(57)【要約】【課題】スレーブ媒体と密着して磁気転写する際に、微細凹凸パターンを有し、その凸部および凹部の両方に磁性層が形成されたマスター担体で、凸部の磁性層と凹部の磁性層との間の磁気的結合を遮断して高品位な磁気転写が行える磁気転写用マスター担体を提供する。【解決手段】スレーブ媒体に転写すべき情報に応じた凹凸パターンを有する基板３１と、該基板３１の凹凸パターン上に形成された磁性層３２とを備えてなり、凸部３１ａのトラック方向の長さＬが０．４μｍ以下であり、また、凹部磁性層３２ｂの厚さｔが、凹部３１ｂの深さｄ未満（ｔ＜ｄ）であり、さらに、凸部磁性層３２ａの下面と凹部磁性層３２ｂの上面との高さ方向の距離ｄＭが、係数をＡおよびＢとしたときに、ｄＭ≧Ａ×Ｌ＋Ｂ（但し、Ａ；０．００５〜０．５、Ｂ；０〜０．１）の関係を満たす。凸部磁性層３２ａと凹部磁性層３２ｂとを磁気的に分離し、凹部磁性層３２ｂの影響による磁界の分散を低減し、高品位な磁気転写を実現する。【選択図】　　　　　図１
2004110875.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スレーブ媒体に転写すべき情報に応じた凹凸パターンを有する基板と、該基板の凹凸パターン上に形成された磁性層とを備え、前記凹凸パターンの凸部のトラック方向の長さＬが０．４μｍ以下である磁気転写用マスター担体において、
前記基板の凹凸パターンにおける凹部の深さをｄ、該凹部に形成された磁性層の厚さをｔとしたとき、
ｔ＜ｄ
を満たすとともに、
前記凹凸パターンの凸部に形成された磁性層の下面と凹部に形成された磁性層の上面との高さ方向の距離をｄＭ、係数をＡおよびＢとしたときに、
ｄＭ≧Ａ×Ｌ＋Ｂ
但し、Ａ；０．００５〜０．５、Ｂ；０〜０．１
の関係を満たしていることを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、転写情報が担持されたマスター担体から転写を受けるスレーブ媒体へ磁気転写する際に使用する磁気転写用マスター担体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
本発明の対象とする磁気転写は、少なくとも表層に磁性層を有するサーボ信号等の転写パターンが凹凸形状で形成されたマスター担体（パターンドマスター）を、磁気記録部を有するスレーブ媒体と密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報に対応する磁化パターンをスレーブ媒体に転写記録するものである。
【０００３】
上記磁気転写に使用するマスター担体の一例としては、基板の表面に情報信号に対応する凹凸パターンを形成し、この凹凸パターンの表面に薄膜磁性層を被覆形成してなるものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、本発明が対象とする磁気転写の基本工程の一態様を図３に基づき説明する。この例は、面内記録によるものである。まず、磁気転写を受ける磁気記録層を有するスレーブ媒体２と、図３（ｂ）に示すような、基板３１の微細凹凸パターンに磁性層３２が被覆されてなり、この磁性層３２による凹凸パターンを有するマスター担体３とを用意する。そして、最初に図３（ａ）に示すように、スレーブ媒体２に初期静磁界Ｈｉｎをトラック方向の一方向に印加して予め初期磁化（直流消磁）を行う。その後、図３（ｂ）に示すように、スレーブ媒体２の磁気記録面と、マスター担体３の磁性層３２による凸部パターンとを密着させ、スレーブ媒体２のトラック方向に初期磁界Ｈｉｎとは逆方向に転写用磁界Ｈｄｕを印加して磁気転写を行う。転写用磁界Ｈｄｕが磁性層３２による凸部パターンに吸い込まれ、この部分の磁化は反転せず、その他の部分の磁化が反転する結果、図３（ｃ）に示すように、スレーブ媒体２のトラックにはマスター担体３の磁性層３２の凹凸パターンに応じた磁化パターンが転写記録される。なお、垂直記録方式においても、上記と略同様の磁性層による凹凸パターンを有するマスター担体を使用することによってスレーブ媒体に磁気転写が行える。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−２５６６４４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記のようなパターン化磁気転写では、マスター担体は基板の凹凸パターン上に磁性層が形成されるため、その凸部および凹部の両方に磁性層を有する形態となり、凸部に形成された磁性層が信号記録の直接的な役割を担い、凹部に形成された磁性層の影響により凸部の磁性層に収束される磁界が分散し、記録信号の品質低下を招く問題がある。この現象は、特に前記凹凸パターンの凸部のトラック方向の長さＬが０．４μｍ以下である微細パターンにおいて顕著となる傾向がある。
【０００７】
そして、上記記録信号の品位を確保するためには、凸部の磁性層と凹部の磁性層との間の磁気的結合を遮断することが有効である。なお、マスター担体の磁性層を凸部にのみ設け、凹部に有していないものが、磁気転写特性としては良好であるが、このようなマスター担体は微細パターンの作製が困難であり、コスト面等で不利である。
【０００８】
本発明はこのような点に鑑みなされたもので、微細凹凸パターンを有し、その凸部および凹部の両方に磁性層が形成されたマスター担体で、凸部の磁性層と凹部の磁性層との間の磁気的結合を遮断して高品位な磁気転写が行える磁気転写用マスター担体を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気転写用マスター担体は、スレーブ媒体に転写すべき情報に応じた凹凸パターンを有する基板と、該基板の凹凸パターン上に形成された磁性層とを備え、前記凹凸パターンの凸部のトラック方向の長さＬが０．４μｍ以下である磁気転写用マスター担体において、
前記基板の凹凸パターンにおける凹部の深さをｄ、該凹部に形成された磁性層の厚さをｔとしたとき、
ｔ＜ｄ
を満たすとともに、
前記凹凸パターンの凸部に形成された磁性層の下面と凹部に形成された磁性層の上面との高さ方向の距離をｄＭ、係数をＡおよびＢとしたときに、
ｄＭ≧Ａ×Ｌ＋Ｂ
但し、Ａ；０．００５〜０．５、Ｂ；０〜０．１
の関係を満たしていることを特徴とするものである。
【００１０】
【発明の効果】
上記のような本発明によれば、転写情報に応じた凹凸パターンを有する基板の凸部および凹部に磁性層が形成され、凸部のトラック方向の長さＬが０．４μｍ以下であり、また、凹部の磁性層の厚さｔが、基板の凹部の深さｄ未満（ｔ＜ｄ）であり、さらに、凸部の磁性層の下面と凹部の磁性層の上面との高さ方向の距離ｄＭが、係数をＡおよびＢとしたときに、ｄＭ≧Ａ×Ｌ＋Ｂ（但し、Ａ；０．００５〜０．５、Ｂ；０〜０．１）の関係を満たすことにより、凸部の磁性層と凹部の磁性層とが磁気的に分離された状態を実現でき、凹部の磁性層の影響による凸部の磁性層に収束される磁界の分散を低減し、高品位な磁気転写を行うことができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は一つの実施の形態におけるマスター担体の部分断面図である。
【００１２】
本実施形態の磁気転写用マスター担体３は、図１に示すように、転写する情報に対応した形態の微細凹凸パターンが形成された基板３１と、そのパターン上に成膜された磁性層３２とを備えてなる。上記基板３１は、表面に微細凹凸パターンが各種作製方法によって形成され、このような基板３１に各種成膜方法によって磁性層３２を成膜する。
【００１３】
基板３１のパターンの凹凸形状は、凸部３１ａと凹部３１ｂがトラック方向に所定の長さＬで形成され、この凸部３１ａのトラック方向の長さＬが０．４μｍ以下と微細で高密度に形成されている。また、磁性層３２は、凸部３１ａの上面に形成された凸部磁性層３２ａと、凹部３１ｂの底部に形成された凹部磁性層３２ｂとを有する。なお、上記基板３１のパターン凸部３１ａの平面形状は略矩形状である。
【００１４】
そして、前記基板３１の凹凸パターンにおける凹部３１ｂの深さをｄ、凹部磁性層３２ｂの厚さをｔとしたとき、ｔ＜ｄである。
【００１５】
さらに、前記凸部磁性層３２ａの下面と凹部磁性層３２ｂの上面との高さ方向の距離ｄＭが、係数をＡおよびＢとしたときに、
ｄＭ≧Ａ×Ｌ＋Ｂ（但し、Ａ；０．００５〜０．５、Ｂ；０〜０．１）
の関係を満たしている。
【００１６】
つまり、図２は上記長さＬと距離ｄＭとの関係を示す図で、ｄＭ＝Ａ×Ｌ＋Ｂの直線より上方の領域が上記条件を満たし、凸部磁性層３２ａと凹部磁性層３２ｂの離間距離（距離ｄＭ）を、凸部３１ａのトラック方向の長さＬに応じて大きくするものであり、これにより、凸部磁性層３２ａと凹部磁性層３２ｂとを磁気的に分離し、凹部磁性層３２ｂの影響による磁界の分散を低減し、高品位な磁気転写を実現する。
【００１７】
なお、通常、凸部磁性層３２ａの厚さと、凹部磁性層３２ｂの厚さｔとは、略同一の厚さに形成される。
【００１８】
また、前記マスター担体３の基板３１における凹凸パターンの凹部３１ｂの深さｄ（突起の高さ）は、５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜６００ｎｍである。これに対応して、磁性層３２が前述の条件を満たすように形成される。
【００１９】
上記のようなマスター担体３は磁気転写装置において、前述の図３に示すような基本工程で、トラック方向または垂直方向に予め初期磁化したスレーブ媒体２と密着され、この密着状態で電磁石装置等の磁界印加装置によって初期磁化方向と略逆向きの方向に転写用磁界を印加して、マスター担体３の転写情報に対応した磁化パターンをスレーブ媒体２に転写記録する。
【００２０】
マスター担体３の基板３１としては、ニッケル、シリコン、アルミニウム、合金、合成樹脂等を使用する。凹凸パターンの形成は、スタンパー法等によって行われる。スタンパー法は、表面が平滑な原板（シリコンウエハー、ガラス板、石英板など）の上にスピンコート等でフォトレジストを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号に対応して変調した電子ビーム（またはレーザー光）を照射し、所定のパターン、例えばサーボ信号に相当するパターンを露光する。その後、フォトレジストを現像処理し、露光部分を除去しフォトレジストによる凹凸形状を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターンをもとに、この表面にメッキ（電鋳）を施し、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作製し、原盤から剥離する。
【００２１】
また、前記原盤にメッキを施して第２の原盤を作製し、この第２の原盤を使用してメッキを行い、ネガ状凹凸パターンを有する基板を作製してもよい。さらに、第２の原盤にメッキを行うか樹脂液を押し付けて硬化を行って第３の原盤を作製し、第３の原盤にメッキを行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作製してもよい。一方、前記原板にフォトレジストによるパターンを形成した後、エッチングして原板に穴を形成し、フォトレジストを除去した原盤を得て、以下前記と同様に基板を形成してもよい。
【００２２】
前記磁性層３２の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段などにより成膜する。その磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）を用いることができる。特に好ましくはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一つの実施の形態における磁気転写用マスター担体の要部断面図
【図２】凸部長さＬと凸凹部磁性層距離ｄＭとの関係を示す図
【図３】磁気転写の基本工程の一態様を示す図
【符号の説明】
２　　スレーブ媒体
３　　マスター担体
３１　　基板
３１ａ　　凸部
３１ｂ　　凹部
３２　　磁性層
３２ａ　　凸部磁性層
３２ｂ　　凹部磁性層
Ｌ　　凸部のトラック方向の長さ
ｔ　　凹部磁性層の厚さ
ｄ　　基板の凹部深さ
ｄＭ　　凸部磁性層上面と凹部磁性層上面の距離
Ａ，Ｂ　　係数
【図１】
2004110875.tif 000003
【図２】
2004110875.tif 000004
【図３】
2004110875.tif 000005