(57)【要約】【課題】スリット幅の均一性を確保することができるとともに、スリット幅を適宜容易に変更することができる気体吐出装置及び気体吐出幅の調整方法を提供すること。【解決手段】第１の壁部材６２において、例えば第１の下部部材５７にはその下端部近傍に、エアナイフの長手方向に亘って突起部５８が突設されている。また、第１の取付部材５６の下部に、同じくエアナイフ５０の長手方向に亘って支持部５９が突設されている。突起部５８にはネジ穴が穿設されており、このネジ穴にネジ６４が螺着され、このネジ６４が突起部５８に当接している。このネジ６４を締め付けまたは緩めることで、下端部５７ｂを撓ませてスリット幅を調整することができる。【選択図】  図６
2004188321.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部から供給される気体を収容するスペースと、該スペースに収容した気体を前記外部に吐出させるスリットとを有する長尺状の筐体と、
前記スリットの、前記長尺状の筐体の長手方向とほぼ直交する方向の幅を調整する調整機構と
を具備することを特徴とする気体吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の気体吐出装置であって、
前記筐体は、
長尺状に形成され、一側に前記スペースと連通し前記外部から気体を導入する導入口を有するとともに他側に開口を有する本体と、
前記本体の他側に前記本体の長手方向に沿ってそれぞれ取り付けられた長尺状の第１の壁部材と第２の壁部材とを有し、これら第１の壁部材と第２の壁部材とを前記他側から離れるに従い互いに近づけるようにすることで前記長手方向に沿った前記スリットを形成するスリット形成部材と
を具備し、
前記調整機構は、
前記第１の壁部材及び前記第２の壁部材のうち少なくとも一方の、前記他側から離れた方の端部を撓曲させる機構を具備することを特徴とする気体吐出装置。
【請求項３】
請求項２に記載の気体吐出装置であって、
前記調整機構は、
前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、
前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、
前記支持部に螺着されて支持されるとともに、前記突起部を所定の方向に押圧するためのネジ部材と
を具備することを特徴とする気体吐出装置。
【請求項４】
請求項２に記載の気体吐出装置であって、
前記調整機構は、
前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、
前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、
前記支持部に支持されるとともに前記突起部に螺着することで、該突起部の少なくとも前記螺着部分を前記支持部側に対して接近または離間させるためのネジ部材と
を具備することを特徴とする気体吐出装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の気体吐出装置であって、
前記突起部及び前記支持部は、前記筐体の長手方向に沿って延設され、前記ネジ部材が前記長手方向に複数設けられていることを特徴とする気体吐出装置。
【請求項６】
請求項３または請求項４に記載の気体吐出装置であって、
前記突起部及び前記支持部の少なくとも一方は、前記筐体の長手方向に沿って断続的に複数設けられ、
前記ネジ部材は、前記断続的に複数設けられた前記突起部及び前記支持部の少なくとも一方に対応してそれぞれ複数設けられていることを特徴とする気体吐出装置。
【請求項７】
請求項３または請求項４に記載の気体吐出装置であって、
前記支持部と前記突起部とが設けられた前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の、当該支持部と前記突起部との間に切欠きが形成されていることを特徴とする気体吐出装置。
【請求項８】
請求項５に記載の気体吐出装置であって、
前記支持部と前記突起部とが設けられた前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の、前記複数のネジ部材がそれぞれ設けられる位置に対応して、当該支持部と前記突起部との間に切欠きが形成されていることを特徴とする気体吐出装置。
【請求項９】
請求項２に記載の気体吐出装置であって、
前記調整機構は、
前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、
前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、
前記支持部に螺着されて支持されるとともに、前記突起部を所定の方向に押圧するための第１のネジ部材と
前記支持部に支持されるとともに前記突起部に螺着することで、該突起部の少なくとも前記螺着部分を前記支持部側に対して接近させるための第２のネジ部材と
を具備することを特徴とする気体吐出装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の気体吐出装置であって、
前記突起部及び前記支持部は、前記筐体の長手方向に沿って延設され、前記第１のネジ部材と前記第２のネジ部材とが前記長手方向にそれぞれ所定の個数ずつ交互に設けられていることを特徴とする気体吐出装置。
【請求項１１】
外部から供給される気体を収容するスペースと、該スペースに収容した気体を前記外部に吐出させるスリットを有する長尺状の筐体と、前記スリットの、前記筐体の長手方向とほぼ直交する方向の幅を調整する調整機構とを具備する気体吐出装置から、前記気体を吐出させるときの気体の吐出幅を調整する気体吐出幅の調整方法であって、
（ａ）前記外部に吐出した気体の圧力を計測する工程と、
（ｂ）前記工程（ａ）による計測結果に基づき、前記調整機構により前記スリットの幅を調整する工程と
を具備することを特徴とする気体吐出幅の調整方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の気体吐出幅の調整方法であって、
前記筐体は、
長尺状に形成され、一側に前記スペースと連通し前記外部から気体を導入する導入口を有するとともに他側に開口を有する本体と、
前記本体の他側に前記本体の長手方向に沿ってそれぞれ取り付けられた長尺状の第１の壁部材と第２の壁部材とを有し、これら第１の壁部材と第２の壁部材とを前記他側から離れるに従い互いに近づけるようにすることで前記長手方向に沿った前記スリットを形成するスリット形成部材と
を具備し、
（ｃ）前記工程（ｂ）は、前記第１の壁部材及び前記第２の壁部材の少なくとも一方の、前記他側から離れた方の端部を撓曲させる工程を具備することを特徴とする気体吐出幅の調整方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の気体吐出幅の調整方法であって、
前記調整機構は、
前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、
前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、
前記支持部に螺着されて支持されるとともに、前記突起部を所定の方向に押圧するためのネジ部材と
を具備し、
前記工程（ｃ）は、前記ネジ部材で前記突起部を押圧することで前記端部を撓曲させる工程を具備することを特徴とする気体吐出幅の調整方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の気体吐出幅の調整方法であって、
前記調整機構は、
前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、
前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、
前記支持部に支持されるとともに前記突起部に螺着することで、該突起部の少なくとも前記螺着部分を前記支持部側に対して接近または離間させるためのネジ部材と
を具備し、
前記工程（ｃ）は、前記ネジ部材で前記突起部を押圧することで前記端部を撓曲させる工程を具備することを特徴とする気体吐出幅の調整方法。
【請求項１５】
請求項１３または請求項１４に記載の気体吐出幅の調整方法であって、
前記突起部及び前記支持部は、前記筐体の長手方向に沿って延設され、前記ネジ部材が前記長手方向に複数設けられており、
前記工程（ａ）は、
（ｃ）気体の圧力を計測する計測器を、前記スリットに対向させて前記長手方向に走査させながら気体の圧力を計測する工程を具備し、
前記工程（ｂ）は、
（ｄ）前記工程（ｃ）による計測結果に基づき、前記長手方向に沿った前記スリットの幅の調整が必要な箇所を推定し、推定した箇所に対応する前記ネジ部材により前記突起部を押圧することで該幅を調整する工程を具備することを特徴とする気体吐出幅の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示デバイスの製造において、ガラス基板を洗浄等した後にガラス基板を乾燥させる際に使用される気体吐出装置及び気体吐出幅の調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）等の製造工程においては、被処理体であるＬＣＤ用のガラス基板上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジストをガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。また、このようなフォトリソグラフィの工程の前には、基板に付着したゴミ等を除去し洗浄する洗浄処理が行われている。
【０００３】
上記現像処理及び洗浄処理では、一般に、例えば洗浄液（リンス液）等を基板に供給して洗浄処理を行っている。そしてこの洗浄処理の後に、基板を乾燥させるため、例えば基板の幅とほぼ同じ長さに形成された長尺状のエアナイフを用いて圧縮したエアを基板に吹き付けて基板上の洗浄液を液切りしている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１１−６３８２９号公報（図１、５等）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなエアナイフにおいてエアを吐出させるためのスリット幅は例えば０．２ｍｍ〜０．５ｍｍ程度に形成されており、非常に狭いものである。したがって、長尺状のエアナイフの長手方向に亘って、そのスリット幅の均一性を保ちながらエアナイフを加工・製造することが困難となっている。その結果、エアナイフの長手方向に亘って吐出されるエアの流量が一定とならず、基板にエアを吹き付けたときに液切りが均一にできなくなるという問題がある。特に、最近ではガラス基板が大型化しており、この大型の基板に合わせてエアナイフの長さも長くしなければならいので、かかる問題はいっそう顕著となっている。
【０００６】
また逆に、エアナイフにより液切りを行っても基板の端部付近には洗浄液が残りやすいため、例えばその基板の端部付近に吹き付けるエアの流量を他の部分より多くしたりする等、基板に対して局部的にエアの流量を多くして吐出することが必要な場合もある。
【０００７】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、スリット幅の均一性を確保することができるとともに、スリット幅を適宜容易に変更することができる気体吐出装置及び気体吐出幅の調整方法を提供することにある。
【０００８】
本発明の別の目的は、そのような気体吐出装置の製造コストや製造労力の軽減を図ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る気体吐出装置は、外部から供給される気体を収容するスペースと、該スペースに収容した気体を前記外部に吐出させるスリットとを有する長尺状の筐体と、前記スリットの、前記長尺状の筐体の長手方向とほぼ直交する方向の幅を調整する調整機構とを具備する。
【００１０】
本発明では、調整機構によりスリット幅を調整してスリットの幅を適宜容易に変更することができる。これにより、例えばスリットの幅を筐体の長手方向に亘って均一にすることができ、基板上でばらつきなく液切りを行うことができる。ここで、気体とは、空気だけでなく窒素ガス等の不活性気体をも用いることができる。
【００１１】
本発明の一の形態では、前記筐体は、長尺状に形成され、一側に前記スペースと連通し前記外部から気体を導入する導入口を有するとともに他側に開口を有する本体と、前記本体の他側に前記本体の長手方向に沿ってそれぞれ取り付けられた長尺状の第１の壁部材と第２の壁部材とを有し、これら第１の壁部材と第２の壁部材とを前記他側から離れるに従い互いに近づけるようにすることで前記長手方向に沿った前記スリットを形成するスリット形成部材とを具備し、前記調整機構は、前記第１の壁部材及び前記第２の壁部材の少なくとも一方の、前記他側から離れた方の端部を撓曲させる機構を具備する。このような調整機構によって、当該端部を撓曲させることにより、第１の壁部材及び第２の壁部材の端部同士を接離させてスリット幅を任意に調整することができる。
【００１２】
本発明の一の形態では、前記調整機構は、前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、前記支持部に螺着されて支持されるとともに、前記突起部を所定の方向に押圧するためのネジ部材とを具備する。ここでいう所定の方向とは、突起部を押圧することができればいずれの方向でもよいが、スリットの幅の方向を含む面内での所定の方向がより好ましい。スリットの幅の方向を含む面内での所定の方向で突起部を押圧する場合、突起部に対して例えば垂直方向に押圧することで確実にその押圧力を突起部に対して伝えることができる。これにより、スリット幅の調整が容易となる。
【００１３】
本発明の一の形態では、前記調整機構は、前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、前記支持部に支持されるとともに前記突起部に螺着することで、該突起部の少なくとも前記螺着部分を前記支持部側に対して接近または離間させるためのネジ部材とを具備する。このようなネジ部材を設けることにより、スリット幅を広げたり狭めたりすることができ容易に幅を調整することができる。
【００１４】
本発明の一の形態では、前記突起部及び前記支持部は、前記筐体の長手方向に沿って延設され、前記ネジ部材が前記長手方向に複数設けられている。あるいは、本発明の一の形態では、前記突起部及び前記支持部の少なくとも一方は、前記筐体の長手方向に沿って断続的に複数設けられ、前記ネジ部材は、前記断続的に複数設けられた前記突起部及び前記支持部の少なくとも一方に対応してそれぞれ複数設けられている。これらの発明により、長手方向に亘るスリットの幅を局部的に変更することができる。その結果、例えば長手方向に延びたスリットの両端部付近のみの幅を他の部分より大きくすることで、液残りが発生しやすい基板の端部の領域に対し気体の流量を多くすることができる。
【００１５】
本発明の一の形態では、前記支持部と前記突起部とが設けられた前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の、当該支持部と前記突起部との間に切欠きが形成されている。あるいは、本発明の一の形態では、前記支持部と前記突起部とが設けられた前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の、前記複数のネジ部材がそれぞれ設けられる位置に対応して、当該支持部と前記突起部との間に切欠きが形成されている。これらの発明により、突起部が突設された第１または第２の壁部材の端部を撓ませやすくすることができ、簡単にスリット幅の調整を行うことができる。
【００１６】
本発明の一の形態では、前記調整機構は、前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、前記支持部に螺着されて支持されるとともに、前記突起部を所定の方向に押圧するための第１のネジ部材と前記支持部に支持されるとともに前記突起部に螺着することで、該突起部の少なくとも前記螺着部分を前記支持部側に対して接近させるための第２のネジ部材とを具備する。本発明では、例えば第１及び第２のネジ部材が長手方向に複数設けられている場合、例えば第１のネジ部材により突起部を押圧してスリット幅を広げるとともに、第２のネジ部材を締め付けることでスリット幅を狭めることができる。これにより、高精度にスリット幅を調整することができる。
【００１７】
本発明の一の形態では、前記突起部及び前記支持部は、前記筐体の長手方向に沿って延設され、前記第１のネジ部材と前記第２のネジ部材とが前記長手方向にそれぞれ所定の個数ずつ交互に設けられている。これにより、筐体の長手方向の任意の箇所において高精度かつ容易にスリット幅を調整することができる。
【００１８】
本発明に係る気体吐出幅の調整方法は、外部から供給される気体を収容するスペースと、該スペースに収容した気体を前記外部に吐出させるスリットを有する長尺状の筐体と、前記スリットの、前記筐体の長手方向とほぼ直交する方向の幅を調整する調整機構とを具備する気体吐出装置から、前記気体を吐出させるときの気体の吐出幅を調整する気体吐出幅の調整方法であって、（ａ）前記外部に吐出した気体の圧力を計測する工程と、（ｂ）前記工程（ａ）による計測結果に基づき、前記調整機構により前記スリットの幅を調整する工程とを具備する。
【００１９】
本発明では、気体の吐出圧力に基づきスリット幅を調整するので容易かつ確実にスリット幅の均一性を確保することができ、また一方で、スリット幅を適宜容易に変更することができる。
【００２０】
本発明の一の形態では、前記筐体は、長尺状に形成され、一側に前記スペースと連通し前記外部から気体を導入する導入口を有するとともに他側に開口を有する本体と、前記本体の他側に前記本体の長手方向に沿ってそれぞれ取り付けられた長尺状の第１の壁部材と第２の壁部材とを有し、これら第１の壁部材と第２の壁部材とを前記他側から離れるに従い互いに近づけるようにすることで前記長手方向に沿った前記スリットを形成するスリット形成部材とを具備し、（ｃ）前記工程（ｂ）は、前記第１の壁部材及び前記第２の壁部材の少なくとも一方の、前記他側から離れた方の端部を撓曲させる工程を具備する。このような調整機構によって、当該端部を撓曲させることにより、第１の壁部材及び第２の壁部材の端部同士を接離させてスリット幅を任意に調整することができる。
【００２１】
また、当該端部を撓曲させる手段としては、例えば、前記調整機構は、前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、前記支持部に螺着されて支持されるとともに、前記突起部を所定の方向に押圧するためのネジ部材とを具備し、前記工程（ｃ）は、前記ネジ部材で前記突起部を押圧することで前記端部を撓曲させる工程を具備する。
【００２２】
本発明の一の形態では、前記突起部及び前記支持部は、前記筐体の長手方向に沿って延設され、前記ネジ部材が前記長手方向に複数設けられており、前記工程（ａ）は、（ｃ）気体の圧力を計測する計測器を、前記スリットに対向させて前記長手方向に走査させながら気体の圧力を計測する工程を具備し、前記工程（ｂ）は、（ｄ）前記工程（ｃ）による計測結果に基づき、前記長手方向に沿った前記スリットの幅の調整が必要な箇所を推定し、推定した箇所に対応する前記ネジ部材により前記突起部を押圧することで該幅を調整する工程を具備する。これにより、長手方向に亘るスリットの幅を局部的に変更することができる。その結果、例えば長手方向に延びたスリットの両端部付近のみの幅を他の部分より大きくすることで、液残りが発生しやすい基板の端部の領域に対し気体の流量を多くすることができる。
【００２３】
本発明の一の形態では、前記調整機構は、前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、前記突起部が突設された前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、前記支持部に支持されるとともに前記突起部に螺着することで、該突起部の少なくとも前記螺着部分を前記支持部側に対して接近または離間させるためのネジ部材とを具備し、前記工程（ｃ）は、前記ネジ部材で前記突起部を押圧することで前記端部を撓曲させる工程を具備する。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００２５】
図１は本発明が適用されるＬＣＤ基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図２はその正面図、また図３はその背面図である。
【００２６】
この塗布現像処理システム１は、複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション２と、基板Ｇにレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部３と、露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部４とを備えており、処理部３の両端にそれぞれカセットステーション２及びインターフェース部４が配置されている。
【００２７】
カセットステーション２は、カセットＣと処理部３との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション２においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部３との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００２８】
処理部３には、カセットステーション２におけるカセットＣの配列方向（Ｙ方向）に垂直方向（Ｘ方向）に延設された主搬送部３ａと、この主搬送部３ａに沿って、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を含む各処理ユニットが並設された上流部３ｂ及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）を含む各処理ユニットが並設された下流部３ｃとが設けられている。
【００２９】
主搬送部３ａには、Ｘ方向に延設された搬送路３１と、この搬送路３１に沿って移動可能に構成されガラス基板ＧをＸ方向に搬送する搬送シャトル２３とが設けられている。この搬送シャトル２３は、例えば支持ピンにより基板Ｇを保持して搬送するようになっている。また、主搬送部３ａのインターフェース部４側端部には、処理部３とインターフェース部４との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット７が設けられている。
【００３０】
上流部３ｂにおいて、カセットステーション２側端部には、カセットステーション２側から、基板Ｇ上の有機物を除去するためのエキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９と、基板Ｇにスクラビングブラシで洗浄処理を施すスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）とが設けられている。
【００３１】
スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）の隣には、ガラス基板Ｇに対して熱的処理を行うユニットが多段に積み上げられた熱処理系ブロック２４及び２５が配置されている。これら熱処理系ブロック２４と２５との間には、垂直搬送ユニット５が配置され、搬送アーム５ａがＺ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつθ方向に回動可能とされているので、両ブロック２４及び２５における各熱処理系ユニットにアクセスして基板Ｇの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理部３における垂直搬送ユニット７についてもこの垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００３２】
図２に示すように、熱処理系ブロック２４には、基板Ｇにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキングユニット（ＢＡＫＥ）が２段、ＨＭＤＳガスにより疎水化処理を施すアドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２５には、基板Ｇに冷却処理を施すクーリングユニット（ＣＯＬ）が２段、アドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。
【００３３】
熱処理系ブロック２５に隣接してレジスト処理ブロック１５がＸ方向に延設されている。このレジスト処理ブロック１５は、基板Ｇにレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）と、減圧により前記塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット（ＶＤ）と、本発明に係る基板Ｇの周縁部のレジストを除去するエッジリムーバ（ＥＲ）とが設けられて構成されている。このレジスト処理ブロック１５には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）からエッジリムーバ（ＥＲ）にかけて移動する図示しないサブアームが設けられており、このサブアームによりレジスト処理ブロック１５内で基板Ｇが搬送されるようになっている。
【００３４】
レジスト処理ブロック１５に隣接して多段構成の熱処理系ブロック２６が配設されており、この熱処理系ブロック２６には、基板Ｇにレジスト塗布後の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）が３段積層されている。
【００３５】
下流部３ｃにおいては、図３に示すように、インターフェース部４側端部には、熱処理系ブロック２９が設けられており、これには、クーリングユニット（ＣＯＬ）、露光後現像処理前の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００３６】
熱処理系ブロック２９に隣接して現像処理を行う現像処理ユニット（ＤＥＶ）がＸ方向に延設されている。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）の隣には熱処理系ブロック２８及び２７が配置され、これら熱処理系ブロック２８と２７との間には、上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有し、両ブロック２８及び２７における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬送ユニット６が設けられている。また、現像処理ユニット（ＤＥＶ）端部の上には、ｉ線処理ユニット（ｉ―ＵＶ）３３が設けられている。
【００３７】
熱処理系ブロック２８には、クーリングユニット（ＣＯＬ）、基板Ｇに現像後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２７も同様に、クーリングユニット（ＣＯＬ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００３８】
インターフェース部４には、正面側にタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２が設けられ、垂直搬送ユニット７に隣接してエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５が、また背面側にはバッファカセット３４が配置されており、これらタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２とエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５とバッファカセット３４と隣接した露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット８が配置されている。この垂直搬送ユニット８も上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００３９】
以上のように構成された塗布現像処理システム１の処理工程については、先ずカセットＣ内の基板Ｇが処理部３部における上流部３ｂに搬送される。上流部３ｂでは、エキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９において表面改質・有機物除去処理が行われ、次にスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）において、基板Ｇが略水平に搬送されながら洗浄処理及び乾燥処理が行われる。続いて熱処理系ブロック２４の最下段部で垂直搬送ユニットにおける搬送アーム５ａにより基板Ｇが取り出され、同熱処理系ブロック２４のベーキングユニット（ＢＡＫＥ）にて加熱処理、アドヒージョンユニット（ＡＤ）にて、ガラス基板Ｇとレジスト膜との密着性を高めるため、基板ＧにＨＭＤＳガスを噴霧する処理が行われる。この後、熱処理系ブロック２５のクーリングユニット（ＣＯＬ）による冷却処理が行われる。
【００４０】
次に、基板Ｇは搬送アーム５ａから搬送シャトル２３に受け渡される。そしてレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に搬送され、レジストの塗布処理が行われた後、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）にて減圧乾燥処理、エッジリムーバ（ＥＲ）にて基板周縁のレジスト除去処理が順次行われる。
【００４１】
次に、基板Ｇは搬送シャトル２３から垂直搬送ユニット７の搬送アームに受け渡され、熱処理系ブロック２６におけるプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック２９におけるクーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。続いて基板Ｇはエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５にて冷却処理されるとともに露光装置にて露光処理される。
【００４２】
次に、基板Ｇは垂直搬送ユニット８及び７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９のポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）に搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは垂直搬送ユニット７の搬送アームを介して、現像処理ユニット（ＤＥＶ）において基板Ｇは略水平に搬送されながら現像処理、リンス処理及び乾燥処理が行われる。
【００４３】
次に、基板Ｇは熱処理系ブロック２８における最下段から垂直搬送ユニット６の搬送アーム６ａにより受け渡され、熱処理系ブロック２８又は２７におけるポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われ、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは搬送機構１０に受け渡されカセットＣに収容される。
【００４４】
図４（ａ）は上記スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）を示す概略側面図である。このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）には、ガラス基板Ｇを搬送するための複数の搬送ローラ３８ａを備えた搬送装置３８が設けられている。搬送装置３８の両端には、昇降動作により他の処理部との間で基板の受け渡しを行う受け渡しピン３９が配置されており、この両受け渡しピン３９の間には、この基板の搬送上流側（図において左側）から、ロールブラシ洗浄室３６、スプレー洗浄室３７及び本発明に係わる乾燥処理室４０が順に配置されている。ロールブラシ洗浄室３６にはロールブラシ４５が設けられ、スプレー洗浄室３７には、洗浄液を噴出するスプレー式のノズル４６が設けられている。また、乾燥処理室４０には、本発明に係るエアナイフ５０が、搬送される基板Ｇを挟むように上下に設けられている。なお、スプレー式のノズル４６は、図示するように基板の表面側だけでなく、基板裏面側にも更に配置するようにしてもかまわない。
【００４５】
このようなスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）においては、先ずロールブラシ洗浄室３６で基板上の比較的大きいゴミを除去洗浄した後、スプレー洗浄室３７で微細なゴミを除去洗浄し、乾燥処理室４０で乾燥処理される。
【００４６】
図４（ｂ）は、上記現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す概略側面図である。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）には、スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）と同様に、コロ式の搬送装置３８及び受け渡しピン３９が配置されている。この両受け渡しピン３９の間には、搬送上流側（図において左側）から、プリウェット処理室４１、現像処理室４２、リンス処理室４３及び本発明に係る上記と同一の乾燥処理室４０が順に配置されている。プリウェット処理室４１には、プリウェットノズル４７が、また現像処理室４２には現像液を吐出する現像液ノズル４８がそれぞれ設けられ、またリンス処理室４３にはリンスノズル４９が設けられている。さらに、乾燥処理室４０には、上記と同様に、本発明に係るエアナイフ５０が、搬送される基板Ｇを挟むように上下に設けられている。
【００４７】
このような現像処理ユニット（ＤＥＶ）においては、先ず、プリウェット処理室４１で、現像液吐出の際の基板に対するインパクト軽減のために、基板をプリウェットし、次に現像処理室４２で現像液が吐出されて現像され、そしてリンス処理室４３で現像液が洗い流され、最後に乾燥処理室４０で乾燥処理される。
【００４８】
なお、現像処理室４２においては、現像時間を確保するために、搬送装置３８を逆回転させ基板Ｇを往復させながら現像処理を行っている。
【００４９】
図５は、本発明の第１の実施の形態に係るエアナイフを示す斜視図であり、図６はその断面図である。なお、図４に示す上下のエアナイフ５０の各々は、同一の構成でなっているため、図５及び図６では、そのうちの１つのエアナイフについて説明する。
【００５０】
このエアナイフ５０には、本体７１と、この本体７１に取り付けられたスリット形成部材７２とが備えられている。
【００５１】
本体７１は、例えば上下にそれぞれ開口５３ａ及び５３ｂが形成され中空状のスペース形成部材５３と、このスペース形成部材５３の上部開口５３ａに取り付けられた蓋部材５２とを有している。スペース形成部材５３は例えば直方体形状をなしており、内部にエアを収容するスペース６９が設けられている。蓋部材５２には、スペース６９にエアを導入するための例えば円形の導入口５２ａが設けられており、また、この導入口５２ａには、導入パイプ５１が例えば２つ接続されている。この導入パイプ５１に図示しない配管等が接続され、図示しないエアを供給する供給源からその配管等及び導入パイプ５１を介してスペース６９にエアが供給されるようになっている。
【００５２】
なお、スペース形成部材５３と蓋部材５２との間にはエアを流通させるための穴６８ａが穿設されたスペーサ６８が介在されている。また、スペース形成部材５３の下部の溝５３ｃに、エアナイフ５０の長手方向に亘って板部材６７が嵌め込まれている。この板部材６７は、例えばスペース６９からスリット形成部材７２へエアを流通させるための図示しない複数の流通孔が設けられている。この場合、これらの流通孔の形は例えば円形、長孔状等何でもよい。
【００５３】
スリット形成部材７２は、第１の壁部材６２及び第２の壁部材６３とを有している。これら第１及び第２の壁部材６２及び６３は、本体７１の長手方向とほぼ同一の長さに設けられ、それぞれの上端部でスペース形成部材５３の開口５３ｂに取り付けられている。第１及び第２の壁部材６２及び６３は、互いに下部に至る従い近接するように設けられ、これにより下端部５７ｂ、５５ｂでスリット７３が形成されている。このスリット７３の幅は例えば０．２ｍｍ〜０．５ｍｍである。また、これら第１及び第２の壁部材６２及び６３は、例えばアルミまたはステンレスからなっている。
【００５４】
第１の壁部材６２は、第１の取付部材５６と、この第１の取付部材５６の取付面５６ａにボルト６６で固定された第１の下部部材５７とで構成されている。第２の壁部材６３も同様に、例えば開口５３ｂに取り付けられた第２の取付部材５４と、この第２の取付部材５４の取付面５４ａにボルト６５で固定された第２の下部部材５５とで構成されている。
【００５５】
第１の壁部材６２において、例えば第１の下部部材５７には、その下端部近傍にエアナイフの長手方向に亘って突起部５８が突設されている。また、第１の取付部材５６の下部には、同じくエアナイフ５０の長手方向に亘って支持部５９が突設されている。支持部５９にはネジ穴が穿設されており、このネジ穴にネジ６４が螺着され、このネジ６４が突起部５８に当接している。さらに第１の下部部材５７の、突起部５８と支持部５９との間には切欠き５７ａが形成されている。この切欠き５７ａはエアナイフ５０の長手方向に亘って延設されていてもよいし、あるいはネジ６４が螺着しているそれぞれの箇所に対応させて設けるようにしてもよい。
【００５６】
また、図５に示すようにスリット形成部材７２の側面には、カバー部材４４が取り付けられており、エアナイフ５０の内部が密閉されている。このカバー部材４４は、例えば図６に示すようにネジ８１で固定されるようになっている。
【００５７】
ここで、上記特開平１１−６３８２９号公報に開示されたエアナイフのエアの流路にネジ等が露出しているため、このネジの露出部分にエアが衝突しエアの流れが乱れる可能性がある。しかし、本実施の形態に係るエアナイフ５０はそのような露出部分はないのでエアの乱流が極力低減される。
【００５８】
このように構成されたエアナイフ５０では、導入口５２ａから導入されたエアがスペース６９に収容されるとともに圧縮され、この圧縮されたエアがスリット７３を介して面状に吐出される。
【００５９】
スリット７３の幅を小さくする場合は、図６を参照して、ネジ６４を締めることによりネジ６４の先端で突起部を押圧し、第１の下部部材５７の下端部５７ｂを第２の下部部材の下端部５５ｂに近づけるように撓ませる。これにより、スリット７３の幅を狭めることができる。逆に、そのように幅を狭めた状態からスリットの幅を広げる場合、ネジ６４を緩めネジ６４の突起部に対する押圧力を小さくすることにより、それまで撓んでいた第１の下部部材５７の下端部５７ｂを元の状態に戻す。つまり、初期の状態でスリット７３の幅を最大値となるように設定しておけば、ネジ６４の締まる度合いに応じてスリット７３の幅を調整できる。また、第１の下部部材５７に設けた切欠き５７ａによって下端部５７ｂが撓みやい構造となるので、スリット７３の幅の調整を簡単に行うことができる。
【００６０】
次に、このようなエアナイフ５０を用いて基板に向けてエアを吐出する場合について説明する。例えば、図７に示すように、エアナイフ５０から、矢印Ａの方向に搬送される基板Ｇの表面に対して斜め（角度α）にエアを吐出することで、基板Ｇ上の純水等の洗浄液やリンス液Ｘを除去する。また、エアナイフ５０の長手方向を基板の搬送方向Ａに対して斜め（角度β）にすることにより、搬送されている基板Ｇの角部に洗浄液Ｘを追い込むことができるので液切りしやすくなる。
【００６１】
本実施の形態では、スリット７３の幅を調整してスリット７３の幅を適宜容易に変更することができる。これにより、スリット７３の幅を筐体の長手方向に亘って均一にすることができ、基板上でばらつきなく液切りを行うことができる。また、本実施の形態では、エアナイフ５０の長手方向に亘って複数設けられている。これにより、例えば、エアナイフ５０の両端から中央にかけて数個分のネジ６４をそのままの状態にして（スリット７３の幅が初期状態である最大値となるようにして）、他の部分のネジ６４を締めてスリット幅を狭めることができる。その結果、液残りが発生しやすい基板の端部付近に吹き付ける気体の流量を基板の他の部分より多くしたりする等、基板に対して局部的に変更することができる。
【００６２】
また、本実施の形態では、スリット幅を調整できるため、エアナイフ５０を製造する場合において、そのスリット幅の均一性を確保するような高精度な加工（例えば、各部品の真直度、平坦度、平面度、面粗度等）を要しない。したがって製造コストや製造労力の軽減が図られる。
【００６３】
図８は、本発明の第２の実施の形態に係るエアナイフの一部を示す斜視図であり、図９はその断面図である。なお、図８及び図９において、図５及び図６における構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとし、その説明を省略する。
【００６４】
このエアナイフの第１の壁部材７４は、スペース形成部材５３の下部開口５３ｂに取り付けられており、この第１の壁部材７４の下端部７４ｂと、第２の下部部材５５の下端部５５ｂとによりスリット７３が形成されている。本実施形態では、第１の壁部材７４に突起部７４ｃが突設され、この突起部７４ｃより本体７１側に、ネジ６４を螺着させた支持部７４ａが突設されている。そして、突起部７４ｃと支持部７４ａとの間には切欠き７４ｄが形成されている。このようなエアナイフ６０によっても、上記第１の実施の形態に係るエアナイフ５０と同様の効果を得ることができる。
【００６５】
図１０及び図１１は、それぞれ第３の実施の形態及び第４の実施の形態に係るエアナイフを示す斜視図である。
【００６６】
図１０に示すエアナイフ７０は、第１の壁部材６２に、エアナイフ７０の長手方向に沿って複数の突起部７５と支持部７６とがそれぞれ断続的に突設されている。これら複数の支持部７６に複数のネジ６４がそれぞれ螺着されている。このような構成により、エアナイフの長手方向で局部的にスリット７３の幅を変更する場合、その局部ごとに精度良くにその幅を調整することができる。
【００６７】
図１１に示すエアナイフ８０では、例えば支持部５９は長手方向に亘って延設されているが、突起部７５は複数断続的に設けられている。このような構成によっても、エアナイフの長手方向で局部的にスリット７３の幅を変更する場合、その局部ごとに精度良く調整することができる。また、図示はしないが、突起部を延設させて、支持部を断続的に設けるようにしてもかまわない。
【００６８】
図１２は第５の実施の形態に係るエアナイフを示す断面図であり、図１３はその斜視図である。なお、図１２及び図１３において、図５及び図６における構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとし、その説明を省略する。
【００６９】
このエアナイフ９０の第１の壁部材７９において、第１の取付部材７７にはエアナイフ９０の長手方向に亘ってレール７７ａが延設されており、このレール７７ａに対して、溝７８ｃが形成された第１の下部部材７８が摺動自在に嵌合している。また、本実施の形態では、ネジ６４は数個あるいは図１３に示すように１つだけ備えられている。
【００７０】
このようなエアナイフ９０のスリット幅を調整する場合の動作について説明する。例えば、側面のカバー部材４４を取り外し、第１の下部部材７８を図１３における破線で示すように側方に引き出す。次に、その引き出した第１の下部部材７８のスリット幅を調整したい箇所をネジ６４が配置されている箇所に合わせる。そして、ネジ６４を締め付けまたは緩めることにより、任意の箇所のスリットの幅を調整することができる。また、ネジ６４を多数設ける必要がなくなり部品点数を少なくすることができる。
【００７１】
エアナイフは通常、図４に示すように搬送装置３８の搬送ローラ３８ａを挟んで上下に配置されている。したがって、作業者は、搬送装置３８の側方（図面中では紙面手前）からエアナイフ５０のメンテナンスを行わざるを得ず、エアナイフ５０の中央部分まで手が届かない。しかしながら、本実施の形態に係るエアナイフ９０によれば、容易にスリット幅の調整を行うことができる。
【００７２】
図１４は、第６の実施の形態に係るエアナイフの第１の壁部材を示す断面図である。なお、図１４において、図６における構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとし、その説明を省略する。
【００７３】
本実施の形態では、支持部５９にはネジ８２用のネジ穴は形成されておらず、突起部５８にネジ穴５８ａが形成されている。ネジ８２の先端部８２ａがネジ穴５８ａに螺着されている。このような構成によれば、ネジ８２を締め付け、支持部５９に対して突起部５８を近づけるようすることにより、スリット幅をそれまでより広げることができる。この場合、ネジ８２を締め付ける前の初期状態においてスリット幅が最小値になるように設定しておけばよい。あるいは、ネジ８２を突起部５８に螺着させて締め付けることでスリット幅を狭める構成としてもよい。
【００７４】
次に、スリット幅の調整方法（気体の吐出幅の調整方法）について説明する。
【００７５】
図１５（ａ）、（ｂ）に示すように、エアナイフ５０とほぼ同一の長さを有したケース８５内に、そのケース８５内で敷設されたレール８６に沿って移動することが可能なセンサ８７が設けられている。この移動機構としては、例えば図示しないモータで駆動させるベルト駆動機構や、あるいはリニアモータ機構等が挙げられる。センサ８７としては、エアナイフ５０からのエアの圧力を検出する圧力センサであり、例えばひずみゲージを用いることができる。
【００７６】
このような測定装置を用いて、図１５（ｂ）に示すように、例えばエアナイフ５０のスリット形成部材７２をケース８５内に配置し、エアを吐出するとともにセンサ８７を長手方向にスキャンさせる。このときのセンサ８７の出力の時間変化をモニターすることにより、エアナイフ５０においてどの箇所において調整が必要かを推定することができる。そして、その必要な箇所についてその箇所に対応するネジ６４を締め付けまたは緩めることで、スリット幅を調整することができる。
【００７７】
また、例えば、吐出されたエアの圧力の最適値を予め定めておけば、センサ８７による出力とその最適値とを比較することで、スリット幅の調整の度合いも認識することができる。
【００７８】
なお、センサ８７を１回スキャンさせるだけでなく、何度も往復させ、その複数のスキャンごとのセンサの出力をモニターするようにし、各出力の平均値を採るようにしてもよい。これにより、測定の精度が向上する。
【００７９】
本発明は以上説明した実施の形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【００８０】
第１の壁部材６２、７４と第２の壁部材６３との両者に突起部、支持部及びこの支持部に螺着されたネジ等の調整機構を設けるようにしてもよい。あるいは、第１の壁部材の長手方向に亘って部分的または断続的にその調整機構を設け、その調整機構を設けない部分に合わせて、第２の壁部材の長手方向に亘って部分的または断続的に調整機構を設けるようにしてもよい。
【００８１】
本発明は上記各実施の形態を適宜組み合わせた形態も含む。例えば図６（または図９〜図１２）に示したエアナイフ５０と図１４に示したエアナイフとを組み合わることも可能である。具体的には、ネジで突起部５８で押圧しスリット幅を狭める形態と、ネジを突起部５８に螺着し締め付けることで突起部５８を支持部５９側に接近させスリット幅を広げる形態とを組み合わせる。そのような押圧タイプのネジと接近タイプのネジを長手方向に亘って交互に設けるようにすれば、長手方向の任意の箇所において高精度かつ容易にスリット幅を調整することができる。また、交互に設けなくても長手方向において必要な箇所だけ押圧タイプのネジまたは接近タイプのネジを設けるようにしてもよい。
【００８２】
本発明の一の形態では、前記調整機構は、前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記端部の近傍に突設された突起部と、前記第１及び第２の壁部材のうち少なくとも一方の壁面の、前記突起部より前記本体側に設けられた支持部と、前記支持部に螺着されて支持されるとともに、前記突起部を所定の方向に押圧するための第１のネジ部材と前記支持部に支持されるとともに前記突起部に螺着することで、該突起部の少なくとも前記螺着部分を前記支持部側に対して接近させるための第２のネジ部材とを具備する。本発明では、例えば第１及び第２のネジ部材が長手方向に複数設けられている場合、例えば第１のネジ部材により突起部を押圧してスリット幅を広げるとともに、第２のネジ部材を締め付けることでスリット幅を狭めることができる。これにより、高精度にスリット幅を調整することができる。
【００８３】
本発明の一の形態では、前記突起部及び前記支持部は、前記筐体の長手方向に沿って延設され、前記第１のネジ部材と前記第２のネジ部材とが前記長手方向にそれぞれ所定の個数ずつ交互に設けられている。これにより、筐体の長手方向の任意の箇所において高精度かつ容易にスリット幅を調整することができる。
【００８４】
また、図１５に示した調整方法とは別の方法として、例えばすき間ゲージを用いて手作業でスリット幅を測定し調整するようにしてももちろんかまわない。また、圧力センサ８７に代えてエアの流量を測定するフローメータ等の流量計でも本発明は適用可能である。
【００８５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、スリット幅の均一性を確保することができるとともに、スリット幅を適宜容易に変更することができる。また、製造コストや製造労力の軽減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る塗布現像処理システムの全体構成を示す平面図である。
【図２】図１に示す塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１に示す塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】（ａ）スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）、（ｂ）現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す概略側面図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態に係るエアナイフを示す斜視図である。
【図６】図５に示すエアナイフの断面図である。
【図７】エアナイフにより液切りを行っている状態を示す斜視図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係るエアナイフを示す斜視図である。
【図９】図８に示すエアナイフの断面図である。
【図１０】本発明の第３の実施の形態に係るエアナイフの一部を示す斜視図である。
【図１１】本発明の第４の実施の形態に係るエアナイフの一部を示す斜視図である。
【図１２】本発明の第５の実施の形態に係るエアナイフを示す断面図である。
【図１３】図１２に示すエアナイフの一部の斜視図である。
【図１４】本発明の第６の実施の形態に係るエアナイフの一部を示す断面図である。
【図１５】本発明の気体吐出幅の調整方法を説明するための図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【符号の説明】
５０，６０，７０，８０，９０…エアナイフ
５２ａ…導入口
５３ａ…上部開口
５３ｂ…下部開口
５４…第２の取付部材
５５…第２の下部部材
５６，７７…第１の取付部材
５７，７８…第１の下部部材
５８，７４ｃ，７５…突起部
５９，７４ａ，７６…支持部
６２，７４…第１の壁部材
６３…第２の壁部材
６４，８２…ネジ
６９…スペース
７１…本体
７２…スリット形成部材
７３…スリット
【図１】
2004188321.tif 000003
【図２】
2004188321.tif 000004
【図３】
2004188321.tif 000005
【図４】
2004188321.tif 000006
【図５】
2004188321.tif 000007
【図６】
2004188321.tif 000008
【図７】
2004188321.tif 000009
【図８】
2004188321.tif 000010
【図９】
2004188321.tif 000011
【図１０】
2004188321.tif 000012
【図１１】
2004188321.tif 000013
【図１２】
2004188321.tif 000014
【図１３】
2004188321.tif 000015
【図１４】
2004188321.tif 000016
【図１５】
2004188321.tif 000017