(57)【要約】【課題】装置の小型を図り、しかも処理能力に優れているだけでなく、簡易な操作で運転できる滅菌排ガスの処理方法及び処理装置を提供すること。【解決手段】滅菌槽から排気された滅菌排ガスを酸素含有ガスで希釈し、この希釈ガスを触媒槽に供給し発熱的に酸化分解して無害化する方法において、前記滅菌排ガスを減圧手段に通し減圧させてから希釈することに要旨を有する滅菌排ガスの処理方法。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
滅菌槽から排気された滅菌排ガスを酸素含有ガスで希釈し、この希釈ガスを触媒槽に供給し発熱的に酸化分解して無害化する方法において、前記滅菌排ガスを減圧手段に通し減圧させてから希釈することを特徴とする滅菌排ガスの処理方法。
【請求項２】
前記減圧とは、並列に配置された減圧手段によって行なうこととし、且つ一方の減圧手段は前記滅菌排ガスの圧力が所定値に低下するまで閉止しておく請求項１に記載の処理方法。
【請求項３】
前記減圧手段の手前に前記滅菌排ガス抜き出しラインを設ける請求項１または２に記載の処理方法。
【請求項４】
前記滅菌排ガスの希釈に用いる酸素含有ガスの一部を、無害化されたガスに供給する請求項１〜３のいずれかに記載の処理方法。
【請求項５】
滅菌排ガスを発熱的に酸化分解して無害化するための触媒槽と、滅菌槽からの滅菌排ガスを酸素含有ガスで希釈した希釈ガスを前記触媒槽へ供給するためのファンと、前記滅菌排ガスの圧力を低減させるための減圧手段を備えていることを特徴とする滅菌排ガスの処理装置。
【請求項６】
前記減圧手段が並列に配置されている請求項５に記載の処理装置。
【請求項７】
前記酸素含有ガスの一部を無害化されたガスに供給するラインを備えている請求項５または６に記載の処理装置。
【請求項８】
前記減圧手段がオリフィスである請求項５〜７のいずれかに記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医療用具、生理用品、衛生材料、包装材料などの滅菌に使用された滅菌排ガスの処理方法及び処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
注射器などの医療器具、おむつなどの生理用品などに適用される滅菌法として、被滅菌対象物を滅菌装置内に収納し、この装置内にエチレンオキサイドガスなどを導入することによって滅菌する方法が知られている。しかしエチレンオキサイドガスは爆発性があって危険であるばかりでなく、人体に対して有害であるため、滅菌後は無害化する必要がある。
【０００３】
エチレンオキサイドを含む滅菌排ガスを無害化する方法として、例えば滅菌槽からの排ガスを空気と混合した後、触媒反応器に通して酸化処理することにより、水や二酸化炭素に分解する方法が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００４】
他の方法として、滅菌装置からの酸化エチレン含有ガスをエアレーションしながら複数回に分けて排出すると共に、排出初期の酸化エチレンガス濃度がある程度低下した後は逆に吸着塔から酸化エチレンガスを脱着（離脱）させ、酸化エチレンガス濃度を約１．３〜２．８％の範囲で略一定に保持しつつ触媒で処理する方法が提案されている（例えば特許文献２）。
【０００５】
また他の方法として滅菌槽からの排ガス（酸化エチレンガス含有ガス）をエアレーションしながら混合器（混合タンク）に蓄え、この混合器内で酸化エチレンガスの濃度を触媒燃焼最適濃度に調整した後、該混合ガスを混合器から触媒充填槽へ送り、酸化エチレンを酸化分解処理する方法が提案されている（例えば特許文献３）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平７−３１６６４号
【特許文献２】
特開平８−２１５５４１号
【特許文献３】
特開平１１−７６３８５号
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
近年、小型の滅菌装置についても環境汚染防止の観点から滅菌排ガスの処理が求められているが、従来の浄化処理装置はいずれも大型であり、設置スペースや操作の煩雑さが問題となっていた。また処理装置を小型化すると、排ガス圧力によって触媒槽に多量の排ガスが流入して昇温し、該触媒が短時間で劣化するため圧力バッファータンクの設置が必要となるが、該タンクの設置は処理設備の小型化を阻む要因となっている。
【０００８】
本発明の目的は装置の小型を図り、しかも処理能力に優れているだけでなく、簡易な操作で運転できる滅菌排ガスの処理方法及び処理装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は滅菌槽から排気された滅菌排ガスを酸素含有ガスで希釈し、この希釈ガスを触媒槽に供給し発熱的に酸化分解して無害化する方法において、前記滅菌排ガスを減圧手段に通し減圧させてから希釈することに要旨を有する滅菌排ガスの処理方法である。
【００１０】
上記本発明の方法における減圧を、並列に配置された減圧手段によって行なうこととし、且つ一方の減圧手段は前記滅菌排ガスの圧力が所定値に低下するまで閉止しておくことが推奨される。
【００１１】
また本発明の方法では、該減圧手段の手前に前記滅菌排ガス抜き出しラインを設けることが望ましく、また該滅菌排ガスの希釈に用いる酸素含有ガスの一部を、無害化されたガスに供給することも好ましい。
【００１２】
また本発明は滅菌排ガスを発熱的に酸化分解して無害化するための触媒槽と、滅菌槽からの滅菌排ガスを酸素含有ガスで希釈した希釈ガスを前記触媒槽へ供給するためのファンと、前記滅菌排ガスの圧力を低減させるための減圧手段を備えていることに要旨を有する滅菌排ガスの処理装置である。
【００１３】
上記本発明の装置における減圧手段は、並列に配置されていることが推奨される。また該酸素含有ガスの一部を無害化されたガスに供給するラインを備えていることも望ましい。
本発明では減圧手段としてオリフィスを用いることが推奨される。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明では、滅菌排ガス、例えば、医療器具や生理用品などの滅菌に使用された後に排出される滅菌排ガスを酸化分解して無害化処理する。上記ガスとしては、例えば、アルキレンオキサイドガス（エチレンオキサイドガスなど）等が挙げられる。本発明は、滅菌排ガスがアルキレンオキサイドガスである場合により優れた効果を発揮し、特にエチレンオキサイドガスに対して最も優れた効果を発揮する。
【００１５】
以下、図面を参照しながら本発明をより詳細に説明する。
【００１６】
図１中、Ｕ１はＥＯ（エチレンオキサイドガス）滅菌装置Ｕ１の一例である。Ｕ２は本発明の処理装置Ｕ２の概略図である。処理装置Ｕ２には、滅菌槽５から排出される滅菌排ガスの流量を調節するための減圧手段６ａ，６ｂが並列に配置されると共に、滅菌排ガスを希釈するための酸素含有ガス取込み用のファン４、希釈された滅菌排ガスを加熱するためのヒーター２、滅菌排ガスに含まれるＥＯ等の有害ガスを酸化分解して無害化するための触媒槽１とで基本的に構成されている。またこの処理装置Ｕ２には、滅菌排ガスを分解することなく外部へ放出するための緊急放出ラインＬ１２、及び無害化されたガスの温度を降下させるための希釈用空気を供給するラインＬ１０も備えている。
【００１７】
本例では、滅菌槽５から排出される滅菌排ガス（有害有機物含有ガス）を酸素含有ガスで希釈し、この希釈ガスをヒーター２を介して触媒槽１へ供給することにより、滅菌排ガスに含まれている有害ガス成分を酸化分解して無害化する。そして、この無害ガスにも必要に応じてラインＬ１０から酸素含有ガスを供給し、無害ガスの温度を低下させる。この無害ガスは、触媒槽１における酸化分解時の発熱（自己加熱）によって高い熱（顕熱）を有しているので、例えば後記図４に示す様に、熱交換器２ａを用いた場合の希釈ガス加熱熱媒として利用できる。この場合、無害化されたガスの顕熱を有効利用できるため、エネルギー効率を高めることができる。
【００１８】
ＥＯ滅菌装置Ｕ１から排出される滅菌排ガスは、処理装置Ｕ２側のバルブＶ５を開放することによって、触媒槽１方向へ供給されるが、滅菌排ガスの圧力は高いため、高濃度の滅菌排ガスが大量に触媒槽１へ流入し、触媒槽１の温度が高くなりすぎることがある。そこで本発明では、滅菌排ガスの圧力を減圧手段６ａ、６ｂに通して調整することにより、触媒層の温度が高くなりすぎるのを防止し、触媒の熱劣化による失活を防いでいる。
【００１９】
しかも減圧手段６ａ，６ｂを設けることによって、従来は殆ど必須的に設けられているバッファータンクを省略することも可能となり、装置を簡単に小型化できる。
【００２０】
以下、本発明の処理方法について、滅菌槽５からの排気操作、排気ガスの希釈操作、希釈ガスの分解操作に分けてより詳細に説明する。
【００２１】
［排気操作］
滅菌槽５は、滅菌処理終了時点では滅菌排ガスで充満されている。滅菌用ガス中の有害ガス成分（例えば、エチレンオキシド）の濃度は、例えば、５〜４０容量％（好ましくは１０〜３０容量％）程度である。前記ガス中の残余の成分は特に限定されないが、通常、ＣＯ２である。また滅菌槽５内の滅菌排ガスの圧力は常圧以上（例えば、加圧状態）であり、通常、０〜２００ｋＰａ（ゲージ圧）程度、好ましくは３０〜１００ｋＰａ程度である。
【００２２】
滅菌処理終了後の前記滅菌排ガスは、複数回の操作（バッチ）に分けて排気される。例えば、滅菌排ガスを滅菌槽５から排気する第１排気操作の後、滅菌槽５に洗浄用ガス［酸素含有ガス（空気など）など］をライン１から供給して残りの滅菌排ガスを排気する第２排気操作を１回又は複数回繰り返すことによって排気する。すなわち第１排気操作（第１バッチ）では、滅菌排ガスは実質的に滅菌完了時の濃度で排気され、第２の排気操作（第２バッチ）以降は、滅菌排ガスに含まれる有害ガス成分の濃度は排気操作（バッチ）を追うごとに低下していく。本発明では、後述するように所定の方法で有害ガス成分を酸化分解しているため、排ガス中の有害ガス成分の濃度が変動しても、触媒を劣化させることなく酸化分解を効率よく進めることができる。なお第２排気操作は、滅菌槽５内の有害ガス成分（エチレンオキシドなど）が所定濃度［例えば、１ｐｐｍ（容量基準）以下］になるまで繰り返す。
【００２３】
排気操作の手段は特に限定されないが、滅菌槽が加圧状態にある場合には、通常、該加圧を利用して自然に排気する（自圧排気）。一方、滅菌槽が陰圧から常圧にある場合には、排気手段（真空ポンプなど）７を用いて強制排気する。なお強制排気する場合、滅菌槽５の圧力が、通常、−１０〜−１００ｋＰａ（ゲージ圧）程度、好ましくは−８０〜−９５ｋＰａ（ゲージ圧）程度になるまで強制排気する。
【００２４】
洗浄用ガスの供給手段も特に限定されないが、滅菌槽５が強制排気の後で減圧状態にある場合には、復圧ガスとして洗浄用ガスを用いてもよい。また滅菌槽が常圧状態にある場合には、洗浄用ガスを供給して加圧してもよい。
【００２５】
通常、滅菌操作中は滅菌用ガスが加圧状態にあることが多いため、第１排気操作としては、自圧排気（ラインＬ３）を行った後、排気手段７で強制排気（ラインＬ４）することが多い。第２排気操作としては、洗浄用ガス（空気など）で復圧した後、排気手段７で強制排気することが多い。
【００２６】
各排気操作（各バッチ）時は、排ガスの流量を略一定に維持してもよく、経時的に変動（特に経時的に減少）させてもよい。しかし本発明では、後述する様に排ガスを略一定流量の酸素含有ガスと混合して希釈ガスの濃度調整することが多いため、排ガスの流量も略一定（例えば、１〜４００Ｌ／分程度、好ましくは２．５〜１００Ｌ／分程度の範囲から選択される流量で略一定）に維持すれば、各排気操作中（各バッチ中）における、希釈ガス中の有害ガス成分の濃度は略一定に維持される。なお各排気操作の間（各バッチ間）では、前述したように、排気操作（バッチ）を追うごとに排ガス中の有害ガス成分の濃度が低下していくため、希釈ガス中の有害ガス成分濃度は、図２に示す如く経時的に段階的に低下していく。一方、排ガスの流量を経時的に減少させていくと、各排気操作中（各バッチ中）でも希釈ガス中の有害ガス成分の濃度は経時的に減少していく。従って、各排気操作間（各バッチ間）を含めた全体としては、図３に示す如く経時的に略減衰波状に有害ガス成分の濃度が減少していく。本発明では、後述する如く所定の方法で有害ガス成分を酸化分解しているため、図２及び図３のいずれの濃度パターンであっても、触媒を痛めることなく酸化分解できる。
【００２７】
なお滅菌槽からの排ガスの温度は、通常、室温〜６０℃程度である。
【００２８】
［減圧操作］
前記排ガス（第１排気操作時の排気ガス、第２排気操作時の排気ガスなど）は、処理装置Ｕ２に設けられた排ガス導入弁Ｖ５を通して処理装置Ｕ２内へ取り込まれる。
【００２９】
ところが排気操作で滅菌処理槽５からバルブＶ５を通して処理装置Ｕ２へ供給される排ガスの圧力が高いことから、高濃度の有害ガス成分を含む排ガスを高圧で触媒槽１へ供給すると、触媒槽１の温度が急上昇して触媒の耐熱温度を超える恐れがある。またこの様な圧力の急変を緩衝するためにバッファータンクを設けたり、或いは触媒槽１を大型にすると装置の小型化が図れない。
【００３０】
そこで本発明では、装置の小型化を図りつつ、排ガスの圧力制御手段として、減圧手段を用いる。ＥＯ滅菌装置Ｕ１から供給される排ガスの圧力を減圧手段によって減少させれば、短時間で高濃度の有害ガス成分が触媒槽１へ供給されるという問題が解消され、触媒槽１の急激な温度上昇抑制できる。
【００３１】
減圧手段は、排ガスの圧力を調節する作用を有するものであればいずれも用いることができ、例えば流量制御弁、ニードル弁などの様に弁の開閉度合によって圧力を調節する減圧手段や、オリフィスなどの様に所定の口径を有し常時開口している減圧手段が挙げられ、特に常時開口している減圧手段（以下、オリフィスを代表例として説明する）が推奨される。
【００３２】
ニードル弁や流量制御弁などの様に弁の開閉度合を調節する減圧手段の場合、圧力や濃度、触媒処理能力などに基づいて開閉度合を精緻に制御しなければならず、操作が煩雑になるばかりか、弁の開閉具合や操作系統等のメンテナンス作業も必要になる。一方、オリフィスの場合、常時所定の口径で開口しているため、弁の開閉度合の制御を必要とせず、また上記メンテナンス作業も殆ど必要ない。したがってオリフィスを用いてＥＯ滅菌装置Ｕ１から供給される排ガスを制御すれば、該排ガスの圧力を極めて簡単に所定値以下に低下させることができる。
【００３３】
オリフィスの好ましい口径は排ガス中の有害ガス成分濃度、排ガスの圧力、排ガスの流量等により変わってくるので、これらを考慮して所定の圧力に減圧できる口径のオリフィスを適宜選択して設置すればよい。例えば、バルブＶ５を通して供給される排ガスの圧力を１００とした場合、オリフィス６ａを通過した排ガスの圧力は３ｋＰａ程度、好ましくは２ｋＰａ程度となる様にオリフィス６ａの口径を設定することが望ましい。或いはオリフィス６ａの口径をライン６Ｌの管路口径の１／８〜１／１２程度の口径とすればよい。
【００３４】
尚、オリフィスを用いる場合、ＥＯ滅菌装置Ｕ１側の排ガス圧力が十分下がったとしても、オリフィス口径が固定化されているため、排ガス量を増加させることが出来ず、処理効率の低下が生じる。そこで、図示した様にオリフィスを並列に配置し、一方のオリフィス（６ａ）はバルブＶ５の開放と共に排ガスが流れるようにしておき、一定の圧力まで減圧された時点でバルブＶ６を開放して他方のオリフィス（６ｂ）にも排ガスが流通する様にしておけば、圧力が低下した後も所定の排ガス供給量を確保できるので処理効率を維持できる。
【００３５】
この様にオリフィス（６ａ，６ｂ）を並列に設置した場合、所定の排ガス圧力に達した時点でバルブＶ６を全開する様に設定しておけば、容易に排ガス量増加が図れる。
【００３６】
尚、オリフィスの並列数は特に限定されず、３以上のオリフィスを並列させてもよい。その場合、排ガス圧力の低下に伴って順次バルブを開放してオリフィスに排ガスを流通させればよい。またこの場合のオリフィス６ｂの口径も特に限定されず、ラインＬ５と同程度〜４／５程度としてもよく、或いはオリフィス６ａよりも口径を小さくしてもよい。オリフィス６ｂは排ガス圧力が減少してから開放されるため、オリフィス６ａの口径よりも口径を大きくして排ガス流通量を確保することが望ましい。例えばオリフィス６ｂの口径は、オリフィス６ａの口径と同程度〜１２倍程度の口径とすればよい。
【００３７】
ところで、上記の如く排気操作は複数回行なわれるが、上記の如く第１バッチの排ガス圧力は高いものの、第２バッチ以降の真空ポンプ７による排気操作による排ガス圧力は第１バッチ時の排ガスよりも低い。したがって排ガス圧力の最も高い第１バッチ初期はバルブＶ６を閉止し、該排ガスの圧力が所定の値に減少した時点でバルブＶ６を開放して排ガスをオリフィス６ｂに流通させると共に、第２バッチ操作以後はバルブＶ６を開放したままにしてバッチ初期から排ガスがオリフィス６ａ及びオリフィス６ｂを流通する様にしてもよい。
【００３８】
勿論、装置の構成によっては排ガス圧力の高い各排気操作初期はバルブＶ６を閉止してオリフィス６ａにのみ排ガスを流通させてもよい。そして排ガスの圧力が所定の値に減少した時点でバルブＶ６を開放し、オリフィス６ｂを通して排ガスを供給すればよい。
【００３９】
上記構成によれば、排ガスの圧力を制御できると共に、排ガスの圧力が下がった後の排ガス処理効率も維持できる。
【００４０】
尚、排ガス圧力の測定は公知の圧力測定手段をバルブＶ５の前後、及びオリフィス６ａの後方に設け、排ガス圧力を測定してバルブＶ６の開閉操作を行なえばよい。
【００４１】
ラインＬ１２は緊急排出用ラインであって、上記圧力制御によって処理装置Ｕ２に供給される排ガスの圧力が上昇し過ぎた場合に、緊急避難的に該排ガスを系外へ排出するラインである。したがって、バルブＶ５前後に設けた圧力測定手段によって測定される排ガス圧力が所定値を超えた場合にバルブＶ７を開放すればよい。尚、この場合も希釈用酸素含有ガスをラインＬ１０からラインＬ１２に供給すれば、該ラインＬ１２を通して排出される排ガス中の有害ガス成分の濃度を低減できる。
【００４２】
［希釈操作］
処理装置Ｕ２には、酸素含有ガス（空気など）取入口８が設けられており、該酸素含有ガス取入口８から取入れられた酸素含有ガスは、ファン４によって酸素含有ガス量調整手段６ｃを通してラインＬ１３へ送給され、排ガスと酸素含有ガスと混合・希釈する。
【００４３】
混合・希釈では、安全のため、有害ガス成分（アルキレンオキサイドなど）の濃度を、爆発下限界濃度の１／４以下［例えば、７５００ｐｐｍ（容量基準）以下］にすることが多い。
【００４４】
酸素含有ガスの取り込み量（流量）は、希釈ガス中の有害ガス成分を所定濃度（例えば、爆発下限界の１／４程度）にできる限り特に限定されず、排ガスの濃度や流量に応じて適宜設定でき、例えば、排ガス流量の好ましくは１５〜３０倍程度、さらに好ましくは２０〜４０倍程度の範囲内で適宜設定できる。
【００４５】
また酸素含有ガスの流量は、排ガスの流量に併せて変動させてもよいが、略一定にすると操作が簡便である。略一定にする場合、酸素含有ガスの流量は、例えば、好ましくは０．０５〜４Ｎｍ３／分程度、さらに好ましくは０．０５〜３Ｎｍ３／分程度、最も好ましくは０．１〜２Ｎｍ３／分の範囲から選択できる。
【００４６】
このようにして得られた希釈ガス中の有害ガス成分の濃度は、排ガスの流量によっても大きく変動し、例えば、前記図２や図３にも示した様に、経時的に段階状又は減衰波状に減少していく。希釈ガス中の有害ガス成分（アルキレンオキサイドなど）の濃度は、濃い場合で９０００〜１００００ｐｐｍ（容量基準）程度［好ましくは７０００〜９０００ｐｐｍ（容量基準）程度、さらに好ましくは５０００〜７５００ｐｐｍ（容量基準）程度］であり、薄い場合で１０００ｐｐｍ（容量基準）以下程度である。このように幅広い範囲で濃度が変動しても、本発明では、後述する様に所定の方法で有害ガス成分を酸化分解することにより、触媒を痛めることなく酸化分解できる。
【００４７】
［分解操作］
希釈ガスは、加熱してから触媒槽１へ供給する。触媒槽１では、希釈ガス中の有害ガス成分を酸化し、水やＣＯ２などに分解して無害化する。触媒槽１における有害ガス成分の分解率は、例えば、９９．５％以上、好ましくは９９．９％以上、さらに好ましくは９９．９９％以上である。
【００４８】
尚、前記触媒槽１に供給する希釈ガスの温度が低すぎると、反応効率が低下する虞がある。従って、希釈ガスの温度が低すぎる場合には、触媒槽１の上流側に設けられたヒーター３で希釈ガスを加熱し、触媒ごとに定められた反応可能温度（例えば、触媒が貴金属触媒である場合、２００℃以上、好ましくは２３０℃以上、より好ましくは２５０℃以上であって、好ましくは３００℃以下、より好ましくは２８０℃以下）にするのが望ましい。
【００４９】
触媒槽１での酸化反応は発熱反応であるため、触媒槽１から排出される無害化されたガスは温度が上昇している。例えば、触媒として貴金属触媒を用いてエチレンオキサイドを処理する場合、前記反応可能温度（触媒槽の入口温度）としては２５０℃が最も好ましく、無害ガス（出口温度）は５００℃程度であることが多い。この様な高温ガスをそのまま排出することは、安全上好ましくない。従って本発明では、酸素含有ガス取入口８から取入れた酸素含有ガスの一部を該無害ガスに供給することによって、該無害ガス温度の低減を図っている。この際、無害ガスの温度が好ましくは１００℃以下、より好ましくは７０℃以下、更に好ましくは常温程度まで低下させてから大気に放出することが望ましく、バルブ８の開閉度を調節して酸素含有ガスの供給量を調節すればよい。
【００５０】
勿論、高温の無害ガスを熱交換器（図示しない）に供給し、これにより希釈ガスの予熱のために無害ガスの顕熱を有効利用すれば、エネルギー効率を高めることができる。例えば、ヒーター３を熱交換器の下流側に設けると、熱交換器における加熱の程度に応じて、ヒーター３における追加の加熱の程度を調節でき、ヒーター３に要するエネルギーを無駄に消費する虞がない。
【００５１】
［予熱操作］
処理装置Ｕ２では、排ガスを受け入れるに先立って、触媒槽１を予熱しておくのが望ましい。予熱では、例えば、酸素含有ガス取入手段８から取入れた媒体ガス（空気など）を、ヒーター３で加熱し、この加熱媒体ガスを触媒槽１に供給することによって触媒槽１を加熱する。尚、触媒槽１の加熱に利用した媒体ガスは、未だ顕熱が残っているため、ラインＬ１０から酸素含有ガスを供給して媒体ガスを所望の温度まで冷却することが望ましい。勿論、熱交換器に供給し、新たに導入する媒体ガスを加熱するのに利用してもよい。
【００５２】
予熱用の媒体ガスの流量は、上記希釈ガスの流量に対して、例えば、１００％以下、好ましくは１０〜７０％程度、さらに好ましくは２０〜６０％程度である。媒体ガスの流量を絞ることによって、熱交換器２における熱交換効率を高めることができ、エネルギー効率を高めることができる。
【００５３】
前記予熱は、触媒槽１の出口ガスが所定温度［例えば、２００℃以上（好ましくは２３０℃以上、さらに好ましくは２５０℃以上）、３５０℃以下（好ましくは３００℃以下、さらに好ましくは２８０℃以下）］になるまで継続する。
【００５４】
もっとも、操業中に触媒槽の温度が高くなりすぎる恐れがある場合は、排気ガスの予熱を行なわずにそのまま触媒槽１に供給すれば、触媒槽が高温になり過ぎるのを抑制できる。
【００５５】
本発明では、各操作をセンサ（温度センサ、濃度センサ、流量センサなど）などに対応させて自動化してもよい。
【００５６】
本発明で使用する触媒としては、公知の種々の触媒が使用できる。好ましい触媒には、貴金属触媒、例えば、下記Ａ成分から選択される少なくとも一種と、下記Ｂ成分から選択される少なくとも一種とを含有する貴金属系触媒が含まれる。
【００５７】
Ａ成分：アルミニウム、チタニウム、シリコン、ジルコニウム、セリウム、鉄
Ｂ成分：金、銀、白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、ニッケル、コバルト、クロム、マンガン、銅
前記公知の触媒（特に貴金属触媒）は、汎用型触媒と高温型触媒とに分類される。各触媒の反応可能温度は、触媒の種類に応じて下記の通り適宜設定できる。
【００５８】
汎用型触媒：約２００〜２５０℃程度（特に約２５０℃程度）
高温型触媒：約２００〜３５０℃程度（特に約２５０℃程度）
また前記各触媒の耐熱温度は、触媒の種類に応じて、下記の通り適宜設定できる。
【００５９】
汎用型触媒：約５５０℃程度
高温型触媒：約７５０℃程度
【００６０】
【実施例】
実施例１
図１に示す様な処理装置Ｕ２を用いてＥＯ滅菌装置Ｕ１から排出される滅菌排ガスの無害化処理を行なった。
【００６１】
滅菌用ガス（エチレンオキシド：２０％、ＣＯ２：８０％）をＥＯガスボンベ９から滅菌槽５（３８Ｌ）に供給し、該滅菌槽５内の温度を５０℃に設定して医療器具の滅菌処理を行なった。該滅菌槽５内の滅菌排ガス（圧力：１．２ｋｇ／ｃｍ２）をラインＬ３から自圧排気し、処理装置Ｕ２に供給した。バルブＶ５を開放して滅菌排ガスをラインＬ５（直径６ｍｍ）からオリフィス６ａ（直径０．６ｍｍ）に通し、空気（酸素含有ガス取入口８から取入れられ、ファン４で圧送されて酸素含有ガス量調整手段６ｃ（バルブ）を通して供給）と混合し希釈（希釈後の滅菌排ガス中の有害ガス成分濃度７０００ｐｐｍ）してからヒーター２で加熱（加熱温度：２５０℃）した後、触媒槽１（触媒：汎用型）に供給して酸化分解処理を行なった。該酸化分解されて得られた無害化ガス（５００℃）をラインＬ１０から供給される空気と混合してから排出した。尚、圧力検出手段をバルブＶ５近傍、オリフィス６ａ，６ｂ近傍に設置して検出し、排出ガスの圧力が所定値（２ｋＰａ）になった時点でバルブＶ６を開放（全開）して排ガスをオリフィス６ｂ（直径０．７ｍｍ）にも流通させた。
【００６２】
この実施例における触媒槽１における温度変化及び圧力変化をグラフを図５に示す。また排ガス中の有害ガス成分濃度、滅菌槽５における該ガスの圧力の変化を図６に、更に滅菌排ガス流量と圧力変化を図７に示す。
【００６３】
この実験の結果、排ガスをオリフィス６ａに通して圧力を制御することによって、触媒槽１の温度が高くなり過ぎることを防止できた。また排ガスの圧力が所定値になった時点でオリフィス６ｂを開放することで、触媒槽１での処理効率も維持できた。無害化されたガス（大気放出ガス）を調べたところ、有害ガス成分は殆ど含まれていなかった（１ｐｐｍ以下）。
【００６４】
【発明の効果】
本発明によれば、処理装置を小型化した際に必要となる圧力バッファータンクを設ける必要がないので、装置の小型化を図ることができる。しかも簡易な操作で運転でき、更に処理能力も維持できる。特に圧力制御手段６ａ，６ｂは大きな体積を必要としないため、装置を簡単に小型化でき、しかもこれら圧力制御手段を並列的に配置することによって、触媒槽に供給される排ガス量を確保できるため、処理能力も維持できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に使用する装置の一例を示す概略図である。
【図２】希釈ガス中のアルキレンオキサイド濃度の経時変化の一例を示すグラフである。
【図３】希釈ガス中のアルキレンオキサイド濃度の経時変化の他の例を示すグラフである。
【図４】本発明に使用する装置の他の例を示す概略図である。
【図５】触媒槽内における温度変化及び圧力変化を示すグラフを示すグラフである。
【図６】排ガス中の有害ガス成分濃度、滅菌槽５における該ガスの圧力の変化を示すグラフである。
【図７】滅菌排ガスの流量と滅菌槽内の圧力を示すグラフである。
【符号の説明】
１  触媒槽
２  ヒーター
２ａ  熱交換器
４  ファン
５  滅菌槽
６ａ，６ｂ  減圧手段
６ｃ  酸素含有ガス量調整手段
７  排気手段
８  酸素含有ガス（空気など）取入口
Ｌ１２  緊急放出ライン
Ｕ１  ＥＯ滅菌装置
Ｕ２  処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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