(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルの誘電体層に好適に用いられ、特に前面板の誘電体層に好適に用いられるガラス材料であって、６００℃以下での焼成が可能で、３０〜３５０℃の温度範囲において６０〜９０×１０−７／℃の熱膨張係数を有し、低誘電率で、Ａｇと反応せず、耐水性があり、更に高い光透過性を有するプラズマディスプレイパネル用誘電体材料を提供することを課題とする。【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、組成として、重量％で、ＰｂＯ：４０〜６８％、Ｂ２Ｏ３：２〜１８％、ＳｉＯ２：１１〜２８％、ＺｎＯ：０．０１〜２０％、ＭｇＯ：０．０１〜２０％からなるガラス粉末を含有する。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成として、重量％で、
ＰｂＯ      ：  ４０〜６８％
Ｂ２Ｏ３    ：  ２〜１８％
ＳｉＯ２    ：  １１〜２８％
ＺｎＯ      ：  ０．０１〜２０％
ＭｇＯ      ：  ０．０１〜２０％
からなるガラス粉末を含有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用誘電体材料。
【請求項２】
組成として、重量％で、
ＰｂＯ      ：  ４０〜６８％
Ｂ２Ｏ３    ：  ２〜１８％
ＳｉＯ２    ：  １１〜２８％
ＺｎＯ      ：  ０．０１〜２０％
ＭｇＯ      ：  ０．０１〜２０％
Ａｌ２Ｏ３  ：  １５％以下
からなるガラス粉末を含有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用誘電体材料。
【請求項３】
組成として、重量％で、
ＰｂＯ      ：  ５５〜６５％
Ｂ２Ｏ３    ：  ５〜１５％
ＳｉＯ２    ：  １６〜２１％
ＺｎＯ      ：  ３〜８％
ＭｇＯ      ：  ０．５〜３％
Ａｌ２Ｏ３  ：  ２〜１０％
からなるガラス粉末を含有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用誘電体材料。
【請求項４】
組成として、重量％で、
ＰｂＯ      ：  ４０〜６８％
Ｂ２Ｏ３    ：  ２〜１８％
ＳｉＯ２    ：  １１〜２８％
ＺｎＯ      ：  ０．０１〜２０％
ＭｇＯ      ：  ０．０１〜２０％
Ａｌ２Ｏ３  ：  １５％以下
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの何れか１種以上  ：  ２０％以下
からなるガラス粉末を含有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用誘電体材料。
【請求項５】
ガラス粉末の５０％粒子径Ｄ５０を５μｍ以下に調整することを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の誘電体層の形成に用いられる誘電体材料に関する。更に詳しくは、プラズマディスプレイパネルの前面板の誘電体層の形成に好適に用いられる誘電体材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、薄型のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）が注目を浴びている。特にプラズマディスプレイパネルはその構造から大型化が容易であり、４０インチ以上の大型ＦＰＤの本命と言われている。
プラズマディスプレイパネルは、ガラス基板、電極、誘電体層、隔壁、蛍光体等から構成される背面板と、ガラス基板、電極、誘電体層、保護層等で構成される前面板とから成る。
従来、前面板及び背面板の誘電体層は、材料として低融点ガラス粉末を５００℃〜６００℃程度で焼成して形成されている。そしてこのような低融点ガラスとしては、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス等が使用され、特開平１１−１１６２７１号、特開２０００−３１３６３７号等に係る発明が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
この前面板及び背面板の誘電体層のガラス材料に求められる特性としては、
（１）．６００℃以下での焼成が可能であること。
（２）．基板のソリやガラスの亀裂を防止するため３０〜３５０℃の温度範囲において６０〜９０×１０−７／℃の熱膨張係数を有すること。
（３）．消費電力を少なくするため低い誘電率を有すること。
（４）．電極に用いられるＡｇと反応しないこと。
（５）．ガラス粉砕の際の耐水性があること。
が求められる。
更に前面板の誘電体層のガラス材料に求められる特性としては、
（６）．鮮明な画像を得るため高い光透過性を有すること。
が求められる。
ところが上記従来から提案されている低融点ガラスは、前記（１）〜（６）の特性の全てを必ずしも満足するものではなかった。
【０００４】
そこで本発明は、上記の諸特性を満たし、プラズマディスプレイパネルの誘電体層に好適に用いられ、特に前面板の誘電体層に好適に用いられる誘電体材料としてのガラス材料を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明者は種々、鋭意研究を重ねた結果、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラスにＺｎＯ及びＭｇＯを添加したガラス材料がプラズマディスプレイパネルの誘電体層、特に前面板の誘電体層に用いられる誘電体材料として上記の特性を満足し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、組成として、重量％で、ＰｂＯ：４０〜６８％、Ｂ２Ｏ３：２〜１８％、ＳｉＯ２：１１〜２８％、ＺｎＯ：０．０１〜２０％、ＭｇＯ：０．０１〜２０％からなるガラス粉末を含有することを第１の特徴としている。
また本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、組成として、重量％で、ＰｂＯ：４０〜６８％、Ｂ２Ｏ３：２〜１８％、ＳｉＯ２：１１〜２８％、ＺｎＯ：０．０１〜２０％、ＭｇＯ：０．０１〜２０％、Ａｌ２Ｏ３：１５％以下からなるガラス粉末を含有することを第２の特徴としている。
また本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、組成として、重量％で、ＰｂＯ：５５〜６５％、Ｂ２Ｏ３：５〜１５％、ＳｉＯ２：１６〜２１％、ＺｎＯ：３〜８％、ＭｇＯ：０．５〜３％、Ａｌ２Ｏ３：２〜１０％からなるガラス粉末を含有することを第３の特徴としている。
また本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、組成として、重量％で、ＰｂＯ：４０〜６８％、Ｂ２Ｏ３：２〜１８％、ＳｉＯ２：１１〜２８％、ＺｎＯ：０．０１〜２０％、ＭｇＯ：０．０１〜２０％、Ａｌ２Ｏ３：１５％以下、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの何れか１種以上：２０％以下からなるガラス粉末を含有することを第４の特徴としている。
また本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、上記第１〜４の何れかの特徴による作用効果に加えて、ガラス粉末の５０％粒子径Ｄ５０を５μｍ以下に調整することを第５の特徴としている。
【０００６】
上記第１の特徴によるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、
プラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、軟化点を４５０〜６００℃の範囲にすることができ、誘電体層形成の際、６００℃以下での焼成が可能である。また誘電体層がＡｇ電極と反応し難くすることが可能となる。軟化点が４５０℃未満であると、Ａｇ電極と反応し易く、着色するので好ましくない。また軟化点が６００℃を超えると焼成時にガラス基板が変形し易いので好ましくない。
またプラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、３０〜３５０℃の温度範囲において６０〜９０×１０−７／℃の熱膨張係数の範囲にすることができる。これによって焼成後の冷却の際に、ガラス基板との熱膨張係数の差を少なくして、ガラス基板のソリや亀裂を確実に防止することができる。
またプラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、その誘電率を１５以下とすることができ、消費電力を十分に低減することができる。
またプラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、優れた耐水性を保持できる。誘電体層用のガラス粉末の製造は、ガラスを湿式粉砕で細かく粉砕する方法もある。本材料によれば、耐水性が優れているために湿式粉砕も可能で、ガラスが水に侵食されず、よって焼成後の誘電体層の光透過性を良好に保持することができ、鮮明な画像を得ることが可能となる。耐水性が悪いとガラスの湿式粉砕の際にガラスが水に侵食され易い結果、誘電体層の光透過性が低下する。これは水の浸食によりガラスの組成が変わり、誘電体層の屈折率が局所的に変わってしまうことや、侵食によりガラス粉末の表面が粗くなり、これにより焼成の際にガラス粉末の間の隙間が増えて誘電体層に残る気泡が増えてしまうことによる。
【０００７】
また上記第２の特徴によるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、上記第１の特徴と同様の作用効果を奏する。
加えてＡｌ２Ｏ３を１５％以下含有させることで、ガラスの耐水性を一層向上させることができる。これによって湿式粉砕によるガラス粉末を用いて焼成して得られる誘電体層の光透過性をより良好にすることができる。
【０００８】
また上記第３の特徴によるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、上記第１の特徴と同様の作用効果を奏する。
特にＰｂＯを５５〜６５％、Ｂ２Ｏ３を５〜１５％、ＳｉＯ２を１６〜２１％、ＺｎＯを３〜８％、ＭｇＯを０．５〜３％とすることで、第１の特徴による場合よりも、一層良好で確実な６００℃以下での焼成を可能にし、誘電体層の３０〜３５０℃での熱膨張係数をよりガラス基板に近い熱膨張係数とし、より低誘電率によるより低い消費電力を可能とし、Ａｇ電極とのより確実な非反応、より良好な光透過性を可能にできる。
またＡｌ２Ｏ３を２〜１０％としたことで、より良好な耐水性を可能にできる。
【０００９】
また上記第４の特徴によるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、上記第１の特徴と同様の作用効果を奏する。
そして特に、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの何れか１種以上を２０％以下含有させることで、焼成される誘電体層の熱膨張係数を上げて、３０〜３５０℃でのよりガラス基板に近い熱膨張係数を可能とすると共に、焼成時におけるガラスの粘性を下げてより低温での焼成を容易に達成させることを可能とする。
【００１０】
また上記第５の特徴によるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、上記第１〜４の何れかの特徴に加えて、ガラス粉末の５０％粒子径Ｄ５０を５μｍ以下に調整することにより、このガラス粉末を用いて焼成される誘電体層の光透過性を良好にすることができる。
【００１１】
本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料について、各成分の含有範囲の限定理由を以下に説明する。なお成分組成は全て重量％で示す。
ＰｂＯの含有量は４０〜６８％とする。ＰｂＯは材料の軟化点を下げる成分であり、必須である。
ＰｂＯが４０％未満になると軟化点が高くなりすぎ、６００℃以下での焼成が困難となる。また６８％を超えると誘電率、熱膨張係数が高くなりすぎる。
ＰｂＯの含有量は、好ましくは４５〜６８％とするのがよい。
またＰｂＯの含有量は、更に好ましくは５５〜６５％とするのがよい。
【００１２】
Ｂ２Ｏ３の含有量は２〜１８％とする。Ｂ２Ｏ３はガラスの骨格を形成し、材料の軟化点を下げる成分であり、必須である。
Ｂ２Ｏ３が２％未満ではガラス化が困難となる。また１８％を超えると耐水性が不十分となり、また軟化点が下がりすぎ、Ａｇ電極との反応が起こり易くなる。
Ｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは３〜１６％とするのがよい。
またＢ２Ｏ３の含有量は、更に好ましくは５〜１５％とするのがよい。
【００１３】
ＳｉＯ２の含有量は１１〜２８％とする。ＳｉＯ２はガラスの骨格を形成し、耐水性を上げる成分であり、必須である。
ＳｉＯ２が１１％未満では耐水性が不十分となる。また２８％を超えると軟化点が高くなりすぎ、６００℃以下での焼成が困難となる。
ＳｉＯ２の含有量は、好ましくは１３〜２３％とするのがよい。
またＳｉＯ２の含有量は、更に好ましくは１６〜２１％とするのがよい。
【００１４】
ＺｎＯの含有量は０．０１〜２０％とする。ＺｎＯは材料の軟化点を下げると共に、焼成時のガラスの粘性を下げる成分であり、必須である。
ＺｎＯが０．０１％未満になると、その効果が十分に得られない。また２０％を超えると、ガラスが失透し、誘電体層の光透過性が低下する。
ＺｎＯの含有量は、好ましくは１〜１５％とするのがよい。
またＺｎＯの含有量は、更に好ましくは３〜８％とするのがよい。
【００１５】
ＭｇＯの含有量は０．０１〜２０％とする。ＭｇＯは熱膨張係数を上げると共に、焼成時のガラスの粘性を下げる成分であり、必須である。
ＭｇＯが０．０１％未満になると、その効果が十分に得られない。また２０％を超えると、ガラスが失透し、誘電体層の光透過性が低下する。
ＭｇＯの含有量は、好ましくは０．３〜１０％とするのがよい。
またＭｇＯの含有量は、更に好ましくは０．５〜３％とするのがよい。
【００１６】
Ａｌ２Ｏ３は必須ではないが、ガラスの骨格を形成し、耐水性を上げる成分ととして、１５％以下で含有させると効果がある。
Ａｌ２Ｏ３が１５％を超えると、軟化点が高くなりすぎ、６００℃以下での焼成が困難となる。
Ａｌ２Ｏ３の含有量は、好ましくは２〜１２％とするのがよい。
またＡｌ２Ｏ３の含有量は、更に好ましくは２〜１０％とするのがよい。
【００１７】
ＣａＯは必須ではないが、誘電体層の熱膨張係数を上げると共に、焼成時のガラスの粘性を下げる成分として、２０％以下で含有させると効果がある。
ＣａＯが２０％を超えると失透し、誘電体層の光透過性が低下する。
ＣａＯの含有量は、好ましくは１５％以下とするのがよい。
またＣａＯの含有量は、更に好ましくは１０％以下とするのがよい。
【００１８】
ＳｒＯは必須ではないが、誘電体層の熱膨張係数を上げると共に、焼成時のガラスの粘性を下げる成分として、２０％以下で含有させると効果がある。
ＳｒＯが２０％を超えると失透し、誘電体層の光透過性が低下する。
ＳｒＯの含有量は、好ましくは１５％以下とするのがよい。
またＳｒＯの含有量は、更に好ましくは１０％以下とするのがよい。
【００１９】
ＢａＯは必須ではないが、誘電体層の熱膨張係数を上げると共に、焼成時のガラスの粘性を下げる成分として、２０％以下で含有させると効果がある。
ＢａＯが２０％を超えると失透し、誘電体層の光透過性が低下する。
ＢａＯの含有量は、好ましくは１８％以下とするのがよい。
またＢａＯの含有量は、更に好ましくは１５％以下とするのがよい。
【００２０】
以上の成分以外にも、軟化点や熱膨張係数を調整する目的でＢｉ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｐ２Ｏ５、ＭｏＯ２、ＭｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｏＯ、ＮｉＯを添加してもよい。
またＡｇ電極との反応を抑える目的でＣｕＯ、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＣｅＯ２を添加してもよい。
【００２１】
更に誘電体層の強度の改善や外観の調整のために、本発明の材料は酸化物セラミックフィラーを含有させることができる。材料の調製は、ガラス粉末に前記酸化物セラミックフィラー粉末を混合して行う。酸化物セラミックフィラーは特に限定されないが、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア等を単独で、又は２種類以上を混合して用いることができる。
【００２２】
以上からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料に用いるガラス材料は、これを溶融、成形、固化させた後で粉砕し、更に主として湿式法により微粉末にし、その後、焼成して誘電体層に形成する。
【００２３】
本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、耐水性に優れている。ガラスの耐水性が不十分であると、ガラス粉砕の際にガラスが水に侵食され易い。そして得られたガラス粉末を焼成して形成した誘電体層は光透過性が低下する。これは上記したように、水の浸食によりガラス組成が変わり、誘電体層の屈折率が局所的に変わってしまうことや、侵食によりガラス粉末の表面が粗くなり、これによりガラス粉末間の隙間が増えて、誘電体層に残る気泡が増えてしまうことによる。
本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、その耐水性として、粉末法によるガラスの水溶出試験での重量減少が、１４×１０−７ｇ／ｃｍ２・ｈ以下であることが好ましく、１１×１０−７ｇ／ｃｍ２・ｈ以下であることがより好ましい。
【００２４】
上記粉末法によるガラスの水溶出試験の方法について説明する。
先ず、ガラスフレークを乳鉢などで粉砕する。粉砕されたガラス粉末を目の開きが１．７０ｍｍと０．８５ｍｍの標準篩でふるい、１．７０ｍｍを通り０．８５ｍｍの上に残ったガラス粉末を試料とする。このガラス粉末を、ジエチルエーテルの入ったビーカーに入れ、超音波洗浄を２〜３分かけ、白濁した液を捨てる。ジエチルエーテルを用いた超音波洗浄をもう１度繰り返した後、メタノールを用いて超音波洗浄を２〜３分かけ、液を捨てる。その後、ガラス粉末をビーカーに入れたまま１２０℃で１時間乾燥させ、デシケータ内で放冷する。洗浄されたガラス粉末を表面積が同一になるように、予め測定した比重と同数値のグラム数だけ秤取し、７０メッシュ（０．２１ｍｍ）の白金製の籠に入れる。白金製の籠に入れたままメタノールの入ったビーカーに浸け、超音波洗浄を２〜３分かけた後、白金製の籠をビーカーから引き出し、１２０℃で１時間乾燥させ、デシケータ内で放冷する。放冷されたガラス粉末入りの白金製の籠を、１０−５ｇ単位まで秤量する。次にテフロン（登録商標）製の容器に秤量したガラス粉末入りの白金製の籠を入れ、次いでイオン交換水１００ｍｌを入れ、テフロン（登録商標）製のふたで密閉する。これを予め８０℃にしておいた恒温器にいれ、６６時間放置して耐水試験をする。６６時間後、テフロン（登録商標）製の容器からガラス粉末の入った白金製の籠を取り出し、メタノール中で２〜３分超音波洗浄する。超音波洗浄後、１２０℃で１時間乾燥させ、デシケーター内で放冷する。放冷されたガラス粉末入りの白金製の籠を、１０−５ｇ単位まで秤量し、耐水試験前後の重量から重量減少を求める。重量減少と、予め比表面積計を用いて測定した表面積の値から、１ｃｍ２、１時間当たりの重量減少を計算する。また１種類のガラスに対して３回試験を繰り返し、その平均値をガラスの水溶出試験の重量減少とする。
【００２５】
本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、そのガラス粉末の軟化点は４５０〜６００℃の範囲となる。軟化点が４５０℃より低い場合、ガラスがＡｇ電極と反応し易く、着色するので好ましくない。また軟化点が６００℃を超える場合、焼成時に一緒に加熱されるガラス基板が変形し易くなり、好ましくない。
材料の軟化点は４８０〜５９０℃に調整するのが好ましい。
【００２６】
本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、誘電体層の誘電率が１５以下となる。誘電率が１５を超える場合、プラズマディスプレイパネルの消費電力が高くなり、好ましくない。
誘電率は１３以下に調整するのが好ましい。
【００２７】
本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、誘電体層の３０〜３５０℃における熱膨張係数が６０〜９０×１０−７／℃となる。熱膨張係数がこの範囲にない場合、ガラス基板との熱膨張係数の差が大きくなってガラス基板のソリや亀裂が生じ易くなるので好ましくない。
３０〜３５０℃での熱膨張係数は６３〜８０×１０−７／℃に調整されるのが好ましい。
【００２８】
本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料に用いるガラス材料は、ガラスを細かく砕いて粉末にするが、このガラス粉末の５０％粒子径Ｄ５０は５μｍ以下とする。５０％粒子径Ｄ５０が５μｍを超える場合、ガラス粉末を焼成して形成した誘電体層の光透過性が低くなってしまい、好ましくない。
５０％粒子径Ｄ５０は３μｍ以下であることが好ましい。
【００２９】
【実施例】
次に本発明を実施例により、更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は実施例によって限定されるものではない。
実施例１〜７と本発明の組成から外れた比較例１〜３について、表１の組成となるように調製した。調製は、先ずガラス原料を調合、混合した後、白金ルツボに入れて１３００℃で１時間溶融した。次に溶融ガラスを急冷し、薄板状のガラスフレークを得た。このガラスフレークをアルミナ製のボールミルに入れて粗粉砕処理し、５０％粒子径Ｄ５０が３〜４μｍのガラス粉末を得た（実施例４、６、比較例２）。次に５０％粒子径Ｄ５０が２〜３μｍの試料については、粗粉砕品を分級することによって作製した（実施例２、５、比較例１）。また５０％粒子径Ｄ５０が２μｍ未満の試料については、アルミナ製のボールミルに粗粉砕品と蒸留水を入れてスラリーとし、微粉砕処理した。このスラリーを乾燥器で乾燥することによって目的のガラス粉末を得た（実施例１、３、７、比較例３）。
これらのガラス粉末を用いて、耐水性、軟化点、熱膨張係数、誘電率、５０％粒子径Ｄ５０、光透過率、Ａｇ電極との反応性を評価した。
結果を表１に示す。
【００３０】
【表１】
2004345913.tif 000002
【００３１】
耐水性の評価として、粉末法によるガラスの水溶出試験を行った。試験方法は、上記で説明した方法によった。
【００３２】
軟化点の評価は、ガラス粉末を白金セルに入れ、理学電機株式会社製のサーモプラス（Ｔｈｅｒｍｏ  Ｐｌｕｓ）ＴＧ８１２０を用いて、常温から７００℃まで２０℃／分の昇温速度で示差熱分析を行い、第４の変曲点を軟化点とした。
【００３３】
熱膨張係数の評価は、ガラスディスクを作製し、直径４ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状に加工して行った。この円柱状のガラスディスクを理学電機株式会社製のサーモプラス（Ｔｈｅｒｍｏ  Ｐｌｕｓ）ＴＭＡ８３１０を用いて、３０℃から３５０℃の温度範囲での熱膨張係数を求めた。なお単位は、×１０−７／℃で表記した。
【００３４】
誘電率はガラスディスクを作製し、研磨加工を施し、直径３０ｍｍ、厚さ５ｍｍにし、直径１５ｍｍのＡｇ電極をスクリーン印刷にて作製した後、横河ヒューレットパッカード株式会社製インピーダンスアナライザー４１９２Ａを用いて測定し、算出した。
【００３５】
５０％粒子径Ｄ５０の評価は、ガラス粉末を蒸留水に混合し、超音波分散させた後、日機装株式会社製マイクロトラックＨＲＡを用いて測定した。
【００３６】
光透過率の評価は、予めエチルセルロースを溶解させたターピネオール溶液とガラス粉末を混合し、アルミナ製の三本ロールで混練してガラスペーストを調製した。このガラスペーストを５０×５０×２．８ｍｍのガラス基板上にスクリーン印刷法で印刷し、５８０℃で１５分焼成し、３０μｍ厚さの誘電体層を作製して透過率測定用試料とし、この試料を株式会社日立製作所製の分光光度計Ｕ−３４１０を用いて波長５５０ｎｍでの光透過率を測定した。なお光透過率の測定に際しては、予め誘電体層を形成していないガラス基板を測定し、これをベースラインとして差し引くことで誘電体層のみの光透過率を測定した。
【００３７】
Ａｇ電極との反応性の評価は、予めＡｇ電極を形成した５０×５０×２．８ｍｍのガラス基板上に、スクリーン印刷法で前記のガラスペースト（透過率の評価に用いた）を印刷し、５８０℃で１５分間焼成した後のＡｇ電極と誘電体層との界面付近の着色の有無を評価することで行った。
【００３８】
表１から明らかなように、本発明の実施例１〜７では、耐水性は良好乃至ほぼ良好である。
また実施例１〜７では、何れも軟化点が５４７〜５７５℃にあり、６００℃以下での焼成が可能である。
また実施例１〜７では、何れも３０℃から３５０℃の温度範囲での熱膨張係数が６３〜７４×１０−７／℃にあり、ガラス基板との熱膨張係数の差を小さく抑えてソリや亀裂の発生を防止することができる。
また実施例１〜７では、何れも誘電率が９．８〜１２．３にあり、プラズマディスプレイパネルの消費電力を少なく抑えることができる。
また実施例１〜７では、何れも光透過率が８８〜９１％にあり、高透過率による鮮明な画像が期待できる。
更に実施例１〜７では、何れもＡｇ電極との反応が生じない。
【００３９】
一方、本発明の成分範囲外の比較例１〜３において、比較例１はＢ２Ｏ３の含有量が範囲外であって、耐水性に難があり、光透過率が低下する可能性を含んでいる。またＡｇ電極と反応する問題がある。比較例２はＳｉＯ２の含有量が範囲外であって、軟化点がやや高すぎる他、光透過率が低すぎる。また比較例３はＰｂＯの含有量が範囲外であって、誘電率が高すぎる他、Ａｇ電極と反応する問題がある。
【００４０】
【発明の効果】
本発明は以上の構成、作用よりなり、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、
プラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、軟化点を４５０〜６００℃の範囲にすることができ、誘電体層形成の際、６００℃以下での焼成が可能である。また誘電体層がＡｇ電極と反応し難くすることが可能となる。
またプラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、３０〜３５０℃の温度範囲において６０〜９０×１０−７／℃の熱膨張係数の範囲にすることができる。これによって焼成後の冷却の際に、ガラス基板との熱膨張係数の差を少なくして、ガラス基板のソリや亀裂を確実に防止することができる。
またプラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、その誘電率を１５以下とすることができ、消費電力を十分に低減することができる。
またプラズマディスプレイパネルの前面板及び背面板の誘電体層を形成用の材料として、優れた耐水性を保持できる。よって焼成後の誘電体層の光透過性を良好に保持することができ、鮮明な画像を得ることが可能となる。
また請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、上記請求項１の構成による効果と同様の効果を得ることができる。
加えてＡｌ２Ｏ３を１５％以下含有させることで、ガラスの耐水性を一層向上させることができる。これによって湿式粉砕によるガラス粉末を用いて焼成して得られる誘電体層の光透過性をより良好にすることができる。
また請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、上記請求項１の構成による効果と同様の作用効果を奏する。
特にＰｂＯを５５〜６５％、Ｂ２Ｏ３を５〜１５％、ＳｉＯ２を１６〜２１％、ＺｎＯを３〜８％、ＭｇＯを０．５〜３％とすることで、更に一層良好で確実な６００℃以下での焼成を可能にし、誘電体層の３０〜３５０℃での熱膨張係数をよりガラス基板に近い熱膨張係数とし、より低誘電率によるより低い消費電力を可能とし、Ａｇ電極とのより確実な非反応、より良好な光透過性を可能にできる。
またＡｌ２Ｏ３を２〜１０％としたことで、より良好な耐水性を可能にできる。
また請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、そこに示されたガラス組成とすることで、上記請求項１の構成による効果と同様の作用効果を奏する。
そして特に、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの何れか１種以上を２０％以下含有させることで、焼成される誘電体層の熱膨張係数を上げて、３０〜３５０℃でのよりガラス基板に近い熱膨張係数を可能とすると共に、焼成時におけるガラスの粘性を下げて、より低温での焼成を容易に達成させることを可能とする。
また請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料によれば、上記請求項１〜４の何れかに記載の構成による効果に加えて、ガラス粉末の５０％粒子径Ｄ５０を５μｍ以下に調整することにより、このガラス粉末を用いて焼成して得られる誘電体層の光透過性を一層良好にすることができる。