(57)【要約】【課題】ラビングすじの発生が少ない電気光学装置用基板、その製造方法、そのような基板を含む電気光学装置、および、そのような電気光学装置を含む電子機器を提供する。【解決手段】基板と、配線パターンを含む電気光学装置用基板およびその基板を含む電気光学装置において、配線パターンの取出し部であって、配線パターンが形成されていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターン、例えば、ストライプ状であって、当該隣接するダミーパターンの間隔を１〜１、０００μｍの範囲内の値としたダミーパターンを設ける。【選択図】　図１
2004117576.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、配線パターンを含む電気光学装置用基板において、
前記配線パターンの取出し部であって、前記配線パターンが形成されていない箇所に、ダミーパターンを設けることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
前記ダミーパターンをストライプ状とすることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項３】
前記ダミーパターンの間隔を１〜１、０００μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】
前記ダミーパターンの厚さを０．０１〜１０μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項５】
前記ダミーパターンを、前記配線パターンと同一または類似の導電材料から構成してあることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項６】
前記ダミーパターンを接地することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項７】
前記ダミーパターンを、前記配線パターンに対して、電気接続することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項８】
基板と、配線パターンを含む電気光学装置用基板の製造方法において、
前記基板上に、前記配線パターンを形成する工程と、
前記配線パターンの取出し部であって、前記配線パターンが設けられていない箇所に、ダミーパターンを設ける工程と、
前記配線パターンの取出し部であって、少なくとも前記配線パターンを設けた箇所及び前記ダミーパターンを設けた箇所をラビングローラが通過するようにしてラビング処理を行う工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記配線パターンと、前記ダミーパターンを、同時に設けることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
基板と、配線パターンとからなる電気光学装置用基板を含む電気光学装置において、
前記電気光学装置用基板として、前記配線パターンの取出し部であって、前記配線パターンが設けられていない箇所に、ダミーパターンが設けられている電気光学装置用基板を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載された電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置用基板、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。特に、ラビングすじの発生が少ない電気光学装置用基板、そのような電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電気光学装置用基板のラビング処理において、ラビングローラがラビングする基板から影響を受けて、配向膜にすじ状のむらであるラビングすじが形成されることが知られている。そのため、このようなラビングすじを防ぐ対策として、種々の提案がなされている。
例えば、ラビング工程における透明膜の断線や配向膜のラビングむらを少なくした液晶表示装置用カラーフィルターが知られている（例えば、特許文献１参照）。より具体的には、図６に示されるように、基板３０１と、複数の透明着色層３０２Ｒ、３０２Ｇ、３０２Ｇと、からなる液晶表示装置用カラーフィルター３００であって、複数の透明着色層３０２Ｒ、３０２Ｇ、３０２Ｇが、樹脂１００重量部に対して、４４重量部以下の着色顔料を含有する印刷インキから構成され、複数の透明着色層３０２Ｒ、３０２Ｇ、３０２Ｇの画素部位における最大膜厚と、最小膜厚との差を０．６μｍ以下とした液晶表示装置用カラーフィルター３００である。
【０００３】
また、ラビング工程における転写モードのラビングすじの発生を少なくした液晶表示素子が知られている（例えば、特許文献２参照）。より具体的には、図７に示されるように、ラビングローラ３０３によって配向膜塗布部３１２にラビング処理を施した基板３１０を用いた液晶表示素子であって、配向膜塗布部３１２の外側に、メタルパターン３０８を形成し、このメタルパターン３０８の基板に対するラビングローラ３０３の進行方向（矢印）の長さを、基板３１０に対してラビングローラ３０３が一回転当りに移動する距離以上に設定してあることを特徴とする液晶表示素子３２０である。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−１２５８１４号　（第２−４頁、図１）
【特許文献２】
特開２００２−１７４８１５号　（第２−３頁、図１）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図６に示した液晶表示装置用カラーフィルター３００によれば、液晶表示装置用カラーフィルター３００以外の箇所、例えば、配線パターンの取出し部において生じる静電気に起因したラビングすじの発生については、実質的に対応することができないという問題が見られた。
【０００６】
また、図７に示した液晶表示素子３２０によれば、配向膜塗布部３１２の外側に、メタルパターン３０８を形成しなければならないという制約が大きく、しかも、このメタルパターン３０８の基板に対するラビングローラ３０３の進行方向の長さを厳格に制限しなければならなかった。したがって、液晶表示素子３２０の製造工程が、複雑化するとともに、コストがかかるという問題が見られた。さらに、開示されたラビング処理では、配向膜塗布部３１２である表示領域以外の箇所、例えば、配線パターンの取出し部において生じる静電気に起因したラビングすじの発生については、実質的に対応することができないという問題が見られた。
したがって、図６に示した液晶表示装置用カラーフィルター３００であっても、図７に示した液晶表示素子３２０であっても、図８に示すようなラビングすじ４０４の発生を確実に抑制することは困難であった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題点を解決するものであり、その課題は、基板における配線パターンの取出し部に、特定のダミーパターンを設けることにより、ラビング処理を全面的に施した場合であっても、ラビングすじの発生が少ない電気光学装置用基板、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器等を効率的に提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、基板と、配線パターンとを含む電気光学装置用基板において、配線パターンの取出し部であって、配線パターンが形成されていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターンを設けることを特徴とする電気光学装置用基板が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合に、配線パターンが形成されていない箇所において、所定のダミーパターンが設けてあることによって、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生を少なくすることができる。
【０００９】
また、電気光学装置用基板を構成するにあたり、ダミーパターンをストライプ状とすることが好ましい。
このようにダミーパターンを構成することにより、通常の配線パターンとの形態の差が少なくなり、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合であっても、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
【００１０】
また、電気光学装置用基板を構成するにあたり、ダミーパターンの間隔を１〜１、０００μｍの範囲内の値であることが好ましい。
このように構成することにより、通常の配線パターンとの形態の差が少なくなり、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合であっても、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
【００１１】
また、電気光学装置用基板を構成するにあたり、ダミーパターンの厚さを０．０１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、通常の配線パターンとの厚さの差が少なくなるため、通常の配線パターンと、ダミーパターンとの間の抵抗差が少なくなり、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合であっても、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
【００１２】
また、電気光学装置用基板を構成するにあたり、ダミーパターンを、配線パターンと同一または類似の導電材料から構成することが好ましい。
このように構成することにより、通常の配線パターンと、ダミーパターンとの間の抵抗差が少なくなり、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合であっても、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
【００１３】
また、電気光学装置用基板を構成するにあたり、ダミーパターンを接地することが好ましい。
このように構成することにより、ダミーパターンが帯電した場合や、隣接する配線パターンが帯電した場合であっても、すぐに電荷を逃がすことができる。したがって、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
【００１４】
また、電気光学装置用基板を構成するにあたり、ダミーパターンを、配線パターンに対して、電気接続することが好ましい。
このように構成することにより、ダミーパターンおよび隣接する配線パターンが帯電した場合であっても、すぐに電荷を逃がすことができ、帯電しにくくすることができる。したがって、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
【００１５】
また、本発明の別の態様は、基板と、配線パターンとを含む電気光学装置用基板の製造方法において、
基板上に配線パターンを入力する工程と、
配線パターンの取出し部であって、配線パターンが設けられていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターンを設ける工程と、
配線パターンの取出し部であって、配線パターンを設けた箇所およびダミーパターンを設けた箇所を少なくともラビングローラが通過するようにしてラビング処理を行う工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法である。
このように実施することにより、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合に、配線パターンが形成されていない箇所に所定のダミーパターンが設けてあることによって、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生が少ない電気光学装置用基板を効率的に提供することができる。
【００１６】
また、本発明の別の態様は、基板と、配線パターンとからなる電気光学装置用基板を含む電気光学装置であって、
電気光学装置用基板として、配線パターンの取出し部であって、配線パターンが設けられていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターンが設けられている電気光学装置用基板を含むことを特徴とする電気光学装置である。
このように構成することにより、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合に、配線パターンが形成されていない箇所に所定のダミーパターンが設けてあることによって、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生が少ない電気光学装置を効率的に提供することができる。
【００１７】
また、本発明のさらに別の態様は、上述した電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器である。
すなわち、このように構成することにより、ラビングすじの発生が少ない電気光学装置を含んだ電子機器を得ることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の目的の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１９】
［第１実施形態］
第１実施形態は、図１（ａ）および（ｂ）に例示するように、ドライバ入力配線１４と、ドライバ出力配線１１と、信号電極１７と、からなる配線パターン３０と、基板１２と、を含む電気光学装置用基板１０において、配線パターン３０の取出し部１５であって、配線パターン３０が形成されていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターン１８、１９をそれぞれ設けることを特徴とする電気光学装置用基板１０である。
なお、配線パターン３０の取出し部１５とは、基板１２の張出し部に相当する箇所であって、外部基板との接続箇所を意味する。
以下、図１〜図３を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の電気光学装置用基板について、カラーフィルタ基板およびそれを用いた液晶パネルを例に採って説明する。
なお、図１は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置用基板１０、２０の要部を示す概略断面図であり、図２は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図であり、図３（ａ）は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図、図３（ｂ）は、液晶パネル２００を構成するカラーフィルタ基板２１０の部分拡大平面図である。また、図１および図２において１チップ構造の液晶パネルを例示しているが、本発明は使用する電気光学装置によって、１チップや２チップ、あるいはそれ以上のチップを実装する構造の電気光学装置用基板に適宜使用することができる。
【００２０】
１．液晶パネルの基本構造
図２に示される電気光学装置を構成する液晶パネル２００は、いわゆる反射半透過方式のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることが好ましい。
また、当該液晶パネル２００は、用途に応じて、パッシブマトリクス型構造のかわりに、反射半透過方式のアクティブマトリクス型構造、例えば、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｄｉｏｄｅ）やＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のアクティブ素子（能動素子）を用いた液晶パネルであっても良い。
【００２１】
（１）セル構造
図２に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１の基板２１１を基体とする電気光学装置、すなわち、カラーフィルタ基板２１０と、これに対向して、実質的に同様の構成を有する第２の基板２２１を基体とする対向基板２２０とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられていることが好ましい。そして、カラーフィルタ基板２１０と、対向基板２２０とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
【００２２】
（２）配線パターン
▲１▼マトリクス
図２に示すように、第１の基板２１１の内面（第２の基板２２１に対向する表面）上に、並列した複数のストライプ状の透明電極２１６を形成し、第２の基板２２１の内面上には、当該透明電極２１６に直交する方向に並列した、複数のストライプ状の透明電極２２２を形成することが好ましい。また、透明電極２１６を、配線２１８Ａに対して導電接続するとともに、もう一方の透明電極２２２を、配線２２８に対して導電接続することが好ましい。
そして、透明電極２１６と透明電極２２２とは相互に直交するため、その交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Ａを構成することになる。
【００２３】
▲２▼入力端子部
また、第１の基板２１１は、第２の基板２２１の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、この基板張出部２１０Ｔ上には、配線２１８Ａ、配線２２８に対して、シール材２３０の一部で構成される上下導通部を介して導電接続された配線２１８Ｂ、および、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部２１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ、２１８Ｂおよび入力端子部２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子２６１が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部２１０Ｔの端部には、入力端子部２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板２６３が実装されていることが好ましい。
【００２４】
▲３▼ダミーパターン
上述したように、配線パターン３０の取出し部１５であって、配線パターン３０が形成されていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターン１８、１９を設けることを特徴とする。以下、ダミーパターンの好ましい態様について説明する。
【００２５】
▲３▼−１　位置
ダミーパターンの形成位置は、一例として、図１（ａ）や（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板１２における張出し部において、配線パターン３０が形成されていない箇所であることが好ましい。このダミーパターン１８、１９の例では、配線パターンの取出し部１５のうち、ＩＣドライバの実装部１６から引き出されたドライバ入力配線１４等の配線パターン３０が設けられていない両翼部である。
この理由は、配線パターンの取出し部（ＩＣドライバの実装部周辺）では配線パターンが密集しているため、かかる箇所にダミーパターンを設けることにより、配線パターンが形成されている箇所と、形成されていない箇所との段差を減らすことができるためである。
したがって、配線パターンの取出し部を、ラビングロール等を用いてラビング処理する場合であっても、所定位置に形成されたダミーパターンによって、静電気の発生を有効に抑制することができる。
【００２６】
▲３▼−２　形状
また、ダミーパターンの形状に関しては、特に制限されるものではないが、図１（ａ）に示すように、通常のドライバ入力配線１４に平行させて、ストライプ状とすることが好ましい。
この理由は、このようにストライプ状のダミーパターンを構成することにより、通常の配線パターンと、ダミーパターンとの形態の差が少なくなるためである。また、このようにストライプ状のダミーパターンであれば、通常の配線パターンと容易に並列配置することが容易になるためである。
したがって、配線パターンの取出し部を、ラビングロール等を用いてラビング処理した場合であっても、静電気の発生を有効に抑制することができる。また、配線パターンおよびダミーパターンの間隔を均一にすることができるため、配線パターンの検査用プローブを用いて配線パターンを検査する際に、かかるダミーパターンが、配線パターンの検査自体を阻害するおそれが少なくなる。
なお、ダミーパターンの形状は、実質的に直線状であることが好ましいが、ラビングすじの抑制効果を考慮して適宜変更することができる。例えば、図１（ｂ）に示すように、ダミーパターン１９の途中に屈曲部や湾曲部を設けても良いし、あるいは放射状に拡大形成されていても良く、さらには、途中で枝分かれしていても良い。
【００２７】
▲３▼−３　間隔
また、ダミーパターンを複数並列配置した場合、その間隔を１〜１、０００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるダミーパターンの間隔が１μｍ未満の値になると、精度良く形成することが困難になる場合があるためである。一方、かかるダミーパターンの間隔が１、０００μｍを超えると、通常の配線パターンとの形態の差が大きくなり、ラビング処理の際の、静電気発生の抑制効果が発揮されない場合があるためである。また、かかるダミーパターンを形成するスペース上の制約も大きくなるためである。
したがって、ダミーパターンの間隔を２〜５００μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、５〜１００μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２８】
また、ダミーパターンの間隔を、近傍の配線パターンの間隔を考慮して定めることが好ましい。
すなわち、近傍の配線パターンの間隔をｐ１としたときに、ダミーパターンの間隔（ｐ２）を、０．５×ｐ１〜５×ｐ１の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるダミーパターンの間隔が０．５×ｐ１未満の値になると、通常の配線パターンとの形態の差が大きくなり、ラビング処理の際の、静電気発生の抑制効果が発揮されない場合があるためである。一方、かかるダミーパターンの厚さが５×ｐ１を超えると、精度良く形成することが困難になったり、通常の配線パターンとの形態の差が大きくなり、ラビング処理の際の、静電気発生の抑制効果がやはり発揮されない場合があるためである。
したがって、ダミーパターンの間隔（ｐ２）を、０．７×ｐ１〜３×ｐ１の範囲内の値とすることがより好ましく、０．９×ｐ１〜１．５×ｐ１の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２９】
▲３▼−４　厚さ
また、ダミーパターンの厚さを０．０１〜１０μｍの範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、かかるダミーパターンの厚さが０．０１μｍ未満の値になると、通常の配線パターンとの形態の差が大きくなり、ラビング処理の際の、静電気発生の抑制効果が発揮されない場合があるためである。一方、かかるダミーパターンの厚さが１０μｍを超えると、精度良く形成することが困難になったり、通常の配線パターンとの形態の差が大きくなり、ラビング処理の際の、静電気発生の抑制効果が発揮されない場合があるためである。
したがって、ダミーパターンの厚さを０．０２〜５μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．０５〜１μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３０】
また、ダミーパターンの厚さを、近傍の配線パターンの厚さを考慮して定めることが好ましい。
すなわち、近傍の配線パターンの厚さをｔ１としたときに、ダミーパターンの厚さ（ｔ２）を、０．５×ｔ１〜５×ｔ１の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるダミーパターンの厚さが０．５×ｔ１未満の値になると、通常の配線パターンとの形態の差が大きくなり、ラビング処理の際の、静電気発生の抑制効果が発揮されない場合があるためである。一方、かかるダミーパターンの厚さが５×ｔ１を超えると、精度良く形成することが困難になったり、通常の配線パターンとの形態の差が大きくなり、ラビング処理の際の、静電気発生の抑制効果がやはり発揮されない場合があるためである。
したがって、ダミーパターンの厚さ（ｔ２）を、０．７×ｔ１〜３×ｔ１の範囲内の値とすることがより好ましく、０．９×ｔ１〜１．５×ｔ１の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３１】
▲３▼−５　構成材料
また、ダミーパターンを、配線パターンと同一または類似の導電材料から構成することが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、通常の配線パターンと、ダミーパターンとの間の抵抗差を少なくできるためである。したがって、配線パターンの取出し部をラビング処理した場合であっても、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
例えば、配線パターンが、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ）、および酸化スズ（ＳｎＯ２）等の導電材料から構成されている場合、ダミーパターンについても、これら配線パターンと同一または類似の導電材料から構成してあることが好ましい。
【００３２】
▲３▼−６　接地
また、ダミーパターンを接地することが好ましい。すなわち、ラビング処理する際に、ダミーパターンを接地しておき、仮に帯電したとしても、帯電した電荷をすぐに外部に逃がすことが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、ダミーパターンが帯電した場合や、隣接する配線パターンが帯電した場合であっても、すぐに電荷を逃がすことができるためである。したがって、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
なお、ダミーパターンの接地方法は特に制限されるものでなく、例えば、ダミーパターンの一部に対して、導電性テープや導電性樹脂等の導電部材を取り付けた後、当該導電部材を介して、外部に帯電した電荷を外部に逃がすことが好ましい。
【００３３】
▲３▼−７　電気接続
また、電気光学装置用基板を構成するにあたり、ダミーパターンを、配線パターンに対して、電気接続することが好ましい。すなわち、ダミーパターンを、配線パターンの一部として構成することが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、ダミーパターンおよび隣接する配線パターンが帯電した場合であっても、すぐに電荷を逃がすことができ、帯電しにくくすることができる。したがって、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生をより少なくすることができる。
なお、ダミーパターンを、配線パターンに対して、電気接続するにあたり、それぞれの形成時に導通箇所を設けて電気接続することも好ましいし、あるいは、それぞれのパターンを別個に形成した後に、導通箇所を設けて電気接続することも好ましい。
【００３４】
（３）位相差板および偏光板
図２に示される液晶パネル２００において、図３に示すように、第１の基板２１１の外面の所定位置に、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
そして、第２の基板２２１の外面においても、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
【００３５】
２．カラーフィルタ基板
次いで、図１〜図３を適宜参照しながら、本発明の第１の電気光学装置用基板としての構造的特徴や動作を、カラーフィルタ基板２１０を例に採って詳細に説明する。
【００３６】
（１）基本的構成
カラーフィルタ基板２１０は、図３（ａ）に示すように、基本的に、ガラス基板２１０と、着色層２１４と、透明電極２１６と、配向膜２１７と、から構成してあることが好ましい。
また、カラーフィルタ基板２１０において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される反射半透過型の液晶表示装置においては、ガラス基板２１０と、着色層２１４との間に、図３に示すように、反射層２１２を設けることが好ましい。
さらに、カラーフィルタ基板２１０において、図３（ａ）に示すように、その表面を平坦化するための表面保護層３１５や、電気絶縁性を向上させるための絶縁層を設けることも好ましい。
【００３７】
（２）反射層
図２および図３に示すように、第１の基板２１１の表面には、反射層２１２が形成されている。この反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、反射基部とから構成することが好ましい。また、反射層２１２には、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部２１２ａとが設けられていることが好ましい。
そして、反射層２１２の上には、画素毎に着色層２１４が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる表面保護層（オーバーコート層）３１５が被覆していることが好ましい。この着色層２１４と表面保護層３１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。
【００３８】
なお、反射層は、基材の表面に独立して形成された複数の凸部を有する第１の反射基部と、その上に形成された比較的なだらかな表面状態を有する連続層からなる第２の反射基部と、さらにその上に形成された金属薄膜からなる反射膜と、を含むことが好ましい。
【００３９】
（３）着色層
▲１▼構成
また、図２および図３に示す着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を除去することによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
【００４０】
▲２▼遮光膜
また、図３に示すように、画素毎に形成された着色層２１４の間の画素間領域に、黒色遮光膜（ブラックマトリクス或いはブラックマスク）２１４ＢＭが形成してあることが好ましい。
この黒色遮光膜２１４ＢＭとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
【００４１】
▲３▼配列パターン
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、この他、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００４２】
（５）表面保護層
図２に示すように、着色層２１４上に、表面保護層３１５が設けてあることが好ましい。このように表面保護層３１５を設けることにより、着色層２１４自体、ひいては着色層２１４を含むカラーフィルタ基板２１０の耐久性や耐熱性等を著しく向上させることができる。
また、画素毎に、反射層２１２の開口部２１２ａの直上領域（開口部２１２ａと平面的に重なる領域）に、表面保護層３１５の開口部３１５ａが形成されていることが好ましい。この理由は、このように表面保護層３１５を構成することにより、透過光の吸収を効果的に防止し、十分な光量を確保することができるためである。
【００４３】
（６）透明電極および配向膜
図２に示すように、表面保護層３１５の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２１６を形成することが好ましい。かかる透明電極２１６は、図２（ｂ）において、上下方向に伸びる帯状に形成されているが、複数の透明電極２１６が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、透明電極２１６の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板２１０を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料の電圧駆動を容易に実施することができるためである。
【００４４】
（７）対向基板
また、図３に示すカラーフィルタ基板２１０と対向する対向基板２２０は、ガラス等からなる第２の基板２２１上に、第１の基板と同様の透明電極２２２、ＳｉＯ２やＴｉＯ２などからなる硬質保護膜２２３や配向膜２２４を順次積層させたものであることが好ましい。
なお、このカラーフィルタ基板２１０の例では、着色層が第１の基板に設けてあるが、着色層を、かかる対向基板２２０の第２の基板２２１上に設けることも好ましい。
【００４５】
（８）液晶層
図３に示すように、カラーフィルタ基板２１０と対向基板２２０との間に液晶材料２３２が充填されていることが好ましい。このとき、カラーフィルタ基板２１０の内面上には画素毎に凹部２３７が形成されているので、液晶材料２３２は、この凹部２３７内に入り込んだ状態（すなわち、上記表面保護層３１５の開口部の内側に入り込んだ状態）に構成される。このため、液晶層２３２の厚さは、表面保護層３１５の開口部の形成された領域（すなわち、反射層２１２の開口部２１２ａの形成された領域）において、それ以外の領域（すなわち反射部２１２ｒの形成された領域）に較べて厚く構成されることとなる。
【００４６】
（９）動作
以上のように構成された本実施形態において、対向基板２２０側から入射した外光は、液晶材料２３２を透過してカラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を透過した後に、反射部２１２ｒにて反射し、再び、着色層２１４、液晶材料２３２、および対向基板２２０をそれぞれ透過して外部に出射することができる。すなわち、反射光はカラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を２回通過することになる。
一方、着色層２１４は、反射層２１２の開口部２１２ａを全面的に覆っているので、例えばカラーフィルタ基板２１０の背後にバックライト等を配置して、背後から照明光を照射した場合には、当該照明光の一部が反射層２１２の開口部２１２ａを通過して着色層２１４を透過し、液晶材料２３２および対向基板２２０を通過して出射することができる。このとき、透過光は、カラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を１回だけ透過することになる。
したがって、反射方式に拠っても、透過方式に拠っても、着色層中の通過距離が実質的に等しくなるため、同程度の着色性を視覚することができる。
また、以上のように構成された第１実施形態では、配線パターンの取出し部において、配線パターンが形成されていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐための所定のダミーパターンが設けてあるため、配向膜に対してラビング処理を施す場合であっても、静電気の発生を効果的に抑制し、ひいては、ラビングすじの発生を少なくすることができる。
【００４７】
［第２実施形態］
第２実施形態は、基板と、配線パターンとを含む電気光学装置用基板の製造方法であって、
基板上に配線パターンを入力する工程と、
配線パターンの取出し部であって、配線パターンが設けられていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターンを設ける工程と、
配線パターンの取出し部であって、少なくとも配線パターンを設けた箇所及びダミーパターンを設けた箇所をラビングローラが通過するようにしてラビング処理を行う工程と、
を含む電気光学装置用基板の製造方法である。
【００４８】
１．構成
第２実施形態の電気光学装置用基板の製造方法により得られるカラーフィルタ基板は、第１の実施形態と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【００４９】
２．製造工程
（１）着色層の形成
第１基板上には、図１に示す液晶表示領域Ａに相当する領域に、上記の反射層２１２、ブラックマトリクス（黒色遮光層）２１４ＢＭ、および位置調整層２１３を順次形成することが好ましい。
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を基板２１１上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。また、ブラックマトリクス２１４ＢＭは、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成する。さらに、位置調整層２１３は、透明樹脂等からなる感光性樹脂を部分的または全面的に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって、所定場所に形成することが好ましい。
また、着色層２１４についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、位置調整層２１３等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成することができる。
なお、複数の色の着色層を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
【００５０】
（２）透光保護層の形成
次いで、第１基板２１０上に全面的に透光保護層を形成することが好ましい。かかる透光保護層は、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
【００５１】
次いで、透光保護層にフォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、表面保護層３１５を形成する。このとき、これと同時に表面保護層には開口部が形成される。この工程によって、シール材の外側に配置される領域（基板張出部を含む。）とほぼ同じ領域上から透光性素材が除去される。
【００５２】
（３）透明導電層の形成
次いで、基板２１０上に全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明導電層を形成することが好ましい。この透明導電層はスパッタリング法により成膜できる。そして、この透明導電層に対してフォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、透明電極２１６や入力端子部（配線も含む）等を一度に形成することができる。
【００５３】
（４）ダミーパターンの形成
さらに、本発明にかかる第２の実施形態においては、基板張出部上の入力端子部の取出し部において、配線が形成されていない箇所に、ダミーパターンを形成することを特徴とする。
【００５４】
▲１▼別形成
ここで、ダミーパターンを形成する場合に、配線を形成する前後のいずれかの別工程として、形成することが好ましい。
この理由は、配線とは別個にダミーパターンを形成することにより、配線の形成に対して、悪影響を及ぼすおそれが少なくなるためである。また、このようにダミーパターンを形成することにより、配線を精度良く形成する前後に、その形成条件を厳格に制御することなく、迅速かつ簡易的方法で形成することができるためである。
【００５５】
▲２▼同時形成
また、ダミーパターンを形成する場合に、配線と同時に形成することも好ましい。
この理由は、このようにダミーパターンを形成することにより、従来の製造工程をそのまま使用することができるためである。すなわち、製造工程を変えたり、増加したりすることなく、特定のダミーパターンを形成することができるためである。したがって、このようにダミーパターンを形成することにより、ダミーパターンを備えた電気光学装置用基板を安価かつ迅速に提供することができる。
【００５６】
（５）ラビング処理
次いで、ダミーパターン１８を備えた電気光学装置用基板１０をラビングローラ２５によりラビング処理することが好ましい。このとき、図４に示すように、電気光学装置用基板１０を、各々切断する前にラビング処理することが好ましい。この理由は、一回のラビング処理により、複数の電気光学装置用基板１０をラビング処理することができ、より効率的に電気光学装置用基板１０を製造することができるためである。
なお、ラビング処理を行う際に、信号電極の配列方向２７と、ラビングローラ２５との補角を４０〜８０°の範囲内の値とすることが好ましく、より好ましくは６０°の補角をなすことである。
【００５７】
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態としての電気光学装置を、電子機器における表示装置として用いた場合について具体的に説明する。
【００５８】
（１）電子機器の概要
図５は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００とを有している。また、図５中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体素子（ＩＣチップ）等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されていることが好ましい。
また、表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給することが好ましい。そして、駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、所定のダミーパターンを備えた電気光学装置用基板を使用していることから、ラビング時の静電気の発生を抑制して、電子機器の表示におけるラビングすじの発生を防止できるとともに、誤動作等についても有効に防止することができる。
【００５９】
（２）電子機器
本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、パーソナルコンピュータや、携帯電話機のほかにも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器などが挙げられる。
【００６０】
さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構造を有しているが、半導体素子（ＩＣチップ）を直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
【００６１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置用基板によれば、配線パターンの取出し部であって、配線パターンが形成されていない箇所に、ラビングすじの発生を防ぐためのダミーパターンを設けることにより、静電気の発生を抑制し、ひいては、ラビングすじの発生を少なくすることができるようになった。すなわち、液晶表示装置等において、図８に示すような、ラビングすじ４０４の発生を確実に抑制することができるようになった。
【００６２】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法によれば、静電気の発生が抑制され、電気光学装置に使用された場合に、ラビングすじの発生が少ない電気光学装置用基板を効率的に製造することができるようになった。
【００６３】
また、本発明の電気光学装置によれば、ラビング処理を実施した場合に静電気の発生が少ない電気光学装置用基板を用いていることから、画像表示した場合に、ラビングすじの発生や誤動作が少ない電気光学装置を効率的に提供することができるようになった。
【００６４】
さらに、本発明の電子機器によれば、画像表示した場合に、ラビングすじの発生が少なく、画像表示性に優れた電気光学装置を効率的に提供することができるようになった。
【００６５】
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）および（ｂ）は、本発明に係るダミーパターンを説明するために供する図である。
【図２】本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図３】（ａ）は、第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図であり、（ｂ）は、カラーフィルタ基板の平面構造を示す拡大部分平面図である。
【図４】ラビング処理工程を説明するために供する図である。
【図５】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図６】従来の液晶表示装置用カラーフィルタを説明するために供する図である。
【図７】従来の液晶表示装置におけるラビング方法を説明するために供する図である。
【図８】液晶表示装置におけるラビングすじを説明するために供する図である。
【００６６】
【符号の説明】
１０：液晶表示装置、１１：ドライバ出力配線、１２：カラーフィルタ基板、１３：第２基板、１４：ドライバ入力配線、１５：取り出し部、１６：半導体素子搭載部、１７：信号電極、１８・１９：ダミーパターン、２０：マザーボード、２１：１次ブレイクライン、２２：２次ブレイクライン、２３：配向膜印刷領域、２５：ラビングローラ、３０：配線パターン、３１：配向膜、２００：液晶パネル、２１０：カラーフィルタ基板、２１１：第１基板、２１２：反射層、２１２ａ：開口部、２１２ｒ：反射部、２１３：凹部、２１４：着色層、２１５ａ：開口部、２１６：透明電極、２２０：対向基板、２２１：第２基板、２２２：透明電極、３１５：表面保護層、３１５ａ：開口部
【図１】
2004117576.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2004117576.tif 000007
【図６】
2004117576.tif 000008
【図７】
2004117576.tif 000009
【図８】
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