(57)【要約】【課題】本考案は、搭載基板から光学基板を簡単に分離することが可能な、フレキシブル基板の製造に使用される両面テープを提供する。【解決手段】本考案の両面テープ、は、第一表面と第二表面を備え、前記第一表面には減粘粘着材が塗布され、前記第二表面にはシリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）が塗布される。それにより、前記両面テープを複数層構造の製造プロセスに使用する時、それは良好な粘性を備えており、複数層構造を分離する時、紫外光を前記両面テープに照射すれば、前記第一表面の減粘粘着材の粘着力は下がり、分離の手順を簡単に行うことができる。【選択図】図３
0003179133.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
第一表面と第二表面を備える、フレキシブル基板の製造に使用される両面テープであって、
前記第一表面には所定の光学基板を貼り付けるための減粘粘着材が塗布され、
前記第二表面には所定の搭載基板を貼り付けるためのシリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）が塗布されることを特徴とする、
両面テープ。
【請求項２】
前記両面テープの材質は、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔ  ｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ  ｓｕｌｆｏｎｅ、ＰＥＳ）によってなるプラスチックポリマー群から選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の両面テープ。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案はフレキシブル基板の製造に使用される両面テープに関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキシブル基板の製造プロセスは、ガラスやプラスチックからなる搭載基板を用いて、加工或いは運搬用の基礎とする。
一般的に言うと、基板の表面には、搭載基板を貼り付けやすくするために、大抵、シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）が塗布され、複数層構造の製造プロセスを行いやすくする。この製造プロセスは、Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ、ＴＦＴ  ａｒｒａｙ、Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒの設置を含む。これは後段製造プロセスと呼ばれる。
搭載基板を使用する主な目的は、後段製造プロセスの時に、積載体として用い、光学基板が運送中や後段製造プロセス時に割れてしまうのを防ぐことである。
【０００３】
図１は、従来のフレキシブル基板の製造プロセスを示した説明図である。図ではフレキシブル基板１の製造プロセスの一部の流れを示している。その目的は複数層構造の貼り合わせと分離を説明することであり、従って、フレキシブル基板１の詳細な製造プロセスについては、ここでは記載を省略している。
【０００４】
生産ライン上の加工、及び工場内の輸送を行いやすくするために、複数層構造のフレキシブル基板１は、生産或いは組み合わせる時に、主に、シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）層１２によってプラスチック基板１３を搭載基板１１表面に貼り付け、搭載基板１１を積載用の物体として用いる。その後、複数層構造１４の製造プロセスが行われる。図に示すプラスチック基板１３表面の複数層構造１４は、カラー・フィルター（Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）、薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ  ａｒｒａｙ）、タッチセンサー（Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒ）等になる。
【０００５】
プラスチック基板１３を、カラー・フィルター（Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）、薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ  ａｒｒａｙ）、タッチセンサー（Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒ）等の複数層構造１４にした後、プラスチック基板１３を搭載基板１１と分離し、その後、プラスチック基板１３の底部のシリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）層１２表面にプラスチック薄膜１５を貼り付け、シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）層１２の微粘着性によって埃がつくのを防ぐ。
【０００６】
しかしながら、シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）層１２は、実際使用する時に、それ自体に有機溶剤が含まれているため、ある種の膜材を霧化（腐食）させやすい。また、シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）は、塗布やベーキングする時、クリーンルームで作業を行わなければならない以外に、ベーキング時の温度は少なくとも１５０℃より高くなければ密着性が現れない。従って、設備コストが極めて高くなり、間接的に、生産コストも高くなる。また、プラスチック基板１３と搭載基板１１を分離する時、シリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）はガラス上から剥がすには大きな力が必要であるため、剥がす過程で、その他の層を割ってしまう可能性がある。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
上述のニーズに鑑み、全く新しいフレキシブル基板の製造に使用される両面テープを考案した。
【０００８】
本考案は、搭載基板から基板を簡単に分離することが可能なソフト両面テープを提供することを目的とする。
【０００９】
また、本考案は、搭載基板から簡単に分離することが可能な両面テープを提供することを目的とする。
【００１０】
また、本考案は、光学膜材を霧化（腐食）させない両面テープを提供することを目的とする。
【００１１】
また、本考案は、良好な粘性を備えており且つ分離した後に粘性が残らない両面テープを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
フレキシブル基板の製造プロセスは、製造プロセスを行う時、まず、光学基板を両面テープによって搭載基板表面に貼り付け、続けて、様々な生産製造プロセスに応じて、後段の製造を行う。例えば、タッチパネルにおいては、ＩＴＯ等のタッチセンサー（Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒ）の設置を行い、或いは、ＴＦＴ−ＬＣＤにおいては、カラー・フィルター（Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）或いは薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ  ａｒｒａｙ）の製造プロセスを行う。後段の加工が完成した後、続けて、紫外光を両面テープに照射しその粘着力を下げる。
この時、前記光学基板と前記搭載基板を分離させるが、前記両面テープの粘着力は紫外光の影響を受け著しく下がっているため、分離した後の光学基板上には粘性が残らない。
また、分離の過程において、前記光学基板が大きすぎる力を受けて割れてしまうことがない。さらに、前記光学基板と前記搭載基板を分離した後、前記搭載基板表面の前記両面テープは簡単に剥がすことができ、前記搭載基板表面には粘性が残らない。このため、前記搭載基板は直接繰り返し使用することができ、余分に残った粘性をきれいに取り除く時間と手間を省くことができる。
【００１３】
上述の目的を達成するために、本考案の両面テープ、は、第一表面と第二表面を備え、前記第一表面には減粘粘着材が塗布され、前記第二表面にはシリコン（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）が塗布される。それにより、前記両面テープを複数層構造の製造プロセスに使用する時、それは良好な粘性を備えており、複数層構造を分離する時、紫外光を前記両面テープに照射すれば、前記第一表面の減粘粘着材の粘着力は下がり、分離の手順を簡単に行うことができる。
ここで指す複数層構造は、液晶パネル製造プロセス、タッチパネル製造プロセスに限定されず、複数層構造において一時的に貼り合わせる方法で生産製造を行うものは、すべて本考案の定める範囲に含まれるものとする。
【００１４】
上述の製造プロセスにおいて、前記両面テープの前記第一表面には前記第一光学基板を貼り付け、前記第二表面には前記搭載基板を貼り付ける。そして、紫外光を照射する時、前記搭載基板の下方から上に向かって照射すると（前記紫外光の光の好ましい実施例である）、前記第一表面の前記減粘粘着材の粘着力が下がり、その後、前記光学基板を前記両面テープから簡単に分離させることができ、分離した後の前記光学基板表面には粘性が残らない。以上の点は注意が必要である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】従来のフレキシブル基板の製造プロセスを示した説明図である
【図２】本考案の好ましい実施例のフローチャートである。
【図３】本考案の好ましい実施例のプロセスを示した説明図１である。
【図４】本考案の好ましい実施例のプロセスを示した説明図２である。
【図５】本考案の好ましい実施例のプロセスを示した説明図３である。
【図６】本考案の好ましい実施例のプロセスを示した説明図４である。
【図７】本考案の好ましい実施例のプロセスを示した説明図５である。
【考案を実施するための形態】
【００１６】
以下に図を参照しながら本考案の内容について詳細に説明する。
【００１７】
図２は、本考案の好ましい実施例のフローチャートである。図に示すように、フレキシブル基板の製造プロセスは、以下の手順によって行われる。
【００１８】
（１００）光学基板と搭載基板を提供する。
【００１９】
（１０１）両面テープによって、光学基板と搭載基板を貼り合わせる。
【００２０】
図３と図４も併せて参照する。上述の手順を行う時、両面テープ２は第一表面２１と第二表面２２を備えており、第一表面２１には第一光学基板４を貼り合わせるための粘着材２１１が塗布されているとともに、第二表面２２には搭載基板３を貼り付けるためのシリコン２２１（Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）が塗布されている。
【００２１】
また、両面テープ２の材質は、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔ  ｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ  ｓｕｌｆｏｎｅ、ＰＥＳ）、或いはそれらの混合物であるプラスチックポリマーである。また、搭載基板３の材質は、プラスチック或いはガラスである。
【００２２】
（１０２）前記光学基板上で、後段製造プロセスを行う。
【００２３】
上述の手順の実施について、図５も併せて参照しながら説明を行う。本実施例の図では、「後段製造プロセス」の構造の説明をしやすくするために、後段製造プロセス構造５を用いて説明を行う。後段製造プロセス構造５は、カラー・フィルター（Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）、薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ  ａｒｒａｙ）、タッチセンサー（Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒ）等を含む。
なお、フレキシブル基板の後段製造プロセスの内、最も基礎になる製造プロセスは、本明細書で定義された搭載基板３表面上に各基礎層或いは底層を貼り付けた後、対応する生産製造プロセス、例えば、タッチパネルにおけるタッチセンサー（Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒ）、または液晶パネル製造プロセスにおけるカラー・フィルター（Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）、薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ  ａｒｒａｙ）の生産製造プロセスを順番に行う、という製造プロセスである。パネル製造プロセスにおいて、搭載基板３上に各パネル製造プロセスの基礎層或いは底層を積載し、その後、後段の加工を行うものは、すべて本明細書の保護の範囲に属するものとする。
【００２４】
（１０３）紫外光を両面テープに照射し、その粘着力を下げる。
【００２５】
（１０４）前記光学基板と前記搭載基板を前記両面テープから分離させる。
【００２６】
上述の手順の実施について、図６と図７も併せて参照しながら説明を行う。前述の説明と呼応させ、「後段製造プロセス」の構造を説明しやすいように、後段製造プロセス構造５を用いて説明を行う。後段製造プロセス構造５は、カラー・フィルター（Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）、薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ  ａｒｒａｙ）、タッチセンサー（Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒ）等を含む。
なお、各種パネルの後段製造プロセスにおいて、最も基礎になる製造プロセスは、本明細書で定義された搭載基板３表面上に各基礎層或いは底層を貼り付けた後、対応する生産製造プロセスを順番に行う、という製造プロセスである。
従って、本明細書で述べている後段製造プロセス構造５、即ちパネル製造プロセスにおいて、前記搭載基板３上に各パネル製造プロセスの基礎層或いは底層を積載し、その後、後段の加工をおこなうものは、すべて本明細書の保護の範囲に属するものとする。
そして、本実施例においては、光学基板４でカラー・フィルター（Ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）、薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ  ａｒｒａｙ）、タッチセンサー（Ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｏｒ）等の後段製造プロセスを行って後段製造プロセス構造５を生成した後、紫外光６を両面テープ２に直接照射すると、両面テープ２の減粘粘着材２１１の粘着力が下がる。
【００２７】
紫外光６を照射する時の最良の実施方法は、紫外光６の光を搭載基板３の下方から上に照射する方法である。それにより、両面テープ２の第一表面２１の減粘粘着材２１１の粘着力が下がる。
その後、光学基板４、搭載基板３と両面テープ２の三者を簡単に分離することができ、しかも分離した後の光学基板４と搭載基板３の表面には粘性が残らない。以上の点は注意が必要である。
【００２８】
また、実験データによって、両面テープ２の粘着力の変化を更にはっきりさせることができる。ここで、１８０度粘着力テストを行う。両面テープ２をＰＥＴ板とステンレス板にそれぞれ貼り付け、紫外線を照射した後のその粘度の変化は、以下の通りである（誤差値は、約±５％）。
【００２９】
0003179133.tif 000003
【００３０】
0003179133.tif 000004
【００３１】
初期粘着力テストを、Ｊ．ＤＯＷローリングボール法（ＪＩＳ  Ｚ  ０２３７）で行った時、そのＮＯ  ＢＡＬＬ値は３〜６であった。従って、両面テープ２の粘着力は、まだ紫外光の照射を受けていない時、良好な粘性を備えている。以上の各テスト方法は、両面テープ２の異なる条件下での粘度の変化を補足説明するために用いられただけであり、両面テープ２の粘度状態は本明細書で示すデータに限定されない。以上の点は注意が必要である。
【００３２】
以上の記載は、本考案の実施例にすぎず、本考案の実施範囲を限定するものではない。この業界に詳しい技術者が、本考案の趣旨と範囲を逸脱せずにおこなった同様の効果をもつ変更や追加は、すべて本考案の実用新案請求の範囲に含まれるものとする。
【符号の説明】
【００３３】
１      フレキシブル基板
１１    ガラス搭載基板
１２    シリコン層
１３    プラスチック基板
１４    複数層構造
１５    プラスチック薄膜
２      両面テープ
２１    第一表面
２１１  減粘粘着材
２２    第二表面
２２１  シリコン
３      搭載基板
４      第一光学基板
５      後段製造プロセス構造
６      紫外光
【図１】
0003179133.tif 000005
【図２】
0003179133.tif 000006
【図３】
0003179133.tif 000007
【図４】
0003179133.tif 000008
【図５】
0003179133.tif 000009
【図６】
0003179133.tif 000010
【図７】
0003179133.tif 000011