(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層体を製造するための方法であって、
前記方法は以下のステップａ）〜ｃ）を備え、
ステップａ）基板に部分第１層または複数枚の層を有する部分第１層システムを製造し、前記部分第１層または前記部分第１層システムは、第１部分エリアに存在し、第２部分エリアに存在しない、
ステップｂ）部分第２層または複数枚の層を有する部分第２層システムを製造し、前記部分第２層または前記部分第２層システムは、第３部分エリアに存在し、第４部分エリアに存在しない、前記第３部分エリアは、前記第１部分エリアおよび前記第２部分エリアと重なり合い、
ステップｃ）マスクとして前記部分第２層または前記部分第２層システムを用いて前記部分第１層または前記部分第１層システムを構造化することを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記ステップｃ）における前記部分第１層または前記部分第１層システムの前記構造化は、エッチングにより行われることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、
前記部分第２層または前記部分第２層システムは、エッチングレジストであり、または、少なくともエッチングレジストを備え、
前記エッチングレジストはラッカーであり、前記ラッカーは、バインダー、顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備えることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１または３に記載の方法において、
前記ステップｃ）における前記部分第１層または前記部分第１層システムの前記構造化は、リフトオフにより行われることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法において、
前記部分第２層または前記部分第２層システムは、溶媒に溶けるウォッシュコートであり、または、少なくともそのようなウォッシュコートを備え、
前記ウォッシュコートは、ラッカーであることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップｃ）における前記部分第１層または前記部分第１層システムの前記構造化は、マスク露光により行われることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において、
前記部分第２層または前記部分第２層システムは、保護ラッカーである、または、少なくとも保護ラッカーを備えることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法において、
前記部分第１層または前記部分第１層システムは、フォトレジストである、または、少なくともフォトレジストを備え、前記保護ラッカーは、溶媒に溶けるウォッシュコートとして作られ、
前記保護ラッカーおよび／または前記フォトレジストは、バインダー、顔料、薄膜システム、コレステリック液晶染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備えることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップａ）における前記部分第１層または前記部分第１層システムの製造、および／または、前記ステップｂ）における前記部分第２層または前記部分第２層システムの製造は、まず、全面または少なくとも表面の大部分のエリアに製造され、その後、構造化されることにより行われ、
前記ステップａ）または前記ステップｂ）における構造化は、エッチング、リフトオフ、または、マスク露光により行われ、
前記ステップｂ）における前記部分第２層または前記部分第２層システムの前記構造化の間に、前記ステップｃ）に応じた前記部分第１層または前記部分第１層システムの前記構造化が同時に行われることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップａ）における前記部分第１層または前記部分第１層システムの製造、および／または、前記ステップｂ）における前記部分第２層または前記部分第２層システムの製造は、まず、全面または少なくとも表面の大部分のエリアに製造され、その後、構造化されることにより行われることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法において、
前記部分第１層または前記部分第１層システムおよび／または前記部分第２層または前記部分第２層システムは、少なくとも１つのモチーフ、パターン、シンボル、イメージ、ロゴ、または、英数字の形式で塗布されることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法において、
前記部分第１層または前記部分第１層システムおよび／または前記部分第２層または前記部分第２層システムは、一次元または二次元ラインおよび／またはドットグリッド形式で塗布され、
前記ラインおよび／または前記ドットグリッドは、３００μｍ未満のグリッド間隔を有することを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法において、
前記基板は回折面レリーフを備える複製層を備えること、または、前記基板は複製層として設計されており、
前記複製層に組み込まれた前記回折面レリーフは、光学可変エレメントを形成することを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２層の多層体または層システム、および、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からセキュリティエレメントとしての多層体が知られている。多層体は、偽造に対する紙幣、証券の保護および書類の識別、または、製品の認証のために、広く用いられている。多層体は、数枚の機能層の組み合わせからなる。機能層は、例えば、光学的可変要素（ＯＶＤ＝Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅｓ）、回折素子、部分金属化層、または、印刷特徴を備える。
【０００３】
このような多層体は、個々の層を連続塗布し、所望の層順序を構築することにより製造されることが知られている。特に耐偽造性を有する多層体を得るために、個々の層の特徴を互いになじませることが好ましい。すなわち、個々の層は、互いに一致した状態で出来る限り正確に配置される必要がある。しかしながら、多層体が順次構築されている場合、個々の層を製造するために使用されている方法が互いの層の位置に関して公差を有することから、このような配置を常に達成することはできない。結果として、特徴同士の間の所望の滑らかな移行を確実に達成することができず、偽造防止セキュリティおよびこのような多層体の光学外観に悪影響を及ぼす。
【０００４】
一致または一致精度は、互いに重なり合う層の正確な配置を意図し、所望の位置公差を維持することを意図する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、改良された偽造防止セキュリティを備える多層体を製造可能な多層体の製造方法を提供することである。本発明の更なる目的は、特に耐偽造性を有する多層体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
これらの目的は、請求項１に記載の特徴による方法および請求項２６に記載の特徴による多層体により達成される。
【０００７】
多層体、特に、セキュリティエレメントを製造するための方法は、以下のステップを備える。
ステップａ）基板に部分第１層または部分第１層システムを製造し、部分第１層または部分第１層システムは、第１部分エリアに存在し、第２部分エリアに存在しない、
ステップｂ）部分第２層または部分第２層システムを製造し、部分第２層または部分第２層システムは、第３部分エリアに存在し、第４部分エリアに存在しない、第３部分エリアは、第１および第２部分エリアと重なり合い、
ステップｃ）マスクとして部分第２層または部分第２層システムを用いて部分第１層または部分第１層システムを構造化する。
【０００８】
多層体、特に、セキュリティエレメントは、この方法により得られる。多層体、特に、セキュリティエレメントは、基板、部分第１層または部分第１層システム、並びに、部分第２層または部分第２層システムを備える。部分第１層または部分第１層システムは、マスクとして部分第２層または部分第２層システムを用いることにより部分第２層または部分第２層システムと一致した状態で正確に構造化される。部分第１層または部分第１層システムは、第１部分エリアに存在し、第２部分エリアには存在しない。部分第２層または部分第２層システムは、第３部分エリアに存在し、第４部分エリアに存在しない。第３部分エリアは、第１部分エリアおよび第２部分エリアと重なり合う。
【０００９】
部分第１層または部分第１層システムを構造化するために、マスクとして部分第２層または部分第２層システムを用いることにより、２つの層または層システムを互いに完全に一致した状態で配置することができる。部分第２層または部分第２層システムは、部分第１層または部分第１層システムで覆われているエリア、すなわち、第１部分エリアだけでなく、部分第１層または部分第１層システムに覆われていないエリア、すなわち、第２部分エリアにも延びることが特に重要である。マスクとしての部分第２層または部分第２層システムの使用は、部分第１層または部分第１層システムの構造化の間、後者が選択的に保持されること、または、部分第２層または部分第２層システムにより覆われていないエリアから選択的に取り除かれること、を意図する。したがって、構造化の間に２つの層または層システムが互いに一致した状態で正確に配置され、例えば、互いに途切れなく隣接するように、２つの層または層システムの間の所定の位置関係が得られる。
【００１０】
層システムは、数枚の層の全ての配置を意図する。数枚の層は、層システムの法線方向に重なり合った状態、または、平面で互いに隣り合った状態で配置されている。この方法で水平および垂直に配置された層を組み合わせることもできる。
【００１１】
重なり合った状態は、それぞれの部分エリアが第１または第２の層による面の法線方向、すなわち、多層体の積層方向に少なくとも部分的に重なり合うことを意図する。
【００１２】
２つの層または層システムは特定の順番で製造される必要はない。すなわち、部分第１層または部分第１層システムを製造する前に、部分第２層または部分第２層システムを製造することもできる。層または層システムを、直接基板に製造することもでき、互いに重重なり合った状態で製造することもでき、または、中間層を製造することで製造することもできる。
【００１３】
ステップｃ）における部分第１層または部分第１層システムの構造化は、エッチングにより行われることが好ましい。部分第２層または部分第２層システムは、エッチングレジストであること、または、エッチングレジストを備えることが好ましい。
【００１４】
エッチングレジストは、エッチング剤に対する抵抗力を有する物質を意図する。エッチングレジストが物質を覆っている場合、エッチングレジストは、エッチング剤に対して敏感なこの物質をエッチング剤による攻撃から保護する。
【００１５】
この実施例では、２つの層または層システムの製造後、エッチング剤は、得られた積層に塗布され、部分第２層または部分第２層システムにより覆われていない部分第１層または部分第１層システムを取り除く。
【００１６】
エッチングレジストは、ラッカーであることが好ましい。ラッカーは、特に、バインダー、染料、顔料、特に、有色または無色顔料、特別効果顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備える。したがって、部分第２層または部分第２層システムは、部分第１層または部分第１層システムの構造化において保護機能を果たすだけでなく装飾効果をもたらすこともできる。更なる視覚効果のために、部分第２層または部分第２層システムは、いくつかの異なるエッチングレジスト、例えば、異なる配色のレジストラッカーを使用することができる。
【００１７】
部分第１層または部分第１層システムを構造化するために使用するエッチング剤は、層または層システムの組成に依存する。大部分が不透明な金属層、または、透明または半透明ＨＲＩ層（ＨＲＩ＝Ｈｉｇｈ  Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  Ｉｎｄｅｘ）には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、または、エチレンジアミン四酢酸ナトリウムが適している。そのようなエッチング剤に適したエッチングレジストは、例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエステル樹脂、または、アクリレートである。ニトロセルロースのような膜形成物質を組み込むこともできる。エッチングは、機械的かくはん、例えば、ブラッシング、エッチングバスの移動、または、超音波処理によりサポートされている。エッチング工程のための通常温度は、１５℃〜７５℃の間が好ましい。
【００１８】
ステップｃ）における部分第１層または部分第１層システムの構造化は、リフトオフ方法により行われることが好ましい。部分第２層または部分第２層システムは、ウォッシュコートであること、または、ウォッシュコートを備えることが好ましい。
【００１９】
リフトオフ方法では、ウォッシュコートは溶媒を用いて除去される。したがって、ウォッシュコートは溶媒に溶ける必要がある。環境保護の理由から、水が溶媒として用いられることが好ましい。ウォッシュコートは、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）またはポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）からなることが適切である。ウォッシュコートは、更に、その後のウォッシュコートの除去を容易にするフィラーを含んでも良い。ウォッシュコートは、好ましくは１５℃〜６５℃の温度で溶媒バスまたは溶媒をスプレーすることで除去される。エッチングの場合では、ウォッシュコートの除去は、例えば、ブラッシング、溶媒バスのかくはん、スプレー、または、超音波処理により機械的にサポートされる。  
【００２０】
部分第１層または部分第１層システムがウォッシュコートに塗布されたエリアでは、部分第１層または部分第１層システムは、ウォッシュコートと一緒に除去される。したがって、部分第１層または部分第１層システムは、部分第２層または部分第２層システムと重なり合わない領域のみに残る。したがって、重なり合うエリアの陰性が形成される。これは、ウォッシュコートが層システムの成分である場合に特に役立ち、ウォッシュコートと一緒に除去されない層システムの残りの成分は、第１層または第１層システムの残りのエリアと一致した状態で正確に配置される。
【００２１】
ステップｃ）における部分第１層または部分第１層システムの構造化は、マスク露光により行われることが好ましい。したがって、部分第２層または部分第２層システムは、露光マスクとして機能する、または、別の露光マスクを用いて構造化される。部分第２層または部分第２層システムは、保護ラッカーである、または、保護ラッカー層を備えることが好ましい。
【００２２】
保護ラッカーは、部分第１層または部分第１層システムを露光するために用いられる波長域で吸収される物質を意図する。部分層または層システムの全面は、露光の間にこの波長域で好ましくは層の面に直交して照射される。露光に用いられる通常波長は、例えば、２５０ｎｍ〜４２０ｎｍである。露光は、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の線量で行われることが好ましい。露光時間は、使用される材料の感度および利用可能な光源の出力から得られる。したがって、部分第２層または部分第２層システムが存在する場合、この波長のより少ない光が部分第１層または部分第１層システムに到達する。
【００２３】
エッチングレジストラッカーに、例えば、吸収物質、例えば、いわゆる紫外線吸収剤、染料、着色顔料、または、散乱体、例えば、二酸化チタンを加えることでエッチングレジストおよび保護ラッカーを組み合わせることもできる。
【００２４】
保護ラッカーは、特に、バインダー、染料、顔料、特に、有色または無色顔料、特別効果顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備えるラッカーであることが好ましい。保護ラッカーは、例えば、ＰＶＣ、ポリエステル、または、アクリレート類に基づいて形成されることが適切である。したがって、部分第２層または部分第２層システムは、部分第１層または部分第１層システムの構造化における保護機能を果たすだけでなく装飾効果をももたらすこともできる。更なる視覚効果のために、部分第２層または部分第２層システムは、例えば異なる配色を備えるいくつかの異なる保護ラッカーを使用することができる。
【００２５】
所望の構造化を達成するために、部分第１層または部分第１層システムは、フォトレジストであること、または、フォトレジストを備えることが好ましい。
【００２６】
露光および非露光エリアの異なる特性を１つのエリアでのフォトレジストの選択的除去に用いることができるように、特定の波長域での露光の間に、フォトレジストは、その化学および／または物理特性を変える。例えば、フォトレジストが露光されると、その溶解度は、露光後フォトレジストを現像するために使用することのできる溶媒に対して変化する。ポジティブフォトレジストの場合、露光に続く現像ステップの間に、露光エリアが選択的に除去される。ネガティブフォトレジストの場合、非露光エリアが選択的に除去される。したがって、フォトレジストがウォッシュコートとして機能する。
【００２７】
適切なポジティブフォトレジストは、フェノール樹脂／ジアゾキノンに基づくＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製の例えばＡＺ１５１８またはＡＺ４５６２である。適切なネガティブフォトレジストは、例えば桂皮酸誘導体に基づくマイクロレジストテクノロジー社製の例えばＡＺｎＬＯＦ２０００またはｍａ−Ｎ１４２０である。これらは、２５０ｎｍ〜４４０ｎｍの波長域の光の照射により露光されることが好ましい。必要な線量は、各層厚、露光波長、および、フォトレジストの感度に依存する。
【００２８】
これらのフォトレジストを現像するためには、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウムが適切である。現像は、１５℃〜６５℃で２秒〜数分間行われることが好ましい。現像工程および関連するフォトレジストの部分除去は、機械的かくはん、例えば、ブラッシング、ワイピング、現像媒体の流れに対する露光、または、超音波処理によりサポートされている。
【００２９】
フォトレジストは、特に、バインダー、染料、顔料、特に、有色顔料、特別効果顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、および／または、金属または非金属ナノ粒子を含み、更なる装飾効果をもたらす。
【００３０】
ステップａ）またはステップｂ）において、部分第１層または部分第１層システムおよび／または部分第２層または部分第２層システムは、まず、全面または少なくとも表面の大部分のエリアに製造され、その後、構造化されることが好ましい。全面または表面の大部分のエリアの製造は、例えば、印刷または蒸着により行われる。
【００３１】
ステップａ）またはステップｂ）における部分第１層または部分第１層システムおよび／または部分第２層または部分第２層システムのその後の構造化は、エッチング、リフトオフ、または、マスク露光により行われることが好ましい。これは、上記したように、ステップｃ）における部分第１層または部分第１層システムの構造化に類似している。必要なエッチングレジスト、保護ラッカー、または、ウォッシュコートを、順番に、一方または両方の層システムの成分とする、または、追加層として塗布することができる。これらの層は、順番に、層システムの成分として残る、または、別ステップで再度除去される。マスク露光の場合は、各層または層システムに配置することもできる外部露光マスクを利用することもできる。しかしながら、第１層または第１層システムの特定のエリアが例えばレーザを用いて部分的に除去される方法も利用することもできる。このような方法は、特に、セキュリティエレメントの個別のマーキングに適している。
【００３２】
ステップｂ）における部分第２層または部分第２層システムの構造化の間に、ステップｃ）に応じた部分第１層または部分第１層システムの構造化が同時に行えることが好ましい。これは、特に容易且つ迅速に実行することのできる方法をもたらす。
【００３３】
ステップａ）および／またはステップｂ）において、部分第１層または部分第１層システムおよび／または部分第２層または部分第２層システムを構造化形式で製造することができる。このため、印刷方法、特に、凹版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、または、デジタル印刷、特に、インクジェット印刷を用いることが好ましい。
【００３４】
部分第１層または部分第１層システムは、特に、高屈折率（複素屈折率の高い部分）の半透明金属および／または特に透明または半透明材料の反射層、および／または、少なくとも１つの単色または多色ラッカー層、および／または、ファブリーペロ層システムであること、または、備えることが好ましい。
【００３５】
部分第２層または部分第２層システムは、少なくとも１つの透明、半透明、または、大部分が不透明な単色または多色ラッカー層、特に、エッチングおよび／または保護ラッカー、および／または、ファブリーペロ層システムであること、または、備えることが好ましい。このような層または層システムを部分第１層および部分第２層または部分第１層システムおよび部分第２層システムに使用すること、または、このような層または層システムを組み合わせることにより、様々な光学効果をもたらすことができる。このような光学効果は、偽造防止セキュリティに寄与し、特に魅力的な光学的外観を提供する。
【００３６】
部分第１層または部分第１層システムおよび／または部分第２層または部分第２層システムは、少なくとも１つのモチーフ、パターン、シンボル、画像、ロゴ、または、英文字、特に、数字または文字形式で塗布されることが好ましい。層または層システムは、部分第１層または部分第１層システムの構造化の前または後にお互いに補完することができ、そのようなモチーフ、パターン、シンボル、画像、ロゴ、または、英文字、特に、数字または文字を形成する。数枚の層の相互作用によりこのような方法で製造されたグラフィックエレメントは、特に再生が難しいことから、偽造防止に特に役立つ。
【００３７】
部分第１層または部分第１層システムおよび／または部分第２層または部分第２層システムは、１次元または２次元ラインおよび／またはドットグリッド形式で塗布されることが有益である。ここでは、形質ライングリッドも使用可能であり、形質ライングリッドは、例えば、可変線幅を有する波線である。ドットグリッドのドットは、すべての幾何学形状および／またはサイズとすることができ、円形ディスク形状である必要はない。例えば、三角、四角形状のドットグリッド、全ての多角形または星型ドットまたはシンボル形状にデザインされたドットも使用可能である。ドットグリッドは、異なるサイズおよび／または異なる形状のドットから作ることができる。このようなグリッドが他の層または他の層システムでグラフィックエレメントと相互に作用すると、更なるグラフィック効果、例えば、ハーフトーン画像を得ることができる。
【００３８】
ラインおよび／またはドットグリッドは、３００μｍ未満、好ましくは２５μｍ〜２００μｍ未満、更に好ましくは５０μｍ〜２００μｍ未満のグリッド間隔を有することが好ましい。グリッド間隔はグリッドによって変化する。ライン厚またはドット径は２５μｍ〜１５０μｍであることが好ましく、ライン厚またはドット径は変化する。このようなグリッドは、グリッドが重ね合わされる他のグラフィックエレメントには効果的であるが、肉眼では視認することはできない。
【００３９】
基板は、キャリア層および／または剥離層を備えることが有益である。キャリア層は、特にプラスチック、好ましくはポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる。剥離層は、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）からなる例えばポリマーラッカー、または、ワックス物質である。このようなキャリア層は、製造およびその後の取り扱い中に多層体に対して安定感をもたらし、損傷から保護する。剥離層は、
キャリアフィルムとしてのキャリア層とキャリアフィルムから基板に転写される転写プライとしてのセキュリティエレメントとを備える特にホットスタンピングフィルム形式で、所望のドキュメントまたは対象物に塗布されるように、キャリア層のような必要ではない層からのセキュリティエレメントの剥離を容易にする。
【００４０】
基板は、回折面レリーフを有する複製層を備えることが好ましい。複製層は、熱可塑性、すなわち、熱硬化性または熱乾燥性の複製ラッカー、または、ＵＶ硬化複製ラッカー、または、そのようなラッカーの混合物からなる。
【００４１】
複製層に組み込まれた表面レリーフは、光学可変エレメント、特に、ホログラム、Ｋｉｎｅｇｒａｍ（登録商標）、または、Ｔｒｕｓｔｓｅａｌ（登録商標）、好ましくは、正弦波回折格子、非対称レリーフ構造、ブレーズド回折、好ましくは、等方性または異方性マット構造、または、光回折および／または光反射および／またはフォーカシングマクロまたはナノ構造、バイナリまたは連続フレネルレンズ、マイクロプリズム構造、マイクロレンズ構造、または、これらの構造の組み合わせを形成することが好ましい。
【００４２】
このような構造またはこのような構造の組み合わせを用いて、様々な光学効果を達成することができる。このような光学効果は、模倣が難しく、複製することができない。従来の光学複製方法を用いても複製が難しいことから、耐偽造性を有する多層体を得ることができる。
【００４３】
ステップｄ）において、第３層または第３層システムが塗布されることが好ましい。第３層または第３層システムは、特に、ＨＲＩ層および／または接着層である、または、を備える。接着層は、多層体を基板、例えば、保護されるドキュメントに取り付けるために使用される。ＨＲＩ層は、広範囲のフラットレリーフ構造に関連することが好ましい。このようなフラットレリーフ構造は、透明なＨＲＩ層を介して可視可能となる。透明なＨＲＩ層は、第１および／または第２層または第１および／または第２層システムが不透明な金属層を提供しないエリアを有する。ＨＲＩ層に適した材料は、例えば、硫化亜鉛、二酸化チタン、または、二酸化ジルコニウムである。
【００４４】
このような方法で得られた多層体は、セキュリティエレメントとして使用可能であり、特に、セキュリティドキュメント、紙幣、証券、身分証明書、パスポート、または、クレジットカードに使用可能である。
【００４５】
図面および実施例を参照しながら、以下に本発明を詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】図１Ａ〜１Ｃは、多層体と、金属層および単色ラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図２】図２Ａ〜２Ｃは、多層体と、金属層および２色ラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図３】図３は、図２の多層体の製造時における第１中間体の断面図を示す。
【図４】図４は、図２の多層体の製造時における第２中間体の断面図を示す。
【図５】図５は、図２の多層体の製造時における第３中間体の断面図を示す。
【図６】図６は、金属層、単色ラッカー層、回折構造、および、ＨＲＩ層を備える多層体を示す。
【図７】図７Ａ〜７Ｃは、多層体と、２つの金属層および単色ラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図８】図８Ａ〜８Ｃは、多層体と、金属層、ＨＲＩ層および単色ラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図９】図９Ａ〜９Ｃは、多層体と、精密に構造化された金属層および単色ラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図１０】図１０は、図９の多層体の製造時における第１中間体の断面図である。
【図１１】図１１は、図９の多層体の製造時における第２中間体の断面図である。
【図１２】図１２は、図９の多層体の製造時における第３中間体の断面図である。
【図１３】図１３は、図９の完成多層体の断面図である。
【図１４】図１４は、図９の多層体の金属およびラッカー層の構造を詳細に示す。
【図１５】図１５Ａ〜１５Ｃは、多層体と、前側に金属層およびラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図１６】図１６Ａ〜１６Ｃは、多層体と、格子付金属およびラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図１７】図１７Ａ〜１７Ｃは、多層体と、精密に構造化された金属層および多色ラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【図１８】図１８Ａ〜１８Ｅは、多層体と、精密に構造化された金属層および単色ラッカー層を備える多層体の製造ステップと、を示す。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
図１は、多層体１０の第１実施例を示す。多層体１０は、紙幣、証券、身元証明書、チケット、または、保護製品パッケージのセキュリティエレメントとして使用される。多層体１０は、金属層、例えば、アルミニュウム金属層の第１層１１と、有色エッチレジストラッカーの第２層１２と、を備える。アルミニュウム以外に、銅、銀またはクロム、または、様々な種類の金属合金も適している。
【００４８】
図１Ａに示すように、多層体１０を製造するために、まず、第１層１１が製造される。第１層１１は、図示しない基板に、例えば、蒸着により製造される。蒸着は、真空で熱蒸着、電子ビーム蒸着、または、スパッタリングにより行われることが好ましい。第１層１１の層厚は、５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、１５ｎｍ〜４０ｎｍが更に好ましい。
【００４９】
第１蒸着層は、周知の方法で部分的に除去される。周知の方法は、例えば、蒸着およびその後のエッチング後のエッチングレジストの除去を含むエッチングレジストの部分塗布、蒸着および蒸着後のウォッシングオフ（リフトオフ）前のウォッシュコートの部分塗布、または、蒸着およびフォトレジストの露光または非露光成分の除去が続くその後の露光後のフォトレジストの種類（ポジティブまたはネガティブ）に応じたフォトレジストの部分塗布である。
【００５０】
基板の全面は蒸気で覆われることはなく、層１１が第１領域１１１に存在し、第２領域１１２に存在しないように、層１１は部分的に製造される。これを達成するための様々な方法が知られている。例えば、回転マスクを用いたスクリーニング、または、蒸着プロセスにおける金属層の蒸着を防ぐオイルの印刷が知られている。
【００５１】
複製回折構造、例えば、光学可変要素（ＯＶＤ＝Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅ）、とくに、ホログラム、Ｋｉｎｅｇｒａｍ（登録商標）、または、Ｔｒｕｓｔｓｅａｌ（登録商標）、好ましくは正弦回折格子、非対称レリーフ構造、ブレーズド回折格子、好ましくは等方性または異方性マット構造、または、光回折および／または光反射および／または光フォーカスマイクロまたはナノ構造、バイナリまたは連続フレネルレンズ、マイクロプリズム構造、マイクロレンズ構造、またはこれらの組み合わせ構造を予め基板に塗布することもできる。しかしながら、これは必須ではない。
【００５２】
第１層１１は、図示のように連続している必要はなく、いかなる構造および形でもよい。
【００５３】
次のステップでは、ここでは、放射状の第２層１２が第１層に印刷される。インタリオ印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、または、デジタル印刷、特に、インクジェット印刷が印刷技術として使用されることが好ましい。
【００５４】
ここでは、第２層１２は、第１層１１により覆われているエリア１１１および第１層１１により覆われていないエリア１１２に広がる。第２層１２は、第１１層を完全には覆っていない。複製回折構造が存在する場合、この構造に一致した状態で印刷方法に応じて＋／−１ｍｍ、好ましくは、＋／−０．５ｍｍの目標公差で印刷が行われる。
【００５５】
第２層１２の印刷のために使用されるラッカーは、エッチングレジスト、すなわち、第１層１１の金属を分解するエッチング剤に耐性を有するレジストである。アルミニュウムが第１層に使用されている場合は、エッチング剤を、例えば、水酸化ナトリウム溶液とすることができる。例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）／ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡc）共重合体に基づくラッカーは、エッチングレジストとして適している。
【００５６】
光学可視効果をもたらすために、ラッカーは、更に、染料、顔料、特に、有色または無色顔料または特別効果顔料、薄膜システム、または、コレステリック液晶、または、ナノ粒子を含む。
【００５７】
第２層１２が印刷された後、図１Ｂに示された中間体は、上記したエッチング剤で処理される。エッチングは、５秒〜１００秒間、０．１％〜５％の濃度で１５℃〜７５℃で行われることが好ましい。適切なエッチングレジストは、好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの層厚で印刷されるポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）／ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡc）共重合体に基づく、例えば、ラッカーである。第２層で覆われていないエリアでは、第１層１１が分解する。エッチング後には、例えば、水を用いたすすぎおよび乾燥ステップが続く。
【００５８】
図１Ｃは、印刷側の反対側から見た得られた多層体１０を示す。第１層１１および第２層１２の表面は互いになじんでいる。すなわち、これらは一致した状態で正確に配置されている。この面は多層体１０が視認される面である。複製回折構造が存在すると、第１層１１は反射層として機能し、回折構造は第１層１１のエリアで特にはっきりと視認することができる。図示しない接着層による更なるコーティングにより、接着層が複製層と同様の屈折率（例えば、約１．５）を有し、光学アクティブバリア層が接着層と複製層との間に形成されない場合、回折構造は、第１層１１で覆われていないエリア１１１で完全に取り除かれる。２つの隣接層の屈折率は、互いに０．１未満で異なる。接着層は、基板、例えば、紙幣に対して多層体１０を塗布するために使用される。下層の基板が視認可能になるように、色は透明または半透明である。しかしながら、不透明な色も利用することができる。
【００５９】
第１層１１としての金属層の代わりに、基板に印刷される数枚の隣接カラー層を使用することができる。この目的に適したラッカーは、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製のＡＺ１５１８のようなフォトレジストである。第２層１２は、保護ラッカー、例えば、ＵＶブロッカーを用いた透明または半透明ラッカーであることが好ましい。これには、ベンゾフェノン誘導体または高分散二酸化チタンが特に好ましい。第２層１２は、第１層１１のカラー層の境界エリアに重なり合った状態で印刷されることが好ましい。３２０ｎｍ〜４３０ｎｍの好ましい波長域、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の好ましい線量で全面を露光し、約５０℃で１０秒〜３０秒間、例えば０．３％ＮａＯＨによりエッチングを行った後、第２層１２により覆われた場所で第１層１１の有色成分のみが残り、多色装飾を形成する。例えば、第２層１２がギロシェライン形状の場合、最終多層体１０は、色の変化がわかる、例えば、レインボー印刷を示す。
【００６０】
図２に示された多層体１０は、図１と同様に製造される。図２Ｂに係る第２製造ステップにおいてのみ、第２層１２は、２つの異なる有色ラッカー１２１、１２２を印刷することにより層システムとして形成される。２つのラッカー１２１、１２２は、部分的に重なり合い、好ましくは０．５ｍｍ未満、特に好ましくは０．２ｍｍ未満の公差で一致した状態で印刷されることが好ましい。
【００６１】
図１で説明したように実施されたエッチング後、図２Ｃに示された多層体１０が得られる。第２層１２により形成された星型モチーフの光線は、ラッカー１２１、１２２の色で交互に現れる。可視領域で可視可能な印刷カラーと同様に、ここでは、他の実施例に示されたように、ＵＶアクティブ、または、ＩＲ放射で励磁することができ、または、ＯＶＩ（登録商標）インクのような光学可視効果を示し、または、例えば、適切な金属ナノ粒子を塗布することにより電気または磁気検出可能なラッカーを使用することができる。
【００６２】
ここでは、図１を参照して説明したように、レインボー印刷効果を得ることができる。
【００６３】
図３〜５は、別の多層体１０の製造ステップを示す。しかしながら、その基本構造は、図２に示されたものに相当する。これらの本質的な違いは、この場合、第２層１２は、印刷時に構造化されていないが、第２層１２は、まず、全面または少なくとも表面の大部分に塗布され、その後、構造化される点である。
【００６４】
このため、例えば、熱可塑性材料または放射または熱硬化複製ラッカーの剥離層１４および複製層１５は、まず、ポリエステル、特に、ＰＥＴのキャリア層１３に塗布される。これらの層は、数枚のパイルからなる。複製層１５では、回折構造１５１が例えば金属スタンピング工具を用いたスタンピングにより形成される。この場合は、第１層１１は、透明な高屈折材料（ＨＲＩ＝Ｈｉｇｈ  Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  Ｉｎｄｅｘ）、例えば、硫化亜鉛または二酸化チタンの層として形成され、複製層１５に塗布される。互いに隣接する２つの異なる有色ラッカー１２１、１２２からなる第２層１２は、第１層１１の全面または少なくとも表面の大部分に塗布される。ラッカー１２１、１２２は、フェノール樹脂／ダイアキノンに基づくＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製のＡＺ１５１８のようなＵＶ感応フォトレジストである。その後、マスク層１６は、部分的に第２層１２に印刷される。マスク層１６は、エッチングラッカーおよび保護ラッカーとして機能する。例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）／ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡc）共重合体に基づくエッチングラッカーには、ＵＶ吸収二酸化チタン粒子または他のＵＶブロッカーが設けられている。この後、マスク層１６側からのＵＶ光の露光が行われる。この露光は、３６５ｎｍの波長で２５ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の線量で行われることが好ましい。図３に示された中間体は、現像およびエッチングバスとして機能するアルカリバスにさらされる。
【００６５】
０．０５％〜２．５％の濃度のＮａＯＨを用いることが好ましい。ＮａＯＨは、２秒〜６０秒間２０℃〜６５℃で中間体に作用する。
【００６６】
マスク層１６で保護されていないエリアでは、層１２のフォトレジスト１２１、１２２は、ＵＶ照射の間に露光され、現像バスで分解する。図４に示された中間体が得られる。しかしながら、中間体は分離されていない。むしろ、エッチング工程が続き、残りの層１２で保護されていない場所でＨＲＩ層１１が攻撃される。したがって、ラッカー１２１、１２２は、同時に、エッチングレジストとして機能する。エッチング工程後、図５に示された最終多層体１０が得られる。接着層は、これに塗布され、第１層１１により覆われていない露出した回折構造１５１を満たす。回折構造１５１は、第１層１１のＨＲＩ材料が反射層として機能する場合のみ視認可能である。
【００６７】
図６は、別の多層体１０を示す。層１１および層１２は、図１に示された実施例と同様に塗布される。第１層１１により覆われていない回折エレメント１８が視認可能となるように、別の透明ＨＲＩ層１７が全面に塗布される。
【００６８】
回折構造は、回折構造に直接印刷された第２層１２の有色ラッカーにより取り除かれることから、回折構造は、第１層１１の不透明金属エリアおよび透明ＨＲＩ層１７のエリアで視認可能となるが、第２層１２の印刷エリアでは、回折構造は視認不可能となる。有色ラッカーは、複製層と同様の屈折率（約１．５）を有することから、光学アクティブ境界層は、有色ラッカーと複製層との間には形成されない。２つの隣接層の屈折率は、互いに０．１未満で異なることが好ましい。
【００６９】
図７Ａ〜Ｃに係る実施例は、図１に係る実施例に相当する。これらの違いは、第１層１１では、ＡｌおよびＣｕのような２つの異なる材料１１３、１１４が使用されている点だけである。２つの金属１１３、１１４は、空間的に分離され、隣接または部分的に重なり合う。
【００７０】
図７Ｂは、印刷側からみて第２層１２がどのように第１層１１に印刷されているかを示す。
【００７１】
図７Ｃは、金属側からみた最終多層体を示す。不透明な金属層により、層１２の印刷は、層１１の金属エリアの下で視認することはできない。
【００７２】
異なるエッチング剤が２つの金属または金属合金に用いられる必要があることから、第１層１１の構造化は、２段階で行われる。ＡｌおよびＣｕが第１層１１に使用されると、これらは、例えば、ＮａＯＨおよびＦｅＣｌ３である。しかしながら、同じ印刷マスク、すなわち、第２層１２が構造化に使用されていることから、第１層１１の２つの金属１１３、１１４の変化は、一致した状態、すなわち、第２層１２の印刷に対して正確な位置で起こる。
【００７３】
図８に係る実施例は、図１に係る実施例に相当する。尚、別の透明ＨＲＩ層１７が塗布されることのみである。このため、第１ステップでは、不透明金属１１３、例えば、アルミニュウムが上記した方法で塗布される。次のステップでは、図８Ａに係る層配置が達成されるように、ＺｎＳまたはＴｉＯ２のＨＲＩ層１７が蒸着またはスパッタリングで塗布される。ＨＲＩ層１７は、部分的に存在し、金属層１１３に隣接し、少なくとも部分的に重なり合う。金属層１１３およびＨＲＩ層１７は第１層１１を形成する。
【００７４】
図８Ｂに係る状態が得られるように、第２層１２としての赤色層を用いて重ね刷りが行われる。この図は、印刷側から見たものである。
【００７５】
別のステップでは、重ね刷りされていない２つの反射領域１１３、１７のエリアが除去される層に相当して採用された化学物質、例えば、２種類のアルカリ溶液を用いた２つのステップで任意に除去される。上記した状況でアルミニュウム部分を除去し、ＺｎＳのＨＲＩ層を除去するためにＮａＯＨが使用されている間に、ＮａＯＨまたはＮａ２ＣＯ３が５秒〜６０秒間２０℃〜６０℃で使用されることが好ましい。
【００７６】
図８Ｃは、第１層１１側から見た最終多層体を示す。図１と比較して、基板における回折構造の効果は、ＨＲＩ層１７が存在する非金属エリアで視認可能となり、ＨＲＩ層１７が光学境界層として印刷および回折構造の間に配置されていることから第２層１２の有色印刷が視認可能となる。ここで、有色ラッカーを透明、半透明、または、不透明とすることができる。
【００７７】
図９に係る実施例は、図１に係る実施例に相当する。これらの違いは、第１層１１が数字「５０」の繰り返しとして精密に構造化された形式である点のみである。製造プロセスは、第１ステップを備える。第１ステップでは、精密に構造化された第１層１１は、図９Ａに応じて製造される。それに応じて、精密に構造化された金属層が例えば以下の方法で製造される。高解像度マスク露光によりフォトレジスト層を構造化し、その後、その層は、金属層を構造化するために使用される。または、例えばＷＯ２００６／０８４６８５Ａ２に記載された公差フリー部分金属化方法を用いる。層１１は、例えば極めて微細なテキストからなる微細グリッドからなる。
【００７８】
第２層の有色印刷は、図９Ｂに応じて行われる。この実施例での第２層１２は、比較的粗く構造化されたモチーフ、大きな数字「５０」の形状である。しかしながら、第２層１２を精密に構造化することもできる。
【００７９】
最後のステップでは、図９Ｃに示された多層体１０が得られるように、層１２の有色印刷が正確に一致した状態で第１層１１の除去のためのマスクとして機能する。これは、上記したエッチング方法と同様に行われる。
【００８０】
例えば、第１層１１および第２層１２が互いの位置に応じた精密に構造化されたライングリッドの場合、オーバーレイ効果が生じ、最終的に形成された構造は、第１層１１および第２層１２の精密に構造化されたオーバーレイ構造である。オーバーレイ構造は、例えば、所望のモアレ効果をもたらすことができる。
【００８１】
第１層の微細な構造化を例えば多数の細かなラインのギロシェとすることができる。図１７Ａに示されたようなＫｉｎｅｇｒａｍ（登録商標）のような光学回折構造と組み合わされた金属反射層とすることが好ましい。
【００８２】
第２層１２の有色印刷は、図１７Ｂに応じて行われる。有色印刷は、いくつかの異なる有色エリアを示し、例えば、図示の国旗および／または国の地理的輪郭の形状、アームのコートまたは他の多色モチーフの形状を示す。
【００８３】
最終ステップでは、図１７Ｃに示された多層体１０が得られるように、層１２の有色印刷は、正確に一致した状態で第１層１１を除去するためのマスクとして機能する。これは、上記したエッチング方法と同様に行われる。
【００８４】
図１７に示された実施例では、観察者は、耐偽造性を有する個別特徴、精密に構造化されたラインが有色エリアにのみ存在する状態、１つの有色エリアで視認可能な精密に構造化されたラインが一致した状態で隣接する有色エリアに続くという状態、を認識する。
【００８５】
図１８は、精密に構造化された第１層１１の別の実施例を示す。ここでは、第１層１１の精密な構造は、図１８Ａに示されるように、光学回折構造、例えば、Ｋｉｎｅｇｒａｍ（登録商標）と組み合わされた金属反射層として、例えば、多数の細かいラインからなるギロシェとしてデザインすることが好ましい。
【００８６】
第２層１２の印刷は、図１８Ｂに応じて行われる。ＵＶ吸収剤を用いた無色、好ましくは、透明なエッチングレジストが使用される。このエッチングレジストは、２重機能を行うことを意図する。エッチングレジストは、一方では、エッチングにより精密に構造化された第１層１１の更なる構造化のために機能し、他方では、その後、有色エリアの構造化のための露光マスクとして機能する。
【００８７】
エッチングレジストで覆われた第１層１１の表面に応じて、第１層１１の精密な構造は、エッチングレジストが設けられていないエリアでエッチング方法により除去される。
【００８８】
その後、有色フォトレジストが印刷される。有色フォトレジストは、無色エッチングレジストで覆われていないエリアを少なくとも備える。しかしながら、フォトレジストは、エッチングレジストと重なり合うこともできる。露光マスクとしてＵＶ吸収剤を備える無色エッチングレジストを用いた有色フォトレジストの露光により、有色フォトレジストが透明なエッチングレジストを有していないエリアで硬化し、エッチングレジストおよびエッチングレジストで保護および規定された精密に構造化された第１層１１のエリアと正確に一致した状態で他のエリアで除去される。
【００８９】
図１８に示された実施例では、観察者は、耐偽造性を有する個別特徴として、第１層１１の精密構造が無色エリアにのみ存在し、フォトレジストの有色エリアと正確に一致した状態で終了する状態と、第１層１１の精密構造が一致した状態で隣接する透明エリアで有色エリアに実質上続く状態と、を認識する。
【００９０】
図１０〜１３は、別の多層体１０の製造ステップを示す。しかしながら、製造ステップは、図９に示された基本構造に相当する。これらの本質的な違いは、図１０〜１３に示す第２層１２は、印刷時に構造化されていないが、まず、全面または少なくとも大部分のエリアに塗布され、構造化されている点である。
【００９１】
このため、剥離層１４および複製層１５は、まず、ポリエステルまたはＰＥＴのキャリア層１３に塗布される。その後、回折構造１５１が複製層１５に形成される。精密に構造化された金属層、例えば、グリッド形状として存在する第１層１１は、その後、複製層１５に塗布される。
【００９２】
図１１に示されたように、互いに隣接する２つの異なる有色ラッカー１２１、１２２からなる第２層１２は、第１層１１の全面に塗布される。ラッカー１２１、１２２は、ＵＶ感応有色フォトレジストである。その後、図１２に示された中間プロダクトが得られるように、マスク層１６が第２層１２に部分的に印刷される。マスク層１６は、グリッド形状を形成することができる。マスク層１６は、エッチングラッカーおよび保護ラッカーとして機能する。このため、エッチングレジストラッカーには、例えば、ＵＶ吸収二酸化チタン粒子または他のＵＶブロッカーが設けられている。その後、マスク層１６側からＵＶ光の露光が行われる。露光パラメータおよび使用されるラッカーは、上記したものに相当する。
【００９３】
マスク層１６の代わりに、フィルムマスクを用いることができる。フィルムマスクは、露光プロセスの間のみ層１２１および層１２２に接触し、その後、再び除去される。
【００９４】
図１２に示された中間体は、その後、５０℃のアルカリバスにさらされる。アルカリバスは、現像エッチングバスとして機能し、例えば、０．３％ＮａＯＨである。マスク層１６で保護されていないエリアでは、ＵＶ照射の間に、層１２のフォトレジスト１２１、１２２がさらされ、現像バスで分解する。エッチング工程の更なる過程では、残りの層１２により保護されていない第１層が攻撃される。したがって、ラッカー１２１、１２２は、エッチングレジストとして機能する。エッチング工程後、図１３に示された最終多層体１０が得られる。
【００９５】
第１層１１および第２層１２のグリッド形状の例が図１４に示されている。図示されたラインおよびモチーフグリッドではなく、他の構造、例えば、ドットグリッドを用いることもできる。更に、第１層１１および／または第２層１２は、第１層および／または第２層の複製層の回折構造のグリッドが設けられている。これは、第１層および第２層１１、１２の微細なグリッドのオーバーレイによるオーバーレイ効果をもたらし、第１層および／または第２層の回折グリッドまたはグリッドによるオーバーレイ、または、光学可変効果をもたらす。オーバーレイ効果は、オーバーレイにおけるグリッドのグリッド間隔および／またはグリッド形状がどのように類似または異なるかに応じて異なる。特に、回折グリッドの視認角および／または照明角依存関係は、この複雑なオーバーレイで驚くべき光学効果をもたらす。
【００９６】
これまで説明した実施例は、不透明金属または透明ＨＲＩ材（第１層１１）の部分反射層がまず製造され、その後、印刷（第２層１２）が塗布されるこという状況に基づいている。第２層１２の印刷は、マスク層として機能し、例えば、エッチングレジスト印刷に類似しており、部分金属層１１を更に構造化する。
【００９７】
図１５に係る実施例では、印刷（第２層１２）は、まず、入力材料に取り込まれる。その後、図示されない回折構造が入力材料に形成される（図１５Ａ参照）。
【００９８】
別のステップでは、図１５Ｂに示されたように、第１部分金属エリア（第１層１１）が製造される。
【００９９】
次のステップでは、第１層１１を第２層１２の印刷に完全に一致した状態で構造化するために、入力材料にすでに存在する印刷は、塗布されたフォトレジスト層のための露光マスクとして使用される。用いられる材料およびプロセスパラメータは、上記したものに相当する。
【０１００】
このため、第２層１２は、時間および場所に関して第１層１１とは完全に別に製造される。第２層は、例えば、図示しない基板の反対側に配置される。第１層１１は、基板の表側に配置される。特定の目的のために、第１層１１の構造化補助として機能する場合、第２層１２を選択的に除去することもできる。
【０１０１】
したがって、上面図では、回折構造を有する有色金属エリアおよび回折効果を有しない有色エリアが認識される。これらのエリアは、層１１および１２に相当し、互いに完全に一致した状態でなじんでいる。
【０１０２】
図１６は、多層体１０の別の実施例を示す。ここでは、図１６Ａに示されたように、まず、第１層１１は、凹型レタリング１９を備える金属層として製造される。図１６Ｂに示されたように、第２層１２は、グリッド波形ラッカー層として第１層１１に印刷され、アルカリバスで第１層１１を更に構造化するためにエッチングレジストマスクとして機能する。エッチング後、図１６Ｃに示された多層体１０が得られ、凹型レタリングのエリアにおける第２層１２の有色ラインがレタリング１９の外側の第１層１１の残りの金属ラインに完全に一致した状態で連続する。
【０１０３】
線幅は、一定である必要はなく、変更することができる。結果として、グリッドの異なる局所表面密度が得られ、追加情報が形成される。線幅は、２５μｍ〜１５０μｍであることが好ましい。グリッド間隔も変更可能であり、３００μｍ未満が好ましく、２００μｍ未満が好ましく、２５μｍより大きいことが好ましい。
【図１（Ａ）】
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【図１（Ｂ）】
0006634659.tif 000003
【図１（Ｃ）】
0006634659.tif 000004
【図２（Ａ）】
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【図２（Ｂ）】
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【図２（Ｃ）】
0006634659.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
0006634659.tif 000010
【図６】
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【図７（Ａ）】
0006634659.tif 000012
【図７（Ｂ）】
0006634659.tif 000013
【図７（Ｃ）】
0006634659.tif 000014
【図８（Ａ）】
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【図８（Ｂ）】
0006634659.tif 000016
【図８（Ｃ）】
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【図９（Ａ）】
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【図９（Ｂ）】
0006634659.tif 000019
【図９（Ｃ）】
0006634659.tif 000020
【図１０】
0006634659.tif 000021
【図１１】
0006634659.tif 000022
【図１２】
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【図１３】
0006634659.tif 000024
【図１４】
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【図１５（Ａ）】
0006634659.tif 000026
【図１５（Ｂ）】
0006634659.tif 000027
【図１５（Ｃ）】
0006634659.tif 000028
【図１６（Ａ）】
0006634659.tif 000029
【図１６（Ｂ）】
0006634659.tif 000030
【図１６（Ｃ）】
0006634659.tif 000031
【図１７（Ａ）】
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【図１７（Ｂ）】
0006634659.tif 000033
【図１７（Ｃ）】
0006634659.tif 000034
【図１８（Ａ）】
0006634659.tif 000035
【図１８（Ｂ）】
0006634659.tif 000036
【図１８（Ｃ）】
0006634659.tif 000037
【図１８（Ｄ）】
0006634659.tif 000038
【図１８（Ｅ）】
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