(57)【要約】【課題】保護膜と誘電体膜又は、保護膜の役割を兼ねる誘電体膜に発生するクラックや基体からの剥離を抑制することを課題とする。【解決手段】少なくとも基体上に、保護膜（酸化マグネシウム膜）と誘電体膜又は、保護膜の役割を兼ねる金属酸化物からなる誘電体膜（酸化マグネシウム膜）を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、金属の脂肪酸塩又はアルコキシドと有機溶媒とを含む塗布組成物の基体上への塗布及び乾燥を２回以上繰り返して塗布膜を得、次いで塗布膜を焼成することにより金属酸化物からなる保護膜と誘電体膜又は、保護膜の役割を兼ねる誘電体膜を得ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法により上記の課題を解決する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基体上に酸化マグネシウムからなる保護膜の役割を兼ねる誘電体膜を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、マグネシウムの脂肪酸塩又はアルコキシドと有機溶媒とを含む塗布組成物の基体上への塗布及び乾燥を所定回繰り返して、所望する厚さの誘電体膜を得るのに必要な厚さの塗布膜を得、次いで塗布膜を焼成することにより酸化マグネシウムからなる誘電体膜を得ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
塗布膜が、２〜４０μｍの厚さを有し、２〜５回塗布及び乾燥することにより形成される請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
塗布組成物が、誘電体膜を構成する金属酸化物と同一又は異なる金属酸化物及び／又は低融点ガラスを含む請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
少なくとも基体上に金属酸化物からなる誘電体膜と酸化マグネシウムからなる保護膜とをこの順で有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、基体上に金属の脂肪酸塩又はアルコキシドと有機溶媒とを含む塗布組成物の基体上への塗布及び乾燥を行うことで誘電体膜形成用の塗布膜を形成した後、誘電体膜形成用の塗布膜上へマグネシウムの脂肪酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布及び乾燥を行うことで保護膜形成用の塗布膜を得、次いで両塗布膜を焼成することにより金属酸化物からなる誘電体膜及び酸化マグネシウムからなる保護膜を得ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
塗布膜の形成後、次の塗布膜の形成前に、塗布膜に紫外線を照射する請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
誘電体膜形成用の塗布組成物が、誘電体膜を構成する金属酸化物と同一又は異なる金属酸化物及び／又は低融点ガラスを含み、保護膜形成用の塗布組成物が、酸化マグネシウム又は他の金属酸化物及び／又は低融点ガラスを含む請求項４又は５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
脂肪酸塩が、３〜１０の炭素数の脂肪酸の塩である請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は例えば誘電体膜や保護膜等の種々の要素から構成されている。この内、誘電体膜は、一般に低融点ガラス粉末を樹脂と溶媒に分散させたペーストを基体上に塗布乾燥させて塗布膜を得、次いで塗布膜を焼成することにより得られる（特開昭５３−１２５７６０号公報；特許文献１）。また、この公報には、誘電体膜を蒸着又はスパッタリングのような方法で形成することも記載されている。
一方、保護膜は、蒸着又はスパッタリングのような方法で形成することが知られている（特開２００１−１７２００６号公報；特許文献２）。更に、この公報には、誘電体膜及び保護膜を形成する方法として、両膜を構成する金属の脂肪酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を使用して、塗布、乾燥及び焼成により両膜を得る方法も記載されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開昭５３−１２５７６０号公報
【特許文献２】
特開２００１−１７２００６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記誘電体膜又は保護膜の形成方法の内、蒸着又はスパッタリングでは、膜を形成するための基板が、大型及び／又は複雑な表面形状を有する場合、その形成が困難であるという問題があった。また、蒸着法は、真空環境を必要とするため、低コスト化が困難であり、加えて原料費が高くつくという問題があった。
低融点ガラス粉末の塗布焼成法では、使用できる低融点ガラス粉末の種類が限定され、所望の特性の誘電体膜を得ることが困難であるという問題があった。
また、金属の脂肪酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を使用する方法では、上記の問題が解消されるが、誘電体膜と保護膜の両膜をこの方法により連続で形成する方法の記載はない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
かくして本発明によれば、少なくとも基体上に酸化マグネシウムからなる保護膜の役割を兼ねる誘電体膜を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、マグネシウムの脂肪酸塩又はアルコキシドと有機溶媒とを含む塗布組成物の基体上への塗布及び乾燥を所定回繰り返して、所望する厚さの誘電体膜を得るのに必要な厚さの塗布膜を得、次いで塗布膜を焼成することにより酸化マグネシウムからなる誘電体膜を得ることを特徴とする第１のプラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
【０００６】
また、本発明によれば、少なくとも基体上に金属酸化物からなる誘電体膜と酸化マグネシウムからなる保護膜とをこの順で有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、基体上に金属の脂肪酸塩又はアルコキシドと有機溶媒とを含む塗布組成物の基体上への塗布及び乾燥を行うことで誘電体膜形成用の塗布膜を形成した後、誘電体膜形成用の塗布膜上へマグネシウムの脂肪酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布及び乾燥を行うことで保護膜形成用の塗布膜を得、次いで両塗布膜を焼成することにより金属酸化物からなる誘電体膜及び酸化マグネシウムからなる保護膜を得ることを特徴とする第２のプラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の第１の方法において、保護膜の役割を兼ねる誘電体膜用の金属酸化物としては、酸化マグネシウムが挙げられる。また、本発明の第２の方法において、保護膜用の金属酸化物としては、酸化マグネシウムが挙げられ、誘電体膜用としては、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が挙げられる。
上記金属酸化物を焼成により与える金属の脂肪酸塩又はアルコキシドとしては、以下のものが挙げられる。
【０００８】
金属アルコキシドとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等の低級アルコールと金属とのアルコキシドが挙げられる。
脂肪酸としては、例えば、脂肪族モノカルボン酸や、脂肪族ジカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸、脂肪族テトラカルボン酸等の脂肪族ポリカルボン酸が挙げられる。また、脂肪酸を構成する炭素鎖は、飽和でも、不飽和でもよい。更に、炭素鎖には置換基が存在していてもよい。置換基の種類は特に限定されないが、焼成時に残存しやすいものは好ましくない。
より具体的には、飽和脂肪族モノカルボン酸として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ｎ−ウンデシレン酸、ラウリン酸、ｎ−トリデシレン酸、ミリスチン酸、ｎ−ペンタデシレン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸等が挙げられる。
【０００９】
不飽和脂肪族モノカルボン酸としては、アクリル酸、ブテン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、メタクリル酸、ペンテン酸、ヘキセン酸、ヘプテン酸、オクテン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデセン酸、テトラデセン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセン酸等のオレフィンモノカルボン酸、プロピオール酸、テトロール酸、エチルプロピオール酸、プロピルプロピオール酸、ブチルプロピオール酸、アミルプロピオール酸、ウンデシン酸、ステアロール酸等のアセチレンモノカルボン酸、ペンタジエン酸、ジアリル酢酸、ゲラニウム酸、デカジエン酸等のジオレフィンモノカルボン酸、オクタトリエン酸、リノレン酸、オレイン酸等の高度不飽和モノカルボン酸が挙げられる。
【００１０】
飽和脂肪族ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸等が挙げられる。
不飽和脂肪族ジカルボン酸としては、ブテン二酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、グルタコン酸、ジヒドロムコン酸等のオレフィンジカルボン酸、ムコン酸のようなジオレフィンジカルボン酸が挙げられる。
本発明では、脂肪酸と金属との塩が好ましい。その理由は、脂肪酸塩は、焼成により分解又は燃焼しやすく、溶剤溶解性が高く、焼成後の膜が緻密であり、取り扱いが容易（安全性も含めて）であり、安価であり、多くの金属との塩の合成が容易であるという性質を有しているからである。更に、脂肪酸の内、炭素数３〜１０の飽和脂肪族モノカルボン酸を使用することが好ましい。特に好ましい脂肪酸は、エナント酸である。
【００１１】
上記金属の脂肪酸塩又はアルコキシドからなる塗布膜は、その材料を含む塗布組成物を基板上に塗布及び乾燥させることで形成することができる。ここで、塗布組成物は、ペースト又は溶液の形態であることが好ましい。また、作業性が良好な程度に塗布組成物の粘度、基体に対するぬれ性及び蒸発速度を調整するために、有機溶媒が加えられる。更に、同じ目的で、補助溶媒を加えてもよい。なお、塗布組成物の粘度は、５０〜１０００ｃＰｓ程度（コンプレート法により測定）が好ましく、１００〜１０００ｃＰｓ程度がより好ましい。
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール等の１級アルコールが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも複数組み合わせて用いてもよい。
【００１２】
補助溶媒としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ジヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の１級アルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、α−テルピネオール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルアセテートが挙げられる。これら補助溶媒は、単独でも複数組み合わせて用いてもよい。
【００１３】
更に、保護膜を兼ねる誘電体膜、保護膜及び誘電体膜形成用の塗布組成物には、それぞれ対応する金属酸化物と同一又は異なる金属酸化物が含まれていてもよい。また、塗布組成物には、低融点ガラスが含まれていてもよい。
塗布組成物に添加する金属酸化物は、金属の脂肪酸塩又はアルコキシドと有機溶媒の焼成により形成される金属酸化物、すなわち保護膜を兼ねる誘電体膜、保護膜及び誘電体膜を構成する金属酸化物と同じものであることが好ましい。塗布組成物に金属酸化物を含ませることで、焼成に伴う収縮により誘電体膜又は保護膜に発生するクラックを低減することができる。金属酸化物の形状は、特に限定されないが、有機溶媒に溶解させてもよく、粉末状で含ませてもよい。粉末状の金属酸化物を使用した場合、粉末の分散により膜の空隙率を上げることができ、その結果誘電率を低くすることができるので、誘電体膜に好適に使用できる。粉末の平均粒径は、０．１〜５μｍである（光散乱法で測定）。なお、金属酸化物の添加割合は、金属の脂肪酸塩又はアルコキシドに対して、０．１〜１０重量％の範囲であることが好ましい。
【００１４】
後者の低融点ガラスは、通常粉末状で塗布組成物に添加される。この低融点ガラスを含ませることで、焼成時に低融点ガラスが溶融することで、基体と膜との密着性を向上することができる。よって、膜の剥離及びクラックをより防止することができる。ここで使用できる低融点ガラスは、ＰＤＰの分野で通常使用されるものをいずれも使用することができる。なお、低融点ガラスの添加割合は、塗布組成物に対して、０．１〜１０重量％の範囲であることが好ましい。
次に、塗布組成物を基体上に塗布する方法は、特に限定されず、公知の方法をいずれも使用することができる。例えば、はけ塗布、ローラー塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、浸漬塗布等の方法が挙げられる。なお、この塗布は、塗布膜が所望の厚さになるまで繰り返し行うことができる。また、原料を節約する観点から、塗布膜の形成時からパターンニングしておくことが好ましく、その方法として、所定のパターンを介して塗布する方法、印刷法により所望の位置のみへ塗布する方法、一旦全面に塗布した後、所望の位置のみが残存するようにエッチングする方法等が挙げられる。
【００１５】
上記塗布膜の厚さは、最終的に形成される保護膜又は誘電体膜の厚さが、焼成により、当初の厚さの４０〜２０％程度に減少するため、この減少を考慮して決定することが好ましい。具体的には、第１の方法において、保護膜の役割を兼ねる誘電体膜形成用の塗布膜の厚さは、形成される酸化物膜の保護性能及び誘電特性によっても異なるが、１〜２０μｍであることが好ましい。また、第２の方法において、保護膜の場合、形成される金属酸化物の保護性能によっても異なるが、２〜３μｍであることが好ましい。誘電体膜としては、形成される金属酸化物の誘電特性によっても異なるが、２〜５μｍであることが好ましい。
ここで、第１及び第２の方法において、塗布組成物の粘度によっても異なるが、１回の塗布及び乾燥により０．５〜１０μｍ、好ましくは３〜１０μｍ程度の塗布膜が形成される。そのため、所望の厚さの塗布膜を得るためには、塗布及び乾燥を複数回繰り返す必要がある。乾燥は、有機溶媒を除去することで、塗布された塗布組成物が流動しない程度の温度及び時間の条件下で行われる。そのような条件として、例えば、６０〜１４０℃で１０〜４０分程度の条件が挙げられる。
【００１６】
更に、第２の方法においては、誘電体膜形成用の塗布膜は、その上に保護膜形成用の塗布膜を形成する前に乾燥工程に付される。誘電体膜形成用の塗布膜を乾燥させることで、この塗布膜と保護膜形成用塗布膜の混合を防ぐことができる。
更に、乾燥後に、塗布膜に紫外線を照射することが好ましい。紫外線照射により、塗布膜の照射された部分（特に表面部分）の金属の脂肪酸又はアルコキシドが分解され、金属酸化物に変換される。その結果、これら変換された物質が、塗布膜の混合をより効果的に防ぐ。この方法は第１の方法においても適用できる。紫外線照射の条件は、塗布膜を構成する材料に応じて適宜設定される。例えば、１０〜２００ｍＷ／ｃｍ２のエネルギー、１〜６０分間の照射時間が挙げられる。紫外線源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水素放電管、キセノン放電管等が挙げられる。紫外線は、これら紫外線源から発生する波長のものをいずれも使用できる。より具体的には、低圧水銀ランプの場合、主波長２５４ｎｍの光とそれの１／４の強度で波長１８５ｎｍの光とが混合した紫外線が挙げられる。紫外線照射の雰囲気は、特に限定されないが、酸化性雰囲気下であることが好ましい。ここで、酸化性雰囲気としては、大気雰囲気、大気中より酸素又はオゾン割合の大きい雰囲気等が挙げられる。
【００１７】
本発明の方法において、基体とは、基板、種々のＰＤＰ用の構成部材（例えば、電極、絶縁膜等）が記載された基板のいずれもが挙げられる。基板としては、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板等が挙げられる。
以下では、本発明の方法が適用可能な例として、図１に示す３電極ＡＣ型面放電ＰＤＰを示す。なお、図１のＰＤＰは説明のために使用することを目的としており、本発明がこれに限定されるものではない。
図１のＰＤＰ１００は、前面側基板と背面側基板とから構成される。
まず、前面側基板は、一般的にガラス基板１１上に形成された複数本のストライプ状の表示電極、表示電極を覆うように形成された誘電体膜１７、誘電体膜１７上に形成され放電空間に露出する保護膜１８とからなる。
表示電極は、ストライプ状又は放電セル単位のドット形状の透明電極膜４１と、透明電極膜の抵抗を下げるための透明電極膜４１上に積層される透明電極膜よりも幅狭のストライプ状のバス電極４２とからなる。
上記誘電体膜１７及び保護膜１８の形成に本発明の方法を使用することができる。
【００１８】
次に、背面側基板は、一般的に、ガラス基板２１上に形成された複数本のストライプ状のアドレス電極Ａ、アドレス電極Ａを覆う誘電体膜２７、隣接するアドレス電極間で誘電体膜２７上に形成された複数本のストライプ状の隔壁２９、隔壁２９間に壁面を含めて形成された隔壁の蛍光体層２８とからなる。
誘電体膜２７の形成に本発明の方法を使用することができる。
隔壁２９は、低融点ガラスとバインダとからなるペーストを誘電体膜２７上に塗布し、乾燥させた後、その膜状ペースト層をサンドブラスト法で隔壁パターン形状のマスクを介して切削することにより形成することができる。また、バインダに感光性の樹脂を使用した場合、隔壁パターン形状のマスクを使用して露光及び現像した後、焼成することにより形成することも可能である。
蛍光体層２８は、バインダが溶解された溶液に粒子状の蛍光体を分散させたペーストを、隔壁２９間に塗布し、焼成することにより形成することができる。
上記前面側基板と背面側基板とを、表示電極とアドレス電極が直交するように、両電極を内側にして対向させ、隔壁２９により囲まれた空間に放電ガスを充填することによりＰＤＰ１００を形成することができる。なお、図１中、Ｒ、Ｇ及びＢは、赤色、緑色及び青色の単位発光領域を示し、横方向に並ぶＲＧＢにより画素を構成する。
なお、本発明の方法が使用できるＰＤＰは、図１のＰＤＰの構成に限らず、対向放電型でもよく、蛍光体層を前面側基板に配置した透過型でもよく、更に２電極構造のいずれのＰＤＰにも使用することができる。更に、隔壁にはメッシュ状のものを使用することができる。
【００１９】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
図２に示す前面側基板を以下のように作製した。
まず、エナント酸マグネシウム１．５重量部、エチルアルコール１重量部、テレピネオール１重量を溶解して塗布組成物を得た（粘度２００ｃＰｓ）。この塗布組成物を、ＩＴＯからなる透明電極２と銅からなるバス電極３とをこの順で備えたガラス基板１上に、ロールコータにより２回塗布及び乾燥を繰り返し、厚さ１５μｍの塗布膜を得た。塗布膜を１２０℃で３０分間さらに乾燥させた後、４００℃で３０分間焼成することにより、厚さ５μｍの酸化マグネシウムからなる保護膜の役割を兼ねる誘電体膜４を得た。得られた誘電体膜は、剥離やクラックのない良好な膜質を呈していた。なお、誘電体膜の比誘電率は８．０であった。
【００２０】
実施例２
エナント酸マグネシウムに代えてエナント酸珪素を使用すること以外は実施例１と同様にして塗布組成物を得た（粘度２００ｃＰｓ）。得られた塗布組成物をＩＴＯからなる透明電極と銅からなるバス電極とをこの順で備えたガラス基板上に、ロールコータにより２回塗布及び乾燥を繰り返し、厚さ１５μｍの塗布膜を得た。塗布膜を１２０℃で３０分間さらに乾燥させることにより、誘電体膜形成用の塗布膜を得た。
次に、エナント酸マグネシウム１重量部、エチルアルコール１重量部、プロピレングリコールモノメチルアセテート０．８重量を溶解して塗布組成物を得た（粘度５０ｃＰｓ）。この塗布組成物を上記誘電体膜形成用の塗布膜上に１回塗布及び乾燥させることで２μｍの保護膜形成用の塗布膜を得た。
次に、塗布膜を１００℃で３０分間さらに乾燥させた後、４００℃で３０分間焼成することにより、厚さ５μｍの酸化珪素からなる誘電体膜と０．７μｍの酸化マグネシウムからなる保護膜を得た。得られた誘電体膜及び保護膜は、剥離やクラックのない良好な膜質を呈していた。
【００２１】
実施例３
エナント酸珪素に代えてエナント酸アルミニウムを使用すること以外は実施例１と同様にして誘電体膜及び保護膜を得た（塗布組成物の粘度は、２００ｃＰｓ）。得られた誘電体膜及び保護膜は、剥離やクラックのない良好な膜質を呈していた。
【００２２】
実施例４
エナント酸マグネシウムを含む塗布膜を形成する前に、エナント酸珪素を含む塗布膜に、低圧水銀ランプの２５４ｎｍの紫外線（３６Ｊ／ｃｍ２）を照射することで、表面の分解を促進させること以外は実施例２と同様にして誘電体膜及び保護膜を得た。得られた誘電体膜及び保護膜は、剥離やクラックのない良好な膜質を呈していた。
【００２３】
実施例５
エナント酸珪素に代えてエナント酸アルミニウムを使用すること以外は実施例４と同様にして誘電体膜及び保護膜を得た（塗布組成物の粘度は、２００ｃＰｓ）。得られた誘電体膜及び保護膜は、剥離やクラックのない良好な膜質を呈していた。
【００２４】
実施例６
エナント酸マグネシウムに対して１重量％の酸化マグネシウム微粒子（平均粒径０．１μｍ）を塗布組成物に添加すること以外は実施例１と同様にして、厚さ１５μｍの酸化マグネシウムからなる保護膜の役割を兼ねる誘電体膜を得た（塗布組成物の粘度は、３００ｃＰｓ）。得られた誘電体膜は、微粒子の凝集に伴う間隙を有し、剥離やクラックのない良好な膜質を呈していた。なお、誘電体膜の比誘電率は４．８であった。
【００２５】
実施例７
塗布組成物に平均粒径２μｍのＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系低融点ガラス粉末（日本電気硝子社製ＬＳ−３０８１）を５重量％添加すること以外は実施例１と同様にして、厚さ１０μｍの酸化マグネシウムからなる保護膜の役割を兼ねる誘電体膜を得た（塗布組成物の粘度は、３００ｃＰｓ）。得られた誘電体膜は、焼成時に低融点ガラス粉末が溶融することで基板に対する接着性が改善されると共に、剥離やクラックのない良好な膜質を呈していた。
【００２６】
【発明の効果】
本発明によれば、金属の脂肪酸塩又はアルコキシドと有機溶媒とを含む塗布組成物の基体上への塗布及び乾燥を２回以上繰り返して塗布膜を得、次いで塗布膜を焼成することにより金属酸化物からなる保護膜と誘電体膜又は、保護膜の役割を兼ねる誘電体膜を得るため、保護膜と誘電体膜又は、保護膜の役割を兼ねる誘電体膜に発生するクラックや基体からの剥離を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法が適用可能なＰＤＰの概略斜視図である。
【図２】実施例１の前面側基板の概略工程断面図である。
【符号の説明】
１、１１、２１  ガラス基板
２、４１  透明電極膜
３、４２  バス電極
４  保護膜の役割を兼ねる誘電体膜
１７、２７  誘電体膜
１８  保護膜
２８  蛍光体層
２９  隔壁
１００  ＰＤＰ
Ａ  アドレス電極
【図１】
2004152672.tif 000002
【図２】
2004152672.tif 000003