(57)【要約】【課題】高透明で、優れた低反射特性をもつ表示装置用の透明導電性基材を提供する。【解決手段】透明支持体１の少なくとも片面に、外殻に細孔を有する中空微粒子２１と、フッ素系樹脂２２とを含む低屈折率層２が形成され、さらにその上に、透明導電膜３が形成されているものとする。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体の少なくとも片面に、外殻に細孔を有する中空微粒子と、フッ素系樹脂とを含む低屈折率層が形成され、さらにその上に、透明導電膜が形成されてなることを特徴とする透明導電性基材。
【請求項２】
前記低屈折率層は、光学的屈折率が１．２５以上１．４２以下の範囲にあり、かつ膜厚が５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性基材。
【請求項３】
前記透明導電膜は、膜厚が５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性基材。
【請求項４】
前記フッ素系樹脂が、下記一般式（１）で表される官能基を持つ含フッ素エチレン性単量体０．０５〜３１モル％と前記官能基を持たない含フッ素エチレン性単量体６９〜９９．９５モル％との共重合体からなるフッ素系樹脂を含有することを特徴とする請求項１に記載の透明導電性基材。
【化１】
Ｃ（Ｘ１）２＝ＣＸ１−Ｒｆ−Ｙ          ………（１）
（式中、Ｘ１は同一又は異なり、Ｈ又はＦを示し、Ｒｆはエーテル結合を有していてもよい含フッ素アルキレン基を示し、Ｙはアクリル基、メタクリル基、ビニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボン酸塩又はエポキシ基を示す。）
【請求項５】
前記官能基を持たない含フッ素エチレン性単量体が、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、フッ化ビニル、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類、ヘキサフルオロイソブテン、及び下記一般式（２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項４記載の透明導電性基材。
【化２】
ＣＨ２＝ＣＸ２−（ＣＦ２）ｎ−Ｘ２    ………（２）
（式中、Ｘ２は同一又は異なり、Ｈ、Ｃｌ又はＦを示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
【請求項６】
前記中空微粒子の前記低屈折率層中の体積比率が３４〜７２％であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性基材。
【請求項７】
請求項１〜６記載の透明導電性基材を、上部電極基板、もしくは下部電極基板の少なくとも一方に使用したことを特徴とする抵抗膜方式タッチパネル。
【請求項８】
請求項１〜６記載の透明導電性基材を電極基板として用いたことを特徴とする表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、低反射で高透明な導電性基板に関し、表示装置の前面に置かれて使用される前面フィルター、抵抗膜方式タッチパネル、又は液晶や有機ＥＬ等の表示装置自身の基板として用いられるものである。
【０００２】
【従来の技術】
透明材料を通して物を見る場合、反射光が強く、反射像が明瞭であることはわずらわしく、例えば眼鏡用レンズではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて眼に不快感を与えたりする。またルッキンググラスなどではガラス面上の反射した光のために内容物が判然としない問題が生ずる。
【０００３】
従来から、反射防止のために屈折率が基材と異なる物質を、真空蒸着法などにより基材上に被覆形成させる方法が行なわれていた。この場合反射防止効果を最も高いものとするためには、基材を被覆する物質の厚みの選択が重要であることが知られている。
例えば、単層被膜においては、基材より低屈折率の物質を用い、その光学的膜厚を対象とする光波長の１／４ないしはその奇数倍に選択することで極小の反射率すなわち極大の透過率を与えることが知られている。
【０００４】
ここで光学的膜厚とは、被膜形成材料の光学的屈折率と該被膜の膜厚の積で与えられるものである。さらに複層の反射防止膜の形成が可能であり、この場合の膜厚の選択に関して、いくつかの提案がされている（光学技術コンタクト  Ｖｏｌ．９，Ｎｏ．８，第１７項（１９７１））。これら反射防止膜は、その機能を発揮するために低屈折率層を最外面に設ける必要がある。
【０００５】
しかしながら、透明導電膜が最表面に配置される導電性基材の場合では、透明導電材料の光学的屈折率が１．９〜２．６程度と高いため、このような反射防止膜の構造を取ることができず、必然的に高反射となってしまう。
【０００６】
この問題の解決策として、透明導電膜の下層に透明酸化物膜を積層する手法が考えられ、基板上に第１層目に高屈折率透明酸化物膜、第２層目に低屈折率透明酸化物膜、第３層目に透明導電膜を形成する３層構造を取ることで、反射率を６％以下にする手法が開示されている（例えば特許文献１）。
【０００７】
また、基板上に第１層目に高屈折率酸化物膜、第２層目に低屈折率酸化物膜、第３層目に高屈折率酸化物膜、第４層目に低屈折率酸化物膜、第５層目に透明導電膜を形成する５層構造を取ることで、反射率を０．５％以下にする手法が開示されている（例えば特許文献２）。しかし、これらは蒸着やスパッタリングなどの物理的気相成長法を使用するもので、成膜に時間がかかり、かつ透明導電膜の下層に複数の酸化物層を積層する必要があるため、商用として生産性の点で満足できるものでなかった。
【０００８】
一方、生産性の良い塗布法により、低反射の透明導電性基板を作成する手法が考えられ、基板表面及び裏面に二酸化珪素を析出させて低屈折率層を形成した後、一方の面に透明導電膜を形成し、反射率を７．８％から４．６％に低減する手法が開示されている（例えば特許文献３）。これらは、生産性では優れるものの、低反射特性としては、前記物理的気相成長法と比較して大幅に劣っており、満足の行くものではなかった。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１１−５３１１４号公報
【特許文献２】
特開２００３−４９０２号公報
【特許文献３】
特開２００２−１３９６０３号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、透明導電性基材を表示装置の前面に配置、もしくは表示装置自身の基板として用いる場合、基材の反射率が高いために、ゴースト、フレアなどが発生し、表示品質を著しく損なうという問題を解決するために考案されたもので、優れた低反射特性をもつ表示装置用の透明導電性基材を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記の問題点を解決するため鋭意検討した結果、以下に述べる本発明に到達した。すなわち、本発明は下記の構成から成る。
請求項１に記載の発明は、透明導電性基材において、透明支持体の少なくとも片面に、外殻に細孔を有する中空微粒子と、フッ素系樹脂とを含む低屈折率層が形成され、さらにその上に、透明導電膜が形成されてなることを特徴とする。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の透明導電性基材において、前記低屈折率層は、光学的屈折率が１．２５以上１．４２以下の範囲にあり、かつ膜厚が５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲にあることを特徴とする。
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、透明導電膜の下層に低屈折率層を形成するので、低反射率、高透過性の透明導電性基材とすることができる。また、低屈折率層は外殻に細孔を有する中空微粒子と、フッ素系樹脂とを含む組み合わせから形成されているので、請求項２に記載のように、屈折率の低い層を適度の膜厚で形成することが可能である。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の透明導電性基材において、前記透明導電膜は、膜厚が５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲であることを特徴とする。
【００１５】
請求項３に記載の発明によれば、１００〜１０００Ω／□の表面抵抗値を有する透明導電性基材とすることができるので、実用上適切な表面抵抗値および導電性が得られ、かつ下層の低屈折率層と積層して反射率を低減することができる。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の透明導電性基材において、前記フッ素系樹脂が、下記一般式（１）で表される官能基を持つ含フッ素エチレン性単量体０．０５〜３１モル％と前記官能基を持たない含フッ素エチレン性単量体６９〜９９．９５モル％との共重合体からなるフッ素系樹脂を含有することを特徴とする。
【００１７】
【化１】
Ｃ（Ｘ１）２＝ＣＸ１−Ｒｆ−Ｙ          ………（１）
【００１８】
（式中、Ｘ１は同一又は異なり、Ｈ又はＦを示し、Ｒｆはエーテル結合を有していてもよい含フッ素アルキレン基を示し、Ｙはアクリル基、メタクリル基、ビニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボン酸塩又はエポキシ基を示す。）
【００１９】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の透明導電性基材において、前記官能基を持たない含フッ素エチレン性単量体が、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、フッ化ビニル、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類、ヘキサフルオロイソブテン、及び下記一般式（２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする。
【００２０】
【化２】
ＣＨ２＝ＣＸ２−（ＣＦ２）ｎ−Ｘ２    ………（２）
【００２１】
（式中、Ｘ２は同一又は異なり、Ｈ、Ｃｌ又はＦを示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
【００２２】
請求項４および請求項５に記載の発明によれば、架橋構造が良好で、基材表面との接着性に優れ、耐熱性・耐傷性が高く、温度変化や薬品の浸透などによる剥離を起こしにくい低屈折率層が形成される。
【００２３】
請求項６に記載の発明は、請求項１記載の透明導電性基材において、前記中空微粒子の前記低屈折率層中の体積比率が３４〜７２％であることを特徴とする。
【００２４】
請求項６に記載の発明によれば、低屈折率層の光学的屈折率が十分に低く、かつ耐傷性も良好な透明導電性基材とすることができる。
【００２５】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６記載の透明導電性基材を、上部電極基板、もしくは下部電極基板の少なくとも一方に使用したことを特徴とする抵抗膜方式タッチパネルである。
【００２６】
請求項７に記載の発明によれば、本発明による前記透明導電性基材を用いることで、実用上適切な表面抵抗値および導電性を有し、かつ低反射率、高透過性の抵抗膜方式タッチパネルとすることができる。
【００２７】
請求項８に記載の発明は、表示素子において、請求項１〜６記載の透明導電性基材を電極基板として用いたことを特徴とする。
【００２８】
請求項８に記載の発明によれば、本発明による前記透明導電性基材を電極基板として用いることで、実用上適切な表面抵抗値および導電性を有し、かつ低反射率、高透過性の表示素子とすることができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の一実施形態である低反射導電性基材の断面構造を示すものである。
１は透明支持体であり、表示装置、もしくは表示装置の前面（表示面）に配置するものとしての機能を満たすものであれば特に限定されることはなく、例えばガラス板やプラスチック板、プラスチックフィルムなどが利用できる。透明支持体１にはアンチグレア（乱反射）機能を持たせたものを用いてもよい。ヘイズ（光散乱の割合）は、８％以下が好ましく、透過率は８０％以上が好ましい。
【００３０】
ガラス基材とは、ソーダライムガラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、液晶化ガラスなどと呼ばれるものがあり（「化学便覧」基礎編、Ｐ．Ｉ−５３７、日本化学会編）、液晶表示装置では、低アルカリガラス、もしくは無アルカリガラスが好ましく用いられる。
【００３１】
プラスチック材料としては、有機高分子からなる基材であればいかなるものを用いても良いが、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸特性から見て、特に、ポリメチルメタアクリレート、メチルメタクリレートと他のアルキル（メタ）アクリレート、スチレンなどといったビニルモノマーとの共重合体などの（メタ）アクリル系樹脂；ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）などのポリカーボネート系樹脂；（臭素化）ビスフェノールＡ型のジ（メタ）アクリレートの単独重合体ないし共重合体、（臭素化）ビスフェノールＡモノ（メタ）アクリレートのウレタン変性モノマーの重合体及び共重合体などといった熱硬化性（メタ）アクリル系樹脂；ポリエステル特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートおよび不飽和ポリエステル、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、シクロオレフィンポリマー（商品名：アートン、ゼオノア）などが好ましい。また、耐熱性を考慮したアラミド系樹脂の使用も可能である。
【００３２】
透明支持体１としてプラスチック材料を用いる場合、プラスチック表面の表面エネルギー、塗布性、すべり性、平面性等をより改善するために、表面処理として下塗り層を設ける場合がある。下塗り層は、オルガノアルコキシメタル化合物やポリエステル、アクリル変性ポリエステル、ポリウレタンなどが挙げられる。また、コロナ放電、ＵＶ照射処理を行うことにより、同様な効果を得る方法もある。
【００３３】
プラスチックフィルム基材は、これらの樹脂を伸延、あるいは溶剤に希釈後フィルム状に成膜して乾燥するなどの方法で得ることができ、厚さは通常２５μｍ〜５００μｍ程度である。
【００３４】
また、上記のようなプラスチック基材表面は、特公昭５０−２８０９２号公報、特公昭５０−２８４４６号公報、特公昭５１−２４３６８号公報、特開昭５２−１１２６９８号公報、特公昭５７−２７３５号公報、特開２００１−３０１０９５号公報に開示されているような、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のオルガノシラン系熱硬化型樹脂、エーテル化メチロールメラミン等のメラミン系熱硬化樹脂、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレート系紫外線硬化樹脂等より成る被膜材科で被覆された物であっても良く、後述する低屈折率層及び透明導電膜の下層に存在するこの被膜によって、付着性、表面硬度、耐薬品性、耐擦傷性、耐久性、染色性などの諸物性を向上させることが可能である。
【００３５】
この被膜は、その性質上、しばしば「ハードコート」と呼ばれ、必要に応じて特許３３６１８５７号公報、特開平１１−１４０２０７号公報に開示されているように、微粒子を混合した樹脂を用いることができる。この皮膜の膜厚は、通常１〜２０μｍ程度である。
【００３６】
低屈折率層２は、外殻に細孔を有する中空微粒子２１と、それを結合するフッ素系樹脂２２を所定の割合で含有する塗料を、透明支持体１上に塗布、乾燥し、熱、放射線、またはその組み合わせにより硬化させることにより形成される。低屈折率層２の膜厚は、特に限定されないが、最小限の膜厚で最大限の低反射効果を求めた場合、その光学的膜厚が可視光の１／４波長前後であることが好ましく、低屈折率層２の光学的屈折率により変化するが、膜厚は５０〜１５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００３７】
中空微粒子２１は、特開平６−３３０６０６号公報、特開平７−１３１３７号公報に開示されているような細孔を有する外殻の内部に空洞が形成された中空球状を呈し、空洞内に気体を包含してなるものである。外殻は主としてシリカ系無機酸化物からなり、複数の被覆層から形成されてもよい。
【００３８】
また、外殻構成が、フッ化マグネシウム、フッ素系樹脂のような低屈折率材上にシリカ殻があってもよい。外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよいし、この細孔が閉塞されて空洞を密封したものであってもよいが、できれば細孔が緻密構造をとり、空洞が外殻により密封されていることが好ましい。
【００３９】
中空微粒子２１の平均粒子径は１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が１００ｎｍを越えると低屈折率層の光学膜厚が、低反射機能を与える１００ｎｍ前後に設定することができず、材料の低屈折率を十分に生かした低反射特性が得られないからである。また、中空微粒子を含有する塗膜などの透明性が光散乱によって低下し易いからである。
【００４０】
中空微粒子２１の外殻の厚さは１８ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以下である。外殻を構成するシリカ被覆層の厚さが厚すぎる場合は、粒子自体の屈折率が高くなってしまい、低屈折率層として十分低い光学的屈折率が得られなくなる。中空微粒子２１の屈折率は、１．３以下が好ましく、１．２８以下がより好ましい。
【００４１】
低屈折率層２のフッ素系樹脂２２としては、例えば、特開平１１−３５５８５号公報に開示されているような含フッ素化合物と含ケイ素イソシアネート化合物とをウレタン化反応をさせて合成する含フッ素化合物や、低屈折率原子であるフッ素原子からなる４フッ化エチレン等を主鎖の一部に含む含フッ素重合体などが挙げられる。
【００４２】
さらに、接着性及び表面硬度を上げるため、または中空微粒子２１との界面補強のためには、官能基を有し架橋構造を含むものが好ましい。そして、このような官能基を有する含フッ素重合体は、官能基の含有量が単量体単位で０．０５〜３５モル％、好ましくは０．０５〜３１モル％とする。官能基の含有量は、基材の表面の種類、形状、塗装方法、条件などの違いにより適宜選択されるが、より好ましくは０．０５〜２０モル％、特に好ましくは０．１〜１０モル％である。官能基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボン酸塩又はエポキシ基等の残基が挙げられる。
【００４３】
官能基の含有量が０．０５モル％未満であると、基材表面との接着性や架橋構造が充分得られにくく、耐傷性が低く、また温度変化や薬品の浸透などにより剥離などを起こしやすい。また、３５モル％を超えると、耐熱性を低下させ、高温での使用時に、接着不良や着色、発泡、ピンホールなどの塗膜破壊、剥離や溶出などを起こしやすい。
【００４４】
硬化反応は、熱、放射線、またはその組み合わせによるものが挙げられる。また、上記官能基を有する含フッ素重合体は、それ自体、耐熱性だけでなく、含フッ素ポリマーがもつ耐薬品性、非粘着性、低摩擦性、耐候性などの優れた特性を有しており、塗布後の塗膜表面にこれら含フッ素ポリマーの優れた特性を低下させずに与えることができる。
【００４５】
この官能基を有する含フッ素重合体は、例えば前述の一般式（１）で表される官能基を有する含フッ素エチレン性単量体０．０５〜３１モル％と、官能基を持たない含フッ素エチレン性単量体６９〜９９．９５モル％との共重合によって得ることができる。
【００４６】
一般式（１）で表される官能基を有する含フッ素エチレン性単量体と共重合する単量体としては、耐熱性、耐薬品性、非粘着性、低摩擦性を共重合体に与えるために、官能基をもたない含フッ素エチレン性単量体が選択される。
【００４７】
官能基をもたない含フッ素エチレン性単量体の具体例としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、フッ化ビニル、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類、ヘキサフルオロイソブテン、及び前述の一般式（２）で表される化合物等が挙げられる。また、フッ素系樹脂は、屈折率が１．４５以下のものが好ましい。
【００４８】
低屈折率層２における中空微粒子２１の添加量は、低反射機能、耐溶剤性、耐傷性、密着性等の点から、体積比率で３４〜７２％の範囲が好ましい。中空微粒子２１の体積比率が３４％未満であると、中空微粒子２１の充填効果が低く、優れた低反射機能が得られないのと同時に、表面硬度が不十分となり、耐傷性が弱い。また７２％を超えると、中空微粒子２１の充填が過度となり、膜の耐溶剤性、耐傷性、及び密着性が低下する。
【００４９】
このことから低屈折率層２の屈折率は、本発明が最も有効に働く範囲として、中空微粒子２１の充填率の上限から屈折率１．２５以上が好ましく、一般的な蒸着法によるＳｉＯ２層や特開２００２−１３９６０３号公報等に記載されている析出法によるＳｉＯ２層等の中空微粒子を使用せずとも実現できる屈折率１．４３〜１．４６以下、つまり屈折率１．４２以下であることが好ましい。また、低屈折率層２の膜厚は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが望ましい。
【００５０】
透明導電膜３は低屈折率層２の上面に形成され、その材質としては、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＩＴＯ（ＳｎＯ２−Ｉｎ２Ｏ３合金）、などの金属酸化物、ＴｉＮなどの金属窒化物、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ａｌなどの金属薄膜が利用できる。これらの形成方法としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などに代表される物理的気相成長法（ＰＶＤ法、Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、及び化学的気相成長法（ＣＶＤ法、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）が適用される。
【００５１】
このときの透明導電膜の膜厚は、所定の電気抵抗値が得られれば特に制限はないが、低反射とするためには、できるだけ薄い膜にするほうが有利である。特に、抵抗膜式タッチパネル用途として、１００〜１０００Ω／□の表面抵抗値が要求される場合、導電性を発揮するためには５ｎｍ以上であることが好ましく、下層の低屈折率層２と積層して反射率を低減するには、３０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００５２】
透明支持体１の、低屈折率層２が形成された面と反対側の面には、表面の耐汚染性、耐擦傷性、耐溶剤性を向上させるために、特開平９−２５５９１９号公報に開示されているような、フルオロアルキル基あるいはパーフルオロポリエーテル基を有し、官能基として水酸基、イソシアナート基、アクリル基、アルコキシシラノ基等のいずれかを含有する表面改質膜４を設けてもよい。
【００５３】
なお、本発明の透明導電性基材における各層の形成方法としては、スピンコート、グラビアコート、スプレーコート等の塗布によることが量産性の点、およびコスト面で好ましい。
【００５４】
本発明の透明導電性基材は図２に示すように、透明支持体１の両面に低屈折率層２ａ，２ｂを形成するようにしてもよい。この場合、透明支持体１の両面にディッピング方式により塗布して低屈折率層２ａ，２ｂを形成する。次いで、低屈折率層２ｂの表面に表面改質膜４を形成する。
【００５５】
上記したように、本実施の形態においては、外殻に細孔を有する中空微粒子２１とフッ素樹脂２２を含む低屈折率層２を形成し、さらにその上に、透明導電膜３を形成することにより、低反射で高品質な透明導電性基材を提供することができる。
【００５６】
本発明の透明導電性基材は、抵抗膜方式タッチパネルの上部電極基板および／または下部電極基板に適用することができる。図３はその一例を示す抵抗膜方式タッチパネルの概略断面図である。この抵抗膜方式タッチパネル１０は、下部電極基板１３としてのガラス電極上にスペーサ１２を介して上部電極基板１１としての透明導電性基材をその表面改質膜が最表面となるように備えたものである。
【００５７】
また、本発明の透明導電性基材は、液晶や有機ＥＬ等の表示装置の電極基板としても適用することができる。
【００５８】
【実施例】
以下、実施例について本発明をさらに詳細に説明する。なお、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
下記表１に本実施例で適用した透明支持体の材質、低屈折率層の組成を示す。
【００５９】
［実施例１］
まず、以下に示す材料を所定量混合して低屈折率層用塗料を調製した。
＜塗料組成＞
（ａ）中空シリカ系ゾル液（溶媒ＭＥＫ、固形分２０ｗｔ％）：
中空微粒子；平均粒径６０ｎｍ、外殻の厚み：空洞の半径＝１：５（外殻の厚み５ｎｍ程度）、屈折率１．２
（ｂ）フッ化エチレン共重合体樹脂（溶媒酢酸ブチル、固形分５０ｗｔ％）：
４フッ化エチレン共重合体；屈折率１．４２、官能基含有量２０モル％
官能基付き単量体…ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ
官能基なし単量体…ＣＦ２＝ＣＦ２
（ｃ）メチルイソブチルケトン
（ａ）…１００重量部、（ｂ）…６．７重量部、（ｃ）…１０００重量部
【００６０】
次に、透明支持体である１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．７ｍｍ厚のソーダライムガラス板の両面に上記塗料をディッピング方式により塗布した。これを１００℃で乾燥、熱硬化を行い、膜厚８０ｎｍの低屈折率層を得た。さらに、この低屈折率層の一方の面に、スパッタリング法により、膜厚８ｎｍのＩＴＯ（ＳｎＯ２−Ｉｎ２Ｏ３合金、光学的屈折率２．０）膜を形成し、透明導電性基材を完成させた。反射、透過特性は、ＩＴＯ膜の側から分光光度計（ＪＡＳＣＯ  Ｖ−５６０型）で測定した。また、低屈折率層の表面硬度に関しては、耐傷性等を示す「引っかき硬度試験（鉛筆法）」（日本規格協会  ＪＩＳ  Ｋ  ５４００規格による）を行った。
【００６１】
［実施例２、実施例３］
透明支持体が、表１に示すごとく異なる以外は、実施例１と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００６２】
［実施例４］
透明支持体、フッ素系樹脂を構成する含フッ素エチレン性単量体の官能基が、表１に示すごとく異なる以外は、実施例１と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００６３】
［実施例５、実施例５’］
透明支持体、及びフッ素系樹脂を構成する官能基付き単量体の含有量が、表１に示す如く異なる以外は、実施例１と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００６４】
［実施例６］
透明支持体、及び中空微粒子の屈折率が、表１に示す如く異なる以外は、実施例１と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。なお、中空微粒子の屈折率は、外殻の厚みによって変化する。ここでは、外殻の厚み：空洞の半径＝３：２（外殻の厚み１８ｎｍ程度）の中空微粒子を使用した。
【００６５】
［実施例７〜１１］
透明支持体、及び中空微粒子の膜中における体積充填率が、表１に示す如く異なる以外は、実施例１と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００６６】
［実施例１２］
結合剤樹脂に表１に示す如く官能基を有する非フッ素系樹脂（ポリエステル系樹脂）を使用した以外は、実施例２と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００６７】
［比較例１］
透明支持体上に低屈折率層を設けなかったこと以外は、実施例１と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００６８】
［比較例２］
低屈折率層を次に述べる過飽和析出法で形成した以外は、実施例１と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。以下、低屈折率層の形成方法を具体的に述べる。
２．６モル／Ｌの濃度の珪弗化水素酸溶液に二酸化珪素（工業用シリカゲル）を溶解させ、二酸化珪素の飽和状態とし、この溶液３Ｌに５０ｍｍ×５０ｍｍ×３ｍｍ厚のアルミニウム板８枚を浸漬し、二酸化珪素の過飽和状態とした。この処理液を３５℃に保持し、予め十分に洗浄、乾燥したソーダライムガラス板を浸漬し、ガラス板の両面に厚さ９５ｎｍの二酸化珪素皮膜が成膜されるまで保持し、その後、引き上げ、上水及びイオン交換水で順次十分に洗浄して表面の珪弗化水素酸溶液を除去して、低屈折率層を形成した。
【００６９】
［比較例３］
透明支持体、及び表１に示す如く結合剤なしで塗料を調製した以外は、実施例２と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００７０】
［参考例１、参考例２］
透明支持体、及びフッ素系樹脂を構成する官能基付き単量体の含有量が、表１に示す如く異なる以外は、実施例２と同様の構成並びに方法によって透明導電性基材を得た。
【００７１】
上記実施例１〜１２、比較例１〜３及び参考例１，２について、下記表２に透明導電性基材の、低屈折率層の光学的屈折率、表面抵抗、分光反射率、分光透過率、及び引っかき硬度試験（鉛筆法）の結果をまとめて示す。
【００７２】
【表１】
2004345278.tif 000003
【００７３】
【表２】
2004345278.tif 000004
【００７４】
表１、２に示すように、実施例１〜４においては、低屈折率層の屈折率が１．２７で、波長５５０ｎｍの分光反射率が２．６％以下、透過率が９７．４％以上という、低反射でかつ高透過の非常に優れた透明導電性基材を得ることができた。また、硬度も２Ｈと充分満足できる。
【００７５】
実施例５においては、実施例２と比較して、フッ素系樹脂中の官能基の含有量を３１％とすることで、低屈折率層の屈折率が１．３１とやや高くなったが、波長５５０ｎｍの分光反射率が２．６％で、透過率が９７．４％であり、硬度も２Ｈと良好であった。実施例５’においては、実施例２と比較して、フッ素系樹脂中の官能基の含有量を５％とすることで、硬度がやや低下してＨとなったものの、光学的には波長５５０ｎｍの分光反射率が２．２％で、透過率が９７．８％であり、良好であった。
【００７６】
実施例６においては、実施例２と比較して、中空微粒子の屈折率が１．３２と高くなることで、低屈折率層の屈折率がやや上昇したが、波長５５０ｎｍの分光反射率が３．１％で、透過率が９６．９％であり、硬度も２Ｈと良好であった。
【００７７】
実施例７〜１１においては、実施例２と比較して、中空微粒子の体積充填率を３４〜７２％の範囲で増減することで、低屈折率層の屈折率は中空微粒子の減少とともに上昇する傾向を示したが、いずれも波長５５０ｎｍの分光反射率が３．３％以下で、透過率が９６．７％以上であり、充分良好な特性を示した。しかしながら、中空微粒子の体積充填率が３４％の実施例１０及び同７２％の実施例１１では、硬度の低下が見られた。
【００７８】
実施例１２においては、実施例２と比較して、結合剤として非フッ素系樹脂を用いることで、低屈折率層の屈折率が１．３６とやや高くなったが、波長５５０ｎｍの分光反射率が３．６％、透過率が９６．４％で、硬度２Ｈであり、充分良好な特性が得られた。
【００７９】
比較例１においては、実施例１と比較して、低屈折率層を設けなかったため、波長５５０ｎｍの分光反射率が１７．４％で、透過率が８２．６％であり、光学的に満足するものが得られなかった。このように、反射率の高い基材を通して、表示デバイスの絵や文字を見ようとすると、ゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて眼に不快感を与えてしまう。
【００８０】
比較例２においては、実施例１と比較して、低屈折率層を過飽和析出法により設けたもので、波長５５０ｎｍの分光反射率が１０％で、透過率が９０％であり、光学的に満足するものが得られなかった。
【００８１】
比較例３においては、実施例２と比較して、中空微粒子のみで膜を構成したため、低屈折率層として必要な硬度が得られなかった。
【００８２】
参考例１においては、実施例２と比較して、官能基を持たないフッ素系樹脂を用いることで、硬度のかなりの低下が認められた。
【００８３】
参考例２においては、実施例２と比較して、フッ素系樹脂中の官能基の含有量が４０％となることで、波長５５０ｎｍの分光反射率は２．１％と充分低いが、透過率が９０．５％に低下し、光学特性として不十分であった。これは、官能基が多いとピンホールが発生し、塗膜破壊のために光散乱が起こることにより透過率が下がることが原因と見られた。
【００８４】
以上の結果から明らかなように、低屈折率の中空微粒子に結合剤として官能基を所定量含有する樹脂を混合し、この塗料を透明支持体上に塗布して低屈折率層を設けることで、低反射かつ高透明、加えて表面硬度に優れた透明導電性基材が得られることがわかった。また、中空微粒子に添加するフッ素系樹脂の量が少な過ぎると硬度が低下し、多すぎると光学特性、硬度ともに低下することがわかった。
【００８５】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば、高透過で、優れた低反射特性をもつ透明導電性基材を提供することができる。
また本発明の透明導電性基材を抵抗膜式タッチパネルに適用したり、表示素子用の電極基板に適用することで、高透過性と優れた低反射特性を有し、かつ適切な表面抵抗値と導電性を備えたものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の透明導電性基材の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の透明導電性基材の別の実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の透明導電性基材を使用した抵抗膜方式タッチパネルの概略断面図である。
【符号の説明】
１    透明支持体
２    低屈折率層
２１    中空微粒子
２２    フッ素系樹脂
３    透明導電膜
４    表面改質膜
１０    抵抗膜方式タッチパネル
１１    上部電極基板
１２    スペーサ
１３    下部電極基板
【図１】
2004345278.tif 000005
【図２】
2004345278.tif 000006
【図３】
2004345278.tif 000007