(57)【要約】      （修正有）【課題】スラリー中の凝集する粒子を解砕分散する分散機において、粒子の破壊が起きて、本来の粒子の物性を発揮できない問題や、高粘性スラリーで分散処理をできない問題を解決する。【解決手段】冷却構造を持つ円筒形容器の内周面と回転子５外周面の相方に形成される凹凸を軸方向の凹溝１１と該凹溝１１に交互に形成される凸条１２とし、凹溝１１の深さを１ｍｍまたはせん断流発生隙間の幅の０．５倍の大きい値以上とし、凹溝の面積比率が円筒体の内周面積及び回転子５の外周面積の３０〜８０％であり、しかも前記せん断流発生隙間が０．６〜４ｍｍである装置にてスラリーを分散処理する。【選択図】図２
0003203579.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
円筒形容器と、当該円筒形容器内にて該円筒形容器と同軸をなして回転する回転子５によって構成される装置であって、円筒体２の内面と回転子５の外周面との間に形成される、せん断流発生隙間８がスラリー通路を形成し、当該円筒形容器の一端側にスラリー供給口７が、また当該円筒形容器の他端側にスラリー出口９を設置してなる分散機において、円筒体２の内面と回転子５の外周面に凹凸が設けられており、当該凹凸の凹部の深さが１ｍｍ又はせん断流発生隙間８の０．５倍のいずれか小さいものよりも深く、かつせん断流発生隙間８の幅が４ｍｍ以下であることを特徴とする分散機。
【請求項２】
凹部の面積比率が円筒体２の内周面積及び回転子５の外周面積いずれに対しても３０〜８０％であること特徴とする請求項１記載の分散機。
【請求項３】
円筒体２の内周面及び回転子５の外周面に形成される凹凸の少なくとも一方は、凹溝及び凸条から構成され、各凹溝及び凸条は回転子５の軸心に対する傾斜角が１０度以内の直線の凹溝、または屈折した凹溝であることを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の分散機。
【請求項４】
円筒体２の内周面及び回転子５の外周面に形成される凹凸の少なくとも一方は、非連続で互いに独立して形成される凹部であることを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の分散機。
【請求項５】
円筒体２の内部に液体を流す冷却水路１０が設置してあり、円筒体２の内周面と冷却水路１０の間の材質の熱伝導率が１５W/mK以上であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の分散機。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、懸濁液（以下、スラリーという）中で凝集している粒子を解砕分散する分散機に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の分散機としては各種のものがあるが、連続式としては、密閉の円筒形容器内で円柱状部材が高速回転することにより発生するせん断力を利用してスラリー中の粒子の分散を行う装置がある。例えば、下記特許文献１に開示されている発明では、装置内に攪拌子が配置され、この攪拌子を回転駆動することにより、一次粒子が凝集した二次粒子を分散させる。分散を効率的に実施するために、スラリー中に０．０５〜０．５ｍｍ径程度の硬質粒子（ビーズ）を混入させている。分散が完了したスラリーは上部の分離装置でビーズ分離している。ここで、一次粒子とは、物質の結晶又は非晶質の単独粒子を言い、また二次粒子とは、数個から数十個の一次粒子の表面が接触し合い凝集して擬似的な粒子を構成しているものを言う。
【０００３】
下記特許文献２には、密閉の円筒形容器と、該円筒形容器内に該円筒形容器の中心軸と同軸をなして配置され、モータを駆動源として高速回転駆動される円柱状部材とよりなり、円筒形容器の内周面と円柱状部材の外周面の間に形成されるせん断流発生隙間を通る際に発生するせん断力により、スラリー中の凝集粒子を分散する装置が開示されている。更に円筒形容器内周面と円柱状部材の外周面の一方又は双方に凹凸を全面又は一部に形成してもよい、とも記載されている。
【０００４】
また、油エマルジョンは、化粧品の乳液、食品等に用いられており、水中に油の微粒液滴が懸濁しているものであり、油液滴の直径が０．５〜１０μｍが一般的である。数μｍのエマルジョンを製造するには、真空式攪拌容器等で処理するが、バッジ式処理であり、前工程での予備混合処理をする必要があるほか、処理後のエマルジョンを保有する貯留槽や液輸送用装置を設置する必要があった。この結果、工程が複雑となり、処理費用や設備費用が増加する問題があった。したがって、簡易な装置で連続処理ができる装置が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３７０３１４８号
【特許文献２】特開２００８−２３８００５号
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
従来型のスラリー中の粒子の分散装置では、以下のような課題があった。すなわち特許文献１に記載の効率の良い分散装置では、攪拌用にビーズを使用するため、粒子分散が良好であるが、分散とともに、一次粒子が破砕される問題があった。破砕と分散を同時に行う処理においては、問題がないが、一次粒子の破砕を極力抑えたい原料の処理の場合は、一次粒子へのダメージが大きく、また粉砕用のビーズの破片が製品スラリーに混入する問題もあった。
【０００７】
一方、特許文献２に記載の装置は、ビーズを使用しない分散装置である。スラリーにせん断力を掛けるために、ただ単に、回転子と円筒形容器の間のスラリーの流れを乱せばよいとの考えしかなかった。したがって、分散機能としては十分ではなかった。この改善のため、円筒形容器や回転子の表面にディンプル状の凹凸を付ける方が良いとの考えはあったものの、これに関して適切な設計ができていなかったため、ただ単に凹凸を付ければ良いとの考えであり、十分なせん断力が形成できるものではなかった。したがって、分散処理での一次粒子へのダメージは小さいものの、分散機能が小さい問題があった。
【０００８】
また、この様な装置では、円筒形容器と回転子の間でのせん断力に起因する摩擦により、スラリーが加熱される問題もあった。特許文献２記載の装置では、前述したように、十分なせん断力を発生できる装置設計でなかったため、摩擦熱が少なく、スラリー冷却に対応する技術的手段が不十分であった。この考案では、ただ単に放熱するとの考えしかなかったため、熱発散が不十分であり、回転子の周速を上げて運転することができなかった。
【０００９】
本考案は、一次粒子の破壊が起きて粒子本来の物性が発揮できない問題や高粘性スラリーでの粒子の分散処理ができないといった問題を解消することができる分散機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に係る考案は、円筒形容器と、当該円筒形容器内にて該円筒形容器と同軸をなして回転する回転子５によって構成される装置であって、円筒体２の内面と回転子５の外周面との間に形成される、せん断流発生隙間８がスラリー通路を形成し、当該円筒形容器の一端側にスラリー入口７が、また当該円筒形容器の他端側にスラリー出口９を設置してなる分散機において、円筒体２の内面と回転子５の外周面に凹凸が設けられており、当該凹凸の凹部の深さが１ｍｍ又はせん断流発生隙間８の０．５倍のいずれか小さいものよりも深く、かつせん断流発生隙間８の幅が４ｍｍ以下であることを特徴とする分散機である。
【００１１】
請求項２に係る考案は、請求項１の考案において、凹部の面積比率が円筒体２の内周面積及び回転子５の外周面積いずれに対しても３０〜８０％であること特徴とする。
【００１２】
請求項３に係わる考案は、請求項１又は２いずれかの考案において、円筒体２の内周面及び回転子５の外周面に形成される凹凸の少なくとも一方は、凹溝１１及び凸条１２から構成され、凹溝１１及び凸条１２は回転子５の軸心に対する傾斜角が１０度以内の直線の凹溝、または屈折した凹溝であることを特徴とする。
【００１３】
請求項４に係わる考案は、請求項１又は２いずれかの考案において、円筒体２の内周面及び回転子５の外周面に形成される凹凸の少なくとも一方は、非連続で互いに独立して形成される凹部であることを特徴とする。
【００１４】
請求項５に係わる考案は、請求項１から４いずれかの考案において、円筒体２の内部に液体を流す冷却水路１０が設置してあり、円筒体２の内周面と冷却水路１０の間の材質の熱伝導率が１５W/mK以上であることを特徴とする。
【考案の効果】
【００１５】
本考案を実施することにより、１マイクロメートル以下の粒子径が懸濁するスラリー中粒子を効率的に分散でき、従来装置での限界粘度である２００〜５００ｍＰａ・ｓを大幅に上回る２０，０００ｍＰａ・ｓ以上の高粘性スラリーでも粒子分散が可能である。また、分散処理以外に、液体の混合処理などに活用でき、従来装置では、処理できなかった高粘性流体同士の混合処理と、油と水などの乳化処理が可能となる。
【００１６】
また、ビーズを用いないで分散処理ができることから、粒子ダメージを受けると最終製品の性能が低下する粒子のスラリー処理に活用が可能である。特に、有機物や低強度の酸化物等の粒子にダメージを与えることなく、分散処理ができる。また、製品スラリーへのビーズ破片の混入がなく、ビーズ成分による製品汚染を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本考案に係る分散機の要部の概略断面図。
【図２】図１に示す分散機を構成する回転子５の平面図。
【図３】同回転子５の正面図。
【図４】図１に示す分散機を構成する円筒体２の平面図。
【図５】同円筒体２の縦断面図。
【図６】円筒形容器と回転子５の要部の拡大図。
【図７】凹凸の別の例を示す一部分の拡大展開図。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本考案に係る分散機について図面を用いて説明する。図１に本考案の分散機の概要を示す。本図は便宜的に分散機を縦方向にしているが、水平など任意の角度に傾斜していても良い。断面で示す図示する分散機１は、円筒体２、上蓋３、下蓋４によって形成される空間に、回転子５が入っている構造である。以降、円筒体２、上蓋３、下蓋４によって形成される構造物を円筒形容器と称す。回転子５は回転軸６により高速回転する。原料スラリーは、スラリー入口７から分散機の内部空間に供給され、せん断流発生隙間８にて、せん断力を与えられて分散処理を施され、その後、製品スラリーとして、スラリー出口９から装置外に排出される。
【００１９】
図示する実施形態では、スラリー入口７は下蓋４に、スラリー出口９は上蓋３に設けられているが、スラリー入口７を上蓋３にスラリー出口９を下蓋４に設けてもよい。分散機が横向き或いは任意の角度に傾斜している場合も同様、スラリー入口７及びスラリー出口３は上蓋３と下蓋４のいずれかに設けられる。
【００２０】
前記回転軸６は、図１においてスラリー出口９の方向に設置してあるが、スラリー入口７の方向に設置することも可能である。また前述の回転体容器は円筒体２、上蓋３及び下蓋４から構成されているが、上蓋３及び下蓋４のうち、少なくとも一方は円筒体２と一体化されていてもよい。
【００２１】
図示する実施形態ではまた、円筒形容器が固定され、回転子５が図示しないモータを駆動源として回転駆動されるようになっているが、回転子５を固定させ、円筒形容器を回転させるようにしてもよい。
【００２２】
円筒体２、上蓋３、下蓋４は、その内部に冷却媒体としての冷却水が通される冷却水路１０を有しており、ここに冷却水を流して、分散機１の内部のスラリーを冷却する。なお、上蓋３または下蓋４には、冷却水路１０がなくともよい。冷却水路１０と当該円筒形容器の内部空間との間の構造体の材料は、熱伝導率が良いものを採用して、適正な厚みで施工される。
【００２３】
本装置では、回転子５が回転することにより、回転子５と円筒形容器との隙間のスラリーにせん断力を働かせて、スラリー中の凝集粒子（二次粒子）を分散させて、単独粒子（一次粒子）を液中に分散させる。ただし、従来技術において、平滑な面で構成されている、または単純な凹凸を施したのみの円筒内周面と回転子５の外周面から構成される装置においては、回転子５の回転によって生じるせん断力は小さく、周速１０ｍ／ｓ以上で隙間１〜３ｍｍであっても、スラリー中の一次粒子径が１マイクロメーター以下の粒子から構成される二次粒子を適正に分散することはできなかった。
【００２４】
本装置では、適正な設計条件で施工された凹凸のある円筒形容器と回転子５の構造であれば、せん断力を十分に大きくすることができる。本装置では、回転子５の回転にともない。スラリーが円筒形容器内周面の凹部に入り込んだ後に、回転子外周の凹部に入り込むことを繰り返すことで、スラリーの乱流密度が大幅に上昇し、スラリーのせん断力が増加する。この結果、スラリー中で集合している粒子群（二次粒子）を分散する効果が増加する。
【００２５】
次に本装置における凹凸の形状と寸法について説明する。図２は回転子５の平面図、図３は回転子５の正面図であり、図４は円筒体２の平面図、図５は円筒体２の縦断面図である。図２から図５は、凹溝１１と凸条１２を交互に周方向に等間隔で形成してなる例である。円筒体２と回転子５に設けられる凹凸は、前述の凹溝１１や凸条１２或いは図７に示すディンプル１３以外の任意の形状のものとすることができる。例えば凹溝１１や凸条１２は軸方向に同一幅で、かつ同一ピッチに形成されているが、幅を異にすることも可能で、またピッチを変えてランダムに形成し、或いは軸方向に形成しないで円筒体２及び回転子５の軸心に対する傾斜角が１０度以下に傾斜して形成してもよい。凹溝１１や凸条１２はまた、例えば屈折したり、ジグザグに或いは湾曲に形成されてもよい。この際は、局所的には角度１０度にこだわる必要はない。図６には、回転子５と円筒体２の噛み合わせを示す図である。
【００２６】
また、図７には、凹凸の更に別の例として、不連続の凹部（ディンプル１３）のものを示した。凹部が互いに独立した形態の円形のディンプル１３が形成され、ディンプル１３以外が凸部となる。ディンプル１３は、長円、楕円、多角形ないし不定形の溝或いはこれらの組合せよりなる溝とすることでも良い。また、回転子５の表面を凹凸溝とし、円筒体２の表面を不連続の凹部で構成することも可能で、またその逆も可能である。
【００２７】
本考案者らの研究により、更に以下のことが判明した。当該円筒形容器及び回転子５の表面に形成される凹凸の形状は、該円筒形容器、回転子５の回転軸方向に凹凸を設置することが最もせん断力向上に寄与することがわかった。円筒形容器及び回転子５に凹溝１１及び凸条１２を形成する。凹溝１１の回転子５の軸心に対する傾斜角が大きい場合は、図１の上方向へのスラリーの流れを阻害することから、その角度は１０度以内であることが重要である。また、凹凸は非連続で互いに独立して形成される凹部から構成される凹凸でも良い。ただし、いずれの場合も、凹凸は以下のことを特徴とする。
【００２８】
凹凸の効果について、本考案者らは凹部の深さがせん断力に与える影響が大きいことを見出した。せん断流発生隙間８が小さい場合は、凹凸の凹部の深さｈは１ｍｍ以下では、十分な効果が認められなかった。また、この隙間が大きい場合は、隙間間隔の０．５倍以上の深さがあることが必要であった。一方、凹部の深さが過度に大きくとも特段の効果の増加がなく、かえって、凹部の奥にせん断力を受けないスラリーが存在する結果、分散効率が低下する問題がある。したがって、凹部の深さは、好ましくは凹部の幅の４倍以下が良い。
【００２９】
せん断流発生隙間８の幅も重要な設計要素である。せん断流発生隙間８の幅が４ｍｍより広いと、通常の粘度（３００mPa・s以下）の液体においては、せん断力が大幅に低下する。したがって、せん断流発生隙間８を４ｍｍ以下とすると、分散性能を向上させることができる。また、せん断流発生隙間８の幅が０．６ｍｍ以下の場合は、製作上の困難さもあり、また狭い領域に熱がたまりやすい問題もある。ここで、せん断流発生隙間８の幅は、図６中のｔで表される円筒体２及び回転子５に設けられている凹凸の凸部が接する円周の間隔を云う。
【００３０】
本考案者らはまた、当該凹部の幅が広くても狭くても、スラリー中粒子の分散効果が小さいことを見出した。当該凹部の幅がせん断流発生隙間８の幅ｔの０．８〜６倍であることも必要な設計要件である。凹部の幅が狭い場合は、スラリーが凹部への出入りが不活発となり、分散が悪化する問題がある一方、凹部の幅が大きすぎる場合は、スラリーの出入りがあるものの、凹凸の数が減少することから、やはり分散が低下する。更に、凹部の面積が全周面の３０％以上及び８０％以下であると、円筒形容器内面と回転子５の外周面の凹部へのスラリーの出入りが活発となり、粒子分散が良好となる。また、凸部分の幅が長いと、平滑形状と同様の性能になり、スラリーを乱流状態にする効果が低下するため、分散性能が低下する。なお、もし凸部は曲面を形成している場合は、凸部頂点より凹部に向けて１／１０下がった位置を基に、凸部の幅や面積を計算する。
【００３１】
本考案の装置では、円筒体２と回転子５の隙間（せん断流発生隙間８）において、スラリーに強力なせん断力が働き、この影響で発熱が大きい。従って、発熱によるスラリー中粒子の劣化や液の沸騰を防止するために強力な冷却が必要である。本考案の装置では、せん断流発生隙間８での発熱が特に大きい。したがって、この部分を強力に冷却することが必要で、円筒体２の回転子５が対面する部分に相当する面積の１００％以上を水などの液体で冷却することが良い。
【００３２】
特にせん断流発生隙間８の内部で、スラリー温度が沸点に近づいている処理の場合は、上蓋３部分での冷却も重要になる。本考案の装置の内部はプラス圧であることから、沸点近くまでスラリー温度が上昇しても、沸騰しないが、装置から出た位置で、大気圧又はマイナス圧となるため、沸騰する可能性がでる。したがって、このような場合は、せん断流発生隙間８から製品スラリー出口の間での冷却が重要になる。そこで、上蓋３を水などの液体で冷却する。上蓋３の５０％以上の面積を冷却することが良い。
【００３３】
円筒体２の側面、特に回転子５に対面する部分であるせん断流発生隙間８の冷却は以下の条件で行う。冷却部分の材質は、金属、セラミックス、硬質樹脂が用いられるが、熱伝導率（λ）が高いものが良く、熱伝導率は１５W/mK以上のものが良い。熱伝導率は２５W/mK以上であれば、更に良い。金属であれば、銅又は銅合金（λ：３００〜４３０W/mK）、アルミニウム又はアルミニウム合金（λ：約１１０W/mK）、鉄（λ：約５０W/mK）などが良い。セラミックスであれば、高密度アルミナ（添加剤入りを含む）（λ：１５〜３０W/mK）、窒化アルミニウム（λ：１００W/mK以上）、窒化珪素（λ：１５〜３０W/mK）、炭化珪素（λ：約２００W/mK）が良い。ここで、熱伝導率とは、０℃又は２０℃での値を云う。
【００３４】
この部分の材料の厚みも重要な技術条件である。本考案の冷却条件を満たすためには、材料部の伝熱抵抗が小さいことが重要である。伝熱抵抗は厚みに比例し、熱伝導率に反比例することから、伝熱抵抗を（厚み：Ｔｍ）／（熱伝導率：λ  W/mK）で示す場合、Ｔ／λは０．０００５K/W 以下であることが重要である。ただし、よりせん断力の大きいせん断流発生隙間８が２ｍｍ以下や回転子の周速が大きいなどの場合は、Ｔ／λは０．０００３５K/W 以下が良い。例えば、λ＝１７のアルミナを使用した場合、前者の条件ではＴ＜８．５ｍｍ、後者の場合、Ｔ＜５．９５ｍｍであることが設計条件である。装置の上蓋３の冷却も同様の条件が望ましい。当該構造体が複数の層によって構成される場合は、ΣTn／λnを０．０００５K/W又は０．０００３５K/W以下とする。ここで、λnとは、内側からｎ番目の材料層の熱伝導率であり、Tnとは、内側からｎ番目の材料層の厚みである。
【００３５】
回転子５の軸方向長さＬと直径Ｄの比も装置設計に重要な指標である。Ｌ／Ｄが大きい場合は、熱発生領域であるせん断流発生隙間８の縦方向の長さが長くなり、円筒形容器の側面に対して上面の面積比率が低下する。この結果、上蓋３の冷却効果が小さくなる。
【００３６】
面積当りの冷却能力は、せん断流発生隙間８の方が大きい。これは、せん断流発生隙間８の間隔での乱流密度が高いため、液側の熱伝導が良好であるためである。一方、上蓋３の部分では、スラリー流速が遅いため、液側の熱伝導が低い。本考案の装置においては、面積当りの冷却能力は、せん断流発生隙間８の部分を１とすると、上蓋３の部分では０．４程度である。せん断流発生隙間８において沸点に近い温度まで加熱されたスラリーが装置外に出た際に沸騰しないためには、上蓋３で５℃以上、可能であれば１０℃の冷却をする必要がある。なお沸点よりも温度を下げる理由は、装置外では配管内の流れの関係で、局部的に負圧が発生し、沸騰しやすいためである。また、この条件を面積的に満たすためには、Ｌ／Ｄが１．２以下として、上蓋３の面積を増やすことが必要である。機械構造的には、Ｌ／Ｄの最小値は０．２５が良い。
【００３７】
本考案の装置の運転方法としては、以下のとおりである。容器内に供給される原料スラリーは、溶媒中に凝集した粒子を含むもので、溶媒としては水、アルコール系溶液、トルエン系溶液、アセトン、グリコール類などを例示することができるが、これらに限定されるものではない。原料スラリーは分散機１に供給するのに先立って、例えば粉体、分散剤などを添加し、撹拌機、ホモジナイザー等を用いて予備混合しておくのが望ましい。適応できるスラリーの粘度は１０〜４０，０００mPa・sの広範囲のものであり、特に、従来装置では対応できない５００mPa・s以上の高粘性スラリーの処理に最適である。
【００３８】
本実施形態の分散機は、以下のような条件で運転を行うのが望ましい。
回転子５の外周の周速を１０〜８０ｍ／秒とする。スラリー中の粒子のせん断流発生隙間８内でのシェア率を上げて、せん断力により、スラリー中の二次粒子を分解して、独立した一次粒子が分散した状態にする。
【実施例】
【００３９】
本考案の分散機の装置仕様と運転状況を以下に示す。分散機は図１に示す構造のものであり、主な仕様は表１に示すものである。主な仕様は、回転子５の直径（Ｄ）が９３ｍｍで長さ（Ｌ）が９０ｍｍと２５ｍｍである。せん断流発生隙間８の幅ｔは０．８〜４ｍｍであり、実施例では１ｍｍと２ｍｍで処理した。回転子５の周速は１０〜５０ｍ／秒の条件で運転できる装置である。装置の円筒形容器のうち、円筒体２、上蓋３、下蓋４を冷却している。冷却部の構造は以下の表１に示すとおりである。本装置を用いて、表２に記載する原料スラリーを分散処理した結果を表３に示す。
【００４０】
【表１】
0003203579.tif 000003
【００４１】
【表２】
0003203579.tif 000004
【００４２】
【表３】
0003203579.tif 000005
【００４３】
分散を評価するための指標として、平均粒子径（Ｄ５０：５０％質量の粒子がこの値以下の粒子径を示す数値）と１μm以上粒子比率を用いる。比較例１では、円筒体２にも、回転子５にも、凹凸がない装置での処理例である。他の処理条件は本考案の範囲内であるが、このように、凹凸がない場合は、平均粒子径が２．９６μｍまでしか低下しておらず、１μｍ以上粒子比率も７２％と高位であった。比較例２は、回転子５にのみ凹凸を付けた処理の例である。このように、片方のみに凹凸を付けただけでは、平均粒子径が、２．１８μｍかつ１μｍ以上粒子比率も６９％と不十分な結果であった。
【００４４】
一方、回転子５と円筒体２の両方に凹凸を付けた処理例である、実施例１から実施例４では、平均粒子径が０．１５〜０．２２μmと分散が強化されており、１μｍ以上粒子比率も２１〜４１％と良好であった。また、スラリー温度上昇も３０℃以内の抑えられており、スラリー冷却の面でも良好な成績であった。また、冷却面積比率の高い装置２の方がスラリー温度上昇は小さかった。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本考案に係る分散機は、セラミック、カーボンナノチューブ、セルロースナノファイバー、顔料、インキ、塗料、誘電体、磁性体、無機物、有機物、医薬品、食品、金属等の分散に適している。また、高粘性流体の混合及び油と水の乳化処理にも適用できる。
【符号の説明】
【００４６】
１・・分散機
２・・円筒体
３・・上蓋
４・・下蓋
５・・回転子
６・・回転軸
６a・・回転軸止め具
７・・スラリー入口
８・・せん断流発生隙間
９・・スラリー出口
１０・・冷却水路
１１・・凹溝
１２・・凸条
１３・・ディンプル
【図１】
0003203579.tif 000006
【図２】
0003203579.tif 000007
【図３】
0003203579.tif 000008
【図４】
0003203579.tif 000009
【図５】
0003203579.tif 000010
【図６】
0003203579.tif 000011
【図７】
0003203579.tif 000012