(57)【要約】【課題】反射率が低く、耐擦傷性と防汚性に優れ、大量生産に適し、かつ耐久性、耐候性に優れた反射防止膜及び反射防止フィルム並びにそれらを用いた画像表示装置を提供することにある。【解決手段】主鎖がパーフルオロエチレニル成分を主成分とする繰り返し単位で構成され、主鎖片末端にシリル基を結合して成る一官能性カップリング化合物と、シランカップリング剤の少なくとも１種とを含有する皮膜形成用組成物を塗設、硬化させることにより形成された低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜、及び該反射防止膜を支持体上に配した反射防止フィルム並びにそれらを用いた画像表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記一般式（Ｉ）で示される主鎖が無置換又は含フッ素置換基を有してもよいパーフルオロエチレニル基を主成分として構成され、かつ該主鎖の末端にシリル基を結合して成るカップリング化合物と、シランカップリング剤の少なくとも１種とを含有する皮膜形成用組成物を塗設、硬化させることにより形成された低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
一般式（Ｉ）
【化１】
2004117858.tif 000020
（式中、Ｒｆ０は、フッ素原子、パーフルオロアルキル基、又は「Ｏ−Ｒｆ１」基を表わす。ここで、Ｒｆ１は含フッ素脂肪族基を表わす。Ｘは、主鎖とＳｉ原子を連結する２価の有機残基を表わす。Ｒ１は、脂肪族基又はＣＯＲ１０基を表わす。但し、Ｒ１０は、炭化水素基を表わす。Ｒ２は、炭化水素基を表わす。ａは、０又は１を表わす。また、括弧はパーフルオロエチレニル基の繰り返し単位部分を表し、繰り返し単位部分の重量平均分子量は２万以下である。）
【請求項２】
請求項１に記載の反射防止膜を、透明支持体上に配置したことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１に記載の反射防止膜を配置したことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止膜ならびにそれを用いた反射防止フィルムおよび画像表示装置（特に液晶表示装置）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止膜は一般に、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するように光学製品などの表面に設置され、特に良好な視認性を求められる陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、その表示面の最表面に配置される。
【０００３】
このような反射防止膜は、通常の多くの例では、高屈折率層の上に適切な膜厚の低屈折率層を形成することにより作製できる。低屈折率層素材としては反射防止性能の観点からできる限り屈折率の低い素材が望まれ、同時にディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性及び防汚性が要求される。また低い反射率性能を発現するために膜厚の均一性も重要であり、塗布型材料においては、塗布性、レベリング性も重要なファクターになる。
【０００４】
厚さ１００ｎｍ前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、および下層への密着性を高めることが重要である。
低屈折率性を保ちながら耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、フッ素の導入、シリコーンの導入等の手段が行なわれている。これらの手段は表面張力を下げるために、レベリング性付与の効果も期待できる。低屈折率層に滑り性の含フッ素ポリマーを用いる場合には、塗布溶剤可溶化のために炭化水素系共重合成分を５０％程度導入したフッ素系材料単独では十分な滑り性が得られず、シリコーン化合物と組み合わせることが従来より行なわれてきた。中でも、膜の強度や膜表面の撥水・撥油性の保持性等から、シランカップリング剤と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜が種々提案されている。
【０００５】
例えば、特許文献１〜３には、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物と、水ガラスまたはシランカップリング剤及びコロイダルシリカとからなるガラス表面の撥水撥油膜が、また、特許文献４には、経時安定性に優れた高撥水・撥油性膜となるパーフルオロアルキル基含有シランカップリング剤とシランカップリング剤とのゾルゲル硬化のハードコート膜が開示されている。
さらに、低屈折率用硬化組成物として、フッ素含有シランカップリング剤を用いることが特許文献５〜８等に提案されている。これらの硬化膜は、フッ素含有炭化水素基が短いために長期間の使用で防汚性低下の惧れがある。
【０００６】
更には、膜表面の防汚性が長期間に渡って保持可能となる、ポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物から硬化される膜が、特許文献９〜１１等に開示されている。然し、これらの化合物はフッ素含有長鎖基ではあるものの、親水性のエーテル結合基を含有するために撥水・撥油性の効果が損なわれ、防汚性効果に限界を生じる。
一方、近年の画像表示装置は、画像面積の大版化、携帯電話等のモバイル表示装置の多用な使われ方等が著しく普及し、反射防止膜の強度、防汚耐久性等のより一層の向上が望まれている。
【０００７】
【特許文献１】特開昭５８−１４２９５８号公報
【特許文献２】特開昭５８−１４７４８３号公報
【特許文献３】特開昭５８−１４７４８４号公報
【特許文献４】特開平９−１５７５８２号公報
【特許文献５】特開平１１−６４６０３号公報
【特許文献６】特開２０００−１２１８０３号公報
【特許文献７】特開２０００−３２９９０３号公報
【特許文献８】特開２００２−１３１５０７号公報
【特許文献９】特開２０００−１１７９０２号公報
【特許文献１０】特開２００１−４８５９０号公報
【特許文献１１】特開２００２−５３８０４号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、第１に、反射率が低く、耐擦傷性と防汚性に優れた反射防止膜を提供することであり、第２に大量生産に適した塗布型の反射防止膜を提供することであり、第３に耐久性、耐候性に優れた反射防止膜を提供することであり、第４に反射が防止されたフィルムまたは画像表示装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記課題は、以下に示す（１）〜（５）の構成により達成されることが見出された。
（１）少なくとも下記一般式（Ｉ）で示される主鎖が無置換又は含フッ素置換基を有してもよいパーフルオロエチレニル基を主成分として構成され、かつ該主鎖の末端にシリル基を結合して成るカップリング化合物と、シランカップリング剤の少なくとも１種とを含有する皮膜形成用組成物を塗設、硬化させることにより形成された低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
一般式（Ｉ）
【００１０】
【化２】
2004117858.tif 000002
【００１１】
一般式（Ｉ）において、Ｒｆ０は、フッ素原子、パーフルオロアルキル基、又は「Ｏ−Ｒｆ１」基を表わす。ここで、Ｒｆ１は含フッ素脂肪族基を表わす。Ｘは、主鎖とＳｉ原子を連結する２価の有機残基を表わす。Ｒ１は、脂肪族基又はＣＯＲ１０基を表わす。但し、Ｒ１０は、炭化水素基を表わす。Ｒ２は、炭化水素基を表わす。ａは、０又は１を表わす。また、括弧はパーフルオロエチレニル基の繰り返し単位部分を表し、繰り返し単位部分の重量平均分子量は２万以下である。
【００１２】
（２）前記低屈折率層が平均粒径５〜５０ｎｍのシリカ微粒子を含有することを特徴とする上記（１）項記載の反射防止膜。
（３）　上記（１）又は（２）項に記載の反射防止膜を透明基材上に配置したことを特微とする反射防止フィルム。
（４）　前記低屈折率層と透明基材との間に、無機微粒子を含有する高屈折率層を有することを特徴とする上記（３）項に記載の反射防止フィルム。
（５）　上記（１）又は（２）項に記載の反射防止膜もしくは（３）又は（４）項記載の反射防止フィルムを配置したことを特徴とする画像表示装置。
【００１３】
本発明の反射防止膜は、低屈折率層のみからなる単層構成でもよく、また、中・高低屈折率層、ハードコート層などと積層した多層構成であってもよい。この反射防止膜は、前もって反射防止フィルムを形成してから画像表示装置に配置してもよく、また、画像表示装置などに直接（その場で）形成し配置してもよい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の反射防止膜に関して説明する。
［反射防止膜の層構成］
本発明の反射防止膜の代表的な層構成を図１を参照しながら説明する。
図１は、好ましい反射防止膜の好ましい層構成を示す断面模式図である。図１の（ａ）に示す態様は、透明支持体４、ハードコート層３、高屈折率層２、そして低屈折率層１の順序の層構成を有する。（ａ）のように、高屈折率層２と低屈折率層１とを有する反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、高屈折率層が下記式（ｉ）、低屈折率層が下記式（ｉｉ）をそれぞれ満足することが好ましい。
【００１５】
【数１】
2004117858.tif 000003
【００１６】
式（ｉ）中、ｍは正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ１は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００１７】
【数２】
2004117858.tif 000004
【００１８】
式（ｉｉ）中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、ｎ２は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００１９】
高屈折率層の屈折率ｎ１は、一般に透明フィルムより少なくとも０．０５高く、そして、低屈折率層の屈折率ｎ２は、一般に高屈折率層の屈折率より少なくとも０．１低くかつ透明フィルムより少なくとも０．０５低い。更に、高屈折率層の屈折率ｎ１は、一般に１．５７〜２．４０の範囲にある。
【００２０】
図１の（ｂ）に示す態様は、透明支持体（４）、ハードコート層（３）、中屈折率層（５）、高屈折率層（２）、そして低屈折率層（１）の順序の層構成を有する。（ｂ）のように、中屈折率層（５）、高屈折率層（２）と低屈折率層（１）とを有する反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、中屈折率層が下記式（ｉｉｉ）、高屈折率層が下記式（ｉｖ）、低屈折率層が下記式（ｖ）をそれぞれ満足することが好ましい。
【００２１】
【数３】
2004117858.tif 000005
【００２２】
式（ｉｉｉ）中、ｈは正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ３は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は中屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００２３】
【数４】
2004117858.tif 000006
【００２４】
式（ｉｖ）中、ｊは正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ４は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ４は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００２５】
【数５】
2004117858.tif 000007
【００２６】
式（ｖ）中、ｋは正の奇数（一般に１）であり、ｎ５は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ５は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００２７】
中屈折率層の屈折率ｎ３は、一般に１．５〜１．７の範囲にあり、高屈折率層の屈折率ｎ４は、一般に１．７〜２．２の範囲にある。
【００２８】
図１の（ｃ）に示す態様は、透明支持体（４）、防眩性ハードコート層（６）、そして低屈折率層（１）の順序の層構成を有する。このような反射防止膜は、例えば、特開２００１−２８１４１０号公報に記載されているように、低屈折率層が、下記式（ｖｉ）を満足することが好ましい。
【００２９】
【数６】
2004117858.tif 000008
【００３０】
式（ｖｉ）中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ６は低屈折率層の屈折率であり、ｄ６は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００３１】
また、式（ｉ）〜（ｖｉ）中のλは光線の波長であり、可視領域の反射防止層として用いる場合のλは３８０〜６８０ｎｍの範囲の値であり、また、可視光線以外にも可視領域近傍の紫外線、赤外線に対しても有効である。ここで記載した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的な屈折率の高低をいう。例えば中屈折率層は高屈折率層に添加する高屈折率無機微粒子の含率を変えるなどの方法で作製される。
以上の層構成を有する本発明の反射防止膜において、少なくとも、本発明に従って改良された低屈折率層を用いる。
【００３２】
［低屈折率層］
低屈折率層は図１の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に示すごとく高屈折率層の上層に配置される。通常、低屈折率層の上側が反射防止膜の表面である。
低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２０〜１．４９であり、１．２０〜１．４５であることがより好ましく、１．２０〜１．４３であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、１０〜４００ｎｍであることが好ましく、３０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度試験（ＪＩＳ　Ｋ５４００）でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００３３】
本発明の低屈折率層は、前記一般式（Ｉ）で示される、主鎖が無置換又は含フッ素置換基を有してもよいパーフルオロエチレニル基を繰り返し単位として構成されており、該主鎖の末端にシリル基を結合して成るカップリング化合物（ＦＭ）と、シランカップリング剤の少なくとも１種とを含有する皮膜形成用組成物を塗設、硬化させることにより形成されたマトリックス層から成る。
【００３４】
本発明に係る一般式（Ｉ）で示される主鎖が無置換又は含フッ素置換基を有してもよいパーフルオロエチレニル基を主成分として構成されており、該主鎖の末端にシリル基を結合して成る一官能性カップリング化合物（ＦＭ、以後一官能性シランカップリング化合物又は一官能性シランカップリングマクロモノマーとも呼ぶ）について説明する。
本発明に係る一官能性カップリング化合物（ＦＭ）の重量平均分子量は、２×１０４以下が好ましい。より好ましくは、１×１０３〜１．５×１０４であり、更に好ましくは、２×１０３〜８×１０３である。この範囲において、併用するシランカップリング剤との縮合反応が十分に進行し、得られる膜の強度が充分となる。
Ｒｆ０は、フッ素原子、パーフルオロアルキル基、又は「Ｏ−Ｒｆ１」基を表わす。ここで、Ｒｆ１は含フッ素の脂肪族基を表わす。
Ｘは、主鎖とＳｉ原子を連結する２価の有機残基を表わす。
Ｒ１は、脂肪族基又はＣＯＲ１０基を表わす。但し、Ｒ１０は、炭化水素基を表わす。Ｒ２は、炭化水素基を表わす。
ａは、０又は１を表わす。
また、括弧はパーフルオロエチレニル基の繰り返し単位部分であり、繰り返し単位部分の重量平均分子量は２万以下である。
【００３５】
一般式（Ｉ）で示される一官能性カップリング化合物（ＦＭ）の繰り返し単位について説明する。
繰り返し単位中のＲｆ０は、フッ素原子、炭素数１〜７のパーフルオロアルキル基又は−ＯＲｆ１基を表わす。
【００３６】
Ｒｆ０がパーフルオロアルキル基の場合、それに相当する単量体の重合反応性の観点から、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基がより好ましい。
【００３７】
Ｒｆ１は炭素数１〜２２の含フッ素脂肪族基を表わし、炭素数１〜１２の含フッ素脂肪族基が好ましい。具体的には、例えば、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２ＣＦ３、−（ＣＨ２）２Ｃ２Ｆ５、−ＣＨ２ＣＦ２　ＣＦ２ＣＦＨ２、−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、−ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えばＣＨ（ＣＦ３）２、ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）　２、ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ等）を有していても良く、また脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロヘキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）を有していても良く、あるいは含フッ素脂肪族エーテル結合基（例えば−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ３、−（ＣＦ２）　２（ＣＨ２）　２ＯＣＨ（ＣＦ３）　３等）であってもよい。
【００３８】
本発明に係る一官能性シランカップリング化合物（ＦＭ）は、前記した一般式（Ｉ）の中に示される繰り返し単位（重合成分）の他に、これらの重合成分に相当する単量体と共重合可能な他の重合性単量体を含有してもよい。
例えば下記一般式（Ｉｂ）で示される繰り返し単位が挙げられる。
【００３９】
【化３】
2004117858.tif 000009
【００４０】
一般式（Ｉｂ）中、ｄ１、ｄ２及びｄ３は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基（例えばメチル基，エチル基、プロピル基、ブチル基等）を表わす。
好ましいｄ１、ｄ２及びｄ３としては、ＣＦ２＝ＣＦ−、ＣＦ２＝ＣＨ−、ＣＦＨ＝ＣＦ−、ＣＨ２＝ＣＦ−、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−等が挙げられる。
【００４１】
Ｕ１は−（ＣＨ２）ｄＣＯＯ−、−（ＣＨ２）　ｄＯＣＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−、−ＣＯＮ（Ｋ１）−、−ＳＯ２Ｎ（Ｋ１）−、フェニレン基又は［Ｃ（ｄ１）（ｄ２）＝Ｃ（ｄ３）−］と−Ｒ３を直接結合する単結合を表わす（ここで、Ｋ１は水素原子又は炭素数１〜１２の脂肪族基を示し、ｄは０又は１〜４の整数を示す）。
Ｕ１としては、−Ｏ−、フェニレン基、直接結合が好ましい。
【００４２】
Ｒ３は、炭素数１〜２２の置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状の脂肪族基、置換されてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表わす。
脂肪族基としては、置換されてもよい炭素数１〜１８の直鎖状又は分岐状アルキル基〔例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−フロロエチル基、トリフロロメチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−ブロモプロピル基、２−メチルカルボニルエチル基、２，３−ジメトキシプロピル基、フッ化アルキル基｛例えば−（ＣＨ２）ｈＣｉＦ２ｉ＋１基（但しｈは１〜６の整数、ｉは１〜１２の整数を表す）基、−（ＣＨ２）ｈ−（ＣＦ２）ｊ−Ｒ３６基（但しｊは０又は１〜１２の整数、Ｒ３６基は炭素数１〜１２のアルキル基、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＣＦ３を表す）、−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＦ２Ｃｌ、−ＣＦＣｌ２、−ＣＦＣｌＨ、−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣｉＦ２ｉ＋１、−ＯＣｉＦ２ｉ＋１、−Ｃ（ＣＦ３）２ＯＣｉＦ２ｉ＋１等｝等〕、炭素数４〜１８の置換されてもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、フロロベンジル基、パーフルオロベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロペンチルエチル基、パーフロロヘキシル基、テトラフロオロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基等）、炭素数６〜１２の置換されてもよい芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、メトキシフェニル基、フロロフェニル基、クロロフェニル基、ジフロロフェニル基、パーフルオロフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基等）が挙げられる。
【００４３】
Ｒ３は、脂肪族基が好ましく、さらにフッ素原子を含有した脂肪族基がとくに好ましい。
【００４４】
以下に、一般式（Ｉ）における繰り返し単位の具体例を示す。しかし、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００４５】
【化４】
2004117858.tif 000010
【００４６】
【化５】
2004117858.tif 000011
【００４７】
一般式（Ｉ）におけるＸは、Ｓｉ原子と重合体主鎖部分を連結する２価の有機残基を表わす。
好ましくは総原子数２〜２２の連結基を表わし、より好ましくは総原子数４〜１８である（ここでいう総原子数は、炭素原子、窒素原子又はケイ素原子に結合する水素原子を除く）。一般式（Ｉ）の中にＸが介在することによって、一官能性シランカップリング化合物（ＦＭ）の反応性が良好となり、又得られたゾル−ゲル硬化膜の強度、防汚性が向上して好ましい。
【００４８】
Ｘで表される連結基としては炭素原子−炭素原子結合（一重結合又は二重結合）、炭素原子−ヘテロ原子結合（ヘテロ原子としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等）、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合等から構成される原子団の任意の組合せで構成される。例えば、原子団としては下記のものが挙げられる。
【００４９】
【化６】
2004117858.tif 000012
【００５０】
上記において、ｒ１、ｒ２は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、ハロゲン原子、臭素原子、ヨウ素原子）又は炭素数１〜６の置換されてもよいアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフロロメチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、クロロエチル基等）を表し、ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜１２の置換されてもよい炭化水素基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、アセチルフェニル基、トリフロロフェニル基等）を表し、ｒ４、ｒ５は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜１２の置換されてもよい炭化水素基（具体的には上記ｒ３と同一の内容を表わす）を表わす。
【００５１】
Ｘで表される連結基としては、さらに２価の脂環式基（脂環式構造の炭化水素環としては、例えばシクロへプタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環、ビシクロペンタン環、トリシクロヘキサン環、ビシクロオクタン環、ビシクロノナン環、トリシクロデカン環、等）、２価のアリール環基（アリール環としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環等）で示される基等の原子団の任意の組合せで構成されるものをも含む。
連結基Ｘの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５２】
【化７】
2004117858.tif 000013
【００５３】
次に、一般式（Ｉ）中のシリル基［（Ｒ１Ｏ）３−ａ（Ｒ２）ａＳｉ−］について説明する。（Ｒ１Ｏ）基は、アルコキシ基（Ｒ１が脂肪族基の場合）又はアシルアルコキシ基（Ｒ１が−ＣＯＲ１０の場合）を表わし、加水分解してシラノール基［典型的には（ＨＯ）３−ａ−Ｓｉ（Ｒ２）ａ−］となり縮重合反応が進行する。
【００５４】
Ｒ１が脂肪族基の場合、炭素数１〜８の置換されてもよい直鎖もしくは分岐の脂肪族基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフロロエチル基、メトキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基等）が挙げられる。
Ｒ１が−ＣＯＲ１０の場合のＲ１０は炭素数１〜６の置換されてもよい直鎖もしくは分岐の脂肪族基（具体的には上記Ｒ１の脂肪族基と同義であり、具体例も同じものが挙げられる）、置換されてもよいフェニル基（例えばフェニル基、メトキシフェニル基、フロロフェニル基、トリル基、キシリル基、等）が挙げられる。
【００５５】
その中でも、好ましい（Ｒ１Ｏ）基としては、（Ｒ１Ｏ）基の加水分解反応性及び脱離して副生したアルコール類もしくはカルボン酸類の塗膜での乾燥工程での乾燥性の点から炭素数１〜４のアルコキシ基あるいは炭素数１〜３のアシルオキシ基が挙げられる。
【００５６】
Ｒ２は炭素数１〜１２の脂肪族基又は炭素数６〜１２のアリール基を表わす。これらの炭化水素基は、置換されていてもよい。具体的には、前記一般式（Ｉｂ）中のＲ３と同義のものが挙げられ、具体例も同じである。又、脂肪族基としては前記一般式（Ｉ）中のＲｆ１の含フッ素脂肪族基と同一の内容のものが挙げられる。
更には、Ｒ２の炭化水素基に置換される置換基として、前記した一般式（Ｉ）の化合物（ＦＭ）と共重合可能な重合性基も挙げられる。本発明の低屈折率層用組成物中に、これら一般式（Ｉ）の化合物（ＦＭ）と共重合性を有する化合物を併用することによって、形成される低屈折率層の膜性を向上できる。
重合性基としては、ラジカル重合性基（例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトニルオキシ基、ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、等）、カチオン重合性基（例えばエポキシ基、オキセタニル基、ビニル基、ビニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基等）が挙げられる。
【００５７】
ａは０又は１を表わす。
ａが１の場合は、本発明に係る一般式（Ｉ）の化合物（ＦＭ）の反応性の点から（Ｒ１Ｏ）基中のＲ１の炭素数は１〜３のアルキル基が好ましい。
【００５８】
本発明に係る一般式（Ｉ）の化合物（ＦＭ）は、従来公知の合成方法によって製造することができる。例えば、（ｉ）アニオン重合によって得られるリビングポリマーの末端に種々の試薬を反応させて、一般式（Ｉ）の形のカップリング化合物にするイオン重合による方法、（ｉｉ）分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基等の反応性基を含有した重合開始剤及び／又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル重合して得られる末端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬を反応させて、一般式（Ｉ）の形のシランカップリング化合物にするラジカル重合による方法等が挙げられる。
【００５９】
具体的には、Ｐ．Ｄｒｅｙｆｕｓｓ　＆　Ｒ．Ｐ．Ｑｕｉｒｋ，　Ｅｎｃｙｃｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，　７，　５５１（１９８７）、Ｐ．Ｆ．Ｒｅｍｐｐ　＆　Ｅ．Ｆｒａｎｔａ，　Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，　５８，　１（１９８４）、Ｖ．Ｐｅｒｃｅｃ，　Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，　２８５，　９５（１９８４）、Ｒ．Ａｓａｍｉ　＆　Ｍ．Ｔａｋａｒｉ，　Ｍａｋｖａｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌｎ．１２，　１６３（１９８５）、Ｐ．Ｒｅｍｐｐ．ｅｔ　ａｌ，　Ｍａｋｖａｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌｎ．８，　３（１９８４）、川上雄資、化学工業、３８，　５６（１９８７）、山下雄也、高分子、３１，　９８８（１９８２）、小林四郎、高分子、３０，６２５（１９８１）、東村敏延、日本接着協会誌、１８，　５３６（１９８２）、伊藤浩一、高分子加工、３５，　２６２（１９８６）、東貫四郎、津田隆、機能材料、１９８７，　Ｎｏ．１０，　５等の総説及びそれに引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成することができる。
【００６０】
上記した分子中に特定の反応性基を含有した重合開始剤としては、例えば、４，４′−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、４，４′−アゾビス（４−シアノ吉草酸クロライド）、２，２′−アゾビス（２−シアノプロパノール）、２，２′−アゾビス（２−シアノペンタノール）、２，２′−アゾビス〔２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−プロピオアミド〕、２，２′−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−〔１，１−ビス（ヒドロキシメチル）エチル〕プロピオアミド｝、２，２′−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−〔１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオアミド｝、２，２′−アゾビス〔２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン〕、２，２′−アゾビス〔２−（４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−１，３−ジアゼビン−２−イル）プロパン〕、２，２′−アゾビス〔２−（３，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）プロパン〕、２，２′−アゾビス〔２−（５−ヒドロキシ−３，４，５，６−テトラピリミジン−２−イル）プロパン〕、２，２′−アゾビス｛２−〔１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル〕プロパン｝、２，２′−アゾビス〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−メチル−プロピオンアミジン〕、２，２′−アゾビス〔Ｎ−（４−アミノフェニル）−２−メチルプロピオンアミジン〕等のアゾビス系化合物が挙げられる。
【００６１】
又、分子中に特定の反応性基を含有した連鎖移動剤として、例えば該反応性基あるいは該反応性基に誘導しうる置換基を含有するメルカプト化合物（例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプト酪酸、Ｎ−（２−メルカプトプロピオニル）グリシン、２−メルカプトニコチン酸、３−〔Ｎ−（２−メルカプトエチル）カルバモイル〕プロピオン酸、３−〔Ｎ−（２−メルカプトエチル）アミノ〕プロピオン酸、Ｎ−（３−メルカプトプロピオニル）アラニン、２−メルカプトエタンスルホン酸、３−メルカプトプロパンスルホン酸、４−メルカプトブタンスルホン酸、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、１−メルカプト−２−プロパノール、３−メルカプト−２−ブタノール、メルカプトフェノール、２−メルカプトエチルアミン、２−メルカプトイミダゾール、２−メルカプト−３−ピリジノール等）、あるいは上記反応性基又は置換基を含有するヨード化アルキル化合物（例えばヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２−ヨードエタノール、２−ヨードエタンスルホン酸、３−ヨードプロパンスルホン酸等）が挙げられる。好ましくはメルカプト化合物が挙げられる。
【００６２】
他の方法としては、特定の官能基（例えば、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、エポキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等）を含有するジチオカルバメート基を含有する化合物および／またはザンテート基を含有する化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行って合成することもできる。例えば、上記の大津等の文献、特開昭６４−１１号公報、特開昭６４−２６６１９号公報、東信行等　”Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，　Ｊａｐａｎ”　３６（６），　１５１１（１９８７）、Ｍ．Ｎｉｗａ，　Ｎ．Ｈｉｇａｓｈｉ　ｅｔ　ａｌ，”Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．”，　Ａ２４（５），　５６７（１９８７）等に記載の各々の合成方法に従って合成することができる。
【００６３】
これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々一般式（Ｉ）の繰返し単位に相当する単量体１００重量部に対して０．５〜２０重量部を用いることが好ましく、より好ましくは１〜１０重量部である。
【００６４】
このようにして製造される重合体主鎖の片末端に選択的に結合した有機残基中に含有される特定の反応性基を利用して、シランカップリング基を導入することで容易に製造することができる。
又、シランカップリング基を置換したメルカプト化合物〔例えば、３−メルカプトプロピル（トリメトキシ）シラン、３−メルカプトプロピル（トリエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピル−（メチル）（ジメチル）シラン、４−メルカプトブチル（トリエトキシ）シラン等〕を連鎖移動剤としてラジカル重合反応により製造することもできる。
【００６５】
本発明で用いられるシランカップリング剤について説明する。
本発明のシランカップリング剤は、分子内に少なくとも１つの加水分解によりシラノールを与えることのできる官能基を有するオルガノシラン化合物を表し、本発明の組成物中では、加水分解、縮合して得られる加水分解物および／または部分縮合物となり組成物中における結合剤としての働きをするものである。
本発明のシランカップリング剤は、前記の一官能性カップリング化合物（ＦＭ）と共縮合反応することが好ましい。
【００６６】
具体的には、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物が挙げられる。
一般式（ＩＩ）
（Ｒ１１）４−ｂＳｉ（Ｙ）　ｂ
式（ＩＩ）中、Ｒ１１は、前記式（Ｉ）中のＲ１と同一の内容を表わす。Ｙは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、−ＯＨ、又はＯＲ１２を表わす。但し、ＯＲ１２は、前記式（Ｉ）中のＲ１２と同一の内容を表わす。ｂは、２、３又は４の整数を表わす。
ｂが４の場合は４官能オルガノシラン、３の場合は３官能オルガノシラン、２の場合は２官能オルガノシランとなる。
４官能オルガノシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラーアセトキシシランなどを挙げることができる。
２又は３官能オルガノシランとしては、Ｒ１１が脂肪族基、フッ素原子含有の脂肪族基又は重合性ビニル基等の重合性基を含有するものとして、例えば特開２０００−２７５４０３号公報明細書中の段落番号［００１６］〜［００２５］、同２０００−１１７９０２号公報明細書中の段落番号［００４０］、同２００２−１３１５０７号公報明細書中の段落番号［００３９］〜［００４５］等記載の化合物、エポキシ基含有の炭化水素基を含有するものとして、特開平６−２２６９２８号公報明細書中の段落番号［００１４］等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６７】
これらオルガノシラン化合物は、単独でも２種以上を併用しても良い。
上記の２または３官能性オルガノシランを用いる場合は、Ｒ１１にフッ素原子を有する脂肪族基を少なくとも１個含有するオルガノシランが屈折率の観点から好ましい。２種以上の上記のオルガノシランを併用する場合、本発明に用いる組成物中における２官能オルガノシランの割合は、４官能オルガノシラン及び３官能オルガノシラン成分に対して０〜１５０重量％、好ましくは５〜１００重量％、さらに好ましくは１０〜６０重量％である。
【００６８】
重合性基（ラジカル重合性ビニル基、カチオン重合性基（エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基等））を有する炭化水素基を含有するオルガノシランは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。２種以上の上記のビニル重合性オルガノシランを併用する場合、１重合性オルガノシランの本発明の組成物中における割合は、２重合性オルガノシラン及び３重合性オルガノシラン成分に対して０〜１５０重量％、好ましくは５〜１００重量％、さらに好ましくは１０〜６０重量％である。これらの重合性基含有オルガノシランは、組成物中で加水分解、縮合して得られる加水分解物および／または部分縮合物となり組成物中における結合剤としての働きをすると同時に有機ポリマーによる網目構造を形成し、膜に柔軟性を付与する働きをするものとして好ましい。
【００６９】
本発明では一般式（Ｉ）で表される含フッ素シランカップリング化合物（ＦＭ）の少なくとも一種、及び一般式（ＩＩ）で表されるシラン化合物を必須成分として、加水分解・重縮合を行うことによって塗布液を作製する。
前記シラン化合物の加水分解重縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒としては有機溶媒が好ましく、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル）、炭化水素類（トルエン、キシレン等）、エーテル類（エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）等を挙げることができ、２種類以上の溶媒を併用することもできる。
【００７０】
加水分解縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネートなどの金属アルコキシド類、β−ジケトン類或いはβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類等が挙げられる。具体的には、例えば特開２０００−２７５４０３号公報明細書中の段落番号［００７１］〜［００８３］記載の化合物等が挙げられる。
【００７１】
ゾルゲル触媒化合物の組成物中の割合は、ゾル液の原料であるオルガノシランに対し、０．０１１〜５０重量％、好ましくは０．１〜５０重量％、さらに好ましくは０．５〜１０重量％である。反応条件はオルガノシランの反応性により適宜調節されることが好ましい。
【００７２】
一方、カルボン酸等の有機酸を触媒に用いてゾルゲル縮合を行なう場合には、アルコキシシランとの反応により生成するアルコールあるいは溶媒として添加するアルコールとの縮合反応（エステル化反応）によって系中で水を生成するため別途水を添加しなくても加水分解反応を行うことができる。
このような水を加えない系において、硬化時間と膜強度の点で有利な結果が得られており、本発明では特に水中２５℃におけるｐＫａが４以下のカルボン酸を触媒として水を添加せずにゾル液を調整することが好ましい。好ましいカルボン酸触媒の具体例は、特開２０００−２７５４０３号公報明細書中の段落番号［００５８］〜［００６０］記載の化合物が挙げられる。
【００７３】
本発明に用いる低屈折率層用組成物には、シランカップリング化合物が重合性基を含有する場合、これらの重合性基と共重合可能な重合性基含有モノマーを併用しても良い。これら重合性モノマーに特に制限はなく、通常のラジカル重合またはカチオン重合で共重合可能なものであれば、好ましく用いることができる。モノマー分子内に重合性基が１個の単官能モノマー、若しくは２個以上の多官能モノマーの何れでもよく、適宜選択して用いることができる。ラジカル重合性モノマーの具体例としては、例えば特開２０００−２７５４０３号公報明細書中の段落番号［００５２］〜［００６５］記載の化合物等が挙げられる。又、カチオン重合性モノマーの具体例としては、例えば特開２０００−４７００４号公報明細書中の段落番号［００８５］〜［００８７］記載の化合物等が挙げられる。
【００７４】
重合開始剤
本発明に用いる組成物が、上記重合性化合物を含有する場合には、熱及び／又は光照射でラジカル又はカチオンを発生し、重合性不飽和基又はカチオン重合性基を含有する化合物の重合反応を開始、促進させる化合物を併用する。これらラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤は、重合性化合物の重合性基との組み合わせで、適宜、従来公知の化合物（例えば、「最新ＵＶ硬化技術」ＰＰ．６０〜６２（（株）技術情報協会刊、１９９１年等）を用いることができる。
【００７５】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、アミン化合物（特公昭４４−２０１８９号公報記載）、オニウム塩化合物（上記の「最新ＵＶ硬化技術」記載等）、有機ハロゲン化化合物（Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ”　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”　１　（Ｎｏ３），　（１９７０））等に記載等）、カルボニル化合物（「特開平８−１３４４０４号明細書の段落［００１５］〜［００１６］記載等」、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、メタロセン化合物（特開平５−８３５８８号公報、同１−３０４４５３号公報記載等）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物（特公平６−２９２８５号記載等）、有機ホウ酸化合物（Ｋｕｎｚ，　Ｍａｒｔｉｎ　”Ｒａｄ　Ｔｅｃｈ　’９８，　Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ　Ａｐｒｉｌ　１９−２２，　１９９８，　Ｃｈｉｃａｇｏ”　等に記載等）、ジスルホン化合物（特開昭６１−１６６５４４号公報記載等）が挙げられる。
【００７６】
カチオン重合開始剤としては、例えば、オニウム塩化合物、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。これらの具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。他のカチオン重合開始剤として、有機金属／有機ハロゲン化物（特開平２−１６１４４５号公報記載等）、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤（米国特許第４，１８１，５３１号公報、特開昭６０−１９８５３８号公報記載等）、イミノスルフォネート等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物（特開平２−２４５７５６号公報記載等）等が挙げられる。
【００７７】
充填剤
本発明の組成物には、得られる塗膜の硬度向上を目的としてコロイド状シリカを添加することも可能である。このコロイド状シリカとしては、水分散コロイド状シリカ、メタノールもしくはイソプロピルアルコールなどの有機溶媒分散コロイド状シリカを挙げることができる。
本発明の組成物には、得られる塗膜の着色、凹凸性の付与、下地への紫外線透過防止、防蝕性の付与、耐熱性、膜の屈折率などの諸特性を発現若しくは調整させるために、上記コロイド状シリカの他に充填材を添加・分散させることも可能である。この充填材としては、例えば有機顔料、無機顔料などの非水溶性の顔料または顔料以外の粒子状、繊維状もしくは鱗片状の金属および合金ならびにこれらのフッ化物、酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などが挙げられる。この充填材の無機化合物としては、例えば特開平１１−１０６７０４号公報明細書中の段落番号［００５６］、特開２００１−１８８１０４号公報等記載の無機粒子等が挙げられる。
樹脂粒子としては、特開平１０−１４２４０３公報明細書中の段落番号［００１３］〜［００１８］、同１１−２３８０３号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００３７］等のフッ素原子含有樹脂等が挙げられる。
これらの充填材の平均粒径または平均長さは、通常、５〜５００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍである。充填材を用いる場合の組成物中の割合は、組成物の全固形分１００重量部に対し、１０〜３００重量部程度である。
【００７８】
その他の添加物
本発明に用いる上記組成物には、各種界面活性剤、前記以外のシランカップリング剤、チタンカップリング剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を添加することもできる。
【００７９】
本発明に用いるゾル液を調製するに際しては、前記の各成分を含有する組成物に水を添加して加水分解する方法或いは前記のカルボン酸類を用いる方法等の如何なる方法でもよい。この時必要に応じて加水分解を促進するために前記の触媒を用いることが好ましい。例えば下記▲１▼〜▲３▼の調製方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
▲１▼シリル基含有成分（必要に応じて、重合性モノマー及び重合開始剤）と溶媒及び加水分解触媒からなる溶液に、所定量の水（若しくはカルボン酸）を加えて加水分解・縮合反応を行う方法。▲２▼シリル基成分と溶媒からなる溶液に、所定量の水（若しくはカルボン酸）を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで加水分解触媒と必要に応じて重合性モノマー及び重合開始剤を添加する方法。▲３▼シリル基含有成分と溶媒及び加水分解触媒からなる溶液に、所定の水（若しくはカルボン酸）を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで重合性モノマー及び重合開始剤を加えて混合し、さらに縮合反応を行なう方法等が挙げられる。
【００８０】
本発明では、上記のようにして調整したゾル液を、カーテンフローコート、ディップコート、スピンコート、ロールコート等の塗布法によって、透明フィルムあるいは高屈折率層または中屈折率層等の上に塗布し、常温での乾燥、あるいは３０〜２００℃程度の温度で１分〜１００時間程度加熱することにより、低屈折率層は形成される。又、本発明の組成物が光重合性化合物を併用する場合には、塗布後に光照射工程を設ける。光照射は、活性エネルギー光線であればいずれでもよいが、照射装置の簡易性から紫外線照射が好ましい。
同時重層塗布をする場合には、多段の吐出口を有するスライドギーサー上で下層塗布液と上層塗布液のそれぞれが必要な塗布量になるように吐出流量を調整し、形成した多層流を連続的に支持体に乗せ、乾燥させる方法（同時重層法）が特に好ましい。
【００８１】
［高・中屈折率層］
本発明の反射防止膜が、多層膜の態様をとる場合、一般に、低屈折率層は、低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、前記の高屈折率層、中屈折率層）と共に用いられる。
【００８２】
上記低屈折率層より高い屈折率を有する層を形成するための有機材料としては、熱可塑性皮膜（例、ポリスチレン、ポリスチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素環、脂環式環状基を有するポリマー、またはフッ素以外のハロゲン基を有するポリマー）；皮膜組成物（例、メラミン皮膜、フェノール皮膜、またはエポキシ皮膜などを硬化剤とする皮膜組成物）；ウレタン形成性組成物（例、脂環式または芳香族イソシアネートおよびポリオールの組み合わせ）；およびラジカル重合性組成物（上記の化合物（ポリマー等）に二重結合を導入することにより、ラジカル硬化を可能にした変性皮膜またはプレポリマーを含む組成物）などを挙げることができる。これらの皮膜形成性組成物のいずれを用いてもよいが、高い皮膜形成性を有する材料が好ましい。低屈折率層より高い屈折率を有する層は、有機材料中に分散した無機系微粒子も使用することができる。この層に使用される有機材料としては、一般に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機材料単独で用いる場合よりも低屈折率のものも用いることができる。そのような材料として、上記した有機材料の他、アクリル系を含むビニル系共重合体、ポリエステル、アルキド皮膜、繊維素系重合体、ウレタン皮膜およびこれらを硬化せしめる各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組成物など、透明性があり無機系微粒子を安定に分散せしめる各種の有機材料を挙げることができる。
【００８３】
さらに有機置換されたケイ素系化合物も高・中屈折率層に含ませることができる。これらのケイ素系化合物は下記一般式で表される化合物、あるいはその加水分解生成物である。
【００８４】
ＲａｍＲｂｎＳｉＺ（４−ｍ−ｎ）
上記一般式において、Ｒａ及びＲｂは、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミノ、メルカプト、メタクリロイルまたはシアノで置換された炭化水素基を表し、Ｚは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン原子及びアシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な基を表し、ｍ＋ｎが１または２である条件下で、ｍ及びｎはそれぞれ０、１または２である。
【００８５】
これらに分散される無機系微粒子の好ましい無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなどの金属元素の酸化物を挙げることができる。これらの化合物は、微粒子状で、即ち粉末または水および／またはその他の溶媒中へのコロイド状分散体として、市販されている。これらをさらに上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散して使用する。
これらの具体例としては、例えば特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報などに記載の化合物が挙げられる。
【００８６】
低屈折率層より高い屈折率を有する層を形成する材料として、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機系材料（例、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（例、キレート化合物）、無機ポリマー）を挙げることができる。これらの具体的な例としては、前記のゾルゲル反応の触媒として例示した化合物と同様なものを挙げることができる。
【００８７】
高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。屈折率は、アッペ屈折率計を用いる測定や、層表面からの光の反射率からの見積もりにより求めることができる。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．５μｍであることが最も好ましい。高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な高屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００８８】
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
高屈折率層に無機微粒子とポリマーを用い、中屈折率層は、高屈折率層よりも屈折率を低めに調節して形成することが特に好ましい。中屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましい。
【００８９】
［その他の層］
反射防止膜には、さらに、ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護層を設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設け、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してよい。ハードコート層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。透明支持体の上には、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【００９０】
［透明支持体］
反射防止膜をＣＲＴ画像表示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜は透明支持体を有することが好ましい。透明支持体としては、ガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４、４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３，ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクおよびカオリンが含まれる。
透明支持体には表面処埋を施してもよい。
【００９１】
表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
【００９２】
［反射防止膜の形成］
反射防止膜が、単層又は前記のように多層の構成をとる場合は、各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）により、塗布により形成することができる。また、二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。反射防止膜の反射率は低いほど好ましい。具体的には４５０〜６５０ｎｍの波長領域での平均反射率が２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましく、０．７％以下であることが最も好ましい。反射防止膜（下記のアンチグレア機能がない場合）のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。反射防止膜の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００９３】
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
【００９４】
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用し、それにより膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば特開２０００−２８１４１０号、同２０００−９５８９３号等）、低屈折率層表面に物理的に凹凸形状を転写（エンボス加工方法等）する方法（例えば特開平１１−２６８８００号）が挙げられる。
【００９５】
反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ〈ＥＬＤ〉や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止膜は、高屈折率層が画像表示装置の画像表示面側になるように配置する。
反射防止膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。反射防止膜は、さらに、ケースカバー、光学用レンズ、眼鏡用レンズ、ウインドウシールド、ライトカバーやヘルメットシールドにも利用できる。
【００９６】
【実施例】
以下に実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［一官能性カップリング化合物（ＦＭ）の合成例］
（一官能性カップリング化合物（ＦＭ）の合成例１：一官能性カップリング化合物（ＦＭ−１））
内容量１Ｌのステンレス製攪拌機付オートクレーブにトルエン７５ｇ、下記構造の単量体（Ｆ−１）２０ｇ、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン１．５ｇ、及び２，２′−アゾビス（イソバレロニトリル）（略称：Ａ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．）１．０ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）３０．０ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ２（５２９ｋＰａ）であった。このまま４時間反応後、Ａ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．　０．３ｇをトルエン５ｍｌに溶解した液を窒素ガス圧を利用して添加した。
更に７時間反応を続けた後、加熱を止め放冷した。室温まで内温が下がった時点で、オートクレーブを開放して反応液を取り出し、ｎ−ヘキサン２００ｍｌ中に再沈した。
沈降物を捕集し、減圧乾燥して、収量４３ｇで、質量平均分子量６×１０３の生成物を得た。（質量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリスチレン換算によるＧＰＣ法測定値）。
【００９７】
【化８】
2004117858.tif 000014
【００９８】
（一官能性カップリング化合物（ＦＭ）の合成例２：一官能性カップリング化合物（ＦＭ−２））
内容量１Ｌのステンレス製攪拌機付オートクレーブにテトラヒドロフラン７５ｍｌ、下記構造の単量体（Ｆ−２）２７．５ｇ、２，２′−アゾビス（２−シアノヘプタノール（略称：Ａ．Ｂ．Ｃ．Ｈ．）２．５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２２．５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ２（５２９ｋＰａ）であった。このまま４時間反応後、Ａ．Ｂ．Ｃ．Ｈ．　１．５ｇをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解した液を窒素ガス圧を利用して添加した。
更に６時間反応を続けた後、加熱を止め放冷した。室温まで内温が下がった時点で、オートクレーブを開放して反応液を取り出し、２００ｍｌの３つ口フラスコに投入した。
これに、３−トリメトキシシクロプロパンイソシアナート４．０ｇ及びジブチルスズジラウレート０．０５ｇを加えて、５０℃で６時間攪拌した。放冷後、石油エーテル８００ｍＬに再沈した。沈殿物を捕集し、減圧乾燥して得られた生成物の収量は、４０ｇで、質量平均分子量は８×１０３であった。
【００９９】
【化９】
2004117858.tif 000015
【０１００】
（一官能性カップリング化合物（ＦＭ）の合成例３：一官能性カップリング化合物（ＦＭ−３））
４００ｒｐｍで作動する攪拌器を備えた２リットル　ＡＩＳＩ　３１６　オートクレーブの側壁に石英の丸窓を挿入し、該石英の丸窓に合わせてＨａｎａｕ（商標登録）ＴＱ−１５０　ＵＶランプを配置した。このランプは高圧水銀灯であって、２４０〜６００ｎｍの光を発し、波長２４０〜３３０ｎｍの光では１３．２Ｗのエネルギーを有する。
この装置に、下記構造の単量体（Ｆ−３）４５ｇ、下記構造の光重合開始剤２．０ｇ、及びテトラヒドロフラン１００ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにオクタフルオロブテン５５ｇをオートクレーブ中に導入して４５℃まで昇温した。１０時間反応を続けた後、加熱を止め放冷した。室温まで内温が下がった時点で、オートクレーブを開放して反応液を取り出し、テトラヒドロフランを濃縮した後、トルエンの３０質量％溶液とした。
得られた生成物の質量平均分子量Ｍｗは５×１０３であった。
【０１０１】
【化１０】
2004117858.tif 000016
【０１０２】
［反射防止膜構成層用塗布液の調製］
（防眩性高屈折率層用塗布液Ａの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。さらにこの溶液に平均粒径３μｍの不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−５２６、水澤化学工業（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性高屈折率層の塗布液Ａを調製した。
【０１０３】
（ハードコート層用塗布液Ｈｃの調製）
上記ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１２５ｇおよびウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＶ−６３００Ｂ（商品名、日本合成化学工業（株）製）１２５ｇを４３９ｇのエタノールに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤イルガキュア９０７、７．５ｇおよび光増感剤カヤキュアーＤＥＴＸ５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物を攪拌した後、１ミクロンメッシュのフィルターでろ過してハードコート層塗布液Ｈｃを調製した。
【０１０４】
＜高屈折率層用塗布液Ｈｎの調製＞
上記　ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン（５０／５０）混合溶媒に溶解した。得られた溶液に光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を７．５ｇ及び光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を添加して攪拌した。この溶液を塗布し、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５３であった。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して高屈折率層の塗布液Ｈｎを調製した。
【０１０５】
［実施例１］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）上に、防眩性高屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ約１．５μｍの防眩性高屈折率層を形成した。その上に、下記低屈折率層用塗布液Ｌ−１をバーコーターを用いて塗布し、１００℃で３時間間乾燥し、厚さ約０．１μｍの低屈折率層を形成し、本発明の試料１を作製した。
（低屈折率層用塗布液Ｌ−１の調製）
蓚酸２．４ｇをエタノール１２ｇ及びパーフルオロブチルエチルエーテル（ＨＦＥ−７２００：３Ｍ社製）３ｇに溶解した溶液に、テトラエトキシシラン、２．３５ｇと本発明に係る一般式（Ｉ）の化合物（ＦＭ−１）１．６ｇを加え、５時間加熱還流した。得られた溶液の５ｇにｎ−ブタノールの２ｇを加え、全量で１３ｇになるようにメチルエチルケトンを加えて低屈折率層用塗布液Ａを調整した。
【０１０６】
［実施例２］
実施例１における低屈折率層塗布液Ｌ−１の替わりに、下記低屈折率層塗布液Ｌ−２を用いた以外は実施例１と同様にして本発明の試料２を作製した。
（低屈折率層用塗布液Ｌ−２の調製）
蓚酸２．４ｇをエタノール１０ｇ及びＨＦＥ−７２００　５ｇに溶解した溶液に、テトラエトキシシランの１．３５ｇ、メチルトリメトキシシラン１．０ｇと本発明に係る一般式（Ｉ）の一官能性カップリング化合物（ＦＭ−２）１．５５ｇを加え、５時間加熱還流した。得られた溶液の５ｇ、コロイダルシリカ溶液（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３３ｇ、ｎ−ブタノール３ｇを混合しさらに全量で２６ｇになる様にテトラヒドロフランを加えて希釈し低屈折率層用塗布液（Ｌ−２）を調整した。
【０１０７】
［比較例１」
実施例１における低屈折率層塗布液Ｌ−１の替わりに、下記低屈折率層塗布液ＬＲ−１を用いた以外は実施例１と同様にして比較用試料Ｒ−１を作製した。
（低屈折率層比較用塗布液ＬＲ−１の調整）
メチルトリメトキシシラン（特開平１０−７２６号等に記載の低屈折率層用オルガノシラン）８．７ｇに０．０１Ｎ塩酸水溶液３ｇを加え、室温で３時間攪拌した。該溶液の１．１ｇとメチルエチルケトンの８．９ｇを混合して比較用塗布液ＬＲ−１を調整した。
【０１０８】
［比較例２］
実施例１における低屈折率層塗布液Ｌ−１において、一般式（Ｉ）に係る化合物ＦＭ−１の代わりに、トリデカフルオロ１，１，２，２−テトラヒドロオクチル−１−トリエトキシシランを用いた他は、実施例１と同様にして比較用試料Ｒ−２を作製した。
【０１０９】
［比較例３］
実施例１における低屈折率層塗布液Ｌ−１において、本発明の化合物ＦＭ−１の代わりに、特開昭８−１４７４８４号公報の合成例３に記載の下記構造のシラン化合物を用いた他は、実施例１と同様にして比較用試料Ｒ−３を作製した。
比較用シラン化合物
【０１１０】
【化１１】
2004117858.tif 000017
【０１１１】
前記の実施例および比較例で用いた低屈折率層の屈折率はいずれも１．３〜１．４３の範囲内にあった。
【０１１２】
＜反射防止膜の評価＞
こうして得られた第１〜４層を塗設した各膜（実施例１及び比較例１〜２）について、下記性能評価を実施し、その結果を表−Ｃに記載した。
【０１１３】
（１）平均反射率
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの鏡面平均反射率を用いた。
【０１１４】
（２）ヘイズ
得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ　１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
（３）鉛筆硬度評価
反射防止膜を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｋ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。
【０１１５】
（４）防汚性
試料表面に指紋を付着させてから、それをベンコットン（旭化成（株）製）で拭き取った時の状態を観察して、以下の基準で評価した。
◎：簡単に拭き取れる。
○：しっかり擦れば拭き取れる。
△：一部が拭き取れずに残る。
×：殆んど拭き取れずに残る。
【０１１６】
（５）耐傷性試験
膜表面をスチールウール＃００００を用いて、２００ｇの荷重下で１０回擦った後に、傷のつくレベルを確認した。判定は次の基準に従った。
全くつかない　　：○
細かい傷がつく　：△
傷が著しい　　　：×
【０１１７】
（６）防眩性評価
作製した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
◎：蛍光灯の輪郭が全くわからない
○：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる
△：蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる
×：蛍光灯がほとんどぼけない
【０１１８】
（７）ギラツキ評価
作製した防眩性フィルムにルーバー付きの蛍光灯拡散光を映し、表面のギラツキを以下の基準で目視評価した。
殆どギラツキが見られない：○、
僅かにギラツキがある：△、
識別できるサイズのギラツキがある；×
実施例１〜２および比較例１〜２の結果を表１に示す
【０１１９】
【表１】
2004117858.tif 000018
【０１２０】
表１に示すように、実施例１〜２の試料は、光学特性、鉛筆硬度、耐傷性及び防汚性に優れ、防眩性、ギラツキに関しても良好な性能を示した。
一方、比較例１〜３は、いずれも耐傷性及び防汚性が悪化した。
このように本発明の試料のみが各特性要件に亘って良好な性能を示した。
【０１２１】
［実施例３〜１０］
実施例２において用いた低屈折率層用塗布液（Ｌ−２）の代わりに、下記内容の各塗布液を用いた他は、実施例２と同様にして各反射防止膜試料３〜１０を作製した。
【０１２２】
【表２】
2004117858.tif 000019
【０１２３】
得られた実施例３〜１０の各反射防止膜試料について、実施例２と同じ内容の性能評価試験項目について評価した。その結果は実施例２と同等の性能を示し、良好であった。
【０１２４】
［実施例１１］
実施例２における低屈折率層用塗布液Ｌ−２の替わりに、下記内容の低屈折率層用塗布液Ｌ−１１を用いた以外は実施例１と同様にして本発明の試料１１を作製した。
（低屈折率層用塗布液Ｌ−１１の調製）
蓚酸３ｇをエタノール１８ｇに溶解した溶液に、テトラエトキシシランの２．３５ｇ、本発明に係る一官能性カップリング化合物ＦＭ−２、１．５５ｇ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの０．３ｇ、３−アミノプロピルトリメトキシシランの０．１５ｇを加え５時間加熱還流した。得られた溶液の５ｇ、コロイダルシリカ溶液（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分濃度３０％、日産化学製）１．３３ｇ、ｎ−ブタノール１．５ｇを混合しさらに全量で２０ｇになる様にテトラヒドロフランを加えて希釈し低屈折率層用塗布液Ｌ−１１を調製した。
得られた試料を、実施例１、２と同様の内容の性能評価を行なった。得られた結果は、実施例２と同様の良好な性能を示した。
【０１２５】
［実施例１２］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）上に、上記ハードコート層用塗布液Ｈｃをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ約４．０μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記高屈折率層用塗布液Ｈｎをバーコーターを用いて塗布し、上記ハードコート層と同じ条件で乾燥し、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ約１．５μｍの高屈折率層を形成した。その上に、下記低屈折率層用塗布液Ｌ−１２をバーコーターを用いて塗布し、風乾の後、さらに１００℃で６時間間乾燥し、厚さ約０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、本発明の試料１２を作製した。
【０１２６】
（低屈折率層用塗布液Ｌ−１２の調製）
テトラエトキシシランの２．３５ｇ、本発明の化合物ＦＭ−２、１．５５ｇ及びテトラヒドロキシフラン２０ｇを混合した溶液中にトリフルオロ酢酸（９９％純度）１ｇ及びアセチルアセテートＺｒ塩０．１ｇを加え室温で６時間攪拌した。得られた溶液の３．０ｇ、３−アクリロイルオキシプロピル−トリメトキシシラン０．０８ｇ、トリメチロールプロパントリアクリレート０．０３ｇ、重合開始剤の２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．０１ｇ、コロイダルシリカ溶液（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分濃度３０％、日産化学製）１．２８ｇ、ｎ−ブタノール３ｇを混合しさらに全量で２５ｇになる様にメチルイソブチルケトンを加えて希釈し低屈折率層用塗布液Ｌ−１２を調製した。
【０１２７】
（防眩性の付与）
得られた反射防止膜に、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、プレス圧力１０００ｋｇ／ｃｍ、プレヒートロール温度１００℃、エンボスロール温度１４０℃、処理速度２ｍ／分の条件下で、スチール製エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、算術平均粗さ（Ｒａ）が４μｍのエンボスロースを用いてエンボス処理を行なった。
【０１２８】
得られた試料を、実施例１、２と同様の内容の性能評価を行なった。得られた結果は、実施例２と同様の良好な性能を示した。
【０１２９】
実施例１３
実施例１〜１２で得られた各反射防止膜を用いて防眩性反射防止偏光板を作成した。
これらの各偏光板を用いて反射防止層を最表面に配置した液晶表示装置を作製した。各表示装置の何れも、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
【０１３０】
【発明の効果】
一般式（Ｉ）で表される一官能性カップリング化合物と、シランカップリング剤とを含有する低屈折率層を有する本発明の反射防止膜によれば、反射率が低く、耐擦傷性と防汚性に優れた反射防止膜を得ることができる。更に、本発明の反射防止膜は、耐久性、耐候性に優れている。また、本発明の反射防止膜は塗布型であり、大量生産に適しており、また、防眩性に優れて反射像が目立たず優れた視認性を有している。
本発明の反射防止膜を設けることにより、反射が有効に防止されたフィルムまたは画像表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止膜が複合膜である場合の層構成の例示する断面模式図であり、（ａ）は４層構成、（ｂ）は５層構成、（ｃ）は３層構成の例を示す。
【符号の説明】
１　低屈折率層
２　高屈折率層
３　ハードコート層
４　透明支持体
５　中屈折率層
６　防眩性ハードコート層
【図１】
2004117858.tif 000021