(57)【要約】【課題】揮発性有機化合物を含まない一方で、優れたヘアスタイル成形及び保持特性を維持するエアロゾルスプレーを提供する。【解決手段】第１の区画には少なくとも１つの親水性ブロックと少なくとも１つの疎水性ブロックとを含む少なくとも１つの直鎖状ブロックコポリマーを含むスタイリング組成物を収容し、前記親水性ブロックは前記直鎖状ブロックコポリマーの重量の少なくとも３０重量％を占め、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、ウレタンユニットを含むブロックコポリマー、及びシロキサンユニットを含むブロックコポリマーを含まず、第２の区画には圧縮ガスを収容する、２区画エアロゾル装置を提供する。【選択図】　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
・第１の区画には、少なくとも１つの親水性ブロックと少なくとも１つの疎水性ブロックとを含む少なくとも１つの直鎖状ブロックコポリマーを含むスタイリング組成物を収容し、前記親水性ブロックは前記直鎖状ブロックコポリマーの重量の少なくとも３０重量％を占め、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、ウレタンユニットを含むブロックコポリマー、及びシロキサンユニットを含むブロックコポリマーは含まれず、
・第２の区画には、圧縮ガスを収容する、
２区画エアロゾル装置。
【請求項２】
前記圧縮ガスが、空気、窒素、及び二酸化炭素、並びにこれらの混合物から選択され、特に空気が好ましいことを特徴とする、請求項１に記載のエアロゾル装置。
【請求項３】
前記圧縮ガスの圧力が、１乃至１２Ｂａｒであることを特徴とする、請求項１または２に記載のエアロゾル装置。
【請求項４】
前記圧縮ガスの圧力が、９乃至１１Ｂａｒであることを特徴とする、請求項３に記載のエアロゾル装置。
【請求項５】
前記直鎖状ブロックコポリマーが、式ＡＢのジブロックコポリマー、式ＡＢＡまたはＢＡＢのトリブロックコポリマー、及び、交互に並んだ少なくとも２つの親水性ブロックと少なくとも２つの疎水性ブロックとを含むマルチブロックコポリマーから選択され、各Ａは親水性ブロックを表し、各Ｂは疎水性ブロックを表し、同一のポリマーのブロックＡ同士は同一であるかまたは相違してよく、同一のポリマーのブロックＢ同士は同一であるかまたは相違しうることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項６】
前記直鎖状ブロックコポリマーが、ジブロックコポリマー及び、親水性中央ブロックと２つの疎水性側方ブロックとを含むトリブロックコポリマーから選択されることを特徴とする、請求項５に記載のエアロゾル装置。
【請求項７】
前記親水性ブロックが、アニオン性水溶性モノマー、非イオン性水溶性モノマー、及びカチオン性水溶性モノマー、またはこれらの混合物から生成されることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項８】
前記アニオン性水溶性モノマーが、エチレン性不飽和カルボン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、及びビニルホスホン酸から選択されることを特徴とする、請求項７に記載のエアロゾル装置。
【請求項９】
前記非イオン性水溶性モノマーが、アクリルアミド、Ｃ１−６　Ｎ−アルキルまたはＣ１−３　Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、Ｎ−ビニルアセタミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルアセタミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルホルムアミド、炭素原子４乃至９の環状基を含むＮ−ビニルラクタム、ビニルアルコール、エチレンオキシド、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、及びヒドロキシプロピルメタクリレートから選択されることを特徴とする、請求項７に記載のエアロゾル装置。
【請求項１０】
前記カチオン性水溶性モノマーが、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド、メチルビニルイミダゾリウムクロライド、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン、ビニルアミン、下式：
Ｈ２Ｃ＝ＣＲ１−ＣＯ−Ｘ２
［式中、
Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表し、
Ｘ２は、直鎖状または分枝状のＣ１−６炭化水素ベースの基を表し、これは、少なくとも１つの第一級、第二級、もしくは第三級アミン官能または少なくとも１つの第四級窒素原子、または式ＮＨＲ２もしくは式ＮＲ２Ｒ３（式中Ｒ２及びＲ３は、互いに別個に、少なくとも１つの第一級、第二級、もしくは第三級アミン官能または少なくとも１つの第四級窒素原子を担持する直鎖状または分枝状のＣ１−６炭化水素ベースの基を表す）の基を担持する］
のモノマーから選択されることを特徴とする、請求項７に記載のエアロゾル装置。
【請求項１１】
前記疎水性ブロックが、ビニル芳香族モノマー、ジエン及びジエンのアルキル誘導体、クロロプレン、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ６−１０アリール、もしくはＣ１−１０アラルキルのアクリレート、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ６−１０アリール、もしくはＣ１−１０アラルキルのメタアクリレート、ビニルアセテート、式ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−Ｒのビニルエーテル、及び式ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ（式中、Ｒは、Ｃ１−６アルキル基を表す）のアリルエーテル、アクリロニトリル、ビニルクロライド、ビニリデンクロライド、カプロラクタム、エチレン、プロピレン、及びフッ化されているか過フッ化鎖を含むビニルモノマーから選択される水不溶性モノマーから形成されることを特徴とする、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項１２】
前記親水性ブロックが、請求項１１に記載の１つ以上の水不溶性モノマーを２５ｍｏｌ％まで、好ましくは１０ｍｏｌ％まで、理想的には５ｍｏｌ％まで含むことを特徴とする、請求項７乃至１０のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項１３】
前記疎水性ブロックが、請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の１つ以上の水溶性モノマーを２５ｍｏｌ％まで、好ましくは１０ｍｏｌ％まで、理想的には５ｍｏｌ％まで含むことを特徴とする、請求項１１に記載のエアロゾル装置。
【請求項１４】
前記ブロックコポリマーが、水溶性または水分散性であることを特徴とする、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項１５】
前記ブロックコポリマーが、水溶性であることを特徴とする、請求項１４に記載のエアロゾル装置。
【請求項１６】
前記親水性ブロックが、前記直鎖状ブロックコポリマーの少なくとも３０重量％を占めることを特徴とする、請求項１乃至１５のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項１７】
前記直鎖状ブロックコポリマーが、前記髪用組成物全重量に対して０．０１乃至１０重量％の割合で、好ましくは０．１乃至５重量％の割合で存在することを特徴とする、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の髪用組成物。
【請求項１８】
前記スタイリング組成物が、該組成物全重量に対して３０乃至９９．９重量％、好ましくは５０乃至９９重量％、更に好ましくは７５乃至９８重量％の水含量を有することを特徴とする、請求項１乃至１７のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項１９】
前記スタイリング組成物が、可溶形態、分散形態もしくはミクロ分散形態のシリコーン、処理活性剤、保湿剤、ＵＶスクリーン剤、酸、塩基、可塑剤、可溶化剤、保存料、ビタミン及びプロビタミン、着色剤、顔料、アニオン性、カチオン性、非イオン性、または両性界面活性剤、香料、及び腐食防止剤、及びこれらの混合物から選択される添加剤を更に含むことを特徴とする、請求項１乃至１８のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項２０】
ヘアスプレーを構成することを特徴とする、請求項１乃至１９のいずれか一項に記載のエアロゾル装置。
【請求項２１】
本発明によるエアロゾル装置に収容される前記スタイリング組成物が、湿ったまたは乾燥した髪に噴霧されることを特徴とする、スタイリング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも１つの両親媒性ブロックポリマーを含むスタイリング組成物及び圧縮ガスを収容する２区画エアロゾル装置、並びにスタイリング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
エアロゾルスプレー形態に実装されたヘアスプレー及びスプレー等のスタイリング組成物は、一般的に、アルコール性または水性−アルコール性の化粧品として許容される媒質中に少なくとも１つのフィルム形成性ポリマーを含む液体相と、プロペラントとを含み、前記プロペラントは減圧下の、または前記液体相中に溶解された液化ガスである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
髪用製品の分野においては、本質的には環境のための理由からエタノールまたはジメチルエーテルなどの揮発性有機化合物を含まない一方で、優れたヘアスタイル成形及び保持特性を有するエアロゾルスプレーを製造することが望ましい。
【０００４】
文献ＵＳ５６２６８４０には、エアロゾル形態をとりうる髪用固定組成物が記載されている。これらは、水性または水性−アルコール性媒質、無機または有機ベース、及び水または水と極性有機溶媒との混合物であって良い溶媒中に、ポリウレタンを含む。
【０００５】
前記文献には、スタイリング組成物中におけるの揮発性有機化合物の著しい低減が記載されている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
出願人は、驚くべきことに、第１の区画に少なくとも１つの親水性ブロックと少なくとも１つの疎水性ブロックとを含む少なくとも１つの直鎖状ブロックコポリマーを含むスタイリング組成物を収容し、前記親水性ブロックは前記直鎖状ブロックコポリマーの重量の少なくとも３０重量％を占め、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、ウレタンユニットを含むブロックコポリマー、及びシロキサンユニットを含むブロックコポリマーは含まず、第２の区画には圧縮ガスを収容する、２区画装置を使用することによって、如何に少なくとも従来技術によるヘアスプレーと同等の成形及び保持の特性を有し、更に揮発性有機化合物を含まない、ヘアスプレーが得られることを見出した。
【０００７】
前記特性は、とりわけ、前記スタイリング組成物が、少なくとも１つの親水性ブロックと少なくとも１つの疎水性ブロックとを含む少なくとも１つの直鎖状ブロックコポリマーを含み、前記親水性ブロックが前記直鎖状ブロックコポリマーの少なくとも３０重量％を占め、前記ブロックコポリマーが、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとを含むブロックコポリマー、ウレタンユニットを含むブロックコポリマー、及びシロキサンユニットを含むブロックコポリマーを含まない場合に得られる。
【０００８】
従って、本発明の１つの主題は、
・第１の区画には、少なくとも１つの親水性ブロックと少なくとも１つの疎水性ブロックとを含む少なくとも１つの直鎖状ブロックコポリマーを含むスタイリング組成物を収容し、前記親水性ブロックが前記直鎖状ブロックコポリマーの重量の少なくとも３０重量％を占め、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとを含むブロックコポリマー、ウレタンユニットを含むブロックコポリマー、及びシロキサンユニットを含むブロックコポリマーは含まれず、
・第２の区画には、圧縮ガスを収容する、
２区画エアロゾル装置である。
【０００９】
本発明の別の主題は、本発明の装置を使用するスタイリング方法からなる。
【００１０】
本発明の別の主題、特徴、態様、及び利点は、以下の説明及び様々な実施例を読むにつれていっそう明らかになるであろう。
【００１１】
【発明の実施の形態】
好ましくは、圧縮ガスは、空気、窒素、及び二酸化炭素、並びにこれらの混合物から選択され、空気が特に好ましい。
【００１２】
前記圧縮ガスは、好ましくは１乃至１２ｂａｒ、更に好適には９乃至１１ｂａｒの圧力で使用される。
【００１３】
本発明により使用してよい直鎖状ブロックコポリマーは、「両親媒性」のコポリマー、すなわち、疎水性ブロックと親水性ブロックとを含むコポリマーである。
【００１４】
本発明によれば、「疎水性ブロック」なる語は、水不溶性モノマーを少なくとも７５ｍｏｌ％含むブロックを意味し、「親水性ブロック」なる語は、水溶性モノマーを少なくとも７５ｍｏｌ％含むブロックを意味する。
【００１５】
本発明において使用されるブロックコポリマーの親水性ブロックを形成する水溶性モノマーは、アニオン性、非イオン性、またはカチオン性であってよく、単独でまたは２つ以上の異なるモノマーを含む混合物の形態で使用して良い。
【００１６】
挙げて良いアニオン性水溶性モノマーの例は、エチレン性不飽和カルボン酸、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、クロトン酸、マレイン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、及びビニルホスホン酸を含んでよい。
【００１７】
非イオン性水溶性モノマーには、特に、アクリルアミド、Ｃ１−６　Ｎ−アルキルまたはＣ１−３　Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、Ｎ−ビニルアセタミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルアセタミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルホルムアミド、炭素原子４乃至９の環状基を含むＮ−ビニルラクタム、ビニルアルコール（ビニルアセテートの形態で共重合化された後に加水分解されたもの）、エチレンオキシド、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、及びヒドロキシプロピルメタクリレートが含まれる。
【００１８】
最後に、カチオン性水溶性モノマーには、例えば、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド、メチルビニルイミダゾリウムクロライド、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン、ビニルアミン、下式：
Ｈ２Ｃ＝ＣＲ１−ＣＯ−Ｘ２
［式中、
Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表し、
Ｘ２は、直鎖状または分枝状のＣ１−６炭化水素ベースの基を表し、これは、少なくとも１つの第一級、第二級、もしくは第三級アミン官能または少なくとも１つの第四級窒素原子、または式ＮＨＲ２もしくは式ＮＲ２Ｒ３（式中Ｒ２及びＲ３は、互いに別個に、少なくとも１つの第一級、第二級、もしくは第三級アミン官能または少なくとも１つの第四級窒素原子を担持する直鎖状または分枝状のＣ１−６炭化水素ベースの基を表す）の基を担持する］
のモノマーが含まれる。
【００１９】
前記ブロックコポリマーの疎水性ブロックを形成する水不溶性モノマーは、好ましくは、ビニル芳香族モノマー、例えばスチレン及びそのアルキル誘導体、例えば４−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、及びビニルトルエン、ジエン、例えばブタジエン及び１，３−ヘキサジエン、並びにジエンのアルキル誘導体、例えばイソプレン及びジメチルブタジエン、クロロプレン、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ６−１０アリール、もしくはＣ１−１０アラルキルのアクリレート、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ６−１０アリール、もしくはＣ６−１０アラルキルのメタアクリレート、例えば、メチル、エチル、ｎ−ブチル、２−エチルヘキシル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソボルニル、フェニルまたはベンジル（メタ）アクリレート、ビニルアセテート、式ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−Ｒのビニルエーテル、及び式ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ（式中、Ｒは、Ｃ１−６アルキル基を表す）のアリールエステル、アクリロニトリル、ビニルクロライド、ビニリデンクロライド、カプロラクタム、エチレン、プロピレン、及びフッ化されているかまたは過フッ化鎖を含むビニルモノマー、例えばフルオロアルキルアクリレート及びメタクリレートまたはアルキルフルオロアクリレートから選択される。
【００２０】
上記のように、前記ブロックコポリマーの疎水性及び親水性のブロックの定義に関しては、水不溶性モノマー及び水溶性モノマーが、各々前記疎水性及び親水性ブロックの少なくとも７５ｍｏｌ％を占める。換言すれば、各疎水性ブロックは、１つ以上の水溶性モノマーを２５ｍｏｌ％まで含んで良い。この割合は、好ましくは１０ｍｏｌ％を越えず、理想的には５ｍｏｌ％以下である。
【００２１】
同様に、各親水性ブロックは、１つ以上の水不溶性モノマーを２５ｍｏｌ％まで、好ましくは１０ｍｏｌ％まで、理想的には５ｍｏｌ％まで含んで良い。
【００２２】
使用される直鎖状ブロックコポリマーはまた、明らかに、その親水性ブロック及び疎水性ブロックが、それぞれ水溶性モノマー及び水不溶性モノマーのみからなるものを含む。これらのブロックは、ホモポリマーブロックまたは、同一タイプの２つまたは２つ以上の別々のモノマーを含むコポリマーブロックであってよい。
【００２３】
好ましくは、本発明の直鎖状ブロックコポリマーは、水溶性または水分散性であり、更に好ましくはこれらは水溶性である。
【００２４】
「水溶性モノマーまたはポリマー」なる語は、２５℃の温度の水に０．５％の重量濃度で導入された際に、巨視的に見て均質且つ透明な溶液、すなわち、５００ｎｍの周波数において１ｃｍ厚さの試料を通して、少なくとも７０％、好ましくは少なくとも８０％の光透過値を有する溶液を生じるモノマーまたはポリマーを意味する。
【００２５】
本発明による水分散性コポリマーは、ラテックス（ｌａｔｔｉｃｅｓ）またはシュードラテックスの形態であって良い。
【００２６】
好ましくは、本発明による直鎖状ブロックコポリマーは、水溶性である。
【００２７】
水に溶解する、または水中に微細に分散するこの性能は、前記両親媒性ブロックコポリマー中における親水性ブロックの割合が多いことに関連する。
【００２８】
この割合は、少なくとも３０重量％でなければならず、好ましくは６０重量％以上であるが、９７重量％を越えず、好ましくは９５重量％を越えない。
【００２９】
各ブロックの数平均分子量は、疎水性または親水性であっても、コポリマーまたはホモポリマーであっても、好ましくは５００乃至１０００００、とりわけ５００乃至５００００であり、１．０１乃至３．０、好ましくは１．１乃至２．５の多分散性指数（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する。
【００３０】
本発明において使用される直鎖状ブロックコポリマーは、
・式ＡＢのジブロックコポリマー、
・式ＡＢＡまたはＢＡＢのトリブロックコポリマー、及び
・交互に並んだ、少なくとも２つの親水性ブロックと少なくとも２つの疎水性ブロックを含むマルチブロックコポリマー、
であってよく、各Ａは親水性ブロックを表し、各Ｂは疎水性ブロックを表し、同一ポリマーのブロックＡは同一であるか相違することが可能であり、同一ポリマーのブロックＢは同一であるか相違することが可能である。
【００３１】
ジブロックコポリマー及び、親水性中央ブロックと２つの疎水性側方ブロックを含むトリブロックコポリマーが、特に好ましい。
【００３２】
本発明のブロックポリマーは、ブロックポリマーを得るために従来使用されている合成方法により得てよい。例えば、アニオンもしくはカチオン重合及び制御されたフリーラジカル重合を挙げて良く（”Ｎｅｗ　Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，Ｂｌａｃｋｉｅ　Ａｃａｄｅｍｉｃ　＆　Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ，　Ｌｏｎｄｏｎ，　１９９５，　Ｖｏｌｕｍｅ　２，　ｐａｇｅ　１またはＴｒｅｎｄｓ　Ｐｏｌｙｍ．　Ｓｃｉ．　４，　ｐａｇｅ　１８３　（１９９６）　ｂｙ　Ｃ．　Ｊ．　Ｈａｗｋｅｒ参照）、これらを他の方法、例えば原子移動ラジカル重合（ＡＴＲＰ）（ＪＡＣＳ，　１１７，　ｐａｇｅ　５６１４　（１９９５）　ｆｒｏｍ　Ｍａｔｙｊａｓｅｚｗｓｋｉ　ｅｔ　ａｌ．参照）及びニトロキシド等のラジカルを使用する方法（Ｇｅｏｒｇｅｓ　ｅｔ　ａｌ．，　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，　１９９３，　２６，　２９８７参照）に従って利用しても良い。
【００３３】
これらの方法を、本発明のポリマーの２つのタイプのブロックのうち一方のみを得るために使用し、他方のブロックを、使用する開始剤によって、あるいは親水性ブロックと疎水性ブロックとの間のカップリング反応を経て、最終ポリマーに導入しても良い。
【００３４】
本発明の組成物中における両親媒性直鎖状ブロックコポリマーの量は、多数のパラメータに依存するが、その中でも、前記コポリマーの分子量、親水性ブロックと疎水性ブロックの数及びサイズ、髪に有益なポリマーの量、及び特に得ようとする組成物の粘度を挙げて良い。
【００３５】
満足のいく結果は、一般的に、直鎖状ブロックコポリマーの量が、当該髪用組成物の重量に対して０．０１乃至１０重量％、好ましくは０．１乃至５重量％であると得られる。
【００３６】
本発明による装置に収容されるスタイリング組成物は、有利には前記組成物全重量に対して３０乃至９９．９重量％、好ましくは５０乃至９９重量％、更に好ましくは７５乃至９８重量％の水含量を有する。
【００３７】
前記スタイリング組成物は、可溶形態、分散形態またはミクロ分散形態のシリコーン、処理活性剤、保湿剤、例えばグリセリン、ＵＶスクリーン剤、酸、塩基、可塑剤、可溶化剤、保存料、ビタミン及びプロビタミン、着色剤、顔料、アニオン性、カチオン性、非イオン性、または両性界面活性剤、香料、及び腐食防止剤、及びこれらの混合物等の添加剤を更に含んでよい。
【００３８】
当業者であれば、前記任意の添加剤及びその量を、これらが本発明の組成物の特性を損なうことのないように選択するであろう。
【００３９】
これらの添加剤は、特に本発明による組成物中に、該組成物全重量に対して０乃至２０重量％の範囲の量で存在する。
【００４０】
好ましくは、前記２区画エアロゾル装置は、バルブに溶接密着された内部ポケットを備えた外部エアロゾル缶からなる。該組成物は前記内部ポケットに導入され、圧縮ガスは、前記ポケットと、当該生成物をノズルの口を通って噴霧の形態で放出するのに十分な圧力下にある缶との間に導入される。こうした装置は、ＥＰＳｐｒａｙ　Ｓｙｓｔｅｍ　ＳＡ社によりＥＰ　Ｓｐｒａｙの名称で市販されている。
【００４１】
本発明のエアロゾル装置は、好ましくはヘアスプレーである。
本発明は、本発明によるエアロゾル装置に収容されたスタイリング組成物を、湿ったまたは乾いた髪に噴霧することからなるスタイリング方法にも関する。
以下の実施例は、本発明の詳説として与えられる。
【００４２】
【実施例】
（実施例１）
スタイリング組成物を、以下の成分を使用して調製した。
【表１】
2004026823.tif 000002
【００４３】
上記のように調製された組成物を、上記のＥＰ　Ｓｐｒａｙ　Ｓｙｓｔｅｍ　Ｓ．　Ａ．　社によりＥＰＳｐｒａｙの名称で市販されているエアロゾル分配装置に導入した。品番６００１型番Ｄ６のバルブが標準のエアロゾル缶に取付けられ、吹き出し口はボルテックスノズルディフューザである。
【００４４】
ポケットを上記の組成物で満たす。圧縮空気をポケットと缶との間に導入する。
該組成物を乾燥した髪に噴霧した。噴霧は、穏やかなスプレーの形態で行われる。
乾燥後、頭髪には優れた保持が得られる。