(57)【要約】【課題】支持体上に形成された感光層を画像様に露光した後、印刷機上にて未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられる感光性画像形成材料であって、耐刷力に優れ、しかも非画像部の汚れがなく画像再現性に優れた感光性画像形成材料を提供する。【解決手段】感光性画像形成材料の感光層は、表面が粗面化された支持体又は多孔質の支持体上に形成された親水性の下引き層であって、該支持体上に形成後は水及び有機溶媒に対して非溶解性である下引き層を介して設けられている。この感光層は、界面活性剤を含む光重合性組成物により形成されている。【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に形成された感光層を画像様に露光した後、印刷機上にて未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられる感光性画像形成材料において、
該感光層は、表面が粗面化された支持体又は多孔質の支持体上に形成された親水性の下引き層であって、該支持体上に形成後は水及び有機溶媒に対して非溶解性である下引き層を介して設けられており、
かつ、該感光層は、界面活性剤を含む光重合性組成物により形成されていることを特徴とする感光性画像形成材料。
【請求項２】
請求項１において、該界面活性剤が、該光重合性組成物中に、固形分重量として０．０５重量％以上含有されていることを特徴とする感光性画像形成材料。
【請求項３】
請求項１又は２において、該界面活性剤が、非イオン性界面活性剤及びフッ素系界面活性剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種の界面活性剤を含むことを特徴とする感光性画像形成材料。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項において、該下引き層の平均皮膜量が０．００１〜１ｇ／ｍ２であり、かつ前記支持体の平均粗さＲａが０．１〜２μｍであることを特徴とする感光性画像形成材料。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、該下引き層がＳｉを含むことを特徴とする感光性画像形成材料。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項において、該光重合性組成物が、エチレン性単量体、光重合開始系、及び高分子結合材を含有することを特徴とする感光性画像形成材料。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項において、該感光性画像形成材料は、印刷用の原版であって、露光後の該感光性画像形成材料を印刷機に取り付けてブランケットやその他ロールと接触させ、必要に応じて湿し水及び／又はインキを版面に供給し、ロールを回転してその版面を擦ることにより未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられることを特徴とする感光性画像形成材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性画像形成材料に関するものであり、詳しくは、支持体上に形成された感光層を画像様に露光した後、印刷機上にて未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられる感光性画像形成材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光重合開始系を含む光重合性組成物を利用した画像形成方法は多数知られており、光重合性組成物の光重合開始系としても種々のものが提案されている。例えば、比較的高感度な光重合開始系として、チタノセン類と増感剤の組み合わせや、ピロメテン錯体増感剤とラジカル発生剤の系等が知られている。
【０００３】
また、光重合性組成物の重合性成分としては、種々のアクリレート化合物を使用することが知られており、水酸基含有化合物と（メタ）アクリル酸のエステルであるアクリレート化合物や、ジイソシアネート化合物と水酸基及びアクリレート基含有化合物とを反応させたウレタン系アクリレート化合物が知られている。
【０００４】
このような光重合性組成物を用いる画像形成方法は、光重合性組成物の光重合反応によって形成された硬化部と、非硬化部とを何らかの手段によって分けることにより画像を形成するものであり、例えば、付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物と光重合開始系、更に所望により有機高分子結合材などを含有する光重合性組成物の層を支持体上に設けた感光性画像形成材料に、所望の画像を露光して露光部分を光重合反応により硬化させ、未露光部分を溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方法や、少なくとも一方が透明である２枚の支持体間に光重合性組成物の層を設けた感光性画像形成材料に、透明支持体側より露光し、光による接着強度の変化を起こさせ、支持体を剥離することにより画像を形成する方法、その他、光重合性組成物層の光によるトナー付着性の変化を利用した画像作成方法などがある。
【０００５】
その中でも特に一般的なのが、有機溶剤やアルカリ性の特別の薬品からなる現像液を使用することによって、未露光部を溶解除去させる方法である。この場合、画像形成材料を搬送しながら該現像液中へと浸漬させ、自然溶解、ブラシでの機械的な擦り等を経て画像を表出させ、更に余分の現像液を水を用いて洗い流す方法が一般的である。また、最近では光重合性組成物層とその支持体との間に、溶解可能な下引き層を設けた画像形成材料を、上述のような通常の現像処理を行わず、直接印刷機に取り付け、下引き層を溶解させることによって未露光部の光重合性組成物層を除去することにより画像を形成する方法も知られている（米国特許第６，０１４，９２９号）。
【０００６】
【特許文献１】
米国特許第６，０１４，９２９号
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、現像液による現像処理を必要とする画像形成方法は、現像液のコスト、現像液の鮮度を保つための補充などのケア、廃液の処理、更にはその他の現像条件等を制御することが必要であり、このために非常に煩雑な手間と労力を要するものである。しかも、現像処理による画像形成方法では、光重合性組成物を変更した場合には、それに伴って例えば現像液を変更するなど、その都度現像条件を変更することが必要となり、このことが工程面での大きな負担となっている。
【０００８】
一方、溶解可能な下引き層を設ける方法では、支持体と露光部の光重合性組成物層との間の下引き層も溶けやすく、その結果、本来残るべき画像の土台も流れてしまいがちであるために、露光部の画像再現性に劣るという問題があった。
【０００９】
そのため、特願２００２−１６５２８３においては、粗面化されたもしくは多孔質の支持体上に、塗設後は水にも溶媒にも溶解しない親水性の下引き層を設け、更にその上に光重合系組成物の感光層を塗設してなる感光性画像形成材料を用い、この画像形成材料を画像様に露光した後、印刷機上で未露光部を除去する画像形成方法を提案している。
【００１０】
しかしながら、市場の要求はこのような簡便な印刷方法に対しても、より多くの印刷枚数を刷ることのできる能力、即ち、耐刷性が非常に高いことを望んでいる。そのような高い耐刷性を達成するためには、支持体に対してより強い接着性を有する感光層を形成することが必要となるが、この場合には、感光層の未露光部の支持体への接着性も高まり、未露光部の残留が非画像部の汚れとなり、良好な画像再現性を得ることができない。このようなことから、耐刷性と画像再現性とを両立することが難しい状況にある。
【００１１】
本発明は上記従来の実状に鑑みてなされたものであり、支持体上に形成された感光層を画像様に露光した後、印刷機上にて未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられる感光性画像形成材料であって、耐刷力に優れ、しかも非画像部の汚れがなく画像再現性に優れる感光性画像形成材料を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の感光性画像形成材料は、支持体上に形成された感光層を画像様に露光した後、印刷機上にて未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられる感光性画像形成材料において、該感光層は、表面が粗面化された支持体又は多孔質の支持体上に形成された親水性の下引き層であって、該支持体上に形成後は水及び有機溶媒に対して非溶解性である下引き層を介して設けられており、かつ、該感光層は、界面活性剤を含む光重合性組成物により形成されていることを特徴とする。
【００１３】
感光層中の界面活性剤は、下引き層が設けられた支持体表面に移行する。この界面活性剤は、疎水的性質と親水的性質とを併せ持つため、十分な露光により硬化した感光層を支持体に接着させる一方、未露光部或いは不十分に露光された感光層が支持体から除去されるのを促進する機能を奏する。
【００１４】
即ち、この界面活性剤は、支持体表面に親水性部分を向けて配列し、未露光の非画像部においては支持体から除去されるべき感光層が支持体に残ることを防ぐ効果を示す。また、露光された画像部においては疎水性部が感光層と共に結着し、感光層をより強く支持体に結びつける効果を示す。このため、本発明によれば、耐刷力と画像再現性とを両立させることが可能となる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の感光性画像形成材料の実施の形態を詳細に説明する。
【００１６】
［光重合性組成物］
まず、本発明で用いられる界面活性剤を含む光重合性組成物について説明する。本発明に係る光重合性組成物は、好ましくはエチレン性単量体、光重合開始系、高分子結合材及び界面活性剤を含む。以下にこれらの光重合性組成物の構成成分について説明する。
【００１７】
＜エチレン性単量体＞
エチレン性単量体とは、付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物であり、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた場合、例えば光重合開始系の作用により付加重合して硬化するようなエチレン性二重結合を有する単量体である。
【００１８】
なお、ここで、単量体の意味するところは、皮膜形成能を有する高分子結合材に相対する概念であって、従って、狭義の単量体以外にも二量体、三量体、オリゴマーをも包含するものである。
【００１９】
エチレン性単量体としては、一分子中にエチレン性二重結合を一個有する化合物及び、一分子中にエチレン性二重結合を二個以上有する多官能エチレン性単量体が挙げられ、前者としては、具体的には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、アクリロニトリル、スチレン、エチレン性不飽和結合を一個有するカルボン酸化合物と多（単）価アルコールとのモノエステル等が挙げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を表す。「（メタ）アクリレート」「（メタ）アクリロイル」についても同様である。
【００２０】
エチレン性単量体を併用する場合、１分子中にエチレン性不飽和結合を二個以上有する多官能エチレン性単量体を使用することが望ましい。
【００２１】
かかる多官能エチレン性単量体の例としては、例えば脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステルなどが挙げられる。
【００２２】
前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては限定されないが、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。
【００２３】
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては限定されないが、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステルやメタクリル酸エステル等が挙げられる。
【００２４】
不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸ならびに多価ヒドロキシ化合物のエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物ではないが、代表的な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等が挙げられる。
【００２５】
その他、本発明に用いられる多官能エチレン性単量体の例としては、トリレンジイソシアネートとヒドロキシエチルアクリレートとの付加反応物のようなウレタンアクリレート類；ジエポキシ化合物とヒドロキシエチルアクリレートとの付加反応物のようなエポキシアクリレート類；エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類；フタル酸ジアリル等のアリルエステル類；ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有用である。
【００２６】
本発明のエチレン性単量体としては特に限定されないが、一分子中に４つ以上のウレタン結合［−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−］及び４つ以上の付加重合可能な二重結合を有するウレタン系化合物を含有しても良く、更に具体的には以下の構造を有する化合物である。
【００２７】
【化１】
2004167804.tif 000002
（一般式（Ｉ）中、ｘは４〜２０の整数、ｙは０〜１５の整数、ｚは１〜１５の整数を表わし、Ｒａはアルキレン、アリーレン、アルキレンオキシ又はアリーレンオキシ由来の繰り返し単位を有し、Ｒｂはアルキレン、アリーレン、アルキレンオキシ、アリーレンオキシを表し、Ｒｃは炭素数１〜２０のアルキレン、アリーレン基を表し、Ｒｄは水素又は炭素数１〜２０の有機残基又はアルカリ金属基であって、少なくとも（メタ）アクリル基を１〜１０個有する有機残基を表わし、Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄはそれぞれ独立して置換基を有していても良い。）
【００２８】
該ウレタン化合物の製造方法としては特に限定されないが、イソシアネート基と水酸基の付加反応によってウレタン結合を容易に形成することができることから、好ましくは、一分子中に４つ以上のイソシアネート基を有する化合物と、一分子中に１つ以上の水酸基と２つ以上の付加重合可能な二重結合を有する化合物とを反応させる方法が挙げられる。
【００２９】
更に、本発明において特に限定されないが、エチレン性単量体としては少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を含有するリン酸エステル化合物を含んでいても良い。このような化合物としては、特に限定はされないが、具体的には下記一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）で示される化合物が挙げられる。
【００３０】
【化２】
2004167804.tif 000003
（一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、ｎは１〜２５の整数を示し、ｍは１〜３の整数を示す。）
【００３１】
上記一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）で表される化合物のうち、特に好ましい化合物の具体例としては、（メタ）アクリルオキシエチルフォスフェート、ビス（（メタ）アクリルオキシエチル）フォスフェート、（メタ）アクリルオキシエチレングリコールフォスフェート等が挙げられる。
【００３２】
これらのエチレン性単量体は１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００３３】
＜光重合開始系＞
光重合開始系は、通常、ラジカル発生剤と増感剤とから構成され、必要により重合加速剤を含む。
【００３４】
ラジカル発生剤としては、前記エチレン性単量体の重合を開始させ得るものは全て使用できる。このうち、光励起された増感剤と何らかの作用を及ぼし合うことにより活性ラジカルを生成するラジカル発生剤としては、例えば、チタノセン類、ヘキサアリールビイミダゾール類、有機硼素アニオン（ボレート）類、ハロゲン化炭化水素誘導体（ハロメチル基含有化合物）、ジアリールヨードニウム塩、有機過酸化物等を挙げることができる。
【００３５】
チタノセン類としては、例えば特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載されている各種チタノセン類から適宜選んで用いることができる。更に具体的には、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジクロライド、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビスフェニル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジメチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジメチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等のジシクロペンタジエニル基を有するチタノセン化合物を挙げることができる。
【００３６】
ヘキサアリールビイミダゾール類としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロムフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロルナフチル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’５，５’−テトラ（ｐ−クロルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロムフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロル−ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロムフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロムフェニル）−４，４’５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）−４，４’５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）ビイミダゾール類等の、ベンゼン環上にハロゲン置換基を有するヘキサアリールビイミダゾール類が好ましい。
【００３７】
これらのヘキサアリールビイミダゾール類は、必要に応じ、多種のビイミダゾールと併用して使用することもできる。これらのビイミダゾール類は例えばＢｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ．３３，５６５（１９６０）及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．３６［１６］２２６２（１９７１）に開示されている方法により容易に合成することができる。
【００３８】
有機硼素アニオン類としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特許第２７６４７６９号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ  “Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載のものが挙げられるが、特に、下記一般式（ＩＶ）で表されるものが好ましい。
【００３９】
【化３】
2004167804.tif 000004
（一般式（ＩＶ）中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は各々独立して、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアルキニル基、置換基を有していても良いアリール基、又は複素環基を示し、これらは互いに連結して環状構造を形成していても良く、これらのうち少なくとも一つは置換基を有していても良いアルキル基である。）
【００４０】
上記一般式（ＩＶ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５がアルキル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜５、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜５、アリール基であるときの炭素数は通常６〜２０、好ましくは６〜１５、複素環基であるときの炭素数は通常４〜２０、好ましくは４〜１５であり、それらにおける置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリメチルシリル基等が挙げられる。中でも、Ｒ２〜Ｒ４が各々独立にハロゲン原子で置換されていても良いフェニル基であり、Ｒ５が炭素数１〜６のアルキル基であることが好ましい。
【００４１】
これらの有機硼素アニオン類としては、具体的には、ｎ−ブチル−メチル−ジフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（トリフルオロメチル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフルオロ−３−ピロリルフェニル）硼素アニオン等が挙げられる。
【００４２】
また、これらの有機硼素アニオン類の対カチオンとしては、例えば、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン等のオニウム化合物、及び、ピリリウムカチオン、チアピリリウムカチオン、インドリウムカチオン等を挙げることができるが、テトラアルキルアンモニウム等の有機アンモニウムカチオンが好ましく、特に炭素数１〜６のアルキル基のテトラアルキルアンモニウムカチオンが好ましい。
【００４３】
ハロメチル基含有化合物としては、モノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン化合物が好ましく、下記一般式（Ｖ）で表されるものが特に好ましい。
【００４４】
【化４】
2004167804.tif 000005
（一般式（Ｖ）中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｗは置換基を有していても良いアリール基又は複素環基を示し、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基を示し、ｒは０〜２の整数である。）
【００４５】
これらのｓ−トリアジン化合物としては、具体的には、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられ、中でも、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が経時安定性に優れる点で好ましい。
【００４６】
これらのラジカル発生剤は、露光波長により１種又は２種以上を適宜選択して用いることができるが、例えば、露光波長が３５０〜６５０ｎｍの範囲では、チタノセン類及び／又はヘキサアリールビイミダゾール類を用いるのが、感度、保存性、塗膜の下地密着性等が特に良好で好ましい。
【００４７】
また、露光波長が６５０〜１３００ｎｍの場合には、有機硼素アニオン及び／又はハロメチル基含有化合物を用いるのが、感度、保存性、塗膜の下地密着性等が特に良好で好ましい。
【００４８】
一方、増感剤は、上述のラジカル発生剤と共存した場合、光線照射により効果的に活性ラジカルを発生させ得る化合物である。
【００４９】
代表的な増感剤の例としては、例えば、米国特許第３，４７９，１８５号明細書に開示されているロイコクリスタルバイオレットやロイコマラカイトグリーンのようなトリフェニルメタン系ロイコ色素、エリスロシンやエオシンＹのような光還元性染料、米国特許第３，５４９，３６７号明細書、米国特許第３，６５２，２７５号明細書等に開示されているミヒラーズケトンやアミノスチリルケトンのようなアミノフェニルケトン類、米国特許第３，８４４，７９０号明細書に示されるβ−ジケトン類、米国特許第４，１６２，１６２号明細書に示されるインダノン類、特開昭５２−１１２６８１号公報に示されるケトクマリン類、特開昭５９−５６４０３号公報に示されているアミノスチレン誘導体やアミノフェニルブタジエン誘導体、米国特許第４，５９４，３１０号明細書に示されるアミノフェニル複素環類、米国特許第４，９６６，８３０号明細書に示されるジュロリジン複素環類、特開平５−２４１３３８号公報に示されるピロメテン系色素、その他シアニン色素、ジアルキルベンゼン系化合物等が挙げられる。
【００５０】
これらの増感剤も、露光波長により１種又は２種以上を適宜選択して用いることができるが、露光波長が３９０〜４３０ｎｍであれば、ジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましく、露光波長が４００〜６５０ｎｍであれば、ケトクマリン類やピロメテン系色素が好ましく、露光波長が６５０〜１３００ｎｍであればシアニン色素が好ましい。
【００５１】
ジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、ジアルキルアミノベンゼン構造を有し、任意の置換基を有していても良いが、中でも、ジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に芳香族複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、及びこれらの化合物のジアルキルアミノ基を構成するアルキル基が互いに結合して、及び／又は該アルキル基がベンゼン環上のアミノ基の結合する炭素原子に隣接する炭素原子と結合して含窒素複素環構造を形成した構造の化合物が好ましい。なお、これらのジアルキルアミノベンゼン系化合物において、ジアルキルアミノ基を構成するアミノ基は互いに同一でも異なっていても良く、炭素数は１〜６であることが好ましい。
【００５２】
中でも好ましいジアルキルアミノベンゼン化合物としては、下記一般式（ＶＩ）及び（ＶＩＩ）で示されるものが挙げられる。
【００５３】
【化５】
2004167804.tif 000006
（一般式（ＶＩ）中、Ｒ７〜Ｒ１０は、各々独立して炭素数１〜６のアルキル基を、Ｒ１１〜Ｒ１４は、各々独立して水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示すが、Ｒ７とＲ８、Ｒ９とＲ１０、Ｒ７とＲ１１、Ｒ８とＲ１２、Ｒ９とＲ１３、Ｒ１０とＲ１４は、それぞれ独立に結合して環を形成していても良い。）
【００５４】
【化６】
2004167804.tif 000007
（一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ１５、Ｒ１６は各々独立して炭素数１〜６のアルキル基を、Ｒ１７、Ｒ１８は各々独立して水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を、Ｑは酸素原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、又は−Ｎ（Ｒ１９）−（Ｒ１９は水素原子又は炭素１〜６のアルキル基を示す。）を表す。但し、Ｒ１５とＲ１６、Ｒ１５とＲ１７又はＲ１６とＲ１８がそれぞれ独立に結合して環を形成しても良い。なお、ジアルキルメチレン基のアルキル基の炭素数は１〜６、特に１であることが好ましい。）
【００５５】
上記一般式（ＶＩ）及び（ＶＩＩ）においてＲ７〜Ｒ１８のいずれかが結合して環を形成する場合、この環は５又は６員環であるのが好ましく、特に６員環が好ましい。
【００５６】
一般式（ＶＩ）で示される化合物としては、具体的には４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン及び下記構造の化合物が挙げられる。
【００５７】
【化７】
2004167804.tif 000008
【００５８】
また、一般式（ＶＩＩ）で表わされる化合物としては、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔４，５〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔６，７〕ベンゾオキサゾール、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンズイミダゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンズイミダゾール及び下記構造の化合物が挙げられる。
【００５９】
【化８】
2004167804.tif 000009
【００６０】
シアニン色素は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の複素原子がポリメチン（−ＣＨ＝）ｎ鎖で結合された構造を基本構造とするものであり、代表的には、その複素原子が複素環を形成し、ポリメチン鎖を介して複素環が結合された構造を基本構造とする広義の所謂シアニン系色素、具体的には、例えば、キノリン系（所謂、シアニン系）、インドール系（所謂、インドシアニン系）、ベンゾチアゾール系（所謂、チオシアニン系）、ピリリウム系、チアピリリウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、アズレニウム系等、及び、ポリメチン鎖を介して非環式複素原子が結合された構造の所謂ポリメチン系色素等が挙げられ、中でも、インドール系色素及びベンゾチアゾール系色素が好ましい。
【００６１】
インドール系、及びベンゾチアゾール系色素としては、特に、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるものが好ましい。
【００６２】
【化９】
2004167804.tif 000010
（一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｙ１及びＹ２は各々独立してジアルキルメチレン基又は硫黄原子を示し、Ｒ２０及びＲ２１は各々独立して置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアルキニル基、又は置換基を有していても良いフェニル基を示し、Ｌ１は置換基を有していても良いペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基を示す。該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環、シクロアルケノン環、シクロアルケンジオン環、又はシクロアルケンチオン環を形成していても良い。また、縮合ベンゼン環は置換基を有していても良く、その場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成していても良い。Ｘａ−は対アニオンを示す。）
【００６３】
上記一般式（ＶＩＩＩ）中のＲ２０及びＲ２１がアルキル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、フェニル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常１〜１５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げられ、Ｌ１における置換基としては、直接又はエーテルもしくはチオエーテル結合を介した芳香族環あるいは複素環、アルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、縮合ベンゼン環における置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
【００６４】
これらのうち、直接又はエーテルもしくはチオエーテル結合を介した複素環をＬ１上に有するシアニン色素が好ましい。
【００６５】
本発明で用いる光重合開始系には必要に応じて、重合加速剤として、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、Ｎ−フェニルグリシン及びその誘導体、Ｎ，Ｎ−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素供与性化合物を加えることによって更に光重合開始能力を高めることができる。このうち特に好ましいのは、Ｎ−フェニルグリシンやその誘導体、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール等のメルカプト基を有する化合物や、Ｎ，Ｎ−ジアルキル安息香酸アルキルエステルである。
【００６６】
なお、露光直後の可視画性を得るために適宜光重合開始系を選択・使用することは望ましい。例えば、露光によって色素や増感剤が直接退色したり、また逆に発色、変色することによって、目視により露光部が容易に判別できる場合がその例として挙げられる。更には、間接的に、例えば露光部に酸が発生することによって色素や増感剤がこのような色変化をもたらす場合も好ましい。
【００６７】
これら露光後可視画性をもたらす組合せとしては、例えばラジカル発生剤としてハロメチル基含有化合物より具体的にはｓ−トリアジン化合物とトリフェニル系着色色素の組合せ、ｓ−トリアジン化合物とシアニン系色素の組合せが好適である。
【００６８】
＜高分子結合材＞
被膜形成能を有する高分子結合材としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、マレイン酸、（メタ）アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独もしくは共重合体、その他、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリエチレンテレフタレート、アセチルセルロース、又はポリビニルブチラール等が挙げられる。
【００６９】
中でも、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の置換されていても良い（メタ）アクリル酸エステルや、（メタ）アクリル酸等の共重合体であることが好ましい。
【００７０】
これらの高分子結合材は、側鎖に付加重合可能なエチレン性二重結合を有することが望ましく、特に下記一般式（ＩＸ−１）〜（ＩＸ−３）で示される少なくとも１種の不飽和結合を有することが好ましい。
【００７１】
【化１０】
2004167804.tif 000011
（一般式（ＩＸ−１）〜（ＩＸ−３）中、Ｒ２２は水素原子又はメチル基を示し、また、Ｒ２３〜Ｒ２７は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基、置換基を有していても良いアルキルアミノ基、置換基を有していても良いアリールアミノ基、置換基を有していても良いアルキルスルホニル基、又は置換基を有していても良いアリールスルホニル基を示し、Ｚは酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示す。）
【００７２】
なお、Ｒ２３〜Ｒ２７の置換基を有していても良いアルキル基等の置換基としては炭素−炭素二重結合の反応性を極端に低下させない限り特に限定されないが、通常ハロゲン原子、アルキル基、フェニル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、又はジアルキルアミノ基等から選ばれる。
【００７３】
このような不飽和結合を有する高分子結合材としては、具体的には、カルボキシル基含有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマール酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又は、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を、８０〜１２０℃程度の温度で、１〜５０時間程度、カルボキシル基含有重合体の有するカルボキシル基の５〜９０モル％、好ましくは３０〜７０モル％程度を反応させることにより得られた反応生成物；及び、アリル（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メタ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、メタリル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化合物、又は、ビニル（メタ）アクリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−プロペニル（メタ）アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化合物と、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を１０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％程度となるように共重合させることにより得られた反応生成物；等が挙げられる。また、特開平１０−３１２０５５号公報に記載のカルボキシル基及び不飽和結合を有する高分子結合材も挙げられる。
【００７４】
高分子結合材としては、水溶性の結合材をその一部又は大部分に使用しても良い。水溶性の結合材としては、特に限定されないが例えばビニルアルコール、アルリルアミド、メチロールメタクリルアミド、アクリル酸及びメタクリル酸、その塩、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシメタクリレートのホモポリマー及び共重合体、及び無水マレイン酸／ビニルメチルエーテル共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、部分加水分解ポリビニルアセテート、スルホン化ポリスチレンの塩、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、セルロースアセテート水素フタレートの塩、デキストラン、デキストリン又はそれらの誘導体、澱粉、アラビアゴム、ゼラチン、或いはアルギン酸誘導体（例えばそれらの塩又はエステル）などが挙げられる。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【００７５】
なお、ここでいう水溶性とは、５〜１００℃の水に対して溶解可能であることを意味し、特に限定されないが１００ｇの水（冷水又は熱水）に少なくとも１ｇ以上溶解可能であることが望ましい。水溶性の結合材は、塗布溶媒に溶解又は分散可能であることが好ましく、更に好ましくは溶解することが好ましい。
【００７６】
＜界面活性剤＞
本発明においては、感光層を形成する光重合性組成物中に界面活性剤が含まれていることを特徴とする。前述の如く、このような光重合性組成物により形成された感光層中の界面活性剤は、下引き層が設けられた支持体表面に集まる。この界面活性剤は、疎水的性質と親水的性質を併せ持つため、十分な露光により硬化した感光層を支持体に接着させる一方で、未露光部又は不十分に露光された感光層が除去されるのを補助する働きをもつ。その結果、本発明の感光性画像形成材料の耐刷力と画像再現性とを両立させることができる。
【００７７】
界面活性剤の疎水性部分は、具体的には炭素原子及び水素原子からなる基又は、その少なくとも一部がフッ素等で置換された基等であり、親水性部分は酸素、硫黄、窒素等の原子を有する基である。より具体的には疎水性部分は炭化水素基、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換された炭化水素基等からなる部分、親水性部分は本発明に適するものとしてはスルホン酸、スルホン酸塩、スルホン酸エステル、リン酸、リン酸塩、リン酸エステル、カルボン酸、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、アミン、アンモニウム塩、シアノ基、水酸基、アミド基、ポリオキシアルキレン基等を有する部分であり、塩としてはナトリウム塩等のアルカリ金属塩が挙げられる。
【００７８】
本発明で用いる界面活性剤として好ましいものとしては、アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が挙げられ、より好ましいものとしては非イオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤が挙げられる。
【００７９】
アニオン性界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸／リン酸塩、Ｎ−アシルアミノ酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、Ｎ−アシルタウリン塩、アルキルリン酸塩、スルホン酸塩、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩などが挙げられる。
【００８０】
非イオン性界面活性剤としては、エーテル型、エステル型、アミノエーテル型、エーテルエステル型、アルカノールアミド型のもの等が挙げられ、具体的にはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルアミノエーテル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル誘導体、ポリオキシプロピレングリセリルエーテル、メトキシポリエチレングリコール、グリセロールボレイト脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレングリセロールボレイト脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アルカノールアミド、ポリグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンフィトステロール、ポリオキシエチレンフィトスタノール、ポリオキシエチレン植物油、ポリオキシエチレンラノリン、ポリオキシエチレンラノリンアルコール、ポリオキシエチレンミツロウ誘導体、ポリオキシエチレンアルキルフェニルホルムアルデヒド縮合物が挙げられる。このうち好ましいものは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステルであり、より好ましいものはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコールである。
【００８１】
フッ素系界面活性剤としては公知のものが使用でき、例えば特開昭５４−１３５００４号公報、特開昭５９−１３７９４３号公報、特開昭５７−１７８２４２号公報、特開昭６１−２４８０５４号公報、特開昭６２−１７０９５０号公報、特開昭６２−２２６１４３号公報、特開平３−１７２８４９号公報、特開平４−３３５３５４号公報に記載のものが挙げられ、市販のものとしては例えば、住友３Ｍ社製ＦＣ−４３０、ＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−９５、秋田化成社製ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、大日本インキ社製Ｆ−１４１、Ｆ−１９１、Ｆ−８１５、Ｆ−１７１、Ｆ−１７７、Ｆ−４７５、旭硝子（株）製Ｓ−１４１、Ｓ−１４５、Ｓ−３８１、Ｓ−３８２、Ｓ−３９３、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０５、ダイキン工業（株）製ＤＳ−４０１、ＤＳ−４０３、ＤＳ−４５１等が挙げられる。
【００８２】
これらのうち、パーフルオロアルキル基を有するアクリル系オリゴマーが好ましく、フッ素置換基はアクリル系オリゴマーの主鎖に有していても良いが、アクリル系オリゴマーの側鎖にパーフルオロアルキル基を有するものが好ましい。また、フッ素置換基を有する（メタ）アクリル系モノマ−と共にポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリル系モノマーをも共重合モノマー成分として含むオリゴマー、ポリマーが好ましい。フッ素系界面活性剤中のフッ素置換基を有する（メタ）アクリル系モノマ−の重量比率は、好ましくは１〜８０重量％、更に好ましくは５〜５０％であり、ポリオキシアルキレン基の重量比率は、好ましくは１〜６０重量％、更に好ましくは５〜５０重量％である。
【００８３】
また、シリコーン系界面活性剤としては、例えば、アルキルシリコーン油、アリルシリコーン油、アルキル水素シリコーン油、末端変性型シリコーン油、側鎖変性型シリコーン油などが挙げられ、市販のものとしては、日本ユニカー株式会社製、Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７２２、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０２、Ｌ−７６０４、Ｌ−７６０５、Ｌ−７６０７Ｎ、Ｙ−７００６、ＦＺ２１０４、ＦＺ２１１０，ＦＺ２１２０、ＦＺ２１６１、ＦＺ２１６２、ＦＺ２１６３、ＦＺ２１６４，ＦＺ２１６５、ＦＺ２１６６、ＦＺ２１７１などが挙げられる。
【００８４】
これらの界面活性剤は１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【００８５】
これらの界面活性剤はまた、感光性画像形成材料の製造時の種々の塗布欠陥の低減、光重合性組成物の塗布性向上に対しても有効である。特にフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤は塗布性改良材としても有効である。
【００８６】
＜光重合性組成物の主要構成成分の含有割合＞
以上の光重合性組成物の主要構成成分の好適な含有割合は、エチレン性単量体１００重量部に対して光重合開始系のうち、ラジカル発生剤が好ましくは０．１〜８０重量部、特に好ましいのは０．５〜６０重量部、増感剤が好ましくは０．０１〜６０重量部、特に好ましくは０．０５〜５０重量部、重合加速剤が好ましくは０．１〜８０重量部、特に好ましくは０．５〜６０重量部、高分子結合材が好ましくは１０〜４００重量部、特に好ましくは２０〜２００重量部の範囲である。また、光重合性組成物中の高分子結合材とエチレン性単量体との含有比率は、高分子結合材／エチレン性単量体＝０．１〜１．２、特に０．２〜１．０（重量比）であることが好ましい。
【００８７】
また、界面活性剤は、光重合性組成物の全固形分量に対して０．０５重量％以上含まれていることが好ましく、特に０．１重量％以上含まれていることが好ましい。界面活性剤の含有割合が０．０５重量％未満であると十分な汚れ防止効果を得ることができない。光重合性組成物中の界面活性剤の含有割合が過度に多いと、支持体への感光層の接着性が低下することから、界面活性剤の含有割合は光重合性組成物の全固形分量に対して３０重量％以下であることが好ましい。
【００８８】
＜光重合性組成物のその他の構成成分＞
本発明で用いる光重合性組成物には、感度を向上させる目的又は保存性を向上させる目的で、２５℃におけるｐＫｂ（解離定数）が７以下のアミン化合物、又は、原子団−Ｎ−ＣＨ２−を有するアミン化合物を含有することが好ましい。更に好ましくは、２５℃におけるｐＫｂが７以下であり、且つ分子内に原子団−Ｎ−ＣＨ２−を有するアミン化合物を含有することが好ましい。
【００８９】
このようなアミン化合物としては、上記の条件を満たす限り脂肪族、脂環式、又は芳香族アミンのいずれでも良く、このアミン化合物中の炭化水素基は置換基を有していても良い。また、このアミン化合物はモノアミンに限定されず、ジアミン、トリアミン等のポリアミンであっても良く、また、第１アミン、第２アミン、第３アミンのいずれであっても良い。但し、ｐＫｂの点から実質的には、置換基を有していても良い炭化水素基を有する脂肪族アミンから選択される。
【００９０】
このアミン化合物のｐＫｂは、好ましくは５以下である。また、ｐＫｂの下限は好ましくは３以上である。また、このアミン化合物は分子内に原子団−ＣＨ２−Ｎ−ＣＨ２−を有することが更に好ましい。
【００９１】
好ましいアミン化合物としては、置換基を有していても良い炭化水素基を有する脂肪族アミンが挙げられ、具体的にはブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、アミルアミン、ジアミルアミン、トリアミルアミン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシルアミンンベンジルアミン、ジベンジルアミン、トリベンジルアミン、トリエタノールアミン、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン等の、水酸基又はフェニル基で置換されていても良い脂肪族アミンが挙げられる。
【００９２】
このようなアミン化合物の光重合性組成物中の好ましい含有割合は、エチレン性単量体１００重量部に対して０．１〜５０重量部、特に１〜３０重量部である。
【００９３】
本発明で用いる光重合性組成物は、その目的に応じて上記以外の他の物質を更に含有することができる。例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等の熱重合防止剤；有機又は無機の染顔料からなる着色剤；ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤；三級アミンやチオールのような感度特性改善剤；その他色素前駆体等の添加剤を含有していても良い。
【００９４】
光重合性組成物中のこれらの添加剤の好ましい含有割合は、エチレン性単量体１００重量部に対して熱重合防止剤２重量部以下、着色剤２０重量部以下、可塑剤４０重量部以下、色素前駆体３０重量部以下の範囲である。
【００９５】
＜光重合性組成物の溶媒＞
本発明で用いる光重合性組成物は、適当な有機溶媒を用いて適当な濃度に希釈して塗布液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥することにより感光層が形成される。
【００９６】
ここで用いる有機溶媒としては特に限定されないが、例えばメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、１−メトキシ−２−プロパノ−ル、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、４−ヒドロキシー２−ブタノン、メチルジグリコール、これらの２種以上の混合物などが挙げられ、少なくとも最終的には高分子結合材のうちの非水溶性結合材を溶解すること、より好ましくは同時に水溶性結合材を溶解ないし分散可能であること、最も好ましくは水溶性結合材をも溶解可能であることが望ましい。そのために、有機溶媒としてはある程度極性の高いもの、例えば水酸基を含有する溶媒が好ましい。
【００９７】
［感光性画像形成材料の支持体］
本発明においては、感光性画像形成材料の支持体として表面が粗面化された又は多孔質の支持体を用いることが必須である。この支持体の材質としては特に限定されず、プラスチックのフィルムや各種金属や合金を採用することができるが、アルミニウム板（アルミニウム合金板も含む）が特に好ましく、その厚さは通常０．０１〜１０ｍｍ程度、好ましくは０．０５〜１ｍｍ程度である。
【００９８】
この支持体は、通常、表面を粗面化処理した後、デスマット処理を施し、更に陽極酸化処理を実施する。この他、必要に応じて脱脂処理、封孔処理などを施しても良い。
【００９９】
通常、粗面化処理の前に脱脂処理が行われる、脱脂処理は、溶剤を用いて拭き取り、浸漬又は蒸気洗浄する方法、アルカリ水溶液を用いて浸漬、又は噴霧した後酸水溶液で中和する方法、界面活性剤を用いて浸漬又は噴霧する方法など、常法に従って行われる。
【０１００】
粗面化処理（砂目立て処理）は、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング研磨法、バフ研磨法などの機械的処理方法、あるいは、電解エッチング法、化学エッチング法等の常法により、支持体表面のＪＩＳ  Ｂ０６０１に規定される平均粗さＲａが好ましくは０．１〜２．０μｍ程度、より好ましくは０．２〜１．０μｍ、特に好ましくは０．３〜０．８μｍ程度となるように行われる。粗面化処理としては、これらの中でも特に塩酸や硝酸による電解エッチングが好ましい。
【０１０１】
また、デスマット処理は、硫酸、硝酸、塩酸、燐酸、クロム酸等の酸、又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、メタ珪酸ナトリウム、燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、アルミン酸ナトリウム等のアルカリの水溶液を用いて浸漬、又は噴霧する等の常法に従って行われる。
【０１０２】
このデスマット処理は、粗面化処理によって生じた支持体表面のスマットを取り除くために行われるものであるが、支持体上のスマットは支持体とその上に形成される感光層との接着性に大きく関与する。従って、デスマット処理は、支持体上のスマットを十分に除去し、感光層の接着性を良好なものとし得る程度に行われることが好ましく、特に限定されないが、デスマット処理の程度として、粗面化処理工程直後の支持体表面の反射濃度をＡ、陽極酸化処理工程後の支持体表面の反射濃度をＢとした場合、Ａ−Ｂ≦０．１となるように行うことが好ましい。
【０１０３】
なお、支持体表面の反射濃度の測定は、反射濃度計を用い、フィルターを使用しないビジュアルモードにて実施される。上記条件となるデスマット処理は、用いるアルカリ水溶液等の処理薬品や、粗面化処理の状態にもよるが、例えば濃度０．１〜４重量％で液温５〜３０℃程度の水酸化ナトリウム水溶液に１〜１０秒程度浸漬するなどの条件が挙げられる。
【０１０４】
デスマット処理後のアルミニウム板等の支持体は、通常、陽極酸化処理されるが、この陽極酸化処理としては、特に好ましくは、硫酸を含む電解液で処理する方法が挙げられる。硫酸を含む電解液で陽極酸化処理する方法は、従来公知の方法、例えば特開昭５８−２１３８９４号公報に記載の方法等に準じて行われる。具体的には、硫酸濃度５〜５０重量％、好ましくは１５〜３０重量％程度の電解液が用いられ、温度は５〜５０℃程度、好ましくは１５〜３５℃であり、電流密度１〜６０Ａ／ｄｍ２で５秒〜６０秒間程度実施される。この陽極酸化処理により形成される酸化被膜量は、１〜１００ｍｇ／ｄｍ２、特に１０〜５０ｍｇ／ｄｍ２であることが好ましい。
【０１０５】
［下引き層］
本発明においては、上記のような支持体上に、形成後は水にも通常の有機溶媒にも溶解しない親水性の下引き層を形成し、この下引き層を介して感光層を形成する。
【０１０６】
なお、本発明において、支持体上に塗設後は水、有機溶媒に「溶解しない」とは、２５℃の水及び有機溶媒にそれぞれ１分間浸漬後、１００℃で１分乾燥したときに、いずれの場合にも、重量変化が１０％以内、好ましくは５％以内のような状態を示す。
ここで、有機溶媒は、特に限定されないが、光重合性組成物層を塗設する際に使用する有機溶媒との関係で上記状態であるのが好ましい。
【０１０７】
この下引き層は、水や通常の有機溶媒やインキなどに基本的に溶解しない多種多様な組成物から構成され、このような組成物を、特に限定されないがディップコート、コーティングロッド、スピナーコート、スプレーコート、ロールコート等の周知の方法により支持体上に塗布することにより下引き層を形成することが可能である。下引き層はまた、２層以上の複数層により積層形成されていても良い。  下引き層に用いられる化合物は、支持体に塗設前は水に溶けるかもしくは分散している状態であることが望ましい。このようなものとしては特に限定されないが、例えばポリビニルアルコール等の水可溶性樹脂にゲル化剤を混入させて乾燥し、実質的に不溶化させたもののようなゲル化した親水性樹脂、乾燥時の熱等によって反応して不溶化した親水性樹脂や、金属酸化物の析出物等が挙げられる。
【０１０８】
中でも好ましい親水性下引き層に用いられる化合物としては、Ｓｉを含む化合物が挙げられる。例えば、シリコーン等の有機Ｓｉ含有化合物やアルカリ−珪酸系ガラスの水溶液などがその例として挙げられる。中でも特に、アルカリ−珪酸系ガラスの水溶液を支持体上に塗設して乾燥して得られるゲル状析出物を含む下引き層が実使用上取り扱いやすく好ましい。
【０１０９】
アルカリ−珪酸系ガラス水溶液の例としては特に限定されないが、アルカリとしてＮａ２ＯやＫ２Ｏを用いることが一般的である。アルカリ（Ｎａ２ＯやＫ２Ｏ）と珪酸（ＳｉＯ２）のモル組成比は、Ｎａ２Ｏ・ｎＳｉＯ２又はＫ２Ｏ・ｎＳｉＯ２であるとすると特に限定されないがｎ＝２〜４程度が望ましい。
【０１１０】
これら下引き層の塗布量は、特に限定されないがその支持体上の平均皮膜量が０．００１〜１ｇ／ｍ２、特に２〜５００ｍｇ／ｍ２、とりわけ５〜２００ｍｇ／ｍ２であることが好ましい。下引き層が過度に厚すぎると画像部の下引き層への接着性が低下し、薄すぎると非画像部の除去性が低下する。
【０１１１】
［感光層］
感光層は、上述のような下引き層上に、前記光重合性組成物を用いて形成される。感光層の形成量には特に制限はないが、前述の光重合性組成物を溶媒に溶解して調製した塗布液を支持体上の下引き層に塗布、乾燥して形成される乾燥後の平均皮膜量で５〜４０ｇ／ｍ２程度であることが好ましい。
【０１１２】
［感光性画像形成材料のその他の層］
本発明においては、必要に応じて感光性画像形成材料の感光層上にその他の膜や層などを更に設けることができる。このような層としては特に制限はないが、例えば感光層の光重合を阻害する酸素遮断層、該感光層を傷などから保護するための保護膜、表面の滑りを良くするための滑層や、マット付着などの表面層がその一例として挙げられる。これら膜や層は水によって溶解除去されることが望ましい。その好適な例としての具体的な表面層形成用化合物としては、ポリビニルアルコールやポリビニルピロリドン等の水溶性高分子が挙げられる。
【０１１３】
［画像形成方法］
次に、本発明の感光性画像形成材料が適用される画像形成方法について説明する。本発明の感光性画像形成材料は、支持体上の感光層を画像様に露光した後、印刷機上で未露光部を除去することにより画像が形成される。
【０１１４】
＜露光＞
露光光源としては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリウムカドミウムレーザー、バイオレットレーザー、ブルーレーザー、アルゴンイオンレーザー、ＦＤ−ＹＡＧレーザー、半導体赤外レーザー、ＹＡＧレーザー、ヘリウムネオンレーザー等が特に好適に使用し得る。
【０１１５】
特に、レーザー走査露光であれば、画像様のフィルムを必要としないため、レーザーを光源とするのが有利であり、このような光源としては、例えば窒化インジウムガリウム半導体レーザーの４１０ｎｍ付近、アルゴンイオンレーザーの４８８ｎｍ付近、ＦＤ−ＹＡＧレーザーの５３２ｎｍ付近、半導体レーザーの７８０ｎｍ付近、半導体レーザーの８３０ｎｍ付近、ＹＡＧレーザーの１０６４ｎｍ付近の各波長を発振するレーザーが挙げられる。これらのなかでも特に好ましいレーザー光源は、赤外光を発振する半導体レーザーやＹＡＧレーザーである。
【０１１６】
露光量には特に制限はないが、１０〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましい。
【０１１７】
＜画像表出処理＞
本発明では、上記露光光源を用いて、画像様に露光処理を行った後、基本的には印刷機上で圧力や機械的擦りによって未反応の非露光部を除去して画像を形成する、即ち、未反応の光重合性組成物を溶解させるような特別の薬品、例えばアルカリ現像液や有機溶媒現像液を必ずしも用いることなく、印刷機上で画像を形成することができるのがその特徴である。
【０１１８】
この画像形成方法は特に限定されないが、例えば露光後に露光面を印刷機上でスポンジや布、ブラシやゴムなどで擦ることにより未露光部を除去する方法が挙げられる。この際に露光面に液体を供給して擦りを均一化ないし潤滑化することは好ましい。この場合に供給される液体の一例としては、水、オイル、各種アルカリ性又は中性又は酸性の湿し水、インキなどが挙げられる。
【０１１９】
このようにして画像形成材料から未露光部を除去する際に望ましいのは、画像形成面全体に均一に力が加わることである。印刷機上ではこれが容易に実現される。具体的には、ある一定の圧力を与えられて接触している二つの円筒状のドラムの片方に画像形成材料を取り付け、必要に応じてその接触部に水やオイルなどを供給しながら二つのドラムを回転させることによって画像形成材料の画像形成面全面に渡って均一な力を付与して未露光部を除去する方法が挙げられる。
【０１２０】
本発明の感光性画像形成材料は、特に限定されないが、印刷用の原版として、フィルムを通しての全面露光やレーザー走査露光による画像様露光を行った後、印刷機上で湿し水やインキを必要に応じて供給しながら版面をブランケットやインキ又は湿し水供給ロールで擦ることにより未露光部を除去してそのまま印刷を開始するものとして好適である。
【０１２１】
本発明の感光性画像形成材料は、特に必要ではないが印刷機上にその光重合性組成物を溶解可能な液体を供給しながら画像を表出させる画像形成方法に用いても良い。この場合に用いる現像液としては各種のアルカリ水溶液が挙げられ、そのアルカリ剤としては珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等の無機アルカリ剤や、トリメチルアミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン類などの有機アミン化合物などが挙げられる。これらのアルカリ剤は１種を単独でもしくは２種以上を組み合わせて使用することができる。また、このアルカリ水溶液には界面活性剤が含まれていても良く、この界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン系界面活性剤；アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン系界面活性剤；アルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能である。この現像液は必要に応じて有機溶剤を一部又は主成分として含んでいても良く、このような有機溶剤としては例えば、イソプロピルアルコーベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
【０１２２】
＜後処理、その他の処理＞
本発明の感光性画像形成材料は、上記画像表出処理後に全面露光を行なうことによって更にその画像強度を高めることもできる。
【０１２３】
全面後露光に用いる光源としては特に限定されないが、例えば、カーボンアーク、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、ＤｅｅｐＵＶランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、エキシマーＵＶランプなどが挙げられる。これらの光源から発せられる光はフィルターなどによって波長制限して用いる場合もあり得る。好ましくは、後露光の光源が半値幅３０ｎｍ以下の輝線を有することが望ましい。
【０１２４】
好ましい光源の具体例としては、エキシマーＵＶランプや水銀灯やメタルハライドランプが挙げられ、特に好ましくはエキシマーＵＶランプや高圧水銀灯、低圧水銀灯が挙げられる。
【０１２５】
特に限定されないが、全面露光時の画像形成面（版面）到達露光強度（単位時間当たりの露光量）は５ｍＷ／ｃｍ２以上であることが好ましい。この光強度が５ｍＷ／ｃｍ２より低いと、たとえ総露光量が同一であったとしても、後露光による効果が不十分となる場合がある。
【０１２６】
後露光時の版面到達露光強度を５ｍＷ／ｃｍ２以上にする方法は特に限定されないが、一つには露光光源のランプ出力（Ｗ）を上げる方法がある。例えば、単純にランプ出力を大きくする方法や、棒状タイプのランプの場合は単位長さ辺りの出力（Ｗ／ｃｍ）を大きくする方法がある。もう一つには例えば、単純に露光光源を画像形成材料に接近させる方法がある。この方法であれば露光光源のランプ出力が比較的弱い場合でも、容易に画像形成材料に届く光強度を上げることが可能になる。
【０１２７】
特に限定されないが、好ましい光強度は５ｍＷ／ｃｍ２〜１Ｗ／ｃｍ２、より好ましくは１０〜５００ｍＷ／ｃｍ２である。
【０１２８】
また、各種光源の点灯方式としては例えば通常の定常光ランプ、フラッシュ照射タイプ、瞬時点灯タイプなどが挙げられる。後露光の波長としては２００〜１１００ｎｍの波長の光が使用できる。
【０１２９】
後露光の方法としては、感光性画像形成材料を停止させた状態で行っても、感光性画像形成材料を処理方向に連続的に搬送している状態で行っても良い。また、その露光量は特に限定されるものではなく、大きいほど効果が期待できるが、画像形成工程の合理化という意味から１０ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ２以上、１０Ｊ／ｃｍ２以下、好ましくは８Ｊ／ｃｍ２以下が望ましい。
【０１３０】
後露光時の画像形成材料の温度を４０〜３００℃に加熱もしくは保持することは、他に不都合が生じない限り、画像の強度を向上させる点で特に有効である。このための条件や方法は特に限定されないが、ホットプレートやドライヤーなどの温風、セラミックヒーターや強力な光源等の輻射熱等が挙げられる。特に、後露光に利用する光源の輻射熱を利用することが簡便で好ましい。なお、この温度が高温になりすぎると支持体が変形するなどの不具合が生じるので、適当な温度範囲に収まるように、冷却装置やＩＲ輻射熱を低減するコールドミラーやＩＲカットフィルターを適宜使用することも望ましい。
【０１３１】
また、本発明の感光性画像形成材料は、上記画像表出処理後に全面後加熱処理を行なうことによって更にその画像強度を高めることもできる。
【０１３２】
この場合の加熱の方法としては、特に限定されないがＩＲセラミックヒーターの放射熱による方法、オーブンによる方法、ホットプレートによる方法、加熱ローラーによる方法などが挙げられる。また先に挙げた後露光光源からの輻射熱の利用も同様に挙げられる。
【０１３３】
後加熱は、感光性画像形成材料を停止させた状態で行っても、感光性画像形成材料を処理方向に連続的に搬送している状態で行っても良い。加熱温度は、好ましくは画像形成面（版面）で８０〜３００℃程度、特に好ましくは１００〜２５０℃程度である。加熱時間も特に限定はされないが、好ましくは１秒〜１５分程度、特に好ましくは１秒〜１０分程度である。
【０１３４】
更に、レーザー露光直後、画像表出処理前に加熱工程を加えることも、画像の強度を向上させる点で有効である場合もある。この場合もその条件や方法は特に限定されないが画像形成材料を５０〜３００℃でホットプレートやドライヤーなどの温風、セラミックヒーターや強力な光源等の輻射熱等で加熱する方法が挙げられる。この加熱は、感光性画像形成材料を停止させた状態で行っても感光性画像形成材料を処理方向に連続して搬送している状態で行っても良い。
【０１３５】
【実施例】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例により限定されるものではない。
【０１３６】
実施例１〜９、比較例１，２
［感光性画像形成材料の作製］
＜高分子結合材−１の合成＞
羽付き攪拌棒、環流冷却管、及び窒素管を備えた３Ｌの４つ口フラスコに、ビニルメタクリレート４５ｇ、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシプロピルメタクリレート６０ｇ、アクリロニトリル８．０ｇ、メタアクリル酸１３ｇ及び反応溶剤としてエタノール１．６Ｌを入れ、８０℃のオイルバスで加熱攪拌した。この溶液にアゾビスイソブチロニトリル１．６ｇを４００ｍＬのエタノールに溶解して加えた。３時間加熱攪拌した後、窒素管を外し、ｐ−メトキシフェノール０．０４ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル４００ｍＬを加え、バス温を１００℃に上昇させ、１時間加熱攪拌を続けた。最後にエタノールを留去し、高分子結合材−１を得た。
【０１３７】
＜アルミニウム支持体の製造＞
厚さ０．２ｍｍのアルミニウム板を、３重量％水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂処理し、これを１８．０ｇ／Ｌの塩酸浴中で２５℃、８０Ａ／ｄｍ２の電流密度で１５秒電解エッチングした。その後５０℃の１重量％水酸化ナトリウム水溶液で５秒間デスマット処理を行い、次に２５℃の１０重量％硝酸水溶液で５秒間中和した。その後、水洗した後、３０重量％硫酸浴中で３０℃、１０Ａ／ｄｍ２の条件で１６秒間陽極酸化処理し、最後に水洗、乾燥した。得られたアルミニウム支持体の表面の平均粗さＲａは０．５μｍであった。
【０１３８】
＜下引き層の形成＞
得られた支持体上に、Ａ珪酸カリウム水溶液（Ｋ２Ｏ：１３．５重量％，ＳｉＯ２：２６．５重量％の水溶液）を希釈して固形分０．０６重量％に調整した水溶液を＃９のワイヤーバーで塗布、乾燥して平均皮膜量１０ｍｇ／ｍ２の親水性下引き層を形成した。
【０１３９】
＜光重合性組成物塗布液−１の調製＞
下記組成の光重合性組成物−１を、塗布溶媒（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとプロピレングリコールモノメチルエーテルとを重量比で３０：７０に混合したもの）で希釈し、全固形分濃度１２重量％に調整して光重合性組成物塗布液−１を調製した。
（光重合性組成物−１組成：重量部）
高分子結合材−１              ：３０
エチレン性単量体−１          ：７０
増感剤−Ａ                    ：表１に示す通り
ラジカル発生剤−Ａ            ：１５
クリスタルバイオレットラクトン：  ４
トリベンジルアミン            ：１０
界面活性剤                    ：表１に示す通り
【０１４０】
なお、用いた界面活性剤の種類は表１に示す通りであり、また、エチレン性単量体−１、増感剤−Ａ及びラジカル発生剤−Ａは次の通りである。
【０１４１】
【化１１】
2004167804.tif 000012
【０１４２】
＜感光層の形成＞
上記の光重合性組成物塗布液−１をバーコーターを用いて乾燥膜厚１ｇ／ｍ２となるように支持体上に形成された下引き層上に塗布して乾燥した。
【０１４３】
［感光性画像形成材料の評価］
作製した感光性画像形成材料にＴｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４Ｆ（Ｃｒｅｏ社製）を用いて、８Ｗのレーザー出力で４００ｍＪ／ｃｍ２で３〜９７％の網点を含む画像の露光を行った。露光後に、そのまま小型印刷機（ＰＬＥＸＴＯＲ社製、商品名ＡＲＸ−０１０ＩＩ）に画像形成材料を取り付け、純水を版面に供給しながら回転数８０００ｒｐｈで、小型印刷機を運転した。
【０１４４】
画像形成性として、非画像部が完全に除去されるまでの運転時間を測定した。
【０１４５】
また、非画像部が完全に除去された時点より１０秒後の版を観察し、画像再現性を下記基準で評価した。
◎：露光部の画像がしっかりと３％小点まで再現して残っている。
○：露光部の画像がしっかりと再現して残っている。
△：ほぼ再現しているものの画像部の一部が完全に再現していない。
×：画像部が殆ど又は全て除去されてしまっている。
【０１４６】
これらの結果を表１に示した。
【０１４７】
【表１】
2004167804.tif 000013
【０１４８】
表１より、本発明の感光性画像形成材料は画像形成性及び画像再現性に優れることがわかる。
【０１４９】
なお、実施例１〜９の感光性画像形成材料を用いてそれぞれ印刷を行ったところ、いずれも美麗な印刷物を得ることができ、しかも通常の印刷条件において耐刷性にも優れることが確認された。
【０１５０】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明の感光性画像形成材料によれば、露光後、現像操作を行うことなく印刷機上で画像形成するという簡便な方法で画像形成可能な感光性画像形成材料であって、画像部が堅固で耐刷性に優れると共に、非画像部の汚れの問題のない画像再現性に優れた感光性画像形成材料が提供される。