(57)【要約】      （修正有）【課題】高付着性の光学層を使用することにより、タッチパネルの遮光層の脱落の欠点を向上すると共に傾斜のある遮光層によりタッチパネルにおけるタッチ領域を改善するタッチパネルを提供する。【解決手段】透明基板２１の下表面にある少なくとも一つ周辺に設置される光学層２２を含む。また、遮光層２３を光学層の下表面にある少なくとも一部の下表面に設置する。又、タッチセンシング層２５を透明基板２１及び遮光層２３の下方に設置する。【選択図】図２Ｂ
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板にある下表面の少なくとも一つの周辺に設置される光学層と、
前記光学層にある少なくとも一部の下表面に設置される遮光層と、
前記透明基板及び前記遮光層下方に設置されるタッチセンシング層を具備することを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記遮光層はブラックマトリックス（ＢＭ）を含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記遮光層は斜面を有することを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記光学層の材料はシリコン酸化物で構成されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記光学層の全面は前記透明基板の下表面に設置されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記光学層と前記遮光層の下表面に設置される第二光学層を更に含むことを特徴とする、請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記透明基板上方に設置される抵抗反射層を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、タッチパネルに関し、より詳しくは高付着性光学層を有するタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、検知技術及びディスプレイ技術による入出力装置である。それは一般的に、例えば携帯手持ち型電子機器の電子機器に汎用される。静電容量方式タッチパネルは、よくタッチパネルが使用され、その電容結合効果により、接触の位置を検知する。指先が静電容量方式タッチパネルの表面に触れるとき、相応位置の電容量が変わり、触れる位置を検知するようになる。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００３】
図１（Ａ）及び図１（Ｂ）は公知のタッチパネルを説明する上面図及び断面図である。ガラス基板１１の下表面周囲に、ブラックマトリックス１２（ｂｌａｃｋｍａｔｒｉｘ，ＢＭ）を設置すると共にガラス基板１１及びブラックマトリックス１２の下表面周囲に、タッチセンシング層１３を設置する。
タッチセンシング層１３は検知部１３１とレイアウト部１３２（ｒｏｕｔｉｎｇ）で構成され、ブラックマトリックス１２が被覆されていない箇所は検知部１３１で、レイアウト部１３２がブラックマトリックス１２の真下に位置する。前記ブラックマトリックス１２或いは検知部１３１はアクティブ領域又はタッチ可能な範囲１４と定義される。
しかしながら、ブラックマトリックス１２とガラス基板１１の間の付着力が小さいので、容易にブラックマトリックス１２が脱落する問題があった。
さらに、タッチセンシング層１３が薄いから、検知部１３１の外囲領域１５（即ち、タッチ可能な領域１４と１６の間にある）の断線する問題が発生した。
【０００４】
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に到った。
【０００５】
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、高付着性光学層を有するタッチパネルを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係るタッチパネルは透明基板と、前記透明基板にある下表面の少なくとも一つの周辺に設置される光学層と、前記光学層にある少なくとも一部の下表面に設置される遮光層と、前記透明基板及び前記遮光層下方に設置されるタッチセンシング層を具備することを特徴とする。
【考案の効果】
【０００７】
本考案によれば、公知のブラックマトリックス１２の脱落問題の向上が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】（Ａ）は、公知のタッチパネルを説明する上面図及び断面図であり、（Ｂ）は、公知のタッチパネルを説明する上面図及び断面図である。
【図２Ａ】本考案の第１実施形態によるタッチパネルをを説明する上面図及び断面図である。
【図２Ｂ】本考案の第１実施形態によるタッチパネルをを説明する上面図及び断面図である。
【図３】本考案の第２実施形態によるタッチパネルをを説明する断面図である。
【図４】本考案の第３実施形態によるタッチパネルをを説明する断面図である。
【考案を実施するための形態】
【０００９】
以下に図面を参照して本考案を実施するための形態について、詳細に説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
【実施例１】
【００１０】
まず、本考案のタッチパネルの第１実施形態について説明する。本考案の第１実施形態の構成を図２Ａから図２Ｂに示す。図２Ａ及び図２Ｂはそれぞれ本考案に係る第１実施形態によるタッチパネルの上面図及び断面図である。分り易く説明するため、図式には本実施形態に関する部材のみを図示する。
図２Ａ及び図２Ｂによれば、まず透明基板２１を提供し、その材質はガラス、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ＰＭＭＡ）、或いは環状オレフィンコポリマー（Ｃｙｃｌｉｃ  ｏｌｅｆｉｎ  ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ、ＣＯＣ）等の高透光率の絶縁材料である。
【００１１】
透明基板２１の下表面の少なくとも一つの周辺には光学層２２が設けられる。本実施形態の光学層２２は透明且つ高屈折率を有し、例えば１．５よりも大きい。本実施形態の光学層２２の材質は光依存性抵抗材料等の透光有機材料か、もしくはシリコン酸化物（例えば二酸化シリコン）や金属酸化物等の透光無機材料である。
光学層２２を形成する方法は複数あり、例えば物理蒸気蒸着、化学蒸気蒸着、塗布（ｃｏａｔｉｎｇ）、印刷、或いはスピニング加工（ｓｐｉｎｎｉｎｇ）等の方法である。本明細書の上方とはタッチパネルのタッチパネル面を指し、下方はタッチパネル面とは反対の方向を指す。
【００１２】
光学層２２の下表面には遮光層２３が設けられる。本実施形態の遮光層２３は一般的なブラックマトリクス（ｂｌａｃｋ  ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ）であり、但しこれに限定されず、遮光機能を有する導電或いは非導電材質は全て含まれる。本実施形態の特徴は、遮光層２３の光学層２２に対する付着性が遮光層２３の透明基板２１に対する付着性より大きく、このため遮光層２３は脱落しにくくなる。
【００１３】
本実施例の他の特徴によれば、遮光層２３は傾斜する側面（斜面）を有する。実施形態では、遮光層２３の斜面と透明基板２１の底面との間には角度Ａを有し、その値は５０度より小さい。本明細書の後段に説明するが、遮光層２３の斜面は本実施形態のタッチパネルのタッチ可能な領域を原始アクティブ領域２４Ｂから拡大アクティブ領域２４Ａに増大させる。
【００１４】
図２Ｂによると、遮光層２３及び透明基板２１の下表面にはタッチセンシング層２５が設けられ、その材質は透明導電材料（例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）或いは酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ））である。但しこれらに制限されるわけではない。
図２Ｂの概略図には、一層のタッチセンシング層２５のみ図示するが、他では多層であり、これらの層には単辺の単層、単辺の多層、或いは二辺の多層等のレイアウトがある。タッチセンシング層２５は検知部２５１及びレイアウト部２５２（ｒｏｕｔｉｎｇ）を備える。検知部２５１とレイアウト部２５２の境界線は遮光層２３の斜面ではない下方に位置される。これにより、検知部２５１は本実施形態の拡大アクティブ領域或いは拡大タッチ可能な領域２４Ａを定義する。
傾斜する側面を有する従来のタッチパネル（例えば図１（Ａ）及び図１（Ｂ）に図示する）のブラックマトリクス１２に比べ、本実施形態による遮光層２３は斜面を有するため斜面付近（即ち拡大アクティブ領域２４Ａと原始アクティブ領域２４Ｂとの間）の領域は、検知部２５１が断線することがなく、またタッチパネルのタッチ可能な領域を増大させる。
【００１５】
図２Ａ及び図２Ｂによれば、本実施形態のタッチパネルは、透明基板２１の上表面に設けられる反射防止層２６を更に備え、光線の反射を防止し、透明基板２１が汚染されるのを防ぐ。このほか、本実施形態によるタッチパネルは、タッチセンシング層２５の下表面に設けられる被覆層２７（ｏｖｅｒｃｏａｔｉｎｇ）を更に備え、タッチセンシング層２５を保護する。上述のタッチパネルは単独で電子装置に使用され、タッチパネル（図示せず）に結合させてタッチパネルディスプレイを形成する。
【実施例２】
【００１６】
次は、本考案のタッチパネルの第２実施形態について説明する。
図３は本考案に係る第２実施形態のタッチパネルの断面図であり、その上面図は図２Ａに類似するため説明は省く。
本実施形態は第１実施形態（図２Ｂ）に類似し、異なる点は、本実施形態の光学層２２Ａは透明基板２１の下表面全面を被覆し、タッチセンシング層２５は遮光層２３及び光学層２２Ａの下表面を被覆する点である。
第１実施形態（図２Ａ及び図２Ｂ）に比べ、本実施形態では高屈折率の光学層２２Ａがタッチセンシング層２５の上方全面に直接的或いは間接的に設けられる。これはタッチセンシング層２５のタッチセンサー電極に位置するか近隣のタッチセンサー電極の間の間隙に位置するかを問わない。さらに、上方からタッチパネルを俯瞰する場合に検知される反射光線には殆ど差異はなく（即ち反射率は実質的に同じ）、タッチパネルの光学的特性を向上させる。
【実施例３】
【００１７】
最後に、本考案のタッチパネルの第３実施形態について説明する。図４は本考案の第３実施形態によるタッチパネルの断面図であり、その上面図は図２Ａに類似するため説明は省略する。
本実施形態は第２実施形態（図３）に類似し、異なる点は、本実施形態は透明基板２１と遮光層２３との間に第一光学層２２Ｂを設け、遮光層２３及び第一光学層２２Ｂの下表面には第二光学層２２Ｃを設ける点である。
【００１８】
以上、本考案の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【符号の説明】
【００１９】
１１    ガラス基板
１２    ブラックマトリクス
１３１  検知部
１３２  レイアウト部
１３    タッチセンシング層
１４    アクティブ領域
１５    検知部の外囲領域
１６    領域
２１    透明基板
２２    光学層
２２Ａ  光学層
２２Ｂ  第一光学層
２２Ｃ  第二光学層
２３    遮光層
２４Ａ  拡大アクティブ領域
２４Ｂ  原始アクティブ領域
２５    タッチセンシング層
２５１  検知部
２５２  レイアウト部
２６    反射防止層
２７    被覆層
Ａ      角度
【図１】
0003180689.tif 000003
【図２Ａ】
0003180689.tif 000004
【図２Ｂ】
0003180689.tif 000005
【図３】
0003180689.tif 000006
【図４】
0003180689.tif 000007