(57)【要約】【課題】放熱ブロックの材料に拘わらず、半導体レーザ素子の放熱特性を改善する。【解決手段】第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２が同一ブロック１０１に配置され、第１半導体レーザ素子３１の第１電極６１はブロック１０１に直接接触しており、放熱効果が高い。第２半導体レーザ素子３２の第２電極６２は絶縁性の誘電体層５上に配置されており、ブロック１０１と第２半導体レーザ素子３２は電気的に絶縁されている。このため、ブロック１０１の構成材料に拘わらず、第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２とを独立して駆動できる。また、第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２の発光点間隔は各半導体レーザの電極間隔と半導体レーザチップ端面の発光点位置のみに制限を受けるため、可及的に短くできる。【選択図】　図１
2004055744.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放熱用ブロックと、前記放熱用ブロック上に一方の電極を接触させて配置された１つ以上の第１半導体レーザ素子と、前記放熱用ブロック上に誘電体層を介して電気的に絶縁されて配置された１つ以上の第２半導体レーザ素子と、を有することを特徴とする半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記第１及び第２半導体レーザ素子は、半導体レーザを１つのチップ上に組み込んだものであり、この１チップにおける第１半導体レーザ素子の部分がその一方の電極を前記ブロックに接触させ、第２半導体レーザ素子の部分が前記誘電体層上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
前記放熱用ブロックが、電気的導体又は半導体であることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体レーザ装置。
【請求項４】
前記放熱用ブロック上には、光出力モニター用のフォトダイオードが作り込まれていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
【請求項５】
前記誘電体層が、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウムからなる群から選択された１種により形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
【請求項６】
前記第１半導体レーザ素子は、前記第２半導体レーザ素子より駆動時の発熱が大きいか又は素子露出面からの放熱が小さいことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
【請求項７】
前記第１半導体レーザ素子は波長６５０ｎｍ帯のレーザ光を出射する半導体レーザであり、前記第２半導体レーザ素子は波長７８０ｎｍ帯のレーザ光を出射する半導体レーザであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザ装置に関し、特に光通信機器又はＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ　Ｄｉｓｃ）及びＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ　Ｄｉｓｃ）等の光情報機器における光ディスク用光源等として使用される半導体レーザ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体レーザは、動作時の発熱を効率よく放熱させるため、熱伝導率の高いブロック等に融着され固定されて使用されることが多い。一方、半導体レーザ装置のより一層の小型化を実現するために、複数の光源を１つのパッケージの中に組み込んだり、更には、１つのブロックに複数の光源をマウントし、複数のレーザ光を出射させたりすることができる半導体レーザ装置が求められている。例えば、最近の光ディスク・システムにおいては、ＣＤ及びＤＶＤ等の読み出し及び書き込みに用いるための光源として、光スポット径が大きなＣＤ用に波長域７８０ｎｍ帯の赤外半導体レーザと、小さな光スポット径を要求されるＤＶＤ用に波長域６５０ｎｍ帯の赤色半導体レーザとが、１つのパッケージの中に組み込まれた製品が主流になってきている。これらの半導体レーザの発光点間隔は、この光ピックアップの構成上、約１００μｍ以下であることが必要とされる。
【０００３】
このような半導体レーザ装置の小型化を実現するための技術として、特開平１０−２８９４６８では、波長が異なる２つの半導体レーザを横に並べてユニット化する技術が開示されている。また、特開２０００−１１４１７では、波長が異なる複数の半導体レーザを１つのチップに作り込む技術が開示されている。
【０００４】
このような従来技術による半導体レーザ装置においては、第１半導体レーザと第２半導体レーザとが、絶縁性ブロック等の上に電気的に絶縁されて形成された２つの電極上に、ハンダ等を介して夫々電気的に独立に配置されている。このような構成をとることにより、第１半導体レーザと第２半導体レーザとを、同一ブロック上で互いに独立して駆動させることができる。よって、これらの半導体レーザの発光点間隔が、電気的に絶縁され独立した２つの電極の間隔及び半導体レーザ端面の発光点位置のみに制限を受ける構造を実現することが可能となる。
【０００５】
しかしながら、絶縁性のブロック等を用いる場合、このブロック等の材料を選択するときに、材質上の制限が発生する。また、絶縁性のブロック等に用いられる材料は、その加工が困難である場合が多い。更にまた、レーザ出力モニター用のフォトダイオードを同じブロック等の上に設ける場合、このフォトダイオードを追加してマウントする必要があるため、このブロック上にマウントされる部品点数が増加し、製造工程及び製造コストの増大を招く要因となる。
【０００６】
例えば、図１１に示すように、絶縁性のブロックの材料を限定せずに半導体レーザ装置を構成する場合、ブロック１０１上に誘電体層５を形成し、その誘電体層５上に第１電極６１と第２電極６２とを相互に離隔させて形成した後、ハンダ６５を介して第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２とを夫々第１電極６１及び第２電極６２上に接合して配置する。このとき、第１電極６１と第２電極６２とが接触していなければ、各半導体レーザ素子３１及び３２は電気的に絶縁されているため、独立駆動させることが可能となる。しかしながら、図１１の半導体レーザ装置の場合、ブロック１０１と半導体レーザ素子３１及び３２との間には誘電体層５が介在することになる。誘電体層５は、一般に、半導体及び金属等の他の材料に比べて熱伝導率が低い。このため、誘電体層上に駆動時の発熱が大きいか、又は露出面からの放熱が小さい半導体レーザ及び温度変化に敏感な半導体レーザをマウントすると、この誘電体層上の半導体レーザの温度特性が著しく悪化してしまう。
【０００７】
一方、特開平５−８２９０４には、唯１つの半導体レーザを備えた半導体レーザ装置ではあるが、半導体レーザをマウントするためのブロックにｎ型半導体基板を用いることにより、この半導体ブロックに放熱材としての機能と半導体レーザの光出力モニター用フォトダイオードの機能とを兼ね備えさせた技術が開示されている。この従来技術では、ｎ型半導体ブロック表面の一部にｐ型半導体を形成することにより、このブロック自身にフォトダイオードとしての機能を持たせる。また、このブロック表面の一部に形成されたｐ型半導体とは異なる部位のｎ型半導体ブロック表面の一部にｐ型半導体を形成し、このｐ型半導体表面に更にｎ型半導体を形成し、このｎ型半導体表面上に電極及びハンダを介して半導体レーザを配置している。
【０００８】
この従来技術を元に、半導体性のブロックに放熱材としての機能と光出力モニター用フォトダイオードの機能とを兼ね備えさせて、複数の半導体レーザをマウントした半導体レーザ装置も考えられる。例えば、図１２に示すように、ｎ型半導体性ブロック１の表面の一部にｐ型半導体層２を形成し、このｐ型半導体層２の表面に２個のｎ型半導体層３を相互に分離して形成する。そして、一方のｎ型半導体層３上に第１電極６１及びハンダ６５を介して第１半導体レーザ素子３１を配置する。また、他方のｎ型半導体層３上に第２電極６２とハンダ６５とを介して第２半導体レーザ素子３２を配置する。各半導体レーザ素子３１，３２の上面には、半導体レーザ電極２４が形成されている。
【０００９】
このような構造である半導体レーザ装置では、第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２とが、一方のｎ型半導体層３とｐ型半導体層２と他方のｎ型半導体層３とで構成されるｎｐｎ構造によって電気的に絶縁されている。よって、各半導体レーザ素子３１，３２を独立駆動することができる。この図１２に示すような半導体レーザ装置の場合、図１１に示すような半導体レーザ装置とは異なり、誘電体層より熱伝導率が高い半導体性ブロック上に、半導体レーザ素子３１，３２がマウントされているので、各半導体レーザ素子３１，３２の温度特性が著しく悪化するようなことはない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１２に示すような半導体レーザ装置では、各半導体レーザ素子３１，３２の電気的絶縁性を保持するために、ｎｐｎ構造を形成する必要がある。このため、これらの半導体レーザ素子３１，３２の発光点間隔は、第１電極６１と第２電極６２との間隔及び半導体レーザ端面の発光点位置に加え、各半導体レーザ素子３１，３２が導通しないために必要なｎｐｎ構造の大きさにより決まるｎ型半導体層３間の距離を加算する必要がある。このため、半導体レーザ素子３１，３２の発光点間隔が必要以上に広がってしまうという問題点がある。
【００１１】
一方、再公表公報ＷＯ００／０４６１４号には、放熱用ブロック上の部品点数を増加させることなく、従来の光ピックアップと同等の組立技術で、異なる光ディスクに対し情報を読み書きすることができる光ピックアップを実現できる半導体レーザ装置を提供することを目的として、第１の半導体レーザ素子の出射光軸と集光レンズの中心軸との間の距離をｄ１、第２の半導体レーザ素子の出射光軸と集光レンズの中心軸との間の距離をｄ２とし、第１及び第２の半導体レーザ素子の出射光軸間距離をＬとしたとき、０≦Ｌ≦ｄ１＋ｄ２≦１６０μｍとなるように第１及び第２の半導体レーザ素子を放熱用ブロックに搭載した半導体レーザ装置が開示されている。
【００１２】
そして、図１３はこの公報に記載された実施形態の半導体レーザ装置を示すが、放熱用ブロック１３１上にサブマウント１３２を搭載し、放熱用ブロック１３１上とサブマウント１３２上とに夫々半導体レーザ１３３及び１３４を配置することにより、各半導体レーザの出射光軸１３５と１３６とが同一高さレベルになるようにして、それらの間隔を最小値にして、出射光軸間距離を所望の１６０μｍ以下に抑制する技術が開示されている。
【００１３】
そして、この従来技術では、サブマウントの材料として、光出力モニター用のフォトダイオードをサブマウント上に形成できることを理由に、特にシリコン等の半導体が好適であるとして推奨している。
【００１４】
しかしながら、この従来技術では、搭載される半導体レーザ素子の放熱特性を向上させるという課題は存在せず、また半導体レーザ素子の温度特性を改善するという課題も存在しない。従って、このような課題を解決するための具体的な手段も開示されていない。
【００１５】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、複数の発光点を有する半導体レーザ装置において、複数の半導体レーザ素子をマウントするブロック等の材料の種類に拘わらず、半導体レーザ素子の放熱特性を改善し、この半導体レーザの温度特性を改善することができると共に、半導体レーザ素子の発光点間隔を可及的に短くすることができる半導体レーザ装置を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半導体レーザ装置は、放熱用ブロックと、前記放熱用ブロック上に一方の電極を接触させて配置された１つ以上の第１半導体レーザ素子と、前記放熱用ブロック上に誘電体層を介して電気的に絶縁されて配置された１つ以上の第２半導体レーザ素子と、を有することを特徴とする。
【００１７】
前記第１及び第２半導体レーザ素子は、半導体レーザを１つのチップ上に組み込んだものとして構成することもできる。この場合は、この１チップにおける第１半導体レーザ素子の部分がその一方の電極を前記ブロックに接触させ、第２半導体レーザ素子の部分が前記誘電体層上に設けられている。
【００１８】
また、前記放熱用ブロックは、電気的導体又は半導体であることが好ましい。
【００１９】
また、前記放熱用ブロック上には、光出力モニター用のフォトダイオードを作り込むことができる。
【００２０】
更にまた、前記誘電体層は、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウムからなる群から選択された１種であることが好適である。
【００２１】
更にまた、前記放熱用ブロック直接接触する第１半導体レーザ素子は、前記誘電体層を介して前記放熱用ブロック上に形成された第２半導体レーザ素子よりも、駆動時の発熱が大きいか又は露出面からの放熱が小さいものとすることが好ましい。
【００２２】
更にまた、前記第１半導体レーザ素子は波長６５０ｎｍ帯のレーザ光を出射する半導体レーザであり、前記第２半導体レーザ素子は波長７８０ｎｍ帯のレーザ光を出射する半導体レーザとすることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は、本発明の第１実施形態に係る半導体レーザ装置を示す斜視図である。本実施形態では、ブロック１０１上に第１電極６１が直接接触するようにして設けられており、この第１電極６１の近傍のブロック１０１上に、誘電体層５を介して第２電極６２が設けられている。そして、第１電極６１上に第１半導体レーザ素子３１がハンダ６５により接合されており、第２電極６２上に第２半導体レーザ素子３２がはんだ６５により接合されている。また、第１及び第２半導体レーザ素子３１，３２の上面には、夫々半導体レーザ電極２４が形成されている。
【００２４】
そして、第１電極６１及び第１半導体レーザ素子３１上の電極２４と、第２電極６２及び第２半導体レーザ素子３２上の電極２４とには、夫々導電性ワイヤ１００がボンディングされており、この導電性ワイヤ１００により、各半導体レーザ素子３１，３２はその駆動電源（図示せず）に接続されている。
【００２５】
本実施形態によれば、第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２とは同一ブロック１０１に配置され、第２半導体レーザ素子３２はこのブロック１０１上の絶縁性の誘電体層５上に形成された第２電極６２上にハンダ６５を介して配置されている。この第２電極６２が誘電体層５上に形成されていることにより、ブロック１０１と第２半導体レーザ素子３２とは電気的に絶縁される。このため、ブロック１０１の材料が絶縁物に限定されることがない。よって、このブロック１０１としては、熱伝導率が高く、加工が容易で、安価な材料を自由に選ぶことができる。なお、このブロック１０１としては、熱伝導率が高く、加工が容易なことから、電気的導体又は半導体材料により形成することが好ましい。
【００２６】
また、第１半導体レーザ素子３１は、ブロック１０１上に熱伝導率の低い誘電体層等を介さずに直接接触するようにして配置されているため、駆動時の放熱性を良好に保つことができる。よって、ブロック１０１上に直接配置される第１半導体レーザ素子３１としては、第２半導体レーザ素子３２よりも、駆動時の発熱が大きいか、又は露出面からの放熱が小さい半導体レーザ素子、及び温度変化に敏感な半導体レーザ素子等を配置することが好ましい。これにより、高温になりやすいか、又は温度特性が厳しい第１半導体レーザ素子３１の温度特性を改善することができる。また、第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２との発光点間隔は、第１電極６１と第２電極６２の間隔及び半導体レーザ端面の発光点位置のみに制限を受ける構造となり、可及的に短くすることができる。このように、半導体レーザ素子のマウント方法を非対称構造とすることにより、半導体レーザ素子の発光点間隔の制御の自由度と、駆動時に発熱が大きい半導体レーザ素子の放熱性の確保とを両立させることができる。
【００２７】
ブロック１０１を形成するための材料としては、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ガリウムヒ素化合物（ＧａＡｓ）又は他の化合物半導体等の導体又は半導体が好ましい。特に、ｎ型シリコンの半導体は、安価で加工が容易であり、絶縁領域の形成及びドーピング工程の追加等による光出力モニター用フォトダイオードの形成等が容易に行えるので好適である。
【００２８】
誘電体層５を形成するための材料としては、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等であることが好ましい。また、誘電体層５上にマウントされる第１半導体レーザ素子３１が直流駆動される場合は、誘電体層５の厚さが１０ｎｍ以上であることが望ましく、この第１半導体レーザ素子３１が変調駆動される場合は、誘電体層５の厚さが３００ｎｍ以上であることが望ましい。誘電体層５上にマウントされる第１半導体レーザ素子３１が変調駆動される場合、誘電体層５はコンデンサーとして機能し、この電気容量を介してリーク電流が流れることがある。このため、この誘電体層５の電気容量を小さくし、リーク電流が流れないようにする必要がある。よって、誘電体層５上にマウントされる第１半導体レーザ素子３１が変調駆動される場合は、誘電体層５がより厚く形成される必要がある。このように、誘電体層５上に形成される第１半導体レーザ素子３１の駆動方式に応じて誘電体層５の厚さを調整することにより、第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２とを電気的に完全に絶縁させることができる。なお、この誘電体層５を形成する際には、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等の異なる種類の誘電体層を重ねて積層構造としてもよい。また、誘電体層５をブロック１０１上の任意の位置に設定すれば、第１半導体レーザ素子３１の出射光と第２半導体レーザ素子３２の出射光とを任意の方向に設定することができる。
【００２９】
本実施形態に係る半導体レーザ装置では、第１半導体レーザ素子３１を波長６５０ｎｍ帯（赤色）の低出力半導体レーザとし、第２半導体レーザ素子３２を波長７８０ｎｍ帯（赤外）の低出力半導体レーザとする。このとき、波長６５０ｎｍ帯の半導体レーザ素子３１はＡｌＧａＩｎＰ系の材料で形成することができ、波長７８０ｎｍ帯の半導体レーザ素子３２はＡｌＧａＡｓ系の材料で形成することができる。このような場合、第１半導体レーザ素子３１を形成するＡｌＧａＩｎＰ系の材料の方が、第２半導体レーザを形成するＡｌＧａＡｓ系の材料と比較して熱伝導率が低いことから、第１半導体レーザ素子３１の方が駆動時の発熱が大きくなる。しかし、この熱伝導率が低く発熱が大きい第１半導体レーザ素子３１をブロック１０１上に誘電体層を介さずに直接配置することによって、第１半導体レーザ素子３１の駆動時の放熱性を良好に保つことができる。このように、本実施形態においては、駆動時の発熱が大きい第１半導体レーザ素子３１においても、その温度特性を損なうことがなく、また、この第１半導体レーザ素子３１の発光点と第２半導体レーザ素子３２の発光点との間隔を８０μｍと短く設定することができ、しかも各半導体レーザ素子３１，３２を独立駆動することができる。
【００３０】
上記の第１実施形態においては、第１半導体レーザ素子３１及び第２半導体レーザ素子３２は、両方共に低出力半導体レーザを使用している。このため、熱伝導率が低いＡｌＧａＩｎＰ系の材料で形成され駆動時の発熱が大きい第１半導体レーザ素子３１をブロック１０１上に誘電体層を介さずに直接設置することとし、この第１半導体レーザ素子３１からの発熱をブロック１０１を介して放熱させることができる構成とすることにより、この放熱特性の悪い第１半導体レーザ素子３１を含む半導体レーザ装置全体の温度特性を向上させることができる。一方、低出力半導体レーザと高出力半導体レーザとを組み合わせた半導体レーザ装置の場合、例えば、波長６５０ｎｍ帯の低出力半導体レーザと波長７８０ｎｍ帯の高出力半導体レーザとを組み合わせる場合においては、駆動時の発熱が大きい波長７８０ｎｍ帯の高出力半導体レーザを第１半導体レーザ素子３１とし、ブロック１０１上に誘電体層を介さずに配置することが望ましい。
【００３１】
このように、本実施形態においては、半導体レーザ装置の中に組み込まれる２つの半導体レーザを、それぞれの半導体レーザの発熱特性、放熱特性等の観点から比較し、より温度特性が劣悪となる半導体レーザを第１半導体レーザ素子３１としてブロック１０１上に誘電体層を介さずに設置することが重要である。なお、本実施形態を構成するための半導体レーザを形成する材料は、特に制限されるものではなく、上記以外にも、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｎ、Ｐ及びＡｓ等の化合物で形成された半導体レーザによる組合せが可能である。
【００３２】
図２は本発明の第２実施形態に係る半導体レーザ装置を示す斜視図であり、図３は本発明の第２実施形態を示す平面図である。また、図４乃至図６は、図３におけるＣ−Ｃ、Ｄ−Ｄ及びＥ−Ｅによる断面図である。
【００３３】
この第２実施形態においては、図２に示すように、ｎ型半導体基板１上に誘電体層５が形成され、この誘電体層５上に形成された第１電極６１及び第２電極６２の上に第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２とが、夫々ハンダ６５を介して設置されている。また、図４及び図６に示すように、誘電体層５における第１半導体レーザ素子３１の直下の部位には開口部が形成されており、ｎ型半導体基板１の表面には、誘電体層５に形成された開口部より広範囲にわたってｎ型半導体層３が形成され、更に、このｎ型半導体層３よりも広く深い領域でｐ型半導体層２が形成されている。そして、第１半導体レーザ素子３１の第１電極６１は、この誘電体層５の開口部にて、ｎ型半導体基板１の表面に形成されたｎ型半導体層３に直接接触しており、第１電極６１は誘電体層５を介さずにｎ型半導体基板１上に直接配置されている。
【００３４】
また、第１半導体レーザ素子３１及び第２半導体レーザ素子３２の裏面出射側のｎ型半導体基板１の表面には、ｐ型半導体層２３が局部的に形成され、このｐ型半導体層２３上の一部にアノード電極１５が形成されている。このアノード電極１５，ｐ型半導体層２３及びｎ型半導体基板１により、フォトダイオードが形成されている。また、第１電極６１、第２電極６２及び半導体レーザ電極２４は、導電性ワイヤ１００で駆動電源（図示せず）に接続されている。
【００３５】
このように構成された本実施形態の半導体レーザ装置においては、図４に示すように、第１半導体レーザ素子３１の直下に、誘電体層５には開口部が形成されており、第１電極６１の一部が直接ｎ型半導体基板１に接触している。即ち、第１半導体レーザ素子３１の第１電極６１は少なくとも一部でｎ型半導体基板１の表面に形成されたｎ型半導体層３とｐ型半導体層２とに誘電体層５を介さずに接触している。よって、第１半導体レーザ素子３１は、その駆動時の発熱をｎ型半導体基板１に高効率で放熱することができる。
【００３６】
一方、図５に示すように、第２半導体レーザ素子３２は、絶縁性の誘電体層５上に形成された第２電極６２上に形成されているため、ｎ型半導体基板１とは電気的に絶縁されている。これにより、第１半導体レーザ素子３１と第２半導体レーザ素子３２とを独立して駆動することができる。更にまた、第１半導体レーザ素子３１の直下にあるｎ型半導体層３とフォトダイオードを形成するｐ型半導体層２３とは、これらの間に介在するｎ型半導体基板１及びｐ型半導体層２によって構成されるｎｐｎ構造により電気的に絶縁されている。このため、本実施形態では、半導体であるｎ型半導体基板１を半導体レーザ及びフォトダイオードをマウントするためのブロックとして用いているが、第１半導体レーザ素子３１の発光点と第２半導体レーザ素子３２の発光点との間隔は、第１電極６１と第２電極６２との間隔及び半導体レーザチップ端面の発光点位置のみに制限を受ける構造が可能となる。また、レーザ出力モニター用としてのフォトダイオードを同一ブロック上に配置することができる。
【００３７】
誘電体層５の材料としては、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等であることが好ましい。誘電体層５の厚さは、ｎ型半導体基板１と、このｎ型半導体基板１上及び表面に形成される素子とを電気的に完全に絶縁させるため、第１半導体レーザ素子３１又は第２半導体レーザ素子３２が直流駆動される場合は１０ｎｍ以上の厚さが望ましく、変調駆動される場合は３００ｎｍ以上の厚さが望ましい。これらの半導体レーザが変調駆動される場合、誘電体層５がコンデンサーとして機能し、この電気容量を介してリーク電流が流れることがある。このため、この誘電体層５の電気容量を小さくしリーク電流が流れないようにする必要がある。よって、この誘電体層５上にマウントされる半導体レーザ素子３１及び３２が変調駆動される場合は、誘電体層５がより厚く形成される必要がある。このように、誘電体層５上に形成される半導体レーザ素子３１及び３２の駆動方式に応じて誘電体層５の厚さを調整することにより、第１半導体レーザ素子３１、第２半導体レーザ素子３２及びフォトダイオードを、電気的に完全に絶縁させることができる。なお、この誘電体層５を形成する際には、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等の異なる種類の誘電体層を積層した構造としてもよい。
【００３８】
一般に、誘電体層は熱伝導率が低く放熱性が悪いため、誘電体層５上に形成される第２半導体レーザには、駆動時の発熱が小さく容易に放熱する温度特性の優れた方の半導体レーザを設置することが好ましい。即ち、誘電体層５の開口部を介してｎ型半導体基板１と電気的に導通して設置される第１半導体レーザ素子３１は、第２半導体レーザ素子３２と比較して、駆動時の発熱が大きいか、若しくは放熱が小さい半導体レーザ素子、又は温度変化に敏感な厳しい温度特性を有する半導体レーザ素子を選ぶことが好ましい。また、第２電極６２を誘電体層５のｐ型半導体層２３上に重なっていない部位上の任意の位置に設定することにより、第１半導体レーザ素子３１の出射光と第２半導体レーザ素子３２の出射光とを任意の方向に設定することができる。
【００３９】
本実施形態に係る半導体レーザ装置では、第１半導体レーザ素子３１を波長６５０ｎｍ帯の低出力半導体レーザとし、第２半導体レーザ素子３２を波長７８０ｎｍ帯の低出力半導体レーザとする。この場合、波長６５０ｎｍ帯の半導体レーザ素子３１はＡｌＧａＩｎＰ系の材料で形成され、波長７８０ｎｍ帯の半導体レーザ素子３２はＡｌＧａＡｓ系の材料で形成される。このとき、第１半導体レーザ素子３１を形成するＡｌＧａＩｎＰ系の材料の方が、第２半導体レーザを形成するＡｌＧａＡｓ系の材料と比較して低い熱伝導率を有することから、第１半導体レーザ素子３１の方が駆動時の発熱が大きくなる。しかし、この熱伝導率が低く発熱が大きい第１半導体レーザ素子３１の少なくとも一部を、ｎ型半導体基板１の表面に形成されたｎ型半導体層３の表面に誘電体層を介さずに配置することにより、この第１半導体レーザ素子３１の駆動時の放熱性を良好に保つことができる。よって、この波長６５０ｎｍ帯の半導体レーザの温度特性を損なわずに、この第１半導体レーザ素子３１の発光点と第２半導体レーザ素子３２の発光点との間隔を８０μｍに設定し、各半導体レーザ素子を独立駆動させることができる。また、これらの半導体レーザ素子からの光出力モニター用のフォトダイオードも問題なく駆動させることができる。
【００４０】
この第２実施形態においては、第１半導体レーザ素子３１及び第２半導体レーザ素子３２は、双方共に、低出力半導体レーザを用いている。このため、熱伝導率の小さいＡｌＧａＩｎＰ系の材料で形成され駆動時の発熱が大きい第１半導体レーザ素子３１の少なくとも一部をｎ型半導体基板１表面に形成されたｎ型半導体層３表面に誘電体層を介さずに配置されるようにし、この第１半導体レーザ素子３１からの発熱をｎ型半導体基板１を介して放熱させることができる構造とすることにより、この放熱特性の悪い第１半導体レーザ素子３１を含む半導体レーザ装置全体の温度特性を向上させることができる。一方、低出力半導体レーザと高出力半導体レーザとを組み合わせて半導体レーザ装置を構成する場合、例えば、波長６５０ｎｍ帯の低出力半導体レーザと波長７８０ｎｍ帯の高出力半導体レーザとを組合せる場合においては、駆動時の発熱が大きい波長７８０ｎｍ帯の高出力半導体レーザを第１半導体レーザ素子３１とし、ｎ型半導体基板１に接するように配置することが望ましい。
【００４１】
このように、本実施形態においても第１実施形態と同様に、半導体レーザ装置の中に組み込まれる２つの半導体レーザを、それぞれの半導体レーザの発熱特性、放熱特性等の観点から比較し、より温度特性が劣悪となる半導体レーザを第１半導体レーザ素子３１としてｎ型半導体基板１と誘電体層を介さずに設置することが重要である。なお、本実施形態を構成するための半導体レーザを形成する材料は、特に制限されるものではなく、上記以外にも、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｎ、Ｐ及びＡｓ等の化合物で形成された半導体レーザによる組合せが可能である。
【００４２】
図７は、本発明の第３実施形態を示す斜視図である。誘電体層５１及び５３がブロック１０１上の異なる部位に形成され、この誘電体層５１上に形成された第１電極６１上に第１半導体レーザ素子３１が、また、誘電体層５３上に形成された第３電極６３上に第３半導体レーザ３３が、それぞれハンダ６５を介して配置されている。また、ブロック１０１上の誘電体層５１及び５３が形成されていない部位に形成された第２電極６２上に、第２半導体レーザ素子３２がハンダ６５を介して配置されている。これら第１半導体レーザ素子３１、第２半導体レーザ素子３２及び第３半導体レーザ３３上には、夫々半導体レーザ電極２４が形成されている。また、第１電極６１、第２電極６２、第３電極６３及び半導体レーザ電極２４は、導電性ワイヤ１００で駆動電源（図示せず）と接続されている。
【００４３】
本実施形態のように半導体レーザ装置を構成することにより、第１実施形態として示した半導体レーザ装置の作用に加え、第３の半導体レーザを追加することができる。ここで、ブロック１０１を形成するための材料は、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ガリウムヒ素化合物（ＧａＡｓ）又は他の化合物半導体等の導体又は半導体が好ましい。特に、ｎ型シリコンの半導体は、安価で加工が容易であり、絶縁領域の形成及びドーピング工程の追加等による光出力モニター用フォトダイオードの形成等が容易に行えるので好適である。
【００４４】
また、誘電体層５を形成するための材料は、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等であることが好ましい。また、誘電体層５１及び５３上にマウントされる第１半導体レーザ素子３１及び第３半導体レーザ３３が直流駆動される場合は、誘電体層５１及び５３の厚さが１０ｎｍ以上であることが望ましく、この第１半導体レーザ素子３１及び第３半導体レーザ３３が変調駆動される場合は、誘電体層５１及び５３の厚さが３００ｎｍ以上であることが望ましい。誘電体層５１及び５３上にマウントされる第１半導体レーザ素子３１及び第３半導体レーザ３３が変調駆動される場合、誘電体層５１及び５３はコンデンサーとして機能し、この電気容量を介してリーク電流が流れることがある。このため、この誘電体層５１及び５３の電気容量を小さくし、リーク電流が流れないようにする必要がある。よって、誘電体層５１及び５３上にマウントされる第１半導体レーザ素子３１及び第３半導体レーザ３３が変調駆動される場合は、誘電体層５１及び５３がより厚く形成される必要がある。このように、誘電体層５１及び５３上に形成される第１半導体レーザ素子３１及び第３半導体レーザ３３の駆動方式に応じて誘電体層５１及び５５の厚さを調整することにより、第１半導体レーザ素子３１、第２半導体レーザ素子３２及び第３半導体レーザ３３を電気的に完全に絶縁させることができる。なお、この誘電体層５１及び５３を形成する際には、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等の異なる種類の誘電体層を重ねて構成してもよい。また、誘電体層５１及び５３をブロック１０１上の任意の位置に設定すれば、第１半導体レーザ素子３１、第２半導体レーザ及び第３半導体レーザの各出射光を、互いに任意の方向に設定することができる。
【００４５】
図８は、本発明の第４実施形態を示す斜視図である。本実施形態においては、第２実施形態と同様に構成される半導体レーザ装置において、第１半導体レーザ素子３１、第２半導体レーザ素子３２及びｐ型半導体層２３が形成された部位ではないｎ型半導体基板１上の部位に形成された誘電体層５上に第３電極６３が形成され、この第３電極６３上に第３半導体レーザ３３がハンダ６５を介して配置されている。また、これら第１半導体レーザ、第２半導体レーザ及び第３半導体レーザ上には半導体レーザ電極２４が形成されている。更にまた、第１電極６１、第２電極６２、第３電極６３及び半導体レーザ電極２４は導電性ワイヤ１００により駆動電源（図示せず）と接続されている。
【００４６】
本実施形態によれば、第２実施形態として示した半導体レーザ装置の作用に加え、第３の半導体レーザを追加することができる。誘電体層５の材料としては、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等であることが好ましい。誘電体層５の厚さは、ｎ型半導体基板１と、このｎ型半導体基板１上及び表面に形成される素子とを電気的に完全に絶縁させるため、第１半導体レーザ素子３１、第２半導体レーザ素子３２又は第３半導体レーザ３３が直流駆動される場合は１０ｎｍ以上の厚さが望ましく、変調駆動される場合は３００ｎｍ以上の厚さが望ましい。これらの半導体レーザが変調駆動される場合、誘電体層５がコンデンサとして機能し、この電気容量を介してリーク電流が流れることがある。このため、この誘電体層５の電気容量を小さくしリーク電流が流れないようにする必要がある。よって、この誘電体層５上にマウントされる半導体レーザ素子３１、３２又は３３が変調駆動される場合は、誘電体層５がより厚く形成される必要がある。このように、誘電体層５上に形成される半導体レーザ素子３１、３２及び３３の駆動方式に応じて誘電体層５の厚さを調整することにより、第１半導体レーザ素子３１、第２半導体レーザ素子３２、第３半導体レーザ３３及びフォトダイオードを、電気的に完全に絶縁させることができる。なお、この誘電体層５を形成する際には、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等の異なる種類の誘電体層を重ねて構成してもよい。
【００４７】
図９は、本発明の第５実施形態を示す斜視図である。上述の第１実施形態（図１）においては、第１半導体レーザ素子３１及び第２半導体レーザ素子３２の異なる２つの半導体レーザ素子を使用したが、この第５実施形態においては、第１電極６１及び第２電極６２の上に、ハンダ６５を介して、２光源型半導体レーザ素子４１が接合されている。また、この２光源型半導体レーザ素子４１の上には、半導体レーザ電極２４が形成されている。第２電極６２は誘電体層５を介してブロック１０１上に形成されており、第１電極６１は直接ブロック１０１上に形成されていることは第１実施形態と同様である。これにより、２光源型半導体レーザ素子４１の一方の光源となる部分は、第１電極６１に接合された導電性ワイヤ１００と、半導体レーザ電極２４に接合された導電性ワイヤ１００とを介して駆動され、２光源型半導体レーザ素子４１の他方の光源となる部分は、第２電極６２に接合された導電性ワイヤ１００と、半導体レーザ電極２４に接合された導電性ワイヤ１００（共通）とを介して駆動される。
【００４８】
本実施形態においては、２光源型半導体レーザ素子４１における一方の光源となる部分が、他方の光源となる部分よりも、より効率的に放熱される。
【００４９】
図１０は、本発明の第６実施形態を示す斜視図である。上述の第２実施形態においては、図２に示すように、２つの異なる第１半導体レーザ素子３１及び第２半導体レーザ素子３２とフォトダイオードにより半導体レーザ装置が構成されるが、本第６実施形態においては、図１０に示すように、２つの異なる半導体レーザ素子を使用する代わりに、同一基板上に形成された第１電極６１及び第２電極６２上に、図９に示す第５実施形態と同様にして、ハンダ６５を介して、２光源半導体レーザ４１を接合したものである。本実施形態においても、上記の第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５０】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明に係る半導体レーザ装置は、第１半導体レーザ素子と第２半導体レーザ素子が同一ブロックに配置され、この第１半導体レーザ素子の電極が、放熱ブロックに直接接触しており、優れた放熱特性が得られると共に、第２半導体レーザ素子は、ブロック上に形成された誘電体層上に配置されているので、第１半導体素子と第２半導体素子とは、相互に絶縁されており、ブロックの構成材料に拘わらず、独立して駆動することができる。よって、放熱ブロックの材料として熱伝導率の高い材料、電気的導体又は半導体を自由に選ぶことができるため、第１及び第２半導体レーザ素子の駆動時の発熱を効率的に放熱することができる。従って、第１半導体レーザ素子として、駆動時の発熱が大きい方、又は露出面からの放熱が小さい半導体レーザ素子、及び温度変化に敏感な半導体レーザ素子を選ぶことにより、温度特性が良好な半導体レーザ装置を得ることができる。また、第１半導体レーザ素子と第２半導体レーザ素子の発光点間隔は、各半導体レーザの電極間隔と半導体レーザチップ端面の発光点位置とのみに制限され、可及的に短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態を示した斜視図である。
【図２】本発明の第２実施形態を示した斜視図である。
【図３】本発明の第２実施形態を示した平面図である。
【図４】図３におけるＣ−Ｃによる断面図である。
【図５】図３におけるＤ−Ｄによる断面図である。
【図６】図３におけるＥ−Ｅによる断面図である。
【図７】本発明の第３の実施形態を示した斜視図である。
【図８】本発明の第４の実施形態を示した斜視図である。
【図９】本発明の第５の実施形態を示した斜視図である。
【図１０】本発明の第６の実施形態を示した斜視図である。
【図１１】第１従来技術による半導体レーザ装置の断面図である。
【図１２】第２従来技術による半導体レーザ装置の断面図である。
【図１３】第３の従来技術による半導体レーザ装置の断面図である。
【符号の説明】
１；ｎ型半導体基板
２；ｐ型半導体層
３；ｎ型半導体層
５；誘電体層
１５；フォトダイオードのアノード電極
２３；ｐ型半導体層
２４；半導体レーザ電極
３１；第１半導体レーザ
３２；第２半導体レーザ
３３；第３半導体レーザ
６１；第１電極
６２；第２電極
６３；第３電極
６５；ハンダ
４１；同一基板上に形成された２光源型半導体レーザ
１００；ワイヤ
１０１；ブロック
１３１；放熱用ブロック
１３２；サブマウント
１３３，１３４；半導体レーザ
１３５，１３６；発光点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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