(57)【要約】【課題】主隔壁または補助隔壁と基板との隙間からのプラズマ放電の漏洩に起因するクロストークの発生を抑制し、高画質で高輝度のＰＤＰを実現する。【解決手段】熱処理前の主隔壁および補助隔壁の少なくとも一方は、主隔壁と補助隔壁との隣接する結合部１３間を熱処理によって収縮する分だけ長さを増加させて形成することにより、熱処理によって固化する際に結合部１３に発生する応力を低減し、主隔壁と補助隔壁との結合部１３の形状精度を高める。【選択図】  図１
2004152520.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも放電空間を形成する主隔壁と補助隔壁とを有し、前記主隔壁と前記補助隔壁を熱処理によって固化させて形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
熱処理前の前記主隔壁および前記補助隔壁のうちの少なくとも一方は、前記主隔壁と前記補助隔壁との隣接する結合部間を熱処理によって収縮する分だけ長さを増加させたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記主隔壁および前記補助隔壁は、少なくともガラス粉末と感光性有機物とを混合した材料によって形成されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記主隔壁および前記補助隔壁の高さが異なることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
熱処理前の前記主隔壁と前記補助隔壁のうちの少なくとも一方は、前記主隔壁と前記補助隔壁との隣接する結合部間を、蛇行または波形状に形成したことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
熱処理前の前記主隔壁と前記補助隔壁の少なくとも一方は、長さ方向に対して、他方と交差する結合位置を、両側面において概略同じ位置に形成することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
少なくとも放電空間を形成する主隔壁と補助隔壁とを有し、前記主隔壁と前記補助隔壁とが結合されているプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
少なくともガラス粉末と感光性有機物とを混合した感光性ペーストにより基板上に第１の塗布膜を形成する工程と、
前記第１の塗布膜を乾燥する工程と、
乾燥後の前記第１の塗布膜を前記補助隔壁のパターンで露光する工程と、
前記第１の塗布膜上に少なくともガラス粉末と感光性有機物とを混合した感光性ペーストにより第２の塗布膜を形成する工程と、
前記第２の塗布膜を乾燥する工程と、
乾燥後の前記第１の塗布膜と前記第２の塗布膜とを前記主隔壁のパターンで露光する工程と、
前記第１の塗布膜と前記第２の塗布膜とを現像する工程と、
現像後の前記第１の塗布膜と前記第２の塗布膜を焼成する工程とを有し、
前記主隔壁と前記補助隔壁の相隣り合う結合部間の、前記主隔壁の露光パターン長さおよび前記補助隔壁の露光パターン長さのうちの少なくとも一方は、焼成によって収縮する分だけ長さを増加させたパターン長さであることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
少なくとも放電空間を形成する主隔壁と補助隔壁とを有し、前記主隔壁と前記補助隔壁とが結合されているプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
少なくともガラス粉末と感光性有機物とを混合した感光性ペーストにより基板上に塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜を乾燥する工程と、
乾燥後の前記塗布膜を露光する工程と、
露光後の前記塗布膜を現像する工程と、
現像後の前記塗布膜を焼成する工程とを有し、
前記主隔壁と前記補助隔壁の相隣り合う結合部間の、前記主隔壁の露光パターン長さおよび前記補助隔壁の露光パターン長さのうちの少なくとも一方は、焼成によって収縮する分だけ長さを増加させたパターン長さであることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）の製造方法に関し、特に主隔壁と補助隔壁とを高精度に形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＰＤＰは視認性に優れた大画面で薄型の表示デバイスとして注目されており、高輝度高精細化および大画面化が進められている。ＰＤＰは駆動方式によりＡＣ型とＤＣ型に、また、放電方式により面放電型と対向放電型にそれぞれ区分されるが、高精細化、大画面化の容易性および製造の簡便性の点で、現在、ＡＣ型で面放電型のＰＤＰが主流となっている。
【０００３】
図６は、従来のＰＤＰの一般的な概略構造を示す部分断面斜視図である。前面板１は、例えばガラスのような透明で絶縁性を有する基板２上に誘電体層３およびＭｇＯ蒸着膜を材料とする保護膜４で覆われた複数の表示電極５が設けられている。表示電極５は、走査電極６ａと維持電極６ｂとにより構成されている。また、背面板７は、例えばガラスのような絶縁性の基板８上に複数のデータ電極１０とこれを覆う絶縁体層９が設けられ、絶縁体層９上には主隔壁１１と補助隔壁１２が設けられている。ここで、主隔壁１１はデータ電極１０と平行する方向にストライプ状に設けられ、補助隔壁１２と主隔壁１１とは直交している。この主隔壁１１および補助隔壁１２によって仕切られる放電空間１５には絶縁体層９の表面と主隔壁１１および補助隔壁１２の側面にかけて蛍光体層１４が形成され、放電セル１６として動作する。すなわち、駆動回路により放電空間１５において、走査電極６ａおよび維持電極６ｂの間で放電による紫外線を発生させ、その紫外線によって蛍光体層１４を励起し、発光させることで、ＰＤＰ装置としてカラー表示の画像表示を行う。
【０００４】
なお、前面板１と背面板７とは、走査電極６ａおよび維持電極６ｂとデータ電極１０とが直交するように放電空間１５を挟んで対向して配置され、放電空間１５には、放電ガスとしてヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノンなどの希ガスが封入される。
【０００５】
図７に図６に示した主隔壁１１と補助隔壁１２が交差し結合する部分の詳細な構造を示し、図８には焼成後の固化した主隔壁の凹みの状態を示す。図７に示すように補助隔壁１２は複数の主隔壁１１と結合部１３で交差している。この構造は、隣接する放電空間１５に対し、プラズマ放電や放電により発生する紫外線の漏洩を防止することにより、ＰＤＰの輝度を高め、高精細化に際してクロストークなどの画像表示上の問題を抑制することを目的として使用されている。製造方法としては、例えば感光性ペースト材料を塗布した後、各々所定の形状となるように露光を行い、さらに、現像し、焼成・固化することにより主隔壁１１と補助隔壁１２を形成する。しかし、この製造方法により主隔壁１１と補助隔壁１２を形成した場合、図８に示すように、結合部１３の近傍に凹みが発生する。この理由としては、加熱・固化時にバインダとしての樹脂分が蒸発することもあり、主隔壁１１および補助隔壁１２の体積収縮率は６０％程度と大きいことがあげられる。したがって、直線形状の主隔壁１１と補助隔壁１２とを十字状に交差させた構造で加熱・固化すると、主隔壁１１および補助隔壁１２が収縮し、これが結合部１３に対して主隔壁１１の２つの方向と補助隔壁１２の２つの方向の張力となって作用する。その結果、結合部１３では高さ方向の縮みが、主隔壁１１の凹みとなって発生する。図９は結合部１３の近傍における主隔壁１１の凹み量Ｔの定義を示す部分断面図である。
【０００６】
なお、ＰＤＰの輝度を高め、クロストークなどの画像表示上の問題を抑制することを目的として補助隔壁１２を設ける構造については、主隔壁１１と補助隔壁１２の形状に工夫を加えることにより、ＰＤＰの輝度や発光効率の向上をはかる例として、例えば、補助隔壁１２を主隔壁１１より低く作製し表示セルを分離する方法や、主隔壁１１と補助隔壁１２との高さを同一とし井桁状に一体的に構成する方法が提案されている。補助隔壁１２を主隔壁１１より低くすることにより、製造工程における蛍光体の塗布形成が容易となり、高歩留りで生産性に優れたＰＤＰを得ることができる（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。さらに、主隔壁１１と補助隔壁１２を高精度に形成し表示品位を高める例として、感光性ペーストを２層に塗布し、露光する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００７】
【特許文献１】
特開平１０−３２１１４８号公報
【特許文献２】
特開２００２−４２６６１号公報
【特許文献３】
特開２００１−２３５１５号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような従来の構造および製造方法では、主隔壁と補助隔壁とを形成する際に焼成によって結合部に発生する主隔壁の凹み量Ｔが１０μｍ程度と大きく、ＰＤＰの性能に悪影響を及ぼしている。すなわち、この凹みによりプラズマ放電が漏洩し、画像表示時にクロストークとなって画質を劣化させる。クロストークは斜め隣りに位置する放電セルに対しても発生する。これに対して、従来、画像表示時のクロストークの改善に関し、主隔壁および補助隔壁の形状精度の観点から対策を施す提案はみられない。
【０００９】
本発明はこのような状況に鑑み、ＰＤＰの製造工程において、特に放電空間を仕切る主隔壁と補助隔壁との結合部の近傍における形状精度を高める方法を提案することにより、クロストークの発生を抑制し、高画質で高輝度のＰＤＰを実現することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するために、本発明のＰＤＰの製造方法は、少なくとも放電空間を形成する主隔壁と補助隔壁とを有し、主隔壁と補助隔壁を熱処理によって固化させて形成するＰＤＰの製造方法であって、熱処理前の主隔壁および補助隔壁の少なくとも一方は、主隔壁と補助隔壁との隣接する結合部間を熱処理によって収縮する分だけ長さを増加させて形成するものである。この方法により、主隔壁と補助隔壁が交差する結合部付近における凹みの発生を抑制することが可能となる。したがって、ＰＤＰで画像を表示した場合に、主隔壁または補助隔壁と基板との隙間からのプラズマ放電の漏洩に起因するクロストークを抑制することにより、高画質のＰＤＰを実現することができる。
【００１１】
また、本発明のＰＤＰの製造方法は、主隔壁および補助隔壁の材料が、ガラス粉末と感光性有機物とを混合したものである。この方法により、感光性材料を使用して主隔壁および補助隔壁を形成した場合においても、主隔壁と補助隔壁が交差する結合部付近における凹みの発生を抑制することが可能となる。したがって、クロストークを抑制し、高画質のＰＤＰを実現することができる。
【００１２】
また、本発明のＰＤＰの製造方法は、主隔壁および補助隔壁の高さが異なるものである。この方法により、主隔壁と補助隔壁が交差する結合部付近における主隔壁の凹みの発生を抑制することが可能となる。したがって、クロストークを抑制し、高画質のＰＤＰを実現することができる。
【００１３】
また、本発明のＰＤＰの製造方法は、熱処理前の主隔壁と補助隔壁の少なくとも一方は、主隔壁と補助隔壁との隣接する結合部間を、蛇行または波形状に形成したものである。蛇行または波形の形状を有する主隔壁または補助隔壁を形成することにより、主隔壁と補助隔壁が交差する結合部付近における凹みの発生を抑制することが可能となる。したがって、簡便な方法によりクロストークを抑制し、高画質のＰＤＰを実現することができる。
【００１４】
また、本発明のＰＤＰの製造方法は、熱処理前の主隔壁と補助隔壁の少なくとも一方は、長さ方向に対して、他方と交差する結合位置を、両側面において概略同じ位置に形成するものである。この方法により、主隔壁と補助隔壁との結合部における構造上の要件を明確にし、凹みの発生を抑制することが可能となる。したがって、簡単な方法でクロストークを抑制し、高画質のＰＤＰを実現することができる。
【００１５】
また、本発明のＰＤＰの製造方法は、少なくとも放電空間を形成する主隔壁と補助隔壁とを有し、主隔壁と補助隔壁とが結合されているＰＤＰの製造方法であって、少なくともガラス粉末と感光性有機物とを混合した感光性ペーストにより基板上に第１の塗布膜を形成する工程と、第１の塗布膜を乾燥する工程と、乾燥後の第１の塗布膜を補助隔壁のパターンで露光する工程と、第１の塗布膜上に少なくともガラス粉末と感光性有機物とを混合した感光性ペーストにより第２の塗布膜を形成する工程と、第２の塗布膜を乾燥する工程と、乾燥後の第１の塗布膜と第２の塗布膜とを主隔壁のパターンで露光する工程と、第１の塗布膜と第２の塗布膜とを現像する工程と、現像後の第１の塗布膜と第２の塗布膜を焼成する工程とを有し、主隔壁と補助隔壁の相隣り合う結合部間の、主隔壁の露光パターン長さおよび補助隔壁の露光パターン長さの少なくとも一方は、焼成によって収縮する分だけ長さを増加させたパターン長さである。この方法により、主隔壁および補助隔壁の塗布・露光工程を区分して、感光性材料により補助隔壁を主隔壁より低く形成し、凹みの発生を抑制することが可能となる。したがって、クロストークを抑制し、高画質のＰＤＰを実現することができる。また、製造工程における蛍光体の塗布形成が容易となり、高歩留りで生産性に優れたＰＤＰを得ることができる。
【００１６】
また、本発明のＰＤＰの製造方法は、少なくとも放電空間を形成する主隔壁と補助隔壁とを有し、主隔壁と補助隔壁とが結合されているＰＤＰの製造方法であって、少なくともガラス粉末と感光性有機物とを混合した感光性ペーストにより基板上に塗布膜を形成する工程と、塗布膜を乾燥する工程と、乾燥後の塗布膜を露光する工程と、露光後の塗布膜を現像する工程と、現像後の塗布膜を焼成する工程とを有し、主隔壁および補助隔壁の少なくとも一方の露光パターン長さは、主隔壁と補助隔壁の相隣り合う結合部間が、焼成によって収縮する分だけ長さを増加させたパターン長さである。この方法により、主隔壁および補助隔壁を同時に、しかも、感光性材料を使用して主隔壁と補助隔壁との高さを同一に形成し、凹みの発生を抑制することが可能となる。したがって、簡略化した工程によりクロストークを抑制し、高画質のＰＤＰを実現することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
本発明のＰＤＰの製造方法に係わる実施の形態１について、図１〜３および図１１を用いて説明する。実施の形態１におけるＰＤＰの概略構成は、主隔壁１１および補助隔壁１２の部分を除いて図６に示した構成と同様である。したがって、実施の形態１の特徴的な点について、以下に説明する。
【００１８】
図１は主隔壁１１と補助隔壁１２の形成方法を示した背面板７の部分平面図、図２は主隔壁１１と補助隔壁１２を形成した直後の状態を示す部分斜視図、図３は図２における主隔壁１１と補助隔壁１２を焼成した後の状態を示す部分斜視図、また、図１１は本発明の製造方法を示す工程フローチャートである。
【００１９】
まず、図１１（ａ）に示す工程フローに従って説明する。背面板７において、絶縁体層９上に低融点のガラス粉末と感光性有機物とを混合した材料である感光性ペーストを、例えばダイコータを用いて０．２ｍｍの厚さに塗布し、第１の塗布膜を形成する。感光性ペーストは、ほぼ同量の酸化ケイ素と酸化ホウ素を主成分とするガラス粉末と、γ−ブチロラクトンを溶剤とした感光性アクリル系ポリマーからなる有機成分とを有する。塗布した１層目の塗布膜に対して必要に応じて乾燥などを行った後、波形状の露光パターンを有するフォトマスクを用いて露光する第１の露光工程を行う。この結果、１層目の感光性ペースト膜は、図１（ａ）に示すように、露光された補助隔壁露光部１２ａと露光されない補助隔壁未露光部１２ｂとに分けられる。
【００２０】
引き続き、低融点のガラス粉末と感光性有機物とを混合した材料である感光性ペーストを、第２の塗布膜として、例えば４０μｍの厚さに塗布する。必要に応じて乾操などを行った後、直線状の露光パターンを有するフォトマスクを用いて主隔壁１１の形状に露光する第２の露光工程を行う。これにより、図１（ｂ）に示すように、主隔壁露光部１１ａは、１層目と２層目の感光ペースト膜の両方が露光された状態となり、補助隔壁露光部１２ａは、１層目の感光性ペースト膜のみが波形状に露光された状態になる。なお、隔壁未露光部１１ｂは、補助隔壁未露光部１２ｂと共通する領域であり、１層目と２層目の感光ペースト膜の両方の露光工程において、露光が行われていない。ここで、結合部１３における主隔壁露光部１１ａと補助隔壁露光部１２ａの相互の位置関係を図１（ｃ）示す。主隔壁露光部１１ａが両側面において補助隔壁露光部１２ａと交差する結合位置は、それぞれＰ１Ｑ１およびＰ２Ｑ２であり、主隔壁露光部１１ａの長手方向Ａに対して概略同じ位置に形成されている。したがって、結合部１３において主隔壁露光部１１ａと補助隔壁露光部１２ａとの共通領域Ｐ１Ｑ１Ｐ２Ｑ２は、ほぼ正方形を成している。この構造は、図１（ａ）に示すように、補助隔壁露光部１２ａを、主隔壁露光部１１ａと交差する結合部１３に相当する位置において波形状を断層状に形成することにより、実現している。
【００２１】
この状態で、１層目と２層目の感光性ペーストを有機アルカリ水溶液を用いて現像すると、隔壁未露光部１１ｂは除去されて、図２に示すように、１層目と２層目の感光性ペースト膜の厚みからなる高さを有する主隔壁露光部１１ａと、１層目の感光性ペースト膜の厚みからなる高さを有する波形状の補助隔壁露光部１２ａとが得られる。
【００２２】
これらを焼成などの加熱により固化させると、図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、補助隔壁１２および主隔壁１１が形成される。ここで、補助隔壁１２は頂部１２ｃがほぼ直線状となり、底部１２ｄは下地の絶縁体層９に密着し露光後の波形状を保っている。
【００２３】
以上の結果で明らかなように、本実施の形態では、主隔壁露光部１１ａと補助隔壁露光部１２ａにおける隣接する結合部１３ａ、１３ｂとの間をあらかじめ波形状とすることにより、熱処理によって収縮する分だけ長さを増加させている。したがって、補助隔壁露光部１２ａを加熱・固化すると、収縮により波形状の直線化が生じ、結合部１３に対する補助隔壁１２による引張力が緩和される。その結果、結合部１３の近傍で高さ方向の縮みが軽減され、主隔壁１１の凹み量Ｔが減少する。また、熱処理前の主隔壁露光部１１ａと補助隔壁露光部１２ａが交差する結合位置を、一方の長さ方向に対して、両側面において概略同じ位置に形成しているため、熱処理時に結合部１３に捩り力などによる歪みもみられない。
【００２４】
実施の形態１の製造方法により形成された主隔壁１１と補助隔壁１２との結合部１３の付近における主隔壁１１の凹み量Ｔは３μｍ以下であり、従来の製造方法により形成した場合の約１０μｍと比較すると、大幅に減少している。したがって、プラズマ放電の漏洩が抑制され、データ電極１０の延伸方向はもちろん、延伸方向に対して斜め隣り方向にもクロストークの少ない、高画質で高輝度のＰＤＰを実現することが可能となる。
【００２５】
この後、隣り合う主隔壁１１の間に蛍光体ペーストを、口径０．１３ｍｍの吐出口を複数有するノズルを用いたディスペンサー法により塗布した後、焼成することにより蛍光体層１４を形成する。
【００２６】
なお、実施の形態１における応用例について、図１０により説明する。図１０（ａ）に示すように、波形状を一方の向きに揃える方法や、図１０（ｂ）に示すように波形状の向きを一列毎に反対にする方法も考えられる。また、例えば主隔壁露光部１１ａと補助隔壁露光部１２ａがともに波形状である場合も、凹み量Ｔの低減に対して、同様の効果を有する。さらに、ノズルを主隔壁１１の長手方向に移動して蛍光体ペーストを塗布するため、補助隔壁１２の頂部１２ｃと底部１２ｄにより形成される傾斜部が蛍光体の塗布を円滑にする効果を有する。なお、本実施の形態では、隣接する結合部間の長さを増加させる一例として波形状を使用したが、波形状以外の楕円や台形などの蛇行する形状も考えられる。
【００２７】
（実施の形態２）
本発明のＰＤＰの製造方法に係わる実施の形態２について、図４を用いて説明する。
【００２８】
図４は、実施の形態２におけるＰＤＰの主隔壁１１と補助隔壁１２の形成方法を示した背面板７の部分平面図である。まず、塗布した１層目の感光性ペーストに対して必要に応じて乾燥などを行った後、波形状の露光パターンを有するフォトマスクを用いて露光する第１の露光工程を行う。続いて２層目の感光ペースト膜を塗布した後、必要に応じて乾操などを行い、再び波形状の露光パターンを有するフォトマスクを用いて露光する第２の露光工程を行う。その後、１層目と２層目の感光性ペーストを有機アルカリ水溶液を用いて現像すると、図４（ａ）に示すように、１層目と２層目の感光性ペースト膜の厚みからなる高さを有する主隔壁露光部１１ａと、１層目の感光性ペースト膜の厚みからなる高さを有する補助隔壁露光部１２ａとが、いずれも波形状になっている。これらを焼成などの加熱により固化させると、図４（ｂ）に示すような主隔壁１１と補助隔壁１２が得られる。すなわち、主隔壁１１の頂部１１ｃと補助隔壁１２の頂部１２ｃはともにほぼ直線状となり、主隔壁１１の底部１１ｄと補助隔壁１２の底部１２ｄは下地の絶縁体層９に密着した状態で、露光後の波形状をほぼ保っている。
【００２９】
この製造方法においても、加熱・固化後に主隔壁１１上に発生する凹み量Ｔを減少させることができる。結合部１３の近傍に発生する凹み量Ｔは３μｍ以下であり、実施の形態１と同様の効果を有している。したがって、プラズマ放電の漏洩が抑制され、データ電極１０の延伸方向はもちろん、延伸方向に対して斜め隣り方向にもクロストークの少ない、高画質で高輝度のＰＤＰを実現することが可能となる。
【００３０】
（実施の形態３）
本発明の実施の形態３に係わるＰＤＰについて、図５および図１１を用いて説明する。
【００３１】
図５は、実施の形態３におけるＰＤＰの主隔壁１１と補助隔壁１２の形成方法を示した背面板７の部分平面図である。まず、図１１（ｂ）に示す工程フローに従って説明する。塗布した感光性ペースト（塗布膜）に対して必要に応じて乾燥などを行った後、補助隔壁１２を波形状、主隔壁１１をストライプ形状としたフォトマスクを用いて１回の露光からなる露光工程を行う。その後、感光性ペーストを有機アルカリ水溶液を用いて現像すると、図５（ａ）に示すような、感光性ペースト膜の厚みからなる同一の高さを有し、ストライプ形状である主隔壁露光部１１ａと波形状である補助隔壁露光部１２ａとが形成される。
【００３２】
つぎに、これらを焼成などの加熱により固化させると、図５（ｂ）に示すような主隔壁１１と補助隔壁１２が得られる。補助隔壁１２の頂部１２ｃはほぼ直線状に、また、補助隔壁１２の底部１２ｄは下地の絶縁体層９に密着し露光後の波形状をほぼ保った状態で固化されている。本実施の形態では、加熱・固化後に結合部１３の近傍に発生する凹み量Ｔは５μｍ以下であり、実施の形態１、２と同様の効果を有している。したがって、プラズマ放電の漏洩が抑制され、データ電極１０の延伸方向はもちろん、延伸方向に対して斜め隣り方向にもクロストークの少ない、高画質で高輝度のＰＤＰを実現することが可能となる。
【００３３】
さらに、実施の形態３では補助隔壁露光部１２ａを波形状としたが、露光パターンを主隔壁露光部１１ａも波形状としたものや、主隔壁露光部１１ａのみを波形状としたものでも同様に凹み量Ｔの減少がみられた。なお、凹み量Ｔが５μｍを超えると、クロストークが増加する。
【００３４】
以上、主隔壁１１および補助隔壁１２を形成する際、加熱・固化により主隔壁１１および補助隔壁１２に発生する体積収縮に対して、本発明の実施の形態はいずれも結合部１３における凹み量Ｔを低減する効果を有することを示した。表１は凹み量Ｔとクロストークに関し、本発明と従来との比較を示す。
【００３５】
【表１】
2004152520.tif 000003
【００３６】
なお、本発明の効果は主隔壁１１および補助隔壁１２が特に加熱・固化によって形成される場合に限定されるものではなく、体積収縮を伴って形成されるものであれば、同様の効果を得ることができる。
【００３７】
【発明の効果】
本発明によるＰＤＰの製造方法によれば、放電空間を仕切る主隔壁と補助隔壁との結合部における主隔壁の形状精度を高め、凹み量を小さくすることができ、その結果、クロストークの発生を抑制し、高画質で高輝度のＰＤＰを実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１のＰＤＰの製造方法における、主隔壁と補助隔壁の形成方法を示す部分平面図
【図２】本発明の実施の形態１のＰＤＰの製造方法における、主隔壁と補助隔壁の詳細を示す部分斜視図
【図３】本発明の実施の形態１のＰＤＰの主隔壁と補助隔壁の詳細を示す部分斜視図
【図４】本発明の実施の形態２のＰＤＰの製造方法における、主隔壁と補助隔壁の形成方法を示す部分平面図
【図５】本発明の実施の形態３のＰＤＰの製造方法における、主隔壁と補助隔壁の形成方法を示す部分平面図
【図６】従来のＰＤＰの一般的な概略構造を示す部分断面斜視図
【図７】従来のＰＤＰの主隔壁と補助隔壁の詳細な構造を示す部分斜視図
【図８】従来のＰＤＰにおける焼成後の固化した主隔壁の凹みの状態を示す部分斜視図
【図９】従来のＰＤＰにおける主隔壁の凹み量Ｔの定義を示す部分断面図
【図１０】本発明の応用例による主隔壁と補助隔壁の形成方法を示す部分平面図
【図１１】本発明の製造方法を示す工程フローチャート
【符号の説明】
１  前面板
２，８  基板
３  誘電体層
４  保護膜
５  表示電極
６ａ  走査電極
６ｂ  維持電極
７  背面板
９  絶縁体層
１０  データ電極
１１  主隔壁
１１ａ  主隔壁露光部
１２  補助隔壁
１２ａ  補助隔壁露光部
１３  結合部
１４  蛍光体層
１５  放電空間
１６  放電セル
Ｔ  凹み量
【図１】
2004152520.tif 000004
【図２】
2004152520.tif 000005
【図３】
2004152520.tif 000006
【図４】
2004152520.tif 000007
【図５】
2004152520.tif 000008
【図６】
2004152520.tif 000009
【図７】
2004152520.tif 000010
【図８】
2004152520.tif 000011
【図９】
2004152520.tif 000012
【図１０】
2004152520.tif 000013
【図１１】
2004152520.tif 000014