(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）または（２）：
【化１】
0006791430.tif 000033
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を含み、
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、
ＲＦが、ＲＦ１１で表され、
ＲＦ１１が、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表されるフルオロポリエーテル基であり；
ＲＳｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）：
【化２】
0006791430.tif 000034
［式中：
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。］で表され、
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、
ＲＦが、ＲＦ２１で表され、
ＲＦ２１が、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表され、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆおよびＲＦａは、それぞれＲＦ１１の記載と同意義であり、ただし、ＲＦ２１は、ＲＦ１１と同種の繰り返し単位からなり；
ＲＳｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）：
【化３】
0006791430.tif 000035
［式中：
Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１、およびｑ１は、式（Ｓ１１）および式（Ｓ１２）と同意義であり；
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基である。］
で表され、
ただし、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合であって、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く、表面処理剤。
【請求項２】
ＲＦａは、フッ素原子である、請求項１に記載の表面処理剤。
【請求項３】
ＲＦ１１およびＲＦ２１が、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−    （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
【請求項４】
ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量が、５００〜３０,０００の範囲にある、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項５】
ＲＦにおいて、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｆに対するｅの比が、０．１〜１０の範囲にある、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項６】
α、βおよびγが、１である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項７】
ＸＡが、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−
−Ｘ５４−、または
−Ｘ５４−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中：
ｓ５が、１〜２０の整数であり；
Ｘ５３が、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｔ５が、１〜２０の整数であり；
Ｘ５４が、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−である］、
で表される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項８】
Ｚ１が、
Ｃ１−６アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｚ１−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ２−（式中、ｚ１およびｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数）または、
−（ＣＨ２）ｚ３−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−（式中、ｚ３およびｚ４は、各出現においそれぞれ独立して０〜６の整数）である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項９】
ｐ１が、３である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１０】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５質量％以上含まれる、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１１】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５〜９５質量％含まれる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１２】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ２）で表される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１３】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１４】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１５】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１１）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１６】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ２）、または（Ｓ４）で表される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１７】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１８】
さらに溶媒を含む、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１９】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項２０】
真空蒸着用である、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項２２】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項２３】
光学部材である、請求項２２に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、表面処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
【０００３】
そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−２１８６３９号公報
【特許文献２】特開２０１７−０８２１９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような表面処理層には、さらに良好な摩擦耐久性を有することが求められ得る。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、以下の［１］〜［２３］を提供するものである。
［１］  下記式（１）または（２）：
【化１】
0006791430.tif 000002
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を含み、
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、
ＲＦが、ＲＦ１１で表され、
ＲＦ１１が、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表されるフルオロポリエーテル基であり；
ＲＳｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）：
【化２】
0006791430.tif 000003
［式中：
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。］で表され、
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、
ＲＦが、ＲＦ２１で表され、
ＲＦ２１が、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表され、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆおよびＲＦａは、それぞれＲＦ１１の記載と同意義であり、ただし、ＲＦ２１は、ＲＦ１１と同種の繰り返し単位からなり；
ＲＳｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）：
【化３】
0006791430.tif 000004
［式中：
Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１、およびｑ１は、式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）と同意義であり；
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基である。］
で表され、
ただし、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合であって、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く、表面処理剤。
［２］  ＲＦａは、フッ素原子である、［１］に記載の表面処理剤。
［３］  ＲＦ１１およびＲＦ２１が、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−    （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、［１］または［２］に記載の表面処理剤。
［４］  ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量が、５００〜３０,０００の範囲にある、［１］〜［３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［５］  ＲＦにおいて、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｆに対するｅの比が、０．１〜１０の範囲にある、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［６］  α、βおよびγが、１である、［１］〜［５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［７］  ＸＡが、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−
−Ｘ５４−、または
−Ｘ５４−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中：
ｓ５が、１〜２０の整数であり；
Ｘ５３が、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｔ５が、１〜２０の整数であり；
Ｘ５４が、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−である］、
で表される、［１］〜［６］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［８］  Ｚ１が、
Ｃ１−６アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｚ１−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ２−（式中、ｚ１およびｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数）または、
−（ＣＨ２）ｚ３−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−（式中、ｚ３およびｚ４は、各出現においそれぞれ独立して０〜６の整数）である、［１］〜［７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［９］  ｐ１が、３である、［１］〜［８］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１０］  前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５質量％以上含まれる、［１］〜［９］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１１］  前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５〜９５質量％含まれる、［１］〜［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１２］  前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ２）で表される、［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１３］  前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される、［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１４］  前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される、［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］  前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１１）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される、［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］  前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ２）、または（Ｓ４）で表される、［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］  含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［１］〜［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１８］  さらに溶媒を含む、［１］〜［１７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１９］  防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１］〜［１８］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［２０］  真空蒸着用である、［１］〜［１９］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［２１］  ［１］〜［２０］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２２］  基材と、該基材の表面に、［１］〜［２０］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２３］  光学部材である、［２２］に記載の物品。
【発明の効果】
【０００７】
本開示の表面処理剤は、良好な摩擦耐久性を有する表面処理層の形成に寄与し得る。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。
また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【０００９】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ１−２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。
【００１０】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１１】
本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。
【００１２】
（表面処理剤）
以下、本開示の表面処理剤について説明する。
【００１３】
本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）を含む。該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、下記式（１）または（２）：
【化４】
0006791430.tif 000005
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である。
【００１４】
式（１）において、ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００１５】
上記式において、Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基である。
【００１６】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基における「Ｃ１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基である。
【００１７】
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−１６パーフルオロアルキル基である。
【００１８】
上記Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ１−３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００１９】
好ましくは、後述するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲｆ１は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲｆ１と同じ構造である。
【００２０】
式（２）において、ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００２１】
上記式において、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基である。
【００２２】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基における「Ｃ１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３アルキレン基である。
【００２３】
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−３パーフルオロアルキレン基である。
【００２４】
上記Ｃ１−６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。
【００２５】
好ましくは、後述するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲｆ２は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲｆ２と同じ構造である。
【００２６】
上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
【００２７】
上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
【００２８】
上記式（１）および（２）において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。
【００２９】
上記式（１）において、αは１〜９の整数であり、βは１〜９の整数である。これらαおよびβは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。αおよびβの和は、ＸＡの価数と同じである。例えば、ＸＡが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、ＸＡが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。
【００３０】
上記式（２）において、γは１〜９の整数である。γは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、ＸＡの価数から１を引いた値である。
【００３１】
上記式（１）および（２）において、ＸＡは、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（ＲＦ１およびＲＦ２）と基材との結合能を提供する部（ＲＳｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該ＸＡは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。
【００３２】
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基である。
【００３３】
後述するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＸＡは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＸＡと同じ構造であってもよい。
【００３４】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＸＡは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＸＡと異なる構造である。
【００３５】
上記ＸＡにおける２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜８価の有機基である。一の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは３〜８価の有機基、より好ましくは３〜６価の有機基である。
【００３６】
一の態様において、ＸＡは、単結合または２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。
【００３７】
一の態様において、ＸＡは、単結合または２価の有機基であり、γは１である。
【００３８】
一の態様において、ＸＡは３〜６価の有機基であり、αは１であり、βは２〜５である。
【００３９】
一の態様において、ＸＡは３〜６価の有機基であり、γは２〜５である。
【００４０】
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。
【００４１】
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、γは２である。
【００４２】
ＸＡが、単結合または２価の有機基である場合、式（１）および（２）は、下記式（１’）および（２’）で表される。
【化５】
0006791430.tif 000006
【００４３】
一の態様において、ＸＡは、単結合である。
【００４４】
一の態様において、ＸＡは、２価の有機基である。
【００４５】
一の態様において、ＸＡとしては、例えば、単結合または下記式：
−（Ｒ５１）ｐ５−（Ｘ５１）ｑ５−
で表される２価の有機基が挙げられる。
式中：
Ｒ５１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、一の態様においては、−（ＣＨ２）ｓ５−であり、一の態様においては、単結合であり、
ｓ５は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ５１は、−（Ｘ５２）ｌ５−を表し、
Ｘ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、−ＮＲ５４−および−（ＣＨ２）ｎ５−からなる群から選択される基を表し、例えば、−ＣＯＮＲ５４−、および−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−からなる群から選択される基を表し、一の態様としては、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＣＯＮＲ５４−、および−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ５は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。
ここに、ＸＡ（典型的にはＸＡの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、ＸＡは、これらの基により置換されていない。
【００４６】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
−（Ｒ５１）ｐ５−（Ｘ５１）ｑ５−Ｒ５２−
である。Ｒ５２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、一の態様においては−（ＣＨ２）ｔ５−であり、一の態様においては、単結合である。ｔ５は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、ＸＡ（典型的にはＸＡの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、ＸＡは、これらの基により置換されていない。
【００４７】
好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ５１−Ｘ５３−Ｒ５２−、または
−Ｘ５４−Ｒ５２−
［式中、Ｒ５１およびＲ５２は、上記と同意義であり、
Ｘ５３は、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ５３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ５３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ５−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）ｕ５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）ｕ５−Ｎ（Ｒ５４）−、または
−ＣＯＮＲ５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ５３）２−
（式中、Ｒ５３、Ｒ５４およびｍ５は、上記と同意義であり、
ｕ４は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、例えば１であり；ｕ５は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。）を表し、
Ｘ５４は、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、
−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）ｕ５−（Ｓｉ（Ｒ５４）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５４）２−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）ｕ５−Ｎ（Ｒ５４）−、または
−ＣＯＮＲ５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ５４）２−
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。
【００４８】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−
−Ｘ５４−、または
−Ｘ５４−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中、
Ｘ５３は、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、または−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−であり、例えば、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり、例えば、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、または−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し、好ましくは、水素原子またはメチル基を表し、
ｕ４は、上記と同意義であり、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
Ｘ５４は、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり、
ｔ５は、１〜２０の整数である。］
であり得る。
【００４９】
一の態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−
−Ｘ５４−、または
−Ｘ５４−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中、
Ｘ５３は、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、または−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−であり、例えば、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり、例えば、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、または−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し、好ましくは、水素原子またはメチル基を表し、
ｕ４は、上記と同意義であり、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
Ｘ５４は、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり、
ｔ５は、１〜２０の整数である。］
であり得る。
【００５０】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘ５３−、
−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−、または
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中、
Ｘ５３は、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、または−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−であり、例えば−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり、例えば、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯ−、または−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ４−ＣＯＮＲ５４−であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し、好ましくは、水素原子またはメチル基を表し、
ｕ４は、上記と同意義であり、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
ｔ５は、１〜２０の整数である。］
であり得る。
【００５１】
一の態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｃ（Ｏ）−、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）ｔ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−ＣＯ−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−ＣＯ−（ＣＨ２）ｓ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−ＣＯＮＨ−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）ｓ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣＨ２）ｔ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣＨ２）ｔ５−、または
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣＨ２）ｕ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣｖＨ２ｖ）−
［式中、Ｒ５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５およびｕ５は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
【００５２】
上記式中、−（ＣｖＨ２ｖ）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
【００５３】
上記ＸＡは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、ＸＡは、非置換である。
【００５４】
なお、上記ＸＡは、各式の左側がＲＦ１またはＲＦ２に結合し、右側がＲＳｉに結合する。
【００５５】
一の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、−Ｏ−Ｃ１−６アルキレン基以外であり得る。
【００５６】
別の態様において、ＸＡとしては、例えば下記の基が挙げられる：
【化６】
0006791430.tif 000007
【化７】
0006791430.tif 000008
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する、以下において同様）、および
【化８】
0006791430.tif 000009
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＲＦ１またはＲＦ２に結合し、Ｅは、ＲＳｉに結合する。］
【００５７】
上記ＸＡの具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）５−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）５−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）５−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）５−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）４ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）５ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）５−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）４−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）５−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
【化９】
0006791430.tif 000010
などが挙げられる。
【００５８】
さらに別の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、式：−（Ｒ１６）ｘ１−（ＣＦＲ１７）ｘ２−（ＣＨ２）ｘ３−で表される基である。式中、ｘ１、ｘ２およびｘ３は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ１、ｘ２およびｘ３の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【００５９】
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ１８−（式中、Ｒ１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１６は、酸素原子または２価の極性基である。
【００６０】
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ１９）−、及び−Ｃ（Ｏ）ＮＲ１９−（これらの式中、Ｒ１９は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【００６１】
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００６２】
上記式（１）および（２）において、ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基である。
【００６３】
（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ））
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、式（１）または（２）で表され、
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦが、ＲＦ１１で表されるフルオロポリエーテル基であり；
ＲＳｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）：
【化１０】
0006791430.tif 000011
で表される化合物である。例えば、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、以下の式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）または（Ａ４）で表される。
【化１１】
0006791430.tif 000012
【００６４】
以下、特に記載していなければ、上記の式（１）または（２）の記載を、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）および（Ａ４）に当て嵌めることができる。具体的には、Ｒｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＸＡ、α、β、およびγは、上記と同意義である。
【００６５】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＦ１１は、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表されるフルオロポリエーテル基である。
上記式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【００６６】
ＲＦａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。
【００６７】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０〜１００の整数であってもよい。
【００６８】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。
【００６９】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００７０】
一の態様において、ＲＦ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される。
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−      （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【００７１】
上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０、例えば２５〜３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ−で表される基であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−で表される基である。
【００７２】
上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０〜２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基であってもよい。
【００７３】
上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｇ−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｇ−である。
【００７４】
上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００７５】
上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００７６】
上記ＲＦ１１において、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、（人の）汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【００７７】
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９であり、より好ましくは０．２〜０．８５であり、さらに好ましくは０．２〜０．８である。
【００７８】
一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９〜１．５である。
【００７９】
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００８０】
別の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜８，０００であり得る。
【００８１】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）で表される。
【化１２】
0006791430.tif 000013
【００８２】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１１）で表される基である。
【００８３】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１２）で表される基である。
【００８４】
式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である。
【００８５】
以下Ｚ１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）に結合する。
【００８６】
Ｚ１は、好ましくは、２価の有機基である。
【００８７】
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｚ１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【００８８】
Ｚ１における２価の有機基としては、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ１−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ２−（式中、ｚ１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、好ましくは、ｚ１とｚ２との合計が１以上である。）または、−（ＣＨ２）ｚ３−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−（式中、ｚ３は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、好ましくは、ｚ３とｚ４との合計が１以上である。）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００８９】
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ３−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−である。Ｚ１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。好ましくは、ｚ３は０〜６の整数であり、ｚ４は１〜６の整数である。
【００９０】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１は、Ｃ１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ１は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００９１】
一の態様において、Ｚ１は、Ｏ−Ｚ２で表される構造であってもよい。Ｚ２は、２価の有機基である。Ｏ−Ｚ２は、右側が（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）に結合する。
【００９２】
上記態様においてＺ２は、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有していてもよい。
【００９３】
一の態様において、Ｚ２は、Ｚ１として記載した構造を有し得る。
【００９４】
一の態様において、Ｚ２は、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基等の炭素数２〜１０のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６〜８のアリーレン基を含む炭素数２〜８のアルキレン基（例えば、炭素数８〜１６のアルキレン・アリーレン基等）、ジメチルシリレン基やジエチルシリレン基等のジオルガノシリレン基を含む炭素数２〜６のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキレン基相互が炭素数１〜４のシルアルキレン構造または炭素数６〜１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状または環状の２価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素数２〜６のアルキレン基、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素数２〜１０のアルキレン基が結合している２価の基などが挙げられ、好ましくは炭素数３〜１０のアルキレン基、フェニレン基を含む炭素数２〜６のアルキレン基、ジメチルシリレン基を含む炭素数２〜６のアルキレン基、炭素数２〜４のアルキレン基相互が炭素数１〜４のシルアルキレン構造または炭素数６〜１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２〜１０個の直鎖状の２価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素数２〜６のアルキレン基、ケイ素原子数２〜１０個の直鎖状またはケイ素原子数３〜１０個の分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素数２〜１０のアルキレン基が結合している２価の基であり、更に好ましくは炭素数３〜６のアルキレン基である。
【００９５】
Ｚ２の具体例としては、例えば、下記の基が挙げられる。
【化１３】
0006791430.tif 000014
【化１４】
0006791430.tif 000015
【００９６】
式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり、好ましくは、加水分解可能な基である。
【００９７】
式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。
【００９８】
上記Ｒ２２において、１価の有機基は、好ましくは、Ｃ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００９９】
式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）単位において、ｐ１とｑ１との合計は３である。
【０１００】
ｐ１は、好ましくは２または３であり、さらに好ましくは、３である。すなわち、（Ｚ１−ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）毎に、少なくとも１つのＲ２１が存在する。
【０１０１】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、式（１）で表される。
【０１０２】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、式（２）で表される。
【０１０３】
（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ））
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、式（１）または（２）で表され、
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦが、ＲＦ２１で表されるフルオロポリエーテル基であり；
ＲＳｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）：
【化１５】
0006791430.tif 000016
で表される化合物である。例えば、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、以下の式（Ｂ１１）、（Ｂ２１）、（Ｂ１２）、（Ｂ２２）、（Ｂ１３）または（Ｂ２３）で表される。
【化１６】
0006791430.tif 000017
【０１０４】
以下、特に記載していなければ、上記の式（１）または（２）の記載を、式（Ｂ１１）（Ｂ２１）、（Ｂ１２）、（Ｂ２２）、（Ｂ１３）および（Ｂ２３）に当て嵌めることができる。具体的には、Ｒｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＸＡ、α、β、およびγは、上記と同意義である。
【０１０５】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＦ２１は、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表されるフルオロポリエーテル基である。
上記式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆおよびＲＦａは、式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）の各符号と同意義である。
【０１０６】
上記式中、ＲＦ２１は、ＲＦ１１と同種の繰り返し単位からなる。ここで、「同種の繰り返し単位からなる」とは、ＲＦ１１を構成する繰り返し単位の構造と、ＲＦ２１を構成する繰り返し単位の構造とが同じ構造を有し、かつ、ＲＦ１１に含まれる繰り返し単位の組み合わせと、ＲＦ２１に含まれる繰り返し単位の組み合わせとが同じであることをいう。ＲＦ１１とＲＦ２１とにおいて、ａは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｂは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｃは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｄは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｅは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｆは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよい。
【０１０７】
ＲＦ２１を構成する繰り返し単位の構造とＲＦ１１を構成する繰り返し単位の構造が同じであることを、以下に具体的に説明する。
ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ６Ｆ１２）−と同じ構造である。ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ５Ｆ１０）−と同じ構造である。ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ４Ｆ８）−は、ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ４Ｆ８）−と同じ構造である。ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−は、ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−と同じ構造である。ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−は、ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−と同じ構造である。
例えば、ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−が−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−で表されるとき、ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−は−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−で表され；ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−が−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−で表されるとき、ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−は−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−で表され；ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−が−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−で表されるとき、ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−は−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−で表される。ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−が−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−で表されるとき、ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−は−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−で表され；ＲＦ１１の繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−が−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−で表されるとき、ＲＦ２１の繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−は−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−で表される。
【０１０８】
ＲＦ１１に含まれる繰り返し単位の組み合わせと、ＲＦ２１に含まれる繰り返し単位の組み合わせとが同じであることを、以下に具体的に説明する。
例えば、ＲＦ１１が、繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−からなるとき、ＲＦ２１は、繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−からなり；ＲＦ１１が、繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−と−（ＯＣ２Ｆ４）−とからなるとき、ＲＦ２１は、繰り返し単位−（ＯＣ３Ｆ６）−と−（ＯＣ２Ｆ４）−とからなり；ＲＦ１１が、繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−と−（ＯＣＦ２）−とからなるとき、ＲＦ２１は、繰り返し単位−（ＯＣ２Ｆ４）−と−（ＯＣＦ２）−とからなる。
【０１０９】
好ましくは、ＲＦ１１とＲＦ２１とにおいて、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ同じである。ここで、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆが同じとは、ＲＦ１１における値に対するＲＦ２１における値の比、すなわち、「ＲＦ２１における値」／「ＲＦ１１における値」が、０．９〜１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５〜１．０５の間にあることをいう。上記の「ＲＦ２１における値」／「ＲＦ１１における値」とは、具体的には、「ＲＦ２１におけるａの値」／「ＲＦ１１におけるａの値」、「ＲＦ２１におけるｂの値」／「ＲＦ１１におけるｂの値」、「ＲＦ２１におけるｃの値」／「ＲＦ１１におけるｃの値」、「ＲＦ２１におけるｄの値」／「ＲＦ１１におけるｄの値」、「ＲＦ２１におけるｅの値」／「ＲＦ１１におけるｅの値」、「ＲＦ２１におけるｆの値」／「ＲＦ１１におけるｆの値」である。
【０１１０】
好ましくは、ＲＦ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、式（ｆ１）で表されるとき、ＲＦ２１は下式（ｆ１’）で表され；ＲＦ１１が、式（ｆ２）で表されるとき、ＲＦ２１は下式（ｆ２’）で表され；ＲＦ１１が、式（ｆ３）で表されるとき、ＲＦ２１は下式（ｆ３’）で表され；ＲＦ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、ＲＦ２１は下式（ｆ４’）で表され；；ＲＦ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、ＲＦ２１は下式（ｆ５’）で表される。なお、ＲＦ２１が下式（ｆ１’）、（ｆ２’）、（ｆ３’）、（ｆ４’）または（ｆ５’）で表されるとき、それぞれの繰り返し単位は、式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）の繰り返し単位と同種の繰り返し単位である。
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１’）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２’）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−      （ｆ３’）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４’）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５’）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【０１１１】
上記ＲＦ２１において、ｅ／ｆ比は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５である。
【０１１２】
一の態様において、ＲＦ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９であり、より好ましくは０．２〜０．８５であり、さらに好ましくは０．２〜０．８である。
【０１１３】
一の態様において、耐熱性の観点から、ＲＦ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９〜１．５である。
【０１１４】
一の態様において、ＲＦ２１におけるｅ／ｆ比は、ＲＦ１１におけるｅ／ｆ比と同じである。ここで、ｅ／ｆ比が同じとは、「ＲＦ１１のｅ／ｆ比」に対する「ＲＦ２１のｅ／ｆ比」の比、すなわち、「ＲＦ２１のｅ／ｆ比」／「ＲＦ１１のｅ／ｆ比」が、０．９〜１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５〜１．０５の間にあることをいう。
【０１１５】
一の態様において、ＲＦ２１におけるｅ／ｆ比は、ＲＦ１１におけるｅ／ｆ比と異なる。ここで、ｅ／ｆ比が異なるとは、「ＲＦ１１のｅ／ｆ比」に対する「ＲＦ２１のｅ／ｆ比」の比、すなわち、「ＲＦ２１のｅ／ｆ比」／「ＲＦ１１のｅ／ｆ比」が、０．９未満、または１．１超であることをいい、例えば、０．８７以下、０．８６以下、１．３以上または１．５以上であってもよい。
【０１１６】
一の態様において、ＲＦ１１およびＲＦ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９であり、より好ましくは０．２〜０．８５であり、さらに好ましくは０．２〜０．８である。
【０１１７】
一の態様において、耐熱性の観点から、ＲＦ１１およびＲＦ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９〜１．５である。
【０１１８】
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【０１１９】
別の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜８，０００であり得る。
【０１２０】
上記ＲＦ２１の数平均分子量は、ＲＦ１１の数平均分子量と同じであることが好ましい。ここで、数平均分子量が同じとは、ＲＦ１１の数平均分子量に対するＲＦ２１の数平均分子量の比、すなわち、「ＲＦ２１の数平均分子量」／「ＲＦ１１の数平均分子量」が、０．９〜１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５〜１．０５の間にあることをいう。
【０１２１】
一の態様において、上記ＲＦ２１の数平均分子量は、ＲＦ１１の数平均分子量と異なる。例えば、ＲＦ１１の数平均分子量に対するＲＦ２１の数平均分子量の比、すなわち、「ＲＦ２１の数平均分子量」／「ＲＦ１１の数平均分子量」が、０．９未満であってもよく、１．１超であってもよい。
【０１２２】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における上記ＲＦ１の数平均分子量は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における上記ＲＦ１の数平均分子量と同じであることが好ましく；フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における上記ＲＦ２の数平均分子量は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における上記ＲＦ２の数平均分子量と同じであることが好ましい。ここで、数平均分子量が同じとは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における数平均分子量に対する、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における数平均分子量の比、すなわち「フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における数平均分子量」／「フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における数平均分子量」が、０．９〜１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５〜１．０５の間にあることをいう。
【０１２３】
別の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）における上記ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量が５００〜３０，０００の範囲にあることが好ましく、１，５００〜３０，０００の範囲にあることがより好ましく、２，０００〜１０，０００の範囲にあるのがさらに好ましい。
【０１２４】
一の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜８，０００であり得る。
【０１２５】
好ましくは、
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲＦ２１は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲＦ１１と同じ数平均分子量を有し；
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるｅ／ｆ値は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるｅ／ｆ値と同じである。
【０１２６】
一の態様において、
ＲＦ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ１）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ１’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ２）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ２’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ３）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ３’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ４’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ５）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ５’）で表され；
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲＦ２１は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲＦ１１と同じ数平均分子量を有し；
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるｅ／ｆ値は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるｅ／ｆ値と同じである。
【０１２７】
一の態様において、
ＲＦ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ１）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ１’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ２）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ２’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ３）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ３’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ４’）で表され；
ＲＦ１１が、式（ｆ５）で表されるとき、ＲＦ２１は式（ｆ５’）で表され；
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるｅ／ｆ値は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるｅ／ｆ値と異なる。
【０１２８】
式（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）における、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１、およびｑ１は、それぞれ、式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）におけるＺ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１、およびｑ１と同意義である。
【０１２９】
式（Ｓ２）において、Ｒｅ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基である。
なお、Ｒｅ１は（Ｚ１−ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）で表される基を除く構造である。
【０１３０】
一の態様において、Ｒｅ１は、水酸基である。
【０１３１】
一の態様において、Ｒｅ１は、１価の有機基である。
【０１３２】
Ｒｅ１において、上記１価の有機基としては、好ましくは、Ｃ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基を挙げることができる。
このような構造を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を用いることにより、基材との結合において立体障害が小さくなり得る。一方で、上述したフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）では、基材との結合において立体障害が大きくなり得る。このことから、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と（Ｂ）とを組み合わせることにより、基材との結合が特に良好となり得、稠密なシロキサン３次元架橋を形成し得る。
【０１３３】
一の態様において、Ｒｅ１は、１価の有機基であり、かつ、−Ｏ−（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）で表される基を除く構造である。
【０１３４】
一の態様において、Ｒｅ１は、−Ｏ−（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）である。
【０１３５】
一の態様において、ＸＡは単結合であり、Ｒｅ１は、１価の有機基であり、かつ、−（ＯＲｎ１）ｎ１１ＯＲｎ２で表される基である。Ｒｎ１は、Ｃ２−Ｃ４のアルキレン基であり、該アルキレン基は直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。Ｒｎ１は、例えばエチレン基である。ｎ１１は、１〜１０の整数であり、例えば、２である。Ｒｎ２は、水素原子またはＣ１−Ｃ４のアルキル基であり、例えば、メチル基である。本態様において、Ｒｅ１としては、例えば、−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ１１ＯＣＨ３、−｛ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））ｎ１１ＯＣＨ３、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）ｎ１１ＯＣＨ３を挙げることができる。
【０１３６】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）で表される基である。
【０１３７】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）で表される基である。
【０１３８】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ４）で表される基である。
【０１３９】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、式（１）で表される。
【０１４０】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、式（２）で表される。
【０１４１】
本開示の表面処理剤において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合であって、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く。即ち、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。
ここで、「フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲＦ１１とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲＦ２１とが異なる」とは、具体的には、ＲＦ１１とＲＦ２１とにおいて、ａが異なる値である、ｂが異なる値である、ｃが異なる値である、ｄが異なる値である、ｅが異なる値である、およびｆが異なる値である、の少なくとも何れか１つであることを意味する。なお、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲＦ１１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲＦ２１とが、同種の繰り返し単位を有する。
【０１４２】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）が式（１）で表され、かつ、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）が式（１）で表され、かつ、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ１、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、およびＺ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ１、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、およびＺ１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。
【０１４３】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）が式（２）で表され、かつ、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）が式（２）で表され、かつ、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、およびＺ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、およびＺ１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。
【０１４４】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、およびＺ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、およびＺ１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。
【０１４５】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲＦ１１、およびＸＡと、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲＦ２１、およびＸＡとにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。
【０１４６】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される。
【０１４７】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）で表される。
【０１４８】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）で表される。
【０１４９】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ４）で表される。
【０１５０】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）で表される。
【０１５１】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）で表される。ただし、本態様においては、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ１１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ１、Ｒｆ２、ｐ、ｑ、ＲＦ２１、ＸＡ、α、β、γ、Ｚ１、Ｒ２１、Ｒ２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く。
【０１５２】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ４）で表される。
【０１５３】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表される。
【０１５４】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（２）で表される。
【０１５５】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１１）で表される基である。
【０１５６】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１１）で表される基である。
【０１５７】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）で表される基である。
【０１５８】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）で表される基である。
【０１５９】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ４）で表される基である。
【０１６０】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１２）で表される基であり、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）または（Ｓ４）で表される基である。
【０１６１】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ１２）で表される基であり、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）または（Ｓ４）で表される基である。
【０１６２】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）において、ｐ１は、好ましくは、ｐ１は２または３であり、より好ましくは３である。
【０１６３】
本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）とを含む。このような構成とすることによって、本開示の表面処理剤は、形成される表面処理層の撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、摩擦耐久性、透明性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０１６４】
本開示の表面処理剤に含まれる、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）では、分岐点であるＣ原子またはＳｉ原子に（Ｚ１−ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）で表される基が３つ結合している。上記のような構造を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）では、基材との結合において、稠密なシロキサン３次元架橋が形成されないことがある。
一方で、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）では、分岐点であるＣ原子、Ｓｉ原子またはＮ原子に（Ｚ１−ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１）で表される基が２つ結合している。このような構造をするフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とともに用いることによって、稠密なシロキサン３次元架橋を形成し得る。
さらに、本開示の表面処理剤では、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲＦ１１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲＦ２１とが、同種の繰り返し単位を有する。このことにより、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と（Ｂ）との相溶性が高くなると考えられる。その結果、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と（Ｂ）との混合が容易になり得、例えば、両化合物を任意の割合で混合し得る。
これらのことから、本開示の表面処理剤を用いると、撥水性、撥油性、摩擦耐久性等の特に良好な表面処理層の形成が可能となり得る。特に、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）または（Ｂ）のみを含む表面処理剤を用いた場合よりも、撥水性、撥油性、摩擦耐久性等の特に良好な表面処理層の形成が可能となる。
【０１６５】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５質量％以上含まれることが好ましく、１０質量％以上含まれることがより好ましく、２０質量％以上含まれることがさらに好ましく、４０質量％以上含まれていてもよく、６０質量％以上含まれていてもよく、６５質量％以上含まれていてもよく、７０質量％以上含まれていてもよく；９５質量％以下含まれることが好ましく、９０質量％以下含まれることがより好ましく、８５質量％以下含まれることがさらに好ましく、８０質量％以下含まれていてもよい。このような含有量で含まれることによって、シランカップリン基が加水分解してシロキサン結合を形成する縮合反応が促進され、３次元方向に稠密なネットワークを形成することで摩擦耐久性の向上が図れる。
【０１６６】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５〜９５質量％含まれていてもよく、１０〜９０質量％含まれていてもよく、２０〜９０質量％含まれていてもよく、４０〜９０質量％含まれていてもよく、６０〜９０質量％含まれていてもよく、７０〜９０質量％含まれていてもよい。
【０１６７】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、６５〜９５質量％含まれていてもよい。
【０１６８】
上記の式（１）または（２）で表される化合物は、例えば、上記特許文献２、特開２００８−２９７２７５号公報等に記載の方法により得ることができる。
【０１６９】
本開示の表面処理剤中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％または１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下または５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、形成される表面処理層の摩擦耐久性をより向上させることができる。
【０１７０】
（他の化合物）
本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等をさらに含み得る。
【０１７１】
上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、３−ペンタノール、オクチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。
【０１７２】
含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ６      ・・・（３）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０１７３】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−Ｒｆ６              ・・・（３ａ）
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”−（ＯＣＦ２）ｄ”−Ｒｆ６              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【０１７４】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３−Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。
【０１７５】
上記含フッ素オイルは、５００〜１０，０００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。
【０１７６】
含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に対して、例えば０〜５０質量％、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。
【０１７７】
含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１７８】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【０１７９】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。
【０１８０】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１８１】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０１８２】
触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。
【０１８３】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【０１８４】
本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。
【０１８５】
本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【０１８６】
（物品）
以下、本開示の物品について説明する。
【０１８７】
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。
【０１８８】
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【０１８９】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【０１９０】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【０１９１】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【０１９２】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【０１９３】
次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。
【０１９４】
本開示の表面処理剤の層形成は、上記の組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０１９５】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０１９６】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０１９７】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０１９８】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
【０１９９】
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【０２００】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【０２０１】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０２０２】
上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０２０３】
すなわち本開示はさらに、本開示の組成物の硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。
【０２０４】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【０２０５】
本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【０２０６】
また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０２０７】
さらに、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車の内外装、例えばヘッドライトカバー、サイドミラー、サイドウインドウ、内装加飾フィルム、センターコンソール、メーターパネル、カメラレンズカバーなどであってもよい。
【０２０８】
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０２０９】
以上、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の組成物の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０２１０】
以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）等）の存在順序は任意である。以下において「Ｍｅ」はＣＨ３を表す。
【０２１１】
フルオロポリエーテル基含有化合物として、下記の化合物を準備した。
化合物（Ａ）： 
0006791430.tif 000018
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．２７個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．４２個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３を有する化合物（Ａ’）が、化合物（Ａ）および化合物（Ａ’）の合計に対して３．２モル％含まれていた。）
化合物（Ｂ）：
0006791430.tif 000019
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．３０個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．４４個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２を有する化合物（Ｂ’）が、、化合物（Ｂ）および化合物（Ｂ’）の合計に対して３．０モル％含まれていた。）
化合物（Ｃ）：
0006791430.tif 000020
（ｍ≒２６、ｎ≒２４）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．２３個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．６５個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３を有する化合物（Ｃ’）が、化合物（Ｃ）および化合物（Ｃ’）の合計に対して７．９モル％含まれていた。）
化合物（Ｄ）：
0006791430.tif 000021
（ｍ≒２６、ｎ≒２４）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．３５個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．６９個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２を有する化合物（Ｄ’）が、化合物（Ｄ）および化合物（Ｄ’）の合計に対して８．１モル％含まれていた。）
化合物（Ｅ）：
0006791430.tif 000022
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．３１個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．４４個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３を有する化合物（Ｅ’）が、化合物（Ｅ）および化合物（Ｅ’）の合計に対して３．８モル％含まれていた。）
化合物（Ｆ）：
0006791430.tif 000023
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．３４個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．４０個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２を有する化合物（Ｆ’）が、化合物（Ｆ）および化合物（Ｆ’）の合計に対して３．９モル％含まれていた。）
化合物（Ｇ）： 
0006791430.tif 000024
（ｍ≒２６、ｎ≒２４）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．３２個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が０．７０個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３を有する化合物（Ｇ’）が、化合物（Ｇ）および化合物（Ｇ’）の合計に対して８．０モル％含まれていた。）
化合物（Ｈ）： 
0006791430.tif 000025
（ｍ≒２６、ｎ≒２８）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．２２個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．７６個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２を有する化合物（Ｈ’）が、化合物（Ｈ）および化合物（Ｈ’）の合計に対して６．５モル％含まれていた。）
化合物（Ｉ）：
0006791430.tif 000026
（ｍ≒２６、ｎ≒２８）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が２．２１個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が２．５３個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｃ［（ＯＣＨ２ＣＨ２）２ＯＣＨ３］（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２を有する化合物（Ｉ’）が、化合物（Ｉ）および化合物（Ｉ’）の合計に対して６．２モル％含まれていた。）
化合物（Ｊ）： 
0006791430.tif 000027
（ｍ≒３５、ｎ≒３３）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．２５個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が２．０３個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２を有する化合物（Ｊ’）が、化合物（Ｊ）および化合物（Ｊ’）の合計に対して７．８モル％含まれていた。）
化合物（Ｋ）：
0006791430.tif 000028
（ｍ≒２６、ｎ≒２８）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．２０個および（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）の繰り返し単位が１．７５個含まれていた。また、両末端にＳｉ（ＯＣＨ３）３を有する化合物（Ｋ’）が、化合物（Ｋ）および化合物（Ｋ’）の合計に対して４．８モル％含まれていた。）
【０２１２】
上記化合物（Ａ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（１）を調製した。
【０２１３】
上記化合物（Ｂ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（２）を調製した。
【０２１４】
上記化合物（Ｃ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（３）を調製した。
【０２１５】
上記化合物（Ｄ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（４）を調製した。
【０２１６】
上記化合物（Ｅ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（５）を調製した。
【０２１７】
上記化合物（Ｆ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（６）を調製した。
【０２１８】
上記化合物（Ｇ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（７）を調製した。
【０２１９】
上記化合物（Ｉ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（８）を調製した。
【０２２０】
上記化合物（Ａ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（９）を調製した。
【０２２１】
上記化合物（Ｇ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（１０）を調製した。
【０２２２】
上記化合物（Ｈ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（１１）を調製した。
【０２２３】
上記化合物（Ｊ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（１２）を調製した。
【０２２４】
上記化合物（Ｋ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、希釈液（１３）を調製した。
【０２２５】
（表面処理剤の調製）
希釈液（１）〜（８）を、下記表１に示す割合で混合して、表面処理剤１〜１２を調製した。表面処理剤１〜４が実施例であり、表面処理剤５〜１２が比較例である。
【０２２６】
【表１】
0006791430.tif 000029
【０２２７】
（表面処理層の形成）
表面処理剤１〜１２を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。
【０２２８】
（表面処理層の特性評価）
表面処理剤１〜１２を用いて得られた表面処理層の特性を以下のように評価した。結果を下記表２に示す。
【０２２９】
＜静的接触角＞
（初期評価）
まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。
【０２３０】
＜耐消しゴム摩擦性試験＞
ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で２５００回擦る毎に耐水接触角を測定し、１５０００回もしくは１００°未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ  Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：３０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
【０２３１】
【表２】
0006791430.tif 000030
【０２３２】
（表面処理剤の調製）
希釈液（９）〜（１３）を、下記表３に示す割合で混合して、表面処理剤１３〜２１を調製した。表面処理剤１３〜１５が実施例であり、表面処理剤１６〜２１が比較例である。
【０２３３】
【表３】
0006791430.tif 000031
【０２３４】
（表面処理層の形成）
表面処理剤１３〜２１を、真空蒸着法を用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
真空蒸着法の条件は、抵抗加熱式蒸着機（シンクロン製）、チャンバーサイズ  １９００ｍｍφ、真空度５．０Ｅ−０５、電流値２４０Ａ、電圧１０Ｖ、基材温度４０℃であった。
塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。
【０２３５】
（表面処理層の特性評価）
表面処理剤１３〜２１を用いて得られた表面処理層の特性を評価した。静的接触角の測定および耐消しゴム摩擦性試験は、表面処理剤１〜１２と同様に行った。結果を下記表４に示す。
【０２３６】
【表４】
0006791430.tif 000032
【産業上の利用可能性】
【０２３７】
本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
【要約】
【課題】さらに良好な摩擦耐久性を有する表面処理層の形成に寄与し得る表面処理剤の提供。
【解決手段】式（１）または（２）で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を含む、表面処理剤。各符号は、明細書の記載のとおりである。
0006791430.tif 000036
【選択図】なし