(57)【要約】【課題】本発明はレーザ光のエネルギを計測する機能を有する装置の小型化を図ることを課題とする。【解決手段】レーザ加工機１０は、ガラス基板１２が挿入されるチャンバ１４と、チャンバ１４の上部に配置されたレーザ光ユニット１６と、レーザ光のエネルギを計測する受光エネルギ計測装置１８とから構成されている。チャンバ１４の内部空間２４にはガラス基板１２が載置されるＸＹステージ２６が収納されている。さらに、チャンバ１４の天板２８には、長方形のレーザ光入射窓３０が設けられ、レーザ光入射窓３０から入射されたレーザ光が受光部３８に照射される。エアシリンダ４２により受光部３８を昇降させることにより、チャンバ１４の内部空間２４が小さくて済み、その分装置の小型化を図ることができる。【選択図】        図１
2004361277.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置において、
前記レーザ光の受光エネルギに応じた信号を出力する光電変換素子と、
前記レーザ光の受光エネルギを計測するとき、前記光電変換素子を前記ワークの加工位置近傍に移動させる移動機構と、
を備えたことを特徴とする受光エネルギ計測装置。
【請求項２】
前記ワークが載置されるＸＹステージと、
前記ＸＹステージを収納する密閉容器と、を備え、
前記移動機構は、前記ＸＹステージが退避した状態で前記光電変換素子を前記ワークの加工位置近傍に移動させることを特徴とする請求項１記載の受光エネルギ計測装置。
【請求項３】
前記移動機構は、前記密閉容器の底部に設けられ、前記光電変換素子を昇降させることを特徴とする請求項２記載の受光エネルギ計測装置。
【請求項４】
前記移動機構は、前記光電変換素子を冷却するための冷却手段を備えたことを特徴とする請求項１乃至３何れか記載の受光エネルギ計測装置。
【請求項５】
前記密閉容器は、
前記レーザ光が入射される窓と、
該窓に対向して設けられ、前記レーザ光の照射範囲が前記光電変換素子の大きさに応じた寸法となるように前記レーザ光の幅を規制するレーザ光規制手段と、
を備えたことを特徴とする請求項２記載の受光エネルギ計測装置。
【請求項６】
前記請求項１乃至５何れか記載の受光エネルギ計測装置を備えたレーザ加工機。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置及び受光エネルギ計測装置を有するレーザ加工機に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、レーザ光をワークに照射して加工するレーザ加工機においては、ワークが搬入されるチャンバを密閉構造にし、チャンバ内部を所定の環境となるようにガスの供給、あるいは真空状態にして加工に必要なエネルギを有するレーザ光をワークに照射するように構成されている。
【０００３】
この種のレーザ加工機を用いた加工方法として、非晶質珪素膜にレーザ光を照射して結晶性珪素膜に変成するアニール技術が開発されつつある。例えば、ガラス基板上の非晶質珪素膜をプラズマＣＶＤ法や減圧熱ＣＶＤ法で成膜し、レーザ光を照射することにより結晶性珪素膜に変成するアニール技術がある。
【０００４】
アニールの内容としては、例えば、ガラス基板や石英基板上に形成された珪素膜に対してレーザ光を照射して界面安定化する方法があり、非晶質珪素膜の結晶化、結晶性を有する珪素膜に対する結晶性のさらなる助長、不純物イオンの注入による損傷の回復、不純物の活性化がある。
【０００５】
上記のようなアニールを行うレーザ加工機では、アニールの条件に応じたエネルギを有するレーザ光をガラス基板（ワーク）に照射する必要があり、レーザ光のエネルギを計測し、ガラス基板に照射されるレーザ光のエネルギが所定レベルを維持するように光学系を調整していた（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、上記装置では、チャンバ内のステージにガラス基板を載置し、ガラス基板の上方からレーザ光を照射する構成であり、チャンバ内にはレーザ光の一部を計測装置に反射させる半透過ミラーが設けられている。そして、計測装置では、受光したレーザ光の照射エネルギ密度を計測する。
【０００７】
【特許文献１】
特開平９−２１３６５２号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のように構成された従来の装置では、チャンバ内に半透過ミラーや計測装置が設けられているため、チャンバ内部の環境に影響を与えるばかりかチャンバ内部容積を大きくしなければならず、装置の小型化を図ることが難しかった。
【０００９】
そこで、本発明は上記課題を解決した受光エネルギ計測装置及びレーザ加工機を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するため、以下のような特徴を有する。
【００１１】
上記請求項１記載の発明は、ワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置において、レーザ光の受光エネルギに応じた信号を出力する光電変換素子と、レーザ光の受光エネルギを計測するとき、光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させる移動機構と、を備えたものであり、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【００１２】
また、請求項２記載の発明は、ワークが載置されるＸＹステージと、ＸＹステージを収納する密閉容器と、を備え、移動機構により、ＸＹステージが退避した状態で光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させるものであり、光電変換素子をＸＹステージに干渉しないように密閉容器内部に移動させることが可能になり、装置の小型化を図ることが可能になると共に、ワークに照射される受光エネルギを正確に計測することが可能になる。
【００１３】
また、請求項３記載の発明は、密閉容器の底部に設けられた移動機構により、光電変換素子を昇降させるものであり、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から降下させることにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【００１４】
また、請求項４記載の発明は、移動機構が光電変換素子を冷却するための冷却手段を備えており、光電変換素子を外部から冷却することにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【００１５】
また、請求項５記載の発明は、密閉容器に、レーザ光が入射される窓と、窓に対向して設けられ、レーザ光の照射範囲が光電変換素子の大きさに応じた寸法となるようにレーザ光の幅を規制するレーザ光規制手段とを設けたものであり、一定の照射範囲で受光されたレーザ光の受光エネルギを計測することが可能になり、計測精度を高められると共に、小型化された光電変換素子を用いて装置の小型化を図ることが可能になる。
【００１６】
また、請求項６記載の発明は、請求項１乃至５何れか記載の受光エネルギ計測装置を備えたレーザ加工機であり、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面と共に本発明の一実施例について説明する。
図１は本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す概略構成図である。
【００１８】
図１に示されるように、レーザ加工機１０は、ガラス基板１２にレーザ光を照射することにより結晶性珪素膜に変成するアニールを行う装置であり、ガラス基板１２が挿入されるチャンバ（密閉容器）１４と、チャンバ１４の上部に配置されたレーザ光ユニット１６と、レーザ光のエネルギを計測する受光エネルギ計測装置１８とから構成されている。
【００１９】
レーザ光ユニット１６は、エキシマレーザからなるレーザ光源２０と、レーザ光源２０から出射されたレーザ光をチャンバ１４の上部中央に導く複数のレンズ、ミラー（図示せず）からなる光学系ユニット２２とを有する。
【００２０】
チャンバ１４は、密閉構造された箱状に形成されており、内部空間２４にはガラス基板１２が載置されるＸＹステージ２６が収納されている。さらに、チャンバ１４の天板２８の上面凹部２８ａには、透明な石英板が嵌められた長方形のレーザ光入射窓３０が設けられている。
【００２１】
レーザ光入射窓３０は、光学系ユニット２２から入射されるレーザ光のＹ方向幅寸法に対応してＹ方向に延在する長方形に形成されている。そして、チャンバ１４の上面凹部２８ａには、レーザ光入射窓３０の上側でレーザ光のＹ方向幅寸法を任意の寸法に規制するスリット機構（レーザ光規制手段）３２が設けられている。
【００２２】
また、チャンバ１４の底板３４の中央には、内部空間２４に連通する連通孔３６が設けられており、この連通孔３６には、レーザ光の入射幅よりも小さい小型の受光部３８と、受光部３８を昇降させる昇降機構（移動機構）４０が設けられている。昇降機構４０は、エアシリンダ４２からなり、エア切替ユニット４４からの圧縮空気の供給により受光部３８を昇降させるように構成されている。
【００２３】
また、エアシリンダ４２は、内部に冷却水供給ユニット４６に接続された管路４８，４９が挿通されており、受光部３８に冷却水を供給してレーザ光による温度上昇が防止される。
【００２４】
上記レーザ光源２０、ＸＹステージ２６、スリット機構３２、受光部３８、エア切替ユニット４４、冷却水供給ユニット４６は、制御部５０により制御される。そして、制御部５０は、後述するように、レーザ光の受光エネルギを計測すると共に、ガラス基板１２が載置される加工位置近傍での受光エネルギが予め決められたレベルを維持するように光学系ユニット２２によるレーザ光の光強度を調整する。
【００２５】
制御部５０は、受光部３８から出力されたレーザ光の受光エネルギの計測値を記憶装置５２に記憶させる。また、記憶装置５２には、予め設定されたレーザ光の受光エネルギの基準値が登録されている。
図２は本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す正面図である。図３はレーザ加工機の側面図である。図４はレーザ加工機の平面図である。
【００２６】
図２乃至図４に示されるように、レーザ加工機１０のチャンバ１４は、鋼管を組み合わせた支持台５４により所定高さに支持されている。そして、チャンバ１４の底板３４には、昇降機構４０のエアシリンダ４２に支持された受光部３８が下方から挿通される連通孔３６が設けられている。エアシリンダ４２は、支持台５４の梁５６により支持された支持ベース５８から起立された支柱６０により垂直状態に支持されている。
【００２７】
また、エアシリンダ４２は、圧縮空気の圧力により昇降する可動部４２ａを有しており、可動部４２ａに受光部３８が取り付けられている。この受光部３８は、ケース内部に受光した光強度に応じた電気信号を出力する光電変換素子（「ジュールメータ」とも呼ばれている）６２が内蔵されている。
【００２８】
また、受光部３８は、レーザ光を受光した光電変換素子６２の発熱を減少させるため、冷却水供給ユニット４６から供給された冷却水により冷却される。
【００２９】
チャンバ１４は、右側板６４にガラス基板１２が挿入される挿入口６６が設けられており、右側板６４の外壁には挿入口６６を開閉するゲートバルブ６８が取り付けられている。
【００３０】
搬送用ロボット（図示せず）により挿入口６６から搬入されたガラス基板１２は、ＸＹステージ２６のワーク載置台７０に載置される。ＸＹステージ２６は、底板３４に設けられＸ方向に移動するＸ方向用移動ベース７２と、Ｘ方向用移動ベース７２上に載置されＹ方向に移動するＹ方向用移動ベース７４とを有する。Ｙ方向用移動ベース７４上には、ワーク載置台７０が搭載されている。
【００３１】
Ｘ方向用移動ベース７２及びＹ方向用移動ベース７４は、Ｘ方向用リニアガイド７６及びＹ方向用リニアガイド７８により移動方向をガイドされる。
【００３２】
そして、ＸＹステージ２６は、ガラス基板１２がワーク載置台７０に載置された状態でＸ方向用移動ベース７２及びＹ方向用移動ベース７４をＸ，Ｙ方向に移動させてレーザ光の照射位置に対するガラス基板１２の相対位置を移動させる。
【００３３】
また、ＸＹステージ２６は、受光部３８を計測位置（図３中２点鎖線で示す）まで上昇させる前に、ワーク載置台７０をチャンバ１４の中心からＹ方向に外れた退避位置（図３を参照）に移動させて受光部３８との干渉を回避させる。
【００３４】
図４に示されるように、チャンバ１４の天板２８の中央に設けられた長方形のレーザ光入射窓３０は、スリット機構３２により開口される幅寸法を規制される。また、チャンバ１４の天板２８には、複数のメンテナンス用開口が設けられており、各メンテナンス用開口は蓋部材８０によって閉塞されている。
【００３５】
図５は昇降機構４０を拡大して示す背面図である。
図５に示されるように、昇降機構４０は、受光部３８を昇降させるエアシリンダ４２を有しており、レーザ光のエネルギを計測しないときは受光部３８を実線で示す待機位置に降下させている。この待機位置は、受光部３８がＸＹステージ２６と干渉しない位置であり、且つチャンバ１４の底板３４より上方に位置している。
【００３６】
このように、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、受光部３８をワークの加工位置から離間させてチャンバ１４の底部に降下させることにより、チャンバ１４の内部空間２４が小さくて済み、その分装置の小型化を図ることができる。
【００３７】
また、昇降機構４０は、レーザ光のエネルギを計測する際に受光部３８を２点鎖線で示す計測位置に上昇させる。この計測位置は、受光部３８に内蔵された光電変換素子６２の受光面６２ａがＸＹステージ２６のワーク載置台７０に載置されたガラス基板１２の近傍となる高さ位置である。
【００３８】
尚、本実施例では、レーザ光を受光面６２ａの全面積で受光できるようにするため、光電変換素子６２の受光面６２ａがガラス基板１２の載置位置よりも寸法Ｌ（例えば、Ｌ＝８５ｃｍ）だけ低い高さ位置に静止するようにエアシリンダ４２の動作範囲が設定されている。これにより、レーザ光入射窓３０から入射されたレーザ光は、Ｘ方向幅寸法が光電変換素子６２の受光面６２ａのＸ方向幅とほぼ同一寸法になる高さ位置で光電変換素子６２に受光される。
【００３９】
従って、光電変換素子６２は、ガラス基板１２が載置される加工高さの近傍でレーザ光を直接受光することができるので、ガラス基板１２に照射されるレーザ光のエネルギを正確に計測することができる。
【００４０】
ここで、スリット機構３２の構成について説明する。
図６はスリット機構３２を拡大して示す平面図である。図７はスリット機構３２を拡大して示す背面図である。
【００４１】
図６及び図７に示されるように、スリット機構３２は、一対のスリット板８２，８３と、スリット板８２，８３をＹ方向へ駆動するＹ方向駆動機構８４と、Ｙ方向駆動機構８４が搭載された移動ベース８６をＸ方向へ移動させるＸ方向駆動機構８７とから構成されている。
【００４２】
スリット板８２，８３は、Ｙ方向に延在する規制部８２ａ，８３ａと、規制部８２ａ，８３ａを支持するようにＸ方向に延在する腕部８２ｂ，８３ｂとを有するＬ字状に形成されている。また、スリット板８２，８３の内部には、冷却水が流れるための流路（図示せず）が形成されており、腕部８２ｂ，８３ｂの両側には、冷却水供給管路８８が接続されている。そのため、スリット板８２，８３は、レーザ光のＹ方向幅を規制する際に加熱されるが、冷却水供給ユニット４６から供給された冷却水によって冷却される。
【００４３】
Ｙ方向駆動機構８４は、移動ベース８６上を摺動可能に設けられ、スリット板８２，８３を支持する摺動台９０，９１と、摺動台９０，９１のめねじに螺合された一対の送りねじ９２，９３と、一対の送りねじ９２，９３を回転駆動する駆動モータ９４と、送りねじ９２，９３を同軸上で連結するカップリング９６と、から構成されている。送りねじ９２，９３は、一方が右ねじで他方が左ねじに形成されている。そのため、駆動モータ９４が送りねじ９２，９３を回転駆動することにより、摺動台９０，９１は互いに近接する方向に摺動し、駆動モータ９４が送りねじ９２，９３を逆方向に回転駆動することにより、摺動台９０，９１は互いに離間する方向に摺動する。
【００４４】
従って、スリット板８２，８３は、長方形状に形成されたレーザ光入射窓３０の上方で近接または離間方向に摺動することでレーザ光入射窓３０に入射されるレーザ光のＹ方向幅を任意の寸法に規制することが可能になる。また、スリット板８２，８３は、最も近接した状態でも規制部８２ａ，８３ａ間には隙間があり、レーザ光を遮断するのではなく、Ｙ方向に延在するレーザ光のうち一部の入射を規制するものである。
【００４５】
そして、規制部８２ａ，８３ａ間の隙間Ｓは、レーザ光入射窓３０に入射されるレーザ光のＹ方向幅であり、光電変換素子６２の受光面６２ａのＹ方向幅寸法と同一となるように設定される（図３中、２点鎖線で示す）。そのため、小型化された光電変換素子６２を用いて装置の小型化を図ることが可能になる。
【００４６】
Ｘ方向駆動機構８７は、移動ベース８６をＸ方向にガイドする一対のリニアガイド９８，９９と、移動ベース８６をＸ方向に駆動するエアシリンダ１００と、エアシリンダ１００の可動部１００ａと移動ベース８６の端部とを連結する連結部１０２と、から構成されている。従って、Ｘ方向駆動機構８７は、移動ベース８６をＸ方向に駆動することにより待機位置（図６中実線で示す）からレーザ光のＹ方向幅を規制する規制位置（図６中２点鎖線で示す）へ移動させる。そして、移動ベース８６からＸ方向に延在するスリット板８２，８３の規制部８２ａ，８３ａがレーザ光入射窓３０を覆うように規制位置に移動する。
【００４７】
ここで、上記のように構成された受光エネルギ計測装置１８の計測動作と共に、制御部５０が実行する制御処理について図８のフローチャートを参照して説明する。
【００４８】
尚、図８の制御処理は、定期的に実行するようにしても良いし、あるいはメンテナンス時に行うようにしても良いし、あるいは操作者が任意のタイミングで行わせるようにしても良い。
【００４９】
図８に示されるように、制御部５０は、ステップＳ１１（以下「ステップ」を省略する）でレーザ光のエネルギを計測するための計測開始スイッチ（図示せず）がオンに操作されると、Ｓ１２に進み、ＸＹステージ２６のＸ方向用移動ベース７２及びＹ方向用移動ベース７４とを移動させてワーク載置台７０をチャンバ１４の中央から離間させる（図３参照）。
【００５０】
次のＳ１３では、エア切替ユニット４４から昇降機構４０へ圧縮空気を供給させてエアシリンダ４２の可動部４２ａを上昇させて受光部３８を計測位置（図３及び図５中、２点鎖線で示す位置）へ移動させる。
【００５１】
続いて、Ｓ１４では、冷却水供給ユニット４６から受光部３８及びスリット板８２，８３へ冷却水を供給し、受光部３８の温度上昇を抑制する。さらに、Ｓ１５に進み、スリット機構３２のＹ方向駆動機構８４の駆動モータ９４、及びＸ方向駆動機構８７のエアシリンダ１００を駆動させてスリット板８２，８３の規制部８２ａ，８３ａをレーザ光入射窓３０に対向する規制位置（図６中２点鎖線で示す）に移動させると共に、スリット板８２，８３のＹ方向の隙間Ｓを光電変換素子６２の受光面６２ａのＹ方向幅寸法と同一となるように設定する（図３中、２点鎖線で示す）。
【００５２】
次のＳ１６では、レーザ光源２０から出射したレーザ光が、光学系ユニット２２を介してチャンバ１４のレーザ光入射窓３０へ照射させる。このとき、レーザ光は、スリット機構３２のスリット板８２，８３の隙間Ｓによってレーザ光入射窓３０へ照射される範囲が規制され、光電変換素子６２の受光面６２ａの所定面積に照射される。このように、光電変換素子６２の受光面６２ａに照射されるレーザ光の受光面積を一定に保つことにより、計測された受光エネルギを予め設定された基準値と比較することが可能になる。
【００５３】
続いて、Ｓ１７では、光電変換素子６２から出力された電気信号からレーザ光の計測値（受光エネルギの値）を求め、計測値を記憶装置５２に記憶させると共に、計測値と基準値との差異からレーザ光の劣化割合を求めることができる。
【００５４】
次のＳ１８では、レーザ光の計測値に基づいて光学系ユニット２２に設けられたレーザ光調整機構（図示せず）によりレーザ光の強度を基準値に調整させる。そして、Ｓ１９では、計測終了スイッチ（図示せず）がオンに操作された否かを確認する。Ｓ１９において、計測終了スイッチ（図示せず）がオフの場合には、上記Ｓ１６〜Ｓ１９の処理を再度実行する。しかし、Ｓ１９において、計測終了スイッチ（図示せず）がオンの場合には、Ｓ２０に進み、レーザ光源２０への通電を停止させてレーザ光の照射を停止する。
【００５５】
続いて、Ｓ２１では、エア切替ユニット４４から昇降機構４０に対する圧縮空気の供給先を切り替えてエアシリンダ４２の可動部４２ａを降下させて受光部３８を待機位置（図３及び図５中、実線で示す位置）へ復帰させる。
【００５６】
さらに、Ｓ２２に進み、スリット機構３２のＹ方向駆動機構８４の駆動モータ９４、及びＸ方向駆動機構８７のエアシリンダ１００を駆動させてスリット板８２，８３を規制位置から待機位置（図６中実線で示す）に移動させる。そして、Ｓ２３では、ＸＹステージ２６のＸ方向用移動ベース７２及びＹ方向用移動ベース７４とを移動させてワーク載置台７０をチャンバ１４の中央に復帰させる（図２参照）。
【００５７】
その後、Ｓ２４に進み、冷却水供給ユニット４６から受光部３８及びスリット板８２，８３への冷却水の供給を停止させる。
【００５８】
このように、受光エネルギ計測装置１８では、受光部３８をガラス基板１２の載置位置の近傍に上昇させてレーザ光のエネルギを計測するため、レーザ光の実際の低下を正確に計測することが可能になり、レーザ光の強度を常に基準値を保つように調整することが可能になる。
【００５９】
尚、上記実施の形態では、計測開始スイッチ（図示せず）がオンに操作されると、図８に示す制御処理が実行されるものとしたが、これに限らず、例えば、制御部５０に予め設定された条件（年月日、時間、加工数、レーザ照射回数など）に基づいてレーザ光のエネルギを自動的に計測するようにしても良い。
【００６０】
また、上記実施の形態では、受光部３８をチャンバ１４の底部から昇降させる構成を一例として挙げたが、これに限らず、受光部３８をチャンバ１４の側面から水平移動させる構成としても良いのは勿論である。
【００６１】
また、上記実施の形態では、受光エネルギ計測装置をレーザ加工機に用いた場合について説明したが、これに限らず、レーザ光を使用する装置であれば、レーザ加工機以外の装置にも適用できるのは言うまでも無い。
【００６２】
また、上記実施の形態では、ガラス基板１２を加工するレーザ加工機を一例として挙げたが、ガラス基板１２以外のワークを加工する場合にも本発明を適用できるのは勿論である。
【００６３】
また、上記実施の形態では、チャンバ１４の内部空間に受光部３８を挿入する構成について説明したが、チャンバ１４を用いない装置にも本発明を適用できるのは勿論である。
【００６４】
【発明の効果】
上述の如く、請求項１記載の発明によれば、ワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置において、レーザ光の受光エネルギに応じた信号を出力する光電変換素子と、レーザ光の受光エネルギを計測するとき、光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させる移動機構と、を備えたため、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることができる。
【００６５】
また、請求項２記載の発明によれば、ワークが載置されるＸＹステージと、ＸＹステージを収納する密閉容器と、を備え、移動機構により、ＸＹステージが退避した状態で光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させるため、光電変換素子をＸＹステージに干渉しないように密閉容器内部に移動させることが可能になり、装置の小型化を図ることが可能になると共に、ワークに照射される受光エネルギを正確に計測することができる。
【００６６】
また、請求項３記載の発明によれば、密閉容器の底部に設けられた移動機構により、光電変換素子を昇降させるため、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から降下させることにより、装置の小型化を図ることができる。
【００６７】
また、請求項４記載の発明によれば、移動機構が光電変換素子を冷却する冷却手段を備えたため、光電変換素子を外部から冷却することにより、装置の小型化を図ることができる。
【００６８】
また、請求項５記載の発明によれば、密閉容器に、レーザ光が入射される窓と、窓に対向して設けられ、レーザ光の照射範囲が光電変換素子の大きさに応じた寸法となるようにレーザ光の幅を規制するレーザ光規制手段とを設けたため、一定の照射範囲で受光されたレーザ光の受光エネルギを計測することが可能になり、計測精度を高められると共に、小型化された光電変換素子を用いて装置の小型化を図ることができる。
【００６９】
また、請求項６記載の発明によれば、請求項１乃至５何れか記載の受光エネルギ計測装置を備えたレーザ加工機であるため、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す概略構成図である。
【図２】本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す正面図である。
【図３】レーザ加工機の側面図である。
【図４】レーザ加工機の平面図である。
【図５】昇降機構４０を拡大して示す背面図である。
【図６】スリット機構３２を拡大して示す平面図である。
【図７】スリット機構３２を拡大して示す背面図である。
【図８】制御部５０が実行する制御処理を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
１０  レーザ加工機
１２  ガラス基板
１４  チャンバ
１６  レーザ光ユニット
１８  受光エネルギ計測装置
２０  レーザ光源
２２  光学系ユニット
２６  ＸＹステージ
３０  レーザ光入射窓
３２  スリット機構
３８  受光部
４０  昇降機構
４２  エアシリンダ
４４  エア切替ユニット
４６  冷却水供給ユニット
５０  制御部
６２  光電変換素子
７０  ワーク載置台
７２  Ｘ方向用移動ベース
７４  Ｙ方向用移動ベース
８２，８３  スリット板
８４  Ｙ方向駆動機構
８６  移動ベース
８７  Ｘ方向駆動機構
９０，９１  摺動台
９２，９３  送りねじ
９４  駆動モータ
１００  エアシリンダ
【図１】
2004361277.tif 000003
【図２】
2004361277.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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