(57)【要約】【課題】従来のガラスマスタリングにより光ディスク成型用スタンパーを製作する装置において、ダイレクトマスタリングによるスタンパーの製作を可能とする光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供する。【解決手段】光ディスク成型用スタンパーのマスタリング製作工程において用いられるガラス基盤と同じ厚み寸法及び同じ外径寸法を有する環状部材と、上記環状部材の内側に備えられて、上記ブランクスの表面に直交する方向沿いにおいて、上記ブランクスの表面と上記位置規制部材の表面とを略同じ位置となるように位置決めするとともに、上記ブランクスを解除可能に保持する保持部材とを備えるブランクス用保持治具でもって、ブランクスを保持させる。【選択図】図１
2004152457.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状の金属基盤にフォトレジスト層が形成された光ディスク成型用スタンパーのブランクスの保持治具であって、
上記ブランクスの表面沿いの方向における保持位置を、上記ブランクスの外周部にて位置決め規制する複数の位置規制部材と、互いに隣接する上記夫々の位置規制部材の間に凹状に形成されて、上記ブランクスの上記外周部を把持可能に露出させる複数の切り欠き部とを備え、光ディスク成型用スタンパーの製作工法であるガラスマスタリングにおいて用いられるガラス基盤と同じ厚み寸法及び同じ外径寸法を有する環状部材と、
上記環状部材の内側に備えられて、上記ブランクスの表面に直交する方向沿いにおいて、上記ブランクスの表面と上記位置規制部材の表面とを略同じ位置となるように位置決めするとともに、上記ブランクスを解除可能に保持する保持部材とを備えることを特徴とする光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具。
【請求項２】
上記保持部材は、上記ブランクスを磁力でもって保持可能な永久磁石を備えている請求項１に記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具。
【請求項３】
上記保持部材は、上記永久磁石における上記ブランクスの保持面を覆うように配設され、かつ、鏡面加工が施されたその表面を上記ブランクスの保持側表面とする非磁性体で形成されたスペーサ円盤をさらに備え、上記スペーサ円盤を介在させて上記ブランクスを上記永久磁石により保持可能である請求項２に記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具。
【請求項４】
上記環状部材の上記夫々の切り欠き部は、上記ブランクスの上記外周部沿いに、等間隔に配置されて形成されている請求項１から３のいずれか１つに記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具。
【請求項５】
上記環状部材において、上記夫々の切り欠き部の外周側の形成幅及び形成深さは、内周側の形成幅及び形成深さと同じ若しくは上記内周側の形成幅及び形成深さよりも大きく形成されている請求項１から４のいずれか１つに記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具。
【請求項６】
上記環状部材は、セラミックスで形成されている請求項１から５のいずれか１つに記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク成型用スタンパーの製作工程において用いられるブランクスの保持治具に関するものであり、特に、その表面に形成された無数の微細な突起部を、光ディスクのピットとして転写して光ディスクを成型することができる光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の光ディスク成型用スタンパー（以降、単に「スタンパー」という）を製作する工程（あるいは工法）は、マスタリングと呼ばれている。この工法は、一般にフォトリソグラフィーといわれる技術が用いられており、記録すべき信号に対応したフォトレジストの凹凸のパターンを、ガラス基盤上に形成することから始まる。上記ガラス基盤上に形成されたポジ型フォトレジスト層に、上記記録すべき信号に対応して強度変調されたレーザビーム（あるいはレーザ光、以下同じ）を照射して、螺旋状に多数の露光部を形成し、この夫々の露光部が形成された上記ポジ型フォトレジスト層を現像することによって、多数のフォトレジストの窪み（ピット）をトラック状に形成するのである。その後、表面に導電性膜を形成し、その上に電鋳によりニッケルの厚膜を形成する。その厚膜の膜厚はおよそ０．３ｍｍほどであり、それを上記ガラス基盤から剥がして、上記剥されたニッケル盤をスタンパーとするのである。このニッケル盤にはフォトレジストのピットが転写された多数の突起（バンプ）が螺旋状に形成されている。このスタンパーを用いて射出成型を行なうことにより、情報を含んだピット列を有する光ディスクを成型することができる。
【０００３】
上記のようなマスタリングは、一般にガラスマスタリングと呼ばれるが、このようなガラスマスタリングにおいては、１０以上の工程を含み、上記スタンパー製作のための多くの時間とコストがかかり、また、工程が多いために塵埃の付着や人為的ミスなどによる欠陥も多く、歩留まりを低下させているという問題点があった。
【０００４】
このような背景のもと、上記ガラスマスタリングのような多くの工程を要せず、より少ない工程でスタンパーを製作する試みが試されている。このような試みの一例として、図４に示す模式説明図を用いてその工程を説明する。なお、以下に示す工程においては、上記ガラスマスタリングのように電鋳によりスタンパーを製作するのではなく、多数の突起部が形成された基盤を直接スタンパーとする、いわゆるダイレクトマスタリングと呼ばれる工法の一種である。
【０００５】
また、このような工法としては、例えば、特願２００１−３２４７０７号の特許出願に記載されたものがある。
【０００６】
図４（Ａ）は、ニッケル等の金属により形成された円盤状の基盤１１の上に架橋性物質を塗布してアンカーコート層１２が形成された状態を示す。上記架橋性物質としては、例えば、有機ポリマーやシリコン酸化物の無機の材料などがある。なお、この基盤１１は、上記ガラスマスタリングにおける電鋳で作られるスタンパーと同じ厚みを有しており、その厚みはほぼ０．３ｍｍ前後である。
【０００７】
次に、図４（Ｂ）に示すように、基盤１１及びアンカーコート層１２に対して、ベーキング処理を行なう。このベーキング処理を、上記架橋性物質の塗布によるアンカーコート層１２の形成後にその溶剤を蒸発させる目的のプリベーク処理として、８０℃から９０℃までの範囲の比較的低温で行なう。
【０００８】
引き続き、図４（Ｃ）に示すように、基盤１１全体に紫外線を照射し、その後、図４（Ｄ）に示すベーキング処理を経てアンカーコート層１２を形成している上記架橋性物質のポリマー鎖を架橋させる。なお、この図４（Ｄ）に示す上記紫外線照射後のベーキング処理は、いわゆるポストエクスポージャーベークと呼ばれるものである。このベーキング処理においては、上記紫外線の照射で発生した酸が触媒となって上記架橋性物質に第１の架橋反応が起こる。
【０００９】
次に、図４（Ｅ）に示すように、アンカーコート層１２の上に、フォトレジストを塗布してフォトレジスト層１３を形成する。その後、溶剤を蒸発させフォトレジスト層１３を安定化させるためにプリベーク処理を施す。なお、上記フォトレジストとしては、ネガ型フォトレジストを用いる。
【００１０】
次に、図４（Ｆ）に示すように、上記記録すべき信号で変調されたレーザビーム１４をフォトレジスト層１３に照射して複数の露光部を形成する。ここで使われる装置は、レーザビームレコーダと呼ばれ、上記記録すべき信号で変調されたレーザビーム１４を照射可能なレーザビーム照射装置（図示しない）と、このレーザビーム１４を０．３μｍ程度の微細なスポットに絞る記録レンズ１５と、基盤１１を保持するとともに、その中心に位置される回転軸１６を回転中心として基盤１１を回転させる回転駆動部材１７とを備えている。上記レーザビーム照射装置及び記録レンズ１５は回転される基盤１１の半径方向に沿って移動可能とされているため、基盤１１を回転させ、かつ、上記レーザビーム照射装置及び記録レンズ１５を上記半径方向沿いに移動させながら、レーザビーム１４をフォトレジスト層１３上に照射することにより、フォトレジスト層１３には螺旋状に複数の潜像が記録される。なお、この夫々の潜像部分が上記露光部となる。
【００１１】
その後、図４（Ｇ）に示すように、ベーキング処理を行なう。上記レーザビーム１４の照射によってフォトレジスト層１３の上記夫々の露光部に発生した酸を触媒として、このベーキング処理でフォトレジスト層１３の上記夫々の露光部に架橋反応が起こる。なお、上記フォトレジストは、一般に化学増幅型フォトレジストと呼ばれる種類のフォトレジストである。また、上記フォトレジストの種類によってはこのベーキング処理が不要な場合もある。
【００１２】
その後、図４（Ｈ）に示すように、フォトレジスト層１３に対して現像処理が行なわれ、フォトレジスト層１３における上記架橋された部位以外、すなわち上記夫々の露光部以外（すなわち、未露光部）が溶けて流される。その結果、上記夫々の露光部のみがフォトレジスト突起１８として残る。この状態では、夫々のフォトレジスト突起１８とアンカーコート層１２とはまだ強固に結合さていない状態である。
【００１３】
次に、図４（Ｉ）は、アンカーコート層１２の上記架橋性物質と夫々のフォトレジスト突起１８のフォトレジストとの架橋をさらに促進する工程である。上述したように、アンカーコート層１２の上記架橋性物質は完全には架橋されていない。また、レーザビーム１４が照射されて形成された夫々のフォトレジスト突起１８のフォトレジストも、まだ架橋は一部しか進行していない。この工程で両者の架橋を第２の架橋反応として、さらに進行させることにより、夫々のフォトレジスト突起１８のポリマーとアンカーコート層１２の上記架橋性物質との間で相互の架橋が起こり、両者の結合を強める。また、上記架橋性物質及び夫々のフォトレジスト突起１８が上記架橋によりさらに強固となり、光ディスク成型時の熱及び熱応力に耐える強度を与えることができる。
【００１４】
なお、この架橋反応促進（上記第２の架橋反応）の具体的方法としては、上記現像後の基盤１１全体（すなわち、夫々のフォトレジスト突起１８及びアンカーコート層１２を含めた全体）をプラズマ中に曝す方法や、遠紫外線を照射してから高温で加熱する方法などがある。
【００１５】
そして、図４（Ｊ）は架橋後の基盤であり、夫々のフォトレジスト突起１８とアンカーコート層１２は、一体化された構造物１９になっている。この一体化された構造物１９が表面に形成された基盤１１を、光ディスクの成型機の金型に合うように内外径を加工し、必要に応じ裏面を削ればスタンパー（ダイレクトスタンパーという場合もある）が完成する。なお、これらの上記加工は最初から行ってもよい。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記ダイレクトマスタリングにおいて取り扱われる基盤１１は、その厚さが０．３ｍｍ程度の薄い金属盤であるのに対して、従来のガラスマスタリングにおいて取り扱われるガラス基盤は、その厚さが６ｍｍ程度であるため、上記夫々の厚さの相違によって、スタンパーの製作者の多くが使用している（あるいは所有している）従来のガラスマスタリングを行なうスタンパー製作装置において、スタンパーの製作工法として革新的な工法である上記ダイレクトマスタリングを行なうことができず、上記ダイレクトマスタリングを行なうには専用の新たな製作装置が必要であるという問題点がある。
【００１７】
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、従来のガラスマスタリングにより光ディスク成型用スタンパーを製作する装置において、ダイレクトマスタリングによる光ディスク成型用スタンパーの製作を可能とするブランクスの保持治具である光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
【００１９】
本発明の第１態様によれば、円盤状の金属基盤にフォトレジスト層が形成された光ディスク成型用スタンパーのブランクスの保持治具であって、
上記ブランクスの表面沿いの方向における保持位置を、上記ブランクスの外周部にて位置決め規制する複数の位置規制部材と、互いに隣接する上記夫々の位置規制部材の間に凹状に形成されて、上記ブランクスの上記外周部を把持可能に露出させる複数の切り欠き部とを備え、光ディスク成型用スタンパーの製作工法であるガラスマスタリングにおいて用いられるガラス基盤と同じ厚み寸法及び同じ外径寸法を有する環状部材と、
上記環状部材の内側に備えられて、上記ブランクスの表面に直交する方向沿いにおいて、上記ブランクスの表面と上記位置規制部材の表面とを略同じ位置となるように位置決めするとともに、上記ブランクスを解除可能に保持する保持部材とを備えることを特徴とする光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供する。
【００２０】
本発明の第２態様によれば、上記保持部材は、上記ブランクスを磁力でもって保持可能な永久磁石を備えている第１態様に記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供する。
【００２１】
本発明の第３態様によれば、上記保持部材は、上記永久磁石における上記ブランクスの保持面を覆うように配設され、かつ、鏡面加工が施されたその表面を上記ブランクスの保持側表面とする非磁性体で形成されたスペーサ円盤をさらに備え、上記スペーサ円盤を介在させて上記ブランクスを上記永久磁石により保持可能である第２態様に記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供する。
【００２２】
本発明の第４態様によれば、上記環状部材の上記夫々の切り欠き部は、上記ブランクスの上記外周部沿いに、等間隔に配置されて形成されている第１態様から第３態様のいずれか１つに記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供する。
【００２３】
本発明の第５態様によれば、上記環状部材において、上記夫々の切り欠き部の外周側の形成幅及び形成深さは、内周側の形成幅及び形成深さと同じ若しくは上記内周側の形成幅及び形成深さよりも大きく形成されている第１態様から第４態様のいずれか１つに記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供する。
【００２４】
本発明の第６態様によれば、上記環状部材は、セラミックスで形成されている第１態様から第５態様のいずれか１つに記載の光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具を提供する。
【００２５】
ここで、本明細書において用いられている用語の意義を説明する。
【００２６】
用語「ブランクス」とは、光ディスク成型用スタンパーの製作工程における中間製品であって、円盤状の基盤上にフォトレジストが塗布されて、フォトレジスト層が形成され、さらに、その後、ベーキング処理（プリベーク処理）等が施されることにより上記フォトレジスト層が安定化されたものをいう。また、上記フォトレジスト層が上記基板上に直接形成されたもの、又は、その他の層を介して間接的に形成されたもののいずれのものをも含む。
【００２７】
用語「光ディスク」とは、データの読み書きにレーザ光（レーザビーム）を利用する記憶媒体のこという。例えば、ＣＤやＤＶＤ等が代表的な光ディスクである。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００２９】
本発明の一の実施形態にかかる光ディスク成型用スタンパーのブランクス用保持治具の一例である円盤状治具１０の模式的な斜視図を図１に示し、その模式的な断面図を図２に示す。
【００３０】
図１に示すように、円盤状治具１０は、略リング状の形状を有する環状部材の一例である円環部１と、この円環部１の内周部の下部に固定されて、磁気的にブランクスを保持可能な保持部材の一例であるマグネット盤４とを備えている。また、本実施形態においては、図２に示すように、円環部１の内周部の下部に内底部１ａが形成されており、この内底部１ａの上面にマグネット盤４が備えられている。なお、円環部１にこのように内底部１ａが形成されている場合に代えて、内底部１ａが形成されておらず、完全なリング状の形状とされているような場合であってもよい。
【００３１】
また、図１に示すように、円環部１は、その外径および厚みが従来のガラスマスタリングで使用されるガラス基盤と同じ寸法となるように形成されている。例えば、円環部１は、外径２００ｍｍ、内径１６０ｍｍ、厚み６ｍｍの形成寸法を有している。また、円環部１の形成材料には、金属あるいはセラミックが用いられる。特に、上記形成材料としてアルミナ系のセラミックが用いられるような場合にあっては、ガラスに近い重量で熱変形が少ない剛性のある円環部１を形成することが可能となる。
【００３２】
また、マグネット盤４は、円盤状の形状を有しており、その下面が円環部１の内底部１ａの上面に接着されて、円環部１の内側に取り付けられている。また、マグネット盤４は、永久磁石で形成されており、例えば、フェライトまたはゴム状のマグネットなどが円盤状に加工されることにより形成されている。なお、マグネット盤４は、その全てが上記永久磁石で形成されている場合に限定されるものではなく、マグネット盤４として磁気的な機能を担うことができる程度に上記永久磁石が含まれて形成されているような場合であってもよい。
【００３３】
さらに、図１に示すように、円環部１の内側においてマグネット盤４の上面には、非磁性体で形成されたスペーサ円盤の一例であるガラス盤３が接着されており、マグネット盤４の上面（すなわち、マグネット盤４におけるブランクス２の保持面）全体がガラス盤３により覆われた状態とされている。なお、上記非磁性体の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、アルミニウム等があるが、後述する研磨加工の容易性により、ガラスを用いることが好ましい。このガラス盤３には、その形成厚みが１ｍｍ前後の比較的薄いものが用いられる。なお、ガラス盤３の上面は鏡面状態に研磨されており（すなわち、鏡面加工が施されており）、微細な凹凸の無い滑らかな表面となっている。なお、上記鏡面状態としては、例えば、ガラス盤３の表面あらさＲａ（中心線平均あらさ）を１０ｎｍ程度とすることが好ましい。
【００３４】
また、図１に示すように、円盤状治具１０において、円環部１の内側のガラス盤３の上には、図４（Ｅ）で説明した金属により形成された円盤状の基盤１１に、アンカーコート層１２を介してフォトレジスト層１３が塗布形成され、その後、プリベーク処理が施されたスタンパー製作工程における中間製品であるブランクス２が配置されている。なお、本実施形態においては、ブランクス２において、フォトレジスト層１３はアンカーコート層１２を介して基盤１１の上に塗布形成されているが、ブランクス２はこのような構造に限定されることはなく、基盤１１の上にフォトレジスト層１３が直接塗布形成されたものをブランクスとして用いるような場合であってもよい。なお、光ディスク成型用のスタンパーの製作工程においては、このようなブランクス２を予めまとめて生産して保管しておき、その後、上記保管されているブランクス２に対して、突起部の形成等の後工程を施すこともできる。また、円環部１の内径は、ブランクス２の外径と略一致するように形成されており、さらに、円環部１の中心（後述する回転中心となる）は、円盤状治具１０により保持された状態のブランクス２の中心（後述する回転中心となる）と一致するように、円環部１は形成されている。なお、ブランクス２の円盤状治具１０への着脱（すなわち、保持及び保持解除）の容易性を考慮して、円環部１の内周部とブランクス２の外周部との間には僅かな隙間、例えば、０．２〜０．４ｍｍ程度の隙間が設けられるように、円環部１が形成されていることが好ましく、さらに、円環部１の内径公差は、＋０．２ｍｍ／＋０．１ｍｍであることが好ましい。また、円環部１の中心とブランクス２の中心との同心度は、例えば、０．２ｍｍ以下とすることが好ましい。
【００３５】
また、図１に示すように、ブランクス２は、フォトレジスト層１３が形成されている面を上面として、ガラス盤３を介してマグネット盤４に磁気的に吸着保持されている。一方、ブランクス２の裏面が接触された状態にあるガラス盤３の表面（すなわち、ガラス盤３のブランクス２の保持側表面）は、上述のとおり鏡面状態に研磨されているため、この接触によりブランクス２の裏面に傷が付くことはない。
【００３６】
また、円盤状治具１０において、円環部１の内側にてガラス盤３を介してマグネット盤４により磁気的に保持されているブランクス２は、その外周部が円環部１の内周部に常時略当接された状態とされており、これにより、その表面沿いの方向における保持位置が規制された状態とされている。さらに、ブランクス２は、その裏面がマグネット盤４に接着されたガラス盤３の上面に接触された状態において、その上面が、円環部１の上面と略同じ高さ位置とされており、ガラス盤３によりブランクス２の高さ方向の保持位置が規制された状態とされている。また、円環部１の上面、下面、及び内底部１ａ、さらにガラス盤３の上面は、夫々略平行となるように形成されており、上記保持されたブランクス２の表面も上記夫々の面と略平行とされる。なお、円環部１を含めた円盤状治具１０の平面度は２０μｍ程度以下とすることが好ましい。
【００３７】
さらに、図１に示すように、円環部１には、複数の切り欠き部５が形成されており、例えば、円盤状治具１０においては、その外周部において等間隔に配置され、互いに対向された２つの切り欠き部５が形成されている。また、円盤状治具１０に保持されたブランクス２が、上記夫々の切り欠き部５の形成位置においてその外周部が露出されるような形成深さでもって、上記夫々の切り欠き部５が形成されている。なお、本実施形態の円盤状治具１０においては、上記夫々の切り欠き部５の形成位置において、ブランクス２の上記外周部とともに、ガラス盤３及びマグネット盤４の夫々の外周部も露出されるような形成深さでもって、上記夫々の切り欠き部５が形成されている。さらに、上記夫々の切り欠き部５の形成幅は、上記露出されているブランクス２の外周部を指で把持できる程度の寸法に形成されている。なお、上記夫々の切り欠き部５がこのような形成幅を有していることにより、例えば、従来のガラスマスタリングを行なうスタンパー生産装置において用いられているロボットハンド等を用いて、上記ブランクス２の外周部の露出部分を把持することもできる。なお、本実施形態においては、円環部１の複数の切り欠き部５の間に挟まれるように形成されている複数の凸状の部分が、ブランクス２の表面沿いの方向における保持位置の規制を行なう複数の位置規制部材の一例となっている。
【００３８】
また、図１に示すように、上記夫々の切り欠き部５は、円環部１の内周側の上記形成幅が、外周側の上記形成幅と同じ寸法となるように形成されている。同様に、上記内周側の上記形成深さが、上記外周側の上記形成深さと同じ寸法となるように形成されている。ただし、上記夫々の切り欠き部５の上記内周側と上記外周側における上記形成幅及び上記形成深さの寸法の関係は、上述のような場合にのみ限定されるものではなく、上記外周側における上記形成幅及び上記形成深さが、上記内周側における夫々の上記形成幅及び上記形成深さよりも大きく形成されているような場合であってもよい。このように、上記夫々の切り欠き部５が形成されることにより、後述する現像時等におけるブランクス２に供給される処理液等の円環部１の外部への排出性を良好とさせることができる。
【００３９】
次に、このような円盤状治具１０にブランクス２を保持させた状態にて、上記ブランクス２に対して図４に示したダイレクトマスタリングによるスタンパー製作方法を、従来のガラスマスタリングによるスタンパー製造装置を用いて行ない、スタンパーを製作する場合について、図４を用いて説明する。すなわち、上記従来のスタンパー製作装置において用いられていたフォトレジスト層がその表面に形成されたガラス基盤に代えて、円盤状治具１０により保持されたブランクス２を用い、さらに、上記ダイレクトマスタリングを行なう場合について説明する。なお、このようなブランクス２に対しては、図４に示すレーザビーム１４の照射による露光部の形成の工程（図４（Ｆ）に示す工程）以降の夫々の工程が施される。
【００４０】
まず、図４（Ｆ）に示すレーザビーム１４の照射により露光部の形成工程におては、ブランクス２をその中心を回転中心として高速で回転させながら、レーザビーム１４の照射を行なう必要があるが、円環部１の中心とブランクス２の中心とが一致された状態でブランクス２が円盤状治具１０に保持されていることにより、ブランクス２を保持させた状態で円盤状治具１０をその中心（すなわち、円環部１の上記中心である）を回転中心として高速で回転させることでもって、円盤状治具１０と一体的にブランクス２を上記回転中心回りに高速で回転させることができる。
【００４１】
また、上記保持されているブランクス２は、上述のように円環部１によりその表面沿いの方向における保持位置が規制された状態とされており、さらに、マグネット盤４により磁気的に保持されているため、このように高速で回転されるような場合であっても、上記回転中に円盤状治具１０による保持位置がずれたり、円盤状治具１０から飛び出すことはない。よって、このように、ブランクス２を保持させた状態で円盤状治具１０を高速で回転させながら、記録レンズ１５により絞られたレーザビーム１４をブランクス２の表面（すなわち、フォトレジスト層１３）に照射することにより、複数の露光部を形成することができる。
【００４２】
また、円盤状治具１０においては、ガラス盤３によりその厚さ方向の高さ位置が位置決めされた状態でブランクス２が保持されている。そのため、ブランクス２の上面と円盤状治具１０の上面（すなわち、円環部１の上面）との高さ位置が略同じ高さ位置とされている。例えば、円環部１の上面はブランクス２の上面と同じ高さ位置、若しくはブランクス２の上面よりも高くても０．３ｍｍ以下の高さ位置に位置決め保持されている。そのため、レーザビーム１４の照射時において、従来のガラスマスタリングにおけるガラス基盤を用いる場合と記録表面の高さ位置の差はせいぜい０．３ｍｍであり、この程度の高さ位置の相違であれば、記録レンズ１５がその焦点位置を調整できる範囲である。従って、記録レンズ１５により上記焦点位置の調整を行なって、レーザビーム１４を確実にブランクス２の上面（すなわち、フォトレジスト層１３）に照射することができる。
【００４３】
さらに、円環部１に等間隔に夫々の切り欠き部５が形成されていることにより、上記高速回転の際において、バランス良く、安定させた状態で円盤状治具１０を回転させることができる。
【００４４】
次に、図４（Ｇ）に示すベーキング処理工程においては、ブランクス２とともに、円環部１、ガラス盤３、及びマグネット盤４も加熱されることとなるが、円環部１は金属あるいはセラミックで形成されている耐熱性の問題なく、また、マグネット盤４には、永久磁石として耐熱性を有すものを用いることにより対応することができる。例えば、永久磁石としてフェライトのマグネットを用いるような場合にあっては、５００℃程度の使用環境に耐えることもできる。このように、円盤状治具１０全体を加熱してブランクス２に対してベーキング処理を施すことにより、ブランクス２のフォトレジスト層１３に形成されて夫々の露光部において、酸を触媒として架橋反応を起こさせることができる。
【００４５】
次に、図４（Ｈ）に示す現像工程について、図２に示す模式説明図を用いて説明する。図２に示すように、ブランクス２を吸着保持した円盤状治具１０は、上記スタンパー製作装置に備えられている円盤状の回転テーブル８の上面に保持されて固定（例えば、真空吸着法などにより）されている。また、円盤状治具１０の上記回転中心が、回転テーブル８の回転軸７と一致するように回転テーブル８に円盤状治具１０が位置決めされて保持されている。このような状態で、回転軸７を回転中心として回転テーブル８を回転させて、ブランクス２をその回転中心回りに回転させながら、現像液や純水などの処理液を回転テーブル８の上方に配置されたノズル９からブランクス２の上に供給することにより、ブランクス２に対して現像処理を行なうことができる。
【００４６】
図２に示すように、この場合、ブランクス２の表面は円盤状治具１０（すなわち、円環部１）の表面とほぼ同じ高さ位置に位置決めされているので、上記処理液は、上記回転による遠心力で飛び出し、ブランクス２の表面に残ることはない。また、円環部１に形成されている夫々の切り欠き部５の上記形成幅及び上記形成深さが、円環部１の内周側と外周側とにおいて同じ寸法、あるいは上記内周側よりも上記外周側のほうが大きくなるように形成されているため、上記処理液は夫々の切り欠き部５に溜まることなく、良好な排出性でもって確実に外部に排出される。これにより、ブランクス２に対して上記現像処理が施されて、フォトレジスト層１３において、未露光部が溶かされて流され、上記夫々の露光部のみが残されて、複数のフォトレジスト突起１８として残る。
【００４７】
その後、図４（Ｉ）に示す架橋促進のための工程が施されて、上記夫々のフォトレジスト突起１８とアンカーコート層１２が一体化される。その後、円盤状治具１０の夫々の切り欠き部５において、ブランクス２の露出された外周部を把持することにより、円盤状治具１０よりブランクス２を取り出し、内外径を加工して、スタンパーが完成する。
【００４８】
なお、本実施形態においては、一例として、外径１６０ｍｍのブランクス２を用い、最終的にその外径を加工して外径１３８ｍｍのスタンパーを作成するが、このようにブランクス２とスタンパーの夫々の外径寸法の間に差が設けられているのは、ブランクス２の表面へのフォトレジスト層の形成等の際に、ブランクス２の外周部近傍の上記フォトレジスト層が不均一な状態となりやすいことを考慮しているためである。
【００４９】
なお、本実施形態は、上記説明のような円盤状治具１０にのみ限定されるものではない。例えば、本実施形態の別の例にかかるブランクス用保持治具の一例として円盤状治具２０の模式的な斜視図を図３に示す。
【００５０】
図３に示すように、円盤状治具２０は、その円環部２１の形状が円盤状治具１０と異なっているのみであり、その他の構造は円盤状治具１０と同じである。以下にこの異なる部分を中心に説明する。
【００５１】
図３において、円盤状治具２０は、円環部２１の内底部に固定されたマグネット盤２４と、マグネット盤２４の上面に接着されたガラス盤２３とを備えており、ガラス盤２３の上面には、ブランクス２が配置されて、ガラス盤２３を介してマグネット盤２４によりブランクス２が磁気的に保持されている。
【００５２】
また、円盤状治具２０における円環部２１には、複数の突起部２１ａが形成されており、例えば、円環部１の上に４箇所、等間隔に配置されて形成されている。また、夫々の突起部２１ａの形成高さは、上記保持された状態のブランクス２の上面と同じとされている。また、ブランクス２の外周部は上記保持状態において、夫々の突起部２１ａの内側側面に当接された状態とされており、これにより、ブランクス２の表面沿いの方向におけるその保持位置が規制されている。すなわち、円盤状治具２０の円環部２１は、円盤状治具１０の円環部１に形成されている夫々の切り欠き部５の上記形成幅を円周方向に大きくしたものと考えることができる。ただし、図３においては、上記切り欠き部が４個形成されている。また、円環部２１の上記夫々の突起部２１ａの間に形成された上記切り欠き部の上記形成幅及び上記形成深さの寸法に関する円環部２１の内周側と外周側との関係は、円盤状治具１０においての場合と同じである。
【００５３】
従って、円盤状治具２０においても、円盤状治具１０と同様に、ブランクス２を確実に位置決めして保持することができるとともに、現像時等においてブランクス２に供給された処理液を、良好な排出性でもって円盤状治具２０の外部に排出することができる。
【００５４】
（実施形態による効果）
上記実施形態によれば、円盤状金属の基盤１１の上にアンカーコート層１２を介してフォトレジスト層１３が形成されたブランクス２を用いて、ダイレクトマスタリングにより、直接的にスタンパーを製作するような場合であっても、そのための専用の新たなスタンパー製作装置を用いることなく、従来のガラスマスタリングにおいて用いられているスタンパー製作装置を用いて、上記スタンパーの製作を行なうことを可能とすることができる。
【００５５】
すなわち、上記ガラスマスタリングのスタンパー製作装置において取り扱われるガラス基盤と、その形成厚さ寸法及び外径寸法が異なるブランクス２を、上記ガラス基盤と同じ厚さ寸法及び外径寸法を有し、かつ、そのリング状の内周部の内径寸法がブランクス２の外径寸法と同じに形成された円環部１を備える円盤状治具１０を用いて、この円盤状治具１０の上記内周部に嵌め合せるようにブランクス２を保持させることにより、ブランクス２の形状寸法を擬似的に上記ガラス基盤と同じ形状寸法とさせることができ、上記ガラスマスタリングのスタンパー製作装置において、上記ガラス基盤と擬似的に同じ形状寸法とされたブランクス２を取り扱うことを可能することができる。
【００５６】
従って、スタンパー製作工法として革新的な工法である上記ダイレクトマスタリングを、スタンパーの製作者の多くが使用あるいは所有している上記従来のガラスマスタリングのスタンパー製作装置でもって行なうことができる。また、これにより、製作させるスタンパーの製作コストを削減することもできる。
【００５７】
また、円盤状治具１０においては、円環部１の内底部にマグネット盤４が取り付けられていることにより、円環部１の内側に配置されたブランクス２を磁気的に吸着保持することができ、円盤状治具１０による確実なブランクス２の保持を行なうことができる。
【００５８】
また、ブランクス２は、その表面沿いの方向においては円環部１により位置決め規制され、また、その厚さ方向においてはマグネット盤４により位置決め規制されているため、円盤状治具１０により保持されるブランクス２の保持位置を常に一定の位置とすることができ、安定した製作精度でもってスタンパーの製作を行なうことができる。
【００５９】
また、マグネット盤４によるブランクス２の磁気的な保持は表面が鏡面状に研磨仕上げされたガラス盤３を介して行なわれるため、上記磁気的な保持により、ブランクス２の表面を傷付けることが防止することができ、製作されるスタンパーの品質に影響を与えることなない。
【００６０】
さらに、円盤状治具１０の円環部１において、互いに対向するように２箇所に切り欠き部５が形成されて、夫々の切り欠き部５より円盤状治具１０により保持された状態のブランクス２の外周部が露出された状態とされていることにより、ブランクス２を円盤状治具１０への着脱を容易に行なうことができる。
【００６１】
また、これらの夫々の切り欠き部５の上記形成幅及び上記形成深さが、円環部１の内周側と外周側とにおいて同じ寸法、あるいは上記内周側よりも上記外周側のほうが大きくなるように形成されていることにより、円盤状治具１０により保持された状態のブランクス２に現像処理として処理液を供給するような場合であっても、上記供給された処理液を夫々の切り欠き部５に溜まらせることなく、良好な排出性でもって確実に外部に排出させることができ、確実に現像処理を行なうことができる。
【００６２】
また、その厚さ方向においてブランクス２の表面が円環部１の表面とほぼ同じ高さ位置となるように位置決めされた状態でブランクス２が円盤状治具１０に保持されていることにより、上記現像の際における円盤状治具１０の回転による遠心力でもって、上記処理液は飛散されてブランクス２の表面に残ることはなく、確実な現像処理を行なうことが可能となる。
【００６３】
また、その形成厚さが０．３ｍｍ程度と薄いブランクス２を、従来のスタンパー製作装置において直接保持させるのではなく、その形成厚さが６ｍｍ程度とブランクス２と比して厚い円盤状治具１０を介して、間接的にブランクス２を保持させるため、上記保持の際に受ける吸着力等の力の影響をブランクス２に与えることを防止することができる。
【００６４】
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
【００６５】
【発明の効果】
本発明の上記第１態様によれば、円盤状の金属基盤の上にフォトレジスト層が形成された光ディスク成型用スタンパー（以下、単に「スタンパー」というものとする）のブランクスを用いて、ダイレクトマスタリングにより、直接的に上記スタンパーを製作するような場合であっても、そのための専用の新たなスタンパー製作装置を用いることなく、従来のガラスマスタリングにおいて用いられているスタンパー製作装置を用いて、上記スタンパーの製作を行なうことを可能とすることができる。
【００６６】
すなわち、上記ガラスマスタリングのスタンパー製作装置において取り扱われるガラス基盤と、その厚さ寸法及び外径寸法が異なる上記ブランクスを、上記ブランクスの表面沿いの方向における保持位置を、上記ブランクスの外周部にて位置決め規制する複数の位置規制部材を有し、かつ、上記ガラス基盤と同じ厚さ寸法及び外径寸法を有する環状部材を備えるブランクス用保持治具を用いて、この上記環状部材の上記夫々の位置規制部材によりその外周部が位置決めされるように上記ブランクスを保持させることにより、上記ブランクスの形状寸法を擬似的に上記ガラス基盤と同じ形状寸法とさせることができ、上記ガラスマスタリングのスタンパー製作装置において、上記ガラス基盤と擬似的に同じ形状寸法とされた上記ブランクスの取扱いを可能することができる。
【００６７】
従って、スタンパー製作工法として革新的な工法である上記ダイレクトマスタリングを、スタンパーの製作者の多くが使用あるいは所有している上記従来のガラスマスタリングのスタンパー製作装置でもって行なうことを可能とすることができる。また、これにより、製作させるスタンパーの製作コストを削減することができる。
【００６８】
また、上記ブランクス用保持治具において、上記環状部材の内側に備えられて、上記ブランクスの表面に直交する方向沿いにおいて、上記ブランクスの表面と上記夫々の位置規制部材の表面とを略同じ位置となるように位置決めするとともに、上記ブランクスを解除可能に保持する保持部材がさらに備えられていることにより、上記ブランクス用保持治具により保持される上記ブランクスの保持位置を常に一定の位置とすることができるとともに、上記ブランクスの確実な保持を行なうことができる。よって、安定した製作精度でもって、上記ブランクスよりの上記スタンパーの製作を確実に行なうことができる。
【００６９】
また、上記ブランクスの表面を上記夫々の位置規制部材の表面と略同じ位置とさせることができることにより、上記ブランクスの表面を従来のガラス基盤の表面と同じ位置とすることができるため、上記従来のガラスマスタリングのスタンパー製作装置において、レーザビームの照射等を行なう場合であっても、確実にその焦点位置合わせを行なうことができる。
【００７０】
また、上記環状部材において、互いに隣接する上記夫々の位置規制部材の間に凹状に形成されて、上記ブランクスの上記外周部を把持可能に露出させる複数の切り欠き部が備えられていることにより、上記ブランクス用保持治具への上記ブランクスの保持及び保持解除を容易とさせることができ、上記従来のガラスマスタリングのスタンパー製作装置における上記ブランクス用保持治具の取扱いを良好なものとすることができる。
【００７１】
本発明の上記第２態様によれば、上記保持部材が上記永久磁石を備えていることにより、上記ブランクスを磁力でもって保持することができ、上記保持を確実に行なうことができるとともに、上記保持の解除を容易に行なうことができ、上記従来のガラスマスタリングのスタンパー製作装置における上記ブランクス用保持治具の取扱いを良好なものとすることができる。
【００７２】
本発明の上記第３態様によれば、上記保持部材が上記永久磁石における上記ブランクスの保持面を覆うように配設され、かつ、その上記ブランクスの保持側表面に鏡面加工が施された非磁性体により形成されたスペーサ円盤をさらに備え、上記スペーサ円盤を介在させて上記ブランクスを上記永久磁石により保持させることが可能とされていることにより、上記ブランクスと上記永久磁石との直接的な接触を防止して、上記ブランクスの保持の際に、上記ブランクスの表面に傷が付くことを防止することができる。従って、上記ブランクス用保持治具による上記ブランクスの保持により上記ブランクスの品質に影響を与えることはない。
【００７３】
本発明の上記第４態様によれば、上記環状部材に形成されている上記夫々の切り欠き部が、上記ブランクスの上記外周部沿いに等間隔に配置されて形成されていることにより、上記ブランクス用保持治具への上記ブランクスの着脱の際の上記ブランクスの上記外周部における把持を安定して行なうことができるとともに、上記ブランクスの現像処理の際において供給される処理液を、上記夫々の切り欠き部を通して確実かつ均一に排出することができ、上記現像処理を確実に行なうことができる。
【００７４】
本発明の上記第５態様によれば、上記環状部材において、上記夫々の切り欠き部の外周側の形成幅及び形成深さが、内周側の形成幅及び形成深さと同じ若しくは上記内周側の形成幅及び形成深さよりも大きく形成されていることにより、上記ブランクス用保持治具により保持された状態の上記ブランクスに上記現像処理として上記処理液を供給するような場合であっても、上記供給された処理液を上記夫々の切り欠き部内に溜まらせることなく、良好な排出性でもって確実に外部に排出させることができ、確実に現像処理を行なうことができる。
【００７５】
本発明の上記第６態様によれば、上記環状部材が、セラミックスで形成されていることにより、上記従来のガラス基盤の形成材料であるガラスに近い重量で熱変形が少ない剛性のある上記環状部材を形成することができ、ベーキング処理の際の加熱にも耐えることができ、かつ、上記従来のガラス基盤と同様な取扱い性を備えさせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態にかかる円盤状治具の模式的な斜視図であり、ブランクスを保持している状態を示している。
【図２】上記円盤状治具により保持されたブランクスに対して、現像処理を施している状態の模式説明図である。
【図３】上記実施形態の変形例にかかる円盤状治具の模式的な斜視図であり、ブランクスを保持している状態を示している。
【図４】ダイレクトマスタリングによるスタンパーの製作方法を示す模式説明図であり、（Ａ）は基盤の表面にアンカーコート層が塗布形成された状態であり、（Ｂ）はベーキング処理が行われている状態であり、（Ｃ）は紫外線照射を行なっている状態であり、（Ｄ）はポストエクスポージャーベーキングを行なっている状態であり、（Ｅ）はさらにフォトレジスト層を塗布形成している状態（すなわち、ブランクスの状態）であり、（Ｆ）は記録用のレーザビームを照射して露光部を形成している状態であり、（Ｇ）は上記露光部の形成後のベーキング処理が行われている状態であり、（Ｈ）は現像処理が行なわれている状態であり、（Ｉ）は架橋促進が行なわれている状態であり、（Ｊ）はスタンパーが完成した状態を示す。
【符号の説明】
１…円環部、１ａ…内底部、２…ブランクス、３…ガラス盤、４…マグネット盤、５…切り欠き部、７…回転軸、８…回転テーブル、９…ノズル、１０…円盤状治具、１１…基盤、１２…アンカーコート層、１３…フォトレジスト層、１４…レーザビーム、１５…記録レンズ、１６…回転軸、１７…回転駆動部材、１８…フォトレジスト突起、１９…構造物、２０…円盤状治具、２１…円環部、２１ａ…突起部、２３…ガラス盤、２４…マグネット盤。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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