(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン−酢酸ビニル共重合体からなる中間層と、その両面に形成されるランダムポリプロピレンと結晶核剤とからなる表面層から構成されるオレフィン系樹脂シートであって、前記結晶核剤の含有量は、前記ランダムポリプロピレン１００重量部に対して０．０１〜１重量部であり、高周波ウェルダー溶着性を有することを特徴とするオレフィン系樹脂シート。
【請求項２】
前記結晶核剤がノニトール系核剤、ソルビトール系核剤、リン酸エステル系核剤、トリアミノベンゼン誘導体核剤、カルボン酸金属塩核剤およびキシリトール系核剤からなる群より選択されることを特徴とする請求項１記載のオレフィン系樹脂シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、名札ケースやクリアファイルなどの用途に適するオレフィン系樹脂シートに関するものであり、詳細には、シート成形時の巻き取り性、滑性、透明性および高周波ウェルダー溶着性に優れるオレフィン系樹脂シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
シートの原反を名札ケースやクリアファイルに加工する際には、原反を特定形状に裁断又は型抜き、重ね合わせ端部を接着剤で貼り合せたり、ヒートシールや高周波ウェルダー加工などで溶着（融着）したりする工程がある。
接着剤で貼り合せる場合には、接着箇所の透明性が損なわれたり、接着箇所が硬くなったりする不具合があり、また、ヒートシールでは、被加熱物の熱伝導に依存するため、被加熱物の内部まで加熱する場合には長時間を要し、それにより、溶着させない箇所にまで熱の影響が及ぶといった不具合がある。
【０００３】
これに対し、高周波ウェルダー加工は、被加熱物の溶着箇所のみを内部加熱させるものであるため、短時間でかつ溶着させない箇所に熱の影響を与えることなく溶着することができる。また、被加熱物の内部から均一に加熱されるため、溶着強度に優れ、しかもわずか数秒の印加時間で品質の安定した溶着加工を行なうことができ、加えて、加工中や加工後に環境負荷物質が発生しない非常にクリーンな加工法であるため、名札ケースやクリアファイルなどの加工法として優れたものと言える。
【０００４】
ところで、名札ケースやクリアファイルに加工する際には、原反シートに滑性がないと、非常に作業がしにくい問題がある。原反シートに滑性を付与するため、従来は、シート成形時に粉ふりを行なっていた。しかしながら、粉ふりを行なうとシートの透明性が悪化するとともに、表面に粉を保持したまま巻き取られるため、シートに粉の痕が付いて、外観不良となる問題があった。さらには、粉ふりを行なうことで、成形ラインを汚染するため、クリーンルームでの生産はできないという問題もある。
【０００５】
シートに滑性を付与する方法としては、粉ふり以外にも、シートを構成する樹脂組成物中に有機系の滑剤や無機粒子を添加する方法も知られている（特許文献１等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２６５４９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、有機系の滑剤は、経時でシートの表面に露出することにより滑性を付与するものであるため、即効性がなく、原反シートを名札ケースやクリアファイルに加工する際には、滑性を付与できていないケースが多い。シートの表面に滑剤を露出させた後であれば十分な滑性が得られるが、今度は印刷適性に劣る不具合があって、使用しにくいものであった。
また、無機粒子を添加すると、シート本来の透明性を保持することが難しく、名札ケースやクリアファイルのような用途には不向きであった。
【０００８】
さらに、上記用途においては、透明性に優れるためランダムポリプロピレンの使用が好適であるが、鏡面意匠にした場合、シートの巻き取り時においてブロッキングしやすい問題がある。ブロッキングすると、シートの歪みを解消できないためシワになってしまう。
このような問題は、凹凸意匠にすることや、上記のような粉ふり、有機系の滑剤あるいは無機粒子の添加で解消されるが、透明性や印刷適性を満足することが困難であった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、このような知見の下、成し得たものであり、以下を要旨とする。
（１）エチレン−酢酸ビニル共重合体エチレン系共重合体からなる中間層と、その両面に形成されるランダムポリプロピレンと結晶核剤とからなる表面層から構成されるオレフィン系樹脂シートであって、前記結晶核剤の含有量は、前記ランダムポリプロピレン１００重量部に対して０．０１〜１重量部であり、高周波ウェルダー溶着性を有することを特徴とするオレフィン系樹脂シート。
（２）前記結晶核剤がノニトール系核剤、ソルビトール系核剤、リン酸エステル系核剤、トリアミノベンゼン誘導体核剤、カルボン酸金属塩核剤およびキシリトール系核剤からなる群より選択されることを特徴とする（１）記載のオレフィン系樹脂シート。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、透明性を損なうことなく、シート成形時の巻き取り性、滑性に優れたオレフィン系樹脂シートを提供することができる。また、本発明のオレフィン系樹脂シートは高周波ウェルダー溶着性にも優れるものである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のオレフィン系樹脂シートは、エチレン系共重合体からなる中間層と、中間層の両面に形成されるランダムポリプロピレンと結晶核剤とからなる表面層から構成される。
【００１２】
表面層は、ランダムポリプロピレンと結晶核剤とから構成される。
表面層をランダムポリプロピレンで構成することによって、本発明のオレフィン系樹脂シートは透明性に優れる。
ランダムポリプロピレンは、種々のものが使用できるが、メタロセン触媒により重合されたランダムポリプロピレンが好ましく用いられる。メタロセン触媒により重合されたランダムポリプロピレンは、他の触媒により重合されたランダムポリプロピレンやホモポリプロピレンと比較して透明性が高く、そのため、透明性に優れるオレフィン系樹脂シートの製造に有利である。
なお、メタロセン触媒により重合されたランダムポリプロピレンは、その２３０℃×２．１６ｋｇｆでのメルトフローレートが３ｇ／１０ｍｉｎ以上であることが好ましい。
【００１３】
本発明のオレフィン系樹脂シートは表面層に結晶核剤が含有されてなる。表面層に結晶核剤を含有すると、アンチブロッキング剤や滑剤を添加せずとも、シート巻き取り時にブロッキングすることがなくなる。
【００１４】
結晶核剤は、ノニトール系核剤、ソルビトール系核剤、リン酸エステル系核剤、トリアミノベンゼン誘導体核剤、カルボン酸金属塩核剤およびキシリトール系核剤から選択されることが好ましい。
【００１５】
ノニトール系の構造を有する結晶核剤として、例えば、１，２，３―トリデオキシ−４，６：５，７−ビス−［（４−プロピルフェニル）メチレン］−ノニトールが挙げられる。
このうち、市販の結晶核剤としては、例えば１，２，３―トリデオキシ−４，６：５，７−ビス−［（４−プロピルフェニル）メチレン］−ノニトールを含むＭｉｌｌａｄ ＮＸ８０００、ＮＸ８０００Ｋ、ＮＸ８０００Ｊ（以上ミリケンジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【００１６】
ソルビトール系の構造を有する結晶核剤として、例えば、ビス−１，３：２，４−（４’−エチルベンジリデン）１−アリルソルビトール、ビス−１，３：２，４−（３’−メチル−４’−フルオロ−ベンジリデン）１−プロピルソルビトール、ビス−１，３：２，４−（３’，４’−ジメチルベンジリデン）１’−メチル−２’−プロペニルソルビトール、ビス−１，３，２，４−ジベンジリデン２’，３’−ジブロモプロピルソルビトール、ビス−１，３，２，４−ジベンジリデン２’−ブロモ−３’−ヒドロキシプロピルソルビトール、ビス−１，３：２，４−（３’−ブロモ−４’−エチルベンジリデン）−１−アリルソルビトール、モノ２，４−（３’−ブロモ−４’−エチルベンジリデン）−１−アリルソルビトール、ビス−１，３：２，４−（４’−エチルベンジリデン）１−アリルソルビトール、ビス−１，３：２，４−（３’，４’−ジメチルベンジリデン）１−メチルソルビトール、ビス（ｐ−メチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ビス−ｏ−（４−メチルベンジリデン）−Ｄ−ソルビトール、１，３：２，４−ビス−ｏ−（ベンジリデン）−Ｄ−ソルビトール、１，３：２，４−ビス−ｏ−（３，４−ジメチルベンジリデン）−Ｄ−ソルビトール等が挙げられる。
このうち、市販の結晶核剤としては、ＲｉＫＡＦＡＳＴ Ｒ−１（新日本理化株式会社製）、Ｍｉｌｌａｄ ３９８８（ミリケンジャパン株式会社製）、ゲルオールＥ−２００（新日本理化株式会社製）、ゲルオールＭＤ（新日本理化株式会社製）等が挙げられる。
【００１７】
リン酸エステル系結晶核剤として、アルミニウム−ビス（４，４’，６，６’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−メチレンジフェニル−ホスファート）−ヒドロキシド、リン酸−２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）リチウム塩系化合物等が挙げられる。市販のリン酸エステル系結晶核剤として、例えばアデカスタブＮＡ−２１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アデカスタブＮＡ−７１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
【００１８】
トリアミノベンゼン誘導体結晶核剤として、例えば、１，３，５−トリス（２，２−ジメチルプロパンアミド）ベンゼン等が挙げられる。市販のトリアミノベンゼン誘導体結晶核剤として、例えばＩＲＧＡＣＬＥＡＲ ＸＴ３８６（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）などが挙げられる。
【００１９】
カルボン酸金属塩核剤として、１，２−シクロヘキサンジカルボキシル酸カルシウム塩等が挙げられる。市販のカルボン酸金属塩核剤として、例えばＨｙｐｅｒｆｏｒｍ ＨＰＮ−２０Ｅ（ミリケンジャパン株式会社製）などが挙げられる。
【００２０】
キシリトール系の構造を有する結晶核剤として、例えば、ビス−１，３：２，４−（５’，６’，７’，８’−テトラヒドロ−２−ナフトアルデヒドベンジリデン）１−アリルキシリトール、ビス−１，３：２，４−（３’，４’−ジメチルベンジリデン）１−プロピルキシリトールが挙げられる。
【００２１】
このなかでも、２次加工後の透明性を維持するためには、ノニトール系核剤またはソルビトール系核剤の使用が好ましい。
【００２２】
これらの結晶核剤は、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２３】
結晶核剤の配合量は、表面層を構成する樹脂１００重量部に対して０．０１〜１重量部である。
０．０１重量部未満であると、シート成形時のブロッキングを抑制できずシートの巻き取りが困難になる。一方、１重量部を越えると、オレフィン系樹脂シートの透明性が損なわれる傾向にある。
【００２４】
表面層には、本発明の効果を損なわない範囲で、上記ランダムポリプロピレン以外の樹脂を含有させてもよい。他の樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレン系共重合体などのエチレン系樹脂、ホモポリプロピレン、ブロックポリプロピレン、ポリブテン、オレフィン系ゴム、オレフィン系エラストマーなどが挙げられる。
【００２５】
また、表面層には、必要に応じて、帯電防止剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、無機充填剤、顔料等の各種添加剤を添加してもよい。
【００２６】
本発明のオレフィン系樹脂シートの中間層は、エチレン系共重合体からなる。
エチレン系共重合体としては、高周波ウェルダー溶着性を有するエチレン系共重合体であれば特に限定されず、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体等が挙げられるが、柔軟で極性が高いエチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましい。エチレン−酢酸ビニル共重合体の酢酸ビニルの含量は１０重量％以上のもの、特に１０〜３５重量％の範囲のものが好適である。
【００２７】
中間層には、得られるオレフィン系樹脂シートの特性を損なわない範囲であれば、上記のエチレン系共重合体以外の重合体、具体的には、低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン等のポリエチレン、ホモポリプロピレン、アイソタクチックまたはシンジオタクチックのポリプロピレン（プロピレンとエチレンのランダム、ブロック共重合体、すなわちランダムポリプロピレンやブロックポリプロピレンも含む）、ポリブテン、オレフィン系ゴム、オレフィン系エラストマーなどを混合しても差し支えない。
【００２８】
また、中間層には表面層と同様に、必要に応じて、帯電防止剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、無機充填剤、顔料等の各種添加剤を添加してもよい。
【００２９】
本発明のオレフィン系樹脂シートは、中間層の両面に表面層を形成してなるが、その形成手段として好ましくは、製造工程が簡略な共押出法や共押出インフレーション法である。もちろん、中間層と表面層とを、カレンダー法、押出法、インフレーション法等の手段によって別々に成形し、それらを熱ラミネートもしくは接着剤等による貼り合せによっても得ることができる。なお、本発明のオレフィン系樹脂シートは、中間層を表面層の間に接着層を介在させずとも層間密着性に優れるという利点もある。
【００３０】
本発明のオレフィン系樹脂シートの厚さについては特に限定されるものではないが、上記用途として一般的には、０．０３〜２．０ｍｍである。
【００３１】
本発明のオレフィン系樹脂シートにおける中間層と表面層の厚さの比率は、表面層：中間層：表面層において、１：２：１〜１：２０：１の範囲であり、好ましくは、１：４：１〜１：１６：１の範囲である。
【００３２】
上記本発明のオレフィン系樹脂シートは、シート成形時における巻き取り性、滑性、透明性および高周波ウェルダー溶着性に優れるものであるため、名札ケースやクリアファイルなど二次加工を要する用途での使用に好適である。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【００３４】
＜実施例１〜５、参考例６、比較例１〜４＞
表１に記載の配合処方よりなる樹脂組成物を、Ｔ−ダイ共押出成形し（２種３層、層比１／８／１、総厚み３００μｍのオレフィン系樹脂シートを作製した。
【００３５】
【表１】
0006721407.tif 000002
【００３６】
表中；
・  ランダムポリプロピレン１  
日本ポリプロ株式会社製、ウィンテックＷＦＸ４Ｔ
・  ランダムポリプロピレン２  
日本ポリプロ株式会社製、ＦＸ４Ｇ
・  ホモポリプロピレン
株式会社プライムポリマー製、Ｊ１０５Ｇ
・  結晶核剤１
リン酸エステル系核剤、株式会社ＡＤＥＫＡ製、アデカスタブＮＡ−７１
・  結晶核剤２
ソルビトール系核剤、新日本理化株式会社製、ゲルオールＤＸＲ
・  滑剤
日本化成株式会社製、Ｌ−２００（エルカ酸アミド）
・  エチレン系共重合体１  
エチレン−酢酸ビニル共重合体、三井デュポンポリケミカル株式会社製、エバフ        レックスＥＶ３６０ＲＣ
・  エチレン系共重合体２
エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、住友化学株式会社製、アクリフトＷＨ        ２０６Ｆ
【００３７】
各実施例、比較例のシートの成形時の様子および成形して得られたシートについて、以下の評価を行なった。
【００３８】
＜透明性＞
ヘイズメーターによりヘイズ値を測定し、以下の基準で評価した。
○・・・ヘイズ値３以下
×・・・ヘイズ値３を超える  
【００３９】
＜巻き取り性＞
シート成形時における巻き上がり形状を確認し、以下の基準で評価した。
○・・・問題なし
×・・・シワが入っている
【００４０】
＜高周波ウェルダー溶着性＞
出力４Ｗの高周波ウェルダー装置を用いて、シートを二枚重ねにして溶着した際の同調率および溶着時間を測定し、以下の基準で評価した。
◎・・・同調率７０、発信時間５秒で溶着
○・・・同調率８０、発信時間５秒で溶着
【００４１】
＜印刷適性＞
シートの成形直後にコロナ処理を行い、室温にて６日間放置し、放置後の濡れ指数を濡れ指数標準液（和光純薬工業社製）を用いて評価した（コロナ処理直後の濡れ指数は、４８ダインであった）。
○・・・濡れ指数が４５ダイン以上
×・・・濡れ指数が４５ダイン未満
【００４２】
実施例１〜５のシートは、シート成形時における巻き取り性、滑性、透明性および高周波ウェルダー溶着性に優れるため、名札ケースやクリアファイルなど二次加工を要する用途に好適である。