体層６上に酸化マグネシウムからなる保護層７を形成している。
【０００３】
また、背面側の基板３上には、走査電極４および維持電極５と直交する方向に複数のデータ電極８を形成し、データ電極８の間に位置するように隔壁９を形成している。隔壁９間の基板３上にはデータ電極８を覆うように蛍光体層１０を形成している。なお、データ電極８を覆うように背面側の基板３上に下地誘電体層を形成し、その下地誘電体層上に隔壁９および蛍光体層１０を形成する場合もある。
【０００４】
放電空間１には、例えばネオンとキセノンの混合ガスからなる放電ガスが、４００〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。表示電極対を構成する走査電極４と維持電極５との間で表示放電を起こさせたときに発生する紫外線によって蛍光体層１０を発光させることによりカラー画像を表示している（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−１６４１４５号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
このようなプラズマディスプレイパネルにおいては、前面側の基板２上に誘電体層６を形成する方法の１つとして、ステージに保持された基板２上にダイコータにより誘電体ペーストを塗布し、その後焼成する方法が用いられているが、この方法によって基板２上に誘電体層６を形成すると、図５に示すように誘電体層６の表面に窪み１１が形成されることがあるという課題があった。このような窪み１１が誘電体層６の表面に形成された状態でプラズマディスプレイパネルを構成すると、その窪み１１の部分で発光輝度が大きくなることや耐圧不良となるために品質不良となってしまう。
【０００７】
このような課題について実験、分析などを通じ鋭意検討を重ねた結果、誘電体層６の表面に窪み１１が形成される原因については、図６に示すように、基板２上に誘電体ペーストを塗布する際、基板２を吸着保持しているステージ１２と基板２との間にダスト１３が挟まった状態になっていることが原因であることをつきとめた。すなわち、このようなダスト１３が存在するため、基板２が上に凸状となった状態で基板２上に誘電体ペーストを塗布することになり、その結果、誘電体層６の表面に窪み１１が形成されていた。特に、大画面が得られるプラズマディスプレイパネルのように、パネルを構成する基板２が大きくなると、製造工程においてダスト１３が基板２に付着する可能性が高くなるため、誘電体層６の表面に窪み１１が形成されやすくなり、ダスト１３の影響による品質不良が発生しやすくなる。
【０００８】
本発明は、このような現状に鑑みてなされたものであり、品質不良の発生を抑制できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために、本発明は、基板を載せる面に、基板を保持する基板保持部と、載せた基板との間に空間を形成する空間形成部とを有するステージを用い、そのステージ上にプラズマディスプレイパネル用の基板を保持して基板に加工を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１０】
また、本発明は、基板を載せる面に、基板を保持する基板保持部と、載せた基板との間に空間を形成する複数の空間形成部とを有し、かつ、その複数の空間形成部を散在して配置したステージを用い、そのステージ上にプラズマディスプレイパネル用の基板を保持して基板に加工を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法について、図１〜図３を用いて説明する。
【００１２】
図１は、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための断面図であり、前面側の基板２上に誘電体層６を形成する工程であって、ダイコータによって、ステージ１４上に保持された基板２上に誘電体ペースト１５を塗布している状態を示している。プラズマディスプレイパネルは図４を用いて説明したものと同様な構成である。なお、誘電体ペースト１５は基板２上に走査電極４および維持電極５を形成した後、それらを覆うように基板２上に塗布するのであるが、図１においては走査電極４および維持電極５を省略して示している。
【００１３】
図１に示すように、ステージ１４は、基板２を載せる面に、基板保持部１６と凹部１７とを有している。ステージ１４上に基板２を載せたとき、基板２は基板保持部１６で保持されることになり、凹部１７は、基板２とステージ１４との間に空間を形成する空間形成部であり、そこでは基板２とステージ１４とが接触しないようになっている。また、基板保持部１６の一部には、基板２を真空吸着するための吸着手段である貫通孔１８が設けられ、貫通孔１８は真空ポンプに接続されており、基板２は、真空ポンプで吸引することによりステージ１４に吸着されて保持される。
【００１４】
基板２上に誘電体層６を形成する際、まず、ステージ１４に基板２を吸着して保持し、ペースト塗布手段１９に誘電体ペースト１５を供給しながらペースト塗布手段１９を矢印２０の方向に走行させることにより、誘電体ペースト１５を基板２上に塗布する。誘電体ペースト１５はペースト供給ポンプ（図示せず）によりペースト塗布手段１９に供給され、ペースト塗布手段１９の先端部から塗出される。このように、基板２上に誘電体ペースト１５を塗布した後、焼成することにより、基板２上に誘電体層６が形成される。
【００１５】
図２は、図１に示したステージ１４の斜視図であり、破線２１はステージ１４上に吸着して保持する基板２の位置を表している。図２に示すように、ステージ１４の表面（基板２を保持する面）には、貫通孔１８の間にストライプ状の凹部１７が複数形成されている。ステージ１４の材料としては、ステンレス、アルミ合金や石材などが用いられる。
【００１６】
前述したように、ステージ１４上に基板２を載せたとき、凹部１７では基板２の裏面とステージ１４とは接触しない。したがって、このような凹部１７を設けていないステージに比べて、基板２の裏面にダストが付着していても、ダストが凹部１７の中に入り込む確率が高くなり、ステージ１４と基板２とが接触する基板保持部１６にダストが存在する確率を低下させることができる。したがって、ステージ１４と基板２との間にダストが存在することによって誘電体層６に窪みが形成されるような品質不良の発生を抑制することができる。凹部１７の形状はストライプ状に限らず、例えば格子状でもよい。すなわち、ステージ１４上に基板２を保持したとき、ステージ１４と基板２との非接触部分が存在するようにステージ１４の表面に凹部を設けておけばよい。
【００１７】
図２に示したステージ１４において、例えば、幅が１０ｍｍであるストライプ状の凹部１７を２０ｍｍのピッチで配列形成した場合、凹部１７を形成していないステージに比べて、基板２とステージ１４とが接触している基板保持部１６の面積をほぼ半分に低下させることができる。このため、ダストの影響によって誘電体層６に窪みが形成されるような品質不良の発生を低減することができる。
【００１８】
次に、本発明の一実施の形態におけるステージの他の例を図３に示す。ステージ２２は、基板２を載せる面に、基板保持部１６と凹部２３とを有しており、基板２を真空吸着するための吸着手段である貫通孔１８が基板保持部１６の一部に形成されている。ステージ２２の材料としては、ステンレス、アルミ合金や石材などが用いられる。破線２１はステージ２２上に吸着保持する基板２の位置を表している。凹部２３は円形状であり、ステージ２２の表面において、Ｘ方向およびＹ方向に等間隔で配置形成されている。ステージ２２上に基板２を載せたとき、基板２は基板保持部１６で保持されることになり、凹部２３は、基板２とステージ２２との間に空間を形成する空間形成部であり、そこでは基板２とステージ２２とが接触しないようになっている。このため、凹部２３を設けていないステージと比べると、基板２の裏面にダストが付着していても、このダストが凹部２３の中に入り込む確率が高くなり、ステージ２２と基板２とが接触する基板保持部１６にダストが存在する確率を低下させることができる。したがって、ステージ２２と基板２との間にダストが存在することによって誘電体層６に窪みが形成されるような品質不良の発生を抑制することができる。
【００１９】
図３に示すステージ２２の場合には、その表面のＸ方向およびＹ方向において均等配置されるように複数の凹部２３が形成されている。このように、複数の凹部２３はステージ２２の表面内に散在して配置されており、凹部２３の間は基板保持部１６となっている。このような構成のステージ２２に基板２を吸着保持した場合、基板２の全面において、ある程度の間隔で配置された基板保持部１６により基板２が保持されることになる。このため、基板保持部１６により基板２を保持したとき、基板２の全面にわたって所望の平坦性を得ることができる。特に基板２が大きくなると、凹部２３が散在して配置されたステージ２２を用いることで、基板２の全面にわたって所望の平坦性を効果的に得ることができる。
【００２０】
また、ステージ２２の表面に形成した円形状の凹部２３について、例えばその直径を１０ｍｍとし、Ｘ方向およびＹ方向に中心間距離を１５ｍｍとして配置形成した場合、凹部２３を形成していないステージに比べて、基板２とステージ２２とが接触している基板保持部１６の面積を２／３程度に低下させることができる。
【００２１】
図３では円形状の凹部２３をステージ２２の表面に等間隔で配置しているが、等間隔で配置されていなくてもよく、凹部２３は円形以外の形状、例えば四角形でもよい。また、凹部２３の大きさ、配置間隔や配置パターンなどはダストの影響を低減する効果などを考慮して適宜設定すればよい。
【００２２】
また、問題となるダストの大きさは、径が５０〜１００μｍ程度と想定されることから、ステージ１４、２２に設ける凹部１７、２３の深さが２００μｍ程度であれば、ダストによる品質不良の発生を抑制することができる。もちろん、凹部１７、２３の深さがダストの径の大きさ以上であればダストによる品質不良の発生を抑制できるので、例えば、凹部１７、２３のかわりに貫通孔を形成した場合でもダストによる品質不良の発生を抑制することができる。ここで、凹部１７、２３をかなり深く形成した場合や凹部１７、２３のかわりに貫通孔を形成した場合には、ステージ１４、２２の強度が弱まる。特に、ダストの影響を低減するために凹部１７、２３や貫通孔が占める全面積を大きくした場合には、ステージ１４、２２の強度が弱まることになり、また、ステージ１４、２２の材料によっては凹部１７、２３や貫通孔の形成が困難になる。このため、凹部１７、２３の深さについては、想定されるダストの径の大きさ以上にするとともに、ステージ１４、２２の強度などを考慮して適宜設定すればよい。
【００２３】
なお、本実施の形態ではダイコータにより前面側の基板２上に誘電体ペースト１５を塗布する場合について説明したが、前面側の基板２上や背面側の基板３上に電極を形成するために印刷や露光を行うときなどのように、基板をステージ上に吸着保持して基板に加工を行うとき、本実施の形態によるステージを用いることにより、ダストの影響による品質不良の発生を抑制することができる。また、ステージ表面に基板を真空吸着するための吸着手段である溝が設けられた場合にも、ステージに凹部などの空間形成部を設けることにより、同様の効果を得ることができる。さらに、真空ポンプを用いて基板をステージに吸着保持するのでなく、単に基板をステージ上に載せて基板に加工を行う場合にも、ステージに凹部などの空間形成部を設けることにより、同様の効果を得ることができる。
【００２４】
以上のように、凹部などの空間形成部を設けたステージ上に基板を保持し、その基板に加工を行うことにより、ステージと基板との接触部分にダストが存在する確率を低下させることができ、ダストの影響による品質不良の発生を抑制することができる。
【００２５】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、基板とステージとの間のダストの影響による品質不良の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための断面図
【図２】同プラズマディスプレイパネルの製造方法で使用するステージの斜視図
【図３】同プラズマディスプレイパネルの製造方法で使用するステージの他の例を示す斜視図
【図４】従来のプラズマディスプレイパネルの要部を示す斜視図
【図５】従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法において誘電体層の表面に窪みが形成された状態を示す断面図
【図６】従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法において誘電体層の表面に窪みが形成される原因を説明するための断面図
【符号の説明】
２、３　基板
１４、２２　ステージ
１６　基板保持部
１７、２３　凹部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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