(57)【要約】【課題】基板を好適に乾燥させ、高品質の基板を生成できる基板処理装置を提供すること。【解決手段】複数の基板を収容する収容棚１０７を備え、更に、収容棚の各段に対して同じ風量のクリーンエアを供給するためのエア供給室１０１を備える。エア供給室と収容棚の間には隔壁１０５ａ、１０５ｂが存在し、隔壁１０５ａ，１０５ｂには、収容棚の各段に対応する位置にそれぞれ同数のエア供給孔１０６が設けられている。エア供給室１０１には、ＨＥＰＡユニット１０４が設けられ、ＨＥＰＡユニット１０４から吹き出したクリーンエアは、一旦エア供給室で滞留し、ＨＥＰＡユニット１０４から吹き出した際の風圧がエア供給室１０１で緩衝され、エア供給室内がほぼ均一な気圧となった状態で、各エア供給孔から各基板にエアが供給される。【選択図】　図１
2004055814.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を同時に乾燥させるための基板処理装置であって、
複数の基板を略水平に多段載置する基板収容室と、
前記基板収容部に隣接して配置されたエア供給室と、
を有し、
前記基板収容室と前記エア供給室とを隔てる隔壁は、前記基板収容室の各基板に対して前記エア供給室内のエアをほぼ同じ勢いで供給するための複数の開口部を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記基板収容室を挟んで前記エア供給室の逆側に配置されたエア排出室を更に有し、
前記基板収容室と前記エア排出室とを隔てる隔壁は、前記基板収容室内のエアをほぼ同じ勢いで排出するための複数の開口部を有することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記エア供給室に対して清浄空気を供給するＨＥＰＡユニットを更に有することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記開口部の開口面積を調整するための調整手段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記エア供給室を大気圧以上の気圧とし、前記エア排出室を大気圧以下の気圧にすることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記エア供給室は、６面体の箱形形状であり、前記エア供給室の４つの側面にそれぞれ隣接する４つの前記基板収容室を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板上に塗布された薬液を乾燥させるための基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、基板に薬液を塗布し、その後基板上の薬液を乾燥させる基板処理が一般的に行われている。例えば、液晶製造工程においても、ガラス基板上に塗布した薬液を乾燥させることにより塗膜を形成する方法がとられている。
【０００３】
基板に塗布する薬液の中には、急速には乾燥を行なうことができないものもあり、その場合、複数段の棚を有する基板収容室を設け、ＨＥＰＡ（ｈｉｇｈ　ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ　ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ　ａｉｒ）ユニットからクリーンエアを供給しつつ所定時間放置する方法がとられている。このような方法を実現した従来の基板乾燥装置を図３に示す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＨＥＰＡユニット自体からのエアーを吹出しは位置によって均等ではなく、図３に示す従来の基板乾燥装置においては、各棚の基板に異なる風圧でエアーが供給されていた。
【０００５】
これにより、載置された位置によって基板の乾燥状態に相違が生じるといった問題があった。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、基板を好適に乾燥させ、高品質の基板を生成することのできる基板処理装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る装置は、
複数の基板を同時に乾燥させるための基板処理装置であって、
複数の基板を略水平に多段載置する基板収容室と、
前記基板収容部に隣接して配置されたエア供給室と、
を有し、
前記基板収容室と前記エア供給室とを隔てる隔壁は、前記基板収容室の各基板に対して前記エア供給室内のエアをほぼ同じ勢いで供給するための複数の開口部を有することを特徴とする。
【０００８】
前記基板収容室を挟んで前記エア供給室の逆側に配置されたエア排出室を更に有し、
前記基板収容室と前記エア排出室とを隔てる隔壁は、前記基板収容室内のエアをほぼ同じ勢いで排出するための複数の開口部を有することを特徴とする。
【０００９】
前記エア供給室に対して清浄空気を供給するＨＥＰＡユニットを更に有することを特徴とする。
【００１０】
前記開口部の開口面積を調整するための調整手段を更に有することを特徴とする。
【００１１】
前記エア供給室を大気圧以上の気圧とし、前記エア排出室を大気圧以下の気圧にすることを特徴とする。
【００１２】
前記エア供給室は、６面体の箱形形状であり、前記エア供給室の４つの側面にそれぞれ隣接する４つの前記基板収容室を備えることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を参照して、この発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成要素の相対配置、表示画面等は、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【００１４】
＜概要＞
本発明の実施形態としての基板処理装置は、複数の基板を収容する収容棚を備え、更に、収容棚の各段に対して同じ風量のクリーンエアを供給するためのエア供給室を備える。
【００１５】
エア供給室と収容棚の間には隔壁が存在し、隔壁には、収容棚の各段に対応する位置にそれぞれ同数のエア供給孔が設けられている。
【００１６】
エア供給室には、ＨＥＰＡユニットが設けられ、ＨＥＰＡユニットから吹き出したクリーンエアは、一旦エア供給室で滞留した後で、各エア供給孔から収容棚の各基板に供給される。このとき、ＨＥＰＡユニットから吹き出した際の風圧はエア供給室で緩衝され、エア供給室内がほぼ均一な気圧となった状態で、各エア供給孔から各基板にエアが供給されるので、各基板は、ほぼ同じ強さの風を受けてほぼ同じ速度で乾燥が進むこととなる。
【００１７】
＜構成＞
図１は本発明に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【００１８】
図１に示すように、本基板処理装置は、中央にエア供給室１０１が設けられ、そのエア供給室１０１を挟むように水平方向両側に基板収容室１０２ａ，１０２ｂが配置されている。そして、更に、基板収容室１０２ａ，１０２ｂを挟んでエア供給室１０１の水平方向逆側に、エア排出室１０３ａ，１０３ｂが設けられている。
【００１９】
エア供給室１０１は、天井にＨＥＰＡユニット１０４を擁しており、ＨＥＰＡユニット１０４からは温度調整を施されたクリーンエアが、所定の風量で下方に吹き出している。
【００２０】
また、基板収容室１０２ａ，１０２ｂには、多段の基板収容棚１０７が設けられており、各段に基板が水平に載置可能となっている。
【００２１】
エア排出室１０３ａ，１０３ｂは、下方に排気口１０８を有しており、エア排気室１０３ａ、１０３ｂ内を負圧にするため、排気口から吸引排気できるようにポンプ（不図示）が接続されている。
【００２２】
エア供給室１０１と基板収容室１０２ａ，１０２ｂとを隔てる隔壁１０５ａ，１０５ｂは、開口部としてのエア供給孔１０６を複数有している。エア供給孔１０６は、基板収容室１０２ａ，１０２ｂの基板収容棚１０７の各段に対応する位置、つまり収容された基板の上面にエアが供給される位置にそれぞれ同数だけ設けられている。図１では、各段に対して１つのエア供給孔１０６しか示されていないが、これは図を簡略化するためであり、各段に対して複数のエア供給孔１０６が設けられている。
【００２３】
エア供給孔１０６は、ＨＥＰＡユニット１０４からの流量に対して十分に小さく、かつ、ＨＥＰＡユニット１０４からの風向きとは垂直を成す向きに形成されている。このため、何れのエア供給孔１０６からもほぼ同じ勢いでエアが基板収容室１０２ａ，１０２ｂに対して供給される。
【００２４】
また、基板収容室１０２ａ，１０２ｂとエア排出室１０３ａ，１０３ｂとを隔てる隔壁１０５ｃ，１０５ｄも、隔壁１０５ａ，１０５ｂと同様の構成となっている。
【００２５】
このように構成された基板処理装置において、エア供給室１０１内の気圧が大気圧以上となるようにＨＥＰＡユニット１０４からの風量を調整し、かつ、エア排出室１０３ａ，１０３ｂ内の気圧が大気圧以下（負圧）となるように、ポンプの吸引排気量を調整する。
【００２６】
すなわち、大気圧である基板収容室を挟み、一方には高圧空間を、他方には減圧空間を配置させ、各空間の境目に複数の開口を有する隔壁を設けたので、基板収容室の基板に対しする流路が形成される。
【００２７】
＜動作＞
次に前述のような構成からなる基板処理装置において、基板の仮乾燥を行なう動作について説明する。
【００２８】
表面に塗膜が形成された基板は図示しない移載装置により基板収容室１０２の棚に収容される。基板収容室１０２と隣接するエア供給室１０１からは、ＨＥＰＡユニット１０４にて２６〜３２度の温度に調整されたクリーンエアが流れ込み、エア供給室１０１と対称に位置するエア排出室１０３へ向け流出している。この気体の流れは基板上の塗膜に風紋が残らない程度の低速である。基板収容室１０２にて約１０〜６０分放置された基板は本乾燥を行なうため、次の工程へと搬出される。
【００２９】
本実施形態によれば、基板収容室１０２内に収容された基板を同じ速度で乾燥させることができ、高品質の基板製品を生成することができる。
【００３０】
（第２実施形態）
次に本発明の第２実施形態について説明する、上記第１実施形態では、隔壁にはエア供給孔１０６が設けられていたが、本実施形態に係る基板処理装置では、更に、エア供給孔１０６の開口面積を調整するための調整板２０１を備える。その他の構成及び動作は上記第１実施形態と同様であるため、ここではその説明を省略する。
【００３１】
図２は基板収容室１０２とエア供給室１０１またはエア排出室１０３の境となる隔壁１０４に設けられた複数の開口を示す図である。（ａ）は、調整板の取り付けを説明する図であり、（ｂ）は調整板の取り付け状態を示す図である。
【００３２】
調整板２０１は、エア供給孔１０６と同数、同位置かつほぼ同じ大きさの調整孔２０２を備えた複数の長方形の板であり、基板収容棚１０７の各段に１つづつ設けられている。
【００３３】
また、調整板２０１の調整孔２０２の両側には、スリット２０３が設けられており、ボルト２０４をスリット２０３を通して隔壁のねじ穴２０５にねじ込むことにより、調整板２０１が隔壁１０５に固定される。このとき、ボルト２０４がスリット２０３内のどの位置に固定されるかによって、調整板２０１が図中左右にスライド可能である。
【００３４】
隔壁１０５のエア供給孔１０６の中心と調整板２０１の調整孔２０２の中心が一致する位置に調整板２０１を固定した場合、エア供給孔１０６は最大限開放されることになる。この位置から調整板２０１をスライド移動させると、エア供給孔１０６の開口面積は徐々に小さくなっていき、エア供給孔１０６と調整孔２０２の位置が完全にずれて、全く重ならない場合、エア供給孔１０６は完全に塞がれ、クリーンエアは全く基板に供給されないことになる。
【００３５】
このように調整板２０１を設ければ、基板収容室１０２へのエアの供給量を容易に調整することができるため、基板に塗布する薬液の種類が変わって乾燥速度を変えたい場合にも即座に対応することが可能である。
【００３６】
また、基板収容棚１０７の各段に調整板２０１を設けたので、各段ごとに基板へ供給されるエアの風量を調整することができ、基板収容棚１０７に収容された各基板を異なる速度で乾燥させることも可能となる。
【００３７】
更に、気流などの影響で、基板収容棚１０７に収容した基板の乾燥速度が意図しないのに異なる場合には、調整板２０１をスライドして各棚に供給されるエアの風量を微調整することにより、各棚の基板全てを同じ速度で乾燥させることが可能となる。
【００３８】
（その他の実施形態）
なお、ここでは、エア供給室１０１の両側に２つの基板収容室が存在する場合について示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、片側にのみ基板収容室が設けられてもよく、或いは、エア供給室１０１を囲むように複数の（例えば４つの）基板収容室が配置されても良い。更には、エア供給室と基板収容室がドーナツ状に配置されて、断面形状が図１のようになる基板処理装置も本発明の範疇に含まれる。
【００３９】
【発明の効果】
以上述べてきたとおり、本発明によれば、基板を好適に乾燥させ、高品質の基板を生成する基板処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る基板処理装置を示す図である。
【図３】従来の基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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