(57)【要約】【課題】容易に０次光を遮蔽するレーザの集光装置における０次光遮蔽方法と０次光遮蔽リングを提供する。【解決手段】入射側のエキスパンダーレンズの本体４のレンズ保持部８にエキスパンダーレンズ７の入射側に樹脂リング９とエキスパンダーレンズ７を押える径が１次光のビーム径より２倍以上で、透過孔の縁が０次光の中心から０次光のビーム径の半径の２倍以上離れている透過孔１１を設けると共に外縁に反射用斜面部１２を有する段差を設けた０次光遮蔽リング１０を設ける。【選択図】  図２
2004167589.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エキスパンダーレンズの入射側に透過孔を設けた０次光遮蔽手段を設けたことを特徴とするレーザ集光装置における０次光遮蔽方法。
【請求項２】
０次光遮蔽手段として透過孔の径が１次孔のビーム径より２倍以上で、透過孔の縁が０次光の中心から０次光のビーム径の半径の２倍以上離れていることを特徴とするレーザ集光装置における０次光遮蔽リング。
【請求項３】
入射側の外縁部に反射用斜面部を設けたことを特徴とする請求項２記載のレーザ集光装置における０次光遮蔽リング。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザマーキング装置等のレーザの集光装置における０次光遮蔽方法と０次光遮蔽リング関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
レーザマーキング装置等のレーザの集光装置は、図１に示すようにＡＯＭ（光変調器）１、横並びの０次光と１次光を縦並びにする平面ミラー２，３、入射側のエキスパンダーレンズの本体４、スリット５、出射側のエキスパンダーレンズの本体６から構成される（例えば、特許文献１と非特許文献１参照。）。
【０００３】
一般にレーザマーキング装置では、ＡＯＭ１によりレーザ発振器（図示せず）より出射された入射光Ｘをブラグ回折させた回折光である１次光を使用している。１次光を使用するのはＡＯＭ１でレーザ光の強さをコントロールできるためである。
【０００４】
このとき非回折光である０次光Ｂと１次光Ａの開きが不充分である場合に、０次光Ｂがエキスパンダーレンズ４のレンズ押えに当たり、干渉光がレンズ内に侵入したり、０次光Ｂそのものが図１に示すようにレンズ内に侵入して、露光面で有害光として不要な結像による露光が生じていた。また、この場合に０次光の遮蔽を行うスリット５の調整が非常に困難であった。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−２７１９８３号公報（第１図）
【非特許文献１】
大竹祐吉著，「レーザの使い方と留意点」，増補改訂版第５刷，株式会社オプトロニクス社，１９９８年１２月１４日，ｐ３６−ｐ４２
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は、容易に０次光を遮蔽する０次光遮蔽方法と０次光遮蔽リングを提供することを課題とするものである。
【０００７】
【発明が解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、第１の発明はエキスパンダーレンズの入射側に透過孔を設けた０次光遮蔽手段を設けた０次光遮蔽方法である。
【０００８】
第２の発明は、０次光遮蔽手段として透過孔の径が１次孔のビーム径より２倍以上で、透過孔の縁が０次光の中心から０次光のビーム径の半径の２倍以上離れている０次光遮蔽リングである。
【０００９】
第３の発明は、第２の発明の０次光遮蔽リングの入射側の外縁部に反射用斜面部を設けたことである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図２は、本発明の一実施例を示した一部截断側面図で、４は入射側のエキスパンダーレンズの本体、７はエキスパンダーレンズ、８はレンズ保持部、９は樹脂リング、１０は０次光遮蔽リング、１１は透過孔、１２は反射用斜面部、１３，１３は０次光遮蔽リング１０をレンズ保持部８に螺合するための工具の取付孔、１４，１５はエキスパンダーレンズの位置調節のための位置調節ネジである。
【００１１】
この実施例では、０次光遮蔽リング１０はレンズ押えと兼用となっており、透過孔１１の径は１次孔Ａのビーム径の２倍以上にしており、１次光が回折しないようになっている。また、その径は１次光Ａに隣接する０次光Ｂの中心からビーム径の半径の２倍以内に拡がらない大きさとしており、０次光が入射することがない。そして反射用斜面部１２により入射側の透過孔周辺と０次光Ｂが当る面との段差を設け、０次光Ｂが斜面部１２により外側に反射されるようにすることによって０次光Ｂの散乱孔の透過孔１１への入射を防ぐと共に反射用斜面部１２により０次光Ｂを外方へ反射させるという効果がある。
【００１２】
図３は本発明の他の実施例を示す一部截断側面図で、エキスパンダーレンズ７を押えるレンズ押え１６を使用することにより、図４に示すようにネジ回し用の溝１７を設けた０次光遮蔽リング１０’の場合も溝１７が０次光の遮蔽に支障がない位置で取付けることができる。
【００１３】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、有害光である０次光を効果的に遮蔽することができ、０次光遮蔽リングをレンズ押え用のネジ孔に螺合することにより既存の装置を加工することなく上記効果を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のレーザの集光装置を示す一部截断側面図。
【図２】本発明の一実施例を示す一部截断側面図。
【図３】本発明の他の実施例を示す一部截断側面図。
【図４】図３に示す０次光遮蔽リングの拡大正面図。
【符号の説明】
４        本体
７        エキスパンダーレンズ
８        レンズ保持部
９        樹脂リング
１０        ０次光遮蔽リング
１１        透過孔
１２        反射用斜面部
１３        取付孔
１４，１５        位置調節ネジ
【図１】
2004167589.tif 000003
【図２】
2004167589.tif 000004
【図３】
2004167589.tif 000005
【図４】
2004167589.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成14年11月25日(2002.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】エキスパンダーレンズの入射側に透過孔を設けた０次光遮蔽手段を設けたことを特徴とするレーザ集光装置における０次光遮蔽方法。
【請求項２】０次光遮蔽手段として透過孔の径が１次光のビーム径より２倍以上で、透過孔の縁が０次光の中心から０次光のビーム径の半径の２倍以上離れていることを特徴とするレーザ集光装置における０次光遮蔽リング。
【請求項３】入射側の外縁部に反射用斜面部を設けたことを特徴とする請求項２記載のレーザ集光装置における０次光遮蔽リング。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザマーキング装置等のレーザの集光装置における０次光遮蔽方法と０次光遮蔽リング関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
レーザマーキング装置等のレーザの集光装置は、図１に示すようにＡＯＭ（光変調器）１、横並びの０次光と１次光を縦並びにする平面ミラー２，３、入射側のエキスパンダーレンズの本体４、スリット５、出射側のエキスパンダーレンズの本体６から構成される（例えば、特許文献１と非特許文献１参照。）。
【０００３】
一般にレーザマーキング装置では、ＡＯＭ１によりレーザ発振器（図示せず）より出射された入射光Ｘをブラグ回折させた回折光である１次光を使用している。１次光を使用するのはＡＯＭ１でレーザ光の強さをコントロールできるためである。
【０００４】
このとき非回折光である０次光Ｂと１次光Ａの開きが不充分である場合に、０次光Ｂがエキスパンダーレンズ４のレンズ押えに当たり、干渉光がレンズ内に侵入したり、０次光Ｂそのものが図１に示すようにレンズ内に侵入して、露光面で有害光として不要な結像による露光が生じていた。また、この場合に０次光の遮蔽を行うスリット５の調整が非常に困難であった。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−２７１９８３号公報（第１図）
【非特許文献１】
大竹祐吉著，「レーザの使い方と留意点」，増補改訂版第５刷，株式会社オプトロニクス社，１９９８年１２月１４日，ｐ３６−ｐ４２
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は、容易に０次光を遮蔽する０次光遮蔽方法と０次光遮蔽リングを提供することを課題とするものである。
【０００７】
【発明が解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、第１の発明はエキスパンダーレンズの入射側に透過孔を設けた０次光遮蔽手段を設けた０次光遮蔽方法である。
【０００８】
第２の発明は、０次光遮蔽手段として透過孔の径が１次光のビーム径より２倍以上で、透過孔の縁が０次光の中心から０次光のビーム径の半径の２倍以上離れている０次光遮蔽リングである。
【０００９】
第３の発明は、第２の発明の０次光遮蔽リングの入射側の外縁部に反射用斜面部を設けたことである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図２は、本発明の一実施例を示した一部截断側面図で、４は入射側のエキスパンダーレンズの本体、７はエキスパンダーレンズ、８はレンズ保持部、９は樹脂リング、１０は０次光遮蔽リング、１１は透過孔、１２は反射用斜面部、１３，１３は０次光遮蔽リング１０をレンズ保持部８に螺合するための工具の取付孔、１４，１５はエキスパンダーレンズの位置調節のための位置調節ネジである。
【００１１】
この実施例では、０次光遮蔽リング１０はレンズ押えと兼用となっており、透過孔１１の径は１次光Ａのビーム径の２倍以上にしており、１次光が回折しないようになっている。また、その径は１次光Ａに隣接する０次光Ｂの中心からビーム径の半径の２倍以内に拡がらない大きさとしており、０次光が入射することがない。そして反射用斜面部１２により入射側の透過孔周辺と０次光Ｂが当る面との段差を設け、０次光Ｂが反射用斜面部１２により外側に反射されるようにすることによって０次光Ｂの散乱光の透過孔１１への入射を防ぐと共に反射用斜面部１２により０次光Ｂを外方へ反射させるという効果がある。
【００１２】
図３は本発明の他の実施例を示す一部截断側面図で、エキスパンダーレンズ７を押えるレンズ押え１６を使用することにより、図４に示すようにネジ回し用の溝１７を設けた０次光遮蔽リング１０’の場合も溝１７が０次光の遮蔽に支障がない位置で取付けることができる。
【００１３】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、有害光である０次光を効果的に遮蔽することができ、０次光遮蔽リングをレンズ押え用のネジ孔に螺合することにより既存の装置を加工することなく上記効果を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のレーザの集光装置を示す一部截断側面図。
【図２】本発明の一実施例を示す一部截断側面図。
【図３】本発明の他の実施例を示す一部截断側面図。
【図４】図３に示す０次光遮蔽リングの拡大正面図。
【符号の説明】
４        本体
７        エキスパンダーレンズ
８        レンズ保持部
９        樹脂リング
１０        ０次光遮蔽リング
１１        透過孔
１２        反射用斜面部
１３        取付孔
１４，１５        位置調節ネジ