(57)【要約】【課題】光集積回路の要求特性に変更が生じても、その変更に対応することができる光導波路用露光装置、光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】一つの光導波路用ウェハ６に光集積回路を構成する光回路のパターンＰ１〜Ｐ３をフォトマスクＰＭ１〜ＰＭ３で１枚ずつ別々に露光するので、光集積回路の要求特性に変更が生じても、その変更に係わるパターンＰ１のフォトマスクＰＭ１だけを変更すべき他のフォトマスクＰＭ４に交換した後、１枚の光導波路用ウェハに別々にフォトマスクＰＭ２〜ＰＭ４を露光するだけで対応することができる。この結果、従来技術のように複数の光回路のパターンが形成された１枚のフォトマスクを作り直す必要がない。【選択図】        図１
2004361813.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、該光源からの光を集光する光学系と、該光学系の光路上に配置されるフォトマスクと、上記光源からの光が該フォトマスクを介して照射される光導波路用ウェハが載置されると共に該光導波路用ウェハを上記光源の光軸と直交する方向に移動するＸＹステージとを備えた光導波路用露光装置において、複数の異なる光回路作製用のフォトマスクと、各フォトマスクを収容するフォトマスクホルダと、該フォトマスクホルダから所望のフォトマスクを１枚ずつ選択して上記光学系に移動させる選択移動手段と、外部からの命令に基づいて上記フォトマスクの異なる２個以上の光回路の露光パターンのうちの隣り合う一方の出力コアパターンと他方の入力コアパターンとが所定の精度で位置合わせされるように、選択されたフォトマスクの上記光導波路用ウェハ上の座標を決定し、１枚の光導波路用ウェハに別々に光回路の露光パターンを形成するように上記光源、上記ＸＹステージ及び上記選択移動手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする光導波路用露光装置。
【請求項２】
上記外部からの命令は、使用する光回路の回路名の指定と上記光回路の上記光導波路用ウェハ上の座標の指定とを含むか、使用する光回路の回路名と該光回路の入出力関係の指定とを含むか、若しくは上記光導波路用ウェハ上で２個以上の光回路を接続したときの光回路の光学特性の指定を含む請求項１に記載の光導波路用露光装置。
【請求項３】
上記外部からの命令がすべて文章形式で入力される請求項２に記載の光導波路用露光装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の光導波路用露光装置を用いて製造したことを特徴とする光導波路。
【請求項５】
請求項１から３のいずれかに記載の光導波路用露光装置を用いて光導波路を製造することを特徴とする光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光導波路用露光装置、光導波路及び光導波路の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光導波路を用いて、異なる特徴を有する光回路を一つの光導波路用ウェハに同時に形成することにより、高機能の光回路を有する光集積回路を製造することが行われている。
【０００３】
ここで、各機能を有する光回路は、１枚のフォトマスク上に同時に書き込まれ、このような光回路のパターンを有するフォトマスクを用いて露光装置により光導波路用ウェハ上に一括露光し、このパターンをもとにコアのエッチングを行い、コアをクラッドで覆うことにより光集積回路が形成される。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−１２８５３１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、光集積回路を構成する各光回路要素は、要求される光学特性によりそれぞれ回路パターンが異なる。これらの回路パターンを集積した場合、要求される光学特性の組合せの数に応じたフォトマスクが必要となる。多くの光回路を含む光集積回路のうち、一つの光回路の要求光学特性が変更になった場合には対応することができず、フォトマスクを全て製作し直さなければならず、その分だけコストや製造工数が増加するという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、光集積回路の要求特性に変更が生じても、その変更に対応することができる光導波路用露光装置、光導波路及び光導波路の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項１の発明は、光源と、光源からの光を集光する光学系と、光学系の光路上に配置されるフォトマスクと、光源からの光がフォトマスクを介して照射される光導波路用ウェハが載置されると共に光導波路用ウェハを光源の光軸と直交する方向に移動するＸＹステージとを備えた光導波路用露光装置において、複数の異なる光回路作製用のフォトマスクと、各フォトマスクを収容するフォトマスクホルダと、フォトマスクホルダから所望のフォトマスクを１枚ずつ選択して光学系に移動させる選択移動手段と、外部からの命令に基づいてフォトマスクの異なる２個以上の光回路の露光パターンのうちの隣り合う一方の出力コアパターンと他方の入力コアパターンとが所定の精度で位置合わせされるように、選択されたフォトマスクの光導波路用ウェハ上の座標を決定し、１枚の光導波路用ウェハに別々に光回路の露光パターンを形成するように光源、ＸＹステージ及び選択移動手段を制御する制御手段とを備えたものである。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１に記載の構成に加え、外部からの命令は、使用する光回路の回路名の指定と光回路の光導波路用ウェハ上の座標の指定とを含むか、使用する光回路の回路名と光回路の入出力関係の指定とを含むか、若しくは光導波路用ウェハ上で２個以上の光回路を接続したときの光回路の光学特性の指定を含むのが好ましい。
【０００９】
請求項３の発明は、請求項２に記載の構成に加え、外部からの命令がすべて文章形式で入力されるのが好ましい。
【００１０】
請求項４の発明は、請求項１から３のいずれかに記載の光導波路用露光装置を用いて製造した光導波路である。
【００１１】
請求項５の発明は、請求項１から３のいずれかに記載の光導波路用露光装置を用いて光導波路を製造するものである。
【００１２】
本発明によれば、１枚の光導波路用ウェハに光集積回路を構成するための光回路のパターンを異なるフォトマスクを用いて１枚ずつ別々に露光するので、光集積回路の要求特性に変更が生じても、その変更に係わるパターンを有するフォトマスクだけを交換した後、１枚の光導波路用ウェハにフォトマスクを別々に露光するだけで対応することができる。この結果、従来技術のように複数の光回路のパターンが形成された１枚のフォトマスクを作り直す必要がない。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００１４】
図１は本発明の光導波路用露光装置の一実施の形態を示す概念図である。
【００１５】
１は光導波路用ウェハ露光用の光源（例えばＸｅランプ）であり、鉛直下向きに発光するように配置されている。光源１は光源１のオンオフを行う光源駆動回路２に接続されている。
【００１６】
光源１の照射側（図では下側）にはコンデンサレンズ３がその光軸が鉛直になるように配置されている。コンデンサレンズ３の出射側（この場合下側）の光路上には光回路作製用のフォトマスクＰＭが図示しない支持手段により水平に支持されている。フォトマスクＰＭの出射側（この場合下側）の光路上には縮小用の投影レンズ４が配置されている。これらコンデンサレンズ３及び投影レンズ４で光学系ＬＳが構成されている。
【００１７】
投影レンズ４の出射側（この場合下側）には図には示されていない駆動手段により、固定部５ａに対してＸ軸及びＹ軸方向に移動自在な移動部５ｂを有するＸＹステージ５が配置されている。ＸＹステージ５は高い位置精度（例えば±１μｍ）が要求されるため、例えば、図示しないレーザ干渉計によって座標や移動距離を検出できるようになっている。このＸＹステージ５の移動部５ｂ上には投影レンズ４からの出射光が照射される光導波路用ウェハ６が載置されるようになっている。
【００１８】
７は異なる光回路パターンＰ１〜Ｐｎを有するｎ枚（ｎ≧２）の光回路作製用のフォトマスクＰＭ１、ＰＭ２、…、ＰＭｎが収容されたフォトマスクホルダである。
【００１９】
フォトマスクホルダ７及びＸＹステージ５の近傍には、フォトマスクホルダ７から所望のフォトマスクＰＭを１枚ずつ選択して光学系ＬＳに移動させる選択移動手段としての例えば円筒座標形（直交座標走行形や極座標形でもよい。）の産業用ロボットＲが配置されている。
【００２０】
この産業用ロボットＲは、台座８と、台座８上に設けられ水平面で矢印９方向に旋回する旋回部１０と、旋回部１０に鉛直上向きに設けられた支持軸１１と、支持軸１１に設けられ鉛直方向（矢印１２方向）に昇降すると共にアーム１５を水平方向に移動させる昇降移動部１３と、昇降移動部１３に水平に設けられ長手方向（矢印１４方向）に直動するアーム１５と、アーム１５の先端（図では左端）に設けられフォトマスクＰＭ（ＰＭ１〜ＰＭｎ）の外周を把持するように（図では紙面に垂直な方向に）開閉自在なフィンガー１６とで構成されている。
【００２１】
これら光源駆動回路２、ＸＹステージ５及び産業用ロボットＲは制御手段（例えばマイクロコンピュータ）１７に接続されている。
【００２２】
制御手段１７は、外部からの命令（操作者からの命令）を入力するためのキーボード１８及び命令等を表示するモニタ１９が接続され、記憶手段（例えばハードディスク）２０を内蔵している。マイクロコンピュータ１７は、外部からの命令に基づいて、フォトマスクＰＭ１〜ＰＭｎの異なる２個以上の光回路の露光パターンのうちの隣り合う一方の出力コアパターンと他方の入力コアパターンとが所定の精度（例えば±１μｍ以内の精度）で位置合わせされるように、産業用ロボットＲにより選択されたフォトマスクＰＭの光導波路用ウェハ６上の座標を決定し、その１枚の光導波路用ウェハ６に別々にフォトマスクＰＭを選択して、光路ＬＳ上に配置し、光回路の露光パターンを形成するように光源駆動手段２、ＸＹステージ５、キーボード１８、モニタ１９及び産業用ロボットＲを制御するようになっている。
【００２３】
これら光源１、光源駆動回路２、ＸＹステージ５、フォトマスクＰＭ（ＰＭ１〜ＰＭｎ）、フォトマスクホルダ７、産業用ロボットＲ及びマイクロコンピュータ１７で光導波路用露光装置２１が構成されている。
【００２４】
この光導波路用露光装置２１は、光導波路用ウェハ６を用いて形成される光導波路の入力コアと出力コアとの位置合わせ精度を±１μｍとしているため、クリーンルーム（例えば、クラス１００レベル以下）内に設置されるのが好ましい。
【００２５】
次に本発明の光導波路の製造方法の一実施の形態について図１、図２及び図３（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。なお、本実施の形態では光導波路用ウェハ６に形成される光回路パターンの数が三つの場合で説明する。
【００２６】
図２は本発明の光導波路の製造方法の一実施の形態を示すフローチャートである。図３（ａ）は光導波路用ウェハに形成されたパターン１マスクの光回路パターンを示す図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）に示した光導波路用ウェハに形成されたパターン１マスク及びパターン２マスクの光回路パターンを示す図であり、図３（ｃ）は図３（ｂ）に示した光導波路用ウェハに形成されたパターン１マスク、パターン２マスク及びパターン３マスクの光回路パターンを示す図である。
【００２７】
まず、操作者が光導波路用露光装置２１に外部命令をキーボード１８で入力する（図２（ステップＳ１））。
【００２８】
光導波路用露光装置２１は、外部命令に基づいて該当する光回路要素を有するフォトマスク（例えばパターン１マスクＰＭ１とする。）を産業用ロボットＲがパターン１マスクＰＭ１をフォトマスクホルダ７から把持（選択）し（図２（ステップＳ２））、パターン１マスクＰＭ１の座標を決定する（図２（ステップＳ３））。
【００２９】
産業用ロボットＲは、図１に示す位置から昇降移動部１３を作動させてアーム１５をパターン１フォトマスクＰＭの高さまで降下させ、アーム１５をフォトマスクホルダ７に伸ばし、パターン１マスクＰＭ１の外周をフィンガー１６で把持し、アーム１５をフォトマスクホルダ７から離れる方向に必要な長さだけ移動させた後、フィンガー１６がＸＹステージ５側に向くように旋回部１０を必要な角度だけ旋回させ、昇降移動部１３を作動させてアーム１５を必要な高さまで上昇させ、パターン１マスクＰＭ１が光学系ＬＳの光路上に位置するまでアーム１５を必要な長さだけ伸びるように移動させ、図示しない支持部材にパターン１マスクＰＭ１が支持部材に支持された後、フィンガー１６を拡げてアーム１５を光学系ＬＳから離れる方向に必要な長さだけ移動させた後、そのまま待機する。
【００３０】
マイクロコンピュータ１７は、ＸＹステージ５の移動部５ｂを所定の方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）に所定量だけ移動させ、光源駆動回路２により光源１を発光させる。この結果、外部命令に基づいて決定した光導波路用ウェハ６にパターン１（Ｐ１とする。）が露光される（図２（ステップＳ４）、図３（ａ））。
【００３１】
次に産業用ロボットＲは、昇降移動部１３の作動によりアーム１５を伸ばして露光後のパターン１マスクＰＭ１をフィンガー１６で把持し、アーム１５を必要な長さだけ移動させ、旋回部１０でもとの向きに旋回させ、昇降移動部１３を作動させてアーム１５をもとの位置まで降下させ、アーム１５をフォトマスクホルダ７まで伸ばして、所定の位置でフィンガー１６を開いてパターン１マスクＰＭ１を戻し、アーム１５を必要な長さだけ戻す。
【００３２】
マイクロコンピュータ１７からの命令により、産業用ロボットＲは、昇降移動部１３を作動させてアーム１５をパターン２マスクＰＭ２の高さに上昇させ、前述と同様にアーム１５を水平方向に移動させ、フィンガー１６でパターン２マスクＰＭ２を把持（選択）し（図２（ステップＳ５））、アーム１５を引いた後、旋回部１０でアーム１５をＸＹステージ５に向かうように旋回させ、アーム１５を光学系ＬＳの支持部材の位置まで上昇させ、アーム１５を必要な長さだけ伸ばした後、フィンガー１６で光学系ＬＳの支持部材にパターン２マスクＰＭ２を支持させる。
【００３３】
マイクロコンピュータ１７は、ＸＹステージ５の移動部５ｂを所定の方向に所定量移動させてパターン２マスクＰＭ２の光導波路用ウェハ６上の座標を決定し（図２（ステップＳ６））、光源１を発光させる。この結果、パターン２（Ｐ２とする。）が露光される。このとき、例えば、パターン１（Ｐ１）の出力コア２２ａ，２２ｂと、パターン２（ＰＭ２）の入力コア２３ａ，２３ｂとは±１μｍの精度で位置合わせされるようになっている（図２（ステップＳ７）、図３（ｂ））。
【００３４】
同様に、マイクロコンピュータ１７は、産業用ロボットＲにパターン２マスクＰＭ２をフォトマスクホルダ７に戻させた後、パターン３マスクＰＭ３を把持（選択）させ、光学系ＬＳの支持部材に支持させる（図２（ステップＳ８））。マイクロコンピュータ１７は、ＸＹステージ５にパターン３マスクＰＭ３の座標を決定させ（図２（ステップＳ９））、光源１を発光させる。光源１からの光がパターン３マスクＰＭ３のパターン３（Ｐ３とする。）に照射されることにより、光集積回路パターンＰＯＩＣが光導波路用ウェハ６に露光される。この結果、パターン１（Ｐ１）の出力コア２４ａ，２４ｂとパターン３（Ｐ３）の入力コア２５ａ，２５ｂとは±１μｍの精度で位置合わせされる（図２（ステップＳ１０）、図３（ｃ））。
【００３５】
光集積回路パターンＰＯＩＣが露光された光導波路用ウェハ６にエッチングを施してコアとし、コアを覆うようにクラッドを形成することで光導波路が得られる（いずれも図示せず。）。
【００３６】
ここで、本光導波路用露光装置２１は、光集積回路の要求特性に変更が生じた場合、操作者がキーボード１８を操作してその変更に係わるフォトマスクＰＭ（例えばＰＭ１）の代わりに必要なフォトマスクＰＭ（例えばＰＭ４）を選択するように命令するだけで、その変更に対応することができる。
【００３７】
これら各光回路の接続されるべき出力コアと入力コアとは±１μｍ以内の精度で位置合わせされる必要があるが、これは機械精度で十分達成しうる数値である。
【００３８】
また、外部命令として、回路名及びその座標を直接指定すれば、光導波路用露光装置に特別な演算処理を行わせる必要はない。さらに、座標として各光回路の光導波路用ウェハに対する絶対座標を指定する方法や、各光回路同士の位置関係を示す相対座標とそのうちの１個の光回路の光導波路用ウェハに対する絶対座標を指定する方法を用いてもよい。
【００３９】
次に本発明の光導波路の製造方法の他の実施の形態について図１、図４及び図５（ａ）〜（ｄ）を参照して説明する。
【００４０】
図４は本発明の光導波路の製造方法の他の実施の形態を示すフローチャートである。図５（ａ）は光導波路用ウェハに形成される仮想的なパターン１マスクの光回路パターンを示す図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）に示したパターン１マスクと共に光導波路用ウェハに形成される仮想的なパターン２マスクの光回路パターンを示す図である。図５（ｃ）は図５（ｂ）に示したパターン１マスク及びパターン２マスクと共に光導波路用ウェハに形成される仮想的なパターン３マスクの光回路パターンを示す図であり、図５（ｄ）は光導波路用ウェハに形成された現実のパターン１マスク、パターン２マスク及びパターン３マスクの光回路パターンを示す図である。
【００４１】
図４、図５（ａ）〜（ｄ）に示した実施の形態の図２、図３（ａ）〜（ｃ）に示した実施の形態との相違点は、各フォトマスクＰＭ１〜ＰＭ３の相対位置と光導波路用ウェハ６に露光する際の絶対座標とを計算（シミュレーション）した後でフォトマスクＰＭ１〜ＰＭ３を選択し、１枚の光導波路用ウェハ６に別々に露光する点である。
【００４２】
まず、操作者が光導波路用露光装置２１に外部命令として、各光回路の露光領域及び高さ、入力コア及び出力コアの露光領域上の座標、入力コア及び出力コアの本数をキーボード１８で入力する（図４（ステップＴ１））。
【００４３】
光導波路用露光装置２１のマイクロコンピュータ１７は、光回路名をもとに最初の露光領域としてのパターン１（Ｐ１）の相対座標の位置（以下「相対位置」という。）を決定する。このとき、モニタ１９には図５（ａ）に示す図や命令等が表示されるようになっている（図４（ステップＴ２）、図５（ａ））。
【００４４】
次に、マイクロコンピュータ１７は、入力命令、出力命令及びパターン１（Ｐ１）の出力座標、パターン２（Ｐ２）の入力座標をもとに、パターン２（Ｐ２）のパターン１（Ｐ１）に対する相対位置を計算すると共に、モニタ１９にその結果を表示させる（図４（ステップＴ３））。
【００４５】
マイクロコンピュータ１７は、パターン１（Ｐ１）の出力コア２２ａ，２２ｂとパターン２（Ｐ２）の入力コア２３ａ，２３ｂとの間隔が整合しているか否かを判断し、整合していないと判断した場合にはエラー信号を出力してモニタ１９にその旨を表示させ、パターン２の入力座標を修正し、再度パターン２（Ｐ２）の相対位置を計算すると共にモニタ１９にその結果を表示させる（図４（ステップＴ３，４））。
【００４６】
マイクロコンピュータ１７は、ステップＴ３で入出力コアの相対位置が整合していると判断した場合にはパターン２（Ｐ２）の相対位置を決定し（図５（ｂ）、図４（ステップＴ５））、パターン１（Ｐ１）とパターン３（Ｐ３）との相対位置を計算すると共に、モニタ１９にその結果を表示させる（図４（ステップＴ６））。
【００４７】
マイクロコンピュータ１７は、パターン１（Ｐ１）の２本の出力コア２４ａ，２４ｂとパターン３（Ｐ３）の２本の入力コア２５ａ，２５ｂとの間隔が整合しているか否かを判断し、整合していないと判断した場合にはエラー信号を出力してモニタ１９にその旨を表示させ、パターン３（Ｐ３）の入力座標を修正し、再度パターン３（Ｐ３）の相対位置を計算すると共に、モニタ１９にその結果を表示させる（図４（ステップＴ６，７）、図５（ｃ））。
【００４８】
マイクロコンピュータ１７は、図４に示すステップＴ７で整合していると判断した場合にはパターン３（Ｐ３）の相対位置を決定すると共に、モニタ１９にその結果を表示させる（図４（ステップＴ８））。
【００４９】
マイクロコンピュータ１７は、全パターン１〜３（Ｐ１〜Ｐ３）の相対位置が決定した時点で各パターン１〜３（Ｐ１〜Ｐ３）の重ね合わせ領域の寸法を計算し（図４（ステップＴ９））、得られた座標をもとに光導波路用ウェハ６上に露光する際の絶対座標を計算すると共に、モニタ１９にその結果を表示させる。これらの計算結果（シミュレーション結果）はハードディスク２０に記憶されるようになっている（図５（ｃ）、図４（ステップＴ１０））。
【００５０】
以下、光導波路用露光装置２１は、図４に示すステップＴ１１〜Ｔ１９の処理を行うが、これらの処理（ステップＴ１１〜Ｔ１９）は、図２に示したステップＳ１〜Ｓ１０と同様の処理であり、これらの処理（ステップＴ１１〜Ｔ１９）により１枚の光導波路用ウェハ６にパターン１〜３（Ｐ１〜Ｐ３）が別々に露光される（図５（ｄ））。
【００５１】
パターン１〜３（Ｐ１〜Ｐ３）が露光された光導波路用ウェハ６にエッチングを施してコアとし、コアを覆うようにクラッドを形成することで光導波路（図示せず。）が得られる。
【００５２】
本実施の形態においても、図２に示した実施の形態と同様に、光集積回路の要求特性に変更が生じても、その変更に対応することができる。
【００５３】
本実施の形態では、光導波路用露光装置（図１参照）に座標計算を行わせるため光導波路用露光装置にある程度の負荷がかかるが、命令入力は図２、図３（ａ）〜（ｃ）に示した実施の形態より簡単になる。
【００５４】
なお、上記実施の形態では、光回路パターンの数が三つの場合で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、光回路パターンの数が二つでも四つ以上であってもよい。
【００５５】
ここで、外部命令を文章形式とすることで、特徴量を用いた回路名の定義や、その特徴量の演算処理等を容易に行うことができる。
【００５６】
図６〜図９は本発明の光導波路用露光装置に入力される外部命令の一実施の形態を示すモニタの一画面である。
【００５７】
図６に示すモニタ画面に表示された命令Ｃ１は、光回路の回路名（減衰器イ｛１入力、１出力：ｘｄＢ→ｙｄＢ｝及び合波器ロ｛４入力、１出力：ｚｄＢ｝）と、相対座標（相対位置指定  合波器ロ・減衰器イ［−５００００，１００００］他）とを指定する命令Ｃ１（合波器ロのＸ方向に−５００００μｍ、Ｙ方向に１００００μｍ移動した場所に減衰器イを配置しろ。）を表している。
【００５８】
図７に示すモニタ画面に表示された命令Ｃ２は、光回路の回路名（分波器ハ｛１入力、（ｊ／２）出力：３ｄＢ｝及びスイッチ素子ニ｛（ｊ／２）入力、ｊ出力：３ｄＢ｝）と入出力関係（入出力指定  分波器ハ〔ｏ１−ｏ（ｊ／２）〕→スイッチ素子ニ〔ｉ１−ｉ（ｊ／２）〕）を指定する命令Ｃ２（分波器ハの出力コアｏ１からｏ（ｊ／２）とスイッチ素子ニの入力コアｉ１からｉ（ｊ／２）が接続するように配置しろ。）を表している。
【００５９】
これらの命令Ｃ１、Ｃ２に光集積回路の光学特性を表す別名（命令Ｃ１：減衰合波素子ホ｛４入力、１出力：減衰器ｘｄＢ→ｙｄＢ、合波器ｚｄＢ｝、命令Ｃ２：分波スイッチ素子ヘ｛１入力、ｊ出力：６ｄＢ｝）を付し、これらの命令Ｃ１、Ｃ２を予め光導波路用露光装置２１のハードディスク２０（図１参照）に記憶させておく。
【００６０】
命令Ｃ１、Ｃ２を光導波路用露光装置２１のハードディスク２０に記憶させることにより、光集積回路の光学特性（光回路の特徴、本実施の形態の場合、入出力コア数及び損失）を指定して座標決定することができる。このとき、各光回路には、必ず必要な光学特性を付与しておくことが好ましい。また、光学特性は実行命令時に特徴量を決定することができるように、変数（ｊ、ｘ、ｙ、ｚ等、別途変数定義により、自然数、実数等の定義が必要である。）を用いてもよい。さらに、この特徴量は文章形式であるため、この変数に加減乗除の演算を施す命令を追加してもよい（例えば、前述した（ｊ／２）のような定義）。
【００６１】
但し、各変数及び演算により得られる数値がどの光回路の特徴量なのかを明確にしておく必要がある。また、各光回路の露光領域幅及び高さ、入力コア及び出力コアの露光領域上の座標、入力コア及び出力コアの本数は、光回路のフォトマスクを光導波路用露光装置のフォトマスクホルダに収容する前に予め光導波路用露光装置に入力しておくのが好ましい。さらに、光集積回路を構成する命令に別名を付与する場合には、別名を付与した時点で改めて光集積回路の露光領域と入力コアの本数、出力コアの本数、新しい領域中の入力コアの相対座標及び出力コアの相対座標を計算し、別名を付与した光集積回路に固有の値としてハードディスク２０に記憶させておくのが好ましい。
【００６２】
例えば、命令Ｃ２を予め光導波路用露光装置２１のハードディスク２０に記憶させておけば、図８に示すモニタ画面に表示された命令Ｃ３（分波スイッチ素子「へ」を露光せよ。）は命令Ｃ２の光回路を構成する命令として機能する。また、このときに使用される光回路の構成要素は、命令Ｃ３で具体的な数値（８出力）を指定することではじめて決定され、この決定により分波器の構成要素は分波器ハ｛１入力、４出力：３ｄＢ｝、スイッチ素子の構成要素はスイッチ素子ニ｛４入力、８出力：３ｄＢ｝という名前の回路に決定される。
【００６３】
命令Ｃ３の出力宣言を（出力１６）とすれば、分波器の構成要素は分波器ハ｛１入力、８出力：３ｄＢ｝という回路に、スイッチ素子の構成要素はスイッチ素子ニ｛８入力、１６出力：３ｄＢ｝という名前の回路に変更されたことになり、命令Ｃ３の一文を変更することで容易に光回路の構成要素を変更することができる。
【００６４】
但し、ここで命令Ｃ３に記載する特徴量は、予め光回路のフォトマスクＰＭを光導波路用露光装置２１のフォトマスクホルダ７に収容する際に特徴量として定義した数値である必要がある。また、分波器ハ｛１入力、４出力：３ｄＢ｝、スイッチ素子ニ｛４入力、８出力：３ｄＢ｝のような光回路の名前は、その光回路のマスクと１体１対応である必要がある。
【００６５】
ここで、命令Ｃ３は命令Ｃ２の手続を呼び出し、かつ使用する光回路の構成要素を決定する命令であり、命令Ｃ２は図４、図５（ａ）〜（ｄ）に示した実施の形態と同様の処理を施すことにより、光回路の各々の座標を決定することができる。また、これらの処理は、予め光導波路用露光装置２１のハードディスク２０に記憶させておく他に、主命令と副命令として同時に光導波路用露光装置２１に入力しておいてもよい。例えば、図９に示すモニタ画面に表示された命令Ｃ４は、予め光導波路用露光装置２１に記憶させた命令Ｃ２（図７参照）により構成される光集積回路と新たに入力した命令Ｃ１（図６参照）により構成される光集積回路を集積した新たな光集積回路を構成する命令として動作する。
【００６６】
なお、本実施の形態では、命令文の構成や光回路の特徴量は図６〜図９に示した場合で説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６７】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、光集積回路の要求特性に変更が生じても、その変更に対応することができる光導波路用露光装置、光導波路及び光導波路の製造方法の提供を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光導波路用露光装置の一実施の形態を示す概念図である。
【図２】本発明の光導波路の製造方法の一実施の形態を示すフローチャートである。
【図３】（ａ）は光導波路用ウェハに形成されたパターン１マスクの光回路パターンを示す図であり、（ｂ）は（ａ）に示した光導波路用ウェハに形成されたパターン１マスク及びパターン２マスクの光回路パターンを示す図であり、（ｃ）は（ｂ）に示した光導波路用ウェハに形成されたパターン１マスク、パターン２マスク及びパターン３マスクの光回路パターンを示す図である。
【図４】本発明の光導波路の製造方法の他の実施の形態を示すフローチャートである。
【図５】（ａ）は光導波路用ウェハに形成される仮想的なパターン１マスクの光回路パターンを示す図であり、（ｂ）は（ａ）に示したパターン１マスクと共に光導波路用ウェハに形成される仮想的なパターン２マスクの光回路パターンを示す図であり、（ｃ）は（ｂ）に示したパターン１マスク及びパターン２マスクと共に光導波路用ウェハに形成される仮想的なパターン３マスクの光回路パターンを示す図であり、（ｄ）は光導波路用ウェハに形成された現実のパターン１マスク、パターン２マスク及びパターン３マスクの光回路パターンを示す図である。
【図６】本発明の光導波路用露光装置に入力される外部命令の一実施の形態を示すモニタの一画面である。
【図７】本発明の光導波路用露光装置に入力される外部命令の一実施の形態を示すモニタの一画面である。
【図８】本発明の光導波路用露光装置に入力される外部命令の一実施の形態を示すモニタの一画面である。
【図９】本発明の光導波路用露光装置に入力される外部命令の一実施の形態を示すモニタの一画面である。
【符号の説明】
１  光源
２  光源駆動回路
３  コンデンサレンズ
４  投影レンズ
５  ＸＹステージ
６  光導波路用ウェハ
７  フォトマスクホルダ
８  台座
１０  旋回部
１１  支持軸
１３  昇降移動部
１５  アーム
１６  フィンガー
１７  制御手段（マイクロコンピュータ）
１８  キーボード
１９  モニタ
２０  記憶手段（ハードディスク）
２１  光導波路用露光装置
Ｒ  産業用ロボット
ＬＳ  光学系
ＰＭ（ＰＭ１〜ＰＭｎ）  フォトマスク
【図１】
2004361813.tif 000003
【図２】
2004361813.tif 000004
【図３】
2004361813.tif 000005
【図４】
2004361813.tif 000006
【図５】
2004361813.tif 000007
【図６】
2004361813.tif 000008
【図７】
2004361813.tif 000009
【図８】
2004361813.tif 000010
【図９】
2004361813.tif 000011