(57)【要約】【課題】導電性を有し、静電破壊を防止し、表面汚染を抑制しながらマスクを収納運搬することができるマスクケースを提供する。【解決手段】トレイ５にマスク６を載置するために、導電性を有し、アウトガスの少ない材料からなるプレート１と支柱２からなる保持体３が形成されたマスクケースに収納すると、プレート１によりマスク６の表面電位を均一にすることができ、保持体３及びマスクケース内壁の導電性材料によりマスク６とマスクケースの電位を均一にすることができるため、マスクパターンの静電破壊を防止することができ、また、保持体３及びマスクケース内壁にアウトガスの少ない材料をもちいることにより、マスクケースから発生するアウトガスを抑制し、マスク６の表面が汚染されることを防止することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路の製造工程で使用されるレチクル又はフォトマスクを収納運搬するために用いられ、少なくとも上蓋とトレイとレチクル又はフォトマスクを載置する保持体から形成されたマスクケースにおいて、
前記保持体が導電性を有し、ガスの発生が少ない材料からなるプレートとプレートの支柱からなることを特徴としたマスクケース。
【請求項２】
上蓋及びトレイが導電性を有し、ガスの発生が少ない材料からなることを特徴とした請求項１記載のマスクケース。
【請求項３】
上蓋及びトレイがプラスチック樹脂からなり、内壁に導電性を有しガスの発生が少ない材料を成膜したことを特徴とした請求項１記載のマスクケース。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、集積回路の製造工程で使用されるレチクル又はフォトマスク（以下、これらを併せてマスクと呼ぶ。）を収納運搬するために用いるマスクケースに関する。
【０００２】
【従来の技術】
シリコンウェハ上に集積回路パターンを描画するフォトリソグラフィ技術において、近年ＬＳＩの高集積化に伴い、より狭い線幅で微細な回路パターンを露光するための技術が要求されており、これに対応するために露光光源の短波長化が進められている。例えば、リソグラフィ用ステッパの光源は、従来のｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）から進んでＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザー（波長１５７ｎｍ）等のより短波長光源に移行されている。
【０００３】
露光光源の短波長化に伴い物質による光吸収が大きくなり、酸素や水分及び有機化合物により露光光が吸収され透過率が低下してしまう。
従来の集積回路の製造工程で使用されるマスクを収納運搬するために用いるマスクケースは、おもにプラスチック樹脂等により形成されていた。その為にプラスチック樹脂等から発生する有機物質ガスによりマスク表面が汚染され、露光波長が短波長であるとマスクの透過率が低下する。
また、回路パターンの微細化に伴い僅かな帯電でも、マスクケースに保管したマスクのパターンが静電気により破壊される事が問題となっている。
この問題を解決する方法として、マスクを載置するマスク支持体及び底皿にカーボンを添加したポリカーボネートを用いて底皿の帯電量を低減しマスクに電荷が溜まることを防止する方法が知られている。この方法によりマスクケースに保管したマスクのパターンの静電破壊を低減することができる（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−２５３４９１号公報
【０００５】
しかし、マスク面内の電位を均一にする対策が無くマスク面内の電位にバラツキが生じてしまうためマスクケースに保管したマスクのパターンの静電破壊を完全に解決するまでには至っていない。また、カーボンを添加したポリカーボネートを材料としているため有機化合物質のアウトガス（材料から発生するガス）が存在し、それによりマスク表面が汚染され透過率の低下が生じる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、これらの問題点を解決するためになされたものであり、静電破壊を防止し、表面汚染を抑制しながらマスクを収納運搬することができるマスクケースを提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明において上記の課題を解決するために、請求項１において、集積回路の製造工程で使用されるレチクル又はフォトマスクを収納運搬するために用いられ、少なくとも上蓋とトレイとレチクル又はフォトマスクを載置する保持体から形成されたマスクケースにおいて、
前記保持体が導電性を有し、ガスの発生が少ない材料からなるプレートとプレートの支柱からなることを特徴としたマスクケースを提供する。
【０００８】
また請求項２において、上蓋及びトレイが導電性を有し、ガスの発生が少ない材料からなることを特徴とした請求項１記載のマスクケースを提供する。
【０００９】
また請求項３において、上蓋及びトレイがプラスチック樹脂からなり、内壁に導電性を有しガスの発生が少ない材料を成膜したことを特徴とした請求項１記載のマスクケースを提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
【００１１】
図１は、本発明のマスクケースの構造の一例を示す断面図である。トレイ５には、マスク６を載置する保持体３が形成されている。保持体３は、少なくとも導電性を有し、アウトガス（材料から発生するガス）の少ない材料からなるプレート１とプレート１の支柱２からなる。プレート１は、少なくともマスク６に接触する面が平滑であり、大きさは、収納するマスク６のガラス面８全面に接触すれば良く、好ましくは、マスクケースにマスク６を収納しやすいように、マスク６のガラス面８より縦横各０．５ｃｍ以上大きくすればよい。また、プレート１の厚さは、マスク６を載置した際、変形が無ければ良く、用いる材料によっても異なるが、通常は２ｍｍ〜５ｍｍ程度とすればよい。
図２は、他の構造を示すもので、マスク６がプレート１からずれないように、プレート１の周囲もしくは、コーナー部に枠９を設けることが好ましい。プレート１の材料として、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、ステンレス等の金属、あるいはＡｌとＳｃ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｄ、Ｔａ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ等の遷移元素との合金等を用いることができる。特にアウトガスが少なく、化学的に安定しているステンレスを用いることが好ましい。
【００１２】
支柱２の高さは、マスクケースからマスク６を出し入れし易い高さとすれば良く、好ましくは、マスク６がマスクケース高さの中心に位置すればよい。支柱２の材料としては、プレート１と同様の材料を用いることができる。
保持体３を介してトレイ５に載置されたマスク６は、上蓋４により密閉される。
【００１３】
このときプレート１と支柱２からなる保持体３にマスク６を載置することによりマスク６の面内の電位を均一に保つことができると同時に、帯電した静電気を除電することができる。これによりマスクパターンの静電破壊を防止することができる。
【００１４】
また図３に示すように、マスク６のパターンに接触しないような固定爪１０を上蓋４に設置（図では、上蓋に垂設）することが好ましく、これによりマスク６が固定されマスクケースの取り扱いを容易にすることができる。固定爪１０の材料としては、プレート１及び支柱２と同様の材料を用いることができる。
【００１５】
上蓋４及びトレイ５の材料としては、プレート１及び支柱２と同様の材料を用いることができる。また図４のように、従来のマスクケースと同様のスチレン系樹脂、アクリル系樹脂などのプラスチック樹脂材料などにより形成された上蓋４及びトレイ５の内壁に、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法などの成膜法で、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ等の金属あるいは、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３等の透明電極材料を用いて薄膜１１を形成してもよい。プラスチック樹脂材料などに透明電極材料を成膜することにより、導線性を有し、アウトガスの少なく、かつ透明なマスクケースを得ることができる。
【００１６】
マスク６が保持体３を経由してマスクケースに接地されるため、マスク６の電位がマスクケースと均一になり、マスクケースとマスク６間での放電現象が抑制され、マスクパターンの静電破壊を防止できる。また同時に、マスクケースから発生するアウトガスを抑制し、マスク６の表面が汚染されることを防止できる。
【００１７】
【実施例】
まず、本発明のマスクケースの一実施例を図１、比較例１のマスクケースを図２に示す。
［実施例１］
保持体３及び上蓋４、トレイ５がステンレスからなる図１に示した構造を持つマスクケースにマスク６を載置した。
その後、マスクケースを帯電したプラスチック板上に置き、上蓋４とトレイ５を５０回開閉した。しかし、マスク６のパターンに静電破壊は見られなかった。
マスク６の表面電位を測定したところ、表面電位は均一であった。
また、このマスクケースに１週間保管したマスク６の表面汚染を加熱脱離ガスクロマトグラフで測定したが、マスク６表面には、マスクケースに起因する有機物質汚染は確認されなかった。
【００１８】
［比較例１］
従来のマスクケース同様、保持体３及び上蓋４、トレイ５がアクリル系樹脂からなる図５に示した構造を持つマスクケースにマスク６を載置した。
その後、マスクケースを帯電したプラスチック板上に置き、上蓋４とトレイ５を５０回開閉したところ、マスク６のパターンに静電破壊が生じた。マスク６の表面電位を測定したところ、表面電位が不均一であった。
また、このマスクケースに１週間保管したマスク６の表面汚染を加熱脱離ガスクロマトグラフで測定したところ、マスクケース材料であるアクリル系樹脂に可塑剤として用いられているＤＯＰ（フタル酸ジオクチル）、ＤＥＰ（フタル酸ジエチル）、ＤＢＰ（フタル酸ジブチル）等がマスク表面から検出された。
【００１９】
【発明の効果】
本発明によれば、導電性を有し、アウトガスの少ない材料からなるプレートと支柱からなるマスクを載置する為の保持体を設け、マスクケース内壁に導電性を有しアウトガスの少ない材料を用いることにより、静電破壊を防止し、表面汚染を抑制しながらマスクを収納運搬することができるマスクケースを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマスクケースの一実施例を示す断面図である。
【図２】本発明のマスクケースの他の実施例を示す断面図である。
【図３】本発明のマスクケースその他の実施例を示す断面図である。
【図４】本発明のマスクケースその他の実施例を示す断面図である。
【図５】比較例１におけるマスクケースを示す断面図である。
【符号の説明】
１・・・・プレート
２・・・・支柱
３・・・・保持体
４・・・・上蓋
５・・・・トレイ
６・・・・マスク
７・・・・膜面
８・・・・ガラス面
９・・・・枠
１０・・・固定爪
１１・・・薄膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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