(57)【要約】【課題】輝点（異物）欠陥がなく、耐傷特性、耐久性にも優れた防眩性反射防止フイルムを用いて、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することがなく、輝点欠陥のない液晶表示装置及び画像表示装置を提供する。【解決手段】透明支持体上に、透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した後、最表面の凹凸を外部から形成してなる防眩性反射防止フィルムであって、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％以下であり、表面粗さＲａが０．０２〜２．００μｍであり、かつＲｚ／Ｒａが２〜３０である防眩性反射防止フイルムを用いて、偏光板、液晶表示装置及び画像表示装置を得る。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した後、最表面の凹凸を外部から形成してなる防眩性反射防止フィルムであって、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％以下であり、表面粗さＲａが０．０２〜２．００μｍであり、かつＲｚ／Ｒａが２〜３０であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【請求項２】
最表面の凹凸をエンボス加工により形成することを特徴とする請求項１記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項３】
透明支持体上に、透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した後、最表面の凹凸を、エンボスロールのＲａが０．２〜１００μｍであり、エンボスロール温度を８０〜２００℃とし、エンボス加工雰囲気の湿度を１０〜１００ｇ／ｍ３とした条件でエンボス加工することにより形成することを特徴とする請求項２に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
請求項３記載の製造方法で得られた防眩性反射防止フィルム。
【請求項５】
偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの少なくとも一方が請求項１、２又は４に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項６】
偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの一方が光学異方層を有する保護フィルムであり、かつ他方の保護フィルムが請求項１、２又は４に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする楕円偏光板。
【請求項７】
請求項５又は６記載の偏光板の防眩性反射防止フィルムでない側を液晶セル面に配置したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１、２又は４に記載の防眩性反射防止フィルムを用いることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピュータ、ワードプロセッサ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、テレビジョン等の画像表示に用いる液晶表示素子や画像表示素子に関し、特に、視角特性の向上を図る防眩性を有する防眩性反射防止フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム等の各種機能フィルム、それらを用いた偏光板、液晶表示装置及び画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィルムが設けられている。反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタ法による製膜方法は、生産性が低く大量生産に適していない。
ＰＶＤ法による反射防止膜は、用途に応じて表面凹凸による防眩性を有する支持体上に形成される場合がある。平滑な支持体上に形成されたものより平行光線透過率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果とあいまって、画像形成装置に適用するとその表示品位は著しく改善される。
【０００３】
これらの蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止膜を形成する方法が提案されている。
特許文献１は、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示している。反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成される。
特許文献２は、支持体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反射防止膜を開示している。同公報は、支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止膜も開示している。低屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形成されている。
【０００４】
特許文献３は、二種類以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ２とＳｉＯ２）を混在させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜を開示している。混合比を変化させることにより屈折率を変化させ、上記特許文献２に記載されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止膜と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシリケートの熱分解で生じたＳｉＯ２により接着している。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。特許文献３の第１図に示されているように、二酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒子の間に間隙が生じている。
特許文献４は、上記特許文献３記載の反射防止膜に存在する超微粒子間隙をバインダーで充填することを開示している。
特許文献５は、多孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止膜を開示している。
特許文献６は、低屈折率層に無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねてミクロボイドを含有させた層を用いた、ウエット塗布による３層構成の反射防止膜を有するフィルムを開示している。オールウエット塗布による安価な製造コストにて、膜強度と反射率の低さを両立した反射防止フィルムを与える技術が公開されている。
【０００５】
上述したような塗布による反射防止フィルムに防眩性を付与する手段としては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を、反射防止層を形成する塗布液に添加する方法の他に、特許文献７及び特許文献８は、平滑な反射防止フィルムの作成後に、エンボス法等によって表面凹凸構造を形成する方法を開示している。
【０００６】
【特許文献１】
特公昭６０−５９２５０号公報
【特許文献２】
特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献３】
特開平２−２４５７０２号公報
【特許文献４】
特開平５−１３０２１号公報
【特許文献５】
特開平７−４８５２７号公報
【特許文献６】
特開平１１−６９０２号公報
【特許文献７】
特開２０００−２７５４０１号公報
【特許文献８】
特開２０００−２７５４０４号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、エンボス加工均一化による更なる面状改良、塗布液凝集物などの異物が原因となる耐傷特性の改善、長期使用時における防眩性能の低下の防止が強く望まれていた。
従って、本発明の目的は、塗布層である低屈折率層を有していても、蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを有し、輝点（異物）欠陥がなく、耐傷特性、耐久性にも優れた防眩性反射防止フィルム並びにその製造方法を提供することである。
また、偏光子および該防眩性反射防止フィルムからなる偏光板を提供すること、さらに該偏光板に液晶性化合物からなる光学異方層を有し、視野角（特に下方向視野角）を拡大し、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することがなく、輝点欠陥のない液晶表示装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記性能に優れた防眩性反射防止フィルムを備えた画像表示装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記構成の防眩性反射防止フィルム、その製造方法、並びに偏光板、液晶表示装置および画像表示装置により達成される。
（１）透明支持体上に、透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した後、最表面の凹凸を外部から形成してなる防眩性反射防止フィルムであって、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％以下であり、表面粗さＲａが０．０２〜２．００μｍであり、かつＲｚ／Ｒａが２〜３０であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
（２）最表面の凹凸をエンボス加工により形成することを特徴とする上記（１）記載の防眩性反射防止フィルム。
【０００９】
（３）透明支持体上に、透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した後、最表面の凹凸を、エンボスロールのＲａが０．２〜１００μｍであり、エンボスロール温度を８０〜２００℃とし、エンボス加工雰囲気の湿度を１０〜１００ｇ／ｍ３とした条件でエンボス加工することにより形成することを特徴とする上記（２）に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（４）上記（３）記載の製造方法で得られた防眩性反射防止フィルム。
【００１０】
（５）偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの少なくとも一方が上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
（６）偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの一方が光学異方層を有する保護フィルムであり、かつ他方の保護フィルムが上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする楕円偏光板。
【００１１】
（７）  偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの一方に液晶性化合物を含有することからなる光学異方層を有し、かつ他方の保護フィルムが上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする楕円偏光板。
（８）  液晶性化合物がディスコティック化合物であることを特徴とする上記（７）に記載の楕円偏光板。
【００１２】
（９）上記（５）〜（８）のいずれかに記載の偏光板の防眩性反射防止フィルムでない側を液晶セル面に配置したことを特徴とする液晶表示装置。
（１０）上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムを用いることを特徴とする画像表示装置。
【００１３】
本発明は、表面凹凸を有する低反射率層を有する防眩性反射防止フィルムの耐傷特性や輝点欠陥、防眩性能の耐久性が、表面の局所的な凹凸の多少と関連が深く、Ｒｚ／Ｒａ値と相関することを見出し、Ｒａ値が０．０２〜２．００μｍ且つＲｚ／Ｒａ値が２〜３０となるように最表面の凹凸を外部から形成することにより（好ましくはエンボス加工により）、上記課題が解決された、良好な防眩性能と反射防止性能を兼ね備えた防眩性反射防止フィルムを提供できることを知見したものである。更に、それを用いて、優れた性能の偏光板、液晶表示装置及び画像表示装置を得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の防眩性を有する防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を更に詳述する。
【００１５】
［表面粗さ］
防眩性反射防止フィルムの表面凸凹は、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定される基準長２．５ｍｍ、カットオフ値が０．８ｍｍで測定したときの中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を表し、本発明では、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０２〜２μｍであることを特徴とする。更にＲａが０．１〜１．５μｍであることが好ましく、０．３〜１．０μｍであることがより好ましい。更に本発明では、十点平均粗さ（Ｒｚ）とＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ値）が２〜３０であることを特徴とし、１１〜２５であることが好ましく、１３〜２０であることがより好ましい。
【００１６】
中心線平均粗さＲａは表面の凹凸の平均的な粗さを表すパラメータであり、この値が大きいほど表面の平均的な粗さが大きくなる。Ｒａが０．０２μｍ未満であると、充分な防眩機能を得ることができない。Ｒａが２μｍを越えると、解像度が低下したり、外光が当たった際に像が白く光ったりしやすい。Ｒｚは局所的な凹凸の大きさを表すパラメータであり、この値の中心線平均粗さに対する比率が大きいと局所的に突起が多く存在し、Ｒｚ／Ｒａが大きいほど、局所的に存在するブツが輝点となる面状欠陥が多いことを見出した。しかも、３０より大きいと輝点欠陥が顕著になるほか、耐擦り傷性能を悪化させることが分かった。
本発明では、反射防止フィルムの最表面の凹凸を、低屈折率層を形成した後、エンボスロールやサンドブラストなどを用いて外部から形成することにより、極めて容易に上記Ｒａ値及びＲｚ／Ｒａ値を所望の範囲に制御できる他、塗布液中に凝集物となる可能性のある粒子を含まず、凝集物の剥離によって誘因される表面の傷つきの懸念がないため、耐傷特性、耐久性に優れたものとすることができる。
【００１７】
我々が更に検討を進めた結果、同じ防眩性を与える防眩性反射防止フィルムであっても、このトータルの防眩性を発現するための、ひとつひとつの表面突起形状が異なると、ディスプレイ電源ＯＦＦ時または液晶の黒表示の時に、表面散乱性の違いで、外観状の黒の締まり（逆にいうと、白味）が異なることがわかった。表面突起の突起傾斜角が大きいと、広角域への表面散乱性が強くなるため、黒の締まりが損なわれて白っぽくなり、高級感が失われ、好ましくないことがわかった。特に、黒の締まりは、突起傾斜角度（９５％頻度）とよく相関があることを見出し、該角度が、好ましくは２０度以下、より好ましくは１５度以下、更に好ましくは１３度以下であるときに、黒の締まりが良好であることがわかった。ここで、「突起傾斜角度（９５％頻度）」とは、突起傾斜角度分布の角度の小さい側から９５％頻度の角度のことをいい、具体的には、表面の傾斜角を一定の範囲（１００点）にわたって計測し、その角度を小さい順にならべたときの９５番目の値を言う。
また、防眩性によく相関する、平均の表面突起傾斜角度（突起傾斜角度分布の角度の小さい側から５０％頻度の角度に相当）は、好ましくは１〜５度、より好ましくは１．５〜４．５度、更に好ましくは２〜４度である。
【００１８】
本発明の防眩性反射防止フィルムは、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％以下であることを特徴とする。０．５％以下であることが好ましく、０．４％以下であることがより好ましい。
また、５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下であることが好ましく、より好ましくは２．３％以下である。
【００１９】
５度入射における鏡面反射率は、サンプルの法線方向から＋５度の角度で入射した光に対して法線方向から−５度の角度で検出した反射光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度を示す。
一方、５度入射における積分反射率とは、サンプルの法線方向から＋５度の角度で入射した光に対して全ての方向に反射した光の強度の積分値の割合である。
【００２０】
防眩性反射防止フィルムの５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％を越えると、背景の映り込みが気になり、表示装置の表面フィルムに適用したときの視認性が低下する。
一方、防眩性反射防止フィルムの５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％を越えると、表示装置のコントラスト改善効果が少なくなり、防眩性付与のための表面凹凸起因の散乱光により表示画面が白化し、表示装置の表示品位が低下する。
【００２１】
防眩性反射防止フィルムのヘイズは値が低いほど、画像のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得ることができるため好ましく、ヘイズ値が高すぎると白っぽくなり好ましくない。ヘイズ値は１５％以下に制御することが好ましく、１０％以下とすることがより好ましい。なお、ヘイズ値はＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じ、村上色彩技術研究所製ＨＲ−１００を用いて測定できる。
【００２２】
［反射防止フィルムの形成］
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。ウエット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で特にグラビア法が好ましい。２層以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【００２３】
本発明では、少なくとも透明支持体と低屈折率層が必須であり、且つその最表面の凹凸が特定のＲａ値及びＲｚ／Ｒａ値を有することが特徴であり、それ以外の層構成については特に限定されない。低屈折率層は、透明支持体よりも低い屈折率を有していればよい。図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明の反射防止フィルムの基本的な層構成例を示す断面模式図であるが、これらの層構成に制限されず、多くのバリエーションがあることは勿論である。
例えば、図１（ａ）に示す如く、透明支持体（１３）の上に、下塗り層（１６）を介してハードコート層（１２）を設け、フィルム強度を上げる構成としてもよい。
【００２４】
図１（ｂ）では、透明支持体（１３）の上に、ハードコート層（１２）、高屈折率層（１４）及び低屈折率層（１１）の順序の層構成を有し、図１（ｃ）では、透明支持体（１３）の上に、ハードコート層（１２）、中屈折率層（１５）、高屈折率層（１４）及び低屈折率層（１１）の順序の層構成を有する。このような３層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の、それぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対して（λ／４）ｎ前後、またはその倍数であることが好ましいことが特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。
しかしながら、本発明の低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率特性を実現するためには、特に設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足する必要がある。
【００２５】
１００．００＜ｎ１ｄ１＜１２５．００          （Ｉ）
１８７．５０＜ｎ２ｄ２＜２３７．５０          （ＩＩ）
１１８．７５＜ｎ３ｄ３＜１３１．２５          （ＩＩＩ）
【００２６】
式中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００２７】
さらに、例えばトリアセチルセルロース（屈折率：１．４９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要があり、ポリエチレンテレフタレート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が１．５５〜１．６５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要がある。上記のような屈折率を有する中屈折率層や高屈折率層の素材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層あるいは高屈折率層と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも用いることができる。本発明の「実質的に３層」とは、このような等価膜を用いた４層、５層の反射防止層も含むものである。
このような式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）を満たす反射防止性層は鏡面反射率を極めて低く抑えることができ、前述したように、５度入射の鏡面反射率を０．６％以下とすることができる。
【００２８】
［防眩性の付与］
本発明の反射防止フィルムに防眩性を付与するのは、最表面の凹凸を外部から形成して行なうものである。最表面の凹凸を粒子含有した層を用いて制御するよりも、エンボスロールやサンドブラストなどを用いて形成するほうが容易に制御できる。
【００２９】
図２に、塗布型反射防止フィルムへの防眩性の付与法の一例を示す。図中、反射防止フィルム（１）の反射防止層（３）側の表面をエンボスロール（４）とバックアップロール（５）によりプレスして少なくとも一方の表面に凹凸を形成することによって、反射防止性を損なうことなく防眩性を発現させることができる。このようにエンボス加工により、表面に凹凸を有し、かつ膜の厚みが実質的に均一である低屈折率層を構成することができる。ここで厚さが実質的に均一であるとは、膜厚の均一性が±３％以下であることが好ましい。反射防止性を損なわないために必要な実質的な膜の均一性は、光干渉層の層数や設計によって異なる。例えば、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層が空気界面側より、この順序に各層とも（λ／４）ｎの厚みで積層された３層型設計の場合、各層の膜厚の均一性は±３％が上限であって、それ以上になると著しく反射防止性能が低下してしまう。
【００３０】
防眩性の程度は、エンボス金型形状、エンボス加工における膜面温度、雰囲気湿度、プレス圧力、処理速度等の工程条件および反射防止フィルムを有する透明支持体および各層の力学特性によって制御することができるが、より温和な条件での実施が、コスト等の観点から好ましい。
【００３１】
本発明のエンボス加工は、作製した反射防止フィルムに片面エンボシングカレンダー機を用いてエンボス加工することで行われる。エンボスロールの表面形状は形成される防眩性反射防止フィルムの表面形状に直接影響するので極めて重要である。エンボスロールの表面粗さＲａは０．２〜１００μｍであることが好ましく、０．２〜２０μｍであることがより好ましく、０．２〜５μｍであることが特に好ましい。エンボスロールの凹凸形状はランダムに配置されていることが好ましく、凸部から隣接する凸部までの平均距離は好ましくは１０〜８０μｍ、より好ましくは１５〜７５μｍである。エンボスロールの温度は、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層などの屈折率層とハードコート層および支持体などの粘弾性特性により影響を受けるが、好ましくは８０℃〜２００℃、より好ましくは８０〜１９０℃、更に好ましくは１２０〜１８０℃で実施される。
また、エンボス加工雰囲気の湿度は前述した各層や支持体が吸湿によりその粘弾性特性を変化させ、特に重要である。エンボス加工雰囲気の湿度は５〜１００ｇ／ｍ３であることが好ましく、１５〜９５ｇ／ｍ３であることがより好ましく、２５〜９０ｇ／ｍ３であることが特に好ましい。本発明の範囲の条件でエンボス加工することにより表面凹凸の経時変化を小さくすることができる。即ち、本発明の防眩性反射防止フィルムは６５℃９５％ＲＨの雰囲気下で１０００時間経時した後でもその防眩性を保持することができる。
エンボス加工時に低屈折率層やハードコート層の硬化を完了させずエンボス加工し、その後で硬化を完了させることでも、表面凹凸の経時変化を小さくすることができる。
【００３２】
エンボス加工の線圧は好ましくは１０〜１，２００ｋｇｆ／ｃｍ、より好ましくは５０〜９００ｋｇｆ／ｃｍであり、プレス前のプレヒートロール温度は好ましくは６０〜１８０℃、より好ましくは８０〜１８０℃、エンボス加工速度は好ましくは０．３〜１０ｍ／分、より好ましくは０．５〜５ｍ／分である。
【００３３】
また、エンボス加工は、支持体の上に、ハードコート層や中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層などを形成した後に行なうが、これらの層の形成に用いる熱または電離放射線硬化性素材の硬化をエンボス加工前に完了しておくことや、エンボス加工前に弱く硬化させてエンボス加工後に硬化を完了させることも好ましい。エンボス加工後に硬化を完了させることにより、エンボス加工により形成した表面凹凸が経時安定性、すなわち表面凹凸の耐久性を更に高めることができる。
【００３４】
［透明支持体］
透明支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリー１，４ーシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、非晶質ポリオレフィン（例、ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが挙げられる。
【００３５】
特に液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いるために本発明の反射防止フィルムを偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合にはトリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフイルムの作成法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、非晶質ポリオレフィン、およびノルボルネン系樹脂が好ましい。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。また、厚さは２５〜１０００μｍが好ましい。
【００３６】
［屈折率層］
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層としては、例えば、ＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ２（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ２（ｎ＝１．４５）等の低屈折率無機材料あるいはこれらを微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた材料、フッ素系、シリコーン系の有機材料等を用いることができる。これらの中でも本発明では特に熱または電離放射線により硬化する含フッ素化合物を用いることが好ましい。該硬化物の動摩擦係数は好ましくは０．０２〜０．１８、より好ましくは０．０３〜０．１５、純水に対する接触角は好ましくは９０〜１３０度、より好ましくは１００〜１２０度である。動摩擦係数が高いと、表面を擦った時に傷つきやすくなり、好ましくない。また、純水に対する接触角が小さいと指紋や油汚れ等が付着しやすくなるため、防汚性の観点で好ましくない。また本発明の低屈折率層には膜強度向上を目的として適宜シリカ粒子等のフィラーを添加しても良い。
【００３７】
低屈折率層に用いられる硬化性の含フッ素化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロー１，１，２，２ーテトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００３８】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロー２，２ージメチルー１，３ージオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００３９】
硬化反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己硬化性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の硬化反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【００４０】
また上記含フッ素モノマー単位、硬化反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００４１】
上記のポリマーに対しては特開平８−９２３２３号、１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号、同１２−１７０２８号公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
特にポリマーの硬化反応性基が水酸基、カルボキシル基のような単独で硬化反応性を持たない基の場合には硬化剤を併用することが必須であり、硬化剤としては例えばポリイソシアネート系、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物などを挙げることができる。
一方、硬化反応性基が自己硬化反応性の基である場合には、特に硬化剤を添加しなくても良いが、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物等種々の硬化剤を適宜併用することもできる。
【００４２】
本発明で特に有用な含フッ素共重合体は、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。
【００４３】
また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号に記載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらの場合ポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００４４】
防汚性付与に対しては上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン（例えばＫＦ−１００Ｔ，Ｘ−２２−１６９ＡＳ，ＫＦ−１０２，Ｘ−２２−３７０１ＩＥ，Ｘ−２２−１６４Ｂ，Ｘ−２２−５００２，Ｘ−２２−１７３Ｂ，Ｘ−２２−１７４Ｄ，Ｘ−２２−１６７Ｂ，Ｘ−２２−１６１ＡＳ（以上商品名、信越化学工業社製）、ＡＫ−５，ＡＫ−３０，ＡＫ−３２（以上商品名、東亜合成社製）、サイラプレーンＦＭ０２７５，サイラプレーンＦＭ０７２１（以上チッソ社製）等）を添加する手段も好ましい。この際これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０．５〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００４５】
本発明の低屈折率層では、市販の含フッ素化合物としてＴＥＦＲＯＮ  ＡＦ１６００（デュポン社製  屈折率ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製  ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製  ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２（ＪＳＲ（株）社製  ｎ＝１．４０）、オプスターＪＮ−７２２８（ＪＳＲ（株）社製  ｎ＝１．４２）、ＬＲ２０１（日産化学工業（株）社製  ｎ＝１．３８）（いずれも商品名）等を利用することもできる。
【００４６】
中屈折率層および高屈折率層は、屈折率の高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマ−、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化によって形成される。無機微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物からなるものが好ましい。このようにして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性、耐久性や密着性に優れる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や米国特許第６２１０８５８  Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
【００４７】
無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１〜１００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好ましくない。１００ｎｍ以上では、バインダーとの屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。
【００４８】
［ハードコート層］
本発明の反射防止フィルムにおいて、ハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設けることが好ましい。ハードコート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してもよい。ハードコートに用いる素材としては、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましく、架橋構造を有していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００４９】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。
【００５０】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造を導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジンアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。ハードコート層は、溶剤中にモノマーおよび重合開始剤を溶解し、塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成することが好ましい。重合開始剤については、ベンゾフェノン系等の水素引き抜き型、アセトフェノン系、トリアジン系等のラジカル開列型を単独あるいは併用してモノマーと共に塗布液に添加するのが好ましい。ハードコート層の塗布液に、少量のポリマー（例：ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。
【００５１】
ハードコート層の厚さとしては０．５〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍの範囲である。このようなハードコート層の厚さは、エンボス加工の適性に大きく影響する。即ち、ハードコート層が厚すぎるとエンボス適性を低下し、同じエンボス加工を行っても必要とする粗さを得ることができない。
本発明の反射防止フィルムには、さらに、防湿層、帯電防止層や保護層を設けてもよい。
【００５２】
［アルカリ鹸化処理］
本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが好ましい。アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフイルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止フィルム面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
【００５３】
［偏光板］
偏光板は、ポリマーフイルム上に配向膜および液晶性分子の配向を固定化した光学異方層を設けた光学補償シート、偏光子、本発明の防眩性反射防止フィルムをこの順に積層された層構成を有することが好ましい。
偏光子には、ヨウ素系偏光子、２色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
ポリマーフイルムの遅相軸と偏光子の透過軸の関係は、適用される液晶表示装置の種類により異なる。ＴＮ、ＭＶＡまたはＯＣＢの場合は、実質的に平行になるように配置する。反射型液晶表示装置の場合は、実質的に４５度となるように配置することが好ましい。
【００５４】
［光学補償シート］
光学補償シートは、鹸化処理したポリマーフイルムからなる透明支持体、その上に設けられた配向膜および配向膜上に形成された円盤状構造単位を有する光学異方層からなる。配向膜は架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜であることが好ましい。
光学異方層に用いられる円盤状構造単位を有する化合物としては、低分子量の円盤状液晶性化合物（モノマー）または重合性円盤状液晶性化合物の重合により得られるポリマーを用いることができる。円盤状化合物（ディスコティック化合物）は、一般に、ディスコティック液晶相（即ち、ディスコティックネマチック相）を有する化合物とディスコティック液晶相を持たない化合物に大別することができる。円盤状化合物は、一般に負の複屈折を有する。光学異方層は、ディスコティック化合物の負の複屈折性を利用したものである。
【００５５】
［光学異方層］
光学補償シートにおける光学異方層は、配向膜上に形成される。光学異方層は、円盤状構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であることが好ましい。光学異方層は、低分子量の液晶性円盤状化合物（モノマー）の層または重合性の液晶性円盤状化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層である。円盤状（ディスコティック）化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）  に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）  に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）  に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基がその直鎖として放射線状に置換された構造である。円盤状化合物には、液晶性を示すディスコティック液晶が含まれる。円盤状化合物から形成した光学異方層には、熱や光で反応する基を有する低分子ディスコティック液晶を反応させて重合または架橋することにより、高分子量化して液晶性を失ったものも含まれる。円盤状化合物については、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。
【００５６】
光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さにより変化していることが好ましい。
【００５７】
ディスコティック構造単位の面の角度（傾斜角）は、光学異方層の配向膜底面からの距離の増加と共に増加または減少している。傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、および増加および減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【００５８】
［液晶表示装置、画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、  ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。また、液晶表示装置の視野角を改良する視野角拡大フィルムなどの光学補償フィルム、位相差板等を組み合わせて使用することもできる。また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用できる。
【００５９】
【実施例】
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６０】
実施例１
＜ハードコート層用塗布液の調製＞
下記処方で化合物を混合溶解した。得られた溶液を、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
【００６１】
（ハードコート層用塗布液処方）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）        ２４０質量部
ポリグリシジルメタクリレート                            １００質量部
メチルエチルケトン                                      １００質量部
シクロヘキサノン                                        １１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）      １０質量部
ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾル
のメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）          ４４０質量部
【００６２】
＜二酸化チタン分散物Ａの調製＞
下記処方で化合物を混合し、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が７０ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物Ａを調製した。
【００６３】
（二酸化チタン分散物Ａの処方）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）  １００質量部
下記の架橋反応性基含有アニオン性ポリマー（化１）            １５質量部
ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）  １質量部
シクロヘキサノン                                          １８４質量部
【００６４】
【化１】
2004271642.tif 000002
【００６５】
＜中屈折率層用塗布液の調製＞
シクロヘキサノン７４８２質量部、メチルエチルケトン１９００質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１３質量部及び光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５質量部を混合溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物Ａを３２０質量部及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２８０質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、中屈折率層用塗布液を調製した。
【００６６】
＜高屈折率層用塗布液Ａの調製＞
シクロヘキサノン５４００質量部、メチルエチルケトン１８００質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１３質量部及び光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）４質量部を混合溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物Ａを２５８３質量部及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２００質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【００６７】
＜低屈折率層用塗布液Ａの調製＞
シクロヘキサノン１９８質量部、メチルエチルケトン６３６質量部、光重合開始剤（ＵＶＩ１６９９０、ユニオンカーバイト社製）２質量部及び反応性シリコーン（Ｘ−２２−１６４Ｂ、信越化学工業（株）製）２質量部を混用溶解した。更に下記の含フッ素共重合体（化２）の１９．８質量％メチルイソブチルケトン溶液１６２質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【００６８】
（含フッ素共重合体（化２）の合成）
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル３６質量部、ヒドロキシエチルビニルエーテル１３質量部及び過酸化ジラウロイル１質量部を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。
さらに、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５質量部をオートクレーブ中に導入して７０℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が７０℃に達した時点の圧力は６．２ｋｇ／ｃｍ２であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．４ｋｇ／ｃｍ２に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。
さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行なうことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマーを２５質量部得た。
次に該ポリマーの２０質量部をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００質量部に溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１２質量部を滴下した後、室温で１２時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより含フッ素共重合体（１）を１８質量部得た。得られたポリマーの重量平均分子量は５．０万であり、屈折率は１．４２３であった。
【００６９】
【化２】
2004271642.tif 000003
【００７０】
＜試料１の作成＞
（反射防止フイルムの作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記のハードコート層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ２照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚９μｍ）を設けた。
続いて、上記の中屈折率層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ２照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率：１．６３、膜厚：６９ｎｍ）を設けた。
中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ２照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０６ｎｍ）を設けた。
さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ２照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４３、膜厚：８７ｎｍ）を設けた。このようにして反射防止フィルムを作製した。
【００７１】
（エンボス加工）
以上のように作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、凹凸形状がランダムに形成した表面粗さＲａが０．８０μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが４２μｍのエンボスロールを用いて、プレヒートロール温度が９０℃、エンボスロール温度が１７１℃、エンボス加工雰囲気の湿度が３９ｇ／ｍ３、エンボス線圧が３００ｋｇｆ／ｃｍ、処理速度が１．０ｍ／分の条件下で、エンボス加工を行ない、反射防止フィルム（試料１）を作製した。反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７２】
＜試料２〜８の作成＞
エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を表１に示した通りに変える以外は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルム（試料２〜８）を作製した。
いずれの反射防止フィルムの表面も、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７３】
＜比較用試料イの作成＞
エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を２３１℃及び１１４ｇ／ｍ３に変えた他は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルムを作製した（試料イ）。
エンボス温度、エンボス雰囲気湿度が本発明の範囲よりも高く、反射防止フィルムの表面反射率は１．５２％と高く、Ｒｚ／Ｒａ値も本発明の範囲を超えているため、輝点故障が発生するとともに、スチールウール耐性がない結果であった。各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一とはいえないものであった。
【００７４】
＜比較用試料ロの作成＞
エンボスロールのＲａが０．１３μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが２３μｍのエンボスロールを用いて、エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を７６℃及び４ｇ／ｍ３に変えた他は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルムを作製した（試料ロ）。
エンボスロールのＲａ値が本発明の範囲よりも小さいため、防眩性が本発明の防眩性反射防止フィルムよりも劣る結果であった。
【００７５】
＜試料９及び１０の作成＞
エンボスロールのＲａ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが表１に示した通りのエンボスロールを用いて、エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を表１に示した通りに変える以外は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルム（試料９及び１０）を作製した。
いずれの反射防止フィルムの表面も、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。
【００７６】
＜試料１１の作成＞
（反射防止フィルムの作製）
試料１の作成において、ハードコート層塗布後の紫外線照射量を１５０ｍＪ／ｃｍ２とし、中屈折率層用塗布後、高屈折率層用塗布後、低屈折率層用塗布後の紫外線照射量を３０ｍＪ／ｃｍ２、３０ｍＪ／ｃｍ２、４０ｍＪ／ｃｍ２とする以外は試料１の作成と同様に実施した。
作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、凹凸形状がランダムに形成した表面粗さＲａが０．８０μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが４２μｍのエンボスロールを用いて、プレヒートロール温度が９０℃、エンボスロール温度が１９２℃、エンボス加工雰囲気の湿度が４０ｇ／ｍ３、エンボス線圧が３００ｋｇｆ／ｃｍ、処理速度が１．０ｍ／分の条件下で、エンボス加工を行なった。
最後に紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ２照射して防眩性反射防止フィルムを作製した（試料１１）。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７７】
＜試料１２の作成＞
（反射防止フィルムの作製）
試料１の作成において、ハードコート層塗布後の紫外線照射量を１５０ｍＪ／ｃｍ２とし、中屈折率層用塗布後、高屈折率層用塗布後、低屈折率層用塗布後の紫外線照射量を３０ｍＪ／ｃｍ２、３０ｍＪ／ｃｍ２、４０ｍＪ／ｃｍ２とする以外は試料１の作成と同様に実施した。
作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、凹凸形状がランダムに形成した表面粗さＲａが０．８０μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが４２μｍのエンボスロールを用いて、プレヒートロール温度が９０℃、エンボスロール温度が１９０℃、エンボス加工雰囲気の湿度が４１ｇ／ｍ３、エンボス線圧が３００ｋｇｆ／ｃｍ、処理速度が１．０ｍ／分の条件下で、エンボス加工を行なった。
最後に紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ２照射して防眩性反射防止フィルムを作製した（試料１２）。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７８】
（反射防止フィルムの評価）
得られるフィルムについて、以下の項目の評価を行った。その結果を表１にまとめた。
【００７９】
（１）表面粗さ  （Ｒａ、Ｒｚ）
表面粗さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメント（株）製）にてＲａ、Ｒｚを測定し、Ｒｚ／Ｒａを計算した。
【００８０】
（２）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
【００８１】
（３）スチールウール擦り耐性の評価
♯００００のスチールウールに０．４９Ｎ／ｃｍ２の荷重をかけ、１００往復したときの傷の状態を観察して、以下の４段階で評価した。
◎：傷が全く付かなかったもの
○：殆ど見えない傷が少しついたもの
△：明確に見える傷が少しついたもの
×：明確に見える傷が付いたもの
【００８２】
（４）輝点故障
各フィルムの塗布層を設けた面の反対面（支持体面）を黒色インキで黒塗りし、塗布面側を上にして目視、光学顕微鏡（倍率：５０倍）による面状検査を行ない、１平方メートルあたりの目視可能な輝点故障（光学顕微鏡により確認）の数をカウントした。
【００８３】
（５）防眩性評価
作製した反射防止フィルムを、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、蛍光灯の反射像のボケ具合を、以下の基準で目視評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない                              ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる  （防眩性あり）              ：○
蛍光灯がほとんどぼけない      （防眩性不足）              ：×
【００８４】
（６）１０００時間経時後の防眩性評価
作製した反射防止フィルムを、６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下で１０００時間保持した後にルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、蛍光灯の反射像のボケ具合を、以下の基準で目視評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない                              ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる  （防眩性あり）              ：○
蛍光灯がほとんどぼけない      （防眩性不足）              ：×
【００８５】
【表１】
2004271642.tif 000004
【００８６】
表１の結果から、本発明の試料１〜１２の反射防止フイルムは、低反射率特性と防眩性を有し、輝点故障が少なく、傷がつき難い優れた防眩性反射防止フイルムであることが確認された。特に本発明の試料１１及び１２は６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、１０００時間経時しても防眩性の劣化の生じない優れた耐久性を有することが確認された。
【００８７】
実施例２
実施例１で作成した試料１〜１２の各反射防止フィルムを、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、いずれの試料においても画面のどの場所をとっても背景の映りこみが極めて少なく均一であり、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【００８８】
実施例３
実施例２の鹸化処理を、１．０規定のＫＯＨ水溶液を＃３バーにて反射防止フィルムの裏面に塗布し、膜面温度６０℃にて１０秒間処理した後に水洗、乾燥して行った以外は実施例２と同様にして、液晶表示装置に貼り付けたところ、実施例２と同様にいずれの試料においても画面のどの場所をとっても背景の映りこみが極めて少なく均一であり、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【００８９】
実施例４
実施例３の反射防止フィルムを貼り付けた透過型ＴＮ液晶セルの視認側に設置した偏光板の液晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側に設置した偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビュ−フィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フィルム（株）製）を用いたところ、いずれの試料においても明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【００９０】
実施例５
実施例１で作成した試料１〜１２の各反射防止フィルムを有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、いずれの試料においてもガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【００９１】
実施例６
実施例２で作成した片面反射防止フィルム付き偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
【００９２】
【発明の効果】
本発明によれば、塗布層である低屈折率層を有していても、蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを有し、輝点（異物）欠陥がなく、耐傷特性、耐久性にも優れた防眩性反射防止フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止フィルムの層構成例を示す断面模式図である。
【図２】反射防止フィルムへの表面凹凸付与法の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１  反射防止フィルム
２  透明支持体
３  反射防止層
４  エンボスロール
５  バックアップロール
１１  低屈折率層
１２  ハードコート層
１３  透明支持体
１４  高屈折率層
１５  中屈折率層
１６  下塗り層
【図１】
2004271642.tif 000005
【図２】
2004271642.tif 000006