(57)【要約】【課題】物体の移動又は操作等のためにパージチャンバに設けられた開口部を通してパージチャンバ内に外部のガスが進入することを防止する。【解決手段】遠紫外光等の露光光が通過する空間３０がパージチャンバ８によって取り囲まれている。レチクルを搬送するための搬送ハンド２２がパージチャンバ８内に配置され、搬送ハンド２２を駆動するための駆動部２１がパージチャンバ８の外部に配置されている。パージチャンバ８には開口部８が形成されており、開口部８を通る駆動軸２０によって搬送ハンド２２と駆動部２１とが連結されている。開口部８ａの近傍には、開口部８ａに不活性ガスを供給するガス供給部１９が設けられていて、ガス供給部１９から噴射される不活性ガスによって、パージチャンバ８の外部のガスが開口部８ａを通してパージチャンバ８の内部に進入することが防止される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光で基板にパターンを転写する露光装置であって、
露光光が通過する空間を取り囲むパージチャンバと、
前記パージチャンバ内に配置された可動体と、
前記パージチャンバ外に配置され前記可動体を駆動する駆動部と、
前記パージチャンバに形成された開口部を通して前記可動体と前記駆動部とを連結する駆動軸と、
前記開口部に不活性ガスを供給することにより、前記開口部を通して前記パージチャンバの外部から前記パージチャンバの内部へガスが流れることを防止するガス供給部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光光で基板にパターンを転写する露光装置及び該露光装置を使ったデバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＳＩあるいは超ＬＳＩなどの極微細パターンで形成される半導体デバイスの製造工程において、マスクに描かれた回路パターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して焼き付ける縮小型投影露光装置が使用されている。半導体デバイスの実装密度の向上に伴いパターンのより一層の微細化が要求され、レジストプロセスの発展と同時に露光装置の微細化への対応がなされてきた。
【０００３】
露光装置の解像力を向上させる手段としては、露光波長をより短波長に変えていく方法と、投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくしていく方法とがある。
【０００４】
露光波長については、３６５ｎｍのｉ線から２４８ｎｍ付近の発振波長を有するＫｒＦエキシマレーザに移行しつつあり、更に１９３ｎｍ付近の発振波長を有するＡｒＦエキシマレーザや１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザの開発が行なわれている。
【０００５】
遠紫外線、特に１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザにおいては、これら波長付近の帯域には酸素（Ｏ２）の吸収帯が複数存在することが知られている。
【０００６】
例えば、フッ素エキシマレーザは、波長が１５７ｎｍと短いために、露光装置への応用が進められている。１５７ｎｍという波長は、一般に真空紫外と呼ばれる波長領域にある。この波長領域では、酸素分子による光の吸収が大きいために大気はほとんど光を透過させないので、フッ素エキシマレーザは、真空に近い圧力まで気圧を下げ、酸素濃度を充分に下げた環境にしか応用ができない。文献「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｓｍａｌｌ　Ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ」　（Ｈｉｄｅｏ　Ｏｋａｂｅ著、Ａ　Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ、１９７８年、１７８頁）によると、波長１５７ｎｍの光に対する酸素の吸収係数は約１９０ａｔｍ−１ｃｍ−１である。これは、１気圧中で１％の酸素濃度の気体中を波長１５７ｎｍの光が通過するとき、ｌｃｍあたりの透過率が、
Ｔ＝ｅｘｐ（−１９０×１ｃｍ×０．０１ａｔｍ）＝０．１５０
しかないことを示す。
【０００７】
また、酸素が光を吸収することによりオゾン（Ｏ３）が生成され、このオゾンが光の吸収をより増加させ、透過率を著しく低下させることに加え、オゾンに起因する各種生成物が光学素子表面に付着し、光学系の効率を低下させる。
【０００８】
したがって、ＡｒＦエキシマレーザ、フッ素（Ｆ２）エキシマレーザ等の遠紫外線を光源とする投影露光装置の露光光学系の光路においては、窒素等の不活性ガスによるパージ手段によって、光路中に存在する酸素濃度を数ｐｐｍオーダー以下の低レベルに抑える方法がとられている。
【０００９】
このように、遠紫外線、特に１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや１５７ｎｍ付近の波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光を利用した露光装置においては、ＡｒＦエキシマレーザ光やフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光が非常に物質に吸収されやすいため、光路内を数ｐｐｍオーダー以下でパージする必要がある。また、水分に対しても同様のことが言え、やはり、ｐｐｍオーダー以下での除去が必要である。
【００１０】
このため、紫外光の透過率あるいはその安定性を確保するために、不活性ガスで露光装置のレチクルステージやウエハステージ等の周辺の紫外光路をパージしていた。
【００１１】
このようなパージ空間（パージすべき空間）内にレチクルやウエハ等の部材を搬送する際には、パージ空間内に搬送ハンドを進入させることができる構造を採用するか、パージ空間内に搬送ハンドを配置する必要がある。
【００１２】
一般的な搬送ハンドでは、それを駆動するための駆動部のガイドやアクチュエータ等にグリース等の潤滑剤が使用される。このような潤滑剤の使用は、パージ空間内の不活性ガスの純度を低下させる原因となりうるため、駆動部は、パージ空間の外に設けるべきである。
【００１３】
したがって、搬送ハンドを配置すべきパージ空間と該搬送ハンドの駆動部が配置されたパージ対象空間外の空間とを遮蔽する手段が必要となる。
【００１４】
このような遮蔽手段として、従来はフッ素樹脂材料などで構成されたベローズ（蛇腹）が用いられていた。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、搬送ハンド等の可動部にベローズを連結した構造では、該ベローズが駆動部に対する負荷となると共に、該ベローズの耐久性が低いといった問題がある。
【００１６】
本発明は、上記の課題認識に基づいてなされたものであり、例えば、物体の移動又は操作等のためにパージチャンバに設けられた開口部を通してパージチャンバ内に外部のガスが進入することを防止することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の側面は、露光光で基板にパターンを転写する露光装置に係り、該装置は、露光光が通過する空間を取り囲むパージチャンバと、前記パージチャンバ内に配置された可動体と、前記パージチャンバ外に配置され前記可動体を駆動する駆動部と、前記パージチャンバに形成された開口部を通して前記可動体と前記駆動部とを連結する駆動軸と、前記開口部に不活性ガスを供給することにより、前記開口部を通して前記パージチャンバの外部から前記パージチャンバの内部へガスが流れることを防止するガス供給部とを備えることを特徴とする。露光光は、特に限定されないが、例えば、フッ素エキシマレーザ光やＡｒＦエキシマレーザ光等が好適である。
【００１８】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記ガス供給部は、前記駆動軸に向けてガスを噴射する１又は複数のノズルを含むことが好ましい。
【００１９】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記駆動部は、前記駆動軸を回転及び／又は直進させるように構成されていることが好ましい。
【００２０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記ガス供給部は、前記駆動軸をガイドするように前記開口部に設けられた静圧軸受として機能するように構成されていることが好ましい。
【００２１】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記パージチャンバ内の圧力を検知するセンサを更に備え、前記ガス供給部は、前記センサの出力に基づいて前記開口部に対する不活性ガスの供給を制御するように構成されていることが好ましい。
【００２２】
本発明の好適な実施の形態によれば、該装置は、前記パージチャンバ内のガスを不活性ガスでパージするパージ機構を前記ガス供給部と別個に備えることが好ましい。
【００２３】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記パージチャンバ内を清浄化するための清浄ガス（例えば、酸素及び／又はオゾン）を前記パージチャンバ内に供給するための清浄化機構を更に備えることが好ましい。
【００２４】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記不活性ガスは、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスの少なくとも１種を含むことが好ましい。
【００２５】
本発明の第２の側面は、露光光で基板にパターンを転写する露光装置に係り、該装置は、露光光が通過する空間を取り囲むパージチャンバと、前記パージチャンバに形成された開口部を通して前記パージチャンバに対する出入りが可能に構成された移動体と、前記開口部に不活性ガスを供給することにより、前記開口部を通して前記パージチャンバの外部から前記パージチャンバの内部へガスが流れることを防止するガス供給部とを備えることを特徴とする。
【００２６】
本発明の第３の側面は、デバイス製造方法に係り、上記のいずれかの特徴を有する露光装置を使って基板にパターンを転写する工程と、該基板を現像する工程とを含むことを特徴とする。
【００２７】
【発明の実施の形態】
本発明は、露光光の光路を不活性ガス雰囲気とすべきあらゆる露光装置に適用可能であるが、本発明は、露光光として紫外光、特に遠紫外光を使用する露光装置への適用において特に有用である。遠紫外光としては、１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザ光や、１５７ｎｍ付近の波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光が典型的である。
【００２８】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態を説明する。
【００２９】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明の好適な実施の形態に係るステップ・アンド・スキャン型の投影露光装置の概略構成を示す図である。図１において、不図示の紫外光源から露光装置内の照明系１に導入された紫外光は、レチクルステージ７上に載置されたレチクル６を照明する。照明光学系１のレチクル側下端部からレチクルステージ７近傍に向かって紫外光路を囲うカバー４が設けられ、カバー４の内側には、カバー４の内部にパージガスとしての不活性ガス（例えば、窒素ガス、ヘリウムガス若しくはアルゴンガス、又はこれらの２種以上の混合ガス）を供給する供給口であるノズル２が設けられている。
【００３０】
照明光学系１の内部からノズル２を通してカバー４の内側の空間（内側パージ空間）に不活性ガスを供給することにより、カバー４の内側に存在する酸素及び水分等の不純物（露光有害物）を該不活性ガスによってパージすることができる。更にカバー４の外側のパージチャンバ８で囲まれた空間（外側パージ空間）３０にも供給口１６を通して不活性ガスを供給し、回収口１７より不活性ガスを回収することにより、パージチャンバ８内の不純物をより一層低濃度に排除することができる。
【００３１】
レチクル６をレチクルステージ７に搬送するために、搬送ハンド（可動体或いは移動体）２２がパージチャンバ８内に配置されている。レチクル６は、例えば、パージチャンバ８内に配置されたレチクルストッカから搬送されてもよいし、パージチャンバ８に接続されたレチクルストッカから搬送されてもよいし、パージチャンバ８の外部に配置されたレチクルストッカから、パージチャンバ８に接続されたレチクルの受け渡し用ボックス等を介して搬送されてもよい。
【００３２】
搬送ハンド２２を駆動する駆動部２１は、一般にベアリングやガイド等を有し、これらの潤滑のためにグリースを使用している。このグリースが不純物源とならないように、駆動部２１は、パージチャンバ８の外に配置されることが望ましい。そこで、この実施の形態では、駆動部２１をパージチャンバ８の外部に配置し、パージチャンバ８に開口部８ａを設けて、該開口部８ａを通る駆動軸（例えば、回転軸及び昇降軸）２０によって搬送ハンド２２と駆動部２１とを連結している。
【００３３】
開口部８ａの近傍には、図１及び図２に示すように、不活性ガス（例えば、窒素ガス、ヘリウムガス若しくはアルゴンガス、又はこれらの２種以上の混合ガス）を開口部８ａに供給するガス供給口１９が配置されている。ここで、ガス供給口１９は、少なくとも１つのノズル、好ましくは複数のノズル１９−１〜１９−４を有し、好ましくは駆動軸２０に向けて不活性ガスを噴射するように構成される。ノズル１９−１〜１９−４から開口部８ａに不活性ガスを供給することにより、開口部８ａを通してパージチャンバ８の外部から内部へ空気等のガスが流れ込むことを防止することができる。ここで、空気等のガスには、駆動部２１を不純物源とする不純物が含まれうる。ガス供給口１９は、パージチャンバ８の外側であって開口部８ａの近傍に設けられてもよいし、パージチャンバ８の内側であって開口部８ａの近傍に設けられてもよい。
【００３４】
駆動軸２０は、例えば、転がり軸受等の接触型の軸受によりガイドされうるが、静圧軸受によってガイドされてもよい。後者の場合、ガス供給口１９を静圧軸受として構成し、パージチャンバ８の開口部８ａの近傍に取り付けることができる。この場合、ガス供給口１９は、パージチャンバ８のシール機能と駆動軸２０のガイド機能とを合わせ持つ。
【００３５】
レチクル６を透過した紫外光は、投影光学系９を経て、ウエハステージ１３上に載置されたウエハ１４に入射する。投影光学系９のウエハ側下端部からウエハステージ１３近傍に向かって紫外光路を囲うカバー１２が設けられ、カバー１２の内側には、カバー１２の内側にパージガスとしての不活性ガス（例えば、窒素ガス、ヘリウムガス若しくはアルゴンガス、又はこれらの２種以上の混合ガス）を供給する供給口であるノズル１０が設けられている。
【００３６】
投影光学系９の内部からノズル１０を通してカバー１２の内側の空間（内側パージ空間）に不活性ガスを供給することにより、カバー１２の内側に存在する酸素及び水分等の不純物（露光有害物）を該不活性ガスによってパージすることができる。これにより、カバー１２の内側の不純物を十分に排除することができるが、更にカバー１２の外側の隔壁２７で囲まれた空間（外側パージ空間）１５にも不図示の供給口を通して不活性ガスを供給しもよい。これにより、カバー１２の内側の不純物をより一層低濃度に排除することができる。
【００３７】
ここで、カバー１２の外側の空間１５は、隔壁２７の他、投影光学系定盤２５とウエハステージ定盤２６で囲まれた空間である。なお、ウエハステージ定盤２６から投影光学系定盤２５への振動や変形を伝わりにくくするために、隔壁２７はベローズ状の弾性体とすることが好ましい。あるいは、隔壁２７をベローズ状ではなく剛体で構成し、隔壁２７と投影光学系定盤２５を連結せずに全周にわたって僅かな隙間を設けてもよい。これにより、不活性ガスがその間隙を通して外部にリークするので流量が余計に必要になるものの、ウエハステージ定盤２６から投影光学系定盤２５への振動や変形の伝達が緩和される。あるいは、ステージダンパ２８をなくして、隔壁２７をベローズ状ではなく剛体で構成し、ウエハステージ定盤２６を投影光学系定盤２５から隔壁２７で吊り下げた構成を採用してもよい。
【００３８】
この実施の形態によれば、不純物源としての駆動部２１をパージチャンバ８の外部に配置し、開口部８ａを通して駆動部２１と搬送ハンド２２とを駆動軸２０で連結することにより、パージチャンバ８内の不純物を低減することができる。また、ガス供給口１９からパージチャンバ８の開口部８ａに不活性ガスを供給することにより、パージチャンバ８の外部から内部に空気等のガス（外気）が進入することを防止することができる。このような機構は、不活性ガスによるエアカーテンとして把握することができよう。
【００３９】
したがって、この実施の形態によれば、露光光として紫外光、特に遠紫外光を使用した場合において問題となる光路中の不純物或いは露光有害物を低減することができる。これにより、露光光の透過率を安定的に維持することができるとともに、光路に配置された光学素子等への不純物或いは露光有害物の付着や該光学素子の劣化等を抑えることができる。
【００４０】
上記の実施の形態は、ステップ・アンド・スキャン型の露光装置に関するが、本発明は、それ以外の露光装置、例えば、ステップ・アンド・リピート型の露光装置等にも適用することができる。
【００４１】
また、上記の実施の形態では、レチクルステージ側の光路を取り囲むパージチャンバ８に形成された開口部８ａを通してパージチャンバ８の外部から内部に空気等のガスが進入することを防止するが、このような思想は、例えば、ウエハステージ１３側の光路を取り囲む隔壁２７（パージチャンバ）にも適用することができる。すなわち、隔壁２７に駆動軸等の移動体を通すための開口部と、その開口部に不活性ガスを供給するガス供給部とを設けてもよい。
【００４２】
また、上記の実施の形態では、開口部８ａ内に常に駆動軸８ａが存在する構成を説明しているが、本発明は、開口部８ａを通してパージチャンバ８に対して出し入れ可能に構成された移動体を有する構成にも適用可能である。
【００４３】
［第２の実施の形態］
この実施の形態は、第１の実施の形態の変形例を提供する。この実施の形態では、図３に示すように、パージチャンバ８内の空間（外側パージ空間）３０の圧力を検知する圧力センサ２３と、該圧力センサ２３の出力（圧力値）に基づいて、開口部８ａへの不活性ガスの供給を制御するガス供給制御部２４とが追加されている。ここで、ガス供給制御部２４は、圧力センサ２３の出力に基づいて、例えばガス供給口１９に供給する不活性ガスの流量又は圧力等を調整することにより、パージチャンバ８内の圧力を外部気圧の変動に拘わらず一定に維持する。
【００４４】
以下、このような制御による効果について説明する。照明光学系１や、投影光学系９の鏡筒内部も不純物（露光有害物）を除去するために不活性ガスでパージされほぼ密閉系となっているので、外部気圧の変動にあまり追従しない。したがって、外部気圧が変動すると、照明光学系１と外部との間及び鏡筒内部と外部との間に圧力差が生じうる。そのため、例えば照明光学系１の下端に配置されたシートガラス５、又は投影光学系９の下端に配置されたシートガラス１８は、その圧力差に応じて変形し、光学性能が変化するという問題がある。
【００４５】
そこで、この実施の形態では、パージチャンバ８内の空間（外側パージ空間）３０の圧力を一定に制御することにより、上記のような照明光学系１と外部との間及び鏡筒内部と外部との間の圧力差を発生させず、気圧変動による光学性能の変化を抑える。
【００４６】
［第３の実施の形態］
この実施の形態は、第１、第２の実施の形態の変形例を提供する。第１、第２の実施の形態では、パージチャンバ８等に不活性ガスのみを供給するが、この実施の形態は、図４に示すように、不活性ガスに清浄化ガスとして酸素（Ｏ２）及び／又はオゾン（Ｏ３）を混合する機構を備えている。
【００４７】
通常露光時は、バルブ１０４を閉じることにより、酸素及び／又はオゾン等の清浄化ガスを不活性ガスに混合することなく、不活性ガスをパージチャンバ８等に供給する。
【００４８】
一方、通常露光時以外の適当なタイミング、例えば、露光装置が稼動していない待機時、又は、指定された時間間隔ごとの通常露光の合間、又は、レチクルがレチクルステージに載置された時において、バルブ１０４を開くことにより、微量の酸素及び／又はオゾン等の清浄化ガスを不活性ガスに混合してパージチャンバ８等に供給し、ウエハをウエハステージ１３上に搬入せずにダミーの露光動作を一定時間又は規定の像面照度になるまで行う。
【００４９】
以下、このような制御による効果を説明する。露光波長が遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザ光やフッ素エキシマレーザ光などの短波長の露光光においては、露光光が気体中の有機分子等の不純物を分解して、光学素子の表面に炭素膜又は炭素含有膜、すなわち有機化合物を堆積させる。よって、徐々に光学素子の透過率が減少して像面照度を低下させ、これがスループットの低下を招く。
【００５０】
第１、第２の実施の形態では、レチクル６及びウエハ１４が配置された空間をそれぞれ不活性ガスでパージし不純物濃度を極限まで減少させるが、このような方法によっても微量に残留する可能性がある。また、例えば、露光中又は露光前に、ウエハに塗布されたレジストや、レジストとウエハとの間の接着剤層からの脱ガスが発生し、不純物が投影光学系９下端のシートガラス１８の近傍に存在する場合がある。また、例えば、微量の不純物が付着したレチクルが搬入されその不純物が一部蒸発し、又は、レチクルとぺリクル枠との接着剤層若しくはぺリクル枠とぺリクルとの接着剤層から脱ガスが発生し、不純物がレチクルの露光面、又は照明光学系１下端のシートガラス５、又は投影光学系９上端の光学素子表面の近傍に存在する場合がある。これらの場合、露光によって分解生成された有機化合物がこれら光学素子に付着し堆積していき、徐々に光学素子の透過率が減少していく。
【００５１】
そこで、微量のオゾンを不活性ガスに混合してパージ空間をパージした状態でそれらの光学素子に露光光を照射すると、いわゆるオゾン洗浄効果により堆積した有機化合物が酸化され分解され、更に分解生成物の堆積物の生成が防止される。あるいは、微量の酸素を不活性ガスに混合してパージした状態でそれらの光学素子に露光光を照射すると、光化学反応によって酸素はオゾンに変換されるので、オゾンを混合した場合と同様のオゾン洗浄効果が得られる。したがって、これを前述のように露光の合間に行うことにより、像面照度の低下を防いで常に高いスループットを維持することができる。
【００５２】
［露光装置の適用例］
次に上記の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図５は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。
【００５３】
図６は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記の露光装置によって回路パターンをウエハに転写する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【００５４】
【発明の効果】
本発明によれば、例えば、物体の移動又は操作等のためにパージチャンバに設けられた開口部を通してパージチャンバ内に外部のガスが進入することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好適な実施の形態の投影露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】パージチャンバに設けられた開口部付近を概略的に示す平面図である。
【図３】本発明の好適な実施の形態のパージチャンバの圧力維持機構を示す図である。
【図４】本発明の好適な実施の形態のガス供給システムを模式的に示す図である。
【図５】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図６】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。
【符号の説明】
１：照明光学系、２：ノズル、３：不活性ガス（パージガス）の流れ、４：カバー、５：シートガラス、６：レチクル、７：レチクルステージ、８：パージチャンバ、８ａ：開口部、９：投影光学系、１０：ノズル、１１：パージガスの流れ、１２：カバー、１３：ウエハステージ、１４：ウエハ、１５：パージエリア、１６：供給口、１７：回収口、１８：シートガラス、１９：ガス供給部、１９−１〜１９−４：ノズル、２０：駆動軸、２１：駆動部、２２：搬送ハンド、２３：圧力センサ、２４：ガス供給制御部、２５：投影光学系定盤、２６：ウエハステージ定盤、２７：隔壁、２８：ステージダンパ、１０１：不活性ガス供給源、１０２：清浄化ガス供給源、１０３：バルブ、１０４：バルブ
【図１】
2004134567.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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