(57)【要約】【課題】粉末状，粒状，チップ状及び葉状の被照射物に電子線を照射して殺菌等の処理を施す電子線照射処理システムを提供すること。【解決手段】被照射物１１を内部に投入してなると共に、回転駆動手段１２により回転自在な回転ドラム１３と、回転ドラム１３の外部から該回転ドラム１３の内部に電子線を照射する電子線照射手段１６とを具備するとともに、前記回転ドラム１３の内壁面に仕切板２１を設け、当該回転ドラム１３内における被照射物１１の軌道の進行方向水平ベクトルと対向する方向に電子線１５を照射することを特徴とする電子線照射処理システム。【選択図】      図２
2004267973.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被照射物に電子線を照射して処理する電子線照射処理システムであって、
被照射物を内部に投入してなると共に、回転駆動手段により回転自在な回転ドラムと、
前記回転ドラムの外部から該回転ドラムの内部に電子線を照射する電子線照射手段とを具備するとともに、
前記回転ドラムの内壁面に仕切板を設け、
当該回転ドラム内における前記被照射物の軌道の進行方向水平ベクトルと対向する方向に前記電子線が照射されてなることを特徴とする電子線照射処理システム。
【請求項２】
被照射物に電子線を照射して処理する電子線照射処理システムであって、
被照射物を内部に投入してなると共に、回転駆動手段により回転自在な回転ドラムと、
前記回転ドラムの内部に配置され電子線を照射する電子線照射手段と、
前記回転ドラムの内壁面に仕切板を設け、
当該回転ドラム内における前記被照射物に対し前記電子線が照射されてなることを特徴とする電子線照射処理システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記電子線が、前記内壁面に対して直接照射されることを特徴とする電子線照射処理システム。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記回転ドラム内を不活性ガス雰囲気とする不活性ガス導入手段を設けてなることを特徴とする電子線照射処理システム。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一において、
前記回転ドラムが水平面に対して傾斜して設けてなるとともに、
回転ドラムの鉛直方向上方の端部から当該回転ドラム内に前記被照射物を供給する被照射物供給部を設け、
当該回転ドラム内部の鉛直方向下方の端部に、前記被照射物を捕集する捕集部材を設けてなることを特徴とする電子線照射処理システム。
【請求項６】
請求項５において、
上記不活性ガス導入手段は、鉛直方向下方から上方へ向けて前記回転ドラム内部に不活性ガスを導入してなることを特徴とする電子線照射処理システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、粉末状，粒状，チップ状及び葉状の食品（例えば胡椒，抹茶，穀物，茶葉，ワカメ，海苔等）や薬品、化粧品及び衛生用品等の被照射物に電子線を照射して殺菌等の処理を施すための電子線照射処理システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
通常、食品には害益を問わず微生物が付着しており、温度、湿度、ＰＨ、栄養分等諸条件が整った場合には当該微生物が繁殖する。本増殖に伴い食品の品質劣化及び当該食品摂取に伴う発病を招来することから、古くから食品取り扱いに際しては各種殺菌処理が施されてきた。なお、菌を“全て”死滅させる滅菌処理は菌を死滅させる殺菌処理の一部であるため、ここでは本処理を総称して殺菌処理として記載をする。
【０００３】
本処理方法としては加熱法、化学物質殺菌法等が従来から広く用いられているが、前者は風味・色彩という食材品質が大きく変化すること、後者は近年の温暖化防止に伴う規制（臭化メチル：２００５年完全撤廃予定）があること及び物質によっては残留成分が人体に有害であること、という問題を各々有している。このため代替法として、加熱蒸気やマイクロ波を用いる方法が提案実用化されているが、処理速度及び対象物への制限を有するという問題を有している。
【０００４】
本方法を解決する手段として電子線、Ｘ線、γ線による殺菌処理が挙げられる。但し本処理では被照射物に対する照射損傷を生じてしまい、例えば米穀類への電子線照射時にはでんぷん類等の変質に伴い食味劣化に至れる。食品の素材の多くにおいて菌類は一般に被照射物表面への付着が支配的である。このため、本殺菌処理を行うためには比較的飛程の短い低エネルギ電子線により被照射物表面にのみ照射処理を施すことが広く提案されており、例えば本例として被照射物（照射対象）を振動コンベヤにより搬送しながら電子線を照射する特開２０００−３０４９００号公報や、薄膜状に落下させながら電子線を照射する特開平１１−０５２１００号公報等がある。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−３０４９００号公報
【特許文献２】
特開平１１−０５２１００号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
被照射物表面に殺菌等を目的とした電子線照射処理を行う場合、一般に電子線の照射部で当該被照射物に反転・回転等を施す必要がある。ところが、振動コンベヤ、気流搬送装置等を用いたものは、例えば被照射物同士が重なり合った場合などには直接的に全ての被照射物に回転力が加わらないために、各被照射物表面に対して有効に照射処理を行い得ない可能性が高く、ひいては殺菌性能等照射効果が不均一であるという問題点があった。また、電子線照射部は通過処理となるため前記未照射分を再処理するためには再度当該照射済品に対して照射処理を施す必要があり、照射効率が低くなる。
【０００７】
本発明は、上記従来技術に鑑み提案されたもので、設備費や処理工数及び時間を増大させることなく、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射物の表面に概ね均一に電子線を照射することができる電子線照射処理システムを提供することをすることを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前述した課題を解決する第１の発明は、被照射物に電子線を照射して処理する電子線照射処理システムであって、被照射物を内部に投入してなると共に、回転駆動手段により回転自在な回転ドラムと、前記回転ドラムの外部から該回転ドラムの内部に電子線を照射する電子線照射手段とを具備するとともに、前記回転ドラムの内壁面に仕切板を設け、当該回転ドラム内における前記被照射物の軌道の進行方向水平ベクトルと対向する方向に前記電子線が照射されてなることを特徴とする電子線照射処理システムにある。
【０００９】
第１の発明によれば被照射物の表面が電子線の照射方向に対し、略同一確率で対向することになり、当該被照射物の表面には均一に電子線が照射されるとともに、電子線の大気中減衰影響を最低限に抑制することができるため、照射処理効率が向上する。
【００１０】
第２の発明は、被照射物に電子線を照射して処理する電子線照射処理システムであって、被照射物を内部に投入してなると共に、回転駆動手段により回転自在な回転ドラムと、前記回転ドラムの内部に配置された電子線を照射する電子線照射手段と、前記回転ドラムの内壁面に仕切板を設け、当該回転ドラム内における前記被照射物の軌道に前記電子線が照射されてなることを特徴とする電子線照射処理システムにある。
【００１１】
第２の発明によれば、第１の発明と同等の作用に加え、電子線照射手段が回転ドラムの内部に設置されているため、電子線の全エネルギが回転ドラム内で消費されることとなり、エネルギ効率が向上する。また、回転ドラムを囲うように、当該回転ドラムの外部に遮蔽壁を設ける場合であっても、回転ドラム内に発生するＸ線やオゾンのドラム外部への漏洩を、容易に防ぐことが可能となる。さらには、照射処理システムのコンパクト化を達成することが可能になる。
【００１２】
第３の発明は、請求項１または請求項２において、前記電子線が、前記内壁面に対して直接照射されることを特徴とする電子線照射処理システムにある。
【００１３】
第３の発明によれば、回転ドラム内壁面や仕切板に付着する付着菌を電子線による直接照射により死滅することが可能となり、電子線照射処理済の被照射物に対する付着菌の再移行を抑制することができる。
【００１４】
第４の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれか一において、前記回転ドラム内を不活性ガス雰囲気とする不活性ガス導入手段を設けてなることを特徴とする電子線照射処理システムにある。
【００１５】
第４の発明によれば、不活性ガス雰囲気での電子線照射となるため、大気中の酸素による酸化やオゾンの発生を防ぐことが可能となり、被照射物の照射損傷を抑制することが可能となる。
【００１６】
第５の発明は、請求項１ないし請求項４のいずれか一において、前記回転ドラムが水平面に対して傾斜して設けてなるとともに、回転ドラムの鉛直方向上方の端部から当該回転ドラム内に前記被照射物を供給する被照射物供給部を設け、当該回転ドラム内部の鉛直方向下方の端部に、前記被照射物を捕集する捕集部材を設けてなることを特徴とする電子線照射処理システムにある。
【００１７】
第５の発明によれば、回転ドラムに回転力を連続的または断続的に付与することにより、被照射物を鉛直方向上方端から下方端へと移動させることができるため、回転ドラムへの被照射物の供給，電子線照射処理，回収を連続的または断続的に施すことが可能となる。
【００１８】
第６の発明は、請求項５において、上記不活性ガス導入手段は、鉛直方向下方から上方へ向けて前記回転ドラム内部に不活性ガスを導入してなることを特徴とする電子線照射処理システムにある。
【００１９】
第６の発明によれば、第４の発明と同様の作用に加え、不活性ガスを鉛直方向下方から上方へと流通させることにより、大気中の浮遊菌が下方領域に流れ込むのを防止することができる。よって、被照射物の殺菌レベルを全体的に高く維持することが可能となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明による電子線照射装置の実施の形態を以下に説明するが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではない。
【００２１】
［第１の実施の形態］
図１は第１の実施の形態にかかる電子線照射処理システムの電子線照射部における概略図（上面図）であり、図２はそのＡ−Ａ断面概略図である。
【００２２】
これらの図面に示すように、本実施の形態にかかる電子線照射処理システム１０は、被照射物１１に電子線を照射して処理する電子線照射処理システムであって、被照射物１１を内部に投入してなると共に、回転駆動手段１２により回転自在な回転ドラム１３と、当該回転ドラム１３の外部から回転ドラム１３の内部に電子線１５を照射する電子線照射手段１６とを具備してなるものである。
【００２３】
ここで、上記被照射物１１とは、例えば粉末状，粒状，チップ状及び葉状の食品（例えば胡椒，抹茶，穀物，茶葉，ワカメ，海苔  等）や薬品、化粧品及び衛生用品等の電子線を照射して殺菌等の処理を施すものをいうが、電子線を照射して殺菌等の処理を施すものであれば本発明では特に限定されるものではない。
【００２４】
上記被照射物１１は中空の回転ドラム１３内に別途投入されている。
当該回転ドラム１３はその断面が６角形、８角形等の軸対称の多角形、または円形をなしている。本実施の形態においては、一例として円形の場合について示している。回転ドラム１３は中心軸が鉛直方向（重力方向（図２の紙面上下方向））に対して直交する方向になるように設置されている。
【００２５】
この回転ドラム１３の内壁面には、所定長さを有する複数の仕切板２１が互いに一定間隔で設けられている。各仕切板２１は、内壁面に対して所定角度でそれぞれ取り付けられている。
仕切板２１の形状・設置角度は、被照射物１１の性状，回転ドラム１３内への設置量，回転ドラム１３の断面形状等に応じて適宜設定を行う。
【００２６】
回転ドラム１３の近傍には電子線照射手段１６が設置されており、前記回転ドラム１３内部に向けて電子線１５の照射を行うようにしている。
すなわち、電子線照射手段１６からは出射した回転ドラム１３内における被照射物１１の軌道の進行方向水平ベクトルと対向する方向に照射される。
【００２７】
回転ドラム１３の軸方向の片端面部１７は、チェーンベルト１８を介して回転ドラム１３を回転駆動する回転駆動手段１２に接続されている。
一方、回転駆動手段１２の接続部と反対側の片端面部１９は、前記回転ドラム本体１３に対して密に着脱可能であり、例えばハッチ式や回転式としており、当該回転ドラム１３内に被照射物１１の搬出入時には着脱又は開閉を行うようにしている。すなわち、一定時間照射処理を行った後に、前記片端面部１９を開放して電子線照射済の被照射物１１を取り出すことで、被照射物１１への電子線照射処理が行われることになる。
【００２８】
ここで、電子線照射手段１６から照射される電子線１５の加速エネルギならびに回転ドラム１３の壁面厚さ・材質は、当該壁面を透過し且つ被照射物１１の表層を主体的に照射し得る程度であるものとする。
【００２９】
なお、回転ドラム１３の断面形状が多角形の場合、その角数，各辺長，各辺間角の各要素は、被照射物１１の性状及び単一の回転ドラム１３内への投入量に応じて適宜設定を行うようにすればよい。
例えば、被照射物１１の安息角が大きい場合には、前記角数は大きいことが望ましい。
【００３０】
また、詳細に記載を行わないが、被対象物１１への電子線照射を連続的に行うためには、例えば回転ドラム１３の本体を、その中心軸上の一点を基点として姿勢位置を任意に変更することが可能な構造としている。
すなわち、電子線を照射した後、前記片端面部１９を開状態において、回転ドラム１３の中心軸方向が重力方向に対する成分を有するようにその姿勢を傾斜させ、照射済品回収装置（図示せず）内に搬送を行うことにより、効率的な電子線照射処理を行うことが可能となる。このとき、照射済品の搬送環境は殺菌処理済であり、且つ外部からの菌類の混入を阻止しえる図示しない機構を備えた図示しない一定区画領域内にて行うことが好ましい。
【００３１】
ここでは回転ドラム１３の回転手段は回転駆動手段１２として、チェーンベルト１８を用いた例について記載している。しかし、回転手段は、例えば回転ドラム１３片端面部１７に直接接続されている歯車と該歯車を駆動するための回転制御装置が機械的に嵌め合い当該回転力を伝導する機構や、回転制御装置により回転する台座の上にドラムが機械的に接触して摩擦力により当該回転力を伝導する機構等、特に回転手段を限定することなく成立する。
【００３２】
また、電子線照射により発生するＸ線およびオゾンへの対応は、遮蔽物（図示せず）およびオゾン排気装置（図示せず）にて実施する。すなわち、回転ドラム１３内に蓄積したオゾンの排気を行うため、片端面部１７，１９の中心にロータリジョイント（図示せず）を介して配管の一方を接続し、他方を前記オゾン排気装置に連結してもよい。
【００３３】
次に、本実施の形態の装置における電子線照射処理作用について説明する。
図３は、仕切板２１上における被照射物１１に働く作用力の概念図を示す。ここでは、簡便化のため、一個のみの被照射物１１（剛体）を図示している。
【００３４】
〔持上げ過程〕
回転ドラム１３に回転力が付与されると、被照射物１１は仕切板２１によって上方に持ち上げられていく。このとき、被照射物１１に働く重力，前記回転力に基づく遠心力，被照射物１１と仕切板２１面との静摩擦力，被照射物１１間に生ずる摩擦力（図示せず），回転ドラム１３内壁からの抗力（図示せず）が相互に釣り合って、被照射物１１は静止している。
【００３５】
〔落下過程〕
しかし、ある高さに至ると、被照射物１１に働く仕切板２１突出方向への作用力（重力）が勝って前記釣り合いが崩れる結果、当該被照射物１１は仕切板２１上を転がって、回転ドラム中央部へ放出される。そして、被照射物１１は、図２に示すような放物線状の回転軌道（矢印Ｒ１）を描き、回転ドラム１３の下方に落下する。
このとき、被照射物１１は、重力方向以外の成分の作用力を有するとともに、落下中における他の被照射物との相互衝突作用により、被照射物１１は図２に示すような重心を中心とした回転（矢印Ｒ２）も落下過程で行う。
更に落下後は、鉛直方向下方に位置する他の仕切板２１や回転ドラム１３内壁，他の被照射物１１と衝突することにより、衝突位置を中心とした回転が行われる。
【００３６】
従って、回転ドラム１３を連続的または断続的に回転させた場合、被照射物１１の上昇・落下・回転作用が連続的に繰り返されることになるが、このとき被照射物１１の軌道（図２：矢印Ｒ１）の水平方向（図２の紙面における左右いずれかの方向）へ前記電子線１５を照射させることにより、被照射物１１の表面は電子線１５の照射方向に対し略同一確率で対向することとなる。しかし、電子線の大気中減衰影響を最低限に抑制させるためには、図２に示すように、被照射物１１の進行方向水平ベクトルとほぼ対向する方向から電子線を照射させることが必要である。
【００３７】
つまり、多数の各被照射物１１の表面に対して概ね一様に電子線１５が照射されることとなり、照射効率が向上する。すなわち、電子線照射雰囲気を単に通過するのみであった従来照射方法と比較して１回の照射処理にて殺菌性能を高くすることができる。このことはシステム効率の向上及び被照射物の照射損傷の低減を図ることができる。
【００３８】
なお、電子線１５への前記対向確率は、被照射物１１の形状に依存しており、球形に近いほど当該確率は増加するが、例えば米穀類などの長尺形状物であっても、回転ドラム１３の回転数を上げることによりほぼ等確率となる。
【００３９】
ところで、遠心力が極めて高い場合には、被照射物１１に働く作用力の釣り合いが崩れず、回転ドラム１３の内壁面に張り付いた状態となり、当該被照射物１１に対して有効な落下過程を与えることができない。
また、被照射物１１の仕切板２１からの放出位置，放出角度および放出速度は、被照射物１１に働く作用力の釣合状態、すなわち被照射物１１の物性およびドラム内投入量，回転ドラム１３の半径および仕切板２１の形状・取付角度などに依存する。
従って、恒常的な回転ドラム体系においては、投入する被照射物１１（物性，ドラム内投入量）に基づいて、回転ドラム１３の回転速度を適正化することが肝要である。
【００４０】
［第２の実施の形態］
図４は第２の実施の形態にかかる回転ドラム部の拡大断面図である。
【００４１】
本実施の形態の基本構成は第１の実施の形態とほぼ同一であるので、重複した構造については同一符号を付してその説明は省略する。
【００４２】
本実施の形態では、電子線照射手段１６が回転ドラム１３の中空内部に設けられるとともに、当該電子線照射手段１６は、回転ドラム１３内での被照射物１１の軌道（図４：矢印Ｒ１）の進行方向水平ベクトルと略同一方向（図４：紙面における右方向）に向けて電子線を照射している。電子線の大気中減衰影響を最低限に抑制させるためには、第１の実施形態のように被照射物１１の進行方向水平ベクトルとほぼ対向する方向から電子線を照射させることが望ましいが、照射システムのコンパクト化のためには、図４に示すように進行方向水平ベクトルと略同一方向へ電子線１５を照射するよう配置することがより好ましい。
また、回転ドラム１３を囲うように、回転ドラム１３の外部に遮蔽壁２２が設けられている。遮蔽壁２２の材質は、例えば鉛など高原子番号材質が好ましいが、電子線１５の照射により発生するＸ線を遮蔽可能な材質であれば特に限定しない。
【００４３】
本実施形態においては、回転ドラム１３を連続的または断続的に回転させた場合、第１の実施形態と同様に、被照射物１１の上昇・落下・回転作用が連続的に繰り返されることになるが、このとき被照射物１１の軌道の進行方向水平ベクトルとほぼ同一方向へ電子線１５を照射させることにより、被照射物１１の表面が電子線１５の照射方向に対し略同一確率で対向することとなる。すなわち、多数の各被照射物１１の表面に対して概ね一様に電子線１５が照射されることとなり、照射効率が向上する。
【００４４】
さらに、電子線照射手段１６が回転ドラム１３の内部に設置されているため、電子線１５が回転ドラム１３内で全エネルギが消費される。したがって、エネルギ利用効率が向上することとなる。
また、電子線１５の照射によるＸ線，オゾンの発生は、回転ドラム１３内でのみ生じるため、回転ドラム１３を囲うように遮蔽壁２２を配することにより、Ｘ線のドラム外への漏洩を防ぐことが可能となる。
【００４５】
さらには、回転ドラム１３外壁面に対して、殆どまたは全く電子線１５が照射されないため、回転ドラム１３外壁面でのＸ線の発生を回避でき、これに伴い回転ドラム１３の壁面材質を任意に選択可能となる。よって、回転ドラム１３の高強度化を図りうることとなり、外壁面に対するメンテナンス頻度を下げることが可能となる。
【００４６】
また、電子線照射手段１６が回転ドラム１３の中空内部に設置されるため、電子線照射処理システム１０全体をコンパクト化することが可能となる。
【００４７】
［第３の実施の形態］
本実施の形態の基本構成は第１または第２の実施の形態とほぼ同一であるので、重複した構造については同一符号を付してその説明は省略する。
【００４８】
図５に第３の実施形態における回転ドラム部の側面図を示す。
【００４９】
本実施の形態では、回転ドラム１３の片端面部１７，１９の軸中心部にそれぞれ回転端子４１が取り付けてあり、この回転端子４１を介して、回転ドラム１３内に酸素を含まない不活性ガス４２（窒素，希ガスなど）を導入および排出しながら電子線照射処理を行うようにしている。
【００５０】
電子線照射時における被照射物の損傷には、大気中の酸素による酸化やオゾンの発生等の影響が大きい場合がある。
しかし、本実施の形態のように、電子線照射を不活性ガス雰囲気において行う場合には、当該不具合を回避した照射損傷の少ない照射処理を行い得ることになる。
このため、例えば食品を対象とした照射処理を行った場合には、香味劣化を抑制し得ることになる。
【００５１】
また、不活性ガス４２の導入，排出を行う回転端子４１を回転ドラム１３の両端に設けることにより、不活性ガス４２は回転ドラム１３内を一定方向に一様に流れ、ドラム外へ効率的に排気されることとなる。
【００５２】
［第４の実施の形態］
図６に第４の実施形態における回転ドラム部の側断面図を示す。
【００５３】
本実施の形態の基本構成は第１又は第２の実施の形態とほぼ同一であるので、重複した構造については同一符号を付してその説明は省略する。
【００５４】
本実施の形態では、回転ドラム１３が水平面に対して一定角度θで傾斜して設けられるとともに、傾斜した回転ドラム１３の鉛直方向上方端から当該回転ドラム１３内に被照射物１１を供給する被照射物供給部３１を設け、傾斜した当該回転ドラム１３の鉛直方向下方の端部に位置する片端面部１９の内側には、被照射物１１を捕集する捕集部材３０が設けられている。捕集部材３０は円錐状をなし、その小口径側が片端面部１９の回転軸中心（非回転部）に設けられた開口部１９ａへ接続されている。
【００５５】
また、回転ドラム１３の鉛直方向下方の端部に位置する片端面部１９に面するよう被照射物回収部３２が設けられている。前記被照射物供給部３１，被照射物回収部３２は、対応する各片端面部１７，１９の回転軸中心（非回転部）に設けられた開口部１７ａ，１９ａと接続され、当該開口部１７ａ，１９ａを介して、被照射物１１の回転ドラム１３内への供給および回転ドラム１３からの回収が行われるよう構成されている。
【００５６】
図７（ｂ）に、本実施形態における回転ドラム１３内での被照射物１１の挙動を示す。なお、ここでは、被照射物１１が仕切板２１（図１参照）上を回転ドラム１３の軸方向に滑らない場合、すなわち、回転ドラム１３の傾斜角θの正接値が仕切板２１の静止摩擦係数未満である場合について示しているが、静止摩擦係数以上の場合であっても略同様の挙動を示す。
【００５７】
回転ドラム１３を水平に設置した場合には、仕切板２１による被照射物１１の軌道（持上げ過程・落下過程）は、図７（ａ）に示すように略同一断面内である。
しかし、回転ドラム１３を水平面に対して傾斜させた場合には、持上げ過程の軌道は回転ドラム１３の傾斜方向（図７（ｂ）の矢印Ｒ３）であるが、落下過程の軌道は被照射物１１に作用する重力方向（図７（ｂ）の矢印Ｒ４）となる。すなわち、図７（ｂ）に示すように、回転ドラム１３内への被照射物１１の落下位置は、持上げ位置に対し鉛直方向下方側（片端面部１９側）へ都度ズレを生じる。
従って、連続的または断続的に回転力を回転ドラム１３に付与することにより、被照射物１１は持上げ過程・落下過程を繰り返しながら、回転ドラム１３の鉛直方向上方側から下方側へと移動する。
【００５８】
よって、図６，図７（ｂ）に示すように、被照射物供給部３１から開口部１７ａを介して回転ドラム１３内に連続的または断続的に供給された被照射物１１は、片端面部１７側から片端面部１９側へと移動するとともに捕集部材３０内にその大口径側から入り、開口部１９ａを介して被照射物回収部３２へと連続的または断続的に回収される。
したがって、本実施形態においては、電子線照射済の被照射物１１を回収するために都度片端面部１９を着脱させる必要がなく、被照射物１１に対する電子線照射処理を供給から回収まで連続的または断続的に施すことが可能となる。
【００５９】
なお、第３の実施形態と同様に、回転ドラム１３内には、図示しない配管等によって不活性ガスを導入することも可能である。
【００６０】
［第５の実施の形態］
図８に第５の実施形態における回転ドラム部の側断面図を示す。
【００６１】
本実施の形態の基本構成は第４の実施の形態とほぼ同一であるので、重複した構造については同一符号を付してその説明は省略する。
【００６２】
本実施の形態では、被照射物回収部３２内に不活性ガス供給部（図示せず）を設け、当該不活性ガス供給部から回転端子３４，開口部１９ａを介して、回転ドラム１３内に不活性ガス４２（窒素，希ガスなど）を導入する。導入された不活性ガス４２は、回転ドラム１３内を鉛直方向下方から上方へと流通し、開口部１７ａ，回転端子３４を介して被照射物供給部３１内へと流れる。被照射物供給部３１内に流れた不活性ガス４２は、大気中に放出するか、または図示しない再処理装置を介して前記不活性ガス供給部へと戻される。
不活性ガス供給部は、例えば不活性ガス生成装置や、不活性ガスが圧入された不活性ガスタンク等が設けられるが、特にこれに限定するものではない。
【００６３】
本実施形態においては、被照射物１１は回転ドラム１３内を鉛直方向上方から下方へと移動するため、下方ほど殺菌レベルは相対的に高いものである。しかし、大気中に浮遊する黴などの浮遊菌が被照射物１１の供給時に回転ドラム１３内に混入した場合や、被照射物１１自身に付着している黴が回転ドラム１３内で脱離，浮遊した場合には、当該浮遊菌が重力により上方から下方領域に流れ込むことにより、下方に位置する電子線照射済の被照射物１１に対して前記浮遊菌が付着し、殺菌レベルが低下する。
そこで、不活性ガス４２を鉛直方向下方から上方へと流通させることにより、気流を下方から上方に形成することで前記浮遊菌が下方領域に流れ込むことを防止することができる。従って、電子線照射済被照射物１１の殺菌レベルを高く維持することが可能となる。
なお、回転ドラム１３内を不活性雰囲気とすることに基づく作用効果は、上述した第３の実施形態と同様である。
【００６４】
［第６の実施の形態］
図９は第６の実施の形態にかかる回転ドラム部の拡大断面図である。
【００６５】
本実施の形態の基本構成は第２の実施の形態とほぼ同一であるので、重複した構造については同一符号を付してその説明は省略する。
【００６６】
本実施の形態では、各仕切板３５が回転ドラム１３の内壁面に対して一定間隔で垂直に設けられるとともに、電子線照射装置３５から照射される電子線１５が、回転ドラム１３の内壁面に直接照射される。このため電子線照射装置３５は、第２の実施形態における電子線照射装置１６よりも大容量のものを使用し、前記電子線１５は回転ドラム１３の内壁面に対して直接照射可能な電子エネルギに設定されている。
【００６７】
回転ドラム１３に回転力が付与し電子線照射処理が行われている際、付着菌を有する電子線照射処理前の被照射物１１が前記回転ドラム１３内壁面または仕切板２１と接触したり、または、前記付着菌が前記回転ドラム１３内を浮遊することにより、その一部が回転ドラム１３の内壁面や仕切板２１面に付着する。よって、電子線照射処理済の被照射物１１が当該内壁面や仕切板２１面と接触すると、電子線照射処理の済んだ被照射物１１に対して再び付着菌が移行してしまう。従って、電子線照射処理を長時間実施した場合、回転ドラム１３内（内壁面，仕切板２１）への付着菌数の増加によって、処理システム全体の殺菌性能が低下してしまう。
【００６８】
そこで、本実施の形態では、各仕切板２１を回転ドラム１３の内壁面に対して垂直に設けるとともに、電子線１５が回転ドラム１３の内壁面に対して直接照射されるようにした。すなわち、電子線１５は、前記内壁面や当該内壁面に対し垂直に設けた仕切板２１面を直視し、直接照射を行う。
したがって、内壁面，仕切板２１面に付着する付着菌を死滅させることができ、電子線照射処理済の被照射物１１に対する付着菌の再移行を抑制することが可能となる。よって、電子線照射処理システム全体の殺菌性能を高く維持することができる。
【００６９】
なお、本実施形態においては、仕切板２１を回転ドラム１３の内壁面に対して垂直に設けるとともに、電子線１５を前記内壁面に対して直接照射することにより、前記内壁面や仕切板２１面を電子線１５が直視するようにした。
しかし、このような物理的な相対位置調整による構成に限定するものではなく、例えば、回転ドラム１３内壁面への仕切板２１の設置方法が任意であっても（垂直でなくとも）、電磁界を利用して電子線１５を偏向させることにより、上述と同様の効果を奏することは可能である。
【００７０】
また、本実施形態においては、回転ドラム１３を水平に設置する第２の実施形態が基本構成であるとして説明したが、回転ドラム１３を水平面に対して傾斜して設置した第４，第５の実施形態に対しても適用可能である。
【００７１】
【発明の効果】
以上の説明したように、本発明によれば、被照射物の表面が電子線の照射方向に対し、略同一確率で対向することになるため、当該被照射物の表面には均一に電子線が照射されることとなり、照射処理効率が向上する。また、電子線照射雰囲気を単に通過するのみであった従来照射方法と比較して、１回の照射処理での殺菌性能を高くすることができるため、被照射物の照射損傷の低減を図ることも可能となる。
【００７２】
また、電子線照射手段を回転ドラムの内部に設置することにより、システム全体のコンパクト化を図ることが可能となる。このとき当該回転ドラムを囲うように壁面を配すると、電子線照射により発生するＸ線のドラム外への漏洩を防止することも可能となる。
さらには、当該内壁面に対して電子線を直接照射することにより、内壁面や仕切板に付着した付着菌を死滅させることが可能となり、電子線照射処理済の被照射物に対する付着菌の再移行が抑制され、電子線照射処理システム全体の殺菌性能を高く維持することができる。
【００７３】
また、上記回転ドラム内を不活性ガス雰囲気とする不活性ガス導入手段を設けてなるので、電子線照射時における照射損傷の原因となる大気中の酸素による酸化，オゾンの発生等を抑制することができる。
【００７４】
また、回転ドラムを水平面に対して傾斜して設けるとともに、当該回転ドラム内部の鉛直方向下方端に、被照射物を捕集する捕集部材を設けることにより、回転ドラムに回転力を連続的または断続的に付与した場合、前記被照射物を鉛直方向上方端から下方端へと移動させることができ、回転ドラムへの被照射物の供給から電子線照射処理，回収までを連続的または断続的に施すことが可能となり、処理効率を大幅に向上させることが可能となる。
このとき、不活性ガスを鉛直方向下方から上方に導入し、回転ドラム内を流通させることにより、大気中の浮遊菌が回転ドラム内の下方領域に流れ込んで電子線照射処理済の被照射物に対して付着すること、を防止することができる。従って、被照射物の殺菌レベルを全体的に高く維持することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態にかかる電子線照射処理システムの電子線照射部における概略図である。
【図２】第１図のＡ−Ａ断面概略図である。
【図３】仕切板上における被照射物に働く作用力の概念図である。
【図４】第２の実施の形態にかかる回転ドラム部の拡大断面図である。
【図５】第３の実施形態における回転ドラム部の側面図である。
【図６】第４の実施形態における回転ドラム部の側断面図である。
【図７】回転ドラム内での被照射物の挙動を示す図である。
【図８】第５の実施形態における回転ドラム部の側断面図である。
【図９】第６の実施の形態にかかる回転ドラム部の拡大断面図である。
【符号の説明】
１０…電子線照射処理システム
１１…被照射物
１２…回転駆動手段
１３…回転ドラム
１５…電子線
１６，３５…電子線照射手段
２１…仕切板
２２…遮蔽壁
３０…捕集部材
４２…不活性ガス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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