(57)【要約】【課題】気体透過性が良好で、反射防止性等の光学機能特性、強度、密着性等を有する光学機能性フィルム、及び、これを画像表示部の観察側に積層、又は、配置し、画像表示装置を製造したところ、ガラス表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりが発生しにくく、また、発生した場合であっても短時間内に消滅することができ、外観、光学機能特性に優れた性能を発現する画像表示部を提供する。【解決手段】可撓性基材の上に、屈性率、１．３以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、１．５ｇ／ｃｍ３以上６．５ｇ／ｃｍ３以下の無機酸化物薄膜を少なくとも一層形成する光学機能性フィルムであって、気体透過性を有する光学機能性フィルム、及び、それを用いた画像表示装置を特徴とする。【選択図】  図１
2004345223.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基材の上に、屈性率、１．３以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、１．５ｇ／ｃｍ３以上６．５ｇ／ｃｍ３以下の無機酸化物薄膜を少なくとも一層形成する光学機能性フィルムであって、気体透過性を有することを特徴とする光学機能性フィルム。
【請求項２】
水蒸気透過率、２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の気体透過性を有することを特徴とする請求項１に記載の光学機能性フィルム。
【請求項３】
前記の無機酸化物薄膜が、酸化珪素、酸化チタン、および酸化インジウムから選ばれる少なくとも一種であって、前記の酸化珪素膜が、屈性率、１．３以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、１．５ｇ／ｃｍ３以上２．２ｇ／ｃｍ３以下であり、前記の酸化チタン膜が、屈折率、１．８以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、２．０ｇ／ｃｍ３以上３．５ｇ／ｃｍ３以下であり、前記の酸化インジウム膜が、屈折率、１．８以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、３．５ｇ／ｃｍ３以上、６．５ｇ／ｃｍ３以下の範囲にあることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項４】
前記の無機酸化物薄膜が、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、またはプラズマＣＶＤ法によって形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項５】
前記の可撓性基材の上に、酸化珪素膜、酸化チタン膜、および酸化珪素膜を順次積層することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項６】
前記の可撓性基材の上に、酸化珪素膜、酸化インジウム膜、および酸化珪素膜を順次積層することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項７】
前記の可撓性基材の上に、ハードコート層が、設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項８】
最上層に、防汚層が、積層されていることを特徴とする請求項１〜７いずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項９】
前記の可撓性基材において、粘着層が、無機酸化物薄膜を形成しない面に形成されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか記載の光学機能性フィルムが、表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか記載の光学機能性フィルムが、表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学機能性フィルム、および画像表示装置に関し、さらに詳しくは、ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面に使用され、気体透過性が良好で、反射防止性等の光学機能特性、強度、密着性等を有する光学機能性フィルムに関するもので、画像表示装置に用いると、ガラス表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりがなく、外観、光学機能特性、密着性に優れた性能を発現するものである。
【０００２】
【従来技術】
従来より、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、テレビ、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラス等の透明基板が使用されている。
そして、それらの透明な基材には、基材を通して、文字や図形その他の情報を読み取るため、基材の表面で光が反射するのを防止するため、反射防止機能を付与することが行われる。
透明な基材に反射防止機能を付与するために、例えば、透明基材に、酸化珪素、酸化チタン等の無機酸化物からなる光学機能性薄膜を形成する光学機能性フィルムが知られている。
また、表面側から空気側へ順に、第１層、第２層、第３層の３層構造の蒸着膜を形成して反射防止膜を構成する構造であって、前記第１層は低屈折率層（例えば、酸化珪素膜）からなり、前記第２層は高屈折率層（例えば、酸化チタン膜、または酸化インジウム膜）からなり、第３層は中屈折率層（例えば、炭素含有酸化ケイ素）からなる光学機能性フィルムが知られている。
例えば、防湿性及び密着性に優れた無機薄膜を形成してなる反射防止フィルムを提供する技術として、透明基材シート上に、ハードコート層、および反射防止層を順次に形成してなる反射防止フィルムであって、前記の反射防止層が、防湿バリヤ性を有する反射防止フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−３３８３０５号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の光学機能性フィルムにおいて、一般に無機酸化物薄膜の密度が可撓性基材より高く、水蒸気や酸素等の気体が通過しにくい。また、一般にガラス基板も気体を透過しない部材である。
このため、光学機能性フィルムとガラス基板との間に、紫外線等のエネルギー照射等により、可撓性基材（高分子フィルム）や粘着剤から気化するガス等により、貼着面に凹凸が生じたり、外側から空気溜まりが観察され、外観、光学機能性に劣り、商品価値が低下するという欠点がある。
これに対し、上記の無機酸化物薄膜の気体透過性を向上させるため、密度を低くすると、ガラス基板に対する密着性が低下し、無機酸化物薄膜に欠陥が生じ易くなるという欠点がある。
よって、気体透過性とガラス基板に対する密着性との両性能をバランスよく有する光学機能性フィルムが求められている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意研究の結果、本発明は、可撓性基材の上に、屈性率、１．３以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、１．５ｇ／ｃｍ３以上６．５ｇ／ｃｍ３以下の無機酸化物薄膜を少なくとも一層形成する光学機能性フィルムであって、気体透過性を有することを特徴とする光学機能性フィルムを製造したところ、気体透過性が良好で、反射防止性等の光学機能特性、強度、密着性等を有するものである。
更に、これを表示部の観察側に積層、又は、配置し、液晶表示装置等の画像表示装置を製造したところ、ガラス表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりが発生しにくく、また、発生した場合であっても短時間内に消滅することができ、外観、光学機能特性に優れた性能を発現するものである。
また、上記において、水蒸気透過率、２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の気体透過性を有することを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
また、前記の無機酸化物薄膜が、酸化珪素、酸化チタン、および酸化インジウムから選ばれる少なくとも一種であって、前記の酸化珪素膜が、屈性率、１．３以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、１．５ｇ／ｃｍ３以上２．２ｇ／ｃｍ３以下であり、前記の酸化チタン膜が、屈折率、１．８以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、２．０ｇ／ｃｍ３以上３．５ｇ／ｃｍ３以下であり、前記の酸化インジウム膜が、屈折率、１．８以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、３．５ｇ／ｃｍ３以上、６．５ｇ／ｃｍ３以下の範囲にあることを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
また、前記の無機酸化物薄膜が、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、またはプラズマＣＶＤ法によって形成されていることを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
また、前記の可撓性基材の上に、酸化珪素膜、酸化チタン膜、および酸化珪素膜を順次積層することを特徴とするの光学機能性フィルムを提供することができる。
また、前記の可撓性基材の上に、酸化珪素膜、酸化インジウム膜、および酸化珪素膜を順次積層することを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
また、前記の可撓性基材の上に、ハードコート層が、設けられていることを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
また、最上層に、防汚層が、積層されていることを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
また、前記の可撓性基材において、無機酸化物薄膜を形成しない面に、粘着層が、形成されていることを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について以下に更に詳しく説明する。
まず、本発明に係る無機酸化物薄膜を可撓性基材の上に形成する光学機能性フィルム、及び、それを使用した表示装置の構成について例示して図面を用いて説明すると、図１は、本発明に係る無機酸化物薄膜を可撓性基材の上に形成する気体透過性の光学機能性フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図であり、図２、図３は、本発明に係る無機酸化物薄膜を多層形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図であり、図４は、本発明に係る多層型反射防止フィルムにより表示面を被覆した表示装置の一例を示す概略断面図であり、図５、図６は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る光学機能性フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【０００７】
図１は、本発明に係る無機酸化物薄膜１２を可撓性基材３０の上に形成する気体透過性の光学機能性フィルム３６の一態様である層構成を示す概略断面図である。
図１に示すように、本発明に係る光学機能性フィルム３６は、可撓性基材３０の上に気体透過性を有する無機酸化物薄膜１２を単層又は複数層形成されるものである。
【０００８】
図２は、本発明に係る無機酸化物薄膜１２を多層形成する反射防止フィルム３６の一態様である層構成を示す概略断面図である。
図２に示すように、本発明に係る無機酸化物薄膜１２を多層形成する反射防止フィルムは、最外層（可撓性基材と接する層の反対側の層）を酸化珪素膜とし、この酸化珪素膜から可撓性基材の方向へ向かって、気体透過性を有する無機酸化物薄膜として、酸化珪素膜３２、酸化チタン膜３３、酸化珪素膜３２、ハードコート層３１、および可撓性基材３０を順次積層した構造となっている。
【０００９】
図３は、本発明に係る無機酸化物薄膜１２を多層形成する反射防止フィルム（光学機能性フィルム）３６の別態様である層構成を示す概略断面図である。
図３に示すように、本発明に係る無機酸化物薄膜１２を多層形成する反射防止フィルムは、最外層（可撓性基材と接する層の反対側の層）を酸化珪素膜３２とし、この酸化珪素膜から可撓性基材の方向へ向かって、気体透過性を有する無機酸化物薄膜として、酸化珪素膜３２、酸化インジウム膜３４、酸化珪素膜３２、ハードコート層３１、および可撓性基材３０を順次積層した構造となっている。
【００１０】
次に、上記のような本発明にかかる光学機能性フィルム、画像表示装置等を構成する材料、その製造法等について説明すると、まず、本発明にかかる光学機能性フィルムを構成する無機酸化物薄膜は、光学機能性と気体透過性とを併せ持つ薄膜である。
具体的に、本発明に係る無機酸化物薄膜１２に求められる光学特性（反射防止機能）としては、屈性率、１．３以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）の範囲にあることが必要である。
また、本発明に係る無機酸化物薄膜１２に求められる気体透過性としては、密度、１．５ｇ／ｃｍ３以上６．５ｇ／ｃｍ３以下の範囲にあることが必要である。
これは、無機酸化物薄膜１２を上記範囲の密度とすることで、本発明の光学機能性フィルムの水蒸気透過率、２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の良好な気体透過性を発現することができるという利点がある。
この気体透過度としては、水蒸気透過率、２ｇ／ｍ２／ｄａｙを超えるのであれば、高分子フィルム、接着剤からの揮発気体による気体溜まり等を防止できるが、水蒸気透過率、５ｇ／ｍ２／ｄａｙであれば、効率的な気体溜まりの防止により好ましい。
密度が１．５ｇ／ｃｍ３に満たないと、基材に対する密着性が低下し、無機酸化物薄膜に欠陥が生じ易くなるため、商品価値が下がり、好ましくない。
密度が６．５ｇ／ｃｍ３を超えると、前述した酸素透過率を有する光学機能性フィルムを得ることができず、基材との貼着面に気体溜まりを発生してしまうため、好ましくない。
また、かかる無機酸化物薄膜１２の全体の厚みとしては、５ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
膜の総厚みが５ｎｍに満たないと、光学的機能を発現することが困難であり、膜の総厚みが１０００ｎｍを超えると、膜応力によるクラック発生や膜剥がれの発生があるため好ましくない。
このような無機酸化物薄膜１２としては、具体的に、例えば、酸化珪素膜、酸化チタン膜、酸化インジウム膜、ＩＴＯ（インジウム／スズ酸化物）層、ＩＺＯ層、ＩＸＯ層、Ｎｂ２Ｏ５層、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＳ層等を用いることができ、中でも、酸化珪素膜、酸化チタン膜、および酸化インジウム膜は、可視領域で透明であり、また、それぞれの屈折率差が大きいため、好ましく使用できる。
【００１１】
本発明に係る酸化珪素膜３２は、反射防止フィルムを構成する無機酸化物多層膜中の一層として、より具体的には低屈折率層として利用することを主たる目的としているため、その屈折率は１．３以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）の範囲にあることが好ましい。
これは、当該屈折率が上記の範囲を逸脱すると、低屈折率層（屈折率が１．３〜１．５）として好適に用いることができないため好ましくない。
酸化珪素膜の密度については、１．５ｇ／ｃｍ３以上２．２ｇ／ｃｍ３以下の範囲にあることが好ましい。
密度が１．５ｇ／ｃｍ３に満たないと、基材に対する密着性が低下し、無機酸化物薄膜に欠陥が生じ易くなるため、商品価値が下がり、好ましくない。
密度が２．２ｇ／ｃｍ３を超えると、前述した酸素透過率を有する光学機能性フィルムを得ることができず、基材との貼着面に気体溜まりを発生してしまうため、好ましくない。
酸化珪素膜の厚さについては、本発明の光学機能性フィルム３６は特に限定することはなく反射防止の効果を奏する程度の厚さであれば特に限定されるものではないが、５ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内がより好ましい。
５ｎｍより層厚が薄い場合には、可撓性基材に膜形成しても、光学的機能を発現しない場合があるため好ましくなく、また、２００ｎｍを超える場合には、膜応力によるクラック発生や膜剥がれの発生があるため好ましくない。
【００１２】
本発明に係る酸化チタン膜３３、及び、酸化インジウム膜３４は、反射防止フィルムを構成する無機酸化物多層膜中の一層として、より具体的には高屈折率層として利用することを主たる目的としているため、その屈折率は１．８以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）の範囲であることが好ましい。
これは、当該屈折率が１．８に満たないと、高屈折率層（屈折率が１．８〜２．４）として好適に用いることができないため好ましくない。
酸化チタン膜３３の密度については、密度、２．０ｇ／ｃｍ３以上３．５ｇ／ｃｍ３以下の範囲にあることが好ましく、酸化インジウム膜３４の密度については、密度、３．５ｇ／ｃｍ３以上６．５ｇ／ｃｍ３以下の範囲にあることが好ましい。
酸化チタン膜の密度が２．０ｇ／ｃｍ３未満、酸化インジウム膜の密度が３．５ｇ／ｃｍ３未満であると、基材に対する密着性が低下するため、好ましくない。
酸化チタン膜の密度が３．５ｇ／ｃｍ３、酸化インジウム膜の密度が６．５ｇ／ｃｍ３を超えると、前述した水蒸気透過率を有する光学機能性フィルムを得ることができず、ガラス基板との貼着面に気体溜まりを発生してしまうため、好ましくない。
酸化チタン膜、および酸化インジウム膜の厚さについては、本発明の反射防止フィルムは特に限定することはなく反射防止の効果を奏する程度の厚さであれば特に限定されるものではないが、５ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内がより好ましい。
５ｎｍより層厚が薄い場合には、可撓性基材に膜形成しても、光学的機能を発現しない場合があるため好ましくなく、また、２００ｎｍを超える場合には、クラック発生や膜剥がれの発生があるため好ましくない。
【００１３】
上記の酸化チタン膜３３、および酸化インジウム膜３４を高屈折率層として用いることにより、反射防止多層膜中において、他の薄層（例えば、前記の酸化珪素膜等の低屈折率層）との相乗的な効果をもって反射防止機能を高めることができる。
【００１４】
ここで、酸化チタン膜３３、酸化インジウム膜３４等の高屈折率層を設ける位置については、本発明は特に限定するものではなく反射防止全体として反射防止機能が向上するような位置であればいかなる位置に設けることも可能であるが、図２、図３に示すように高屈折率層と低屈折率層とは接触している方が効率よく光の反射を防止することができるため、高屈折率層は低屈折率層の間に設置することが好ましい。
【００１５】
次に、本発明に係る光学機能性フィルムの基材３０としては、当該光学機能性フィルムの土台となる部分である。
可撓性基材は、可視光域で透明な高分子フィルムであれば特に限定されるものではなく、具体的に、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレン系樹脂フィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネイト系樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォン系フィルム、アクリロニトリルフィルム、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂（ＡＳ樹脂）フィルム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体樹脂（ＡＢＳ樹脂）フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、フッ素系樹脂フィルム、アセタール系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム等が使用できる。
中でも、無色透明の延伸フィルムが好ましく、一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムが透明性、耐熱性に優れていることからより好ましい。
また、光学異方性のない点でトリアセチルセルロースも好ましい。
可撓性基材の厚みとしては、通常は６μｍ〜１８８μｍ程度のものが好ましい。
なお、本発明の可撓性基材は、本質的に透明である限り着色されていてもよく、印刷などで模様や文字などが付与されていてもよい。
【００１６】
また、図２、図３に示す反射防止フィルム（光学機能性フィルム）３６としては、ハードコート層３１も設けることができる。
本発明に用いられるハードコート層３１は、本発明の反射防止フィルムに強度を持たせることを目的として形成される層である。従って、反射防止フィルムの用途によっては必須の層ではない。
【００１７】
ハードコート層３１を形成するための材料としては、同様に可視光域で透明な材料であり反射防止フィルムに強度をもたせることができるものであれば特に限定されるものではなく、その強度としては、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。
具体的には、熱硬化型樹脂、及び／又は、電離放射線硬化型樹脂を用いることが好ましく、さらに具体的には、アクリレート系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン系樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する。）等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤であるエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、へキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を含むものが好適に用いられる。
前記のハードコート層の膜厚としては、通常１〜３０μｍの範囲のものが好適に用いられる。
その形成方法は、通常のコーティング方法を用いることが可能であり、特に限定されるものではない。
【００１８】
また、ハードコート層３１を設ける位置であるが、ハードコートを設ける目的は反射防止フィルムに強度を持たせることであり、反射防止機能を向上せしめるためのものではないため、最上層のシリカ層から離れた位置であって、基材のすぐ上に設置することが好ましい。
【００１９】
本発明の光学機能性フィルム３６としては、最上層のシリカ層の更に上に防汚層３５を設けてもよい。
防汚層は、ディスプレイパネルの前面に配置した光学機能性フィルムにごみや汚れが付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される。具体的には、反射防止等の光学機能を低下させない範囲でフッ素系界面活性剤等の界面活性剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥離剤、もしくはワックス等をごく薄く塗布する。防汚層３５の厚みとしては、１〜３０ｎｍが好ましい。
３０ｎｍを超えると、光学的な影響が生じ、反射防止フィルムとしての光学特性を低下せしめるため、好ましくない。
【００２０】
本発明の光学機能性フィルム３６としては、前記の可撓性基材の無機酸化物薄膜１２を形成しない面に、粘着層を設けてもよい。
かかる粘着層は、いずれの接着剤、粘着剤を用いても良い。
また、粘着層は、ロールコータ、ダイコータ、ブレードコータ等により形成する。
【００２１】
本発明に係る単層の光学機能性膜、又は、光学機能性多層膜を構成する高屈折率層、及び、低屈折率層を可撓性基材の上に形成する方法としては、例えば、前記の材料をプラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法で形成あるいは積層することができる。
中でも、プラズマＣＶＤ法を用いることにより、シリカ層を形成する際の膜密度、膜厚、屈折率、ガス透過率等の条件を比較的容易に制御することができるため、気体透過性とガラス基板に対する密着性との両性能をバランスよく有する光学機能性膜を形成することができるという利点を有するため好ましいものである。
また、本発明の酸化珪素膜は有機基を含有する珪素化合物により層を構成する際には、原料をガス状にして用いるプラズマＣＶＤ法が安定した薄膜を形成することができ、また、複数の薄層を同時に形成することができるため、生産性の向上を図ることができるという利点を有するため好ましいものである。
【００２２】
図５は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る光学機能性フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
図５にプラズマＣＶＤ装置を用いた可撓性基材上への光学機能性膜の形成方法を示す。まず、ウェブ状の高分子フィルム（可撓性基材）１が基材巻き出し部２より巻きだされて、真空容器３中のプラズマＣＶＤの反応室４に導入される。
この反応容器３の全体は、真空ポンプ５により排気される。また、同時に反応室４には、原料ガス導入口６より規定流量の原料ガスが供給され、反応室４の内部は、常に一定圧力のこれらのガスで満たされている。
【００２３】
次に、基材巻き出し部２より巻き出され、反応室４に導入された高分子フィルム１は、反転ロール７を経て、成膜用ドラム８に巻き付き、成膜用ドラム８の回転と同期しながら反転ロール７’の方向に送られていく。
次に、電極９と成膜用ドラム８との間には、電源１０によりＲＦ電圧が印加される。
このとき、電源の周波数は、ラジオ波に限らず、直流からマイクロ波まで適当な周波数を使用することも可能である。
そして、電極９と成膜用ドラム８の間にＲＦ電圧を印加することにより、この両電極の周辺にプラズマ１１が発生する。
そして、このプラズマ１１中で原料ガスが反応し、無機酸化物を生成して成膜用ドラム８に巻き付いた高分子フィルム１上に堆積して、無機酸化物薄膜１２が形成される。
その後、無機酸化物薄膜１２が表面に形成された高分子フィルム１は、反転ロール７’を経て、基材巻き取り部２’で巻き取られる。
本発明において、温度、材料ガス流量・圧力、放電条件、高分子フィルム１の送りスピートのコントロールにより、形成される無機酸化物薄膜１２の屈折率、膜厚、密度等を広範囲でコントロールしうるため、材料を変更することなく、所望の気体透過性、および光学特性の無機酸化物薄膜１２を得ることができる。
【００２４】
図６は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る光学機能性フィルムの製造方法を説明するための別態様の概略図である。
光学機能性フィルムの作製には、図６に示すようなプラズマＣＶＤ装置を用いることも可能である。
当該プラズマＣＶＤ装置は容量結合型のプラズマＣＶＤ装置であり、その基本的構造及び原理は図５の装置と同様である。
従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。
【００２５】
従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。
【００２６】
図６に示す装置と図５に示す装置との差は、図５に示す装置においては、フィルム上に光学機能性膜を形成するための反応室は一つしか設置されていないが、図６に示すプラズマＣＶＤ装置は、複数（３つ）の反応室を有している点にある。夫々の反応室（ａ，ｂ，ｃ）は隔離壁２５で隔離されることで形成されている。ここで、以下の説明の便宜上、当該３つの反応室を右側から反応室ａ、反応室ｂ、反応室ｃとする。そして、各反応室には、夫々電極版ａ１、ｂ１、ｃ１及び原料ガス導入口ａ２、ｂ２、ｃ２が設置されている。
【００２７】
各反応室（ａ，ｂ，ｃ）は、成膜用ドラム２４の外周に沿って設置されている。これは、積層膜が形成されるプラスティックフィルムは、図５に示す例で説明したように成膜用ドラム２４と同期しながら反応室内に挿入され、かつ成膜用ドラム上において多層膜を形成するものであることから、このように配置することにより連続して各膜を積層することができるからである。
なお、図６に示す装置では反応室の数を３室としたが、本発明の反射防止フィルムの製造方法に用いるプラズマＣＶＤ装置としてはこれに限定されるものではなく、必要に応じて変更することができる。
【００２８】
上述したようなプラズマＣＶＤ装置によれば、各反応室へ導入する原料ガスを変化させることにより、夫々の反応室内で独立して膜を形成することが可能であることから、例えば、酸化チタン膜とシリカ膜との多層膜をプラスティックフィルム上に形成する場合は、反応室ａに有機チタン化合物を含むガスを導入し、反応室ｂと反応室ｃにはケイ素を含むガスを導入することにより、プラスティックフィルム２１が成膜用ドラム２５を経て基材巻き取り部２６へ巻き取られるまでに当該プラスティックフィルム２１上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された反射防止フィルムを形成することができる。
【００２９】
さらに、上記の場合において反応室ｂと反応室ｃとに導入されたガスは、ケイ素を含むガスであるが、各々の反応室内の条件、例えばガスの流量や圧力、放電条件等を変化させることにより、反応室ｂと反応室ｃとで形成されるシリカ膜の特性を変化させることも可能である。当該装置により酸化チタン膜、シリカ膜、また、これらの膜の厚さ、膜の密度、および屈折率等を自在に組み合わせることが可能となる。
【００３０】
また、必ずしも夫々の反応室に異なる原料ガスを導入する必要もなく、例えば図６に示す反応室ａ，ｂ，ｃ全てに有機チタン化合物を含むガスを導入することで酸化チタン膜を形成し、その後に一旦反応室ａ，ｂ，ｃに導入されたガスを全て抜き、改めてケイ素を含むガスを反応室ａ，ｂ，ｃに導入して上記酸化チタン膜の上にシリカ膜を形成することも可能である。
【００３１】
本発明においては、上述した図５に示すような装置で複数回プラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された積層フィルムを形成するようにしてもよいし、上述したように図６に示す装置を用いて一回でプラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された反射防止フィルムを形成するようにしてもよい。また、図５に示す装置を用いて複数回プラスティックフィルムを処理することにより、酸化チタン膜とシリカ膜とが交互に複数層積層された反射防止フィルムを得ることも可能である。
【００３２】
図４は、本発明に係る光学機能性フィルムをガラス基板の表示面に被覆した液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
本発明に係る液晶表示装置としては、図４に示すように、液晶表示素子上に、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／ＴＡＣフィルム層３７からなる層構成の偏光板４０がラミネートされており、また液晶表示素子の他方の面には、ＴＡＣフィルム３７／偏光素子３８／ＴＡＣフィルム３７からなる層構成の偏光板がラミネートされている。
【００３３】
具体的には、上記で得られた図２、図３の反射防止フィルム層を最外層（基材と接する層の反対側の層）とし、この反射防止フィルム層から基材の方向へ向かって、反射防止フィルム層、例えば、図２の層構成の場合、防汚層３５／酸化珪素膜３２／酸化チタン膜３３／酸化珪素膜３２／ハードコート層３１／基材層３０からなる層構成の反射防止フィルム層と、偏光素子と、基材層としてのＴＡＣフィルムとを接着剤を介して順次ラミネートして積層し、層構成、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／ＴＡＣフィルム層３７とするものである。
なお、本発明の反射防止フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、この場合、反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いることができる。又、バックライトは、図４の下側から照射される。
本発明の反射防止フィルムは通常バックライトの出射側に配置されるが、最下面のＴＡＣフィルムの代わりに本発明の反射防止フィルムを更に用いてもよい。
尚、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入される。また、この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられる。
【００３４】
本発明に係る画像表示装置を構成する偏光素子３８としては、よう素または染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマーフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。
このラミネート処理にあたって接着性を増すため及び静電防止のために、前記の反射防止フィルムの透明基材フィルムが、例えば、ＴＡＣフィルムである場合には、ＴＡＣフィルムにケン化処理を行なう。このケン化処理は、ＴＡＣフィルムにハードコート層を施す前後のどちらでもよい。
【００３５】
而して、本発明に係る光学機能性フィルム３６や、偏光素子３８等を使用して上記の液晶表示装置以外に、図示しないが、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、フレキシブルな各種ディスプレイの表面の材料等に使用することができ、本発明に係る光学機能性フィルムを画像表示部の観察側に積層、又は、配置しても、ガラス表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりが発生しにくく、また、発生した場合であっても短時間内に消滅することができ、膜剥離も発生せず、透明性、光学特性、密着性、強度を維持でき、外観、気体透過性、生産性に優れる性能を発現するものである。
【００３６】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
（実施例１）
可撓性基材（高分子フィルム）２１として、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名：フジタック、富士フィルム製、屈折率１．５０）上に、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を原料とし、電離放射線により硬化させ、厚み６μｍのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５２であった。
また、図６に示す反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を、反応室ｂでは酸化チタン膜（第２層）を、ｃでは酸化珪素膜（第３層）を形成するようにした。
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用いた。その他の条件は、以下に示す通りである。
【００３７】＜第１層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＨＭＤＳＯ（（ＣＨ３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３）、Ｏ２
成膜圧力：４Ｐａ
【００３８】＜第２層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力                                  １ｋＷ
原料ガス：Ｔｉ（Ｏ−ｉＣ３Ｈ７）４、Ｏ２
成膜圧力                                              １０Ｐａ
【００３９】＜第３層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）、Ｏ２
成膜圧力：１３Ｐａ
【００４０】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。
【００４１】＜第１層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １１８ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．７０
膜密度                    ２．１ｇ／ｃｍ３
【００４２】＜第２層：酸化チタン膜の測定結果＞
膜厚                                              ２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．３０
膜密度                    ３．４ｇ／ｃｍ３
【００４３】＜第３層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４５
膜密度                    １．９ｇ／ｃｍ３
【００４４】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
酸素透過率                ２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ（２３℃、０％Ｒｈ）
水蒸気透過率              ５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．２９％
【００４５】＜反射防止膜測定に使用した装置＞
膜密度測定
型番  ＡＴＸ−Ｅ                  メーカー  リガク
屈折率・視感度反射率・膜厚        分光光度計、光学解析
型番  ＵＶ−３１００ＰＣ          メーカー  島津製作所
水蒸気透過率              水蒸気透過率測定装置
型番  ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ    ３／３１  メーカー  ＭＯＣＯＮ社
【００４６】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．２９の光学特性を有し、酸化珪素膜（第１層）の膜密度、２．１ｇ／ｃｍ３、酸化チタン膜（第２層）の膜密度、３．４ｇ／ｃｍ３、酸化珪素膜（第３層）の膜密度、１．９ｇ／ｃｍ３、水蒸気透過率、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第３層）／酸化チタン膜（第２層）／酸化珪素膜（第１層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる本発明に係る反射防止フィルムを得た。
上記で得られた本発明に係る反射防止フィルム（光学機能性フィルム）は、気体透過性の良好で、膜剥がれもなく、密着性、強度を維持すると共に、生産性に優れるものであった。
【００４７】（実験例）
また、上記で得られた反射防止フィルム（光学機能性フィルム）と、ガラス基板とを、光学粘着材（製品名：ＨＪ−９１５０Ｗ、日東電工製）を介して、貼着し、ＵＶ照射試験は、サンシャインウェザーメーターを用い、光源としてカーボンアークランプを用い、ブラックパネル温度６０℃、３００時間の条件で行った。（耐光性試験機：サンシャインウェザーＯ：メーカー：スガ試験機（株））
その後、目視で、ガラス基板表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりを観察した結果、紫外線や熱によって高分子フィルムや粘着材から気化したガスによる気体溜まりが観察されず、膜剥離も認められず、良好な気体透過性を示し、外観、密着性に優れた性能を発現するものであった。
【００４８】（実施例２）
可撓性基材（高分子フィルム）として、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名：フジタック、富士フィルム製、、屈折率１．４０）上に、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を原料とし、電離放射線により硬化させ、厚み６μｍのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５２であった。
また、図６に示す反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を、反応室ｂではＩｎ２Ｏ３を主成分とするＩＴＯ膜（第２層）を、ｃでは酸化珪素膜（第３層）を形成するようにした。
なお、反応室ｂは、ＩＴＯをスパッタ成膜できるように、ＣＶＤ電極をスパッタ用ターゲットに交換した。
ＣＶＤ電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、スパッタ用電極としてＤＣ電源を用いた。その他の条件は、以下に示す通りである。
【００４９】＜第１層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＨＭＤＳＯ（（ＣＨ３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３）、Ｏ２
成膜圧力：４Ｐａ
【００５０】＜第２層：ＩＴＯ膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＩＴＯ（Ｉｎ／Ｓｎ＝９０／１０）、Ｏ２
成膜圧力：０．４Ｐａ
【００５１】＜第３層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）、Ｏ２
成膜圧力：１３Ｐａ
【００５２】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。
なお、実施例２の反射防止膜の測定に使用した装置も、実施例１と同様であった。
【００５３】＜第１層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              ９６ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．７０
膜密度                    ２．１ｇ／ｃｍ３
【００５４】＜第２層：ＩＴＯ膜の測定結果＞
膜厚                                              ４１ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．００
膜密度                    ６．４ｇ／ｃｍ３
【００５５】＜第３層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １０３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４５
膜密度                    １．９ｇ／ｃｍ３
【００５６】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化珪素膜／ＩＴＯ膜／酸化珪素膜
水蒸気透過率              ４２ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．３０％
【００５７】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．３０％の光学特性を有し、酸化珪素膜（第１層）の膜密度、２．１ｇ／ｃｍ３、ＩＴＯ膜（第２層）の膜密度、６．４ｇ／ｃｍ３、酸化珪素膜（第３層）の膜密度、１．９ｇ／ｃｍ３、水蒸気透過率、３０ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第３層）／ＩＴＯ膜（第２層）／酸化珪素膜（第１層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる反射防止フィルムを得た。上記で得られた本発明に係る光学機能性フィルムは、気体透過性の良好で、膜剥がれもなく、密着性、強度を維持すると共に、生産性に優れるものであった。
【００５８】（実験例）
また、上記で得られた実施例２の反射防止フィルムと、ガラス基板とを、実施例１と同様の光学粘着材を用いて貼着し、実施例１と同一条件下で、ＵＶ照射試験を行った。
ガラス基板表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりを目視で観察した結果、紫外線や熱によって高分子フィルムや粘着材から気化したガスによる気体溜まりが観察されず、膜剥離も認められず、良好な気体透過性を示し、外観、密着性に優れた性能を発現するものであった。
【００５９】（比較例１）
実施例１と製膜条件以外は、同一の材料、装置を用いて、スパッタリング法にて、図６に示す反応室ｂでは酸化チタン膜を、反応室ｃでは酸化珪素膜を形成した。なお、反応室ｂ、ｃは、ＣＶＤ電極をスパッタ用ターゲットに交換した。
電源としてＭＦ電源を用いた。その他の条件は、以下に示す通りである。
【００６０】＜酸化チタン膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力：１ｋＷ
ターゲット：Ｔｉ
成膜圧力：０．３Ｐａ
【００６１】＜酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力：５ｋＷ
ターゲット：Ｓｉ
成膜圧力：０．３Ｐａ
【００６２】＜酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力：５ｋＷ
ターゲット：Ｔｉ
成膜圧力：０．３Ｐａ
【００６３】＜酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力：５ｋＷ
ターゲット：Ｓｉ
成膜圧力：０．３Ｐａ
【００６４】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した酸化チタン膜／酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜の層構成からなる反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。なお、比較例１の反射防止膜の測定に使用した装置も、実施例１と同様であった。
【００６５】＜酸化チタン膜（第１層）の測定結果＞
膜厚                                              ２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．４５
膜密度                    ３．６ｇ／ｃｍ３
【００６６】＜酸化珪素膜（第２層）の測定結果＞
膜厚                                              ４２ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４７
膜密度                    ２．３ｇ／ｃｍ３
【００６７】＜酸化チタン膜（第３層）の測定結果＞
膜厚                                              ３３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．４５
膜密度                    ３．６ｇ／ｃｍ３
【００６８】＜酸化珪素膜（第４層）の測定結果＞
膜厚                                              １１０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４６
膜密度                    ２．３ｇ／ｃｍ３
【００６９】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化チタン膜／酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
水蒸気透過率              ０．５ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．２０％
【００７０】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．２０％の光学特性を有し、酸化チタン膜の膜密度、３．６ｇ／ｃｍ３、酸化珪素膜の膜密度、２．３ｇ／ｃｍ３、水蒸気透過率、０．５ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第２層）／酸化チタン膜／酸化珪素膜（第１層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる比較例１の反射防止フィルムを得た。
【００７１】（実験例）
また、上記で得られた比較例１の反射防止フィルムと、ガラス基板とを、光学粘着材（製品名：ＨＪ−９１５０Ｗ、日東電工製）を介して、貼着し、ＵＶ照射試験は、サンシャインウェザーメーターを用い、光源としてカーボンアークランプを用い、ブラックパネル温度６０℃、３００時間の条件で行った。（耐光性試験機：サンシャインウェザーＯ：メーカー：スガ試験機（株））
その後、ガラス基板表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりを目視で観察した結果、紫外線や熱によって高分子フィルムや粘着材から気化したガスによる気体溜まりが観察され、膜剥離も認められ、外観、密着性に劣るものであった。
【００７２】（比較例２）
実施例２と製膜条件以外は、同一の材料、装置を用いて、図６の装置を使用して、スパッタリング法にて、反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を、反応室ｂではＩｎ２Ｏ３を主成分とするＩＴＯ膜（第２層）を、ｃでは酸化珪素膜（第３層）を形成するようにした。なお、反応室ａ〜ｃでは、ＣＶＤ電極をスパッタ用ターゲットに交換した。
高周波電源としてＭＦ電源を用いた。その他の条件は、以下に示す通りである。
【００７３】＜第１層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力：５ｋＷ
ターゲット：Ｓｉ
成膜圧力：０．３Ｐａ
【００７４】＜第２層：ＩＴＯ膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力：５ｋＷ
ターゲット：ＩＴＯ
成膜圧力：０．３Ｐａ
【００７５】＜第３層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力：５ｋＷ
ターゲット：Ｓｉ
成膜圧力：０．３Ｐａ
【００７６】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。
なお、比較例２の反射防止膜の測定に使用した装置も、実施例１と同様であった。
【００７７】＜第１層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              ９６ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．７０
膜密度                    ２．３ｇ／ｃｍ３
【００７８】＜第２層：ＩＴＯ膜の測定結果＞
膜厚                                              ４１ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．０
膜密度                    ６．４ｇ／ｃｍ３
【００７９】＜第３層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １０３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４６
膜密度                    １．９ｇ／ｃｍ３
【００８０】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化珪素膜／ＩＴＯ膜／酸化珪素膜
水蒸気透過率              ３０ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．３０％
【００８１】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．３０％の光学特性を有し、酸化珪素膜（第１層）の膜密度、２．３ｇ／ｃｍ３、ＩＴＯ膜（第２層）の膜密度、６．４ｇ／ｃｍ３、酸化珪素膜（第３層）の膜密度、１．９ｇ／ｃｍ３、水蒸気透過率、３０ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第３層）／ＩＴＯ膜（第２層）／酸化珪素膜（第１層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる比較例２の反射防止フィルムを得た。
【００８２】（実験例）
また、上記で得られた比較例２の反射防止フィルムと、ガラス基板とを、実施例１と同様の光学粘着材を用いて貼着し、実施例１と同一条件下で、ＵＶ照射試験を行った。
その後、ガラス基板表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりを目視で観察した結果、紫外線や熱によって高分子フィルムや粘着材から気化したガスによる気体溜まりが観察され、膜剥離も認められ、外観、密着性に劣るものであった。
【００８３】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明は、可撓性基材の上に、屈性率、１．３以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、密度、１．５ｇ／ｃｍ３以上６．５ｇ／ｃｍ３以下の無機酸化物薄膜を少なくとも一層形成する光学機能性フィルムであって、気体透過性を有することを特徴とする光学機能性フィルムを製造したところ、気体透過性が良好で、反射防止性等の光学機能特性、強度、密着性等を有するものである。
更に、これを表示部の観察側に積層、又は、配置し、画像表示装置を製造したところ、ガラス表面と光学機能性フィルムとの貼着面に気体溜まりが発生しにくく、また、発生した場合であっても短時間内に消滅することができ、外観、光学機能特性に優れた性能を発現するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る無機酸化物薄膜を可撓性基材の上に形成する気体透過性の光学機能性フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係る無機酸化物薄膜を多層形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る無機酸化物薄膜を多層形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。
【図４】本発明に係る多層型反射防止フィルムにより表示面を被覆した表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図５】プラズマＣＶＤ法による本発明に係る光学機能性フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【図６】プラズマＣＶＤ法による本発明に係る光学機能性フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【符号の説明】
１、２１、３０  高分子フィルム（基材）
２、２２  基材巻きだし部
２’、２６  基材巻き取り部
３、２３  真空容器
４、ａ、ｂ、ｃ  反応室
５、２７  真空ポンプ
６、ａ２、ｂ２、ｃ２  原料ガス導入口
７、７’    反転ロール
８、２４  成膜用ドラム
９、ａ１、ｂ１、ｃ１  電極
１０  電源
１１  プラズマ
１２  無機酸化物薄膜
２５  隔離壁
３１  ハードコート層
３２  酸化珪素膜
３３  酸化チタン層
３４  酸化インジウム層
３５  防汚層
３６    気体透過性の光学機能性フィルム
３７    ＴＡＣ基材フィルム
３８    偏光素子
３９    液晶表示素子
４０  偏光板
４１  バックライトユニット
【図１】
2004345223.tif 000003
【図２】
2004345223.tif 000004
【図３】
2004345223.tif 000005
【図４】
2004345223.tif 000006
【図５】
2004345223.tif 000007
【図６】
2004345223.tif 000008