(57)【要約】【課題】ウェルプレートが保持した培地からの水分蒸発を抑制可能とする乾燥抑制器具を提供する。また、このような乾燥抑制器具を有し、好適な細胞培養を可能とする細胞培養キットを提供する。【解決手段】ウェルプレートを収容する本体部と、本体部に開閉自在に設けられた蓋と、を備え、本体部は、ウェルプレートを保持する保持部と、液体を貯留する貯液槽と、保持部を貯液槽の内側の底面と離間させて支持する支持部と、を有し、蓋が閉じられた状態で、貯液槽と蓋とで囲まれた内部空間と外部とが連通する乾燥抑制器具。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェルプレートを収容する本体部と、
前記本体部に開閉自在に設けられた蓋と、を備え、
前記本体部は、前記ウェルプレートを保持する保持部と、
液体を貯留する貯液槽と、
前記保持部を前記貯液槽の内側の底面と離間させて支持する支持部と、を有し、
前記蓋が閉じられた状態で、前記貯液槽と前記蓋とで囲まれた内部空間と外部とが連通する乾燥抑制器具。
【請求項２】
前記蓋又は前記貯液槽の少なくともいずれか一方は、前記内部空間と外部とを接続する換気穴を有する請求項１に記載の乾燥抑制器具。
【請求項３】
前記貯液槽は、前記保持部の上方に開口した開口部を有し、
前記蓋は、前記開口部を覆い、
前記換気穴は、前記蓋に設けられている請求項２に記載の乾燥抑制器具。
【請求項４】
平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、
前記蓋は、平面視で前記蒸気口と重なり、
前記換気穴は、平面視で前記保持部において前記ウェルプレートを保持する領域と重なり、且つ平面視で前記蒸気口と重ならない請求項３に記載の乾燥抑制器具。
【請求項５】
前記保持部は、前記ウェルプレートが載置される底板と、
前記底板において前記ウェルプレートを保持する領域を囲んで設けられた側壁と、を有する請求項１から４のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項６】
平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、
前記蒸気口には、多孔質部材が設けられている請求項１から５のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項７】
前記多孔質部材は、前記蒸気口を塞いでいる請求項６に記載の乾燥抑制器具。
【請求項８】
前記多孔質部材は、前記保持部よりも上方にまで延在している請求項６又は７に記載の乾燥抑制器具。
【請求項９】
前記多孔質部材は、前記底面まで延在している請求項６から８のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１０】
前記本体部は、前記内側に向けて紫外線を射出する光源と、
前記光源に対向して設けられた遮光手段と、を有する請求項１から９のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１１】
前記光源は、前記貯液槽の底板に設けられ、
前記遮光手段は、前記保持部の外側の底面に設けられている請求項１０に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１２】
前記光源は、前記貯液槽の側壁に設けられ、
前記遮光手段は、前記光源が設けられた側壁と対向する側壁に設けられている請求項１０又は１１に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１３】
前記貯液槽の底板は、紫外光透過性の材料で形成された採光窓を有し、
前記保持部は、前記採光窓と対向する位置に遮光手段を有する請求項１から９のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１４】
前記本体部は、前記貯液槽及び前記支持部と、前記保持部とが分離可能である請求項１から１３のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１５】
平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、
前記保持部は、平面視で前記貯液槽の側壁と離間しており、
前記保持部と前記側壁との間の隙間が、前記蒸気口である請求項１から１４のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１６】
平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、
前記蒸気口は、前記保持部を前記保持部の厚み方向に貫通する貫通孔であり、
前記貫通孔は、前記保持部において前記ウェルプレートを保持する領域よりも外側に設けられている請求項１から１５のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１７】
前記貯液槽は、加熱部材を有する請求項１から１６のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１８】
ＣＯ２濃度５％の雰囲気において、前記雰囲気から前記内部空間へのＣＯ２の流入速度が２０ｐｐｍ／秒以上である請求項１から１７のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【請求項１９】
ウェルプレートを収容する本体部と、
前記本体部に開閉自在に設けられた蓋と、を備え、
前記本体部は、前記ウェルプレートを保持する保持部と、
液体を貯留する貯液槽と、
前記保持部を前記貯液槽の内側の底面と離間させて支持する支持部と、を有し、
前記保持部に載置したウェルプレート四隅のウェルの液量について、下記測定方法で求められる水の残存率が７５％以上である乾燥抑制器具。
（測定方法）
全ウェルに２００μＬずつ水を充填したＳＢＳ規格の９６ウェルプレートを前記本体部に収容し、前記貯液槽に水を貯留し前記蓋をした状態で放置する。
２０日間放置した後、下記式（１）に基づいて初期値に対する水量の変化率を求める。
（水の残存率）（％）＝Ｂ／Ａ×１００    …（１）
（Ａはウェルプレートの四隅に位置する計４つのウェルにおける、水量の初期値の平均値を示す。
Ｂはウェルプレートの四隅に位置する計４つのウェルに残存する水量の平均値を示す。）
【請求項２０】
請求項１から１９のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具と、
前記乾燥抑制器具に収容され、複数のウェルを備えるウェルプレートと、
前記ウェルの内部に収容された細胞と、
前記ウェルの内部に充填された培地と、を有する細胞培養キット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥抑制器具及び細胞培養キットに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、従来は動物実験にて行われていた臨床検査の一部を、生細胞を用いたin vitroの試験に置き換える技術開発が行われている。特に、幹細胞技術の進展に伴い、生細胞としてヒト由来の幹細胞を用いた試験の検討が行われている。
【０００３】
生細胞を用いたin vitro試験では、例えばウェルプレートのウェル内に生細胞と培養液とを配置し、さらに評価対象である薬剤を加えた上で生細胞の培養を行う。培養後の生細胞について、形状、細胞間のつながり等を評価することにより、薬剤が生細胞に与える影響を評価する。
【０００４】
なお、一般にウェルプレートは、ウェルの大きさや使用目的に応じて、マイクロプレート、マイクロタイタープレートとも称することがある。本明細書では、「ウェルプレート」に記載を統一する。
【０００５】
このようなin vitro試験では、細胞の培養が長期にわたると、培養液から水分が蒸発してしまうことが知られている。培養液から水分が蒸発すると、培養液中の薬剤濃度が変動し、細胞の培養に影響を及ぼす。
【０００６】
また、培養液からの水分蒸発は、ウェルプレートにマトリクス状に設けられた複数のウェルのうち、ウェルプレートの外周に近いウェルで生じやすいことが知られている。そのため、培養液から水分が蒸発すると、ウェルプレートの外周近傍に位置するウェルと、ウェルプレートの中央近傍に位置するウェルとで培養液の濃度が異なり、細胞の培養にばらつきが生じるおそれがある。
【０００７】
このような課題に対し、ウェルの並びの外側に蒸発調節用の液体を入れる区画を有するウェルプレートが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、ウェルプレートは、一般にはＳＢＳ規格に則った大きさを有している。上記特許文献１に記載のウェルプレートでは、規格で定まった大きさのウェルプレートにおいて必要数のウェルを形成する領域を確保し、残りの領域に液体を入れる区画を形成する必要がある。そのため、上記特許文献１に記載のウェルプレートでは、貯留可能な蒸発調節用の液体の量が少量に制限され、細胞培養が長期間にわたる場合に培地からの水分蒸発の抑制が困難となっていた。
【０００９】
近年では、ウェルプレートにおけるウェルの高集積化が進んでおり、高集積化される前のウェルプレートと比べると、１つのウェルに貯留される培養液の量が低減している。そのため、培地からの水分蒸発による悪影響が顕著となり、対策が求められていた。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、ウェルプレートが保持した培地からの水分蒸発を抑制可能とする乾燥抑制器具を提供することを目的とする。また、このような乾燥抑制器具を有し、好適な細胞培養を可能とする細胞培養キットを提供することを併せて目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するため、本発明の一態様は、ウェルプレートを収容する本体部と、前記本体部に開閉自在に設けられた蓋と、を備え、前記本体部は、前記ウェルプレートを保持する保持部と、液体を貯留する貯液槽と、前記保持部を前記貯液槽の内側の底面と離間させて支持する支持部と、を有し、前記蓋が閉じられた状態で、前記貯液槽と前記蓋とで囲まれた内部空間と外部とが連通する乾燥抑制器具を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ウェルプレートが保持した培地からの水分蒸発を抑制可能とする乾燥抑制器具を提供できる。また、このような乾燥抑制器具を有し、好適な細胞培養を可能とする細胞培養キットを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、実施形態の乾燥抑制器具１及び細胞培養キット１００を示す概略斜視図である。
【図２】図２は、図１の線分ＩＩ−ＩＩにおける矢視断面図である。
【図３】図３は、本発明の構成を備えない乾燥抑制器具１Ｘ及び乾燥抑制器具１Ｘを有する細胞培養キット１００Ｘについての説明図である。
【図４】図４は、実施形態の乾燥抑制器具１及び乾燥抑制器具１を有する細胞培養キット１００についての説明図である。
【図５】図５は、本発明の第２実施形態に係る乾燥抑制器具２Ａ及び細胞培養キット２００Ａの説明図である。
【図６】図６は、第２実施形態の変形例に係る乾燥抑制器具２Ｂ及び細胞培養キット２００Ｂを示す説明図である。
【図７】図７は、本発明の第３実施形態に係る乾燥抑制器具３Ａ及び細胞培養キット３００Ａの説明図である。
【図８】図８は、第３実施形態の変形例に係る乾燥抑制器具３Ｂ及び細胞培養キット３００Ｂを示す説明図である。
【図９】図９は、本発明の第４実施形態に係る乾燥抑制器具４及び細胞培養キット４００の説明図である。
【図１０】図１０は、本発明の第５実施形態に係る乾燥抑制器具５及び細胞培養キット５００の説明図である。
【図１１】図１１は、本発明の第６実施形態に係る乾燥抑制器具６及び細胞培養キット６００の説明図である。
【図１２】図１２は、実施例の結果を示す説明図である。
【図１３】図１３は、実施例の結果を示す説明図である。
【図１４】図１４は、実施例の結果を示す説明図である。
【図１５】図１５は、実施例の結果を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［第１実施形態］
以下、図１〜図４を参照しながら、本発明の第１実施形態に係る乾燥抑制器具及び細胞培養キットについて説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の寸法や比率などは適宜異ならせてある。
【００１５】
以下の説明においては、ｘｙｚ直交座標系を設定し、このｘｙｚ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明することがある。本明細書においては、水平面内の所定方向をｘ軸方向、水平面内においてｘ軸方向と直交する方向をｙ軸方向、ｘ軸方向及びｙ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をｚ軸方向とする。
【００１６】
また、部材同士の位置を表す際に、ある部材に対して＋ｚ軸方向に位置することを「上」又は「上方」と称することがある。同様に、ある部材に対して−ｚ軸方向に位置することを「下」又は「下方」と称することがある。
【００１７】
図１は、本実施形態の乾燥抑制器具１及び細胞培養キット１００を示す概略斜視図である。図２は、図１の線分ＩＩ−ＩＩにおける矢視断面図である。
【００１８】
＜乾燥抑制器具＞
乾燥抑制器具１は、本体部１０と蓋２０とを有する。乾燥抑制器具１は、ウェルプレート９０に収容された細胞を培養する際に、ウェルプレート９０に充填された培地からの水分蒸発を抑制するために用いられる。
【００１９】
本明細書において「培地」とは、液状の培地（培養液）と、ゲル状の培地との両方を含む。「ゲル状の培地」は、本実施形態の技術分野である細胞培養において用いられる培地であって、流動性を失う程度に半固化した培地を意味する。「ゲル状の培地」としては、寒天培地やハイドロゲル培地が挙げられる。
【００２０】
（本体部）
本体部１０は、貯液槽１１と保持部１２と支持部１３とを有する。
【００２１】
貯液槽１１は、上方に開口した開口部１１ａを有する容器であり、内側の空間に保持部１２と支持部１３とを収容する。貯液槽１１は、詳しくは底板１１１と、底板１１１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁１１２とを有する。図１に示す貯液槽１１は、平面視矩形の薄型容器である。
【００２２】
貯液槽１１は、底板１１１と側壁１１２とに囲まれた内側の空間に、ウェルプレート９０に充填された培地からの水分蒸発を抑制するための液体Ｌを貯留する。「培地からの水分蒸発を抑制するための液体」は、本発明における「乾燥抑制用の液体」に該当する。
【００２３】
液体Ｌとしては、ウェル９１１内の細胞の成長を阻害しない液体が好ましく、純水が好ましい。
【００２４】
また、液体Ｌにおける雑菌の繁殖を抑制するため、液体Ｌには防腐剤や抗生物質を添加してもよい。例えば、液体Ｌとして、純水にウェル９１１内の細胞の成長を阻害しない量の防腐剤又は抗生物質を加えた水溶液を挙げることができる。液体Ｌにおける防腐剤の含有率、又は液体Ｌにおける抗生物質の含有率は、予め予備実験を行い、ウェル９１１内の細胞の成長を阻害しないことを確認して決定するとよい。
【００２５】
保持部１２は、ウェルプレート９０を保持する部材である。保持部１２には、ウェルプレート９０を保持する領域１２ａが設定されている。図１に示す保持部１２は、平面視矩形の薄型容器であり、ウェルプレート９０が載置される底板１２１と、領域１２ａを囲んで設けられ上方に伸びた側壁１２２とを有する。領域１２ａは、ＳＢＳ規格に則ったウェルプレート９０の平面視形状よりも一回り大きく設定されており、ウェルプレート９０が側壁１２２に緩衝することなく配置可能となっている。
【００２６】
保持部１２が側壁１２２を有することで、載置するウェルプレートの位置決めが容易となる。また、保持部１２にウェルプレート９０を載置した際に、ウェルプレート９０が保持部１２上で移動し難くなり、取り扱いが容易となる。
【００２７】
なお、保持部１２は、領域１２ａが確保されていれば側壁１２２が無くてもよい。
また、上述のように、側壁１２２は領域１２ａを規定する構成として機能するが、領域１２ａを規定する構成は、これに限らない。保持部１２が側壁１２２を有さない場合、領域１２ａを示す構成として、底板１２１の表面にくぼみや突起状の目印が設けられていてもよい。
【００２８】
保持部１２における領域１２ａの周囲、すなわち、貯液槽１１の側壁１１２と保持部１２の側壁１２２との間は、平面視で離間している。側壁１１２と側壁１２２との間の隙間は、蒸気口１０ａとして機能する。蒸気口１０ａからは、貯液槽１１に貯留する液体Ｌが露出している。貯液槽１１に貯留される液体Ｌの蒸気は、蒸気口１０ａを介して貯液槽１１から放出される。
【００２９】
支持部１３は、保持部１２を貯液槽１１の内側の底面１１ｘから持ち上げて離間させ、支持している。図１に示す支持部１３は、平面視における保持部１２の四隅に設けられた柱状の部材である。
【００３０】
支持部１３は、保持部１２の四隅において保持部１２の底板１２１と一体的に設けられている。また、支持部１３は、貯液槽１１と一体的に設けられている。すなわち、本実施形態の本体部１０は、貯液槽１１と保持部１２と支持部１３とが一体的に設けられた１つの部材である。
【００３１】
（蓋）
蓋２０は、本体部１０と開閉自在に設けられ、開口部１１ａを覆う部材である。蓋２０は、本体部１０に対して着脱自在に構成されている。蓋２０は、詳しくは天井板２１と、天井板２１の周縁部に設けられ下方に伸びた側壁２２とを有する。蓋２０は、側壁２２の内周側で本体部１０と嵌合している。
【００３２】
天井板２１の下面２１ａは、貯液槽１１の側壁１１２の上端１１２ａと接し、蓋２０の高さ方向の位置を規定している。下面２１ａとウェルプレート９０の上面９０ａとの間の距離Ｗは、例えば０．１ｍｍ以上２０ｍｍ以下が好ましい。
【００３３】
蓋２０は、少なくとも平面視で蒸気口１０ａを覆い、且つ貯液槽１１の側壁１１２から領域１２ａに達するまで開口部１１ａを覆っている。
【００３４】
本実施形態においては、蓋２０を本体部１０と着脱自在としたが、これに限らない。例えば、蓋２０がヒンジを介して本体部１０と接続する構成とし、蓋２０を開閉自在に設けられることとしてもよい。
【００３５】
蓋２０は、天井板２１に換気穴２０ａを有する。換気穴２０ａは、本体部１０と蓋２０とで囲まれた内部空間と、乾燥抑制器具１の外部の雰囲気とを接続する。これにより、乾燥抑制器具１は、換気穴２０ａを介して、内部空間に外部の雰囲気の気体を取り込むことができる。また、乾燥抑制器具１は、換気穴２０ａを介して、内部空間の気体を外部に排出することができる。
【００３６】
なお、「本体部１０と蓋２０とで囲まれた内部空間」とは、図１に示す蓋２０が換気穴２０ａを有さないと想定した場合に、本体部１０と、換気穴２０ａを有さない仮想の蓋２０とで囲まれた空間を指す。
【００３７】
また、「外部」とは、上述の本体部１０と、換気穴２０ａを有さない仮想の蓋２０とで仕切られた空間の外側を指す。
【００３８】
換気穴２０ａは、平面視において保持部１２の領域１２ａと重なる位置に位置することが好ましい。図１，２では、換気穴２０ａは、天井板２１の領域１２ａの中央付近と重なる位置に位置する貫通孔として示している。
【００３９】
また、換気穴２０ａには、フィルタ等の換気を阻害すると考えられる構成は設けない方が好ましい。インキュベータ内の環境は、通常、塵や埃が抑制されている。さらに、ウェルプレート自身が蓋を有するため、細胞培養の結果に影響を及ぼす外因の混入が抑制されている。そのため、換気穴２０ａには、フィルタを設けなくてよい。
【００４０】
一般に、細胞を培養中の培養液のｐＨは、至適ｐＨの範囲内に収まることが好ましい。至適ｐＨは、例えばｐＨ６．８〜７．２である。一般的な培養液は、環境中のＣＯ２濃度が５〜１０％の時に至適ｐＨとなるよう調整されている。
【００４１】
一方、培養液を空気中に開放すると、培養液はアルカリ化する。また、培養する細胞が代謝を行うと、培養液中に乳酸が排出され、培養液は酸性化する。
【００４２】
このような培養液のｐＨの変動に対し、細胞を培養するインキュベータ内では、通常、環境雰囲気中の二酸化炭素濃度を５〜１０％に調整し、培養液のｐＨを調整する。ウェルプレート９０のウェル９１１内で細胞を培養する際には、二酸化炭素濃度を上記値に調整したガスを、ウェル９１１内の培養液にまで届ける必要が生じる。以下の説明では、「二酸化炭素濃度を上記値に調整したガスを「調整ガスＧ」と称する。
【００４３】
乾燥抑制器具１は、換気穴２０ａを介して周囲の環境から内側に調整ガスＧを取り込むことができ、ウェルプレート９０に配置された細胞の培養環境を整えることができる。
【００４４】
乾燥抑制器具１は、ＣＯ２濃度５％の調整ガスＧの雰囲気において、雰囲気（周囲の環境）から内部空間への調整ガスＧの流入速度が２０ｐｐｍ／秒以上であると好ましい。雰囲気の湿度は、例えば９０％（相対湿度、＠３７℃）である。
【００４５】
調整ガスＧの流入速度は、５０ｐｐｍ／秒であるとより好ましく、１００ｐｐｍ／秒であるとさらに好ましい。
【００４６】
また、調整ガスＧの流入速度は、ウェルプレートにおける細胞培養を阻害しなければ特に制限はないが、実質的に１００００ｐｐｍ／秒以下であることが好ましい。
【００４７】
調整ガスＧの流入速度の上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
【００４８】
調整ガスＧの流入速度は、乾燥抑制器具の保持部にＮＤＩＲ（非分散型赤外線）方式のＣＯ２濃度センサー（株式会社佐藤商事製、ＨＪ−ＣＯ２−ＬＯＧ）を配置し、ＣＯ２濃度５％、湿度９０％（相対湿度、＠３７℃）の雰囲気に乾燥抑制器具を配置して測定する。ＣＯ２濃度センサーによる二酸化炭素の測定値から得られる「単位時間あたりの二酸化炭素濃度の増加速度」を、求める「二酸化炭素の流入速度」とする。
【００４９】
調整ガスＧの流入速度は、換気穴２０ａを設ける位置、換気穴２０ａの開口面積を制御することにより調整可能である。換気穴２０ａの開口面積は、換気穴２０ａの開口径と、換気穴２０ａの数とを制御することにより調整可能である。
【００５０】
その際、換気穴２０ａから取り込んだ調整ガスＧが、供給されやすいウェル９１１と供給されにくいウェル９１１とでは、内部に配置した細胞の培養条件が厳密には異なるおそれがある。これに対し、図１，２に示すように、換気穴２０ａが領域１２ａの中央と重なる位置に位置すると、換気穴２０ａを介して取り込んだ調整ガスＧが、ウェルプレート９０が有する複数のウェル９１１に均等に行き渡りやすいため、培養条件を制御しやすい。
【００５１】
なお、本実施形態の乾燥抑制器具１においては、換気穴２０ａが蓋２０に設けられた貫通孔であることとしているが、これに限らない。換気穴２０ａは、インキュベータ内の調整ガスＧを乾燥抑制器具１内に導入する機能を有する構成であれば蓋２０又は貯液槽１１の少なくともいずれか一方に設けることができ、種々の構成を採用可能である。また、乾燥抑制器具１の内部に調整ガスＧを導入する管状の構成が、換気穴２０ａに連通して設けられていてもよい。
【００５２】
また、乾燥抑制器具１は、下記測定方法で求められる水の残存率が７５％以上であると好ましい。
（測定方法）
全ウェルに２００μＬずつ水を充填したＳＢＳ規格の９６ウェルプレートを前記本体部に収容し、前記貯液槽に水を貯留し前記蓋をした状態で放置する。
２０日間放置した後、下記式（１）に基づいて初期値に対する水量の変化率を求める。
（水の残存率）（％）＝Ｂ／Ａ×１００    …（１）
（Ａはウェルプレートの四隅に位置する計４つのウェルにおける、水量の初期値の平均値を示す。
Ｂはウェルプレートの四隅に位置する計４つのウェルに残存する水量の平均値を示す。）
【００５３】
より詳細には、ＳＢＳ規格の９６ウェルプレートの全ウェルに、２００μＬずつ水を充填した後、ウェルプレートにウェルプレート付属の蓋をする。ウェルプレートの四隅のウェル内の液量を測定し、四隅のウェル内の水量の算術平均値を求める。求めた算術平均値を初期値とした。
【００５４】
貯液槽に純水を貯留し、蓋をしたウェルプレートを乾燥抑制器具の保持部に載置する。乾燥抑制器具の蓋をして、温度３７℃、湿度９０％以上のインキュベータ内で保持する。
【００５５】
２０日経過後に、ウェルプレートの四隅のウェル内の液量を測定し、四隅のウェル内の液量の算術平均値を求める。求めた算術平均値について、初期値に対する液量の変化率を上記式（１）から求める。
【００５６】
ウェル内の液量の測定は、プレートリーダーを用いて行う。予め、波長９７０ｎｍのレーザー光の吸光度と、ウェル内の液量との対応関係に基づいた検量線を作成しておき、プレートリーダーを用いて測定した各ウェルにおける水の吸光度から、ウェル内の液量を算出する。
【００５７】
上記残存率は、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。上記残存率の上限は、理想的には１００％である。
【００５８】
このような乾燥抑制器具１を用いると、ウェルプレートの外周部の乾燥防止が期待できる。これにより、用いるウェルプレートの周囲のウェルと中心付近のウェルとで培養環境の差が生じにくく、培養結果のばらつきを抑制することができる。
【００５９】
（ウェルプレート）
ウェルプレート９０は、本実施形態の技術分野である細胞培養において通常用いられる構成のウェルプレートを用いる。図１，２に示すウェルプレート９０は、複数のウェル９１１が設けられたプレート本体９１と、プレート本体９１を覆う蓋９２とを有する。ウェルプレート９０は、ＳＢＳ規格に則った大きさのものを用いることができる。
【００６０】
複数のウェル９１１の内部には、培養目的である不図示の細胞と、細胞を培養するために用いる培地ＣＭとが収容されている。
【００６１】
プレート本体９１の周縁部には、外周に向かって突き出た段差９１ａが設けられている。
【００６２】
蓋９２は、プレート本体９１と着脱自在に設けられ、複数のウェル９１１を上方から覆う部材である。蓋９２は、詳しくは天井板９２１と、天井板９２１の周縁部に設けられ下方に伸びた側壁９２２とを有する。蓋９２は、側壁９２２の内周側でプレート本体９１と嵌合している。側壁９２２の下端９２２ａは、プレート本体９１の段差９１ａと接し、蓋９２の高さ方向の位置を規定している。
【００６３】
＜細胞培養キット＞
細胞培養キット１００は、乾燥抑制器具１と、乾燥抑制器具１に収容されるウェルプレート９０とを有する。ウェルプレート９０は、複数のウェル９１１を備え、ウェル９１１の内部に収容された不図示の細胞と、ウェル９１１の内部に充填された不図示の培地とを有する。
【００６４】
細胞培養キット１００は、例えば、公知のインキュベータ内に設置し、ウェル９１１に収容された細胞を培養するために用いる。
【００６５】
インキュベータにおいて細胞を培養する際、培養期間が長期間になると、ウェル９１１内の培地が乾燥し、ウェル９１１に配置した細胞の培養条件が所望の条件から外れるおそれがある。これに対し、本実施形態の細胞培養キット１００においては、ウェルプレート９０が上述の乾燥抑制器具１に収容され、ウェル９１１内の培地の乾燥を抑制することができる。
【００６６】
図３，４は、本実施形態の乾燥抑制器具の効果を説明する図であり、乾燥抑制器具の周縁部の断面を示す一部拡大図である。
【００６７】
図３は、本発明の構成を備えない乾燥抑制器具１Ｘ及び乾燥抑制器具１Ｘを有する細胞培養キット１００Ｘについての説明図である。図４は、本実施形態の乾燥抑制器具１及び乾燥抑制器具１を有する細胞培養キット１００についての説明図である。
【００６８】
乾燥抑制器具１と乾燥抑制器具１Ｘとでは、蓋が覆う領域の広さが異なっている。
具体的には、図３に示す乾燥抑制器具１Ｘの蓋２０Ｘは、天井板２１Ｘの換気穴側の端部Ａが平面視で蒸気口１０ａと重なっている。すなわち蓋２０Ｘは、貯液槽１１の側壁１１２から、保持部１２におけるウェルプレート９０を保持する領域１２ａに達するまで開口部１１ａを覆っていない。
【００６９】
対して、図４に示す乾燥抑制器具１の蓋２０は、天井板２１の換気穴側の端部Ｂが平面視で領域１２ａと重なっている。すなわち蓋２０は、上述したように、平面視で蒸気口１０ａを覆い、且つ貯液槽１１の側壁１１２から、保持部１２におけるウェルプレート９０を保持する領域１２ａに達するまで開口部１１ａを覆っている。
【００７０】
上述した構成の違いにより、以下の効果の違いが生じる。
【００７１】
まず図３に示すように、ウェルプレート９０は、例えば不図示のインキュベータ内で加熱されることにより、ウェル９１１内の培地ＣＭから水分の蒸発が促進され、蒸気Ｖ１が生じる。
【００７２】
乾燥抑制器具１Ｘでは、不図示のインキュベータ内で加熱されることにより、貯液槽１１に貯留された液体Ｌの蒸発が促進され、生じた蒸気Ｖが蓋２０Ｘに達する。ここで、乾燥抑制器具１Ｘでは、蓋２０Ｘが領域１２ａに達するまで開口部１１ａを覆っていないため、蒸気Ｖは蓋２０Ｘの換気穴からさらに拡散して広がる。
【００７３】
そのため、平面視における領域１２ａの周縁部αは低湿度となる。これにより、ウェル９１１内の培地ＣＭから蒸発した水分は、ウェルプレート９０のプレート本体９１と蓋９２との隙間を介して周縁部αに放出され、培地ＣＭの乾燥が進む。培地ＣＭの乾燥が進むと、ウェル９１１間で細胞の培養条件が異なり、適切なin vitro試験が困難となり得る。
【００７４】
これに対し、図４に示す乾燥抑制器具１においても、不図示のインキュベータ内で加熱されることにより、貯液槽１１に貯留された液体Ｌの蒸発が促進される。生じた蒸気Ｖは、蒸気口１０ａから上方に向かう気流を形成し、蓋２０に達する。乾燥抑制器具１では、蓋２０が領域１２ａに達するまで開口部１１ａを覆っているため、蒸気Ｖの気流は蓋２０（天井板２１）の下面２１ａに沿って広がり、平面視における領域１２ａの周縁部αを満たす。
【００７５】
領域１２ａの大きさはウェルプレート９０の規格の大きさに従って設定されていることから、周縁部αには、平面視でウェルプレート９０の周縁部が重なる。そのため、乾燥抑制器具１を有する細胞培養キット１００では、細胞培養中、ウェルプレート９０の周縁部が蒸気Ｖで満たされる。そのため、平面視における領域１２ａの周縁部αは、乾燥抑制器具１Ｘと比べて高湿度となる。
【００７６】
このような構成の乾燥抑制器具１に配置したウェルプレート９０においては、ウェル９１１内の培地ＣＭから蒸発した水分がウェルプレート９０の外部に向かって拡散し難く、培地ＣＭの乾燥が抑制される。その結果、ウェル９１１間で細胞の培養条件の差が生じにくく、好適な細胞培養となり、適切なin vitro試験が可能となる。
【００７７】
さらに、乾燥抑制器具１は、支持部１３により保持部１２が持ち上げられており、保持部１２の下方にも液体Ｌを貯留できる空間が形成されている。そのため、保持部１２が貯液槽１１の底面に直接設けられ、保持部１２の下方に空間が無い構成の乾燥抑制器具と比べ、乾燥抑制器具１は、貯液槽１１で貯留できる液体Ｌの量が多く、長期にわたってウェル９１１に充填した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制できる。
【００７８】
以上のような構成の乾燥抑制器具１によれば、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット１００によれば、上述の乾燥抑制器具１を有し、好適な細胞培養を可能となる。
【００７９】
［第２実施形態］
図５は、本発明の第２実施形態に係る乾燥抑制器具２Ａ及び細胞培養キット２００Ａの説明図である。以下の実施形態において、既出の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００８０】
図５に示す乾燥抑制器具２Ａは、蒸気口１０ａに多孔質部材２５が設けられている。多孔質部材２５は、蒸気口１０ａを塞ぐように配置されている。
【００８１】
多孔質部材２５は、毛細管現象を利用し部材全体として液体Ｌを吸い上げる機能を有する。多孔質部材２５の形成材料は、複数の細孔を有し、各細孔が内部でつながっているスポンジ状の材料を挙げることができる。
【００８２】
多孔質部材２５の形成材料は、不織布、フェルト、織物、スポンジのような有機物であってもよく、軽石、多孔質セラミックスのような無機物であってもよい。スポンジは、天然物スポンジであってもよく、合成スポンジであってもよい。
【００８３】
細胞培養キット２００Ａは、上述の乾燥抑制器具２Ａとウェルプレート９０とを有する。
【００８４】
乾燥抑制器具２Ａにおいて、多孔質部材２５が蒸気口１０ａを塞いでいることにより、細胞培養キット２００Ａを移送する際に、液体Ｌがこぼれにくく、取り扱いが容易になる。
【００８５】
また、乾燥抑制器具２Ａを使用する際には、例えば、多孔質部材２５が貯液槽１１の液体Ｌに接し、且つ多孔質部材２５の全体が液体Ｌに埋没しないように、液体Ｌの量を調整するとよい。液体Ｌと接する多孔質部材２５は、液体Ｌを吸い上げ、液体Ｌの蒸発を促進する。これにより、乾燥抑制器具２Ａを有する細胞培養キット２００Ａでは、細胞培養中、ウェルプレート９０の周縁部（領域１２ａの周縁部α）が蒸気Ｖで満たされる。その結果、細胞培養キット２００Ａでは、ウェル９１１内の培地ＣＭからの水分蒸発が抑制される。
【００８６】
又は、乾燥抑制器具２Ａを使用する際に、多孔質部材２５が貯液槽１１の液体Ｌに接することなく、液体Ｌの液面が多孔質部材２５の下方に位置していてもよい。この場合であっても、液体Ｌが蒸発して生じる蒸気Ｖは、多孔質部材２５が有する細孔を介して周縁部αに供給され、周縁部αを満たす。その結果、細胞培養キット２００Ａでは、ウェル９１１内の培地ＣＭからの水分蒸発が抑制される。
【００８７】
以上のような構成の乾燥抑制器具２Ａによっても、上述した効果に加え、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット２００Ａによっても、上述の乾燥抑制器具１を有し、好適な細胞培養を可能となる。
【００８８】
（変形例）
図６は、本実施形態の変形例に係る乾燥抑制器具２Ｂ及び細胞培養キット２００Ｂを示す説明図であり、図５に対応する図である。
【００８９】
図６に示すように、乾燥抑制器具２Ｂが有する多孔質部材２６は、蒸気口１０ａに設けられ、下端が貯液槽１１の底面１１ｘに接している。これにより、多孔質部材２６は貯液槽１１において貯留する液体Ｌの量に関わらず、常に液体Ｌと接し、液体Ｌの蒸発を促進することができる。
【００９０】
また、図６に示すように、多孔質部材２６は、保持部１２よりも上方にまで延在していてもよい。貯液槽１１に貯留できる液体Ｌの最大量は、液体Ｌの液面が保持部１２の上端と同じ高さ位置になる量である。そのため、多孔質部材２６が保持部１２よりも上方にまで延在していると、多孔質部材２６が無い場合の液体Ｌの液面と比べて上方にまで液体Ｌを吸い上げ、液体Ｌの蒸発を促進することができる。
【００９１】
以上のような構成の乾燥抑制器具２Ｂによっても、上述した効果に加え、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット２００Ｂによっても、上述の乾燥抑制器具２を有し、好適な細胞培養を可能となる。
【００９２】
［第３実施形態］
図７は、本発明の第３実施形態に係る乾燥抑制器具３Ａ及び細胞培養キット３００Ａの説明図であり、図２に対応する図である。
【００９３】
図７に示す乾燥抑制器具３Ａは、本体部３０Ａと蓋２０とを有する。本体部３０Ａは、貯液槽３１Ａと保持部３２Ａと不図示の支持部とを有する。
【００９４】
貯液槽３１Ａは、底板３１１と、底板３１１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁３１２とを有する。底板３１１は、貯液槽３１の内側に向けて紫外線ＵＶを照射する光源３１５を有する。光源３１５は、外部電源３１６に接続されている。
【００９５】
光源３１５は、紫外線ＵＶを射出可能である公知の光源を用いることができる。光源３１５としては、例えば紫外線を射出する発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）を用いることができる。
【００９６】
保持部３２Ａは、底板３２１と、底板３２１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁３２２とを有する。底板３２１は、光源３１５に対向する位置に遮光手段３２５を有する。
【００９７】
遮光手段３２５は、紫外線ＵＶを吸収して減衰させる。遮光手段３２５は、例えば底板３２１の外側の底面３２１ｘに設けられた黒色層である。遮光手段３２５の形成材料は、光源３１５から射出された紫外線ＵＶの波長に吸収帯域を有する材料である。遮光手段３２５は黒色塗料を塗布して形成してもよく、フィルム状又は板状の材料を底面３２１ｘに積層して形成してもよい。また、保持部３２を黒色に着色した樹脂材料を用いて形成することで、保持部３２Ａの全体に遮光手段３２５の機能を付与してもよい。
【００９８】
なお、遮光手段３２５の色を「黒色」としたが、これに限らない。遮光手段３２５の色は、紫外線ＵＶを減衰させることができる種々の色を採用することができる。
【００９９】
また、貯液槽３１Ａに貯留された液体Ｌに面する側壁３１２の表面、及び液体Ｌに面する保持部３２Ａの側壁３２２の表面のいずれか一方又は両方にも、遮光手段３２５が設けられていてもよい。
【０１００】
細胞培養キット３００Ａは、上述の乾燥抑制器具３Ａとウェルプレート９０とを有する。
【０１０１】
このような構成の乾燥抑制器具３Ａでは、側壁３１２と側壁３２２との間の隙間は、蒸気口３０ａとして機能する。乾燥抑制器具３Ａにおいては、液体Ｌが蒸発して生じた蒸気Ｖが蒸気口３０ａを介して周縁部αに供給される。これにより、乾燥抑制器具３Ａに配置したウェルプレート９０においては、ウェル９１１内の培地ＣＭから蒸発した水分がウェルプレート９０の外部に向かって拡散し難く、培地ＣＭの乾燥が抑制される。
【０１０２】
さらに、乾燥抑制器具３Ａでは、光源３１５から紫外線ＵＶを照射することで液体Ｌに繁殖し得る雑菌を殺菌し、雑菌の繁殖を抑制することができる。紫外線ＵＶは、液体Ｌを透過した後に遮光手段３２５に達し減衰する。そのため、紫外線ＵＶがウェルプレート９０にまで達することが無く、ウェルプレート９０で行われる細胞培養を阻害しない。
【０１０３】
以上のような構成の乾燥抑制器具３Ａによっても、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット３００Ａによっても、上述の乾燥抑制器具３Ａを有し、好適な細胞培養を可能となる。
【０１０４】
（変形例）
図８は、本実施形態の変形例に係る乾燥抑制器具３Ｂ及び細胞培養キット３００Ｂを示す説明図であり、図５に対応する図である。
【０１０５】
図８に示すように、乾燥抑制器具３Ｂは、本体部３０Ｂと蓋２０とを有する。本体部３０Ｂは、貯液槽３１Ｂと保持部３２Ｂと不図示の支持部とを有する。
【０１０６】
貯液槽３１Ｂは、底板３１１と側壁３１２とを有する。側壁３１２Ａは、貯液槽３１の内側に向けて紫外線ＵＶを照射する光源３１７を有する。光源３１７は、外部電源３１６に接続されている。光源３１７は、上述の光源３１５と同様の構成の光源を採用することができる。
【０１０７】
また、貯液槽３１Ｂは、光源３１７が設けられた側壁３１２Ａと対向する側壁３１２Ｂに、遮光手段３１８を有する。遮光手段３１８は、上述の遮光手段３２５と同様の材料を用い、同様の性質を有する構成とすることができる。
【０１０８】
また、貯液槽３１Ｂに貯留された液体Ｌに面する側壁３１２の表面、及び液体Ｌに面する保持部３２Ｂの側壁３２２の表面のいずれか一方又は両方にも、遮光手段３１８が設けられていてもよい。
【０１０９】
細胞培養キット３００Ｂは、上述の乾燥抑制器具３Ｂとウェルプレート９０とを有する。
【０１１０】
このような構成の乾燥抑制器具３Ｂでは、光源３１７から紫外線ＵＶを照射することで液体Ｌに繁殖し得る雑菌を殺菌し、雑菌の繁殖を抑制することができる。紫外線ＵＶは、液体Ｌを透過した後に遮光手段３１８に達し減衰する。そのため、紫外線ＵＶがウェルプレート９０にまで達することが無く、ウェルプレート９０で行われる細胞培養を阻害しない。
【０１１１】
以上のような構成の乾燥抑制器具３Ｂによっても、上述した効果に加え、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット３００Ｂによっても、上述の乾燥抑制器具３Ｂを有し、好適な細胞培養を可能となる。
【０１１２】
［第４実施形態］
図９は、本発明の第４実施形態に係る乾燥抑制器具４及び細胞培養キット４００の説明図であり、図２に対応する図である。
【０１１３】
図９に示す乾燥抑制器具４は、本体部４０と蓋２０とを有する。本体部４０は、貯液槽４１と保持部４２と不図示の支持部とを有する。
【０１１４】
貯液槽４１は、底板４１１と、底板４１１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁４１２とを有する。底板４１１は、紫外光透過性の材料で形成された採光窓４１５を有する。
【０１１５】
採光窓４１５は、外部光源Ｓから射出された紫外線ＵＶを透過させ、貯液槽４１の内側に導光する。採光窓４１５の形成材料は、紫外線ＵＶの波長に吸収帯域を有さない材料である。採光窓４１５の形成材料としては、例えば石英ガラスが挙げられる。
【０１１６】
保持部４２は、底板４２１と、底板４２１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁４２２とを有する。底板４２１は、採光窓４１５と対向する位置に遮光手段４２５を有する。遮光手段４２５、上述の遮光手段３２５と同様の材料を用い、同様の性質を有する構成とすることができる。
【０１１７】
また、貯液槽４１に貯留された液体Ｌに面する側壁４１２の表面、及び液体Ｌに面する保持部４２の側壁４２２の表面のいずれか一方又は両方にも、遮光手段４２５が設けられていてもよい。
【０１１８】
細胞培養キット４００は、上述の乾燥抑制器具４とウェルプレート９０とを有する。
【０１１９】
このような構成の乾燥抑制器具４では、側壁４１２と側壁４２２との間の隙間は、蒸気口４０ａとして機能する。乾燥抑制器具３Ａにおいては、液体Ｌが蒸発して生じた蒸気Ｖが蒸気口４０ａを介して周縁部αに供給される。これにより、乾燥抑制器具４に配置したウェルプレート９０においては、ウェル９１１内の培地ＣＭから蒸発した水分がウェルプレート９０の外部に向かって拡散し難く、培地ＣＭの乾燥が抑制される。
【０１２０】
さらに、乾燥抑制器具４では、採光窓４１５を介して貯液槽４１の内側に照射される紫外線ＵＶにより、液体Ｌに繁殖し得る雑菌を殺菌し、雑菌の繁殖を抑制することができる。紫外線ＵＶは、液体Ｌを透過した後に遮光手段４２５に達し減衰する。そのため、紫外線ＵＶがウェルプレート９０にまで達することが無く、ウェルプレート９０で行われる細胞培養を阻害しない。
【０１２１】
以上のような構成の乾燥抑制器具４によっても、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット４００によっても、上述の乾燥抑制器具４を有し、好適な細胞培養を可能となる。
【０１２２】
［第５実施形態］
図１０は、本発明の第５実施形態に係る乾燥抑制器具５及び細胞培養キット５００の説明図であり、図２に対応する図である。
【０１２３】
図１０に示す乾燥抑制器具５は、本体部５０と蓋２０とを有する。本体部５０は、貯液槽５１と保持部５２とを有する。
【０１２４】
貯液槽５１は、底板５１１と、底板５１１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁５１２とを有する。側壁５１２の内周面には、貯液槽５１の内側に向かって突き出た段差が設けられている。段差は、本実施形態における支持部として機能する。以下の説明では、側壁５１２に設けられた段差を支持部５３と称する。
【０１２５】
支持部５３は、側壁５１２の内周面に、平面視で無終端の閉環状に設けられていてもよく、内周面の複数個所に離散的に設けられていてもよい。
【０１２６】
保持部５２は、貯液槽５１と分離可能に設けられ、貯液槽５１の内側の底面５１ｘを覆っている。保持部５２は、底板５２１と、底板５２１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁５２２とを有する。側壁５２２は、保持部５２においてウェルプレート９０を保持する領域５２ａを囲んでいる。
【０１２７】
保持部５２は、底板５２１の外側の底面５２１ｘの周縁部において、支持部５３に接し支持されている。貯液槽５１と保持部５２とで囲まれた空間には、液体Ｌが貯留される。
【０１２８】
保持部５２の側壁５２２には、保持部５２を保持部５２の厚み方向に貫通する貫通孔が設けられている。貫通孔は、本実施形態における蒸気口として機能する。以下の説明では、保持部５２に設けられた貫通孔を蒸気口５０ａと称する。蒸気口５０ａの下端は、液体Ｌが貯留された空間に開口している。
【０１２９】
細胞培養キット５００は、上述の乾燥抑制器具５とウェルプレート９０とを有する。
【０１３０】
このような構成の乾燥抑制器具５においては、液体Ｌが蒸発して生じた蒸気Ｖが蒸気口５０ａを介して周縁部αに供給される。これにより、乾燥抑制器具５に配置したウェルプレート９０においては、ウェル９１１内の培地ＣＭから蒸発した水分がウェルプレート９０の外部に向かって拡散し難く、培地ＣＭの乾燥が抑制される。
【０１３１】
以上のような構成の乾燥抑制器具５によっても、上述した効果に加え、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット５００によっても、上述の乾燥抑制器具５を有し、好適な細胞培養を可能となる。
【０１３２】
［第６実施形態］
図１１は、本発明の第６実施形態に係る乾燥抑制器具６及び細胞培養キット６００の説明図であり、図２に対応する図である。
【０１３３】
図１１に示す乾燥抑制器具６は、本体部６０と蓋２０とを有する。本体部６０は、貯液槽６１と保持部６２と不図示の支持部とを有する。
【０１３４】
貯液槽６１は、底板６１１と、底板６１１の周縁部に設けられ上方に伸びた側壁６１２とを有する。底板６１１は、加熱部材６１５を有する。加熱部材６１５は底板６１１に埋め込まれていてもよく、底板６１１の表面に接して設けられていてもよい。
【０１３５】
保持部６２は、上述の保持部１２と同様の構成とすることができる。
【０１３６】
細胞培養キット６００は、上述の乾燥抑制器具６とウェルプレート９０とを有する。
【０１３７】
乾燥抑制器具６において、加熱部材６１５は、貯液槽６１を加熱することで間接的に、又は液体Ｌに接することで直接的に液体Ｌを加熱する。これにより、細胞培養キット６００をインキュベータから取り出す際に、乾燥抑制器具６を加熱することができ、ウェルプレート９０を保温することができる。
【０１３８】
そのため、乾燥抑制器具６を用いると、インキュベータ内の温度とインキュベータ外の温度とに温度差があったとしても、細胞培養キット６００で培養する細胞への温度変化の影響を低減することができ、細胞の培養条件を安定させることができる。
【０１３９】
さらに、側壁６１２と保持部６２との間の隙間は、蒸気口６０ａとして機能する。乾燥抑制器具３Ａにおいては、液体Ｌが蒸発して生じた蒸気Ｖが蒸気口６０ａを介して周縁部αに供給される。これにより、乾燥抑制器具６に配置したウェルプレート９０においては、ウェル９１１内の培地ＣＭから蒸発した水分がウェルプレート９０の外部に向かって拡散し難く、培地ＣＭの乾燥が抑制される。
【０１４０】
以上のような構成の乾燥抑制器具６によっても、ウェルプレート９０が保持した培地ＣＭからの水分蒸発を抑制可能となる。
また、以上のような構成の細胞培養キット６００によっても、上述の乾燥抑制器具６を有し、好適な細胞培養を可能となる。
【０１４１】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【実施例】
【０１４２】
次に実施例を示して本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１４３】
［液量変化の確認］
（実施例１）
ＳＢＳ規格の９６ウェルプレートの全ウェルに、２００μＬずつ水を充填した後、ウェルプレートに蓋をした。ウェルプレートの四隅のウェル内の液量を測定し、四隅のウェル内の水量の算術平均値を求めた。求めた算術平均値を初期値とした。
【０１４４】
図１，２に示す細胞培養キット１００と同形状の細胞培養キットを用意し、貯液槽に純水を貯留した。蓋をしたウェルプレートを細胞培養キットの保持部に載置し、蓋をした後、温度３７℃、湿度９０％以上のインキュベータ内で保持した。
【０１４５】
所定時間経過後に、ウェルプレートの四隅のウェル内の液量を測定し、四隅のウェル内の液量の算術平均値を求めた。さらに、求めた算術平均値について、初期値に対する液量の変化率を求めた。
【０１４６】
ウェル内の液量の測定は、プレートリーダーを用いて行った。予め、波長９７０ｎｍのレーザー光の吸光度と、ウェル内の液量との対応関係に基づいた検量線を作成しておき、プレートリーダーを用いて測定した各ウェルの吸光度から、ウェル内の液量を算出した。
【０１４７】
（比較例１）
細胞培養キットを用いないこと以外は実施例１と同様にして、ウェル内の液量の変化率を求めた。
【０１４８】
図１２は、実施例１、比較例１の液量の変化率を示すグラフである。図１２に示すように、細胞培養キットを使用することでウェルプレートの四隅の乾燥を防止できていることが分かった。この結果から、細胞培養キットを使用することで、ウェルプレートの外周部の乾燥防止が期待できることが分かった。
【０１４９】
［細胞培養への影響の確認］
（実施例２）
Ａｘｉｏｎ社製のＭＥＡ（Micro Electrode Array）４８ウェルプレートの全ウェルに、神経細胞を播種した。神経細胞は、ｉＰＳ由来の健常者株から神経細胞へ分化させたものを用いた。また、神経細胞は、Ｐｒｉｍａｒｙのアストロサイトと混合した上でウェル内に播種した。アストロサイトとしては、Ｈｕｍａｎ  Ｐｒｉｍａｒｙ  Ａｓｔｒｏｃｙｔｅ（サーモフィッシャーサイエンティフィック社）を使用した。
【０１５０】
図１，２に示す細胞培養キット１００と同形状の細胞培養キットを用意し、貯液槽に純水を貯留した。蓋をしたウェルプレートを細胞培養キットの保持部に載置し、蓋をした後、温度３７℃、湿度９０％以上のインキュベータ内で神経細胞を培養した。
【０１５１】
神経細胞を４週間培養した後、Ａｘｉｏｎ社製Ｍｅａｓｔｒｏを用い神経細胞の活動電位を測定した。全てのウェルにおいて１０分間自発発火（ｓｐｉｋｅｓ）数を測定し、ウェル毎の自発発火数のばらつきを求めた。
【０１５２】
次いで、培養後の神経細胞に対し、薬剤を添加したときの１０分間自発発火数を測定した。薬剤としてＧＡＢＡ拮抗剤であるピクロトキシンのジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）溶液を用いた。
【０１５３】
まず、１列のウェル（６ウェル）のそれぞれに対して、１体積％ＤＭＳＯ水溶液を３００μＬ追加し、１０分間自発発火数を測定した。
【０１５４】
次いで、ウェル内のピクロトキシン濃度が０．１μｍｏｌ／Ｌ、１μｍｏｌ／Ｌ、１０μｍｏｌ／Ｌになるまで、同じウェルに段階的にピクロトキシンＤＭＳＯ溶液を追加し、各ピクロトキシン濃度における１０分間自発発火数を測定した。各ピクロトキシン濃度において、それぞれ１０分間自発発火数のばらつきを求めた。
【０１５５】
（比較例２）
細胞培養キットを用いないこと以外は実施例２と同様にして、ウェル毎の神経細胞の自発発火数のばらつきを求めた。
【０１５６】
図１３は、実施例２、比較例２の培養後の神経細胞について、ウェル毎の神経細胞の自発発火数のばらつきを示す図である。図１３に示すように、細胞培養キットを使用した実施例２は比較例２よりもばらつきが小さく、細胞培養キットを使用することで、培養細胞の成熟ばらつきが抑えられることが分かった。
【０１５７】
図１４は、実施例２、比較例２の培養後の神経細胞について、薬剤に対する神経細胞の応答ばらつきを示す図である。図１３に示すように、細胞培養キットを使用した実施例２は比較例２よりも応答ばらつきが小さく、細胞培養キットを使用することで、培養細胞の応答ばらつきが抑えられることが分かった。
【０１５８】
［二酸化炭素の流入速度の確認］
（実施例３）
図１に示す乾燥抑制器具を用いた。換気穴２０ａの平面視の大きさは、７９ｍｍ×１０６ｍｍであった。また、領域１２ａの平面視の大きさは、８２ｍｍ×１２４ｍｍであった。用いた乾燥抑制器具の蓋２０は、換気穴側の端部が平面視で領域１２ａと重なっていた。
【０１５９】
乾燥抑制器具の保持部にＮＤＩＲ（非分散型赤外線）方式のＣＯ２濃度センサー（株式会社佐藤商事製、ＨＪ−ＣＯ２−ＬＯＧ）を配置し、ＣＯ２濃度５％、湿度９０％（相対湿度、＠３７℃）の雰囲気に乾燥抑制器具を配置した。ＣＯ２濃度センサーによる二酸化炭素の測定値から得られる「単位時間あたりの二酸化炭素濃度の増加速度」を、「二酸化炭素の流入速度」として求めた。
【０１６０】
（比較例３）
乾燥抑制器具の市販品（Olaf蒸発防止用チャンバー、日本ジェネティクス株式会社製）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして「二酸化炭素の流入速度」を求めた。
【０１６１】
用いた市販品は、ウェルプレートに配置した水の蒸発を抑制するため、ウェルプレートを配置した空間を密閉する構成のものであるが。しかし、用いた市販品は、乾燥抑制用の液体を貯留する貯液槽を有しておらず、本発明の要件を満たしていない。
【０１６２】
また、用いた市販品は、ウェルプレートを収容する本体の側壁に換気穴を有している。換気穴には換気穴を覆うフィルタが設けられている。
【０１６３】
測定結果を図１５に示す。測定の結果、実施例３で用いた乾燥抑制器具の二酸化炭素の流入速度は、１８０ｐｐｍ／秒であった。一方、比較例３で用いた市販品の二酸化炭素の流入速度は、４ｐｐｍ／秒であった。
【０１６４】
本発明（実施例３）の乾燥抑制器具を用いた場合、二酸化炭素の流入速度が２０ｐｐｍ／秒以上となり、乾燥抑制器具の内部の培養条件を均一に制御しやすい。
【０１６５】
一方、比較例３の乾燥抑制器具は、ウェルプレートを密閉することにより乾燥を抑制することはできるが、二酸化炭素の流入速度が小さく乾燥抑制器具の内部の培養条件を均一に制御し難いことが分かった。
【０１６６】
本発明は、以下の態様を含む。
【０１６７】
［１］ウェルプレートを収容する本体部と、前記本体部に開閉自在に設けられた蓋と、を備え、前記本体部は、前記ウェルプレートを保持する保持部と、液体を貯留する貯液槽と、前記保持部を前記貯液槽の内側の底面と離間させて支持する支持部と、を有し、前記蓋が閉じられた状態で、前記貯液槽と前記蓋とで囲まれた内部空間と外部とが連通する乾燥抑制器具。
【０１６８】
［２］前記蓋又は前記貯液槽の少なくともいずれか一方は、前記内部空間と外部とを接続する換気穴を有する［１］に記載の乾燥抑制器具。
【０１６９】
［３］前記貯液槽は、前記保持部の上方に開口した開口部を有し、前記蓋は、前記開口部を覆い、前記換気穴は、前記蓋に設けられている［２］に記載の乾燥抑制器具。
【０１７０】
［４］平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、前記蓋は、平面視で前記蒸気口と重なり、前記換気穴は、平面視で前記保持部において前記ウェルプレートを保持する領域と重なり、且つ平面視で前記蒸気口と重ならない［３］に記載の乾燥抑制器具。
【０１７１】
［５］前記保持部は、前記ウェルプレートが載置される底板と、前記底板において前記ウェルプレートを保持する領域を囲んで設けられた側壁と、を有する［１］から［４］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１７２】
［６］平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、前記蒸気口には、多孔質部材が設けられている［１］から［５］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１７３】
［７］前記多孔質部材は、前記蒸気口を塞いでいる［６］に記載の乾燥抑制器具。
【０１７４】
［８］前記多孔質部材は、前記保持部よりも上方にまで延在している［６］又は［７］に記載の乾燥抑制器具。
【０１７５】
［９］前記多孔質部材は、前記底面まで延在している［６］から［８］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１７６】
［１０］前記本体部は、前記内側に向けて紫外線を射出する光源と、前記光源に対向して設けられた遮光手段と、を有する［１］から［９］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１７７】
［１１］前記光源は、前記貯液槽の底板に設けられ、前記遮光手段は、前記保持部の外側の底面に設けられている［１０］に記載の乾燥抑制器具。
【０１７８】
［１２］前記光源は、前記貯液槽の側壁に設けられ、前記遮光手段は、前記光源が設けられた側壁と対向する側壁に設けられている［１０］又は［１１］に記載の乾燥抑制器具。
【０１７９】
［１３］前記貯液槽の底板は、紫外光透過性の材料で形成された採光窓を有し、前記保持部は、前記採光窓と対向する位置に遮光手段を有する［１］から［９］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１８０】
［１４］前記本体部は、前記貯液槽及び前記支持部と、前記保持部とが分離可能である［１］から［１３］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１８１】
［１５］平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、前記保持部は、平面視で前記貯液槽の側壁と離間しており、前記保持部と前記側壁との間の隙間が、前記蒸気口である［１］から［１４］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１８２】
［１６］平面視において、前記保持部の周囲には、前記貯液槽に貯留される前記液体の蒸気が流動可能な蒸気口を有し、前記蒸気口は、前記保持部を前記保持部の厚み方向に貫通する貫通孔であり、前記貫通孔は、前記保持部において前記ウェルプレートを保持する領域よりも外側に設けられている［１］から［１５］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１８３】
［１７］前記貯液槽は、加熱部材を有する［１］から［１６］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１８４】
［１８］ＣＯ２濃度５％の雰囲気において、前記雰囲気から前記内部空間へのＣＯ２の流入速度が２０ｐｐｍ／秒以上である［１］から［１７］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具。
【０１８５】
［１９］ウェルプレートを収容する本体部と、前記本体部に開閉自在に設けられた蓋と、を備え、前記本体部は、前記ウェルプレートを保持する保持部と、液体を貯留する貯液槽と、前記保持部を前記貯液槽の内側の底面と離間させて支持する支持部と、を有し、前記保持部に載置したウェルプレート四隅のウェルの液量について、下記測定方法で求められる水の残存率が７５％以上である乾燥抑制器具。
（測定方法）
全ウェルに２００μＬずつ水を充填したＳＢＳ規格の９６ウェルプレートを前記本体部に収容し、前記貯液槽に水を貯留し前記蓋をした状態で放置する。２０日間放置した後、下記式（１）に基づいて初期値に対する水量の変化率を求める。
（水の残存率）（％）＝Ｂ／Ａ×１００…（１）
（Ａはウェルプレートの四隅に位置する計４つのウェルにおける、水量の初期値の平均値を示す。Ｂはウェルプレートの四隅に位置する計４つのウェルに残存する水量の平均値を示す。）
【０１８６】
［２０］［１］から［１９］のいずれか１項に記載の乾燥抑制器具と、前記乾燥抑制器具に収容され、複数のウェルを備えるウェルプレートと、前記ウェルの内部に収容された細胞と、前記ウェルの内部に充填された培地と、を有する細胞培養キット。
【符号の説明】
【０１８７】
１，１Ｘ，２，２Ａ，２Ｂ，３Ａ，３Ｂ，４，５，６…乾燥抑制器具、１０，３０Ａ，３０Ｂ，４０，５０，６０…本体部、１０ａ，３０ａ，４０ａ，５０ａ，６０ａ…蒸気口、１１，３１，３１Ａ，３１Ｂ，４１，５１，６１…貯液槽、１１ａ…開口部、１１ｘ，５１ｘ，３２１ｘ，５２１ｘ…底面、１２，３２，３２Ａ，３２Ｂ，４２，５２，６２…保持部、１２ａ，５２ａ…領域、１３，５３…支持部、２０，２０Ｘ，９２…蓋、２０ａ…換気穴、２２，１１２，１２２，３１２，３１２Ａ，３１２Ｂ，３２２，４１２，４２２，５１２，５２２，６１２，９２２…側壁、２５，２６…多孔質部材、Ｖ，Ｖ１…蒸気、９０…ウェルプレート、１００，１００Ｘ，２００Ａ，２００Ｂ，３００Ａ，３００Ｂ，４００，５００，６００…細胞培養キット、１１１，１２１，３１１，３２１，４１１，４２１，５１１，５２１，６１１…底板、３１５，３１７…光源、３１８，３２５，４２５…遮光手段、４１５…採光窓、６１５…加熱部材、９１１…ウェル、Ａｉｒ…空気、ＣＭ…培地、Ｌ…液体、ＵＶ…紫外線
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１８８】
【特許文献１】特開２０００−２３６８６９号公報
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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