(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性中間層シートによって一体化される２つのガラスシートから構成される積層自動車用ガラスパネルであって、そのガラスパネルが、前記２つのガラスシートのうちの１つに適用される導電層のシステムを含み、前記２つのガラスシートのうちの１つの端縁上に、前記２つのガラスシートのうちの１つと接触している実質的に不透明なマスキングストリップを含み、導電層の前記システムが少なくとも一部分、前記マスキングストリップを覆い、そのガラスパネルがまた、導電層の前記システムのうち前記マスキングストリップを覆う部分と接触している給電バスバーを含むガラスパネルにおいて、前記マスキングストリップが可視線を吸収する層の組立体を含み、前記可視線を吸収する層がカソードスパッタリングによって形成されることを特徴とする、ガラスパネル。
【請求項２】
厚さ４ｍｍの透明ガラスシートに適用される前記マスキングストリップが、このストリップを通しての可視光線透過率が高くても１％であるようになっている、請求項１に記載のガラスパネル。
【請求項３】
前記マスキングストリップが、その全厚さが４０００Å以下である層の組立体を有する、請求項１または２に記載のガラスパネル。
【請求項４】
前記可視線を吸収する層が、少なくとも１つの吸収および反射金属層、または群：Ｗ、Ｃｒ、Ｔａ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｖ、ＨｆおよびＮｉＣｒ、ＣｏＣｒ、ＺｒＣｒ、ＮｂＣｒおよびＮｉＣｒＷ、ステンレス鋼からの金属または金属の金属合金を含む金属化合物、ならびにまたこれらの金属および合金の部分的または完全窒化化合物をベースとした少なくとも１つの吸収および反射層を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラスパネル。
【請求項５】
前記吸収および反射金属層が、２．５以上である吸光係数ｋ（可視波長域、３５０〜７５０ｎｍについての前記係数の平均）を有する、請求項４に記載のガラスパネル。
【請求項６】
前記吸収および反射金属層が、３００Å以上である厚さを有する、請求項４または請求項５に記載のガラスパネル。
【請求項７】
前記吸収および反射金属層が、１０００Å以下である厚さを有する、請求項６に記載のガラスパネル。
【請求項８】
厚さ４ｍｍの透明ガラスシートに適用される前記マスキングストリップが、８％以下であるガラス側の反射を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のガラスパネル。
【請求項９】
前記可視線を吸収する層がまた、第１の層の性質に対して同じ性質または異なった性質の第２の吸収および反射層を含み、この第２の層が、前記マスキングストリップを形成するシステムを仕上げる誘電体層と共に、層のこのシステムが適用される前記ガラスシートの側の全反射を少なくとも部分的に相殺するための干渉光学システムを形成するように選択され、この第２の吸収および反射層が、前記ガラスシートと第１の吸収および反射層との間に配置される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のガラスパネル。
【請求項１０】
前記第２の吸収および反射層が、Ｗ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｖ、ＨｆおよびＮｉＣｒ、ＣｏＣｒ、ＺｒＣｒ、ＮｂＣｒおよびＮｉＣｒＷ、ステンレス鋼を含む群の金属および合金、ならびにまたこれらの金属および合金の部分的または完全窒化化合物のうちの１つから形成される、請求項９に記載のガラスパネル。
【請求項１１】
前記第２の吸収および反射層の厚さが前記第１の吸収および反射層の厚さの３分の１〜１０分の１の間である、請求項９または請求項１０に記載のガラスパネル。
【請求項１２】
前記第２の吸収および反射層が、構成材料の屈折率、ｎと、吸光係数の値ｋ（可視波長域、３５０〜７５０ｎｍについての前記係数の平均）と、オングストロームで表わされる前記層の厚さｅとの積、ｋ．ｎ．ｅが、少なくとも３００であるようになっている、請求項９〜１１のいずれか一項に記載のガラスパネル。
【請求項１３】
前記マスキングストリップが、本質的に透明であり前記干渉光学システムの形成に寄与する誘電体層を含む、請求項９に記載のガラスパネル。
【請求項１４】
前記マスキングストリップを担持する前記ガラスシートに直接に適用される第１の誘電体層が、１．５超の屈折率を有する、請求項１３に記載のガラスパネル。
【請求項１５】
前記誘電体層がＳｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘＮｙ、ＡｌＮ層である、請求項１３に記載のガラスパネル。
【請求項１６】
前記マスキングストリップが構造Ｇ／Ｄ１／Ｍ２／Ｄ２／Ｍ１／Ｄ３を有し、Ｍ１およびＭ２がそれぞれ第１および第２の吸収および反射層であり、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３が誘電体層であり、層Ｄ３が、下位層を機械的におよび／または化学的に保護する役割を本質的に有する、請求項９〜１５のいずれか一項に記載のガラスパネル。
【請求項１７】
前記第１の吸収および反射金属層が、少なくとも４０重量％のタングステンを含む合金から形成される層である、請求項１６に記載のガラスパネル。
【請求項１８】
前記第１の吸収および反射金属層がまたクロムを含む、請求項１７に記載のガラスパネル。
【請求項１９】
前記第２の吸収および反射層が前記第１の吸収および反射層の性質と同じ性質である、請求項９または請求項１６に記載のガラスパネル。
【請求項２０】
加熱導電層のシステムがカソードスパッタリングによって形成され、金属層および誘電体層の組立体を含み、前記組立体が、４０００Å（０．４μ）以下である厚さを有する、請求項１〜１９のいずれか一項に記載のガラスパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスパネルを加熱することが意図される導電層のシステムを含む自動車のガラスパネルに関する。より具体的には、本発明は、層のシステムに電力供給する条件によるこれらのガラスパネルの性能の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
実施において、層状の加熱ガラスパネルが、ガラスパネルの端縁に適用され且つ層と接触している導体によって給電に接続される。実際は、バスバーの名称で示される、この導体と、層のシステムとの間の電気的接触は必ずしも最良の条件下で提供されていない。結果として、この接触の不規則さが、一方では、最適化されない配電をもたらし、他方では、電流の通過に有利な領域の形成が、「ホットスポット」の名称で呼ばれるものを作り出す。後者が、ガラスパネルの形成時に使用される材料によって耐え得る温度内にあるとしても、電力の不均一な分配は、達成される性能を制限する。
【０００３】
最も普通の条件下では、印加され得る電圧が制限されるので−自家用車については最も一般的には１２〜１４Ｖまで−そしてこれらのガラスパネルの光透過率および反射におけるそれらの色に関連する理由のために層の抵抗を低下させることができないので、利用可能な有効電力が制限される。この電力のほとんど全てをガラスパネルの加熱に充てることを目標とする条件に近づくことが必要である。特にバスバーと導電層との境界面でのいかなる電力損失も、加熱性能を制限する。この電力損失は、最大の寸法を示すガラスパネルについては特に問題が多い。車において、最も需要が大きいガラスパネルは風防である。次に、本発明は風防に関して記載され、より適度な寸法のガラスパネルにも提案がなされると理解されたい。
【０００４】
層およびバスバーを別として、加熱ガラスパネルは最も一般的には、これらのガラスパネルの後ろに位置している目障りな要素を覆い隠すことを意図する手段を含む。グルー接着されるガラスパネルについて、グルーの不規則なビードは、ガラスパネルの端縁上に必ず位置しているグルー接着の相当する領域が不透明にされなければ、外側から可視的である。また、バスバーは、車の外観から隠されるべき要素のうちの一つである。
【０００５】
ガラスパネルの端縁のマスキングは慣例的に、ガラスパネルのこの領域を実質的に完全に不透明にするエナメル組成物を適用することによって実施される。このエナメルのコートされた領域の光透過率は、例えば、入射光の１％未満であり、通常は０．１％未満であり得る。
【０００６】
一般的に、光学量、光透過率（ＴＬ）、ガラス側の反射（Ｒｇ）および層側の反射（Ｒｃ）、吸収等が、２°の立体角でＤ６５標準化イルミナントを使用して厚さ４ｍｍの透明ガラスシートについて定量される。比色量Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊が、同様にイルミナントＤ６５、１０°でＣＩＥＬａｂ系で表わされ、測定は、ガラスシートへの法線に対して８°の角度で実施される。
【０００７】
エナメル組成物の適用は慣例的に、スクリーン印刷技術によって実施される。適用が実施されると、エナメル層を形成するために組成物を焼成する。この「焼成」は、一段階焼成または二段階焼成のどちらかである。積層ガラスパネルの製造において最もしばしば用いられる第２の場合では、第１の焼成が溶媒の除去をもたらし、印刷パターンを一時的に安定化させ、第２の焼成が、組成物中に存在しているフリットの溶融をもたらす。これらの２つの段階は一般的に、ガラスパネルの作製においての２つのモーメントに相当する。第１の段階は、組成物が適用されるシート上で実施され、第２の段階は有利には、曲げ熱処理に相当する。
【０００８】
積層ガラスパネル、特に風防において、マスキングエナメルは、車の外側に向いている少なくともシートに必ず適用される。また、最大電力を必要とする作業を構成する除氷のために必要な加熱を最適にするために加熱層のシステムがこのシートに適用されるのが有利である。エナメル加工された領域に対向する導電層のシステム上にバスバーが配置される。全てのこれらの要素は、熱可塑性中間層と接触しているシートの面、外側からシートの面に番号を付ける慣例的な名称で面２上に位置している。
【０００９】
本発明者は、マスキングエナメルの従来のストリップ上に配置される導電層のシステムの挙動を分析した。バスバーに供給される電力は、風防の可視領域上に配置される導電層に良くても部分的にのみ送られることをそれらは示している。これは、ガラスパネルの加熱性能に有害な電力損失をもたらす。この電力損失の由来を調べることによって特定の要因を検証することができたが、それらは、考慮に入れる場合、これらの性能の改良をもたらすことができる。
【００１０】
本発明は、この検証の結果からそしてこの電力損失の原因を克服する方法から得られる。本発明は請求項１の主題であり、それは、導電層のシステムをマスキングストリップに適用する影響に関し、従来のエナメルストリップの代案を提案する。
【００１１】
ガラスパネルを加熱するための有用な電力の損失の検証された１つの原因は、マスキングストリップの端縁において導電層の完全な連続性を確実にすることの困難さを招く。この困難さは主に、エナメル加工されたストリップの厚さのためである。導電層の厚さは、エナメル加工されたストリップの厚さよりもずっと小さい。エナメル加工された層の端縁において、導電層は、不連続性やそれらの横断面の著しい低下を伴わずに、それらの厚さの数十倍、またはさらに数百倍である境目を超えなければならない。エナメル加工されたストリップは、２０〜１５０μのオーダーの厚さを有し、導電層のシステムの厚さは、最も複雑なものでも、０．３〜０．４μのオーダーである。
【００１２】
本発明の請求の範囲に記載されるように、薄い層によって形成される不透明なストリップによるエナメル加工されたストリップの交換は、この境目効果およびそこから生じる欠陥を最小にすることができる。
【００１３】
ガラス基材上に使用される薄い層は、複数の用途を有する。最も普通の用途は、日射制御および特に赤外線の選択的反射によるエネルギー変換の制御を目標とする。また、薄い層は一般的に、導電性電極として使用される。他の層を使用してガラスパネル等の反射を最小にする。マスキングストリップとしての使用に関する要件は、これまでの用途の要件に相応しない。
【００１４】
これまで、低い光透過率をもたらす層でコートされるガラスパネルが提案されている。国際公開第２０１２／０９５３８０号パンフレットには、光透過率がわずか５％の値に達する場合がある自動車の屋根がこのように提案されている。この文献に提案された層の組成は一般的に、特に、可視波長域において吸収する、１つまたは複数の吸収性金属層と、本質的に透明であり、金属層を保護する役割を有する誘電体層とを含む。
【発明の概要】
【００１５】
本発明によるマスキングストリップ、したがって、それらを形成する層の際立った特徴は、完全な、またはほとんど完全な不透明度を有するという特徴である。光透過率は高くても１％であるのがよく、好ましくは０．５％を超えず、特に好ましくは高くても０．１％である。この性質は、反対に、できる限り高い可視域の透過率を維持しようとする多数の用途において必要とされる性質とは逆である。
【００１６】
カソードスパッタリングによって堆積される薄い層の利点は、これらの層が、必要とされる不透明度をもたらしながら比較的薄いままであることである。本発明による層のシステムは、４０００Å以下、および好ましくは３０００Å以下である全厚さを有する。
【００１７】
マスキングストリップを形成するために本発明によって使用される層のシステムは、Ｗ、Ｃｒ、Ｔａ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖ、ＨｆおよびＮｉＣｒ、ＮｂＣｒ、ＣｏＣｒ、ＺｒＣｒ、ＮｉＣｒＷならびにステンレス鋼を含む群からの金属または合金の、そして任意選択により同様に、これらの金属から形成される吸収性化合物、特に少なくとも部分的に窒化された化合物の、少なくとも１つの吸収／反射層を含む。
【００１８】
金属および合金のなかで、好ましいものはＣｒ、Ｚｒ、Ｗ、Ａｌおよびそれらの合金である。
【００１９】
図解的に、使用される層のシステムの構造は、形態：
Ｇ／…Ｍ１／…
に相当し、
Ｇはガラスシートであり、Ｍ１は吸収／反射層であり、このシステムは後に言及される他の要素を含む。
【００２０】
吸収層は、次のタイプ：
Ｇ／…Ｍ１（Ｍ１ａ／Ｍ１ｂ／Ｍ１ｃ）…／…
の上述のリストからのいくつかの「部分的」吸収層から構成されてもよい。
【００２１】
さらに、最も一般的な用途において、これらのマスキングストリップが、外側に向かってのできる限り低い反射を有することを製造元は要求している。それらは、できる限り目立たないのがよく、「鏡」に変わらないのがよい。したがって可視域での反射は好ましくはガラス面（Ｒｇ）で８％未満である。好ましくは、この反射は５％以下である。
【００２２】
製造元は一般的にこれらのマスキングストリップが「色のついた外観」ではないままであることを好む。これらのマスキング層でコートされたガラスパネルの部分によって反射される光は、できる限り無色である。比色において、この条件は、例えばＣＩＥＬａｂ系の座標ａ＊およびｂ＊が０に近いという事実によって表わされる。このようにコートされたガラスパネルの部分は、実質的に黒色および艶消しの外観を生じる。しかし、本発明から逸脱せずに、製造元の要求のもとにマスキングストリップに特定の着色を施すことが可能である。この着色は、反射がより強くなると、より多く見える。
【００２３】
また、不透明なストリップは、高い耐熱性処理を有するのがよい。考察されるガラスパネルは実質的に全て、６５０℃〜７００℃のオーダーの温度で約１０分間実施される曲げまたは焼き入れ作業に供される。マスキングストリップの性質が処理の終了時に損なわれず、例えば、真珠光沢を示さないことが必要である。適切である場合、この吸収層の耐性を改良するために、その唯一の役割が吸収層を保護することである、「犠牲」または「バリア」層として記載される薄い層をそれに付着させることが可能である。その場合、構造配置は次のタイプ：
Ｇ／…Ｂ１／Ｍ１／Ｂ２…
である。
【００２４】
バリア層Ｂ１およびＢ２が同時にまたは別々に使用され、同一であっても異なっていてもよい。それらは通常、一切の損傷、特に酸化による損傷に対して機能層を保護するために公知の方法で形成される層である。
【００２５】
本発明によって、マスキングの役割を果たすように使用される層は、有利には、一方で吸収、他方では反射／干渉の機構を組み合わせてもよい。
【００２６】
一般的に吸収は層Ｍ１の厚さと共に増加するが、反射もまた、この厚さと共に増加する。従って、上に示された要件を満たすために、多数の要因と協力することによって最良の妥協条件を見出すことが必要である。これらは、層の性質、ならびに吸収および反射材料のそれらの厚さのみならず、誘電体層の厚さの選択でもあり、それらは、吸収／反射層と共に、反射を最小にすることを可能にする光学干渉を決定する。
【００２７】
それらの厚さを過度に増やさずに良い吸収をもたらす吸収／反射層は有利には、可視域の波長（３５０〜７５０ｎｍ）の値の算術平均について求めた、吸光係数ｋが２．５以上、および好ましくは３以上である。
【００２８】
光透過をほとんど完全に阻むものを形成するために、吸収性および反射層は、これまで提案された層の厚さよりも通常大きい厚さを有する。上に示された文献において、提供された実施例は、その厚さが２５０Åを超えない吸収層を有する。好ましくは、本発明によるマスキングストリップは、その厚さがこれらの層の性質に応じて３００Å以上、および好ましくは４００Å以上である少なくとも１つの吸収／反射層を含む。
【００２９】
選択される厚さは、金属層の性質、したがってその吸光係数の関数である。吸収性が最も小さい層については、したがって厚さを増す傾向がある。この増加は、大きい反射率をもたらす場合がある。好ましくは、この傾向を抑えるために、吸収／反射金属層は、９００Å以下、および好ましくは８００Å以下の厚さを有する。
【００３０】
本発明によって解決される難題の１つは、非常に高い吸収を外側の方向への限られた反射と首尾よく両立させることである。先述のように、吸収層の厚さの増加は反射の増加を不可避的にもたらす。これらの条件下で、記載した条件を満たす製品に至るために、材料の選択、使用される厚さの選択を最適にすること、および層の組合せによって生じる光学干渉に影響を及ぼすことによって特に反射のより良い制御を可能にする配置の使用を最適にすることが必要である。
【００３１】
後者の点から有利には、上述の主な吸収／反射層Ｍ１に対して同じ性質または異なった性質の第２の吸収／反射層、Ｍ２を使用することになる。マスキングストリップを構成する層のシステムにおいてこの第２の層は、マスキングストリップが適用されるガラスシートと、上述の吸収／反射層との間に位置している。このシステムの構造はこのように示される。
Ｇ／…／Ｍ２／…／Ｍ１／…
【００３２】
その一つの役割が反射を制限することであるこの第２の層、Ｍ２は、第１の吸収／反射層、Ｍ１の特徴とは異なった、際立った特徴を有してもよい。しかしながら、同じ金属材料、すなわち：Ｗ、Ｃｒ、Ｔａ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖ、ＨｆおよびＮｉＣｒ、ＮｂＣｒ、ＣｏＣｒ、ＺｒＣｒ、ＮｉＣｒＷおよびステンレス鋼、ならびに先述の材料から得られる部分的または完全窒化化合物を使用してもよい。後者は、この導電率が実質的により低くても、金属のような、特定の導電率の際立った特徴を示す。
【００３３】
この層Ｍ２は、層Ｍ１のように、いくつかの部分層から構成されてもよい。
【００３４】
この第２の層Ｍ２の特徴は、第１の吸収／反射層Ｍ１の特徴とは実質的に異なる。吸光係数は実質的により低くてもよく、そして厚さもまたより小さくてもよい。好ましくは、反射を低減することを可能にするこの第２の層Ｍ２は、第１の吸収／反射層Ｍ１の厚さの３分の１〜１０分の１の間の厚さを有する。
【００３５】
この第２の層（その性質は先述のような複数の要因に依存する）の特徴は、吸光係数ｋ（可視波長域についての係数の平均）、屈折率ｎおよびオングストロームで表わされる層の厚さｅの積の値に対して表わされてもよい。この積、ｋ．ｎ．ｅは好ましくは少なくとも３００に等しく、特に好ましくは少なくとも４００に等しい。
【００３６】
それらの光学特徴とは関係なく、Ｍ１および任意選択によりＭ２（Ｍ２が金属または合金である場合）の金属および合金のなかで、その性質を変える可能性がある熱処理にあまり影響されやすくはないものが好ましい。チタンなどの、酸化に非常に影響されやすい金属が使用される場合、それらは好ましくは、先述のようなバリア層によってまたはより耐性がある合金の形態で保護される。
【００３７】
最も耐性がある組合せのなかには、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、ＮｂおよびＷをベースとした合金、例えばＮｉＣｒ、ＺｒＣｒ、ＮｂＺｒ、ＮｉＣｒＷおよびステンレス鋼、特にインコネルがある。
【００３８】
本発明によって、１つの特に好ましい合金はタングステンおよびニッケルをベースとしている。タングステンは、少なくとも４０％を占める。有利には、この合金はクロムをさらに含む。
【００３９】
また、マスキングストリップを形成する層のシステムは、反射を制限する干渉システムの形成に特に寄与する誘電体層を含む。吸収層については、誘電体層のそれぞれがいくつかの部分層を含んでもよい。
【００４０】
第１の誘電体層は有利にはガラスシートと直接に接触して適用される。
Ｇ／Ｄ１／…
【００４１】
この層は、様々な方法で介在してもよく、一方では、熱処理の間にガラスシートから生じるイオンの拡散に対するバリアを形成することによってその上に重ねられる層の保護物として介在してもよい。この役割で、移動に対する有効な障害物を形成することで知られているＳｉＯ２などの層を用いてもよい。ＳｉＯ２の低い屈折率は、この層が反射を抑えることに関与しないことを意味する。層が「反射除去」に著しく関与することを確実にするために、誘電体層Ｄ１は、公知のように、それが適用されるガラスシートの屈折率よりも大きい屈折率を有するのがよい。したがってその屈折率は有利には１．５超および好ましくは１．７超である。好ましい誘電体層は特にＳｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘＮｙ、ＡｌＮ、ＳｎＯ２、ＺｎＳｎＯ、ＴｉＯ２である。システムに応じて、Ｄ１の厚さは有利には、２００〜７００Åの間にある。
【００４２】
好ましくは、本発明による層のシステムの構造は、以下の配置：
Ｇ／Ｄ１／Ｍ２／Ｄ２／Ｍ１…
に相当する。
【００４３】
Ｄ２は、Ｄ１の性質に対して同じ性質であっても異なった性質であってもよい。上述の材料の他に、従来の透明な誘電体：ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＺｎＳｎＯ等を使用することができる。
【００４４】
層Ｄ２は、反射を制限する役割が本質的に意図されている。その厚さおよびその屈折率はこの役割によって決定される。それは約２００〜９００Å、および好ましくは３００〜８００Åの間にある。
【００４５】
また、層のシステムは、システムを保護する主な目的のために層Ｍ１上に重ねられてシステム：
Ｇ／Ｄ１／Ｍ２／Ｄ２／Ｍ１／Ｄ３
をもたらす、誘電体層Ｄ３を含んでもよい。
【００４６】
Ｄ３の保護は第一に、機械的タイプであり、これらのマスキングストリップを含むシートは、積層ガラスパネルに含まれるとき、実際のところ、外的危険に対して保護される。この機械的保護は、積層体の形成に先行する取扱作業および貯蔵の間のリスクを考慮に入れている。また、この誘電体層が介在して、熱処理作業の間に層のシステムを保護する。これらの役割において、誘電体層Ｄ３は有利には硬い層、特に窒化物の層であり、その厚さは非常に様々な値をとってもよい。この厚さは好ましくは少なくとも１００Åである。
【００４７】
本発明の特定の一実施形態において、層のシステムは任意選択により、２つの吸収／反射層の間に誘電体層Ｄ２を有さなくてもよい。そこでシステムは以下の構造：
Ｇ／Ｄ１／Ｍ２／Ｍ１／Ｄ３
に相当する。
【００４８】
このタイプの構造が所望の性質の全て、特に、制限された反射をもたらすことができる理由は、おそらく、吸収／反射層と、このような層を含む構造において層Ｄ２に帰せられる誘電体層との両方の要件を満たす化合物Ｍ２の存在にある。
【００４９】
本発明は、図面を参照して次に詳細に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】ガラスシートのうちの１つの上の、加熱層のシステムを含むガラスパネルに存在している要素の配置を示す。
【図２】加熱積層ガラスパネルの端縁を示す。
【００５１】
これらの図面において、寸法の比率は説明の便宜上考慮されない。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
図１は、風防などのガラスパネルのガラスシート上の層状加熱組立体の成分の配置を示す。
【００５３】
ガラスシート１は、シートの端縁上に配置されたマスキングストリップ４を含む。このストリップは、美しくない要素、特に、マスキングストリップの上とガラスシートのすぐ上との両方に延在する導電層５のシステムに電力供給するバスバー６を隠すように意図される。
【００５４】
図２は、ガラスシートと、図１に示されるシートによって担持される機能成分とを組み入れる積層ガラスパネルを示す。
【００５５】
ガラスパネルは、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）またはエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）タイプの熱可塑性中間層シート３によって組み立てられる２つのガラスシート１、２を含む。加熱システムの要素は全て、中間層シートの方向に向けられたガラスシートの面に適用される。ガラスシート１は、外側の大気と接触しているガラスシートである。この配置は、加熱層が大気の有害物に直接に暴露されるシートと直に接触している限り、好ましい。様々なガラスおよび中間層シートの低い熱伝導率を考慮すれば、この配置での伝熱は、可能な限り最も良い条件下で行なわれる。
【００５６】
マスキングストリップ４の他に、シート１は、加熱層５のシステムと供電装置（ｓｕｐｐｌｙ  ｃｏｌｌｅｃｔｏｒ）（バスバー）６とを担持する。ガラス／マスキングストリップ／加熱層／バスバーの配列は、これらの要素それぞれの役割によって制御される。層５のシステムは必ずバスバー６と接触しており、そしてこのバスバーは、ストリップ４によってマスクされなければならない。この配置において、マスキングストリップに適用される加熱層は、ガラスシート１と直接に接触しているこの層の部分を延長する。マスキングストリップ４からガラスシート１に移るとき、層は、不連続になったり均質性を失ったりせずにマスキングストリップの端縁を交差して、バスバー６によって送られる電力のできる限り高い伝送を可能にしなければならない。
【００５７】
従来の方式において、導電層５の厚さとエナメル加工されたマスキングストリップ４の厚さとの間の厚さの差は、この境目に沿う導電層の連続性を損なう。
【００５８】
マスキングストリップ４を導電層の厚さ程度の厚さを有する層から形成する選択は、エナメルストリップに対して観察される欠陥をかなり低減する。
【００５９】
そのマスキングストリップが従来の方法でエナメルのスクリーン印刷によって製造されるガラスパネルと、そのマスキングストリップが本発明によるカソードスパッタリングによって得られるガラスパネルとの間の比較を実施する。
【００６０】
両方の場合において、厚さ２．１ｍｍの透明ガラスシートから支持体が形成される。導電層は、国際公開第２０１１／１４７８７５号パンフレットに記載される通りである。それらは３つの銀層を含む。層の全厚さは、提案された組立体に応じてわずかに変化するが、４０００Åのオーダーにとどまる。原則として、導電層のシステムの全厚さは０．６μを超えない。
【００６１】
試験条件下でガラスだけの上の層の抵抗の測定値は、０．８０Ω／□に確認されている。従来のスクリーン印刷によって製造されたエナメルマスキングストリップ上で、この抵抗は３２０Ω／□に測定され、エナメルストリップに適用される導電層の抵抗は４Ω／□のオーダーである。
【００６２】
したがってエナメルストリップに適用される層の電導は、特に、エナメル層のかなりの粗さのために実質的に損なわれる。この難点はそれにもかかわらず、エナメルストリップからガラスシートへの導電層の移行に相応する難点よりもずっと有害ではない。エナメルストリップの境目での抵抗の測定値はせいぜい５Ω／□以上であるが、所々、導電層がこの境目に沿って破断される時に限りなく上昇する場合がある。
【００６３】
本発明による第１の試験において、以下の連続した層から形成されるマスキングストリップが形成され、括弧内の厚さはオングストローム単位で表わされる。
ガラス／Ｓｉ３Ｎ４（５６３）／ＮｉＣｒＷ（７２）／Ｓｉ３Ｎ４（５００）／ＮｉＣｒＷ（５００）／Ｓｉ３Ｎ４（５００）
【００６４】
このシステムは、金属層のためにアルゴン雰囲気中でおよび窒化ケイ素の形成のために窒素雰囲気中で、金属カソードを使用して従来の条件下でマグネトロンカソードスパッタリングによって適用される。
【００６５】
２０〜１５０μのオーダーであるスクリーン印刷されたエナメル層の通例の厚さと比較して、マスキングシステムの層のシステムの全厚さは２１３５Å、すなわち０．２１３５μである。カソードスパッタリングによって得られるマスキングストリップは、導電層のシステムの厚さと同等の厚さを有する。このマスキングストリップの境界の「境目」は、従来のエナメルに相当する境目とは全く異なっている。導電層の連続性はより良く確実にされる。この場合、導電層の抵抗の測定は、マスキングストリップ上でも、ガラスシート上でも、あるいは代わりにマスキングストリップとこのストリップのない部分との間の移行部を形成する部分上で測定されても、実質的に同じである。測定値は全ての場合において０．７８Ω／□であり、ガラス上の導電層の抵抗に関してこれまでの場合において測定された測定値に類似している。
【００６６】
マスキングストリップでコートされたガラスパネルはさらに、ほとんど無彩色の黒色の外観となり、このストリップにおいて０．５％未満の透過率およびガラス側の４．３％の反射を与える。比色指数はａ＊０．１およびｂ＊−０．３である。
【００６７】
反射除去層Ｍ２がない場合、光学結果は実質的に変えられる。測定は吸収層の以下のシステム：
ガラス／Ｓｉ３Ｎ４（５００）／ＮｉＣｒＷ（５００）／Ｓｉ３Ｎ４（５００）
について実施される。
【００６８】
この組立体について透過率はわずかに高めである。それは２．２％に確認されている。しかしとりわけ第２の金属層がない場合の反射は著しく増加し、Ｒｇは２５．５％に上昇し、そして同時に反射はそれほどニュートラルではなく、ａ＊３．１およびｂ＊０．８である。
【００６９】
層の性質、それらの厚さおよびこれらの組立体の構造を変化させることによって様々な試験を行なう。
【００７０】
１．Ｇ／Ｄ１／Ｍ２／Ｄ２／Ｍ１／Ｄ３構造において、Ｍ１の性質が変化させられる。
【００７１】
【表１】
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【００７２】
試験１、３、４について、所望の性質：非常に低い透過率、制限された反射および色の中立が満たされる。吸光係数の値に応じて、Ｍ１の厚さがより大きいかまたはより小さい。ｋが高くなればなるほど、Ｍ１が薄くなる。
【００７３】
実施例２は、Ｍ１およびＭ２の相対位置の重要性を示す。この試験において、最も厚い吸収／反射層がガラスシートに最も近い。吸収が非常に高いままである場合、反射がガラスシート側で好適に減衰されないことが観察される。逆に、層側では、表に示されない反射は、４％のオーダーの低いままである。
【００７４】
前の観察から始めて、反射がガラス側と層側との両方で低い場合、以下に相当する３つの吸収層を含む構造：
Ｇ／Ｄ１／Ｍ２／Ｄ２／Ｍ２／Ｄ３／Ｍ３／Ｄ４
が使用されてもよい。
【００７５】
例として、以下の組立体が作製される。
Ｇ／Ｓｉ３Ｎ４（５６７）／ＮｉＣｒＷ（７２）／Ｓｉ３Ｎ４（５０８）／ＮｉＣｒＷ（４３４）／Ｓｉ３Ｎ４（４４８）／ＮｉＣｒＷ（８４）／Ｓｉ３Ｎ４（４８３）
【００７６】
この組立体について、反射性質は、実施例１および２において別々に、前に得られた反射性質である。
【００７７】
実施例５は、導電性の材料（ＣｒＮ）を必要とするが、それは金属または金属合金に対して電導が低下している。この材料の吸光係数は金属および合金の場合よりも著しく低い（１．８）。同等の性能を達成するために、相応する層の厚さを実質的に増加させることが必要である。
【００７８】
２．これらの試験において、Ｍ２の性質が変化させられる。
【００７９】
【表２】
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【００８０】
【表３】
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【００８１】
低いｋ係数のために、本発明に従って好ましい条件の回復を試みるためにＭ２の厚さを増加させるのがよい。また、これは次表に記載される積ｎ．ｋ．ｅによって表わされる結果である。この積が非常に小さい場合、反射は比較的高い。これは、例えばアルミニウム（８）または銅（９）についての場合である。厚さの著しい増加は、ＡＺＯ（１４）の場合と同じように非常に低い吸光係数を補償する場合がある。
【００８２】
【表４】
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【００８３】
３．Ｄ１の影響
【００８４】
【表５】
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【００８５】
層Ｄ１が無いことによって反射の増加がもたらされる。
【００８６】
４．Ｄ２の屈折率の影響
【００８７】
【表６】
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【００８８】
厚さおよび屈折率の作用によって、様々な材料に関して所望の条件をもたらす干渉条件を達成することができる。
【００８９】
前の表からの実施例１５は、材料Ｍ２、この場合ＺｒＮの特定の組合せにおいて、特定の誘電体層が無いことは良好な結果を得る妨げにならないことを示す。
【００９０】
示された実施例は、適切なマスキングストリップを形成することができる層のシステムを形成する組合せの大きな多様性を示す。これらの条件下でのシステムの選択は、これらの層の製造の容易さなどの付加的な考慮事項の関数である。
【００９１】
マスキングストリップだけの形成物がガラスパネルの表面の小さな部分をコートする。カソードスパッタリング技術は、コートされるべきでないガラスパネルの一部分をマスクすることを必要とする。不透明化ストリップを堆積する間にソリッドマスクがガラスシートに適用されてもよい。問題のガラスパネルの作製は好ましくは、コートされるべきでない領域に保護フィルムを適用する工程を経て、次にそのフィルムを導電層の適用のために除去する。このタイプの技術は、例えば国際公開第０３／０８０５２８号パンフレットに記載されている。
【図１】
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【図２】
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