(57)【要約】【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー及びクエンチャーを含むレジスト材料であって、前記クエンチャーが、ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）がエステル結合含有基を介して窒素原子に結合している窒素含有化合物と、１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物とから得られる塩化合物を含むものであるレジスト材料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースポリマー及びクエンチャーを含むレジスト材料であって、
前記クエンチャーが、ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）がエステル結合含有基を介して窒素原子に結合している窒素含有化合物と、１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物とから得られる塩化合物を含むものであるレジスト材料。
【請求項２】
前記塩化合物が、下記式（Ａ）で表されるものである請求項１記載のレジスト材料。
【化１】
2022000688.tif 000149
（式中、ｋは、１〜３の整数である。ｍ1は、１又は２である。ｍ2は、１〜３の整数である。ｎは、１〜４の整数である。
ＸBIは、ヨウ素原子又は臭素原子である。
Ｒahは、炭素数１〜２０の(ｋ＋１)価の脂肪族炭化水素基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、スルトン環、ラクタム環、カーボネート基、ヨウ素原子以外のハロゲン原子、炭素数６〜１２のアリール基、ヒドロキシ基及びカルボキシ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
Ｘ1は、単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基又はカーボネート基である。
Ｒ1は、単結合又は炭素数１〜２０の(ｍ1＋１)価の炭化水素基であり、前記炭化水素基は、エーテル結合、エステル結合若しくはヒドロキシ基を含んでいてもよい。
Ｒ2は、単結合又は炭素数１〜２０の(ｍ2＋１)価の炭化水素基であり、前記炭化水素基は、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、スルトン環、ラクタム環、カーボネート基、ヨウ素原子以外のハロゲン原子、ヒドロキシ基及びカルボキシ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
Ｒ3は、水素原子、ニトロ基、炭素数１〜２０のヒドロカルビル基又は炭素数２〜２０のヒドロカルビルオキシカルボニル基であり、前記ヒドロカルビル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、エーテル結合、エステル結合、スルホニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。ｎが１のとき、２つのＲ3が互いに結合して、これらが結合する窒素原子と共に環を形成していてもよく、このとき該環の中に、二重結合、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでいてもよい。または、Ｒ3とＲ1とが互いに結合して、これらが結合する窒素原子と共に環を形成していてもよく、このとき該環の中に、二重結合、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでいてもよい。
Ｒ4は、トリフルオロメチル基、炭素数２〜２１のヒドロカルビルカルボニル基又は炭素数２〜２１のヒドロカルビルオキシカルボニル基であり、該ヒドロカルビルカルボニル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、エーテル結合、エステル結合、チオール基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、スルトン基、スルホン酸エステル結合、アミド結合及びハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。）
【請求項３】
更に、スルホン酸、イミド酸又はメチド酸を発生する酸発生剤を含む請求項１又は２記載のレジスト材料。
【請求項４】
更に、有機溶剤を含む請求項１〜３のいずれか１項記載のレジスト材料。
【請求項５】
前記ベースポリマーが、下記式（ａ１）で表される繰り返し単位又は下記式（ａ２）で表される繰り返し単位を含むものである請求項１〜４のいずれか１項記載のレジスト材料。
【化２】
2022000688.tif 000150
（式中、ＲAは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。
Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に、酸不安定基である。
Ｙ1は、単結合、フェニレン基若しくはナフチレン基、又はエステル結合及びラクトン環から選ばれる少なくとも１種を含む炭素数１〜１２の連結基である。
Ｙ2は、単結合又はエステル結合である。）
【請求項６】
化学増幅ポジ型レジスト材料である請求項５記載のレジスト材料。
【請求項７】
前記ベースポリマーが、酸不安定基を含まないものである請求項１〜４のいずれか１項記載のレジスト材料。
【請求項８】
化学増幅ネガ型レジスト材料である請求項７記載のレジスト材料。
【請求項９】
更に、界面活性剤を含む請求項１〜８のいずれか１項記載のレジスト材料。
【請求項１０】
前記ベースポリマーが、更に、下記式（ｆ１）〜（ｆ３）のいずれかで表される繰り返し単位を含む請求項１〜９のいずれか１項記載のレジスト材料。
【化３】
2022000688.tif 000151
（式中、ＲAは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。
Ｚ1は、単結合、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、ナフチレン基若しくはこれらを組み合わせて得られる炭素数７〜１８の基、又は−Ｏ−Ｚ11−、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｚ11−若しくは−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−Ｚ11−である。Ｚ11は、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、ナフチレン基又はこれらを組み合わせて得られる炭素数７〜１８の基であり、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。
Ｚ2は、単結合、−Ｚ21−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−、−Ｚ21−Ｏ−又は−Ｚ21−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−である。Ｚ21は、炭素数１〜１２の飽和ヒドロカルビレン基であり、カルボニル基、エステル結合又はエーテル結合を含んでいてもよい。
Ｚ3は、単結合、メチレン基、エチレン基、フェニレン基、フッ素化フェニレン基、−Ｏ−Ｚ31−、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｚ31−又は−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−Ｚ31−である。Ｚ31は、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、フッ素化フェニレン基、又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニレン基であり、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。
Ｒ21〜Ｒ28は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロカルビル基である。また、Ｒ23及びＲ24又はＲ26及びＲ27が、互いに結合してこれらが結合する硫黄原子と共に環を形成していてもよい。
ＲHFは、水素原子又はトリフルオロメチル基である。
Ｍ-は、非求核性対向イオンである。）
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項記載のレジスト材料を用いて基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を高エネルギー線で露光する工程と、現像液を用いて露光したレジスト膜を現像する工程とを含むパターン形成方法。
【請求項１２】
前記高エネルギー線が、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー光又は波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光である請求項１１記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
前記高エネルギー線が、電子線又は波長３〜１５ｎｍの極端紫外線である請求項１１記載のパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト材料及びパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩの高集積化と高速度化に伴い、パターンルールの微細化が急速に進んでいる。特に、スマートフォンの普及によるロジックメモリー市場の拡大が微細化を牽引している。最先端の微細化技術としては、ＡｒＦ液浸リソグラフィーのダブルパターニングによる１０ｎｍノードのデバイスの量産が行われており、次世代には同じくダブルパターニングによる７ｎｍノードの量産準備が進行中である。次次世代の５ｎｍノードとしては、極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィーが候補に挙がっている。
【０００３】
微細化が進行し、光の回折限界に近づくにつれて、光のコントラストが低下してくる。光のコントラストの低下によって、ポジ型レジスト膜においてはホールパターンやトレンチパターンの解像性や、フォーカスマージンの低下が生じる。光のコントラスト低下によるレジストパターンの解像性低下の影響を防ぐため、レジスト膜の溶解コントラストを向上させる試みが行われている。
【０００４】
酸発生剤を添加し、光あるいは電子線（ＥＢ）の照射によって酸を発生させて、酸による脱保護反応を起こす化学増幅ポジ型レジスト材料及び酸による極性変化反応又は架橋反応を起こす化学増幅ネガ型レジスト材料にとって、酸の未露光部分への拡散を制御してコントラストを向上させる目的でのクエンチャーの添加は、非常に効果的であった。そのため、多くのアミンクエンチャーが提案された（特許文献１〜３）。
【０００５】
ＡｒＦレジスト材料用の(メタ)アクリレートポリマーに用いられる酸不安定基は、α位がフッ素原子で置換されたスルホン酸を発生する光酸発生剤を使うことによって脱保護反応が進行するが、α位がフッ素原子で置換されていないスルホン酸又はカルボン酸を発生する酸発生剤では脱保護反応が進行しない。α位がフッ素原子で置換されたスルホン酸を発生するスルホニウム塩又はヨードニウム塩に、α位がフッ素原子で置換されていないスルホン酸を発生するスルホニウム塩又はヨードニウム塩を混合すると、α位がフッ素原子で置換されていないスルホン酸を発生するスルホニウム塩又はヨードニウム塩は、α位がフッ素原子で置換されたスルホン酸とイオン交換を起こす。光によって発生したα位がフッ素原子で置換されたスルホン酸は、イオン交換によってスルホニウム塩又はヨードニウム塩に逆戻りするため、α位がフッ素原子で置換されていないスルホン酸又はカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩はクエンチャーとして機能する。カルボン酸を発生するスルホニウム塩又はヨードニウム塩をクエンチャーとして用いるレジスト材料が提案されている（特許文献４）。
【０００６】
スルホニウム塩型及びヨードニウム塩型のクエンチャーは、光酸発生剤と同様に光分解性である。つまり、露光部分は、クエンチャーの量が少なくなる。露光部分には酸が発生するので、クエンチャーの量が減ると、相対的に酸の濃度が高くなり、これによってコントラストが向上する。しかしながら、露光部分の酸拡散を抑えることができないため、酸拡散制御が困難になる。
【０００７】
ヨウ素原子で置換されたアニリン化合物を含むレジスト材料が提案されている（特許文献５、６）。アニリン化合物は、塩基性度が低く、酸の捕獲性能が低いため酸拡散性能が高くないという問題点がある。酸拡散制御能に優れ、高吸収で増感効果も高いクエンチャーの開発が望まれている。
【０００８】
ＥＵＶ露光におけるレジスト膜内に吸収されるフォトンの数は、ＡｒＦ露光におけるフォトンの数の１４分の１といわれ、フォトンのばらつき、すなわちショットノイズによって寸法のばらつきが生じていることが知られている（非特許文献１）。さらに、フォトンのばらつきに加えてレジスト膜内の成分のばらつきによっても寸法のばらつきが生じているとされ、均一成分によるレジスト材料の開発が提案されている（非特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−１９４７７６号公報
【特許文献２】特開２００２−２２６４７０号公報
【特許文献３】特開２００２−３６３１４８号公報
【特許文献４】国際公開第２００８／０６６０１１号
【特許文献５】特開２０１３−８３９５７号公報
【特許文献６】特開２０１８−９７３５６号公報
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】SPIE Vol. 3331 p531 (1998)
【非特許文献２】SPIE Vol. 9776 p97760V-1 (2016)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
酸を触媒とする化学増幅レジスト材料において、ラインパターンのエッジラフネス（ＬＷＲ）やホールパターンの寸法均一性（ＣＤＵ）を低減させることが可能で、かつ感度も向上させることができるクエンチャーの開発が望まれている。
【００１２】
本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、前記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）を有する所定の窒素含有化合物と、１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物とから得られる塩化合物をクエンチャーとして用いることで、ＬＷＲ及びＣＤＵが小さく、コントラストが高く、解像性に優れ、プロセスマージンが広いレジスト材料を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
【００１４】
すなわち、本発明は、下記レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
１．ベースポリマー及びクエンチャーを含むレジスト材料であって、
前記クエンチャーが、ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）がエステル結合含有基を介して窒素原子に結合している窒素含有化合物と、１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物とから得られる塩化合物を含むものであるレジスト材料。
２．前記塩化合物が、下記式（Ａ）で表されるものである１のレジスト材料。
【化１】
2022000688.tif 000002
（式中、ｋは、１〜３の整数である。ｍ1は、１又は２である。ｍ2は、１〜３の整数である。ｎは、１〜４の整数である。
ＸBIは、ヨウ素原子又は臭素原子である。
Ｒahは、炭素数１〜２０の(ｋ＋１)価の脂肪族炭化水素基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、スルトン環、ラクタム環、カーボネート基、ヨウ素原子以外のハロゲン原子、炭素数６〜１２のアリール基、ヒドロキシ基及びカルボキシ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
Ｘ1は、単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基又はカーボネート基である。
Ｒ1は、単結合又は炭素数１〜２０の(ｍ1＋１)価の炭化水素基であり、前記炭化水素基は、エーテル結合、エステル結合若しくはヒドロキシ基を含んでいてもよい。
Ｒ2は、単結合又は炭素数１〜２０の(ｍ2＋１)価の炭化水素基であり、前記炭化水素基は、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、スルトン環、ラクタム環、カーボネート基、ヨウ素原子以外のハロゲン原子、ヒドロキシ基及びカルボキシ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
Ｒ3は、水素原子、ニトロ基、炭素数１〜２０のヒドロカルビル基又は炭素数２〜２０のヒドロカルビルオキシカルボニル基であり、前記ヒドロカルビル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、エーテル結合、エステル結合、スルホニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。ｎが１のとき、２つのＲ3が互いに結合して、これらが結合する窒素原子と共に環を形成していてもよく、このとき該環の中に、二重結合、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでいてもよい。または、Ｒ3とＲ1とが互いに結合して、これらが結合する窒素原子と共に環を形成していてもよく、このとき該環の中に、二重結合、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでいてもよい。
Ｒ4は、トリフルオロメチル基、炭素数２〜２１のヒドロカルビルカルボニル基又は炭素数２〜２１のヒドロカルビルオキシカルボニル基であり、該ヒドロカルビルカルボニル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、エーテル結合、エステル結合、チオール基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、スルトン基、スルホン酸エステル結合、アミド結合及びハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。）
３．更に、スルホン酸、イミド酸又はメチド酸を発生する酸発生剤を含む１又は２のレジスト材料。
４．更に、有機溶剤を含む１〜３のいずれかのレジスト材料。
５．前記ベースポリマーが、下記式（ａ１）で表される繰り返し単位又は下記式（ａ２）で表される繰り返し単位を含むものである１〜４のいずれかのレジスト材料。
【化２】
2022000688.tif 000003
（式中、ＲAは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。
Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に、酸不安定基である。
Ｙ1は、単結合、フェニレン基若しくはナフチレン基、又はエステル結合及びラクトン環から選ばれる少なくとも１種を含む炭素数１〜１２の連結基である。
Ｙ2は、単結合又はエステル結合である。）
６．化学増幅ポジ型レジスト材料である５のレジスト材料。
７．前記ベースポリマーが、酸不安定基を含まないものである１〜４のいずれかのレジスト材料。
８．化学増幅ネガ型レジスト材料である７のレジスト材料。
９．更に、界面活性剤を含む１〜８のいずれかのレジスト材料。
１０．前記ベースポリマーが、更に、下記式（ｆ１）〜（ｆ３）のいずれかで表される繰り返し単位を含む１〜９のいずれかのレジスト材料。
【化３】
2022000688.tif 000004
（式中、ＲAは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。
Ｚ1は、単結合、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、ナフチレン基若しくはこれらを組み合わせて得られる炭素数７〜１８の基、又は−Ｏ−Ｚ11−、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｚ11−若しくは−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−Ｚ11−である。Ｚ11は、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、ナフチレン基又はこれらを組み合わせて得られる炭素数７〜１８の基であり、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。
Ｚ2は、単結合、−Ｚ21−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−、−Ｚ21−Ｏ−又は−Ｚ21−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−である。Ｚ21は、炭素数１〜１２の飽和ヒドロカルビレン基であり、カルボニル基、エステル結合又はエーテル結合を含んでいてもよい。
Ｚ3は、単結合、メチレン基、エチレン基、フェニレン基、フッ素化フェニレン基、−Ｏ−Ｚ31−、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｚ31−又は−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−Ｚ31−である。Ｚ31は、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、フッ素化フェニレン基、又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニレン基であり、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。
Ｒ21〜Ｒ28は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロカルビル基である。また、Ｒ23及びＲ24又はＲ26及びＲ27が、互いに結合してこれらが結合する硫黄原子と共に環を形成していてもよい。
ＲHFは、水素原子又はトリフルオロメチル基である。
Ｍ-は、非求核性対向イオンである。）
１１．１〜１０のいずれかのレジスト材料を用いて基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を高エネルギー線で露光する工程と、現像液を用いて露光したレジスト膜を現像する工程とを含むパターン形成方法。
１２．前記高エネルギー線が、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー光又は波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光である１１のパターン形成方法。
１３．前記高エネルギー線が、ＥＢ又は波長３〜１５ｎｍのＥＵＶである１１のパターン形成方法。
【発明の効果】
【００１５】
式（Ａ）で表される塩化合物は、ヨウ素原子又は臭素原子を有するためＥＵＶの吸収が大きく、そのため増感効果がある。また、ヨウ素原子又は臭素原子の原子量が大きいため、酸拡散を抑える効果も高い。さらに、感光性がなく、露光部分においてもこれが分解することがないため、露光領域の酸拡散制御能も高く、アルカリ現像液によってパターンの膜減りを抑えることもできる。１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物は、フッ素の反発効果のため、これとの塩によって形成されたクエンチャーは、レジスト膜内に均一に分散し、これによって高感度であり、ＬＷＲかつＣＤＵが改善されたレジスト材料を構築することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
［レジスト材料］
本発明のレジスト材料は、ベースポリマー及びクエンチャーを含むものである。前記クエンチャーは、ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）がエステル結合含有基を介して窒素原子に結合している窒素含有化合物と、１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物とから得られる塩化合物（以下、塩化合物Ａともいう。）を含むものである。
【００１７】
［塩化合物Ａ］
塩化合物Ａは、下記式（Ａ）で表されるものが好ましい。
【化４】
2022000688.tif 000005
【００１８】
式（Ａ）中、ｋは、１〜３の整数である。ｍ1は、１又は２である。ｍ2は、１〜３の整数である。ｎは、１〜４の整数である。
【００１９】
式（Ａ）中、ＸBIは、ヨウ素原子又は臭素原子である。
【００２０】
式（Ａ）中、Ｒahは、炭素数１〜２０の(ｋ＋１)価の脂肪族炭化水素基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、スルトン環、ラクタム環、カーボネート基、ヨウ素原子以外のハロゲン原子、炭素数６〜１２のアリール基、ヒドロキシ基及びカルボキシ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００２１】
前記脂肪族炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メタンジイル基、エタン−１,１−ジイル基、エタン−１,２−ジイル基、プロパン−１,１−ジイル基、プロパン−１,２−ジイル基、プロパン−１,３−ジイル基、プロパン−２,２−ジイル基、ブタン−１,１−ジイル基、ブタン−１,２−ジイル基、ブタン−１,３−ジイル基、ブタン−２,３−ジイル基、ブタン−１,４−ジイル基、１,１−ジメチルエタン−１,２−ジイル基、ペンタン−１,５−ジイル基、２−メチルブタン−１,２−ジイル基、ヘキサン−１,６−ジイル基、ヘプタン−１,７−ジイル基、オクタン−１,８−ジイル基、ノナン−１,９−ジイル基、デカン−１,１０−ジイル基、ウンデカン−１,１１−ジイル基、ドデカン−１,１２−ジイル基等のアルカンジイル基；シクロプロパン−１,１−ジイル基、シクロプロパン−１,２−ジイル基、シクロブタン−１,１−ジイル基、シクロブタン−１,２−ジイル基、シクロブタン−１,３−ジイル基、シクロペンタン−１,１−ジイル基、シクロペンタン−１,２−ジイル基、シクロペンタン−１,３−ジイル基、シクロヘキサン−１,１−ジイル基、シクロヘキサン−１,２−ジイル基、シクロヘキサン−１,３−ジイル基、シクロヘキサン−１,４−ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン−２,３−ジイル基、ノルボルナン−２,６−ジイル基等の多環式飽和ヒドロカルビレン基；２−プロペン−１,１−ジイル基等のアルケンジイル基；２−プロピン−１,１−ジイル基等のアルキンジイル基；２−シクロヘキセン−１,２−ジイル基、２−シクロヘキセン−１,３−ジイル基、３−シクロヘキセン−１,２−ジイル基等のシクロアルケンジイル基；５−ノルボルネン−２,３−ジイル基等の多環式不飽和ヒドロカルビレン基；シクロペンチルメタンジイル基、シクロヘキシルメタンジイル基、２−シクロペンテニルメタンジイル基、３−シクロペンテニルメタンジイル基、２−シクロヘキセニルメタンジイル基、３−シクロヘキセニルメタンジイル基等の環式脂肪族ヒドロカルビレン基で置換されたアルカンジイル基；これらの基から更に１又は２個の水素原子が脱離して得られる３価又は４価の基等が挙げられる。
【００２２】
前記炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。
【００２３】
式（Ａ）中、Ｘ1は、単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル基又はカーボネート基である。
【００２４】
式（Ａ）中、Ｒ1は、単結合又は炭素数１〜２０の(ｍ1＋１)価の炭化水素基であり、前記炭化水素基は、エーテル結合、エステル結合若しくはヒドロキシ基を含んでいてもよい。Ｒ2は、単結合又は炭素数１〜２０の(ｍ2＋１)価の炭化水素基であり、前記炭化水素基は、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、スルトン環、ラクタム環、カーボネート基、ヨウ素原子以外のハロゲン原子、ヒドロキシ基及びカルボキシ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００２５】
Ｒ1で表される(ｍ1＋１)価の炭化水素基は、炭素数１〜２０の炭化水素から(ｍ1＋１)個の水素原子が脱離して得られる基であり、Ｒ2で表される(ｍ2＋１)価の炭化水素基は、炭素数１〜２０の炭化水素から(ｍ2＋１)個の水素原子が脱離して得られる基である。前記炭化水素は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、２−メチルプロパン、ペンタン、２−メチルブタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等のアルカン；シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン等の環式飽和炭化水素；エチレン、プロペン、１−ブテン、２−ブテン、２−メチルプロペン等のアルケン；シクロヘキセン、ノルボルネン等の環式不飽和炭化水素；ベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシレン、アントラセン等の芳香族炭化水素；これらの基の一部又は全部の水素原子がヒドロカルビル基で置換された化合物等が挙げられる。
【００２６】
式（Ａ）中、Ｒ3は、水素原子、ニトロ基、炭素数１〜２０のヒドロカルビル基又は炭素数２〜２０のヒドロカルビルオキシカルボニル基である。前記ヒドロカルビル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロプロピルメチル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の炭素数３〜２０の環式飽和ヒドロカルビル基；ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜２０のアルケニル基；シクロヘキセニル基、ノルボルネニル基等の炭素数２〜２０の環式不飽和脂肪族ヒドロカルビル基；エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の炭素数２〜２０のアルキニル基；フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、エチルナフチル基、ｎ−プロピルナフチル基、イソプロピルナフチル基、ｎ−ブチルナフチル基、イソブチルナフチル基、ｓｅｃ−ブチルナフチル基、ｔｅｒｔ−ブチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基；２−シクロヘキシルエチニル基、２−フェニルエチニル基等のこれらを組み合わせて得られる基等が挙げられる。前記ヒドロカルビル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、エーテル結合、エステル結合、スルホニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００２７】
ｎが１のとき、２つのＲ3が互いに結合して、これらが結合する窒素原子と共に環を形成していてもよく、このとき該環の中に、二重結合、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでいてもよい。または、Ｒ3とＲ1とが互いに結合して、これらが結合する窒素原子と共に環を形成していてもよく、このとき該環の中に、二重結合、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでいてもよい。
【００２８】
塩化合物Ａのカチオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
【化５】
2022000688.tif 000006
【００２９】
【化６】
2022000688.tif 000007
【００３０】
【化７】
2022000688.tif 000008
【００３１】
【化８】
2022000688.tif 000009
【００３２】
【化９】
2022000688.tif 000010
【００３３】
【化１０】
2022000688.tif 000011
【００３４】
【化１１】
2022000688.tif 000012
【００３５】
【化１２】
2022000688.tif 000013
【００３６】
【化１３】
2022000688.tif 000014
【００３７】
【化１４】
2022000688.tif 000015
【００３８】
【化１５】
2022000688.tif 000016
【００３９】
【化１６】
2022000688.tif 000017
【００４０】
【化１７】
2022000688.tif 000018
【００４１】
【化１８】
2022000688.tif 000019
【００４２】
【化１９】
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【００４３】
【化２０】
2022000688.tif 000021
【００４４】
【化２１】
2022000688.tif 000022
【００４５】
【化２２】
2022000688.tif 000023
【００４６】
【化２３】
2022000688.tif 000024
【００４７】
【化２４】
2022000688.tif 000025
【００４８】
【化２５】
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【００４９】
【化２６】
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【００５０】
【化２７】
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【００５１】
【化２８】
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【００５２】
【化２９】
2022000688.tif 000030
【００５３】
【化３０】
2022000688.tif 000031
【００５４】
【化３１】
2022000688.tif 000032
【００５５】
【化３２】
2022000688.tif 000033
【００５６】
【化３３】
2022000688.tif 000034
【００５７】
【化３４】
2022000688.tif 000035
【００５８】
【化３５】
2022000688.tif 000036
【００５９】
【化３６】
2022000688.tif 000037
【００６０】
【化３７】
2022000688.tif 000038
【００６１】
【化３８】
2022000688.tif 000039
【００６２】
【化３９】
2022000688.tif 000040
【００６３】
【化４０】
2022000688.tif 000041
【００６４】
【化４１】
2022000688.tif 000042
【００６５】
【化４２】
2022000688.tif 000043
【００６６】
【化４３】
2022000688.tif 000044
【００６７】
【化４４】
2022000688.tif 000045
【００６８】
【化４５】
2022000688.tif 000046
【００６９】
【化４６】
2022000688.tif 000047
【００７０】
【化４７】
2022000688.tif 000048
【００７１】
式（Ａ）中、Ｒ4は、トリフルオロメチル基、炭素数２〜２１のヒドロカルビルカルボニル基又は炭素数２〜２１のヒドロカルビルオキシカルボニル基であり、該ヒドロカルビルカルボニル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、エーテル結合、エステル結合、チオール基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、スルトン基、スルホン酸エステル結合、アミド結合及びハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００７２】
前記ヒドロカルビルカルボニル基又はヒドロカルビルオキシカルボニル基のヒドロカルビル部は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基の炭素数１〜２０のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピルエチル基、シクロブチルメチル基、シクロブチルエチル基、シクロペンチルメチル基、シクロペンチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、メチルシクロプロピル基、メチルシクロブチル基、メチルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロプロピル基、エチルシクロブチル基、エチルシクロペンチル基、エチルシクロヘキシル基、イソプロピルシクロプロピル基、イソプロピルシクロペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチルシクロプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンチル基等の炭素数３〜２０の環式飽和ヒドロカルビル基；ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等の炭素数２〜２０のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、ノニニル基、デシニル基、ウンデシニル基、ドデシニル基、トリデシニル基、テトラデシニル基、ペンタデシニル基、ヘキサデシニル基、ヘプタデシニル基、オクタデシニル基、ノナデシニル基、イコシニル基等の炭素数２〜２０のアルキニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、メチルシクロペンテニル基、メチルシクロヘキセニル基、エチルシクロペンテニル基、エチルシクロヘキセニル基、ノルボルネニル基等の炭素数３〜２０の環式不飽和脂肪族ヒドロカルビル基；フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、エチルナフチル基、ｎ−プロピルナフチル基、イソプロピルナフチル基、ｎ−ブチルナフチル基、イソブチルナフチル基、ｓｅｃ−ブチルナフチル基、ｔｅｒｔ−ブチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基；ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、９−フルオレニルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基、９−フルオレニルエチル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基；これらを組み合わせて得られる基等が挙げられる。
【００７３】
塩化合物Ａのアニオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
【化４８】
2022000688.tif 000049
【００７４】
【化４９】
2022000688.tif 000050
【００７５】
【化５０】
2022000688.tif 000051
【００７６】
【化５１】
2022000688.tif 000052
【００７７】
【化５２】
2022000688.tif 000053
【００７８】
【化５３】
2022000688.tif 000054
【００７９】
【化５４】
2022000688.tif 000055
【００８０】
【化５５】
2022000688.tif 000056
【００８１】
【化５６】
2022000688.tif 000057
【００８２】
【化５７】
2022000688.tif 000058
【００８３】
【化５８】
2022000688.tif 000059
【００８４】
塩化合物Ａは、例えば、ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）を有する窒素含有化合物と、１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物との中和反応によって合成することができる。なお、レジスト材料を調製する際に他の成分とともに前記窒素含有化合物と１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物とを加えて中和させることで、塩化合物Ａがレジスト材料に含まれるようにしてもよい。前記窒素含有化合物と、１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基を有する化合物との中和反応は、モル比が１：１となる量で行うことが最も好ましいが、どちらか一方が過剰であってもよい。
【００８５】
塩化合物Ａは、レジスト材料中において増感効果を有するクエンチャーとして機能する。通常のクエンチャーは、酸拡散を制御して低感度化することによってＬＷＲやＣＤＵが低減するが、塩化合物Ａは、アミノ基と原子量の大きいヨウ素原子又は臭素原子が酸拡散制御効果を有するとともに、ＥＵＶの吸収が大きいヨウ素原子又は臭素原子を複数有しているため、これによる増感効果によって感度を向上させる機能も有する。さらに、６つのフッ素原子からなる１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基の反発効果によりクエンチャーの凝集を防ぎ、これによってクエンチャーが均一に分散し、酸の拡散距離がナノメートルオーダーの視点で均一化することによってＣＤＵやＬＷＲを小さくすることができる。
【００８６】
本発明のレジスト材料中、塩化合物Ａの含有量は、後述するベースポリマー１００質量部に対し、感度と酸拡散抑制効果の点から０.００１〜５０質量部が好ましく、０.０１〜４０質量部がより好ましい。
【００８７】
塩化合物Ａは、感光性がないので露光によって分解することがなく、露光部分の酸の拡散を抑えることができる。
【００８８】
［ベースポリマー］
本発明のレジスト材料に含まれるベースポリマーは、ポジ型レジスト材料の場合、酸不安定基を含む繰り返し単位を含む。酸不安定基を含む繰り返し単位としては、下記式（ａ１）で表される繰り返し単位（以下、繰り返し単位ａ１ともいう。）又は下記式（ａ２）で表される繰り返し単位（以下、繰り返し単位ａ２ともいう。）が好ましい。
【化５９】
2022000688.tif 000060
【００８９】
式（ａ１）及び（ａ２）中、ＲAは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に、酸不安定基である。なお、前記ベースポリマーが繰り返し単位ａ１及びａ２を共に含む場合、Ｒ11及びＲ12は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｙ1は、単結合、フェニレン基若しくはナフチレン基、又はエステル結合及びラクトン環から選ばれる少なくとも１種を含む炭素数１〜１２の連結基である。Ｙ2は、単結合又はエステル結合である。
【００９０】
繰り返し単位ａ１を与えるモノマーとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＲA及びＲ11は、前記と同じである。
【化６０】
2022000688.tif 000061
【００９１】
繰り返し単位ａ２を与えるモノマーとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＲA及びＲ12は、前記と同じである。
【化６１】
2022000688.tif 000062
【００９２】
式（ａ１）及び（ａ２）中、Ｒ11及びＲ12で表される酸不安定基としては、例えば、特開２０１３−８００３３号公報、特開２０１３−８３８２１号公報に記載のものが挙げられる。
【００９３】
典型的には、前記酸不安定基としては、下記式（ＡＬ−１）〜（ＡＬ−３）で表されるものが挙げられる。
【化６２】
2022000688.tif 000063
（式中、破線は、結合手である。）
【００９４】
式（ＡＬ−１）及び（ＡＬ−２）中、ＲL1及びＲL2は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヒドロカルビル基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、フッ素原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。前記ヒドロカルビル基としては、炭素数１〜４０の飽和ヒドロカルビル基が好ましく、炭素数１〜２０の飽和ヒドロカルビル基がより好ましい。
【００９５】
式（ＡＬ−１）中、ａは、０〜１０の整数であり、１〜５の整数が好ましい。
【００９６】
式（ＡＬ−２）中、ＲL3及びＲL4は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０のヒドロカルビル基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、フッ素原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。前記ヒドロカルビル基としては、炭素数１〜２０の飽和ヒドロカルビル基が好ましい。また、ＲL2、ＲL3及びＲL4のいずれか２つが、互いに結合してこれらが結合する炭素原子又は炭素原子と酸素原子と共に炭素数３〜２０の環を形成してもよい。前記環としては、炭素数４〜１６の環が好ましく、特に脂環が好ましい。
【００９７】
式（ＡＬ−３）中、ＲL5、ＲL6及びＲL7は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のヒドロカルビル基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、フッ素原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。前記ヒドロカルビル基としては、炭素数１〜２０の飽和ヒドロカルビル基が好ましい。また、ＲL5、ＲL6及びＲL7のいずれか２つが、互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に炭素数３〜２０の環を形成してもよい。前記環としては、炭素数４〜１６の環が好ましく、特に脂環が好ましい。
【００９８】
前記ベースポリマーは、密着性基としてフェノール性ヒドロキシ基を含む繰り返し単位ｂを含んでもよい。繰り返し単位ｂを与えるモノマーとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＲAは、前記と同じである。
【化６３】
2022000688.tif 000064
【００９９】
前記ベースポリマーは、他の密着性基として、フェノール性ヒドロキシ基以外のヒドロキシ基、ラクトン環、スルトン環、エーテル結合、エステル結合、スルホン酸エステル結合、カルボニル基、スルホニル基、シアノ基又はカルボキシ基を含む繰り返し単位ｃを含んでもよい。繰り返し単位ｃを与えるモノマーとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＲAは、前記と同じである。
【化６４】
2022000688.tif 000065
【０１００】
【化６５】
2022000688.tif 000066
【０１０１】
【化６６】
2022000688.tif 000067
【０１０２】
【化６７】
2022000688.tif 000068
【０１０３】
【化６８】
2022000688.tif 000069
【０１０４】
【化６９】
2022000688.tif 000070
【０１０５】
【化７０】
2022000688.tif 000071
【０１０６】
【化７１】
2022000688.tif 000072
【０１０７】
【化７２】
2022000688.tif 000073
【０１０８】
前記ベースポリマーは、インデン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、アセナフチレン、クロモン、クマリン、ノルボルナジエン又はこれらの誘導体に由来する繰り返し単位ｄを含んでもよい。繰り返し単位ｄを与えるモノマーとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
【化７３】
2022000688.tif 000074
【０１０９】
前記ベースポリマーは、スチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルピレン、メチレンインダン、ビニルピリジン又はビニルカルバゾールに由来する繰り返し単位ｅを含んでもよい。
【０１１０】
前記ベースポリマーは、重合性不飽和結合を含むオニウム塩に由来する繰り返し単位ｆを含んでもよい。好ましい繰り返し単位ｆとしては、下記式（ｆ１）で表される繰り返し単位（以下、繰り返し単位ｆ１ともいう。）、下記式（ｆ２）で表される繰り返し単位（以下、繰り返し単位ｆ２ともいう。）及び下記式（ｆ３）で表される繰り返し単位（以下、繰り返し単位ｆ３ともいう。）が挙げられる。なお、繰り返し単位ｆ１〜ｆ３は、１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【化７４】
2022000688.tif 000075
【０１１１】
式（ｆ１）〜（ｆ３）中、ＲAは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。Ｚ1は、単結合、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、ナフチレン基若しくはこれらを組み合わせて得られる炭素数７〜１８の基、又は−Ｏ−Ｚ11−、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｚ11−若しくは−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−Ｚ11−である。Ｚ11は、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、ナフチレン基又はこれらを組み合わせて得られる炭素数７〜１８の基であり、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。Ｚ2は、単結合、−Ｚ21−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−、−Ｚ21−Ｏ−又は−Ｚ21−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−である。Ｚ21は、炭素数１〜１２の飽和ヒドロカルビレン基であり、カルボニル基、エステル結合又はエーテル結合を含んでいてもよい。Ｚ3は、単結合、メチレン基、エチレン基、フェニレン基、フッ素化フェニレン基、−Ｏ−Ｚ31−、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｚ31−又は−Ｃ(＝Ｏ)−ＮＨ−Ｚ31−である。Ｚ31は、炭素数１〜６の脂肪族ヒドロカルビレン基、フェニレン基、フッ素化フェニレン基、又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニレン基であり、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。なお、Ｚ11及びＺ31で表される脂肪族ヒドロカルビレン基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。Ｚ21で表される飽和ヒドロカルビレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
【０１１２】
式（ｆ１）〜（ｆ３）中、Ｒ21〜Ｒ28は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロカルビル基である。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、後述する式（１−１）及び（１−２）中のＲ101〜Ｒ105の説明において例示するものと同様のものが挙げられる。
【０１１３】
また、Ｒ23及びＲ24又はＲ26及びＲ27が、互いに結合してこれらが結合する硫黄原子と共に環を形成していてもよい。このとき、前記環としては、後述する式（１−１）の説明において、Ｒ101とＲ102とが結合してこれらが結合する硫黄原子と共に形成し得る環として例示するものと同様のものが挙げられる。
【０１１４】
式（ｆ２）中、ＲHFは、水素原子又はトリフルオロメチル基である。
【０１１５】
式（ｆ１）中、Ｍ-は、非求核性対向イオンである。前記非求核性対向イオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン等のハロゲン化物イオン、トリフレートイオン、１,１,１−トリフルオロエタンスルホネートイオン、ノナフルオロブタンスルホネートイオン等のフルオロアルキルスルホネートイオン、トシレートイオン、ベンゼンスルホネートイオン、４−フルオロベンゼンスルホネートイオン、１,２,３,４,５−ペンタフルオロベンゼンスルホネートイオン等のアリールスルホネートイオン、メシレートイオン、ブタンスルホネートイオン等のアルキルスルホネートイオン、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドイオン、ビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミドイオン、ビス(パーフルオロブチルスルホニル)イミドイオン等のイミドイオン、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メチドイオン、トリス(パーフルオロエチルスルホニル)メチドイオン等のメチドイオンが挙げられる。
【０１１６】
前記非求核性対向イオンとしては、更に、下記式（ｆ１−１）で表されるα位がフッ素原子で置換されたスルホン酸イオン、下記式（ｆ１−２）で表されるα位がフッ素原子で置換され、β位がトリフルオロメチル基で置換されたスルホン酸イオン等が挙げられる。
【化７５】
2022000688.tif 000076
【０１１７】
式（ｆ１−１）中、Ｒ31は、水素原子又は炭素数１〜２０のヒドロカルビル基であり、該ヒドロカルビル基は、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、ラクトン環又はフッ素原子を含んでいてもよい。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、式（１Ａ'）中のＲ111で表されるヒドロカルビル基として後述するものと同様のものが挙げられる。
【０１１８】
式（ｆ１−２）中、Ｒ32は、水素原子、炭素数１〜３０のヒドロカルビル基又は炭素数２〜３０のヒドロカルビルカルボニル基であり、該ヒドロカルビル基及びヒドロカルビルカルボニル基は、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基又はラクトン環を含んでいてもよい。前記ヒドロカルビル基及びヒドロカルビルカルボニル基のヒドロカルビル部は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、式（１Ａ'）中のＲ111で表されるヒドロカルビル基として後述するものと同様のものが挙げられる。
【０１１９】
繰り返し単位ｆ１を与えるモノマーのカチオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＲAは、前記と同じである。
【化７６】
2022000688.tif 000077
【０１２０】
繰り返し単位ｆ２又ｆ３を与えるモノマーのカチオンとしては、式（１−１）で表されるスルホニウム塩のカチオンとして後述するものと同様のものが挙げられる。
【０１２１】
繰り返し単位ｆ２を与えるモノマーのアニオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＲAは、前記と同じである。
【化７７】
2022000688.tif 000078
【０１２２】
【化７８】
2022000688.tif 000079
【０１２３】
繰り返し単位ｆ３を与えるモノマーのアニオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＲAは、前記と同じである。
【化７９】
2022000688.tif 000080
【０１２４】
【化８０】
2022000688.tif 000081
【０１２５】
【化８１】
2022000688.tif 000082
【０１２６】
ポリマー主鎖に酸発生剤を結合させることによって酸拡散を小さくし、酸拡散のぼけによる解像性の低下を防止できる。また、酸発生剤が均一に分散することによってＬＷＲやＣＤＵが改善される。なお、繰り返し単位ｆを含むベースポリマー（すなわち、ポリマーバウンド型酸発生剤）を用いる場合、後述する添加型酸発生剤の配合を省略し得る。
【０１２７】
ポジ型レジスト材料用のベースポリマーは、酸不安定基を含む繰り返し単位ａ１又はａ２を必須とする。この場合、繰り返し単位ａ１、ａ２、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの含有比率は、０≦ａ１＜１.０、０≦ａ２＜１.０、０＜ａ１＋ａ２＜１.０、０≦ｂ≦０.９、０≦ｃ≦０.９、０≦ｄ≦０.８、０≦ｅ≦０.８及び０≦ｆ≦０.５が好ましく、０≦ａ１≦０.９、０≦ａ２≦０.９、０.１≦ａ１＋ａ２≦０.９、０≦ｂ≦０.８、０≦ｃ≦０.８、０≦ｄ≦０.７、０≦ｅ≦０.７及び０≦ｆ≦０.４がより好ましく、０≦ａ１≦０.８、０≦ａ２≦０.８、０.１≦ａ１＋ａ２≦０.８、０≦ｂ≦０.７５、０≦ｃ≦０.７５、０≦ｄ≦０.６、０≦ｅ≦０.６及び０≦ｆ≦０.３が更に好ましい。なお、繰り返し単位ｆが繰り返し単位ｆ１〜ｆ３から選ばれる少なくとも１種である場合、ｆ＝ｆ１＋ｆ２＋ｆ３である。また、ａ１＋ａ２＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝１.０である。
【０１２８】
一方、ネガ型レジスト材料用のベースポリマーは、酸不安定基は必ずしも必要ではない。このようなベースポリマーとしては、繰り返し単位ｂを含み、必要に応じて更に繰り返し単位ｃ、ｄ、ｅ及び／又はｆを含むものが挙げられる。これらの繰り返し単位の含有比率は、０＜ｂ≦１.０、０≦ｃ≦０.９、０≦ｄ≦０.８、０≦ｅ≦０.８及び０≦ｆ≦０.５が好ましく、０.２≦ｂ≦１.０、０≦ｃ≦０.８、０≦ｄ≦０.７、０≦ｅ≦０.７及び０≦ｆ≦０.４がより好ましく、０.３≦ｂ≦１.０、０≦ｃ≦０.７５、０≦ｄ≦０.６、０≦ｅ≦０.６及び０≦ｆ≦０.３が更に好ましい。なお、繰り返し単位ｆが繰り返し単位ｆ１〜ｆ３から選ばれる少なくとも１種である場合、ｆ＝ｆ１＋ｆ２＋ｆ３である。また、ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝１.０である。
【０１２９】
前記ベースポリマーを合成するには、例えば、前述した繰り返し単位を与えるモノマーを、有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を加えて加熱し、重合を行えばよい。
【０１３０】
重合時に使用する有機溶剤としては、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。重合開始剤としては、２,２'−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２,２'−アゾビス(２,４−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル２,２−アゾビス(２−メチルプロピオネート)、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等が挙げられる。重合時の温度は、好ましくは５０〜８０℃である。反応時間は、好ましくは２〜１００時間、より好ましくは５〜２０時間である。
【０１３１】
ヒドロキシ基を含むモノマーを共重合する場合、重合時にヒドロキシ基をエトキシエトキシ基等の酸によって脱保護しやすいアセタール基で置換しておいて重合後に弱酸と水によって脱保護を行ってもよいし、アセチル基、ホルミル基、ピバロイル基等で置換しておいて重合後にアルカリ加水分解を行ってもよい。
【０１３２】
ヒドロキシスチレンやヒドロキシビニルナフタレンを共重合する場合は、ヒドロキシスチレンやヒドロキシビニルナフタレンのかわりにアセトキシスチレンやアセトキシビニルナフタレンを用い、重合後前記アルカリ加水分解によってアセトキシ基を脱保護してヒドロキシスチレンやヒドロキシビニルナフタレンにしてもよい。
【０１３３】
アルカリ加水分解時の塩基としては、アンモニア水、トリエチルアミン等が使用できる。また、反応温度は、好ましくは−２０〜１００℃、より好ましくは０〜６０℃である。反応時間は、好ましくは０.２〜１００時間、より好ましくは０.５〜２０時間である。
【０１３４】
前記ベースポリマーは、溶剤としてＴＨＦを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が、好ましくは１,０００〜５００,０００、より好ましくは２,０００〜３０,０００である。Ｍｗが小さすぎるとレジスト材料が耐熱性に劣るものとなり、大きすぎるとアルカリ溶解性が低下し、パターン形成後に裾引き現象が生じやすくなる。
【０１３５】
更に、前記ベースポリマーにおいて分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が広い場合は、低分子量や高分子量のポリマーが存在するため、露光後、パターン上に異物が見られたり、パターンの形状が悪化したりするおそれがある。パターンルールが微細化するに従って、ＭｗやＭｗ／Ｍｎの影響が大きくなりやすいことから、微細なパターン寸法に好適に用いられるレジスト材料を得るには、前記ベースポリマーのＭｗ／Ｍｎは、１.０〜２.０、特に１.０〜１.５と狭分散であることが好ましい。
【０１３６】
前記ベースポリマーは、組成比率、Ｍｗ、Ｍｗ／Ｍｎが異なる２つ以上のポリマーを含んでもよい。
【０１３７】
［酸発生剤］
本発明のレジスト材料は、強酸を発生する酸発生剤（以下、添加型酸発生剤ともいう。）を含んでもよい。ここでいう強酸とは、化学増幅ポジ型レジスト材料の場合はベースポリマーの酸不安定基の脱保護反応を起こすのに十分な酸性度を有している化合物を意味し、化学増幅ネガ型レジスト材料の場合は酸による極性変化反応又は架橋反応を起こすのに十分な酸性度を有している化合物を意味する。このような酸発生剤を含むことで、塩化合物Ａがクエンチャーとして機能し、本発明のレジスト材料が、化学増幅ポジ型レジスト材料又は化学増幅ネガ型レジスト材料として機能することができる。
【０１３８】
前記酸発生剤としては、例えば、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（光酸発生剤）が挙げられる。光酸発生剤としては、高エネルギー線照射により酸を発生する化合物であればいかなるものでも構わないが、スルホン酸、イミド酸又はメチド酸を発生するものが好ましい。好適な光酸発生剤としてはスルホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニルジアゾメタン、Ｎ−スルホニルオキシイミド、オキシム−Ｏ−スルホネート型酸発生剤等がある。光酸発生剤の具体例としては、特開２００８−１１１１０３号公報の段落［０１２２］〜［０１４２］に記載されているものが挙げられる。
【０１３９】
また、光酸発生剤として、下記式（１−１）で表されるスルホニウム塩や、下記式（１−２）で表されるヨードニウム塩も好適に使用できる。
【化８２】
2022000688.tif 000083
【０１４０】
式（１−１）及び（１−２）中、Ｒ101〜Ｒ105は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロカルビル基である。
【０１４１】
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１４２】
Ｒ101〜Ｒ105で表される炭素数１〜２０のヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロプロピルメチル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の炭素数３〜２０の環式飽和ヒドロカルビル基；ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜２０のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の炭素数２〜２０のアルキニル基；シクロヘキセニル基、ノルボルネニル基等の炭素数３〜２０の環式不飽和脂肪族ヒドロカルビル基；フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、エチルナフチル基、ｎ−プロピルナフチル基、イソプロピルナフチル基、ｎ−ブチルナフチル基、イソブチルナフチル基、ｓｅｃ−ブチルナフチル基、ｔｅｒｔ−ブチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基；これらを組み合わせて得られる基等が挙げられる。
【０１４３】
また、これらの基の水素原子の一部又は全部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ハロゲン原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、これらの基の炭素原子の一部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、その結果、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、スルホン酸エステル結合、カーボネート基、ラクトン環、スルトン環、カルボン酸無水物、ハロアルキル基等を含んでいてもよい。
【０１４４】
また、Ｒ101及びＲ102が、互いに結合してこれらが結合する硫黄原子と共に環を形成してもよい。このとき、前記環としては、以下に示す構造のものが好ましい。
【化８３】
2022000688.tif 000084
（式中、破線は、Ｒ103との結合手である。）
【０１４５】
式（１−１）で表されるスルホニウム塩のカチオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
【化８４】
2022000688.tif 000085
【０１４６】
【化８５】
2022000688.tif 000086
【０１４７】
【化８６】
2022000688.tif 000087
【０１４８】
【化８７】
2022000688.tif 000088
【０１４９】
【化８８】
2022000688.tif 000089
【０１５０】
【化８９】
2022000688.tif 000090
【０１５１】
【化９０】
2022000688.tif 000091
【０１５２】
【化９１】
2022000688.tif 000092
【０１５３】
【化９２】
2022000688.tif 000093
【０１５４】
【化９３】
2022000688.tif 000094
【０１５５】
【化９４】
2022000688.tif 000095
【０１５６】
【化９５】
2022000688.tif 000096
【０１５７】
【化９６】
2022000688.tif 000097
【０１５８】
【化９７】
2022000688.tif 000098
【０１５９】
式（１−２）で表されるヨードニウム塩のカチオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
【化９８】
2022000688.tif 000099
【０１６０】
【化９９】
2022000688.tif 000100
【０１６１】
式（１−１）及び（１−２）中、Ｘａ-は、下記式（１Ａ）〜（１Ｄ）から選ばれるアニオンである。
【化１００】
2022000688.tif 000101
【０１６２】
式（１Ａ）中、Ｒfaは、フッ素原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜４０のヒドロカルビル基である。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、後述する式（１Ａ'）のＲ111で表されるヒドロカルビル基として例示するものと同様のものが挙げられる。
【０１６３】
式（１Ａ）で表されるアニオンとしては、下記式（１Ａ'）で表されるものが好ましい。
【化１０１】
2022000688.tif 000102
【０１６４】
式（１Ａ'）中、ＲHFは、水素原子又はトリフルオロメチル基であり、好ましくはトリフルオロメチル基である。Ｒ111は、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３８のヒドロカルビル基である。前記ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等が好ましく、酸素原子がより好ましい。前記ヒドロカルビル基としては、微細パターン形成において高い解像度を得る点から、特に炭素数６〜３０であるものが好ましい。
【０１６５】
Ｒ111で表されるヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、ウンデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、イコサニル基等の炭素数１〜３８のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、１−アダマンチルメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、テトラシクロドデカニルメチル基、ジシクロヘキシルメチル基等の炭素数３〜３８の環式飽和ヒドロカルビル基；アリル基、３−シクロヘキセニル基等の炭素数２〜３８の不飽和脂肪族ヒドロカルビル基；フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の炭素数６〜３８のアリール基；ベンジル基、ジフェニルメチル基等の炭素数７〜３８のアラルキル基；これらを組み合わせて得られる基等が挙げられる。
【０１６６】
また、これらの基の水素原子の一部又は全部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ハロゲン原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、これらの基の炭素原子の一部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、その結果、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、スルホン酸エステル結合、カーボネート基、ラクトン環、スルトン環、カルボン酸無水物、ハロアルキル基等を含んでいてもよい。ヘテロ原子を含むヒドロカルビル基としては、テトラヒドロフリル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メチルチオメチル基、アセトアミドメチル基、トリフルオロエチル基、(２−メトキシエトキシ)メチル基、アセトキシメチル基、２−カルボキシ−１−シクロヘキシル基、２−オキソプロピル基、４−オキソ−１−アダマンチル基、３−オキソシクロヘキシル基等が挙げられる。
【０１６７】
式（１Ａ'）で表されるアニオンを含むスルホニウム塩の合成に関しては、特開２００７−１４５７９７号公報、特開２００８−１０６０４５号公報、特開２００９−７３２７号公報、特開２００９−２５８６９５号公報等に詳しい。また、特開２０１０−２１５６０８号公報、特開２０１２−４１３２０号公報、特開２０１２−１０６９８６号公報、特開２０１２−１５３６４４号公報等に記載のスルホニウム塩も好適に用いられる。
【０１６８】
式（１Ａ）で表されるアニオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、Ａｃはアセチル基である。
【化１０２】
2022000688.tif 000103
【０１６９】
【化１０３】
2022000688.tif 000104
【０１７０】
【化１０４】
2022000688.tif 000105
【０１７１】
【化１０５】
2022000688.tif 000106
【０１７２】
式（１Ｂ）中、Ｒfb1及びＲfb2は、それぞれ独立に、フッ素原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜４０のヒドロカルビル基である。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、式（１Ａ'）中のＲ111で表されるヒドロカルビル基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒfb1及びＲfb2として好ましくは、フッ素原子又は炭素数１〜４の直鎖状フッ素化アルキル基である。また、Ｒfb1とＲfb2とは、互いに結合してこれらが結合する基（−ＣＦ2−ＳＯ2−Ｎ-−ＳＯ2−ＣＦ2−）と共に環を形成してもよく、このとき、Ｒfb1とＲfb2とが互いに結合して得られる基は、フッ素化エチレン基又はフッ素化プロピレン基であることが好ましい。
【０１７３】
式（１Ｃ）中、Ｒfc1、Ｒfc2及びＲfc3は、それぞれ独立に、フッ素原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜４０のヒドロカルビル基である。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、式（１Ａ'）中のＲ111で表されるヒドロカルビル基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒfc1、Ｒfc2及びＲfc3として好ましくは、フッ素原子又は炭素数１〜４の直鎖状フッ素化アルキル基である。また、Ｒfc1とＲfc2とは、互いに結合してこれらが結合する基（−ＣＦ2−ＳＯ2−Ｃ-−ＳＯ2−ＣＦ2−）と共に環を形成してもよく、このとき、Ｒfc1とＲfc2とが互いに結合して得られる基は、フッ素化エチレン基又はフッ素化プロピレン基であることが好ましい。
【０１７４】
式（１Ｄ）中、Ｒfdは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜４０のヒドロカルビル基である。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、式（１Ａ'）中のＲ111で表されるヒドロカルビル基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【０１７５】
式（１Ｄ）で表されるアニオンを含むスルホニウム塩の合成に関しては、特開２０１０−２１５６０８号公報及び特開２０１４−１３３７２３号公報に詳しい。
【０１７６】
式（１Ｄ）で表されるアニオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
【化１０６】
2022000688.tif 000107
【０１７７】
【化１０７】
2022000688.tif 000108
【０１７８】
なお、式（１Ｄ）で表されるアニオンを含む光酸発生剤は、スルホ基のα位にフッ素原子を有していないが、β位に２つのトリフルオロメチル基を有していることに起因して、ベースポリマー中の酸不安定基を切断するのに十分な酸性度を有している。そのため、光酸発生剤として使用することができる。
【０１７９】
光酸発生剤として、下記式（２）で表されるものも好適に使用できる。
【化１０８】
2022000688.tif 000109
【０１８０】
式（２）中、Ｒ201及びＲ202は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０のヒドロカルビル基である。Ｒ203は、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０のヒドロカルビレン基である。また、Ｒ201、Ｒ202及びＲ203のうちのいずれか２つが、互いに結合してこれらが結合する硫黄原子と共に環を形成してもよい。このとき、前記環としては、式（１−１）の説明において、Ｒ101とＲ102とが結合してこれらが結合する硫黄原子と共に形成し得る環として例示したものと同様のものが挙げられる。
【０１８１】
Ｒ201及びＲ202で表されるヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の炭素数１〜３０のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロペンチルエチル基、シクロペンチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルブチル基、ノルボルニル基、オキサノルボルニル基、トリシクロ[５.２.１.０2,6]デカニル基、アダマンチル基等の炭素数３〜３０の環式飽和ヒドロカルビル基；フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、エチルナフチル基、ｎ−プロピルナフチル基、イソプロピルナフチル基、ｎ−ブチルナフチル基、イソブチルナフチル基、ｓｅｃ−ブチルナフチル基、ｔｅｒｔ−ブチルナフチル基、アントラセニル基等の炭素数６〜３０のアリール基；これらを組み合わせて得られる基等が挙げられる。また、これらの基の水素原子の一部又は全部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ハロゲン原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、これらの基の炭素原子の一部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、その結果、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、スルホン酸エステル結合、カーボネート基、ラクトン環、スルトン環、カルボン酸無水物、ハロアルキル基等を含んでいてもよい。
【０１８２】
Ｒ203で表されるヒドロカルビレン基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、メタンジイル基、エタン−１,１−ジイル基、エタン−１,２−ジイル基、プロパン−１,３−ジイル基、ブタン−１,４−ジイル基、ペンタン−１,５−ジイル基、ヘキサン−１,６−ジイル基、ヘプタン−１,７−ジイル基、オクタン−１,８−ジイル基、ノナン−１,９−ジイル基、デカン−１,１０−ジイル基、ウンデカン−１,１１−ジイル基、ドデカン−１,１２−ジイル基、トリデカン−１,１３−ジイル基、テトラデカン−１,１４−ジイル基、ペンタデカン−１,１５−ジイル基、ヘキサデカン−１,１６−ジイル基、ヘプタデカン−１,１７−ジイル基等の炭素数１〜３０のアルカンジイル基；シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、ノルボルナンジイル基、アダマンタンジイル基等の炭素数３〜３０の環式飽和ヒドロカルビレン基；フェニレン基、メチルフェニレン基、エチルフェニレン基、ｎ−プロピルフェニレン基、イソプロピルフェニレン基、ｎ−ブチルフェニレン基、イソブチルフェニレン基、ｓｅｃ−ブチルフェニレン基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニレン基、ナフチレン基、メチルナフチレン基、エチルナフチレン基、ｎ−プロピルナフチレン基、イソプロピルナフチレン基、ｎ−ブチルナフチレン基、イソブチルナフチレン基、ｓｅｃ−ブチルナフチレン基、ｔｅｒｔ−ブチルナフチレン基等の炭素数６〜３０のアリーレン基；これらを組み合わせて得られる基等が挙げられる。また、これらの基の水素原子の一部又は全部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ハロゲン原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、これらの基の炭素原子の一部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子含有基で置換されていてもよく、その結果、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、スルホン酸エステル結合、カーボネート基、ラクトン環、スルトン環、カルボン酸無水物、ハロアルキル基等を含んでいてもよい。前記ヘテロ原子としては、酸素原子が好ましい。
【０１８３】
式（２）中、ＬAは、単結合、エーテル結合、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロカルビレン基である。前記ヒドロカルビレン基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、Ｒ203で表されるヒドロカルビレン基として例示したものと同様のものが挙げられる。
【０１８４】
式（２）中、ＸA、ＸB、ＸC及びＸDは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はトリフルオロメチル基である。ただし、ＸA、ＸB、ＸC及びＸDのうち少なくとも１つは、フッ素原子又はトリフルオロメチル基である。
【０１８５】
式（２）中、ｄは、０〜３の整数である。
【０１８６】
式（２）で表される光酸発生剤としては、下記式（２'）で表されるものが好ましい。
【化１０９】
2022000688.tif 000110
【０１８７】
式（２'）中、ＬAは、前記と同じ。ＲHFは、水素原子又はトリフルオロメチル基であり、好ましくはトリフルオロメチル基である。Ｒ301、Ｒ302及びＲ303は、それぞれ独立に、水素原子又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロカルビル基である。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、式（１Ａ'）中のＲ111で表されるヒドロカルビル基として例示したものと同様のものが挙げられる。ｘ及びｙは、それぞれ独立に、０〜５の整数であり、ｚは、０〜４の整数である。
【０１８８】
式（２）で表される光酸発生剤としては、特開２０１７−０２６９８０号公報の式（２）で表される光酸発生剤として例示されたものと同様のものが挙げられる。
【０１８９】
前記光酸発生剤のうち、式（１Ａ'）又は（１Ｄ）で表されるアニオンを含むものは、酸拡散が小さく、かつ溶剤への溶解性にも優れており、特に好ましい。また、式（２'）で表されるものは、酸拡散が極めて小さく、特に好ましい。
【０１９０】
前記光酸発生剤として、ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を有するアニオンを含むスルホニウム塩又はヨードニウム塩を用いることもできる。このような塩としては、下記式（３−１）又は（３−２）で表されるものが挙げられる。
【化１１０】
2022000688.tif 000111
【０１９１】
式（３−１）及び（３−２）中、ｐは、１≦ｐ≦３を満たす整数である。ｑ及びｒは、１≦ｑ≦５、０≦ｒ≦３及び１≦ｑ＋ｒ≦５を満たす整数である。ｑは、１≦ｑ≦３を満たす整数が好ましく、２又は３がより好ましい。ｒは、０≦ｒ≦２を満たす整数が好ましい。
【０１９２】
式（３−１）及び（３−２）中、ＸBIは、ヨウ素原子又は臭素原子であり、ｐ及び／又はｑが２以上のとき、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１９３】
式（３−１）及び（３−２）中、Ｌ1は、単結合、エーテル結合若しくはエステル結合、又はエーテル結合若しくはエステル結合を含んでいてもよい炭素数１〜６の飽和ヒドロカルビレン基である。前記飽和ヒドロカルビレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
【０１９４】
式（３−１）及び（３−２）中、Ｌ2は、ｐが１のときは単結合又は炭素数１〜２０の２価の連結基であり、ｐが２又は３のときは炭素数１〜２０の(ｐ＋１)価の連結基であり、該連結基は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含んでいてもよい。
【０１９５】
式（３−１）及び（３−２）中、Ｒ401は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはアミノ基、若しくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、アミノ基若しくはエーテル結合を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の飽和ヒドロカルビル基、炭素数１〜２０の飽和ヒドロカルビルオキシ基、炭素数２〜２０の飽和ヒドロカルビルカルボニル基、炭素数２〜２０の飽和ヒドロカルビルオキシカルボニル基、炭素数２〜２０の飽和ヒドロカルビルカルボニルオキシ基若しくは炭素数１〜２０の飽和ヒドロカルビルスルホニルオキシ基、又は−Ｎ(Ｒ401A)(Ｒ401B)、−Ｎ(Ｒ401C)−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ401D若しくは−Ｎ(Ｒ401C)−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ401Dである。Ｒ401A及びＲ401Bは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６の飽和ヒドロカルビル基である。Ｒ401Cは、水素原子又は炭素数１〜６の飽和ヒドロカルビル基であり、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６の飽和ヒドロカルビルオキシ基、炭素数２〜６の飽和ヒドロカルビルカルボニル基又は炭素数２〜６の飽和ヒドロカルビルカルボニルオキシ基を含んでいてもよい。Ｒ401Dは、炭素数１〜１６の脂肪族ヒドロカルビル基、炭素数６〜１４のアリール基又は炭素数７〜１５のアラルキル基であり、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６の飽和ヒドロカルビルオキシ基、炭素数２〜６の飽和ヒドロカルビルカルボニル基又は炭素数２〜６の飽和ヒドロカルビルカルボニルオキシ基を含んでいてもよい。前記脂肪族ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。前記飽和ヒドロカルビル基、飽和ヒドロカルビルオキシ基、飽和ヒドロカルビルオキシカルボニル基、飽和ヒドロカルビルカルボニル基及び飽和ヒドロカルビルカルボニルオキシ基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。ｐ及び／又はｒが２以上のとき、各Ｒ401は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１９６】
これらのうち、Ｒ401としては、ヒドロキシ基、−Ｎ(Ｒ401C)−Ｃ(＝Ｏ)−Ｒ401D、−Ｎ(Ｒ401C)−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ401D、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ基等が好ましい。
【０１９７】
式（３−１）及び（３−２）中、Ｒｆ1〜Ｒｆ4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であるが、これらのうち少なくとも１つはフッ素原子又はトリフルオロメチル基である。また、Ｒｆ1とＲｆ2とが合わさってカルボニル基を形成してもよい。特に、Ｒｆ3及びＲｆ4がともにフッ素原子であることが好ましい。
【０１９８】
式（３−１）及び（３−２）中、Ｒ402〜Ｒ406は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロカルビル基である。前記ヒドロカルビル基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、式（１−１）及び（１−２）の説明において、Ｒ101〜Ｒ105で表されるヒドロカルビル基として例示したものと同様のものが挙げられる。また、これらの基の水素原子の一部又は全部が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、スルトン基、スルホン基又はスルホニウム塩含有基で置換されていてもよく、これらの基の炭素原子の一部が、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、アミド結合、カーボネート基又はスルホン酸エステル結合で置換されていてもよい。さらに、Ｒ402及びＲ403が、互いに結合してこれらが結合する硫黄原子と共に環を形成してもよい。このとき、前記環としては、式（１−１）の説明においてＲ101とＲ102とが互いに結合してこれらが結合する硫黄原子と共に形成し得る環として例示したものと同様のものが挙げられる。
【０１９９】
式（３−１）で表されるスルホニウム塩のカチオンとしては、式（１−１）で表されるスルホニウム塩のカチオンとして例示したものと同様のものが挙げられる。また、式（３−２）で表されるヨードニウム塩のカチオンとしては、式（１−２）で表されるヨードニウム塩のカチオンとして例示したものと同様のものが挙げられる。
【０２００】
式（３−１）又は（３−２）で表されるオニウム塩のアニオンとしては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、下記式中、ＸBIは前記と同じである。
【化１１１】
2022000688.tif 000112
【０２０１】
【化１１２】
2022000688.tif 000113
【０２０２】
【化１１３】
2022000688.tif 000114
【０２０３】
【化１１４】
2022000688.tif 000115
【０２０４】
【化１１５】
2022000688.tif 000116
【０２０５】
【化１１６】
2022000688.tif 000117
【０２０６】
【化１１７】
2022000688.tif 000118
【０２０７】
【化１１８】
2022000688.tif 000119
【０２０８】
【化１１９】
2022000688.tif 000120
【０２０９】
【化１２０】
2022000688.tif 000121
【０２１０】
【化１２１】
2022000688.tif 000122
【０２１１】
【化１２２】
2022000688.tif 000123
【０２１２】
【化１２３】
2022000688.tif 000124
【０２１３】
【化１２４】
2022000688.tif 000125
【０２１４】
【化１２５】
2022000688.tif 000126
【０２１５】
【化１２６】
2022000688.tif 000127
【０２１６】
【化１２７】
2022000688.tif 000128
【０２１７】
【化１２８】
2022000688.tif 000129
【０２１８】
【化１２９】
2022000688.tif 000130
【０２１９】
【化１３０】
2022000688.tif 000131
【０２２０】
【化１３１】
2022000688.tif 000132
【０２２１】
【化１３２】
2022000688.tif 000133
【０２２２】
【化１３３】
2022000688.tif 000134
【０２２３】
本発明のレジスト材料中、添加型酸発生剤の含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、０.１〜５０質量部が好ましく、１〜４０質量部がより好ましい。本発明のレジスト材料は、前記ベースポリマーが繰り返し単位ｆを含むことで、及び／又は添加型酸発生剤を含むことで、化学増幅レジスト材料として機能することができる。
【０２２４】
［有機溶剤］
本発明のレジスト材料は、有機溶剤を含んでもよい。前記有機溶剤は、前述した各成分及び後述する各成分が溶解可能なものであれば、特に限定されない。前記有機溶剤としては、特開２００８−１１１１０３号公報の段落［０１４４］〜［０１４５］に記載の、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチル−２−ｎ−ペンチルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、プロピオン酸ｔｅｒｔ−ブチル、プロピレングリコールモノｔｅｒｔ−ブチルエーテルアセテート等のエステル類；γ−ブチロラクトン等のラクトン類等が挙げられる。
【０２２５】
本発明のレジスト材料中、前記有機溶剤の含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、１００〜１０,０００質量部が好ましく、２００〜８,０００質量部がより好ましい。前記有機溶剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【０２２６】
［その他の成分］
前述した成分に加えて、塩化合物Ａ以外のクエンチャー（以下、その他のクエンチャーともいう。）、界面活性剤、溶解阻止剤、架橋剤等を目的に応じて適宜組み合わせて配合してポジ型レジスト材料及びネガ型レジスト材料を構成することによって、露光部では前記ベースポリマーが触媒反応により現像液に対する溶解速度が加速されるので、極めて高感度のポジ型レジスト材料及びネガ型レジスト材料とすることができる。この場合、レジスト膜の溶解コントラスト及び解像性が高く、露光余裕度があり、プロセス適応性に優れ、露光後のパターン形状が良好でありながら、特に酸拡散を抑制できることから粗密寸法差が小さく、これらのことから実用性が高く、超ＬＳＩ用レジスト材料として非常に有効なものとすることができる。
【０２２７】
前記その他のクエンチャーとしては、従来型の塩基性化合物が挙げられる。従来型の塩基性化合物としては、第１級、第２級、第３級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、カルボキシ基を有する含窒素化合物、スルホニル基を有する含窒素化合物、ヒドロキシ基を有する含窒素化合物、ヒドロキシフェニル基を有する含窒素化合物、アルコール性含窒素化合物、アミド類、イミド類、カーバメート類等が挙げられる。特に、特開２００８−１１１１０３号公報の段落［０１４６］〜［０１６４］に記載の第１級、第２級、第３級のアミン化合物、特にはヒドロキシ基、エーテル結合、エステル結合、ラクトン環、シアノ基、スルホン酸エステル結合を有するアミン化合物あるいは特許第３７９０６４９号公報に記載のカーバメート基を有する化合物等が好ましい。このような塩基性化合物を添加することによって、例えば、レジスト膜中での酸の拡散速度を更に抑制したり、形状を補正したりすることができる。
【０２２８】
また、その他のクエンチャーとして、特開２００８−１５８３３９号公報に記載のα位がフッ素化されていないスルホン酸及びカルボン酸の、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。α位がフッ素化されたスルホン酸、イミド酸又はメチド酸は、カルボン酸エステルの酸不安定基を脱保護させるのに必要であるが、α位がフッ素化されていないオニウム塩との塩交換によってα位がフッ素化されていないスルホン酸又はカルボン酸が放出される。α位がフッ素化されていないスルホン酸及びカルボン酸は脱保護反応を起こさないため、クエンチャーとして機能する。前記オニウム塩型のクエンチャーは、光分解によって露光領域ではクエンチャー性能が低下して酸の活性が向上する。これによってコントラストが向上する。
【０２２９】
塩化合物Ａは、未露光部だけでなく露光部においても酸拡散を抑える効果が非常に高いが、コントラストを向上させる効果は低い。前記オニウム塩型のクエンチャーと併用することによって、低酸拡散かつ高コントラストといった特性をバランスよく実現することができる。
【０２３０】
その他のクエンチャーとしては、更に、特開２００８−２３９９１８号公報に記載のポリマー型のクエンチャーが挙げられる。これは、レジスト膜表面に配向することによってレジストパターンの矩形性を高める。ポリマー型クエンチャーは、液浸露光用の保護膜を適用したときのパターンの膜減りやパターントップのラウンディングを防止する効果もある。
【０２３１】
本発明のレジスト材料がその他のクエンチャーを含む場合、その含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、０〜５質量部が好ましく、０〜４質量部がより好ましい。その他のクエンチャーは、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２３２】
前記界面活性剤としては、特開２００８−１１１１０３号公報の段落［０１６５］〜［０１６６］に記載されたものが挙げられる。界面活性剤を添加することによって、レジスト材料の塗布性を一層向上あるいは制御することができる。本発明のレジスト材料が前記界面活性剤を含む場合、その含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、０.０００１〜１０質量部が好ましい。前記界面活性剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２３３】
本発明のレジスト材料がポジ型である場合は、溶解阻止剤を配合することによって、露光部と未露光部との溶解速度の差を一層大きくすることができ、解像度を一層向上させることができる。前記溶解阻止剤としては、分子量が好ましくは１００〜１,０００、より好ましくは１５０〜８００で、かつ分子内にフェノール性ヒドロキシ基を２つ以上含む化合物の該フェノール性ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基によって全体として０〜１００モル％の割合で置換した化合物、又は分子内にカルボキシ基を含む化合物の該カルボキシ基の水素原子を酸不安定基によって全体として平均５０〜１００モル％の割合で置換した化合物が挙げられる。具体的には、ビスフェノールＡ、トリスフェノール、フェノールフタレイン、クレゾールノボラック、ナフタレンカルボン酸、アダマンタンカルボン酸、コール酸のヒドロキシ基、カルボキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した化合物等が挙げられ、例えば、特開２００８−１２２９３２号公報の段落［０１５５］〜［０１７８］に記載されている。
【０２３４】
本発明のレジスト材料がポジ型レジスト材料であって前記溶解阻止剤を含む場合、その含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、０〜５０質量部が好ましく、５〜４０質量部がより好ましい。前記溶解阻止剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２３５】
一方、本発明のレジスト材料がネガ型である場合は、架橋剤を添加することによって、露光部の溶解速度を低下させることによりネガティブパターンを得ることができる。前記架橋剤としては、メチロール基、アルコキシメチル基及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換された、エポキシ化合物、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物又はウレア化合物、イソシアネート化合物、アジド化合物、アルケニルオキシ基等の二重結合を含む化合物等が挙げられる。これらは、添加剤として用いてもよいが、ポリマー側鎖にペンダント基として導入してもよい。また、ヒドロキシ基を含む化合物も架橋剤として用いることができる。
【０２３６】
前記エポキシ化合物としては、トリス(２,３−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリメチロールメタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリエチロールエタントリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【０２３７】
前記メラミン化合物としては、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンの１〜６個のメチロール基がメトキシメチル化した化合物又はその混合物、ヘキサメトキシエチルメラミン、ヘキサアシロキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の１〜６個がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物等が挙げられる。
【０２３８】
グアナミン化合物としては、テトラメチロールグアナミン、テトラメトキシメチルグアナミン、テトラメチロールグアナミンの１〜４個のメチロール基がメトキシメチル化した化合物又はその混合物、テトラメトキシエチルグアナミン、テトラアシロキシグアナミン、テトラメチロールグアナミンの１〜４個のメチロール基がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物等が挙げられる。
【０２３９】
グリコールウリル化合物としては、テトラメチロールグリコールウリル、テトラメトキシグリコールウリル、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜４個がメトキシメチル化した化合物又はその混合物、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜４個がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物等が挙げられる。ウレア化合物としてはテトラメチロールウレア、テトラメトキシメチルウレア、テトラメチロールウレアの１〜４個のメチロール基がメトキシメチル化した化合物又はその混合物、テトラメトキシエチルウレア等が挙げられる。
【０２４０】
イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート等が挙げられる。
【０２４１】
アジド化合物としては、１,１'−ビフェニル−４,４'−ビスアジド、４,４'−メチリデンビスアジド、４,４'−オキシビスアジド等が挙げられる。
【０２４２】
アルケニルオキシ基を含む化合物としては、エチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１,２−プロパンジオールジビニルエーテル、１,４−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラメチレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、１,４−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、ソルビトールペンタビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等が挙げられる。
【０２４３】
本発明のレジスト材料がネガ型レジスト材料であって架橋剤を含む場合、その含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、０.１〜５０質量部が好ましく、１〜４０質量部がより好ましい。前記架橋剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２４４】
本発明のレジスト材料には、レジスト膜表面の撥水性を向上させるため、撥水性向上剤を配合してもよい。前記撥水性向上剤は、トップコートを用いない液浸リソグラフィーに用いることができる。前記撥水性向上剤としては、フッ化アルキル基を含むポリマー、特定構造の１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール残基を含むポリマー等が好ましく、特開２００７−２９７５９０号公報、特開２００８−１１１１０３号公報等に例示されているものがより好ましい。前記撥水性向上剤は、アルカリ現像液や有機溶剤現像液に溶解する必要がある。前述した特定の１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール残基を有する撥水性向上剤は、現像液への溶解性が良好である。撥水性向上剤として、アミノ基やアミン塩を含む繰り返し単位を含むポリマーは、ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）中の酸の蒸発を防いで現像後のホールパターンの開口不良を防止する効果が高い。本発明のレジスト材料が撥水性向上剤を含む場合、その含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、０〜２０質量部が好ましく、０.５〜１０質量部がより好ましい。前記撥水性向上剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２４５】
本発明のレジスト材料には、アセチレンアルコール類を配合することもできる。前記アセチレンアルコール類としては、特開２００８−１２２９３２号公報の段落［０１７９］〜［０１８２］に記載されたものが挙げられる。本発明のレジスト材料がアセチレンアルコール類を含む場合、その含有量は、ベースポリマー１００質量部に対し、０〜５質量部が好ましい。前記アセチレンアルコール類は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２４６】
［パターン形成方法］
本発明のレジスト材料を種々の集積回路製造に用いる場合は、公知のリソグラフィー技術を適用することができる。例えば、パターン形成方法としては、前述したレジスト材料を用いて基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を高エネルギー線で露光する工程と、露光したレジスト膜を、現像液を用いて現像する工程とを含む方法が挙げられる。
【０２４７】
まず、本発明のレジスト材料を、集積回路製造用の基板（Ｓｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ、ＴｉＮ、ＷＳｉ、ＢＰＳＧ、ＳＯＧ、有機反射防止膜等）あるいはマスク回路製造用の基板（Ｃｒ、ＣｒＯ、ＣｒＯＮ、ＭｏＳｉ2、ＳｉＯ2等）上にスピンコート、ロールコート、フローコート、ディップコート、スプレーコート、ドクターコート等の適当な塗布方法により塗布膜厚が０.０１〜２μｍとなるように塗布する。これをホットプレート上で、好ましくは６０〜１５０℃、１０秒〜３０分間、より好ましくは８０〜１２０℃、３０秒〜２０分間プリベークし、レジスト膜を形成する。
【０２４８】
次いで、高エネルギー線を用いて、前記レジスト膜を露光する。前記高エネルギー線としては、紫外線、遠紫外線、ＥＢ、波長３〜１５ｎｍのＥＵＶ、Ｘ線、軟Ｘ線、エキシマレーザー光、γ線、シンクロトロン放射線等が挙げられる。前記高エネルギー線として紫外線、遠紫外線、ＥＵＶ、Ｘ線、軟Ｘ線、エキシマレーザー光、γ線、シンクロトロン放射線等を用いる場合は、直接又は目的のパターンを形成するためのマスクを用いて、露光量が好ましくは１〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度、より好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度となるように照射する。高エネルギー線としてＥＢを用いる場合は、露光量が好ましくは０.１〜１００μＣ／ｃｍ2程度、より好ましくは０.５〜５０μＣ／ｃｍ2程度で直接又は目的のパターンを形成するためのマスクを用いて描画する。なお、本発明のレジスト材料は、特に高エネルギー線の中でもＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＢ、ＥＵＶ、Ｘ線、軟Ｘ線、γ線、シンクロトロン放射線による微細パターニングに好適であり、特にＥＢ又はＥＵＶによる微細パターニングに好適である。
【０２４９】
露光後、ホットプレート上又はオーブン中で、好ましくは６０〜１５０℃、１０秒〜３０分間、より好ましくは８０〜１２０℃、３０秒〜２０分間ＰＥＢを行ってもよい。
【０２５０】
露光後又はＰＥＢ後、０.１〜１０質量％、好ましくは２〜５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ水溶液の現像液を用い、３秒〜３分間、好ましくは５秒〜２分間、浸漬（dip）法、パドル（puddle）法、スプレー（spray）法等の常法により露光したレジスト膜を現像することで、目的のパターンが形成される。ポジ型レジスト材料の場合は、光を照射した部分は現像液に溶解し、露光されなかった部分は溶解せず、基板上に目的のポジ型のパターンが形成される。ネガ型レジスト材料の場合はポジ型レジスト材料の場合とは逆であり、すなわち光を照射した部分は現像液に不溶化し、露光されなかった部分は溶解する。
【０２５１】
酸不安定基を含むベースポリマーを含むポジ型レジスト材料を用いて、有機溶剤現像によってネガティブパターンを得るネガティブ現像を行うこともできる。このときに用いる現像液としては、２−オクタノン、２−ノナノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸ブテニル、酢酸イソペンチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、ギ酸イソペンチル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、乳酸イソブチル、乳酸ペンチル、乳酸イソペンチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、フェニル酢酸メチル、ギ酸ベンジル、ギ酸フェニルエチル、３−フェニルプロピオン酸メチル、プロピオン酸ベンジル、フェニル酢酸エチル、酢酸２−フェニルエチル等が挙げられる。これらの有機溶剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【０２５２】
現像の終了時には、リンスを行う。リンス液としては、現像液と混溶し、レジスト膜を溶解させない溶剤が好ましい。このような溶剤としては、炭素数３〜１０のアルコール、炭素数８〜１２のエーテル化合物、炭素数６〜１２のアルカン、アルケン、アルキン、芳香族系の溶剤が好ましく用いられる。
【０２５３】
具体的に、炭素数３〜１０のアルコールとしては、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、１−ブチルアルコール、２−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ｔｅｒｔ−ペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−３−ペンタノール、シクロペンタノール、１−ヘキサノール、２−ヘキサノール、３−ヘキサノール、２,３−ジメチル−２−ブタノール、３,３−ジメチル−１−ブタノール、３,３−ジメチル−２−ブタノール、２−エチル−１−ブタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−３−ペンタノール、３−メチル−１−ペンタノール、３−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−３−ペンタノール、４−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、４−メチル−３−ペンタノール、シクロヘキサノール、１−オクタノール等が挙げられる。
【０２５４】
炭素数８〜１２のエーテル化合物としては、ジ−ｎ−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジ−ｎ−ペンチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジ−ｓｅｃ−ペンチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル等が挙げられる。
【０２５５】
炭素数６〜１２のアルカンとしては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、メチルシクロペンタン、ジメチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン等が挙げられる。炭素数６〜１２のアルケンとしては、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、ジメチルシクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等が挙げられる。炭素数６〜１２のアルキンとしては、ヘキシン、ヘプチン、オクチン等が挙げられる。
【０２５６】
芳香族系の溶剤としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、メシチレン等が挙げられる。
【０２５７】
リンスを行うことによってレジストパターンの倒れや欠陥の発生を低減させることができる。また、リンスは必ずしも必須ではなく、リンスを行わないことによって溶剤の使用量を削減することができる。
【０２５８】
現像後のホールパターンやトレンチパターンを、サーマルフロー、ＲＥＬＡＣＳ技術又はＤＳＡ技術でシュリンクすることもできる。ホールパターン上にシュリンク剤を塗布し、ベーク中のレジスト膜からの酸触媒の拡散によってレジスト膜の表面でシュリンク剤の架橋が起こり、シュリンク剤がホールパターンの側壁に付着する。ベーク温度は、好ましくは７０〜１８０℃、より好ましくは８０〜１７０℃であり、ベーク時間は、好ましくは１０〜３００秒であり、余分なシュリンク剤を除去し、ホールパターンを縮小させる。
【実施例】
【０２５９】
以下、合成例、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されない。
【０２６０】
レジスト材料に用いたクエンチャーＱ−１〜Ｑ−３５、アミン化合物（Ａｍｉｎｅ−１）及び１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール基（ＨＦＡ）を有する化合物（ＨＦＡ−１）の構造を以下に示す。
【化１３４】
2022000688.tif 000135
【０２６１】
【化１３５】
2022000688.tif 000136
【０２６２】
【化１３６】
2022000688.tif 000137
【０２６３】
【化１３７】
2022000688.tif 000138
【０２６４】
【化１３８】
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【０２６５】
【化１３９】
2022000688.tif 000140
【０２６６】
［合成例］ベースポリマー（ポリマーＰ−１〜Ｐ−４）の合成
各モノマーを組み合わせて溶剤であるＴＨＦ中で共重合反応を行い、反応溶液をメタノールに投入し、析出した固体をヘキサンで繰り返し洗浄した後、単離し、乾燥して、以下に示す組成のベースポリマー（ポリマーＰ−１〜Ｐ−４）を得た。得られたベースポリマーの組成は1Ｈ−ＮＭＲにより、Ｍｗ及びＭｗ／ＭｎはＧＰＣ（溶剤：ＴＨＦ、標準：ポリスチレン）により確認した。
【０２６７】
【化１４０】
2022000688.tif 000141
【０２６８】
［実施例１〜４５、比較例１〜７］レジスト材料の調製及びその評価
（１）レジスト材料の調製
表１〜４に示す組成で各成分を溶解させた溶液を、０.２μｍサイズのフィルターで濾過してレジスト材料を調製した。実施例１〜２３、実施例２５〜４０及び比較例１〜６のレジスト材料はポジ型であり、実施例２４及び比較例７のレジスト材料はネガ型である。
【０２６９】
表１〜４中、各成分は、以下のとおりである。
・有機溶剤：ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
ＤＡＡ（ジアセトンアルコール）
【０２７０】
・酸発生剤：ＰＡＧ−１〜ＰＡＧ−６
【化１４１】
2022000688.tif 000142
【０２７１】
・比較クエンチャー：ｃＱ−１〜ｃＱ−７
【化１４２】
2022000688.tif 000143
【０２７２】
・ブレンドクエンチャー：ｂＱ−１、ｂＱ−２
【化１４３】
2022000688.tif 000144
【０２７３】
（２）ＥＵＶリソグラフィー評価
表１〜４に示す各レジスト材料を、信越化学工業(株)製ケイ素含有スピンオンハードマスクSHB-A940（ケイ素の含有量が４３質量％）を膜厚２０ｎｍで形成したＳｉ基板上にスピンコートし、ホットプレートを用いて１００℃で６０秒間プリベークして膜厚５０ｎｍのレジスト膜を作製した。これを、ＡＳＭＬ社製ＥＵＶスキャナーNXE3300（NA0.33、σ0.9/0.6、クアドルポール照明、ウエハー上寸法がピッチ４４ｎｍ、＋２０％バイアスのホールパターンのマスク）を用いて露光し、ホットプレート上で表１〜４に記載の温度で６０秒間ＰＥＢを行い、２.３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で３０秒間現像を行って、実施例１〜２３、実施例２５〜４５及び比較例１〜６では寸法２２ｎｍのホールパターンを、実施例２４及び比較例７では寸法２２ｎｍのドットパターンを形成した。
(株)日立ハイテクノロジーズ製の測長ＳＥＭ（CG6300）を用いて、ホール又はドット寸法が２２ｎｍで形成されるときの露光量を測定してこれを感度とし、また、このときのホール又はドット５０個の寸法を測定し、その結果から算出した標準偏差（σ）の３倍値（３σ）を寸法バラツキ（ＣＤＵ）とした。結果を表１〜４に併記する。
【０２７４】
【表１】
2022000688.tif 000145
【０２７５】
【表２】
2022000688.tif 000146
【０２７６】
【表３】
2022000688.tif 000147
【０２７７】
【表４】
2022000688.tif 000148
【０２７８】
表１〜４に示した結果より、塩化合物Ａを含む本発明のレジスト材料は、高感度であり、ＣＤＵが小さいことがわかった。