(57)【要約】【課題】パッシブ型の表示装置において、ＥＬが得られる発光体を備えた発光性の画素の特性が劣化することなく、信頼性の高い発光装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれた発光素子を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、第１電極が基板の主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有しており、その隔壁の断面形状は、第１電極と接する下端部から上端部にかけて開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有していて、発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成されているものである。【選択図】　図３
2004127627.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれた発光素子を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、
前記第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、前記第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、
前記隔壁の断面形状は、前記第１電極と接する下端部から、上端部にかけて、開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、前記発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれた発光素子を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、
前記第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、前記第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、
前記隔壁の断面形状は、前記第１電極と接する下端部から、上端部にかけて、開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、前記発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成され、
前記隔壁と前記発光体を含む薄膜との間には、バリア性の絶縁膜が形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記曲面形状は、前記隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの曲率半径を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１又は２において、前記曲面形状は、前記第１電極と接する下端部で、前記隔壁の外側に中心がある少なくとも一つの第１の曲率半径と、前記隔壁の上端部で、前記隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの第２の曲率半径とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１又は２において、前記隔壁は、感光性のポジ型有機樹脂材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１又は２において、前記隔壁は、感光性のネガ型有機樹脂材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、前記第２電極の上層には、バリア性の絶縁膜が形成されており、該バリア性の絶縁膜はマトリクス状に配列した前記発光素子を覆っていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項２又は７において、前記バリア性の絶縁膜は、シリコンをターゲットとして、窒素、又は窒素とアルゴンをスパッタガスとして高周波スパッタリング法で形成される窒化シリコン膜であることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれた発光性の画素を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、
前記発光性の画素に対応して、顔料及び／又は染料を含む着色層が配設され、前記発光体を含む薄膜は、発光色が異なる複数の発光体を含み、該発光体の少なくとも一つは三重項励起発光材料を含み、
前記第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、前記第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、
前記隔壁の断面形状は、前記第１電極と接する下端部から、上端部にかけて、開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、前記発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれた発光素子を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、
前記発光性の画素に対応して、顔料及び／又は染料を含む着色層が配設され、前記発光体を含む薄膜は、発光色が異なる複数の発光体を含み、該発光体の少なくとも一つは三重項励起発光材料を含み、
前記第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、前記第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、
前記隔壁の断面形状は、前記第１電極と接する下端部から、上端部にかけて、開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、前記発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成され、
前記隔壁と前記発光体を含む薄膜との間には、ガスバリア性の絶縁膜が形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項９又は１０において、前記曲面形状は、前記隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの曲率半径を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項９又は１０において、前記曲面形状は、前記第１電極と接する下端部で、前記隔壁の外側に中心がある少なくとも一つの第１の曲率半径と、前記隔壁の上端部で、前記隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの第２の曲率半径と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項９又は１０において、前記隔壁は、感光性のポジ型有機樹脂材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項９又は１０において、前記隔壁は、感光性のネガ型有機樹脂材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項９又は１０において、前記発光体を含む薄膜は、赤色に発光する発光体と、緑色に発光する発光体と、青色に発光する発光体を含み、前記赤色に発光する発光体は、三重項励起発光材料又は一重項励起発光材料であり、前記緑色に発光する発光体は、三重項励起発光材料であり、前記青色に発光する発光体は、一重項励起発光材料であることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項９乃至１５のいずれか一項において、前記第２電極の上層には、バリア性の絶縁膜が形成されており、該バリア性の絶縁膜はマトリクス状に配列した前記発光素子を覆っていることを特徴とする表示装置。
【請求項１７】
請求項１０又は１６において、前記バリア性の絶縁膜は、シリコンをターゲットとして、窒素、又は窒素とアルゴンをスパッタガスとして高周波スパッタリング法で形成される窒化シリコン膜であることを特徴とする表示装置。
【請求項１８】
第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれて発光色が異なる複数の発光性の画素を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、
前記複数の画素の少なくとも一つは、前記発光体を含む薄膜に、三重項励起発光材料を含み、
前記第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、前記第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、
前記隔壁の断面形状は、前記第１電極と接する下端部から、上端部にかけて、開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、前記発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１９】
第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれて発光色が異なる複数の発光性の画素を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、
前記複数の画素の少なくとも一つは、前記発光体を含む薄膜に、三重項励起発光材料を含み、
前記第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、前記第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、
前記隔壁の断面形状は、前記第１電極と接する下端部から、上端部にかけて、開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、前記発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成され、
前記隔壁と前記発光体を含む薄膜との間には、ガスバリア性の絶縁膜が形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２０】
請求項１８又は１９において、前記曲面形状は、前記隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの曲率半径を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２１】
請求項１８又は１９において、前記曲面形状は、前記第１電極と接する下端部で、前記隔壁の外側に中心がある少なくとも一つの第１の曲率半径と、
前記隔壁の上端部で、前記隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの第２の曲率半径とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項２２】
請求項１８又は１９において、前記隔壁は、感光性のポジ型有機樹脂材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２３】
請求項１８又は１９において、前記隔壁は、感光性のネガ型有機樹脂材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２４】
請求項１８又は１９において、前記発光色が異なる複数の発光性の画素は、発光体を含む薄膜は、赤色の発光性の画素と、緑色の発光性の画素と、青色の発光性の画素を含み、前記赤色の発光性の画素は、三重項励起発光材料又は一重項励起発光材料であり、前記緑色の発光性の画素は、三重項励起発光材料であり、前記青色の発光性の画素は、一重項励起発光材料であることを特徴とする表示装置。
【請求項２５】
請求項１８乃至２４のいずれか一項において、前記第２電極の上層には、バリア性の絶縁膜が形成されており、該バリア性の絶縁膜はマトリクス状に配列した前記発光素子を覆っていることを特徴とする表示装置。
【請求項２６】
請求項１９又は２５において、前記バリア性の絶縁膜は、シリコンをターゲットとして、窒素、又は窒素とアルゴンをスパッタガスとして高周波スパッタリング法で形成される窒化シリコン膜であることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はエレクトロルミネセンス（以下、ＥＬという）が得られる発光体を備えた発光素子の複数個をマトリクス状に配置した発光装置に関し、特に単色又は多色表示を行う表示部が形成された発光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
交差する行と列によって、マトリクス状に配置された複数の発光性の画素からなり、画像表示配列を有する発光装置が開発されている。この種の発光装置は、蒸着により形成するＥＬ層や電極を、隣接する素子間で分離するために、基板の主表面上に突出する高い壁（隔壁）を設けて、その高い壁（隔壁）をマスクとして利用している。隔壁の形状は種々の工夫が成されているが、基板上に形成する第１表示電極の一部を露出せしめかつ全体が基板上から突出し、その上部にわざわざ基板と平行な方向に突出するオーバーハング部を設けた構造などが開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平９−１０２３９３号公報（第３図など）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しなしながら、基板表面から突出する高い隔壁を形成すると、画素のピッチが狭くなった場合、断面のアスペクト比（隣接する隔壁の間隔と、その高さの比）が非常に高い形状を、光露光技術やエッチング技術などで形成するのは非常に困難となる。
【０００５】
また、一対の電極間に１００ｎｍ程度の厚さでＥＬ層を積層する構造の発光素子は、この隔壁の形状により、中心部より周辺部でＥＬ層の厚さが薄くなり、その部分での上下電極間の短絡欠陥の発生や、実質的に電界が集中することによる不可逆的な劣化が進むということが問題となる。すなわち、発光素子の周辺部から非発光部か発生してそれが内側に向かって拡大していく進行性の劣化が発生することになる。また、隔壁と直接的又は間接的に発光素子が接することで、その各部材の熱膨張係数の差によるストレス（熱ストレス）により発光素子の劣化が進行することが問題となる。
【０００６】
また、上記特許文献１の画素のように、基板上に形成する第１表示電極の一部を露出せしめかつ全体が基板上から突出し、その上部にわざわざ基板と平行な方向に突出するオーバーハング部を設けた隔壁構造では、保護膜を画素の全面に均一に形成することが不可能となる。表示装置の構造は、封止缶などえを固着してその空隙に乾燥剤などを配設する必要があり、製造工程は煩雑となる。また、乾燥剤を封入する構造では、長期的に乾燥剤の吸湿能が低下してくるので、それが信頼性を損なう要因となっている。
【０００７】
本発明はこのような問題点を解決するものであり、ＥＬが得られる発光体を備えた発光素子の特性が劣化することなく、信頼性の高い発光装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記した問題点を解決する本発明の要旨を説明すれば、以下の通りである。
【０００９】
本発明は、第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれた発光素子を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、第１電極が基板の主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有しており、その隔壁の断面形状は、第１電極と接する下端部から上端部にかけて開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有していて、発光体を含む薄膜は、該曲面形状に沿って形成されているものである。
【００１０】
本発明は、第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれた発光性の画素を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、発光性の画素に対応して顔料及び／又は染料を含む着色層が配設され、発光体を含む薄膜は、発光色が異なる複数の発光体を含み、該発光体の少なくとも一つは三重項励起発光材料を含んでいて、第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、その隔壁の断面形状は、第１電極と接する下端部から上端部にかけて開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、発光体を含む薄膜は該曲面形状に沿って形成されているものである。
【００１１】
本発明は、第１電極と第２電極が交差する部位に発光体を含む薄膜が挟まれて発光色が異なる複数の発光性の画素を、マトリクス状に配列させた表示装置であって、複数の画素の少なくとも一つは、発光体を含む薄膜に三重項励起発光材料を含んでいて、第１電極が第一主表面上に形成され、該第１電極の一部を露出せしめ、第２電極と平行な方向に配設される電気絶縁性の隔壁を有し、隔壁の断面形状は、第１電極と接する下端部から上端部にかけて開口が広がる傾斜面を有し、且つ、該傾斜面は曲面形状を有し、発光体を含む薄膜は該曲面形状に沿って形成されているものである。
【００１２】
前記した発光色が異なる複数の発光性の画素は、発光体を含む薄膜は、赤色の発光性の画素と、緑色の発光性の画素と、青色の発光性の画素を含み、赤色の発光性の画素は、三重項励起発光材料又は一重項励起発光材料であり、緑色の発光性の画素は、三重項励起発光材料であり、青色の発光性の画素は、一重項励起発光材料であるものが含まれる。
【００１３】
上記した発本発明において、隔壁と発光体を含む薄膜との間にバリア性の絶縁膜が形成されていても良い。その切断面における曲面形状は、隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの曲率半径を有する形態、又は、第１電極と接する下端部で、隔壁の外側に中心がある少なくとも一つの第１の曲率半径と、隔壁の上端部で、隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの第２の曲率半径とを有する形態である。曲率半径は０．２〜２μｍであり、その連続する曲面において連続的に曲率が変化する形状としても良い。
【００１４】
このような隔壁の形状は、その素材に何ら限定されるものではなく、いずれにしても電気絶縁性の無機材料又は有機材料で形成される。代表的には、有機材料を用い、感光性のポジ型有機樹脂材料、又は感光性のネガ型有機樹脂材料で形成することができる。
【００１５】
また、前記した第２電極の上層には、バリア性の絶縁膜が形成されており、該バリア性の絶縁膜はマトリクス状に配列した前記発光素子を覆っているものである。バリア性の絶縁膜としては、窒化物系無機絶縁体材料が適用され、代表的には窒化シリコン、窒酸化シリコン、窒化アルミニウム、窒酸化アルミニウムなどの他、ダイヤモンドライクカーボンなどを適用することができる。特に、シリコンをターゲットとして、窒素、又は窒素とアルゴンをスパッタガスとして高周波スパッタリング法で形成される窒化シリコン膜を典型的な一態様として挙げることができる。なお、ここでいうバリア性とは、前記した発光素子の保護を目的とするものであり、水蒸気や酸素などのガスバリア性、ナトリウムやカリウムなどイオン性の不純物に対するバリア性に優れた絶縁膜を指していう。
【００１６】
また、他の形態として、このバリア性の絶縁膜を複数層設け、その層間に吸湿性の有機化合物膜を設けても良い。特に、吸湿性であり失透しない有機化合物膜が適している。
【００１７】
本発明において、上記した隔壁の形状は、第１電極（下部電極）側から上端部にかけて開口が広がり、且つ、下端部から上端部にかけて連続した曲面形状とすることで、その曲面に沿って発光体を含む薄膜や第２電極（上部電極）並びにバリア性の絶縁膜（保護膜）を形成することが可能となり、封止機密性を高めることができる。発光体を含む薄膜やバリア性の絶縁膜は、真空蒸着法やスパッタリング法などの薄膜形成手段、スピン塗布法やスプレー法などの薄膜形成手段で形成するので、基板の主表面から突出した形状で形成される従来の隔壁と比べ、被覆性良く連続的に被膜を形成することができる。また、隔壁の曲面に沿って形成される発光体を含む薄膜並びにバリア性の絶縁膜との間に熱ストレスを緩和することができるので、上記した従来技術の問題点を解決することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の態様について図面を参照しながら詳細に説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する本発明の構成において、同じものを指す符号は異なる図面間で共通して用いることとする。
【００１９】
図１は、本発明の一実施の形態である表示装置の上面図を示している。本実施の形態の表示装置は、基板１０１の主表面に第１電極と第２電極とが交差してその交差部に発光素子が形成された画素部２０１が設けられている。すなわち、発光性の画素がマトリクス状に配列した画素部２０１が形成されている。画素数はＶＧＡ仕様であれば６４０×４８０ドット、ＸＧＡ仕様であれば１０２４×７６８ドット、ＳＸＧＡ仕様であれば１３６５×１０２４ドット、またＵＸＧＡ仕様となれば１６００×１２００ドットであり、第１電極及び第２電極の本数はそれに応じて設けられている。さらに、基板１０１の端部であり、画素部２０１の周辺部には、外部回路と接続する端子パットが形成された入力端子部２０２が設けられている。
【００２０】
図１で示す表示装置において、画素部２０１の点線で囲む領域Ａの詳細を、図２に示している。図２では、画素部には基板１０１の主表面上に、左右方向に延びる第１電極１０２と、その上層に形成されている発光体を含む薄膜１０５（エレクトロルミネセンスで発光する媒体を含むので、以下の説明において便宜上ＥＬ層と呼ぶ）と、その上層に形成され上下方向に延びる第２電極１０６とが形成され、その交差部に画素が形成されている。すなわち、第１電極１０２と第２電極１０６とを、行方向と列方向に形成することによりマトリクス状に画素を配設している。入力端子１０８、１０９は、第１電極又は第２電極と同じ材料で形成している。図２で示すように第１電極１０２と同じ材料で形成する場合では、入力端子１０８は第１電極から連続して形成し、入力端子１０９は第２電極１０６と画素部の外側で接続している。この入力端子の数は、行方向と列方向に配設した第１電極及び第２電極の本数と同じ数が設けられている。
【００２１】
この画素部には、その他に、第１電極１０２と平行に延びて、その側端部を覆絶縁層１０３と、第２電極１０６と平行に延びる隔壁１０４が形成されている。ＥＬ層１０５は隔壁１０４の上層に位置している。発光素子は、隔壁１０４が第１電極１０２を覆わない部位において、第１電極１０２とＥＬ層１０５と第２電極１０６が積層されて形成されることになる。
【００２２】
この図２で示す画素構造において、Ａ−Ａ’線及びＢ−Ｂ’線に対応する断面図を図３に示している。図３（Ａ）は、第２電極１０６が延びる方向を切断する断面図であり、基板１０１上に第１電極１０２、隔壁１０４、ＥＬ層１０５、第２電極１０６が形成された状態を示している。第２電極１０６の上層にあるバリア性の絶縁膜１０７は、前記した発光素子の保護を目的として形成するものであり、水蒸気や酸素などのガスバリア性、ナトリウムやカリウムなどイオン性の不純物に対するバリア性に優れた絶縁膜で形成する。
【００２３】
ＥＬ層１０５は、有機化合物を主体として形成されるので耐熱温度が低く、保護膜であるバリア性の絶縁膜１０７は２００℃以下、好ましくは１００℃以下の温度で形成する必要がある。そのような温度で、ガスバリア性やイオン性不純物に対してバリア性のある絶縁膜としては、スパッタリング法で形成する窒化物系絶縁膜が好適である。すなわち、窒化シリコン、窒化アルミニウム、窒酸化アルミニウムなどがその素材として挙げられる。例えば、窒素をスパッタガスとして、シリコンをターゲットして用いて高周波スパッタリング法により形成する窒化シリコン膜は、室温で成膜しても緻密な膜を得ることができ、膜厚が１０〜１００ｎｍ、好ましくは２０〜４０ｎｍあれば十分なバリア性を確保することができる。
【００２４】
隔壁１０４の断面形状は、第１電極１０２と接する下端部から上端部にかけて曲面形状を有している。その曲面形状は、隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの曲率半径を有する形状、又は、第１電極１０２と接する下端部で隔壁１０４の外側に中心がある少なくとも一つの第１の曲率半径と、隔壁１０４の上端部で隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの第２の曲率半径を有する形状である。その断面形状は、隔壁１０４の下端部から上端部にかけて曲率が連続して変化するものであって良い。ＥＬ層はその曲面形状に沿って形成され、その曲面形状により応力が緩和される。すなわち、異なる部材を積層した発光素子において、その熱ストレスによる歪みを緩和する作用がある。
【００２５】
図３（Ｂ）は、第１電極１０２が延びる方向を切断する断面図であり、基板１０１上に第１電極１０２、絶縁層１０３、ＥＬ層１０５、第２電極１０６が形成された状態を示している。絶縁層１０３は、本発明において必須の要素ではないが、第２電極の両端部を覆い、ＥＬ層１０５が第１電極１０２の端部にかからないようにしている。すなわち、この絶縁層１０３と隔壁１０４との組み合わせにより、第１電極１０２がこれらに覆われない露出する領域に発光素子が形成されることになる。
【００２６】
また、図示しないが、絶縁層１０３が形成される位置にも、隔壁１０４を形成して、第１電極１０２の端部を覆うことで代用することもできる。
【００２７】
第１電極１０２と第２電極１０６とは、発光素子の電極としての役割において一方が陽極、他方が陰極として区別することもできる。陽極はＥＬ層に正孔を注入する側の電極であり、ＥＬ層を形成する材料との相対的な関係もあるが、通常は仕事関数が４ｅＶ以上の材料を用いる。具体的には、酸化スズ・インジウム合金（ＩＴＯ）や酸化亜鉛、酸化スズ・インジウムと酸化亜鉛との合金など透明導電性材料の他に、窒化チタン、窒化タングステンなど金属窒化物を適用することもできる。一方、陰極はＥＬ層に電子を注入する側の電極であり、仕事関数が３．５ｅＶ以下の材料を用いる。具体的には、ＡｌＬｉ、ＭｇＡｇなどアルカリ金属又はアルカリ土類金属を成分に含む合金で形成するか、Ａｌなどの導電層とＥＬ層との間にＣｓ、ＣａＮ、ＣａＦ２、ＬｉＦなどを介在させた構成としても良い。
【００２８】
ＥＬ層１０５は、有機化合物又は無機化合物を含む電荷注入輸送物質及び発光材料で形成し、その分子数から低分子系有機化合物、中分子系有機化合物（昇華性を有さず、且つ分子数が２０以下、又は連鎖する分子の長さが１０μｍ以下の有機化合物を指していう）、高分子系有機化合物から選ばれた一種又は複数種の層を含み、電子注入輸送性又は正孔注入輸送性の無機化合物と組み合わせても良い。無機化合物材料を電荷注入輸送層の材料は、ダイヤモンド状カーボン（ＤＬＣ）、Ｓｉ、Ｇｅ、及びこれらの酸化物又は窒化物であり、Ｐ、Ｂ、Ｎなどが適宜ドーピングされていても良い。またアルカリ金属又はアルカリ土類金属の、酸化物、窒化物又はフッ化物や、当該金属と少なくともＺｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｒｕ、Ｓｍ、Ｉｎの化合物又は合金であっても良い。
【００２９】
ＥＬ層は単色又は白色の発光を呈する構成とすれば良いが、多色表示を行う代表的な形態は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に対応した発光素子、つまり発光性の画素を形成するか、白色発光の画素の光放射側に特定の波長の光を透過するフィルター（着色層）を設けた構成とする。図４はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に対応した発光素子で発光性の画素を形成する一例を示している。画素部の基本的な構成は図３と同じであり、ＥＬ層（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）を形成する材料が異なっている。真空蒸着法で各ＥＬ層を形成するには、シャドーマスクを用いて各色に発光するＥＬ層を画素毎に作り分けするが、この場合、隔壁１０４の上部で隣接するＥＬ層との重ね合わせが許容される。すなわち、隔壁上にあるＥＬ層は実質的に発光に寄与しないので、この部位において異なる発光色のＥＬ層を重ね合わせたとしても何ら悪影響はない。
【００３０】
適用可能なＥＬ層の内、低分子系有機発光材料では、Ａｌｑ３、ＢＡｌｑ２、Ａｌｍｑ３、ＤＰＶＢｉ、ＰＶＫ、トリフェニルアミン誘導体（ＴＰＤ）などを適用することができる。これらをホスト材料として、ドーパントとしてキナクリドンなどを添加する。
【００３１】
一方、高分子系有機発光材料は低分子系に比べて物理的強度が高く、素子の耐久性が高い。また塗布により成膜することが可能であるので、素子の作製が比較的容易である。高分子系有機発光材料を用いた発光素子の構造は、低分子系有機発光材料を用いたときと基本的には同じであり、陰極／有機発光層／陽極となる。しかし、高分子系有機発光材料を用いたＥＬ層を形成する際には、低分子系有機発光材料を用いたときのような積層構造を形成させることは難しく、多くの場合２層構造となる。具体的には、陰極／発光層／正孔輸送層／陽極という構造である。
【００３２】
発光色は、発光層を形成する材料で決まるため、これらを選択することで所望の発光を示す発光素子を形成することができる。発光層の形成に用いることができる高分子系の電界発光材料は、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリパラフェニレン系、ポリチオフェン系、ポリフルオレン系が挙げられる。
【００３３】
ポリパラフェニレンビニレン系には、ポリ（パラフェニレンビニレン）　［ＰＰＶ］　の誘導体、ポリ（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレンビニレン）　［ＲＯ−ＰＰＶ］、ポリ（２−（２’−エチル−ヘキソキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン）［ＭＥＨ−ＰＰＶ］、ポリ（２−（ジアルコキシフェニル）−１，４−フェニレンビニレン）［ＲＯＰｈ−ＰＰＶ］等が挙げられる。ポリパラフェニレン系には、ポリパラフェニレン［ＰＰＰ］の誘導体、ポリ（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレン）［ＲＯ−ＰＰＰ］、ポリ（２，５−ジヘキソキシ−１，４−フェニレン）等が挙げられる。ポリチオフェン系には、ポリチオフェン［ＰＴ］の誘導体、ポリ（３−アルキルチオフェン）［ＰＡＴ］、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）［ＰＨＴ］、ポリ（３−シクロヘキシルチオフェン）［ＰＣＨＴ］、ポリ（３−シクロヘキシル−４−メチルチオフェン）［ＰＣＨＭＴ］、ポリ（３，４−ジシクロヘキシルチオフェン）［ＰＤＣＨＴ］、ポリ［３−（４−オクチルフェニル）−チオフェン］［ＰＯＰＴ］、ポリ［３−（４−オクチルフェニル）−２，２ビチオフェン］［ＰＴＯＰＴ］等が挙げられる。ポリフルオレン系には、ポリフルオレン［ＰＦ］の誘導体、ポリ（９，９−ジアルキルフルオレン）［ＰＤＡＦ］、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）［ＰＤＯＦ］等が挙げられる。
【００３４】
なお、正孔輸送性の高分子系有機発光材料を、陽極と発光性の高分子系有機発光材料の間に挟んで形成すると、陽極からの正孔注入性を向上させることができる。一般にアクセプター材料と共に水に溶解させたものをスピンコート法などで塗布する。また、有機溶媒には不溶であるため、上述した発光性の有機発光材料との積層が可能である。正孔輸送性の高分子系有機発光材料としては、ＰＥＤＯＴとアクセプター材料としてのショウノウスルホン酸（ＣＳＡ）の混合物、ポリアニリン［ＰＡＮＩ］とアクセプター材料としてのポリスチレンスルホン酸［ＰＳＳ］の混合物等が挙げられる。
【００３５】
また、ドーパントはキナクリドン誘導体に限定されず、Ｅｕ錯体、ナイルレッド、ローダミンＢ、ＤＣＭ（Ｒ＝Ｍｅ）、フタロシアニン、ＤＣＭ２、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド、Ｐ１、スクアリウム色素、Ｔｂ錯体、ルブレン、Ｄｙ錯体、フルオレセイン、クマリン６、ペリレン、ＤＰＡ、クマリン誘導体、ジスチリルアミン（ＤＳＡ）誘導体、ジスチリルアリレーン誘導体、２ＤＳＰ、ＢＣｚＶＢｉ、ピロロピロール誘導体、ピラゾリン、ナフトキナクリドン誘導体、ロフィン、ジアミノスチルベン誘導体、デカシクレンなど、公知のドーパントを用いることができる。
【００３６】
以上に掲げる材料は一例であり、これらを用いて正孔注入輸送層、正孔輸送層、電子注入輸送層、電子輸送層、発光層、電子ブロック層、正孔ブロック層などの機能性の各層を適宜積層することで発光素子を形成することができる。また、これらの各層を合わせた混合層又は混合接合を形成しても良い。
【００３７】
また、白色に発光するＥＬ層を形成するには、例えば、Ａｌｑ３、部分的に赤色発光色素であるナイルレッドをドープしたＡｌｑ３、Ａｌｑ３、ｐ−ＥｔＴＡＺ、ＴＰＤ（芳香族ジアミン）を蒸着法により順次積層することで白色を得ることができる。また、スピンコートを用いた塗布法によりＥＬを形成する場合には、塗布した後、真空加熱で焼成することが好ましい。例えば、正孔注入層として作用するポリ（エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）水溶液（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を全面に塗布、焼成し、その後、発光層として作用する発光中心色素（１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（ＴＰＢ）、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノ−スチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ１）、ナイルレッド、クマリン６など）ドープしたポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）溶液を全面に塗布、焼成すればよい。
【００３８】
ＥＬ層１０５は単層で形成することもでき、ホール輸送性のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）に電子輸送性の１，３，４−オキサジアゾール誘導体（ＰＢＤ）を分散させてもよい。また、３０ｗｔ％のＰＢＤを電子輸送剤として分散し、４種類の色素（ＴＰＢ、クマリン６、ＤＣＭ１、ナイルレッド）を適当量分散することで白色発光が得られる。ここで示した白色発光が得られる発光素子の他にも、ＥＬ層１０５の材料を適宜選択することによって、赤色発光、緑色発光、または青色発光が得られる発光素子を作製することができる。
【００３９】
また、ＥＬ層１０５は、上記した一重項励起発光材料の他、金属錯体などを含む三重項励起材料を用いても良い。すなわち、図４に示す画素の構成において、赤色の発光性の画素、緑色の発光性の画素及び青色の発光性の画素を含み、赤色の発光性の画素が三重項励起発光材料又は一重項励起発光材料であり、緑色の発光性の画素が三重項励起発光材料であり、青色の発光性の画素が一重項励起発光材料を含むことができる。
【００４０】
本発明において重要な構成要素となる隔壁は、感光性ポジ型の有機樹脂で形成する一例を図５（Ａ）に示している。感光性ポジ型の有機樹脂としてはアクリル、ポリイミドなどの感光性組成物を使用する。この組成物を基板１０１上に塗布して、フォトマスクを用いて露光すれば、そのマスクパターンに依存する所望の位置に開口部を形成することができる。厚さは１〜３μｍ、好ましくは１．５〜２μｍとする。特徴的な断面形状は、下端部から上端部にかけて開口が広がる３０〜８０度の傾斜角θを有し、隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの曲率半径を有する曲面形状をもって形成される。曲率半径Ｒ１は０．２〜２μｍであり、その連続する曲面において連続的に曲率が変化する形状としても良い。
【００４１】
図５（Ｂ）で示すように、ＥＬ層１０５はその曲面形状に沿って形成され、その曲面形状により、特に図５（Ｂ）中点線で囲む部位１１０の応力を緩和することができる。すなわち、異なる部材を積層した発光素子において、その熱ストレスによる歪みを緩和する作用がある。さらに、その上層に形成する第２電極１０６、バリア性絶縁膜１０７はそのなだらかな曲面に沿って形成されるので、特にバリア性絶縁膜は被覆性が向上し、ＥＬ層１０５や第２電極１０６に密接して形成することができる。
【００４２】
隔壁１０４は、有機材料の組成物から形成する場合、その中に大気中の水蒸気や酸素、又は組成物中の残留有機ガスなどを含むので、図５の場合には、ＥＬ層１０５の形成に先立って減圧下で１００〜２００℃の加熱処理を０．５〜１時間程度行い、脱気処理を行う。その後、大気開放せずにＥＬ層を形成する。
【００４３】
一方、図６に示す構成は、隔壁１０４上に第２のバリア性絶縁膜を形成する一例であり、この構造では製造工程に必要なマスクの数が一枚増えるが、隔壁１０４からの脱気の影響、すなわちＥＬ層１０５への汚染の影響をさらに低下させることができる。
【００４４】
図７は、感光性ネガ型の有機樹脂で形成する一例を示している。感光性ネガ型の有機樹脂としてはアクリル、ポリイミドなどの感光性組成物を使用する。この組成物を基板１０１上に塗布して、フォトマスクを用いて露光すれば、そのマスクパターンに依存する所望の位置に開口部を形成することができる。厚さは１〜３μｍ、好ましくは１．５〜２μｍとする。特徴的な断面形状は、下端部から上端部にかけて開口が広がる１０〜３０度の傾斜角θ１と、３０〜８０度の傾斜角θ２を有し、第１電極と接する下端部で隔壁の外側に中心がある少なくとも一つの第１の曲率半径Ｒ２と、隔壁の上端部で、隔壁又はその下層側に中心がある少なくとも一つの第２の曲率半径Ｒ１とを有している。曲率半径Ｒ１は０．２〜２μｍであり、その連続する曲面において連続的に曲率が変化する形状としても良い。
【００４５】
図７（Ｂ）で示すように、ＥＬ層１０５はその曲面形状に沿って形成され、その曲面形状により、特に図７（Ｂ）中点線で囲む部位１１０の応力を緩和することができる。すなわち、異なる部材を積層した発光素子において、その熱ストレスによる歪みを緩和する作用がある。さらに、その上層に形成する第２電極１０６、バリア性絶縁膜１０７はそのなだらかな曲面に沿って形成されるので、特にバリア性絶縁膜は被覆性が向上し、ＥＬ層１０５や第２電極１０６に密接して形成することができる。
【００４６】
図１３は、第２電極上に形成するバリア性の絶縁膜における他の形態であり、バリア性の絶縁膜１０７上に吸湿性の有機化合物膜１８０を形成し、その上にさらにバリア性の絶縁膜１８１を形成した形態である。この積層の繰り返しを複数回積層しても良い。この構成により、バリア性の絶縁膜にピンホールなどの欠陥があっても、ＥＬ層に外因性の不純物が悪影響を及ぼす確率を最小化することができる。吸湿性の有機化合物膜１８０は吸湿性であり失透しない有機化合物層が適しており、上述したＥＬ層に適用する有機材料などはそれに該当する。
【００４７】
なお、図５〜図７及び図１３では、いずれも隔壁１０４を有機樹脂材料で形成する態様を例示したが、本発明ではその構成材料に特に限定はなく、同様の形状が得られる物であれば、無機材料を用いても良い。無機材料としては、電気絶縁性であり、スピン塗布で形成する酸化シリコン膜や、プラズマＣＶＤ法やスパッタリング法で形成される酸化シリコン膜などを用いても良い。
【００４８】
発光素子において重要なＥＬ層は種々の形態をとることが可能である。図８は高分子系有機化合物と低分子系有機化合物を組み合わせた発光素子の一例であり、第１電極１０２上に隔壁１０４を形成し、まず正孔輸送性の導電性高分子層１２０を形成する。これは、ポリ（エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）水溶液（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を全面に塗布して焼成する。また、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳはＩＴＯ膜上に塗布すると濡れ性があまりよくないため、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ溶液をスピンコート法で１回目の塗布を行った後、一旦純水で洗浄することによって濡れ性を向上させ、再度、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ溶液をスピンコート法で２回目の塗布を行い、焼成を行って均一性良く成膜することが好ましい。なお、１回目の塗布を行った後、一旦純水で洗浄することによって表面を改質するとともに、微小な粒子なども除去できる効果が得られる。この場合、膜厚は４０〜１００ｎｍ程度とするが、導電性高分子層１２０を水溶液で塗布するので、その膜厚は一様に形成されない。隔壁１０５が形成されていない開口部にほぼ選択的に形成され、隔壁の曲面に沿って薄くなりその上部では殆ど被膜として残存しない形態となる。導電性高分子層１２０上には、真空蒸着法でα−ＮＰＤによる正孔輸送層１２１、キナクリドンを０．２〜１．５ｗｔ％含むＡｌｑ３による発光層１２２、Ａｌｑ３による電子注入輸送層１２３を形成する。
【００４９】
図９は三重項励起材料で発光体を形成する一例を示している。第１電極上の正孔注入輸送層１２４は、３０ｎｍの銅フタロシアニン（Ｃｕ−Ｐｃ）と４０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］−ビフェニル（以下、α−ＮＰＤと示す）を真空蒸着法で形成する。発光層１２５は、４．４’−ジカルバゾール−ビフェニル（以下、ＣＢＰと示す）を用い、発光性の有機化合物であるトリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）と共に共蒸着することにより３０ｎｍの膜厚で形成する。次いで、発光効率を高める手法として正孔ブロッキング層１２６を形成するが、これはバソキュプロイン（以下、ＢＣＰと示す）を１０ｎｍの膜厚で形成する。電子注入輸送層１２７は、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を４０ｎｍの膜厚で形成している。
【００５０】
図１０は白色発光を呈する発光素子の構成を示す図である。白色発光の場合、ＥＬ層に含まれる単一の色素で白色発光が得られない場合は、複数の色素を発光中心として使用し、同時に発光させて加法混色により白色化する。この場合には、異なる発光色を有する発光層を積層する方法や、一つ又は複数の発光層に複数の発光中心を含有させる方法などを適用することができる。図１０はその前者の場合であり、第１電極１０２上に正孔注入輸送層１２４、青色発光層１２８、緑色発光層１２９、赤色発光層１３０、電子注入輸送層１２７を積層した形態である。低分子系発光材料を用いる具体的な一例は、具体的には、正孔輸送層１２４としてｐ−ＥｔＴＡＺを適用し３ｎｍにすると、ｐ−ＥｔＴＡＺ層中の正孔通過量が増えて緑色発光層１２９として用いるＡｌｑ３にも正孔が注入されて発光が得られる。この構造においては青色発光層１２８としてＴＰＤの青色にＡｌｑ３の緑色が混ざった青緑色の発光が得られる。この発光に赤色を加え白色発光を実現するには赤色発光層１３０としてＡｌｑ３かＴＰＤのどちらかに赤色発光色素をドープすれば良い。赤色発光色素としてはナイルレッドなどを適用することができる。
【００５１】
また、図示しないが、二層構造とする場合は、正孔注入輸送層上に、高分子系有機発光媒体を用いる一例がある。２０ｎｍ程度のＴＡＺ及びＰＶＫ（ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール））を形成した３層構造とするものである。注入された電子及び正孔の再結合はＰＶＫで起こり、短波長にピークを持つカルバゾール基が励起され発光する。これに長波長光の発光を加えるために適当な色素をドープすると白色発光を得ることができる。例えば、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエニン（ＴＰＢ）を２〜３ｍｏｌ％ドープすることにより４５０ｎｍの発光が得られ、緑や赤もクマリン６やＤＣＭ１をドープすることにより得ることができる。いずれにしても白色発光を得るには多種の色素をＰＶＫ中にドープして可視光域全体をカバーすれば良い。
【００５２】
また、バイポオーラ性の高分子系発光材料を用いる場合には、多種の色素を分散させることにより白色発光を得ることができる。バイポオーラ性の高分子系発光材料としては、ホール輸送性のＰＶＫに電子輸送性のＰＢＤを分散する方法や、電気的に不活性な高分子中に電子輸送性のＡｌｑとホール輸送性の芳香族アミンを分子分散する方法などがある。
【００５３】
図８〜図１０で例示した発光素子の構成において、この構造において、電子注入輸送層を無機電子注入輸送材料で形成しても良い。無機電子輸送材料としてはｎ型化したダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）を適用することができる。ＤＬＣ膜のｎ型化には燐などを適宜ドープすれば良い。その他に、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、及びランタノイド系元素から選択される一種の酸化物と、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｒｕ、Ｓｍ、Ｉｎから選択される１種以上の無機材料を適用することができる。
【００５４】
白色発光する発光性の画素をマトリクス状に配設して、多色表示を行う場合には、各画素に対応して顔料及び／又は染料を含む着色層を配設する。また、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）に発光する画素に対応して、同色の着色層を配設しても、色純度を向上させることが可能であり、多色表示における画質を向上させることができる。その場合、三色の発光性の画素の内、Ｒ（赤）とＧ（緑）、又はＧ（緑）に発光する画素において、前述の三重項励起材料を用いることができる。
【００５５】
図１で示す表示装置の断面図を図１１で示し、画素部２０１を封止する対向基板１５０がシール材１４１で固着されている形態を示している。基板１０１と対向基板１５０との間の空間には、不活性気体が充填されていても良いし、有機樹脂材料１４０を封入しても良い。いずれにしても、画素部２０１における発光素子は、バリア性の絶縁膜１０７で被覆されているので、乾燥材などを特段設けなくても外因性の不純物による劣化を防ぐことができる。
【００５６】
画素部２０１の各画素に対応して、対向基板１０５側に着色層１４２〜１４４が形成されている。平坦化層１４５は着色層による段差を防いでいる。また、図１１（Ｂ）は基板１０１側に着色層１４２〜１４４を設けた構成であり、平坦化膜１４５の上に第１電極１０２が形成されている。他の構成は同じである。
【００５７】
より軽量化を図る表示装置の構成は、図１２に示されている。第１電極１０２上の画素部２０１の構成は同じである。主な相違点は、図１２（Ａ）で示すように、基板１０１と第１電極１０２との間にアクリルやポリイミドなどの有機樹脂層１６０を１〜２０μｍの厚さで形成し、それと第１電極１０２との間にはバリア性の絶縁膜１６１が形成されている点である。対向基板側の構成も同様であり、図１２（Ｂ）で示すように対向基板１５０と着色層との間に有機樹脂層１６２が１〜２０μｍの厚さで形成され、さらにバリア性の絶縁膜１６３が形成されている。この２枚の基板を接着性の樹脂１５５で固着した後、基板１０１、対向基板１５０を除去する。
【００５８】
基板は機械研磨で除去しても良いが、ガラスを素材とする場合には化学エッチングで除去することもできる。その場合、有機樹脂層１６０、１６２がエッチングストッパーとなる。化学エッチングはフッ酸系のエッチング液に含浸させて行う。エッチング液は５０％のフッ酸と９６％硫酸を４対１の割合で混合して４０〜４５℃で基板１０１と対向基板１５０を同時にエッチングする。
【００５９】
図１２（Ｃ）は、基板を除去した状態を示している。この状態で、２枚の基板を張り合わせた間隔を１０μｍと見積もっても、有機樹脂層１６０と１６２の厚さ２〜４０μｍを合わせて概略５０μｍの厚さを実現することができる。図１２（Ｃ）では、さらに、最表面の保護膜１６４、１６５として、スパッタリング法でポリテトラフルオロエチレンを形成している。
【００６０】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において種々の態様をとることができる。例えば、図１で示す画素部２０１を、発光色の異なる複数の領域に区分けして表示するエリアカラーの表示装置を実現することができる。
【００６１】
また、本発明を用いて、携帯情報端末（電子手帳、モバイルコンピュータ、携帯電話など）、ビデオカメラ、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、テレビ受像器、携帯電話などを完成させることができる。
【００６２】
図１４（Ａ）は本発明を適用してテレビ受像器を完成させる一例であり、筐体３００１、支持台３００２、表示部３００３などにより構成されている。図１４（Ｂ）は本発明を適用してビデオカメラを完成させた一例であり、本体３０１１、表示部３０１２、音声入力部３０１３、操作スイッチ３０１４、バッテリー３０１５、受像部３０１６などにより構成されている。図１４（Ｃ）は本発明を適用してノート型のパーソナルコンピュータを完成させた一例であり、本体３０２１、筐体３０２２、表示部３０２３、キーボード３０２４などにより構成されている。図１４（Ｄ）は本発明を適用してＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）を完成させた一例であり、本体３０３１、スタイラス３０３２、表示部３０３３、操作ボタン３０３４、外部インターフェース３０３５などにより構成されている。図１４（Ｅ）は本発明を適用して音響再生装置を完成させた一例であり、具体的には車載用のオーディオ装置であり、本体３０４１、表示部３０４２、操作スイッチ３０４３、３０４４などにより構成されている。図１４（Ｆ）は本発明を適用してデジタルカメラを完成させた一例であり、本体３０５１、表示部（Ａ）３０５２、接眼部３０５３、操作スイッチ３０５４、表示部（Ｂ）３０５５、バッテリー３０５６などにより構成されている。図１４（Ｇ）は本発明を適用して携帯電話を完成させた一例であり、本体３０６１、音声出力部３０６２、音声入力部３０６３、表示部３０６４、操作スイッチ３０６５、アンテナ３０６６などにより構成されている。本発明により携帯電話を完成させることができる。なお、ここで示す装置はごく一例であり、これらの用途に限定するものではない。
【００６３】
【発明の効果】
本発明において、代表的なものによって得られる効果として、以下のものが挙げられる。
【００６４】
各画素を分離する隔壁の断面形状を、第１電極（下部電極）側から上端部にかけて開口が広がる３０〜８０度の傾斜角θを有し、下端部から上端部にかけて連続した曲面形状とすることで、その曲面に沿ってＥＬ層や第２電極（上部電極）並びにバリア性の絶縁膜を形成することが可能となり、封止機密性を高めることができる。すなわち、本発明によれば、封止缶構造が不要となり、仮にそれに類似の構造を採用したとしても、乾燥剤を封入する必要がないので工程が簡略化され、信頼性も向上させることができる。
【００６５】
各画素を分離する隔壁の断面形状を下端部から上端部にかけて連続した曲面形状とすることで、その曲面に沿って形成されるＥＬ層や第２電極（上部電極）並びにバリア性の絶縁膜との間に熱ストレスが緩和され、すなわち応力が分散されて、発光素子の進行性の不良を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態である表示装置を示す上面図である。
【図２】図１で示す表示装置における画素部の詳細を示す上面図である。
【図３】図２で示す画素部の詳細において、Ａ−Ａ’線とＢ−Ｂ’線に対応する縦断面図である。
【図４】図３に対応する画素部の縦断面図であり異なる発光色のＥＬ層が形成された構成を示す縦断面図である。
【図５】隔壁とそれを含む画素の詳細を説明する縦断面図である。
【図６】隔壁とそれを含む画素の詳細を説明する縦断面図である。
【図７】隔壁とそれを含む画素の詳細を説明する縦断面図である。
【図８】ＥＬ層の詳細を説明する縦断面図である。
【図９】ＥＬ層の詳細を説明する縦断面図である。
【図１０】ＥＬ層の詳細を説明する縦断面図である。
【図１１】図１で示す表示装置の断面図であり、着色層と画素部の各画素の配列を説明する縦断面図である。
【図１２】基板をエッチングしてより軽量化を図る表示装置の構成とその作製工程を説明する図である。
【図１３】図２で示す画素部の詳細において、Ａ−Ａ’線に対応する縦断面図である。
【図１４】本発明により完成する電子装置の一例を説明する図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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