(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液流延製膜法を用いた光学フィルムの製造方法であって、
移動する支持体上に流延ダイからドープを流延し、前記支持体上で前記ドープを乾燥させて流延膜を形成した後、前記支持体の移動によって搬送される前記流延膜を前記支持体から剥離する流延剥離工程と、
剥離した前記流延膜を搬送しながら、前記流延膜の搬送方向と直交する幅手方向に延伸して前記光学フィルムを得る延伸工程とを有し、
前記流延膜または前記光学フィルムにおける、前記搬送方向の機械強度をＥMD（ＭＰａ）とし、前記幅手方向の機械強度をＥTD（ＭＰａ）としたとき、
前記流延剥離工程では、前記流延膜を前記支持体から剥離した時点で、
１＜ＥMD／ＥTD＜１．５
となるように、前記ドープを前記支持体上に流延して、前記搬送方向の延伸を行い、
前記延伸工程では、
ＥMD≦ＥTD
となる前記光学フィルムが得られるように、前記流延膜を前記幅手方向に延伸し、
乾燥により、前記ドープ中の残留溶媒量が前記流延ダイからの吐出時から任意の量まで減少するときの速度を、乾燥速度（％／ｍｉｎ）と定義したとき、
前記流延剥離工程では、前記流延ダイから前記ドープを吐出した時点から、１秒以上、前記乾燥速度が１００（％／ｍｉｎ）以下の状態を保ち、
前記流延ダイにおける、前記ドープを吐出するスリットの隙間が、前記スリットから吐出されて前記支持体上に着地した前記ドープの厚みの２倍以上１０倍以下であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記流延剥離工程では、共流延により、固形分率１５％以下の液体と前記ドープとを同時に、前記液体が前記ドープを膜厚方向で挟むように流延することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記支持体の移動速度が、３０ｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記延伸工程で得られた前記光学フィルムの透湿度は、１５０ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶液流涎製膜法を用いた光学フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレットといったモバイル機器、特に表示装置において、薄型化の要求が強くなっている。これに伴い、表示装置を構成する各部材についても、薄型化の要求が強くなっている。例えば液晶表示装置においては、偏光板の薄型化および液晶セルのガラス基板の薄型化の要求が強くなっている。
【０００３】
偏光板の薄型化においては、偏光子の薄膜化のみならず、偏光子を両側から挟み込む保護フィルム（光学フィルム）の薄膜化もより強く求められている。また、液晶セルのガラス基板の厚みは、従来では０．５ｍｍであったが、現在では０．４ｍｍになるなど、ガラス基板の薄型化が進行しており、その薄型化はさらに進行する可能性がある。
【０００４】
ところで、液晶セルのガラス基板を薄型化すると、液晶セルに偏光板を貼合して液晶パネルを製造した後、その液晶パネルに反りが生じることがある。液晶パネルに反りが生じるのは、湿度や温度の変動（環境変動）によって偏光板に寸法変動（伸縮）が生じ、この偏光板の寸法変動によって液晶セルのガラス基板が反ってしまうことが大きな原因として考えられる。これまでは、液晶セルのガラス基板が厚いため、偏光板が多少伸縮した程度では、ガラス基板の反りは発生しなかった。しかし、上述したような昨今のガラス基板の顕著な薄型化により、偏光板の伸縮がガラス基板を反らせてしまう。ガラス基板が反ると、偏光板を貼り合わせた液晶セルを表示装置に組み込んだ際に、光が漏れる（黒表示でも光が偏光板で遮光されずに透過する）などの問題が発生してしまう。
【０００５】
したがって、表示装置における上記の光漏れを抑えるためには、偏光板の寸法変動を抑えることが非常に重要となる。ここで、偏光板は、偏光子と光学フィルムとで構成されるため、偏光板の寸法変動を抑えるためには、偏光子の寸法変動および光学フィルムの寸法変動を両方とも抑えることが重要となる。しかし、偏光子は、例えば吸湿性を持つポリビニルアルコールフィルムで形成され、偏光板の製造過程（例えば光学フィルムとの水糊貼合）で水分を含有してしまうため、偏光子の含水による寸法変動を抑えることは非常に困難である。したがって、偏光板の寸法変動を抑えるためには、偏光子に貼り合わされる光学フィルムの寸法変動を抑えることが必要となる。また、上記光学フィルムには、偏光子の寸法変動に追従する光学フィルム自身の寸法変動を抑えるための機械強度（剛性、弾性率）も必要とされる。
【０００６】
ここで、光学フィルムの製造方法としては、例えば溶融流延製膜法と溶液流延製膜法とがある。溶融流延製膜法よりも溶液流延製膜法のほうが、分子量が大きく、機械強度の高い光学フィルムを製膜できる点で優れている。また、光学フィルムの製膜過程では、延伸することで延伸方向の機械強度が上昇することが一般によく知られている。
【０００７】
この点、例えば特許文献１では、偏光板に用いられる光学フィルムの寸法変動を抑えるためには、残留歪み（残留応力）を溜めないことが重要であり、そのために、上記光学フィルムの製膜過程で、残留溶媒量が３〜２５０質量％の状態で光学フィルムを幅手方向（ＴＤ（Transverse Direction）方向）に延伸することが望ましいことが開示されている。しかし、延伸方向がＴＤ方向の一方向のみでは、他の方向（例えば光学フィルムの搬送方向であるＭＤ（Machine Direction ）方向）の機械強度を高めることができない。光学フィルムの機械強度を面内の各方向で高めるためには、光学フィルムをＭＤ方向およびＴＤ方向の両方向に延伸することが必要となる。
【０００８】
溶液流延製膜法において、流延膜（光学フィルム）を支持体から剥離した後に、ＭＤ方向およびＴＤ方向の２方向に延伸する方法としては、同時２軸延伸と逐次延伸とがある。前者の同時２軸延伸とは、図７Ａに示すように、光学フィルム１００のＴＤ方向の両端部を把持部１０１ａ・１０１ｂで把持し、把持部１０１ａ・１０１ｂによる光学フィルム１００のＭＤ方向への搬送中に、図７Ｂに示すように、ＭＤ方向に並ぶ把持部１０１ａ・１０１ａの間隔および把持部１０１ｂ・１０１ｂの間隔を広げながら、ＴＤ方向に並ぶ把持部１０１ａ・１０１ｂの間隔を広げることにより、光学フィルム１００をＭＤ方向とＴＤ方向との２方向に同時に延伸する方法である。また、後者の逐次延伸とは、支持体から剥離された光学フィルムに対して、一方向の延伸を逐次に（順番に）行う方法である。延伸を行う順序は、特に問われず、例えば、ＭＤ方向の延伸を行った後に、ＴＤ方向の延伸を行ってもよいし、その逆の順序で各方向の延伸を行ってもよい。
【０００９】
しかし、上記の同時２軸延伸では、把持部１０１ａ・１０１ａの間隔および把持部１０１ｂ・１０１ｂの間隔がＭＤ方向に広がるため、光学フィルム１００において、両端の把持部１０１ａ・１０１ｂによって把持されている領域Ａに対して、把持されていない領域Ｂの幅が狭くなるネックインが生じやすくなる。ネックインが生ずると、光学フィルム１００の幅手両端部分の厚みが中央部に比べて厚くなる。この場合、光学フィルム１００において品質が安定している箇所が幅手中央の狭い範囲のみとなり、光学フィルム１００から製品となる部分を効率的に得ることができなくなる。
【００１０】
また、逐次延伸の場合、２度目の延伸まで残留溶媒量を確保すべく、支持体上での流延膜の溶媒濃度を非常に高い状態に維持しなければならない。このため、結露による転写のリスクが生じたり、溶媒耐性のある設備にするためにコストアップが生じ、現実的な方法とは言えない。さらに、支持体からの剥離後に光学フィルムをＭＤ方向に延伸する場合、ＭＤ方向の延伸によるＴＤ方向の収縮を抑えるためには、光学フィルムをＴＤ方向に保持することが必要である。しかし、図８に示すように、光学フィルム１００のＭＤ方向の搬送を、ロール２０１・２０２を用いて行う構成では、ＴＤ方向において光学フィルム１００を保持できないため、光学フィルム１００のＴＤ方向の収縮を規制することができない。
【００１１】
一方、ＭＤ方向の延伸については、上記のように流延膜の支持体からの剥離後に行う以外にも、ドープの支持体上への流延時に行う手法がある。例えば特許文献２〜５では、流延ダイからのドープの吐出速度よりも、支持体の移動速度（搬送速度）を上げることによって、ＭＤ方向の延伸を行う手法が開示されている。なお、ドープの吐出速度をＴ（ｍ／ｓｅｃ）とし、支持体の移動速度をＳ（ｍ／ｓｅｃ）としたとき、吐出速度Ｔに対する支持体の移動速度Ｓの比（Ｓ／Ｔ）のことを、ドロー比またはドラフト比とも称する。この比（Ｓ／Ｔ）が増大するほど、ＭＤ方向の延伸倍率は増大する。
【００１２】
このように流延時にＭＤ方向の延伸を行うと、支持体からの剥離後は、ＴＤ方向の延伸のみを行うことで、得られる光学フィルムの面内の各方向の機械強度を高めることができると考えられる。しかも、支持体からの剥離後の延伸は、ＴＤ方向の一方向のみで済むため、剥離後に２方向の延伸を行う同時２軸延伸や逐次延伸の場合に生じる上記の不都合は生じなくなると考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２０１４−３２３８６号公報（段落〔０１２４〕参照）
【特許文献２】特開２００２−２８９４３号公報（請求項７、段落〔００５５〕参照）
【特許文献３】特開平１１−２１６７３２号公報（請求項１、段落〔００２８〕、〔００３１〕参照）
【特許文献４】特開２０１３−２０３８３８号公報（請求項４、段落〔００６５〕参照）
【特許文献５】特開２０１４−２２３７５８号公報（段落〔００５３〕参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところが、流延時にＭＤ方向の延伸（ＭＤ延伸）を行い、支持体からの流延膜の剥離後にＴＤ方向の延伸（ＴＤ延伸）を行う場合、ＭＤ延伸およびＴＤ延伸が小さいと、つまり、ＭＤ方向およびＴＤ方向の延伸倍率が低いと、ＭＤ方向およびＴＤ方向の各機械強度を高めることができないため、ＭＤ方向およびＴＤ方向の両方向において、光学フィルムの湿熱変動による寸法変動を抑えることができなくなる。また、ＭＤ延伸が大きすぎても、つまり、ＭＤ方向の延伸倍率が高すぎても、光学フィルムの湿熱変動による寸法変動を抑えることができなくなる。これは、ＭＤ延伸が大きすぎると、ドープが流延ダイから支持体上に着地するまでの距離が長くなって、ドープ（リボン）が振動しやすくなり、ＭＤ方向において膜厚がばらつきやすくなるが、この膜厚のバラツキが、機械強度の面内のバラツキを生じさせ、光学フィルムの湿熱変動による寸法変動を抑えることができなくなる要因になっているものと推測される。したがって、光学フィルムの湿熱変動による寸法変動を抑えるためには、ＭＤ延伸およびＴＤ延伸の大小を適切に設定することが必要である。
【００１５】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、流延時にＭＤ延伸を行い、支持体からの流延膜の剥離後にＴＤ延伸を行って光学フィルムを製造する場合に、ＭＤ延伸およびＴＤ延伸の大小を適切に設定することにより、湿熱変動によるＭＤ方向およびＴＤ方向の寸法変動を抑えることができる光学フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の上記目的は、以下の光学フィルムの製造方法によって達成される。
【００１７】
１．溶液流涎製膜法を用いた光学フィルムの製造方法であって、
移動する支持体上に流延ダイからドープを流延し、前記支持体上で前記ドープを乾燥させて流延膜を形成した後、前記支持体の移動によって搬送される前記流延膜を前記支持体から剥離する流延剥離工程と、
剥離した前記流延膜を搬送しながら、前記流延膜の搬送方向と直交する幅手方向に延伸して前記光学フィルムを得る延伸工程とを有し、
前記流延膜または前記光学フィルムにおける、前記搬送方向の機械強度をＥＭＤ（ＭＰａ）とし、前記幅手方向の機械強度をＥＴＤ（ＭＰａ）としたとき、
前記流延剥離工程では、前記流延膜を前記支持体から剥離した時点で、
１＜ＥＭＤ／ＥＴＤ＜１．５
となるように、前記ドープを前記支持体上に流延して、前記搬送方向の延伸を行い、
前記延伸工程では、
ＥＭＤ≦ＥＴＤ
となる前記光学フィルムが得られるように、前記流延膜を前記幅手方向に延伸することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００１８】
２．乾燥により、前記ドープ中の残留溶媒量が前記流延ダイからの吐出時から任意の量まで減少するときの速度を、乾燥速度（％／ｍｉｎ）と定義したとき、
前記流延剥離工程では、前記流延ダイから前記ドープを吐出した時点から、１秒以上、前記乾燥速度が１００（％／ｍｉｎ）以下の状態を保つことを特徴とする前記１に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１９】
３．前記流延剥離工程では、共流延により、固形分率１５％以下の液体と前記ドープとを同時に、前記液体が前記ドープを膜厚方向で挟むように流延することを特徴とする前記２に記載の光学フィルムの製造方法。
【００２０】
４．前記流延ダイにおける、前記ドープを吐出するスリットの隙間が、前記スリットから吐出されて前記支持体上に着地した前記ドープの厚みの２倍以上１０倍以下であることを特徴とする前記１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【００２１】
５．前記支持体の移動速度が、３０ｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする前記１から４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【００２２】
６．前記延伸工程で得られた前記光学フィルムの透湿度は、１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする前記１から５のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００２３】
上記の製造方法によれば、流延剥離工程では、流延膜を支持体から剥離した時点で、１＜ＥＭＤ／ＥＴＤ＜１．５となるように、ドープを支持体上に流延して搬送方向の延伸（ＭＤ延伸）を行う。また、延伸工程では、ＥＭＤ≦ＥＴＤとなる光学フィルムが得られるように、幅手方向の延伸（ＴＤ延伸）を行う。このように、流延剥離工程において、ＭＤ延伸の大小（ＭＤ延伸後の流延膜の機械強度ＥＭＤ・ＥＴＤの関係）を適切に設定し、延伸工程において、ＴＤ延伸の大小（ＴＤ延伸後の光学フィルムの機械強度ＥＭＤ・ＥＴＤの関係）を適切に設定することにより、光学フィルムの湿熱変動によるＭＤ方向およびＴＤ方向の寸法変動を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態に係る光学フィルムの製造方法が適用される製造装置の概略の構成を示す説明図である。
【図２】上記製造装置に用いられる支持体の一例を示す斜視図である。
【図３】上記支持体の他の例を示す斜視図である。
【図４】上記製造装置において、ドープの流延方法の一例を模式的に示す説明図である。
【図５】上記ドープの他の流延方法を模式的に示す説明図である。
【図６】上記製造装置において、流延ダイのスリット間隔と、支持体上でのドープの厚みとの関係を模式的に示す説明図である。
【図７Ａ】同時２軸延伸による延伸前の光学フィルムの平面図である。
【図７Ｂ】同時２軸延伸による延伸後の上記光学フィルムの平面図である。
【図８】２本のロールで搬送される光学フィルムの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ〜Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。また、本発明は、以下の内容に限定されるものではない。なお、以下での説明の便宜上、流延膜または光学フィルムの厚み方向に垂直な面内（フィルム面内）において、流延膜または光学フィルムの搬送方向をＭＤ方向とも称し、ＭＤ方向に直交する幅手方向をＴＤ方向とも称する。また、ＭＤ方向の延伸をＭＤ延伸とも称し、ＴＤ方向の延伸をＴＤ延伸とも称する。
【００２６】
〔光学フィルムの製造方法のポイント〕
本実施形態の光学フィルムの製造方法は、溶液流涎製膜法を用いた光学フィルムの製造方法であって、移動する支持体上に流延ダイからドープを流延し、前記支持体上で前記ドープを乾燥させて流延膜を形成した後、前記支持体の移動によって搬送される前記流延膜を前記支持体から剥離する流延剥離工程と、剥離した前記流延膜を搬送しながら、前記流延膜の搬送方向と直交する幅手方向に延伸して前記光学フィルムを得る延伸工程とを有する。前記流延膜または前記光学フィルムにおける、前記搬送方向の機械強度をＥＭＤ（ＭＰａ）とし、前記幅手方向の機械強度をＥＴＤ（ＭＰａ）とする。前記流延剥離工程では、前記流延膜を前記支持体から剥離した時点で、１＜ＥＭＤ／ＥＴＤ＜１．５となるように、前記ドープを前記支持体上に流延して、前記搬送方向の延伸を行う。前記延伸工程では、ＥＭＤ≦ＥＴＤとなる前記光学フィルムが得られるように、前記流延膜を前記幅手方向に延伸する。なお、上記した機械強度ＭＤ・ＥＴＤの関係は、ＭＤ方向の延伸倍率（ドープ吐出速度に対する支持体の移動速度の比）、およびＴＤ方向の延伸倍率（延伸前のフィルム幅に対する延伸後のフィルム幅の比）を適切に設定することによって実現することができる。
【００２７】
流延剥離工程では、１＜ＥＭＤ／ＥＴＤとなるように、ドープを支持体上に流延してＭＤ延伸を行う。このＭＤ延伸により、ＭＤ方向の機械強度ＥＭＤは、ＴＤ方向の機械強度ＥＴＤよりも高くなる。そして、その後の延伸工程では、ＥＭＤ≦ＥＴＤとなる光学フィルムが得られるように、ＴＤ延伸を行う。つまり、延伸工程により、ＭＤ方向の機械強度ＥＭＤと、ＴＤ方向の機械強度ＥＴＤとの大小関係は逆転されてＥＭＤ＜ＥＴＤとなるか、ＥＭＤ＝ＥＴＤとなる。
【００２８】
このように、流延時においては、１＜ＥＭＤ／ＥＴＤを満足するようなＭＤ延伸を行い、剥離後は、ＥＭＤ≦ＥＴＤとなるようなＴＤ延伸を行うことにより、得られる光学フィルムにおいては、ＭＤ方向の機械強度ＥＭＤとＴＤ方向の機械強度ＥＴＤとが両方とも向上し、かつ、これらの機械強度ＥＭＤ・ＥＴＤのバランスも良好となる。これにより、光学フィルムの湿熱変動によるＭＤ方向およびＴＤ方向の寸法変動を抑えることができる。
【００２９】
しかも、流延時にＥＭＤ／ＥＴＤ＜１．５となるようにＭＤ延伸を行うことにより、ＭＤ方向の延伸倍率が高くなりすぎないため、流延ダイから、ドープが支持体上に着地するまでの距離が長くなってドープ（リボン）が振動し、ＭＤ方向において膜厚がばらつくのを抑えることができる。これにより、機械強度ＥＭＤ・ＥＴＤが面内でばらつくのを抑えることができ、光学フィルムの湿熱変動による寸法変動を確実に抑えることができる。
【００３０】
本実施形態では、乾燥により、前記ドープ中の残留溶媒量が前記流延ダイからの吐出時から任意の量まで減少するときの速度を、乾燥速度（％／ｍｉｎ）と定義したとき、前記流延剥離工程では、前記流延ダイから前記ドープを吐出した時点から、１秒以上、前記乾燥速度が１００（％／ｍｉｎ）以下の状態を保つことが望ましい。
【００３１】
ドープの吐出時点から、１秒以上、乾燥速度が１００（％／ｍｉｎ）以下の状態を保つと、ドープが乾燥しにくくなり、ドープを高残留溶媒量の状態に保つことができる。この状態では、流延時のＭＤ方向の延伸倍率を大きくしても（ドープ吐出速度に対して支持体の移動速度を上げても）、流延ダイから支持体上にドープが着地するまでの距離が必要以上に長くならず、ドープ（リボン）の振動が抑えられる。これにより、延伸倍率を高くしたときの、ＭＤ方向の膜厚ムラ（横段状の膜厚ムラ）を低減することができる。よって、製膜された光学フィルムを偏光板の保護フィルム（特に偏光子に対して液晶セル側の保護フィルム）に適用して液晶表示装置を構成したときに、光学フィルムの膜厚ムラに起因する光漏れを低減することができる。
【００３２】
前記流延剥離工程では、共流延により、固形分率１５％以下の液体と前記ドープとを同時に、前記液体が前記ドープを膜厚方向で挟むように流延してもよい。
【００３３】
共流延により、ドープの表層（支持体とは反対側の最表層、および支持体側の最表層）が固形分率１５％以下の液体で覆われるため、ドープが乾燥しにくくなり、ドープの吐出時点から１秒以上、上記の乾燥速度（１００（％／ｍｉｎ）以下）を実現することが確実に可能となる。その結果、ＭＤ方向の膜厚ムラおよびそれに起因する液晶表示装置の光漏れを確実に低減することができる。
【００３４】
前記流延ダイにおける、前記ドープを吐出するスリットの隙間が、前記スリットから吐出されて前記支持体上に着地した前記ドープの厚みの２倍以上１０倍以下であることが望ましい。
【００３５】
支持体上における流延膜のＴＤ方向の幅が一定であれば、流延ダイのスリットの隙間に対する、支持体上に着地したドープの厚みの比は、ＭＤ方向の延伸倍率に対応する。流延時のＭＤ方向の延伸倍率が２倍以上１０倍以下であるため、湿熱変動による光学フィルムの寸法変動を抑える効果と、高延伸倍率でのＭＤ方向の厚みムラを抑えて光漏れを抑える効果とをバランスよく得ることができる。
【００３６】
前記支持体の移動速度は、３０ｍ／ｍｉｎ以上であることが望ましい。このような移動速度で支持体上に流延膜を形成し、光学フィルムを製膜することにより、光学フィルムの生産性を向上させることができる。
【００３７】
前記延伸工程で得られた前記光学フィルムの透湿度は、１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが望ましい。透湿度が上記範囲では、含水による光学フィルムの寸法変動を抑えることができる。これにより、上記光学フィルムを偏光板の保護フィルムに適用し、上記偏光板を液晶セルのガラス基板に貼り合わせたときに、湿度変動によるガラス基板の反りを確実に低減することができる。
【００３８】
〔光学フィルムの製造方法の詳細〕
以下、上記した本実施形態の光学フィルムの製造方法の詳細について説明する。
【００３９】
図１は、本実施形態の光学フィルムの製造方法が適用される製造装置１の概略の構成を示す説明図である。製造装置１は、溶液流延製膜法によって光学フィルムを製造するための装置であって、溶解混合装置２、送液ポンプ３・６、濾過装置４・７、静置釜５、流延ダイ８、支持体９、テンター１０、乾燥装置１１および巻取装置１２を備えている。この製造装置１では、以下の調液／送液工程、流延工程、支持体上乾燥工程、剥離工程、乾燥／延伸工程、巻取工程が順に行われる。なお、上記の流延工程から剥離工程までは、上記した流延剥離工程に対応する。
【００４０】
＜調液／送液工程＞
溶解混合装置２には、光学フィルムの製膜材料を、風送、コンベア、ポンプによる送液などによって投入し、これらを混合して溶解する。混合方法としては、撹拌翼などで撹拌する方法であってもよいし、磁気などを用いて非接触で撹拌する方法であってもよい。また、特開２００２−２４１５１１号公報に記載されているように、混合時に加温や加圧して溶解を実施してもよいが、その場合、耐圧性を有する溶解混合装置２中の溶媒の沸点近傍において、装置内の雰囲気を溶媒蒸気に置換すべく、減圧あるいは開放を行うことが望ましい。
【００４１】
内部の雰囲気が溶媒蒸気と置換され次第、再び溶解混合装置２を遮閉し、溶解液の濃度が変化しないようにすることが望ましい。溶媒蒸気への置換は、大気よりも比重の高い溶媒の沸点近傍で行われ、溶解混合装置２の上部に設置された弁を開放して行われることが望ましい。
【００４２】
溶解混合装置２内より除去された気体を冷却し、凝集した溶媒を再度、溶解混合装置２内に添加することで、調製するドープの濃度を保つことも望ましい。
【００４３】
溶解混合装置２は、溶解を促進する観点から、壁面部分に温度調節用の設備を持つことが望ましい。また、温度調節した液体あるいは気体を外壁に接触させる方式や、高周波などで加熱する方式も、溶解を促進でき、望ましい。
【００４４】
溶解中または温度変更中は、常に撹拌されていることが、成分の分離抑制の観点から望ましい。溶解完了後のドープは、送液前に溶媒の沸点以下とすることで、キャビテーション起因の発泡などが抑制されるため、望ましい。
【００４５】
溶解完了後のドープは、送液ポンプ３により、溶解混合装置２から濾過装置４に送液され、濾過装置４によってドープ中の異物が除去される。上記異物には、原材料の投入時などに混入される異物、原材料中の不純物による未溶解物、および溶解物の一部が乾燥するなどして凝集した異物、などが含まれる。
【００４６】
濾過装置４においては、生産に必要な濾過量が確保されている中で、なるべく低圧にすることが、異物のすり抜けが発生しづらくなる点で望ましい。濾材については、様々なフィルターの中から、濾過しようとする異物に応じたフィルターを適宜選択して用いればよい。また、図１中では、２つの濾過装置４・７しか図示されていないが、複数の濾過装置を使用して異物を除去することも望ましい。また、濾過前後の圧力差が小さいほど、異物がすり抜けにくくなるため、配管径を適切に設定したり、送液を分割したり、バッファを用いるなどによって、濾過前後で圧力差を生じさせないようすることも望ましい。
【００４７】
送液装置の摺動部などで摩耗による異物が発生することもあるため、同図のように、最終の送液装置である送液ポンプ６以降に濾過装置７が設置されていることが望ましい。
【００４８】
濾過装置４で濾過されたドープは、釜やタンクからなる静置釜５に送られ、そこで、１時間以上静置される。これにより、ドープの濃度安定化、発泡除去、温度安定化などが図られ、送液時の粘度変動起因による送液量変動が抑制され、製造される光学フィルムの膜厚、品質が安定化する。静置釜５では、溶媒の沸点以下の温度でドープを静置することが望ましい。
【００４９】
静置釜５内の圧力は、流延ダイ８の周辺の気圧と同等以下であることがより望ましい。これは、流延ダイ８からのドープの吐出後に圧力が急激に下がる際、発泡や体積変動が抑制され、より均一な膜を得ることができるためである。
【００５０】
静置釜５で静置されたドープは、送液ポンプ６によって濾過装置７に送られ、そこで濾過された後、流延ダイ８に送られる。静置後にドープを流延ダイ８に送液する際、温度調節機構（図示されていない）によってドープの温度を安定化させることが、粘度の変化による吐出後の膜の動きの乱れを抑制し、膜厚の乱れを改善できる点で望ましい。
【００５１】
＜流延工程＞
流延ダイ８に送液されたドープは、流延ダイ８から、移動する支持体９に向かって吐出され、支持体９上に流延される。支持体９は、無端の連続支持体であることが望ましく、例えば一般的に用いられるＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３０４のようなステンレス製のベルトであってもよいし、ハードクロムメッキなどの施された金属ドラムでもよい。支持体９がベルトで構成される場合、ベルトの長さが１５０ｍ以上になると、慣性力や膨張などにより制御が難しくなるため、ベルトの長さは１５０ｍ以下であることが望ましい。また、ベルトの幅は、広いほうが望ましいが、折り返すことを考慮すると３ｍ以下であることが望ましい。ベルトの厚みとしては、１〜３ｍｍであることが好ましい。
【００５２】
幅２ｍを超える製品を作製する場合は、支持体幅が２ｍ以上であることが望ましい。幅２ｍ以上のベルトとしては、例えば図２および図３に示すように、製造方向（ＭＤ方向）へ１周する溶接部Ｔを持つシームベルト９ａを用いることができる。シームベルト９ａは、複数のシームベルト９ａ１を幅手方向に並べて、隣り合うシームベルト９ａ１を溶接して作製されたものである。溶接部Ｔには、長径７０μｍ以上、深さ３０μｍ以上のピンホールが１〜１０個存在していてもよい。また、製造方向に１周する溶接部Ｔを、ベルトの幅手中央部分に含んでもよいし、切除してもよい。各シームベルト９ａ１における製造方向のつなぎ目Ｓは、各シームベルト９ａ１間で、図２のように一直線となるように並んでいてもよいし、図３のように製造方向にずれていてもよい。
【００５３】
本実施形態では、ドープの吐出速度をＴ（ｍ／ｓｅｃ）とし、支持体９の移動速度をＳ（ｍ／ｓｅｃ）としたとき、吐出速度Ｔに対する支持体９の移動速度Ｓの比（Ｓ／Ｔ）は、１よりも大きい。このため、流延時にドープがＭＤ方向に引き伸ばされるＭＤ延伸が行われる。このとき、支持体９の移動速度は、上述したように光学フィルムの生産性向上の観点から、３０ｍ／ｍｉｎ以上であることが望ましい。
【００５４】
また、流延工程でのＭＤ方向の延伸倍率（比（Ｓ／Ｔ））は、上述したように、流延膜を支持体９から剥離した時点で、１＜ＥＭＤ／ＥＴＤ＜１．５となるように設定される。
【００５５】
流延工程では、流延ダイ８の周辺の露点よりも高い温度で流延することが、揮発熱による冷却で結露が発生するのを抑制できる点で望ましい。また、ドープが低温であるほど乾燥が遅くなり、生産速度が低下するため、実用的には、３℃以上で、ドープに含まれている最も温度の低い溶媒の沸点以下であることが望ましい。
【００５６】
流延ダイ８に供給されるドープは、単層であってもよく、積層であってもよい。また、積層の場合、溶解混合装置２、送液ポンプ３・６、濾過装置４・７、静置釜５を複数設けて、流延ダイ８の直前のフィードブロック、あるいは流延ダイ８内で、各ドープを合流（積層）する方式が望ましい。複数のドープを同時に流延して積層する流延方法は、共流延と呼ばれる。
【００５７】
図４は、ドープの流延方法の一例であって、流延ダイ８から共流延によってドープを支持体９上に流延する様子を模式的に示している。本実施形態では、光学フィルムを形成するドープＤ１と、固形分率１５％以下の液体Ｌ１（例えば空気側）・Ｌ２（例えば支持体側）とを用い、液体Ｌ１・Ｌ２によってドープＤ１を膜厚方向で挟むように、これらを同時に流延ダイ８から支持体９上に流延してもよい。なお、液体Ｌ１・Ｌ２は、固形分率が１５％以下の液体であれば、ドープＤ１と同じ組成（材料）であってもよく、ドープＤ１の一部と同じ組成（材料）であってもよい。また、上記の固形分率とは、液体全体に対する、微粒子（マット剤）等の固形分の割合を指す。
【００５８】
上記の共流延により、ドープＤ１の表面および裏面が液体Ｌ１・Ｌ２で覆われ、ドープＤ１が乾燥しにくくなるため、上述した乾燥速度（１００（％／ｍｉｎ）以下）を確実に実現することが可能となる。つまり、吐出後の一定時間（例えば１秒以上）は、高残留溶媒量の状態を保つことができる。その結果、流延時に高い延伸倍率でＭＤ延伸を行っても、吐出中のドープ（リボン）の振動を抑えることができ、横段状の膜厚ムラを抑えることが可能となる。
【００５９】
図５は、ドープの他の流延方法を模式的に示している。同図に示すように、流延ダイ８からドープＤ１を単層で支持体９上に流延するとともに、支持体９上に着地したドープＤ１の表面を覆うように、カバーＣを設けてもよい。カバーＣ内に、ドープＤ１に含まれる液体と同じ液体Ｌ３（例えばメチレンクロライド）を収容しておくと、カバーＣ内は、液体Ｌ３が揮発した蒸気で満たされる。このため、カバーＣで覆われている支持体９上のドープＤ１においては、ドープＤ１中の溶媒（例えばメチレンクロライド）が蒸発しにくくなる。これにより、流延ダイ８からドープが吐出されてから一定時間（例えば１秒以上）は、上記と同様に、乾燥速度が１００（％／ｍｉｎ）以下の状態を保つことが可能となり、高い延伸倍率でＭＤ延伸を行っても、横段状の膜厚ムラを抑えることが可能となる。
【００６０】
また、流延時のＭＤ延伸によるネックイン改善のため、ＴＤ方向の端部と中央とで異なるドープを流延できるよう、流延ダイ８へのドープ供給口がＴＤ方向に複数あることも望ましい。その場合は、ＴＤ方向の端部のドープ粘度が中央部より高いことが望ましい。
【００６１】
また、端部での被膜の発生を抑制するため、良溶媒を含む溶媒を端部に供給することも望ましい。特開平０５−０８６２１２号公報などに記載のように、端部に供給される溶媒には、良溶媒だけでなく、貧溶媒が０〜５０％含まれていることも望ましい。
【００６２】
代表的な貧溶媒としては、メタノール、エタノールといったアルコール類や、アセトンなどといったケトン類などがよく用いられる。これらは、乾燥までにかかる時間や、ドープとの相溶性によって適宜選択し調整すればよく、望ましくは貧溶媒の濃度が０％以上５０％以下である。
【００６３】
図６は、流延ダイ８のスリット間隔Ｐ（μｍ）と、支持体９上でのドープＤ１の厚みＭ（μｍ）との関係を模式的に示している。上述のように、スリット間隔Ｐは、ドープＤ１の厚みＭの２倍以上１０倍以下であることが望ましい。つまり、ＭＤ方向の延伸倍率は、２倍以上１０倍以下であることが望ましい。例えば、ドープＤ１の厚みＭが５０μｍであれば、スリット間隔Ｐは、１００μｍ以上５００μｍ以下であることが望ましい。ドープＤ１の厚みＭに対してスリット間隔Ｐが上記範囲内であれば、上述したように、湿熱変動による光学フィルムの寸法変動を抑える効果と、高延伸倍率でのＭＤ方向の厚みムラを抑えて光漏れを抑える効果とをバランスよく得ることができる。
【００６４】
流延ダイ８のスリット間隙は、上記のように、必要とするドープの膜厚に応じて調整すればよいが、特開２００２−０３６２６６号公報に記載のように、１５０μｍ〜１５００μｍの範囲としてもよい。薄膜を作る際は、なるべく間隙が狭いほうが良いが、間隙を１５０μｍ未満にすると、ＴＤ方向での膜厚制御が困難となるため、望ましくない。
【００６５】
また、特開２００２−０２８９４３号公報に記載のように、ダイスリットの中心線と無限移行する無端の金属支持体の接線とのなす角度を４０〜９０°とすること、流延膜の線流速を１０〜２００ｍ／ｍｉｎとし、かつ、線流速のバラツキを±１５％以内とすること、ダイスリットの先端と無限移行する無端の金属支持体面との間隙を２００μｍ〜５ｍｍとすること、ドープの粘度を１〜２００Ｐａ・ｓｅｃとすること、も好ましい。
【００６６】
＜支持体上乾燥工程＞
支持体９上では、流延されたドープが乾燥され、流延膜（ウェブ）が形成される。流延膜は、支持体９の移動に伴って搬送される。流延膜は、その後の剥離工程で支持体９から剥離されるため、転写抑制が重要であり、支持体９の表面は平滑であるほどよい。つまり、例えば支持体９の表面には、凹凸やピンホールなどがないことが望ましい。また、特開２０００―８４９６０号公報、特開２００２−２３４０４２号公報、特開２００２−００１７４５号公報に記載のように、支持体表面の中心線平均粗さＲａは１〜３ｎｍであり、一般的に鏡面仕上げと呼ばれている表面粗さ（Ｒａ：１〜５ｎｍ、Ｒｚ：１０〜５０ｎｍ、Ｒｙ：１０〜５０ｎｍ）の範囲内にあることが望ましい。
【００６７】
また、ＭＤ方向またはＴＤ方向の任意の場所で５０ｍｍ間隔の２点で支持体厚みを測定した際に、厚み偏差が１μｍ以下、より望ましくは０．３μｍ以下であると、製品となった光学フィルムの膜厚偏差が十分に小さくなり、光学フィルムを巻き取ってロールとして保管する際の張り付きや凸状変形をなくすことができる。
【００６８】
流延直後の支持体９の周辺において、供給されるドープの温度や、供給される乾燥風の温度は、吐出される周囲の気体の露点温度よりも高く、例えば溶媒がＡ、Ｂの２種類である場合は、（Ａ溶媒沸点×Ａ溶媒含有率＋Ｂ溶媒沸点×Ｂ溶媒含有率）となる温度よりも低いことが望ましい。露点温度よりも低い場合は結露が発生し、フィルム表面に結露による跡が発生してしまう。また、（Ａ溶媒沸点×Ａ溶媒含有率＋Ｂ溶媒沸点×Ｂ溶媒含有率）よりも高い温度となる場合は、流延されたドープが発泡する現象が発生し、フィルムの平面性を損なう。なお、Ａ溶媒は例えば良溶媒であり、Ｂ溶媒は例えば貧溶媒である。溶媒が３種類以上の場合は（Ａ溶媒沸点×Ａ溶媒含有率＋Ｂ溶媒沸点×Ｂ溶媒含有率＋Ｃ溶媒沸点×Ｃ溶媒含有率＋Ｄ溶媒沸点×Ｄ溶媒含有率・・・）のように算出される。
【００６９】
支持体９上で、製品部となる光学フィルムが得られる支持体の幅手中央部分以外は、意図的に表面粗さを粗くしてもよい。通常は、算術平均粗さＲａ≦１０ｎｍ以下の鏡面仕上げがなされていることが望ましいが、例えば支持体の端部から３００ｍｍ程度の範囲では、一部または全部をＲａが１０μｍ程度まで粗くすることで、乾燥時に流延膜の剥離性が向上する。これは、乾燥による流延膜の収縮に対し、支持体表面の凹凸と流延膜との密着性をとりきれず、部分的に剥離することで接着面積が減ることによる。
【００７０】
特開２００５−１０４１４８号公報に記載されているように、支持体９上では、乾燥風の風速を乾燥の進み具合によって変えることが望ましい。例えば、流延部における風速を０．５ｍ／ｓｅｃ以下にすることがより望ましく、０．１ｍ／ｓｅｃ以下にすることがさらに望ましい。
【００７１】
＜剥離工程＞
支持体９上で溶媒が蒸発して形成された流延膜は、剥離位置で剥離される。剥離された流延膜は、搬送されて次工程に送られる。
【００７２】
上記した支持体上乾燥工程において、流延膜中の溶媒が蒸発するが、剥離する時点での支持体９上での流延膜の残留溶媒量は、１５〜１００質量％の範囲内とすることが好ましい。残留溶媒量の調整因子として、供給される熱量（熱風、ＩＲヒーター、マイクロ波などによる）、揮発した溶媒の除去速度（送風、凝集、吸着などによる）、乾燥時間が挙げられるが、装置、コストともに簡便な乾燥熱風が良く用いられる。乾燥熱風を用いる場合、残留溶媒量は、支持体上乾燥工程における乾燥温度および乾燥時間によって制御することが好ましい。乾燥温度および乾燥時間以外の因子は、膜表面に気体の移動による変形を発生させないための調整代が少ない場合が多いためである。ここで、流延膜の残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝（流延膜の加熱処理前質量（ｇ）−流延膜の加熱処理後質量（ｇ））／（流延膜の加熱処理後質量（ｇ））×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を１気圧に保った状態で行うことを表す。
【００７３】
残留溶媒量が１５質量％以上では、支持体９上での乾燥過程において、含有させたマット剤が厚さ方向に分布を持たず、流延膜中に均一に分散した状態になる。このため、延伸によって所望の凹凸構造ができ、製膜される光学フィルムの巻取り形状の変形を抑制しやすい。また、流延膜の乾燥時間が長くならず、生産性も向上する。一方、残留溶媒量が１００質量％以内であれば、流延膜が自己支持性を有し、流延膜の剥離不良を回避でき、流延膜の機械強度も保持できる。これにより、流延膜の剥離時の平面性が向上し、剥離張力によるツレ（しわ）や縦スジの発生を抑制できる。
【００７４】
支持体９から流延膜を剥離する際の剥離張力は、通常、１００〜２００Ｎ／ｍの範囲内であるが、特に剥離時点での強度が低い流延膜の場合、１００Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましい。その場合は、低張力でも安定して剥離できるよう、剥離助剤を添加したり、剥離位置にエアナイフなどを設置することもできる。
【００７５】
支持体９の剥離位置における膜温度は、０〜４０℃の範囲内とするのが好ましく、５〜３０℃の範囲内がより好ましく、１０〜２５℃の範囲内とするのが最も好ましい。
【００７６】
＜乾燥／延伸工程＞
剥離工程にて支持体９から剥離された流延膜は、その後、乾燥工程にて乾燥される。乾燥は、テンター１０での延伸の前後で行われてもよい。つまり、乾燥工程は、延伸前の予備乾燥工程（第１乾燥工程）と、延伸後の本乾燥工程（第２乾燥工程）とに分けて行うことができる。
【００７７】
（予備乾燥工程）
支持体９から剥離された流延膜は、第１乾燥装置（図示せず）にて予備乾燥される。第１乾燥装置では、上下に配置した多数のロールにより流延膜を搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のように流延膜の両端部をクリップまたはピンなどの把持装置で固定し、流延膜を搬送しながら乾燥させてもよい。
【００７８】
複数のロールによって流延膜を搬送しつつ乾燥させる場合、搬送する流延膜の幅よりもロール間距離が狭いことが望ましく、より望ましくは１ｍ以内とすることである。ロール間距離を短くすることで、搬送中のシワや、カールといった折れ込みを改善できる。
【００７９】
また、ロール本数が増えるほど、ロールを回転させるための抵抗が増え、流延膜を搬送するために張力を上げるか、制御用の駆動装置を増設しなければならず、また、ロールの傷などが転写して製品中に入る可能性が上がる。このため、ロールの本数は少ないほど望ましい。結果として、ロールの本数は、１００〜１００００本であることが多く、ロール表面はＲａ≦１０ｎｍかつ、ピンホール、突起、などが存在しないことが望ましい。ロール径は、搬送時のラップ角度などによって適宜選択すればよく、１００〜３００ｍｍの範囲のものが良く用いられる。
【００８０】
流延膜を乾燥させる手段としては、特に制限がなく、一般的に、熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風を用いることが好ましい。
【００８１】
流延膜の予備乾燥工程における乾燥温度は、好ましくは流延膜のガラス転移点−２０℃以下である。特に、３０℃以上の温度で１分以上３０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は、３０〜１２０℃の範囲内であることが望ましく、３５〜１００℃の範囲内であることがより望ましい。
【００８２】
この予備乾燥工程では、延伸時の流延膜中の残留溶媒量を調整することが好ましいが、残留溶媒量の調整は、後述の延伸工程の初期に行ってもよい。残留溶媒量は、予備乾燥工程における乾燥温度および乾燥時間によって制御することが好ましい。
【００８３】
（延伸工程）
上記流延膜は、延伸装置（テンター１０）にて、特定の残留溶媒量下で延伸処理が行われ、光学フィルムとなる。上記延伸処理により、光学フィルムのマット剤や異物を起因とした微小なクレーズの発生を抑制し、かつ、マット剤の均一な分布を促すことができる。さらに光学フィルム内の分子の配向を制御することで、目標とする面内方向の位相差値Ｒｏおよび厚さ方向の位相差値Ｒｔを得ることができる。
【００８４】
延伸工程における延伸開始時の残留溶媒量は、１０質量％以上であることが望ましく、１５〜１００質量％の範囲内であることがより望ましい。残留溶媒量が１００質量％を超える場合、把持部分の強度が不足する場合がある。
【００８５】
延伸工程では、ＭＤ方向および／またはＴＤ方向に延伸することができる。本実施形態では、上述したように、流延時にＭＤ方向の延伸を行うことから、剥離した後の延伸工程ではＴＤ方向に延伸することが、寸法安定性と機械強度を改善する点で好ましい。特に、ＥＭＤ≦ＥＴＤを満足する光学フィルムが得られるように、流延膜をＴＤ方向に延伸することにより、寸法安定性と機械強度を確実に改善することができる。
【００８６】
延伸とは、幅を広げる工程と、幅を保持して残留応力を低下させる工程とを持ち、最後に幅を縮めることにより残留応力の一部を緩和させる工程を持っていてもよい。この場合、幅を広げる前の工程（余熱工程）、幅を広げる工程（延伸工程）、広げた幅を保持する工程（保持工程）、広げた幅を狭める工程（緩和工程）の順でなされることが望ましい。また、上記各工程では、温度が同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００８７】
保持工程、緩和工程の目的である残留応力低減をより短時間で行うため、これらの工程は、延伸工程よりも温度を上げて行ってもよい。また、余熱工程は、残留溶媒を保持するために、延伸工程よりも温度を下げて行ってもよい。
【００８８】
また、残留溶媒量が１０質量％以上となる領域で延伸を行った後、位相差の調整などを目的として、さらに延伸を行ってもよい。
【００８９】
具体的には、流延剥離工程での延伸（ＭＤ延伸）および延伸工程でのＴＤ延伸（残留溶媒１０％以上）の後、さらにＭＤ方向のみ、あるいはＴＤ方向のみの延伸を行ってもよいし、二軸方向への延伸を行ってもよい。また、二軸延伸を行う場合には、同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。なお、段階的な延伸には、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことや、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも含まれる。すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である：
・ＭＤ方向に延伸→ＴＤ方向に延伸→ＭＤ方向に延伸→ＴＤ方向に延伸
・ＴＤ方向に延伸→ＴＤ方向に延伸→ＭＤ方向に延伸→ＭＤ方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。
【００９０】
延伸工程では、延伸後の膜厚が所望の範囲になるように、乾燥後のフィルムのガラス転移温度をＴｇ（℃）として、（Ｔｇ−５０）〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度範囲で延伸することが好ましい。上記温度範囲で延伸すると、位相差の調整がしやすく、また、延伸応力を低減できるので、ヘイズが低くなる。また、光学フィルムの破断の発生が抑制され、平面性および着色性に優れた光学フィルムが得られる。なお、残留溶媒量が多いほど、見かけのＴｇが低下するため、低温側で延伸することが好ましい。
【００９１】
なお、ここでいうガラス転移温度Ｔｇとは、市販の示差走査熱量測定器を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従って求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。具体的な光学フィルムのガラス転移温度Ｔｇの測定は、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従って、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて行うことができる。
【００９２】
延伸工程では、流延時に延伸（ＭＤ延伸）したのちに、膜をＴＤ方向に、元幅に対して１０１〜２００％の範囲内の延伸倍率で延伸することが好ましく、１１０〜１４０％の範囲内の延伸倍率で延伸することがより好ましい。上記範囲内であれば、高倍率な延伸による製品フィルム表面あるいは内部の微小なクレーズの発生を抑制することができる。また、特に、組成に位相差上昇剤を含む場合は、所望の位相差値が得られるばかりではなく、光学フィルムを薄膜化できる。なお、上記の延伸倍率とは、延伸前の光学フィルムの長手又は幅手の長さに対して、延伸後の光学フィルムの長手又は幅手の長さの比率（％）をいう。
【００９３】
なお、ＴＤ延伸後にＭＤ延伸を行う場合、ＭＤ延伸の手法は特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向（ＭＤ方向）に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。勿論、これらの方法は、組み合わせて用いてもよい。
【００９４】
延伸工程において、光学フィルムをＴＤ方向に延伸する方法としては、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているように、クリップまたはピンで光学フィルムの幅手両端を固定し、クリップまたはピンの幅手間隔を広げて延伸する方法がある（テンター方式）。クリップを用いる方式は、クリップテンター方式と呼ばれ、ピンを用いる方式は、ピンテンター方式と呼ばれる。
【００９５】
ＴＤ方向の延伸に際し、ＴＤ方向に１００〜５００％／ｍｉｎの延伸速度で延伸することが、光学フィルムの平面性が向上する観点から、好ましい。
【００９６】
延伸速度が１００％／ｍｉｎ以上であれば、低倍率であってもクラックの形成が抑制され、平面性が向上し、また光学フィルムを高速で処理することができるため、生産適性の観点で好ましい。延伸速度が５００％／ｍｉｎ以内であれば、光学フィルムを破断させることなく処理することができる点で、好ましい。
【００９７】
好ましい延伸速度は、１５０〜３００％／ｍｉｎの範囲内であり、低倍率の延伸時に有効である。なお、延伸速度は、下記式によって定義される。
延伸速度（％／ｍｉｎ）＝［（ｄ１／ｄ２）−１］×１００（％）／ｔ
ただし、ｄ１は延伸後の光学フィルムの延伸方向の幅寸法（ｍｍ）であり、ｄ２は延伸前の光学フィルムの延伸方向の幅寸法（ｍｍ）であり、ｔは延伸に要する時間（ｍｉｎ）である。
【００９８】
本実施形態の光学フィルムは、位相差上昇剤、あるいは位相差低減剤を含有し、かつ延伸することにより、面内方向の位相差値Ｒｏが０〜６００ｎｍの範囲内であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔが０〜６００ｎｍの範囲内で所望の位相差値を有することもできる。面内方向の位相差値Ｒｏ、厚さ方向の位相差値Ｒｔは、自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから算出することができる。
【００９９】
本実施形態の光学フィルムは、下記式（ｉ）及び（ii）で表される、光学フィルムの面内方向の位相差値Ｒｏが４０〜６０ｎｍの範囲内であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔが１１０〜１４０ｎｍの範囲内であることが、ＶＡ型液晶表示装置に具備された場合に、視野角やコントラスト等の視認性を向上する観点から好ましい。光学フィルムは、少なくともＴＤ方向に延伸倍率を調整しながら延伸することで、上記位相差値の範囲内に調整することができる。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
【０１００】
（本乾燥工程）
本乾燥工程では、第２乾燥装置としての乾燥装置１１によって、延伸後の光学フィルムを加熱して乾燥させる。熱風等により光学フィルムを加熱する場合、使用済みの熱風（溶媒を含んだエアや濡れ込みエア）を排気できるノズルを設置して、使用済み熱風の混入を防ぐ手段も好ましく用いられる。熱風温度は、４０℃以上で（Ｔｇ＋２０）℃以下の範囲がより好ましい。また、乾燥時間は５秒〜６０分程度が好ましく、１０秒〜３０分がより好ましい。
【０１０１】
乾燥工程においては、残留溶媒量が０．１質量％以下になるまで、光学フィルムを短時間で乾燥させることが、生産性向上の観点から好ましい。また、（Ｔｇ＋２０）℃よりも高温での乾燥は、光学フィルムが柔らかくなりすぎて、搬送手段（例えば搬送ローラ）に張り付いてしまうため、望ましくない。
【０１０２】
また、乾燥工程で用いる加熱乾燥手段は、熱風に制限されず、例えば、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、千鳥状に配置した搬送ローラーでフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。
【０１０３】
また、乾燥中の搬送張力は、光学フィルムの伸縮が起きない張力にすることが望ましく、搬送時のシワ、折れ込みが起きにくいように２０Ｎ／ｍ〜１２０Ｎ／ｍの範囲で設定することが望ましい。
【０１０４】
＜スリット工程＞
テンター１０での延伸後、把持部分に起きる変形や流延時の端部に起きる変形などが搬送に悪影響を及ぼさないように、光学フィルムの幅手端部をスリットして取り除くスリット工程があることが望ましい。また、上記のスリットにより、後述する巻取工程において光学フィルムを巻き取ったときに、良好な巻き姿を得ることができる。
【０１０５】
特開２０１２−１９６７５０号公報に記載のように、光学フィルムの幅手端部をスリッター（例えば回転刃）で切断する際に、発生する微細な破片が製品に混入し、異物として問題となるため、スリッターに対してノズルからエアを吹き付ける構成としてもよい。この吹き付けにより、切断時に発生する切り粉がスリッターの刃先に付着するのを低減できる。このとき、スリッターに対するエアの吹き付け角度（スリッターとノズルとのなす角度）は、１５°以上であることが望ましい。吹き付けるエアの温度は、摩擦熱による刃の温度上昇を抑えるべく、５０℃よりも低温であることが望ましい。また、切断の際のクラックにより破片が発生するため、クラックが発生しにくいようフィルムを柔らかくするための手段が切断前のフィルムに対してなされていることも望ましい。柔らかくする手段としては、加熱や溶媒による加湿膨潤などが知られており、スリットの直前になされることが望ましい。加熱の場合、フィルムＴｇ−７０℃以上Ｔｇ−３０℃の範囲で行うと、加熱による変形が発生しにくく、十分な軟化により破片の発生が抑制できる。
【０１０６】
＜巻取工程＞
（ナーリング加工）
両端がスリットされた光学フィルムを巻き取る前に、巻き取ったフィルムのブロッキングやブラックバンドの発生を抑えるために、幅手両端部にナーリング加工（凹凸加工）をすることが好ましい。
【０１０７】
ナーリング加工は、加熱されたエンボスローラーをフィルム幅手端部に押し当てることにより形成することができる。エンボスローラーの表面には、細かな凹凸が形成されており、これを光学フィルムに押し当てることで、光学フィルムの両端部に凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。その際に、エンボスローラーの温度により凹凸の形状が変化するため、温度が変化しないよう十分な熱量を持つことが望ましく、搬送速度にもよるが、エンボスローラーの直径は、１００ｍｍ以上であることが望ましい。また、用いられる温度が１００℃以上であるため、フィルムと接触しない個所にエンボスローラーの余熱装置があることが望ましい。光学フィルムにおいて凹凸が形成された領域の高さは、２〜１０μｍであることが望ましく、上記領域の幅は、５〜２０ｍｍであることが好ましい。また、凸部、凹部の境界が直線状ではなく、曲面状になっていることで、穴あき、ヒゲの発生が抑制され望ましい。
【０１０８】
上記のナーリング加工は、光学フィルムの製膜において乾燥工程の終了後、巻取工程の前で行うことが好ましい。また、特許第３９４７３９４号公報に記載されているように、延伸工程の後でナーリング加工を行うことも、搬送によるスリップ傷や付着異物の跡転写を改善できるため、望ましい。
【０１０９】
（巻取工程）
上記のナーリング加工の後、巻取装置１２にて光学フィルムがロール状に巻き取られる巻取工程が行われる。巻取工程では、光学フィルム中の残留溶媒量が０．１質量％以下となってから光学フィルムが巻き取られる。残留溶媒量を好ましくは０．０５質量％以下にすることにより、寸法安定性の良好な光学フィルムを得ることができる。その際に、光学フィルム中の含水量を飽和含水量の５０〜８０％としておくことが、保管時に周囲の水分による影響を受けづらくすることができる点で望ましい。
【０１１０】
巻取装置１２での巻き取り方法は、一般に使用されている方法を用いればよい。例えば、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。
【０１１１】
生産速度（フィルム搬送速度）が３０ｍ／ｍｉｎを超える場合は、光学フィルムの搬送に伴う同伴風の除去が大きな課題となる。この同伴風の除去のため、タッチロールやエアタッチなどを用いて同伴風を除去しながら巻き取ることが望ましい。
【０１１２】
〔光学フィルムの物性〕
＜弾性率＞
ＪＩＳ（Ｊａｐａｎｅｓｅ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ；日本工業標準調査会）の規格の一つである、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７（１９９９）に準拠して、ＭＤ方向及びＴＤ方向について弾性率（機械強度）の測定を行うことができる。具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、試料フィルムを１４０ｍｍ（測定方向）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、２２℃５５％ＲＨで２４時間調湿後、測定長１００ｍｍ、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎで試料フィルムをＭＤ方向またはＴＤ方向に引っ張った際の０．０５％〜０．２５％伸びでの傾きより、ＭＤ方向の機械強度ＥＭＤまたはＴＤ方向の機械強度ＥＴＤを算出することができる。
【０１１３】
＜平面性＞
光学フィルムの平面性に関しては、厚みムラの問題が大きく、特にＴＤ方向に連続しているような厚みムラは目立つため問題が大きい。厚みムラは、点光源投影法を用いて評価することができる。具体的には、暗室内で、市販されている点光源（浜松ホトニクス株式会社製キセノンランプ、ＵＳＨＩＯ製キセノンランプ、セリック株式会社製ＭＰ１６０など）の光線軸に対して４５°の角をなすように、フィルムを光源から２００〜３００ｍｍ離した位置に設置し、フィルムから１０００〜２０００ｍｍ離れた光線軸と直交する投影面に投影された明暗の目視確認により、フィルムの厚みムラを判断することができる。
【０１１４】
＜フィルム長、幅、膜厚＞
本実施形態の光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、光学フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．３ｍ以上であり、特に１．３〜４ｍであることが好ましい。
【０１１５】
光学フィルムの膜厚は、表示装置の薄型化、生産性の観点から、５〜３０μｍの範囲内であることが好ましい。より好ましくは１０〜２０μｍの範囲内である。膜厚が５μｍ以上であれば、一定以上のフィルム強度を持たせることができる。膜厚が３０μｍ以下であれば、表示装置の薄型化に適用できる。
【０１１６】
〔光学フィルムの材料〕
（セルロースアシレートについて）
本実施形態に係るセルロースアシレートフィルムは、セルロールアシレートを主成分として含有する。例えば、本実施形態に係るセルロースアシレートフィルムは、フィルムの全質量（１００質量％）に対して、セルロースアシレートを好ましくは６０〜１００質量％の範囲で含む。また、セルロースアシレートの総アシル基置換度は、２．０以上３．０未満であり、２．２〜２．７であることがより好ましい。
【０１１７】
セルロースアシレートとしては、セルロースと、炭素数２〜２２程度の脂肪族カルボン酸および／または芳香族カルボン酸とのエステルが挙げられ、特に、セルロースと炭素数が６以下の低級脂肪酸とのエステルであることが好ましい。
【０１１８】
セルロースの水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐していてもよく、また環を形成してもよい。さらに別の置換基が置換してもよい。同じ置換度である場合、上述した炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数２〜６のアシル基の中で選択することが好ましく、プロピオニル置換度およびブチリル置換度の総和は０以上３．０未満である。前記セルロースアシレートとしての炭素数が２〜４であることが好ましく、炭素数が２〜３であることがより好ましい。
【０１１９】
具体的には、セルロースアシレートとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートまたはセルロースアセテートフタレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基、ブチレート基またはフタリル基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを用いることができる。なお、ブチレートを形成するブチリル基は、直鎖であっても分岐していてもよい。
【０１２０】
本実施形態においては、セルロースアシレートとして、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートが特に好ましく用いられる。
【０１２１】
また、目的に叶う光学特性を得るために、置換度の異なる樹脂を混合して用いてもよい。その際の混合比としては、１：９９〜９９：１（質量比）が好ましい。
【０１２２】
上述した中でも、特にセルロースアセテートプロピオネートが、セルロースアシレートとして好ましく用いられる。セルロースアセテートプロピオネートでは、０＜Ｙ≦２．５であり、かつ、０．５≦Ｘ≦３．０である（ただし、２．０≦Ｘ＋Ｙ＜３．０である）ことが好ましく、０．５≦Ｙ≦２．０であり、かつ、１．０≦Ｘ≦２．０である（ただし、２．０≦Ｘ＋Ｙ＜３．０である）ことがより好ましい。なお、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基の置換度を示し、Ｘ＋Ｙは総アシル基の置換度を示す。アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ（American Society for Testing and Materials；米国試験材料協会）が策定・発行する規格の一つであるＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定されうる。
【０１２３】
セルロースアシレートの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲であると、得られるフィルムの機械的強度が強くなるため、好ましい。より好ましくは、数平均分子量が７００００〜２０００００のセルロースアシレートが用いられる。
【０１２４】
セルロースアシレートの重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定される。測定条件は以下の通りである。なお、本測定方法は、本実施形態における他の重合体の測定方法としても使用することができる。
【０１２５】
溶媒：メチレンクロライド；
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工株式会社製）を３本接続して使用する；
カラム温度：２５℃；
試料濃度：０．１質量％；
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）；
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所株式会社製）；
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー株式会社製）Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【０１２６】
セルロースアシレート中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４５質量ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が４５質量ｐｐｍを超えると、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなる傾向がある。なお、残留硫酸含有量は、１〜３０質量ｐｐｍの範囲がより好ましい。残留硫酸含有量は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【０１２７】
また、セルロースアシレート中の遊離酸含有量は、１〜５００質量ｐｐｍであることが好ましい。上記の範囲であると、上記と同様に破断しにくいため、好ましい。なお、遊離酸含有量は、１〜１００質量ｐｐｍの範囲であることが好ましく、さらに破断しにくくなる。特に１〜７０質量ｐｐｍの範囲が好ましい。遊離酸含有量はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【０１２８】
合成したセルロースアシレートの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、さらに十分に行うことによって、残留アルカリ土類金属含有量、残留硫酸含有量、および残留酸含有量を上記の範囲とすることができ、好ましい。
【０１２９】
セルロースアシレートの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどが挙げられる。また、それらから得られたセルロースアシレートは、それぞれ任意の割合で混合使用されうる。
【０１３０】
セルロースアシレートは、公知の方法により製造することができる。具体的には、例えば、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。
【０１３１】
本実施形態に特に好ましいセルロースエステル系樹脂フィルムとしては、下記式（１）および（２）を満たすセルロースアシレートが挙げられる。
式（１）  ２．０≦Ｚ１＜３．０
式（２）  ０≦Ｘ＜３．０
（式（１）および（２）において、Ｚ１はセルロースアシレートの総アシル置換度を表し、Ｘはセルロースアシレートのプロピオニル置換度およびブチリル置換度の総和を表す。）
【０１３２】
＜シクロオレフィン樹脂＞
本実施形態の光学フィルムは、シクロオレフィン樹脂フィルムで構成することもできる。シクロオレフィン樹脂としては、下記一般式（Ｓ）に示す構造を有する単量体の重合体又は共重合体が挙げられる。
【０１３３】
【化１】
0006696178.tif 000002
【０１３４】
式中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は極性基（すなわち、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、若しくはシリル基）で置換された炭化水素基である。
【０１３５】
ただし、Ｒ１〜Ｒ４は、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。Ｒ１とＲ２とで、又はＲ３とＲ４とで、アルキリデン基を形成していてもよい。ｐ及びｍは０以上の整数である。
【０１３６】
上記一般式（Ｓ）中、Ｒ１及びＲ３が表す炭化水素基は、炭素数１〜１０が好ましく、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基である。
【０１３７】
Ｒ２及びＲ４が水素原子又は１価の有機基であって、Ｒ２及びＲ４の少なくとも一つは水素原子及び炭化水素基以外の極性を有する極性基を示すことが好ましく、ｍは０〜３の整数、ｐは０〜３の整数であり、より好ましくはｍ＋ｐ＝０〜４、さらに好ましくは０〜２、特に好ましくはｍ＝１、ｐ＝０である。
【０１３８】
ｍ＝１、ｐ＝０である特定単量体は、得られるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度が高く、かつ、機械強度も優れたものとなる点で好ましい。なお、ここでいうガラス転移温度とは、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１−２０１２に準拠した方法により求められる値である。
【０１３９】
上記特定単量体の極性基としては、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。
【０１４０】
また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する２価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。
【０１４１】
これらの中では、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリルオキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリルオキシカルボニル基が好ましい。
【０１４２】
さらに、Ｒ２及びＲ４の少なくとも一つが式−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲで表される極性基である単量体は、得られるシクロオレフィン樹脂が、高いガラス転移温度と低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。
【０１４３】
上記の特定の極性基にかかる式において、Ｒは炭素原子数１〜１２、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。
【０１４４】
共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィン樹脂を挙げることができる。
【０１４５】
シクロオレフィンの炭素数としては、４〜２０が好ましく、さらに好ましいのは５〜１２である。
【０１４６】
本実施形態において、シクロオレフィン樹脂は、１種単独で、又は２種以上を併用することができる。
【０１４７】
シクロオレフィン樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕ｉｎｈで０．２〜５ｃｍ３／ｇ、さらに好ましくは０．３〜３ｃｍ３／ｇ、特に好ましくは０．４〜１．５ｃｍ３／ｇであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００、さらに好ましくは１００００〜８００００、特に好ましくは１２０００〜５００００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２００００〜３０００００、さらに好ましくは３００００〜２５００００、特に好ましくは４００００〜２０００００である。
【０１４８】
固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることにより、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本実施形態の光学フィルムの成形加工性とが良好となる。
【０１４９】
シクロオレフィン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、通常、１１０℃以上、好ましくは１１０〜３５０℃、さらに好ましくは１２０〜２５０℃、特に好ましくは１２０〜２２０℃である。Ｔｇが１１０℃以上の場合が、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工により変形が起こりにくいため、好ましい。
【０１５０】
一方、Ｔｇが３５０℃以下とすることで、成形加工が困難になる場合を回避し、成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性を低くすることができる。
【０１５１】
シクロオレフィン樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば特開平９−２２１５７７号公報、特開平１０−２８７７３２号公報に記載されている、特定の炭化水素系樹脂、又は公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子などを配合してもよく、特定の波長分散剤、糖エステル化合物、酸化防止剤、剥離促進剤、ゴム粒子、可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでもよい。
【０１５２】
また、シクロオレフィン樹脂としては、市販品を好ましく用いることができる。市販品の例としては、ＪＳＲ（株）からアートン（ＡＲＴＯＮ：登録商標）Ｇ、アートンＦ、アートンＲ、及びアートンＲＸという商品名で発売されている。また、日本ゼオン（株）からゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ：登録商標）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ：登録商標）２５０又はゼオネックス２８０という商品名で市販されており、これらを使用することができる。
【０１５３】
＜紫外線吸収剤＞
本実施形態の光学フィルムは、偏光板や液晶表示装置に照射される不要な紫外線を遮蔽するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【０１５４】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【０１５５】
本実施形態の光学フィルムを、光学補償フィルムのほかに、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。
【０１５６】
紫外線吸収剤の添加量は、高分子組成物に対して０．１〜５．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．５〜５．０質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１５７】
本実施形態の光学フィルムに有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１５８】
また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）を好ましく使用できる。
【０１５９】
＜マット剤＞
本実施形態の光学フィルムには、製膜時にフィルム表面に凹凸を付与し、すべり性を確保し、安定な巻取り形状を達成するためにマット剤を含有させることが望ましい。マット剤を含有することにより、作製された光学フィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化するのを抑制することもできる。
【０１６０】
マット剤としては、無機化合物の微粒子や樹脂の微粒子が挙げられる。無機化合物の微粒子の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。
【０１６１】
微粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの範囲内の二次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径８０〜４００ｎｍの範囲内の粒子であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
【０１６２】
光学フィルム中のこれらの微粒子の含有量は、０．０１〜３．０質量％の範囲内であることが好ましく、特に０．０１〜２．０質量％の範囲内であることが好ましい。光学フィルムが、共流延法による多層構成の場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
【０１６３】
二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１６４】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１６５】
樹脂の微粒子の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましい。例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、これらを使用することができる。
【０１６６】
これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ８１２が、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため、特に好ましく用いられる。
【０１６７】
本実施形態の光学フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０の範囲内であることが好ましい。
【０１６８】
＜位相差上昇剤＞
位相差上昇剤とは、光学フィルムに添加されることによって、光学フィルムの厚さ方向の位相差値Ｒｔを上昇させる機能を有する化合物である。例えば、樹脂１００質量部に対して化合物を３質量部添加した光学フィルムの厚さ方向の位相差値Ｒｔ（光波長５９０ｎｍ測定）が、化合物未添加の光学フィルムと比べて１．１倍以上の値を示すとき、上記化合物は位相差上昇剤として機能していると言える。
【０１６９】
位相差上昇剤は、特に制限されるものではなく、例えば従来知られている、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔０１４３〕〜〔０１７９〕に記載の芳香族環を有する円盤状化合物（１，３，５−トリアジン系化合物等）、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔０１０６〕〜〔０１１２〕記載の棒状化合物、特開２０１２−２１４６８２号公報段落〔０１１８〕〜〔０１３３〕記載のピリミジン系化合物等を用いることができる。
【０１７０】
位相差上昇剤に求められる特性としては、樹脂との相溶性に優れること、光学フィルムを薄膜化したときに位相差発現性に優れること、また耐析出性に優れること、高湿度下において水分の出入りに伴う位相差値変動耐性に優れることなどが挙げられる。このような観点から位相差上昇剤を適切に選択することが好ましい。
【０１７１】
その中でも、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有するものが特に好ましい。
【化２】
0006696178.tif 000003
【０１７２】
以下、一般式（Ａ）について詳細に説明する。一般式（Ａ）において、Ｌ１およびＬ２は各々独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｌ１およびＬ２としては、例えば、下記構造が挙げられる。（下記Ｒは水素原子または置換基を表す。）
【０１７３】
【化３】
0006696178.tif 000004
【０１７４】
Ｌ１およびＬ２として、好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【０１７５】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に置換基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３で表わされる置換基の具体例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基（２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等）が挙げられる。
【０１７６】
Ｒ１およびＲ２としては、好ましくは、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のシクロヘキシル基であり、より好ましくは、置換基を有するフェニル基、置換基を有するシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、４位に置換基を有するフェニル基、４位に置換基を有するシクロヘキシル基である。
【０１７７】
Ｒ３として、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【０１７８】
ＷａおよびＷｂは水素原子または置換基を表すが、
（Ｉ）ＷａおよびＷｂが互いに結合して環を形成してもよく、
（II）ＷａおよびＷｂの少なくとも一つが環構造を有してもよく、または
（III）ＷａおよびＷｂの少なくとも一つがアルケニル基またはアルキニル基であってもよい。
【０１７９】
ＷａおよびＷｂで表わされる置換基の具体例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基（２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等）が挙げられる。
【０１８０】
上記の置換基は、更に上記の基で置換されていてもよい。
【０１８１】
（Ｉ）ＷａおよびＷｂが互いに結合して環を形成する場合、その環は、含窒素５員環または含硫黄５員環であることが好ましい。また、一般式（Ａ）は、下記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物であることが特に好ましい。
【０１８２】
【化４】
0006696178.tif 000005
【０１８３】
一般式（１）において、Ａ１およびＡ２は各々独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲｘ−（Ｒｘは水素原子または置換基を表す）または−ＣＯ−を表す。Ｒｘで表される置換基の例は、上記ＷａおよびＷｂで表わされる置換基の具体例と同義である。Ｒｘとして、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。
【０１８４】
一般式（１）において、Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。Ｘとしては、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲｃ、＝Ｃ（Ｒｄ）Ｒｅが好ましい。ここでＲｃ、Ｒｄ、Ｒｅは置換基を表し、例としては上記ＷａおよびＷｂで表わされる置換基の具体例と同義である。Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎは、一般式（Ａ）におけるＬ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎと同義である。
【０１８５】
【化５】
0006696178.tif 000006
【０１８６】
一般式（２）において、Ｑ１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲｙ−（Ｒｙは水素原子または置換基を表す）、−ＣＲａＲｂ−（ＲａおよびＲｂは水素原子または置換基を表す）または−ＣＯ−を表す。ここで、Ｒｙ、Ｒａ、Ｒｂは置換基を表し、例としては上記ＷａおよびＷｂで表わされる置換基の具体例と同義である。
【０１８７】
Ｙは置換基を表す。Ｙで表わされる置換基の例としては、上記ＷａおよびＷｂで表される置換基の具体例と同義である。Ｙとして、好ましくは、アリール基、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル基である。
【０１８８】
Ｙで表わされるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
【０１８９】
ヘテロ環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含むヘテロ環基が挙げられ、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基が好ましい。
【０１９０】
これらのアリール基またはヘテロ環基は、少なくとも一つの置換基を有していてもよい。この置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。
【０１９１】
Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎは、一般式（Ａ）におけるＬ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎと同義である。
【０１９２】
（II）一般式（Ａ）において、ＷａおよびＷｂの少なくとも一つが環構造を有する場合の具体例としては、好ましくは、下記一般式（３）である。
【０１９３】
【化６】
0006696178.tif 000007
【０１９４】
一般式（３）において、Ｑ３は＝Ｎ−または＝ＣＲｚ−（Ｒｚは水素原子または置換基）を表し、Ｑ４は第１４〜１６族の非金属原子を表す。ＺはＱ３およびＱ４と共に環を形成する非金属原子群を表す。
【０１９５】
Ｑ３、Ｑ４およびＺから形成される環は、更に別の環で縮環していてもよい。Ｑ３、Ｑ４およびＺから形成される環は、ベンゼン環で縮環した含窒素５員環または６員環であることが好ましい。
【０１９６】
Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎは、一般式（Ａ）におけるＬ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎと同義である。
【０１９７】
（III）ＷａおよびＷｂの少なくとも一つがアルケニル基またはアルキニル基である場合、それらは置換基を有するビニル基またはエチニル基であることが好ましい。
【０１９８】
上記一般式（１）、一般式（２）および一般式（３）で表される化合物のうち、特に、一般式（３）で表される化合物が好ましい。
【０１９９】
一般式（３）で表される化合物は、一般式（１）で表される化合物に比べて耐熱性および耐光性に優れており、一般式（２）で表される化合物に比べ、有機溶媒に対する溶解性やポリマーとの相溶性が良好である。
【０２００】
一般式（Ａ）で表される化合物は、所望の波長分散性、および滲み防止性を付与するのに適宜量を調整して含有することができるが、添加量としてはセルロース誘導体に対して、１〜１５質量％含むことが好ましく、特には、２〜１０質量％含むことが好ましい。この範囲内であれば、上記セルロース誘導体に十分な波長分散性、および滲み防止性を付与することができる。
【０２０１】
なお、一般式（Ａ）、一般式（１）、一般式（２）および一般式（３）で表わされる化合物は、既知の方法を参照して得ることができる。具体的には、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ（１９９７）；２７（９）；５１２−５２６）、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２００８−１０７７６７号公報等を参照して合成することができる。
【０２０２】
＜その他の添加剤＞
本実施形態の光学フィルムは、紫外線吸収剤、マット剤、位相差上昇剤等の添加剤以外に位相差低減剤、可塑剤、酸化防止剤、光安定剤、帯電防止剤、剥離剤、増粘剤などを含んでもよい。以下に主要な添加剤の詳細を記す。
【０２０３】
（可塑剤）
光学フィルムに添加する可塑剤として、ポリエステル樹脂を用いることができる。ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸とジオールを重合することにより得られ、ジカルボン酸構成単位（ジカルボン酸に由来する構成単位）の７０％以上が芳香族ジカルボン酸に由来し、かつジオール構成単位（ジオールに由来する構成単位）の７０％以上が脂肪族ジオールに由来する。
【０２０４】
芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位の割合は７０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。脂肪族ジオールに由来する構成単位の割合は７０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。ポリエステル樹脂は、２種以上を併用してもよい。
【０２０５】
芳香族ジカルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレンジカルボン酸、４，４′−ビフェニルジカルボン酸、３，４′−ビフェニルジカルボン酸等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。
【０２０６】
ポリエステル樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲で、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸や安息香酸、プロピオン酸、酪酸等のモノカルボン酸を用いることができる。
【０２０７】
脂肪族ジオールとして、エチレングリコール、１，３−プロピレンジオール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。
【０２０８】
ポリエステル樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲で、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール等のモノアルコール類や、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類を用いることもできる。
【０２０９】
ポリエステル樹脂の製造には、公知の方法である直接エステル化法やエステル交換法を適用することができる。ポリエステル樹脂の製造時に使用する重縮合触媒としては、公知の三酸化アンチモン、五酸化アンチモン等のアンチモン化合物、酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、酢酸チタン等のチタン化合物、塩化アルミニウム等のアルミニウム化合物等が例示できるが、これらに限定されない。
【０２１０】
好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−１，４−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキレート樹脂、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−テレフタレート−４，４′−ビフェニルジカルボキシレート樹脂、ポリ−１，３−プロピレン−テレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート樹脂等がある。
【０２１１】
より好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−１，４−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂及びポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート樹脂が挙げられる。
【０２１２】
ポリエステル樹脂の固有粘度（フェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン＝６０／４０質量比混合溶媒中、２５℃で測定した値）は、０．７〜２．０ｃｍ３／ｇの範囲内が好ましく、より好ましくは０．８〜１．５ｃｍ３／ｇの範囲内である。固有粘度が０．７ｃｍ３／ｇ以上であると、ポリエステル樹脂の分子量が充分に高いために、これを使用して得られるポリエステル樹脂組成物からなる成形物が、成形物として必要な機械的性質を有するとともに、透明性が良好となる。固有粘度が２．０ｃｍ３／ｇ以下の場合、成形性が良好となる。他の可塑剤としては、特開２０１３−９７２７９号公報の段落〔００５６〕〜〔００８０〕の一般式（ＰＥＩ）及び一般式（ＰＥII）に記載の化合物を用いてよい。
【０２１３】
（酸化防止剤）
酸化防止剤は、例えば、光学フィルム中の残留溶媒のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により、光学フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、光学フィルム中に含有させることが好ましい。
【０２１４】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等を挙げることができる。
【０２１５】
特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【０２１６】
〔偏光板〕
偏光板は、偏光子の両側に偏光板保護フィルムを配置することによって形成できる。また、偏光子の片側には偏光板保護フィルムを配置し、他の片側には位相差フィルムを配置することによっても形成できる。本実施形態の光学フィルムは、偏光板保護フィルムおよび位相差フィルムのいずれとしても使用することができる。例えば、液晶セルに対して視認側に配置される偏光板において、偏光子の視認側の偏光板保護フィルムとして、本実施形態の光学フィルムを使用することができる。
【０２１７】
＜偏光子＞
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
【０２１８】
偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか、又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。
【０２１９】
偏光子の膜厚は、５〜３０μｍの範囲内が好ましく、５〜１５μｍの範囲内であることがより好ましい。
【０２２０】
ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開２０１１−１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で偏光子を作製し、本実施形態の光学フィルムと貼り合わせて偏光板を作製してもよい。
【０２２１】
＜接着剤＞
本実施形態の光学フィルムは、偏光子と接着剤で接着される。上記の接着剤としては、水糊又は活性エネルギー線硬化性接着剤を用いることができる。活性エネルギー線硬化性接着剤は、紫外線硬化型接着剤であることが好ましい。
【０２２２】
（水糊）
上記の水糊としては、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いることができる。本実施形態の光学フィルムを、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光子に貼り合わせ、もう一方の面に他の偏光板保護フィルムを貼合することによって偏光板が得られる。本実施形態の光学フィルムは、液晶表示装置において、偏光子に対して液晶セル側に設けられてもよいし、視認側（液晶セルとは反対側）に設けられてもよい。また、本実施形態の光学フィルムと従来の偏光板保護フィルムとを偏光子を挟んでそれぞれの表面に貼り合わせて偏光板を構成してもよい。
【０２２３】
上記従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ８ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＣＴ１、ＫＣ２ＣＴ１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ（株）製）が好ましく用いられる。
【０２２４】
（活性エネルギー線硬化性接着剤）
偏光板は、本実施形態の光学フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化性接着剤によって貼合されて構成されていてもよい。本実施形態の光学フィルムは、延伸によるフィルム表面の微少なクレーズの発生が抑制されていることから、当該箇所の機械強度が高く、活性エネルギー線硬化性接着剤で接着した後に当該箇所からの剥がれが改善される。
【０２２５】
活性エネルギー線硬化性接着剤は、下記紫外線硬化型接着剤（以下、ＵＶ糊ともいう。）を用いることが好ましい。光学フィルムと偏光子との貼合にＵＶ糊を適用することにより、薄膜でも強度が高く、平面性に優れた偏光板を得ることができる。
【０２２６】
〈ＵＶ糊の組成〉
偏光板用のＵＶ糊組成物としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物が知られている。
【０２２７】
光ラジカル重合型組成物としては、特開２００８−００９３２９号公報に記載のヒドロキシ基やカルボキシ基等の極性基を含有するラジカル重合性化合物及び極性基を含有しないラジカル重合性化合物を特定割合で含む組成物等が知られている。特に、ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の好ましい例には、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が含まれる。（メタ）アクリロイル基を有する化合物の例には、Ｎ置換（メタ）アクリルアミド系化合物、（メタ）アクリレート系化合物などが含まれる。（メタ）アクリルアミドは、アクリアミド又はメタクリアミドを意味する。
【０２２８】
また、光カチオン重合型組成物としては、特開２０１１−０２８２３４号公報に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する紫外線硬化型接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外のＵＶ糊が用いられてもよい。
【０２２９】
〈ＵＶ糊を用いた貼合〉
（ａ）前処理工程
前処理工程は、光学フィルムの偏光子との接着面に易接着処理を行う工程である。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
【０２３０】
（ｂ）ＵＶ糊の塗布工程
ＵＶ糊の塗布工程としては、偏光子と光学フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記ＵＶ糊を塗布する。偏光子又は光学フィルムの表面に直接、ＵＶ糊を塗布する場合、その塗布方法に特段の限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の湿式塗布方式が利用できる。また、偏光子と光学フィルムの間に、ＵＶ糊を流延させたのち、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
【０２３１】
（ｃ）貼合工程
上記の方法によりＵＶ糊を塗布した後は、貼合工程で処理される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面にＵＶ糊を塗布した場合、そこに光学フィルムが重ね合わされる。また、始めに光学フィルムの表面にＵＶ糊を塗布する方式の場合には、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と光学フィルムとの間にＵＶ糊を流延させた場合は、その状態で偏光子と光学フィルムとが重ね合わされる。そして、通常は、この状態で両面の光学フィルム側から加圧ローラー等で挟んで加圧することになる。加圧ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置される加圧ローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
【０２３２】
（ｄ）硬化工程
硬化工程では、未硬化のＵＶ糊に紫外線を照射して、カチオン重合性化合物（例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物）やラジカル重合性化合物（例えば、アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物等）を含むＵＶ糊層を硬化させ、ＵＶ糊を介して重ね合わせた偏光子と光学フィルムとを接着させる。偏光子の片面に光学フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は光学フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に光学フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれＵＶ糊を介して光学フィルムを重ね合わせた状態で、紫外線を照射し、両面のＵＶ糊を同時に硬化させるのが有利である。
【０２３３】
紫外線の照射条件は、ＵＶ糊を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は、積算光量で５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることが好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であるのがさらに好ましい。
【０２３４】
偏光板の製造工程を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎの範囲、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎの範囲、さらに好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎの範囲である。ライン速度が１ｍ／ｍｉｎ以上であれば、生産性を確保することができ、又は光学フィルムへのダメージを抑制することができ、耐久性に優れた偏光板を作製することができる。また、ライン速度が５００ｍ／ｍｉｎ以下であれば、ＵＶ糊の硬化が十分となり、目的とする硬度を備え、接着性に優れたＵＶ糊層を形成することができる。
【０２３５】
＜他の偏光板保護フィルム＞
本実施形態の光学フィルムは、他の偏光板保護フィルムとともに用いられて偏光板を構成することもできる。上記他の偏光板保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルム、脂環式ポリオレフィン（例えば日本ゼオン株式会社製、ゼオノア（登録商標）、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、シクロオレフィンコポリマー、ポリイミド（例えば三菱ガス化学株式会社製、ネオプリム（登録商標））、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、アクリロイル化合物等の樹脂フィルムが挙げられる。これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムが保護フィルムとして好ましく用いられる。
【０２３６】
上記他の偏光板保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜７０μｍの範囲内である。
【０２３７】
〔液晶表示装置〕
本実施形態の光学フィルムを偏光子に貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることにより、種々の視認性に優れた液晶表示装置を実現することができる。
【０２３８】
前述の偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくは、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）型の液晶表示装置及びＩＰＳ型の液晶表示装置である。
【０２３９】
液晶表示装置には、通常、視認側の偏光板とバックライト側の偏光板との２枚の偏光板が用いられる。本実施形態の光学フィルムを具備した偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。特に本実施形態の光学フィルムを具備した偏光板は、外部環境に直接触れる視認側の偏光板として用いることが好ましい。その際に、本実施形態の光学フィルムが光学補償フィルムである場合は、上記光学フィルムは偏光子に対して液晶セル側に配置されることが好ましい。
【０２４０】
また、バックライト側の偏光板は、本実施形態の偏光板以外の偏光板を用いることもできる。その場合、偏光子の両面に、例えば市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＣＴ１、ＫＣ２ＣＴ１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ８ＵＡ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ（株）製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上富士フィルム（株）製等）を貼合した偏光板が好ましく用いられる。
【０２４１】
また、バックライト側の偏光板として、偏光子の液晶セル側に本実施形態の光学フィルムを用い、反対側の面に上記市販の保護フィルムや位相差フィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、又はポリカーボネートフィルムを貼合した偏光板も好ましく用いることができる。
【０２４２】
本実施形態の光学フィルムを具備した偏光板を用いることで、特に画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、表示ムラなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【０２４３】
〔実施例〕
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるわけではない。なお、以下では、「部」あるいは「％」の表記を用いるが、特に断らない限り、これらは「質量部」あるいは「質量％」を表すものとする。
【０２４４】
＜光学フィルム１−１〜１−１１の作製＞
（セルロースアシレート樹脂）
まず、セルロースアシレート樹脂として、表１に示すアシル基の置換度や分子量（数平均分子量Ｍｎおよび重量平均分子量Ｍｗ）を有する、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）を用意した。なお、表１中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基の置換度を示し、Ｘ＋Ｙは総アシル基の置換度を示す。
【０２４５】
【表１】
0006696178.tif 000008
【０２４６】
（微粒子添加液の調製）
次に、微粒子（アエロジル  Ｒ８１２  日本アエロジル（株）製）１２質量部およびエタノール８８質量部をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。
【０２４７】
そして、溶解タンクにメチレンクロライドを５０質量部入れ、メチレンクロライドを充分に攪拌しながら上記調製した微粒子分散液の５０質量部をゆっくりと添加した。さらに、体積平均粒径が０．１μｍとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子添加液を調製した。
【０２４８】
（ドープの調製）
はじめに、加圧溶解タンクに、有機溶媒として、下記に示す量のメチレンクロライドとエタノールとを添加した。そして、有機溶媒の入った加圧溶解タンクに、セルロースアシレート樹脂を攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープを調製した。次いで、一般式（Ａ）で表される化合物として以下の構造を示す化合物ａ、糖エステル化合物（平均置換度７．３のスクロースベンゾエート）および上記調製した微粒子添加液を以下の比率で主溶解釜に投入し、密閉した後、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。
〈ドープの組成〉
メチレンクロライド                                              ３４０質量部
エタノール                                                        ６４質量部
セルロースアセテートプロピオネート                              １００質量部
（アセチル置換度１．４、プロピオニル置換度１．０）
光学性能調整剤（一般式（Ａ）の化合物：化合物ａ）                    ３質量部
糖エステル化合物（平均置換度７．３のスクロースベンゾエート）        ５質量部
微粒子添加液                                                        ２質量部
【０２４９】
一般式（Ａ）の化合物：以下で示す化合物ａ
【化７】
0006696178.tif 000009
【０２５０】
（光学フィルムの製膜）
上記ドープを用い、溶液流延製膜法によって、膜厚５０μｍの光学フィルム１−１〜１−１１を製膜した。つまり、８０ｍ／ｍｉｎの速度で駆動するＳＵＳ３１６製の厚み２ｍｍからなる支持体上に、流延ダイからドープを流延してＭＤ延伸（第１延伸）を行い、支持体上でドープを乾燥させて流延膜を形成した後、支持体の移動によって搬送される上記流延膜を、支持体から剥離した（流延剥離工程）。その後、剥離した流延膜をＴＤ方向に延伸（第２延伸）して光学フィルムを得た（延伸工程）。
【０２５１】
なお、流延時の延伸（第１延伸）および剥離後の延伸（第２延伸）における各条件（残留溶媒量、延伸倍率、温度、機械強度ＥＭＤ・ＥＴＤ）については、表２に記載の通りである。なお、表２では、セルロースアセテートプロピオネートのことを、ＣＡＰと略記している。
【０２５２】
なお、流延時の第１延伸における延伸倍率は、ドープの吐出から支持体上への着地までの時間が５ｍｓｅｃ以下であることから、溶媒の揮発がほぼないものとみなし、
第１延伸の延伸倍率（％）＝（ドープ吐出時の膜厚（μｍ）／着地時のドープの膜厚（μｍ））×１００
として算出した。また、ドープ吐出時の膜厚（流延ダイのスリット間隔）、および支持体上に着地したドープの膜厚は、ＫＥＹＥＮＣＥ製のマイクロヘッド型分光干渉レーザ変位計（型番：ＳＩ−Ｆ８０）を用いて測定した。
【０２５３】
また、支持体上へのドープの流延以降は、ＭＤ方向およびＴＤ方向ともに伸縮しないようにドープ（流延膜）を搬送するとともに乾燥させ、残留溶媒量が０．１質量％未満となった時の流延膜の膜厚と、処方上の残留溶媒量が吐出時に存在しているとして測定した吐出時の膜厚とから、支持体上の任意の膜厚時の残留溶媒量を算出した。
【０２５４】
また、第１延伸後のＭＤ方向の機械強度ＥＭＤおよびＴＤ方向の機械強度ＥＴＤの測定、および第２延伸後のＭＤ方向の機械強度ＥＭＤおよびＴＤ方向の機械強度ＥＴＤの測定は、前述した方法、すなわち、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７（１９９９）に準拠した方法によって測定した。
【０２５５】
また、光学フィルム１−１〜１−１１との比較のため、上記のドープを用いて光学フィルム１−１２を作製した。光学フィルム１−１２の作製条件は、流延時にＭＤ延伸を行わず、剥離後にＴＤ延伸を行った以外は、光学フィルム１−３の作製と同様である。なお、流延時にＭＤ延伸を行わないことから、流延初期のドープの残留溶媒量を３００質量％として、光学フィルム１−１２を作製した。
【０２５６】
＜光学フィルム２−１〜２−８の作製＞
（シクロオレフィン樹脂）
シクロオレフィン樹脂として、以下のようにして合成したクロオレフィン樹脂ＣＯＰ１を用意した。
【０２５７】
【化８】
0006696178.tif 000010
【０２５８】
（シクロオレフィン樹脂ＣＯＰ１の合成）
上記構造式で表される８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン５０ｇ、分子量調節剤の１−へキセン２．３ｇ及びトルエン１００ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．０９ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ６のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．２９ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより重合体を得た。次いで、得られた開環共重合体溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを１００ｇ加えた。水添触媒であるＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）］３をモノマー仕込み量に対して２５００ｐｐｍ添加し、水素ガス圧を９〜１０ＭＰａとし、１６０〜１６５℃にて３時間の反応を行った。反応終了後、多量のメタノール溶液に沈殿させることにより水素添加物を得た。得られた開環重合体の水素添加物であるシクロオレフィン樹脂ＣＯＰ１は、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１６７℃、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１３．５×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．０６であった。
【０２５９】
（微粒子分散液の調製）
１２質量部の微粒子（アエロジル  Ｒ９７２Ｖ、日本アエロジル（株）製）と、８８質量部のエタノールとを、ディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリーで分散し、微粒子分散液を調製した。
【０２６０】
次に、溶解タンク中で撹拌されているジクロロメタン（１００質量部）に、１００質量部の微粒子分散液を、ゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。
【０２６１】
（主ドープの調製）
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにジクロロメタン及びエタノールを添加した。ジクロロメタンの入った加圧溶解タンクに、シクロオレフィン樹脂ＣＯＰ１、微粒子添加液を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら樹脂を溶解し、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過して、主ドープを調製した。
〈主ドープの組成〉
シクロオレフィン樹脂ＣＯＰ１                                    １００質量部
ジクロロメタン                                                  ３０２質量部
エタノール                                                        １８質量部
微粒子添加液                                                      １０質量部
【０２６２】
（光学フィルムの製膜）
上記ドープを用い、溶液流延製膜法によって、表２に示す光学フィルム２−１〜２−８を製膜した。なお、支持体の移動速度等の製膜条件については、光学フィルム１−１〜１−１１の作製時と同様である。表２では、シクロオレフィン樹脂ＣＯＰ１のことを、ＣＯＰと略記している。
【０２６３】
また、光学フィルム２−１〜２−８との比較のため、上記のドープを用いて光学フィルム２−９を作製した。光学フィルム２−９の作製条件は、流延時にＭＤ延伸を行わず、剥離後にＴＤ延伸を行った以外は、光学フィルム２−１の作製と同様である。
【０２６４】
＜評価＞
（湿熱変動による寸法変動の評価）
上記で作製した光学フィルムを、２２℃５５％ＲＨで２４時間放置した後の光学フィルムのＭＤ方向の寸法Ａ（ｍｍ）およびＴＤ方向の寸法Ｂ（ｍｍ）をそれぞれ測定した。次に、上記光学フィルムを、３０℃９０％ＲＨで２４時間放置した後の光学フィルムのＭＤ方向の寸法Ａ’（ｍｍ）およびＴＤ方向の寸法Ｂ’（ｍｍ）をそれぞれ測定した。そして、以下の式に基づいて、湿熱変動による光学フィルムのＭＤ方向およびＴＤ方向の寸法変動率を算出した。
ＭＤ方向の寸法変動率（％）＝｛（Ａ−Ａ’）／Ａ｝×１００
ＴＤ方向の寸法変動率（％）＝｛（Ｂ−Ｂ’）／Ｂ｝×１００
【０２６５】
各光学フィルムのパラメータおよび寸法変動率を、表２にまとめて示す。
【表２】
0006696178.tif 000011
【０２６６】
光学フィルム１−１では、基準となる光学フィルム１−１２と寸法変動率が同等であり、寸法変動が改善されていない（寸法変動率が減少していない）。これは、第１延伸を行っても、１＜ＥＭＤ／ＥＴＤとなる延伸が行われていないため（ＭＤ方向の延伸倍率が小さいため）、第１延伸後のＭＤ方向の機械強度ＥＭＤおよびＴＤ方向の機械強度ＥＴＤが、結果的に、第１延伸を行わない光学フィルム１−１２と同じになっているためと考えられる。光学フィルム２−１についても、基準となる光学フィルム２−９から寸法変動が改善されていないのは、上記と同様の理由によるものと考えられる。
【０２６７】
また、光学フィルム１−９においても、基準となる光学フィルム１−１２と寸法変動率が同等であり、寸法変動が改善されていない。これは、以下の理由によるものと考えられる。すなわち、第１延伸後のＥＭＤ／ＥＴＤの比が１．５を超えており、ＭＤ方向の延伸倍率が高すぎるため、流延ダイから、ドープが支持体上に着地するまでの距離が長くなって、ドープ（リボン）が振動し、ＭＤ方向において膜厚のバラツキが生じる。この膜厚のバラツキが、機械強度ＥＭＤ・ＥＴＤの面内バラツキを生じさせる結果、光学フィルムの寸法変動の改善効果が得られなくなったものと考えられる。特に、光学フィルム１−９、２−６の結果より、フィルム材料（樹脂）によっては、第１延伸後のＥＭＤ／ＥＴＤの比が１．５を超えると、湿熱変動による寸法変動が大きくなると言える。
【０２６８】
また、光学フィルム１−１１においては、基準となる光学フィルム１−１２に対して、ＴＤ方向の寸法変動率が大きくなっている。これは、第２延伸後のＴＤ方向の機械強度ＥＴＤがＭＤ方向の機械強度ＥＭＤよりも小さい、つまり、ＴＤ方向の延伸倍率が小さい（ＴＤ方向の延伸が弱い）ことが原因として考えられる。光学フィルム２−８についても、基準となる光学フィルム２−９に対して、特にＴＤ方向の寸法変動が改善されていないのは、上記と同様の理由によるもの（ＴＤ方向の延伸が弱いため）と考えられる。
【０２６９】
これに対して、光学フィルム１−２〜１−８および１−１０では、第１延伸後において、１＜ＥＭＤ／ＥＴＤ＜１．５を満足しており、第２延伸後において、ＥＭＤ≦ＥＴＤを満足している結果、湿熱変動による光学フィルムの寸法変動がＭＤ方向およびＴＤ方向の両方向において改善している。この点は、光学フィルム２−２〜２−５および２−７についても同様である。
【０２７０】
したがって、流延時にＭＤ延伸を行い、支持体からの流延膜の剥離後にＴＤ延伸を行う場合において、第１延伸後に１＜ＥＭＤ／ＥＴＤ＜１．５となるようにＭＤ延伸を行い、第２延伸後にＥＭＤ≦ＥＴＤとなるようにＴＤ延伸を行うようにすることで、湿熱変動による光学フィルムのＭＤ方向およびＴＤ方向の寸法変動を抑えることができると言える。
【０２７１】
＜横段状の膜厚ムラの低減について＞
次に、上記した光学フィルム１−２、１−６、２−３、２−４の製膜において、流延ダイから支持体へのドープの流延初期の乾燥速度を変更して、ＭＤ方向の厚みムラ（横段状の膜厚ムラ）および光漏れについて調べた。その結果を表３に示す。なお、上記の乾燥速度は、乾燥により、ドープ中の残留溶媒量が流延ダイからの吐出時から任意の量まで減少するときの速度（％／ｍｉｎ）のことであるが、上記任意の量とは、ここでは、残留溶媒量が吐出時から５０％減少した量とした。すなわち、上記の乾燥速度とは、乾燥により、ドープ中の残留溶媒量が流延ダイからの吐出時（初期値）の値から５０％減少するまでの時間から求めた速度とした。例えば、ドープ中の残留溶媒量が、流延ダイからの吐出時に２００質量％であり、吐出後に残留溶媒量がその半分の１００質量％になるまでの時間が１分であった場合、乾燥速度は、（２００−１００）／１＝１００（％／ｍｉｎ）となる。
【０２７２】
【表３】
0006696178.tif 000012
【０２７３】
なお、光学フィルム１−２・２−２の製膜は、単層流延、共流延（図４参照）、濃度ｕｐ（図５参照）の３通りで行い、他の光学フィルム１−６・２−４の製膜は、共流延、濃度ｕｐの２通りで行った。このとき、共流延では、良溶媒としてのジクロロメタン（メチレンクロライド）９０質量部と、貧溶媒としてのエタノール１０質量部とを混合したものを、図４の液体Ｌ１・Ｌ２として用意し、ドープを厚み方向から液体Ｌ１・Ｌ２で挟み込むようにして支持体上に流延した。そして、送液量によって、表層が乾燥しきるまでの時間を調整した。また、濃度ｕｐの方法では、図５で示したように、液体Ｌ３としてジクロロメタンを充満させたカバーＣを支持体上に配置し、支持体周囲の溶媒濃度を上昇させてドープの吐出および流延を行った。なお、カバーＣで覆う領域のＭＤ方向の長さは、通過完了までの任意の時間に合わせて調整した。
【０２７４】
表３における横段状の厚みムラの評価は、以下のようにして行った。すなわち、製膜された光学フィルムを、点光源（浜松ホトニクス株式会社製キセノンランプ：Ｌ２２７４）の光線軸に対して４５°の角をなすように、光源から２００ｍｍ離した位置に設置し、フィルムから１０００ｍｍ離れた平滑な白色投影面に投影された明暗を目視で確認して、横段状の膜厚ムラの有無を調べた。そして、以下の基準に基づいて、横段状の厚みムラについて評価した。
《評価基準》
○・・・横段状の厚みムラは観察されなかった。
△・・・横段状の厚みムラは若干観察されたが、実使用上問題のないレベルである。
×・・・横段状の厚みムラがかなり観察され、実使用上問題のあるレベルである。
【０２７５】
また、光漏れについては、クロスニコルとなるように配置される２枚の偏光子（フィルム）の間に上記光学フィルムを挟み込んで光漏れを確認し、以下の基準に基づいて評価した。
《評価基準》
○・・・光漏れはほとんど観察されなかった。
△・・・光漏れが若干観察されたが、実使用上問題のないレベルである。
×・・・光漏れがかなり観察され、実使用上問題のあるレベルである。
【０２７６】
表３より、共流延または濃度ｕｐによる流延方法では、流延ダイからのドープの吐出後、１秒以上の間、乾燥速度が１００％／ｍｉｎ以下を保ちながらドープを支持体上に流延すると、他の場合に比べて、横段状の厚みムラおよび光漏れを抑える効果が高いことが確認された。
【０２７７】
次に、共流延によって光学フィルム１−２を製膜する際に、図４のドープＤ１を挟み込む２種の液体Ｌ１・Ｌ２の固形分の比率（濃度、固形分率）を変化させ、製膜された光学フィルムにおける横段状の膜厚ムラおよび光漏れを上記と同様の方法で評価した。その結果を表４に示す。
【０２７８】
【表４】
0006696178.tif 000013
【０２７９】
ここで、ドープＤ１に対して空気側（支持体とは反対側）の液体Ｌ１、および支持体側の液体Ｌ２の処方は、表４に示す通りである。また、固形分率は、液体全体に対する固形分の比率（％）で算出した。なお、分散希釈液（微粒子分散液）には、固形分となる微粒子が含有されている。このため、処方（３）〜（５）では、樹脂の固形分率に、処方（２）の固形分率（０．６％）が上乗せされている。
【０２８０】
表４より、固形分率が１５％を超える液体を用いて共流延を行うと、横段状の厚みムラおよび光漏れを抑える効果が小さくなっていることがわかる。これは、固形分率が１５％を超える液体では、溶媒量が少ないため、乾燥速度が遅くても、溶媒の揮発によってドープが硬くなりやすく、リボンが振動しやすくなって横段状の厚みムラが生じやすくなるためと考えられる。このため、共流延に用いる液体の固形分率は、１５％以下であることが望ましいと言える。
【０２８１】
次に、光学フィルム１−６、１−７、２−４、２−５において、横段状の厚みムラおよび光漏れを上記と同様の方法で評価した。その結果を表５に示す。
【０２８２】
【表５】
0006696178.tif 000014
【０２８３】
光学フィルム１−６および２−４では、流延時のＭＤ方向の延伸倍率が１０００％（１０倍）で延伸されている。このような延伸条件では、流延ダイからのドープの吐出後、１秒以上の間、乾燥速度が１００％／ｍｉｎ以下を保ちながらドープを支持体上に流延すると、他の場合に比べて、横段状の厚みムラおよび光漏れを抑える効果が高いことがわかる。これに対して、光学フィルム１−７および２−５では、流延時のＭＤ方向の延伸倍率が１０００％（１０倍）を超えている。このような延伸条件では、流延ダイからのドープの吐出後、１秒以上の間、乾燥速度が１００％／ｍｉｎ以下を保ちながらドープを支持体上に流延すると、他の場合に比べて、横段状の厚みムラおよび光漏れを抑える効果が低いことがわかる。これは、ＭＤ方向の延伸倍率が１０倍を超えると、流延ダイと支持体上のドープの着地地点とが長くなって、リボンが振動しやすくなるためと考えられる。また、ＭＤ方向の延伸倍率が２倍を下回ると、ＭＤ延伸が弱すぎて、ＭＤ方向の機械強度ＥＭＤを増大させることができず、光学フィルムの寸法変動を改善できないことは、表２の光学フィルム１−１、２−１の結果から明らかである。
【０２８４】
以上のことから、流延時のＭＤ方向の延伸倍率は、２倍以上１０倍以下であることが望ましいと言える。また、上記の延伸倍率は、上述したように、流延ダイにおける、ドープを吐出するスリットの隙間に対する、支持体上に着地したドープの厚みの比と同じであることから、上記スリットの隙間が、上記支持体上に着地したドープの厚みの２倍以上１０倍以下であれば、横段状の膜厚ムラおよび光漏れを抑える効果が高いと言える。なお、共流延または濃度ｕｐによる流延方法で、流延ダイからのドープの吐出後、１秒以上の間、乾燥速度が１００％／ｍｉｎ以下を保ちながらドープを支持体上に流延し、かつ、上記スリットの隙間が上記支持体上に着地したドープの厚みの２倍以上１０倍以下である製膜方法以外の製膜方法は、本発明の単なる参考例であり、本発明には属さないものである。
【０２８５】
＜樹脂の透湿度とガラス基板の反りとの関係について＞
次に、膜厚５０μｍの光学フィルム１−２、２−２を、厚さ０．３ｍｍ、一辺２００ｍｍの正方形のガラスの片面に水糊を用いて接着し、接着したフィルムを上面にして地面と水平になるよう平置きで２２℃５５％ＲＨで２４時間調湿し、ガラス端部の設置平面からの浮き上がり量をＪＩＳ１級規格の金尺によって測定し、以下の基準に基づいて評価した。その結果を表６に示す。
《評価基準》
○・・・ガラスの反り量が１ｍｍ未満である。
△・・・ガラスの反り量が１ｍｍ以上３ｍｍ未満である。
×・・・ガラスの反り量が３ｍｍ以上である。
なお、膜厚５０μｍにおいて、光学フィルム１−２を構成するセルロースアシレート樹脂の透湿度は、３００ｇ／ｍ２・ｄａｙとし、光学フィルム２−２を構成するシクロオレフィン樹脂の透湿度は、１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙとする。
【０２８６】
【表６】
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【０２８７】
表６より、光学フィルム１−２においては、ガラスの反りが３ｍｍ以上生じている。これは、セルロースアシレート樹脂の透湿度が１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙを超えており、含水による光学フィルムの寸法変動が大きいため、光学フィルムの寸法変動によってガラスに反りが生じたものと考えられる。これに対して、光学フィルム２−２においては、ガラスの反りが３ｍｍ未満である。これは、シクロオレフィン樹脂の透湿度が１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、含水による光学フィルムの寸法変動が小さいためと考えられる。
【０２８８】
以上より、光学フィルムの寸法変動によるガラスの反りを抑える観点からは、光学フィルムの透湿度は、１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが望ましいと言える。
【０２８９】
なお、光学フィルムをアクリル樹脂で構成することも可能である。アクリル樹脂の透湿度は５０ｇ／ｍ２・ｄａｙであり、１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるため、光学フィルムをアクリル樹脂で構成した場合でも、光学フィルムの寸法変動によるガラスの反りを抑えることができるものと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０２９０】
本発明は、液晶表示装置の偏光板に用いられる光学フィルムの製造に利用可能である。
【符号の説明】
【０２９１】
８      流延ダイ
９      支持体
ＥＭＤ     機械強度（ＭＤ方向）
ＥＴＤ     機械強度（ＴＤ方向）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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