(57)【要約】【課題】液浸対物レンズを用いてレンズの開口率を上げると共に、周囲に液が飛び散らないようにした。【解決手段】液浸差動排液静圧浮上パッド３は、液浸対物レンズ９の周囲の液浸部７に正圧部１７からの圧縮気体を介して液体を供給可能な供給部１６と、複数の環状吸引溝５，６から負圧部１８からの圧縮気体の吸引により液体を吸引して排液可能な排液部１４と、原盤１０に対する反射レーザー照射光の検出機構２０によりレーザー照射光が合焦状態となるように液浸対物レンズ９をアクチュエータ２１により原盤１０に対して対向する方向に進退させる制御部１９を有して構成される。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー照射手段からの照射光を光学系を介して回転機構およびスライド機構により回転移動およびスライド移動する原盤に露光可能に照射するものであって、
上記原盤に対して微小間隔をもって対向し、上記原盤に照射光を照射するための出射孔を有し、上記出射孔に連通する照射光の通路の周囲に上記原盤との対向面に開口する複数の環状吸引溝が形成され、上記吸引溝の周囲に環状気体排出軸受け部が形成される静圧浮上パッドに対して、
上記照射光の通路に設けられ、駆動手段により上記原盤に対して対向する方向に進退可能に構成され、高屈折率の液体を含浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する液浸対物レンズと、
上記液浸対物レンズの周囲の液浸部に液体を供給可能な供給手段と、
上記複数の環状吸引溝から液体を吸引して排液可能な排液手段と、
上記レーザー照射手段、上記回転機構および上記スライド機構ならびに上記排液手段および上記供給手段を制御すると共に、上記原盤に対する反射照射光の検出により上記照射光が合焦状態となるように上記液浸対物レンズを上記駆動手段により上記原盤に対して対向する方向に進退させる制御手段と
を備えた液浸差動排液静圧浮上パッド。
【請求項２】
請求項１記載の液浸差動排液静圧浮上パッドにおいて、
上記排液手段により吸引した液体を貯蔵して上記供給手段に供給する貯蔵手段を備え、上記排液手段により吸引した液を上記貯蔵手段に回収し、ろ過して上記供給手段に供給して再利用することを特徴とした液浸差動排液静圧浮上パッド。
【請求項３】
請求項１記載の液浸差動排液静圧浮上パッドにおいて、
上記制御手段は、上記合焦状態の後の上記露光動作を上記液浸状態で行うことを特徴とした液浸差動排液静圧浮上パッド。
【請求項４】
レーザー照射手段からの照射光を光学系を介して回転機構およびスライド機構により回転移動およびスライド移動する原盤に露光可能に照射する原盤露光装置において、
上記原盤に照射光を露光可能に照射するものであって、
上記原盤に対して微小間隔をもって対向し、上記原盤に照射光を照射するための出射孔を有し、上記出射孔に連通する照射光の通路の周囲に上記原盤との対向面に開口する複数の環状吸引溝が形成され、上記吸引溝の周囲に環状気体排出軸受け部が形成される静圧浮上パッドに対して、
上記照射光の通路に設けられ、駆動手段により上記原盤に対して対向する方向に進退可能に構成され、高屈折率の液体を含浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する液浸対物レンズと、
上記液浸対物レンズの周囲の液浸部に液体を供給可能な供給手段と、
上記複数の環状吸引溝から液体を吸引して排液可能な排液手段と、
上記レーザー照射手段、上記回転機構および上記スライド機構ならびに上記排液手段および上記供給手段を制御すると共に、上記原盤に対する反射照射光の検出により上記照射光が合焦状態となるように上記液浸対物レンズを上記駆動手段により上記原盤に対して対向する方向に進退させる制御手段とを有する液浸差動排液静圧浮上パッド
を備えたことを特徴とした原盤露光装置。
【請求項５】
請求項４記載の原盤露光装置において、
上記排液手段により吸引した液体を貯蔵して上記供給手段に供給する貯蔵手段を備え、上記排液手段により吸引した液を上記貯蔵手段に回収し、ろ過して上記供給手段に供給して再利用することを特徴とした原盤露光装置。
【請求項６】
請求項４記載の原盤露光装置において、
上記制御手段は、上記合焦状態の後の上記露光動作を上記液侵状態で行うことを特徴とした原盤露光装置。
【請求項７】
レーザー照射手段からの照射光を原盤に露光可能に照射するものであって、上記原盤に対して微小間隔をもって対向し、上記原盤に照射光を照射するための出射孔を有し、上記出射孔に連通する照射光の通路の周囲に上記原盤との対向面に開口する複数の環状吸引溝が形成され、上記吸引溝の周囲に環状気体排出軸受け部が形成される静圧浮上パッドを用いて、光学系を介して回転機構およびスライド機構により回転移動およびスライド移動する原盤を露光する原盤露光装置を用いた液浸差動排液による露光方法において、
上記複数の環状吸引溝から液体を吸引して排液可能な排液ステップと、
上記照射光の通路に設けられ、駆動手段により上記原盤に対して対向する方向に進退可能に構成され、高屈折率の液体を含浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する液浸対物レンズを設けた液浸差動排液静圧浮上パッドに対して、上記液浸対物レンズの周囲の液浸部に液体を供給可能な供給ステップと、
上記原盤に対する反射照射光の検出により上記照射光が合焦状態となるように上記液浸対物レンズを上記駆動手段により上記原盤に対して対向する方向に進退させる制御ステップと
を備えたことを特徴とした液浸差動排液による露光方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、液浸対物レンズを有する液浸差動排液静圧浮上パッド、原盤露光装置および液浸差動排液による露光方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の原盤露光装置に用いられるレンズは、原盤表面とレンズ先端の差動距離の間が大気で、屈折率は約１である。そのため、レンズの開口率（ＮＡ：Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ａｐｅｒｔｕｒｅ）が１を超えるようにすることはできない。
【０００３】
また、これを解決するために原盤表面とレンズ先端のワークディスタンスを短くした近接場による露光装置があった。
【０００４】
また、特許文献１には、フォトレジスト膜を塗布した原盤にレーザー光を集光して照射して所望のパターンに感光する際に、ノズルにより露光中に集光レンズと原盤との間に水を充満させて、集光レンズのＮＡを増大させて、液侵レンズとして機能させる従来の原盤露光装置が開示されている。
【０００５】
また、特許文献２，３，４において構成要素として説明されている静圧浮上パッドは、複数の環状溝を有し、非接触で真空度を維持する差動排気を行なう差動排気静圧浮上パッドについて開示されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１０−２５５３１９号公報
【特許文献２】
特開２０００−０７６７０７号公報
【特許文献３】
特開２０００−０７６７０８号公報
【特許文献４】
特開２００１−２４２３００号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述した従来の原盤露光装置では、レンズの開口率が１を超えるようにすることはできないため、それ以上の小スポット化ができないという不都合があった。
【０００８】
また、近接場による露光装置では、レンズ先端と原盤の差動距離をレーザー波長の半分以下に保持しなければならず、微細な塵埃の影響を受け原盤表面を引っかいてしまうため、高度な清浄空間が要求され、高価であるという不都合があった。
【０００９】
また、特許文献１記載の原盤露光装置では、液浸の液を原盤上に流して撒き散らしながら液浸するため、飛散した液が乾き、汚れとなったり、飛散自体が振動発生源となり、精度を劣化させたりするという不都合があった。
【００１０】
そこで、本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、液浸対物レンズを用いてレンズの開口率を上げると共に、周囲に液が飛び散らないようにした原盤露光装置および液浸差動排液による露光方法装置を提供することを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、まず、複数の環状吸引溝から液体を吸引して排液可能とし、次に、照射光の通路に設けられ、駆動手段により原盤に対して対向する方向に進退可能に構成され、高屈折率の液体を含浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する液浸対物レンズを設けた液浸差動排液静圧浮上パッドに対して、液浸対物レンズの周囲の液浸部に液体を供給可能とし、ここで、原盤に対する反射照射光の検出により照射光が合焦状態となるように液浸対物レンズを駆動手段により原盤に対して対向する方向に進退させるように制御するものである。
【００１２】
従って本発明によれば、以下の作用をする。
複数の環状溝を有し、非接触で真空度を維持する差動排気を行なう差動静圧浮上パッドを用いたディスク原盤露光装置において、差動静圧浮上パッドと対物レンズに液浸レンズを用いたものを組み合わせて液浸差動排液静圧浮上パッドとする。
【００１３】
そこで、液浸レンズの内周を液で満たし、対物レンズ先端を液浸させ、差動排気静圧浮上パッド液浸対物レンズ近傍を部分的に高屈折率の液で満たす事により露光系の開口数ＮＡを高く保ち、ビームスポットを大気中より小さくする事で高密度記録を可能とする。
【００１４】
また、液を漏らすことなく回収することで装置を清浄に保ちながら、液の屈折率に応じた、大気中より小さなビームスポットで露光できる。液浸差動排液静圧浮上パッドの機能により液が飛散せず装置を清浄かつ安定に保つことができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態について、適宜、図面を参照しながら説明する。
【００１６】
図１は、原盤露光装置に適用される液浸差動排液静圧浮上パッドの概念図である。
液浸差動排液静圧浮上パッド３は、レーザー駆動部２３からのレーザー光２２を図示しない光学系を介してスピンドル回転機構１２およびスライド機構１３により回転移動およびスライド移動するターンテーブル１１上に真空吸着された原盤１０に露光可能に照射するものである。
【００１７】
この液浸差動排液静圧浮上パッド３は、原盤１０に対して微小間隔（５μｍ）をもって対向し、原盤１０にレーザー照射光２２を照射するための出射孔８を有し、出射孔８に連通する照射光の通路の周囲に原盤１０との対向面に開口する複数の環状吸引溝５，６が形成され、吸引溝５，６の周囲に多孔質４の環状気体排出軸受け部が形成される。
【００１８】
また、液浸差動排液静圧浮上パッド３は、レーザー照射光２２の通路に液浸部７を設け、この液浸部７に設けられ、アクチュエータ２１により原盤１０に対して対向する方向に進退可能に構成され、高屈折率の液体を含浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する液浸対物レンズ９を有して構成される。
【００１９】
また、液浸差動排液静圧浮上パッド３は、液浸対物レンズ９の周囲の液浸部７に正圧部１７からの圧縮気体を介して液体を供給可能な供給部１６と、複数の環状吸引溝５，６から負圧部１８からの圧縮気体の吸引により液体を吸引して排液可能な排液部１４を有して構成される。なお、正圧部１７からの圧縮気体は基台１に対して液浸差動排液静圧浮上パッド３を原盤１０に対して対向する方向に伸縮させる伸縮部２に供給されると共に、環状気体排出軸受け部として機能する多孔質４に供給される。
【００２０】
また、液浸差動排液静圧浮上パッド３は、レーザー駆動部２３、スピンドル回転機構１２およびスライド機構１３ならびに排液部１４および供給部１６を制御すると共に、原盤１０に対する反射レーザー照射光の検出機構２０によりレーザー照射光が合焦状態となるように液浸対物レンズ９をアクチュエータ２１により原盤１０に対して対向する方向に進退させる制御部１９を有して構成される。
【００２１】
また、液浸差動排液静圧浮上パッド３は、排液部１４により吸引した液体を貯蔵して供給部１６に供給するタンク１５を備え、排液部１４により吸引した液をタンクに回収し、ろ過して供給部１６に供給して再利用するように構成される。
【００２２】
図２に、液浸差動排液静圧浮上パッドの底面図を示す。
図２において、液浸差動排液静圧浮上パッド３は、円形の中心部に原盤１０にレーザー照射光２２を照射するための出射孔８を有し、出射孔８の外周側に原盤１０との対向面に開口する複数の環状吸引溝５，６が形成され、吸引溝５，６の外周に多孔質４の環状気体排出軸受け部が形成される。
【００２３】
このように構成された液浸差動排液静圧浮上パッドの一連の動作を説明する。
【００２４】
図３は、液浸差動排液静圧浮上パッドの一連の動作を示すフローチャートである。
図３において、ステップＳ１で、他のワークがあるか否かを判断する。具体的には、ターンテーブル１１上に真空吸着されてレーザー駆動部２３により露光される他の原盤１０があるか否かを判断する。
【００２５】
図４は、ワーク交換動作を示すフローチャートである。図４は、図３のステップＳ１に対応するものである。
【００２６】
ステップＳ１１で、スライド機構でターンテーブルをワーク交換位置に移動する。具体的には、制御部１９は、正圧部１７からの圧縮気体を基台１に対して液浸差動排液静圧浮上パッド３を原盤１０に対して対向する方向に伸縮させる伸縮部２に供給するのを停止して、液浸差動排液静圧浮上パッド３を原盤１０に離間する方向に収縮させる。このとき、スライド機構によりターンテーブルをワーク交換位置に移動する。
【００２７】
ステップＳ１２で、ワークを交換する。具体的には、露光後のワークを取り除き、他のワークである新たな原盤をターンテーブル上に真空吸着させる。
【００２８】
ステップＳ１３で、スライド機構でターンテーブルを露光位置に移動する。具体的には、制御部１９は、正圧部１７からの圧縮気体を基台１に対して液浸差動排液静圧浮上パッド３を原盤１０に対して対向する方向に伸縮させる伸縮部２に供給するのを停止して、液浸差動排液静圧浮上パッド３を原盤１０に離間する方向に収縮させた状態で、スライド機構によりターンテーブルを露光位置に移動する。
【００２９】
ステップＳ１４で、他のワークがあるか否かを判断し、他のワークがあるときは、ステップＳ１１へ戻って、ステップＳ１１〜ステップＳ１４の処理および判断を繰り返す。他のワークがないときは終了する。
【００３０】
図３に戻って、ステップＳ１で他のワークがないときは終了し、他のワークがあるときは、ステップＳ２へ移行して、ステップＳ２でパッドを下降させる。具体的には、制御部１９は、正圧部１７からの圧縮気体を基台１に対して液浸差動排液静圧浮上パッド３を原盤１０に対して対向する方向に伸縮させる伸縮部２に供給して、液浸差動排液静圧浮上パッド３を原盤１０に近接する方向に伸張させる。
【００３１】
ステップＳ３でパッドを浮上させる。具体的には、制御部１９は、正圧部１７からの圧縮気体を環状気体排出軸受け部として機能する多孔質４に供給して、液浸差動排液静圧浮上パッド３が、原盤１０に対して対向する方向に浮上させる。
【００３２】
ステップＳ４で、排液部により液を回収することにより、パッドを下降させて、隙間を５μｍとする。具体的には、制御部１９は、複数の環状吸引溝５，６から負圧部１８からの圧縮気体の吸引と、正圧部１７からの環状気体排出軸受け部として機能する多孔質４への圧縮気体の供給による浮上とがつりあう状態にして、液浸差動排液静圧浮上パッド３が、原盤１０に対して微小間隔（５μｍ）をもって対向するように維持させる。
【００３３】
ステップＳ５で、吸引状態で液を回収する。具体的には、制御部１９は、排液部１４により複数の環状吸引溝５，６から負圧部１８からの圧縮気体の吸引により液体を吸引して排液する。このとき、排液部１４により吸引した液体をタンク１５に貯蔵する。
【００３４】
図５は、液回収動作を示すフローチャートである。図５は、図３のステップＳ４，Ｓ５に対応するものである。
ステップＳ２１で、排液部が内周側溝の液を回収する。具体的には、制御部１９は、排液部１４により複数の環状吸引溝５，６のうち内周側溝６から負圧部１８からの圧縮気体の吸引により液体を吸引して排液する。
【００３５】
ステップＳ２２で、隙間が５μｍであるか否かを判断し、隙間が５μｍでないときは、ステップＳ２１へ戻って、ステップＳ２１〜ステップＳ２２の処理および判断を繰り返す。隙間が５μｍであるときはステップＳ２３へ移行する。
【００３６】
ステップＳ２３で、回収した液をタンクに貯蔵する。具体的には、制御部１９は、排液部１４により複数の環状吸引溝５，６のうち内周側溝６から負圧部１８からの圧縮気体の吸引により液体を吸引して排液するとき、排液部１４により吸引した液体をタンク１５に貯蔵する。
【００３７】
ステップＳ２４で、排気部がパッド浮上による排気エアからの外周溝の液漏れを回収する。具体的には、制御部１９は、排液部１４により複数の環状吸引溝５，６のうち外周側溝５から負圧部１８からの圧縮気体の吸引により多孔質４からの圧縮気体の漏れこみを回収する。
【００３８】
ステップＳ２５で、外周側溝５の圧力がやや大気圧よりも高いか否かを判断し、やや大気圧よりも高くないときは、ステップＳ２４へ戻って、ステップＳ２４〜ステップＳ２５の処理および判断を繰り返す。やや大気圧よりも高いときはステップＳ２６へ移行する。
【００３９】
ステップＳ２６で、回収した液をタンクに貯蔵する。具体的には、制御部１９は、排液部１４により複数の環状吸引溝５，６のうち外周側溝５から負圧部１８からの圧縮気体の吸引により多孔質４からの圧縮気体の漏れこみにより飛散した液を回収してタンクに貯蔵する。
【００４０】
図３に戻って、ステップＳ６で、供給部により液を補給する。具体的には、制御部１９は、供給部１６により液浸対物レンズ９の周囲の液浸部７に正圧部１７からの圧縮気体を介して液体を供給する。これにより、液浸対物レンズ９は、高屈折率の液体を含浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する。
【００４１】
図６は、液供給動作を示すフローチャートである。図６は、図３のステップＳ６に対応するものである。
ステップＳ３１で、供給部はタンクから液を正圧により排出する。具体的には、制御部１９は、供給部１６により液浸対物レンズ９の周囲の液浸部７に正圧部１７からの圧縮気体を介して液体を供給する。
【００４２】
ステップＳ３２で、液を内周の液浸部７に供給する。具体的には、液浸対物レンズ９は、高屈折率の液体を含浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する。
【００４３】
図３に戻って、ステップＳ７で、対物レンズを下降させる。具体的には、制御部１９は、液浸対物レンズ９をアクチュエータ２１により原盤１０に対して対向する方向に進出させる。
【００４４】
ステップＳ８で、合焦点であるか否かを判断する。具体的には、制御部１９は、原盤１０に対する反射レーザー照射光の検出機構２０によりレーザー照射光が合焦状態となるように液浸対物レンズ９をアクチュエータ２１により原盤１０に対して対向する方向に進出させる。
【００４５】
図７は、液浸対物レンズ下降動作を示すフローチャートである。図７は、図３のステップＳ７、Ｓ８に対応するものである。
【００４６】
ステップＳ４１で、制御部はアクチュエータに駆動信号を供給する。具体的には、制御部１９は、圧電素子やボイスコイルモータで構成されるアクチュエータに液浸対物レンズを下降させるための駆動信号を供給する。
【００４７】
ステップＳ４２で、アクチュエータが液浸対物レンズを下降させる。具体的には、圧電素子やボイスコイルモータで構成されるアクチュエータが下方に進出することにより液浸対物レンズを下降させる。
【００４８】
ステップＳ４３で、レーザー駆動部がフォーカス調整用レーザーを照射させる。具体的には、制御部１９は、レーザー駆動部２３によりフォーカス調整用レーザーを照射させる。
【００４９】
ステップＳ４４で、反射検出機構により反射検出する。具体的には、制御部１９は、原盤１０に対する反射レーザー照射光の検出機構２０によりレーザー照射光を検出する。
【００５０】
ステップＳ４５で、合焦点であるか否かを判断する。具体的には、制御部１９は、原盤１０に対する反射レーザー照射光の検出機構２０により検出されたレーザー照射光が合焦点状態であるか否かを判断する。合焦点状態でないときは、ステップＳ４１へ戻って、ステップＳ４１〜ステップＳ４５の処理および判断を繰り返す。合焦点状態のときは終了する。
【００５１】
図３に戻って、ステップＳ８で合焦点であるときは、ステップＳ９へ移行し、ステップＳ８で合焦点でないときは、ステップＳ７へ戻って、ステップＳ７およびステップＳ８の処理および判断を繰り返す。
【００５２】
ステップＳ８で合焦点であるときは、ステップＳ８で、露光動作を行う。具体的には、制御部１９は、液浸差動排液静圧浮上パッド３を用いて、レーザー駆動部２３からのレーザー光２２を介してスピンドル回転機構１２およびスライド機構１３により回転移動およびスライド移動するターンテーブル１１上に真空吸着された原盤１０に露光を行う。
【００５３】
図８は、露光動作を示すフローチャートである。図８は、図３のステップＳ９に対応するものである。
【００５４】
ステップＳ５１で、レーザー駆動部が露光用レーザーを照射させる。具体的には、制御部１９は、レーザー駆動部２３により露光用レーザーを照射させる。
【００５５】
ステップＳ５２で、スピンドルの回転に応じてスライド機構でターンテーブルを内周から外周へ移動する。具体的には、制御部１９は、液浸差動排液静圧浮上パッド３を用いて、レーザー駆動部２３からのレーザー光２２をスピンドル回転機構１２およびスライド機構１３により回転移動およびスライド移動するターンテーブル１１上に真空吸着された原盤１０にらせん状に露光するように照射する。
【００５６】
ステップＳ５３で、露光終了か否かを判断し、露光終了までステップＳ５２へ戻って、ステップＳ５２２およびステップＳ５３の処理および判断を繰り返す。
【００５７】
なお、本発明の実施の形態は、光ディスク原盤露光装置の液浸差動排液静圧浮上パッド３の工夫に関して説明したが、同様の効果のあるたとえば、レーザー光を照射して反者検出するテレビジョン受像機管面検出装置、半導体検査装置などすべての用途について利用可能である。
【００５８】
上述したように、液浸差動排液静圧浮上パッド３の中心部の液浸部７に液を供給し、適度な負圧を用いて掃除機のように液を吸引できるように外周側に環状溝５，６を設け、吸引回収することにより、パッド底面と原盤のすきまは５ミクロン程度を維持することができると同時に、液を外周側に漏れにくくすることができ、多孔質４による空気軸受けの浮上のためのエアが内周に与圧を与えるため液は吸引環状溝６の内周側にとどまるようにすることができる。内周吸引溝６の外周には環状の溝５が設けられ、これにより、多孔質４による空気軸受けの適度な正圧により液の漏れこみを防ぎつつ排気を回収することができる。
【００５９】
【発明の効果】
この発明によれば、差動排気型静圧浮上パッドを用いて、液漏れがなく液浸レンズを構成できるため、対物レンズと照射対象物の作動距離の間の屈折率を１より高くすることができるので大気中より小スポット化できるため、高密度の露光を行うことができる。
【００６０】
また、液が飛び散らないので、装置を清浄に保つ事が容易で、また、飛散による振動で精度を劣化させないようにことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に適用される原盤露光装置に用いられる液浸差動排液静圧浮上パッドの概念図である。
【図２】液浸差動排液静圧浮上パッドの底面図である。
【図３】一連の動作を示すフローチャートである。
【図４】ワーク交換動作を示すフローチャートである。
【図５】液回収動作を示すフローチャートである。
【図６】液供給動作を示すフローチャートである。
【図７】液浸対物レンズ下降動作を示すフローチャートである。
【図８】露光動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１……基台、２……伸縮部、３……静圧浮上パッド、４……多孔質、５……溝、６……溝、７……液浸部、８……孔、９……液浸対物レンズ、１０……原盤、１１……ターンテーブル、１２……スピンドル、１３……スライド機構、１４……排液部、１５……タンク、１６……供給部、１７……正圧部、１８……負圧部、１９……制御部、２０……反射検出機構、２１……アクチュエータ、２２……レーザー照射光、２３……レーザー駆動部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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