(57)【要約】【課題】対象物の複数のビューを取得するための方法を提供する。【解決手段】本方法（６０）は、ｚ軸上の第１の位置で第１の数のビューを取得する工程（６２）と、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得する工程（６４）と、前記第１の位置及び第２の位置とは異なるｚ軸上の第３の位置で、前記第１の数に等しい第３の数のビューを取得する工程（６６）と有する。また、これらのビューを処理して対象物を再構成する方法も記述した。【選択図】　　　　図８
2004033758.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物（２２）の複数のビューを取得するためのコンピュータ断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム（１０）であって、
検出器アレイ（１８）と、少なくとも１つの放射線源（１４）と、前記検出器アレイ及び前記放射線源に結合されているコンピュータ（３６）とを有し、
前記コンピュータは、ｚ軸上の第１の位置で第１の数のビューを取得し（６２）、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得し（６４）、前記第１の位置及び第２の位置とは異なるｚ軸上の第３の位置で、前記第１の数に等しい第３の数のビューを取得する（６６）ように構成されていること、
を特徴とするコンピュータ断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム。
【請求項２】
請求項１に記載のコンピュータ（３６）であって、当該コンピュータは更に、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得する（６４）ために、中心平面で第２の数のビューを取得するように構成されている、コンピュータ（３６）。
【請求項３】
請求項１に記載のコンピュータ（３６）であって、当該コンピュータは更に、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得する（６４）ために、前記第１の数の半分である第２の数のビューを取得するように構成されている、コンピュータ（３６）。
【請求項４】
請求項１に記載のコンピュータ（３６）であって、当該コンピュータは更に、第１の数のビュー、第２の数のビュー及び第３の数のビューを取得するために、関心のある対象物についてほぼ４＊Ｐ未満の数のビューを取得するように構成されている、コンピュータ（３６）。
【請求項５】
請求項１に記載のコンピュータ（３６）であって、当該コンピュータは更に、前記第１の数のビューを取得するために前記放射線源（１４）を第１の円で回転させ、前記第２の数のビューを取得するために前記放射線源を第２の円で回転させ、そして、前記第３の数のビューを取得するために前記放射線源を第３の円で回転させるように構成されている、コンピュータ（３６）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はコンピュータ断層撮影（ＣＴ）イメージングに関するものであり、より具体的に述べると、マルチスライスＣＴイメージング・システムを使用して生成される画像におけるアーティファクトを低減するための方法及び装置に関するものである。
【考案の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
新しいＸ線源技術をＣＴ分野に導入することにより、多数の新しい再構成手法が提案されている。具体的に述べると、（「反転円錐」軌跡におけるような）アドレス可能なフィールド・アレイ・エミッタ及び電子ビーム源により幾分伝統的でないデータ取得手法がもたらされ、このためアドレス可能なフィールド・アレイ・エミッタ及び電子ビーム源と共に使用するための再構成アルゴリズムが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本発明の一面では、対象物の複数のビューを取得するための方法を提供する。本方法は、ｚ軸上の第１の位置で第１の数のビューを取得する工程と、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得する工程と、前記第１の位置及び第２の位置とは異なるｚ軸上の第３の位置で、前記第１の数に等しい第３の数のビューを取得する工程と有する。
【０００４】
本発明の別の面では、対象物の複数のビューを取得するためのコンピュータを提供する。本コンピュータは、ｚ軸上の第１の位置で第１の数のビューを取得し、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得し、そして前記第１の位置及び第２の位置とは異なるｚ軸上の第３の位置で、前記第１の数に等しい第３の数のビューを取得するようにプログラムされている。
【０００５】
更に別の面では、対象物の複数のビューを取得するためのコンピュータ断層撮影（ＣＴ）イメージング・システムを提供する。本ＣＴシステムは、検出器アレイと、少なくとも１つの放射線源と、前記検出器アレイ及び前記放射線源に結合されているコンピュータとを有し、該コンピュータは、ｚ軸上の第１の位置で第１の数のビューを取得し、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得し、そして前記第１の位置及び第２の位置とは異なるｚ軸上の第３の位置で、前記第１の数に等しい第３の数のビューを取得するように構成されされている。
【０００６】
また更に別の面では、対象物の画像を再構成するための方法を提供する。本方法は、各々が複数のビューを含んでいる複数の円軌跡（ｃｉｒｃｌｅｔｒａｊｅｃｔｏｒｙ）を取得する工程と、これらの取得した円軌跡の各々についてそれぞれ１つの再構成を生成する工程とを含んでいる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
ＣＴイメージング・システムについての公知の幾つかの構成においては、Ｘ線源が扇形ビームを投射し、このビームをデカルト座標系のＸ−Ｙ平面（これは一般に「イメージング平面」と称される）の中に存在するようにコリメートする。Ｘ線ビームは撮影対象物、例えば患者を通過する。対象物によって減弱した後のビームは放射線検出器アレイに入射する。検出器アレイで受けた減弱した放射線ビームの強度は対象物によるＸ線ビームの減弱度に依存する。アレイの各々の検出器素子がその検出器位置におけるビーム減弱度の測定値である電気信号を別々に発生する。全ての検出器からの減弱度測定値は別々に収集されて透過度分布を生成する。
【０００８】
第３世代のＣＴシステムでは、放射線源及び検出器アレイはイメージング平面内で撮影対象物の周りをガントリと共に回転させて、Ｘ線ビームが対象物と交差する角度が絶えず変化するようにする。一ガントリ角度における検出器アレイからの一群のＸ線減弱度測定値、すなわち、投影データは、「ビュー（ｖｉｅｗ）」と呼ばれている。対象物の「スキャン（ｓｃａｎ：走査）」が、Ｘ線源及び検出器の一回転の間に異なるガントリ角度すなわちビュー角度（撮影角度）で得られた一組のビューで構成される。
【０００９】
アキシャル走査では、投影データが、対象物の二次元スライス（断層面）に対応する画像を構成するように処理される。一組の投影データから画像を再構成する一方法が、フィルタ補正逆投影法と呼ばれているものである。この方法は、走査からの減弱度測定値を「ＣＴナンバー」又は「ハウンスフィールド単位」と呼ばれる整数に変換し、これらの整数を使用して陰極線管表示装置の対応する画素の輝度を制御する。
【００１０】
全走査時間を短縮するために、「螺旋」走査を行うことができる。「螺旋」走査を行うために、患者を移動させながら、所定数のスライスについてのデータが取得される。このようなシステムは、１つの扇形ビーム螺旋走査から単一のヘリックス（ｈｅｌｉｘ）を生成する。扇形ビームによって写像されたヘリックスは投影データを生じさせ、この投影データから各々の所定のスライスにおける画像を再構成し得る。
【００１１】
螺旋走査のための再構成アルゴリズムは、典型的には、螺旋重み付けアルゴリズムを使用して、収集したデータをビュー角度及び検出器チャンネル・インデックスの関数として重み付けする。詳しく述べると、フィルタ補正逆投影法を行う前に、データは、ガントリ角度及び検出器角度の両方の関数である螺旋重み係数に従って重み付けされる。螺旋重み付けアルゴリズムはまた、Ｘ線源と対象物との間の距離の関数である拡縮（ｓｃａｌｉｎｇ）係数に従ってデータを拡縮する。重み付けされ且つ拡縮されたデータは次いで、ＣＴナンバーを作成し且つ対象物の二次元スライスに対応する画像を再構成するように処理される。
【００１２】
本書で単に「素子」又は「要素」、或いは「工程」という用語を使用するが、特に明記しない限り、これは単数（１つ）の素子又は要素、或いは工程を表すだけでなく複数の素子又は要素、或いは工程を表していることもあることを理解されたい。更に、本発明の「一実施形態」とは、その列挙した特徴を同様に含んでいる別の実施形態の存在を排除するものとして解釈されるべきではない。
【００１３】
また本書で用いる語句「画像を再構成する」は、画像を表すデータを生成するが、視覚可能な画像を生成しないような本発明の実施形態を排除することを意図したものではない。多くの実施形態では、少なくとも１つの視覚可能な画像を生成する（又は、生成するように構成されている）。
【００１４】
図１及び図２を参照すると、マルチスライス走査型イメージング・システム、例えば、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム１０が、「第３世代」のＣＴイメージング・システムを表すガントリ１２を含むものとして示されている。ガントリ１２はＸ線源１４を備えており、Ｘ線源１４はガントリ１２の反対側にある検出器アレイ１８へ向かってＸ線ビーム１６を投射する。検出器アレイ１８は、患者２２のような対象物を通過した投射Ｘ線ビームを検知する複数の検出器素子２０を含む複数の検出器列（図示していない）によって形成されている。各々の検出器素子２０は、入射するＸ線ビームの強度、従って対象物又は患者２２を通過したビームの減弱度を表す電気信号を発生する。Ｘ線投影データを取得するための走査中、ガントリ１２及びそれに装着された部品は回転中心２４の周りを回転する。図２は一列の検出器素子２０（すなわち、一検出器列）のみを示している。しかしながら、マルチスライス検出器アレイ１８は、検出器素子２０の複数の並列の検出器列を含んでいて、複数の準並列又は並列のスライスに対応する投影データを走査中に同時に取得することができる。
【００１５】
ガントリ１２の回転及びＸ線源１４の動作はＣＴシステム１０の制御機構２６によって統制される。制御機構２６は、Ｘ線源１４に電力及びタイミング信号を供給するＸ線制御装置２８と、ガントリ１２の回転速度及び位置を制御するガントリ・モータ制御装置３０とを含んでいる。制御機構２６にはデータ収集システム（ＤＡＳ）３２も含まれており、該ＤＡＳ３２は、検出器素子２０からのアナログ・データをサンプリングして、該データをその後の処理のためにディジタル信号へ変換する。画像再構成装置３４がＤＡＳ３２からサンプリングされ且つディジタル化されたＸ線データを受け取って、高速画像再構成を実行する。再構成された画像はコンピュータ３６に入力として印加され、コンピュータ３６は該画像を大容量記憶装置３８に格納する。
【００１６】
コンピュータ３６はまた、キーボ−ドを備えたコンソール４０を介してオペレータから指令及び走査パラメータも受け取る。付設された陰極線管表示装置４２により、オペレータはコンピュータ３６からの再構成された画像やその他のデータを観察することが可能になる。コンピュータ３６はオペレータから供給された指令及びパラメータを使用して、ＤＡＳ３２、Ｘ線制御装置２８及びガントリ・モータ制御装置３０へ制御信号及び情報を供給する。加えて、コンピュータ３６は、ガントリ１２内に患者２２を位置決めするために電動テーブル４６を制御するテーブル・モータ制御装置４４を動作させる。具体的に述べると、テーブル４６は患者２２の一部分をガントリ開口部４８内へ通すように移動させる。
【００１７】
一実施形態において、コンピュータ３６は、フレキシブル・ディスクやＣＤ−ＲＯＭのようなコンピュータ読出し可能な媒体５２から命令及び／又はデータを読み出すためのフレキシブル・ディスク・ドライブやＣＤ−ＲＯＭドライブのようなデバイス５０を含んでいる。別の実施形態では、コンピュータ３６はファームウエア（図示していない）に記憶されている命令を実行する。コンピュータ３６は本書で述べる機能を実行するようにプログラムされており、従って、本書で用いる用語「コンピュータ」とは当該技術分野でコンピュータと呼ばれている集積回路だけでなく、広義にコンピュータ、プロセッサ、マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、プログラム可能な論理制御装置、特定用途向け集積回路、及びその他のプログラム可能な回路を表す。
【００１８】
図３は、標準的なＦＤＫ（フェルドカンプ（Ｆｅｌｄｋａｍｐ）、デイヴィッド（Ｄａｖｉｄ）及びクレス（Ｋｒｅｓｓ））ジオメトリイを例示している。ＦＤＫジオメトリイを使用すると、点放射線源１４が検出器１８に対向して配置される。検出器１８は円筒（図示していない）の表面に沿って湾曲しており、該円筒の軸はＺ軸に平行であり、線源１４は、その軸がＺ軸を含む円筒上を移動する。一般的なＦＤＫデータ取得では、線源１４は、Ｚ＝０でのＸ−Ｙ平面内にある円である軌跡に沿って移動する。しかしながら、グランジート（Ｇｒａｎｇｅａｔ）によって実証されているように、この軌跡は、この単一のデータ集合を使用して走査の対象物２２を正確に再構成することが不可能であるという意味で、完全ではない。
【００１９】
図４は、Ｚ方向に移動し且つ角度θで円形軌道の周りを回転する線源１４を使用して取得される複数の円軌跡５８を例示する。一実施形態では、ｋ番目の投影が次式に従って線源位置で取得される。
【００２０】
［ＳＩＤｃｏｓ（θｋ）ＳＩＤｓｉｎ（θｋ）ｚｋ］　　　　　　　　式（１）
ここで、
ｚｋはＺ軸上の一点で取得された投影ｋであり、
ＳＩＤは線源画像検出器であり、
θは線源角度である。
【００２１】
一般的なＦＤＫ軌跡は次式のように定義される。
【００２２】
θｋ＝２π／Ｐ，　ｚｉ＝０　式（２）
ここで、
Ｐは線源１４の各々の軌道で取得されるビューの数であり、
ｚｋはＺ軸上の一点で取得される投影ｋである。
【００２３】
例えば、複数の円軌跡、すなわち、総数Ｌ個の円が異なるＺ位置で逐次的に取得される場合、式（２）のパラメータ表現の項は次式のように表すことができる。
【００２４】
θｋ＝２πｋ／Ｐ，　ｚｋ＝ａ１，　０≦ｋ＜Ｐ
θｋ＝２π（ｋ−Ｐ）／Ｐ，　ｚｋ＝ａ２，　Ｐ≦ｋ＜２Ｐ
：
：
θｋ＝２π（ｋ−（Ｌ―１）Ｐ）／Ｐ，　ｚｋ＝ａＬ，　（Ｌ―２）Ｐ≦ｋ＜（Ｌ―１）Ｐ
式（３）
ここで、
ｋは単一のビューであり、
ｌはＺ軸上の点ｚで取得される単一の円であり、
Ｌは取得される円の総数であり、
θｋはビューｋ取得するときの線源角度であり、
Ｐは各々の線源軌道について取得されるビューの数であり、
ｚｋはＺ軸上の点ｚで取得される投影ｋであり、
ａｎはＺ軸上の一点であり、ここでｎ＝１…Ｌである。
【００２５】
図５は、移動する線源１４と不動の検出器１８（すなわち、検出器１８の中心がＺ＝０に固定されている）とにより取得されるサンプリング・パターンを例示し、線源は本書に記載した手法の内の少なくとも一つの手法を使用して移動させる。図６は、移動する線源１４と移動する検出器１８とにより取得されるサンプリング・パターン（すなわち、「歩進−撮影（ｓｔｅｐ―ａｎｄ―ｓｈｏｏｔ）」モードでの一連の標準的な円取得）を例示する。模範的な実施形態では、線源１４の移動は、限定ではなく、例として挙げると、ライン形状の線源、反転円錐及び複数の管のような複数の技術を使用して行うことができる。
【００２６】
図６に示した連続する類似の軌跡についての再構成アルゴリズムは、次の手法、すなわち、各々の「円（ｃｉｒｃｌｅ）」を独立に処理して、関心領域（ＲＯＩ）のＬ個の別々の再構成を（線源１４の各々のＺ位置について１つずつ）行う手法を使用して、構成される。各々の円は次式に従ってＦＤＫアルゴリズムを使用して再構成することができる。
【００２７】
ｆ１（ｘ，ｙ，ｚ），ｆ２（ｘ，ｙ，ｚ），．．．．，ｆＬ（ｘ，ｙ，ｚ）式（４）
ここで、式（４）は「コンポーネント再構成」と称される。
【００２８】
更に、各々のＺ位置ａｌについて、ＦＤＫ再構成は平面ｚ＝ａｌでの扇形ビーム再構成へ簡単化される。従って、不完全な性質のデータに起因する画像品質は、データが線源１４を含むＺ平面から遠ざかって取得されるにつれて単調に減少する。
【００２９】
上述の再構成は、次式に従って空間座標の関数として変化する重みを使用して組み合わされる。
【００３０】
【数式１】
2004033758.tif 000003
【００３１】
Ｌ個の再構成は、所与のＺ位置に最も近い線源平面に対応するコンポーネント再構成の方へ最終再構成をバイアする重みを使用して組み合わされる。例えば、重みがＺのみの関数として適用される場合、円は次式に従ってＺ軸に沿って等間隔に配設される。
【００３２】
ａｌ＝（ｌ−Ｌ／２）・Δｚ式（６）
ここで、
ｌは１つの円であり、
Ｌはｌの円の数であり、
ΔｚはＺ軸位置における変化である。
【００３３】
再構成は次式に従って組み合わされる。
【００３４】
【数式２】
2004033758.tif 000004
【００３５】
更に、重みが次式
ｗ（ｚ）　＝　１　（ｚ＝０の場合）
ｗ（ｚ）　＝　０　（ｚ＝（ｌ−Ｌ／２）・Δａ，ｌ＝０．．．Ｌ―１の場合）
式（８）
のように定義される補間特性を満足する場合、各々のコンポーネント再構成が、線源の円を含んでいる平面について適切なｚ位置では正確であるので、最終再構成ｆは正確である。
【００３６】
点（ｘ，ｙ，ｚ）を再構成するために、平均（重み付け平均）円錐角に比例する重み付け関数を用いてもよい。この比例重み付け関数により、円錐角が（ｘ，ｙ）の関数として変化する。同じＺ値について、円錐角はＸ線源１４（図１に示す）までの距離の増加につれて減少する。
【００３７】
図７は、焦点スポットの移動中にガントリ１２（図１に示す）を回転させて取得されたサンプリング・パターンである。前に述べた円の積重ねＬは、可能な１つのサンプリング・パターンである。しかし、移動可能な焦点スポットによりこの取得パターンを実現するためには、対象物を中心にして焦点スポットを数回にわたって回転させて、各回転毎にｚ位置を変更するか、或いは、ガントリ１２を不動にしておいて、各位置θについて複数のｚ位置ｚ＝ａｌにわたって焦点スポットを走査させてもよい。もし各位置θについて複数のｚ位置ｚ＝ａｌにわたって焦点スポットを走査させ、且つ焦点スポットの移動中にガントリ１２を回転させた場合、焦点スポットは実効的に図７に示されるように複数の位置に逐次的に動かされる。
【００３８】
所与のｚ位置へ戻る時間が一定であると仮定すると、線源サンプリング・パターンは、各々のコンポーネント再構成を等しい数の等間隔のビューにより実行できることを保証する。しかしながら、この構成には２つの問題がある。第１の問題は、対象物２２（図１に示す）の中心を通過する射線の数が、ＲＯＩの２つの平坦な面上の任意の点を通過する射線の数よりも遥かに多いことである。最終再構成がフィルタ補正逆投影の重み付けされた和であるので、これはノイズ特性がボリューム全体にわたって一様にならない恐れがあることを意味する。第２の問題は、この同じ特性が、すなわち、ボリュームの中心がオーバーサンプリングされることが、所与の分解能を得るために必要とされるビューの数が対象物２２（図１に示す）の画像を再構成するのに必要な数よりも多いことを意味することである。具体的に述べると、図７に示されている分離可能な「円の積重ね」のサンプリング・パターンがＬ＊Ｐサンプルを必要とする。ここで、Ｌは個別の円ｌの数であり、Ｐは各々の円ｌにおけるビューの数である。
【００３９】
例えば、線源の円ｌを含む各々の平面において充分な画像品質を得るために１０００のビュー（Ｐ）が必要とされると共に、線源の軌道の数が１０、すなわちＬ＝１０である場合、必要とされるビューの総数は１００００、すなわち、Ｌ＊Ｐ＝１００００である。中心平面を通過するビューの多くは冗長であるので、全体のビュー（Ｐ）を減らすことができる。ＲＯＩの２つの「面」を除いて、すなわち、最小及び最大Ｚ位置を除いて、再構成ボリューム内の各点は、それらを多数の交差射線が通過する結果として方位方向にオーバーサンプリングされる。このサンプリング・パターンは、オーバーサンプリングを補正するために一層良好な射線分布特性を持つ一層複雑なサンプリング・パターンを使用するように修正することができる。
【００４０】
図８は、対象物の画像を再構成するための方法６０の流れ図である。方法６０は、ｚ軸上の第１の位置で第１の数のビューを取得する工程６２と、前記第１の位置とは異なるｚ軸上の第２の位置で、前記第１の数とは異なる第２の数のビューを取得する工程６４と、前記第１の位置及び第２の位置とは異なるｚ軸上の第３の位置で、前記第１の数に等しい第３の数のビューを取得する工程６６とを含んでいる。
【００４１】
模範的な実施形態では、方法６０は以下の制約を含み、焦点スポットが任意の所与の時点で正確に１つの（θ，Ｚ）位置にある。更に、複数のコンポーネント再構成に分離されたとき、各々のコンポーネント再構成ｌはそのコンポーネントの平面内の円上の等間隔に配置されたビューから形成される。その上、各々のＦＤＫ再構成は等角度間隔のデータで実行され、またサンプル分布は制御可能である。模範的な実施形態では、サンプル分布は、再構成ボリュームの内部で異なる射線密度が得られるように保証し易くするためにサンプリング方式のパラメータを変更することによって制御することができる。
【００４２】
図９は、方法６０を使用して取得される二進ツリー・サンプリング・パターン７０を例示する。使用の際、放射線源１４（図１に示す）は、第１の位置７６のような位置７４へＺ軸７２に沿って平行移動可能である。線源１４はＺ軸７２を中心として円形軌道で回転させて、第１の数のビュー７８が第１の数の放射線源位置８０で取得されるようにする。
【００４３】
放射線源１４は、第１の位置７６とは異なるＺ軸７２上の第２の位置８２のような別の位置７４へＺ軸７２に沿って平行移動させる。放射線源１４は再び円形軌道で回転させて、第２の数のビュー８４が第２の数の放射線源位置８６で取得されるようにする。この場合、第２の数のビュー８４は第１の数のビュー７８の半分である。次いで、放射線源１４は、第１の位置７６及び第２の位置８２とは異なるｚ軸７２上の第３の位置９０のような別の位置７４へ平行移動させて、第１の数のビュー７８と同等な第３の数のビュー９２が第３の数の放射線源位置９４で取得されるようにする。
【００４４】
使用中、放射線源１４はＺ軸７２に沿って関心領域（ＲＯＩ）の第１の面１００へ平行移動させる。関心領域（ＲＯＩ）の第１の面１００が取得されるまで、各Ｚ軸位置７４で所定数のビューを取得する。図示のように、各々の円５８についてのビューの数は、中心平面１０６についてのビューが取得されるまで、第１の面１００から半分に減少させる。二進ツリー・サンプリング・パターンは中心平面１０６に関して対称である。例えば、第１の面１００及び第２の面１０４、すなわち、最小及び最大Ｚ位置がそれぞれ１０００個のビューを含んでいる場合、中心平面１０６に一層近い次の２つの円５８は５００個のビューを含む、と云うようになる。より内側の円５８は、これらの平面内の点が他の円５８上で始まる射線からの寄与分を受けるので、より少ないビューを含むことができる。図９に示されているように、パターンは複数の円５８（又は一定のＺ位置の集合）に分離され、その各々は隣接の円５８からの寄与分を補完する一様に間隔を置いた角度サンプルを有する。
【００４５】
図１０は、方法６０を使用して取得されるオフセット二進ツリー・サンプリング・パターン１１０を例示する。図示のように、下側のビュー集合１１２は上側のビュー集合１１４とは食い違い配置して、Ｚ＝０平面すなわち中心平面１０６で角度方向サンプリング速度を２倍にすることができる。ＲＯＩ１０２をカバーするのに必要なビューの最大数は、オフセット二進ツリー・サンプリング・パターンを使用するとき線源の点について、Ｚ位置の数すなわち位置７４の数に関係なく、４＊Ｐである。この理由は、Ｐ＋Ｐ／２＋Ｐ／４＋…Ｐ／Ｎ＝２＊Ｐであり、且つパターンが中心平面１０６に対して対称であるからである。従って、必要とされるビューの数は、使用する円の数に無関係である。
【００４６】
本発明の様々な特定の実施形態について説明したが、当業者には本発明が特許請求の範囲に記載の精神および範囲内で修正して実施できることが認められよう。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】ＣＴイメージング・システムの絵画的斜視図である。
【図２】図１に示したシステムのブロック回路図である。
【図３】既知の放射線源ジオメトリイの斜視図である。
【図４】複数の円軌跡の斜視図である。
【図５】移動する線源と移動する検出器とにより取得されるサンプリング・パターンを示す図である。
【図６】移動する線源と不動の検出器１８とにより取得されるサンプリング・パターンを示す図である。
【図７】焦点スポットの移動中にガントリを回転させて取得されるサンプリング・パターンを示す図である。
【図８】対象物の画像を再構成するための方法の流れ図である。
【図９】図８に示す方法を使用して取得される二進ツリー・サンプリング・パターンを示す図である。
【図１０】図８に示す方法を使用して取得されるオフセット二進ツリー・サンプリング・パターンを示す図である。
【符号の説明】
【００４８】
１０　コンピュータ断層撮影（ＣＴ）イメージング・システム
１２　ガントリ
１４Ｘ線源
１６Ｘ線ビーム
１８検出器アレイ
２０検出器素子
２２　患者
２４　回転中心
２６　制御機構
４２　陰極線管表示装置
４８ガントリ開口部
５０　デバイス
５２　コンピュータ読出し可能な媒体
５８　円軌跡
７０　サンプリング・パターン
７２　Ｚ軸
７４　Ｚ軸上の位置
７６　Ｚ軸上の第１の位置
７８　第１の数のビュー
８０　第１の数の放射線源位置
８２　Ｚ軸上の第２の位置
８４　第２の数のビュー
８６　第２の数の放射線源位置
９０　Ｚ軸上の第３の位置
９２　第３の数のビュー
９４　第３の数の放射線源位置
１００　第１の面
１０２　ＲＯＩ
１０４　第２の面
１０６　中心平面
１１０　オフセット二進ツリー・サンプリング・パターン
１１２下側ビュー集合
１１４　上側ビュー集合
【図１】
2004033758.tif 000005
【図２】
2004033758.tif 000006
【図３】
2004033758.tif 000007
【図４】
2004033758.tif 000008
【図５】
2004033758.tif 000009
【図６】
2004033758.tif 000010
【図７】
2004033758.tif 000011
【図８】
2004033758.tif 000012
【図９】
2004033758.tif 000013
【図１０】
2004033758.tif 000014
【外国語明細書】
2004033758.tif 000015
2004033758.tif 000016
2004033758.tif 000017
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