(57)【要約】      （修正有）【課題】特にサブチューブの長さが異なる複数のサブローラーにより基板を搬送し、基板の表面に適当な加工を施すことができる湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置を提供する。【解決手段】２つずつ配列されるように、２つを１つのセットとする複数のサブローラー２０を有し、該各サブローラーは、シャフト２１と、少なくとも１つのサブチューブ２２とを備え、該サブチューブはそれぞれ長さが異なると共に、該シャフトの周囲に固設されるものである。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
２つずつ配列されるように、２つを１つのセットとする複数のサブローラーを有し、該各サブローラーは、シャフトと、少なくとも１つのサブチューブとを備え、該サブチューブはそれぞれ長さが異なると共に、該シャフトの周囲に固設されることを特徴とする湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置。
【請求項２】
２つずつ配列されるように、２つを１つのセットとすると共に、前記複数のサブローラーと交互に配置される複数のメインローラーを有し、該各メインローラーは、シャフトと、メインチューブとを備え、該メインチューブは、長さが同一であると共に、該シャフトの周囲に固設されることを特徴とする請求項１に記載の湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置。
【請求項３】
該各セットのサブローラーは、隣接する２つのセットのメインローラーの間に設置されることを特徴とする請求項２に記載の湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置。
【請求項４】
前記各サブローラーのサブチューブの長さが、前記メインローラーのメインチューブより短いことを特徴とする請求項２又は３に記載の湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置。
【請求項５】
前記同じセットのサブローラーにおけるサブチューブの長さが同一であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置。
【請求項６】
前記各サブローラーのシャフトに１つのサブチューブが設けられることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、特にそれぞれのサブチューブの長さが異なる複数のサブローラーにより基板を搬送することにより、基板の表面の異なる箇所に適当な加工を施す、湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、回路基板の製造プロセスにおいては、基板を搬送装置により移送しながら、エッチングタンクや洗浄室などの湿式工程用設備に浸漬して加工工程を行う必要がある。
【０００３】
従来の技術における、基板を移送するための搬送装置は、基板を縦に移送するものを例とすると、図３に示すように、シャフト４１と、該シャフト４１に間隔をおいて設けられる複数のプレート４２とを備える複数のプレート式ローラー４０を有し、そのプレート式ローラー４０は、２つずつ搬送装置の長手方向に沿って配列され、基板は、２つのプレート式ローラー４０の間に挟まれるように保持されながら、プレート式ローラー４０の回転により移送される。
【０００４】
また、図４及び図５に示すように、従来の技術における、基板６０を移送するための他の搬送装置は、シャフト５１と、該シャフト５１に設けられ、同一の長さであるチューブ５２とを備える複数のチューブ式ローラー５０を有し、そのチューブ式ローラー５０は、２つずつ搬送装置の長手方向に沿って配列され、基板は、２つのチューブ式ローラー５０のチューブ５２の間に挟まれるように保持されながら移送される。
【０００５】
従来の搬送装置によれば、前記チューブ式ローラー５０が回転する時、ローラー５０により湿式工程用設備の加工液を掻き混ぜ、チューブ５２の表面または基板６０の表面に加工液を付着させると共に、循環させることにより加工液を均一にする。故に、このチューブ式ローラー５０による基板６０の移送は、プレート式ローラー４０より加工効果に優れる。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来では、基板の表面に配置された回路の密度が異なることから、その回路に対する加工精度が優れなく、例えば、前記チューブの長さが同一であるチューブ式ローラーにより基板を移送すると、加工液がローラーの表面に付着することから、基板の全面的に加工を施すことはできるが、部分的な加工を施すことができず、特にエッチングプロセスを行う時には、完全な基板回路の形成に影響を与える虞があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本考案に係る湿式工程用基板の加工液に浸すための搬送装置は、２つずつ配列されるように、２つを１つのセットとする複数のサブローラーを有し、該各サブローラーは、シャフトと、少なくとも１つのサブチューブとを備え、該サブチューブはそれぞれ長さが異なると共に、該シャフトの周囲に固設されるものである。
【０００８】
さらに、２つずつ配列されるように、２つを１つのセットとすると共に、前記複数のサブローラーと交互に配置される複数のメインローラーを有し、該各メインローラーは、シャフトと、メインチューブとを備え、該メインチューブは、長さが同一であると共に、該シャフトの周囲に固設されることが好ましい。
【０００９】
該各セットのサブローラーは、隣接する２つのセットのメインローラーの間に設置されることが好ましい。
【００１０】
前記各サブローラーのサブチューブの長さが、前記メインローラーのメインチューブより短いものであってもよい。
【００１１】
前記同じセットのサブローラーにおけるサブチューブの長さが同一であってもよい。
【００１２】
前記各サブローラーのシャフトに１つのサブチューブが設けられることが好ましい。
【考案の効果】
【００１３】
本考案に係る湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置は上記の課題を解決するものであり、基板回路によって、サブローラーにおけるサブチューブの設置位置や数量などを決定し、湿式工程加工設備における加工液により、基板回路に応じて異なる箇所に適当な加工を施して完全な基板回路を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本考案に係る湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置の使用状態を示す側面図である。
【図２】本考案に係る湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置の斜視図である。
【図３】従来の、基板を移送するための搬送装置の斜視図である。
【図４】従来の、基板を移送するための他の搬送装置の斜視図である。
【図５】図４の搬送装置において基板を移送する状態を示す平面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して本考案の好適な実施の形態を詳細に説明する。尚、下記実施例は、本考案の好適な実施の形態を示したものにすぎず、本考案の技術的範囲は、下記実施例そのものに何ら限定されるものではない。
【００１６】
図１に示すように、本考案に係る湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置は、基板を縦に移送するものを例として説明する。なお、本考案は、基板を横に移送するように使用しても構わない。
【００１７】
図２に示すように、本考案に係る湿式工程用基板を加工液に浸漬するための搬送装置は、複数のメインローラー１０及び複数のサブローラー２０を有する。
【００１８】
前記メインローラー１０は、２つずつ搬送装置の長手方向に沿って配列され、その２つのメインローラー１０が１つのセットとなる。前記各メインローラー１０は、シャフト１１と、同一の長さを有するメインチューブ１２とを備え、その内、シャフト１１は、両端が湿式工程用設備における加工タンクの両側の側壁３１に設置され、該メインチューブ１２は、該シャフト１１の周囲に固設される。この構成によれば、基板は、前記各セットのメインローラー１０のメインチューブ１２の間に保持されながら移送される。なお、前記メインチューブ１２の長さは、基板の幅と同じかそれより長いものであることが好ましく、それにより、基板を安定的に保持しながら移送することができる。
【００１９】
前記サブローラー２０は、２つずつ搬送装置の長手方向に沿って配列され、且つ前記メインローラー１０に交互に配置され、その２つのサブローラー２０が１つのセットとなる。また、前記各サブローラー２０は、シャフト２１と、それぞれ長さが異なる、少なくとも１つのサブチューブ２２とを備え、その内、シャフト２１は、両端が湿式工程用設備における加工タンクの両側の側壁３１に設置され、該サブチューブ２２は、該シャフト２１の周囲に固設される。
【００２０】
本考案に係る実施例においては、前記各セットのサブローラー２０が、隣接する２つのセットのメインローラー１０の間に設置され、該サブローラー２０のシャフト２１の周囲にサブチューブ２２が設けられる。同じセットのサブチューブ２２はそれぞれ同一の長さであると共に、その長さは前記メインチューブ１２より短い設計となっている。尚、本考案においては、前記サブローラー２０のシャフト２１に、間隔をおいて複数のサブチューブ２２が設けられても構わなく、また、同じセットのサブローラー２０のサブチューブ２２の長さは同一でなくても構わない。
【００２１】
また、前記サブローラー２０のサブチューブ２２の設置位置又は数量は、基板の回路によって決定される。例えば、基板回路によって、搬送装置における、基板の相当の加工を施す箇所と対応する位置に、多数のサブチューブ２２が設置され、一方、基板回路によって、搬送装置における、基板の少しの加工を施す箇所と対応する位置に、少数のサブチューブ２２が設置される。この構成によれば、基板回路によって、基板の異なる箇所を加工液で浸漬して適当な加工を行えるので、完全な基板回路を形成することができる。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本考案は上記の構成を有し、サブローラーにおけるサブチューブの設置位置や数量などが基板回路によって決定され、湿式工程加工設備における加工液により、基板の異なる箇所と対応するように適当な加工を行うので、完全な基板の回路を形成することができる。
【符号の説明】
【００２３】
１０          メインローラー
１１          シャフト
１２          メインチューブ
２０          サブローラー
２１          シャフト
２２          サブチューブ
３１          側壁
４０          プレート式ローラー
４１          シャフト
４２          プレート
５０          チューブ式ローラー
５１          シャフト
５２          チューブ
６０          基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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