(57)【要約】【課題】液滴吐出装置を用いて基板上に異なる形態のパターンそれぞれを混在させて形成する際、安定した吐出動作を維持し、所望の精度でパターンを形成できる製膜方法、製膜装置、デバイスとその製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】基板Ｓ上に複数の単位領域（ビット）Ｂを設定し、単位領域Ｂに対して液滴吐出ヘッド３４より液状体からなる液滴を吐出し、基板Ｓ上に膜を形成する製膜方法である。液滴吐出ヘッド３４に形成されてなるノズルＮのうちの第１のノズルＮａ群により第１のパターンを形成し、第１のノズル群Ｎａとは異なる第２のノズルＮｂ群により第２のパターンを形成する。【選択図】　図６
2004000915.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の単位領域を設定し、前記単位領域に対して液滴吐出ヘッドより液状体からなる液滴を吐出し、前記基板上に膜を形成する製膜方法において、
前記液滴吐出ヘッドに形成されてなるノズルのうちの第１のノズル群により第１のパターンを形成し、前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成することを特徴とする製膜方法。
【請求項２】
前記第１のノズル群によって、前記単位領域への前記液滴の吐出を行い、前記第２のノズル群によって、前記単位領域の境界部への前記液滴の吐出を行うことを特徴とする請求項１記載の製膜方法。
【請求項３】
前記液状体は導電性材料を含むことを特徴とする請求項１又は２記載の製膜方法。
【請求項４】
前記液滴吐出ヘッドにおいて、前記第１のノズル群と第２のノズル群とが交互に配置されてなることを特徴とする請求項１〜３に記載の製膜方法。
【請求項５】
前記液滴吐出ヘッドにおいて、前記ノズルの間隔は前記単位領域の間隔に応じて設定されていることを特徴とする請求項１〜４に記載の製膜方法。
【請求項６】
基板上に複数の単位領域を設定し、前記単位領域に対して液滴吐出ヘッドより液状体からなる液滴を吐出し、前記基板上に膜を形成する製膜装置において、
前記液滴吐出ヘッドに形成されてなるノズルのうちの第１のノズル群により第１のパターンを形成し、
前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成するよう前記液滴吐出ヘッドの吐出動作を制御する制御部が備えられたことを特徴とする製膜装置。
【請求項７】
前記液滴吐出装置には、液滴吐出ヘッドの傾き角度を制御する傾き角制御装置が設けられてなることを特徴とする請求項５記載の製膜装置。
【請求項８】
前記液滴吐出装置には、液滴吐出ヘッドの各ノズルからの液滴吐出量を調整する吐出量調整手段が設けられていることを特徴とする請求項６又は７記載の製膜装置。
【請求項９】
請求項６〜８記載の製膜装置を用いて形成された膜を有することを特徴とするデバイス。
【請求項１０】
基板上に複数の単位領域を設定し、前記単位領域に対して液滴吐出ヘッドより液状体からなる液滴を吐出して前記基板上に膜を形成して製造するデバイスの製造方法において、
前記液滴吐出ヘッドに形成されてなるノズルのうちの第１のノズル群により第１のパターンを形成し、
前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成し、
前記基板上に前記膜を形成する工程を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１１】
請求項９記載のデバイスを備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出装置を用いた製膜方法と製膜装置、デバイスとその製造方法、及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体集積回路などの微細な配線パターンの製造方法としては、フォトリソグラフィー法が多用されている。近年では、液滴吐出方式を用いた方法が開示されており、これらの技術はパターン形成用材料を含んだ液状体を液滴吐出ヘッドから基板上に吐出することにより、パターン形成面に材料を配置して配線パターンを形成するものであり、少量多種生産に対応可能であるなど大変有効であるとされている（例えば、特許文献１、２参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−２７４６７１号公報
【特許文献２】
特開２０００−２１６３３０号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、デバイスに形成される配線パターンでは、例えば直線パターンとこの直線パターンに傾斜する傾斜線パターンとが混在していたり、あるいは異なる線幅を有する配線パターンが混在していたりする。しかしながら、これら異なる形態からなる配線パターンを液滴吐出装置によって同一の吐出条件で形成しようとすると、所望のパターン精度が得られなくなる場合がある。
例えば、直線パターンと傾斜線パターンとが混在する配線パターンを同じ吐出条件、すなわち同じ大きさの液滴（ドット）を吐出することで形成しようとすると、特に傾斜線パターンでは吐出した液滴間が連続せず、これにより得られた配線パターンが導通不良を起してしまい、結果としてデバイス性能が低下してしまうといった問題が生じるおそれがある。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出装置を用いて基板上に異なる形態のパターンそれぞれを混在させて形成する際、安定した吐出動作を維持し、所望の精度でパターンを形成できる製膜方法、製膜装置、デバイス、及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するため、本発明の製膜方法では、基板上に複数の単位領域を設定し、前記単位領域に対して液滴吐出ヘッドより液状体からなる液滴を吐出し、前記基板上に膜を形成する製膜方法において、前記液滴吐出ヘッドに形成されてなるノズルのうちの第１のノズル群により第１のパターンを形成し、前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成することを特徴としている。
【０００７】
この製膜方法によれば、第１のノズル群により第１のパターンを形成し、前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成するので、例えば第１のノズル群によって直線パターン及び傾斜線パターンを形成した際、傾斜線パターンにおいて単位領域内への液滴吐出だけでは液滴間の連続性が不十分であっても、第２のノズル群によって単位領域の境界部への液滴の吐出を、前記の第１のノズル群から吐出した傾斜線パターンにおける液滴間に行うことにより、傾斜線パターンにおいても液滴間が確実に連続したものとなる。
【０００８】
また、前記製膜方法においては、前記第１のノズル群によって、前記単位領域への前記液滴の吐出を行い、前記第２のノズル群によって、前記単位領域の境界部への前記液滴の吐出を行うのが好ましい。
このようにすれば、連続した液滴によって膜（パターン）が形成されることにより、得られた膜（パターン）は連続性に優れた良好なものとなる。
【０００９】
また、前記製膜方法においては、前記液状体は導電性材料を含むものであるのが好ましい。
このようにすれば、導電性膜、すなわち配線パターンを形成することができ、したがって形成する配線パターンを連続性に優れ、断線のおそれのない良好なものにすることができる。
【００１０】
また、前記製膜方法においては、前記液滴吐出ヘッドにおいて、前記第１のノズル群と第２のノズル群とが交互に配置されてなるのが好ましい。
第１のノズル間の間隔を隣り合う単位領域間の間隔に対応させる際、通常は第１のノズル間の間隔の方が広いことから、第１のノズル間の間隔を見掛け上狭めるため、液滴吐出ヘッドを斜めに傾斜させる。その際、前記のように第１のノズル群と第２のノズル群とを交互に配置すれば、元々の第１のノズル間の間隔が狭いため、液滴吐出ヘッドの傾斜角を比較的小さくすることができる。
【００１１】
また、前記製膜方法においては、前記液滴吐出ヘッドにおいて、前記ノズルの間隔は前記単位領域の間隔に応じて設定されてなるのが好ましい。
この製膜方法は、液滴吐出ヘッドの傾き角度θを制御することなく、前記単位領域に対応した前記ノズルから当該単位領域に前記液滴を吐出する。従って、製膜装置においては、専用の液滴吐出ヘッドにより前記液滴を吐出するので、傾き角制御装置が不要になり、製膜装置の低コスト化を達成することができる。
【００１２】
本発明の製膜装置では、基板上に複数の単位領域を設定し、前記単位領域に対して液滴吐出ヘッドより液状体からなる液滴を吐出し、前記基板上に膜を形成する製膜装置において、前記液滴吐出ヘッドに形成されてなるノズルのうちの第１のノズル群により第１のパターンを形成し、前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成するよう前記液滴吐出ヘッドの吐出動作を制御する制御部が備えられたことを特徴としている。
【００１３】
この製膜装置によれば、第１のノズル群により第１のパターンを形成し、前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成するよう前記液滴吐出ヘッドの吐出動作を制御する制御部を備えているので、例えば第１のノズル群によって直線パターン及び傾斜線パターンを形成した際、傾斜線パターンにおいて単位領域内への液滴吐出だけでは液滴間の連続性が不十分であっても、第２のノズル群によって単位領域の境界部への液滴の吐出を、前記の第１のノズル群から吐出した傾斜線パターンにおける液滴間に行うことにより、傾斜線パターンにおいても液滴間が確実に連続したものにすることができる。
【００１４】
また、前記製膜装置においては、前記液滴吐出装置に、液滴吐出ヘッドの傾き角度を制御する傾き角制御装置が設けられているのが好ましい。
このようにすれば、傾き角制御装置によって液滴吐出ヘッドの傾き角度を制御することにより、ノズル間の間隔を隣り合う単位領域間の間隔に容易に対応させることが可能になる。
【００１５】
また、前記製膜装置においては、前記液滴吐出装置に、液滴吐出ヘッドの各ノズルからの液滴吐出量を調整する吐出量調整手段が設けられているのが好ましい。
このようにすれば、吐出量調整手段によって液滴吐出ヘッドの各ノズルからの液滴吐出量を調整することにより、形成する膜の厚さやパターンの幅などを調整することが可能になる。特に、第１のノズル群と第２のノズル群との間で吐出量を調整することにより、形成するパターンの自由度を高めることができるとともに、特にそのパターン精度を高めることができる。
【００１６】
本発明のデバイスでは、前記の製膜装置を用いて形成された膜を有することを特徴としている。
このデバイスによれば、連続性に優れた良好な膜（パターン）を備えたものとなる。
【００１７】
本発明のデバイスの製造方法では、基板上に複数の単位領域を設定し、前記単位領域に対して液滴吐出ヘッドより液状体からなる液滴を吐出して前記基板上に膜を形成して製造するデバイスの製造方法において、前記液滴吐出ヘッドに形成されてなるノズルのうちの第１のノズル群により第１のパターンを形成し、前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成し、前記基板上に前記膜を形成する工程を有することを特徴としている。
このデバイスの製造方法によれば、連続性に優れた良好な膜（パターン）を有するデバイスを製造することができる。
【００１８】
本発明の電子機器は、前記のデバイスを備えたことを特徴としている。
この電子機器によれば、優れたデバイス性能を有するものとなる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
図１は本発明の製膜装置の一例を示す図であり、図１中符号３０は製膜装置である。この製膜装置３０は、ベース３１、基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３、液滴吐出ヘッド３４、液供給手段３５、制御部４０等を有して構成されたものである。ベース３１は、その上に前記基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３を設置したものである。
【００２０】
基板移動手段３２は、ベース３１上に設けられたもので、Ｙ軸方向に沿って配置されたガイドレール３６を有したものである。この基板移動手段３２は、例えばリニアモータ（図示せず）により、スライダ３７をガイドレール３６に沿って移動させるよう構成されたものである。
スライダ３７上にはステージ３９が固定されている。このステージ３９は、基板Ｓを位置決めし保持するためのものである。すなわち、このステージ３９は、公知の吸着保持手段（図示せず）を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、基板Ｓをステージ３９の上に吸着保持するようになっている。基板Ｓは、例えばステージ３９の位置決めピン（図示せず）により、ステージ３９上の所定位置に正確に位置決めされ、保持されるようになっている。
ステージ３９上の基板Ｓに対し、その両側、すなわち後述する液滴吐出ヘッド３４の移動方向（Ｘ軸方向）での両側には、液滴吐出ヘッド３４にフラッシングを行わせるためのフラッシングエリア４１が設けられている。
【００２１】
ヘッド移動手段３３は、ベース３１の後部側に立てられた一対の架台３３ａ、３３ａと、これら架台３３ａ、３３ａ上に設けられた走行路３３ｂとを備えてなるもので、該走行路３３ｂをＸ軸方向、すなわち前記の基板移動手段３２のＹ軸方向と直交する方向に沿って配置したものである。走行路３３ｂは、架台３３ａ、３３ａ間に渡された保持板３３ｃと、この保持板３３ｃ上に設けられた一対のガイドレール３３ｄ、３３ｄとを有して形成されたもので、ガイドレール３３ｄ、３３ｄの長さ方向に液滴吐出ヘッド３４を搭載するキャリッジ４２を移動可能に保持したものである。キャリッジ４２は、リニアモータ（図示せず）等の作動によってガイドレール３３ｄ、３３ｄ上を走行し、これにより液滴吐出ヘッド３４をＸ軸方向に移動させるよう構成されたものである。ここで、このキャリッジ４２は、ガイドレール３３ｄ、３３ｄの長さ方向、すなわちＸ軸方向に例えば１μｍ単位で移動が可能になっており、このような移動は制御部４０によって制御されるようになっている。
【００２２】
液滴吐出ヘッド３４は、前記キャリッジ４２に取付部４３を介して回動可能に取り付けられたものである。取付部４３にはモータ４４が設けられており、液滴吐出ヘッド３４はその支持軸（図示せず）がモータ４４に連結している。これにより、液滴吐出ヘッド３４はその周方向に回動可能となっている。また、モータ４４も前記制御部４０に接続されており、これによって液滴吐出ヘッド３４はその周方向への回動、すなわち液滴吐出ヘッド３４の傾き角度が、制御部４０に制御されるようになっている。このような構成のもとに、モータ４４および液滴吐出ヘッド３４を支持する支持軸と、制御部４０とにより、本発明における傾き角制御装置（図示せず）が形成されている。
【００２３】
ここで、液滴吐出ヘッド３４は、図２（ａ）に示すように例えばステンレス製のノズルプレート１２と振動板１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１４を介して接合したものである。ノズルプレート１２と振動板１３との間には、仕切部材１４によって複数の空間１５と液溜まり１６とが形成されている。各空間１５と液溜まり１６の内部は液状体で満たされており、各空間１５と液溜まり１６とは供給口１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート１２には、空間１５から液状体を噴射するためのノズル孔１８が縦横に整列させられた状態で複数形成されている。一方、振動板１３には、液溜まり１６に液状体を供給するための孔１９が形成されている。
【００２４】
また、振動板１３の空間１５に対向する面と反対側の面上には、図２（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）２０が接合されている。この圧電素子２０は、一対の電極２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子２０が接合されている振動板１３は、圧電素子２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間１５の容積が増大するようになっている。したがって、空間１５内に増大した容積分に相当する液状体が、液溜まり１６から供給口１７を介して流入する。また、このような状態から圧電素子２０への通電を解除すると、圧電素子２０と振動板１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間１５も元の容積に戻ることから、空間１５内部の液状体の圧力が上昇し、ノズル孔１８から基板に向けて液状体の液滴２２が吐出される。
【００２５】
なお、このような構成からなる液滴吐出ヘッド３４は、その底面形状が略矩形状のもので、図３に示したようにノズルＮ（ノズル孔１８）が縦に等間隔で整列した状態で矩形状に配置されたものである。そして、本例では、その縦方向、すなわち長辺方向に配置されたノズルの列における、各ノズルのうちの１個置きに配置されたノズルを主ノズル（第１のノズル）Ｎａとし、これら主ノズルＮａ間に配置されたノズルを副ノズル（第２のノズル）Ｎｂとしている。
【００２６】
これら各ノズルＮ（ノズルＮａ、Ｎｂ）には、それぞれに独立して圧電素子２０が設けられていることにより、その吐出動作がそれぞれ独立してなされるようになっている。すなわち、このような圧電素子２０に送る電気信号としての吐出波形を制御することにより、各ノズルＮからの液滴の吐出量を調整し、変化させることができるようになっているのである。ここで、このような吐出波形の制御は制御部４０によってなされるようになっており、このような構成のもとに、制御部４０は各ノズルＮからの液滴吐出量を変化させる吐出量調整手段としても機能するようになっている。
なお、液滴吐出ヘッド３４の方式としては、前記の圧電素子２０を用いたピエゾジェットタイプ以外に限定されることなく、例えばサーマル方式を採用することもでき、その場合には印可時間を変化させることなどにより、液滴吐出量を変化させることができる。
【００２７】
液供給手段３５は、液滴吐出ヘッド３４に液状体を供給する液供給源４５と、この液供給源４５から液滴吐出ヘッド３４に液を送るための液供給チューブ４６とからなるものである。液状体としては、特に限定されることなく形成する膜の求められる特性に応じ種々のものが用いられる。例えば、後述するように形成する膜を配線パターンとする場合、以下のような導電性微粒子を含有する液状体が用いられる。なお、膜の求められる特性によっては、絶縁性微粒子を含む液状体を液滴吐出ヘッドより吐出して絶縁性パターンを形成することに応用してもよい。
【００２８】
導電性微粒子を含有する液状体としては、導電性微粒子を分散媒に分散させた分散液が用いられる。ここで用いられる導電性微粒子は、金、銀、銅、パラジウム、ニッケルのいずれかを含有する金属微粒子の他、導電性ポリマーや超電導体の微粒子などが用いられる。
これら導電性微粒子については、分散性を向上させるためその表面に有機物などをコーティングして使うこともできる。
導電性微粒子の粒径は５ｎｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましい。０．１μｍより大きいと、後述する液滴吐出装置のヘッドのノズルの目詰まりが起こりやすく、液滴吐出法による吐出が困難になるからである。また、５ｎｍより小さいと、導電性微粒子に対するコーティング剤の体積比が大きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となるからである。
【００２９】
導電性微粒子を含有する液体の分散媒としては、室温での蒸気圧が０．００１ｍｍＨｇ以上２００ｍｍＨｇ以下（約０．１３３Ｐａ以上２６６００Ｐａ以下）であるものが好ましい。蒸気圧が２００ｍｍＨｇより高いと、吐出後に分散媒が急激に蒸発してしまい、良好な膜を形成することが困難となるからである。
また、分散媒の蒸気圧は０．００１ｍｍＨｇ以上５０ｍｍＨｇ以下（約０．１３３Ｐａ以上６６５０Ｐａ以下）であるのがより好ましい。蒸気圧が５０ｍｍＨｇより高いと、液滴吐出法で液滴を吐出する際に乾燥によるノズル詰まりが起こり易く、安定な吐出が困難になるからである。
一方、室温での蒸気圧が０．００１ｍｍＨｇより低い分散媒の場合には、乾燥が遅くなって膜中に分散媒が残留しやすくなり、後工程の熱及び／又は光処理後に良質の導電膜が得られにくくなる。
【００３０】
使用する分散媒としては、前記の導電性微粒子を分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。具体的には、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、更にプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を挙げることができる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法への適用のし易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、更に好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。これらの分散媒は、単独でも、あるいは２種以上の混合物としても使用することができる。
【００３１】
前記導電性微粒子を分散媒に分散する場合の分散質濃度としては、１質量％以上８０質量％以下とするのが好ましく、所望の導電膜の膜厚に応じて調整することができる。８０質量％を超えると凝集をおこしやすくなり、均一な膜が得にくくなる。
前記導電性微粒子の分散液（液状体）の表面張力としては、０．０２Ｎ／ｍ以上０．０７Ｎ／ｍ以下の範囲とするのが好ましい。液滴吐出法にて液状体を吐出する際、表面張力が０．０２Ｎ／ｍ未満であると、インク組成物のノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲りが生じ易くなり、０．０７Ｎ／ｍを超えると、ノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため、吐出量、吐出タイミングの制御が困難になるからである。
【００３２】
表面張力を調整するため、前記分散液には、基板Ｓとの接触角を不当に低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加することができる。ノニオン系表面張力調節剤は、液体の基板への濡れ性を良好化し、膜のレベリング性を改良し、塗膜のぶつぶつの発生、ゆず肌の発生などの防止に役立つものである。
前記分散液は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでいても差し支えない。
【００３３】
前記分散液の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましい。液滴吐出法にて吐出する際、粘度が１ｍＰａ・ｓより小さい場合にはノズル周辺部がインクの流出により汚染されやすく、また粘度が５０ｍＰａ・ｓより大きい場合は、ノズル孔での目詰まり頻度が高くなり円滑な液滴の吐出が困難となるからである。
【００３４】
制御部４０は、コンピュータ等からなるもので、前述したように液滴吐出ヘッド３４の傾き角度を制御するとともに、各ノズルＮからの液滴吐出量を制御するものとなっている。また、この制御部４０では、予めデータが入力されることにより、基板Ｓ上に格子状の複数の単位領域を設定しておき、このような単位領域に対し、前記主ノズルＮａからはこの単位領域内に液状体の液滴の吐出を行わせるようにし、一方、前記副ノズルＮｂからはこの単位領域間の境界部に液状体の液滴の吐出を行わせるよう、前記液滴吐出ヘッド３４の吐出動作を制御するものとなっている。
【００３５】
（プラズマ表示装置）
次に、本発明の製膜方法の一例として、前記の製膜装置１を用いた配線パターンの形成方法について説明する。なお、ここでは、配線パターンとしてプラズマ表示装置における配線パターンを形成する例について説明する。
図４は、本発明の製膜方法が適用されるプラズマ表示装置のブロック図であり、図４中符号５２はプラズマ表示装置である。このプラズマ表示装置５２は、マトリクス形式のカラー表示デバイスであるＡＣ型のプラズマディスプレイパネル５１と、画面（スクリーン）を構成する多数のセルを選択的に点灯させるための駆動ユニット５３とを備えたものである。
【００３６】
プラズマディスプレイパネル５１は、一対のサステイン電極Ｘｄ、Ｙｄが平行配置された面放電形式のプラズマディスプレイパネルであり、各セルにサステイン電極Ｘｄ、Ｙｄとアドレス電極Ａとが対応する３電極構造の電極マトリクスを有したものである。サステイン電極Ｘｄ、Ｙｄは、画面のライン方向（水平方向）に延びたもので、一方のサステイン電極Ｙｄは、アドレッシングに際してライン単位にセルを選択するためのスキャン電極として用いられるものである。アドレス電極Ａは、列単位にセルを選択するためのデータ電極であり、列方向（垂直方向）に延びたものである。駆動ユニット５３は、コントローラ５４、フレームメモリ５５、Ｘドライバ回路５６、Ｙドライバ回路５７、アドレスドライバ回路５８、及び図示しない電源回路を有して構成されたものである。この駆動ユニット５３には、外部装置から各ピクセルのＲＧＢの輝度レベル（階調レベル）を示す多値の映像データＤＲ、ＤＧ、ＤＢが、各種の同期信号とともに入力されるようになっている。
【００３７】
映像データＤＲ、ＤＧ、ＤＢは、フレームメモリ５５に一旦格納された後、コントローラ５４により各色毎にサブフレームデータＤｓｆに変換され、再びフレームメモリ５５に格納されるようになっている。サブフレームデータＤｓｆは、階調表示のために１フレームを分割した各サブフレームにおけるセルの点灯の要否を示す２値データの集合である。Ｘドライバ回路５６は、サステイン電極Ｘｄに対する電圧印加を担い、Ｙドライバ回路５７は、サステイン電極Ｙｄに対する電圧印加を担うものである。アドレスドライバ回路５８は、フレームメモリ５５から転送されたサブフレームデータＤｓｆに応じて、アドレス電極Ａに選択的にアドレス電極を印加するものである。
【００３８】
図５は、図４に示したプラズマ表示装置の配線のうちの一部を示した拡大模式図である。図５に示す模式図において、基板Ｓ上には、Ｘ軸方向に延在する直線パターン６１と、この直線パターン６１に接続し、直線パターン６１の延在方向に対して傾斜する方向に延在する傾斜線パターン６２とが形成されている。傾斜線パターン６２は、例えば図４におけるドライバ回路とサステイン電極とを接続する引き出し線である。一方、直線パターン６１は、例えばサステイン電極である。
【００３９】
以下、図５に示した配線パターン６０の形成手順を例にして説明する。
まず、製膜装置３０の制御部４０において、図６（ａ）に示すように、基板Ｓ上に格子状の複数のビット（単位領域）ＢからなるビットマップＭを設定する。また、制御部４０によって液滴吐出ヘッド３４の傾き角度θを制御し、図６（ａ）中に示したように、液滴吐出ヘッド３４の主ノズルＮａを各ビットＢの中心に対応させる。このようにすると、ビット（単位領域）Ｂは正方形状に設定されていることから、主ビットＮａ間に位置する副ビットＮｂはビット（単位領域）Ｂ間の境界部、すなわちビットＢを構成するラインＬの交点Ｃ上に対応するようになる。
【００４０】
次に、ビットマップＭ上において、形成する配線パターン６の寸法・形状に対応させてそのビットＢ内に液滴を吐出する位置を設定する。続いて、液滴吐出ヘッド３４の主ノズルＮａから設定したビットＢの中心に向けて液滴２２を吐出し、図６（ｂ）に示すようにビットＢ（単位領域）内に液滴２２を着弾させる。ここで、吐出する液滴２２の大きさ（体積）としては、着弾後の液滴Ｔの直径がビットＢの一辺の長さより少し大きくなる程度、すなわち、縦または横方向に隣接するビットＢ間にて着弾した液滴Ｔどうしが、その周縁部の一部を重ね合わせるようになる程度の大きさとする。
【００４１】
このようにして液滴の吐出を行うことにより、直線パターン６１を形成するビットＢでは、着弾後の各液滴Ｔが隣り合うものどうし互いに重なることにより、連続したものとなる。ところが、傾斜線パターン６２を形成するビットＢ、すなわち斜めに配置されたビットＢ、Ｂ間では、液滴Ｔ間の距離がドットＢ（単位領域）の対角線の長さとなり、ビットＢの一辺の長さの約１．４倍となることから、斜めに隣り合う液滴Ｔどうしが重なり合わず、不連続になっている。
【００４２】
そこで、この傾斜線パターン６２を形成するビットＢでは、液滴吐出ヘッド３４の主ノズルＮａから液滴を吐出した後、図６（ｃ）に示すように副ノズルＮｂから液滴を吐出し、斜めに位置するビットＢ、Ｂ間の境界部、すなわち図６（ｃ）に示すラインＬの交点Ｃ上に液滴Ｔｓを着弾させる。このとき、副ノズルＮｂから吐出する液滴２２（Ｔｓ）の大きさ（体積）としては、主ノズルＮａから吐出する液滴（Ｔ）と同じにしてもよいが、その場合には、傾斜線パターン６２を形成するビットＢでの液状体の量が直線パターン６１を形成するビットＢでの液状体の量よりかなり多くなり、これによって直線パターン６１に比べ傾斜線パターン６２の方がその線幅が太くなったり、膜厚が厚くなったりしてしまう。
【００４３】
したがって、副ノズルＮｂから吐出する液滴（Ｔｓ）については、予め制御部４０によってその吐出波形を制御しておくことにより、主ノズルＮａから吐出する液滴（Ｔ）より十分に小さくしておく。例えば、傾斜線パターン６２における主ノズルＮａから吐出された液滴Ｔと副ノズルＮｂから吐出された液滴Ｔｓとの重なり量が、直線パターン６１を形成する液滴Ｔ、Ｔ間の重なり量とほぼ同じになるように、副ノズルＮｂから吐出する液滴（Ｔｓ）の大きさを制御するのが好ましい。
【００４４】
このようにして直線パターン６１、傾斜線パターン６２を液滴Ｔ、Ｔｓによってそれぞれ形成したら、乾燥を行うことにより、液滴（液状体）中の液分を蒸発させ、導電性微粒子のみを基板Ｓ上に残す。さらに、焼成を行うことにより、導電性微粒子を焼結し、図５に示した連続した直線パターン６１および傾斜線パターン６２からなる配線パターン６０を得る。
【００４５】
このようにして形成した配線パタ−ン６０にあっては、傾斜線パターン６２においても、ビットマップＭ上にて斜めに位置するビットＢにそれぞれ主ノズルＮａから吐出された液滴が着弾されているとともに、これらビットＢ間の境界部、すなわちラインＬの交点Ｃ上にも副ノズルＮｂから吐出された液滴が着弾されているので、液滴Ｔ、Ｔ間で不連続となる箇所が発生することなく、確実に連続したものとなる。よって、直線パターン６１においてはもちろん、傾斜線パターン６２においても断線などが生じることのない、信頼性の高い良好な配線パターン６０となる。
【００４６】
また、このような配線パターン６０の製造方法にあっては、前記の良好な配線パターン６０を形成することができる。さらに、主ノズルを各ビットＢに対応させ、副ノズルＮｂをビットＢ、Ｂ間の境界部に対応させているので、ビットＢへの吐出は従来と同様に液滴吐出ヘッド３４を図１に示したＸ軸方向に移動させることなく行うことができ、またビットＢ、Ｂ間の境界部への吐出も液滴吐出ヘッド３４をＸ軸方向に移動させることなく行うことができる。したがって、走査速度を高速に設定できることなどによって吐出に要する時間を短くすることができるとともに、吐出精度も十分に高くすることができ、これにより高精度で信頼性の高い配線パターン６０を短時間で効率よく形成することができる。
【００４７】
また、このような配線パターン６０を有したデバイス（本例ではプラズマ表示装置）では、信頼性の高い良好な配線パターン６０を有することにより、信頼性のたかいものとなる。
【００４８】
なお、液滴吐出ヘッド３４からの液滴の吐出動作については、前述したように主ノズルＮａからの吐出を行った後、副ノズルＮｂからの吐出を行うのに限定されることなく、副ノズルＮｂからの吐出を行った後、主ノズルＮａからの吐出を行うようにしてもよく、さらに、主ノズルＮａからの吐出動作と副ノズルＮｂからの吐出動作を並行して行うようにしてもよい。
また、これら主ノズルＮａ、副ノズルＮｂの吐出動作については、所望する膜厚を得るべく、同じ箇所に複数回吐出を行い、重ね塗りを行うようにしてもよい。その際、必要に応じて吐出動作の間に乾燥工程を挟むようにしてもよい。
【００４９】
また、前記例では、各ノズルのうちの１個置きに配置されたノズルを主ノズルＮａとし、これら主ノズルＮａ間に配置されたノズルを副ノズルＮｂとしたが、本発明はこれに限定されることなく、２個置き、あるいは３個置きなどに配置されたノズルを主ノズルＮａとしてもよい。その場合には、主ノズルＮａをビットＢに対応させるため、液滴吐出ヘッド３４の傾き角度θをより大きくする必要があるが、副ノズルＮｂの個数が増える分、ビットＢに対応しない位置への液滴吐出の自由度を高めることができ、これによって形成するパターンの自由度をより高めることができる。
また、形成するパターンに応じて、例えば液滴吐出ヘッド３４の走査毎にその傾き角度θを変化させ、主ノズルＮａ間に設定する副ノズルＮｂの個数を適宜に変えるようにしてもよい。
【００５０】
また、前記例では、本発明における膜として配線パターンを形成するようにしたが、本発明はこれに限定されることなく、デバイス等に形成される全ての膜、例えば各種絶縁膜や保護膜、さらにはカラーフィルタや発光材料などの形成にも適用可能である。
【００５１】
次に、本発明の製膜方法の他の例について説明する。
先に記載した実施形態においては、液滴吐出ヘッド３４の傾き角度θを制御することにより主ノズルＮａを各ビットＢの中心に対応させているが、本例は傾き角度θを制御することなく配線パターンを形成するものである。
なお、本例では、異なる部分のみを説明し、先の実施形態と同一部分には同一符号を付して説明を省略する。
【００５２】
本例においては、先に記載した液滴吐出ヘッド３４と異なる構成の液滴吐出ヘッド３４’が用いられ、当該液滴吐出ヘッド３４’は、図７（ａ）に示すようにビットＢ、Ｂ間の中心間距離（単位領域の間隔）ＢＰと主ノズルＮａのピッチ幅（ノズルの間隔）ＮＰとが等しく設定されたノズルＮを備えている。即ち、液滴吐出ヘッド３４’は、特定の中心間距離ＢＰで液体吐出を行うための、所謂専用ヘッドである。なお、副ノズルＮｂは、ラインＬの交点Ｃ上、即ちビットＢ、Ｂ間の境界部に対応している。
【００５３】
このように構成された液滴吐出ヘッド３４’を用いた製膜方法は、傾き角度θを制御する必要がなく、図７（ｂ）に示すように液滴Ｔ及び液滴Ｔｓを基板Ｓに着弾するので、先の実施形態と同様に配線パターン６０（図５参照）を形成することができる。
また、傾き角度θを制御する必要がないため、製膜装置３０においては、取り付け部４３のモータ４４を省略することが可能になり、製膜装置３０の低コスト化を達成することができる。
【００５４】
なお、本例においては、配線パターン６０の製膜方法について説明したが、当該配線パターン６０に限定することなく、種種のパターンに応じて製膜できる。例えば、中心間距離ＢＰが比較的大きい場合、即ち、ビットマップＭが粗い場合には、当該中心間距離ＢＰに応じてピッチ幅ＮＰが大きい主ノズルＮａを備えた液滴吐出ヘッドが用いられる。
また、本例においては、ピッチ幅ＮＰが中心間距離ＢＰと等しく設定されているが、ピッチ幅ＮＰは、中心間距離ＢＰと所定に対応していればよく、例えば中心距離ＢＰの半分の長さでもよい。この場合には、製膜装置３０のステージ３９と液滴吐出ヘッド３４とを好適に相対移動させることにより、ビットＢに液滴Ｔが着弾される。
【００５５】
（液晶表示装置）
次に、本発明の製造方法が適用されるデバイスとして、液晶表示装置について説明する。なお、当該液晶表示装置の製造方法は、先に記載の配線パターンの形成方法と同様であるため、説明を省略する。
【００５６】
図８は、液晶表示装置を説明するための図であって、図８（ａ）は液晶表示装置の画像表示領域を構成する、スイッチング素子等の各種素子及び配線等の等価回路であり、図８（ｂ）は液晶表示装置の要部を示し、各画素が備えるスイッチング素子と画素電極との構造を説明するための断面拡大図である。
【００５７】
図８（ａ）に示すように液晶表示装置１００は、マトリクス状に配置された走査線１０１及びデータ線１０２と、画素電極１３０と、当該画素電極１３０を制御するための画素スイッチング用ＴＦＴ（以下、ＴＦＴと称す。）１１０が複数形成されている。走査線１０１においては、パルス的に走査信号Ｑ１、Ｑ２、…、Ｑｍが供給されるようになっており、データ線１０２においては、画像信号Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐｎが供給されるようになっている。更に、走査線１０１及びデータ線１０２は後述するようにＴＦＴ１１０と接続されており、走査信号Ｑ１、Ｑ２、…、Ｑｍ及び画像信号Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐｎによって、ＴＦＴ１１０が駆動するようになっている。更に、所定レベルの画像信号Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐｎを一定期間保持する蓄積容量１２０が形成され、当該蓄積容量１２０には容量線１０３が接続されている。
【００５８】
次に、図８（ｂ）を参照し、ＴＦＴ１１０の構造について説明する。
図８（ｂ）に示すようにＴＦＴ１１０は、所謂ボトムゲート型（逆スタガ型）構造のＴＦＴである。具体的な構造としては、液晶表示装置１００の基材となる絶縁基板１００ａと、絶縁基板１００ａの表面に形成された下地保護膜１００Ｉと、ゲート電極１１０Ｇと、ゲート絶縁膜１１０Ｉと、チャネル領域１１０Ｃと、チャネル保護用の絶縁膜１１２Ｉとがこの順序で積層されている。絶縁膜１１２Ｉの両側には高濃度Ｎ型のアモルファスシリコン膜のソース領域１１０Ｓ及びドレイン領域１１０Ｄが形成され、これらのソース・ドレイン領域１１０Ｓ、１１０Ｄの表面にはソース電極１１１Ｓ及びドレイン電極１１１Ｄが形成されている。
【００５９】
更に、それらの表面側には層間絶縁膜１１２Ｉと、ＩＴＯ等の透明電極からなる画素電極１３０とが形成され、画素電極１３０は層間絶縁膜１３０のコンタクトホールを介してドレイン電極１１１Ｄに電気的に接続されている。
ここで、ゲート電極１１０Ｇは走査線１０１の一部分であり、また、ソース電極１１１Ｓはデータ線１０２の一部分である。更に、ゲート電極１１０Ｇ及び走査線１０１は、先に記載した配線パターンの形成方法によって形成されている。
【００６０】
このような液晶表示装置においては、走査信号Ｑ１、Ｑ２、…、Ｑｍに応じて走査線１０１からゲート電極１１０Ｇに電流が供給され、ゲート電極１１０Ｇの近傍に電界が生じ、当該電界の作用によりチャネル領域１１０Ｃが導通状態となる。更に、当該導通状態において、画像信号Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐｎに応じてデータ線１０２からソース電極１１１Ｓに電流が供給され、画素電極１３０に導通し、画素電極１３０と対向電極間に電圧が付与される。即ち、走査信号Ｑ１、Ｑ２、…、Ｑｍ及び画像信号Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐｎを制御することにより、液晶表示装置を所望に駆動することができる。
【００６１】
このように構成された液晶表示装置においては、先に記載の配線パターンの形成方法によってゲート電極１１０Ｇ及び走査線１０１が形成されているので、断線等の欠陥のない、良好かつ信頼性が高い配線パターンとなる。従って、信頼性が高い液晶表示装置となる。即ち、先に記載したように同様の効果を奏する。
なお、本実施形態の配線パターンの形成方法は、ゲート電極１１０Ｇ及び走査線１０１に限定せずに、データ線１０２等、他の配線の形成方法においても適用可能である。
【００６２】
（電界放出ディスプレイ）
次に、本発明の製造方法が適用されるデバイスとして、電界放出素子を備えた電界放出ディスプレイ（Ｆｉｅｌｄ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｄｉｓｐｌａｙ、以下ＦＥＤと称す。）について説明する。なお、ＦＥＤの製造方法は、先に記載の配線パターンの形成方法と同様であるため、説明を省略する。
【００６３】
図９は、ＦＥＤを説明するための図であって、図９（ａ）はＦＥＤを構成するカソード基板とアノード基板の配置を示した概略構成図、図９（ｂ）はＦＥＤのうちカソード基板が具備する駆動回路の模式図、図９（ｃ）はカソード基板の要部を示した斜視図である。
【００６４】
図９（ａ）に示すようにＦＥＤ２００は、カソード基板２００ａとアノード基板２００ｂとを対向配置された構成となっている。カソード基板２００ａは、図９（ｂ）に示すようにゲート線２０１と、エミッタ線２０２と、当該ゲート線２０１とエミッタ線２０２とに接続された電界放出素子２０３とを具備しており、即ち、所謂単純マトリクス駆動回路となっている。ゲート線２０１においては、ゲート信号Ｖ１、Ｖ２、…、Ｖｍが供給されるようになっており、エミッタ線２０２においては、エミッタ信号Ｗ１、Ｗ２、…、Ｗｎが供給されるようになっている。また、アノード基板２００ｂは、ＲＧＢからなる蛍光体を備えており、当該蛍光体は電子が当ることにより発光する性質を有する。
【００６５】
図９（ｃ）に示すように、電界放出素子２０３はエミッタ線２０２に接続されたエミッタ電極２０３ａと、ゲート線２０１に接続されたゲート電極２０３ｂとを備えた構成となっている。更に、エミッタ電極２０３ａは、エミッタ電極２０３ａ側からゲート電極２０３ｂに向かって小径化するエミッタティップ２０５と呼ばれる突起部を備えており、当該エミッタティップ２０５と対応した位置にゲート電極２０３ｂに孔部２０４が形成され、当該孔部２０４内にエミッタティップ２０５の先端が配置されている。
【００６６】
このようなＦＥＤ２００においては、ゲート線２０１のゲート信号Ｖ１、Ｖ２、…、Ｖｍ、及びエミッタ線２０２のエミッタ信号Ｗ１、Ｗ２、…、Ｗｎを制御することにより、エミッタ電極２０３ａとゲート電極２０３ｂとの間に電圧が供給され、電解の作用によってエミッタティップ２０５から孔部２０４に向かって電子２１０が移動し、エミッタティップ２０５の先端から電子２１０が放出される。ここで、当該電子２１０とアノード基板２００ｂの蛍光体とが当ることにより発光するので、所望にＦＥＤ２００を駆動することが可能になる。
【００６７】
このように構成されたＦＥＤにおいては、先に記載の配線パターンの形成方法によってエミッタ電極２０３ａ及びエミッタ線２０２が形成されているので、断線等の欠陥のない、良好かつ信頼性が高い配線パターンとなる。従って、信頼性が高い液晶表示装置となる。即ち、先に記載したように同様の効果を奏する。
なお、本実施形態の配線パターンの形成方法は、エミッタ電極２０３ａ及びエミッタ線２０２に限定せずに、ゲート電極２０３ｂ及びゲート線２０１等、他の配線の形成方法においても適用可能である。
【００６８】
なお、本発明の製造方法が適用されるデバイスとしては、配線パターンを備えた他のデバイスにおいても適用が可能である。例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置に形成される配線パターンの製造や、電気泳動装置内に形成される配線パターンの製造等に対しても、もちろん適用可能である。
【００６９】
次に、前記例の製造方法が適用された表示装置（例えば前記のプラズマ表示装置）を備えた電子機器の例について説明する。
図１０（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１０（ａ）において、符号６００は携帯電話本体を示し、符号６０１は前記の表示装置を用いた表示部を示している。
図１０（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１０（ｂ）において、符号７００は情報処理装置、符号７０１はキーボードなどの入力部、符号７０２は前記の表示装置を用いた表示部、符号７０３は情報処理装置本体を示している。
図１０（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１０（ｃ）において、符号８００は時計本体を示し、符号８０１は前記の表示装置を用いた表示部を示している。
図１０（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、前記の表示装置を備えているので、優れたデバイス性能を有するものとなる。
【００７０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、第１のノズル群により第１のパターンを形成し、前記第１のノズル群とは異なる第２のノズル群により第２のパターンを形成するので、例えば第１のノズル群によって直線パターン及び傾斜線パターンを形成した際、傾斜線パターンにおいて単位領域内への液滴吐出だけでは液滴間の連続性が不十分であっても、第２のノズル群によって単位領域の境界部への液滴の吐出を、前記の第１のノズル群から吐出した傾斜線パターンにおける液滴間に行うことにより、傾斜線パターンにおいても液滴間を確実に連続させることができる。したがって、このように連続した液滴によって膜（パターン）を形成することにより、得られた膜（パターン）を連続性に優れた良好なものとすることができ、これにより安定した吐出動作を維持しつつスループットを向上させ、高性能なデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製膜装置の一例を示す概略斜視図である。
【図２】液滴吐出ヘッドの概略構成を説明するための図であり、（ａ）は要部斜視図、（ｂ）は要部側断面図である。
【図３】液滴吐出ヘッドにおけるノズルの配置を説明するための、液滴吐出ヘッドの要部底面図である。
【図４】本発明の製膜方法が適用されるプラズマ表示装置のブロック図である。
【図５】配線パターンの模式図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、図５に示した配線パターンの形成手順を説明するための図である。
【図７】本発明の他の製膜方法の形成手順を説明するための図である。
【図８】本発明の製膜方法が適用される液晶表示装置を示す図であり、（ａ）は画像表示領域の等価回路、（ｂ）は各画素の構造を説明するための断面拡大図である。
【図９】本発明の製膜方法が適用される電界放出装置を示す図であり、（ａ）は概略構成図、（ｂ）は駆動回路の模式図、（ｃ）は要部を示した斜視図である。
【図１０】電子機器の具体例を示す図であり、（ａ）は携帯電話に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｂ）は情報処理装置に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｃ）は腕時計型電子機器に適用した場合の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
３０…製膜装置、３４、３４’…液滴吐出ヘッド、４０…制御部、　　６０…配線パターン、６１…直線パターン、６２…傾斜線パターン、　　Ｓ…基板、Ｎ…ノズル、Ｎａ…主ノズル（第１のノズル）、　　Ｎｂ…副ノズル（第２のノズル）、Ｂ…ビット（単位領域）、　　Ｍ…ビットマップ、Ｌ…ライン（境界部）、Ｃ…交点（境界部）、ＮＰ…ピッチ幅（互いに隣り合うノズルの間隔）、ＢＰ…中心間距離（互いに隣り合う単位領域の中心間距離）
【図１】
2004000915.tif 000003
【図２】
2004000915.tif 000004
【図３】
2004000915.tif 000005
【図４】
2004000915.tif 000006
【図５】
2004000915.tif 000007
【図６】
2004000915.tif 000008
【図７】
2004000915.tif 000009
【図８】
2004000915.tif 000010
【図９】
2004000915.tif 000011
【図１０】
2004000915.tif 000012