(57)【要約】【課題】周辺において濡れ広がりのない配向膜を備える表示装置を得る。【解決手段】液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、この配向膜は、その周辺は、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、
前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、
この配向膜は、その周辺は、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、
前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、
この配向膜は、その周辺は、切欠き部および穴部のうち少なくとも一方が形成され、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記配向膜の周辺は、それ以外の領域と比較して膜厚が薄く形成されていることを特徴とする請求項１、２のうちいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項４】
液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、
前記各基板の一方の基板に対する他方の基板との固着を兼ねて前記液晶を封入するシール材を備えるとともに、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、
この配向膜は、その周辺は、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されているとともに、前記配向膜の周辺は前記シール材の形成領域にまで及んで形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記シール材の形成領域にまで及んで形成された配向膜は、該シール材の形成領域において、膜が形成されていない部分の面積が膜が形成されている部分の面積よりも大きくなっていることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、
前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、
この配向膜は、その周辺は該配向膜の下層に形成された材料層に設けられた溝の内部に位置づけられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、
各基板の一方の基板に対する他方の基板とのギャップを確保する支柱状のスペーサが散在されて形成されているとともに、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、
この配向膜は、その周辺は該周辺を囲むようにして配置された各スペーサにそれぞれ接触して位置づけられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、
前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備えるものであって、
前記配向膜の輪郭を縁取る堰を該配向膜と同一の材料で形成する工程と、
該堰に囲まれた領域内に該堰と僅かながらの隙間を有して前記配向膜を形成する工程と、
前記堰と前記配向膜とをレベリングしてそれらを互いに接触させる工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記配向膜の周辺の膜厚は、それ以外の領域の膜厚よりも薄く構成されることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記配向膜がインクジェット法で形成されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は表示装置に係り、特に、液晶表示装置の配向膜の改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、液晶を介して対向配置される基板を外囲器とし、該液晶の広がり方向に多数の画素が形成されて構成されている。
各画素には一対の電極が形成され、これら電極の間に発生する電界によって各画素毎の液晶の光透過率を制御するようになっている。
該液晶の光透過率は該液晶の電界の強弱による挙動態様によって定められるが、該液晶の分子の初期配向方向を設定しておく必要があり、それを各基板のそれぞれの液晶側の面において該液晶と接触するようにして形成した配向膜によって行なうようになっている。
この配向膜は画素の集合からなる液晶表示部の全体を被って形成されるたとえば樹脂膜から構成され、その液晶側の面においてたとえばラビング処理を行ない、このラビング方向がそれと接触する液晶の分子の初期配向方向に一致づけられる。
そして、該樹脂膜の形成としてはいわゆるインクジェット印刷法を用いて形成される方法が知られるに至っている（特許文献１参照）。このインクジェット印刷法は、直接描画ができ、非接触プロセスによる低汚染、溶液消費量の低減、段取り時間の短縮等の種々の効果を有するからである。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００１−３３７３１６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようにして形成される配向膜は、その周辺において寸法制御および形状制御が困難であることが指摘されている。
すなわち、インクジェット印刷法によって出射される材料はその固形分濃度が低く、粘度が低いことが原因であるとされている。ちなみに、いわゆるフレキソ印刷法にて用いられる材料の粘度は２５ｍＰａ・ｓ以上であるのに対し、インクジェット印刷法の場合には１２ｍＰａ・ｓ以下である。
このため、インクジェット印刷法で形成した樹脂膜の厚さを、フレキソ印刷法で形成した場合とほぼ同等とするためには、２倍以上の量の溶剤を基板に塗布する必要が生じるが、粘度が低く溶剤の量が多いため、その周辺がたとえば塗布位置に対し約１ないし２ｍｍ以上に濡れ広がってしまう。
【０００５】
そして、この濡れ広がりは樹脂膜の周辺の全域にわたって均一になることは少なく、スペース的に無駄な領域の形成を余儀なくされるものである。
ここで、樹脂膜の塗布後において該樹脂膜の乾燥を行うが、この乾燥によって樹脂膜の溶液の粘度が上昇し、該樹脂膜の周辺における濡れ広がりを抑制させることができる。しかし、所定の厚さで形成しなければならない該樹脂膜において、その乾燥速度にも制限が付されていた。
本発明は、このような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、周辺において濡れ広がりのない配向膜を備える液晶表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
手段１．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、この配向膜は、その周辺は、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されていることを特徴とするものである。
【０００７】
手段２．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、この配向膜は、その周辺は、切欠き部および穴部のうち少なくとも一方が形成され、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されていることを特徴とするものである。
【０００８】
手段３．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段１、２のいずれかの構成を前提とし、前記配向膜の周辺は、それ以外の領域と比較して膜厚が薄く形成されていることを特徴とするものである。
【０００９】
手段４．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、前記各基板の一方の基板に対する他方の基板との固着を兼ねて前記液晶を封入するシール材を備えるとともに、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、この配向膜は、その周辺は、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されているとともに、前記配向膜の周辺は前記シール材の形成領域にまで及んで形成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
手段５．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段４の構成を前提とし、前記シール材の形成領域にまで及んで形成された配向膜は、該シール材の形成領域において、膜が形成されていない部分の面積が膜が形成されている部分の面積よりも大きくなっていることを特徴とするものである。
【００１１】
手段６．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、この配向膜は、その周辺は該配向膜の下層に形成された材料層に設けられた溝の内部に位置づけられていることを特徴とするものである。
【００１２】
手段７．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、各基板の一方の基板に対する他方の基板とのギャップを確保する支柱状のスペーサが散在されて形成されているとともに、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備え、この配向膜は、その周辺は該周辺を囲むようにして配置された各スペーサにそれぞれ接触して位置づけられていることを特徴とするものである。
【００１３】
手段８．
本発明による液晶表示装置の製造方法は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、前記各基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にて、該液晶と接触して形成される配向膜を備えるものであって、前記配向膜の輪郭を縁取る堰を該配向膜と同一の材料で形成する工程と、該堰に囲まれた領域内に該堰と僅かながらの隙間を有して前記配向膜を形成する工程と、前記堰と前記配向膜とをレベリングしてそれらを互いに接触させる工程とを含むことを特徴とするものである。
【００１４】
手段９．
本発明による液晶表示装置の製造方法は、たとえば、手段８の構成を前提とし、前記配向膜の周辺の膜厚は、それ以外の領域の膜厚よりも薄く構成されることを特徴とするものである。
【００１５】
手段１０．
本発明による液晶表示装置は、たとえば手段１ないし７のいずれかの構成を前提とし、配向膜がインクジェット法で形成されていることを特徴とするものである。
なお、本発明は以上の構成に限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明をする。
実施例１．
図１は、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし該液晶の広がり方向に多数の画素が形成された液晶表示パネルの前記各基板のうちの一方の基板の液晶側の面を示す平面図である。なお、前記各基板のうち他方の基板の液晶側の面もほぼ同様となっている。
【００１７】
前記各基板のうち一方の基板ＳＵＢ１の液晶側の面には、その周辺の領域を僅かながら残すようにし、かつ中央部の領域を囲むようにしてシール材ＳＬが形成されている。このシール材ＳＬは該基板ＳＵＢ１に対し他方の図示しない基板を固定させるとともに、これら各基板との間に介在される液晶を封入させる機能を有するものである。
【００１８】
シール材ＳＬに囲まれた領域にはその周辺部を僅かながら残して液晶表示部ＡＲが形成される領域となっている。
この液晶表示部ＡＲは、たとえば図２に示すように、ｘ方向に延在しｙ方向に並設されたゲート信号線ＧＬとｙ方向に延在しｘ方向に並設されたドレイン信号線ＤＬとで囲まれた各領域を画素領域とし、この画素領域には、片側のゲート信号線ＧＬからの走査信号によって駆動される薄膜トランジスタＴＦＴと、この薄膜トランジスタＴＦＴを介して片側のドレイン信号線ＤＬから映像信号が供給される画素電極ＰＸと、この画素電極ＰＸと前記薄膜トランジスタＴＦＴを駆動させる前記ゲート信号線ＧＬと隣接する他のゲート信号線ＧＬとの間に形成される容量素子Ｃａｄｄとが形成されている。なお、前記画素電極ＰＸは図示しない対向電極との間に液晶の光透過率を制御させる電界を生じせしめるように構成されているが、この対向電極は該基板ＳＵＢ１側の面あるいは基板ＳＵＢ２側の面に形成されている。
【００１９】
また、前記各ゲート信号線ＧＬはたとえばその一端がシール材ＳＬを越えて基板ＳＵＢ１の周辺にまで延在され、この延在端から走査信号駆動回路（図示せず）から走査信号が供給されるようになっている。同様に、前記各ドレイン信号線ＤＬはたとえばその一端がシール材ＳＬを越えて基板ＳＵＢ１の周辺にまで延在され、この延在端から映像信号駆動回路（図示せず）から映像信号が供給されるようになっている。
【００２０】
そして、このように構成される液晶表示部ＡＲを被うようにして配向膜ＯＲＩ１が形成されている。この配向膜ＯＲＩ１は液晶と直接に接触するたとえば樹脂からなる膜であり、たとえばその表面に形成されたラビングによって該液晶の初期配向方向を決定させるようになっている。
【００２１】
該配向膜ＯＲＩ１はその周辺の全域において、液晶表示部ＡＲから約１．０ｍｍ程度にはみ出すようにして形成され、しかもシール材ＳＬと接触しない程度にその外周輪郭の位置が設定されている。該配向膜ＯＲＩ１がシール材ＳＬの形成領域にまで延在された場合、該シール材ＳＬの接着強度が弱まるからである。
【００２２】
このように前記配向膜ＯＲＩ１は、図３（ａ）に示すように、液晶表示部ＡＲの外輪郭から外方へ所定の寸法の幅（約１．０ｍｍ）を有する領域を有するが、この領域において、図３（ｂ）に示すように、その周辺に切欠き部が形成され、この切欠き部は周辺に沿ってほぼ等間隔に形成されている。この切り欠き部は液晶表示部ＡＲの外輪郭から外方へ所定の寸法の幅（約１．０ｍｍ）のうち図中Ｑに示す部分に形成されている。また、他の例として、図３（ｃ）に示すように、その周辺に穴部が形成され、この穴部は周辺に沿ってほぼ等間隔に形成されている。さらに他の例として、図３（ｄ）に示すように、その周辺に切欠き部と穴部が形成され、これら切欠き部と穴部は周辺に沿ってほぼ等間隔に形成されている。さらに、他の例として、図３（ｅ）に示すように、各切欠き部が特殊な形状（Ｔ字状）を有するもの、図３（ｆ）に示すように、各切欠き部が一方向に傾斜しているもの、図３（ｇ）に示すように、切欠き部と穴部を有するが、該穴部の径が比較的小さく密に形成されているもの等であってもよい。
【００２３】
なお、図３（ｂ）ないし図３（ｇ）において、それらの下方に上方の図とほぼ類似した図が描かれているが、この図は配向膜ＯＲＩ１の周辺の形状を容易に把握し易いように示した簡易図である。
すなわち、配向膜ＯＲＩの周辺は、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成されたものとなっている。
【００２４】
このように構成された配向膜ＯＲＩ１は、その製造においてたとえば樹脂を塗布した後にそれを乾燥する際に、その乾燥速度が速くなり、その粘度上昇によって濡れ広がりを回避することができる。該配向膜ＯＲＩ１の周辺において、樹脂量が少なく、かつ周辺長が長くなっていることから乾燥速度を他の領域のそれよりも早く行なうことができる。
【００２５】
図４は、基板ＳＵＢ１に上述したようなパターンからなる配向膜ＯＲＩ１を形成するための装置を示す図で、その（ａ）は斜視図である。
図４（ａ）において、該装置は、基板ＳＵＢ１を載置させたステージＳＴを備え、このステージＳＴはインクジェットヘッドＩＪＨを上方に取り付けた枠体ＦＲＭ内を移動するようになっている。なお、ここで、前記基板ＳＵＢ１は複数枚取りのそれで、たとえば図に示すように切断によって４個に分割される前の大きな基板を示している。
【００２６】
前記インクジェットヘッドＩＪＨは、図５に示すように、ピエゾ素子ＰＺＥを備え、このピエゾ素子ＰＺＥに供給されてくる配向膜液ＬＱを該ピエゾ素子ＰＺＥの駆動で発生する圧力によって前記基板ＳＵＢ１側へ出射させるようになっている。該ピエゾ素子ＰＺＥは基板ＳＵＢ１（ステージＳＴ）の移動方向と直交する方向に多数並設されて構成され、これにより、図４（ａ）の上面図である図４（ｂ）に示すように、前記インクジェットヘッドＩＪＨによって、基板ＳＵＢ１面に線状に形成される樹脂膜が、該基板ＳＵＢ１の移動とともに、該線状の樹脂膜がその垂直方向へ順次移動することにより平面形状の樹脂膜すなわち配向膜ＯＲＩ１として形成されることになる。
【００２７】
ここで、前記ピエゾ素子ＰＺＥが基板ＳＵＢ１（ステージＳＴ）の移動方向と直交する方向に多数並設されて構成されるインクジェットヘッドＩＪＨにおいて、まず、最初の段階にて各ピエゾ素子ＰＺＥはたとえば数個おきにインクの出射と停止の状態を有して駆動される。次の段階にて、その両端とその近傍を除く各ピエゾ素子ＰＺＥは常時インクが出射される状態となっているが、両端とその近傍の各ピエゾ素子ＰＺＥはインクの出射と停止が繰り替えされるように駆動される。そして、最後の段階にて各ピエゾ素子ＰＺＥはたとえば数個おきにインクの出射と停止の状態を有して駆動される。このようにインクジェットヘッドＩＪＨを駆動させることによって、形成される配向膜ＯＲＩ１の周辺は、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンから構成される。
【００２８】
実施例２．
図６（ａ）ないし（ｈ）は、上述した配向膜ＯＲＩ１において、その周辺のパターンの他の実施例を示す図であり、前記図３（ｂ）ないし（ｇ）の各図と対応した図となっている。
図６（ａ）は、複数の穴部が周辺に沿って形成され、該穴部は矩形状をなしたもの、図６（ｂ）は、切欠きが周辺に沿って形成され、該切欠きは特殊な形状（十字状）をなしたもの、図６（ｃ）は、切欠きが周辺に沿って形成され、この切欠き部において、一層目に形成した配向膜ＯＲＩ１と二層目に形成した配向膜ＯＲＩ２とに若干のずれが生じているもの、図６（ｄ）は、切欠きが周辺に沿って形成され、かつこの周辺が他の領域よりも膜厚が薄くなっているもので、該図６（ｄ）のｅ−ｅ線における断面図を図６（ｅ）に示している。また、図６（ｆ）は、周辺において配向膜溶液の吐出量を少なく調節して切欠き部が形成されているもの、図６（ｇ）は、一層目の配向膜ＯＲＩ１の周辺に切欠き部が設けられ、二層目の配向膜ＯＲＩ２は前記一層目の配向膜ＯＲＩ１の周辺を回避して形成されたもの、図６（ｈ）は、図６（ｇ）とほぼ同様の構成となっているが、前記切欠き部がインクジェットヘッドＩＪＨの吐出ピッチを調整して形成されているものである。
これらのいずれのパターンを採用しても、同様の効果を得ることができる。
【００２９】
実施例３．
図７（ａ）は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図で、周辺に穴部等が形成された配向膜ＯＲＩ１とシール材ＳＬとの配置関係を示した図である。なお、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す配向膜ＯＲＩ１の周辺の形状を容易に把握し易いように示した簡易図である。
【００３０】
配向膜ＯＲＩ１の周辺に、たとえば穴部等を形成することによって、膜が形成されていない微小な部分を有し、この部分は周辺に沿ってほぼ均等に形成されたパターンとすることで、この周辺部をシール材ＳＬが形成される領域にまで延在させるようにしたものである。換言すれば、該配向膜ＯＲＩ１の周辺をシール材ＳＬの形成領域としたことにある。
【００３１】
シール材ＳＬはその形成領域において、一部は配向膜ＯＲＩ１と接触することになるが、他の残りの部分は、該配向膜ＯＲＩ１下の無機物層と接触する構成とすることができ、該シール材ＳＬの接着強度を充分確保することができるからである。このことから、シール材ＳＬの固着部において、配向膜ＯＲＩ１の穴部の面積は、該配向膜ＯＲＩ１と接触する部分の面積より大きく設定するのが有効である。
【００３２】
図７（ｃ）は、図７（ａ）のｃ−ｃ線における断面図を示したものであり、これから、シール材ＳＬは配向膜ＯＲＩ１、ＯＲＩ２が被覆されていない個所にて基板ＳＵＢ１、ＳＵＢ２側に接着されていることが判る。
なお、図７（ｃ）において、符号ＳＰは基板ＳＵＢ１、ＳＵＢ２との間のギャップを均一化させるためのスペーサであり、液晶表示部ＡＲ内に散在されて配置されている。また、このスペーサＳＰはたとえば基板ＳＵＢ２側に形成された支柱状のスペーサで構成されている。
【００３３】
実施例４．
図８は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図で、図７（ｃ）と同様、該液晶表示装置の断面図である。
ここに用いられる配向膜ＯＲＩ１はその周辺において、穴部あるいは切欠き部を有しないものであり、通常のいわゆる印刷工程で形成されるものと同様のものである。
【００３４】
しかし、この配向膜ＯＲＩ１は、それが形成される基板ＳＵＢ１の表面にたとえば有機絶縁膜ＰＡＳが形成され、該配向膜ＯＲＩ１の周辺部に該周辺部に沿った溝ＧＴが形成されている。換言すれば、配向膜ＯＲＩ１の周辺部は前記有機絶縁膜ＰＡＳに形成された溝ＧＴ内に位置づけられるように形成されている。
印刷によって上記のようなパターンで樹脂膜（配向膜ＯＲＩ１）を形成した場合、その周辺の濡れ広がりを前記溝ＧＴによって抑制できる。
【００３５】
なお、図８において、符号ＢＫは基板ＳＵＢ２側に形成された液晶滴下封入のための堰であり、液晶表示部ＡＲを充分に囲むパターンで形成されている。すなわち、この堰ＢＫが形成された基板ＳＵＢ２を該堰ＢＫが上になるように載置し、液晶を該堰ＢＫに囲まれた領域に充分滴下させ、その後に基板ＳＵＢ１を対向配置させて、基板ＳＵＢ２に対する該基板ＳＵＢ１の固定をシール材ＳＬによって行なうようになっている。
【００３６】
この場合、基板ＳＵＢ２の液晶側の面に形成する配向膜ＯＲＩ２は前記堰ＢＫを形成した後に形成し、これにより該配向膜ＯＲＩ２の周辺は該堰ＢＫの内側面を伝わるように形成されるが、該堰ＢＫとの接着強度が保たれ、しかも、この部分は液晶表示部ＡＲから比較的遠い位置にあることから、該堰ＢＫの内側面を伝わるように形成されることに不都合は生じない。
【００３７】
実施例５．
図９（ａ）は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す平面図で、図８に対応した図となっている。
図８の場合と比較して異なる構成は、図８において形成した液晶滴下封入のための堰ＢＫに替えてスペーサＳＰとし、かつこのスペーサＳＰは配向膜ＯＲＩ２の周辺に沿って複数並設されたものとしたものである。
これら各スペーサＳＰは、配向膜ＯＲＩ２の形成前に基板ＳＵＢ２側に形成された支柱状をなし、図９（ｂ）の平面図に示すように、その後に形成される配向膜ＯＲＩ２は、その周辺において、各スペーサＳＰとの間に作用する表面張力を抵抗として濡れ広がりを防止できるようになる。
この場合、該配向膜ＯＲＩ２は通常の印刷法で形成されるものと同様であることは図８の場合と同様である。
【００３８】
実施例６．
図１０（ａ）ないし（ｃ）は、本発明による液晶表示装置の配向膜の製造方法の一実施例を示す工程図である。なお、図１０（ａ）のａ’−ａ’における断面図を図１０（ａ’）に、図１０（ｂ）のｂ’−ｂ’における断面図を図１０（ｂ’）に、図１０（ｃ）のｃ’−ｃ’における断面図を図１０（ｃ’）に示している。
【００３９】
まず、配向膜ＯＲＩを形成する基板ＳＵＢを用意し、該配向膜ＯＲＩの形成領域を縁取るパターンで堰ＢＮＫを形成する。この堰ＢＮＫはたとえばこれから形成しようとする配向膜ＯＲＩと同一の材料からなり、たとえばインクジェット印刷で形成する。
【００４０】
そして、該堰ＢＮＫで囲まれた領域内に配向膜ＯＲＩをたとえばインクジェット印刷で形成する。この場合、該配向膜ＯＲＩは、その周囲において前記堰ＢＮＫとの間に僅かながらの隙間を形成するとともに、その周辺の膜厚は他の部分の膜厚よりも薄く形成する。
【００４１】
配向膜ＯＲＩの周辺を薄く形成するのは、図４に示した装置において、そのインクジェットヘッドＩＪＨの各ピエゾ素子ＰＺＥのインク出射、停止を制御することによって容易に達成できる。
【００４２】
さらに、前記配向膜ＯＲＩをレベリングすることにより、堰ＢＮＫと一体に接続され、配向膜ＯＲＩの一部となった該堰ＢＮＫによって該配向膜ＯＲＩの周辺が予め定められた位置に精度よく形成されることになる。
【００４３】
図１１は、前記堰ＢＮＫのパターンの詳細を示した平面図である。図１１（ａ）は、その周辺に器の欠き部あるいは穴部が全く形成されていないもの、図１１（ｂ）は、その周辺に切欠き部が該周辺に沿って形成されたもの、図１１（ｃ）は、全域にわたって穴部が形成されたものである。図１１（ｂ）、図１１（ｃ）は、そのいずれにおいても、その乾燥速度が速くなり、その粘度上昇によって濡れ広がりを回避することができる構成となっている。
【００４４】
なお、上述した各実施例では、透明基板ＳＵＢ１側に形成する配向膜ＯＲＩ１について説明したものであるが、透明基板ＳＵＢ２側に形成する配向膜ＯＲＩ２についても同様に適用できることはいうまでもない。
【００４５】
上述した各実施例はそれぞれ単独に、あるいは組み合わせて用いても良い。それぞれの実施例での効果を単独であるいは相乗して奏することができるからである。
また、配向膜以外でも、薄膜の膜厚を均一とする目的に適用できる。さらに、液晶表示装置以外の表示装置に、たとえば有機ＥＬ表示装置の保護膜の形成に適用してもよい。
【００４６】
【発明の効果】
以上説明したことから明らかとなるように、本発明による表示装置によれば、周辺において濡れ広がりのない配向膜を備えることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による表示装置において、一方の基板の液晶側の面の構成の一実施例を示す平面図である。
【図２】本発明による表示装置の液晶表示部における構成の一実施例を示す等価回路図である。
【図３】本発明による表示装置の配向膜の構成の実施例を示す平面図である。
【図４】本発明による表示装置の配向膜の形成のための装置を示す構成図である。
【図５】図４に示す装置のインクジェットヘッドに備えられるピエゾ素子の構成を示す断面図である。
【図６】本発明による表示装置の配向膜の構成の他の実施例を示す平面図である。
【図７】本発明による表示装置の配向膜とシール材との位置関係を示す構成図である。
【図８】本発明による表示装置の他の実施例を示す断面図である。
【図９】本発明による表示装置の他の実施例を示す構成図である。
【図１０】本発明による表示装置の製造方法の一実施例を示す構成図である。
【図１１】図１０に示す堰のパターンの実施例を示す平面図である。
【符号の説明】
ＳＵＢ…基板、ＳＬ…シール材、ＡＲ…液晶表示部、ＯＲＩ…配向膜、ＳＰ…スペーサ、ＢＫ、ＢＮＫ…堰。
【図１】
2004361623.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004361623.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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