(57)【要約】【課題】描画単位の境界部の描画精度が高く、しかも生産性が高い電子線描画方法を提供する。【解決手段】本方法では、境界部描画用のパターンデータを作成する際、ステップＳ１  で、パターンレイアウトデータとしてデータ１を、描画情報としてデータ２を読み込み、境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）を示すパス図形を生成する。元パターンをオーバーサイズして、第１の太らせた図形を作成する。Ｓ２  で第１の太らせた図形と重なった元パターンを抽出して抽出図形を作成する。Ｓ３  で抽出図形の幅及び縦長さを太らせて第２の太らせ図形を作成する。Ｓ４  でクリッピング処理を行う。第２の太らせた図形からパス図形と重なる部分を抜き出して、抜き出し図形を作成し、第１のパターンデータとして出力する。Ｓ５  で第１の太らせた図形と重なった元パターンを削除して削除図形を作成し、第２のパターンデータとして出力する。Ｓ６  で第１と第２のパターンデータを合成し、パターンデータ３として出力する。そして、パターンデータ３に基づいて、境界部のマスクパターンを描画する。【選択図】        図１
2004152926.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線で描画単位毎にパターンを描画する電子線描画方法において、描画単位と描画単位との間の描画境界線の近傍領域（以下、境界部と言う）のパターンデータを作成する際、
パターンレイアウトデータ及び描画情報を入力して、描画情報に基づいて境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）の双方を示すパス図形を生成するステップと、
予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、第１の太らせ図形を作成するステップと、
第１の太らせ図形から元パターンと重なる図形を抽出して、抽出図形を作成するステップと、
予め設定した条件に基づいて、抽出図形の幅及び縦長さを太らせて、第２の太らせ図形を作成するステップと、
第２の太らせ図形からパス図形と重なる図形を抜き出して、抜き出し図形を作成し、抜き出し図形のパターンデータを第１のパターンデータとして出力するステップと、
第１の太らせ図形から元パターンと重なる図形を削除して、削除図形を作成し、削除図形のパターンデータを第２のパターンデータとして出力するステップと、
第１のパターンデータと第２のパターンデータとを合成して第３のパターンデータを出力するステップと
を有し、第３のパターンデータで境界部を描画することを特徴とする電子線描画方法。
【請求項２】
太らせ図形を作成するステップに代えて、予め作成しておいた図形を第１の太らせ図形として使用することを特徴とする請求項１に記載の描画パターンデータの作成方法。
【請求項３】
電子線で描画単位毎にパターンを描画する電子線描画方法において、描画単位と描画単位との間の描画境界線の近傍領域（以下、境界部と言う）のパターンデータを作成する際、
パターンレイアウトデータ及び描画情報を入力して、描画情報に基づいて境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）を示すパス図形を生成するステップと、
予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、第１の太らせ図形を作成するステップと、
予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、幅及び縦長さがそれぞれアンダーサイズ値の幅及び縦長さより大きく、第１の太らせ図形の幅及び縦長さより小さい第２の太らせ図形を作成するステップと、
第１の太らせ図形から第２の太らせ図形と重なる図形を抽出して、抽出図形を作成するステップと、
予め設定した条件に基づいて、抽出図形の幅及び縦長さを細らせて、細らせ図形を作成するステップと、
細らせ図形からパス図形と重なる図形を抜き出して、抜き出し図形を作成し、抜き出し図形のパターンデータを第１のパターンデータとして出力するステップと、
第１の太らせ図形から元パターンと重なる図形を削除して、削除図形を作成し、削除図形のパターンデータを第２のパターンデータとして出力するステップと、
第１のパターンデータと第２のパターンデータとを合成して第３のパターンデータを出力するステップと
を有し、第３のパターンデータで境界部を描画することを特徴とする電子線描画方法。
【請求項４】
細らせ図形を形成するステップに代えて、予め作成しておいた図形を細らせ図形として使用することを特徴とする請求項３に記載の描画パターンデータの作成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線描画方法に関し、更に詳細には、描画境界線の近傍領域でのパターン再現性の良好な電子線描画方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の微細化に伴い、電子線リソグラフィ技術を適用した配線層等のパターニングが注目されている。電子線リソグラフィとは、電子線に感度を有するレジストの被膜を基板表面に形成し、この基板上で細く絞った電子ビームを半導体装置、例えば超ＬＳＩの設計データに基づき走査してパターンを描画し、これを現像して微細パターンを直接製作する技術である。
【０００３】
電子線リソグラフィは、光リソグラフィ技術を適用してパターニングする際に使用するフォトマスクの作製にも適用されている。
電子線リソグラフィを適用してフォトマスクのマスクパターンを描画する際には、電子線描画装置の構造上、フォトマスク全面にわたる一つのマスクパターンを一括描画することは出来ないので、描画できる所定の大きさの領域、即ち描画単位にフォトマスクを分割し、描画単位毎にマスクパターンの部分、部分を描画し、それらを集合させることにより、一つのマスクパターンをフォトマスク上に描画している。
【０００４】
ここで、図８を参照して、従来の描画方法を説明する。図８は、マスクパターンを描画する際の従来の描画方法を説明する図である。
先ず、図８に示すように、一つのマスクパターン２０を描画するマスク面２２を４個の描画単位２２１  〜２２４  に分割する。
そして、マスク面２２を一つの描画単位から次の描画単位に順次ステップして描画単位２２１  〜２２４  毎にマスクパターン２０の一部を描画し、マスクパターン２０の全体をマスク面２２上に描画している。
【０００５】
上述した従来の描画方法を適用してマスクパターンを描画する際、描画単位毎にマスクパターンの一部を描画しているので、描画単位と描画単位との間の描画境界線、図８で言えば、例えば描画単位２２２  と２２４  との間の描画境界線２４でのマスクパターンの整合性、つまりマスクパターンの描画再現性が重要である。
しかも、半導体装置の構成要素のレイアウトパターンの微細化と共にマスクパターンも微細化し、描画単位同士のマスクパターンの整合性及び再現性の基準が厳しくなっているために、実際のマスクパターンの描画作業では、要求されるマスクパターンの整合性及び再現性を満足させることが難しくなっている。
【０００６】
そこで、描画境界線でのマスクパターンの整合性、再現性を担保するために、従来、多重描画手法が採用されている。
多重描画手法では、描画境界線の近傍の境界部を複数個の小領域に分割し、小領域毎にずらして描画できるように描画データを作成する。そして、描画の際には、小領域毎に複数回に分けて順次移動して、小領域のパターンを一部重ねてパターンを描画する。
【０００７】
ここで、図９を参照して、多重描画手法を更に説明する。図９（ａ）から（ｃ）は、それぞれ、多重描画手法を説明するためのパターン図である。
先ず、図９（ａ）に示すように、マスクパターン２０を描画するマスク面２２と中心が一致し、縦横がマスク面２２の縦横の１．５倍の大きな描画面２６を形成し、かつ大きな描画面２８を９個の描画単位２８１  から２８９  に分割する。
次いで、図９（ｂ）に示す描画単位２２１  のパターンを描画する際には、マスク２２の描画単位２２１  と、図９（ｃ）に示す大きな描画面２６の描画単位２８１  及び２８２  とを重ね、低い描画エネルギーで描画する。
このように、マスク面の境界部を複数個の小領域に分割して、ずらした描画データを作成して、それぞれを重ねて描画する多重描画手法によりマスクパターンを描画することにより、境界部の影響を小さくして、境界部のパターン精度、パターン形状再現性を維持している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述の多重描画手法には、１回の描画作業で描画すべき境界部のパターンを２回、３回、もしくはそれ以上の回数を繰り返し重ねて描画するため、その回数に比例して描画に要する時間が長くなるという問題があった。
また、描画時間が長くなるために、台数に制限がある高価な電子線描画装置を長い時間専有して使用することになって、他製品の生産工程にも影響が生じるという問題もあった。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、描画単位の境界部の描画精度が高く、しかも生産性が高い電子線描画方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る電子線描画方法（以下、第１の発明方法と言う）は、電子線で描画単位毎にパターンを描画する電子線描画方法において、描画単位と描画単位との間の描画境界線の近傍領域（以下、境界部と言う）のパターンデータを作成する際、
パターンレイアウトデータ及び描画情報を入力して、描画情報に基づいて境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）の双方を示すパス図形を生成するステップと、
予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、第１の太らせ図形を作成するステップと、
第１の太らせ図形から元パターンと重なる図形を抽出して、抽出図形を作成するステップと、
予め設定した条件に基づいて、抽出図形の幅及び縦長さを太らせて、第２の太らせ図形を作成するステップと、
第２の太らせ図形からパス図形と重なる図形を抜き出して、抜き出し図形を作成し、抜き出し図形のパターンデータを第１のパターンデータとして出力するステップと、
第１の太らせ図形から元パターンと重なる図形を削除して、削除図形を作成し、削除図形のパターンデータを第２のパターンデータとして出力するステップと、
第１のパターンデータと第２のパターンデータとを合成して第３のパターンデータを出力するステップと
を有し、第３のパターンデータで境界部を描画することを特徴としている。
【００１１】
本発明に係る描画データパターンの別の作成方法（以下、第２の発明方法と言う）は、電子線で描画単位毎にパターンを描画する電子線描画方法において、描画単位と描画単位との間の描画境界線の近傍領域（以下、境界部と言う）のパターンデータを作成する際、
パターンレイアウトデータ及び描画情報を入力して、描画情報に基づいて境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）を示すパス図形を生成するステップと、
予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、第１の太らせ図形を作成するステップと、
予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、幅及び縦長さがそれぞれアンダーサイズ値の幅及び縦長さより大きく、第１の太らせ図形の幅及び縦長さより小さい第２の太らせ図形を作成するステップと、
第１の太らせ図形から第２の太らせ図形と重なる図形を抽出して、抽出図形を作成するステップと、
予め設定した条件に基づいて、抽出図形の幅及び縦長さを細らせて、細らせ図形を作成するステップと、
細らせ図形からパス図形と重なる図形を抜き出して、抜き出し図形を作成し、抜き出し図形のパターンデータを第１のパターンデータとして出力するステップと、
第１の太らせ図形から元パターンと重なる図形を削除して、削除図形を作成し、削除図形のパターンデータを第２のパターンデータとして出力するステップと、
第１のパターンデータと第２のパターンデータとを合成して第３のパターンデータを出力するステップと
を有し、第３のパターンデータで境界部を描画することを特徴としている。
【００１２】
太らせ図形又は細らせ図形を作成するステップに代えて、予め作成しておいた図形を太らせ図形又は細らせ図形として使用しても良い。
【００１３】
第１及び第２の発明方法のパターンレイアウトデータとは、チップパターン、又は回路パターンを言い、描画情報とは、描画単位（描画ステップ）のＸ方向サイズ、及びＹ方向サイズを記述したファイルを言う。
第１及び第２の発明方法では、描画境界線の近傍領域（境界部）の輪郭及び境界部内のパターンからなるパス図形を抽出し、予め条件出しで決定した図形的演算、つまりオーバーサイズ演算、アンダーサイズ演算、アンド演算、及びアンドノット演算を行い、描画境界線上のパターン変換差分を有するパターンを作成し、境界部のパターンを描画する。
第１及び第２の発明方法は、マスクパターンの描画のみならず、エッチングパターン等の形成の際の露光にも適用できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に、添付図面を参照し、実施形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に説明する。
実施形態例１
本実施形態例は、第１の発明方法に係る電子線描画方法の実施形態の一例である。図１は本実施形態例の方法に従って電子線描画する際にパターンデータを作成する手順を示すフローチャート、図２は描画するマスクパターンを示す図、及び図３は描画単位毎のパターンを示すパターン図である。
図１を参照して、本実施形態例の方法を実施する手順を説明する。本実施形態例は、図３に示すように、描画単位Ｑ１  〜Ｑ１６の１６区分に分割したマスクパターンＰを描画単位Ｑ１  〜Ｑ１６毎に描画して、図２に示すマスクパターンＰを有するマスク１２を作製する方法であって、描画境界線の近傍領域、つまり境界部のパターンデータの作成に特徴がある。本実施形態例では、境界部のマスクパターンを正確に描画するために、境界部のパターンにオーバーサイズ処理（太らし処理）を施している。
【００１５】
本実施形態例では、境界部描画用のパターンデータを作成する際、先ず、図１に示すように、ステップＳ１  で、パターンレイアウトデータとしてデータ１を、及び描画情報としてデータ２を読み込み、描画情報に基づいて境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）の双方を示すパス図形を生成する。更に、予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、第１の太らせ図形を作成する。
ステップＳ２  で、第１の太らせ図形からパス図形と重なる図形を抽出して抽出図形を作成する。
ステップＳ３  で、予め設定した条件に基づいて、抽出図形の幅及び縦長さを太らせて、第２の太らせ図形を作成する。
【００１６】
ステップＳ４  で、多重露光防止のために、クリッピング処理を行う。即ち、第２の太らせ図形からパス図形と重なる図形部分のみ、つまり第２の太らせ図形からパス図形の境界部に相当する部分のみを抜き出して、抜き出し図形を作成し、抜き出し図形のパターンデータを第１のパターンデータとして出力する。
ステップ５  では、第１の太らせ図形と重なる元パターンを削除して削除図形を作成し、削除図形のパターンデータを第２のパターンデータとして出力する。
ステップＳ６  では、ステップＳ４  で得た第１のパターンデータとステップＳ５  で得た第２のパターンデータとを合成したパターンデータをパターンデータ３として出力する。
次いで、パターンデータ３に基づいて境界部のマスクパターンを描画する。
【００１７】
次に、図２から図５を参照して、図１のステップ毎に本実施形態例の方法を詳しく説明する。図４（ａ）から（ｄ）及び図５（ｅ）から（ｇ）は、それぞれ、本実施形態例の方法に従って境界部の描画用のパターンデータを作成する際のデータ処理の手順を説明する概念図である。
本実施形態例では、図３に示すように、マスクパターンＰを１６個の描画単位Ｑ１  からＱ１６に分割して描画単位Ｑ１  からＱ１６毎に描画して、図２に示すマスクパターンＰを有するマスク１２を作製する。
先ず、図４（ａ）に示すように、データ１及びデータ２に基づいて、図３の描画領域Ｑ１０とＱ１４との間の描画境界線Ｌに沿った境界部１４の輪郭及び境界部１４内のパターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  を生成する。図４（ａ）は、図３の’’Ａ’’の拡大図である。
境界部１４の輪郭と境界部１４内のパターン図形Ｆ０  の双方からなる図形をパス図形１６と定義する。尚、パターン図形Ｆ０  のみのパターンデータはパターンデータＰ０  ′とする。
データ１は、図２に示すような描画すべきマスクパターンＰのパターンレイアウトデータであり、データ２は図３に示すような描画単位Ｑ１  からＱ１６毎のパターンの描画情報である。
【００１８】
境界部１４は、描画単位Ｑ１０とＱ１４との描画境界線Ｌ（図３参照）の近傍領域であって、幅Ｗが描画境界線Ｌの長さに等しく、縦長さＴ（幅方向に直交する長さ）が幅Ｗに比べて短い矩形状の図形である。パターン図形Ｆ０  は境界部１４内のマスクパターンＰのパターン図形であって、幅ｗは描画境界線Ｌ上のパターンＦ０  の幅である。
境界部１４の縦長さＴは、描画境界線Ｌの近傍領域のパターン加工上で必要となる寸法であって、フォトマスク描画時のステップＳ６  で設計データに対して設ける変換差（線幅差）Δｗ（図５（ｇ）参照）と共に、事前の描画再現性テストによる条件出しで決定しておく。
【００１９】
また、ステップＳ１  では、パターン図形Ｆ０  にオーバーサイズ処理（太らし処理）を行って、図４（ｂ）に示すように、後の手順のオーバーサイズ処理に必要な、オーバーサイズ値の太らせパターン図形Ｆ１  を作成し、パターン図形Ｆ１  のパターンデータＰ１  を生成する。つまり、パターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  ′に太らし処理を施してパターンデータＰ１  を生成する。パターン図形Ｆ１  は、描画境界線方向の幅がパターン図形Ｆ０  の幅ｗと同じであり、縦長さがパターン図形Ｆ０  の縦長さＴより長いパターン図形である。
尚、オーバーサイズ値及び後述のアンダーサイズ値は、事前の描画再現性テストによる条件出しで求めたパターン図形の寸法である。アンダーサイズ値とは、パターン図形を細らしたときのパターン図形の寸法を言い、オーバーサイズ値とは、アンダーサイズ値以上の値であって、パターン図形を太らしたときのパターン図形の寸法を言う。
【００２０】
ステップＳ２  では、ステップＳ３  で行う境界部１４のパターン加工の準備として、境界部１４のパターン抽出を行う。オーバーサイズ処理を行う本実施形態例では、図４（ｃ）に示すように、パターン図形Ｆ１  のうちパターン図形Ｆ０  とパターン図形Ｆ１  とが重なったパターン図形Ｆ２  を抽出し、パターン図形Ｆ２  のパターンデータＰ２  を生成する。つまり、パターン図形Ｆ１  のパターンデータＰ１  とパターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  とに基づいて、パターン図形Ｆ２  のパターンデータＰ２  を生成する。
【００２１】
ステップＳ３  では、パターン精度向上のためのパターン加工を行う。即ち、パターン図形Ｆ２  にオーバーサイズ処理（パターン図形の太らし処理）を施して、図４（ｄ）に示すように、パターン図形Ｆ２  より幅が広く及び縦長さが長いパターン図形Ｆ３  を作成し、パターン図形Ｆ３  のパターンデータＰ３  を生成する。つまり、パターン図形Ｆ２  のパターンデータＰ２  に太らし処理を施してパターンデータＰ３  を生成する。
オーバーサイズ処理は、パターン図形Ｆ２  の幅及び縦長さを拡大する処理であって、拡大する幅及び縦長さは、事前の描画再現性テスト等の条件出しで既に決定されている。
【００２２】
ステップＳ４  では、多重露光防止のためにクリッピンブ処理を行う。パターン図形Ｆ３  からパターン図形Ｆ３  とパス図形１６（パターン図形Ｆ０  とを含む境界部１４）とが重なる部分のみを取り出して、図５（ｅ）に示すように、境界部１４及びパターン図形Ｆ４  を作成し、そのパターンデータＰ４  を出力する。つまり、パターン図形Ｆ３  のパターンデータＰ３  とパス図形１６のパターンデータＰ０  とに基づいて、パターンデータ４  を生成する。
境界部１４内のパターン図形Ｆ４  は、幅がパターン図形Ｆ０  より大きく、縦長さがパターン図形Ｆ０  と同じである。
【００２３】
ステップＳ５  では、ステップＳ２  で作成したパターン図形Ｆ１  からパターン図形Ｆ０  と重なる図形を削除して、図５（ｆ）に示すように、パターン図形Ｆ５  を作成し、そのパターンデータＰ５  を出力する。
つまり、パターン図形Ｆ１  のパターンデータＰ１  とパターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  ′とに基づいて、パターン図形Ｆ５  のパターンデータＰ５  を出力する。
【００２４】
ステップＳ６  では、パターンデータ合成を行う。ステップＳ４  で得たパターン図形Ｆ４  のパターンデータＰ４  とステップＳ５  で得たパターン図形Ｆ５  のパターンデータＰ５  とを合成して、図５（ｇ）に示すように、パターン図形Ｆ６  を作成し、パターン図形Ｆ６  のパターンデータＰ６  を出力する。
パターン図形Ｆ６  は境界部１４のパターン幅がパターン図形Ｆ０  よりΔｗだけ大きなパターン図形であって、境界部１４を明確に認識することができる。
【００２５】
そして、パターンデータＰ６  を用いて境界部の描画を行なう。
描画後のパターン変換差分Δｗをパターンデータに加えたパターンデータＰ６  を用いてマスクパターンＰを描画することにより、多重描画手法などの特別な描画手法を行なうことなく、境界部を明確に認識し、描画再現性の良好な設計パターン通りのフォトマスクを作製することが可能となる。
【００２６】
尚、パターン図形Ｆ１  のパターンデータＰ１  を事前に作成しておき、ステップＳ１  での処理が必要になった時に、データ１と合成するようにしても良い。
【００２７】
実施形態例２
本実施形態例は、第２の発明方法に係る描画パターンデータの作成方法の実施形態の一例である。
本実施形態例は、図３に示すように、描画単位Ｑ１  〜Ｑ１６の１６区分に分割したマスクパターンＰを描画単位Ｑ１  〜Ｑ１６毎に描画して、図２に示すパターンＰを有するマスク１２を形成する方法であって、境界部のパターンを正確に描画するために、境界部のパターンにアンダーサイズ処理（細らし処理）を施していることを除いて、実施形態例１の手順と基本的には同じ手順で行う。
【００２８】
本実施形態例では、境界部描画用のパターンデータを作成する際、実施形態例１と同様に、先ず、図１に示すように、ステップＳ１  で、パターンレイアウトデータとしてデータ１を、及び描画情報としてデータ２を読み込み、描画情報に基づいて境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）を示すパス図形を生成する。更に、予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、第１の太らせ図形を作成する。
ステップＳ２  で、予め設定した条件に基づいて元パターンにオーバーサイズ処理を施して、幅及び縦長さがそれぞれアンダーサイズ値の幅及び縦長さより大きく、第１の太らせ図形の幅及び縦長さより小さい第２の太らせ図形を作成する。次いで、第１の太らせ図形から第２の太らせ図形と重なる図形を抽出して、抽出図形を作成する。
ステップＳ３  で、予め設定した条件に基づいて、抽出図形の幅及び縦長さを細らせて、細らせ図形を作成する。
【００２９】
ステップＳ４  で、細らせ図形からパス図形と重なる図形を抜き出して、抜き出し図形を作成し、抜き出し図形のパターンデータを第１のパターンデータとして出力するステップと、
ステップＳ５  で、第１の太らせ図形から元パターンと重なる図形を削除して削除図形を作成し、削除図形のパターンデータを第２のパターンデータとして出力するステップと、
ステップＳ６  で、ステップＳ４  で得た第１のパターンデータとステップＳ５  で得た第２のパターンデータとを合成してパターンデータ３を出力する。
次いで、パターンデータ３に基づいて境界部のマスクパターンを描画する。
【００３０】
図２、図３、図６、及び図７を参照して、本実施形態例の方法を詳しく説明する。図６（ａ）から（ｄ）、及び図７（ｅ）から（ｇ）は、それぞれ、本実施形態例の方法に従って境界部の描画用パターンデータを作成する際のデータ処理の手順を説明する概念図である。
本実施形態例では、実施形態例１と同様にして、図６（ａ）に示すように、データ１及びデータ２に基づいて、図３の描画領域Ｑ１０とＱ１４との間の描画境界線Ｌに沿った境界部１４の輪郭及び境界部１４内のパターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  を生成する。図６（ａ）は、図３の’’Ａ’’の拡大図である。
境界部１４の輪郭と境界部１４内のパターン図形Ｆ０  との双方からなる図形をパス図形１６と定義する。パターンデータＰ０  はパス図形のパターンデータである。尚、パターン図形Ｆ０  のみのパターンデータはパターンデータＰ０  ′とする。
【００３１】
また、ステップＳ１  では、図６（ｂ）に示すように、パターン図形Ｆ０  がアンダーサイズ値のパターン図形以上の大きなパターン図形になるように、パターン図形Ｆ０  にオーバーサイズ処理（太らし処理）を行って、後の手順のアンダーサイズ処理で必要になる、太らせパターン図形Ｆ１  ′を作成し、パターン図形Ｆ１  ′のパターンデータＰ１  ′を生成する。つまり、パターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  ′に太らし処理を施してパターンデータＰ１  ′を生成する。
パターン図形Ｆ１  ′は、幅がパターン図形Ｆ０  及びパターン図形Ｆ１  と同じで、縦長さがパターン図形Ｆ０  より大きくパターン図形Ｆ１  より小さいパターン図形である。
更に、ステップＳ１  では、実施形態例１と同様にして、図４（ａ）に示す太らせパターン図形Ｆ１  を作成し、そのパターンデータＰ１  を生成する。
【００３２】
ステップＳ２  では、ステップＳ３  で行う描画境界部のパターン加工の準備として、境界部１４のパターン抽出を行う。
アンダーサイズ処理を行う本実施形態例では、図６（ｃ）に示すように、パターン図形Ｆ１  のうちパターン図形Ｆ１  とパターン図形Ｆ１  ′とが重なったパターン図形Ｆ２  ′を抽出し、パターン図形Ｆ２  ′のパターンデータＰ２  ′を生成する。
つまり、パターン図形Ｆ１  ′のパターンデータＰ１  ′とパターン図形Ｆ１  のパターンデータＰ１  とに基づいて、パターン図形Ｆ２  ′のパターンデータＰ２  ′を生成する。
【００３３】
ステップＳ３  では、パターン精度向上のためのパターン加工を行う。即ち、パターン図形Ｆ２  ′にアンダーサイズ処理（パターン図形の細らし処理）を施して、図６（ｄ）に示すように、パターン図形Ｆ２  ′より幅が狭く及び縦長さが短いパターン図形Ｆ３  ′を作成し、パターン図形Ｆ３  ′のパターンデータＰ３  ′を生成する。つまり、パターン図形Ｆ２  ′のパターンデータＰ２  ′に細らし処理を施してパターンデータＰ３  ′を生成する。
アンダーサイズ処理は、パターン図形Ｆ２  ′の幅及び縦長さを縮小する処理であって、縮小する幅及び縦長さは、事前の描画再現性テスト等の条件出しで既に決定されている。
【００３４】
ステップＳ４  では、多重露光防止のためにクリッピンブ処理を行う。パターン図形Ｆ３  ′からパターン図形Ｆ３  ′とパス図形１６（パターン図形Ｆ０  を含む境界部１４）とが重なる部分のみを取り出して、図７（ｅ）に示すように、境界部１４及びパターン図形Ｆ４  ′を作成し、そのパターンデータＰ４  ′を出力する。つまり、パターン図形Ｆ３  ′のパターンデータＰ３  ′とパターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  とに基づいて、パターンデータ４  ′を生成する。
パターン図形Ｆ４  ′は、幅がパターン図形Ｆ０  より小さく、縦長さがパターン図形Ｆ０  と同じである。
【００３５】
ステップＳ４  では、実施形態例１と同様にして、パターン図形Ｆ１  からパターン図形Ｆ１  とパターン図形Ｆ０  とが重なった部分のみを抜き出して、図７（ｆ）に示すように、パターン図形Ｆ５  を作成し、そのパターンデータＰ５  を出力する。つまり、パターン図形Ｆ１  のパターンデータＰ１  とパターン図形Ｆ０  のパターンデータＰ０  とに基づいて、パターン図形Ｆ５  のパターンデータＰ５  を出力する。
【００３６】
ステップＳ６  では、パターンデータ合成を行う。ステップＳ４  で得たパターン図形Ｆ４  ′のパターンデータＰ４  ′とステップＳ５  で得たパターン図形Ｆ５  のパターンデータＰ５  とを合成して、図７（ｇ）に示すように、パターン図形Ｆ６  ′を作成し、パターン図形Ｆ６  ′のパターンデータＰ６  ′を出力する。
パターン図形Ｆ６  ′は、境界部１４のパターン幅がパターン図形Ｆ０  よりΔｗだけ小さなパターン図形であって、これにより境界部１４を明確に認識することができる。
【００３７】
そして、パターンデータＰ６  ′を用いて描画境界部の描画を行なう。
描画後のパターン変換差分Δｗをパターンデータに加えたパターンデータＰ６  ′を用いてマスクパターンＰを描画することにより、多重描画手法などの特別な描画手法を行なうことなく、境界部を明確に認識し、描画再現性の良好な設計パターン通りのフォトマスクを作製することが可能となる。
【００３８】
尚、実施形態例１と同様に、パターン図形Ｆ１  のパターンデータＰ１  を事前に作成しておき、ステップＳ１  での処理が必要になった時に、データ１と合成するようにしても良い。
【００３９】
【発明の効果】
本発明方法によれば、描画境界線の近傍領域（境界部）の輪郭及び境界部内のパターンからなるパス図形を抽出し、予め条件出しで決定した図形的演算、つまりオーバーサイズ演算、アンダーサイズ演算、アンド演算、及びアンドノット演算を行い、描画境界線上のパターン変換差分を有するパターンを作成し、境界部のパターンを描画することにより、電子線描画工程のスループットを維持しつつ、描画精度を向上させることができる。
電子線描画装置の専有時間が、従来の多重描画手法と比較して短くなるので、生産性が向上し、コストダウンにつながる。
【図面の簡単な説明】
【図１】電子線描画する際に、実施形態例１の方法に従って描画パターンデータを作成する手順を示すフローチャートである。
【図２】描画するマスクパターンを示す図である。
【図３】描画単位毎のパターンを示すパターン図である。
【図４】図４（ａ）から（ｄ）は、それぞれ、実施形態例１の方法に従って描画パターンデータを作成する際のデータ処理の手順を説明する概念図である。
【図５】図５（ｅ）から（ｇ）は、それぞれ、図４（ｄ）に続いて、実施形態例１の方法に従って描画パターンデータを作成する際のデータ処理の手順を説明する概念図である。
【図６】図６（ａ）から（ｄ）は、それぞれ、実施形態例２の方法に従って描画パターンデータを作成する際のデータ処理の手順を説明する概念図である。
【図７】図７（ｅ）から（ｇ）は、それぞれ、図６（ｄ）に続いて、実施形態例２の方法に従って描画パターンデータを作成する際のデータ処理の手順を説明する概念図である。
【図８】従来の描画方法に従ってマスクパターンを描画する際の描画方法を説明する図である。
【図９】図９（ａ）から（ｃ）は、それぞれ、多重描画手法を説明するためのパターン図である。
【符号の説明】
１２……マスク、１４……境界部、１６……パス図形、２０……マスクパターン、２２……マスク面、２２１  〜２２４  ……描画単位、２４……描画境界線、２６……大きな描画面、２８１  〜２８９  ……描画単位、Ｆ０  〜Ｆ６  ……実施形態例１のパターン図形、Ｆ０  、Ｆ１  、Ｆ１  ′〜Ｆ６  ′……実施形態例１のパターン図形。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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