(57)【要約】【課題】カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンスの発光要素、その他の膜を形成するのに際して、混色が発生することを防止する。【解決手段】基材２を複数の表示用ドット領域６に区分けする要素４を形成する工程と、第１の色の液状フィルタ材料を複数の表示用ドット領域６から選択された複数の第１表示用ドット領域６ｇ内に液滴吐出部２７から吐出して供給する供給工程（ｆ）と、この供給工程（ｆ）の後に第２の色の液状フィルタ材料を第１表示用ドット領域６ｇとは異なる複数の第２表示用ドット領域６ｒ内に液滴吐出部２７から吐出して供給する供給工程（ｈ）とを有するカラーフィルタの製造方法である。後の供給工程（ｈ）における液状フィルタ材料の吐出量Ａｒは、先の供給工程（ｆ）における液状フィルタ材料の吐出量Ａｇよりも少ない。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に形成されるカラーフィルタの製造方法において、
基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、
第１の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された複数の第１表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、
該１つの供給工程の後に、第２の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域とは異なる複数の第２表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、
前記他の供給工程における前記第２の液状フィルタ材料の吐出量は前記１つの供給工程における前記第１の液状フィルタ材料の吐出量よりも少ない
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記１つの供給工程における前記第１の色の液状フィルタ材料及び前記他の供給工程における前記第２の色の液状フィルタ材料は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色から選択されたいずれか２色の液状フィルタ材料であるか、又はＣ、Ｍ、Ｙの３色から選択されたいずれか２色の液状フィルタ材料であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記第１表示用ドット領域と前記第２表示用ドット領域とは隣接してなることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１つにおいて、前記第１の色の液状フィルタ材料を供給する工程と、前記第２の色の液状フィルタ材料を供給する工程との後に、第３の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域及び前記第２表示用ドット領域とは異なる複数の第３表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する第３の供給工程とを有し、
前記第１の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ１とし、前記第２の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ２とし、前記第３の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ３とするとき、
Ａ１＞Ａ２＞Ａ３
であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか１つにおいて、前記第１の色の液状フィルタ材料を供給する工程と、前記第２の色の液状フィルタ材料を供給する工程との後に、第３の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域及び前記第２表示用ドット領域とは異なる複数の第３表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する第３の供給工程とを有し、
前記第１の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ１とし、前記第２の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ２とし、前記第３の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ３とするとき、
Ａ１＞Ａ２＝Ａ３
であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれか１つにおいて、前記第１の色の液状フィルタ材料を供給する工程と、前記第２の色の液状フィルタ材料を供給する工程との後に、第３の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域及び前記第２表示用ドット領域とは異なる複数の第３表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する第３の供給工程とを有し、
前記第１の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ１とし、前記第２の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ２とし、前記第３の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ３とするとき、
Ａ１＝Ａ２＞Ａ３
であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれかに１つにおいて、前記第１乃至第３表示用ドット領域は互いに隣接してなることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
請求項１から請求項５のいずれか１つにおいて、前記区分け要素によって形成される１つの表示用ドット領域内へ供給される液状フィルタ材料の吐出量は、前記区分け要素の高さによって規定される１つの表示用ドット領域の容積よりも大きいことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１つにおいて、前記第１の色及び前記第２の色の前記液状フィルタ材料の少なくとも１つに関して、該液状フィルタ材料を表示用ドット領域の内部へ供給した後に、該液状フィルタ材料に対してプレベークを行うことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
請求項１から請求項８のいずれか１つにおいて、複数の色の前記液状フィルタ材料の全てに関して、該液状フィルタ材料を表示用ドット領域の内部へ供給した後に、該液状フィルタ材料に対してプレベークを行うことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれか１つにおいて、
互いに隣り合う表示用ドット領域の間の間隔をＤとし、
１つの表示用ドット領域内へ液状フィルタ材料を供給したときにその液状フィルタ材料が当該表示用ドット領域の外側へはみ出る距離をｄとするとき、
ｄ＜Ｄ／３
であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造方法において、
基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、
第１の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された複数の第１表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、
該１つの供給工程の後に、第２の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域とは異なる複数の第２表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、
前記他の供給工程における液状フィルタ材料の吐出量は前記１つの供給工程における液状フィルタ材料の吐出量よりも少ない
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１３】
基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、
基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、
第１の色の発光要素材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された複数の第１表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、
該１つの供給工程の後に、第２の色の発光要素材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記複数の第１表示用ドット領域とは異なる複数の第２表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、
前記他の供給工程における発光要素材料の吐出量は前記１つの供給工程における発光要素材料の吐出量よりも少ない
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１２記載のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項１５】
請求項１３記載のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によって製造することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板。
【請求項１６】
請求項１２記載のカラーフィルタ基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１３記載のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１６又は請求項１７記載の電気光学装置の製造方法によって製造されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１９】
請求項１６又は請求項１７記載の電気光学装置の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電子機器の製造方法。
【請求項２０】
請求項１９記載の電子機器の製造方法によって製造されることを特徴とする電子機器。
【請求項２１】
基材上を複数の領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、
第１の特性の液状材料を前記複数の領域から選択された複数の第１領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、
該１つの供給工程の後に、第２の特性の液状材料を前記複数の領域から選択された前記第１領域とは異なる複数の第２領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、
前記他の供給工程における液状材料の吐出量は前記１つの供給工程における液状材料の吐出量よりも少ない
ことを特徴とする成膜方法。
【請求項２２】
請求項２１において、前記第１領域と前記第２領域とは隣接してなることを特徴とする成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー表示を行う際に用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。また本発明は、そのカラーフィルタが基板上に形成されて成る構造体であるカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。また本発明は、基板上に発光要素が形成されて成る構造体であるエレクトロルミネッセンス基板及びその製造方法に関する。また本発明は、液晶装置やエレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置及びその製造方法に関する。また本発明は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器及びその製造方法に関する。また本発明は、基板上に一様な厚さの膜を形成するための成膜方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器に、液晶装置やエレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するために電気光学装置が用いられている。
【０００３】
電気光学装置として液晶装置を考えた場合、その液晶装置によってカラー表示を行うときには、その液晶装置の内部にカラーフィルタ基板が設けられる。カラーフィルタ基板は、例えば、透光性のガラス等によって形成された基材上にカラーフィルタを形成することによって作製される。カラーフィルタとは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のフィルタ要素や、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色のフィルタ要素を平面内に所定の配列で並べることによって形成された光学要素である。
【０００４】
電気光学装置としてエレクトロルミネッセンス装置を考えた場合、このエレクトロルミネッセンス装置の内部には、一般に、エレクトロルミネッセンス基板が設けられる。そして、このエレクトロルミネッセンス基板は、例えば、透光性のガラス等によって形成された基材上に、複数の発光要素をマトリクス状に配列することによって形成される。
【０００５】
ところで、基材上にカラーフィルタを形成してカラーフィルタ基板を作製する際、すなわち、基材上に複数のフィルタ要素を形成する際に、従来、インクジェット技術を利用して基材上にフィルタ要素の材料を供給する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。この方法によれば、例えば図１９（ａ）に示すように、基材２上にバンク等と呼ばれる区分け要素４を形成して該基板２上を複数の領域６、例えば矢印Ａ方向から見てドットマトリクス状に並ぶ複数の領域６、に区分けする。
【０００６】
次に、ノズルからＧ色の材料を吐出して領域６ｇ内に供給し、さらにこれを乾燥して溶剤を蒸発させて図１９（ｂ）に示すようにＧ色のフィルタ要素９ｇを形成する。次に、図１９（ａ）において、隣りの領域６ｒにＲ色の材料を吐出し、さらに乾燥して図１９（ｂ）に示すようにフィルタ要素９ｒを形成する。さらに、図１９（ａ）において、隣りの領域６ｂにＢ色の材料を吐出し、さらに乾燥して図１９（ｂ）に示すようにフィルタ要素９ｂを形成する。こうして形成されたカラーフィルタ基板では、例えば矢印Ａ方向から光が供給されるとき、各フィルタ要素９ｇ、９ｒ、９ｂにおいて、対応する色の光を透過させることができる。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００２−３７２６１４
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のカラーフィルタの製造方法においては、各領域６ｇ、６ｒ、６ｂに供給するフィルタ要素の材料のノズルからの吐出量は、各色間でほぼ同じ量に設定されていた。このため、２回目に吐出されたフィルタ要素材料が１回目に吐出されたフィルタ要素材料に混色することがあった。また、３回目に吐出されたフィルタ要素材料が１回目に吐出されたフィルタ要素材料や２回目に吐出されたフィルタ要素材料に混色することがあった。この場合、混色が起こる可能性は、２回目に吐出されるフィルタ要素材料よりも３回目に吐出されるフィルタ要素材料の方が高かった。
【０００９】
上記のような混色が発生する理由は種々あるかもしれないが、その１つとして次の理由が考えられる。すなわち、図１９（ａ）において、１つの領域６内にフィルタ要素材料が供給されたとき、区分け要素４の上にはそのフィルタ要素材料の一部が乗り上がり、図１９（ｂ）に示すように乾燥によって硬化させた後に区分け要素４の頂部にフィルタ要素材料の残渣が残ることが考えられる。そして次に、隣りの領域６に別のフィルタ要素材料を供給したとき、そのフィルタ要素材料が前回のフィルタ要素材料の残渣に引き寄せられて前回の領域６内へ侵入し、これにより混色が発生するおそれがある。
【００１０】
また、３色目のフィルタ要素材料の供給の際には、その３色目の領域の両隣りに前回及び前々回のフィルタ要素材料の残渣が残っている可能性があり、このため、３色目のフィルタ要素材料が他色の領域に侵入する可能性はさらに高くなるおそれがある。
【００１１】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンスの発光要素、その他の膜を形成するのに際して、混色が発生することを防止することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、基材上に形成されるカラーフィルタの製造方法において、基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、第１の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された複数の第１表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、該１つの供給工程の後に、第２の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域とは異なる複数の第２表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、前記他の供給工程における前記第２の液状フィルタ材料の吐出量は前記１つの供給工程における前記第１の液状フィルタ材料の吐出量よりも少ないことを特徴とする。
【００１３】
上記構成において、「基材」は、例えば、透光性のガラスや透光性のプラスチック等によって形成される。また、複数の「表示用ドット領域」の個々にはＲ，Ｇ，Ｂの３色から選択される１色や、Ｃ，Ｍ，Ｙの３色から選択される１色が供給される。Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの表示用ドット領域の集まり又はＣ，Ｍ，Ｙの３つの表示用ドット領域の集まりによって１つの画素が形成される。上記の「液状フィルタ材料」は、例えば、溶媒中に顔料を含ませて成る材料によって構成できる。
【００１４】
また、上記の「区分け要素」は、例えば基板上に突出するバンクや、基板上に形成される撥インク層等によって構成される。この撥インク層は、基材の表面からほとんど突出することなく形成することができる。バンクは、基板上に突出することにより基材表面における液状フィルタ材料の流れを阻止する。また、撥インク層は、基材表面における液状フィルタ材料の流れを撥インク性によって阻止する。
【００１５】
上記の「液滴吐出部」は、例えば、微細な穴であるノズルによって形成できる。液滴吐出部から液状フィルタ材料を液滴状に吐出する技術は、インクジェット技術として知られている。このインクジェット技術は、例えば、インク貯留室に圧電素子及びノズルを付設し、圧電素子の振動によるインク貯留室の体積変化に応じてノズルからインク、すなわち液状物を液滴として吐出する技術である。
【００１６】
また、インクジェット技術は、例えば、インク貯留室内に貯留されたインクを加熱によって膨張させることによりノズルからインクを液滴として吐出する技術である。本発明における「液滴吐出部」は、液滴を吐出させるための構造の如何を問わず、インクが液滴として吐出される部分、例えばノズルを示している。
【００１７】
本発明に係るカラーフィルタの製造方法によれば、異なる色の液状フィルタ材料が順を追って吐出される場合に、後に吐出される材料の吐出量を先に吐出される材料の吐出量よりも少なく設定したので、後に吐出された材料が先に吐出された材料に混ざること、すなわち、混色が発生することを防止できる。
【００１８】
本発明に係るカラーフィルタの製造方法においては、前記１つの供給工程における前記第１の色の液状フィルタ材料及び前記他の供給工程における前記第２の色の液状フィルタ材料は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色から選択されたいずれか２色の液状フィルタ材料であるか、又はＣ、Ｍ、Ｙの３色から選択されたいずれか２色の液状フィルタ材料であることが望ましい。
【００１９】
Ｒ、Ｇ、Ｂの３色又はＣ、Ｍ、Ｙの３色を用いてカラーフィルタを作製すれば、このカラーフィルタに光を透過させたときにカラー表示を得ることができる。また、このカラーフィルタの製造に際して本発明を適用することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂ間、又はＣ、Ｍ、Ｙ間での混色の発生を防止でき、それ故、鮮明なカラー表示が得られる。
本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、本発明に記載のカラーフィルタの製造方法において、前記第１表示用ドット領域と前記第２表示用ドット領域とは隣接してなることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法において、前記第１の色の液状フィルタ材料を供給する工程と、前記第２の色の液状フィルタ材料を供給する工程との後に、第３の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域及び前記第２表示用ドット領域とは異なる複数の第３表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する第３の供給工程とを有し、前記第１の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ１とし、前記第２の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ２とし、前記第３の色の液状フィルタ材料の吐出量をＡ３とするとき、
Ａ１＞Ａ２＞Ａ３
に設定することが望ましい。こうすれば、３色の液状フィルタ材料間で、混色が発生することをより一層確実に防止できる。
【００２１】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法において、
Ａ１＞Ａ２＝Ａ３
に設定することが望ましい。こうすれば、３色の液状フィルタ材料間で、混色が発生することをより一層確実に防止できる。
【００２２】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法において、
Ａ１＝Ａ２＞Ａ３
に設定することが望ましい。こうすれば、３色の液状フィルタ材料間で、混色が発生することをより一層確実に防止できる。
【００２３】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法において、前記区分け要素によって形成される１つの表示用ドット領域内へ供給される液状フィルタ材料の吐出量は、前記区分け要素の高さによって規定される１つの表示用ドット領域の容積よりも大きいことが望ましい。こうすれば、１つの表示用ドット領域の内部に十分量の液状フィルタ材料を供給することができる。
本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、本発明記載のカラーフィルタの製造方法において、前記第１乃至第３表示用ドット領域は互いに隣接してなることを特徴とする。
【００２４】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法においては、前記第１の色及び前記第２の色の前記液状フィルタ材料の少なくとも１つに関して、該液状フィルタ材料を表示用ドット領域の内部へ供給した後に、該液状フィルタ材料に対してプレベークを行うことが望ましい。プレベークとは、液状フィルタ材料を平坦化させるために加熱する処理である。１色についての処理ごとにプレベークを行うことにより、混色の発生をさらに一層防止できる。
本発明に係るカラーフィルタの製造方法においては、複数の色の前記液状フィルタ材料の全てに関して、該液状フィルタ材料を表示用ドット領域の内部へ供給した後に、該液状フィルタ材料に対してプレベークを行うことが好ましい。
【００２５】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法において、図４に示すように、互いに隣り合う表示用ドット領域６ｇと６ｒとの間の間隔をＤとし、１つの表示用ドット領域６ｇ内へ液状フィルタ材料Ｍｇを供給したときにその液状フィルタ材料Ｍｇが当該表示用ドット領域６ｇの外側へはみ出る距離をｄとするとき、
ｄ＜Ｄ／３
であることが望ましい。
【００２６】
こうすれば、区分け要素４の上に残る液状フィルタ材料Ｍｇの残渣の量を確実に抑えることができるので、隣りの表示用ドット領域６ｒに他の色の液状フィルタ材料を供給したときに、その液状フィルタ材料が先の表示用ドット領域６ｇ内へ侵入することを確実に防止でき、それ故、混色の発生を確実に防止できる。
【００２７】
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の製造方法は、基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造方法において、基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、第１の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された複数の第１表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、該１つの供給工程の後に、第２の色の液状フィルタ材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記第１表示用ドット領域とは異なる複数の第２表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、前記他の供給工程における液状フィルタ材料の吐出量は前記１つの供給工程における液状フィルタ材料の吐出量よりも少ないことを特徴とする。
【００２８】
ここで、カラーフィルタ基板とは、透光性のガラス等によって形成された基材の上にカラーフィルタを形成して成る構造体である。上記のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、カラーフィルタを液滴吐出の方法によって形成する際に、後に供給する液状フィルタ材料の吐出量を先に供給する液状フィルタ材料の吐出量よりも少なくしたので、後から供給された液状フィルタ材料が、既に液状フィルタ材料が供給されている領域に侵入することを防止でき、それ故、順を追って供給される液状フィルタ材料の混色を防止できる。
【００２９】
次に、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法は、基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、基材上を複数の表示用ドット領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、第１の色の発光要素材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された複数の第１表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、該１つの供給工程の後に、第２の色の発光要素材料を前記複数の表示用ドット領域から選択された前記複数の第１表示用ドット領域とは異なる複数の第２表示用ドット領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、前記他の供給工程における発光要素材料の吐出量は前記１つの供給工程における発光要素材料の吐出量よりも少ないことを特徴とする。
【００３０】
上記のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によれば、発光要素の材料を液滴吐出の方法によって形成する際に、後に供給する発光要素材料の吐出量を先に供給する発光要素材料の吐出量よりも少なくしたので、後から供給された発光要素材料が、既に発光要素材料が供給されている領域に侵入することを防止でき、それ故、順を追って供給される発光要素材料の混色を防止できる。
【００３１】
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板は、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されることを特徴とする。こうして製造されたカラーフィルタ基板では、複数色のフィルタ要素が互いに混色することなく所定の配列パターンで並べられるので、このカラーフィルタ基板に光を透過させれば鮮明なカラー表示が得られる。
【００３２】
次に、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板は、以上に記載した構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によって製造されることを特徴とする。こうして製造されたエレクトロルミネッセンス基板では、複数色の発光要素が互いに混色することなく所定の配列パターンで並べられるので、それら複数色の発光要素を選択的に発光させれば鮮明なカラー表示が得られる。
【００３３】
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。ここにいう電気光学装置としては、例えば、液晶装置等が考えられる。本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法によれば、複数色のフィルタ要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができるので、そのようなカラーフィルタ基板の製造方法を用いて達成される電気光学装置の製造方法によっても、複数色のフィルタ要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができる。
【００３４】
次に、本発明に係る他の電気光学装置の製造方法は、以上に記載した構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。ここにいう電気光学装置としては、例えば、エレクトロルミネッセンス装置等が考えられる。本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によれば、複数色の発光要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができるので、そのようなエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を用いて達成される電気光学装置の製造方法によっても、複数色の発光要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができる。
【００３５】
次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成の電気光学装置の製造方法によって製造されることを特徴とする。以上に記載した構成の電気光学装置の製造方法によれば、複数色のフィルタ要素や複数色の発光要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができるので、その製造方法によって製造された電気光学装置は鮮明なカラー表示を達成できる。
【００３６】
次に、本発明に係る電子機器の製造方法は、以上に記載した構成の電気光学装置の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ、デジタルカメラ、その他種々の機器が考えられる。以上に記載した電気光学装置の製造方法によれば、複数色のフィルタ要素や複数色の発光要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができるので、その製造方法を１つの工程として有する電子機器の製造方法によっても、複数色のフィルタ要素や複数色の発光要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができる。
【００３７】
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電子機器の製造方法によって製造されることを特徴とする。以上に記載した構成の電子機器の製造方法によれば、複数色のフィルタ要素や複数色の発光要素を混色のない状態で所定の配列に並べることができるので、この製造方法によって製造された電子機器は鮮明なカラー表示を達成できる。
【００３８】
次に、本発明に係る成膜方法は、基材上を複数の領域に区分けする区分け要素を形成する工程と、第１の特性の液状材料を前記複数の領域から選択された複数の第１領域内に液滴吐出部から吐出して供給する１つの供給工程と、該１つの供給工程の後に、第２の特性の液状材料を前記複数の領域から選択された前記第１領域とは異なる複数の第２領域内に液滴吐出部から吐出して供給する他の供給工程とを有し、前記他の供給工程における液状材料の吐出量は前記１つの供給工程における液状材料の吐出量よりも少ないことを特徴とする。本発明に係る成膜方法は、例えば、配向膜、保護膜、絶縁膜、導電膜、エレクトロルミネッセンス以外の発光膜、反射膜等といった各種の膜を形成する場合に用いられる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
（カラーフィルタ基板の実施形態）
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板を一実施形態を挙げて説明する。なお、本発明が例示したカラーフィルタ基板に限定されるものでないことは、もちろんである。
【００４０】
図３（ｋ）は、本発明の一実施形態であるカラーフィルタ基板を示している。このカラーフィルタ基板１は、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された基材２と、基材２の表面に形成された遮光層３と、遮光層３の上に形成された区分け要素としてのバンク４と、バンク４によって囲まれた領域に設けられたフィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂとを有する。フィルタ要素に関し、９ｇはＧ（緑）色を透過するフィルタ要素を示し、９ｒはＲ（赤）色を透過するフィルタ要素を示し、９ｂはＢ（青）色を透過するフィルタ要素を示している。
【００４１】
基材２は、矢印Ａ方向から見て、例えば正方形、長方形、その他希望に応じた任意の形状に形成されている。遮光層３は、例えば、クロム等といった遮光性材料によって形成される。バンク４は、基材２の表面を複数の領域に区分けするための要素であって、本実施形態では、図５（ａ）に示すように、縦方向に延びる互いに平行な複数の直線部材と横方向に延びる互いに平行な複数の直線部材とが交差する平面形状、いわゆる格子形状に形成されている。このため、このバンク４によって基材２上に複数のマトリクス状に並べられた領域が、表示用ドット領域６として形成される。
【００４２】
それらの表示用ドット領域６の中には、Ｇ（緑）色を透過する複数のフィルタ要素９ｇ、Ｒ（赤）色を透過する複数のフィルタ要素９ｒ、そしてＢ（青）色を透過する複数のフィルタ要素９ｂが、図３（ｋ）の矢印Ａ方向から見て所定の配列状態となるように設けられている。本実施形態では、例えば、図５（ａ）に示すストライプ配列に並べられている。ストライプ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色が縦方向に１列に並び、横方向に順番に１つずつ繰り返して変化する配列である。
【００４３】
図３（ｋ）のカラーフィルタ基板１において、基材２上において平面内で所定配列に並べられた複数のフィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂによってカラーフィルタが構成される。また、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つのフィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂの集まりによって１画素が構成され、この画素が複数個集まって、有効表示領域が構成される。そして、この有効表示領域の中に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００４４】
本発明に係るカラーフィルタ基板１は以上のように構成されているので、矢印Ａの方向から又はその反対方向から光がカラーフィルタ基板１に入ると、各表示用ドット領域６でＲ，Ｇ，Ｂのいずれか１つの波長のものがカラーフィルタ基板１を透過して反対側へ出射する。複数の画素のうちのＲ，Ｇ，Ｂのいずれに光を透過させるかを選択することにより、フルカラーの像を表示できる。
【００４５】
本実施形態のカラーフィルタ基板１及びその中に含まれるカラーフィルタは、次の製造方法、すなわち、
▲１▼基材２の表面をバンク４によって複数の領域６に区分けし、
▲２▼区分けされた各領域６内に液滴吐出技術、いわゆるインクジェット技術によってフィルタ材料を供給し、
▲３▼フィルタ材料を乾燥させてその表面を平坦化する
という各工程を有する製造方法であって、
▲４▼インクジェット技術によってＧ，Ｒ，Ｂの各色のフィルタ材料を順々に供給する際、順番が後になる色のフィルタ材料の吐出量を、順番が先になる色のフィルタ材料の吐出量よりも少なくする
という製造方法によって製造されることに特徴がある。
【００４６】
より具体的には、例えば、吐出の順番をＧ→Ｒ→Ｂの順番とし、そのときのＧ，Ｒ，Ｂの吐出量をＡｇ，Ａｒ，Ａｂとするとき、１つの方法としては、
Ａｇ＞Ａｒ＞Ａｂ……（１）
とすることである。一般に、順番が後になるフィルタ材料は、バンク４を超えて隣りの領域に侵入する可能性が高く、その場合には、混色が発生してカラーフィルタの品質が劣化するおそれがある。これに対し、本実施形態のように、順番が後になるフィルタ材料の吐出量を徐々に少なくしてゆけば、吐出順番が後のフィルタ材料であっても、それが他の領域に侵入することを防止でき、それ故、混色の発生を防止できる。
【００４７】
なお、吐出量の設定方法としては、上記の（１）式以外に、
Ａｇ＞Ａｒ＝Ａｂ
や、
Ａｇ＝Ａｒ＞Ａｂ
のような方法も考えられる。これらの場合にも、順番が後になるフィルタ材料の吐出量を少なくする工程が製造方法の中に含まれるので、順番が後になるフィルタ材料が目標とする領域以外の領域に侵入することを防止できる。
【００４８】
（変形例）
以上の実施形態では、フィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂの配列を図５（ａ）に示すストライプ配列とした。しかしながら、これに代えて、図５（ｂ）に示すモザイク配列や、図５（ｃ）に示すデルタ配列を採用することもできる。モザイク配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが縦列と横列の両方で順番に繰り返して並べられる配列である。また、デルタ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが三角形の頂点に相当する位置に配列されると共に横列方向でＲ，Ｇ，Ｂが順番に繰り返して並べられる配列である。
【００４９】
（カラーフィルタの製造方法の実施形態及びカラーフィルタ基板の製造方法の実施形態）
次に、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の実施形態及びカラーフィルタ基板の製造方法の実施形態を、図３（ｋ）に示すカラーフィルタ及びカラーフィルタ基板を製造する場合を例に挙げて説明する。なお、本発明が例示した製造方法に限定されるものでないことは、もちろんである。
【００５０】
本実施形態の製造方法では、液滴吐出技術、いわゆるインクジェット技術を用いてフィルタ材料を基材上に供給するので、ここで、インクジェット技術を達成するための装置の一例を簡単に説明する。図６はそのような装置の一例である液滴吐出ヘッド、すなわちインクジェットヘッドを示している。
【００５１】
ここに示すインクジェットヘッド２２は、ほぼ長方形状のケーシング２０を有し、そのケーシング２０の底面には複数のノズル２７が設けられている。これらのノズル２７は、直径約０．０２〜０．１ｍｍ程度の微小な開口を有する。本実施形態では、複数のノズル２７は２列にわたって設けられ、これにより、２本のノズル列２８，２８が形成されている。個々のノズル列２８において、ノズル２７は一定の間隔で直線上に設けられている。これらのノズル列２８には、図６の矢印Ｂで示す方向から液状物が供給される。供給された液状物は圧電素子の振動に従って各ノズル２７から微小な液滴として吐出される。なお、ノズル列２８の個数は、１本又は３本以上であっても良い。
【００５２】
インクジェットヘッド２２は、図７に示すように、例えばステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向して配置された振動版３１と、その両者を互いに接合する複数の仕切り部材３２とを有する。また、ノズルプレート２９と振動版３１との間には、液状物を貯留するための複数の貯留室３３と、液状物が一時的に溜まる個所である液溜り３４とが、各仕切り部材３２によって形成されている。さらに、複数の貯留室３３と液溜り３４とが通路３８を介して互いに連通している。また、振動版３１の適所に液状物の供給孔３６が形成されており、この供給孔３６に液状物の供給装置３７が接続されている。
【００５３】
この供給装置３７は、本実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの１色のフィルタ材料Ｍ０又はＣ，Ｍ，Ｙのうちの１色のフィルタ材料Ｍ０を液状物として供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタ材料Ｍ０は、液溜り３４に充填され、さらに、通路３８を通って貯留室３３に充填される。なお、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色や、Ｃ，Ｍ，Ｙの３色を用いてカラーフィルタを製造する際には、各色に対応する３個のインクジェットヘッド２２を用いたり、１個のインクジェットヘッド２２に供給するフィルタ材料Ｍ０を順々に入れ替えたりする等といった処理を行う。
【００５４】
インクジェットヘッド２２の一部を構成するノズルプレート２９には、液状物を貯留室３３からジェット状に噴射するためのノズル２７が設けられている。このノズル２７が複数個並べられてノズル列２８を構成することは図６に関連して既述した。また、振動版３１において貯留室３３に対応する面には液状物を加圧するための加圧体３９が取り付けられている。この加圧体３９は、図８に示すように、圧電素子４１及びこれを挟持する一対の電極４２ａ及び４２ｂを有している。
【００５５】
圧電素子４１は、電極４２ａ及び４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより貯留室３３の容積を増大させる機能を有する。そして、貯留室３３の容積が増大すると、その増大した容積分に相当する液状物、すなわちフィルタ材料Ｍ０が液溜り３４から通路３８を通って貯留室３３内へ流入する。
【００５６】
一方、圧電素子４１への通電を解除すると、圧電素子４１と振動板３１とが共に元の形状に戻り、貯留室３３も元の容積に戻る。そのため、貯留室３３の内部にある液状物の圧力が上昇し、ノズル２７から液状物が液滴８となって吐出される。なお、液滴８は、液状物に含まれる溶剤等の種類にかかわらず、微小な液滴としてノズル２７から安定して吐出される。
【００５７】
次に、以上に説明したインクジェットヘッド２２を用いて行われる、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。まず、図１（ａ）において、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された基材２の上に、遮光層３を形成する材料として、クロム、ニッケル、アルミニウム等を材料として、例えばドライメッキ法を用いて金属薄膜３ａを形成する。この場合、金属薄膜３ａの厚さは、０．１〜０．５μｍ程度であることが望ましい。
【００５８】
次に、図１（ｂ）において、感光性樹脂であるレジスト７ａを一様な厚さで塗布し、そのレジスト７ａをマスクを介して露光し、さらに現像して、レジスト７ａを所定のパターンに形成する。次に、このレジストパターンをマスクとして金属薄膜３ａをエッチングして、図１（ｃ）に示すように、所定形状、本実施形態では矢印Ａ方向から見て格子形状の遮光層３を形成する。
【００５９】
次に、図１（ｄ）において、遮光層３の上に、感光性樹脂４ａを一様な厚さで形成し、これにフォトリソグラフィ処理を施して図２（ｅ）に示すように所定パターンのバンク４を遮光層３と同じ形状、すなわち格子形状に形成する。このとき、バンク４の高さは１．０μｍ程度に形成するのが望ましい。
【００６０】
こうしてバンク４を形成することにより、基板２上にそのバンク４によって区分けされた複数の表示用ドット領域６が形成される。バンク４が格子形状であることにより、これら複数の表示用ドット領域６は、矢印Ａ方向から見てマトリクス状に並ぶことになる。バンク４としては、特に黒色のものを用いる必要はなく、例えば、ウレタン系又はアクリル系の硬化型の感光性樹脂組成物を用いることができる。
【００６１】
次に、図２（ｆ）において、Ｇ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｇ内へ、図６に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｇ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。このときの吐出量Ａｇは、予め、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多く設定されており、供給されたＧ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＧ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図２（ｇ）に示すように、Ｇ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＧ色フィルタ要素９ｇを形成する。
【００６２】
次に、図２（ｈ）において、Ｒ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｒ内へ、図６に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｒ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。このときの吐出量Ａｒは、予め、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｒの容積よりも多く、しかし、第１番目に吐出されたＧ色フィルタ材料の吐出量Ａｇよりも少なく、すなわち
Ａｇ＞Ａｒ
に設定されている。供給されたＲ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。
【００６３】
図２（ｆ）において、Ｇ色領域６ｇ内へＧ色フィルタ材料を供給したとき、Ｇ色領域６ｇとＲ色領域６ｒとの間に位置するバンク４の頂面の一部には、Ｇ色フィルタ材料が載り上がる場合がある。図２（ｇ）においてプレベークを施したとき、バンク４の頂面に載り上がったＧ色フィルタ材料は残渣として残ることがある。
【００６４】
図２（ｈ）において２番目の供給材料であるＲ色フィルタ材料をＲ色領域６ｒへ吐出によって供給したとき、吐出量が多過ぎると、供給されたＲ色フィルタ材料がバンク４の頂面上のＧ色フィルタ材料の残渣に引き寄せられて第１回目のドット領域、すなわちＧ色領域６ｇ内へ侵入するおそれがある。このような材料の侵入が発生すると、第１番目の色であるＧ色と第２番目の色であるＲ色とが混色してカラーフィルタの品質を劣化させるおそれがある。これに対し、本実施形態ではＧ色フィルタ材料の吐出量Ａｇと、Ｒ色フィルタ材料の吐出量Ａｒとの関係を
Ａｇ＞Ａｒ
のように設定したので、Ｒ色フィルタ材料がＧ色領域６ｇへ侵入して、混色が発生することを防止できる。
【００６５】
図２（ｈ）においてＲ色フィルタ材料のＲ色領域６ｒへの供給が終わると、次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＲ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図３（ｉ）に示すように、Ｒ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＲ色フィルタ要素９ｒを形成する。
【００６６】
次に、図３（ｊ）において、Ｂ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｂ内へ、図６に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｂ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。このときの吐出量Ａｂは、予め、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｂの容積よりも多く、しかし、第２番目に吐出されたＲ色フィルタ材料の吐出量Ａｒよりも少なく、すなわち
Ａｇ＞Ａｒ＞Ａｂ
に設定されている。供給されたＲ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。
【００６７】
図３（ｊ）において、Ｂ色フィルタ材料をＢ色領域６ｂ内へ吐出によって供給するとき、そのＢ色領域６ｂの両隣りの領域６ｇ及び６ｒには、既にフィルタ材料の吐出が行われている。従って、Ｂ色領域６ｂを規定するバンク４に関しては、その両側のバンク４の頂面にフィルタ材料の残渣が残っている可能性があり、それ故、第３番目のＢ色フィルタ材料は第２番目のＲ色フィルタ材料よりも混色を発生する可能性が高い。
【００６８】
これに対し、本実施形態ではＢ色フィルタ材料の吐出量Ａｂを
Ａｇ＞Ａｒ＞Ａｂ
のように、すなわち３色のうちで最も少なく設定したので、第３番目のＢ色フィルタ材料が第１番目のＧ色フィルタ材料及び第２番目のＲ色フィルタ材料の両方に混色することを防止できる。
【００６９】
図３（ｊ）においてＢ色フィルタ材料のＢ色領域６ｂ内への供給が終わると、次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＢ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図３（ｋ）に示すように、Ｂ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＢ色フィルタ要素９ｂを形成する。
【００７０】
その後、例えば、２３０℃、３０分程度の加熱によってアフターベークを行って、フィルタ要素を硬化させることにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂを所定の配列、例えば図５（ａ）のストライプ配列に並べて成るカラーフィルタが形成される。また、同時に、基材２とカラーフィルタとから成るカラーフィルタ基板１が形成される。こうして得られたカラーフィルタ基板１に関しては、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ材料の吐出量を１番目、２番目、３番目の順で徐々に少なくしたので、混色のない、高品質のカラーフィルタを得ることができる。
【００７１】
ところで、図４は、Ｇ色領域６ｇにＧ色フィルタ材料Ｍｇが供給された後の平面的な状態を模式的に示している。この状態では、Ｇ色領域６ｇとその隣りのＲ色領域６ｒとの間の間隔がＤであるところ、供給されたＧ色フィルタ材料ＭｇがＧ色領域６ｇから距離ｄだけはみ出してバンク４の頂面に乗り上げている状態となっている。
【００７２】
このような場合、発明者の実験によれば、はみ出し距離ｄが領域間の間隔Ｄの１／３よりも大きくなると混色が発生する可能性が高くなり、１／３よりも小さく抑えれば混色の発生が少なくなることが分かった。この結果、
ｄ＜Ｄ／３
であることが望ましいことが分かった。
【００７３】
（変形例）
以上の実施形態では、Ｇ，Ｒ，Ｂの各色フィルタ材料の吐出量Ａｇ，Ａｒ，Ａｂを
Ａｇ＞Ａｒ＞Ａｂ
のように設定して、混色を防いだが、吐出量の関係は
Ａｇ＝Ａｒ＞Ａｂ
のように設定することもできるし、
Ａｇ＞Ａｒ＝Ａｂ
のように設定することもできる。いずれの場合でも、少なくとも２色の関係において、後に吐出されるフィルタ材料の吐出量が先に吐出されるフィルタ材料の吐出量よりも少なくされる工程が設けられるので、少なくともその２色の間では混色の発生を防止できる。
【００７４】
また、上記の実施形態では、１番目にＧ色を吐出し、２番目にＲ色を吐出し、３番目にＢ色を吐出する場合を例示したが、吐出の順番はこれに限られず、任意の順番とすることができる。
【００７５】
また、上記の実施形態では、カラーフィルタを構成するフィルタ要素としてＲ，Ｇ，Ｂの３色を考えた。しかしながら、フィルタ要素としては、Ｒ，Ｇ，Ｂ以外にＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）とすることもできる。
【００７６】
（液晶装置及びその製造方法の実施形態）
図９は、本発明を電気光学装置の一例である液晶装置に適用した場合の実施形態を示している。ここに示す液晶装置は、単純マトリクス方式で半透過反射型の液晶装置である。また、ここに示す液晶装置は、文字、数字、図形等といった像を視覚によって認識できるように表示するための液晶表示装置である。
【００７７】
ここに示す液晶装置５１は、液晶パネル５２に照明装置５６及び配線基板５４を付設することによって形成されている。液晶パネル５２は、矢印Ａ方向から見て長方形状又は正方形状の第１基板５７ａと、矢印Ａ方向から見て同じく長方形状又は正方形状の第２基板５７ｂとを、矢印Ａ方向から見て環状のシール材５８によって貼り合わせることによって形成されている。
【００７８】
第１基板５７ａと第２基板５７ｂとの間には間隙、いわゆるセルギャップが形成され、そのセルギャップ内に液晶が注入されて液晶層５５を形成している。符号６９はセルギャップを維持するためのスペーサを示している。なお、観察者は矢印Ａ方向から液晶装置５１を観察する。
【００７９】
第１基板５７ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材６１ａを有する。この第１基材６１ａの液晶側の表面には、反射膜６２が形成され、その上に絶縁膜６３が形成され、その上に第１電極６４ａが形成され、その上に配向膜６６ａが形成されている。また、第１基材６１ａの照明装置５６側の表面には第１偏光板６７ａが、例えば貼着によって装着されている。
【００８０】
第１基板５７ａに対向する第２基板５７ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材６１ｂを有する。この第２基材６１ｂの液晶側の表面には、カラーフィルタ６８が形成され、その上に第２電極６４ｂが形成され、その上に配向膜６６ｂが形成されている。また、第２基材６１ｂの外側の表面には第２偏光板６７ｂが、例えば貼着によって装着されている。
【００８１】
第１基板５７ａ側の第１電極６４ａは図９の左右方向へ延びる線状電極である。また、第１電極６４ａは複数本形成されていて、それらは紙面垂直方向へ互いに平行に並べられている。つまり、複数の第１電極６４ａは、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。
【００８２】
また、第２基板５７ｂ側の第２電極６４ｂは、図９の紙面垂直方向に延びる線状電極である。また、第２電極６４ｂは複数本形成されていて、それらは図９の左右方向へ互いに平行に並べられている。つまり、複数の第２電極６４ｂは、第１電極６４ａに直交する方向へ延びるストライプ状に形成されている。
【００８３】
第１電極６４ａと第２電極６４ｂとは矢印Ａ方向から見て多数のマトリクス状に並ぶ点で交差しており、これらの交差点が表示のためのドット領域を構成している。Ｒ，Ｇ，Ｂの３色や、Ｃ，Ｍ，Ｙの３色のフィルタ要素から成るカラーフィルタを用いてカラー表示を行う場合には、上記のドット領域の１つずつにそれら３色のうちの１つずつが対応して配置され、３色の集まりが１つのユニットになって１画素を構成する。そして、その画素の多数が矢印Ａ方向から見てマトリクス状に並ぶことにより、有効表示領域Ｖが形成され、この有効表示領域Ｖの領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００８４】
表示の最小単位である表示用ドット領域に対応して、反射膜６２に開口７１が形成されている。これらの開口７１は、照明装置５６から供給される面状の光を透過させて、透過型の表示を実現する。なお、透過型の表示を行うにあたっては、反射膜６２に開口７１を設けることだけに限られず、例えば、反射膜６２の膜厚を薄くすることによっても透過型の表示を実現できる。
【００８５】
第１基材６１ａは第２基材６１ｂを越えて外側へ張り出す張出し部７０を有している。第１基板６１ａ側の第１電極６４ａはシール材５８を横切ってその張出し部７０上に延び出て配線６５となっている。また、張出し部７０の辺縁には外部接続端子４９が形成されている。配線基板５４は、その外部接続端子４９に導電接続されている。第２基板５７ｂ側の第２電極６４ｂは、シール材５８の内部に分散された導通材５９を介して第１基板６１ａ側の配線６５に接続されている。なお、導通材５９は、図９ではシール材５８の幅寸法とほとんど同じ寸法で描いてあるが、実際は、導通材５９はシール材５８の幅よりも小さくなっており、そのため、シール材３８の幅方向には複数の導通材５９が存在するのが普通である。
【００８６】
張出し部７０の表面において、配線６５と外部接続端子４９との間には駆動用ＩＣ５３がＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｆｉｌｍ：異方性導電膜）４８によって接着されている。そして、このＡＣＦ４８により、駆動用ＩＣ５３のバンプが配線６５及び外部接続端子４９に導電接続している。この実装構造により、配線基板５４から駆動用ＩＣ５３へ信号及び電圧が供給される。一方、駆動用ＩＣ５３からの走査信号及びデータ信号が第１電極６４ａや第２電極６４ｂへ伝送される。
【００８７】
図９において、照明装置５６は、観察側から見て液晶パネル５２の背面に緩衝材７８を挟んで配設され、バックライトとして機能する。この照明装置５６は、基板７７に支持された光源としてのＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）７６と、導光体７２とを有する。導光体７２の観察側の表面には拡散シート７３が設けられ、その反対側の面には反射シート７４が設けられる。ＬＥＤ７６を点状光源とする光は、導光体７２の受光面７２ａから導光体７２の内部に取り込まれ、その内部を伝播する間に光出射面７２ｂから面状光となって出射する。
【００８８】
上記構成より成る液晶装置５１において反射型の表示が行われる場合には、太陽光、室内光等といった外部光が第２基板５７ｂを通して液晶層５５の内部に取り込まれ、反射膜６２で反射した後、再び液晶層５５へ供給される。一方、透過型の表示が行われる場合には、照明装置５６のＬＥＤ７６が発光し、導光体７２の光出射面７２ｂから面状の光が出射し、反射膜６２に設けた複数の開口７１を通過した光が液晶層５５へ供給される。
【００８９】
液晶層５５に光が供給されたとき、第１電極６４ａ及び第２電極６４ｂの一方に走査信号が与えられ、それらの他方にデータ信号が与えられると、当該データ信号が与えられた部分の表示用ドットに所定電圧が印加されて液晶が駆動され、当該表示用ドットに供給された光が変調される。このような変調が、有効表示領域Ｖ内の表示用ドットごと、換言すれば画素ごとに行われ、文字、数字、図形等といった希望する像がその有効表示領域Ｖ内に形成され、観察者によって矢印Ａ方向から観察される。
【００９０】
本実施形態の液晶装置５１は、それに含まれるカラーフィルタ６８が図１〜図３に示した製造方法によって製造されることに特徴がある。つまり、カラーフィルタ６８は、次の製造方法、すなわち、
▲１▼第２基材６１ｂの表面をバンクによって複数の表示用ドット領域に区分けし、
▲２▼区分けされた各表示用ドット領域内に液滴吐出技術、いわゆるインクジェット技術によってＲ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ材料を順番に供給し、
▲３▼各色ごとにフィルタ材料を乾燥させてその表面を平坦化する
という各工程を有する製造方法であって、
▲４▼インクジェット技術によってＧ，Ｒ，Ｂの各色のフィルタ材料を順々に供給する際、順番が後になる色のフィルタ材料の吐出量を、順番が先になる色のフィルタ材料の吐出量よりも少なくする
という製造方法によって製造されることに特徴がある。こうして形成されたカラーフィルタ６８には混色が発生しないので、液晶装置５１は鮮明なカラー表示を行うことができる。
【００９１】
（変形例）
図９の実施形態では、半透過反射型で単純マトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した。しかしながら、本発明は、これ以外に、反射型表示機能を持たない半透過型の単純マトリクス方式の液晶装置や、透過型表示機能を持たない反射型の単純マトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）等といった２端子型のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等といった３端子型のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置等といった各種の液晶装置に適用できる。（エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法の実施形態並びにエレクトロルミネッセンス基板及びその製造方法の実施形態）
図１０は、本発明に係るエレクトロルミネッセンス装置の電気的な構成の一実施形態及び本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の電気的な構成の一実施形態を示している。また、図１１は、その電気的な構成に対応する機械的な構成の一部分の断面構造を示している。なお、エレクトロルミネッセンス基板とは、基板上にＥＬ発光要素が形成されて成る構造体である。また、エレクトロルミネッセンス装置とは、エレクトロルミネッセンス基板に反射電極やその他の光学要素を付設して成る電気光学装置である。
【００９２】
図１０において、エレクトロルミネッセンス装置１０１は、データ信号を出力する駆動用ＩＣ１０７と、走査信号を出力する駆動用ＩＣ１０８を有する。駆動用ＩＣ１０７は、複数の信号線１０４へデータ信号を出力する。また、駆動用ＩＣ１０８は、複数の走査線１０３へ走査信号を出力する。走査線１０３と信号線１０４とは複数の部分で交差し、それらの交差部分には画素を構成する表示用ドット領域が形成される。図１１では、Ｇ色の表示用ドット領域６ｇ、Ｒ色の表示用ドット領域６ｒ，Ｂ色の表示用ドット領域６ｂを示している。個々の表示用ドット領域はＲ，Ｇ，Ｂの３色のＥＬ発光要素のうちの１つを含む領域であり、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する表示用ドット領域が集まって１つの画素が構成される。
【００９３】
１つの表示用ドット領域の中には、スイッチング薄膜トランジスタ１０９、カレント薄膜トランジスタ１１０、画素電極１１１、反射電極１１２、そしてＥＬ発光要素１１３が含まれる。なお、発光要素１１３に関しては、Ｇ色を発光する発光要素１１３ｇと、Ｒ色を発光する発光要素１１３ｒと、Ｂ色を発光する発光要素１１３ｂとが所定の配列、例えばストライプ配列で並べられる。
【００９４】
このエレクトロルミネッセンス装置１０１を製造する場合には、まず、図１２（ａ）において、透光性の基材１０２に対して、テトラエトキシシラン（ｔｅｔｒａｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ：ＴＥＯＳ）や酸素ガス等を原料ガスとしてプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により、シリコン酸化膜から成る下地保護層（図示せず）を、望ましくは、約２，０００〜５，０００オングストロームの厚さで形成する。
【００９５】
次に、基材１０２の温度を約３５０℃に設定し、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により、非晶質のシリコン膜である半導体膜１２０ａを、約３００〜７００オングストロームの厚さで形成する。次に、半導体膜１２０ａに対して、レーザアニール又は固相成長法等といった結晶化工程を実施し、半導体膜１２０ａをポリシリコン膜に結晶化する。
【００９６】
次に、半導体膜１２０ａの上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜を露光及び現像してレジストマスクを形成し、そのマスクを用いて半導体膜１２０ａをパターニングすることによって、図１２（ｂ）に示す島状の半導体膜１２０ｂを形成する。
【００９７】
次に、半導体膜１２０ｂが形成された基材１０２の表面にＴＥＯＳや酸素ガス等を原料ガスに用いて、プラズマＣＶＤ法により、図１２（ｃ）に示すように、シリコン酸化膜あるいは窒化膜から成るゲート絶縁膜１２１ａを、望ましくは約６００〜１，５００オングストロームの厚さで形成する。なお、半導体膜１２０ｂは、カレント薄膜トランジスタ１１０のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ１０９（図１０参照）のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる図示しない半導体膜も形成されている。図１２から図１６に示す製造工程では２種類のスイッチング薄膜トランジスタ及びカレント薄膜トランジスタが同時に形成されるが、それらは同じ手順で形成されるため、以下の説明では、カレント薄膜トランジスタ１１０についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタについては説明を省略する。
【００９８】
次に、図１２（ｄ）において、アルミニウムやタンタル等を材料としてスパッタリングによって導電膜１１６ａを形成する。次に、レジスト材料を塗布し、露光及び現像によってレジストマスクを形成し、そのマスクを用いて導電膜１１６ａをパターニングして、図１３（ｅ）に示すように、ゲート電極１１６を形成する。
【００９９】
この状態で、不純物、例えば高温度のリンイオンを注入し、図１３（ｆ）に示すように、ゲート電極１１６に対して自己整合的にソース・ドレイン領域１１７ａ，１１７ｂを半導体膜１２０ｂに形成する。なお、不純物が導入されなかった部分が、チャネル領域１１８となる。
【０１００】
次に、図１３（ｇ）において、層間絶縁膜１２２を形成し、その後、図１３（ｈ）においてコンタクトホール１２３，１２４を形成する。さらにその後、図１４（ｉ）に示すように、それらのコンタクトホール１２３，１２４の内部に導電材料を埋め込んで中継電極１２６，１２７を形成する。
【０１０１】
次に、図１４（ｊ）に示すように、層間絶縁膜１２２の上に信号線１０４、共通給電線１０５及び走査線１０３（図１０参照）を形成する。そして、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜１３０を形成し、中継電極１２６に対応する位置にコンタクトホール１３２を形成する。次に、図１４（ｋ）において、コンタクトホール１３２の内部を埋めるようにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜１１１ａを形成する。次に、ＩＴＯ膜１１１ａの上にレジストを塗布し、そのレジストを露光及び現像してレジストマスクを形成し、そのマスクを用いてＩＴＯ膜１１１ａをパターニングすることにより、図１４（ｌ）に示すように、信号線１０４、共通給電線１０５及び走査線１０３に囲まれた領域に、ソース・ドレイン領域１１７ａに電気的に接続する画素電極１１１を形成する。
【０１０２】
次に、図６に示したインクジェットヘッド２２を用いて、図１５（ｍ）〜図１６（ｒ）に示すようにして、基材１０２上にＥＬ発光要素を形成する。この場合には、図１５（ｍ）において信号線１０４、共通給電線１０５及び図１０の走査線１０３が区分け要素として機能して、基材１０２上に複数の表示用ドット領域６が形成される。なお、図１５（ｍ）において、Ｇ色の発光要素が形成される領域を６ｇと示し、Ｒ色の発光要素が形成される領域を６ｒと示し、さらに、Ｂ色の発光要素が形成される領域を６ｂと示すことにする。
【０１０３】
まず、基材１０２の上面を上方に向けた状態で、図１６（ｐ）のＥＬ発光要素１１３ｇの下層部分に当る正孔注入層１１３Ａを形成するための材料Ｍ１を、図６のインクジェットヘッド２２のノズル２７から液滴として吐出し、区分け要素１０３，１０４，１０５で囲まれた第１番目の領域、すなわちＧ色領域６ｇ内に選択的に供給して塗布する。
【０１０４】
このときの吐出量Ａ１ｇは、予め、区分け要素１０３，１０４，１０５の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多く設定されており、供給されたＧ色発光要素材料は区分け要素１０３，１０４，１０５よりも上方へ突出する。次に、加熱すなわちプレベーク又は光照射等を行って材料Ｍ１に含まれる溶剤を蒸発させて、図１５（ｎ）に示すように表面が平坦な正孔注入層１１３Ａを形成する。正孔注入層１１３Ａが希望の厚さに満たない場合は、材料Ｍ１の吐出供給処理を繰り返す。
【０１０５】
次に、図１５（ｏ）に示すように、基材１０２の上面を上に向けた状態で、図１６（ｐ）のＥＬ発光要素１１３ｇの上層部分に有機半導体膜１１３Ｂを形成するための有機半導体膜材料Ｍ２を、図６のインクジェットヘッド２２のノズル２７から液滴として吐出し、区分け要素１０３，１０４，１０５で囲まれた第１番目の領域、すなわちＧ色領域６ｇ内に選択的に供給して塗布する。有機半導体膜材料Ｍ２は、溶媒に溶かされた状態の有機蛍光材料であることが望ましい。
【０１０６】
このときの吐出量Ａ２ｇは、予め、区分け要素１０３，１０４，１０５の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多く設定されており、供給された有機半導体膜材料Ｍ２は区分け要素１０３，１０４，１０５よりも上方へ突出する。次に、加熱すなわちプレベーク又は光照射等を行って材料Ｍ２に含まれる溶剤を蒸発させて、図１６（ｐ）に示すように、正孔注入層１１３Ａの上に、表面が平坦な有機半導体膜１１３Ｂを形成する。有機半導体膜１１３Ｂが希望の厚さに満たない場合は、材料Ｍ２の吐出供給処理を繰り返す。以上により、正孔注入層１１３Ａ及び有機半導体膜１１３Ｂによって、Ｇ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｇが形成される。
【０１０７】
次に、図１６（ｐ）において、第２番目の表示用ドット領域であるＲ色領域６ｒに対して、図１５（ｍ）から図１６（ｐ）に示した処理を繰り返して、図１６（ｑ）に示すように、Ｒ色領域６ｒの中にＲ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｒを形成する。なお、２番目のＲ色発光要素の形成において、図１５（ｍ）における正孔注入層材料Ｍ１の吐出量Ａ１ｒは、区分け要素１０３，１０４，１０５によって規定される表示用ドット領域６ｒの容積よりも多く、しかし、第１番目に吐出されたＧ色の正孔注入層材料Ｍ１の吐出量Ａ１ｇよりも少なく、すなわち
Ａ１ｇ＞Ａ１ｒ
に設定される。これにより、Ｒ色のための材料Ｍ１がＧ色領域６ｇへ侵入して、混色が発生することを防止できる。
【０１０８】
また、２番目のＲ色発光要素の形成において、図１５（ｏ）における有機半導体膜材料Ｍ２の吐出量Ａ２ｒは、区分け要素１０３，１０４，１０５によって規定される表示用ドット領域６ｒの容積よりも多く、しかし、第１番目に吐出されたＧ色の有機半導体膜材料Ｍ２の吐出量Ａ２ｇよりも少なく、すなわち
Ａ２ｇ＞Ａ２ｒ
に設定される。これにより、Ｒ色のための材料Ｍ２がＧ色領域６ｇへ侵入して、混色が発生することを防止できる。
【０１０９】
図１６（ｑ）においてＲ色発光要素１１３ｒの形成が終了すると、次に、図１６（ｑ）において、第３番目の表示用ドット領域であるＢ色領域６ｂに対して、図１５（ｍ）から図１６（ｐ）に示した処理を繰り返して、図１６（ｒ）に示すように、Ｂ色領域６ｒの中にＢ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｂを形成する。なお、３番目のＢ色発光要素の形成において、図１５（ｍ）における正孔注入層材料Ｍ１の吐出量Ａ１ｒは、区分け要素１０３，１０４，１０５によって規定される表示用ドット領域６ｂの容積よりも多く、しかし、第２番目に吐出されたＲ色の正孔注入層材料Ｍ１の吐出量Ａ１ｒよりも少なく、すなわち
Ａ１ｇ＞Ａ１ｒ＞Ａ１ｂ
に設定される。これにより、Ｂ色のための材料Ｍ１がＲ色領域６ｒやＧ色領域６ｇへ侵入して、混色が発生することを防止できる。
【０１１０】
また、３番目のＢ色発光要素の形成において、図１５（ｏ）における有機半導体膜材料Ｍ２の吐出量Ａ２ｂは、区分け要素１０３，１０４，１０５によって規定される表示用ドット領域６ｂの容積よりも多く、しかし、第２番目に吐出されたＲ色の有機半導体膜材料Ｍ２の吐出量Ａ２ｒよりも少なく、すなわち
Ａ２ｇ＞Ａ２ｒ＞Ａ２ｂ
に設定される。これにより、Ｂ色のための材料Ｍ２がＲ色領域６ｒやＧ色領域６ｇへ侵入して、混色が発生することを防止できる。
【０１１１】
以上により、図１６（ｒ）において各色のＥＬ発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂの形成が完了することにより、エレクトロルミネッセンス基板が製造される。その後、図１１に示すように、ＥＬ発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂが形成された後の基材１０２の表面全体又はストライプ領域に、例えばフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理を用いて、反射電極１１２を形成する。これにより、エレクトロルミネッセンス装置が製造される。このエレクトロルミネッセンス装置では、マトリクス状に並べられた複数の表示用ドット領域６の中から希望のものを選択して、それらの画素電極１１１と反射電極１１２との間に電圧を印加することにより発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂを選択的に発光させる。これにより、基材１０２側に文字、数字、図形等といった像を表示できる。
【０１１２】
（電子機器及びその製造方法の実施形態）
図１７は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１４１、表示情報処理回路１４２、電源回路１４３、タイミングジェネレータ１４４及び液晶装置１４５によって構成される。そして、液晶装置１４５は液晶パネル１４７及び駆動回路１４６を有する。
【０１１３】
表示情報出力源１４１は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１４４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１４２に供給する。
【０１１４】
次に、表示情報処理回路１４２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１４６へ供給する。ここで、駆動回路１４６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１４３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。液晶装置１４５は、例えば、図１〜図３に示したカラーフィルタ基板の製造方法を用いて製造された図９に示した液晶装置５１によって構成できる。
【０１１５】
図１８は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルスチルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルスチルカメラ１５０におけるケース１５１の背面には液晶表示ユニット１５２が設けられる。この液晶表示ユニット１５２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１５２は、例えば、図１〜図３に示したカラーフィルタ基板の製造方法を用いて製造された図９に示した液晶装置５１によって構成できる。
【０１１６】
ケース１５１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１５３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１５２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１５４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１５５のメモリに転送されてそこに格納される。
【０１１７】
ケース１５１の側面には、ビデオ信号出力端子１５６と、データ通信用の入出力端子１５７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１５６にはテレビモニタ１５８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１５７にはパーソナルコンピュータ１５９が必要に応じて接続される。回路基板１５５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１５８や、パーソナルコンピュータ１５９に出力される。
【０１１８】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ基板の製造方法のそれぞれの一実施形態の主要工程を示す工程図である。
【図２】図１に続く工程図である。
【図３】図２に続く工程図であり、特に（ｋ）は本発明に係るカラーフィルタ基板の一実施形態を示している。
【図４】図２（ｆ）の上面図である。
【図５】複数のフィルタ要素の配列例を示しており、（ａ）はストライプ配列、（ｂ）はモザイク配列、（ｃ）はデルタ配列を示している。
【図６】液滴吐出技術を実現する装置の一例であるインクジェットヘッドを示す斜視図である。
【図７】図６のインクジェットヘッドの内部構造を一部破断して示す斜視図である。
【図８】図７のＤ−Ｄ線に従った断面図である。
【図９】本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置の断面図である。
【図１０】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態であるエレクトロルミネッセンス装置の電気的な等価回路を示す回路図である。
【図１１】図１０の回路構成に対応するエレクトロルミネッセンス装置の機械的な構成の一例を示す断面図である。
【図１２】本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法の一実施形態の主要工程を示す工程図である。
【図１３】図１２に続く工程図である。
【図１４】図１３に続く工程図である。
【図１５】図１４に続く工程図である。
【図１６】図１５に続く工程図である。
【図１７】本発明に係る電子機器の一実施形態を示す回路ブロック図である。
【図１８】本発明に係る電子機器の他の実施形態であるデジタルカメラを示す図である。
【図１９】カラーフィルタの製造方法の従来例を示す工程図である。
【符号の説明】
１：カラーフィルタ基板、２：基材、３：遮光層、４：バンク（区分け要素）、６：表示用ドット領域、８：液滴、９：フィルタ要素、２０；ケーシング、２２：インクジェットヘッド、２７：ノズル、２８：ノズル列、５１：液晶装置（電気光学装置）、５２：液晶パネル、５５：液晶層、５６：照明装置、５７ａ，５７ｂ：基板、６１ａ，６１ｂ：基材、６４ａ，６４ｂ：電極、６８：カラーフィルタ、１０１：エレクトロルミネッセンス装置（電気光学装置）、１０２：基材、１０３：走査線（区分け要素）、１０４：信号線（区分け要素）、１０５：共通給電線（区分け要素）、１０９：スイッチング薄膜トランジスタ、１１０：カウント薄膜トランジスタ、１１１：画素電極、１１２：反射電極、１１３：ＥＬ発光要素、１１３Ａ：正孔注入層、１１３Ｂ：有機半導体膜、１５０：デジタルカメラ（電子機器）、Ｍ０：材料、Ｍ１：正孔注入層材料、Ｍ２：有機半導体膜材料
【図１】
2004361428.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2004361428.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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