(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セキュリティエレメントの形式の多層体を製造するための方法において、
ａ）基板に金属層を製造する工程と、
ｂ）前記金属層を部分的に脱金属化し、前記多層体の第１領域に第１光学情報を形成する工程と、
ｃ）前記金属層に少なくとも部分的に広がるように、前記多層体の第２領域に部分ラッカー層を塗布し、第２光学情報を形成する工程と、
ｄ）前記部分ラッカー層をマスクとして用いることにより、前記第２領域に部分金属層を構造化する工程と、を備え、
前記部分ラッカー層により覆われた領域において、前記部分金属層が選択的に保持されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記工程ｂ）における前記部分的な脱金属化は、エッチングにより行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記部分ラッカー層は、エッチングレジストからなる、または、少なくとも１つのエッチングレジストを備え、
前記エッチングレジストは、ラッカーであり、前記ラッカーは、バインダー、顔料、薄層フィルムシステム、コレステリック液晶、染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備えることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記工程ｃ）における前記部分ラッカー層の塗布前に、前記金属層が前記第２領域で部分的に脱金属化されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記第２領域における前記金属層の前記部分的な脱金属化は、エッチングにより行われ、
前記第２領域において、フレキソ印刷により、エッチング剤が前記金属層に印刷され、または、
前記エッチングの前に、フォトレジストが前記第２領域に塗布され、露光マスクを用いて露光され、および、
前記金属層の塗布前に、前記露光マスクは、前記基板に塗布された部分ラッカー層により形成され、または、
前記エッチングの前に、エッチングレジストが前記第２領域に部分的に塗布され、前記エッチング後に再度除去されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第２領域における前記金属層の前記部分的な脱金属化は、リフトオフにより行われ、
または、レーザー切断により行われ、または、前記金属層の塗布前に、部分オイル層の塗布により行われることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記基板は、前記金属層に対向した面に形成された表面レリーフを備える複製層からなる、または、前記複製層を備え、
前記表面レリーフは、深さ：幅比が０．１５〜１．５の部分領域を備え、前記部分領域は、前記第１光学情報を補完し、
前記第１領域での前記金属層の前記部分的な脱金属化のために、ポジティブ／ネガティブフォトレジストは、前記金属層に塗布され、前記基板側から露光され、その後、前記金属層は、エッチングにより部分的に脱金属化されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１つの更なる部分ラッカー層は、前記多層体に塗布され、少なくとも１つの更なる光学情報を形成し、
前記少なくとも１つの更なる部分ラッカー層は、着色剤、薄層フィルムシステム、コレステリック液晶、染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備え、
前記着色剤は、蛍光および／またはリン光の紫外線および／または赤外線スペクトルで励起されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
セキュリティエレメントの形式の多層体であって、
前記多層体は、基板、部分金属層、および、部分ラッカー層を備え、
前記部分金属層は、第１領域において、第１光学情報を形成し、前記部分ラッカー層は、第２領域において、第２光学情報を形成し、前記部分ラッカー層は、前記部分金属層と見当を合わせて前記第２領域に配置され、前記部分ラッカー層は、前記部分金属層により覆われている領域と、前記部分金属層により覆われていない領域とに広がることを特徴とする多層体。
【請求項１０】
前記基板は、前記部分金属層に対向した面に形成された表面レリーフを備える複製層からなる、または、前記複製層を備え、
前記複製層に導入された前記表面レリーフは、光学可変エレメント、であり、および/または、
前記表面レリーフは、深さ：幅比が０．１５〜１．５である部分領域を備え、前記部分領域は、前記第１光学情報を補完することを特徴とする請求項９に記載の多層体。
【請求項１１】
前記部分金属層の厚さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることを特徴とする請求項９または１０に記載の多層体。
【請求項１２】
少なくとも１つの更なる部分ラッカー層が設けられ、前記少なくとも１つの更なる部分ラッカー層は、更なる光学情報を形成することを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の多層体。
【請求項１３】
前記部分ラッカー層および／または前記少なくとも１つの更なる部分ラッカー層は、着色剤、薄層フィルムシステム、コレステリック液晶、染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備え、
前記着色剤は、蛍光および／またはリン光の紫外線および／または赤外線スペクトルで励起されることを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載の多層体。
【請求項１４】
前記第１光学情報および／または前記第２光学情報および／または前記更なる光学情報は、少なくとも１つのモチーフ、パターン、シンボル、イメージ、ロゴ、または、英数字の形式で形成され、および／または、１次または２次元線および／またはドットグリッドの形状で形成され、
前記線および／またはドットグリッドは、３００μｍより小さく、２５μｍより大きいグリッド間隔を備え、および／または、少なくとも１つの機械読み取り可能特徴を備えることを特徴とする請求項９〜１３のいずれか１項に記載の多層体。
【請求項１５】
請求項９〜１４のいずれか１項に記載の多層体を備えるセキュリティドキュメント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
セキュリティエレメントとしての多層体は、最先端技術として知られ、紙幣、証券、および、身分証明書類の偽造防止、または、製品の認証に広く使用されている。多層体は、複数の機能層の組み合わせからなり、機能層は、例えば、光学可変エレメント（ＯＶＤ＝Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅｓ（光学可変装置））、回折エレメント、部分金属層、または、印刷特徴を備える。
【０００３】
このような多層体は、個々の層を順次塗布し、所望の層順序を構築することにより製造されることが知られている。高い偽造防止技術を備える多層体を得るためには、個々の層の特徴が互いに途切れなく変化することが望ましい。すなわち、層は、出来るだけ正確に互いに見当を合わせて（ｒｅｇｉｓｔｅｒ）配置される必要がある。
【０００４】
見当合わせまたは当合わせ精度とは、所望の位置公差を維持し、互いに重なり合う、または、隣り合う層の正確な配置を意味する。「見当合わせ（ｒｅｇｉｓｔｅｒ）」は、レジスターマークまたはコントロールマークから由来し、見当合わせにより、位置公差を測定および監視することができる。
【０００５】
しかしながら、多層体が順番に構築される場合、個々の層を製造するために使用される方法は、お互いの層の位置に関する交差に依存することから、見当合わせを必ずしも達成できるというわけではない。結果として、特徴間の所望の途切れない変化を確実に達成することはできず、このような多層体の光学外観および偽造防止に悪影響を与える。
【０００６】
これは、特に、異なる層が多層体の異なる領域で互いに見当を合わせて配置される場合に起こる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、高い偽造防止技術を備える多層体の製造を可能にする、多層体を製造するための方法を提供することである。また、本発明の目的は、高い偽造防止技術を備える多層体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この目的は、請求項１および請求項２４の主題による発明によって達成される。
【０００９】
多層体、特に、セキュリティエレメントを製造するための方法は、以下の工程を備える。
ａ）基板上に金属層を製造する工程、
ｂ）金属層を部分的に脱金属化し、多層体の第１領域に第１光学情報を形成する工程、
ｃ）少なくとも部分的に金属層に広がるように、多層体の第２領域に部分ラッカー層を塗布し、第２光学情報を形成する工程、
ｄ）部分ラッカー層をマスクとして用いることにより、第２の領域に部分金属層を構造化する工程。
【００１０】
この方法により、基板、部分金属層、および、部分ラッカー層を備える多層体が得られる。部分金属層は、第１領域において第１光学情報を形成し、部分ラッカー層は、第２領域において第２光学情報を形成し、部分ラッカー層は、部分金属層と完全に見当を合わせて、すなわち、上記した公差なしで、第２領域に配置される。
【００１１】
このような方法で得られた多層体は、セキュリティエレメントとして使用され、特に、セキュリティドキュメント、特に、紙幣、証券、身分証明書類、査証、パスポート、ビネット、証明書、または、クレジットカードのセキュリティドキュメントに使用される。
【００１２】
金属層の部分的な脱金属化は、複数の工程で行われる。このため、金属層の部分的な脱金属化を多層体の異なる領域に異なる方法で行うことができる。これは、多層体の設計の可能性を向上させる。このため、例えば、第２領域とは異なる層と見当合わせをした状態で第１領域の脱金属化が行われる。特に、複雑かつ魅力的な設計が可能になる。
【００１３】
部分ラッカー層をマスクとして用いることにより、第２領域における金属層を構造化するために、２つの層を正確に見当合わせして配置することができる。ここでは、部分ラッカー層を、金属層で覆われている領域に広げるだけでなく、金属層で覆われていない領域に広げることも特に重要である。これにより、部分ラッカー層は、金属層および部分ラッカー層に架かる表面領域と直交する方向において金属層と部分的に重なる。
【００１４】
別の方法として、工程ｂ）において、金属層を部分的に脱金属化し、多層体の第１および第２領域を形成し、その後、工程ｃ）において、多層体の第１および／または第２領域に部分ラッカー層を塗布し、第１領域に第１光学情報を形成し、第２領域に第２光学情報を形成することもできる。部分ラッカー層は、第１および／または第２領域において、少なくとも部分的に金属層に広がる。金属層の最終構造化は、部分ラッカー層により、選択的に、両方の領域で行われる。これにより、正確に見当を合わせて配置され、特に魅力的な光学設計をもたらす金属およびラッカーからなる層構造が、両方の領域で得られる。
【００１５】
部分ラッカー層をマスクとして用いるということは、金属層の構造化の間、金属層が選択的に保持される、または、部分ラッカー層により覆われていない領域において、金属層が選択的に除去されることを意味する。このため、構造化の間、２つの層の所定の位置関係が得られる。その結果、これらは、互いに正確に見当を合わせて配置され、例えば、観察者のために互いに継ぎ目なく結合されている。
【００１６】
金属層の部分的な脱金属化は、エッチングにより行われることが好ましい。部分ラッカー層は、エッチングレジストからなる、または、エッチングレジストを備えることが好ましい。
【００１７】
エッチングレジストとは、エッチング剤に耐性のある物質、および、エッチング剤に敏感な物質をエッチング剤から保護するためにこの物質を覆う物質を意味する。
【００１８】
この実施例では、２つの層を製造した後に、得られた積層にエッチング剤が塗布され、
部分ラッカー層により覆われていない金属層がエッチング剤により除去される。
【００１９】
エッチングレジストは、ラッカーであることが好ましい。ラッカーは、特に、バインダー、染料、顔料、特に、有色または無色顔料、効果顔料、薄層フィルムシステム、コレステリック液晶、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備える。このため、部分ラッカー層は、金属層の構造化の間、保護機能を満たすだけでなく、装飾効果を奏することもできる。また、更なる視覚効果をもたらすために、いくつかの異なるエッチングレジスト、例えば、異なる着色剤を有するレジストラッカーを使用することもできる。
【００２０】
これらのレジストラッカーは、セキュリティドキュメントの改ざんが試みられた場合、改ざんを示唆するように設計されている。例えば、有機溶媒または酸化剤により、入力、例えば、有効期限または写真を変更、除去、または、目に見えないものにするといった試みである。このような改ざんの試みに対し、レジストラッカーは、例えば、アルコールに溶けるように設計される。すなわち、レジストラッカーは、アルコール反応で溶解し、染料が移動する。その結果、エッチングレジストの印刷イメージは、認識可能な程に流れる、または、ぼやける。更に、そのようなレジストラッカーは、特別な化学物質で作用する視覚認識可能な呈色反応、例えば、色の変化を示す物質を備える。そのような物質には、例えば、溶媒反応インクが挙げられる。
【００２１】
金属層を構造化するために使用されるエッチング剤は、この層または層システムの組成に依存する。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム酸、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、または、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムがエッチング剤に適している。
【００２２】
また、金属層または合金の材料によっては、酸エッチング媒体を使用することもできる。酸エッチング媒体としては、例えば、硫酸、塩酸、リン酸、または、強酸化剤（例えば、過硫酸ナトリウム、過酸化水素）を利用したり、あるいは、異なるエッチング媒体を時間的に順に用いたり、上記媒体の組み合わせを利用することができる。
【００２３】
そのようなエッチング剤には、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）に基づくエッチングレジスト、ポリエステル樹脂、または、アクリレートが適しており、例えば、ニトロセルロースのような更なる膜を形成する物質を混ぜることができる。
【００２４】
エッチングは、機械撹拌、例えば、ブラッシング、エッチングバスの移動、または、超音波処理により行われる。エッチング処理のための通常温度は、１５℃〜７５℃の間が好ましい。
【００２５】
工程ｃ）において部分ラッカー層を塗布する前に、第２領域において金属層を部分的に脱金属化することが好ましい。これにより、金属層は第２領域に部分的に存在する。また、部分ラッカー層が、金属層に部分的に広がり、金属層が存在しない領域に部分的に広がる。部分ラッカー層によって金属層を構造化した後に、上記効果が確実に達成される。工程ｄ）において微小構造のみが導入される間、部分的な脱金属化が行われることが好ましい。
【００２６】
エッチングにより、第２領域における金属層の部分的な脱金属化が行われることが好ましい。第１領域における部分的な脱金属化を参照し、上記したエッチング剤および方法パラメータをここでも使用することができる。
【００２７】
第２領域において、特に、フレキソ印刷、凹版印刷、または、スクリーン印刷により、エッチング剤、特に、基剤を金属層に印刷することができる。このため、エッチング剤は、除去される領域のみで金属層に接触する。その結果、保護ラッカー、レジスト、マスク等は不要となる。
【００２８】
また、エッチングの前に、フォトレジストを第２領域に塗布し、露光マスクを用いて露光することもできる。
【００２９】
特定の波長域での露光の間、フォトレジストは、その化学および／または物理特性を変える。その結果、領域の１つでフォトレジストを選択的に除去することで、露光および非露光領域の異なる特性を用いることができる。例えば、フォトレジストが露光された場合、フォトレジストを現像するときに、フォトレジストの溶解度は、露光後に使用される溶媒に対して変化する。露光に続く現像工程において、ポジティブフォトレジストの場合、露光領域が選択的に除去され、ネガティブフォトレジストの場合、非露光領域が除去される。
【００３０】
適切なポジティブフォトレジストは、例えば、フェノール樹脂／diazoquinoneに基づくＡＺエレクトロマテリアルズ社のＡＺ１５１８またはＡＺ４５６２である。適切なネガティブフォトレジストは、例えば、桂皮酸化合物に基づくマイクロレジストテクノロジー社製のＡＺｎＬＯＦ２０００またはｍａ−Ｎ１４２０である。これらは、２５０ｎｍ〜４４０ｎｍの波長域の光の照射により露光されることが好ましい。必要線量は、各層の厚さ、露光の波長、および、フォトレジストの感度に依存する。
【００３１】
フォトレジストの現像には、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウムが適している。現像は、１５℃〜６５℃の温度で２秒から数分の現像時間で行われることが好ましい。ここで、現像工程および付随するフォトレジストの局所的な除去は、ブラッシング、ワイピングのような機械撹拌、現像媒体の流れに対する露光、または、超音波処理により行われる。
【００３２】
更なる装飾効果を得るために、フォトレジストは、特に、バインダー、染料、顔料、特に、有色顔料、効果顔料、薄層フィルムシステム、コレステリック液晶、および／または、金属または非金属ナノ粒子を含む。
【００３３】
金属層を塗布する前に、基板に塗布された部分ラッカー層により露光マスクが形成されることが好ましい。このため、露光は基板側から行われる。露光マスクとして機能するラッカー層を可視光に対して透明、半透明、または、不透明とすることができるが、ラッカー層は、露光の間、マスク機能またはコントラスト差が達成される範囲で露光波長（例えば、紫外線スペクトル域）を遮断する顔料等の成分を備える必要がある。
【００３４】
更なる部分ラッカー層は、保護ラッカーを備えることが好ましい。保護ラッカーとは、フォトレジストの露光に使用される波長域の光を吸収する物質を意味する。露光の間、部分ラッカー層の全面には、この波長域の光が、好ましくは、層の面に直交するように照射される。露光に使用される通常の波長は、例えば、２５０ｎｍ〜４２０ｎｍである。１０ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の線量で露光を行うことが好ましい。露光時間は、使用された材料の感度および使用可能な光源の出力から得られる。
【００３５】
更なる部分ラッカー層が存在すると、フォトレジストに到達するこの波長の光が少なくなる。そのため、その後のエッチング工程では、金属層が当該更なる部分ラッカー層に見当を合わせて構造化される。
【００３６】
別の方法として、フォトレジストに配置された外部分離露光マスクを使用することもできる。
【００３７】
エッチングの前に、エッチングレジストを第２領域に部分的に塗布し、エッチング後に、当該エッチングレジストを除去することが好ましい。エッチングは、第１領域の構造化で説明したように行われる。
【００３８】
別の方法として、第２領域において、リフトオフにより金属層の部分的な脱金属化を行うことが好ましい。
【００３９】
リフトオフ処理では、金属層の塗布前に、ウォッシュコートからなる部分層が基板に塗布され、金属層の塗布後に、当該部分層が溶媒により除去される。このため、ウォッシュコートは、熔解に溶ける必要がある。
【００４０】
環境保護の理由から、水を溶媒として使用することが好ましい。適切なウォッシュコートは、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）またはポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）からなり、ウォッシュコートの後の除去を容易にするフィラーを更に含むことができる。
【００４１】
ウォッシュコートの除去は、好ましくは１５℃〜６５℃の温度で溶媒槽の中または溶媒の噴霧により行われる。エッチングの場合のように、ウォッシュコートの除去は、例えば、ブラッシング、溶媒槽の移動、噴霧、または、超音波処理により機械的に行われる。
【００４２】
金属層がウォッシュコートに塗布された領域では、金属層はウォッシュコートと一緒に除去される。このため、金属層は、ウォッシュコートの部分層に重ならない領域のみに残る。したがって、重複領域に対するネガティブな結果になる。
【００４３】
レーザー切断により、第２領域において金属層の部分的な脱金属化を行うことができる。これにより、簡単な方法で、部分金属層の形が異なる個々の多層体を製造することができる。例えば、個人情報を多層体に導入することができる。
【００４４】
更に、金属層の塗布前に、部分オイル層を塗布、特に、印刷することにより、第２領域において金属層の部分的な脱金属化を行うことができる。
【００４５】
部分オイル層が塗布された場合、金属層を例えば蒸着またはスパッタリングにより塗布しても、金属は基板に付着しない。結果として、金属層の製造中に所望の構造化が達成される。
【００４６】
上記したような複数の工程による金属層の部分的な脱金属化の別の方法として、一般的な作業工程により第１および第２領域において金属層の部分的な脱金属化を行うことができる。この場合、まず、第１および第２領域を別々の金属領域とするために、基板上で金属層の比較的広域な部分的な脱金属化が行われる。残りの金属化された第１および第２領域は、例えば、約１ｃｍ２〜５ｃｍ２の広さである。
【００４７】
その後、第２領域を参照して詳説したように、第１および第２領域において金属層の更なる部分的な脱金属化が行われる。すなわち、部分ラッカー層、例えば、エッチングレジストまたはフォトレジストまたはリフトオフラッカーを用いて、大きな領域の第１および第２領域が再び小さな領域で精密に構造化される。ここでは、第２領域について上記した通り、部分ラッカー層は、第１および第２領域の金属層と完全または部分的に重なる。部分ラッカー層は、第１および第２領域の金属層により覆われている領域に広がるだけでなく、金属層により覆われていない領域にも広がる。このため、部分ラッカー層は、金属層および部分ラッカー層に架かる面に直交する方向へ第１および／または第２領域の金属層に完全にまたは部分的に重なる。    
【００４８】
これにより、第１領域および第２領域の大部分は、互いに独立して構造化されるが、より少ない処理工程が求められる。
【００４９】
第１および／または第２領域の金属層の位置に対する部分ラッカー層の位置に応じ、当該第１および第２領域において、正確に構造化された金属層の異なる光学外観が得られる。
【００５０】
基板は、複製層からなる、または、複製層を備えることが好ましい。複製層は、金属層に対向する面に形成された表面レリーフを備える。複製層は、熱可塑性、すなわち、熱硬化または乾燥可能複製ラッカーまたは放射線硬化、特に、ＵＶ硬化複製ラッカー、または、そのようなラッカーの混合物からなる。
【００５１】
複製層に導入された表面レリーフは、光学可変エレメント、特に、ホログラム、キネグラム（登録商標）またはトラストシール（登録商標）、好ましくは、線状または交差正弦波回折格子、線状または交差シングルまたはマルチレベル矩形格子、０次回折構造、非対称鋸歯状レリーフ面、ブレーズド格子、好ましくは、異方性または等方性マット構造、または、光回折および／または光反射および／または光フォーカスマイクロまたはナノ構造、バイナリまたは連続フレネルレンズ、バイナリまたは連続フレネル自由曲面、マクロプリズム構造、または、これらの組み合わせ構造を形成する。
【００５２】
かかる構造または組み合わせにより、模倣が難しく、複製が不可能または通常の光学複製方法では複製が難しい様々な光学効果を達成することができる。その結果、高い偽造防止技術を備える多層体が得られる。
【００５３】
表面レリーフは、深さ：幅比が０．１５〜１．５、好ましくは、０．２〜０．５の部分領域を備えることが好ましい。部分領域は、第１光学情報を補完する。
【００５４】
深さ：幅比により、表面レリーフに塗布された金属層の透明度を変えることができる。この異なる透明度の金属層は、更なる層を構造化するために、その後、露光マスクとして使用することができる。したがって、金属層の異なる透明領域、表面レリーフの異なる領域と見当を合わせて、構造化が行われる。その結果、更なる層と表面レリーフの異なる領域との間で、切れ目ない構造を実現できる。
【００５５】
第１領域における金属層の部分的な脱金属化は、フォトレジストを金属層に塗布し、基板側から露光した後、金属層がエッチングにより部分的に脱金属化されることが好ましい。
【００５６】
フォトレジストおよびエッチング剤は上記したものに相当する。このような方法により、金属層が表面レリーフと見当を合わせて構造化される。
【００５７】
また、少なくとも１つの部分ラッカー層を多層体に塗布し、少なくとも１つの光学情報を形成するのが好ましい。これにより、複雑かつ魅力的なデザインが得られ、高い偽造防止技術を備える多層体を製造することができる。
【００５８】
部分ラッカー層および／または少なくとも１つの更なる部分ラッカー層の厚さは、０．２μｍ〜１０μｍ、好ましくは、０．３μｍ〜３μｍ、更に好ましくは、０．５μｍ〜１．５μｍである。
【００５９】
少なくとも１つの部分ラッカー層は、着色剤、特に、有色または無色顔料および／または効果顔料、薄層フィルムシステム、コレステリック液晶、染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備えることが好ましい。
【００６０】
これにより、表面レリーフ並びに金属層および部分金属層の外観により補完される様々な光学効果がもたらされ、所望の全体装飾を形成する。
【００６１】
また、蛍光および／またはリン光の紫外スペクトル、特に、可視スペクトルで着色剤が励起されることが好ましい。更に、反ストークス効果により、赤外線スペクトルで着色剤が励起され、可視スペクトルで放出されることが好ましい。また、機械検証可能な発光スペクトルを有する物質を加えることができる。機械検証可能な発光スペクトルは、部分的に可視スペクトルである、または、可視スペクトルではない。
【００６２】
これにより、更なる光学情報を導入することができる。更なる光学情報は、通常の日光では見ることができず、適切な照射によってのみ現れる。光学情報は、機械読み取り可能情報として形成することができ、日光で観察される場合に、全体装飾を邪魔しない。また、この方法により、多層体の偽造に対するセキュリティを向上させることができる。
【００６３】
印刷、特に、凹版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、インクジェット印刷、および／または、レーザー印刷により、部分ラッカー層および／または少なくとも１つの更なる部分ラッカー層を塗布することが好ましい。
【００６４】
放射硬化、特に、ＵＶまたは電子ビーム放射により、部分ラッカー層および／または少なくとも１つの更なる部分ラッカー層を硬化することが更に好ましい。
【００６５】
更に、特に、インクジェットおよび／またはレーザー印刷により、少なくとも１つの個別特徴を多層体に塗布することが好ましい。これにより、例えば、多層体を特定のセキュリティドキュメントに配置することができ、偽造に対するセキュリティを高めることができる。
【００６６】
基板は、ワックス層および／または剥離層および／または保護層、特に、保護ラッカー層を備えることが更に好ましい。
【００６７】
多層体を剥離可能にキャリアに配置するために、ワックス層および剥離層が使用される。多層体は、例えば、セキュリティドキュメントに取り付けられる前に、キャリアから剥離される。
【００６８】
更に、キャリアからの剥離が防止されるように、層構造が設計される。多層体はキャリアに残る、または、キャリアは多層体の一部であり、セキュリティドキュメントに転写される。このような場合、剥離が必要ないことからワックス層および剥離層は省略される。一方、キャリアと複製層との間の中間層の接着性を確実に強化する追加層を導入することができる。
【００６９】
更に、ワックス層は部分的に存在することができる。その結果、一部の領域において剥離が行われる一方、残りの領域において剥離は行われない。セキュリティドキュメントへの塗布は、キャリアと一緒に順番に行われる。このようなタイプの構造は、例えば、改ざんの試みがあったことを示すために使用される。セキュリティドキュメントからセキュリティエレメントの除去が試されると、剥離層および／または保護層および／または複製層は、ワックス層が部分的に塗布された領域においてセキュリティドキュメントに残る。他方、ワックス層が塗布されていない領域においては、層材料をキャリアと一緒に基板から除去される。すなわち、このような改ざんの試みによりセキュリティ特徴がはっきりと傷つけられる。
【００７０】
更に、多層体を基板に転写することができ、基板は、後の工程でセキュリティドキュメントを形成するために処理される。このため、特に、ポリカーボネートまたはポリエステル、ポリプロピレンまたはポリエチレン、例えば、テスリン（登録商標）からなる、例えば、透明、半透明、または、不透明プラスチックプライに、多層体を塗布することができる。このプラスチックプライは、更なるプラスチックプライにのみ結合され、更なる処理工程、例えば、積層および/またはバックインジェクション成形によりドキュメント体を形成する。プラスチックプライの典型的な厚さは、２５μｍ〜１５０μｍ、好ましくは、５０μｍ〜１００μｍの間である。プライは、透明であっても良く、フィラーを含んでも良い。更に、レーザー光線により黒くなるように、プライを設計することもできる。
【００７１】
複数の層から形成された保護層により多層体の視覚面を形成することが好ましい。その結果、多層体は、機械的または科学的損傷から保護される。例えば、更なる膜形成成分を備えるアクリレートまたはポリエステル、例えば、ニトロセルロース、ＵＶ硬化システム、例えば、イソシアネイトに基づく化学硬化システムを保護ラッカーとして使用することができる。
【００７２】
複製層および／または保護ラッカー層の厚さは、０．３μｍ〜３μｍ、好ましくは、０．５μｍ〜１．５μｍである。ワックス層および／または剥離層の厚さは、０．０１μｍ〜０．３μｍ、好ましくは、０．１μｍ〜０．２μｍである。なお、ワックス層および／または剥離層に代わって、シリコーンまたはアクリルポリマー／アクリル共重合体からなる層を使用することができる。また、剥離層を保護ラッカー層の一部とすることができる。
【００７３】
基板が特にＰＥＴ、ＰＥＮ、または、ＰＰからなる剥離可能キャリアプライを備えることが更に好ましい。これは、最終的に使用される位置に取り付けられる前に、多層体を保護し、多層体の製造中における機械的な安定化を得るために機能する。
【００７４】
キャリアプライの厚さは、５μｍ〜７５μｍ、好ましくは、１０μｍ〜５０μｍ、更に好ましくは、１２μｍ〜２５μｍである。
【００７５】
部分金属層は、アルミニウム、銅、クロム、銀、および／または、金、および／または、その合金からなることが好ましい。特別の光学効果をもたらすために、部分金属層は、領域において、異なる金属からなる。
【００７６】
金属層の厚さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、更に好ましくは、１５ｎｍ〜３５ｎｍである。
【００７７】
第１領域において、特に、透明保護ラッカー層を部分金属層に配置することが更に好ましい。透明保護ラッカー層は、特に、ＰＶＣ、ＰＥＴ、アクリレート、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレート、または、その混合物からなる。しかしながら、保護ラッカー層をＵＶまたは電子ビーム硬化ラッカーから構成することもできる。
【００７８】
そのような保護ラッカー層は、第２領域の構造化の間、第１領域において金属層を保護する。その結果、第１に、第１領域に導入された構造が保持される。
【００７９】
保護ラッカー層の厚さは、０．２μｍ〜１０μｍ、好ましくは、０．３μｍ〜３μｍ、更に好ましくは、０．５μｍ〜１．５μｍである。
【００８０】
第１光学情報および／または第２光学情報および／または更なる光学情報は、少なくとも１つのモチーフ、パターン、特に、ギロシェパターン、シンボル、イメージ、ロゴ、英数字、特に、数および／または文字の形で形成されることが好ましい。
【００８１】
光学情報は、互いに補い合い、そのようなモチーフ、パターン、シンボル、イメージ、ロゴを形成し、または、英数字、特に、数または文字を形成する。この方法で形成されたグラフィックエレメントは、特に、再生が難しいことから、確実に偽造を防止することができる。グラフィックエレメントは、複数の層の相互作用により形成される。
【００８２】
第１光学情報および／または第２光学情報および／または更なる光学情報を、１次元または２次元ラインおよび／またはドットグリッドの形状に形成することが更に好ましい。ラインおよび／またはドットグリッドは、３００μｍ、好ましくは、２００μｍより小さく、２５μｍ、好ましくは、５０μｍより大きいグリッド間隔を有することが好ましい。
【００８３】
ここでは、ライングリッドを、例えば、可変線幅を有する波線に変えることもできる。ドットグリッドのドットは、形状および／または大きさは特に限定されず、円形のディスク型に限定されない。例えば、三角、矩形、多角形、または、星型ドット、または、シンボル形状にされたドットグリッドを用いることができる。ドットグリッドは、異なる大きさのドット、および／または、異なる形状のドットから構成することもできる。厳密には、そのようなグリッドを他の層または他の層システムでグラフィックエレメントと相互に作用すると、更なるグラフィック効果、例えば、ハーフトーンイメージが得られる。
【００８４】
そのようなグリッドは、グリッドにより重ね合わされる他のグラフィックエレメントに作用するが、肉眼では認識できない。
【００８５】
第１光学情報および／または第２光学情報および／または更なる光学情報は、少なくとも１つの機械で読み取り可能な特徴、特に、バーコードを備えることが好ましい。これは、携帯電話、ＰＤＡ等のような携帯装置により行われる多層体の認証を迅速かつ容易にすることができる。
【００８６】
基板と反対側を向いた多層体の面に、接着剤層を配置することが更に好ましい。接着剤層は、特に、ＰＶＣ、ポリエステル、アクリレート、セルロースエスター、自然樹脂、ケトン樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、または、こられの混合物からなる。これにより、多層体は物品またはドキュメントに結合し、多層体は物品またはドキュメントの認証に使用される。
【００８７】
接着剤層の厚さは、０．５μｍ〜２５μｍ、好ましくは、１μｍ〜１５μｍである。この接着剤層は、特に、異なる材料からなる複数の層から形成しても良い。上記した層厚の値は、接着剤層の全厚さに関係する。
【００８８】
接着剤を多層体へ塗布する前に、例えば、中間層の接着性を向上させ、安定性を高める更なる層を塗布することができる。安定性を高めるためには、化学架橋層および放射硬化ラッカーが特に適している。
【００８９】
更に、接着剤を塗布しないことも可能である。特徴が塗布された基板を備える接着は、例えば、ＵＶ硬化接着剤が基板に塗布されること、多層体が接着剤に押し付けられること、ＵＶ硬化接着剤がＵＶ照射により硬化されることにより達成される。ＰＥＴからなるキャリアフィルムを除去することができる（コールド箔またはスタンピング）。
【００９０】
更に、少なくとも一部の領域に、高反射物質（ＨＲＩ＝Ｈｉｇｈ  Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  Ｉｎｄｅｘ）からなる反射層を塗布することができる。高反射物質は、例えば、蒸着またはスパッタリングにより通常塗布される硫化亜鉛または二酸化チタンである。金属層の塗布前、または、金属層の部分的な脱金属化後、または、印刷工程の後に、このような層を塗布することができる。これらの層が直接光学回折構造に配置されると、更なる光学効果が得られ、多層体のセキュリティが更に高まる。
【００９１】
そのような光学回折構造は、例えば、０次回折構造であり、これにより、平面内でＯＶＤの９０°回転で直接反射（０次）により色が変化する。ここで、例えば、情報である特徴「ＯＫ」は、通常の観察位置において赤の背景で緑に現れる。平面内でＯＶＤの９０°回転後に、「ＯＫ」は、緑の背景で赤に現れる（他の色の組み合わせも可能）。光学情報および背景のために、通常０°方向で１回、９０°方向で１回、同じ０次回折構造が通常使用される。ここで使用される通常のパラメータの範囲は以下の通りである。
−４０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の層厚を備える高反射材料としてのＺｎＳ
−回折構造の輪郭形状：線状バイナリ矩形格子または線状正弦波格子
−０次回折構造の空間周波数領域：２５００本／ｍｍ〜３１００本／ｍｍ
−０次回折構造の構造深さ：約１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲
【００９２】
このような視覚効果は、偽造に対する高いセキュリティと、簡単な検証可能性とが特徴である。
【００９３】
本発明を、実施例を参照しつつ詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】図１は、多層体の製造方法の実施例における第１の中間製品を示す概略上面図、および、多層体の製造方法の実施例における第１の中間製品を示す断面図である。
【図２】図２は、多層体の製造方法の実施例における第２の中間製品を示す概略上面図、および、多層体の製造方法の実施例における第２の中間製品を示す断面図である。
【図３】図３は、多層体の製造方法の実施例における第３の中間製品を示す概略上面図、および、多層体の製造方法の実施例における第３の中間製品を示す断面図である。
【図４】図４は、多層体の製造方法の実施例における第４の中間製品を示す概略上面図、および、多層体の製造方法の実施例における第４の中間製品を示す断面図である。
【図５】図５は、多層体の製造方法の実施例における第５の中間製品を示す概略上面図、および、多層体の製造方法の実施例における第５の中間製品を示す断面図である。
【図６】図６は、多層体の製造方法の実施例により製造された多層体を示す概略上面図、および、多層体の製造方法の実施例により製造された多層体を示す断面図である。
【図７】図７は、図６に係る多層体を備えるセキュリティドキュメントの実施例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００９５】
多層体１を製造するために、まず、キャリア層１１に転写プライ１２が設けられる。多層体１は、紙幣、証書、身分証明書類、査証、証明書、チケット、または、保護製品包装のセキュリティエレメントとして使用される。
【００９６】
キャリア層１１は、ポリエステル、特に、ＰＥＴからなることが好ましい。キャリア層１１の厚さは、６μｍ〜７５μｍ、好ましくは、１２μｍ〜２５μｍである。転写プライ１２は、ワックス層、剥離層、保護ラッカー層、および、複製層を備える。複製層は、転写プライ１２のキャリア層１１と反対側の面を形成する。
【００９７】
複製層および／または保護ラッカー層の厚さは、０．３μｍ〜３μｍ、好ましくは、０．５μｍ〜１．５μｍである。ワックス層および／または剥離層の厚さは、０．０１μｍ〜０．３μｍ、好ましくは、０．１μｍ〜０．２μｍである。なおワックス層および／または剥離層の代わりに、シリコーンまたはアクリルポリマー／アクリル共重合体からなる層を使用することもできる。また、剥離層を保護ラッカー層の一部とすることもできる。
【００９８】
複製層は、例えば、熱可塑性または放射線硬化性または温度硬化性の複製ラッカーからなる。回折構造は、金属スタンピングツールを用いたスタンピング等により複製層に形成される。
【００９９】
複製層に組み込まれた表面レリーフは、好ましくは、光学可変エレメントを形成する。光学可変エレメントは、特に、ホログラム、キネグラム（登録商標）またはトラストシール（登録商標）、好ましくは線状または交差正弦波回折構造、線状または交差シングルまたはマルチレベル矩形回折格子、０次回折構造、非対称レリーフ構造、ブレーズド格子、好ましくは等方性または異方性マット構造、または、光回折および／または光反射および／または光フォーカスマイクロまたはナノ構造、バイナリまたは連続フレネルレンズ、バイナリまたは連続フレネル自由曲面、マイクロプリズム構造またはこれらの組み合わせ構造である。
【０１００】
このような構造に加えて、または、このような構造の代わりに、表面レリーフは、多層体の第１領域２に第１光学情報を形成する。第１光学情報は、０．１５〜１．５、好ましくは、０．２〜０．５の深さ：幅比、および、少なくとも１０００本／ｍｍ〜５０００本／ｍｍの空間周波数を有する構造により形成される。
【０１０１】
キャリア層１１および転写層１２の配置後、図１に示されたように、例えば図示しない基板上への蒸着により、転写プライの複製層に金属層１３が製造される。蒸着は、真空中の熱蒸発、電子ビーム蒸発、または、スパッタリングにより行われる。
【０１０２】
金属層１３は、アルミニウム、銅、クロム、銀、および／または、金、および／または、これらの合金からなることが好ましい。また、部分金属層は、特別な光学効果をもたらすために、領域毎において異なる金属からなる。
【０１０３】
アルミニウムが使用されている場合は、金属層１３の厚さは、１０ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは、１５ｎｍ〜３５ｎｍである。
【０１０４】
その後、金属層１３が部分的に既知の方法により除去される。既知の方法は、例えば、蒸着後のエッチングレジストの部分塗布およびエッチングレジストの除去を含むその後のエッチング、金属化前のウォッシュコートの部分塗布および金属化後のウォッシュオフ（リフトオフ）、または、金属化後のフォトレジストの部分塗布、その後の露光、および、フォトレジストの種類（ポジティブ、ネガティブ）に応じたフォトレジストの露光または非露光成分のその後の除去である。
【０１０５】
第１領域２における複製層の表面レリーフの深さ：幅比により、表面レリーフに塗布される金属層１３の透明度は変化する。金属層１３に塗布されたフォトレジストを構造化するために、異なる透明度を露光マスクとして後に使用することができる。このため、その後のエッチングの間、第１領域２における金属層１３は、複製層において予め規定された第１光学情報１３１と見当を合わせて第１領域２に残る。
【０１０６】
代わりに、基板は、全面で金属化されることはなく、金属層１３は、多層体１の特に第２領域３に部分的に製造される。これには多くの方法が知られており、例えば、連続マスクを用いた遮蔽、または、蒸着処理における金属層の堆積を防ぐオイルを用いた印刷が知られている。
【０１０７】
このため、金属層１３の構造化は、第１領域２および第２領域３で別々に行われることが好ましい。第２領域では、概略の構造化のみが行われることが好ましい。しかしながら、構造化を共通の作業工程で行うこともできる。
【０１０８】
図２に示すように、次の方法工程において、透明保護ラッカー１４が第１領域２において金属層１３に塗布される。次のエッチング処理では、保護ラッカー１４は、第１領域２において完全に構造化された金属層１３を保護する。保護ラッカー層１４の厚さは、０．２μｍ〜１０μｍ、好ましくは、０．５μｍ〜１．５μｍである。
【０１０９】
部分ラッカー層１５は第２領域３に印刷される。部分ラッカー層１５は、第２領域３において、金属層１３に広がる部分と、金属層１３を覆わない部分とを有する。ラッカー層１５は、第２光学情報１５１を形成する。第２光学情報１５１は、例えば、図示された細線のギロシェパターンである。図示しないが、ラッカー層１５の印刷を第１領域２の領域に重ねることもできる。
【０１１０】
図示された例では、ラッカー層１５は、エッチングレジストとして機能し、ラッカーを備えることが好ましい。ラッカーは、特に、バインダー、染料、顔料、特に、有色または無色顔料、効果顔料、薄層フィルムシステム、コレステリック液晶、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備える。
【０１１１】
適切なラッカーは、例えば、ＰＶＣ、ポリエステル、または、アクリレートに基づき形成される。したがって、部分ラッカー層１５は、金属層１３の構造化の間、保護機能を満たすだけでなく、装飾効果を奏することができる。更なる視覚効果をもたらすために、例えば、異なる着色による複数の異なるラッカーを使用することもできる。
【０１１２】
ラッカー層１４および１５の塗布および硬化後に、更なるエッチング処理が施される。これにより、図３に示す中間製品が得られる。第１領域２では、保護ラッカー層１４により金属層１３の構造が維持される。第２領域３では、部分ラッカー層１５により覆われていない部分で金属層１３が除去される。
【０１１３】
図３Ａに示されるように、これにより、多層体の視覚面、すなわち、キャリア層１１の方向から見て、金属層１３に塗布されていない部分で部分ラッカー層１５のラインパターンが認識可能となる。ラッカー層１５が金属層１３に塗布されると、金属層１３が残り、ラッカー層１５のラインパターンを金属構造として認識することができる。このため、第２光学情報１５１のラインパターンは、有色ラッカーと金属との間で継ぎ目なく連続する。
【０１１４】
その後、更なる光学情報１６１を形成する更なる部分ラッカー層１６が塗布される。これを図４に示す。ラッカー層１６は、第１領域２および第２領域３の両方に重なる。ラッカー層１６には、ラッカーが使用されており、ラッカーには、染料または顔料が使用されている。これらは、可視スペクトルで認識することはできないが、ＵＶ照射により蛍光の発生および／または発光が可能である。適切なラッカーは、例えば、膜形成要素としてのニトロセルロースおよび混合されたＵＶアクティブ顔料を含むアクリレートからなる。このような顔料は、例えば、Ｈｏｎｅｙｗｅｌｌ社製のルミルックス（登録商標）顔料とすることができる。更に、異なる印刷処理のために、無色または顔料印刷ラッカーを提供することができる。なお、異なる印刷処理には、例えば、顔料を用いた凹版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷がある。このようなラッカーは、例えば、発光により印刷可能に提供される。
【０１１５】
このため、更なる光学情報１６１は、ＵＶ光源によってのみ認識することができ、追加のセキュリティ特徴として機能する。更に、蛍光の放出はＵＶ光源の波長に応じて異なる。例えば、蛍光は３５６ｎｍの波長による励起で赤くなり、２４５ｎｍの波長による励起で緑になり、更なるセキュリティ特徴として機能する。また、例えば、更なる光学情報１６１は、バーコードのような機械読み取り可能パターンを表す。
【０１１６】
図５に示すように、更なる部分ラッカー層１７を塗布することができる。この場合、ラッカーが再び使用され、ラッカーには人間の目で認識することができる着色剤が使用される。更なる部分ラッカー層１７は、更なる光学情報１７１を形成する。ここでは、更なる光学情報１７１は、光学情報１３１、１５１、１６１に部分的に重なる星型のパターンを形成し、それらの背景を形成する。
【０１１７】
ラッカー層１５、１６、１７は、凹版印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、オフセット印刷、凸版印刷、インクジェット印刷および／またはレーザー印刷により塗布されることが好ましい。ラッカー層１５、１６、１７の厚さは、０．３μｍ〜３μｍ、好ましくは、０．５μｍ〜１．５μｍである。
【０１１８】
印刷後に、特に、２００ｎｍ〜４１５ｎｍの波長のＵＶ照射による放射線硬化が行われる。個々の印刷工程の前には、プライマーを塗布し、層の接着性を高めることができる。このため、例えば、ＰＶＣ、ポリエステル、または、アクリレートに基づく０．０１μｍ〜１μｍ、好ましくは、０．０２μｍ〜０．２μｍの厚さのラッカーが適している。
【０１１９】
最終的に、接着剤層１８が印刷層に塗布される。これにより、例えば、完成した多層体１をセキュリティドキュメントに固定することができる。例えば、ＰＶＣ、ポリエステル、アクリレート、繊維素エステル、天然樹脂、ケトン樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、または、これらの混合物が接着剤として適している。接着層の厚さは、１μｍ〜２５μｍ、好ましくは、１μｍ〜１５μｍである。
【０１２０】
図６Ａでは、多層体１の個々の層がどのように作用するかを認識することができる。装飾となる背景は、ラッカー層１７の星型パターンにより形成される。ラッカー層１６により形成され、ＵＶ照射によってのみ視認可能な光学情報１６１は、ラッカー層１７の上に重なる。装飾である前景は、第１光学情報１３１および第２光学情報１５１のギロシェラインにより成形される。
【０１２１】
これらのギロシェラインに加え、第２光学情報は、更なる特徴を形成することができる。図６Ａに示すように、第１光学情報１３１は、非対称構造に基づくコントラスト反転を有する外周マイクロテキストを備える。このコントラスト反転は、例えば、ブレーズドまたはいわゆる鋸歯状構造により実現することができる。ここで、全く同じブレーズド構造が、例えば、マイクロテキストの輪郭および内部に使用される。これらは互いに１８０°回転して配置される。これにより、代表的な明暗コントラスト反転では、例えば、通常の観察位置において、内部が明るく、輪郭が暗くなる。平面内でＯＶＤを１８０°回転させると、輪郭が明るく、内部が暗くなる。この視覚効果は、偽造に対する高いセキュリティおよび簡単な検証可能性を特徴とする。使用されるブレーズド構造の代表的なパラメータ値は、５００本／ｍｍ〜１５００本／ｍｍの範囲のライン数と、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の構造深さである。コントラスト反転は、そのような有色ブレーズド構造または粗い無色ブレーズド構造により実現することができる。
【０１２２】
ギロシェラインの中心には、更なるセキュリティ特徴が配置されている。更なるセキュリティ特徴は、複製層と作用する金属層１３により形成される。これらは、例えば、マイクロまたはナノ構造、ＤＡＣｓ（回折エリアコード）、有色または無色マイクロ構造に基づく回折細線効果（例えば、変化、転換、ポンプ効果）、バイナリまたは連続フレネル自由曲面、イメージフリップ効果、または、肉眼または簡単な支援（例えば、拡大鏡）または特殊な支援（例えば、マイクロスコープ）により認識できる別のセキュリティ構造、または、純機械読み取り可能セキュリティ構造である。
【０１２３】
また、更なる特徴を第２光学情報１５１の領域に設けることもできる。更なる特徴は、例えば、有色または無色マイクロ構造に基づく回折細線効果（例えば、変化、転換、ポンプ効果）、バイナリまたは連続フレネル自由曲面、イメージフリップ効果、または、肉眼または簡単な支援（例えば、拡大鏡）または支援（例えば、マイクロスコープ）により認識できる別のセキュリティ構造、または、純機械読み取り可能セキュリティ構造、情報であるマイクロまたはナノテキスト特徴、ダイナミック色彩効果である。
【０１２４】
特に、情報であるマイクロまたはナノテキスト特徴を、３μｍ〜２ｍｍ、好ましくは、１０〜５００μｍ、更に好ましくは、２０μｍ〜１５０μｍの範囲で大きさを連続的に変えて設けることができる。
【０１２５】
多層体１は、図７に示されたような身分証明書類のようなセキュリティドキュメント４に塗布される。これは、例えば、ホットスタンピング、積層、バックインジェクション成形、ＵＶ転写（コールドスタンピング）により行われる。また、多層体１をセキュリティドキュメント４に積層することもできる。キャリアは、多層体を塗布した後に、取り除かれる、または、基板に残る。更に、セキュリティドキュメント４は、更に塗布されたプライまたは層、例えば、それに積層された保護フィルムにより保護される。更に、セキュリティドキュメントを第１工程で更なる転写プライに転写し、次の工程で基板に転写し、転写プライと一緒に固定することができる。
【０１２６】
図７に示されたセキュリティドキュメント４の実施例では、多層体１は、身分証明写真４１と重なるように塗布される。その結果、セキュリティドキュメント４および／または多層体１を壊すことなく身分証明写真４１を除去することはできない。
【０１２７】
更なる工程において、多層体１は、更なるセキュリティ特徴４２、４３と部分的に重刷される。これは、例えば、インクジェット印刷、オフセット印刷、凸版印刷、または、ダイスタンピングにより行われる。セキュリティ特徴４２、４３は、情報である個別特徴を含み、多層体１がセキュリティドキュメント４から除去されないことを保証する。
【０１２８】
更に、セキュリティドキュメントの領域４４には、セキュリティドキュメント４に必要な個人情報が印刷される。個人情報の印刷は、インクジェット印刷により行うことができる。セキュリティ特徴上に印刷が行われる場合、印刷が短い時間で十分に乾くように、特に、水性インクには、特別な受容層またはインク受理層が必要とされる。このような層は、例えば、膨潤性層、微孔層、または、これら２つの組み合わせからなる。膨潤性層は、通常、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン誘導体、または、繊維素エステル、または、これらの混合物からなる。層厚は、通常、３μｍ〜１０μｍの範囲である。微孔層は、例えば、大量のフィラーを有するポリビニルアルコールからなる。このような層の厚さは、通常、５μｍ〜２５μｍ、好ましくは、５μｍ〜１５μｍである。
【０１２９】
それらのような層は、多層体１の一部であることが好まく、また、多層体１をセキュリティドキュメント４に塗布した後、それらの層は最上プライを形成する。別の方法として、多層体１をセキュリティドキュメント４に塗布した後に、例えば、凹版印刷、パッド印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷により、それらの層を塗布することができる。また別の方法として、別の転写処理、例えば、ホットスタンピングまたはＵＶ転写（コールドスタンピング）により、乾燥転写プライとしてそれらの層を塗布することができる。
【０１３０】
また、機械読み取り可能データを取り付けるために、更なるセキュリティドキュメントの領域４５を利用することができる。ここでは、例えば、セキュリティドキュメント４の持ち主の生体データを保存することができる。セキュリティドキュメントの領域４４では、情報である機械検知可能特徴をたとえば１Ｄまたは２Ｄバーコード形式で印刷することができる。特に、ドキュメントを一意的に識別する情報である特徴、例えば、ドキュメント番号、および／または、個人データの一部は、暗号化方法により暗号化され、機械検出可能情報としてドキュメントに印刷される。適切なアルゴリズムによりデータの一致を照合することができ、これにより、入力の信頼性を実証することができる。
【０１３１】
ドキュメント番号は、多層体１の領域に導入される、すなわち、多層体１に重なることが好ましい。この導入は、多層体１を改ざん不能にする技術、例えば、レーザーにより行うことが好ましい。
【０１３２】
更に、多層体１をセキュリティドキュメント４に塗布した後に、第１および／または第２領域における金属層の部分領域をレーザー照射により処理することにより、金属を除去することができる。これは、特に、番号のような個人識別を導入するために適している。この処理が第２部分領域に施されると、カラー印刷は金属のない領域で認識可能となり、セキュリティを更に高める。更に、レーザーパラメータを局所的に採用することにより、金属層のみ、または、金属層および色彩層を除去することができる。その結果、部分領域を有色または無色で設計することができ、セキュリティを更に高めることができる。多層体１が基板に塗布される前に、または、塗布された後に、このような処理を多層体１に施すことができる。
【符号の説明】
【０１３３】
１      多層体
１１    キャリア層
１２    転写プライ
１３    金属層
１３１  第１光学情報
１４    保護ラッカー層
１５    部分ラッカー層
１５１  第２光学情報
１６    部分ラッカー層
１６１  更なる光学情報
１７    部分ラッカー層
１７１  更なる光学情報
１８    接着剤層
２      多層体の領域
３      多層体の領域
４      セキュリティドキュメント
４１    写真
４２    セキュリティ特徴
４３    セキュリティ特徴
４４    セキュリティドキュメントの領域
４５    セキュリティドキュメントの領域
【図１Ａ）】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ）】
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【図２Ｂ）】
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【図３Ａ）】
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【図３Ｂ）】
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【図４Ａ）】
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【図４Ｂ）】
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【図５Ａ）】
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【図５Ｂ）】
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【図６】
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【図７】
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