(57)【要約】【課題】ＤＶＤ系、あるいは、ＤＶＤ系以上に高密度記録・大容量化させた場合であっても、良好な信号品質が得られる光ディスク及びその製造方法の提供を目的としている。【解決手段】本発明は、光ディスクの製造方法において、レ−ザ光が入射される光ディスク基板１の光入射面４の平均面粗さを所定の値に規定し、光ディスク基板１を成形する光ディスク基板成形用金型のうち、光ディスク基板１の光入射面４を形成するための光入射面側鏡面の平均面粗さを所定の値に規定するとともに、表面形状測定装置を用い、測定長を０．５ｍｍ以上の長さに設定することによって、光ディスク基板１の光入射面４および前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さを評価して、これらの平均粗さを前記所定の値に設定することを特徴とする。【選択図】　　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう光ディスクの製造方法において、
レ−ザ光が入射される前記光ディスク基板の光入射面の平均面粗さを所定の値に規定し、
前記光ディスク基板を成形する光ディスク基板成形用金型のうち、前記光ディスク基板の光入射面を形成するための光入射面側鏡面の平均面粗さを所定の値に規定し、
表面形状測定装置を用い、測定長を０．５ｍｍ以上の長さに設定することによって、前記光ディスク基板の光入射面および前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さを評価して、これらの平均粗さを前記所定の値に設定することを特徴とする光ディスク製造方法。
【請求項２】
前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さが５ｎｍ以下に規定されていることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造方法。
【請求項３】
前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さが４ｎｍ以下に規定されていることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造方法。
【請求項４】
請求項２に記載された光ディスク製造方法で使用される前記光ディスク基板成形用金型によって成形される光ディスク基板。
【請求項５】
請求項３に記載された光ディスク製造方法で使用される光ディスク基板成形用金型。
【請求項６】
請求項４に記載された光ディスク基板と請求項５に記載された光ディスク基板成形用金型を用いて製造される光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう形態の光ディスクの製造方法に関する。また、本発明は、射出成形法または射出圧縮成形法によって成形した透明基板を用いた読み出し専用・追記型・書き換え型の各種ＣＤ及びＤＶＤ・ＭＯ・ＭＤ等の光ディスク、特に、大容量化のために利用されるレ−ザ光の波長が短波長化された、あるいは、光学系が高ＮＡ化された光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】
これまで　ＣＤ系や　ＭＯ系、そしてＤＶＤ系等の様々な種類の光ディスクが読みとり専用、追記用、書き換え用それぞれの用途に応じた型で利用されてきている。これらの光ディスクは、それ以前から利用されているアナログレコ−ド等の情報ディスクのように、ディスク上に搭載された情報を、その情報が搭載されたディスク面の側から直接読み出しあるいは新たな書き込みを行なうのではなく、情報が搭載されているディスク面とは反対のディスク面の側からレ−ザ光を入射させて所定の厚みを有する光ディスク基板内部を透過させ、レ−ザ光入射面とは反対側のディスク面に搭載された情報を読み出す、あるいは、新たに情報を書き込む動作を行なう構成となっている。
【０００３】
また、前記光ディスク基板内に入射されてその内部を透過し、入射面とは反対側の情報記録面に到達した際の前記レ−ザ光は、光ディスク基板内への入射時と比較して遙かに微小なスポット径に絞り込まれた状態となり、この微小スポットに絞り込まれたレ−ザ光が情報記録面に搭載された情報を読み出す、あるいは、新たに情報を書き込む動作を行なう。その結果、読み出し・書き込み動作を行なうレ−ザ光の入射面と同じ面に情報を搭載する場合、つまり、情報の読み出し・書き込み動作を行なう機構がディスクの情報を搭載する面と同じ側にある場合と比較して、情報をより緻密に搭載させることが可能となる。
【０００４】
また、前記情報の読み出し（書き込み）動作を行なうレ−ザ光が入射される光ディスクの光入射面上に指紋などの汚れ、あるいは、スクラッチ等の傷が付いた場合においても、情報が搭載されたディスク面と同じ側から情報の読み出し（書き込み）を行なう構成である前記アナログレコ−ド等で情報の読み出し面（書き込み面）に汚れ・傷が付いた場合と比較して、読み出した（書き込んだ）情報が受ける悪影響を小さく抑えることができる。
【０００５】
しかし、前記構成の光ディスクにおいても、情報が搭載されている（新たに情報を書き込む）情報記録面に汚れ・傷が付いた場合では、読み出した（書き込んだ）情報が受ける悪影響は大きくなる。そのため、光ディスクの情報記録面側には、前記情報記録面を保護するためにＵＶ硬化樹脂等の保護膜が形成されていることが通例である。また、光ディスクに搭載される情報は、微細なピット列あるいは案内溝の形態を有し、これらを前記微小スポットに絞ったレ−ザ光で読み出す（書き込む）動作を行っているので、正確に情報を読み出す（書き込む）ためには、前記ピット列あるいは案内溝を情報記録面上に精密に形成させる必要がある。
【０００６】
前述したような光ディスクの特徴、つまり、光ディスクの光入射面の汚れ・傷に対する堅牢性と記録面の汚れ・傷に対する脆弱さ、さらに、記録面にピット列あるいは案内溝を精密に転写させる必要性に注目して、光ディスクの光入射面の面粗さを意図的に粗い状態にすることで記録面側のピット列及び案内溝を精密に形成させる、あるいは、前記形態で搭載された情報を正確に読み出す（書き込む）効果を狙った先行技術は、既に知られている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照）。
【０００７】
また、光ディスクの情報記録面の面粗さを適切な面粗さ（平滑性）に規定し、情報を読み出す（書き込む）際のノイズ成分を減少させ、正確な読み出し（書き込み）動作を行なう効果を狙った先行技術も既に知られている（例えば、特許文献４および特許文献５参照）。
【０００８】
ところで、現在、ＣＤ系からＤＶＤ系の各種光ディスクの登場と普及、また、ＤＶＤ以上に記録容量が大容量化された様々な光ディスクシステムが提案されているように、１枚の光ディスクに情報をより高密度に記録してより多くの情報を搭載させる動きが進んでいる。
【０００９】
このような動きは、光ディスク基板に形成させるピット列あるいは案内溝がより緻密になるとともに、高密度記録された情報の読み書きを行なうレ−ザ−光をより小さなスポットに絞り込むために光ディスク基板の板厚をより薄板化させる要求を出現させている。そして、そのような要求を具現化させる形態の一つとして、基板上にピット列及び案内溝をより緻密に形成させた情報記録面上に薄い光透過層を成膜し、高ＮＡ化された光学系によって短波長レ−ザ光を前記の薄い光透過層に透過させて極く小さなスポットに絞り込み、前記のより緻密に形成された情報を読みとる構成の光ディスクシステムが提案されている。
【００１０】
このように、レ−ザ光が薄い光透過層を透過して情報の読み書きを行なう構成の光ディスクは、光ディスクに搭載する情報の高密度化・大容量化に対して極めて有効である。しかし、一方で、前述したような構成は、ディスク上に搭載された情報をその情報が搭載されたディスク面の側から直接読み出しあるいは新たな書き込みを行なう従前の情報ディスクの構成に近くなる。
【００１１】
また、使用されるレ−ザ光の口径が光透過層に入射される時点（絞り込まれる以前）において既に小径となるため、光ディスクが有する特長の一つである光入射面の汚れ・傷に対する堅牢性が弱くなる。そのため、前記の薄い光透過層を有する光ディスクでは、光透過層表面を汚れ・傷から保護するためにカ−トリッジ入り光ディスクとして使用されることを基本構成としている。
【００１２】
また、前記の薄い光透過層を有する光ディスクにおいて正確な情報の読み出し・書き込みを行なうためには、前記光透過層について表面の平滑性と厚みの均一性を極めて厳密に管理する必要がある。この点に関連する技術としては、従来から様々な提案が成されている（例えば、特許文献６、特許文献７、特許文献８参照）。
【００１３】
【特許文献１】
特開平６−２９７５１４号公報
【特許文献２】
特開平７−１６９０９３号公報
【特許文献３】
特開平８−１５６０３０号公報
【特許文献４】
特開平９−１６１３２３号公報
【特許文献５】
特開平１１−１９２６４８号公報
【特許文献６】
特開平６−７６３７１号公報
【特許文献７】
特開平１０−３２６４３５号公報
【特許文献８】
特開平１１−３１３３８号公報
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記した光透過層に関する表面の平滑性と厚みの均一性の管理は、それぞれの特性に対して要求される管理幅が極めて狭いこと、また、各特性バラツキが直接的に信号品質のバラツキ・悪化に結びつくことから、生産時における品質管理に大きな困難が伴う。また、前記のように製造された光ディスクを受け取った顧客には、前記光ディスクを極めて慎重に取り扱うことを要求される。しかし、前記の様な量産性の悪さ及び顧客先におけるハンドリング性の悪さは、これまで光ディスクが市場に受け入れられ、また、拡大してきた理由・特長が失われていることを意味している。
【００１５】
そこで、前述したように、高密度記録した情報記録面上に薄い光透過層を成膜し、高ＮＡ化された光学系によって短波長レ−ザ光を前記の薄い光透過層に透過させて極く小さなスポットに絞り込んで情報を読みとる構成の光ディスクシステムとは異なり、利用する光学系の高ＮＡ化を比較的小さく抑えて通例の光ディスクシステムと同様に所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう形態を保持する一方、使用するレ−ザ光を短波長化、また、同時に光ディスク上に搭載させる信号の符号化・記録再生技術を工夫する（例えば　Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系相変化材料を用いた多値記録の検討（ＩＩ）：２００２年　第４９回応用物理学会）ことにより、光ディスクの高密度情報記録と大容量化を実現させる光ディスクシステムが提案されている。
【００１６】
このような光ディスクシステムは、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう形態を保持しているため、それ以前から存在する光ディスクシステムに対する下位互換性を確保し易く、そこで使用される大容量光ディスクについても、光透過層の形成といった品質管理が極めて困難な工程が不要なために量産化が比較的に容易であり、また、同時に光入射面の汚れ・傷に対する堅牢性は大きく損なわれていないため、カ−トリッジが不要（結果として製造コストの上昇が抑えられる）であり、さらに、それを取り扱う顧客が比較的ル−ズなハンドリングをした場合においても、情報の読み出し・書き込み動作に不具合が出にくいという特長を有している。
【００１７】
なお、既に市場展開されているＣＤ系光ディスクからＤＶＤ系光ディスクへの展開は、前述したように、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう形態を保持しながら、より一層の高密度記録化・大容量化を実現した例である。
【００１８】
ＣＤ系からＤＶＤ系光ディスクシステムへの展開は、使用するレ−ザ光の波長を７８０ｎｍから６５０ｎｍに短波長化し、光学系のＮＡを０．４５から０．６０（０．６５）に高ＮＡ化し、光ディスク基板の板厚を１．２ｍｍから０．６ｍｍとすることによって、ディスク１枚（一層・一面）当たりの情報記録容量を６５０ＭＢから４．７ＧＢに大容量化している。また、情報記録面を内側にして２枚の光ディスク基板を貼り合わせる構成を与えることによって、ディスクの情報記録面を保護しているため、ＣＤディスクと同様にカ−トリッジに入れられていないベアディスクのＤＶＤディスクを、顧客がＣＤディスクと同様に比較的ル−ズにハンドリングすることを可能にしている。また、ＤＶＤディスクの量産についても、新たに加わった貼り合わせ工程を除いて、ＣＤ系光ディスクとＤＶＤ系光ディスクの生産プロセスはほぼ共通しているため、光ディスク基板厚みの変化に対応する部分を変更するだけで、ＣＤ系光ディスク生産設備をＤＶＤ系光ディスクの生産に展開することも容易に可能とされている。
【００１９】
しかし、実際にＣＤ系光ディスク生産設備を活用してＤＶＤ系光ディスクを製造し、得られたＤＶＤディスクを評価すると、読み出しあるいは新たな書き込みを行った情報信号中に含まれるノイズ成分が大きく、ジッタ−で評価される信号品質が要求仕様を満足できない場合がある。
【００２０】
本発明は前記事情に着目してなされたものであり、その目的とするところは、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう構成において、ＤＶＤ系、あるいは、ＤＶＤ系以上に高密度記録・大容量化させた場合であっても、良好な信号品質が得られる光ディスク及びその製造方法を提供することを目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、請求項１に記載された発明は、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう光ディスクの製造方法において、レ−ザ光が入射される前記光ディスク基板の光入射面の平均面粗さを所定の値に規定し、前記光ディスク基板を成形する光ディスク基板成形用金型のうち、前記光ディスク基板の光入射面を形成するための光入射面側鏡面の平均面粗さを所定の値に規定し、表面形状測定装置を用い、測定長を０．５ｍｍ以上の長さに設定することによって、前記光ディスク基板の光入射面および前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さを評価して、これらの平均粗さを前記所定の値に設定することを特徴とする。
【００２２】
この請求項１に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造することが可能になる。
【００２３】
また、請求項２に記載された発明は、請求項１に記載された発明において、前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さが５ｎｍ以下に規定されていることを特徴とする。
【００２４】
この請求項２に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造コストの上昇を伴うことなく製造することが可能になる。
【００２５】
また、請求項３に記載された発明は、請求項１に記載された発明において、前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さが４ｎｍ以下に規定されていることを特徴とする。
【００２６】
この請求項３に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造コストの上昇を伴うことなく製造することが可能になる。
【００２７】
また、請求項４に記載された光ディスク基板は、請求項２に記載された光ディスク製造方法で使用される前記光ディスク基板成形用金型によって成形される。また、請求項５に記載された光ディスク基板成形用金型は、光入射面側鏡面の平均面粗さが４ｎｍ以下に規定されていることを特徴とする。
【００２８】
これら請求項４および請求項５に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができる。
【００２９】
また、請求項６に記載された光ディスクは、請求項４に記載された光ディスク基板と請求項５に記載された光ディスク基板成形用金型を用いて製造される。
【００３０】
この請求項６に記載された光ディスクは、その良好な信号品質によって幅広いアプリケ−ション、場面にて利用することが可能となる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態について説明する。
【００３２】
本発明者は、実際にＣＤ系光ディスク生産設備を活用してＤＶＤ系光ディスクを製造し、得られたＤＶＤディスクを評価した。その結果、読み出しあるいは新たな書き込みを行った情報信号中に含まれるノイズ成分が大きく、ジッタ−で評価される信号品質が要求仕様を満足できない場合があることが明らかになった。
【００３３】
図１には、前記ＤＶＤディスクをドライブに投入し、トラッキングをかけた状態でのトラッキングエラ−信号の観察結果が示されている。この図１の結果を、図２に示される良好な信号品質を有するＤＶＤディスクのトラッキングエラ−信号と比較すると、前記ノイズ成分の大きさが理解できる。
【００３４】
そこで、本発明者は、前記ノイズ成分について周波数分析を実施し、その発生源を解析した。その中で、前記ＤＶＤディスクの光入射面鏡面に反射膜をスパッタし（光ディスク基板を透過させずに）、光入射面側からレ−ザ光を光入射面鏡面のスパッタ面にフォ−カスさせて読み出した信号中に前記ノイズ成分と同様の周波数成分が含まれていたことから、前記ノイズ成分は前記ＤＶＤディスクに使用されている光ディスク基板の光入射面鏡面の表面粗さに起因することを明らかにした。
【００３５】
そして、前記ＤＶＤ光ディスク基板を成形した金型をＣＤ成形用に戻してＣＤ光ディスク基板を成形し、これを用いて、ＣＤディスクを製造して信号品質を（ＣＤ用の光ディスク光学系を用いて）評価したところ、前記ＤＶＤディスクで信号品質の不具合原因となったノイズと同様の周波数帯域にノイズ成分が存在する一方で、その大きさは非常に小さく、（ＣＤ信号としての）信号品質に対する影響は与えていないことを確認した。
【００３６】
また、前述した解析結果より、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう形態を採用することにより、レ−ザ光入射面の汚れ・傷に対する堅牢性を有する構成の光ディスクシステムであっても、１枚の光ディスクに搭載させる情報の高密度記録・大容量化に合わせて適切な光入射面の表面粗さを規定する必要があることが明らかになった。
【００３７】
そこで、ノイズの発生を抑えて良好な品質の信号を得るために必要な光入射面の表面粗さの検討として、ノイズ成分が大きく信号品質が劣るＤＶＤディスクと、良好な信号品質が得られているＤＶＤディスクの光入射面の表面粗さを測定した。表面粗さの測定には、多くの測定法が存在するが、まず、原子間力顕微鏡を用いて測定を行った。
【００３８】
しかし、両者の光入射面表面粗さにはほとんど差が認められなかった。続いて走査型光干渉法による表面粗さ測定装置を用いて測定を行ったところ、測定時における対物レンズの倍率を低倍側に換えて測定領域を拡げて測定するに従い、両者の表面粗さの違いが明確になった。表１にその結果を示す。また、光ディスク（ＤＶＤディスク）を図３に示す。図３中、１は基板、２は記録層、３は保護層、４は光入射面である。
【００３９】
【表１】
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【００４０】
この表１より、信号品質と光ディスクの光入射面４の表面粗さとの関係を評価するためには、測定長０．５ｍｍ以上の範囲で測定した表面粗さと信号品質を対応させる必要があることが明らかになった。なお、原子間力顕微鏡（測定長：〜数十μｍ）による表面粗さ測定結果と信号品質間の対応が取れなかった原因についても、測定領域が十分でなかったために、表面粗さ形状の差を浮き出させることが出来なかったと考察している。
【００４１】
また、ノイズ成分が大きく信号品質が劣るＤＶＤディスクと、良好な信号品質が得られているＤＶＤディスクの光入射面４の表面粗さ、それらに使用した光ディスク基板１を成形した光ディスク基板成形用金型の光入射面鏡面盤の表面粗さ、そして、前記ディスクの信号ノイズレベルと書き込み信号の評価結果を表２に示す。
【００４２】
【表２】
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【００４３】
なお、表２には、信号品質が劣るＤＶＤディスクの光ディスク基板１を成形した光ディスク基板成形用金型の光入射面鏡面盤について使用する研磨剤の粒径を段階的に細かくしながら再ラップを実施し、鏡面盤の表面粗さを段階的に改善させた結果によるＤＶＤディスクの光入射面４の表面粗さと信号ノイズレベル・書き込み信号の変化についても示されている。
【００４４】
表２より、量産時に生じる品質バラツキについても考慮した結果、光入射面４の平均表面粗さＲａが５ｎｍ以下の光ディスク基板１を使用して光ディスクを製造することによって、良好な信号品質の光ディスクが得られること、また、前記光ディスク基板１を成形するためには、光入射面鏡面盤の平均表面粗さＲａが４ｎｍ以下の光ディスク基板成形用金型を使用する必要があることが明らかになった。
【００４５】
以上のことから、本実施形態では、所定の厚みを有する光ディスク基板１を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう光ディスクの製造方法において、レ−ザ光が入射される光ディスク基板１の光入射面４の平均面粗さを所定の値に規定し、光ディスク基板１を成形する光ディスク基板成形用金型のうち、光ディスク基板１の光入射面４を形成するための光入射面側鏡面の平均面粗さを所定の値に規定するとともに、表面形状測定装置を用い、測定長を０．５ｍｍ以上の長さに設定することによって、光ディスク基板１の光入射面４および前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さを評価して、これらの平均粗さを前記所定の値に設定するようにしている。
【００４６】
このような製造方法によって製造された光ディスクは、その良好な信号品質によって幅広いアプリケ−ション、場面にて利用することが可能となる。また、前述のような光ディスク製造方法は、成形した光ディスク基板１の光入射面４に直接に後加工を加える、あるいは、光入射面４上にスピンコ−トした紫外線硬化樹脂などを表面の平滑性を整えた上で硬化・成膜する等の後処理が追加されていないので、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行う形態の光ディスクの製造方法において、良好な信号品質を有する光ディスク、また、大容量化された光ディスクを製造コストを上昇させることなく製造することを可能にしている。
【００４７】
以上説明したように、本実施形態では、所定の厚みを有する光ディスク基板を透過して集光されたレ−ザ光が情報の読み書きを行なう光ディスクを製造するに際し、レ−ザ光が入射される光ディスク基板１の光入射面４の平均面粗さを所定の値に規定し、光ディスク基板１を成形する光ディスク基板成形用金型のうち、光ディスク基板１の光入射面４を形成するための光入射面側鏡面の平均面粗さを所定の値に規定するとともに、表面形状測定装置を用い、測定長を０．５ｍｍ以上の長さに設定することによって、光ディスク基板１の光入射面４および前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さを評価して、これらの平均粗さを前記所定の値に設定するようにしている。
【００４８】
このように、面粗さを評価する際の測定長を、面粗さの測定値から得られる光ディスクの信号品質の良否を判定するのに必要な測定長（０．５ｍｍ以上）に定めると、良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造することが可能になる。
【００４９】
また、本実施形態では、前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さが５ｎｍ以下に規定されている。このように光入射面側鏡面の平均面粗さ品質が適切に管理された光ディスク基板を使用すると（光ディスク基板の光入射面の平均面粗さを、得られる光ディスクの信号品質が影響を受けない範囲に定めると）、これを利用して良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造コストの上昇を伴うことなく製造することが可能になる。
【００５０】
また、本実施形態では、前記光ディスク基板成形用金型の光入射面側鏡面の平均面粗さが４ｎｍ以下に規定されている。このように光入射面側鏡面の平均面粗さ品質が適切に管理された光ディスク基板成形用金型を使用すると、光入射面側鏡面の平均面粗さ品質が適切に管理された光ディスク基板を製造することができ、更に良好な信号品質の光ディスク、あるいは、更に大容量化された光ディスクを製造することが可能になる。
【００５１】
【発明の効果】
請求項１に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造することが可能になる。
【００５２】
請求項２に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造コストの上昇を伴うことなく製造することが可能になる。
【００５３】
請求項３に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができ、また、更に大容量化された光ディスクを製造コストの上昇を伴うことなく製造することが可能になる。
【００５４】
請求項４および請求項５に記載された発明によれば、良好な信号品質の光ディスクを製造することができる。
【００５５】
請求項６に記載された光ディスクは、その良好な信号品質によって幅広いアプリケ−ション、場面にて利用することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】信号品質の劣るＤＶＤディスクのトラッキング信号を示す図である。
【図２】良好な信号品質のＤＶＤディスクのトラッキング信号を示す図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る製造方法によって製造される光ディスクの断面図である。
【符号の説明】
１　光ディスク基板
４　光入射面
【図１】
2004110943.tif 000005
【図２】
2004110943.tif 000006
【図３】
2004110943.tif 000007