(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤ材にブラスめっき処理を施すブラスめっき工程と、得られたブラスめっきワイヤ材を所定の線径まで伸線する連続湿式伸線工程と、を有するブラスめっきワイヤの製造方法において、
前記ブラスめっき工程後、前記連続湿式伸線工程前に、ケイ酸塩および界面活性剤を含有する潤滑被膜処理液で潤滑被膜を形成する潤滑被膜処理工程を有し、
前記連続湿式伸線工程前に、湯洗処理、酸化亜鉛低減処理を行わないことを特徴とするブラスめっきワイヤの製造方法。
【請求項２】
前記潤滑被膜処理液の濃度が１００〜２００ｇ／Ｌである請求項１記載のブラスめっきワイヤの製造方法。
【請求項３】
前記潤滑被膜の付着量が０．０５〜０．５ｇ／ｍ２である請求項１または２記載のブラスめっきワイヤの製造方法。
【請求項４】
前記潤滑被膜処理工程の後、乾燥工程を有する請求項１〜３のうちいずれか一項記載のブラスめっきワイヤの製造方法。
【請求項５】
連続湿式伸線装置と、該連続湿式伸線装置の入線側に、潤滑被膜処理液を貯留する潤滑被膜処理槽を有する潤滑被膜処理装置と、を備え、ブラスめっきワイヤ材が、前記潤滑被膜処理装置と前記連続湿式伸線装置とに順に通線可能であり、
前記連続湿式伸線装置前に、湯洗処理装置、酸化亜鉛低減処理装置を有さず、
前記潤滑被膜処理液が、ケイ酸塩および界面活性剤を含有することを特徴とするブラスめっきワイヤの製造装置。
【請求項６】
前記潤滑被膜処理装置と前記連続湿式伸線装置との間に、乾燥装置を備えた請求項５記載のブラスめっきワイヤの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブラスめっきワイヤの製造方法およびブラスめっきワイヤの製造装置（以下、単に「製造方法」および「製造装置」とも称す）に関し、詳しくは、従来よりも簡便に、製造コストを低減することができるブラスめっきワイヤの製造方法およびブラスめっきワイヤの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ブラスめっきワイヤは、直径約５．５ｍｍの高炭素鋼ロッドからなるワイヤ材を原材料とし、所定の中間線径まで繰り返し乾式伸線を加える乾式伸線工程と、得られたワイヤ材にパテンティング処理を加えるパテンティング処理工程と、パテンティング処理後のワイヤ材に銅、亜鉛を順次めっきし、その後熱を加えて銅−亜鉛合金（ブラス）とするブラスめっき工程と、得られたブラスめっきワイヤ材に連続湿式伸線加工を施す連続湿式伸線工程と、を経ることにより製造されている。
【０００３】
しかしながら、ブラスめっきワイヤ材は、連続湿式伸線工程における潤滑性が悪いという問題を有している。この問題は、特に連続湿式伸線工程の初期段階に顕著である。この理由としては、ブラスめっきワイヤ材の表面に凹凸が存在すること、ブラスめっき処理における熱拡散処理時に生じた酸化亜鉛が表面に存在していること、が知られている。連続湿式伸線工程において、ブラスめっきワイヤ材の潤滑性が悪いと、連続湿式伸線工程で、ブラスめっきワイヤ材の断線や連続湿式伸線に用いるダイスの寿命の低下等が生じやすくなる。したがって、ブラスめっきワイヤ材の伸線速度の向上も難しく、また、ブラスめっきワイヤ材の伸線加工に要する電力も大きくなってしまう。
【０００４】
最終伸線加工速度を向上し、ブラスめっきワイヤ材の加工工程全体の生産性を向上させるために、特許文献１では、ワイヤ材にパテンティング処理を行い、次いでワイヤ材を酸洗し、その後ブラスめっき処理を行い、さらに電解化成処理によりりん酸塩被膜を形成し、乾式伸線加工あるいは湿式伸線加工を行う、ブラスめっきワイヤ材の高速加工が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１４１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１で提案されているブラスめっきワイヤの製造方法は、ブラスめっきワイヤ材に、電解化成処理によるりん酸塩被膜を形成する工程を含んでいるため、設備および製造工程が複雑になるといった問題を有している。また、廃液処理が必要となり、製造コストが高くなってしまうため、実用上好ましくはない。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、従来よりも簡便に、製造コストを低減することができるブラスめっきワイヤの製造方法およびブラスめっきワイヤの製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解消するために鋭意検討した結果、ブラスめっきワイヤ材に所定の潤滑被膜処理液を用いて潤滑被膜処理を行うことにより、連続湿式伸線に先立つ湯洗処理、酸化亜鉛低減処理等の前処理を省くことができ、また、潤滑被膜付着量が少なくても十分な潤滑性が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明のブラスめっきワイヤの製造方法は、ワイヤ材にブラスめっき処理を施すブラスめっき工程と、得られたブラスめっきワイヤ材を所定の線径まで伸線する連続湿式伸線工程と、を有するブラスめっきワイヤの製造方法において、
前記ブラスめっき工程後、前記連続湿式伸線工程前に、ケイ酸塩および界面活性剤を含有する潤滑被膜処理液で潤滑被膜を形成する潤滑被膜処理工程を有し、
前記連続湿式伸線工程前に、湯洗処理、酸化亜鉛低減処理を行わないことを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の製造方法においては、前記潤滑被膜処理液の濃度は１００〜２００ｇ／Ｌであることが好ましく、前記潤滑被膜の付着量は０．０５〜０．５ｇ／ｍ２であることが好ましい。また、本発明の製造方法においては、前記潤滑被膜処理工程の後、乾燥工程を有することが好ましい。
【００１１】
本発明のブラスめっきワイヤの製造装置は、連続湿式伸線装置と、該連続湿式伸線装置の入線側に、潤滑被膜処理液を貯留する潤滑被膜処理槽を有する潤滑被膜処理装置と、を備え、ブラスめっきワイヤ材が、前記潤滑被膜処理装置と前記連続湿式伸線装置とに順に通線可能であり、
前記連続湿式伸線装置前に、湯洗処理装置、酸化亜鉛低減処理装置を有さず、
前記潤滑被膜処理液が、ケイ酸塩および界面活性剤を含有することを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の製造装置においては、好適には、前記潤滑被膜処理装置と前記連続湿式伸線装置との間に、乾燥装置を備える。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、従来よりも簡便に、製造コストを低減することができるブラスめっきワイヤの製造方法およびブラスめっきワイヤの製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一好適な実施の形態に係るブラスめっきワイヤの製造方法を用いたブラスめっきワイヤの製造方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
本発明のブラスめっきワイヤの製造方法は、ワイヤ材にブラスめっき処理を施すブラスめっき工程と、得られたブラスめっきワイヤ材を所定の線径まで伸線する連続湿式伸線工程と、を有する。図１は、本発明の一好適な実施の形態に係るブラスめっきワイヤの製造方法を用いたブラスめっきワイヤの製造方法のフローチャートである。図示例においては、まず、ワイヤ材に乾式伸線工程１にて乾式伸線処理を施し、次いで、パテンティング工程２で、得られたワイヤ材に対してパテンティング処理を施し、その後、ブラスめっき工程３で、ワイヤ材にブラスめっき処理を施している。本発明のブラスめっきワイヤの製造方法においては、ブラスめっき工程３後、連続湿式伸線工程６前に、ケイ酸塩および界面活性剤を含有する潤滑被膜処理液で潤滑被膜を形成する潤滑被膜処理工程４を有する。
【００１６】
ケイ酸塩および界面活性剤を含有する潤滑被膜処理液にてブラスめっきワイヤ材に潤滑被膜処理を行うことで、連続湿式伸線に先立つ湯洗処理や、酸化亜鉛低減処理等の前処理を省いても、連続湿式伸線工程６において、十分な潤滑性を得ることができる。また、本発明の潤滑被膜処理工程４は、ブラスめっきワイヤ材を潤滑被膜処理液に接触させるだけでよいため、電解化成処理のように大掛かりな設備を必要とせず、また、製造工程が複雑になるようなこともない。ブラスめっきワイヤ材を潤滑被膜処理液に接触させる方法としては、潤滑被膜処理液を貯留してある浴等にブラスめっきワイヤ材を通線して浸漬させればよいが、これに限られるものではない。これ以外にも、ブラスめっきワイヤ材に潤滑被膜処理液をスプレーする方法や、流し掛ける方法、または刷毛塗り等でもよい。
【００１７】
本発明の製造方法に係る潤滑被膜処理液中のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム等を用いることができる。
【００１８】
本発明の製造方法に係る潤滑被膜処理液中の界面活性剤としては、特に限定されず、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤および非イオン性界面活性剤よりなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい。なお、本発明の製造方法において、同種の界面活性剤または異種の界面活性剤を、複数種使用してもよい。
【００１９】
非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド、ショ糖脂肪酸エステル、高級脂肪酸アルカノールアミド等を挙げることができる。
【００２０】
アニオン性界面活性剤としては、例えば、硫酸アルキル、硫酸アルキルエーテル、硫酸アルキルアミドエーテル、硫酸アルキルアリールポリエーテル、硫酸モノグリセリド、アルキルスルホン酸、アルキルアミドスルホン酸、アルキルアリールスルホン酸、オレフィンスルホン酸、パラフィンスルホン酸、アルキルスルホコハク酸、アルキルエーテルスルホコハク酸、アルキルアミドスルホコハク酸、アルキルサクシンアミド酸、アルキルスルホ酢酸、燐酸アルキル、燐酸アルキルエーテル、アシルサルコシン、アシルイセチオン酸、アシルＮ−アシルタウリン、との金属塩、アンモニウム塩、アミン塩、アミノアルコール塩、マグネシウム塩、及び塩基性アミノ酸塩等を挙げることができる。
【００２１】
カチオン性界面活性剤としては、例えば、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化ミリスチルジメチルベンジルアンモニウム、エチル酢酸ラノリン脂肪酸アミノプロピルエチルジメチルアンモニウム、塩化ジココイルジメチルアンモニウム、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、エチル硫酸分岐脂肪酸アミノプロピルエチルジメチルアンモニウム等を挙げることができる。
【００２２】
両性界面活性剤としては、炭素数８〜２４のアルキル基、アルケニル基又はアシル基を有するアミドアミノ酸型両性界面活性剤、２級アミド型又は３級アミド型のイミダゾリン型両性界面活性剤、炭素数８〜２４のアルキル基、アルケニル基又はアシル基を有するカルボベタイン系、アミドベタイン系、スルホベタイン系、ヒドロキシスルホベタイン系、またはアミドスルホベタイン系両性界面活性剤等が挙げられる。具体的には、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ステアリルジヒドロキシエチルベタイン、ラウリルヒドロキスルホベタイン、ビス（ステアリル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリン）クロル酢酸錯体、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ココイルアミドプロピルベタイン、ココイルアルキルベタイン等を挙げることができる。
【００２３】
ケイ酸塩および界面活性剤を含む潤滑被膜処理液を用いる場合は、潤滑被膜の付着量は好適には０．０５〜０．５ｇ／ｍ２、より好適には０．１〜０．２ｇ／ｍ２である。潤滑被膜の付着量を０．０５ｇ／ｍ２以上とすることで、十分な潤滑性能を得ることができる。一方、潤滑被膜の付着量を０．５ｇ／ｍ２以下とすることで、潤滑被膜剤の劣化を防止することができ、また、コスト的にも好ましい。なお、潤滑被膜の付着量は、潤滑被膜処理液中のケイ酸塩の濃度と、ブラスめっきワイヤ材と潤滑被膜処理液との接触時間で調整することができる。例えば、ケイ酸塩が高濃度の潤滑被膜処理液の場合、接触時間を短くすればよく、一方、ケイ酸塩が低濃度の潤滑被膜処理液の場合、接触時間を長くすればよい。
【００２４】
潤滑被膜の付着量を上記範囲とするためには、本発明の製造方法に係る潤滑被膜処理液の濃度は１００〜２００ｇ／Ｌとすることが好ましい。また、潤滑被膜処理液の濃度をこの範囲とすることで、潤滑被膜処理液の分散状態を良好に保つことができる。
【００２５】
なお、本発明の製造方法においては、潤滑被膜の付着量は０．０５〜０．５ｇ／ｍ２であるが、潤滑被膜の付着量を０．３ｇ／ｍ２以下とする場合、形成された潤滑被膜にムラが生じ、潤滑性向上の効果を安定して得ることが難しい場合がある。また、潤滑被膜の付着量を低減するには、潤滑被膜処理液を水で希釈し、潤滑被膜処理液の濃度を低くすることが望ましいが、潤滑被膜処理剤のケイ酸塩の濃度を２００ｇ／Ｌ以下にすると成分の液分離が生じる場合もある。そこで、本発明の製造方法においては、潤滑被膜処理液に界面活性剤を添加している。界面活性剤の添加量は、１〜１０容量％が好ましい。界面活性剤を１〜１０容量％となるように添加することで、低濃度でも均一に分散した潤滑被膜処理液とすることができる。
【００２６】
本発明の製造方法においては、ケイ酸塩を溶解させる溶媒としては、ブラスめっきの前処理に適当な溶媒、例えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、２−プロパノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール等を用いることができ、これら溶媒は１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。なお、これら溶媒にケイ酸塩を溶解させ、ブラスめっき表面に付着させる場合、溶媒のｐＨがケイ酸塩の付着安定性に影響するが、ケイ酸塩はｐＨが９．５以上でないとゲル化して性能が発揮できないため、潤滑被膜処理液のｐＨは９．５以上とする。
【００２７】
本発明の製造方法に係る潤滑被膜処理液は、ケイ酸塩および界面活性剤を含有する潤滑被膜処理液であればよく、その他の成分については、通常の潤滑被膜処理液と同様のものを用いることができ、特に制限されるものではない。特には、油性剤、極圧添加剤等の通常の湿式潤滑液成分に加えて、銅および亜鉛を含有することが好ましい。好適には、脂肪酸、リン酸、アミン、リン酸エステル、防錆剤、防腐剤を含んだ反応型潤滑被膜処理液である。
【００２８】
本発明の製造方法に係る潤滑被膜処理液においては、炭素数１２〜２６の飽和脂肪酸と亜鉛、カルシウム、バリウム、リチウム、アルミニウムおよびマグネシウムからなる金属群から選ばれる少なくとも１種との塩と、融点が７０℃以上である天然ワックスおよび合成ワックスのうちのいずれか一方または双方と、を含むことがより好ましい。特にはさらに、硫酸塩、ホウ酸塩、モリブデン酸塩およびタングステン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００２９】
硫酸塩等としては、例えば、硫酸カリウム、硫酸ナトリウム、ホウ酸カリウム（四ホウ酸カリウム等）、ホウ酸ナトリウム（四ホウ酸ナトリウム）、ホウ酸アンモニウム（四ホウ酸アンモニウム等）、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸アンモニウム、タングステン酸ナトリウム等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、飽和脂肪酸の金属塩としては、例えば、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸マグネシウムを好適に使用することができる。
【００３０】
さらに、ワックスとしては、例えば、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラタムワックス、フィッシャー・トロプシュワックス、ポリプロピレンワックス、ポリエチレンワックス、モンタンワックス、カルナウバワックス等を挙げることができる。
【００３１】
本発明の製造方法においては、潤滑被膜処理工程４の後、乾燥工程５を設けてもよい。ケイ酸塩および界面活性剤を含む潤滑被膜処理液は、物理吸着により潤滑被膜を形成するが、塗布後の乾燥は必須ではない。しかしながら、潤滑被膜処理液塗布後に、エアーブロー、ワイピング、拭き取り等の乾燥工程を設けることで、ケイ酸塩の付着量を適正化しやすくなる。また、潤滑被膜処理液を乾燥させることにより、潤滑被膜の密着性を向上させることができるとともに、潤滑被膜成分の湿式潤滑液への持ち込みを低減することができる。乾燥条件は、例えば、６０〜１５０℃で１０〜６０分にて行うか、または、常温で放置してもよく、送風することにより行ってもよい。
【００３２】
なお、本発明の製造方法においては、ブラスめっきワイヤに潤滑被膜剤を塗布する際、ブラスめっきワイヤの温度は、１０〜５０℃とすることが好ましい。１０℃未満であると、乾燥風力を大きくする必要があり、５０℃を超えると潤滑被膜の付着量が多くなる場合があるからである。ブラスめっきワイヤの温度を上記範囲とするためにも、前処理として湯洗は行わない方がよい。
【００３３】
本発明の製造方法は、ブラスめっきワイヤの製造方法においては、ブラスめっき工程３後、連続湿式伸線工程６前に、ケイ酸塩および界面活性剤を含有する潤滑被膜処理液で潤滑被膜を形成する潤滑被膜処理工程４を、好ましくは、その後に乾燥工程５を有するものであれば、それ以外の工程については、特に制限はない。例えば、ブラスめっき工程前に行われる、ワイヤ材に熱間圧延を加える乾式伸線工程１、乾式伸線工程を経たワイヤ材にパテンティング処理を行うパテンティング工程２等の工程については、従来から行われてきた条件を適用することができる。また、本発明の製造方法が適用されるワイヤ材の線径や材質等についても、特に制限されるものではなく、公知のものであればいずれも使用可能である。特には、本発明の製造方法においては、炭素含有量０．７質量％以上の高炭素ワイヤ材に好適に適用することができる。
【００３４】
次に、本発明のブラスめっきワイヤの製造装置について説明する。
本発明のブラスめっきワイヤの製造装置は、連続湿式伸線装置と、この連続湿式伸線装置の入線側に、潤滑被膜処理液を貯留する潤滑被膜処理槽を有する潤滑被膜処理装置と、を備え、ブラスめっきワイヤ材を、潤滑被膜処理装置および連続湿式伸線装置に、順次通線可能な構造を有している。すなわち、上述の本発明の製造方法に好適に用いることができるものである。したがって、使用する潤滑被膜処理液は、本発明の製造方法に用いるものと同じものを好適に用いることができる。
【００３５】
本発明の製造装置においては、潤滑被膜処理装置と連続湿式伸線装置との間に、乾燥装置を備えることが好ましい。上述のとおり、本発明の製造装置を用いて、本発明の製造方法を実施するにあたっては、ケイ酸塩および界面活性剤を含む潤滑被膜処理液は、物理吸着により潤滑被膜を形成するが、塗布後の乾燥は必須ではない。しかしながら、潤滑被膜処理液を乾燥させることにより、潤滑被膜の密着性を向上させることができるとともに、潤滑被膜成分の湿式潤滑液への持ち込みを、さらに低減させることができる。乾燥条件としては、例えば、６０〜１５０℃で１０〜６０分にて行うか、または、常温で放置することにより行えばよい。
【００３６】
本発明の製造装置においては、潤滑被膜処理槽内の潤滑被膜処理液量を制御すべく、水位計を設けて潤滑被膜処理液の原液供給量を制御することが好ましい。また、潤滑被膜処理槽内の潤滑被膜処理液の濃度を制御すべく、電導度計等のセンサーを設けて、潤滑被膜処理液の原液供給量および水の供給量を制御することも好ましい。これにより、常に安定した潤滑被膜を形成することが可能となり、連続湿式伸線を安定して行うことができるようになる。または、本発明の製造装置においては、一度に複数本のブラスめっきワイヤ材を処理できる構造とすることが好ましい。これにより、ブラスめっきワイヤの生産効率を上げることができる。
【００３７】
本発明の製造装置においては、連続湿式伸線装置と、この連続湿式伸線装置の入線側に、潤滑被膜処理液を貯留する潤滑被膜処理槽を有する潤滑被膜処理装置と、を備え、ブラスめっきワイヤ材が、潤滑被膜処理装置および連続湿式伸線装置に、順次通線可能であれば特に制限はない。例えば、連続湿式伸線装置は、従来から用いられている既知の連続湿式伸線装置を用いることができる。また、潤滑被膜処理装置は潤滑被膜処理液を貯留でき、かつ、ブラスめっきワイヤ材に潤滑被膜処理液を塗布できるものであればよい。さらに、乾燥装置としても従来から用いられている乾燥装置を用いることができる。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明を、実施例を用いてより詳細に説明する。
＜実施例１〜３、比較例、および従来例＞
連続湿式伸線装置と、この連続湿式伸線装置の入線側に、潤滑被膜処理液を貯留する潤滑被膜処理槽を有する潤滑被膜処理装置と、を有するブラスめっきワイヤの製造装置を用いて、直径１．５３ｍｍのブラスめっきワイヤ材を、２１個のダイスを用いて直径０．２４ｍｍまで連続湿式伸線した。この際、湯洗、酸化亜鉛低減処理等の前処理は行わなかった。
【００３９】
潤滑被膜の付着量は、下記表１に従って、潤滑処理液槽に入れる潤滑被膜処理液の濃度および潤滑処理槽中でのブラスめっきワイヤの浸漬時間で調整した。潤滑被膜処理液の濃度は、水溶液１Ｌに含有するケイ酸塩の質量で表した。また、ブラスめっきワイヤ材の潤滑性の向上効果は、従来例の伸線電力を１００とした伸線電力低減度（指数）で評価した。この値が大きいほど効果が大きいことを示す。
【００４０】
【表１】
0006780964.tif 000002
【００４１】
実施例１から３では、界面活性剤を添加し、かつ潤滑被膜処理液の濃度を、１００〜２００ｇ／Ｌとしているので、潤滑被膜処理液の分散が良好であり、０．０５〜０．５ｇ／ｍ２と低い付着量の潤滑被膜を安定して得ることができた。潤滑被膜処理液の濃度が２００ｇ／Ｌで、界面活性剤を含有していない比較例では、潤滑被膜処理液が分離してしまった。このため、０．０５〜０．５ｇ／ｍ２と低い付着量の潤滑被膜を安定して得ることはできなかった。
【００４２】
実施例では潤滑被膜を薄く均一に付けることができ、付着量が０．１〜０．５ｇ／ｍ２であれば、十分な電力低減効果が得られる。このことより、潤滑被膜処理コストを下げ、採算性を取れることが分かった。また、湿式潤滑剤への潤滑被膜成分持込み量を減らすことができ、湿式潤滑剤の成分バランスへの影響が比較例対比少なくなることが分かった。
【符号の説明】
【００４３】
１  乾式伸線工程
２  パテンティング工程
３  ブラスめっき工程
４  潤滑被膜処理工程
５  乾燥工程
６  連続湿式伸線工程
【図１】
0006780964.tif 000003