(57)【要約】【課題】熱的安定性を改善することができる磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】非磁性基板１０１、非磁性下地層１０２、第一磁性層１０３、非磁性結合層１０４、第二磁性層２０５、第三磁性層２０６、および保護層１０６をこの順番で積層した磁気記録媒体において、第二磁性層２０５の飽和磁化が第三磁性層２０６の飽和磁化よりも大きく、第二磁性層２０５が、第一磁性層１０３と反強磁性結合できるようにされている。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも非磁性基板、非磁性下地層、第一磁性層、非磁性結合層、第二磁性層、第三磁性層および保護層をこの順番で積層した磁気記録媒体において、
第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きく、第二磁性層が、第一磁性層と反強磁性結合できるようにされていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
少なくとも非磁性基板、非磁性下地層、第一磁性層、非磁性結合層、第二磁性層、第三磁性層および保護層をこの順番で積層した磁気記録媒体において、
第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きく、第二および第三磁性層が、第一磁性層と反強磁性結合できるようにされていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】
第二磁性層は、Ｃｏ系合金からなり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含むことを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
第二磁性層は、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含むことを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
第二磁性層の厚さが、０．５〜１０ｎｍ（好ましくは０．５〜３ｎｍ）であることを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
第二磁性層の飽和磁化が、３００〜１０００ｅｍｕ／ｃｃであることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
第二磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ２＊ｔ２）と、前記第三磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ３＊ｔ３）との和（Ｍ２＊ｔ２＋Ｍ３＊ｔ３）が、前記第一磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ１＊ｔ１）より大きいことを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項８】
非磁性結合層が、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｒｕ系合金、Ｒｈ系合金、Ｉｒ系合金、Ｃｒ系合金、Ｒｅ系合金から選ばれるいずれか１種からなり、かつ厚さが０．５〜１．５ｎｍであることを特徴とする請求項１〜７のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項９】
非磁性下地層が、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、Ｓｉ、およびＶから選ばれる１種または２種以上とＣｒとからなるＣｒ合金、またはＣｒからなる層を含む多層構造を有することを特徴とする請求項１〜８のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】
非磁性下地層が、ＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、またはＣｒ合金からなる層を含む多層構造を有し、このＣｒ合金が、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、Ｓｉ、およびＶから選ばれる１種または２種以上とＣｒとからなることを特徴とする請求項１〜８のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】
非磁性基板は、ガラス、シリコンから選ばれるいずれか１種からなることを特徴とする請求項１〜１０のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１２】
非磁性基板は、Ａｌ、Ａｌ合金、ガラス、シリコンから選ばれるいずれか１種からなる基体の表面に、ＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜を形成したものであることを特徴とする請求項１〜１０のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１３】
前記第一磁性層は、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＲｕＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１〜１２のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１４】
前記第三磁性層は、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢＭ’系合金（Ｍ’＝Ｔａ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１〜１３のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１５】
少なくとも非磁性基板、非磁性下地層、第一磁性層、非磁性結合層、第二磁性層、第三磁性層および保護層をこの順番で積層した磁気記録媒体を製造する方法であって、
第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きく、第二磁性層が、第一磁性層と反強磁性結合できるようにされていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、磁気記録媒体が、請求項１ないし１４のいずれか１項記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハードディスク装置などに用いられる磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置に関するものであり、特に、記録再生特性と熱安定性に優れたものに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録再生装置の１種であるハードディスク装置（ＨＤＤ）は、現在その記録密度が年率６０％で増えており今後もその傾向は続くと言われている。高記録密度に適した磁気記録用ヘッドの開発、磁気記録媒体の開発が進められている。
磁気記録媒体には高記録密度化が要求されており、これに伴い保磁力の向上、媒体ノイズの低減が求められている。
ハードディスク装置に用いられる磁気記録媒体としては、磁気記録媒体用の基板にスパッタ法により金属膜を積層した構造を有するものが主流となっている。
磁気記録媒体に用いられる基板としては、アルミニウム基板とガラス基板が広く用いられている。アルミニウム基板としては、鏡面研磨したＡｌ−Ｍｇ合金の基体上に、厚さ１０μｍ程度のＮｉＰ膜を無電解メッキで形成し、その表面を更に鏡面仕上げしたものが多く用いられている。
ガラス基板としては、アモルファスガラス基板と結晶化ガラス基板の２種類がある。いずれのガラス基板も鏡面仕上げしたものが用いられる。
【０００３】
現在一般的に用いられているハードディスク装置用磁気記録媒体においては、非磁性基板上に非磁性下地層（ＮｉＡｌ、Ｃｒ、Ｃｒ合金等）、磁性層（ＣｏＲｕ、ＣｏＣｒＴａ合金等）、非磁性結合層（Ｒｕ等）、磁性層（ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ合金等）、保護層（カーボン等）が順次形成されており、その上に液体潤滑剤からなる潤滑層が形成されている。
記録密度を向上させるためには、高周波で記録した際のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌｔｏ  Ｎｏｉｓｅ  Ｒａｔｉｏ）を向上させる必要性がある。ＫｅｎｎｅｔｈＥ．Ｊ．，“Ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ａｎｄ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ  ｆｏｒ  ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ  ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ  ｍｅｄｉａ”、ＪＯＵＲＮＡＬ  ＯＦ  ＡＰＰＬＩＥＤ  ＰＨＹＳＩＣＳ  Ｖｏｌ．８７、Ｎｏ．９、５３６５（２０００）では、ＳＮＲを向上させるためには、磁性層の結晶粒子の直径を小さく、かつ均一にする必要があると論ぜられている。
一方、磁性層の結晶粒子の直径を小さくすることは、その体積を小さくすることを伴うので、熱的に不安定になることが、Ｓｈａｒａｔ  Ｂａｔｒａ  ｅｔ  ａｌ．，“Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｄｅｐｅｎｄｅｎｃｅ  ｏｆ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ  ｉｎ  Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ  Ｍｅｄｉａ”，ＩＥＥＥ  Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇｎ．Ｖｏｌ．３５，Ｎｏ．５，２７３６（１９９９）で報告されている。
磁気記録媒のＳＮＲを向上させるためには、磁性層の結晶粒子の直径を小さくする必要性があるが、これは結晶粒子の体積を小さくさせ、熱的な不安定さをもたらす。
【０００４】
この問題の解決策の一つとして、ルテニウムなどの非磁性結合層の上下にそれぞれ磁性層を形成し、これら磁性層の磁化方向を互いに反平行とする磁気記録媒体が提案されている（例えば特許文献１）。
この技術を用いた磁気記録媒体では、上記２つの磁性層の磁化方向が互いに逆になることにより、磁気的に記録再生に関与している部分は磁性層全体の厚さよりも実質的には薄くなる。このためＳＮＲの向上を図ることができる。一方、磁性層全体の結晶粒子の体積は大きくなるために、熱的な不安定さの改善を図ることができる。
この技術を用いた媒体は、ＡＦＣ媒体（ＡｎｔｉＦｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃａｌｌｙ−Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｍｅｄｉａ）または、ＳＦＭ（ＳｙｎｔｈｅｔｉｃＦｅｒｒｉｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｍｅｄｉａ）と一般的に呼ばれている。ここではＡＦＣ媒体と呼ぶ。
さらに、最近ではよりＳＮＲを向上させるために下地層の工夫等によって、磁性層の結晶粒子はますます小さくなり、熱的不安定さは増してきている。
例えば、ＵＫ  Ｐａｔｅｎｔ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  ＧＢ  ２３５５０１８Ａには、ＡＦＣ媒体において非磁性結合層の上下の磁性層間の反磁性結合強度をさらに増す技術として、非磁性結合層であるルテニウム層の上下、または上下のうち一方に主にコバルトからなる層（コバルト合金層）を挿入することで、反強磁性結合を強くして熱安定性を改善することが提案されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−５６９２１号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記反強磁性結合を強くするためコバルト合金層を非磁性結合層の上に挿入した場合、ノイズが増大して、ＳＮＲが低下してしまうことが報告されている。一例として、ＣｏＣｒ系合金を用いた、Ｉ．Ｏｋａｍｏｔｏ、“Ａｄｖａｎｃｅｄ  ｓｙｎｔｈｔｉｃ  ｆｅｒｒｉｍａｇｎｅｔｉｃ  ｍｅｄｉａ（Ｉｎｖｉｔｅｄ）”Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ，    Ｖｏｌ．９１，  Ｎｏ．１０  ７６７１（２００２）を挙げる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、熱的安定性を改善することができ、かつ低ノイズ化が可能となる磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記問題を解決するために、第二磁性層の飽和磁化を第三磁性層の飽和磁化よりも大きくすることで、非磁性層の上下に設けられた磁性層どうしの反強磁性結合をより強くし、そして熱的安定性を改善し、また、第二磁性層の組成を工夫することでノイズの悪化を抑えたＡＦＣ媒体を得ることができることを見出し本発明を完成した。
（１）上記課題を解決する第１の発明は、少なくとも非磁性基板、非磁性下地層、第一磁性層、非磁性結合層、第二磁性層、第三磁性層および保護層をこの順番で積層した磁気記録媒体において、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きく、第二磁性層が、第一磁性層と反強磁性結合できるようにされていることを特徴とする磁気記録媒体である。
（２）上記課題を解決する第２の発明は、少なくとも非磁性基板、非磁性下地層、第一磁性層、非磁性結合層、第二磁性層、第三磁性層および保護層をこの順番で積層した磁気記録媒体において、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きく、第二および第三磁性層が、第一磁性層と反強磁性結合できるようにされていることを特徴とする磁気記録媒体である。
（３）上記課題を解決する第３の発明は、第二磁性層が、Ｃｏ系合金からなり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含むことを特徴とする。
（４）上記課題を解決する第４の発明は、第二磁性層が、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含むことを特徴とする。
（５）上記課題を解決する第５の発明は、第二磁性層の厚さが、０．５〜１０ｎｍ（好ましくは０．５〜３ｎｍ）であることを特徴とする。
（６）上記課題を解決する第６の発明は、第二磁性層の飽和磁化が、３００〜１０００ｅｍｕ／ｃｃであることを特徴とする。
（７）上記課題を解決する第７の発明は、第二磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ２＊ｔ２）と、前記第三磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ３＊ｔ３）との和（Ｍ２＊ｔ２＋Ｍ３＊ｔ３）が、前記第一磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ１＊ｔ１）より大きいことを特徴とする。
（８）上記課題を解決する第８の発明は、非磁性結合層が、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｒｕ系合金、Ｒｈ系合金、Ｉｒ系合金、Ｃｒ系合金、Ｒｅ系合金から選ばれるいずれか１種からなり、かつ厚さが０．５〜１．５ｎｍであることを特徴とする。
（９）上記課題を解決する第９の発明は、非磁性下地層が、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、Ｓｉ、およびＶから選ばれる１種または２種以上とＣｒとからなるＣｒ合金、またはＣｒからなる層を含む多層構造を有することを特徴とする。
（１０）上記課題を解決する第１０の発明は、非磁性下地層が、ＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、またはＣｒ合金からなる層を含む多層構造を有し、このＣｒ合金が、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、Ｓｉ、およびＶから選ばれる１種または２種以上とＣｒとからなることを特徴とする。
（１１）上記課題を解決する第１１の発明は、非磁性基板が、ガラス、シリコンから選ばれるいずれか１種からなることを特徴とする。
（１２）上記課題を解決する第１２の発明は、非磁性基板が、Ａｌ、Ａｌ合金、ガラス、シリコンから選ばれるいずれか１種からなる基体の表面に、ＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜を形成したものであることを特徴とする。
（１３）上記課題を解決する第１３の発明は、前記第一磁性層が、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＲｕＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であることを特徴とする。
（１４）上記課題を解決する第１４の発明は、前記第三磁性層が、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢＭ’系合金（Ｍ’＝Ｔａ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であることを特徴とする。
（１５）上記課題を解決する第１５の発明は、少なくとも非磁性基板、非磁性下地層、第一磁性層、非磁性結合層、第二磁性層、第三磁性層および保護層をこの順番で積層した磁気記録媒体を製造する方法であって、
第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きく、第二磁性層が、第一磁性層と反強磁性結合できるようにされていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
（１６）上記課題を解決する第１６の発明は、磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備え、磁気記録媒体が、上記第１ないし第１４の発明の磁気記録媒体のうちいずれかであることを特徴とする磁気記録再生装置である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、非磁性基板１０１上に、非磁性下地層１０２、第一磁性層１０３、非磁性結合層１０４、第二磁性層２０５、第三磁性層２０６、保護層１０６、潤滑層１０７を順次積層させたものである。
【０００９】
本発明における非磁性基板としては、ＡｌまたはＡｌ合金からなる基体上に、ＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜が形成されたものを用いることができる。
非磁性基板としては、ガラス、セラミックス、シリコン、シリコンカーバイド、カーボン、樹脂などの非金属材料からなるものを用いてもよいし、この非金属材料からなる基体上にＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜を形成したものを用いてもよい。
特に、Ａｌ、Ａｌ合金、ガラス、シリコンから選ばれるいずれか１種からなる基体の表面に、ＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜を形成したものが好ましい。
【００１０】
非金属材料としては、表面平滑性の点から、ガラス、シリコンから選ばれるいずれか１種が好ましい。特に、コストおよび耐久性の点からガラスを用いるのが好ましい。
ガラスとしては、結晶化ガラスまたはアモルファスガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては汎用のソーダライムガラス、アルミノケートガラス、アルミノシリケートを使用できる。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスを用いることができる。
特に、実際にドライブ装置に組み込んで使用した場合に他の部品との熱膨張係数の整合性の点、および機械的強度（剛性など）の点から、構成成分としてＳｉＯ２、Ｌｉ２Ｏを含む結晶化ガラスが好ましい。
セラミックスとしては、汎用の酸化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、その繊維強化物が挙げられる。
【００１１】
記録密度を高めるため、磁気ヘッドの低フライングハイト化が要求されていることから、非磁性基板の表面平滑性を高めることが望ましい。
すなわち、本発明に用いられる非磁性基板は、平均表面粗さＲａが２ｎｍ（２０Å）以下、好ましくは１ｎｍ以下であることが望ましい。
【００１２】
非磁性基板は、その表面に、テクスチャー加工によるテクスチャー痕を有するものとしてもよい。テクスチャー加工では、テクスチャー痕を有した基板の表面の平均粗さが、０．１ｎｍ以上０．７ｎｍ以下（より好ましくは０．１ｎｍ以上０．５ｎｍ以下、さらに好ましくは０．１ｎｍ以上０．３５ｎｍ以下）となるように加工するのが好ましい。テクスチャー痕はほぼ円周方向に形成されているのが磁気記録媒体の円周方向の磁気的異方性を強める点から好ましい。
【００１３】
非磁性基板は、表面の微小うねり（Ｗａ）が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下）であるのが好ましい。端面のチャンファー部の面取り部と、側面部のうち少なくとも一方の表面平均粗さＲａが１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下）のものを用いることが磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ましい。
微少うねり（Ｗａ）は、例えば、表面粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００１４】
非磁性基板上には、非磁性下地層が形成される。非磁性下地層は、１層構造としてもよいし、複数の構成層を積層した多層構造としてもよい。
非磁性下地層は、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、ＳｉおよびＶから選ばれる１種もしくは２種以上とＣｒとからなるＣｒ合金、またはＣｒで構成することができる。
非磁性下地層を多層構造とする場合には、非磁性下地層を構成する構成層のうち少なくとも１つを上記Ｃｒ合金またはＣｒで構成することができる。
非磁性下地層に、上記Ｃｒ合金またはＣｒを用いることによって、第一磁性層に磁気異方性を与えることができる。
【００１５】
非磁性下地層は、ＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、またはＣｒ合金（Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、Ｓｉ、およびＶから選ばれる１種または２種以上とＣｒとからなる合金）で構成することもできる。
非磁性下地層を多層構造とする場合には、非磁性下地層を構成する構成層のうち少なくとも１つをＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、または上記Ｃｒ合金で構成することができる。
非磁性下地層に、上記ＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、またはＣｒ合金を用いることによって、第一磁性層に、磁気的な等方性を与えることができる。
【００１６】
非磁性下地層の厚さは１〜４０ｎｍとすることが好ましい。この厚さは、１ｎｍ未満では結晶成長が不充分であり。４０ｎｍを越えると結晶粒子が大きくなりすぎ媒体ノイズを悪化させてしまう。
【００１７】
非磁性下地層は、多層構造であるのが好ましい。多層構造とすることにより結晶配向がそろい、電磁変換特性が良好になるからである。
非磁性下地層を多層構造とする場合には、非磁性下地層を構成する構成層の厚さを、１〜４０ｎｍとすることが好ましい。この厚さは、１ｎｍ未満では結晶成長が不充分であり。４０ｎｍを越えると結晶粒子が大きくなりすぎ媒体ノイズを悪化させてしまう。
多層構造の非磁性下地層の全体の厚さは３〜１５０ｎｍとすることが好ましい。
【００１８】
第一磁性層には、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＲｕＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上を用いることができる。特に、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であってｈｃｐ構造を有する材料を使用することができる。
特に、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金から選ばれた１種または２種以上を含む材料が好ましい。
ＣｏＣｒ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＲｕ系合金を使用する場合、Ｒｕの含有量は１０〜２５ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＴａ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｔａの含有量は１〜２０ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＰｔ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は１〜２０ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＢ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｂの含有量は１〜２０ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＰｔＢ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は１〜２０ａｔ％、Ｂの含有量は１〜２０ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
第一磁性層がＢを含む場合には、非磁性下地層と第一磁性層との境界付近において、Ｂ濃度が１ａｔ％以上となる領域におけるＣｒ濃度が４０ａｔ％以下となっているのが好ましい。Ｃｒ濃度をこの範囲とすることによって、ＣｒとＢとが高濃度で共存するのを防ぎ、ＣｒとＢとの共有結合性化合物の生成を極力抑え、第一磁性層の配向性の低下を防ぐことができる。
【００１９】
第一磁性層の厚さは０．５〜５ｎｍであることが好ましい。０．５ｎｍ未満ではエピタキシャル成長が十分ではなく高い保磁力を得ることができない。５ｎｍを越えると反強磁性結合に関与しない部分によるノイズの増加が起きてしまう。
【００２０】
非磁性結合層は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｒｕ系合金、Ｒｈ系合金、Ｉｒ系合金、Ｃｒ系合金、Ｒｅ系合金から選ばれるいずれか１種からなることが好ましい。
これらの物質は結合性エネルギー係数（Ｅｘｃｈａｎｇｅ  Ｅｎｅｒｇｙ  Ｃｏｎｓｔａｎｔ）が大きいので、非磁性結合層の上下に設けられた磁性層の磁化の反転の度合いを大きくできる。
特に、Ｒｕは上記物質の中で最も結合性エネルギー係数が大きいため、Ｒｕを使用することが望ましい。
なお、結合性エネルギー係数とは、上下に設けられた磁性層の交換相互作用の強さを表す値であり、その値が大きいほどよい。
非磁性結合層の厚さは、０．５〜１．５ｎｍ（より好ましくは０．６〜１．０ｎｍ）であることが望ましい。これは、厚さをこの範囲とすると、十分な反強磁性結合が得られるからである。
【００２１】
第二磁性層には、Ｃｏ系合金であり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含む材料を使用することができる。特に、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であってｈｃｐ構造を有する材料が好ましい。
第二磁性層には、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上である材料を用いるのが好ましい。この材料のＣｏ含有量は、６０〜９０ａｔ％とするのが好ましい。
ＣｏＣｒ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％とするのが熱安定性およびＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＲｕ系合金を使用する場合、Ｒｕの含有量は１０〜２５ａｔ％とするのが熱安定性およびＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＴａ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｔａの含有量は１〜２０ａｔ％とするのが熱安定性およびＳＮＲの点から好ましい。ＣｏＣｒＰｔ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は１〜２０ａｔ％とするのが熱安定性およびＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＢ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｂの含有量は１〜２０ａｔ％とするのが熱安定性およびＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＲｕ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｒｕの含有量は１〜２０ａｔ％とするのが熱安定性およびＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＰｔＢ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は１〜２０ａｔ％、Ｂの含有量は１〜２０ａｔ％とするのが熱安定性およびＳＮＲの点から好ましい。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体では、第二磁性層と、第一磁性層とが反強磁性結合を形成することができるように構成されている。
本発明では、第二および第三磁性層が、第一磁性層と反強磁性結合を形成することができる構成であってもよい。
反強磁性結合の強さを表す指標としては、Ｈｅｘ（Ｅｘｃｈａｎｇｅ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ  ｓｔｒｅｎｇｔｈ）、またはＪ（交換結合係数）が用いられる。
本発明の磁気記録媒体は、Ｈｅｘが５００（Ｏｅ）以上であることが好ましい。Ｊは０．２ｅｒｇ／ｃｍ２以上であることが好ましい。
なお、本発明において、１ｅｒｇ／ｃｍ２＝０．００１Ｊ／ｍ２である。また、１（Ｏｅ）≒７９．５７７４７５Ａ／ｍである。また、１ｅｍｕ／ｃｃ≒１２．５６６４＊１０−４Ｗｂ／ｍ２である。また、１Å＝１０−１０ｍである。
【００２３】
Ｈｅｘは、保磁力測定において、マイナーループを測定したときのマイナーループの中心から磁界０までの磁界強度として定義される。
Ｈｅｘが大きいほど非磁性結合層の上下に設けられた磁性層どうしの磁気的な結合は強く安定であるといえる。
マイナーループの一例を図２に示す。マイナーループの測定方法の一例をこの図に沿って説明する。
まず、磁界を、０から測定最大磁界（例えば１００００（Ｏｅ））まで増加させる（図中１→２→３）。
次いで、磁界を反転させ測定最大磁界（例えば１００００（Ｏｅ））から磁化が一度減少し、磁化曲線がループを示した後、さらに磁化曲線が減少し始める位置よりも磁界が１０００（Ｏｅ）程度大きい位置（例えば−３０００（Ｏｅ））まで磁界を減少させる（図中４→５→６）。
次いで、磁界を反転させ、反転位置（例えば−３０００（Ｏｅ））から測定最大磁界（例えば１００００（Ｏｅ））まで磁界を増加させる（図中７→１→２→３）。このとき、磁化曲線に観察されるヒステリシスカーブがマイナーループである。
【００２４】
Ｊは次の式で与えられる。
Ｊ＝Ｈｅｘ＊Ｍｓ１＊ｔ１
ここで、Ｍｓ１は第一磁性層の飽和磁化であり、ｔ１は第一磁性層の厚さである。
Ｍｓ１はマイナーループより求めることができる。
【００２５】
本発明において、第二磁性層の飽和磁化は、第三磁性層の飽和磁化よりも大きくされている。
第二磁性層の飽和磁化は、３００〜１０００ｅｍｕ／ｃｃであることが望ましい。
この飽和磁化が上記範囲未満であると、Ｈｅｘが小さくなり、熱安定性の改善効果が小さくなる。また、この飽和磁化が上記範囲を越えると、ノイズが増大する。
【００２６】
第二磁性層の飽和磁化は、例えば次のようにして測定することができる。
非磁性基板上に非磁性下地層、非磁性中間層（例えばＣｏ４０Ｃｒ）を順次積層させた上に、所定の厚さ（例えば２０ｎｍ）の第二磁性層を積層し、保護層を積層させた後、ＶＳＭ（Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ  Ｓａｍｐｌｅ  Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｏｒ）を用い、印加磁界を±１０ｋＯｅとしてＢ−Ｈループを作成する。
外部磁化が＋１０ｋＯｅであり、すべての磁化が同一方向にそろった点を飽和磁化とする。
なお、第一磁性層、非磁性結合層を用いたＡＦＣ媒体を被検体とせず、非磁性中間層を備えた媒体を被検体とするのは、第一磁性層の影響を排除するためである。
【００２７】
第二磁性層の厚さは、０．５〜１０ｎｍ（より好ましくは０．５〜３ｎｍ）であることが好ましい。この厚さが０．５ｎｍ未満では反強磁性結合を強める効果が小さくなる。また、厚さが１０ｎｍ以上であるとノイズが増大するため、よいＳＮＲを得ることができない。
【００２８】
第三磁性層には、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢＭ’系合金（Ｍ’＝Ｔａ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上を使用することができる。
第三磁性層には、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であってｈｃｐ構造を有する材料を使用することができる。
例えば、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金、ＣｏＣｒＰｔＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ系合金から選ばれた１種または２種以上を使用することができる。
ＣｏＣｒＰｔ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は８〜１６ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＰｔＢ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は８〜１６ａｔ％、Ｂの含有量は１〜２０ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＰｔＢＴａ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は８〜１６ａｔ％、Ｂの含有量は１〜２０ａｔ％、Ｔａの含有量は１〜４ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ系合金を使用する場合、Ｃｒの含有量は１０〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有量は８〜１６ａｔ％、Ｂの含有量は２〜２０ａｔ％、Ｃｕの含有量は１〜４ａｔ％とするのがＳＮＲの点から好ましい。
第三磁性層の飽和磁化は、第二磁性層と同様にして測定することができる。
【００２９】
第二磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ２＊ｔ２）と、前記第三磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ３＊ｔ３）との和（Ｍ２＊ｔ２＋Ｍ３＊ｔ３）は、第一磁性層の飽和磁化と厚さの積（Ｍ１＊ｔ１）より大きいことが好ましい。
このＭ２＊ｔ２＋Ｍ３＊ｔ３が、Ｍ１＊ｔ１以下であると、第二および第三磁性層の磁化方向が第一磁性層の磁化方向に依存してしまい、ノイズが増大するため好ましくない。
【００３０】
本発明の磁気記録媒体において、第一〜第三磁性層を備え、他に磁性層を備えていない場合には、第二および第三磁性層の厚さは、熱揺らぎ特性の点から１５ｎｍ以上とするのが好ましい。第二および第三磁性層の厚さは、高記録密度化の観点から４０ｎｍ以下であるのが好ましい。これは、この厚さが４０ｎｍを越えると、好ましい記録再生特性が得られないからである。
各磁性層は、複数の構成層を積層した多層構造としてもよい。この場合、構成層の材料としては、第一〜第三磁性層の材料として例示したものを使用することができる。
磁性層を多層構造とした場合、構成層のうち非磁性下地層の直上に位置するものは、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、またはＣｏＣｒＰｔＢ系合金からなるものであるのが、記録再生特性（特にＳＮＲ特性）の改善の点から好ましい。
上記構成層のうち最上層は、ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ系合金またはＣｏＣｒＰｔＢ系合金からなるものであるのが、記録再生特性のＳＮＲ特性改善の点から好ましい。
【００３１】
基板と非磁性下地層の間には、非磁性下地層のエピタキシャル成長を助長することを目的として、金属材料からなる配向調整層を設けてもよい。
配向調整層の材料としては、ＣｏＷ系合金、ＣｏＭｏ系合金、ＣｏＴａ系合金、ＣｏＮｂ系合金、ＮｉＰ系合金、ＮｉＴａ系合金、ＦｅＭｏ系合金、ＦｅＷ系合金、ＲｅＷ系合金、ＲｅＭｏ系合金、ＲｕＷ系合金、ＲｕＭｏ系合金を用いることができる。
また、配向調整層の表面をＯ２、空気などのガスで処理してもよい。配向調整層の厚さは５〜５０ｎｍであるのがエピタキシャル成長の助長の点から好ましい。
さらに、基板と配向調整層との密着性を高めるために、基板と配向調整層との間に密着層を設けてもよい。
密着層には、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗから選ばれた少なくともいずれか１種を用いることができる。密着層の厚さは１〜１００ｎｍ（より好ましくは５〜８０ｎｍ、さらに好ましくは７〜７０ｎｍ）であるのが密着性、生産性の点から好ましい。
【００３２】
保護層は、従来の公知の材料、例えば、カーボン、ＳｉＣ、それらを主成分とした材料を使用することができる。
保護層の厚さは、１〜１０ｎｍとするのが、高記録密度で使用した場合のスペーシングロス、および媒体の耐久性の点から好ましい。
保護層上には、必要に応じ例えばパーフルオロポリエーテルのフッ素系潤滑剤からなる潤滑層を設けることができる。
【００３３】
本発明の磁気記録媒体では、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きくされているので、第二磁性層と第一磁性層との反強磁性結合の強度を高めることができる。
従って、熱的安定性を高めるとともに、低ノイズ化が可能となる。
また、第二磁性層に、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含む材料を用いることによって、さらなる低ノイズ化が可能となる。
【００３４】
次に、本発明の製造方法の一例を説明する。
必要に応じて、非磁性基板表面にテクスチャー加工を施す。
テクスチャー加工方法としては、研磨用テープを用いたメカニカルテクスチャーを採用することができる。
テクスチャー加工の際には、オッシレーションを行うことができる。オッシレーションとは、研磨用テープを基板の円周方向に走行させると同時に、この研磨用テープを基板の半径方向に揺動させる操作のことである。オッシレーションの速度は６０〜１２００回／分とすると、テクスチャーによる表面研削量が均一になるため好ましい。
テクスチャー加工の方法としては、研磨用テープを用いたメカニカルテクスチャーによる方法以外に、固定砥粒を用いた方法、固定砥石を用いた方法、レーザー加工を用いた方法を挙げることができる。
テクスチャー加工では、線密度が７５００［本／ｍｍ］以上のテクスチャー痕を基板表面に形成するのが好ましい。
【００３５】
非磁性基板を洗浄した後、成膜装置のチャンバ内に収容する。
非磁性基板上に、非磁性下地層、第一磁性層、非磁性結合層、第二磁性層、第三磁性層をスパッタ法（例えばＤＣまたはＲＦマグネトロンスパッタ法）により形成する。
スパッタ法により上記各層を形成する際の操作条件は、例えば次のとおりとすることができる。
非磁性基板は、必要に応じて、例えばヒータより１００〜４００℃に加熱することができる。チャンバ内の真空度は１０−４〜１０−７Ｐａとすることができる。スパッタ用ガスとしてはＡｒガスを用いることができる。供給電力は０．２〜２．０ｋＷとするのが好ましい。この際、放電時間と供給電力を調節することによって、形成する層の厚さを調節することができる。
各層を形成する際には、各層の材料と同じ組成の材料からなるスパッタリング用ターゲットを用いることができる。
【００３６】
以下、各層を形成する方法の具体例を示す。
非磁性基板上に、Ｃｒ、Ｃｒ合金、ＮｉＡｌ、ＲｕＡｌから選ばれるいずれかからなるスパッタリング用ターゲットを用いて、５〜１５ｎｍの厚さの非磁性下地層を形成する。
次いで、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＲｕＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金から選ばれるいずれか１種からなるスパッタリング用ターゲットを用いて、第一磁性層を０．５〜５ｎｍの厚さで形成する。
次いで、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｒｕ系合金、Ｒｈ系合金、Ｉｒ系合金、Ｃｒ系合金、Ｒｅ系合金から選ばれるいずれかからなるスパッタリング用ターゲットを用いて、非磁性結合層を０．５〜１．５ｎｍ（より好ましくは０．６〜１．０ｎｍ）の厚さで形成する。
次いで、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＲｕＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金から選ばれるいずれか１種からなるスパッタリング用ターゲットを用いて、第二磁性層を０．５〜１０ｎｍ（より好ましくは０．５〜３ｎｍ）の厚さで形成する。
次いで、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金、ＣｏＣｒＰｔＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＲｕＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金から選ばれるいずれか１種からなるスパッタリング用ターゲットを用いて、第三磁性層を１５〜４０ｎｍの厚さで形成する。
本発明の製造方法では、第二および第三磁性層を形成する際に、材料の選択や操作条件設定によって、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きくなるようにする。
【００３７】
非磁性基板と非磁性下地層との間に配向調整層を設ける場合には、配向調整層の材料として例示した上述の材料からなるスパッタリング用ターゲットを用いてスパッタ法により形成する。
基板と配向調整層との間に密着層を設ける場合には、密着層の材料として例示した上述の材料からなるスパッタリング用ターゲットを用いてスパッタ法により形成する。
【００３８】
次いで、保護層を、従来公知のスパッタ法、プラズマＣＶＤ法により形成する。
次いで、潤滑層を、従来公知のスピンコート法、ディップ法により形成する。
【００３９】
本発明の製造方法では、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きくするので、第二磁性層と第一磁性層との反強磁性結合の強度を高めることができる。
従って、熱的安定性を高めるとともに、低ノイズ化が可能となる。
また、第二磁性層に、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含む材料を用いることによって、さらなる低ノイズ化が可能となる。
また、本発明の製造方法は、各層の材料と同じ組成の材料からなるスパッタリング用ターゲットを用いたスパッタ法により各層を形成するので、所望の組成および厚さの層を容易に形成することができる。
従って、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きく、かつ第二磁性層と第一磁性層との間に反強磁性結合が形成された磁気記録媒体を容易に得ることができる。
【００４０】
図３は、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の例を示すものである。
ここに示す磁気記録再生装置は、上記構成の磁気記録媒体３０と、磁気記録媒体３０を回転駆動させる媒体駆動部３１と、磁気記録媒体３０に情報を記録再生する磁気ヘッド３２と、この磁気ヘッド３２を磁気記録媒体３０に対して相対運動させるヘッド駆動部３３と、記録再生信号処理系３４とを備えている。
記録再生信号処理系３４は、外部から入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド３２に送ったり、磁気ヘッド３２からの再生信号を処理してデータを外部に送ることができるようになっている。
磁気ヘッド３２としては、再生素子として異方性磁気抵抗効果（ＡＭＲ）を利用したＭＲ（ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）素子だけでなく、巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用したＧＭＲ素子を有するものを用いることができる。ＧＭＲ素子を用いることによって、より高記録密度化が可能となる。
【００４１】
上記磁気記録再生装置によれば、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きい磁気記録媒体を用いるので、第二磁性層と第一磁性層との反強磁性結合の強度を高めることができる。
従って、熱的安定性を高めるとともに、低ノイズ化が可能となる。
また、第二磁性層に、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含む材料を用いることによって、さらなる低ノイズ化が可能となる。
【００４２】
【実施例】
以下、具体例を示して本発明の作用効果を明確にする。
［実施例１］
アルミニウムからなる基体（外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７０ｍｍ）表面に、ＮｉＰからなる膜（厚さ１２μｍ）を無電解メッキで形成し、その表面にテクスチャー加工を施し、平均表面粗さＲａを０．５ｎｍにした非磁性基板を用いた。
この基板を、ＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ３０１０）内にセットし、真空到達度が２×１０―７Ｔｏｒｒ（２．７×１０―５Ｐａ）となるまでチャンバを排気した後、基板を２５０℃に加熱した。
この基板上に、Ｃｒからなるターゲットを用いて、Ｃｒからなる密着層（厚さ５０Å）を形成した。
次いで、ＣｒＭｏ合金（Ｃｒ：８０ａｔ％、Ｍｏ：２０ａｔ％）からなるターゲットを用いて、このＣｒＭｏ合金からなる非磁性下地層（厚さ３０Å）を形成した。
次いで、ＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ２Ｐｔ）からなるターゲットを用いて、このＣｏＣｒＰｔ合金からなる第一磁性層（厚さ２０Å）を形成した。
次いで、Ｒｕからなるターゲットを用いて、Ｒｕからなる非磁性結合層（厚さ８Å）を形成した。
次いで、ＣｏＣｒ合金（Ｃｏ：８５ａｔ％、Ｃｒ：１５ａｔ％）からなるターゲットを用いて、このＣｏＣｒ合金からなる第二磁性層（厚さ１０Å）を形成した。
次いで、ＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ：６０ａｔ％、Ｃｒ：２２ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｂ：６ａｔ％）からなるターゲットを用いて、このＣｏＣｒＰｔＢ合金からなる第三磁性層（厚さ２００Å）を形成した。
次いで、カーボンからなる保護層（厚さ５０Å）を形成した。
上記各層を形成する際には、スパッタ用ガスとしてＡｒを用い、その圧力は３ｍＴｏｒｒとした。
次いで、保護層表面に、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤を、厚さ２０Åとなるように塗布し潤滑層を形成し、磁気記録媒体を得た。
【００４３】
［実施例２］
第二磁性層にＣｏＣｒ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ）を用い、その厚さを５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３］
第二磁性層にＣｏＣｒ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ）を用い、その厚さを１０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４］
第二磁性層にＣｏＣｒ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５］
第二磁性層にＣｏＣｒ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例６］
第二磁性層にＣｏＲｕ合金（Ｃｏ１５Ｒｕ）を用い、その厚さを１０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例７］
第二磁性層にＣｏＲｕ合金（Ｃｏ２０Ｒｕ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例８］
第二磁性層にＣｏＲｕ合金（Ｃｏ２５Ｒｕ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例９］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１Ｔａ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１０］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ３Ｔａ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１１］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ５Ｔａ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１２］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ１Ｔａ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１３］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ３Ｔａ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１４］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ５Ｔａ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１５］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ１Ｔａ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１６］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ３Ｔａ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１７］
第二磁性層にＣｏＣｒＴａ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ５Ｔａ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１８］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１Ｐｔ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例１９］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ３Ｐｔ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２０］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ５Ｐｔ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２１］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ１Ｐｔ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２２］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ３Ｐｔ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２３］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ５Ｐｔ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２４］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ１Ｐｔ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２５］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ３Ｐｔ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２６］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ５Ｐｔ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２７］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ５Ｐｔ）を用い、その厚さを１０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２８］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ１０Ｐｔ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例２９］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１０Ｐｔ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３０］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１５Ｐｔ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３１］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ１０Ｐｔ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３２］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３３］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ３Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３４］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ５Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３５］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ１Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３６］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ３Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３７］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ５Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３８］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ１Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例３９］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ３Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４０］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ５Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４１］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４２］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ３Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４３］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ５Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４４］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ１Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４５］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ３Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４６］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ５Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４７］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ１Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４８］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ３Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例４９］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２５Ｃｒ５Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５０］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ５Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５１］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ５Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５２］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ５Ｐｔ５Ｂ）を用い、その厚さを１５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５３］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ５Ｐｔ１０Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５４］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ１０Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５５］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ１０Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを２５Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５６］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ１０Ｐｔ５Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５７］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１０Ｃｒ１０Ｐｔ１０Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５８］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１０Ｐｔ１Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例５９］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１０Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例６０］
第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ１０Ｐｔ５Ｂ）を用い、その厚さを３０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例６１］
第二磁性層にＣｏを用い、その厚さを１０Åとする他は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【００４４】
［実施例６２］
ガラス基板（外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍ）にテクスチャー加工を施し、平均表面粗さＲａを０．３ｎｍにした非磁性基板を用いた。
この基板をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ３０１０）内にセットし、真空到達度が２×１０―７Ｔｏｒｒ（２．７×１０―５Ｐａ）となるまでチャンバを排気した。
この基板上に、ＣｏＷ合金（Ｃｏ：５０ａｔ％、Ｗ：５０ａｔ％）からなるターゲットを用いて、このＣｏＷ合金からなる配向調整層（厚さ５０Å）を形成した後、これを２５０℃に加熱した。
次いで、配向調整層の表面を酸素ガスにさらした。酸素ガスの圧力は０．０５Ｐａとし、処理時間は５秒間とした。
次いで、ＣｒＴｉＢ合金（Ｃｒ：８２ａｔ％、Ｔｉ：１６ａｔ％、Ｂ：２ａｔ％）からなるターゲットを用いて、このＣｒＴｉＢ合金からなる非磁性下地層（厚さ８０Å）を形成した。
次いで、ＣｏＣｒＰｔ合金（Ｃｏ１５Ｃｒ２Ｐｔ）からなるターゲットを用いて、このＣｏＣｒＰｔ合金からなる第一磁性層（厚さ２０Å）を形成した。
次いで、Ｒｕからなるターゲットを用いて、Ｒｕからなる非磁性結合層（厚さ８Å）を形成した。
次いで、ＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ：７６ａｔ％、Ｃｒ：２０ａｔ％、Ｐｔ：１ａｔ％、Ｂ：３ａｔ％）からなるターゲットを用いて、このＣｏＣｒＴａ合金からなる第二磁性層（厚さ２０Å）を形成した。
次いで、ＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ：６０ａｔ％、Ｃｒ：２２ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｂ：６ａｔ％）からなるターゲットを用いて、このＣｏＣｒＰｔＢ合金からなる第三磁性層（厚さ２００Å）を形成した。
次いで、カーボンからなる保護層（厚さ５０Å）を形成した。
上記各層を形成する際には、スパッタ用ガスとしてＡｒを用い、その圧力は３ｍＴｏｒｒとした。
次いで、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤を、厚さ２０Åとなるように塗布し潤滑層を形成し、磁気記録媒体を得た。
【００４５】
［実施例６３］
第二磁性層に、ＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ３Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例６２と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［実施例６４］
第二磁性層に、ＣｏＣｒＰｔＢ合金（Ｃｏ２０Ｃｒ５Ｐｔ３Ｂ）を用い、その厚さを２０Åとする他は実施例６２と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【００４６】
［比較例１］
第二磁性層を形成しないこと以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。
［比較例２］
第二磁性層を形成しないこと以外は実施例６２と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【００４７】
上記各実施例および比較例について、グライドテスターを用い、グライド高さを０．３μｉｎｃｈ（１ｉｎｃｈ≒２５．４ｍｍ）としてグライドテストを行ない、合格した磁気記録媒体について、リードライトアナライザーＲＷＡ１６３２（ＧＵＺＩＫ社製）を用いて記録再生特性を調べた。
記録再生特性は、再生信号出力（ＴＡＡ）、孤立波再生出力の半値幅（ＰＷ５０）、ＳＮＲ、オーバライト（ＯＷ）などの電磁変換特性を測定項目とした。
記録再生特性の評価には、再生部に巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）素子を有する複合型薄膜磁気記録ヘッドを用いた。
ノイズの測定では５００ｋＦＣＩのパターン信号を書き込んだ時の、１ＭＨｚから５００ｋＦＣＩ相当周波数までの積分ノイズを測定した。再生出力は、２５０ｋＦＣＩで測定し、ＳＮＲ＝２０×ｌｏｇ（再生出力／１ＭＨｚから５００ｋＦＣＩ相当周波数までの積分ノイズ）として算出した。
熱減磁は、８０℃の条件下で、上記再生出力の低下を、１ｓ、１０ｓ、１００ｓ後に測定し、その結果を外挿して１０年後の出力低下率として求めた。単位は（ｄＢ／ｄｅｃａｄｅ）である。この値は１０年間の再生出力低下量を示す指標であり、値が小さいほど良好である。保磁力（Ｈｃ）、角形比（Ｓ＊）およびＨｅｘの測定には、カー効果式磁気特性測定装置（ＲＯ１９００、日立電子エンジニアリング社製）を用いた。
結果を表１および表２に示す。
【００４８】
実施例１〜８は、比較例１と比較して、Ｈｅｘの値が高く、熱減磁に優れていることがわかる。
実施例１、２、５を比較すると、第二磁性層の飽和磁化が大きいと、優れた熱減磁が得られることがわかる。
実施例２〜４より、第二磁性層を厚くすれば熱減磁が向上するが、ＳＮＲが悪化することがわかる。
実施例９〜１７は、第二磁性層にＣｏＣｒＴａ系合金を使用したものである。これらの結果より、ＣｏＣｒＴａ系合金を使用することによって、飽和磁化が低下し熱減磁の改善効果は低くなるものの、ＳＮＲは向上することがわかる。
実施例１８〜３１は、第二磁性層にＣｏＣｒＰｔ系合金を使用したものである。これらの結果より、ＣｏＣｒＰｔ系合金を使用することによって、ＳＮＲの向上は見られないが、Ｈｃが上昇することがわかる。
実施例３２〜６０は、第二磁性層にＣｏＣｒＰｔＢ系合金を使用したものである。これらの結果より、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金を使用することによって、ＳＮＲを劣化させることなく、ＣｏＣｒＴａ系合金を使用した場合に比べ優れた熱減磁が得られたことがわかる。
実施例６１〜６３は、非磁性基板としてガラス基板を使用したものである。アルミニウム基板を用いた場合と同様に、ＳＮＲが比較例と同等であり、かつ熱減磁を改善することができたことがわかる。
実施例２６、３８、３９、５３、５５、５６、５８では、第二磁性層の飽和磁化と第三磁性層の飽和磁化とにそれほど差がない。
これらの結果より、第二磁性層の飽和磁化と第三磁性層の飽和磁化とにそれほど差がない場合、熱減磁の改善効果は低いことがわかる。
実施例１５、１６、１７、３０、３１、４０、４７、４８、４９、５７、５９、６０では、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化より小さい。
これらの結果より、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化より小さい合金を使用した場合、熱減磁は悪くなることがわかる。
【００４９】
【表１】
2004152330.tif 000003
【００５０】
【表２】
2004152330.tif 000004
【００５１】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体では、第二磁性層の飽和磁化が第三磁性層の飽和磁化よりも大きくされているので、第二磁性層と第一磁性層との反強磁性結合の強度を高めることができる。
従って、熱的安定性を高めるとともに、低ノイズ化が可能となる。
また、第二磁性層に、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＲｕ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＢ系合金、ＣｏＣｒＲｕ系合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＭ系合金（Ｍ＝Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕから選ばれる１種以上）から選ばれる１種以上であり、かつＣｏを６０〜９０ａｔ％含む材料を用いることによって、さらなる低ノイズ化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】Ｈｅｘの測定方法の一例を説明する説明図である。
【図３】本発明の磁気記録再生装置の一例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
３０・・・磁気記録媒体、３２・・・磁気ヘッド、１０１・・・非磁性基板、１０２・・・非磁性下地層、１０３・・・第一磁性層、１０４・・・非磁性結合層、２０５・・・第二磁性層、２０６・・・第三磁性層、１０６・・・保護膜、１０７・・・潤滑層
【図１】
2004152330.tif 000005
【図２】
2004152330.tif 000006
【図３】
2004152330.tif 000007