(57)【要約】　　　（修正有）【課題】大面積の基板に対しても均一な障壁高さを有し、異常放電が少なく高い信頼性を有した電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法を提供する。【解決手段】導電層と、複数の開口部と、少なくとも隣り合う二つの前記開口部の間の前記導電層上に設けられた複数の無機材料から成る障壁層とを備えた無機導電性シ−トが、無機透明材料により透明基板上に固定され、前記無機導電性シ−トの開口部位置に対応する前記無機透明材料上に蛍光体層が形成されていることを特徴とするものである。【選択図】　図１
2004127728.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電層と、複数の開口部と、少なくとも隣り合う二つの前記開口部の間の前記導電層上に設けられた複数の無機材料から成る障壁層とを備えた無機導電性シ−トが、無機透明材料により透明基板上に固定され、前記無機導電性シ−トの開口部位置に対応する前記無機透明材料上に蛍光体層が形成されていることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用の前面板。
【請求項２】
前記無機導電性シ−トは少なくとも透明基板と接する面が黒色を呈していることを特徴とする請求項１に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板。
【請求項３】
前記障壁層が無機導電性材料、もしくは導電性を付与された無機材料からなることを特徴とする請求項１ないし２のいずれかに記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板。
【請求項４】
前記無機透明材料が焼成されたガラスペ−ストであり、前記導電性シ−トの導電層と障壁層が所定部分のみ露出して該焼成されたガラスペ−ストによって埋め込まれて透明基板上に固定されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板。
【請求項５】
前記障壁層の上部が絶縁処理されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法において、
（Ａ）導電性のめっき用支持体上に導電層、障壁層を順次めっき法で形成し導電性シ−トを作製する工程、
（Ｂ）前記導電性シ−トを前記めっき用支持体から剥離する工程、
（Ｃ）前記導電性シ−トの少なくとも障壁層を設けていない一主表面を黒化処理する工程、
（Ｄ）前記黒化処理した導電性シ−トを透明基板上に黒化処理面を接して無機透明材料により固定する工程、
（Ｅ）前記導電性シ−トを固定した透明基板の開口部位置に対応する前期透明材料上に蛍光体層を形成する工程、とを含むことを特徴とする電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法
【請求項７】
前記無機導電性シ−トが電解めっき、または無電解めっきによる黒化処理により黒色を呈していることを特徴とする請求項６に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法。
【請求項８】
請求項６において、無機透明材料が焼成されたガラスペ−ストであり、透明基板上および導電性シ−ト上の所定部分にガラスペ−ストを塗布し、焼成することにより、前記導電性シ−トを透明基板上に黒化処理面を接して固定することを特徴とする電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法。
【請求項９】
請求項６において、無機透明材料が焼成されたガラスペ−ストであり、透明基板上および導電性シ−ト上の所定部分にガラスペ−ストを前記障壁層を覆う厚さに塗布し、次にサンドブラスト法で不要部分の絶縁性ガラスペ−ストを除去した後、焼成することにより、前記導電性シ−トを透明基板上に黒化処理面を接して固定することを特徴とする電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電界放出型ディスプレイに用いる前面板とその前面板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
コンピュ−タのディスプレイ端末装置や壁掛けテレビ等の方式として、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイが実用化されている。これらの平面ディスプレイの中で、電界放出型ディスプレイ（フィ−ルドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ））は消費電力が小さく、高輝度、高精細で、視野角が広くて見やすいのが特徴で、一般家庭への普及が期待されている。
【０００３】
一般に、電界放出型ディスプレイは、背面板と前面板より成る一対の平坦なガラス等の絶縁基板を、スペ−サ部材を介して対向に配置し、平板状の真空容器を形成した構造を有している。一方の背面板（カソ−ド基板）には、ガラス基板上に電気信号により電子を放出するマトリックス状に配置した電子放出素子（エミッタ電極）と、絶縁層を介してゲ−ト電極が設けられている。他方の前面板（アノ−ド電極）には、ガラス基板上にアノ−ド電極と、エミッタ電極から放出された電子により可視発光する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の蛍光体層が設けられており、従来より種々の改良が成されてきている。
【０００４】
例えば、電界放出型ディスプレイ用前面板として、外光の反射率を低減させることによりコントラストを向上し、ディスプレイとして見やすくするために、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素以外の場所を低反射材料のブラックマトリックス層で埋める方法が行われている。ブラックマトリックス層としては、低反射の酸化クロム等を真空成膜しフォトリソグラフィ法によりパタ−ン形成したもの、黒色インク層を印刷によりパタ−ン形成したもの等がある。
【０００５】
また、電界放出型ディスプレイ用前面板では、エミッタ電極から放出された電子の散乱や、あるいは放出電子が蛍光体を発光させる時などに生じる反射電子が、隣接する他の領域の蛍光体層に入射し、コントラストや色純度を低下させて表示画質が劣化するという問題がある。このため、例えば、電界放出型ディスプレイ用前面板に、ガラスを母材としてブラックマトリックスを蛍光体膜層よりも突出させ、例えば、高さ５０μｍのリブ状凸部を形成し、表面全体を導電薄膜層で被覆することが行われている（特許文献１参照）。
【０００６】
しかし、特許文献１が示すように、絶縁物であるガラス材で障壁層を形成したままの電界放出型ディスプレイでは、動作時に障壁層に電荷が蓄積し、障壁層のチャ−ジアップにより後から放出された電子が曲げられ、効率のよい表示が行えないので、導電性付与のための金属薄膜形成工程が必須となり工程が複雑になるという問題があった。
【０００７】
そこで、最近では、電界放出型ディスプレイ用前面板の製造においては、ガラス基板上に真空成膜法等により形成された導電性の中間層を給電層として用いて、電気めっきにより障壁を形成する方法が行われてきている（例えば、特許文献２、特許文献３、特許文献４参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−１８５６７３公報（第５頁、段落００２６、第１図）
【特許文献２】
特開２００２−３３０５８号公報（第８頁〜第９頁、第１１図、第１２図）
【特許文献３】
特願２００２−４２０５５号
【特許文献４】
特願２００２−１９１０９３号
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の特許文献２〜４に示される方法のように、真空成膜法等で形成された導電性薄膜の中間層を給電層とすると、基板サイズが大きくなった場合に導電性の中間層の薄膜抵抗が無視できなくなり、めっき厚の制御が難しくなるといった問題がある。また、その薄膜抵抗のために、めっきの際に流せる電流量に限界があり、めっき時間が増大するといった問題もあった。さらに、めっきにて形成された障壁はその全面が金属部として露出しているが、特に障壁の上部において金属部が露出していると、背面板と組み合わせて電界放出型ディスプレイ装置として表示した場合に、背面板との間に印加されている高電圧のために異常放電が起こる起点となり易いといった問題があった。
【００１０】
上記のような問題は、絶縁材料であるガラス基板等の透明基板上に電解めっきを行うために真空成膜等で形成した導電性の薄膜を用いなければならないことと、障壁が金属で形成された後、放電の起点となり易い部分に絶縁処理を施していないことに起因している。すなわち、基板が絶縁材料であるため、基板の裏面から給電を行なえず、薄膜に電流を流さねばならないこと、障壁表面が全て露出している等の理由による。
【００１１】
また、従来の製造方法は、ブラックマトリックス層、導電性中間層、応力緩衝層、障壁層をガラス基板等の透明基板上に順次積み上げて形成していく。すなわち、割れ易くハンドリングが難しいガラス基板上において、ブラックマトリックス層、導電性中間層、応力緩衝層、障壁層の形成といった少なくとも４工程を行なわなければならず、歩留りと品質低下を招いていた。
【００１２】
そこで、本発明はこのような技術課題、問題点を解消するためになされたものである。その目的は、従来の方法では困難であった大面積の基板に対しても均一な障壁高さを有し、異常放電が少なく高い信頼性を有した電界放出型ディスプレイ用の前面板およびその製造方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板は、導電層と、複数の開口部と、少なくとも隣り合う二つの前記開口部の間の前記導電層上に設けられた複数の無機材料から成る障壁層とを備えた無機導電性シ−トが、無機透明材料により透明基板上に固定され、前記無機導電性シ−トの開口部位置に対応する前記無機透明材料上に蛍光体層が形成されているようにしたものである。本発明によれば、大きな面積にわたり均一な厚さの障壁層を有する高品質の電界放出型ディスプレイ用の前面板が提供される。
【００１４】
また、請求項２に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板は、前記無機導電性シ−トは少なくとも透明基板と接する面が黒色を呈しているようにしたものである。本発明によれば、コントラストの高い画像を表示する電界放出型ディスプレイ用の前面板が提供される。また、好ましい態様として、請求項３に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板は、前記障壁層が無機導電性材料、もしくは導電性を付与された無機材料からなることを特徴とするものである。
【００１５】
また、請求項４に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板は、前記無機透明材料が焼成されたガラスペ−ストであり、前記導電性シ−トの導電層と障壁層が所定部分のみ露出して該焼成されたガラスペ−ストによって埋め込まれて透明基板上に固定されているようにしたものである。本発明によれば、導電性シ−トと透明基板が一体化した電界放出型ディスプレイ用の前面板が提供される。また、好ましい態様として、請求項５に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板は、前記障壁層の上部が絶縁処理されているようにしたものである。本発明によれば、障壁層上部を絶縁処理することができるので、異常放電が起こりにくく、高信頼性を有した電界放出型ディスプレイ用の前面板が提供される。
【００１６】
請求項６に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法は、
（Ａ）導電性のめっき用支持体上に導電層、障壁層を順次めっき法で形成し導電性シ−トを作製する工程、
（Ｂ）前記導電性シ−トを前記めっき用支持体から剥離する工程、
（Ｃ）前記導電性シ−トの少なくとも障壁層を設けていない一主表面を黒化処理する工程、
（Ｄ）前記黒化処理した導電性シ−トを透明基板上に黒化処理面を接して無機透明材料により固定する工程、
（Ｅ）前記導電性シ−トを固定した透明基板の開口部位置に対応する前期透明材料上に蛍光体層を形成する工程、とを含むようにしたものである。本発明によれば、予めブラックマトリックス層と障壁層が一体となった導電性シ−トを形成後に、透明性の高い絶縁性ガラスペ−ストを用いて透明基板であるガラス基板上に、所定部分のみ露出するようにして貼り付けており、上記導電性シ−トは金属板等をめっき支持体としたエレクトロフォ−ミング法で作製されることにより、均一なめっき厚を得られ易く、かつ大電流を流すことが可能であるため、めっき時間の短縮も図られる製造方法が提供される。
本発明は、ブラックマトリックス層と導電層（従来の導電性中間層と応力緩衝層とを兼ねた層）と障壁層が一体となった導電性シ−トを別個に形成しておき、最後にガラス基板に接着することから、高歩留りと高品質を実現する製造方法が提供される。
【００１７】
また、請求項７に記載の電解放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法は、前記無機導電性シ−トが電解めっき、または無電解めっきによる黒化処理により黒色を呈しているようにしたものである。
【００１８】
また、請求項８に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法は、無機透明材料が焼成されたガラスペ−ストであり、透明基板上および導電性シ−ト上の所定部分にガラスペ−ストを塗布し、焼成することにより、前記導電性シ−トを透明基板上に黒化処理面を接して固定することを特徴とするようにしたものである。
【００１９】
請求項９に記載の電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法は、無機透明材料が焼成されたガラスペ−ストであり、透明基板上および導電性シ−ト上の所定部分にガラスペ−ストを前記障壁層を覆う厚さに塗布し、次にサンドブラスト法で不要部分の絶縁性ガラスペ−ストを除去した後、焼成することにより、前記導電性シ−トを透明基板上に黒化処理面を接して固定するようにしたものである。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図１は本発明の電界放出型ディスプレイ用前面板の第１の実施の形態を模式的に示す部分平面図であり、図２は図１のＡ−Ａ線、図３はＢ−Ｂ線における断面図である。図４は本発明の電界放出型ディスプレイ用前面板の第２の実施の形態を模式的に示す部分平面図であり、図５、図６はそれぞれ図４のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線における断面図である。
尚、本発明では、蛍光体層を形成するだけで前面板として使用できる状態のものも、電界放出型ディスプレイ用の前面板とする。
【００２１】
尚、比較のために従来の形態の例として、特許文献３に記載されている実施例の一つを図７に示し、図７のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線における断面図を図８、図９にそれぞれ示す。特許文献３の実施例に記載されている電界放出型ディスプレイ用部材３０は、ガラス基板等の透明基板３２上に複数の開口部３７を有するブラックマトリックス層３３、導電層３４、応力緩衝層３５、障壁層３６が設けられており、ブラックマトリックス層３３は透明基板３２上に、蒸着法やスパッタ法等の真空成膜法にて形成されて密着している。開口部３７は蛍光体層が塗布される部分である。
【００２２】
（第１の実施形態）
本発明における第１の実施形態を図１、図２および図３に示す。電界放出型ディスプレイ用の前面板１０は、複数の開口部１６が形成された導電層１３上に、障壁上部が焼成されたガラスペ−スト１９ａによって絶縁処理された障壁層１５を有し、かつ少なくとも障壁層が形成されていない導電層１３の一主表面側に黒化膜１３ａを有する導電性シ−トが、前記黒化膜１３ａ面側を透明基板１８に接するように、焼成されたガラスペ−スト１９ａによって透明基板１８に密着固定されている。開口部１６はそれぞれがＲ、Ｇ、Ｂの蛍光体層を１色毎に塗布して形成される部分である。尚、上記導電性シ−トは少なくとも障壁層１５の側面と導通等をとるための導電層１３の端部の所定部分が，焼成されたガラスペ−スト１９ａから露出した状態で透明基板１８に固定されている。
【００２３】
図１０の（ａ）〜（ｇ）およびそれに続く図１１の（ｈ）〜（ｌ）は、図１に示した本発明の第１の実施形態に関わる電界放出型ディスプレイ用の前面板の製造方法を示す工程図である。図１０、図１１は図１のＢ−Ｂ線による断面から示した製造工程図である。図１０および図１１に基づいて本発明の製造方法を説明する。
【００２４】
図１０（ａ）に示すように、導電性のめっき用支持体１１を用意する。めっき用支持体１１はプラスチック等の非金属材料に導電性を付与した基板でもよいが、作業性、価格等の点から金属板が使い易く、銅板、ニッケル板、ニッケルめっきした銅板、黄銅板等が用いられる。めっき用支持体１１は通常のエレクトロフォ−ミング法の手順に沿って、表面を研磨して平滑にし、必要に応じて表面粗さを調整しておく。また、めっき後の剥離性をよくするために、めっき用支持体１１表面に予め酸化物、硫化物、クロム酸塩等の薄い剥離用皮膜を設けておくことも可能である。また、導電性シ−トを作製後に、めっき用支持体１１をエッチングで除去する方法も支持体が比較的薄い場合には可能である。
【００２５】
先ず、めっき用支持体１１の前処理を行い、その一主表面上に、フォトリソグラフィ法により導電層形成のための第１のフォトレジストパタ−ン１２を形成し（図１０（ｂ））、このフォトレジストパタ−ン１２に基づいて、露出しためっき用支持体１１の金属上に電気めっきして導電層１３を形成し（図１０（ｃ））、次いで第１のフォトレジストパタ−ンを剥離する（図１０（ｄ））。
【００２６】
次に、再びフォトリソグラフィ法により障壁層形成のための第２のフォトレジストパタ−ン１４を形成し（図１０（ｅ））、このフォトレジストパタ−ン１４に基づいて、露出した導電層１３上に電気めっきして障壁層１５を形成し（図１０（ｆ））、次いで第２のフォトレジストパタ−ン１４を剥離する（図１０（ｇ））。
【００２７】
尚、上記導電層１３としては、銅、銀、金、白金、パラジウム、鉄、ニッケル、コバルト、ロジウム、亜鉛等からなる金属の１種類、または２種類以上の組み合わせ、またはこれらの合金が使用できる。導電層１３としてニッケルを用いる場合には、種々のめっき浴が用いられるが、めっき応力の調整が容易でエレクトロフォ−ミングで一般的に使用されているスルファミン酸ニッケル浴が好ましい。導電層１３の厚みは、１〜５０μｍの範囲で設定できるが、めっき用支持体１１から剥して用いるので、ある程度の機械的強度が必要であることと、後述のガラス基板に固定する場合の密着性を考慮に入れると、５〜２０μｍの厚さに設定するのがより好ましい。
【００２８】
また、障壁層１５の材質としては、銅、銀、金、白金、パラジウム、鉄、ニッケル、コバルト、ロジウム、亜鉛等からなる金属の１種類、または２種類以上の組み合わせ、またはこれらの合金が使用できる。障壁層１５の大きさは、ディスプレイとして求められる性能に応じて決められる。導電性の障壁層は散乱電子や反射電子の入射を防ぎ、隣接する蛍光体層への不必要な発光を防止するために設けられるので、蛍光体層の大きさに依存するが、好ましくは高さ２０〜１００μｍ、幅１０〜５０μｍ、長さは蛍光体層の長さとほぼ同等か数１０μｍ長い範囲で設定できる。図１、図１０（ｇ）では、障壁層１５の形状として直方体の場合を示しているが、これに限定されず、底面が円形、多角形、両端部が幅広い形状等、適宜設定することができる。
【００２９】
続いて、めっき用支持体１１から導電層１３を剥して、導電層１３と障壁層１５と開口部１６を備えた導電性シ−ト１７を得る（図１１（ｈ））。導電層１３を剥す方法は、エレクトロフォ−ミング法で通常用いられている方法が適用でき、静かに一定速度で支持体上から剥離する。
【００３０】
次に、導電性シ−ト１７を黒化処理することにより、図１１（ｉ）に示すように、少なくとも障壁の形成されていない面に黒化膜１３ａを形成した導電性シ−ト１７ａとする。黒化処理方法としてはカ−ボンブラック等からなる黒色インクを印刷する方法、スプレ−塗布する方法、金属表面を硫化処理する方法等があるが、電解もしくは無電解による黒色めっき方法が所定厚さの安定した無機の黒色膜を形成できるので好ましい。例えば、黒色ニッケルめっき、黒色クロムめっき、黒色ロジウムめっき、黒色ルテニウムめっき、黒色錫銅ニッケルめっき等が挙げられるが、これらの黒色めっき方法は公知であるので詳細説明は省略する。尚、黒色めっきが不要な部分は、予めマスキングをしてめっきをすればよい。
【００３１】
次に、ガラス基板等の透明基板１８上に、導電性シ−ト１７ａの障壁層が形成されていない面の黒化膜１３ａ側が接するように位置合わせして仮固定し（図１１（ｊ））、導電性シ−ト１７ａ上に無機透明材料としてガラスペ−スト１９を塗布する（図１１（ｋ））。仮固定は治具等でガラスペ−ストを塗布しない部分を押さえる方法等を用いればよく、塗布時には、焼成後に障壁層１５の側面と導電層１３の所定部分はガラスペ−スト１９から露出するように、ガラスペ−スト１９の塗布量および塗布エリアを調整する。
【００３２】
透明基板としては、電界放出型ディスプレイに用いられる厚さ０．５〜３．０ｍｍ程度のガラス基板、石英基板等が使用できる。尚、本発明では透明基板上に予め酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ等の透明電極パタ−ンを設けた基板も使用可能である。また、本発明は、各障壁層を導通回路によって相互に導通する目的で透明基板上に障壁層導通回路を予め設けた基板にも適用できる。
【００３３】
ガラスペ−ストとしては、ＰｂＯ等を主成分とする低融点ガラスフリット（ＰｂＯ、Ａｌ２Ｏ３，Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２等）、バインダ−樹脂（例えば、ニトロセルロ−ス、エチルセルロ−ス、アルカリ樹脂等）、溶剤からなり、必要に応じて添加剤が加えられたものであり、焼成後に透明性が高いガラスペ−ストが好ましい。ガラスペ−ストの塗布方法としては、ダイコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、スクリ−ン印刷法、ディスペンス法、電界ジェット法等の従来公知の方法が適用できる。
【００３４】
次いで、ガラスペ−ストを焼成することで導電性シ−ト１７ａと透明基板１８を密着固定し、本発明の電界放出型ディスプレイ用前面板１０を得る（図１１（ｌ））。本実施形態では、ガラスペ−ストを用いて焼成することにより、導電性シ−トの所定部分を埋め込んで透明基板ガラスに強固に接着し、導電性シ−トと基板ガラスを一体化させる。
【００３５】
次に、本発明において、前面板を構成する蛍光体層は従来の電界放出型ディスプレイの前面板と同様の蛍光体材料、蛍光体形成方法を用いて作製できる。すなわち、従来使用されている材料と同様の赤色発色蛍光体層、緑色発色蛍光体層、青色発色蛍光体層を用い、従来と同様のフォトリソグラフィ法等の方法によりパタ−ニングし、導電性シ−トの開口部１６の位置に対応するガラスペ−スト上に蛍光体層を形成することができる。パタ−ニングされた蛍光体層は所定温度で加熱して蛍光体層中の有機成分を除去し、本発明の電界放出型ディスプレイの前面板が得られる。
【００３６】
本発明の電界放出型ディスプレイの前面板は、導電層および障壁層を含む導電性シ−トが全て同電位となり、反射電子や散乱電子は障壁層に吸収され、電子を吸収した障壁層の電荷は導電層を介して分散するので、障壁層のチャ−ジアップは防止される。さらに、障壁層の上部は焼成されたガラスペ−ストにより絶縁処理されているために、異常放電が起こりにくく高信頼性を有する。
【００３７】
（第２の実施の形態）
本発明における第２の実施形態を図４、図５および図６に示す。電界放出型ディスプレイ用の前面板２０は、複数の開口部１６が形成された導電層１３上に、複数の障壁１５を有し、かつ少なくとも障壁が形成されていない導電層の一面側に黒化膜１３ａを有する導電性シ−トが、前記黒化膜面側を透明基板１８に接するように焼成されたガラスペ−スト２１ｂによって透明基板１８に密着固定されている。開口部１６はそれぞれがＲ、Ｇ、Ｂの蛍光体層を１色毎に塗布して形成される部分である。尚、上記導電性シ−トは少なくとも障壁層１５の側面と、導電層１３の所定部分が焼成されたガラスペ−スト２１ｂから露出した状態で固定されている。
【００３８】
図４に示した本発明の第２の実施形態に関わる電界放出型ディスプレイ用前面板の製造方法は、途中工程までは図１０およびそれに続く図１１に示した第１の実施形態と同じである。すなわち、図１０（ａ）から図１１（ｊ）までの工程は同じなので、この間の工程の説明は省略し、図１１（ｊ）に続く図１２（ｍ）〜（ｎ）について述べる。
【００３９】
図１１（ｊ）に示すように、ガラス基板等の透明基板１８上に黒化膜１３ａ側が接するように導電性シ−ト１７ａを仮固定した基板を用意し、次に、導電性シ−ト１７ａ上から障壁層１５を覆うようにガラスペ−スト２１を塗布し（図１２（ｍ））、仮焼成して溶剤等を留去後、サンドブラスト法にて障壁層上部、および障壁間に塗布された余分なガラスペ−ストをサンドブラスト２２し、所定の厚さにまで除去する（図１２（ｎ））。次に、本焼成することで、焼成したガラスペ−スト２１ｂにより導電性シ−ト１７ａを透明基板１８に密着固定させ、本発明の電界放出型ディスプレイ用の前面板を得る（図１２（ｏ））。本実施形態では、ガラスペ−ストを用いて焼成することにより、導電性シ−トの所定部分を埋め込んで透明基板ガラスに強固に接着し、導電性シ−トと基板ガラスを一体化させる。
【００４０】
尚、このとき焼成後に障壁層１５の側面と導電層１３の所定部分はガラスペ−スト２１ｂから露出するように、ガラスペ−ストの塗布エリアは例えばスクリ−ン印刷法によって規定でき、障壁層１５の側面の露出量はサンドブラスト条件の調整によって制御を行なうことができる。
【００４１】
透明基板としては、実施形態１と同様の電界放出型ディスプレイに用いられる厚さ０．５〜３．０ｍｍ程度のガラス基板、石英基板等が使用できる。尚、本発明では透明基板上に予め酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ等の透明電極パタ−ンを設けた基板も使用可能である。また、本発明は、各障壁層を導通回路によって相互に導通する目的で透明基板上に障壁層導通回路を予め設けた基板にも適用できる。
【００４２】
ガラスペ−ストとしては、実施形態１と同様の材料を同様の塗布方法により塗布することができる。　すなわち、ガラスペ−ストとしては、ＰｂＯ等を主成分とする低融点ガラスフリット（ＰｂＯ、Ａｌ２Ｏ３，Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２等）、バインダ−樹脂（例えば、ニトロセルロ−ス、エチルセルロ−ス、アルカリ樹脂等）、溶剤からなり、必要に応じて添加剤が加えられたものであり、焼成後に透明性が高いガラスペ−ストが好ましい。ガラスペ−ストの塗布方法としては、ダイコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、スクリ−ン印刷法、ディスペンス法、電界ジェット法等の従来公知の方法が適用できる。
【００４３】
本発明において、前面板を構成する蛍光体層は従来の電界放出型ディスプレイの前面板と同様の蛍光体材料、蛍光体形成方法を用いて作製できる。すなわち、従来使用されている材料と同様の赤色発色蛍光体層、緑色発色蛍光体層、青色発色蛍光体層を用い、従来と同様のフォトリソグラフィ法等の方法によりパタ−ニングし、導電性シ−トの開口部１６の位置に対応する焼成したガラスペ−スト上に蛍光体層を形成することができる。パタ−ニングされた蛍光体層は所定温度で加熱して蛍光体層中の有機成分を除去し、本発明の電界放出型ディスプレイの前面板が得られる。
【００４４】
本発明の電界放出型ディスプレイの前面板は、導電層および障壁層を含む導電シ−トが全て同電位となり、反射電子や散乱電子は障壁層に吸収され、電子を吸収した障壁層の電荷は導電層を介して分散するので、障壁層のチャ−ジアップは防止される。
【００４５】
【実施例１】
表面が平坦なステンレス基板上に１５μｍ厚のドライフィルムレジスト（ニチゴ−・モ−トン（株）製アルファＮＩＴ２１５）をラミネ−トし、露光し、現像して、導電層およびアライメントマ−ク用の開口部を有したレジストパタ−ンを形成した。続いて、上記レジストパタ−ンの開口部にスルファミン酸ニッケル浴にてニッケルめっきを行い、厚さ１５μｍのめっき層を形成した後、レジストを剥離してニッケルから成る導電層とアライメントマ−クを得た。
【００４６】
次に、５０μｍ厚のドライフィルムレジストを導電層の上からラミネ−トし、長方形の開口部（２８０μｍ×３０μｍ）を有したレジストパタ−ンを形成し、上記開口部にスルファミン酸ニッケル浴でニッケルめっきした後、レジストを剥離して、高さ４０μｍのニッケルより成る障壁層を形成した。
【００４７】
続いて、下地のステンレス基板から導電層を剥離して、導電層と開口部と障壁層を有した導電性シ−トを得た。導電性シ−トの大きさは約５０ｍｍ×５０ｍｍであった。
尚、上記めっき工程時の給電はステンレス基板の裏側から行なうことができるため、基板サイズが大きくなっても均一なめっき厚を得ることが可能である。
【００４８】
次に、黒色ニッケルめっき浴（硫酸ニッケル：硫酸ニッケルアンモニウム：硫酸亜鉛：チオシアン酸ナトリウム＝７０：４０：２５：２０（ｇ／Ｌ））により、上記導電性シ−トの障壁層が形成されていない面の全面にめっきを行ない黒化膜を形成した。
【００４９】
次いで、上記導電性シ−トを障壁層が形成された面の反対側をガラス基板に接するように冶具で仮固定し、スクリ−ン印刷法にてガラスペ−ストを障壁層の上部と、露出している導電層上および開口部上に塗布し、焼成することにより障壁層の上部が絶縁処理されると共に、ガラス基板に導電性シ−トが固定された。
【００５０】
この部材を用いて蛍光体層を有する前面板を作製し、別途作製した背面板と組み合わせて電界放出型ディスプレイを作製して表示させたところ、異常放電等の少ない高品質の画像が得られた。
【００５１】
【実施例２】
表面が平坦な銅基板上に１５μｍ厚のドライフィルムレジスト（ニチゴ−・モ−トン（株）製アルファＮＩＴ２１５）をラミネ−トし、露光し、現像して、導電層およびアライメントマ−ク用の開口部を有したレジストパタ−ンを形成した。続いて上記レジストパタ−ンの開口部にニッケル−コバルト合金めっきにて厚さ２０μｍのめっき層を形成した後、レジストを剥離してニッケル−コバルト合金から成る導電層とアライメントマ−クを得た。
【００５２】
次に、５０μｍ厚のドライフィルムレジストを導電層の上からラミネ−トし、長方形の開口部（２８０μｍ×３０μｍ）を有したレジストパタ−ンを形成し、上記開口部にニッケルめっきし、続いてレジストを剥離して、ニッケルより成る高さ約３５μｍの障壁層を形成した。
その後、下地の銅基板のみを過硫酸アンモニウム水溶液（１０ｇ／Ｌ）にてエッチング除去して、ニッケルより成る障壁層を有した導電性シ−トを得た。
尚、上記めっき工程時の給電は銅基板の裏側から行なうことができるため、基板サイズが大きくなっても均一なめっき厚を得ることが可能である。
【００５３】
次に、上記導電性シ−トの障壁層が形成されていない面に黒色ニッケルめっきを行ない黒化膜を形成した。続いて、障壁層が形成された面の反対側をガラス基板に接するように冶具で仮固定し、スクリ−ン印刷にて障壁層が完全に埋まるように所定部分に厚くガラスペ−ストを塗布し、仮焼成を行なった後、サンドブラスト法によって開口部に残存するガラスペ−ストがほぼ３０μｍ程度になるまでガラスペ−ストを除去し、障壁層側面を露出させた。その後、本焼成することによりガラス基板へ導電性シ−トが固定された。
【００５４】
この部材を用いて蛍光体層を有する前面板を作製し、別途作製した背面板と組み合わせ電界放出型ディスプレイを作製して表示させたところ、高品質の画像が得られた。
【００５５】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、電解放出型ディスプレイの前面板を、予め導電層と障壁層が一体となった導電性シ−トを金属板上で形成した後、金属板から剥離し、ガラス基板上にガラスペ−ストで密着固定させるので、従来のガラス基板上における電解めっきのように給電の制約がなく、大きなサイズの基板に対してもめっき厚を均一にすることが可能となる。また、めっき電流量も大きくすることが可能であり、めっき時間を短縮することができる。また、本発明の電解放出型ディスプレイの前面板は、焼成したガラスペ−ストがガラス基板と一体化されることにより、少なくとも導電層がガラス材質中に埋め込まれているような形態となり、機械強度的にも高い耐久性を示す。さらに、本発明の第１の実施形態の例によれば、障壁層の上部が焼成されたガラスペ−ストにより絶縁されているため、電界放出型ディスプレイとして表示させた時に、異常放電が起こりにくく高い信頼性を有する。
さらに、電解めっき工程を、取り扱いにくいガラス基板上で行なわずに済むことから、歩留りの向上も期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電界放出型ディスプレイの前面板の第１の実施の形態を示す部分平面図
【図２】図１のＡ−Ａ線における断面模式図
【図３】図１のＢ−Ｂ線における断面模式図
【図４】本発明の電界放出型ディスプレイの前面板の第２の実施の形態を示す部分平面図
【図５】図４のＡ−Ａ線における断面模式図
【図６】図４のＢ−Ｂ線における断面模式図
【図７】従来の電界放出型ディスプレイの前面板の一実施形態を示す部分平面図
【図８】図７のＡ−Ａ線における断面模式図
【図９】図７のＢ−Ｂ線における断面模式図
【図１０】図１、図４に示す本発明の電界放出型ディスプレイ用前面板の製造工程図
【図１１】図１０に続く、本発明の電界放出型ディスプレイ用前面板の製造工程図
【図１２】本発明の電界放出型ディスプレイ用前面板の実施形態を示す製造工程の部分図
【符号の説明】
１０、２０　本発明における電界放出型ディスプレイ用前面板
１１　金属板
１２、１４　レジストパタ−ン
１３　導電層
１３ａ　黒化膜
１５　障壁層
１６　開口部
１７　導電性シ−ト
１７ａ　黒化膜を形成した導電性シ−ト
１８　透明基板
１９、２１　ガラスペ−スト
２１ａ　サンドブラストされたガラスペ−スト」
１９ａ、２１ｂ　焼成されたガラスペ−スト
２２　サンドブラスト
３０　従来の電界放出型ディスプレイの前面板
３２　透明基板
３３　ブラックマトリックス層
３４　導電層
３５　応力緩衝層
３６　障壁層
３７　開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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