(57)【要約】【課題】マルチビーム走査装置としてのビーム位置調整に際して、調整済みの光源装置を再調整する作業を激減し又はなくすようにする。【解決手段】ビームＢ1，Ｂ２を出射する複数の光源が設けられた光源装置３を具備し、この光源装置３から出射されるビームＢ1，Ｂ２の光束周辺部を遮光する開口手段４の回動方向の位置を調整することにより、複数の光源から被走査面上に出射されるビームＢ1，Ｂ２の副走査方向の位置を調整するようにする。したがって、マルチビーム走査装置１としての最終のビーム位置調整に際して、調整済みの光源装置３を再調整する作業を激減し又はなくすことができる。【選択図】    図１
2004184428.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビームを出射する複数の光源を有する光源装置と、
前記光源装置から出射されるビームの光束周辺部を遮光する開口手段と、
前記光源装置から出射され前記開口手段を通るビームを被走査面の主走査方向に偏向する光偏向器と、
前記光偏向器により偏向されたビームをその主走査方向の走査速度を等速にして前記被走査面に結像する走査結像素子と、
前記開口手段を前記ビームの光軸に沿う中心線を中心に回動自在及び任意位置固定自在に支持する回動位置調整手段と、
をハウジング内に具備するマルチビーム走査装置。
【請求項２】
前記光源装置は、前記光源に対してカップリングされた光学系をさらに具備する請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項３】
前記光源装置と前記光偏向器との間には、前記光源装置から出射されるビームを副走査方向に収束させて主走査方向に長い線像に結像するシリンダレンズが配置されている請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項４】
前記開口手段は、ビームの副走査方向における光束周辺部を遮光する第一の開口部材と、ビームの主走査方向における光束周辺部を遮光する第二の開口部材とを有し、
前記回動位置調整手段は、前記第一の開口部材と前記第二の開口部材との少なくとも一方を回動自在及び任意位置固定自在に支持するように構成されている請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項５】
前記回動位置調整手段は、前記ハウジングの一部に形成されて前記第一の開口部材又は前記第二の開口部材を回動自在に支持する支持部を有している請求項４記載のマルチビーム走査装置。
【請求項６】
前記第一の開口部材と前記第二の開口部材との何れか一方は前記回動位置調整手段により支持され、他方は前記ハウジングの一部に一体に形成されている請求項４記載のマルチビーム走査装置。
【請求項７】
第一の開口部材と前記第二の開口部材とがビームを整形するために具備する出射孔は、ゴーストし難い開口形状で形成されている請求項４ないし６の何れか一記載のマルチビーム走査装置。
【請求項８】
前記出射孔は、ビームの出射方向に向かうに従い光束が広がるように内面に勾配がつけられている請求項７記載のマルチビーム走査装置。
【請求項９】
前記光源装置の筐体の一部には前記光源から出射されるビームを整形する出射孔を具備するアパーチャが一体に形成されている請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項１０】
前記アパーチャの前記出射孔は、ゴーストし難い開口形状で形成されている請求項９記載のマルチビーム走査装置。
【請求項１１】
前記出射孔は、ビームの出射方向に向かうに従い光束が広がるように内面に勾配がつけられている請求項１０記載のマルチビーム走査装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１の何れか一記載のマルチビーム走査装置と、
前記マルチビームから走査されるビームに基いて画像を形成する画像形成部と、
を具備する画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像を光学的に書き込むマルチビーム走査装置及び画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真方式のプリンタ、デジタル複写機、ファクシミリ等、作像のための光書き込み系にビーム走査装置を備えた画像形成装置において、画素密度が３００ｄｐｉ〜４００ｄｐｉとあまり高密度ではないものが主流であった。しかし、近年市場から画像品質に対する要求が厳しく、画素密度１２００ｄｐｉを超える装置が市場に投入され、今後は高密度、高速の装置が主流になりつつある。１２００ｄｐｉの画素密度を実現するならば、被走査面上での副走査方向の各光束の間隔を２１．２μｍになるように調整する必要がある。これを実現するために単一ビームを用いた場合は、ポリゴンミラーなどの光偏向器を高速に動作させなければならない。このために、騒音、機内温度上昇等の問題が避けられなくなり、また光偏向器のコストも上がることになる。その他にも、感光体の回転速度を遅くして、高密度を実現するという方法もあるが、これではプリント速度が遅くなり高速化に対応することができない。
【０００３】
この要求に応える一つの方法に、複数のビームを被走査面上で副走査方向に所定の間隔をもって走査する方法があり、その方法に基いて考案されたマルチビーム走査装置が今後主流になると考えられる。このマルチビーム走査装置を用いることにより、光偏向器を高速動作させることなく、高密度、高速印字を実現することが可能になる。
【０００４】
マルチビーム走査を目的とする光源装置としては、複数個の発光部を持つ光源と、その光源からの出射光を整形する光学レンズとを有し、光源が光学レンズの光軸を中心に回動可能とした光源装置がある（特許文献１参照）。
【０００５】
同様の目的を達成するために、複数個の光源（半導体レーザ）からの光ビームを合成して出射する光源方式において、合成された光ビームを光軸回りに回動位置を調整して走査ピッチの調整を行うようにしたマルチビーム走査装置がある（特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献1】
特開昭５６−４２２４８号公報
【特許文献２】
特開平９−４３５２３号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
マルチビーム走査装置に用いる光源装置は、一般には複数の発光部と、これらの発光部から出射されるビームの光束を整形する光学系とをカップリングした構造であり、光源装置の単位で、専用の治具を用いて出射光軸調整や焦点位置調整を高精度に調整することが必要である。このような調整作業を行った後に、光源装置をマルチビーム走査装置のハウジングに取り付けている。
【０００８】
一方、マルチビーム走査装置のハウジングには、光源装置からの出射光の光束を整形するシリンダレンズ系、光偏向器、走査結像素子を含む光学系が取り付けられている。これらの光学系の個々の素子は、それぞれ加工誤差、取り付け誤差をもち、それらの加工寸法精度、取り付け寸法精度を高めるにしても限度があるため、光源装置をマルチビーム走査装置のハウジングに取り付けた状態で、複数のビームの副走査方向の位置精度が満足に得られない場合がある。このような場合には、ハウジングから光源装置を取り外し、光源装置以外の光学系の加工誤差、取り付け誤差に合せて光源装置の再調整が強いられる。これは前述した特許文献１及び特許文献２についても言えることである。光源調整の再調整は単に調整回数が増えるだけではなく、治具を用いた複雑な作業であるため、組立調整作業の手間がかかり、工数増大の原因となる。
【０００９】
本発明の目的は、マルチビーム走査装置としてのビーム位置調整に際して、光源装置を再調整する作業を激減し又はなくすことができるようにすることである。
【００１０】
本発明の目的は、開口手段の構造を簡略化することである。
【００１１】
本発明の目的は、ビーム照射時におけるゴーストの発生を防止することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載のマルチビーム走査装置は、ビームを出射する複数の光源を有する光源装置と、前記光源装置から出射されるビームの光束周辺部を遮光する開口手段と、前記光源装置から出射され前記開口手段を通るビームを被走査面の主走査方向に偏向する光偏向器と、前記光偏向器により偏向されたビームをその主走査方向の走査速度を等速にして前記被走査面に結像する走査結像素子と、前記開口手段を前記ビームの光軸に沿う中心線を中心に回動自在及び任意位置固定自在に支持する回動位置調整手段と、をハウジング内に具備する。
【００１３】
したがって、開口手段の回動方向の位置を調整することにより、複数の光源から被走査面上に出射されるビームの副走査方向の位置を調整することが可能となる。この場合、回動方向の位置を調整する開口手段は光源装置とは別個に設けられているため、マルチビーム走査装置としての最終のビーム位置調整に際して、調整済みの光源装置を再調整する作業を激減し又はなくすことが可能となる。
【００１４】
ここで、前記光源装置は、前記光源に対してカップリングされた光学系をさらに具備する構成を含む（請求項２）。
【００１５】
請求項３記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、前記光源装置と前記光偏向器との間には、前記光源装置から出射されるビームを副走査方向に収束させて主走査方向に長い線像に結像するシリンダレンズが配置されている。
【００１６】
したがって、請求項１記載の効果と同様の効果を得ることが可能となり、さらに、副走査方向のビーム間隔を高精度に規制することが可能となる。
【００１７】
請求項４記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、前記開口手段は、ビームの副走査方向における光束周辺部を遮光する第一の開口部材と、ビームの主走査方向における光束周辺部を遮光する第二の開口部材とを有し、回動位置調整手段は、前記第一の開口部材と前記第二の開口部材との少なくとも一方を回動自在及び任意位置固定自在に支持するように構成されている。
【００１８】
したがって、第一の開口部材又は第二の開口部材の回動方向の位置を調整することにより、複数の光源から被走査面上に出射されるビームの副走査方向の位置を調整することが可能となる。この場合、回動方向の位置を調整する第一の開口部材又は第二の開口部材は光源装置とは別個に設けられているため、マルチビーム走査装置としての最終のビーム位置調整に際して、調整済みの光源装置を再調整する作業を激減し又はなくすことが可能となる。
【００１９】
請求項５記載の発明は、請求項４記載のマルチビーム走査装置において、前記回動位置調整手段は、前記ハウジングの一部に形成されて前記第一の開口部材又は前記第二の開口部材を回動自在に支持する支持部を有している。
【００２０】
したがって、請求項４と同様の効果を得ることが可能となる。また、回動位置調整手段が有する支持部はハウジングの一部に形成されているため、回動位置調整手段を構成する部品の数を少なくすることができる。
【００２１】
請求項６記載の発明は、請求項４記載のマルチビーム走査装置において、前記第一の開口部材と前記第二の開口部材との何れか一方は前記回動位置調整手段により支持され、他方は前記ハウジングの一部に一体に形成されている。
【００２２】
したがって、請求項４と同様の効果を得ることが可能となる。また、回動位置調整をしない第一の開口部材又は第二の開口部材は、ハウジングの一部に一体に形成されているので構造の簡略化を図ることが可能となる。
【００２３】
請求項７記載の発明は、請求項４ないし６の何れか一記載のマルチビーム走査装置において、第一の開口部材と前記第二の開口部材とがビームを整形するために具備する出射孔は、ゴーストし難い開口形状で形成されている。
【００２４】
したがって、請求項４ないし６の何れか一の発明と同様の効果を得ることが可能となる。また、ハウジングの板厚が厚い場合でも、ビーム照射時におけるゴーストの発生を防止することが可能となる。
【００２５】
請求項８記載の発明は、請求項７記載のマルチビーム走査装置において、前記出射孔は、ビームの出射方向に向かうに従い光束が広がるように内面に勾配がつけられている。
【００２６】
したがって、出射孔の内面に勾配をつけるだけで請求項７と同様の効果を得ることが可能となる。
【００２７】
請求項９記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、前記光源装置の筐体の一部には前記光源から出射されるビームを整形する出射孔を具備するアパーチャが一体に形成されている。
【００２８】
したがって、請求項１と同様の効果を得ることが可能となる。また、光源装置の筐体の一部を利用してアパーチャを安価に製作することが可能となる。
【００２９】
請求項１０記載の発明は、請求項９記載のマルチビーム走査装置において、前記アパーチャの前記出射孔は、ゴーストし難い開口形状で形成されている。
【００３０】
したがって、請求項９と同様の効果を得ることが可能となる。さらに、光源装置の筐体の一部を利用してアパーチャを製作する場合に、筐体の板厚が厚い場合でも、ビーム照射時におけるゴーストの発生を防止することが可能となる。
【００３１】
請求項１１記載の発明は、請求項１０記載のマルチビーム走査装置において、前記出射孔は、ビームの出射方向に向かうに従い光束が広がるように内面に勾配がつけられている。
【００３２】
したがって、出射孔の内面に勾配をつけるだけで請求項１０と同様の効果を得ることが可能となる。
【００３３】
請求項１２記載の画像形成装置は、請求項１ないし１１の何れか一記載のマルチビーム走査装置と、前記マルチビームから走査されるビームに基いて画像を形成する画像形成部と、を具備する。
【００３４】
したがって、請求項１ないし１１の何れか一記載の発明と同様の効果を得ることが可能な画像形成装置を提供することができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
本発明の第一の実施の形態におけるマルチビーム走査装置の構成を図１ないし図４に基いて説明する。図１はマルチビーム走査装置の一例を示す平面図、図２はマルチビーム走査装置のビーム走査状態を示す斜視図、図３は光源装置の分解斜視図、図４は開口手段と回動位置調整手段との関係を示す分解斜視図である。
【００３６】
図１に示すように、マルチビーム走査装置１は扁平なハウジング２を具備する。このハウジング２には、光源装置３と、この光源装置３から出射されるビームの光束周辺部を遮光する開口手段（ビーム整形手段）４と、この開口手段４を通るビームを副走査方向に収束させて主走査方向に長い線像に結像するシリンダレンズ５と、このシリンダレンズ５を通るビームを主走査方向に偏向する光偏向器６と、この光偏向器６により偏向されたビームをその主走査方向の走査速度を等速にして後述する被走査面に結像する走査結像素子７，８，９と、ビームを反射するミラー１０とが設けられている。走査結像素子７，８，９は、主走査方向には被走査面上を等速に走査するような光学素子と、副走査方向には、シリンダレンズ５による結像点と像面が共役な位置関係にあり、面倒れ補正効果を持つ光学素子を含む。光偏向器６は、モータ（図示せず）によって駆動されるポリゴンミラー６ａの各反射面６ｂによりビームを走査する公知の構成である。ハウジング２は上面がカバー（図示せず）により閉塞され、下面にはミラー１０により反射されるビームを投光する窓（図示せず）が形成されている。
【００３７】
光源装置３は複数の光源であるレーザーダイオード１１，１２と、これらのレーザーダイオード１１，１２に対してカップリングされた光学系としてのコリメータレンズ１３，１４とを主要な構成部品として具備する。すなわち、マルチビーム走査装置１は、レーザーダイオード１１，１２により出射したビームＢ１，Ｂ２をコリメータレンズ１３，１４により平行光束化し、それらのビームＢ１，Ｂ２の光束を開口手段４により所望のスポット径となるように整形し、さらにビームＢ１，Ｂ２をシリンダレンズ５によりで副走査方向に絞り、ポリゴンミラー６ａの回転により主走査方向に偏向し、走査結像素子７，８，９を透過させ、ミラー１０により反射して感光体１５の表面、すなわち被走査面１６上に照射するように構成されている。
【００３８】
次に、光源装置３の構成を図３に基いて説明する。レーザーダイオード１１，１２は、光源装置３の構成内においては出射するビームＢ１，Ｂ２が主走査方向に所定の間隔を開け、ポリゴンミラー６ａの反射面６ｂ上における偏向点付近ではビームＢ１，Ｂ２の間隔が０ｍｍになるように支持されている。具体的には、駆動回路基板１７に接続されたレーザーダイオード１１，１２は、コリメータレンズホルダ１８にねじ１９ａによって結合されたレーザーダイオードホルダ１９に圧入されている。コリメータレンズホルダ１８にはコリメータレンズ１３，１４が板ばね（図示せず）などにより圧接状態で固定されている。このコリメータレンズホルダ１８は、その中心に立設状態で設けたボス２１が光源装置３の筐体となるブラケット２０に形成した支持孔２２に遊嵌された状態で、四隅がねじ２３によってブラケット２０に取り付けられている。ブラケット２０は、レーザーダイオード１１，１２から出射されるビームＢ１，Ｂ２を通すために形成された開口２４，２５と、四隅から突出する四本の取付軸２６とを有する。駆動回路基板１７の四隅には取付孔２７が形成されている。そして、取付ねじ２８を取付孔２７に挿し、それらの取付ねじ２８を取付軸２６の先端に螺合することにより、駆動回路基板１７がブラケット２０に結合されている。
【００３９】
本実施の形態における光源装置３は、ねじ２３を弛め、ボス２１を中心とするコリメータレンズホルダ１８の回転方向の位置を調整することにより、被走査面１６上での各レーザーダイオード１１，１２からビーム照射位置が調整できるように構成されている。
【００４０】
本発明の特徴は、光源装置３と光偏向器６との間に配置された開口手段４をビームＢ1，Ｂ2の光軸に沿う中心線を中心に所望の位置に回動させることで、被走査面１６上での各レーザーダイオード１１，１２からのビームＢ1，Ｂ2の副走査方向の照射位置を調整しようとするものである。
【００４１】
ここで、図４を参照し、開口手段４の構成、及び開口手段４の支持構造を具体的に説明する。開口手段４は、それぞれ円板状の形で形成された第一の開口部材４ａと、その裏側に対向する第二の開口部材（図示せず）と、これらを固定的に嵌合保持する筒状部材２９とにより構成されている。この例においては、第一の開口部材４ａはビームＢ1，Ｂ2の副走査方向（図４では上下方向）における光束周辺部を遮光するもので、その目的に合うようにビームＢ1，Ｂ2を整形する出射孔３０が形成されている。図示しない第二の開口部材はビームＢ1，Ｂ2の主走査方向における光束周辺部を遮光するもので、その目的に合うようにビームＢ1，Ｂ2を整形する出射孔が形成されている。
【００４２】
マルチビーム走査装置１のハウジング２の一部には、図４に示すように支持壁３１が一体に形成され、この支持壁３１には、第一の開口部材４ａ及び第二の開口部材とともに筒状部材２９を回動自在に支持するＶ字形切欠形状の支持部３２が形成されている。この支持部３２が形成された支持壁３１と、筒状部材２９の外周を支持部３２の底面に押えるための板ばね３３と、この板ばね３３の両端を支持壁３１に止着するねじ３４とにより、開口手段４を回動自在及び任意位置固定自在に支持する回動位置調整手段３５が構成されている。この場合の開口手段４の回動中心は、ビームＢ1，Ｂ2の光軸に沿う中心線である。本実施の形態は、複数の光源とは二つのレーザーダイオード１１，１２であり、両者の光軸は互いに出射方向に向かうに従い接近する方向に傾けられているので、開口手段４の回動中心線はビームＢ1，Ｂ2の光軸に沿うもののビームＢ１，Ｂ２、の光軸と平行ではなく、ビームＢ1，Ｂ2の角度を２分する中心線である。なお、筒状部材２９を省略し、第一の開口部材４ａと第二の開口部材とを板ばね３３によって直接支持部３２の底部に圧接するように構成してもよい。
【００４３】
このような構成において、ねじ３４を弛め筒状部材２９を回動させて、開口手段４（第一の開口部材４ａ及び第二の開口部材）の回動方向の位置を調整することにより、複数のレーザーダイオード１１，１２から被走査面１６上に出射されるビームＢ1，Ｂ2の副走査方向の位置を調整することが可能となる。この場合、回動方向の位置を調整する開口手段４は光源装置３とは別個に設けられているため、ビームＢ1，Ｂ2の副走査方向の位置調整に際して、調整済みの光源装置３を再調整する作業を激減し又はなくすことが可能となる。
【００４４】
さらに、光源装置３と光偏向器６との間には、光源装置３から出射されるビームＢ1，Ｂ2を副走査方向に収束させて主走査方向に長い線像に結像するシリンダレンズ５が配置されているので、さらに、副走査方向のビーム間隔を高精度に規制することが可能となる。
【００４５】
さらに、図４に示すように、回動位置調整手段３５は、ハウジング２の一部となる支持壁３１に形成されて第一の開口部材４ａ又は第二の開口部材を回動自在に支持する支持部３２を有しているので、回動位置調整手段３５を構成する部品の数を少なくすることができる。
【００４６】
本実施の形態において、それぞれ１本のビームを出射するレーザーダイオード１１，１２を光源として用いたが、これに代えて、複数のビームを出射する複数の半導体レーザを光源として用いてもよい。
【００４７】
次に、図５を参照し、本発明の第二の実施の形態について説明する。前記実施の形態と同一部分については同一符号を用い説明も省略する。図５は開口手段を構成する第二の開口部材の一例を示す水平断面図である。前記実施の形態においては、開口手段４を構成する第一の開口部材４ａと第二の開口部材との両方を、回動位置調整手段３５（図４参照）によって回動位置調整可能に支持した状態で説明したが、本実施例は、ハウジング２の一部となる壁面３６にビームＢ1，Ｂ2を出射させる出射孔３０を形成することで、図４において図示しなかった第二の開口部材４ｂをハウジング２の一部となる壁面３６に一体に形成した例である。図４における第一の開口部材４ａが回動位置調整する必要のない場合であれば、第一の開口部材４ａを壁面３６に一体に形成しても構わない。その場合には、第二の開口部材４ｂを回動位置調整可能に支持すればよい。
【００４８】
図５に示す出射孔３０はゴーストの発生し難い開口形状で形成されている。具体的にはビームＢ1，Ｂ2の出射方向に向かうに従い光束が広がるように内面に勾配がつけられている。このようにすることで、ハウジング２の板厚が厚い場合でも、ビーム照射時におけるゴーストの発生を防止することができる。このように、ゴースト発生防止のために出射孔３０の内面に勾配をつけることは、図４に示す出射孔３０にも適用し得るものである。
【００４９】
次に、本発明の第三の実施の形態を図６に基いて説明する。前記実施の形態と同一部分については同一符号を用い説明も省略する。図６は光源装置３が具備する筐体の斜視図である。本実施の形態は、光源装置３の筐体となるブラケット２０に、図３に示す開口２４，２５に代えてビームＢ1，Ｂ2を整形する出射孔３０形成することにより、ブラケット２０にアパーチャ３７を一体に形成した例である。
【００５０】
したがって、光源装置３の筐体（ブラケット）２０の一部を利用してアパーチャ３７を安価に製作することができる。これに伴い、光源装置３と光偏向器６との間に配置する、回転位置調整用の開口部材の構成を簡略化することもできる。なお、図６に示す出射孔３０についても、図５に示すように出射孔３０と同様に内面に勾配をつけるなど、ゴーストし難い形状にしてもよい。
【００５１】
次に、図７を参照し、これまで説明したマルチビーム走査装置１を具備した画像形成装置について説明する。図７において、１００は画像形成装置である。この画像形成装置１００の装置本体１０１には、上部に配置されたマルチビーム走査装置１、画像形成部１０２、給紙部１０３、この給紙部１０３から画像形成部１０２を経て排紙部１０４に至る用紙搬送路１０５などが設けられている。排紙部１０４は装置本体１０１の上面に形成されている。
【００５２】
給紙部１０３は複数の給紙トレイ１０６を有し、選択した給紙トレイ１０６からの給紙ができるように構成されている。
【００５３】
画像形成部１０２は、マルチビーム走査装置１により感光体１５の表面となる被走査面１６に書き込まれた静電潜像を現像器１０７により現像し、その現像画像を給紙された用紙に転写器１０８により転写し、その転写画像を定着器１０９により定着するという、公知の電子写真方式の構成である。
【００５４】
この画像形成装置１００では、マルチビーム走査装置１による感光体１５への静電潜像の書き込みに際し、前述のように、複数のレーザーダイオード１１，１２から被走査面１６上に出射されるビームの副走査方向の位置を調整することが可能となる。また、ビームの副走査方向の位置調整に際して、調整済みの光源装置３を再調整する作業を激減し又はなくすことが可能となる。
【００５５】
【発明の効果】
請求項１及び２記載のマルチビーム走査装置は、ビームを出射する複数の光源が設けられた光源装置を具備し、この光源装置から出射されるビームの光束周辺部を遮光する開口手段の回動方向の位置を調整することにより、複数の光源から被走査面上に出射されるビームの副走査方向の位置を調整することができる。この場合、回動方向の位置を調整する開口手段は光源装置とは別個に設けられているため、マルチビーム走査装置としての最終のビーム位置調整に際して、調整済みの光源装置を再調整する作業を激減し又はなくすことができる。
【００５６】
請求項３記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、光源装置と光偏向器との間には、光源装置から出射されるビームを副走査方向に収束させて主走査方向に長い線像に結像するシリンダレンズが配置されているので、請求項１記載の効果と同様の効果を得ることができ、さらに、副走査方向のビーム間隔を高精度に規制することができる。
【００５７】
請求項４記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、開口手段は、ビームの副走査方向における光束周辺部を遮光する第一の開口部材と、ビームの主走査方向における光束周辺部を遮光する第二の開口部材とを有し、回動位置調整手段は、第一の開口部材と第二の開口部材との少なくとも一方を回動自在及び任意位置固定自在に支持するように構成されているので、第一の開口部材又は第二の開口部材の回動方向の位置を調整することにより、複数の光源から被走査面上に出射されるビームの副走査方向の位置を調整することができる。この場合、回動方向の位置を調整する第一の開口部材又は第二の開口部材は光源装置とは別個に設けられているため、マルチビーム走査装置としての最終のビーム位置調整に際して、調整済みの光源装置を再調整する作業を激減し又はなくすことができる。
【００５８】
請求項５記載の発明は、請求項４記載のマルチビーム走査装置において、回動位置調整手段は、ハウジングの一部に形成されて第一の開口部材又は第二の開口部材を回動自在に支持する支持部を有しているので、請求項４と同様の効果を得ることができる。また、回動位置調整手段が有する支持部はハウジングの一部に形成されているため、回動位置調整手段を構成する部品の数を少なくすることができる。
【００５９】
請求項６記載の発明は、請求項４記載のマルチビーム走査装置において、第一の開口部材と第二の開口部材との何れか一方は回動位置調整手段により支持され、他方は前記ハウジングの一部に一体に形成されているので、請求項４と同様の効果を得ることができる。また、回動位置調整をしない第一の開口部材又は第二の開口部材は、ハウジングの一部に一体に形成されているので構造の簡略化を図ることができる。
【００６０】
請求項７記載の発明は、請求項４ないし６の何れか一記載のマルチビーム走査装置において、第一の開口部材と第二の開口部材とがビームを整形するために具備する出射孔は、ゴーストし難い開口形状で形成されているので、請求項４ないし６の何れか一の発明と同様の効果を得ることができる。また、ハウジングの板厚が厚い場合でも、ビーム照射時におけるゴーストの発生を防止することができる。
【００６１】
請求項８記載の発明は、請求項７記載のマルチビーム走査装置において、出射孔は、ビームの出射方向に向かうに従い光束が広がるように内面に勾配がつけられているので、出射孔の内面に勾配をつけるだけで請求項７と同様の効果を得ることができる。
【００６２】
請求項９記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置において、光源装置の筐体の一部には前記光源から出射されるビームを整形する出射孔を具備するアパーチャが一体に形成されているので、請求項１と同様の効果を得ることができる。また、光源装置の筐体の一部を利用してアパーチャを安価に製作することができる。
【００６３】
請求項１０記載の発明は、請求項９記載のマルチビーム走査装置において、アパーチャの出射孔は、ゴーストし難い開口形状で形成されているので、請求項９と同様の効果を得ることができる。さらに、光源装置の筐体の一部を利用してアパーチャを製作する場合に、筐体の板厚が厚い場合でも、ビーム照射時におけるゴーストの発生を防止することができる。
【００６４】
請求項１１記載の発明は、請求項１０記載のマルチビーム走査装置において、出射孔は、ビームの出射方向に向かうに従い光束が広がるように内面に勾配がつけられているので、出射孔の内面に勾配をつけるだけで請求項１０と同様の効果を得ることができる。
【００６５】
請求項１２記載の画像形成装置は、請求項１ないし１１の何れか一記載のマルチビーム走査装置を具備するので、請求項１ないし１１の何れか一記載の発明と同様の効果を得ることが可能な画像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施の形態におけるマルチビーム走査装置の一例を示す平面図である。
【図２】マルチビーム走査装置のビーム走査状態を示す斜視図である。
【図３】光源装置の分解斜視図である。
【図４】開口手段と回動位置調整手段との関係を示す分解斜視図である。
【図５】本発明の第二の実施の形態における開口手段を構成する第二の開口部材の一例を示す水平断面図である。
【図６】本発明の第三の実施の形態における光源装置が具備する筐体の斜視図である。
【図７】マルチビーム走査装置を具備した画像形成装置の内部概略構造を示す説明図である。
【符号の説明】
１  マルチビーム走査装置
２  ハウジング
３  光源装置
４  開口手段
４ａ  第一の開口部材
４ｂ  第二の開口部材
５  シリンダレンズ
６  光偏向器
７〜９  走査結像素子
１３，１４  光学系
２０  光源装置の筐体
３０  出射孔
３１，３６  ハウジングの一部
３２  支持部
３５  回動位置調整手段
３７  アパーチャ
１０２  画像形成部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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