(57)【要約】【課題】拭き取りパッドの汚れを低減して、スリットノズルの洗浄能力を維持するための塗布ノズル洗浄装置を提供すること。【解決手段】基板に処理液を塗布する長尺状の塗布ノズルの吐出口周辺に沿って塗布ノズルの長手方向と平行に水平な走査方向に移動するキャリッジ６４と、キャリッジに設置され、前記走査方向に移動しながら塗布ノズルの吐出口周辺部に摺接して該吐出口周辺部に付着した処理液を拭き取り除去する拭き取りパッド７２，７６と、を具備する塗布ノズル洗浄装置において、キャリッジを収容する容器４４の上部に配置され、拭き取りパッドの拭き取り面７２ｄ、７６ｄに向かって洗浄流体を吐出して拭き取り面を洗浄する拭き取りパッド洗浄ノズル１００を具備する。【選択図】図７
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理液を塗布する長尺状の塗布ノズルの吐出口周辺に沿って前記塗布ノズルの長手方向と平行に水平な走査方向に移動するキャリッジと、
前記キャリッジに設置され、前記走査方向に移動しながら前記塗布ノズルの吐出口周辺部に摺接して該吐出口周辺部に付着した処理液を拭き取り除去する拭き取りパッドと、を具備する塗布ノズル洗浄装置において、
前記キャリッジを収容する容器の上部に配置され、前記拭き取りパッドの拭き取り面に向かって洗浄流体を吐出して前記拭き取り面を洗浄する拭き取りパッド洗浄ノズルを具備することを特徴とする塗布ノズル洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄流体をスプレー状に吐出することを特徴とする請求項１に記載の塗布ノズル洗浄装置。
【請求項３】
前記拭き取りパッド洗浄ノズルは前記拭き取りパッドに対して相対的に移動自在に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布ノズル洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄流体として、洗浄液を用いることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布ノズル洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄流体として、気体を用いることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布ノズル洗浄装置。
【請求項６】
前記拭き取りパッド洗浄ノズルの上方に配置され、前記容器と協同して前記拭き取りパッド及び拭き取りパッド洗浄ノズルの周辺に閉空間を形成するノズルカバーを具備することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布ノズル洗浄装置。
【請求項７】
前記閉空間内を排気するための排気ポートを有することを特徴とする請求項６に記載の塗布ノズル洗浄装置。
【請求項８】
前記ノズルカバーは、前記塗布ノズルが前記閉空間に入退出するための開口と、この開口を前記閉空間の外部と遮断するためのエアーカーテンノズルと、を具備することを特徴とする請求項６又は７に記載の塗布ノズル洗浄装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、塗布ノズル洗浄装置に係わり、特に塗布処理に用いる長尺状の塗布ノズルの吐出口周辺部に付着した処理液を拭き取る拭き取りパッドを洗浄するための塗布ノズル洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、ガラス基板等の被処理基板に対してスリット形状の吐出口を有する長尺型のスリットノズルを相対的に移動させて、基板上に処理液又は薬液等の塗布液例えばレジスト液を塗布する非回転の塗布法がよく用いられている。
【０００３】
例えば、ステージ上に固定して載置される基板に対してスリットノズルよりレジスト液を帯状に吐出させながら、スリットノズルをノズル長手方向と直交する水平な一方向に移動させる。そうすると、スリットノズルの吐出口から基板上に溢れたレジスト液がノズル後方に平坦に延びて、基板一面にレジスト塗布膜が形成される（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
また、他の手法として、ステージ上で基板を空中に浮かせたまま水平な一方向（ステージ長手方向）に搬送する浮上搬送方式も多く用いられている。この方式では、浮上ステージの上方に設置された長尺型のスリットノズルがその直下を通過する基板に向けてレジスト液を帯状に吐出することにより、基板搬送方向において基板の前端部から後端部に向かって基板上一面にレジスト塗布膜が形成される（例えば特許文献２参照）。
【０００５】
スリットノズルにおいては、吐出動作を止めた際に、吐出口付近にレジスト液が付着又は残留しやすい。これがそのまま放置されて乾燥凝固すると、次回の塗布処理の際にレジスト吐出流を妨げ、又は乱して、レジスト膜厚の変動を招く虞がある。そこで、塗布処理部に隣接して設置されるノズル待機部に、次回の塗布処理に備えてスリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置が設けられる。スリットノズル洗浄装置は、スリットノズルの吐出口周辺に付着したレジスト液を拭き取るワイパー部材である拭き取りパッドを有している（例えば特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１５６２５５号公報
【特許文献２】特開２００５−２３６０９２号公報
【特許文献３】特開２０１１−１６７６０７号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献３に記載のスリットノズルの洗浄装置においては、拭き取りパッドにより、スリットノズルの吐出口周辺は洗浄される。しかし、洗浄回数を重ねるうちに、拭き取りパッドにレジスト液が付着し、スリットノズルの洗浄能力が低減する虞があった。
【０００８】
本考案は、上記の従来技術の問題点を解決するものであり、拭き取りパッドの汚れを低減して、スリットノズルの洗浄能力を維持するための塗布ノズル洗浄装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、請求項１記載の塗布ノズル洗浄装置は、基板に処理液を塗布する長尺状の塗布ノズルの吐出口周辺に沿って前記塗布ノズルの長手方向と平行に水平な走査方向に移動するキャリッジと、前記キャリッジに設置され、前記走査方向に移動しながら前記塗布ノズルの吐出口周辺部に摺接して該吐出口周辺部に付着した処理液を拭き取り除去する拭き取りパッドと、を具備する塗布ノズル洗浄装置において、前記キャリッジを収容する容器の上部に配置され、前記拭き取りパッドの拭き取り面に向かって洗浄流体を吐出して前記拭き取り面を洗浄する拭き取りパッド洗浄ノズルを具備することを特徴とする。
【００１０】
請求項２記載の考案は、前記洗浄流体をスプレー状に吐出することを特徴とする。
【００１１】
請求項３記載の考案は、前記拭き取りパッド洗浄ノズルは前記拭き取りパッドに対して相対的に移動自在に形成されていることを特徴とする。
【００１２】
本考案において、前記洗浄流体として、洗浄液を用いるか(請求項４)、あるいは、気体を用いる（請求項５）ことができる。
【００１３】
また、請求項６記載の考案は、請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布ノズル洗浄装置において、前記拭き取りパッド洗浄ノズルの上方に配置され、前記容器と協同して前記拭き取りパッド及び拭き取りパッド洗浄ノズルの周辺に閉空間を形成するノズルカバーを具備することを特徴とする。
【００１４】
請求項７記載の考案は、請求項６に記載の塗布ノズル洗浄装置において、前記閉空間内を排気するための排気ポートを有することを特徴とする。
【００１５】
請求項８記載の考案は、請求項６又は７に記載の塗布ノズル洗浄装置において、前記ノズルカバーは、前記塗布ノズルが前記閉空間に入退出するための開口と、この開口を前記閉空間の外部と遮断するためのエアーカーテンノズルと、を具備することを特徴とする。
【考案の効果】
【００１６】
本考案の塗布ノズル洗浄装置によれば、拭き取りパッドが汚れたときに、拭き取りパッドを洗浄することができる。そして、拭き取りパッドをきれいな状態に保てるので、スリットノズルの洗浄能力の低減を防止できる。また、本考案の塗布ノズル洗浄装置によれば、洗浄ノズルから吐出された洗浄流体のミストが基板の塗布処理面に付着することを防止できるので、製品の歩留まりの低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本考案における洗浄ノズル及びノズルカバーの適用可能なレジスト塗布装置の一構成例を示す平面図である。
【図２】上記レジスト塗布装置におけるスリットノズル構造を示す断面図である。
【図３】上記レジスト塗布装置におけるスリットノズルの外観構造及び基板上にレジスト塗布液が形成される様子を示す正面図である。
【図４】上記レジスト塗布装置に備えられるノズルリフレッシュ部の構成を示す断面図である。
【図５】上記ノズルリフレッシュ部に組み込まれるスリットノズル洗浄部の構成を示す斜視図である。
【図６】上記スリットノズル洗浄部の構成を示す斜視図である。
【図７】上記ノズルリフレッシュ部に組み込まれた、本考案における洗浄ノズル及びノズルカバーの構成を示す断面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付図を参照して、本考案の好適な実施形態を説明する。
【００１９】
このレジスト塗布装置は、図１に示すように、被処理基板例えばＦＰＤ用のガラス基板Ｇを気体の圧力によって空中に浮かす浮上ステージ１０と、この浮上ステージ１０上で空中に浮いている基板Ｇを浮上ステージ長手方向（Ｘ方向）に搬送する基板搬送機構２０と、浮上ステージ１０上を搬送される基板Ｇの上面にレジスト液を供給するＹ方向に長尺状の塗布ノズルであるスリットノズル３２と、塗布処理の合間にスリットノズル３２をリフレッシュするノズルリフレッシュ部４２とを有している。
【００２０】
浮上ステージ１０の上面には所定のガス（例えばエア）を上方に噴射する多数のガス噴射孔１２が設けられており、それらのガス噴射孔１２から噴射されるガスの圧力によって基板Ｇがステージ上面から一定の高さに浮上するように構成されている。
【００２１】
基板搬送機構２０は、浮上ステージ１０を挟んでＸ方向に延びる一対のガイドレール２２Ａ，２２Ｂと、これらのガイドレール２２Ａ，２２Ｂに沿って往復移動可能な一対のスライダ２４と、浮上ステージ１０上で基板Ｇの両側端部を着脱可能に保持するようにスライダ２４に設けられた吸着パッド等の基板保持部材（図示せず）とを備えており、直進移動機構（図示せず）によりスライダ２４を搬送方向（Ｘ方向）に移動させることによって、浮上ステージ１０上で基板Ｇの浮上搬送を行うように構成されている。
【００２２】
スリットノズル３２は、浮上ステージ１０の上方を搬送方向（Ｘ方向）と直交する水平方向（Ｙ方向）に横断し、その直下を通過する基板Ｇの上面（被処理面）に対してスリット状の吐出口よりレジスト液Ｒを帯状に吐出するようになっている。また、スリットノズル３２は、例えばボールねじ機構やガイド部材等を含むノズル昇降機構２６により、このノズルを支持するノズル支持部材２８と一体に鉛直方向（Ｚ方向）に移動可能に昇降可能に構成されている。
【００２３】
また、図２に示すように、スリットノズル３２は、ノズル長手方向（Ｙ方向）に平行に延びるフロントリップ３３Ｆ及びリアリップ３３Ｒからなり、これら一対のリップ３３Ｆ，３３Ｒを突き合わせてボルト（図示せず）で一体結合し、スリット状の吐出口３２ａを有している。スリットノズル３２の吐出口３２ａと平行に延びる両側のノズル側面３２ｆ，３２ｒが、吐出口３２ａに向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されている。そして、スリットノズル３２は、レジスト液容器や送液ポンプ等からなるレジスト供給部（図示せず）にレジスト供給管３０を介して接続されている。
【００２４】
スリットノズル３２に隣接して浮上ステージ１０の上方にノズルリフレッシュ部４２が設けられている。このノズルリフレッシュ部４２の詳細は、図４〜図７を参照して後述する。
【００２５】
次に、このレジスト塗布装置におけるレジスト塗布動作を説明する。先ず、前段のユニット例えば熱的処理ユニット（図示せず）より基板Ｇが基板搬入機構（図示せず）を介して浮上ステージ１０の前端側に設定された搬入エリアに搬入され、そこで待機していたスライダ２４が基板Ｇを保持して受け取る。浮上ステージ１０上で基板Ｇはガス噴射孔１２より噴射されるガス（例えば高圧エア）の圧力を受けて略水平な姿勢で浮上状態を保つ。
【００２６】
こうして基板Ｇが水平姿勢で搬送方向（Ｘ方向）に一定速度で移動するのと同時に、スリットノズル３２が直下の基板Ｇに向けてレジスト液を所定の圧力又は流量で帯状に吐出することにより、図２及び図３に示すように基板Ｇの前端側から後端側へ向かって膜厚の均一なレジスト液の塗布膜ＲＭが形成されていく。
【００２７】
基板Ｇの後端がスリットノズル３２の下を通過すると、基板一面にレジスト塗布膜ＲＭが形成される。次いで、基板Ｇは、その後もスライダ２４により浮上ステージ１０上で浮上搬送され、浮上ステージ１０の後端に設定された搬出エリアより基板搬出機構（図示せず）を介して後段のユニット（図示せず）へ送られる。
【００２８】
図４に、ノズルリフレッシュ部４２内の構成を示す。ノズルリフレッシュ部４２は、スリットノズル３２の吐出口を乾燥防止の目的から溶剤蒸気の雰囲気中に保つためのノズルバス５０と、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）を洗浄するためのスリットノズル洗浄部５２とを併設している。なお、ノズルバス５０及びスリットノズル洗浄部５２は、容器４４に収容されている。
【００２９】
レジスト塗布時には吐出口３２ａだけでなく両側のノズル側面３２ｆ，３２ｒの下端部もレジスト液Ｒで濡れ、レジスト塗布処理が終了した後の吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ，３２ｒの下端部にはレジスト液Ｒの汚れが残る。そこで、塗布処理を終えたスリットノズル３２は、最初にスリットノズル洗浄部５２により洗浄処理を受け、次いでノズルバス５０内で待機する。
【００３０】
スリットノズル３２をノズルリフレッシュ部４２内の各部（５０，５２）に着かせるには、図示しない制御部の制御の下で駆動する駆動部、例えばモータＭを有するボールねじ機構等からなるＸ方向移動部５４によりノズルリフレッシュ部４２の全体つまり容器４４を基板搬送方向（Ｘ方向）で移動させるとともに、ノズル昇降機構２６（図１参照）によりスリットノズル３２を鉛直方向（Ｚ方向）で移動させる。
【００３１】
図５に示すように、スリットノズル洗浄部５２は、Ｙ方向移動部６０にジョイント部材６２を介して結合され、スリットノズル３２の吐出口周辺部に沿ってスリットノズル３２の長手方向と平行に水平な洗浄走査方向（Ｙ方向）で移動するキャリッジ６４を有している。Ｙ方向移動部６０は、Ｙ方向に延びるレール６６と、このレール６６上を移動する可動ユニット６８とを有している。キャリッジ６４は、スリットノズル３２の吐出口周辺部に対して位置合わせをしてから、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動するようになっている。
【００３２】
スリットノズル洗浄部５２は、このキャリッジ６４に、洗浄走査方向において第１洗浄ユニット７０を先頭に以下第１拭き取りパッド７２、第２洗浄ユニット７４、第２拭き取りパッド７６及び乾燥ユニット７８をこの順序で一列に並べて載置している。これら第１，第２洗浄ユニット７０，７４、第１，第２拭き取りパッド７２，７６及び乾燥ユニット７８の各々は、キャリッジ６４にカセット式で着脱可能に装着されるようになっている。
【００３３】
図６に、洗浄走査の斜め前方から見たスリットノズル洗浄部５２の要部の構成を示す。
【００３４】
第１及び第２洗浄ユニット７０，７４は、上面に凹形の溝部を有するブロック状のノズル保持部７０ａ，７４ａと、このノズル保持部７０ａ，７４ａの両側の内壁から突き出ている複数対（又は一対）の洗浄ノズル７０ｂ，７４ｂと、ノズル保持部７０ａ，７４ａ内の流路を介して洗浄ノズル７０ｂ，７４ｂに接続されている接続部７０ｃ，７４ｃをそれぞれ有している。接続部７０ｃ，７４ｃは、洗浄液供給部（図示せず）からの洗浄液供給管（図示せず）にそれぞれ接続されている。
【００３５】
乾燥ユニット７８は、上面に凹形の溝部を有するブロック状のノズル保持部７８ａと、このノズル保持部７８ａの両側の内壁から突き出ている複数対（又は一対）の乾燥ノズル７８ｂと、ノズル保持部７８ａ内の流路を介して乾燥ノズル７８ｂに接続されている接続部７８ｃとをそれぞれ有している。接続部７８ｃは、乾燥ガス供給部（図示せず）からのガス供給管（図示せず）に接続されている。
【００３６】
第１及び第２拭き取りパッド７２，７６は、上面にＶ形溝状の拭き取り面７２ｄ、７６ｄをそれぞれ有している。
【００３７】
スリットノズル３２をスリットノズル洗浄部５２に着かせるには、上述したように、Ｘ方向移動部５４によりノズルリフレッシュ部４２の全体を基板搬送方向（Ｘ方向）で移動させるとともに（図４参照）、ノズル昇降機構２６（図１参照）によりスリットノズル３２を鉛直方向（Ｚ方向）で移動させる。そうすると、スリットノズル３２の両ノズル側面３２ｆ，３２ｒ及び吐出口３２ａが第１及び第２拭き取りパッド７２，７６のＶ形溝状の拭き取り面７２ｄ、７６ｄにそれぞれ適度かつ均一な圧力で接触するように、スリットノズル３２とスリットノズル洗浄部５２との間で位置合わせが自動的に行われる。
【００３８】
次に、スリットノズル洗浄部５２における動作を説明する。
【００３９】
スリットノズル洗浄部５２においては、上述したスリットノズル３２との位置合わせが完了すると、その位置合わせ状態を維持しながら、図示しない制御部の制御の下で、Ｙ方向移動部６０（図４参照）が作動して、キャリッジ６４が洗浄走査方向（Ｙ方向）に一定速度で移動する。ここで、スリットノズル３２はレジスト塗布処理を終えてきたばかりであり、その吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）はレジスト液Ｒが付着して汚れている。
【００４０】
キャリッジ６４が走査移動を開始するのとほぼ同時に、キャリッジ６４に載置されている全てのユニットすなわち第１，第２洗浄ユニット７０，７４、第１，第２拭き取りパッド７２，７６及び乾燥ユニット７８がそれぞれの動作を開始する。より詳細には、第１洗浄ユニット７０は、キャリッジ６４上の先頭位置で、洗浄ノズル７０ｂより洗浄液例えばシンナー液を吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にシンナー液を吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。
【００４１】
第１拭き取りパッド７２は、第１洗浄ユニット７０のすぐ後に続いて、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にＶ形の溝部７２ｄを摺接させて、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。
【００４２】
第２洗浄ユニット７４は、第１拭き取りパッド７２のすぐ後に続いて、洗浄ノズル７４ｂより洗浄液例えばシンナー液を吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にシンナー液を吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。
【００４３】
第２拭き取りパッド７６は、第２洗浄ユニット７４のすぐ後に続いて、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にＶ形の溝部７６ｄを摺接させて、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。
【００４４】
乾燥ユニット７８は、第２拭き取りパッド７６のすぐ後に続いて、乾燥ノズル７８ｂより乾燥用ガス例えばＮ2ガスを吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にＮ2ガスを吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。
【００４５】
スリットノズル３２の一端から他端まで全長に亘って、スリットノズル３２の洗浄走査方向（Ｙ方向）における各位置の吐出口周辺部で上記のような一連の処理（１回目の洗浄→１回目の拭き取り→２回目の洗浄→２回目の拭き取り→乾燥）が行われる。
【００４６】
こうして、１回（一往路）の洗浄走査により、スリットノズル３２の全長に亘り各位置で吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）のレジスト汚れが十全に除去される。したがって、キャリッジ６４がスリットノズル３２の他端付近に設定された終点に着くと、そこでノズル洗浄処理が終了する。その直後に、図示しない制御部の制御の下で、ノズル昇降機構３８（図１参照）及びＸ方向移動部５４（図４参照）が作動して、スリットノズル３２をスリットノズル洗浄部５２から隣のノズルバス５０へ移動させる。
【００４７】
次に、本考案に係わる塗布ノズル洗浄装置における洗浄ノズル及びノズルカバーに関して説明する。
【００４８】
図７に示すように、ノズルリフレッシュ部４２は、第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６を洗浄するための拭き取りパッド洗浄ノズル１００を有する。拭き取りパッド洗浄ノズル１００は、第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６の上方に配置され、Ｖ形溝状の拭き取り面７２ｄ、７６ｄに向けて洗浄流体、例えば洗浄液、具体的には溶剤であるシンナーを吐出する。拭き取りパッド洗浄ノズル１００は、スプレー状に洗浄液を吐出可能となっている。
【００４９】
拭き取りパッド洗浄ノズル１００の上部には、ノズルカバー１０１が配置される。また、ノズルカバー１０１は、容器４４の上部に位置する。そして、ノズルカバー１０１と容器４４とが協同して、ノズルリフレッシュ部４２は、閉じた空間（閉空間）１０２に保たれる。また、閉空間１０２の雰囲気を排気するために、ノズルカバー１０１には、排気ポート１０３が設けられる。そして、図示しない排気手段が排気ポート１０３に接続され、排気ポート１０３から閉空間１０２の雰囲気を排気可能となっている。
【００５０】
ノズルカバー１０１は、スリットノズル３２が空間１０２に入退出するための開口１０４を有する。開口１０４の周辺、例えば上部に、エアーカーテンノズル１０５が配置される。エアーカーテンノズル１０５は、空気又はＮ２ガス等の気体を吐出することによりエアーカーテンを形成可能である。そして開口１０４は、エアーカーテンノズル１０５により形成されたエアーカーテンで覆われて、遮断される。したがって、空間１０２の雰囲気が開口を通じて空間１０２の外部に漏れることを防止できる。
【００５１】
なお、ノズルカバー１０１の長手方向の両端部は図示しない端部壁によって塞がれているが、端部壁には開口１０４と連通するスリット(図示せず)が設けられており、このスリットを介してスリットノズル３２が移動可能になっている。
【００５２】
次に、本考案である拭き取りパッド洗浄ノズル１００の、動作に関して説明する。スリットノズル３２の洗浄動作の回数を重ねると、次第に第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６にレジスト液が付着、堆積し始める。そこで、スリットノズル３２の洗浄動作（拭き取り動作）が所定の回数に達したら、拭き取りパッド洗浄ノズル１００から洗浄液を吐出し、第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６の洗浄を行う。拭き取りパッド洗浄ノズル１００は、Ｖ形溝状の拭き取り面７２ｄ、７６ｄに向けて洗浄液を吐出する。
【００５３】
拭き取りパッド洗浄ノズル１００から洗浄液を吐出させるときは、Ｙ方向移動部６０も動作させる。そして、第１拭き取りパッド７２及び第２拭き取りパッド７６を拭き取りパッド洗浄ノズル１００に対して相対的に移動させつつ、拭き取りパッド洗浄ノズル１００から洗浄液を吐出することにより、第１拭き取りパッド７２及び第２拭き取りパッド７６を洗浄する。
【００５４】
しかし、拭き取りパッド洗浄ノズル１００から洗浄液を吐出する際に、洗浄液のミストが発生する。そして、発生したミストが基板Ｇの塗布処理面に付着すると、塗布不良の要因となる。
【００５５】
そこで、本考案では、ノズルカバー１０１と容器４４とにより、ノズルリフレッシュ部４２が閉じた空間１０２に保たれる。しかも、閉空間１０２の雰囲気を排気することも可能である。したがって、発生したミストが基板Ｇの塗布処理面に付着することを防止できるので、ＦＰＤ等の製品の歩留まりの低下を防止できる。
【００５６】
以上、本考案の好適な実施形態を説明したが、本考案は上述した実施形態に限定されるものではなく、その技術的思想の範囲内で種種の変形又は変更が可能である。
【００５７】
本実施形態では、洗浄流体として洗浄液を用いて説明したが、洗浄液に限定されない。洗浄流体として、気体、例えば空気や、窒素ガス等の流体を用いてもよい。
【００５８】
また、複数の拭き取りパッド洗浄ノズル１００を第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６の上部にそれぞれ配置し、Ｙ方向移動部６０を動作させることなく第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６の洗浄を行ってもよい。
【００５９】
また、洗浄ノズル１００は、スプレー状に洗浄液を吐出したが、例えばカーテン状とか、シャワー状とか、円柱状等に吐出する構成でもよい。
【００６０】
また、第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６を設けたが、第２拭き取りパッド７６を設けずに、第１拭き取りパッド７２だけを設けてもよい。又は、第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６に加えて、さらに多くの拭き取りパッドを設けてもよい。
【００６１】
また、開口１０４を設けなくてもよく、そのかわりに、拭き取りパッド洗浄ノズル１００とノズルカバー１０１を昇降させるための昇降機構を設ける。そして、拭き取りパッド洗浄ノズル１００とノズルカバー１０１を上昇させた状態で、スリットノズル３２を空間１０２内に移動させる。その後、ノズルカバー１０１を下降させることにより、空間１０２を閉じた空間としてもよい。
【００６２】
また、閉空間１０２の排気は、常時行ってもよいし、排気用力の低減のために、所定のタイミングだけ排気を行ってもよい。
【００６３】
また、スリットノズル３２のかわりに、複数の微細孔がＹ方向に列設された長尺状の他のノズルを用いてもよい。
【００６４】
さらに、拭き取りパッド洗浄ノズル１００の側方に、図示しない拭き取りパッド乾燥ノズルを設けてもよい。図示しない拭き取りパッド乾燥ノズルから乾燥流体、例えば空気や、窒素ガス等が第１拭き取りパッド７２、第２拭き取りパッド７６に向けて供給される。なお、拭き取りパッド洗浄ノズル１００が、上述した拭き取りパッド乾燥ノズルを兼ねてもよく、拭き取りパッド洗浄ノズル１００から洗浄流体及び乾燥流体を切り換えて吐出できる構成にしてもよい。
【００６５】
また、上記の実施の形態では、基板浮上方式のスリットコーターを一例として説明したが、本考案は、この方式のスリットコーターに限定されるものではない。例えば、ステージ上に固定して載置された基板に対してスリットノズルよりレジスト液を帯状に吐出させながら、スリットノズルをノズル長手方向と直交する水平な一方向に移動させるノズル移動方式のスリットコーターでもよい。また、ステージ上に固定して載置された基板に対してスリットノズルよりレジスト液を帯状に吐出させながら、ステージをノズル長手方向と直交する水平な一方向に移動させるステージ移動方式のスリットコーターにも適用可能である。
【００６６】
本考案における塗布液としては、レジスト液以外にも、例えば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本考案における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。
【符号の説明】
【００６７】
Ｇ  被処理基板
３２  スリットノズル
４２  ノズルリフレッシュ部
４４  容器
５２  スリットノズル洗浄部
６４  キャリッジ
７２  第１拭き取りパッド
７２ｄ  拭き取り面
７６  第２拭き取りパッド
７６ｄ  拭き取り面
１００  拭き取りパッド洗浄ノズル
１０１  ノズルカバー
１０２  閉空間
１０３  排気ポート
１０４  開口
１０５  エアーカーテンノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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