(57)【要約】【課題】スピンナー法によってガラス基板上にフォトレジストの塗布膜を形成する際に、ガラス基板の周縁部に発生するレジストビードの除去装置において、処理液に溶解しにくいブラックマトリックス用の塗布膜であっても、着色画素の塗布膜が通常より厚くても、ガラス基板の四隅にレジストビードを残存させないレジストビード除去装置を提供すること。【解決手段】処理液供給部１１の上あご板１８Ａが、その巾方向の両端に、上あご板を延長した突き部１８Ａ２を有し、上方リンス液・クリーンエアー供給部１３Ａの上方リンス液噴出口１６Ａ及び上方クリーンエアー噴出口１７Ａの配列が、突き部の形状に追従した突き部状の配列であること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、ガラス基板端が挿入される凹部を有する処理液供給部と、挿入される該ガラス基板端の上方及び下方に設けられたリンス液・クリーンエアー供給部で構成されるヘッド部を具備する、ガラス基板周縁部のレジストビードを除去するレジストビード除去装置において、
１）該凹部上方の上あご板が、その巾方向の両端で、上あご板を基板に平行に延長した突き部を有する上あご板であり、
２）上方リンス液・クリーンエアー供給部の上方リンス液噴出口と上方クリーンエアー噴出口の配列が、上方リンス液・クリーンエアー供給部の巾方向で、且つ平行であり、
３）該上方リンス液噴出口の配列が、該上方リンス液・クリーンエアー供給部の底部の後方向位置に、該上方クリーンエアー噴出口の配列が、上方リンス液・クリーンエアー供給部の底部の前方向位置にあり、
両配列が、該上方リンス液・クリーンエアー供給部の両端にて、上記突き部の形状に追従した配列であることを特徴とするレジストビード除去装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの製造装置に関するものであり、特に、ガラス基板上にフォトレジストの塗布膜を形成する際のレジストビード除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図３は、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図４は、図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図３、及び図４に示すように、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４２）、及び着色画素（４１）が形成されたものである。
【０００３】
ブラックマトリックス（４２）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４１）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００４】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のブラックマトリックスを具備したカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックス（４２）を形成してブラックマトリックス基板を製造し、次に、このブラックマトリックス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素（４１）を形成しカラーフィルタを製造するといった方法が広く用いられている。
【０００５】
このブラックマトリックス（４２）の形成は、ガラス基板上に、例えば、黒色色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によってブラックマトリックスを形成するといった方法がとられている。また、着色画素（４１）の形成は、このブラックマトリックス基板上に、例えば、フィルタ機能を有する色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
この際、これらネガ型のフォトレジストをガラス基板上に塗布する方法としては、ロールコート法、スリットコート法、スピンナー法などが用いられている。
【０００６】
図６（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）はスピンナー法によりフォトレジストがガラス基板上に塗布された際のフォトレジスト膜の状態を示す説明図である。
図６（イ）はガラス基板上に塗布されたフォトレジスト膜の状態を示す平面図であり、図６（ロ）は図６（イ）のＸ−Ｘ’線の断面図、図６（ハ）はＹ−Ｙ’線の断面図、図６（ニ）はＺ−Ｚ’線の断面図である。
【０００７】
図６（ロ）、（ハ）、（ニ）に示すように、スピンナー法によりフォトレジストがガラス基板（６０）上に塗布された際のフォトレジストの塗布膜（６２）は、ガラス基板（６０）の周縁部（６６）において、その膜厚が周縁部以外の部分より厚く（６３）なり、四隅においては、特に厚く（６３’）なり周縁部以外の部分の厚さの略１．５倍に達する。また、基板（６０）の端面部（６７）においても、フォトレジストが塗布されてしまい、図６（ロ）の（６４）は、その塗布された状態を示したものである。
【０００８】
上記、ガラス基板（６０）の周縁部（６６）におけるフォトレジストの膜厚が厚い状態の部分（６３、６３’）をレジストビードと称している。
そして、このような周縁部（６６）におけるレジストビード（６３、６３’）の発生は、フォトレジストをガラス基板上に塗布する前記の各種方法の中では、スピンナー法による塗膜において著しい傾向を示す。
【０００９】
このようなレジストビード（６３、６３’）は、このままの状態では画像形成時における、例えば、露光用フォトマスクとガラス基板を密着させる際に、密着が不完全になる原因となることがある。
また、このようなレジストビード（６３、６３’）は、非露光部であるので硬化せず、本来は画像形成時における露光後の現像処理によって溶解されるものではあるが、現像処理後においても、その一部が残ってしまうことがある。この残存したレジストビードは、例えば、表示装置用基板を作成する後工程において、レジストビードの成分が溶出し表示装置用基板を作成する後工程に悪影響を及ぼすことがある。
【００１０】
また、このような現像処理後においても、その一部が残ってしまうレジストビードは、例えば、表示装置を作成する後工程において、表示装置を構成しているガラス基板間の間隙を正確に設定することができなくなる、といった問題を引き起こす原因となることがある。
【００１１】
従って、フォトレジストを用いて、ブラックマトリックスや着色画素を形成する際には、このようなレジストビードを除去するために、例えば、フォトレジストがガラス基板上に塗布、初期乾燥された直後において、或いは、パターンが露光され現像される直前において、ガラス基板の周縁部のレジストビードを溶解して除去する方法が採用されている。
図５は、このようなレジストビードを除去するレジストビード除去装置のヘッド部（５０）の一例を説明する断面図である。
【００１２】
図５（イ）に示すように、ヘッド部（５０）は、処理液供給部（５１）、上方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ａ）、下方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ｂ）、フレーム（７１）などで構成されている。
フォトレジストが塗布されたガラス基板（１）の端部は、処理液供給部（５１）の上あご板（５８Ａ）と下あご板（５８Ｂ）間の凹部に挿入され、この凹部に供給された斜線で示す処理液、例えば、フォトレジストの現像液によって、ガラス基板（１）の周縁部のレジストビード（７０）及び端面部のフォトレジストが溶解されるようになっている。
【００１３】
レジストビード及びフォトレジストが溶解されると、図５（ロ）に示すように、ガラス基板（１）は、凹部外に搬出され、上方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ａ）と下方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ｂ）との間に静止される。
そして、この状態でフォトレジストを溶解した現像液は、ポンプ（５９）を経て排出口（７２）から排出される。
【００１４】
次に、リンス液、例えば、純水がガラス基板（１）の上方及び下方に位置する、上方リンス液パイプ（５４Ａ）及び下方リンス液パイプ（５４Ｂ）から供給され、実線矢印で示すように、上方リンス液噴出口（５６Ａ）及び下方リンス液噴出口（５６Ｂ）から噴出する。
同時に、クリーンエアーが、上方クリーンエアーパイプ（５５Ａ）及び下方クリーンエアーパイプ（５５Ｂ）から供給され、点線矢印で示すように、上方クリーンエアー噴出口（５７Ａ）及び下方クリーンエアー噴出口（５７Ｂ）から噴出する。
【００１５】
これら噴出した純水及びクリーンエアーは、ガラス基板（１）の端部の表裏を洗浄する。端部を洗浄した純水及びクリーンエアーは、実線矢印及び点線矢印で示すように、ポンプ（５９）及び外部からの吸引により排出口（７２）から排出される。
尚、上方リンス液噴出口（５６Ａ）及び下方リンス液噴出口（５６Ｂ）の配列は、上方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ａ）及び下方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ｂ）の巾方向の一直線上である。また、同様に、上方クリーンエアー噴出口（５７Ａ）及び下方クリーンエアー噴出口（５７Ｂ）の配列は、上方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ａ）及び下方リンス液・クリーンエアー供給部（５３Ｂ）の巾方向の一直線上で、上方リンス液噴出口（５６Ａ）及び下方リンス液噴出口（５６Ｂ）の配列と平行である。
【００１６】
純水は、リンスに要する一定時間の経過後にその噴出は停止されるが、クリーンエアーは、その後も噴出を継続しガラス基板（１）の端部の表裏の水分を除去する。
【００１７】
図７（イ）は、このようなヘッド部（５０）が使用される状態を説明する平面図である。ヘッド部（５０）によって、先ずガラス基板（１）の長辺のａ辺、ｂ辺のレジストビードが除去され、次にガラス基板（１）の短辺のｃ辺、ｄ辺のレジストビードが除去される。
図７（ロ）は、ａ辺、ｂ辺のレジストビードが除去された状態のガラス基板であり、図７（ロ）は、さらにｃ辺、ｄ辺のレジストビードが除去された状態のガラス基板である。レジストビードが除去された部分は、斜線のない白地で示した部分である。
【００１８】
しかし、このようなヘッド部（５０）により周縁部のレジストビードを除去しても、レジストビードの一部が、図７（ハ）に（Ａ）で示す部分、すなわち、ガラス基板（１）の四隅にレジストビードの一部が溶解されずに残存してしまうことがある。
これは、前記のように、ガラス基板の周縁部において、特に、四隅ではレジストビード（６３’）の厚さが厚くなっているために発生することである。
【００１９】
一般に、ブラックマトリックスを形成する際の塗布膜の厚さは、着色画素の塗布膜より厚く、また、ブラックマトリックス用のフォトレジストは、着色画素用のフォトレジストに比較して、処理液に溶解しにくいものである。
従って、ブラックマトリックスを形成する際の塗布膜において、四隅でのレジストビードの残存が発生し易くなる。
また、着色画素の厚さを、通常より厚く形成する際の塗布膜においては、四隅でのレジストビード（６３’）の厚さは、通常より厚くなるので、同様に、四隅でのレジストビードの残存が発生し易くなる。
【００２０】
そこで、このような場合には、やむを得ず、レジストビードを溶解させる処理時間を十分にとり、四隅にレジストビードが残存しないようにするが、レジストビード除去装置のタクトタイムは長くなり、製造ラインの生産能力に影響を及ぼすことになる。
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものある。すなわち、例えば、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタを製造する場合の、フォトレジストを用いて、ブラックマトリックスや着色画素を形成する際のように、スピンナー法によってガラス基板上にフォトレジストの塗布膜を形成する際には、ガラス基板の周縁部に発生するレジストビードを除去するが、このレジストビードの除去に使用するレジストビード除去装置において、フォトレジストの塗布膜が処理液に溶解しにくいブラックマトリックス用の塗布膜であっても、或いは、着色画素の塗布膜が通常より厚い塗布膜であっても、ガラス基板の四隅にレジストビードを残存させることのないレジストビード除去装置を提供することを課題とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、少なくとも、ガラス基板端が挿入される凹部を有する処理液供給部と、挿入される該ガラス基板端の上方及び下方に設けられたリンス液・クリーンエアー供給部で構成されるヘッド部を具備する、ガラス基板周縁部のレジストビードを除去するレジストビード除去装置において、
１）該凹部上方の上あご板が、その巾方向の両端で、上あご板を基板に平行に延長した突き部を有する上あご板であり、
２）上方リンス液・クリーンエアー供給部の上方リンス液噴出口と上方クリーンエアー噴出口の配列が、上方リンス液・クリーンエアー供給部の巾方向で、且つ平行であり、
３）該上方リンス液噴出口の配列が、該上方リンス液・クリーンエアー供給部の底部の後方向位置に、該上方クリーンエアー噴出口の配列が、上方リンス液・クリーンエアー供給部の底部の前方向位置にあり、
両配列が、該上方リンス液・クリーンエアー供給部の両端にて、上記突き部の形状に追従した配列であることを特徴とするレジストビード除去装置である。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明によるレジストビード除去装置のヘッド部の一実施例を示す断面図である。
図１に示すレジストビード除去装置のヘッド部（１０）は、処理液供給部（１１）、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）、フレーム（２１）などで構成されている。
【００２４】
処理液供給部（１１）には、処理液、例えば、現像液を供給する供給パイプ（１２）が設けられており、この供給パイプ（１２）からの現像液が二重斜線で示す凹部へ供給されるようになっている。
【００２５】
図８は、図１に示す凹部上方の上あご板（１８Ａ）の説明図である。図８（イ）は平面図、（ロ）は、図８（イ）におけるａ−ａ’線の断面図、（ハ）は、図８（イ）におけるｂ−ｂ’線の断面図、（ニ）は、上あご板（１８Ａ）の斜視図である。
図８（イ）〜（ニ）に示すように、本発明における上あご板（１８Ａ）は、その巾方向（ｃ）の両端に、上あご板を延長した突き部（１８Ａ２）を有し、平面視凹状としたものである。
【００２６】
突き部（１８Ａ２）以外の部分、すなわち、上あご板中央部（１８Ａ１）は、切欠き状をしているが、上あご板中央部（１８Ａ１）の前後方向の大きさ（ｅ）は、図５（イ）に示す、上あご板（５８Ａ）の前後方向の大きさ（ｆ）と同じ大きさである。また、下あご板（１８Ｂ）の前後方向の大きさ（ｇ）は、図１、図８に示すように、上あご板の突き部（１８Ａ２）の前後方向の大きさ（ｄ）と同じ大きさである。
従って、上あご板（１８Ａ）と下あご板（１８Ｂ）間の凹部に挿入されたガラス基板端は、その両端の前方方向（ｈ）において、現像液が従来より多く供給されることになる。
【００２７】
挿入されるガラス基板（１）端の上方の、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）には、リンス液を供給する上方リンス液パイプ（１４Ａ）が設けられており、ここからリンス液、例えば、純水が供給され、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）の底部に設けられた上方リンス液噴出口（１６Ａ）から純水が噴出されるようになっている。
また、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）には、クリーンエアーを供給する上方クリーンエアーパイプ（１５Ａ）が設けられており、ここからクリーンエアーが供給され、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）の底部に設けられた上方クリーンエアー噴出口（１７Ａ）からクリーンエアーが噴出されるようになっている。
上方クリーンエアー噴出口（１７Ａ）は、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）の底部において、上方リンス液噴出口（１６Ａ）より前方方向（ｈ）の位置に設けられている。
【００２８】
同様に、挿入されるガラス基板端の下方の、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）には、リンス液を供給する下方リンス液パイプ（１４Ｂ）が設けられており、ここからリンス液、例えば、純水が供給され、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）の上部に設けられた下方リンス液噴出口（１６Ｂ）から純水が噴出されるようになっている。
また、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）には、クリーンエアーを供給する下方クリーンエアーパイプ（１５Ｂ）が設けられており、ここからクリーンエアーが供給され、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）の上部に設けられた下方クリーンエアー噴出口（１７Ｂ）からクリーンエアーが噴出されるようになっている。
下方クリーンエアー噴出口（１７Ｂ）は、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）の上部において、下方リンス液噴出口（１６Ｂ）より前方方向（ｈ）の位置に設けられている。
【００２９】
図９（イ）は、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）の底部に設けられた、上方リンス液噴出口（１６Ａ）及び上方クリーンエアー噴出口（１７Ａ）の配列を説明する斜視図である。また、図９（ロ）は、底部の、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）の内部からの平面図である。
図９（イ）、（ロ）に示すように、上方リンス液噴出口（１６Ａ）は、前記上あご板（１８Ａ）の上あご板中央部（１８Ａ１）に対応した、上方リンス液噴出口中央部（１６Ａ１）と、突き部（１８Ａ２）に対応した、上方リンス液噴出口端部（１６Ａ２）で構成されている。
【００３０】
上方リンス液噴出口中央部（１６Ａ１）における噴出口の配列は、上あご板中央部（１８Ａ１）の形状に追従して一直線上に配列されており、また、巾方向（ｃ）の両端の上方リンス液噴出口端部（１６Ａ２）における噴出口の配列は、突き部（１８Ａ２）の形状に追従して、前方方向（ｈ）に位置替えした突き部状の配列となっている。
【００３１】
同様に、上方クリーンエアー噴出口（１７Ａ）は、前記上あご板（１８Ａ）の上あご板中央部（１８Ａ１）に対応した、上方クリーンエアー噴出口中央部（１７Ａ１）と、突き部（１８Ａ２）に対応した、上方クリーンエアー噴出口端部（１７Ａ２）で構成されている。
上方クリーンエアー噴出口中央部（１７Ａ１）における噴出口の配列は、上あご板中央部（１８Ａ１）の形状に追従して一直線上に配列されており、また、巾方向（ｃ）の両端の上方クリーンエアー噴出口端部（１７Ａ２）における噴出口の配列は、突き部（１８Ａ２）の形状に追従して、前方方向（ｈ）に位置替えした突き部状の配列となっている。
また、上方リンス液噴出口（１６Ａ）と上方クリーンエアー噴出口（１７Ａ）は、平行に配列されている。
【００３２】
尚、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）の上部に設けられた下方リンス液噴出口（１６Ｂ）及び下方クリーンエアー噴出口（１７Ｂ）の配列は、各々、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）の巾方向の一直線上であり、下方リンス液噴出口（１６Ｂ）及び上方クリーンエアー噴出口（１７Ｂ）は平行である。
【００３３】
従って、前記のように、上あご板（１８Ａ）と下あご板（１８Ｂ）間の凹部に挿入されたガラス基板端は、その両端の前方方向（ｈ）において、現像液が従来より多く供給されることになるが、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）の底部に設けられた、上方リンス液噴出口（１６Ａ）及び上方クリーンエアー噴出口（１７Ａ）の配列、及び、下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）の上部に設けられた下方リンス液噴出口（１６Ｂ）及び下方クリーンエアー噴出口（１７Ｂ）の配列が上記のような配列であるので、現像液が従来より多く供給される部分に純水及びクリーンエアーは十分に供給されることになる。
よって、溶解されたフォトレジストを完全に洗い流すことができるものとなる。
【００３４】
また、ヘッド部（１０）の底部には、フォトレジストを溶解した現像液、ガラス基板の表裏をリンスしたリンス液、例えば、純水、クリーンエアー、及び流入した外気が排出される排出口（２２）が設けられている。
【００３５】
図１に示すように、フォトレジストが塗布されたガラス基板（１）の端部は、処理液供給部（１１）の上あご板（１８Ａ）と下あご板（１８Ｂ）間の凹部に挿入され、この凹部に供給された斜線で示す処理液、例えば、フォトレジストの現像液によって、ガラス基板（１）の周縁部のレジストビード（２０）及び端面部のフォトレジストが溶解される。
レジストビード及びフォトレジストが溶解されると、図２に示すように、ガラス基板（１）は、凹部外に搬出され、上方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ａ）と下方リンス液・クリーンエアー供給部（１３Ｂ）との間に静止される。そして、この状態でフォトレジストを溶解した現像液は、ポンプ（１９）を経て排出口（２２）から排出される。
【００３６】
次に、リンス液、例えば、純水がガラス基板（１）の上方及び下方に位置する、上方リンス液パイプ（１４Ａ）及び下方リンス液パイプ（１４Ｂ）から供給され、実線矢印で示すように、上方リンス液噴出口（１６Ａ）及び下方リンス液噴出口（１６Ｂ）から噴出する。
同時に、クリーンエアーが、上方クリーンエアーパイプ（１５Ａ）及び下方クリーンエアーパイプ（１５Ｂ）から供給され、点線矢印で示すように、上方クリーンエアー噴出口（１７Ａ）及び下方クリーンエアー噴出口（１７Ｂ）から噴出する。
【００３７】
これら噴出した純水及びクリーンエアーは、ガラス基板（１）の端部の表裏を洗浄する。端部を洗浄した純水及びクリーンエアーは、実線矢印及び点線矢印で示すように、ポンプ（１９）及び外部からの吸引により排出口（２２）から排出される。
純水は、リンスに要する一定時間の経過後にその噴出は停止されるが、クリーンエアーは、その後も噴出を継続しガラス基板（１）の端部の表裏の水分を除去する。
【００３８】
図１０（イ）は、このようなヘッド部（１０）が使用される状態を説明する平面図である。ヘッド部（１０）によって、先ずガラス基板（１）の長辺のａ辺、ｂ辺のレジストビードが除去され、次にガラス基板（１）の短辺のｃ辺、ｄ辺のレジストビードが除去される。
図１０（ロ）は、ａ辺、ｂ辺、ｃ辺、ｄ辺のレジストビードが除去された状態のガラス基板である。レジストビードが除去された部分は、斜線のない白地で示した部分である。
【００３９】
図１０（ロ）に（Ａ）で示す、ガラス基板（１）の四隅には処理液が十分に供給されるために、レジストビードは完全に溶解され、また、純水及びクリーンエアーが十分に供給されるために、溶解されたフォトレジストを完全に洗い流すことができ、レジストビードの一部が残留することはない。
【００４０】
【発明の効果】
本発明は、少なくとも処理液供給部とリンス液・クリーンエアー供給部で構成されるヘッド部を具備するレジストビード除去装置において、処理液供給部の上あご板が、その巾方向の両端に、上あご板を延長した突き部を有する上あご板であり、上方リンス液・クリーンエアー供給部の上方リンス液噴出口及び上方クリーンエアー噴出口の配列が、上方リンス液・クリーンエアー供給部の両端にて、上記突き部の形状に追従した突き部状の配列であるので、フォトレジスト塗布膜が処理液に溶解しにくいブラックマトリックス用の塗布膜であっても、或いは、着色画素の塗布膜が通常より厚い塗布膜であっても、ガラス基板の四隅にレジストビードを残存させることのないレジストビード除去装置となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるレジストビード除去装置のヘッド部の一実施例を示す断面図である。
【図２】本発明によるレジストビード除去装置のヘッド部の一実施例を示す断面図である。
【図３】液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図４】図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図５】レジストビードを除去するレジストビード除去装置のヘッド部の一例を説明する断面図である。
【図６】（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）はスピンナー法によりフォトレジストがガラス基板上に塗布された際のフォトレジスト膜の状態を示す説明図である。
【図７】（イ）は、ヘッド部が使用される状態を説明する平面図である。
（ロ）は、ａ辺、ｂ辺のレジストビードが除去された部分の説明図である。
（ハ）は、四隅にレジストビードの一部が残存した説明図である。
【図８】（イ）は、凹部上方の上あご板の平面図である。
（ロ）は、ａ−ａ’線の断面図である。
（ハ）は、ｂ−ｂ’線の断面図である。
（ニ）は、上あご板の斜視図である。
【図９】（イ）は、上方リンス液噴出口及び上方クリーンエアー噴出口の配列を説明する斜視図である。
（ロ）は、上方リンス液・クリーンエアー供給部の内部の平面図である。
【図１０】（イ）は、ヘッド部が使用される状態を説明する平面図である。
（ロ）は、四辺のレジストビードが除去された状態のガラス基板である。
【符号の説明】
１、４０、６０…ガラス基板
１０、５０…レジストビード除去装置のヘッド部
１１、５１…処理液供給部
１２、５２…供給パイプ
１３Ａ、５３Ａ…上方リンス液・クリーンエアー供給部
１３Ｂ、５３Ｂ…下方リンス液・クリーンエアー供給部
１４Ａ、５４Ａ…上方リンス液パイプ
１４Ｂ、５４Ｂ…下方リンス液パイプ
１５Ａ、５５Ａ…上方クリーンエアーパイプ
１５Ｂ、５５Ｂ…下方クリーンエアーパイプ
１６Ａ、５６Ａ…上方リンス液噴出口
１６Ｂ、５６Ｂ…下方リンス液噴出口
１６Ａ１…上方リンス液噴出口中央部
１６Ａ２…上方リンス液噴出口端部
１７Ａ、５７Ａ…上方クリーンエアー噴出口
１７Ｂ、５７Ｂ…下方クリーンエアー噴出口
１７Ａ１…上方クリーンエアー噴出口中央部
１７Ａ２…上方クリーンエアー噴出口端部
１８Ａ、５８Ａ…上あご板
１８Ｂ、５８Ｂ…下あご板
１８Ａ１…上あご板中央部
１８Ａ２…上あご板を延長した突き部
１９、５９…ポンプ
２０、７０…レジストビード
２１、７１…フレーム
２２、７２…排出口
４１…着色画素
４２…ブラックマトリックス
６２…フォトレジストの塗布膜
６６…周縁部
６７…端面部
６３、６３’、７０…レジストビード
６４…端面部のフォトレジスト
【図１】
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【図２】
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【図３】
2004117536.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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