(57)【要約】【課題】効率よくガス中の分解対象物質を分解する分解方法を提供する。【解決手段】排ガスの熱で導入ガスを加熱しリアクターで分解対象物質を分解する。【選択図】      図１
2004261736.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分解対象物質を含むガスを非平衡プラズマにより分解処理するガス処理方法であって、
前記ガスをリアクターに導入するガス導入工程と、
前記リアクター内でプラズマにより前記分解処理するガス処理工程と、
前記ガス処理工程を終えた排出ガスを前記リアクターから排出する排出工程とを有し、
前記排出工程にて排出される前記排出ガスの熱により前記ガス導入工程における前記ガスを加熱する加熱工程を有することを特徴とするガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、揮発性有機物質（ｖｏｌａｔｉｌｅ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ：以下、ＶＯＣｓ）を含有するガスガスからＶＯＣｓを非平衡プラズマにより分解するガス処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、各種の工業的処理工程などからＶＯＣｓが排出され、大気へ放散することが注目されている。そうしたＶＯＣｓを含有するガス（排ガス）を分解処理する技術（具体的には無害化する技術）が数多く提案されている。たとえば、吸着回収法によるガス処理技術、燃焼処理法（熱分解法、触媒分解法等）によるガス処理技術、スクラバー処理によるガス処理技術、生物学的処理に夜ガス処理技術などである。これらのガス分解処理技術は、それなりの利点はあるものの、解決すべき課題があり、十分なものであるとは言い難い。こうした課題を有するガス処理技術に代わる技術として、近年、プラズマ放電、特に非平衡プラズマ放電によりＶＯＣｓ等の排ガスを分解する技術が注目され、研究が進められており、当該技術に基づいた方法及び装置が提案されている。それらの中で、特許文献１や特許文献２などに記載される円筒型の反応容器内に外部電極と内部電極を有し、電極間に誘電体粒子を充填し、プラズマを発生させるようにしたパックトベッド式反応装置は、大気圧下で操作でき、装置内を真空にするポンプなどは必要でなく、また室温でプラズマを発生させることができ、更に装置構成が簡単でかつ低コストで設置できる、といった利点を有することから、特に注目されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−１１４３５９号公報（第２乃至第４頁、第１図）
【特許文献２】
特開２００１−１３７６４３号公報（第２乃至第５頁、第１乃至第３図）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これら非平衡プラズマ放電による技術であってもＶＯＣｓを含有する排ガスを分解処理に改善の余地がある。本発明者は排ガス中に含まれる水分により放電が不安定になり、分解阻害が起こることに注目した。
【０００５】
本発明は、排ガス中の水分に着目し装置内の吸湿、分解阻害を防止して効率的に分解対象物質を分解処理することができるガス処理方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
よって本発明は、
（１）分解対象物質を含むガスを非平衡プラズマにより分解処理するガス処理方法であって、
前記ガスをリアクターに導入するガス導入工程と、
前記リアクター内でプラズマにより前記分解処理するガス処理工程と、
前記ガス処理工程を終えた排出ガスを前記リアクターから排出する排出工程とを有し、
前記排出工程にて排出される前記排出ガスの熱により前記ガス導入工程における前記ガスを加熱する加熱工程を有することを特徴とするガス処理方法を提供する。
【０００７】
また本発明は、前記加熱工程において、前記リアクターに前記導入される前記ガスを前記ガスの導入路に沿って前記排出ガスが加熱することを特徴とする（１）に記載のガス処理方法を提供する。
【０００８】
あるいは本発明は、前記加熱工程において、前記リアクターに前記導入される前記ガスを外部から前記排出ガスが加熱することを特徴とする（１）に記載のガス処理方法を提供する。
【０００９】
あるいは本発明は、前記加熱工程において、前記リアクターに前記導入される前記ガスを内部から前記排出ガスが加熱することを特徴とする（１）に記載のガス処理方法を提供する。
【００１０】
また本発明は、
（２）分解対象物質を含むガスを非平衡プラズマにより分解処理するリアクターを有するガス処理装置であって、
前記リアクターに前記ガスを導入する導入路と、前記リアクターから排出ガスを排出する排出路とを有し、前記排出路は前記前記導入路を通過する前記ガスを加熱する位置に配置されていることを特徴とするガス処理装置も提供できる。
【００１１】
また本発明は、前記排出路が前記導入路に接して配置されていることを特徴とする（２）に記載のガス処理装置も提供できる。
【００１２】
あるいは本発明は、前記排出路内部に前記導入路が配置されていることを特徴とする（２）に記載のガス処理装置も提供できる。
【００１３】
あるいは本発明は、前記導入路内部に前記排出路が配置されていることを特徴とする（２）に記載のガス処理装置も提供できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本実施形態に係るガス処理方法では、導入ガスに含まれる水分を非平衡プラズマの放電の安定化に影響ない程度に処理して導入ガス中の分解対象物質を分解する。導入ガスに含まれる水分とは、ごく普通に空気中に含まれる程度の水分のことであり、あるいは地中等に含まれる気体が含む水分のことである。導入ガスは具体的には空気等である。つまり本実施形態は地中に含まれる空気を吸引し、その中に含まれるＶＯＣｓを分解する際にその空気中に含まれる水分による影響を防いで、つまり高い湿度の空気を直接導入してもＶＯＣｓを効率的に分解できる。本発明者は特に導入ガス中の水分に係り相対湿度に注目した。非平衡プラズマは、導入されるガス中の相対湿度が高い場合にそのプラズマが不安定になる。相対湿度が低ければ水分の絶対量が多くてもそれはあまり問題にならないことに注目した。そこで、導入ガスを加熱することで相対湿度を下げさえすればわざわざ除湿手段を設けなくてもよいことに本発明者は気がついた。
【００１５】
以下、本実施形態を図面に基づいて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１６】
（第１の実施の形態）
本実施の形態に係るガス処理方法は、
分解対象物質を含むガスを非平衡プラズマにより分解処理するガス処理方法であって、
前記ガスをリアクターに導入するガス導入工程と、
前記リアクター内でプラズマにより前記分解処理するガス処理工程と、
前記ガス処理工程を終えた排出ガスを前記リアクターから排出する排出工程とを有し、
前記排出工程にて排出される前記排出ガスの熱により前記ガス導入工程における前記ガスを加熱する加熱工程を有することを特徴とするガス処理方法に係る。
【００１７】
排出ガスの熱で導入工程において分解対象物質を含むガスを加熱することでリアクターに導入される前に分解対象物質を含むガスの相対湿度を下げることが出来る。
【００１８】
加熱する方法はいずれの方法でも良いが、例えば
（Ａ）前記加熱工程において、前記リアクターに前記導入される前記ガスを前記ガスの導入路に沿って前記排出ガスが加熱したり、
あるいは
（Ｂ）前記加熱工程において、前記リアクターに前記導入される前記ガスを外部から前記排出ガスが加熱したり、
あるいは
（Ｃ）前記加熱工程において、前記リアクターに前記導入される前記ガスを内部から前記排出ガスが加熱することが好ましい。
【００１９】
以下に本実施形態に係るガス処理方法を達成できるガス処理装置について図を用いて説明する。
【００２０】
本実施形態に係るガス処理装置は、
分解対象物質を含むガスを非平衡プラズマにより分解処理するリアクターを有するガス処理装置であって、
前記リアクターに前記ガスを導入する導入路と、前記リアクターから排出ガスを排出する排出路とを有し、前記排出路は前記前記導入路を通過する前記ガスを加熱する位置に配置されていることを特徴とするガス処理装置である。
【００２１】
図１は本実施形態に係るガス処理装置において、リアクターに導入ガスと排出ガスとが導入され排出され、排出ガスが導入ガスを加熱するコンセプトを示す模式図である。
【００２２】
このガス処理装置は、排ガス処理装置として利用できる。
【００２３】
図１において符号１は非平衡プラズマリアクターである。
【００２４】
図１に示す本発明のガス処理装置においては、非平衡プラズマリアクター１が配設され、非平衡プラズマリアクター１には、導入ガスとして例えば排ガスａ（ＶＯＣｓを含有する排ガス）を導入するためのガス導入パイプである導入路（不図示）が接続されており、さらに非平衡プラズマリアクター１はリアクターから排出される排出ガスである分解処理されたガスｂを排出するための排出路であるガス排出パイプ（不図示）が接続され、ガスｂの熱をガスａに伝達する手段ｃより構成されている。
【００２５】
非平衡プラズマとは、高い電子温度と低いイオン温度と低いガス温度といったような状態で生じるプラズマをいう。
【００２６】
本実施形態はこの非平衡プラズマリアクターに導入される前に導入ガスの相対湿度を低下させる。
【００２７】
図１に示す排ガス処理装置によるＶＯＣｓを含有する排ガスの処理は、次のようにして行われる。前記排ガスａは、排ガス導入パイプを介して非平衡プラズマリアクター１内に導入され、プラズマリアクター１内を流れる過程でプラズマ放電により分解処理されて無害化され、ガス排出パイプを介して浄化ガスｂとして系外に排出される。さらに、プラズマリアクター１でプラズマを放電させるとき、プラズマリアクター１から発生する熱ｃを利用し、排ガスａに含有する水分を熱することにより、排ガスａの湿度を低減させ、プラズマリアクターへの水分の吸湿および放電不安定化を防止することができる。
【００２８】
図１に示す排ガス処理装置で使用する非平衡プラズマリアクターとしては、例えば図５に示す構成のパックトベッド式プラズマリアクターを使用することができる。図５に示すプラズマリアクターは、円筒形のプラズマ反応容器５０を有し、該反応容器５０は、接地電極を兼ねる外壁５１と絶縁性物質で形成された二つの内蓋５３１及び５３２とを有する。反応容器５０の内部には、高圧電極５４が設けられ、外壁５１と二つの内蓋５３１及び５３２と高圧電極５４とで形成された空間には誘電体粒子５５が充填されている。反応容器５０のガス導入側の内蓋５３１には、ガスが反応容器５０内に流れ込むようにする為の無数のガス流路孔が開けられている。ガス導入側内蓋５３１の外側には、該内蓋を外側から覆う絶縁性物質で形成されたカバー５２１が、該カバーと内蓋５３１の外側との間に緩衝空間を形成するように設けられている。カバー５２１は、被処理ガスを導入するためのガス導入口５６を有し、ガス導入口５６は前記緩衝空間に連通している。ガス排出側の内蓋５３２の外側には、該内蓋を外側から覆う絶縁性物質で形成されたカバー５２２が、該カバーと内蓋５３２の外側との間に緩衝空間を形成するように設けられている。緩衝空間とは、ガスを対流させるための空間を意味する言葉である。カバー５２２は、内蓋５３２の無数のガス流路孔から前記緩衝空間に流れ出る処理されたガスを排出するためのガス排出口５７を有し、ガス排出口５７は前記緩衝空間に連通している。
【００２９】
上記構成のプラズマリアクターは、ガス導入口５６から導入された被処理ガスが内蓋５３１に設けられた無数の穴を介して誘電体粒子５５の充填された反応容器５０の内部に入り、該誘電体粒子５５の隙間を通過して内蓋５３２に設けられた無数のガス流路孔から流れ出てガス排出口５７より排出される構造となっている。前記被処理ガスが誘電体粒子５５の隙間を通過する際に、高圧電極５４に交流電圧を印加することで接地電極としての反応容器５０の外壁５１との間で非平衡プラズマを発生させ、該被処理ガスを分解処理して無害化する。誘電体粒子５５は、チタン酸バリウムなどの強誘電体物質を主成分とする誘電体材料で形成され、高誘電率を有するものである。このような強誘電体物質を主成分とする誘電体材料で形成された誘電体粒子５５は、分極率も高く、プラズマを発生させるのに有利であり、ガスの分解率を向上せしめる。
【００３０】
（第２の実施の形態）
本実施の形態に係るガス処理装置は、導入路と排出路とが接触した構成であることを特徴とする。それ以外は第１の実施の形態と同じである。図２に本実施形態に係るガス処理として排ガス処理装置を図示する。本実施形態に係る排ガス処理装置は、ＶＯＣｓを含有する排ガスａを導入するパイプ２（導入路）と浄化ガスｂを系外へ排出するパイプ３（排出路）が接触した構成になっている。図２に示す排ガス処理装置においては、前記排ガスａは、前記排ガス導入パイプ２を介して前記非平衡プラズマリアクター１内に導入され、該プラズマリアクター１内を流れる過程でプラズマ放電により分解処理されて無害化され、前記ガス排出パイプ３を介して前記浄化ガスｂとして系外に排出される。さらに、前記プラズマリアクター１でプラズマを放電させるとき、該プラズマリアクター１から発生する熱ｃにより熱せられた前記浄化ガスｂの熱が前記浄化ガス排出パイプ３と前記排ガス導入パイプ２が接触していることにより、直接熱伝導が行われ、これにより前記排ガスａが熱せられ、該排ガスａに含有する水分の相対湿度が低減し、前記プラズマリアクター１への水分の吸湿および放電不安定化を防止することができる。このとき、配管接触方法は前記排ガス導入パイプ２と前記浄化ガス排出パイプ３が接触していれば更なる具体的な構成は問わない。
【００３１】
（第３の実施の形態）
本実施の形態に係るガス処理装置は、導入路が排出路内に配置されていることを特徴とする。それ以外は第１の実施の形態と同じである。本実施形態に係るガス処理装置を図３にしめす。
【００３２】
図３に示すガス処理装置としての排ガス処理装置は、図１に示す非平衡プラズマリアクター１からなり、ＶＯＣｓを含有する排ガスａを導入するパイプ２が、浄化ガスｂを系外へ排出するパイプ３内部に通過している構成になっている。図３に示す排ガス処理装置においては、前記排ガスａは、前記排ガス導入パイプ２を介して前記非平衡プラズマリアクター１内に導入され、該プラズマリアクター１内を流れる過程でプラズマ放電により分解処理されて無害化され、前記ガス排出パイプ３を介して前記浄化ガスｂとして系外に排出される。さらに、前記プラズマリアクター１でプラズマを放電させるとき、該プラズマリアクター１から発生する熱により熱せられた前記浄化ガスｂの熱が、前記排ガス導入パイプ２の外部を前記浄化ガス排出パイプ３が通過することにより、直接熱伝導が行われ、これにより前記排ガスａが熱せられ、該排ガスａに含有する水分の相対湿度が低減し、前記プラズマリアクター１への水分の吸湿および放電不安定化を防止することができる。このとき、配管構成は前記排ガス導入パイプ２の外部を前記浄化ガス排出パイプ３が通過していれば更なる具体的な構成は問わない。
【００３３】
（第４の実施の形態）
本実施の形態に係るガス処理装置は、排出路が導入路内に配置されていることを特徴とする。それ以外は第１の実施の形態と同じである。本実施形態に係るガス処理装置を図４にしめす。
【００３４】
図４に示すガス処理装置としての排ガス処理装置は、図１に示す非平衡プラズマリアクター１からなり、ＶＯＣｓを含有する排ガスａを導入するパイプ２内部を浄化ガスｂを系外へ排出するパイプ３が通過している構成になっている。図４に示す排ガス処理装置においては、前記排ガスａは、前記排ガス導入パイプ２を介して前記非平衡プラズマリアクター１内に導入され、該プラズマリアクター１内を流れる過程でプラズマ放電により分解処理されて無害化され、前記ガス排出パイプ３を介して前記浄化ガスｂとして系外に排出される。さらに、前記プラズマリアクター１でプラズマを放電させるとき、該プラズマリアクター１から発生する熱により熱せられた前記浄化ガスｂの熱が、前記浄化ガス排出パイプ３の内部を通過することで浄化ガス排出パイプ３の外に配置されている前記排ガス導入パイプ２へ直接熱伝導が行われ、これにより前記排ガスａが熱せられ、該排ガスａに含有する水分の相対湿度が低減し、前記プラズマリアクター１への水分の吸湿および放電不安定化を防止することができる。このとき、配管構成は前記浄化ガス排出パイプ３の外部に前記排ガス導入パイプ２が配置されていれば更なる具体的な構成は問わない。
【００３５】
【実施例】
本発明の効果を以下に示す実施例及び参考例により具体的に説明するが、本発明は該実施例により限定されるものではない。
【００３６】
実施例１と２は湿度低減効果を確かめる実施例であり、導入ガスには分解対象物質を含めていない。実施例３と比較例は導入ガスに分解対象物質を更に含め、その分解対象物質の分解効果を確かめる例である。
【００３７】
（実施例１）
図２に示すガス処理装置を用い、湿度低減効果を確かめる実験を行った。排ガス導入パイプ２と浄化ガス排出パイプ３は１辺５０ｍｍの四角柱状ＳＵＳ管であり、該排ガス導入パイプと浄化ガス排出パイプのそれぞれ１面が３ｍ接触している。非平衡プラズマリアクターとして、図５に示すパックトベッド式プラズマリアクター５０を使用した。該プラズマリアクターの円筒形反応容器は、長さが３００ｍｍ、直径が７０ｍｍ、電極間距離（高圧電極５４と接地電極５１との間の距離）が１５ｍｍ、反応容器内のガス流路空間の容積が８００ｃｍ３である。反応容器内には、誘電体粒子５５として、直径３ｍｍのペレット状チタン酸バリウム粒子を充填した。
【００３８】
ＶＯＣｓ含有ガスの代わりにＡｉｒ（通常の窒素と酸素を主成分とする空気のことでガス温度２０℃、湿度５０％）を用い、排ガス導入パイプ２を介して、３０Ｌ／ｍｉｎでプラズマリアクター１に流通した。次いでプラズマリアクター１の高圧電極５４と接地電極５１との間に３ｋＶの電圧を印加してプラズマ放電を生起させた。前記放電による発熱により排出パイプ３内のガス温度が上昇し、排出パイプ３と導入パイプ２が接触する際に熱伝導が行われ、最終的に排出パイプ内のガスは１５０℃、導入パイプ内のガスは１００℃近傍で安定した。この時の導入パイプ内のガス湿度は１．５％まで低減した。
【００３９】
導入パイプ内のガス温度とガス湿度は同位置で測定した。位置は導入パイプ内で非平衡プラズマリアクター直前の位置である。測定には工業用温湿度計（ｔｅｓｔｏ  ６４５：（株）テストー社製）で測定した。
【００４０】
また排出パイプ内のガス温度は非平衡プラズマリアクターから３ｍ先の位置で測定した。
【００４１】
これらガス温度及びガス湿度は実施例１乃至３および比較例の何れも同じである。
【００４２】
（実施例２）
図３に示すガス処理装置を用い、湿度低減効果を確かめる実験を行った。排ガス導入パイプ２はφ５０ｍｍ、浄化ガス排出パイプ３はφ１００ｍｍの円柱状ＳＵＳ管であり、該排ガス導入パイプが浄化ガス排出パイプ内部を３ｍ通過している。非平衡プラズマリアクター１として、図５に示すパックトベッド式プラズマリアクター５０を使用した。該プラズマリアクターの円筒形反応容器は、長さが３００ｍｍ、直径が７０ｍｍ、電極間距離（高圧電極５４と接地電極５１との間の距離）が１５ｍｍ、反応容器内のガス流路空間の容積が８００ｃｍ３である。反応容器内には、誘電体粒子５５として、直径３ｍｍのペレット状チタン酸バリウム粒子を充填した。
【００４３】
ＶＯＣｓ含有ガスの代わりにＡｉｒ（ガス温度２０℃、湿度５０％）を用い、排ガス導入パイプ２を介して、３０Ｌ／ｍｉｎでプラズマリアクター１に流通した。次いでプラズマリアクター１の高圧電極５４と接地電極５１との間に３ｋＶの電圧を印加してプラズマ放電を生起させた。前記放電による発熱により排出パイプ３内のガス温度が上昇し、ガス導入パイプ２がガス排出パイプ３の内部を通過する際に熱伝導が行われ、最終的に排出パイプ内のガスは１３５℃、導入パイプ内のガスは１２０℃近傍で安定した。この時の導入パイプ内のガス湿度は０．８％まで低減した。
【００４４】
実施例３では、図３の装置を用いた。これは図３の装置の方が図２の装置より湿度低減効果が高かったからである。また分解対象物質としてメタノールを挙げた。そして図５の装置を用いる比較例と実施例３とから分解効果を確かめる。
【００４５】
（実施例３）
図３に示すガス処理装置用い、被処理ガスとして５００ｐｐｍメタノールを含有するＡｉｒベースガス（ガス温度２０℃、湿度５０％）の分解処理実験を行った。排ガス導入パイプ２はφ５０ｍｍ、浄化ガス排出パイプ３はφ１００ｍｍの円柱状ＳＵＳ管であり、該排ガス導入パイプが浄化ガス排出パイプ内部を３ｍ通過している。非平衡プラズマリアクター１として、図５に示すプラズマリアクターを使用した。該プラズマリアクターの円筒形反応容器は、長さが３００ｍｍ、直径が７０ｍｍ、電極間距離（高圧電極５４と接地電極５１との間の距離）が１５ｍｍ、反応容器内のガス流路空間の容積が８００ｃｍ３である。反応容器内には、誘電体粒子５５として、直径３ｍｍのペレット状チタン酸バリウム粒子を充填した。
【００４６】
排ガス導入パイプ２を介して、被処理ガスとしてのメタノールを５００ｐｐｍ含有するＡｉｒベースガス（ガス温度２０℃、湿度５０％）を３０Ｌ／ｍｉｎでプラズマリアクター１に導入し、高圧電極５４と接地電極５１との間に３ｋＶの電圧を印加してプラズマ放電を生起させて該Ａｉｒベースガスの分解処理を行った。プラズマリアクター１から排出された浄化ガスｂをガスクロマトグラフにより分析した結果、分解率は８９．４％であった。また、この時の浄化ガス（排出パイプ内のガス）温度は１４５℃、被処理ガス（導入パイプ内のガス）温度は１３０℃、被処理ガス湿度である導入パイプ内のガス湿度は０．６％であった。
【００４７】
（比較例）
実施例３と同様にガス処理装置としては図５のプラズマリアクター１を用いて被処理ガスの分解実験を行うところまでは実施例３と同じであるが、実施例３と異なる点は、排出ガスが導入ガスを加熱できないように排出路と導入路とが配置されている点である。具体的には排出路と導入路とが一方向に配置され、互いの長尺方向が重ならないようにそれぞれが非平衡プラズマリアクターに接続されている（不図示）。被処理ガスとしてメタノールを５００ｐｐｍ含有するＡｉｒベースガス（ガス温度２０℃、湿度５０％）を３０Ｌ／ｍｉｎでプラズマリアクター１に導入し、高圧電極５４と接地電極５１との間に３ｋＶの電圧を印加してプラズマ放電を生起させて該Ａｉｒベースガスの分解処理を行った。プラズマリアクター１から排出した分解処理ガスをガスクロマトグラフにより分析した。その結果、メタノールの分解率は３４．８％であった。またこの時の導入パイプ内のガス温度は２０℃、排出パイプ内のガス温度は１６０℃であった。また導入パイプ内のガス湿度は５０％であった。
【００４８】
【発明の効果】
本発明によれば、リアクターに導入されるガスを、リアクターから排出されるガスの熱で加熱することにより、リアクターに導入されるガスの相対湿度を下げることが出来る。その結果、ガスに含まれる分解対象物質を効率よく分解できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るガス処理装置のコンセプトを示す図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態に係るガス処理装置を模式的に表す図である。
【図３】本発明の第３の実施の形態に係るガス処理装置を模式的に表す図である。
【図４】本発明の第４の実施の形態に係るガス処理装置を模式的に表す図である。
【図５】本発明の実施形態に係るガス処理装置において使用するプラズマリアクターを示す断面模式図である。
【符号の説明】
１  非平衡プラズマリアクター
２  排ガス導入パイプ
３  浄化ガス排出パイプ
ａ  被処理ガス
ｂ  浄化ガス
ｃ  熱伝達手段
５０  反応容器
５１  外壁（接地電極）
５２１、５２２  カバー
５３１、５３２  内蓋
５４  高圧電極
５５  誘電体粒子
５６  ガス導入口
５７  ガス排出口
【図１】
2004261736.tif 000003
【図２】
2004261736.tif 000004
【図３】
2004261736.tif 000005
【図４】
2004261736.tif 000006
【図５】
2004261736.tif 000007