(57)【要約】【課題】　インクにより形成される文字や画像等の耐水性に優れ、かつ１５０℃以下で形成できるインク受容層付基材を提供するる。【解決手段】　Ｘ線回折パターンにおいて、少なくとも一つのピークを有し、かつそのうちの少なくとも一つのピークの回折角度（２θ）が（１）式で表されるミセル含有無機酸化物（Ｃ）を含んでなる層を有することを特徴とするインク受容層付基材である。　　　　　２θ＝２ｓｉｎ-1（λ／２ｄ）　　　　（１）（λは特性Ｘ線のＫα１の波長（ｎｍ）、ｄは格子面間隔を表し０．８ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲である。）【選択図】　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線回折パターンにおいて、少なくとも一つのピークを有し、かつそのうちの少なくとも一つのピークの回折角度（２θ）が（１）式で表されるミセル含有無機酸化物（Ｃ）を含んでなる層を有することを特徴とするインク受容層付基材。
　　　　　２θ＝２ｓｉｎ-1（λ／２ｄ）　　　　（１）
（λは特性Ｘ線のＫα１の波長（ｎｍ）、ｄは格子面間隔を表し０．８ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲である。）
【請求項２】
前記（Ｃ）が、無機アルコキシド（Ａ１）、無機ハロゲン化物（Ａ２）、有機／無機複合アルコキシド（Ａ３）及び有機／無機複合ハロゲン化物（Ａ４）からなる群から選ばれる少なくとも１種の無機酸化物前駆体（Ａ）と界面活性剤（Ｂ）とを含有する溶液を用いてゾル−ゲル法で生産され得る構造を有してなる請求項１記載のインク受容層付基材。
【請求項３】
前記（Ａ）が、インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、ケイ素、バナジウム、マンガン、鉄、ジルコニウム、アンチモン、タングステン及びチタンからなる群から選ばれる少なくとも１種の無機元素を含有してなる請求項２記載のインク受容層付基材。
【請求項４】
前記（Ａ３）が一般式（４）で示される構造を有してなる請求項２又は３記載のインク受容層付基材。
【化１】
2004114679.tif 000007
［式中、Ｍはｎ価の金属、ｎは１〜７の整数、ｍは（ｎ−２）を超えない０又は正の整数、ｊは１又は２であり、Ｒ1はｊ個のＭと化学結合を形成する炭素数１〜２０の有機基であり、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜８の炭化水素基であり、Ｒ3は炭素数１〜８の炭化水素基である。］
【請求項５】
前記（Ａ４）が一般式（５）で示される構造を有することを特徴とする請求項２又は３記載のインク受容層付基材。
【化２】
2004114679.tif 000008
［式中、Ｍはｎ価の金属、ｎは１〜７の整数、ｍは（ｎ−２）を超えない０又は正の整数、ｊは１又は２であり、Ｒ1はｊ個のＭと化学結合を形成する炭素数１〜２０の有機基であり、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜８の炭化水素基であり、Ｘはハロゲン原子である。］
【請求項６】
界面活性剤（Ｂ）が、カチオン界面活性剤である請求項２〜５のいずれかに記載のインク受容層付基材。
【請求項７】
前記（Ｂ）の含有量（重量％）が、前記（Ｃ）の重量に基づいて１０以上７０以下である請求項２〜６のいずれかに記載のインク受容層付基材。
【請求項８】
前記（Ｃ）を含んでなる層を、有機高分子フィルム上に形成してなる請求項１〜７いずれかに記載のインク受容層付基材。
【請求項９】
インクジェット用記録シートとして用いられる請求項１〜８のいずれかに記載のインク受容層付基材。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のインク受容層付基材に、インクジェット記録方式で文字や画像を記録した記録フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、インク受容層付基材及びこれを用いた記録フィルムに関する。さらに詳しくはインクの吸収速度に優れ、インクにより形成される文字や画像等の耐水性及び耐擦傷性に優れ、屋外でも使用できるインク受容層付基材及びこれを用いた記録フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
　インクジェット記録方式は、近年フルカラー化及び高解像度化が達成されたことにより急速に普及している。インクジェット方式で使用されるインクは多量の溶媒を含んでいるため、高いインク吸収量、速いインク吸収速度が必要となる。また、多量の溶媒に由来する印字物の耐水性不良、長期保存するための耐候性不良、耐擦傷性不良等が問題となっていた。そして、このような耐水性及び耐擦傷性に関する問題点を解消するため、シリカ層及びアルミナ層の２層構造からなるインク受容層を支持体上に形成したものが提案されている（特許文献１）。また、最上層がコロイダルシリカを有し、コロイダルシリカ間の隙間がなす細孔の細孔分布曲線が細孔直径２〜１００ｎｍの範囲にピークを持つインク受容層が提案されている（特許文献２）。
【特許文献１】特開平６−９２０１１号公報
【特許文献２】特開平９−１８３２６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
　しかし、特許文献１の方法では、シリカからなるインク受容層の上にアルミナを形成するため、塗布工程が二回となり、インク受容層を製造するのに時間がかかる。また、１５０℃以上の高温が必要となるため、ベースフィルムとして耐熱性の低い樹脂シートを用いることができないという問題がある。また、特許文献２の方法でも、受容層を二層以上設けるため、塗布工程が二回以上となるのに加えて、耐水性等について不十分であるという問題がある。すなわち、本発明の目的は、インクにより形成される文字や画像等の耐水性に優れ、かつ１５０℃以下で形成できるインク受容層付基材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
　本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、Ｘ線回折パターンにおいて、少なくとも一つのピークを有し、かつそのうちの少なくとも一つのピークの回折角度（２θ）が（１）式で表されるミセル含有無機酸化物（Ｃ）を含んでなる層を有することを特徴とするインク受容層付基材である。
　　　　　　２θ＝２ｓｉｎ-1（λ／２ｄ）　　　　（１）
（λは特性Ｘ線のＫα１の波長（ｎｍ）、ｄは格子面間隔を表し０．８ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲である。）
【発明の効果】
【０００５】
　本発明のインク受容層付基材は、インクにより形成される文字や画像等の耐水性に優れ、かつ１５０℃以下で形成することができる。また、本発明のインク受容材料は、インクにより形成される文字や画像等の耐擦傷性にも優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
　本発明のインク受容層付基材が有する層に含まれているミセル含有無機酸化物（Ｃ）は、界面活性剤のミセルが無機酸化物中に均一に分散されている。
　ミセル含有金属酸化物（Ｃ）中のミセルの均一分散に関しての情報は、Ｘ線回折パターンから得られる。Ｘ線回折パターンは、例えば、小角散乱測定法により得られる。小角散乱測定法はＸ線回折法の一種である。Ｘ線回折法は、物質に入射したＸ線の一部が波長が変わらずに散乱される（これをトムソン散乱という）原理を利用したものである。
【０００７】
　小角散乱測定法は、１〜１００ｎｍくらいの微粒子や密度の不均一な領域（ミセルや空隙等を含む）があると入射Ｘ線方向に散漫な散乱が生じることを利用したものである。この散乱は結晶質、非晶質に関わらず存在し、微粒子や密度の不均一な領域の内部構造には関わらず、粒子や密度の不均一な領域の径が小さいほど広がるという性質を持つ。一方、粒子や密度の不均一な領域の径が大きいほど散乱の幅が狭くなる。これらの方法で得られたＸ線回折パターンは、縦軸を散乱強度、横軸を回折角度（２θ）として、各回折角度での測定物質の散乱強度をプロットしたものである。なお、λは、測定時に使用した金属の特性Ｘ線のＫα１の波長を用いる。
【０００８】
　Ｘ線回折パターンにおいて少なくとも一つのピークを有し、かつそのうちの少なくとも一つのピークの回折角度（２θ）が（１）式で表されるということは、このようなＸ線回折パターンを有する物質が、次の(i)〜(iii)のうちいずれかを満たしていることを示す。
(i)ミセル径に均一性があり、ミセルの形状が均一である。
(ii)ミセルの形状が均一であり、ミセルの配列が構造規則性を有している。
(iii)ミセル径に均一性があり、ミセルの配列が構造規則性を有している。
【０００９】
　格子面間隔（ｄ）（ｎｍ）は、０．８以上が好ましく、より好ましくは１以上、特に好ましくは２以上、最も好ましくは４以上であり、また１５０以下が好ましく、より好ましくは８０以下、特に好ましくは６０以下、最も好ましくは４０以下である。（ｄ）がこの範囲であると、インク受容層付き基材を１５０℃以上の高温で焼成しなくても、インク受容層付基材の耐水性及び耐擦傷性がさらによくなる傾向がある。
【００１０】
　（Ｃ）のミセルの形状は、棒状、球状及び層状等のいずれでもよい。（Ｃ）のミセルの配列は、規則性を有してもよいし、無くてもよいが、規則性を有していること（上記の(ii)）が好ましい。ミセルの配列が規則性を有するとは、ミセルの配列構造が空間群で示される対称性を有することを意味する。空間群とは、対称要素の集合によってつくられる群をいう。対称要素とは、原子、粒子、空孔等を三次元で規則的に無限配列した場合に生じる対称のことをいい、５種の回転軸、対称心、鏡面、回映軸、並進、らせん軸及び映進面が挙げられる。対称要素の可能な組み合わせは２３０種であり、全ての規則的配列がこれで説明できる。全ての空間群の詳細な説明や図は、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｔａｂｌｅ　ｏｆ　Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ，Ｖｏｌ．Ａ（Ｄ．Ｒｅｉｄｅｌ，１９８７）に記載されている。このような空間群としては、例えば、表１に示すもの等が挙げられる。
【００１１】
【表１】
2004114679.tif 000002
【００１２】
　ミセル径は主に、界面活性剤（Ｂ）の種類により制御され、（Ｂ）の量、種類等で制御される。この他、温度、媒体の種類等によってもミセル径の制御に影響を受ける。
【００１３】
　本発明のインク受容層付基材に用いられるミセル含有無機酸化物（Ｃ）は、無機酸化物前駆体（Ａ）と界面活性剤（Ｂ）とを含有する溶液を用いてゾル−ゲル法で生産され得る構造のものが好ましい。ゾル−ゲル法とは、通常のゾルゲル法、すなわち、無機ハロゲン化物又は無機アルコキシドを加水分解、一部重縮合して、含水金属酸化物ゾル溶液を形成し、次に、これを脱水重縮合してゲルとし、このゲルを加熱して無機酸化物をある一定の形状（シート上に被膜とすることを含む）として調製する方法のことを意味する。
【００１４】
　無機酸化物前駆体（Ａ）は、加水分解により無機酸化物を形成する化合物であり、無機アルコキシド（Ａ１）、無機ハロゲン化物（Ａ２）、有機／金属複合アルコキシド（Ａ３）及び有機／無機複合ハロゲン化物（Ａ４）からなる群より選ばれる少なくとも１種等が使用できる。
【００１５】
　（Ａ１）としては、一般式（２）：Ｍ（ＯＲ）nで表される化合物等が使用できる。一般式（２）中、Ｍは、ｎ価の無機原子を表し、ｎは１〜７の整数であり、好ましくは２〜５の整数であり、（Ａ１）の入手しやすさや取扱性等の観点から、３〜５の整数がより好ましく、特に好ましくは３〜４の整数、最も好ましくは４である。ｎ個のＲＯは同一でも異なっていてもよい。Ｍとしては無機アルコキシド及び無機ハロゲン化物として安定に存在できる金属原子であれば制限なく用いられ、具体的には、II族（亜鉛）、III族（インジウム、アルミニウム）、IV族（スズ、ケイ素、ジルコニウム、チタン）、V族（バナジウム、アンチモン）、VI族（タングステン）、VII族（マンガン）、VIII族（鉄）等の無機原子及びこれらの組み合わせ等が挙げられる。これらのうち、（Ａ１）及び（Ａ２）の入手しやすさ等の観点から、IV族原子、特にケイ素、チタンが好ましく、より好ましいのはケイ素である。
【００１６】
　また、一般式（２）中、Ｒは、アルキル基を表し、炭素数１〜３０のアルキル基等が用いられる。炭素数１〜３０のアルキルとしては、具体的には、メチル、エチル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、デシル、ヘキサデシル、エイコシル及びトリコシル等が挙げられる。これらのうち、（Ａ１）及び（Ａ２）の入手しやすさや取扱性等の観点から、プロピル、ｎ−ブチル及びｔ−ブチルが好ましく、より好ましいものはメチル、特に好ましいものはエチルである。
【００１７】
　一般式（２）で表される化合物には、テトラアルコキシシラン、テトラアルコキシチタン及びトリアルコキシアルミニウム等が含まれる。テトラアルコキシシランとしては、例えば、ジメトキシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン（以下ＴＥＳ）、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン及びテトライソプロポキシシラン等が挙げられる。テトラアルコキシチタンとしては、例えば、ジメトキシジエトキシチタン、テトラエトキシチタン及びテトライソプロポキシチタン等が挙げられる。トリアルコキシアルミニウムとしては、例えば、トリエトキシアルミニウム及びトリイソプロポキアルミニウム等が挙げられる。これらのうち、入手しやすさ等の観点から、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシアルミニウムが好ましく、より好ましくはテトラアルコキシシラン、特に好ましいのはテトラメトキシシラン、ＴＥＳ、テトラプロポキシシラン及びテトラブトキシシランである。
【００１８】
　無機ハロゲン化物（Ａ２）としては、一般式（３）：Ｍ（Ｘ）nで表される化合物等が使用できる。一般式（３）中、Ｍ及びｎは一般式（２）におけるものと同じである。ｎ個のＸは同一でも異なっていてもよい。
　一般式（３）で表される化合物としては、シランテトラハライド、チタンテトラハライド及びアルミニウムトリハライド等が含まれる。シランテトラハライドとしては、シランテトラクロリド、シランテトラブロミド、シランテトラフルオリド及びシランテトラヨージド等が挙げられる。チタンテトラハライドとしては、チタンテトラクロリド、チタンテトラブロミド、チタンテトラフルオリド及びチタンテトラヨージド等が挙げられる。アルミニウムトリハライドとしては、アルミニウムトリクロリド、アルミニウムトリブロミド、アルミニウムトリフルオリド及びアルミニウムトリヨージド等が挙げられる。これらのうち、入手しやすさ等の観点から、シランテトラハライド及びアルミニウムトリハライドが好ましく、より好ましくはシランテトラハライド、特に好ましくはシランテトラクロリド及びシランテトラブロミドである。
【００１９】
　（Ａ３）及び（Ａ４）は、それぞれ（Ａ１）のアルコキシ基及び（Ａ２）のハロゲン原子の一部が有機基で置換（又は有機基を介して結合）されたものであり、一般式（４）及び（５）でそれぞれ表される化合物等が使用できる。
【００２０】
【化１】
2004114679.tif 000003
【００２１】
【化２】
2004114679.tif 000004
【００２２】
　一般式（４）及び（５）中、Ｍ及びｎは一般式（２）及び（３）におけるものと同じである。ｍは（ｎ−２）を超えない０又は正の整数、ｊは１又は２であり、Ｒ1はｊ個のＭと化学結合を形成する炭素数１〜２０の有機基であり、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜８の炭化水素基であり、Ｒ3は炭素数１〜８の炭化水素基であり、Ｘはハロゲン原子である。］
　Ｍはこれらのうち、（Ａ３）及び（Ａ４）の入手しやすさ等の観点から、好ましいものはチタン、より好ましいものはケイ素である。
【００２３】
　一般式（４）及び（５）中、Ｒ1は、炭素数１〜２０のｊ価の有機基であり、１価炭化水素基例えば、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数６〜１２のアリル基、及び炭素数７〜１２のアルアルキル基；並びに２価炭化水素基、例えば炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、炭素数６〜２０のアリレン基及び炭素数７〜２０のアルアルキレン基等が含まれる。
【００２４】
　炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基及びｎ−オクチル基等が挙げられる。炭素数２〜８のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、アリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−オクテニル基、２−オクテニル基及び７−オクテニル基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアリル基としては、フェニル基、ｏ−メチルフェニル基、ｍ−メチルフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基及びジメチルナフチル基等が挙げられる。炭素数７〜１２のアルアルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、メチルベンジル基及びナフチルメチル基等が挙げられる。炭素数１〜２０のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、１，２−ヘキシレン基、１，３−ヘキシレン基、１，４−ヘキシレン基、１，５−ヘキシレン基及び１，２−オクチレン基等が挙げられる。炭素数２〜２０のアルケニレン基としては、ビニレン基、プロペニレン基、１−エチルビニレン基、１，２−ジメチルビニレン基、１−ブチルビニレン基及び１−ヘキシルビニレン基等が挙げられる。
【００２５】
　炭素数２〜２０のアルキニレン基としては、エチニレン基、プロピニレン基、１−エチルエチニレン基、１，２−ジメチルエチニレン基、１−ブチルエチニレン基、１−ヘキシルエチニレン基及び１−オクチルエチニレン基等が挙げられる。炭素数６〜２０のアリレン基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、p-フェニレン基及び２，７−ナフチレン基等が挙げられる。炭素数７〜２０のアルアルキレン基としては、例えば、一般式（６）式で表される有機基等が挙げられる。
　　　　　　−（ＣＨ2）q−Ｐｈ−（ＣＨ2）r−　　　（６）
　一般式（６）中、−Ｐｈ−はｏ−、ｍ−又はｐ−フェニレン基、ｑ及びｒはｑ＋ｒが１〜１４となる０又は１〜１４の整数である。
【００２６】
　これらのうち、（Ａ３）及び（Ａ４）の入手しやすさ等の観点から、アルキレン基及びアリレン基が好ましく、より好ましくはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、１，２−ヘキシレン基、１，３−ヘキシレン基、１，４−ヘキシレン基、１，５−ヘキシレン基、１，２−オクチレン基、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、p-フェニレン基及び２，７−ナフチレン基、特に好ましくはメチレン基、エチレン基及びp-フェニレン基である。
【００２７】
　一般式（４）及び（５）中、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜８の炭化水素基であり、Ｒ3は炭素数１〜８の炭化水素基である。炭素数１〜８の炭化水素基としては、前述のＲ1の１価炭化水素基のうち炭素数１〜８のものが挙げられる。これらのうち、（Ａ３）及び（Ａ４）の入手しやすさ等の観点から、、Ｒ2はメチル、エチル及びフェニルが好ましく、より好ましいのはメチル及びフェニルである。Ｒ3はメチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル及びｔ−ブチルが好ましく、より好ましいのはメチル、特に好ましいのはエチルである。
【００２８】
　（ｎ−ｍ−１）はインク受容層の形成しやすさ等の観点から、２〜６の整数が好ましく、さらに好ましくは２〜５の整数、特に好ましくは２〜３の整数である。ｎは、０〜７の整数であり、インク受容層の形成しやすさ等の観点から、０〜５の整数が好ましく、さらに好ましくは０〜２の整数、特に好ましくは０又は１である。ｊは、１〜２の整数であり、インク受容層の形成しやすさ等の観点から、１が好ましい。
【００２９】
　（Ａ３）には、ｊ＝１である有機／無機複合アルコキシド（Ａ３−１）、ｊ＝２である有機／無機複合アルコキシド（Ａ３−２）及びこれらの混合物等が含まれる。
【００３０】
　（Ａ３−１）としては、次の、メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、オクトキシシラン、フェノキシシラン、メトキシチタン、エトキシチタン、ブトキシチタン、オクトキシチタン及びフェノキシチタン等が含まれる。
【００３１】
　エトキシシランとしては、トリエトキシメチルシラン、トリエトキシエチルシラン、トリエトキシｎ−プロピルシラン、トリエトキシｉ−プロピルシラン、トリエトキシｎ−ブチルシラン、トリエトキシｉ−ブチルシラン、トリエトキシｔ−ブチルシラン、トリエトキシｎ−ヘキシルシラン、トリエトキシｎ−オクチルシラン、トリエトキシフェニルシラン、トリエトキシベンジルシラン、トリエトキシｐ−メチルフェニルシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジエトキシジｎ−プロピルシラン、ジエトキシジｉ−プロピルシラン、ジエトキシジｎ−ブチルシラン、ジエトキシジｉ−ブチルシラン、ジエトキシジｔ−ブチルシラン、ジエトキシジｎ−ヘキシルシラン、ジエトキシジｎ−オクチルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ジエトキシジベンジルシラン、ジエトキシジｐ−メチルフェニルシラン、ジエトキシメチルエチルシラン、ジエトキシメチルｎ−プロピルシラン、ジエトキシメチルｎ−ブチルシラン、ジエトキシメチルｎ−ヘキシルシラン、ジエトキシメチルｎ−オクチルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルベンジルシラン、ジエトキシエチルフェニルシラン、ジエトキシメチルベンジルシラン及びジエトキシベンジルフェニルシラン等が挙げられる。
メトキシシラン、ブトキシシラン、オクトキシシラン、フェノキシシランとしては、上記エトキシシランに相当する（エトキシ基がそれぞれメトキシ、ブトキシ、オクトキシ及びフェノキシ基に置換した）ものが挙げられる。
【００３２】
　メトキシチタン、エトキシチタン、ブトキシチタン、オクトキシチタン、フェノキシチタンとしては、上記メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、オクトキシシラン、フェノキシシランに相当する（シランがそれぞれチタンに置換した）ものが挙げられる。
【００３３】
　ｊ＝２である有機／金属複合アルコキシド（Ａ３−２）には、次の、メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、オクトキシシラン、フェノキシシラン、メトキシチタン、エトキシチタン、ブトキシチタン、オクトキシチタン及びフェノキシチタン等が含まれる。メトキシシランとしては、トリメトキシシラン、ジメトキシシラン及びモノメトキシシランが含まれる。
【００３４】
　エトキシシランとしては、ビス（トリエトキシシリル）エチレン、ビス（トリエトキシシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、ビス（ジエトキシメチルシリル）エチレン、ビス（ジエトキシメチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジエトキシメチルシリル）ベンゼン、ビス（ジエトキシエチルシリル）エチレン、ビス（ジエトキシエチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジエトキシエチルシリル）ベンゼン、ビス（ジエトキシブチルシリル）エチレン、ビス（ジエトキシブチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジエトキシブチルシリル）ベンゼン、ビス（ジエトキシフェニルシリル）エチレン、ビス（ジエトキシフェニルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジエトキシフェニルシリル）ベンゼン、ビス（エトキシジメチルシリル）エチレン、ビス（エトキシジメチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（エトキシジメチルシリル）ベンゼン、ビス（エトキシジエチルシリル）エチレン、ビス（エトキシジエチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（エトキシジエチルシリル）ベンゼン、ビス（エトキシジブチルシリル）エチレン、ビス（エトキシジブチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（エトキシジブチルシリル）ベンゼン、ビス（エトキシジフェニルシリル）エチレン、ビス（エトキシジフェニルシリル）ヘキサメチレン及びｐ−ビス（エトキシジフェニルシリル）ベンゼン等が挙げられる。
【００３５】
　メトキシシラン、ブトキシシラン、オクトキシシラン、フェノキシシランとしては、上記エトキシシランに相当する（エトキシ基がそれぞれメトキシ、ブトキシ、オクトキシ及びフェノキシ基に置換した）ものが挙げられる。
【００３６】
　メトキシチタン、エトキシチタン、ブトキシチタン、オクトキシチタン、フェノキシチタンとしては、上記メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、オクトキシシラン、フェノキシシランに相当する（シランがそれぞれチタンに置換した）ものが挙げられる。
【００３７】
　有機／無機複合ハロゲン化物（Ａ４）には、ｊ＝１である有機／無機複合ハロゲン化物（Ａ４−１）、ｊ＝２である有機／無機複合ハロゲン化物（Ａ４−２）及びこれらの混合物等が含まれる。
【００３８】
　ｊ＝１である（Ａ４−１）としては、次の、トリハロシラン、ジハロシラン、トリハロチタン及びジハロチタン等が含まれる。
　トリハロシランとしては、トリクロロシラン、例えばトリクロロメチルシラン、トリクロロエチルシラン、トリクロロ−ｎ−プロピルシラン、トリクロロ−ｉ−プロピルシラン、トリクロロ−ｎ−ブチルシラン、トリクロロ−ｉ−ブチルシラン、トリクロロ−ｔ−ブチルシラン、トリクロロ−ｎ−ヘキシルシラン、トリクロロ−ｎ−オクチルシラン、トリクロロフェニルシラン、トリクロロベンジルシラン、トリクロロ−ｐ−メチルフェニルシラン；並びに上記に相当する（クロルがブロムに置き換わった）トリブロモシランが挙げられる。
【００３９】
　ジハロシランとしては、ジクロロシラン、例えばジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラン、ジクロロジ−ｎ−プロピルシラン、ジクロロジ−ｉ−プロピルシラン、ジクロロジ−ｎ−ブチルシラン、ジクロロジ−ｉ−ブチルシラン、ジクロロジ−ｔ−ブチルシラン、ジクロロジ−ｎ−ヘキシルシラン、ジクロロジ−ｎ−オクチルシラン、ジクロロジフェニルシラン、ジクロロジベンジルシラン、ジクロロジ−ｐ−メチルフェニルシラン、ジクロロメチルエチルシラン、ジクロロメチル−ｎ−プロピルシラン、ジクロロメチル−ｎ−ブチルシラン、ジクロロメチル−ｎ−ヘキシルシラン、ジクロロメチル−ｎ−オクチルシラン、ジクロロメチルフェニルシラン、ジクロロメチルベンジルシラン、ジクロロエチルチルフェニルシラン、ジクロロメチルベンジルシラン、ジクロロベンジルフェニルシラン並びに上記に相当する（クロルがブロムに置き換わった）ジブロモシランが挙げられる。
【００４０】
　トリハロチタン、ジハロチタンとしては、上記トリハロシラン、ジハロシランに相当する（シランがそれぞれチタンに置換した）ものが挙げられる。
【００４１】
　ｊ＝２である有機／無機複合ハロゲン化物（Ａ４−２）には、次の、トリハロシラン、ジハロシラン、モノハロシラン、トリハロチタン、ジハロチタン及びモノハロチタン等が含まれる。
　トリハロシランとしては、トリクロロシタン、例えばビス（トリクロロシリル）メチレン、ビス（トリクロロシリル）エチレン、ビス（トリクロロシリル）トリメチレン、ビス（トリクロロシリル）テトラメチレン、ビス（トリクロロシリル）ヘキサメチレン、ビス（トリクロロシリル）オクタメチレン、ビス（トリクロロシリル）デカメチレン、１，２−ビス（トリクロロシリル）ブチレン、１，３−ビス（トリクロロシリル）ブチレン、１，２−ビス（トリクロロシリル）ブチレン、１，２−ビス（トリクロロシリル）ヘキシレン、１，３−ビス（トリクロロシリル）ヘキシレン、１，４−ビス（トリクロロシリル）ヘキシレン、１，５−ビス（トリクロロシリル）ヘキシレン、１，２−ビス（トリクロロシリル）オクチレン、ｏ−ビス（トリクロロシリル）ベンゼン、ｍ−ビス（トリクロロシリル）ベンゼン、ｐ−ビス（トリクロロシリル）ベンゼン、２，７−ビス（トリクロロシリル）ナフチレン等；並びに上記に相当する（クロルがブロムに置き換わった）トリブロモシランが挙げられる。
【００４２】
　ジハロシランとしては、ビス（ジクロロメチルシリル）メチレン、ビス（ジクロロメチルシリル）エチレン、ビス（ジクロロメチルシリル）トリメチレン、ビス（ジクロロメチルシリル）テトラメチレン、ビス（ジクロロメチルシリル）ヘキサメチレン、ビス（ジクロロメチルシリル）オクタメチレン、ビス（ジクロロメチルシリル）デカメチレン、１，２−ビス（ジクロロメチルシリル）ブチレン、１，３−ビス（ジクロロメチルシリル）ブチレン、１，２−ビス（ジクロロメチルシリル）ブチレン、１，２−ビス（ジクロロメチルシリル）ヘキシレン、１，３−ビス（ジクロロメチルシリル）ヘキシレン、１，４−ビス（ジクロロメチルシリル）ヘキシレン、１，５−ビス（ジクロロメチルシリル）ヘキシレン、１，２−ビス（ジクロロメチルシリル）オクチレン、ｏ−ビス（ジクロロメチルシリル）ベンゼン、ｍ−ビス（ジクロロメチルシリル）ベンゼン、ｐ−ビス（ジクロロメチルシリル）ベンゼン、２，７−ビス（ジクロロメチルシリル）ナフチレン、ビス（ジクロロエチルシリル）エチレン、ビス（ジクロロエチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジクロロエチルシリル）ベンゼン、ビス（ジクロロｎ−プロピルシリル）エチレン、ビス（ジクロロｎ−プロピルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジクロロｎ−プロピルシリル）ベンゼン、ビス（ジクロロｎ−ブチルシリル）エチレン、ビス（ジクロロｎ−ブチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジクロロｎ−ブチルシリル）ベンゼン、ビス（ジクロロフェニルシリル）エチレン、ビス（ジクロロフェニルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジクロロフェニルシリル）ベンゼン、ビス（ジクロロベンジルシリル）エチレン、ビス（ジクロロベンジルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（ジクロロベンジルシリル）ベンゼン；並びに上記に相当する（クロルがブロムに置き換わった）ジブロモシランが挙げられる。
【００４３】
　モノハロシランとして、モノクロロシラン、例えばビス（クロロジメチルシリル）メチレン、ビス（クロロジメチルシリル）エチレン、ビス（クロロジメチルシリル）トリメチレン、ビス（クロロジメチルシリル）テトラメチレン、ビス（クロロジメチルシリル）ヘキサメチレン、ビス（クロロジメチルシリル）オクタメチレン、ビス（クロロジメチルシリル）デカメチレン、１，２−ビス（クロロジメチルシリル）ブチレン、１，３−ビス（クロロジメチルシリル）ブチレン、１，２−ビス（クロロジメチルシリル）ブチレン、１，２−ビス（クロロジメチルシリル）ヘキシレン、１，３−ビス（クロロジメチルシリル）ヘキシレン、１，４−ビス（クロロジメチルシリル）ヘキシレン、１，５−ビス（クロロジメチルシリル）ヘキシレン、１，２−ビス（クロロジメチルシリル）オクチレン、ｏ−ビス（クロロジメチルシリル）ベンゼン、ｍ−ビス（クロロジメチルシリル）ベンゼン、ｐ−ビス（クロロジメチルシリル）ベンゼン、２，７−ビス（クロロジメチルシリル）ナフチレン、ビス（クロロジエチルシリル）エチレン、ビス（クロロジエチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（クロロジエチルシリル）ベンゼン、ビス（クロロジｎ−プロピルシリル）エチレン、ビス（クロロジｎ−プロピルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（クロロジｎ−プロピルシリル）ベンゼン、ビス（クロロジｎ−ブチルシリル）エチレン、ビス（クロロジｎ−ブチルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（クロロジｎ−ブチルシリル）ベンゼン、ビス（クロロジフェニルシリル）エチレン、ビス（クロロジフェニルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（クロロジフェニルシリル）ベンゼン、ビス（クロロジベンジルシリル）エチレン、ビス（クロロジベンジルシリル）ヘキサメチレン、ｐ−ビス（クロロジベンジルシリル）ベンゼン；並びに上記に相当する（クロルがブロムに置き換わった）モノジブロモシランが挙げられる。
【００４４】
　トリハロチタン、ジハロチタン、モノハロチタンとしては、上記トリハロシラン、ジハロシランに相当する（シランがそれぞれチタンに置換した）ものが挙げられる。
【００４５】
　無機酸化物前駆体（Ａ）のうち、インク受容層と支持体（高分子フィルム等）との密着性等の観点から、無機アルコキシド（Ａ１）、有機／無機複合アルコキシド（Ａ３）、有機／無機複合ハロゲン化物（Ａ４）及びこれらの組み合わせが好ましく、より好ましいのは（Ａ３）、特に好ましいのは（Ａ１）と（Ａ３）との組み合わせである。
【００４６】
　界面活性剤（Ｂ）としては、公知のカチオン界面活性剤（Ｂ１）、アニオン界面活性剤（Ｂ２）、ノニオン界面活性剤（Ｂ３）及び両性界面活性剤（Ｂ４）が使用できる。カチオン界面活性剤（Ｂ１）に、低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１）及び高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２）が含まれる。
【００４７】
　低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１）としては、第４級アンモニウム塩型低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１ａ）及びアミン塩型低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１ｂ）等が使用できる。第４級アンモニウム塩型低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１ａ）としては、テトラアルキルアンモニウムカチオン、ベンジル基とアルキル基とを有するアンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオン又はポリオキシアルキレン基とアルキル基とを有するアンモニウムカチオンからなる第４級アンモニウム塩等が使用できる。
　これらの第４級アンモニウム塩を構成するアニオンとしては、水酸イオン、ハロゲンイオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン及び沃素イオン）、硝酸イオン、亜硝酸イオン、メトサルフェートイオン及び炭素数１〜８のカルボキシルアニオン（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、２−エチルヘサキサン酸、乳酸、りんご酸又はグルコン酸等から誘導されるアニオン）等が使用できる。
【００４８】
　テトラアルキルアンモニウムカチオンとしては、アルキル基（炭素数８〜２２）を有するアンモニウムカチオン等が使用でき、これらからなるアンモニウム塩としては、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムメトサルフェート等が挙げられる。
【００４９】
　ベンジル基とアルキル基とを有するアンモニウムカチオンとしては、ベンジル基と炭素数８〜２２のアルキル基とを有するアンモニウムカチオン等が使用でき、これらからなるアンモニウム塩としては、例えば、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド（塩化ベンザルコニウム）及びオクチルジメチルベンジルアンモニウムメトサルフェート等が挙げられる。
【００５０】
　ピリジニウムカチオンとしては、アルキル基（炭素数８〜２２）を有するピリジニウムカチオン等が使用でき、これらからなるアンモニウム塩としては、例えば、セチルピリジニウムクロライド、ラウリルピリジニウムクロライド及びステアリルピリジニウムメトサルフェート等が挙げられる。
【００５１】
　ポリオキシアルキレン基とアルキル基とを有するアンモニウムカチオンとしては、ポリオキシアルキレン基（アルキレン基の炭素数２〜４）（分子量：１２０〜１２００）と炭素数１〜２２のアルキル基とを有するアンモニウムカチオン等が使用でき、これらからなるアンモニウム塩としては、例えば、ポリオキシエチレン（分子量：１２０〜１，２００）トリメチルアンモニウムクロライド、ポリオキシエチレン（分子量：１２０〜１，２００）ラウリルジメチルアンモニウムクロライド及びポリオキシエチレン（分子量：１２０〜１，２００）ラウリルジメチルアンモニウムメトサルフェート等が挙げられる。
【００５２】
　第４級アンモニウム塩型低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１ａ）は、第３級アミンと４級化剤［アルキルハライド（メチルクロライド、メチルブロマイド、エチルクロライド等）、ジアルキル硫酸（ジメチル硫酸等）、ベンジルクロライド、ジアゾメタン等のアルキル化剤；エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（ＰＯ）等の炭素数２〜４のアルキレンオキシド（ＡＯ）；ジアルキル炭酸（ジメチル炭酸等）］との反応で得ることができる。
【００５３】
　アミン塩型低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１ｂ）としては、第１級アミン塩、第２級アミン塩及び第３級アミン塩等が挙げられる。
　第１級アミン塩としては、アルキル基（炭素数８〜２２）を有する第１級高級アミン塩等が使用でき、例えば、ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン臭素酸塩ブロマイド、セチルアミン硫酸塩、及び硬化牛脂アミン塩酸塩等が挙げられる。
　第２級アミン塩としては、アルキル基（炭素数８〜２２）を有する第２級高級アミン塩等が使用でき、例えば、ラウリルメチルアミン塩酸塩、ステアリルエチルアミン臭素酸塩、ジラウリルアミン硫酸塩、ラウリルプロピルアミン酢酸塩、及びジオクチルアミン塩酸塩等が挙げられる。
　第３級アミン塩としては、アルキル基（炭素数８〜２２）を有する第３級アミン塩等が使用でき、例えば、ラウリルジエチルアミン塩酸塩、ラウリルエチルメチルアミン臭素酸塩及びオクタデシルジエチルアミン硫酸塩等が挙げられる。
【００５４】
　アミン塩型低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１ｂ）は、第１〜３級アミンを無機酸（塩化水素酸、臭化水素酸、沃化水素酸等のハロゲン化水素酸；硝酸、亜硝酸、硫酸、リン酸等）又は有機酸（酢酸、ギ酸、蓚酸等のモノカルボン酸；乳酸、りんご酸、グルコン酸等のヒドロキシカルボン酸；アジピン酸、シュウ酸、コハク酸等のジカルボン酸；三酢酸グリセロール、三酪酸グリセロール等のポリカルボン酸；リン酸トリエチル、リン酸トリオクチル、リン酸トリクレジル等のアルキル燐酸；メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、エタンスルホン酸等のアルキルスルホン酸等）で中和することにより得ることができる。
【００５５】
　高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２）としては、第４級アンモニウム塩型高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２−１）及びアミン塩型高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２−２）等が使用できる。第４級アンモニウム塩型高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２−１）には、アミノ基含有ビニルモノマー（ｂ１）の（共）重合体（ｂ１ｘ）を４級化剤で４級化した（共）重合体（ＢＢ２−１ａ）、及び第４級アンモニウム基含有ビニルモノマー（ｂ２）を（共）重合した（共）重合体（ＢＢ２−１ｂ）等が含まれる。
【００５６】
　アミノ基含有ビニルモノマー（ｂ１）としては、アミノ基とビニル基とを含有する炭素数４〜５０（好ましくは５〜２０）のモノマー等が使用でき、例えば、アミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ−アミノエチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アリルアミン、モルホリノエチル（メタ）アクリレート、４−ビニルピリジン、２−ビニルピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスチレン、メチルα−アセトアミノアクリレート、ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルチオピロリドン等が挙げられる。
【００５７】
　（共）重合体（ｂ１ｘ）はアミノ基含有ビニルモノマー（ｂ１）を（共）重合して得ることができる。この際、必要に応じてその他のモノマー（ｂ３）を共重合させてもよい。その他のモノマー（ｂ３）としては、ノニオン性のハイドロカルビル（メタ）アクリレート（ｂ３−１）及びビニル炭化水素（ｂ３−２）等が含まれる。
【００５８】
　ノニオン性のハイドロカルビル（メタ）アクリレート（ｂ３−１）としては、ハイドロカルビル（炭化水素）基の炭素数１〜５０（好ましくは１〜２０）のハイドロカルビルアルキル（メタ）アクリレート等が使用でき、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、エイコシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）クリレート、ベンジル（メタ）クリレート及びフェニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５９】
　ノニオン性のビニル炭化水素（ｂ３−２）としては、脂肪族ビニル炭化水素、脂環式ビニル炭化水素、及び芳香族ビニル炭化水素等が用いられる。
　脂肪族ビニル炭化水素としては、炭素数２〜５０（好ましくは２〜２２）のオレフィン等が使用でき、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセン、ブタジエン、イソプレン、１，４−ペンタジエン、１，６−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン及びオクタデセン等が挙げられる。
【００６０】
　脂環式ビニル炭化水素としては、炭素数２〜５０（好ましくは５〜２２）の脂環式ビニル炭化水素等が使用でき、例えば、シクロヘキセン、（ジ）シクロペンタジエン、ピネン、リモネン、インデン、ビニルシクロヘキセン及びエチリデンビシクロヘプテン等が挙げられる。
【００６１】
　芳香族ビニル炭化水素としては、炭素数８〜５０（好ましくは８〜２２）の芳香族ビニル炭化水素等が使用でき、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、２，４−ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ベンジルスチレン、クロチルベンゼン、ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、ジビニルケトン及びトリビニルベンゼン等が挙げられる。
【００６２】
　その他のモノマー（ｂ３）を使用する場合、使用量（重量％）は、モノマー全体の重量に基づいて、５以上が好ましく、より好ましくは１０以上、特に好ましくは１５以上であり、また６０以下が好ましく、より好ましくは５０以下、特に好ましくは４０以下である。
【００６３】
　（共）重合体（ｂ１ｘ）は公知の方法で、アミノ基含有ビニルモノマー（ｂ１）、並びに必要に応じて、重合開始剤その他のモノマー（ｂ３）及び／又は溶媒の存在下、（共）重合させて得ることができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が使用できる。ラジカル重合開始剤としては、公知のビニルモノマーの重合に用いられているものであれば、いずれも使用できる。代表的なものとしては、パーオキサイド重合開始剤及びアゾ重合開始剤等が挙げられる。また、これらの２種以上を併用してもよい。パーオキサイド重合開始剤としては、水溶性パーオキサイド重合開始剤が使用でき、例えば、過酸化水素、過酢酸、過硫酸アンモニウム、化硫酸カリウム及び過硫酸ナトリウム等が挙げられる。アゾ重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。
【００６４】
　重合開始剤の使用量（重量部）は、アミノ基含有ビニルモノマー（ｂ１）（その他のモノマー（ｂ３）と共重合する場合は（ｂ１）と（ｂ３）の合計重量）１００重量部に対して、０．１以上が好ましく、より好ましくは０．２以上、特に好ましくは０．３以上であり、また２０以下が好ましく、より好ましくは１０以下、特に好ましくは５以下である。
【００６５】
　溶媒としては特に限定はないが、例えば、水、炭素数１〜１２の炭化水素、炭素数１〜１０のアルコール、炭素数１〜１２のエステル、炭素数１〜１２のケトン、炭素数１〜１２のエーテル、炭素数１〜１２のアミド及び炭素数１〜１２のスルホキシド等が使用できる。炭素数５〜１２の炭化水素としては、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン及びメシチレン等が挙げられる。炭素数１〜１０のアルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノール、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール及びベンジルアルコール等が挙げられる。炭素数２〜１２のエステルとしては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ヘキシル、プロピオン酸メチル及びプロピオン酸エチル等が挙げられる。炭素数３〜１２のケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン及び３−ヘキサノン等が挙げられる。炭素数４〜１２のエーテルとしては、ジエチルエーテル、ブチルエチルエーテル、ジブチルエーテル及びジヘキシルエーテル等が挙げられる。炭素数２〜１２のアミドとしては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ，Ｎ−ジエチルアセトアミド等が挙げられる。炭素数２〜１２のスルホキシド等としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド及びジブチルスルホキシド等が挙げられる。
【００６６】
　これらのうち、水、炭素数５〜１２の炭化水素、炭素数１〜１０のアルコール及び炭素数２〜１２のエステルが好ましく、より好ましくは水、トルエン、キシレン、メシチレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノール、酢酸エチル及びアセトンである。
【００６７】
　（共）重合体（ＢＢ２−１ａ）は、公知の方法で（共）重合体（ｂ１ｘ）を前記の４級化剤で４級化することにより得ることができる。
【００６８】
　第４級アンモニウム基含有ビニルモノマー（ｂ２）としては、炭素数６〜５０（好ましくは８〜２０）の第３級アミン基含有ビニルモノマーの４級化物が使用でき、例えば、（メタ）アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムメトサルフェート、（メタ）アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムメチル炭酸、（メタ）アクリロイロキシエチルトリエチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリルアミドエチルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリルアミドエチルトリエチルアンモニウムクロライド、及びテトラアリルアンモニウムクロライド等が挙げられる。
【００６９】
　（共）重合体（ＢＢ２−１ｂ）は、公知の方法により、第４級アンモニウム基含有ビニルモノマー（ｂ２）、並びに必要に応じて重合開始剤、ノニオン性のその他のモノマー（ｂ３）及び／又は溶媒の存在下、（共）重合して得ることができる。重合開始剤、その他のモノマー（ｂ３）及び溶媒としては、上記と同じものが使用できる。重合開始剤の使用量（重量部）は、第４級アンモニウム基含有ビニルモノマー（ｂ２）（その他のモノマー（ｂ３）と共重合する場合は（ｂ２）と（ｂ３）の合計重量）１００重量部に対して、０．１以上が好ましく、より好ましくは０．２以上、特に好ましくは０．３以上であり、また２０以下が好ましく、より好ましくは１０以下、特に好ましくは５以下である。
【００７０】
　アミン塩型高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２−２）は、（共）重合体（ｂ１ｘ）を酸で中和することにより得ることができる。酸としては、無機酸及び有機酸が挙げられる。無機酸及び有機酸としては、アミン塩型カチオン界面活性剤（ＢＢ１ｂ）と同じものが使用できる。
【００７１】
　アミン塩型高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２−２）は公知の方法で、（共）重合体（ｂ１ｘ）と前記酸とを必要に応じて溶媒の存在下、中和することにより得ることができる。溶媒としては特に限定はないが、具体的には前記のものと同じものが使用できる。
【００７２】
　高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２）の重量平均分子量としては、２，０００以上が好ましく、より好ましくは３，０００以上、特に好ましくは４，０００以上、最も好ましくは５，０００以上であり、また、１，０００，０００以下が好ましく、より好ましくは５００，０００以下、特に好ましくは２００，０００以下、最も好ましくは１００，０００以下である。なお、重量平均分子量は、ゲルパミエーションクロマトグラフィー法により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。カチオン界面活性剤（Ｂ１）は、これらのうち二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００７３】
　アニオン性界面活性剤（Ｂ２）としては、炭素数８〜２４の炭化水素系エーテルカルボン酸又はその塩、［（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウリルエーテル酢酸ナトリウム等］、炭素数８〜２４の炭化水素系硫酸エステル塩［ラウリル硫酸ナトリウム等］、炭素数８〜２４の炭化水素系スルホン酸塩［ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等］及び炭素数８〜２４の炭化水素系リン酸エステル塩［（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウリルエーテルリン酸ナトリウム等］、脂肪酸塩［ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸トリエタノールアミン等］、アシル化アミノ酸塩［ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム等］、その他［スルホコハク酸（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウロイルエタノールアミド２ナトリウム等］等が挙げられる。
【００７４】
　ノニオン性界面活性剤（Ｂ３）としては、具体的には例えば脂肪族系アルコール（炭素数８〜２４）アルキレンオキサイド（炭素数２〜８）付加物（重合度＝１〜１００）［ラウリルアルコールエチレンオキサイド付加（重合度＝２０）物等］、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８、重合度＝１〜１００）高級脂肪酸（炭素数８〜２４）エステル［モノステアリン酸ポリエチレングリコール（重合度＝２０）等］、多価（２価〜１０価又はそれ以上）アルコール脂肪酸（炭素数８〜２４）エステル［ソルビタンパルミチン酸（モノ／ジ）エステル等］、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８，重合度＝１〜１００）多価（２価〜１０価又はそれ以上）アルコール高級脂肪酸（炭素数８〜２４）エステル［（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１０）ソルビタンラウリン酸（モノ／ジ）エステル等］、脂肪酸アルカノールアミド［１：１型ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド等］、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８、重合度＝１〜１００）アルキル（炭素数１〜２２）フェニルエーテル（（ポリ）オキシエチレン（重合度＝２０）ノニルフェニルエーテル等）、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８、重合度＝１〜１００）アルキル（炭素数８〜２４）アミノエーテル及びアルキル（炭素数８〜２４）ジアルキル（炭素数１〜６）アミンオキシド［ラウリルジメチルアミンオキシド等］、ポリジメチルシロキサンポリオキシエチレン付加物、ポリオキエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー（重量平均分子量＝１５０〜１００００）等が挙げられる。
【００７５】
　両性界面活性剤（Ｂ４）としては、ベタイン型両性界面活性剤［ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウリルヒドロキシスルホベタイン、ラウロイルアミドエチルヒドロキシエチルカルボキシメチルベタインヒドロキシプロピルリン酸ナトリウム等］、アミノ酸型両性界面活性剤［β−ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウム等］が挙げられる。
【００７６】
　これらの界面活性剤（Ｂ）のうち、カチオン界面活性剤（Ｂ１）が好ましく、さらに好ましいのは高分子カチオン界面活性剤（ＢＢ２）及び（ＢＢ２）と低分子カチオン界面活性剤（ＢＢ１）との組み合わせ、最も好ましくは（ＢＢ２）である。この範囲であると、インク中のアニオン系染料とカチオン活性剤が反応した場合に、染料の変色が起こりにくくなるため好ましい。
【００７７】
　ミセル含有無機酸化物（Ｃ）中の界面活性剤（Ｂ）の量（重量％）は、ミセルの形成し易さ及び記録フィルムの耐水性等の観点から、（Ｃ）中の無機酸化物の重量に基づいて、２００以下が好ましく、より好ましくは１５０以下、特に好ましくは１００以下、また２５以上が好ましく、より好ましくは４０以上、特に好ましくは５０以上である。また、無機酸化物前駆体（Ａ）中の界面活性剤（Ｂ）の量（重量％）は、ミセルの形成し易さ及び記録フィルムの耐水性等の観点から、（Ａ）の重量に基づいて、１５０以下が好ましく、よりに好ましくは１１５以下、特に好ましくは７５以下、また、７以上が好ましく、より好ましくは１１以上、特に好ましくは１４以上である。
【００７８】
　またミセル含有無機酸化物（Ｃ）には、必要に応じてバインダーポリマー及びその他の添加剤等が添加されていてもよい。バインダーポリマーとしては、重量平均分子量１万〜１０万のバインダーポリマー等が用いられる。このバインダーポリマーとしては、特開平１−２６６５３７号公報に記載の水溶性ポリマー及び特開平６−９２０１１号公報に記載のバインダーポリマー等を用いることができる。例えば、セルロース及びその変性体、各種ケン化度の通常のポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、多価アルコールのエチレンオキシド付加物、酢酸ビニル及びメタクリル酸アルキルエステル（共）重合体等が挙げられる。
【００７９】
　バインダーポリマーを用いると、インクの種類にも左右される傾向があるがインクの吸収速度が向上する傾向があるため好ましい。バインダーポリマーを使用する場合、この含有量（重量％）は、インクの吸収速度の観点から、（Ｃ）中の無機酸化物の重量に基づいて、１以上が好ましく、より好ましくは５以上、特に好ましくは１０以上であり、また５０以下が好ましく、より好ましくは４０以下、特に好ましくは３０以下である。
【００８０】
　その他の添加剤としては、インク受容層付基材に用いられる公知の添加剤等が使用できる。特公昭６０−３４３０号、特公昭６３−１１６５５号、特公平１−３８２９１号、特公平１−３８２９２号、特開平１−１０５２４５号等の各公報に記載の各種添加剤等が使用できる。例えば、無機顔料、シランカップリング剤、染料、蛍光増白剤、黄変防止剤、酸化防止剤、消泡剤、消臭剤、芳香剤、殺菌剤、防菌剤及び防かび剤等を必要に応じて使用できる。　
【００８１】
　その他の添加剤を使用する場合、この含有量（重量％）は、ミセル含有金属酸化物（Ｃ）の重量に基づいて、０．１以上が好ましく、より好ましくは０．５以上、特に好ましくは１．０以上であり、また６以下が好ましく、より好ましくは４以下、特に好ましくは３以下である。
【００８２】
　本発明のインク受容層付基材は、有機高分子フィルム等の支持体上に、（Ｃ）を含んでなるインク受容層を形成させて製造される。有機高分子フィルムとしては、通常の印刷用支持体等が使用でき、例えば、ポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、セロハン又はセルロイド等からなる合成樹脂フィルム、紙、及び塗工紙等が挙げられる。これらのうち、入手しやすさ及びインク受容層との密着性等の観点から、好ましいのはセロハン又はセルロイド等からなる合成樹脂フィルム、より好ましいのはポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂からなる合成樹脂フィルムである。
【００８３】
　支持体（有機高分子フィルム等）の厚み（μｍ）は、機械的強度及び柔軟性等の観点から、１０以上が好ましく、より好ましくは２０以上、特に好ましくは３０以上であり、また５００以下が好ましく、より好ましくは４００以下、特に好ましくは３００以下である。
【００８４】
　有機高分子フィルム上に（Ｃ）を含むインク受容層を形成する方法としては、（Ａ）と（Ｂ）を含有するゾル溶液、例えば（Ａ）を水、必要に応じて溶媒、触媒、バインダーポリマー及び／又はその他の添加物を加え均一なゾル溶液とし、次に、界面活性剤（Ｂ）を添加して均一化しミセル含有ゾル溶液とし、最後に高分子フィルム上に塗布し、乾燥・ゲル化（脱水重縮合）させる方法等が挙げられる。
【００８５】
　ゾル溶液形成には、加水分解反応を伴う必要があり、水が必要となる。水の使用量（重量％）は、ゾル溶液の調製しやすさ等の観点から、金属酸化物前駆体（Ａ）の重量に基づいて、１００以上が好ましく、より好ましくは１５０以上、特に好ましくは２００以上であり、また１０００以下が好ましく、より好ましくは６００以下、特に好ましくは４００以下である。
【００８６】
　溶媒は、（Ａ１）〜（Ａ４）、（Ｂ）、水、触媒、バインダーポリマー及び／又はその他添加物のうち、使用するものを溶解できるものであれば、特に限定はなく、例えば、炭素数１〜４のアルコール（メタノール、エタノール、イソプロパノール及びｔ−ブタノール等）、炭素数３〜６のケトン（アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等）、炭素数４〜８のエーテル（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジエチレングリコール等）及びこれらの混合物等が使用できる。溶媒のうち、水との親和性、並びに界面活性剤（Ｂ）及びバインダーポリマー等の溶解性等の観点から、炭素数１〜４のアルコール及びこれらの混合物が好ましく、より好ましくはメタノール及びエタノールである。
【００８７】
　溶媒を使用する場合、溶媒の使用量（重量％）は、ゾル溶液の調製し易さ等の観点から、（Ａ）及び（Ｂ）の合計重量に基づいて、１０以上が好ましく、より好ましくは５０以上、特に好ましくは１００以上であり、また同様に１０００以下が好ましく、より好ましくは５００以下、特に好ましくは２００以下である。
【００８８】
　触媒は、金属酸化物前駆体（Ａ）のゾル化及びゲル化の促進触媒として必要に応じて添加されるものであり、酸触媒及び塩基触媒が含まれる。酸触媒としては、無機酸及び有機酸（炭素数１〜９）が含まれる。無機酸としては、塩化水素酸、臭化水素酸及び沃化水素酸等のハロゲン化水素酸、硝酸、亜硝酸、硫酸並びにリン酸等が挙げられる。有機酸としては、酢酸、及びギ酸等のモノカルボン酸；乳酸等のヒドロキシカルボン酸；アジピン酸、シュウ酸及びコハク酸等のジカルボン酸；グリセロール三酢酸等のポリカルボン酸；リン酸エチル等のアルキル燐酸；メタンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられる。
【００８９】
　塩基触媒としては、無機塩基及び有機塩基（炭素数１〜６）が含まれる。無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム及びアンモニアが挙げられる。有機塩基としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン及びトリエチルアミン等が挙げられる。これらの触媒のうち、酸触媒が好ましく、より好ましいのはハロゲン化水素酸である。
【００９０】
　触媒を使用する場合、触媒の使用量（重量％）は、金属酸化物前駆体（Ａ）の重量に基づいて、０．１以上が好ましく、より好ましくは０．２以上、特に好ましくは０．４以上であり、また１以下が好ましく、より好ましくは０．８以下、特に好ましくは０．５以下である。
【００９１】
　水、（Ａ）、（Ｂ）、並びに必要により触媒、溶媒、バインダーポリマー及び／又はその他の添加剤からなる配合液のｐＨは、３以上が好ましく、より好ましくは４以上、特に好ましくは５以上であり、また１０以下が好ましく、より好ましくは９以下、特に好ましくは８以下である。
【００９２】
　ゾル溶液調製の際には、まず水、必要に応じて溶媒、バインダーポリマー及び／又はその他の添加物を加え、撹拌、均一化する。次に撹拌したまま金属酸化物前駆体（Ａ）を加えていく。均一になりにくい場合には、必要に応じて触媒を添加することが望ましい。均一化した後、熟成を経てゾル溶液となる。この時の溶液の温度（℃）は、０以上が好ましく、より好ましくは１０以上、特に好ましくは２０以上であり、また２００以下が好ましく、より好ましくは１００以下、特に好ましくは８０以下である。熟成の時間としては、３０分以上が好ましく、より好ましくは１時間以上、特に好ましくは２時間以上であり、また１２時間以下が好ましく、より好ましくは８時間以下、特に好ましくは６時間以下である。
【００９３】
　ミセル含有ゾル溶液調製の際には、上記ゾル溶液を撹拌しておき、ここに界面活性剤（Ｂ）を加えていく。撹拌均一化した後、熟成を行う。この時の溶液の温度（℃）は、０以上が好ましく、より好ましくは１０以上、特に好ましくは２０以上であり、また２００以下が好ましく、より好ましくは１００以下、特に好ましくは８０以下である。熟成の時間としては、３０分以上が好ましく、より好ましくは１時間以上、特に好ましくは２時間以上であり、また１２時間以下が好ましく、より好ましくは８時間以下、特に好ましくは６時間以下である。
【００９４】
　有機高分子フィルム上にミセル含有ゾル溶液を塗布する方法としては、特に限定はなく、塗布装置を用いて支持体上に塗布する方法等が挙げられる。塗布装置としては、公知の塗布装置等が使用でき、スピンコーター、エアーナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、カーテンコーター、グラビアコーター及びコンマコーター等が挙げられる。
【００９５】
　有機高分子フィルム上に塗布した後、インク受容層の乾燥及び熟成を行う。乾燥及び熟成の温度（℃）としては、有機高分子フィルムの耐熱性等の観点から、−１０以上が好ましく、より好ましくは０以上、特に好ましくは１０以上、最も好ましくは１５以上であり、また１５０以下が好ましく、より好ましくは１４０以下、特に好ましくは１２０以下、最も好ましくは１１０以下である。乾燥及び熟成の時間は、３０分以上が好ましく、より好ましくは１時間以上、特に好ましくは２時間以上であり、また１２時間以下が好ましく、より好ましくは８時間以下、特に好ましくは６時間以下である。乾燥及び熟成時には、減圧、常圧どちらでもよいが、発泡防止の観点から、常圧の方が好ましい。また、空気中、不活性ガス中どちらで行ってもよいが、有機高分子フィルム等の劣化防止等の観点から、不活性ガス中が好ましい。
【００９６】
　インク受容層付基材上のインク受容層の厚さ（μｍ）は、０．５以上が好ましく、さらに好ましくは１以上、特に好ましくは２以上であり、また１００以下が好ましく、より好ましくは５０以下、特に好ましくは２５以下である。
【００９７】
　本発明のインク受容層付基材は、インクジェット記録方式のプリンター用の印刷基材として最適である。本発明のインク受容層付基材に、インクジェット記録方式で文字や画像等を記録した記録フィルムの耐水性は、極めて優れている。このようなプリンターとしては、各社から多くの種類が市販されており、例えば、ＢＪＦシリーズ（キャノン社）、ＰＭシリーズ、ＭＪシリーズ（ＥＰＳＯＮ社）、デスクジェット・デスクライターシリーズ（ＨＰ社）、ピクティシリーズ（ＮＥＣ社）及びプリンティアジェットシリーズ（富士通）等が挙げられる。
　インクとしては、溶媒、着色剤、及び必要によりその他の添加剤を加えたものが上げられる。溶媒としては、水、ケトン類、アルコール類、エステル類等が上げられる。着色剤としては、染料、顔料が上げられる。染料としては、アゾ系染料・フタロシアニン系染料、アゾ金属錯体系染料等が上げられる。顔料としては、カーボンブラック及び有機顔料が上げられる。
その他の添加剤としては、バインダー樹脂、ＰＨ調整剤、金属封鎖材、防菌防カビ剤、界面活性剤、導電性付与剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、乾燥防止剤、浸透剤などが上げられる。これらのインクは、水性、油性のものどちらでも良い。
【００９８】
　また、本発明のインク受容層付基材は、インクジェット記録法だけでなく、公知の記録時に液状のインクを使用するどのような記録方式にも使用することができる。熱溶融性物質、染顔料などを主成分とする熱溶融性インクを樹脂フィルム、高密度紙、合成紙などの薄い基材上に塗布した媒体を、その裏面より加熱し、インクを溶融させて転写する熱転写記録方式、熱溶融性インクを加熱溶融して微少液滴化し、飛翔させて記録する固体インクジェット方式等が挙げられる。さらに複写機、プリンターなどに広く使用されている電子写真記録方式のトナーを加熱定着するための記録媒体に用いてもかまわない。また、油絵や水彩画などの美術用の基材として用いてもかまわない。
　以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下、部は重量部を、％は重量％を表す。
【実施例１】
【００９９】
ガラス製の容器に、テトラエトキシシラン１５部、エタノール１０部、イオン交換水３２部及びポリビニルアルコールの５％水溶液３０部を加え、均一になるまで撹拌した。ここに、１Ｎ−塩酸を０．２部加え、撹拌しながら２５℃で１時間反応させた。次にラウリルトリメチルアンモニウムクロライド３．２部を加え、均一になるまで撹拌し、さらに１時間撹拌した。得られた液体を、ポリエチレンテレフタレートフィルム（３ｃｍ×４ｃｍ、厚み５０μｍ）の上にスピンコーターで塗布し、２５℃、空気中で１時間乾燥した。その後、１００℃で１時間熟成し、インク受容層付基材（ＩＫ１）を得た。得られたインク受容層の厚みは２．５μｍであった。
【０１００】
実施例２〜１１
　以下、表２に記載の材料を用いて実施例１と同様にして実施例２〜１１のインク受容層付基材を得た。
【０１０１】
【表２】
2004114679.tif 000005
【０１０２】
比較例１
　ガラス製の容器に、テトラエトキシシラン１５部、エタノール１０部及びイオン交換水３２部を加え、均一になるまで撹拌した。ここに、１Ｎ−塩酸を０．２部加え、撹拌しながら２５℃で２時間反応させた。得られた液体を、ポリエチレンテレフタレートフィルム（３ｃｍ×４ｃｍ、厚み５０μｍ）の上にスピンコーターで塗布し、２５℃、空気中で１時間乾燥した。その後、１００℃で１時間熟成し、比較用のインク受容層付基材（ＩＫ１２）を得た。得られたインク受容層の厚みは２．０μｍであった。
【０１０３】
比較例２
　ポリエチレンテレフタレートフィルム（３ｃｍ×４ｃｍ、厚み５０μｍ）のみをそのままシート（ＩＫ１３）として評価した。
【０１０４】
　実施例１〜１１及び比較例１〜２で得たインク受容層付基材（ＩＫ１）〜（ＩＫ１１）及び（ＩＫ１２）〜（ＩＫ１３）について、ＸＲＤパターン及び基材密着性、並びにインクジェットプリンターによる耐水性、耐擦傷性及びインク吸収性を評価し、これらの結果を表３に示した。
【０１０５】
＜ＸＲＤパターン評価＞
　ＲＩＮＴ２２００粉末Ｘ線回折装置（理学電気株式会社製）を用い、Ｃｕ−Ｋα１（λ＝０．１５４０５６ｎｍ）、４０．０ＫＶ管電圧、３０ｍＡ管電流、発散スリット１／２°、散乱スリット１／２°受光０．１５ｍｍの条件で測定を行い、得られた２θ（°）から（１）式を用いてｄを求めた。
【０１０６】
＜基材密着性＞
　評価サンプルを水に１分間浸漬後、サンプルを引き上げてから室温（２５℃）で２４時間乾燥（風乾）した。そして、２４時間後にインク受容層のひび割れ状態を顕微鏡で観察した。なお、ひび割れはＰＥＴとインク受容層との間に水が入り込むことによって生じると考えられる。
　◎：ひび割れ無し。
　○：乾燥後、目視で受容層のひび割れが確認できる。
　×：インク受容層が水中に流れ落ちる。
【０１０７】
＜耐水性＞
　インクジェットプリンター（Ｃａｎｏｎ　ＢＪＦ６６００）で黒（エプソン：ＩＣ１　ＢＫ１３）の数字を印字し、印字してから３０分後に、評価サンプルを水に１分間浸漬し、インクの水への流出を目視で観察した。
　◎：水への流出無し。
　○：水への流出わずかにあり。
　×：水へすべて流出、基材上の印字が確認できない。
【０１０８】
＜耐擦傷性＞
　印字してから３０分後に指で擦って、基材上の文字に傷が付くかどうかを観察した。
　◎：擦っても傷つかない。
　○：擦るとわずかに傷がつく。
　×：触るだけで傷が付く。
【０１０９】
【表３】
2004114679.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
　本発明のインク受容層付基材は、インクにより形成される文字や画像等の耐水性に優れ、かつ１５０℃以下で形成することができる。また、本発明のインク受容材料は、インクにより形成される文字や画像等の耐擦傷性にも優れている。従って、特に屋外等で使用する記録フィルムとして最適である。