(57)【要約】【課題】【解決手段】フォトレジスト供給システムは、レジスト収蔵ボトルと、これに対して流体が通るように接続された受容器とを含んでいる。真空ポンプが受容器と通気接続され、受容器内部に真空状態を形成して収蔵ボトルからレジストを吸引して受容器に取り込む。受容器の導入部は、レジストをその内壁から下方に流入させるような形状とされる。レジストは受容器から流出してレジスト供給容器に入り、そこから供給ノズルに圧送されウエハや基板に塗布される。【選択図】　図１
2004134519.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジスト材料を収蔵し、導出部を備えたレジスト収蔵ボトルと、
収蔵ボトルと流体が通るように接続され、レジスト導入部を備えたレジスト受容器と、
レジスト受容器と通気可能に接続された真空ポンプとを有することを特徴とするフォトレジスト供給システム。
【請求項２】
収蔵ボトルが第１収蔵ボトルであり、レジスト受容器が第１レジスト受容器で、真空ポンプが第１真空ポンプであって、該フォトレジスト供給システムが更に：
フォトレジスト材料を収蔵し、導出部を備えた第２のレジスト収蔵ボトルと、
第２の収蔵ボトルと流体が通るように接続され、レジスト導入部を備えた第２のレジスト受容器と、
第２のレジスト受容器と通気可能に接続された第２の真空ポンプとを有することを特徴とする請求項１記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項３】
第１レジスト受容器の導出部および第２レジスト受容器の導出部と流体が通るように接続されたボトル自動変換バルブと、
レジスト供給用導入管を介してボトル自動変換バルブと流体が通るように接続されたレジスト供給用受容器とを更に備え、
ボトル自動変換バルブが、レジスト供給用受容器を第１と第２のレジスト受容器のいずれか一方と、流体が通るように選択的に接続されるように形成されていることを特徴とする請求項２記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項４】
第１の真空ポンプが第１のレジスト受容器に真空を形成して第１のレジスト収蔵ボトルの導出部からレジストを吸出し、レジスト導入部から第１のレジスト受容器に導入することを特徴とする請求項３記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項５】
第２の真空ポンプが第２のレジスト受容器に真空を形成して第２のレジスト収蔵ボトルの導出部からレジストを吸出し、レジスト導入部から第２のレジスト受容器に導入することを特徴とする請求項３記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項６】
第１のレジスト受容器のレジスト導入部が、第１のレジスト受容器の内部側壁から下方にレジストが流れるように形成されていることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項７】
第２のレジスト受容器のレジスト導入部が、第２のレジスト受容器の内部側壁から下方にレジストが流れるように形成されていることを特徴とする請求項５記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項８】
第１のレジスト受容器をレジスト供給用受容器と流体が通るように接続して、レジストを第１の収蔵容器から第１のレジスト受容器に真空吸引し、
当該レジスト供給用受容器と第２のレジスト受容器とを流体が通るように接続して、レジストを第２の収蔵容器から第２のレジスト受容器に真空吸引し、
レジストを第１と第２のレジスト受容器のいずれか一方から選択的に当該レジスト供給用受容器に流入させることを特徴とするフォトレジスト供給方法。
【請求項９】
レジストを第１の収蔵容器から第１のレジスト受容器に真空吸引する操作は、第１のレジスト受容器の内壁にレジストを接触させることを含むことを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト供給方法。
【請求項１０】
レジストを第２の収蔵容器から第２のレジスト受容器に真空吸引する操作は、第２のレジスト受容器の内壁にレジストを接触させることを含むことを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト供給方法。
【請求項１１】
レジストを第１と第２のレジスト受容器のいずれか一方から選択的にレジスト供給用受容器に流入させる操作が、自動変換バルブを制御してレジストを第１と第２のレジスト受容器のいずれか一方からレジスト供給用受容器に流入させることを含むことを特徴とする請求項８記載のフォトレジスト供給方法。
【請求項１２】
フォトレジスト溶液を収蔵し、レジスト導出部を備えた第１のレジスト収蔵ボトルと、
第１のレジスト収蔵ボトルと流体が通るように接続され、導入部および導出部を備えた第１のレジスト受容器と、
第１のレジスト受容器と通気可能に接続された第１の真空ポンプと、
フォトレジスト溶液を収蔵し、レジスト導出部を備えた第２のレジスト収蔵ボトルと、
第２のレジスト収蔵ボトルと流体が通るように接続され、導入部および導出部を備えた第２のレジスト受容器と
第２のレジスト受容器と通気可能に接続された第２の真空ポンプと、
第１と第２のレジスト受容器とから送られたフォトレジスト溶液を収蔵し、供給レジスト導入部を備えたレジスト供給用受容器と、
第１と第２のレジスト受容器のレジスト導出部および供給レジスト導入部に対して流体が通るように接続されたボトル自動変換バルブと、
レジスト供給用受容器と流体が通るように接続されたレジスト供給ポンプと、レジスト供給ポンプと流体が通るように接続され、基板表面上にフォトレジストを供給するように形成されたレジスト供給ノズルとを有することを特徴とするフォトレジスト供給システム。
【請求項１３】
第１のレジスト受容器のレジスト導入部が、第１のレジスト受容器の内部側壁をレジストが下方に流れるように形成されていることを特徴とする請求項１２記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項１４】
第２のレジスト受容器のレジスト導入部が、第２のレジスト受容器の内部側壁をレジストが下方に流れるように形成されていることを特徴とする請求項１２記載のフォトレジスト供給システム。
【請求項１５】
供給レジスト導入部が、レジスト供給用受容器の内部側壁をレジストが下方に流れるように形成されていることを特徴とする請求項１２記載のフォトレジスト供給システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般に半導体ウエハおよびコンパクトディスクの製造に関し、特にフォトレジストまたは他の類似の処理流体を供給するシステムとその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハの製作に当たって、ウエハの表面にパターンを作るために、フォトリソグラフィプロセスが使用される。ウエハ製作における重要工程であるフォトリソグラフィは、一般に、製作される回路および回路構造の表面寸法を決定する。集積回路は次第に小さくなり、かつ集積回路チップ上のトランジスタ密度は増加しているので、フォトリソグラフィの精度およびパターンを更により小さくする技能は、半導体の製造改革においてますますその重要性を増している。
【０００３】
一般的にいえば、フォトリソグラフィプロセスは、半導体ウエハの表面層にフォトレジストを塗布し、次いでそのフォトレジストにパターンを転写し、かつそのパターンに対応する領域のフォトレジストの構造と特性に変化を与えるために、パターンを通してフォトレジストに光を当てることを含む。フォトレジストは次いで、ウエハの表面層上のフォトレジスト中のパターンを画定するために、使用されるフォトレジストのタイプによって、パターンのフォトレジストまたはパターン周囲のフォトレジストの何れかを取除くように現像される。一旦希望するフォトレジストが現像されると、エッチングのようなプロセスによるパターンに従って、特定の回路部分が半導体ウエハの表面層に画定される。典型的な例として、フォトレジストは化学的エッチング液に対する耐性があり、現像によってフォトレジストがウエハの表面から除去された半導体ウエハ表面層の画定領域だけがエッチングされて、特定の回路部分を形成するようにする。
【０００４】
他の技術分野において、フォトレジストはまた光ディスクマスター化プロセスにも利用される。光ディスクのマスターの製作において、ガラス、ポリカーボネイト、または他の適当な材料の基板がフォトレジストで塗布される。フォトレジストで覆われたディスクは、次いでマスター化レーザーによって選択的に露光される。露光後、ディスクは、使用されたフォトレジストのタイプによって、フォトレジストの露光または非露光領域の何れかを取除くために現像液で処理される。フォトレジストが残留している現像されたディスクは、ディスク構造の物理的なテンプレートを形成する。
【０００５】
よく知られているように、フォトレジストは一般に感光性の化学材料であり、感度は典型的に光波長の特定範囲に対応している。フォトレジストが感応する波長範囲内の光に露光することにより、フォトレジストの構造と特性は変化する。使用されるフォトレジストのタイプにより、構造と特性の変化は通常溶解状態から不溶解状態へ、または一般的な不溶性の構造からより溶解性の構造に向けて生じる。いずれの場合でも、露光後にフォトレジストは現像され、その結果フォトレジストの可溶部分は除去されて一般に不溶性のフォトレジスト残留部分で画定されるパターンが得られるのが典型的なケースである。
【０００６】
フォトレジスト中に更に小さなかつ更に複雑な特定部分を画定するために、フォトレジストは汚染物質が混じらず、望ましい粘度で、かつ均一な密度を有するものでなければならない。フォトレジストを塗布するウエハまたはディスクの大きさは、フォトレジストの望ましい粘度、およびフォトレジストを塗布する望ましい厚みについて考慮して決定される。フォトレジストはウエハまたはディスクの表面に均一に接着しなければならず、かつパターンを画定するべくウエハまたはディスク表面に残留する領域においてエッチングバリヤーとして作用するために、平坦に分布しかつ十分な厚みを持っていなければならない。
【０００７】
フォトレジストは典型的にはスピンチャックあるいはその他の類似の装置を用いてウエハまたはディスクに塗布され、ウエハまたはディスクの中心領域に堆積される。ウエハまたはディスクは回転してフォトレジストが表面を横断して分布する。フォトレジストは通常、ウエハまたはディスクの表面上に位置するノズルから供給される。フォトレジストは塗布の間、典型的には収蔵タンクまたは受容器に維持されてノズルを通して汲み出される。このようなシステムにおいて、フォトレジストは先ず供給用受容器中に汲み出され、次いで供給用受容器から供給ノズルへ汲み出される。
【０００８】
【発明が解決しようとする問題】
上記のような典型的な先行技術のフォトレジスト供給システムにおいて、微泡がフォトレジスト中に導入され得る。このような微泡は、フォトレジストの許容できない異物となる。微泡が存在すると種々の面で加工構造体に欠陥を生ぜしめる。即ち、パターン境界領域のシャープな画定を妨げることによるウエハまたはディスクの表面層上に転写され作られるパターンの歪み、必要なエッチングバリアの形成不能、さらにはウエハまたはディスクの表面層に対する接着阻害に起因する現像工程における偶発的なフォトレジストの剥離、その他の加工欠陥がこれに当る。
【０００９】
前記の観点から、微泡の形成を実質的に防止するフォトレジストまたは他の類似の材料を供給する方法とシステムが必要である。
【００１０】
【問題を解決するための手段】
概括的に言えば、本発明はフォトレジストまたは他の類似の材料を供給するために、ボトル自動変換バルブを介して１個またはそれ以上のフォトレジスト収蔵ボトルに接続する、真空または負圧フォトレジスト供給システムを提供することによってこれらの必要性を満たしている。本発明はプロセス、装置、システムおよび方法を含めて、数多くの方法で実施することができる。本発明の種々の実施例を以下に記述する。
【００１１】
本発明の一つの観点により、フォトレジスト供給システムが提供される。一実施例において、フォトレジスト供給システムはフォトレジスト材料を収蔵するレジスト収蔵ボトルを備えている。レジスト収蔵ボトルはレジスト導出部を備えている。フォトレジスト供給システムは更にレジスト受容器を備え、レジスト受容器にはレジスト導入部が設けられて、レジスト収蔵ボトルと流体が流通するように接続されている。真空ポンプがレジスト受容器と通気可能に接続されている。
【００１２】
他の実施例において、フォトレジスト供給システムはフォトレジスト材料を収蔵する第２のレジスト収蔵ボトルを備えている。第２のレジスト収蔵ボトルもレジスト導出部を備えている。フォトレジスト供給システムは更にレジスト導入部を備えた第２のレジスト受容器を含み、第２のレジスト収蔵ボトルと流体が流通するように接続されている。第２の真空ポンプが第２のレジスト受容器と通気可能に接続されている。
【００１３】
更に別の実施例において、このフォトレジスト供給システムは、第１受容器の導出部と第２受容器の導出部に、流体が流通するように接続されるボトル自動変更バルブを有する。このボトル自動変更バルブは、第１受容器と第２受容器の一方を選択してレジスト供給用受容器に接続するように構成される。
【００１４】
更に別の実施例において、フォトレジスト供給システムの第１受容器の導入部は、フォトレジストを第１受容器の内側壁と接触して流すように構成され、かつ第２受容器の導入部はフォトレジストを第２受容器の内側壁と接触して流すように構成される。
【００１５】
別の実施例において、フォトレジスト供給システムは、レジスト供給用受容器と流体を流通できるように接続されるレジスト供給ポンプを有する。供給ノズルはこの供給ポンプと流体を流通できるように接続され、かつフォトレジストを基板の表面に供給するように構成される。
【００１６】
本発明の他の観点からフォトレジスト供給方法が提供される。この方法においては、第１のレジスト受容器はレジスト供給用受容器に流体が流通できるように接続され、フォトレジストが第１のレジスト収蔵部から第１のレジスト受容器内に真空吸引される。そして第２のレジスト受容器はレジスト供給用受容器に流体が流通できるように接続され、フォトレジストが第２のレジスト収蔵部から第２のレジスト受容器内に同じく真空吸引される。フォトレジストは選択的に第１と第２のレジスト受容器の中の１つからレジスト供給用受容器に流入する。
【００１７】
一実施例において、フォトレジストは、第１および第２受容器のそれぞれの内壁をフォトレジストと接触させることにより、これらの受容器中に吸い込まれる。
【００１８】本発明の利点は数多くある。一つの顕著な便益と利点は、本発明の真空または負圧フォトレジスト供給システムが、システムを通してフォトレジストを流すために真空または負圧を利用することによってツールまたはシステムにフォトレジストを提供し、それによって従来の供給システムに典型的に使用される加圧窒素または他のガスまたは媒体によって引き起こされる微泡の形成を実質的に除去することである。微泡は本質的にフォトレジストを汚染し、許容できない、かつ費用のかかる製造上の欠陥と廃棄物を生じる。本発明は、微泡形成の源を実質的に除去することにより生産量を増加させ、それによって製造に関連するコストを低減する。
【００１９】他の便益は、負圧フォトレジスト供給システムにおけるフォトレジスト受容器の内側壁に沿って下方へフォトレジストを流すフォトレジスト導入部を設けることによって、微泡の形成を更に除去することである。内側壁に沿って下方へフォトレジストを流すことにより、導入管を通してレジスト受容器またはレジスト収蔵タンクへ流れ、フォトレジストの収蔵受容器に落ち込むフォトレジストによって引き起こされる微泡の形成が本質的に防止される。本発明のフォトレジスト供給システムは、フォトレジスト用収蔵部または受容器の内壁に沿って下方へ流れるように形成された導入部を組込んでいる。フォトレジストがレジスト導入部を通して収蔵タンクまたは受容器内へ流入する時、フォトレジストは収蔵タンクまたは受容器の内壁へ向い、次いでその下方へスムーズに流れ、フォトレジストの過剰な混合と流入を回避して微泡の形成を防止する。
【００２０】
さらなる便益として、本発明の実施例に使用されるボトル自動変換バルブが挙げられる。このボトル自動変換バルブは、１つの供給源が使い尽くされた時、別の供給源が自動的に接続され、それによってシステム動作を中断することなく継続的な供給が維持されるように、２つ以上のフォトレジスト供給システムを接続する。継続的な供給を確実にすることにより、切り替えの間に空気、窒素または他のガスまたは媒体がシステムに入っても、起こり得るシステム浄化の必要性が防止できる。
【００２１】
本発明の他の利点は、本発明の原理を例示目的で図示する添付図面と関連して考慮するならば、下記の詳細な記述から明らかとなるであろう。
【実施の実施の形態】
【００２２】
フォトレジスト供給システムの種々な実施例を以下に記述する。実施例において、供給システムは、フォトレジスト供給システム内部の微泡の形成が実質的に防止されるように、負圧供給システムおよび導入部設計上の特徴を備えたフォトレジスト受容器を有する。本発明が完全に理解されるために、以下の記述において多数の特定上の詳細内容が述べられる。しかしながら当該技術に習熟した人々には、本発明はこれらの特定な詳細事項のいくつかまたはすべてを伴うことなしに実施できることが理解されるであろう。他の事例において、本発明を不必要に不明瞭にすることを回避するために、良く知られた工程操作は詳細には記述されていない。
【００２３】
図１は、本発明の一実施例によるフォトレジスト供給システム１００の略式図である。図１に示されるように、第１収蔵ボトル１１０は、第１導入管１１４を通して第１受容器１１２にレジストを供給する。第２収蔵ボトル１１６は、第２導入管１２０を通して第２受容器１１８にレジストを供給するように図示されている。第１真空ポンプ１２２は第１受容器１１２に取付けられ、第２真空ポンプ１２４は第２受容器１１８に取付けられている。図示の実施例において、フォトレジスト供給システムは２台の真空ポンプ１２２、１２４を備えた２系統の真空システムを有し、フォトレジストの継続的供給を維持するために２個の別々の受容器１１２、１１８の各々に１個ずつ取付けられる。他の実施例において、フォトレジスト供給システムは要望またはシステムの要件に従って、フォトレジストを供給するために１個またはそれ以上の受容器に取付けられた１台の真空ポンプを備える１系統の真空システム、複数の受容器に取付けられた２台以上の真空ポンプを備えた複数の真空システム、または真空ポンプと受容器の如何なる組合せをも有する。
【００２４】
図１に示すフォトレジスト供給システム１００はボトル自動変換バルブ１２６を備え、第１のレジスト受容器１１２と第２のレジスト受容器１１８のいずれか一方からになるようにフォトレジストの供給を管理してフォトレジストの供給が定常的になるようにする。他の実施例では、ボトル自動変換バルブ１２６は、フォトレジスト供給システム１００と同数のレジスト受容器を組み込むことが可能なように設計されている。さらに別の実施例においては、多数のボトル自動変換バルブが設けられて、フォトレジスト供給システムにできるだけ多く組み込まれたレジスト受容器からの、フォトレジスト選択を管理する。
【００２５】
レジスト供給器のレジスト導入管１２８は、フォトレジストを選択された受容器１１２あるいは１１８からレジスト供給用受容器１３０へ供給する。レジスト供給用受容器の真空ポンプ１３３は、フォトレジストを選択された受容器１１２あるいは１１８からレジスト供給用受容器１３０中に流すためにレジスト供給用受容器１３０内に負圧を形成する。
【００２６】
一実施例において、システムコントローラー（図示せず）はフォトレジストの供給を管理し、かつ選択されたレジスト受容器１１２あるいは１１８内でフォトレジストが所定レベルに到達した時、自動的に選択を指示してレジスト受容器１１２あるいは１１８の一方から他方へ切換える。一実施例において、選択されたレジスト受容器１１２あるいは１１８内でフォトレジストが所定レベルに到達した時、システムオペレーターに警報が発せられ、ボトル自動変換バルブ１２６の手動起動操作を促し、またはボトル自動変換バルブ１２６の切迫したシステム操作について勧告する。
【００２７】
図示した実施例において、レジスト供給用受容器１３０中のフォトレジストは、供給ポンプ１３２によりレジスト供給ノズル１３４を通してウエハまたはディスク（図示せず）の表面に汲み出される。図１に示されるように、本発明のフォトレジスト供給システムの一実施例は、２本の収蔵ボトル１１０、１１６と２個のレジスト受容器１１２、１１８を備えたフォトレジスト供給システム、並びに第１受容器１１２に取付けられた第１真空ポンプ１２２と第２受容器１１８に取付けられた第２真空ポンプ１２４を備えた、２個の受容器１１２、１１８に対応する少なくとも２台の真空システムを有する。ボトル自動変換バルブ１２６がフォトレジストの継続的な供給を維持するために含まれ、そしてフォトレジストは供給システムを通してレジスト供給用受容器１３０に流れる。
【００２８】
フォトレジストを選択された受容器１１２、１１８からレジスト供給用受容器１３０中へ流すように、レジスト供給用受容器１３０内に負圧を形成しかつそれを維持するために、第３真空ポンプ１３３がフォトレジスト供給システムに組込まれる。フォトレジストは、レジスト供給用受容器１３０からレジスト供給ノズル１３４を通してフォトレジストを汲み出すことにより、ウエハまたはディスクの表面に供給される。
【００２９】
本発明の一実施例は、フォトレジストまたは他の類似の材料の供給と配分のための負圧供給システムを与えるように動作する。上記のようにフォトレジストは、異物のない状態で維持されかつ配分されなければならない。本発明を記述する目的のために、フォトレジスト材料中の微泡は異物とみなす。本発明の実施例において、フォトレジスト供給システム中の微泡の形成は実質的に排除される。典型的に窒素ガスによってフォトレジスト中に微泡を導入してしまう、正圧下でフォトレジスト供給システムを加圧する先行技術のフォトレジスト供給システムとは相違して、フォトレジストをフォトレジスト供給システムを通して吸い込みかつ流すために、本発明の実施例では負圧が使用され、それによって微泡の形成を実質的に排除する。
【００３０】
本発明の一実施例において、混入異物の源はフォトレジスト供給システムにおける真空ポンプ１２２、１２４および１３３を使用することにより実質的に排除される。第１の真空ポンプ１２２は第１の受容器１１２に取付けられて受容器１１２に負圧を発生させる。第１の真空ポンプ１２２は、レジストを第１の収蔵ボトル１１０から第１のレジスト導出部１１１を経て流出させ、第１のレジスト導入管１１４を通って第１のレジスト受容器１１２に流入させるために充分な負圧を発生するよう構成されている。一実施例において、発生負圧はレジストを第１の収蔵ボトル１１０から流出させて第１の受容器１１２に流入させるためには充分ではあるが、レジストが第１の受容器１１２から導出管１１５を通って流出するのを妨げるほど大きいものではない。従って、レジストは第１のレジスト受容器１１２から導出管１１５を通り、さらにボトル自動変換バルブ１２６を通って供給レジスト導入管１２８からレジスト供給用受容器１３０に流入することができる。
【００３１】
同様に第２の真空ポンプ１２４は第２の受容器１１８に取付けられて、第２の受容器１１８内に負圧を発生させる。第２の受容器１１８内の負圧によって、フォトレジストが第２の収蔵ボトル１１６から第２のレジスト導出部１２３を経て流出し、第２のレジスト導入管１２０を通って第２のレジスト受容器１１８に流入する。第２の真空ポンプ１２４は、フォトレジストを第２の収蔵ボトル１１６から第２のレジスト導出部１２３を経て流出させ、第２のレジスト導入管１２０を通って第２のレジスト受容器１１８に流入させるために充分な負圧を発生するよう構成されている。一実施例において、発生負圧はレジストを第２の収蔵ボトル１１６から流出させて第２の受容器１１８に流入させるためには充分ではあるが、レジストが第２の受容器１１８から導出管１２５を通って流出するのを妨げるほど大きいものではない。従って、フォトレジストは第２のレジスト受容器１１８から導出管１２５を通り、さらにボトル自動変換バルブ１２６を通って供給レジスト導入管１２８からレジスト供給用受容器１３０に流入することができる。
【００３２】
最後に第３の真空ポンプ１３３がレジスト供給用受容器１３０に取付けられ、レジスト供給用受容器１３０に負圧を発生する。レジスト供給用受容器１３０に発生した負圧は選択されたレジスト受容器１１２または１１８からレジストを吸引し、ボトル自動変換バルブ１２６と供給レジスト導入管１２８を経てレジスト供給用受容器１３０に流入させる。
【００３３】
他の実施例において、１個またはそれ以上のレジスト受容器に対して単一の真空ポンプが使用される。システムの要件から大規模なフォトレジスト供給システムに多数のレジスト受容器が組み込まれている態様に対しては、多数の真空ポンプが組み込まれる。
【００３４】
真空または負圧システムにおいては、フォトレジストは液中に微泡を発生させ得る窒素あるいはその他の気体を導入することなしに、収蔵から供給に至るまで流れる。ボトル自動変換バルブ１２６は収蔵容器が空になってもフォトレジストを定常的に供給し続ける。更にボトル自動変換バルブ１２６は、フォトレジスト供給ボトルの補給のためにシステム操作を中断することを本質的に不要とし、かつフォトレジスト供給ボトル交換に伴ってシステムを浄化する必要性を実質的に除去することによって、システム処理量を増加せしめ、より経済的で効率のよいシステムの利用方法を提供する。ボトル自動変換バルブ１２６は、レジスト受容器からの１個から多数の流入源を受容するためと、１本もしくはそれ以上のレジスト供給用導入管１２８を経て１個もしくはそれ以上のレジスト供給用受容器１３０に流入する１もしくはそれ以上のバルブ導出部のための接続部を備えることができる。ボトル自動変換バルブ１２６は、バルブ導出部を通してフォトレジストを流すため１個から多数の間の数の流入源を選択できるように構成されている。
【００３５】
フォトレジスト中に微泡を形成する加圧窒素ガスの傾向に加えて、先行技術のフォトレジスト供給システムはまた、フォトレジスト供給システム内部の受容器１１２、１１８、１３０の何れに対しても、フォトレジストの入口でフォトレジスト中に微泡を形成しやすい。本発明の一実施例において、フォトレジストが関連する受容器１１２、１１８、１３０に流入する経路となる各導入管１１４、１２０、１２８は、導入管１１４、１２０、１２８を通して関連する受容器１１２、１１８、１３０の内側壁に沿って、フォトレジストを下方へ流すように構成される。一実施例において、導入管１１４、１２０、１２８は、流出するフォトレジストが受容器１１２、１１８、１３０の内側壁から下方へ流れるように構成されている。
【００３６】
図２（Ａ）は、本発明の一実施例による第１受容器１１２の詳細を示す図である。第１受容器１１２は第２受容器１１８と本質的に同等であり（図１参照）、ここでは本発明の特徴を例示するために使用されていることを理解するべきである。他に記載がなければ、第１受容器１１２に関して記述されている各特徴は、第２受容器１１８および本発明の他の実施例に挙げられる如何なる数の追加された受容器にも同様に適用できる。
【００３７】
図２（Ａ）に示される第１受容器１１２は第１導入管１１４、真空導入管１１３、導出管１１５および内側壁１１７を有する。真空導入管１１３は、第１受容器１１２に真空状態を発生させる第１真空ポンプ１２２に接続される（図１参照）。導入管１１４はレジスト導入管１１４から流れ出るフォトレジストが１１９付近で内側壁１１７と接触し、内側壁１１７に沿って下方へ流れるように構成される。
【００３８】
本発明の一実施例によれば、真空または負圧は真空導入管１１３を経て第１受容器１１２に導入される。第１受容器１１２における十分な真空により、フォトレジストはレジスト導入管１１４を通り第１収蔵ボトル１１０（図１参照）から第１受容器１１２に吸い込まれる。システムを通常窒素ガスによる正圧状態とし、次いでフォトレジストを単に重力によって導入部から受容器中に落下させる典型的な先行技術のフォトレジスト供給システムとは異なり、本発明の一実施例では導入管１１４は、導入管１１４から流出するフォトレジストが第１受容器１１２の内側壁１１７に沿って下方へ流れるように構成される。一実施例において、フォトレジストは１１９付近で内側壁１１７と接触する。
【００３９】
フォトレジストがレジスト導入管１１４を通って流入する際、レジストは第１受容器１１２に到達し、内側壁１１７に沿って下方に流れて第１の受容器１１２内に集められる。図２（Ｂ）は、図２（Ａ）に示される第１の受容器に、本発明の一実施例に従って第１の受容器１１２内に集められたフォトレジストを入れた状態の詳細を示す。レジスト導入管１１４の形状と設定位置とを考慮することによって、フォトレジスト１２１が内側壁１１７から下方に流れ、実質的に微泡形成源を除去する。導入管１１４を通って流れるフォトレジストは、単にフォトレジスト１２１を集めるだけではなく、フォトレジスト１２１に過剰な攪拌と混合が生じるのを回避するので、微泡の形成が防止される。更に一実施例において、第１受容器１１２のレジスト導入管１１４の位置は、第１の受容器１１２に集められたフォトレジストのレベルよりも高い。
【００４０】
図１に戻って、レジスト供給用受容器１３０はまた、フォトレジストが本発明の一実施例においてレジスト供給用受容器１３０に集められる際、レジスト供給用の導入管１２８から流出するフォトレジストが内側壁に接触して流入し、壁に沿って下方へ流れるように構成されたレジスト供給用の導入管１２８を有する。第１受容器１１２、第２受容器１１８およびレジスト供給用受容器１３０の各々の導入管の形状は、フォトレジスト供給システムのこれらの領域における微泡の形成を実質的に防止する。本発明の一実施例においては、真空または負圧とレジスト導入部の接触点とを組合せることによって、フォトレジスト供給システムにおける微泡の形成を本質的に除去する。
【００４１】
図１、２Ａおよび２Ｂに例示されるように、本発明の一実施例は、それぞれ収蔵ボトルに接続された受容器を持つ２系統の真空または負圧供給システムを組込んでいるフォトレジスト供給システムを有する。真空ポンプはレジストの受容器に接続され、受容器の内部に真空または負圧を発生させるために使用される。真空または負圧は、微泡を形成することなしにフォトレジストを収蔵ボトルから受容器に吸い込む。同様にレジスト供給用受容器中の真空または負圧は、フォトレジストを選択された受容器からボトル自動変換バルブを通してレジスト供給用受容器に流入させる。フォトレジストは次いで、フォトレジストおよび他のレジスト塗布操作での使用のために、レジスト供給用受容器からレジスト供給ノズルへ汲み出される。ボトル自動変換バルブは、システム操作を中断することなしにレジストを供給する受容器を切れ目なく切換える。代案の実施例において、１系統又はそれ以上の真空システムが１個又はそれ以上のレジスト受容器に対して構成され、これらのレジスト受容器は次に１個以上のレジストの収蔵ボトルに接続される。
【００４２】
上記の発明はその内容を明瞭に理解されることを目的として幾分詳細に記述されてきたが、ある種の変更および修正が特許請求の範囲内で実施できることは明らかであろう。従って、本実施例は限定的ではなく例示的であると考えられるべきであり、かつ本発明はここに与えられた詳細事項に限定されるべきではなく、特許請求の範囲およびそれと均等な概念の範囲内で修正できる。
【００４３】
本明細書に組込まれかつその一部を形成する添付図面は、本発明の具体的実施例を図示し、内容の記述と共に本発明の原理を説明するのに有益である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例によるフォトレジスト供給システムの略式図である。
【図２】（Ａ）は本発明の一実施例によるレジスト受容器の詳細図、（Ｂ）は本発明の一実施例によるフォトレジストの収集された状態における（Ａ）のレジスト受容器である。
【符号の説明】
１００　　　　　　フォトレジスト供給システム
１１０　　　　　　収蔵ボトル
１１１　　　　　　レジスト導出部
１１２　　　　　　レジスト受容器
１１３　　　　　　真空導入管
１１４　　　　　　レジスト導入管
１１５　　　　　　導出管
１１６　　　　　　収蔵ボトル
１１７　　　　　　内側壁
１１８　　　　　　レジスト受容器
１２０　　　　　　レジスト導入管
１２１　　　　　　フォトレジスト
１２２　　　　　　真空ポンプ
１２３　　　　　　レジスト導出部
１２４　　　　　　真空ポンプ
１２５　　　　　　導出管
１２６　　　　　　ボトル自動変換バルブ
１２８　　　　　　レジスト導入管
１３０　　　　　　レジスト供給用受容器
１３２　　　　　　供給ポンプ
１３３　　　　　　真空ポンプ
１３４　　　　　　レジスト供給ノズル
【図１】
2004134519.tif 000003
【図２】
2004134519.tif 000004