(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光路用の線状のコアを有し、そのコアの一端部に光路変換用の光反射面が形成されている光導波路を準備する工程と、上記コアの他端部からそのコア内に光を入射させ、その光を上記光反射面で反射させた後、上記光導波路から出射させ、その出射した出射光の輝度を測定する工程とを備え、上記輝度の測定値が大きければ大きいほど光反射面の湾曲の程度が小さいとの相関性に基づいて、上記光反射面の湾曲の程度を検査することを特徴とする光導波路の検査方法。
【請求項２】
輝度の基準値を予め設定し、その基準値と上記輝度の測定値とを比較して、上記光反射面の湾曲の程度を検査する請求項１記載の光導波路の検査方法。
【請求項３】
上記輝度の測定を、撮像素子を備えたカメラを用い、そのカメラの焦点を上記光反射面の一部分に合わせた状態で、上記撮像素子により上記光導波路からの出射光を撮像して、その撮像した画像の輝度を求めることにより行う請求項１または２記載の光導波路の検査方法。
【請求項４】
上記輝度の測定を、撮像素子を備えたカメラを用い、そのカメラの焦点を上記光反射面から外した状態で、上記撮像素子により上記光導波路からの出射光を撮像して、その撮像した画像の輝度を求めることにより行う請求項１または２記載の光導波路の検査方法。
【請求項５】
コアを形成する工程と、このコアの一端部を光反射面に形成する工程と、この光反射面の湾曲の程度を上記請求項１〜４のいずれか一項に記載の光導波路の検査方法により検査する工程とを備え、その検査の結果から、予め設定された基準に合った光導波路を合格品とすることを特徴とする光導波路の製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学の分野で用いられる光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近の電子機器等では、伝送情報量の増加に伴い、電気配線に加えて、光配線が採用されている。そのようなものとして、例えば、図７に示すように、電気配線５２を有する電気回路基板Ｅとコア（光配線）５７を有する光導波路Ｗとが積層され、その光導波路Ｗの両端部に対応する上記電気回路基板Ｅの部分に、発光素子１１および受光素子１２が実装された光電気混載基板が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この光電気混載基板では、上記電気回路基板Ｅは、絶縁層５１の表面に電気配線５２が形成されたものとなっている。また、上記光導波路Ｗは、コア（光配線）５７が第１クラッド層５６と第２クラッド層５８とで挟持されたものとなっている。そして、上記電気回路基板Ｅの絶縁層５１の裏面（電気配線５２の形成面と反対側の面）に、上記光導波路Ｗの第１クラッド層５６が接触している。また、上記発光素子１１および上記受光素子１２に対応する、上記光導波路Ｗの両端部は、上記コア５７の長手方向（光の伝播する方向）に対して４５°傾斜した傾斜面に形成され、その傾斜面に位置するコア５７の部分が光反射面５７ａ，５７ｂになっている。さらに、上記発光素子１１および上記受光素子１２に対応する上記絶縁層５１の部分に、光路用の貫通孔５５が形成されており、その貫通孔５５を通して、上記発光素子１１と第１端部（図７では左端部）の光反射面５７ａとの間および上記受光素子１２と第２端部（図７では右端部）の光反射面５７ｂとの間で、光Ｌが伝播可能となっている。
【０００３】
上記光電気混載基板における光Ｌの伝播は、つぎのようにして行われる。まず、発光素子１１から光Ｌが第１端部の光反射面５７ａに向けて発光される。その光Ｌは、上記絶縁層５１に形成された光路用の貫通孔５５を通過した後、第１クラッド層５６を通り抜け、コア５７の第１端部の光反射面５７ａで反射して（光路を９０°変換して）、コア５７内を、長手方向に進む。そして、そのコア５７内を伝播した光Ｌは、コア５７の第２端部の光反射面５７ｂで反射し（光路を９０°変換し）、受光素子１２に向けて進む。つづいて、その光Ｌは、第１クラッド層５６を通り抜けて出射され、上記絶縁層５１に形成された光路用の貫通孔５５を通過した後、受光素子１２で受光される。
【０００４】
上記光電気混載基板では、コア５７の第２端部の光反射面５７ｂで反射した光Ｌが、適正に受光素子１２で受光されるようになっていることが重要である。そのため、従来、上記光反射面５７ｂの傾斜角度を検査し、適正な傾斜角度の光反射面５７ｂを有するもののみを合格品とする方法が提案されている（例えば、特許文献２，３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２８８３４１号公報
【特許文献２】特開平７−２３４１１８号公報
【特許文献３】特開２０１４−１９９２２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記光反射面５７ｂの傾斜角度が適正であっても、個体によって、受光素子１２での受光量が少ないものがあった。そこで、本発明者らがその原因を追究した結果、受光素子１２での受光量が少ないものは、上記コア５７の両端部における光反射面５７ａ，５７ｂが湾曲していて平面になっている度合いが小さいことがわかった。そのため、その光反射面５７ａ，５７ｂで反射する光Ｌが設計どおりの方向に反射せず散乱し、受光素子１２の受光部に届く光Ｌの量が少なくなっていることがわかった。すなわち、本発明者らは、光反射面５７ａ，５７ｂの傾斜角度だけではなく、湾曲の程度（平面になっている度合い）も、光伝播に大きく関与していることを突き止めた。
【０００７】
上記光反射面５７ａ，５７ｂの湾曲の程度は、その光反射面５７ａ，５７ｂをレーザ光にてスキャンして、その光反射面５７ａ，５７ｂの画像を得、その画像を解析することにより、検査することができる。しかし、その検査は簡便ではない。上記光反射面５７ａ，５７ｂの湾曲の程度を簡便に検査する方法は、従来、提案されていない。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、光導波路のコアに形成された光反射面の湾曲の程度（平面になっている度合い）を簡便に検査することができる光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明は、光路用の線状のコアを有し、そのコアの一端部に光路変換用の光反射面が形成されている光導波路を準備する工程と、上記コアの他端部からそのコア内に光を入射させ、その光を上記光反射面で反射させた後、上記光導波路から出射させ、その出射した出射光の輝度を測定する工程とを備え、上記輝度の測定値に基づいて、上記光反射面の湾曲の程度を検査する光導波路の検査方法を第１の要旨とする。
【００１０】
また、本発明は、コアを形成する工程と、このコアの一端部を光反射面に形成する工程と、この光反射面の湾曲の程度を上記光導波路の検査方法により検査する工程とを備え、その検査の結果から基準に合った光導波路を合格品とする光導波路の製法を第２の要旨とする。
【００１１】
本発明者らは、光導波路のコアに形成された光反射面の湾曲の程度を簡便に検査することができるようにすべく、上記光反射面で反射した後、上記光導波路から出射する出射光について、研究を重ねた。その結果、上記光反射面の湾曲の程度と上記出射光の輝度の大きさとが相関関係にあることを突き止めた。すなわち、上記光反射面の湾曲の程度が大きい（平面になっている度合いが小さい）程、その光反射面で反射する光の広がり程度が大きくなることから、上記光導波路からの出射光の輝度が小さくなる。逆に、上記光反射面の湾曲の程度が小さい（光反射面が平面に近い）程、その光反射面で反射する光の広がり程度が小さくなることから、上記光導波路からの出射光の輝度が大きくなる。そこで、本発明者らは、上記光導波路からの出射光の輝度の大きさを測定すれば、その輝度の測定値に基づいて、上記光反射面の湾曲の程度を簡便に検査できることを見出し、本発明に到達した。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光導波路の検査方法では、光導波路のコアに形成された光反射面で光を反射させた後、上記光導波路から出射させ、その出射光の輝度を測定している。そして、上記光反射面の湾曲の程度（平面になっている度合い）と上記出射光の輝度の大きさとが相関関係にあることから、上記光導波路からの出射光の輝度を測定すれば、その輝度の測定値に基づいて、上記光反射面の湾曲の程度（平面になっている度合い）を簡便に検査することができる。
【００１３】
特に、輝度の基準値を予め設定し、その基準値と上記輝度の測定値とを比較する場合には、上記輝度の測定値が上記基準値よりも大きいか小さいかの判定が容易であるため、上記光反射面の湾曲の程度の検査を、より簡便にすることができる。
【００１４】
さらに、上記輝度の測定を、撮像素子を備えたカメラを用い、そのカメラの焦点を上記光反射面の一部分に合わせた状態（フォーカス状態ともいう）で、上記撮像素子により上記光導波路からの出射光を撮像して、その撮像した画像の輝度を求めることにより行う場合には、上記撮像素子で撮像する上記光導波路からの出射光の画像が鮮明になり、その画像の面積が小さくなる。
【００１５】
また、上記輝度の測定を、撮像素子を備えたカメラを用い、そのカメラの焦点を上記光反射面から外した状態（デフォーカス状態ともいう）で、上記撮像素子により上記光導波路からの出射光を撮像して、その撮像した画像の輝度を求めることにより行う場合には、上記撮像素子で撮像する上記光導波路からの出射光の画像がぼやけ、その画像の面積が大きくなる。それにより、上記デフォーカス状態で測定した、湾曲の程度が大きい光反射面で反射した上記出射光の輝度の測定値と、上記輝度の基準値との差は、上記フォーカス状態で測定した場合と比較して、大きくなる。そのため、光反射面の湾曲の程度の大きいことの確認が容易になる。
【００１６】
そして、本発明の光導波路の製法は、コアの一端部を光反射面に形成した後、この光反射面の湾曲の程度を上記光導波路の検査方法により検査するため、光反射面の湾曲の程度の大きいものを排除して、基準に合った合格品のみを商品として出荷することができる。その結果、光導波路の品質の信頼性を高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の光導波路の検査方法の検査対象となる光導波路を備えた光電気混載基板の一実施の形態を模式的に示す縦断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、上記光電気混載基板の電気回路基板の形成工程を模式的に示す説明図であり、（ｄ）は、上記光電気混載基板の金属層の形成工程を模式的に示す説明図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、上記光電気混載基板の光導波路の形成工程を模式的に示す説明図である。
【図４】上記光導波路の検査方法の一実施の形態を模式的に示す説明図である。
【図５】本発明の光導波路の検査方法の検査対象となる光導波路を備えた光電気混載基板の他の実施の形態を模式的に示す縦断面図である。
【図６】上記光導波路の検査方法の他の実施の形態を模式的に示す説明図である。
【図７】従来の光電気混載基板を模式的に示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００１９】
図１は、本発明の光導波路の検査方法の検査対象となる光導波路を備えた光電気混載基板の一実施の形態を示す縦断面図である。この実施の形態における光電気混載基板Ａ，Ｂは、図１に示すように、光ファイバＦの両端部に接続されて使用されるものであり、これら光電気混載基板Ａ，Ｂと光ファイバＦとで光電気混載モジュールを形成している。各端部の光電気混載基板Ａ，Ｂは、上記光ファイバＦの端部に接続される光導波路Ｗ１と、この光導波路Ｗ１に積層された電気回路基板Ｅ１と、上記光導波路Ｗ１の一端部に対応する上記電気回路基板Ｅ１の部分に実装された光素子１１，１２とを備えている。これら光素子１１，１２は、一方の端部（図１では、左端部）の光電気混載基板Ａに備えられているのが発光素子１１であり、他方の端部（図１では、右端部）の光電気混載基板Ｂに備えられているのが受光素子１２である。さらに、この実施の形態では、上記電気回路基板Ｅ１と上記光導波路Ｗ１との間のうち、上記発光素子１１および上記受光素子１２が実装される実装用パッド２ａに対応する部分に、補強用の金属層Ｍ１が設けられている。
【００２０】
より詳しく説明すると、上記電気回路基板Ｅ１は、透光性を有する絶縁層１の表面に、電気配線本体２と上記実装用パッド２ａとを有する電気配線が形成され、その電気配線本体２がカバーレイ３で被覆されたものとなっている。
【００２１】
上記光導波路Ｗ１は、光路用の線状のコア７が第１クラッド層６と第２クラッド層８とで挟持されたものとなっている。そして、上記発光素子１１および上記受光素子１２に対応する、光導波路Ｗ１の一端部は、コア７の長手方向に対して４５°傾斜した傾斜面に形成されており、その傾斜面に位置するコア７の部分は、光反射面７ａ，７ｂになっている。すなわち、一方の端部（図１では、左端部）の光電気混載基板Ａでは、上記光反射面７ａが、光Ｌを反射して、発光素子１１とコア７との間の光伝播を可能にし、他方の端部（図１では、右端部）の光電気混載基板Ｂでは、上記光反射面７ｂが、光Ｌを反射して、受光素子１２とコア７との間の光伝播を可能にしている。また、上記光導波路Ｗ１の他端部（光反射面７ａ，７ｂと反対側の端部）は、コア７の長手方向に対して直角な直角面に形成されており、その直角面に位置するコア７の部分は、上記光ファイバＦのコア９の端面に接続される接続面７ｃとなっている。
【００２２】
上記金属層Ｍ１は、上記電気回路基板Ｅ１の絶縁層１と上記光導波路Ｗ１の第１クラッド層６との間に配置されている。そして、上記発光素子１１と上記光反射面７ａとの間に対応する上記金属層Ｍ１の部分および上記受光素子１２と上記光反射面７ｂとの間に対応する上記金属層Ｍ１の部分に、光路用の貫通孔５が形成されている。
【００２３】
上記光電気混載モジュールにおける光伝播は、つぎのようにして行われる。すなわち、まず、一方の端部（図１では、左端部）の光電気混載基板Ａにおいて、上記発光素子１１の発光部１１ａからコア７の一端部の光反射面７ａに向かって、光Ｌが発光される。その光Ｌは、上記絶縁層１，上記金属層Ｍ１に形成された光路用の貫通孔５，上記第１クラッド層６をこの順に通過した後、コア７内に入射する。つづいて、その光Ｌは、上記コア７の一端部の光反射面７ａで反射して、光路を９０°変換し、そのコア７内を他端部の接続面７ｃまで伝播した後、その接続面７ｃから出射する。つづいて、その光Ｌは、上記光ファイバＦのコア９の一端部（図１では、左端部）からその光ファイバＦのコア９内に入射し、その光ファイバＦのコア９内を他端部（図１では、右端部）まで伝播した後、その他端部から出射する。つづいて、その光Ｌは、他方の端部（図１では、右端部）の光電気混載基板Ｂにおいて、コア７の他端部の接続面７ｃからそのコア７に入射する。つづいて、その光Ｌは、上記コア７の一端部の光反射面７ｂまで伝播し、その光反射面７ｂで反射して、光路を９０°変換し、受光素子１２に向けて伝播する。つづいて、その光Ｌは、コア７を出て、上記第１クラッド層６，上記金属層Ｍ１に形成された光路用の貫通孔５，上記絶縁層１をこの順に通過した後、受光素子１２の受光部１２ａで受光される。
【００２４】
ここで、上記コア７の屈折率は１を超える値であり、上記光反射面７ａ，７ｂの外側は、空気であり、その空気の屈折率は１である。このように、上記コア７の屈折率が、その外側の空気の屈折率よりも大きいことから、光Ｌは、上記光反射面７ａ，７ｂを透過せず、その光反射面７ａ，７ｂで反射するのである。
【００２５】
このように、一方の端部（図１では、左端部）の光電気混載基板Ａでは、コア７の一端部の光反射面７ａで反射した光Ｌが、コア７から漏れることなく、適正にコア７内を他端部の接続面７ｃまで伝播するようになっていることが重要である。また、他方の端部（図１では、右端部）の光電気混載基板Ｂでは、コア７の一端部の光反射面７ｂで反射した光Ｌが、適正に受光素子１２の受光部１２ａで受光されるようになっていることが重要である。もし、上記光反射面７ａ，７ｂが湾曲していて平面になっている度合いが小さいと、その光反射面７ａ，７ｂで反射する光Ｌは、設計どおりの方向に反射しない。そのため、一方の端部（図１では、左端部）の光電気混載基板Ａでは、光反射面７ａで反射した光Ｌがコア７から漏れるようになり、他方の端部（図１では、右端部）の光電気混載基板Ｂでは、光反射面７ｂで反射した光Ｌが受光素子１２の受光部１２ａに適正に受光されないようになる。これらの場合、上記光電気混載基板Ａ，Ｂは、その機能を発揮できないことから、廃棄される。上記光電気混載基板Ａ，Ｂが廃棄されると、正常に機能する上記発光素子１１および受光素子１２も廃棄されることから、損失が大きい。
【００２６】
そこで、この実施の形態では、下記に説明するように、上記光電気混載基板Ａ，Ｂの作製工程において、上記発光素子１１および受光素子１２の実装に先立って、上記光導波路Ｗ１の光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度（平面になっている度合い）を検査する。
【００２７】
すなわち、上記検査工程を備えた光電気混載基板Ａ，Ｂの作製は、つぎのようにして行われる。
【００２８】
〔光電気混載基板Ａ，Ｂの電気回路基板Ｅ１の形成〕
まず、上記金属層Ｍ１を形成するための金属シート材Ｍａ〔図２（ａ）参照〕を準備する。この金属シート材Ｍａの形成材料としては、例えば、ステンレス，４２アロイ等があげられ、なかでも、寸法精度等の観点から、ステンレスが好ましい。上記金属シート材Ｍａ（金属層Ｍ１）の厚みは、例えば、１０〜１００μｍの範囲内に設定される。
【００２９】
ついで、図２（ａ）に示すように、上記金属シート材Ｍａの表面に、感光性絶縁樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法により、所定パターンの絶縁層１を形成する。この絶縁層１の形成材料としては、例えば、ポリイミド，ポリエーテルニトリル，ポリエーテルスルホン，ポリエチレンテレフタレート，ポリエチレンナフタレート，ポリ塩化ビニル等の合成樹脂、シリコーン系ゾルゲル材料等があげられる。上記絶縁層１の厚みは、例えば、１０〜１００μｍの範囲内に設定される。
【００３０】
つぎに、図２（ｂ）に示すように、上記電気配線（電気配線本体２および実装用パッド２ａ）を、例えば、セミアディティブ法，サブトラクティブ法等により形成する。
【００３１】
ついで、図２（ｃ）に示すように、上記電気配線本体２の部分に、ポリイミド樹脂等からなる感光性絶縁樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法により、カバーレイ３を形成する。このようにして、上記金属シート材Ｍａの表面に、電気回路基板Ｅ１が形成される。
【００３２】
〔光電気混載基板Ａ，Ｂの金属層Ｍ１の形成〕
その後、図２（ｄ）に示すように、上記金属シート材Ｍａにエッチング等を施すことにより、その金属シート材Ｍａの長手方向の先端部（他端部）側部分Ｓを除去するとともに、その金属シート材Ｍａに光路用の貫通孔５を形成する。このようにして、上記金属シート材Ｍａを金属層Ｍ１に形成する。
【００３３】
〔光電気混載基板Ａ，Ｂの光導波路Ｗ１の形成〕
そして、上記電気回路基板Ｅ１と上記金属層Ｍ１との積層体の裏面に光導波路Ｗ１（図４参照）を形成するために、まず、図３（ａ）に示すように、上記積層体の裏面（図では下面）に、第１クラッド層６の形成材料である感光性樹脂を塗布する。その後、その塗布層を照射線により露光して硬化させ、第１クラッド層６に形成する。その第１クラッド層６は、上記金属シート材Ｍａ〔図２（ｄ）参照〕の除去部分〔長手方向の第１端部（他端部）側部分Ｓ〕および上記金属層Ｍ１に形成された光路用の貫通孔５を埋めた状態で形成される。上記第１クラッド層６の厚み（金属層Ｍ１の裏面からの厚み）は、例えば、５〜８０μｍの範囲内に設定される。なお、光導波路Ｗ１の形成時（上記第１クラッド層６，下記コア７，下記第２クラッド層８の形成時）は、上記積層体の裏面は上に向けられる。
【００３４】
ついで、図３（ｂ）に示すように、上記第１クラッド層６の表面（図では下面）に、フォトリソグラフィ法により、所定パターンのコア７を形成する。このコア７の第１端部（他端部）は、そのコア７の長手方向に直角な面に形成され、上記光ファイバＦのコア９（図１参照）の端面に接続される接続面７ｃとなっている。また、上記コア７の寸法は、例えば、幅が５〜２００μｍの範囲内に設定され、厚みが５〜２００μｍの範囲内に設定される。上記コア７の形成材料としては、例えば、上記第１クラッド層６と同様の感光性樹脂があげられ、上記第１クラッド層６および下記第２クラッド層８〔図３（ｃ）参照〕の形成材料よりも屈折率が大きい材料が用いられる。
【００３５】
つぎに、図３（ｃ）に示すように、上記コア７を被覆するよう、上記第１クラッド層６の表面（図では下面）に、フォトリソグラフィ法により、第２クラッド層８を形成する。この第２クラッド層８の厚み（第１クラッド層６の表面からの厚み）は、上記コア７の厚みを超え、例えば、５００μｍ以下に設定される。上記第２クラッド層８の形成材料としては、例えば、上記第１クラッド層６と同様の感光性樹脂があげられる。
【００３６】
その後、図３（ｄ）に示すように、上記電気回路基板Ｅ１の実装用パッド２ａに対応する（図では下方に位置する）コア７の部分（一端部）を、上記第１クラッド層６および上記第２クラッド層８とともに、例えば、エキシマレーザ加工等により、コア７の長手方向に対して４５°傾斜した傾斜面に形成する。それら傾斜面に位置する上記コア７の部分が光反射面７ａ，７ｂとなる。
【００３７】
〈光導波路Ｗ１の形成工程における光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度の検査〉
そして、つぎのようにして、上記コア７の一端部に形成された光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度（平面になっている度合い）を検査する。この検査方法が、本発明の第１の特徴である。
【００３８】
すなわち、上記光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査する方法は、図４に示すように、まず、均一光を発光するＬＥＤ（発光ダイオード）等の光源１０と、ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ，ＣＭＯＳ（相補正金属酸化膜半導体）イメージセンサ等の撮像素子を備えたカメラ２０とを準備する。そして、コア７の第１端部（他端部）の接続面７ｃ側に、上記光源１０を設置し、コア７の第２端部（一端部）の光反射面７ａ，７ｂに対応する電気回路基板Ｅ１の部分の上方に、上記カメラ２０を設置する。ついで、その光源１０からコア７の第１端部の接続面７ｃに向かって、光Ｌ１を発光させる。
【００３９】
これにより、上記光Ｌ１は、上記コア７の第１端部の接続面７ｃからそのコア７に入射し、第２端部の光反射面７ａ，７ｂで反射して、光路を９０°変換し、上記カメラ２０に向けて伝播する。つづいて、その光Ｌ１は、コア７を出て、上記第１クラッド層６，上記金属層Ｍ１に形成された光路用の貫通孔５，上記絶縁層１をこの順に通過した後、上記カメラ２０に向かって出射する。
【００４０】
つぎに、その出射光Ｌ１を、上記カメラ２０の撮像素子により撮像する。そして、その撮像した画像の輝度を求めることにより、上記出射光Ｌ１の輝度を測定する。その出射光Ｌ１の撮像（輝度の測定）の際、上記カメラ２０の焦点を、上記コア７の第２端部の光反射面７ａ，７ｂの一部分（例えば、光反射面７ｂの上端縁）に合わせてもよいし、その光反射面７ａ，７ｂから上記カメラ２０の方向に外してもよいし、その反対側（光反射面７ａ，７ｂからカメラ２０と反対側の方向）に外してもよい。
【００４１】
そして、上記輝度の測定値に基づいて、上記光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査することができる。すなわち、上記輝度の測定値が大きい程、上記光反射面７ａ，７ｂで反射した光Ｌ１の広がり程度が小さく、上記光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度も小さいと判定することができる。そこで、上記輝度の測定値が、予め設定した基準値よりも大きいものは、上記光反射面７ａ，７ｂが平面に近く、実用に適しており、上記検査の合格品とすることができる。
【００４２】
例えば、上記撮像素子がＣＣＤイメージセンサの場合、そのＣＣＤイメージセンサに上記出射光Ｌ１が撮像されると、そのＣＣＤイメージセンサの受光ピクセルが上記出射光Ｌ１を受光し、各受光ピクセル毎に輝度値が測定される。そして、その輝度値に所定の閾値（例えば、５００）を設定し、その閾値以上の輝度値が測定された受光ピクセルの数を数える。その数をエリア積算値とし、そのエリア積算値が大きい程、上記光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度が小さいと判定することができる。なお、上記輝度値の閾値は、例えば、１０〜２０００の範囲内に設定され、好ましくは１００〜１０００の範囲内に設定され、さらに好ましくは３００〜７００の範囲内に設定される。
【００４３】
このようにして、上記光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査する工程を経て、光導波路Ｗ１が形成される。このように、光導波路Ｗ１の形成工程において、上記光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査する工程を設け、その光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度が実用に適している光導波路Ｗ１を合格品とすることが、本発明の第２の特徴である。
【００４４】
〔光電気混載基板Ａ，Ｂの発光素子１１および受光素子１２の実装〕
そして、上記検査の合格品である光導波路Ｗ１に積層されている電気回路基板Ｅ１の実装用パッド２ａに、発光素子１１または受光素子１２（図１参照）を実装する。このようにして、発光素子１１を有する光電気混載基板Ａと、受光素子１２を有する光電気混載基板Ｂとを得る。
【００４５】
そして、光ファイバＦのコア９の一端部に、発光素子１１を有する光電気混載基板Ａのコア７の接続面７ｃを接続し、その光ファイバＦのコア９の他端部に、受光素子１２を有する光電気混載基板Ｂのコア７の接続面７ｃを接続することにより、図１に示す光電気混載モジュールを得る。
【００４６】
このように、光導波路Ｗ１の形成工程において、上記光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査する工程を備えているため、その光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度が大きい不合格品である光導波路Ｗ１に積層されている電気回路基板Ｅ１に対しては、発光素子１１および受光素子１２を実装しないようにすることができる。それにより、不合格品である光導波路Ｗ１に積層されている電気回路基板Ｅ１に発光素子１１および受光素子１２が実装されて、正常に機能する発光素子１１および受光素子１２が廃棄されることを防止することができる。
【００４７】
図５は、本発明の光導波路の検査方法の検査対象となる光導波路を備えた光電気混載基板の他の実施の形態を示す縦断面である。この実施の形態における光電気混載基板では、図１に示す上記実施の形態において、光ファイバＦを介することなく、両端部の光電気混載基板Ａ，Ｂが直接接続したような形態になっている。なお、図５において、符号Ｅ２は電気回路基板、符号Ｍ２は金属層、符号Ｗ２は光導波路である。それ以外の部分は、図１に示す上記実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
【００４８】
そして、上記実施の形態と同様の工程により、電気回路基板Ｅ２，金属層Ｍ２および光導波路Ｗ２が形成される。そして、この実施の形態でも、上記実施の形態と同様にして、上記光導波路Ｗ２の両端部の光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査することができる。
【００４９】
すなわち、一方の上記光反射面７ｂの湾曲の程度を検査する方法は、図６に示すように、まず、発光素子１１の実装側に位置する、コア７の第１光反射面７ａに対応する電気回路基板Ｅ２の部分の上方に、ＬＥＤ等の光源１０を設置するとともに、そのコア７の第２光反射面７ｂに対応する電気回路基板Ｅ２の部分の上方に、カメラ２０を設置する。ついで、その光源１０からコア７の第１光反射面７ａに向かって、光Ｌ１を発光させる。
【００５０】
これにより、上記光Ｌ１は、上記第１光反射面７ａで反射し、コア７内を伝播した後、上記第２光反射面７ｂで反射し、上記カメラ２０に向かって出射する。ついで、その出射光Ｌ１を、上記カメラ２０で撮像することにより、上記出射光Ｌ１の輝度を測定する。そして、先に述べた方法と同様にして、閾値以上の輝度値が測定された受光ピクセルの数を数える。その数をエリア積算値とし、そのエリア積算値に基づいて、上記第２光反射面７ｂの湾曲の程度を検査する。
【００５１】
また、同様にして、図６において、上記光導波路Ｗ２の左右の向きを入れ替えて測定することにより、他方の上記第１光反射面７ａの湾曲の程度を検査する。
【００５２】
その後、上記検査に合格した光導波路Ｗ２に積層された電気回路基板Ｅ２に対してのみ、発光素子１１および受光素子１２（図５参照）を実装し、図５に示す光電気混載基板を得る。
【００５３】
なお、上記各実施の形態では、電気回路基板Ｅ１，Ｅ２に電気配線（電気配線本体２および実装用パッド２ａ）が形成されているものに対して、光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査したが、上記電気配線が形成されていないものに対しても、同様にして、光反射面７ａ，７ｂの湾曲の程度を検査することができる。
【００５４】
つぎに、実施例について説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００５５】
輝度を測定する装置として、シナジーオプトシステムズ社製のＯＣＴ−００１を準備した。コアに入射させる光の光源は、発光する光の波長が８５０ｎｍ、均一光照射面が直径４ｍｍ、ＮＡ（開口数）が０．５７のものを用いた。光導波路からの出射光を撮像するカメラのＣＣＤイメージセンサは、倍率が５倍、視野範囲が１．２８ｍｍ×０．９６ｍｍ、ＮＡ（開口数）が０．４２のものを用いた。
【００５６】
コアの第１端部（他端部）に光入射面（接続面）が形成され、コアの第２端部（一端部）に光反射面が形成された光導波路（図１参照）のサンプルを１５個準備した。そのコアの寸法は、断面を５０μｍ×５０μｍの長方形、長さを３ｍｍ、隣り合うコアとコアとの間の距離を２５０μｍとした。そして、上記光源で発光させた光を、上記コアの第１端部の光入射面からそのコア内に光を入射させ、その光を第２端部の光反射面で反射させた後、上記光導波路から出射させた。
【００５７】
〔実施例１〕
上記カメラの焦点を各サンプルの光反射面の上端縁に合わせ、その状態（フォーカス状態）で、１本のコアによる上記出射光を上記カメラで撮像した。そして、ＣＣＤイメージセンサの各受光ピクセルで測定される輝度値の閾値を５００に設定し、その閾値以上の輝度値が測定された受光ピクセルの数を数えた。上記カメラでの撮像から受光ピクセルの数を数えるまでを１回として、これを４回繰り返し、その合計をエリア積算値とし、下記の表１に示した。
【００５８】
〔実施例２〕
上記実施例１において、上記カメラの焦点距離を維持したまま、上記カメラを各サンプルの光反射面から遠ざかる方向に１６０μｍ移動させた。すなわち、上記カメラの焦点は、各サンプルの光反射面の上端縁より１６０μｍカメラ２０側の位置にある。その状態（デフォーカス状態）で、上記出射した出射光を上記カメラで撮像した。そして、上記実施例１と同様にして、エリア積算値を算出し、下記の表１に示した。
【００５９】
〔光反射面の湾曲の評価（エリア積算値による評価）〕
比較の基準となる基準品を準備した。上記実施例１での基準品のエリア積算値は４３６４であった。このエリア積算値を基準値とし、その基準値の約１０％減の値４０００を閾値とした。そして、各サンプルにおいて、上記エリア積算値がその閾値４０００以上のものを「○：光反射面の湾曲の程度が小さい」と評価し、上記エリア積算値が上記閾値４０００未満のものを「×：光反射面の湾曲の程度が大きい」と評価し、それぞれ下記の表１に示した。また、上記実施例２での基準品のエリア積算値は１２２５１であった。このエリア積算値を基準値とし、その基準値の約１０％減の値１１０００を閾値とした。そして、各サンプルにおいて、上記エリア積算値がその閾値１１０００以上のものを「○：光反射面の湾曲の程度が小さい」と評価し、上記エリア積算値が上記閾値１１０００未満のものを「×：光反射面の湾曲の程度が大きい」と評価し、それぞれ下記の表１に示した。
【００６０】
〔光反射面の曲率半径の測定およびスキャン画像による評価〕
キーエンス社製のＶＫＸ−２５０を用い、上記光導波路の各サンプルの光反射面をレーザ光にてスキャンし、その光反射面の画像を得、その画像を解析することにより、実際の上記光反射面の曲率半径を特定した。そして、その曲率半径が２００μｍ以上のものを「○：光反射面の湾曲の程度が小さい」と評価し、上記曲率半径が２００μｍ未満のものを「×：光反射面の湾曲の程度が大きい」と評価し、それぞれ下記の表１に示した。
【００６１】
【表１】
0006664128.tif 000002
【００６２】
上記表１のように、実施例１，２の検査方法で検査した光反射面の湾曲の程度は、レーザ光でのスキャンにより実際に得た光反射面の画像による評価と一致した。すなわち、実施例１，２の簡便な検査方法で、光反射面の湾曲の程度を検査できることがわかった。
【００６３】
また、光導波路の形成工程に、上記実施例１，２の検査方法を取り入れた。その結果、光反射面の湾曲の程度の大小を簡単に検査することができた。
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明の光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法は、光導波路のコアに形成された光反射面の湾曲の程度を簡便に検査する場合に利用可能である。
【符号の説明】
【００６５】
Ｌ１  光
Ｗ１  光導波路
７  コア
７ａ，７ｂ  光反射面
７ｃ  接続面
１０  光源
２０  カメラ
【図１】
0006664128.tif 000003
【図２】
0006664128.tif 000004
【図３】
0006664128.tif 000005
【図４】
0006664128.tif 000006
【図５】
0006664128.tif 000007
【図６】
0006664128.tif 000008
【図７】
0006664128.tif 000009