(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
集束イオンビーム装置の試料室に対して挿脱可能に形成され、先端側で前記微小試料片を保持可能なサイドエントリ型の試料ホルダーであって、
ｘ軸方向に沿って延びる略棒状の本体部と、該本体部のｘ軸方向の一方の端部に形成された試料保持部とを備え、
前記試料保持部は、前記ｘ軸に直角なｚ軸方向に離間して配された、それぞれｘ軸方向に延びる２つの梁部材と、２つの前記梁部材どうしの間に配され、微小試料片を保持するメッシュ部材を支持可能な開口部が中央に形成されたメッシュ支持部材と、を少なくとも有し、
前記メッシュ支持部材には、一方の前記梁部材および他方の前記梁部材の少なくとも一方に向けて、ｚ軸方向に沿ってそれぞれ突出する軸部材が形成され、
前記軸部材の少なくとも一方、およびメッシュ支持部材には、軸端面と前記開口部との間をｚ軸方向に沿って貫通し、前記微小試料片に向けて集束イオンビームを導入するための貫通孔が形成されていること、を特徴とする試料ホルダー。
【請求項２】
前記試料保持部には、前記メッシュ支持部材をｚ軸回りで一方の回転方向に付勢するバネ部材と、前記メッシュ支持部材の回転を所定位置で制御する回転制御部材とが更に構成されていることを特徴とする請求項１記載の試料ホルダー。
【請求項３】
前記一方の軸部材の軸端面は、前記一方の梁部材の内部にあり、前記軸部材の少なくとも一方には、前記軸端面を外部に露呈させる穴部が形成されていることを特徴とする請求項１または２記載の試料ホルダー。
【請求項４】
前記貫通孔は、前記開口部から前記一方の軸部材の軸端面に向かって、開口径が漸増していることを特徴とする請求項１ないし３いずれか一項記載の試料ホルダー。
【請求項５】
前記試料保持部の前記先端側には、前記試料保持部をｘ軸回りで回動するＴ方向に沿って回動自在にさせる係合突起が形成されていることを特徴とする請求項１ないし４いずれか一項記載の試料ホルダー。
【請求項６】
請求項１ないし５いずれか一項記載の試料ホルダーと、
試料を載置する試料台と、
前記試料に集束イオンビームを照射し、前記微小試料片を作成する集束イオンビーム鏡筒と、
前記試料台、および前記集束イオンビーム鏡筒を収容する前記試料室と、
前記試料台および前記試料ホルダーの間で前記微小試料片を移動させる試料片移動手段と、を有することを特徴とする集束イオンビーム装置。
【請求項７】
前記試料室には、該試料室内の気密を保持しつつ前記試料ホルダーを前記試料室に対して挿脱可能にするロードロック機構が更に形成されていることを特徴とする請求項６記載の集束イオンビーム装置。
【請求項８】
前記試料室には、前記試料ホルダーに保持された前記微小試料片の透過電子像を観察するための透過電子検出器が更に配置されていることを特徴とする請求項６または７記載の集束イオンビーム装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、集束イオンビーム装置に対して挿脱可能に形成され、先端側で微小試料片を保持可能なサイドエントリ型の試料ホルダー、およびこれを備えた集束イオンビーム装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体デバイス等の試料の内部構造を解析したり、立体的な観察を行ったりする手法の１つとして、集束イオンビーム（Focused Ion Beam;ＦＩＢ）鏡筒と電子ビーム（Electron Beam；ＥＢ）鏡筒を搭載した荷電粒子ビーム複合装置を用いて、ＦＩＢによる断面形成加工と、その断面を走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope；ＳＥＭ）により観察を行う断面加工観察方法が知られている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００３】
この断面加工観察方法は、ＦＩＢによる断面形成加工とＳＥＭによる断面観察を繰り返して３次元画像を構築する手法が知られている。この手法では、再構築した３次元立体像から、対象試料の立体的な形体を様々な方向から詳細に解析することができる。更に、対象試料の任意の断面像を再現することができるという、他の方法にはない利点を有している。
【０００４】
その一方で、ＳＥＭは原理上、高倍率（高分解能）の観察に限界があり、また得られる情報も試料表面近くに限定される。このため、より高倍率で高分解能の観察のために、薄膜状に加工した試料に電子を透過させる透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscopy：ＴＥＭ）を用いた観察方法も知られている。こうしたＴＥＭによる観察に用いる薄膜化した微細な試料（以下、微小試料片と称することがある。）の作製にも、上述したようなＦＩＢによる断面形成加工が有効である。
【０００５】
しかしながら、一般的にＴＥＭはＳＥＭよりも高電圧、高真空にする必要があるために、機器自体がＳＥＭよりも大型となり、ＦＩＢと統合した装置にすることが難しい。このため、ＴＥＭの観察試料としてＦＩＢによる断面形成加工で得られた微小試料片を用いる場合、ＦＩＢ装置とＴＥＭ装置に共用できる試料ホルダーを用いて、ＦＩＢ装置とＴＥＭ装置との間で試料を容易に移動可能にする構成が知られている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００６】
また、例えば、特許文献３には、クランク機構を用いることによって、長手方向に対して９０度方向の回転（傾斜）が可能な試料ホルダーが開示されている。この試料ホルダーは、回転軸に対して構造物が無く、この部分を切欠き構造とすることによって、縦方向およびこれに直角な横方向の双方からＦＩＢの照射が可能な構成となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２７００７３号公報
【特許文献２】特許第４２９７７３６号公報
【特許文献３】特開２００７−１１５６６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述した特許文献３に記載された試料ホルダーは、その先端部分にクランク機構が形成されているために、先端側で集束イオンビーム装置などの微動装置を構成することが困難であり、片側で試料ホルダーを支持する片持ち構造にしか適用できないという課題があった。また、クランク機構は、回転軸および軸受が多数必要であり、構造が複雑で製造コストが高くなるという課題もあった。
【０００９】
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、簡易な構成で、支持した微小試料片に向けて、少なくとも互いに略直角を成す２方向から集束イオンビームを照射可能な試料ホルダー、およびこれを備えた集束イオンビーム装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本実施形態のいくつかの態様は、次の試料ホルダー、および集束イオンビーム装置を提供した。
すなわち、本発明の試料ホルダーは、集束イオンビーム装置の試料室に対して挿脱可能に形成され、先端側で前記微小試料片を保持可能なサイドエントリ型の試料ホルダーであって、ｘ軸方向に沿って延びる略棒状の本体部と、該本体部のｘ軸方向の一方の端部に形成された試料保持部とを備え、前記試料保持部は、前記ｘ軸に直角なｚ軸方向に離間して配された、それぞれｘ軸方向に延びる２つの梁部材と、２つの前記梁部材どうしの間に配され、微小試料片を保持するメッシュ部材を支持可能な開口部が中央に形成されたメッシュ支持部材と、を少なくとも有し、前記メッシュ支持部材には、一方の前記梁部材および他方の前記梁部材の少なくとも一方に向けて、ｚ軸方向に沿ってそれぞれ突出する軸部材が形成され、前記軸部材の少なくとも一方、およびメッシュ支持部材には、軸端面と前記開口部との間をｚ軸方向に沿って貫通し、前記微小試料片に向けて集束イオンビームを導入するための貫通孔が形成されていること、を特徴とする。
【００１１】
本発明の試料ホルダーによれば、微小試料片の厚み加工において、微小試料片の厚み方向に対して直角な面に対してＦＩＢを照射する際に、軸部材およびメッシュ支持部材に形成された貫通孔を介してＦＩＢを入射させることで、微小試料片のｚ軸方向に沿ってＦＩＢを容易に照射することができ、これにより微小試料片のＴＥＭ試料作製が容易に可能になる。
【００１２】
前記試料保持部には、前記メッシュ支持部材をｚ軸回りで一方の回転方向に付勢するバネ部材と、前記メッシュ支持部材の回転を所定位置で制御する回転制御部材とが更に構成されていることを特徴とする。
【００１３】
前記一方の軸部材の軸端面は、前記一方の梁部材の内部にあり、前記軸部材の少なくとも一方には、前記軸端面を外部に露呈させる穴部が形成されていることを特徴とする。
【００１４】
前記貫通孔は、前記開口部から前記軸部材の軸端面に向かって、開口径が漸増していることを特徴とする。
【００１５】
前記試料保持部の前記先端側には、前記試料保持部をｘ軸回りで回動するＴ方向に沿って回動自在にさせる係合突起が形成されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明の集束イオンビーム装置は、前記各項記載の試料ホルダーと、試料を載置する試料台と、前記試料に集束イオンビームを照射し、前記微小試料片を作成する集束イオンビーム鏡筒と、前記試料台、および前記集束イオンビーム鏡筒を収容する前記試料室と、前記試料台および前記試料ホルダーの間で前記微小試料片を移動させる試料片移動手段と、を有することを特徴とする。
【００１７】
本発明の集束イオンビーム装置によれば、微小試料片の厚み加工において、微小試料片厚み方向に対して直角な面に対してＦＩＢを照射する際に、軸部材に形成された貫通孔を介してＦＩＢを入射させることで、微小試料片のｚ軸方向に沿ってＦＩＢを容易に照射することができ、これにより微小試料片の厚みを容易に減じることができる。
【００１８】
前記試料室には、該試料室内の気密を保持しつつ前記試料ホルダーを前記試料室に対して挿脱可能にするロードロック機構が更に形成されていることを特徴とする。
【００１９】
前記試料室には、前記試料ホルダーに保持された前記微小試料片の透過電子像を観察するための透過電子検出器が更に配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、簡易な構成で、支持した微小試料片に向けて、少なくとも互いに略直角を成す２方向から集束イオンビームを照射可能な試料ホルダー、およびこれを備えた集束イオンビーム装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施形態の試料ホルダーを備えた集束イオンビーム装置を示す概略構成図である。
【図２】試料ホルダーを示す要部破断平面図である。
【図３】試料ホルダーによる微小試料片の加工時の状態を示す斜視図である。
【図４】試料ホルダーによる微小試料片の観察時の状態を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して、本実施形態の試料ホルダーおよびこれを備えた集束イオンビーム装置について説明する。なお、以下に示す各実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００２３】
図１は、実施形態の試料ホルダーを備えた集束イオンビーム装置を示す概略構成図である。
本実施形態の試料加工観察装置（集束イオンビーム装置）１０は、集束イオンビーム（ＦＩＢ）鏡筒１１と、電子ビーム（ＥＢ）鏡筒１２と、試料Ｓを載置する試料台１５と、これらを収容する試料室１４と、この試料室１４に挿脱自在に形成されたサイドエントリ型の試料ホルダー１３と、を備えている。集束イオンビーム鏡筒１１、および電子ビーム鏡筒１２は、試料室１４にそれぞれ固定されている。
【００２４】
断面加工観察装置１０は、更に二次電子検出器１７と、ＥＤＳ検出器１８とを備えている。二次電子検出器１７は、集束イオンビームまたは電子ビームを試料Ｓに照射し、試料Ｓから発生した二次電子を検出する。また、ＥＤＳ検出器１８は、電子ビームを試料Ｓに照射し、試料Ｓから発生したＸ線を検出する。試料Ｓから発生するＸ線は、試料Ｓを構成する物質ごとに特有の特性Ｘ線を含み、こうした特性Ｘ線によって、試料Ｓを構成する物質を特定することができる。
【００２５】
なお、二次電子検出器１７に代えて、反射電子検出器を設ける構成も好ましい。反射電子検出器は、電子ビームが試料Ｓで反射した反射電子を検出する。こうした反射電子によって、断面の凹凸情報を軽減した、材料の質量コントラストを反映した断面像を取得することができる。また、二次電子検出器１７、反射電子検出器は、ＳＥＭ筐体内に設置することもできる。
【００２６】
また、ＥＤＳ検出器１８に代えて、ＥＢＳＤ検出器を設ける構成も好ましい。ＥＢＳＤ検出器では、結晶性材料に電子ビームを照射すると、試料Ｓの表面で生じる電子線後方散乱回折により回折図形すなわちＥＢＳＤパターンが観測され、試料Ｓの結晶方位に関する情報が得られる。こうしたＥＢＳＤパターンを測定，解析することで、試料Ｓの微小領域の結晶方位の分布に関する情報が得られ、試料Ｓを構成する物質を特定することができる。
【００２７】
なお、本発明の集束イオンビーム装置１０は、少なくとも集束イオンビーム（ＦＩＢ）鏡筒１１と、サイドエントリ型の試料ホルダー１３と、を備えていればよく、電子ビーム鏡筒１２やＥＤＳ検出器１８を特に設けずに、集束イオンビームによる試料加工だけを行う構成であってもよい。
【００２８】
試料室１４は、例えば、内部が減圧可能な気密構造の耐圧筐体からなる。試料室１４には、内部を減圧する真空ポンプ（図示略）が接続されている。
【００２９】
試料台１５は、本体部３１と、この本体部３１を移動させる移動部材３２と、本体部３１に設けられたターンテーブル（テーブル）３３と、を備えている。移動部材３２は、ターンテーブル３３が載置された本体部３１を、図１に示すように、水平面に沿ったｘ軸およびこれに直角なｙ軸と、鉛直方向に沿ったｚ軸にそれぞれ沿って移動可能にする。こうした移動部材３２の移動制御は、試料加工観察装置１０の全体を制御する制御部（図示略）によって行う。
【００３０】
ターンテーブル３３は、例えば円筒状に形成され、試料Ｓが載置される試料載置面３３ａを、ｚ軸回りで回動可能にする。こうしたターンテーブル３３の回転制御は、試料加工観察装置１０の全体を制御する制御部（図示略）によって行う。
【００３１】
試料台１５は、例えば略Ｌ字状に形成された試料台支持部材３５によって支持されている。そして、この試料台支持部材３５は、試料室１４の側壁に形成されたチルト部材３６に係合されている。チルト部材３６は、図１に示すように、水平面に沿ったｘ軸回りで試料台支持部材３５を回動させる。これによって、ターンテーブル３３を含む試料台１５全体が、ｘ軸回りで揺動可能にされる。ターンテーブル３３をｘ軸回りで揺動可能にすることによって、試料載置面３３を水平面に対して任意の角度で傾斜させることができる。
【００３２】
試料室１４の側壁には、試料室１４内の気密を保持しつつ試料ホルダー１３を試料室１５に対して挿脱可能に保持するロードロック機構５１と、試料ホルダー１３を所望のＦＩＢ加工位置に移動可能な試料ホルダー移動部材５２とが形成されている。
【００３３】
ロードロック機構５１は、試料ホルダー１３を外部から試料室１４内に挿入したり、あるいは、試料室１４から試料ホルダー１３を外部に取り出す際に、試料室１４内を例えば真空状態に保つためのシャッターであり、真空シャッターなど周知の構成ものが適用されればよい。
試料ホルダー移動部材５２は、試料室１４内に挿入した試料ホルダー１３を所望のＦＩＢ加工位置に移動可能にするものである。
【００３４】
また、集束イオンビーム装置１０は、試料Ｓにデポジションガスを供給するデポジションガス銃５５ｂを備えている。また、集束イオンビーム装置１０は、試料台１５と試料ホルダー１３との間で微小試料片を移動させる試料片移動手段５５を備えている。試料片移動手段５５は、例えば、集束イオンビームによって試料Ｓを加工して得られた、試料台１５にある微小試料片を、試料ホルダー１３のメッシュ４１（図３参照）に移載する装置である。こうした試料片移動手段５５は、例えば、プローブ５５ａなど、周知の試料片移動手段を適用することができる。
【００３５】
図２は、試料ホルダーを示す要部破断平面図である。また、図３は試料ホルダーによる微小試料片の加工時の状態を示す斜視図である。また、図４は、試料ホルダーによる微小試料片の観察時の状態を示す斜視図である。
本実施形態の試料ホルダー１３は、集束イオンビーム装置１０の試料室１４に対して挿脱可能に形成されたサイドエントリ型の試料ホルダーであって、試料ホルダーの挿入方向であるｘ軸方向に沿って延びる略棒状の本体部２１（図１を参照）と、この本体部２１のｘ軸方向の一方の端部に形成された試料保持部２２とを備えている。
【００３６】
試料保持部２２は、集束イオンビーム照射方向に、つまりｘ軸に直角なｚ軸方向に離間して配された、それぞれｘ軸方向に延びる２つの梁部材２３Ａ，２３Ｂと、この２つの梁部材２３Ａ，２３Ｂどうしの間にｚ軸回りで回動可能に配された、略矩形の板状部材であるメッシュ支持部材２４とを備えている。なお、梁部材２３Ａと梁部材２３Ｂとは、先端部分でｚ軸方向に屈曲して互いに接続され、ｙ軸方向から見た時に全体が略コ字状に形成されている。そして、この試料保持部２２の先端側には、この試料保持部２２をｘ軸回りの回転方向であるＴ方向に回動自在にさせる係合突起４５が形成されている。こうした係合突起４５は、集束イオンビーム装置１０の試料台１５の一端に形成された受け部材（図示略）と回動自在に係合して、試料保持部２２をＴ方向に回動自在にすることができる。
【００３７】
メッシュ支持部材２４は、中央部に略円形の開口部２５が形成され、この開口部２５に、微小試料片Ｃを保持するメッシュ部材４１が、ｚ軸方向に沿って支持される。
メッシュ４１は、例えば、集束イオンビームによって試料Ｓを加工して得られた、ＴＥＭ分析用の微小試料片を載置するための網状部材である。こうしたメッシュ４１は、例えば、円形に加工した金属板やシリコンプロセスで製作した微小ピラーを薄板に固定したものなどが用いられる。こうしたメッシュ４１は、開口部２５の周縁に配された固定部材４６によって、開口部２５に支持されればよい。
【００３８】
また、メッシュ支持部材２４には、一方の梁部材２３Ａおよび他方の梁部材２３Ｂに向けて、ｚ軸方向に沿ってそれぞれ突出する略円筒形の軸部材２６Ａ，２６Ｂが一体、もしくは別部材として構成されている。
【００３９】
一方の梁部材２３Ａには、軸部材２６Ａを回動自在に軸支する軸受部２７Ａが、また、他方の梁部材２３Ｂには、軸部材２６Ｂを回動自在に軸支する軸受部２７Ｂがそれぞれ形成されている。こうした軸部材２６Ａ，２６Ｂと軸受部２７Ａ，２７Ｂとが回動自在に係合することによって、メッシュ支持部材２４は梁部材２３Ａと梁部材２３Ｂとの間で、ｚ軸回りで回動可能に支持される。
【００４０】
また、試料保持部２２には、メッシュ支持部材２４をｚ軸回りで一方の回転方向に付勢するバネ部材２８と、メッシュ支持部材２４の回転を所定位置で制御する回転制御部材２９とが形成されている。メッシュ支持部材２４は、バネ部材２８の一端に接して、図２中のｚ軸を中心に時計回り方向に付勢される。一方、回転制御部材２９は、メッシュ支持部材２４の一端に接して、メッシュ部材４１の主面がｘ軸及びｙ軸に沿う位置で留まるように、メッシュ支持部材２４の回転を制御する。これにより、メッシュ支持部材２４は、メッシュ部材４１の主面がｘ軸及びｙ軸に沿う位置から、バネ部材２８の付勢に抗してｚ軸を中心に反時計回り方向に９０°程度まで回動可能にされている。
【００４１】
少なくとも一方の軸部材２６Ａには、軸端面２６ａとメッシュ支持部材２４の開口部２５との間をｚ軸方向に沿って貫通する貫通孔４３が形成されている。なお、軸部材２６Ａの軸端面２６ａは、一方の梁部材２３Ａの内部にある。そして、少なくとも一方の梁部材２３Ａには、軸部材２６の軸端面２６ａを外部に露呈させる穴部４４が形成されている。
【００４２】
これら軸部材２６Ａに形成された貫通孔４３と梁部材２３Ａに形成された穴部４４によって、梁部材２３Ａの外面からｚ軸方向に沿ってメッシュ支持部材２４の開口部２５までを貫通する、ＦＩＢの通過経路が形成される。これによって、集束イオンビーム鏡筒１１（図１参照）から照射されたＦＩＢは、こうした穴部４４および貫通孔４３を通過して、メッシュ部材４１に支持された微小試料片Ｃの厚み面に向けて入射させることができる。
【００４３】
貫通孔４３は、開口部２５から一方の軸部材２６Ａの軸端面２６ａに向かって、開口径が漸増するように、漏斗状、または階段状に形成されている。また、この貫通孔４３に連なる梁部材２３Ａの穴部４４も、軸部材２６Ａの軸端面２６ａから梁部材２３Ａの外部に向かって、開口径が漸増するように、漏斗状、または階段状に形成されている。これによって、微小試料片Ｃに向けて集束するように照射されるＦＩＢが、穴部４４および貫通孔４３の内周面に接することを防止できる。
【００４４】
以上のような構成の試料ホルダー１３、およびこれを備えた集束イオンビーム装置１０の作用を説明する。
本実施形態の試料加工観察装置（集束イオンビーム装置）１０によって、試料（バルク）Ｓから、例えば、ＴＥＭ観察用の微小試料片を形成する際には、予め、試料ホルダー１３を試料室１４内から退避させておく。
そして、試料Ｓの観察対象が含まれると想定される位置にＳＥＭ像を確認して移動し、観察対象が含まれるエリアの外側及び底を一部微小アームを残して集束イオンビーム（ＦＩＢ）で加工する。そして、マニピュレーターのプローブ５５ａの先端を微小試料片に接触させ、その接触部位をデポジションガス銃５５ｂによってガスを供給しながらＦＩＢを照射してデポジション膜を形成して固着する。その後、前述の微小アーム部をＦＩＢによって切断し、微小試料片と試料（バルク試料）Ｓとを分離する。
【００４５】
このように、ＦＩＢによって観察対象物を含む微小試料片が試料Ｓから分離された状態でマニピュレータのプローブ５５ａを退避位置に移動し、次に、ロードロック機構５１を介して試料室１４内に試料ホルダー１３を挿入する。
【００４６】
試料ホルダー１３を試料室１４内に挿入したら、試料片移動手段５５を用いて、退避位置にあったプローブ５５ａに保持された微小試料片を試料ホルダー１３のメッシュ４１近傍に移動させる。この時メッシュ４１の位置はＦＩＢとＳＥＭのビームコインシデンスポイントに予め移動しておき、プローブ５５ａを駆動して微小試料片の位置を調節しながらメッシュ４１の試料固定位置に接触させ、デポジション膜を利用して両者を固定する。その後、プローブ５５ａと微小試料片をＦＩＢ加工で分離する。分離後、プローブを退避させる。
【００４７】
次に、メッシュ４１に固定された微小試料片を、ＦＩＢと微小試料片との角度を調整しながら試料を薄膜加工し、ＴＥＭ観察可能な薄さに加工する。こうした微小試料片の厚み加工において、微小試料片の厚み方向に対して直角な面に対してＦＩＢを照射する際には、軸部材２６Ａに形成された貫通孔４３と梁部材２３Ａに形成された穴部４４を介してＦＩＢを入射させることで、図２中のｚ軸方向に沿ってＦＩＢを容易に照射することができ、これにより微小試料片をＴＥＭ観察に最適な厚さに薄膜化することができる。
【００４８】
また、試料ホルダー１３には、試料保持部２２をＴ方向に回動自在にさせる係合突起４５が形成されているので。集束イオンビーム装置１０の試料台１５の一端に形成された受け部材（図示略）と係合させれば、試料保持部２２をＴ方向に容易に回動させることができる。こうした構成することで、試料ホルダー１３を一方の側だけで保持する、いわゆる片持ちステージと、両方で保持する非片持ちステージとの互換性を確保したまま、シンプルな構成でＦＩＢ−ＴＥＭ共用の試料ホルダーを実現することができる。
【００４９】
本発明の実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００５０】
１０  集束イオンビーム装置
１１  集束イオンビーム（ＦＩＢ）鏡筒
１２  電子ビーム（ＥＢ）鏡筒
１３  試料ホルダー
１５  試料台
４３  貫通孔
４４  梁部材
【図１】
0006636839.tif 000002
【図２】
0006636839.tif 000003
【図３】
0006636839.tif 000004
【図４】
0006636839.tif 000005