(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リムーバ溶液に対して溶解性を有し疎水性光硬化型樹脂に対して密着性の良い樹脂から成るリムーバ溶液を用いた除去の容易な第１のベース層を爪表面に形成する第１の工程と、
疎水性光硬化型樹脂から成る爪の湿気を遮断する第２のベース層を前記第１のベース層の表面に塗布し、光照射によって硬化させる第２の工程と、
光硬化型樹脂と水溶性インクとの双方に対して密着性の良好な樹脂、または樹脂とバインダとの混合物を含む接合層を第２のベース層の表面に塗布し硬化させる第３の工程と、
この接合層の表面に、インクジェットプリント装置を用いて水溶性インクでアートデザイン層を形成する第４の工程と、
このアートデザイン層の表面に疎水性樹脂から成るオーバコート層を形成する第５の工程と、から成るネイルアートの施術方法。
【請求項２】
前記第１のベース層は爪の端面を含む爪表面に形成され、第２のベース層は爪の根元及び両側縁をわずかに残しかつ爪の端面を含む領域に形成される請求項１に記載のネイルアートの施術方法。
【請求項３】
前記アートデザイン層は、爪の端面を除く領域に形成される請求項１または２に記載のネイルアートの施術方法。
【請求項４】
前記アートデザイン層をインクジェットプリント装置によってプリントする際に、プリントの範囲を制限するテープを指先に装着する請求項１〜３のいずれかに記載のネイルアートの施術方法。
【請求項５】
前記アートデザイン層をインクジェットプリント装置によってプリントする際に、爪の高さを一定に保持する指先保持器をそれぞれの指先に装着する請求項１〜４のいずれかに記載のネイルアートの施術方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、彩色の明瞭性に優れたネイルアートを形成するためのネイルアート施術方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリント装置を用いてネイルアートを爪にプリントする技術は、従来から知られている。このネイルアートを直接爪にプリントするには、爪表面の凹凸や着色インクとの密着性などの物理的、化学的な多くの問題があり、そのために予め爪表面に適当な皮膜層を形成しておくことが行なわれている（例えば特許文献１、段落００４９、００５０）。このような被膜層は人体に有害であってはならないことは勿論であるが、耐候性と共に速乾性が要求される。そこで例えば特許文献２には、光硬化型樹脂、中でも紫外線硬化型樹脂を用いることが開示されている（段落００３２〜００３７）。
【０００３】
ところで、通常のインクジェットプリント装置は、特殊なものでない限り、水溶性インクが用いられており、この水溶性インクを用いてネイルアートを通常の紫外線硬化型樹脂層の上に直接プリントすると、水溶性インク本来の特性から、爪の小面積にプリントされたネイルアートの細かい模様に、にじみや色流れが生じ易く、輪郭がぼやけたり鮮明な彩色模様が現出しない問題がある。
【０００４】
さらに、プリントされたネイルアートを保護するためにオーバコート層を設けることも開示されているが（特許文献１、段落００５１及び特許文献２、段落００４０、００５２、００６０）爪から蒸発した湿気（汗）がプリントされたネイルアートに侵入してネイルアートをぼやけさせる現像が生じている。
【０００５】
また一方、インクジェットプリント装置を用いた場合、プリントヘッドと各爪との間の距離を一定に保持しながらプリントしなければ、模様がぼやけたり色流れが生じる問題があり、またプリントの範囲も画定しなければならない。これらを光学的に検出してコンピュータにより制御する方法が特許文献１に開示されている。しかしながら、このような方法では、正確な検出が非常に困難で誤差が大きく、精密なプリントを行なうには実用的でない。そこで、特許文献３に示すように、爪を定位置に保持する方策が望まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００３−５３４０８３号公報
【特許文献２】特開２０１２−１７９３２０号公報
【特許文献３】特願２０１５−２８６０２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
この発明の課題は、インクジェットプリント装置を用いて爪にプリントしたネイルアートがぼやけたりにじんだりせず鮮明に表現され耐久性を有するようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、この発明においては、リムーバ溶液に対して溶解性を有し疎水性光硬化型樹脂に対して密着性の良い樹脂から成る第１のベース層を爪表面に形成する第１の工程と、疎水性光硬化型樹脂から成る第２のベース層を前記第１のベース層の表面に塗布し、光照射によって硬化させる第２の工程と、光硬化型樹脂と水溶性インクとの双方に対して密着性の良好な樹脂、または樹脂とバインダとの混合物を含む接合層を第２のベース層の表面に塗布し硬化させる第３の工程と、この接合層の表面に、インクジェットプリント装置を用いて水溶性インクでアートデザイン層を形成する第４の工程と、このアートデザイン層の表面に疎水性樹脂から成るオーバコート層を形成する第５の工程とによってネイルアートの施術方法を構成したのである。
【０００９】
前記第１のベース層は爪の端面を含む爪表面全面に形成し、第２のベース層は爪の根元及び両側縁をわずかに残しかつ爪の端面を含む領域に形成するのがよい。また、前記アートデザイン層は、爪の端面を除く領域に形成する。さらに、前記アートデザイン層をインクジェットプリント装置によってプリントする際に、プリントの範囲を制限するテープを指先に装着するのがよく、さらにまた、前記アートデザイン層をインクジェットプリント装置によってプリントする際に、爪の高さを一定に保持する指先保持器をそれぞれの指先に装着するのがよい。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、上述のように、水溶性インクを用いてアートデザイン層を形成する際に、爪の湿気を遮断する疎水性樹脂層とアートデザイン層の双方との密着性を良好にする接合層を用いたので、アートデザインのにじみや流れが無く明瞭な輪郭、彩色を現出することができる。また、爪に疎水性樹脂層を形成する際に、リムーバ溶液に溶解し易いベース層を先に爪に形成したので、リムーバ溶液によってネイルアートを容易にかつ完全に剥離することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】爪に第１のベース層を形成する状態を示す（Ａ）は指先の側面図、（Ｂ）は指先の平面図、
【図２】爪に第２のベース層を形成する状態を示す（Ａ）は指先の側面図、（Ｂ）は指先の平面図、
【図３】爪に接合層を形成する状態を示す（Ａ）は指先の側面図、（Ｂ）は指先の平面図、
【図４】爪にアートデザイン層を形成する状態を示す（Ａ）は指先の側面図、（Ｂ）は指先の平面図、
【図５】爪にオーバコート層を形成する状態を示す（Ａ）は指先の側面図、（Ｂ）は指先の平面図、
【図６】爪に第１のベース層からオーバコート層を形成する範囲を示す指先の側面図、
【図７】（Ａ）は指先に巻くテープの平面図、（Ｂ）は指先にテープを巻いた状態を示す斜視図、
【図８】指先保持器を示す斜視図、
【図９】指先保持器の縦断面図、
【図１０】指先保持器の縦断面図、
【図１１】指先保持器の支持板を示す平面図、
【図１２】インクジェットプリント装置を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、この発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。この発明の施術方法は、主要な５工程とこれらの主要工程の前後に行なう準備工程及び仕上工程に分けられる。
【００１３】
最初の準備工程として種々の下処理がある。まず、ネイルアートを施す手指を消毒し、次は爪の整形作業を行なう。例えばやすりや鋏等を用いて爪を適当に切削し、爪の長さや爪先の形状等を整え、さらに、市販のセラミックプッシャ等を用いて爪の根元や両側の甘皮を押し上げ、削る作業も行なう。このとき、後述するプリント装置のプリント範囲との関係を考慮して、予め好適な全体形状（爪の長さ・幅を含む）を想定して整形するのが好ましい。整形作業の後、後工程で用いる樹脂の付着を良好にするため、爪の表面を均一に粗面化する。例えば発泡樹脂の表面にセラミック粒や砥粒を付着させた用具で爪の表面を摩擦することによって、非常に細かい凹凸を爪の表面に形成することができる。粗面化の後、発生した塵埃などをアルコール溶液等で除去し、爪の表面を清浄にする。これらの準備工程は、必ずしも全てを行なう必要はなく、取捨選択して必要な作業のみ、適当な手順で行なえばよい。
【００１４】
次に主要な塗工工程に入る。準備工程によって、整形され粗面化された爪Ｎの表面に、図１に示すように、第１のベース層１を形成する。このベース層１は、後述する第２のベース層２の爪Ｎに対する密着性を良好にすると共に、ネイルアートを爪Ｎから除去する際に、第２のベース層２を含む上層を容易に除去できるようにする緩衝層となるものであって、第２のベース層２に対する密着性と剥離性とのバランスを考慮して選択される材料から成り、光硬化型樹脂、特に紫外線硬化型樹脂を主成分とするジェルが用いられる。紫外線硬化型樹脂としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フエニル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド等の単官能モノマー；ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能以上のモノマー；ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等のオリゴマーが例示される。これらの紫外線硬化型樹脂は、単独または２種以上併用して用いることができ、これらに、光重合開始剤のほか、白色等の染料や顔料その他の添加物を融合してジェルの形態で用いられる。ここで、第１のベース層１から上層を例えばやすり等で除去する際の作業性を考えると、この層１はある程度の柔軟性を持ちかつ市販のリムーバ（アセトンを含む溶液）によって容易に溶解できることが好ましい。その見地からすると、紫外線硬化型樹脂は、例えばウレタンアクリレートのオリゴマー、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートのモノマーの組合せが選択される。第１のベース層１は図示のように、爪Ｎの表面全面及び爪先の端面（エッジ部）Ｅにも塗布される。即ち指Ｆの皮膚から露出している部分は全て被覆される。通常、この塗布作業は、筆や刷毛を用いて人手により行なわれ、塗布量は通常塗布する程度で特に厚くする必要はない。その後、紫外線ＵＶを照射して硬化させる。
【００１５】
図２に示すように、上記第１のベース層１の表面に、第２のベース層２が形成される。この第２のベース層２は、疎水性、耐水性を有するものが選択される。後述する水溶性インクを用いたアートデザイン層４を、爪Ｎが蒸散する湿気から保護し、アートデザイン層４のにじみや流れを防止するためである。そこで、ベース層２として、光硬化型樹脂、特に紫外線硬化型樹脂が用いられる。例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フエニル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド等の単官能モノマー；ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能以上のモノマー；ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等のオリゴマーが挙げられる。これらの紫外線硬化型樹脂は、単独または２種以上併用して用いることができ、これらに適切な光重合開始剤のほか、染料、顔料、その他の添加物を混合してジェルの形態で用いられる。ここで、ベース層２の疎水性、耐水性性能を考えると、紫外線硬化型樹脂は、例えばウレタンアクリレートのオリゴマー、イソボルニルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートのモノマーの組合せが選択される。この第２のベース層２の塗布範囲は、図示のように第１のベース層１の爪根元端縁１ａ、両側縁１ｂ、１ｂを、１ｍｍ以下、例えば０．５ｍｍ程度の幅で残して（塗布せずに）、爪先端面（エッジ部）Ｅは被覆する。塗布方法は、前記第１のベース層１と同様に筆や刷毛を用いて塗布する。ここで、第１のベース層１の端縁１ａ及び両側縁１ｂ、１ｂ部分には第２のベース層２を塗布しない理由は、後述するアートデザイン層４を形成した際にこのベース層２に添加した染料または顔料の色彩がアートデザイン層４の枠として現出しないようにするためである。そのほか、ネイルアート全体を爪から除去する際に、爪の隅角部に付着した硬質で強固な硬化層はやすり等で削除し難いため、予め塗布しないようにしておくのがよい。このように紫外線硬化型樹脂を塗布後、紫外線ＵＶ（図２（Ａ））を照射して短時間で重合硬化させる。
【００１６】
第２のベース層２を重合硬化させた後、図３に示すように接合層３をその表面に形成する。この接合層３は、後述するアートデザイン層４とベース層２の間に介在して、疎水性（非親水性）の光硬化型樹脂から成る層２に対して、水溶性インクから成るデザイン層４の密着性を良好にし、にじみや流れを防止して彩色を明瞭にし、かつ耐久性を高めるために設ける。従って、接合層３の成分は、疎水性の光硬化型樹脂と水溶性インクの双方に接着性を有するものが求められる。また速乾性の観点から、このような接合層３としては、光硬化型樹脂、特に紫外線硬化型樹脂を主成分とするのが好ましい。例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、無水マレイン酸、フマル酸を反応縮合させて得られる不飽和ポリエステルに、適当な光重合開始剤や他の添加物を配合してジェルの形態にしたものが挙げられる。その他、ベース層２に対して接着性の良い樹脂、例えば（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレートのモノマーの重合体もしくはその誘導体等のアクリル系樹脂に、水、ゼラチン、ポリビニルアルコール、デキストリン、ポリアクリル酸、アルギン酸等の親水性バインダを混合し、水溶性インクに対しても接着性を良好にしたジェルを用いることができる。これら以外に、接合層３として、カップリング剤によって架橋した架橋ポリエステル樹脂や架橋ポリエステルウレタン系樹脂を用いることができる。カップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアルロイルチタネート、イソプロピルトリスチタネート等のチタネート系カップリング剤が好ましい。接合層３の塗布は、通常、筆や刷毛による手作業で行なわれる。塗布範囲は、図３に示すように、爪Ｎの端面（エッジ部）Ｅを除き、他は第２のベース層２と同じくこの層２にほぼ重なり合った範囲であり、通常の厚みで均一に塗布する。そして、紫外線硬化型樹脂の場合は、紫外線ＵＶを照射し、硬化させる。
【００１７】
前記接合層３が硬化乾燥した後、図４に示すように、アートデザイン層４を形成する。この層４は、インクジェットプリント装置を用いて水溶性インクにより形成される。水溶性インクは、水、染料または顔料、界面活性剤、エタノールやイソプロパノール等の水溶性有機溶剤、ジエチレングリコール等の乾燥防止剤などから成る通常のインクジェットプリント用インクが用いられる。プリントの範囲は、図４に示すように、接合層３とほぼ同じである。このプリント後に、特に第２のベース層２の先端面（端面Ｅ）にはみだしたインクと共に接合層３をやすり等を用いて除去しておく。爪端面からの水分の浸透を防止するためである。なお、インクジェットプリント装置を用いたアートデザイン層４の形成方法については、後に詳述する。
【００１８】
前記アートデザイン層４の形成後、図５に示すように、オーバコート層５を形成する。この層５はアートデザイン層４を保護するものであるから、疎水性、耐水性を有する樹脂、例えばポリアクリロニトリル、ポリメタクリルロニトリル、変性ポリビニルアルコール特にシラノール変性ポリビニルアルコール等の樹脂に溶媒のほか、光沢剤等の各種添加物を配合したものが用いられる。塗布は、筆や刷毛を用いた手作業で行なわれ、塗布範囲は、図５に示すように、爪Ｎの端面（エッジ部）Ｅを含む全表面、即ち第１のベース層１と同じ領域である。また、特に強靭性を要求される場合には、光硬化型樹脂例えば先に第２のベース層２で用いた紫外線硬化型樹脂を用いるのがよく、塗布量は比較的厚めに塗布するのが良い。このように、オーバコート層５を第１のベース層１と同じ領域に形成すると、図４、５から明らかなように、アートデザイン層４はその表面は勿論、その全周縁がオーバコート層５と第１及び第２のベース層１、２との間に完全に閉鎖されて露出しないから、アートデザイン層４に湿気が浸入するのを防止することができる。
【００１９】
基本的には、以上でネイルアートの施術工程は終了するが、仕上工程として、さらに耐水性、疎水性を向上させ、ネイルアートに光沢を与えるため、耐水性を有する樹脂例えばオーバコート層５と同様の光硬化型樹脂に光沢剤等の添加物を配合したトップコート層（図示せず）をオーバコート層５に重ねて塗布することができる。塗布範囲はオーバコート層５と同じである。そのほか、爪Ｎの周辺や指先に付着したインクや樹脂、塵埃などを除去やポリッシュ等の仕上工程が必要である。
【００２０】
図６は、前記第１のベース層１からオーバコート層５までの層形成範囲を示している。図中、Ａ１は、爪Ｎの端面（エッジ部）Ｅを含む全表面を示し、Ａ２は、爪Ｎの端面Ｅ及び根元の一端縁１ａと両側縁１ｂ、１ｂを除いた範囲を示している（図２、図３参照）。
【００２１】
次は、図３に示す接合層３を塗布し乾燥させた後、インクジェットプリント装置を用いてアートデザイン層４を形成する手順を説明する。まず、図７に示すように、水溶性インクが指Ｆの先端部に付着するのを防止し、アートデザイン層４のプリント範囲を画定するために、柔軟性のあるマスキングテープＴを指に貼り付ける。マスキングテープＴは、テープ層、粘着剤層、離型紙の３層構造で、ほぼＵ字形の窪み部Ｔ１と、この窪み部Ｔ１の両側に形成された脚部Ｔ２、Ｔ２より成り、テープ層を離型紙から剥離して用いられる。図７（Ｂ）に示すように、テープＴの本体部を爪Ｎの根元から第１関節（遠位指節間関節）付近まで巻き付け、次いでＵ字形窪み部Ｔ１の内周縁ができるだけ接合層３の外周縁に沿うように脚部Ｔ２、Ｔ２を指先で交叉させて貼り付ける。このとき、テープＴが弛みなく緊張した状態で指に密着するように、柔軟性のあるテープＴを引き伸ばしながら貼り付けるのがよい。
【００２２】
図７（Ｂ）のようにテープＴを巻き付けた指先に、図８及び図９に示す保持器Ｒを装着する。この指先保持器Ｒは、平面略長方形の箱形ケーシング１０と、この箱形ケーシング１０の上面開口１３から嵌合される指先押圧部材２０と、前記ケーシング１０に固定されケーシング１０の上面から突出する逆Ｕ字形の指先拘束部材３０と、ノック機構部４０より成る。
【００２３】
前記ケーシング１０の底板１１はその底面全体が水平面になっており、一部に窪み１４が設けられて、保持器Ｒを所定位置に停止する手段として磁石１５がこの窪み１４に挿入され固定される。この磁石１５は、外面１５ａが平坦に仕上げられ、固定した状態で外面１５ａが底板１１の外面とほぼ面一になっている。また、ケーシング１０の内部には、図の中央よりやや左寄りにガイドポール１６が直立して設けられている。ケーシング１０の開口１３を形成する周壁１２の上部縁には、図９、１０の右端部において、切欠き１３ａが設けられている。
【００２４】
前記指先押圧部材２０は、平面略長方形の頂板２１とその周縁から垂下するスカート部２２を有し、このスカート部２２は、前記ケーシング１０の周壁１２内面に丁度嵌り込むように相似形になっており、頂板２１内面から中空円筒形プランジャ２３が垂直に延びている。このプランジャ２３の先端には６箇の均等な山形カム歯２３ａが周方向に連続して形成されている。また、頂板２１の上面には、指先の腹（下面）に対応するような浅い溝２１ａが形成されている。この溝２１ａは、断面が略アーチ形で、指先が戴置される先端部から後端部にかけて徐々に深さが大きくなるように長さ方向に傾斜しており、指先の第１関節（遠位指節間関節）にほぼ対応する位置に突起２１ｂが設けられている。さらに、スカート部２２の両側に一対のガイド溝２１ｃ、２１ｃが設けられている。これらのガイド溝２１ｃ、２１ｃには、後述の指先拘束部材３０の両側脚部３２が嵌り合うようになっている。
【００２５】
逆Ｕ字形板状体の指先拘束部材３０は、アーチ形部３１と、その両側から下方に一体に延びる脚部３２から成り、脚部３２は、前記ケーシング１０に固定されている。なお、アーチ形部３１は、指先の上面（爪のある面）の弯曲に略合致する弯曲面を形成している。
【００２６】
前記ノック機構部４０は、両端が開放した中空円筒状シリンダ４１と、このシリンダ４１内でガイドポール１６に嵌め合わされた回転ピース４２と、圧縮コイルスプリング４３を備え、前記回転ピース４２は、前記コイルスプリング４３によって上方にバイアスされている。そして、前記回転ピース４２は、中空円筒体の外周に、前記プランジャ２３の第１のカム歯２３ａと同形で互いにかみ合う第２のカム歯４２ａを備え、前記シンリンダ４１の内周面には、プランジャ２３の上下動、即ち指先押圧部材２０の上下動に従って、回転ピース４２が一定範囲内で回転するのを許容し、または回転しないように拘束するカム面４１ａが設けられ、このカム面４１ａにかみ合う楔形カム突起４２ｂが回転ピース４２の外面に設けられている。
【００２７】
いま、図９の状態から指先押圧部材２０を押し下げると、その内面のプランジャ２３が回転ピース４２を押し下げ、スプリング４３を圧縮するが、回転ピース４２は、そのカム突起４２ｂが前記シリンダ４１内周面のカム面４１ａに拘束されて回転しない状態でほぼ図１０の位置まで下降する。そこでカム突起４２ｂは、前記カム面４１ａのうちの回転ピース４２の回転を許容する部分に設けられた楔形係止部４１ｂに嵌り込み、下降位置（スプリング４３の最大圧縮位置）を保持して停止する。この位置で、指先拘束部材３０の内側と指先押圧部材２０の頂板２１との間には、図示のように、指Ｆを挿入するのに充分な間隙がある。そこで、指先の爪Ｎ（このとき、前述のようにテープＴが巻かれている）の前後方向位置を調整し、指先で押圧部材２０の頂板２１をわずかに押し下げると、回転ピース４２のカム突起４２ｂがカム面４１ａの楔形係止部４１ｂから脱出して回転ピース４２が回転可能かつ上昇可能な状態になり、スプリング４３によって、回転ピース４２及びプランジャ２３を介して押圧部材２０を押し上げ、拘束部材３０のアーチ形部３１と頂板２１との間に指先を保持する。
【００２８】
上記保持器Ｒは、種々のサイズを用意しておき、親指や小指、或は個体差に合わせて装着すればよい。いずれの保持器Ｒにおいても、ケーシング１０の底面からアーチ形部３１の内面までの高さＨ（図９）を同一にしておくと、後述するインクジェットプリント装置に指を装着したとき、各爪Ｎの高さ水準を同一に保持する、即ち各爪Ｎとインクジェットプリントヘッドとの距離をほぼ一定にすることができる。また保持器Ｒのケーシング１０は、図８に示すように、基底部１７の幅Ｗを全て一定にし、後述する支持板５０にいずれのサイズの保持器Ｒでも装着できるようにしてある。
【００２９】
図１１及び図１２に示すように、インクジェットプリント装置Ｊには、保持器Ｒを装着した手指をセットする支持板５０が設けられている。この支持板５０は、磁石を吸着する磁性材料から成る表面が水平な基板５１に、直線的な仕切板５２を設け、５筋の直線的保持レーン５２ａ〜５２ｅを形成したものであって、これらのレーン５２ａ〜５２ｅの幅は、保持器Ｒのケーシング基底部１７の幅Ｗよりわずかに広く、保持器Ｒの基底部１７が嵌り込んでスライド可能になっている。図１１に示すように、これらのレーンのうちレーン５２ｂ〜５２ｅに、例えば右手の人差指、中指、薬指、小指にそれぞれ装着した保持器Ｒを嵌合してレーンに沿ってスライドさせ、指を伸ばした位置で停止させる。このとき、磁石１５（図８、図１０）によって保持器Ｒのケーシング１０は磁性基板５１に吸着され定位置に保持される。さらに、右手の親指は手掌の下面に折り曲げて隠れるようにし、左手の親指に装着した保持器Ｒをレーン５２ａに嵌め込む。このとき、左手の親指はできるだけ右手の人差指に沿わせるように配置する。なお、図１２中、符号Ｍは、手首を載せるマットである。
【００３０】
上記の状態で、プリント装置Ｊを作動し、アートデザイン層４をプリントする。このプリントを行なうために、プリント装置Ｊの制御回路とパーソナルコンピュータＰＣとを接続しておき、コンピュータＰＣによってプリント装置Ｊの制御を行なう。まず、コンピュータＰＣには、予め多数のアートデザインが記憶されているので、プリント以前の段階で、コンピュータＰＣのディスプレイに表示されたものから一つ（一つの爪に対して）を選択し指定する。また、プリント装置に備えられたカメラからは、テープＴが巻かれた爪の撮像データを制御回路を介してコンピュータＰＣに送信するので、コンピュータＰＣはソフトウェアによってプリントすべきそれぞれの爪の位置と領域等を画定する。そしてコンピュータＰＣは、プリントすべき爪の位置や領域のデータ、選択されたアートデザインのデータ等に基づいて、プリント装置Ｊの制御回路に指令を発し、プリント装置Ｊでは、その指令に従って制御回路がキャリッジやベルトを駆動してプリントヘッドを前後左右に動かし、所要のインクジェットノズルを駆動してアートデザインを爪Ｎにプリントする。これによって先に述べたアートデザイン層４が形成される。
【実施例】
【００３１】
以下この発明の実施例について述べる。
（実施例１）
デスクワークに従事している女性の左手人差指の爪先を爪整形用やすり（商品名  ＮＦエメリーボード  ＃１８０／２４０、ナチュラルフィールドサプライ社）で整形し、甘皮を削り取った後、スポンジの表面にセラミック粉を付着したやすり（商品名  ＮＦスポンジファイル  ＳＢ２１３、ナチュラルフィールドサプライ社）で爪の表面を粗面化し、粉塵をふき取って清浄にした。この爪の表面全面及び端面に、ポリウレタン系樹脂ジェル（商品名  エースジェル・ベースジェル２、ラシーヌ社）をネイルエナメル用筆を用い塗布し、第１のベース層を形成し、紫外線照射装置（商品名  ＳＨＩＮＹＧＥＬ  ｐｒｏｆｆｅｓｓｉｏｎａｌ、ワールドビューティワークス社）で硬化させた後、第２のベース層として白色顔料を配合したポリウレタンアクリレートを含むジェル（商品名  ｉｂｄ  クリアージェル、シンワコーポレーション社）を筆で厚めに塗布した。このとき、爪の根元及び両側縁に約０．５ｍｍ程度の幅で塗布しない部分を残した。塗布後、前記紫外線照射装置を用いて硬化させた。この第２のベース層の表面にポリエステル樹脂を主体とするジェル（品番  ＰＢ−３５、サクラクレパス社）を塗布した。塗布範囲は、第２のベース層の爪端面を除く範囲である。これを同じ紫外線照射装置で硬化させ接合層を形成した後、指先に図７のようにテープを巻き付け、図８の保持器を装着し、図１２のインクジェットプリント装置を用いて、薄紫色の格子模様をプリントし、アートデザイン層を形成した。その後、オーバコート層として第２のベース層と同様のジェルを筆で第１のベース層と同様の範囲に厚めに塗布し、同様の紫外線照射装置を用いて硬化させた。前記アートデザイン層を目視で観察したところ、色のにじみ、流れがなく美麗であった。この女性に日常生活を送ってもらい、５日後、同じアートデザイン層を観察したところ、色のにじみ、流れは無かった。そこで、第２のベース層までをやすり（商品名  ダイヤモンドゼブラ  Ｆ１０５、ナチュラルフィールドサプライ社）で削り、アセトンを含むリムーバ（商品目  ＭＡＮＩＣＵＲＥＬＩＳＴ、ナチュラルフィールドサプライ社）を、残った第１のベース層に浸潤させた後、ウッドスティックを用いてこすり取ったところ、きれいに剥離し、付着物の残滓が爪に残らなかった。
（実施例２）
アートデザイン層として、薄空色斜縞模様をプリントしたほかは実施例１と同様にしてネイルアートを形成した。結果は実施例１と同様であった。その後、４日間日常生活を送ってもらったが、アートデザイン層にほとんど変化が見られなかった。
【符号の説明】
【００３２】
Ａ１  爪の全表面
Ａ２  爪の一部を除く表面
Ｅ  爪の端面
Ｆ  指
Ｈ  高さ
Ｊ  インクジェットプリント装置
Ｍ  マット
Ｎ  爪
ＰＣ  パーソナルコンピュータ
Ｒ  指先保持器
Ｔ  テープ
Ｔ１  窪み部
Ｔ２  脚部
ＵＶ  紫外線
Ｗ  基底部の幅
１  第１のベース層
１ａ  端縁
１ｂ  両側縁
２  第２のベース層
３  接合層
４  アートデザイン層
５  オーバコート層
１０  ケーシング
１１  底板
１２  周壁
１３  開口
１３ａ  切欠き
１４  窪み
１５  磁石
１５ａ  磁石の外面
１６  ガイドポール
１７  基底部
２０  指先押圧部材
２１  頂板
２１ａ  溝
２１ｂ  突起
２１ｃ  ガイド溝
２２  スカート部
２３  プランジャ
２３ａ  山形カム歯
３０  指先拘束部材
３１  アーチ形部
３２  脚部
４０  ノック機構部
４１  シリンダ
４１ａ  カム面
４１ｂ  楔形係止部
４２  回転ピース
４２ａ  カム歯
４２ｂ  カム突起
４３  コイルスプリング
５０  支持板
５１  基板
５２  仕切板
５２ａ〜５２ｅ  保持レーン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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