(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、
（Ａ）単位式
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚ
を有し、式中、ｘは０．０１〜０．１であり、ｙは０〜０．９４であり、ｚは０．０５〜０．９９であり、Ｒはそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基である、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）
（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び
（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子
のうちの少なくとも１つ；
（Ｃ）シリカ粉末、ヒュームドシリカ、及びセラミックガラス粉末の少なくとも一つから選択され、組成物の２０重量％以上で存在する充填剤；並びに
（Ｄ）光開始剤；
を含み、
前記（Ａ）が１，０００ｇ／モル〜１０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有し、且つ組成物の２５重量％〜７１．３重量％を占め、
前記（Ｂ１）と（Ｂ２）とは異なり、
前記組成物が剪断薄化性かつＵＶ硬化性である、組成物。
【請求項２】
前記充填剤が、２８０ｎｍ〜４００ｎｍの波長を有する光に対して実質的に透明である、請求項１に記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項３】
前記組成物の粘度が、剪断速度が増大するにつれて低下する、請求項１または２に記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に規定される硬化性シリコーン組成物の製造方法であって、前記方法が、
成分（Ａ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）を含む実質的に粘度安定な予備混合物を含むＩ部を取得又は提供する工程；
成分（Ｂ）を含むＩＩ部を取得又は提供する工程；並びに
Ｉ部とＩＩ部を混合して、請求項１に規定の組成物を形成する工程を含む、方法。
【請求項５】
インクジェット印刷の方法であって、
（Ａ）単位式
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚ
を有し、式中、ｘは０．０１〜０．１であり、ｙは０〜０．９４であり、ｚは０．０５〜０．９９であり、Ｒはそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基である、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）
（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び
（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子
のうちの少なくとも１つ；
（Ｃ）シリカ粉末、ヒュームドシリカ、及びセラミックガラス粉末の少なくとも一つから選択され、組成物の２０重量％以上で存在する充填剤；並びに
（Ｄ）光開始剤を含む、印刷可能な組成物であって、
前記（Ａ）が１，０００ｇ／モル〜１０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有し、且つ組成物の２５重量％〜７１．３重量％を占め、
前記（Ｂ１）と（Ｂ２）とは異なる、印刷可能な組成物を取得又は提供する工程；
前記印刷可能な組成物を、基材上に、インクジェットプリンタで印刷する工程；並びに
前記印刷された印刷可能な組成物を硬化する工程を含む、インクジェット印刷の方法。
【請求項６】
組成物であって、
（Ａ）単位式
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚ
を有し、式中、ｘは０．０１〜０．１であり、ｙは０〜０．９４であり、ｚは０．０５〜０．９９であり、Ｒはそれぞれメルカプトプロピル基であり、１，０００ｇ／モル〜１０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有する、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサンであって、成分（Ａ）は前記組成物中に４０重量％〜７１．３重量％存在する；
（Ｂ）
（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び
（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子のうちの少なくとも１つであって、
前記（Ｂ１）と（Ｂ２）とは異なり、
成分（Ｂ）は前記組成物中に１０重量％〜６０重量％で存在する；
（Ｃ）５〜１００ｎｍの一次粒径を有するヒュームドシリカを含む充填剤であって、前記充填剤が２８０ｎｍ〜４００ｎｍの波長を有する光に対して実質的に透明であり、前記充填剤が標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで１．４３〜１．４８の屈折率を有し、成分（Ｃ）は前記組成物中に２０重量％以上で存在する；並びに
（Ｄ）ＵＶ光開始剤であって、成分（Ｄ）は前記組成物中に０．５重量％〜５重量％存在する
を含み、前記組成物は剪断薄化性かつＵＶ硬化性であり、前記組成物が標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで１．４３〜１．４８の屈折率を有する、組成物。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
オルガノポリシロキサンを含む硬化性組成物は、硬化プロセスで処理されて、オルガノポリシロキサンの反応生成物、例えば、硬化生成物を生成することができる。いくつかの例において、反応生成物又はオルガノポリシロキサン自体は、化粧品、防臭剤、食品、及び石鹸等の様々な用途、並びに、導波管、封止剤、コーティング剤、潤滑剤、耐火材料、消泡剤、医薬用添加剤、配管及び建築工事のための構造製品、おもちゃ、塗料、及び分離に使用できる膜等のその他の用途に十分に適した特性を有し得る。
【０００２】
印刷技術は、物質を、制御されたパターンで基材に適用することができる。印刷技術を硬化性材料の適用に使用した場合、印刷された基材を硬化プロセスで処理することができる。ただし、硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、剪断薄化特性が不十分、硬化生成物の透明性が不十分、硬化時間が不都合なほど低速、硬化材料の寸法制御が困難、及びスクリーン印刷、フレキソ印刷、ジェットディスペンス、又はインクジェット印刷等の様々な印刷技術での効率的かつ効果的な使用に適さない、のうちの少なくとも１つの理由から、一般的に印刷に適さない。
【発明の概要】
【０００３】
種々の実施形態において、本発明は、剪断薄化性紫外線（ＵＶ）硬化性シリコーン組成物を提供する。上記組成物は、（Ａ）単位式［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚを有するメルカプト官能性ポリオルガノシロキサンを含む。上記変数ｘは約０．０１〜約０．１であり、ｙは約０〜約０．９４であり、ｚは約０．０５〜約０．９９である。Ｒは、それぞれ独立して、メルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基である。組成物は（Ｂ）を含み、（Ｂ）は、（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子のうちの少なくとも１つである。組成物は、（Ｃ）充填剤を含む。組成物はまた、（Ｄ）光開始剤を含む。いくつかの実施形態において、本発明は、硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を提供する。いくつかの実施形態において、本発明は、硬化性組成物又はその硬化生成物を使用する方法、及び硬化性組成物又はその硬化生成物を含むデバイスを提供する。
【０００４】
種々の実施形態において、本発明は、インクジェット印刷の方法を提供する。上記方法は、印刷可能な組成物を取得又は提供する工程を含む。上記組成物は、（Ａ）単位式［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚを有するメルカプト官能性ポリオルガノシロキサンを含む。上記変数ｘは約０．０１〜約０．１であり、ｙは約０〜約０．９４であり、ｚは約０．０５〜約０．９９である。Ｒは、それぞれ独立して、メルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基である。組成物は（Ｂ）を含み、（Ｂ）は、（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子のうちの少なくとも１つである。上記組成物はまた、（Ｄ）光開始剤を含む。上記方法は、印刷可能な組成物を、基材上に、インクジェットプリンタで印刷する工程を含む。上記方法は、印刷された印刷可能な組成物を硬化する工程を含む。
【０００５】
種々の実施形態において、本発明は、剪断薄化ＵＶ硬化性シリコーン組成物を提供する。上記組成物は、（Ａ）単位式［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚを有するメルカプト官能性ポリオルガノシロキサンを含む。上記変数ｘは約０．０１〜約０．１であり、ｙは約０〜約０．９４であり、ｚは約０．０５〜約０．９９である。Ｒはそれぞれ、メルカプトプロピル基である。成分（Ａ）は、組成物中に、約４０重量％〜約８５重量％存在する。組成物は（Ｂ）を含み、（Ｂ）は、（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子のうちの少なくとも１つである。成分（Ｂ）は、組成物中に、約１０重量％〜約６０重量％存在する。組成物は、約５〜１００ｎｍの一次粒径を有するヒュームドシリカを含む（Ｃ）充填剤を含む。充填剤は、約２８０ｎｍ〜約４００ｎｍの波長を有する光に対して実質的に透明である。充填剤は、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４４〜約１．４８の屈折率を有する。成分（Ｃ）は、組成物中に、約１重量％〜約４０重量％存在する。組成物は、（Ｄ）ＵＶ光開始剤を含む。成分（Ｄ）は、組成物中に、約０．５重量％〜約５重量％存在する。組成物の粘度は、剪断速度が増大するにつれて低下する。組成物は剪断薄化性かつＵＶ硬化性であり、組成物は、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４４〜約１．４８の屈折率を有する。いくつかの実施形態において、本発明は、硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を提供する。いくつかの実施形態において、本発明は、硬化性組成物又はその硬化生成物を使用する方法、及び硬化性組成物又はその硬化生成物を含むデバイスを提供する。
【０００６】
本発明の種々の実施形態は、他の硬化性シリコーン組成物、その硬化生成物、及びその使用方法を上回る特定の利点を有し、少なくともその一部は予想外である。例えば、種々の実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物は、ＵＶ硬化性組成物を含む他の硬化性ポリシロキサン組成物よりも短時間でより効率的にＵＶ硬化することができる。種々の実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物は、未硬化形態で、充填剤を含む硬化性ポリシロキサン組成物のような他の組成物よりも光学的に透明となり得る。種々の実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物は、硬化形態で、充填剤を含む硬化ポリシロキサン組成物のような他の硬化組成物よりも光学的に透明となり得る。いくつかの実施形態において、硬化性シリコーン組成物が硬化性シリコーン組成物のような他の硬化性組成物よりも優れた剪断薄化特性を有し、硬化の前及び後に光学的に透明であることで、この組成物は、スクリーン印刷、フレキソ印刷、又はインクジェット印刷のような種々の印刷技術を使用した印刷にとって、より好適となる。いくつかの実施形態において、硬化性シリコーン組成物は、他の組成物よりも効果的な光学的透明性必要とする用途で使用できる。いくつかの実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物の硬化生成物の寸法は、硬化性ポリシロキサン組成物のような他の硬化性組成物の硬化生成物の寸法よりも制御が容易である。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図面は通常、限定ではなく、例として、本文書において説明されている様々な実施形態の概略を描くものである。
【０００８】
【図１ａ】種々の実施形態による硬化性シリコーン組成物の粘度と剪断速度の関係を例示する（FIG.1a.）。
【０００９】
【図１ｂ】種々の実施形態による硬化性シリコーン組成物の粘度と剪断速度の関係を例示する（FIG.1b.）。
【００１０】
【図２】種々の実施形態に従う、５００、７００、１０００、及び２０００μｍの間隔を有する、硬化後のロールツーロールスクリーン印刷した形体の光学顕微鏡画像を例示する（FIG.2a-2d.）。
【００１１】
【図３】種々の実施形態に従って５００μｍの間隔を使用して作製された硬化後の印刷形体の白色干渉計画像を例示する（FIG.3.）。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
これより、開示される主題の特定の実施形態について詳細に参照を行い、その例は添付図面の一部分において示されている。開示される主題は、列挙される特許請求の範囲と共に説明されるが、それらは、例示された主題が開示される主題に対して特許請求の範囲を制限するものではないことを理解されたい。
【００１３】
範囲の形式で表される値は、範囲の限度として明示的に記載される数値だけではなく、各数値及び部分範囲が明示的に記載されているかのようにその範囲内に包含される全ての個々の数値又は部分範囲も含むと柔軟に解釈すべきである。例えば、「約０．１％〜約５％」又は「約０．１％〜５％」の範囲は、約０．１％〜約５％を含むだけでなく、示される範囲内の個々の値（例えば、１％、２％、３％、及び４％）及び部分的範囲（例えば、０．１％〜０．５％、１．１％〜２．２％、３．３％〜４．４％）も含むものと解釈されるべきである。記述「約Ｘ〜Ｙ」は、特に記載しない限り、「約Ｘ〜約Ｙ」と同じ意味を有する。同様に、記述「約Ｘ、Ｙ、又はＺ」は、特に記載しない限り、「約Ｘ、約Ｙ、又は約Ｚ」と同じ意味を有する。
【００１４】
本明細書では、用語「ａ」、「ａｎ」、又は「ｔｈｅ」は、文脈から明らかにそうでないことが示されていない限り、１つ又は２つ以上を含むために使用される。用語「又は」は、別途記載のない限り、非排他的な「又は」を指すために使用される。「Ａ及びＢのうちの少なくとも１つ」という記述は、「Ａ、Ｂ、又はＡ及びＢ」と同じ意味を有する。更に、本明細書で使用される語法又は用語は、特に定義しない限り、単に説明を目的とし、限定することを目的とするものではないことを理解すべきである。項目の見出しのいずれの使用も、文書の読解を助けることを意図するものであって、限定するものであると解釈されるべきではない。項目の見出しに関連する情報は、その特定の項目内に記載されていても項目外に記載されていてもよい。更に、本文書で参照される全ての刊行物、特許、及び特許文書は、参照により個々に組み込まれるかのように、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。この文書と参照により組み込まれる文書との間で用法に矛盾がある場合、組み込まれる文書における用法は、この文書の用法を補足するものであるとみなすべきであり、相容れない矛盾については、この文書における用法を採用する。
【００１５】
本明細書に記載の製造方法において、複数の工程は、本発明の原理から逸脱しない限り任意の順番で実行することができるが、ただし、時間又は操作順序が明記されている場合は除く。更に、特定の複数の工程は、これらが別々に実行されると主張に明記されていない限り、同時に実行することができる。例えば、Ｘを行うという主張がされている工程とＹを行うという主張がされている工程とは、単一の操作内で同時に行うことができ、結果のプロセスは、主張されているプロセスの記載されている通りの範囲内に入る。
【００１６】
本明細書に記載の化合物内の選択された置換基は、再帰的程度で存在する。この文脈において、「再帰的置換基」（recursive substituent）とは、置換基が、それ自体の別の例又はそれ自体が最初の置換基を列挙する別の置換基の別の例を列挙し得ることを意味する。再帰的置換基は、開示された主題の意図される態様である。このような置換基の再帰性のために、理論上は、任意の所与の特許請求の範囲に多数が存在してもよい。有機化学分野の当業者であれば、そのような置換基の総数は意図する化合物の所望の特性によって合理的に制限されることを理解する。そのような特性としては、限定ではない例として、分子量、溶解度等の物理的特性、及び合成の容易さ等の実用的特性が挙げられる。再帰的置換基は、それ自体を任意の好適な回数、例えば、約１回、約２回、３、４、５、６、７、８、９、１０、１５、２０、３０、５０、１００、２００、３００、４００、５００、７５０、１０００、１５００、２０００、３０００、４０００、５０００、１０，０００、１５，０００、２０，０００、３０，０００、５０，０００、１００，０００、２００，０００、５００，０００、７５０，０００、又は約１，０００，０００回以上、反復することができる。
【００１７】
本明細書で使用するとき、用語「約」は、値又は範囲の変動の程度、例えば、記載される値又は記載される範囲の限度の１０％以内、５％以内又は１％以内を許容することができる。
【００１８】
本明細書で使用するとき、用語「実質的に」は、少なくとも約５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、９５％、９６％、９７％、９８％、９９％、９９．５％、９９．９％、９９．９９％又は少なくとも約９９．９９９％又はそれ以上といったような大半又はほとんどを指す。
【００１９】
用語「有機基」は、本明細書で使用するとき、任意の炭素含有官能基を指すが、これに限定されない。例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、オキソ（カルボニル）基、カルボン酸、カルボキシレート、及びカルボン酸エステルを含むカルボキシル基のような酸素含有基；アルキル及びアリールスルフィド基のような硫黄含有基；並びにその他のヘテロ原子含有基。有機基の非限定例としては、ＯＲ、ＯＯＲ、ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、ＣＮ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、Ｒ、Ｃ（Ｏ）、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、Ｎ（Ｒ）２、ＳＲ、ＳＯＲ、ＳＯ２Ｒ、ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、ＳＯ３Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｓ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ、ＯＣ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ）２、（ＣＨ２）０〜２Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、（ＣＨ２）０〜２Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＯＲ、Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）ＣＯＮ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）ＳＯ２Ｒ、Ｎ（Ｒ）ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＯＲ、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｓ）Ｒ、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（ＣＯＲ）ＣＯＲ、Ｎ（ＯＲ）Ｒ、Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｒ）２、Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＯＲ）Ｒ、又はＣ（＝ＮＯＲ）Ｒが挙げられ、式中、Ｒは水素（他の炭素原子を含む例の場合）又は炭素ベース部分であり、炭素ベース部分はそれ自体が更に置換されていてよい。
【００２０】
用語「置換されている」は、本明細書で使用するとき、本明細書で定義されている有機基、又はその中に含有されている１個以上の水素原子が１個以上の非水素原子によって置き換えられている分子を指す。用語「官能基」又は「置換基」は、本明細書で使用するとき、分子又は有機基上で置換可能であるか又は置換されている基を指す。置換基又は官能基の例としては、限定するものではないが、ハロゲン（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩ）；ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、オキソ（カルボニル）基、カルボン酸、カルボキシレート、及びカルボン酸エステルを含むカルボキシル基等の基の酸素原子；チオール基、アルキル及びアリールスルフィド基、スルホキシド基、スルホン基、スルホニル基、並びにスルホンアミド基等の基の硫黄原子；アミン、ヒドロキシルアミン、ニトリル、ニトロ基、Ｎ−オキシド、ヒドラジド、アジド、及びエナミン等の基の窒素原子；並びに種々のその他の基の中の他のヘテロ原子が挙げられる。置換炭素（又はその他の）原子に結合することができる置換基Ｊの非限定的例としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＯＲ、ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ’）２、ＣＮ、ＮＯ、ＮＯ２、ＯＮＯ２、アジド、ＣＦ３、ＯＣＦ３、Ｒ’、Ｏ（オキソ）、Ｓ（チオノ）、Ｃ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、Ｎ（Ｒ）２、ＳＲ、ＳＯＲ、ＳＯ２Ｒ'、ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、ＳＯ３Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｓ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ、ＯＣ（Ｏ）Ｒ、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ）２、（ＣＨ２）０〜２Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、（ＣＨ２）０〜２Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＯＲ、Ｎ（Ｒ）Ｎ（Ｒ）ＣＯＮ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）ＳＯ２Ｒ、Ｎ（Ｒ）ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＯＲ、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｓ）Ｒ、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ）２、Ｎ（ＣＯＲ）ＣＯＲ、Ｎ（ＯＲ）Ｒ、Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｒ）２、Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＯＲ）Ｒ、又はＣ（＝ＮＯＲ）Ｒが挙げられ、式中、Ｒは水素又は炭素ベース部分とすることができ、炭素ベース部分は、それ自体がさらに置換されてよく；例えば、Ｒは、水素、アルキル、アシル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、若しくはヘテロアリールアルキルであることができ、任意のアルキル、アシル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、若しくはヘテロアリールアルキル、若しくはＲは、独立して、Ｊで一置換又は多置換されていてもよく；又は１個の窒素原子若しくは隣接する窒素原子に結合する２個のＲ基は、窒素原子と共にヘテロシクリルを形成することができ、これはＪにより一置換若しくは独立して多置換されていてよい。
【００２１】
用語「アルキル」は、本明細書で使用するとき、１〜４０個の炭素原子、１〜約２０個の炭素原子、１〜１２個の炭素、又はいくつかの実施形態では１〜８個の炭素原子を有する直鎖及び分枝状のアルキル基、並びにシクロアルキル基を指す。直鎖アルキル基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、及びｎ−オクチル基等の１〜８個の炭素原子を有するものが挙げられる。分枝状アルキル基の例としては、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、イソペンチル、及び２，２−ジメチルプロピル基が挙げられるが、これらに限定されない。用語「アルキル」は、本明細書で使用されるとき、ｎ−アルキル、イソアルキル、及びアンテイソアルキル基、並びにアルキルのその他の分枝鎖形態を包含する。代表的な置換アルキル基は、本明細書に列挙される基のいずれか、例えばアミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、ニトロ、チオ、アルコキシ、及びハロゲン基で１回又は複数回置換されていてもよい。
【００２２】
用語「アルケニル」は、本明細書で使用するとき、２個の炭素原子間に少なくとも１個の二重結合が存在することを除いて、本明細書に定義する直鎖及び分枝鎖並びに環状のアルキル基を指す。したがって、アルケニル基は２〜４０個の炭素原子、又は２〜約２０個の炭素原子、又は２〜１２個の炭素、又はいくつかの実施形態では２〜８個の炭素原子を有する。例としては、限定するものではないが、とりわけ、ビニル、−ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ３）、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ（ＣＨ３）、−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）＝ＣＨ２、シクロヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキサジエニル、ブタジエニル、ペンタジエニル、及びヘキサジエニルが挙げられる。
【００２３】
用語「アルキニル」は、本明細書で使用するとき、直鎖及び分枝鎖のアルキル基を指し、ただし、２個の炭素原子間に少なくとも１個の三重結合が存在する。したがって、アルキニル基は２〜４０個の炭素原子、２〜約２０個の炭素原子、典型的には２〜１２個の炭素、いくつかの実施形態では２〜８個の炭素原子を有する。例としては、限定するものではないが、とりわけ−Ｃ≡ＣＨ、−Ｃ≡Ｃ（ＣＨ３）、−Ｃ≡Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）、−ＣＨ２Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ２Ｃ≡Ｃ（ＣＨ３）、及び−ＣＨ２Ｃ≡Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）が挙げられる。
【００２４】
本明細書で使用される「アルコキシ」という用語は、本明細書で定義されるような、シクロアルキル基を含めたアルキル基に結合した酸素原子を指す。
【００２５】
用語「ハロ」、「ハロゲン」又は「ハライド」基は、本明細書で使用するとき、それ自体で又は別の置換基の一部として、特記のない限り、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素原子を意味する。
【００２６】
用語「ハロアルキル」基は、本明細書で使用するとき、モノハロアルキル基、全てのハロ原子が同じでも異なっていてもよいポリハロアルキル基、及び全ての水素原子がフルオロ等のハロゲン原子により置き換えられたペルハロアルキル基を含む。ハロアルキルの例としては、トリフルオロメチル、１，１−ジクロロエチル、１，２−ジクロロエチル、１，３−ジブロモ−３，３−ジフルオロプロピル、及びペルフルオロブチル等が挙げられる。
【００２７】
用語「数平均分子量」は、本明細書で使用するとき、試料中の個々の分子の分子量の通常の相加平均を指す。数平均分子量は、試料中の全分子の総重量を、試料中の分子の総数で除したものとして定義される。実験的に、数平均分子量（Ｍｎ）は、分子量Ｍｉの分子をｎｉ個有する種の分子量画分に分けた試料を、式Ｍｎ＝ΣＭｉｎｉ／Σｎｉによって解析することによって求められる。数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー、末端基分光分析、及び浸透圧測定等の種々の周知方法によって測定できる。明記しない限り、本明細書で与えられるポリマーの分子量は、数平均分子量である。
【００２８】
用語「重量平均分子量」は、本明細書で使用するとき、ΣＭｉ２ｎｉ／ΣＭｉｎｉ（式中、ｎｉは、分子量Ｍｉの分子の数である）に等しいＭｗを指す。種々の実施例において、重量平均分子量は、光散乱法、中性子線小角散乱法、Ｘ線小角散乱法、及び沈降速度を使用して決定できる。
【００２９】
本明細書で使用するとき、用語「放射線」は、媒体又は空間を移動するエネルギー粒子を指す。放射線の例は、可視光線、赤外光、マイクロ波、電波、低周波、超低周波、熱放射（熱）、及び黒体放射である。
【００３０】
用語「ＵＶ光」は、本明細書で使用するとき、紫外線を指し、これは約１０ｎｍ〜約４００ｎｍの波長の電磁放射線である。ＵＶ硬化に関して、波長は、例えば、２８０ｎｍ〜４００ｎｍに位置するＵＶＡ及びＵＶＢ波長帯から選択できる。
【００３１】
本明細書で使用するとき、用語「硬化」は、あらゆる形態の放射線への曝露、加熱、又は固化若しくは粘度の増加をもたらす物理若しくは化学反応を起こさせることを指す。
【００３２】
用語「溶媒」は、本明細書で使用するとき、固体、液体、又は気体を溶解し得る液体を指す。溶媒の非限定的な例は、シリコーン、有機化合物、水、アルコール、イオン性液体、及び超臨界流体である。
【００３３】
用語「シリカ」は、本明細書で使用するとき、化学的に処理されたシリカを含め、任意の粒径、形状、粒径分布、形状分布及び表面官能性の二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を指す。シリカは、ケイ素−酸素−ケイ素（ケイ素原子に結合した酸素原子にケイ素原子が結合）ネットワークを少なくとも部分的に含むポリシロキサンも指し、ここで化合物は、任意の長さ又は分岐度のポリマーであることができる。種々の実施形態において、ネットワークは、Ｓｉ＝Ｏ基、又はＳｉ−ＯＨ基で終端することができる。シリカは、ポリシロキサンを、３０％、５０％、８０％、９０％、９５％、９９％、９９．５％、９９．９％、又は任意の好適な組成物パーセント（重量％）で含むことができる。
【００３４】
用語「室温」は、本明細書で使用するとき、約１５℃〜２８℃の温度を指す。
【００３５】
用語「標準温度及び圧力」（ＳＴＰ）は、本明細書で使用するとき、２０℃及び１０１ｋＰａを指す。
【００３６】
用語「ミル」は、本明細書で使用するとき、２．５４センチメートルであるような１インチの１０００分の１を指す（１ミル＝０．００１インチ）。
剪断薄化性ＵＶ硬化性シリコーン組成物及びその硬化生成物
【００３７】
種々の実施形態において、本発明は、剪断薄化性ＵＶ硬化性シリコーン組成物を提供する。組成物の粘度は、組成物に適用される剪断力が増大するにつれて低下し得る。組成物の剪断薄化特性は、その組成物を種々の方法、例えば、印刷方法に使用するのに適したものにすることができる。
【００３８】
硬化性シリコーン組成物は、実質的に光学的に透明であることができ、可視光線の少なくとも約４０％が組成物を透過し、又は可視光線の少なくとも約４５％、５０、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、９６、９７、９８、９９、９９．９、９９．９９、若しくは約９９．９９９％以上が組成物を透過する。硬化性シリコーン組成物は、任意の好適な屈折率、例えば、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．５５、又は約１．４４〜約１．４８、又は約１．４３以下、又は約１．４４、１．４５、１．４６、１．４７、１．４８、１．４９、１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、又は約１．５５以上を有することができる。
【００３９】
いくつかの実施形態において、本発明は、Ｉ部とＩＩ部の混合物を取得又は提供する工程を含む、硬化性シリコーン組成物の製造方法を提供する。Ｉ部は、所与の剪断速度における粘度が時間の経過に対して実質的に一定であるような、成分（Ａ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）を含む実質的に粘度安定性のプレミックスを含み、例えば、Ｉ部は、実質的に粘度への悪影響なくエージングできる。ＩＩ部は、成分（Ｂ）を含む。いくつかの実施形態において、上記方法は、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を適切に加熱しながら真空下で混合する工程を含む。いくつかの実施形態において、Ｉ部及びＩＩ部は、長時間、例えば、少なくとも約０．５年、１年、２、３、４、５、６、７、８、９、又は約１０年以上にわたって別々に保管することができる。
【００４０】
種々の実施形態において、本発明は、硬化性組成物の硬化生成物を提供する。硬化生成物は、実質的に光学的に透明であることができ、可視光線の少なくとも約４０％が組成物を透過し、又は可視光線の少なくとも約４５％、５０、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、９６、９７、９８、９９、９９．９、９９．９９、若しくは約９９．９９９％以上が組成物を透過する。硬化シリコーン組成物は、任意の好適な屈折率、例えば、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．５５、又は約１．４４〜約１．４８、又は約１．４３以下、又は約１．４４、１．４５、１．４６、１．４７、１．４８、１．４９、１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、又は約１．５５以上を有することができる。
【００４１】
種々の実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物は、ＵＶ硬化性組成物を含む他の硬化性ポリシロキサン組成物よりも短時間でより効率的にＵＶ硬化することができる。いくつかの実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物は、約５秒、１０秒、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５秒、１分、１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、６、７、８、９、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５分、１時間、１．５、２、３、４、５、１０、１５、２０時間、１日、１．５、２、３、４日、又は約５日でＵＶ硬化できる。いくつかの実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物は、３００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ放射で、約０．１秒、０．５秒、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５秒、１分、１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、６、７、８、９、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５分、又は約１時間以上でＵＶ硬化できる。約５０ｍＪ／ｃｍ２〜約３０００ｍＪ／ｃｍ２、又は約３００ｍＪ／ｃｍ２〜約１２００ｍＪ／ｃｍ２、又は約５０ｍＪ／ｃｍ２以下、又は約１００ｍＪ／ｃｍ２、１５０、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、５５０、６００、６５０、７００、７５０、８００、８５０、９００、９５０、１０００、１０５０、１１００、１１５０、１２００、１４００、１６００、１８００、２０００、２２００、２４００、２６００、２８００、又は約３０００ｍＪ／ｃｍ２又はそれ以上のような、任意の好適な照射量を、組成物の硬化に使用できる。
【００４２】
組成物の剪断薄化特性は、任意の好適な剪断薄化性であることができる。組成物の剪断薄化特性は、本明細書で使用するとき、剪断作用が加えられた時の粘度の低下及びその後の静止時の粘度の増大を示す種々の実施形態の特性を指す。例えば、約０ｓ−１の剪断速度の場合、剪断速度の約０．００１ｓ−１以下、又は約０．００１〜約０．０１、約０．０１〜約０．１、約０．１〜約１、約１〜約１０、約１０〜約１００、又は約１００〜約１０００ｓ−１の増大により、組成物の粘度低下が約０．００１％以下、又は約０．０１％、０．１、１、２、３、４、５、６、８、１０、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、１００、１２５、１５０、１７５、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、７５０、１０００、５０００、又は約１０，０００％以上生じ得る。例えば、約０．００１ｓ−１以下、又は約０．００１〜約０．０１、約０．０１〜約０．１、約０．１〜約１、約１〜約１０、約１０〜約１００、又は約１００〜約１０００ｓ−１の剪断速度の場合、剪断速度の約１％以下、又は約２％、３、４、５、６、８、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、１００、１２５、１５０、１７５、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、７５０、１０００、５０００、又は約１０，０００％の増大により、組成物の粘度低下が約０．００１％以下、又は約０．０１％、０．１、１、２、３、４、５、６、８、１０、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、１００、１２５、１５０、１７５、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、７５０、１０００、５０００、又は約１０，０００％以上生じ得る。同様に、速度の約１％以下、又は約２％、３、４、５、６、８、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、１００、１２５、１５０、１７５、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、７５０、１０００、５０００、又は約１０，０００％の低下により、組成物の粘度増大が約０．００１％以下、又は約０．０１％、０．１、１、２、３、４、５、６、８、１０、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、１００、１２５、１５０、１７５、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、７５０、１０００、５０００、又は約１０，０００％以上生じ得る。種々の実施形態において、剪断の適用が低下又は停止すると、粘度は低下又は素早く回復できる。例えば、剪断の適用が低下又は停止された後で、組成物の粘度は、約０．１秒以下、又は約０．０００１秒以下、又は約０．００１秒、０．０１、０．１、１、２、３、４、又は約５秒以上で回復し、より高い粘度と平衡化することができる。いくつかの実施形態において、低応力下で、組成物は、組成物が流動又は剪断薄化開始しない十分な降伏応力を有することができる。
【００４３】
成分（Ａ）、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサン
硬化性シリコーン組成物は、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサンを含むことができる。硬化性組成物の任意の好適な割合、例えば、約２５重量％〜約９０重量％、約５０重量％〜約８５重量％、又は約２５重量％以下、又は約３０重量％、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、又は約９０重量％又はそれ以上をメルカプト官能性ポリオルガノシロキサンとすることができる。
【００４４】
メルカプト官能性ポリオルガノシロキサンは、平均単位式［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚを有することができ、式中、Ｒはそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基である。下付き文字ｘ、ｒ、及びｚは、硬化性組成物が本明細書に記載の特性を有するような、任意の好適な値を有することができる。例えば、ｘは、約０．０２〜約０．０５、又は約０．０２５〜約０．０４、又は約０．０２以下、又は約０．０２２、０．０２４、０．０２６、０．０２８、０．０３０、０．０３２、０．０３４、０．０３６、０．０３８、０．０４０、０．０４２、０．０４４、０．０４６、０．０４８、又は約０．０５以上であることができる。例えば、ｙは、約０〜約０．９、又は約０．４〜約０．８、又は約０、０．０５、０．１、０．１５、０．２、０．２５、０．３、０．３５、０．４、０．４５、０．５、０．５５、０．６、０．６５、０．７、０．７５、０．８、０．８５、又は約０．９以上であることができる。例えば、ｚは、約０．０８〜約０．９８、又は約０．２〜約０．４、又は約０．０８以下、又は約０．１、０．１５、０．２、０．２５、０．３、０．３５、０．４、０．４５、０．５、０．５５、０．６、０．６５、０．７、０．７５、０．８、０．８５、０．９、０．９５、又は約０．９８以上であることができる。いくつかの実施形態において、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサンは、単位式［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］０．０３［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］０．６４［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］０．３３を有する。
【００４５】
変数Ｒは、任意のメルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基であることができる。いくつかの実施形態において、Ｒはそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜Ｃ３０）アルキル基である。Ｒは、それぞれ独立して、メルカプト（Ｃ１〜Ｃ１０）アルキル基であることができる。いくつかの実施形態において、Ｒはメルカプトプロピル、ＨＳ−（ＣＨ２）３−であることができる。
【００４６】
いくつかの実施形態において、オルガノポリシロキサンは、約５００ｇ／モル〜２０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有する。いくつかの実施形態において、オルガノポリシロキサンは、約１，０００ｇ／モル〜１０，０００ｇ／モル、約１，０００ｇ／モル〜約４，０００ｇ／モル、約１，０００ｇ／モル以下、又は約１，５００、２，０００、２，５００、３，０００、３，５００、４，０００、４，５００、５，０００、６，０００、７，０００、８，０００、９，０００、１０，０００、１２，０００、１４，０００、１６，０００、１８，０００、又は約２０，０００ｇ／モル以上の数平均分子量を有する。
【００４７】
平均単位式の記載において、下付き文字は、モル分率である。平均単位式：
（Ｒ１Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ１／２）ｗ（Ｒ１Ｒ４ＳｉＯ２／２）ｘ（Ｒ４ＳｉＯ３／２）ｙ（ＳｉＯ４／２）ｚの場合、
変数Ｒ１、Ｒ４、及びＲ５は、個々のシロキサン式単位間で独立して変動し得る。あるいは、変数Ｒ１、Ｒ４、及びＲ５は、個々のシロキサン式単位間で独立して同一であることができる。例えば、上記の平均単位式は、以下の平均単位式：
（Ｒ１Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ１／２）ｗ（Ｒ１ａＲ４ＳｉＯ２／２）ｘ１（Ｒ１ｂＲ４ＳｉＯ２／２）ｘ２（Ｒ４ＳｉＯ３／２）ｙ（ＳｉＯ４／２）ｚ
を含むことができ、式中、下付き文字ｘ１＋ｘ２＝ｘであり、Ｒ１ａはＲ１ｂと等しくない。あるいは、Ｒ１ａはＲ１ｂと等しくてもよい。
成分（Ｂ）、少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む化合物
【００４８】
硬化性組成物は、少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む化合物を含むことができる。いくつかの実施形態において、化合物は、（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンである。いくつかの実施形態において、化合物は、（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子である。硬化性組成物の任意の好適な重量％、例えば、約５重量％〜約７５重量％、約１０重量％〜約６０重量％、約５重量％以下、約１０、１２、１４、１６、１８、２０、２２、２４、２６、２８、３０、３２、３４、３６、３８、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、又は約７５重量％以上が、成分（Ｂ）であることができる。
【００４９】
メルカプト官能性ポリシロキサン中のメルカプト基の、成分（Ｂ）中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合の数に対する比は、硬化性組成物又はその硬化生成物が本明細書に記載の特性を有するような任意の好適な比、例えば、約０．２５〜約４、０．２５以下、０．３、０．４、０．６、０．８、１、１．５、２、２．５、３、３．５、又は約４以上であることができる。
成分（Ｂ１）、少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン
【００５０】
少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンは、硬化性組成物又はその硬化生成物が本明細書に記載の特性を有するような、任意の好適なポリオルガノシロキサンであることができる。
【００５１】
ポリオルガノシロキサン化合物の構造は、直鎖、分枝鎖、環状、又は樹脂性であることができる。シクロシロキサンは、３〜１２個のケイ素原子、あるいは３〜１０個のケイ素原子、あるいは３〜５個のケイ素原子を有し得る。非環式ポリシロキサンにおいて、脂肪族不飽和炭素−炭素結合は、末端、ペンダント、又は末端とペンダントとの両方に位置し得る。脂肪族不飽和炭素−炭素結合含有基の例としては、ビニル、アリル、ブテニル、及びヘキセニル等のアルケニル基；エチニル、プロピニル、及びブチニル等のアルキニル基；又はアクリロイルオキシアルキル若しくはメタクリロイルオキシプロピル等のアクリレート官能基が挙げられる。
【００５２】
いくつかの実施形態において、成分（Ｂ１）は、式
（ａ）Ｒｙ３ＳｉＯ（Ｒｙ２ＳｉＯ）α（ＲｙＲ２ＳｉＯ）βＳｉＲｙ３、
（ｂ）Ｒｙ２Ｒ４ＳｉＯ（Ｒｙ２ＳｉＯ）χ（ＲｙＲ４ＳｉＯ）δＳｉＲｙ２Ｒ４、
のオルガノポリシロキサン、又はこれらの組み合わせである。
【００５３】
式（ａ）において、αは０〜２０００の平均値を有し、βは１〜２０００の平均値を有する。各Ｒｙは、独立して、ハロゲン、水素、又は有機基、例えば、アクリレート；アルキル；アルコキシ；ハロゲン化炭化水素；アルケニル；アルキニル；アリール；ヘテロアリール；及びシアノアルキルである。各Ｒ２は、独立して、本明細書に記載される不飽和一価脂肪族炭素−炭素結合含有基である。式（ｂ）において、χは０〜２０００の平均値を有し、δは１〜２０００の平均値を有する。各Ｒｙは独立して、上記に定義される通りであり、Ｒ４は独立して、上記Ｒ２で定義されるものと同じである。
【００５４】
１分子当たり平均して少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有するオルガノポリシロキサンの例としては、平均単位式
（Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２）ａ（Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ２／２）ｂ（Ｒ６ＳｉＯ３／２）ｃ（ＳｉＯ４／２）ｄ（Ｉ）
を有する化合物が挙げられ、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６のそれぞれは、本明細書で定義されるＲｙから独立して選択される有機基であり、０≦ａ＜０．９５、０≦ｂ＜１、０≦ｃ＜１、０≦ｄ＜０．９５、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１である。
【００５５】
いくつかの実施例において、成分（Ｂ１）は、ジメチルビニル末端ジメチルシロキサン、ジメチルビニル化及びトリメチル化シリカ、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、ジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン−ポリメチルビニルシロキサンコポリマー、ジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン−ポリメチルビニルシロキサンコポリマー、又はテトラメチルジビニルジシロキサンを含むことができる。いくつかの実施例において、上記リストの構造のビニル基は、アリル、ヘキセニル、アクリル、メタクリル又は他のヒドロシリル化反応性不飽和基で置換されてよい。いくつかの実施形態において、成分（Ｂ１）は、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＨ３）２ＳｉＯ１／２単位、（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２単位、及びＳｉＯ４／２単位を含むオルガノポリシロキサン樹脂を含むことができる。いくつかの実施例において、成分（Ｂ１）は、オリゴマーのジメチルシロキサン（Ｄ）−メチルビニルシロキサン（ＤＶｉ）ジオールを含むことができる。いくつかの実施形態において、少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンは、ビニル（Ｃ１〜Ｃ５）アルキルＳｉＯ１／２単位及びビニルＳｉＯ３／２単位のうちの少なくとも１つを含む。少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンは、［（ＣＨ２＝ＣＨ）Ｍｅ２ＳｉＯ１／２］０．１〜１［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＯ３／２］０〜０．９であることができる。少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンは、単位式［（ＣＨ２＝ＣＨ）Ｍｅ２ＳｉＯ１／２］０．３４［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＯ３／２］０．６６及び構造［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＭｅＳｉＯ１／２］４から選択できる。
成分（Ｂ２）、少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子
【００５６】
少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子は、硬化性組成物又はその硬化生成物が本明細書に記載の特性を有するような、任意の好適なポリオルガノシロキサンであることができる。脂肪族不飽和炭素−炭素結合は、例えば、アルケニル基又はアルキニル基であることができる。
【００５７】
不飽和化合物は、直鎖状、分枝状、又は環状構造を有することができる。更に、非環式有機化合物において、不飽和炭素−炭素結合は、末端位置、ペンダント位置、又は末端とペンダントとの両方に位置し得る。例としては、１，４−ブタジエン、１，６−ヘキサジエン、１，８−オクタジエン、及びこれらの内部不飽和変異体が挙げられる。
【００５８】
有機化合物は、標準温度及び圧力で液体状態であることができる。また、有機化合物は、典型的には、シリコーン組成物に可溶性である。有機化合物の標準沸点は、分子量、構造、並びに化合物中の官能基の数及び性質に応じて広範囲にわたって変動し得る。いくつかの実施形態において、有機化合物は、５００未満、４００、又は３００未満の分子量を有し得る。
【００５９】
いくつかの実施形態において、少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子は、（Ｃ５〜Ｃ２０）アルキル−ジエン又はトリエンである。少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子は、（Ｃ５〜Ｃ２０）アルキル−ジエン又はトリエンであり得る。
成分（Ｃ）、充填剤
【００６０】
硬化性組成物は、充填剤を含み得る。いくつかの実施形態において、硬化性組成物は充填剤を含む。他の実施形態において、充填剤は存在しない。充填剤を含む実施形態において、充填剤は、硬化性組成物の任意の好適な重量％、例えば、約０．０１重量％〜約５０重量％、１重量％〜約４０重量％、又は約０．０１重量％以下、０．１重量％、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１８、２０、２５、３０、３５、４０、４５、又は約５０重量％以上で存在できる。
【００６１】
充填剤は、硬化性組成物又はその生成物が本明細書に記載の特性を有するような、任意の好適な充填剤であることができる。充填剤は、シリカ粉末及びセラミックガラス粉末のうちの少なくとも１つであることができる。シリカ粉末は、ヒュームドシリカ、沈殿シリカ、及び石英のうちの少なくとも１つであることができる。セラミックガラス粉末は、ソーダ石灰ガラス、低鉄ガラス、及びホウケイ酸ガラスのうちの少なくとも１つであることができる。いくつかの実施形態において、充填剤（Ｃ）はヒュームドシリカである。
【００６２】
充填剤は、任意の好適な粒径、例えば、平均最長寸法のような、粒子の最長寸法を有することができる。例えば、充填剤は、約５ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１０〜約３０ｎｍ、又は約５ｎｍ以下、６ｎｍ、８、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３２、３４、３６、３８、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、又は約１００ｎｍ以上の一次粒径を有することができる。本明細書で使用するとき、「一次」粒径は、非集塊状態の実際の粒子を指し、この粒子は任意選択的に集塊して、より大きな「二次」粒子を形成できる。
【００６３】
充填剤は、成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｄ）の混合物の屈折率と実質的に一致する屈折率を有することができる。例えば、充填剤は、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．５５、又は約１．４４〜約１．４８、又は約１．４３以下、又は約１．４４、１．４５、１．４６、１．４７、１．４８、１．４９、１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、又は約１．５５以上の屈折率を有することができる。充填剤は、ＵＶ光の少なくとも約４０％が充填剤を透過する、又は約２８０ｎｍ〜約４００ｎｍ、又は約２８０ｎｍ〜約３１５ｎｍ、又は約３１５ｎｍ〜約４００ｎｍの波長の光の少なくとも約４５％、５０、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、９６、９７、９８、９９、９９．９、９９．９９、又は約９９．９９９％以上が充填剤を透過するような、実質的にＵＶ透明性であることができる。
成分（Ｄ）、光開始剤
【００６４】
種々の実施形態において、硬化性シリコーン組成物は、光開始剤、例えば、ＵＶ光開始剤を含む。光開始剤は、硬化性組成物の任意の好適な重量％、例えば、組成物の約０．１重量％〜約１５重量％、約０．５重量％〜約５重量％、又は約０．１重量％以下、約１重量％、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、又は約１５重量％以上で存在し得る。
【００６５】
光開始剤は、硬化性組成物又はその硬化生成物が本明細書に記載の特性を有するような、任意の好適な光開始剤であることができる。例えば、光開始剤は、ベンジル、ベンゾイン化合物（例えば、ベンゾインエーテル）、ベンジルケタール、α−ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、α−アミノアルキルフェノン、アシル−ホスフィンオキシド、ベンゾフェノン、ベンゾアミン、チオキサントン、チオアミン、及びチタノセンのうちの少なくとも１つであることができる。光開始剤は、カチオン性光開始剤であることができる。いくつかの実施形態において、光開始剤は、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（ＤＭＰＡ）、過酸化ベンゾイル、又は２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン（ＨＭＰＰ）であることができる。いくつかの実施形態において、光開始剤は、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、４，４’−ジメトキシベンゾイン、４，４’−ジメチルベンジル、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−４’−モルホリノブチロフェノン、４’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’，６’−ジメチルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド／２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４’−エトキシアセトフェノン、３’−ヒドロキシアセトフェノン、４’−ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４’−フェノキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物、４−ベンゾイルビフェニル、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス［２−（１−プロペニル）フェノキシ］ベンゾフェノン、４−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、４−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、３，４−ジメチルベンゾフェノン、３−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、ベンゾイルギ酸メチル、ミヒラーケトン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムペルフルオロ−１−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフラート、Ｂｏｃ−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフラート、（４−ブロモフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシナフチル）−ジフェニルスルホニウムトリフラート、（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、ヘキサフルオロリン酸ジフェニルヨードニウム、硝酸ジフェニルヨードニウム、ペルフルオロ−１−ブタンスルホン酸ジフェニルヨードニウム、ｐ−トルエンスルホン酸ジフェニルヨードニウム、ジフェニルヨードニウムトリフラート、（４−フルオロフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミドトリフラート、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドペルフルオロ−１−ブタンスルホネート、（４−ヨードフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、（４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、（４−メチルフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、（４−メチルチオフェニル）メチルフェニルスルホニウムトリフラート、１−ナフチルジフェニルスルホニウムトリフラート、（４−フェノキシフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、（４−フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフラート、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩、トリフェニルスルホニウムペルフルオロ−１−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフラート、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムペルフルオロ−１−ブタンスルホネート、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムトリフラート、アントラキノン−２−スルホン酸ナトリウム塩一水和物、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、カンファーキノン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、９，１０−フェナントレンキノン、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、１−クロロ−４−プロポキシ−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、２−クロロチオキサンテン−９−オン、２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、１０−メチルフェノチアジン、又はチオキサンテン−９−オンであることができる。
硬化生成物又は硬化性組成物を含むデバイス
【００６６】
種々の実施形態は、硬化性組成物の実施形態及び硬化性組成物の硬化生成物の実施形態のうちの少なくとも１つを含むデバイスを提供する。デバイスは、ディスプレイ、液晶（ＬＣ）−積層構造、光学デバイス、光学コンポーネント、光学アセンブリ、電子コンポーネント、電子アセンブリ、又は光学電子コンポーネントのような、任意の好適なデバイスであることができる。
【００６７】
いくつかの実施形態において、本発明は、硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を含むディスプレイを提供する。ディスプレイは、任意の好適なディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）であることができる。
【００６８】
いくつかの実施形態において、本発明は、硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を含むＬＣ積層構造体を提供する。ＬＣ積層構造体は、ＬＣを含む任意の好適な積層構造体であることができる。例えば、ＬＣ積層構造体は、タッチスクリーン、ディスプレイ、光変調薄膜、及びスマートウィンドウのうちの少なくとも１つを表すデバイスアセンブリであることができる。種々の実施形態において、硬化性組成物の硬化生成物は、積層体の層間に挟まれた１つのＬＣセルを、積層体の層間に挟まれた１つ以上の他のＬＣセルから実質的に隔離する、積層体層間の隆起形成体に含まれる（例えば、他のスペーサービーズ又は繊維を、スメクチック又はネマチックのような液晶で完全又は部分的に置換して）ことができる。積層体層間の隆起形成体は、ＬＣセルの厚さを画定することができ、種々の実施形態において、硬化形成体の寸法（例えば、高さ）の制御性が高いことから、この硬化性組成物を使用して、こうした構造体を製造する他の技法よりも高精度又は高効率でＬＣ積層構造体を製造することが可能となる。積層体層間の隆起形成体は、スペーサービーズ又は繊維を液晶材料に加えるか又は表面上にスプレーする従来のＬＣのスペーシング技術に置き換わることができる。隆起形成体の高さは、任意の好適な高さ、例えば、約０．５μｍ〜約３０μｍ、又は約０．５μｍ以下、１μｍ、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２２、２４、２６、２８、又は約３０μｍ以上であることができる。いくつかの実施形態において、充填剤を含む組成物を使用して、約２〜３０μｍの高さを有する隆起形成体を作製することができる。いくつかの実施形態において、充填剤を含まない組成物を使用して、約０．５μｍ〜２０μｍの高さを有する隆起形成体を作製することができる。透明な導電層、例えば、インジウムスズ酸化物を、積層材料上に含めて、ＬＣセルに電流又は電界をかけるために使用する電極を作製することができる。
【００６９】
いくつかの実施形態において、本発明は、硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を含むデバイスを提供する。いくつかの実施形態において、硬化生成物は加工助剤として使用され、例えば、硬化生成物は、製造されたデバイスが製造プロセス中に互いに完全に接触するのを防止する隆起形成体又は絶縁体を形成できる。いくつかの実施形態において、硬化生成物は機能的であり、光学的機能又は非光学的機能を有することができるデバイスの一態様を形成する。硬化性組成物の硬化生成物は、３Ｄ印刷された形成体又は３Ｄ印刷されたデバイスであることができる。硬化生成物は、添加剤製造において、例えば、巨視的自立形態又はその一部として、製造対象となり得る。デバイスは、液晶デバイス、例えば、光変調器、光拡散板（例えば、プライバシー機能を提供できる不透明性を付与するため等の、光の方向変換のため）、タッチスクリーン（例えば、透明な電気デバイス又はスイッチ）であることができる。
【００７０】
いくつかの実施形態において、硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を含むデバイスは、光学デバイスである。光学デバイスは、任意の光学デバイスであることができる。例えば、硬化生成物は、レンズ若しくは導波管を形成するか又はレンズ若しくは導波管に含まれることができる。硬化生成物は、窓、スマートウィンドウ、又は拡散板の部分であることができる。いくつかの実施形態において、硬化生成物は、他のコンポーネントを封入できる。例えば、硬化生成物は、半導体材料を封入して、ＬＥＤ若しくはＯＬＥＤ又はその他の発光若しくは吸光半導体コンポーネントを作製することができる。硬化生成物は、光がその中を、光の改質又は操作あり又はなしで通過する光学デバイスの任意の部分を形成できる。硬化生成物は、集積回路等の光集積回路の部分、例えば、減衰器、スイッチ、スプリッタ、ルータ、フィルタ、又は格子の部分であることができる。
印刷又はスプレーの方法
【００７１】
種々の実施形態において、本発明は、印刷又はスプレーの方法を提供する。上記の方法は、一実施形態の硬化性シリコーン組成物を基材上に印刷又はスプレーする工程を含むことができる。この基材は、任意の好適な基材であり得る。いくつかの実施形態において、基材は、透明及び導電性のうちの少なくとも１つ（例えば、完全導電性、又は導電性部分を含む）であることができる。上記方法は、組成物を硬化して、硬化した印刷又はスプレーされた形成体をその上に有する基材を提供する工程も含み得る。硬化組成物は、三次元で実質的に光学的に透明な、印刷された形成体を含むことができる。印刷された形成体は、２つの隣接する基材間に所望の間隔を維持するために使用できる。
【００７２】
スプレー技法は、ジェットスプレー等の任意の好適なスプレー技法であることができる。印刷技法は、任意の好適な印刷技法であることができ、コーティング技法を含むことができる。例えば、組成物を基材に印刷する工程は、オフセット印刷、スクリーン印刷（例えば、ロールツーロール）、フレキソ印刷、インクジェット印刷、レーザー印刷、ドットマトリックス印刷、デイジーホイール印刷、パッド印刷、凸版印刷、輪転グラビア印刷、グラビア印刷、ジェット印刷、超音波スプレー印刷、圧電印刷、及び三次元（３Ｄ）印刷のうちの少なくとも１つを含むことができる（例えば、基材は、任意選択的に硬化可能な印刷された組成物である、又は基材はその上に３Ｄ印刷された物体が載った表面である）。いくつかの実施形態において、組成物の速いＵＶ硬化時間により、印刷された材料が巻取又はその他の取扱いに安全となり得るような、形成体の急速印刷及び固化が可能になり；例えば、いくつかの実施形態において、上記の方法を使用して、ロールツーロール印刷を、約１ｍ／分以下、又は約２ｍ／分、３、４、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、９０、１２０、１５０、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、又は約５００ｍ／分で実施することができる。いくつかの実施形態において、組成物を基材に印刷する工程は、スクリーン印刷及びフレキソ印刷のうちの少なくとも１つを含むことができる。種々の実施形態において、組成物を、所望の印刷技法に適合するレオロジー特性を提供するように調整することができる。例えば、降伏応力は、必要な時間まで流れを防止するために使用することができ、剪断薄化は、表面への材料の送達を促進することができ、低ヒステリシスは、粘度の急速な回復を可能にして、印刷形成体が硬化前に有意にスランプするのを防止することができる。
【００７３】
いくつかの実施形態において、基材を処理して、基材への組成物の接着を改善することができる。いくつかの実施例において、基材の表面を、組成物の適用前に改質することができ、例えば、コロナ又はプラズマでの処理により、組成物と基材との間の接着を改善することができる。いくつかの実施形態において、基材の表面を、基材及び組成物に有効に接着する任意の好適な剤のような、カップリング剤（例えば、接着促進剤）で処理して、カップリング剤のカップリングによって、組成物と基材との間の結合を、カップリング剤不在時に組成物と基材との間で起こると考えられる結合と比較して、増強することができる。いくつかの実施形態において、組成物はカップリング剤を含むことができる。
【００７４】
いくつかの実施形態において、組成物は、３Ｄ印刷の材料又は添加剤として特異的に有用となり得る。組成物の実施形態が３Ｄ印刷され、硬化された場合、硬化生成物は、種々の用途に好適な耐熱性、強度、及び光学的透明性を有する３Ｄ印刷形成体を形成できる。
【実施例】
【００７５】
本発明の種々の実施形態は、例示の目的で提供される以下の実施例を参照することにより、より良く理解され得る。本発明は、ここに記載する実施例に制限されない。
実施例１．成分（Ａ）、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ０．５］０．０３［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］０．６４［（Ｃ３Ｈ６ＳＨ）（ＣＨ３）ＳｉＯ］０．３３の調製
【００７６】
脱イオン水（３５４ｇ）を、機械的撹拌機、熱電対、及び添加漏斗を取り付けた１Ｌの三つ口フラスコに加えた。フラスコを、氷／水浴で冷却した。シランとトルエンの予備混合物を、１４０ｇのＭｅ２ＳｉＣｌ２、１００．９ｇのＭｅ（ＨＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）Ｓｉ（ＯＭｅ）２、５．５３ｇのＭｅ３ＳｉＣｌ、及び１６０ｇのトルエンを瓶に加えて、その瓶をよく振ることによって生成した。予備混合物を、３００ｒｐｍで撹拌し、温度を４０℃未満に保持しながら、上添加漏斗を通して１５分かけて上記反応フラスコに添加した。撹拌を、８９℃（還流）で３０分間実施した。混合物を分液漏斗に移し、２相が分離するまで放置した。下層を排液した。２５℃において、上層を３００ｇのＤＩ水で３回洗い、ｐＨは４．５に達した。溶液を反応器に戻し、０．９ｇのＤｏｗｅｘ２０３０酸触媒を添加し、溶液を１時間還流加熱し、その間に水をＤｅａｎ  Ｓｔａｒｋトラップで除去した。透明な溶液を、真空下、１μｍのガラス繊維濾紙で濾過した。ロータリーエバポレーターを８０℃で使用し、続いて０．１ｋＰａ（１トル）下、１２０℃で１時間ストリッピングすることによって、大部分の溶媒を除去した。１４２ｇの透明液体が得られた。
実施例２．１液型ＵＶ硬化性シリコーン組成物の調製
【００７７】
ＵＶ硬化性シリコーン組成物の実施例ＣＥｘ２−１〜ＣＥｘ２−８は、表１に記載の成分を、歯科用コップ内で、デンタルミキサーを用いて３５００ｒｐｍで１分間混合することによって調製した。試料ＣＥｘ２−１〜ＣＥｘ２−５は光学的に透明で均質な液体であり、Ｅｘ２−６は光学的に透明で均質なペーストであり、ＣＥｘ２−７は白色で均質なペーストであり、ＣＥｘ２−８は黒色で均質なペーストであった。ＵＶ放射試験を、ＳＰＤＩ  ＵＶ  Ｐｏｗｅｒ−Ｓｈｏｔシステムを使用して実施した。各試料をガラススライドに５滴のせ、約５００ｍＪ／ｃｍ２の線量のＵＶ放射に曝露した。放射後、試料をプラスチックピペットで突いて、硬化したかどうかを確認した。
【００７８】
表１．１液型ＵＶ硬化性シリコーン組成物の調製ＭｖｉＴｖｉは、［（ＣＨ２＝ＣＨ）Ｍｅ２ＳｉＯ１／２］０．３４［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＯ３／２］０．６６樹脂を意味し、ＨＭＰＰは２−ヒドロキシ（hidroxy）−２−メチルプロピオフェノンを意味し、Ｄ４（Ｖｉ）は［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＭｅＳｉＯ１／２］４を意味し、Ｆ  ＳｉＯ２は平均一次粒径が１７ｎｍのヒュームドシリカを意味し、ＺｎＯは平均一次粒径が１００ｎｍの酸化亜鉛充填剤を意味し、Ｎａｎｏ  Ｃは一次粒径が２０〜４０ｎｍの活性炭を意味する。
【表１】
0006675980.tif 000002
実施例３．剪断薄化性かつＵＶ硬化性シリコーン組成物のＩ部の調製
【００７９】
成分Ｃ、ヒュームドシリカ（凝集サイズ０．２〜０．３μｍ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を、ＲＯＳＳミキサー内の実施例１で調製した成分Ａに４回に分けて添加し、毎添加後に、５０ｒｐｍで１０分間混合することによって混合した。得られた粗大粉末混合物を、６０ｒｐｍ、真空（０．０９ＭＰａ（２８ｉｎｃｈＨｇ））下、１２０℃で２．５時間再度混合し、よく掻き取って、６０ｒｐｍ、真空（２０．０９ＭＰａ（８ｉｎｃｈＨｇ））下、２５℃で０．５時間で再度混合して、均質で粘稠な流体又はペーストを得た。次いで、成分Ｄを添加し、２５℃、緩やかな窒素気流下で０．５時間混合して、スクリーン又はフレキソ印刷に適した剪断薄化性かつＵＶ硬化性シロキサンインキのＩ部の試料を得た。結果を表２に示す。
【００８０】
【表２】
0006675980.tif 000003
実施例４．Ｉ部及びＩＩ部からの剪断薄化性かつＵＶ硬化性シリコーン組成物の調製
【００８１】
Ｉ部及びＩＩ部を、表３に従って容器に秤り入れ、混合した。
【００８２】
【表３】
0006675980.tif 000004
表３．Ｉ部及びＩＩ部からの剪断薄化性かつＵＶ硬化性シリコーン組成物の調製
【００８３】
硬化性組成物４−１及び４−２の粘度対剪断速度を、それぞれ図１ａ及び１ｂに示す。約１２ｇのＥｘ４−１を、アルミニウム製使い捨てサンプルチャンバー（Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ製（ＨＴ−２ＤＢ））に注ぎ、このサンプルチャンバーを、２５℃に制御されたＨＴ−６０  ＡＤＣＰ  Ｔｈｅｒｍｏ  Ｃｏｎｔａｉｎｅｒに挿入した。Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄスピンドル３４を取り付け、試験前に、サンプルチャンバーを保温容器内に１０分間静置して平衡化した。定常剪断粘度を、０．０１、０．０２、０．０４、０．０８、０．１６、０．３２、０．６４、１．２５、２．５及び５ｒｐｍの回転速度で逐次的に試験した。各速度において、スピンドルを約３０秒間回転して、定常粘度の読取を達成した。図１ａに示すように、Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ回転速度から剪断速度への換算率（回転速度の０．２８倍）を使用して、粘度データを剪断速度に対してプロットした。Ｅｘ４−２の定常剪断粘度を、Ａｎｔｏｎ  Ｐａａｒ  ＭＣＲ  ３０２レオメータに制御ソフトウェアのＲｈｅｏｐｌｕｓ  Ｖｅｒ．３．６１を使用して試験した。トレーサブルなＮＩＳＴ  ＳＲＭ２４９０標準を使用して、キャリブレーションを点検した。試験は、０．５ｍｍの間隔の２５ｍｍ平行板を使用し、２５Ｃで、１０−３〜１０１ｓｅｃ−１の剪断速度範囲で実施した。剪断速度掃引を実施する前に、試料をレオメータ上で少なくとも２分間緩和させた。回転慣性から生じる低いトルク感受性及び流量不安定性により、上記の剪断速度よりも上及び下ではそれぞれ信頼できるデータが得られなかった。剪断速度掃引増大の直後に、剪断速度掃引低下が続いた。図１ｂに示すように、剪断速度曲線の増大は、材料の剪断薄化性又はチキソトロピーを強調する。更に、剪断速度曲線の低下は、粘度がきわめて短時間に回復することを示す。これは、印刷された形成体中の材料の粘度が急速に増大し、表面上で広がる範囲が小さくなり、印刷された形成体がＵＶ硬化前にその形状をほぼ維持することができることを示す。これは印刷プロセスにも有利であり、例えば、ペーストを印刷スクリーンに移した後、粘度が回復して、スクリーンを通って液だれするのを防止できる−つまり、材料は、スキージが剪断力を加えて材料を基材に転写するまでスクリーンを通過しない。２本の曲線間の面積は、小さいヒステリシス面積を画定する。
実施例５．卓上フレキソ印刷機を使用したＵＶ硬化性シリコーン組成物の印刷
【００８４】
試料ＣＥｘ２−１及びＥｘ２−６を、フレキソインキとして、ＩＧＴ−Ｆ１印刷適性試験機で試験した。試験機は、インキングセクションと印刷セクションとからなった。インキングセクションは、彫刻が施されたアニロックスローラー及びドクターブレードを有し、印刷セクションは、フレキソ印刷プレートが取り付けられた印刷胴及び圧胴を有した。１個のインジウムスズ酸化物／ポリエチレンテレフタレート（ＩＴＯ／ＰＥＴ）基材をキャリアに取り付け、印刷胴と圧胴との間の基材ガイドに置いた。Ｆ１を起動すると、アニロックスディスク及び基材が印刷版と接触し、ドクターブレードがアニロックスと接触した。数滴のインキ試料がドクターブレードとアニロックスとの間のニップに適用され、余分なインキがドクターブレードで拭き取られ、制御された量のインキがアニロックスディスクから印刷胴上の印刷版へ及び印刷版から基材へ転写された。ドクターブレード、アニロックスディスク及び圧胴は、その後、自動的に持ち上げられた。次いで、印刷試料に直ちにＵＶ光を放射した。結果を表４に示す。
【００８５】
【表２】
0006675980.tif 000005
実施例６．ロールツーロールフレキソ印刷を使用したＵＶ硬化性シリコーン組成物の印刷
【００８６】
試料Ｅｘ４−１を、フレキソインキとして、Ｔｉｍｓｏｎｓ  Ｌｔｄ．Ｔ−Ｆｌｅｘ  ６００プラットフォーム（ウェブ幅６００ｍｍ）で試験した。使用した基材は、２軸配向ポリプロピレンフィルムであった。印刷帯を約１００ｍｍに縮小したセグメント化したアニロックスローラーを使用した。アニロックス容量は、濃インキが転写される形成体に適した中央値となるように選択した。この容量は、上記の試験では１８ｃｃ／ｍ２であった。試験は毎分３０メートルまでの様々な速度で円滑に実施され、完全硬化及び卓越したパターン転写が得られた。
実施例７．ロールツーロールスクリーン印刷を使用したＵＶ硬化性シリコーン組成物の印刷
【００８７】
試料ＥＸ４−２に、幅５１ｃｍ（２０インチ）のフラットベッドスクリーン印刷プレス（Ｋｉｎｚｅｌ製）を使用して、ロールツーロールスクリーン印刷試験を実施した。幅４１ｃｍ（１６”）、厚さ０．１ｍｍ（５ミル）、抵抗１００オーム／平方インチのＳｏｌｕｔｉａ  ＩＴＯ／ＰＥＴを使用した。ライン速度は１５ｆｐｍであり、ＵＶ光出力設定は５０％であった。スクリーンは、２．５ｃｍ当たり（１インチ当たり）３２５本のステンレス鋼製メッシュにフォトポリマーを使用して作製され、セルは、直径１００μｍで、５００、７００、１０００、及び２０００μｍの間隔のマトリックスドットであった。印刷試料（Ｅｘ７−１）は、白色干渉計測定に従い、直径１３５μｍで高さ１７μｍの剛直で透明なドットを有するＩＴＯ／ＰＥＴフィルムであった。
【００８８】
５００、７００、１０００、及び２０００μｍの間隔を有する試料の光学顕微鏡写真をそれぞれ図２ａ〜ｄに示す。
【００８９】
図３は、間隔５００μｍの試料を使用して作成された、硬化した印刷形成体の白色干渉計画像を例示する。
実施例８．厚さが制御された薄膜を作製するスペーサーとしての印刷ＵＶ硬化性シリコーン組成物の使用
【００９０】
試料Ｅｘ７−１を使用して、制御された厚さの薄膜をＩＴＯ／ＰＥＴ基材間に作製できる。実施例（Ｅｘ８−１）として、厚さ１７μｍのスメクチックＡ液晶の薄膜を、１つのＥｘ７−１と１つのＳｏｌｕｔｉａ  ＩＴＯ（厚さ０．１ｍｍ（５ミル））との間に、Ｃｈｅｍｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  ＨＬ−１００ホットロールラミネータを用いて作製した。
【００９１】
この方法で製造したデバイスは、電気光学デバイスとして作動し、透明状態と散乱状態との間で切り替わることが示された。印刷されたスペーサーの存在は、電気光学的スイッチング性能、又は透明及び散乱状態への光学的品質を妨害しなかった。ＢＹＫ  Ｇａｒｄｎｅｒ  Ｈａｚｅｇａｒｄ  Ｐｌｕｓ装置を使用して測定した透過及びヘイズデータによると、デバイスの透明状態で、光透過率８２．０％、ヘイズ３．７％であり；デバイスの散乱状態で、光透過率７８．０％、ヘイズ９８．０％であった。
【００９２】
利用されてきた用語及び表現は、説明の用語として使用され、制限するものではなく、そのような用語及び表現の使用において、示され、説明される特性及びその一部のいずれの等価物を除外する意図はなく、むしろ様々な修正が本発明の実施形態の範囲内で可能であることを認識されたい。よって、本発明は特定の実施形態及び任意の特性によって具体的に開示されてきたが、本明細書に開示される内容の修正及び変形は当業者によって行われ得、そのような修正及び変形は本発明の実施形態の範囲内であると考えられることを理解するべきである。
追加の実施形態
【００９３】
以下に例示的な実施形態を提供するが、その付番は、重要度を表記するものとして解釈されるものではない。
【００９４】
実施形態１は、
（Ａ）単位式
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚ
を有し、式中、ｘは約０．０１〜約０．１であり、ｙは約０〜約０．９４であり、ｚは約０．０５〜約０．９９であり、Ｒはそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基である、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）
（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び
（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子
のうちの少なくとも１つ；
（Ｃ）充填剤；並びに
（Ｄ）光開始剤；
を含む組成物であって、上記組成物が剪断薄化性かつＵＶ硬化性である、組成物を提供する。
【００９５】
実施形態２は、ｘは約０．０２〜約０．０５であり、ｙは約０〜約０．９であり、ｚは約０．０８〜約０．９８である、実施形態１に記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【００９６】
実施形態３は、ｘは約０．０２５〜約０．０４であり、ｙは約０．４〜約０．８であり、ｚは約０．２〜約０．４である、実施形態１〜２のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【００９７】
実施形態４は、上記メルカプト官能性ポリオルガノシロキサンが単位式［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］０．０３［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］０．６４［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］０．３３を有する、実施形態１〜３のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【００９８】
実施形態５は、Ｒがそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜Ｃ３０）アルキル基である、実施形態１〜４のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【００９９】
実施形態６は、Ｒがそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜Ｃ１０）アルキル基である、実施形態１〜５のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１００】
実施形態７は、Ｒがそれぞれ独立してＨＳ−（ＣＨ２）３−である、実施形態１〜６のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１０１】
実施形態８は、上記メルカプト官能性ポリシロキサン中のメルカプト基の、成分（Ｂ）中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合の数に対する比率が約０．２５〜約４である、実施形態１〜７のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１０２】
実施形態９は、上記シリコーン組成物のメルカプト官能性ポリシロキサンの重量％が約２５重量％〜約９０重量％である、実施形態１〜８のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１０３】
実施形態１０は、上記シリコーン組成物のメルカプト官能性ポリシロキサンの重量％が約５０重量％〜約８５重量％である、実施形態１〜９のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１０４】
実施形態１１は、上記少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンが、ビニル（Ｃ１〜Ｃ５）アルキルＳｉＯ１／２単位及びビニルＳｉＯ３／２単位のうちの少なくとも１つを含む、実施形態１〜１０のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１０５】
実施形態１２は、上記少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンが［（ＣＨ２＝ＣＨ）Ｍｅ２ＳｉＯ１／２］０．１〜１［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＯ３／２］０〜０．９である、実施形態１〜１１のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１０６】
実施形態１３は、上記少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサンが、単位式［（ＣＨ２＝ＣＨ）Ｍｅ２ＳｉＯ１／２］０．３４［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＯ３／２］０．６６及び構造［（ＣＨ２＝ＣＨ）ＭｅＳｉＯ１／２］４から選択される、実施形態１〜１２のいずれか１つに記載の組成物を提供する。
【０１０７】
実施形態１４は、上記少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子が（Ｃ５〜Ｃ２０）アルキル−ジエン又は−トリエンである、実施形態１〜１３のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１０８】
実施形態１５は、上記少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子が（Ｃ５〜Ｃ２０）アルキル−ジエン又は−トリエンである、実施形態１〜１４のいずれか１つに記載の組成物を提供する。
【０１０９】
実施形態１６は、上記シリコーン組成物の成分（Ｂ）の重量％が約５重量％〜約７５重量％である、実施形態１〜１５のいずれか１つに記載の組成物を提供する。
【０１１０】
実施形態１７は、上記シリコーン組成物の成分（Ｂ）の重量％が約１０重量％〜約６０重量％である、実施形態１〜１６のいずれか１つに記載の組成物を提供する。
【０１１１】
実施形態１８は、上記充填剤がシリカ粉末及びセラミックガラス粉末のうちの少なくとも１つである、実施形態１〜１７のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１２】
実施形態１９は、上記シリカ粉末がヒュームドシリカ、沈殿シリカ、及び石英のうちの少なくとも１つである、実施形態１８に記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１３】
実施形態２０は、上記セラミックガラス粉末が、ソーダ石灰ガラス、低鉄ガラス、及びホウケイ酸ガラスのうちの少なくとも１つである、実施形態１８〜１９のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１４】
実施形態２１は、上記充填剤（Ｃ）がヒュームドシリカである、実施形態１〜２０のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１５】
実施形態２２は、上記充填剤が約５ｎｍ〜約１００ｎｍの一次粒径を有する、実施形態１〜２１のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１６】
実施形態２３は、上記充填剤が約１０ｎｍ〜約３０ｎｍの一次粒径を有する、実施形態１〜２２のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１７】
実施形態２４は、上記充填剤が、成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｄ）の混合物の屈折率と実質的に一致する屈折率を有する、実施形態１〜２３のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１８】
実施形態２５は、上記充填剤が、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．５５の屈折率を有する、実施形態１〜２４のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１１９】
実施形態２６は、上記充填剤が、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．４８の屈折率を有する、実施形態１〜２５のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２０】
実施形態２７は、上記充填剤が、約２８０ｎｍ〜約４００ｎｍの波長を有する光に対して実質的に透明である、実施形態１〜２６のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２１】
実施形態２８は、上記シリコーン組成物の充填剤の重量％が約０．０１重量％〜約５０重量％である、実施形態１〜２７のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２２】
実施形態２９は、上記シリコーン組成物の充填剤の重量％が約１重量％〜約４０重量％である、実施形態１〜２８のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２３】
実施形態３０は、上記光開始剤が、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール、α−ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、α−アミノアルキルフェノン、アシル−ホスフィンオキシド、ベンゾフェノン、ベンゾアミン、チオキサントン、チオアミン、及びチタノセンのうちの少なくとも１つを含む、実施形態１〜２９のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２４】
実施形態３１は、上記光開始剤が２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン（ＨＭＰＰ）を含む、実施形態１〜３０のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２５】
実施形態３２は、上記シリコーン組成物の光開始剤の重量％が約０．１重量％〜約１５重量％である、実施形態１〜３１のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２６】
実施形態３３は、上記シリコーン組成物の光開始剤の重量％が約０．５重量％〜約５重量％である、実施形態１〜３２のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２７】
実施形態３４は、上記硬化性シリコーン組成物が実質的に光学的に透明である、実施形態１〜３３のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２８】
実施形態３５は、上記硬化性組成物が、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．５５の屈折率を有する、実施形態１〜３４のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１２９】
実施形態３６は、上記硬化性組成物が、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４４〜約１．４８の屈折率を有する、実施形態１〜３５のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１３０】
実施形態３７は、上記組成物の粘度が、剪断速度が増大するにつれて低下する、実施形態１〜３６のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物を提供する。
【０１３１】
実施形態３８は、実施形態１〜３７のいずれか１つに記載の硬化性シリコーン組成物の製造方法を提供し、この方法は、
成分（Ａ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）を含む実質的に粘度安定な予備混合物を含むＩ部を取得又は提供する工程；
成分（Ｂ）を含むＩＩ部を取得又は提供する工程；並びに
Ｉ部とＩＩ部を混合して、実施形態１の組成物を形成する工程を含む。
【０１３２】
実施形態３９は、成分（Ａ）と成分（Ｃ）とを加熱しながら真空下で混合する工程を含む、実施形態３８に記載の方法を提供する。
【０１３３】
実施形態４０は、実施形態１〜３７のいずれか１つに記載の組成物の硬化生成物を提供する。
【０１３４】
実施形態４１は、上記硬化生成物が光学的に実質的に透明である、実施形態４０に記載の硬化生成物を提供する。
【０１３５】
実施形態４２は、上記硬化生成物が、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．５５の屈折率を有する、実施形態４０〜４１のいずれか１つに記載の硬化生成物を提供する。
【０１３６】
実施形態４３は、上記硬化生成物が、標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．４８の屈折率を有する、実施形態４０〜４２のいずれか１つに記載の硬化生成物を提供する。
【０１３７】
実施形態４４は、実施形態４０〜４３のいずれか１つに記載の硬化生成物を含むディスプレイを提供する。
【０１３８】
実施形態４５は、実施形態４０〜４３のいずれか１つに記載の硬化生成物を含むＬＣ積層構造体を提供する。
【０１３９】
実施形態４６は、上記ＬＣ積層構造体がタッチスクリーン、ディスプレイ、光変調薄膜、及びスマートウィンドウのうちの少なくとも１つである、実施形態４５のＬＣ積層構造体を提供する。
【０１４０】
実施形態４７は、実施形態４０〜４３のいずれか１つに記載の硬化生成物を含むデバイスを提供する。
【０１４１】
実施形態４８は、上記デバイスが光学デバイスである、実施形態４７に記載のデバイスを提供する。
【０１４２】
実施形態４９は、上記光学デバイスが、レンズ、導波管、窓、スマートウィンドウ、拡散板、及び封入された半導体のうちの少なくとも１つを含む、実施形態４８に記載の光学デバイスを提供する。
【０１４３】
実施形態５０は、
実施形態１〜３７のいずれか１つに記載の組成物を基材に印刷又はスプレーする工程；及び
上記組成物を硬化する工程、を含む方法を提供する。
【０１４４】
実施形態５１は、上記組成物を基材に印刷する工程が、オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、レーザー印刷、ドットマトリックス印刷、デイジーホイール印刷、パッド印刷、凸版印刷、輪転グラビア印刷、グラビア印刷、ジェット印刷、超音波スプレー印刷、圧電印刷、及び３Ｄ印刷のうちの少なくとも１つを含む、実施形態５０に記載の方法を提供する。
【０１４５】
実施形態５２は、上記組成物を基材に印刷する工程が、スクリーン印刷及びフレキソ印刷のうちの少なくとも１つを含む、実施形態５０〜５１のいずれか１つに記載の方法を提供する。
【０１４６】
実施形態５３は、上記硬化組成物が、三次元で実質的に光学的に透明な、印刷された形成体を含む、実施形態５０〜５２のいずれか１つに記載の方法を提供する。
【０１４７】
実施形態５４は、インクジェット印刷の方法であって、
（Ａ）単位式
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚ
を有し、式中、ｘは約０．０１〜約０．１であり、ｙは約０〜約０．９４であり、ｚは約０．０５〜約０．９９であり、Ｒはそれぞれ独立してメルカプト（Ｃ１〜３０）ヒドロカルビル基である、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）
（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び
（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子
のうちの少なくとも１つ；
（Ｄ）光開始剤；
を含む、印刷可能な組成物を取得又は提供する工程、
上記印刷可能な組成物を、基材上に、インクジェットプリンタで印刷する工程；並びに
上記印刷した印刷可能な組成物を硬化する工程
を含む、インクジェット印刷の方法を提供する。
【０１４８】
実施形態５５は、上記基材が光学的に透明かつ電気伝導性である、実施形態５４に記載の方法を提供する。
【０１４９】
実施形態５６は、組成物であって、
（Ａ）単位式
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２］ｘ［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］ｙ［Ｒ（ＣＨ３）ＳｉＯ］ｚ
を有し、式中、ｘは約０．０１〜約０．１であり、ｙは約０〜約０．９４であり、ｚは約０．０５〜約０．９９であり、Ｒはそれぞれメルカプトプロピル基である、メルカプト官能性ポリオルガノシロキサンであって、成分（Ａ）は組成物中に約４０重量％〜約８５重量％存在する；
（Ｂ）
（Ｂ１）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含むポリオルガノシロキサン、及び
（Ｂ２）少なくとも２個の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含む有機分子
のうちの少なくとも１つであって、
成分（Ｂ）は組成物中に約１０重量％〜約６０重量％で存在する；
（Ｃ）約５〜約１００ｎｍの一次粒径を有するヒュームドシリカを含む充填剤であって、上記充填剤が約２８０ｎｍ〜約４００ｎｍの波長を有する光に対して実質的に透明であり、上記充填剤が標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．４８の屈折率を有し、成分（Ｃ）は組成物中に約１重量％〜約４０重量％で存在する；並びに
（Ｄ）ＵＶ光開始剤であって、成分（Ｄ）は組成物中に約０．５重量％〜約５重量％存在する；
を含み、上記組成物は剪断薄化性及びＵＶ硬化性であり、上記組成物が標準温度及び圧力において、６３３ｎｍで約１．４３〜約１．４８の屈折率を有する、組成物を提供する。
【０１５０】
実施形態５７は、実施形態５６の組成物の硬化生成物を提供する。
【０１５１】
実施形態５８は、所望により、列挙されるすべての要素又は選択肢が使用又は選択可能であるように構成される、実施形態１〜５７のいずれか一項又は任意の組み合わせに記載の装置、方法、組成物、又はシステムを提供する。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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