(57)【要約】【課題】矩形基板に塗布液を塗布する際に、矩形基板の裏面への塗布液の回り込みを防止することのできる回転塗布装置を提供すること。【解決手段】回転テーブル２上面上に吸引保持された矩形基板１４の長辺全体の端部に近接して、斜面上端Ａが矩形基板の上面より高く、斜面下端Ｂが矩形基板の下面より低い斜面を有する塗布液の裏回り防止部材７を、その斜面側を矩形基板の長辺全体の端部に向けて回転カップの底部内面上に設けたこと。裏回り防止部材が、矩形基板の大きさに対応した大きさの枠板８上に設けられた裏回り防止部材であること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転テーブルと回転カップが一体となって回転する回転塗布装置において、回転テーブル上面上に吸引保持された矩形基板の長辺全体の端部に近接して、斜面上端が該矩形基板の上面より高く、斜面下端が該矩形基板の下面より低い斜面を有する塗布液の裏回り防止部材を、その斜面側を該矩形基板の長辺全体の端部に向けて回転カップの底部内面上に設けたことを特徴とする回転塗布装置。
【請求項２】
前記裏回り防止部材が、矩形基板の大きさに対応した大きさの枠板上に設けられた裏回り防止部材であることを特徴とする請求項１記載の回転塗布装置。
【請求項３】
前記裏回り防止部材の斜面の勾配が、６０度〜１０度の範囲であることを特徴とする請求項１、又は請求項２記載の回転塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板などの基板に、フォトレジストなどの塗布液を薄膜状に塗布する際に用いる回転塗布装置に関するものであり、特に、基板裏面への塗布液の回り込みによる裏汚れを防止する回転塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回転塗布装置は、基板を回転させることによって、基板表面上の中央部に供給した塗布液を遠心力で基板表面の周縁方向に拡散流動させて基板表面に塗布液を塗布するものである。
図５は、従来の回転塗布装置の回転部分の一例を示す断面図である。図５に示すように、回転塗布装置の回転部分は、回転軸（１）、回転基台としてのバキュームチャックテーブル（２）（以下、回転テーブルと称す）、回転カップ（３）で構成されたものである。
【０００３】
（４）は、例えば、ガラス基板などの基板を示している。回転軸（１）の軸心部には吸引孔（５）が形成されており、吸引孔（５）の一端側は回転テーブル（２）の上面の中央部に形成され吸引溝（６）に接続され、他端側は真空ポンプ（図示せず）に接続されている。
回転テーブル（２）と回転カップ（３）とは一体的に固定され、回転軸（１）の回転に伴い同期して回転するように構成されている。
【０００４】
回転テーブル（２）の上面上に、基板（４）が載置され、基板（４）により閉塞される吸引溝（６）内の空気が、真空ポンプにより吸引孔（５）を介して吸引されると、基板（４）が回転テーブル（２）に吸引保持される。
この状態で、基板（４）の表面上の中央部に塗布液、例えば、フォトレジストが滴下された後、モータ（図示せず）により回転軸（１）が所定方向に回転されることにより、回転テーブル（２）、回転カップ（３）、及び吸引保持された基板（４）が回転される。
【０００５】
これに伴い、回転によって生じる遠心力により滴下されたフォトレジストが基板表面の周縁方向、すなわち、全体にわたって広がり、均一なフォトレジスト膜が形成される。
回転テーブル（２）及び回転カップ（３）が吸引保持された基板（４）と共に回転することにより、基板（４）の周辺には安定した一定の気流が発生し、フォトレジストの均一な広がりを助長する。また、より安定した気流を発生させるなどの理由から、回転カップ（３）の上部に開閉式の蓋を設け、塗布を密閉空間内で行うようにした方式も提案されている。
【０００６】
しかし、このような回転塗布装置においては、塗布液が基板（４）の周縁部から裏面へ回り込み、裏面へも塗布液で塗布されて裏面が汚れてしまうといった問題がある。基板（４）の裏面へも塗布液で塗布されてしまうと、次工程への搬送系が汚染されるなどの不具合なことがおこる。
【０００７】
この塗布液の、基板（４）の裏面への回り込みは、塗布液が表面張力により基板（４）の周縁部の端面に垂れ込むためと考えられている。また、基板（４）の大きさと回転テーブル（２）の大きさの差が小さい場合には、基板（４）の裏面と回転テーブル（２）の上面との間に生じた隙間に毛細管現象によって入り込むためと考えられている。
また、この裏面への回り込みは、基板（４）の形状が矩形など角形の場合に顕著に現れており、これは、回転に伴った乱気流のためと考えられている。
【０００８】
【特許文献１】
特開平５−２００３４９号公報
【特許文献２】
特開平８−３１７３１号公報
【特許文献１】
特開平９−１１５８０８号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、矩形基板に塗布液を塗布する際に、矩形基板の裏面への塗布液の回り込みを防止することのできる回転塗布装置を提供することを課題とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、回転テーブルと回転カップが一体となって回転する回転塗布装置において、回転テーブル上面上に吸引保持された矩形基板の長辺全体の端部に近接して、斜面上端が該矩形基板の上面より高く、斜面下端が該矩形基板の下面より低い斜面を有する塗布液の裏回り防止部材を、その斜面側を該矩形基板の長辺全体の端部に向けて回転カップの底部内面上に設けたことを特徴とする回転塗布装置である。
【００１１】
また、本発明は、上記発明による回転塗布装置において、前記裏回り防止部材が、矩形基板の大きさに対応した大きさの枠板上に設けられた裏回り防止部材であることを特徴とする回転塗布装置である。
【００１２】
また、本発明は、上記発明による回転塗布装置において、前記裏回り防止部材の斜面の勾配が、６０度〜１０度の範囲であることを特徴とする回転塗布装置である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明を実施の形態に基づいて以下に説明する。
図１（ａ）は、本発明による回転塗布装置の回転部分の一実施例の平面図である。また、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＸ−Ｘ’線における断面図である。
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明による回転塗布装置の回転部分は、回転軸（１）、回転テーブル（２）、回転カップ（３）、及び裏回り防止部材（７）で構成されたものである。
【００１４】
（１４）は、ガラス基板などの矩形基板を示している。回転軸（１）の軸心部には吸引孔（５）が形成されており、吸引孔（５）の一端側は回転テーブル（２）の上面の中央部に形成され吸引溝（６）に接続され、他端側は真空ポンプ（図示せず）に接続されている。
回転テーブル（２）と回転カップ（３）とは一体的に固定され、回転軸（１）の回転に伴い同期して回転するように構成されている。
【００１５】
また、図４は、図１（ｂ）に示す、回転テーブル上面上に吸引保持された矩形基板（１４）の周縁部（長辺）と裏回り防止部材（７）を拡大して示す説明図である。
図４に示すように、裏回り防止部材（７）は回転カップの底部内面上に設けられている。裏回り防止部材（７）は、斜面上端（Ａ）が矩形基板の上面（１４ａ）より高く、斜面下端（Ｂ）が矩形基板の下面（１４ｂ）より低い斜面を有している。裏回り防止部材（７）は、回転テーブル（２）上面上に吸引保持された矩形基板（１４）の長辺全体（Ｌ１）の端部に近接して、その斜面側を矩形基板の二つの長辺全体の各々の端部に向けて合計２個設けられている。
【００１６】
回転テーブル（２）の上面上に吸引保持された矩形基板（１４）の表面上の中央部に塗布液、例えば、フォトレジストが滴下され、回転テーブル（２）、回転カップ（３）、及び吸引保持された矩形基板（１４）が同期して回転されると、回転によって生じる遠心力により滴下されたフォトレジストが矩形基板表面の周縁方向、すなわち、全体にわたって広がるが、長辺全体（Ｌ１）の端部に近接して、裏回り防止部材（７）が設けられているので、塗布液及びそのミストは図４中、矢印で示すように、斜面に追従して斜め上方に飛散し、矩形基板（１４）の周縁部（長辺）から裏面へ塗布液が回り込むことはない。
【００１７】
裏回り防止部材（７）の斜面の勾配は、略６０度〜１０度の範囲であることが好ましい。裏回り防止部材の斜面の勾配が、６０度以上であると、裏面へ塗布液が回り込むことはないが、矩形基板（１４）の周縁部の塗布膜の膜厚が厚くなる傾向にある。これは、裏回り防止部材（７）の斜面に衝突したミストの一部が上方から矩形基板（１４）の周縁部に逆流するためと考えられる。
また、裏回り防止部材の斜面の勾配が、１０度以下であると、裏面へ塗布液が回り込むことを防止する効果が薄れたものとなる。
【００１８】
図３（ａ）は、請求項２に係わる回転塗布装置に設けられる枠板の一例の平面図である。また、図３（ｂ）は、（ａ）に示す枠板のＸ−Ｘ’線の断面図である。図３（ａ）、（ｂ）に示すように、枠板（８）は、中空の枠状の板である。
厚さ（ｔ１）の枠板（８）に、厚さ（ｔ２）の点線で示す裏回り防止部材（７’）を設けた状態において、裏回り防止部材（７’）の斜面が、前記斜面上端が矩形基板の上面より高く、斜面下端が矩形基板の下面より低い斜面となるように設定してある。
【００１９】
枠板（８）の大きさ（Ｌ２×Ｗ２）は、図１に示す矩形基板の（１４）の大きさ（Ｌ１×Ｗ１）に対応した大きさとなっている。例えば、矩形基板（１４）の大きさが、４５０×５５０ｍｍの場合、枠板（８）の大きさは、回転テーブル（２）に吸引保持された４５０×５５０ｍｍの矩形基板（１４）の長辺の端面に、前記裏回り防止部材（７’）の斜面が接近して配設されるような大きさ（Ｌ２×Ｗ２≒６００×５２０ｍｍ）を有する。
【００２０】
例えば、数種類の矩形基板（１４）の各大きさに対応させた数種類の枠板（８）に、予め、裏回り防止部材（７’）を設けておくことによって、品種を切替える際に行われる裏回り防止部材の切替え作業が容易なものとなる。
尚、図２（ａ）、（ｂ）は、枠板（８）に設けられた裏回り防止部材を用いた際の回転塗布装置の一例を示す平面図、及び断面図である。
【００２１】
【発明の効果】
本発明は、回転テーブル上面上に吸引保持された矩形基板の長辺全体の端部に近接して、斜面上端が矩形基板の上面より高く、斜面下端が矩形基板の下面より低い斜面を有する塗布液の裏回り防止部材を、その斜面側を矩形基板の長辺全体の端部に向けて回転カップの底部内面上に設けた回転塗布装置であるので、矩形基板に塗布液を塗布する際に、矩形基板の裏面への塗布液の回り込みを防止することのできる回転塗布装置となる。
【００２２】
また、本発明は、裏回り防止部材が、矩形基板の大きさに対応した大きさの枠板上に設けられた裏回り防止部材であるので、品種を切替える際に行われる裏回り防止部材の切替え作業が容易なものとなる。
また、本発明は、裏回り防止部材の斜面の勾配が、６０度〜１０度の範囲であるので、塗布膜の膜厚を均一に、且つ裏面へ塗布液が回り込むことを防止した回転塗布装置となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、本発明による回転塗布装置の回転部分の一実施例の平面図である。
（ｂ）は、図１（ａ）のＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図２】（ａ）は、枠板に設けられた裏回り防止部材を用いた際の回転塗布装置の一例を示す平面図である。
（ｂ）は、枠板に設けられた裏回り防止部材を用いた際の回転塗布装置の一例を示す断面図である。
【図３】（ａ）は、請求項２に係わる回転塗布装置に設けられる枠板の一例の平面図である。
（ｂ）は、（ａ）に示す枠板のＸ−Ｘ’線の断面図である。
【図４】図１（ｂ）に示す矩形基板の周縁部（長辺）と裏回り防止部材を拡大して示す説明図である。
【図５】従来の回転塗布装置の回転部分の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１・・・回転軸
２・・・回転テーブル
３・・・回転カップ
４・・・基板
５・・・吸引孔
６・・・吸引溝
７、７’・・・裏回り防止部材
８・・・枠板
１４・・・矩形基板
１４ａ・・・矩形基板の上面
１４ｂ・・・矩形基板の下面
Ｌ１・・・矩形基板の長辺
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2004267923.tif 000006
【図５】
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