(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、少なくとも１つの感光性ダイオードと、刺激電極と、抵抗体とを含む眼インプラント用感光性画素構造体であって、前記抵抗体が前記刺激電極と対向電極とを電気的に接続しており、前記抵抗体が前記刺激電極によって少なくとも一部覆われている及び／又は前記抵抗体が前記対向電極によって少なくとも一部覆われていることを特徴とする眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項２】
前記抵抗体が、細長い抵抗体である請求項１に記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項３】
前記抵抗体が、前記刺激電極及び／又は前記対向電極によって覆われた領域において、巻かれた形状が設けられている請求項１から２のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項４】
前記基板が、シリコン基板である請求項１から３のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項５】
前記基板が、単結晶シリコン基板である請求項１から３のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項６】
前記基板が、少なくともＳｉＯ２の層を含む基板である請求項１から３のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項７】
前記対向電極及び／又は前記抵抗体が、前記刺激電極によって占められる領域の少なくとも一部の周り及び／又は前記少なくとも１つのダイオードによって占められる領域の周りに配置される請求項１から６のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項８】
前記抵抗体が、前記対向電極によって覆われる領域において、前記対向電極と平行して延在する請求項１から７のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項９】
前記抵抗体が、アモルファス又は多結晶構造を有する請求項１から８のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項１０】
前記対向電極が、前記刺激電極の周り及び／又は前記少なくとも１つのダイオードの周りに配置される請求項１から９のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体を複数含み、前記複数の眼インプラント用感光性画素構造体がアレイ状に配置されていることを特徴とする眼インプラント用感光性画素アレイ。
【請求項１２】
複数の刺激電極にそれぞれ抵抗体によって接続される中心対向電極が設けられている請求項１１に記載の眼インプラント用感光性画素アレイ。
【請求項１３】
請求項１１から１２のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素アレイを含むこと特徴とする眼インプラント。
【請求項１４】
網膜下インプラントである請求項１３に記載の眼インプラント。
【請求項１５】
請求項１から１０のいずれかに記載の眼インプラント用感光性画素構造体を提供する方法であって、
−基板を提供する工程と、
−前記基板の上に、少なくとも１つの感光性ダイオードの領域を設ける工程と、
−前記基板の上に、前記少なくとも１つのダイオードによって占められていない領域に抵抗体を設ける工程と
−刺激電極及び／又は対向電極を前記基板の上に設ける工程とを含み、
前記刺激電極及び／又は前記対向電極が、前記抵抗体を少なくとも一部覆うことを特徴とする方法。
【請求項１６】
前記抵抗体が、直線で細長い構造体として設けられる及び／又は少なくとも一部において、巻かれた構造体として設けられる請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記抵抗体が、前記基板の原子ドーピングによって設けられる請求項１５から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
前記抵抗体が、アモルファスシリコン及びポリシリコンを含む群から選択される材料の薄片の原子ドーピングによって設けられる請求項１５から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
前記抵抗体が、第１の材料の第１のシャント抵抗体と、少なくとも、前記第１の材料と異なる第２の材料の第２のシャント抵抗体とを形成し、前記第１及び前記少なくとも１つの第２のシャント抵抗体を直列に接続することによって設けられる請求項１５又は１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
前記抵抗体が、第１の材料の第１のシャント抵抗体と、少なくとも、前記第１の材料と異なる第２の材料の第２のシャント抵抗体とを形成し、前記第１及び前記少なくとも１つの第２のシャント抵抗体を並列に接続することによって設けられる請求項１５又は１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
少なくとも前記第１の材料が、金属である請求項１５又は１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
少なくとも前記第１の材料が、前記感光性ダイオードを互いに相互接続し、前記感光性ダイオードを前記電極に相互接続する金属化層を形成する金属である請求項１５又は１８のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抵抗体を含む少なくとも１つの感光性画素構造体を有する感光性インプラントに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、網膜色素変性症などの変性疾患により視力を失った患者の視覚の少なくとも一部の回復を助けるインプラントシステムが知られている。網膜組織の一部が変性しているが、網膜の大部分がインタクトなままであり、依然として、光に依存する電気刺激によって直接刺激することができるという事実に基づくことで、視覚は、インプラントで少なくともある程度回復させることができる。この電気刺激は、インプラントシステムによって与えることができる。そのようなシステムは、通常、患者の眼の前方に配置される特別なゴーグルと、インプラント、特に、複数の電極を含む網膜下インプラントとを含む。
【０００３】
ゴーグルには、通常、カメラが設けられる。カメラは、患者の前方の場面を撮像するようになっている。この撮像された場面は、視覚情報から所定のＩＲ光パルス信号に変換されることができる。そのような場合のインプラントは、ＩＲ光パルスを受領するようになっており、これに応答して、カメラによって受領された場面内容に基づいてインプラント上の感光性領域が刺激される。次いで、インプラントは、受領した光を、網膜に残存している細胞を刺激することができる電流に変換する。
【０００４】
その目的のために、インプラントは、１つ以上の画素アレイを含み、各個々の画素が、１つ以上のダイオード領域と、刺激電極と、場合により、対向電極とを含む。刺激電極は、通常、画素の中心に配置される。特定の領域をそれぞれ分離するために、画素の個々のダイオード間及びアレイの個々の画素間に溝が設けられている。各コンポーネントを相互接続するために、ダイオードと電極との間の電気的接続が設けられる。
【０００５】
ＩＲパルスが、画素又は画素の感光性領域に向けられると、それに応答して、対応する光ダイオード回路によって電気パルスが発生する。
【０００６】
一方で、残存細胞を高い信頼性で刺激するためには、電流密度、即ち、電磁パルス当たり（例えば、ＩＲパルス当たり）の位相当たりの、所定時間で実際に運ばれる電荷を、できる限り高くして、残存細胞を十分に刺激する必要がある。他方、電流密度は、高くし過ぎるべきではない。さもないと、組織損傷又は電極若しくは複数の電極に対する損傷が生じることがある。更に、個々の電極を横切る電圧は、加水分解限界を超えるべきではない。これは、そうでないと、周りの水が解離してしまうからである。再度言及するが、周囲組織に対する潜在的な損傷と電極劣化とが、その結果である場合がある。更に、インプラントの電極に印加される電圧は、理想的には、刺激パルスの後と後続のパルスの前は、ゼロボルトに戻るべきであり、インプラントによって印加される正電荷及び負電荷のバランスをとることができる。そうでないと、電極が、周囲組織と電極自体とを損傷させ得る残存ＤＣ電流を運ぶことがある。先行技術のシステムは、高い電荷をもたらすことができない若しくは十分な電荷のバランスをとることができない、又はその両方を行うことができない場合が多い。先行技術のシステムの更なる問題点は、電極サイズ、ダイオードサイズ、及び抵抗体抵抗を自由に調整できない点に見られる。
【０００７】
電極アレイは、電極、即ち、少なくとも刺激又は作用電極及び少なくとも対向電極（リターン電極とも称する）を、これらの電極間の電気回路に設けられる更なる抵抗体と共に含むことが更に知られている。この更なる抵抗体は、シャント抵抗体と称することもある。Ｗａｎｇら（非特許文献１）は、シャント抵抗体の追加が、刺激波形の放電位相の速度上昇を助けることを記載する。Ｌｏｕｄｉｎら（非特許文献２）は、網膜補綴における光ダイオード回路のためのシャント抵抗体の使用を示唆する。同様に、Ｍａｎｄｅｌら（非特許文献３）及びＢｏｉｎａｇｒｏｖら（非特許文献４）は、光起電力画素の網膜下アレイによる光学的に活性化された神経刺激を記載する。Ｍａｔｈｉｅｓｏｎら（非特許文献５）は、また、網膜下光ダイオードアレイを有する網膜補綴システムを記載する。
【０００８】
シャント抵抗体は、ＩＲパルスの第１位相において運ばれる電荷の速やかな放出を可能にし、且つ実際に組織に運ばれる電荷の制御を可能にする。シャント抵抗体が高い抵抗を有する場合又はシャント抵抗体がない場合、パルスの第１の位相において運ばれる電荷が、速やかに放出されない場合がある。そのため、電圧がゼロに戻るのに要する時間が長くなる。したがって、更なるパルスの前に十分に早く電荷のバランスがとれない場合がある。シャント抵抗体の高抵抗は、そのため、次のパルスにおける利用可能なキャパシタンスを制限することがあり、これにより、安定な状態にある輸送電荷が減少することがある。
【０００９】
一方、シャント抵抗体の低抵抗は、電荷の迅速且つ十分な放出を可能にするが、著しい割合の光発生電荷がシャント抵抗体で失われることがあり、組織に運ばれる電荷が減少することがある。
【００１０】
そのため、シャント抵抗体、特にシャント抵抗体の抵抗を、電極の性質、実際は、画素構造体全体の性質（例えば、ダイオードのサイズ及び数など）に合わせて理想的に調節することが重要である。
【００１１】
同時に、画素構造体の基板の表面に設けざるを得ない抵抗体の表面領域は、感光性ダイオード又は複数の感光性ダイオードに利用可能な領域と競合する。これは、基板の表面に設けられる抵抗体は、画素構造体を正確に機能させるために、光電気的に活性な領域から電気的に絶縁されている必要があるからである。一般に、抵抗体の抵抗は、抵抗体のサイズ、例えば、長さ又は断面積などに依存する。しかし、画素構造体の設計検討及び所望の性質が、抵抗体の設計の自由度を制限する。特に、抵抗体によって感光性領域が少なくなることは望ましくない。そうでないと、画素構造体の効率が低下する場合がある。このことは、例えば、抵抗体のサイズだけが刺激電極と対向電極との間で大きくなると見られる（これは、通常、抵抗体によって覆われる領域を広げる）。したがって、感光性領域として利用可能な領域は、抵抗体が必要とするスペースの上昇分と同程度減少する。
【００１２】
抵抗体の抵抗を上げるための１つの別のアプローチは、抵抗体の基層を形成するポリシリコン片をごく低濃度でドーピングすることによって高いオーミック抵抗を設けることであることができる。しかし、このアプローチは、通常、ドーピング密度が低くなり過ぎ、制御しにくくなると、作製された抵抗体の値の不所望な大きなバラツキをもたらす。これにより、デバイスが、意図された用途で役に立たないものとなることがある。
【００１３】
表面領域を広げることなく抵抗を上げるための１つの更なるオプションは、抵抗体の幅を減少させることであることができる。しかし、必要な抵抗は、通常、ｋオーム範囲又はＭオーム範囲であり、適切に幅狭な構造を有する抵抗体の場合には、作製限界に達することがある。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１４】
【非特許文献１】Ｐｈｏｔｏｖｏｌｔａｉｃ  ｒｅｔｉｎａｌ  ｐｒｏｓｔｈｅｓｉｓ：  ｉｍｐｌａｎｔ  ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ  ａｎｄ  ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ；  Ｊ  Ｎｅｕｒａｌ  Ｅｎｇ．  ２０１２  Ａｕｇｕｓｔ；  ９（４）
【非特許文献２】ＩＥＥＥ  ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ  ｏｎ  ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ  ｃｉｒｃｕｉｔｓ  ａｎｄ  ｓｙｓｔｅｍｓ；  ｖｏｌｕｍｅ  ５
【非特許文献３】Ｃｏｒｔｉｃａｌ  ｒｅｓｐｏｎｓｅｓ  ｅｌｉｃｉｔｅｄ  ｂｙ  ｐｈｏｔｏｖｏｌｔａｉｃ  ｓｕｂ−ｒｅｔｉｎａｌ  ｐｒｏｓｔｈｅｓｅｓ  ｅｘｈｉｂｉｔ  ｓｉｍｉｌａｒｉｔｉｅｓ  ｔｏ  ｖｉｓｕａｌｌｙ  ｅｖｏｋｅ  ｐｏｔｅｎｔｉａｌｓ；  Ｎａｔｕｒｅ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ
【非特許文献４】Ｐｈｏｔｏｖｏｌｔａｉｃ  Ｐｉｘｅｌｓ  ｆｏｒ  Ｎｅｕｒａｌ  Ｓｔｉｍｕｌａｔｉｏｎ：  Ｃｉｒｃｕｉｔ  Ｍｏｄｅｌｓ  ａｎｄ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ；  ＩＥＥＥ
【非特許文献５】Ｐｈｏｔｏｖｏｌｔａｉｃ  ｒｅｔｉｎａｌ  ｐｒｏｓｔｈｅｓｉｓ  ｗｉｔｈ  ｈｉｇｈ  ｐｉｘｅｌ  ｄｅｎｓｉｔｙ；  ｎａｔｕｒｅ  ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ
【発明の概要】
【００１５】
したがって、本発明の目的は、先行技術のシステムの問題点の少なくとも１つを解消する感光性画素構造体を提供することにある。特に、本発明は、容易な製造を可能としながら、各種感光性構造体の具体的な要求に十分に適合した抵抗体の提供を可能とするという目的を有する。
【００１６】
問題点は、本発明にしたがって、請求項１に記載の画素構造体、請求項９に記載の画素アレイ、及び請求項１１に記載のインプラントで解決される。更に、問題点は、請求項１３に記載の方法によって解決される。有利な形態は、従属請求項にしたがう。
【００１７】
本発明の態様によれば、感光性画素構造体は、基板と、基板の上に設けられた少なくとも１つの感光性ダイオードと、刺激電極と、抵抗体とを含む。抵抗体は、刺激電極と対向電極とを電気的に接続している。更に、抵抗体は、刺激電極によって少なくとも一部覆われている。これに加えて又はこれに代えて、抵抗体は、対向電極によって少なくとも一部覆われていてもよい。
【００１８】
特に、画素アレイが設けられる場合には、１つの対向電極を、アレイ上の複数の画素構造体又は全ての画素構造体に対して設けることができる。その場合、対向電極は、対向電極に接続された複数又は全部の抵抗体を少なくとも一部覆うこともできる。また、そのような対向電極は、自身に接続された抵抗体の全てを、必ずしも同程度に覆わなければならないということはない。
【００１９】
刺激電極及び／又は対向電極の下に抵抗体を設けることによって、抵抗体を細長くすることができ、抵抗体のドープ密度又は抵抗体の断面積を変更する必要なしに、その抵抗を上げることができる。そのため、感光性ダイオードに利用可能な表面領域に影響がないままにすることができる。このように、様々な電極サイズ、最大化された感光性領域、又は低下した画素サイズなどの各種性質を有する画素構造体を生成することができる。画素構造体の抵抗体に要求される抵抗率を決めることができ、特定の長さの抵抗体を画素構造体の設計に容易に行うことができる。
【００２０】
抵抗体を各電極から絶縁するために、ＳｉＯ２又はＳｉＣ層などの更なる絶縁層によって抵抗体を覆うことができる。したがって、抵抗体と各電極との間の接続点を除いて、抵抗体と電極との間に絶縁層を挟むことができる。更に、抵抗体を画素構造体から絶縁するために、ＳｉＯ２層などの絶縁層の上に抵抗体を設けることができる。また、本発明の範囲から逸脱することなく、画素構造体の更なる部分の上に絶縁層を設けることもできる。
【００２１】
抵抗体の長さを決めるために、抵抗体の所定の抵抗率、幅、又は断面積、及びその所望の抵抗を仮定するとき、下記の式（１）を用いることができる。
【数１】
0006704938.tif 000002
式中、Ｒは、抵抗体の抵抗であり、ρは、抵抗率であり、Ｓは、抵抗体の断面積（即ち、典型的な矩形のセクション抵抗体の場合、その幅とその厚みとの積）であり、又は抵抗体の横断面積であることができ、Ｌは、抵抗体の長さである。したがって、必要な抵抗Ｒと特定の断面積Ｌ及び抵抗率ρの場合の抵抗体の所望長さＬは、一般に、式（２）に従って決められる。
【数２】
0006704938.tif 000003
【００２２】
これに代えて又はこれに加えて、上記式（１）に従う必要な又は所望の抵抗を与えるために、技術的限界の範囲内で、例えば、ドーピングパラメータを変えることなどによって、断面積Ｓ（即ち、抵抗体の幅と高さ）及び抵抗率ρなどの更なるパラメータを変えることができる。
【００２３】
当業者であれば、抵抗体の電気的性質をより正確に評価するために、抵抗Ｒが材料シート抵抗Ｒｓｑを意味する場合もあることが理解されよう。シート抵抗は、材料層、即ち、材料、及び基板又は下層からの高さ方向におけるその厚みを特性づける。通常、材料抵抗率Ｒｈｏと抵抗体厚みＴを用いると、シート抵抗は、理論的には、Ｒｓｑ＝Ｒｈｏ／Ｔである。抵抗体の抵抗を定義する式Ｒ＝Ｒｈｏ／（Ｔ＊Ｗ）＊Ｌ（式中、Ｌは、抵抗体の長さであり、Ｗは、抵抗体の幅である）から出発すると、Ｒ＝Ｒｓｑ＊Ｌ／Ｗにしたがう。比Ｌ／Ｗは、抵抗体の、その特定の長さ及び抵抗における「スクエアの数」を与える。
【００２４】
シート抵抗は、物理的には抵抗であるので、その単位は理論的には［Ｏｈｍ］である。しかし、本発明の文脈においては、シート抵抗を特性づけるために、単位「オームパースクエア」又は［Ｏｈｍ／ｓｑ］を用いる。
【００２５】
一例を挙げると、その幅よりも１０倍大きい長さを有する抵抗体は、スクエアの数が１０スクエアとなる。そのような抵抗体が５０ｋＯｈｍ／ｓｑのＲｓｑを有する材料を含む場合、この抵抗体が５００ｋＯｈｍの抵抗を有することを意味する。本発明によれば、シャント抵抗体の長さを、例えば、１０〜１０００μｍの範囲で変えることができる。好ましくは、シャント抵抗体の長さは、５０〜５００μｍの範囲である。
【００２６】
本発明の用途によれば、通常、高値抵抗体が望ましい。これは、一つには、高シート抵抗膜で達成することができる。しかしながら、これは、画素構造体の厚みを厚くすることになる。或いは、薄い及び／又は細長い抵抗体、即ち、スクエアの数が多い抵抗体を設けることができる。
【００２７】
本発明によれば、材料シート抵抗Ｒｓｑは、１００Ｏｈｍ／ｓｑ〜１００ｋＯｈｍ／ｓｑの範囲、好ましくは１ｋＯｈｍ／ｓｑ〜１００ｋＯｈｍ／ｓｑの範囲であるものとする。したがって、抵抗体の長さを長くする、即ち、スクエアの数を増やすことによって、抵抗体は、ｋＯｈｍ〜ＭＯｈｍ範囲の合計抵抗を有することができる。
【００２８】
本発明の有利な態様によれば、抵抗体は、細長い抵抗体である。この文脈における「細長い」とは、少なくとも１つの寸法、好ましくは長さを決める長手方向の寸法が、細長い構造の残りの寸法又は複数の寸法よりも著しく大きい外観と理解されるものとする。本発明の理解のために、細長い抵抗体は、抵抗体の長手方向において、抵抗体の厚み、幅、又は横断面積のいずれかを決める任意の横断方向よりも遥かに大きい、即ち、長い抵抗体である。前記定義によれば、細長い抵抗体は、多数のスクエアを有する。本発明の幾つかの実施形態に係る抵抗体は、直線形状又は少なくとも一部直線形状に設けることができる。しかしながら、細長い抵抗体は、直線形状に限定されず、各種形状を有することができる。
【００２９】
したがって、本発明の幾つかの実施形態においては、抵抗体には、巻かれた形状が設けられ、特に、抵抗体が刺激電極によって覆われている領域及び／又は抵抗体が対向電極によって覆われている領域において設けられる。本発明の文脈においては、そのような「巻かれた（ｗｒａｐｐｅｄ）形状」とは、コイル形状、螺旋形状、六角形状、角度がついた形状又は、好適であると考えられ、抵抗体構造を基板上に形成するのに一般に用いられる方法で達成できる任意の他の種類の形状を含むものとする。抵抗体を配置するための多くの他の方法も選択することができ、例えば、本発明の文脈において「巻かれた」という用語で記述されていると考えられるジグザグパターン又は蛇行パターンなども、本発明の範囲を逸脱することなく選択することができる。
【００３０】
そのような個々に適合された長さ及び形状を有する抵抗体を提供するためには、制御される又は制御可能な抵抗率を有する高抵抗材料を、基板上の抵抗体基層として設ける。その材料は、半導体互換プロセスにおける薄膜堆積を更に可能にするものとする。そのような材料は、例えば、シリコンであることができる。最終構造体の抵抗率を設定する又は制御するために、堆積された抵抗体基層をドープすることができる。シリコン又は他の材料を用いる場合、例えば、ボロン、ヒ素、リン、アンチモン、アルミニウム、インジウム、又はガリウムによるドーピングを行うことができる。シリコンは、アモルファス又は多結晶形態で堆積することができる。シリコンに加えて、他の材料も抵抗体の形成に用いることができる。しかしながら、有利には、これらの材料は、半導体作製プロセスと互換性がある必要があり、パターン形成可能である必要があり、必要な抵抗率に沿う必要がある。
【００３１】
具体的な実施形態においては、抵抗体は、それが刺激電極及び／又は対向電極によって覆われている領域において、巻かれた形状を有することができる。抵抗体は、更に、刺激電極又は対向電極のいずれか一方によって覆われていない領域、例えば、画素構造体の感光性ダイオード領域と共有される、基板の表面上の領域において直線形状を有することができる。しかしながら、本発明に係る抵抗体は、例えば、刺激電極によって覆われている領域において、直線形状を有することもできる。抵抗体の長さは、直線形状を有するものであっても、抵抗体と刺激電極との間の電気的接続の位置を変えることによって、依然として、抵抗体の形状を変えることなく変更することができる。
【００３２】
抵抗体に巻かれた形状を設けることにより、抵抗体の長手方向における抵抗体の長さを長くすることができる。このように、所定の横断面積又は幅を有し且つ抵抗体の電気的性質を十分に信頼性高く決めるのに十分なドーピング率を有する抵抗体は、十分に高い抵抗を備えることができる。そのため、少なくとも一部抵抗体を覆い且つその覆われた領域において抵抗体を巻くことによって、小さい画素構造体の場合であっても、基板の表面での光電変換のための更なる表面積を使うことなく、高いオーミック抵抗体を設けることができる。
【００３３】
本発明の幾つかの実施形態においては、感光性画素構造体の基板は、シリコン基板であり、好ましくは単結晶シリコン基板であり、これをデバイス層と称することがある。基板は、特に、いわゆるシリコンオンインシュレータータイプであることができ、少なくともＳｉＯ２層を含む。ＳｉＯ２層は、感光性ダイオード領域及び／又は刺激電極が設けられる基板の表面に設けることができる。更に、抵抗体をＳｉＯ２層に設けることができる。これに代えて又はこれに加えて、ＳｉＯ２層を、感光性構造体を含む表面と反対の表面及び／又は基板の溝の壁に沿って設けることができる。ＳｉＯ２層は、画素全体の周りに設けることもできる。シリコン基板を設けることによって、改善された電気的性質を可能にすることができる。更に、ＳｉＯ２層を設けることによって、シリコン層とＳｉＯ２層との界面での電気的性質を向上させることができ、これにより、画素構造体の性能が上がる。これとは別に、ＳｉＯ２層を設けることにより、抵抗体材料がその上にある状態で、改善されたドーピング結果を可能にすることができる。ＳｉＯ２層は、熱的酸化によって基板に設けることができる。このように、絶縁体層を、ダイオード間又は画素構造体間の各層を通る溝に沿って設けることもできる。或いは、ＳｉＯ２層を、低圧化学蒸着（ＬＰＣＶＤ）などの堆積方法によって設けることもできる。
【００３４】
基板材料の代替として、本発明の幾つかの実施形態においては、シリコンに代えてゲルマニウムを用いることもできる。
【００３５】
本発明の更なる態様によれば、対向電極は、刺激電極の周りに配置される。これに加えて又はこれに代えて、対向電極は、少なくとも１つのダイオードの周りに配置することができる。同様に、抵抗体は、刺激電極の周りに配置することができる及び／又は少なくとも１つのダイオードの周りに配置することができる。
【００３６】
本発明の文脈における「周りに配置される」という用語は、対向電極及び／又は抵抗体が細長い延在部を有し、この細長い延在部において、少なくとも一部で、感光性画素の基板上の領域の周りに延在すると理解されるものとする。その領域は、刺激電極によって及び／又は少なくとも１つ以上のダイオードによって画定することができる。複数のダイオードが設けられる場合、対向電極は、１つ又は全部のダイオードの周りに配置されることができる。この定義によれば、対向電極及び／又は抵抗体は、例えば、刺激電極に、必ずしも直接隣接している必要はない。特に、刺激電極と、対向電極及び／又は刺激電極の周りに配置される抵抗体の部分との間に感光性領域が存在することができる。
【００３７】
そのような配置によって、改善された光検出及び刺激プロセスを、刺激電極によって生成される電場の場分布の均一性を向上させつつ、確立することができる。好ましくは、対向電極は、刺激電極の周りに対称的に、例えば、円形状又は六角形状などに配置される。当業者であれば、これらの実施形態における抵抗体は、ダイオード領域を横断することによって、或いは、ダイオードを１つだけ用いる場合であっても、基板の表面領域の一部を受光できないようにすることによって、刺激電極と対向電極とを電気的に接続することが理解されよう。
【００３８】
抵抗体は、対向電極によって覆われている画素構造体の領域において、対向電極に平行して延在することができる。これは、抵抗体を、それが対向電極と同一又は類似の外形及び形状を有するように設けることができることを意味する。これによって、抵抗体は、画素構造体の周りに、対向電極の所定の長さに沿って延在することができる。対向電極によって覆われている領域は、画素構造体の受光に用いることができないので、対向電極によって覆われている領域における抵抗体の長さは、画素構造体のダイオード領域として必要な更なるスペースを使うことなしに、少なくとも対向電極の横方向の延在部の長さ分だけ延ばすことができる。したがって、画素構造体のサイズを小さくすることができる。画素アレイにおいて、これは、最終的に、アレイ全体としてのより高い解像度を可能にすることができる。
【００３９】
本発明の幾つかの実施形態に係る抵抗体は、横方向、即ち、その細長い延在部に横断する方向における幅が、最大１０μｍ、好ましくは５μｍ未満であることができる。最も好ましくは、抵抗体の幅は、２μｍ未満である。そのような幅は、一般的な作製方法によってうまく設けることができるが、そのような幅は、依然として、画素構造体の表面の潜在的に感光性である領域の使用スペースを小さくする。狭くされた幅と同様に、抵抗の制御は、ドーピングプロセスの正確さ及び他のパラメータを大きく変え、これに依存する。好ましくは、抵抗体の幅は、１００ｎｍ超である。好ましくは、抵抗体の幅は、５００ｎｍ超である。したがって、抵抗体は、５００ｎｍ〜２μｍの範囲が好ましい。
【００４０】
感光性画素構造体においては、基板又は下層の上の抵抗体の厚みは、できるだけ薄いことが望ましい。幾つかの実施形態によれば、抵抗体の厚みは、約１μｍ以下である。好ましくは、抵抗体の厚みは、約５００ｎｍ以下である。更に、前述のように、十分な制御量を可能にするためには、抵抗体は、薄過ぎるべきではない。したがって、抵抗体は、５０ｎｍ超、好ましくは１００ｎｍ超の厚みを有する。したがって、抵抗体は、約５０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の厚みを有することができる。
【００４１】
抵抗体のドーピング、即ち、インプラントドーズは、１０１２〜１０１６原子／ｃｍ２であることができる。そのような厚みとドーピング密度を有する構造体は、一般的な方法によって製造することができる。そのため、本発明によれば、そのシャント抵抗体の抵抗値が十分に高い画素構造体の製造を容易にすることができる。
【００４２】
基板又は基板上に設けられた任意の層の上の抵抗体は、例えば、アモルファス又は多結晶構造を有することができる。
【００４３】
本発明の更なる態様においては、１つの画素に、複数のダイオード、例えば、２つのダイオード又は３つのダイオードが設けられる。
【００４４】
本発明の他の態様によれば、画素アレイが提供され、画素アレイは、本発明の第１の態様に係る少なくとも１つの、好ましくは複数の感光性画素構造体を含み、画素構造体は、アレイ状に配置されている。
【００４５】
特に、画素構造体は、画素アレイに利用できる基板上のスペースが最適に用いられるように配置することができる。これは、例えば、１つの画素が６個の更なる周囲の画素と隣接するように、個々の画素構造体を六角形状に配置することによって達成することができる。このように、画素アレイの解像度を向上させることができる。しかし、個々の画素構造体は、八角形又は矩形状を有することもできる。画素構造体は、また、本発明の保護の範囲から逸脱することなく、円形状又はダイヤモンド状又は他の形状、更に任意の形状を有することができる。アレイ内の画素構造体は、また、種々の形状を有することができることが理解される。例えば、画素構造体の一部が六角形状を有することができ、他が、例えば、五角形状を有することができる。これにより、湾曲した形状又はフレキシブルな特性を有するアレイを提供する又は改善することを可能にすることができる。
【００４６】
そのような画素アレイにおいて、複数の刺激電極と接続される中心対向電極を設けることができる。各刺激電極の中心対向電極との接続は、それぞれ抵抗体によって設けることができる。そのような場合、１つ以上の抵抗体を対向電極の下に配置することができる。即ち、対向電極は、抵抗体の１つ以上、特に対向電極に接続された抵抗体の１つ以上を覆うことができる。
【００４７】
画素アレイの個々の画素構造体が全て、入射光の同一刺激波長に対して感受性であることができる。しかし、画素アレイは、また、入射光の他の波長に対して感受性である画素構造体又は画素構造体群を含むようにすることもできる。そのような態様を可能とするために、感光性画素構造体の一部を特定の波長に適合するようにすることができる。本発明によれば、これは、特に、光感受性領域の性質、即ち、ダイオード、電極、及び各電気的接続（例えば、抵抗体など）を変えることによって可能とすることができる。抵抗体の抵抗を画素アレイの画素構造体の個々の性質に適合させるために、製造中、抵抗体に同一の幅及び同一のドーピング原子密度を設けつつ、各抵抗体の長さを変えることができる。このようにして、同一画素アレイ内でパルス後緩和又は電荷バランス特性などの様々な電気的性質を有する画素構造体の製造も容易にすることができる。
【００４８】
本発明の更なる態様によれば、感光性画素アレイ又は少なくとも１つの感光性画素構造体を含むインプラントが提供される。感光性画素アレイ又は構造体をインプラントに設けることにより、インプラントは、埋め込まれると、電気的刺激又はエネルギー供給をもたらすことができる感光性インプラントとなる。特に、感光性インプラントは、電気的刺激を生体組織（例えば、神経組織又は細胞など）に与えることができる。特に、インプラントは、対象の眼の網膜組織に対する電気刺激を可能にすることができる。このように、患者の視覚を少なくとも一部回復させることを可能にすることができる。
【００４９】
生体組織又は細胞を刺激するために、インプラントは、例えば、患者又は動物などの組織に埋め込まれる。埋め込みのときに、電極は、刺激すべき組織又は細胞に接触することができるように、又は少なくともそれらに機能的に近接しているように配置されるのが好ましい。
【００５０】
本発明の態様の１つに係る感光性構造体、感光性画素アレイ、及び／又はインプラントが、生体各種組織又は細胞を刺激できることが理解される。特に、本発明の態様のいずれかに係るデバイスを、眼の神経組織、特に網膜、耳の神経組織、特に内耳、体の心臓、脊椎、筋肉又は各種器官の組織、特に神経又は筋肉組織に接続して用いることができる。これに加えて、態様のいずれかに係るデバイスは、神経又は神経索を直接刺激する、又は、神経又は神経索の近くの組織領域の非特異的な刺激などによって、間接的に刺激するために用いることができる。
【００５１】
本発明によれば、光活性画素領域（即ち、画素構造体のダイオード又は複数のダイオード上）が十分な光刺激を検出すると、刺激電極上の本発明に係る画素によって電荷が発生する。したがって、少なくとも１つのダイオードの光励起、即ち、このダイオードに接続された刺激電極上における電荷の発生を実現することができれば、組織内の任意の位置がインプラントを受容するのに好適であることができる。
【００５２】
画素上のダイオードを介する光によるそのような励起は、外部光源（即ち、インプラントが設けられる体に対して外部にある光源）によって適用することができる。或いは、更なるインプラント又は更なる手段により、インプラントが設けられる体の内部から光源を設けることができる。特に、赤外光又は光パルスを用いて、画素の感光性領域に照射することができる。そのようなＩＲ光を、例えば、刺激すべき器官又は生体組織の外側から、組織の幾つかの層（特に、インプラントを有する患者の皮膚又は更なる組織層）を貫通するようにすることもできる。
【００５３】
好ましい実施形態においては、インプラントは、網膜下インプラントである。これは、網膜の損傷した組織をバイパスするために、患者の眼の中、即ち、網膜下にインプラントを埋め込むことを可能にする。その結果、網膜で依然として機能する感受性のある神経細胞の近傍で電気インパルスを発生させることができる。インプラント構造体を腐食又は損傷から保護するために、有利には、感光性インプラントは、封止層又は封止コーティングを含むこともできる。
【００５４】
本発明の更に他の態様によれば、本発明の態様の１つに係る画素構造体、最終的には、画素アレイ又はインプラントを提供する方法は、基板の提供を第１の工程として含む。更なる工程において、基板上に、少なくとも１つの感光性ダイオード領域が設けられる。更に、抵抗体は、少なくとも１つのダイオードによって占められていない又は占められることが意図されていない領域において、基板上又は基板内に設けられる。更に、刺激電極及び／又は対向電極は、基板上に設けられる。刺激電極及び／又は対向電極は、それらが抵抗体を少なくとも一部覆うように設けられる。
【００５５】
本発明に係る方法の幾つかの実施形態においては、抵抗体は、直線で細長い構造体として設けられる。これに加えて又はこれに代えて、抵抗体は、少なくとも一部、巻かれた形状に設けることができる。特に、抵抗体は、特に、後続の工程で刺激電極によって覆われる領域において、巻かれた形状、好ましくは螺旋又はコイル形状に設けることができる。
【００５６】
本発明に係る画素構造体、デバイス、又はインプラントを設ける工程の順序は、本明細書に記載する順序と異なる順序で行うことができる点に留意すべきである。
【００５７】
幾つかの実施形態においては、抵抗体は、基板又は更なる基板構造体、例えばアモルファス又は多結晶構造など（特にシリコン）の原子ドーピングによって提供される。これにより、高度に定義可能な電気的性質を有する小さい構造体の製造を可能にすることができる。
【００５８】
更に好ましい実施形態においては、抵抗体は、アモルファスシリコン及びポリシリコンを含む群から選択される材料の薄片の原子ドーピングによって設けられ、その結果、抵抗体を能率的な方法で設けることができる。
【００５９】
抵抗体は、第１の材料の第１のシャント抵抗体と、少なくとも、第１の材料と異なる第２の材料の第２のシャント抵抗体とを形成し、第１及び少なくとも１つの第２のシャント抵抗体を直列に接続することによって設けることができる。この方法は、シャント抵抗体値のより良好な微調整のための方法である。
【００６０】
或いは、抵抗体は、第１の材料の第１のシャント抵抗体と、少なくとも、第１の材料と異なる第２の材料の第２のシャント抵抗体とを形成し、第１及び少なくとも１つの第２のシャント抵抗体を並列に接続することによって設けることができる。この方法は、シャント抵抗体値のより良好な微調整のための方法である。
【００６１】
有利な実施形態においては、少なくとも第１の材料が、金属、特に、感光性ダイオードを互いに相互接続し、感光性ダイオードを電極に相互接続する金属化層を形成する金属である。この実施形態によって、既存の金属化層を用いることができる、シャント抵抗体を設ける更に能率的な方法が実現される。
【００６２】
インプラント用の画素アレイ全体を設ける、又は特定波長に感受性であるダイオードを有する画素アレイ内の画素構造体の１つ以上を設け、他の画素構造体を他の波長に対して感受性であるように設計することが更に可能である。感光性ダイオード領域を設けるために、基板を様々に調整する（例えば、ドーピングなど）ことによって、ダイオードの性質を調節することができる。
【００６３】
本発明によれば、各画素構造体において、そのシャント抵抗体の抵抗を、抵抗体の長さを変えることにより、残りの全てのパラメータ（例えば、抵抗率、横断面積、高さなど）は１つの基板について一定にしつつ、様々にすることができる。このように、画素アレイ内に各種電気的性質を有する画素構造体を生成することができる。その結果、画素アレイの性能及び機能性を向上させることができ、多くの目的のために構成することができる。特に、各種波長信号を各種刺激スキームのために設けることができ、即ち、各種電極での各種細胞の刺激を可能にすることができる。更に、様々な波長を用いて、インプラントの埋め込まれた制御ユニットへの情報の伝達を可能にすることができ、同時に、細胞を刺激するための信号又は光伝達を連続的に行うことができる。
【００６４】
本発明の更なる詳細、好ましい実施形態、及び利点は、図面を参照しつつ以下に記載する。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係る、抵抗体を有する感光性画素構造体の例を示す。
【図２】図２は、本発明の実施形態に係る、２つの隣接する画素を有する半導体構造体の模式的横断面図を示す。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係る電極アレイを示す。
【図４】図４は、配線回路の模式図と共に、図１の感光性画素の斜視図を示す。
【図５】図５は、本発明の実施形態に係る、抵抗体を有する感光性画素構造体の例を示す。
【図６】図６は、本発明の実施形態に係る、抵抗体を有する感光性画素構造体の例を示す。
【００６６】
図１は、本発明の実施形態に係る感光性画素構造体１０を示す。感光性画素構造体１０（以下、画素とも称する）は、感光性ダイオード１２、中心電極１４、及び抵抗体１６を含む。画素構造体１０の外周には、リターン電極ともしばしば称する対向電極１８が設けられている。対向電極１８は、各画素構造体１０上、例えば、図１に示されるように、各画素構造体１０の周囲に載置することができる。これは、図３に関連して述べられるように、リターン電極がローカルであり、画素構造体のアレイ１の異なる中心電極の間にあることを意味する。これは、通常、「バイポーラ」構成とも称される。
【００６７】
そのようなバイポーラ配置の場合、２つの構成が可能である。リターン電極は、相互の接続を断つことができる。これは、この場合の画素は、互いから完全に独立していることを意味する。或いは、一種のグリッド様構造体を効果的に形成するために、個々の画素構造体又は画素構造体群のリターン電極全て又はリターン電極群を互いに接続することができる。そのような構造体は、例えば、全画素アレイ１上に延在することができる複数の六角形状画素を含むことができる。そのような画素アレイの例を図３に示す。
【００６８】
更なる代替として、中心リターン電極（図示せず）を、画素構造体１０とは別に載置することができ、例えば、画素構造体から遠く離れた画素アレイ上の位置に載置することができる。そのような中心リターン電極は、特に、インプラントの遠く離れた場所に設けることができる。そのような構成は、また、モノポーラ構成と称することもある。リターン電極は、必ずしもインプラントの幾何学的中心にある必要はない。更に、複数のそのような中心リターン電極は、インプラント又は画素アレイ上に分布させることが可能である。
【００６９】
図１の実施形態における画素構造体１０は、略対称的な六角形状を有する。画素構造体１０の六角形状は、画素構造体の周りに配置され且つ画素構造体を隣接する構造体から電気的に絶縁する溝２０によって画定される。溝の電気的絶縁は、溝２０の少なくとも１つの側壁において、堆積又は熱成長によりＳｉＯ２層を設けることによって確保することができる。これに代えて又はこれに加えて、溝２０は、例えば、ポリシリコンを含む又はポリシリコンからなることができる。六角形の各辺に隣接して、更なる画素１０’を設けることができる。画素１０の画素アレイ１（本発明の文脈において、電極アレイとも称する）の一実施形態の例を図３に示す。他の実施形態においては、また、個々の画素の形状は、異なっていることができる。例えば、画素は、八角形状又は矩形状を有することができる。画素は、また、本発明の保護の範囲から逸脱することなく、円形状又はダイヤモンド状又は他の形状、更に任意の形状を有することもできる。
【００７０】
個々の画素は、溝２０によって互いに分離されている。溝２０は、電気的絶縁材料を含む。個々の隣接する画素１０は、互いに電気的に絶縁されていることが好ましい。図１の実施形態において示される対向電極１８は、画素１０の活性領域の周囲を囲む溝２０の延在部に沿って配置されており、同一の外形（ここでは、六角形）を有する。
【００７１】
図１に示される実施形態においては、画素１０は、２つのダイオード１２、１２’を更に含む。ダイオード１２、１２’は、六角形状画素の領域内に彫られて配置されている。好ましくは、ダイオード１２、１２’は、対称的に配置される。ダイオード１２と１２’との間に、絶縁溝２０’が設けられる。ダイオード１２と１２’との間の絶縁溝２０’は、通常、絶縁溝２０と同じ性質を有する。そのため、画素１０の異なるダイオード１２、１２’は、互いに電気的に絶縁される。画素内（即ち、感光性素子の基板１５）に配置された溝２０’にかかわらず、溝２０、２０’によって分離絶縁された物体間の電気的コンタクトは、依然として達成することができることが理解されるべきである。図１に係る実施形態においては、例えば、ダイオード１２、１２’は、電気的コンタクト２２によって接続される。図４に関連して更に詳述するが、このように、ダイオード１２、１２’は、図１に係る実施形態においては、互いに直列に接続されている。
【００７２】
図１に係る実施形態の投影図において、ダイオード１２、１２’は、画素１０の感光性領域を表す。この実施形態においては、ダイオード１２、１２’の表面領域、即ち、感光性領域は、画素１０の対称軸の周りに本質的に対称である。図１の実施形態においては、そのような対称軸が、例えば、画素１０のダイオード１２、１２’を分離する溝２０’と一致することができる。他の実施形態においては、ダイオードの数が異なることができる。特に、ダイオード１２を１つだけ設けることができる。これにより、画素１０内の個々のダイオードを分離するために溝２０’を設ける必要がないので、画素の感光性領域を広げることが可能になる。更なる実施形態においては、３つのダイオード１２、１２’、１２’’又は３超のダイオードを、１つの画素に設けることができる。２超のダイオードを画素１０に設ける場合、前記２ダイオード画素構造体について既に述べたように、個々のダイオード１２、１２’、１２’’を互いに直列に接続することもできる。１つの画素内のダイオード及び異なる画素間のダイオードは全て、前述した通り、溝２０、２０’によって分離することができる。これにより、ダイオード間及び画素間のクロストークを低減することができ、画素アレイ全体の信頼性及び解像度を上げることができる。
【００７３】
受領した光信号に対する応答として電圧を上げる必要がある場合、１つの画素について、複数のダイオード、例えば、２つ又は３つのダイオードを設けることができる。そのような場合においては、ダイオードは、直列に接続することができ、ここで、Ｎ個のダイオードの電圧は、１つのみのダイオードで生じる電圧よりもＮ倍高い。他方、ダイオードの個数を増やすことは、一画素当たり、各ダイオードが集める光がより少なくなることを意味する。したがって、直列接続されたダイオードのそれぞれによって生成される電流は、１つだけ又は数個のダイオードを有する場合に比べて、複数のダイオードを有する場合、著しく低下することがある。通常、Ｎ個のダイオードを有する回路の電流は、１つのダイオードを有する回路の電流よりもＮ倍小さい。したがって、これは選択の問題であり、どのパラメータ（即ち、電流又は電圧）が、個々の用途にとってより望ましいかという問題である。神経刺激の具体的な場合においては、必要な刺激パラメータは、励起すべき組織及び／又は個々の細胞、特に神経細胞、インプラントの位置、患者個々の具体的情報、年齢、疾患の状態、及び一般的な生理的状態に依存する場合がある。
【００７４】
ダイオードは、基板の表面の特定領域を所定の方法でドーピングする、例えば、図２に例示されるように、一領域をｐ＋ドーピングし、他の隣接領域をｎ＋ドーピングすることによって基板１５に設けることができる。したがって、ドーピングに利用できる基板表面の領域は、後に光検出できる領域である。したがって、抵抗体１６と溝２０’によって占められる領域は、ドープすることができず、感光性領域として失われる。当業者であれば、用途の要件、例えば、波長、感受性、使用材料などに応じて、図２の例とは異なるダイオードのドーピングを適用できることが分かるであろう。
【００７５】
図１において更に見ることができるように、画素構造体１０の中心に、電極１４が設けられる。その中心位置によって、電極１４は、中心電極とも称する。更に、通常、この電極は刺激に用いられるので、この電極は、刺激電極とも称する。図示される実施形態においては、円形状を有する刺激電極１４が設けられる。電極は、種々の形状、例えば、画素１０の外形を反映するリターン電極１８又は溝２０の形状に類似した形状などを有することもできる。ここで図示された実施形態の円形状は、刺激電極１４からの電場が均一になることができるように選択した。意図される用途によって、形状は、より均一ではない、局所的に上昇した場分布を可能とする形状も含むことができる。
【００７６】
本発明の幾つかの実施形態によれば、画素１０の電極１４は、周辺組織、好ましくは神経組織、特にｉｎ  ｖｉｖｏにおける網膜の神経組織の刺激に適合されるものとする。通常、電極は、白金、酸化イリジウム及び／又は窒化チタンを含む。或いは、イリジウム、白金イリジウム、ドープされたダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、他の知られた材料を、電極材料として用いることができる。電極材料の好ましい構造は、特に、高度な多孔質構造であることができ、例えば、多孔質又はフラクタルＴｉＮ、白金構造、又はＳＩＲＯＦがある。そのような構造は、例えば、「ブラックプラチナム」又は「多孔質白金」であると記述されていることが知られている。電極の厚みは、約１００ｎｍ〜３μｍまで様々な厚みであることができる。しかしながら、電極厚みを最大１０μｍ又は１０μｍ超、又は１００ｎｍ未満にすることも可能である。
【００７７】
図１に示される実施形態において、リターン電極１８が、画素を囲み、画素周囲の外形（即ち、図示される実施形態における溝２０の延在方向）に沿う細長い電極として設けられる。代替の実施形態においては、リターン電極は、複数の電極を含むこともでき、これらは、画素構造体１０の周り及び刺激電極１４の周りに、規則的に又は任意の分布で分布される。これは、特に、電極アレイ１の周辺部で行うことができる。
【００７８】
更に、刺激電極１４と対向電極１８との間に、抵抗体１６（シャント抵抗体とも称する）が配置される。本発明の図１に示される実施形態に係る抵抗体１６は、刺激電極１４と対向電極１８に電気的に接続される。図１の実施形態に示されるように、２つのダイオード１２、１２’間の溝２０’の近く又はその上の基板の表面に抵抗体１６を配置することによって、接続が設けられる。
【００７９】
図１を更に参照すると、抵抗体１６は、円形状の刺激電極１４に接続される。抵抗体１６を刺激電極１４に接続するために、刺激電極１４の中心の近くの抵抗体の第１の端に第１の電気的接続２３が設けられる。抵抗体は、接続点から半径方向に、対向電極１８に向かって真っ直ぐに延在する。したがって、図１の実施形態においては、抵抗体１６は、刺激領域が覆う領域及び基板表面の対向電極１８又は刺激電極１４が覆わない領域において、直線状に設けられる。対向電極１８の下、画素構造体１０の周囲で、抵抗体１６は、画素構造体１０の外形を形成する対向電極１８の六角形状に沿う形状とされる。これは、抵抗体１６がここでは、対向電極１８の延在部の延在方向に沿う、角度がついた形状を有することを意味する。
【００８０】
図１の実施形態においては、対向電極１８の下に延在する抵抗体の長さは、対向電極１８の全長の約６分の１である。しかしながら、対向電極が覆う抵抗体の部分の長さは、図１の実施形態に比べてより長い又はより短いことができる。特に、対向電極が覆う抵抗体の部分は、対向電極１８の全長（即ち、画素構造体１０の外周の長さ）まで、又はそれを更に超える任意の長さを有することができる。
【００８１】
抵抗体１６は、アモルファスシリコン又はポリシリコンなどのような材料の薄片の原子ドーピングによって設けることができる。図１に示されるものに代えて、抵抗体は、互いに直接又は並列に接続された、第１の材料の第１のシャント抵抗体と、少なくとも、第１の材料と異なる第２の材料の第２のシャント抵抗体とを含む異種抵抗体又はシャント抵抗体であることができる。第１の材料は、金属、例えば、感光性ダイオードを互いに相互接続し、感光性ダイオードを電極に相互接続する金属化層を形成する金属であることができる。
【００８２】
図１に示される実施形態においては、したがって、対向電極１８は、ダイオード１２、１２’及び刺激電極１４が覆う領域全体の周りに配置される。ここで、対向電極１８は、感光性ダイオード領域として実行される基板１５の表面領域によって刺激電極１４から分離される。同様に、対向電極１８によって覆われる抵抗体１６の部分が、画素構造体１０の周りに配置される。しかしながら、図１の実施形態における抵抗体は、画素構造体の周りにごく部分的に配置される。抵抗体が画素構造体の周りに本質的に全体的に配置される本発明の実施形態の例を、以下に記載する図５及び図６に見ることができる。
【００８３】
抵抗体１６は、抵抗体１６の第２の端において、第２の電気的接続２４によって対向電極１８に接続される。例えば、抵抗体１６の抵抗を決める又は定義する抵抗体１６の長さは、抵抗体１６の延在部の方向に沿った第１の電気的接続２３と第２の電気的接続２４との間の距離である。一般的な規則として、抵抗体１６の抵抗は、前記式（１）に定義されるように、抵抗体１６の長さにしたがって上昇する。
【００８４】
図２は、電極アレイ１の一部の断面側面図であり、２つの隣接する画素１０、１０’を示す。画素１０、１０’は、図１に示される実施形態に係る画素に対応し、２つのダイオード１２、１２’を有する。２ダイオード画素のための図１に示されるのと同じ層構造を、本質的に、１ダイオード又は３ダイオード画素にも同様に設けることができる。ここで抵抗体１６は、画素構造体１０の表面に設けられる。本発明の幾つかの実施形態によれば、抵抗体１６は、導体であり、例えば、画素１０の表面の金属構造体又はワイヤである。幾つかの実施形態においては、抵抗体は、シリコンからなる又はシリコンを含むことができる。シリコンは、ドープされたシリコンであることができる。特に、シリコンは、少量ドーピングすることができる。抵抗体は、種々のドーピングを示すことができることに留意すべきである。図２に示される実施形態においては、抵抗体１６は、ｐ−ドープされている。しかしながら、ｐ＋ドーピング、ｎ−ドーピング、又はｎ＋ドーピングも実施形態、更にはドーピング方法、その材料又は混合物に応じて適用することができる。同じことが、ダイオード１２、１２’、１２’’のドーピングにも当てはまる。画素アレイ１は基板１５に設けられ、これは、図３に見ることができる。本発明の実施形態に係る基板１５上の抵抗体の位置も、図２の横断面図により詳細に示される。図２に見ることができるように、抵抗体１６は、図示された実施形態において、溝２０’から横方向にオフセットされている。
【００８５】
図３は、画素１０のアレイ（即ち、画素アレイ１）を示す。画素アレイ１は、細胞又は生体組織を刺激するように構成された刺激電極１４を含む画素１０のアレイであるので、画素アレイは、電極アレイとも称することがある。電極アレイ１における個々の画素構造体１０のサイズは、異なることができ、したがって、各種用途に合わせて調整することができる。図３に示すアレイ１において、各画素１０、１０’は、六角形状に形成され、基板１５上でのスペースに関して能率的な分布を可能にする。このように、基板１５上及びアレイ１内の光感受性領域に利用可能なスペースを広げ且つ理想的には最大限にすることができる。
【００８６】
図４は、本発明の実施形態に係る画素１０の模式的斜視図を示す。図示の画素１０は、リターン電極２０を六角形細長電極として示す。ここで、刺激電極１４は、円形電極である。電圧が印加されると、即ち、刺激電極１４が入射光に応答して電気パルスを生成すると、図４において電場線１７で表される電場が生成する。最終的に、刺激パルスの具体的性質（例えば、パルス波形、強度、期間、極性など）に応じて、この場の近傍の細胞を刺激することができる。電極１４又は電極アレイ１を、組織（即ち、組織内の細胞）が、直接、刺激電極１４及び／又は対向電極１８に接触できるように、組織に載置することができる
【００８７】
図４の模式的な画素構造体１０には、図４の模式図に示されるように、直列に接続される２つのダイオード１２、１２’が設けられている。抵抗体１６（即ち、シャント抵抗体）は、ダイオード１２、１２’に並列に接続されている。このように、信頼性のある電荷バランスと刺激パラメータとを有する電気回路を達成することができる。
【００８８】
図５は、図１に示される実施形態と同様の本発明の実施形態を示す。同一の参照符号は同一又は類似のコンポーネントを示し、それらの繰り返しになる記載は省略する。図５の実施形態は、２つのダイオード１２、１２’に加えて第３のダイオード１２’’が設けられていること、及び抵抗体１６の長さがより長いこと、即ち、抵抗体１６が対向電極１８の下を、画素構造体１０の周りの略全体に亘って延在していることが図２の実施形態と異なる。図５は、抵抗体１６の長さを延ばす、即ち、その抵抗を上昇させる、本発明に係る１つの方法を例示する。異なる実施形態においては、抵抗体１６は、より短い、例えば、画素構造体１０の感光性領域又は複数の領域の周りのごく一部にのみ延在する長さを有することがある。更に、ダイオードの数は、３個よりも少なくすることもできるし、多くすることもできる。特に、図５の実施形態に係る抵抗体１６を有する更なる実施形態において、１つのダイオード又は２つのダイオードを設けることもできる。抵抗体１６の抵抗及びその長さは、感光性領域のサイズ（即ち、ダイオード１２、１２’、１２’’のサイズ又は領域）及び／又は画素構造体１０に設けられる刺激電極１４のサイズ又は領域に依存することがある。
【００８９】
図５の実施形態において、３つのダイオード１２、１２’、１２’’は、電気的接触２２によって直列に接続される。既に上で示したように、他の構成も可能である。
【００９０】
図６は、本発明の更なる実施形態を例示する。再度言及するが、同一の参照符号は同一又は類似のコンポーネントを示し、それらの繰り返しになる記載は省略する。図１に係る実施形態と同様に、図６の実施形態は、直列に接続される２つのダイオードを含む。抵抗体１６は、対向電極１８の下で、図５で既に示したように、画素構造体１０の略全体の周りに延在する。更に、抵抗体１６は、刺激電極１４によって覆われる領域において螺旋形状に形成される。図６に示される実施形態においては、抵抗体１６は、２回ループを巻いた後、対向電極１８に向かって直線状に延在する。刺激電極１４の下の抵抗体１６をループ状にすることにより、抵抗体１６の長さを延ばすことができ、これにより、抵抗体１６の抵抗が上昇する。
【００９１】
巻かれた抵抗体１６の正確な形状は、特に、抵抗体が刺激電極１４の下で巻かれる方法は、図６に示されるように２ループであることができることが理解される。或いは、ループの数を増やす又は減らすことができる。更に、外形（ここでは螺旋状ルーピング）は、第１の電気的接触２３から刺激電極１４の外周に、又は最終的には、抵抗体１６の対向電極１８との第２の電気的接触２４に抵抗体の長さを延ばすために好適な、六角形状、半円若しくは半螺旋又は他の形状であることもできる。
【００９２】
図６に係る実施形態は、高抵抗抵抗体を必要とする小さい画素構造体１０のための一例を示す。したがって、図６に示される実施形態においては、抵抗体は、最大限の長さを可能にする一方で、選択した構造においてダイオード領域に対する影響ができる限り小さい方法で設けられる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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