(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、少なくとも２軸以上に配置された位相差層とＯＶＤ機能層と接着剤層とを順
次積層した転写箔であって、
位相差層には第一位置合わせマークが設けられており、
ＯＶＤ機能層には前記第一位置合わせマークに重なる位置に第二位置合わせマークが設けられており、
前記第二位置合わせマークが、空間周波数が２０００本/ｍｍから４０００本/ｍｍで、
アスペクト比が０．５から２の回折格子から構成されていることを特徴とする転写箔。
【請求項２】
請求項１に記載の転写箔の製造方法であって、前記第一位置合わせマークと前記第二位置合わせマークの位置ずれを、偏光子を介して検出することを特徴とする転写箔の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の転写箔を用いたことを特徴とする偽造防止媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止効果及び優れた意匠性が得られる転写箔、偽造防止媒体およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、銀行券、商品券、パスポートなどの有価証券や認証媒体は、偽造防止対策として偽造の困難な媒体の貼付を行ってきた。そこでは、目視による判定(いわゆるオバート機能)または検証器を用いた判定(いわゆるコバート機能)により真贋判定を行っている。
【０００３】
オバート機能を持つＯＶＤによる任意の画像を形成した偽造防止媒体は、目視で認識が行えるため、偽造されやすい。そこで、近年、目視では確認出来ず、フィルターを翳すことによって潜像が現れ、真贋判定が行える高分子液晶材料を用いた偽造防止技術を組み合わせた偽造防止媒体が提案されている。(特許文献１)  
【０００４】
ところで、このような偽造防止媒体は、例えば粘着ラベル又は転写箔の形態で利用される。
これらの媒体は、転写箔の形態で利用した場合には、粘着ラベルの形態で利用した場合と比較してより薄くすることができる。偽造防止媒体を薄くすると、物品に貼り付けられた媒体を剥離する際に、その破壊を容易に生じさせることができる。即ち、偽造防止媒体の再使用を不可能とすることができるので、より有効である。従って、上記媒体は、特に偽造防止の目的で利用する場合は、転写箔の形態とすることが多い。
【０００５】
転写箔は、ストライプ状に転写するか、スポットで転写するのが一般的である。スポットで転写し、さらに、オバート機能とコバート機能を組み合わせた偽造防止媒体の場合、オバート画像とコバート画像が両方とも固定柄であると、連続柄よりも偽造防止効果及び意匠性が高い。
しかしながら、オバート画像とコバート画像を位置合わせするためには、予め印刷等で位置合わせマークを形成し、それを用いてオバート画像とコバート画像の位置合わせを行なう必要がある。ただし、位置合わせマークを印刷等で形成した場合、その工程の分だけ工程数が増加する。また、従来の位置合わせマークでは位置合わせの精度が充分でない場合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４０５４０７１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上の問題を鑑み、本発明の目的は、少ない工程数かつ高い位置合わせ精度で偽造防止効果及び高い意匠性が得られる転写箔、偽造防止媒体およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第一の側面によると、基材上に、少なくとも２軸以上に配置された位相差層と
ＯＶＤ機能層と接着剤層とを順次積層した転写箔であって、位相差層には第一位置合わせ
マークが設けられており、ＯＶＤ機能層には前記第一位置合わせマークに重なる位置に第
二位置合わせマークが設けられており、前記第二位置合わせマークが、空間周波数が２０００本／ｍｍから４０００本／ｍｍで、アスペクト比が０．５から２の回折格子から構成されていることを特徴とする転写箔を提供する。
【００１１】
本発明の第二の側面によると、請求項１に記載の転写箔の製造方法であって、前記第一位置合わせマークと前記第二位置合わせマークの位置ずれを、偏光子を介して検出することを特徴とする転写箔の製造方法を提供する。
【００１２】
本発明の第三の側面によると、請求項１に記載の転写箔を用いたことを特徴とする偽造防止媒体を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の転写箔によれば、位相差層に設けた第一位置合わせマークとＯＶＤ機能層に設けた第二位置合わせマークとを重ね合わせた際に、偏光子を介してその位置ずれをセンサーで読み取り、フィードバック制御して位置合わせを行うことが可能になるので、高い位置精度で所望の転写箔が得られる。また、位置合わせマークの形成を、位相差層およびＯＶＤ機能層の形成工程と同時に行えるため、工程数を少なくできる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明による転写箔の実施形態の一例を示す概念断面図。
【図２】（a）本発明の実施形態の一例において、位相差層のパターンを示す概念図。（b）本発明の実施形態の一例において、ＯＶＤ機能層のパターンを示す概念図。
【図３】本発明の実施形態の一例において、位相差層とＯＶＤ機能層のパターンが重なった画像の一部を示す概念図。
【図４】本発明の実施形態の一例において、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークを重ねて基材側から観察した場合を示す概念図。
【図５】図４の例において位置合わせマークが重なる様子を、偏光子を介して観察した場合を示す概念図。
【図６】本発明の実施形態の他の一例において、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークを重ねて基材側から観察した場合を示す概念図。
【図７】図６の例において位置合わせマークが重なる様子を、偏光子を介して観察した場合を示す概念図。
【図８】本発明の実施形態の他の一例において、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークを重ねて基材側から観察した場合を示す概念図。
【図９】図８の例において位置合わせマークが重なる様子を、偏光子を介して観察した場合を示す概念図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る転写箔および偽造防止媒体とその製造方法についての実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
【００１６】
図１は、本発明における転写箔の実施形態の一例を示す概念断面図である。転写箔１０は、基材１１上に位相差層１２及びＯＶＤ機能層１３及び接着剤層１４を順次積層した構成となっている。
【００１７】
図２は、位置合わせマークを含む位相差層１２とＯＶＤ機能層１３を示している。図２（a）はパターン配置された位相差子１５、位相差子１６を含む位相差層１２を示す。この位相差層１２には、第一位置合わせマーク１７を有している。位相差層１２は、この層を通過する光が空気中を通過する光と比べて所定の位相差を生じる層であり、位相差子１５と位相差子１６はともに透明であるが、互いに異なる位相差を生じるようにすることができる。そしてこれを利用して、例えば光軸を０°と４５°にすることができる。
図２（b）は図１のＯＶＤ機能層１３を示す平面図であり、パターン配置されたＯＶＤ１８及び第二位置合わせマーク１９を含んでいる。ＯＶＤパターン１８は例えば回折格子構造とすることができ、第二位置合わせマーク１９は可視光波長以下のピッチで複数の溝を設けることにより、偏光特性を有するものにできる。
そして図２（a）と図２（b）は、位相差層のパターンとＯＶＤ機能層のパターン、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークがそれぞれ同じ位置に重ね合わさるように設けられている様子を示している。
【００１８】
図３は図２に示す転写箔のスポット転写を行なったあとの偽造防止媒体の観察イメージを示す。図中で丸に杉の木形状のパターンはＯＶＤ１８であり、星柄のパターンは位相差子１６であり、その背景は位相差子１５である。観察は目視で、転写後に位相差子側から観察する。
図３（a）は位相差子１５、１６とＯＶＤ１８が合わさったときのイメージ図である。
図３（b）は目視で偽造防止媒体を観察したときのイメージ図であり、位相差子１５、１６は目視では観察できないため、ＯＶＤ１８のみが観察されている。
図３（c）は偏光子（図示せず）を翳して観察したときのイメージ図であり、位相差子１６のパターンが偏光子を通すことにより、可視化されている。
さらに図３（d）は偏光子を回転させたときに観察されるイメージ図であり、位相差子１６で形成された絵柄が偏光効果によりネガポジ反転している。さらに転写箔１０の製造時に位相差子層１２のパターンとＯＶＤ機能層１３のパターンの位置合わせを行なっているため、図３（b）のように目視では観察されなかったツリーの上の星が、偏光子を翳すことによって観察することが出来るようになった。
【００１９】
図４、図６、図８は位相差層１２とＯＶＤ機能層１３の重ね合わせにおける第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９の重ね合わせの様子の一例を示しており、各図の（a）は位置が一致していた場合、（b）は印刷の流れ方向に位置ずれした場合、（c）は転写箔の幅方向に位置ずれしていた場合、（d）は流れ方向及び幅方向ともに位置ずれしていた場合のイメージ図を示している。
図４、図６、図８のそれぞれの位置ずれに対して、偏光子２０を介して検出を行った場合に観察される画像を図５、図７、図９に示してある。例として第二位置合わせマーク１９のパターンの位置を変えた場合を例示したが、これに限るものではなく、例えば第一位置合わせマーク１７のパターンを変えても、第一及び第二位置合わせマークの両方を変えても良い。
【００２０】
次に、転写箔１０を構成する各層の材料等について説明する。
（基材）
基材１１としては、押出加工やキャスト加工により作製された無延伸フィルム及び、延伸加工により作製された延伸フィルム等を用いる事ができる。延伸フィルムには、伸ばし方により、１軸延伸フィルム及び２軸延伸フィルムがあり、両者とも使用できる。
【００２１】
これらの無延伸フィルム及び延伸フィルムの材料としては、セロハン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＯＨ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム等があげられる。
【００２２】
（位相差層）
本発明の転写箔に含まれる位相差層１２には、複屈折性を持つ材料を使用することができる。複屈折とは、物質の屈折率が光軸方向によって異なることで、そのため物質中を光が通過するときにその速度が異なってくる。そのため、物質通過後の光には通過速度の差の分だけ位相差が生じる。このような材料には、たとえば液晶材料を用いることができる。
【００２３】
また、位相差層１２は、２軸以上に配置されている。位相差層の光軸を２軸以上に配置する方法としては、配向膜を多軸方向に配向処理をし、その上に液晶を塗布することで多軸に配向された液晶を得ることができる。液晶材料を配向させるための配向膜の配向処理には、例えばラビング配向法もしくは光配向法を用いることができる。位相差値は液晶の複屈折率と膜厚で決定することができる。
【００２４】
光配向法とは、配向膜に偏光等の異方性を有する光を照射もしくは非偏光光を斜めから照射し、配向膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法で、配向膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異方化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等があげられる。
【００２５】
具体的には、適当な波長帯域の偏光光もしくは斜めからの非偏光光によりパターン露光することにより行われる。例えば、２軸方向に配向させる場合は、フォトマスクで配向方向を変えたい部分をカバーしてパターン露光し、さらにフォトマスクでカバーされていた未露光部を処理するため方向を変えて露光すれば良い。または、一度全面をパターン露光した後に、部分的にフォトマスクでカバーして方向を変えて再度露光しても良い。
【００２６】
ラビング配向法は、基材上にポリマー溶液を塗布して作成した配向膜を布で擦る方法で、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、ＰＶＡ等が用いられる。
【００２７】
光軸を２軸方向に配向させる場合には、配向方向を変えたい部分をマスクでカバーして布で擦った後にマスクを除去し、今度は先ほどラビングした部分をマスクでカバーし、再び方向を変えて布で擦った後、マスクを除去する。または、全面を布で擦った後に、部分的にマスクでカバーし、方向変えて布で擦った後、マスクを除去しても良い。
【００２８】
これら配向膜を形成する方法としては、グラビアコーティング法、またはマイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用いることができる。
【００２９】
配向処理された配向膜上に液晶材料を設けることで位相差層を得ることが出来る。そのような液晶材料としては、メソゲン基の両端にアクリレートを設けた光硬化型液晶モノマー、ＥＢ若しくはＵＶで硬化させる高分子液晶、ポリマー主鎖にメソゲン基を提げた高分子液晶、分子主鎖自体が配向する液晶性高分子を用いることができる。これらの液晶は、塗布後、相転移を起こすＮＩ点より少し下の温度で熱処理することにより、配向を促進することが可能である。
【００３０】
（位相差値）
位相差値としては、例えば、検証器（図示せず）に偏光子を用い、転写箔には反射層を組み込んだ場合、位相差値は１/４λであるとよく、さらに、被転写媒体に透明基材を使用し、被転写媒体の裏面に偏光子を配置し、検証器に偏光子を用いた場合には、１/２λが効果的である。  
また、例えば被転写媒体の裏面に円偏光子を配置し、検証器に円偏光子を用いた場合には、１/８λが効果的であるが、いずれの場合においても、１/４λ、１/２λ、１/８λのどの位相差値にしてもよい。
【００３１】
（ＯＶＤ機能層）
図１に示すように、ＯＶＤ機能層１３は、ＯＶＤ形成層１３aにエンボス１３bを施し、ＯＶＤ１８を形成することにより設けられる。ＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅ）とは、光の干渉を利用した画像表示体であり、立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体であって、目視により真偽判定が可能な媒体である。
特にホログラムや回折格子などのような構造を持つＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や、体積方向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。
【００３２】
また、本発明におけるＯＶＤ機能層１３とは手法が異なるが、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層した多層膜など、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる材料もその例である。これらのＯＶＤは、立体画像やカラーシフトといった独特な印象を与え、また高度な製造技術を要することから、偽造防止の有効な手段と言える。
【００３３】
レリーフ型ホログラム又はレリーフ型回折格子の製造方法としては、それぞれホログラム又は回折格子を成す微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のプレス版を用いて量産を行うことができる。即ち、プレス版でＯＶＤ形成層１３aを加熱・加圧して微細な凹凸パターンを複製できる。
【００３４】
ＯＶＤ形成層１３aの材料としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂を単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、前記以外のものであっても、前記凹凸パターンを形成可能な材料であれば適宜使用してよい。さらに、ＯＶＤの効果を損なわない程度にフィラー等の添加を行い、さらなる転写性向上を行っても良い。
このＯＶＤ形成層１３aに関しては、公知の印刷方法にてパターンで設けられる。
【００３５】
ＯＶＤ形成層１３aをエンボスにより形成したＯＶＤ１８の回折効率を高めるために、レリーフ面を構成する材料は、例えばＴｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＳ、などの高屈折率材料や、より反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられ、これらの材料が単独あるいは積層して使用される。これらの材料は、真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成される。またこれらの材料は、反射層としても使用できる。
【００３６】
接着層１４としては、例えば熱をかけたとき粘着性が現れる感熱接着剤を用いることができる。接着層１４は、その性能を満たす樹脂をグラビアコータ、マイクログラビアコータ、ロールコータなどを用いて基材に塗布して設ける。用いることができる材質としては、アクリル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、エポキシ、ＥＶＡなどの熱可塑性樹脂を用いることができる。
【００３７】
（第一位置合わせマーク）
第一位置合わせマーク１７は、図２（a）に示すように位相差層１２内に位相差子１５、１６と同時に設けられる。一例として位相差子１５、１６が２軸にパターン配置されている場合を図２に示した。この場合、第一位置合わせマーク１７は位相差子１５、１６とはさらに異なる方向に配置されていても良いが、工数を減らすために位相差子１６と同じ方向に配置されていてもよい。また、図２では第一位置合わせマーク１７が１軸配向している例を示したが、第一位置合わせマーク１７内をさらに分割し、多軸配向させてもよい。
【００３８】
第一位置合わせマーク１７は、図２（b）に示すＯＶＤ１８を形成するときに位置合わせのために用いる。その際に、第一位置合わせマーク１７を偏光子で挟んでセンサで読み取るとよい。すると、第一位置合わせマーク１７とその周囲（位相差子１５部分に相当）の配向軸が異なるため、画像のコントラストが得られる。それをセンサで読み取り、位置合わせしながらエンボス加工にてＯＶＤ１８を形成するとよい。
【００３９】
（第二位置合わせマーク）
第二位置合わせマーク１９は、ＯＶＤ形成層１３aをエンボス加工し、ＯＶＤ１８を形成すると同時に設けられる。第一位置合わせマーク１７との重なり具合から位置ずれを検知し、位相差層１２のパターンとＯＶＤ１８との位置合わせを行なうためのものである。第二位置合わせマーク１９はＯＶＤと同様の構造で設けてもよいが、例えば複数の溝を配置してなるレリーフ型回折格子にて設けることができ、その空間周波数が２０００本/ｍｍから４０００本/ｍｍの範囲内にあり、かつ回折格子の溝の高さ／幅の比（アスペクト比）の値が０．５〜２の範囲内にあることが好ましい。
また、より最適な範囲として回折格子の空間周波数が２５００本/ｍｍから３５００本/ｍｍの範囲内にあればさらに好ましい。
【００４０】
このような構造の回折格子は極めて特殊な視覚効果を有している。この構造は一般に使用される回折格子とは異なり、入射光の方向と近い方向に回折光が戻る特徴があり、且つ回折光は偏光特性を有する。さらに反射光も偏光特性を有する。例えば回折格子の配置を９０°傾けると、反射する偏光特性も９０°変化する。しかしこれに限定されず、ＯＶＤと同様に微細凹凸パターンやカラーシフトを用いることもできる。
【００４１】
前述の回折格子を第二位置合わせマーク１９として用いた場合、第一位置合わせマーク１７と組み合わせることにより、第一位置合わせマーク１７の位相差子１５、１６の光軸によっては偏光特性が変化し、偏光子を介して観察すると、第二位置合わせマーク１９内にコントラストを生じさせることができる。これにより、本発明の転写箔を製造する際に、第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９を重ね合わせた際の位置ずれを、より高い精度で読み取ることが可能になる。
【００４２】
（位置合わせ）
エンボスによりＯＶＤ１８を形成する際に、第一位置合わせマーク１７を偏光子で挟んだ状態でレーザセンサ等で読み取り、位置合わせを行ないながら、エンボスを行なう。
【００４３】
（位置ずれの検出）
エンボスによりＯＶＤ１８を形成した後に、センサで第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９の重なり具合を検出することで、その位置ずれを確認する。以下、図４及び図５を例にして、位置ずれに関して説明する。
【００４４】
ＯＶＤ１８形成後、第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９の重なり具合は、偏光子を介して画像センサで読み取り、フィードバック制御される。図４（a）は第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９が一致しているときを示しており、即ち位相差層１２の画像とＯＶＤ１８の画像が一致していることを意味している。
この場合、偏光子を介してセンサで読み取られる画像は図５（a）のようになっており、
第二位置合わせマーク１９と第一位置合わせマーク１７の位置が一致しているため、濃いグレーの四角が検出される。位置ずれのないこの状態にするべく、位置ずれが生じていた場合にフィードバック制御されることになる。
【００４５】
図４（b）は、位相差層１２の画像とＯＶＤ１８の画像が流れ方向で位置ずれした場合を示している。その場合、偏光子を介して読み取られる画像は図５（b）のようになっており、第一位置合わせマーク１７と重なっている第二位置合わせマーク１９の部分は濃いグレーで観察され、第一位置合わせマーク１７と重ならない第二位置合わせマーク１９の部分は薄いグレーで観察され、図４（b）の例では、下側は濃いグレーで上側は薄いグレーの四角が検出されることになる。
【００４６】
図４（c）には幅方向に位置ずれした場合、図４（d）には流れ方向及び幅方向に位置ずれした場合の例が示してあり、第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９が重なっている部分は濃いグレーで観察され、第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９が重ならない部分は薄いグレーで観察されるため、図５（c）、（d）のように一部薄いグレーとなる四角が検出される。これらの画像から位置ずれ量を感知し、その情報を元にして位置合わせ状態が図４（a）のようになるようにフィードバック制御される。
【００４７】
また、図６、図７のように、第二位置合わせマーク１９を単純な一軸配置ではなく多軸配置にしてもよい。この場合も上記の例と同様に、位置合わせ状態が図４（a）のようになるようにフィードバック制御される。
【００４８】
またさらに、図８、図９のように第二位置合わせマーク１９を第一位置合わせマーク１７の内部に入るようなひし形等にしておくと、印刷の流れ方向のみと、幅方向のみと、流れ方向及び幅方向のずれがある場合との画像が明らかに異なるので、位置ズレが検知しやすい。
【００４９】
（転写）
転写方法は、アップダウン方式によるスポット転写もしくはロール転写方式によるストライプ転写方式により被転写物に転写箔を転写する。被転写物の基材は、紙のほか、樹脂フィルム、金属板、ガラス板などシート状のものであれば特に問わず、用いることができる。
【００５０】
本発明による転写箔が転写された偽造防止媒体は、図３（a）のようになっており、位相差子１５、１６は目視では観察できないため、実際には図３（b）のように、ＯＶＤ１８のパターンのみが観察される。ここで偏光子を翳すと、図３（c）、（d）のように位相差子１５、１６のパターンが可視化された画像が観察される。
【実施例】
【００５１】
以下、本発明の実施例について説明をする。
【００５２】
ルミラー１９F６０を基材１１として、配向膜用樹脂を溶解した配向膜溶液をマイクログラビア法で塗布し成膜を行った。その後、連続で配置された星型の位相差子１６と第一位置合わせマーク１７を設けたマスクを用いてカバーをして、原反の流れ方向にラビング布でこすった。
さらに流れ方向に擦った部分をマスクでカバーして、流れ方向に対して４５°方向に傾けてラビング布で擦り、配向膜を作製した。
【００５３】
その後、ＤＩＣ株式会社製のＵＶキュアラブル液晶ＵＣＬ−００８をマイクログラビアにて位相差値がλ/４となる膜厚で塗工し、酸素雰囲気下でＵＶ硬化を行った。その結果、流れ方向と、流れ方向に４５°傾いた位相差子１５、１６がそれぞれ得られた。
【００５４】
次に、アクリルポリオールとイソシアネートからなるＯＶＤ形成層をダイレクトグラビア印刷法にて全面に設けた。その後、第一位置合わせマーク１７を偏光子で挟み、ラインセンサで読み取りながら、連続で配置されたＯＶＤ１８と第二位置合わせマーク１９を設けた版で加熱エンボスをかけ、ＯＶＤ機能層を形成した。さらにその後、第一位置合わせマーク１７と第二位置合わせマーク１９の位置ずれを偏光子を介して画像センサで読み取り、位置合わせのフィードバック制御を行ない、位相差層１２の星柄パターンとＯＶＤ１８の杉の木柄の位置合わせを行なった。
【００５５】
その後、アルミニウム薄膜を真空蒸着法を用いて厚みが５００Åになるようにして形成した。
さらにアクリル樹脂を接着層１４としてマイクログラビアにて全面に設け、本発明の転写箔を得た。
【００５６】
得られた転写箔を被転写物にホットスタンプを用いて転写した。転写された偽造防止媒体を目視で観察したところ、ＯＶＤ１８の杉の木柄のみ観察された。次に、偏光子を翳して観察を行ったところ、杉の木の頂点の位置に正確に星柄が出現して観察され、この偏光子を回転させると星柄がネガポジ反転した。
【００５７】
以上の実験結果により、高い位置精度で所望の転写箔が得られ、かつ位置合わせマークの形成が位相差層およびＯＶＤ機能層の形成工程と同時に行えるため、工程数を少なくできることが確認できた。
【符号の説明】
【００５８】
１０  転写箔
１１  基材
１２  位相差層
１３  ＯＶＤ機能層
１３ａ  ＯＶＤ形成層
１３ｂ  エンボス
１４  接着層
１５、１６  位相差子
１７  第一位置合わせマーク
１８  ＯＶＤ
１９  第二位置合わせマーク
２０  偏光子
【図１】
0006638319.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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