(57)【要約】      （修正有）【課題】洗浄効果と効率を向上させる、レーザー洗浄機を提供する。【解決手段】少なくとも一つの被洗浄物４を洗浄するためのレーザー発生装置１と、レーザー発生装置１のレーザー照射経路上に設けられて被洗浄物４を搭載支持するための機構台座２と、レーザー発生装置１一側に設けられた画像取得装置３と、画像取得装置３内に設けられた洗浄制御モジュール３３とからなる。洗浄制御モジュール３３は、レーザー発生装置１の移動経路の設定、及び画像取得装置３の位置決め情報の処理を行う。また、画像取得装置３は、第一取得部品３１と、第一取得部品３１一側に設けられた第二取得部品３２とからなる。以上の構造により、レーザー発生装置１が被洗浄物４を洗浄するのと同時に、洗浄制御モジュール３３が被洗浄物４の分布状況と正確な座標を取得して、移動経路を設定する。【選択図】図２
0003204286.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの被洗浄物を洗浄するためのレーザー発生装置と、機構台座と、画像取得装置と、洗浄制御モジュールとからなる、レーザー洗浄機であって、
前記機構台座は、前記レーザー発生装置のレーザー照射経路上に設けられるとともに、前記被洗浄物を搭載支持するために用いられ、
前記画像取得装置は、前記レーザー発生装置一側に設けられるとともに、前記画像取得装置は、第一取得部品と、前記第一取得部品一側に設けられた第二取得部品とからなり、
前記洗浄制御モジュールは、前記レーザー発生装置の移動経路の設定と前記画像取得装置の位置決め情報の処理を行うために、前記画像取得装置内に設けられることを特徴とする、レーザー洗浄機。
【請求項２】
前記被洗浄物上には、間隔を置いて配列した複数の探針部が設けられるとともに、前記被洗浄物は、カンチレバー式プローブカード（Ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ）・垂直式プローブカード（Ｖｅｒｔｉｃａｌ）・薄膜式プローブカード（Ｍｅｍｂｒａｎｃｅ）・ポゴピン式プローブカード（Ｐｏｇｏ）・マイクロスプリング式プローブカード（Ｍｉｃｒｏ  ｓｐｒｉｎｇ）・メムス式プローブカード（ＭＥＭＳ）の中のいずれか一つであり、
前記第一取得部品は、低倍率レンズであるとともに、前記探針部の位置分布情報を取得するために用いられ、
前記第二取得部品は、高倍率レンズであるとともに、前記探針部の正確な座標情報を取得するために用いられることを特徴とする、請求項１に記載のレーザー洗浄機。
【請求項３】
前記機構台座上には、前記レーザー発生装置と前記画像取得装置の作動を制御するための制御装置が設けられることを特徴とする、請求項１に記載のレーザー洗浄機。
【請求項４】
前記レーザー発生装置は、二軸スライドガイドと、前記二軸スライドガイド上に枢設された移動支持フレームとからなり、
更に、前記レーザー発生装置は、充電電圧が６５０Ｖから１０００Ｖの交流であるとともに、射出振動波長が５３２ナノメートル（ｎｍ）から１０６４ナノメートル（ｎｍ）であり、且つパルスエネルギーが４００ミリジュール（ｍＪ）〜１２００ミリジュール（ｍＪ）であることを特徴とする、請求項１に記載のレーザー洗浄機。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、レーザー洗浄機に関し、特に、レーザーによって洗浄を行うとともに、良好な洗浄効果と洗浄効率を備えた、レーザー洗浄機に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェハー上の全ての半導体集積回路素子を同時に検査するためには、各半導体集積回路素子の電極に対して同時に電源電圧や信号を印加して、各半導体集積回路素子を作動させる必要がある。このため、ウェハー上の全ての半導体集積回路素子の電極に接触可能な多数のコンタクタ（ｃｏｎｔａｃｔｏｒ）を備えたプローブカード（ｐｒｏｂｅ  ｃａｒｄ）を準備する必要がある。
【０００３】
前記ウェハーの電子回路上の電気特性を適切に検査するためには、電極表層に位置する絶縁層の酸化アルミニウム膜を削り取るとともに、プローブ針を電極表層下のアルミニウムに接触させ、且つ接触には所定の圧力が必要である。前記酸化アルミニウム膜を削り取る量と接触圧力が大きいほど、良好な接触性が得られ易くなるものの、この場合、不純物がプローブ針前端に付着しやすくなり、付着したアルミニウムや不純物が突起物を形成することで、プローブ針が電極に接触した時により深い痕を作って、電極を破損してしまう。
【０００４】
よって、プローブ針を洗浄な状態に保つことは非常に重要である。しかし、プローブカードのメーカー・種類・用途等の違いに応じて、各コンタクタの配列方式や分布位置も異なるため、洗浄過程において、プローブ針を破損しないように注意する必要があるだけでなく、洗浄漏れの問題が常時発生するため、時間を割いて漏れを補填しなければならないことが多々ある。
【０００５】
上述のプローブカードの洗浄方法には、改善すべき以下の問題と欠点が存在している。
１、プローブ針の洗浄方法は、不便で、洗浄効果が低いだけでなく、プローブ針自体の機能低下や外観破損を招く可能性がある。
２、洗浄動作に漏れが生じ易く、洗浄効率の低下を招いている。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
本考案は、レーザーによって洗浄を行うとともに、良好な洗浄効果と洗浄効率を備えた、レーザー洗浄機を提供することを目的とする。
【０００７】
また、本考案は、レーザー発生装置によって洗浄品質を向上させるとともに、画像取得装置、及び洗浄制御モジュールを組合せることにより、洗浄経路、及び位置決め正確度をより優良化して、素早い洗浄を可能にする、レーザー洗浄機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の目的を達成するために、本考案は、少なくとも一つの被洗浄物を洗浄するためのレーザー発生装置と、前記レーザー発生装置のレーザー照射経路上の位置に設けられて前記被洗浄物を搭載支持する機構台座と、前記レーザー発生装置一側に設けられた画像取得装置とからなる。更に、前記画像取得装置は、第一取得部品と、前記第一取得部品一側に設けられた第二取得部品とからなるとともに、前記画像取得装置内には、前記レーザー発生装置の移動経路の設定、及び前記画像取得装置の位置決め情報の処理を行うための洗浄制御モジュールが設けられる。使用者が本考案を使用して被洗浄物を洗浄する時、まず被洗浄物を機構台座上に置いてから、第一取得部品と第二取得部品によって、前記被洗浄物の位置決め情報を取得するとともに、洗浄制御モジュールの計算によって、前記被洗浄物全体の位置分布図と正確な座標情報を取得する。この後、洗浄制御モジュールによって最も望ましい洗浄移動経路が選定され、最後にレーザー発生装置によって洗浄動作が実行される。以上のように、簡単且つ素早く被洗浄物の位置決め情報を把握するとともに、優良化された移動経路とレーザー洗浄の効果を組合せることにより、高い洗浄品質と高い洗浄効率という進歩性を達成する。
【考案の効果】
【０００９】
以上の構造によってなる本考案は、従来のプローブカードの洗浄方法における不便さ・洗浄効果の低さ・洗浄漏れの多発・洗浄効率の悪さという問題点を解決可能であるという利点を備え、実用進歩性を達成する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本考案の斜視図である。
【図２】本考案の構造を示したブロック図である。
【図３】本考案の実施例図（一）である。
【図４】本考案の実施例図（二）である。
【図５】本考案の実施例図（三）である。
【考案を実施するための形態】
【００１１】
図１、図２を参照する。本考案は、レーザー発生装置１と、機構台座２と、画像取得装置３と、洗浄制御モジュール３３とからなる。レーザー発生装置１は、少なくとも一つの被洗浄物４を洗浄するために用いられる。被洗浄物４は、本実施例においてはプローブカードであるとともに、被洗浄物４は、カンチレバー式プローブカード（Ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ）・垂直式プローブカード（Ｖｅｒｔｉｃａｌ）・薄膜式プローブカード（Ｍｅｍｂｒａｎｃｅ）・ポゴピン式プローブカード（Ｐｏｇｏ）・マイクロスプリング式プローブカード（Ｍｉｃｒｏ  ｓｐｒｉｎｇ）・メムス式プローブカード（ＭＥＭＳ）の中のいずれか一つであり、且つ被洗浄物４上には間隔を置いて配列した複数の探針部４１が設けられる。
【００１２】
上述したレーザー発生装置１は、二軸スライドガイド１１と、二軸スライドガイド１１上に枢設された移動支持フレーム１２とからなる。また、レーザー発生装置１は、充電電圧が６５０Ｖから１０００Ｖの交流であるとともに、射出振動波長が５３２ナノメートル（ｎｍ）から１０６４ナノメートル（ｎｍ）であり、且つ産出されるパルスエネルギーが４００ミリジュール（ｍＪ）〜１２００ミリジュール（ｍＪ）である。
【００１３】
機構台座２は、レーザー発生装置１のレーザー照射経路上に位置するとともに、被洗浄物４を搭載支持するために用いられ、且つ機構台座２上には、レーザー発生装置１及び画像取得装置３の作動を制御するための制御装置２１が設けられる。
【００１４】
画像取得装置３は、レーザー発生装置１一側に設けられるとともに、画像取得装置３は、第一取得部品３１と、第一取得部品３１一側に設けられた第二取得部品３２とからなる。このうち、第一取得部品３１は、低倍率レンズであるとともに、探針部４１の位置分布情報を取得する。また、第二取得部品３２は、高倍率レンズであるとともに、探針部４１の正確な座標情報を取得する。
【００１５】
洗浄制御モジュール３３は、画像取得装置３内に設けられるとともに、レーザー発生装置１の移動経路の設定、及び画像取得装置３の位置決め情報の処理を行うために用いられる。
【００１６】
図１〜５を参照する。上述ように、本考案には、レーザー発生装置１・機構台座２・画像取得装置３が設けられ、更に画像取得装置３には、低倍率レンズの第一取得部品３１及び高倍率レンズの第二取得部品３２が設けられる。これにより、第一取得部品３１が探針部４１の位置分布情報を取得し、第二取得部品３２が各探針部４１の正確な座標情報を取得するとともに、洗浄制御モジュール３３のプログラム処理とレーザー洗浄機の洗浄効果が組合されることにより、高効率・高品質の洗浄が可能になる。
【００１７】
実際の操作時には、被洗浄物４を機構台座２上に置いてから、まず第一取得部品３１によって、いずれか一つの探針部４１の概略位置を取得する。次に、第二取得部品３２によって探針部４１の正確な位置決め座標を取得した後、第一取得部品３１によって各探針部４１の大範囲における分布位置をスキャンすることで、探針部４１の位置分布図を取得する（図３参照）。続いて、第二取得部品３２を探針部４１から近隣のもう一つの探針部４１まで移動させるとともに、画像取得装置３の位置移動量に基づいて、もう一つの探針部４１の正確な位置決め座標を推算する。これに類して全ての探針部４１の正確な位置決め座標を推算する。ここで、図４を参照する。図４のＡ点座標とＢ点座標において、Ｘ１−Ｘ０、及びＹ１−Ｙ０という方法で座標が推算されるとともに、最後に洗浄制御モジュール３３によって最も望ましく且つ時短になる移動経路が選定されて、レーザー発生装置１に対して実行の指令が出される。これにより、二軸スライドガイド１１が前記経路に沿って移動する。上述した移動経路は、被洗浄物４の探針部４１の分布の位置関係に応じて、Ｓ字型移動・菱形移動・矩形移動等が可能である（図５参照）。また、上述した操作は、制御装置２１で簡単に完了することが出来る。
【００１８】
このほか、一般的な洗浄用レーザーの衝撃波は、各被洗浄物４（プローブカード）に合わせたエネルギー調整が出来ない、或いは強さの設定不良のために、被洗浄物４を完全に洗浄し切れないことがよくある。また、しっかり洗浄しようと被洗浄物４上の不純物を繰り返しレーザー分解することにより、逆に被洗浄物４を破損させてしまうことがある。よって、本考案は、各タイプのプローブカードに対して最も適したパルスエネルギーを計算するとともに、６５０Ｖから１０００Ｖの充電電圧、及び５３２ナノメートル（ｎｍ）から１０６４ナノメートル（ｎｍ）の振幅波長によって、最も望ましいパルスエネルギーを得られるようにした。例えば、薄膜式プローブカードでは、８００ミリジュール（ｍＪ）である。
【符号の説明】
【００１９】
１        レーザー発生装置
１１    二軸スライドガイド
１２    移動支持フレーム
２        機構台座
２１    制御装置
３        画像取得装置
３１    第一取得部品
３２    第二取得部品
３３    洗浄制御モジュール
４        被洗浄物
４１    探針部
【図１】
0003204286.tif 000003
【図２】
0003204286.tif 000004
【図３】
0003204286.tif 000005
【図４】
0003204286.tif 000006
【図５】
0003204286.tif 000007