(57)【要約】【課題】本発明は渦電流を生じさせて加熱する被加熱体の均一な加熱を実現する誘導加熱方法を提供するになる。【解決手段】被加熱体２に第１の渦電流３と、第１の渦電流３に近接した部位に該３とは反対周りの渦電流である第２の渦電流５を誘導し、第１の近接渦電流部位７と第２の近接渦電流部位９により略２倍の渦電流が流れるようにすることにより高い加熱温度が得られるようにして、高温部から低温部への熱伝導により第１の渦電流３と第２の渦電流５による加熱部位が全体として略均一の加熱温度となるようにしている。【選択図】　図２
2004127706.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性部材からなる被加熱体に第１の渦電流およびこの第１の渦電流に近接した第２の渦電流を誘導し、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位、この第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにしたことを特徴とする誘導加熱方法。
【請求項２】
第１の渦電流と第２の渦電流が、電気的に繋がった導体により形成された前記第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部と前記第２の渦電流を誘導する第２の誘導加熱コイル部により、前記第１の誘導加熱コイル部を流れて第２の誘導加熱コイル部に流れる誘導電流により誘導されるものであることを特徴とする請求項１記載の誘導加熱方法。
【請求項３】
導電性部材からなる被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部と、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部と、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部と、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにしたことを特徴とする誘導加熱コイル。
【請求項４】
誘導電流が第１の誘導加熱コイルを流れて第２の誘導加熱コイルに流れるものであることを特徴とする請求項３記載の誘導加熱コイル。
【請求項５】
導電性部材からなる被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とからなることからなることを特徴とする誘導加熱装置。
【請求項６】
第１の誘導加熱コイル部と第２の誘導加熱コイル部は電気的に繋がった導体からなり、誘導電流供給部から供給される誘導電流が前記第１の誘導加熱コイル部を流れて前記第２の誘導加熱コイル部に流れるものであることを特徴とする請求項５記載の誘導加熱装置。
【請求項７】
リードフレームなどとなる箔を含む金属薄部材からなる被加熱体を加熱することにより該被加熱体の表面の鏡面形成を行う装置であって、前記被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とを有してなることを特徴とする金属箔鏡面仕上装置。
【請求項８】
箔部材を含む金属薄部材などの被加熱体に、薄プラスチックフィルム等のフィルム膜を熱接合により張り付けコートする装置であって、前記被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とを有してなり、前記フィルムを接合する直前に前記被加熱体を誘導加熱してその熱により前記フィルムを熱接合似より張り付けるようにしてなることを特徴とするコーティング装置。
【請求項９】
コピー装置であって、表面を薄導体からなる被加熱体で形成した転写ドラムと、回転する前記被加熱体を所定の温度にするための第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とを有してなることを特徴とするコピー装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は被加熱体を均一に加熱する誘導加熱方法、誘導加熱コイル、誘導加熱装置、金属箔鏡面仕上装置、コーティング装置およびコピー装置に関する。
【０００２】
【従来技術】
従来、誘導加熱により平板状の被加熱体の端から端を加熱するために誘導加熱コイルは図１３および図１４に示すような行きと帰りの誘導電流を流す形態のものであった。
また、特開平６−１８８０６８（高周波誘導加熱装置）に、図１５に示す一本のコイル線で対向する第１の渦巻きコイル部と第２の渦巻きコイル部を形成して、前記第１の渦巻きコイル部と前記第２の渦巻きコイル部のそれぞれを開口側を向かい合うようにコの字形態と逆コの字形態に形成して、コイル間を薄肉鋼板材を通過させて加熱する第１の誘導加熱コイルの技術が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】特開平６−１８８０６８公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前述した従来技術のうち図１３および図１４に示す技術は、薄板金属部材からなる被加熱体に流れる渦電流と加熱状態は図１４に示すように、例えば２メガヘルツ程度の高周波誘導電流を流した場合、表皮効果により被加熱体の両端方に渦電流が集中して両端方が強く加熱され、内側の渦電流はそれぞれ反対方向に流れるので渦電流同士は互いに反発して且つ表皮効果により遠くに離れ、渦電流の内側部位は広い面積を有しているので両端の高温部位からの熱伝導が十分に届かず温度が上昇しない、すなわち両端方の温度が高く内側中央部に行くに従って低温状態の温度分布となり、被加熱体の加熱部位の加熱温度を均一化できないという欠点があった。
【０００５】
前述した従来技術のうち特開平６−１８８０６８に開示されている技術は、被加熱体の裏表に逆流の渦電流が生じるものであるので、表側の渦電流と裏側の渦電流が反発しあってあるいは打ち消しあうので効率的に昇温し難い、表裏の一方の側にあっては、第１の渦巻きコイルと第２の渦巻きコイルの誘導電流が全て同一方向であるため、同一方向の渦電流が全てとなるので、渦電流が内側に引き合い内側は加熱されるが渦電流の薄くなった端方の加熱が弱くなり、均一な加熱ができないという欠点があった。
実際、一回の誘導加熱では均一な加熱が得られないので特許公開公報の図２には、第１の誘導加熱コイルで加熱に続いて、端方の昇温を行うために両端方を加熱するための反発し合って端方を加熱する同じ向きの渦電流を被加熱体の両端に生じさせる第２の誘導加熱コイルを設けた技術が開示されている。
また、加熱コイルを複数巻きの渦巻きコイルとしたものであるので、加熱コイルがコスト高になるという欠点があった。
【０００６】
本発明は以上のような従来の欠点に鑑み、渦電流を生じさせて加熱する被加熱体の加熱部位の加熱温度の均一化が効率的に実現する誘導加熱方法、誘導加熱コイル、誘導加熱装置、金属箔鏡面仕上装置、コーティング装置およびコピー装置を提供することを目的としている。
【０００７】
本発明の前記ならびのそのほかの目的と新規な特徴は次の説明を添付図面と照らし合わせて読むと、より完全に明らかになるであろう。
ただし、図面はもっぱら解説のためであって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、導電性部材からなる被加熱体に第１の渦電流およびこの第１の渦電流に近接した第２の渦電流を誘導し、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位、この第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱方法を構成している。
【０００９】
導電性部材からなる被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部と、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部と、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部と、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とで、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイルを構成している。
【００１０】
導電性部材からなる被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とで誘導加熱装置を構成している。
【００１１】
リードフレームなどとなる箔を含む金属薄部材からなる被加熱体を加熱することにより該被加熱体の表面の鏡面形成を行う装置であって、前記被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とを有してなる金属箔鏡面仕上装置を構成している。
【００１２】
箔部材を含む金属薄部材などの被加熱体に、薄プラスチックフィルム等のフィルム膜を熱接合により張り付けコートする装置であって、前記被加熱体に第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とを有してなる、前記フィルムを接合する直前に前記被加熱体を誘導加熱してその熱により前記フィルムを熱接合似より張り付けるようにしてなるコーティング装置を構成している。
【００１３】
コピー装置であって、表面を薄導体からなる被加熱体で形成した転写ドラムと、回転する前記被加熱体を所定の温度にするための第１の渦電流を誘導する第１の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流に近接した部位に第２の渦電流を誘導する前記第１の誘導加熱コイル部に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部、前記第１の渦電流の内側部位である第１の近接渦電流部位を形成する前記第１の誘導加熱コイル部の第１の近接部、前記第１の近接渦電流部位に近接して流れる前記第２の渦電流の内側部位である第２の近接渦電流部位を形成する前記第２の誘導加熱コイル部の第２の近接部とからなり、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位の渦電流向きが同方向に流れるように前記第１の近接部と前記第２の近接部に同方向の誘導電流が流れるようにし、前記第１の近接渦電流部位と前記第２の近接渦電流部位からなる並行近接渦電流部位である前記被加熱体の内側部位が該第１の近接渦電流部位と該第２の近接渦電流部位の相乗効果により高い加熱温度が得られるようにして、熱伝導により前記第１の渦電流と前記第２の渦電流による加熱部位の加熱温度の均一化が効率的におこなわれるようにした誘導加熱コイル部と、この誘導加熱コイル部に高周波誘導電流を供給する高周波誘導電流供給部とを有してなるコピー装置を構成している。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面に示す実施の形態により、本発明を詳細に説明する。
【００１５】
図１ないし図３に示す本発明の第１の実施の形態において１は誘導加熱装置であって、この誘導加熱装置１は導電性薄板部材からなる被加熱体２に第１の渦電流３を誘導する第１の誘導加熱コイル部４と、第１の渦電流３に近接した部位に第２の渦電流５を誘導する第１の誘導加熱コイル部４に近接するように設けられた第２の誘導加熱コイル部６と、第１の渦電流３の内側部位である第１の近接渦電流部位７を形成する第１の誘導加熱コイル部４の第１の近接部８と、第１の近接渦電流部位７に近接して流れる第２の渦電流５の内側部位である第２の近接渦電流部位９を形成する第２の誘導加熱コイル部６の第２の近接部１０と、一本の銅管で一体に形成された第１の誘導加熱コイル部４及び第２の誘導加熱コイル部６からなる誘導加熱コイル１１に冷却水１２を循環させるためのホース部１３と、誘導加熱コイル１１に２メガヘルツの誘導電流１４を供給する下降トランス部１５、周波数変換部１６及び電源部とからなる誘導電流供給部１８と、冷却水１２を供給循環させる冷却部１９と、誘導電流供給部１８及び冷却部１９を制御する制御部２０とからなっている。
【００１６】
誘導電流１４は第１の近接渦電流部位７と第２の近接渦電流部位９の渦電流向きが同方向に流れるように第１の近接部８と第２の近接部１０に同方向の電流が流れるようになるので、第１の渦電流３と第２の渦電流５は反対周りの渦電流となり、第１の近接渦電流部位７と第２の近接渦電流部位９からなる並行近接渦電流部位２１である被加熱体２の内側部分が第１の近接渦電流部位７と第２の近接渦電流部位９により略４倍の渦電流が流れて他の部位より高い加熱温度が得られるようになっていて、且つ、低温部位が高温部位に囲まれて該低温部位が著しく狭くなっているので、高温部位から低温部位への熱伝導が極めて短時間に効率よく伝達し、第１の渦電流３と第２の渦電流５による加熱部位の加熱温度を短時間で均一化するようになっている。
このような誘導加熱方法によると、薄い導体はもちろんのこと特に厚い金属部材は熱伝導断面が大きいのでより効果的に加熱温度の均一化を実現することができる。
また、カラートタン板などの幅広部材の均一な加熱を実現することにより、カラー被膜材の熱定着などを低コストで可能とする。
図面において、昇温状態を円あるいは楕円の濃淡で示しており、濃いほど温度が高い場所であることを示している。
【００１７】
【発明の異なる実施の形態】
次に、図４ないし図１２に示す本発明の異なる実施の形態につき説明する。
なお、これら発明の異なる実施の形態の説明に当たって、前記本発明の第１の実施の形態と同一構成部分には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【００１８】
図４に示す本発明の第２の実施の形態において前記第１の実施の形態と主に異なる点は、略１．８メガヘルツ〜略３メガヘルツの高周波電流を使用し、そのうち最も好ましいと考える２メガヘルツの高周波誘導電流を流す誘導加熱コイル１１に同一形態の銅板を曲げ形成した誘導加熱コイル２３を一体化させて設け、非導電性で断熱性を有するドラム２４にリードフレーム用の箔を含む金属薄部材からなる被加熱体２５を巻いてなる試験装置を形成した点にある。
誘導加熱コイル１１の長て幅は１５０ｍｍ、コイル線の幅は２０ｍｍ、第１の誘導加熱コイル部４と第２位の誘導加熱部６のそれぞれのコイル間距離は２ｍｍ、第１の近接部８と第２の近接部１０のコイル間距離は２０ｍｍ、被加熱体２５の幅３０ｍｍ、厚み０．２ｍｍとなっている。
上記条件において、被加熱体２５を一定の速度で回転させて誘導加熱した結果、被加熱体２５の渦電流部位の加熱部位は被加熱体２５の表面を均一な鏡面状態に形成する許容温度範囲内に均一化されて、被加熱体２５の表面を斑のないきれいな鏡面状態に連続して形成できた。
これにより、省エネを実現した低コストの装置を可能とし、鉛レス半田を不良なく高信頼で実現する鏡面仕上げのリードフレームなどを低コストで実現することができる。
【００１９】
図５および図６に示す本発明の第３の実施の形態において前記本発明の第１の実施の形態と主に異なる点は、誘導加熱コイル２７の構造を導電流１４の供給を被加熱体２の進行方向である縦方向から行うようにした点にある。
誘導加熱コイル２７は第１の誘導加熱コイル部２８、第２の誘導加熱コイル部２９、第１の近接部３０、第２の近接部３１とからなっていて、第１の渦電流３２は被加熱体２の左側に第２の渦電流３３は右側に生じて、渦電流が二倍となる中央部と両端側が高い温度に加熱されて昇温し、温度の低い左右の中ほどに向かって熱伝導が起き、加熱部位の加熱温度が短時間で均一化されるようになっている。
【００２０】
図７および図８に示す本発明の第４の実施の形態において前記第１の実施の形態と主に異なる点は、誘導加熱コイルの構造を第１の誘導加熱コイル部３６、第２の誘導加熱コイル部３７、第３の誘導加熱コイル部３８、第４の誘導加熱コイル部３９からなる一本の導電性部材で形成した四葉形態の誘導加熱コイル４０にし、第１の渦電流４１、第２の渦電流４２、第３の渦電流４３、第４の渦電流４４が形成され、近接渦電流部位が４箇所に形成されるのでより広い範囲を均一な加熱温度にすることができる。
【００２１】
図９に示す本発明の第５の実施の形態において前記第１の実施の形態と主に異なる点は、誘導加熱装置１を備えたリードフレーム用金属箔鏡面仕上装置４６を構成した点にある。
リードフレーム用金属箔鏡面仕上装置４６は、金属箔巻体４７からの金属箔４８を搬送案内する案内ローラ４９、５０と、該４９、５０の間に設けられた断熱ローラ５１と、該５１の上方に設けられた金属箔４８に渦電流を誘導して該４８の加熱部位の加熱温度を均一化して表面を鏡面状態に仕上げる誘導加熱コイル１１と、リードフレーム材５２を形成するリードフレーム基板形成装置５４とからなっている。
リードフレーム用金属箔の加熱鏡面仕上げに限らず、他の金属薄板部材を含む金属箔の加熱鏡面仕上げ装置として使用できることはいうまでもない。
【００２２】
図１０に示す本発明の第６の実施の形態において前記第１の実施の形態と主に異なる点は、誘導加熱装置１を備えたコーティング装置５４を構成した点にある。
コーティング装置５４は、金属箔部材５５を案内する案内ローラ５６と、金属箔部材５５に渦電流を誘導して該５５の加熱部位の加熱温度を均一化する誘導加熱コイル１１と、金属箔部材５５の高温部位に上下からのプラスチックフィルム５７、５８を圧縮張り付けてラミネートシート５９を形成する圧縮ローラ６０とからなっている。
【００２３】
図１１に示す本発明の第７の実施の形態において前記第１の実施の形態と主に異なる点は、誘導加熱装置１を備えたコピー装置６２を構成した点にある。
コピー装置６２は、用紙６３を案内する案内ローラ６４、６５と、表面に薄金属部材からなる被加熱体６６で形成し且つローラ本体６７を断熱材で形成してなる転写ローラ６８と、該６８とで用紙を圧縮する圧縮ローラ６９と、被加熱体６６に渦電流を誘導して加熱部位の加熱温度を所望の範囲内に均一化する誘導加熱コイル１１とからなっている。
被加熱体６６の温度を検出して、この検出結果に基づいて所望の加熱温度内に絶えずなるように、誘導電流量を調節するように自動制御されている。
【００２４】
図１２に示す本発明の第８の実施の形態において前記第１の実施の形態と主に異なる点は、一本の導体で形成された、第１の誘導加熱コイル部７２、該７２に近接してなる第２の誘導加熱コイル部７３の二つの誘導加熱コイルにより、第１の近接渦電流部位７４、第２の近接渦電流部位７５、第３の近接渦電流部位７６を設けて、被加熱体の内側に３本の近接電流により９倍の電流が流れるようにして加熱温度上昇がより短時間で進行するようにした点にある。
さらにコイル線を外側に曲げて外側の渦電流部位を二本に以上にすることも、さらにコイル線を内側に曲げて渦電流部位を４本以上にすることも可能である。
【００２５】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明にあっては次に列挙する効果が得られる。
【００２６】
（１）被加熱体の内側に同一方向に流れる第１の近接渦電流部位と第２の近接渦電流部位を生じさせるので、互いに引き合い略４倍の渦電流エリアが被加熱体の内側に形成されて被加熱体の内側の加熱温度が高くなり、且つ、被加熱体の端方は電流が集中するとともに片側断熱のため昇温集中が起き、第１の、第２の渦電流の前後エリアでは弱い加熱が行われ、端方の熱と内側の熱は従来技術より遥かに狭くなったその間の温度の低いエリアに短時間で効率的に熱伝導して第１の渦電流部位と第２の渦電流部位の内側の温度を上昇させて、被加熱体の加熱部位の加熱温度を素早く効率的に均一化するという、精度の高い温度の均一化を実現するという効果を得ることができる。
【００２７】
（２）第１の加熱コイル部と第２の加熱コイル部が電気的に繋がった導体により形成されてなるものは、前記（１）と同様な効果を得ることができるとともに、トランス、周波数変換部などが一つですむので小型で安価な装置にできるという効果を得ることができる。
【００２８】
（３）金属箔鏡面仕上装置の発明は、リードフレームなどになる金属薄部材の表面を誘導加熱により加熱温度を均一化して、均一な鏡面仕上げにできるものであるので、鉛レス半田の載りがよく高信頼の半田を実現する金属薄部材の鏡面仕上げを行う省エネタイプの安価な装置を提供できるという効果を得ることができる。
【００２９】
（４）コーティング装置の発明およびコピー装置の発明も前記（３）と同様な効果を得ることができるとともに、特にコピー装置においては、誘導加熱により殆ど瞬時に転写ドラムを加熱するものであるので、待ち時間の無いコピー装置を実現するという効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の誘導加熱装置の概念図。
【図２】本発明の第１の実施の形態の誘導加熱コイルの構造図。
【図３】本発明の第１の実施の形態の渦電流による加熱状態図。
【図４】本発明の第２の実施の形態の斜視図。
【図５】本発明の第３の実施の形態の誘導加熱コイルの構造図。
【図６】本発明の第３の実施の形態の渦電流による加熱状態図。
【図７】本発明の第４の実施の形態の誘導加熱コイルの構造図。
【図８】本発明の第４の実施の形態の渦電流による加熱状態図。
【図９】本発明の第５の実施の形態の装置概念図。
【図１０】本発明の第６の実施の形態の装置の部分構成図。
【図１１】本発明の第７の実施の形態の装置の部分構成図。
【図１２】本発明の第８の実施の形態の誘導加熱コイルの構造図。
【図１３】従来技術の誘導加熱コイルの構造図。
【図１４】従来技術の渦電流による加熱状態図。
【図１５】他の従来技術の誘導加熱コイルおよび装置の構成図。
【符号の説明】
１：誘導加熱装置、　　　　　　　　　２：被加熱体、
３：第１の渦電流、　　　　　　　　　４：第１の誘導加熱コイル部、
５：第２の渦電流、　　　　　　　　　６：第２の誘導加熱コイル部、
７：第１の近接渦電流部位、　　　　　８：第１の近接部、
９：第２の近接渦電流部位、　　　　　１０：第２の近接部、
１１：誘導加熱コイル、　　　　　　　１２：冷却水、
１３：ホース部、　　　　　　　　　　１４：誘導電流、
１５：下降トランス部、　　　　　　　１６：周波数変換部、
１８：誘導電流供給部、　　　　　　　１９：冷却部、
２０：制御部、　　　　　　　　　　　２３：誘導加熱コイル、
２４：ドラム、　　　　　　　　　　　２５：被加熱体、
２７：誘導加熱コイル、　　　　　　　２８：第１の誘導加熱コイル部、
２９：第２の誘導加熱コイル部、　　　３０：第１の近接部、
３１：第２の近接部、　　　　　　　　３２：第１の渦電流、
３３：第２の渦電流、　　　　　　　　３６：第１の誘導加熱コイル部、
３７：第２の誘導加熱コイル部、　　　３８：第３の誘導加熱コイル部、
３９：第４の誘導加熱コイル部、　　　４０：誘導加熱コイル、
４１：第１の渦電流、　　　　　　　　４２：第２の渦電流、
４３：第３の渦電流、　　　　　　　　４４：第４の渦電流、
４６：リードフレーム用金属箔鏡面仕上装置、
４７：金属箔巻体、　　　　　　　　　４８：金属箔、
４９：案内ローラ、　　　　　　　　　５０：案内ローラ、
５１：断熱ローラ、　　　　　　　　　５２：リードフレーム材、
５４：コーティング装置、　　　　　　５５：金属箔部材、
５６：案内ローラ、　　　　　　　　　５７：プラスチックフィルム、
５８：プラスチックフィルム、　　　　５９：ラミネートシート、
６０：圧縮ローラ、　　　　　　　　　６２：コピー装置、
６３：用紙、　　　　　　　　　　　　６４：案内ローラ、
６５：案内ローラ、　　　　　　　　　６６：被加熱体、
６７：ローラ本体、　　　　　　　　　６８：転写ローラ、
６９：圧縮ローラ、　　　　　　　　　７２：第１の誘導加熱コイル部、
７３：第２の誘導加熱コイル部、　　　７４：第１の近接渦電流部位、
７５：第２の近接渦電流部位、　　　　７６：近接渦電流部位。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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