(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネル等のガラス基板に形成された蛍光体の印刷欠陥を、蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度に自動的に検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。【解決手段】基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像し、撮像により得られる画像信号から上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出し、上記画像信号から上記パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較し、上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出することからなるパターン欠陥検査方法。【選択図】図１
2004117150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像する撮像部と、上記撮像部を上記パターンに沿って移動する移動機構部と、上記撮像部からの映像信号を入力される画像処理部と、上記画像処理部の出力を表示する表示部および上記移動機構部と上記画像処理部を制御する制御部とからなり、上記画像処理部は、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向検出部と、上記パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較する比較部と上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出する欠陥検出部とからなることを特徴とするパターン欠陥検査装置。
【請求項２】
請求項１記載のパターン欠陥検査装置において、上記撮像部は、複数個のラインセンサカメラが直線状に配置され、且つ、それぞれのラインセンサカメラは、その視野範囲が一部オーバーラップするように配置され、上記移動機構部は、上記直線状に配置された複数個のラインセンサカメラを、上記カメラの配列方向とは直角な方向に一定速度で移動させる機能を有することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
【請求項３】
請求項１記載のパターン欠陥検査装置において、上記２箇所の画像データは、上記蛍光体のストライプの長手方向に隣接する２つのブロック領域からの画像データであり、上記比較部は、上記２つのブロック領域から得られる画像データの差画像を出力することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
【請求項４】
基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像するステップ、上記撮像により得られる画像データから上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出するステップ、上記画像データから上記パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較するステップおよび上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出するステップとからなることを特徴とするパターン欠陥検査方法。
【請求項５】
請求項４記載のパターン欠陥検査方法において、上記画像データから上記ストライプ状パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較するステップは、上記蛍光体のストライプの長手方向に隣接する２つのブロック領域を選定するステップおよび上記２つのブロック領域から得られる画像データの差画像を検出するステップからなり、上記２つのブロック領域をその関連性を保持しながら上記パターン全体を移動し、それぞれの差画像を検出することを特徴とするパターン欠陥検査方法。
【請求項６】
請求項５記載のパターン欠陥検査方法において、上記撮像により得られる画像データから上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出するステップは、上記画像データの輝度信号レベルの投影波形の周期性を検出するステップであることを特徴とするパターン欠陥検査方法。
【請求項７】
請求項５記載のパターン欠陥検査方法において、更に、上記２つのブロック領域を１ブロック上記蛍光体ストライプの長手方向に移動し、移動前の上記２つのブロック領域から得られる画像データの差画像と移動後の上記２つのブロック領域から得られる画像データの差画像とを比較することにより欠陥のあるブロック領域を特定することを特徴とするパターン欠陥検査方法。
【請求項８】
請求項４記載のパターン欠陥検査方法において、上記基板は、プラズマディスプレイのガラス基板であり、上記各ステップは、上記蛍光体ストライプを上記ガラス基板上に形成する製造工程毎に繰り返されることを特徴とするパターン欠陥検査方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に関し、特に、プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を自動的に検査するパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布または印刷された蛍光体の塗布または印刷欠陥を検査するパターン欠陥検査装置は、従来から知られている装置がある。この装置は、例えば、蛍光体をストライプ状に形成されたプラズマディスプレイ等のガラス基板に紫外線照明光源により紫外線を照射し、形成された蛍光体を発光させる。この発光画像をラインセンサ（一次元センサ）のような撮像部により撮影する。形成されている蛍光体は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体であるため、撮像部により撮像する場合、Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれの蛍光体に対応したカラーフィルタを撮像部に装着し、それぞれの蛍光体に対応する画像を撮影するように構成されている。撮像部により撮像された画像は、画像処理部に出力され、例えば、表示装置等に表示することによりガラス基板に塗布された蛍光体ストライプのパターン欠陥を検査する装置である。
【０００３】
図９は、上記従来のパターン欠陥検査装置によりプラズマディスプレイのガラス基板に塗布されたストライプ状の蛍光体の撮影画面である。図９において、９１は、ガラス基板の一部を表示したものであり、ガラス基板９１上にＲ、Ｇ、Ｂの各色の蛍光体がストライプ状に塗布されている状態を示している。９２は、赤色（Ｒ）蛍光体ストライプ上にあるピンホールのような欠陥部を示している。また、ガラス基板９１の周辺部に表示されている波形は、撮像部から得られる画像の輝度信号レベルを表示している。９３、９４は、輝度信号の０レベルを表している。９５は、一点鎖線Ａで示される赤色（Ｒ）蛍光体ストライプの輝度信号レベルを示している。欠陥部９２の部分は、例えば、ピンホール欠陥のため赤色（Ｒ）蛍光体の発光がなく、輝度信号レベルが低くなっている。９６は、一点鎖線Ｂで示される部分、即ち、蛍光体ストライプの塗布されていない間隙部分の輝度信号レベルを示している。９８は、一点鎖線Ｃで示される部分の輝度信号レベルを示し、欠陥部９２の部分は、輝度信号レベルが低くなっていることがわかる。９７、９９は、輝度信号レベルの閾値、即ち、欠陥判定レベルを示し、一般的に最大輝度信号レベルの５０％程度に設定される。しかし、欠陥検出の精度との関係から適宜調節したり、あるいは実験的に定められる。
【０００４】
以上のように輝度信号レベルから蛍光体の塗布欠陥を検出するものであるが、図９の輝度信号レベルからも明らかなように、蛍光体塗布欠陥部９２の輝度信号レベルは、閾値よりも低くなっているが、同時に、蛍光体を塗布されていない間隙部分の輝度信号レベルも閾値より低くなっているため、蛍光体塗布欠陥部９２であるのか、間隙部分であるのかの判定を自動的に行なうことができない。なお、一見位置データを考慮すれば、蛍光体塗布欠陥部９２であるのか、間隙部分であるのかの判定が可能なように考えられるが、実際のプラズマディスプレイのガラス基板に塗布されている蛍光体ストライプの巾は、２００μｍ〜２５０μｍ、間隙の巾は、約１００μｍの極めて微細な蛍光面であるため、位置情報からの検出は不可能である。
【０００５】
また、微細な電極のようなパターンの欠陥検査として隣接比較検査法（例えば、特許文献１参照。）が知られている。これは、例えば、プラズマディスプレイの電極のような微細なパターンの欠陥を検出するものである。その方法は、複数の電極をグループ化し、そのグループの中の電極の１つと他のグループの中の電極の１つとを比較し、これを繰り返して全部の電極の欠陥を検査する方法が知られている。しかし、この隣接比較検査法によれば、グループ間の電極の比較をするためには、位置合わせを高精度に行なう必要があるが、上述したように、プラズマディスプレイの蛍光体ストライプは、極めて微細であるため、その位置合わせには、パターンの形状等も考慮する必要があり、その位置合わせを正確に行なうためには、極めて高精度の位置合わせ装置が必要になり、実用的で、低コストの欠陥検査装置の実現は難しい。
【特許文献１】
特開２０００−５５８１７号公報（第２、３頁、図１）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を自動的に検出するパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【０００７】
本発明の他の目的は、ストライプ状等の蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度にパターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【０００８】
本発明の他の目的は、欠陥位置の特定が容易に行なえるパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【０００９】
本発明の更に他の目的は、プラズマディスプレイ等のデスプレイパネルの製造ラインに容易に設置でき、高速の欠陥検査、かつ低価格を実現したパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明のパターン欠陥検査装置は、基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像する撮像部と、上記撮像部を上記パターンに沿って移動する移動機構部と、上記撮像部からの映像信号を入力される画像処理部と、上記画像処理部の出力を表示する表示部および上記移動機構部と上記画像処理部を制御する制御部とからなり、上記画像処理部は、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向検出部と、上記パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較する比較部と上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出する欠陥検出部とから構成される。
【００１１】
また、本発明のパターン欠陥検査装置において、撮像部は、複数個のラインセンサカメラが直線状に配置され、且つ、それぞれのラインセンサカメラは、その視野範囲が一部オーバーラップするように配置され、移動機構部は、上記直線状に配置された複数個のラインセンサカメラを、上記カメラの配列方向とは直角な方向に一定速度で移動させる機能を有するように構成される。
【００１２】
また、本発明のパターン欠陥検査装置において、少なくとも２箇所の画像データは、蛍光体のストライプの長手方向に隣接する２つのブロック領域からの画像データであり、比較部は、少なくとも２つのブロック領域から得られる画像データの差画像を出力するように構成される。
【００１３】
更に、本発明のパターン欠陥検査方法は、基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像するステップ、上記撮像により得られる画像データから上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出するステップ、上記画像データから上記パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較するステップおよび上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出するステップとからなる。
【００１４】
また、本発明のパターン欠陥検査方法において、画像データからストライプ状パターンの方向に関連付けられた少なくとも２箇所の画像データを比較するステップは、蛍光体のストライプの長手方向に隣接する少なくとも２つのブロック領域を選定するステップおよび上記２つのブロック領域から得られる画像データの差画像を検出するステップからなり、上記２つのブロック領域をその関連性を保持しながら上記パターン全体を移動し、それぞれの差画像を検出することで実現される。
【００１５】
また、本発明のパターン欠陥検査方法において、撮像により得られる画像データから上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出するステップは、上記画像データの輝度信号レベルの投影波形の周期性を検出するステップからなる。
【００１６】
また、本発明のパターン欠陥検査方法において、更に、２つのブロック領域を１ブロックだけ蛍光体ストライプの長手方向に移動し、移動前の上記２つのブロック領域から得られる画像データの差画像と移動後の上記２つのブロック領域から得られる画像データの差画像とを比較することにより欠陥のあるブロック領域を特定する。
【００１７】
更に、また、本発明のパターン欠陥検査方法において、上記基板は、プラズマディスプレイのガラス基板であり、ストライプ状パターン撮像ステップ、パターンの方向検出ステップ、２箇所の画像データの比較ステップおよび各比較結果からパターンの欠陥を検出するステップの各ステップが、各色の蛍光体ストライプを上記ガラス基板上に形成する製造工程毎に繰り返されることにより実現される。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明のパターン欠陥検査装置の一実施例を示す図である。図１において、１は、プラズマディスプレイ等のガラス基板の載置台、２は、プラズマディスプレイ等のガラス基板、３は、Ｒ、Ｇ，Ｂの蛍光体ストライプ、４は、蛍光体ストライプ３を発光させるための紫外線照明用光源、５は、レンズ及びＲ、Ｇ，Ｂのカラーフイルタを順次装着される光学系、６は、撮像用ラインセンサカメラ等の撮像部、７は、撮像部６並びに光源４をガラス基板２に沿ってガラス基板２上を走査する為の移動機構部、８は、ピンホール等の欠陥を検出する画像処理部、９は、検査結果を表示又は印字するカラーモニタ、プリンタ等の表示部、１０は、移動機構部７を駆動するための駆動部、１１は、画像処理部および駆動部を制御するための制御部であり、本検査装置の操作部も含まれている。また、画像処理部８は、後述するように画像入力部１２、差画像検出部１３および欠陥検出部１４から構成されている。
【００１９】
図２は、図１に示すパターン欠陥検査装置の載置台、ガラス基板および撮像部の拡大図を示すもので、図１と同じものには、同じ符号が付されている。載置台１は、検査時にガラス基板２を載置する台であるが、プラズマディスプレイパネルのガラス基板に、例えば、赤色（Ｒ）の蛍光体ストライプが塗布されると、その塗布状態を検査するために、矢印で示す方向から赤色（Ｒ）蛍光体ストライプを塗布されたガラス基板が搬送され、図２に示す所定の位置に固定され、欠陥の有無が検査される。緑色（Ｇ）の蛍光体ストライプを塗布するラインおよび青色（Ｂ）の蛍光体ストライプを塗布するラインでも同様の検査が行なわれる。なお、本実施例では、ガラス基板の大きさは、１４６０ｍｍ×１０３０ｍｍの大きさのものであるが、これに限定されるものではない。
【００２０】
２１は、移動機構部７の一部であり、撮像部６及び紫外線照明用光源４を支持するための支持部材である。撮像部６は、一枚のガラス基板の検査の為に、図のようにラインセンサカメラ４台が一列に配置され、巾１０３０ｍｍのガラス基板をカバーするように構成されている。１台のラインセンサカメラの撮影巾は、約２６０ｍｍで、ラインセンサカメラ間の視野範囲は、一部重なるように構成してある。紫外線照明用光源４からの紫外線２２は、ガラス基板２で反射し、赤色（Ｒ）の蛍光体ストライプ３の像を光学系５を介して撮像部６で撮影する。この支持部材２１は、赤色（Ｒ）の蛍光体ストライプ３の長手方向に等速で、例えば、ガラス基板２のＹ軸上を右端から左端へと移動し、ガラス基板全面の走査を行う。
【００２１】
以下、この動作について詳細に説明する。プラズマディスプレイ等のガラス基板２に紫外線照明光源４により紫外線２２を照射し、塗布または印刷されたストライプ蛍光体３を発光させる。その発光画像を撮像部６により撮像する。この時、検出すべき蛍光体の種類（Ｒ、Ｇ、Ｂ）により撮像部６には、それぞれの色の蛍光体に対応したカラーフィルタを装着することは、前述の通りである。撮像部６により撮像した画像は、画像処理部８に送出される。
【００２２】
図３は、本発明のパターン欠陥検査装置のピンホール等のパターン欠陥検出の原理を説明する図である。図３において、ガラス基板２上にＲ、Ｇ、Ｂの各色の蛍光体ストライプ３が周期的に塗布されている場合を示す。以後の説明については、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の蛍光体ストライプ３が全て塗布されているガラス基板について説明するが、実際の製造ラインでは、上述したように、各色の蛍光体ストライプが順に塗布される度に、検査されることは勿論であり、その方が、欠陥を検出した時点で、次の蛍光体塗布または印刷工程を止め、欠陥のあるガラス基板を洗浄し、再度、新しく蛍光体を塗布または印刷するようにした方が塗布または印刷の無駄をなくす点で優れている。また、そのためにも製造ラインのタクトタイムに合わせて、検査する必要があるため、検査スピードの速いパターン欠陥検査装置が必要である。
【００２３】
撮像部６で撮像した画像データは、画像処理部８に送られて、画像入力部１２に入力される。画像入力部１２では、画像データを複数のブロックに分割する。例えば、良く知られている４画素×４画素のブロック（以下、４×４ブロック等のように表示する）、８×８ブロック、あるいは３２×３２のブロック３１および３２を切り出し、差画像検出部１３に出力する。ブロック３１および３２は、欠陥を検出するための最小の単位ブロックであり、その大きさは、検査スピード、処理スピードおよび欠陥検出精度等から実験的に適宜設定される。
【００２４】
差画像検出部１３では、ブロック３１とブロック３２が比較される。比較方法としては、例えば、ブロック３１とブロック３２のそれぞれの画素の輝度信号レベルの比較をすることによりブロック３１とブロック３２の差画像検出３３を行なう。ピンホール等の欠陥３４が蛍光体ストライプ３（図３では、Ｒの蛍光体ストライプに欠陥３４がある場合を示す）上にある場合、差画像３５に欠陥３６が輝度信号レベルの差として検出される。差画像検出部１３の出力は、欠陥検出部１４で、差画像と予め設定された判定レベル（閾値）とが比較され、判定レベルを超えた場合、欠陥として検出される。この差画像３５は、直接表示部９に表示したり、あるいは、２値化された画像３７および２値化された欠陥３８の信号が得られるので、自動的に欠陥を検出できる。
【００２５】
従って、これらブロック３１とブロック３２を順次移動させ、ガラス基板全体について、差画像の検出を行なうことによりストライプ状の蛍光体全部の欠陥を検査できる。なお、これら検査データを記憶部（図示せず）に記憶すると共に、検査データを分析することにより、製造上の品質管理に役立てることも可能である。また、上記比較方法として輝度信号レベルによる比較を説明したが、これに限られるものではなく、画像信号のヒストグラムによる比較等でも差画像の検出ができることは言うまでもない。
【００２６】
而して、本発明のパターン欠陥検査装置では、図３に示すように、ブロック３１とブロック３２との関係は、蛍光体ストライプの長手方向（図３においては上下の位置関係）に位置されることが必要であり、また、ブロック３１とブロック３２を移動する場合も、この関係を保持することが必要である。この理由について、図４を用いて説明する。
【００２７】
図４は、ガラス基板２上に蛍光体ストライプ３が横方向に塗布され、ブロック３１とブロック３２との関係は、蛍光体ストライプの方向に対して直角な方向、即ち、図のように上下の関係に位置している。なお、図４の各部の符号は、図３と同じものには同じ符号が付されている。４１は、差画像、４２は、２値化画像を示す。図４において、ブロック３１とブロック３２の差画像検出３３を実行する場合、ブロック３１の各色のストライプ３の位置とブロック３２の各色のストライプ３の位置とが正しく一致しない場合、即ち、各色のストライプ３の位置がずれていると、差画像４１には、欠陥３６の他に、ブロック３１とブロック３２の各色のストライプ３の差分の信号分がストライプ４３として現われ、ストライプ状の欠陥として誤検出される。従って、２値化画像４２にもストライプ状の２値化差分値４４として、出力され、誤検出となる。
【００２８】
従って、図４のように、印刷パターンのストライプ方向とブロック３１とブロック３２の配列方向が異なる場合、両ブロック領域内のＲ、Ｇ、Ｂのストライプ位置を正確に合せる必要が有り、そのための処理は、画像相関演算等の膨大な計算処理が必要となり、製造ラインに設置するパターン欠陥検査装置としては、極めて実現が困難である。しかし、図３のように印刷パターンのストライプ方向とブロック３１とブロック３２の配列方向が同じであれば、図２で説明したように、撮像部６の移動方向は、ストライプの長手方向に一致しているため、ブロック３１とブロック３２の位置合わせは、ストライプ同士の位置合わせを行なう必要はなく、ブロック３１とブロック３２を合わせるだけで、位置合わせが出来るので、極めて位置合わせが容易となる。
【００２９】
換言すれば、撮像部６の配列方向をＸ軸方向、撮像部６の移動方向をＹ軸方向とすると、ブロック３１とブロック３２のＸ軸方向の位置は、移動機構７で常に一定に保たれ、位置合わせの必要がなく、ブロック３１とブロック３２のＹ方向の位置だけを一致させれば、簡単にブロック３１とブロック３２内の各色のストライプの位置を合致させることができるので、欠陥３４だけを簡単に検出することが可能となる。
【００３０】
次に、図３に示すようなパターン欠陥検査方法を採用する場合、ガラス基板上のストライプの方向を検出する必要がある。これについて図５および図６を用いて説明する。図５は、ガラス基板２上に縦方向にＲ、Ｇ、Ｂのストライプ状蛍光体が塗布されている状態を示している。これを第１図に示すパターン欠陥検査装置で撮像し、撮像された画像の輝度信号を処理することによりストライプの方向を検出する。即ち、５１は、横方向画素の輝度信号レベル（加算投影波形）、５２は、縦方向画素の輝度信号レベル（加算投影波形）を示す。５３、５４は、輝度信号の０レベル、５５，５６は、欠陥検出のための判定レベル（閾値レベル）を示す。撮像された画像の輝度信号は、画像処理部８で処理され、周期的に判定レベルを超える方向を検出することで、パターン方向を特定する。即ち、周期的に判定レベルを超える輝度信号レベル５２を検出した方がストライプ状蛍光体の長手方向となる。
【００３１】
図６では、ガラス基板２上に横方向にＲ、Ｇ、Ｂのストライプ状蛍光体が塗布されている状態を示している。従って、図５と同様に、周期的に判定レベルを超える輝度信号レベル５２を検出した方がストライプ状蛍光体の長手方向となる。なお、図６の各部の符号は、図５の各部の符号に対応する。
【００３２】
本発明の他の一実施例について、図７を用いて説明する。図７に示す実施例では、ストライプ状の蛍光体３は、ガラス基板２上に横方向に塗布された場合を示している。なお、図７の各部の符号は、図３と同じものには同じ符号が付されている。図７において、差画像を検出するためのブロック領域７１および７２の位置関係は、各色のストライプの長手方向、即ち、図７では、ブロック領域７１、７２が横方向の位置関係に配置されている。このような位置関係にすると、ブロック領域７１内の各色のストライプの位置関係と、ブロック領域７２内の各色のストライプの位置関係は、同じになるので、ブロック領域７１、７２の差画像検出３３を実行すると、差画像３５には欠陥３６のみの信号が得られる。従って、２値化画像３７には、２値化された欠陥３８の２値化信号が得られる。
【００３３】
次に、本発明のパターン欠陥検査装置の動作について、図１０を用いて説明する。
まず、第１ステップ１０１として、ストライプ状蛍光体（例えば（Ｒ）蛍光体）を塗布されたガラス基板２が載置台１に搬入固定されると、撮像部６が移動機構７によりＹ軸の原点０から撮像を開始する。
【００３４】
第２ステップ１０２では、検査領域の検出が行なわれる。これはラインセンサカメラが最初に紫外光を受光した時点であり、これを基準にして全ての処理ステップがスタートする。
【００３５】
第３ステップ１０３では、まず、印刷されたストライプ状蛍光体の方向の判定が行なわれる。即ち、図３および図４で説明したように本発明では、ストライプ状蛍光体の方向の判定がピンホール等の欠陥検査に極めて重要である。この方向性判定は、ラインセンサカメラが蛍光体ストライプから反射される紫外光を受光した直後の、例えば、３２画素×３２画素の映像信号を検出し、図５および図６で説明した方法で、蛍光体ストライプの方向が判定される。なお、３２画素では、数本の蛍光体ストライプをカバーするので、方向性を判定するには、十分な画素数である。
【００３６】
第４ステップ１０４では、比較ブロックの方向が決定される。即ち、上述したように第３ステップで判定されたストライプ状蛍光体の方向に従って、比較する２個のブロックの位置関係が決定される。例えば、ストライプ状蛍光体の方向が図３のように縦方向であれば、２個のブロックの位置関係は、上下方向の位置関係とし、ストライプ状蛍光体の方向が図７のように横方向であれば、２個のブロックの位置関係は、横方向の位置関係となるように選ばれる。
【００３７】
以上説明した各実施例は、２つのブロックの位置関係は、間隙のない互いに密着した位置関係としているが、処理の方法によっては、一部、ブロックがオーバーラップしたり、あるいは、ブロック間の間を空けて画像を取込むようにすることも可能である。
【００３８】
第５ステップ１０５では、第４ステップで決められた２個のブロックの位置関係を保ちながら検査対象となるプラズマディスプレイパネル等のガラス基板全体にわたり、２個のブロックの差画像を求める。
【００３９】
第６ステップ１０６では、第５ステップで求められた差画像から得られる輝度信号レベルと、欠陥判定レベル（閾値）とを比較し、欠陥判定レベルより高い差信号レベルがあれば、これをパターン欠陥と判定する。なお、欠陥判定レベル（閾値）は、画像信号から得られる最高レベルの約５０％程度に設定されるが、実験的に、あるいは検査の過程で必要により適宜調節し、設定を変えることも可能である。
【００４０】
上記のようなステップが印刷あるいは塗布されたストライプ状蛍光体の例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色蛍光体について順次行なわれる。勿論、前述したようにＲ蛍光体の検査で欠陥が検出された場合は、次の色の蛍光体の塗布あるいは印刷の工程は、中止し、そのガラス基板は、蛍光体除去の工程に進み、再生される。
【００４１】
以上、本発明について詳述したが、本発明のパターン欠陥検査方法では、２個のブロックの差画像で欠陥を検出する方法を採用しているため、差画像検出結果から２個のブロックのどちらに欠陥があるのかの判定ができないという問題がある。この問題を解決するための方法について、図８を用いて説明する。
【００４２】
図８は、複数の差画像からどのブロック領域に欠陥があるのかを判別する方法を示している。図８において、Ｒ、Ｇ、Ｂのストライプ状蛍光体３の一部が示されており、Ｂのストライプ状蛍光体上にピンホール欠陥８１がある場合について説明する。なお、ガラス基板は、省略されている。まず、ブロック８２が領域１にあり、ブロック８３が領域２にある場合、２個のブロック８２と８３の差画像８４に欠陥８７が現われる。この段階では、欠陥８１がブロック８２と８３のいずれのブロック領域にあるのかの判定ができない。次にブロック８２と８３を１ブロックシフトする。即ち、領域２にブロック８２を、そして領域３にブロック８３を移動させ、ブロック８２と８３の差画像８５を求め、欠陥８８が検出された場合、領域２に欠陥８１があることが特定できる。更に、ブロック８２と８３を更に１ブロックシフトする。即ち、領域３にブロック８２を、そして領域４にブロック８３を移動させ、ブロック８２と８３の差画像８６を得た場合、差画像８６に欠陥がない場合は、領域３、４には、欠陥がないことが分かる。従って、この方法によれば、領域２に欠陥８１が存在し、領域１、３，４には、欠陥がないことが分かる。
【００４３】
以上、本発明について詳細に説明したが、本発明は、ここに記載されたプラズマディスプレイパネル等のガラス基板のパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に限定されるものではなく、上記以外のパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に広く適応することが出来ることは、言うまでも無い。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明は、プラズマディスプレイ等のガラス基板上にＲ、Ｇ、Ｂの各色蛍光体をストライプ状に塗布または印刷された蛍光体の塗布または印刷欠陥を自動的に検出でき、また、ストライプ状等の蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度にパターンの欠陥を検査できる。また、プラズマディスプレイ等の微細なパターンの欠陥検査が自動的に行なえるため、プラズマディスプレイ等のデスプレイパネルの製造ラインに容易に設置でき、高速の欠陥検査、かつ低価格を実現したパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるパターン欠陥検査装置の一実施例を示すブロック図である。
【図２】本発明の一実施例の一部分の拡大図を示す図である。
【図３】本発明の動作原理を説明するための図である。
【図４】本発明の動作原理を説明するための図である。
【図５】本発明の蛍光体ストライプの方向を検出するための原理説明図である。
【図６】本発明の蛍光体ストライプの方向を検出するための原理説明図である。
【図７】本発明の他の一実施例の動作原理を説明するための図である。
【図８】本発明の更に他の一実施例を説明するための図である。
【図９】従来のパターン欠陥検査装置の一例の動作を示す図である。
【図１０】本発明の欠陥検査方法の一実施例を説明するための図である。
【符号の説明】
１：ガラス基板載置台、２：ガラス基板、３：蛍光体ストライプ、４紫外線用光源、５：光学系、６：撮像部、７：移動機構、８：画像処理部、９：表示部、１０：駆動部、１１：制御部、Ｒ：赤色蛍光体ストライプ、Ｇ：緑色蛍光体ストライプ、Ｂ：青色蛍光体ストライプ、３１、３２：ブロック領域、３３：差画像検出、３４：欠陥、３５：差画像、３６：欠陥差画像、３７：２値化データ、３８：２値化欠陥データ。
【図１】
2004117150.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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