(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体、ガイド部材及びラグを備えるゴムクローラの製造方法であって、
加硫済みの、前記本体、前記ガイド部材及び前記ラグを準備する準備工程と、
前記本体及び前記ガイド部材の間と、前記本体及び前記ラグの間とに接着層を配置すると共に、前記本体に、前記ガイド部材及び前記ラグをゴムクローラに仮組みする仮組み工程と、
仮組みされたゴムクローラの内周面側及び外周面側の少なくとも一方に圧力を付加して前記接着層を加圧すると共に、前記仮組みされたゴムクローラを加熱する加圧・加熱工程と、
を備え、
前記加圧・加熱工程において、前記圧力は流体圧であり、前記流体圧により膨張する袋体を用いて前記圧力を付加する、ゴムクローラの製造方法。
【請求項２】
前記加圧・加熱工程において、枠体の内側で前記袋体を膨張させて前記圧力を付加する、請求項１に記載のゴムクローラの製造方法。
【請求項３】
前記加圧・加熱工程において、前記仮組みされたゴムクローラの少なくともいずれか一方を変形可能な被覆部材で密着状態に覆い、当該被覆部材を介して前記流体圧を付加する、請求項１に記載のゴムクローラの製造方法。
【請求項４】
前記加圧・加熱工程において、前記流体圧が所定の圧力に上昇した後に加熱を開始する、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のゴムクローラの製造方法。
【請求項５】
前記流体圧は、０．１ＭＰａ〜５．０ＭＰａの範囲である、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のゴムクローラの製造方法。
【請求項６】
前記加圧・加熱工程の後に、前記接着層の温度が所定の温度に低下した後に前記流体圧の解放を開始する流体圧解放工程を更に備える、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のゴムクローラの製造方法。
【請求項７】
前記接着層は、チオウレタン結合を有する化合物及びチオール基を有する化合物を含み、
赤外吸収スペクトルにおける、前記チオウレタン結合中のカルボニル基に基づくピーク強度Ａと、前記チオール基に基づくピーク強度Ｂとの比（Ａ／Ｂ）が、２０以上２５０以下である、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のゴムクローラの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゴムクローラの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のゴムクローラの製造方法には、金型（上モールド及び下モールド）間に未加硫ゴム及びスチールコードをセットしてこれを加硫成形する方法や、本体（基体）、ガイド部材（突起）及びラグを予め加硫成形しておき、本体に接着層（接着用ゴムシート）を介してガイド部材及びラグを加硫成形する方法がある（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１２９３５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、本体に接着層を介してガイド部材及びラグを加硫成形するにあたり、金型を用いて接着層に圧力を付加しようとした場合、接着層を均一に加圧できないことがあった。この場合、接着が不均一なゴムクローラが製造されるため、均一な接着を得るという点で改善の余地があった。
【０００５】
本発明の目的は、ガイド部材及びラグが本体に対して均一に接着されたゴムクローラを得ることができるゴムクローラの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るゴムクローラの製造方法は、本体、ガイド部材及びラグを備えるゴムクローラの製造方法であって、加硫済みの、前記本体、前記ガイド部材及び前記ラグを準備する準備工程と、前記本体及び前記ガイド部材の間と、前記本体及び前記ラグの間とに接着層を配置すると共に、前記本体に、前記ガイド部材及び前記ラグをゴムクローラに仮組みする仮組み工程と、仮組みされたゴムクローラの内周面側及び外周面側の少なくとも一方に圧力を付加して前記接着層を加圧すると共に、前記仮組みされたゴムクローラを加熱する加圧・加熱工程と、を備える。
本発明に係るゴムクローラの製造方法を使用すれば、ガイド突起及びラグが本体に対して均一に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【０００７】
本発明に係るゴムクローラの製造方法は、前記加圧・加熱工程において、前記圧力は流体圧であり、前記流体圧により膨張する袋体を用いて前記圧力を付加することが好ましい。
この場合、仮組みされたままのゴムクローラの形状を保ちつつ、圧力が付加されることにより、より均一に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【０００８】
本発明に係るゴムクローラの製造方法は、前記加圧・加熱工程において、枠体の内側で前記袋体を膨張させて前記圧力を付加することが好ましい。
この場合、仮組みされたゴムクローラの外周面側が枠体によって拘束されることにより、よりさらに均一に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【０００９】
本発明に係るゴムクローラの製造方法は、前記加圧・加熱工程において、前記仮組みされたゴムクローラの少なくともいずれか一方を変形可能な被覆部材で密着状態に覆い、当該被覆部材を介して前記流体圧を付加することが好ましい。
この場合、仮組みされたままのゴムクローラの形状を保ちつつ、流体圧が付加されることにより、より均一に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【００１０】
本発明に係るゴムクローラの製造方法は、前記加圧・加熱工程において、前記流体圧が所定の圧力に上昇した後に加熱を開始することが好ましい。
この場合、高い流体圧が付加された後に加熱が開始されることで、流体圧Ｐが確実に付加された状態で加熱を行うことができることから、より均一に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【００１１】
本発明に係るゴムクローラの製造方法では、前記流体圧は、０．１ＭＰａ〜５．０ＭＰａの範囲であることが好ましい。
この場合、流体圧が０．１ＭＰａ以上であれば、仮組みされたゴムクローラの表面に多少の凹凸があっても、均一に流体圧を付加することが可能になり、また、流体圧が５．０ＭＰａ以下であれば、製造後のゴムクローラに生じ得る傷や変形の発生を抑制することができる。
【００１２】
さらに、本発明に係るゴムクローラの製造方法では、前記加圧・加熱工程の後に、前記接着層の温度が所定の温度に低下した後に前記流体圧の解放を開始する流体圧解放工程を更に備えることが好ましい。
この場合、接着完了直後の高温時において接着層に生じ得る凝集破壊を防止することができる。
【００１３】
本発明に係るゴムクローラの製造方法では、前記接着層は、チオウレタン結合を有する化合物及びチオール基を有する化合物を含み、赤外吸収スペクトルにおける、前記チオウレタン結合中のカルボニル基に基づくピーク強度Ａと、前記チオール基に基づくピーク強度Ｂとの比（Ａ／Ｂ）が、２０以上２５０以下であることが好ましい。
この場合、強力に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ガイド突起及びラグが本体に対して均一に接着されたゴムクローラを得ることができるゴムクローラの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】（ａ）は、本発明の一実施形態に係るゴムクローラの製造方法によって製造可能な、ゴムクローラの一例を示す側面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示すゴムクローラを幅方向中心で断面とした縦断面図である。
【図２】（ａ）は、図１（ａ）のゴムクローラを内周側から見た平面図であり、（ｂ）は、図１（ａ）のゴムクローラを外周側から見た平面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るゴムクローラの製造方法の仮組み工程において、ガイド突起及びラグそれぞれを、位置決め冶具を使用してクローラ本体に位置決めする作業を説明するための説明図である。
【図４】（ａ）は、図３の位置決め冶具を使用してガイド突起を位置決めした、クローラ本体を内周面側から示す斜視図であり、（ｂ）は、図３の位置決め冶具を使用して、ラグを位置決めしたクローラ本体を外周面側から示す斜視図である。
【図５】図３の位置決め冶具を使用して、仮組みしたゴムクローラを示す斜視図である。
【図６】（ａ）は、図５の仮組みしたゴムクローラの外周面側に、被覆部材を密着させて覆った状態を示す斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）の被覆部材及び気密シール用リングをそれぞれ示す斜視図である。
【図７】（ａ）は、図６（ａ）の仮組みしたゴムクローラの内周面側に、袋体を配置した状態を示す斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）の正面図である。
【図８】袋体を用いて内周面側に流体圧を付加した図７（ａ），（ｂ）に示す仮組みしたゴムクローラを、圧力容器内で加圧したときの圧力状態を示す拡大断面図である。
【図９】（ａ）は、本発明の第２の実施形態に係るゴムクローラの製造方法の加圧・加熱工程にて、仮組みしたゴムクローラを、枠体の内側で２つの袋体を用いて保持した状態を示す正面図であり、（ｂ）は、（ａ）の斜視図である。
【図１０】２つの袋体を用いて内外周面側に、流体圧を付加した図９（ａ），（ｂ）に示す仮組みしたゴムクローラの圧力状態を示す拡大断面図である。
【図１１】（ａ）は、本発明の第３の実施形態に係るゴムクローラの製造方法の加圧・加熱工程にて、仮組みしたゴムクローラを、枠体の内側で１つの袋体を用いて保持した状態を示す正面図であり、（ｂ）は、（ａ）の斜視図である。
【図１２】１つの袋体を用いて内周面側に流体圧を付加した図１１（ａ），（ｂ）に示す仮組みしたゴムクローラの圧力状態を示す拡大断面図である。
【図１３】（ａ）は、本発明に係るゴムクローラの製造方法にて使用可能な、クローラ本体の製造に用いることができる成形冶具の斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）の成形冶具を用いたクローラ本体の成形工程を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態に係るゴムクローラの製造方法を説明する。
【００１７】
図１（ａ）中、符号１は、本発明の一実施形態に係るゴムクローラの製造方法によって製造可能な、ゴムクローラである。ゴムクローラ１は、加硫ゴムからなる無端帯状のクローラ本体（本体）２を有している。図１（ｂ）に示すように、クローラ本体２には、抗張体（例えば、スチールコード）３が埋設されている。抗張体３は、クローラ本体２の周方向にスパイラル状に巻き付けられることにより、クローラ本体２の幅方向（図１（ｂ）では、紙面表裏方向）に配置されている。クローラ本体２における抗張体３の内外周側には、抗張体３の他に、補強層等を埋設することができる。
【００１８】
符号４は、クローラ本体２の内周面２ａに設けられたガイド突起（ガイド部材）である。ガイド突起４は、加硫ゴムからなり、接着層６によりクローラ本体２に接着されている。ガイド突起４は、クローラ本体２が脱輪しないため（横ずれ防止のため）に一定間隔で設けられている。図示しない転輪が転動することで、ゴムクローラ１の回転を生起させる。ゴムクローラ１では、図２（ａ）に示すように、複数のガイド突起４がクローラ本体２の周方向（図中、左右方向）に間隔を置いて配置されている。ガイド突起４の形状および配置は、適宜変更することができる。
【００１９】
図１（ａ）中、符号５は、クローラ本体２の外周面２ｂに設けられたラグである。ラグ５は、加硫ゴムからなり、接着層６によりクローラ本体２に接着されている。ゴムクローラ１では、図２（ｂ）に示すように、複数のラグ５がクローラ本体２の周方向に間隔を置いて配置されている。ゴムクローラ１では、複数のガイド突起４及びラグ５をクローラ本体２の周方向に互い違いに配置している。ラグ５の形状および配置は、適宜変更することができる。  
【００２０】
次に、本発明の第１の実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を説明する。
【００２１】
本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法は、クローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５を準備する準備工程と、クローラ本体２及びガイド突起４の間と、クローラ本体２及びラグ５の間との、それぞれに接着層６を配置して、クローラ本体２に、ガイド突起４及びラグ５をゴムクローラ１に仮組みする仮組み工程と、仮組みされたゴムクローラ１の内周面（本実施形態では、クローラ本体２の内周面２ａ）側及び外周面（本実施形態では、クローラ本体２の外周面２ｂ）側の少なくとも一方に流体圧（圧力）Ｐを付加して接着層６を加圧すると共に、仮組みされたゴムクローラ（以下、「仮組みゴムクローラ」ともいう。）１０を加熱する加圧・加熱工程と、を備える。
【００２２】
具体例としては先ず、準備工程では、クローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５をそれぞれ、未加硫ゴムから金型を用いて加硫成形している。具体的には、クローラ本体２の形状を形作るキャビティを有する上型及び下型を用い、当該キャビティ内に未加硫ゴム及び抗張体３を配置してクローラ本体２を加硫成形している。ガイド突起４及びラグ５もそれぞれ、ガイド突起４又はラグ５の形状を形作るキャビティを有する上型及び下型を用い、当該キャビティ内に未加硫ゴムを配置してガイド突起４又はラグ５を加硫成形している。
【００２３】
次いで、仮組み工程では、上記準備工程で得られた加硫済みのクローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５を用い、クローラ本体２及びガイド突起４の間と、クローラ本体２及びラグ５の間とにそれぞれ、接着層６を配置すると共に、クローラ本体２にガイド突起４及びラグ５を仮組みする。
【００２４】
本実施形態では先ず、クローラ本体２及びガイド突起４の間に接着層６を配置すると共に、クローラ本体２及びラグ５の間に接着層６を配置する。具体的は、クローラ本体２の内周面２ａもしくはクローラ本体２の内周面２ａと接触するガイド突起４の面に接着層６を配置すると共にクローラ本体２の外周面２ｂと接触するラグ５の面に接着層６を配置する。なお、本発明に従えば、接着層６は、クローラ本体２の内周面２ａに配置することも、クローラ本体２の外周面２ｂに配置することも可能であり、若しくは、ガイド突起４及びクローラ本体２の内周面２ａの両方に又はラグ５及びクローラ本体２の外周面２ｂの両方に配置することも可能である。
【００２５】
接着層６の配置が完了した後は、クローラ本体２にガイド突起４及びラグ５を仮組みする。本実施形態では、図３及び図４（ａ），（ｂ）に示すように、ガイド突起用の位置決め冶具１１、ラグ用の位置決め冶具１２及び留め具１３を用いて仮組みしている。図３に示すように、ガイド突起用の位置決め冶具１１は、ガイド突起４が貫通可能な複数の開口部１１ａを有し、当該開口部１１ａがそれぞれ、一定の間隔で配置されている。同様に、ラグ用の位置決め冶具１２は、ラグ５が貫通可能な複数の開口部１２ａを有し、当該開口部１２ａがそれぞれ、一定の間隔で配置されている。留め具１３は、図４（ａ），（ｂ）に示すように、クローラ本体２に配置した位置決め冶具１１及び位置決め冶具１２をクローラ本体２と共に挟んで固定するクリップである。
【００２６】
本実施形態に係る仮組み工程では、ガイド突起４は、クローラ本体２の内周面２ａに間隔を置いて暫定的に配置した後、図４（ａ）に示すように、位置決め冶具１１に形成された開口部１１ａに通すことで位置決めされる。ラグ５は、図３に示すように、位置決め冶具１２の開口部１２ａに通して仮留めした後、クローラ本体２の外周面２ｂに配置することで位置決めされる。本実施形態では、ラグ５のクローラ本体内周面側の周りに周縁部を設けて当該周縁部を位置決め冶具１２の開口部１２ａを形作るフレームに引っ掛けることで位置決め冶具１２に対して仮留めを行う。位置決め冶具１１及び位置決め冶具１２は、図４（ａ），（ｂ）に示すように、クローラ本体２の幅方向縁部の両側でクローラ本体２と共に留め具１３で挟むことで固定される。こうした作業をクローラ本体２の周方向に順次行えば、図５の符号１０に示すように、クローラ本体２にガイド突起４及びラグ５を仮組みすることができる。
【００２７】
なお、上記仮組み工程は、治具を使用することなく行うこともできる。具体例としては、接着層６として、ガイド突起４やラグ５の自重に耐えうる程度の粘着性を持った接着層を準備する一方、予めクローラ本体２に位置決めの印をつけておくことで、クローラ本体２にガイド突起４及びラグ５を直接仮組みする。この場合、予めクローラ本体２に位置決めの印をつける方法としては、例えば、クローラ本体２を加硫成形するためのモールドとして、予め位置決めの印が掘られたモールドを使用する方法が挙げられる。また或いは、固定を必要としない位置決め治具を使用し、仮組み工程を終了後に位置決め冶具を取り外して加圧・加熱工程を行うことで、粘着させることも可能である。
【００２８】
更に、加圧・加熱工程では、仮組みゴムクローラ１０の内周面側及び外周面側に流体圧Ｐを付加して接着層６を加圧するとともに、仮組みゴムクローラ１０を加熱する。
【００２９】
具体的には、本実施形態に係る加圧・加熱工程では先ず、図６（ａ），（ｂ）に示すように、仮組みゴムクローラ１０の外周面を変形可能な被覆部材１４で密着状態に覆う。被覆部材１４は、例えば、耐熱性を有する無端帯状のゴムシートからなる。本実施形態では、図６（ａ）に示すように、被覆部材１４の幅方向縁部がそれぞれ仮組みゴムクローラ１０の内周面側に巻き掛かるように、仮組みゴムクローラ１０の外周面側を被覆部材１４で覆った後、気密シール用リング１６を用いて、被覆部材１４の幅方向縁部をそれぞれ仮組みゴムクローラ１０の内周面に対して密封している。被覆部材１４には、図示せぬ逆止弁付きの吸引口が設けられている。被覆部材１４に設けた前記吸引口から仮組みゴムクローラ１０と被覆部材１４との間の空気を吸引すれば、仮組みゴムクローラ１０の外周面側は被覆部材１４で密着状態に覆われる。
【００３０】
次いで、本実施形態に係る加圧・加熱工程では、図７（ａ），（ｂ）に示すように、仮組みゴムクローラ１０の内周面側（本実施形態では、ガイド突起４側）に流体圧Ｐにより膨張する袋体１７を配置する。袋体１７は、例えば、耐熱性を有するゴムからなる。袋体１７には、図示せぬ逆止弁付きのガス導入口が設けられている。仮組みゴムクローラ１０の内周面側に袋体１７を配置した後、ガス導入口から空気等の流体を導入すれば、その流体圧Ｐによって袋体１７を膨張させることができる。袋体１７は、図８に示すように、ガイド突起用の位置決め冶具１１から突出するガイド突起４を埋没させるように膨張しつつ、位置決め冶具１１を介して仮組みゴムクローラ１０の内周面側全体に流体圧Ｐを付加する。この場合、ガイド突起４の外表面には常に、ガイド突起４の外表面に対して直交する向きに均一な流体圧Ｐが加わる。
【００３１】
本実施形態に係る加圧・加熱工程ではさらに、袋体１７により流体圧Ｐが仮組みゴムクローラ１０の内周面に付加された状態のまま、当該仮組みゴムクローラ１０を、温度及び圧力の調整が可能な圧力容器（例えば、加熱調整可能なオートクレーブ）内に配置する。本実施形態では、図８に示すように、圧力容器の内部の圧力を、この例では流体圧Ｐに等しい圧力に制御することで、仮組みゴムクローラ１０の外周面側全体に被覆部材１４を介して流体圧Ｐを付加する。この場合、ラグ５の外表面には常に、ラグ５の外表面に対して直交する向きに均一な流体圧Ｐが加わる。こうして、仮組みゴムクローラ１０の内周面側及び外周面側に流体圧Ｐを付加して接着層６を加圧すれば、接着層６を均一に加圧することができる。
【００３２】
次いで、本実施形態に係る加圧・加熱工程では、仮組みゴムクローラ１０を加熱する。本実施形態に係る加圧・加熱工程では、圧力容器の温度を制御することで、仮組みゴムクローラ１０を加熱する。本実施形態に係る加圧・加熱工程では、仮組みゴムクローラ１０を加圧した状態から加熱を行うことにより、クローラ本体２及びガイド突起４の間で均一な接着を得ることができると共に、クローラ本体２及びラグ５の間で均一な接着を得ることができる。加圧・加熱工程を経た後は、留め具１３を取り外し、ガイド突起用の位置決め冶具１１及びラグ用の位置決め冶具を取り除いて、ゴムクローラ１を取り出す。
【００３３】
このように、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を使用すれば、ガイド突起４及びラグ５がクローラ本体２に対して均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができる。すなわち、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法によれば、ガイド突起４及びラグ５がクローラ本体３に対して均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができるゴムクローラの製造方法を提供することができる。また、上述のとおり、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を使用すれば、成形金型が不要になる。さらに、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を使用すれば、サイズの同じ複数のゴムクローラは勿論、異なる複数のゴムクローラ１を同時に製造することができる。
【００３４】
また、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法は、前記加圧・加熱工程において、仮組みゴムクローラ１０の内周面側に、流体圧Ｐにより膨張する袋体１７を用いて流体圧Ｐを付加している。この場合、仮組みゴムクローラ１０の外周面側の形状を保ちつつ、流体圧Ｐが付加されることにより、より均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができる。
【００３５】
また、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法は、前記加圧・加熱工程において、仮組みゴムクローラ１０の外周面側を変形可能な被覆部材１４で密着状態に覆い、当該被覆部材１４を介して流体圧Ｐを付加している。この場合、仮組みゴムクローラ１０の外周面側の形状を保ちつつ、流体圧Ｐが付加されることにより、袋体１７を用いた仮組みゴムクローラの内周面側と同様、より均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができる。
【００３６】
次に、図９（ａ），（ｂ）及び図１０を参照して、本発明の第２の実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を説明する。なお、第１の実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法で説明された部分と実質的に同一の部分は、同一の符号をもって、その説明を省略する。
【００３７】
本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法では、準備工程及び仮組み工程は、第１の実施形態と同様であるが、加圧・加熱工程が異なる。本実施形態では、被覆部材１４を用いることなく、仮組みゴムクローラ１０を加圧及び加熱する。具体的には、枠体１９の内側で袋体１７，１８を膨張させて流体圧Ｐを付加する。袋体１８は、環状の袋体であり、例えば、耐熱性を有するゴムからなる。袋体１８には、図示せぬ逆止弁付きのガス導入口が設けられている。仮組みゴムクローラ１０の外周面に袋体１８を配置した後、ガス導入口から空気等の流体を導入すれば、その流体圧Ｐによって袋体１８を膨張させることができる。枠体１９は、耐熱性、耐圧性及び保形性を有する環状の剛体である。枠体１９は、例えば、耐熱性アルミニウム合金等の、剛性が高く、耐熱性を有する材料からなる。
【００３８】
具体的には、本実施形態に係る加圧・加熱工程は先ず、図９（ａ），（ｂ）に示すように、枠体１９の内側で、仮組みゴムクローラ１０の内周面側（本実施形態では、ガイド突起４側）に流体圧Ｐにより膨張する袋体１７を配置すると共に、仮組みゴムクローラ１０の外周面側（本実施形態では、ラグ５側）に流体圧Ｐにより膨張する袋体１８を配置する。
【００３９】
仮組みゴムクローラ１０の内周面側に袋体１７を配置すると共に仮組みゴムクローラ１０の外周面側に袋体１８を配置した後、それぞれのガス導入口から空気等の流体を導入すれば、図１０に示すように、その流体圧Ｐによって袋体１７及び１８を膨張させることができる。袋体１７は、ガイド突起用の位置決め冶具１１から突出するガイド突起４を埋没させるように膨張しつつ、位置決め冶具１１を介して仮組みされたゴムクローラ１０の内周面側全体に流体圧Ｐを付加する。この場合、ガイド突起４の外表面には常に、ガイド突起４の外表面に対して直交する向きに均一な流体圧Ｐが加わる。また、袋体１８は、ラグ用の位置決め冶具１２から突出するラグ５を埋没させるように膨張しつつ、位置決め冶具１２を介して仮組みされたゴムクローラ１０の外周面側全体に流体圧Ｐを付加する。この場合、ラグ５の外表面には常に、ラグ５の外表面に対して直交する向きに均一な流体圧Ｐが加わる。
【００４０】
こうして、仮組みゴムクローラ１０の内周面側及び外周面側に流体圧Ｐを付加して接着層６を加圧すれば、第１の実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法と同様、接着層６を均一に加圧することができる。そして、この状態で加熱すれば、クローラ本体２及びガイド突起４の間で均一な接着を得ることができると共に、クローラ本体２及びラグ５の間で均一な接着を得ることができる。
【００４１】
さらに本実施形態に係る加圧・加熱工程では、袋体１７，１８により流体圧Ｐが仮組みゴムクローラ１０の内周面側及び外周面側に付加された状態のまま、当該仮組みゴムクローラ１０を、温度調整が可能な炉（例えば、工業用オーブン）内に配置する。本実施形態では、炉の温度を制御することで、仮組みゴムクローラ１０を加熱する。この状態で加熱すれば、クローラ本体２及びガイド突起４の間で均一な接着を得ることができると共に、クローラ本体２及びラグ５の間で均一な接着を得ることができる。
【００４２】
このように、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を使用すれば、ガイド突起４及びラグ５がクローラ本体２に対して均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができる。すなわち、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法によれば、ガイド突起４及びラグ５がクローラ本体３に対して均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができるゴムクローラの製造方法を提供することができる。また、上述のとおり、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を使用すれば、成形金型が不要になる。
【００４３】
特に、本実施形態に係るゴムクローラの製造方法では、前記加圧・加熱手段において、枠体１９の内側で袋体１７，１８を膨張させて流体圧Ｐを付加している。この場合、仮組みゴムクローラ１０の外周面側が枠体１９によって拘束されることにより、袋体１７及び１９を用いて、仮組みゴムクローラ１０の内周面側に袋体１７を介して流体圧Ｐを付加されると共に仮組みゴムクローラ１０の外周面側に袋体１９を介して流体圧Ｐを付加されるため、よりさらに均一に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【００４４】
次に、図１１（ａ），（ｂ）及び図１２を参照して、本発明の第３の実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を説明する。なお、他の実施形態と実質的に同一の部分は、同一の符号をもって、その説明を省略する。
【００４５】
本実施形態は、第２の実施形態の変形例であり、前記加圧・加熱手段において、図１１（ａ），（ｂ）に示すように、仮組みゴムクローラ１０の内周面側（本実施形態では、ガイド突起４側）に流体圧Ｐにより膨張する袋体１７を配置する一方、仮組みゴムクローラ１０の外周面側（本実施形態では、ラグ５側）に枠体１９を配置し、仮組みゴムクローラ１０の外周面側を枠体１９で直接支持している。具体的には、図１２に示すように、ラグ５を枠体１９の内周面１９ａに接触させることにより、ラグ５を枠体１９で支持している。
【００４６】
本実施形態では、仮組みゴムクローラ１０の外周面側は、ラグ用の位置決め冶具１２から突出するラグ５の外表面に付加される流体圧Ｐは、袋体１７が仮組みゴムクローラ２の内周面側に付加する流体圧Ｐに対する枠体９からの反力に基づく圧力となるが、枠体１９に接触しているのは、接地を目的としたラグ５であるため、一般にクローラ本体２の内周面２ａからの突出高さがガイド突起４のクローラ本体２の外周面２ｂからの突出高さよりも低く、ラグ５の外表面に付加される流体圧Ｐに相当する圧力のバラツキは少ない。一方、仮組みゴムクローラ１０の内周面側では、袋体１７がガイド突起用の位置決め冶具１１から突出するガイド突起４を埋没させるように膨張しつつ、仮組みゴムクローラ１０の内周面側全体に流体圧Ｐを付加する。この場合、ガイド突起４の外表面には常に、ガイド突起４の外表面に対して直交する向きに均一な流体圧Ｐが加わる。
【００４７】
このように、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を使用すれば、比較的簡素な工程で、ガイド突起４及びラグ５がクローラ本体２に対して均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができる。すなわち、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法によれば、ガイド突起４及びラグ５がクローラ本体３に対して均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができるゴムクローラの製造方法を提供することができる。また、上述のとおり、本実施形態に係るゴムクローラ１の製造方法を使用すれば、成形金型が不要になる。
【００４８】
流体圧Ｐは、０．１ＭＰａ〜５．０ＭＰａの範囲であることが好ましい。より好ましくは、０．３ＭＰａ〜３．０ＭＰａの範囲、更に好ましくは、０．４ＭＰａ〜３．０ＭＰａの範囲、特に好ましくは、０．４ＭＰａ〜３．０ＭＰａの範囲である。すなわち、流体圧Ｐが少なくとも０．１ＭＰａ〜５．０ＭＰａの範囲内の圧力に上昇した後に加熱を開始することが好ましい。特に、流体圧Ｐが０．１ＭＰａ以上であれば、仮組みゴムクローラ１０の表面に多少の凹凸があっても、均一に流体圧Ｐを付加することが可能になり、また、流体圧Ｐが５．０ＭＰａ以下であれば、製造後のゴムクローラ１に生じ得る傷や変形の発生を抑制することができる。また、好適な加熱温度の範囲は、接着層６により異なる。接着層６が未加硫ゴムである場合、通常のゴムの加硫温度である１２０°Ｃ〜１７０°Ｃの範囲であることが望ましい。一方、チオウレタン結合を有する化合物及びチオール基を有する化合物の場合、接着層６に含まれている熱ラジカル発生剤の１分間半減温度の±３０°Ｃの範囲であることが好ましい。
【００４９】
ところで、本発明に係るゴムクローラの製造方法は、流体圧Ｐが所定の圧力に上昇した後に加熱を開始することが好ましい。具体的には、接着層６（界面）に完全に流体圧Ｐがかかってから、温度上昇を行うことが好ましい。この場合、高い流体圧Ｐが付加された後に加熱が開始されることで、確実に接着反応が開始されることから、より均一に接着されたゴムクローラ１を得ることができる。また、加熱が先行することで、流体圧Ｐが適正圧力に到達する前に、接着層６で加硫反応が開始されてしまうことを防止することができる。
【００５０】
さらに、本発明に係るゴムクローラの製造方法では、前記加圧・加熱工程の後に、接着層６の温度が所定の温度に低下した後に流体圧Ｐの解放を開始する流体圧解放工程を更に備えることが好ましい。具体的には、前記加圧・加熱工程の後、言い換えれば、接着層６の反応の終了後、すなわち、接着層６による接着が完了した後、界面温度（接着層６の温度）が所定の温度（例えば、接着層６のガラス転移点Ｔg以下、具体的には、接着層６がチオエン系材料の場合、Ｔg＝８０°Ｃ以下が好ましい。）まで下がったとき、流体圧Ｐを解放する。この場合、接着完了直後の高温時において接着層６に生じ得る凝集破壊を防止することができる。なお、接着層６による接着完了は、例えば、加熱時間の長さを基に判断することができる。
【００５１】
また、本発明に係るゴムクローラの製造方法では、接着層６は、未加硫ゴムやチオエン系チオウレタン結合を有する化合物及びチオール基を有する化合物を含み、赤外吸収スペクトルにおける、前記チオウレタン結合中のカルボニル基に基づくピーク強度Ａと、前記チオール基に基づくピーク強度Ｂとの比（Ａ／Ｂ）が、２０以上２５０以下であることが好ましい。
この場合、以下に詳述するように、強力に接着されたゴムクローラを得ることができる。
【００５２】
チオウレタン結合を有する化合物は、基本的に後述するポリチール化合物のようなチオール基を有する化合物とイソシアネート基含有化合物とを反応させて得られるものである。そして、接着層６は、ゴムからなるクローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５（以下、「ゴム層」という。）の接着に用いられるため、ゴム表面の二重結合といわゆるチオール・エン反応する必要があることから、前記チオール基を有する化合物とイソシアネート基含有化合物との反応がほぼ完結した状態でも、チオール基が（すなわち未反応のチオール基を有する化合物が）接着層６中に過剰に残っていることが重要となる。
【００５３】
上記観点から、接着層６は、当該接着層６の赤外吸収スペクトルにおけるチオウレタン結合中のカルボニル基に基づくピーク強度Ａと、前記チオール基に基づくピーク強度Ｂとの比（Ａ／Ｂ）が２０以上２５０以下であることが必要である。
上記比が２０未満では、接着層６の膜としての凝集力が十分でなく結果としてゴム層との接着時の接着性が低下してしまう。一方上記比が２５０を超えると、接着層６中のチオール基量が不足することとなり、この場合もゴム層との接着時に前記チオール・エン反応の反応点が少なくなるため接着性が低下してしまう。
【００５４】
前記チオール基に基づくピーク強度Ｂとの比（Ａ／Ｂ）は３０以上２００以下であることが好ましく、４０以上１７０以下であることがより好ましい。
また、接着層６は、その取扱作業性の観点から、ある程度の柔軟性を有し、しかも、ゴムクローラ１の製造における貼り合わせ作業に耐え得る強度を有する膜であることが好ましい。その観点からも、接着層６におけるＡ／Ｂ比が上記範囲にあることが好ましい。
なお、接着層６における前記赤外吸収スペクトルのピーク強度は、具体的にはシート上のサンプルについてＦＴＩＲ装置により測定されるものであるが、その測定条件等の詳細については後述する。
【００５５】
＜チオウレタン結合を有する化合物＞
前記のように、接着層６におけるチオウレタン結合を有する化合物は、基本的にチオール基を有する化合物とイソシアネート基含有化合物とを反応させて得られるものである。当該チオール基を有する化合物としては、特に制限されないが、膜としてのシート形成体の凝集力を高める観点から、１分子中にチオール基を２つ以上有するポリチール化合物であることが好ましい。すなわち、接着層６は、ポリチオール化合物（Ａ）及びイソシアネート基含有化合物（Ｂ）を配合してなるものであることが好適である。
なお、本明細書において、ポリチオール化合物（Ａ）、イソシアネート基含有化合物（Ｂ）、さらに後述のラジカル発生剤（Ｃ）、ウレタン化触媒（Ｄ）及び表面調整剤（Ｅ）を、それぞれ、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）及び成分（Ｅ）ということがある。
【００５６】
（ポリチオール化合物（Ａ））
前記のように、接着層６において、ポリチオール化合物（Ａ）とは、１分子中にチオール基を２つ以上有する化合物のことをいい、ポリチオール化合物（Ａ）には特に制限はないが、接着性を向上させる観点から、１分子中にチオール基を２〜６個有するものが好ましい。
また、ポリチオール化合物（Ａ）には、第一級炭素にチオール基が結合している化合物、第二級炭素にチオール基が結合している化合物、第三級炭素にチオール基が結合している化合物や、その他の元素に結合した化合物などが含まれるが、接着層６においては、ポリチオール化合物（Ａ）として第一級炭素にチオール基が結合している化合物を用いることが、後述するイソシアネート基含有化合物（Ｂ）とのウレタン化反応による組成物の硬化時間が短縮されること等から好ましい。
ポリチオール化合物（Ａ）の分子量は、接着性を向上させる観点から、好ましくは３０００以下であり、より好ましくは２０００以下であり、更に好ましくは１０００以下であり、より更に好ましくは９００以下であり、より更に好ましくは８００以下である。なお、ポリチオール化合物（Ａ）がポリマーの場合、分子量とは、スチレン換算の数平均分子量のことをいう。
【００５７】
ポリチオール化合物（Ａ）としては、第一級炭素にチオール基が結合しているヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族ポリチオール（以下、「ヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族ポリチオール」という）及び第一級炭素にチオール基が結合しているヘテロ原子を含んでいてもよい芳香族ポリチオール（以下、「ヘテロ原子を含んでいてもよい芳香族ポリチオール」という）が挙げられ、接着性を向上させる観点から、ヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族ポリチオールが好ましい。
ここで、ヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族ポリチオールとは、１分子中に第一級炭素に結合したチオール基を２つ以上有する、ヘテロ原子を含んでもよい脂肪族化合物のことをいう。また、ヘテロ原子を含んでいてもよい芳香族ポリチオールとは、１分子中に第一級炭素に結合したチオール基を２つ以上有する、ヘテロ原子を含んでもよい芳香族化合物のことをいう。
またヘテロ原子は、接着力の向上の観点から、好ましくは酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン原子、ケイ素から選択される少なくとも１種であり、より好ましくは酸素、窒素、硫黄、リン及びハロゲン原子から選択される少なくとも１種であり、更に好ましくは酸素、窒素及び硫黄から選択される少なくとも１種である。
【００５８】
ヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族ポリチオールとしては、例えば、炭素数２〜２０のアルカンジチオール等のようにチオール基以外の部分が脂肪族炭化水素であるポリチオール、アルコールのハロヒドリン付加物のハロゲン原子をチオール基で置換してなるポリチオール、ポリエポキシド化合物の硫化水素反応生成物からなるポリチオール、分子内に水酸基２〜６個を有する多価アルコールとチオグリコール酸とのエステル化により得られるチオグリコール酸エステル化物、分子内に水酸基２〜６個を有する多価アルコールとメルカプト脂肪酸とのエステル化により得られるメルカプト脂肪酸エステル化物などのヘテロ原子を含んでもよい非環式脂肪族化合物；イソシアヌレート化合物とチオールとを反応させてなるチオールイソシアヌレート化合物などのイソシアヌレート環構造を有する化合物；ポリスルフィド基を含有するチオール；チオール基で変性されたシリコーン、チオール基で変性されたシルセスキオキサン等が挙げられるが、これらの中では、ヘテロ原子を含んでもよい非環式脂肪族化合物やイソシアヌレート環構造を有する化合物が、組成物としたときの硬化時間の短縮や接着力の観点から好ましく用いられる。
なお、上記の分子内に水酸基２〜６個を有する多価アルコール類としては、炭素数２〜２０のアルカンジオール、ポリ（オキシアルキレン）グリコール、グリセロール、ジグリセロール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。
【００５９】
（ヘテロ原子を含んでもよい非環式脂肪族化合物）
ヘテロ原子を含んでもよい非環式脂肪族化合物としては、接着性の向上の観点から、チオール基以外の部分が脂肪族炭化水素であるポリチオール、アルコールのハロヒドリン付加物のハロゲン原子をチオール基で置換してなるポリチオール、ポリエポキシド化合物の硫化水素反応生成物からなるポリチオール、チオグリコール酸エステル化物、メルカプト脂肪酸エステル化物、及びチオールイソシアヌレート化合物がより好ましく、メルカプト脂肪酸エステル化物及びチオールイソシアヌレート化合物が更に好ましく、メルカプト脂肪酸エステル化物がより更に好ましい。同様の観点から、ポリスルフィド基やシロキサン結合を含有しないチオールがより好ましい。
【００６０】
また、接着層６に用いられるヘテロ原子を含んでもよい非環式脂肪族化合物としては、分子内に前記チオール基を４〜６つ有する（４〜６官能）化合物であることが好ましく、
分子内に前記チオール基を４つ有する（４官能）化合物及び分子内に前記チオール基を６つ有する（６官能）化合物から選ばれる少なくとも１種であることが、前記硬化時間の短縮、接着性向上の観点からより好ましい。
【００６１】
（チオール基以外の部分が脂肪族炭化水素であるポリチオール）
チオール基以外の部分が脂肪族炭化水素であるポリチオールの例としては炭素数２〜２０のアルカンジチオールがある。
前記炭素数２〜２０のアルカンジチオールとしては、１，２−エタンジチオール、１，１−プロパンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、２，２−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，８−オクタンジチオール、１，１０−デカンジチオール、１，１−シクロヘキサンジチオール、１，２−シクロヘキサンジチオール等が挙げられる。
【００６２】
（チオグリコール酸エステル化物）
前記チオグリコール酸エステル化物としては、１，４−ブタンジオールビスチオグリコレート、１，６−ヘキサンジオールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート等が挙げられる。これらの中で、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレートが好ましい。
【００６３】
（メルカプト脂肪酸エステル化物）
メルカプト脂肪酸エステル化物としては、接着性の向上の観点から、第一級炭素に結合したチオール基を有するメルカプト脂肪酸エステル化物が好ましく、分子内に水酸基２〜６個を有する多価アルコールの、β−メルカプトプロピオン酸エステル化物がより好ましい。また、第一級炭素に結合したチオール基を有するメルカプト脂肪酸エステル化物は、接着性の向上の観点から、１分子中におけるチオール基の数が４〜６個（４〜６官能）であることが好ましく、４個又は６個であることが好ましく、４個であることがより好ましい。
【００６４】
上記の第一級炭素に結合したチオール基を有するβ−メルカプトプロピオン酸エステル化物としては、好ましくはテトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）（ＥＧＭＰ−４）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（ＴＭＭＰ）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＰＥＭＰ）、及びジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）が挙げられる。これらの中で、ＰＥＭＰ及びＤＰＭＰが好ましく、ＰＥＭＰがより好ましい。
【００６５】
なお、第二級炭素に結合したチオール基を有するβ−メルカプトプロピオン酸エステル化物としては、分子内に水酸基２〜６個を有する多価アルコール類と、β−メルカプトブタン酸とのエステル化物が挙げられ、具体的には、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）等が挙げられる。
【００６６】
（イソシアヌレート環構造を有する化合物）
イソシアヌレート環構造を有する化合物としては、接着力の向上の観点から、第一級炭素に結合したチオール基を有するチオールイソシアヌレート化合物が好ましい。また、第一級炭素に結合したチオール基を有するチオールイソシアヌレート化合物としては、接着性の向上の観点から、１分子中におけるチオール基の数が２〜４個であることが好ましく、３個であることがより好ましい。
上記の第一級炭素に結合したチオール基を有するチオールイソシアヌレート化合物としては、トリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル］−イソシアヌレート（ＴＥＭＰＩＣ）が好ましい。
【００６７】
（チオール基で変性されたシリコーン）
チオール基で変性されたシリコーンとしては、商品名ＫＦ−２００１、ＫＦ−２００４、Ｘ−２２−１６７Ｂ（信越化学工業）、ＳＭＳ０４２、ＳＭＳ０２２（Ｇｅｌｅｓｔ社）、ＰＳ８４９、ＰＳ８５０（ＵＣＴ社）等が挙げられる。
【００６８】
（芳香族ポリチオール）
芳香族ポリチオールとしては、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３−トリメルカプトベンゼン、１，２，４−トリメルカプトベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン等が挙げられる。
【００６９】
＜イソシアネート基含有化合物（Ｂ）＞
イソシアネート基含有化合物（Ｂ）としては、芳香族、脂肪族、脂環族のジイソシアネート、これらの変性体等が挙げられる。
【００７０】
芳香族、脂肪族、脂環族のジイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ナフチレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、フェニレンジイソシアネート（ＰＰＤＩ）、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、メチルシクロへキサンジイソシアネート（水素化ＴＤＩ）、ジシクロへキシルメタンジイソシアネート（水素化ＭＤＩ）、シクロへキサンジイソシアネート（水素化ＰＰＤＩ）、ビス（イソシアナトメチル）シクロへキサン（水素化ＸＤＩ）、ノルボルネンジイソシアネート（ＮＢＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、へキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ブタンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルへキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルへキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００７１】
配合されるポリチオール化合物（Ａ）が、メルカプト脂肪酸エステル化物及びチオールイソシアヌレート化合物である場合、配合されるイソシアネート基含有化合物（Ｂ）は、へキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、及びジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）の１種又は２種以上が好ましい。また、これらの中では、へキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ビス（イソシアナトメチル）シクロへキサン（水素化ＸＤＩ）及びトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の１種又は２種以上がより好ましい。
【００７２】
また、芳香族、脂肪族、脂環族のジイソシアネートの変性体としては、トリメチロールプロパンとイソシアネートとの反応により得られるＴＭＰ（トリメチロールプロパン）アダクト型変性体、イソシアネートの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体、ウレアとイソシアネートとの反応により得られるビューレット型変性体、ウレタンとイソシアネートとの反応により得られるアロファネート型変性体、ポリオールとの反応で得られるプレポリマー体等が挙げられ、適宜、使用することができる。
【００７３】
なお、ＴＭＰアダクト型変性体、イソシアヌレート型変性体、ビューレット型変性体、アロファネート型変性体としては、接着性の向上の観点から、次の変性体が好ましい。
すなわち、ＴＭＰアダクト型変性体としては、ＴＭＰとＴＤＩとの反応により得られるＴＭＰアダクト型変性体、ＴＭＰとＸＤＩとの反応により得られるＴＭＰアダクト型変性体、ＴＭＰと水添ＸＤＩとの反応により得られるＴＭＰアダクト型変性体、ＴＭＰとＩＰＤＩとの反応により得られるＴＭＰアダクト型変性体、ＴＭＰとＨＤＩとの反応により得られるＴＭＰアダクト型変性体、及びＴＭＰとＭＤＩとの反応により得られるＴＭＰアダクト型変性体が好ましい。
また、イソシアヌレート型変性体としては、ＨＤＩの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体、ＩＰＤＩの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体、ＴＤＩの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体、及び水添ＸＤＩの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体が好ましく、ＨＤＩの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体、ＩＰＤＩの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体及び水添ＸＤＩの３量化により得られるイソシアヌレート型変性体の少なくとも１種以上がさらに好ましい。
また、ビューレット型変性体としては、ウレアとＨＤＩとの反応により得られるビューレット型変性体が好ましい。
また、アロファネート型変性体としては、ウレタンとＩＰＤＩとの反応により得られるアロファネート型変性体が好ましい。
【００７４】
上記ＴＭＰアダクト型変性体、イソシアヌレート型変性体、ビューレット型変性体及びアロファネート型変性体の少なくとも１種と組み合せて使用されるポリチオール化合物（Ａ）としては、好ましくはチオグリコール酸エステル化物または、第一級炭素に結合したチオール基を有するβ−メルカプトプロピオン酸エステル化物及び第一級炭素に結合したチオール基を有するチオールイソシアヌレート化合物の１種又は２種である。
ここで、チオグリコール酸エステル化物としては、好ましくはペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレートである。第一級炭素に結合したチオール基を有するβ−メルカプトプロピオン酸エステル化物としては、好ましくはペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＰＥＭＰ）及びジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）ＤＰＭＰの少なくとも１種である。また、この第一級炭素に結合したチオール基を有するチオールイソシアヌレート化合物としては、好ましくは１分子中におけるチオール基の数が３個である第一級炭素に結合したチオール基を有するチオールイソシアヌレート化合物であり、より好ましくはトリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル］−イソシアヌレート（ＴＥＭＰＩＣ）である。
【００７５】
＜ラジカル発生剤（Ｃ）＞
接着層６には、さらにラジカル発生剤（Ｃ）を配合することが好ましい。ラジカル発生剤（Ｃ）としては、熱ラジカル発生剤及び光ラジカル発生剤の少なくとも１種を用いることができる。これらの中で、接着力の向上の観点及び透明ではない（光を通さない）ゴムを接着できるという観点から、熱ラジカル発生剤が好ましく、過酸化物からなる熱ラジカル発生剤がより好ましく、有機過酸化物からなる熱ラジカル発生剤が更に好ましい。
ラジカル発生剤（Ｃ）は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７６】
有機過酸化物からなる熱ラジカル発生剤としては、例えば、ｔ−ブチル−２−エチルペルオキシヘキサノアート、ジラウロイルパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノアート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサノン、ジ−ｔ―ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジ（ｔ−ブチル）パーオキサイド、過酸化ベンゾイル１，１’−ジ（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、過酸化ベンゾイル、１，１’−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ジクミルパーオキサイド等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ｔ−ブチル−２−エチルペルオキシヘキサノアート、ジラウロイルパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノアート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサノン、ジ−ｔ―ブチルパーオキサイド、及びｔ−ブチルクミルパーオキサイドの少なくとも１種である。有機過酸化物からなる熱ラジカル発生剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７７】
無機過酸化物からなる熱ラジカル発生剤としては、過酸化水素と鉄（II）塩との組み合わせ、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムとの組み合わせ、等の酸化剤と還元剤の組み合わせからなるレドックス発生剤が挙げられる。無機化酸化物からなる熱ラジカル発生剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７８】
光ラジカル発生剤としては、公知のものを広く用いることができ、特に制限されるものではない。
例えば分子内開裂型の光ラジカル発生剤が挙げられ、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル系光ラジカル発生剤；２，２−ジエトキシアセトフェノン、４'−フェノキシ−２
，２−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン系光ラジカル発生剤；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオフェノン、４'−ドデシル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン等のプロピオフェノン系光ラジカル発生剤；ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び２−エチルアントラキノン、２−クロロアントラキノン等のアントラキノン系光ラジカル発生剤；アシルフォスフィンオキサイド系光ラジカル発生剤等が挙げられる。
【００７９】
また、その他水素引き抜き型の光ラジカル発生剤としてベンゾフェノン／アミン系光ラジカル発生剤、ミヒラーケトン／ベンゾフェノン系光ラジカル発生剤、チオキサントン／アミン系光ラジカル発生剤等を挙げることができる。また未反応光ラジカル発生剤のマイグレーションを避けるため非抽出型光ラジカル発生剤を用いることができる。例えばアセトフェノン系ラジカル発生剤を高分子化したもの、ベンゾフェノンにアクリル基の二重結合を付加したものがある。
これらの光ラジカル発生剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００８０】
接着層６において、シート形成体にラジカル発生剤（Ｃ）が配合される場合、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ−ＭＳ／ＭＳ）により測定した接着層６中の過酸化物の含有量が、２質量％以上であることが好ましい。当該含有量が２質量％以上であると、ゴムクローラ１の製造においてゴム層を接着層６を介して接着させた場合に、ゴム層表面におけるチオール・エン反応を効率的に進行させることができ、ゴム層と隣接する層との十分な接着性を短時間で確保することができる。また、ラジカル発生剤（Ｃ）によりチオール・エン反応の反応点が多くなることから、より強い接着力を発現させることができる。更に、ポリチオール化合物（Ａ）、イソシアネート基含有化合物（Ｂ）の組み合わせによっては接着層６が固く、取り扱いが困難な場合があるが、そのような場合でも、ラジカル発生剤（Ｃ）に基づく過酸化物含有量が２質量％以上であれば接着層６に柔軟性を与えることができ、取り扱いも容易になる。
上記過酸化物の含有量は５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。
【００８１】
＜任意成分＞
接着層６には、更に任意成分が配合されてもよい。任意成分としては、ウレタン化触媒、表面調整剤、溶剤、バインダー、フィラー、顔料分散剤、導電性付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、乾燥防止剤、浸透剤、ｐＨ調整剤、金属封鎖剤、防菌防かび剤、界面活性剤、可塑剤、ワックス、レベリング剤等が挙げられる。
【００８２】
（ウレタン化触媒（Ｄ））
ウレタン化触媒（Ｄ）としては、任意のウレタン化触媒を用いることができる。該ウレタン化反応用触媒としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズチオカルボキシレート、ジブチルスズジマレエート、ジオクチルスズチオカルボキシレート、オクテン酸スズ、モノブチルスズオキシド等の有機スズ化合物；塩化第一スズ等の無機スズ化合物；オクテン酸鉛等の有機鉛化合物；ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン（ＴＥＤＡ）、ベンジルジメチルアミン、２，２’−ジモルホリノエチルエーテル、Ｎ−メチルモルフォリン等のアミン類；ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、フルオロ硫酸等の有機スルホン酸；硫酸、リン酸、過塩素酸等の無機酸；ナトリウムアルコラート、水酸化リチウム、アルミニウムアルコラート、水酸化ナトリウム等の塩基類；テトラブチルチタネート、テトラエチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等のチタン化合物；ビスマス化合物；四級アンモニウム塩等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは上記アミン類であり、より好ましくはトリエチレンジアミン（ＴＥＤＡ）である。これら触媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００８３】
（表面調整剤（Ｅ））
表面調整剤（Ｅ）としては、任意の表面調整剤を使用することができる。該表面調整剤としては、アクリル系、ビニル系、シリコーン系、フッ素系などが挙げられる。これらの中でも、相溶性と表面張力低下能の観点からシリコーン系が好ましい。
【００８４】
（溶剤）
溶剤としては、他の配合成分と反応しないものであれば特に制限はなく、芳香族溶媒や脂肪族溶媒が挙げられる。
芳香族溶媒の具体例としては、トルエン、キシレン等が挙げられる。脂肪族溶媒としては、ヘキサン等が挙げられる。
【００８５】
＜各成分の配合量＞
配合されるポリチオール化合物（Ａ）に含まれるチオール基の合計モル数に対する、配合されるイソシアネート基含有化合物（Ｂ）に含まれるイソシアネート基の合計モル数の比（イソシアネート基／チオール基）は、０．２０以上０．７８以下とすることが好ましい。当該比（イソシアネート基／チオール基）が上記範囲にあれば、組成物が十分に強固に硬化し、接着強度が大きくなる。また、イソシアネート基量に対してチオール基量が十分であるため、チオール基とゴム部材の炭素−炭素二重結合との間でチオール・エン反応が十分に行われ、組成物をゴム部材に強固に接着させることができ、接着強度が大きくなる。当該比（イソシアネート基／チオール基）は、より好ましくは０．３以上０．７以下であり、さらに好ましくは０．４以上０．６５以下である。
ここで、配合されるポリチオール化合物（Ａ）に含まれるチオール基の合計モル数は、配合されるポリチオール化合物（Ａ）のモル数に、ポリチオール化合物（Ａ）の１分子が有するチオール基数を乗じることにより算出することができる。
また、配合されるイソシアネート基含有化合物（Ｂ）に含まれるイソシアネート基の合計モル数は、ＪＩＳ  Ｋ１６０３−１  Ｂ法により測定することができる。
更に、上記モル数の比（イソシアネート基／チオール基）は、上記のようにして得られる、配合されるイソシアネート基含有化合物（Ｂ）に含まれるイソシアネート基の合計モル数を、配合されるポリチオール化合物（Ａ）に含まれるチオール基の合計モル数で除することにより求めることができる。
【００８６】
またラジカル発生剤（Ｃ）が配合される場合、配合されるポリチオール化合物（Ａ）に含まれるチオール基の合計モル数に対する、配合されるラジカル発生剤（Ｃ）の合計モル数の比（ラジカル発生剤（Ｃ）／チオール基）は、０．０２５以上であることが好ましい。これにより、接着性が向上する。この観点から、当該比（ラジカル発生剤（Ｃ）／チオール基）は、好ましくは０．０３以上であり、より好ましくは０．０３５以上であり、更に好ましくは０．０４以上である。また、接着性の向上の観点から、当該比（ラジカル発生剤（Ｃ）／チオール基）は、好ましくは１．０以下であり、より好ましくは０．８以下であり、更に好ましくは０．７以下である。
【００８７】
任意成分として、炭素−炭素二重結合を含む化合物を配合してもよい。ただし、この炭素−炭素二重結合を含む化合物の配合量が多くなると、ポリチオール化合物（Ａ）がこの炭素−炭素二重結合を含む化合物と反応してしまう。これにより、ポリチオール化合物（Ａ）とゴム中の炭素−炭素二重結合との間のチオール・エン反応が生じ難くなり、ゴムに対する組成物の接着力が低下するおそれがある。または、これにより、ゴムの炭素-炭素結合主鎖からの水素引き抜き反応により、ポリチオール化合物（Ａ）のチオール基の硫黄原子と炭素−炭素結合の炭素原子とが化学的に結合する反応が生じ難くなり、ゴムに対する組成物の接着力が低下するおそれがある。したがって、配合されるポリチオール化合物（Ａ）に含まれるチオール基の合計モル数に対する、配合される炭素−炭素二重結合を含む化合物に含まれる炭素−炭素二重結合の合計モル数の比（炭素−炭素二重結合／チオール基）が、０．４未満であることが好ましく、０．１未満であることがより好ましく、０．０８以下であることがさらに好ましく、０．０５以下であることが特に好ましく、０．０１以下であることが最も好ましい。
ここで、配合される炭素−炭素二重結合を含む化合物に含まれる炭素−炭素二重結合の合計モル数は、配合される当該化合物のモル数に、当該化合物の１分子が有する炭素−炭素二重結合の数を乗じることにより求めることができる。
また、上記モル数の比（炭素−炭素二重結合／チオール基）は、上記のようにして得られる、配合されるラジカル発生剤（Ｃ）の合計モル数を、配合されるポリチオール化合物（Ａ）に含まれるチオール基の合計モル数で除することにより求めることができる。
【００８８】
上記のとおり、接着層６は、必須成分である成分（Ａ）及び（Ｂ）の他に、任意成分を含有してもよい。しかし、ゴム特に加硫ゴムを強力に接着するという観点から、組成物中における成分（Ａ）〜（Ｃ）の合計含有量は、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上、更に好ましくは９８質量％以上である。
同様の観点から、成分（Ａ）〜（Ｅ）の合計含有量は、好ましくは９０質量％以上、より好ましくは９５質量％以上、更に好ましくは９９質量％以上、更に好ましくは１００質量％である。
【００８９】
上述の接着層６を用いれば、未加硫ゴムに限らず、加硫ゴムをも強力に接着することができる。その理由は、次のとおりであると推測される。
ポリチオール化合物（Ａ）の一部とイソシアネート基含有化合物（Ｂ）とがウレタン化反応を起こすことにより、これらが強固に硬化して接着層６となると考えられる。また、ポリチオール化合物（Ａ）の他の一部が、ラジカル発生剤（Ｃ）と反応してチイルラジカルが生じ、このチイルラジカルが、ゴム中に存在する炭素−炭素二重結合と反応すると考えられる。このようなチオール・エン反応により、接着層６がゴムに化学的に結合することにより、接着層６がゴムに強力に接着すると考えられる。特に、未加硫ゴムのみならず加硫ゴムにも炭素−炭素二重結合が存在するため、上述の接着層６を用いれば、ゴム特に加硫ゴムを強力に接着することができると考えられる。なお、ラジカル発生剤（Ｃ）は接着層６中に存在することが好ましいが、接着工程時に接着層６中のポリチオール化合物（Ａ）と反応可能であればよく、例えば接着されるゴム層の表面に存在させておいてもよい。
また、ゴム中に存在する炭素-炭素結合主鎖からの水素引き抜き反応により、ポリチオール化合物（Ａ）のチオール基の硫黄原子と炭素−炭素結合の炭素原子とが化学的に結合すると考えられる。したがって、必ずしもゴム中に炭素-炭素二重結合が存在しなくてもよい。
【００９０】
クローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５のゴム層は、加硫ゴムである。
また、クローラ本体２、ガイド突起４及びラグを構成するゴムが、炭素−炭素二重結合を有することが好ましい。この場合、接着層６に接するクローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５が有する炭素−炭素二重結合の炭素原子が、前記接着剤又は前記接着シートが有するポリチオール化合物（Ａ）のチオール基の硫黄原子と炭素−硫黄結合を形成すると推測される。
ただし、クローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５を構成するゴムが、炭素−炭素二重結合を有しなくても、互いに接着することができると推測される。この場合、ポリチオール化合物（Ａ）による、ゴム中に存在する炭素−炭素結合主鎖からの水素引き抜き反応により、ポリチオール化合物（Ａ）のチオール基の硫黄原子と炭素−炭素結合の炭素原子とが化学的に結合すると推測される。しかし、接着力の向上の観点からは、クローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５を構成するゴムが、炭素−炭素二重結合を有することが好ましい。
【００９１】
また、クローラ本体２、ガイド突起４及びラグ５の材料には特に限定されず、例えば天然ゴム；ポリイソプレン合成ゴム（ＩＲ）、ポリブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム（ＳＢＲ）、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）等の共役ジエン系合成ゴム；エチレン−プロピレン共重合体ゴム（ＥＰＭ）、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム（ＥＰＤＭ）、ポリシロキサンゴムなどが挙げられるが、これらの中では天然ゴム及び共役ジエン系合成ゴムが好ましい。また、ゴム成分は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９２】
＜積層体の製造方法＞
次に、上述の接着層６を用いた接着方法について説明する。
本実施形態を用いて製造されるゴムクローラ１は、隣接する同士を、上述の接着層６を介して接着することにより、好適に得ることができる。また本実施形態を用いて製造されるゴムクローラ１は、１層の接着層６を介して得られたものであってもよいし、２層以上の接着層６を介して得られたものであってもよい。
例えば、先ず、隣接する同士の間に接着層６を１層介在させ、クローラ本体２にガイド突起４又はラグ５を重ね合せる。次いで、必要に応じて、この仮組みゴムクローラ１０にその厚み方向の流体圧を加えながら、硬化させることにより、クローラ本体２にガイド突起４又はラグ５を接着させた積層体を好適に製造することができる。
上記重ね合せ体にプレス圧を加える場合、接着力を向上させる観点から、プレス圧は、好ましくは０．１〜５．０ＭＰａであり、より好ましくは０．２〜４．０ＭＰａであり、更に好ましくは０．３〜３．０ＭＰａであり、特に好ましくは０．４〜３．０ＭＰａである。
【００９３】
接着層６がラジカル発生剤として熱ラジカル発生剤を含んでいる場合、硬化は加熱により行うことが好ましい。加熱温度は熱ラジカル発生剤が効率よくラジカルを発生する温度を適宜選択することができるが、好ましくは熱ラジカル発生剤の１分間半減期温度±３０°Ｃ付近である。加熱時間（反応時間）は、界面（本実施形態では、「接着層６」）が目的（例えば、熱ラジカル発生剤の１分間半減期温度±３０°Ｃ）の温度に到達後、好ましくは、１５分〜５０分の範囲、より好ましくは、２０分〜４０分の範囲である。
接着層６がラジカル発生剤として光ラジカル発生剤を含んでいる場合、温度条件は特になく、硬化は光照射により行うことが好ましい。光としては、紫外線、可視光線、赤外線、Ｘ線などの電磁波；α線、γ線、電子線などの粒子線から選択される少なくとも１種を好ましく用いることができる。これらの中でも、光としては紫外線が好ましい。接着力の向上及びコスト低減の観点から、光源としては、紫外線ランプを好適に用いることができる。また、同様の観点から、光照射時間（反応時間）は、好ましくは数秒〜数十秒、より好ましくは１〜４０秒、更に好ましくは３〜２０秒である。
加熱及び光照射のいずれの操作においても、接着剤に熱エネルギー又は光エネルギーが伝達すれば、加熱する部位又は光照射する部位に特に制限はなく、重ね合わせ体のどこへ加熱又は光照射してもよい。つまり、接着層６を直接加熱又は光照射してもよいし、ゴム及び／又は被着体を介して接着層６が加熱又は光照射されてもよい。
なお、加熱によって硬化させた場合にも強力な接着力が得られることは、接着層６へ十分な光照射をし難い場合に、加熱する方法を採用できる点で有益であり、かつ、重ね合わせ体のどの部位へ加熱及び／又は光照射をしても強力に接着させられる点で、操作が容易となり好ましい。
また、接着層６として未加硫ゴムを用いる場合、加熱温度は、１００°Ｃ〜２００°Ｃの範囲が好ましいが、加熱時間（反応時間）は、加硫反応速度によって決定される。
【００９４】
［具体例］
以下に、例を挙げて更に詳しく説明するが、接着層６は下記の例に何ら限定されるものではない。
【００９５】
［原料等］
原料等としては、次のものを用いた。
＜ポリチオール化合物（Ａ）（成分（Ａ））＞
・ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＰＥＭＰ）：ＳＣ有機化学株式会社製、チオール基４個
・ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）：ＳＣ有機化学株式会社製、チオール基６個
【００９６】
＜イソシアネート基含有化合物（Ｂ）（成分（Ｂ））＞
・ＨＤＩビューレット変性型イソシアネート：住友バイエルウレタン（株）製、商品名「デスモジュールＮ３２００」、ＮＣＯ含有率：２３．０質量％
・ＩＰＤＩイソシアヌレート変性型イソシアネート：住化バイエルウレタン(株)製、商品名「デスモジュールＺ４４７０ＢＡ」、ＮＣＯ含有率：１１．９質量％
【００９７】
＜ラジカル発生剤（Ｃ）（成分（Ｃ））＞
・ｔ−ブチル−２−エチルペルオキシヘキサノアート：日本油脂株式会社製、商品名「パーブチルＯ」
【００９８】
＜ウレタン化触媒（Ｄ）（成分（Ｄ））＞
・トリエチレンジアミン（ＴＥＤＡ）：Ａｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製、商品名「ＤＡＢＣＯ  ３３ＬＶ  ｃａｔａｌｙｓｔ」
【００９９】
＜表面調整剤（Ｅ）（成分（Ｅ））＞
・シリコーン含有オリゴマーとトリプロピレングリコールジアクリレートとの混合物：Ｍｉｗｏｎ社製、商品名「Ｍｉｒａｍｅｒ  ＳＩＵ２４００」
【０１００】
［チオール基数の測定］
配合されるポリチオール化合物（Ａ）に含まれるチオール基の合計モル数は、配合量を理論分子量で除し、ポリチオール化合物（Ａ）の１分子が有するチオール基数を乗じることにより算出することにより求めた。
【０１０１】
［イソシアネート基数の測定］
配合されるイソシアネート基含有化合物（Ｂ）に含まれるイソシアネート基の合計モル数は、ＪＩＳ  Ｋ１６０３−１  Ｂ法により測定した。
【０１０２】
［赤外吸収スペクトルにおけるピーク強度比］
接着層におけるチオウレタン結合中のカルボニル基に基づくピーク強度Ａとチオール基に基づくピーク強度Ｂとの比（Ａ／Ｂ）は、以下に示すようにして測定した。
フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製、Ｎｏｃｏｌｅｔ６７００）を用い、接着層の赤外吸収スペクトルを測定する。この赤外吸収スペクトルから、チオウレタン結合中のカルボニル基に基づくピーク強度Ａ（１６７８ｃｍ-1）及びチオール基に基づくピーク強度Ｂ（２５７０ｃｍ-1）を各々求め、これらからピーク強度比（Ａ／Ｂ）を算出した。
なお、上記赤外吸収スペクトルの測定は、以下の条件により行った。
・分解能：８ｃｍ-1
・積算回数：３２回
・測定方法：ＡＴＲ法（Ｓｍａｒｔ  Ｏｒｂｉｔ  １回反射、ダイヤモンドＡＴＲ）
・入射角：４５°
【０１０３】
［過酸化物含有量の測定］
（測定試料）
接着層フィルム２．５ｍｇを切り出し、アセトニトリル５ｍＬ中に１昼夜浸漬した抽出液を測定試料とした。なお、予備実験にてこの条件でフィルム中の過酸化物がほぼ全量抽出されるのを確認した。
（分析）
次の条件で液体クロマトグラフィー質量分析（ＬＣ−ＭＳ／ＭＳ）を行った。
・分析装置：トリプル四重極質量分析計（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製、ＴＳＱ  Ｖａｎｔａｇｅ）・高速液体クロマトグラフ
カラム：Ｉｎｅｒｔ  Ｓｕｓｔａｉｎ  Ｃ１８（長さ１５０ｍｍ、内径２．１ｍｍ、粒径３μｍ）、カラム温度：４０°Ｃ
移動相：１０ｍＭ酢酸アンモニウム−アセトニトリル溶液／１０ｍＭ酢酸アンモニウム水溶液＝９０／１０
流速：０．２ｍＬ／ｍｉｎ、試料注入量：１μＬ
・ＭＳ／ＭＳ
イオン化法：ＥＳＩ−Ｐｏｓｉｔｉｖｅ、ｍ／ｚ：２３４＞７３
【０１０４】
ここで、本発明に係るゴムクローラの製造方法の準備工程では、クローラ本体２を準備するに際し、金型を用いた加硫成形に代えて、成形冶具を用いた加硫成形も可能である。以下の説明では、上述した部分と実質的に同一の部分は、同一の符号をもって、その説明を省略する。
【０１０５】
図１３（ａ）中、符号２０は、クローラ本体２を加硫成形するための成形冶具である。この例では、成形冶具２０は、中空のドラム部２１と、ドラム部２１の端部に取り付けられたフランジ部２２とを備えている。成形冶具２０は、耐熱性、耐圧性及び保形性を有するフランジ付きの筒状の剛体である。成形冶具２０は、例えば、耐熱性アルミニウム合金等の剛性が高く、耐熱性を有する材料からなる。
【０１０６】
成形冶具２０を使用してクローラ本体２を加硫形成するためには先ず、クローラ本体２を仮組みする。本例では先ず、成形冶具２０のドラム部２１の外周面に未加硫ゴムシートＲＲ１を少なくとも１周巻き付ける。未加硫ゴムシートＲＲ１は、クローラ本体２の内層を構成する。次いで、未加硫ゴムシートＲＲ１の外周面に、抗張体（例えば、スチールコード）３を巻き付けて配列する。抗張体３は、クローラ本体２の中間層を構成する。さらに、本例では、抗張体３の外側に未加硫ゴムシートＲＲ２を少なくとも１周巻き付ける。未加硫ゴムシートＲＲ２は、クローラ本体２の外層を構成する。こうして、本例では、３層構造のクローラ本体２が成形冶具２０を用いて仮組みされる。こうした成形冶具２０を用いれば、３層構造のクローラ本体に限定されることなく、多層構造のクローラ本体の仮組みが可能になり、層構成も自由に選択することができる。
【０１０７】
成形冶具２０を用いたクローラ本体２の仮組みが終了した後は、図１３（ｂ）に示すように、仮組みされたクローラ本体を成形冶具２０ごと、被覆部材１４で密着状態に覆う。この例では、被覆部材１４は、耐熱性を有するゴムからなる袋体である。
【０１０８】
被覆部材１４に設けた吸引口１４ａから仮組みしたクローラ本体２と被覆部材１４との間の空気を吸引すれば、仮組みしたクローラ本体２の外周面側は被覆部材１４で密着状態に覆われる。この状態で上述した圧力容器等にセットすれば、被覆部材１４を介して仮組みしたクローラ本体の外周面側に、流体圧Ｐを付加することができる。この場合、未加硫ゴムシートＲＲ１と抗張体３の巻き掛け層との界面、及び、抗張体３の巻き掛け層と未加硫ゴムシートＲＲ２との界面はそれぞれ、均一に加圧される。そして、この状態で加熱すれば、クローラ本体２の内部で均一な接着が得られる。
【０１０９】
このように、本例のように、流体圧Ｐを使用してクローラ本体１を加圧すれば、クローラ本体２の内部が均一に接着されたクローラ本体２を得ることができる。すなわち、本例に係るクローラ本体２の製造方法によれば、クローラ本体２の内部が均一に接着されたクローラ本体２を得ることができるクローラ本体の製造方法を提供することができる。なお、成形冶具２０は、加圧時に、未加硫ゴムＲＲがリークしないように溶接構造とすることが好ましい。また、成形冶具２０は、脱型しやすいように、分解可能にすることが好ましい。
【０１１０】
上述したところは、本発明の実施形態の例示であって、特許請求の範囲の記載によれば、種々の変更が可能である。例えば、仮組みされたゴムクローラへの加圧は、袋体や被覆部材を介さないで直接行うことができる。また、流体圧は、気体及び液体のいずれでもよい。各実施形態に採用された各構成は、互いに置き換えて、又は、組み合わせることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明は、本体、ガイド部材及びラグを備えるゴムクローラの製造方法として利用することができる。
【符号の説明】
【０１１２】
１；ゴムクローラ，  ２；クローラ本体（本体），３；抗張体，  ４；ガイド突起（ガイド部材），  ５；ラグ，  ６；接着層，  １０；仮組みゴムクローラ，  １１；ガイド突起用の位置決め冶具，  １２；ラグ用の位置決め冶具，  １３；留め具，  １４；被覆部材，  １６；気密シール用リング，  １７；袋体，  １８；袋体，  ２０；クローラ成形冶具
【図１】
0006652343.tif 000002
【図２】
0006652343.tif 000003
【図３】
0006652343.tif 000004
【図４】
0006652343.tif 000005
【図５】
0006652343.tif 000006
【図６】
0006652343.tif 000007
【図７】
0006652343.tif 000008
【図８】
0006652343.tif 000009
【図９】
0006652343.tif 000010
【図１０】
0006652343.tif 000011
【図１１】
0006652343.tif 000012
【図１２】
0006652343.tif 000013
【図１３】
0006652343.tif 000014