(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表されるバルク組成を有する、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応によって共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒であって、
触媒粒子表面におけるＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率を、触媒バルクのＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率で除した値の標準偏差が、０．３以下である、共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒。
Ｍｏ12ＢｉpＦｅqＡaＢbＣcＤdＥeＦfＯx  （１）
（式中、ＡはＮｉ及びＣｏなる群からから選ばれる少なくとも1種の元素、Ｂはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素、ＣはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ及びＭｎからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｄは少なくとも１種の希土類元素、ＥはＣｒ、Ｉｎ及びＧａなる群からから選ばれる少なくとも1種の元素、ＦはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｘはそれぞれＭｏ１２原子に対するＢｉ、Ｆｅ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及び酸素の原子数を表し、０．１≦ｐ≦５、０．５≦ｑ≦８、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５、０≦ｅ≦５、０≦ｆ≦２００であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
【請求項２】
前記標準偏差が０．２以下でかつ、式（１）におけるｐが０．１５≦ｐ≦３である、請求項１に記載の金属酸化物触媒。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の金属酸化物触媒を用いて、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応により共役ジオレフィンを製造する方法。
【請求項４】
前記モノオレフィンがｎ-ブテンであり、前記共役ジオレフィンが１,３−ブタジエンである、請求項３に記載の共役ジオレフィンを製造する方法。
【請求項５】
前記酸化脱水素反応を流動層反応で行う、請求項３又は４に記載の共役ジオレフィンを製造する方法。
【請求項６】
下記式（１）で表されるバルク組成を有する、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応によって共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒の製造方法であって、
（ｉ）少なくともＭｏを含むＭｏ含有液と、少なくともＢｉを含むＢｉ含有液とを用意する工程、
（ｉｉ）前記Ｍｏ含有液を第一の流路に連続的に供給し、前記Ｂｉ含有液を第二の流路に連続的に供給し、かつ第一の流路と第二の流路とを前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液それぞれの供給個所よりも下流で合流させることによって、前記Ｍｏ含有液と前記Ｂｉ含有液とを混合してＭｏＢｉ含有液を得る工程、及び
（ｉｉｉ）前記ＭｏＢｉ含有液を乾燥させる工程、
を含み、
前記（ｉｉ）工程と前記（ｉｉｉ）工程との間に、さらに、
（ｖ）前記ＭｏＢｉ含有液を貯留する工程
を有し、
前記（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｖ）工程の一連の処理がバッチ処理方式で行われ、（ｉｉ）工程で得られたＭｏＢｉ含有液の一バッチ分全量が（ｖ）工程において貯留され、
前記（ｉｉ）工程において、前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液の前記第一の流路又は前記第二の流路への質量供給速度を、各々、ｍＡ（ｇ／ｍｉｎ）及びｍＢ（ｇ／ｍｉｎ）としたときに、前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液の一バッチあたりの全供給量ＭＡ（ｇ）及びＭＢ（ｇ）の合計量の６０質量％以上が、式（３）を満たすように供給される、金属酸化物触媒の製造方法。
（ｍＢ／ｍＡ）／（ＭＢ／ＭＡ）＝０．５〜１．５  （３）
Ｍｏ12ＢｉpＦｅqＡaＢbＣcＤdＥeＦfＯx  （１）
（式中、ＡはＮｉ及びＣｏからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｂはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素、ＣはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ及びＭｎからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｄは少なくとも１種の希土類元素、ＥはＣｒ、Ｉｎ及びＧａからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、ＦはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｘはそれぞれＭｏ１２原子に対するＢｉ、Ｆｅ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及び酸素の原子数を表し、０．１≦ｐ≦５、０．５≦ｑ≦８、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５、０≦ｅ≦５、０≦ｆ≦２００であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
【請求項７】
前記（ｉｉ）工程と前記（ｉｉｉ）工程との間に、さらに、
（ｉｖ）前記ＭｏＢｉ含有液をさらに混合する工程
を有する、請求項６に記載の金属酸化物触媒の製造方法。
【請求項８】
下記式（１）で表されるバルク組成を有する、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応によって共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒の製造方法であって、
（ｉ）少なくともＭｏを含むＭｏ含有液と、少なくともＢｉを含むＢｉ含有液とを用意する工程、
（ｉｉ）前記Ｍｏ含有液を第一の流路に連続的に供給し、前記Ｂｉ含有液を第二の流路に連続的に供給し、かつ第一の流路と第二の流路とを前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液それぞれの供給個所よりも下流で合流させることによって、前記Ｍｏ含有液と前記Ｂｉ含有液とを混合してＭｏＢｉ含有液を得る工程、及び
（ｉｉｉ）前記ＭｏＢｉ含有液を乾燥させる工程、
を含み、
前記ＭｏＢｉ含有液が、前記（ｉｉｉ）工程へ連続的に供され、
前記（ｉｉ）工程において、前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液の前記第一の流路又は第二の流路へモル供給速度を、各々、ｍα（ｍｏｌ／ｍｉｎ）及びｍβ（ｍｏｌ／ｍｉｎ）としたときに、
前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液が、式（４）を満たすように供給される、
金属酸化物触媒の製造方法。
（ｍβ／ｍα）／（ｐ／１２）＝０．８〜１．２  （４）
Ｍｏ12ＢｉpＦｅqＡaＢbＣcＤdＥeＦfＯx  （１）
（式中、ＡはＮｉ及びＣｏからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｂはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素、ＣはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ及びＭｎからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｄは少なくとも１種の希土類元素、ＥはＣｒ、Ｉｎ及びＧａからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、ＦはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｘはそれぞれＭｏ１２原子に対するＢｉ、Ｆｅ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及び酸素の原子数を表し、０．１≦ｐ≦５、０．５≦ｑ≦８、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５、０≦ｅ≦５、０≦ｆ≦２００であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属酸化物触媒およびその製造方法ならびにその製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ｎ−ブテンと酸素との酸化脱水素反応により、１，３−ブタジエン（以下、単に「ブタジエン」ともいう。）を製造する方法はよく知られている。
例えば、特許文献１には、打錠成型したモリブデン含有触媒を固定床反応器に充填し、ｎ−ブテンと酸素とを含む原料ガスを供給してブタジエンを製造する方法が開示されている。
また、特許文献２には、Ｍｏ、Ｂｉ、Ｆｅ等の金属酸化物をシリカ等の担体に担持した触媒粉体粒子を流動床反応器に充填し、ｎ−ブテンと酸素とを含む原料ガスと接触させてブタジエンを製造する方法が開示されている。【０００３】
特許文献１に記載の固定床反応方式は、ガスの流動状態が押し出し流れに近いために、反応収率を高くできるという利点があり、工業的にも広く採用されている反応方式である。しかしながら、固定床反応方式は伝熱性が低く、除熱や加熱が必要な発熱反応や吸熱反応には不向きであるという問題がある。特にｎ−ブテンの酸化脱水素反応のように激しく発熱する反応では、温度が急激に上昇して制御困難に陥り、反応が暴走する恐れがある。さらに、こうした急激な温度上昇によって、触媒がダメージを受け、早期に劣化してしまうという問題もある。
これに対し、特許文献２に記載の流動床反応方式は、反応器内を触媒粒子が激しく流動することにより、（１）伝熱性が高く、大きな発熱や吸熱を伴う反応時も反応器内の温度をほぼ均一に保持し、過度の反応進行を抑制できる、（２）エネルギーの局所的な蓄積が抑制されるため、爆発範囲内の原料ガスを反応させることが可能であり、原料濃度を高めて生産性を向上させることができる、という利点がある。したがって、流動床反応方式は、大きな発熱反応であるｎ−ブテンの酸化脱水素反応に適した反応方式といえる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１４６６５５号公報
【特許文献２】特許第５３７１６９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、ｎ−ブテン等のモノオレフィンからブタジエン等の共役ジオレフィンを製造する際に使用されるＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒は数多く知られているものの、その触媒性能は十分とはいえない。
さらに、その製造方法に関しても、従来技術には課題がある。例えば、特許文献１では、一旦触媒前駆体を調製し、乾燥・焼成後、これを粉砕して、再度触媒調製を行なうという非常に煩雑な工程を必要とする。また、特許文献２にも触媒の製造方法が開示されているが、この方法でも十分に高い触媒性能を有する触媒は得られない。【０００６】
そこで、本発明は、モノオレフィンから共役ジオレフィンを製造するＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒であって、より高い触媒性能を有する金属酸化物触媒、および、そのような触媒の製造方法ならびにその製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らが上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、従来のＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒は、その表面におけるＭｏとＢｉの組成比が不均一であること、そして、これにより十分な触媒性能が発揮されていないことが判明した。
さらに、ＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒は、一般に、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液とを混合して得られたスラリー状のＭｏＢｉ含有液を用いて製造されるところ、このＭｏ含有液とＢｉ含有液の混合方法が該触媒の表面におけるＭｏとＢｉの組成比の均一性に大きな影響を与えていることを見出した。そして、前記スラリーの調製の際にＭｏ含有液とＢｉ含有液とを特定の方法で混合すれば触媒表面におけるＭｏとＢｉの組成比が均一なＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒を製造できることを見出し、本発明を完成させた。【０００８】
すなわち、本発明は、下記の通りである。
［１］下記式（１）で表されるバルク組成を有する、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応によって共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒であって、触媒粒子表面におけるＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率を、触媒バルクにおけるＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率で除した値の標準偏差が、０．３以下である、共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒。
Ｍｏ１２ＢｉｐＦｅｑＡａＢｂＣｃＤｄＥｅＦｆＯｘ  （１）
（式中、ＡはＮｉ及びＣｏなる群からから選ばれる少なくとも1種の元素、Ｂはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素、ＣはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ及びＭｎからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｄは少なくとも１種の希土類元素、ＥはＣｒ、Ｉｎ及びＧａなる群からから選ばれる少なくとも1種の元素、ＦはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｘはそれぞれＭｏ１２原子に対するＢｉ、Ｆｅ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及び酸素の原子数を表し、０．１≦ｐ≦５、０．５≦ｑ≦８、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５、０≦ｅ≦５、０≦ｆ≦２００であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
［２］前記標準偏差が０．２以下でかつ、式（１）におけるｐが０．１５≦ｐ≦３である、［１］に記載の金属酸化物触媒。
［３］前記モノオレフィンがｎ-ブテンである、［１］又は［２］に記載の金属酸化物触媒。
［４］前記共役ジオレフィンが１,３−ブタジエンである、［１］から［３］のいずれかに記載の金属酸化物触媒。
［５］前記酸化脱水素反応を流動層反応で行う、［１］から［４］のいずれかに記載の金属酸化物触媒。
［６］式（１）で表されるバルク組成を有する、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応によって共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒の製造方法であって、
（ｉ）少なくともＭｏを含むＭｏ含有液と、少なくともＢｉを含むＢｉ含有液とを用意する工程、
（ｉｉ）前記Ｍｏ含有液を第一の流路に連続的に供給し、前記Ｂｉ含有液を第二の流路に連続的に供給し、かつ第一の流路と第二の流路とを前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液それぞれの供給個所よりも下流で合流させることによって、前記Ｍｏ含有液と前記Ｂｉ含有液とを混合してＭｏＢｉ含有液を得る工程、及び
（ｉｉｉ）前記ＭｏＢｉ含有液を乾燥させる工程、
を含む、金属酸化物触媒の製造方法。
Ｍｏ１２ＢｉｐＦｅｑＡａＢｂＣｃＤｄＥｅＦｆＯｘ  （１）
（式中、ＡはＮｉ及びＣｏからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｂはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素、ＣはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ及びＭｎからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｄは少なくとも１種の希土類元素、ＥはＣｒ、Ｉｎ及びＧａからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、ＦはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｘはそれぞれＭｏ１２原子に対するＢｉ、Ｆｅ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及び酸素の原子数を表し、０．１≦ｐ≦５、０．５≦ｑ≦８、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５、０≦ｅ≦５、０≦ｆ≦２００であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
［７］前記（ｉｉ）工程と前記（ｉｉｉ）工程との間に、さらに、
（ｉｖ）前記ＭｏＢｉ含有液をさらに混合する工程
を有する、［６］に記載の金属酸化物触媒の製造方法。
［８］前記（ｉｉ）工程と前記（ｉｉｉ）工程との間に、さらに、
（ｖ）前記ＭｏＢｉ含有液を貯留する工程
を有する、［６］又は［７］に記載の金属酸化物触媒の製造方法。
［９］前記（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｖ）工程の一連の処理がバッチ処理方式で行われ、（ｉｉ）工程で得られたＭｏＢｉ含有液の一バッチ分全量が（ｖ）工程において貯留される、［８］に記載の金属触媒の製造方法であって、
前記（ｉｉ）工程において、前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液の前記第一の流路又は前記第二の流路への質量供給速度を、各々、ｍＡ（ｇ／ｍｉｎ）及びｍＢ（ｇ／ｍｉｎ）としたときに、前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液の一バッチあたりの全供給量ＭＡ（ｇ）及びＭＢ（ｇ）の合計量の６０質量％以上が、式（３）を満たすように供給される、金属酸化物触媒の製造方法。
（ｍＢ／ｍＡ）／（ＭＢ／ＭＡ）＝０．５〜１．５  （３）
［１０］前記ＭｏＢｉ含有液が、前記（ｉｉｉ）工程へ連続的に供される、［６］又は［７］に記載の金属酸化物触媒の製造方法。
［１１］前記（ｉｉ）工程において、前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液の前記第一の流路又は第二の流路へモル供給速度を、各々、ｍα（ｍｏｌ／ｍｉｎ）及びｍβ（ｍｏｌ／ｍｉｎ）としたときに、
前記Ｍｏ含有液及び前記Ｂｉ含有液が、式（４）を満たすように供給される、
［６］、［７］又は［１０］に記載の金属酸化物触媒の製造方法。
（ｍβ／ｍα）／（ｐ／１２）＝０．８〜１．２  （４）
［１２］式（１）で表されるバルク組成を有する、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応によって共役ジオレフィンを製造するための金属酸化物触媒の製造装置であって、
少なくともＭｏを含むＭｏ含有液を送液するための第一の流路、少なくともＢｉを含むＢｉ含有液を送液するための第二の流路、及び、前記第一の流路と第二の流路が合流する合流部を含む、金属酸化物触媒の製造装置。
Ｍｏ１２ＢｉｐＦｅｑＡａＢｂＣｃＤｄＥｅＦｆＯｘ  （１）
（式中、ＡはＮｉ及びＣｏからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｂはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素、ＣはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ及びＭｎからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｄは少なくとも１種の希土類元素、ＥはＣｒ、Ｉｎ及びＧａからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、ＦはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｘはそれぞれＭｏ１２原子に対するＢｉ、Ｆｅ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及び酸素の原子数を表し、０．１≦ｐ≦５、０．５≦ｑ≦８、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５、０≦ｅ≦５、０≦ｆ≦２００であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
［１３］さらに、前記合流部の下流に位置する混合器を有する、［１２］に記載の金属酸化物触媒の製造装置。
［１４］前記混合器が静止型混合器である、［１２］又は［１３］に記載の金属酸化物触媒の製造装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、優れた触媒性能を有するＭｏＢｉ金属酸化物触媒を提供でき、また、そのような触媒を連続的に安定して製造する方法と製造装置とを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る金属酸化物触媒の製造装置の一例を示す概念図である。
【図２】静止型混合器の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態（以下、単に「本実施形態」ともいう。）について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１２】
＜ＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒＞
本実施形態の金属酸化物触媒（以下、単に「触媒」ともいう）は、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素から共役ジオレフィンを生成する酸化脱水素反応を促進するものであり、そのバルク組成、すなわち触媒全体を構成する各元素の比率は、下記式（１）により表される。
あるＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒のバルク組成が式（１）の組成を満たすかどうかは、周知の元素定量分析方法、たとえばＩＣＰ発光分光分析法、原子吸光分析法、ＩＣＰ質量分析法、蛍光Ｘ線分析法等で求めることができ、実施例においてはＩＣＰ発光分光分析法で求めた組成を採用した。
Ｍｏ１２ＢｉｐＦｅｑＡａＢｂＣｃＤｄＥｅＦｆＯｘ  （１）
（式中、ＡはＮｉ及びＣｏからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｂはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素、ＣはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ及びＭｎからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｄは少なくとも１種の希土類元素、ＥはＣｒ、Ｉｎ及びＧａからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、ＦはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｘはそれぞれＭｏ１２原子に対するＢｉ、Ｆｅ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ及び酸素の原子比を表し、０．１≦ｐ≦５、０．５≦ｑ≦８、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５、０≦ｅ≦５、０≦ｆ≦２００であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
式（１）で表されるバルク組成を有する金属酸化物触媒を用いることにより共役ジオレフィンを高収率で製造することができる。
【００１３】
好ましくは、上記式（１）におけるＡはＮｉ又はＮｉ及びＣｏであり、ＢはＫ、Ｒｂ及びＣｓからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素であり、ＣはＭｇであり、ＤはＣｅであり、ＥはＣｒであり、ＦはＳｉである。また、上記式（１）の組成については、好ましくは、０．１５≦ｐ≦３、１．５≦ｑ≦３．５、１．７≦ａ≦９、０．０２≦ｂ≦１、０．５≦ｃ≦４．５、０．０２≦ｄ≦１．０、０≦ｅ≦４．５、１０≦ｆ≦１００である。
構成元素が上述のものであって、それらの原子比率が上述の範囲内であると、ブタジエンをより一層高収率で製造することができる。
特に、ＦがＳｉであり、かつ、ｆが２０≦ｆ≦１００である場合には、適度なブタジエン製造反応活性を有する為、より好ましい。適度な活性を有することにより、反応による発熱に起因する局部的な蓄熱を防止でき触媒寿命を延ばすことができる。２０≦ｆ≦５０であることが更に好ましい。
【００１４】
本実施形態において、式（１）で表されるバルク組成を有する金属酸化物触媒は、触媒粒子表面におけるＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率を、触媒バルクにおけるＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率で除した値の標準偏差が０．３以下である。
ここで、触媒粒子表面におけるＭｏモル濃度及びＢｉモル濃度は、ＳＥＭ−ＥＤＸ（Ｓｃａｎｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ−Ｅｎｅｒｇｙ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ  Ｘ−ｒａｙ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：走査型電子顕微鏡−エネルギー分散型Ｘ線分光法）組成分析により求めることができ、触媒バルクにおけるＭｏモル濃度及びＢｉモル濃度は、例えば、ＩＣＰ発光分光分析法で求めることができる。
また、上記標準偏差は、以下の式（２）により求めることができる。
標準偏差＝｛（（Ｓ１−μ）２＋（Ｓ２−μ）２＋・・・＋（Ｓ１００−μ）２）／１００［個数］｝１／２  （２）
式（２）中、Ｓｋ（ｋ＝１~１００）は、任意に選ばれた１００個の触媒粒子中のｋ個目の触媒粒子の表面におけるＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率（Ｂｉ／Ｍｏ）ｓｕｒｆを、（Ｂｉ／Ｍｏ）ｂｕｌｋで除した値である。（Ｂｉ／Ｍｏ）ｂｕｌｋは、ＩＣＰ発光分光分析法で求めた、触媒バルクにおけるＭｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率である。μは１００個のＳｋ（ｋ＝１~１００）の平均値（＝（Ｓ１+Ｓ２・・・+Ｓ１００）／１００）である。
標準偏差はばらつきの指標である。標準偏差が小さい程、平均値からのばらつきは小さい。従って、式（２）の値が小さい程、触媒粒子の表面組成がより均一であることを意味する。
本発明によれば、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素の酸化脱水素反応により共役ジオレフィンを製造するにあたり、式（２）の値が０．３以下である触媒を用いることによって、高収率で共役ジオレフィンを製造することが可能である。式（２）の値は、０．２以下であることが好ましく、０．１５以下であることがより好ましく、０．１以下であることがさらに好ましい。
【００１５】
＜金属酸化物触媒の製造方法＞
上述の表面組成が均一で、かつ式（１）で表されるバルク組成を有する金属酸化物触媒は、例えば、本実施形態の製造方法（以下、「第一の製造方法」ということもある。）により製造することができる。
第一の製造方法は、（ｉ）少なくともＭｏを含むＭｏ含有液と、少なくともＢｉを含むＢｉ含有液とを用意する工程と、（ｉｉ）該Ｍｏ含有液と該Ｂｉ含有液とを混合してＭｏＢｉ含有液を得る工程とを含み、さらに、（ｉｉｉ）ＭｏＢｉ含有液を乾燥させる工程を含む。該（ｉｉｉ）工程の後に、さらに、焼成工程を含んでもよい。
【００１６】
さらに、第一の製造方法においては、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液を混合してＭｏＢｉ含有液（スラリー）を生成させた後、該ＭｏＢｉ含有液を乾燥させる工程の前（すなわち、（ｉｉ）工程と（ｉｉｉ）工程の間）に、ＭｏＢｉ含有液をさらに混合する工程（（ｉｖ）工程）を設けることができる。
また、（ｉｉ）工程と（ｉｉｉ）工程の間に、ＭｏＢｉ含有液を一定量貯留する工程（（ｖ）工程）を設けることができる。
（ｉｉ）工程で調製したＭｏＢｉ含有液は、そのまま連続的に（ｉｉｉ）工程に供給してもよいし、（ｉｖ）工程を経た後に（ｉｉｉ）工程に供給してもよいし、その一部又は全量を一旦貯留（（ｖ）工程）してから（ｉｉｉ）工程に供給してもよい。
（ｖ）工程を設け、ＭｏＢｉ含有液を一旦貯留する場合は、（ｉｉ）工程で調製したＭｏＢｉ液の全量、又は（ｉｉ）工程の後に（ｉｖ）工程を行って調製したＭｏＢｉ含有液の全量を貯留することが好ましい（バッチ処理方式）。バッチ処理方式の場合、（ｉｉ）工程においてＭｏ含有液とＢｉ含有液との供給比率にずれが生じた場合でも、（ｖ）工程において原料の全量が混合されることになり、すなわち意図する触媒組成に均一化されたＭｏＢｉ含有液を（ｉｉｉ）工程に送ることができる。
本実施形態において、連続供給方式とバッチ処理方式のいずれを選択するかは特に問わないが、短時間に触媒を製造したい場合は連続処理方式、供給比率のずれの許容幅を広げる場合はバッチ処理方式を選択することが好ましい。
【００１７】
以下に第一の製造方法について詳細を説明する。
（ｉ）工程及び（ｉｉ）工程は、触媒原料を含むスラリーを調製する工程である。
具体的には、（ｉ）少なくともＭｏを含有するＭｏ含有液（触媒成分となるＭｏの原料を含む液であり、以下「Ａ液」とも言う。）と、少なくともＢｉを含有するＢｉ含有液（触媒成分となるＢｉの原料を含む液であり、「Ｂ液」とも言う。）とを用意する工程と、（ｉｉ）両者を混合する工程を含む（以下、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液のことを「２液」ということもある）。前記２液を混合することにより、スラリーであるＭｏＢｉ含有液が形成される。
このＭｏＢｉ含有液は、ＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒の前駆体であり、この前駆体の生成条件が、製造する触媒粒子の表面組成の均一性に大きく影響することが本発明者らの研究により分かった。
本実施形態においては、（ｉｉ）工程において、Ｍｏ含有液及びＢｉ含有液を、各々、第一及び第二の流路に連続的に供給し、第一の流路と第二の流路とをＭｏ含有液及びＢｉ含有液それぞれの供給個所よりも下流で合流させてＭｏＢｉ含有液を調製することによって、表面組成の均一性の高い触媒粒子を製造することを実現した。
【００１８】
ここで、本実施形態の触媒を構成する元素の原料について説明する。
Ｍｏの原料としては、水、硝酸などに可溶な塩が好ましく、例えば、アンモニウム塩であるモリブデン酸アンモニウムが挙げられる。
Ｂｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｆｒ）、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｍｎ、希土類（Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ）、Ｃｒ、Ｉｎ、Ｇａの原料としても、上記と同様に、水、硝酸などに可溶な塩が好ましく、例えば、硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩、有機酸塩等が挙げられる。特に、水、硝酸などに溶け易い観点から、硝酸塩が好ましい。例えば、硝酸ビスマス、硝酸鉄、硝酸ニッケル、硝酸コバルト、硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、硝酸マグネシウム、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸バリウム、硝酸亜鉛、硝酸マンガン、硝酸ランタン、硝酸セリウム、硝酸クロム、硝酸インジウム、硝酸ガリウム等が挙げられる。これらは一種を単独で用いても二種以上を併用してもよい。
Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒの原料としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２等の酸化物が好ましい。ブタジエンを製造する反応の際に、副生物を増加させる酸点が少ないという観点から、ＳｉＯ２が特に好ましい。ＳｉＯ２の原料としては、シリカゾル（コロイダルシリカとも呼ばれる。）、粉末状シリカ等が挙げられる。取り扱いの容易さからシリカゾルが特に好ましい。例えば、スノーテックス（日産化学工業製）、Ｎａｌｃｏシリカゾル（ナルコジャパン製）等である。シリカゾルの場合、ＳｉＯ２の平均粒子径は、５〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。また、異なる平均粒子径を有するシリカゾルを混ぜて用いることもできる。
なお、最終的に製造された触媒における各元素の原子比率は、酸素原子を除いて、触媒製造時に用いた触媒原料の原子比率と基本的に変化はない。
【００１９】
上記触媒原料の金属の前記Ｍｏ含有液やＢｉ含有液、両者を混合して得られるＭｏＢｉ含有液における分散性を高める観点からも、前記Ｍｏ含有液やＢｉ含有液、ＭｏＢｉ含有液には、上述した触媒原料に加え、金属元素とキレートを形成し得る有機酸を添加することも好ましい。該有機酸としては、特に限定されないが、例えば、シュウ酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸等が好ましく、該有機酸はＭｏ含有液及びＢｉ含有液のいずれかに添加してもよく、両方に添加してもよい。また、該有機酸をＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒの原料、例えばシリカゾルに添加することも好ましい形態の一つである。該有機酸はその粉末並びに固体として、または水溶液として添加することができる。
また、触媒原料の各金属塩の溶解性を増す目的で、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸を添加することも好ましい。後述する焼成工程時に揮発し触媒への残留が少ないことから、硝酸が特に好ましい。
さらに、Ｍｏ含有液にはＭｏの溶解性を増すためにアンモニア水を添加することも好ましい。
【００２０】
第一の製造方法においては、まず、Ｍｏ含有液と、Ｂｉ含有液とを用意する（（ｉ）工程）。
Ｍｏ含有液は、上記Ｍｏの原料を水等の水性媒体に溶解又は分散させて調製することが好ましい。この液にアンモニア水を加え、Ｍｏ原料の溶解度を増すことも好ましい。Ｍｏ含有液におけるＭｏ原子濃度は０．１〜３０ｗｔ％の範囲内であることが好ましい。
Ｍｏ含有液とは別にＢｉ含有液を調製する。Ｂｉ含有液は、上記Ｂｉの原料を水等の水性媒体に溶解又は分散させて調製することが好ましい。Ｂｉ含有液は酸性であることが好ましく、Ｂｉ含有液が硝酸を含むと、Ｂｉの原料の溶解度を増すためより好ましい。Ｂｉ含有液におけるＢｉ原子濃度は０．１〜１０ｗｔ％の範囲内であることが好ましい。
【００２１】
Ｍｏ原料とＢｉ原料以外の原料、すなわちＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、アルカリ金属、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｍｎ、希土類、Ｃｒ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ等の原料は、沈殿物を生じない範囲で上記Ｍｏ含有液及びＢｉ含有液のどちらに加えてもよいし、両方に加えてもよい。また、上記２液の混合後のＭｏＢｉ含有液に加えてもよい。沈殿物が生じ難いという理由から、Ｍｏ以外の金属の原料は、Ｂｉ含有液の方に加えることが好ましく、特に、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ以外の金属の原料は、Ｂｉ含有液の方に加えることが好ましい。
【００２２】
次に、調製したＭｏ含有液とＢｉ含有液とを混合する（（ｉｉ）工程）。この際、Ｍｏ含有液及びＢｉ含有液を、各々、第一及び第二の流路に連続的に供給し、第一の流路と第二の流路とをＭｏ含有液及びＢｉ含有液それぞれの供給個所よりも下流で合流させることによって、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液とを混合する。
【００２３】
Ｍｏ含有液及びＢｉ含有液の各流路への供給は、ＭｏとＢｉの供給モル比率が、製造する金属酸化物触媒の組成式（１）におけるＭｏとＢｉの原子数比率、すなわちｐ／１２、と概ね一致するように行うことが好ましく、例えば、供給モル比率が（ｐ／１２）×０．８〜（ｐ／１２）×１．２の範囲であることが好ましい。
すなわち、（ｉｉ）工程において、Ｍｏ含有液及びＢｉ含有液の第一の流路又は第二の流路へのモル供給速度（ただし、各々、Ｍｏのモル供給速度、Ｂｉのモル供給速度）を、各々、ｍα（ｍｏｌ／ｍｉｎ）及びｍβ（ｍｏｌ／ｍｉｎ）としたときに、Ｍｏ含有液及びＢｉ含有液が、以下の式（４）を満たすように供給されることが好ましい。
（ｍβ／ｍα）／（ｐ／１２）＝０．８〜１．２  （４）
【００２４】
なお、（ｉ）工程、（ｉｉ）工程をバッチ毎に行い、（ｉｉ）工程で得られたＭｏＢｉ含有液の一バッチ分の全量を（ｖ）工程で貯留した後又は（ｉｖ）工程を経た後に（ｖ）工程で貯留した後、（ｉｉｉ）工程へ送るバッチ処理方式を採用する場合には、Ｍｏ含有液の第一の流路への質量供給速度ｍＡ（ｇ／ｍｉｎ）に対するＢｉ含有液の質量供給速度ｍＢ（ｇ／ｍｉｎ）の比率（以下、「供給比率」とも言う。）が、Ｍｏ含有液の一バッチあたりの全供給量ＭＡ（ｇ）に対するＢｉ含有液の一バッチあたりの全供給量ＭＢ（ｇ）の比率（以下、「質量比率」とも言う。）の０．５倍〜１．５倍となるように供給することが好ましい。
すなわち、Ｍｏ含有液及びＢｉ含有液が、以下の式（３）を満たすように供給されることが好ましい。
（ｍＢ／ｍＡ）／（ＭＢ／ＭＡ）＝０．５〜１．５  （３）
供給比率が質量比率の０．５倍〜１．５倍の範囲であると、金属酸化物触媒の粒子表面の組成の均一性をより高めることができる。（ｍＢ／ｍＡ）／（ＭＢ／ＭＡ）は、０．８〜１．２がより好ましく、１．０が特に好ましい。
【００２５】
上記供給比率（ｍＢ／ｍＡ）及び質量比率（ＭＢ／ＭＡ）について、以下に、具体例を挙げて説明する。
製造する触媒の組成を、式（１）においてｐ＝１であるもの（Ｍｏ１２原子に対してＢｉ１原子）とし、（ｉ）工程で準備する一バッチ分のＭｏ含有液は、Ｍｏの原料を必要量含みその全量（ＭＡ）が１００質量部であり、（ｉ）工程で準備する一バッチ分のＢｉ含有液はＢｉの原料を必要量（Ｍｏ含有液中のＭｏのモル数の１／１２）含み、その全量（ＭＢ）が５０質量部とする。
この２液を、単位時間当たりの質量供給量（質量供給速度）（ｇ／ｍｉｎ）の比率で表して、Ｍｏ含有液：Ｂｉ含有液＝１００：５０で供給すると、質量比率、供給比率は、各々、次の通りである。
質量比率（ＭＢ／ＭＡ）
＝５０／１００＝０．５
供給比率（ｍＢ／ｍＡ）
＝５０／１００＝０．５
したがって、その場合が、供給比率が質量比率の１．０倍であることに相当する。
同様に、Ｍｏ含有液：Ｂｉ含有液＝１００：２５（質量供給速度比）で供給する場合が、供給比率が質量比率（０．５）の０．５倍であることに相当する。Ｍｏ含有液：Ｂｉ含有液＝１００：７５（質量供給速度比）で供給する場合が（供給比率＝７５／１００＝０．７５）、供給比率が質量比率（０．５）の１．５倍であることに相当する。
特に好ましい実施形態である、供給比率が質量比率の１．０倍である場合、（ｉｉ）工程においては、Ｍｏ含有液の一バッチ分全供給量に対するＢｉ含有液の一バッチ分全供給量の比率と同じ比率で２液を供給し、合流させることになり、それは、すなわち、ＭｏとＢｉの供給モル比率が、製造する触媒の組成式（１）におけるＭｏとＢｉのモル比率、すなわちｐ／１２、と一致することになる。
【００２６】
従来の金属酸化物触媒の製造方法におけるスラリーの調製においては、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液との混合は、どちらか一方の液に他方の液を添加することにより行われている。しかしながらこの方法では、混合開始直後には、加える側の成分の濃度が小さく、混合が進むに従って徐々に高くなる。この様に、２液を全て加え終わった時点では意図する原子比率が達成されるものの、添加する途中の段階では加えられる側の成分濃度と、加える側の成分濃度とに著しいアンバランスが生じやすい。本発明者らの研究によれば、このスラリー調製時における混合液中のＢｉとＭｏ濃度のアンバランスが、後にこのようにして調製されたスラリーから製造される金属酸化物触媒の表面組成の均一性を低下させている原因の一つであることが分かった。
それに対して、第一の製造方法では、２液が合流部に同時に供給されるため、混合液中の成分濃度のアンバランスが小さい。
特に、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液とを特定の比率の範囲内で供給する場合には、両者を混合する工程のどの段階においても、混合液中のＭｏとＢｉの原子比率が製造する触媒組成の原子比率に近い状態でスラリーを形成することになる。このような状態でスラリーを調製することによって、最終的に製造された触媒粒子の表面におけるＭｏとＢｉの組成比をより均一にすることができる。
【００２７】
第一の製造方法において、（ｉ）工程、（ｉｉ）工程をバッチ毎に行い、（ｉｉ）工程で得られたＭｏＢｉ含有液の一バッチ分の全量を（ｖ）工程で貯留した後又は（ｉｖ）工程を経た後に（ｖ）工程で貯留した後、前記（ｉｉｉ）工程へ送るバッチ処理方式を採用する場合においては、上述の様に供給比率（ｍＢ／ｍＡ）は質量比率（ＭＢ／ＭＡ）の０．５倍〜１．５倍が好ましい。ただし、必ずしも２液の全量を０．５倍〜１．５倍の範囲で接触させる必要はなく、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液の一部の供給は上記の範囲以外であってもよい。
具体的には、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液の一バッチあたりの全供給量の合計量の６０質量％以上を、供給比率が質量比率の０．５倍〜１．５倍となるように供給することが好ましく、８０質量％以上を０．５倍〜１．５倍となるように供給することがさらに好ましく、１００質量％を（すなわち、（ｉｉ）工程の全工程に亘って）０．５倍〜１．５倍となるように供給することが特に好ましい。
このことを、上述の、Ｍｏ１２原子分の原料を含むＭｏ含有液１００質量部と、Ｂｉ１原子分の原料を含むＢｉ含有液５０質量部の例で説明する。この場合、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液の全供給量の合計量は１５０質量部であり、その６０質量％以上とは９０質量部以上に相当する。
すなわち、供給比率が質量比率の０．５倍〜１．５倍となるように、２液の全供給量の合計量の６０質量％以上を供給するとは、単位時間当たりの供給量（質量供給速度）の比率で表して、Ｍｏ含有液：Ｂｉ含有液＝１００：２５〜１００：７５の範囲内で２液の合計の９０質量部以上を接触させることに相当する。
【００２８】
（ｉｉ）工程において、２液を合流させる際の合流温度は、５℃〜９８℃が好ましい。３５℃〜９８℃がより好ましく、３５℃〜８０℃がさらに好ましく、３５℃〜６０℃が特に好ましい。３５℃〜６０℃で行うと、表面組成のより均一な触媒粒子を製造することができる。ここで、合流温度とは２液が合流している部分の液温をいい、温度計により測定することができる。
【００２９】
（ｉｉ）工程において２液を混合してＭｏＢｉ含有液（スラリー）を生成させた後、該ＭｏＢｉ含有液を乾燥させる前に、ＭｏＢｉ含有液をさらに混合する工程（（ｉｖ）工程）を設ける場合、生成したＭｏＢｉ含有液を更に混合する方法に限定はなく、例えば、静止型混合器を通過させたり、攪拌機を用いて撹拌したりすることが挙げられる。
撹拌温度は、２液を合流させる際の合流温度と同程度とすることが好ましく、具体的には３５℃〜８０℃が好ましい。
【００３０】
本実施形態において、金属酸化物触媒の製造において用いる装置の構成に限定はないが、例えば、Ｍｏ含有液を送液するための第一の流路、Ｂｉ含有液を送液するための第二の流路、及び、第一の流路と第二の流路が合流する合流部を有するものであることが好ましい。
第一及び第二の流路へのＭｏ含有液及びＢｉ含有液の供給手段に限定はなく、例えば、定量供給装置を使用することが好ましい。定量供給装置を使用することにより、より正確な比率で２液を供給することができる。該定量供給装置としては、特に限定されないが定量送液ポンプが好ましい。
２液が合流する合流部としては、２液の合流ができれば特に限定されないが、例えばＹ字状またはＴ字状等形状の、管でもよい。該管の断面形状は例えば円形（円筒）であってもよく、また内部にＭｏＢｉ含有液の混合を促す機構や内挿物を設けることも好ましい。２液を合流させる角度は並流であっても、垂直であっても、対向であってもよい。
【００３１】
合流部の下流に生成したＭｏＢｉ含有液を更に混合するための混合器を設けることも好ましい。混合器の一例としては、攪拌機を有する攪拌槽が挙げられる。そのような装置構成の一例を図１に示す。なお、上述の各装置等は所望する温度にできるような温水ジャケット等の保温、加温構造を有することも好ましい。
また混合器の別の例としては、図２に示すような静止型混合器（配管とその中に固定されたねじられた板とを主要部材とし、配管内に供給された流体は、ねじれ面に沿って流れ進んで行くことで混合される）が挙げられる。静止型混合器の一例としては、スタティックミキサー（ノリタケカンパニーリミテド製）等がある。
【００３２】
以上のようにして生成したＭｏＢｉ含有液を乾燥させることにより（（ｉｉｉ）工程）、式（１）で表されるバルク組成を有する金属酸化物触媒を形成することができる。
ＭｏＢｉ含有液は乾燥前においてｐＨが３以下であることが好ましい。より好ましくは２以下であり、さらに好ましくは１以下である。ｐＨの調節は、例えば、原料に加える酸性溶液の添加量によって調節できる。ｐＨが３以下であればＭｏＢｉ含有液の粘度の増加を抑制でき、次工程の（ｉｉｉ）乾燥工程へのＭｏＢｉ含有液の供給が安定的に行える。
【００３３】
第一の方法によれば、触媒前駆体を形成するスラリー調製工程が全て液状で行えるため、触媒前駆体の形成に乾燥、焼成、粉砕操作等を必要とする方法に比べて極めて簡便と言える。
【００３４】
（ｉｉｉ）工程において、乾燥方法に限定はないが、上記のＭｏＢｉ含有液を噴霧乾燥して乾燥粒子を得ることが好ましい。噴霧乾燥には、例えば工業的に行う場合などには、スプレードライヤーを用いることが好ましい。
噴霧乾燥工程においては、まず、ＭｏＢｉ含有液を噴霧化する。この噴霧化の方法としては、特に限定されないが、例えば、遠心方式、二流体ノズル方式、及び高圧ノズル方式等が挙げられる。特にノズルの閉塞等を伴わない観点から遠心方式が好ましい。
噴霧化されたＭｏＢｉ含有液の液滴の乾燥方法に限定はないが、例えば、スプレードライヤー内の熱風によって乾燥されることが好ましい。その際、熱風入口温度は１００℃〜４００℃、熱風出口温度は１５０℃〜３００℃とすることが好ましい。
なお、噴霧化の際には、噴霧粒子径が目的とする触媒の粒径に応じた所望の範囲となるよう、噴霧装置を調整することが好ましい。例えば、触媒を流動床反応に用いる場合には、触媒の平均粒子径は１０〜１５０μｍ程度が好ましいため、この範囲の平均粒子径になるように噴霧化装置（アトマイザー）の回転数を適宜選択する。一般にアトマイザー回転数が高いほど、平均粒子径は小さくなる。
【００３５】
本実施形態においては、上記の乾燥工程で得られた乾燥物（乾燥粒子）を焼成することで金属酸化物触媒を得る焼成工程を含むことが好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えば、静置焼成、流動焼成、回転炉焼成等が挙げられる。均一に焼成できる観点からロータリーキルンを用いた回転炉焼成が好ましい。焼成温度は、４００℃〜８００℃が好ましく、５００℃〜７５０℃がより好ましく、５５０〜７００℃がさらに好ましい。焼成時間は１ｈｒ〜２４ｈｒが好ましく、２ｈｒ〜８ｈｒがより好ましい。所望する触媒物性、反応性能が得られるように、焼成温度、焼成時間等の条件を適宜選択する。２５０℃〜４２０℃で予備焼成した後、上記の焼成を行うことも好ましい。
【００３６】
本実施形態においては、上述のＭｏＢｉ含有液調製工程（（ｉ）及び（ｉｉ）工程）、必要に応じて混合工程（（ｉｖ）工程）及び貯留工程（（ｖ）工程）、並びに、乾燥工程（（ｉｉｉ）工程）、さらに必要に応じて焼成工程を、一連の処理として行うことにより、触媒物性、触媒性能の安定した触媒を速やかに連続的に製造することができる。
【００３７】
本実施形態において、（ｉｉ）工程と（ｉｉｉ）工程の間に、（ｉｖ）工程及び（ｖ）工程の両方を行う場合、（ｉｖ）工程の後に（ｖ）工程を行うか、（ｉｖ）工程と（ｖ）工程を同時に行う（すなわち、撹拌下でＭｏＢｉ含有液を貯留する）ことが好ましい。
また、（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｖ）工程又は（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｖ）及び（ｖ）工程の一連の処理がバッチ処理方式で行われる場合には、（ｖ）工程における貯留量は、（ｉｉ）工程で得られたＭｏＢｉ含有液の全量とすることが好ましい。（ｉｉ）工程で調製されるＭｏＢｉ含有液の全量をいったん貯留してから乾燥工程（（ｉｉｉ）工程）に供給することにより、（ｉｉ）工程においてＭｏ含有液及びＢｏ含有液の供給量が変動する場合においても、（ｉｉｉ）工程に供給されるＭｏＢｉ含有液中のＭｏとＢｉの原子数比を式（１）における両者の原子数比と等しくすることができ、得られる触媒粒子の組成をより目的に近いものとすることができる。
貯留容器に限定はなく、例えば、貯留容器として撹拌機能を有するものを用い、（ｖ）工程と（ｉｖ）工程を同時に行うこともできる。
【００３８】
なお、本実施形態の金属酸化物触媒を得るに当たって、本実施形態の製造方法（第一の製造方法）を使用することは、製造触媒のスケールに左右されないため好ましいが、本実施形態の金属酸化触媒は、第一の製造方法以外の方法によって製造してもよい。
例えば後述する実施例９にて示すように、原料スラリー調製において、攪拌混合槽を使い、どちらか一方の液に他方の液を投入するＭｏ含有液とＢｉ含有液とのバッチ混合を採用する場合であっても、１バッチで５０ｋｇ以上の金属酸化物触媒を製造するようにすると共に、投入する液の投入に掛かる時間を８分以内、好ましくは４分以内とすることで、２液の均一混合を促進し、本実施形態の金属酸化物触媒を得ることができる（第二の製造方法）。
これは、投入するＭｏ／Ｂｉ含有液の量を大きくすることで、投入液の質量を増し、投入される側の液との衝突エネルギーが大きくなることと短時間に処理することの相乗効果によりスラリーの均一混合が達成されると考えられる。
【００３９】
＜ｎ−ブテンからブタジエンを製造する方法＞
本実施形態の金属酸化物触媒は、炭素数が４以上のモノオレフィン（例えば、ｎ−ブテテン）と分子状酸素の酸化脱水素反応によって共役ジオレフィン（例えば、１，３−ブタジエン）を生成する際に利用することができる。
共役ジオレフィンは、金属酸化物触媒の存在下、モノオレフィンを酸化脱水素する反応により製造することができ、この反応方式は、流動床方式であっても固定床方式であってもよい。反応熱による局所的な蓄熱が起こり難く、原料ガス中のｎ−ブテン濃度を高めることができ、生産性を高めることができるという点で、反応は流動床方式で行うことが好ましい。
【００４０】
本実施形態の金属酸化物触媒を用いた共役ジオレフィンの製造方法においては、原料として、炭素数４以上のモノオレフィンと分子状酸素とを用いる。
モノオレフィンは、炭素−炭素二重結合を分子内に一つのみ有するもので、通常は官能基を有しない有機化合物であって、直鎖及び／又は分岐鎖の炭化水素である。炭素数の上限は特に限定されないが、反応性の観点で６以下が好ましい。炭素数４以上のモノオレフィンの例としては、ｎ−ブテン（１−ブテン、２−ブテン）、１−ペンテン、２−ペンテン、イソペンテン（２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン）、１−ヘキセン、２−ヘキセン、２，３−ジメチルブテンが挙げられる。上記した中でも、生成物の汎用性の観点から、ｎ−ブテン又はイソペンテンをモノオレフィンとして用いることが好ましい。一種のモノオレフィンを原料としてもよいし、二種以上のモノオレフィンを原料としてもよい。
モノオレフィンは必ずしも高純度である必要はなく、任意の混合物や、工業グレードを使用することができる。例えばｎ−ブテンの場合、ナフサ熱分解で副生するＣ４留分からブタジエンを回収した後の残留成分（ラフィネート１）やこの残留成分から更にイソブチレンを回収した後の残留成分（ラフィネート２）、ｎ−ブタンの脱水素反応もしくは酸化脱水素反応により得られるブテン留分、又はエタン熱分解やバイオマスエタノールの脱水反応により得られるエチレンの接触転化反応から副生するＣ４留分、エチレンの二量化によって得られるｎ−ブテンなどを使用することができる。バイオマスエタノールとは、植物資源から得られるエタノールであり、具体的にはサトウキビやトウモロコシ等の発酵により得られるエタノールや廃材、間伐材、稲わら、農作物等の木質資源から得られるエタノールが挙げられる。
モノオレフィンには、モノオレフィンと空気の酸化脱水素反応に不活性なパラフィンが含まれていてもよい。パラフィンの例として、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナンなどを挙げることができる。また、モノオレフィンと空気の酸化脱水素反応の反応生成ガスから目的物であるブタジエン、イソプレンなどを分離した後、未反応のブテン、イソペンテンなどのモノオレフィンの少なくとも一部を、反応器に供給されるモノオレフィンに混合して再度反応させることもできる。
【００４１】
分子状酸素は、酸素含有ガスとして反応器へ供給することが好ましく、酸素含有ガスには酸素の他に、窒素、ヘリウム、水蒸気、ＣＯ２、ＣＯ等が含まれてもよい。酸素含有ガスとして空気を用いることが好ましい。
また、モノオレフィンは、モノオレフィン含有ガスとして反応器へ供給することが好ましく、５℃〜３５℃程度の常温下で気体でないモノオレフィンは、スチームや伝熱コイルなどの加熱部を有するガス化装置を用いてガス化した後、反応器に供することが好ましい。
反応器に供給するモノオレフィンの濃度は、共役ジオレフィンの生産性の観点から、全原料ガス（モノオレフィン含有ガスと酸素含有ガスの合計）中のモノオレフィン濃度は、２体積％〜３０体積％が好ましく、３体積％〜２５体積％がより好ましい。
モノオレフィン含有ガスと酸素含有ガスの供給方法に限定はなく、予め両ガスを混合した後、反応器に供給してもよいし、別々に反応器に供給してもよい。
反応温度は３００℃〜５００℃が好ましく、３００℃〜４２０℃がより好ましい。
反応圧力は−０．１ＭＰａ（ゲージ圧力）〜０．５ＭＰａ（ゲージ圧力）が好ましく、常圧〜０．１ＭＰａ（ゲージ圧力）がより好ましい。
共役ジオレフィンの製造において、次式で定義する触媒と全原料ガスとの接触時間は、０．５（ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ）〜５．０（ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ）が好ましく、０．７（ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ）〜３．５（ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ）がより好ましい。
接触時間（ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ）
＝Ｗ／Ｆ×６０×２７３．１５／（２７３．１５＋Ｔ）×（Ｐ×１０００＋１０１．３２５）／１０１．３２５
〔式中、Ｗは触媒充填量（ｇ）、Ｆは全原料ガス量（ｃｃ／ｍｉｎ）、Ｔは反応温度（℃）、Ｐは反応圧力（ＭＰａ（ゲージ圧力））〕。
反応器出口での生成ガス中の酸素濃度は、０．０２体積％〜３体積％が好ましく、０．２体積％〜２体積％がより好ましく、０．９体積％〜１．５体積％がさらに好ましい。
【００４２】
使用できる工業的な反応器の一態様としては、流動床反応の場合、反応器内に原料ガス分散器、内挿物、サイクロンを主要構成要素として有し、反応器内部で金属酸化物触媒を流動させつつ原料ガスと接触させる気泡流動床方式の反応器が挙げられる。固定床反応の場合には、多数の反応管と外部熱媒循環装置とを有し、原料ガスを反応管内に上向き又は下向きに流し成型した金属酸化物触媒と接触させる多管型固定床反応器が挙げられる。
【実施例】
【００４３】
以下に実施例を示して、本実施形態をより詳細に説明するが、本実施形態は以下に記載の実施例によって限定されるものではない。【００４４】
＜ｎ−ブテン転化率及びブタジエン収率＞
実施例及び比較例において、反応成績（触媒性能）を示すために用いたｎ−ブテン転化率及びブタジエン収率は次式で定義される。
ｎ−ブテン転化率（％）
＝（反応したｎ−ブテンのモル数）／（供給したｎ−ブテンのモル数）×１００
ブタジエン収率（％）
＝（生成したブタジエンのモル数）／（供給したｎ−ブテンのモル数）×１００
なお、反応したｎ−ブテンのモル数は、供給したｎ−ブテンのモル数から反応生成ガス中に残存する未反応ｎ−ブテンのモル数を差し引くことにより算出し、また、反応生成ガス中のブタジエンや未反応ｎ−ブテンのモル数はガスクロマトグラフィー（島津製作所製、型式：ＧＣ２０１０プラス、検出器：ＴＣＤ、ＦＩＤ）によって分析した。【００４５】
＜金属酸化物触媒の粒子表面の組成の均一性の評価＞
実施例及び比較例における金属酸化物触媒の粒子表面の組成の均一性の評価は次のようにして行い、粒子表面組成の標準偏差として表した。
ＳＥＭ−ＥＤＸ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ−Ｅｎｅｒｇｙ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ  Ｘ−ｒａｙ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：エネルギー分散型Ｘ線分光法）組成分析装置（ＳＥＭ…日立製作所製、型式：ＳＵ−７０、ＥＤＸ…堀場製作所製、型式：ＥＭＡＸ・Ｘ−ｍａｘ）の試料台に、触媒粉末（焼成粉末）を少量採取し、無作為に選択した粒子画像における真円相当径（面積が等しい真円の直径）が、粒度分布計（日機装製、型式：Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ  ＭＴ３００）で決定される平均粒子径±１０μｍ（ここでは、４０μｍ以上６０μｍ以下）である触媒粒子１００個について、それぞれの粒子表面の１０μｍ×１０μｍの面範囲のＭｏモル濃度とＢｉモル濃度とを測定し（倍率１５００倍、加速電圧２０ｋＶ）、触媒粒子表面のＭｏ濃度に対するＢｉ濃度の比率（Ｂｉ／Ｍｏ）ｓｕｒｆを求めた。
次に、同じ触媒粉末から２０ｍｇを量り取り、これを２１０℃の熱王水で溶解し、さらに超純水で測定範囲に薄め、ＩＣＰ発光分光分析（セイコーインスツル株式会社製、ＳＰＳ３５００ＤＤ）で、各構成原子の濃度を測定し、そのバルク組成を算出すると共に、触媒バルクのＭｏ濃度に対するＢｉ濃度の比率（Ｂｉ／Ｍｏ）ｂｕｌｋを求めた。なお、後述の触媒１〜１３おいては、バルク組成、すなわち触媒を構成する各元素のモリブデンに対する比率（触媒バルクのＭｏモル濃度及びＢｉモル濃度を含む）は、いずれも、原料仕込質量から計算される理論値と一致していた（Ｍｏ１２基準で表記したモル組成において、上位２桁まで仕込質量比と同一であった）。
この（Ｂｉ／Ｍｏ）ｂｕｌｋで前述の１００個それぞれの粒子の（Ｂｉ／Ｍｏ）ｓｕｒｆを除した値をＳｋ（ｋ＝１〜１００）とし、１００個のＳｋの平均値μを算出し、式（２）から標準偏差を求めた。
標準偏差＝｛（（Ｓ１−μ）２＋（Ｓ２−μ）２＋・・・＋（Ｓ１００−μ）２）／１００［個数］｝１／２  （２）【００４６】
＜実施例１＞
［触媒１の製造］
金属酸化物触媒を、その組成がＭｏ１２Ｂｉ０．８Ｆｅ２．５Ｎｉ４．６Ｋ０．１２Ｒｂ０．０５Ｍｇ１．１Ｃｅ１．５Ｓｉ４５．９Ｏｘとなるよう原料仕込質量を調整し、次のようにして製造した。
モリブデン酸アンモニウム・４水和物１０３２ｇを純水１８４１ｇに溶解した。この液に３４質量％の平均粒子径１２ｎｍのＳｉＯ２を含むシリカゾルを３９２２ｇと純水５２３ｇを加えた。さらに純水５３３ｇにシュウ酸８０ｇを溶解した液を加えた。その全量は７９３１ｇであった（Ｍｏ含有液。以降、「Ａ１液」と称す）。
硝酸ビスマス・５水和物１９０ｇ、硝酸セリウム・６水和物３１７ｇ、硝酸第二鉄・９水和物４８９ｇ、硝酸ニッケル・６水和物６５９ｇ、硝酸マグネシウム・６水和物１３９ｇ、硝酸カリウム５．９ｇ、硝酸ルビジウム３．６ｇを、１６．６質量％の硝酸液１０４１ｇに溶解した。その全量は２８４５ｇであった（Ｂｉ含有液。以降、「Ｂ１液」と称す）。【００４７】
Ａ１液の入った容器を、Ａ１液定量送液ポンプを介して、空のＹ字型ステンレス製円筒管（内径１５ｍｍ、長さ３０ｍｍ）（合流部）の一方の入口１に配管（第一の流路）によってつないだ。また、Ｂ１液の入った容器を、Ｂ１液定量送液ポンプを介して、上記Ｙ字管の他方の入口２に配管（第二の流路）によってつないだ。そのＹ字管の出口を、スクリュー型内装物を有する静止型混合器（スタティックミキサー）につなぎ、更にその静止型混合器の出口を、攪拌機を有するスラリー攪拌槽に配管によってつないだ。その装置の概略図を図１に示す。
上記Ｙ字管に、５０℃に保持したＡ１液をＡ１液定量ポンプを用いて７９３（ｇ／ｍｉｎ）の流量、５０℃に保持したＢ１液をＢ１液定量ポンプを用いて２８５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で同時に供給し、Ｙ字管と静止型混合器内において２液を並行方向（並流）に接触させた。この操作を１０分間行い、スラリーであるＭｏＢｉ含有液を調製した。この間のＡ１液［Ｍｏ含有液］に対するＢ１液［Ｂｉ含有液］の供給比率は２８５（ｇ／ｍｉｎ）／７９３（ｇ／ｍｉｎ）＝０．３６であり、Ｍｏ含有液全量に対するＢｉ含有液全量の質量比率２８４５（ｇ）／７９３１（ｇ）＝０．３６の１．０倍であった。この供給比率でＡ１液とＢ１液の全部（１００質量％）を合流させた。その間の合流温度は５０℃であった。
このＭｏＢｉ含有液を、静止型混合器の下流に設けたスラリー攪拌槽に全量貯留し、２液の供給終了から更に５０℃で１時間攪拌を続けた。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
次いで、スプレードライヤー（大川原化工機製、型式：ＯＣ−１６）を用いてこのＭｏＢｉ含有液を噴霧乾燥し、乾燥粉末を得た。なお、熱風入口温度は２５０℃、熱風出口温度１４０℃とした。
得られた乾燥粉末をロータリーキルン（ニッカトー製、型式：ＲＫ１２５１４０、焼成管内径８０ｍｍ、焼成管長さ：１５００ｍｍ、堰数：８枚、堰高さ：１０ｍｍ）を用いて、空気雰囲気下に５９０℃で２時間焼成し触媒を得た（触媒１）。【００４８】
得られた触媒１の平均粒子径は５１μｍであった。平均粒子径は粒度分布計を用いて測定した。なお、以降の実施例及び比較例における触媒１〜１３の平均粒子径は４５μｍ〜５５μｍであった。
次に、この触媒１の粒子１００個の表面Ｍｏ濃度とＢｉ濃度をＳＥＭ−ＥＤＸで測定し、Ｍｏモル濃度に対するＢｉモル濃度の比率（Ｂｉ／Ｍｏ）ｓｕｒｆを求めた。また、上記で求めた触媒バルク組成より、（Ｂｉ／Ｍｏ）ｂｕｌｋを求め、（Ｂｉ／Ｍｏ）ｂｕｌｋで１００個の粒子それぞれの（Ｂｉ／Ｍｏ）ｓｕｒｆを除した値Ｓ１・・・Ｓ１００を求めた。そして、それらの平均値（Ｓ１・・・Ｓ１００の平均値）μを求め、式（２）を用いて標準偏差を求めた。結果を表１に示す。【００４９】
［触媒１を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
触媒１の２７ｇを、内径２５．４ｍｍのパイレックス（登録商標）ガラス製流動床反応管に充填した。この反応管に、ｎ−ブテン含有ガスとして１−ブテンを、分子状酸素含有ガスとして酸素と窒素とを、１対８〜１対１１の流量比で流しブタジエン製造反応を行った。反応温度は３６０℃、反応圧力は０．０５ＭＰａ（ゲージ圧）であった。１−ブテン濃度は全原料ガスを基準として１０体積％、触媒１と原料ガスとの接触時間は０．８〜１．０（ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ）であった。反応器出口の酸素濃度は０．８〜１．２体積％であった。この反応条件で２４時間反応した時の反応成績（１−ブテン転化率とブタジエン収率）を表１に示す。【００５０】
＜実施例２＞
［触媒２の製造］
実施例１と同様にして、Ｍｏ含有液（Ａ１液と同じもの。ただし、以降、「Ａ２液」と称す。）とＢｉ含有液（Ｂ１液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ２液」と称す。）を調製した。Ａ２液、Ｂ２液の供給全量は実施例１と同様とし、したがって、この場合の質量比率は、実施例１と同様に０．３６であった。
Ａ２液に対するＢ２液の供給比率を、上記の質量比率０．３６の０．８倍から１．２倍の間で変動させた以外は、実施例１と同様にして触媒を得た（触媒２）。この範囲の供給比率でＡ２液とＢ２液の全部（１００質量％）を合流させた。
具体的には次のように行った。上記Ｙ字管にＡ２液を第一の流路を通じて８３７（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ２液を第二の流路を通じて２４１（ｇ／ｍｉｎ）の流量で３分間同時に供給した。この供給比率は、２４１（ｇ／ｍｉｎ）／８３７（ｇ／ｍｉｎ）＝０．２９であり、上記の質量比率０．３６の０．８倍であった。
次に、Ａ２液、Ｂ２液の供給流量を変更し、Ａ２液を７９２（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ２液を２８５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で４分間同時に供給した。このときの供給比率は、２８５（ｇ／ｍｉｎ）／７９２（ｇ／ｍｉｎ）＝０．３６であり、上記の質量比率０．３６の１．０倍であった。
さらに、Ａ２液、Ｂ２液の供給流量を変更し、Ａ２液を７５３（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ２液を３２５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で３分間同時に供給した。このときの供給比率は、３２５（ｇ／ｍｉｎ）／７５３（ｇ／ｍｉｎ）＝０．４３であり、上記の質量比率０．３６の１．２倍であった。
なお、いずれの段階においても、Ａ２液とＢ２液の合流温度は５０℃であった。生成したＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
［触媒２を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
触媒１の代わりに触媒２を用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。
触媒２の標準偏差及び反応成績を表１に示す。【００５１】
＜実施例３＞
［触媒３の製造］
実施例１と同様にして、Ｍｏ含有液（Ａ１液と同じもの。ただし、以降、「Ａ３液」と称す。）とＢｉ含有液（Ｂ１液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ３液」と称す。）を調製した。Ａ３液、Ｂ３液の供給全量は実施例１と同様とし、したがって、この場合の質量比率は、実施例１と同様に０．３６であった。
Ａ３液に対するＢ３液の供給比率を、上記の質量比率０．３６の０．５倍から１．５倍の間で変動させた以外は、実施例１と同様にして触媒を得た（触媒３）。この範囲の供給比率でＡ３液とＢ３液の全部（１００質量％）を接触させた。
具体的には次のように行った。上記Ｙ字管にＡ３液を９１３（ｇ／ｍｉｎ）、Ｂ２液を１６４（ｇ／ｍｉｎ）で３分間同時に供給した。この供給比率は、１６４（ｇ／ｍｉｎ）／９１３（ｇ／ｍｉｎ）＝０．１８であり、上記の質量比率０．３６の０．５倍であった。
次にＡ３液、Ｂ３液の供給流量を変更し、Ａ３液を７９２（ｇ／ｍｉｎ）、Ｂ３液を２８５（ｇ／ｍｉｎ）で５分間同時に供給した。この供給比率は、２８５（ｇ／ｍｉｎ）／７９２（ｇ／ｍｉｎ）＝０．３６であり、上記の質量比率０．３６の１．０倍であった。
さらに、Ａ３液、Ｂ３液の供給流量を変更し、Ａ３液を７００（ｇ／ｍｉｎ）、Ｂ３液を３７８（ｇ／ｍｉｎ）で２分間同時に供給した。この供給比率は、３７８（ｇ／ｍｉｎ）／７００（ｇ／ｍｉｎ）＝０．５４であり、上記の質量比率０．３６の１．５倍であった。  なお、いずれの段階においても、Ａ３液とＢ３液の合流温度は５０℃であった。生成したＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、液状であった。
［触媒３を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
触媒１の代わりに触媒３を用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。
触媒３の標準偏差及び反応成績を表１に示す。【００５２】
＜実施例４＞
［触媒４の製造］  
実施例１のスケールの６００倍で、ＭｏＢｉ含有液の貯留以降の工程を連続して行った以外は実施例１と同様にして金属酸化物触媒を製造した。
具体的には次にように行った。実施例１の１０倍のスケールで、Ｍｏ含有液（以降、「Ａ４液」と称す。）とＢｉ含有液（以降、「Ｂ４液」と称す。）を調製した。上記Ｙ字管に、５０℃に保持したＡ４液をＡ４液定量ポンプを用いて７９３（ｇ／ｍｉｎ）の流量、５０℃に保持したＢ４液をＢ４液定量ポンプを用いて２８５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で同時に供給し、Ｙ字管と静止型混合器内において２液を並行方向（並流）に接触させた。このときのモル供給速度は、
Ｍｏについては７×１０３２０（ｇ）／１２３５．８５（ｇ／ｍｏｌ）×７９３（ｇ／ｍｉｎ）／７９３１０（ｇ）＝０．５８（ｍｏｌ／ｍｉｎ）、
Ｂｉについては１９００（ｇ）／４８５．０７（ｇ／ｍｏｌ）×２８５（ｇ／ｍｉｎ）／２８４５０（ｇ）＝０．０３９（ｍｏｌ／ｍｉｎ）
であり、Ｍｏ原子に対するＢｉ原子の供給モル比率は０．０３９（ｍｏｌ／ｍｉｎ）／０．５８（ｍｏｌ／ｍｉｎ）＝０．０６７であった。これは、組成式中のモル比率０．８／１２＝０．０６７の１．０倍である。
なお、Ａ４液とＢ４液の合流温度は５０℃であった。
以上のＭｏＢｉ含有液の調製を、間隔をあけずに６０回繰り返して行い、生成したＭｏＢｉ含有液を、順次、静止型混合器出口側の下流に設けたスラリー攪拌槽（液温５０℃、３００ｒｐｍ）に貯留し、貯留開始から１時間後にＭｏＢｉ含有液を連続的にスプレードライヤーに送液し、噴霧した。このスラリーは噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
噴霧乾燥と焼成の条件については、噴霧乾燥時のスプレードライヤーの熱風入口温度を３２０℃、熱風出口温度２３０℃、ロータリーキルンの焼成温度を６００℃に変更した以外は、実施例１と同様にした。触媒製造開始から１００時間後の触媒を採取し、これを触媒４とした。
［触媒４を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
触媒１の代わりに触媒４を用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。
触媒４の標準偏差及び反応成績を表１に示す。【００５３】
＜実施例５＞
［触媒５の製造］
Ｍｏ含有液とＢｉ含有液とを上記Ｙ字管および静止型混合器で混合した後、スラリー攪拌槽にいったん貯留せずスプレードライヤーに直接送液した以外は、実施例１と同様にして触媒を得た（触媒５）。なお、合流温度は５０℃であった。生成したＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
［触媒５を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
触媒１の代わりに触媒５を用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。
触媒５の標準偏差及び反応成績を表１に示す。【００５４】
＜実施例６＞
［触媒６の製造］
金属酸化物触媒を、その組成がＭｏ１２Ｂｉ１．０Ｆｅ１．６Ｎｉ２．０Ｃｏ３．０Ｒｂ０．２１Ｍｇ１．３Ｃｅ２．０Ｓｉ２０．４Ｏｘとなるよう原料仕込質量を調整し、次のようにして製造した。
モリブデン酸アンモニウム・４水和物１３９１ｇを純水２４８４ｇに溶解した。この液に３４質量％の平均粒子径１２ｎｍのＳｉＯ２を含むシリカゾルを２３５３ｇと純水３１４ｇを加えた。さらに硝酸ルビジウム２０ｇを加えた。その全量は６５６２ｇであった（Ｍｏ含有液。以降、「Ａ６液」と称す）。
硝酸ビスマス・５水和物３２０ｇ、硝酸セリウム・６水和物５７０ｇ、硝酸第二鉄・９水和物４２２ｇ、硝酸ニッケル・６水和物３８６ｇ、硝酸コバルト・６水和物５８１ｇ、硝酸マグネシウム・６水和物２２１ｇを、１６．６質量％の硝酸液６００ｇに溶解した。さらに純水１０３４ｇを加えた。その全量は４１３４ｇであった（Ｂｉ含有液。以降、「Ｂ６液」と称す）。
この場合の質量比率は、４１３４（ｇ）／６５６２（ｇ）＝０．６３であった。【００５５】
９８℃に保持したＡ６液と、９８℃に保持したＢ６液とを、定量ポンプを用いてＴ字型ステンレス製円筒管（内挿物なし、内径１５ｍｍ、長さ３００ｍｍ）（合流部）の入口１と入口２とにそれぞれ供給し、２液を９０°の角度で垂直に合流させた。生成したＭｏＢｉ含有液をＴ字管出口よりスラリー攪拌槽に送液した。この操作を１０分間行った。この間の供給比率は、上記の質量比率０．６３の０．５倍から１．４倍の間で変動させ、Ａ６液とＢ６液の全部（１００質量％）を合流させた。【００５６】
具体的には次のように行った。
上記Ｔ字管に、Ａ６液を８２０（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ６液を２５６（ｇ／ｍｉｎ）の流量で配管を通じて同時に供給を開始し、３分間供給を続けた。このときの供給比率は、２５６（ｇ／ｍｉｎ）／８２０（ｇ／ｍｉｎ）＝０．３１であり、上記の質量比率０．６３の０．５倍であった。
次に、Ａ６液、Ｂ６液の供給流量を変更し、Ａ６液を６５６（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ６液を４１３（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、４１３（ｇ／ｍｉｎ）／６５６（ｇ／ｍｉｎ）＝０．６３であり、上記の質量比率０．６３の１．０倍であった。
さらに、Ａ６液、Ｂ６液の供給流量を変更し、Ａ６液を５５８（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ６液を５０８（ｇ／ｍｉｎ）の流量で５分間同時に供給した。このときの供給比率は、５０８（ｇ／ｍｉｎ）／５５８（ｇ／ｍｉｎ）＝０．９１であり、上記の質量比率０．６３の１．４倍であった。
なお、いずれの段階においてもＡ６液とＢ６液の合流温度は９８℃であった。Ｔ字管で生成したＭｏＢｉ含有液を更にスラリー撹拌槽で９８℃において１０分間攪拌を行った。【００５７】
以降は実施例１と同様にして触媒を得た（触媒６）。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。触媒６の標準偏差を表１に示す。【００５８】
［触媒６を用いたブタジエンの製造（固定床反応）］
触媒６をリング状に打錠成型機を用いて成型した（高さ４ｍｍ、外径５ｍｍ、内径２ｍｍ）。このリング状成型触媒の圧壊硬度を木屋式硬度計を用いて常法により測定した。圧壊硬度は５．２ｋｇであり工業的使用にも十分耐え得る硬度を有していた。その成型触媒２５ｇを、内径２５．４ｍｍのパイレックス（登録商標）ガラス製固定床反応管に充填した。この反応管に１−ブテン、酸素、窒素から成る原料ガスを流し、ブタジエン製造反応を行った。反応温度は３６０℃、反応圧力は０．０５ＭＰａ（ゲージ圧）であった。ｎ−ブテン含有ガス中の１−ブテン濃度及び２−ブテン濃度は、全原料ガスを基準として、各々、８体積％及び２体積％、接触時間は０．８〜２．０（ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ）であった。反応器出口の酸素濃度は０．８〜１．２体積％であった。この反応条件で２４時間反応した時の反応成績を表１に示す。【００５９】
＜実施例７＞
［触媒７の製造］
金属酸化物触媒を、その組成がＭｏ１２Ｂｉ０．４Ｆｅ２．３Ｎｉ２．５Ｃｏ２．５Ｃｒ０．０２Ｒｂ０．０８Ｋ０．０６Ｍｇ１．６Ｃｅ１．２Ｓｉ２９．４Ｏｘとなるよう原料仕込質量を調整し、次のようにして製造した。
モリブデン酸アンモニウム・４水和物１２８８ｇを純水２２９８ｇに溶解した。この液に３４質量％の平均粒子径１２ｎｍのＳｉＯ２を含むシリカゾルを２９８０ｇと４１質量％の平均粒子径４０ｎｍのＳｉＯ２を含むシリカゾルを１３３ｇと純水４４２ｇを加えた。さらに硝酸ルビジウム７ｇと硝酸カリウム４ｇを加えた。その全量は７１５２ｇであった（Ｍｏ含有液。以降、「Ａ７液」と称す）。
硝酸ビスマス・５水和物１１８ｇ、硝酸セリウム・６水和物３１６ｇ、硝酸第二鉄・９水和物５６２ｇ、硝酸ニッケル・６水和物４４７ｇ、硝酸コバルト・６水和物４４８ｇ、硝酸マグネシウム・６水和物２５２ｇ、硝酸クロム・９水和物４ｇを、１６．６質量％の硝酸液１０６１ｇに溶解した。さらに純水８００ｇを加えた。その全量は４００８ｇであった（Ｂｉ含有液。以降、「Ｂ７液」と称す）。
この場合の質量比率は、４００８（ｇ）／７１５２（ｇ）＝０．５６であった。【００６０】
３５℃に保持したＡ７液と、３５℃に保持したＢ７液とを定量ポンプを用いてＴ字型ステンレス製円筒管（内径１５ｍｍ、長さ３００ｍｍ）の入口１と入口２とにそれぞれ供給し、２液を対向する角度で合流させた。生成したＭｏＢｉ含有液をＴ字管出口よりスラリー攪拌槽に送液した。この操作を１０分間行った。この間の供給比率を、上記の質量比率０．５６の０．５倍から１．５倍の間で変動させ、Ａ７液とＢ７液の全部（１００質量％）を合流させた。【００６１】
具体的には次のように行った。
上記Ｔ字管に、Ａ７液を７１６（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ７液を４０１（ｇ／ｍｉｎ）の流量で配管を通じて同時に供給を開始し、２分間供給を続けた。このときの供給比率は、４０１（ｇ／ｍｉｎ）／７１６（ｇ／ｍｉｎ）＝０．５６であり、上記の質量比率０．５６の１．０倍であった。
次に、Ａ７液、Ｂ７液の供給流量を変更し、Ａ７液を７７１（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ７液を３４６（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、３４６（ｇ／ｍｉｎ）／７７１（ｇ／ｍｉｎ）＝０．４５であり、上記の質量比率０．５６の０．８０倍であった。
さらに、Ａ７液、Ｂ７液の供給流量を変更し、Ａ７液を６０７（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ７液を５１０（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、５１０（ｇ／ｍｉｎ）／６０７（ｇ／ｍｉｎ）＝０．８４であり、上記の質量比率０．５６の１．５倍であった。
続いて、Ａ７液、Ｂ７液の供給流量を変更し、Ａ７液を８７２（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ７液を２４４（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、２４４（ｇ／ｍｉｎ）／８７２（ｇ／ｍｉｎ）＝０．２８であり、上記の質量比率０．５６の０．５倍であった。
最後に、Ａ７液、Ｂ７液の供給流量を変更し、Ａ７液を６６８（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ７液を４４９（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。この供給比率は、４４９（ｇ／ｍｉｎ）／６６８（ｇ／ｍｉｎ）＝０．６７であり、上記の質量比率０．５６の１．２倍であった。
なお、いずれの段階においても、Ａ７液とＢ７液の合流温度は３５℃であった。生成したＭｏＢｉ含有液を更に５０℃において１時間攪拌を行った。【００６２】
以降は実施例１と同様にして触媒を得た（触媒７）。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。触媒７の標準偏差を表１に示す。
［触媒７を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
さらに、触媒１の代わりに触媒７を用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。反応成績を表１に示す。【００６３】
＜実施例８＞
［触媒８の製造］
実施例１と同様にして、Ｍｏ含有液（Ａ１液と同じもの。ただし、以降、「Ａ８液」と称す。）とＢｉ含有液（Ｂ１液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ８液」と称す。）を調製した。この場合の質量比率は、実施例１と同様に０．３６であった。
Ａ８液に対するＢ８液の供給比率を、Ｍｏ含有液とＢｉ含有液の全供給量の合計の６０質量％に当たる量については、上記の質量比率０．３６の０．５倍から１．５倍の範囲内となるように行った。残りの４０質量％については０．５倍から１．５倍の範囲外となるように行った。それ以外は実施例１と同様にして触媒を得た（触媒８）。【００６４】
具体的には次のように行った。
上記Ｙ字管に、Ａ８液を９１３（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ８液を１６５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で配管を通じて同時に供給を開始し、２分間供給を続けた。このときの供給比率は、１６５（ｇ／ｍｉｎ）／９１３（ｇ／ｍｉｎ）＝０．１８であり、上記の質量比率０．３６の０．５倍であった。
次に、Ａ８液、Ｂ８液の供給流量を変更し、Ａ８液を６２７（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ８液を４５１（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、４５１（ｇ／ｍｉｎ）／６２７（ｇ／ｍｉｎ）＝０．７２であり、上記の質量比率０．３６の２．０倍であった。
さらに、Ａ８液、Ｂ８液の供給流量を変更し、Ａ８液を７９３（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ８液を２８５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、２８５（ｇ／ｍｉｎ）／７９３（ｇ／ｍｉｎ）＝０．３６であり、上記の質量比率０．３６の１．０倍であった。
続いて、Ａ８液、Ｂ８液の供給流量を変更し、Ａ８液を９７３（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ８液を１０５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、１０５（ｇ／ｍｉｎ）／９７３（ｇ／ｍｉｎ）＝０．１１であり、上記の質量比率０．３６の０．３倍であった。
最後に、Ａ８液、Ｂ８液の供給流量を変更し、Ａ８液を７００（ｇ／ｍｉｎ）の流量、Ｂ８液を３７８（ｇ／ｍｉｎ）の流量で２分間同時に供給した。このときの供給比率は、３７８（ｇ／ｍｉｎ）／７００（ｇ／ｍｉｎ）＝０．５４であり、上記の質量比率０．３６の１．５倍であった。
なお、いずれの段階においてもＡ８液とＢ８液の合流温度は５０℃であった。【００６５】
以降は実施例１と同様にして触媒を得た（触媒８）。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
触媒８の標準偏差を表１に示す。
［触媒８を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
さらに、触媒１の代わりに触媒８を用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。反応成績を表１に示す。【００６６】
＜比較例１＞
［触媒９の製造］
実施例１と同様にしてＭｏ含有液（Ａ１液と同じもの。ただし、以降、「Ａ９液」と称す。）とＢｉ含有液（Ｂ１液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ９液」と称す。）を調製した。
５０℃に保持したＡ９液に、攪拌を行いながら、５０℃に保持したＢ９液を投入しＭｏＢｉ含有液を調製した。投入には定量送液ポンプを用いた。
具体的には、７９３１ｇのＡ９液全量に、２８４５ｇのＢ９液を２８５（ｇ／ｍｉｎ）の流量で供給した。生成したＭｏＢｉ含有液をさらに５０℃で１時間攪拌した。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
以降は実施例１と同様にして触媒を得た（触媒９）。
触媒９の標準偏差を表１に示す。
［触媒９を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
さらに、触媒１の代わりに触媒９を用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。ブタジエンの製造における反応成績を表１に示す。【００６７】
＜比較例２＞
［触媒１０の製造］
実施例１と同様にしてＭｏ含有液（Ａ１液と同じもの。ただし、以降、「Ａ１０液」と称す。）とＢｉ含有液（Ｂ１液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ１０液」と称す。）を調製した。
５０℃に保持したＢ１０液に、攪拌を行いながら、５０℃に保持したＡ１０液を投入しＭｏＢｉ含有液を調製した。投入には定量送液ポンプを用いた。
具体的には、２８４５ｇのＢ１０液全量に、７９３１ｇのＡ１０液を７９３（ｇ／ｍｉｎ）の流量で供給した。生成したＭｏＢｉ含有液をさらに５０℃で１時間攪拌した。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
以降は実施例１と同様にして、触媒を得た（触媒１０）。触媒１０の標準偏差を表１に示す。
［触媒１０を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
さらに、触媒１の代わりに触媒１０用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。反応成績を表１に示す。【００６８】
＜比較例３＞
［触媒１１の製造］
実施例１と同様にしてＭｏ含有液（Ａ１液と同じもの。ただし、以降、「Ａ１１液」と称す。）とＢｉ含有液（Ｂ１液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ１１液」と称す。）を調製した。
５０℃に保持したＡ１１液に、攪拌を行いながら、５０℃に保持したＢ１１液を投入しＭｏＢｉ含有液を調製した。投入には定量送液ポンプを用いた。
具体的には、７９３１ｇのＢ１１液全量に、２８４５ｇのＡ１１液を１１３８（ｇ／ｍｉｎ）の流量で供給した。生成したＭｏＢｉ含有液をさらに５０℃で１時間攪拌した。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。
以降は実施例１と同様にして、触媒を得た（触媒１１）。触媒１１の標準偏差を表１に示す。
［触媒１１を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
さらに、触媒１の代わりに触媒１１用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。反応成績を表１に示す。【００６９】
＜実施例９＞
［触媒１２の製造］
実施例１の各々の原料を２０倍使用する以外は実施例１と同様にして実施例１の２０倍の質量のＭｏ含有液（Ａ１液と同じもの。ただし、以降、「Ａ１２液」と称す。）と実施例１の２０倍の質量のＢｉ含有液（Ｂ１液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ１２液」と称す。）を調製した。
５０℃に保持したＡ１２液に、攪拌を行いながら、５０℃に保持したＢ１２液を投入しＭｏＢｉ含有液を調製した。投入には定量送液ポンプを用いた。
具体的には、１５８．６ｋｇのＡ１２液全量に、５６．９ｋｇのＢ１２液を２２．８（ｋｇ／ｍｉｎ）の流量で供給した。生成したＭｏＢｉ含有液をさらに５０℃で１時間攪拌した。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。以降は実施例１と同様にして触媒を得た（触媒１２）。触媒１２の標準偏差を表１に示す。
［触媒１２を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
さらに、触媒１の代わりに触媒１２用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。反応成績を表１に示す。【００７０】
＜比較例４＞
［触媒１３の製造］
実施例９と同様にしてＭｏ含有液（Ａ１２液と同じもの。ただし、以降、「Ａ１３液」と称す。）とＢｉ含有液（Ｂ１２液と同じもの。ただし、以降、「Ｂ１３液」と称す。）を調製した。
５０℃に保持したＡ１３液に、攪拌を行いながら、５０℃に保持したＢ１３液を投入しＭｏＢｉ含有液を調製した。投入には定量送液ポンプを用いた。
具体的には、１５８．６ｋｇのＡ１３液全量に、５６．９ｋｇのＢ１３液を５．６９（ｋｇ／ｍｉｎ）の流量で供給した。生成したＭｏＢｉ含有液をさらに５０℃で１時間攪拌した。このＭｏＢｉ含有液は噴霧乾燥前においてｐＨが１以下であり、スラリー状であった。以降は実施例１と同様にして触媒を得た（触媒１３）。触媒１３の標準偏差を表１に示す。
［触媒１３を用いたブタジエンの製造（流動床反応）］
さらに、触媒１の代わりに触媒１２用いた以外は実施例１と同様にしてブタジエンを製造した。反応成績を表１に示す。【００７１】
【表１】
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触媒１〜５、８〜１３：Mo12Bi0.8Fe2.5Ni4.6K0.12Rb0.05Mg1.1Ce1.5Si45.9
触媒６：Mo12Bi1.0Fe1.6Ni2.0Co3.0Rb0.21Mg1.3Ce2.0Si20.4
触媒７：Mo12Bi0.4Fe2.3Ni2.5Co2.5K0.06Rb0.08Mg1.6Ce1.2Cr0.02Si29.4
【産業上の利用の可能性】
【００７２】
本発明の金属酸化物触媒は、炭素数４以上のモノオレフィンから共役ジオレフィンを製造するプロセスに用いることができる。
また、本発明の金属酸化物触媒の製造方法及び製造装置は、ＭｏＢｉ含有金属酸化物触媒の製造に好適に採用することができる。
【００７３】
本願は、２０１６年５月３０日に日本国特許庁に出願された日本特許出願（特願２０１６−１０７３３９）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【図１】
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【図２】
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