(57)【要約】【課題】液晶表示装置の広視野角化、特にパネルの下方向の階調反転および外光の映り込み防止を高度に実現し、かつ高精細液晶表示装置でも呆けのない画像を実現できる偏光板、およびそれを用いた液晶表示装置を提供すること。【解決手段】液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置の視認側の偏光板として用いられ、少なくとも偏光層、偏光層を挟持した２枚の保護フィルム、光学異方性層、および光拡散層を有する偏光板であって、光拡散層が、透光性樹脂および透光性樹脂中に分散された散乱体を含み、視認側の保護フィルムと液晶セルとの間に配置され、散乱体が、扁平で、０．１乃至５０μｍの平均粒径を有し、透光性樹脂との屈折率差が０．０４乃至１．５である偏光板を用いる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置の視認側の偏光板として用いられ、少なくとも偏光層、偏光層を挟持した２枚の保護フィルム、光学異方性層、および光拡散層を有する偏光板であって、
光拡散層が、透光性樹脂および透光性樹脂中に分散された散乱体を含み、視認側の保護フィルムと液晶セルとの間に配置され、
散乱体が、扁平で、０．１乃至５０μｍの平均粒径を有し、透光性樹脂との屈折率差が０．０４乃至１．５である、
ことを特徴とする偏光板。
【請求項２】
光拡散層の透光性樹脂が、バインダーポリマー、並びに高屈折率を有するモノマーおよび／または金属酸化物超微粒子から形成されることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、請求項１または２に記載の偏光板を視認側に用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
液晶セルが、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードの液晶セルであることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン等の画像表示に用いる液晶表示素子に関し、詳しくは表示品位の向上を図る偏光板、および液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に偏光板と液晶セルから構成される液晶表示装置の表示品位上の欠点として、従来、視野角が狭いことおよび外光の映り込みが目立つことが挙げられてきた。
視野角に関しては、現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置において、光学補償フィルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、極めて広視野角の液晶表示装置が実現されている（例えば、特許文献１、特許文献２および特許文献３参照）。ところが、上記液晶表示装置はパネルの下方向の階調反転が生じるという問題が残っていた。
この問題に対して、光拡散手段（例えば、特許文献４参照）、光軸変換板（例えば、特許文献５参照）、および出射光を拡散する光学手段（例えば、特許文献６参照）を、視認側表面に設けることで表示品位を大幅に改善する方法が提案されている。しかしながら、これらの方法の具体的手段は高度に制御されたレンズ構造、あるいは回折構造を有する光拡散手段であり、高価、かつ大量生産が非常に困難であった。また、これらの方法の具体的手段では、偏光板の他に、光拡散手段あるいは光軸変換手段を有する光学シートを使用するので、その結果として液晶パネルを厚くする問題を引き起こしていた。
【０００３】
安価、かつ大量生産可能な光拡散フィルムとしては、透明基材フィルムの表面に、二酸化ケイ素（シリカ）等のフィラーを含む樹脂を塗工して形成したもの、などが挙げられる（例えば、特許文献７、特許文献８、特許文献９、特許文献１０、特許文献１１、特許文献１２、特許文献１３および特許文献１４参照）。しかしながら、これらの光拡散フィルムを用いても、表示品位の向上は微々たるものであった。
【０００４】
さらに近年、液晶表示装置が画素が細かい（高精細）モニター用途に用いられることが多くなり、上記のような光拡散効果を利用するものは、画像の呆けという大きな課題に直面している。
【０００５】
一方、外光の映り込みに関しては、反射防止フィルムが一般に用いられる。反射防止フィルムは、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するもので、ディスプレイの最表面に配置される。しかしながら、従来の反射防止フィルムは上述のような視野角の問題を解決し得るものではなく、外光の映り込みに優れ、かつ視野角の問題を解決できるような反射防止フィルムが望まれていた。
【０００６】
【特許文献１】
特開平８−５０２０６号公報
【特許文献２】
特開平７−１９１２１７号公報
【特許文献３】
欧州特許０９１１６５６Ａ２号明細書
【特許文献４】
特許第２８２２９８３号明細書
【特許文献５】
特開２００１−３３７８３号公報
【特許文献６】
特開２００１−５６４６１号公報
【特許文献７】
特開平６−１８７０６号公報
【特許文献８】
特開平１０−２０１０３号公報
【特許文献９】
特開平１１−１６０５０５号公報
【特許文献１０】
特開平１１−３０５０１０号公報
【特許文献１１】
特開平１１−３２６６０８号公報
【特許文献１２】
特開２０００−１２１８０９号公報
【特許文献１３】
特開２０００−１８０６１１号公報
【特許文献１４】
特開２０００−３３８３１０号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、液晶表示装置の広視野角化、特にパネル下方向の階調反転の改善を高度に実現し、かつ高精細液晶表示装置でも呆けのない画像を実現できる偏光板、およびそれを用いた液晶表示装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、液晶パネルの厚みを厚くすることなく、視野角（特に下方向視野角）が拡大し、かつ外光の映り込みや反射を防止し、そして視角変化や外光の反射による、コントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することのない偏光板、およびそれを用いた液晶表示装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記（１）〜（１１）の偏光板、および下記（１２）、（１３）の液晶表示装置により達成された。
【０００９】
（１）液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置の視認側の偏光板として用いられ、少なくとも偏光層、偏光層を挟持した２枚の保護フィルム、光学異方性層、および光拡散層を有する偏光板であって、
光拡散層が、透光性樹脂および透光性樹脂中に分散された散乱体を含み、視認側の保護フィルムと液晶セルとの間に配置され、
散乱体が、扁平で、０．１乃至５０μｍの平均粒径を有し、透光性樹脂との屈折率差が０．０４乃至１．５である、
ことを特徴とする偏光板。
（２）光拡散層が、偏光層と視認側の保護フィルムとの間に配置されることを特徴とする上記（１）に記載の偏光板。
（３）光拡散層が、偏光層と液晶セル側の保護フィルムとの間に配置されることを特徴とする（１）に記載の偏光板。
（４）光拡散層が、液晶セル側の保護フィルムと液晶セルとの間に配置されることを特徴とする上記（１）に記載の偏光板。
（５）光拡散層は、法線方向のヘイズが１％乃至４０％であり、且つ法線から３０°傾けた方向のヘイズが法線方向のヘイズより高いことを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の偏光板。
（６）光拡散層の散乱体の屈折率が、透光性樹脂の屈折率より低いことを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の偏光板。
（７）光拡散層の透光性樹脂が、バインダーポリマー、並びに高屈折率を有するモノーおよび／または金属酸化物超微粒子から形成されることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の偏光板。
（８）保護フィルムが、セルロースアセテートからなることを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載の偏光板。
（９）光学異方性層が、液晶性化合物からなることを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載の偏光板。
（１０）光学異方性層の液晶性化合物が、ディスコティック化合物からなることを特徴とする上記（９）に記載の偏光板。
（１１）視認側の表面に防眩層を有することを特徴とする上記（１）〜（１０）のいずれかに記載の偏光板。
（１２）視認側の表面に少なくとも１層の低屈折率層を有し、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下であることを特徴とする上記（１）〜（１１）のいずれかに記載の偏光板。
（１３）液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、上記（１）〜（１２）のいずれかに記載の偏光板を視認側に用いたことを特徴とする液晶表示装置。
（１４）液晶セルが、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードの液晶セルであることを特徴とする上記（１３）に記載の液晶表示装置。
【００１０】
本発明の偏光板は、偏光層、偏光層を挟持した２枚の保護フィルム、光学異方性層、および光拡散層を有し、液晶表示装置の視認側に用いる偏光板において、光拡散層に扁平で特定の平均粒径、屈折率を有する散乱体を用い、この光拡散層を視認側の保護フィルムと液晶セルとの間に配置したことを特徴とする。
視野角は、バックライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置された光拡散層で拡散されればされるほど広くなるが、あまり拡散されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減少する、あるいは、散乱が大きすぎて画像鮮明性が劣化する（画像の呆け）等の問題が生じる。従来、光拡散層は、視認側の偏光板表面に設置されており、画像の呆けと視野角はトレードオフの関係にあった。そこで本発明者らは、鋭意検討の結果、光拡散層を液晶セルに近づけ、さらに散乱体として扁平形状のものを用いることで、画像の呆けが解消し、光拡散層による視野角拡大効果と両立することができることを見出した。
すなわち、本発明によれば、液晶表示装置の視認側の偏光板に光拡散層と光学異方性層とを組み合わせることにより視野角を改良し、さらに光拡散層を最表面ではなく、液晶セルに近づけ、また、散乱体として扁平形状のものを用いることにより、正面輝度、画像の呆けを最小限に抑え、視野角改良を達成することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をさらに詳述する。
本発明の偏光板の基本的な構成を図面を引用しながら説明する。
まず図１に示す態様は、光拡散層を最表面に配置し、視野角拡大効果と画像の呆けが両立し得なかった従来の偏光板の構成例である。散乱体１と透光性樹脂２からなる光拡散層３、第一の保護フィルム４、偏光層５、第二の保護フィルム６、光学異方性層７、粘着剤層８の順序の層構成を有する。
図１の構成に対して、図２〜図６に本発明の偏光板の基本的な構成を示す。図２は光拡散層３を第一の保護フィルム４（視認側の保護フィルム）と偏光層５の間に配置した場合、図３は光拡散層３を偏光層５と第二の保護フィルム６（液晶セル側の保護フィルム）の間に配置した場合、図４は光拡散層３を第二の保護フィルム６と光学異方性層７に配置した場合、図５は光拡散層３を光学異方性層７と粘着剤層８の間に配置した場合である。図６は粘着剤層に散乱体を含有させ、光拡散粘着剤層９としたものである。
なかでも、画像の呆けの解消と視野角拡大とを両立する上では、図２〜図４の場合が好ましい。
【００１２】
以下、本発明の偏光板を構成する各層についてさらに詳細に説明する。
（光拡散層）
光拡散層は、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された散乱体とからなる。
本発明の光拡散層は、法線方向から測定したヘイズが１乃至４０％であることが好ましく、５乃至３０％であることがさらに好ましく、７乃至２０％であることが最も好ましい。
また、光拡散層の法線方向から傾いた方向から測定したヘイズは、法線方向のヘイズに比べて高いことが好ましく、法線から３０゜傾いた方向のヘイズは２０％乃至７０％であることが好ましく、３０％乃至６０％であることが最も好ましい。
ヘイズを上昇させる方法としては、散乱体の濃度を上げる、もしくは膜厚を厚くする、さらには散乱体の屈折率と透光性樹脂の屈折率の差を大きくすることが挙げられる。なお、ヘイズ値（曇価）は、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じ村上色彩技術研究所製ＨＲ−１００を用いて測定している。
光拡散層の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは３μｍ乃至７μｍとするとよい。
【００１３】
本発明では、下記（ａ）〜（ｃ）の特徴を有する散乱体を用いる。
（ａ）扁平である。
（ｂ）透光性樹脂の屈折率との差が０．０４乃至１．５である屈折率を有する。
（ｃ）平均粒径が０．１乃至５０μｍである。
ここでの平均粒径は、法線に平行な長さ（Ｚ）、フィルム面に平行な長さ（Ｘ、Ｙ）の３軸の平均値である。
散乱体は、さらに、下記（ｄ）および（ｅ）の特徴を有することが好ましい。
（ｄ）フィルム面に平行な断面の平均粒径が０．１乃至５０．０μｍである。
（ｅ）フィルム面に垂直な断面の平均粒径が０．０１乃至１０．０μｍである。
【００１４】
本発明の散乱体はフィルム法線方向から視角を傾けていったときの散乱強度が連続的に変化することが好ましいので、散乱体の扁平形状は円柱状乃至棒状もしくは楕円状（特に円盤状）であることが好ましい。
楕円状の場合、その長軸は、光拡散層の法線方向にほぼ垂直であることが好ましい。しかし、特定の方向に視野角を拡げるために、法線方向からある程度の角度傾けることもできる。その場合、液晶表示装置に装着した場合の効果（正面コントラスト、呆けを犠牲にせずに視野角を拡げる）をより効率的に発揮させるためには、散乱体の平均アスペクト比は３以上であることが好ましく、平均５以上であることがさらに好ましい。また、アスペクト比の異なる散乱体を混合して用いることで、より効率よく視野角を拡大できる場合もある。ここでのアスペクト比は、散乱体のフィルム法線を含む断面において、フィルム面に水平な方向と垂直な方向の大きさの比である。
一方、円柱状乃至棒状の場合、その長軸は法線方向にほぼ平行であることが好ましく、平均アスペクト比としては０．５以下が好ましく、０．３以下がより好ましく、０．２以下がさらに好ましい。
散乱体と光拡散層全体を構成する透光性樹脂（バインダー）との屈折率の差は０．０４乃至１．５である。屈折率差は、０．０４乃至１．０であることが好ましく、０．０４乃至０．５がさらに好ましく、０．０４乃至０．２が最も好ましい。屈折率差が０．０４未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光拡散効果を得られない。また、屈折率差が１．５よりも大きい場合は、光拡散性が高すぎて、フィルム全体が白化してしまう。
散乱体の平均粒径は０．１乃至５０μｍであり、好ましくは０．５乃至２０μｍである。
【００１５】
表示品位を上げる（特に下方向視野角改善）ためには、散乱層に斜めに入射した光を拡散させることが必要であり、この拡散効果が大きければ大きい程、視角特性は向上する。しかし、散乱層に垂直に入射する光は、正面の明るさを維持するために、できる限り散乱しないことが好ましい。このため、具体的には、各々の扁平粒子の向きを散乱層内で揃えることが好ましく、向きが揃っていればいるほどよい。
【００１６】
散乱体は、単分散の有機素材であっても、無機素材であってもよい。大きさにばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値（曇価）の設計が容易となる。
散乱体素材は、バインダーとの屈折率差の関係から適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。
【００１７】
扁平な散乱体は、無機あるいは有機の粒子を透光性樹脂中に分散し、透明基材（例えば、保護フィルムや液晶セルなど）上に塗設することが好ましい。散乱体は、さまざまな材料（例、タンパク質、酸化ケイ素、金属酸化物、ポリマー）から製造できる。ポリマーの場合、光拡散フィルムの製造段階で、モノマー（例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル）の乳化重合によって微粒子を合成することもできる。特に、ゼラチン微粒子（屈折率：１．４４）、およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの重合体微粒子（屈折率：１．５１）が好ましい。
市販の粒子、例えば、雲母粒子（ミクロマイカ、コープケミカル（株））、絹タンパク粒子（出光シルクパウダー（出光石油化学（株）製）、アルミナ粒子（セラフ、ＹＫＫ（株）製）を用いてもよい。また、円柱状の粒子としては、バリウムフェライト粒子を円柱状にスタッキングさせたものを用いることができる。扁平な散乱体を有する光散乱層を作製する方法としては、透光性樹脂中に乳化分散し、透明基材上に塗布した後、乾燥時の厚み方向への収縮を利用する方法（乳化法）、あるいは、アスペクト比が２以上の散乱体（円盤状散乱体が好ましい）を透光性樹脂中に分散させたものを透明基材上に塗布する方法（分散法）などが挙げられる。
【００１８】
上記のような散乱体の場合には、樹脂組成物（透光性樹脂）中で散乱体が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、散乱体の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【００１９】
透光性樹脂としては、主として紫外線・電子線ないしは加熱によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。
透光性樹脂の屈折率は、小さすぎると反射防止性が低下し、大きすぎると反射光の色味が強くなり好ましくないので、好ましくは１．５０〜２．００であり、より好ましくは１．５３〜１．９５であり、さらに好ましくは１．５７〜１．９０であり、特に好ましくは１．６１〜１．８０である。また、散乱体の屈折率よりも大きいことが好ましい。なお、透光性樹脂の屈折率は、散乱体を含まずに測定した値である。
【００２０】
透光性樹脂に用いるバインダーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。また、バインダーは架橋していることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００２１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。これらのなかでも、少なくとも３つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有するアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。
【００２２】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶解、塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応により硬化することができる。
【００２３】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応性を示さず分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００２４】
透光性樹脂は、上記バインダーポリマーに加えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等から形成されることが好ましい。
高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子が挙げられる。具体例としては、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ２が好ましく用いられる。
高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であるとさらに好ましい。
【００２５】
光拡散層を保護フィルム上に設ける場合、光拡散層を形成するための塗布液の溶剤は、保護フィルムとの密着性を達成する為に、保護フィルム（例えばトリアセチルセルロース）を溶解する少なくとも一種類以上の溶剤と、保護フィルムを溶解しない少なくとも一種類以上の溶剤から構成するのが好ましい。より好ましくは、保護フィルムを溶解しない溶剤のうちのすくなくとも一種類が、保護フィルムを溶解する溶剤うちの少なくとも一種類よりも高沸点であることが好ましい。さらに好ましくは、保護フィルムを溶解しない溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、保護フィルムを溶解する溶剤のうち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が３０℃以上であることであり、最も好ましくは５０℃以上であることである。
【００２６】
保護フィルム（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解する溶剤として、
炭素子数が３〜１２のエーテル類：具体的にはジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等、
炭素数が３〜１２のケトン類：具体的にはアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等、
炭素数が３〜１２のエステル類：具体的には蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等、
２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的には２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、およびアセト酢酸エチル等、
等が挙げられる。
これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。保護フィルムを溶解する溶剤としてはケトン系溶剤が好ましい。
【００２７】
保護フィルム（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解しない溶剤として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノンが挙げられる。
これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２８】
保護フィルムを溶解する溶剤の総量（Ａ）と溶解しない溶剤の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０であり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。
【００２９】
透光性樹脂のなかで電離放射線硬化型樹脂組成物は、通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用できる。紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発する紫外線等が利用できる。
【００３０】
本発明において光拡散層を粘着層と兼ねて光拡散粘着層として使用する場合は、透光性樹脂には粘着性を有する樹脂が用いられる。例えば、合成樹脂系接着剤、エマルジョン系接着剤、合成ゴム系接着剤等がある。
上記合成樹脂系接着剤としては、アクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂系粘着剤、ウレタン樹脂系粘着剤、メラミン樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、ユリア樹脂系接着剤、シアノアクリレート樹脂系接着剤等、あるいはこれらの共重合体等が利用できる。
また、上記エマルジョン系接着剤としては、酢酸ビニル樹脂系エマルジョン系接着剤、酢酸ビニル共重合樹脂系エマルジョン系接着剤、アクリル樹脂系エマルジョン系接着剤等が利用できる。この他、シリコン樹脂系接着剤、ポリイミド系接着剤等の耐熱接着剤、ポリビニルアルコール等の水溶性接着剤等を用いることもできる。さらに、該粘着剤は粘着付与剤、軟化剤、その他各種充填剤、顔料、老化防止剤、安定剤などをその用途に応じて適宜含んでもよい。
【００３１】
本発明において透光性樹脂中に散乱体を分散させる方法としては、溶媒に溶かした透光性樹脂中に散乱体を添加し、その混合溶液に対して、超音波分散法、攪拌脱泡ミキサー、ボールミル、ジェットミル等を用いることができる。
光拡散層の形成方法としては、例えば、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、ロールコート法、グラビアコート法、バーコート法、スピンコート法、カーテンコート法、スプレーコート法等を用いることができる。
【００３２】
（防眩層）
本発明においては、外光の映り込み防止や防眩性付与を目的に、偏光板の視認側表面に防眩層を設けてもよい。
【００３３】
防眩層に用いるバインダーは屈折率が１．４６乃至２．００であれば特に限定されない。加工時にそれ自体に傷がつきにくいようにするためには、ハードコート性を有することが好ましい。
【００３４】
防眩層にハードコート性を付与するためにバインダーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。バインダーは架橋していることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００３５】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させる必要がある。
【００３６】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要がある。
【００３７】
防眩層のバインダーを高屈折率化するために、屈折率が１．５７以上、好ましくは１．６５以上の高屈折率モノマーを用いることができる。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポキシ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させる必要がある。
【００３８】
また防眩層のバインダーを高屈折率化するために、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。微粒子の例としては、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。無機微粒子の添加量は、防眩層の全質量の１０乃至９０質量％であることが好ましく、２０乃至８０質量％であるとさらに好ましく、３０乃至６０質量％が特に好ましい。
【００３９】
防眩層には、防眩性付与と干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目的で、散乱性粒子を用いてもよい。散乱性粒子としては、平均粒径０．０１乃至１．０μｍ、屈折率が１．３５乃至１．６５または２．００乃至３．００であって、バインダーの屈折率との差が０．０３以上のものが好ましい。この散乱性粒子を添加することによって防眩層中に内部散乱が生じ、防眩層全体としては屈折率が一つの値で定義されない屈折率不均一層となる。
【００４０】
防眩層に防眩性を付与するためには、例えば特開昭６１−２０９１５４号公報に記載されている透明支持体上にバインダーに粒子を添加した凹凸層を塗布する方法や、特開平６−１６８５１号公報に記載されているあらかじめ凹凸面を形成したフィルムを透明支持体上の塗布層に貼り合わせて凹凸を転写させる方法、または透明支持体に直接またはハードコート層のごとき他の層を介してエンボス加工により凹凸を形成する方法が挙げられる。なかでもバインダーに粒子を添加して凹凸を形成する方法は、簡便かつ安定に製造できる点で好ましい。
防眩層に凹凸を設ける目的で付与する粒子としては、防眩層の表面に凹凸が形成されれば特に限定されないが、内部散乱をコントロールするために、粒子とバインダーとの屈折率差は０．０５未満であることが好ましく、０．０２未満であることがより好ましい。また、防眩層の表面に有効に凹凸を形成するために平均粒径が１乃至１０μｍであることが好ましく、１．５乃至６μｍであることがより好ましい。粒子の例としてはポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等が挙げられる。粒子は水及び有機溶剤に不溶のものが好ましい。防眩層に添加する粒子は、凹凸をコントロールするために２種類以上の粒子を組み合わせて用いても構わない。
【００４１】
（低屈折率層）
本発明においては、反射防止能を付与する目的で、偏光板の視認側表面に反射防止層として低屈折率層を設けてもよい。
低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４５であるのが好ましい。
また、低屈折率層の屈折率は、可視光のほぼ全域の光に対して反射防止能を低屈折率層に付与するためには、下記数式（１）を満たすことが好ましい。
数式（１）  （ｍλ／４）×０．７＜ｎ１ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、４５０〜６５０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、上記数式（１）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（１）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００４２】
低屈折率層には、熱硬化性または電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物が硬化した含フッ素樹脂が用いられる。これにより、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムを用いた低屈折率層に比べ、最外層として用いても耐傷性に優れている。熱硬化性または電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物の屈折率としては１．３５以上１．４５以下が好ましい。硬化した含フッ素樹脂の動摩擦係数は、好ましくは０．０３〜０．１５、水に対する接触角は好ましくは９０〜１２０度である。
このような架橋性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００４３】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、等が挙げられる。
【００４４】
架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。
【００４５】
また、低屈折率層には、上記含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体だけでなく、これにその他のモノマーが共重合したポリマーを用いてもよい。
共重合してもよいその他のモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。
【００４６】
低屈折率層に用いる含フッ素樹脂には、耐傷性を付与するために、平均粒径が好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．００１〜０．０５μｍのＳｉの酸化物超微粒子を添加して用いるのが好ましい。反射防止性の観点からは屈折率が低いほど好ましいが、含フッ素樹脂の屈折率を下げていくと耐傷性が低下する。そこで、含フッ素樹脂の屈折率とＳｉの酸化物超微粒子の添加量を最適化することにより、耐傷性と低屈折率のバランスの最も良い点を見出すことができる。Ｓｉの酸化物超微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。
なお、本発明の偏光板に上記防眩層とともに低屈折率層を設ける場合には、視認側の表面に防眩層、低屈折率層の順で設けることが好ましい。
【００４７】
上記の防眩層や低屈折率層を設ける場合の本発明の偏光板（以下、「反射防止偏光板」または「防眩性反射防止偏光板」と言う）は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）あるいはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のいずれかに対して常温常湿で測定した垂直剥離帯電が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ２〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ２であることが好ましい。より好ましくは−１００ｐｃ／ｃｍ〜＋１００ｐｃ／ｃｍ２であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ２〜＋５０ｐｃ／ｃｍ２であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ２である。ここで、単位のｐｃ（ピコクーロン）は、１０−１２クーロンである。
さらに好ましくは、常温１０％ＲＨで測定した垂直剥離帯電が−１００ｐｃ／ｃｍ２〜＋１００ｐｃ／ｃｍ２であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ２〜＋５０ｐｃ／ｃｍ２であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ２である。
【００４８】
垂直剥離帯電の測定方法は以下の通りである。
測定サンプルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で２時間以上放置しておく。測定装置は測定サンプルを置く台と相手のフィルムを保持して測定サンプルに上から圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドに帯電量を測定するエレクトロメーターがつながっている。測定する防眩性反射防止フィルムを台に乗せ、ヘッドにＴＡＣあるいはＰＥＴを装着する。測定部分を除電したのち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させることを繰り返し、１回目の剥離時と５回目の剥離時との帯電の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電とする。
【００４９】
相手フィルムや測定サンプルの種類によってプラスに帯電する場合とマイナスに帯電する場合があるが、問題となるのは絶対値の大きさである。
また、一般的に低湿度の環境下の方が帯電の絶対値は大きくなる。本発明の反射防止偏光板ではこの絶対値も小さくすることができる。
【００５０】
本発明の反射防止偏光板は、常温常湿及び常温１０％ＲＨでの垂直剥離帯電の絶対値が上記のように小さくすることにより、防塵性に優れたものとなる。
垂直剥離帯電の値を上記の範囲とするには、反射防止偏光板の表面層の各種元素の割合を調節することによりできる。
【００５１】
本発明の反射防止偏光板の表面抵抗値は、１×１０１１Ω／□以上、好ましくは１×１０１２Ω／□以上である。表面抵抗値の測定方法はＪＩＳに記載されている円電極法である。即ち、電圧印加後、１分後の電流値を読み、表面抵抗値（ＳＲ）を求める。
本発明の反射防止偏光板における防塵性を向上させる方法は、表面抵抗値を小さくすること、例えば１×１０１０Ω／□以下にすることで防塵性（ゴミ付着防止性）を良くする方法とは考え方が根本的に異なる。表面抵抗値を小さくする方法は画像表示品位が落ちるため、本発明では採用することができない。本発明の反射防止偏光板においては、上記のように垂直剥離帯電の絶対値を小さくしているので、表面抵抗値を小さくする必要がなく、表面抵抗値を１×１０１１Ω／□以上とすることができ、画像表示品位が落ちることもない。
【００５２】
本発明の反射防止偏光板は、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下が好ましく１．２％以下がより好ましく、さらに好ましくは１．１％以下である。
また、５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下であることが好ましく、より好ましくは２．３％以下である。
【００５３】
上記５度入射における鏡面反射率、および５度入射における積分反射率について説明する。
５度入射における鏡面反射率は、サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する法線方向−５度で反射した光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度になる。
また、防眩性反射防止偏光板には、防眩性付与のために設けた表面凹凸に起因する散乱光の分だけ、法線方向−５度で反射した光の強度は弱くなる。従って、鏡面反射率は防眩性と反射防止性の両方の寄与を反映する測定法といえる。
【００５４】
一方、５度入射における積分反射率とは、サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する全ての方向に反射した光の強度の積分値の割合である。反射防止偏光板に適用する場合には、防眩性による反射光の減少が起こらないため、反射防止性だけを反映する測定が可能である。
従って、上記の両方の反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値をそれぞれ２．５％以下（鏡面反射率）、２．５％以下（積分反射率）とすることにより、防眩性と反射防止性を同時に満足させることが可能になる。
【００５５】
反射防止偏光板の５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％を越えると、背景の映り込みが気になり、表示装置に適用したときの視認性が低下する。
一方、反射防止偏光板の５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％を越えると、表示装置のコントラスト改善効果が少なくなり、また防眩性反射防止偏光板の場合には防眩性付与のための表面凹凸起因の散乱光により表示画面が白化し、表示装置の表示品位が低下する。
【００５６】
本発明の防眩性反射防止偏光板は、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊、ａ＊、ｂ＊値で定量化したときに、それぞれＬ＊≦１０、０≦ａ＊≦２、−５≦ｂ＊≦２の範囲内に入るように設計されていることが好ましい。これを満たす正反射光はニュートラルな色味である。
ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味は、５度入射における波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における鏡面反射率の実測値と光源Ｄ６５の各波長における分光分布の積を算出して得られた分光反射スペクトルから、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値をそれぞれ算出することで定量化することができる。
Ｌ＊値が１０より大きいと、反射防止性が十分でない。ａ＊値が２より大きいと反射光の赤むらさき色が強く、０未満では逆に緑色が強くなり好ましくない。また、ｂ＊値が−５未満では青味が強く、２より大きいと黄色が強くなり好ましくない。
【００５７】
このようなニュートラルな色味の反射光を有し、且つ低反射率を有する反射防止フィルムは、低屈折率層の屈折率と防眩層のバインダー素材の屈折率のバランスを最適化することで得られる。
一般に３層以上の蒸着、スパッタ等による光学薄膜による反射防止膜は、鏡面反射率の平均値を０．３％以下まで低減でき、従ってＬ＊値も３以下にまで低減できるが、ａ＊値が１０以上、ｂ＊値が−１０未満の値となり、反射光の色味が非常に強いものとなっていたが、本発明の防眩性反射防止偏光板ではこの反射光の色味の点で大幅に改善されている。
【００５８】
（保護フィルム）
保護フィルムとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（屈折率１．４８）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム等が使用できる。また、厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とする。
本発明の保護フィルムとしては、従来、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアセテートフィルムを使用することが好ましい。
以下、透明性が高く、表面が平滑で本発明の偏光板の保護フィルムに特に好ましく使用できるセルロースアセテートフィルムに関し、説明する。
【００５９】
（高透明度、高平滑セルロースアセテートフィルム）
本発明では保護フィルムとして、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。
【００６０】
一般に、セルロースアシレートは２，３，６位の水酸基に全体の置換度の１／３づつが均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、さらには３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。
６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
本発明のセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報記載の「００４３」〜「００４４」「実施例」［合成例１］、「００４８」〜「００４９」［合成例２］、「００５１」〜「００５２」［合成例３］の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【００６１】
（セルロースアセテートフィルムの製造）
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフィルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００６２】
炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
【００６３】
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００６４】
一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。非塩素系溶媒を用いることもでき、それについては公開技報２００１−１７４５号に記載されているものがあげられる。
セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。
【００６５】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００６６】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００６７】
次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【００６８】
さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００６９】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保持する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【００７０】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフィルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００７１】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延でフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【００７２】
２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号、の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化してもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号、の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高粘度および低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。
【００７３】
また、２個の流延口を用いて第一の流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製する、例えば、特公昭４４−２０２３５号に記載されている方法でもよい。
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるためには、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。
さらに、セルロースアシレート溶液を流延する際、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも可能である。
【００７４】
単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が乏しく、固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多い。この解決策として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【００７５】
セルロースアセテートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
【００７６】
セルロースアセテートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００７７】
（セルロースアセテートフィルムの表面処理）
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
偏光板の透明保護フィルムとして使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。
【００７８】
以下、アルカリ鹸化処理を具体例で説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好ましく、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲が好ましく、４０℃乃至７０℃がさらに好ましい。
生産性の観点から、アルカリ液を塗布し、鹸化処理後に水洗によりフィルム表面よりアルカリ除去することが好ましい。濡れ性の観点から、塗布溶媒としてはＩＰＡ、ｎ−ブタノール、メタノール、エタノール等のアルコール類が好ましく、アルカリ溶解の助剤として水、プロピレングリコール、エチレングリコール、等を加えることが好ましく用いられる。
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【００７９】
（光学異方性層）
光学異方性層は、光漏れ防止や視野角拡大など光学補償機能を有し、本発明においては液晶性化合物を用いて層を形成するのが好ましい。
【００８０】
（液晶性化合物）
本発明の光学異方性層に用いられる液晶化合物は、棒状液晶でも、ディスコティック液晶でもよく、またそれらが高分子液晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含む。液晶性化合物として最も好ましいのは、ディスコティック液晶である。
【００８１】
棒状液晶の好ましい例としては、特開２０００−３０４９３２号公報に記載のものがあげられる。
ディスコティック液晶の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ    Ｌｅｔｔ．Ａ、７８巻、８２頁（１９９０年）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック液晶は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。上記ディスコティック液晶の好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に記載されている。
【００８２】
本発明の光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に変化していることが好ましい。
【００８３】
上記ディスコティック構造単位の面の角度（傾斜角）は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の底面からの距離の増加と共に増加または減少している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【００８４】
上記光学異方層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティック化合物及び他の化合物（さらに、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマチック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。
【００８５】
支持体側のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択することにより調整することができる。さらに、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整することができる。
【００８６】
上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に１〜５０質量％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて使用される。さらに、好ましい重合性モノマーの例としては、多官能アクリレートが挙げられる。官能基の数は３官能以上が好ましく、４官能以上がさらに好ましい。最も好ましいのは６官能モノマーである。６官能モノマーの好ましい例としては、ジペンタエリストリトールヘキサアクリレートが挙げられる。また、これら官能基数の異なる多官能モノマーを混合して使用することも可能である。
【００８７】
上記ポリマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマー例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％（好ましくは０．１〜８質量％、特に０．１〜５質量％）の量にて使用される。
本発明では、光学異方性層は、保護フィルム（例えば、セルロースアセテートフィルム）などの上に設けられた配向膜上に形成されたディスコティック液晶からなり、配向膜が架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜であることが好ましい。
【００８８】
（配向膜）
本発明で光学異方性層の液晶性化合物の配向を調整するために設ける配向膜は、架橋された２種のポリマーからなる層であることが好ましい。２種のうち少なくとも１種に、それ自体架橋可能なポリマー、あるいは架橋剤により架橋されるポリマー、のいずれかを使用することが好ましい。上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱、ＰＨ変化等により、ポリマー間で反応させて形成するか、あるいは、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。
【００８９】
このような架橋は、通常上記ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱等を行なうことにより実施されるが、最終商品の段階で耐久性が確保できればよいので、配向膜を支持体上に塗設した後から、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で架橋させる処理を行なってもよい。配向膜上に形成される光学異方性層がディスコティック化合物で形成される場合、ディスコティック化合物の配向性を考えると、該化合物を配向させたのちに、充分架橋を行なうことも好ましい。すなわち、支持体上に、ポリマー及び該ポリマーを架橋することができる架橋剤を含む塗布液を塗布した場合、加熱乾燥した後（一般に架橋が行なわれるが、加熱温度が低い場合にはディスコティックネマチック相形成温度に加熱された時にさらに架橋が進む）、ラビング処理を行なって配向膜を形成し、次いでこの配向膜上に円盤状構造単位を有する化合物を含む塗布液を塗布し、ディスコティックネマチック相形成温度以上に加熱した後、冷却して光学異方層を形成する。
【００９０】
本発明で配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論両方可能なポリマーもある。上記ポリマーの例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート、ゼラチン等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
【００９１】
上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましく、重合度の異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが最も好ましい。
ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものであり、一般に鹸化度８０〜１００％のものであり、より好ましくは鹸化度８５乃至９５％のものである。重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）４、Ｎ（ＣＨ３）３・Ｃｌ、Ｃ９Ｈ１９ＣＯＯ、ＳＯ３、Ｎａ、Ｃ１２Ｈ２５等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ１２Ｈ２５等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＯＲ、Ｃ６Ｈ５等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。これらの中で、鹸化度８０〜１００％の未変性乃至変性ポリビニルアルコールが好ましく、鹸化度８５乃至９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアルコールがより好ましい。
これら変性ポリマーの合成方法、可視吸収スペクトル測定、および導入率の決定方法等は、特開平８−３３８９１３号公報に詳しい記載がある。
【００９２】
上記ポリビニルアルコール等のポリマーと共に使用される架橋剤の具体例として、下記のものを挙げることができるが、これらは上記水溶性ポリマー、特にポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール（上記特定の変性物も含む）、と併用する場合に好ましい。例えば、アルデヒド類（例、ホルムアルデヒド、グリオキザール及びグルタルアルデヒド）、Ｎ−メチロール化合物（例、ジメチロール尿素及びメチロールジメチルヒダントイン）、ジオキサン誘導体（例、２，３−ジヒドロキシジオキサン）、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物（例、カルベニウム、２−ナフタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−クロロピリジニウム及び１−モルホリノカルボニル−３−（スルホナトアミノメチル））、活性ビニル化合物（例、１、３、５−トリアクロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビニルスルホン）メタン及びＮ，Ｎ’−メチレンビス−［β−（ビニルスルホニル）プロピオンアミド］）、活性ハロゲン化合物（例、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン）、イソオキサゾール類、及びジアルデヒド澱粉、などを挙げることができる。これらは、単独または組合せて用いることができる。生産性を考慮した場合、反応活性の高いアルデヒド類、とりわけグルタルアルデヒドの使用が好ましい。
【００９３】
架橋剤としては、特に限定はなく、添加量は、耐湿性に関しては、多く添加した方が良化傾向にある。しかし、配向膜としての配向能が、ポリマーに対して５０質量％以上添加した場合に低下することから、０．１〜２０質量％が好ましく、特に０．５〜１５質量％が好ましい。この場合、配向膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含むこともあるが、その架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、特に０．５質量％以下であることが好ましい。配向膜中に１．０質量を超える量で架橋剤が含まれていると、充分な耐久性が得られない。即ち、液晶表示装置に使用した場合、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、レチキュレーションが発生することがある。
【００９４】
本発明の配向膜は、配向膜形成材料である上記ポリマーおよび架橋剤を含む塗布液を、透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。そして、前記のポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のあるメタノール等の有機溶媒と水の混合溶媒とすることが好ましく、その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が一般的であり、０：１００〜９１：９であることが好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。塗布方法としては、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。特にＥ型塗布法が好ましい。また、膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は２０℃ないし１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成させるためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができる。好ましくは５分間乃至３０分間である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、架橋剤にグルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨは４．５〜５．５が好ましく、５が特に好ましい。
【００９５】
配向膜は、透明支持体上、または透明支持体と配向膜を密着し得る下塗り層を介して設けられる。下塗り層は、透明支持体と配向膜との組み合わせにおいて、両者の密着性を向上できるものであれば、特に限定されない。
配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。
【００９６】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行なうことにより実施される。
【００９７】
（光学異方性層を塗設する透明支持体）
光学異方性層を設ける透明支持体は、高透過率なプラスティックフィルムであれば特に制限はないが、本発明では、偏光板の保護フィルム（特に、セルロースアセテート）を用いることが好ましい。光学的に一軸性でも二軸性であってもよい。
光学異方性層を塗設する透明支持体は、それ自身が光学的に重要な役割を果たすため、透明支持体のＲｅレターデーション値が０乃至２００ｎｍであり、そして、Ｒｔｈレターデーション値が７０乃至４００ｎｍに調節されることが好ましい。
液晶表示装置に二枚の光学的異方性セルロースアセテートフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。
液晶表示装置に一枚の光学的異方性セルロースアセテートフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。
【００９８】
なお、セルロースアセテートフィルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００乃至０．００２であることが好ましい。また、セルロースアセテートフィルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４であることが好ましい。
レターデーション値（Ｒｅ）は、下記数式（２）に従って算出される。
数式（２）  Ｒｅレターデーション値＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率である。ｄは、単位をｎｍとするフィルムの厚さである。
また、Ｒｔｈレターデーション値は下記数式（３）に従って算出される。
数式（３）  Ｒｔｈレターデーション値＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘは、フィルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率である。ｎｙは、フィルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率である。ｎｚは、フィルムの厚み方向の屈折率である。ｄは、単位をｎｍとするフィルムの厚さである。
【００９９】
（偏光板）
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の保護フィルムからなる。保護フィルムとしては、図２〜図６に示す本発明の構成に従い、散乱層を付与した保護フィルム、あるいは散乱層と光学異方性層の両方を付与した保護フィルムを用いることができる。さらに視認側最表面には、傷付き防止の為のハードコート層、外光の映り込み防止の為の表面凹凸を有する防眩層、低屈折率素材からなる低屈折率層（反射防止層）を適宜設けた保護フィルムを用いることができる。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
保護フィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【０１００】
偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が大きな影響を及ぼすことがわかった。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フィルム中を拡散することで、乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
偏光板の透湿性は、保護フィルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。その透湿性は１００乃至１０００ｇ／ｍ２・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００乃至７００ｇ／ｍ２・２４ｈｒｓであることがさらに好ましい。
保護フィルムの厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
保護フィルムの自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
保護フィルムの親疎水性は、添加剤により調整することができる。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
【０１０１】
（液晶表示装置）
本発明の偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
ＴＮ、ＶＡ、ＯＣＢ、ＩＰＳ及びＥＣＢモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
液晶表示装置においては光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置される。
【０１０２】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードであることが好ましい。
【０１０３】
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０１０４】
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１０５】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１０６】
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ’９５），  ｐｐ．５７７−５８０及び同ｐｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０１０７】
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号に詳細が記載されている。
【０１０８】
【実施例】
以下、本発明を実施例で説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０９】
（光拡散層用塗布液の作製）
酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）を１００部、透光性樹脂（日本化薬製  ＤＰＨＡ）を４３質量部、および硬化開始剤（日本チバガイギー社製、イルガキュアー１８４）を５質量部、これらをエアディスパで攪拌しながら混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６４であった。この溶液に散乱体としてゼラチンを１５質量部加え、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分が４５％になるように調整したものを、ディゾルバーを用いて１００００回転で約１５分間乳化し、光拡散層用塗布液を作製した。
【０１１０】
（光拡散層付与保護フィルム（保護フィルムＡ）の作製）
トリアセチルセルロースフィルム（富士写真フイルム社製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、光拡散層用塗布液を乾燥膜厚が４．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ保護フィルムＡを作製した。
得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定したところ、フィルムの法線方向は１０％であり、該法線方向から３０°傾けた方向は４０％となり、適度なヘイズとなった。
また散乱体（透光性微粒子）のフィルム法線方向の断面の大きさは平均１５μｍであり、垂直な断面の大きさは平均３μｍであり、そして、粒径が０．１乃至５０μｍの透光性微粒子の平均アスペクト比は、５であり、屈折率は１．４４であった。
散乱体のアスペクト比は、透過型光学顕微鏡を用いてフィルム法線方向の断面の大きさを測定し、さらにフィルム断面をミクロトーム（ライカ製  ＣＭ１５１０）で切削し、電子顕微鏡（日立サイエンスシステムズ（株）Ｓ３５００Ｎ／Ｈ）による観察で測定した。
【０１１１】
（光拡散層及び光学異方性層付与保護フィルム（保護フィルムＢ、Ｃ）の作製）液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム社製）の光学異方性層とは反対面に、光拡散層用塗布液を乾燥膜厚４．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ保護フィルムＢを作製した。
得られたフィルムのヘイズは、フィルム法線方向が１０％であり、該法線方向から３０°傾けた方向は４０％となり、適度な値となった。
また、同様にして光学補償フィルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム製）の光学異方性層の上に、光拡散層用塗布液を塗布、硬化させ保護フィルムＣを作製した。得られたフィルムのヘイズは、フィルム法線方向が１０％であり、該法線方向から３０°傾けた方向は４０％となり、適度な値となった。
保護フィルムＢ及びＣの光拡散層についても、保護フィルムＡと同様に散乱体のサイズを確認したところ、保護フィルムＡの散乱体と同様の形状を示した。
【０１１２】
（比較例１）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。トリアセチルセルロースフィルムＴＤ−８０Ｕ（富士写真フイルム社製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層をフィルム支持体上に有する光学補償フィルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム社製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、フィルム支持体が偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。さらに光学補償フィルム側に粘着剤層を付与して視認側偏光板を作製した。
【０１１３】
（比較例２）
保護フィルムＡに鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、保護フィルムＡの光拡散層と反対側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層をフィルム支持体上に有する光学補償フィルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、フィルム支持体が偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。さらに光学補償フィルム側に粘着剤層を付与して視認側偏光板を作製した。
【０１１４】
（実施例１）
保護フィルムＡに鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、保護フィルムＡの光拡散層が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、フィルム支持体が偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。さらに光学補償フィルム側に粘着剤層を付与して視認側偏光板を作製した。
【０１１５】
（実施例２）
トリアセチルセルロースフィルムＴＤ−８０Ｕ（富士写真フイルム社製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、保護フィルムＢにケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光拡散層が偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。さらに保護フィルムＢ側に粘着剤層を付与して視認側偏光板を作製した。
【０１１６】
（実施例３）
トリアセチルセルロースフィルムＴＤ−８０Ｕ（富士写真フイルム社製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、保護フィルムＣにケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光拡散層と反対側が偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。さらに保護フィルムＣ側に粘着剤層を付与して視認側偏光板を作製した。
【０１１７】
（実施例４）
塗布、乾燥して得られた塗膜の屈折率が１．５３である溶液状のアクリル系粘着剤（溶媒はトルエン／酢酸エチルの９／１（ｗｔ）混合溶媒、濃度は４５ｗｔ％）１００質量部に、散乱体として酸化ジルコニウム６５ｗｔ％含有ゼラチンを５質量部加え、これらを混合してトルエン／酢酸エチル（９／１質量比）により固形分４５％になるように調整したものを、ディゾルバーを用いて１００００回転で約１５分間乳化した。
得られた分散溶液をガラス基板上にバーコーターで塗布し、１００℃で１０分乾燥させ、光拡散粘着剤層を形成した。粘着剤層の乾膜は約２５μｍであり、ヘイズはフィルム法線方向が１２％であり、該法線方向から３０°傾けた方向は４５％となり、適度な値となった。
また散乱体（透光性微粒子）のフィルム法線方向の断面の大きさは平均１２μｍであり、垂直な断面の大きさは平均３μｍであり、そして、粒径が０．１乃至５０μｍの透光性微粒子の平均アスペクト比は、４であり、屈折率は１．６４であった。
散乱体のアスペクト比は、透過型光学顕微鏡を用いてフィルム法線方向の断面の大きさを測定し、さらにフィルム断面をミクロトーム（ライカ製  ＣＭ１５１０）で切削し、電子顕微鏡（日立サイエンスシステムズ（株）Ｓ３５００Ｎ／Ｈ）による観察で測定した。
比較例１で作製した偏光板に使用した粘着剤の代わりにこの光拡散粘着剤を付与して、視認側偏光板を作製した。
【０１１８】
（バックライト側偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。市販のトリアセチルセルロースフィルムＴＤ−８０Ｕ（富士写真フイルム社製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテートフィルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにしてバックライト側偏光板を作製した。
【０１１９】
（液晶ディスプレイでの評価）
次に、上記比較例及び実施例の偏光板を用いて液晶表示装置での評価を実施した。
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＴＨ−１５ＴＡ２、松下電器産業（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記にて作製した視認側偏光板を、それぞれ光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバックライト側には、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介してバックライト側偏光板を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
【０１２０】
また、液晶表示装置に画像を表示させ、画像の呆けを評価した。
呆けの判定には、呆けが全く判らない：５〜画像の呆けが強い：１の５段階評価を採用した。
結果を表１に示す。
【０１２１】
【表１】
2004184860.tif 000002
【０１２２】
表１に示された結果から明らかなように視認側の偏光板に光学異方性層及び光拡散層を付与することにより液晶ディスプレイの視野角特性が大幅に改善され、光拡散層を液晶セルに近づけることにより画像の呆けも改善されている。
【０１２３】
【発明の効果】
視認側の偏光板に光学異方性層及び光拡散層を付与することにより液晶ディスプレイの視野角特性が大幅に改善され、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は優れた視認性を示す。
【図面の簡単な説明】
【図１】比較例となる偏光板の構成を示す断面図である。
【図２】本発明の偏光板の構成を示す断面図である。
【図３】本発明の偏光板の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の偏光板の構成を示す断面図である。
【図５】本発明の偏光板の構成を示す断面図である。
【図６】本発明の偏光板の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１    散乱体
２    透光性樹脂
３    光拡散層
４    第一の保護フィルム
５    偏光層
６    第二の保護フィルム
７    光学異方性層
８    粘着剤層
９    光拡散粘着剤層
【図１】
2004184860.tif 000003
【図２】
2004184860.tif 000004
【図３】
2004184860.tif 000005
【図４】
2004184860.tif 000006
【図５】
2004184860.tif 000007
【図６】
2004184860.tif 000008