(57)【要約】【課題】大型化の基板に対して簡便に蒸着を行うことが可能で、コスト削減に寄与することが可能な膜形成装置を提供する。【解決手段】本発明の膜形成装置１００は、材料を気化または昇華させる蒸着源２と、前記蒸着源２をマスク５とともに基材に対して相対移動させる相対移動手段７と、を具備することを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料を気化または昇華させて、気化または昇華させた材料を基材に堆積し膜を形成する膜形成方法であって、
材料を気化または昇華させる蒸着源を、開口部を有する第一のマスクとともに、基材に対して相対移動させながら、前記基材に前記膜を形成する膜形成方法。
【請求項２】
材料を気化または昇華させて、気化または昇華させた材料を基材に堆積し膜を形成する膜形成方法であって、
開口部を有する第一のマスクを、前記基材に対して相対移動させながら、前記基材に前記膜を形成する膜形成方法。
【請求項３】
前記第一のマスクが複数の一列に配列された開口部を有し、該複数の開口部の配列方向に対して略直交方向に沿って、前記基材に対して相対移動させる請求項１又は２に記載の膜形成方法。
【請求項４】
前記蒸着源が長手状に構成され、
該長手状蒸着源の長手方向が前記複数の開口部の配列方向に対して略平行であり、
前記長手状蒸着源の長手方向に対して略直交する方向に沿って、前記基材に対して相対移動させる請求項３に記載の膜形成方法。
【請求項５】
第二のマスクが前記基材と前記蒸着源との間に配置しており、前記第一のマスクおよび前記第二のマスクを介して前記基材に膜を形成する請求項１又は２に記載の膜形成方法。
【請求項６】
前記第一のマスクが複数の開口部を有し複数の開口部が一列に配列されており、前記第二のマスクが複数の開口部を有し複数の開口部が一列に配列されており、
前記第一のマスクに形成された複数の開口部による配列方向と前記第二のマスクに形成された複数の開口部による配列方向とが略直交している請求項５に記載の膜形成方法。
【請求項７】
前記第一のマスク及び／又は前記第二のマスクに付与された前記複数の開口部の配列がストライプ状である請求項３又は６に記載の膜形成方法。
【請求項８】
材料を気化または昇華させる蒸着源と、
前記蒸着源を第一のマスクとともに基材に対して相対移動させる相対移動手段と、
を具備することを特徴とする膜形成装置。
【請求項９】
前記第一のマスクが複数の一列に配列された開口部を有し、該複数の開口部の配列方向に対して略直交方向に沿って、前記基材に対して相対移動させる相対移動方向規制手段を備える請求項８に記載の膜形成装置。
【請求項１０】
前記蒸着源が長手状に構成され、該長手状蒸着源の長手方向が前記複数の開口部の配列方向に対して略平行であり、
前記長手状蒸着源の長手方向に対して略直交する方向に沿って、
前記基材に対して相対移動させる相対移動方向規制手段を備える請求項８又は９に記載の膜形成装置。
【請求項１１】
前記基材と前記蒸着源との間に配置された第二のマスクを備える請求項８又は９に記載の膜形成装置。
【請求項１２】
前記第一のマスクは、複数の単位マスクを連結してなる請求項８ないし１０のいずれか１項に記載の膜形成装置。
【請求項１３】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の膜形成方法を製造工程として具備する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１４】
前記膜形成方法を用いて有機材料を気化または昇華させて、気化または昇華させた前記有機材料を基材に堆積し膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１３に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１５】
前記膜形成方法を用いて電極材料を気化または昇華させて、気化または昇華させた材料を基材に堆積し膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１３に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１３ないし１５のいずれか１項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、膜形成方法、膜形成装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、コンピュータや携帯用の情報機器といった電子機器の発達に伴い、カラー表示装置として有機エレクトロルミネッセンス装置の使用が増加している。この種の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造工程においては、例えば発光用の有機エレクトロルミネッセンス材料や電極をパターニングする際、水分や酸素による有機材料の劣化が問題となるため、マスクを用いた真空蒸着法が用いられている。
【０００３】
このような蒸着工程を含む有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法では、一般的に基板を大型化して１枚の基板からのパネルの取り個数を増やすことにより、低コスト化を図ることが可能となるが、マスクが大型化するに従いマスク製造の歩留り低下を招く場合がある。また、基板の大型化に伴い、基板回転方式の蒸着装置では、装置自体の大型化が著しくコストアップを招く惧れがあり、さらに基板内の蒸着膜厚のバラツキが大きくなる場合もある。そこで、特許文献１〜３のような技術が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−２３７０７３号公報
【特許文献２】
特開２００１−２４７９５９号公報
【特許文献３】
特開２００２−１７５８７８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１では、蒸着マスクとして使用する複数の部材（単位マスク）と、それを取り付ける基材とをアライメントマークで位置決めして固定し、マスクの大型化を図っている。しかしながら、基材と単位マスクに線膨張差がある場合、蒸着源からの輻射熱によってマスクの温度が上昇し、その結果、マスクが歪んで蒸着精度が得られない惧れがある。また、線膨張係数が同じ場合には、全体が膨張することになるが、単位マスクとして使用できる材料は限られており、基板の膨張に合わせることができずに結果として蒸着パターンの位置ズレが大きくなる場合がある。
【０００６】
また、上記特許文献２では、蒸着装置の大型化及び基板内の蒸着膜厚バラツキに対して、蒸着源をライン状に並べて基板上をスキャンすることにより基板内に均一に蒸着することを実現しており、これにより蒸着装置自体の大型化を防ぐことは可能と考えられる。しかし、蒸着パターンの形状に対応した開口部を有し、さらに基板の大きさに対応した蒸着マスクを用いる必要があり、蒸着マスク製造の歩留り低下を招く惧れがある。
【０００７】
さらに、上記特許文献３では、基板サイズより小さいサイズの蒸着マスクを使い、複数回に分割して蒸着する方法を採用しているが、基板とマスクの位置決めを複数回行う必要があるため、長時間を要してしまう場合がある。
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、大型化の基板に対して簡便に効率良く蒸着を行うことが可能で、コスト削減に寄与することが可能な膜形成方法と膜形成装置を提供することにあり、更には該方法及び装置を用いた工程を含む有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法と、該製造方法により得られる有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の膜形成方法は、材料を気化または昇華させて、気化または昇華させた材料を基材に堆積し膜を形成する膜形成方法であって、材料を気化または昇華させる蒸着源を、開口部を有する第一のマスクとともに、基材に対して相対移動させながら、前記基材に前記膜を形成することを特徴とする。
【００１０】
このような膜形成方法によると、蒸着源とマスクとを一体として、基材との間で相対移動させるものとしているため、基材が大型のもの（膜形成面が大面積のもの）であっても、それに伴って蒸着源及びマスクを大型にせずとも、該大型の基材の所定面若しくは全面に膜を形成することが可能となる。したがって、マスク、ひいては膜形成装置自体を大型化する必要がないため、該マスクの製造歩留り、ひいては膜形成装置の製造歩留り低下を抑えることが可能となる。
また、マスクを単一部材にて構成することができるため、例えば複数部材で構成したときのような線膨張係数の違いによる、マスク形状の変形等も生じず、信頼性の高い膜形成方法となる。
さらに、本発明の膜形成方法は、基材のサイズより小さいサイズのマスクを用い、複数回に分割して膜形成する方法（上記特許文献３参照）に比して、基材とマスクとの位置決めが容易であり、分割して行われる各回毎に位置決めを行うような手間も掛からない。
なお、本発明の膜形成方法において行う相対移動は、蒸着源を移動させるもの、あるいは基材を移動させるもの、さらに蒸着源と基材の双方を移動させるもののいずれによっても実現することが可能である。
また、本発明で一体とは、蒸着源とマスクとを連動させつつ、基材との間で相対移動させることを意味し、必ずしも一の部材に結合させることを意味するものではない。
【００１１】
上記膜形成方法は、例えば以下のような装置を用いて行うことができる。すなわち、本発明の膜形成装置は、材料を気化または昇華させる蒸着源と、前記蒸着源を第一のマスクとともに基材に対して相対移動させる相対移動手段とを具備することを特徴とする。このような膜形成装置によると、上記本発明の膜形成方法を好適に実現することができ、上述した効果を容易に奏することが可能となる。
【００１２】
本発明において、前記蒸着源が長手状に構成され、該長手状蒸着源の長手方向が前記複数の開口部の配列方向に対して略平行であり、前記長手状蒸着源の長手方向に対して略直交する方向に沿って、前記基材に対して相対移動させるものとすることができる。前記蒸着源を長手状に構成した場合、該長手状蒸着源の幅方向（長手方向に略垂直な方向）に沿って、前記蒸着源と前記基材とを相対移動させるものとすることができる。この場合、蒸着源の長手方向を幅として、相対移動方向に延びる蒸着を行うことができ、特に大型の基材（大面積の形成面）に対する製膜を効率良く行うことが可能となる。
【００１３】
また、本発明において、前記マスクを複数の一列に配列された開口部を有するものとし、該複数の開口部の配列方向に対して略直交方向に沿って、前記基材に対して相対移動させるものとすることができる。このような方法によると、巻く形成部材に対して一列に配列したストライプ状の膜パターンを効率良く形成することが可能となる。
【００１４】
さらに、本発明において、前記蒸着源と一体に構成した第一のマスクの他に、前記基材と一体に構成した第二のマスクを用いることができ、この場合、第二のマスクが、前記第一のマスクの配列した開口部に対し、これと交差する方向に延びる配列の開口部を具備してなるものとすることができる。このような態様によると、基材に対してマトリクス状の膜パターンを効率良く形成することが可能となり、例えば表示装置等に代表される画素パターンを形成するのに好適となる。
【００１５】
また、本発明において、前記マスクは、複数の単位マスクが連結してなるものとして構成することができる。この場合、マスクを単一にて構成した場合に比し、マスクの熱膨張等による位置ズレを小さく抑えることが可能となる。
【００１６】
また、前記マスクとしては、シリコン、インバー、４２アロイ、ステンレス、ニッケル合金、石英ガラスのいずれかを主体として構成することができる。この場合、マスクの開口パターン形成が容易で、しかも熱膨張が小さいため変形が生じ難く、信頼性の高い蒸着パターンを形成することが可能となる。
【００１７】
次に、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、上記膜形成方法を一製造工程として具備することを特徴とする。この場合、例えば有機エレクトロルミネッセンス装置を構成する発光層の形成材料である有機エレクトロルミネッセンス材料を、上記膜形成方法を用いて基板上に製膜することができる。また、例えば有機エレクトロルミネッセンス装置を構成する電極材料を、上記膜形成方法を用いて基板上に製膜することもできる。このように本発明の膜形成方法を用いることにより、所定のパターンを効率良く基板上に形成することができ、特に表示装置の画素に対応したパターンを蒸着により信頼性高く形成することが可能となる。なお、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法においては、ストライプ状の開口部を有したマスクを用いた場合、該ストライプ状に応じた電極等を構成することが可能となり、さらに上述したように２つの第一及び第二マスクを用いることによりマトリクス状の画素等を構成することが可能となる。そして、このような本発明の製造方法により得られた有機エレクトロルミネッセンス装置は非常に信頼性の高いものとなる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態を説明する。
まず、図１は、本発明の第１の実施の形態としての蒸着装置（膜形成装置）１００を模式的に示す平面図であり、図２は図１の蒸着装置１００のＡ−Ａ’断面を模式的に示す断面図、図３は図１の蒸着装置１００のＢ−Ｂ’断面を模式的に示す断面図である。
【００１９】
図１〜図３に示すように、蒸着装置１００は真空チャンバー１を蒸着室として構成したものであって、該真空チャンバー１内には、被蒸着部材たる基板５０を保持するための基板保持部５１が配設されてなり、該基板保持部５１は、基板５０をその蒸着面が蒸着源２に面する態様にて保持する構成を有している。なお、真空チャンバー１内は、図示しないポンプにより減圧可能に構成されている。
また、真空チャンバー１内には、蒸着源２を内部に収容する蒸着源収容部３が配設され、該蒸着源収容部３は蒸着カバー４にて覆われている。なお、蒸着カバー４は、蒸着源２から発生する蒸着材料の拡散を防止ないし抑制する機能を担っている。
【００２０】
一方、蒸着源収容部３の上方には蒸着マスク５が配設され、詳しくは蒸着源収容部３のマスク保持部６に一体となって固定されている。
さらに、蒸着源収容部３は、上記マスク保持部６が形成された側とは反対側においてボールネジ７に組み付けられており、該ボールネジ７の軸周り回動に伴って、該ボールネジ７の長軸方向に移動可能に構成されている。なお、この蒸着源収容部３の移動は、リニアガイド８上に沿って行われるものとされており、該蒸着源収容部３の移動に基づき、蒸着源２と蒸着マスク５とが一体にて移動することとなる。また、ボールネジ７の回動はモーター９を駆動源として行われている。
【００２１】
このように本実施の形態の蒸着装置（膜形成装置）１００では、蒸着源２と、該蒸着源２と被蒸着部材たる基板５０との間に蒸着マスク５を配設してなり、蒸着源２と蒸着マスク５とはマスク保持部６（移動手段）により一体となって、ボールネジ７の長軸方向に移動する構成とされている。その結果、蒸着源２は蒸着マスク５と共に基板５０に対して相対移動することとなり、該移動方向に延びる形にて蒸着材料が基板５０上に蒸着されることとなる。
【００２２】
蒸着源２は長手状に構成され、該蒸着源２の長手方向がボールネジ７の長軸方向に対して略直角となるように配設されており、その結果、蒸着源２は自身の幅方向に移動する構成とれている。一方、蒸着マスク５はストライプ状の開口部１５を有し、その長手方向が、該蒸着マスク５の移動方向と略平行に構成されており、すなわち、ストライプ状開口部１５の長手方向に沿って、蒸着源２及び蒸着マスク５が移動する構成となっている。なお、図６にも示すように、蒸着源２と蒸着マスク５は、蒸着マスク５のストライプ状開口部１５の長手方向と、蒸着源２の長手方向とが交わる態様にて一体化されている。
【００２３】
以上のような構成の蒸着装置（膜形成装置）１００を用いた蒸着方法（膜形成方法）について説明する。
まず、図１〜図３に示したように、基板５０及び蒸着源収容部３を設定する。その後、モーター９を稼動させてボールネジ７を駆動する。このボールネジ７の回動はモーター９に接続された制御部により制御され、具体的には、その回動量及び回動方向等が制御される構成となっている。
【００２４】
ボールネジ７の回動に伴って、蒸着源収容部３はボールネジ７の長軸方向に移動する。この場合、ボールネジ７が右回りの場合は正方向へ、ボールネジ７が左回りの場合は負方向へ移動する構成とされ、この移動により、位置固定された基板５０に対して、蒸着源２及び蒸着マスク５が相対移動することとなる。
【００２５】
このような相対移動を行いつつ、蒸着源２から材料を蒸着させることにより、例えば図４に示すように、蒸着パターン５の開口部１５に対応したストライプ状の蒸着パターンＰ１が、基板５０上に形成されることとなる。なお、図４は蒸着パターン５と基板５０との相対移動の様子を模式的に示した平面図であり、図５は本実施形態の蒸着装置１００を用いて得られる蒸着パターンＰ１付き基板５０の構成を模式的に示す平面図である。
【００２６】
以上のような本実施形態の蒸着装置（膜形成装置）１００を用いた蒸着方法（膜形成方法）によると、蒸着源２と蒸着マスク５とを一体として、基板５０との間で相対移動させるものとしているため、基板５０の蒸着面積が大型のものであっても、蒸着源２及び蒸着マスク５を大型に設計することなく、該大型の基板５０の所定面若しくは全面に簡便に蒸着を行うことが可能となる。
したがって、蒸着面積の大型化に伴って、蒸着マスク５を大型化する必要がなく、該蒸着マスク５の製造歩留り低下を抑えることが可能となる。
【００２７】
なお、蒸着中の温度上昇は、基板５０に比べて蒸着マスク５の方が大きいため、熱膨張による蒸着パターンの位置ズレ（精度）に対しては、蒸着マスク５の熱膨張を小さくすることが有効となる。これを実現するためには、蒸着マスク５の材料として線膨張係数の小さい材料を用いることが好ましく、例えばシリコン、インバー、４２アロイ、ステンレス、ニッケル合金、石英ガラス等を用いるのが好適である。なかでもシリコンは、異方性エッチングにより高精度な開口部を形成することができる点で好ましく、一方、インバー等の金属材料は通常のエッチングにより開口部を形成することが可能である。また、蒸着マスク５の熱膨張が問題とならない場合には、ステンレス（エッチングにより開口）やニッケル合金（電鋳により開口）などの材料を用いることが可能である。
【００２８】
以下、第２の実施の形態について説明する。
まず、図７は、本発明の第２の実施の形態としての蒸着装置（膜形成装置）２００を模式的に示す平面図であり、図８は図７の蒸着装置２００のＡ−Ａ’断面を模式的に示す断面図、図９は図７の蒸着装置２００のＢ−Ｂ’断面を模式的に示す断面図である。なお、本第２の実施の形態では、蒸着源２と一体に構成した蒸着マスク（以下、第１蒸着マスクとも言う）５の他に、基板５０と一体にて固定された第２蒸着マスク１０５が具備されたことが、第１の実施の形態と大きく異なる。したがって、その他の部材については第１の実施の形態と同じ符号を付し、特に説明のない限り、第１の実施の形態と同じ符号のものは同じ構成であるものとする。
【００２９】
図７〜図９に示すように、蒸着装置２００は真空チャンバー１を蒸着室として構成したものであって、該真空チャンバー１内には、被蒸着部材たる基板５０を保持するための基板保持部５１が配設されてなり、該基板保持部５１は、更に第２蒸着マスク１０５を保持している。第２蒸着マスク１０５は、蒸着源２側の蒸着マスク５のストライプ状開口部１５に対し、これと交差する方向に延びるストライプ状の開口部１１５を具備してなり、すなわち蒸着源２の移動方向と交差する方向に延びる開口部１１５を有するものとされている。
【００３０】
このような第２蒸着マスク１０５を有してなる蒸着装置２００を用いて、第１の実施の形態と同様な方法により蒸着を行うと、図１０に示すようなマトリクス状の蒸着パターンＰ２を基板５０上に形成することができる。つまり、図１０は本実施形態の蒸着装置２００を用いて得られる蒸着パターンＰ２付き基板５０の構成を模式的に示す平面図であって、図５に示したストライプ状のパターンに対し、第２蒸着マスク１０５により、長手方向に所定の間隔で影を形成した形の蒸着パターンＰ２を得ることができるのである。このようなマトリクス状の蒸着パターン形成は、例えば表示装置の画素を形成するのに好適、具体的には画素を構成する有機材料あるいは電極材料を、本実施形態の蒸着装置２００を用いた蒸着方法（膜形成方法）により形成するのが好適である。
【００３１】
また、例えば図１１に示した有機エレクトロルミネッセンス装置用基板に対して、Ｒ，Ｇ，Ｂの各発光部を所定のマトリクスパターンで形成するときにも、上記蒸着装置２００を用いるのが好適である。図１１は有機エレクトロルミネッセンス装置用基板５５に対して、発光層形成材料を蒸着させる様式を模式的に示す平面図であって、このように有機エレクトロルミネッセンス装置用基板５５上に、蒸着マスク５の開口パターンをいずれかの色の配列パターンに対応させて形成し、一色（例えばＲ）の発光層形成材料（有機エレクトロルミネッセンス材料）を上記方法により基板５５に蒸着させて、所定の色の画素（Ｒ画素）を形成する一方、蒸着マスク５を蒸着源２の相対移動方向と垂直方向に所定距離だけ移動させた後に、その他の画素（Ｇ画素、Ｂ画素）をそれぞれ形成することができる。この場合、各色の画素を好適に形成することができ、大型の有機エレクトロルミネッセンスパネルを効率良く製造することが可能となる。
【００３２】
なお、本実施の形態の蒸着装置１００，２００には、以下のような変形を付加することができる。図１２は、蒸着マスクと蒸着源との関係を模式的に示す断面図である。この場合、蒸着マスク１５０は、複数の単位マスクが連結してなる構成を具備しており、この場合、第１の実施の形態で示したように、蒸着マスクを単一の部材にて構成した場合に比し、蒸着マスクの熱膨張等による位置ズレを小さく抑えることが可能となる。すなわち、連結部において熱膨張が緩和されるため、マスクの位置ズレを抑制することができたのである。なお、この連結部において例えば基材１５１を設け、蒸着マスク１５０を該基材１５１上に保持させることが好ましい。また、図１２に示した構成は、特にシリコンなどの外形寸法に制限がある材料を蒸着マスクの形成材料として用いた場合に好適である。
【００３３】
また、図１３は第３の実施の形態の蒸着装置３００を模式的に示す断面図である。この場合、蒸着源２は位置固定され、蒸着マスク５のみが基板５に対して相対移動する構成とされている。ここでは、蒸着源２から蒸着される材料が、蒸着マスク５の開口部（図示略）を抜けて基板５０上に到達するように、蒸着マスク５以外の領域には防護シート１１が被せられている。防護シート１１は伸縮自在のラバーシートからなり、蒸着マスク５の移動に伴って該防護シート１１は変形し、蒸着マスク５以外の領域から蒸着材料が基板５０に到達することを確実に防止している。
【００３４】
次に、上記蒸着装置（膜形成装置）及び蒸着方法（膜形成方法）を採用した有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、並びに有機エレクトロルミネッセンス装置の構成について説明する。図１４は、有機エレクトロルミネッセンス装置の概略構成を模式的に示す平面図であり、図１４中符号２７０は有機エレクトロルミネッセンスパネルである。このような有機エレクトロルミネッセンスパネルは、図１１に示したように、有機エレクトロルミネッセンス装置用基板５５上に各発光層（Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素）を形成することで得ることができる。
【００３５】
この有機エレクトロルミネッセンスパネル２７０は、ガラス等からなる基板５５と、マトリックス状に配置された画素２７１（図１１に示すＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素）を形成する多数の有機エレクトロルミネッセンス素子と、封止基板（図示略）とを具備して構成されたものである。基板５５は、例えばガラス等の透明基板からなるもので、基板５５の中央に位置する表示領域２０２ａと、基板５５の周辺部に位置して表示領域２０２ａの外側に配置された非表示領域２０２ｂとに区画されている。表示領域２０２ａは、マトリックス状に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子によって形成された領域であり、有効表示領域とも言われるものである。このように上述した本実施形態の蒸着装置（膜形成装置）２００を用いた蒸着方法（膜形成方法）により、各画素をマトリクス状に簡便に構成することが可能となり、しかも大型の有機エレクトロルミネッセンス装置に対しても好適に用いることができる。また、パネルの各基板にストライプ状の電極を構成する場合には、第１の実施の形態の蒸着装置１００を用いるのが良く、この場合も、大型の有機エレクトロルミネッセンス装置に対して好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の蒸着装置を模式的に示す平面図。
【図２】図１のＡ−Ａ’断面図。
【図３】図１のＢ−Ｂ’断面図。
【図４】第１実施形態の蒸着装置を用いた場合の作用を模式的に示す平面図。
【図５】第１実施形態の蒸着装置を用いて得られる蒸着パターンを模式的に示す平面図。
【図６】第１実施形態の蒸着装置について要部の構成を示す説明図。
【図７】本発明の第２実施形態の蒸着装置を模式的に示す平面図。
【図８】図７のＡ−Ａ’断面図。
【図９】図７のＢ−Ｂ’断面図。
【図１０】第１実施形態の蒸着装置を用いて得られる蒸着パターンを模式的に示す平面図。
【図１１】有機エレクトロルミネッセンス装置用基板に対して発光層形成材料を蒸着させる様式を模式的に示す平面図。
【図１２】第１及び第２の実施形態について蒸着マスクと蒸着源との関係の変形例を模式的に示す断面図。
【図１３】第３実施形態の蒸着装置を模式的に示す断面図。
【図１４】本実施形態の蒸着装置を用いた製造方法により得られる有機エレクトロルミネッセンス装置の一実施形態を示す平面図。
【符号の説明】
２…蒸着源、５…蒸着マスク（マスク）、６…蒸着マスク保持部材（移動手段）、７…ボールネジ（相対移動手段）、５０…基板（基材）、１００，２００，３００…蒸着装置（膜形成装置）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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