(57)【要約】【課題】電極構造の安定化。【解決手段】第１電力供給体２と第２電力供給体３とフィラメント８とから構成されている。第１フィラメントホルダ４はフィラメント８の一端部位と第１電力供給体２の間に介設されその一端部位を第１電力供給体２に支持する。他方側も同様に構成される。フィラメント８には、長手方向に対して斜めに向く張力方向に張力を与えられている。第１フィラメントホルダ４は、一端部位を固着する第１固着面９を有している。第１固着面９は、張力方向に概ね直交している。張力方向に対して固着面の角度が規定され、電極構造が安定化されている。電極構造の安定化は、電子加速器の寿命をより長く延長し、且つ、電子線の均一化を促進する。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電力供給体と、
前記第１電力供給体に対向して配置される第２電力供給体と、
フィラメントと、
前記フィラメントの一端部位を前記第１電力供給体に対して支持する第１フィラメントホルダと、
前記フィラメントの他端部位と前記第２電力供給体に対して支持する第２フィラメントホルダとを構成し、
前記第１フィラメントホルダは、前記一端部位を固着する第１固着面を有し、
前記第２フィラメントホルダは、前記他端部位を固着する第２固着面を有し、
前記第１固着面は前記張力方向に概ね直交し、且つ、前記第２固着面は前記張力方向に概ね直交している
電子線生成フィラメント構造。
【請求項２】
前記第１固着面と前記張力方向との間の角度は８５度〜９０度の範囲に設定されている
請求項１の電子線生成フィラメント構造。
【請求項３】
前記フィラメントには、前記第１電力供給体と前記第２電力供給体とが延びる長手方向に対して斜めに向く張力方向に張力が与えられている
請求項１又は２の電子線生成フィラメント構造。
【請求項４】
前記第２電力供給体は、前記第１電力供給体に対して概ね平行である
請求項１の電子線生成フィラメント構造。
【請求項５】
前記第１フィラメントホルダと前記第１電力供給体の間に介設される第１間体と、
前記第２フィラメントホルダと前記第２電力供給体の間に介設される第２間体とを更に構成し、
前記第１間体と前記第１フィラメントホルダとは、前記張力方向に概ね直交する第１接合面で接合し、
前記第２間体と前記第２フィラメントホルダとは、前記張力方向に概ね直交する第２接合面で接合する
請求項４の電子線生成フィラメント構造。
【請求項６】
前記第１固着面と前記第１接合面とは概ね同一の平面を形成し、
前記第２固着面と前記第２接合面とは概ね同一の平面を形成する
請求項５の電子線生成フィラメント構造。
【請求項７】
前記第１電力供給体は第１接合面を形成し、前記第１接合面は前記張力方向に概ね直交し、前記第１電力供給体と前記第１フィラメントホルダは前記第１接合面で接合し、前記第２電力供給体は第２接合面を形成し、前記第２接合面は前記張力方向に概ね直交し、前記第２電力供給体と前記第２フィラメントホルダは前記第２接合面で接合する
請求項４の電子線生成フィラメント構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線生成フィラメント構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
殺菌又はキュアリングの技術として、電子線照射装置が知られている。電子線照射装置は、大気、液体のような物質浮遊媒体に電子線を照射する技術である。殺菌に関しては、下記する技術が知られている。地球規模的にネットワーク化される市場に投入される医薬品、食料品のような人体内投入医学生理学的物質は、その量がますますに増大している。複雑にネット化される近未来の量産システムは、生産、管理、流通、販売の任意のプロセスで、人体内投入医学生理学的物質が無菌状態に一分の隙なしに保持されることが肝要である。電子線の生成には、その低エネルギー化が求められている。高エネルギーは、透過力が大きく、飲料水のような液体を透過して、細菌のような生命破壊対象物質に当たる確率が小さい。低エネルギー線は、液体中で散乱してそのエネルギーの多くが有効に用いられるが、透過幅（飛程）が短い。厚みが狭く、且つ、流体断面積が大きい流体層の全体に電子線を照射することが求められる。走査型電子線照射は、その走査時間が存在し、任意の１点に連続的に電子線を照射することができない。
【０００３】
長い領域の任意の１点に連続的に低エネルギー電子線を照射するためにビーム横幅の拡幅化が必要である。多数本のフィラメントをその拡幅方向に並べることは、ビーム横幅の拡幅化のために有効であるが、その拡幅方向に電子線密度の不均衡を招く。電子線密度のそのような不均衡を回避する技術は、後掲特許公報で知られている。
【０００４】
多数本の電極線を斜めに配列しそれらの電極線に十分に強い張力を与えて電極線ホルダーに電極線を保持する保持構造の簡素化が求められる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−７２６００号
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、斜め配列を簡素化する電子線生成フィラメント構造を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
その課題を解決するための手段が、下記のように表現される。その表現中に現れる技術的事項には、括弧（）つきで、番号、記号等が添記されている。その番号、記号等は、本発明の実施の複数の形態又は複数の実施例のうちの少なくとも１つの実施の形態又は複数の実施例を構成する技術的事項、特に、その実施の形態又は実施例に対応する図面に表現されている技術的事項に付せられている参照番号、参照記号等に一致している。このような参照番号、参照記号は、請求項記載の技術的事項と実施の形態又は実施例の技術的事項との対応・橋渡しを明確にしている。このような対応・橋渡しは、請求項記載の技術的事項が実施の形態又は実施例の技術的事項に限定されて解釈されることを意味しない。
【０００８】
本発明による電子線生成フィラメント構造は、第１電力供給体（２）と、第１電力供給体（２）に対向して配置される第２電力供給体（３）と、フィラメント（８）と、フィラメント（８）の一端部位を第１電力供給体（２）に対して支持する第１フィラメントホルダ（４、４’、又は、４”）と、フィラメント（８）の他端部位を第２電力供給体（３）に対して支持する第２フィラメントホルダ（５、５’、又は、５”）とから構成されている。第１フィラメントホルダ（４）は、一端部位を固着する第１固着面（９）を有し、第２フィラメントホルダ（５）は、他端部位を固着する第２固着面（１１）を有している。第１固着面（９）は、張力方向に概ね直交し、且つ、第２固着面（１１）は張力方向に概ね直交している。このような直交性は、強いフィラメントの構造的安定化により、電子線の性質を良好にする。
【０００９】
第１固着面（９）と張力方向との間の角度は８５度〜９０度の範囲に設定されていることが好ましい。当然に、第２固着面（１１）と張力方向との間の角度は８５度〜９０度の範囲に設定されていることが好ましい。フィラメント（８）には、第１電力供給体（２）と第２電力供給体（３）とが延びる長手方向に対して斜めに向く張力方向に張力が与えられていることは、電子線の拡幅化と均一化のために好ましい。張力方向に対して固着面の角度が規定され、電極構造が安定化されている。電極構造の安定化は、それの寿命をより長く延長し、且つ、電子線の均一化を促進することができる。
【００１０】
第２電力供給体（３）は、第１電力供給体（２）に対して概ね又は実質的に平行であることが好ましく、現実には平行に配置される。第１フィラメントホルダ（５’）と第１電力供給体（２）の間に介設される第１間体（１４）と、第２フィラメントホルダ（５’）と第２電力供給体（３）の間に介設される第２間体（１４）とが更に追加されている。第１間体（１４）と第１フィラメントホルダ（５’）とは、張力方向に概ね直交する第１接合面で接合し、第２間体（１４）と第２フィラメントホルダ（５’）とは、張力方向に概ね直交する第２接合面（１１’）で接合する。実施のこの形態では、電力供給体を変形して加工する必要がない。
【００１１】
第１固着面と第１接合面とは概ね同一の平面を形成し、第２固着面と第２接合面とは概ね同一の平面を形成し、電極の構造化が容易である。第１電力供給体（２）は第１接合面を形成し、第１接合面は張力方向に概ね直交し、第１電力供給体（２）と第１フィラメントホルダ（４）は第１接合面で接合し、第２電力供給体（３）は第２接合面を形成し、第２接合面は張力方向に概ね直交し、第２電力供給体（３）と第２フィラメントホルダ（５）は第２接合面で接合する。電極の構造化がより容易であり、更に、安定化する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図に対応して、本発明による電子線生成フィラメント構造の実施の形態は、フィラメントが電力供給体とともに設けられている。その電力供給体１は、図１に示されるように、殺菌処理対象流体の流れ方向ａに平行に互いに対向して配置される２体の電力供給棒を形成している。その電力供給棒は、第１電力供給体２と、流れ方向ａに長い第２電力供給体３とから構成されている。
【００１３】
フィラメントホルダは、複数体（例示：３体）の第１フィラメントホルダ４と複数体（例示：３体）の第２フィラメントホルダ５とから構成されている。第２電力供給体３は、第１電力供給体２の対向反対側面６に接合して、下方（殺菌対象流体に向かう方向であり普通には鉛直方向下方）に延びている。第２フィラメントホルダ５は、第２電力供給体３の対向反対側面７に接合して下方に延びている。複数本（例示：３本）のフィラメント８のそれぞれは、第１フィラメントホルダ４と第２フィラメントホルダ５とに結合している。複数本のフィラメント８は、互いに平行に、且つ、流れ方向ａに対して斜めに向き付けられて配置されている。
【００１４】
フィラメント８の張力方向と流れ方向ａの間の角度θは、好適には４５゜に設定される。第１フィラメントホルダ４は、流れ方向ａに対して角度αで交差する第１結合斜面９を有している。角度αは、好適には４５゜に設定される。一般的に好適には、
θ＋α＝９０
であり、フィラメント８は第１結合斜面９に対して直交していることが有利である。第２フィラメントホルダ５は、流れ方向ａに対して角度α’で交差する第２結合斜面１１を有している。角度α’は、好適には４５゜に設定される。一般的に好適には、
θ＋α’＝９０
であり、フィラメント８は第２結合斜面１１に対して直交していることが有利である。
【００１５】
フィラメント８の一方側端部又はフィラメント８の一方側部分は、第１結合斜面９に対して第１押さえ１２に押されて第１結合斜面９に圧着的に接合し、第１フィラメントホルダ４と第１押さえ１２との間に挟み込まれている。フィラメント８の他方側端部又はフィラメント８の他方側部分は、第２結合斜面１１に対して第２押さえ１３に押されて第２結合斜面１１に圧着的に接合し、第２フィラメントホルダ５と第２押さえ１３との間に挟み込まれている。３本のフィラメント８は、互いに１本に電気的に連続していることは可能である。
【００１６】
両端部位で固着されるフィラメント８には、適正な張力が与えられている。フィラメント８とフィラメント８に熱的に接合する第１電力供給体２と第２電力供給体３の相対的伸びと相対的捻れは、その張力の適正化に関して悪影響を与える。フィラメント８の両端部位を固着する第１フィラメントホルダ４と第２フィラメントホルダ５の支持面又は固着面は、フィラメント８の張力方向に対して概ね９０゜に設定されている。フィラメント８は、両側の固着面又は支持面９，１１に対して直交し又は概ね直交している。
【００１７】
両側の固着面又は支持面９，１１は、互いに平行に又は概ね平行に対向している。このような直交性と平行性は、第１フィラメントホルダ４と第２フィラメントホルダ５の互いの曲がりと捻れを有効に抑制することができる。こような抑制は、フィラメントを支持する電極構造の安定化のために重要な技術を提供することができ、結果的には、電子線ビーム密度の均一化を促進することができ、殺菌又はキュアリングの照射効率を上昇させ、処理精度を向上させることができる。
【００１８】
図２は、本発明による電子線生成フィラメント構造の実施の他の形態を示している。実施の本形態は、第２電力供給体３の対向反対側面７に結合する第２間体１４と第２フィラメントホルダ５’を形成している。第２間体１４は、下方に長く延びていない。第２フィラメントホルダ５’は、既述の第２結合斜面７に対応する第２結合斜面１１’を有している。フィラメント８の末端部は糸玉状の膨らみ１５が第２結合斜面１１’に圧着して第２フィラメントホルダ５’に固着している。このような結合構造は、フィラメント８の他の末端部に対して同じである。
【００１９】
図３は、本発明による電子線生成フィラメント構造の実施の更に他の形態を示している。第１電力供給体２の対向反対側面６の側と第２電力供給体３の対向反対側面７の側で、第１電力供給体２と第２電力供給体３に第１切欠き面１６と第２切欠き面１７とがそれぞれに形成されている。第１切欠き面１６と第２切欠き面１７は、それぞれに、流れ方向ａに対して４５゜の角度で傾斜している。第１切欠き面１６と第２切欠き面１７に、実施の図２の形態の第２フィラメントホルダ５’に対応する第１フィラメントホルダ４”と第２フィラメントホルダ５”とが接合している。第１フィラメントホルダ４”と第２フィラメントホルダ５”とは、実施の図２の形態の第１結合斜面９’と第２結合斜面１１’に対応する第１結合面９”と第２結合面１１”をそれぞれに有している。
【００２０】
フィラメントを強く張ることは、電子線の照射精度のために極めて重要である。その強い張力を保持し、且つ、熱発生環境で安定化するためには、張力方向と張力支持面とが直交していることが重要である。張力Ｔの支持分力は、ｓｉｎ（θ）Ｔで表される。ここで、θは、支持面と張力方向との間の角度である。θ＝３０度であるときの支持力は、θが９０度であるときの半分になる。θが６０度より大きいときの支持分力は、θが６０度であるときの支持分力に比べてその増加率は次第に小さくなる。θが９０度に近い角度範囲、特に、８５度と９５度の角度範囲では、支持分力に大差はない。従って、角度範囲は、８５度〜９５度であることが特に好ましい。
【００２１】
【発明の効果】
本発明による電子線生成フィラメント構造は、簡素化され、結果的に拡大幅化される電子線の拡幅方向の電子線密度を均一化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（ａ），（ｂ）は、本発明による電子線生成フィラメント構造の実施の形態を示し、同図（ａ）は平面図であり同図（ｂ）は正面図である。
【図２】図２は、本発明による電子線生成フィラメント構造の実施の他の形態を示す斜軸投影図である。
【図３】図３（ａ），（ｂ）は、本発明による電子線生成フィラメント構造の実施の更に他の形態を示し、同図（ａ）は正面図であり同図（ｂ）は平面図である。
【符号の説明】
２…第１電力供給体
３…第２電力供給体
４，４’，４”…第１フィラメントホルダ
５，５’，５”…第２フィラメントホルダ
８…フィラメント
９，９’，９”…第１固着面（接合面）
１１，１１’，１１”…第２固着面（接合面）
１４…第１間体（第２間体）
【図１】
2004184262.tif 000003
【図２】
2004184262.tif 000004
【図３】
2004184262.tif 000005