(57)【要約】      （修正有）【課題】電解浴中の上下陽極間を板状被処理物が水平搬送される過程で被処理物を電解メッキする際に、被処理物の板面に付着する酸素ガス泡を効率的に除去し、均一なメッキ被膜の形成を可能にする水平電解メッキ装置を提供する。【解決手段】板状被処理物Ｐの搬送通路２の上下位置に搬送通路の側部方向に向けた斜め噴流Ｇを吐出する吐出ノズルを形成した斜め噴流吐出管２０Ａ、２０Ｂを配設し、且つ搬送通路２を間にした電解メッキ処理槽１の左右両側にオーバーフロー口２６を設けたオーバーフロー槽２５を配設した。板状被処理物の板面に付着した酸素ガス泡は斜め噴流吐出管２０Ａ、２０Ｂの斜め噴流Ｇで搬送通路の側部方向に噴き飛ばす。噴き飛ばされ上昇現象で電解浴中を上昇した酸素ガス泡はオーバーフロー液の流れに誘導されてオーバーフロー口２６からオーバーフロー槽２５に流出する。【選択図】図２
0003173836.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
平行な両側縁部をもつ板状被処理物の両側縁部をエンドレスに回転駆動される複数のクランプで保持し、電解メッキ処理槽の処理液中を板状被処理物の板面が上下になる水平姿勢で水平方向に連続搬送する搬送装置と、前記電解メッキ処理槽の処理液中に配設され、前記搬送装置で水平搬送される板状被処理物の搬送通路の上下位置に配設された上部陽極と下部陽極を備え、この上部陽極と下部陽極の間を搬送及び給電手段としての前記クランプを通じて陰極電流を給電された前記板状被処理物が水平に通過されることによって、前記板状被処理物の表面にメッキ被膜を形成する水平電解メッキ装置において、
前記電解メッキ処理槽の処理液中であって、前記板状被処理物の搬送通路を間にした上下位置に上部斜め噴流吐出管と下部斜め噴流吐出管を配設し、この上下部の斜め噴流吐出管は前記被処理物の搬送方向と交差する方向に間隔をおいて多数の吐出ノズルをそれぞれ形成し、この上下部の斜め噴流吐出管の吐出ノズルは搬送通路を水平に通過する前記板状被処理物の相対する上下板面に向けてそれぞれ処理液を吐出すると共に該搬送通路の左右いずれか一方の同じ側部方向に向け斜めに処理液を吐出する斜め噴流を吐出するように形成し、この上下部の斜め噴流吐出管を搬送通路の搬送方向に間隔をおいた複数位置に、搬送通路の左側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管と、搬送通路の右側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管としてそれぞれ配設し、且つ、前記搬送通路を間にした電解メッキ処理槽の左右両側にオーバーフロー口を設けたオーバーフロー槽を配設し、電解メッキ処理槽の左右両側に設けたオーバーフロー口から溢れたメッキ処理槽内の処理液をオーバーフロー槽へ流出するようにしたことを特徴とする板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置。
【請求項２】
前記搬送通路の左側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管と、搬送通路の右側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管を搬送通路の搬送方向に一定の間隔をおいた複数位置に交互に配設したことを特徴とする、請求項１に記載の板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置。
【請求項３】
下部斜め噴流吐出管に形成した多数の吐出ノズルの形成範囲は、板状被処理物の搬送通路の横幅より広い範囲としたことを特徴とする、請求項１に記載の板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置。
【請求項４】
上部斜め噴流吐出管は板状被処理物の搬送通路と上部陽極の間に配設し、下部斜め噴流吐出管は板状被処理物の搬送通路と下部陽極の間に配設した請求項１に記載の板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置。
【請求項５】
前記オーバーフロー槽から液排出管を介して排出される処理液を受ける液管理槽を備え、この液管理槽と上下部の斜め噴流吐出管が液供給管を介してそれぞれ接続され、この液供給管の途中に循環ポンプを介設し、この循環ポンプの作動で前記液管理槽内の処理液が前記液供給管を介して上下部の斜め噴流吐出管に送給される液循環式とした請求項１に記載の板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、プリント基板等の板状被処理物を水平搬送させながら電解メッキ処理する水平電解メッキ装置において、電解メッキ処理中に被処理物の板面に付着する大量の酸素ガス泡を効率的に除去し、泡付着に起因するメッキ被膜のばらつきを解消し、均一なメッキ被膜の形成を可能する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に、電解室内の電解浴中に上部陽極と下部陽極を配設し、電解浴中の上部陽極と下部陽極の間を板状物体が水平状態で連続的に通過されることによって、板状物体上に金属を電着する電解処理装置が公開されている。
【０００３】
このような電解処理装置では、陽極として特に不溶性陽極を用いた場合、この陽極の所から大量の酸素ガスが発生し、この酸素ガスは電解浴中で大量の酸素ガス泡となって電解浴中を上昇する。大量発生した酸素ガス泡は水平姿勢で水平方向に搬送させながら電解メッキ処理される板状被処理物の板面に滞留し付着され易く、特に水平搬送される板状被処理物の下面部は酸素ガス泡の上昇現象で大量の酸素ガス泡が溜まり易い。水平搬送される板状被処理物の板面（特に下面部）に付着した大量の酸素ガス泡は、メッキされる板面と電解浴の接触を妨げ、板状被処理物の板面に均一なメッキ被膜を形成するのに大きな妨げとなっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特公平６−３１４７６号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
本考案は、このような実情に鑑み、電解浴中の上下の陽極間をプリント基板等の板状被処理物が水平姿勢で水平方向に搬送通過される過程でこの板状被処理物の板面に電解メッキする水平電解メッキ装置において、電解メッキ処理中に板状被処理物の板面に付着する大量の酸素ガス泡を効率的に除去し、この酸素ガス泡の付着に起因したメッキ被膜のばらつきを解消し、板状被処理物に均一なメッキ被膜を形成することを技術課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記した課題を解決するため、本考案（請求項１の考案）は、平行な両側縁部をもつ板状被処理物（例えばプリント配線基板）の両側縁部をエンドレスに回転駆動される複数のクランプで保持し、電解メッキ処理槽の電解メッキ処理液中を板状被処理物の板面が上下になる水平姿勢で水平方向に連続搬送する搬送装置と、前記電解メッキ処理槽の電解メッキ処理液中に配設され、前記搬送装置で水平搬送される板状被処理物の搬送通路の上下位置に配設された上部陽極と下部陽極を備え、この上部陽極と下部陽極の間を搬送及び給電手段としての前記クランプを通じて陰極電流を給電された前記板状被処理物が水平に通過されることによって、前記板状被処理物の表面にメッキ被膜を形成する水平電解メッキ装置において、前記電解メッキ処理槽の処理液中であって、前記板状被処理物の搬送通路を間にした上下位置に上部斜め噴流吐出管と下部斜め噴流吐出管を配設し、この上下部の斜め噴流吐出管は前記被処理物の搬送方向と交差する方向に間隔をおいて多数の吐出ノズルをそれぞれ形成し、この上下部の斜め噴流吐出管の吐出ノズルは搬送通路を水平に通過する前記板状被処理物の相対する上下板面に向けてそれぞれ処理液を吐出すると共に該搬送通路の左右いずれか一方の同じ側部方向に向け斜めに処理液を吐出する斜め噴流を吐出するように形成し、この上下部の斜め噴流吐出管を搬送通路の搬送方向に間隔をおいた複数位置に、搬送通路の左側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管と、搬送通路の右側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管としてそれぞれ配設し、且つ、前記搬送通路を間にした電解メッキ処理槽の左右両側にオーバーフロー口を設けたオーバーフロー槽を配設し、電解メッキ処理槽の左右両側に設けたオーバーフロー口から溢れたメッキ処理槽内の処理液をオーバーフロー槽へ流出するようにしたことを特徴とする板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置を提供する。
【０００７】
この考案によれば、板状被処理物の板面に付着した酸素ガス泡は斜め噴流吐出管の吐出ノズルから吐出する斜め噴流で板面から離脱されると共に搬送通路の側部方向に強制移動され、強制移動された酸素ガス泡はその上昇現象によって移動先で電解浴中を上昇し、電解浴中を上昇した酸素ガス泡は前記オーバーフロー口から溢れオーバーフローする処理液の流れに誘導されてオーバーフロー槽に流出する。このように、本考案は、搬送通路の左右の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した斜め噴流吐出管と搬送通路を間にした電解メッキ処理槽の左右両側に配設したオーバーフロー槽の働きによって、板面に付着した酸素ガス泡を効果的に除去できると共に、除去した酸素ガス泡をオーバーフローする液に誘導されオーバーフロー槽に流出できる。したがって、考案によれば、板状被処理物の板面に付着した酸素ガス泡に起因するメッキ被膜のばらつきを解消でき、板状被処理物の板面に均一なメッキ被膜を形成できる。
【０００８】
また、上記した課題を解決するため、本考案（請求項２の考案）は、前記搬送通路の左側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管と、搬送通路の右側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管を搬送通路の搬送方向に一定の間隔をおいた複数位置に交互に配設した、板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置を提供する。
【０００９】
この考案によれば、搬送通路を水平に通過する板状被処理物はその板面に左右方向の斜め噴流を交互に受けることになるため、板面に付着した酸素ガス泡を左右方向に交互に強制移動でき、酸素ガス泡をより効率的に板面から離脱でき除去できる。さらに、搬送通路を水平に通過する板状被処理物の板面付近の処理液を均等に撹拌混合でき、板面付近の処理液の停滞よどみを効果的に解消できる。
【００１０】
また、上記した課題を解決するため、本考案（請求項３の考案）は、下部斜め噴流吐出管に形成した多数の吐出ノズルの形成範囲は、板状被処理物の搬送通路の横幅より広い範囲としたことを特徴とする、板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置を提供する。この考案によれば、水平搬送される板状被処理物の下面部に付着した大量の酸素ガス泡を特に効果的に除去できる。よって、水平搬送される板状被処理物の下面部は酸素ガス泡の上昇現象で大量の酸素ガス泡が溜まり易い、という弊害を解消できる。
【００１１】
また、本考案の上部斜め噴流吐出管は板状被処理物の搬送通路と上部陽極の間に配設し、下部斜め噴流吐出管は板状被処理物の搬送通路と下部陽極の間に配設してある。
【００１２】
また、本考案は、前記オーバーフロー槽から液排出管を介して排出される処理液を受ける液管理槽を備え、この液管理槽と上下部の斜め噴流吐出管が液供給管を介してそれぞれ接続され、この液供給管の途中に循環ポンプを介設し、この循環ポンプの作動で前記液管理槽内の処理液が前記液供給管を介して上下部の斜め噴流吐出管に送給される液循環式とした、板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置を提供する。
【考案の効果】
【００１３】
本考案によれば、電解浴中の上下の陽極間をプリント基板等の板状被処理物が水平姿勢で水平方向に搬送通過される過程でこの板状被処理物の板面に電解メッキする水平電解メッキ装置において、電解メッキ処理中に板状被処理物の板面に付着する大量の酸素ガス泡を効率的に除去できるため、この酸素ガス泡の付着に起因したメッキ被膜のばらつきを解消し、板状被処理物に均一なメッキ被膜を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本考案の実施形態を示す概略平面図である。
【図２】本考案の実施形態を示す一部縦断側面図である。
【図３】左右方向への斜め噴流を説明的に示した概略側面図である。
【図４】上下の斜め噴流吐出管の配設状態を示した概略正面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１５】
本考案の実施形態を図面に基づいて説明する。図１，図２の水平電解メッキ装置は、平行な両側縁部をもつ板状被処理物Ｐ（例えばプリント配線基板などの薄板状被処理物）の両側縁部をエンドレスに回転駆動される複数のクランプ５で保持し、電解メッキ処理槽１の処理液（電解メッキ処理液）Ｗ中を板状被処理物Ｐの板面が上下になる水平姿勢で水平方向に連続搬送する搬送装置３と、前記電解メッキ処理槽１の処理液Ｗ中に配設され、前記搬送装置３で水平搬送される板状被処理物Ｐの搬送通路２の上下位置に配設された陽極１５（上部陽極１５Ａ，下部陽極１５Ｂ）を備え、この上部陽極１５Ａと下部陽極１５Ｂの間を搬送及び給電手段としての前記クランプ５を通じて陰極電流を給電された前記板状被処理物Ｐが水平に通過されることによって、前記板状被処理物Ｐの表面に金属メッキ被膜を形成するものである。
【００１６】
図１は、板状被処理物Ｐが板面を上下にした水平状態で左側から電解メッキ処理槽１に供給され、該処理槽１を該水平状態で連続的に矢印Ａの方向に搬送させて通過し、電解メッキ処理後に処理槽１から右方向へ搬出される、装置の概略平面図を示している。なお、水平状態の板状被処理物Ｐを電解メッキ処理槽１に搬入する横長の搬入口１ａ、水平状態の板状被処理物Ｐを電解メッキ処理槽１から搬出する横長の搬出口１ｂには、この搬入口１ａと搬出口１ｂに対応する処理槽１内側に上下二段のシールローラ（図示せず）を水平に配設し、処理液Ｗが搬入口１ａと搬出口１ｂから漏れないようにシールされている。
【００１７】
前記搬送装置３は、板状被処理物Ｐの搬送通路２を間にした両側にエンドレスに回転駆動される搬送駆動ベルト４，４を備えた搬送手段をそれぞれ配設し、この搬送駆動ベルト４に等間隔をおいて多数のクランプ５・・・を取付け、前記搬送通路２を間にして互いに平行な内側の直線駆動経路部を移動する複数のクランプ５で平行な両側縁部をもつ板状被処理物Ｐの両側縁部を上下方向から挟持し、該板状被処理物Ｐの板面を上下にした水平状態で電解メッキ処理槽１のメッキ処理液Ｗ中を一方向（矢印Ａ方向）に連続的に水平搬送するように構成されている。
【００１８】
前記搬送駆動ベルト４は、ローラ６，６に巻架され、搬送駆動用モータ（図示せず。）によって一方のローラ６を回転駆動させて、エンドレスに回転駆動されるように成っている。前記ローラ６には搬送駆動ベルト（タイミングベルト）４に合う歯が設けられている。エンドレスに回転駆動される前記搬送駆動ベルト４に等しい間隔を置いて取付けたクランプ５・・・は、図１に示したように複数のクランプ５で矩形の板状被処理物Ｐの側縁部を挟持できる間隔に取付けてある。なお、図１では、クランプ５・・・をエンドレスの搬送駆動ベルト４の一部範囲のみで表示したが、搬送駆動ベルト４の全範囲に亘り等間隔に取付けてある。搬送通路２を間にした両側に設けた搬送駆動ベルト４，４は、等速度で同期回転駆動されるように成っている。この搬送装置３，３による板状被処理物Ｐの搬送速度は、１分当たり０．５ｍ〜２ｍとしてあり、板状被処理物の表面処理条件によって可変としてある。
【００１９】
前記クランプ５は、図２にその概略構成を示したように、上方部分が空中で陰極電流を給電され、下方部分が電解メッキ処理槽１のメッキ処理液Ｗ中を移動可能な位置に配される上下方向に長い構造を有し、下端部に板状被処理物Ｐの側端部を上下方向において保持及び開放するクランプ接点部７（上クランプ接点部と下クランプ接点部）を備えている。このクランプ接点部７を除く通電材から成るクランプ５の液中での液接触部分は絶縁被覆処理してある。図２に示したクランプ５は、前記搬送駆動ベルト４に取付けられる共に後述する固定ガイドレール（給電レール）８に係合される固定側クランプ杆９（この固定側クランプ杆９の下端部に下クランプ接点部を形成してある。）と、この固定側クランプ杆９に上下動自在に保持される可動側クランプ杆１０を備え、この可動側クランプ杆１０の下端部に形成した上クランプ接点部は、圧縮バネ１１のバネ圧によって下動され、常態においてクランプ接点部７（上クランプ接点部と下クランプ接点部）を上下方向に閉じた状態に制御してある。搬送通路２の始端部２ａ位置と終端部２ｂ位置におけるクランプ移動経路に高低差のあるクランプ開閉ガイド（図示せず）を配設し、クランプ５がクランプ開閉ガイド位置を通過する際に、クランプの上方部分に設けたクランプ開閉ガイド係合部材（図示せず）がクランプ開閉ガイドの高位ガイド面部に係合され、前記圧縮バネ１１のバネ圧に抗して前記可動側クランプ杆１０の上クランプ接点部を固定側クランプ杆９の下クランプ接点部から離間されるように上動させ、クランプ接点部７を上下方向に離間させた開状態に制御するように構成されている。これによって、被処理物Ｐの搬送通路２の始端部２ａを通過するクランプ５を開状態から被処理物の側縁部をクランプ可能な閉状態に制御し、被処理物Ｐの搬送通路２の終端部２ｂを通過するクランプ５を閉状態から被処理物の側縁部を開放可能な開状態に制御できるようにしている。
【００２０】
図２に示した断面矩形状の導電金属材からなる固定ガイドレール（給電レール）８は、前記搬送駆動ベルト４の内側の直線駆動経路部の下方位置に該直線駆動経路部と平行に配置してある。この固定ガイドレール（給電レール）８は搬送通路２の範囲にわたって延ばされている。内側の直線駆動経路部を移動するクランプ５は、この固定ガイドレール（給電レール）８に摺動接触されガイドされながら移動される。本考案では前記固定ガイドレール８を給電レールとして機能させ、この固定ガイドレール（給電レール）８から導電性のクランプ５を通じて薄板状被処理物Ｐに陰極電流を給電するようにしてある。
【００２１】
前記陽極１５（上部陽極１５Ａ、下部陽極１５Ｂ）として、この実施例では、プレート状に形成した陽極を用いている。このプレート状の陽極１５（上部陽極１５Ａ、下部陽極１５Ｂ）を、メッキ処理液Ｗ中を水平搬送される板状被処理物Ｐの搬送通路２の上下位置に該板状被処理物Ｐの板面と平行に配設し、かつ該板状被処理物Ｐの搬送方向に一定の空間部をおいて複数配設してある。前記電解メッキ処理槽１のメッキ処理液Ｗ中に金属イオンを析出する上下の陽極１５の間を前記クランプ５を通じて陰極電流を給電された前記板状被処理物Ｐが水平に通過される過程でその表面に電気メッキ処理が施される。
【００２２】
背景技術で述べたように、このような電解処理装置では、陽極１５として特に不溶性陽極を用いた場合、この陽極１５の所から大量の酸素ガスが発生し、この酸素ガスは電解浴中で大量の酸素ガス泡となって電解浴Ｗ中を上昇する。大量発生した酸素ガス泡は水平姿勢で水平方向に搬送させながら電解メッキ処理される板状被処理物Ｐの板面に滞留し付着され易く、特に水平搬送される板状被処理物Ｐの下面部は酸素ガス泡の上昇現象で大量の酸素ガス泡が溜まり易い。水平搬送される板状被処理物Ｐの板面（特に下面部）に付着した大量の酸素ガス泡は、メッキされる板面と電解浴の接触を妨げ、板状被処理物の板面に均一なメッキ被膜を形成するのに大きな妨げとなっている。
【００２３】
この問題を解決するため、本考案は、搬送通路２の左右の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した斜め噴流吐出管２０（上部斜め噴流吐出管２０Ａと下部斜め噴流吐出管２０Ｂ）と、搬送通路２を間にした電解メッキ処理槽１の左右両側にオーバーフロー口２６を設けたオーバーフロー槽２５，２５を配設させている。
【００２４】
前記斜め噴流吐出管２０は、前記電解メッキ処理槽１の処理液Ｗ中であって、前記板状被処理物Ｐの搬送通路２を間にした上下位置に上部斜め噴流吐出管２０Ａと下部斜め噴流吐出管２０Ｂを配設してある。この上下部の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂは、前記板状被処理物Ｐの搬送方向に対してほぼ直交する方向にそれぞれ樹脂製の丸パイプ状の管路を延ばし、この管路には前記被処理物の搬送方向と直交する方向に一定の間隔をおいて多数の吐出ノズル（図示せず）をそれぞれ形成してある。この上下部の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂの吐出ノズルは、図２及び図３のイロに示したように、搬送通路２を水平に通過する前記板状被処理物Ｐの相対する上下板面に向けてそれぞれ処理液を吐出すると共に、該搬送通路２の左右いずれか一方の同じ側部方向に向け斜めに処理液Ｗを吐出する斜め噴流Ｇを吐出するように形成してある。この上下部の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂを搬送通路２の搬送方向に間隔をおいた複数位置に、図３のイロに示したように、搬送通路２の左側の側部方向に向けた斜め噴流Ｇを吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂと、搬送通路の右側の側部方向に向けた斜め噴流Ｇを吐出する吐出ノズルを形成した上下部の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂとしてそれぞれ配設している。
【００２５】
図１及び図２に示したように、上部斜め噴流吐出管２０Ａは板状被処理物Ｐの搬送通路２と上部陽極１５Ａの間に配設し、下部斜め噴流吐出管２０Ｂは板状被処理物Ｐの搬送通路２と下部陽極１５Ｂの間に配設してある。なお、この実施例に限定されずに、上下のプレート状の陽極１５Ａ，１５Ｂを被処理物の搬送方向に一定の空間部をおいて複数配設し、この空間部に上下の斜め噴流吐出管を配設するようにしても良い。
【００２６】
前記オーバーフロー槽２５，２５は、電解メッキ処理槽１の左右両側に設けたオーバーフロー口２６から溢れたメッキ処理槽１内の処理液をオーバーフロー液としてオーバーフロー槽２５へ流出するようにしてある。この実施例ではオーバーフロー口２６を電解メッキ処理槽１の側部に沿って長く形成してある。
【００２７】
図２に示したように、前記オーバーフロー槽２５，２５から液排出管２７を介して排出される処理液を受ける液管理槽２８（この液管理槽２８で液の濃度等が調整される。）がオーバーフロー槽２５，２５より低位置に配設されている。この液管理槽２８と上下部の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂが液供給管２１（符号２１Ａは上部斜め噴流吐出管２０Ａに噴流液を供給する液供給管、符号２１Ｂは下部斜め噴流吐出管２０Ｂに噴流液を供給する液供給管をそれぞれ示している。）を介してそれぞれ接続され、この液供給管２１の途中に循環ポンプ２９を介設してある。この循環ポンプ２９の作動で前記液管理槽２８内の処理液が前記液供給管２１（２１Ａ，２１Ｂ）を介して上下部の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂに送給され、斜め噴流吐出管２０の吐出ノズルから斜め噴流として吐出される、液循環式にしてある。
【００２８】
図２から理解できるように、板状被処理物Ｐの板面に付着した酸素ガス泡Ｂは斜め噴流吐出管２０の吐出ノズルから吐出する斜め噴流Ｇで板面から搬送通路の側部方向に噴き飛ばされて強制移動され、強制移動された酸素ガス泡Ｂはその上昇現象によって移動先で電解浴Ｗ中を上昇し、電解浴Ｗ中を上昇した酸素ガス泡Ｂは矢印Ｆのように前記オーバーフロー口２６から溢れオーバーフローする処理液の流れに誘導されてオーバーフロー口２６からオーバーフロー槽２５に流出する。なお、図２では、図面の繁雑さを避けるため、一方の側部方向へ向けた斜め噴流Ｇのみ示し、反対方向への斜め噴流Ｇの図示は省略してある。このように、本考案は、搬送通路の左右の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した斜め噴流吐出管２０と搬送通路を間にした電解メッキ処理槽の左右両側に配設したオーバーフロー槽２５の働きによって、板面に付着した酸素ガス泡を効果的に除去できると共に、除去した酸素ガス泡をオーバーフローする液に誘導されてオーバーフロー槽に流出できる。したがって、考案によれば、板状被処理物の板面に付着した酸素ガス泡に起因するメッキ被膜のばらつきを解消でき、板状被処理物の板面に均一なメッキ被膜を形成できる。
【００２９】
図１及び図３に示したように、搬送通路２を間にして上下の相対位置に配設した上下の噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂは同じ側部方向に向けて斜めに処理液を吐出する斜め噴流を吐出する多数の吐出ノズルを形成し、搬送通路２の左側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂと、搬送通路２の右側の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する吐出ノズルを形成した上下の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂを搬送通路２の搬送方向に一定の間隔をおいた複数位置に交互に配設してある。図１において斜め噴流吐出管２０に沿って示した矢印の方向は斜め噴流による酸素ガス泡の移動方向（噴き飛ばし方向）を示している。
【００３０】
左右の側部方向に向けた斜め噴流を吐出する上下の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂを搬送方向に交互に配設した図１の実施例によれば、搬送通路２を水平に通過する板状被処理物Ｐはその板面に左右方向の斜め噴流を交互に受けることになるため、板面に付着した酸素ガス泡を左右方向に交互に噴き飛ばし強制移動でき、酸素ガス泡をより効率的に板面から離脱でき除去できる。さらに、搬送通路２を水平に通過する板状被処理物Ｐの板面付近の処理液Ｗを均等に撹拌混合でき、板面付近の処理液Ｗの停滞よどみを効果的に解消できる。
【００３１】
図１の実施例は同本数（図１では各６本）の上下の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂが搬送通路を間にした上下の相対位置（図４に示したように）に配設されている。上下の相対位置（図４に示したように）に配設した上下の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂの前記搬送通路２の搬送方向における配設間隔を図１の実施例より狭く設定（例えば１００ｍｍピッチ前後）し、上下の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂの配設本数を図１の実施例の配設本数より数多く配設するのが好ましい。前記した如く、水平搬送される板状被処理物Ｐの下面部は酸素ガス泡の上昇現象で大量の酸素ガス泡が溜まり易い。このように、上下の斜め噴流吐出管２０Ａ，２０Ｂの配設本数を数多く配設すれば、水平搬送される板状被処理物の下面部に付着した大量の酸素ガス泡をより効果的に除去できる。
【００３２】
また、図１，図２の実施例では、下部斜め噴流吐出管２０Ｂの管長さを板状被処理物Ｐの搬送通路２の横幅より長く形成し、下部斜め噴流吐出管２０Ｂに形成した多数の吐出ノズルの形成範囲を、板状被処理物Ｐの搬送通路２の横幅より広い範囲としてある。前記した如く、水平搬送される板状被処理物の下面部は酸素ガス泡の上昇現象で大量の酸素ガス泡が溜まり易い。このように、下部斜め噴流吐出管２０Ｂに形成した多数の吐出ノズルの形成範囲を、板状被処理物Ｐの搬送通路２の横幅より広い範囲とすれば、水平搬送される板状被処理物Ｐの下面部に付着した大量の酸素ガス泡を特に効果的に除去できる。
【符号の説明】
【００３３】
１  電解メッキ処理槽
Ｗ  処理液（電解メッキ処理液）
Ｐ  板状被処理物
２  搬送通路
３  搬送装置
４  搬送駆動ベルト
５  クランプ
７  クランプ接点部
８  固定ガイドレール（給電レール）
１５  陽極
１５Ａ  上部陽極
１５Ｂ  下部陽極
２０  斜め噴流吐出管
２０Ａ  上部斜め噴流吐出管
２０Ｂ  下部斜め噴流吐出管
Ｇ  斜め噴流
２１（２１Ａ，２１Ｂ）  液供給管
２５  オーバーフロー槽
２６  オーバーフロー口
２７  液排出管
２８  液管理槽
２９  循環ポンプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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