(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記ハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
レーザー顕微鏡を用いて測定される前記電極用パターン形状の段差が１．５μｍ以下であり、かつ
前記ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さが１８０〜３１０ＭＰａであることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
【請求項２】
前記光透過性支持層（Ａ）は、ポリエステルフィルムである、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置するハードコート付き支持フィルムであって、
最外層に位置する前記ハードコート層（Ｂ）側のナノインデンター硬さが１８０〜３１０ＭＰａであることを特徴とするハードコート付き支持フィルム。
【請求項４】
前記光透過性支持層（Ａ）は、ポリエステルフィルムである、請求項３に記載のハードコート付き支持フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム
に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される導電性フィルムとして、光透過性導電性フィルムが使用されている。光透過性導電性フィルムには、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層等が積層されている。光透過性導電性フィルムは、通常、光透過性導電層側をタッチパネルの操作面側を向けてタッチパネルに配置されている。光透過性導電性フィルムには、光透過性支持層表面の傷つきを防止する目的で、ハードコート層と呼ばれる、比較的表面硬度の高い層が設けられている。ハードコート層は、通常、光透過性支持層のタッチパネルの操作面側を向いている面に隣接して設けられている。
【０００３】
タッチセンサーとして用いるために、光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した上でタッチパネルに搭載されている。センサー電極用パターンが形成された光透過性導電性フィルムでは、フィルム表面を見たときにセンサー電極用パターンが視認されること（いわゆる骨見え現象；ｐａｔｔｅｒｎ  ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）が知られている。ところで、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した光透過性導電性フィルムは、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じることがあった。
【０００４】
なお、光透過性導電性フィルムの熱収縮率を抑制してフィルムに皺が発生しにくくする技術が提案されている（特許文献１）。また、ハードコート層に関する発明として、ハードコート層の平均厚みを０．０５μｍ〜１０μｍとし、ナノインデンターを用いた押し込み量が０．２μｍ程度の光透過性導電性フィルム（特許文献２）や、タッチパネル端部領域での筆記耐久性に着目した光透過性導電性フィルム（特許文献３）などがある。しかしながら、いずれの技術も、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面の反射光に歪みが生じるという上記の現象を解決するものではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開2014-91255号公報
【特許文献２】特開2014-025061号公報
【特許文献３】特開2005-104141号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光透過性導電性フィルムにおいて、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象の原因パラメータを特定し、かつ定量化することにより、確実にセンサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を低減できることを新たに見出した。本発明は、次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記ハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
レーザー顕微鏡を用いて測定される前記電極用パターン形状の段差が１．５μｍ以下であり、かつ
前記ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さが１８０〜３１０ＭＰａであることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
項２．
前記光透過性支持層（Ａ）は、ポリエステルフィルムである、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置するハードコート付き支持フィルムであって、
最外層に位置する前記ハードコート層（Ｂ）側のナノインデンター硬さが１８０〜３１０ＭＰａであることを特徴とするハードコート付き支持フィルム。
項４．
前記光透過性支持層（Ａ）は、ポリエステルフィルムである、項３に記載のハードコート付き支持フィルム。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制できる。より詳細には、定量的な判断に基づく設計により、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象が抑制されたフィルムを確実に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例１の光透過性導電性フィルムの層構成を示す。
【図２】各実施例および各比較例で得られたエッチングされた光透過性導電性フィルムに対して反対側の面を遮光しつつハードコート側からレーザー光を照射して測定した表面段差の測定値と、ナノインデンターを用いて測定した硬さの測定値を二次元でプロットした関係図である。◆は実施例１〜８のプロットであり、■は比較例１〜５のプロットである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記ハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
レーザー顕微鏡を用いて測定される前記電極用パターン形状の段差が１．５μｍ以下であり、かつ
前記ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さが１８０〜３１０ＭＰａであることを特徴とする光透過性導電性フィルムである。
【００１１】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということがある。
【００１２】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１３】
本発明において、光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）及びハードコート層（Ｄ）の光学厚さと屈折率は光干渉計算により算出する。具体的には、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上に光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）又はハードコート層（Ｄ）のいずれかを単層で形成した積層フィルムをそれぞれ用意し、これらの積層フィルムに形成された単層部分の厚みをあらかじめ測定する。次いで、上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、これらの層に関する光学シミュレーションに必要なパラメータを算出する。光透過性支持層（Ａ）の上に、ハードコート層（Ｂ）を形成し、さらに光透過性支持層（Ａ）のハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）をこの順に形成することにより本発明の光透過性導電性フィルムを得る過程で、ハードコート層（Ｂ）が形成されたフィルム（ハードコート付き支持フィルム）、光透過性支持層（Ａ）の上に光学干渉層（Ｃ）がさらに形成されたフィルム、及び最終的に得られる光透過性導電性フィルムを順に得る。得られたそれぞれのフィルムについて最上面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそれらのピークにおける反射率の値に基づいて、光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）及びハードコート層（Ｂ）の光学厚さ及び屈折率を光干渉計算により算出する。
反射率はサンプルの裏面に黒色テープを貼り、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ、又はその同等品）を用いて５度正反射を測定する。また、計算はＷＶＡＳＥ３２（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、又はその同等品）で行う。なお、本発明において、屈折率は特に言及しない限り、５５０ｎｍの波長の光についての屈折率とする。
【００１４】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）は、屈折率が１．６から１．７の光透過性高分子フィルムであれば特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１５】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子を挙げることができる。例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。ポリエーテル系樹脂としては、ポリエーテルスルホン系樹脂等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂が好ましい。ポリエステル系樹脂としては、特にＰＥＴが好ましい。ポリオレフィン系樹脂としては、特にシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が好ましい。
【００１６】
光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００１７】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、５０μｍ以下であり、好ましくは２〜５０μｍ、より好ましくは２０〜３０μｍである。光透過性支持層（Ａ）の厚さをこれらの下限値以上とすることによって、光透過性導電性フィルムに十分な機械的強度を付与できる。また、タッチパネルの軽量化、薄膜化の要望から光透過性導電性フィルムとしては、非常に薄い厚さであることが要求される。このように光透過性導電性フィルムとして通常要求される厚さを達成するためには、光透過性支持層（Ａ）の厚さを上記の上限値以下とすることが好ましい。なお、光透過性支持層（Ａ）の厚さが薄いほど、本発明の課題である、反射像の歪みを抑制が必要である。
【００１８】
１．２  ハードコート層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の上にハードコート層（Ｂ）が形成されている。なお、ハードコート層（Ｂ）は光透過性支持層（Ａ）に形成された密着層のうえに形成されていてもよい。
【００１９】
一層のハードコート層（Ｂ）が光透過性支持層（Ａ）の上に配置されていてもよい。また、二層以上のハードコート層（Ｂ）が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して光透過性支持層（Ａ）の上に配置されていてもよい。
【００２０】
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２１】
ハードコート層（Ｂ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ｂ）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。なお、これらのコロイド粒子を分散させることにより、ハードコート層（Ｂ）に光学調整機能を付与することが可能である。この場合、ハードコート層（Ｂ）は後述の光学干渉層（Ｃ）としての役割を兼ねることができる。ハードコート層（Ｂ）は、上記素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層（Ｂ）としては、アクリル樹脂が好ましい。
ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さは、１８０〜３１０ＭＰａである限り特に限定されない。該硬さは、より効率的に反射光の歪みを抑制できるという観点から、好ましくは１９０〜２８０ＭＰａ、より好ましくは２００〜２６０ＭＰａ、さらに好ましくは２１０〜２３０ＭＰａである。
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の上に直接又は一以上の他の層を介してハードコート層（Ｂ）が表面に配置されたフィルムのことを、ハードコート付き支持フィルムと呼ぶ。
【００２２】
本発明のハードコート付き支持フィルムは、
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置するハードコート付き支持フィルムであって、
最外層に位置する前記ハードコート層（Ｂ）側のナノインデンター硬さが１８０〜３１０ＭＰａであることを特徴とする。
本発明において、ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さは、以下のようにして測定する。ナノインデンター（ＴＩ ９５０（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製）又はその同等品）を用い、２３℃、５０％ＲＨの環境下にて、押し込みモードで「押し込み量：５０ｎｍ、押しこみ速度１０ｎｍ/秒」の条件で、探針（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ ｐｒｏｂｅ ＴＩ−００３９（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製）又はその同等品）を用いて測定する。具体的には、一度表面に針を触れさせて距離を認識させ、５秒かけて表面から５０ｎｍ持ち上げる。その後１０秒かけて装置上１００ｎｍ押し込み、押し込んだまま２秒保持し、その後１０ｎｍ/ｓｅｃの速度で針を抜く。一連の操作により得た測定値を、ハードコート層（Ｂ）の硬さとする。
【００２３】
このような硬さのハードコート付き支持フィルムを得るには、ハードコート層（Ｂ）を形成する際に添加するウレタン又は重合開始剤の量を増減させたり、あるいは露光量を増減する等の方法で硬さを制御すればよい。より具体的には、特に限定されないが、例えば、露光量を増やすことによりＹ方向レーザー顕微鏡変形量を下げることができ、ウレタン添加量を増やすことによりＸ方向ナノインデンター硬さを増やすことができる。また、ウレタンと露光量および開始剤も増減させることによりＸ方向及びＹ方向のナノインデンター硬さを調整することができる。
【００２４】
ハードコート層（Ｂ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００２５】
１．３  光学干渉層（Ｃ）
光学干渉層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光学干渉層（Ｃ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。また、これらの他にも、素材としては、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂等の樹脂が挙げられる。光学干渉層（Ｃ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含む光学干渉層（Ｃ）が好ましく、酸化ケイ素を含む樹脂からなる光学干渉層（Ｃ）がより好ましい。
【００２６】
一層の光学干渉層（Ｃ）が、光透過性支持層の上に配置されていてもよい。また、二層以上の光学干渉層（Ｃ）が、互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して光透過性支持層の上に配置されていてもよい。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、光透過性支持層（Ａ）側にＳｉＯ２からなる光透過性下地層（Ｃ−１）を配置し、光透過性導電層（Ｄ）側にＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層（Ｃ−２）を配置する態様が挙げられる。また、光学干渉層（Ｃ）は、光透過性支持層の上に、ハードコート層を介して配置されていてもよい。この場合のハードコート層は、ジルコニア粒子等が配合されていることにより、光学干渉層としての役割を兼ねていてもよい。なお、光学干渉層としてハードコート層（Ｂ）より屈折率が高い高屈折率干渉層およびハードコート（Ｂ）より屈折率が低い低屈折率干渉層の少なくとも二層が設けられていることがより好ましい。  
【００２７】
光学干渉層（Ｃ）の一層あたりの厚さは、１５〜２５ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての光学干渉層（Ｃ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の厚みは３０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、低屈折率干渉層の厚み１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００２８】
光学干渉層（Ｃ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムが目的とする用途に使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の屈折率は１．６〜１．７であることが好ましく、低屈折率干渉層の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましい。
【００２９】
光学干渉層（Ｃ）を配置するための方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、微粒子分散液、コロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。
【００３０】
光学干渉層（Ｃ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
【００３１】
１．４  光透過性導電層（Ｄ）
光透過性導電層（Ｄ）は電極用パターン形状を有する。電極用パターン形状としては、特に限定されず、通常採用されうる形状の中から幅広く選択できる。例えば、櫛状、外形がひし形の電極を鎖状につなげた形状、及び外形が円形の電極を鎖状につなげた形状等が挙げられる。特に限定されないが、櫛状のように基本単位となる形状の繰り返し形状を有する場合、繰り返し形状同士の間隔は、０．１μｍ〜５０μｍ、好ましくは０．３μｍ〜２０μｍである。本明細書において、光透過性導電性フィルムを光透過性導電層（Ｄ）側から見たときに、電極用パターン形状が存在する部分のことをパターン部分、その他の部分を非パターン部分ということがある。
【００３２】
電極用パターン形状は、特に限定されないが、通常エッチング処理により得られる。エッチング処理の方法は、特に限定されないが、公知の方法を適用することができ、例えば、以下の方法等が挙げられる。
成膜及びアニール（１５０℃、１時間）後、スクリーン印刷にてレジスト印刷を行う。続いてＵＶ露光し、酸エッチングによりレジストが乗っていない箇所の透明導電層を溶かす。さらに、アルカリエッチングにより残っているレジストを剥がす。その後、アニール（１３０℃、４０分）し、ガラスにＯＣＡで貼り合せる。
レーザー顕微鏡を用いて測定される電極用パターン形状の段差は、１．５μｍ以下である限り特に限定されず、その上限は例えば１．２μｍ、好ましくは１．０μｍ、より好ましくは０．８μｍである。本発明において、レーザー顕微鏡を用いた段差の測定は、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ製、ＶＫ−９５１０又はその同等品）を用いて電極パターン表面を測定した結果に基づき、解析ソフト（ＶＫ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（ＫＥＹＥＮＣＥ製）、又はその同等品）により算出する。
光透過性導電層（Ｄ）は導電性物質を含有する。導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて通常用いられる導電性物質を用いることができる。
【００３３】
光透過性導電層（Ｄ）は、好ましくは、金属酸化物を含有する。
【００３４】
光透過性導電層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｄ）としては、光透過性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ｂ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００３５】
光透過性導電層（Ｄ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｄ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
【００３６】
光透過性導電層（Ｄ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００３７】
光透過性導電層（Ｄ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００３８】
光透過性導電層（Ｄ）の厚さは、特に限定されないが、通常は５〜５０ｎｍであり、好ましくは１０〜４０ｎｍ、より好ましくは１２〜３５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜３０ｎｍである。
【００３９】
光透過性導電層（Ｄ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。これらのうち、タッチパネル用途に低抵抗で大面積の均質な膜を安定に生産するという観点において、スパッタリング法が好ましい。
【００４０】
光透過性導電層（Ｄ）を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は３０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。焼成時間は、好ましくは３分〜１８０分、より好ましくは５分〜１２０分、さらに好ましくは１０分〜９０分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。
【００４１】
１．５  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の側に形成されたハードコート層（Ｂ）、並びに他方の側に形成された光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）に加えて、少なくとも１種のその他の層（Ｅ）がさらに配置されていてもよい。
【００４２】
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００４３】
接着層は、接着したい二層の間に当該二層と互いに隣接して配置される。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、単層の接着層であってもよいし、二層以上の接着層であってもよい。
【００４４】
１．６  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、骨見え現象が抑制できるので、例えば静電容量型タッチパネル用光透過性導電性フィルムとして好ましい。タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００４５】
２．本発明のタッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００４６】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００４７】
３．本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、たとえば、光透過性支持層（Ａ）の上に、直接又は一以上の他の層を介して、ハードコート層（Ｂ）を、配置し、光透過性支持層（Ａ）のハードコート層（Ｂ）とは反対側に、直接又は一以上の他の層を介して、光学干渉層（Ｃ）を配置する工程、及びさらにその上に、直接又は一以上の他の層を介して、光透過性導電層（Ｄ）を配置する方法により製造できる。      
【実施例】
【００４８】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００４９】
実施例１
＜光透過性導電性フィルムの製造方法＞
次のようにして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。該フィルムの層構成を図１に示す。
【００５０】
厚さ５０μｍのＰＥＴ樹脂基材（ｎＡ＝１．６６）の易接着処理側の表面の上に、アクリレート系樹脂を含む光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射して表１に記載のハードコート層（Ｈ１）を形成し、本発明のハードコート付き支持フィルムを得た。
【００５１】
次いで、ハードコート層が形成されていない側のＰＥＴ樹脂基材の上にハードコート層兼光学干渉層（高屈折率干渉層）としてジルコニア粒子を含んだ厚さ４２ｎｍのアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ１＝１．６８）を形成し、さらにその上に光学干渉層（低屈折率干渉層）として厚さの３３．５ｎｍの酸化ケイ素を含有するアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ２＝１．４９）を形成した。次いで、その上に密着性向上のためのＳｉＯｘ層を介して光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層（ｎＤ＝１．８７）を厚さ２６ｎｍとなるように成膜して、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。なお、ターゲット材として酸化インジウム：９７重量％及び酸化スズ：３重量％からなる焼結体材料を用いた。また、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ＳｉＯｘ層を形成し、その上に、酸化インジウムスズ層を形成した。
【００５２】
＜評価方法＞
＜骨見え評価方法＞
光透過性導電性フィルムの光透過性導電層の上にポリイミドテープを貼り付けた積層体をＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のＩＴＯを除去し、洗浄及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、４ｍｍ間隔で１．５ｍｍ幅のラインアンドスペースでＩＴＯ膜がパターニングされた光透過性導電性フィルムを得た。次いで、作製した光透過性導電性フィルムを乾燥オーブンに入れて１３０℃で４０分間加熱した。
乾燥オーブンから取り出された作製した光透過性導電性フィルムを室温に達するまで放置した後、縦４５ｍｍ、横４５ｍｍの大きさに切り出し、光透過性導電層に縦４０ｍｍ、横４０ｍｍサイズの透明接着フィルム(EW1502-A1、エリエールテクセル社製)を介して縦５０ｍｍ、横８０ｍｍサイズで厚さ１ｍｍのスライドガラスに貼り付けた。次いで、同様のエッチング方法により、ＩＴＯ膜が格子間隔４ｍｍで１ｍｍ幅の格子模様にパターニングされた縦４５ｍｍ、横４５ｍｍの大きさの光透過性導電性フィルムを得た。
スライドガラスに貼り付けられている光透過性導電性フィルムの上に、透明接着フィルム(EW1502-A1、エリエールテクセル社製)を介してＩＴＯ膜が格子間隔４ｍｍで１．５ｍｍ幅の格子模様にパターニングされた光透過性導電性フィルムを光透過性導電層側から貼り付けた。得られたガラス付きフィルムについて、以下の基準でＬＥＤ光または蛍光灯をあてて反射像を観察し、導電層のパターンに起因する歪みの有無を観察した。なお、ＬＥＤ光よりも、蛍光灯の方が、導電層のパターンに起因する歪みが視認されやすい傾向にある。
A…ＬＥＤ光、蛍光灯のいずれを照射した場合においても、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認されない。
B…ＬＥＤ光を照射した場合には、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認されないが、蛍光灯を照射した場合には、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認される。
C…ＬＥＤ光、蛍光灯のいずれを照射した場合においても、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認される。
【００５３】
骨見え評価方法にて得られたガラス付きフィルムについて、次の試験を行った。
＜レーザー顕微鏡による光透過性導電性フィルム表面の段差の測定方法＞
レーザー顕微鏡（KEYENCE製、VK-9510）を用いて得られたフィルムのＩＴＯ膜がエッチングされた電極パターン表面を測定した。また、電極パターン表面の段差の数値は、解析ソフト（ＶＫ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（ＫＥＹＥＮＣＥ製）により算出した。結果を表１及び２に示した。
【００５４】
＜ハードコート層の硬さの測定方法＞
ナノインデンター(TI 950 Hysitron社製)  を用い、23℃  50％RHの環境下で  押し込みモードで、押し込み量５０ｎｍ、押しこみ速度１０ｎｍ/秒、の条件で、 探針（Berkovich probe TI-0039、Hysitron社製)を用いて、実施例、および比較例で得られた光透過性導電性フィルムを得る前の、ハードコート付き支持フィルムについて、ハードコート層側の硬さを測定した。結果を表１及び２に示した。なお、具体的には、一度表面に針を触れさせ距離を認識させ、5秒かけ表面から50nm持ち上げた。その後10秒かけ装置上100nm押し込み、押し込んだまま2秒保持しその後10nm/secの速度で針を抜いた。一連の操作により得た測定値を、ハードコート層の硬さとした。
【００５５】
実施例２〜８、比較例１〜５
ハードコート層の硬さを表１及び２に記載した硬さのハードコートに変えたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを作製した。
【００５６】
【表１】
0006637286.tif 000002
【表２】
0006637286.tif 000003
【００５７】
実施例１〜８、並びに比較例１〜５で得られた光透過性導電性フィルムの測定結果から、レーザー顕微鏡によるエッチングされた光透過性導電性フィルム表面の段差と、ナノインデンターを用いたハードコート層の硬さとの関係図を得た。関係図を図２に示す。
【００５８】
表１及び２に示した通り、特定の硬さのハードコート層を備えたハードコート付き支持フィルムを用いた光透過性導電性フィルムであることにより、エッチングされた光透過性導電性フィルムの光透過性導電性層の表面で反射する反射像の歪みを抑制できる。
【符号の説明】
【００５９】
１    ハードコート層（Ｈ１）
２    ＰＥＴ樹脂基材
３    ハードコート層兼光学干渉層（高屈折率層）
４    光学干渉層（低屈折率層）
５    光透過性導電層
【図１】
0006637286.tif 000004
【図２】
0006637286.tif 000005