(57)【要約】【課題】洗浄ブラシへの塵埃等の蓄積を防止すると共に、洗浄ブラシの汚染の検出を可能とすることにより、確実に基板の汚れを除去することができる基板洗浄装置とその洗浄方法を提供する。【解決手段】基板２の外周にブラシ洗浄基板３を配設し、第１の洗浄ブラシ７が、回転する上記基板２の表面２Ａ、及び上記ブラシ洗浄基板３の表面３Ａに当接して摺動することにより、該第１の洗浄ブラシ７は、上記基板２の表面２Ａをスクラブ洗浄するとともに上記ブラシ洗浄基板３によって洗浄される。また、上記ブラシ洗浄基板３を洗浄する第２の洗浄ブラシ１２と、上記第２の洗浄ブラシ１２の汚れを検出する汚れ検出器１４とが上記ブラシ洗浄基板３の適所に配設され、上記第２の洗浄ブラシ１２の交換時期を検出する。【選択図】　図１
2004105848.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転台に取り付けた基板に洗浄ブラシを当接させて摺動させることにより、上記基板の表面を洗浄する基板洗浄装置において、
上記基板の外周に、上記洗浄ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄基板を配設したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
基板の外周に配設されたブラシ洗浄基板と、
上記基板を取り付ける回転台と、
回転する上記基板の表面、及び上記ブラシ洗浄基板の表面に当接する洗浄ブラシと、
を具備し、
上記洗浄ブラシは、上記基板の表面を洗浄するとともに上記ブラシ洗浄基板によって洗浄されることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
上記洗浄ブラシは、回転する上記基板及び上記ブラシ洗浄基板に対し、前記基板の中心から上記ブラシ洗浄基板の外側に向かって半径方向に摺動して順次当接し、上記基板の表面を洗浄することを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
上記洗浄ブラシは、洗浄によって付着した前記基板表面の汚れを、上記ブラシ洗浄基板の表面を摺動することによって同ブラシ洗浄基板に付着させることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
上記ブラシ洗浄基板は、上記基板の外周面に圧着によって当接していることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
上記ブラシ洗浄基板は、上記回転台に対し、真空吸引チャックにより上記基板とともに取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
上記ブラシ洗浄基板と上記基板は、それぞれの表面が同一平面となるように取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
上記ブラシ洗浄基板は、その表面が鏡面加工されていることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
回転する基板に洗浄液を供給して、該基板を洗浄する基板洗浄装置において、
上記基板の外周に配設されたブラシ洗浄基板と、
上記基板の表面及び上記ブラシ洗浄基板の表面に当接して摺動する第１の洗浄ブラシと、
上記ブラシ洗浄基板、及び前記基板を保持しながら回転させる基板駆動手段と、
上記ブラシ洗浄基板に当接する第２の洗浄ブラシと
上記ブラシ洗浄基板の汚れを検出する汚れ検出器と、
を具備することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１０】
上記汚れ検出器は、上記ブラシ洗浄基板の汚れを検出するＣＣＤカメラによって構成されることを特徴とする請求項９に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
回転台に取り付けた基板に洗浄ブラシを当接させて摺動させることにより、上記基板の表面を洗浄する基板の洗浄工程において、
上記基板の外周に配設したブラシ洗浄基板により、上記洗浄ブラシを洗浄する工程を具備したことを特徴とする基板洗浄装置の洗浄方法。
【請求項１２】
基板の外周にブラシ洗浄基板を配設する工程と、
上記基板を回転台に取り付ける工程と、
回転する上記基板の表面、及び上記ブラシ洗浄基板の表面に洗浄ブラシを当接させる工程と、
上記洗浄ブラシが、上記基板の表面を洗浄する工程と、
上記洗浄ブラシが上記ブラシ洗浄基板によって洗浄される工程と、
を具備したことを特徴とする請求項１１に記載の基板洗浄装置の洗浄方法。
【請求項１３】
基板の外周にブラシ洗浄基板を配設する工程と、
上記基板と上記ブラシ洗浄基板を回転台上に真空吸引作用により取り付ける工程と、
回転する上記基板の表面にノズルを向け、前記ノズルから洗浄液を吹き付ける工程と、
回転する上記基板の表面に第１の洗浄ブラシを当接させ、同洗浄ブラシを基板の半径方向に移動させて基板表面を洗浄し、基板表面の汚れを上記ブラシ洗浄基板に付着させる工程と、
上記ブラシ洗浄基板に上記第１の洗浄ブラシを摺接させることで前記第１の洗浄ブラシを洗浄する工程と、
上記ブラシ洗浄基板を第２の洗浄ブラシにより洗浄する工程と、
上記第２の洗浄ブラシの汚れを汚れ検出器により検出する工程と、
からなることを特徴とする請求項１１または１２に記載の基板洗浄装置の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板洗浄装置とその洗浄方法に関する。特に、基板表面をスクラブ洗浄する洗浄ブラシの洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＴＦＴと称す）をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組み立て工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【０００４】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板とを対向させ、その対向面、即ち、対向基板及びＴＦＴ基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部を形成し、このシール部を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【０００５】
ここで、ラビング処理とは、配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００６】
ところで、このような配向膜形成時の焼成及びラビング処理において、焼成時並びにラビング処理作業中に、多量の塵埃が発生して基板表面に付着してしまい、基板のパターン不良を起こしてしまうという問題がある。そこで、配向膜印刷、並びに焼成後に行われる両基板のラビング処理後に、基板表面に付着した塵埃を除去するための洗浄工程が行われており、この洗浄工程で用いられる基板洗浄装置および基板洗浄方法は、特許文献１等に種々開示されている。
【０００７】
上記特許文献１に開示された基板洗浄装置および基板洗浄方法は、図１３に示すように、回動軸１２１と、この回動軸１２１に軸支され、回動軸によって回動する円形状の回動台１２０と、この回動台１２０の端縁部から上方に延出し、基板２００の周面を保持する複数の保持ピン１２３と、回動台１２０の側近に配設されたブラシ洗浄機構１２７と、このブラシ洗浄機構１２７のアーム軸１２９に軸支され、基板２００の表面を洗浄するスポンジ状の洗浄ブラシ１２６と、超音波振動装置１３１、及び振動アーム軸１３０により構成され、回動台１２０側近に配設された超音波振動機構１２８と、この超音波振動機構１２８の振動アーム軸１３０に取り付けられ、基板２００の表裏両面に超音波振動を伴う洗浄液を供給する一対のノズル１２４とで構成されている。
【０００８】
このように構成された上記基板洗浄装置においては、回動軸１２１によって回動する基板２００の上下面に、超音波振動機構１２８によって超音波振動が伴う洗浄液を、往復運動するノズル１２４より供給し、さらに、ブラシ洗浄機構１２７によって操作される洗浄ブラシ１２６を回動しながら基板表面に当接させることにより、基板２００の表裏両面の汚れをスクラブ洗浄するようにしている。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−１２４５０４号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
このように、上記特許文献１に開示されている基板洗浄装置及び基板洗浄方法では、洗浄ブラシ１２６で基板２００の表面をスクラブ洗浄することにより基板の汚れを除去している。しかしながら、この方法では基板２００から除去された塵埃等の一部は、洗浄ブラシ１２６側に再付着し、洗浄ブラシ１２６に汚れが蓄積されてしまう。この塵埃等が付着した洗浄ブラシ１２６を用いて次に洗浄する基板の洗浄を行うと、洗浄ブラシ１２６に付着した塵埃等を逆に基板側に再付着させてしまうことがあり、洗浄不良が生じるという問題があった。また、洗浄ブラシ１２６の汚染を確認できる手段がないため、汚れた洗浄ブラシに気付かずに使い続けてしまう虞があった。
【００１１】
さらに、洗浄ブラシ１２６による基板のスクラブ洗浄は、規定位置のみしか洗浄していないため、基板２００の規定位置の汚れしか洗浄できないといった問題があった。
【００１２】
本発明は上記問題に着目してなされたものであり、その目的は、洗浄ブラシへの塵埃等の蓄積を防止すると共に、洗浄ブラシの汚染の検出を可能とすることにより、確実に基板の汚れを除去することができる基板洗浄装置とその洗浄方法を提供するにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係る基板洗浄装置の一つの態様としては、回転台に取り付けた基板に洗浄ブラシを当接させて摺動させることにより、上記基板の表面を洗浄する基板洗浄装置において、上記基板の外周に、上記洗浄ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄基板を配設したことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の基板洗浄装置としては、基板の外周に配設されたブラシ洗浄基板と、上記基板を取り付ける回転台と、回転する上記基板の表面、及び上記ブラシ洗浄基板の表面に当接する洗浄ブラシとを具備し、上記洗浄ブラシは、上記基板の表面を洗浄するとともに上記ブラシ洗浄基板によって洗浄されることを特徴とする。
【００１５】
本発明の基板洗浄装置によれば、回転台に取り付けられ、同回転台と共に回転する基板の表面及びブラシ洗浄基板の表面に、洗浄ブラシが当接することにより、基板表面は洗浄され、また、洗浄ブラシもブラシ洗浄基板により洗浄され、洗浄ブラシへの汚れの再付着を防止することができるという効果を有する。
【００１６】
また、本発明の基板洗浄装置としては、上記洗浄ブラシは、回転する上記基板及び上記ブラシ洗浄基板に対し、前記基板の中心から上記ブラシ洗浄基板の外側に向かって半径方向に摺動して順次当接し、上記基板の表面を洗浄することを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、洗浄ブラシは、回転する基板及びブラシ洗浄基板に対し、前記基板の中心から上記ブラシ洗浄基板の外側に向かって半径方向に摺動して順次当接するので、上記基板及び上記ブラシ洗浄基板の表面を漏れなく摺動することができ、上記基板表面並びに上記洗浄ブラシを確実に洗浄することができるという効果を有する。
【００１８】
さらに、本発明の基板洗浄装置としては、上記洗浄ブラシは、洗浄によって付着した前記基板表面の汚れを、上記ブラシ洗浄基板の表面を摺動することによって同ブラシ洗浄基板に付着させることを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、洗浄ブラシが回転する基板に対して、半径方向に移動し、基板の表面の塵埃等の汚れを落し、またブラシ洗浄基板の表面を摺動することにより、洗浄ブラシに付着した基板表面の汚れをブラシ洗浄基板に付着させることで、表面全体を確実に洗浄することができ、洗浄ブラシもブラシ洗浄基板により洗浄されるため、洗浄ブラシへの汚れの再付着を防止することができるという効果を有する。
【００２０】
また、本発明の基板洗浄装置としては、上記ブラシ洗浄基板は、上記基板の外周面に圧着によって当接していることを特徴とする。
【００２１】
この構成によれば、洗浄ブラシが回転する基板に対して、半径方向に移動することにより、上記洗浄ブラシにより洗浄された前記基板表面の汚れを、上記基板の外周面に当接した前記ブラシ洗浄基板に付着させることができ、また、上記基板の外周面を前記ブラシ洗浄基板で保持することができるという効果を有する。
【００２２】
また、本発明の基板洗浄装置としては、上記ブラシ洗浄基板は、上記回転台に対し、真空吸引チャックにより上記基板とともに取り付けられていることを特徴とする。
【００２３】
この構成によれば、ブラシ洗浄基板が基板と共に、回転台に取り付けられていることにより、ブラシ洗浄基板は、常に基板の外周面と圧着当接していなくても良く、また取り付けも容易であるという効果を有する。
【００２４】
また、本発明の基板洗浄装置としては、上記ブラシ洗浄基板と上記基板は、それぞれの表面が同一平面となるように取り付けられていることを特徴とする。
【００２５】
この構成によれば、ブラシ洗浄基板と基板の表面が同一平面となっているので、洗浄ブラシの摺動動作を円滑にでき、かつ、１回の直線的な動作で基板表面、並びに洗浄ブラシを洗浄することができるという効果を有する。
【００２６】
また、本発明の基板洗浄装置としては、上記ブラシ洗浄基板は、その表面が鏡面加工されていることを特徴とする。
【００２７】
この構成によれば、ブラシ洗浄基板の表面が鏡面加工されていることにより、ブラシ洗浄基板の表面を当接する洗浄ブラシの汚れをより効果的に洗浄することができるという効果を有する。
【００２８】
また、本発明の基板洗浄装置の１つの態様としては、回転する基板に洗浄液を供給して、該基板を洗浄する基板洗浄装置において、上記基板の外周に配設されたブラシ洗浄基板と、上記基板の表面及び上記ブラシ洗浄基板に当接して摺動する第１の洗浄ブラシと、上記ブラシ洗浄基板、及び前記基板を保持しながら回転させる基板駆動手段と、上記ブラシ洗浄基板に当接する第２の洗浄ブラシと、上記ブラシ洗浄基板の汚れを検出する汚れ検出器とを具備することを特徴とする。
【００２９】
本発明の基板洗浄装置によれば、ブラシ洗浄基板に第２の洗浄ブラシを当接し、汚れ検出器を配設することにより、ブラシ洗浄基板の汚れを検出し、その汚れを洗浄することができるという効果を有する。
【００３０】
また、本発明の基板洗浄装置としては、上記汚れ検出器は、上記ブラシ洗浄基板の汚れを検出するＣＣＤカメラによって構成されることを特徴とする。
【００３１】
この構成によれば、汚れ検出器にＣＣＤカメラを用いて、汚れを観察することにより、より正確にブラシ洗浄基板の汚れを検出することができると共に、第２の洗浄ブラシの交換時期を検出することができるという効果を有する。
【００３２】
本発明の基板洗浄装置の洗浄方法の１つの態様としては、回転台に取り付けた基板に洗浄ブラシを当接させて摺動させることにより、上記基板の表面を洗浄する基板の洗浄工程において、上記基板の外周に配設したブラシ洗浄基板により、上記洗浄ブラシを洗浄する工程とを具備したことを特徴とする。
【００３３】
また、本発明の基板洗浄装置の洗浄方法は、基板の外周にブラシ洗浄基板を配設する工程と、上記基板を回転台に取り付ける工程と、回転する上記基板の表面、及び上記ブラシ洗浄基板の表面に洗浄ブラシを当接させる工程と、上記洗浄ブラシが、上記基板の表面を洗浄する工程と、上記洗浄ブラシが上記ブラシ洗浄基板によって洗浄される工程とを具備したことを特徴とする。
【００３４】
本発明の基板洗浄装置の洗浄方法によれば、回転台に取り付けられ、同回転台と共に回転する基板の表面及びブラシ洗浄基板の表面に、洗浄ブラシが当接する工程により、基板表面は洗浄され、また、洗浄ブラシもブラシ洗浄基板により洗浄され、洗浄ブラシへの汚れの再付着を防止することができるという効果を有する。
【００３５】
さらに、本発明の基板洗浄装置の洗浄方法は、基板の外周にブラシ洗浄基板を配設する工程と、上記基板と上記ブラシ洗浄基板を回転台上に真空吸引作用により取り付ける工程と、回転する上記基板の表面にノズルを向け、前記ノズルから洗浄液を吹き付ける工程と、回転する上記基板の表面に第１の洗浄ブラシを当接させ、同洗浄ブラシを基板の半径方向に移動させて基板表面を洗浄し、基板表面の汚れを上記ブラシ洗浄基板に付着させる工程と、上記ブラシ洗浄基板に上記第１の洗浄ブラシを摺接させることで前記第１の洗浄ブラシを洗浄する工程と、上記ブラシ洗浄基板を第２の洗浄ブラシにより洗浄する工程と、上記第２の洗浄ブラシの汚れを汚れ検出器により検出する工程とからなることを特徴とする。
【００３６】
本発明の基板洗浄装置の洗浄方法によれば、回転する基板表面、及びブラシ洗浄基板の表面に、第１の洗浄ブラシが基板の半径方向に移動して摺接することにより、確実に基板表面の汚れを洗浄し、その汚れをブラシ洗浄基板に付着させることができ、かつ、洗浄ブラシもブラシ洗浄基板によって洗浄されるので、第１の洗浄ブラシに汚れの再付着を防止することができるという効果を有する。さらに、第２の洗浄ブラシにより、ブラシ洗浄基板を洗浄することにより、第２の洗浄ブラシに汚れの再付着を防止することができるという効果を有する。
【００３７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００３８】
図１は、本発明の一実施の形態である基板洗浄装置の構成の概略を一部を断面にして示した正面図、図２は、図１中の基板及びブラシ洗浄基板のみを示す平面図、図３乃至図６は、図１の基板洗浄装置の洗浄工程を説明するための正面図である。
【００３９】
図１に示すように、基板洗浄装置１は、例えば石英等の平板で構成された円形状をなす基板２を洗浄するための装置であり、リング状のブラシ洗浄基板３と、回転装置５と、この回転装置５から上方に延出し、前記回転装置のオン動作によって回転する回転軸６と、この回転軸６に下面中央を軸支され、該回転軸６によって回転する円形状の回転台４と、この回転台４の内部に配設され、基板２並びにブラシ洗浄基板３を、下面から図示しない真空装置により吸引保持するための真空吸引チャック１１と、回転装置５に支持アームによって取り付けられていて、ブラシ洗浄基板３に当接し、ブラシ洗浄基板３の汚れを清掃する第２の洗浄ブラシ１２と、この第２の洗浄ブラシ１２に配設され、ブラシ洗浄基板３の汚染状態を検出するＣＣＤカメラ等からなる汚れ検出器１４と、回転装置５に支持アームによって取り付けられていて、基板洗浄時に種々の洗浄液を基板２上に供給する洗浄ノズル１３と、基板洗浄時に基板２の表面及びブラシ洗浄基板３の表面に当接し、基板２の表面を洗浄する、例えばポリビニルアルコール（以下、ＰＢＣと称す）等で構成された第１の洗浄ブラシ７と、第１の洗浄ブラシ７の動作を制御する第１の洗浄ブラシ駆動装置１０と、この第１の洗浄ブラシ駆動装置１０により制御され、第１の洗浄ブラシ７を基板の半径方向に移動させる第１の伸縮アーム８並びに第１の洗浄ブラシ７の基板表面に対する昇降動作を行う第２の伸縮アーム９とで構成されている。
【００４０】
上記ブラシ洗浄基板３は、表面が鏡面加工されたシリコン、あるいは基板２と同じ材質等で構成され、嵌合部を介して基板２に圧着させて当接し、基板２の外周面を保持するとともに、基板２の汚れを付着させ、第１の洗浄ブラシ７を洗浄するためのものである。
【００４１】
尚、本発明の一実施の形態における基板洗浄装置は、基板を１枚づつ洗浄する枚葉式の洗浄装置である。
【００４２】
次に、このように構成された基板洗浄装置によって洗浄される基板２及び洗浄ブラシ７の洗浄方法について説明する。
【００４３】
まず、図２に示すように、上記基板洗浄装置１で洗浄される、基板２の外周面に対して、表面３Ａが鏡面加工されたリング状のブラシ洗浄基板３を、その嵌合部３ａ並びに３ｂを介して、基板２の表面２Ａと同一平面となるように圧着させて当接し、基板２の外周面を保持する。
【００４４】
次に、ブラシ洗浄基板３により外周を保持された基板２及びブラシ洗浄基板３を、上記基板洗浄装置１の回転台４上に載置し、真空吸引チャック１１により固定する。その後、回転装置５の電源をオンすると、基板２及びブラシ洗浄基板３は、回転軸６の回転により回転台４と共に回転する。このとき、第２の洗浄ブラシ１２は、ブラシ洗浄基板３に当接している。この状態で、基板２の洗浄を開始する。
【００４５】
まず、図３に示すように、洗浄ノズル１３から例えば純水等の洗浄液を、回転する基板２の表面２Ａに向かって吹き付ける。次に、第１の洗浄ブラシ駆動装置１０の制御により、第１の伸縮アーム８を伸縮させ、第１の洗浄ブラシ７を基板２の回転中心位置と対向する上方に配置し、次いで第２の伸縮アーム９を縮小させ、第１の洗浄ブラシ７を、基板２の表面２Ａの回転中心に当接させる。
【００４６】
続いて図４に示すように、第１の洗浄ブラシ７を、第２の洗浄ブラシ１２が固設された位置以外の方向に低速でブラシ洗浄基板３の外周縁部まで移動させる。すると、基板表面２Ａは、この洗浄ブラシ７の１回の摺動動作により、スクラブ洗浄され、基板２の表面２Ａに付着していた、例えば基板製造工程における焼成処理時に付着したＳｉＯ２やポリシリコン等の塵埃は、第１の洗浄ブラシ７に付着する。
【００４７】
尚、第１の洗浄ブラシ７は、上述したようにＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等の材質で構成されているため、純水等を用いた洗浄においては、第１の洗浄ブラシ７自体が純水等を含むため、毛状部材で構成された洗浄ブラシを用いた場合よりも付着した塵埃が離れないようになっている。
【００４８】
さらに、図５に示すように、第１の洗浄ブラシ７を、回転するブラシ洗浄基板３の表面３Ａに摺動させながら、ブラシ洗浄基板３から離間する方向に第１の伸縮アーム８によって移動させる。すると、第１の洗浄ブラシ７は、上述したように鏡面加工されたブラシ洗浄基板３の表面３Ａ上を摺動することによって、第１の洗浄ブラシ７に付着した塵埃は、ブラシ洗浄基板３の表面３Ａに付着し、第１の洗浄ブラシ７は、ブラシ洗浄基板３によって洗浄される。
【００４９】
また、ブラシ洗浄基板３に付着された塵埃は、ブラシ洗浄基板３に当接した第２の洗浄ブラシ１２に付着され洗浄される。この第２の洗浄ブラシ１２の汚染は洗浄終了後、即ち、回転台４及び基板２並びにブラシ洗浄基板３の回転停止時に、第２の洗浄ブラシ１２に配設された汚れ検出器１４により汚れの具合が検出される。
【００５０】
最後に、図６に示すように、第１の洗浄ブラシ駆動装置１０の制御により、第２の伸縮アーム９が上方に延出することにより、第１の洗浄ブラシ７は基板２の上方に離間する。
【００５１】
このように本発明の一実施の形態を示す基板洗浄装置とその洗浄方法においては、洗浄ノズル１３から洗浄液が供給され、回転する基板２の表面２Ａ、並びにブラシ洗浄基板３の表面３Ａに第１の洗浄ブラシ７が当接し、この第１の洗浄ブラシ７が基板２の回転中心から半径方向にブラシ洗浄基板３の外側まで直線的に１回摺動するだけで、基板２の表面２Ａ上の塵埃は、洗浄液とともに第１の洗浄ブラシ７に付着し、基板２の表面２Ａをスクラブ洗浄することができる。
【００５２】
また、塵埃が付着した第１の洗浄ブラシ７がブラシ洗浄基板３の表面３Ａを摺動することにより、第１の洗浄ブラシ７の塵埃は、ブラシ洗浄基板３の表面３Ａに付着するため、第１の洗浄ブラシ７は、ブラシ洗浄基板３によって洗浄され、次の洗浄工程に、第１の洗浄ブラシ７の汚染を持ち込み塵埃の再付着を防止することができる。また、第１の洗浄ブラシ７は、基板２上、並びにブラシ洗浄基板３上を直線的に１回摺動するだけで、洗浄を行うことができるため洗浄工程の効率化、並びに装置の小型化を図ることができる。
【００５３】
さらに、第１の洗浄ブラシ７を洗浄したことによりブラシ洗浄基板３の表面３Ａに付着した塵埃は、第２の洗浄ブラシ１２によって洗浄されるため、ブラシ洗浄基板３の表面３Ａを常にクリーンな状態に保つことができ、かつ、第２の洗浄ブラシ１２の汚染状態を汚れ検出器１４が検出するため、第２の洗浄ブラシ１２の交換時期を適切に検出することができ、ブラシ洗浄基板３に第２の洗浄ブラシ１２の汚れの再付着を防止することができる。
【００５４】
尚、上述した本発明の一実施の形態においては、基板２並びにブラシ洗浄基板３は、真空吸引チャック１１によって回転台４に固定、保持されるようにしたが、これに限らず、ブラシ洗浄基板３は、基板２の外周面に当接して圧着保持されるので、図７に示すように、基板２のみを回転台４に真空吸引し、ブラシ洗浄基板３を回転台で保持しなくても良いことは勿論である。
【００５５】
また、図８に示すように、ブラシ洗浄基板３は、基板２の外周面全面に当接する必要はなく、基板２の外周面の中心より下面を圧着、当接するように、Ｌ字型に配設しても良く、この場合も、上述した本発明の一実施形態と同様に、第１の洗浄ブラシ７の半径方向への直線的な１回の摺動動作で、基板２の表面２Ａ並びに第１の洗浄ブラシ７の洗浄を行うことができ、上述した本発明の一実施の形態と同様の効果が得られることは云うまでもない。
【００５６】
また、図９に示すように、ブラシ洗浄基板３を基板２の外周面に圧着、当接させずに、上記外周面から離間させて真空吸引チャック１１により回転台４に固定してもよく、この場合も、上述した本発明の一実施形態と同様に、第１の洗浄ブラシ７の半径方向への直線的な１回の摺動動作で、基板２の表面２Ａ並びに第１の洗浄ブラシ７の洗浄を行うことができ、上述した本発明の一実施の形態と同様の効果が得られることは勿論である。
【００５７】
さらに、上述した本発明の一実施形態においては、作業の効率化を図るため、第１の洗浄ブラシ７の１回の直線的な動作で基板等を洗浄するようにしたが、これに限らず、基板２の洗浄をより確実に行うために、第１の洗浄ブラシ７を基板２の表面２Ａ上に複数回摺動させてスクラブ洗浄動作を行わせるようにしても良いことは云うまでもない。
【００５８】
また、第１の洗浄ブラシ７の１回の直線的な動作で基板等を洗浄する必要がない場合には、図１０並びに図１１に示すように、ブラシ洗浄基板３０、及び３１の表面３０Ａ、３１Ａを基板２の表面２Ａと同一平面をなすようにしなくとも良い。
【００５９】
さらに、第１の洗浄ブラシ７は、基板２並びにブラシ洗浄基板３に当接する際には、第１の洗浄ブラシ７自体が回転しながら当接させるようにすればより一層洗浄効果が高まることは勿論である。
【００６０】
また、上述した本発明の一実施形態においては、第１の洗浄ブラシ７を基板２の表面２Ａ並びにブラシ洗浄基板３の表面３Ａを摺動させながら移動させることにより、基板２の表面２Ａ、及び第１の洗浄ブラシ７を洗浄するようにしたが、これに限らず、図１２に示すように第１の洗浄ブラシ保持装置１０１及び支持アーム１０２並びに第１の洗浄ブラシ７０を固定して、第１の洗浄ブラシ７０に基板２の表面２Ａを当接させ、第１の洗浄ブラシ保持装置１０１、支持アーム１０２、第１の洗浄ブラシ７０、回転装置５０、第２の洗浄ブラシ１４１、汚れ検出器１４０、洗浄ノズル１４２、回転台４０、回転軸６０から構成される基板洗浄装置１００を、第２の洗浄ブラシ１４０が固設された位置以外の方向に、第１の洗浄ブラシ７０がブラシ洗浄基板３の外側に至るまで移動させても同様の効果が得られることは、云うまでもない。
【００６１】
尚、本発明に係る洗浄される基板は、液晶装置用基板に限るものではなく、電気泳動装置、ＥＬ装置や半導体装置等の基板にも適用できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態である基板洗浄装置の構成の概略を一部を断面にして示した正面図。
【図２】図１の基板洗浄装置における基板およびブラシ洗浄基板のみを示す平面図。
【図３】図１の基板洗浄装置の洗浄工程において、第１の洗浄ブラシが基板の回転中心に当接した状態を示す要部正面図。
【図４】図１の基板洗浄装置の洗浄工程において、第１の洗浄ブラシがブラシ洗浄基板まで摺動した状態を示す要部正面図。
【図５】図１の基板洗浄装置の洗浄工程において、第１の洗浄ブラシがブラシ洗浄基板の外方に移動した状態を示す要部正面図。
【図６】図１の基板洗浄装置の洗浄工程において、第１の洗浄ブラシが基板外方の上方に移動した状態を示す要部正面図。
【図７】基板のみを回転台に真空吸引チャックによって固定した状態を示す要部正面図。
【図８】Ｌ字型に形成されたブラシ洗浄基板が、基板の外周面の中心より下面に圧着、当接した状態を示す要部正面図。
【図９】ブラシ洗浄基板を、基板から離間して回転台に固定した状態を示す要部正面図。
【図１０】ブラシ洗浄基板の表面が基板の表面よりも高い位置に配設された状態を示す要部正面図。
【図１１】ブラシ洗浄基板の表面が基板の表面よりも低い位置に配設された状態を示す要部正面図。
【図１２】本発明の一実施の形態である基板洗浄装置の変形例を示す正面図。
【図１３】従来の基板洗浄装置の一例を示す正面図。
【符号の説明】
１，１００…基板洗浄装置
２…基板
２Ａ…基板表面
３…ブラシ洗浄基板
３Ａ…ブラシ洗浄基板表面
４，４０…回転台
５，５０…回転装置（基板駆動手段）
７，７０…第１の洗浄ブラシ
１１，１１０…真空吸引チャック
１２，１４１…第２の洗浄ブラシ
１３，１４２…洗浄ノズル
１４，１４０…汚れ検出器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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