(57)【要約】【課題】サーマルネガ型熱架橋性の感光層を有する版材を合紙の挿入されない積層体の形態で供給することを可能としつつ、製版プロセスにおけるキズの発生や搬送不良が抑制された平版印刷版原版を提供する。【解決手段】支持体上に、下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有し、赤外線照射によりネガ画像が形成可能な感光層を設けてなる平版印刷版原版であって、（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物（Ｂ）赤外線吸収剤（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物（Ｄ）酸により架橋する架橋剤該感光層の表面と、前記支持体裏面側の表面と、の下記一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差が１０ｄｙｎ／ｃｍ以上であることを特徴とする平版印刷版原版。2004117553.tif 000051【選択図】　　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有し、赤外線照射によりネガ画像が形成可能な感光層を設けてなる平版印刷版原版であって、
（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物
（Ｂ）赤外線吸収剤
（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物
（Ｄ）酸により架橋する架橋剤
該感光層の表面と、前記支持体裏面側の表面と、の下記一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差が１０ｄｙｎ／ｃｍ以上であることを特徴とする平版印刷版原版。
2004117553.tif 000050
（一般式（Ｉ）中、接触角は、Ｈ２Ｏ；１．７μｌ、ＣＨ２Ｉ２；１．３μｌを滴下し３０秒後に測定した値を表わす。また、γ（Ｈ）の単位はｄｙｎ／ｃｍである。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平版印刷用版材やカラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターとして使用できる平版印刷版原版に関する。特に、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザーを走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷用原版に使用可能なネガ型の平版印刷版原版に関する。より詳細には、主として新聞印刷に使用される、合紙を用いず積層した形態でＣＴＰ製版システムに適合した平版印刷版原版に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザー（以下、「赤外線レーザー」という場合がある。）は、高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになった。これらの赤外線レーザーは、コンピュータ等のデジタルデータにより直接印刷版を製版する際の記録光源として非常に有用である。従って、このような赤外線記録光源に対し、感応性の高い画像記録材料、即ち、赤外線照射により光化学反応等が起こり、現像液に対する溶解性が大きく変化する画像記録材料への要望が近年高まっている。
【０００３】
このような赤外線レーザーにより記録可能な画像記録材料としては、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外線吸収剤よりなる記録材料（例えば、特許文献１参照。）、ハロアルキル置換されたｓ−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外線吸収剤よりなる画像記録材料（例えば、特許文献２参照。）、芳香族炭化水素基と、水素原子がフッ素原子で置換されたフルオロ脂肪族炭化水素基と、を有する高分子化合物、アルカリ可溶性樹脂、赤外線吸収剤、酸前駆体及び酸により架橋する架橋剤よりなる画像記録材料（例えば、特許文献３参照。）等が挙げられる。
【０００４】
このような記録方式を利用した画像形成材料を感光層として用いる平版印刷版原版は、通常、版と版との間に合紙を挿入した形態の積層体にされて、製版システムへと供給される。この積層体は、数十枚〜数百枚の束にされ、ダンボールで上下を補強され、クラフト紙や外装材料で包装されるものである。
近年、コンピュータ・トゥ・プレートシステム（ＣＴＰ製版システム）は、商印用途のみではなく、新聞用途にも広く活用されるようになった。このＣＴＰ製版システムに上記積層体を用いる場合、プレートセッターに供給する際に、多くはクラフト紙までを除去し、合紙を挿入した形態の積層体を用いるが、中には、挿入された合紙を取り除き、平版印刷版原版の感光層の表面と、隣接する平版印刷版原版の支持体裏面（又は支持体裏面に設けられたバックコート層）と、が接触した状態で、数十枚〜数百枚程度積層した形態とし供給されることがある。このような状態で長期間放置された場合、感光層の表面と支持体裏面とが接着してしまい、搬送不良を起こしたり、これらを剥離する際に、感光層にキズが発生したり、そのキズが原因となり画像欠損が発生するという問題を有していた。
また、製版プロセスの省力化を目的として、合紙の挿入されていない状態の積層体を供給することにより、合紙を取り除く作業を省くことが望まれていた。
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−２０６２９号公報
【特許文献２】
特開平７−２７１０２９号公報
【特許文献３】
特開２０００−２８４４７４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、従来より知られているサーマルネガ型熱架橋性の感光層を有する版材を合紙の挿入されない積層体の形態で、供給することを可能としつつ、製版プロセスにおけるキズの発生や搬送不良が抑制された平版印刷版原版を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、赤外線レーザーを走査して直接記録することのできる平版印刷版原版に関し鋭意検討を重ねた結果、種々の温湿度での条件において、感光層の表面と支持体裏面側の表面との濡れ性などの物理的性質が近いほど両表面間で接着が見られ、特に、両表面の表面エネルギーの水素結合成分が接着現象に大きな影響を与えることを見出し、本発明を完成するに至った。
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
【０００８】
支持体上に、下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有し、赤外線照射によりネガ画像が形成可能な感光層を設けてなる平版印刷版原版であって、
（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物
（Ｂ）赤外線吸収剤
（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物
（Ｄ）酸により架橋する架橋剤
該感光層の表面と、前記支持体裏面側の表面と、の下記一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差が１０ｄｙｎ／ｃｍ以上であることを特徴とする平版印刷版原版。
2004117553.tif 000002
（一般式（Ｉ）中、接触角は、Ｈ２Ｏ；１．７μｌ、ＣＨ２Ｉ２；１．３μｌを滴下し３０秒後に測定した値を表わす。また、γ（Ｈ）の単位はｄｙｎ／ｃｍである。）
【０００９】
本発明の作用は明確ではないが以下のように推測される。
本発明において、感光層の表面と、支持体裏面側の表面と、の表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差が上記範囲にある場合、両表面間の表面エネルギーの差が大きく、密着性が低下するため、該両表面間の接着が防止されて、結果的に、接着に起因する感光層のキズの発生を防止することができると推測される。また、版材間の剥離性が優れたものになるため、かかる平版印刷版原版を合紙が挿入されない状態で積層して供給する場合であっても、その搬送不良の発生を防止することとも可能となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の平版印刷版原版について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有し、赤外線照射によりネガ画像が形成可能な感光層を設けてなる平版印刷版原版であって、
（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物
（Ｂ）赤外線吸収剤
（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物
（Ｄ）酸により架橋する架橋剤
該感光層の表面と、前記支持体裏面側の表面と、の下記一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差が１０ｄｙｎ／ｃｍ以上であることを特徴とする。
2004117553.tif 000003
（一般式（Ｉ）中、接触角は、Ｈ２Ｏ；１．７μｌ、ＣＨ２Ｉ２；１．３μｌを滴下し３０秒後に測定した値を表わす。また、γ（Ｈ）の単位はｄｙｎ／ｃｍである。）
【００１１】
このように、本発明の平版印刷版原版は、これらを積層した際に感光層の表面と、支持体裏面側の表面と、の表面エネルギーの差を上記の特定範囲に規定しているため、両表面間の物理的性質（表面エネルギー）の差が大きく、両表面間の接着が防止され、かつ、両表面間の剥離性は良好となる。
【００１２】
＜感光層の表面及び支持体裏面側の表面の一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）＞
本発明の平版印刷版原版において、「支持体裏面側の表面」とは、支持体裏面上に、何も設けられていないのならば、その支持体裏面自体の表面を示し、支持体裏面上にバックコート層が設けられているならば、そのバックコート層の表面を指す。
本発明において、感光層の表面の一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）と、支持体裏面側の表面の一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）と、の差が１０ｄｙｎ／ｃｍ以上であることを必須とする。また、この差が１５ｄｙｎ／ｃｍ以上であることがより好ましく、２０ｄｙｎ／ｃｍ以上であることが更に好ましい。この差が１０ｄｙｎ／ｃｍより小さい場合、平版印刷版原版を互いに剥離する際の容易性や耐キズ性の向上が困難になる。
【００１３】
感光層の表面と支持体裏面側の表面との表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差を上記の範囲に制御する手段としては、感光層の表面と支持体裏面側の表面とのいずれか一方の表面エネルギーをより低い状態にすることで、両表面の水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差を所定の範囲とするものである。より詳細には、例えば、支持体裏面に設けられるバックコート層の組成を調整し表面エネルギーを制御する方法や感光層の組成を調整し表面エネルギーを制御する方法、更には、所定の表面エネルギーを有する層を形成することで上記表面エネルギーの制御を達成することができる。
【００１４】
バックコート層の組成を調整し表面エネルギーを制御する方法としては、例えば、フッ素やケイ素原子を含む非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤を用いたり、ワックスなどの従来公知の滑り剤を添加させる方法がある。また、バックコート層上に、更に、所望の表面エネルギーを有するポリマーを薄層塗布したり、シランカップリング剤等を塗布したりして更に層を形成し、表面エネルギーを制御してもよい。
【００１５】
感光層の組成を調整し表面エネルギーを制御する方法としては、感光層の構成成分に、フッ素含有化合物やシラン化合物などのような、記録層の表面エネルギーを低下させることを可能とする化合物を用いる方法がある。このように、感光層の構成成分自体により表面エネルギーを制御する方法に用いられる化合物としては、特願２００１−２８８５６９号明細書に記載されているフッ素系高分子化合物や、特願２００１−１９３２５１号明細書に記載されている表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂等が用いられる。特に、これらの化合物は、感光層の特性を損なわない範囲において、含有量を調節することにより、容易に表面エネルギーを制御することができる。
【００１６】
また、感光層に他の成分を添加して表面エネルギーを制御してもよい。例えば、フッ素やケイ素原子を含む非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤を用いたり、ワックスなどの従来公知の滑り剤を添加させる方法がある。更に、感光層の塗布液に、その表面において配向性を示す長鎖のアルキル基を有する化合物などを添加し、表面エネルギーを制御することもできる。更には、特願２００１−９７２９９号明細書に記載されている一般式（１）で表される化合物を添加することでも表面エネルギーを制御することもできる。これらの添加剤は、それぞれの種類の選択と含有量を調節することにより、容易に表面エネルギーを制御することができる。
【００１７】
その他、感光層の表面及び支持体裏面側の表面の両表面の表面粗さを調整することによっても表面エネルギーを制御することができる。例えば、感光層に従来公知のマット剤微粒子を添加し、感光層表面の表面粗さを調整し、表面エネルギーを制御することもできる。支持体裏面側の表面がバックコート層からなる場合でも同様の方法を用いることができる。本発明おいて、用い得るマット剤微粒子としては、少なくとも、感光層やバックコート層を形成する際の塗布液に分散するものであればよく、更に、記録層中に添加するものであるならば、現像液により溶解するようなものであればより好ましい。これらのマット剤微粒子は、種類、粒径、含有量を調節することにより、容易に表面粗さを調整することができる。
【００１８】
また、マット剤により粗面化処理（表面マット処理）を施して、表面粗さを調整してもよい。表面マット処理は、具体的には、メチルメタクリレート・エチルアクリレート・メタクリル酸ナトリウムの共重合体や、メチルメタクリレート・エチルアクリレート・２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパン酸の共重合体などのマット剤を水溶液にして、感光層やバックコート層に噴霧し、それを（加熱）乾燥させることで行われる。これらのマット剤は、種類、含有量、噴霧・乾燥条件等を調節することにより、容易に表面粗さを調整することができる。
【００１９】
更に、支持体の平滑度と、感光層やバックーコート層の厚さと、を調整することにより、表面粗さを調整することもできる。つまり、表面の粗い支持体を用い、その上に感光層を形成すると、感光層の表面は支持体の表面形状をある程度追従するため、かかる感光層の厚さを調節することにより、所望の表面粗さが得られるというものである。このような性質を利用して、表面粗さを調整し、表面エネルギーを制御することもできる。
【００２０】
＜本発明の平版印刷版原版の感光層＞
本発明の平版印刷版原版の画像形成プロセスは、赤外線レーザーを照射することにより、その照射部分に存在する赤外線吸収剤によりレーザー光が効率よく吸収され、その吸収エネルギーの蓄積により露光部分のみが発熱して酸を発生する。この発生した酸により共存する架橋剤が架橋反応を起こし、露光部のみがアルカリ水に不溶性となって像を形成する一方、非露光部ではアルカリ現像処理により現像除去されて、所望の画像が形成される。
以下、本発明の平版印刷版原版の感光層を構成する各成分について詳細に説明する。
【００２１】
［（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物］
本発明において使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー等が挙げられる。
前記ノボラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。
中でも、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−又はｍ−／ｐ−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂等が好ましい。
【００２２】
前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜２０００００で、数平均分子量が４００〜６０，０００のものが好ましい。
【００２３】
また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシアリール基としては、ＯＨ基が１以上結合したアリール基が挙げられる。
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。
【００２４】
従って、前記ヒドロキシアリール基としては、ヒドロキシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロキシフェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好ましい。
これらのヒドロキシアリール基は、更に、ハロゲン原子、炭素数２０以下の炭化水素基、炭素数２０以下のアルコキシ基、炭素数２０以下のアリールオキシ基等の置換基を有していてもよい。
前記ヒドロキシアリール基は、ポリマーを構成する主鎖に側鎖としてペンダント状に結合しているが、主鎖との間に連結基を有していてもよい。
【００２５】
本発明に使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位のうちのいずれか１種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００２６】
【化１】
2004117553.tif 000004
【００２７】
一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）中、Ｒ１１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ１２及びＲ１３は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１０以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ基又は炭素数１０以下のアリールオキシ基を表す。また、Ｒ１２とＲ１３が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサン環を形成していてもよい。Ｒ１４は、単結合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１５は、単結合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１６は、単結合又は炭素数１０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｘ１は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合又はアミド結合を表す。ｐは、１〜４の整数を表す。ｑ及びｒは、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
【００２８】
以下に、前記一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位の具体例を挙げるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００２９】
【化２】
2004117553.tif 000005
【００３０】
【化３】
2004117553.tif 000006
【００３１】
【化４】
2004117553.tif 000007
【００３２】
【化５】
2004117553.tif 000008
【００３３】
【化６】
2004117553.tif 000009
【００３４】
前記構成単位よりなるポリマーは、従来公知の方法の中から適宜選択して、合成することができる。
一般式（ＩＸ）で表される構成単位を有するポリマーは、例えば、ヒドロキシ基が酢酸エステル或いはｔ−ブチルエーテルとして保護された、対応するスチレン誘導体を、ラジカル重合若しくはアニオン重合してポリマーとした後、脱保護することにより得ることができる。
一般式（Ｘ）で表される構成単位を有するポリマーは、例えば、特開昭６４−３２２５６号、同６４−３５４３６号の各公報に記載の方法により合成することができる。
一般式（ＸＩ）で表される構成単位を有するポリマーは、例えば、ヒドロキシ基を有するアミン化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマーを得た後、ラジカル重合してポリマーとすることにより得ることができる。
一般式（ＸＩＩ）で表される構成単位を有するポリマーは、例えば、クロロメチルスチレンやカルボキシスチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類を原料として、一般式（ＸＩＩ）に対応するモノマーへ誘導し、更にラジカル重合してポリマーとすることにより得ることができる。
【００３５】
本発明においては、一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位のみからなるホモポリマーであってもよいが、他の構成単位を含む共重合体であってもよい。
前記他の構成単位としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーに由来する構成単位が挙げられる。
【００３６】
前記アクリル酸エステル類としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又はｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。
【００３７】
前記メタクリル酸エステル類としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙げられる。
【００３８】
前記アクリルアミド類としては、例えば、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
【００３９】
前記メタクリルアミド類としては、例えば、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。
【００４０】
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。
【００４１】
前記モノマーの中でも、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルが好ましい。
【００４２】
前記モノマーを用いた共重合体中に含まれる、一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位の割合としては、５〜１００重量％が好ましく、１０〜１００重量％がより好ましい。
【００４３】
側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーの分子量としては、重量平均分子量で４０００以上が好ましく、１万〜３０万がより好ましい。また、数平均分子量としては、１０００以上が好ましく、２０００〜２５万がより好ましい。更に、多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）としては、１以上が好ましく、１．１〜１０がより好ましい。
【００４４】
側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、中でも、ランダムポリマーが好ましい。
【００４５】
本発明で使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物は、１種類のみで使用してもよいし、２種類以上を組合わせて使用してもよい。
アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量としては、感光層の全固形分に対し５〜９５重量％が好ましく、１０〜９５重量％がより好ましく、２０〜９０重量％が最も好ましい。
アルカリ水可溶性樹脂の添加量が、５重量％未満であると、感光層の耐久性が劣化することがあり、９５重量％を超えると、画像形成されないことがある。
【００４６】
［（Ｂ）赤外線吸収剤］
赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有しており、発生した熱により後述の（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物が分解して酸を発生させる。
本発明において使用可能な赤外線吸収剤としては、波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収しうる染料又は顔料が好ましく、波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの領域に吸収極大を有する染料又は顔料がより好ましい。
【００４７】
前記染料としては、市販の染料又は文献（例えば、「染料便覧」，有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載の公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
中でも、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載のシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載のメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載のナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載のスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン染料等が好ましい。
【００４８】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等、特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に記載のピリリウム化合物等も好ましい。
更に、米国特許第４，７５６，９９３号明細書に記載の式（Ｉ）、（ＩＩ）で表される近赤外吸収染料も好適なものとして挙げることができる。
上記のうち、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体がより好ましい。
【００４９】
前記顔料としては、市販の顔料又はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載の顔料が挙げられ、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が挙げられる。
【００５０】
具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。
中でも、カーボンブラックが好ましい。
【００５１】
前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよいし、表面処理を施した後に用いてもよい。
表面処理の方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。これらの表面処理の方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００５２】
前記顔料の粒径としては、０．０１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍがより好ましく、０．１μｍ〜１μｍが最も好ましい。
前記粒径が、０．０１μｍ未満であると、感光層塗布液等の分散液を調製したときの分散物の安定性が劣化することがあり、１０μｍを超えると、画像感光層の均一性が悪化することがある。
【００５３】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から適宜選択することができる。
前記分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。その詳細については、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。
【００５４】
本発明の平版印刷版原版の感光層中における、上述の染料又は顔料の含有量としては、感光層の全固形分重量に対し、０．０１〜５０重量％が好ましく、０．１〜１０重量％がより好ましく、更に染料の場合には、０．５〜１０重量％が最も好ましく、顔料の場合には、１．０〜１０重量％が最も好ましい。
前記含有量が、０．０１重量％未満であると、感度が低くなることがあり、５０重量％を超えると、平版印刷用原版とした場合の非画像部に汚れが発生することがある。
前記染料又は顔料は、他の成分と同一層に添加してもよいし、別の層を設けてそこに添加してもよい。
【００５５】
［（Ｃ）光又は熱により酸を発生する化合物］
本発明において、光又は熱により分解して酸を発生する化合物（以下、「酸発生剤」という場合がある。）は、２００〜５００ｎｍの波長領域の光を照射する又は１００℃以上に加熱することにより、酸を発生する化合物をいう。
【００５６】
前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。
【００５７】
例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ　ｅｔ　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、同Ｒｅ２７，９９２号の各明細書、特開平４−３６５０４９号に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ　ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ，Ｃｕｒｉｎｇ　ＡＳＩＡ，ｐ４７８　Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、
【００５８】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆　Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第５，０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
【００５９】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同４，９３３，３７７号、同４，４９１，６２８号、同５，０４１，３５８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩、
【００６０】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ　ＡＳＩＡ，ｐ４７８　Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、
【００６１】
米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号に記載の有機ハロゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅｒ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４），２６（１９８６），Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌｅｔ　ａｌ，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９，３００７（１９８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，１９（１２），３７７（１８９６）、特開平２−１６１４４５号公報に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、
【００６２】
Ｓ．Ｈａｙａｓｅ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，２５，７５３（１９８７）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚｈｕ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ　Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，８５，３９，３１７（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔ　ｅｔ　ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．，（２４）２２０５（１９７３）、
【００６３】
Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．３５７１（１９６５）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ　Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．Ｒｕｄｉｎｓｔｅｉｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７５）、Ｊ．Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、Ｓ．Ｃ．Ｂｕｓｍａｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８５）、Ｈ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２（１９７２）、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１８，１７９９（１９８５）、
【００６４】
Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｓｏｌｉｄ　Ｓｔａｔｅ　Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１３０（６）、Ｆ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、欧州特許第０２９０，７５０号、同０４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０１，７１０号、同４，１８１，５３１号の各明細書、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号に記載のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、
【００６５】
Ｍ．Ｔｕｎｏｏｋａ　ｅｔ　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ　Ｊａｐａｎ，３８（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ　ｅｔ　ａｌ，ＣｏａｔｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌ．，５５（６９７），４５（１９８３）、Ａｋｚｏ，Ｈ．Ａｄａｃｈｉ　ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０５号、同４，４３１，７７４号の各明細書、特開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号に記載のイミノスルフォネート等に代表される、光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５４４号に記載のジスルホン化合物を挙げることができる。
【００６６】
また、これら酸を発生する基又は化合物を、ポリマーの主鎖若しくは側鎖に導入した化合物も好適に挙げることができ、例えば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏｕｓｅｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０４，５５８６（１９８２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８６）、Ｓ．Ｋｏｎｄｏ　ｅｔ　ａｌ．　Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，ＲａｐｉｄＣｏｍｍｕｎ．，９，６２５（１９８８）、Ｙ．Ｙａｍａｄａ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１５２，１５３，１６３（１９７２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ．Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，３８４５（１９７９）、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３，９１４，４０７号の各明細書、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３７号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記載の化合物が挙げられる。
【００６７】
更に、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａｄ　ｅｔ　ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，．（Ｃ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号の各明細書等に記載の、光により酸を発生する化合物も使用可能である。
【００６８】
上述の酸発生剤のうち、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物が好ましい。
【００６９】
【化７】
2004117553.tif 000010
【００７０】
前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。Ｒ３は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１０以下の炭化水素基又は炭素数１０以下のアルコキシ基を表す。Ａｒ１、Ａｒ２は、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。ｎは、０〜４の整数を表す。
【００７１】
前記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、炭素数１〜１４の炭化水素基が好ましい。
前記炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基；アリル基、ビニル基、１−メチルビニル基、２−フェニルビニル基等のアルケニル基；ベンジル基等のアラルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基等が挙げられる。
これらの炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有していてもよい。
【００７２】
前記置換基を有する炭化水素基としては、例えば、トリフルオロメチル基、クロロエチル基、２−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メトキシフェニルビニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、９，１０−ジメトキシアントラセニル基等が挙げられる。
【００７３】
式中、Ｒ３は、ハロゲン原子；置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基等の炭素数１０以下の炭化水素基又は炭素数１０以下のアルコキシ基を表す。
具体的には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基等の炭化水素基；２−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基等の置換基を有する炭化水素基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基が挙げられる。
また、ｎが２以上の場合、隣接する２個のＲ３は互いに結合し縮環していてもよい。
【００７４】
前記式中、Ａｒ１、Ａｒ２は、同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表し、中でも、炭素数６〜１４のアリール基が好ましい。
具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、クロロナフチル基、メトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、エトキシナフチル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、ニトロナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
【００７５】
前記式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表し、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アラルキレン基、アリーレン基が挙げられる。
具体的には、エチニレン基、１，２−シクロヘキセニレン基、１，２−フェニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、４−ニトロ−１，２−フェニレン基、４−メチル−１，２−フェニレン基、４ーメトキシ−１，２−フェニレン基、４−カルボキシ−１，２−フェニレン基、１，８−ナフタレニレン基等が挙げられる。
式中、ｎは、０〜４の整数を表し、ｎが０の場合には、Ｒ３は存在せず、水素原子が結合していることを表す。
【００７６】
前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される酸発生剤のうち、本発明においては、以下に挙げる化合物が好ましい。
尚、これらの化合物は、例えば、特開平２−１０００５４号、特開平２−１０００５５号に記載の方法により合成することができる。
【００７７】
【化８】
2004117553.tif 000011
【００７８】
【化９】
2004117553.tif 000012
【００７９】
【化１０】
2004117553.tif 000013
【００８０】
【化１１】
2004117553.tif 000014
【００８１】
【化１２】
2004117553.tif 000015
【００８２】
【化１３】
2004117553.tif 000016
【００８３】
【化１４】
2004117553.tif 000017
【００８４】
【化１５】
2004117553.tif 000018
【００８５】
【化１６】
2004117553.tif 000019
【００８６】
【化１７】
2004117553.tif 000020
【００８７】
【化１８】
2004117553.tif 000021
【００８８】
また、（Ｃ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物として、ハロゲン化物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げることができ、中でも、下記一般式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げることができる。
【００８９】
【化１９】
2004117553.tif 000022
【００９０】
前記一般式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）中、Ｘ−は、ハロゲン化物イオン、ＣｌＯ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＢＦ４−又はＲ７−ＳＯ３−を表し、ここで、Ｒ７は、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。Ａｒ３、Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０は、置換基を有していてもよい炭素数１８以下の炭化水素基を表す。
【００９１】
前記Ｘ−としては、Ｒ７−ＳＯ３−が好ましい。
Ｒ７で表される炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基；ビニル基、１−メチルビニル基、２−フェニルビニル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基が挙げられる。
【００９２】
前記炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基等の置換基を有していてもよい。
【００９３】
従って、Ｒ７で表される、置換基を有する炭化水素基としては、トリフルオロメチル基、２−メトキシエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチル基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアントラセニル基、アントラキノニル基等が挙げられる。
【００９４】
式中、Ａｒ３、Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表し、具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、アニリノフェニル基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホリノフェニル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナフチル基、ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、アントラキノニル基等が挙げられる。
【００９５】
式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１８以下の炭化水素基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、ｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等の炭化水素基、２−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェニルチオフェニル基、ヒドロキシナフチル基、メトキシナフチル基、ベンゾイルメチル基、ナフトイルメチル基等が挙げられる。
また、Ｒ８及びＲ９が互いに縮合して環を形成していてもよい。
【００９６】
前記一般式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）で表されるオニウム塩のカチオン部としては、ヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニウムイオンが挙げられる。
以下に、前記オニウム塩のカチオン部の具体例を示すが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００９７】
【化２０】
2004117553.tif 000023
【００９８】
【化２１】
2004117553.tif 000024
【００９９】
【化２２】
2004117553.tif 000025
【０１００】
【化２３】
2004117553.tif 000026
【０１０１】
【化２４】
2004117553.tif 000027
【０１０２】
一方、前記オニウム塩のカウンターアニオンとしては、スルホネートイオンが好ましく、以下に、その具体例を示すが、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
１）メタンスルホネート、
２）エタンスルホネート、
３）１−プロパンスルホネート、
４）２−プロパンスルホネート、
５）ｎ−ブタンスルホネート、
６）アリルスルホネート、
７）１０−カンファースルホネート、
８）トリフルオロメタンスルホネート、
９）ペンタフルオロエタンスルホネート、
１０）ベンゼンスルホネート、
【０１０３】
１１）ｐ−トルエンスルホネート、
１２）３−メトキシベンゼンスルホネート、
１３）４−メトキシベンゼンスルホネート、
１４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、
１５）４−クロロベンゼンスルホネート、
１６）３−ニトロベンゼンスルホネート、
１７）４−ニトロベンゼンスルホネート、
１８）４−アセチルベンゼンスルホネート、
１９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、
２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、
２１）メシチレンスルホネート、
２２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネート、
２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネート、
２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、
２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、
２６）１−ナフタレンスルホネート、
２７）２−ナフタレンスルホネート、
２８）２−ナフトール−６−スルホネート、
２９）２−ナフトール−７−スルホネート、
３０）アントラキノン−１−スルホネート、
【０１０４】
３１）アントラキノン−２−スルホネート、
３２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホネート、
３３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、
３４）キノリン−８−スルホネート、
３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、
３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート
等が挙げられる。
【０１０５】
更に、
４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、
４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、
４３）１、５−ナフタレンジスルホネート、
４４）２、６−ナフタレンジスルホネート、
４５）２、７−ナフタレンジスルホネート、
４６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、
４７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、
４８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、
４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジスルホネート、
５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジスルホネート、
等のジスルホネート類とオニウム塩カチオン２当量との塩も使用可能である。
【０１０６】
上述のオニウム塩スルホネートは、対応するＣｌ−　塩等を、スルホン酸、スルホン酸ナトリウム又はカリウム塩とともに水中、或いは、アルコール等の親水性溶媒と水との混合溶媒中で混ぜ合わせて塩交換を行うことにより得ることができる。
【０１０７】
オニウム塩の合成は、既知の方法で行うことができ、例えば、丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の２・３章（ｐ．４４８）、１４−ＩＩＩ　巻の８・１６章（ｐ．１８３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、Ｊ．Ｗ．Ｋｎａｐｃｚｙｋ他、ジャーナル　オブ　アメリカン　ケミカルソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）９１巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙｃｏｋ他、ジャーナルオブ　オーガニック　ケミストリィ（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）３５巻、２５３２（１９７０）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、ポリマー　ケミストリィ　エディション（Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．）１８巻、２６７７（１９８０）、米国特許第２，８０７，６４８号、同４，２４７，４７３号の各明細書、特開昭５３−１０１３３１号、特公平５−５３１６６号等に記載の方法により合成することができる。
【０１０８】
本発明で酸発生剤として好適に使用されるオニウム塩スルホネートとしては、具体的には、以下に挙げるものが好ましい。
【０１０９】
【化２５】
2004117553.tif 000028
【０１１０】
【化２６】
2004117553.tif 000029
【０１１１】
【化２７】
2004117553.tif 000030
【０１１２】
【化２８】
2004117553.tif 000031
【０１１３】
【化２９】
2004117553.tif 000032
【０１１４】
【化３０】
2004117553.tif 000033
【０１１５】
【化３１】
2004117553.tif 000034
【０１１６】
【化３２】
2004117553.tif 000035
【０１１７】
【化３３】
2004117553.tif 000036
【０１１８】
【化３４】
2004117553.tif 000037
【０１１９】
【化３５】
2004117553.tif 000038
【０１２０】
【化３６】
2004117553.tif 000039
【０１２１】
酸発生剤の添加量としては、感光層の全固形分重量に対し０．０１〜５０重量％が好ましく、０．１〜２５重量％がより好ましく、０．５〜２０重量％が最も好ましい。
前記添加量が、０．０１重量％未満であると、画像が得られないことがあり、５０重量％を超えると、平版印刷用原版とした時の印刷時において非画像部に汚れが発生することがある。
上述の酸発生剤は単独で使用してもよいし、２種以上を組合わせて使用してもよい。
【０１２２】
［（Ｄ）酸により架橋する架橋剤］
次に、酸により架橋する架橋剤（以下、単に「架橋剤」という。）について説明する。
前記架橋剤としては、以下のものが挙げられる。
（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物
（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物
（ｉｉｉ）　エポキシ化合物
【０１２３】
以下、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の化合物について詳述する。
前記（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物は含まない。
前記レゾール樹脂は、架橋性には優れるものの、熱安定性が十分でないため、特に、感光性材料に含有させて高温下に長期間保存した場合、均一に現像を行うことができない点で好ましくない。
【０１２４】
ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中でも、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。
また、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が炭素数１８以下の化合物が好ましく、下記一般式（１）〜（４）で表される化合物がより好ましい。
【０１２５】
【化３７】
2004117553.tif 000040
【０１２６】
【化３８】
2004117553.tif 000041
【０１２７】
前記一般式（１）〜（４）中、Ｌ１〜Ｌ８は、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチル等の、炭素数１８以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。
これらの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。
前記架橋剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組合わせて用いてもよい。
【０１２８】
（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物としては、欧州特許公開（以下、「ＥＰ−Ａ」と示す。）第０，１３３，２１６号、西独特許第３，６３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ第０，２１２，４８２号明細書に記載のアルコキシ置換化合物等が挙げられる。
中でも、例えば、少なくとも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、Ｎ−アルコキシメチル誘導体が最も好ましい。
【０１２９】
（ｉｉｉ）　エポキシ化合物としては、１以上のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。
その他、米国特許第４，０２６，７０５号、英国特許第１，５３９，１９２号の各明細書に記載され、使用されているエポキシ樹脂を挙げることができる。
【０１３０】
架橋剤として、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の化合物を用いる場合の添加量としては、感光層の全固形分重量に対し５〜８０重量％が好ましく、１０〜７５重量％がより好ましく、２０〜７０重量％が最も好ましい。
前記添加量が、５重量％未満であると、得られる感光層の耐久性が低下することがあり、８０重量％を超えると、保存時の安定性が低下することがある。
【０１３１】
本発明においては、架橋剤として、（ｉｖ）下記一般式（５）で表されるフェノール誘導体も好適に使用することができる。
【０１３２】
【化３９】
2004117553.tif 000042
【０１３３】
前記一般式（５）中、Ａｒ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表す。
原料の入手性の点で、前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。また、その置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２以下の炭化水素基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素数１２以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基等が好ましい。
上記のうち、高感度化が可能である点で、Ａｒ１としては、置換基を有していないベンゼン環、ナフタレン環、或いは、ハロゲン原子、炭素数６以下の炭化水素基、炭素数６以下のアルコキシ基、炭素数６以下のアルキルチオ基又はニトロ基等を置換基として有するベンゼン環又はナフタレン環がより好ましい。
【０１３４】
前記一般式（５）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、中でも、合成が容易であるという観点から、水素原子又はメチル基が好ましい。
また、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、高感度化が可能である点で、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等の炭素数７以下の炭化水素基が好ましい。
ｍは、２〜４の整数を表し、ｎは、１〜３の整数を表す。
【０１３５】
前記一般式（５）で表されるフェノール誘導体の具体例を以下に示す（架橋剤［ＫＺ−１］〜［ＫＺ−８］）が、本発明においては、これらに制限されるものではない。
【０１３６】
【化４０】
2004117553.tif 000043
【０１３７】
【化４１】
2004117553.tif 000044
【０１３８】
前記フェノール誘導体は、従来公知の方法により合成することができる。
例えば、前記例示の［ＫＺ−１］は、フェノールと、ホルムアルデヒドと、ジメチルアミンやモルホリン等の２級アミンとを反応させ、トリ（ジアルキルアミノメチル）フェノールとし、次に無水酢酸と反応させ、更に炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下でエタノールと反応させることにより、下記反応式［１］に表す経路の合成方法により合成することができる。
【０１３９】
【化４２】
2004117553.tif 000045
【０１４０】
また、別の方法によっても合成することができる。
例えば、前記例示の［ＫＺ−１］は、フェノールとホルムアルデヒド又はパラホルムアルデヒドを、ＫＯＨ等のアルカリ存在下で反応させて２，４，６−トリヒドロキシメチルフェノールとし、引き続き硫酸等の酸の存在下でエタノールと反応させることにより、下記反応式［２］に表す経路の合成方法により合成することができる。
【０１４１】
【化４３】
2004117553.tif 000046
【０１４２】
前記フェノール誘導体は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組合わせて用いてもよい。
前記フェノール誘導体を合成する際に、フェノール誘導体同士が縮合して２量体や３量体等の不純物を副生成する場合があるが、本発明においては、これらの不純物を含有したまま使用してもよい。尚、前記不純物の含有量としては、３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましい。
【０１４３】
前記フェノール誘導体の添加量としては、感光層の全固形分重量に対し５〜７０重量％が好ましく、１０〜５０重量％がより好ましい。
前記添加量が、５重量％未満であると、画像記録した際の画像部の膜強度が低下することがあり、７０重量％を越えると、保存時の安定性が劣化することがある。
【０１４４】
［その他の成分］
本発明においては、必要に応じて、前記（Ａ）〜（Ｄ）以外に、後述の種々の化合物を添加することもできる。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を、画像の着色剤として使用することができる。
前記着色剤としては、例えば、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等、或いは、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載の染料等を挙げることができる。
【０１４５】
これらの染料を添加することにより、画像形成後の画像部と非画像部の区別が明瞭となり、高コントラストな画像とすることができることから添加する方が好ましい。その添加量としては、感光層の全固形分重量に対し、０．０１〜１０重量％が好ましい。
【０１４６】
現像時の現像条件に対する処理安定性を高める目的で、特開昭６２−２５１７４０号、特開平３−２０８５１４号に記載の非イオン界面活性剤や特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載の両性界面活性剤を添加することができる。
【０１４７】
前記非イオン界面活性剤としては、例えば、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
【０１４８】
前記両性界面活性剤としては、例えば、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（商品名：アモーゲンＫ，第一工業（株）製等）等が挙げられる。
【０１４９】
前記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感光層中への添加量としては、感光層の全固形分重量に対し０．０５〜１５重量％が好ましく、０．１〜５重量％がより好ましい。
【０１５０】
また、感光層を支持体上に塗布する場合には、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等を付与する目的で、可塑剤を添加することもできる。
前記可塑剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が挙げられる。
【０１５１】
本発明の平版印刷用原版は、通常、前述の各種成分（即ち、前記成分（Ａ）〜（Ｄ）及びその他の成分等）を溶媒に溶解し、塗布液の状態（以下、「感光層用塗布液」という場合がある。）にし、所望の支持体上に塗布、乾燥して感光層を塗設することにより作製することができる。
前記溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等が挙げられる。但し、本発明においては、これに限定されるものではない。これらの溶媒は、１種単独又は混合して使用することができる。
【０１５２】
溶媒中における前述の各種成分（即ち、前記成分（Ａ）〜（Ｄ）及びその他の成分等）の全固形分濃度としては、塗布液状の感光層の全重量に対し１〜５０重量％が好ましい。
【０１５３】
前記各種成分を有する感光層用塗布液を支持体上に塗布する場合、塗布、乾燥後の固形分塗布量としては、用途により異なるが、平版印刷用原版を作製する場合には、一般に、０．５〜５．０ｇ／ｍ２が好ましい。
塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光層の被膜特性は低下することがある。
【０１５４】
支持体上に、感光層用塗布液を塗布する方法としては、公知の塗布方法の中から適宜選択して用いることができ、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
【０１５５】
本発明における感光層には、塗布性を良化する目的で、界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号に記載のフッ素系界面活性剤を添加することができる。
前記界面活性剤の添加量としては、感光層の全固形分重量に対し０．０１〜１重量％が好ましく、０．０５〜０．５重量％がより好ましい。
【０１５６】
＜支持体＞
本発明の平版印刷版原版において用いられる支持体としては、寸度的に安定な板状物が好ましく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のような金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１５７】
中でも、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、寸法安定性に優れ、比較的安価である点でアルミニウム板がより好ましい。前記アルミニウム板の中でも、純アルミニウム板、又はアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、或いは、アルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムが最も好ましい。
【０１５８】
前記アルミニウム合金に含まれる異元素としては、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等が挙げられる。
前記合金中における異元素の含有量としては、総量で１０重量％以下であることが好ましく、従って、純アルミニウムを使用することがより好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは、精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものであってもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜利用することができる。
支持体として用いる前記アルミニウム板の厚みとしては、０．１〜０．６ｍｍが好ましく、０．１５〜０．４ｍｍがより好ましく、０．２〜０．３ｍｍが最も好ましい。
【０１５９】
前記アルミニウム板は、その表面を粗面化した後に使用することが好ましい。粗面化するに先立ち、所望によりアルミニウム板表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理を行うこともできる。
アルミニウム板表面の粗面化処理としては、種々の方法の中から適宜選択して用いることができ、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解して粗面化する方法又は化学的に表面を選択的に溶解させて粗面化する方法が挙げられる。
前記機械的に粗面化する方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法が挙げられる。
前記電気化学的に粗面化する方法としては、塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。
また、特開昭５４−６３９０２号に記載のようにそれら両者を組合わせた方法も挙げることができる。
【０１６０】
粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じて、アルカリエッチング処理や中和処理を施した後、表面の保水性や耐摩耗性を高める目的で陽極酸化処理が施される。
前記陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化被膜を形成する種々の電解質が挙げられ、一般的には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。前記電解質の濃度は、電解質の種類によって適宜決められる。
【０１６１】
前記陽極酸化処理の条件としては、用いる電解質により種々変わるので一概に特定することができないが、一般的には、電解質濃度１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ２、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分が適当である。陽極酸化被膜の被膜量としては、１．０ｇ／ｍ２以上が好ましい。
前記被膜量が、１．０ｇ／ｍ２未満であると、十分な耐膜性が得られず、非画像部に傷が付き易くなったり、特に平版印刷用原版の場合には、印刷時に傷の部分にインキが付着する、いわゆる「傷汚れ」が生じ易くなることがある。
【０１６２】
陽極酸化処理を施した後、アルミニウム板表面は、必要に応じて、親水化処理が施される。
前記親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、同第３，２８０，７３４号、同第３，９０２，７３４号に記載のアルカリ金属シリケート（例えば、ケイ酸ナトリウム水溶液）法が挙げられる。この方法では、アルミニウム板は、ケイ酸ナトリウム水溶液中に浸漬するか、或いは、電解処理される。
他に、特公昭３６−２２０６３号に記載のフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号に記載のポリビニルホスホン酸を用いて処理する方法等も挙げることができる。
【０１６３】
＜その他の層＞
本発明の平版印刷用原版は、支持体上に感光層を塗設することにより作製することができるが、前記感光層の形成前に、必要に応じて、支持体上に下塗り層を設けることもできる。
下塗り層に用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸；置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸；置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸；グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類；トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩等が挙げられる。
前記有機化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、前述したジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様である。
【０１６４】
前記下塗り層の塗布量としては、２〜２００ｍｇ／ｍ２が好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ２がより好ましい。前記塗布量が、２ｍｇ／ｍ２未満であると、十分な膜性が得られないことがある。一方、２００ｍｇ／ｍ２を超えて塗布しても、それ以上の効果を得ることはできない。
【０１６５】
前記下塗り層は、下記方法により設けることができる。
即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアルミニウム板等の支持体上に塗布、乾燥して設ける方法、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板等の支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、その後水等で洗浄、乾燥して設ける方法、である。
【０１６６】
前者では、前記有機化合物の０．００５〜１０重量％濃度の下塗り層用溶液を用いることが好ましい。
一方、後者では、下塗り層用溶液の前記有機化合物の濃度としては、０．０１〜２０重量％が好ましく、０．０５〜５重量％がより好ましい。また、浸漬温度としては、２０〜９０℃が好ましく、２５〜５０℃がより好ましい。浸漬時間としては、０．１〜２０分が好ましく、２秒〜１分がより好ましい。
【０１６７】
前記下塗り層用溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や塩酸、リン酸等の酸性物質を用いて、ｐＨ１〜１２の範囲に調整することもできる。
また、本発明の平版印刷用原版を作製する場合には、下塗り層中に調子再現性改良を目的として黄色染料を添加することもできる。
【０１６８】
（バックコート層）
本発明の平版印刷版原版には、支持体の裏面に、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。また、支持体がアルミニウム板の場合、例えば、アルカリ現像液へのアルミニウムの溶出を防ぐために、支持体裏面に種々の有機高分子を塗設し、バックコート層とすることもできる。また、バックコート層は、特開平８−２４０９１４号公報等に記載の有機金属化合物又は無機金属化合物を溶媒中で触媒により加水分解及び重縮合させて得られるゾルゲル反応液、有機高分子化合物及び可塑剤を含む塗布液を塗設することによっても形成されてもよい。更に、バックコート層には、必要に応じ、市販の滑り剤や微粒子を混合させることもできる。
【０１６９】
＜記録（露光）及び現像＞
本発明の平版印刷用原版は、赤外線レーザーで記録することができる他、紫外線ランプによる記録やサーマルヘッド等による熱的な記録も可能である。
前記赤外線レーザーとしては、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を放射するレーザーが好ましく、同波長範囲の赤外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーがより好ましい。
【０１７０】
本発明においては、露光後すぐに現像処理を行ってもよいが、露光工程と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理の条件としては、温度６０〜１５０℃下で、５秒〜５分間とすることが好ましい。
前記加熱処理としては、従来公知の種々の方法の中から適宜選択することができる。具体的には、パネルヒーターやセラミックヒーターにより感光層を接触させながら加熱する方法、ランプや温風により非接触での加熱方法等が挙げられる。
前記加熱処理を施すことにより、照射するレーザーの、画像記録に必要なレーザーエネルギー量の低減を図ることができる。
前記加熱処理を施した後、水又はアルカリ性の水溶液を現像液として用いることにより現像処理される。
【０１７１】
前記現像処理に用いるアルカリ性の水溶液及びその補充液としては、従来より公知のアルカリ水溶液の中から選択することができる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第３リン酸ナトリウム、第３リン酸カリウム、第３リン酸アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、第２リン酸カリウム、第２リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の無機アルカリ塩、
【０１７２】
モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤、
を挙げることができる。
前記無機アルカリ塩及び有機アルカリ剤は、１種単独で用いても、２種以上を組合わせて用いてもよい。
【０１７３】
前記無機アルカリ塩及び有機アルカリ剤を用いた現像液としては、例えば、特開昭５４−６２００４号、特公昭５７−７４２７号に記載のアルカリ金属ケイ酸塩等の、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液を好適に挙げることができる。これは、ケイ酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ２とアルカリ金属酸化物Ｍ２Ｏ（Ｍは、アルカリ金属を表す。）との混合比率と濃度の調整により、現像性を容易に調節することができる。
【０１７４】
近年、特に製版・印刷業界においては、製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。
この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用原版を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷用原版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。
【０１７５】
この場合、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液を補充液として現像液中に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できる。本発明においても、この補充方式を採用することが好ましい態様である。
【０１７６】
現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。
前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系又は両性界面活性剤が好ましく、前記有機溶剤としては、ベンジルアルコール等が好ましい。また、ポリエチレングリコール若しくはその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくはその誘導体等の添加も好ましい。
【０１７７】
更に、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナトリウム塩若しくはカリウム塩等の無機塩系還元剤、有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
【０１７８】
前記界面活性剤、有機溶剤、還元剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭５１−７７４０１号に記載の、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭５３−４４２０２号に記載の、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特開昭５５−１５５３５５号に記載の、水に対する溶解度が常温下で１０重量％以下の有機溶剤、アルカリ剤、及び水からなる現像液組成物等を好適に挙げることができる。
【０１７９】
前記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水や界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。この後処理には、これらの処理液を種々組合わせて用いることができる。
【０１８０】
また、実質的に未使用の処理液で処理する、いわゆる使い捨て処理方式も適用可能である。
【０１８１】
前記のようにして得られた本発明の平版印刷版では、所望により不感脂化ガムを塗布した後、印刷工程に供することができる。より一層耐刷力を向上させる目的で、更にバーニング処理を施すこともできる。
平版印刷版をバーニング処理する場合には、バーニング処理前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載の整面液で処理することが好ましい。
その処理方法としては、前記整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、整面液を平版印刷版上に塗布する方法、整面液を満たしたバット中に平版印刷版を浸漬する方法、自動コーターによる塗布方法等が挙げられる。
また、塗布後にスキージ又はスキージローラーを用いて、その塗布量を均一化することも好ましい。
前記整面液の塗布量としては、一般に、塗布、乾燥後の固形分量で０．０３〜０．８ｇ／ｍ２が好ましい。
【０１８２】
平版印刷版に整面液を塗布、乾燥した後、必要に応じて、バーニングプロセッサー（例えば、ＢＰ−１３００，富士写真フイルム（株）製）等を用いて高温に加熱される。該加熱温度及び時間としては、画像を形成する含有成分の種類によるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分が好ましい。
【０１８３】
バーニング処理が施された平版印刷版は、必要に応じて、適宜水洗、ガム引き等の、従来より行われている処理を施こすこともできる。但し、水溶性高分子化合物等を含有する整面液を使用した場合には、ガム引き等のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に使用することができる。
【０１８４】
【実施例】
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。
【０１８５】
（実施例１）
厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０）を、トリクロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−水懸濁液を用い、その表面を砂目立てし、よく水で洗浄した。
このアルミニウム板を２５％水酸化ナトリウム水溶液（４５℃）中に９秒間浸漬し、エッチングを行い水洗した後、更に２％ＨＮＯ３水溶液中に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は、約３ｇ／ｍ２であった。
【０１８６】
次いで、電解質溶液に７％硫酸を用い、電流密度１５Ａ／ｄｍ２により、前記アルミニウム板上に３ｇ／ｍ２の直流陽極酸化被膜を設け、更に水洗、乾燥した後、下記下塗り層用溶液を塗布し、８０℃雰囲気下で３０秒間乾燥した。乾燥塗布量は、１０ｍｇ／ｍ２であった。
【０１８７】
＜下塗り層用溶液の調製＞
下記組成の化合物を混合し、下塗り層用溶液を調製した。
・２−アミノエチルホスホン酸　　　　　　　　　　　　　・・・０．５ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・４０ｇ
・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・６０ｇ
【０１８８】
＜感光層用塗布液［Ｇ］の調製＞
下記の各組成の化合物を混合し、感光層用塗布液［Ｇ−１］を調製した。
（感光層用塗布液［Ｇ−１］の組成）
・含フッ素高分子化合物［Ｐ−１］　　　　　　　　　　　・・・０．０８ｇ
・下記酸発生剤［ＳＨ−１］　　　　　　　　　　　　　　・・・０．２ｇ
・下記架橋剤［ＫＺ−１０］　　　　　　　　　　　　　　・・・０．６ｇ
・アルカリ水可溶性高分子化合物［ＢＰ−１］　　　　　　・・・１．４ｇ
・下記赤外線吸収色素［ＩＫ−１］　　　　　　　　　　　・・・０．２ｇ
・ビクトリアピュアブルーの１−ナフタレンスルホン酸塩　・・・０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・３．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・１６ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　・・・８．０ｇ
【０１８９】
＜平版印刷用原版の作製＞
前記より得られた支持体上に、調製した前記感光層用塗布液［Ｇ−１］を、乾燥塗布量が１．５ｇ／ｍ２となるように塗布した後、１００℃で１分間乾燥し、実施例１の平版印刷用原版−１を得た。
得られた平版印刷版原版−１の感光層の表面と、支持体裏面側の表面と、の前記一般式（Ｉ）から導き出される表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差を測定したところ、１５ｄｙｎ／ｃｍであった。
【０１９０】
前記感光層用塗布液［Ｇ−１］に用いた、前記含フッ素高分子化合物［Ｐ−１］、前記酸発生剤［ＳＨ−１］、前記架橋剤［ＫＺ−１０］及び前記赤外線吸収剤［ＩＫ−１］の構造を下記に示す。なお、含フッ素高分子化合物［Ｐ−１］は、含フッ素高分子化合物中の全炭素原子重量に対する芳香族環基に占める全炭素（芳香族環基の芳香環を構成する炭素）原子重量の比率が１８．１％のものである。
【０１９１】
【化４４】
2004117553.tif 000047
【０１９２】
【化４５】
2004117553.tif 000048
【０１９３】
＜接着性テスト１＞
上記より得られた平版印刷用原版−１を１０×１０ｃｍに切り取り、合紙なしで１００枚積層した。その積層体を万力を用い２０ｋｇ／ｍ２の圧力がかかるように締め、室温で１週間放置した。放置後、万力を外し、平版印刷用原版［Ｇ−１］の表面及び裏面を観察したが、接着の痕跡は見られなかった。
【０１９４】
＜接着性テスト２＞
上記より得られた平版印刷用原版−１（４０×６０ｃｍ）を合紙なしで１００枚積層し、室温で１週間放置した。放置後、積層体の下方から２枚目に当たる版を取り出し、赤外線露光機（Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＭＴ，Ｃｒｅｏ社製）により、照射エネルギー１３３ｍＪ／ｃｍ２で、５０％の平網画像を露光した。露光後、温風加熱装置（Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎ　Ｏｖｅｎ社製）を用い、１４５℃で６０秒間加熱処理した後、現像液ＤＰ−４（１：７の水希釈液，富士写真フイルム（株）製）にて現像した。その結果、平版印刷版には鮮明な画像が得られ、接着の影響による画像欠損が皆無であった。
【０１９５】
（実施例２、３）
実施例１と同様にして、下塗り層が設けられた支持体を作製した。その支持体裏面に、実施例２では下記に示すバックコート層用塗布液［Ｂ−１］を、実施例３では下記に示すバックコート層用塗布液［Ｂ−２］を、乾燥塗布量が５０ｍｇ／ｍ２となるように塗設した。その後、下塗り層上に、実施例１と同様の感光層を設け、実施例２の平版印刷用原版−２及び実施例３の平版印刷用原版−３を得た。
得られた平版印刷版原版−２及び平版印刷版原版−３について、実施例１と同様に、感光層の表面と、支持体裏面側の表面と、の表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差を測定し、更に、接着性テスト１及び２に供した。その結果を表１に示す。
【０１９６】
（バックコート層用塗布液［Ｂ−１］の調製）
・テトラエチルシリケート　　　　　　　　　　　　・・・５０重量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・２０重量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・１０重量部
・燐酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・０．０７重量部
上記成分を混合、攪拌すると約５分で発熱した。３０分乾燥させた後、
・ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂　　　　　　・・・４重量部
（Ｍｗ：２，０００）
・ジメチルフタレート　　　　　　　　　　　　　　　・・・５重量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　・・・１０００重量部
を加え、バックコート層用塗布液［Ｂ−１］の調製した。
【０１９７】
（バックコート層用塗布液［Ｂ−２］の調製）
・テトラエチルシリケート　　　　　　　　　　　　・・・５０重量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・８０重量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・１０重量部
・燐酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・０．１重量部
上記成分を混合、攪拌すると約５分で発熱した。３０分乾燥させた後、
・レゾルシノールホルムアルデヒド縮合樹脂　　　　　・・・５重量部
（Ｍｗ：２，０００）
・ジメチルフタレート　　　　　　　　　　　　　　　・・・５重量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　・・・１０００重量部
を加え、バックコート層用塗布液［Ｂ−２］の調製した。
【０１９８】
（比較例１）
実施例２及び３において支持体裏面に塗布したバックコート層塗布液を、以下に示すバックコート層塗布液［Ｂ−３］に代えたこと以外は、実施例２及び３と同様にして、平版印刷用原版−４を得た。
得られた平版印刷版原版−４について、実施例１と同様に、感光層の表面と、支持体裏面側の表面と、の表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差を測定し、更に、接着性テスト１及び２に供した。その結果を表１に示す。
【０１９９】
【表１】
2004117553.tif 000049
【０２００】
表１に明らかなように、感光層の表面と、支持体裏面側の表面と、の表面エネルギーの水素結合性指数成分γ（Ｈ）の差が１０ｄｙｎ／ｃｍ以上である、実施例１〜３の平版印刷版原版は、接着テスト１及び２において、共に、接着の痕跡や接着に起因する画像欠損が見られなかった。
対して、比較例１の平版印刷版原版は、積層体中の平版印刷版原版の感光層の表面と支持体裏面との間に接着が見られ、剥離時に音が発生した。また、その接着に起因する画像欠損が発生していた。
【０２０１】
＜搬送性の評価＞
また、実施例２の平版印刷用原版及び比較例１の平版印刷版原版の搬送性を以下の方法で評価した。
実施例２及び比較例１のそれぞれの平版印刷版原版を、合紙をはさまない状態で、２０枚積層し、ＤＳプレートセッターに挿入し、実際にハンドリングを実施した。その結果、実施例２の平版印刷用原版を積層したものは、２０枚とも問題なくハンドリングでき、搬送不良の問題はみられなかった。一方、比較例１の平版印刷版原版の積層したものは、３回のジャミングが発生し、高い頻度で搬送不良がみられた。
【０２０２】
【発明の効果】
本発明によれば、従来より知られているサーマルネガ型熱架橋性の感光層を有する版材を合紙の挿入されない積層体の形態で、供給することを可能としつつ、製版プロセスにおけるキズの発生や搬送不良が抑制された平版印刷版原版を提供することをができる。