(57)【要約】      （修正有）【課題】タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールを提供する。【解決手段】複数の第一参照ノード１２１と複数の第一参照ポイント１４１は、第一面１１１上に定義されている。複数の第二参照ノード１３１と複数の第二参照ポイント１４２は第二面１１２上に定義されている。第一及び第二の参照ノードは、規則的な順序で配列され、垂直に投影すると千鳥配置となる。第一参照ポイント及び第二参照ポイントは、それぞれ隣接する二つの第一参照ノードと第二参照ノードの中間点に位置しており、垂直に投影すると一致するものである。移動可能領域は、複数の第一ターニングポイントを得るために定義され、各第一ターニングポイントは、移動可能領域からランダムに選択され、その中心は、対応する第一参照ポイントと揃っている。第一メッシュパターンは、各第一参照ノードを隣接する第一ターニングポイントに接続することによって得られる。【選択図】図２Ａ
0003204932.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールであって、
第一面と第二面を有する透明基板と、
少なくとも、前記第一面上に配置され、複数の第一参照ノード、複数の第一参照ポイント、及び複数の第一ターニングポイントを有する、第一メッシュパターンと、
少なくとも、前記第二面上に配置され、複数の第二参照ノード及び複数の第二参照ポイントを有する、第二メッシュパターンを備え、
前記複数の第一参照ノードは、規則的な順序で配列され、各第一参照ポイントは、二つの隣接する前記第一参照ノードの中間点に位置し、
前記複数の第二参照ノードは、規則的な順序で配列され、各第二参照ポイントは、二つの隣接する前記第二参照ノードの中間点に位置し、
前記複数の第一参照ノード及び前記複数の第二参照ノードは、垂直に投影すると千鳥配置となり、前記複数の第一参照ポイント及び前記複数の第二参照ポイントは、垂直に投影すると一致するものであり、
各第一参照ポイントは、移動可能領域に対応しており、各第一ターニングポイントは、前記移動可能領域からランダムに選択され、
前記移動可能領域の中心は、前記第一面上にある対応する前記第一参照ポイントに揃い、
各第一参照ノードは、前記第一面上にある隣接する前記第一ターニングポイントに接続され、それによって、前記第一メッシュパターンは形成される、
タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項２】
前記第二メッシュパターンは、複数の第二ターニングポイントを備え、
各第二ターニングポイントは、前記移動可能領域からランダムに選択され、前記移動可能領域の中心は、対応する前記第二参照ポイントに揃い、各第二ターニングポイントは、前記第二面上にある隣接する前記第二参照ノードと接続され、それにより、前記第二メッシュパターンは形成される、
請求項1に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項３】
前記第二メッシュパターンは、前記第二面上に配置される複数の第二ターニングポイントを備え、
前記複数の第二ターニングポイント及び前記複数の第一ターニングポイントは、垂直に投影すると一致するものであり、各第二ターニングポイントは、前記第二面上にある隣接する前記第二参照ノードに接続され、それにより、前記第二メッシュパターンを形成される、
請求項1に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項４】
前記第二メッシュパターン及び前記第一メッシュパターンは、前記第二メッシュパターンが移動距離を水平移動した後、垂直に投影すると一致するものであり、
前記移動距離は、任意の前記第一参照ノードと任意の前記第二参照ノードの間の投影距離である、
請求項1に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項５】
前記第二メッシュパターンは、複数の第二メッシュノード及び複数の第二ターニングポイントを備え、
各第二メッシュノードは、前記移動可能領域からランダムに選択され、前記移動可能領域の中心は、対応する前記第二参照ノードに揃い、
各第二メッシュノードは、前記第二面上にある隣接する前記第二ターニングポイントと接続され、それにより、
前記第二メッシュパターンは形成される、
請求項1に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項６】
前記移動可能領域は、所定の半径によって定義される、円領域又は円周であり、
前記所定の半径と、任意の二つの隣接する前記第一参照ノード又は任意の二つの隣接する前記第二参照ノードの間の距離は、0.5%から12.5%の範囲である特定の比率を有する、
請求項1に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項７】
前記所定の半径と、任意の二つの隣接する前記第一参照ノード又は任意の二つの隣接する前記第二参照ノードの間の距離は、1%から10%の範囲である特定の比率を有する、
請求項6に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項８】
前記移動可能領域は、第一所定半径及び第二所定半径によって定義される、二つの円周又はリング領域であり、
任意の二つの隣接する前記第一参照ノード又は任意の二つの隣接する前記第二参照ノードの間の距離に対して、前記第一所定半径又は前記第二所定半径の特定の比率は、0.5%から12.5%の範囲であり、前記第一所定半径は、前記第二所定半径より大きい、
請求項1に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【請求項９】
前記第一所定半径と、任意の二つの隣接する前記第一参照ノード又は任意の二つの隣接する前記第二参照ノードの間の距離は、1%から10%の範囲である特定の比率を有する、
請求項8に記載のメタルメッシュ検知モジュール。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及びその製造方法に関するものであり、より詳しくは、モアレ効果を低減するため、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
今日、タッチ制御技術は、ユーザが、電子製品の動作を制御することが容易になるように、様々な電子製品のタッチ表示装置に広く適用されている。また、表示機能を実現しつつ、可視タッチ領域の検知電極が認識されないようにするために、透明検知電極は、通常、表示パネルのタッチ領域の電極として用いられる。例えば、透明検知電極は、インジウムスズ酸化物（ITO）で形成されている。タッチパネルを設計する傾向が大型タッチパネルに向かって進むにつれて、ITO透明電極を用いることは、いくつか欠点があるということがわかってきた。例えば、抵抗値が大きくなり、検知における反応速度が低下することである。また、ITO透明電極を有する大型タッチパネルの製造方法は、多くの工程を必要とするので、製造コストが増大する。その結果、金属メッシュ検知電極は、ITO透明電極に代わって、徐々に用いられている。
【０００３】
しかしながら、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールが、表示モジュールに取り付けられている場合、モアレ効果が容易に生じる。表示品質は、モアレ効果によって悪影響を受ける。知られているように、メタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンの輪郭は、モアレの発生に影響を及ぼし得る。一般的に、隣接するメッシュパターンが規則的に配列されている場合には、モアレ効果が発生する可能性は増加する。また、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及び表示モジュールの薄膜トランジスタアレイ（例えばブラックマトリクス又はRGBピクセルアレイ）の両方が規則的なメッシュ構造である場合であって、タッチパネルが表示モジュールに取り付けられ、且つ、これら二つの規則的なメッシュ構造が互いに重なっている時、モアレ効果を生成する可能性はさらに増加する。
【０００４】
モアレ現象を回避又は最小限に抑えるために、タッチパネルにおけるメタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンの輪郭は、表示モジュールの薄膜トランジスタアレイに応じて設計することができる。特に、視認性を高めるため、複数の直線状の金属線は、メタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンを定義するために、交差した形態で規則的に配列されている。例えば、メッシュパターンは、複数の直線状の第一金属線と複数の直線状の第二金属線を備える。複数の直線状の第一金属線は、第一の方向に沿って配向され、かつ、互いに平行である。複数の直線状の第二金属線は、第二の方向に沿って配向され、かつ、互いに平行である。複数の直線状の第一金属線と複数の直線状の第二金属線は交差し、互いに離間している。これにより、タッチ検知アレイパターンは、複数の直線状の第一金属線と複数の直線状の第二金属線との共同で、定義される。上記のように、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンは、モアレ現象を減少させるため、表示パネルの薄膜トランジスタアレイに調和するように配列されるべきである。この状況で、複数の金属線の間の間隔と金属線の交差角度は精巧に設計されるべきである。換言すれば、設計の複雑さが増大する。視認性は、メタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンの設計誤差により、容易に低下する。一方、メタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンが、干渉の問題を解決するため、ランダムなパターンによって設計される場合、設計されたメッシュパターンは、通常でない隙間比率と不均等分布を有するメッシュ開口部を持つことになり、不均一な光強度の現象を引き起こすだろう。いくつかのランダム設計パターンが互いに結合される場合は、それらを接合することは容易ではない、又は、干渉が導かれるだろう。なぜなら、接合パターンにある各インターフェースがランダムに選択されるノードを有するためである。
【０００５】
したがって、前述の欠点を克服するために、改善されたタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及びその製造方法を提供する必要がある。
【考案の開示】
【０００６】
本考案は、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及びその製造方法を提供する。メタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンをランダムに設計することにより、パターンの重複又は交差ポイントによる干渉が発生する可能性が回避される。
【０００７】
本考案は、さらに、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及びその製造方法を提供する。ランダム設計されたメッシュパターンにおける、通常でない隙間比率と不均等分布を有するメッシュ開口部を生じる可能性は、メタルメッシュ検知モジュールにおける、ランダム設計されたメッシュパターンを特定の条件で正確に制御することによって回避されるだろう。従って、メタルメッシュ検知モジュールがタッチ表示装置に適用される一方で、不均一な光強度の現象は回避されるだろう。
【０００８】
さらに、本考案は、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及びその製造方法を提供する。メタルメッシュ検知モジュールのランダム設計パターンが、特定の移動可能領域を使用することによって正確に制御されることができるので、三つ以上のランダム設計メッシュパターンが接合される一方で、通常でない開口部とメッシュパターンの接合されたインターフェースに接合マークは生じないであろう。二つの接合されたパターンの間のインターフェースに起因する干渉が回避され、視認性は影響を受けない。
【０００９】
本考案は、検知電極のタッチパネル及びその製造方法を提供する。メッシュパターンは、モアレ効果を低減し、視認性を向上させるため、表示パネルの画素部の配置に応じて設計することができる。
【００１０】
本考案の一態様によれば、メタルメッシュ検知モジュールが提供される。メタルメッシュ検知モジュールは、透明基板と、少なくとも第一メッシュパターン及び少なくとも第二メッシュパターンを含む。透明基板は、第一面及び第二面を有している。第一メッシュパターンは、第一面上に配置され、複数の第一参照ノード、複数の第一参照ポイント、及び、複数の第一ターニングポイントを有している。複数の第一参照ノードは、規則的な順序で配列され、各第一参照ポイントは、二つの隣接する第一参照ノードの中間点に位置している。第二メッシュパターンは、第二面上に配置され、複数の第二参照ノードと複数の第二参照ポイントを有している。複数の第二参照ノードは、規則的な順序で配列され、各第二参照ポイントは、二つの隣接する第一参照ノードの中間点に位置している。複数の第一参照ノードと複数の第二参照ノードは、垂直に投影すると千鳥配置となり、複数の第一参照ポイントと複数の第二参照ポイントは、垂直に投影すると一致するものである。各第一参照ポイントは、移動可能領域に対応しており、各第一ターニングポイントは、その移動可能領域からランダムに選択され、
その移動可能領域の中心は、第一面上にある対応する第一参照ポイントに揃い、
第一ターニングポイントは、第一面上にある隣接する第一参照ノードと接続されている。それによって、第一メッシュパターンが形成される。
【００１１】
本考案の態様によれば、メタルメッシュ検知モジュールの製造方法が提供される。複数の第一参照ノード及び第一参照ポイントは、第一面上に定義されている。複数の第二参照ノード及び第二参照ポイントは、第二面上に定義されている。複数の第一参照ノード及び複数の第二参照ノードは、規則的な順序で配列され、それらを垂直に投影すると千鳥配置となる。各第一参照ポイント及び各第二参照ポイントは、二つの隣接する第一参照ノードと二つの隣接する第二参照ノードの中間点に位置し、垂直に投影すると一致するものである。移動可能領域は、複数の第一ターニングポイントを得るために、各第一参照ポイントに対応するように定義され、ここで、各第一ターニングポイントは、移動可能領域からランダムに選択され、その移動可能領域の中心は、対応する第一参照ポイントに揃っている。第一メッシュパターンは、各第一参照ノードを隣接する第一ターニングポイントと接続することによって、得られる。
【００１２】
本考案の上記の内容は、以下の詳細な説明と付随する図面を検討した後に、当業者にとって、より容易に明らかになるだろう。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図1は、本考案の第一の実施形態に係る、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールを製造するフローチャートを示す。
【００１４】
【図２Ａ】図2Aは、図1における異なる工程でのタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図２Ｂ】図2Bは、図1における異なる工程でのタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図２Ｃ】図2Cは、図1における異なる工程でのタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図２Ｄ】図2Dは、図1における異なる工程でのタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図２Ｅ】図2Eは、図1における異なる工程でのタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図２Ｆ】図2Fは、図1における異なる工程でのタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【００１５】
【図３Ａ】図3Aは、複数の接合されたメッシュパターンを有する、金属メッシュ検知回路の例を示す。
【００１６】
【図３Ｂ】図3Bは、二つの向き合う検知電極を有する、メタルメッシュ検知モジュールの例を示す。
【００１７】
【図４】図4は、本考案の第二実施形態に係る、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールを製造するフローチャートを示す。
【００１８】
【図５Ａ】図5Aから図5Dは、図4における異なる工程での、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図５Ｂ】図5Bは、図4における異なる工程での、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図５Ｃ】図5Cは、図4における異なる工程での、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図５Ｄ】図5Dは、図4における異なる工程での、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【００１９】
【図６】図6は、本考案の第三の実施形態に係る、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールを製造するフローチャートを示す。
【００２０】
【図７Ａ】図7Aは、図6の異なる工程での、タッチパネルにおけるメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図７Ｂ】図7Bは、図6の異なる工程での、タッチパネルにおけるメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図７Ｃ】図7Cは、図6の異なる工程での、タッチパネルにおけるメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【図７Ｄ】図7Dは、図6の異なる工程での、タッチパネルにおけるメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。
【００２１】
【図８】図8は、本考案の実施形態に係る、図1のメタルメッシュ検知モジュールと、表示モジュールの画素部の相対的な配置を示す。
【考案を実施するための最良の形態】
【００２２】
本考案は、以下の実施形態を参照して具体的に説明する。本考案の好ましい実施形態における以下の説明は、例示及び説明のみを目的として、本明細書に提示されていることに留意すべきである。それは、開示された正確な形態が網羅的でなくそれらに限定されるものでもない。
【００２３】
図1は、本考案の第一の実施形態に係るタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールを製造するフローチャートを示す。図2Aから図2Fは、図1における異なる工程でのタッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造を概略的に示す。図1、図2A及び図2Bに示すように、透明基板11が提供されている。透明基板11は、第一面111及び第二面112を有す。複数の第一参照ノード121及び複数の第一参照ポイント141は、（工程S10に示されるように）第一面111上で定義される。
この工程で、複数の第一参照ノード121は、規則的な順序で配列され、各第一参照ポイント141は、二つの隣接する第一参照ノード121の中間点に位置する。その後、複数の第二参照ノード131及び複数の第一参照ポイント142は、（工程S11に示されるように）第二面上で定義される。この工程で、複数の第二参照ノード131は、規則的な順序で配列され、各第二参照ポイント142は、二つの隣接する第二参照ノード131の中間点に位置する。
この実施形態で、図1、図2A、及び図2Bに示されるように、第一面111に配置された複数の第一参照ノード121は、X-Y軸に沿って延び、ダイアモンドアレイのように配列されるが、それに限定されない。ある実施形態では、可変アレイ、例えば、三角形アレイ、正方形アレイ、長方形アレイ、六角形アレイ又は八角形のアレイが実装するのに適しているが、それに限定されない。第二面112上に配置された複数の第二参照ノード131の配置は、上記のものと同様であり、重複説明を省略する。実施形態では、第一参照ノード121及び第二参照ノード131は垂直に投影すると千鳥配置となり、複数の第一参照ポイント141及び複数の参照第二参照ポイント142は、垂直に投影すると一致するものである。その後、図2Cから図2Fを参照すると、移動可能領域C1、C2は、工程S12に示されるように、定義される。この実施形態で、移動可能領域C1、C2は、所定の半径Rによって定義される円領域である。その後、図１及び図2Cに示されるように、複数の第一ターニングポイント141'は、複数の第一参照ポイント141対応して得られ、ここで、移動可能領域C1の中心は、各第一参照ポイント141に揃い、各第一ターニングポイント141'は、移動可能領域C1からランダムに選択される。その中心は、（工程S13に示されるように）対応する第一参照ポイント141に揃っている。その後、各第一参照ノード121は、（工程S14に示されるように）第一面111上にある隣接する第一ターニングポイント141'に接続され、金属メッシュ検知回路用に、第一メッシュパターン12は、第一面111上に形成される。
【００２４】
同様に、図1、図2A及び図2Eに示すように、第二メッシュパターン13は、第二面112上に形成される。移動可能領域C2の中心は、各第二参照ポイント142に揃い、各第二ターニングポイント142’は、（工程S15に示されるように）対応する第二参照ポイント142の移動可能領域C2からランダムに選択される。
その後、図1及び図2Fに示されるように、各第二参照ノード131は、第二面112上に、隣接する第二ターニングポイント142’に接続され、第二メッシュパターン13は、（工程16に示されるように）金属メッシュ検知回路用に、第二面112上に形成される。
【００２５】
ある実施形態では、第一面111上に配置された第一メッシュパターン12及び第二面112上に配置された第二メッシュパターン13は、ランダムで、繰り返さない単位となっているメッシュパターンであるとみなされる。図3Aは、複数の接合されたメッシュパターンを有する、金属メッシュ検知回路の例を示す。二つの隣接メッシュパターンは、接合されたインターフェースに参照ノードを重ね合わせることによって、接合される。複数の第一メッシュパターン12は、第一方向（X軸等）又は第二方向（Y軸等）に沿って接合され、より大きく、組み合わされた金属メッシュ検知回路を得ることができる。この実施形態で、第一金属メッシュ検知回路12aは、8個（例：2×4=8)の第一メッシュパターン12によって形成されるが、それに限定されない。図3Bは、二つの対向する検知電極を有しているメタルメッシュ検知モジュールの概略図である。異なる面に配置された第一検知電極12Aと第二検知電極13Aは、それぞれ、複数の第一金属メッシュ検知回路と複数の第二金属メッシュ検知回路で構成されており、各第一金属メッシュ検知回路と各第二金属メッシュ検知回路は、複数の第一メッシュパターン12と複数の第二メッシュパターン13で構成されており、それらのメッシュパターンは、ランダムで、繰り返さない単位をそれぞれ有している。実施形態では、移動可能領域C1及び移動可能領域C2は、円領域であり、同じ所定の半径Rによって定義されている。第一メッシュパターン12及び第二メッシュパターン13は、複数の第一参照ノード121と複数の第二参照ノード131を有し、それらの参照ノードは、それぞれ規則的な順序で配列されている。第一メッシュパターン12又は第二メッシュパターン13は、互いに接合され、参照ノードは、その接合されたインターフェースに位置され且つ規則的な順序で配列され、互いに容易につなぎあわせることができる。従って、従来に見られるように、過度にランダムな移動がなされたノードによって引き起こされる、接合の困難性又は通常でないメッシュ開口部と、メッシュパターンが接合されるように設計される一方で生じる接合マークは、避けることができる。その後、図3Bで示されるメッシュパターンは、透明基板上に移され、フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程によって、形成される。実施形態では、所定の半径Rは、行間隔（すなわち、メッシュパターンにおける、任意の二つの隣接する第一参照ノード121、又は、任意の二つの隣接する第二参照ノード131との間の距離）に従って定義される。所定の半径Rと、任意の二つの隣接する第一参照ノード又は任意の二つの隣接する第二参照ノードとの間の距離は、0.5％から12.5％の範囲である特定の比率を有し、1％から10％の範囲ではさらに良い。すなわち、所定の半径Rは、3umから50umであって、5umから30umであればさらに良い。
【００２６】
図4は、本考案の第二実施形態に係る、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールを製造するフローチャートを示す。
図5Aから図5Dは、図4における異なる工程での、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの構造を概略図である。タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールの製造方法は、次のように単純に記載されている。
図4及び図5Aに示されるように、第一面111及び第二面112（図2Aを参照）を有する透明基板11は提供され、複数の第一参照ノード121及び複数の第一参照ポイント141は、（工程S20に示されるように）第一面111上で定義されている。同様に、本実施形態では、複数の第一参照ノード121は、規則的な順序で配列され、各第一参照ポイント141は、二つの隣接する第一参照ノード121の中間点に位置する。その後、複数の第二参照ノード131及び複数の第一参照ポイント142は、（工程S21に示されるように）第二面112上で定義される。この工程で、複数の第二参照ノード131も規則的な順序で配列され、各第二参照ポイント142は、二つの隣接する第二参照ノード131の中間点に位置する。この実施形態で、図4及び図5Aに示されるように、第一面111上に配置された複数の第一参照ノード121は、X-Y軸に沿って延び、ダイアモンドアレイのように配列される。この実施形態で、任意の可変アレイ、例えば、三角形アレイ、正方形アレイ、長方形アレイ、六角形アレイ又は八角形のアレイが実装するのに適しているが、それに限定されない。第二面112上に配置された複数の第二参照ノード131の配置は、上記のものと同様であり、重複説明を省略する。実施形態では、複数の第一参照ノード121及び第二参照ノード131は垂直に投影すると千鳥配置となり、複数の第一参照ポイント141及び複数の参照第二参照ポイント142は、垂直に投影すると一致するものである。その後、移動可能領域P1は、（工程S22で示されるように）定義される。この実施形態で、移動可能領域P1は、所定の半径Rによって定義される円周である。
その後、複数の第一ターニングポイント141'は、（工程S23に示されるように）複数の第一参照ポイント141に対応して得られ、ここで、移動可能領域P1の中心は、各第一参照ポイント141に揃い、各第一ターニングポイント141'は、移動可能領域P1からランダムに選択される。その後、図4及び図5Bに示されるように、各第一参照ノード121は、（工程S24に示されるように）第一面111上にある隣接する第一ダーニングポイント141'に接続され、金属メッシュ検知回路用に、第一メッシュパターン12は、第一面111上に形成される。
【００２７】
一方、図4及び図5Cに示すように、第二のメッシュパターン13は、第二面112上に形成される。複数の第二ターニングポイント142’は、（工程S25で示されるように）第二面112上に、複数のターニングポイント141’が投影されることによって定義される。すなわち、第一面111上に配置される複数の第一ターニングポイント141’と第二面112上に配置される複数の第二ターニングポイント142’は、垂直に投影すると一致するものである。その後、図4及び図5Dに示されるように、各第二参照ノード131は、第二面112上で、隣接する第二ターニングポイント142’に接続され、（工程26で示されるように）第二メッシュパターン13は、金属メッシュ検知回路用に、第二面112上に形成される。
【００２８】
図6は、本考案の第三実施形態に係る、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュールを製造するフローチャートを示す。図7Aから図7Cは、図6の異なる工程でのタッチパネルにおけるメタルメッシュ検知モジュールの構造の概略図である。図6、図7A及び図７Bに示されるように、上記実施形態と同様に、第一メッシュパターン12は、（図2A参照）透明基板11の第一面111上に形成される。本実施形態における製造工程S30からS32は、図1のS10からS12と同様であり、ここで重複説明を省略する。工程S30からS32が実行された後、移動可能領域A1、A2が定義される。上記の実施形態と比べて、本実施形態の移動可能領域A1、A2は、第一所定半径R1及び第二所定半径R2によって定義される。従って、移動可能領域A1の中心は、第一面111上で各第一参照ノード121に揃い、移動可能領域A2の中心は、第一面111上で各第一参照ポイント141に揃っている。図6及び図7Aに示されるように、各第一メッシュノード121’は、移動可能領域A1からランダムに選択され、その中心は、各対応する第一参照ノード121に揃い、各第一ターニングポイント141’は、移動可能領域A2からランダムに選択され、その中心は、同時に、各対応する第一参照ポイント141に揃っている（工程S33に示される）。その後、図6及び図7Bに示されるように、各第一メッシュノード121’は、第一面111上で、隣接する第一ターニングポイント141’に接続され、第一メッシュパターン12は、（工程S34に示されるように）金属メッシュ検知回路用に、第一面111上に形成される。一方、第二メッシュパターン13は、透明基板11の第二面112上に形成される。本実施形態を上記実施形態と比べると、第一面111に配置された第一メッシュパターン12は、（工程S35に示されるように）第二面112に投影される。その後、図6及び図7Cに示されるように、投影された第一メッシュパターン12は、第二面112上で移動距離D1、D2を水平移動し、投影された第一メッシュパターン12の水平移動は、X軸、Y軸、又はXーY座標系のいずれかの象限に沿うものであってもよいが、それに限定されない。移動距離D1、D2は、任意の第一参照ノード121から任意の第二参照ノード131への投影距離である。図7Cの実施形態に示されるように、投影された第一メッシュパターン12の水平移動は、元の位置からX軸に沿って実行されるが、それに限定されない。本実施形態で、移動距離D1は、第一参照ノード121から第二参照ノード131への投影距離であり、第二メッシュパターン13は、第二面112上に形成される。ある実施形態で、移動距離D2は、任意の第一参照ノード121から任意の第二参照ノード131への投影距離である。図7Dの実施形態で、第一メッシュパターン12は、第二面122上に投影され、元の位置からX-Y座標系の第四象限に向かって、移動距離D2を水平移動し、それから、第二メッシュパターン13は、第二面112上に得られる。本考案は、上記の実施形態に限定されるものではない。第一メッシュパターン12は、第二面112上に投影された後、水平移動が、元の投影された位置からX-Y座標系の第四象限（右下）にある方向に向かってのみ実行されるものではなく、X-Y座標系の第一象限（右上）、第二象限（左上）、第三象限（左下）にある方向に向かうこともある。千鳥配置で配列される第一メッシュパターン12及び第二メッシュパターン13を得るように任意の移動は、本考案で実���されることができる。本考案は上記の実施形態に限定されるものではない。
【００２９】
上記実施形態と比べて、本実施形態では、第一メッシュパターン12及び第二メッシュパターン13は、ランダムに選択されるターニングポイントを有し、且つ、規則的な順序で配列している参照ノードに対応するように、ランダムに選択されることができるノードをさらに有している。各第一メッシュノード121’が各第一参照ノード121に対応する移動可能領域A1に制限されているので、二つの第一メッシュパターン12が接合される場合、そのインターフェースに位置している第一参照ノード121は、互いに接合されることが容易である。二つの隣接する第一メッシュパターン12のインターフェースに沿って、各第一メッシュノード121’は、対応する移動可能領域A1に配置され、そこに制限されている。移動可能領域A1のサイズは制御することができる（すなわち、移動可能領域A1は第一所定半径R1と第二所定半径R2を決定することによって制御することができる）。従って、通常でない開口部と、メッシュパターンの接合インターフェースに接合マークは、生じないであろう。ある実施形態で、境界部分に位置している第一メッシュノード121’は、第一参照ノード121の元の位置によってそれぞれ決定され、規則的な順序に配列され、それにより、複数の第一メッシュパターン12を接合することが容易になり、接合インターフェースの間に生じた接合マークを回避することが容易になる。
【００３０】
ある実施形態で、第一面111上に配置される複数の第一参照ノード121と、第二面112上に配置される複数の第二参照ノード131は、三角形アレイ、正方形アレイ、長方形アレイ、六角形アレイ又は八角形のアレイとしてそれぞれ配列されることができる。本実施形態で、複数の第一参照ノード121及び複数の第二参照ノード131は、ダイアモンドアレイとして配列されているが、本考案は、本実施形態に限定されるものではない。図8は、本考案の実施形態に係る、図1のメタルメッシュ検知モジュールと表示モジュールの画素部の相対的配置を概略的に示す。図8に示されるように、メタルメッシュ検知モジュール1の各第一メッシュパターン12又は各第二メッシュパターン13は、表示モジュール2の画素部21に対応している。画素部21は、赤色画素部、緑色画素部、及び青色画素部から構成されている。ある実施形態で、表示パネル2は、異なる領域に配列される画素部21を含む。画素部の配置によって生じる、モアレ効果及び干渉を最小化するために、第一参照ノード121及び第二参照ノード131は、表示パネル2の画素部の配置及び領域に応じて、異なる領域に、異なる配列として定義されることができる。各第一メッシュパターン12及び各第二メッシュパターン13は、各画素部21のものよりも長さが長い。
【００３１】
要約すると、本考案は、タッチパネルのメタルメッシュ検知モジュール及びその製造方法を提供する。メタルメッシュ検知モジュールのメッシュパターンをランダム設計することによって、パターンの重複又は交差ポイントによって引き起こされる干渉が生じる可能性が回避される。加えて、ランダム設計されたパターンにおける、通常でない隙間比率と不均等分布を有するメッシュ開口部を生じる可能性は、メタルメッシュ検知モジュールにおけるランダム設計されたメッシュパターンを特定の条件で正確に制御することによって回避されるだろう。従って、メタルメッシュ検知モジュールがタッチ表示装置に適用される一方で、不均一な光強度の現象は回避されるだろう。一方、メタルメッシュ検知モジュールのランダム設計パターンが、特定の移動可能領域を使用することによって、正確に制御されることができるので、三つ以上のランダム設計メッシュパターンが接合される一方で、通常でない開口部とメッシュパターンの接合されたインターフェースに接合マークは生じないであろう。従って、二つの接合されたパターンの間のインターフェースに起因する干渉が回避され、視認性は影響を受けない。メッシュパターンは、モアレ効果を低減し、視認性を向上させるために、表示パネルの画素部の配置に応じて設計することができる。
【００３２】
本考案は、現在最も実用的かつ好ましい実施形態と考えられるものに関して説明してきたが、本考案は、開示された実施形態に限定される必要はないことを理解すべきである。それどころか、添付の特許請求の範囲の精神及び範囲内に含まれる様々な修正及び類似の構成を包含することが意図され、すべてのそのような修正及び類似の構成を包含するように最も広い解釈に従うべきである。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８】
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