(57)【要約】【課題】複数の構成装置を機能的に配置することができる描画装置を提供することを課題とする。【解決手段】機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド７を、吐出対象物Ｗに対し相対的に走査すると共に機能液滴を選択的に吐出して、吐出対象物Ｗ上に機能膜を形成する液滴吐出装置１０と、液滴吐出装置１０に１の側に添設され、機能液滴吐出ヘッド７のメンテナンスに供するメンテナンス装置１６を有する付帯装置１１と、を備えたものである。【選択図】　図１６
2004000942.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを、吐出対象物に対し相対的に走査すると共に機能液滴を選択的に吐出して、前記吐出対象物上に機能膜を形成する液滴吐出装置と、
前記液滴吐出装置に１の側に添設され、前記機能液滴吐出ヘッドのメンテナンスに供するメンテナンス装置を有する付帯装置と、を備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記液滴吐出装置は、前記機能液滴吐出ヘッドを吐出対象物に対し相対的に走査するＸ軸テーブルおよびＹ軸テーブルを架台上に有し、
前記付帯装置は、前記メンテナンス装置を機台上に有し、
前記液滴吐出装置の架台に対し前記付帯装置の機台は、分離可能に連結されていることを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記Ｘ軸テーブルおよび前記Ｙ軸テーブルは、前記架台上に設置した石定盤上に設置されていることを特徴とする請求項２に記載の描画装置。
【請求項４】
前記機能液滴吐出ヘッドは、前記Ｙ軸テーブルに搭載されており、
前記Ｙ軸テーブルは、前記機能液滴吐出ヘッドを前記メンテナンス装置に臨む位置まで移動可能に構成されていることを特徴とする請求項３に記載の描画装置。
【請求項５】
前記メンテナンス装置は、前記機能液滴吐出ヘッドの機能液吸引および保管を行うクリーニングユニットと、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル形成面をワイピングするワイピングユニットと、前記クリーニングユニットおよび前記ワイピングユニットを移動自在に搭載した移動テーブルと、を有していることを特徴とする請求項４に記載の描画装置。
【請求項６】
前記移動テーブルは、前記クリーニングユニットおよび前記ワイピングユニットをＸ軸方向に移動自在に構成され、
且つ前記メンテナンス装置に臨んだ前記機能液滴吐出ヘッドの直下に、前記クリーニングユニットおよび前記ワイピングユニットを移動可能に構成されていることを特徴とする請求項５に記載の描画装置。
【請求項７】
前記付帯装置は、前記液滴吐出装置に機能液を供給すると共に不要となった機能液を回収する機能液供給回収装置を、更に有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の描画装置。
【請求項８】
前記機台はキャビネット形式の機台本体を有し、
前記機能液供給回収装置のタンク類は、前記機台本体に収容されていることを特徴とする請求項７に記載の描画装置。
【請求項９】
前記付帯装置は、各構成部品への駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置およびエアーを吸引する真空吸引装置を、更に有することを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の描画装置。
【請求項１０】
前記機台はキャビネット形式の機台本体を有し、
前記エアー供給装置および前記真空吸引装置の主要部分は、前記機台本体に収容されていることを特徴とする請求項９に記載の描画装置。
【請求項１１】
前記液滴吐出装置および前記付帯装置を不活性ガスの雰囲気中に収容するチャンバルームを、更に備え、
前記チャンバルームには、前記付帯装置に面して着脱形式の着脱パネルが設けられていることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれかに記載の描画装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の描画装置を用い、前記機能液として発光機能材を導入し、前記吐出対象物である基板上の多数の画素領域に前記機能膜である有機ＥＬ機能層を形成することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１３】
前記機能液として発光機能材を導入し、前記吐出対象物である基板上の多数の画素領域に前記機能膜である有機ＥＬ機能層を形成する、請求項１ないし１１のいずれかに記載の描画装置を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造装置。
【請求項１４】
請求項１２に記載の有機ＥＬ装置の製造方法により製造され、または請求項１３に記載の有機ＥＬ装置の製造装置により製造されたことを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェットヘッドに代表される機能液滴吐出ヘッドを用いた描画装置、有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置、並びに有機ＥＬ装置および電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の、この種の機能液滴吐出ヘッドを用いた有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置は、実用段階には至っていないが、理論的には知られている。この場合、機能液滴吐出ヘッドに機能液として液体の発光材料を導入し、これを多数の画素領域に吐出し、その後発光材料中の溶剤を気化（乾燥）させて、有機ＥＬの発光層を形成するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このような、機能液滴吐出ヘッドを用いた従来の有機ＥＬ装置の製造装置では、発光材料として空気中の酸素等と反応し易いものを用いると、通常の環境下では、機能液滴吐出ヘッドから吐出され飛行する発光材料が空気に広い面積で接触し、変質が促進され易くなる問題が生ずる。また、着弾した発光材料が酸素等と反応し、乾燥してゆく過程でクラック等が発生し易くなる問題がある。
【０００４】
本発明は、発光機能材料を吐出して有機ＥＬ機能層を形成する過程において、その変質や損傷を有効に防止することができる描画装置、有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置、並びに有機ＥＬ装置および電子機器を提供することを課題としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画装置は、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを、吐出対象物に対し相対的に走査すると共に機能液滴を選択的に吐出して、吐出対象物上に機能膜を形成する液滴吐出装置と、液滴吐出装置に１の側に添設され、機能液滴吐出ヘッドのメンテナンスに供するメンテナンス装置を有する付帯装置と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この場合、液滴吐出装置は、機能液滴吐出ヘッドを吐出対象物に対し相対的に走査するＸ軸テーブルおよびＹ軸テーブルを架台上に有し、付帯装置は、メンテナンス装置を機台上に有し、液滴吐出装置の架台に対し付帯装置の機台は、分離可能に連結されていることが、好ましい。
【０００７】
この場合、Ｘ軸テーブルおよびＹ軸テーブルは、架台上に設置した石定盤上に設置されていることが、好ましい。
【０００８】
この場合、機能液滴吐出ヘッドは、Ｙ軸テーブルに搭載されており、Ｙ軸テーブルは、機能液滴吐出ヘッドをメンテナンス装置に臨む位置まで移動可能に構成されていることが、好ましい。
【０００９】
この場合、メンテナンス装置は、機能液滴吐出ヘッドの機能液吸引および保管を行うクリーニングユニットと、機能液滴吐出ヘッドのノズル形成面をワイピングするワイピングユニットと、クリーニングユニットおよびワイピングユニットを移動自在に搭載した移動テーブルと、を有していることが好ましい。
【００１０】
この場合、移動テーブルは、クリーニングユニットおよびワイピングユニットをＸ軸方向に移動自在に構成され、且つメンテナンス装置に臨んだ機能液滴吐出ヘッドの直下に、クリーニングユニットおよびワイピングユニットを移動可能に構成されていることが、好ましい。
【００１１】
これらの場合、付帯装置は、液滴吐出装置に機能液を供給すると共に不要となった機能液を回収する機能液供給回収装置を、更に有することが好ましい。
【００１２】
この場合、機台はキャビネット形式の機台本体を有し、機能液供給回収装置のタンク類は、機台本体に収容されていることが、好ましい。
【００１３】
これらの場合、付帯装置は、各構成部品への駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置およびエアーを吸引する真空吸引装置を、更に有することが好ましい。
【００１４】
この場合、機台はキャビネット形式の機台本体を有し、エアー供給装置および真空吸引装置の主要部分は、機台本体に収容されていることが、好ましい。
【００１５】
これらの場合、液滴吐出装置および付帯装置を不活性ガスの雰囲気中に収容するチャンバルームを、更に備え、チャンバルームには、付帯装置に面して着脱形式の着脱パネルが設けられていることが、好ましい。
【００１６】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記した描画装置を用い、機能液として発光機能材を導入し、吐出対象物である基板上の多数の画素領域に機能膜である有機ＥＬ機能層を形成することを特徴とする。
【００１７】
本発明の有機ＥＬ装置の製造装置は、機能液として発光機能材を導入し、吐出対象物である基板上の多数の画素領域に機能膜である有機ＥＬ機能層を形成する、上記の描画装置を備えたことを特徴とする。
【００１８】
本発明の有機ＥＬ装置は、上記した有機ＥＬ装置の製造方法により製造され、または上記した有機ＥＬ装置の製造装置により製造されたことを特徴とする。
【００１９】
本発明の電子機器は、上記した有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
【００２０】
これら構成によれば、多数の画素領域に高品質の有機ＥＬ機能層を安定に作り込こんだ有機ＥＬ装置自体を、簡単に製造することができ、低コストで信頼性のある有機ＥＬ装置およびこれを備えた電子機器を提供することができる。なお、有機ＥＬ装置はいわゆるフラットディスプレイであり、この場合の電子機器は、携帯電話、パーソナルコンピュータ等のフラットディスプレイを備える各種機器である。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。インクジェットプリンタのインクジェットヘッド（液滴吐出ヘッド）は、微小なインク滴（液滴）をドット状に精度良く吐出することができることから、例えば液滴（吐出対象液）に特殊なインクや、発光性或いは感光性の樹脂等を用いることにより、各種部品の製造分野への応用が期待されている。
【００２２】
本実施形態の有機ＥＬ装置の製造装置は、いわゆるフラットディスプレイの一種である有機ＥＬ装置の製造ラインに組み込まれるものであり、複数の機能液滴吐出ヘッドを用い、その吐出ノズルから発光材料等の機能液を吐出して（インクジェット方式）、有機ＥＬ装置の発光機能を為す各画素のＥＬ発光層および正孔注入層を形成するものである。
【００２３】
そこで、本実施形態では、先ず有機ＥＬ装置の構造について説明すると共にその製造方法（製造プロセス）について説明する。そして次に、搭載した機能液滴吐出ヘッドを走査する描画装置とその周辺設備とから成る有機ＥＬ装置の製造装置を、その製造方法と共に説明する。なお、周辺設備として、チャンバ装置、搬送装置および乾燥装置が存在するが、本実施形態では、そのうちのチャンバ装置を主に説明し、搬送装置および乾燥装置については簡単に説明することとする。
【００２４】
図１ないし図１３は、有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表している。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程と、封止工程とを具備して構成されている。
【００２５】
バンク部形成工程では、基板５０１に予め形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａと有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このように、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含まれる。
【００２６】
まず無機物バンク層５１２ａを形成する工程では、図１に示すように、回路素子部５０２の第２層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａを、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって層間絶縁層５１４及び画素電極５１１の全面にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機物膜を形成する。
【００２７】
次にこの無機物膜をエッチング等によりパターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なるように形成しておく必要がある。このように、電極５１１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重なるように無機物バンク層５１２ａを形成することにより、発光層５１０の発光領域を制御することができる。
【００２８】
次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程では、図２に示すように、無機物バンク層５１２ａ上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク層５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチングして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄを形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。
【００２９】
上部開口部５１２ｄは、図２に示すように、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バンク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の中央側に延出された形になる。このようにして、上部開口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。
【００３０】
次にプラズマ処理工程では、バンク部５１２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥インク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工程とに大別される。
【００３１】
まず、予備加熱工程では、バンク部５１２を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱することにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好ましい。
【００３２】
つぎに、親インク化工程では、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。このＯ２プラズマ処理により、図３に示すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５１２ｆが親インク処理される。この親インク処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付与される。図３では、親インク処理された部分を一点鎖線で示している。
【００３３】
つぎに、撥インク化工程では、大気雰囲気中で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行う。ＣＦ４プラズマ処理により、図４に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥インク性が付与される。図４では、撥インク性を示す領域を二点鎖線で示している。
【００３４】
次に、冷却工程では、プラズマ処理のために加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット工程（液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定の温度で行うことができる。
【００３５】
次に発光素子形成工程では、画素電極５１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することにより発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つの工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成するための第１組成物を各前記画素電極上に吐出する第１液滴吐出工程と、吐出された前記第１組成物を乾燥させて前記画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２組成物を前記正孔注入／輸送層の上に吐出する第２液滴吐出工程と、吐出された前記第２組成物を乾燥させて前記正孔注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程とが含まれる。
【００３６】
まず、第１液滴吐出工程では、インクジェット法（液滴吐出法）により、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出する。なお、この第１液滴吐出工程以降は、水、酸素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）
【００３７】
図５に示すように、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド）Ｈに正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面５１１ａ上に吐出する。
【００３８】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変えても良い。
【００３９】
図５に示すように、吐出された第１組成物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上に吐出しても良い。
【００４０】
次に正孔注入／輸送層形成工程では、図６に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【００４１】
これにより図６に示すように、乾燥処理によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形成される。
【００４２】
次に第２液滴吐出工程では、インクジェット法（液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。この第２液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
【００４３】
しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
【００４４】
そこでまず、表面改質工程について説明する。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質用溶媒を、インクジェット法（液滴吐出法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより行う。
【００４５】
例えば、インクジェット法による塗布は、図７に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出することにより行う。そして、図８に示すように、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。
【００４６】
次に第２液滴吐出工程では、インクジェット法（液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。図９に示すように、インクジェットヘッドＨに、青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。
【００４７】
発光層形成材料としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープすることにより用いることができる。
【００４８】
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【００４９】
図９に示すように、吐出された第２組成物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。この場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、各回毎に第２組成物量を変えても良い。
【００５０】
次に発光層形成工程では、第２組成物を吐出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図１０に示すような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。
【００５１】
続けて、図１１に示すように、青色（Ｂ）発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【００５２】
次に対向電極形成工程では、図１２に示すように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これらの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防止できる点で好ましい。
【００５３】
また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとなる。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のためにＳｉＯ２、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【００５４】
最後に、図１３に示す封止工程では、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続するとともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続することにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られる。
【００５５】
なお、上記の撥インク膜、陰極５０３、画素電極５１１等においても、それぞれ液体材料を用い、インクジェット法で形成するようにしてもよい。
【００５６】
次に、有機ＥＬ装置の製造装置について説明する。上述したように有機ＥＬ装置の製造プロセスにおいて、正孔注入／輸送層（正孔注入層）を形成する正孔注入／輸送層形成工程（第１液滴吐出工程＋乾燥工程）と、表面改質工程と、発光層を形成する発光層形成工程（第２液滴吐出工程＋乾燥工程）とは、機能液滴吐出ヘッドを用いたインクジェット法で行われる。これに対応し、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造装置では、機能液滴吐出ヘッドを、発光機能材料を吐出させながら走査する描画装置が用いられている。
【００５７】
より具体的には、図１４に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（必要な場合には表面改質工程を含む）を行う正孔注入層形成設備Ａは、第１液滴（発光機能材料：正孔注入層材料）を導入する機能液滴吐出ヘッドを搭載した上記の描画装置１ａと、乾燥装置２ａと、基板搬送装置３ａとを備えており、且つこれらを収容するチャンバ装置４ａを備えている。上述したように、正孔注入／輸送層形成工程は不活性ガスの雰囲気中で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置４ａが設けられている。
【００５８】
チャンバ装置４ａは、描画装置１ａを収容する主チャンバ４ａａと、乾燥装置２ａおよび基板搬送装置３ａを収容すると共にこれらの連結部分（搬送路）をトンネル状に収容する副チャンバ４ａｂとで構成されている。主チャンバ４ａａは、不活性ガスを連続的に流して良好な雰囲気を構成する方式を採用しており（詳細は後述する）、副チャンバ４ａｂは、不活性ガスを循環させて良好な雰囲気を構成する方式を採用している。なお、図中の符号５は、基板移載装置である。
【００５９】
同様に、図１５に示すように、発光層形成工程を行う発光層形成設備Ｂは、第２液滴（発光機能材料：Ｒ・Ｇ・Ｂ発光層材料）を導入する機能液滴吐出ヘッドを搭載した上記の描画装置１ｂと、乾燥装置２ｂと、基板搬送装置３ｂとを色別に３組備えており、且つこれらを収容するチャンバ装置４ｂを３組備えている。上記と同様に、発光層形成工程は不活性ガスの雰囲気中で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置４ｂが設けられている。そして、この場合のチャンバ装置４ｂも、各描画装置１ｂを収容する３つの主チャンバ４ｂａと、各乾燥装置２ｂおよび各基板搬送装置３ｂを収容すると共にこれらの連結部分（搬送路）をトンネル状に収容する３つの副チャンバ４ｂｂとで構成されている。
【００６０】
正孔注入層形成設備Ａの描画装置１ａおよび発光層形成設備Ｂの各描画装置１ｂは、それぞれの機能液滴吐出ヘッドに導入する発光機能材料が異なるだけで、同一の構造を有している。また、各乾燥装置２ａ，２ｂ、各基板搬送装置３ａ，３ｂおよび各チャンバ装置４ａ，４ｂも、同一もしくは同様の構造を有している。したがって、機能液滴吐出ヘッドの交換や、発光機能材料の供給系の交換における手間を無視すれば、任意の１組の設備（描画装置１、乾燥装置２、基板搬送装３およびチャンバ装置４）で、有機ＥＬ装置の製造は可能である。
【００６１】
そこで、本実施形態では、図１５における左端の１組の設備、すなわちＢ色の発光層を形成する描画装置１ｂ、乾燥装置２ｂ、基板搬送装３ｂおよびチャンバ装置４ｂを例に、各構成装置を説明し、他の設備の説明は省略する。
【００６２】
図外の装置により、上記のバンク部形成工程およびプラズマ処理工程を経た基板は、図１５の左端に位置する基板移載装置５から基板搬送装置３（３ｂ）に搬送され、ここで方向および姿勢転換されて描画装置１（１ｂ）に搬送される。基板搬送装置３（３ｂ）から描画装置１（１ｂ）に受け渡され基板は、描画装置１（１ｂ）にセットされる。描画装置１（１ｂ）では、その機能液滴吐出ヘッドにより、基板の多数の画素領域（開口部５１２ｇ）にＢ色の発光材料（液滴）が吐出される（第２液滴吐出工程）。
【００６３】
次に、発光材料が塗着した基板は、描画装置１（１ｂ）から基板搬送装置３（３ｂ）に受け渡され、基板搬送装置３（３ｂ）により乾燥装置２（２ｂ）に導入される。乾燥装置２（２ｂ）では、基板を所定時間、高温の不活性ガスの雰囲気に曝して、発光材料中の溶剤を気化させる（乾燥工程）。ここで再度、基板を描画装置１（１ｂ）に導入し第２液滴吐出工程が行われる。すなわち、この第２液滴吐出工程と乾燥工程とが複数回繰り返され、発光層が所望の膜厚になったところで、基板は基板搬送装置３（３ｂ）を経て、Ｒ色の発光層を形成すべく中間の描画装置１（１ｂ）に搬送され、最後に、Ｇ色の発光層を形成すべく右端の描画装置１（１ｂ）に搬送される。そして、これらの作業は、上記のチャンバ装置４（４ｂ）内の不活性ガスの雰囲気中で行われる。なお、Ｂ・Ｒ・Ｇの各色発光層の形成のための作業順は、任意である。
【００６４】
なお、乾燥装置２および基板搬送装置３の詳細な説明は省略するが、例えば乾燥装置２であれば、不活性ガスを吹き付けるブロー乾燥や真空乾燥の他、ホットプレートを用いるもの或いはランプ（赤外線ランプ）を用いるもの等が、好ましい。そして、乾燥温度は、４０±２℃〜２００±２℃とすることが、好ましい。
【００６５】
次に、本発明の主体を為す描画装置１および主チャンバ（チャンバ手段）４について、詳細に説明する。描画装置１は、図１６ないし図１９に示すように、液滴吐出装置（液滴吐出手段）１０と、その付帯装置１１とを備えている。付帯装置１１は、液滴吐出装置１０に発光機能材料（発光材料：機能液）を供給すると共に不要となった機能液を回収する機能液供給回収装置１３、各構成部品への駆動・制御用等の圧縮エアーを供給するエアー供給装置１４、エアーを吸引する真空吸引装置１５および機能液滴吐出ヘッド７のメンテナンスに供するメンテナンス装置１６等を有している。
【００６６】
液滴吐出装置１０は、床上に設置した架台２１と、架台２１上に設置した石定盤２２と、石定盤２２上に設置したＸ軸テーブル２３およびこれに直交するＹ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に吊設するように設けたメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２５に搭載したヘッドユニット２６とを有している。詳細は後述するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッジ（キャリッジ）４１を介して、複数の機能液滴吐出ヘッド７が搭載されている。また、この複数の機能液滴吐出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル８１上に基板（機能液滴吐出対象物）Ｗがセットされるようになっている。
【００６７】
本実施形態の液滴吐出装置１０では、機能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方向への往復の両動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われる。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復動）動作のみで行うようにしてもよい。
【００６８】
一方、ヘッドユニット２６のホーム位置は、図１７および図１９における図示左端位置となっており、且つこの液滴吐出装置１０の左方からヘッドユニット２６の運び込み或いは交換が行われる（詳細は後述する）。また、図示の手前側には、上記の基板搬送装置３が臨んでおり、基板Ｗはこの手前側から搬入・搬出される。そして、この液滴吐出装置１０の図示右側には、上記付帯装置１１の主な構成装置が、一体的に添設されている。
【００６９】
付帯装置１１は、キャビネット形式の共通機台３１と、共通機台３１内の一方の半部に収容した上記のエアー供給装置１４および真空吸引装置１５と、共通機台３１内の一方の半部に主要装置を収容した上記の機能液供給回収装置１３と、共通機台３１上に主要装置を収容した上記メンテナンス装置１６とを備えている。
【００７０】
メンテナンス装置１６は、機能液滴吐出ヘッド７の定期的なフラッシング（全吐出ノズルからの機能液の捨て吐出）を受ける大小２つのフラッシングユニット３３と、機能液滴吐出ヘッド７の機能液吸引および保管を行うクリーニングユニット３４と、機能液滴吐出ヘッド７のノズル形成面をワイピングするワイピングユニット３５とを有している。そして、クリーニングユニット３４およびワイピングユニット３５は、上記の共通機台３１上に配設されている。また、小さい方のフラッシングユニット３３Ａは、基板Ｗの近傍に配設され、大きい方のフラッシングユニット３３Ｂは、ヘッドユニット２６のホーム位置近傍に配設されている（詳細は後述する）。
【００７１】
一方、主チャンバ４は、図１４および図１５に示すように、チャンバルーム３７に、電気室３８および機械室３９を併設した、いわゆるクリーンルームの形態を有している。チャンバルーム３７には、不活性ガスである窒素ガスが導入され、これに収容した上記の液滴吐出装置１０および付帯装置１１は、全体として窒素ガスの雰囲気に曝され、窒素ガスの雰囲気中で稼動する。
【００７２】
ここで、図２０の模式図を参照して、窒素ガスの雰囲気中で稼動する描画装置１の一連の動作を簡単に説明する。先ず、準備段階として、ヘッドユニット２６が液滴吐出装置１０に運び込まれ、これがメインキャリッジ２５にセットされる。ヘッドユニット２６がメインキャリッジ２５にセットされると、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２６を、図外のヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッド認識カメラによりヘッドユニット２６が位置認識される。ここで、この認識結果に基づいて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且つヘッドユニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット（メインキャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。
【００７３】
一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル８１上に基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入されると、この位置（受渡し位置）で後述する主基板認識カメラ９０が基板を位置認識する。ここで、この認識結果に基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、基板（吸着テーブル８１）Ｗはホーム位置に戻る。なお、Ｘ軸およびＹ軸テーブル２３，２４の初期調整時（いわゆる通り出し）には、吸着テーブル８１上にアライメントマスクを導入し、後述する副基板認識カメラ１０８により初期調整を行う。
【００７４】
このようにして準備が完了すると、実際の液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的な吐出動作が行われる。基板Ｗが復動した後、こんどはＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行われる。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Ｗの端から端まで（全領域）液滴吐出が行われる。
【００７５】
なお、本実施形態では、ヘッドユニット２６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよい。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよい。
【００７６】
次に、上記した液滴吐出装置１０、付帯装置１１および主チャンバ４の各構成装置について、順を追って説明するが、その前に、理解を容易にすべく、液滴吐出装置１０の主要部となるヘッドユニット２６について詳細に説明する。
【００７７】
図２１ないし図２４は、ヘッドユニットの構造図である。これらの図に示すように、ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４１と、サブキャリッジ４１に搭載した複数個（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７と、各機能液滴吐出ヘッド７をサブキャリッジ４１に個々に取り付けるための複数個（１２個）のヘッド保持部材４２とを備えている。１２個の機能液滴吐出ヘッド７は、６個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の角度傾けて配設されている。
【００７８】
また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル６８（後述する）が副走査方向において連続する（一部重複）ようになっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブキャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としたものであり、且つ各ヘッド列間において機能液滴吐出ヘッド７が相互に１８０°回転した配置となっている。
【００７９】
もっとも、この配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する機能液滴吐出ヘッド７同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における機能液滴吐出ヘッド７を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりすることは可能である。いずれにしても、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル６８によるドットが副走査方向において連続していればよい。
【００８０】
また、各種の基板Ｗに対し機能液滴吐出ヘッド７を専用部品とすれば、機能液滴吐出ヘッド７をあえて傾けてセットする必要は無く、千鳥状や階段状に配設すれば足りる。さらにいえば、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の機能液滴吐出ヘッド７で構成してもよいし複数の機能液滴吐出ヘッド７で構成してもよい。すなわち、機能液滴吐出ヘッド７の個数や列数、さらに配列パターンは任意である。
【００８１】
サブキャリッジ４１は、一部が切り欠かれた略方形の本体プレート４４と、本体プレート４４の長辺方向の中間位置に設けた左右一対の基準ピン４５，４５と、本体プレート４４の両長辺部分に取り付けた左右一対の支持部材４６，４６と、各支持部材４６の端部に設けた左右一対のハンドル４７，４７とを有している。左右のハンドル４７，４７は、例えば組み立てたヘッドユニット２６を上記の液滴吐出装置１０に載せ込む場合に、ヘッドユニット２６を手持ちするための部位となる。また、左右の支持部材４６，４６は、サブキャリッジ４１を液滴吐出装置１０のセット部に固定するときの部位となる（いずれも詳細は後述する）。更に、一対の基準ピン４５，４５は、画像認識を前提として、サブキャリッジ（ヘッドユニット２６）４１をＸ軸、Ｙ軸およびθ軸方向に位置決め（位置認識）するための基準となるものである。
【００８２】
さらに、サブキャリッジ４１には、二分された機能液滴吐出ヘッド群７Ｓの上側に位置して、これら機能液滴吐出ヘッド７に接続される左右一対の配管接続アッセンブリ４９，４９および左右一対の配線接続アッセンブリ５０，５０が設けられている。各配管接続アッセンブリ４９は、描画装置１の機能液供給回収装置１３に配管接続され、同様に各配線接続アッセンブリ５０は、描画装置１の制御装置（ヘッドドライバ：図示省略）に配線接続されるようになっている。なお、図２２は、一方（左側）の配管接続アッセンブリ４９を省略して、描かれている。
【００８３】
なお、図２１および図２３にのみ示すように、このヘッドユニット２６には更に、両配線接続アッセンブリ５０を覆う基板カバー５１が設けられている。基板カバー５１は、各配線接続アッセンブリ５０の側面を覆う一対の側面カバー５３，５３と、一対の側面カバー５３，５３間に渡した上面カバー５４とで構成されている。このうち上面カバー５４は、ヘッドユニット２６を液滴吐出装置１０にセットした後に取り付けるようになっている。
【００８４】
図２５に示すように、機能液滴吐出ヘッド７は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２，６２を有する液体導入部６１と、液体導入部６１の側方に連なる２連のヘッド基板６３と、液体導入部６１に下方に連なる２連のポンプ部６４と、ポンプ部６４に連なるノズル形成プレート６５とを備えている。液体導入部６１には、上記の配管接続アッセンブリ４９が接続され、ヘッド基板６３の２連のコネクタ６６，６６には、上記の配線接続アッセンブリ５０が接続されている。一方、このポンプ部６４とノズル形成プレート６５とにより、サブキャリッジ４１裏面側に突出する方形のヘッド本体６０が構成されている。また、ノズル形成プレート６５のノズル形成面６７には、多数の吐出ノズル６８を列設した２列のノズル列６９，６９が形成されている。
【００８５】
次に、液滴吐出装置１０の他の構成装置、付帯装置１１および主チャンバ４の各構成装置について、順を追って説明する。
【００８６】
図２６ないし２９は、Ｘ軸テーブルを搭載した液滴吐出装置の架台２１および石定盤２２を表している。これら図に示すように、架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成され、下部に分散配置したアジャストボルト付きの複数（９個）の支持脚７１を有している。架台２１の上部には、各辺に対し２個の割合で、運搬等の移動の際に石定盤２２を固定するための複数（８個）の固定部材７２が、側方に張り出すように取り付けられている。各固定部材７２は、ブラケット様に「Ｌ」字状に形成され、基端側を架台２１の上部側面に固定され、先端側を調整ボルト７３を介して、石定盤２２の下部側面に当接するようになっている。石定盤２２は、架台２１に対し非締結状態で載っており、石定盤２２を運搬する際にこの固定部材７２により、架台２１に対し石定盤２２がＸ軸方向およびＹ軸方向（前後左右）に不動に固定される。
【００８７】
石定盤２２は、機能液滴吐出ヘッド７を精度良く移動させるＸ軸テーブル２３およびＹ軸テーブル２４が、周囲の環境条件や振動等により精度（特に平面度）上の狂いが生じないように支持するものであり、平面視長方形の無垢の石材で構成されている。石定盤２２の下部には、これを架台２１上に支持するアジャストボルト付きの３つの主支持脚７５および６つの補助脚７６が設けられている。３つの主支持脚７５は、石定盤２２を３点で支持し、その表面の平行度（水平度を含む）を出すためのものであり、６つの補助脚７６は、石定盤２２の３つの主支持脚７５から外れた部分を支持しその撓みを抑制するものである。
【００８８】
このため、図２９に模式的に示すように、３つの主支持脚７５，７５，７５は二等辺三角形をなすように配置され、その底辺を為す２つの主支持脚７５が、石定盤２２の基板搬入側（同図では左側、図１６では手前側）に位置するように配設されている。また、６つの補助脚７６，７６，７６，７６，７６，７６は、上記３つの主支持脚７５，７５，７５を含んで縦横に３×３となるように、均一且つ分散して配設されている。
【００８９】
この場合、石定盤２２上には、その長辺に沿う中心線に軸線を合致させてＸ軸テーブル２３が設置され、短辺に沿う中心軸に軸線を合致させてＹ軸テーブル２４が設置されている。このため、Ｘ軸テーブル２３は、石定盤２２上に直接固定され、Ｙ軸テーブル２４は、その４本の支柱７８がそれぞれスペーサブロック７９を介して石定盤２２上に固定されている。これにより、Ｙ軸テーブル２４は、Ｘ軸テーブル２３を跨いでその上側に直交するように配設されている。なお、図２７中の符号８０は、後述する主基板認識カメラを固定ための４つの小ブロックであり、主基板認識カメラも石定盤２２上に固定されている。
【００９０】
図２６ないし図２８のＸ軸移動系と図３０ないし図３２のθ移動系に示すように、Ｘ軸テーブル２３は、石定盤２２の長辺方向に延在しており、基板Ｗをエアー吸引により吸着セットする吸着テーブル８１と、吸着テーブル８１を支持するθテーブル８２と（図３０ないし図３２参照）、θテーブル８２をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ８３と、θテーブル８２を介して吸着テーブル８１上の基板ＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸リニアモータ８４と、Ｘ軸エアースライダ８３に併設したＸ軸リニアスケール８５と（図２６ないし図２９参照）により構成されている。
【００９１】
Ｘ軸リニアモータ８４は、Ｘ軸エアースライダ８３のヘッドユニット２６搬入側に位置し、Ｘ軸リニアスケール８５は、Ｘ軸エアースライダ８３の付帯装置１１側に位置しており、これらは、相互に平行に配設されている。Ｘ軸リニアモータ８４、Ｘ軸エアースライダ８３およびＸ軸リニアスケール８５は、石定盤２２上に直接支持されている。吸着テーブル８１には、上記の真空吸引装置１５に連なる真空チューブが接続されており（図示省略）、そのエアー吸引によりセットされた基板Ｗが平坦度を維持するようにこれを吸着する。
【００９２】
また、Ｘ軸リニアスケール８５の付帯装置１１側には、これに平行に位置して、石定盤２２上にボックス８８に収容された状態で、Ｘ軸ケーブルベア８７が配設されている。Ｘ軸ケーブルベア８７には、吸着テーブル８１の真空チューブやθテーブル８２用のケーブル等が、吸着テーブル８１およびθテーブル８２の移動に追従するように、収容されている（図２７および図２８参照）。
【００９３】
このように構成されたＸ軸テーブル２３は、Ｘ軸リニアモータ８４の駆動により、基板Ｗを吸着した吸着テーブル８１およびθテーブル８２が、Ｘ軸エアースライダ８３を案内にしてＸ軸方向に移動する。このＸ軸方向の往復移動において、基板搬入側から奥側に向かう往動動作により、機能液滴吐出ヘッド７の相対的な主走査が行われる。また、後述する主基板認識カメラ９０の認識結果に基づいて、θテーブル８２による基板Ｗのθ補正（水平面内における角度補正）が行われる。
【００９４】
図３３は、主基板認識カメラを表している。同図に示すように、吸着テーブル８１の直上部には、基板の搬入位置（受渡し位置）に臨むように、一対の主基板認識カメラ９０，９０が配設されている。一対の主基板認識カメラ９０，９０は、基板の２つの基準位置（図示省略）を同時に画像認識するようになっている。
【００９５】
図３４、図３５および図３６に示すように、Ｙ軸テーブル２４は、石定盤２２の短辺方向に延在しており、上記のメインキャリッジ２５を吊設するブリッジプレート９１と、ブリッジプレート９１を両持ちで且つＹ軸方向にスライド自在に支持する一対のＹ軸スライダ９２，９２と、Ｙ軸スライダ９２に併設したＹ軸リニアスケール９３と、一対のＹ軸スライダ９２，９２を案内にしてブリッジプレート９１をＹ軸方向に移動させるＹ軸ボールねじ９４と、Ｙ軸ボールねじ９４を正逆回転させるＹ軸モータ９５とを備えている。また、一対のＹ軸スライダ９２，９２の両側に位置して、一対のＹ軸ケーブルベア９６，９６がそれぞれボックス９７，９７に収容した状態で、配設されている。
【００９６】
Ｙ軸モータ９５はサーボモータで構成されており、Ｙ軸モータ９５が正逆回転すると、Ｙ軸ボールねじ９４を介してこれに螺合しているブリッジプレート９１が、一対のＹ軸スライダ９２，９２を案内にしてＹ軸方向に移動する。すなわち、ブリッジプレート９１のＹ軸方向への移動に伴って、メインキャリッジ２５がＹ軸方向に移動する。このメインキャリッジ（ヘッドユニット２６）２５のＹ軸方向の往復移動において、ホーム位置側から付帯装置１１側に向かう往動動作により、機能液滴吐出ヘッド７の副走査が行われる。
【００９７】
一方、上記の４本の支柱７８上には、メインキャリッジ２５の移動経路の部分を長方形開口９８ａとした載置台プレート９８が支持されており、載置台プレート９８上には、長方形開口９８ａを逃げて一対のＹ軸スライダ９２，９２およびＹ軸ボールねじ９４が、相互に平行に配設されている。また、載置台プレート９８から外側に張り出した一対の支持板９９，９９上には、上記の一対のＹ軸ケーブルベア９６，９６が、そのボックス９７，９７と共に載置されている。
【００９８】
基板搬入側のＹ軸ケーブルベア９６には、主にヘッドユニット２６に接続されるケーブルが収容され、逆側のＹ軸ケーブルベアには、主にヘッドユニット２６に接続される機能液用のチューブが収容されている（いずれも図示省略）。そして、これらケーブルおよびチューブは、上記のブリッジプレート９１を介してヘッドユニット２６の複数の機能液滴吐出ヘッド７に接続されている。
【００９９】
図３７および図３８に示すように、メインキャリッジ２５は、上記のブリッジプレート９１に下側から固定される外観「Ｉ」形の吊設部材１０１と、吊設部材１０１の下面に取り付けたθテーブル１０２と、θテーブル１０２の下面に吊設するように取り付けたキャリッジ本体１０３とで構成されている。そして、この吊設部材１０１が、上記の載置台プレート９８の長方形開口９８ａに臨んでいる。
【０１００】
キャリッジ本体１０３は、ヘッドユニット２６が着座するベースプレート１０４と、ベースプレート１０４を垂設するように支持するアーチ部材１０５と、ベースプレート１０４の一方の端部に突出するように設けた一対の仮置きアングル１０６，１０６と、ペースプレート１０４の他方の端部に設けたストッパプレート１０７とを備えている。また、ストッパプレート１０７の外側には、基板Ｗを認識する上記の一対の副基板認識カメラ１０８が、配設されている。
【０１０１】
ベースプレート１０４には、ヘッドユニット２６の本体プレート４４が遊嵌する方形開口１１１が形成され、またこの方形開口１１１を構成するベースプレート１０４の左右の各開口縁部１１２には、ヘッドユニット２６を位置決め固定するためのボルト孔１１３，１１３、２つの貫通孔１１４，１１４および位置決めピン１１５とが設けられている。
【０１０２】
このように構成されたメインキャリッジ２５には、ヘッドユニット２６が、その両ハンドル４７，４７により手持ちされて運び込まれ、セットされるようになっている。すなわち、運び込まれたヘッドユニット２６は、いったん両仮置きアングル１０６，１０６上に載置される（仮置き）。ここで、ブリッジプレート９１上に配設した機能液供給回収装置１３に連なるチューブを、ヘッドユニット２６の配管接続アッセンブリ４９に配管接続すると共に、制御系のケーブルを配線接続アッセンブリ５０に配線接続する。さらに、上記の上面カバー５４を取り付ける。そして、再度ハンドル４７，４７を把持し、両仮置きアングル１０６，１０６をガイドにしてヘッドユニット２６を先方に押し入れ、これをベースプレート１０４の左右の開口縁部１１２，１１２にセットするようになっている。
【０１０３】
次に、付帯装置１１の共通機台３１について説明する。図３９ないし図４２に示すように、共通機台３１は、隔壁を介して大小の２つの収容室１２２ａ，１２２ｂを形成したキャビネット形式の機台本体１２１と、機台本体１２１上に設けた移動テーブル１２３と、移動テーブル１２３上に固定した共通ベース１２４と、機台本体１２１上の移動テーブル１２３から外れた端位置に設けたタンクベース１２５とを備えている。共通ベース１２４には、クリーニングユニット３４およびワイピングユニット３５が載置され、タンクベース１２５には、後述する機能液供給回収装置１３の中間タンク１２６が載置されている。
【０１０４】
機台本体１２１の下面には、アジャストボルト付きの６つの支持脚１２８と、４つのキャスタ１２９が設けられており、また液滴吐出装置１０側には、液滴吐出装置１０の架台２１と連結するための一対の連結ブラケット１３０，１３０が設けられている。これにより、液滴吐出装置１０と付帯装置（共通機台３１）１１と一体化され、且つ必要に応じて付帯装置１１を分離し、移動できるようになっている。
【０１０５】
機台本体１２１の小さい方の収容室１２２ｂには、エアー供給装置１４および真空吸引装置１５の主要部分が収容され、大きい方の収容室１２２ａには、機能液供給回収装置１３のタンク類が収容されている。そして、このタンク類に接続するための継手群１３１が、機台本体１２１の端部上面に形成した矩形開口１２１ａに臨んでいる（図示左端図）。また、この矩形開口１２１ａの近傍に位置して、後述する廃液ポンプ１５２が設けられている（図１６参照）。
【０１０６】
移動テーブル１２３は、機台本体１２１の長手方向に延在しており、共通ベース１２４を支持する方形テーブル１３３と、方形テーブル１３３をスライド自在に支持する一対の移動スライダ１３４，１３４と、一対の移動スライダ１３４，１３４間に配設されたボールねじ１３５と、ボールねじ１３５を正逆回転させる移動モータ１３６とを備えている。移動モータ１３６は、カップリング１３７を介してボールねじ１３５の端に接続され、方形テーブル１３３は、雌ねじこま１３８を介してボールねじ１３５に螺合している。これにより、移動モータ１３６が正逆回転すると、ボールねじ１３５を介して方形テーブル１３３および共通ベース１２４が、Ｘ軸方向に進退する。
【０１０７】
移動テーブル１２３は、共通ベース１２４上に載置したクリーニングユニット３４とワイピングユニット３５とを移動させるが、移動テーブル１２３が駆動するときには、上記のＹ軸テーブル２４により、ヘッドユニット２６がクリーニングユニット３４の直上部に臨んでいる。クリーニングユニット３４が、ヘッドユニット２６の複数の機能液滴吐出ヘッド７に密着して機能液を吸引すると、各機能液滴吐出ヘッド７のノズル形成面６７が汚れるため、続いて移動テーブル１２３により、複数の機能液滴吐出ヘッド７にワイピングユニット３５が接近して、ノズル形成面６７が汚れを拭き取るように動作する（詳細は後述する）。
【０１０８】
また、移動テーブル１２３の脇には、これに平行にケーブルベア１３９が配設されている。ケーブルベア１３９は、共通機台３１上に固定されると共に先端部が共通ベース１２４に固定されていて、両ユニット３４，３５用のケーブルやエアーチューブ、或いは後述する洗浄用のチューブや廃液（再利用）用のチューブ等が、収容されている（図示省略）。
【０１０９】
次に、図４３ないし図４６を参照して、機能液供給回収装置１３について説明する。図４３の配管系統図に示すように、機能液供給回収装置１３は、ヘッドユニット２６の各機能液滴吐出ヘッド７に機能液を供給する機能液供給系１４１と、クリーニングユニット３４で吸引した機能液を回収する機能液回収系１４２と、ワイピングユニット３５に、機能液の溶剤を洗浄用として供給する洗浄液供給系１４３と、フラッシングユニット３３から機能液の廃液を回収する廃液回収系１４４とで構成されている。
【０１１０】
図４４および図４５は、上記の共通機台３１の大きい方の収容室１２２ａに収容したタンク群であり、引出し形式の防液パン１４６上に、複数のタンクが載置されている。防液パン１４６上には、タンク群を構成する、図示左側から洗浄液供給系１４３の洗浄タンク１４７、機能液回収系１４２の再利用タンク１４８および機能液供給系１４１の加圧タンク１４９が横並びに配設されると共に、洗浄タンク１４７および再利用タンク１４８の近傍に、小型に形成した廃液回収系１４４の廃液タンク１５０が配設されている。
【０１１１】
図４３に示すように、廃液タンク１５０は、廃液ポンプ１５２を介してフラッシングユニット３３に接続され、各機能液滴吐出ヘッド７によりフラッシングユニット３３に吐出した機能液を、廃液タンク１５０に回収する。再利用タンク１４８は、クリーニングユニット３４の吸引ポンプ１５３に接続されており、吸引ポンプ１５３により各機能液滴吐出ヘッド７から吸引した機能液を回収する。なお、図４６に示すように、廃液ポンプ１５２と後述する中間タンク１２６上流側の開閉バルブ１５４とは、支持プレート１５５に固定されており、上述のように、機台本体１２１の端部上面に取り付けられている（図１６参照）。
【０１１２】
図４３に示すように、洗浄タンク１４７には、流入側がエアー供給装置１４に接続され、流出側がワイピングユニット３５の洗浄液噴霧ヘッド噴霧ノズル（後述する）１９５に接続されている。すなわち、洗浄タンク１４７は、エアー供給装置１４から導入される圧縮エアーにより、内部の洗浄液を洗浄液噴霧ヘッド１９５に圧力供給する。詳細は後述するが、洗浄液噴霧ヘッド１９５が吐出した洗浄液は、機能液滴吐出ヘッド７を拭き取るワイピンクングシート１８２に含浸される。なお、洗浄タンク１４７には、更にタンク加圧用のチューブ１５６が接続されている。
【０１１３】
加圧タンク１４９には、流入側がエアー供給装置１４に接続され、流出側が機能液供給系１４１の中間タンク１２６に接続されており、この中間タンク１２６とヘッドユニット（の一対の配管接続アッセンブリ４９，４９）２６が複数本のチューブ１５７で接続されている。加圧タンク１４９は、機能液のメインタンクであり、エアー供給装置１４から導入される圧縮エアーにより、内部の機能液を中間タンク１２６に圧力供給する。また、加圧タンク１４９には、更にタンク加圧用のチューブ１５８が接続されている。
【０１１４】
この場合、機能液は、所定の水頭圧で加圧タンク１４９から中間タンク１２６に供給されるが、中間タンク１２６では、この加圧タンク１４９側の水頭圧が縁切りされ、主に機能液滴吐出ヘッド７のポンピング動作、すなわち圧電素子のポンプ駆動により機能液が供給される。これは、機能液滴吐出ヘッド７の吐出ノズル６８から機能液がたれるのを防止せんとするものである。したがって、中間タンク１２６から機能液滴吐出ヘッド７に無用な水頭圧が加わらないように、中間タンク１２６の高さ位置が、上記のタンクベース１２５等よって調節されている。
【０１１５】
図４７ないし図４９は、中間タンク１２６を表している。中間タンク１２６は、上記のタンクベース１２５上に固定されており、両側に液位窓１６２，１６２を有すると共にフランジ形式で閉蓋された矩形のタンク本体１６１と、両液位窓１６２，１６２に臨んで機能液の液位（水位）を検出する液位検出器１６３と、タンク本体１６１が載置されるパン１６４と、パン１６４を介してタンク本体１６１を支持するタンクスタンド１６５とを備えている。
【０１１６】
タンクスタンド１６５は、取付けプレート１６７と、取付けプレート１６７上に立設した２本の支柱状部材１６８，１６８とから成り、この２本の支柱状部材１６８により、タンク本体１６１の高さおよび水平が微調節できるようになっている。タンク本体（の蓋体）１６１の上面には、加圧タンク１４９に連なる供給チューブ１６９が繋ぎこまれており、またヘッドユニット２６に連なるチューブ（図４３の符号１５８）用の６つのコネクタ１７０ａおよび大気開放用の１つのコネクタ１７０ｂが、設けられている。
【０１１７】
液位検出器１６３は、上下に僅かに離間して配設した満液検出器１６３ａおよび減液検出器１６３ｂから成り、この満液検出器１６３ａと減液検出器１６３ｂとは、タンクスタンド１６５に対し、基部側で個々に高さ調節自在に取り付けられている。満液検出器１６３ａおよび減液検出器１６３ｂは、いずれもタンク本体１６１の両液位窓１６２，１６２に向かっての延びる一対の板状アーム１６３ｃ，１６３ｃを有しており、一対の板状アーム１６３ｃ，１６３ｃの一方には、一方の液位窓１６２に臨む発光素子１６３ｄが、他方には他方の液位窓１６２に臨む受光素子１６３ｅが取り付けられている。すなわち、この発光素子１６３ｄおよび受光素子１６３ｅにより、透過型の液位センサが構成されている。
【０１１８】
中間タンク１２６に接続される上記の供給チューブ１６９の上流側には、開閉バルブ１５４が介設されており（図４３および図４６参照）、開閉バルブ１５４により、中間タンク１２６への機能液の供給が制御される。すなわち、満液検出器１６３ａの液位センサ（満水検知）および減液検出器１６３ｂの液位センサ（減水検知）により、開閉バルブ１５４が開閉制御され、中間タンク１２６の液位が常に満液と減液の間にあるように調整される。これにより、中間タンク１２６から各機能液滴吐出ヘッド７に供給される機能液における、水頭圧の変動を極力少なくするようにしている。
【０１１９】
なお、図４３に示すように、中間タンク１２６から複数（１２個であって２４ノズル列６９）の機能液滴吐出ヘッド７に至る配管は、中間タンク１２６からの６本のチューブ１５７がヘッダパイプ１６６を介して１２本に分岐し、この各チューブが各機能液滴吐出ヘッド７の近傍でＹ字継手により、それぞれ２つに分岐している（計２４本）。これにより、中間タンク１２６から複数の機能液滴吐出ヘッド７に至るそれぞれの管路において、管路長が同一となって圧力損失（管摩擦損失）が同一となる。
【０１２０】
次に、メンテナンス装置１６について、ワイピングユニット３５、クリーニングユニット３４、フラッシングユニット３３の順で説明する。
【０１２１】
図５０ないし図５５に示すように、ワイピングユニット３５は、別個独立に構成された巻取りユニット（図５０ないし図５２）１７１と拭取りユニット（図５３ないし図５５）１７２とから成り、上記の共通ベース１２４上に、突き合わせた状態で配設されている。巻取りユニット１７１は共通ベース１２４の手前側に、拭取りユニット１７２は共通ベース１２４の奥側、すなわちクリーニングユニット３４側に配設されている。
【０１２２】
実施形態のワイピングユニット３５は、クリーニングユニット３４の直上部、すなわちクリーング位置に停止しているヘッドユニット２６に対し、後述するワイピングシート１８２を走行させながら、上記の移動テーブル１２３により全体としてＸ軸方向に移動し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を拭き取るものである。このため、ワイピングユニット３５は、巻取りユニット１７１から繰り出され、拭取り動作のために拭取りユニット１７２を周回して巻取りユニット１７１に巻き取られるようになっている。
【０１２３】
図５０、図５１および図５２に示すように、巻取りユニット１７１は、片持ち形式のフレーム１７４と、フレーム１７４に回転自在に支持した上側の繰出しリール１７５および下側の巻取りリール１７６と、巻取りリール１７６を巻取り回転させる巻取りモータ１７７とを備えている。また、フレーム１７４の上側部はサブフレーム１７８が固定されており、このサブフレーム１７８には、繰出しリール１７５の先方に位置するように速度検出ローラ１７９および中間ローラ１８０が、両持ちで支持されている。さらに、これら構成部品の下側には、洗浄液を受ける洗浄液パン１８１が配設されている。
【０１２４】
繰出しリール１７５には、ロール状のワイピングシート１８２が挿填され、繰出しリール１７５から繰り出されたワイピングシート１８２は、速度検出ローラ１７９および中間ローラ１８０を介して拭取りユニット１７２に送り込まれる。巻取りリール１７６と巻取りモータ１７７との間にはタイミングベルト１８３が掛け渡され、巻取りリール１７６は巻取りモータ１７７により回転してワイピングシート１８２を巻き取る。
【０１２５】
詳細は後述するが、拭取りユニット１７２にもワイピングシート１８２を送るモータ（拭取りモータ１９４）が設けられており、繰出しリール１７５は、これに設けたトルクリミッタ１８４により、拭取りモータ１９４に抗するように制動回転する。速度検出ローラ１７９は、自由回転する上下２つのローラ１７９ａ，１７９ｂから成るグリップローラであり、これに設けた速度検出器１８５により、巻取りモータ１７７を制御する。すなわち、繰出しリール１７５は、ワイピングシート１８２を張った状態で送り出し、巻取りリール１７６は、ワイピングシート１８２を弛みが生じないように巻き取る。
【０１２６】
図５３、図５４および図５５に示すように、拭取りユニット１７２は、左右一対のスタンド１９１，１９１と、一対のスタンド１９１，１９１に支持された断面略「Ｕ」字状のベースフレーム１９２と、ベースフレーム１９２に両持ちで回転自在に支持された拭取りローラ１９３と、拭取りローラ１９３を回転させる拭取りモータ１９４と、拭取りローラ１９３に平行に対峙する洗浄液噴霧ヘッド１９５と、ベースフレーム１９２を昇降させる複動形式の一対のエアーシリンダ１９６，１９６とを備えている。
【０１２７】
一対のスタンド１９１，１９１は、それぞれ外側に位置する固定スタント１９８と、固定スタント１９８の内側に、上下方向にスライド自在に取り付けた可動スタンド１９９とから成り、各固定スタンド１９８のベース部に上記のエアーシリンダ１９６が立設されている。各エアーシリンダ１９６のプランジャ１９６ａは、可動スタンド１９９に固定されており、同時に駆動する一対のエアーシリンダ１９６，１９６により、ベースフレーム１９２およびこれに支持された拭取りローラ１９３や拭取りモータ１９４等が昇降する。
【０１２８】
拭取りローラ１９３は、タイミングベルト２０１を介して拭取りモータ１９４に連結した駆動ローラ２０２と、ワイピングシート１８２を挟んで駆動ローラ２０２に接触する従動ローラ２０３とから成る、グリップローラで構成されている。駆動ローラ２０２は、例えばコア部分に弾力性或いは柔軟性を有するゴムを巻回したゴムローラで構成され、これに周回するワイピングシート１８２を、走行させながら機能液滴吐出ヘッド７のノズル形成面６７に押し付けるようになっている。
【０１２９】
洗浄液噴霧ヘッド１９５は、拭取りローラ（駆動ローラ２０２）１９３の近傍にあって、上記の中間ローラ１８０から送られてくるワイピングシート１８２に、機能液の溶剤等で構成した洗浄液を吹き付ける。このため、洗浄液噴霧ヘッド１９５の前面、すなわち拭取りローラ１９３側には、複数の噴霧ノズル２０４がワイピングシート１８２の幅に合わせて横並びに設けられ、後面には、上記の洗浄タンク１４７に連なるチューブ接続用の複数のコネクタ２０５が設けられている。
【０１３０】
洗浄液を吹き付けられたワイピングシート１８２は、洗浄液を含浸し、機能液滴吐出ヘッド７に臨んでこれを拭き取るようになっている。なお、拭取りローラ１９３の下方に位置して、ベースフレーム１９２にも洗浄液パンが設けられており、巻取りユニット１７１の洗浄液パン１８１と共に、ワイピングシート１８２から滴る洗浄液を受け得るようになっている。
【０１３１】
ここで、図５６の模式図を参照して、一連の拭取り動作を簡単に説明する。ヘッドユニット２６のクリーニングが完了すると、移動テーブル１２３が駆動し、ワイピングユニット３５を前進させてヘッドユニット２６に十分に接近させる。拭取りローラ１９３が機能液滴吐出ヘッド７の近傍まで移動したら、移動テーブル１２３を停止し、両エアーシリンダ１９６，１９６を駆動して、機能液滴吐出ヘッド７に接触（押し付ける）するように拭取りローラ１９３を上昇させる。
【０１３２】
ここで、巻取りモータ１７７および拭取りモータ１９４を駆動して、ワイピングシート１８２を拭取り送りすると共に、洗浄液の噴霧を開始する。また、これと同時に、再度移動テーブル１２３を駆動し、ワイピングシート１８２の送りを行いながら、拭取りローラ１９３を、複数の機能液滴吐出ヘッド７の下面を拭き取るように前進させる。拭取り動作が完了したら、ワイピングシート１８２の送りを停止し且つ拭取りローラ１９３を下降させ、さらに移動テーブル１２３によりワイピングユニット３５を、元の位置に後退させる。
【０１３３】
次に、図５７ないし図６０を参照して、クリーニングユニット３４について説明する。クリーニングユニット３４は、１２個の機能液滴吐出ヘッド７に対応して１２個のキャップ２１２を、キャップベース２１３に配置したキャップユニット２１１と、キャップユニット２１１を支持する支持部材２１４と、支持部材２１４を介してキャップユニット２１１を昇降させる昇降機構２１５とを備えている。また、図４３に示すように、クリーニングユニット３４には、各キャップ２１２に連なる吸引チューブ２１６と、１２本の吸引チューブ２１６が接続されるヘッダパイプ２１７と、ヘッダパイプ２１７の下流側に設けた吸引ポンプ１５３とが設けられている。そして、吸引ポンプ１５３は、再利用タンク１４８に連通している。
【０１３４】
支持部材２１４は、上端にキャップユニット２１１を支持する支持プレート２４１を有する支持部材本体２４２と、支持部材本体２４２を上下方向にスライド自在に支持するスタンド２４３とを備えている。支持プレート２４１の長手方向の両側下面には、一対の大気開放シリンダ（エアー圧シリンダ）２４４，２４４が固定されており、この一対の大気開放シリンダ２４４，２４４により、操作プレート２４５を介して後述する大気開放弁２３１が開閉（下動で「開」、上動で「閉」）されるようになっている。
【０１３５】
昇降機構２１５は、上昇降機構（エアー圧シリンダ）２４６と下昇降機構（エアー圧シリンダ）２４７とから成り、下昇降機構２４７はスタンドベース２４８上に固定されていて上昇降機構２４６を昇降させ、上昇降機構２４６はそのプランジャが支持プレート２４１に固定されていて、支持部材本体２４２を昇降させる。この場合、ヘッドユニット２６の下面（機能液滴吐出ヘッド７のノズル形成面６７）とキャップユニット２１１の上面とは、所定のギャップ有しており、このギャップ分の昇降を上昇降機構２４６で行い、このギャップ調整のための昇降を下昇降機構２４７が行う。したがって、通常の運転時には上昇降装置２４６のみが駆動する。
【０１３６】
１２個のキャップ２１２は、１２個の機能液滴吐出ヘッド７のヘッド本体６０に対応しており、１２個のヘッド本体６０と同じ並びで且つ同じ傾き姿勢で、キャップベース２１３に固定されている。各キャップ２１２は、図６１に示すように、キャップ本体２１９とキャップホルダ２２０とから成り、キャップ本体２１９は、２つのばね２２１，２２１で上方に付勢され且つ僅かに上下動可能な状態でキャップホルダ２２０に保持されている。キャップベース２１３には、１２個のキャップ２１２に対応して１２個の取付け開口２２３が形成されると共に、この取付け開口２２３を含むように１２個の浅溝２２４が形成されている。各キャップ２１２は、下部を取付け開口２２３に挿入し、そのキャップホルダ２２０を浅溝２２４に位置決めされた状態で、浅溝２２４の部分にねじ止めされている（図６０参照）。
【０１３７】
各キャップ本体２１９の表面には、ヘッド本体６０の２本のノズル列６９，６９を包含する凹部２２６が形成され、凹部２２６の周縁部にはシールパッキン２２７が取り付けられ、また底部位には吸収材２２８が敷設されている。そして、凹部２２６の底部位には小孔２２９が形成され、この小孔２２９が、吸引チューブ２１６が接続されるＬ字継手２３０に連通している。機能液を吸引する場合には、機能液滴吐出ヘッド７のヘッド本体６０に、シールパッキン２２７を押し付けて、２列のノズル列６９，６９を包含するようヘッド本体６０のノズル形成面６７を封止する。なお、図中の符号２３１は、大気開放弁であり、機能液の吸引動作の最終段階で、上記の大気開放シリンダによりこれを「開」とすることで、吸収材２２８に含浸されている機能液も吸引できるようになっている。
【０１３８】
このように構成されたクリーニングユニット３４は、移動テーブル１２３によりクリーニング位置に移動しており、これに対しヘッドユニット２６がＹ軸テーブル２４により移動して、クリーニングユニット３４の直上部に臨む。ここで、昇降機構（上昇降装置２４６）２１５が駆動し、ヘッドユニット２６の１２個の機能液滴吐出ヘッド７に、下側から１２個のキャップ２１２を押し付ける。各機能液滴吐出ヘッド７に押し付けられたキャップ２１２は、自身の２つのばね２２１，２２１に抗してそのキャップ本体２１９が幾分沈み込み、そのシールパッキン２２７がヘッド本体６０のノズル形成面６７に均一に密着する。
【０１３９】
続いて、吸引ポンプ１５３を駆動し、キャップユニット２１１を介して、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル６８から機能液を吸引する。そして、吸引完了の直前に大気開放弁２３１を開弁して、吸引を完了する。吸引動作が完了したら、再度、昇降機構（上昇降装置２４６）２１５を駆動してキャップユニット２１１を下降させる。なお、装置の稼動を停止しているとき等のヘッド保管時には、上記のキャップユニット２１１を上昇させ、各機能液滴吐出ヘッド７を各キャップ２１２で封止して、保管状態とする。
【０１４０】
次に、図６２ないし図６６を参照して、フラッシングユニット３３について説明する。フラッシングユニット３３は、機能液滴吐出ヘッド７が吐出した機能液滴を受けるものであり、実施形態の描画装置１では、Ｘ軸テーブル２３により基板（吸着テーブル８１）Ｗと共に移動する可動形式の小型のフラッシングユニット（図６２および図６３）３３Ａと、上記の石定盤２２上に直接固定される固定形式の大型のフラッシングユニット（図６４ないし図６６）３３Ｂとが搭載されている。
【０１４１】
可動形式のフラッシングユニット３３Ａは、主にヘッドユニット２６の液滴吐出動作時のフラッシングに使用され、固定形式のフラッシングユニット３３Ｂは、主にヘッドユニット２６の待機時のフラッシングに使用される。
【０１４２】
そこで先ず、図６２および図６３を参照して、可動形式のフラッシングユニット３３Ａから説明する。このフラッシングユニット３３Ａは、上記したＸ軸ケーブルベア８７のボックス８８上に配設されている（図３０参照）。フラッシングユニット３３Ａは、Ｘ軸ケーブルベア８７上に固定したスライドベース２５１と、スライドベース２５１上に進退自在に設けた長板状のスライダ２５２と、スライダ２５２の両端部に固定した一対のフラッシングボックス２５３，２５３と、各フラッシングボックス２５３内に敷設した一対の機能液吸収材２５４，２５４とで構成されている。
【０１４３】
一対のフラッシングボックス２５３，２５３は、ヘッドユニット２６の各機能液滴吐出ヘッド群７ａに対応する幅を有すると共に、各機能液滴吐出ヘッド群７ａの副走査方向の移動範囲に対応する長さを有して、細長形状に形成されている。そして、この一対のフラッシングボックス２５３，２５３は、スライダ２５２からＸ軸テーブル２３の上側に直角に延在し、且つ吸着テーブル８１を挟むように配設されている。また、各フラッシングボックス２５３，２５３の中央部底面には、ドレン口を構成する排水継手２５６が取り付けられている。この排水継手２５６に接続した排水チューブ（図示省略）は、Ｘ軸ケーブルベア８７内を通って上記の廃液タンク１５０に接続されている。
【０１４４】
スライダ２５２には、一対のフラッシングボックス２５３，２５３間に位置して、Ｘ軸テーブル２３のθテーブル８２に向かって延びる一対の取付け片２５７，２５７が固定されており、この一対の取付け片２５７，２５７の先端部が、θテーブル８２のベース部に固定されている。すなわち、スライダ２５２を介して、一対のフラッシングボックス２５３，２５３が、スライドベース２５１に案内されてθテーブル８２と共に移動するようになっている。
【０１４５】
このように構成された可動形式のフラッシングユニット３３Ａでは、図３０に示すように、θテーブル８２と共にフラッシングユニット３３Ａが往道して行くと、最初に同図示の右側のフラッシングボックス２５３がヘッドユニット２６の直下を通過する。このとき、複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７が順にフラッシング動作を行い、ヘッドユニット２６は、そのまま通常の液滴吐出動作に移行する。同様に、フラッシングユニット３３Ａが復道して行くと、最初に左側のフラッシングボックス２５３がヘッドユニット２６の直下を通過する。このとき、複数の機能液滴吐出ヘッド７が順にフラッシング動作を行い、ヘッドユニット２６は、そのまま通常の液滴吐出動作に移行する。
【０１４６】
すなわち、可動形式のフラッシングユニット３３Ａでは、ヘッドユニット２６が、主走査のための往復動中に適宜フラッシングが行われる。したがって、フラッシング動作のためにのみヘッドユニット２６等が移動することはなく、フラッシングがタクトタイムに影響することがない。
【０１４７】
次に、図６４、図６５および図６６を参照して、固定形式のフラッシングユニット３３Ｂについて説明する。フラッシングユニット３３Ｂ、機能液滴を受けるべく上面を開放したフラッシングボックス２６１，２６１と、フラッシングボックス２６１内に敷設した２組の機能液吸収材２６２，２６２と、フラッシングボックス２６１を昇降させる昇降シリンダ２６３と、フラッシングボックス３３Ｂを支持するボックススタンド２６４とを備えている。
【０１４８】
フラッシングボックス３３Ｂは、方形に形成された浅いトレイ様のものであり、内部には、ヘッドユニット２６の２列の機能液滴吐出ヘッド群７ａ，７ａに対応して２組の機能液吸収材２６２，２６２が離間して配設されている。また、フラッシングボックス２６１内には、各機能液吸収材２６２を両側から挟み込むようにして、フラッシング時の機能液滴の飛散を防止する飛散防止板２６６が設けられている。また、フラッシングボックス３３Ｂの底板には、各機能液吸収材２６２に対応して２個所、計４個所のドレン口となる排水継手２６７が設けられている。そして、この排水継手２６７に接続した排水チューブ（図示省略）が、上記の廃液タンク１５０に接続されている。
【０１４９】
ボックススタンド２６４は、固定スタント２６８と、固定スタント２６８の側面に上下方向スライド自在に取り付けた可動スタンド２６９と、固定スタンド２６８を支持するスタンドベース２７０とで構成されている。スタンドベース２７０には、固定スタント２６８に対峙するように上記の昇降シリンダ２６３が立設されており、昇降シリンダ２６３のプランジャ２６３ａが、ブラケット２７１を介して可動スタンド２６９に固定されている。
【０１５０】
装置稼動時のフラッシングボックス３３Ｂは、昇降シリンダ２６３により上昇位置にあるが、非稼動時には、メンテナンス等の邪魔にならないように下降位置に移動している。そして、実施形態の液滴吐出装置１０では、機能液滴の吐出と基板の往動とが行われた後、基板Ｗが復動している間に、Ｙ軸テーブル２４によりヘッドユニット２６がフラッシングユニット３３Ｂの位置に移動して、フラッシングを行うようになっている。
【０１５１】
次に、図６７ないし図７１を参照して、主チャンバ４について説明する。なお、主チャンバ４の説明では、図６７における紙面の下側を「前」、上側「後」、左側を「左」、右側を「右」して説明する。主チャンバ４は、上記の描画装置１を収容するチャンバルーム３７と、チャンバルーム３７の右前部に併設した電気室３８と、チャンバルーム３７の右後部に併設した機械室（ガス供給設備）３９とを備えている。なお、チャンバルーム３７に充填する不活性ガスとしては、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンおよびラドンのいずれかを用いることが好ましいが、本実施形態では、コストおよび安全性を考慮し窒素（窒素ガス）を用いている。
【０１５２】
不活性ガス（窒素ガス）は、図外のガス製造装置からガス導入ユニット３０１を介して機械室３９に導入され、ここで調和処理されてチャンバルーム３７に導入される。また、チャンバルーム３７内の不活性ガスは、チャンバルーム３７の左前部に添設した排気ダクト３０２から適宜は排気され、図外のガス処理装置に送られる。すなわち、ガス製造装置、ガス導入ユニット３０１および機械室３９等によりガス供給設備が構成され、排気ダクト３０２およびガス処理装置によりガス排気設備が構成されている。
【０１５３】
チャンバルーム３７は、左側壁３１１、右側壁３１２、前部二重パネル３１３、後部二重パネル３１４、床壁３１５および天壁３１６を、エアータイト材で相互にシールして組み上げたプレハブ形式のものである。一方、チャンバルーム３７の内部に収容される液滴吐出装置１０は、前後方向をＹ軸方向とし、左右方向をＸ軸方向とした姿勢で収容されている。前部二重パネル３１３および後部二重パネル３１４は着脱パネルであり、メンテナンス等を考慮して、描画装置１の付帯装置１１は前部二重パネル３１３に面し、ヘッドユニット２６の運び込み等を考慮して、ヘッドユニット２６のホーム位置側が後部二重パネル３１４に面している。また、左側壁３１１には、基板Ｗの搬入搬出を行うためのシャッタ付き受渡し開口３１７が形成されている。
【０１５４】
前部二重パネル３１３および後部二重パネル３１４は、いずれも着脱形式の窓付きの２枚の外パネル３１３ａ，３１４ａおよび２枚の内パネル３１３ｂ，３１４ｂとから成り、チャンバルーム３７内に外気を導入した時のみ開放可能となるように、インターロックされている。右側壁３１２の後上部には、機械室３９に連なる送気口３１９が形成され、これに対応して左側壁の前下部には、排気ダクト３０２に連なる排気口３２０が形成されている。
【０１５５】
本実施形態では、不活性ガスの補給（送気）および排気を連続させて、チャンバルーム３７内に不活性ガスの雰囲気を構成するようになっており、送気口３１９から流入した不活性ガスは、そのチャンバルーム３７内を対角方向に流れて排気口３２０に至るようになっている。そして、この対角方向に気流の主流路上には、液滴吐出装置１０の液滴吐出動作を行う領域、すなわち吐出エリアが臨んでいる。
【０１５６】
機械室３９の上部には、ガス製造装置に連なるガス導入ユニット３０１が設けられており、また機械室３９の内部は、適宜隔壁３２１で仕切られ、ガス導入ユニット３０１から上記の送気口３１９に至るガス流路３２２が形成されている。ガス流路３２２は、ガス導入ユニット３０１の下流側で分岐し、後述するガス調和機器３０３を通過して送気口３１９に至る一方の主ガス流路３２３と、ガス調和機器３０３のフィルタ３３０を介して直接送気口３１９に至る他方のバイパス流路３２４とで構成されている（図６７参照）。
【０１５７】
なお、主ガス流路３２３とバイパス流路３２４とは、主チャンバ４を設置したときにその手動ダンパー３２５，３２５により、流量調整が行われる。したがって、通常運転時における不活性ガスは、適宜主ガス流路３２３およびバイパス流路３２４からチャンバルーム３７内に送り込まれる。
【０１５８】
この主ガス流路３２３には、クーラ（チーリングユニット）３２７、ヒータ（電気ヒータ）３２８、ファン（シロッコファン）３２９およびフィルタ（ヘパフィルタ）３３０から成るガス調和機器３０３が介設されている。これにより、チャンバルーム３７内の不活性ガスの雰囲気が、所定の温度および湿度に維持されるようになっている。例えば、実施形態の雰囲気は、２０℃±０．５℃に維持される。なお、ろ過面積を広く取るべく、フィルタ３３０を天壁３１６の直下に設けてもよい。すなわち、チャンバルーム３７内において、天壁３１６の直下に隔壁様にフィルタ３３０を設けるようにしてもよい。
【０１５９】
また、ガス調和機器３０３の上流側において主ガス流路３２３には、外気流路３３２が合流している。外気流路３３２の外気取入れ口３３３は、機械室３９の下部側面に開口しており、外気流路３３２の下流端は、クーラ３２７の上流側で主ガス流路３２３に合流している。また、外気流路３３２には２つの高気密ダンパー３３４，３３４および電磁弁３４２が介設されていて、通常運転時における外気の流入を確実に阻止できるようになっている。
【０１６０】
例えば、描画装置１のメンテナンスを行う場合には、上記の各二重扉３１３，３１４を開放する前に、チャンバルーム３７の雰囲気を不活性ガスから外気に入れ替える必要がある。かかる場合には、ガス導入ユニット３０１のガスダンパー３３５、電動弁３４３および電磁弁３４４を閉じると共に外気流路３３２の両高気密ダンパー３３４，３３４を開き、さらに後述する排気ダンパー３４０，３４０を開き、ファン３２９を駆動して外気をチャンバルーム３７に送り込む。このように外気を強制的に送り込むようにしているため、短時間で外気置換を行うことができる。
【０１６１】
一方、チャンバルーム３７内には、酸素濃度計３３７および水分計３３８が設置されており、これら計器の計測結果に基づいて、ガス導入ユニット３０１の電動弁３４３が制御され、酸素濃度および水分濃度がいずれも１０ｐｐｍ以下に維持されるようになっている。
【０１６２】
排気ダクト３０２には、２つの排気ダンパー３４０，３４０が介設されており、一方のダンパー３４０は開閉制御され、他方のダンパー３４０は、チャンバルーム３７内の圧力計３４１の計測結果に基づいて、チャンバルーム３７内が常に正圧になるように制御される。これにより、チャンバルーム３７内に、シール部分（エアータイト材の不備部分）等から外気が流入するのを防止している。
【０１６３】
このように、液滴吐出装置１０および付帯装置１１をチャンバルーム３７に収容し、液滴吐出装置１０による液滴吐出作業を不活性ガスの雰囲気中で行うようにしているため、基板Ｗ上に着弾した機能液滴（発光材料）が変質したり損傷したりすることがなく、有機ＥＬ装置を安定に製造することができる。
【０１６４】
【発明の効果】
以上のように、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置によれば、機能液滴吐出ヘッドによる発光機能材料の吐出工程を、不活性ガスの雰囲気中で行うようにしているため、発光機能材料の変質が有効に防止され、高品質の有機ＥＬ装置を簡単に製造することができる。
【０１６５】
また、本発明の有機ＥＬ装置および電子機器によれば、高品質で且つ信頼性の高い有機ＥＬ装置および有機ＥＬ装置を、低コストで提供することができる。
【０１６６】
さらに、本発明の液滴吐出装置によれば、機能材料の吐出から機能膜を形成する過程において、機能材料と大気（空気）との接触が絶たれるため、空気中において損傷を受け易い機能材料であっても、その変質や損傷を有効に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図である。
【図２】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図である。
【図３】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
【図４】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図である。
【図５】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（液滴吐出）の断面図である。
【図６】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図７】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（液滴吐出）の断面図である。
【図８】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（乾燥）の断面図である。
【図９】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（液滴吐出）の断面図である。
【図１０】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図１１】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。
【図１２】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における対向電極形成工程の断面図である。
【図１３】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における封止工程の断面図である。
【図１４】実施形態に係る正孔注入層形成設備の概念図である。
【図１５】実施形態に係る発光層形成設備の概念図である。
【図１６】実施形態に係る描画装置の外観斜視図である。
【図１７】実施形態に係る描画装置の外観正面図である。
【図１８】実施形態に係る描画装置の外観側面図である。
【図１９】実施形態に係る描画装置の外観平面図である。
【図２０】実施形態に係る描画装置の液滴吐出装置の模式図である。
【図２１】実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニットの全体斜視図である。
【図２２】実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニットの平面図である。
【図２３】実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニットの側面図である。
【図２４】実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニットの正面図である。
【図２５】実施形態に係る液滴吐出装置の機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図２６】実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤廻りの側面図である。
【図２７】実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤廻りの平面図である。
【図２８】実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤廻りの正面図である。
【図２９】実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤の支持形態を示す模式図である。
【図３０】実施形態に係る液滴吐出装置のＸ軸テーブルの平面図である。
【図３１】実施形態に係る液滴吐出装置のＸテーブルの側面図である。
【図３２】実施形態に係る液滴吐出装置のＸテーブルの正面図である。
【図３３】実施形態に係る液滴吐出装置の主基板認識カメラ廻りの斜視図である。
【図３４】実施形態に係る液滴吐出装置のＹ軸テーブルの平面図である。
【図３５】実施形態に係る液滴吐出装置のＹ軸テーブルの側面図である。
【図３６】実施形態に係る液滴吐出装置のＹ軸テーブルの正面図である。
【図３７】実施形態に係るＹ軸テーブルのメインキャリッジの斜視図である。
【図３８】実施形態に係るＹ軸テーブルのメインキャリッジの平面図である。
【図３９】実施形態に係る液滴吐出装置の共通機台の斜視図である。
【図４０】実施形態に係る液滴吐出装置の共通ベースを取り去った共通機台の斜視図である。
【図４１】実施形態に係る液滴吐出装置の共通機台の側面図である。
【図４２】実施形態に係る液滴吐出装置の共通機台の平面図である。
【図４３】実施形態に係る液滴吐出装置の機能液供給回収装置の配管系統図である。
【図４４】実施形態に係る機能液供給回収装置のポンプ群廻りの斜視図である。
【図４５】実施形態に係る機能液供給回収装置のポンプ群廻りの平面図である。
【図４６】実施形態に係る機能液供給回収装置の廃液ポンプ廻りの斜視図である。
【図４７】実施形態に係る機能液供給回収装置の中間タンクの斜視図である。
【図４８】実施形態に係る機能液供給回収装置の中間タンクの側面図である。
【図４９】実施形態に係る機能液供給回収装置の中間タンクの正面図である。
【図５０】ワイピングユニットにおける巻取りユニットの斜視図である。
【図５１】ワイピングユニットにおける巻取りユニットの平面図である。
【図５２】ワイピングユニットにおける巻取りユニットの正面図である。
【図５３】ワイピングユニットにおける拭取りユニットの斜視図である。
【図５４】ワイピングユニットにおける拭取りユニットの平面図である。
【図５５】ワイピングユニットにおける拭取りユニットの正面図である。
【図５６】実施形態に係るワイピングユニットの動作を示す模式図である。
【図５７】実施形態に係るクリーニングユニットの外観斜視図である。
【図５８】実施形態に係るクリーニングユニットの正面図である。
【図５９】実施形態に係るクリーニングユニットの側面図である。
【図６０】実施形態に係るクリーニングユニットの平面図である。
【図６１】クリーニングユニットのキャップの拡大断面図である。
【図６２】実施形態に係るフラッシングユニット（可動型）の斜視図である。
【図６３】実施形態に係るフラッシングユニット（可動型）の平面図である。
【図６４】実施形態に係るフラッシングユニット（固定型）の斜視図である。
【図６５】実施形態に係るフラッシングユニット（固定型）の平面図である。
【図６６】実施形態に係るフラッシングユニット（固定型）の側面図である。
【図６７】実施形態に係る主チャンバのシステム図である。
【図６８】実施形態に係る主チャンバの平面図である。
【図６９】実施形態に係る主チャンバの正面姿図である。
【図７０】実施形態に係る主チャンバの右側面姿図である。
【図７１】実施形態に係る主チャンバの左側面姿図である。
【符号の説明】
Ａ　正孔注入層形成設備　　　　　　　　Ｂ　発光層形成設備
Ｗ　基板　　　　　　　　　　　　　　　１　描画装置
４　主チャンバ　　　　　　　　　　　　７　機能液滴吐出ヘッド
１０　液滴吐出装置　　　　　　　　　　１１　付帯装置
１３　機能液供給回収装置　　　　　　　１４　エアー供給装置
１５　真空吸引装置　　　　　　　　　　１６　メンテナンス装置
２３　Ｘ軸テーブル　　　　　　　　　　２４　Ｙ軸テーブル
２５　メインキャリッジ　　　　　　　　２６　ヘッドユニット
３７　チャンバルーム　　　　　　　　　３８　電気室
３９　機械室　　　　　　　　　　　　３０１　ガス導入ユニット
３０２　排気ダクト　　　　　　　　　　３０３　ガス調和機器
３１３　前部二重扉　　　　　　　　　　３１４　後部二重扉
３１７　受渡し開口　　　　　　　　　　３１９　送気口
３２０　排気口　　　　　　　　　　　　３２２　ガス流路
３２７　クーラ　　　　　　　　　　　　３２８　ヒータ
３２９　ファン　　　　　　　　　　　　３３０　フィルタ
３３２　外気流路　　　　　　　　　　　３３３　外気取入れ口
３３５　ガスダンパー　　　　　　　　　３３７　酸素濃度計
３３９　水分計　　　　　　　　　　　　３４０　排気ダンパー
３４１　圧力計　　　　　　　　　　　　５００　有機ＥＬ装置
５０１　基板　　　　　　　　　　　　　５０２　回路素子部
５０４　有機ＥＬ素子　　　　　　　　５１０ａ　正孔注入／輸送層
５１０ｂ　発光層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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【図６４】
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【図６５】
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【図６６】
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【図６７】
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【図６８】
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【図６９】
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【図７０】
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【図７１】
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