(57)【要約】      （修正有）【課題】レーザ加工モジュール及びレーザ加工機用テーブルを提供する。【解決手段】レーザ加工モジュール２２０は、レーザ発振器２２１と、レーザ発振器の外側に配置される反射ミラー２２３、２２４とガルバノメータ２２２ａとを含む。反射ミラーは、レーザ発振器に相対して一つの方向に沿って移動できる。該方向は反射ミラーに入射する時のレーザビームと実質的に平行する。ガルバノメータは、反射ミラーと該方向に沿って同時に移動できる。ガルバノメータは反射ミラーから反射されたレーザビームを受光してレーザビームを物体２０に出力できる。レーザ加工機用テーブル２００は、レーザ加工モジュールと、物体を載置する装置２１０を含む。【選択図】図１
0003175212.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
物体に対してレーザ加工を行うことができるレーザ加工モジュールであって、
レーザビームを発生できるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器の外側に配置され、前記レーザビームを反射でき、且つ、前記レーザ発振器に相対して第１の方向に沿って移動でき、前記第１の方向が第１の反射ミラーに入射する時の前記レーザビームと実質的に平行する第１の反射ミラーと、
前記レーザ発振器の外側に配置され、且つ、前記第１の反射ミラーと前記第１の方向に沿って同時に移動でき、前記第１の反射ミラーから反射された前記レーザビームを受光して前記レーザビームを前記物体に出力できるガルバノメータとを、含むことを特徴とするレーザ加工モジュール。
【請求項２】
前記第１の反射ミラーから反射された前記レーザビームを反射できる第２の反射ミラーを更に含み、前記第２の反射ミラーと前記第１の反射ミラーとが前記第１の方向に沿って同時に移動でき、且つ、前記第１の反射ミラーに相対して第２の方向に沿って移動でき、前記第２の方向が前記第２の反射ミラーに入射する時の前記レーザビームと実質的に平行になり、前記ガルバノメータが前記第２の反射ミラーから反射された前記レーザビームを受光でき、且つ、前記第２の反射ミラーと同時に移動できることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工モジュール。
【請求項３】
前記第１の方向が、前記第２の方向と実質的に直交することを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工モジュール。
【請求項４】
物体に対してレーザ加工を行うことができるレーザ加工機用テーブルであって、
前記物体を載置できる載置装置と、レーザ加工モジュールとを、含み、
前記レーザ加工モジュールには、
固定配置され、且つ、レーザビームを発生できるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器の外側に配置され、前記レーザビームを反射でき、且つ、前記レーザ発振器に相対して第１の方向に沿って移動でき、前記第１の方向が第１の反射ミラーに入射する時の前記レーザビームと実質的に平行する第１の反射ミラーと、
前記レーザ発振器の外側に配置され、且つ、前記第１の反射ミラーと前記第１の方向に沿って同時に移動でき、前記第１の反射ミラーから反射された前記レーザビームを受光して前記レーザビームを前記物体に出力できるガルバノメータとを、含むことを特徴とするレーザ加工機用テーブル。
【請求項５】
前記レーザ加工モジュールには、前記第１の反射ミラーから反射された前記レーザビームを反射できる第２の反射ミラーを更に含み、前記第２の反射ミラーと前記第１の反射ミラーとが前記第１の方向に沿って同時に移動でき、且つ、前記第１の反射ミラーに相対して第２の方向に沿って移動でき、前記第２の方向が前記第２の反射ミラーに入射する時の前記レーザビームと実質的に平行になり、前記ガルバノメータが前記第２の反射ミラーから反射された前記レーザビームを受光でき、且つ、前記第２の反射ミラーと同時に移動できることを特徴とする請求項４に記載のレーザ加工機用テーブル。
【請求項６】
前記第１の方向が、前記第２の方向と実質的に直交することを特徴とする請求項５に記載のレーザ加工機用テーブル。
【請求項７】
前記載置装置には、前記物体を搬送できる軌道を含むことを特徴とする請求項４に記載のレーザ加工機用テーブル。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、加工装置に関し、特に、レーザ加工モジュール及びレーザ加工機用テーブルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に言うと、複数の電子素子（ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｅｌｅｍｅｎｔ）を載置及び電気的に接続するための回路基板（ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄ）は、主に複数の回路層（ｃｉｒｃｕｉｔ  ｌａｙｅｒｓ）と複数の誘電体層（ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ  ｌａｙｅｒｓ）とが交互に積み重ねられている。これら回路層は、銅はく（ｃｏｐｐｅｒ  ｆｏｉｌ）にパターン化工程を通じて形成される。これら誘電体層は、それぞれこれら回路層間に隣接して配置され、これら回路層を分離するために用いられる。その他にも、これら相互に積み重ねられた回路層の間は導電ビア（ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｖｉａ）を通じて相互に電気的に接続している。
【０００３】
回路基板の製造完了後、回路基板の表裏面に各種電子素子（例えば、能動素子或いは受動素子）を配置でき、また回路基板の内部回路を介して電気信号伝達（ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ  ｓｉｇｎａｌ  ｐｒｏｐａｇａｔｉｏｎ）の目的を達成する。この他、回路基板に、レーザ加工機用テーブルを介してレーザ加工を行うことができ、例えば回路基板の表面にレーザマーキングを形成する。回路基板がレーザ加工機用テーブルの載置装置（ｃａｒｒｉｅｒ）に配置された時、レーザ加工機用テーブルのレーザ加工機（ｌａｓｅｒ  ｍａｃｈｉｎｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ）のレーザヘッド（ｌａｓｅｒ  ｈｅａｄ）はレーザ加工を行うため、適当な位置に移動して回路基板に相対して移動しなければならない。
【０００４】
公知のレーザ加工機のレーザヘッドはレーザ加工機内に固定されるため、レーザ加工機は全体移動することでレーザヘッドを回路基板に相対して移動させることができる。しかしながら、レーザ加工機の体積が巨大すぎ且つ重量が重すぎるため、レーザ加工機の移動は過大な電力を消費するにも係わらず、レーザ加工機の移動速度も効果的にアップできない。この他に、全体移動の体積が巨大すぎ且つ重量が重いすぎるレーザ加工機は、巨大な機構の付加が必要とされ、公知のレーザ加工機用テーブルの占用スペースが大きくなる。このため、公知のレーザ加工機用テーブルは、実際に改良する必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】台湾特許出願公開第２０１１１７９０５（Ａ）号明細書
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
本考案は、レーザ加工時のレーザヘッド移動による電力消費を低下させることができ、且つレーザヘッドの移動速度が効果的にアップしてレーザ加工効率を向上させることができるレーザ加工モジュールを提供する。
【０００７】
本考案は、上記レーザ加工モジュールを備え、レーザ加工時のレーザヘッド移動による電力消費を低下させることができ、且つレーザヘッドの移動速度を効果的にアップしてレーザ加工効率を向上させることができるレーザ加工機用テーブルを提供する。
【０００８】
本考案は、物体（ｏｂｊｅｃｔ）に対してレーザ加工を行うことができるレーザ加工モジュールを提供する。レーザ加工モジュールにはレーザ発振器（ｌａｓｅｒ-ｇｅｎｅｒ
ａｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ）と、第１の反射ミラー（ｍｉｒｒｏｒ）とガルバノメータ（ｇａｌｖａｎｏｍｅｔｅｒ  ｅｌｅｍｅｎｔ）とを含む。レーザ発振器はレーザビーム（ｌａｓｅｒ  ｂｅａｍ）を発生できる。第１の反射ミラーがレーザ発振器の外側に配置される。第１の反射ミラーがレーザビームを反射でき、且つレーザ発振器に相対して第１の方向に沿って移動できる。第１の方向は第１の反射ミラーに入射する時のレーザビームと実質的に平行する。ガルバノメータは、レーザ発振器の外側に配置され、且つ第１の反射ミラーと第１の方向に沿って同時に移動できる。ガルバノメータは第１の反射ミラーから反射されたレーザビームを受光してレーザビームを物体に出力できる。
【０００９】
本考案の一実施例において、上記レーザ加工モジュールには、第２の反射ミラーを更に含む。第２の反射ミラーが第１の反射ミラーから反射されたレーザビームを反射できる。第２の反射ミラーは第１の反射ミラーと第１の方向に沿って同時移動でき、且つ第１の反射ミラーに相対して第２の方向に移動できる。第２の方向が第２の反射ミラーに入射する時のレーザビームと実質的に平行する。ガルバノメータは第２の反射ミラーから反射されたレーザビームを受光でき、且つ第２の反射ミラーと同時に移動できる。
【００１０】
本考案の一実施例において、上記第１の方向は第２の方向と実質的に直交する。
本考案は、物体に対しレーザ加工を行うことができるレーザ加工機用テーブルを提供する。レーザ加工機用テーブルには、載置装置と上記レーザ加工モジュールとを含む。載置装置は物体を載置できる。レーザ発振器は固定配置される。
【００１１】
本考案の一実施例において、上記載置装置には物体を搬送できる軌道（ｔｒａｃｋ）を含む。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
物体に対してレーザ加工を行うことができるレーザ加工モジュールであって、レーザ発振器と、反射ミラーとガルバノメータとを含む。レーザ発振器はレーザビームを発生できる。反射ミラーがレーザ発振器の外側に配置される。反射ミラーがレーザビームを反射でき、且つ、レーザ発振器に相対して一つの方向に沿って移動できる。該方向は反射ミラーに入射する時のレーザビームと実質的に平行する。ガルバノメータは、レーザ発振器の外側に配置され、且つ、反射ミラーと該方向に沿って同時に移動できる。ガルバノメータは反射ミラーから反射されたレーザビームを受光してレーザビームを物体に出力できる。この他にもレーザ加工機用テーブルを提供する。
【考案の効果】
【００１３】
本考案実施例のレーザ加工モジュールとレーザ加工機用テーブルには、以下のいずれか或いはその他の長所を具備する。本考案実施例のレーザ加工モジュールのガルバノメータと少なくとも１個の反射ミラーがレーザ発振器の外側に配置され、且つガルバノメータと該反射ミラーとがレーザ発振器に相対して移動できる。よって、公知技術と比べ、レーザ加工時、本考案実施例の軽量の反射ミラーとガルバノメータの移動による電力消費が低い。
【００１４】
この他に、公知技術と比べ、本考案実施例の軽量の反射ミラーとガルバノメータの移動速度を効果的にアップし、本考案実施例のレーザ加工効率を向上できる。また、軽量の反射ミラーとガルバノメータを移動する機構は過大なスペースを占用しないため、全体的にいうと、公知技術と比べ、本考案実施例のレーザ加工機用テーブルが占用するスペースは小さい。
【００１５】
本考案実施例の上記特徴と長所を更に明確に分かりやすくするため、下記に実施例を挙げると共に添付図面を組み合わせて、以下の通りに詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本考案の第１の実施例のレーザ加工機用テーブルを示す図である。
【図２】本考案の第２の実施例のレーザ加工機用テーブルを示す図である。
【考案を実施するための形態】
【００１７】
［実施例１］
図１は、本考案の第１の実施例のレーザ加工機用テーブルを示す図である。図１を参照して説明する。本実施例のレーザ加工機用テーブル２００は、物体２０（例えば回路基板）に対してレーザ加工に適し、例えばレーザドリル、スクライブ、マーキングと彫刻等の工程である。レーザ加工機用テーブル２００には載置装置２１０とレーザ加工モジュール２２０とを含む。載置装置２１０は物体２０の載置に適し、且つ軌道２１２を備える。軌道２１２は物体２０を搬送できるベルトコンベア（図示略）を有する。別の実施例において、載置装置２１０は載置板とすることができ物体２０を載置する機能のみを持つ。
【００１８】
レーザ加工モジュール２２０には、レーザ発振器２２１と、レーザヘッド２２２と、第１の反射ミラー２２３と第２の反射ミラー２２４とを含む。レーザ発振器２２１が固定配置され、レーザビームＬ１を発生できる。第１の反射ミラー２２３がレーザ発振器２２１の外側に配置され、レーザビームＬ１を反射し、且つレーザ発振器２２１に相対して第１の方向Ｄ１に沿って移動できる。第１の方向Ｄ１は第１の反射ミラー２２３に入射する時のレーザビームＬ１と実質的に平行する。
【００１９】
第２の反射ミラー２２４は、第１の反射ミラー２２３から反射されたレーザビームＬ１を反射できる。第２の反射ミラー２２４と第１の反射ミラー２２３とが第１の方向Ｄ１に沿って同時に移動でき、且つ第２の反射ミラー２２４は第１の反射ミラー２２３に相対して第２の方向Ｄ２に沿って移動できる。第２の方向Ｄ２は第２の反射ミラー２２４に入射する時のレーザビームＬ１と実質的に平行する。本実施例において、第１の方向Ｄ１と第２の方向Ｄ２とが実質的に直交し、且つ第１の方向Ｄ１と第２の方向Ｄ２とが物体２０の上表面２１と実質的に平行する。
【００２０】
この他に、レーザヘッド２２２はレーザ発振器２２１の外側に配置されるガルバノメータ２２２ａを備える。ガルバノメータ２２２ａと第２の反射ミラー２２４とが同時に移動できる。言い換えると、ガルバノメータ２２２ａと、第２の反射ミラー２２４と第１の反射ミラー２２３とは第１の方向Ｄ１に沿って同時に移動でき、且つガルバノメータ２２２と第２の反射ミラー２２４とが第２の方向Ｄ２に沿って同時に移動できる。ガルバノメータ２２２ａは、物体２０に対してレーザ加工を行うため、第１の反射ミラー２２３と第２の反射ミラー２２４から反射されたレーザビームＬ１を受光してレーザビームＬ１を物体２０に出力できる。
【００２１】
別の実施例において、レーザ加工モジュール２２０では第２の反射ミラー２２４の配置を省略して第１の反射ミラー２２３の反射方法とガルバノメータ２２２ａの位置を調整することで、第１の反射ミラー２２３から反射されたレーザビームＬ１をレーザヘッド２２２のガルバノメータ２２２ａに直接入射させることができる。本実施例において、ガルバノメータ２２２ａと第１の反射ミラー２２３とが第１の方向Ｄ１に沿って同時に移動できる。
【００２２】
上記に基づき、ガルバノメータ２２２ａと少なくとも１個の反射ミラー（例えば第１の反射ミラー２２３）とがレーザ発振器２２１の外側に配置され、且つガルバノメータ２２２ａと該反射ミラーとがレーザ発振器２２１に相対して移動できる。このため、公知技術と比べ、レーザ加工時、本考案実施例の軽量の反射ミラーとガルバノメータの移動による
電力消費が低い。
【００２３】
この他に、公知技術と比べ、軽量の反射ミラーとガルバノメータの移動速度を効果的にアップし、本考案実施例のレーザ加工効率を向上できる。また、軽量の反射ミラーとガルバノメータを移動する機構は過大なスペースを占用しないため、全体的にいうと、公知技術と比べ、本考案実施例のレーザ加工機用テーブルが占用するスペースは小さい。
【００２４】
［実施例２］
図２は、本考案の第２の実施例のレーザ加工機用テーブルを示す図である。図２を参照して説明する。本実施例のレーザ加工機用テーブル３００のレーザ加工モジュール３２０には、第３の反射ミラー３２５と第４のミラー３２６を更に含む。第３の反射ミラー３２５の要求は、レーザ発振器３２１の配置方法或いはレーザ光出射方法に応じてレーザ発振器２２１（図１）と異なる。第４のミラー３２６の要求は、レーザヘッド３２２のガルバノメータ３２２ａの入射方法に応じてレーザヘッド２２２のガルバノメータ２２２ａ（図１）と異なる。本実施例において、ガルバノメータ３２２ａの入射方法は側面入射とする。
【００２５】
第３の反射ミラー３２５はレーザ発振器３２１の外側に固定配置され、レーザビームＬ２を反射できる。第１の反射ミラー３２３は、第３の反射ミラー３２５から反射されたレーザビームＬ２を第２の反射ミラー３２４に反射できる。第２の反射ミラー３２４は、第１の反射ミラー３２３から反射されたレーザビームＬ２を第４のミラー３２６に反射し、従ってレーザビームＬ２をガルバノメータ３２２ａに反射させることができる。
【００２６】
本実施例において、第１の反射ミラー３２３は、第３の反射ミラー３２５とレーザ発振器３２１に相対して第１の方向Ｄ３に沿って移動できる。第２の反射ミラー３２４と第１の反射ミラー３２３とが第１の方向Ｄ３に沿って同時に移動でき、且つ第２の反射ミラー３２４は第１の反射ミラー３２３に相対して第２の方向Ｄ４に移動できる。また、第２の反射ミラー３２４と、第４のミラー３２６とガルバノメータ３２２ａとが同時に移動できる。
【００２７】
本考案実施例のレーザ加工モジュールとレーザ加工機用テーブルには、以下のいずれか或いはその他の長所を具備する。本考案実施例のレーザ加工モジュールのガルバノメータと少なくとも１個の反射ミラーがレーザ発振器の外側に配置され、且つガルバノメータと該反射ミラーとがレーザ発振器に相対して移動できる。よって、公知技術と比べ、レーザ加工時、本考案実施例の軽量の反射ミラーとガルバノメータの移動による電力消費が低い。
【００２８】
この他に、公知技術と比べ、本考案実施例の軽量の反射ミラーとガルバノメータの移動速度を効果的にアップし、本考案実施例のレーザ加工効率を向上できる。また、軽量の反射ミラーとガルバノメータを移動する機構は過大なスペースを占用しないため、全体的にいうと、公知技術と比べ、本考案実施例のレーザ加工機用テーブルが占用するスペースは小さい。
【００２９】
本考案の精神或いは必要特徴を逸脱しない状況で、その他の特定形式で本考案を実現できる。前記具体的実施例の各方面を限制的なものではなく、説明的なものと見なすべきである。これにより、本考案の範囲は添付された実用新案登録請求の範囲に示すものであり、前記説明を示すものではない。実用新案登録請求の範囲に基づいて行う種々の改良変更をなし得ることは本考案の実用新案登録請求の範囲内に含めるものであるのが勿論である。
【符号の説明】
【００３０】
２０      物体
２１      表面
２００    レーザ加工機用テーブル
２１０    載置装置
２１２    軌道
２２０    レーザ加工モジュール
２２１    レーザ発振器
２２２    レーザヘッド
２２２ａ  ガルバノメータ
２２３    第１の反射ミラー
２２４    第２の反射ミラー
３００    レーザ加工機用テーブル
３２０    レーザ加工モジュール
３２１    レーザ発振器
３２２    レーザヘッド
３２２ａ  ガルバノメータ
３２３    第１の反射ミラー
３２４    第２の反射ミラー
３２５    第３の反射ミラー
３２６    第４の反射ミラー
Ｄ１      第１の方向
Ｄ２      第２の方向
Ｄ３      第１の方向
Ｄ４      第２の方向
Ｌ１      レーザビーム
Ｌ２      レーザビーム
【図１】
0003175212.tif 000003
【図２】
0003175212.tif 000004