(57)【要約】【課題】高画質、小型、安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッド及び画像形成装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の光プリンタヘッドおよび画像形成装置は、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前期露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットの初期の直径は２０マイクロメートル以下であることを特徴とする。【選択図】  図１
2004227975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前記露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットの初期の直径は２０マイクロメートル以下であることを特徴とする光プリンタヘッド。
【請求項２】
少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前記露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットは１００平方マイクロメートルあたり２個以下であることを特徴とする光プリンタヘッド。
【請求項３】
少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前記露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の周辺非発光部は１０マイクロメートル以下であることを特徴とする光プリンタヘッド。
【請求項４】
少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前記露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の画素の大きさは、前記感光体上の画素の大きさよりも大きいことを特徴とする光プリンタヘッド。
【請求項５】
少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前記露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層の厚さは１マイクロメートル以上であることを特徴とする光プリンタヘッド。
【請求項６】
前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記発光層の周囲に少なくとも有機物からなるパターン形成層を含まないことを特徴とする請求項１〜５いずれか１記載の光プリンタヘッド。
【請求項７】
前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記発光層の周囲に少なくとも６０°以上の角度の構造物を含まないことを特徴とする請求項１〜６いずれか１記載の光プリンタヘッド。
【請求項８】
光を照射することにより静電潜像を形成することのできる感光体と、感光体上に一様な静電電圧を帯電させる帯電器と、画像信号に対応した光を照射することのできる光プリンタヘッドと、静電潜像にトナーを付着させトナー像を形成する現像器と、トナー像を記録紙や中間転写体等の被記録体上に転写する転写器と、残留トナーを清浄化するクリーナと、各部を制御する制御手段を備えたことを特徴とする画像形成装置であって、前記光プリンタヘッドが請求項１〜７いずれか１記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複写機、プリンタ等の電子写真方式の画像形成装置に係り、特に露光に関する光プリンタヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の技術では、感光体上に潜像を書き込むための露光方式として、光源に半導体レーザを用いたレーザービーム方式、無機ＬＥＤを線状に複数配列したＬＥＤアレイを用いたＬＥＤアレイ方式などが中心となっている。
【０００３】
レーザービーム方式プリンタの場合、感光体上に任意の潜像を形成するためには、ポリゴンミラーやミラー・レンズ等の光学系を配置する必要があり、プリンタ装置の小型化は困難である。またレーザー走査による潜像形成のためにはポリゴンミラー等の機械的駆動部が必要であるため高速・高解像度の潜像実現には多くの課題がある。
【０００４】
これに対しＬＥＤアレイ方式プリンタは、機械的駆動部がない固体走査型のプリンタヘッドとして提案されており、複数の露光素子からなるアレイ光源を用いるため、光学系を配置する空間を小さくすることができ、プリンタ装置の小型化を実現することができる。また、複数の同時に発光することのできる露光素子からなるため、短時間で画像信号の書き込みを完了することができ、高速な潜像形成が容易である。更に、機械的駆動部がないため、走査等による機械駆動ばらつきによる画質低下を抑制することができる。
【０００５】
しかしＬＥＤアレイ方式に用いるＬＥＤアレイについて、１本のプリンタヘッドに対応する大型のＬＥＤアレイを、１枚の半導体ウェハ内に形成することは困難である。このため、１本のプリンタヘッドを実現するためには複数の小さなＬＥＤチップを配列する必要があり、これにより、チップを配列する時の間隔ずれや位置ずれといったチップ配列に関する問題、あるいは、チップ間の特性ばらつきに起因した隣接画素間の光量ばらつき等の問題が生じる。また、ＬＥＤアレイ自体を安価に製造することはできるが、前記の問題を回避するためにはチップの選択、配列が必要であるため、結局ＬＥＤアレイヘッドとしては高価になるという課題もある。
【０００６】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子とは、有機材料からなる固体蛍光性物質を発光層として用いて、電界発光を利用したエレクトロルミネッセンスデバイスである。この有機エレクトロルミネッセンス素子の研究は古くから行われてきたが、１９８７年にコダック社のＣ．Ｗ．Ｔａｎｇらにより、有機材料を正孔輸送層と発光層の２層に分けた機能分離型の積層構造を有する有機エレクトロルミネッセンス素子が提案され、低電圧駆動で高輝度な発光が得られて以降、有機エレクトロルミネッセンス素子が俄然注目され始め、現在も同様な機能分離型の積層構造を有する有機エレクトロルミネッセンス素子についての研究が盛んに行われている。
【０００７】
ここで、従来の一般的な有機エレクトロルミネッセンス素子の構成について図７を用いて説明する。
【０００８】
図７は従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の要部断面図である。
【０００９】
図７において、１は基板、２は陽極、３は正孔輸送層、４は発光層、５は陰極である。
【００１０】
図７に示すように有機エレクトロルミネッセンス素子は、ガラスからなる基板上にスパッタリング法や抵抗加熱蒸着法等により形成されたＩＴＯ等の透明な導電性膜からなる陽極２と、陽極２上に同じく抵抗加熱蒸着法等により形成されたＮ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１、１’−ジフェニル−４、４’−ジアミン（以下、ＴＰＤと略称する。）等からなる正孔輸送層３と、正孔輸送層３上に抵抗加熱蒸着法等により形成された８−Ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎｅ  Ａｌｕｍｉｎｕｍ（以下、Ａｌｑ３と略称する。）等からなる発光層４と、発光層４上に抵抗加熱蒸着法等により形成されたＡｌ等からなる金属膜からなる陰極５とを備えている。
【００１１】
上記構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極２をプラス極として、また陰極５をマイナス極として直流電圧又は直流電流を印加すると、陽極２から正孔輸送層３を介して発光層４に正孔が注入され、陰極５から発光層４に電子が注入される。発光層４では正孔と電子の再結合が生じ、これに伴って生成される励起子が励起状態から基底状態へ移行する際に発光現象が起こり、陽極２と陰極５に挟まれた領域における発光が得られる。発光層に発生した光は、正孔輸送層２および基板１を介して、空気中へと取り出される。
【００１２】
また、図８に別の従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の要部断面図を示す。
【００１３】
図８において、６は正孔注入層、７は電子ブロック層、８は正孔ブロック層、９は電子輸送層、１０は電子注入層であり、各機能層を備えた機能分離型の素子を構成している。図８に示すように、陽極２を反射電極、陰極５を透明電極として形成し、上記構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極２をプラス極として、また陰極５をマイナス極として直流電圧又は直流電流を印加すると、陽極２と陰極５に挟まれた領域における発光が得られ、発光層に発生した光は、正孔ブロック層８、電子輸送層９、電子注入層１０、陰極５を介して空気中へと取り出される。また、機能層のいずれかはなくても良く、少なくとも発光層４を備えた構造であればよい。
【００１４】
現在、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたディスプレイ開発が盛んに行われており、カーオーディオや携帯電話のディスプレイとしていくつかの製品が商品化されている。この自発光型デバイスである有機エレクトロルミネッセンス素子を光源として用いることもできる。特に、有機エレクトロルミネッセンス素子は薄膜で形成されているため、小型の光プリンタヘッドを実現する露光素子を容易に実現することができる。また発光部の面積は注入電極の大きさで決定するため容易に高精細な発光部を形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を光源として用いた場合、小型、高精細な光プリンタヘッドを安価に実現することができる。
【００１５】
しかしながら有機エレクトロルミネッセンス素子は素子自身の長期安定性が問題となるため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドは実現されていない。長時間素子に電流を流すことで輝度が低下する、いわゆる経時劣化の問題はディスプレイ開発の場合と同様重要であるが、光プリンタヘッドの場合、本来の発光部においてダークスポットや周辺非発光部といった非発光部が大きくなることにより光量が減少する非発光部に関する問題も重要である。
【００１６】
従来の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、ダークスポット等の発生要因となる物質から素子を保護するために、素子表面に保護膜を形成したり、あるいは、シールド材を封着したりすることで、有機エレクトロルミネッセンス素子を外気から遮断しダークスポット等の非発光部に関する課題を解決する発明がなされている。
【００１７】
前者の保護膜を形成して有機エレクトロルミネセンス素子を封止する方法については、例えば特開平６−９６８５８号公報ではＧｅＯ、ＳｉＯ、ＡｌＦ３等をイオンプレーティング法により有機エレクトロルミネセンス素子の外表面に形成する方法が開示されている。
【００１８】
また、特開平１０−２６１４８７号公報ではＳｉ３Ｎ４やダイアモンド様炭素膜等をＥＣＲプラズマＣＶＤ法により有機エレクトロルミネセンス素子の外表面に形成する方法が開示されている。
【００１９】
さらに、特開平７−２１１４５５号公報では、吸水率１％以上の吸水物質と吸収率０．１％以下の防湿性物質からなる保護膜を形成する方法が開示されている。
【００２０】
後者のシールド材を封着して有機エレクトロルミネセンス素子を封止する方法としては、無機エレクトロルミネッセンス素子で既に用いられているように、背面電極の外側にガラス板を設け、背面電極とガラス板の間にシリコーンオイルを封入する方法や、特開平５−８９９５９号公報に開示されているように、絶縁性無機化合物からなる保護膜を形成した後、電気絶縁ガラス又は電気絶縁性気密流体によりシールドする方法、さらには特開平６−１７６８６７号公報や特開平９−１４８０６６号公報に記載の封着した気密容器内に乾燥剤を封入する方法等がある。
【００２１】
【特許文献１】
特開平６−９６８５８号公報
【特許文献２】
特開平１０−２６１４８７号公報
【特許文献３】
特開平７−２１１４５５号公報
【特許文献４】
特開平５−０８９９５９号公報
【特許文献５】
特開平６−１７６８６７号公報
【特許文献６】
特開平９−１４８０６６号公報
【００２２】
【発明が解決しようとする課題】
上記発明はいずれもダークスポットや周辺非発光部の経時変化を抑制するための発明であり、これらにより非発光部の経時変化を抑制することができるため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたディスプレイ開発ではダークスポットや周辺非発光部は大きな問題とはならなかった。しかしながら、特に光プリンタヘッドの光源として用いる場合、ディスプレイ開発時にはあまり問題視されなかった初期の有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットや周辺非発光部は大きな問題となる。特に高解像度の光プリンタヘッドにおいては、ディスプレイなどとも比較して画素の大きさが十分に小さくなるため、初期状態における微小な非発光部の発生においても、画素における光量が大きく変わるため、非常に大きな問題となる。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記従来の問題を解決し、小型・高精細でありながら安価な光プリンタヘッドを提供することを目的とする。
【００２４】
上記課題を解決するために、本発明の光プリンタヘッドは、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前記露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットの初期の直径は２０マイクロメートル以下であることを特徴とする光プリンタヘッドである。
【００２５】
この構成により、小型・高精細でありながら安価な有機エレクトロルミネッセンス素子からなる光プリンタヘッドを実現するものである。
【００２６】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、露光素子から放射された信号光を感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットの初期の直径は２０マイクロメートル以下であることを特徴とする光プリンタヘッドであって、発光面における非発光部の面積を小さくすることができ、感光体上での潜像を安定して形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを容易に形成することができ、高画質・小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することができる。
【００２７】
請求項２に記載の発明は、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、露光素子から放射された信号光を感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットは１００平方マイクロメートルあたり２個以下であることを特徴とする光プリンタヘッドであって、発光面における非発光部の面積を小さくすることができ、感光体上での潜像を安定して形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを容易に形成することができ、高画質・小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することができる。
【００２８】
請求項３に記載の発明は、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、露光素子から放射された信号光を感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、有機エレクトロルミネッセンス素子の周辺非発光部は１０マイクロメートル以下であることを特徴とする光プリンタヘッドであって、発光面における非発光部の面積を小さくすることができ、感光体上での潜像を安定して形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを容易に形成することができ、高画質・小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することができる。
【００２９】
請求項４に記載の発明は、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、露光素子から放射された信号光を感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、有機エレクトロルミネッセンス素子の画素の大きさは、感光体上の画素の大きさよりも大きいことを特徴とする光プリンタヘッドであって、発光面における非発光部の割合を小さくすることができ、感光体上での潜像を安定して形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを容易に形成することができ、高画質・小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することができる。
【００３０】
請求項５に記載の発明は、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、露光素子から放射された信号光を感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層の厚さは１マイクロメートル以上であることを特徴とする光プリンタヘッドであって、発光面におけるダークスポットや周辺非発光部といった非発光部の発生を抑制することができ、非発光部の面積を小さくすることができ、感光体上での潜像を安定して形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを容易に形成することができ、高画質・小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することができる。
【００３１】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５において有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光層の周囲に少なくとも有機物からなるパターン形成層を含まないことを特徴とする光プリンタヘッドであって、発光面におけるダークスポットや周辺非発光部といった非発光部の発生を抑制することができ、非発光部の面積を小さくすることができ、感光体上での潜像を安定して形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを容易に形成することができ、高画質・小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することができる。
【００３２】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６において有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光層の周囲に少なくとも６０°以上の角度の構造物を含まないことを特徴とする光プリンタヘッドであって、発光面における周辺非発光部といった非発光部の発生を抑制することができ、非発光部の面積を小さくすることができ、感光体上での潜像を安定して形成することができる。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを容易に形成することができ、高画質・小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することができる。
【００３３】
請求項８に記載の発明は、光を照射することにより静電潜像を形成することのできる感光体と、感光体上に一様な静電電圧を帯電させる帯電器と、画像信号に対応した光を照射することのできる光プリンタヘッドと、静電潜像にトナーを付着させトナー像を形成する現像器と、トナー像を記録紙や中間転写体等の被記録体上に転写する転写器と、残留トナーを清浄化するクリーナと、各部を制御する制御手段を備えた画像形成装置であって、光プリンタヘッドが請求項１〜７いずれか１記載の光プリンタヘッドから構成されたことを特徴とする画像形成装置であって、ダークスポットや周辺非発光部の影響のない高画質な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを用いることができるため、容易に高画質・小型・低価格な画像形成装置を実現することができる。
【００３４】
以下、本発明の光プリンタヘッドについて、詳細に説明する。
【００３５】
まず、露光素子について説明する。本発明の露光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子を光源として用いている。
【００３６】
有機エレクトロルミネッセンス素子は、ダークスポットと呼ばれる非発光部が存在し、この非発光部が長期安定性を阻害する原因として知られている。
【００３７】
図２を用いてダークスポットについて説明する。
【００３８】
図２は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子およびダークスポットの概略断面図である。
【００３９】
ダークスポットは、基板上の数μｍ程度の異物を核とし、核を中心とした同心円状に発生する非発光部のことである。このダークスポットは、空気中の水分や反応性ガスなどの影響により、時間の経過とともに拡大する。したがって、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光面は、時間の経過とともに非発光部が拡大し、発光面積が減少するといった問題がある。
【００４０】
また同様の水分や反応性ガスを原因として生じる周辺非発光部といった問題もある。周辺非発光部は、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光面を形成するための電極や画素形成部材などの凹凸部、あるいは、画素形成部材そのものから生じる水分や反応性ガスなどにより、発光面の端部から非発光部が拡大する現象である。
【００４１】
このダークスポット等の問題は、いずれも水分や反応性ガスを原因とすることが知られており、従来の技術では、水分や反応性ガスを遮断したり、さらに乾燥剤などにより水分や反応性ガスを吸収したりすることによりこれらの問題を回避している。特にディスプレイ開発においては、特開平９−１４８０６６に示すように乾燥剤を用いることによりダークスポットの拡大を抑制し、長期安定性を確保している。
【００４２】
素子作成直後の、いわゆる初期のダークスポット等は、数μｍから数１０μｍ程度の大きさであるため、ダークスポット等が拡大しなければ、目視によるダークスポット等の確認は困難である。このため有機エレクトロルミネッセンス素子をディスプレイとして用いる場合、ダークスポット等の問題を回避するためにはダークスポット等の拡大を抑制することができれば良く、乾燥剤を用いることにより初期のダークスポット等の問題は解決することができる。
【００４３】
しかしながら、有機エレクトロルミネッセンス素子を光プリンタヘッドの光源に応用した場合、ダークスポット等の拡大だけでなく、初期のダークスポット等も大きな問題となり、ダークスポット等の拡大を抑制するだけでは光プリンタの光源への応用は困難である。
【００４４】
現在、製品化されはじめている有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたディスプレイにおける１画素の大きさは、１辺が１５０μｍから３００μｍくらいであり、このため、この画素の中に数μｍから直径数１０μｍのダークスポット等が存在していても問題にならない。特にディスプレイでは、発光層から放射される光を人間の目において視認するため、初期のダークスポット等による光量の変化は実用上問題ない。これに対して有機エレクトロルミネッセンス素子を光プリンタヘッドの光源として用いた場合、初期のダークスポット等であっても、感光体上の光量に影響を与えるため、この影響を無視することができない。特に６００ｄｐｉを越える高解像度のプリンタを実現する場合、有機エレクトロルミネッセンス素子１画素の大きさが５０μｍ以下となるため、数μｍから数１０μｍの大きさである初期のダークスポットの影響は無視できなくなる。光プリンタヘッドにおいて、有機エレクトロルミネッセンス素子は感光体上に画像信号に対応した光を照射し潜像を形成するため、初期のダークスポットを原因とよる１画素の光量低下は、画質の低下の原因となる。このため光プリンタヘッドの光源として有機エレクトロルミネッセンス素子を用いる場合、初期のダークスポットや周辺非発光部の小さな素子、あるいは、数の少ない素子を用いることは重要である。
【００４５】
ダークスポット等が小さく、その数が少ない有機エレクトロルミネッセンス素子を選択して光プリンタヘッドの光源として用いる場合、歩留まりが上がらないなどの課題がある。このため、単にダークスポット等の少ない素子を選択するだけでなく、ダークスポット等の発生しにくい構造の有機エレクトロルミネッセンス素子を用いることは有効な手段となる。ダークスポット等は異物により発生する凹凸を原因として生じる。このため、基板の洗浄や平坦性を工夫するなどの方法により凹凸による影響を低減し、ダークスポット等の発生を抑制することができる。あるいは、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層の厚さを十分に厚くすることで、異物による凹凸の影響を低減し、ダークスポット等の発生を抑制することができる。従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層の厚さは０．１〜０．３μｍ程度の厚さであるため、異物により生じる凹凸を十分に覆うことができず、ダークスポット等が発生する。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層の厚さを１μｍ以上とすることで、異物による影響を低減し、ダークスポット等の発生を抑制できる。あるいは、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の周囲のパターン形成層や陽極端部、平坦化層、コンタクトホールといった部分において急峻な凹凸が形成される場合、これらの凹凸に起因した周辺非発光部が発生することもある。このため、これら発光層周囲において６０°以上の角度の構造物を含まない構成とすることで、周辺非発光部等の発生を抑制することができる。
【００４６】
図３を用いて平坦化層の形成された有機エレクトロルミネッセンス素子におけるダークスポットについて説明する。
【００４７】
図３は、本発明の平坦化層の形成された有機エレクトロルミネッセンス素子およびダークスポットの概略断面図である。
【００４８】
有機エレクトロルミネッセンス素子を発光させるためのＴＦＴと、ＴＦＴにより生じる凹凸をなくすための平坦化層、および、ＴＦＴと平坦化層上に形成された有機エレクトロルミネッセンス素子とを接続するためのコンタクトホールから形成されている。このためこの平坦化層およびコンタクトホールによるダークスポット等の発生も問題となる。
【００４９】
パターン形成層や平坦化層といった構造物を形成する場合、これらから発生する水分や反応性ガスによるダークスポット等の影響も無視できない。これらから発生する水分や反応性ガスは、乾燥剤を用いることで長期的なダークスポット等の影響を抑制することができる。しかし、空気中の水分等と異なり、発光層と直接接触する構造物からの水分等は初期のダークスポット等の大きさに強く影響を与える。したがって、これらの構造物を水分や反応性ガスを発生しやすい有機物で形成しないことで、初期のダークスポット等を抑制することができる。
【００５０】
また、素子作成時に、有機膜を凹凸に対して密着性の良い膜として形成することで、ダークスポット等を抑制することもできる。
【００５１】
図４を用いて別の有機エレクトロルミネッセンス素子におけるダークスポット等による影響抑制方法について説明する。
【００５２】
図４は、別の本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子におけるダークスポット抑制構成の概略断面図である。
【００５３】
ダークスポットや周辺非発光部の発生自体を抑制するだけでなく、ダークスポットや周辺非発光部があっても感光体上の潜像形成に影響を生じない構造とすることで良好な画像を得る方法もある。有機エレクトロルミネッセンス素子の面積を感光体の画素面積より大きく形成し、この発光層からの光を集めて感光体上に照射する構成とすることで、初期ダークスポットによる影響を抑制することができる。前述したように、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の面積に対してダークスポットの大きさが無視できないため、光プリンタの光源として有機エレクトロルミネッセンス素子を用いる場合に初期のダークスポット等の影響が生じる。したがって、有機エレクトロルミネッセンス素子の面積が十分に大きい構造とすることで、発光面における初期のダークスポット等による非発光部の割合を現象することができ、初期のダークスポット等の影響を抑制することができる。
【００５４】
また、面積の大きな有機エレクトロルミネッセンス素子から放射された光は、光学系により集光され、感光体上では所定の画素形状で照射される。
【００５５】
次に、有機エレクトロルミネッセンス素子の基板について説明する。
【００５６】
有機エレクトロルミネッセンス素子の基板は、透明あるいは不透明、いずれの基板も用いることができ、基板側から光を取り出す場合は透明基板、そうでない場合は、いずれの基板を適宜選択して用いることができ、有機エレクトロルミネッセンス素子を保持できる強度があればよい。また、有機エレクトロルミネッセンス素子の基板をドライバーＩＣの支持体として共用することもできる。
【００５７】
なお、本発明において、透明または半透明なる定義は、有機エレクトロルミネッセンス素子による発光の視認を妨げない程度の透明性を示すものである。
【００５８】
基板は、例えば、透明または半透明のソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の、無機酸化物ガラス、無機フッ化物ガラス、等の無機ガラス、あるいは、透明または半透明のポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリフッ化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリレート、非晶質ポリオレフィン、フッ素系樹脂等の高分子フィルム等、あるいは、透明または半透明のＡｓ２Ｓ３、Ａｓ４０Ｓ１０、Ｓ４０Ｇｅ１０等のカルコゲノイドガラス、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ、Ｓｉ３Ｎ４、ＨｆＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物および窒化物等の材料、あるいは、不透明のシリコン、ゲルマニウム、炭化シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム等の半導体材料、あるいは、顔料等を含んだ前記透明基板材料、表面に絶縁処理を施した金属材料、等から適宜選択して用いることができ、複数の基板材料を積層した積層基板を用いることもできる。また、この基板表面、あるいは、基板内部には、有機エレクトロルミネッセンス素子を駆動するための抵抗・コンダクタ・インダクタ・ダイオード・トランジスタ等からなる回路を形成していても良い。あるいは、これらの回路上に平坦化層を形成し、基板として用いることもできる。このような構造とすることで、発光層の面積を大きくすることもできる。平坦化層を形成する場合、前記の駆動に関する回路と有機エレクトロルミネッセンス素子とを電気的に接続するために、コンタクトホールとよばれる、いわゆる電気接続用の穴を形成し、駆動回路との接続を実現する。
【００５９】
陽極とは、正孔を注入する電極であり、正孔を効率良く発光層或いは正孔輸送層に注入することが必要である。
【００６０】
陽極としては、透明電極を用いることができる。透明電極の材料としては、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の金属酸化物、あるいは、ＳｎＯ：Ｓｂ（アンチモン）、ＺｎＯ：Ａｌ（アルミニウム）といった混合物からなる透明導電膜や、あるいは、透明度を損なわない程度の厚さのＡｌ（アルミニウム）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ａｇ（銀）といった金属薄膜や、これら金属の混合薄膜、積層薄膜といった金属薄膜や、あるいは、ポリピロール等の導電性高分子等を用いることができる。また、複数の前述透明電極材料を積層することで透明電極とすることもでき、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタ法または電界重合法等の各種の重合法等により形成する。また、透明電極は、十分な導電性を持たせるため、または、基板表面の凹凸による不均一発光を防ぐために、１ｎｍ以上の厚さにすることが望ましい。また、十分な透明性を持たせるために５００ｎｍ以下の厚さにすることが望ましい。
【００６１】
更に、陽極としては、前記透明電極以外にも、Ｃｒ（クロム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）、Ｓｎ（錫）、Ｗ（タングステン）、Ａｕ（金）等の仕事関数の大きな金属、あるいはその合金、酸化物等を用いることができ、これら陽極材料を用いた複数の材料による積層構造も用いることができる。ただし、陽極として透明電極を用いない場合、光の角度変換手段の効果を最大限に利用するためには、陽極は光を反射する材料で形成することが好ましい。なお、陽極として透明電極を用いない場合には、陰極が透明電極であればよい。
【００６２】
また、陽極に非晶質炭素膜を設けてもよい。この場合には、共に正孔注入電極としての機能を有する。即ち、陽極から非晶質炭素膜を介して発光層或いは正孔輸送層に正孔が注入される。また、非晶質炭素膜は、陽極と発光層或いは正孔輸送層との間にスパッタ法により形成されてなる。スパッタリングによるカーボンターゲットとしては、等方性グラファイト、異方性グラファイト、ガラス状カーボン等があり、特に限定するものではないが、純度の高い等方性グラファイトが適している。非晶質炭素膜が優れている点を具体的に示すと、理研計器製の表面分析装置ＡＣ−１を使って、非晶質炭素膜の仕事関数を測定すると、非晶質炭素膜の仕事関数は、Ｗｃ＝５．４０ｅＶである。ここで、一般に陽極としてよく用いられているＩＴＯの仕事関数は、ＷＩＴＯ＝５．０５ｅＶであるので、非晶質炭素膜を用いた方が発光層或いは正孔輸送層に効率よく正孔を注入できる。また、非晶質炭素膜をスパッタリング法にて形成する際、非晶質炭素膜の電気抵抗値を制御するために、窒素あるいは水素とアルゴンの混合ガス雰囲気下で反応性スパッタリングする。さらに、スパッタリング法などによる薄膜形成技術では、膜厚を５ｎｍ以下にすると膜が島状構造となり均質な膜が得られない。そのため、非晶質炭素膜の膜厚が５ｎｍ以下では、効率のよい発光が得られず、非晶質炭素膜の効果が期待できない。また、非晶質炭素膜の膜厚を２００ｎｍ以上とすると、膜の色が黒味を帯び、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光が十分に透過しなくなる。
【００６３】
陽極とは、正孔輸送層に正孔を効率良く注入するための電極であり、効率良く正孔を注入するためには、陽極の仕事関数と正孔輸送層のイオン化ポテンシャルとの関係が強く影響する。したがって、陽極上に仕事関数の適していない金属や、イオン化ポテンシャルの適していない絶縁体などを用いて、パターン形成層を形成することで、陽極をパターニングすることなく容易に発光する発光層の形状を自由に作成することができる。
【００６４】
ここで、発光層としては、可視領域で蛍光特性を有し、かつ成膜性のよい蛍光体からなるものが好ましく、Ａｌｑ３やＢｅ−ベンゾキノリノール（ＢｅＢｑ２）の他に、２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４’−ビス（５，７−ベンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、４，４’−ビス〔５，７−ジ−（２−メチル−２−ブチル）−２−ベンゾオキサゾリル〕スチルベン、２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ベンチル−２−ベンゾオキサゾリル）チオフィン、２，５−ビス（〔５−α，α−ジメチルベンジル〕−２−ベンゾオキサゾリル）チオフェン、２，５−ビス〔５，７−ジ−（２−メチル−２−ブチル）−２−ベンゾオキサゾリル〕−３，４−ジフェニルチオフェン、２，５−ビス（５−メチル−２−ベンゾオキサゾリル）チオフェン、４，４’−ビス（２−ベンゾオキサイゾリル）ビフェニル、５−メチル−２−〔２−〔４−（５−メチル−２−ベンゾオキサイゾリル）フェニル〕ビニル〕ベンゾオキサイゾリル、２−〔２−（４−クロロフェニル）ビニル〕ナフト〔１，２−ｄ〕オキサゾール等のベンゾオキサゾール系、２，２’−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスベンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系、２−〔２−〔４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル〕ビニル〕ベンゾイミダゾール、２−〔２−（４−カルボキシフェニル）ビニル〕ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系等の蛍光増白剤や、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ−８−キノリノール）亜鉛、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）アルミニウムオキシド、トリス（８−キノリノール）インジウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、８−キノリノールリチウム、トリス（５−クロロ−８−キノリノール）ガリウム、ビス（５−クロロ−８−キノリノール）カルシウム、ポリ〔亜鉛−ビス（８−ヒドロキシ−５−キノリノニル）メタン〕等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピンドリジオン等の金属キレート化オキシノイド化合物や、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）２−メチルベンゼン等のスチリルベンゼン系化合物や、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス〔２−（１−ナフチル）ビニル〕ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス〔２−（４−ビフェニル）ビニル〕ピラジン、２，５−ビス〔２−（１−ピレニル）ビニル〕ピラジン等のジスチルピラジン誘導体や、ナフタルイミド誘導体や、ペリレン誘導体や、オキサジアゾール誘導体や、アルダジン誘導体や、シクロペンタジエン誘導体や、スチリルアミン誘導体や、クマリン系誘導体や、芳香族ジメチリディン誘導体等が用いられる。さらに、アントラセン、サリチル酸塩、ピレン、コロネン等も用いられる。あるいは、ファク−トリス（２−フェニルピ��ジン）イリジウム等の燐光発光材料や、あるいは、ＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）、ポリフルオレン等のポリマー発光材料等を用いてもよい。
【００６５】
また、発光層のみの単層構造の他に、正孔輸送層と発光層又は発光層と電子輸送層の２層構造や、正孔輸送層と発光層と電子輸送層の３層構造のいずれの構造でもよい。但し、このような２層構造又は３層構造の場合には、正孔輸送層と陽極が、又は電子輸送層と陰極が接するように積層して形成される。あるいは、正孔輸送層と発光層との間に電子ブロック層を設けた構造や、発光層と電子輸送層との間に正孔ブロック層を設けた構造、あるいは、陽極と正孔輸送層との間に正孔注入層を設けた構造や電子注入層と陰極の間に電子注入層を設けた構造など、機能分離した層を適宜選択し積層あるいは混合層とした複数層構造であってもよい。
【００６６】
そして、正孔輸送層としては、正孔移動度が高く、透明で成膜性の良いものが好ましい。ＴＰＤの他に、ポルフィン、テトラフェニルポルフィン銅、フタロシアニン、銅フタロシアニン、チタニウムフタロシアニンオキサイド等のポリフィリン化合物や、１，１−ビス｛４−（ジ−Ｐ−トリルアミノ）フェニル｝シクロヘキサン、４，４’，４’’−トリメチルトリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（Ｐ−トリル）−Ｐ−フェニレンジアミン、１−（Ｎ，Ｎ−ジ−Ｐ−トリルアミノ）ナフタレン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−２−２’−ジメチルトリフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノビフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−４，Ｎ，Ｎ−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−４，４’−ジアミン、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾ−ル等の芳香族第三級アミンや、４−ジ−Ｐ−トリルアミノスチルベン、４−（ジ−Ｐ−トリルアミノ）−４’−〔４−（ジ−Ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン等のスチルベン化合物や、トリアゾール誘導体や、オキサジザゾール誘導体や、イミダゾール誘導体や、ポリアリールアルカン誘導体や、ピラゾリン誘導体や、ピラゾロン誘導体や、フェニレンジアミン誘導体や、アニールアミン誘導体や、アミノ置換カルコン誘導体や、オキサゾール誘導体や、スチリルアントラセン誘導体や、フルオレノン誘導体や、ヒドラゾン誘導体や、シラザン誘導体や、ポリシラン系アニリン系共重合体や、高分子オリゴマーや、スチリルアミン化合物や、芳香族ジメチリディン系化合物や、ポリ３−メチルチオフェン等の有機材料が用いられる。また、ポリカーボネート等の高分子中に低分子の正孔輸送層用の有機材料を分散させた、高分子分散系の正孔輸送層も用いられる。また、これらの正孔輸送材料は正孔注入材料、あるいは、電子ブロック材料として用いることもできる。
【００６７】
また、電子輸送層としては、１，３−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−１，３，４−オキサジアゾリル）フェニレン（ＯＸＤ−７）等のオキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、あるいはＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）、ＢＡｌｑ、ＢＣＰ（バソフプロイン）等が用いられる。また、これらの電子輸送材料は電子注入材料、あるいは、正孔ブロック材料として用いることもできる。
【００６８】
ここで、陰極としては、電子を注入する電極であり、電子を効率良く発光層或いは電子輸送層に注入することが必要であり、仕事関数の小さいＡｌ（アルミニウム）、Ｉｎ（インジウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｔｉ（チタン）、Ａｇ（銀）、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）等の金属、あるいは、これらの金属の酸化物やフッ化物およびその合金、積層体等が一般に用いられる。一度光／空気界面へと到達して、フレネル反射等により空気中へ取出されなかった光は、再び素子内部へと伝播し陰極へと到達する。或いは、発光層において、光は等方的に放射されるため、発光層で放射される光のうち半分は、光取り出し面に到達する前に陰極へと到達する。このとき、陰極が光を反射する材料で形成されていた場合、この陰極へ到達した光は反射され、再び、光取出し面方向へと伝播することができ、有効な光として利用される可能性がある。この効果を有効にするためには、陰極は光を反射する材料で形成することが好ましく、更に、光の反射率が５０％以上であることが好ましい。なお、以上のことは、陰極を透明電極として用いた場合には、陽極に適用される。
【００６９】
また、陰極としては、発光層或いは電子輸送層と接する界面に、仕事関数の小さい金属を用いた光透過性の高い超薄膜を形成し、その上部に透明電極を積層することで、透明陰極を形成することもできる。特に仕事関数の小さなＭｇ、Ｍｇ−Ａｇ合金、特開平５−１２１１７２号公報記載のＡｌ−Ｌｉ合金やＳｒ−Ｍｇ合金あるいはＡｌ−Ｓｒ合金、Ａｌ−Ｂａ合金等あるいはＬｉＯ２／ＡｌやＬｉＦ／Ａｌ等の積層構造は陰極材料として好適である。
【００７０】
更に、これら陰極の成膜方法としては抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタ法が用いられる。
【００７１】
なお、陽極及び陰極は少なくとも一方が透明電極であればよい。更に、共に透明電極であってもよいが、光の取り出し効率を向上させるためには、一方が透明電極であれば、他方が光を反射する材料で形成することが好ましい。
【００７２】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子を外気から遮断し、長時間安定性を保証するために素子表面に保護膜を形成することもある。保護膜の材料としては、ＳｉＯＮ、ＳｉＯ、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＬｉＦ等の無機酸化物、無機窒化物、無機フッ化物からなる薄膜、あるいは、無機酸化物、無機窒化物、無機フッ化物等、あるいは、それらの混合物等からなるガラス膜、あるいは、熱硬化性、光硬化性の樹脂や封止効果のあるシラン系の高分子材料等が挙げられ蒸着やスパッタリング等もしくは塗布法により形成される。
【００７３】
ドライバーＩＣは、Ｓｉ、ＧａＡｓ等の無機半導体およびこれらの酸化物絶縁体、金属配線等からなり、抵抗、コンダクタ、インダクタ、トランジスタ、電源等の電気回路により構成される。ドライバーＩＣは、各有機エレクトロルミネッセンス素子の配線パターンを介して、選択的に電流を流すことにより、任意の有機エレクトロルミネッセンス素子を点灯することができる。
【００７４】
ドライバーＩＣには、任意の有機エレクトロルミネッセンス素子に任意の電圧を印加する電圧駆動型と任意の電流を印加する電流駆動型の２種類があるが、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光は電流値に対して直線的に変化するため、電流駆動型ドライバーであれば簡単な方式の駆動が可能である。あるいは、発光輝度と電圧の関係を把握し設計することで、安価な電圧駆動型ドライバーを用いた駆動を行うことも可能である。有機エレクトロルミネッセンス素子とドライバーＩＣとは、配線電極を介して電気的に接続されており、適宜、任意の画像を形成することが可能である。
【００７５】
また、多数の画素で画像を形成する場合、画像の品質を安定させるためには、印加した電流値をフィードバックする回路や、トランジスタ特性を補正する回路などの画像品質補償回路をドライバＩＣに内蔵することが好ましい。
【００７６】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、レーザプリンタ、スキャナ等の電子写真方式の画像形成装置の光源として用いることができる。
【００７７】
次に本発明の電子写真方式の画像形成装置の一例を図１に示す。感光体は少なくとも指示部材と、光を照射することで導伝性の変化する光導伝層とからなり、光を照射することで感光体表面の導伝性を制御し、画像情報に対応した像を形成することができる。
【００７８】
不均一な表面電位分布をしている感光体は、接触あるいは非接触帯電方式等による帯電手段により帯電させることで、感光体表面に所定の電位に一様に帯電した帯電面を形成する。帯電方法としては、感光体表面に非接触でコロナ放電させ帯電させる方式と、感光体表面に電圧を印加した帯電ローラやファーブラシローラ、磁気ブラシローラあるいは帯電ブレードといった帯電部を接触させる方式とがあり、近年ではオゾンの発生を抑制できる、あるいは、帯電部における消費電力が小さい等の理由により接触帯電方式が実用化されており、いずれの帯電方法を用いてもよい。また、感光体に付加されるバイアスは直流バイアスでもよいが、正弦波、矩形波、三角波等の交番バイアスを印加することもでき、任意の周期的なＯＮ・ＯＦＦ信号からなるバイアスでもよい。
【００７９】
この感光体帯電面に対し、前記露光手段を用いて画像情報に基づいた光を照射することで、感光体帯電面上に画像情報に対応した表面電位からなる電気的な潜像が形成される。この電気的な潜像は、トナー付着手段において静電気力により絶縁性トナーを付着され、画像情報に対応した感光体表面のトナー像として現像される。現像方法には、接触現像法や非接触現像法、１成分現像法や２成分現像法、あるいは、反転現像法や正規現像法などの現像方法があり、いずれの現像方法を用いてもよい。現像器における印加電圧は、前記帯電体のバイアスと同様であり、任意の直流あるいは交番バイアスを適宜選択して用いることができる。
【００８０】
更にこの感光体上のトナー像は、トナー転写手段において、所定の押圧力と転写バイアスとにより紙面あるいはベルトやドラムからなる中間転写体といった転写材上のトナー像として転写される。転写方式としては、ローラ転写・ブレード転写・コロナ放電転写などの転写方式があり、適宜選択して用いることができる。
【００８１】
最終的にトナー像をうけた転写材は感光体面から分離され、最終的に熱定着等の定着手段により印刷対象物の表面に定着され印刷物として排出される。また、トナー像転写後の感光体は、適宜クリーニング手段等により残留しているトナーを除去され表面を清浄化される。
【００８２】
モノクロプリンタの場合、トナーとしてブラックトナーを用い、前記画像形成装置および定着手段、給排紙手段等によりモノクロプリンタとして実現される。
【００８３】
フルカラープリンタの場合、異なる４つのトナー付着手段を用い、それぞれブラックトナー、シアントナー、マゼンタトナー、イエロートナーを、それぞれの画像情報に対応した潜像をそれぞれのトナー像として現像し、転写することで所定のフルカラー印刷物として印刷物上に転写される。あるいは、それぞれの画像情報に対応した潜像に対し、複数の画像情報をまとめてひとつのトナー像として現像し、転写することでフルカラー印刷物を実現できる。あるいは、ブラック、シアン、マゼンタ、イエローに対応して複数の画像形成装置を配置し、それぞれのトナー像を転写することでフルカラー印刷物を実現する。また、これらの任意のプロセスをひとつの着脱可能なプロセスカートリッジとしてまとめることもできる。
【００８４】
このような構成の画像形成装置においては、まず感光体上にイエロー成分の画像情報に従い潜像が形成され、転写が行われる。このとき、同時にマゼンタ成分の潜像が形成され、イエロー成分の転写に引き続きマゼンタ成分の転写が行われる。以下同様にして、シアン成分、ブラック成分の順にトナー像の重ね合わせが行われ、フルカラー印刷物が形成される。
【００８５】
以下に本発明の実施の形態について説明する。
【００８６】
（実施の形態１）
本発明の実施の形態における画像形成装置について述べる。
【００８７】
図１は、本発明の実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた画像形成装置における光プリンタヘッド部の概略断面図である。
【００８８】
図１において、基板１、陽極２、正孔輸送層３、発光層４、陰極５、画素形成部材１２は従来の技術で説明したものと同様のものであるので、同一の符号を付して説明を省略する。また、１８は光学系、１９は感光体である。
【００８９】
本実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドでは、有機エレクトロルミネッセンス素子部は画素形成部材１２により画素が形成されている。また、画素形成部材１２は基板１に対して４５°の角度のテーパを形成しており、この構造により周辺非発光部１４を抑制している。
【００９０】
また、発光層４から放射された光は、光学系１８により効果的に感光体１９上に照射される。
【００９１】
本実施の形態においては、正孔輸送層と発光層からなる二層構造の場合について説明したが、その構造については前述のように特にこれに限定されるものではない。また、本実施の形態においては、基板上面に陽極を形成する構造の場合について説明したが、その構造については前述のように特にこれに限定されるものではなく、基板上面に陰極を形成することも可能である。封止の形態については、保護膜を形成して封止する等の適宜手段を採用することができる。他に保護膜とシールド材等との組み合わせであっても何等問題ない。
【００９２】
以上のように、従来構成では有機エレクトロルミネッセンス素子は、素子内部の凹凸によりダークスポットや周辺非発光部といった非発光部により光量がばらつくため安定した画質を得ることが困難であったが、本実施の形態によれば画素形成部材は４５°のテーパ角を形成しているため、初期の周辺非発光部の発生を抑制することができるため、高画質・小型・安価の有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することが可能である。
【００９３】
（実施の形態２）
本発明の別の実施の形態における画像形成装置について述べる。
【００９４】
図５は、本発明の実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた画像形成装置における光プリンタヘッド部の概略断面図である。
【００９５】
図５において、基板１、陽極２、正孔輸送層３、発光層４、陰極５、異物１１は従来の技術で説明したものと同様のものである。
【００９６】
本実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドでは、有機エレクトロルミネッセンス素子部は２μｍの厚さの正孔輸送層３を用いて形成されており、この構造によりダークスポットおよび周辺非発光部を抑制している。
【００９７】
また、発光層から放射された光は、光学系１８により効果的に感光体１９上に照射される。
【００９８】
本実施の形態においては、正孔輸送層と発光層からなる二層構造の場合について説明したが、その構造については前述のように特にこれに限定されるものではない。また、本実施の形態においては、基板上面に陽極を形成する構造の場合について説明したが、その構造については前述のように特にこれに限定されるものではなく、基板上面に陰極を形成することも可能である。封止の形態については、保護膜を形成して封止する等の適宜手段を採用することができる。他に保護膜とシールド材等との組み合わせであっても何等問題ない。
【００９９】
以上のように、従来構成では有機エレクトロルミネッセンス素子は、素子内部の凹凸によりダークスポットや周辺非発光部といった非発光部により光量がばらつくため安定した画質を得ることが困難であったが、本実施の形態によれば正孔輸送層は２μｍの厚さで形成しているため、初期のダークスポットおよび周辺非発光部の発生を抑制することができるため、高画質・小型・安価の有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを実現することが可能である。
【０１００】
（実施の形態３）
次に、本発明の実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた画像形成装置について述べる。
【０１０１】
図６は、本発明の別の実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた画像形成装置の概略断面図である。
【０１０２】
図６において、光プリンタヘッド部は実施の形態２の技術で説明したものと同様のものであり、また、２０は帯電手段である帯電器、２１はトナー付着手段である現像器、２２はトナー転写手段である転写器、２４は定着手段である定着器、２３はクリーニング手段であるクリーナである。
【０１０３】
本実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた画像形成装置では、光プリンタヘッド部は感光体表面に配置されており、また、有機エレクトロルミネッセンス素子部は、２μｍの厚さの正孔輸送層からなる有機エレクトロルミネッセンス素子からなる。
【０１０４】
本実施の形態においては、正孔輸送層と発光層からなる二層構造の場合について説明したが、その構造については前述のように特にこれに限定されるものではない。また、本実施の形態においては、基板上面に陽極を形成する構造の場合について説明したが、その構造については前述のように特にこれに限定されるものではなく、基板上面に陰極を形成することも可能である。封止の形態については、保護膜を形成して封止する等の適宜手段を採用することができる。他に保護膜とシールド材等との組み合わせであっても何等問題ない。
【０１０５】
以上のように、従来構成では感光体上に照射される光が安定しないため有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドを用いた場合安定した画像を得ることは困難であった。本実施の形態によれば初期のダークスポット等の影響がないため、容易に有機エレクトロルミネッセンス素子を光プリンタヘッドの光源として用いることができるため、高画質・小型・安価な画像形成装置を実現することが可能である。特に複数の画像形成装置を配置したフルカラー電子写真方式プリンタを実現する場合、本実施例における小型の画像形成装置を用いることで、小型のフルカラー電子写真方式プリンタを安価に実現することができる。
【０１０６】
【実施例】
（実施例１）
低温ポリシリコンからなるＴＦＴアレイの形成された石英の透明基板を、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、金属マスクを介して画素部分にＣｒ約５０ｎｍの膜厚で形成し、さらにＩＴＯを約１５０ｎｍの膜厚で形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極として成膜した。
【０１０７】
このＴＦＴアレイ基板表面に、スピンコート法によりネガレジスト材を塗布し、厚さ３μｍのレジスト膜を形成し、発光部のみレジスト膜が形成されないように、発光部のみ露光されるパターンのマスクを介して、露光、現像した後、１２０℃に加熱したオーブンにて２０分間ベークすることで、非発光部をレジスト膜からなる画素形成部材により被覆したＴＦＴアレイ基板とした。また、オーブンの熱処理により画素形成部材の端部は２０°のテーパーとした。
【０１０８】
次に、このＴＦＴアレイ基板を、洗剤（フルウチ化学社製、セミコクリーン）による５分間の超音波洗浄、純水による１０分間の超音波洗浄の順に洗浄処理した後、窒素ブロアーで基板に付着した水分を除去し、さらに加熱して乾燥した。
【０１０９】
次に、ＴＦＴアレイ基板の表面に、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、正孔輸送層としてＴＰＤを約５０ｎｍの膜厚で形成し、その正孔輸送層上に発光層としてＡｌｑ３を約５０ｎｍの膜厚で形成した。なお、ＴＰＤとＡｌｑ３の蒸着速度は、共に０．２ｎｍ／ｓであった。
【０１１０】
さらに１５ａｔ％のＬｉを含むＡｌ−Ｌｉ合金を蒸着源として、金属マスクによりパターニングされた陰極を１０ｎｍの膜厚で成膜した。
【０１１１】
次に、Ａｌ−Ｌｉ陰極上に２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した低ダメージスパッタ装置内にて、金属マスクによりマスクし、正孔輸送層上に膜厚１６０ｎｍのＩＴＯ膜を成膜した。
【０１１２】
次に、同様に低ダメージスパッタ装置内にて、有機エレクトロルミネッセンス素子上に、膜厚３μｍの窒化シリコン膜を保護膜として成膜した。
【０１１３】
これにより、それぞれの画素が独立に駆動することのできる線状のアクティブマトリックス型の露光素子を形成した。なお、独立した画素の配列間隔および画素形状はプリンタ解像度により決定され、実施例１においてはレジストで形成された画素形成部材により構成されており、１２００ｄｐｉに対応した一辺２０μｍの正方形状の画素とした。
【０１１４】
次に、支持部材上に形成された感光体表面に、露光素子の長手方向と感光体の幅方向とが一致する方向で配置し、次にコロナ放電方式による非接触型の帯電器、正規現像方式による現像器、ローラ転写方式による転写器およびクリーナを配置し、それぞれ支持体により固定した。
【０１１５】
（実施例２）
ガラスからなる透明基板上に、膜厚１６０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜上にレジスト材をスピンコート法により塗布して厚さ５μｍのレジスト膜を形成し、マスク、露光、現像してレジスト膜を所定の形状にパターニングした。
【０１１６】
次に、この基板を６０℃で５０％の塩酸中に浸漬して、レジスト膜が形成されていない部分のＩＴＯ膜をエッチングした後、レジスト膜も除去し、所定のパターンのＩＴＯ膜からなる陽極が形成されたパターニング基板を得た。
【０１１７】
このＩＴＯ基板表面に、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、画素形成部材としてＣｒを１００ｎｍの厚さで成膜し、ＩＴＯと同様に、Ｃｒ膜上にレジスト材をスピンコート法により塗布して厚さ５μｍのレジスト膜を形成し、発光部にＣｒ膜が形成されない形状となるように、発光部のみ露光されるパターンのマスクを介して、露光、現像した後、Ｃｒのエッチング液を用いてウェットエッチングを施した。これにより非発光部をＣｒ膜からなる画素形成部材により被覆したＩＴＯパターニング基板とした。なおウェットエッチングにより形成したＣｒの画素形成部材の端部は１０°のテーパーとした。
【０１１８】
次に、このパターニング基板を、洗剤（フルウチ化学社製、セミコクリーン）による５分間の超音波洗浄、純水による１０分間の超音波洗浄の順に洗浄処理した後、窒素ブロアーで基板に付着した水分を除去し、さらに加熱して乾燥した。
【０１１９】
次に、ＩＴＯパターニング基板の表面に、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、正孔注入層としてＣｕＰｃを約８００ｎｍの厚さで形成し、その正孔注入層上に正孔輸送層としてＴＰＤを約１５０ｎｍの膜厚で形成し、その正孔輸送層上に発光層としてＡｌｑ３を約１００ｎｍの膜厚で形成した。なお、ＣｕＰｃの蒸着速度は１．０ｎｍ／ｓ、ＴＰＤとＡｌｑ３の蒸着速度は、共に０．２ｎｍ／ｓであった。
【０１２０】
さらに１５ａｔ％のＬｉを含むＡｌ−Ｌｉ合金を蒸着源として、金属マスクによりパターニングされた陰極を１０ｎｍの膜厚で成膜した。
【０１２１】
次に、Ａｌ−Ｌｉ陰極上に２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した低ダメージスパッタ装置内にて、金属マスクによりマスクし、正孔輸送層上に膜厚１６０ｎｍのＩＴＯ膜を成膜した。
【０１２２】
次に、同様に低ダメージスパッタ装置内にて、有機エレクトロルミネッセンス素子上に、膜厚３μｍの酸窒化シリコン膜を保護膜として成膜した。
【０１２３】
これにより、それぞれの画素が独立に駆動することのできる線状の単純マトリックス型の露光素子を形成した。なお、独立した画素の配列間隔および画素形状はプリンタ解像度により決定され、実施例２においてはＣｒで形成された画素形成部材により構成されており、１２００ｄｐｉに対応した一辺２０μｍの正方形状の画素とした。
【０１２４】
次に、支持部材上に形成された感光体表面に、露光素子の長手方向と感光体の幅方向とが一致する方向で配置し、次にコロナ放電方式による非接触型の帯電器、正規現像方式による現像器、ローラ転写方式による転写器およびクリーナを配置し、それぞれ支持体により固定した。
【０１２５】
（実施例３）
低温ポリシリコンからなるＴＦＴアレイの形成された石英の透明基板を、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、金属マスクを介して画素部分にＮｉを約２００ｎｍの膜厚で形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極として成膜した。
【０１２６】
このＴＦＴアレイ基板表面に、スピンコート法によりネガレジスト材を塗布し、厚さ３μｍのレジスト膜を形成し、発光部のみレジスト膜が形成されないように、発光部のみ露光されるパターンのマスクを介して、露光、現像した後、１２０℃に加熱したオーブンにて２０分間ベークすることで、非発光部をレジスト膜からなる画素形成部材により被覆したＴＦＴアレイ基板とした。また、オーブンの熱処理により画素形成部材の端部は２０°のテーパーとした。
【０１２７】
次に、このＴＦＴアレイ基板を、洗剤（フルウチ化学社製、セミコクリーン）による５分間の超音波洗浄、純水による１０分間の超音波洗浄の順に洗浄処理した後、窒素ブロアーで基板に付着した水分を除去し、さらに加熱して乾燥した。
【０１２８】
次に、ＴＦＴアレイ基板の表面に、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、正孔輸送層としてＴＰＤを約５０ｎｍの膜厚で形成し、その正孔輸送層上に発光層としてＡｌｑ３を約５０ｎｍの膜厚で形成した。なお、ＴＰＤとＡｌｑ３の蒸着速度は、共に０．２ｎｍ／ｓであった。
【０１２９】
さらに１５ａｔ％のＬｉを含むＡｌ−Ｌｉ合金を蒸着源として、金属マスクによりパターニングされた陰極を１０ｎｍの膜厚で成膜した。
【０１３０】
次に、Ａｌ−Ｌｉ陰極上に２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した低ダメージスパッタ装置内にて、金属マスクによりマスクし、正孔輸送層上に膜厚１６０ｎｍのＩＴＯ膜を成膜した。
【０１３１】
次に、同様に低ダメージスパッタ装置内にて、有機エレクトロルミネッセンス素子上に、膜厚３μｍの窒化シリコン膜を保護膜として成膜した。
【０１３２】
それぞれの画素が独立に駆動することのできる線状の露光素子を形成した。なお、独立した画素の配列間隔はプリンタ解像度により決定され、実施例３においてはレジストで形成された画素形成部材により構成されており、１２００ｄｐｉに対応した２０μｍの画素間隔で形成される。また画素の形状は副走査方向に長い２０×２００μｍの長方形状であり、有機エレクトロルミネッセンス素子から放出された光は、光学系により集光され照射されるため、感光体上では一辺２０μｍの正方形の画素として照射される。
【０１３３】
次に、支持部材上に形成された感光体表面に、露光素子の長手方向と感光体の幅方向とが一致する方向で配置し、次にコロナ放電方式による非接触型の帯電器、正規現像方式による現像器、ローラ転写方式による転写器およびクリーナを配置し、それぞれ支持体により固定した。
【０１３４】
（比較例１）
膜厚１６０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜上にレジスト材をスピンコート法により塗布して厚さ３μｍのレジスト膜を形成し、マスク、露光、現像してレジスト膜を所定の形状にパターニングした。次に、この基板を６０℃で５０％の塩酸中に浸漬して、レジスト膜が形成されていない部分のＩＴＯ膜をエッチングした後、レジスト膜も除去し、所定のパターンのＩＴＯ膜からなる陽極が形成されたパターニング基板を得た。
【０１３５】
次に、このパターニング基板を、洗剤（フルウチ化学社製、セミコクリーン）による５分間の超音波洗浄、純水による１０分間の超音波洗浄、アンモニア水１（体積比）に対して過酸化水素水１と水５を混合した溶液による５分間の超音波洗浄、７０℃の純水による５分間の超音波洗浄の順に洗浄処理した後、窒素ブロアーで基板に付着した水分を除去し、さらに加熱して乾燥した。
【０１３６】
次に、パターニング基板の陽極側の表面に、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、正孔輸送層としてＴＰＤを約５０ｎｍの膜厚で形成した。
【０１３７】
次に、同様に抵抗加熱蒸着装置内にて、正孔輸送層上に発光層としてＡｌｑ３を約５０ｎｍの膜厚で形成した。なお、ＴＰＤとＡｌｑ３の蒸着速度は、共に０．２ｎｍ／ｓであった。
【０１３８】
次に、同様に抵抗加熱蒸着装置内にて、発光層上に１５ａｔ％のＬｉを含むＡｌ−Ｌｉ合金を蒸着源として、陰極を１５０ｎｍの膜厚で所定の形状に成膜し、それぞれの画素が独立に駆動することのできる線状の露光素子を形成し、ガラスからなる封止部材およびＵＶ硬化樹脂により封止した。なお、独立した画素の配列間隔および画素形状はプリンタ解像度により決定され、１２００ｄｐｉに対応した一辺２０μｍの正方形状の画素とした。
【０１３９】
次に、感光体の表面に、露光素子の長手方向と感光体の幅方向とが一致する方向で配置し、露光素子を支持体により固定した。
【０１４０】
次にコロナ放電方式による非接触型の帯電器、正規現像方式による現像器、ローラ転写方式による転写器およびクリーナを配置し、それぞれ支持体により固定した。
【０１４１】
（比較例２）
低温ポリシリコンからなるＴＦＴアレイおよび発光部に厚さ約１５０ｎｍのＩＴＯからなる陽極の形成された石英の透明基板表面に、スピンコート法によりネガレジスト材を塗布し、厚さ３μｍのレジスト膜からなる平坦化膜形成し、発光部のみレジスト膜が形成されないように、発光部のみ露光されるパターンのマスクを介して、露光、現像することで、ＴＦＴアレイ非発光部をレジスト膜からなる画素形成部材により被覆したＴＦＴアレイ基板とした。また、画素形成部材の端部は約６０°のテーパーである。
【０１４２】
次に、このＴＦＴアレイ基板を、洗剤（フルウチ化学社製、セミコクリーン）による５分間の超音波洗浄、純水による１０分間の超音波洗浄の順に洗浄処理した後、窒素ブロアーで基板に付着した水分を除去し、さらに加熱して乾燥した。
【０１４３】
次に、ＴＦＴアレイ基板の表面に、２×１０−６Ｔｏｒｒ以下の真空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内にて、正孔輸送層としてＴＰＤを約５０ｎｍの膜厚で形成し、その正孔輸送層上に発光層としてＡｌｑ３を約５０ｎｍの膜厚で形成した。なお、ＴＰＤとＡｌｑ３の蒸着速度は、共に０．２ｎｍ／ｓであった。
【０１４４】
次に、同様に抵抗加熱蒸着装置内にて、発光層上に１５ａｔ％のＬｉを含むＡｌ−Ｌｉ合金を蒸着源として、陰極を１５０ｎｍの膜厚で所定の形状に成膜し、ガラスからなる封止部材およびＵＶ硬化樹脂により封止した。なお、独立した画素の配列間隔および画素形状はプリンタ解像度により決定され、１２００ｄｐｉに対応した一辺２０μｍの正方形状の画素とした。
【０１４５】
次に、感光体の表面に、露光素子の長手方向と感光体の幅方向とが一致する方向で配置し、露光素子を支持体により固定した。
【０１４６】
次にコロナ放電方式による非接触型の帯電器、正規現像方式による現像器、ローラ転写方式による転写器およびクリーナを配置し、それぞれ支持体により固定した。
【０１４７】
【表１】
2004227975.tif 000003
【０１４８】
ここで、（表１）の評価項目における評価方法及びその評価基準について説明する。
【０１４９】
ダークスポットは、基板上の有機エレクトロルミネッセンス露光素子における発光面積に対するダークスポットによる非発光部の面積の割合について評価した。評価は、◎、○、△の三段階評価であり、その評価基準は、比較例１のダークスポットに対して、◎：非常に優れている、○：優れている、△：許容できるである。また、ダークスポットがあっても光量に問題を与えない場合については−で示してある。
【０１５０】
また、周辺非発光部は、基板上の有機エレクトロルミネッセンス露光素子における発光面積に対する周辺非発光部による非発光部の面積の割合について評価した。評価は、◎、○、△、×の四段階評価であり、その評価基準は、比較例１の周辺非発光部に対して、◎：非常に優れている、○：優れている、△：許容できる、×：非常に劣っているである。また、周辺非発光部があっても光量に問題を与えない場合については−で示してある。
【０１５１】
また、感光体上光量は、基板上の有機エレクトロルミネッセンス露光素子から放出される光を感光体上に照射した場合の感光体上の各画素の光量について評価した。評価は、◎、○、△、×の四段階評価であり、その評価基準は、比較例１の照射光量に対して、◎：非常に優れている、○：優れている、△：許容できる、×：非常に劣っているである。
【０１５２】
（表１）から明らかなように実施例１、２の画像形成装置は、比較例１の画像形成装置に対して、ダークスポット、周辺非発光部、感光体上の光量において、すべて優れた結果となった。特に、実施例２においては、周辺非発光部と感光体上の光量が比較例と比べて非常に優れた結果となった。また実施例３の画像形成装置は、比較例の画像形成装置に対して、感光体上の光量についてのみ優れた結果となった。しかし、実施例３におけるダークスポットや周辺非発光部については、感光体上の光量にほとんど影響をおよぼさないため、比較例に比べて非序に優れた結果である。また、比較例２は、発光部周辺にレジストが配されているため比較例１と比べても劣った結果となっている。本実施例の画像形成装置は比較例１、２に対しダークスポットや周辺非発光部を抑制することができ、感光体上の光量を安定させることができるため、画質に優れた小型で安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドおよびこれを用いた画像形成装置であることがわかる。
【０１５３】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、少なくとも、データ信号に対応した信号光を放射することのできる複数の発光素子をライン状に配列した露光素子と、信号光が照射されることにより任意の潜像を形成することのできる感光体と、前記露光素子から放射された信号光を前記感光体の適当な位置に照射することのできる光伝送部とからなる光プリンタヘッドであって、前記露光素子は、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子のダークスポットの初期の直径は２０マイクロメートル以下であることを特徴とする光プリンタヘッドとすることで、高画質で小型・安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光プリンタヘッドおよびこれを用いた画像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子写真方式の画像形成装置の概略断面図
【図２】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子およびダークスポットの概略断面図
【図３】本発明の平坦化層の形成された有機エレクトロルミネッセンス素子およびダークスポットの概略断面図
【図４】別の本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子におけるダークスポット抑制構成の概略断面図
【図５】本発明の実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた画像形成装置における光プリンタヘッド部の概略断面図
【図６】本発明の別の実施の形態における有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた画像形成装置における光プリンタヘッド部の概略断面図
【図７】従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の要部断面図
【図８】別の従来の有機エレクトロルミネセンス素子の要部断面図
【符号の説明】
１  基板
２  陽極
３  正孔輸送層
４  発光層
５  陰極
６  正孔注入層
７  電子ブロック層
８  正孔ブロック層
９  電子輸送層
１０  電子注入層
１１  異物
１２  画素形成部材
１３  ダークスポット
１４  周辺非発光部
１５  ＴＦＴ
１６  平坦化層
１７  コンタクトホール
１８  光学系
１９  感光体
２０  帯電器
２１  現像器
２２  転写器
２３  クリーナ
２４  定着器
【図１】
2004227975.tif 000004
【図２】
2004227975.tif 000005
【図３】
2004227975.tif 000006
【図４】
2004227975.tif 000007
【図５】
2004227975.tif 000008
【図６】
2004227975.tif 000009
【図７】
2004227975.tif 000010
【図８】
2004227975.tif 000011