(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子の製造方法であって、
前記方法は、電荷トラップ層（３）を含む基板（１）に対する、前記基板（１）のＲＦ特性を損なうことが可能な急速熱処理工程を含み、
前記急速熱処理工程に追随して、７００℃〜１１００℃で少なくとも１５秒間の前記基板の回復熱処理を行うことを特徴とする、方法。
【請求項２】
中性又は還元性雰囲気下で前記回復熱処理を実施する、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記回復熱処理は、９５０℃で１時間のアニーリングからなる、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
急速アニーリングオーブン又はフラッシュアニーリング装置である急速熱処理装置で前記急速熱処理工程を実施する、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項５】
前記急速熱処理装置でそのまま前記回復熱処理を実施する、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記回復熱処理は、９５０℃で１５秒〜２分間のアニーリングからなる、請求項１、２、４及び５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記急速熱処理が完了してから、温度低下を４０℃／ｓ未満に制御することによって、前記回復熱処理を実施する、請求項５に記載の製造方法。
【請求項８】
前記急速熱処理は、１１２５℃〜１２５０℃の間の定常温度で、最大２分間、前記基板（１）を処理雰囲気に露出することを含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記半導体素子がＲＦ装置である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記半導体素子は、２００又は３００ｍｍの直径を有するシリコン・オン・インシュレータウェハである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記電荷トラップ層（３）が多結晶シリコン層である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記基板（１）の前記ＲＦ特性を第二高調波歪み測定によって評価する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電荷をトラップするための層を含む半導体素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積装置は、通常、それらの製造における支持体として主に機能するウェハ形状の基板上に準備される。しかし、集積度及びこれらの装置に期待される性能の向上によって、それらの性能と装置が形成される基板の特性との結び付きがますます重要になっている。このことは、約３ｋＨｚ〜３００ＧＨｚの周波数の信号を処理し、具体的には、電気通信（電話通信、Ｗｉ−Ｆｉ、ブルートゥースなど）の分野に適用される無線周波数（ＲＦ）装置に特に当てはまる。
【０００３】
装置／基板の結び付きの一例では、装置内で伝搬する高周波信号に起因する電磁場が、基板の深部に入り込み、そこにありうる電荷キャリアと相互作用する。これにより、挿入損失による、信号のエネルギーの一部の不必要な消費、及び、クロストークによる、構成要素間で生じる可能性のある影響がもたらされる。
【０００４】
スイッチ、アンテナ・チューナー、さらに電力増幅器などの無線周波数装置は、これらの現象に配慮するため、及び、それらの性能を改善するために、特異的に適合された基板上に準備され得る。
【０００５】
そのため、シリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）の基板は、図１に示されるように、支持基板２、支持基板３上に配置された電荷トラップ層３、トラップ層３上に配置された絶縁層４、及び、絶縁層上に配置されたシリコン表面層５を含むことが知られている。支持基板２は、１ｋｏｈｍ．ｃｍよりも大きい抵抗率を有し得る。トラップ層３は、ドープされていない多結晶シリコンを含み得る。電荷トラップ層３は、上述した装置／基板の結び付きを減少させ、これにより、ＲＦ装置の良好な性能を確保することを可能にする。このタイプの基板の製造は、例えば、仏国特許出願公開第２８６０３４１号明細書、仏国特許出願公開第２９３３２３３号明細書、仏国特許出願公開第２９５３６４０号明細書及び米国特許出願公開第２０１５１１５４８０号明細書に記載されている。
【０００６】
出願人企業は、上記のＳＯＩ基板に適用される急速熱処理の適用が、この基板の無線周波数の性質に影響をもたらし得ることを観測した。実際、これらの急速熱処理は、基板の製造の間に、その表面処理に特に用いられる。これは、ＣＭＯＳの構成要素の通常の製造方法、例えば、ドーパントの活性化に必要な工程でもある。
【０００７】
より具体的には、出願人企業は、「第二高調波歪み」特性測定が、急速熱処理が施された基板について、処理が施されていない基板よりも２５％程度低い数値を示すことを観測した。
【０００８】
Soitecによって２０１５年１月に発行された「White paper - RF SOI Characterisation」の表題が付けられた文献から詳細な記載が見出される、この特性測定は、特徴付けられた基板上に形成されたＲＦ装置に期待される性能をよく表しているという理由で特に関連している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】仏国特許出願公開第２８６０３４１号明細書
【特許文献２】仏国特許出願公開第２９３３２３３号明細書
【特許文献３】仏国特許出願公開第２９５３６４０号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２０１５１１５４８０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、電荷トラップ層を有し、急速熱処理が施されたＳＯＩ基板において、この測定によって得られるレベルは、要求される仕様の下でのＲＦ装置の動作を保証するほど十分に高くはない。
【００１１】
本発明の目的の１つは、急速熱処理工程を含み、見出された性能を低下させない、半導体素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この目的を達成するために、本発明は、最も広く受け入れられているとおり、半導体素子の製造方法を提供する。方法は、電荷トラップ層を含む基板に対する、この基板のＲＦ特性を損なうことが可能な急速熱処理工程を含む。
【００１３】
この方法は、急速熱処理工程に追随して、７００℃〜１１００℃で少なくとも１５秒間の基板の回復熱処理を行う点で注目に値する。
【００１４】
驚くことに、出願人企業は、この回復熱処理の後に、基板が、期待される無線周波数特性、すなわち、急速熱処理によって処理されていない基板と同じレベルの特性を示すことを確認した。
【００１５】
回復熱処理は、容易に実施される。回復熱処理は、従来の縦型オーブンで実施される、中性又は還元性雰囲気下での９５０℃で１時間にわたる熱処理であり得る。
【００１６】
有利には、基板の無線周波数特性は、第二高調波歪み測定によって評価される。上述したとおり、この測定は、この基板上に形成される構成要素のＲＦ性能をよく表している。
【００１７】
好ましくは、急速熱処理は、半導体の構成要素及び基板の製造の分野で一般に用いられる急速熱アニーリング（ＲＴＡ）装置又はフラッシュアニーリング装置などの急速熱処理装置で実施される。
【００１８】
有利には、急速熱処理は、１１２５〜１２５０℃の定常温度で、最大２分間、基板を処理雰囲気に露出することを含む。これらの処理条件は、基板又は構成要素の製造に特に効果的である。素子に期待される無線周波数性能を、最終的には、完全に又は部分的に取り戻すことを可能にする回復熱処理は、基板のＲＦ特性への影響を制限することを狙って、弱めた急速熱処理条件を選択することからなるものではない。
【００１９】
半導体素子は、例えば、前述したような電荷トラップ層を含むシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板であり、また、例えば、この基板上に製造された半導体装置であり得る。なぜなら、本発明による回復熱処理は、特に有利には、特に多用途であり、基板を製造する間又はこの基板上に構成要素を製造する間のいずれにも適用され得るためである。
【００２０】
好ましくは、回復熱処理は、急速熱処理装置でそのまま実施される。そのため、追加の装置の使用が避けられ、素子の製造方法が簡略化される。
【００２１】
非常に有利には、回復熱処理は、装置の急速な温度低下を１秒当たり４０℃未満に制御して実施される。
【００２２】
本発明による回復熱処理は、基板が少なくとも２００ｍｍの直径を有するウェハである場合に特に用いられる。なぜなら、これらのウェハの大きさでは、急速熱処理をせずに、非常に厳格な仕様の基板の製造の管理を想定することが困難であるためである。なぜなら、既知の代替手段（化学機械研磨、長時間のアニーリング）では、短い処理時間の間に、ウェハの表面全体にわたってウェハを均一に処理できないためである。
【００２３】
好ましくは、電荷トラップ層は、ポリシリコン層である。
【００２４】
添付の図を参照するとともに、本発明の非限定的な実施形態に従う記載に照らして、本発明がより理解され得る。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、最新技術の電荷トラップ層を有する基板を示す。
【図２】図２は、本発明に従った半導体素子の製造方法の一連の工程を示す。
【図３】図３は、急速熱アニーリング装置の既知の構成を示す。
【図４】図４は、急速熱アニーリング装置での急速熱処理の温度プロファイルを再現する。
【図５】図５は、本発明の実施形態による回復熱処理の一例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図２は、本発明に従った半導体素子の製造方法を構成する一連の工程を示す。
【００２７】
「半導体素子」の語は、半導体の基板又は装置を区別なく意味し、具体的には、ＲＦ磁場に適用するためのものを意味する。そのため、本発明は、これらの素子のうちのいずれかの製造に適用できる。
【００２８】
第１工程の間に、電荷トラップ層３を含む基板１が供給される。
【００２９】
好ましくは、この基板１は、シリコン表面層５、例えば、酸化シリコンでできた絶縁層４、及び、支持体２を有するシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板である。電荷トラップ層３は、絶縁層４と支持体２との間に配置される。
【００３０】
前述した最新技術を構成する文献に文書化されているとおり、基板１は、種々の方法で準備され得る。しかし、好ましくは、後者は、スマートカットTM技術を適用することによって製造される。この技術によれば、基板１のシリコン表面層５及び絶縁層４を形成するための酸化シリコン層は、トラップ層３が設けられた支持体２に移動する。要求される性質、具体的には、表面状態に関する性質を基板に付与するために、慣例的には、この移動工程に追随して、基板１の一連の仕上げを行う。
【００３１】
本発明との関連では、支持体２は、好ましくは、１ｋｏｈｍ．ｃｍよりも大きい、高い抵抗率の特性を示す。これは、６〜１０ｐｐｍであり、（“Low Oi”の表現で示される）少量の格子間酸素を有するｐ型のシリコン基板に相当し得る。
【００３２】
これは、２６ｐｐｍより大きく、（“High Oi”の表現で示される）大量の格子間酸素を有するシリコン基板でもあり得る。
【００３３】
特定の状況下、具体的には、トラップ層３が３０ミクロンよりも大きく、十分な厚さを有する場合、支持体２は、１ｋｏｈｍ．ｃｍよりも低い、標準の抵抗率を有し得る。
【００３４】
慣例的には、基板１は、直径が２００、３００又は、実際には４５０ｍｍでもあり得る円形のウェハの形状で供給され得る。
【００３５】
トラップ層３は、最新技術を構成する文献で報告されているとおり、非常に多様な特質を有し得る。一般的には、トラップ層は、例えば、転位、粒界、非晶質領域、隙間、含有物、孔などの構造上の欠陥を有する非結晶層である。
【００３６】
これらの構造上の欠陥は、例えば、不完全な化学結合又はペンダントの化学結合において、材料中を移動する傾向にある電荷のトラップを形成する。そのため、トラップ層における導通が阻害され、その結果、層は、高い抵抗率を有する。
【００３７】
有利には、使用しやすさの理由から、このトラップ層３は、多結晶シリコン層で形成される。その厚さは、具体的には、抵抗性の支持体上に形成される場合に、１〜３μｍであり得る。しかし、この範囲よりも小さい又は大きい他の厚さが十分に想定され得る。
【００３８】
多結晶シリコンでできたトラップ層３は、それ自体がよく知られているジクロロシラン又はトリクロロシランなどのガス状のシリコン源を支持体４上に堆積することによって形成され得る。基板１に施され得る熱処理の間、この層の多結晶の質を維持するため、有利には、例えば、二酸化シリコンでできた非晶質層が、電荷トラップ層３の堆積の前に支持基板２上に供給され得る。
【００３９】
本発明に従った、図２に常に関連する方法の次の工程において、急速熱処理が基板１に適用される。
【００４０】
この急速熱処理工程は、基板１の製造における一連の仕上げの一部を構成し得る。この工程は、半導体装置の製造工程、例えば、ドーパントの活性化工程にも相当し得る。
【００４１】
「急速熱処理」の語は、基板１が、定常の処理温度で、最大２分間、処理雰囲気に露出している間の工程を意味する。定常の処理温度は、典型的には、１１２５〜１２５０度である。定常温度への昇温及び降温の過程は、６０℃／ｓより大きい、高い熱勾配で実施される。この熱勾配によって、処理の合計の時間を制限することが可能になる。
【００４２】
選択する急速熱処理装置によれば、定常処理の時間は非常に短く、フラッシュアニーリング装置では数マイクロ秒程度であり得る。また、急速アニーリングオーブンでは１５〜４５秒間にまで及び得る。
【００４３】
処理雰囲気は、この処理の目的による。処理雰囲気は、例えば、中性、還元性又は酸化性雰囲気であり得る。
【００４４】
この急速熱処理を適用するために、例えば、図３に図示されるとおり、処理されるべき基板を受け入れるための石英のチャンバ６を含む急速熱アニーリング装置が知られている。処理は、基板の下及び上に配置された加熱ランプ７を用いて実施される。処理の間、基板は、チャンバにおいて、３つの突部８が形成された支持体上で水平に保たれる。チャンバの雰囲気は、選択されたガスをそこへ導入することによって制御され得る。ガスは、開口が制御可能な排気システム９を通じて排出され得る。
【００４５】
例えば、１１５０℃〜１２５０℃の間の所定の温度まで、放射によって基板を加熱するために、ランプ７に電力が供給されることによって、この装置を用いて、急速熱処理が適用される。基板の温度の上昇は、非常に速く、１秒当たり約６０℃以上であり、その結果、定常温度に到達するのに１０〜２０秒を要する。熱処理は、この装置では、３０秒〜２分に達し得る時間、この定常温度で実施される。この時間の終わりにおいて、ランプ７に供給される電力が遮断され、基板の温度が１秒当たり約６０℃で急速に低下する。一般的には、基板の冷却を実施し、チャンバから基板を抜き出せるようにするために、２０〜３０秒を要する。この装置で得られる典型的な温度プロファイルは、例えば、図４に再現されている。チャンバ６があり、温度測定を可能にするパイロメータは、約６００℃〜７００℃より大きい値の温度のみに機能することに留意すべきである。これにより、図４の省略されたプロット形状が説明される。
【００４６】
この急速熱処理の結果、全く驚くことに、基板１の特定のＲＦ特性が劣化することが観測された。このことは、本特許出願の導入部で言及された第二高調波歪み測定に、特に当てはまる。
【００４７】
これらの結果及び関連し得る現象のいずれかの物理的解釈に本発明を委ねずとも、トラップ層３は、急速熱処理に特に影響されやすいようである。構造上の欠陥又は電気化学的な結合は、温度及び／又は温度勾配の影響下で再構成するようである。加えて、急速熱処理の特定のプロファイルは、層３のトラップの性質を飽和させる、過剰量の電荷キャリアの生成を促すことがある。
【００４８】
その原因が何であっても、基板１の悪化した無線周波数特性の観測によって、基板１に要求される仕様内での半導体装置の動作を保証することはできない。
【００４９】
図２に再度言及すると、本発明は、測定された性能の低下を少なくとも部分的に取り戻すために、急速熱処理工程に追随して行われるべき、基板１の回復熱処理を提供する。
【００５０】
特に驚くことに、７００〜１１００℃で、少なくとも１５秒間の回復熱処理は、基板１が改善された無線周波数特性を示すのに十分なようである。回復熱処理の雰囲気は、アルゴンなどの中性ガス、水素などの還元性ガス、又は、これらの２つのガスのタイプの混合物からなり得る。それは、例えば、約９５パーセントの窒素及び５パーセントの水素から構成され、しばしば「フォーミングガス」の名称で示される水素含有窒素であり得る。
【００５１】
処理は、従来の縦型オーブンで実施され得る。この場合、約９５０℃で、約１時間、アルゴン下又は窒素下での処理が適用される。アニーリング環境から基板１の表面を保護するために、酸化過程がこの処理に先行し得る、又は、この処理が酸化過程を含み得る。形成された酸化層は、回復熱処理工程の終了後に、簡易な化学エッチングによって取り除かれ得る。
【００５２】
特に有利には、回復熱処理は、急速熱処理装置でそのまま実施される。
【００５３】
定常温度が終了してから、急速熱アニーリング装置のチャンバ６のランプ７に供給される電力を制御することによって、図５に示されるように、この定常処理に追随して、９５０℃で、例えば、１５秒〜２分間のアニーリングを行うことが可能である。
【００５４】
９５０℃での、このアニーリングの代替又は補完として、定常の急速熱処理が完了してから、１秒当たり４０℃よりも低い温度勾配により温度低下を制御することによって、回復熱処理が行われ得る。
【００５５】
最新技術の急速熱処理と比較して速度が遅い、この冷却は、この冷却過程の間にランプ７に供給される電力を単に調節することによっても得ることができる。
【００５６】
選択する回復熱処理の実施形態が何であっても、基板１のＲＦ特性、特に、以下の実施例から明らかなように、第二高調波歪みが改善されることが観測される。
【００５７】
トラップ層３を有する２つのタイプの基板Ａ及びＢが準備された。直径３００ｍｍの基板の２つのタイプＡ及びＢは、７５ｎｍの厚さのシリコン表面層５、及び、２００ｎｍの厚さの酸化シリコンの絶縁層４からなる。トラップ層３は、１．７μｍの厚さの多結晶シリコン層からなる。基板Ａは、１７ｋｏｈｍ．ｃｍの抵抗率を有する支持体２を含み、基板Ｂでは、５ｋｏｈｍ．ｃｍである。
【００５８】
基板Ａに−１００ｄＢｍ、基板Ｂに−９０ｄＢｍの第二高調波歪みの値を与えるように、これらの基板Ａ及びＢが構造的に設計されている。これらの値は、急速熱処理が施されていない類似の基板から得られる。
【００５９】
これらの２つのタイプの基板Ａ及びＢのそれぞれに以下の処理が適用され、それらのそれぞれについて第二高調波歪み（ＨＤ２）が測定される。
・ＲＴＡ単独：図４にプロファイルが示された急速熱処理
・ＲＴＡ＋ＴＴＨ：前述のＲＴＡ処理と同じ急速熱処理の後における保護酸化後のアルゴン下での９５０℃で１時間の熱処理
・ＲＴＡ＋：１２００℃での定常処理後の９５０℃での回復処理を含む、図５にプロファイルが示された急速熱処理
【００６０】
【表１】
0006799015.tif 000002
【００６１】
このように、急速熱処理が、基板１の測定された性能に影響を与えること、及び、この性能が、本発明に従った回復熱処理の適用後に少なくとも部分的に取り戻されることが上記の表から明らかである。
【図１】
0006799015.tif 000003
【図２】
0006799015.tif 000004
【図３】
0006799015.tif 000005
【図４】
0006799015.tif 000006
【図５】
0006799015.tif 000007