(57)【要約】【解決手段】金型８のキャビティー９ａに充填された成形工程中の等方性の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料が高温状態を維持している状態で、着磁を施すようにした磁石製造方法に関するものである。【効果】溶融状態の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料が、その高温状態を維持している状態で、着磁を施すことにより、非常に高いレベルにまで着磁され、従来必要であった成形後の着磁工程を不要とすることができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高温状態で、着磁を施すことを特徴とする磁石製造方法。
【請求項２】
金型のキャビティーに充填された成形工程中の等方性の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料が高温状態を維持している状態で、着磁を施すことを特徴とする磁石製造方法。
【請求項３】
ダイ中の等方性の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料が高温状態を維持している状態で、着磁を施すことを特徴とする磁石製造方法。
【請求項４】
加熱部材と磁場発生部材とを有し、前記加熱部材により着磁される磁石が加熱された状態で、前記磁場発生部材により着磁することを特徴とする磁石製造装置。
【請求項５】
磁場発生部材が永久磁石であることを特徴とする請求項４に記載の磁石製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、希土類系磁石等の磁石に着磁を施して、磁石を製造する磁石製造方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
最近、電気製品や電子機器に対する小型化ニーズは強く、それに使用されるモーターやセンサ−といった磁石を使用する部品に対しても小型化が強く求められている。このような要求に対して、Ｓｍ−Ｃｏ系やＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系やＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系等に代表される希土類磁石等の高エネルギー積の磁石が広く使用されており、部品の小型化に大きく貢献している。
【０００３】
一般に、磁石を製造する工程では、最終工程で磁力を最大限に引き出すために着磁と呼ばれる、磁力を高める工程があり、着磁コイルに電流を流すことによって磁場を発生させる方式の着磁機が広く使用されており、着磁コイルに瞬間的に大電流を流して、非常に短時間に大きな磁場を発生させている。
【０００４】
一般的には、磁石本来の磁気特性を充分に引き出すためには、非常に高い磁場で着磁する必要があり、特に、飽和点まで着磁するためには、ｉＨｃの３倍以上の磁場が必要ともいわれている。従って、保持力の高い希土類系磁石材料を着磁する場合には、非常に高い磁場を発生させる必要があるために、コイル巻き数を非常に多くする必要があり、フェライト磁石の着磁用のものに比べて着磁コイルが大型になる傾向がある。
【０００５】
また、通常の磁石製造方法における着磁工程においては、連続して着磁が行われる。このような状況下では、通電により発生した熱がコイルに蓄積して、コイル温度が上昇するために、コイル抵抗値が高くなり、結果的に、コイルに流れる電流値が低下することになり、従って、発生磁場が低下してしまい、着磁効率が低下するという問題があり、このために、コイル自体に冷却機構を設けてコイルの温度上昇を防止するのが一般的である。従って、着磁に要する時間は、例えば、１秒以下といった非常に短時間であるために、発熱したコイルで温められたとしても、磁石自体の実際の温度は室温程度である。また、磁石自体の発熱も限定されており、実際の温度はそれほど上がらない。
【０００６】
異方性ボンド磁石の製造工程において、磁場中で成形を行うことは一般に行われているが、その目的は異方性磁粉を配向させることであり、着磁が目的ではない。また、等方性ボンド磁石では、磁粉を配向させる必要がないため、経済的な理由等から、磁場中でボンド磁石の成形を行うことは行われていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上述したような、一般的な磁石製造方法における着磁工程においては、大量の磁石を連続して着磁すると、瞬間的な発熱や変形による磁場発生用コイルへの負荷が大きく、コイル抵抗値の経年変化や着磁時に発生する瞬間的なひずみにより、ヨークの破壊が起こる場合があるため、磁場発生用コイルの交換等のメンテナンスを頻繁に行う必要があるという問題がある。従って、磁場発生用コイルの寿命をより長くするために、より低磁場で高効率に着時できる方法や装置が求められていた。更には、できれば、磁石の成形工程とは、別工程で行われる着磁工程を省略したいという要求もある。
【０００８】
しかしながら、高特性ボンド磁石に最も多く使用されているＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁粉は、その磁気特性が等方性であるため、ボンド磁石を成形しただけでは磁石としては機能せず、ボンド磁石としての特性を発揮するためには、必ず、磁石の着磁を行う必要があるため、成形工程とは別に着磁工程が必ず行われる。
【０００９】
一方、製品に対する小型化の要求を反映した磁石の小型化に従って、必然的に、磁石の着磁ピッチが狭くなる傾向があるため、今までよりも、より狭い体積中に着磁コイルを設置する必要があり、着磁機に使用されるコイルサイズも、従来よりも非常に厳しい制限を受ける。特に、磁石表面に多数の磁極が配置された、多極着磁された磁石の着磁においては、コイルサイズに対する制限は、更に厳しい。従って、着磁機のコイルの巻き数を多くすることができず、着磁磁場が不足するために、着磁された磁石の発揮する磁力が、磁石本来の飽和値に比べて非常に低いレベルまでしか達せず、磁石本来の磁気特性が引き出されていない状態で使用せざるを得ないのが現状である。このために、所望の磁気特性を達成するためには、必要以上に磁気特性の高い磁石を選択する必要があった。
【００１０】
ところで、等方性Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂボンド磁石の場合には、ボンド磁石の磁気特性は、含有される磁性粉の充填率に比例しているため、より高い磁気特性を達成するためには、磁性粉のより高充填化が必要となる。特に、射出成形ボンド磁石の場合には、磁性粉の充填率を高めると射出成形性が低下し、小型製品や薄肉製品が成形しにくくなるという問題があるため、磁気特性が高くなるほど、成形できる成形品の小型化、薄肉化に限界があり、製品形状が制限される傾向があった。従って、超小型の製品を成形するには、磁性粉のより低充填のボンド磁石を、できるだけ高効率で着磁して、より高特性を実現する磁石製造方法及びその装置が求められていた。また、比較的高価な磁性粉末の含有量が増えることで、ボンド磁石の原材料費が高くなるという経済的な問題もあった。
【００１１】
本発明の目的は、上述した従来の磁石の着磁方法及び着磁装置が有する課題を解決することになる。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した目的を達成するために、磁石製造方法において、第１には、高温状態で、着磁を施すようにしたものであり、第２には、金型のキャビティーに充填された成形工程中の等方性の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料が高温状態を維持している状態で、着磁を施すようにしたものであり、第３には、ダイ中の等方性の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料が高温状態を維持している状態で、着磁を施すようにしたものである。また、本発明は、上述した目的を達成するために、磁石製造装置において、第１には、加熱部材と磁場発生部材とを有し、前記加熱部材により着磁される磁石が加熱された状態で、前記磁場発生部材により着磁するようにしたものであり、第２には、磁場発生部材を永久磁石としたものである。
【００１３】
【実施例】
以下に本発明の実施例について説明するが、本発明の趣旨を越えない限り何ら、本実施例に限定されるものではない。
【００１４】
本発明は、高温状態において、磁石、特に、希土類系磁石を着磁することにより、磁石を高効率に着磁する磁石製造方法及びその装置に関するものであり、また、磁石を高効率で着磁させることにより、室温で磁石を着磁する場合に比べて、低磁場で、所望の磁力に着磁することを可能にし、結果的に、着磁コイルの小型化が実現できる。また、本発明は、この効果を利用して、磁石を極狭ピッチで着磁することができるものである。
【００１５】
以下にその詳細について説明するが、以下の本発明の説明において使用されている着磁工程における「高温状態」とは、着磁される磁石の温度が、室温より４０℃以上高い状態をいう。これは、磁石の着磁効率が向上する現象が、磁石を高温状態とすることにより、磁石が可逆的な減磁を起こし、高温状態にて保持力が低下したために、低磁場で着磁され易くなることに起因していると推測され、温度が高くなるほど、減磁の度合いが大きくなり、より着磁効率が向上する。つまり、より低磁場での高い着磁率が達成されると考えられる。
【００１６】
一般的には、従来の技術において説明した通り、磁石の着磁工程では加熱は行われないため、磁石温度は、実質的に、室温と同じ温度であり、この室温で着磁が行われることになる。着磁工程における発熱等で、磁石温度が高くなったとしても、たかだか３０℃程度であるため、たとえ、室温が４０℃であったとしても、磁石の到達温度が、たかだか８０℃を越えることはない。従って、積極的に磁石を加熱しなければ到達しない温度である８０℃以上であれば、磁石の加熱状態での着磁工程における着磁率の向上効果が得られることになる。しかし、磁石の加熱状態を高くし、磁石のキュリー点を大きく超えた高温になると、磁石の磁性が消失してしまうため好ましくない。
【００１７】
また、本発明において、着磁をボンド磁石の成形工程中に、成形と同時に、着磁を行う場合には、着磁温度は、成形温度又はそれ以下となる。例えば、ポリエチレン等の一般的な熱可塑性樹脂系樹脂複合材料の場合の成形においては、成形工程と同時に着磁を行う場合には、着磁温度は、１２０℃以上となるため好ましいが、成形後の冷却工程において着磁を行う場合には、できるだけ、高い温度に保たれている間に着磁を行うのが好ましく、磁石温度が、高温状態である８０℃以上に保たれている間に着磁を行うことになる。
【００１８】
希土類磁石は、水分を嫌うため、吸湿性の低い１２ナイロン等が好んで使用されるが、この場合には、押し出し成形であれば、１８０℃〜２３０℃程度に加熱されるため、成形工程中で着磁を行うと、更に着磁温度が高くなるため、磁石の着磁効率が高くなり好ましい。また、同様に１２ナイロン系樹脂複合材料を使用した射出成形では、成形温度は更に高く、例えば、２２０℃〜２７０℃程度であるため更に好ましい。また、樹脂が芳香族ナイロンやＰＰＳ等の更に融点又は軟化点の高いスーパーエンプラと一般に呼ばれる樹脂を使用した樹脂複合材料では、成形温度が更にまた高くなるために、成形中に着磁を行うと、着磁温度が更にまた高くなり、より好ましい。
【００１９】
熱硬化性バインダーを使用した等方性の希土類系ボンド磁石の製造においては、通常、無磁場で圧縮成形する成形工程と、バインダーを硬化させるために、１００℃〜２００℃程度の温度において、バインダーの硬化を行うキュアリング工程、その後に、ボンド磁石を着磁する着磁工程を、別々に行う製造方法及びその装置が一般的であるが、ボンド磁石のキュアリング工程において又は直後の磁石温度が高温に保持されている間に着磁を行うと、通常、別工程で行われる圧縮成形ボンド磁石のキュアリング工程と着磁工程の二工程が、一工程で又は二工程を連続的に行うことができるために、製造時間を短縮できる効果がある。更に、キュアリング工程後に、室温程度まで冷却された後に、ボンド磁石の着磁を行う場合に比べて、着磁率も高くなるため好ましい。
【００２０】
本発明に使用する希土類磁石は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系、Ｓｍ−Ｃｏ系、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、高温状態において、可逆的に保持力が低下する磁石であればよい。また、磁石は、異方性磁石でも等方性磁石でも特に問題はない。
【００２１】
本実施例における磁石の形態としては、焼結磁石、ボンド磁石等、特に製造方法に起因する形態等には制限を受けないが、着磁の際に、高温状態において、磁石の品質に悪影響を与えない程度の熱安定性を有していればよい。
【００２２】
本発明におけるボンド磁石の成形方法としては、射出成形、押し出し成形、圧縮成形、トランスファー成形、ロール成形等が挙げられるが、特に、これらに限定されるものではなく、成形工程において成形体を加熱し、成形とは別工程で、或いは、成形に引き続き連続して、或いは、成形と同時に磁場を印加できる成形方法であればよい。
【００２３】
着磁工程における磁石の加熱方法及び加熱のタイミングは、特に限定されず、着磁のために、磁石へ磁場が印加される時点で、磁石が高温状態に維持されていればよく、着磁工程における磁石の加熱は、必ずしも必要なく、加熱工程と着磁工程を別に行っても良い。
【００２４】
ボンド磁石の成形工程の直後に、成形体が高温状態で、或いは、成形後に行う成形体の冷却過程において着磁を行うことにより、成形工程と加熱工程と着磁工程を連続的に行っても良く、更には、磁場を印加した状態で加熱して成形することにより、成形工程と加熱工程と着磁工程を同時に行ってもよい。例えば、磁場中射出成形、磁場中押し出し成形、磁場中圧縮成形、磁場中トランスファー成形等が挙げられる。
【００２５】
磁場中成形を行う場合に、印加する磁場の供給方法は、電磁石に限らず、電磁石に比べて発生磁場の小さい永久磁石でもよく、この場合には、金型に永久磁石を埋め込む等の方法が考えられる。また、使用される永久磁石には、熱安定性の観点から、Ｓｍ−Ｃｏ系が好ましいが、使用される温度で、必要な磁場を発生することができれば、これに限定されるものではない。
【００２６】
また、着磁工程を、不活性雰囲気中で行うことは、希土類磁性粉の熱により受けるダメージを防止する効果があるため、磁石の品質上好ましい。
【００２７】
以下により具体的な実施例について説明する。
【００２８】
本発明の実施例として、磁石を加熱しながら着磁する装置の一例としての着磁装置を、図１を用いて説明する。
【００２９】
１は、加熱部材としての筒状の加熱用ヒーターであり、２ａは、磁場発生部材としての環状の磁場発生用コイルであり、３は、着磁する磁石であり、４は、加熱用ヒーター１の下部開口を閉鎖するとともに、磁石３が載置される磁石載置具であり、５は、磁石３の飛び出しを防ぐための磁石飛び出し蓋具であり、６は、加熱用ヒーター１と磁場発生用コイル２ａと間に配置された、加熱用ヒーター１から発生する熱を、磁場発生用コイル２ａに伝わるのを防ぐための筒状の断熱部材である。あらかじめ、着磁装置を、加熱ヒーター１で加熱しておき、着磁する磁石３を、磁石載置具４に載置するとともに、磁石飛び出し蓋具５を配設して、着磁装置にセットし、磁石３が、加熱ヒーター１の温度と略同じ温度の高温状態に加熱された状態で、磁場発生用コイル２ａに電流を流して、磁場発生用コイル２ａ内に所定の磁場を発生させ、磁石３の着磁を行う。なお、発生磁場の安定化等の目的で、磁場発生用コイル２ａを冷却するための冷却機構を配設しても良い。
【００３０】
直径１０ｍｍ、高さ７ｍｍの円柱状の磁石を試料として作製し、試料を、上述した着磁装置に装着し、所定の高温状態に加熱して、高温状態において、着磁磁場１０ｋＯｅにて磁石の着磁を行った。本発明実施例２及び比較例２のような異方性ボンド磁石の場合には、着磁の前に磁石を完全に脱磁し、その後、配向方向と同一方向の着磁を行った。
【００３１】
上述した着磁装置で、試料を、加熱状態において着磁を行った後に、室温まで冷却して、室温にて、試料のトータルフラックス値を測定した。また、室温にて、５０ｋＯｅで着磁した試料のトータルフラックス値を測定し、このように、５０ｋＯｅで着磁した試料のトータルフラックス値を基準トータルフラックス値とし、この基準トータルフラックス値に対する、上記の高温状態の下で着磁された試料の相対値を算出し、この値を、着磁率（％）と定義して、着磁効率の評価をした。
【００３２】
各試料を、高温状態まで加熱し、この高温状態で、１０ｋＯｅの磁場で着磁を行った各試料の着磁率が、表１に示されている。
【００３３】
【表１】
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【００３４】
表１に示されているように、磁石がＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系等方性ボンド磁石の場合、着磁を２５℃で行った比較例１では、着磁率が３４％であったのに対して、高温状態の１２０℃に加熱して着磁を行った実施例１では、着磁率が５９％にまで向上した。また、磁石がＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系異方性ボンド磁石の場合には、２５℃で着磁した比較例２が、たかだか４５％であったのに対して、高温状態の１２０℃で着磁した実施例２では、着磁率が６５％にまで向上した。なお、いずれも、バインダーは、１２ナイロンである。
【００３５】
次に、高温状態であるボンド磁石の成形工程中に、磁場を印加して着磁することにより、ボンド磁石を製造するための装置の一例としての磁場射出成形機を、図２を用いて説明する。
【００３６】
７は、公知の射出成形機であり、８Ａは、固定金型８ａと可動金型８ｂとにより構成される金型である。可動金型８ｂ内には、成形されるボンド磁石の形状に応じて、キャビティー９ａが形成されており、固定金型８ａ及び可動金型８ｂ内には、加熱部材としての金型加熱用ヒーター１０ａ、１０ｂが、それぞれ装備されている。２ｂは、可動金型８ｂの周囲に設置された磁場発生用コイルである。なお、固定金型８ａの外周にも、同様の磁場発生用コイルを配設することもできる。
【００３７】
溶融された希土類系磁性粉配合樹脂複合材料は、金型８Ａに形成されたキャビティー９ａへ射出されるが、この射出タイミングに合わせて、金型８Ａに配設された磁場発生用コイル２ｂに電流を流すことにより、キャビティー９ａに射出され溶融状態の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料に磁場を印加するとともに、磁場を印加したままの状態で、射出された希土類系磁性粉配合樹脂複合材料を冷却する。その後、磁場発生用コイル２ｂへの電流を遮断し、所定時間冷却後に、金型８Ａから、成形されたボンド磁石を取り出す。このようにして、成形工程と着磁工程を同時に行うことができる。
【００３８】
なお、磁場の印加タイミングは、成形工程の一部でもよく、また、高温状態を維持していれば、射出完了後の冷却工程でもよい。印加する磁場は、磁場発生用コイル２ｂへ流す電流量で調節することが可能となる。更に、図２では、磁場発生用コイル２ｂが金型８Ａの外周に設置されているが、小型の磁場発生用コイル２ｂを、金型８Ａの内部に、一個或いは複数個設置してもよい。更にまた、金型８Ａに冷却機構を設けて、金型の加熱と冷却の併用による温度制御を行うと、着磁温度が安定するため、より好ましい。
【００３９】
Ｎｄ−Ｆｅ−ｂ系等方性希土類磁粉が６０体積％配合された１２ナイロン系樹脂複合材料を使用して、上述した磁場射出成形機により磁場中で射出成形して、直径１０ｍｍ、高さ７ｍｍの円柱状のボンド磁石を成形した（実施例３）。また、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系等方性磁粉が６０体積％配合されたＰＰＳ系樹脂複合材料を使用して、上述した磁場射出成形機により磁場中で射出成形して、直径１０ｍｍ、高さ７ｍｍの円柱状ボンド磁石を製造した（実施例４）。なお、１２ナイロン系樹脂複合材料は、成形温度を２６０℃とし、ＰＰＳ系樹脂複合材料では、成形温度３００℃とし、金型温度は、どちらも１００℃とした。
【００４０】
比較のために、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系等方性希土類磁粉が６０体積％配合された１２ナイロン系樹脂複合材料を使用して、上述した磁場射出成形機を用いて、磁場無しの状態で、直径１０ｍｍ、高さ７ｍｍのボンド磁石を成形し、その後、成形したボンド磁石を、再度、磁場射出成形機のキャビティー９ａに設置し、室温（２５℃）にて磁場を印加して着磁を行い、比較例３とした。
【００４１】
着磁磁場を変えて着磁した各試料のトータルフラックス値を、上述したように測定し、このトータルフラックス値と基準トータルフラックス値とから、上述したようにして、着磁率を算出した。着磁磁場に対する着磁率の変化（以下、着磁率曲線という。）が、図３に示されている。
【００４２】
図３に示すごとく、着磁温度が、室温（２５℃）における着磁率曲線（比較例３）に比較して、上述した磁場中射出成形して作製した１２ナイロン系樹脂複合材料のボンド磁石の着磁率曲線（実施例３）の場合には、立ち上がりが低磁場で発現し、５ｋＯｅ以上の着磁磁場において、着磁率が８０％以上に達していた。更に、上述した磁場中射出成形して作製したＰＰＳ系樹脂複合材料のボンド磁石の着磁率曲線（実施例４）の場合には、４ｋＯｅ以上の着磁磁場において、着磁率が８０％以上に達していた。これらに比べて、比較例３の場合には、着磁磁場が１５ｋＯｅ以上になって、やっと着磁率が８０％以上となった。
【００４３】
次に、図４及び図５を用いて、ボンド磁石を製造するための装置の他の例として、永久磁石を内部に設置した金型を使用した磁場射出成形機について説明する。
【００４４】
７は、図２に示されている公知の射出成形機であり、８Ｂは、固定金型８ｃと可動金型８ｄとから構成されている金型である。９ｂは、可動金型８ｄ内に形成された円筒形のキャビティーであり、キャビティー９ｂ内に、円筒状のボンド磁石が成形されることになる。固定金型８ｃと可動金型８ｄとには、上述した磁場射出成形機と同様に、それぞれ、加熱部材としての金型加熱用ヒーター１０ｃ、１０ｄが装備されている。また、円筒状のキャビティー９ｄの周囲に位置する金型８Ｂには、円筒状のキャビティー９ｄの軸線に対して放射線状に、且つ、キャビティー９ｄに近接して、磁場発生部材としての磁場発生用永久磁石１１が、複数個（本実施例においては、６個の磁場発生用永久磁石１１が埋設されている。）埋設されており、これらの磁場発生用永久磁石１１は、互いに隣り合う磁石同士の磁極の向きが反対になるように設置されている。これらの磁場発生用永久磁石１１の発生する磁場により、キャビティー９ｂに、Ｓ極とＮ極が交互に発現するような磁場が供給され、キャビティー９ｂ内で成形されたボンド磁石が、複数極（本実施例においては、６極）に着磁されるように構成されている。この磁場発生用永久磁石１１は、熱安定性の観点から、Ｓｍ−Ｃｏ系磁石が好ましいが、他の磁石で代用することもできる。
【００４５】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系等方性磁粉を６０体積％配合した１２ナイロン系樹脂複合材料を用いて、上述した永久磁石１１が埋設された金型８Ｂを有する磁場射出成形機により磁場中射出成形を行い、外径８ｍｍ、内径６ｍｍ、長さ１０ｍｍで、外周に６極着磁された円筒状のボンド磁石を作製し、表面磁束の極大点が、切削片の中心となるように、４ｍｍ幅で切り出して、４ｍｍ×１０ｍｍの切削片を作製し、実施例５とした。また、実施例５と同じ材料を使用して、磁場無しの射出成形機で、実施例５と同じサイズの円筒状のボンド磁石を成形し、その後、同様に、４ｍｍ幅で切り出して、４ｍｍ×１０ｍｍの切削片を作製し、この切削片を、公知の着磁機で、室温において１０ｋＯｅで着磁を行い、比較例４とした。なお、１２ナイロン系樹脂複合材料の成形温度を２６０℃とし、金型温度を１００℃とした。
【００４６】
上述したようにして作製された円筒状のボンド磁石の表面磁束を測定した。また、切削片を、５０ｋＯｅで着磁して、再度、切削片の表面磁束を測定して、５０ｋＯｅで着磁した切削片の表面磁束に対する相対値を算出し、この値を、着磁率（％）と定義して、着磁効率の評価に採用した．この結果が、表２に示されている。
【００４７】
【表２】
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【００４８】
実施例５の場合には、着磁率が、８５％であるのに対して、比較例４の場合には、実施例５の場合の略半分である４０％であった。従って、高温状態で、着磁を施すことにより、着磁効率が向上する。
【００４９】
次に、図５を用いて、ボンド磁石を製造するための装置の更に他の例として、磁場中で押し出し成形を行う磁場押出成形機について説明する。
【００５０】
１２は、公知の押出機であり、１３は、ダイである。ダイ１３は、押し出された溶融状態の磁性粉配合樹脂複合材料を冷却しながら、ダイ１３のダイ孔の形状に合わせてサイジングする機能を有するものものであり、ダイ１３のダイ孔の形状に合った成形品１４が成形されることになる。ダイ１３の周囲には、磁場発生用コイル２ｃが配設されている。溶融状態の磁性粉配合樹脂複合材料が、ダイ１３を通りながらサイジングされる工程で、磁場発生用コイル２ｃに、連続的或いは間欠的に、電流を流すことで、成形品１４に着磁を行う。ダイ１３から連続的に押し出された成形品１４は、後工程において、公知の手段により、所望の寸法に切断される。
【００５１】
本発明は、上述したように、磁石の製造における着磁工程において、磁石を高温状態に維持した状態で着磁することにより、より低磁場で、所望の高いレベルの磁力を有する磁石を製造することができる。また、特に、ボンド磁石を各種成形法で製造する場合に、上述したように、高温状態の磁場中で成形を行うことで、より低磁場で、高いレベルの磁力を有する磁石を製造することができ、しかも、ボンド磁石の製造過程で、従来、別々に行われていた成形工程と着磁工程とを、一工程で行うことができる。
【００５２】
【発明の効果】
本発明は以上に説明したように構成しているので、以下に記載するような効果を奏する。
【００５３】
高温状態で、着磁を施すことにより、室温で着磁する場合に比べて、より低磁場で、所望の高いレベルの磁力を有する磁石を製造することができる。
【００５４】
溶融状態の希土類系磁性粉配合樹脂複合材料が、その高温状態を維持している状態で、着磁を施すことにより、非常に高いレベルにまで着磁され、従来必要であった成形後の着磁工程を不要とすることができる。
【００５５】
ボンド磁石を各種成形法で製造する場合に、高温状態を維持したまま、磁場中で成形を行うことにより、より低磁場で、高いレベルの磁力を有する磁石を製造することができるとともに、ボンド磁石の製造過程で、従来、別々に行われていた成形工程と着磁工程とを、一工程で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の磁石製造装置の概略垂直断面図である。
【図２】図２は、本発明の他の磁石製造装置の概略垂直断面図である。
【図３】図３は、実施例及び比較例の着磁率曲線である。
【図４】図４は、本発明の更に他の磁石製造装置の概略垂直断面図である。
【図５】図５は、図４のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。
【図６】図６は、本発明のなお更なる磁石製造装置の概略側面図である。
【符号の説明】
１・・・・・・・・・・加熱用ヒーター
２ａ〜２ｃ・・・・・・磁場発生用コイル
３・・・・・・・・・・磁石
７・・・・・・・・・・射出成形機
８Ａ、８Ｂ・・・・・・金型
９・・・・・・・・・・キャビティー
１０ａ〜１０ｄ・・・・金型加熱用ヒーター
１１・・・・・・・・・磁場発生用永久磁石
１２・・・・・・・・・押出機
【図１】
2004134698.tif 000005
【図２】
2004134698.tif 000006
【図３】
2004134698.tif 000007
【図４】
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【図５】
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【図６】
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