(57)【要約】【課題】筺体のサイズが小さいテラヘルツ分光装置を提供する。【解決手段】テラヘルツ光発生部、テラヘルツ光検出部およびテラヘルツ光学素子を筺体に収納し、テラヘルツ光を通過させる筺体窓として、集光性を有する透過光学素子を用いる。また、筐体窓として、テラヘルツ光発生部が有する集光性光学部材およびテラヘルツ光検出部が有する集光性光学部材を用いる。【選択図】  図１
2004271261.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テラヘルツ光を発するテラヘルツ光発生部と、
前記テラヘルツ光を試料を介して受光するテラヘルツ光検出部と、
前記テラヘルツ光発生部からのテラヘルツ光を前記試料に照射し、試料からのテラヘルツ光を前記テラヘルツ光検出部へ導くテラヘルツ光学系と、
前記テラヘルツ光発生部、前記テラヘルツ光検出部および前記テラヘルツ光学系を収納する筺体と、
前記試料を大気中に設置する試料室とを備え、
前記テラヘルツ光発生部と前記試料との間に設けられ、前記筺体から前記試料室へテラヘルツ光を通す筺体窓、および前記試料と前記テラヘルツ光検出部との間に設けられ、前記試料室から前記筺体へテラヘルツ光を通す筺体窓に、集光性を有する透過光学素子を用いたことを特徴とするテラヘルツ分光装置。
【請求項２】
テラヘルツ光を発するテラヘルツ光発生部と、
前記テラヘルツ光を試料を介して受光するテラヘルツ光検出部と、
前記テラヘルツ光発生部からのテラヘルツ光を前記試料に照射し、試料からのテラヘルツ光を前記テラヘルツ光検出部へ導くテラヘルツ光学系と、
前記テラヘルツ光学系を収納する筺体とを備え、
前記筺体には２つの筺体窓が形成され、一方の前記筺体窓には前記テラヘルツ光発生部が設けられ、他方の前記筺体窓には前記テラヘルツ光検出部が設けられていることを特徴とするテラヘルツ分光装置。
【請求項３】
請求項１または２のテラヘルツ分光装置において、
前記筺体内は、真空または置換ガス雰囲気であることを特徴とするテラヘルツ分光装置。
【請求項４】
請求項２のテラヘルツ分光装置において、
前記テラヘルツ光発生部は、テラヘルツ光発生素子と該素子が固着された第１光学素子とから形成され、
前記テラヘルツ光検出部は、テラヘルツ光検出素子と該素子が固着された第２光学素子とから形成され、
前記第１および第２光学素子が前記筺体窓にそれぞれ埋設されていることを特徴とするテラヘルツ分光装置。
【請求項５】
請求項１、３または４のテラヘルツ分光装置において、
前記透過光学素子、前記第１光学素子または前記第２光学素子は、Ｓｉ製、ＧａＡｓ製、Ｇｅ製、ＭｇＯ製、ポリエチレン製、石英製、ポリメチルペンテン製、サファイア製およびダイヤモンド製のいずれかであることを特徴とするテラヘルツ分光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、テラヘルツ光を用いた時系列変換テラヘルツ分光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
時系列変換テラヘルツ分光装置は、レーザー光を分岐して、一方をテラヘルツ光発生器に照射してテラヘルツ光を発生させ、他方を時間遅延をかけてテラヘルツ光検出器に導いて試料からのテラヘルツ光を検出し、試料の諸特性を測定する装置である。
従来のテラヘルツ分光装置には、大気中の水蒸気によるテラヘルツ光の吸収を防ぐために、テラヘルツ光の光路を筺体内に納めるように構成されているものがある。テラヘルツ光学系を形成するテラヘルツ光学素子は、筺体内に収納されており、テラヘルツ光発生器と検出器も筺体内に収納されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−４９４０２号公報（図１３）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来のテラヘルツ分光装置では、真空に引かれた筺体内にテラヘルツ光用の光学素子を有し、さらにテラヘルツ光が透過する筺体の窓部材が必要であり、部品点数が多くなり、これらを収納する筺体のサイズが大きいという問題がある。
本発明は、筺体のサイズが小さいテラヘルツ分光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
（１）請求項１のテラヘルツ分光装置は、テラヘルツ光を発するテラヘルツ光発生部と、テラヘルツ光を試料を介して受光するテラヘルツ光検出部と、テラヘルツ光発生部からのテラヘルツ光を試料に照射し、試料からのテラヘルツ光をテラヘルツ光検出部へ導くテラヘルツ光学系と、テラヘルツ光発生部、テラヘルツ光検出部およびテラヘルツ光学系を収納する筺体と、試料を大気中に設置する試料室とを備え、テラヘルツ光発生部と試料との間に設けられ、筺体から試料室へテラヘルツ光を通す筺体窓、および試料とテラヘルツ光検出部との間に設けられ、試料室から筺体へテラヘルツ光を通す筺体窓に、集光性を有する透過光学素子を用いたことを特徴とする。
（２）請求項２のテラヘルツ分光装置は、テラヘルツ光を発するテラヘルツ光発生部と、テラヘルツ光を試料を介して受光するテラヘルツ光検出部と、テラヘルツ光発生部からのテラヘルツ光を試料に照射し、試料からのテラヘルツ光をテラヘルツ光検出部へ導くテラヘルツ光学系と、テラヘルツ光学系を収納する筺体とを備え、筺体には２つの筺体窓が形成され、一方の筺体窓にはテラヘルツ光発生部が設けられ、他方の筺体窓にはテラヘルツ光検出部が設けられていることを特徴とする。
【０００６】
（３）請求項１と２のテラヘルツ分光装置の筺体内は、真空または置換ガス雰囲気であることが好ましい。
また、請求項２のテラヘルツ分光装置では、テラヘルツ光発生部は、テラヘルツ光発生素子と該素子が固着された第１光学素子とから形成され、テラヘルツ光検出部は、テラヘルツ光検出素子と該素子が固着された第２光学素子とから形成され、第１および第２光学素子が筺体窓にそれぞれ埋設されていることが好ましい。
上記の透過光学素子、第１光学素子または第２光学素子は、Ｓｉ製、ＧａＡｓ製、Ｇｅ製、ＭｇＯ製、ポリエチレン製、石英製、ポリメチルペンテン製、サファイア製またはダイヤモンド製であることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態によるテラヘルツ分光装置の光学系の全体構成図である。
図１において、レーザー光源１から放射されたレーザー光Ｌ１は、平面鏡２で反射され、ビームスプリッタ３で２つのレーザー光Ｌ２，Ｌ３に分割される。レーザー光源１としては、例えば、フェムト秒パルスレーザーが用いられる。レーザー光Ｌ１は、中心波長が近赤外領域のうちの７８０〜８００ｎｍ程度、繰り返し周期が数ｋＨｚから１００ＭＨｚのオーダー、パルス幅が１０〜１５０ｆｓ程度の直線偏光のパルス光である。
【０００８】
ビームスプリッタ３で分割された一方のレーザー光Ｌ２は、平面鏡４で反射され、筺体２０に設けられた平板状のレーザー光入射窓５を透過して、集光レンズ６を経てテラヘルツ光発生器７に入射する。筺体２０の中は、真空または置換ガス（例えば、乾燥窒素、アルゴンガス）雰囲気となっている。
【０００９】
テラヘルツ光発生器（テラヘルツ光発生部）７は、テラヘルツ光発生素子７ａとこれに接合された半球レンズ７ｂから成る。レーザー光Ｌ２は、テラヘルツ光発生素子７ａを励起してテラヘルツ光を発生させるためのポンプ光（励起光）である。レーザー光源１からテラヘルツ光発生素子７ａまでが、レーザー光Ｌ１とＬ２が通過するポンプ光側のレーザー光学系の光路である。
【００１０】
テラヘルツ光発生素子７ａはテラヘルツ光Ｔ１を放射する。テラヘルツ光Ｔ１は、概ね０．０１×１０１２から１００×１０１２ヘルツまでの周波数領域の光である。
テラヘルツ光Ｔ１は、テラヘルツ光発生素子７ａの裏面から放射され、半球レンズ７ｂによって集光作用を受け、放物面鏡８へ入射する。放物面鏡８にて反射されたテラヘルツ光Ｔ１は、平行光となって筺体壁２１に筺体窓として設けられている凸レンズ９に至り、凸レンズ９によって集光され、試料３０の一点を照射する。すなわち、試料３０は、凸レンズ９の焦点位置に配置される。また、試料３０は、筺体壁２１によって仕切られて大気と連通する試料室３１内に、不図示の保持部材により支持される。試料３０は大気中にあるので、試料交換が容易である。また、試料室３１内はレーザー光学系の光路がないので試料交換時の安全性が確保できる。なお、図示されていないが、平行光の光軸に直交する２次元領域に沿って試料３０を移動させることによって、テラヘルツ光Ｔ１は、試料３０の任意の地点を照射することができる。
【００１１】
試料３０を透過したテラヘルツ光Ｔ２は、筺体壁２１に筺体窓として設けられている凸レンズ１０に至り、凸レンズ１０によって平行光となって放物面鏡１１に入射する。すなわち、試料３０は、凸レンズ１０の焦点位置に配置される。放物面鏡１１にて反射されたテラヘルツ光Ｔ２は、テラヘルツ光検出器１２に入射する。テラヘルツ光検出器（テラヘルツ光検出部）１２は、テラヘルツ光検出素子１２ａとこれに接合された半球レンズ１２ｂから成る。テラヘルツ光Ｔ２は、半球レンズ１２ｂによって収束され、テラヘルツ光検出素子１２ａの一点に導かれる。
【００１２】
テラヘルツ光発生素子７ａからテラヘルツ光検出素子１２ａまでが、テラヘルツ光Ｔ１とＴ２が通過する光路である。そして、放物面鏡８、１１および凸レンズ９、１０がテラヘルツ光学系を構成するテラヘルツ光学素子である。
図１に示されるように、テラヘルツ光の光路は、凸レンズ９の射出面９ａから凸レンズ１０の入射面１０ａまでは大気中に在る。
【００１３】
凸レンズ９、１０の材料としては、Ｓｉ、ＧａＡｓ、Ｇｅ、ＭｇＯ、ポリエチレン、石英、ポリメチルペンテン製、サファイアまたはダイヤモンド等を用いることができる。また、レンズ形状としては、球面でも非球面でもよい。非球面レンズを用いることによって、収差を少なくすることができる。
【００１４】
ビームスプリッタ３で分割された他方のレーザー光Ｌ３は、テラヘルツ光Ｔ２を検出するためのプローブ光である。レーザー光Ｌ３は、平面鏡１３，１４で順次反射され、光軸方向に移動可能な可動鏡１５で２回もしくは３回反射され、平面鏡１６，１７で順次反射され、筺体２０に設けられた平板状のレーザー光入射窓１８に至る。２枚もしくは３枚の平面反射鏡が組み合わされてなる可動鏡１５は、図中矢印のように駆動され、可動鏡１５の移動量に応じてレーザー光Ｌ３の光路長を変化させる。
レーザー光入射窓１８を透過したレーザー光Ｌ３は、集光レンズ１９を経てテラヘルツ光検出素子１２ａに入射する。ビームスプリッタ３からテラヘルツ光検出素子１２ａまでが、レーザー光Ｌ３が通過するプローブ光側のレーザー光学系の光路である。従って、レーザー光Ｌ１とＬ２とＬ３が通過する光路が、レーザー光学系の全光路である。
【００１５】
テラヘルツ光検出素子１２ａの一点に集光したテラヘルツ光Ｔ２の電場強度は、次のようにして検出される。
テラヘルツ光検出素子１２ａにテラヘルツ光Ｔ２が入射し、且つこの部分にプローブ光Ｌ３を照射したときに、テラヘルツ光Ｔ２の電場強度に応じた光電流が流れる。前述した可動鏡１５を用いてレーザー光Ｌ３の光路長を変化させ、つまり遅延時間を変化させながらこの光電流を検出することにより、時系列変換テラヘルツ分光が可能となる。テラヘルツ光検出素子１２ａは、検出した光電流を検出信号として不図示の制御・演算装置に送る。制御・演算装置は、検出信号について数学的変換、例えばフーリエ変換を実行し、試料に関する所望の特性、例えば、電気的特性、不純物濃度に応じて演算を実行する。得られたデータは液晶ディスプレイやＣＲＴ等の表示部に表示させる。
【００１６】
ここで、本実施の形態のテラヘルツ分光装置を図６のテラヘルツ分光装置と比較する。
図６は、比較例として取り上げたテラヘルツ分光装置の光学系の光路図である。図６の光路図では、筺体内部のみが示されており、図１と対応する部品には同一符号を付す。また、図６では、レーザー光源を含む筺体外部のレーザー光学系は、図１と同一であるので、図示を省略する。
【００１７】
図６において、ビームスプリッタで分割された一方のレーザー光Ｌ２は、筺体４０に設けられたレーザー光入射窓５を透過して、集光レンズ６を経てテラヘルツ光発生器７に入射する。筺体４０の中は、真空または置換ガス（例えば、乾燥窒素、アルゴンガス）雰囲気となっている。
【００１８】
テラヘルツ光発生素子７ａから放射されたテラヘルツ光Ｔ１は、テラヘルツ光発生素子７ａの裏面から放射され、半球レンズ７ｂによって集光作用を受け、放物面鏡８へ入射する。放物面鏡８にて反射されたテラヘルツ光Ｔ１は、平行光となって放物面鏡３２に入射し、放物面鏡３２によって集光され、平板状筺体窓４２を透過して試料３０の一点を照射する。
【００１９】
試料３０は、試料室４１内に設置される。試料３０を透過したテラヘルツ光Ｔ２は、平板状筺体窓４３を透過して放物面鏡３３に至る。筺体窓４２と４３は、平板状であり、集光作用はない。放物面鏡３３にて反射されたテラヘルツ光Ｔ２は、平行光となって放物面鏡１１に入射し、放物面鏡１１によって反射され、テラヘルツ光検出器１２に入射する。
ビームスプリッタで分割された他方のレーザー光Ｌ３は、筺体４０に設けられたレーザー光入射窓１８を透過して、集光レンズ１９を経てテラヘルツ光検出器１２に入射する。
【００２０】
図６では、テラヘルツ光発生素子７ａからテラヘルツ光検出素子１２ａまでが、テラヘルツ光Ｔ１とＴ２が通過する光路である。そして、放物面鏡８、３２、３３および１１と筺体窓４２および４３がテラヘルツ光学系を構成するテラヘルツ光学素子である。
【００２１】
図１に示される本実施の形態のテラヘルツ分光装置は、図６の比較例の装置に対し、筺体窓として用いられる光学素子が集光作用をもつので、放物面鏡３２と３３を省略できる。テラヘルツ光が通過する光学素子の数は、比較例の装置に比べて減少するので、テラヘルツ光の損失も少なく、筺体サイズも小さくすることができる。
【００２２】
（第２の実施の形態）
図２は、本発明の第２の実施の形態によるテラヘルツ分光装置のテラヘルツ光学系の光路図である。図２の光路図では、筺体内部のみが示されており、図１と対応する部品には同一符号を付し、相違点について説明する。また、図２では、レーザー光源を含む筺体外部のレーザー光学系は、図１と同一であるので、図示を省略する。
【００２３】
図２に示される本実施の形態のテラヘルツ分光装置が第１の実施の形態のテラヘルツ分光装置に対して相違する点は、図１の放物面鏡８および１１を省略したことである。すなわち、テラヘルツ光発生器７から発したテラヘルツ光Ｔ１は、直接に凸レンズ９に至り、試料３０の一点に集光する。試料３０を透過したテラヘルツ光は、凸レンズ１０によりテラヘルツ光Ｔ２として、直接にテラヘルツ光検出器１２に集光される。
これにより、テラヘルツ光が通過する光学素子の数は、第１の実施の形態に比べてさらに減少するので、テラヘルツ光の損失も少なく、筺体サイズも小さくすることができる。
【００２４】
（第３の実施の形態）
図３は、本発明の第３の実施の形態によるテラヘルツ分光装置のテラヘルツ光学系の光路図である。テラヘルツ光学系は平行光照射光学系である。図３の光路図では、筺体内部のみが示されており、図１と対応する部品には同一符号を付し、相違点について説明する。また、図３では、レーザー光源を含む筺体外部のレーザー光学系は、図１と同一であるので、図示を省略する。
【００２５】
図３に示される本実施の形態のテラヘルツ分光装置が第１の実施の形態のテラヘルツ分光装置に対して相違する点は、図１の放物面鏡８および１１を省略したことと、平行光照射光学系を用いていることである。すなわち、テラヘルツ光発生器７から発したテラヘルツ光Ｔ１は、直接に凸レンズ９に至り、凸レンズ１０を透過したテラヘルツ光Ｔ２は、直接にテラヘルツ光検出器１２に入射する。本実施の形態の平行光照射光学系は、凸レンズ９と凸レンズ１０の間が平行光束になっている。このような光学系を用いると、試料の２次元領域からの平均化された情報が得られる。
これにより、平行光照射光学系においても、テラヘルツ光が通過する光学素子の数は、第１の実施の形態に比べてさらに減少するので、テラヘルツ光の損失も少なく、筺体サイズも小さくすることができる。
【００２６】
（第４の実施の形態）
図４は、本発明の第４の実施の形態によるテラヘルツ分光装置の光学系の全体構成図である。図４において、図１と対応する部品には同一符号を付す。また、図４では、レーザー光源と、平面鏡４および平面鏡１７に至るまでのレーザー光学系は、図１と同一であるので、説明を省略する。
【００２７】
ビームスプリッタで分割された一方のレーザー光Ｌ２は、集光レンズ６を経て、筺体２０Ａに設けられたテラヘルツ光発生器１０７に至る。テラヘルツ光発生器１０７は、テラヘルツ光発生素子１０７ａとこれに接合された半球レンズ１０７ｂから成る。
本実施の形態では、半球レンズ１０７ｂは、テラヘルツ光を通過させる光学素子であり、さらに、筺体内と大気を隔てる筺体窓を兼ねている。テラヘルツ光発生素子１０７ａから放射されたテラヘルツ光Ｔ１は、テラヘルツ光発生素子１０７ａの裏面から放射され、半球レンズ１０７ｂによって集光作用を受け、放物面鏡８へ入射する。放物面鏡８にて反射されたテラヘルツ光Ｔ１は、平行光となって放物面鏡３２に入射し、放物面鏡３２によって集光され、試料３０の一点を照射する。
【００２８】
試料３０は、第１〜第３の実施の形態とは異なり、筺体２０Ａ内に保持されている。図示されていないが、試料３０を平行光の光軸に直交する２次元領域に沿って移動させることによって、テラヘルツ光Ｔ１は、試料３０の任意の地点を照射することができる。筺体２０Ａの中は、真空または置換ガス（例えば、乾燥窒素、アルゴンガス）雰囲気となっている。
【００２９】
試料３０を透過したテラヘルツ光Ｔ２は、放物面鏡３３にて反射され、平行光となって放物面鏡１１に入射し、放物面鏡１１によって反射され、テラヘルツ光検出器１１２に入射する。テラヘルツ光検出器１１２は、テラヘルツ光検出素子１１２ａとこれに接合された半球レンズ１１２ｂから成る。
本実施の形態では、半球レンズ１１２ｂは、テラヘルツ光を通過させる光学素子であり、さらに、筺体内と大気を隔てる筺体窓を兼ねている。テラヘルツ光Ｔ２は、半球レンズ１１２ｂによって収束され、テラヘルツ光検出素子１１２ａの一点に導かれる。前述したとおり、ビームスプリッタで分割された他方のレーザー光Ｌ３がこの地点に入射することにより、テラヘルツ光Ｔ２が検出される。
【００３０】
テラヘルツ光発生素子１０７ａからテラヘルツ光検出素子１１２ａまでの光路は、テラヘルツ光Ｔ１とＴ２が通過する光路である。そして、放物面鏡８、３２、３３および１１がテラヘルツ光学系を構成するテラヘルツ光学素子である。なお、半球レンズ１０７ｂ、１１２ｂの材料としては、Ｓｉが用いられる。
【００３１】
本実施の形態のテラヘルツ分光装置では、テラヘルツ光発生器１０７の半球レンズ１０７ｂとテラヘルツ光検出器１１２の半球レンズ１１２ｂをテラヘルツ光が透過する筺体窓として兼用しているので、筺体２０Ａの内部にはレーザー光が存在しない。従って、試料交換時およびテラヘルツ光学系の光軸調整時の安全性が確保できる。
【００３２】
本実施の形態のテラヘルツ分光装置では、レーザー光学系の光路は完全に筺体外に在るので、レーザー光学系の光軸調整を簡便に行うことができる。
また、第１〜３の実施の形態では存在したレーザー光入射窓５，１８が不要となるので、レーザー光の損失も小さくなり、特にフェムト秒パルスレーザー光を用いる場合には、レーザー光入射窓の分散によるレーザー光のパルス幅への影響もなくなる。
【００３３】
（第５の実施の形態）
図５は、本発明の第５の実施の形態によるテラヘルツ分光装置の光学系の全体構成図である。図５において、図４と対応する部品には同一符号を付し、相違点を主に説明する。また、図５では、レーザー光源とレーザー光学系は、図１および図４と同一であるので、説明を省略する。
【００３４】
図５に示される本実施の形態のテラヘルツ分光装置が第４の実施の形態の装置に対して相違する点は、図４の放物面鏡３２、３３を省略するとともに、試料３０を試料室３１に設置し、凸レンズ９と凸レンズ１０を筺体窓として用いたことである。なお、本実施の形態のテラヘルツ分光装置が第１の実施の形態の装置に対して相違する点は、半球レンズ１０７ｂと半球レンズ１１２ｂを筺体窓として用いたことである。すなわち、本実施の形態では、凸レンズ９、凸レンズ１０、半球レンズ１０７ｂおよび半球レンズ１１２ｂは、テラヘルツ光を通過させるとともに、筺体内と大気を隔てる筺体窓でもある。このような構成により、試料交換時の利便性、テラヘルツ光学系の光軸調整時の安全性が向上し、さらに、部品点数の削減と筺体の小型化が達成できる。
【００３５】
また、本実施の形態のテラヘルツ分光装置は、第４の実施の形態の装置と同様に、レーザー光学系の光路は完全に筺体外に在るので、レーザー光学系の光軸調整を簡便に行うことができ、テラヘルツ光学系の光軸調整を安全に行うことができる。さらに、レーザー光入射窓５，１８が不要となるので、レーザー光の損失も小さくなり、特にフェムト秒パルスレーザー光を用いる場合には、レーザー光入射窓の分散によるレーザー光のパルス幅への影響もなくなる。
【００３６】
本実施の形態は、テラヘルツ光が通過する光学素子は、第１の実施の形態と第４の実施の形態とを組み合わせたものである。同様にして、第２の実施の形態と第４の実施の形態とを組み合わせたり、第３の実施の形態と第４の実施の形態とを組み合わせても本発明によるテラヘルツ分光装置を提供できる。
【００３７】
第１〜第５の実施の形態では、試料を透過するテラヘルツ光を測定する透過測定について説明したが、試料で反射する反射測定の場合にも本発明が適用できる。
また、第１〜第３および第５の実施の形態では、試料３０は、試料室３１に保持され、大気中にある。大気中の水蒸気の影響を少なくするためには、テラヘルツ光の大気中の光路はできるだけ短い方がよい。このためには、凸レンズ９，１０の焦点距離を短くすればよい。その結果、試料室が小さくなり、筺体も小さくできる。
なお、第１〜第５の実施の形態では、筺体内は、真空または置換ガス雰囲気とするのが望ましいが、大気開放状態でも外界からの塵埃等の影響を軽減することができる。
【００３８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、筺体のサイズが小さいテラヘルツ分光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るテラヘルツ分光装置の光学系の光路図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態に係るテラヘルツ分光装置のテラヘルツ光学系の光路図である。
【図３】本発明の第３の実施の形態に係るテラヘルツ分光装置のテラヘルツ光学系の光路図である。
【図４】本発明の第４の実施の形態に係るテラヘルツ分光装置の光学系の光路図である。
【図５】本発明の第５の実施の形態に係るテラヘルツ分光装置の光学系の光路図である。
【図６】比較例として挙げられたテラヘルツ分光装置のテラヘルツ光学系の光路図である。
【符号の説明】
１：レーザー光源
３：ビームスプリッタ
７，１０７：テラヘルツ光発生器
７ａ，１０７ａ：テラヘルツ光発生素子
７ｂ，１０７ｂ：半球レンズ
８，１１，３２，３３：放物面鏡
９，１０：凸レンズ
１２，１１２：テラヘルツ光検出器
１２ａ，１１２ａ：テラヘルツ光検出素子
１２ｂ，１１２ｂ：半球レンズ
２０，２０Ａ：筺体
３０：試料
Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３：レーザー光
Ｔ１，Ｔ２：テラヘルツ光
【図１】
2004271261.tif 000003
【図２】
2004271261.tif 000004
【図３】
2004271261.tif 000005
【図４】
2004271261.tif 000006
【図５】
2004271261.tif 000007
【図６】
2004271261.tif 000008