(57)【要約】【課題】正確に基板の端面の塗布液を除去することができる基板製造装置を提供する。【解決手段】搬送ハンド４０に設けた一対の検知センサ５０で検知した基板１の姿勢に基づいてレジスト塗布装置３０の塗布ステージ３２を回転させ、基板１の姿勢を、基板１の端面のレジストを洗浄するための洗浄ノズルが移動する方向の姿勢へ修正するものである。【選択図】　　　　図１
2004105886.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、
塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、
前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、
を有する基板製造装置において、
前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、
また、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記塗布ステージを回転させ、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢へ修正する姿勢修正装置を有する
ことを特徴とする基板製造装置。
【請求項２】
塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、
塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、
前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、
を有する基板製造装置において、
前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、
また、前記一対の搬送ハンドで前記基板を前記洗浄ステージに載置後に、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記洗浄ステージを回転させて、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正する姿勢修正装置を有する
ことを特徴とする基板製造装置。
【請求項３】
前記塗布装置から前記塗布液除去装置への搬送路の途中に前記基板の通過を検知する第３のセンサを配し、
前記姿勢修正装置は、
前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢と、前記第３のセンサで検知した前記基板の通過時間に基づいて、前記洗浄ステージを回転させて前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正する
ことを特徴とする請求項２記載の基板製造装置。
【請求項４】
塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、
塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、
前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、
を有する基板製造装置における基板の姿勢修正方法において、
前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、
前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記塗布ステージを回転させ、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢へ修正する
ことを特徴とする基板製造装置における基板の姿勢修正方法。
【請求項５】
塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、
塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、
前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、
を有する基板製造装置における基板の姿勢修正方法において、
前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、
前記一対の搬送ハンドで前記基板を前記洗浄ステージに載置後に、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記洗浄ステージを回転させて、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正する
ことを特徴とする基板製造装置における基板の姿勢修正方法。
【請求項６】
前記塗布装置から前記塗布液除去装置への搬送路の途中に前記基板の通過を検知する第３のセンサを配し、
前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢と、前記第３のセンサで検知した前記基板の通過時間に基づいて、前記洗浄ステージを回転させて前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正する
ことを特徴とする請求項５記載の基板製造装置における基板の姿勢修正方法。
【請求項７】
塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する工程と、
搬送ハンドを接近しつつ前記基板の姿勢を検出する工程と、
前記基板を前記搬送ハンドを用いて洗浄ステージへ移動させる搬送工程と、
を備えた基板の姿勢修正方法に関し、
前記搬送工程において、基板の姿勢修正を同時に行う
ことを特徴とする基板の基板の姿勢修正方法。
【請求項８】
前記搬送ハンドを回転させ基板の姿勢を修正する
ことを特徴とする請求項７に記載の基板の姿勢修正方法。
【請求項９】
前記洗浄ステージを回転させることにより基板姿勢を修正する
ことを特徴とする請求項７に記載の基板の姿勢修正方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置や有機ＥＬ装置などのガラス基板にレジスト膜を塗布する基板製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置や有機ＥＬなどの平面表示装置のガラス基板にレジスト膜を作る基板製造装置の処理は、スピンコータなどの塗布装置を用いてレジスト膜を塗布している（非特許文献１）。
【０００３】
この内容をさらに詳しく述べると、次のような工程で行っている。
【０００４】
第１の工程としては、基板製造装置に基板を投入する。
【０００５】
第２の工程としては、基板の洗浄を行う。これは、工程間の搬送などにより付着したごみの除去を目的とし、主に純水のみを用いて洗浄処理を実施するものである。
【０００６】
第３の工程は、基板の乾燥を行う。これは、基板の表面上の水分の除去が目的であり、基板の高速回転による乾燥と、基板を加熱しての乾燥を行うものである。
【０００７】
第４の工程としては、疎水化処理である。これは、基板の表面を薬液（例えば、ＨＭＤＳ）を用いて疎水化処理を行う。
【０００８】
第５の工程としては、基板の冷却を行う。これは、レジスト膜を均一な膜厚とするために最適な基板の温度にすることを目的とするためである。
【０００９】
第６の工程は、スピンコータなどの塗布装置を用いてレジスト塗布液を塗布するものである。レジスト塗布液を基板表面に均質で、かつ、均一な膜厚で塗布する。
【００１０】
第７の工程としては、基板の端面の洗浄を行う。これは、レジスト塗布液を基板の表面に塗布した際に、基板の端面に付着したレジスト塗布液を除去することを目的とする。なお、溶剤によりレジスト塗布液を除去するものであり、レジスト塗布液の硬化前に行うものである。
【００１１】
第８の工程としては、基板のプリベークを行う。これは、レジスト特性の安定、基板との密着性の向上のためにレジスト中の溶媒成分の除去を目的としている。具体的には、基板の全面に均一に熱を加えるものであり、これにより、レジスト膜厚が部分的に悪化するのを防止することができる。
【００１２】
第９の工程としては、基板の冷却を行う。これは、プリベークにより加熱された基板を冷却するためである。
【００１３】
第１０の工程としては、基板製造装置から基板を搬出するものである。
【００１４】
【非特許文献１】
（社）日本半導体製造装置協会編、「液晶ディスプレイ製造装置用語辞典」、日刊工業新聞社、１９９９年１０月２０日第２版発行、１８７頁〜１９６頁
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の基板の製造工程において、レジスト塗布液を塗布した後に、基板の端面を洗浄する際に、塗布装置から塗布液除去装置まで、基板の端面に触れないようにして搬送を行っている。
【００１６】
この理由は、基板の端面に触れることにより、基板の端面に付着するレジスト塗布液が基板の表面に飛散したり、触れた個所にレジスト塗布液が付着し堆積することで基板の位置がずれたり、さらに、堆積したレジスト塗布液がごみとして基板の表面に飛散することを防止するためである。
【００１７】
ところが、基板の端面を触れずに基板の搬送を実施するため、基板の位置と、端面の洗浄を行う洗浄ノズルの位置が安定せず、レジスト塗布液の除去性能が安定しなくなる。
【００１８】
そのため、従来は、洗浄時間を長くして基板の位置ずれ分を補うようにしている。
【００１９】
しかし、このようにすることで、使用する洗浄薬液が多くなり、間接材料費の増加や、洗浄時間の延長による生産性の悪化を招くという問題点がある。
【００２０】
また、基板の位置によっては、十分にレジスト塗布液を除去することができず、歩留りが悪くなるという問題点もある。
【００２１】
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、塗布液除去装置における基板の位置精度を向上させ、正確に基板の端面の塗布液を除去することができる基板製造装置及び基板の姿勢修正方法を提供するものである。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、を有する基板製造装置において、前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、また、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記塗布ステージを回転させ、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢へ修正する姿勢修正装置を有することを特徴とする基板製造装置である。
【００２３】
請求項２の発明は、塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、を有する基板製造装置において、前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、また、前記一対の搬送ハンドで前記基板を前記洗浄ステージに載置後に、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記洗浄ステージを回転させて、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正する姿勢修正装置を有することを特徴とする基板製造装置である。
【００２４】
請求項３の発明は、前記塗布装置から前記塗布液除去装置への搬送路の途中に前記基板の通過を検知する第３のセンサを配し、前記姿勢修正装置は、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢と、前記第３のセンサで検知した前記基板の通過時間に基づいて、前記洗浄ステージを回転させて前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正することを特徴とする請求項２記載の基板製造装置である。
【００２５】
請求項４の発明は、塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、を有する基板製造装置における基板の姿勢修正方法において、前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記塗布ステージを回転させ、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢へ修正することを特徴とする基板製造装置における基板の姿勢修正方法である。
【００２６】
請求項５の発明は、塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置と、塗布液が塗布された前記基板を洗浄ステージに所定の姿勢で載置して、前記基板の端面に沿って洗浄ノズルを移動させることにより前記端面から塗布液を除去する塗布液除去装置と、前記基板の裏面を少なくとも一対の搬送ハンドで両側から支持しながら、前記塗布ステージから前記洗浄ステージへ前記基板を搬送する搬送装置と、を有する基板製造装置における基板の姿勢修正方法において、前記一対の搬送ハンドは、前記塗布ステージに載置した前記基板の姿勢を検知する検知センサをそれぞれ有し、前記一対の搬送ハンドで前記基板を前記洗浄ステージに載置後に、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢に基づいて前記洗浄ステージを回転させて、前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正することを特徴とする基板製造装置における基板の姿勢修正方法である。
【００２７】
請求項６の発明は、前記塗布装置から前記塗布液除去装置への搬送路の途中に前記基板の通過を検知する第３のセンサを配し、前記一対の検知センサで検知した前記基板の姿勢と、前記第３のセンサで検知した前記基板の通過時間に基づいて、前記洗浄ステージを回転させて前記基板の姿勢を前記所定の姿勢に修正することを特徴とする請求項５記載の基板製造装置における基板の姿勢修正方法である。
【００２８】
請求項７の発明は、塗布ステージに載置した基板の表面に塗布液を塗布する工程と、搬送ハンドを接近しつつ前記基板の姿勢を検出する工程と、前記基板を前記搬送ハンドを用いて洗浄ステージへ移動させる搬送工程と、を備えた基板の姿勢修正方法に関し、前記搬送工程において、基板の姿勢修正を同時に行うことを特徴とする基板の姿勢修正方法である。
【００２９】
請求項８の発明は、前記搬送ハンドを回転させ基板の姿勢を修正することを特徴とする請求項７に記載の姿勢修正方法である。
【００３０】
請求項９の発明は、前記洗浄ステージを回転させることにより基板姿勢を修正することを特徴とする請求項７に記載の基板の姿勢修正方法である。
【００３１】
請求項１及び請求項４の発明であると、一対の検知センサで検知した基板の姿勢に基づいて塗布ステージを回転させ、基板の姿勢を所定の姿勢へ修正した後、一対の搬送ハンドが塗布液除去装置の洗浄ステージに基板を搬送する。
【００３２】
請求項２及び請求項５の発明であると、一対の搬送ハンドで基板を洗浄ステージに載置した後、これら検知センサで検知した基板の姿勢に基づいて洗浄ステージを回転させて、基板の姿勢を所定の姿勢に修正する。
【００３３】
これによって、基板の端面に沿って洗浄ノズルを正確に移動させることができ、基板の端面の塗布液を確実に除去できる。
【００３４】
請求項３及び請求項６の発明であると、一対の検知センサで検知した基板の姿勢と、第３のセンサで検知した基板の通過時間に基づいて、洗浄ステージを回転させて基板の姿勢を所定の姿勢に修正するため、より正確に基板の姿勢を検知することができ、正確に所定の姿勢に修正することができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施例を図１から図６に基づいて説明する。
【００３６】
（１）基板製造装置１０における製造工程
まず、図３に基づいて、基板製造装置１０における製造工程を順番に説明する。図３は、液晶表示装置のガラス基板にレジストを塗布する基板製造装置のブロック図である。
【００３７】
ステップ１１において、基板１を収納しているカセットから、基板１を取り出し、基板表裏面水洗部１２に搬送する。基板表裏面水洗部では、基板１の表裏面をブラシ洗浄した後、振動水と高圧水によって洗浄を実施する。
【００３８】
ステップ１２において、基板１を高速回転させ、基板１の表面の水分を遠心力で振り落として乾燥させる。なお、回転の中心部である基板１の中心部は、遠心力が働かないため、窒素ガスを基板１の中心部に吹き付け乾燥を補助する。
【００３９】
ステップ１３において、前記工程で乾燥できなかった水分をオーブンによって熱を与え完全に除去する。これは、レジストが油性のため、基板１の表面の水分がレジストの密着性を悪くするため、完全に水分を除去する必要があるからである。
【００４０】
ステップ１４において、基板１とレジストとの密着性を良くするために、薬液、すなわち、ＨＭＤＳを基板１の表面に蒸気の状態で塗布する。ＨＭＤＳの作用は、ステップ１３における乾燥の目的と略同じであるが、水分を蒸発させるのではなく、水分と化学反応をしてＨＭＤＳの膜で基板１の表面を覆い、基板１の表面を油性に変化させる。すなわち、疎水化処理を行うものである。
【００４１】
ステップ１５において、レジストの塗布をレジスト塗布装置３０で行うものである。これは、基板１の表面の中心にレジストを所定量載せた後、基板１を高速回転させ遠心力で基板１の全面に塗り拡げる。ここで、「レジスト」とは、微細加工プロセスにおいて、耐エッチング性パターン形成に必要な、光、電子線などの光量子線に対して感光性を持つ材料をいう。なお、この工程については後から詳しく説明する。
【００４２】
ステップ１６において、基板１の回転による遠心力でレジストを塗布する方法では、基板１の端面にレジストが付着するため、この付着したレジスト１をレジスト除去装置４２で除去する。この工程についても後から詳しく説明する。
【００４３】
ステップ１７において、基板１の表面に塗布されたレジスト内部に残留する溶媒成分を揮発させる。この理由は、レジストは感光剤、樹脂、溶媒から構成されているが、現像処理を行う時にレジスト膜中に溶媒成分が多く残っていると、樹脂の密着性が悪いため現像液によって大量に溶けてしまい、欲しいパターンが形成できないので、このプリベーク処理を実施して溶媒成分をレジスト膜から揮発させるものである。
【００４４】
最後に、基板１に基板の番号と基板１中のチップの番号を露光し、カセットに再び基板１を収納するものである。
【００４５】
（２）レジスト塗布工程と基板端面処理工程の内容
レジスト塗布工程を行うレジスト塗布装置３０の構成について図４及び図５に基づいて説明する。
【００４６】
まず、図４に示すように、円盤状の塗布ステージ３２に、基板１を載置し、その中央にレジストノズル３４から、レジストを滴下する。
【００４７】
次に、図５に示すように、レジスト滴下後に塗布ステージ３２に、蓋３６を被せ、塗布ステージ３２と蓋３６を回転させ、その内部にある基板１も回転させる。これによって、基板１の表面にレジストを塗り拡げることができる。
【００４８】
次に、図６に示すように蓋３６を取り外す。
【００４９】
次に、塗布ステージ３２の中央から、補助ステージ３８が上昇し、これと共に基板１も塗布ステージ３２から上昇する。
【００５０】
次に、この補助ステージ３８によって上昇した基板１の両側から、一対の搬送ハンド４０が接近し、基板１の裏面を支持し、基板端面処理工程を行うレジスト除去装置４２の洗浄ステージ４４に基板１を搬送する。
【００５１】
次に、洗浄ステージ４４に載置された基板１の相対向する端面を洗浄ノズル４６が移動し、基板１の両端面を洗浄してレジストを除去する。相対向する端面の除去が終了すると、洗浄ステージ４４が９０°回転し、残りの相対向する端面に再び一対の洗浄ノズル４６が移動し、レジストの除去を行う。
【００５２】
以上によって、基板１の表面にレジストを塗布し、基板１の端面にあるレジストを除去することができる。
【００５３】
（３）基板１の姿勢修正方法
次に、図１と図２に基づいて、基板１の姿勢修正方法について説明する。
【００５４】
上記で説明した内容において、洗浄ノズル４６が移動するためには、基板１が洗浄ステージ４４に所定の姿勢で載置されている必要がある。もし載置されていない場合には、上記の課題を解決するための手段で説明したような問題点が発生する。そこで、本実施例では、基板１を所定の姿勢で洗浄ステージ４４に載置する方法について説明する。
【００５５】
図１は、その構成図を示す平面図であり、搬送ハンド４０，４０が基板１を支持するために移動する方向をｘ軸方向とし、レジスト塗布装置３０からレジスト除去装置４２の搬送方向をｙ軸方向とする。
【００５６】
一対の搬送ハンド４０は、コ字状に形成され、コ字状の搬送ハンド４０の両先端部４８，４８によって基板１を支持する。図１において、搬送ハンド４０の先端部４８の一方に光学式の検知センサ５０が設けられている。この検知センサ５０の設け方は、図１に示すように、基板１の中心軸Ｏ点を対称として点対称の位置に設けられている。
【００５７】
次に、基板１の姿勢修正方法について図３のフローチャートに基づいて順番に説明する。
【００５８】
ステップ１において、前記したようにレジストの塗布が終了する。
【００５９】
ステップ２において、補助ステージ３８が塗布ステージ３２から上昇し、それと共に基板１が上昇する。
【００６０】
ステップ３において、一対の搬送ハンド４０，４０が、基板１の相対向する両側部にｘ軸方向に沿って接近する。
【００６１】
ステップ４において、一対の搬送ハンド４０，４０にそれぞれ設けられている検知センサ５０，５０が基板１の端面を検知し、基板１の姿勢の傾きを検知する。すなわち、図１において、基板１がｙ軸方向に対し何度傾いているかを検知するものである。図１では、θ°傾いているものとする。
【００６２】
この検知方法は、下記の通りである。
【００６３】
一対の搬送ハンド４０を一定の速度ｖで接近させる。基板１の傾きが０°（すなわち所定の姿勢）で載置されている場合には、検知センサ５０，５０が検知する基板１の位置が所定の位置にある筈である。すなわち、搬送ハンド４０を一定速度ｖで移動させた場合に、基板１が所定の姿勢で載置されている場合には、搬送ハンド４０が移動を始めてから一定の時間ｔ０で検知センサ５０が基板１を検知する筈である。
【００６４】
ところが、基板１がθ°傾いている場合には、その一定の時間ｔ０より長い時間もしくは短い時間で検知センサ５０が基板１を検知する。そのため、この時間差によって基板１の傾きを計算するものである。なお、検知センサ５０，５０を基板１の中心点Ｏを中心に点対称の位置に配置したのは、その時間差が明確になるようにするためである。
【００６５】
ステップ５において、検知センサ５０，５０によって検知した基板１の姿勢に基づいて、補助ステージ３８を回転させて、基板１を所定の姿勢に修正する。すなわち、図１においては、補助ステージ３８をθ°反時計回りの方向に回転させる。
【００６６】
ステップ６において、一対の搬送ハンド４０の両先端部４８によって基板１の両側部の裏面側を支持し、一対の搬送ハンド４０をｙ軸方向に沿って移動させ、基板１を搬送する。
【００６７】
基板１がｙ軸方向に搬送されていると、搬送路の途中に設けられている光学式の第３のセンサ５２を通過する。この第３のセンサ５２を設けている理由は、より正確に基板１の姿勢を検知するためのものであり、一対の搬送ハンド４０が搬送を始めてから、基板１の端面が通過した時間を計測し、これが一定の時間であれば基板１は所定の姿勢で搬送されているものとする。そして、通過時間が所定の時間より短い場合や長い場合には、基板１の姿勢が傾いているものとし、その時間差に基づいて基板１の姿勢を検知するものである。
【００６８】
ステップ８において、一対の搬送ハンド４０，４０が、洗浄ステージ４４に基板１を載置する。
【００６９】
ステップ９において、第３のセンサ５２によって検知した基板１の姿勢が所定の姿勢より傾いている場合には、その傾きの分だけ、洗浄ステージ４４を回転させ、基板１の姿勢を再修正する。
【００７０】
ステップ１０において、基板１の端面を一対の洗浄ノズル４６によって洗浄する。この場合に、基板１は所定の姿勢で洗浄ステージ４４に載置されているため、基板１の端面のレジストを完全に除去することができ、洗浄時間を長く取ったりすることもない。そして、２つの端面の洗浄が終了すると洗浄ステージ４４を９０°回転させ、残りの２つの端面も洗浄を行う。
【００７１】
以上により、基板１の端面に付着したレジストを正確かつ短時間で洗浄することができる。
【００７２】
（変更例１）
上記実施例では、第３のセンサ５２を設けて基板１の姿勢を再度検知したが、この第３のセンサ５２を設けず、一対の搬送ハンド４０に設けられている一対の検知センサ５０だけで、基板１の姿勢を検知してもよい。この場合には、洗浄ステージ４４を回転させる必要はない。
【００７３】
（変更例２）
上記実施例では、一対の検知センサ５０，５０で検知した姿勢に基づいて、補助ステージ３８を回転させて姿勢を修正したが、これに代えて、補助ステージ３８は回転させず、傾いた姿勢のまま基板１を搬送し、一対の検知センサ５０，５０と、第３のセンサ５２の情報に基づいて洗浄ステージ４４を回転させて、基板１の姿勢を所定の姿勢に修正してもよい。
【００７４】
（変更例３）
上記実施例では、レジストを塗布する場合に、塗布ステージ３２を高速で回転させるレジスト塗布装置３０を用いたが、これに代えて、レジストをスリット状のノズルから吐出し基板１の表面に塗布する構造のレジスト塗布装置を使用してもよい。
【００７５】
（変更例４）
上記実施例では、塗布液としてレジストを用いて説明したが、本実施例は、基板の表面に塗布液を塗布するものであって、その端面に付着した塗布液を除去する装置において、基板１の姿勢を修正する必要があるものについては、適用することができる。
【００７６】
（変更例５）
上記実施例では搬送ハンド４０の一対の先端部４８の一方にのみ検知センサ５０を設けたが、これに代えて両先端部４８にそれぞれ検知センサ５０を設けることにより、より正確に基板１の姿勢を検知することができる。
【００７７】
（変更例６）
上記実施例では搬送ハンドを接近しつつ基板姿勢を検知し、その結果に基づき基板姿勢を修正し、その後に基板搬送を行う場合について説明したが、この基板搬送と基板姿勢の修正とを同時に行うことができる。
【００７８】
例えば、基板搬送期間中に洗浄ステージを回転させてもよいし、搬送中に搬送ハンド自体を回転させてもよい。
【００７９】
このように基板搬送途中に、位置の検出、ズレの算出、基板姿勢の修正を行うことにより、搬送に要する時間の延長をすることなく、洗浄を行うことができる。
【００８０】
【発明の効果】
以上により本発明は、基板の姿勢を修正した後端面に付着した塗布液を除去するため、除去を確実に行うことができ、また、その除去時間が長くなることがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を示すレジスト塗布装置とレジスト除去装置の平面図である。
【図２】レジストの塗布と洗浄を行う処理を示すフローチャートである。
【図３】基板の製造工程を示すブロック図である。
【図４】塗布ステージに基板を載せてレジストを塗布する状態の斜視図である。
【図５】塗布ステージに蓋を被せて回転させている状態の斜視図である。
【図６】基板をレジスト塗布装置からレジスト除去装置に搬送する斜視図である。
【符号の説明】
１　基板
３０　レジスト塗布装置
３２　塗布ステージ
３４　レジストノズル
３６　蓋
３８　補助ステージ
４０　搬送ハンド
４２　レジスト除去装置
４４　洗浄ステージ
４６　洗浄ノズル
４８　先端部
５０　検知センサ
５２　第３のセンサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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