(57)【要約】      （修正有）【課題】搬送制御系と製膜制御系を中央管理することで、基板搬送制御システムの処理時間効率を高めることができるとともに、動作プログラムのメンテナンス効率を高めることができる搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラムを提供する。【解決手段】搬送指令ＰＣ・１が、星型配列の複数の製膜室Ｃ１〜Ｃ８に基板を搬送する複数の搬送台車２〜５の位置情報と搬送台車２〜５が保持している基板の状態を示す基板情報と製膜室Ｃ１〜Ｃ８における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルにこれら情報を書き込む。次に、位置情報と基板情報と製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定する。そして、この判定結果に基づいて、搬送条件が指定する搬送台車２〜５の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを読み出して、搬送台車２〜５の制御を行う。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車と、
前記搬送台車の位置情報と前記搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する第１の記憶手段と、
前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報の更新情報を前記製膜室を制御する制御部より受けて、前記テーブルに書き込む書き込み手段と、前記搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを記憶する第２の記憶手段と、
前記テーブルより前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致すれば、該搬送条件が指定する搬送経路を第２の記憶部より読み出して、前記搬送台車の制御を行う搬送制御部と
を具備することを特徴とする搬送制御システム。
【請求項２】
前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項１に記載の搬送制御システム。
【請求項３】
前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項１に記載の搬送制御システム。
【請求項４】
前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報である
ことを特徴とする請求項１に記載の搬送制御システム。
【請求項５】
前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかの項に記載の搬送制御システム。
【請求項６】
搬送制御部が、
星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込み、
前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定し、
該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の制御を行う
ことを特徴とする搬送制御方法。
【請求項７】
コンピュータに、
星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込む書き込み処理と、
前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定する判定処理と、
該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の搬送制御を行う搬送制御処理と
を実行させるための搬送制御プログラム。
【請求項８】
前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項７に記載の搬送制御プログラム。
【請求項９】
前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項７に記載の搬送制御プログラム。
【請求項１０】
前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報である
ことを特徴とする請求項７に記載の搬送制御プログラム。
【請求項１１】
前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定する
ことを特徴とする請求項７から請求項１０のいずれかの項に記載の搬送制御プログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマＣＶＤ装置における基板搬送プロセスを管理する搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマＣＶＤは、多くの薄膜作成方法の中でも最も自由度が高く、無機物や有機物、複合物質等に至るまで、様々な物質の製膜に応用可能である。プラズマＣＶＤにおいて制御可能なパラメータは、ガス組成、ガス流量、圧力、プラズマ出力、基板温度、基板バイアス等が存在し、膜堆積に関する物理現象や化学現象をこれらのパラメータによって独立に制御することが可能である。
従来、プラズマＣＶＤ装置における基板搬送制御システムとして、基板の製膜を行う製膜室を星型に配列させた形態の生産ラインが存在する。それぞれ異なる製膜処理機能を備えた製膜室を星型に配置することで、スループット時間（部品から完成品になるまでの時間）の短縮により生産効率を高めることができる（特許文献１を参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−１６３０８６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
製膜室が複数存在する場合、各製膜室及び搬送台車にはＰＬＣ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）が組み込まれ、システム管理者が、適宜各ＰＬＣの動作プログラムを記述することで搬送制御を行っている。
しかし、基板搬送制御システムの拡張により搬送制御が複雑化するにつれて、各ＰＬＣの動作プログラムの記述量が膨大になり、ＰＬＣの処理能力を超えてしまうとＰＬＣの演算速度が低下するという問題がある。また、基板搬送制御システム全体の処理時間効率を高めるためには、より複雑な搬送制御のシミュレーションが必須となり、シミュレーションを行う度に専用のハードウェアシステムの構築が必要となるという問題がある。
【０００５】
本発明は、このようなことを考慮してなされたものであり、その目的は、搬送制御系と製膜制御系を中央管理することで、基板搬送制御システムの処理時間効率を高めることができるとともに、動作プログラムのメンテナンス効率（メンテナンス時間の短縮等）を高めることができる搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラムを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明は上記の課題を解決すべくなされたもので、請求項１に記載の発明は、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車と、前記搬送台車の位置情報と前記搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する第１の記憶手段と、前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報の更新情報を前記製膜室を制御する制御部より受けて、前記テーブルに書き込む書き込み手段と、前記搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを記憶する第２の記憶手段と、前記テーブルより前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致すれば、該搬送条件が指定する搬送経路を第２の記憶部より読み出して、前記搬送台車の制御を行う搬送制御部とを具備することを特徴とする。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報であることを特徴とする。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４のいずれかの項に記載の発明において、前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定することを特徴とする。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、搬送制御部が、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込み、前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定し、該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の制御を行うことを特徴とする。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、コンピュータに、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込む書き込み処理と、前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定する判定処理と、該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の搬送制御を行う搬送制御処理とを実行させるための搬送制御プログラムである。
【００１３】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【００１４】
請求項９に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【００１５】
請求項１０に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報であることを特徴とする。
【００１６】
請求項１１に記載の発明は、請求項１から請求項４のいずれかの項に記載の発明において、前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定することを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。
まず本発明の基本的な考え方について説明する。本実施形態の搬送制御システムは、シーケンス制御全体を一つの上位系（搬送指令ＰＣ）と複数の下位系（サーボ系）に分かれ、上位系と下位系とが接続されて構成される。
上位系は下位系の通信を模擬するシミュレーション装置（シミュレーションＰＣ）によって動作モードのシミュレートを行い、この上位系２装置で検証デバック作業を行う。シミュレーション装置は下位系シーケンスをステップ状に分割してデータベース化し，このステップを並列処理リストとして動作させることによりシーケンスロジックを汎用化する。
搬送指令ＰＣのシミュレーションでは、４組の搬送台車（ＬＡ／ＬＢ台車２、ＰＡ／ＰＢ台車３、ＩＡ／ＩＢ台車４、ＮＡ／ＮＢ台車５）を星型配置の製膜室で効率的に基板搬送出来るか確認する。
シミュレーションＰＣは、各組の搬送台車が製膜前の基板を各製膜室に搬送し、製膜が完了したタイミングで最短の待ち時間で製膜後の基板を搬出することが出来るようにシミュレーションでタイミングの調整を行う。
【００１８】
図１は、本実施形態の搬送制御システムの全体構成を示すブロック図である。本実施形態の搬送制御システムは、上位の搬送指令ＰＣ・１と、製膜室Ｃ１〜Ｃ８と、４台の搬送台車ＬＡ／ＬＢ台車２、ＰＡ／ＰＢ台車３、ＩＡ／ＩＢ台車４、ＮＡ／ＮＢ台車５と、ロードロック室６と、アンロード室７と下位のサーボ系（図示せず）からなる。
【００１９】
搬送指令ＰＣ・１は、搬送制御システム全体を制御するＰＣであって、製膜室の空き状況把握、各台車への動作指令、台車の動作モードの決定を制御する。搬送指令ＰＣ・１は、ＣＰＵ等の中央演算装置と、ＲＯＭ、ＲＡＭ等の半導体メモリからなる記憶部を有している。ＣＰＵは、ＲＯＭに記憶された動作プログラムを読み出して、基板搬送制御に関する一連の処理を実行する。ＲＯＭは、この動作プログラムの他に、搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モード（後述する）及び搬送条件（後述する）を記憶する。ＲＡＭは、ＬＡ／ＬＢ台車２〜ＮＡ／ＮＢ台車５の位置情報と、ＬＡ／ＬＢ台車２〜ＮＡ／ＮＢ台車５が保持している基板の基板情報と、製膜室Ｃ１〜Ｃ８における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する。以下、このテーブルをピンボードと呼ぶ。
【００２０】
ここで、ＬＡ／ＬＢ台車２〜ＮＡ／ＮＢ台車５の位置情報とは、搬送台車が複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報であって、例えば、ＬＡ／ＬＢ台車２はＣ１室内、または架橋部分にあるといった内容を示す。
また搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報とは、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、基板がいずれの過程にあるかを示す情報であって、具体的には、未製膜、１層目の膜（ｐ層膜）製膜済み、２層目の膜（ｉ層膜）製膜済み、３層目の膜（ｎ層膜）製膜済み（＝製膜完了）であることを示す。各基板には、それぞれＩＤが登録されており、基板が現在どの製膜室に存在するか、基板処理中に異常等発生していないか等の情報を含むの基板ＩＤデータに紐付けられた基板毎のトラッキングデータが管理される。
また、製膜室Ｃ１〜Ｃ８における製膜処理ステータス情報とは、製膜室が空き状態であるか否かを示す情報であって、より具体的には、Ｃ１室が空き状態、Ｃ２室が基板処理状態であるといった内容を示す。基板処理状態とは、例えば基板の搬送先製膜室の決定時点から、基板搬入、基板製膜処理中、基板製膜完了、製膜室からの搬出完了時点までをいい、予め算出される搬入所要時間、製膜所要時間、処理経過時間、搬出所要時間等の時間パラメータよって規定される。
【００２１】
ロードロック室６、製膜室Ｃ１〜Ｃ８、アンロード室７にはそれぞれＰＬＣが組み込まれており、それぞれのＰＬＣが各製膜室内での基板の受渡し機構（台車から製膜機構への受渡し）の制御を行う。それぞれのＰＬＣは、ＬＡ／ＬＢ台車２、ＰＡ／ＰＢ台車３、ＩＡ／ＩＢ台車４、ＮＡ／ＮＢ台車５により製膜室Ｃ１〜Ｃ８等に搬送されてきた基板を製膜室内の基板ヒータカバーに移載する制御を行うとともに、基板ヒータカバーを製膜機構にセットする制御、各製膜室及び処理室のバルブ制御、ヒータ制御、圧力制御、レシピ制御、高周波電力制御を行う。
【００２２】
ロードロック室６は製膜室Ｃ１と隣接して設置され、未製膜の基板がセットされる、基板搬送の始点である。製膜室Ｃ１〜Ｃ８は、図１に示すように星型に設置されており、製膜室Ｃ１と製膜室Ｃ５、製膜室Ｃ２と製膜室Ｃ６、製膜室Ｃ３と製膜室Ｃ７、製膜室Ｃ４と製膜室Ｃ８とがそれぞれ対向している。
製膜室Ｃ１ではロードロック室６から未製膜の基板が搬入され、一時的に基板が保管される。製膜室Ｃ２、Ｃ４では、１層目の膜を基板に製膜する。製膜室Ｃ５、Ｃ６では、２層目の膜を基板に製膜する。製膜室Ｃ７では、３層目の膜を基板に製膜する。製膜室Ｃ８では、製膜済みの基板が製膜室Ｃ７から搬入され、一時的に基板が保管される。アンロード室７では、製膜済み基板が取り出される。
【００２３】
ＬＡ／ＬＢ台車２は、ロードロック（ＬＬ）室６から未製膜の基板を１層目の膜（ｐ層膜）を製膜する製膜室（Ｃ２、Ｃ４室）に搬送する台車である。
ＰＡ／ＰＢ台車３は、１層目のｐ層膜が製膜された基板を２層目の膜（ｉ層膜）を製膜する製膜室（Ｃ５、Ｃ６室）に搬送する台車である。
ＩＡ／ＩＢ台車４は、２層目のｉ膜が製膜された基板を３層目の膜（ｎ層膜）を製膜する製膜室（Ｃ７室）に搬送する台車である。
ＮＡ／ＮＢ台車５は、製膜室Ｃ７から３層目のｎ膜の製膜が済み、製膜が完了した製膜済み基板をアンロード（ＵＬ）室７に搬出するための台車である。
【００２４】
下位のサーボ系はＰＬＣによって制御される。すなわち、下位のサーボ系のＰＬＣは、ＬＡ／ＬＢ台車２、ＰＡ／ＰＢ台車３、ＩＡ／ＩＢ台車４、ＮＡ／ＮＢ台車５の台車制御、各基板に関する基板データトラッキング、製膜室での機械装置の制御を行う。
【００２５】
以下、本実施形態の搬送制御システムにおける搬送制御処理の流れについて説明する。本実施形態の搬送制御システムにおける搬送動作モードは、通常動作モード、製膜室休止モード、台車故障モードからなる。
まず通常動作モードにおける搬送制御処理の流れについて説明する。搬送制御システム内での基板の流れは「Ａサイクル」「Ｂサイクル」に分けられる。
Ａサイクル：Ｃ１→Ｃ２→Ｃ５→Ｃ７→Ｃ８
Ｂサイクル：Ｃ１→Ｃ４→Ｃ６→Ｃ７→Ｃ８
すなわち、Ａサイクルにおいて、搬送指令ＰＣ・１は動作モードを通常動作モードと設定しており、ロードロック室６を制御するＰＬＣより未製膜の基板がセットされたことを示す信号を受けて、製膜室Ｃ１における製膜処理ステータス情報をＲＡＭ２に記憶されたピンボードより読み出す。製膜室Ｃ１の製膜処理ステータス情報が空き状態であることを示す場合、搬送指令ＰＣ・１は予め規定された搬送条件に合致していると判定し、ロードロック室６を制御するＰＬＣに対してＬＡ／ＬＢ台車２の動作指令を出力する。ロードロック室６を制御するＰＬＣは、ＬＡ／ＬＢ台車２の動作指令を搬送指令ＰＣ・１はより受けて、ＬＡ／ＬＢ台車２の台車制御を行う。そして、このＰＬＣの台車制御により、ロードロック室６でセットされた未製膜の基板が、ＬＡ／ＬＢ台車２によりロードロック室６から製膜室Ｃ１に搬送される。ここで、下位の搬送系ＰＬＣは、搬送されてきた基板に対して基板情報とロードロック室６及び製膜室Ｃ１における製膜処理ステータス情報を基板ＩＤと関連付けてトラッキングデータに書き込む。
【００２６】
次に、搬送指令ＰＣ・１は製膜室Ｃ１を制御するＰＬＣより基板が搬入されたことを示す信号を受けて、製膜室Ｃ２における製膜処理ステータス情報をピンボードより読み出す。製膜室Ｃ２の製膜処理ステータス情報が空き状態であることを示す場合、搬送指令ＰＣ・１は製膜室Ｃ１を制御するＰＬＣに対してＬＡ／ＬＢ台車２の動作指令を出力する。製膜室Ｃ１を制御するＰＬＣは、搬送指令ＰＣ・１よりＬＡ／ＬＢ台車２の動作指令を受けて、ＬＡ／ＬＢ台車２の台車制御を行う。そして、このＰＬＣの台車制御により、製膜室Ｃ１の基板が、製膜室Ｃ１から製膜室Ｃ２に搬送される。ここで、下位の搬送系ＰＬＣは、搬送されてきた基板に対して基板情報と製膜室Ｃ１及び製膜室Ｃ２における製膜処理ステータス情報を、基板ＩＤと関連付けてトラッキングデータに書き込む。製膜室Ｃ２では、製膜室Ｃ２を制御するＰＬＣによる製膜制御のもと、１層目の膜が基板に製膜される。
【００２７】
一方、製膜室Ｃ２の製膜処理ステータス情報が基板処理状態であることを示す場合、搬送指令ＰＣ・１は予め規定された搬送条件に合致していないと判定し、製膜室Ｃ４の空き状態を確認し、搬送条件との比較を行う。
この動作を、４組の台車が予め規定されたそれぞれの移動範囲内で順次行う。
【００２８】
次に、１層目の膜が製膜された状態の基板は、ＰＡ／ＰＢ台車３により製膜室Ｃ２から製膜室Ｃ５に搬送される。すなわち、上述の搬送処理と同様に、ＰＬＣは搬送指令ＰＣ・１に対して製膜処理完了を通知する。搬送指令ＰＣ・１は、製膜処理ステータス情報をピンボードより読み出す。製膜処理ステータス情報が空き状態であることを示す場合、搬送指令ＰＣ・１は搬送条件に合致していると判定し、ＰＡ／ＰＢ台車３の動作指令を出力する。製膜室Ｃ２を制御するＰＬＣは台車制御を行い、１層目の膜が製膜された状態の基板が製膜室Ｃ５に搬送される。ここで、下位の搬送系ＰＬＣは、搬送されてきた基板に対して基板情報と製膜室Ｃ２及びＣ５における製膜処理ステータス情報を基板ＩＤと関連付けてトラッキングデータに書き込む。製膜室Ｃ５では、２層目の膜が基板に製膜される。
【００２９】
次に、２層目の膜が製膜された状態の基板は、上述の搬送制御と同様の処理手順でＩＡ／ＩＢ台車４により製膜室Ｃ５から製膜室Ｃ７に搬送され、３層目の膜が基板に製膜される。そして、ＮＡ／ＮＢ台車５によって製膜室Ｃ７からアンロード室８に搬送され、製膜が完了した基板が取り出される。
【００３０】
以上のように、搬送指令ＰＣ・１は４組の台車を製膜室の空き状態を常に監視しながら最適タイミングで制御して製膜室間の基板搬送を行う。また、下位の搬送系ＰＬＣは、搬送されてきた基板に対して基板情報と製膜室における製膜処理ステータス情報を基板ＩＤと関連付けてトラッキングデータに随時書き込む。この搬送処理はＢサイクルに関しても、Ａサイクルと同様であって、搬送指令ＰＣ・１は両サイクルを並列制御する。
【００３１】
したがって、本実施形態の搬送制御システムによれば、搬送指令ＰＣ・１が各台車の搬送制御を中央管理しているので、各制御室の制御を行う搬送系ＰＬＣの演算負荷が低減できる効果が得られる。また搬送制御系と製膜制御系の分散により、制御プログラムの分散化が可能であり、プログラムの開発・メンテナンス効率を向上させることができる。また、各台車を中央制御することにより、搬送指令ＰＣ・１に各製膜室の情報の集約ができるので、搬送制御等のテストシミュレーションが可能となり、実機展開の前にデバック作業を行うことができる効果が得られる。
【００３２】
次に、製膜室休止モードにおける搬送制御処理の流れについて説明する。製膜室休止モードとは、製膜室のメンテナンス時等、その製膜室には基板搬送を休止するモードである。例えば、製膜室Ｃ２のメンテナンスを行う場合、上述の搬送制御と同様の処理手順で、ＡサイクルでＢサイクルの一部を実施する。すなわち、ＬＡ／ＬＢ台車２は、１層目の膜を製膜するためにロードロック室６から常に製膜室Ｃ４に基板を搬送する。そして、メンテナンスが終了した場合は、通常モードに移行する。
【００３３】
次に、台車故障モードにおける搬送制御処理の流れについて説明する。台車故障モードとは、例えば４組の台車のうちいずれか１の台車が故障した場合は、３組の台車が故障した台車の肩代わりをして運転するモードである。
この場合、稼動可能な台車が４組から３組になる。台車が故障した場合には、下位系（ＰＬＣ側）で各搬送経路における基板搬送を担当する台車の種類を入れ替える。すなわち、例えばＰＡ／ＰＢ台車３が故障した場合、ＰＡ／ＰＢ台車３に対して搬送指令ＰＣ・１が出していた搬送指令をＩＡ／ＩＢ４台車に対して行う。この時Ａサイクル、Ｂサイクル自体は変わらずＩＡ／ＩＢ４台車の移動範囲が変更される。そして、故障したＰＡ／ＰＢ台車３が復旧した場合は、通常モードに移行する。
【００３４】
したがって、製膜室のメンテナンス中や一部の台車が故障した場合であっても、システム全体がストップしてしまうことを防止できる効果が得られるとともに、その影響をできるだけ低減することができる効果が得られる。
【００３５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車と、搬送台車の位置情報と搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する第１の記憶手段と、搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを記憶する第２の記憶手段と、このテーブルより位置情報と基板情報と製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、予め規定された搬送条件に合致すれば、搬送条件が指定する搬送動作モードを読み出して、搬送台車の制御を行う搬送制御部とを具備するので、搬送系ＰＬＣの演算負荷を低減することができる効果が得られる。また搬送制御系と製膜制御系の分散により、制御プログラムの分散化が可能であり、プログラムの開発・メンテナンス効率を向上させることができる。また、中央制御することにより、各製膜室の情報の集約ができる効果が得られる。また、搬送制御等のテストシミュレーションが可能となり、実機展開の前にデバック作業を行うことができる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態の搬送制御システムの全体構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
１…搬送指令ＰＣ
２…ＬＡ／ＬＢ台車
３…ＰＡ／ＰＢ台車
４…ＩＡ／ＩＢ台車
５…ＮＡ／ＮＢ台車
６…ロードロック室
７…アンロード室
Ｃ１〜Ｃ８…製膜室
【図１】
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