(57)【要約】【課題】試験槽内の各々のガスの濃度を自動制御しうるガス腐食試験装置を提供すること。【解決手段】温度及び湿度を制御する手段を有する試験槽内に二種類以上のガスを投入する手段を有するガス腐食試験装置において、試験槽内にガスを導入する各ガス入口、試験槽内のガスを採取するガス採取口、試験槽内へ投入するガスを各ガス入口に送る各投入用配管、各投入用配管に設けた各ガス流量コントローラ、ガス採取口から採取した混合ガス中の各ガス濃度を測定し試験槽に導入する各ガスの流量を調整する信号を各ガス流量コントローラに送って試験槽内の各ガス濃度を制御する手段を有するガス濃度コントローラ、ガス採取口から採取したガスをガス濃度コントローラに送るサンプリング用配管及びサンプリング用配管に設けられ採取ガスを除湿する手段を有する採取ガス除湿器を設けた。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
温度及び湿度を制御する手段を有する試験槽内に二種類以上のガスを投入する手段を有するガス腐食試験装置において、試験槽内にガスを導入する各ガス入口、試験槽内のガスを採取するガス採取口、試験槽内へ投入するガスを各ガス入口に送る各投入用配管、各投入用配管に設けた各ガス流量コントローラ、ガス採取口から採取した混合ガス中の各ガス濃度を測定し試験槽に導入する各ガスの流量を調整する信号を各ガス流量コントローラに送って試験槽内の各ガス濃度を制御する手段を有するガス濃度コントローラ、ガス採取口から採取したガスをガス濃度コントローラに送るサンプリング用配管及びサンプリング用配管に設けられ採取ガスを除湿する手段を有する採取ガス除湿器を設け、二酸化硫黄を腐食ガスとして用いるときに湿度を低くして二酸化硫黄ガスを試験槽に投入でき、オゾンを腐食ガスとして用いるときに湿度を３０％以下にしてオゾンガスを試験槽に投入できることができることを特徴とするガス腐食試験装置。
【請求項２】
温度及び湿度を制御する手段を有する試験槽内に二種類以上のガスを投入する手段を有するガス腐食試験装置において、試験槽内にガスを導入する各ガス入口、試験槽内のガスを採取するガス採取口、試験槽内へ投入するガスを各ガス入口に送る各投入用配管、各投入用配管に設けた各ガス流量コントローラ、ガス採取口から採取した混合ガス中の各ガス濃度を測定し試験槽に導入する各ガスの流量を調整する信号を各ガス流量コントローラに送って試験槽内の各ガス濃度を制御する手段を有するガス濃度コントローラ、ガス採取口から採取したガスをガス濃度コントローラに送るサンプリング用配管及びサンプリング用配管に設けられ採取ガスを除湿する手段を有する採取ガス除湿器を設けたことを特徴とするガス腐食試験装置。
【請求項３】
さらに、試験槽の壁が試験槽内壁と外壁の二重壁構造で、二重壁間に温度調節された空気を導入し試験槽内温度を間接制御できることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のガス腐食試験装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、ガス腐食試験装置に関する。更に詳しくは、二種類以上のガスを混合させて試験するガス腐食試験装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のガス腐食試験装置では、単一ガスでの濃度制御方式でのガス腐食試験又は二種類以上の混合ガスで試験を行なうに当たっては一定量のガスを試験槽内に入れる方式であった（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特公平０３−６２２１７号公報（第２ページ）
【０００３】
しかし、従来のガス腐食試験装置においては、試験槽内の各々のガスの濃度は自動制御できないという問題があった。
【０００４】
近年、試験ガス濃度の低濃度化が進んでいるが、試験片の数によって投入したガス濃度の変化量も違ってくるため、低濃度では特に、安定した濃度での試験ができなかった。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
本考案が解決しようとする問題点は、試験槽内の各々のガスの濃度は自動制御できない点である。
【０００６】
本考案は、かかる問題を鑑みてなされたものであり、したがって、本考案の目的は、試験槽内の各々のガスの濃度を自動制御しうるガス腐食試験装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本考案のガス腐食試験装置は、温度及び湿度を制御する手段を有する試験槽内に二種類以上のガスを投入する手段を有するガス腐食試験装置において、試験槽内にガスを導入する各ガス入口、試験槽内のガスを採取するガス採取口、試験槽内へ投入するガスを各ガス入口に送る各投入用配管、各投入用配管に設けた各ガス流量コントローラ、ガス採取口から採取した混合ガス中の各ガス濃度を測定し試験槽に導入する各ガスの流量を調整する信号を各ガス流量コントローラに送って試験槽内の各ガス濃度を制御する手段を有するガス濃度コントローラ、ガス採取口から採取したガスをガス濃度コントローラに送るサンプリング用配管及びサンプリング用配管に設けられ採取ガスを除湿する手段を有する採取ガス除湿器を設けたものである。
【０００８】
また、本考案のガス腐食試験装置は、温度及び湿度を制御する手段を有する試験槽内に二種類以上のガスを投入する手段を有するガス腐食試験装置において、試験槽内にガスを導入する各ガス入口、試験槽内のガスを採取するガス採取口、試験槽内へ投入するガスを各ガス入口に送る各投入用配管、各投入用配管に設けた各ガス流量コントローラ、ガス採取口から採取した混合ガス中の各ガス濃度を測定し試験槽に導入する各ガスの流量を調整する信号を各ガス流量コントローラに送って試験槽内の各ガス濃度を制御する手段を有するガス濃度コントローラ、ガス採取口から採取したガスをガス濃度コントローラに送るサンプリング用配管及びサンプリング用配管に設けられ採取ガスを除湿する手段を有する採取ガス除湿器を設け、二酸化硫黄を腐食ガスとして用いるときに湿度を低くして二酸化硫黄ガスを試験槽に投入でき、オゾンを腐食ガスとして用いるときに湿度を３０％以下にしてオゾンガスを試験槽に投入できることができることを特徴とすることが好ましい。
【０００９】
さらに、試験槽の壁が試験槽内壁と外壁の二重壁構造で、二重壁間に温度調節された空気を導入し試験槽内温度を間接制御できることが好ましい。
【考案の効果】
【００１０】
本考案のガス腐食試験装置は、上述したとおりであるので、試験槽内の各々のガスの濃度を自動制御しうる。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１１】
本考案の最良の実施例について、以下に図を用いて詳細に述べる。
【実施例１】
【００１２】
図１は、本考案のガス腐食試験装置の実施例１の構成概略図（正面）である。図２は、本考案のガス腐食試験装置の実施例１の構成概略図（右側面）である。図３は、本考案のガス腐食試験装置の実施例１の要部構成図である。
【００１３】
図１、図２及び図３に示した本考案の実施例１のガス腐食試験装置（２６）は、試験槽（６）、試験槽へのガス導入手段、調温装置（１８）、湿度発生機（８）、排気用送風機（９）、排気ガス処理装置（１０）、冷凍機（１２）、ガス定量希釈装置（１１）、ガス定量希釈制御部（１４）を有する。試験槽（６）内には、試料回転枠（７）、ガス入口（１）、ガス採取口（２）を有する。
【００１４】
図３は、本考案のガス腐食試験装置の実施例１における、試験槽へのガス投入手段の部分の構成図である。本考案のガス腐食試験装置の実施例１においては、試験槽（６）に設けられたガス採取口（２）に、サンプリング用配管（１６）が接続してある。サンプリング用配管（１６）の他端には、採取ガス除湿器（２４）を、続けてガス濃度コントローラ（３）を接続してある。ガス採取口（２）の位置は試料の近くが好ましい。試験槽（６）から採取したガスを採取ガス除湿器（２４）において除湿する。除湿した採取ガスをガス濃度コントローラ（３）に導入する。サンプリング用配管（１６）と投入用配管（１７）は、耐ガス性のある樹脂製チューブが適する。本考案のガス腐食試験装置の実施例１においては、ポリテトラフルオロエチレンチューブを用いた。
【００１５】
ガス濃度コントローラ（３）は、ガスの種類に応じた数のガス濃度測定器を有する。ガス濃度測定器では、各ガスに適したガス濃度測定方法で、採取ガス中の各ガス濃度を測定する。ガス濃度測定方法としては、たとえば、二酸化硫黄ガスは紫外線蛍光法、二酸化窒素ガスは化学発光法、オゾンガスは紫外線吸収法が適する。本考案のガス腐食試験装置の実施例１においては、二酸化硫黄ガス用のガス濃度測定器では紫外線蛍光法、二酸化窒素ガス用のガス濃度測定器では化学発光法、オゾンガス用のガス濃度測定器では紫外線吸収法によって各ガス濃度を測定した。
【００１６】
ガス濃度コントローラ（３）において、測定された各ガス濃度はそれぞれのガス濃度の設定値と比較回路により比較され、設定値との偏差に応じた出力を各ガスに設けた各ガス流量コントローラ（４）に送り、各ガス流量コントローラ（４）でガスボンベ（１５）から試験槽（６）への各ガス供給量を変化させることにより、試験槽（６）中の各ガス濃度を制御する。ガス流量コントローラ（４）から投入用配管（１７）を通ってガス入口（１）に投入されるガスには、混合器（２３）によって、空気が混合される。空気は、空気供給機（２２）から取り入れられ、空気除湿器（２５）で除湿してエアフィルタ（２１）で空気以外のガスを取り除き、空気流量コントローラ（５）により一定流量が混合器（２３）に送られてガスに混合される。図３においては、簡便のため、一種類のガスについて示した。本考案のガス腐食試験装置の実施例１においては、二酸化硫黄、二酸化窒素、オゾンの三種類のガスを投入する。図１及び図２において、ガス入口（１ａ）は二酸化硫黄ガスの入口、ガス入口（１ｂ）は二酸化窒素ガスの入口、ガス入口（１ｃ）はオゾンガスの入口を示す。投入用配管（１７ａ）は二酸化硫黄ガスの配管を示す。
【００１７】
本考案のガス腐食試験装置の実施例１において、オゾンと二酸化硫黄と二酸化窒素を試験槽内に、ガスの種類ごとに単独でガスを投入した際に、槽内ガス濃度を設定したガス濃度とするために必要な投入ガス濃度を表１に示す。
【００１８】
【表１】
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【００１９】
表１から、試験槽内のガス濃度を設定濃度にするために、槽内には設定濃度以上の濃度のガスを投入すべきことがわかる。例えば、オゾンは、槽内ガス濃度を１ｐｐｍとするために、３ｐｐｍ投入する必要がある。挿入ガスは試料・内壁材等により影響を受け、分解若しくは反応するため濃度が投入濃度より下がる傾向にあるからである。
【００２０】
従来のガス腐食試験装置において、オゾンと二酸化硫黄と二酸化窒素を試験槽内に、単独でのガス投入時と同じガス濃度で混合して投入した時の槽内ガス濃度を表２に示す。
【００２１】
【表２】
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【００２２】
従来のガス腐食試験装置においては、槽内からの採取ガスによる濃度自動制御をガスの種類ごとにしないで混合して投入するため、試験槽内のガス濃度は設定濃度と一致しなかった。表２から、オゾンは混合ガスにすると濃度が３０％減少し、二酸化窒素は混合ガスにすると濃度が７％増加することがわかる。これは、ボンベに封入されている二酸化窒素の標準ガスを空気で希釈して試験槽に投入する過程で二酸化窒素から反応により発生した一酸化窒素又はボンベ内に混入している一酸化窒素が、投入するオゾンが反応して二酸化窒素と酸素になり、したがって、混合時にはオゾン濃度が低下して二酸化窒素濃度が増加すると考えられる。
【００２３】
本考案のガス腐食試験装置の実施例１において、オゾンと二酸化硫黄と二酸化窒素を試験槽内に、ガス濃度の自動制御をして混合ガスを投入した時の槽内ガス濃度を表３に示す。
【００２４】
【表３】
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【００２５】
本考案のガス腐食試験装置の実施例１においては、各々のガスを試験槽内のガスを採取してガス濃度を自動制御するため、混合ガスにおいても各ガスの槽内ガス濃度を設定濃度にすることができた。
【００２６】
本考案のガス腐食試験装置の実施例１は、試験槽の壁が二重壁構造で、試験槽内壁（１９）と外壁（２０）の間がエアジャケット（１３）となっており、二重壁間に温度調節された空気を導入することにより試験槽内温度を間接制御できる。
【００２７】
本考案のガス腐食試験装置の実施例１においては、試験槽内の各々のガスの濃度を自動制御しうる。また、二酸化硫黄を腐食ガスとして用いるときに湿度を低くして二酸化硫黄ガスを試験槽に投入でき、オゾンを腐食ガスとして用いるときに湿度を３０％以下にしてオゾンガスを試験槽に投入できる。
【実施例２】
【００２８】
本考案のガス腐食試験装置の実施例２においては、試験槽の壁が一重壁構造で試験槽内温度を直接制御する。そのほかの構造は実施例１と同様である。
【００２９】
したがって、本考案のガス腐食試験装置によれば、試験槽内の各々のガスの濃度を自動制御しうる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本考案のガス腐食試験装置の実施例１の構成概略図（正面）である。
【図２】本考案のガス腐食試験装置の実施例１の構成概略図（右側面）である。
【図３】本考案のガス腐食試験装置の実施例１の要部構成図である。
【符号の説明】
【００３１】
１  ガス入口
２  ガス採取口
３  ガス濃度コントローラ
４  ガス流量コントローラ
５  空気流量コントローラ
６  試験槽
７  試料回転枠
８  湿度発生機
９  排気用送風機
１０  排気ガス処理装置
１１  ガス定量希釈装置
１２  冷凍機
１３  エアジャケット
１４  ガス定量希釈制御部
１５  ガスボンベ
１６  サンプリング用配管
１７  投入用配管
１８  調温装置
１９  試験槽内壁
２０  外壁
２１  エアフィルタ
２２  空気供給機
２３  混合器
２４  採取ガス除湿器
２５  空気除湿器
２６  ガス腐食試験装置
【図１】
0003108729.tif 000006
【図２】
0003108729.tif 000007
【図３】
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【手続補正書】
【提出日】平成16年11月30日(2004.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】実用新案登録請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
さらに、試験槽の壁が試験槽内壁と外壁の二重壁構造で、二重壁間に温度調節された空気を導入し試験槽内温度を間接制御できることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のガス腐食試験装置。