(57)【要約】【課題】透過する光の非点収差が予め定める設定値以下になるように設定されるとともに、容易に製造することができる光学素子および前記光学素子を備える光ピックアップ装置を提供する。【解決手段】光学素子５０は、透光性を有し、第１表面５１ａおよび第１表面に対して傾斜する第２表面５１ｂが形成される第１部材５１と、透光性を有し、第１部材の屈折率とは異なる屈折率を有し、第３表面５２ａおよび第３表面に対して傾斜する第４表面５２ｂが形成される第２部材５２とを備え、第１部材の第１表面と第２部材の第４表面とが平行になり、第１部材の第１表面が第２表面に対して傾斜する角度αと、第２部材の第３表面が第４表面に対して傾斜する角度αとは、第１部材の第１表面から第２部材の第４表面へ透過する光、および第２部材の第４表面から第１部材の第１表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定される。【選択図】　　　図２
2004133126.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第１部材と、透光性を有し、前記第１部材の屈折率とは異なる屈折率を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第２部材とを備え、
第１部材の一表面と第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合され、
第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定されることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
第１部材の一表面に、予め定める波長の光を反射する反射膜が設けられることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
第１部材の屈折率は、第２部材の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項２記載の光学素子。
【請求項４】
第１部材の屈折率は１．５１であり、第２部材の屈折率は１．６７であり、第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、５．６度であることを特徴とする請求項３記載の光学素子。
【請求項５】
予め定める波長の光を出射する第１発光手段と、
前記第１発光手段が出射する光の波長とは異なる波長の光を出射する第２発光手段と、
第１発光手段からの光を透過するとともに、透過される第１発光手段からの光の光軸と一致するように、第２発光手段からの光を反射する光学素子と、
前記光学素子を透過した第１発光手段からの光と前記光学素子で反射された第２発光手段からの光とを、光記録媒体に集光する集光手段と、
光記録媒体で反射された光を検出する光検出手段を備える光ピックアップ装置であって、
前記光学素子は、透光性を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第１部材と、透光性を有し、前記第１部材の屈折率とは異なる屈折率を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第２部材とを備え、
第１部材の一表面と第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合され、
第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定されることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項６】
光学素子の第１部材の一表面に、第１発光手段からの光を透過するとともに、第２発光手段からの光を反射する反射膜が設けられ、
光学素子は、第１発光手段からの光が、第２部材の他表面から入射して第１部材の一表面から出射するように配置されていることを特徴とする請求項５記載の光ピックアップ装置。
【請求項７】
光学素子の第１部材の屈折率は、第２部材の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項６記載の光ピックアップ装置。
【請求項８】
光学素子は、第１発光手段からの光が第２部材の他表面に入射する入射角の正弦が、前記光が第２部材の他表面において屈折する屈折角の正弦と第２部材の屈折率との積よりも大きくなるように配置されることを特徴とする請求項７記載の光ピックアップ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体に対して情報の記録および読取りをする光記録媒体記録再生装置に搭載される光ピックアップ装置、および光ピックアップ装置に備えられる光学素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
コンパクトディスク（略称：ＣＤ）およびデジタルバーサタイルディスク（略称：ＤＶＤ）などの光記録媒体は、規格が多様化している。このような光記録媒体に情報を記録したり、光記録媒体に記録されている情報を読み出して再生したりする光記録媒体記録再生装置は、全ての光記録媒体の規格に対応する必要がある。特にＣＤとＤＶＤとでは、情報の記録および読取に用いる光の波長が異なることが問題である。ＣＤとＤＶＤとに対して情報の記録および読取りをする光記録媒体装置に搭載される光ピックアップ装置は、２つの半導体レーザ素子を備えている。一方の半導体レーザ素子は、ＤＶＤに対して情報の記憶および読取りする場合に用いられ、波長が６５０ナノメートル（以後、単位「ナノメートル」を［ｎｍ］と表記することがある。）のレーザ光を出射する。他方の半導体レーザ素子は、ＣＤに対して情報の記憶および読取りをする場合に用いられ、波長が７８０［ｎｍ］のレーザ光を出射する。光ピックアップ装置の生産コストを低減するために、通常、光ピックアップ装置に備えられる対物レンズは１つであるので、２つの半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を１つの対物レンズに入射させるために、ミラーおよびプリズムが用いられる。
【０００３】
図５は、第１の従来技術である光ピックアップ装置１を模式的に示す図である。前記光ピックアップ装置１は、２つの半導体レーザ素子１１，２１からの光を１つの対物レンズ５に入射させるための楔形のダイクロイックミラー６を備えている（たとえば、特許文献１参照。）。ダイクロイックミラー６は、波長が６５０［ｎｍ］のレーザ光を出射する半導体レーザ素子２１を有する第２ユニット２０とコリメートレンズ４とに臨む一表面６ａは、波長７８０［ｎｍ］のレーザ光を透過し、波長が６５０［ｎｍ］のレーザ光を反射するように形成されている。
【０００４】
第１ユニット１０の半導体レーザ素子１１から出射された波長が７８０［ｎｍ］のレーザ光は、第１ユニット１０の回折素子１２を０次光として透過し、ダイクロイックミラー６に入射して屈折しながら透過して、コリメートレンズ４に入射する。第２ユニット２０の半導体レーザ素子２１から出射された波長が６５０［ｎｍ］のレーザ光は、第２ユニット２０の回折素子２２を０次光として透過し、ダイクロイックミラー６に入射して反射して、コリメートレンズ４に入射する。コリメートレンズ４に入射した第１および第２ユニット１１，２１からのレーザ光は、コリメートレンズ４によって平行光となって対物レンズ５に入射して、光記録媒体８０の情報記録面に集光される。
【０００５】
光記録媒体８０の情報記録面において反射したレーザ光である反射光は、対物レンズ５およびコリメートレンズ４を透過して、ダイクロイックミラー６に入射する。ダイクロイックミラー６に入射した光記録媒体８０からの反射光のうち、波長が７８０［ｎｍ］の反射光は、ダイクロイックミラー６を透過して、第１ユニット１０の回折素子１２に入射して回折し、第１ユニット１０の受光素子１３に入射して検出される。またダイクロイックミラー６に入射した光記録媒体８０からの反射光のうち、波長が６５０［ｎｍ］の反射光は、ダイクロイックミラー６で反射して、第２ユニット２０の回折素子２２に入射して回折し、第２ユニット２０の受光素子２３に入射して検出される。
【０００６】
ダイクロイックミラー６は、一表面６ａと前記一表面６ａに対して傾斜する他表面６ｂが形成される楔形状である。ダイクロイックミラー６は、前記一表面６ａが第２ユニット２０とコリメートレンズ４とに臨み、前記他表面６ｂが第１ユニット１０に臨むようにして配置される。半導体レーザ素子１１，２１から遠ざかるにつれて光束が拡径するような発散光の光軸に対して傾斜して配置される平行平板状の光学部材は、発散光を屈折させて透過するときに非点収差を発生させるけれども、ダイクロイックミラー６を前述のような楔状にすることによって、非点収差が補正されて、収差の無い光がコリメートレンズ４および対物レンズ５に入射する。このようなダイクロイックミラー６によって、ダイクロイックミラー６とコリメートレンズ４との間において、第１ユニット１０からのレーザ光の収差を無くすとともに、ダイクロイックミラー６とコリメートレンズ４との間において、第１ユニット１０からのレーザ光の光軸と第２ユニット２０からのレーザ光の光軸とを一致させる。
【０００７】
図６は、第２の従来技術である光ピックアップ装置２を模式的に示す図である。前記光ピックアップ装置２は、前述の第１の従来技術の光ピックアップ装置１におけるダイクロイックミラー６をダイクロイックプリズム７に置換えただけであるので、それ以外の構成については全く同様であるので、同一の参照符号を付して、説明を省略する。ダイクロイックプリズム７は、第１および第２ユニット１１，２１からのレーザ光の光軸に平行な仮想平面で切断した断面形状が三角形状の第１プリズム７ａと、前記仮想平面で切断した断面形状が五角形状の第２プリズム７ｂとが接合されて形成される、前記仮想平面で切断した形状が台形状のプリズムである。
【０００８】
第１ユニット１０の半導体レーザ素子１１から出射された波長が７８０［ｎｍ］のレーザ光は、ダイクロイックプリズム７の第１プリズム７ａに入射して、第２プリズム７ｂを透過して、コリメートレンズ４に入射する。第２ユニット２０の半導体レーザ素子２１から出射された波長が６５０［ｎｍ］のレーザ光は、ダイクロイックプリズム７の第２プリズム７ｂに入射して、第１プリズム７ａと第２プリズム７ｂとの接合部７ｃにおいて反射して、第２プリズム７ｂを透過して、コリメートレンズ４に入射する。ダイクロイックプリズム７に入射した光記録媒体８０からの反射光のうち、波長が７８０［ｎｍ］の反射光は、ダイクロイックプリズム７の第２プリズム７ｂに入射して、第１プリズム７ａを透過して、第１ユニット１０の回折素子１２に入射する。またダイクロイックプリズム７に入射した光記録媒体８０からの反射光のうち、波長が６５０［ｎｍ］の反射光は、ダイクロイックプリズム７の第２プリズム７ｂに入射して、第１プリズム７ａと第２プリズム７ｂとの接合部７ｃにおいて反射して、第２ユニット２０の回折素子２２に入射する。このようにダイクロイックプリズム７もダイクロイックミラー６と同様の働きをする。
【０００９】
図７は、ダイクロイックプリズム７の製造工程を模式的に示す図である。まず図７（１）に示す部材切出し工程では、光学ガラス塊から、ダイクロイックプリズム７の第１プリズム７ａおよび第２プリズム７ｂの素材となる略直方体状の第１素材７１および第２素材７２を切り出す。
【００１０】
続いて図７（２）に示す粗研磨整形工程では、第１素材７１を研削して、五角柱状の第１プリズム体７１Ａを作製するとともに、第２素材７２を研削して、三角柱状の第２プリズム体７２Ａを作製する。
【００１１】
続いて図７（３）に示す光学研磨工程では、第１プリズム体７１Ａの、ダイクロイックプリズム７の第１プリズム７ａにおいてレーザ光が透過および反射する面となる３つの表面７１ａ，７１ｂ，７１ｃに対して個別に光学研磨を行うとともに、第２プリズム体７２Ａの、ダイクロイックプリズム７の第２プリズム７ｂにおいてレーザ光が透過および反射する面となる２つの表面７２ａ，７２ｂに対して個別に光学研磨を行う。この光学研磨工程において、合計５つの表面７１ａ，７１ｂ，７１ｃ；７２ａ，７２ｂが個別に研磨される。
【００１２】
続いて図７（４）に示すコーティング工程では、前述の光学研磨工程において光学研磨が施された第１および第２プリズム体７１Ａ，７２Ａの各表面のうち、ダイクロイックプリズム７の第１および第２プリズム７ａ，７ｂにおいてレーザ光が透過する面、換言すれば、ダイクロイックプリズム７の外方に臨む表面となる３つの表面７１ａ，７１ｃ，７２ｂに、真空蒸着法によって、反射防止膜をコーティングする。また光学研磨が施された第１プリズム体７１Ａの各表面のうち、ダイクロイックプリズム７においてレーザ光が反射する面、換言すれば、ダイクロイックプリズム７の接合部７ｃとなる表面７１ｂに、真空蒸着法によって、波長選択性の反射膜をコーティングする。このコーティング工程では、合計４つの表面７１ａ，７１ｂ，７１ｃ；７２ｂが個別にコーティングされる。
【００１３】
続いて図７（５）に示す貼合せ工程では、第１および第２プリズム体７１Ａ，７２Ａの各表面のうち、ダイクロイックプリズム７の接合部７ｃとなる表面７１ｂ，７２ａに紫外線硬化性接着剤を塗布して、これらの表面７１ｂ，７２ａを貼合わせて、第１および第２プリズム体７１Ａ，７２Ａを接合して、大プリズム体７７を作製する。
【００１４】
最後に図７（６）に示す切断工程では、前述の貼合わせ工程において作製された大プリズム体７７を切断して、複数のダイクロイックプリズム７が製造される。
【００１５】
【特許文献１】
特開２００１−１１００８１号公報（第４−５頁、図８）
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
図５に示す第１の従来技術の光ピックアップ装置１では、ダイクロイックミラー６を製造するときの精度が非常に厳しく、前記一表面６ａと前記他表面６ｂとの成す角である頂角γを±２分以内の公差で製造する必要がある。しかし技術的には、前記頂角γの公差は、±３分が限度であり、このためにダイクロイックミラー６は、安定した性能が得られないという問題がある。
【００１７】
また図６に示す第２の従来技術の光ピックアップ装置２では、ダイクロイックプリズム７は、２つの多角柱状のプリズム７ａ，７ｂを接合して製造するので、製造時には、図７に示すように、少なくとも５つの表面を研磨する研磨工程が必要であり、製造コストが高くなる問題がある。また、発散光中で動作するダイクロイックミラー用反射膜は入射角を６０度前後としなければならないという設計上の制限があるので、ダイクロイックプリズム７は、図６に示すように、その外形寸法を十分大きくする必要がある。
【００１８】
したがって本発明の目的は、透過する光の非点収差が予め定める設定値以下になるように設定されるとともに、容易に製造することができる光学素子および前記光学素子を備える光ピックアップ装置を提供することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、透光性を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第１部材と、透光性を有し、前記第１部材の屈折率とは異なる屈折率を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第２部材とを備え、
第１部材の一表面と第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合され、
第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定されることを特徴とする光学素子である。
【００２０】
本発明に従えば、透光性を有する第１部材の一表面と透光性を有する第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合されている。これによって、第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とが、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定される光学素子を、たとえばラップ加工法などの加工精度が非常に高い加工法を適用して、高精度かつ容易に製造することができる。またラップ加工法において、第１部材の一表面と第２部材の他表面とを同時に加工するので、前記２つの表面を個々に加工するような加工法を適用して製造する場合に比べて、製造における加工工程数を少なくすることができる。
【００２１】
さらに第１部材の一表面と第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合されているので、非点収差の設定値以下にするために必要な第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度、および第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差を、従来のダイクロイックミラーの光の入射する一表面が光の出射する他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差より充分に大きくすることができる。これによって第１部材および第２部材を容易に製造することができる。
【００２２】
また本発明は、第１部材の一表面に、予め定める波長の光を反射する反射膜が設けられることを特徴とする。
【００２３】
本発明に従えば、第１部材の一表面に、予め定める波長の光を反射する反射膜が設けられるので、異なる位置に配置される２つの光源を備え、前記２つの光源からの光を１つの対象物に導く装置において、一方の光源からの光を透過するとともに、他方の光源からの光を反射することによって、好適に１つの対象物に、非点収差が設定値以下になる光を導くことができる。
【００２４】
また本発明は、第１部材の屈折率は、第２部材の屈折率よりも小さいことを特徴とする。
【００２５】
本発明に従えば、第１部材の屈折率を、第２部材の屈折率よりも小さくすることによって、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００２６】
また本発明は、第１部材の屈折率は１．５１であり、第２部材の屈折率は１．６７であり、第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、５．６度であることを特徴とする。
【００２７】
本発明に従えば、第１部材の屈折率は１．５１であり、第２部材の屈折率は１．６７であり、第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、５．６度である。これによって、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００２８】
また本発明は、予め定める波長の光を出射する第１発光手段と、
前記第１発光手段が出射する光の波長とは異なる波長の光を出射する第２発光手段と、
第１発光手段からの光を透過するとともに、透過される第１発光手段からの光の光軸と一致するように、第２発光手段からの光を反射する光学素子と、
前記光学素子を透過した第１発光手段からの光と前記光学素子で反射された第２発光手段からの光とを、光記録媒体に集光する集光手段と、
光記録媒体で反射された光を検出する光検出手段とを備える光ピックアップ装置であって、
前記光学素子は、透光性を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第１部材と、透光性を有し、前記第１部材の屈折率とは異なる屈折率を有し、一表面および前記一表面に対して傾斜する他表面が形成される第２部材とを備え、
第１部材の一表面と第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合され、
第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定されることを特徴とする光ピックアップ装置である。
【００２９】
本発明に従えば、第１発光手段からの光は、光学素子を透過して、集光手段によって光記録媒体に集光され、前記第１発光手段からの光とは異なる波長の第２発光手段からの光は、光学素子を透過する前記第１発光手段からの光の光軸と一致するように、光学素子で反射して、集光手段によって光記録媒体に集光される。光学素子の第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とは、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定されるので、光学素子を透過した第１発光手段からの光には、前記設定値以下の非点収差とすることができる。また光記録媒体で反射された光は、光検出手段によって検出される。
【００３０】
また光学素子の透光性を有する第１部材の一表面と透光性を有する第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合されている。これによって、光学素子の第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とが、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定される光学素子を、たとえばラップ加工法などの加工精度が非常に高い加工法を適用して、高精度かつ容易に製造することができる。またラップ加工法において、光学素子の第１部材の一表面と第２部材の他表面とを同時に加工するので、前記２つの表面を個々に加工するような加工法を適用して製造する場合に比べて、製造における加工工程数を少なくすることができる。
【００３１】
さらに光学素子の第１部材の一表面と第２部材の他表面とが平行になるようにして、第１部材の他表面と第２部材の一表面とが接合されているので、非点収差の設定値以下にするために必要な第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度、および第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差を、従来のダイクロイックミラーの光の入射する一表面が光の出射する他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差より充分に大きくすることができる。これによって第１部材および第２部材を容易に製造することができる。
【００３２】
また本発明は、光学素子の第１部材の一表面に、第１発光手段からの光を透過するとともに、第２発光手段からの光を反射する反射膜が設けられ、
光学素子は、第１発光手段からの光が、第２部材の他表面から入射して第１部材の一表面から出射するように配置されていることを特徴とする。
【００３３】
本発明に従えば、光学素子は、第１発光手段からの光が、第２部材の他表面から入射して第１部材の一表面から出射するように配置され、光学素子の第１部材の一表面に、第１発光手段からの光を透過するとともに、第２発光手段からの光を反射する反射膜が設けられる。これによって第１発光手段からの光を、光学素子の第２部材の他表面から入射して第１部材の一表面から確実に出射させるとともに、第２発光手段からの光を、光学素子の第１部材の一表面に設けられる反射膜によって反射させることができる。また、たとえば光学素子の第２部材の他表面に前記反射膜が設けられる場合には、第２発光手段からの光が第２部材を透過するときに、第２発光手段からの光に非点収差が生じるけれども、光学素子の第１部材の一表面に、第２発光手段からの光を反射する反射膜を設けることによって、反射膜で反射する光に非点収差が生じることを確実に防止することができる。
【００３４】
また本発明は、光学素子の第１部材の屈折率は、第２部材の屈折率よりも小さいことを特徴とする。
【００３５】
本発明に従えば、第１部材の屈折率を、第２部材の屈折率よりも小さくすることによって、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００３６】
また本発明は、光学素子は、第１発光手段からの光が第２部材の他表面に入射する入射角の正弦が、前記光が第２部材の他表面において屈折する屈折角の正弦と第２部材の屈折率との積よりも大きくなるように配置されることを特徴とする。
【００３７】
本発明に従えば、光学素子は、第１発光手段からの光が第２部材の他表面に入射する入射角の正弦が、前記光が第２部材の他表面において屈折する屈折角の正弦と第２部材の屈折率との積よりも大きくなるように配置される。これによって、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の一形態の光ピックアップ装置３０を模式的に示す図である。図２は、光学素子５０を拡大して示す図である。光ピックアップ装置３０は、たとえばコンパクトディスク（Ｃｏｍｐａｃｔ　Ｄｉｓｃ；略称：ＣＤ）およびデジタルバーサタイルディスク（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ　Ｄｉｓｃ；略称：ＤＶＤ）などの光記録媒体８０の情報記録面に情報を記録したり、情報記録面に記録されている情報を読み出して再生する光記録媒体記録再生装置に搭載される。光ピックアップ装置３０は、第１ユニット１０、第２ユニット２０、光学素子５０、コリメートレンズ４および対物レンズ５を含んで構成される。
【００３９】
第１ユニット１０は、第１半導体レーザ素子１１、第１回折素子１２および第１受光素子１３を含んで構成される。第１発光手段である第１半導体レーザ素子１１は、本実施の形態において、波長が７８０ナノメートルのレーザ光を出射する。第１回折素子１２は、第１半導体レーザ素子１１からのレーザ光を０次回折光として透過するとともに、第１ユニット１０の外部から入射した光を回折させて第１受光素子１３に入射させるような回折格子が形成される。受光手段である第１受光素子１３は、受光した光を電気信号に変換する。
【００４０】
第２ユニット２０は、第２半導体レーザ素子２１、第２回折素子２２および第２受光素子２３を含んで構成される。第２発光手段である第２半導体レーザ素子２１は、本実施の形態において、波長が６５０ナノメートルのレーザ光を出射する。第２回折素子２２は、第２半導体レーザ素子２１からのレーザ光を０次回折光として透過するとともに、第２ユニット２０の外部から入射した光を回折させて第２受光素子２３に入射させるような回折格子が形成される。受光手段である第２受光素子２３は、受光した光を電気信号に変換する。
【００４１】
第１ユニット１０の第１半導体レーザ素子１１から出射して、第１回折素子１２を０次回折光として透過したレーザ光、および第２ユニット２０の第２半導体レーザ素子２１から出射して、第２回折素子２２を０次回折光として透過したレーザ光は、各半導体レーザ素子１１，２１から遠ざかるにつれて光束が拡径するような発散光である。また光学素子５０を透過したレーザ光および光学素子５０において反射したレーザ光も、発散光である。本実施の形態において、光学素子５０を透過したレーザ光および光学素子５０において反射したレーザ光の開き角（半角の開き角）δは、６度である。
【００４２】
光学素子５０は、図２に示すように、第１部材５１および第２部材５２を備える。第１部材５１は、透光性を有し、一表面である第１表面５１ａおよび前記第１表面５１ａに対して角度αで傾斜する他表面である第２表面５１ｂが形成される。第１部材５１は、本実施の形態において、屈折率Ｎが１．５１、厳密には１．５１１０８であるＢＫ７と呼ばれるガラス材から成る。また第１部材５１の第１表面５１ａに、第２半導体レーザ素子２１からの波長が６５０ナノメートルの光を反射するとともに、第１半導体レーザ素子１１からの波長が７８０ナノメートルの光を透過する波長選択性の反射膜５３が設けられる。また第１部材５１の第２表面５１ｂには、反射防止膜が設けられる（図示せず）。
【００４３】
第２部材５２は、透光性を有し、前記第１部材５１の屈折率Ｎとは異なる屈折率ｎを有し、一表面である第３表面５２ａおよび前記第３表面５２ａに対して角度αで傾斜する他表面である第４表面５２ｂが形成される。第２部材５２は、本実施の形態において、屈折率ｎが１．６７、厳密には１．６７４７７であるＳＦ８と呼ばれるガラス材から成る。また第２部材５２の第４表面５２ｂには、反射防止膜が設けられる（図示せず）。
【００４４】
本実施の形態において、反射膜５３は、波長が７８０ナノメートルの光を透過して、波長が６５０ナノメートルの光を反射するような波長選択性を有している。これは、収差に対する許容量は、ＤＶＤとＣＤとを比較すると、ＤＶＤの方が小さく、また光は、原理的に、反射するときと透過するときとでは、反射するときの方が収差が生じにくい、という理由からである。
【００４５】
光学素子５０は、第１部材５１の第１表面５１ａと第２部材５２の第４表面５２ｂとが平行になるようにして、第１部材５１の第２表面５１ｂと第２部材５２の第３表面５２ａとが接合されて形成される。第１部材５１の第１表面５１ａが第２表面５１ｂに対して傾斜する角度αと、第２部材５２の第３表面５２ａが第４表面５２ｂに対して傾斜する角度αとは、第１部材５１の第１表面５１ａから第２部材５２の第４表面５２ｂへ透過する光、および第２部材５２の第４表面５２ｂから第１部材５１の第１表面５１ａへ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定される。
【００４６】
本実施の形態において、前記設定値は、第１部材５１の第１表面５１ａから第２部材５２の第４表面５２ｂへ透過する光、および第２部材５２の第４表面５２ｂから第１部材５１の第１表面５１ａへ透過する光の波長λの０．０１倍とし、具体的には、７．８ナノメートルである。このとき第１部材５１の第１表面５１ａが第２表面５１ｂに対して傾斜する角度α、および第２部材５２の第３表面５２ａが第４表面５２ｂに対して傾斜する角度αは、５．６度に設定される。また、以後、第１部材５１の第１表面５１ａが第２表面５１ｂに対して傾斜する角度α、および第２部材５２の第３表面５２ａが第４表面５２ｂに対して傾斜する角度αを、頂角αと表記することがある。
【００４７】
また光学素子５０は、第１半導体レーザ素子１１からの光が第２部材５２の第４表面５２ｂに入射する入射角θ１の正弦が、前記光が第２部材５２の第４表面５２ｂにおいて屈折する屈折角θ２、換言すれば、前記光が第２部材５２の第３表面５２ａから出射する出射角θ２、さらに換言すれば、前記光が第１部材５１の第２表面５１ｂに入射する入射角θ２の正弦と第２部材の屈折率ｎとの積よりも大きくなるように配置される。この関係を次式（１）に示す。
ｓｉｎθ１　＞　ｎ・ｓｉｎθ２　　　　　　　　　　　　　　…（１）
【００４８】
前式（１）において、「ｓｉｎ」は、正弦（ｓｉｎｅ）を示す三角関数であり、「・」は、積を示す演算記号である。本実施の形態において、第１半導体レーザ素子１１からの光が光学素子５０の第２部材５２の第４表面５２ｂに入射する入射角θ１は、３２．５度である。
【００４９】
コリメートレンズ４は、光学素子５０よりも光記録媒体８０側であって、光学素子５０の第１表面５１ａに臨むようにして配置される。光学素子５０を透過した第１半導体レーザ素子１１からの光、および光学素子５０において反射した第２半導体レーザ素子２１からの光は、光学素子５０から遠ざかるにつれて光束が拡径するような発散光であり、コリメートレンズ４は、このような発散光を、光束が光軸に平行に延びる平行光に変換する。対物レンズ５は、コリメートレンズ４からの平行光を、光記録媒体８０の情報記録面に集光する。本実施の形態において集光手段は、コリメートレンズ４および対物レンズ５を含んで構成される。
【００５０】
第１ユニット１０の第１半導体レーザ素子１１から出射された波長が７８０ナノメートルのレーザ光は、第１ユニット１０の第１回折素子１２を０次回折光として透過して、光学素子５０を屈折しながら透過する。光学素子５０を透過した第１半導体レーザ素子１１からのレーザ光は、コリメートレンズ４を透過することによって、発散光から平行光に変換され、さらに対物レンズ５を透過することによって、収束光に変換されて、光記録媒体８０の情報記録面に集光される。このときの光記録媒体８０は、ＣＤである。
【００５１】
光記録媒体８０の情報記録面において反射した第１半導体レーザ素子１１からのレーザ光（以後、光記録媒体８０で反射したレーザ光を「反射光」と表記することがある。）は、対物レンズ５を透過することによって、発散光から平行光に変換され、さらにコリメートレンズ４を透過することによって、収束光に変換される。コリメートレンズ４を透過した光記録媒体８０からの波長が７８０ナノメートルの反射光は、光学素子５０を透過して、第１ユニット１０の第１回折素子１２に入射する。第１ユニット１０の第１回折素子１２に入射した反射光は、第１回折素子１２の回折格子によって回折して、第１受光素子１３に入射する。
【００５２】
第２ユニット２０の第２半導体レーザ素子２１から出射された波長が６５０ナノメートルのレーザ光は、第２ユニット２０の第２回折素子２２を０次回折光として透過して、光学素子５０で反射する。光学素子５０で反射した第２半導体レーザ素子２１からのレーザ光は、コリメートレンズ４を透過することによって、発散光から平行光に変換され、さらに対物レンズ５を透過することによって、収束光に変換されて、光記録媒体８０の情報記録面に集光される。このときの光記録媒体８０は、ＤＶＤである。
【００５３】
光記録媒体８０の情報記録面において反射した第２半導体レーザ素子２１からのレーザ光（以後、光記録媒体８０で反射したレーザ光を「反射光」と表記することがある。）は、対物レンズ５を透過することによって、発散光から平行光に変換され、さらにコリメートレンズ４を透過することによって、収束光に変換される。コリメートレンズ４を透過した光記録媒体８０からの波長が６５０ナノメートルの反射光は、光学素子５０で反射して、第２ユニット２０の第２回折素子２２に入射する。第２ユニット２０の第２回折素子２２に入射した反射光は、第２回折素子２２の回折格子によって回折して、第２受光素子２３に入射する。
【００５４】
図３は、光学素子５０の製造工程を模式的に示す図である。まず図３（１）に示す部材切出し工程では、光学ガラス塊から、光学素子５０の第１部材５１および第２部材５２の素材となる略直方体状の第１素材１５１および第２素材１５２を切り出す。
【００５５】
続いて図３（２）に示す粗研磨整形工程では、第１素材１５１を研削して、長手方向に垂直な断面形状が直角三角形となる三角柱状の第１大部材１５１Ａを作製するとともに、第２素材１５２を研削して、長手方向に垂直な断面形状が直角三角形となる三角柱状の第２大部材７２Ａを作製する。
【００５６】
続いて図３（３）に示す光学研磨工程では、光学素子５０の第１部材５１の第２表面５１ｂとなる、第１大部材１５１Ａの表面１５１ｂに対して光学研磨を行うとともに、光学素子５０の第２部材５２の第３表面５２ａとなる、第２大部材１５２Ａの表面１５２ａに対して光学研磨を行う。この光学研磨工程において、合計２つの表面１５１ｂ，１５２ａが個別に研磨される。前述の光学研磨が施される第１大部材１５１Ａの表面１５１ｂは、第１大部材１５１Ａを長手方向に垂直な仮想平面に投影したときに、直角三角形の斜辺を成す面である。また前述の光学研磨が施される第２大部材１５２Ａの表面１５２ａは、第２大部材１５２Ａを長手方向に垂直な仮想平面に投影したときに、直角三角形の斜辺を成す面である。
【００５７】
続いて図３（４）に示す第１コーティング工程では、前述の光学研磨工程において光学研磨が施された第１大部材１５１Ａの表面１５１ｂに、真空蒸着法によって、反射防止膜（図示せず）をコーティングする。
【００５８】
続いて図３（５）に示す両面ラップ工程では、まず前述の第１コーティング工程において反射防止膜がコーティングされた第１大部材１５１Ａの表面１５１ｂと、前述の光学研磨工程において光学研磨が施された第２大部材１５２Ａの表面１５２ａとに紫外線硬化性接着剤を塗布して、これらの表面１５１ｂ，１５２ａを貼合わせて、第１および第２大部材１５１Ａ，１５２Ａを接合して大素子体５５を作製する。このとき、大素子体５５は、長手方向に垂直な断面形状が長方形となる四角柱状となる。次に、光学素子５０の第１表面５１ａおよび第４表面５２ｂとなる、大素子体５５の長手方向に沿って互いに平行に延びる２つの表面１５１ａ，１５２ｂに対して、平面ラップ加工法によって同時にラッピングする。
【００５９】
平面ラップ加工法は、平面状に形成される表面を有し、前記表面同士が互いに平行となるように上下方向に間隔をあけて配置される２つの定盤の間に、被加工物を配置して、各定盤と被加工物の被加工面との隙間に、非常に小さい粒径の研磨材を含有する研磨液を供給して、被加工物を２つの定盤で圧力をかけて挟持しながら、被加工物を定盤に対して相対的に回転させることによって、被加工面を研磨して高精度な平面に加工する加工法である。
【００６０】
続いて図３（６）に示す第２コーティング工程では、前述の両面ラップ工程においてラッピングされた大素子体５５の２つの表面１５１ａ，１５２ｂのうち、光学素子５０の第１表面５１ａとなる表面１５１ａに、真空蒸着法によって、反射膜１５３をコーティングするとともに、光学素子５０の第４表面５２ｂとなる表面１５２ｂに、真空蒸着法によって、反射防止膜（図示せず）をコーティングする。前記反射膜５３は、光学素子５０において反射膜５３となる。
【００６１】
最後に図３（７）に示す切断工程では、反射膜１５３がコーティングされた大素子体５５を切断して、複数の光学素子５０が製造される。
【００６２】
表１は、本実施の形態の光学素子５０と、従来技術のダイクロイックミラー６とに関して光学シミュレーションを行い、非点収差を透過させる光の波長λの０．０１倍にするために必要な加工公差を比較して示す表である。
【００６３】
【表１】
2004133126.tif 000003
【００６４】
この光学シミュレーションにおいて、光学素子５０の第１および第２部材５１，５２の中央部の厚み方向寸法（以後「中心厚さ」と表記することがある。）は、それぞれ０．５ミリメートルである。また、この光学シミュレーションにおいて、従来技術のダイクロイックミラー６の材質をＢＫ７と呼ばれるガラス材とし、中心厚さは、１ミリメートルである。この光学シミュレーションにおいて、光学素子５０およびダイクロイックミラー６に入射させるレーザ光の波長は７８０ナノメートルであり、入射角は３２．５度であり、透過する発散光の開き角は６度である。
【００６５】
表１に示すように、透過するレーザ光の非点収差を、レーザ光の波長λの０．０１倍にするためには、従来技術のダイクロイックミラー６では、レーザ光が入射する入射面と、透過したレーザ光が出射する出射面との成す角の公差を、±２分以下にする必要がある。しかし光学素子５０では、第１部材５１の頂角α、および第２部材５２の頂角αの公差を、±１０分に緩和することができる。光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａおよび第２表面５１ｂならびに第２部材５２の第３表面５２ａおよび第４表面５２ｂを加工するときの頂角αの精度は、±３分程度と考えられており、前述の±３分の精度は、前記交差を充分に達成しており、光学素子５０が安定した性能を得るのに充分な精度である。
【００６６】
光学素子５０において、第１半導体レーザ素子１１からのレーザ光が入射する第４表面５２ｂと、前記レーザ光が光学素子５０を透過して出射する第１表面５１ａとの平行度は、１．７分以下とする必要があるけれども、これらの第１表面５１ａおよび第４表面５２ｂの加工には、平面ラップ加工法を適用することができ、±１分の精度を容易に達成することができる。
【００６７】
また、図３に示す光学素子５０の製造工程と、図７に示す従来技術のダイクロイックプリズム７の製造工程とを比較すると、平面ラップ加工法を用いることによって、光学素子５０の第１表面５１ａおよび第４表面５２ｂが同時に加工されるので、研磨する面は実質的に３面となる。一方、従来のダイクロイックプリズム７では合計５つの面を個別に研磨しなけらばならない。したがって光学素子５０の製造工程における研磨回数は、従来のダイクロイックプリズム７の半分で済み、製造時間および製造コストの大幅な縮小、および量産性の大幅な向上が期待できる。
【００６８】
表２は、光学素子５０の第１部材５１の屈折率Ｎと第２部材５２の屈折率ｎとの大小と、第１および第２部材５１，５２の頂角、波長が７８０ナノメートルの光が第２部材５２の第４表面５２ｂに入射する入射角θ１、前記光が第２部材５２の第４表面５２ｂにおいて屈折する屈折角θ２、および残存する収差との関係を示す表である。
【００６９】
【表２】
2004133126.tif 000004
【００７０】
表２に示すように、光学素子５０は、第１部材５１の屈折率Ｎが第２部材５２の屈折率ｎよりも小さく、かつ式（１）の関係を満たすように配置されている方が、第１部材５１の屈折率Ｎが第２部材５２の屈折率ｎよりも大きく、かつ式（１）の関係を満たしていない場合よりも、残存する収差が小さく、好ましいことがわかる。
【００７１】
図４は、光学素子５０における頂角αと収差との関係を示すグラフである。図４に示すように、光学素子５０における頂角αと収差とは、下に凸となる２次曲線Ｃを描き、収差は、頂角αが５．６度で最小値０．００８７λをとる。したがって最適な頂角αは、５．６度である。
【００７２】
以上のように本実施の形態の光ピックアップ装置３０によれば、第１半導体レーザ素子１１からの光は、光学素子５０を透過して、対物レンズ５によって光記録媒体８０に集光され、前記第１半導体レーザ素子１１からの光とは異なる波長の第２半導体レーザ素子２１からの光は、光学素子５０を透過する前記第１半導体レーザ素子１１からの光の光軸と一致するように、光学素子５０で反射して、対物レンズ５によって光記録媒体８０に集光される。光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａが第２表面５１ｂに対して傾斜する角度αと、第２部材５２の第３表面５２ａが第４表面５２ｂに対して傾斜する角度αとは、第１部材５１の第１表面５１ａから第２部材５２の第４表面５２ｂへ透過する光、および第２部材５２の第４表面５２ｂから第１部材５１の第１表面５１ａへ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定されるので、光学素子５０を透過した第１半導体レーザ素子１１からの光を、前記設定値以下の非点収差にすることができる。
【００７３】
また光学素子５０の透光性を有する第１部材５１の第１表面５１ａと透光性を有する第２部材５２の第４表面５２ｂとが平行になるようにして、第１部材５１の第２表面５１ｂと第２部材５２の第３表面５２ａとが接合されている。これによって、光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａが第２表面５１ｂに対して傾斜する角度αと、第２部材５２の第３表面５２ａが第４表面５２ｂに対して傾斜する角度αとが、第１部材５１の第１表面５１ａから第２部材５２の第４表面５２ｂへ透過する光、および第２部材５２の第４表面５２ｂから第１部材５１の第１表面５１ａへ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定される光学素子５０を、たとえばラップ加工法などの加工精度が非常に高い加工法を適用して、高精度かつ容易に製造することができる。またラップ加工法において、光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａと第２部材５２の第４表面５２ｂとを同時に加工するので、前記２つの表面５１ａ，５２ｂを個々に加工するような加工法を適用して製造する場合に比べて、製造における加工工程数を少なくすることができる。
【００７４】
さらに光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａと第２部材５２の第４表面５２ｂとが平行になるようにして、第１部材５１の第２表面５１ｂと第２部材５２の第３表面５２ａとが接合されているので、非点収差の設定値以下にするために必要な第１部材５１の第１表面５１ａが第２表面５１ｂに対して傾斜する角度α、および第２部材５２の第３表面５２ａ第４表面５２ｂに対して傾斜する角度αに関する加工公差を、従来のダイクロイックミラー６（図５参照）の光の入射する表面６ｂが光の出射する表面６ａに対して傾斜する角度に関する加工公差より充分に大きくすることができる。これによって第１部材５１および第２部材５２を容易に製造することができる。
【００７５】
また本実施の形態の光ピックアップ装置３０によれば、光学素子５０は、第１半導体素子１１からの光が、第２部材５２の第４表面５２ｂから入射して第１部材５１の第１表面５１ａから出射するように配置され、光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａに、第１半導体レーザ素子１１からの光を透過するとともに、第２半導体レーザ素子２１からの光を反射する反射膜５３が設けられる。これによって第１半導体レーザ素子１１からの光を、光学素子５０の第２部材５２の第４表面５２ｂから入射して第１部材５１の第１表面５１ａから確実に出射させるとともに、第２半導体レーザ素子２１からの光を、光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａに設けられる反射膜５３によって反射させることができる。また、たとえば光学素子５０の第２部材５２の第３表面５２ａに前記反射膜５３が設けられる場合には、第２半導体レーザ素子２１からの光が第２部材５２を透過するときに、前記光に非点収差が生じるけれども、光学素子５０の第１部材５１の第１表面５１ａに、第２半導体レーザ素子５２からの光を反射する反射膜５３を設けることによって、反射膜５３で反射する光に非点収差が生じることを確実に防止することができる。
【００７６】
また本実施の形態の光ピックアップ装置３０によれば、光学素子５０の第１部材５１の屈折率Ｎを、第２部材５２の屈折率ｎよりも小さくすることによって、第１部材５１の第１表面５１ａから第２部材５２の第４表面５２ｂへ透過する光、および第２部材５２の第４表面５２ｂから第１部材５１の第１表面５１ａへ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００７７】
また本実施の形態の光ピックアップ装置３０によれば、光学素子５０は、第１半導体レーザ素子５１からの光が第２部材５２の第４表面５２ｂに入射する入射角θ１の正弦ｓｉｎθ１が、前記光が第２部材５２の第４表面５２ｂにおいて屈折する屈折角θ２の正弦ｓｉｎθ２と第２部材の屈折率ｎとの積ｎ・ｓｉｎθ２よりも大きくなるように配置される。これによって、第１部材５２の第１表面５１ａから第２部材５２の第４表面５２ｂへ透過する光、および第２部材５２の第４表面５２ｂから第１部材５１の第１表面５１ａへ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００７８】
また本実施の形態の光ピックアップ装置３０によれば、光学素子５０の第１部材５１の屈折率Ｎは１．５１であり、第２部材５２の屈折率ｎは１．６７であり、第１部材５１の第１表面５１ａが第２表面５１ｂに対して傾斜する角度αと、第２部材５２の第３表面５２ａが第４表面５２ｂに対して傾斜する角度αとは、５．６度である。これによって、第１部材５１の第１表面５１ａから第２部材５２の第４表面５２ｂへ透過する光、および第２部材５２の第４表面５２ｂから第１部材５１の第１表面５１ａへ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００７９】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とが、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定される光学素子を、たとえばラップ加工法などの加工精度が非常に高い加工法を適用して、高精度かつ容易に製造することができる。またラップ加工法において、第１部材の一表面と第２部材の他表面とを同時に加工するので、前記２つの表面を個々に加工するような加工法を適用して製造する場合に比べて、製造における加工工程数を少なくすることができる。さらに非点収差の設定値以下にするために必要な第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度、および第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差を、従来のダイクロイックミラーの光の入射する一表面が光の出射する他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差より充分に大きくすることができる。これによって第１部材および第２部材を容易に製造することができる。
【００８０】
また本発明によれば、異なる位置に配置される２つの光源を備え、前記２つの光源からの光を１つの対象物に導く装置において、一方の光源からの光を透過するとともに、他方の光源からの光を反射することによって、好適に１つの対象物に、非点収差が設定値以下になる光を導くことができる。
【００８１】
また本発明によれば、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００８２】
また本発明によれば、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００８３】
また本発明によれば、光学素子を透過した第１発光手段からの光には、前記設定値以下の非点収差とすることができる。光学素子の第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度と、第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度とが、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差が、予め定める設定値以下になるように設定される光学素子を、たとえばラップ加工法などの加工精度が非常に高い加工法を適用して、高精度かつ容易に製造することができる。またラップ加工法において、光学素子の第１部材の一表面と第２部材の他表面とを同時に加工するので、前記２つの表面を個々に加工するような加工法を適用して製造する場合に比べて、製造における加工工程数を少なくすることができる。さらに非点収差の設定値以下にするために必要な第１部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度、および第２部材の一表面が他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差を、従来のダイクロイックミラーの光の入射する一表面が光の出射する他表面に対して傾斜する角度に関する加工公差より充分に大きくすることができる。これによって第１部材および第２部材を容易に製造することができる。
【００８４】
また本発明によれば、第１発光手段からの光を、光学素子の第２部材の他表面から入射して第１部材の一表面から確実に出射させるとともに、第２発光手段からの光を、光学素子の第１部材の一表面に設けられる反射膜によって反射させることができる。また、たとえば光学素子の第２部材の他表面に前記反射膜が設けられる場合には、第２発光手段からの光が第２部材を透過するときに、第２発光手段からの光に非点収差が生じるけれども、光学素子の第１部材の一表面に、第２発光手段からの光を反射する反射膜を設けることによって、反射膜で反射する光に非点収差が生じることを確実に防止することができる。
【００８５】
また本発明によれば、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【００８６】
また本発明によれば、第１部材の一表面から第２部材の他表面へ透過する光、および第２部材の他表面から第１部材の一表面へ透過する光に生じる非点収差をさらに小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態の光ピックアップ装置３０を模式的に示す図である。
【図２】光学素子５０を拡大して示す図である。
【図３】光学素子５０の製造工程を模式的に示す図である。
【図４】光学素子５０における頂角αと収差との関係を示すグラフである。
【図５】第１の従来技術である光ピックアップ装置１を模式的に示す図である。
【図６】第２の従来技術である光ピックアップ装置２を模式的に示す図である。
【図７】ダイクロイックプリズム７の製造工程を模式的に示す図である。
【符号の説明】
３０　光ピックアップ装置
５０　光学素子
５１　第１部材
５１ａ　第１表面
５１ｂ　第２表面
５２　第２部材
５２ａ　第３表面
５２ｂ　第４表面
５３　反射膜
１１，２１　半導体レーザ素子
１３，２３　受光素子
４　コリメートレンズ
５　対物レンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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